Patent WO-2016087507-A1 (WO)
Inventor: FUJIWARA TOSHIA
IPC: C25D7/12
Filed: 2015-12-02
Abstract: La présente invention concerne un procédé pour électrodéposer un métal sur un substrat plat P qui permet d'améliorer l'uniformité dans la précipitation d'un métal sur des surfaces de substrat et dans des trous. Ledit procédé comprend les étapes de procédé suivantes qui consistent : (a) à fournir au substrat P ayant une première et une seconde surface de substrat opposée P 1 , P 2 , un appareil d'électrodéposition (100, 200) comprenant au moins une électrode auxiliaire (120, 130; 220, 230) et un liquide d'électrodéposition (L) ; (b) à amener chacun des substrats (P) et ladite électrode auxiliaire (120, 130; 220, 230) en contact avec le liquide d'électrodéposition (L) ; (c) à polariser électriquement les première et seconde surfaces de substrat P 1 , P 2  dudit substrat P pour effectuer la déposition de métal sur les première et seconde surfaces de substrat P 1 , P 2  en alimentant la surface de substrat P 1 , P 2  d'au moins une première séquence de courant d'impulsion de marche avant-arrière, chacune étant composée de premières périodes d'impulsion de marche avant-arrière successives pour ladite première surface de substrat P 1  et au moins une seconde séquence de courant d'impulsion de marche avant-arrière, chacune étant composée de secondes périodes d'impulsion de marche avant-arrière successives pour ladite seconde surface de substrat P 2  ; (d) au moins chacune de ladite première séquence de courant d'impulsion de marche avant-arrière, comprenant au moins, dans chaque première séquence de courant d'impulsion de marche avant-arrière consécutive, une première impulsion de marche avant générant un premier courant cathodique durant une première durée d'impulsion de marche avant t f1  au niveau de la première surface de substrat P 1 , ladite première impulsion de marche avant ayant un premier courant d'impulsion de marche avant de pointe i f1 , et une première impulsion de marche arrière générant un premier courant anodique durant une première durée d'impulsion de marche arrière t r1  au niveau de la première surface de substrat P 1 , ladite première impulsion de marche arrière ayant un premier courant d'impulsion de marche arrière de pointe i r1  et chacune desdites seconde séquences de courant d'impulsion de marche avant-arrière comprenant au moins, dans chacune des secondes périodes d'impulsion de marche avant-arrière consécutives, une seconde impulsion de marche avant générant un second courant cathodique durant une seconde durée d'impulsion de marche avant t f2  au niveau de la seconde surface de substrat P 2 , ladite seconde impulsion de marche avant ayant un second courant d'impulsion de marche avant de pointe i f2 , et une seconde impulsion de marche arrière générant un second courant anodique durant une seconde durée d'impulsion de marche arrière t r2  au niveau de la seconde surface de substrat, ladite seconde impulsion de marche arrière ayant un second courant d'impulsion de marche arrière de pointe i r2  ; lesdites première et seconde impulsions de marche avant étant en outre superposées avec une première ou une seconde impulsion cathodique de superposition ayant une première et une seconde durée d'impulsion cathodique de superposition respective t c1 , t c2  qui est plus courte que la première ou seconde durée d'impulsion de marche avant respective t f1 , t f2 .