baber/WOPTO huggingface dataset:
Patent JP-2010539923-A (JP)
Title: 組織特異的プロモーターと腫瘍を標的とするトランススプライシングリボザイムとを含む組換えアデノウイルス及びその用途
IPC: C12Q1/26
Filed: 2008-08-27
Abstract: 本発明は、組織特異的プロモーター及び癌特異遺伝子を標的とするトランススプライシングリボザイムを含む組換えアデノウイルス及びその用途に関する。より詳細には、（１）組織特異的プロモーターと、（２）該プロモーターと作動可能に連結された癌特異遺伝子に作用するトランススプライシングリボザイムと、（３）該リボザイムの３'エクソンに連結された治療遺伝子またはレポーター遺伝子と、を含む組換えアデノウイルス、これを含む抗癌用薬学組成物及び癌診断用組成物に関する。  本発明の組換えアデノウイルスは、遺伝子標的組織に対する高い特異性及び顕著に改善された治療効能を有する。したがって、遺伝子治療効能に優れた本発明の組換えアデノウイルスは、遺伝子伝達ベクターとして抗癌剤または癌診断剤に有用に用いられることができる。
Patent JP-2011500089-A (JP)
Title: レダクターゼへの３−アミノチロシンの遺伝的組込み
IPC: C12N9/02
Filed: 2008-10-23
Abstract: 本発明はＮＨ ２ Ｙ非天然アミノ酸残基を組込んだレダクターゼ蛋白質と、ＮＨ ２ Ｙをレダクターゼに組込むための直交成分システムと、レダクターゼ機能、構造及び活性を調査するための分子プローブとしてＮＨ ２ Ｙアミノ酸残基をレダクターゼで使用する方法を提供する。 【選択図】図１
Patent JP-2011504623-A (JP)
Title: 構成可能なシステム・イベントおよびリソース・アービトレーション管理の装置および方法
IPC: H04L29/08
Filed: 2007-11-02
Abstract: 移動体アプリケーションに関する専用移動体通信リソースの管理およびアービトレーションの方法、装置、およびコンピュータ可読媒体を提供する。移動体アプリケーションに、１つまたは複数の他の移動体アプリケーションおよび少なくとも１つの移動体リソースに関する重要性を確立する優先順位レベルを与えることができる。競争するアプリケーションが、移動体リソースへのアクセスを同時に試みる場合に、アクセスを、より高い優先順位レベルを有するアプリケーションに与えることができる。さらに、リソースの制御を、より高い優先順位のアプリケーションに上記リソースの制御を振り向けるために、より低い優先順位を有するアプリケーションから奪うことができる。一態様では、アプリケーションの特権コードは、リソースの不適切な転送の尤度を軽減するために、アプリケーションに関するリソースの制御を確立する前に検証される。したがって、本開示は、最小限の遅延を伴って重要なデバイス機能に影響するために移動体処理環境に関する専用リソースの管理を提供する。
Patent JP-2011506779-A (JP)
Title: 凹凸付け部材、およびティッシュ紙ウエブの製造方法
IPC: A47K10/16
Filed: 2008-11-14
Abstract: 【課題】ティッシュ製紙機械のプレス部分で湿った繊維性ウエブ（１’）に凹凸付けするための技術の提供。 【解決手段】凹凸付け部材は、三次元の織り構造物であって、出っ張り（６２）とくぼみ（６３）を形作っている。出っ張り（６２）は、くぼみ（６３）と同様に、繰り返し分布し、幾何学的に同様の小さな多角形の単位表面（６４）を形成する。単位表面（６４）のそれぞれは、面積 ａ および平均深さ ｄ のくぼみを複数含む。この発明では、長さの単位をｍｍで算出するとき、それらの ａ ／ ｄ の比が３０ｍｍに等しいかそれよりも大きい。ただし、 ａ は１．０〜３．０ｍｍ ２ の範囲、そして、 ｄ は０．０３〜０．０９ｍｍの範囲である。この発明は、また、そのような凹凸付け部材を用いて、クレープ付けしたティッシュ紙ウエブの製法にも関する。 【選択図】図１１
Patent JP-2011505422-A (JP)
Title: フルオロアルキルシラン
IPC: C07D249/04
Filed: 2008-12-01
Abstract: フルオロアルキルシランは、様々な工業目的に有用な化合物の一種である。例えば、加水分解性基を有するフルオロアルキルシラン（加水分解性フルオロアルキルシランと呼ばれる）は、耐久性疎水性および疎油性コーティングを提供する表面処理剤として有用な化合物である。一般的に、加水分解性フルオロアルキルシランは、次式：（ＲＯ−） 3 Ｓｉ−Ｒ T （式中、ＲはＨまたはアルキルであり；Ｒ T はパーフルオロアルキル基が末端の一価有機化合物である）によって表される。表面をコーティングするために用いられる場合、（ＲＯ−） 3 部分は（加水分解により）、表面上の様々な化学基（たとえば、ヒドロキシル、アミン、または他の反応性基）と反応し、その結果、フルオロアルキルシランを表面と結合させる。Ｒ T 部分は、ケイ素原子をフッ素原子が豊富な末端基に連結させ、その独自の電子特性が、表面コーティングにおいて所望の疎水性および疎油性を付与する二価有機連結基を含む。Ｒ T 部分の修飾は、フルオロアルキルシランの操作に有用である。本発明は、従来考えられなかった、Ｒ T 部分を有するフルオロアルキルシランを提供する。
Patent JP-2011506930-A (JP)
Title: 滴定装置及び方法
IPC: G01N27/26
Filed: 2008-12-04
Abstract: 滴定すべき非流動性サンプル溶液用の滴定容器、選定されたイオンのイオン源溶液を含むイオン源容器、イオンを上記イオン源溶液から上記滴定容器に通すが、バルク液流は遮断し得るイオン交換膜バリア、上記イオン源容器と電気接続している第１電極、及び、上記滴定容器と電気接続している第２電極を含む滴定装置。また、前記滴定装置内で使用するための電解滴定剤生成器も特許請求している。
Patent JP-2011506111-A (JP)
Title: 旋盤作業における切削インサート回転用アセンブリおよびそれに用いられるインサート
IPC: B23B27/16
Filed: 2008-12-10
Abstract: 金属加工作業において、軸（１０５）の回りを回転する切削インサート（１００）を利用し、回転する工作物に対して用いて、工具性能を高めることができる。切削インサート（１００）は、切削インサートを固定するが、同時にツールホルダからインサートを効率的に取り外すことができる特徴を備えたツールホルダ（５０）内部に固定される。 【選択図】図２０
Patent JP-2011506356-A (JP)
Title: 活性化合物組合せ
IPC: A01N43/80
Filed: 2008-11-27
Abstract: 本発明は、活性化合物組合せに関し、特に、イソチアニル（３，４−ジクロロ−Ｎ−（２−シアノフェニル）−５−イソチアゾールカルボキサミド、ＣＡＳ  Ｎｏ．２２４０４９−０４−１）ともう１種類の殺虫剤フルベンジアミド（ＣＡＳ  Ｎｏ．２７２４５１−６５−７）を含み、場合により、ネオニコチノイド系の１種類のさらなる殺虫剤も含んでいる殺菌性及び／又は殺虫性組成物に関する。さらに、本発明は、植物病原性の菌類及び／若しくは微生物並びに／又は植物若しくは作物の害虫を治療的又は予防的に防除する方法、種子を処理するための本発明による組合せの使用、種子を保護する方法及び処理された種子にも関する。
Patent JP-2011508401-A (JP)
IPC: H05B37/02
Filed: 2008-12-29
Abstract: Methods and apparatus for facilitating a process of designing, selecting, and/or customizing lighting effects or lighting shows. A library of indexed (tagged) predefined lighting effects or shows is searched by a search engine, based upon information provided by a user/designer, to identify a set of effects or shows having attributes that are in some way related to the information provided by the user. The user is then presented with search results, i.e., a manageable subset of intelligently chosen lighting effects or shows, which may be ranked in terms of relevance, any one or more of which may be readily selected by the user. The user may select one or more effects or shows from the search results “as is” for execution by a lighting system, may combine one or more effects or shows from the search results, or may modify one or more effects or shows from the search results to refine some aspect of the effect(s)/show(s) in accordance with user preferences. In one exemplary implementation, the library of lighting effects/shows and/or the search engine may be hosted by a web site and accessible via the Internet.
Patent JP-2011508051-A (JP)
Title: ストリッピング用高温分離器を用いる一体化された２段階脱硫／脱ロウ
IPC: C10G45/64
Filed: 2008-12-24
Abstract: 本発明は、ディーゼル燃料の製造方法に関する。この方法により、ディーゼル燃料を製造するための水素化処理および脱ロウ条件を別々に制御する一方で、追加の設備費用を削減するかまたは最小限に抑えることが可能になる。 【選択図】図１
Patent JP-2011514696-A (JP)
Title: 通信方法および通信デバイス
IPC: H04M11/00
Filed: 2008-01-15
Abstract: 本発明は、端末装置間で呼の間にマルチメディア・データを送信するための通信方法を開示する。この方法は、その呼における端末装置の１つから開始されたマルチメディア・データ送信要求を受信するステップ、および、この要求に応答して、その呼における端末装置の１つまたは複数にマルチメディア・データを送信するステップを備える。
Patent JP-2011509963-A (JP)
Title: 非グリコシル化タンパク質の精製
IPC: C12N15/09
Filed: 2009-01-15
Abstract: 本発明は、ｉ）疎水性電荷誘導クロマトグラフィー、またはii）疎水性相互作用クロマトグラフィー、またはiii）アフィニティークロマトグラフィー、またはiv）イオン交換クロマトグラフィーより選択される第１のクロマトグラフィー工程、ｉ）陰イオン交換クロマトグラフィー、またはii）陽イオン交換クロマトグラフィー、またはiii）ヒドロキシルアパタイトクロマトグラフィー、またはiv）疎水性相互作用クロマトグラフィーより選択される第２のクロマトグラフィー工程、ならびにｉ）疎水性電荷誘導クロマトグラフィー、またはii）陰イオン交換クロマトグラフィー、またはiii）陽イオン交換クロマトグラフィー、またはiv）疎水性相互作用クロマトグラフィーより選択される第３のクロマトグラフィー工程の三つのクロマトグラフィー工程を含む、原核細胞においてリコンビナント製造された非グリコシル化異種ポリペプチドの精製のための方法であって、ここで、金属リガンドと相互作用できるポリペプチドの場合に、第１のクロマトグラフィー工程はアフィニティークロマトグラフィーであり、６．０未満の等電点を有するポリペプチドの場合に、第２のクロマトグラフィー工程はヒドロキシルアパタイトクロマトグラフィー工程ではなく、低または高等電点を有するポリペプチドについて、第３のクロマトグラフィー工程はフロースルーモードで行うことができる方法を報告する。
Patent JP-2011510059-A (JP)
Title: 化粧品分野におけるエステル交換オリーブ油の使用
IPC: A61K8/64
Filed: 2008-10-21
Abstract: 化粧品活性成分及び／又は皮膚科学的活性成分の浸透速度を増大させるための、又は化粧品モイスチャライザーとしての、エステル交換オリーブ油の使用が開示される。 【選択図】図１
Patent JP-2011514397-A (JP)
Title: 導電性インク
IPC: C09D11/00
Filed: 2009-01-27
Abstract: 実質的にフリットを含まない導電性インク及び実質的にガラスフリットを含まない導電性インクにより形成された導電性グリッド線を有する光電池が開示されている。本発明の実施の形態による導電性インクは、基板の表面に付着するために適用され、燃焼で、固形金属酸化相を形成し、かつ基板上で導電体を形成する導電性物質を生じる。更なる実施の形態では、導電性インクは、基板の表面に配置された反射防止膜を浸透することができる。１以上の実施の形態に従うと、導電性インクは、燃焼で形成された金属酸化相及び導電性物質を形成する複数の金属有機化合物成分を含む。他の実施の形態によれば、導電性インクは、燃焼または加熱で導電性要素を形成する１以上の前駆物質を含む複数の前駆物質を含む。 【選択図】なし
Patent JP-2011511866-A (JP)
Title: ホットメルト接着剤
IPC: C09J123/26
Filed: 2009-02-09
Abstract: メタロセンポリオレフィン、非晶質α−オレフィンポリマー、粘着付与剤、および耐熱性を高めるのに十分な量のマレエート化ポリオレフィンを含む、ホットメルト接着剤。
Patent JP-2011512762-A (JP)
Title: 複数加入者ネットワークでの改竄、盗聴及びハッキングを不可能とするｐ２ｐ通信方法
IPC: G09C1/00
Filed: 2008-11-17
Abstract: 本発明は、一つの時間間隔の間に実行される通信の大部分がＰ２Ｐ通信に対応する別個の空間内で、Ｐ２Ｐ通信に対応する別個の参照データを用いて実行される、複数加入者ネットワークでの改竄が不可能で、盗聴されず、ハッキングも不可能な通信方法に関する。別個のランダム参照データ及び／又はランダムデータの少なくとも一部が、Ｐ２Ｐ通信に関与する少なくとも１つのユニットで生成されて、相対データの形でＰ２Ｐ通信内で交換される。別個のＰ２Ｐ通信の開始は、Ｐ２Ｐ通信の時点で有効な少なくとも１つのグローバルなランダム参照データと関連して行われ、その場合に、ランダム参照データは、ランダムに決定された時間間隔の間有効であり、Ｐ２Ｐ通信を実行する全てのユニットにおいて秘密に、かつ改竄不可能な形で保存されている。
Patent JP-2011513942-A (JP)
Title: 円状の断層合成撮像用のｘ線管
IPC: A61B6/02
Filed: 2009-03-06
Abstract: 円状の走査軌道を可能にする回転するアノードX線管を有する断層合成撮像システムであって、X線管1は、アノード10の周囲に分散配置された多数のカソード21、同22を備えている。これは、アノード10の表面15にある例えば円状の線14の上に、例えば均等に分散配置された焦点の位置11、同12に、X線41、同42を生成することを可能にする。対象物61は、X線源に対して若干の距離で、アノード10の回転軸6上にある。検査のために、対象物61は、すべての焦点の位置11、同12で連続して生成されたX線ビーム41、同42に晒され、X線管1の移動は必要とされない。伝わってきたX線の強度が、再構成された三次元画像データを得るために、フラットパネルの検出器50によって測定される。
Patent JP-2011088925-A (JP)
Title: Method for producing phthalic anhydride
Inventor: HEIDEMANN THOMAS
IPC: C07D307/89
Filed: 2011-01-04
Abstract: <P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing phthalic anhydride, capable of simultaneously completing a short running-up time, a high yield, formation of small amounts of by-products, further better product characteristics, and all preferable parameters such as a low phthalide content.  <P>SOLUTION: In the method for producing phthalic anhydride, the catalytic vapor phase oxidation of xylene and/or naphthalene is performed by using a gas including molecular oxygen at an uplifted temperature in a fixed bed and by using a specific shell catalyst which is formed by applying a layer comprising a catalytic active metal oxide onto a catalyst core comprising a carrier material and which is arranged by stacking three layers.  <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
Patent JP-2012144381-A (JP)
Title: Method for producing calcium phosphate from incineration ash and device for producing the same
Inventor: TSUBOI HIROKAZU
IPC: C05B7/00
Filed: 2011-01-06
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To produce from incineration ash calcium phosphate producible of calcium superphosphate having a stable property with the use amount of sulfuric acid that is the same level as used when the calcium superphosphate is produced from phosphate ore as a raw material.SOLUTION: This method for producing the calcium phosphate from the incineration ash includes: a phosphate extracting process where the incineration ash and alkaline reaction liquid are mixed to obtain a mixture of an aluminun-containing phosphate extract and alkali-treated ash; a solid-liquid separating process where the mixture of the aluminun-containing phosphate extract and the alkali-treated ash is solid-liquid separated; an aluminosilicate depositing process where the aluminun-containing phosphate extract separated in the solid-liquid separating process and silicon-containing solution are mixed to obtain a mixture of aluminosilicate and phosphate-containing liquid; a solid-liquid separating process where the mixture of the aluminosilicate and the phosphate-containing liquid is solid-liquid separated; and a calcium phosphate depositing process where the phosphate-containing liquid separated in the solid-liquid separating process and a calcium compound are mixed to deposit the calcium phosphate. And a device suitable for the method for producing the same is provided.
Patent JP-2012145438-A (JP)
Title: Method for measuring moisture ratio of w/o emulsion and moisture ratio measuring device
Inventor: SEKIGUCHI SHINICHI
IPC: G01N27/22
Filed: 2011-01-12
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for measuring a moisture ratio of W/O emulsion capable of measuring a moisture content of a wide range without being affected by a density difference.SOLUTION: The method for measuring a moisture ratio according to the present invention includes: when a moisture content of W/O emulsion is measured using a capacitive sensor, performing measurement at a liquid flow rate or more that can prevent electrostatic polarization of water particles and aggregation of an electrode part due to Brownian motion so as to provide a capacitance value with superior linearity and reproducibility according to the moisture content, thereby highly accurately measuring a moisture content even in the moisture content of 5% or more.
Patent JP-2012143784-A (JP)
Title: Method for preventing stress corrosion cracking of welded joint part and reduction in property of ultrasonic inspection
Inventor: UCHIYAMA KEIGO
IPC: B23K9/04
Filed: 2011-01-12
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for preventing stress corrosion cracking of a welded joint part and the reduction of ultrasonic inspection properties to the weld zone thereof when a pressure vessel nozzle and piping are subjected to butt welding.SOLUTION: The butting faces of the nozzle 2 of a pressure vessel and piping 3 are welded with a welding material having a welding familiarity with both the materials 2, 3. The end parts of the welded nozzle 2 and piping 3 are subjected to edge preparation and build-up welding, thus an action is made in such a manner that the inside face of the welded joint part 5 is transferred to a compressive stress to suppress the stress corrosion cracking of the welded joint part 5. When carrying out weld overlay welding 4, fluid vibration by water jet injection 6 from a water jet nozzle 7 on the inner circumferential side of the welded joint part 5 is applied to a welding zone. In this way, the enlargement of the structure in the weld overlay weld zone and welded joint part is avoided to prevent the reduction of properties in ultrasonic inspection.
Patent JP-2012148286-A (JP)
Title: Hot rolled steel plate having superior scale adhesiveness, method for manufacturing the same, and manufacturing equipment line for hot rolled steel plate having superior scale adhesiveness
Inventor: TANEI HIROSHI
IPC: B21C47/26
Filed: 2011-01-17
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a hot rolled steel plate imparted with superior scale adhesiveness at an edge of the steel plate without using a large-scale apparatus and/or chemicals, a method for manufacturing the same, and a manufacturing equipment line for the hot rolled steel plate.SOLUTION: In the method for manufacturing a hot rolled steel plate having excellent scale adhesiveness in which steel material is hot-rolled, and coiled in a coil shape, a roughly rolled steel plate is subjected to the finish rolling at the temperature of 850-1,050°C, and the finish-rolled steel plate is coiled in a coil shape at the coiling temperature of 500-650°C while both end faces of the hot-rolled steel plate are cooled so that the temperature at the end faces reaches ≤480°C within 5 minutes after starting the coiling. Thereafter, the temperature at the end faces is maintained at ≤480°C. Then, the steel plate in a coil shape is gradually cooled from the time when the temperature at the end faces is 400-480°C.
Patent JP-2012151310-A (JP)
Title: Silicon chip manufacturing method, droplet discharge head, ink cartridge, image forming apparatus and micro pump
Inventor: NISHIMURA MANABU
IPC: B05C5/00
Filed: 2011-01-19
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a silicon chip manufacturing method, a droplet discharge head, an ink cartridge, an image forming apparatus and a micro pump, which improve positioning accuracy with other components performed by abutment to an abutment tool.SOLUTION: A silicon chip manufacturing method comprises: a through hole formation step of forming, on a dicing line 26 for dividing a silicon wafer 30 which is a laminate of a plurality of substrates having thicknesses different from one another into a plurality of silicon chips, at least in each region corresponding to each of a silicon chips 24A, through holes 22 each penetrating the silicon wafer 30 in a thickness direction; and a cut step of cutting the silicon wafer 30 on which the through holes 22 are formed, along the dicing line 26 by using a dicing blade. A width of the through hole 22 at a first substrate (protection substrate 16) which is thickest among the plurality of substrates included in the silicon wafer 30 is narrower than a width at a substrate (liquid chamber substrate 14) among the plurality of substrates other than the first substrate.
Patent JP-2012154061-A (JP)
Title: Rain gutter structure of car port
Inventor: MURAMATSU NOBUHIRO
IPC: E04H6/02
Filed: 2011-01-25
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a structure of a rain gutter 24 of a car port, capable of making the length of the rain gutter 24 accommodate to the height change of a roof by the length adjustment of a column 2.SOLUTION: In the car port comprising the column 2 and the roof supported by the column 2, the column 2 is bisected into an upper column 2a and a lower column 2a, the upper column 2b is provided length-adjustably in the vertical direction relative to the lower column 2a, and the rain gutter 24 provided along the column 2 is made length-adjustable in the vertical direction by bisecting it into an upper rain gutter 24b and a lower rain gutter 24a for instance and providing the upper rain gutter 24b freely slidably in the vertical direction relative to the lower rain gutter 24a.
Patent JP-2012155934-A (JP)
Title: Varnish for binder of lithium ion secondary battery electrode and method for producing the same
Inventor: HATAKEYAMA KOHEI
IPC: H01M4/62
Filed: 2011-01-25
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a varnish for a binder of a lithium ion secondary battery electrode, excellent in adhesiveness to a metal.SOLUTION: A varnish for a binder of a lithium ion secondary battery electrode is obtained by dissolving a polyamide-imide resin precursor in an organic solvent. The polyamide-imide resin precursor mainly contains at least one selected from a constitutional unit represented by the following general formula (1) and other constitutional units, the number of the constitutional unit represented by the general formula (1) is 55% or less of that of the entire constitutional units, and an imidization rate of the polyamide-imide resin precursor is 0 to 70%. (In the general formula (1), Rand Rrepresent a divalent aromatic group.)
Patent JP-2012153043-A (JP)
Title: Image forming device and image forming method
Inventor: MIURA HIROTSUNA
IPC: B41J21/16
Filed: 2011-01-27
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an image forming device that detects a reference position in aligning the position of an image with a target from both front and rear sides of the target, and an image forming method.SOLUTION: The image forming device includes: a read sensor that detects the position of a through-hole 67a formed at a reference position of a sheet 13 in aligning an image forming position, and also, reads a two-dimensional code to identify an image formed on the sheet 13 via through-holes 67b representing the two-dimensional code; and a recording head that forms an image associated with the two-dimensional code read by the read sensor, in an image printing position in which the position of the through-hole 67a detected by the read sensor is set as the reference position.
Patent JP-2012153835-A (JP)
Title: Light/moisture dual cure-based curable composition for sticking fpd
Inventor: NARITA RYOICHI
IPC: C08L101/02
Filed: 2011-01-27
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a UV/moisture dual cure-based curable composition for sticking FPD, which is a curable composition which can be rapidly cured by light and does not uncure a part on which light is not incident and further has improved adhesion durability with a substrate.SOLUTION: The light/moisture dual cure-based curable composition for sticking FPD comprises: an oligomer and/or a monomer (A) containing a (meth)acryloyl group and a hydroxyl group and having a number average molecular weight of 3,000 or less; a compound (B) having, on the average, at least one hydrolytic silyl group in one molecule; a compound (C) containing, on the average, at least one polymerizable carbon-carbon double bond in one molecule other than (A); a photoinitiator (D); and a curing catalyst (E).
Patent JP-2012161125-A (JP)
Title: Electric motor and electrical apparatus including the same
Inventor: TAKADA MASAYUKI
IPC: H02P6/28
Filed: 2011-01-31
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electric motor capable of realizing a blower which achieves a highly accurate airflow-static pressure property having extremely reduced variation in airflow even in a change in static pressure such as pressure loss, and can increase a blowing volume at high humidity depending on a change in humidity.SOLUTION: A polyamide 6 resin having many amide groups in the same molecular length allows water molecules subjected to hydrogen bonds with the amide groups to further attract neighboring water molecules in a region at high humidity to form hydrogen bonding between the water molecules to swell. A magnetic pole part 3a of a magnet rotor 3 formed of the polyamide 6 resin then increases its outer diameter to reduce its air gap 18, allowing an induced voltage induced in the magnet rotor 3 to be increased. When a current supplied to a driving coil 2 is the same, an electric motor can have a higher shaft torque due to the increased induced voltage. Accordingly, the electric motor provides an airflow-static pressure property in which a ventilation air volume is increased at high humidity compared to that at normal humidity.
Patent JP-2012162329-A (JP)
Title: Mechanism for supplying recording medium, recording apparatus including the same
Inventor: FUJIKAWA KOHEI
IPC: B65H1/04
Filed: 2011-02-03
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mechanism for supplying a recording material while reliably preventing a recording medium from moving upward and greatly effectively reducing noise generated during printing operation, and to provide a recording apparatus including the mechanism.SOLUTION: The mechanism includes: a storage chamber 3 for storing the recording medium; a feed roller 41 in contact with an upper surface of the recording medium stored in the storage chamber, and feeding out the recording medium downstream a conveyance path; an inclined surface formed in the storage chamber and guiding the recording medium upward, the medium being fed out downstream the conveyance path; a conveyance roller 5 located above the feed roller and conveying the recording medium downstream the conveyance path, the medium guided via the inclined surface; and a guide roller 25 located below a contact line between the feed roller and the conveyance roller.
Patent JP-2011161231-A (JP)
Title: Vacuum patch for rapid wound closure
Inventor: EBNER TIMOTHY D
IPC: A61B17/00
Filed: 2011-02-04
Abstract: <P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a surgical patch system for closing a wound.  <P>SOLUTION: The surgical patch system for closing a wound includes: a first surgical patch positionable adjacent internal tissue of an underlying tissue site of an open wound; a second surgical patch positionable adjacent external tissue relative to the underlying tissue site of the open wound, the external tissue being adjacent the internal tissue; a cord operably associated with the first and second surgical patches, the cord configured and dimensioned to interconnect the first and second surgical patches; and a port operably associated with the second surgical patch, the port positioned to enable the application of negative pressure to the open wound.  <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
Patent JP-2012164812-A (JP)
Title: System and method of manufacturing semiconductor device
Inventor: SHIMIZU TAKASHI
IPC: H01L21/02
Filed: 2011-02-07
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a system and a method of manufacturing a semiconductor device capable of specifying a causal step which affects variations in device characteristics in steps of manufacturing the semiconductor device and suppressing variations in device characteristics, thereby enhancing yield.SOLUTION: A system of manufacturing a semiconductor device comprising: a plurality of processing devices configured to process a wafer at notch angles set differently in a plurality of manufacturing steps; a processing characteristics measurement unit configured to measure processing characteristics; a device characteristics measurement unit configured to measure device characteristics; a control server; a data server including a database configured to store position and characteristics data which contains device characteristics corresponding to an in-plane position of the wafer; and an analysis server configured to obtain correlation between processing characteristics and device characteristics corresponding to the in-plane position of the wafer in each of the processing steps based on the position and characteristics data, and specify a causal step which causes variations in device characteristics in the plane of the wafer based on correlation between the manufacturing steps.