Patent DE-102019206651-B4 (DE)
Title: Verfahren zum dreidimensionalen Bestimmen eines Luftbildes einer Lithographiemaske
Inventor: JABBOUR TOUFIC
IPC: G03F7/20
Filed: 2019-05-08
Granted: 2022-10-13
Abstract: Verfahren zum dreidimensionalen Bestimmen eines Luftbildes (I scanner ) einer Lithographiemaske (7) als Messintensitäts-Resultat einer Abbildung mit einer anamorphotischen Projektionsbelichtungs-Abbildungsoptik (3) einer Projektionsbelichtungsanlage (2), wobei das zu bestimmende 3D-Luftbild (I scanner ) eine Wellenfront
         (     φ     (         z   ˜     w         Z   →       target         )       )           aufweist, die in vorgegebener Weise von einem Defokuswert (z w ) abweicht, mit folgenden Schritten:
 - in einem Ausgangs-Messschritt Messen eines 3D-Luftbildes (I mea - sured ) als Messintensitäts-Resultat in einer Mehrzahl von Betriebssituationen
         (         z   ˜     w         Z   →       actual         )     ,         die jeweils einen Defokuswert (z w ) entsprechen, mit Hilfe eines Metrologiesystems (14) mit einer Messoptik mit einer Mess-Abbildungsoptik (15) mit isomorpher numerischer Apertur und mindestens einer verlagerbaren und/oder deformierbaren Messoptik-Komponente (Mi),
 — wobei diese Messung unter Verwendung einer Aperturblende (16a) mit sich um mehr als 10% von 1 unterscheidendem Aspektverhältnis in der Mess-Abbildungsoptik (15) und unter Einfluss einer gezielten Dejustage
         (     Δ     α   →       )           der Mess-Abbildungsoptik (15), jeweils entsprechend einer Betriebssituation
         (         z   ˜     w         Z   →       actual         )     ,         erfolgt,
 -- wobei durch die gezielte Dejustage
         (     Δ     α   →       )           eine Minimierung eines Unterschiedes erfolgt zwischen:
 --- einer Wellenfront
         (     φ     (         Z   →       target         )       )     ,         die durch die Abbildung der Lithographiemaske (7) mittels der Projektionsbelichtungs-Abbildungsoptik (3) beim jeweiligen Defokuswert (z w ) entsteht, und 
 --- einer Wellenfront
         (     φ     (         Z   →       actual         )       )     ,         die durch die Abbildung der Lithographiemaske (7) mittels der Mess-Abbildungsoptik (15) mit gezielter Dejustage
         (     Δ     α   →       )     ,         also gezielt verlagerter und/oder deformierter Messoptik-Komponente (Mi) entsteht,
 - Rekonstruieren von Spektren (F 1...N ) als Fouriertransformierte eines Feldes von Abbildungslicht (1) in jeweils einem bestimmten Abschnitt (σ i ) einer Pupille eines Beleuchtungssettings einer Beleuchtung der Lithographiemaske (7), wobei in die Rekonstruktion eine Minimierung einer Differenz (Δ) eingeht zwischen
 -- einer mit der Messoptik (15) unter Verwendung der gezielten Dejustage
         (     Δ     α   →       )           gemessenen Abbildungslicht-Intensität
         (       I     measured         (         n     Z   →         actual         )       )           und
 -- einer Simulation einer Abbildungslicht-Intensität
         (       I     s   i   m         (     n       Z   →       a   c   t   u   a   l       ,     F     1..   N         )       )           bei der jeweiligen gezielten Dejustage
         (     Δ     α   →       )           unter Einbeziehung eines vorläufigen Kandidatenwertes für das jeweilige Spektrum (F 1...N ),
 - Korrigieren des im Ausgangs-Messschritt erhaltenen Messergebnisses (I measured ) bei jedem Defokuswert (z w ) durch folgende Korrekturterme:
 -- ein berechnetes 3D-Luftbild
         (       I     sim         (         z   ˜     w         Z   →       target       ,     F     1..   N         )       )           beim zugehörigen Defokuswert (z w ), welches durch Simulation einer Abbildung mit der anamorphotischen Projektionsbelichtungs-Abbildungsoptik (3) der Projektionsbelichtungsanlage (2) unter Einbeziehung der rekonstruierten Spektren (F 1...n ) erzeugt wird, 
 -- ein berechnetes 3D-Luftbild
         (       I     sim         (         z   ˜     w         Z   →       actual       ,     F     1..   N         )       )           beim zugehörigen Defokuswert (z w ), welches durch Simulation einer Abbildung mit der Mess-Abbildungsoptik (15) unter Einbeziehung der rekonstruierten Spektren (F 1...N ) erzeugt wird.