bluuebunny/crossref_metadata_2025_split huggingface dataset:
Anti‐windup compensator synthesis for systems with saturation actuators
Authors: Tyan Feng , Bernstein Dennis S. 
Published: July 2007

AbstractIn this paper we synthesize linear and nonlinear output feedback dynamic compensators for plants with saturating actuators. Our approach is direct in the sense that it accounts for the saturation nonlinearity throughout the design procedure as distinct from traditional design techniques that first obtain a linear controller for the ‘unsaturated’ plant and then employ controller modification. We utilize fixed‐structure techniques for output feedback compensation while specifying the structure and order of the controller. In the full‐order case the controller gains are given by LQG‐type Riccati equations that account for the saturation nonlinearity.
A practical approach for robust control of flexible structures
Authors: Coville Arnaud , Abou‐Kandil Hisham 
Published: July 2007

AbstractThis paper deals with the robust control of linear single‐input, single‐output (SISO) systems. First, general concepts of the frequency‐domain approach are presented. We then focus on the particular problem of flexible structure and control. A new method is proposed which combines the advantages of hyperstability and small gain approaches. Finally, an application of an industrial sight system prototype is detailed.
Asymptotic output tracking through singular points for nonlinear systems: Stability, disturbance rejection and robustness
Authors: Retchkiman Zvi , Alvarez Jaime , Castro Rafael 
Published: July 2007

AbstractThe problem of output tracking in the presence of singularities started by Hirschorn and Davis (1987)2is reexamined. A transformation which allows us to make a study of the closed‐loop stability of the nonlinear system is proposed. An error feedback control law relaxes the initial conditions imposed on the system and the function to be followed, obtaining asymptotic output tracking. A study of the singular tracking problem, when there exist disturbances or uncertainties in the dynamics, is also made. Again a stability analysis is carried out. Finally, the results obtained for the SISO case, to the MIMO case are extended.
Computing bounds for the mixed μ problem
Authors: Young Peter M. , Newlin Matthew P. , Doyle John C. 
Published: July 2007

AbstractRobustness problems involving real parametric uncertainty can be reformulated as mixed μ problems, where the block‐structured uncertainty description is allowed to contain both real and complex blocks. Upper and lower bounds for the mixed μ problem have recently been developed, and this paper examines the computational aspects of these bounds. In particular a practical algorithm is developed to compute the bounds. This has been implemented as a Matlab function (m‐file), which is currently available in conjunction with the μ‐Tools toolbox. Some results from our extensive numerical experience with the algorithm are presented. The algorithm performance is very encouraging, in terms both of accuracy of the resulting bounds, and of growth rate in required computation with problem size. In particular it appears that one can handle medium‐size problems (fewer than 100 perturbations) with reasonable computational requirements.
Robust and quadratic stability via polytopic set covering
Authors: Amato F. , Garofalo F. , Glielmo L. , Pironti A. 
Published: July 2007

AbstractIn this paper we consider the problem of covering the image of a given function by a polytope. This problem arises in both the robust and quadratic stability context. We present two main algorithms: the first one performs such a covering and works under quite general assumptions on the nature of the function; the second one is iterative and allows us to improve at will the goodness of the covering. The convergence properties of this algorithm are also discussed. Finally two examples of application of our techniques are presented.
Gefriertrocknung in Labor‐ und Industrieanwendungen
Authors: Barfuss Heinz 
Published: July 2007

AbstractFor preservation and extension of shelf life time for food, pharmaceutical and biotechnical products, Freeze Drying has been proven to be the most effective and economical technology. The freeze dried products remain unchanged in structure, keep their colour, aroma, nutrition and their biological consistence, In the following the author would like to present an overview of the definition, technology with its restrictions and the process with the use of vacuum.
Prozesse mit hoher Plasmastromdichte und unterschiedlichen Verdampfungsquellen
Authors: Bergmann Erich 
Published: July 2007

AbstractThe hot filament supported high current discharge can be used with various process steps. During the heating cycle, intense electron bombardment provides a soft and efficient energy source. In triode etching the high plasma density improves the throwing power and reduces the arcing problem on oxide inclusions from preceding grinding steps.For the coating cycle the high current density can be fitted into different deposition processes. Activated reactive ion plating is done with a high voltage electron beam gun. But one can also combine the high current density plasma with a magnetron to produce a high plasma density on the substrate and solve the problems of reactivity of this vapor source. Alternatively the high current density plasma can also be used to drive a CVD‐reaction. Several of these processes can be combined to hybrid deposition technologies. A few examples of coating realisations and performance in the different processes will be given.
COSY, eine neue Forschungsanlage mit Ultra‐Hochvakuum‐Technologie
Authors: Schröder G. , Jaegers H. , Pauly F. , Stechemesser H. 
Published: July 2007

AbstractThe report shows that the development, construction and later successful operation of UHV facilities in the pressure range of ≤10−10mbar is not possible without a highly sensitive nondestructive testing technique. The example of the large technical research facility COSY is used to demonstrate that the leakage rates (≤10−10mbar · I · s−1) and surface purities required can only be achieved by strict compliance with fundamental UHV production conditions and by the rigorous application of helium leak detection techniques and mass‐spectrometric residual gas analysis.
Verbesserung des Vakuums in Isoliergefäßen aus Glas
Authors: Lochner Karl Heinz , Fahrenkrog Hans‐Hermann , Ballweg Thomas 
Published: July 2007

AbstractDurch eine Verbesserung des Vakuums auf Drücke unterhalb von 10−4 mbar ließe sich die Isolierfähigkeit handelsüblicher Isolierglasbehälter etwa verdoppeln. Um dieses Ziel zu erreichen, wurden verschiedene Wege beschritten.Als Alternative zum bisher üblichen Abschmelzen werden drei Möglichkeiten vorgestellt, die eine den Leitwert reduzierende Verengung des Pumpstutzens überflüssig machen. Außerdem werden, je nach Verfahren, die beim Abschmelzen auftretenden Ausgasungen entweder ganz vermieden oder durch die Möglichkeit genauer Temperaturkontrolle bzw. durch eine niedrigere Abtrenntemperatur reduziert.Ein ganz anderer Weg wird mit dem Einsatz eines Getters, einem Metallhydrid auf TiVMn‐Basis aufgezeigt. Seine Aktivierung erfolgt durch Wärme und läßt sich ohne Schwierigkeit in den herkömmlichen Produktionsablauf integrieren. Neben einer Verkürzung der Pumpzeit tritt hier als weiterer Vorteil die Bindung der beim Abschmelzen auftretenden sowie der langfristigen Ausgasungen hinzu.
Kalibrierung, Abnahme und Zertifizierung
Authors: Jitschin E. 
Published: July 2007

AbstractZuverlässige Aussagen über die Genauigkeit eines Meßgerätes oder über die Einhaltung von Produktspezifikationen lassen sich nur durch eine Prüfung gewinnen. Um sicherzustellen, daß Ergebnisse verschiedener Prüflaboratorien unter gleichartigen Bedingungen erhalten wurden und somit allgemein gültig sind, müssen genormte Prüfvorschriften angewendet und kalibrierte Bezugsgeräte verwendet werden. Weiterhin ist Fachkenntnis und Erfahrung notwendig. Erfahrene Prüflaboratorien können sich ihre Kompetenz durch eine Akkreditierung bestätigen lassen, z.B. durch den Deutschen Kalibrierdienst DKD. Der vorliegende Artikel gibt zunächst eine Übersicht über die wichtigsten Begriffe der Kalibrierung und Abnahmen und beschreibt dann das Prüflabor für Meßgrößen der Vakuumtechnik an der Fachhochschule in Gießen.
Die Entwicklung der Totaldruckmessung im Ultrahochvakuum‐ und Extremvakuumbereich
Authors: Edelmann Christian 
Published: July 2007

AbstractObwohl man Ultrahochvakuum bereits vor fast 60 Jahren erzeugen konnte, war eine kontinuierliche Messung erst durch die Entwicklung eines speziellen Glühkatoden‐Ionisationsmanometers durch Bayard und Alpert möglich. Ursachen für die untere Druckmeßgrenze sind vor allem der durch Röntgenstrahlung erzeugte Photoelektronenstrom und der Desorbationenstrom. Manometerkonstruktionen, die diese Effekte reduzieren, um sogar extremes Hochvakuum (XHV) messen zu können, werden vorgestellt. Die im XHV‐Bereich zu erwartenden kleinsten Ionenströme werden mit kontinuierlichen Sekundärelektronenvervielfachern gemessen. Auch besondere Bauformen von Kaltkatoden‐Ionisationsmanometern sind für den UHV‐Bereich geeignet.
Anwendung der Hohlkatodenplasmaquelle in der Vakuumtechnik
Authors: Leonhardt Gunter , Wilberg Rüdiger 
Published: July 2007

AbstractVarious effective and simple constructed plasma sources can be developed by using the hollow cathode effect. The improve of the plasma efficiency is caused by the penetration of two or more glow regions of different parts of the cathode. The equatation p × d ∽ 1 mbar cm is a rule of thumb for the appearance of the hollow cathode effect. The hollow cathode arc discharge is caused by an additional thermal electron emission besides the effectes of the hollow cathode glow discharge. All this effects are the reason for the higher degree of ionization for a hollow cathode source in comparison with the most other plasma sources.Application of the hollow cathode glow discharge for surface finish are technics like plasmacleaning, electron beam ablation or gas flow sputtering. Latters are new technics which allow the development of new sources for the coating technology.The application of the hollow cathode are discharge is possible by using the thermal energy generated by the electron beam (electron beam heating, electron beam melting, and electron beam evaporation) and by using the different possibilities of coating technologies whith the hollow cathode arc source (plasma enhanced evaporation, plasma enhanced reactive PVD and plasma CVD).
Industrielle Dichtheitsprüftechnik ohne Testgas nach dem Massenspektrometerprüfverfahren
Authors: Fuhrmann W. 
Published: July 2007

AbstractUmweltschutz, Funktionssicherheit und insbesonders qualitätssichernde Systeme wie ISO 9000 stellen höchste Anforderungen an die Dichtheit von Komponenten und Systemen.Es wird ein Dichtheitsprüfverfahren auf der Basis der Massenspektrometertechnik vorgestellt, das seit etwa 3 Jahren im Produktionsbereich (Prüfung von einigen tausend Einheiten pro Tag) Komponenten vollautomatisch auf Dichtheit prüft im Bereich ⩾ 10−3 cm3/s unter Verwendung von „Normalluft”︁ als Testgas.Es werden spezifische Anwendungsfälle der Verpackungsindustrie als auch der Kfz‐Zuliefererindustrie vorgestellt.
Standardisierte Steckverbindung für aktive Vakuummeßköpfe
Authors: Jacoby W. , Jitschin W. 
Published: July 2007

AbstractBei der Gesellschaft für Schwerionenforschung, Darmstadt, wurde in Zusammenarbeit mit der Industrie eine achtpolige Steckverbindung für aktive Vakuummeßköpfe und ihre Betriebsgeräte standardisiert. Diese ist für auf dem Markt bzw. In Entwicklung befindliche Meßköpfe geeignet, die den gesamten technisch interessanten Druckbereich von 1000 mbar bis 10−12 mbar überdecken. Die achtadrige Kabelverbindung beinhaltet die Spannungsversorgung der Meßröhre, das Meßsignal sowie Steuer‐ und Rückmeldesignale. Es wird nur ein einziger Steckverbindertyp verwendet, so daß die Lagerhaltung und der Anschluß unterschiedlicher Meßköpfe vereinfacht werden. Der gewählte Steckverbinder (bekannt als Modular‐Steckverbinder) läßt sich lötfrei konfektionieren. Ferner dient ein in den Meßkopf eingebauter Kodierwiderstand zur Identifikation des Kopftyps durch das Betriebsgerät. Damit ist zum Betrieb der unterschiedlichen Meßköpfe lediglich ein einziges Betriebsgerät oder eine PC‐Einschubkarte erforderlich.
Three‐Chamber UHV System for Organic Molecular Beam Epitaxy
Authors: Bella L. Dalla , Taliani C. , Zamboni R. 
Published: July 2007

AbstractDie organische Molekularstrahl‐Epitaxie (OMBE) ist ein Verfahren zum Aufwachsen organischer und halbleitender Stoffe im UHV. Der Artikel beschreibt eine modulare Anlage aus 3 UHV‐ Kammern, die speziell für einzelne Verfahrensschritte ausgelegt sind. Die Anlage ist flexibel und erlaubt vielfältige optische Untersuchungen der Proben ohne diese der Atmosphäre auszusetzen. Eine wichtige Anwendung ist die Herstellung neuer LED‐Bauteile basierend auf Fullerenen.
Vakuum in der Abwasseraufbereitung
Authors: Schneider W. 
Published: July 2007

AbstractIn den industriellen Prozessen fallen unterschiedlichste Abwässer an. Diese müssen vor der Einleitung in den Kanal aufbereitet oder fremdentsorgt werden. Durch den Einsatz der Vakuumtechnik und die konsequente Umsetzung des Wärmepumpenprozesses wurde eine kostengünstige Problemlösung zur Aufbereitung industrieller Abwässer vor Ort entwickelt. Diese werden mit minimalem Energieaufwand eingedampft, so daß nur noch ca. 5–10% des Abfallvolumens mit geringem Restwasseranteil entsorgt werden muß. Das gewonnene Destillat kann abgeleitet oder aufgrund seiner hohen Qualität in den Kreislauf zur Wiederverwendung zurückgegeben werden.
Anlagenkonzept für die Abscheidung dünner Schichten durch Plasmapolymerisation
Authors: Poll Hans‐Ulrich , Schreiter Steffen 
Published: July 2007

AbstractDünne Polymerschichten werden durch plasmagestützte CVD direkt aus der Dampfphase eines organischen Ausgangsmaterials abgeschieden (Plasmapolymerisation). Die zugeführte Gasmenge begrenzt die Schichtwachstumsrate. Durch plasmachemische Stoffwandlung im Gasraum und an der Schichtoberfläche kann auf die Schichteigenschaften Einfluß genommen werden. Die Zeitkonstante dieser Stoffwandlung ergibt in Verbindung mit den Anwendungsforderungen an die Schichten ein vakuumtechnisches Konzept für die Anlagenentwicklung, das auch großtechnische Anwendungen möglich erscheinen läßt.
Modifizierung der Gasabgabe von Edelstahloberflächen durch Ionenimplantation
Authors: Garke B. , Edelmann Chr. , Günzel R. , Brutscher J. 
Published: July 2007

AbstractEin seit einigen Jahren neu etabliertes Ionenimplantationsverfahren, die sogenannte Plasmaimmersionsimplantation (PIII), wurde bei Edelstahlproben angewandt, um definiert Sauerstoff‐ und Stickstoffionen in die Oberfläche zu implantieren und damit oxidische bzw. nitridische Barriereschichten für die Gasdiffusion zu erzeugen. Mit Hilfe oberflächenanalytischer Methoden konnte gezeigt werden, daß unterhalb der äußersten Oberfläche Sauerstoff bzw. Stickstoff über einen bestimmten Tiefenbereich homogen eingebaut wurde. Einige Meßergebnisse zum Gasabgabeverhalten dieser so plasmabehandelten Oberflächen werden vorgestellt und auf die Oberflächenmodifikation durch die Plasmabehandlung bzw. die Wirkung der Implantationsschicht zurückgeführt.
Mit Hochfrequenz angeregte Niederdruckplasmen: Prinzipien und Strukturierung von Halbleitern. Teil I
Authors: Franz Gerhard 
Published: July 2007

AbstractIn zwei Teilen wird die Funktionsweise der Erzeugung von kalten Niederdruckplasmen durch kapazitive und induktive Kopplung sowie durch resonante Anregung beschrieben und im dritten Teil gezeigt, wie die Kenntnis dieser Größen ausgenutzt werden kann, um Halbleiteroberflächen zu modifizieren.
Spektralfotometrische Messungen an optischen Schichten
Authors: Liekmeier Wilfried 
Published: July 2007

AbstractDie Transmissions‐ und Reflexionseigenschaften optischer Schichtsysteme werden mit Spektrometern überprüft. Der Artikel beschreibt die möglichen Meßprinzipien mit ihren Grenzen und praktischen Anforderungen.
Elektronenspektroskopie für Chemische Analysen (ESCA) im industriellen Routinebetrieb
Authors: Albers Th. 
Published: July 2007

AbstractEine neue Generation von ESCA‐Systemen wird vorgestellt. Es entspricht modernen industriellen Anforderungen in Bezug auf Bedienungskomfort und Automatisierbarkeit. Es ist ausgestattet mit modernen Servicekonzepten, Internetanbindung und einer Systemsteuerung, die sich um Vakuum, Kühlung und alle weiteren Aufgaben neben der eigentlichen Messung kümmert. Die Qualität der Analytik steht reinen Forschungssystemen nicht nach. Berührungsängste vor dem industriellen, routinemäßigen Einsatz von ESCA als Standardmethode sollten damit endgültig der Vergangenheit angehören.
Charakterisierung von Glas und Glasbeschichtung mittels oberflächensensibler Sondenverfahren
Authors: Scholz Th. , Haase J. 
Published: July 2007

AbstractDie dargestellten Beispiele der Oberflächen‐ und Mikrobereichsanalyse an Gläsern zeigen, daß die physikalisch orientierten Sondenverfahren praktikabel in den Bereichen Entwicklung, Prozeßkontrolle und Fehleranalyse sind. Aufgrund der für diese Untersuchungen erforderlichen gerätetechnischen Ausstattung und der notwendigen fachlichen und meßtechnischen Erfahrung nutzen eine wachsende Zahl von Glas‐ und Beschichtungsfachleuten externe High Tech Dienstleistungslaboratorien.
Titannitrid als gasabgabereduzierende Schicht auf Edelstahl
Authors: Keutel Karola , Edelmann Christian , Fuchs Henning , Mecke Hubert 
Published: July 2007

AbstractUnter der Verwendung eines neuen Beschichtungsverfahrens, dem modifizierten Puls‐Arc‐Verfahren werden TiN‐Schichten auf Edelstahl abgeschieden. Die Wirkung einer Titannitridschicht auf die Gasabgabestromdichte des Edelstahls wird untersucht und dargestellt. Messungen an unbeschichtetem Edelstahl und mit Titannitrid beschichtetem Edelstahl, bei dem das DC‐Arc‐Verfahren angewendet wurde, werden als Vergleich zur Bestimmung des Gasabgabeverhaltens herangezogen und ermöglichen dadurch, Aussagen über die Reduktion der Gasabgaberäte zu treffen.
Völlig ölfreie neue Vorvakuumpumpe für saubere Anwendungen
Authors: Bahnen R. 
Published: July 2007

AbstractIn der letzten Zeit geht überall dort, wo trockenes Vorvakuum benötigt wird und saubere Gase gepumpt werden, der Trend hin zu preiswerten Vorvakuumpumpsystemen. Diese ersetzen die seit langer Zeit in der Halbleiterindustrie erprobten trockenen Prozeßpumpen, welche für einfache Anwendungen zu aufwendig und zu teuer sind.Um eine robuste, preiswerte und zuverlässige trockenverdichtende Vorvakuumpumpe zur Verfügung zu stellen, wurde die altbekannte Technologie der Kolbenkompressoren an die vakuumtechnischen Anforderungen angepaßt. Das daraus resultierende Produkt ist 4stufig in der Lage, 3 − 4 × 10−2 mbar zur Verfügung zu stellen.Alle gasfördernden Schöpfräume sind vollständig trocken, und die im trocken abgedichteten Getrieberaum befindlichen fettgeschmierten Lager sind zusätzlich nochmals gedichtet. Die Wahl einer besonderen Ventilgeometrie und reibungsarmer Beschichtungswerkstoffe resultiert in einer langlebigen, robusten Maschine, welche auch Störfälle, wie z. B. gebrochene Wafer, überstehen kann.Anwendungsgebiete sind zum Beispiel Load‐Lock‐Kammern, Analyseninstrumente und vielfältige Einsätze in der Forschung.
Nanotribologie: Messung von mechanischen Eigenschaften im Sub‐Mikrometer‐Bereich
Authors: Hangen Ude D. 
Published: July 2007

AbstractHardness of a material describes the resistance of a material under indentation by a solid body. The vickers hardness [1] is determined by loading a diamond pyramid with a known force that is in contact with a specimen. The length of the diagonal of the remaining indent is used to calculate the contact area. The ratio of force and contact area is the vickers hardness. The abilities of modern technique of measurement replace the optical analysis of each indent by calculating the hardness from force and displacement recorded during the indent.Nano‐hardness measurements now can be used to determine the mechanical properties of thin films and structures in the range from less than 10 nm to 1μm. Hardness can be measured with very small indentations, which could not be analyzed according to vickers. Time dependent properties as creep and viscose flux of material can be checked on sub‐micron scale. The technique of nano‐hardness measurements is comparable to the universal hardness test [2] for metals, whose minimum indentation depth of h = 0.2 μm still is too big for many applications. Combined with an atomic force microscope (AFM) the presented technique is capable image the area of interest before and after testing. Mechanical properties like friction‐constants and wear can be measured quantitatively. The indenter can be used as a micro‐machining tool with high precision as well.
Dünnschichtverdampfer in der thermischen Trenntechnik
Authors: Kaiser Bernhard , Kranz Michael 
Published: July 2007

AbstractSo wertvoll Dünnschichtverdampfer für die thermische Verfahrenstechnik sind, so schwierig ist ihre Dimensionierung und Vorausberechenbarkeit. Trotz vieler Untersuchungen fanden sich mathematische Beschreibungen stets nur für sehr begrenzte Gültigkeitsbereiche. Für die Auslegung von Dünnschichtverdampfern ist man gezwungen auf umfangreiche Erfahrungswerte zurückzugreifen. Ohne Technikumsversuche kommt man jedoch meistens nicht aus.
Elektrische Isolation mit Aluminiumoxid
Authors: Mayer Helmut , Heinicke Erhard 
Published: July 2007

AbstractIn diesem Beitrag wird über Keramik‐Metall‐Verbindungen berichtet, die in der Elektrotechnik als Strom‐ und Spannungsdurchführungen verwendet werden. Der Anwender erhält Auskunft über die Auswahl Kriterien geeigneter Werkstoffe und spezielle Konstruktionsmerkmale solcher Produkte. An einigen Beispielen wird ihre Anwendungsbreite demonstriert.
Heliumlecksuche unter extremen Prüfbedingungen
Authors: Schröder Gerald , Pauly Fred , Filho João da Cruz Payão 
Published: July 2007

AbstractUnter den bekannten Lecksuchverfahren hat sich die Dichtheitsprüfung mit Helium als Spürgas auf Grund ihrer hohen Empfindlichkeit und vielseitigen Anwendungsmöglichkeit als universelles Verfahren in der industriellen Fertigung und im Forschungsbereich etabliert. Es gibt verschiedene Prüfvarianten, die standardmäßig bei einem Differenzdruck von Δp = 1 bar und bei Raumtemperatur durchgeführt werden. Wenn aber in Sonderfällen eine Aussage zur Dichtheit eines Bauteils unter besonderen Betriebsbedingungen erforderlich ist, muss hierfür ein spezieller Prüfaufbau konzipiert werden.Im Bericht werden zwei Prüfungen unter extremen Prüfbedingungen mit den dazu erforderlichen Prüfaufbauten vorgestellt.Im ersten Fall wurden sowohl Aluminium/Edelstahl — Reibschweißverbindungen als auch Rohr‐Klemmringverschraubungen (Fa. SWAGELOK®) bei den geforderten außergewöhnlichen Betriebsbedingungen von −196 °C und 10 bar Überdruck auf Dichtheit getestet und für spezielle Anwendungen qualifiziert. Dazu wurden die Testobjekte in einen Vakuumbehälter eingebaut, komplett in flüssigen Stickstoff eingetaucht und mit Druck beaufschlagt. Über einen an den Vakuum‐Rezipienten angeschlossenen Helium‐Leckdetektor konnte dann die integrale Helium‐Leckagerate direkt bestimmt werden. Beide Verbindungsarten erfüllten die gestellten Anforderungen und wiesen keine Leckageraten im Bereich > 10−9 mbar · l · s−1 auf.Im zweiten Fall wurden Untersuchungen zum Dichtverhalten von Rohr‐Steckverbindungen für die Gaszuführung an Hochtemperatur‐Brennstoffzellen unter den späteren Betriebsbedingungen, d.h. bei 950 °C und einem Differenzdruck von 200 mbar, durchgeführt. Die Messungen ergaben Leckageraten bei 950 °C im Bereich von 10−2 bis 10−3 mbar · l · s−1. Die Versuche haben gezeigt, dass die Steckverbindungen für einen Einsatz bei 950 °C geeignet sind. Die Leckagerate läßt sich aber durch Veränderung von Spaltbreite und Oberflächengüte noch weiter herabsetzen.