Patent ES-2389567-T3 (ES)
Title: Monómeros que contienen silicio protegidos terminalmente con grupos hidrófilos catiónicos polimerizables
Inventor: SCHORZMAN DEREK
IPC: C08G77/04
Filed: 2006-12-11
Granted: 2012-10-29
Abstract: Un monómero que contiene silicio con protección terminal de grupos hidrófilos, catiónicos, insaturadosetilénicamente y aptos para polimerización por radicales libres, en el que el monómero presenta la estructura de lafórmula (I):en la que L puede ser igual o diferente y está seleccionado entre el grupo que consiste en uretanos, carbonatos,carbamatos, carboxil ureidos, sulfonilos, un radical divalente alquilo C1-C30 lineal o ramificado, un radical divalentefluoroalquilo C1-C30, un radical divalente éster C1-C20, radical divalente de éter de alquilo, un radical divalente deéter de cicloalquilo, un radical divalente de éter de cicloalquenilo, un radical divalente de éter de arilo, un radicaldivalente de éter de arilalquilo, un radical divalente que contiene poliéter, un radical divalente de ureido, un radicaldivalente de amida, un radical divalente de amina, un radical divalente alcoxi C1-C30 sustituido o no sustituido, unradical divalente cicloalquilo C3-C30 sustituido o no sustituido, un radical divalente cicloalquilalquilo C3-C30sustituido o no sustituido, un radical divalente cicloalquenilo C3-C30 sustituido o no sustituido, un radical divalentearilo C5-C30 sustituido o no sustituido, un radical divalente de arilalquilo C5-C30 sustituido o no sustituido, un radicaldivalente heteroarilo C5-C30 sustituido o no sustituido, un radical divalente de anillo heterocíclico C3-C30 sustituidoo no sustituido, un radical divalente heterocicloalquilo C4-C30 sustituido o no sustituido, un radical divalenteheteroarilalquilo C6-C30 sustituido o no sustituido, un radical divalente fluoroarilo C5-C30 o un radical divalente deéter de alquilo con sustitución de hidroxilo y sus combinaciones; X- es al menos un contra ión con carga sencilla; nes un número entero de 1 a 300; R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 y R8 son cada uno de forma independiente hidrógeno,un radical alquilo C1-C30 lineal o ramificado, un radical fluoroalquilo C1-C30, un radical éster C1-C20, un radical deéter de alquilo, un radical de éter de cicloalquilo, un radical de éter de cicloalquenilo, un radical de éter de arilo, unradical de éter de arilalquilo, un radical que contiene un poliéter, un radical ureido, un radical de amida, un radical deamina, un radical alcoxi C1-C30 sustituido o no sustituido, un radical cicloalquilo C3-C30 sustituido o no sustituido,un radical cicloalquilalquilo C3-C30 sustituido o no sustituido, un radical cicloalquenilo C3-C30 sustituido o nosustituido, un radical arilo C5-C30 sustituido o no sustituido, un radical arilalquilo C5-C30 sustituido o no sustituido,un radical heteroarilo C5-C30 sustituido o no sustituido, un radical de anillo heterocíclico C3-C30 sustituido o nosustituido, un radical heterocicloalquilo C4-C30 sustituido o no sustituido, un radical heteroarilalquilo C6-C30sustituido o no sustituido, flúor, un radical fluoroarilo C5-C30 o un radical hidroxilo; y V es de forma independiente unradical orgánico insaturado etilénicamente apto para polimerización por medio de radicales libres.