Patent ES-2312563-T3 (ES)
Title: Valvula de inyeccion de gas, y soporte de inyeccion para inyeccion de gas.
Inventor: TSUTSUI TATSUO
IPC: F17C13/04
Filed: 2002-05-02
Granted: 2009-03-01
Abstract: Una válvula (101) de pulverización del gas, que incluye: una caja (103) de válvula asegurada a una porción (102a) de abertura de un recipiente (102) de gas; un vástago (104) de válvula recibido de manera deslizable en la caja (103) de válvula; un primer anillo de obturación (106) y un segundo anillo de obturación (108) dispuestos en el interior de la caja (103) de válvula, entrando en contacto estrecho el primer anillo de obturación (106) con una periferia exterior de una porción de diámetro mayor del vástago (104) de válvula en una primera posición que está relativamente próxima al centro del recipiente (102) de gas, entrando en contacto estrecho el segundo anillo de obturación (108) con la periferia exterior de una porción de diámetro menor del vástago (104) de válvula en una segunda posición que está relativamente alejada del centro del recipiente (102) de gas; una cámara de medición (110) formada entre el primer anillo de obturación (106) y el segundo anillo de obturación (108) para capturar una cantidad predeterminada de gas antes de la pulverización; y una diferencia de diámetros entre la porción de diámetro mayor y la porción de diámetro menor del vástago de válvula se utiliza como una cara de tope para restringir la posición elevada del vástago (104) de válvula, en la que, el vástago (104) de válvula incluye un conducto (111) de gas que se extiende a través del mismo desde un extremo superior del mismo que está situado fuera del recipiente (102) de gas hasta un orificio (111b) en una periferia exterior del mismo que está separada axialmente del extremo superior, estando caracterizada la válvula de pulverización de gas porque, el vástago (104) de válvula se puede disponer en las tres posiciones siguientes: i) posición elevada, en la cual el orificio (111b) está dispuesto por encima del segundo anillo de obturación (108) y el fondo del vástago de válvula se encuentra en el interior de la cámara de medición (110) por encima del primer anillo de obturación (106), de manera que la comunicación entre el interior del recipiente (102) de gas y la cámara de medición (110) esté abierta; ii) primera posición de tope, en la cual el orificio (111b) se encuentra en la cámara de medición por debajo del segundo anillo de obturación (108) y la porción de diámetro grande permanece en contacto con el primer anillo de obturación (106), en la que la comunicación entre la cámara de medición (110) y el orificio (111b) está abierta y la comunicación entre el interior del recipiente (102) de gas y la cámara de medición (110) está cerrada; iii) segunda posición de tope, en la cual el vástago (104) de válvula es empujado adicionalmente más allá de la primera posición de tope de manera que el orificio (111b) permanezca en la cámara de medición por debajo del segundo anillo de obturación (108) y la porción de diámetro grande (104b) es empujada completamente por debajo del primer anillo de obturación (106), con lo cual la comunicación entre la cámara de medición (110) y el orificio (111b) y entre el recipiente (102) de gas y la cámara de medición (110) están ambas abiertas.