Patent AR-087344-A1 (AR)
Title: Formas polimorficas del acido 5-(3,3-dimetil-but-1-inil)-3-[(trans-4-hidroxi-ciclohexil)-(trans-4-metil-ciclohexancarbonil)-amino]-tiofen-2-carboxilico y su uso en el tratamiento de la hepatitis c
Inventor: LUONG HOA Q
IPC: A61K31/381
Filed: 2012-07-26
Abstract: Un método para preparar la Forma polimórfica M del compuesto de fórmula (1) incluye agitar una mezcla del compuesto de fórmula (1) y un sistema de solvente que incluye isopropanol, etil acetato, n-butil acetato, metil acetato, acetona, 2-butanona (metiletilcetona (MEK)), o heptano, o una combinación de los mismos a una temperatura comprendida entre 10ºC y 47ºC para formar la Forma M del compuesto de fórmula (1). Un método para preparar la Forma polimórfica H del compuesto de fórmula (1) incluye agitar una solución del compuesto de fórmula (1) a una temperatura comprendida entre 48ºC y 70ºC para formar la Forma H del compuesto de fórmula (1). Un método para preparar la Forma P del compuesto de fórmula (1) incluye agitar una mezcla del compuesto de fórmula (1) y un sistema de solvente que incluye un solvente seleccionado entre el grupo formado por diclorometano y tetrahidrofurano (THF), y una mezcla de los mismos a temperatura ambiente para formar la Forma P del compuesto de fórmula (1). Un método para preparar la Forma X del compuesto de fórmula (1) incluye remover el solvato G de etil acetato del compuesto de fórmula (1). Un método para preparar la Forma ZA del compuesto de fórmula (1) incluye remover el n-butil acetato del solvato A de n-butil acetato del compuesto de fórmula (1).Reivindicación 1: Una forma polimórfica del compuesto (1) representado por la fórmula estructural (1), en donde la forma polimórfica es la forma polimórfica M, forma polimórfica H, forma polimórfica P, forma polimórfica X o forma polimórfica ZA. Reivindicación 4: La forma polimórfica de acuerdo con la reivindicación 2, en donde la forma polimórfica M se caracteriza por tener un patrón de difracción de polvos por rayos X con picos característicos expresados en 2-q ± 0,2 en las siguientes posiciones: 19,6, 16,6, 18,1, 9,0, 22,2 y 11,4, en donde el patrón de difracción de polvos por rayos X se obtiene a temperatura ambiente usando radiación CuKa. Reivindicación 11: La forma polimórfica de acuerdo con la reivindicación 9, en donde la forma polimórfica H se caracteriza por tener un patrón de difracción de polvos por rayos X con picos característicos expresados en 2-q ± 0,2 en las siguientes posiciones: 6,6, 18,7, 8,5, 17,3, 15,8 y 19,4, en donde el patrón de difracción de polvos por rayos X se obtiene a temperatura ambiente usando radiación CuKa. Reivindicación 18: La forma polimórfica de acuerdo con la reivindicación 16, en donde la forma polimórfica P se caracteriza por tener un patrón de difracción de polvos por rayos X con picos característicos expresados en 2-q ± 0,2 en las siguientes posiciones: 7,0, 15,8, 9,8, 19,3, 8,5 y 21,9, en donde el patrón de difracción de polvos por rayos X se obtiene a temperatura ambiente usando radiación CuKa. Reivindicación 25: La forma polimórfica de acuerdo con la reivindicación 23, en donde la forma polimórfica X se caracteriza por tener un patrón de difracción de polvos por rayos X con picos característicos expresados en 2-q ± 0,2 en las siguientes posiciones: 7,5, 12,1, 13,0, 13,8, 16,2 y 19,7 en donde el patrón de difracción de polvos por rayos X se obtiene a temperatura ambiente usando radiación CuKa. Reivindicación 29: La forma polimórfica de acuerdo con la reivindicación 27, en donde la forma polimórfica ZA se caracteriza por tener un patrón de difracción de polvos por rayos X con picos característicos expresados en 2-q ± 0,2 en las siguientes posiciones: 5,2, 10,2, 16,5, 18,6, 19,8 y 20,3, en donde el patrón de difracción de polvos por rayos X se obtiene a temperatura ambiente usando radiación CuKa. Reivindicación 31: Una forma amorfa del compuesto (1) representado por la fórmula estructural (1).