Patent RU-205314-U1 (RU)
Title: Керамический блок фиксации нагреваемой подложки для вакуумной молекулярно-лучевой эпитаксии
IPC: H01L21/203
Filed: 2020-10-14
Granted: 2021-07-08
Abstract: Полезная модель относится к технологическому оборудованию для вакуумной молекулярно-лучевой эпитаксии полупроводниковых структур и может быть использована в качестве блока фиксации подложки, нагреваемой с помощью изготовленного из тугоплавкого металла или сплава пластинчатого или ленточного резистивного нагревателя в вакуумных установках, предпочтительно, с фиксацией подложки с нижним расположением ее рабочей поверхности и формированием потоков паров полупроводникового материала, например, германия в направлении снизу вверх от сублимационных источников указанных паров или потоков паров полупроводникового материала, например германия или/и кремния, в направлении снизу вверх от тигельных молекулярных источников на основе электроннолучевых испарителей.Технический результат от использования предлагаемой полезной модели - повышение технологичности изготовления, ресурса и ремонтопригодности блока фиксации подложки, нагреваемой с помощью изготовленного из тугоплавкого металла или сплава резистивного нагревателя для вакуумной молекулярно-лучевой эпитаксии в широком диапазоне форм (прямоугольной, круглой и др.) и размеров используемой подложки за счет упрощения конструкции несущей части держателя, выполненной в виде двух несущих керамических пластин с размещенным между ними, выполненным в виде электропроводящей полосы (пластины или ленты), резистивным нагревателем и оснащенной жаростойкими жесткими зажимами, обеспечивающими неподвижную фиксацию конструктивно простой накладной керамической пластины с отверстием под подложку вдоль одной из указанных несущих керамических пластин с наружной стороны с возможностью эксплуатационной фиксации подложки с ее расположением в указанном отверстии фиксирующей пластины вдоль этой же несущей керамической пластины с наружной стороны с помощью указанной фиксирующей керамической пластины за счет прижима нависающих скосов торца отверстия этой фиксирующей керамической пластины к выступающим краям торцев подложки.Для достижения указанного технического результата в блоке фиксации нагреваемой подложки, содержащем установленные в вакуумной камере держатель подложки, выполненный с возможностью фиксации подложки, сориентированной поверхностью роста к молекулярному источнику, и резистивный нагреватель, расположенный со стороны нерабочей поверхности подложки, держатель подложки выполнен в виде жестко соединенных между собой и расположенных параллельно друг к другу двух несущих керамических пластин с размещенным между ними плоским резистивным нагревателем и снабжен жаростойкими жесткими зажимами, обеспечивающими неподвижное расположение фиксирующей керамической пластины с отверстием под подложку вдоль одной из указанных несущих керамических пластин с наружной стороны с возможностью эксплуатационной фиксации подложки с ее размещением в указанном отверстии фиксирующей пластины вдоль этой же несущей керамической пластины с наружной стороны с помощью указанной фиксирующей керамической пластины за счет прижима нависающих скосов торца отверстия этой фиксирующей керамической пластины к выступающим краям торцев подложки.