Patent DE-102020108202-B4 (DE)
Title: Schneckenverdichter
Inventor: MAEDA TAKUMI
IPC: F04C18/02
Filed: 2020-03-25
Granted: 2024-01-04
Abstract: Schneckenverdichter (10) mit:einer fixierten Schnecke (31), die eine fixierte Basis (31a) und eine fixierte Spiralwand (31b) hat, die sich von der fixierten Basis (31a) erstreckt; undeiner Orbitalschnecke (32), die eine Orbitalbasis (32a), die der fixierten Basis (31a) gegenüberliegt, und eine Orbitalspiralwand (32b) hat, die sich von der Orbitalbasis (32a) zu der fixierten Basis (31a) erstreckt und mit der fixierten Spiralwand (31b) im Eingriff ist, wobeidie fixierte Schnecke (31) und die Orbitalschnecke (32) gestaltet sind, um zusammenzuwirken, um eine Verdichtungskammer (33) auszubilden,der Schneckenverdichter (10) gestaltet ist, um ein Fluid in der Verdichtungskammer (33) zu verdichten, wenn die Orbitalschnecke (32) eine Orbitalbewegung durchführt,die fixierte Spiralwand (31b) sich entlang einer Evolventenkurve erstreckt,die Evolventenkurve der fixierten Spiralwand (31b) einen Grundkreis mit einem Zentrum hat, das als ein fixiertes Grundkreiszentrum (P1) bezeichnet wird,die Orbitalspiralwand (32b) sich entlang einer Evolventenkurve erstreckt,die Evolventenkurve der Orbitalspiralwand (32b) einen Grundkreis mit einem Zentrum hat, der als ein Orbitalgrundkreiszentrum (P2) bezeichnet wird,das fixierte Grundkreiszentrum (P1) und das Orbitalgrundkreiszentrum (P2) entlang einer geraden Linie liegen, die als eine Radialrichtungslinie (M) bezeichnet wird,die fixierte Spiralwand (31b) und die Orbitalspiralwand (32b) miteinander in Kontakt kommen oder nahe zueinander kommen an einer Stelle, die als ein Ausbildungspunkt (T) bezeichnet wird,die fixierte Spiralwand (31b) und die Orbitalspiralwand (32b) gestaltet sind, um die Verdichtungskammer (33) auszubilden, wenn sie bei dem Ausbildungspunkt (T) in Kontakt miteinander sind oder nahe zueinander gelegen sind,die Radialrichtungslinie (M) und der Ausbildungspunkt (T) um eine Distanz voneinander beabstandet sind, die als eine Ausbildungspunktdistanz (K) bezeichnet wird,die fixierte Spiralwand (31b) eine Innenumfangsfläche hat, die einen gebogenen Abschnitt (R) umfasst, der mit einem distalen Ende der fixierten Spiralwand (31b) fortlaufend ist,ein Orbitalwinkel der Orbitalschnecke (32), wenn die Verdichtungskammer (33) ausgebildet ist und eine Verdichtung eines Fluids anfängt, als ein Orbitalanfangswinkel bezeichnet wird,ein Orbitalwinkel der Orbitalschnecke (32), wenn die Verdichtung des Fluids abgeschlossen ist, als ein Orbitalbeendigungswinkel bezeichnet wird,ein Orbitalwinkel der Orbitalschnecke (32), wenn ein Ende (E) der Orbitalspiralwand (32b) einen Kontakt mit dem gebogenen Abschnitt (R) der fixierten Spiralwand (31b) beginnt, bevor eine Verdichtung abgeschlossen ist, als ein Distalendkontaktanfangswinkel bezeichnet wird,ein Orbitalwinkel, der durch Subtrahieren von 360° von dem Orbitalbeendigungswinkel erhalten wird, als ein Finalorbitalanfangswinkel bezeichnet wird,ein Orbitalwinkel in einem Bereich von dem Orbitalanfangswinkel zu dem Orbitalbeendigungswinkel und in einem Bereich von dem Finalorbitalanfangswinkel zu dem Distalendkontaktanfangswinkel als ein erster Orbitalwinkel bezeichnet wird,ein Orbitalwinkel in dem Bereich von dem Orbitalanfangswinkel zu dem Orbitalbeendigungswinkel und der durch Subtrahieren eines ganzzahligen Vielfachen von 360° von dem ersten Orbitalwinkel erhalten wird, als ein zweiter Orbitalwinkel bezeichnet wird, unddie Ausbildungspunktdistanz (K) einen minimalen Wert wenigstens bei einem von dem ersten Orbitalwinkel oder dem zweiten Orbitalwinkel erreicht.