baber/WOPTO huggingface dataset:
Patent KR-20030050516-A (KR)
Title: Device for removing scrap provided equipment oxygen injection in electric furnace
Inventor: LEE EUN SEOK
IPC: C21C5/52
Filed: 2001-12-18
Abstract: PURPOSE: A skull removing device for oxygen blowing equipment is provided to prevent damage of lance and postpone exchange time of guide rollers by periodically removing skull generated on guide rollers. CONSTITUTION: In a device for blowing oxygen into the electric furnace by charging a lance guided to move back and forth by guide rollers(21) into electric furnace, the skull removing device for oxygen blowing equipment comprises fixed brackets(23,25) which fix the guide rollers(21) to a radiation cover(13), and on which a guide hole(23a) is slantly formed; an operating rod(27) slantly ascended or descended with being inserted into the guide hole(23a); a connection bar(29) one side of which is fixed to the operating rod(27) by hinge, and the other side of which is fixed to an eccentric position of the guide rollers(21) by hinge; and a skull removal rod(31) fixed to the operating rod to remove skull stuck to the guide rollers.
Patent KR-20030052812-A (KR)
Title: Method For Manufacturing Semiconductor Devices
Inventor: TAK GI DEOK
IPC: H01L21/336
Filed: 2001-12-21
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a semiconductor device is provided to be capable of preventing the surface etching damage of an active region of a semiconductor substrate and simplifying manufacturing processes by forming a gate electrode in a groove portion using a damascene process and simultaneously forming a cap layer and a spacer pattern of the gate electrode. CONSTITUTION: After forming the first insulating layer on a semiconductor substrate(10), a groove portion is formed by selectively etching the first insulating layer for partially exposing an active region. A gate isolating layer(25) and a gate electrode are completely filled into the groove portion. After forming the second insulating layer on the resultant structure, a cap layer(33) and a spacer(35) are simultaneously formed by selectively etching the first and second insulating layer.
Patent KR-20030053587-A (KR)
Title: Double data rate synchronous semiconductor memory device capable of changing data strobe control scheme in package level and method for changing data strobe control scheme for double data rate synchronous semiconductor memory device in wafer level
Inventor: PARK YUN SIK
IPC: G11C7/00
Filed: 2001-12-22
Abstract: PURPOSE: A double data rate SDRAM(Synchronous Dynamic Random Access Memory) capable of changing a data strobe control structure in a packaging level and a method for changing the data strobe control structure of the double data rate SDRAM in a wafer level are provided to reduce the damage by selecting the data strobe control structure suitable for an operation frequency of a DDR(Double Data Rate) SDRAM DRAM in the packaging level. CONSTITUTION: A transistor(205) includes an NMOS(N-type Metal Oxide Semiconductor) transistor. Each of pull-up transistors(210,215,220) includes a PMOS(P-type Metal Oxide Semiconductor) transistor in which an inverse signal(/MRS) of a mode resistor set signal(MRS) is applied to a gate and a power voltage(VDD) is applied to a drain. A transistor(225) includes a PMOS transistor in which the mode resistor set signal(MRS) is applied to a gate and the power voltage(VDD) is applied to a drain. A buffer circuit(230) includes two inverters. Each of OR circuits(235,240,245) includes a NAND gate and an inverter.
Patent KR-20030053348-A (KR)
Title: Polishing System of Roll For Rolling Facilities
Inventor: LEE JONG BOK
IPC: B21B28/02
Filed: 2001-12-22
Abstract: PURPOSE: A roll polishing system is provided to improve quality and to increase productivity of a roll by preventing the roll from being oxidized due to contaminated polishing oil. CONSTITUTION: A roll polishing system includes an actuating head(100) mounted on a fixing beam(10), which is vertically installed at a rear portion of a reciprocating table. A rotating beam(11) is rotatably installed at an upper portion of the fixing beam(10) and a fixing bar(14) is installed at a front of the rotating beam(11). A lifting motor(13) for vertically moving a supporting bracket(110) is mounted on the fixing bar(14). A limit switch(15) is attached to a lower portion of the fixing bar(14). The limit switch(15) makes contact with the supporting bracket(110) when the supporting bracket(110) moves upwards, thereby controlling the upward movement of the supporting bracket(110). The actuating head(100) has a supporting plate.
Patent KR-20030054065-A (KR)
Title: method for manufacturing via hole
Inventor: CHOI IK SU
IPC: H01L21/28
Filed: 2001-12-24
Abstract: PURPOSE: A method for forming a via hole is provided to be capable of preventing the increase of top size of a via hole caused by trench etching in self-aligned dual damascene processing. CONSTITUTION: An inorganic insulating layer(206) and a barrier layer(211) are sequentially formed on a semiconductor substrate(200) having a conductive layer(202). A via hole(207) is formed by selectively etching the barrier layer and the inorganic insulating layer using the first photoresist pattern as a mask. After removing the first photoresist pattern, an organic insulating layer(214) is filled into the via hole. A trench(215) is formed by selectively etching the organic insulating layer(214) using the second photoresist pattern as a mask. The second photoresist pattern is then removed.
Patent KR-20030054487-A (KR)
Title: Anode bridge apparatus for controlling the position of anode block unit separately
Inventor: LEE SEONG HO
IPC: C25D17/00
Filed: 2001-12-26
Abstract: PURPOSE: An anode bridge apparatus for controlling position of anode block unit separately is provided to improve coating quality of strip greatly by automatically controlling anode mounting position per block unit inside coating pot, thereby promptly controlling an accurate gap between conductor roll and anodes. CONSTITUTION: In an anode bridge apparatus for mounting anodes dissolved by electrolysis reaction inside coating pot(200a) in electroplating plant, the anode bridge apparatus for controlling position of anode block unit separately comprises an anode mounting part comprising track frame(12) installed at one side of conductor roll of galvanizing pot(200a) so that anode mounted anode blocks(10) are rotated on the track frame(12) in a caterpillar shape, and motors(22) for driving the anode blocks(10) so that a plurality of anode blocks(10) are sequentially moved along the track frame(12); an anode ascending and descending part comprising back and forth moving cylinder which is installed inside each of the anode blocks(10), on the front side of which a moving block is slidingly mounted, and which moves the moving block back and forth; and an anode inclination part on which inclination block is mounted so that the inclination block is rotated on the moving block, in which anode mounting surface is formed on the inclination block, and which is equipped with rotation cylinder for tilting the inclination block to tilt anodes mounted on the inclination block, wherein a gap between the conductor roll(204) and anodes(220) is automatically controlled by mounting the anodes(220) on the inclination block inside the coating pot so that the anodes are sequentially moved, moving the respective anodes per blocks(10) back and forth for the conductor roll, and controlling tilting of the anodes.
Patent KR-20030054586-A (KR)
Inventor: KIM DONG UK
IPC: H01L21/027
Filed: 2001-12-26
Abstract: PURPOSE: A polyimide bake oven is provided to be capable of uniformly hardening a polyimide layer coated on the surface of a wafer by uniformly conserving the temperature distribution inside a chamber of the polyimide bake oven using a heating plate. CONSTITUTION: A polyimide bake oven includes a chamber(10). A door capable of switching is installed on the front portion of the chamber. An electrothermal wire(51) built-in heating plate(50) is installed at the inner portion of the chamber. At this time, the interval of the electrothermal wire is more compact at the front side of the chamber than at the backside of the chamber. Preferably, the heating plate includes the first plate having a fixing groove and the second plate connected with the first plate.
Patent KR-20030055400-A (KR)
Title: Method for manufacturing a DRAM cell
Inventor: LEE YONG HUI
IPC: H01L27/108
Filed: 2001-12-26
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing DRAM(Dynamic Random Access Memory) cells is provided to be capable of preventing electrical short between a storage node and a word line by forming protrudent landing plug. CONSTITUTION: Word lines(33) having a hard mask(35) and an insulating spacer(37) are formed on a semiconductor substrate(31). The first conductive pattern(41) is formed to fill the topology between the word lines(33). The second conductive pattern(43) is formed on the first conductive pattern(41), thereby forming a protrudent landing plug. The first interlayer dielectric(47) having bit line contact holes is formed on the resultant structure. Bit lines are formed to fill in the bit line contact holes. The second interlayer dielectric(53) having storage node contact plugs is formed on the resultant structure. A storage node(55) is then formed to connect the protrudent landing plug.
Patent KR-20030054716-A (KR)
Inventor: KWON BYEONG SU
IPC: F16F13/26
Filed: 2001-12-26
Abstract: PURPOSE: A shock absorber with adjusting damping force is provided to improve the driving experience and steering stability by adjusting the damping force properly according to travel condition of a vehicle with a spool. CONSTITUTION: A shock absorber(100) has an outer tube(110) and an inner tube(112) filled with oil; a piston(115) reciprocating along the inner tube; a damping valve(120) fixed in the piston valve, and composed of a solenoid; and a piston rod(116) reciprocating the damping valve. A spool(150) is installed in the center of the damping valve, and moved axially in a cylindrical chamber(144) to regulate the flow rate. A compression spring(152) is mounted in the lower part of the spool, and a spring(154) is installed in the outer periphery of the spool. Damping force is adjusted by regulating the flow of fluid in moving up and down.
Patent KR-20030055013-A (KR)
Title: flatting plate of apparatus for feeding in sintering machine
Inventor: BANG YEONG HO
IPC: F27B21/10
Filed: 2001-12-26
Abstract: PURPOSE: A levelling plate for charging apparatus of sintering machine is provided to prevent sintering raw materials supplied to the sintering machine from partially loading into the sintering machine. CONSTITUTION: In a levelling plate(100) for charging apparatus of sintering machine(110) installed to level the surface of sintering raw materials charged into the sintering machine, the levelling plate of the charging apparatus in the sintering machine is characterized in that the center of the levelling plate installed to level the surface of the sintering raw materials is projected to a side into which the sintering raw materials are advanced, wherein a flattening part is formed on the tip protruded on the center of the levelling plate, and wherein a guide(120) being parallel to the levelling plate(100) is installed at both sides of the levelling plate.
Patent KR-20030006905-A (KR)
Inventor: BETSUI KEIICHI
IPC: H05B44/00
Filed: 2001-12-27
Abstract: PURPOSE: To provide a field sequential system display device in which a color breakup is suppressed without greatly changing the amount of power consumption and the temperature range possible to display. CONSTITUTION: AN animation/still picture discriminating circuit 61 conducts discrimination to determine whether display data DD are animation data or still picture data. During an animation displaying in which color breakup easily occurs due to the movement of user's visual line, the number of the frames per second of time is increased. During a still picture displaying in which color breakup hardly occurs, the number of the frames per second of time is reduced. Moreover, when the temperature of a liquid crystal panel 21 is detected and the detected temperature is equal to or more than prescribed temperature, the number of the frames per second of time is increased to suppress the occurrence of color breakup. When the detected temperature is equal to or less than the prescribed temperature, the number of the frames is reduced to provide a displaying at a low temperature.
Patent KR-20030057033-A (KR)
Title: Structure for reducing loss of friction in compressor
Inventor: AHN JAE U
IPC: F04C29/00
Filed: 2001-12-28
Abstract: PURPOSE: A structure for reducing frictional loss of a compressor is provided to minimize frictional loss. CONSTITUTION: A rotary shaft(20) comprises a shaft part(21) inserted to shaft insertion holes(43,53) of an upper bearing and a lower bearing(50) supporting the rotary shaft; and a partition(22) extended from one side of the shaft part to divide an inside space of a cylinder assembly(D) into a first space and a second space. A frictional contact reducing part(23) is formed on the shaft part of the rotary shaft to reduce contacting area between the shaft part of the rotary shaft and inner circumferential surfaces of the shaft insertion holes of the upper bearing and the lower bearing. The frictional contact reducing parts are formed on the shaft part placed on the upper bearing and the lower bearing, respectively. The frictional contact reducing part is formed as an annular stepped groove with width smaller than an outer diameter of the shaft part. Frictional loss and abrasion between the rotary shaft and the upper bearing and the lower bearing are reduced thereby to improve gas compression performance.
Patent KR-20030058277-A (KR)
Title: Method of manufacturing capacitor for ferroelectric memory device
Inventor: SUNG JIN YONG
IPC: H01L27/105
Filed: 2001-12-31
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a capacitor of a ferroelectric memory device is provided to be capable of effectively restraining the increase of cell size due to the degradation of a capacitor. CONSTITUTION: A diffusion barrier layer(24) and a hard mask are sequentially formed on a substrate(20) having a plug(22). After patterning the diffusion barrier layer(24) using the hard mask, the hard mask is entirely removed. The first interlayer dielectric(25A) is formed to expose the diffusion barrier layer. A lower electrode(26) is selectively formed on the exposed diffusion barrier layer(24). The second interlayer dielectric(25B) is formed on the resultant structure so as to expose the lower electrode. A ferroelectric film(28) is formed on the second interlayer dielectric and the lower electrode. An upper electrode(29) is then formed on the ferroelectric film corresponding to the lower electrode.
Patent KR-20010053481-A (KR)
Title: 로봇 장치 및 그 제어 방법
IPC: G06N3/00
Filed: 2000-05-10
Abstract: 로봇 장치 및 그 제어 방법에 있어서, 로봇 장치의 행동 및 동작을 생성할 때의 기초가 되는 행동 모델·동작 모델을 외부로부터의 입력 이력과 자기 행동 또는 동작 이력 등에 근거하여, 소정 타이밍으로 단계적으로 성장 레벨이 높은 행동 모델·동작 모델로 변경한다.  이로써, 성장과 학습을 조합시켜 어뮤즈먼트성을 한층 더 향상시킨 페트 로봇을 얻을 수 있다.
Patent KR-20010072971-A (KR)
Title: 관통 구멍 범프 접점
IPC: H01L23/498
Filed: 1999-01-15
Abstract: 회로는 제1 표면 및 제2 표면이 있는 유전층을 구비한 기판을 포함한다.  전도층은 제1 표면 상에 형성된다.  베벨형 바이어는 기판의 유전층 내에 형성된다.  바이어는 제1 표면 내에 제1 폭의 제1 개구부와, 제2 표면 내에 제1 폭보다 큰 제2 폭의 제2 개구부를 가진다.  전도성 플러그는 전도층과 연결된다.  플러그는 바이어 내에 형성되고, 인접한 제1 개구부에서 제2 개구부로 연장되고, 제2 개구부에 인접한 플러그 접속면에서 단부를 형성한다.  전도성 땜납볼은 플러그 접속면에 연결되고 제2 표면에서 돌출되도록 연장된다.
Patent KR-20010074880-A (KR)
IPC: C04B41/00
Filed: 1998-11-17
Abstract: A method of electrochemical treatment of prestressed concrete which comprises supplying a direct current between a steel embedded in the prestressed concrete as a cathode and an anode on the surface or inside of the concrete at a voltage higher than the hydrogen evolution potential, wherein an effective tensile force acting on the PC steel tendon embedded in the concrete is not greater than 80% of the tensile strength of the PC steel tendon, and a method of electrochemical treatment of prestressed concrete which comprises supplying a direct current between a steel tendon embedded in the prestressed concrete as a cathode and an anode on the surface or inside of the concrete at a voltage higher than the hydrogen evolution potential, wherein the voltage is adjusted to less than the hydrogen evolution potential at least once during electrochemical treatment, and then electrochemical treatment is resumed at a voltage not lower than the hydrogen evolution potential.
Patent KR-20010086362-A (KR)
IPC: C08G65/26
Filed: 1999-08-25
Abstract: 본 발명은 H-관능성 출발 물질에 알킬렌 옥사이드를 개환 중합시키는 것에 의한 폴리에테롤 제조 방법에 관한 것이다.  이 방법은 1 개 이상의 금속 수산화물, 금속 산화물 및(또는) 금속염이 촉매(이 촉매는 고체 불활성 지지체에 도포되거나, 고체 불활성 지지체 내에 도입되거나 또는 성형체로 성형됨)로 사용되는 단계 a) 하나 이상 및 다금속 시아나이드 화합물(이 다금속 시아나이드 화합물은 고체 불활성 지지체에 도포되거나, 고체 불활성 지지체 내에 도입되거나 또는 성형체로 성형되거나 또는 분말 또는 페이스트 형태임)이 촉매로 사용되는 단계 b) 하나 이상을 갖는 것을 특징으로 한다.
Patent KR-20010075006-A (KR)
Title: 디지털 방송 수신장치 및 수신방법
IPC: H04N5/46
Filed: 2000-07-07
Abstract: 본 발명은 외부 기기의 조작성을 향상시킬 수 있도록 한다.  본 발명은, 외부 기기로부터 공급되는 디지털 신호를 디지털 신호 취입수단에 의해서 받아들이고, 또는 외부 기기로부터 공급되는 아날로그 신호를 아날로그 신호 취입수단에 의해서 받아들이고, 해당 받아들인 디지털 신호 또는 아날로그 신호를 출력수단에 의해 필요에 따라서 발생수단으로부터 발생된 외부 기기의 조작용의 그래픽스 정보와 함께 출력함으로써, 외부 기기로부터 디지털 신호 및 아날로그 신호 중 어느 쪽이 공급된 경우에도 이들과 함께 그래픽스 정보를 출력하고, 해당 그래픽스 정보에 근거하여 외부 기기를 조작할 수 있고, 이렇게 하여 외부 기기의 조작성을 향상시킬 수 있는 수신장치 및 수신방법을 실현할 수 있다.
Patent KR-20010111088-A (KR)
IPC: H04L12/28
Filed: 1999-12-15
Abstract: 주기적으로 통신을 행하는 네트워크와, 이벤트 송출(driven)로 통신을 행하는 네트워크를 효율적으로 접속할 수 있는 게이트웨이 및 분산 시스템을 제공한다. 
     상이한 네트워크를 접속하는 게이트웨이는 주기 메시지를 수신하고, 수신한 주기 메시지의 변화가 검출될 때에 이벤트 메시지로서 통신하고, 주기적으로 메시지를 송신한다.
Patent KR-20010080106-A (KR)
IPC: C30B15/14
Filed: 1999-09-29
Abstract: 초크랄스키법에 따라 단결정 실리콘 잉곳을 성장시키기 위한 결정 인상장치의 하우징 안에 장착된 전기저항 가열기와 사용되는 전극 어셈블리는 하우징 안의 가열기와 전기적으로 접속되는 제 1 단부 및 외측 단부를 가지는 전극을 포함한다.    이 전극은 그 외측 단부가 대체로 하우징의 외부에 있도록 결정 인상장치의 하우징을 통해 연장한다.    하우징 안의 전극 부분은 상기 부분의 길이 전체를 따라서 단면이 대체로 중실로 되어 있고, 임의의 내부 냉각통로를 갖지 않는다.    전기 도체는, 상기 하우징의 외측으로 연장하는 전극 부분에 전기적으로 접속하여 당해 전극에 전류를 전류원으로부터 공급함으로써 안쪽으로 전극을 따라서 상기 하우징 안의 가열기에 전도한다.    이 전기 도체는 상기 전극의 외측 부분과 열전도적으로 결합하도록 되어 있으며, 또한 이 전기 도체는, 냉각 매체를 당해 도체 안에 수용하여 상기 전극의 외측 부분으로부터 열을 추출하도록 관통연장하는 내부 통로를 갖는다.
Patent KR-20010112215-A (KR)
IPC: C03B33/08
Filed: 2000-09-13
Abstract: OH 기 농도가 100 ppm 이하이고 실질적으로 환원형 결함을 갖지 않는 합성 석영유리로 이루어지는 펠리클판을 갖는 것을 특징으로 한다.     특히 OH 기 농도가 10 ppm 이하이고, 파장 157 ㎚ 에 있어서의 내부투과율이 80 %/㎝ 이상인 것이 바람직하다.
Patent KR-20010080758-A (KR)
IPC: C23C16/509
Filed: 1999-12-07
Abstract: 웨이퍼를 처리하기 위한 장치로서,  이 장치는 챔버 몸체 및 가열된 라이너를 포함하고, 이들은 이격용 핀에 의해 서로 열절연된다.     웨이퍼 처리동안, 예컨대,  티타늄 사염화물과 암모니아 사이의 열 반응에 의한 티타늄 질화물의 증착시에,  웨이퍼 기판은 가열된 지지 받침대에 의해 600~700℃  범위의 반응 온도로 가열된다.     챔버 라이너 및 내부 챔버의 벽은 바람직하지 않은 부산물이 챔버 내부에 증착되는 것을 방지하도록 150~250℃ 사이의 온도로 유지된다.     이로 인해,  본래의 위치에서 실시될 수 있는 염소계 챔버 세정 공정이 용이해진다.     가열된 라이너와 챔버 몸체 사이의 뛰어난 열절연으로 인해 챔버 외부를 60~65℃ 의 안전한 작동 온도로 유지할 수 있다.     가열된 배출 어셈블리 또한,  배출 가스 및 반응 부산물을 제거하기 위해 프로세스 챔버와 결합하여 사용된다.     배출 어셈블리의 내면상에 바람직하지 않은 증착물이 형성되는 것을 최소화하도록 배출 어셈블리의 온도를 약 150~200℃ 로 유지하는데 외부 가열기가 사용된다.
Patent KR-20010102349-A (KR)
IPC: F01N3/08
Filed: 2000-02-21
Abstract: A power supply and control system for a motor vehicle incorporating a plasma-assisted reactor for treatment of exhaust emissions and including a power source for supplying first and second output voltages.
Patent KR-20010102457-A (KR)
IPC: F02M61/06
Filed: 2000-12-22
Abstract: 본 발명은 인젝터바디(10)와, 상기 인젝터바디내에서 실링시트(sealing seat)(16)에 접하게 되는 밀폐 위치와 상기 실링시트(16)로부터 연소실쪽 방향으로 떨어지게 되는 개방 위치 사이에서 이동가능한 인젝터니들(injector needle)(12)과, 연료-입구(26)와 연결된 압력챔버(pressure chamber)(24)와, 제어밸브(46)에 의해 제어되고 상기 연료-입구와 연결된 제어챔버(42)와, 상기 인젝터니들과 연결되고 상기 제어챔버안으로 돌출하는 플런저 로드(plunger rod)(40)를 갖는 내연기관용 연료-인젝터(fuel-injector)에 관한 것이다. 본 발명의 목적은 실링시트의 영역에서 생성되는 개방력(opening force)보다 더 큰 밀폐력(closing force)을 신뢰할 수 있게 발생시키는 것이다. 상기 목적은 플런저 로드에, 상기 실링시트의 반대측에서 상기 압력챔버(24)를 차단하는 리턴피스톤(return piston)(28)을 제공함으로써 달성된다. 상기 리턴피스톤의 외부직경은 상기 실링시트(16)의 직경보다 더 크고, 상기 리턴피스톤(28)의 횡단면에서 상기 실링시트에 의해 둘러싸이는(enclosed) 면을 뺀 결과로서 생기는 면은 상기 플런저 로드의 횡단면보다 더 작다.
Patent KR-20010102501-A (KR)
Title: Elastic interface apparatus and method therefor
IPC: H04L7/02
Filed: 2000-03-03
Abstract: An elastic interface apparatus and method are implemented. The elastic interface includes a plurality of storage units for storing for storing a stream of data values, wherein each storage unit sequentially stores members of respective sets of data values. Each data value is stored for a predetermined number of periods of a local clock. Selection circuitry may be coupled to the storage units to select the respective data value from the data stream for storage in the corresponding storage unit. Data is sequentially output from each storage unit in synchrony with the local clock on a target cycle of the local clock.
Patent KR-20010112323-A (KR)
Title: Preparations for percutaneous absorption
IPC: A61K47/12
Filed: 2000-04-07
Abstract: Preparations for percutaneous absorption comprising a basic drug or its salt dissolved in a liquid component and having an enhanced percutaneous absorbability and a safety to the skin, i.e., the administration site. The preparations for percutaneous absorption, preferably patches, contain a basic drug or its salt, an organic acid or its salt and a liquid component having a solubility parameter of from 7 to 13 (cal/cm<3>)<1/2> and a have a very excellent skin permeability of the drug. <IMAGE>
Patent KR-20020002411-A (KR)
IPC: H02P9/04
Filed: 2000-02-01
Abstract: 기화 조합 사이클 발전기는 칼리나 보토밍 사이클과 결합된다.  기화 시스템(48, 50, 52)으로부터의 열 에너지 스트림(31, 69, 169)은 칼리나 사이클의 작동 유체 혼합물과 열교환 관계로 제공되어, 증기 터빈용 작동 유체를 가열하는 가스 터빈 배기 가스(28)로부터의 열 에너지를 보충한다.  저온부(50b)로부터의 열 회수 유체는 증발/응축 시스템으로부터의 응축된 작동 유체와 함께 열교환기(27)를 통해 유동하여, 증기 발전기(12)용 작동 유체를 예열하며, 그리고 고온부(50a)로부터의 열 회수 유체는 중간부에서 작동 유체와 함께 열교환기(23, 65)를 통해 통과한다.
Patent KR-20020011977-A (KR)
Title: Antibody and Polyalkylene Glycol-bonded Liposome
IPC: A61K9/127
Filed: 2000-04-20
Abstract: A liposome wherein a compound containing two polyalkylene glycol groups is bonded through a thioether group to a liposome comprising lipids whose partial component has maleimidated terminal, and wherein an amount of the bonded compound is 15 to 30 mole% based on one mole of the maleimidated lipid contained in the liposome. The liposome achieves both excellent blood retention and therapeutic effect.
Patent KR-20020012283-A (KR)
Title: Nematicidal trifluorobutenes
IPC: C07D277/26
Filed: 2000-06-28
Abstract: The invention relates to compounds of formula (I) in which X represents halogen, and n represents 0, 1 or 2, to a process for their preparations and to their use as nematacides.
Patent KR-20020019107-A (KR)
IPC: B32B27/36
Filed: 2000-06-23
Abstract: 본 발명은 적어도 하나의 제 1 성형 부품 및 하나의 제 2 성형 부품으로 구성된 복합 재료에 관한 것이다.  상기 제 1 성형 부품 및 상기 제 2 성형 부품은 서로 제 1 성형 부품의 표면 α 및 제 2 성형 부품의 표면 β의 적어도 하나의 부분 영역을 통하여 용접 구역에 의해 견고하게 결합된다.  적어도 제 1 성형 부품은 제 1 성형 부품을 기준으로 하여, 적어도 50중량%의 성형 배합물로 구성되는데, 이 성형 배합물은: A) 5 내지 99중량%의 폴리에스테르, B) 1 내지 95중량%의 아미노실란 화합물 및 에폭시 중합체로 처리된 섬유 충전제, C) 0 내지 30중량%의 고무-탄성 중합체, D) 0 내지 40중량%의 기타 첨가제를 포함하며, 성분 A) 내지 D)의 백분율을 모두 합하면 100%이다.  본 발명은 또한 상기 복합물로 구성된 적층물 및 이의 구조물과 이의 수득된 재활용 제품 및 이들 제품 모두의 용도, 특히 자동차 제조를 위한 용도에 관한 것이다.
Patent KR-20020040682-A (KR)
Title: 폴리올의 제조방법
IPC: C07C45/75
Filed: 2000-06-30
Abstract: 본 발명은 물의 존재하에서의 알데히드와 포름알데히드로부터 알돌화 생성물을 고온에서 수소첨가촉매의 존재하에 수소첨가 반응을 시켜 3개 또는 4개의 히드록시기를 가진 폴리올의 제조방법에 관한 것이다. 
     그 알데히드는 최소한 2개의 α-수소원자를 가지며 식 R 1 CHO 를 가진 알데히드와 포름알데히드를 물 20-70wt%, 바람직하게는 40-60wt%와 아니온 교환수지의 존재하에서 알돌화반응시켜 얻어진다. 
     그 수소첨가 반응은 물의 존재하에 실시하는 것이 바람직하다. 
     위 식 R 1 CHO 에서, R 1 은 수소, 탄소원자 1-7개를 가지며 시클로알킬 치환체를 가질 수 있는 알킬기, 시클로알킬기, 아릴기 및 알킬사슬에서 탄소원자 1-7개를 가진 아랄킬기로 이루어진 기에서 선택함.