Patent ES-2887015-T3 (ES)
Title: Procedimiento para la transferencia de una estructura gofrada a la superficie de un agente de recubrimiento y material compuesto utilizable como matriz de gofrado
Inventor: KUES JAN-BERND
IPC: B29L31/00
Filed: 2019-03-28
Granted: 2021-12-21
Abstract: Un procedimiento para la transferencia de una estructura gofrada sobre al menos una parte de una superficie de un segundo agente B2a de recubrimiento, que comprende al menos las etapas 1-i) y 2-i) o 1-ii) y 2-ii) así como al menos las etapas 3) y opcionalmente 4), es decir 1-i) aplicación de un segundo agente B2a de recubrimiento sobre al menos una parte de una superficie de un segundo sustrato F2 y 2-i) gofrado al menos parcial del segundo agente B2a de recubrimiento aplicado al menos parcialmente sobre la superficie del segundo sustrato F2, por medio de al menos una segunda herramienta P2 de gofrado que exhibe al menos una segunda matriz p2 de gofrado, en el que la segunda matriz p2 de gofrado comprende un primer material B1F1, formado por un primer sustrato F1 y un primer recubrimiento B1 al menos parcialmente gofrado y al menos parcialmente curado, en el que después del gofrado al menos parcial se obtiene un segundo material F2B2aB1F1 compuesto, o 1-ii) aplicación de un segundo agente B2a de recubrimiento sobre al menos una parte de una superficie al menos parcialmente gofrada de un primer material B1F1 compuesto usado como una segunda matriz p2 de gofrado de una segunda herramienta P2 de gofrado, compuesto de un primer sustrato F1 y un primer recubrimiento B1 al menos parcialmente gofrado y al menos parcialmente curado, para obtener un tercer material B2aB1F1 compuesto, y 2-ii) aplicación de un segundo sustrato F2 sobre al menos una parte de la superficie del tercer material B2aB1F1 compuesto formada por el segundo agente B2a de recubrimiento, para obtener el material para obtener un segundo material F2B2aB1F1 compuesto, y 3) curado al menos parcial del segundo agente B2a de recubrimiento dentro del segundo material F2B2aB1F1 compuesto así obtenido para obtener un cuarto material F2B2B1F1 compuesto, en el que durante la duración total del curado al menos parcial, el segundo agente B2a de recubrimiento está en contacto con el primer material B1F1 compuesto parcial usado como segunda matriz p2 de gofrado dentro del segundo material F2B2aB1F1 compuesto, und 4) dado el caso eliminación del quinto material F2B2 compuesto dentro del cuarto material F2B2B1F1 compuesto, del primer material B1F1 compuesto usado como segunda matriz p2 de gofrado, en el que el primer agente B1a de recubrimiento usado para la fabricación del primer agente B1 de recubrimiento del primer material B1F1 compuesto usado como segunda matriz p2 de gofrado, es un agente de recubrimiento curable por radiación, caracterizado porque el primer agente B1a de recubrimiento, contiene al menos un primer componente a) en una cantidad en un intervalo de 40 a 95 % en peso, al menos un aditivo como segundo componente b) en una cantidad en un intervalo de 0,01 a 5 % en peso, al menos un fotoiniciador como tercer componente c) en una cantidad en un intervalo de 0,01 a 15 % en peso, y al menos un cuarto componente d) que exhibe por lo menos un enlace doble de carbono en una cantidad en un intervalo de 0 a 45 % en peso, en el que i) los componentes a), b), c) y d) son en cada caso diferentes uno de otro, ii) los datos indicados de los componentes a), b), c) y d) se refieren en cada caso en peso total del primer agente B1a de recubrimiento y iii) las cantidades de todos los componentes presentes en el primer agente B1a de recubrimiento totalizan 100 % en peso, y en el que el primer componente a) exhibe al menos tres unidades estructurales en cada caso diferentes una de otra o al menos parcialmente idénticas, de la fórmula (I) **(Ver fórmula)** en la cual los radicales R1 representan en cada caso independientemente uno del otro un grupo alquileno C2-C8, los radicales R2 representan en cada caso independientemente uno del otro H o metilo y el parámetro m representa en cada caso, independientemente uno del otro, parámetro entero en un intervalo de 1 a 15, aunque con la condición de que en al menos una de las unidades estructurales de la fórmula (I) dentro del primer componente a) el parámetro m por lo menos es 2, en la que el símbolo " **(Ver fórmula)** " representa al respecto un enlace del respectivo radical con la estructura superior del componente a).