baber/WOPTO huggingface dataset:
Patent KR-20000038542-A (KR)
Title: Method for controlling calcium hardness
Inventor: RYU JUNG YOUNG
IPC: C02F5/02
Filed: 1998-12-08
Abstract: PURPOSE: A method for controlling calcium hardness in paper manufacturing process is provided, which is characterized in that sodium carbonate or calcium hydro carbonate is added to white water to settle calcium ion. CONSTITUTION: Silo white water which is shortly circulated is purified by settling calcium ions, and the calcium carbonate ions are absorbed. Carbonate ion and sulfate ion react with calcium ion and produce precipitate. Sodium ion which replaces calcium ion does not react with other ions and does not produce scales in the water. The precipitates can be removed by using a sedimentation chest, but because the sedimentation chest requires an extra device for neutralizing, a floating method is appropriate. Carbon dioxide which replaces air can remove calcium carbonate and control the concentration of hydrogen ions.
Patent KR-19990063274-A (KR)
Title: 고압 고속 절단 팁노즐
IPC: F23D14/52
Filed: 1998-12-21
Abstract: 본 발명은 고압고속절단팁노즐에 관한 것으로, 이 고압고속절단팁노즐은 선단면에 절단산소분출홀(2b)을 구비하고, 이 절단산소분출홀(2b)을 중심으로 하여 그 내부로부터 같은 중심으로 제 1 산소분출홀그룹(7a), 제 1 연료가스분출홀그룹(8c), 제 2 연료가스분출홀그룹(8a), 그리고 산소분출오프닝(9a)을 구비하며, 스틸은 절단산소분출홀(2b)에서 분출되는 고압의 가스 플로우에 의해서 절단된다.  특히, 산소분출오프닝(9a)에 이르는 유로(9)에서 분기되는 유로들(9b와 9c)의 선단이, 상기 선단면으로부터 10mm 이내의 지점에서, 제 1 및 제 2 연료가스분출홀그룹(8c와 8a)에 이르는 유로(8과 8b)의 측면 상에 개구된 것이 특징이다.  본 발명에 의하면, 높은 효율을 가지면서 안전하게 스틸의 가스절단을 수행할 수 있다.
Patent KR-20000042622-A (KR)
Title: Process for producing polyester and its composition
Inventor: KANG HYE JUNG
IPC: C08G63/78
Filed: 1998-12-26
Abstract: PURPOSE: A process for producing a polyester having high molecular weight and excellent biodegradability using a composite catalyst is provided which improves reaction velocity and promotes productivity. CONSTITUTION: A process comprises the esterification and polycondensation of carboxylic acids comprising aliphatic dicarboxylic acid containing 2 to 14 carbon atoms or its derivatives, aromatic or aliphatic carboxylic acid or its derivatives with glycols in the presence of a composite catalyst comprising a titanium compound, a zinc compound, antimony compound, and phosphorous compound. The polyester prepared by the process is excellent in biodegradability and thermal and mechanical properties.
Patent KR-19990030424-A (KR)
Title: 불규칙한 구김을 형성하는 섬유원단의 제조방법 및 그 장치
IPC: D06J1/00
Filed: 1998-12-29
Abstract: 본 발명은 섬유원단에 불규칙한 구김을 형성하도록 하여 미적 감각을 갖는 제품을 생산하게 되는 불규칙한 구김을 형성하는 섬유원단의 제조방법 및 그 장치에 관한 것이다. 
     이러한 본 발명은 섬유원단을 이송공급하되 섬유원단의 이송량에  비해 공급량을 과다하게 하므로 과다하게 공급되는 섬유원단이 전후방향으로 절첩되게 포개지게 하고, 이를 계속적으로 이송하면서 폭방향으로 절첩되게 안내하여서 길이방향과 폭방향으로 절첩되게 포개지는 부위로 불규칙한 구김을 형성하는데 그 특징이 있다.
Patent KR-20000045418-A (KR)
Title: Method for manufacturing semiconductor device
Inventor: PARK JIN YO
IPC: H01L21/8242
Filed: 1998-12-30
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a semiconductor device is provided to improve the reliance and features of the semiconductor device by reducing a current leakage at a junction portion. CONSTITUTION: A gate electrode(16) formed with a nitride layer(20) is provided on a semiconductor substrate(10). A metal circuit contact is formed in an active area of the semiconductor substrate(10). The nitride layer(20) formed on the upper portion of the gate electrode(16) is firstly removed and an insulating layer(14) is secondly removed so that a metal circuit contact hole(40a) is formed. When an etching process is carried out for forming an other metal circuit contact hole, an etching stop or over etching cannot occur in a periphery area of the semiconductor substrate(10).
Patent KR-19990044278-A (KR)
Title: 오염부착 방지제 및 도료용 조성물
IPC: C09D7/65
Filed: 1996-09-04
Abstract: 대기 중의 오물이나 빗물오물이 부착, 퇴적하지 않는 오염부착 방지성이 현저하게 탁월한 도막을 형성할 수 있는 도료용 조성물; 및 상기 조성물이 배합된 오염부착 방지제.     상기 저해제는 화학식 X b M(OR 1 ) a R 2   c 의  유기금속 및 그의 올리고머, 또는 둘 이상의 유기금속 화합물을 함유하는 코올리고머를 함유하며, 단 화학식 2 의 화합물을 함유하는 것은 제외된다.     도료물질 조성물은 상기 저해제, 도료 수지 및 경화제 및/또는 촉매를 함유한다. 
     [화학식 2]
Patent KR-19990064177-A (KR)
Title: 임플란트와 접합부간의 연결구조
IPC: A61C8/00
Filed: 1996-10-11
Abstract: 임플란트 (1) 와 직선 또는 각진 접합부 (800) 간의 연결구조는 체결나사 (400) 와 확장링 (500) 을 사용하여 제조될 수 있다.  접합부 (800) 에는 입구 (830) 가 제공되고, 접합부 (800) 의 하단부 근처에서는 상기 입구 (830) 가 방사원형홈 (835) 을 통해 넓어진다.  체결나사 (400) 가 통과하는 상기 확장링 (500) 은 홈 (835) 내에서 지지되고, 체결나사 (400) 의 헤드 (410) 는 상기 확장링 (500) 상에서 가압하며, 그 나사산부 (430) 는 임플란트 (1) 의 나사산 보어 (21) 내에 맞물린다.  체결나사 (400) 는 확장링 (500) 이 눌러지고 헤드 (410) 가 앞으로 함과 동시에 아래에서 입구 (830) 쪽으로 눌러질 수 있다.  임플란트 (1) 는 내부 콘, 주로 내부 다각형상의 비회전형의 대칭 수용 형상을 가지고, 접합부 (800) 는 수용 형상에 상보적인 역형상을 바람직하게 가진다.  특별 스크류 드라이버가 체결용으로 사용된다.
Patent KR-19990067416-A (KR)
IPC: H01M6/06
Filed: 1996-11-08
Abstract: Paper for use as a separator in an electrochemical cell completely absorbs a 50 mul drop of water placed thereon in a time of not less than four minutes and not greater than fifteen minutes at 20° C. and provides an improve cell having less leakage and corrosive, especially in a mercury-free cell.
Patent KR-19990067443-A (KR)
Title: 옥시메톡시-3-아릴-피론 유도체
IPC: C07D309/36
Filed: 1996-11-18
Abstract: 본 발명은 일반식(I) 의 신규의 옥시메톡시-3-아릴-피론 유도체에 관한 것이다: 
     
       
     
     상기 식에서, 
     A, D, R 1 , R 2 , X, Y, Z 및 n은 명세서에 정의된 의미를 갖는다. 
     본 발명은 또한 그들의 제조 방법 및 농약, 살진균제 및 제초제로서의 용도에 관한 것이다.
Patent KR-19990081891-A (KR)
IPC: C07D/
Filed: 1997-01-22
Abstract: Single isomer methylphenidate, selected from the d- and l-threo-enantiomers, has been obtained in purified form, to the extent of less than 2 % by weight of a contaminant selected from resolving agent and ritalinic acid. This is achieved by resolution of a mixture of enantiomers using an 0,0'-diaroyltartaric acid as resolving agent.
Patent KR-19990067814-A (KR)
Title: 음식쓰레기 처리장치
Filed: 1999-01-09
Abstract: 본 발명은 음식 쓰레기의 분쇄와 탈수 및 열풍건조에 의한 부피최소화 및 이에 따른 수거폐기의 편의성, 완벽한 소취작용에 의한 음식쓰레기 처리장 주변의 악취공해를 해소하기 위한 음식쓰레기 처리장치를 제공하기 위한 것으로서, 투입 호퍼(33)가 딸리고 회전칼(5)이 내장된 분쇄기(1)에 이어 익차(7)가 내장된 탈수기(2)를 설치하고, 탈수기(2)에 이어서는 익차(71)가 내장된 건조기(3)를 설치하며, 상기 회전칼(5)과 익차(7)는 벨트나 체인으로 모터(9)에 동력적으로 연결하고, 건조기(3)에는 건조용 열풍을 도입하기 위한 열풍기(18)를 설치하며, 건조기(3)의 배기구에는 살수정화기(4a)와 탈취기(4b)로 조합된 소취장치(4)를 배기관(17)으로 연결하며, 건조기(3)의 익차(71)와 열풍기(18)의 송풍팬 그리고 살수정화기(4a)의 회전익차(43)는 체인 또는 벨트를 이용하여 모터(23)에 동력적으로 연결한 것이다.
Patent KR-20000051441-A (KR)
Inventor: CHOI SU SUK
IPC: H01M4/02
Filed: 1999-01-22
Abstract: PURPOSE: An electrode substrate for secondary battery is provided to enhance the effects of activation materials and to reduce the weight of a battery so as to be properly used for secondary battery. CONSTITUTION: An electrode substrate for secondary battery includes the following steps. A primary electrode produces paste by mixing metal oxide materials such as activation material, settlement material, and conductive material. The mixed metal oxide materials are charged and roll pressed so as to be made in proper size. A secondary electrode produces paste by mixing hydrogen alloys such as activation materials, settlement material, conductive material. The mixed hydrogen alloys are charged and roll pressed so as to be made in proper size. An electrode substrate is made in the form of thin sheets by mixing fiber made from synthetic resin and conductive material so as to enhance the capability of activation materials and to reduce the weigh of a battery. The device enables users to reduce the weight of a battery by 30% by using fiber made from synthetic resin instead of metal material.
Patent KR-20000051769-A (KR)
Inventor: LIM JU EUNG
IPC: H04B1/40
Filed: 1999-01-26
Abstract: PURPOSE: A mobile communication terminal is provided to improve the convenience of use in case of tracking the location of a terminal and to minimize the power consumption of a battery. CONSTITUTION: A location tracking control part(281) is composed of a clock generator(311) and a microprocessor(310). The clock generator(311) counting an execution time of a location tracking function generates a clock to synchronize a signal in case of carrying out data communication with a terminal main body. The micro processor(310) controls the process of the terminal location tracking function.
Patent KR-19990072579-A (KR)
Title: 지관라이닝재및지관라이닝공법
IPC: B29K105/08
Filed: 1999-02-11
Abstract: 본 발명은, 만곡부를 보유하는 지관에서도, 지관을 확실하게 라이닝할 수 있는 지관라이닝재를 제공하는 것을 목적으로 한다. 
     한 쪽 끝에 플랜지부(1A)를 보유하고, 외표면이 기밀성이 높은 필름(6)으로 피복된 관형상 수지흡착재(2)에 미경화의 경화성 수지를 함침시켜 구성되는 지관라이닝재(1)에 있어서, 상기 플랜지부(1A)에 분리튜브(8)를 부착한다. 
     본 발명에 의하면, 분리튜브(8)가 지관라이닝재(1)의 이미 경화된 플랜지부(1A)에 부착되어 있기 때문에, 만곡부를 보유하는 지관(31) 내로 지관라이닝재(1)가 높은 유체압에 의해 반전삽입되어도, 또, 열매체나 열경화성 수지의 경화발열에 의해 지관라이닝재(1)의 필름(6)이 가열되어 연화되어도, 분리튜브(8)가 떨어지거나 절단되지 않고, 만곡부를 보유하는 지관(31)에서도, 지관라이닝재(1)를 이용하여 지관을 확실하게 라이닝하여 보수할 수가 있다.
Patent KR-19990046420-A (KR)
IPC: C04B35/26
Filed: 1999-03-10
Abstract: 본 발명은 자착성 고무-아스팔트계 방음, 방진재에 관한것으로서, 상세히 설명하면, 차량이나 산업 기기 등에서 발생하는 소음과 진동을 줄이기 위한 자착성 고무-아스팔트계 방음,방진재 및 그 제조방법에 관한 것이다. 
     합성고무 2∼10중량%, 훼라이트(자철광분말)50∼65중량%, 탄산칼슘 10∼20중량%, 아스팔트(Blown Asphalt) 15∼25중량%, 운모(mica) 5∼15중량%, 화이버 2∼5중량%, 가황조제 1∼2중량%, 경화제 0.1∼0.5중량%의 조성비로 상기 조성성분을 칭량한 다음, 혼합기에서 상기조성물질을 70∼120℃의 범위에서 5분 이내로 충분히 교반한 후, 카렌다 롤(온도 65∼100℃)을 사용하여 두께 1∼6mm로 시트성형한 다음, 제조된 시트는 컨베어에 의해 이동되어 엠보싱공정으로 보내져서 온도는 약 50∼80℃정도에서 엠보싱이 되는데 그 엠보싱 무늬의 결부분이 계속해서 연결되는 부분이 서로 일치되지 않는 특이한 형상(도 2를 참고)을 하고 있으며, 상기 엠보싱 공정을 통과한 시트는 연속된 컨베어에 의해 냉각이 되면서 온도는 50℃이하에서 드럼형의 착자기계로서 연속적으로 시트내의 자철광이 300가우스이내의 자력을 갖도록 착자시키고, 상기 착자공정을 통과한 시트는 계속되는 컨베어에 의해 카렌다형의 접착제 도포공정을 거치는데 접착제 도포기의 작업 온도는 약 150∼180℃ 범위이다. 핫멜트 도포를 한 다음, 상기 공정을 통과한 시트는 형상타발 공정을 통과한 후, 통상의 방법으로 포장하는 공정들로 구성됨을 특징으로 하는 차량 및 산업용 자착성 고무-아스팔트계 방음 방진재 및 그의 제조방법.
Patent KR-20000067614-A (KR)
Inventor: JUNG GI SANG
IPC: H01L21/306
Filed: 1999-04-30
Abstract: PURPOSE: An etching equipment for manufacturing a semiconductor device is provided to eliminate a partial stack of polymer and to prevent a particle from being generated from a shortage of thermal conduction of quartz parts. CONSTITUTION: An etching equipment for manufacturing a semiconductor device comprises an additional heat transfer material for heating parts of a quartz material facing an inner side of a process chamber(1). The additional heat transfer material is heated to heat the parts of a quartz material. And, the heat transfer material is a liquid material of which specific heat is higher than one, and is disposed in the manner that the material fills up a space formed inside the part of the quartz material.
Patent KR-20000073970-A (KR)
Inventor: KIM YEONG GWANG
IPC: H01L21/334
Filed: 1999-05-17
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a semiconductor device for reducing a charge impact generated by a plasma etching process is provided to improve a loading effect and to reduce a Fowler-Nordheim tunneling current or direct tunneling current generated in a main gate, by forming a sub gate on both sides of the main gate to have charges penetrate an insulating layer in a plasma etching process. CONSTITUTION: A main gate pattern is formed on a semiconductor substrate by a plasma etching method. A sub gate pattern is formed on both sides of the main gate pattern so that the quantity of charges generated by plasma in an etch process passing through an insulating layer of the main gate pattern is reduced.
Patent KR-20000074835-A (KR)
Inventor: LEE YEONG JU
IPC: G11B7/135
Filed: 1999-05-26
Abstract: PURPOSE: A micro-mirror device and an optical pick-up apparatus are to combine beam positioning function with detection function of an optical signal, thereby reducing the numbers of parts of optical system and simplifying structure thereof, and to improve positioning accuracy of an incident beam. CONSTITUTION: A micro-mirror device comprises: a mirror drive unit(3,5) of a prescribed shape formed on a substrate(1); a beam splitting mirror unit(6,4) being moved up and down in balance by the mirror drive unit for fine positioning the incident beam to reflect it and for transmitting a part of the beam; and a photodetector(7) arranged below the beam splitting mirror unit for detecting the beam transmitted through the beam splitting mirror unit. An optical pick-up apparatus comprises: a light source module generating the beam; a first and a second focusing unit for focusing the beam generated from the light source module onto a surface of an optical record carrier; and the micro-mirror device arranged between the first and the second focusing unit.
Patent KR-20000074950-A (KR)
Inventor: KIM YANG GYU
IPC: F24F11/02
Filed: 1999-05-27
Abstract: PURPOSE: An operation algorithm is provided to improve response speed of a heat pump for a temperature set by users. CONSTITUTION: An algorithm is characterized in that a compressor is operated at a frequency corresponding to a temperature set by a user during an initial operation of the pump, and the degree of opening of an expansion valve is controlled by a time obtained by dividing the total time taken for reaching a suitable degree of opening according to a preset frequency matched to the temperature set by the user, by a minimum time for maintaining the degree of opening sufficient to prevent a liquid refrigerator from entering the compressor. The degree of opening of the expansion valve is controlled stepwise, so that the degree reaches a final set degree of opening corresponding to a preset frequency.
Patent KR-19990068617-A (KR)
Title: 전자식안정기의출력결선장치및방법
IPC: H05B41/16
Filed: 1999-06-07
Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야 
     본 발명은 전자식 안정기의 출력 결선 장치 및 방법에 관한 것임. 
     2. 발명이 해결하고자하는 과제 
     본 발명은 2등용 형광등에 연결되는 전선의 배선 상태에 관계없이 형광등이 정상적으로 점등되도록 하므로써, 형광등의 배선에 사용되는 전선을 단일색으로 사용할 수 있고, 기존의 오배선에 의해 발생되던 형광등이나 전자식 안정기의 파손을 방지할 수 있는 전자식 안정기의 출력 결선 장치 및 방법을 제공하는데 그 목적이 있다. 
     3. 발명의 해결방법의 요지 
     본 발명은, 입력되는 전류를 제 1 및 제 2 램프의 좌측 필라멘트로 인가하는 트랜스; 제 1 램프의 좌측 필라멘트와 제 2 램프의 좌측 필라멘트 사이에 직렬 연결되고, 제 1 램프의 우측 필라멘트와 제 2 램프의 우측 필라멘트에 공통 연결된 제 1 및 제 2 커패시터; 및 제 1 램프의 우측 필라멘트와 제 2 램프의 우측 필라멘트 사이에 연결된 출력노드를 포함한다. 
     4. 발명의 중요한 용도 
     본 발명은 2등용 형광등에 이용됨.
Patent KR-20000028588-A (KR)
Inventor: MATSUMIYA MASHATO
IPC: G11C11/409
Filed: 1999-06-08
Abstract: PURPOSE: A memory device for performing recording at high speed is provided to quickly perform a recording to a memory cell by a driving voltage of a bit line by performing a recording of a voltage with a hight level from a bit line to a memory cell. CONSTITUTION: Memory cells(MC0, MC1) have transistors(Q0, Q1) and a capacitor(ST), and are arranged between a crossing position of bit lines(BL,/BL) and word lines(WL0,WL1). A sense amplifier(SA) has P-type transistors(P1-P3) and N-type transistors(N1-N3), and is operated by bit lines(BL,/BL). An equalizing circuit(200) is installed to bit lines(BL,/BL). The equalizing circuit(200) responds to a reset signal(BLR) and shorts between bit lines(BL,/BL). A precharge circuit(100) is installed to bit lines(BL,/BL). The precharge circuit(100) responds to the reset signal(BLR) and sets bit lines(BL,/BL) as a precharge voltage(VPR). A bit line transfer gates(N10,N11) are installed between bit lines(BL,/BL). A recording circuit(300) is installed to data bus lines(DB,/DB). Dummy memory cells(DMC0,DMC1) are set to bit lines(BL,/BL).
Patent KR-19990068658-A (KR)
Title: 선박용추진장치
Filed: 1999-06-09
Abstract: 본 발명은 선박용 추진장치에 관한 것으로서, 변속기의 정·역회전의 변환이 신속히 이루어질 뿐 아니라 소음의 발생이 거의 없고, 또 추진장치본체에 있어서의 수질오염의 우려가 없음은 물론 스크류축과 시일 사이로 이물질이 파고드는 현상을 적극적으로 방지할 수 있는 선박용 추진장치를 제공하고자 하는 것을 과제로 한다. 
     본 발명에 따른 선박용 추진장치에 있어서의 변속기는, 일측에 커플링이 축설치되며 케이싱으로부터 제 1축지지구에 의해 회전가능하게 축지지된 입력축과, 상기 커플링에 연결 설치되며 단차진 외측둘레에 각각 제 1기어와 제 2기어가 형성되고, 제 2기어 외측에 오일 유입공이 다수개 형성된 구동부와, 상기 제 2기어에 치합되도록 내측둘레에 톱니가 형성된 제 1마찰판과, 제 1마찰판의 각각 사이에 설치되며 외측둘레에 톱니가 형성된 제 2마찰판과, 상기 톱니부분이 치합되도록 내측둘레에 제 1암기어가 형성되고 그 외측으로 오일을 유출시키는 유출공이 형성되며, 일측 외측둘레에 제 3기어가 형성된 제 1종동부와, 상기 제 1종동부의 내측 축방향에 설치되어 마찰판을 압착시키기 위한 제 1피스톤과, 상기 제 1종동부 내측에 고정 설치되어 마찰판 일측을 지지하는 제 1지지구와, 피스톤의 외측단에 그 일단이 탄력적으로 설치되며 타측 일단은 제 1종동부 외측둘레에 고정 설치되는 제 1토션스프링과, 상기 제 1종동부에 관통 설치되며 일측은 상기 구동부의 중심에 축 지지되고 일측은 케이싱에 설치되는 제 2축지지구에 관통 설치되며 그 일단은 타축과 연결 설치되기 위한 커플링이 축 설치되며 내측에 제 1오일송출공이 분기되게 형성된 출력축과, 상기 제 1종동부의 제 3기어에 치합되어 연동될 수 있도록 단차진 외측둘레에 제 4기어와 제 5기어가 형성되고 제 5기어 외측에 오일 유입공이 다수개 형성된 피동부와, 상기 제 5기어에 치합되도록 내측둘레에 톱니가 형성된 제 3마찰판과, 제 3마찰판의 각각 사이에 설치되며 외측둘레에 톱니가 형성된 제 4마찰판과, 상기 톱니부분이 치합되도록 내측둘레에 제 2암기어가 형성되고 그 외측으로 오일을 유출시키는 유출공이 형성되며 일측 외측둘레에 제 6기어가 형성된 제 2종동부와, 상기 제 2종동부의 내측 축방향에 설치되어 마찰판을 압착시키기 위한 제 2피스톤과, 상기 제 2종동부 내측에 고정 설치되어 마찰판 일측을 지지하는 제 2지지구와, 제 2피스톤의 외측단에 그 일단이 탄력적으로 설치되며 타측 일단은 제 2종동부 외측둘레에 고정 설치되는 제 2토션스프링과, 상기 제 2종동부에 관통 설치되며 일측은 상기 피동부의 중심에 축 지지되고 일측은 케이싱에 설치되는 제 3축지지구에 관통 설치되며 내측에 제 2오일송출공이 분기되게 형성된 종동축과, 상기 제 2종동부의 제 6기어와 상기 구동부의 제 1기어에 치합되는 아이들 기어와, 상기 종동축 일단에 설치되어 케이싱을 통해 유입되는 오일을 펌핑하여 상기 출력축 및 종동축에 오일을 압송하기 위한 기어펌프로 된 것을 특징으로 한다. 
     본 발명에 따른 선박용 추진장치에 있어서의 추진장치본체는, 버틸컬하우징의 하측 가까이에 스크류축하우징이 구비되고 이 스크류축하우징 내에 상기 변속기를 통해 전달되는 회동력에 의해 회전하는 스크류축이 베어링에 의해 회동 가능하게 결합되어 있음과 함께 스크류축하우징의 후방으로 노출된 스크류축의 선단에는 스크류고정링에 의해 스크류가 고정된 것에 있어서, 상기 베어링의 외주에는 축방향으로 통기구멍이 형성된 베어링하우징을 결합하고 이 베어링하우징에는 내측에 시일을 구비하고 있고 축방향으로 상기 통기구멍과 연통되는 통기구멍을 갖는 시일커버를 결합하며 또 상기 스크류에는 축방향으로 다수의 통기구멍을 형성함과 함께 상기 베어링하우징에 형성된 통기구멍에는 길이방향의 일단이 버티컬하우징의 상부로 향하는 공기관의 타단측을 연결하여, 상기 공기관과 통기구멍을 통하여 유입되는 공기를 스크류의 후방으로 배출시키는 것에 의해 스크류의 후방에 형성되는 진공공간을 상쇄하도록 한 것을 특징으로 한다. 
     바람직하게는, 상기 시일커버에는 축방향으로 커터를 설치하되 이 커터의 날이 원주방향의 외측을 향하도록 하여, 상기 시일커버와 스크류 사이의 스크류축으로 감겨드는 이물질이 상기 커터에 의해 절단되어 제거되도록 한다.
Patent KR-20010003851-A (KR)
Inventor: JI JANG YONG
IPC: A01K95/00
Filed: 1999-06-25
Abstract: PURPOSE: A weight for fishing enables to easily and rapidly replace a fish hook connected to the weight with a new one and adjust the distance between the hook and the weight. CONSTITUTION: The weight(3) having a groove(30) in its center receives a connection member(6) having connective rings(60,61) at both ends, the connection member(6) being in the form of a pipe to have a screw nut portion(63) on the inner pipe wall of the lower part and a bolt portion(62) attached to the lower ring(61) to screw fit in the nut portion(63), and the upper connective ring(61) being connected screwingly to the connection member(6).
Patent KR-20010004046-A (KR)
Inventor: JUNG SEUNG JO
IPC: H01L21/34
Filed: 1999-06-28
Abstract: PURPOSE: A method for fabricating an SOI substrate is to obtain a semiconductor layer having a uniform thickness without generating a dishing phenomenon in which a surface of the semiconductor layer is depressed. CONSTITUTION: The method comprises the steps of: preparing a semiconductor substrate of a bulk silicon; depositing an oxide layer and a nitride layer(13) orderly on the first surface of the semiconductor substrate; patterning the nitride layer and the oxide layer to expose an active region of the semiconductor substrate; growing a silicon epitaxial layer(14) having the same height with an upper surface of the oxide layer on the exposed active region of the semiconductor substrate; depositing a buried oxide layer(15) on the silicon epitaxial layer and the oxide layer; junctioning a base substrate(16) on the buried oxide layer; and polishing the second surface of the semiconductor substrate oppositely facing with the first surface of the semiconductor substrate using a chemical and mechanical polishing with the nitride layer as a polishing stop layer until the silicon epitaxial layer is exposed.
Patent KR-20010004350-A (KR)
Inventor: KIM GEON SEOK
IPC: B41M5/00
Filed: 1999-06-28
Abstract: PURPOSE: A preparation method of improved sublimation thermal transcription ribbon is disclosed to solve known troubles such as poor appearance by providing the transcription ribbon to achieve good quality of printing images. CONSTITUTION: A method for preparing a thermal transcription ribbon with improved sublimation property comprises to blend both binders having different glass transition temperatures(Tg) and viscosities(eta) to form a dye layer. The glass transition temperature and the viscosity are preferably 90-120 deg.C and 400cps-1000cps, respectively, and are controlled simultaneously by blending at least two different resins. With a solvent such as methylethylketone or toluene, the sublimating dye, the binder resin and other additives such as a releasing agent dissolve into an ink solution to form a dye layer.
Patent KR-20000011344-A (KR)
Inventor: BRILKER ARENOYAN
IPC: G03F1/14
Filed: 1999-06-29
Abstract: PURPOSE: A lithographic projection apparatus, device manufacturing method using the lithographic projection apparatus and device manufactured by the method is provided, which illuminates a mask and an image of the mask using an ultraviolet light. CONSTITUTION: The lithographic projection apparatus comprises: a radiometer (LA, Ex, IN, CO) for providing a radiation projecting beam (PB) such as an ultraviolet rays; a first object table (mask table) (MT) to be coupled to a first position determining means for accurately determining a position of a mask related to a components; a second object table (substrate table)(WT) to be coupled to a second position determining means for determining a position of a substrate related to a components (PL); and a projector (lens) for performing a frost deposit of a radiation portion of the mask (MA) on a target portion of the substrate (W). Thereby, it is possible to arrange a pseudo unipolar field as a needed reduction ratio.
Patent KR-20010005164-A (KR)
Inventor: YANG CHEOL HO
IPC: B60T1/04
Filed: 1999-06-30
Abstract: PURPOSE: A structure for preventing a backward invasion of a brake pedal for a car prevents the brake pedal from moving backward on a front collision or an offset collision of a car, thereby minimizing an injury of a driver. CONSTITUTION: At least one of pedal back down stopper(18) is more mounted between a pedal support portion(6) and a T-bar(10) and prevents a brake pedal(8) from invading backward. One end of the pedal back down stopper(18) is welded and fixed on the T-bar(10) and the other end of the pedal back down stopper(18) is fixed on the pedal support portion(6) with a bolt. The pedal back down stopper(18) assumes the shape of 'L' and is firmly fixed on the T-bar(10). Therefore, the pedal support portion(6) and the back down stopper(18) are not pushed backward by the T-bar(10), any more on a front collision or an offset collision of a car.
Patent KR-20010005240-A (KR)
Inventor: CHOI HONG BOK
IPC: C02F1/00
Filed: 1999-06-30
Abstract: PURPOSE: Pre-treatment method of wastewater/sewage using a rotating body and equipment thereof are provided to improve efficiency of post biological treatment by destruction of sludge. The method is characterized in that wastewater/sewage is injected into the rotating body for destruction of sludge by a wall. CONSTITUTION: The equipment consists of an exterior body (1) having many clash plates; an axis (2) installed in the exterior body (1); one or more rotating plates (31) equipped with the axis (2); a separation tank (6), installed at the lower part of the exterior (1), having a treated wastewater outlet (61) and a solid outlet (62); an opening (5), installed at between the exterior body (1) and the separation tank (6), for discharge of stripped gas; a clash projection (113) installed at the lower part of a cover plate (11) of the exterior body (1); and polygonal levee installed above the rotation plate (3, 31) for improve clash efficiency.
Patent KR-20010005265-A (KR)
Inventor: KIM JEONG HO
IPC: H01L21/3205
Filed: 1999-06-30
Abstract: PURPOSE: A method for forming a contact of a semiconductor device is provided to reduce a contact resistance by forming a Ti salicide between a Ti and a poly or a silicon substrate. CONSTITUTION: A field oxide layer(22), a word line(23), and a nitride layer spacer are formed on a semiconductor substrate(21). A poly barrier is formed on the whole structure. A contact pad is formed thereon. A Ti metal layer is formed on the whole structure. The Ti metal layer is formed as a Ti salicide(29) by performing an annealing process. The exposed Ti metal layer is removed by performing a wet etching process. An interlayer dielectric is deposited on the whole structure. A contact hole mask is formed on the oxide layer. A contact hole is formed by etching the exposed interlayer dielectric(30).