baber/WOPTO huggingface dataset:
Patent DE-102013111020-B4 (DE)
Title: Halbleitervorrichtung und Herstellungsverfahren davon
Inventor: PARK BYUNG GOOK
IPC: H01L29/775
Filed: 2013-10-04
Granted: 2023-12-28
Abstract: Halbleitervorrichtung, aufweisend:ein Substrat (100), das eine erste Region (I) und eine zweite Region (II), die lateral in einer ersten Richtung (X) voneinander getrennt sind, enthält;eine Struktur (215; 315) in einer zweiten Richtung (Z), senkrecht zur ersten Richtung (X) auf dem Substrat (100), wobei die Struktur (215; 315) wenigstens eine Opferschicht (211; 311) und wenigstens eine aktive Schicht (212; 312) in der zweiten Richtung (Z) auf der Opferschicht (211; 311) bei einem ersten Niveau in der zweiten Region (II) aufweist, wobei die Opferschicht (211; 311) aus einem anderen Material gebildet ist als die aktive Schicht (212; 312);eine erste Gate-All-Around-Vorrichtung (101), die einen ersten Nanodraht (119) in der ersten Region (I) enthält; undeine zweite Gate-All-Around-Vorrichtung (102), die einen zweiten Nanodraht (219) in der zweiten Region (II) enthält, wobei der erste Nanodraht (119) im Wesentlichen auf dem ersten Niveau liegt, und wobei der zweite Nanodraht (219) auf einem zweiten Niveau liegt, das unterschiedlich zu dem ersten Niveau des ersten Nanodrahts (119) ist und in der zweiten Richtung (Z) auf der Struktur (215; 315) angeordnet ist.
Patent DE-102013210942-B4 (DE)
Title: Substrat zur Lichtextraktion für eine organische lichtemittierende Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung des Substrats
Inventor: PARK JUNE HYOUNG
IPC: H01L51/56
Filed: 2013-06-12
Granted: 2022-01-20
Abstract: Substrat zur Lichtextraktion für eine organische lichtemittierende Vorrichtung, aufweisend einen Oxid- oder Nitriddünnfilm (100), der auf einem Substratkörper (11) ausgebildet ist, wobei der Oxid- oder Nitriddünnfilm (100) aufweist:eine Basisschicht (110), die auf dem Substratkörper (11) ausgebildet ist;eine erste Textur (120), die auf der Basisschicht (110) ausgebildet ist, wobei die erste Textur (120) eine Vielzahl erster Vorsprünge (121) aufweist, die aus der Basisschicht (120) vorragen; undeine zweite Textur (130), die eine Vielzahl zweiter Vorsprünge (131) aufweist, die aus jeder Außenfläche der ersten Vorsprünge (121) vorragen, wobeieine Dicke (a1) der Basisschicht (110) 25% oder weniger einer Dicke der ersten Textur (120) beträgt, wobei die Dicke der ersten Textur (120) mit einer Höhe (b1) des höchsten Vorsprungs der Vielzahl der ersten Vorsprünge (121) übereinstimmt,und wobei die Kristallstruktur der Basisschicht (110) dichter als die Kristallstruktur der ersten Textur (120) ist, sodass die Basisschicht (110) weniger Leerstellen in der Basisschicht (110) aufweist als die erste Textur (120).
Patent DE-102014109883-B4 (DE)
Title: Umformeinrichtung zum Umformen und nachfolgenden Presshärten eines Blechzuschnitts oder eines vorgeformten Halbzeugs aus Stahl sowie damit hergestelltes Stahlwerkstück
Inventor: BECK MANFRED
IPC: B21D37/00
Filed: 2014-07-15
Granted: 2023-05-04
Abstract: Umformeinrichtung (1) zum Umformen und nachfolgenden Presshärten eines Blechzuschnitts oder eines vorgeformten Halbzeugs aus Stahl, wobei die Umformeinrichtung (1) eine Warmumform- und Presshärtungsvorrichtung (2) mit einem gegenüber einem unteren Werkzeug bewegbaren oberen Werkzeug umfasst, und derart ausgebildet ist, dass der Blechzuschnitt oder das vorgeformte Halbzeug in der Umformeinrichtung (1) zu einem Blechformteil umgeformt wird,wobei vorgesehen ist,dass die Umformeinrichtung (1) weitere Bearbeitungsvorrichtungen mit einem gegenüber einem unteren Werkzeug bewegbaren oberen Werkzeug und Transportvorrichtungen (7) umfasst, die zwischen benachbarten weiteren Bearbeitungsvorrichtungen oder zwischen einer der Warmumform- und Presshärtungsvorrichtung (2) benachbarten weiteren Bearbeitungsvorrichtung und der Warmumform- und Presshärtungsvorrichtung (2) angeordnet sind,dass die Umformeinrichtung (1) ein Oberteil und ein Unterteil aufweist,zwischen denen die Warmumform- und Presshärtungsvorrichtung (2), die weiteren Bearbeitungsvorrichtungen und die Transportvorrichtungen (7) angeordnet sind, unddass zwischen den oberen Werkzeugen der Warmumform- und Presshärtungsvorrichtung (2) und der weiteren Bearbeitungsvorrichtungen Antriebseinrichtungen (10) angeordnet sind, die an dem Oberteil der Umformeinrichtung (1) abgestützt sind, dadurch gekennzeichnet,dass die weiteren Bearbeitungsvorrichtungen eine erste Erwärmungsvorrichtung (61), eine Umformvorrichtung (3), eine Kalibriervorrichtung (4), mindestens eine Rollvorrichtung (51, 52, 53) und eine zweite Erwärmungsvorrichtung (62) umfassen, die stromaufwärts vor der Warmumform- und Presshärtungsvorrichtung (2) angeordnet sind, unddass die Warmumform- und Presshärtungsvorrichtung (2) und die weiteren Bearbeitungsvorrichtungen in einem wannenförmigen Schutzgasbehälter (8) angeordnet sind.
Patent DE-102014111016-B4 (DE)
Title: Anordnung von Stomabeutel und PEG-Sonde
Inventor: THOMASON KARL A
IPC: A61M31/00
Filed: 2014-08-04
Granted: 2021-09-30
Abstract: System (10) für eine Person, die eine perkutane endoskopische Gastrostomie-Sonde, PEG-Sonde (70), und ein Ösophagusstoma (60) hat, wobei das System aufweist:einen Stomabeutel (12), der eine Einlassöffnung bildet, die mit dem Ösophagusstoma (60) verbunden ist, und eine Auslassöffnung, die mit einem Ende eines Verbindungsschlauchs (30) verbunden ist, wobei ein entgegengesetztes Ende des Verbindungsschlauchs (30) mit der PEG-Sonde (70) verbunden ist, sodass, wenn die Person Stoffe über den Mund aufnimmt, die Stoffe aus dem Stoma (60) durch den Stomabeutel (12), den Verbindungsschlauch (30) und die PEG-Sonde (70) hindurch und in den Magen fließen.
Patent DE-102014114293-B4 (DE)
Title: Witterungsbeständige und transparente Schmelzfarben für die Glasmalerei, ihre Verwendung und Verfahren der Glasmalerei
Inventor: SENESCHAL-MERZ KARINE
IPC: C03C8/10
Filed: 2014-10-01
Granted: 2017-01-26
Abstract: Schmelzfarbe, umfassend ein feinkörniges Blei-Zink-Borosilikatglas, umfassend: – einen Gehalt an B2O3 in Gew.-% von 2 ≤ Gehalt B2O3 ≤ 15, – einen Gehalt an ZnO in Gew.-% von 3,5 ≤ Gehalt ZnO ≤ 30, – einen Gehalt an PbO in Gew.-% von 0,1 ≤ Gehalt PbO ≤ 55, – einen Gehalt an Al2O3 – in Gew.-% von 0,1 ≤ Gehalt Al2O3 ≤ 5, – einen summarischen Gehalt an Alkalioxid, ausgewählt unter Na2O, K2O und Li2O, in Gew.-% von 0,1 ≤ summarischer Gehalt Alkalioxid ≤ 20, – einen summarischen Gehalt an Erdalkalioxid, ausgewählt unter BaO, CaO und MgO, in Gew.-% von 0,1 ≤ summarischer Gehalt Erdalkalioxid ≤ 20, und einen Farbträger; wobei eine Summe aller Gehalte mit SiO2 auf 100 Gew.-% balanciert ist und ein Gehalt von SiO2 in den Grenzen von 10 Gew.-% bis 70 Gew.-% liegt und zumindest 97 % von Partikeln des feinkörnigen Blei-Zink-Borosilikatglases eine mittlere Partikelgröße ≤ 100µm aufweisen.
Patent DE-102014114932-B4 (DE)
Title: Verfahren zum Ausbilden einer gedünnten, gekapselten Chip- oder Halbleiterstruktur mit Dünnung nach Häusung unter Verwendung von Trennstruktur als Stopp
Inventor: EDER HANNES
IPC: H01L21/60
Filed: 2014-10-15
Granted: 2017-08-17
Abstract: Verfahren zum Ausbilden einer gedünnten, gekapselten Chipstruktur, wobei das Verfahren umfasst: Bereitstellen einer Trennstruktur (200), die in einem elektronischen Chip (100) angeordnet wird; Kapseln eines Teils des elektronischen Chips (100) durch eine Kapselungsstruktur (400), wobei der Chip (100) lateral von der Kapselungsstruktur (400) umgeben ist, und eine erste von zwei einander entgegengesetzten Hauptflächen des elektronischen Chips (100) zumindest zum Teil durch die Kapselungsstruktur (400) bedeckt ist, während die andere von den beiden einander entgegengesetzten Hauptflächen der Umgebung ausgesetzt bleibt; selektives Dünnen des durch die Kapselungsstruktur (400) teilweise gekapselten elektronischen Chips (100) von der anderen Hauptseite aus, so dass die Kapselungsstruktur (400) mit einer größeren Dicke verbleibt als der gedünnte elektronische Chip (100), wobei die Trennstruktur (200) als Dünnungsstopp dient; und die Dünnung durch Rückätzen von Material des elektronischen Chips (100) durchgeführt wird, während die Kapselungsstruktur (400) als Ätzmaske verwendet wird.
Patent DE-102014115237-B4 (DE)
Title: Hülse-Halter-Vorrichtung
Inventor: KAO JUI-CHIEN
IPC: B25H3/00
Filed: 2014-10-20
Granted: 2022-02-10
Abstract: Eine Hülse-Halter-Vorrichtung aufweisend:einen Schienenfuß (10), der aufweist:zwei Seitenplatten (11), die vertikal in einem mit Abstand angeordnet sind und aufweisen:zwei Verschiebeschienen (111), die von den Innenoberflächen der Seitenplatten (11) vorspringen und einander zugewandt sind;einen Verschiebekanal, der zwischen den Innenoberflächen der Verschiebeschienen (111) gebildet wird; undeine Einsetzaussparung (114), die zwischen den Verschiebeschienen (111) gebildet ist und mit dem Verschiebekanal (112) in Verbindung steht; undein Verbindungsauflager (12), das mit den Böden der Verschiebeschienen (111) verbunden ist und eine Positioniervertiefung (121) aufweist, die zwischen den Verschiebeschienen (111) und dem Verbindungsauflager (12) gebildet ist;eine Positionierplatte (20), die ein elastischer, länglicher Streifen ist, die in der Positioniervertiefung (121) des Schienenfußes (10) montiert ist, und die einen Auflagerbereich (23) hat, der nach oben von einem zentralen Bereich der Positionierplatte (20) vorspringt und in den Verschiebekanal (112) mittels der Aussparung bzw. Einsetzaussparung vorspringt;mehrere Positionshalterungen (30), die drehbar und beweglich in dem Verschiebekanal (112) des Schienenfußes (10) montiert sind und jede Positionierhalterung (30) aufweist:einen Verschiebebereich 31, der eine Auflageoberfläche (313) hat, die auf einem Boden des Verschiebebereichs (31) gebildet wird; undeinen Hülsenabschnitt (32), der integriert an einer oberen Oberfläche des Verschiebebereichs (31) gebildet wird, wobeidie Positionierhalterungen (30) durch den Verschiebebereich (31) in dem Verschiebekanal (112) montiert sind, die Auflageroberfläche (313) der Positionierhalterungen (30) an dem Auflagerbereich (23) der Positionierplatte (20) anliegen und die Verschiebebereiche (31) an Innenseiten der Verschiebeschienen (111) anliegen;die Positionierhalterungen (30) auf der Positionierplatte (20) und der Schienenfuß (10) positioniert sind, um einen Kontakt aufrecht zu erhalten.
Patent DE-102014116625-B4 (DE)
Title: Vertikale Halbleitervorrichtung und Verfahren für deren Herstellung
Inventor: ROTHMALER RUDOLF
IPC: H01L29/78
Filed: 2014-11-13
Granted: 2020-06-18
Abstract: Vertikaler Halbleitertransistor (100, 200), umfassend:- einen Halbleiterkörper (40) mit einer Vorderseite (101), einer Rückseite (102), welche entgegengesetzt zur Vorderseite (101) angeordnet ist, und einem seitlichen Rand (41), welcher den Halbleiterkörper (40) in einer horizontalen Richtung, die senkrecht zur Vorderseite (101) ist, begrenzt;- eine Gatemetallisierung (12), welche auf der Vorderseite (101) angeordnet ist und sich zumindest bis nahe an den seitlichen Rand (41) erstreckt;- eine Kontaktmetallisierung (11c), die auf der Vorderseite (101) und zwischen dem seitlichen Rand (41) und der Gatemetallisierung (12) angeordnet ist, wobei die Gatemetallisierung (12) von oben betrachtet um zumindest zwei Seiten der Kontaktmetallisierung (11c) angeordnet ist; und- eine Rückseitenmetallisierung (11), welche auf der Rückseite (102) angeordnet ist und mit der Kontaktmetallisierung (11c) in elektrischem Kontakt steht.
Patent DE-102014116762-B4 (DE)
Title: Verbrennungsmotor mit Kühlmittel-Steuerventil
Inventor: PARK YOONGHWA
IPC: F01P3/02
Filed: 2014-11-17
Granted: 2022-03-10
Abstract: Ein Verbrennungsmotor, der ein Kühlmittel-Steuerventil (110) hat, aufweisend:einen Dichtungsring (500), der eine rohrförmige Form hat, wobei ein Dichtungsring-Einlass (510) an einem Endabschnitt des Dichtungsringes ausgebildet ist und Dichtungsring-Auslässe (505), die sich von einer Innenseite zu einer Außenfläche des Dichtungsringes erstrecken, an vorbestimmten Positionen ausgebildet sind,ein Ventilgehäuse (420), in dem im Inneren ein Montageraum ausgebildet ist, um den Dichtungsring drehbar darin aufzunehmen, wobei das Ventilgehäuse eine Innenumfangsfläche hat, die zu einer Außenumfangsfläche des Dichtungsringes korrespondiert, und Auslassöffnungen (415) korrespondierend zu den Dichtungsring-Auslässen ausgebildet sind,einen Antriebsteil, der mit dem Dichtungsring gekoppelt ist, um den Dichtungsring wahlweise zu drehen, sodass die Dichtungsring-Auslässe zu den Auslassöffnungen korrespondieren und ein im Dichtungsring strömendes Kühlmittel den Auslassöffnungen zugeführt wird, undeine Trennwand (515), die am Endabschnitt des Dichtungsringes angeordnet ist, um zur Bildung des Dichtungsring-Einlasses einen Teil des Endabschnittes des Dichtungsringes zu schließen, wobei die Trennwand gemäß einer Drehung des Dichtungsringes wahlweise um eine Mittelachse (525) des Dichtungsringes gedreht wird,wobei die Trennwand in Abhängigkeit von einer Drehposition des Dichtungsringes wahlweise eine erste Kühlmittelleitung eines Zylinderkopfes (100) oder eine zweite Kühlmittelleitung eines Zylinderblockes (105) blockiert.
Patent DE-102014116829-B4 (DE)
Title: Verifikation eines Lösens für eine binäre Kupplungsbaugruppe auf Schlupfbasis
Inventor: DLUGOSS RANDALL B
IPC: F16H61/16
Filed: 2014-11-18
Granted: 2017-11-02
Abstract: Fahrzeug (10), umfassend: eine Kraftmaschine (12); und eine Getriebebaugruppe (14), mit: einem feststehenden Element (45); einer Mehrzahl von Zahnradsätzen (20, 30, 40); einem Eingangselement (17), das ständig mit der Kraftmaschine (12) und mit einem (30) von der Mehrzahl von Zahnradsätzen (20, 30, 40) verbunden ist; einer Reibkupplung (CB1234, C456, C35R, CB26), die ein Bauteil von einem der Zahnradsätze (20, 30, 40) selektiv mit dem feststehenden Element (45) oder mit einem Bauteil von einem anderen der Zahnradsätze (20, 30, 40) verbindet; einer binäre Kupplungsbaugruppe (25), die ein Freilaufbauteil (F1), das Drehmoment nur in einer ersten Drehrichtung hält, und eine binäre Einrichtung (BD) aufweist, die, wenn sie eingerückt ist, eine Drehung der binären Kupplungsbaugruppe (25) in einer zweiten Drehrichtung verhindert, und die zulässt, dass die binäre Kupplungsbaugruppe (25) in der zweiten Drehrichtung, die entgegengesetzt zu der ersten Drehrichtung ist, freiläuft, wenn sie gelöst ist; und einem Getriebesteuerungsmodul (TCM 60) in Verbindung mit der binären Kupplungsbaugruppe (25), wobei das TCM (60) einen Prozessor (27) und Speicher (29) umfasst, auf dem Anweisungen zum selektiven Verzögern eines Lösens der binären Kupplungsbaugruppe (25) aufgezeichnet sind, und wobei das Ausführen der Anweisungen von dem Speicher (29) über den Prozessor (27) bewirkt, dass das TCM (60): ein angefordertes Schalten des Getriebes (14), das eine Einrückung der Reibkupplung (CB1234) erfordert, detektiert (102); das Lösen der binären Kupplungsbaugruppe (25) in Ansprechen auf das detektierte angeforderte Schalten befiehlt (104); einen Schlupfbetrag über die binäre Kupplungsbaugruppe hinweg ermittelt (106); und das angeforderte Schalten des Getriebes (14) nur dann ausführt, wenn der ermittelte Schlupfbetrag einen kalibrierten Schlupfschwellenwert übersteigt (108).
Patent DE-102014119012-B4 (DE)
Title: Wandleranordnung mit Entlastungsschaltung
Inventor: NESEMANN KARL
IPC: H02M3/155
Filed: 2014-12-18
Granted: 2022-03-10
Abstract: Wandleranordnung (1), umfassend zwei zwischen Eingangsanschlüssen (2, 3) und Ausgangsanschlüssen (4, 5) der Wandleranordnung (1) in Reihe über einen Mittelpunkt (50) verbundene Hochsetzsteller (6, 7), wobei jeder der Hochsetzsteller (6, 7) umfasst:- eine zwischen einem zugeordneten der Eingangsanschlüsse (2, 3) und einem Verbindungspunkt (16) angeordnete Eingangsdrossel (17), einen zwischen dem Verbindungspunkt (16) und dem Mittelpunkt (50) angeordneten Hochsetzstellerschalter (18), sowie eine erste Diode (19), die den Verbindungspunkt (16) mit einem zugeordneten Ausgangsanschluss (4, 5) der Wandleranordnung (1) verbindet,- einen äußeren Kondensator (14) und einen inneren Kondensator (15), die in Reihe zwischen dem Mittelpunkt (50) und dem zugeordneten Ausgangsanschluss (4, 5) der Wandleranordnung (1) angeordnet sind, und- eine Entlastungsschaltung (61) mit einem Entladepfad, der vom Verbindungspunkt (16) über einen Entlastungskondensator (10) und eine zweite Diode (11) zum zugeordneten Ausgangsanschluss (4, 5) der Wandleranordnung (1) verläuft, und einem Ladepfad, der von einem ersten Kontaktpunkt (51) zwischen Entlastungskondensator (10) und zweiter Diode (11) über eine dritte Diode (12) und eine Resonanzdrossel (13) zu einem Kontaktpunkt zwischen dem inneren und äußeren Kondensator (14,15) verläuft, wobei die Wandleranordnung (1) eine Ausgleichsschaltung aufweist, die zur selektiven Einstellung der Spannung der jeweiligen inneren Kondensatoren (15) eingerichtet ist, und wobei die Wandleranordnung (1) eine einteilige Eingangskapazität (8) und eine einteilige Ausgangskapazität (9) aufweist.
Patent DE-102014119153-B4 (DE)
Title: Verfahren zum Ausbilden verschiedener Strukturen in einer Halbleiterstruktur unter Verwendung einer einzelnen Maske
Inventor: HUANG TSUNG-MIN
IPC: H01L21/308
Filed: 2014-12-19
Granted: 2023-08-24
Abstract: Verfahren zum Ausbilden einer IC-Struktur, umfassend:Bereitstellen einer Halbleiterstruktur (400), die ein Substrat (402), eine über dem Substrat (402) ausgebildete dielektrische Schicht (408), und einen über der dielektrischen Schicht (408) ausgebildeten Hartmaskenbereich (409) umfasst;Ausbilden einer ersten Fotolackschicht (417) über dem Hartmaskenbereich (409);Durchführen einer ersten lithografischen Belichtung unter Verwendung einer Fotomaske (100), um eine erste latente Struktur (418) auszubilden;Ausbilden einer zweiten Fotolackschicht (427) über dem Hartmaskenbereich (409); undDurchführen einer zweiten lithografischen Belichtung unter Verwendung der Fotomaske (100), um eine zweite latente Struktur (428) auszubilden,wobei die Fotomaske (100) ein erstes Maskenmerkmal (106) und ein zweites Maskenmerkmal (108) umfasst, undwobei die erste latente Struktur (418) dem ersten Maskenmerkmal (106) entspricht, unddie zweite latente Struktur (428) dem ersten Maskenmerkmal (106) und dem zweiten Maskenmerkmal (108) entspricht;wobei das erste Maskenmerkmal (106) entlang einer ersten Richtung (X) ausgerichtet ist,wobei das zweite Maskenmerkmal (108) entlang einer zweiten Richtung (Y) ausgerichtet ist, die von der ersten Richtung (X) verschieden ist, wobei sich die erste Richtung (X) unddie zweite Richtung (Y) parallel zur Fotomaske (100) erstrecken, wobei sich das erste Maskenmerkmal (106) mit dem zweiten Maskenmerkmal (108) überschneidet.
Patent DE-102015004232-B4 (DE)
Title: Verfahren zur Umformung eines flächigen Halbzeugs zu einer dreidimensionalen Hohlkörperkontur
Inventor: KRAUSE MICHAEL THOMAS
IPC: D04H13/00
Filed: 2015-03-31
Granted: 2018-12-20
Abstract: Verfahren zur Umformung eines flächigen Halbzeugs zu einer dreidimensionalen Hohlkörperkontur, wobei ein flächiges Halbzeug (9) mit einer Fläche entsprechend der Umfangsfläche der Hohlkörperkontur (8) hergestellt wird, mit Überlappungsrändern (18, 19), die bei der fertig geformten Hohlkörperkontur (8) übereinander liegen und die in ihrer einander zugeordneten Materialdicke so gestaltet sind, dass sie übereinanderliegend die Dicke des angrenzenden Bereichs des flächigen Halbzeugs (9) aufweisen, wobei das flächige Halbzeug (9) in einem Umformwerkzeug (1) dergestalt umgeformt wird, dass es mittels segmentierter Stempel (3, 4, 5) um ein ins Umformwerkzeug (1) eingesetztes, formstabil entsprechend der Innenkontur der Hohlkörperkontur (8) gestaltetes Kernteil (7) an diesem anliegend und dieses bis zur Überlappung der Überlappungsränder (18, 19) umschließend umgeformt wird, und wobei die einander zugeordneten Überlappungsränder (18, 19) ein Stufenprofil und/oder Keilprofil aufweisen, dergestalt dass sie übereinanderliegend der Dicke eines flächigen Halbzeugs (9) mit durchgehend gleicher Materialdicke entsprechen.
Patent DE-102015108851-B4 (DE)
Title: Verfahren zum Betreiben einer Mehrzahl von Messmaschinen und Gesamtvorrichtung, die mindestens zwei Messmaschinen umfasst
Inventor: WYMAN HASTINGS
IPC: G01D21/02
Filed: 2015-06-03
Granted: 2017-01-05
Abstract: Verfahren zum Betreiben einer Mehrzahl von Messmaschinen (20.1, 20.2), wobei es sich um typgleiche Messmaschinen (20.1, 20.2) handelt, die zum Messen von Gleichteilen (4) ausgelegt sind, mit den folgenden Schritten: – Messen einer ersten Menge von Gleichteilen (4) in einer ersten Messmaschine (20.1), – Messen einer zweiten Menge von Gleichteilen in einer zweiten Messmaschine (20.2), – Durchführen eines Vergleichsprozesses, wobei im Rahmen dieses Vergleichsprozesses, • mindestens ein Wert (W1) der ersten Menge mit mindestens einem entsprechenden Wert (W2) der zweiten Menge in Bezug gesetzt werden, um daraus • Abweichungen zwischen Messungen der ersten Messmaschine (20.1) und Messungen der zweiten Messmaschine (20.2) zu ermitteln.
Patent DE-102015114575-B4 (DE)
Title: Vorrichtung zur Druckbildkontrolle
Inventor: KREBS STEPHAN
IPC: G01N21/89
Filed: 2015-09-01
Granted: 2017-05-24
Abstract: Vorrichtung (1) zur Druckbildkontrolle mit – einer Beleuchtungseinheit (2, 3) zur Erzeugung einer diffusen Beleuchtung in einem Aufnahmebereich (12) und – einer Kamera (5) zur Erfassung eines Bildes in dem Aufnahmebereich (12), – einer mit der Kamera (5) verbundenen Auswertevorrichtung (11) zur Erkennung von Fehlern, gekennzeichnet durch einen Spiegel (8; 18), der unterhalb des Aufnahmebereichs (12) derart angeordnet ist, dass Licht, welches von oben durch den Aufnahmebereich (12) hindurch gelangt, nach oben zurückreflektiert wird.
Patent DE-102015208046-B4 (DE)
Title: Maschinenanordnung mit mehreren Bearbeitungsstationen zur Bearbeitung von Bogen
Inventor: ZIEGENBALG CHRISTIAN
IPC: B41F13/46
Filed: 2015-04-30
Granted: 2019-04-18
Abstract: Maschinenanordnung mit mehreren Bearbeitungsstationen zur Bearbeitung von Bogen, wobei in Transportrichtung (T) der Bogen mehrere Bearbeitungsstationen (01; 02; 03; 04; 06; 07; 08; 09; 11; 12) nacheinander zur Inline-Bearbeitung dieser Bogen angeordnet sind, wobei wenigstens eine dieser Bearbeitungsstationen (06) als eine Non-Impact-Druckeinrichtung (06) ausgebildet ist, wobei eine in Transportrichtung (T) der Bogen der Non-Impact-Druckeinrichtung (06) vorgeordnete erste Bearbeitungsstation (01) als ein Bogenanleger (01) oder als ein Magazinanleger (01) ausgebildet ist, wobei eine zwischen der ersten Bearbeitungsstation (01) und der Non-Impact-Druckeinrichtung (06) angeordnete Bearbeitungsstation (08) als eine jeweils einen Lack auf die Bogen auftragende erste Beschichtungseinrichtung (08) ausgebildet ist, wobei zwischen der ersten Beschichtungseinrichtung (08) und der Non-Impact-Druckeinrichtung (06) ein erster Trockner (07) angeordnet ist, wobei ein erstes Transportband (17) die Bogen vom ersten Trockner (07) zur Non-Impact-Druckeinrichtung (06) transportierend angeordnet ist, wobei in Transportrichtung (T) der Bogen nach der Non-Impact-Druckeinrichtung (06) ein zweiter Trockner (07) angeordnet ist, wobei eine Einrichtung zur Übergabe der von der Non-Impact-Druckeinrichtung (06) kommenden Bogen an eine zweite Beschichtungseinrichtung (08) vorgesehen ist, wobei der zweiten Beschichtungseinrichtung (08) ein dritter Trockner (09) nachgeordnet ist, wobei in Transportrichtung (T) der Bogen nach dem dritten Trockner (09) eine Auslage (12) für die Bogen angeordnet ist, wobei in Transportrichtung (T) der Bogen vor der Non-Impact-Druckeinrichtung (06) eine Übergabeeinrichtung angeordnet ist, wobei die Übergabeeinrichtung die Bogen jeweils zumindest in ihrem Axialregister und/oder Umfangsregister registerhaltig relativ zur Druckposition der Non-Impact-Druckeinrichtung (06) ausrichtet, wobei die Übergabeeinrichtung eine den jeweiligen Bogen mittels Saugluft haltende Saugtrommel (32) aufweist, wobei die Saugtrommel (32) aus mehreren parallel zueinander angeordneten Saugringen auf einer gemeinsamen Welle besteht, wobei die Saugringe der Saugtrommel (32) einzeln jeweils mit Saugluft beaufschlagt oder zumindest beaufschlagbar sind.