baber/WOPTO huggingface dataset:
Patent KR-100877593-B1 (KR)
IPC: G06F15/00
Filed: 2006-10-30
Granted: 2009-01-07
Abstract: 본 발명은 웹상에서 이루어지는 인증절차를 포함하여 모바일, 기타 다양한 매체에서 이루어지는 제반 인증절차, 특히 인터넷 뱅킹과 모바일 뱅킹 등에 있어 계좌번호나 이체 비밀번호의 해킹 내지 유출에 따른 문제를 해결하기 위한 보안 솔루션에 관한 것이다. 
     이를 위하여 본 발명은 별도의 보안카드나 인증서를 부여하는 절차의 유무에 관계없이 서버에서 비대칭적인 랜덤변수를 생성하고 클라이언트에게 가변적인 패스워드와 부여하여 인증에 따른 보안을 강화하는 것으로, 서버에는 세션의 연결시에만 클라이언트의 패스워드가 저장할 뿐, 고정적인 패스워드를 부여하지 않으며, 세션 연결시 1:N 비대칭 알고리즘으로 생성한 값을 해쉬함수를 이용한 단방향 통신으로 클라이언트에 전송하고, 다시 서버에는 보안문자열을 전송하여 서버에서 보안문자열로부터 입력값을 추출하여 처리함으로써 재전송 공격이나 스크립트 삽입을 통한 정보조작을 방어하고, 서버 해킹에 따른 고객정보나 비밀번호의 유출을 불가능 하도록 하여 안전한 통신을 가능하게 하는 것이다.  
       
     랜덤 키워드, 가변 패스워드, 키 맵핑, 키보드 보안, 모바일뱅킹, 비대칭 문자 값
Patent KR-100831252-B1 (KR)
Title: Method of manufacturing cmos image sensor
Inventor: LEE HAN CHOON
IPC: H01L27/146
Filed: 2006-11-01
Granted: 2008-05-22
Abstract: A method of manufacturing a CMOS image sensor is provided to effectively improve the bonding property of a wire bonding by suppressing formation of AlxFx by removing impurity of AlxFx which is a containment source of the uppermost metal pad. Plural uppermost metal pads(320) are connected to each other by using a contact(310) and a lower conductive layer pattern of a multi-layered metal interconnection. An insulating layer is deposited on the uppermost metal pad. an etching process is performed on the insulating layer to expose the uppermost metal pad. Impurity of AlxFx generated when fluorine used at the etching process is reacted with the metal pad is removed by using B2H6 reaction gas. The step of removing the impurity is performed at reaction temperature of 25 to 450 deg.C.
Patent KR-100902266-B1 (KR)
IPC: H04W72/08
Filed: 2006-11-03
Granted: 2009-06-10
Abstract: 본 발명은 이동통신 시스템에 관한 것으로, 기지국은, 섹터 내 각 단말의 부하를 측정하는 측정부와, 섹터의 ROT를 이용하여 섹터 부하를 산출하는 제 1 산출부와, 상기 각 단말의 부하 및 섹터 부하를 이용하여, 인접 섹터로 인한 간섭 부하대 해당 섹터 부하 비율인, 간섭 계수를 산출하는 제 2 산출부와, 상기 간섭 계수를 이용하여 섹터 부하를 예측하고, 상기 예측된 섹터 부하가 섹터 임계 부하를 초과하지 않는 범위 내에서 목표 단말의 역방향 전송률을 결정하는 결정부를 포함하여, 인접 섹터의 간섭을 고려하여 섹터 내의 부하를 예측하여 이를 바탕으로 역방향 데이터 전송률을 제어함으로써, 무선 자원을 효율적으로 사용할 수 있다. 
       
     이동통신 시스템, ROT(Rise Over Thermal), 간섭 계수, 역방향 전송률
Patent KR-100873636-B1 (KR)
IPC: H04N19/593
Filed: 2006-11-08
Granted: 2008-12-12
Abstract: 본 발명은 영상의 부호화 방법 및 장치에 관한 것이고, 영상의 복호화 방법 및 장치에 관한 것으로, 적어도 두 가지 이상의 영상 성분들 각각의 문맥 색인 값에 대해 동일한 구문 요소의 확률 값을 갖는 확률모델을 사용하여 구문 요소의 이진 값을 이진 산술 부호화하거나 구문 요소의 이진 값에 대한 이진 산술 복호화를 수행함으로서 부호화 효율 및 복호화 효율을 높일 수 있다.
Patent KR-100867715-B1 (KR)
IPC: G06K17/00
Filed: 2006-11-10
Granted: 2008-11-10
Abstract: 본 발명은 고가의 장비(GPS, 비콘, 고정노드)를 이용하지 않고 MLE(Maximum Likelihood Estimation) 개념을 이용하여 위치 인식 문제를 해결할 수 있는 위치 인식 방법을 제공하기 위한 것으로서, 가우시안(Gaussian) 확률 밀도 함수(Probability Density Function : PDF)에 따라 임의의 위치인 배치 위치 및 이웃 단위 그룹별 센서 노드 분포를 산출하는 단계와, 이웃 단위 그룹별 센서 노드 정보 및 배치 위치를 이용한 가우시안 PDF 사이의 최대 확률 추정법(Maximum Likelihood Estimation : MLE)을 통해 이동 센서 노드의 위치 값을 산출하는 단계와, 상기 이웃 단위 그룹별 센서 노드의 위치 정보 및 센서 맵 정보를 이용하여 각 그룹에서 허용 가능한 최대 문턱(threshold) 값을 생성하는 단계와, 상기 이웃 단위 그룹별 센서 노드에서 입력되는 델타(delta) 신호와 그룹 키 값을 이용하여 최소 제곱 추정법(Least Square Estimation : LSE)으로 LSE 값을 산출하는 단계와, 상기 최대 문턱 값(τ)과 LSE 값을 서로 비교하여 델타 신호가 외란 또는 악의적인 공격 신호로 판단되면 해당 델타 신호를 거절하여 무시하는 단계를 포함하는데 있다. 
       
     무선 센서 네트워크, MLE(Maximum Likelihood Estimation), LSE(Least Square Estimation), 강건 위치 인식, 가우시안 PDF
Patent KR-100823885-B1 (KR)
Title: Methods for production of plumbagin from nepenthes ventricosa
Inventor: SHIN KWANG SOO
IPC: A01N65/00
Filed: 2006-11-17
Granted: 2008-04-21
Abstract: A method for producing plumbagin from Nepenthes ventricosa x maxima is provided to obtain the plumbagin with high yield, which has antibacterial activity against Alternaria alternata, Bipolaris oryzae, Fusarium oxysporum, Phytophthora capsici, Rhizoctonia solani and Rhizopus stolonifer var. stolonifer. A method for producing plumbagin from Nepenthes ventricosa x maxima comprises the steps of: (a) adding C1-4 alcohol to leaves of the Nepenthes ventricosa x maxima and crushing it with a crusher to extract it; (b) extracting the alcohol extract with hexane; (c) concentrating the hexane extract under reduced pressure; (d) collecting spots having an Rf value of 0.72-0.78 through thin layer chromatography(TLC) or silica gel chromatography using hexane and ethylacetate in a ratio of 2:1; and (d) recrystallizing the separated spots in hexane.
Patent KR-100799587-B1 (KR)
Title: A method and system for dynamic rate-limiting in switch
Inventor: HWANG HYUN YONG
IPC: H04L12/28
Filed: 2006-11-17
Granted: 2008-01-30
Abstract: A method for limiting a dynamic band in a switch and an apparatus thereof are provided to prevent congestion which can occur at an output port by automatically adjusting a band limit traffic according to an overall bandwidth currently used. A method for limiting a dynamic band in a switch comprises the following several steps. The switch sets an initial value of a limit band value for each subscriber(210). The switch passes a subscriber learning procedure in which the switch discriminates all the subscribers into activated subscribers and deactivated subscribers by learning input traffics of the connected subscribers after a set time has passed(220). The switch sums all the band limit values of the activated subscribers(230). The switch compares the summed value with an allowable reference value between a switch upper limit and a switch lower limit set by considering throughput of the switch and congestion(240). The switch resets each band limit value of the activated subscribers such that the switch can be optimally used to the throughput while the congestion is being prevented(250). The switch measures the traffics of the activated subscribers, controls the band of the activated subscriber to the band limit value reset in the step 250, and returns to the subscriber learning procedure in the step 220(260).
Patent KR-100766936-B1 (KR)
Title: Laser annealing apparatus and laser annealing method
Inventor: LEE HONG RO
IPC: C21D9/00
Filed: 2006-11-21
Granted: 2007-10-17
Abstract: A laser annealing apparatus and a laser annealing method which improve the production efficiency by extending the cycle of maintenance, and can manufacture a polycrystalline silicon substrate without stripes by uniformly controlling energy spreading are provided. A laser annealing apparatus comprises a laser irradiating part(10) for irradiating a laser onto an amorphous silicon substrate an energy measuring part(20) for measuring energy spreading of the laser and a control part(30) for controlling oscillation frequency of the laser based on the energy spreading. The control part reduces the energy spreading by lowering the oscillation frequency when the energy spreading is not less than a preset upper limit value. The control part allows the laser to be irradiated onto the amorphous silicon substrate while maintaining the oscillation frequency when the energy spreading is less than the preset upper limit value. The laser annealing apparatus further comprises a display part for displaying the oscillation frequency to a user such that the user can carry out the maintenance when the oscillation frequency of the laser is not greater than a preset lower limit value.
Patent KR-100748395-B1 (KR)
Title: Standard vapor generation system
Inventor: JEONG JEE YEON
IPC: F24F3/12
Filed: 2006-11-27
Granted: 2007-08-13
Abstract: A standard air generation system is provided to artificially generate standard air having temperature, humidity, pollutants similarly with real working environment for prepare samples for similar with air obtained in the real working environment, thereby improving realistic analysis capability. A standard air generation system includes a mixing chamber(100) having a separation plate(130) at a top surface for separating an air inlet(110) and a solvent inlet(120), wherein the separation plate is formed with a plurality of holes(131) for carrying out mixing of pollutants. A temperature/humidity controller(200) is connected to the air inlet for controlling temperature, humidity and flow rate of air supplied from an air compressor, thereby supplying the controlled air into mixing chamber. An automatic sample injector(300) is connected to the solvent inlet for injecting the solvent mixed with a plurality of chemical substances to the mixing chamber. A first test chamber(400) is connected to a side of the mixing chamber for controlling air mixed with solvent vapor supplied from the mixing chamber at uniform air flow and concentration. A second test chamber(500) is connected to the first test chamber for obtaining samples from the air of the uniform concentration.
Patent KR-101224662-B1 (KR)
IPC: H04N5/225
Filed: 2006-11-28
Granted: 2013-01-21
Abstract: 본 발명은 그라운드 패드를 구비한 카메라모듈의 FPCB에 관한 것으로서, PCB 측변에 정전하 방지용 그라운드 패드를 구비함으로써 외부로부터 유입되는 정전하를 효과적으로 차단할 수 있는 특징을 가진다. 본 발명은 카메라모듈 PCB단의 측변에 소정 크기로 그라운드 패드가 형성되며, 카메라모듈의 경통 장착 시에 상기 그라운드 패드가 상기 경통을 둘러싸서 외부로부터 유입되는 정전하를 방출한다. 또한, 메인보드와 연결되는 메인커넥터 PCB단의 측변에 정전하를 차단하는 그라운드 패드가 별도로 형성된다. 또한, 상기 그라운드 패드는, 본체의 그라운드와 연결되어 있어, 외부로부터 유입된 정전하를 상기 본체의 그라운드로 흘러보낸다. 
       
     카메라, PCB, FPCB, 정전하, ESD, 그라운드, 패드, 이동통신단말기, 휴대폰
Patent KR-101287215-B1 (KR)
IPC: G02F1/136
Filed: 2006-11-28
Granted: 2013-07-16
Abstract: 본 발명은 CHF(Contact Hole Filing) 방법을 적용함으로써 노광마스크의 사용횟수를 줄이고 또한, 반도체층 상부에 에칭스토퍼를 구비하여 반도체층의 데미지를 방지하고자 하는 TFT 어레이 기판 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 특히 기판 상에 게이트 배선, 게이트 전극 및 게이트 패드로 구성되는 게이트 배선층과, 상기 게이트 배선층으로부터 절연되는 반도체층과, 상기 반도체층의 채널부를 커버하는 에칭스토퍼와, 상기 게이트 배선과 교차하여 서브픽셀을 정의하는 데이터 배선, 상기 반도체층 양측에 각각 형성되고 상기 반도체층의 일부 모서리와 동일 선상의 모서리를 가지는 소스/드레인 전극 및 데이터 패드로 구성되며, 상기 데이터 배선 및 데이터 패드 하부에 상기 반도체층 형성용 물질이 동일한 패턴으로 더 구비되는 데이터 배선층과, 상기 데이터 배선층을 커버하는 보호층과, 상기 보호층이 제거된 영역에서 상기 드레인 전극에 콘택되고 상기 게이트 절연막 및 보호층이 제거된 기판 상에 형성되는 화소전극과, 상기 게이트 절연막 및 보호층이 제거된 영역에 형성되어 상기 게이트 패드를 커버하는 제 1 산화방지막과, 상기 보호층이 제거된 영역에 형성되어 상기 데이터 패드를 커버하는 제 2 산화방지막을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.   
       
     노광마스크, 회절노광, 에칭스토퍼, CHF
Patent KR-100774804-B1 (KR)
Title: Test pattern for monitoring of cmp process and measuring method thereby
Inventor: PARK HYUNG JIN
IPC: H01L21/66
Filed: 2006-11-28
Granted: 2007-11-07
Abstract: A test pattern for monitoring a CMP process and a monitoring method using the test pattern are provided to prevent a wafer loss by using a PCM(Process Change Monitor) test pattern. A test pattern for monitoring a CMP(Chemical Mechanical Polishing) process includes first and second patterns and an insulation layer. The first pattern(10) includes a line/space pattern which is formed on a lower metal line layer, and a flat pattern which is formed on an upper metal line layer. The second pattern includes a flat pattern which is formed on the lower metal line layer, and a line/space pattern which is formed on the upper metal line layer. The insulation layers are formed between the line/space patterns and the flat patterns, respectively. The line/space pattern is formed in a comb or snake shape.
Patent KR-100813309-B1 (KR)
Title: Nonaqueous electrolyte for lithium secondary batteries having enhanced cycle performance and lithium secondary batteries comprising the same
Inventor: PARK JUNG KI
IPC: H01M10/05
Filed: 2006-11-28
Granted: 2008-03-13
Abstract: A nonaqueous electrolyte solution for a lithium secondary battery, and lithium secondary battery containing the nonaqueous electrolyte solution are provided to improve initial charge/discharge characteristics and high temperature lifetime characteristics. A nonaqueous electrolyte solution comprise a silane-based additive represented by X_n SiY_(4-n), wherein n is 1-3; X is CH2=CH-, CH2=(CH3)COOC3H6-, HN2C3H6-, NH2C2H4NHC3H6-, NH2COCHC3H6-, CH3COOC2H4NHC2H4NHC3H6-, NH2C2H4NHC2H4NHC3H6-, SHC3H6-, ClC3H6-, CH3-, CH2H5-, C2H5OCONHC3H6-, OCNC3H6-, C6H5-, C6H5CH2NHC3H6-, C3H5NC3H6-, H- or a halogen atom; and Y is an alkyl, alkoxy, acetoxy or cycloalkyl group capable of being substituted with a halogen atom, an aryl group, an aralkyl group or a phenyl group, a phenyl capable of being substituted with a halogen atom, -OC2H4OCH3, -Si(CH3)3, -OSi(CH3)3, -OSi(CH3)2H, -O(CH2CH2O)mCH3; -N(CH3)2 or a halogen atom; m is 1-10, but the case that X is CH2=CH- and Y is -OC2H4OCH3 is excluded.
Patent KR-100779102-B1 (KR)
Title: Apparatus and method for energy detection in wireless communication system
Inventor: KIM KYEONG PYO
IPC: H04L12/26
Filed: 2006-12-07
Granted: 2007-11-27
Abstract: An energy detection apparatus in a wireless communication system and a method thereof are provided to exactly catch the reception start point of a signal by lowering a false alarm probability and a detection failure probability using a repetitive preamble structure of an IEEE 802.15.4b system, without increasing the complexity. An energy detection apparatus in a wireless communication system comprises a signal delay part(310), an autocorrelation value calculation part(320), and an average autocorrelation value calculation part(330). The signal delay part(310) comprises a plurality of delays(311,312). The delays(311,312), arranged in serial, respectively delay and output an Rx signal during a certain period. The autocorrelation value calculation part(320) comprises a plurality of autocorrelators(321,322). The autocorrelators(321,322), arranged in parallel, respectively output autocorrelation values between the original Rx signal and the signals delayed from the delays(311,312) of the signal delay part(310). The average autocorrelation value calculation part(330) divides the sum of the output values of the autocorrelators(321,322) by the number of the autocorrelators(321,322) and outputs the average autocorrelation value.
Patent KR-100797318-B1 (KR)
Title: Contact resistance measurement device and process for probe card needle
Inventor: JUNG KYUNG JU
IPC: G01R27/00
Filed: 2006-12-08
Granted: 2008-01-22
Abstract: A device and a method for measuring contact resistance of a probe card needle are provided to reduce the additional process time by determining whether to use external washing equipments or not, after checking the state of the probe card needle and to estimate the life time of a probe card on the basis of voltage and resistance data values output while the probe card needle is in an optimal state. A contact resistance measurement device(50) installed in a probe card needle washing apparatus(40) to use a contact state between a tester channel pin(65) and a probe card needle(20) comprises a measuring frame(60) positioned in the center of the upside of the needle washing apparatus; plural tester channel pins inserted into the periphery of the upper lateral part of the measuring frame and protruded; a resistor(54) connected to the lower side of the measuring frame and made of components with a low resistance value; and a ground(56) connected toward the lower side of the resistor and installed at the outer side of the needle washing apparatus.
Patent KR-101319873-B1 (KR)
IPC: D06F39/04
Filed: 2006-12-14
Granted: 2013-10-18
Abstract: 본 발명은 세탁장치에 관한 것으로 물을 저장하는 워터 탱크와 워터 탱크 내의 물을 가열하는 히터를 포함한 스팀 발생장치를 구비한 세탁장치에서, 상기 히터 발열에 의한 스팀 발생장치 내의 온도 상승시간을 카운트하는 제 1 단계; 그리고, 상기 카운트 된 온도 상승시간에 따라 스팀 발생장치의 이상 여부를 판단하는 제 2 단계를 포함하는 세탁장치의 제어방법을 제공한다. 
     따라서, 본 발명에 따른 세탁장치는 스팀 발생기의 내부 온도 상승시간을 이용하여 스팀 발생기의 이상 발생을 감지할 수 있다. 그리고, 스팀 발생기의 이상현상이 감지되는 시점에 시스템 보호를 위해 스팀 발생기의 구동을 강제적으로 중단시키고 제품 이상상태를 사용자에게 적극적으로 알림으로써 제품 안전성 및 신뢰를 향상시킬 수 있다. 
       
     세탁장치, 건조기, 스팀 발생기, 히터, 이상진단
Patent KR-100855325-B1 (KR)
IPC: H01L21/02
Filed: 2006-12-27
Granted: 2008-09-04
Abstract: 개시된 기판 처리 장치는 공정 챔버, 공정 챔버로부터 기판을 전달받아 이송시키는 트랜스퍼 챔버, 및 트랜스퍼 챔버에 인접하게 배치되며, 기판을 전달받아 지지하는 기판 지지부, 전달된 기판의 온도를 측정하기 위한 온도 측정부, 측정된 기판의 온도에 대응하여 기판의 온도를 조정하기 위한 냉각부 및 기판의 온도를 조정하기 위하여 냉각부를 제어하는 제어부를 포함하는 로드락 챔버를 포함한다. 따라서, 기판 처리 장치는 공정이 완료된 기판의 온도를 측정하여 냉각함으로써, 냉각된 기판의 이송 시기를 정확히 예측할 수 있다. 이에 기판의 불량을 방지하고 전체적인 공정 효율을 향상시킬 수 있다.
Patent KR-100761508-B1 (KR)
Title: Polymer dissolving device
Inventor: YOON YOUNG SOO
IPC: C08F2/01
Filed: 2006-12-28
Granted: 2007-10-04
Abstract: A liquid polymer dissolving device is provided to increase reliability by regulating the concentration of chemicals accurately and to secure high chemical mixing rate through three mixing steps using a mixing cone, an ejector, and a dissolving tank. In a liquid polymer dissolving device, an undiluted solution storing tank(100) has an ultrasonic liquid level gauge An installed at one side to sense the amount of stored undiluted solution and to calculate the input amount of chemicals for one day and a stirrer installed on the other side and decelerated by a driving speed reducer and rotated to prevent separation of layers of the undiluted solution. An undiluted solution measuring tank(200) is connected to the undiluted solution storing tank to measure the chemical undiluted solution according to the pre-set fixed quantity and to supply the fixed quantity of the chemical undiluted solution. A chemical mixing unit has a diluted liquid supply pipe(310), a mixing cone(340), and an ejector(330) for diluting the chemical undiluted solution quantitatively fed from the undiluted solution measuring tank. A pair of chemical dissolving tanks A and B(400,500) are connected to each other at a pipe extended from the chemical mixing unit, in parallel, controlled by supply cylinder valves A and B(410,510) to dissolve, store, and ripen the chemicals, and automatically switched to supply the chemical dissolved solution to a mixing tank(700) in turn or to mix the chemical dissolved solution with sludge. A control unit(600) automatically controls the operation of each part and inputs and controls a set value.
Patent KR-100856891-B1 (KR)
IPC: C07D209/20
Filed: 2006-12-29
Granted: 2008-09-05
Abstract: 편두통과 군발성 두통 치료에 유용한 인돌유도체인 수마트립탄(Sumatriptan)을 고순도 및 고수율로 제조하기 위한 방법이 개시된다.  상기 수마트립탄의 제조방법은 하기 화학식 2(명세서 참조)로 표시되는 4-하이드라지노-N-메틸-벤젠 메탄설폰아미드 염산염과 하기 화학식 3(명세서 참조)으로 표시되는 4-(N,N-디메틸아미노)부탄알 디알킬아세탈을 황산 수용액 조건하에서 반응시켜 하기 화학식 1로 표시되는 3-[2-(디메틸아미노)에틸]-N-메틸-1H-인돌-5-메탄설폰아미드(수마트립탄)를 얻는 단계를 포함한다. 
     [화학식 1]  
     
       
     
     수마트립탄, 편두통, 인돌유도체
Patent KR-100694535-B1 (KR)
IPC: H04L12/26
Filed: 2004-07-09
Granted: 2007-03-14
Abstract: WLAN(108)은 제 1 유효 시청 범위 영역 내에서 무선 서비스를 제공하는 제 1 액세스 포인트(104), 제 2 유효 시청 범위 영역 내에서 무선 서비스를 제공하고 프로브 응답들을 전송하도록 프로그램되는 제 2 액세스 포인트(106) 및 상기 제 1 유효 시청 범위 영역 내에 위치되고 상기 제 1 액세스 포인트(104)의 무선 서비스에 대해서 동작하는 무선 통신 유닛을 포함한다. 통신 유닛(102)은 프로브 응답들을 위하여 감시 또는 수동으로 프로브하도록 프로그램되거나 제 2 액세스 포인트(106)에 의해 전송되는 프로브 응답들에 대해서 감시하도록 할 때 상기 제 1 액세스 포인트(104)에 의해 명령받는다. 이와 같은 수동 프로빙을 수행함으로써 통신 유닛(102)은 프로브 응답들에 포함되는 액세스 포인트 데이터에 기초하여 제 1 액세스 포인트(104)의 무선 서비스 간에서 제 2 액세스 포인트(106)의 무선 서비스로 스위칭시키기 위한 핸드오버 판정들을 행한다. 
       
     액세스 포인트, 프로브 응답, 통신 유닛, 핸드오버, 사용자 인터페이스
Patent KR-101031726-B1 (KR)
IPC: H04W56/00
Filed: 2004-10-08
Granted: 2011-04-29
Abstract: 각 통신국이 서로 송신하는 비컨의 충돌을 회피하면서 자율 분산형의 무선 네트워크를 바람직하게 형성한다.  전파의 도달 범위가 이동하여 수신 가능한 상태로 되어 비컨이 충돌한 경우, 통신국은 자국의 비컨 송신 직전에 충돌의 우려가 있는 타이밍에서 타국의 비컨을 수신한 것에 응답하여, 자국의 비컨 송신 위치를 변경한다.  또한, 전파가 닿지 않는 범위에 있는 2개의 계로부터 수신 가능한 신규의 통신국이 출현하여 비컨의 충돌이 노출된 경우, 신규 참가국은, 비컨이 충돌하는 어느 한쪽의 통신국에 대하여 비컨 송신 타이밍의 변경을 요구한다.   
       
     통신국, 비컨, 충돌, 송신 타이밍, 우선도
Patent KR-101120187-B1 (KR)
IPC: H03K17/13
Filed: 2004-12-15
Granted: 2012-03-19
Abstract: 본 발명은 트라이액을 제어 및 트리거하는 시스템, 및 트라이액의 게이트에서 단일의 단기간 펄스로부터 임의의 역률을 갖는 부하를 동작시킴으로써 트라이액의 트리거를 제어하는 방법에 관한 것이다.  단일의 비교기(CP 1 )의 사용을 가능하게 하고, 또 전류레벨(I C )에서의 제한 없이 동작시키기 위해서, 트라이액(TR)을 제어 및 트리거하기 위한 시스템이 예견되는 바, 상기 트라이액(TR)이 게이트(G)를 갖추고서 부하에 접속되며, 상기 게이트(G)가 네트워크 전압(V AC )을 부하에 선택적으로 인가하고 부하에서의 전류(I C )의 순환을 가능하게 하기 위해 트라이액을 동작시키는 제어 유니트(4)에 전기적으로 접속되고, 상기 시스템이 게이트 전압을 검지하기 위한 검지유니트(1)와 제어 유니트(4)를 갖추되, 상기 게이트전압 검지유니트(1)가 상기 제어 유니트(4)에 전기적으로 접속되고, 상기 제어 유니트(4)가 게이트(G) 전압 한계값(+한계, -한계)을 설정하고 트라이액(TR)을 통전상태로 유지하기 위해 트라이액(TR)의 게이트(G)에서 펄스를 발생시키며, 상기 게이트(G)에서의 펄스가 상기 제어 유니트(4)에 의해 설정된 전압 한계값(+한계, -한계)과 상기 게이트전압 검지유니트(1)로부터 게이트(G)에서 측정된 전압 사이의 비교로부터 발생되도록 되어 있다.  또한, 본 발명의 시스템을 동작시키기 위해, 트라이액(TR)의 트리거를 제어하기 위한 방법도 제공된다.
Patent KR-100821441-B1 (KR)
IPC: G01D5/26
Filed: 2004-08-05
Granted: 2008-04-11
Abstract: 광학식 인코더는 광원과, 제 1 격자 피치 P1을 갖는 진폭 격자로 구성되어 광원으로부터의 광을 공간적으로 진폭 변조하는 제 1 격자와, 제 2 격자 피치 P2를 갖는 위상 격자로 구성되어 제 1 격자로부터의 광을 공간적으로 위상 변조하는 제 2 격자와, 제 3 격자 피치 P3를 갖는 진폭 격자로 구성되어 제 2 격자로부터의 광을 공간적으로 진폭 변조하는 제 3 격자와, 제 3 격자로부터의 광을 수광하는 수광 소자 등으로 구성되어, 각각의 격자간의 상대 이동량을 검출한다. 
     이러한 구성에 의해서, 광원으로부터 수광 소자까지의 OTF가 향상하여, 광의 이용 효율을 현저히 개선할 수 있다.
Patent KR-101036445-B1 (KR)
Title: Multiple burst protocol device controller
IPC: G06F13/00
Filed: 2005-01-21
Granted: 2011-05-24
Abstract: Multiple burst memory access handling protocols may be implemented at the hardware level or evaluated and selected during design of the hardware. The appropriate burst protocol may be selectable based on burst characteristics such as burst types and the identity of the current bus master. This allows, for example, the ability for a slave to support multiple error protocols in a multi-master system on a chip (SoC), or to design slaves capable of interfacing with a variety of masters which use different burst handling protocols. Inputs such as a programmable control register or configuration pins or variables may be provided to as part of the slave or slave interface block (e.g., a memory controller) to facilitate the implementation of alternate burst protocols. When a burst request is received from a master, a burst characteristic corresponding to the requested burst is determined and one of a plurality of burst error protocols is selected based on the burst characteristic. The burst request is then processed according to the selected burst error protocol.
Patent KR-100785750-B1 (KR)
IPC: C01G25/00
Filed: 2005-07-22
Granted: 2007-12-18
Abstract: 본 발명에 따른 미립자무기산화물은, 산화알루미늄, 산화알루미늄과 복합산화물을 형성하지 않는 금속산화물, 및 희토류원소 및 알칼리토류원소 중 하나 이상을 포함하는 첨가원소를 함유하되, 상기 무기산화물은 일차입자들을 응집시켜 형성되는 이차입자를 함유하고, 상기 이차입자의 적어도 일부는, 입자크기가 100 nm 이하이고 산화알루미늄 및 상기 첨가원소를 각각 함유하는 복수의 제1일차입자, 및 입자크기가 100 nm 이하이고 상기 금속산화물 및 상기 첨가원소를 각각 함유하는 복수의 제2일차입자를 포함하며, 상기 제1일차입자와 제2일차입자 중 적어도 일부는 상기 첨가원소가 그 표층부에 국부적으로 증가하는 함유량을 갖는 표면농축영역을 구비하는 것을 특징으로 한다.
Patent KR-100841545-B1 (KR)
IPC: C23C22/73
Filed: 2005-03-31
Granted: 2008-06-26
Abstract: 본 발명은, 충분한 내식성을 갖는 희토류 자석 및 이의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.  적합한 실시 형태에 따르는 희토류 자석은, 희토류 원소를 함유하는 자석 소체와 당해 자석 소체의 표면 위에 형성된 보호층을 구비하고 있다.  적합한 실시 형태에 따르는 보호층은, 자석 소체를 덮어 희토류 원소를 함유하는 제1 층 및 당해 제1 층을 덮어 희토류 원소를 실질적으로 함유하지 않는 제2 층을 포함하는 층이다.  또한, 적합한 실시 형태에 따르는 다른 보호층은, 자석 소체측에서부터 순차적으로 내부 보호층 및 외부 보호층을 구비하고 있다.  외부 보호층은, 산화물층, 수지층, 금속염층 또는 유기 무기 하이브리드 화합물을 포함하는 층 중 어느 하나이다.  
       
     내식성, 희토류 자석, 희토류 원소, 자석 소체, 보호층, 산화물층, 수지층, 금속염층, 유기 무기 하이브리드 화합물
Patent KR-101354891-B1 (KR)
IPC: E04H1/12
Filed: 2006-04-18
Granted: 2014-01-22
Abstract: 기둥 형상체와 횡들보체로 구성되는 공간 구조체로서, 기둥 형상체는 축심 방향에 있어서 당해 축심 방향을 따라 뻗어 있고 또한 당해 기둥 형상체의 단면에 있어서 개구부를 가지는 반폐공간인 기둥 형상체 홈부를 가지고, 횡들보체는 축심 방향에 있어서 당해 축심 방향을 따라 뻗어 있고 또한 당해 횡들보체의 단면에 있어서 개구부를 가지는 반폐공간인 횡들보체 홈부를 하나 또는 복수 가지고, 기둥 형상체와 횡들보체의 연결은, 당해 기둥 형상체가 가지는 기둥 형상체 홈부 또는 당해 횡들보체가 가지는 횡들보체 홈부의 어느 하나의 내부를 그 축심 방향의 임의의 위치로 이동 가능 또한 당해 위치에 고정 가능한 연결 수단이, 당해 기둥 형상체 홈부 또는 당해 횡들보체 홈부의 개구부를 통하여 당해 기둥 형상체 또는 당해 횡들보체와 연결됨으로써 행해진다. 이에 의하여, 새로운 정보 기기의 등장이나 그 정보 기기의 갱신 등에 유연하게 대응하고, 용이하게 새로운 공간 구조체가 설계 가능하게 된다. 
       
     기둥 형상체, 횡들보체, 공간 구조체, 홈부, 갱신
Patent KR-100860160-B1 (KR)
IPC: G06F15/76
Filed: 2005-04-29
Granted: 2008-09-24
Abstract: 시스템은 메모리, 복수의 저수준 프로세서들, 및 제어 프로세서를 포함할 수 있다.  메모리는 지시 데이터, 상기 지시 데이터에 의해 기술되는 기타 데이터, 및 명령들을 저장할 수 있다. 저수준 프로세서들은 상기 명령들에 기반하여 상기 기타 데이터를 처리할 수 있다.  제어 프로세서는 상기 지시 데이터로부터 상기 기타 데이터를 처리하기 위해 필요한 상기 명령들의 집합을 결정할 수 있다.  제어 프로세서는 또한 상기 명령들의 집합이 상기 복수의 저수준 프로세서들 중 적어도 하나에 로딩되도록 할 수 있다. 
     
     비디오 정보, 데이터 처리, 프로세서
Patent KR-100901917-B1 (KR)
IPC: G02B6/122
Filed: 2005-05-27
Granted: 2009-06-10
Abstract: 본 발명의 광 분기기(1)는 기판(10) 위에 광이 입사되는 광 입사부(21)와, 광 입사부에 입사되는 광을 소정의 비율로 분기하는 광 분기부(22A~22G)와, 광 분기부에 의해 분기된 광을 소정 위치로 안내하는 광 출사부(23A~23H)와, 기판 위의 광 입사부, 광 분기부 및 광 출사부가 마련되는 영역과 독립으로, 광 입사부, 광 분기부 및 광 출사부와 동일한 재질에 의해, 기판 위의 광 입사부, 광 분기부 및 광 출사부가 마련되는 영역을 제외한 영역의 비율을 도시하는 점유율 70%보다 커지도록 기판 위에 마련된 더미 패턴(24A~24H)을 갖는다.
Patent KR-100865412-B1 (KR)
IPC: C09J7/35
Filed: 2005-05-17
Granted: 2008-10-24
Abstract: 광투과성의 지지기재와 점접착층을 가지고 이루어지는 다이싱 공정 및 반도체소자 접착 공정의 양쪽에 사용되는 점접착 시트로서, 상기 점접착층은, 
     (A)관능기를 포함하는 중량평균 분자량이 10만 이상인 고분자량 성분,  
     (B)에폭시수지, 
     (C)페놀계 에폭시수지 경화제,  
     (D)자외선 조사에 의해 얻어진 경화물의 Tg가 250℃ 이상인 광반응성 모노머, 및 (E) 파장 200~450nm의 자외선 조사에 의해 염기 및 라디칼을 발생하는 광개시제를 함유해서 이루어지는 점접착 시트. 
       
     점접착 시트