Patent DE-102014225482-B4 (DE)
Title: System und Verfahren zum Programmieren von Operationen zum Inspizieren von Werkstückmerkmalen für eine Koordinatenmessmaschine
Inventor: TSEO ERIC YEH-WEI
IPC: G01B5/008
Filed: 2014-12-10
Granted: 2023-09-14
Abstract: Computerumgesetztes Verfahren zum Programmieren von Vorgängen zum Inspizieren von Werkstückmerkmalen für eine Koordinatenmessmaschine, CMM, wobei die Koordinatenmessmaschine Folgendes umfasst:einen Sensor, der verwendet wird, um Messdaten von Werkstückmerkmalen zu bestimmen; einen Arbeitstisch zum Halten eines Werkstücks (10),wobei der Sensor und der Arbeitstisch konfiguriert sind, um im Verhältnis zueinander bewegbar zu sein; und einen CMM-Steuerabschnitt (3),wobei das Verfahren in einer Bearbeitungsumgebung umgesetzt wird, die Folgendes umfasst:einen Programmiersteuerabschnitt;einen Anzeigeabschnitt (5D);eine grafische Benutzerschnittstelle, GUI; und mindestens ein erstes Merkmalsoberflächen-Abtastmuster (500L, 500C, 500S, 600L, 600C, 600S, 700L, 700C, 700S), das eine Anordnung von Abtastmusterstellen (PL) umfasst,wobei das Verfahren folgende Schritte umfasst:Betätigen der Bearbeitungsumgebung, um eine dreidimensionale Werkstückdarstellung, die ein erstes Oberflächenmerkmal des Werkstücks (10) umfasst, an dem Anzeigeabschnitt (5D) anzuzeigen;Betätigen der Bearbeitungsumgebung, um eine Instanz des ersten Merkmalsoberflächen-Abtastmusters (500L, 500C, 500S, 600L, 600C, 600S, 700L, 700C, 700S) zu erstellen, das mindestens einen Musterparameter aufweist, der angepasst wird, um dem ersten Oberflächenmerkmal des Werkstücks (10) zu entsprechen, einschließlich des Anzeigens einer entsprechenden Darstellung der Instanz des ersten Merkmalsoberflächen-Abtastmusters (500L, 500C, 500S, 600L, 600C, 600S, 700L, 700C, 700S) automatisch an das erste Oberflächenmerkmal angepasst, wobei die automatisch angepasste entsprechende Darstellung brauchbare Abtastmusterstellen (PL) und unbrauchbare Abtastmusterstellen (IPLEV, IPLOF) mit jeweiligen Erscheinungsbildern, welche sie voneinander unterscheiden, umfasst; undBetätigen der Bearbeitungsumgebung basierend auf Benutzereingabevorgängen in der GUI, um mindestens einen Musterparameter der Instanz des ersten Merkmalsoberflächen-Abtastmusters (500L, 500C, 500S, 600L, 600C, 600S, 700L, 700C, 700S) weiter anzupassen,wobei die weitere Anpassung des mindestens einen Musterparameters gleichzeitig mindestens eines einer Vielzahl der brauchbaren Abtastmusterstellen (PL) und einer Vielzahl der unbrauchbaren Abtastmusterstellen in der Instanz des ersten Merkmalsoberflächen-Abtastmusters (500L, 500C, 500S, 600L, 600C, 600S, 700L, 700C, 700S) bewegt;die entsprechende Darstellung der Instanz des ersten Merkmalsoberflächen-Abtastmusters (500L, 500C, 500S, 600L, 600C, 600S, 700L, 700C, 700S) konfiguriert ist, um sofort auf die weitere Anpassung des mindestens einen Musterparameters zu reagieren; unddie Vielzahl der unbrauchbaren Abtastmusterstellen, wenn sie gleichzeitig bewegt werden, um in Erwiderung auf die weitere Anpassung des mindestens einen Musterparameters, eine Vielzahl brauchbarer Abtastmusterstellen zu werden, ihre Erscheinungsbilder ändern, um zu denen der brauchbaren Abtastmusterstellen zu werden.