baber/WOPTO huggingface dataset:
Patent WO-2023127125-A1 (WO)
Title: 制御装置、ロボットシステム、制御方法、および記録媒体
Inventor: ICHIEN MASUMI
IPC: B25J9/16
Filed: 2021-12-28
Abstract: 制御装置は、物体の移動元の状態から移動先の状態までの複数の状態を含む状態シーケンスを生成する第１生成手段と、前記状態シーケンスに従い動作しているロボットの動作中における前記物体の状態と、生成した前記状態との比較結果に基づいて、前記ロボットの動作におけるエラーの発生を判定する判定手段と、前記エラーが発生したと判定される場合に、前記エラーをリカバリーするリカバリー動作をするよう前記状態シーケンスを変更する制御手段とを備える。
Patent JP-WO2020175170-A1 (JP)
Title: 金属配線を形成する方法
IPC: H01L21/288
Filed: 2020-02-14
Abstract: 本発明は、１０μｍ以下、さらには１０μｍ未満の線幅を有する金属配線を簡便に形成する方法を提供する。本発明の金属配線を形成する方法は、基板上に濡れ性制御層を形成するステップであって、シクロオレフィンポリマー、ポリ乳酸、および、それらの誘導体、ならびに、ポリシラザンからなる群から少なくとも１種選択される高分子材料を含有する高分子溶液を基板に塗布し、乾燥する、ステップと、濡れ性制御層に２００ｎｍ以下の波長を有する真空紫外線を照射するステップと、濡れ性制御層上に金属インクを塗布するステップとを包含する。
Patent JP-WO2020203802-A1 (JP)
Title: 鞍乗り型車両
IPC: B62J35/00
Filed: 2020-03-27
Abstract: 鞍乗り型車両（１１）は、軸線（５６）回りで軌道に沿って変位自在にフューエルタンク（４４）に装着されて、閉じ位置で給油口（４４ａ）を塞ぐフューエルキャップ（５５）と、フューエルキャップの軌道から外れて配置されて、フューエルタンクに結合される規制体（１１１）と、フューエルキャップに支持され、フューエルキャップの外周から外方へ突出して規制体に係り合い閉じ位置にフューエルキャップを保持する第１位置（Ｐｆ）、および、第１位置から後退して規制体から離脱する第２位置（Ｐｓ）の間で変位するロック爪（１０２ａ）と、フューエルタンクに結合される支持体に支持されて、ロック爪に接続され、規制体との係り合いからロック爪を解放する駆動力を生成する操作部材（１１３）を備える。これにより、ロック爪の解除前にフューエルキャップに開き方向に操作力が加わることを防止することができる鞍乗り型車両を提供する。
Patent JP-WO2020217602-A1 (JP)
Title: シリンダ装置の製造方法
IPC: F16F9/43
Filed: 2020-01-15
Abstract: 内筒（２）と、内筒（２）内を２室に区画するピストン（３５）と、内筒（２）を覆う外筒（３Ａ）と、ピストン（３５）に連結されて外筒（３Ａ）から突出するピストンロッド（４１）と、内筒（２）および外筒（３Ａ）の端部に設けられてピストンロッド（４１）を案内するロッドガイド（２１）と、外筒（３Ａ）の他端の開口（１３Ａ）を閉塞する環状の閉塞部材（３３）と、を有するシリンダ装置の製造方法であって、内筒（２）内に第１所定量の作動流体Ｌを注液する第１注液ステップと、内筒２内の所定位置にピストン（３５）を配置するように内筒（２）内にピストンロッド（４１）とピストン（３５）との組立体（８２）を挿入する第１ピストンロッド挿入ステップと、内筒２内のピストン（３５）の上側に第２所定量の作動流体（Ｌ）を注液する第２注液ステップと、外筒（３Ａ）の開口（１３Ａ）を閉塞部材（３３）で閉塞する閉塞ステップと、を含む。
Patent WO-2022153976-A1 (WO)
Title: 水処理装置、水処理方法、薬剤、および薬剤の製造方法
Inventor: SATO YUYA
IPC: C02F1/58
Filed: 2022-01-11
Abstract: シリカ含有水を処理する際に、添加する凝集剤の使用量を低減することを目的とする。シリカを含む被処理水からシリカを除去する水処理装置であって、被処理水を貯留し、被処理水に含まれるシリカと薬剤とを反応させる反応部と、反応部に設けられ、シリカを凝集可能なアルミニウム塩からなる凝集剤を添加する凝集剤添加部と、被処理水の流れ方向に沿って反応部の下流側に設けられ、反応部において反応したシリカと薬剤とが凝集して凝集沈殿汚泥として沈殿する沈殿部と、沈殿部において沈殿した凝集沈殿汚泥を、薬剤として反応部に投入する汚泥輸送部と、反応部および沈殿部の少なくとも一方に貯留された被処理水のｐＨを８以上１２以下に調整するｐＨ調整部と、を備える。
Patent WO-2022154041-A1 (WO)
Inventor: SADO YUKI
IPC: B32B27/12
Filed: 2022-01-13
Abstract: 本発明の積層体は、繊維、マトリックス樹脂および難燃剤フィラーを含む積層体であって、繊維方向に対して４５°の断面において、該４５°の断面全体における難燃剤フィラーが占める面積を１００％としたとき、片方の積層体最表面から４００μｍの範囲における難燃剤フィラーが占める面積が７０％以上であり、かつ該４５°の断面における最表面から４００μｍの範囲での難燃剤フィラー面積をＡ、マトリックス樹脂面積をＢとしたときに、０．０１＜Ａ／Ｂ＜０．１５が成り立つ積層体である。本発明のプリプレグは、繊維、マトリックス樹脂および難燃剤フィラーを含み、繊維方向に対して４５°の断面における難燃剤フィラーの偏在率が６６％以上、かつ該断面における難燃剤フィラー面積をＡ、マトリックス樹脂面積をＢとしたときに、０．０１＜Ａ／Ｂ＜０．１５が成り立つプリプレグである。
Patent WO-2022163658-A1 (WO)
Title: Substrat de positionnement d'élément chauffant, module de chauffage et dispositif de chauffage
Inventor: NISHIMOTO KENICHI
IPC: H01L23/12
Filed: 2022-01-25
Abstract: La présente invention concerne un substrat de positionnement d'élément chauffant dans lequel des éléments chauffants sont pris en sandwich contre un autre substrat, ledit substrat de positionnement d'élément chauffant comportant un substrat céramique et des saillies. Une pluralité de régions de positionnement dans lesquelles les éléments chauffants peuvent être positionnés sont disposées sur une surface du substrat en céramique. Les saillies sont positionnées autour des régions de positionnement sur une surface du substrat en céramique.
Patent WO-2023145081-A1 (WO)
Inventor: MORIKAWA Ryu
IPC: G07C9/27
Filed: 2022-01-31
Abstract: カジノ等の施設に入場する際の利用者の負担を軽減するシステムを提供する。施設サーバは、利用者が施設に入場する前に必要な最初の本人確認時に、身分証明書に格納された第１の電子証明書を第１のＰＦサーバに送信する。施設サーバは、利用者が施設に入場する際に必要な２回目以降の本人確認時に、身分証明書に格納された第２の電子証明書を第１のＰＦサーバに送信する。第１のＰＦサーバは、第１の電子証明書の第１の識別情報と前記第２の電子証明書の第２の識別情報を対応付けて記憶する。第１のＰＦサーバは、２回目以降の本人確認時に、第２の電子証明書から第２の識別情報を抽出する。第１のＰＦサーバは、少なくとも抽出された第２の識別情報に対応する第１の識別情報を用いて２回目以降の本人確認に関する処理を行う。
Patent WO-2022181322-A1 (WO)
Title: Substrat semi-conducteur au nitrure d'élément du groupe iii
Inventor: IMAI KATSUHIRO
IPC: C30B29/38
Filed: 2022-02-09
Abstract: L'invention concerne un substrat semi-conducteur au nitrure d'élément du groupe III qui, même lorsque l'orientation décalée varie, présente peu de changement de comportement dans la croissance cristalline pendant la croissance épitaxiale, et dans lequel une perturbation morphologique dans le plan et une variation caractéristique sont peu susceptibles de se produire. Un substrat semi-conducteur au nitrure d'élément du groupe III selon un mode de réalisation de la présente invention est pourvu d'une première surface et d'une seconde surface. Une surface en c est inclinée par rapport à l'orientation de la première surface. La direction de l'inclinaison est orientée entre la direction <1-100> et la direction <11-20>.
Patent WO-2023152870-A1 (WO)
Title: 情報処理装置、制御方法、プログラム及び記憶媒体
Inventor: NOGUCHI RYOJI
IPC: G01S7/497
Filed: 2022-02-10
Abstract: 情報処理装置は、機能的には、取得手段と、検出手段と、処理手段とを有する。取得手段は、計測装置が計測方向ごとに計測した点を表すデータの集合である点群情報を取得する。検出手段は、計測装置の所定度合い以上の変動を検出する。処理手段は、変動の検出の有無に基づき、現処理時刻において得られた点群情報の点の各々に対応する、前処理時刻において得られた点群情報の点を探索する探索範囲を決定する。
Patent WO-2022190807-A1 (WO)
Title: Piezoelectric film and laminated piezoelectric element
Inventor: TAMADA YOSHINORI
IPC: H01L41/053
Filed: 2022-02-17
Abstract: The present invention addresses the problem of providing a piezoelectric film that has good durability, is capable of outputting a sound with high sound pressure, and can also lower resistance in an electrode layer to suppress heat generation. The problem is solved by having: a piezoelectric body layer that includes piezoelectric body particles in a matrix comprising a polymer material; electrode layers respectively provided on both surfaces of the piezoelectric body layer; and an intermediate layer provided at least one of the spaces between the piezoelectric layer and electrode layers, wherein the intermediate layer includes carbon or further includes a metal, and also has a metal atom concentration of 30-90 atm% or a carbon atom concentration of 85-95 atm%.
Patent WO-2022185998-A1 (WO)
Inventor: FUKUI Takato
IPC: G01N27/90
Filed: 2022-02-22
Abstract: Le problème à résoudre par la présente invention est de fournir un dispositif de détection capable de détecter des propriétés physiques dans une plage relativement étroite d'un objet d'essai. La solution selon l'invention porte sur un dispositif de détection 1 comprenant des bobines d'excitation 10 et 20 qui sont chacune enroulées pour diriger un flux magnétique, qui est généré dans une région de diamètre intérieur, d'une extrémité d'ouverture à l'autre extrémité d'ouverture, des substances magnétiques 31 et 32 qui guident un flux magnétique depuis une extrémité d'ouverture 22 de la bobine d'excitation 20 jusqu'à une extrémité d'ouverture 11 de la bobine d'excitation 10, et une unité de détection magnétique 40 qui détecte un flux magnétique traversant les substances magnétiques 31 et 32. Les propriétés physiques d'un objet d'essai A sont détectées par application d'un flux magnétique, qui s'écoule depuis une extrémité d'ouverture 12 de la bobine d'excitation 10 jusqu'à une extrémité d'ouverture 21 de la bobine d'excitation 20, vers l'objet d'essai A. Les bobines d'excitation 10 et 20 pour générer des flux magnétiques dans des directions opposées sont utilisées de cette manière, ce qui permet de concentrer des flux magnétiques dans une plage relativement étroite de l'objet d'essai A. Ainsi, des propriétés physiques peuvent être détectées dans la plage relativement étroite de l'objet d'essai A.
Patent WO-2022202088-A1 (WO)
Inventor: OSAWA TAKAYUKI
IPC: H01L29/06
Filed: 2022-02-25
Abstract: This semiconductor device is provided with: a cell region in which a plurality of cells are formed; and an outer peripheral region which surrounds the cell region. The cell region is provided with: an insulating film which covers the plurality of cells; and an electrode part which has a superposition part that is superposed on the insulating film. The outer peripheral region is provided with a first semiconductor layer, a second semiconductor region, an outer peripheral insulating film, an outer peripheral electrode part, a barrier layer and a passivation film. The outer peripheral insulating film covers the surface of the first semiconductor layer and the surface of the second semiconductor region, while having an opening part from which a part of the surface of the second semiconductor region is exposed. The outer peripheral electrode part has a projection part which is superposed on the outer peripheral insulating film, while being in contact with a part of the surface of the second semiconductor region, said part being exposed from the opening part. The barrier layer covers both the outer peripheral insulating film and the outer peripheral electrode part, while having a smaller diffusion coefficient than the outer peripheral insulating film. The passivation film is superposed on the barrier layer, while having a larger diffusion coefficient than the barrier layer. The thickness of the projection part is thinner than the thickness of the superposition part.
Patent WO-2022209552-A1 (WO)
Title: Procédé de production d'agrégat cellulaire
Inventor: HIRAOKA YASUYUKI
IPC: C12N5/071
Filed: 2022-03-02
Abstract: La présente invention concerne un procédé de production d'un agrégat cellulaire ayant un canalicule biliaire, le procédé comprenant : une étape de contact pour amener de l'héparine et des cellules, y compris des hépatocytes, en contact entre eux dans un milieu aqueux ; et une étape de culture pour cultiver des cellules qui ont été mises en contact avec de l'héparine et former un agrégat cellulaire.
Patent WO-2022196739-A1 (WO)
Title: 求解装置およびプログラム
Inventor: SUZUKI MASARU
IPC: G06F17/12
Filed: 2022-03-16
Abstract: 良い解を効率良く算出する。求解装置は、非凸二次関数である目的関数を最小化する問題の解を、Ｊ個の連立一次方程式を満たし且つＫ個の連立一次不等式を満たす条件の下で算出する。求解装置は、取得部と、更新部と、出力部とを備える。更新部は、拡張ラグランジュ関数に基づき生成されるＩ個の決定変数を含む第１関数を最小化するＩ個の決定変数の解の候補値を取得する第１処理、拡張ラグランジュ関数に基づき生成されるＫ個の従属変数を含む第２関数を最小化するＫ個の従属変数の解の候補値を取得する第２処理、および、拡張ラグランジュ関数に含まれる係数を更新する係数処理、を予め定められた順序で繰り返す。拡張ラグランジュ関数は、目的関数を含む目的関数項と、Ｊ個の連立一次方程式に対応するＪ個の第１ラグランジュ項と、Ｋ個の連立一次不等式に対応するＫ個の第２ラグランジュ項と、ペナルティ項と、を含む。
Patent WO-2022202632-A1 (WO)
Inventor: YOSHIDA TETSUYA
IPC: F27D7/02
Filed: 2022-03-17
Abstract: 本開示は、分割弁を介して連結した第１室及び第２室と、加熱された気体が流通する給気口及び排気口とを含む容器を備えた、加熱処理装置及び加熱処理物の製造方法を提供する。
Patent WO-2023047658-A1 (WO)
Inventor: KINOSHITA MASAYA
IPC: H04N5/92
Filed: 2022-03-17
Abstract: La présente invention permet d'utiliser efficacement l'émotion de l'utilisateur pour chaque scène de contenu d'image mobile.　La présente invention génère, sur la base de l'émotion de l'utilisateur et de la qualité vidéo pour chaque scène du contenu d'image animée A, des données de corrélation obtenues en associant l'émotion de l'utilisateur et la qualité vidéo l'une à l'autre. La présente invention prédit, sur la base de la qualité vidéo pour chaque scène de contenu d'image animée B et des données de corrélation obtenues en associant l'émotion de l'utilisateur et la qualité vidéo relative au contenu d'image animée A, l'émotion de l'utilisateur pour chaque scène de contenu d'image animée B. Par exemple, l'émotion de l'utilisateur prédite pour chaque scène de contenu d'image animée B est affichée et utilisée.
Patent WO-2023181350-A1 (WO)
Title: 緩衝器
Inventor: AKIMOTO MASANOBU
IPC: F16F9/34
Filed: 2022-03-25
Abstract: 緩衝器（Ｄ）は、シリンダ（１）と、シリンダ（１）内に移動可能に挿入されるピストン（２）と、ピストン（２）に連結されるピストンロッド（３）と、液体を貯留するタンク（４）と、伸側室（Ｒ１）と圧側室（Ｒ２）とをそれぞれ並列して連通する第１通路（Ｐ１）および第２通路（Ｐ２）と、圧側室（Ｒ２）とタンク（４）とを連通する第３通路（Ｐ３）と、第１通路（Ｐ１）に設けられた伸側減衰バルブ（５）と、第２通路（Ｐ２）に設けられた圧側チェックバルブ（６）と、第３通路（Ｐ３）の途中に着脱可能に設けられたバルブユニット（Ｖ）とを備える。また、バルブユニット（Ｖ）は、圧側減衰バルブ（Ｖ１）と、圧側リリーフバルブ（Ｖ２）と、伸側チェックバルブ（Ｖ３）とを並列に備えている。
Patent WO-2022210676-A1 (WO)
Title: Tampon de polissage et procédé de fabrication de tampon de polissage
Inventor: TATENO TEPPEI
IPC: C08G18/40
Filed: 2022-03-29
Abstract: Le présent tampon de polissage comporte une couche de polissage qui comprend un prépolymère à terminaison isocyanate et une mousse de résine de polyuréthane dérivée d'un agent de durcissement : la distance entre des segments durs dans la couche de polissage telle que mesurée par diffusion de rayons X à petit angle étant de 9,5 nm ou moins ; ou le rapport (NC80/CC80) de la proportion de teneur en poids (NC80) d'une phase amorphe dans la couche de polissage telle que mesurée par RMN pulsée à 80 °C à la proportion de teneur en poids (CC80) d'une phase cristalline dans la couche de polissage telle que mesurée par RMN pulsée à 80 °C étant de 2,6 à 3,1, et le rapport (NC40/CC40) de la proportion de teneur en poids (NC80) d'une phase amorphe dans la couche de polissage telle que mesurée par RMN pulsée à 40 °C à la proportion de teneur en poids (CC80) d'une phase cristalline dans la couche de polissage telle que mesurée par RMN pulsée à 40 °C étant de 0,5 à 0,9.
Patent WO-2022220163-A1 (WO)
Title: Compound, mitochondria staining agent, and method for fluorescent staining of mitochondria
Inventor: FURUE MIHO
IPC: A61K31/4745
Filed: 2022-03-31
Abstract: [Problem] To provide, according to the present invention, a novel compound that binds specifically to an intracellular and/or extracellular vesicle, a mitochondria staining agent, and a method for fluorescent staining of mitochondria. The compound is represented by formula (1). (In formula (1), R1 or R2 is isocyanate or isothiocyanate, and if one is isocyanate or isothiocyanate, the other may be H, CH3, NH2, OH, OCH3, COOH, or carboxy amine.)
Patent WO-2023053557-A1 (WO)
Title: 情報処理装置、情報処理方法、及びプログラム
Inventor: NISHIYAMA YUKINORI
IPC: G03B17/00
Filed: 2022-05-06
Abstract: 情報処理装置は、プロセッサを備える情報処理装置であって、プロセッサは、第１画像データを取得し、第１画像データをディスプレイに出力し、視線データを取得し、視線データに基づいて、第１画像データが示す第１画像に対する視線位置の変動距離が第１距離以下の状態が第１時間以上継続した場合の視線位置を注視位置として検出し、２つ以上の注視位置に基づいて第１領域を設定する。
Patent WO-2022244802-A1 (WO)
Inventor: NOGUCHI SEIJI
IPC: H01L29/78
Filed: 2022-05-18
Abstract: L'invention concerne un dispositif à semi-conducteur (100) comprenant : une première région émettrice de type conducteur (12) en contact avec une section de tranchée de grille (40) ; une seconde région de contact de type conducteur (15) disposée en alternance avec la région émettrice dans la direction longitudinale de la section de tranchée de grille ; une première section de contact de tranchée (54-1) disposée vers l'intérieur de la région de contact ; une seconde section de contact de tranchée (54-2) disposée vers l'intérieur de la région émettrice ; une seconde section de bouchon de type conducteur (201) qui est disposée en contact avec l'extrémité inférieure de la première section de contact de tranchée et a une concentration plus élevée que la région de base ; et une seconde section de bouchon de type conducteur (202) qui est disposée en contact avec l'extrémité inférieure de la seconde section de contact de tranchée, est disposée jusqu'à un côté de surface inférieure à partir de la première section de bouchon, et a une concentration plus élevée que la région de base.
Patent WO-2023243047-A1 (WO)
Inventor: AKASHI KAZUAKI
IPC: G06Q10/04
Filed: 2022-06-16
Abstract: 一実施形態に係るタスク割当装置は、複数のタスクに対する動作の主体となる複数のエージェントの各々の特徴を示す情報、および複数のタスクの各々の特徴を示す情報をニューラルネットワークに入力し、この入力の結果に基づいて、エージェントに対するタスクの割り当てを示す情報を生成する割当部と、割当部により生成された情報に基づいて、エージェントによるタスクに対する動作の解を生成する生成部と、ニューラルネットワークのパラメータの学習用の情報である複数のエージェントの各々の特徴を示す情報および複数のタスクの各々の特徴を示す情報に対する割当部により生成された情報に基づいて生成された、エージェントによるタスクに対する動作の解の良し悪しを評価して、この評価の結果に応じてニューラルネットワークのパラメータを更新する学習処理を行なう学習部と、を有する。
Patent WO-2022270638-A1 (WO)
Title: 化合物、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料、有機エレクトロルミネッセンス素子、及び電子機器
Inventor: TAKAHASHI YUSUKE
IPC: C07C211/54
Filed: 2022-06-27
Abstract: 有機ＥＬ素子の性能をより改善する化合物、素子性能がより改善された有機エレクトロルミネッセンス素子、そのような有機エレクトロルミネッセンス素子を含む電子機器を提供するものであり、下記式（１）で表される化合物［式（１）中、Ｎ*、＊ａ１、＊ａ３、＊ｂ１、ｍ、ｎ、Ｒ１Ａ～Ｒ５Ａ、Ｒ１Ｂ～Ｒ５Ｂ、Ｒ１１Ｂ～Ｒ１４Ｂ、Ｒ２１Ａ～Ｒ２５Ａ、Ｒ２１Ｂ～Ｒ２４Ｂ、Ｌ、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３は、明細書において定義したとおり。］、該化合物を含む有機エレクトロルミネッセンス素子、及びそのような有機エレクトロルミネッセンス素子を含む電子機器。
Patent WO-2023277094-A1 (WO)
Title: 振動装置
Inventor: TAKAHASHI YUKI
IPC: B06B1/04
Filed: 2022-06-29
Abstract: 振動装置は、固定体に対して弾性振動可能に支持された可動体を、当該可動体の振動方向の一方向に駆動して振動させる振動アクチュエーターと、振動アクチュエーターを内部に密閉して収容する収容部と、を備え、振動アクチュエーターは、一方向に延在する支持部材を介して、収容部の内壁に取り付けられている。支持部材は、内壁に対して、振動アクチュエーターの可動体又は固定体の一方を支持する。
Patent WO-2023282222-A1 (WO)
Inventor: OOGUSHI OSAMI
IPC: B23K26/21
Filed: 2022-07-04
Abstract: レーザ溶接方法は、準備工程と、溶接工程と、を含む。準備工程では、２つの平角線（９０）の導体（９１）の長手方向の端部の側面同士を合わせる。溶接工程では、２つの平角線（９０）の導体（９１）の端面同士の境界を含む領域にレーザを照射して平角線（９０）同士を溶接する。レーザは、透過光学系を透過した後に平角線（９０）の端面に照射される。透過光学系は回転可能であり、透過光学系の回転位相に応じて、レーザの端面への照射位置が第１方向に変化する。溶接工程では、第１方向が平角線（９０）の端面の長辺と平行になるようにして、パルスレーザを平角線（９０）の導体（９１）の端面同士の境界を含む領域に照射して平角線（９０）同士を溶接する。
Patent WO-2023026724-A1 (WO)
Inventor: ABURA TSUTOMU
IPC: G03F7/039
Filed: 2022-07-20
Abstract: 本発明は、感赤外線層の耐傷性に優れる感光性樹脂印刷版原版を提供することを目的とする。本発明は、支持体上に、感光性樹脂層、中間層および感赤外線層をこの順に有する感光性樹脂印刷版原版であって、中間層が鹸化度６０～１００モル％、平均重合度１，２００～３，０００のポリビニルアルコールを含有する感光性樹脂印刷版原版である。
Patent WO-2023032600-A1 (WO)
Inventor: TONG FANGWEI
IPC: G01S13/89
Filed: 2022-08-05
Abstract: This electronic device comprises: a transmission antenna that transmits a transmission wave; a reception antenna that receives a reflection wave resulting from reflection of the transmission wave; a control part that controls a radiation pattern of the transmission wave; and a signal processing part that detects an object on the basis of a transmission signal transmitted as the transmission wave and a reception signal received as the reflection wave. The control part performs control so as to include, when transmitting transmission waves in a predetermined unit a plurality of times, at least one transmission wave in which the radiation pattern has been changed. The signal processing part outputs a detection result of the object on the basis of selected clusters, excluding a cluster having the farthest representative point, among a plurality of clusters obtained by performing clustering of results of detecting the object a plurality of times.
Patent WO-2023084867-A1 (WO)
Title: アルミニウム合金鋳塊、アルミニウム合金材およびアルミニウム合金材の製造方法
Inventor: TOMITA YUTO
IPC: B22D11/04
Filed: 2022-08-24
Abstract: 引張強度が向上したアルミニウム合金材の原料として有利に用いることができるアルミニウム合金鋳塊を提供する。Ｃｕ：０．３～１．０質量％、Ｍｇ：０．６～１．２質量％、Ｓｉ：０．９～１．４質量％、Ｍｎ：０．４～０．６質量％、Ｆｅ：０．１～０．７質量％、Ｃｒ：０．０９～０．２５質量％、Ｔｉ：０．０１２～０．０３５質量％にあり、残部がＡｌおよび不可避不純物からなり、Ｃｕ－Ｋα線を用いて測定されるＸ線回折パターンにおいて、回折角２θで４１．６～４２．０°にある回折ピークの積分強度が２θで３８．４～３８．８°にある回折ピークの積分強度に対して０．５０％未満であり、４５０℃で１時間加熱処理した後の加熱処理品は、回折角２θで４１．６～４２．０°にある回折ピークの積分強度が２θで３８．４～３８．８°にある回折ピークの積分強度に対して０．５０～０．７０％であるアルミニウム合金鋳塊。
Patent WO-2023042813-A1 (WO)
Inventor: YAGYU Masafumi
IPC: H01L21/304
Filed: 2022-09-13
Abstract: Provided are: a method for cleaning a semiconductor substrate having an adhesive layer on the surface thereof, in which removal (cleaning) can be performed in a shorter period of time and more thoroughly via a simple operation; a method for manufacturing a processed semiconductor substrate, comprising such a cleaning method; and a composition for use in such a cleaning method.　The method for cleaning a semiconductor substrate comprises a step for exfoliating and dissolving an adhesive layer on the semiconductor substrate using a composition for exfoliation and dissolution, wherein the composition for exfoliation and dissolution contains component [I]: a quaternary ammonium salt, component [II]: an amide-based solvent, and component [III]: a solvent represented by formula (L). (In the formula, L represents a substituent substituted on a benzene ring and each independently represents a C1-4 alkyl group, and k represents the number of L and is an integer of 0-5.)
Patent WO-2023090021-A1 (WO)
Inventor: YANAGAWA Ryota
IPC: A61B1/00
Filed: 2022-10-17
Abstract: 操作検出部は、接触検知デバイスに接触するオブジェクトの動きにもとづいて、第１操作を検出する。駆動制御部は、第１操作にもとづいて、管腔内デバイスの少なくとも一部の形状を変化させる形状制御を実施する。操作検出部は、第１操作の検出を開始してから接触検知デバイスに接触し続ける間のオブジェクトの動きにもとづいて、第２操作を検出する。駆動制御部は、第２操作にもとづいて、管腔内デバイスの少なくとも一部の変化した形状を維持する制御を実施する。
Patent WO-2023085373-A1 (WO)
Title: 組成物、表面処理剤、コーティング液、物品、及び物品の製造方法
Inventor: MUROTANI EISUKE
IPC: C09D5/00
Filed: 2022-11-10
Abstract: 耐摩擦性に優れる組成物、表面処理剤、コーティング液、耐摩擦性に優れた表面層を有する物品、及びその製造方法の提供を目的とする。　式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、式（Ｂ１）で表される化合物、および式（Ｂ２）で表される化合物より選択される２種以上を含有し、（Ｉ）～（ＩＩＩ）を満たす、組成物。 Ｒｆ１－（ＯＲｆ１１）ｙ１－Ｏ－Ｒ１－Ｌ１－（Ｒ１１－Ｔ１）ｘ１　・・・（Ａ１） Ｒｆ２－（ＯＲｆ１２）ｙ２－Ｏ－Ｒ２－Ｌ２－（Ｒ１２－Ｔ２）ｘ２　・・・（Ａ２） （Ｔ３－Ｒ１３）ｘ３－Ｌ３－Ｒ３－（ＯＲｆ１３）ｙ３－Ｏ－Ｒ２３－Ｌ１３－（Ｒ３３－Ｔ１３）ｘ１３　・・・（Ｂ１） （Ｔ４－Ｒ１４）ｘ４－Ｌ４－Ｒ４－（ＯＲｆ１４）ｙ４－Ｏ－Ｒ２４－Ｌ１４－（Ｒ３４－Ｔ１４）ｘ１４　・・・（Ｂ２）　ただし、式中の各符号は明細書に記載のとおりである。
Patent WO-2023095910-A1 (WO)
Inventor: OGAWA YOHEI
IPC: F04D19/04
Filed: 2022-11-28
Abstract: 【課題】複数の部品の線膨張係数の相違により発生する熱応力によるボルトの緩みを防止すること。 【解決手段】本発明の実施形態に係る真空ポンプ１００では、内部の熱により加熱される被加熱部品（被締結部品)をボルトで締結する場合、両者の線膨張係数の差から生じる熱応力を吸収するために、線膨張係数を調整するためのスペーサ４００を設置する。このスペーサ４００を設置することで、ボルト３００（ボルトの材料）の線膨張係数と被加熱部品とスペーサ４００を加えた線膨張係数を揃えることで、ボルト３００の締結部分の熱応力の発生を抑止することができる。
Patent WO-2023120131-A1 (WO)
Title: Hydraulic composition, production method for cement-based hardened body, and expansion inhibitor for cement-based hardened body
Inventor: SHINMI TATSUO
IPC: C04B28/02
Filed: 2022-12-05
Abstract: The purpose of the present invention is to provide: a hydraulic composition that can modify alkali silicate which is the reaction product of an alkali-silica reaction in a cement-based hardened body to be non-expandable and inhibit expansion behavior due to the alkali-silica reaction; and a hardened body thereof. The hydraulic composition and the hardened body each comprise cement, an aggregate, and calcium chloride or calcium formate as a hardened body expansion inhibitor.
Patent WO-2023112838-A1 (WO)
Inventor: YAMASAKI Tomohito
IPC: G06F3/01
Filed: 2022-12-08
Abstract: This information processing device comprises: an acquisition unit that acquires visual line information indicating the visual line of a user; a display control unit that displays a first virtual object and a second virtual object at positions not overlapping each other, as seen from the user, in a virtual space; and an operation control unit that causes the second virtual object to transition from inactive to active after a transition has occurred from a first state where the visual line of the user indicated by the visual line information intersects the first virtual object and the first virtual object is active to a second state where the visual line of the user does not intersect the first virtual object.
Patent WO-2023127479-A1 (WO)
Inventor: NORITA KATSUNARI
IPC: B21D28/04
Filed: 2022-12-13
Abstract: Provided is a processing device with which it is possible to manufacture a metal member having exceptional corrosion resistance at a cut end surface thereof. A processing device (20) comprises a punch (21) and a die (22) that are positioned on one sheet-thickness-direction side and the other sheet-thickness-direction side, respectively, of a metal sheet (10) that is a workpiece. The punch (21) and the die (22) each have an end surface (211, 221) and a side surface (212, 222). The punch (21) and the die (22) are positioned such that the end surface (211) of the punch (21) and the end surface (221) of the die (22) do not overlap in plan view. At least one of the side surface (212) of the punch (21) and the side surface (222) of the die (22) includes an inclined section (212a) of which the surface is inclined so as to face toward the metal sheet (10) and which is formed so as not to overlap the other of the punch (21) and the die (22) in plan view, the angle θ formed by the sheet thickness direction and the surface of the inclined section (212a) being 15° or greater.
Patent WO-2023120514-A1 (WO)
Inventor: SUDA HIROMI
IPC: C08L83/07
Filed: 2022-12-20
Abstract: L'invention concerne une composition thermoconductrice comprenant : un organo-polysiloxane contenant un groupe alcényle ; un organo-polysiloxane d'hydrogène ; un catalyseur d'hydrosilylation ; une charge thermoconductrice ; et un antioxydant qui comprend des atomes de soufre et forme une poudre à 23° C.
Patent WO-2023149145-A1 (WO)
Inventor: KOYAMA MASAKI
IPC: F04C18/02
Filed: 2022-12-27
Abstract: 旋回スクロールの揺動を抑え、且つ、動力損失を抑えることができるスクロール圧縮機を提供する。　スクロール圧縮機は、渦巻き状のラップ１６を有する固定スクロール１１と、渦巻き状のラップ２０を有する旋回スクロール１２と、固定スクロール１１に対して旋回スクロール１２を旋回させる駆動軸１３と、旋回スクロール１２のラップ２０と固定スクロール１１のラップ１６の間で形成された複数の圧縮室と、旋回スクロール１２の背面側に形成された背圧室２８と、旋回スクロール１２に形成され、背圧室２８と圧縮室を連通する連通孔２９とを備える。背圧室２８は、駆動軸１３のクランク角が第１範囲であるときに、連通孔２９を介し吐出過程の圧縮室と連通し、駆動軸１３のクランク角が第２範囲であるときに、連通孔２９を介し圧縮過程の圧縮室と連通する。
Patent WO-2023145395-A1 (WO)
Inventor: SADAKANE Takuya
IPC: H01M10/052
Filed: 2023-01-05
Abstract: 実施形態の一例である非水系リチウム二次電池（１０）は、正極（１１）と、負極（１２）と、非水電解質とを備え、充電時に負極集電体（４０）上にリチウム金属が析出し、放電時に当該リチウム金属が非水電解質中に溶解する二次電池である。非水系リチウム二次電池（１０）は、正極集電体（３０）と負極（１２）との間に配置された複素環式アミン化合物を含む。