Patent DE-112014003760-B4 (DE)
Title: Elektronenmikroskop und Beobachtungsverfahren
Inventor: MATSUMOTO HIROAKI
IPC: H01J37/26
Filed: 2014-05-16
Granted: 2023-10-26
Abstract: Elektronenmikroskop, aufweisendeine Elektronenquelle (1) eines Elektronenstrahls (27),ein optisches Bestrahlungssystem (4), aufgebaut aus einer Vielzahl von Elektronenlinsen (41, 42) zum Bestrahlen einer Probe (3) mit dem aus der Elektronenquelle (1) emittierten Elektronenstrahl (27),eine zum optischen Bestrahlungssystem (4) gehörende bewegliche Bestrahlungsblende (45) zum Ändern eines Bestrahlungsbetrags des Elektronenstrahls (27) hin zur Probe (3),eine Proben-Halterungsvorrichtung zum Halten der Probe (3), die der Elektronenstrahl (27) bestrahlt,ein Abbildungslinsensystem (61-64), aufgebaut aus einer Vielzahl von Elektronenlinsen (61-64) zur Fokussierung eines Bilds der Probe (3) oder eines Beugungsmusters der Probe (3),eine Betrachtungsfläche (89) zum Beobachten des Bilds der Probe (3) oder des Beugungsmusters der Probe (3) durch das Abbildungslinsensystem (61-64),ein Aufzeichnungsgerät (77) zum Aufzeichnen des Bilds der Probe (3) oder des Beugungsmusters der Probe (3), undeine bewegliche erste Blende (65) zum selektiven Transmittieren eines Teils des Elektronenstrahls (27), der die Probe (3) durchläuft, zwischen einer ersten Abbildungslinse (61), angeordnet an einer obersten, in Laufrichtung des Elektronenstrahls (27) stromaufwärtigen Seite in der zum Abbildungslinsensystem (61-64) gehörenden Elektronenlinse, und der Proben-Halterungsvorrichtung,wobei das optische Bestrahlungssystem (4) dazu ausgelegt ist, den die Probe (3) durchlaufenden Elektronenstrahl (27) konvergierend auf die erste Blende (65) zu bündeln,gekennzeichnet durch eine Deflektorvorrichtung (81) zum Ablenken des Elektronenstrahls (27) zu einer in Laufrichtung des Elektronenstrahls (27) stromabwärtigen Seite der ersten Abbildungslinse (61), wobeidie Deflektorvorrichtung (81) dazu ausgelegt ist, eine Achsenabweichung des Elektronenstrahls (27) zu korrigieren, der in Übereinstimmung mit einer Änderung einer Brennweite der ersten Abbildungslinse (61) erzeugt wurde,das Elektronenmikroskop dazu ausgelegt ist, das Bild der Probe (3) und das Beugungsmuster der Probe (3) durch Ändern der Brennweite der ersten Abbildungslinse (61) zu beobachten,die Brennweite der ersten Abbildungslinse (61) zum Beobachten des Bilds der Probe (3), und die Brennweite der ersten Abbildungslinse (61) zum Beobachten des Beugungsmusters der Probe (3) seitens einer Bedienperson des Elektronenmikroskops durch einen ersten Bedienvorgang umschaltbar sind, undwenn eine Beobachtung des Bilds der Probe (3) und eine Beobachtung des Beugungsmusters der Probe (3) durch den ersten Bedienvorgang umgeschaltet werden, ein Zustand des Abbildungslinsensystems (61-64), einschließlich der Deflektorvorrichtung (81), erforderlich zum Beobachten des Proben-Bilds, und ein Zustand des Abbildungslinsensystems (61-64), einschließlich der Deflektorvorrichtung (81), erforderlich zum Beobachten des Proben-Beugungsmusters, jeweilig aufgezeichnet werden, so dass die letzten Zustände der Beobachtungen bei einem vorherigen Durchgang in den jeweiligen Beobachtungen durch einen simplen Schaltvorgang wiederherstellbar sind.