baber/WOPTO huggingface dataset:
Patent TW-I653634-B (TW)
Title: 安全裝置狀態設備及方法及生命週期管理
Inventor: SCHILDER MARIUS
IPC: G11C29/08
Filed: 2017-07-28
Granted: 2019-03-11
Abstract: 一種半導體晶片裝置包含裝置狀態熔絲，該等裝置狀態熔絲可用於在該半導體晶片裝置自晶圓製造轉變至經佈建裝置時組態半導體晶片之各種裝置狀態及對應安全等級。該等裝置狀態及安全等級阻止該半導體晶片例如在製造測試期間被存取及利用。本發明亦揭示一半導體晶片在其生命週期內之一安全啟動流程程序。該安全啟動流程可在晶圓製造階段開始且透過插入金鑰及韌體而繼續。
Patent TW-I763692-B (TW)
Title: 針座
Inventor: CHANG YI HSIEN
IPC: G01R1/067
Filed: 2017-07-28
Granted: 2022-05-11
Abstract: 本發明係為一種針座，適用於配合複數個針體進行自動化製作檢測試劑用，其包括一本體部、一延伸部、複數個第一針孔以及複數個第二針孔。延伸部從本體部往上延伸並對應於本體部。第一針孔貫穿設置於本體部。第二針孔設於延伸部並貫穿延伸部。第一針孔與第二針孔的至少部分者彼此對應，以使複數個針體可通過彼此對應的第一針孔與第二針孔，以與位於針體下方的待測物接觸。再者，至少一第一針孔或是至少一第二針孔具與其自身連通並從其邊緣往外延伸的至少一凹槽，進而往外擴張並改變其邊緣的輪廓。藉本發明之針座，可使得針體在進行上下的往返運動時，提升針體移動的順暢度。
Patent TW-I734826-B (TW)
Title: Anomaly detection method and semiconductor manufacturing apparatus
Inventor: OGI TATSUYA
IPC: G05B23/02
Filed: 2017-08-29
Granted: 2021-08-01
Abstract: A method performed by a semiconductor manufacturing apparatus includes calculating, by a processor of the semiconductor manufacturing apparatus, 3 standard deviations of process condition measurements obtained at a predetermined interval from log information of processing of substrates that have been correctly processed, calculating at least one of an upper limit and a lower limit for anomaly detection based on the calculated 3 standard deviations, and detecting an anomaly in the processing of the substrates based on the at least one of the upper limit and the lower limit.
Patent TW-I718335-B (TW)
Title: 機械手及搬送機器人
Inventor: NAKATSUKA ATSUSHI
IPC: H01L21/677
Filed: 2017-09-05
Granted: 2021-02-11
Abstract: 形成不使加工屑附著於機械手。
 
     
     
       一種板狀的機械手，具備：沿其中一面使空氣流動而對晶圓進行非接觸吸附保持的第1保持組件21、及在另一面吸引保持晶圓的第2保持組件22，保持組件21具備第1板構件、形成於其中一面且一端往板構件外周開口的溝、從溝的另一端向一端噴出空氣的噴出口、形成於保持組件21內部而使噴出口及安裝部所具備的第1連接口相連通的供給路，保持組件22具備第2板構件、使另一面與吸引源相連通的吸引口、形成於保持組件22內部而使吸引口與安裝於機器人之安裝部所具備的第2連接口相連通的吸引路。
Patent TW-I634055-B (TW)
Title: Mask packaging group and mask packaging container
Inventor: LI YUE-HUAN
IPC: B65D85/07
Filed: 2017-09-05
Granted: 2018-09-01
Abstract: 一種面膜包裝組包含一面膜、一精華液，及一包括一殼體及一封膜的面膜包裝容器。該殼體具有一形成一第一開口及一第二開口的密封壁、一自該密封壁朝一第一方向延伸的第一圍壁、一連接該第一圍壁且與該第一圍壁界定出一連通該第一開口且容置該面膜的第一容置空間的第一擋壁、一自該密封壁朝該第一方向延伸的第二圍壁，及一連接該第二圍壁且與該第二圍壁界定出一連通該第二開口且容置該精華液的第二容置空間的第二擋壁，該密封壁具有一位於該第一開口及該第二開口間的流通部。該封膜可撕離地黏合於該密封壁並封閉該第一開口及該第二開口，且部分黏合於該流通部，而本發明不易因不小心碰撞而將該精華液擠入該第一容置空間，且使用時可直接拿取該面膜而不需拉扯取出。
Patent TW-I627037-B (TW)
Title: Flip clamshell tool box construction
Inventor: CAI JIN-TAI
IPC: B25H3/02
Filed: 2017-10-06
Granted: 2018-06-21
Abstract: 本發明至少包括：一供工具置放用的盒體、被該盒體所一體包覆的第一軸座、組設於該第一軸座處的第二軸座、以及一體包覆有該第二軸座的蓋體，其中：該第一軸座包括一基部、一貫穿於該基部處的貫穿孔、一位於該貫穿孔處內的限位部、一自該基部向外側延伸的連接片、以及垂直設置於該連接片末端處的凸擋片，以使得該第一軸座之連接片及凸擋片能確實被一體包覆於該盒體處，而使得該第一軸座之基部能凸伸於該盒體外側；該第二軸座包括一基底部、一自該基底部端面向外側延伸形成的軸部、一位於該軸部末端處的剖槽、設置於該剖槽二側暨該軸部近末端處的卡塊、一自該基底部向外側延伸的連結片、以及垂直設置於該連結片末端處的擋止片，以使得該第二軸座之連結片及擋止片能確實被一體包覆於該蓋體處，而使得該第二軸座之基底部能凸伸於該蓋體外側，且使已位於該蓋體外側的第二軸座之軸部能穿入至已位於該盒體處的第一軸座之貫穿孔內，並使該第二軸座之軸部近末端處的卡塊能卡抵於該第一軸座之貫穿孔的限位部處，以致使該蓋體與該盒體係以該第一軸座之貫穿孔及該第二軸座之軸部為旋轉中心作卡合轉動的掀開或閉合之用。
Patent TW-I662911-B (TW)
Inventor: SCHINDLER ERIC S
IPC: A43B13/00
Filed: 2015-07-23
Granted: 2019-06-21
Abstract: 本發明提供一種用於鞋類物品之鞋底結構且該鞋底結構包括一中底組件，該中底組件具有由其一表面延伸之多數突起，藉此該等突起各包括形成該鞋底結構之一周邊側表面的一側壁。該鞋底結構另外包括一流體填充腔室組件，該流體填充腔室組件具有一中央部分、各包括一端壁且由該中央部分延伸之多數瓣部、及分別形成在該等多數瓣部之間且收納該中底之該等突起之個別突起的多數通道。該等突起之該等側壁與該等多數瓣部之該等端壁配合形成該鞋底結構之該周邊側表面，且該等多數瓣部之該等端壁中之至少一端壁的一部分由該中央部分向外延伸得比該等突起之側壁遠。
Patent TW-I657537-B (TW)
Inventor: WU KUO-MING
IPC: H01L21/768
Filed: 2017-10-12
Granted: 2019-04-21
Abstract: 本發明實施例係關於一種三維(3D)積體電路(IC)，其包含一第一IC晶粒及一第二IC晶粒。該第一IC晶粒包含一第一半導體基板，及在該第一半導體基板上方之一第一互連結構。該第二IC晶粒包含一第二半導體基板，及將該第二半導體基板與該第一互連結構分離之一第二互連結構。一密封環結構將該第一互連結構與該第二互連結構分離且周邊地包圍該第一IC晶粒與該第二IC晶粒之間之一貯氣器。該密封環結構包含經組態以容許氣體在該貯氣器與包圍該3D IC之一周圍環境之間通過之一側壁氣體排放開口結構。
Patent TW-I646930-B (TW)
Title: Pillow lifting structure
Inventor: Huang xian-da
IPC: A47G9/10
Filed: 2017-11-23
Granted: 2019-01-11
Abstract: 本發明「枕頭升降結構」，包括有一底板，該底板上配置有一動力單元，該動力單元連體一連動單元，又該連動單元頂部再罩覆有一蓋體。藉此，該動力單元作動能驅使該連動單元形變，以適時調整該蓋體之高度，俾獲致調整枕頭頂面高度之目的。本案特別是藉由調變該被動圓弧齒盤配合其一體延伸設置之推舉臂位移，就能抬升該X形之連動單元，該動作屬於直接推舉，沒有功耗，只需小型電機即可作動；空間及耗能得以因直接推舉產生作用而優化。
Patent TW-I748017-B (TW)
Title: 近接曝光裝置及近接曝光方法
Inventor: KAWASHIMA HIRONORI
IPC: H01L21/027
Filed: 2017-12-08
Granted: 2021-12-01
Abstract: 本發明之近接曝光裝置具備：平面鏡(68)，其具有可修正曲率之反射鏡變形單元(70)；CCD照相機(30)，其可拍攝遮罩M側之對準標記(Ma)及工件(W)側之對準標記(Wa)；記憶部(91)，其記憶根據曝光第1層之遮罩(M)之圖案時照射於工件(W)之主光線(EL)之角度、及遮罩(M)與工件(W)間之間隙而計算的對準標記(Wa)之初始偏移成分；及控制裝置(90)，其在曝光第2層以後之遮罩(M)之圖案時，以相對於藉由CCD照相機(30)觀測之工件(W)側之對準標記(Wa)偏移初始偏移成分而得的工件(W)側之修正對準標記(Wa')、及遮罩M側之對準標記(Ma)，進行對準調整。
Patent TW-I659321-B (TW)
Inventor: YU LIANG CHIH
IPC: G06Q50/00
Filed: 2018-01-19
Granted: 2019-05-11
Abstract: 本發明揭露一產業關聯性分析系統與方法。此種產業關聯性分析系統包括使用者介面、伺服器、記憶體與處理器。此種產業關聯性分析方法包括：根據關鍵字，搜尋出複數個關聯字；搜尋預設時間區段內與該些關聯字相關之多篇新聞，並根據該些新聞，針對每個關聯字計算並產生文字雲，其中每個文字雲包括多個文字特徵；比較該些文字特徵，以計算出每個文字特徵的重疊率，並將該些文字特徵根據重疊率由大至小排序；以及取出重疊率較大的數個文字特徵，並根據被取出之該些文字特徵以及被取出之該些文字特徵與該些關聯字的關係產生一關聯性分析圖。
Patent TW-I665020-B (TW)
Inventor: TUNG JUI-FA
IPC: H01L21/67
Filed: 2018-02-26
Granted: 2019-07-11
Abstract: 一種基板處理裝置包括一基板處理單元、一流體供應單元、一偵測單元和一控制單元。基板處理單元供一基板置放。流體供應單元提供一處理液至基板。偵測單元判斷處理液的一有效性並產生一偵測訊號。控制單元根據偵測訊號以決定處理液的一補償行程。當處理液的有效性低於一預設值，控制單元透過偵測訊號調整處理液的補償行程，以維持處理液的一蝕刻效果。
Patent TW-I661421-B (TW)
Inventor: LU CHUNG LI
IPC: G10L19/018
Filed: 2018-04-12
Granted: 2019-06-01
Abstract: 本發明揭露一種具音訊浮水印之系統及方法。該方法包括：依據用戶偏好設定及背景噪音樣本選擇音訊浮水印傳輸組態參數；依據音訊浮水印傳輸組態參數將動作代碼腳本轉換成內嵌符號序列；將內嵌符號序列嵌入原始音訊中以成為內嵌浮水印之音訊；將內嵌浮水印之音訊解碼出還原符號與時間序列；以及將還原符號與時間序列解譯為還原動作代碼腳本以及錄音與原始音訊起始時間之時相位移資訊。
Patent TW-I670538-B (TW)
Inventor: CHEN FENG
IPC: G02B9/62
Filed: 2018-04-18
Granted: 2019-09-01
Abstract: 一種光學成像鏡頭，從物側至像側沿光軸依序包括第一透鏡、第二透鏡、第三透鏡、第四透鏡、第五透鏡及第六透鏡，且各透鏡包括物側面及像側面。第一透鏡具有負屈光率且其物側面的圓周區域為凸面。第二透鏡的像側面的光軸區域為凸面。第三透鏡的物側面的光軸區域為凹面。第四透鏡的物側面的光軸區域為凸面且其像側面的圓周區域為凹面。光學成像鏡頭具有屈光率的透鏡只有上述六片透鏡並且滿足以下條件式：V4+V5+V6≦120.000。另，其他光學成像鏡頭亦被提出。
Patent TW-I649232-B (TW)
Title: 自行車之防鎖死煞車機構
Inventor: HUANG PO-HSIEN
IPC: B60T11/22
Filed: 2018-05-04
Granted: 2019-02-01
Abstract: 一種自行車之防鎖死煞車機構，包含油壓調節缸、第一活塞及第二活塞。油壓調節缸具有相連通的調節槽、入油通道及出油通道。第一活塞滑動地位於調節槽並具有第一油路。第一活塞包含受推部，第一油路貫穿受推部並連通入油通道。第二活塞位於調節槽並可於初始位置、封閉位置及洩壓位置間滑動，第二活塞包含抵壓部，抵壓部外徑小於受推部外徑。其中，當第二活塞位於封閉位置時，抵壓部抵靠受推部，而令調節槽有飽壓容積。在第二活塞從封閉位置移動至洩壓位置的過程中，抵壓部與受推部的外徑差令調節槽具有大於飽壓容積的洩壓容積。
Patent TW-I706439-B (TW)
Title: Methods for evaluating resist development
Inventor: LIU PENG
IPC: H01L21/027
Filed: 2018-05-07
Granted: 2020-10-01
Abstract: A method, including: obtaining a set of conditions for a resist development model for simulating a resist development process of a resist layer; and performing, by a hardware computer system, a computer simulation of the resist development process using the set of conditions and the resist development model to obtain a characteristic of the development of the resist layer, wherein the computer simulation separately simulates certain different physical and chemical processes and characteristics of the resist development process.
Patent TW-I687124-B (TW)
Inventor: HSU CHIA CHUN
IPC: H04W48/00
Filed: 2018-05-28
Granted: 2020-03-01
Abstract: A method of UE category and capability indication for co-existed 4G LTE and 5G New Ratio (NR) devices is proposed. UE indicates UE category and associated capability for standalone NR, which includes band combination for NR and a list of capability combinations of baseband feature sets. UE also indicates separate UE category and associated capability for 5G 
NR EN-DC (EUTRA-NR Dual Connectivity), which includes band combination for NR+LTE, and a list of capability combinations of baseband feature sets. Based on such indication, the network can enable the UE to operate over multiple connections via multiple radio access technology (RATs) concurrently. In one novel aspect, the baseband feature set combination is band combination agnostic.
Patent TW-I641804-B (TW)
Inventor: TSAI MING JU
IPC: G01B21/08
Filed: 2018-06-04
Granted: 2018-11-21
Abstract: 本發明係有關於一種樓板厚度量測方法，其主要係為一種針對送檢測之待測樓板試樣進行其厚度量側的方法，利用上部測距儀與下部測距儀同時對待測樓板進行偵測，令該上部測距儀之測距訊號與該下部測距儀之測距訊號分別偵測於該待測樓板同一垂直線上的頂部與底部位置處，以測得該待測樓板之厚度；藉此，以能準確的測量出待測樓板邊緣與中間任何位置處的厚度，以確實檢驗出該待測樓板厚度是否符合規定，以進行後續相應規範之防火測試，連帶即可確實維護建築物的安全性，而在其整體施行使用上更增實用功效特性者。
Patent TW-I752239-B (TW)
Title: 半導體封裝件的製造方法
Inventor: JANG BYEONGDECK
IPC: H01L21/56
Filed: 2018-06-27
Granted: 2022-01-11
Abstract: [課題]讓厚度不同的多個晶片的散熱效果均一化。[解決手段]一種安裝厚度不同的多個半導體晶片的半導體封裝件的製造方法，其中，藉由保持膠帶以保持利用密封劑一次密封配線基材上的多個半導體晶片的封裝基板的背面，利用成型的整形磨石以薄化樹脂層，利用分割手段以沿著分割預定線切入至保持膠帶中，藉此將封裝基板分割成一個個半導體封裝件。在整形磨石的外周面形成段差，透過整形磨石的段差使各晶片上表面至封裝件上表面的厚度形成為相同。
Patent TW-I798233-B (TW)
Title: Methods to optimize scell configuration and activation through ue idle mode scell measurements and quick reporting
Inventor: KADIRI PRASAD
IPC: H04W76/27
Filed: 2018-06-27
Granted: 2023-04-11
Abstract: In an aspect, while a mobile device is operating in a RRC_Idle State, an RRC_Suspended State, an RLF State and/or an RLF Recovery Procedure State, the mobile device may transmit a connection establishment message to a base station of a plurality of base stations. In an aspect, the connection establishment message includes information that indicates whether the mobile device has information associated with signals transmitted by one or more base stations of the plurality of base stations. The mobile device may initiate transmission of the information associated with the signals to the base station subsequent to establishing a security context for the connection between the mobile device and the base station. In some aspects, the mobile device may scramble the information associated with signals and transmit the information associated with signals to the base station prior to establishing a security context for a connection between the mobile device and the base station.
Patent TW-I729302-B (TW)
Title: 遮罩製造裝置
Inventor: FUKUYAMA TOMOHIRO
IPC: H05K3/38
Filed: 2018-07-10
Granted: 2021-06-01
Abstract: 本發明的遮罩製造裝置是藉由將帶狀的金屬遮罩片焊接於框狀的金屬遮罩框上來製造金屬遮罩的遮罩製造裝置，其具備：張力部，藉由使金屬遮罩片的兩端部朝相互分離的方向移動來對金屬遮罩片賦予規定的張力；焊接部，將金屬遮罩片的一端部焊接於金屬遮罩框的一邊上，將金屬遮罩片的另一端部焊接於金屬遮罩框的與所述一邊對向的另一邊上；以及按壓部，於利用焊接部的焊接時，將金屬遮罩片的至少一個部位按壓於金屬遮罩框上；所述至少一個部位為焊接部位的附近、且相對於金屬遮罩片的中央部位於較焊接部位更外側。
Patent TW-I677699-B (TW)
Inventor: MURATOV VLADIMIR ALEXANDER
IPC: G01S17/42
Filed: 2018-08-03
Granted: 2019-11-21
Abstract: 本發明提供了一種產生信標信號的方法及裝置，其中該信標信號用來確定目標的位置及/或定向。該裝置包括：一控制電路，用於：使用第一二元控制信號控制耦合至第一線圈的第一驅動器，以使得該第一線圈產生第一磁場；使用第二二元控制信號控制耦合至第二線圈的第二驅動器，以使得該第二線圈產生第二磁場；以及使用具有斜坡響應的激活電路來激活該第一驅動器。
Patent TW-I684568-B (TW)
Title: 高性能球形活性炭、其製備方法和用途
Inventor: Chang ming-zhu
IPC: C01B32/318
Filed: 2018-08-10
Granted: 2020-02-11
Abstract: 本發明提供高性能球形活性炭、其製備方法和用途。活性炭在較低的比表面積下具有本領域技術人員預料不到的物理或機械性能。並且，使用本發明的製備方法，能夠以良好的收率和較低的成本製備得到現有技術中無法製備的具有較大粒徑的球形活性炭。
Patent TW-I666767-B (TW)
Inventor: WANG DEAN
IPC: H01L21/336
Filed: 2018-08-31
Granted: 2019-07-21
Abstract: 一種主動元件基板，包括基板、緩衝層、阻擋層、金屬氧化物半導體層、閘極絕緣層、閘極、源極以及汲極。緩衝層位於基板上。阻擋層位於緩衝層上。金屬氧化物半導體層位於阻擋層上。阻擋層的標準莫耳生成吉布斯能小於金屬氧化物半導體層的標準莫耳生成吉布斯能。閘極絕緣層位於金屬氧化物半導體層上。閘極位於閘極絕緣層上，並與金屬氧化物半導體層重疊。源極與汲極分別電性連接金屬氧化物半導體層。
Patent TW-I722326-B (TW)
Inventor: SULLIVAN ROBERT W
IPC: H01R13/46
Filed: 2015-03-26
Granted: 2021-03-21
Abstract: 本發明揭示一種用於乙太網路電纜之電連接器，其具有擁有一前部端壁之一伸長空心外殼，該前部端壁必須正確地配接於一配合連接器中之開口內，其中該前部端壁具有必須經切斷以配接該配合連接器之一經整體加厚前端壁部分，且其中該經整體加厚前端壁部分與該壁形成為整體使得其在被切斷時繼續支撐該壁。
Patent TW-I690686-B (TW)
Title: Cooling device
Inventor: CHENG TSAI-KUEI
IPC: F28D5/00
Filed: 2018-10-31
Granted: 2020-04-11
Abstract: A cooling device is configured to apply to cool a heat component. The cooling device includes a tank, a cover and a cooling liquid. The tank has a bottom surface, a cooling liquid input and a cooling liquid output. The cover is connected to the tank. The cover and the tank together form a space which is configured to place the heat component. The cooling liquid is located in the space.
Patent TW-I763947-B (TW)
Inventor: MORIKAWA KEISUKE
IPC: C09J11/08
Filed: 2018-11-06
Granted: 2022-05-11
Abstract: 一種水性乳液，其係包含分散劑與分散質的水性乳液；其含有改性聚乙烯醇(A)及化合物(B)作為前述分散劑，且含有包含乙烯性不飽和單體單元的聚合物(E)作為前述分散質；改性聚乙烯醇(A)在側鏈具有0.001~2莫耳%雙鍵；化合物(B)是選自包含下述(B1)、(B2)、及(B3)的群組中之至少1種：具有共軛雙鍵且具有2個以上鍵結於該共軛雙鍵的羥基的化合物或其鹽或其氧化物(B1)、烷氧基酚(B2)、及環狀氮氧自由基(nitroxyl radical)(B3)；且相對於100質量份聚合物(E)，前述分散劑的含量是1~20質量份。使用此水性乳液而成之接著劑具有優良的耐水性及耐熱性，且接著強度優良。又，此接著劑在塗敷性及保存穩定性亦優良。
Patent TW-I695792-B (TW)
Title: 車門防夾檢測裝置及門開關裝置
Inventor: TANABE KAZUO
IPC: B61D19/02
Filed: 2018-11-20
Granted: 2020-06-11
Abstract: 本發明之目的在於提供一種可提高車門夾物之檢測精度之車門防夾檢測裝置及門開關裝置。
本發明之車門防夾檢測裝置1係檢測開關車輛上下車口之門30是否為車門夾物狀態。車門防夾檢測裝置1具備：取得部11，其取得來自檢測安裝於門31、32之門側之彈性構件51、52之變形之檢測感測器53、54的輸出信號；檢測信號產生部12，其進行減低取得部11取得之輸出信號所含之車輛行駛之振動影響的處理並產生檢測信號；及判定部13，其基於由檢測信號產生部產生之檢測信號判定門30是否為車門夾物狀態。
Patent TW-I680430-B (TW)
Inventor: HU CHIH-JIAN
IPC: G06Q50/06
Filed: 2018-11-29
Granted: 2019-12-21
Abstract: 本發明提供一種能耗管理系統與能耗管理方法。其中能耗管理方法包括偵測電子設備於當前時間點的用電狀態，以產生電子設備的用電偵測數據；根據用電偵測數據計算具有多個能耗參數的能耗參數組；根據多個能耗參數與多個特徵規則來判斷分別對應多個特徵規則的多個特徵值，其中多個特徵值構成對應當前時間點的特徵值組；根據多個特徵值與對應電子設備的行為模型來判定電子設備的當前能耗運作狀態；以及根據電子設備的當前能耗運作狀態與預定運作排程來控制電子設備。能耗管理方法更包括根據電子設備的用電偵測歷史數據學習行為模型。
Patent TW-I714927-B (TW)
Title: Method for manufacturing a covering for an architectural opening
Inventor: COLSON WENDELL B
IPC: E06B9/40
Filed: 2005-08-22
Granted: 2021-01-01
Abstract: An apparatus and associated method for manufacturing a window covering 50 for an architectural opening. The apparatus includes a support structure handling assembly 92, an operating element handling assembly 94, and a vane handling assembly 96. The handling assemblies process the respective materials to an assembly station 100 to attach one portion of a vane 54 to the operating elements 56, and another portion of the vane 54 to the support structure 52, allowing movement of one portion of the vane 54 relative to other portion of the vane.
Patent TW-I689767-B (TW)
Title: 像素結構以及陣列基板
Inventor: LI XINGUO
IPC: G02F1/133
Filed: 2018-12-24
Granted: 2020-04-01
Abstract: 一種位於基底上的像素結構，包括電晶體、像素電極以及儲存電極，所述電晶體包括汲極以及主動層，所述汲極電連接至所述像素電極，所述主動層包括源極區、汲極區、位於所述源極區和所述汲極區之間的通道區、以及與所述汲極區連接的儲存區；所述像素結構還包括儲存電極，所述儲存電極與所述儲存區相對設置，形成儲存電容的至少一部分；其中，所述通道區由半導體材料製成，所述源極區、所述汲極區以及所述儲存區由導體化的半導體材料製成。
Patent TW-I704329-B (TW)
Title: 線上監測系統及半導體加工裝置
Inventor: Xiao de-zhi
IPC: G01N21/27
Filed: 2019-01-04
Granted: 2020-09-11
Abstract: 本發明提供的線上監測系統及半導體加工裝置，其包括光源、第一光路、第二光路、取樣頻率控制單元、光電轉換單元和計算單元，光源用於提供入射光；第一光路用於傳輸入射光，並將入射光向晶片表面輻射；第二光路包括第一支路和第二支路，二者分別收集干涉光和電漿反射光；取樣頻率控制單元用於控制第一光路、第一支路和第二支路的通斷，以實現在接通第一光路和第一支路與接通第二支路之間的切換；取樣頻率控制單元還用於調節切換的頻率；光電轉換單元用於將干涉光和電漿反射光轉換為電訊號；計算單元用於獲得晶片表面厚度。本發明提供的線上監測系統，不僅可以保證精確控制晶片表面的製程厚度，而且可以滿足不同的製程需要。
Patent TW-I735838-B (TW)
Title: 半導體裝置
Inventor: HAMASAKI MASAO
IPC: H01L29/772
Filed: 2019-01-17
Granted: 2021-08-11
Abstract: 半導體裝置(1)具有：10μm≦t si 
≦30μm之半導體層(40)、由Ag構成之30μm≦t ag 
＜60μm的金屬層(31)及由Ni構成之10μm≦t ni 
＜35μm的金屬層(30)、以及電晶體(10及20)；電晶體(10及20)於半導體層(40)之主面(40a)側具有源極電極及閘極電極；金屬層(31)係作為電晶體(10及20)之共通汲極區域發揮功能；半導體層(40)之長邊長度與短邊長度之比為1.73以下；源極電極之各電極之面積與周邊長度之比為0.127以下；源極電極及閘極電極之各面積之總和為2.61mm 2 
以下；源極電極之短邊長度為0.3mm以下；並且下述關係式成立。
702＜2.33×t si 
+10.5×t ag 
+8.90×t ni 
＜943
Patent TW-I693744-B (TW)
Inventor: FANG YING-SHENG
IPC: H01Q21/30
Filed: 2019-01-22
Granted: 2020-05-11
Abstract: 一種天線系統，包括：一介質基板、一接地面，以及一第一天線陣列。接地面設置於介質基板之一第二表面上。第一天線陣列設置於介質基板之一第一表面上，並包括一第一傳輸線、一第一天線元件、一第二天線元件、一第三天線元件、一第四天線元件、一第五天線元件，以及一第六天線元件。第一傳輸線具有一第一饋入點，並耦接至第一天線元件、第二天線元件、第三天線元件、第四天線元件、第五天線元件，以及第六天線元件。第一天線元件、第二天線元件、第三天線元件、第四天線元件、第五天線元件，以及第六天線元件皆大致排列於一第一直線上。
Patent TW-I704998-B (TW)
Inventor: HUANG CHIN-SUNG
IPC: B32B27/18
Filed: 2019-01-28
Granted: 2020-09-21
Abstract: 本發明提供一種裝飾材料，至少由耐磨層及印刷層經捲對捲熱壓
而成，耐磨層是由耐磨層母粒通過加熱而形成，耐磨層母粒的組成成分基於耐磨層母粒的總重包括30wt%~85wt%的熱塑性塑膠(熱塑性塑膠添加0.1wt%~12wt%的聚丙烯改性劑)、5wt%~50wt%的無機填充材料、1wt%~10wt%的阻燃劑、0.1wt%~16wt%的助劑、及0.1wt%~5wt%的熱塑性彈性體。
Patent TW-I697681-B (TW)
Title: 用於測試集成天線的微電子器件的無線測試系統
Inventor: LIU CHIH-YANG
IPC: G01R31/26
Filed: 2019-04-09
Granted: 2020-07-01
Abstract: 提供一種無線測試系統，包括：負載板，具有上表面和下表面，其中，所述負載板包括設置在所述負載板上的測試天線；插槽，用於接收具有天線結構的被測器件DUT，所述插槽設置在所述負載板的上表面上，其中，所述天線結構與所述測試天線相對應；處理器，用於拾取所述DUT並且將所述DUT傳送到所述插槽，其中所述處理器包括用於保持和按壓所述DUT的按壓部件，在測試期間，所述按壓部件被接地並且作為接地反射器，所述接地反射器對所述DUT的輻射場型進行反射，使得所述DUT的輻射場型從向上方向反轉到朝向所述測試天線的向下方向。
Patent TW-I776064-B (TW)
Title: Polymer material and intraocular lens
Inventor: KAI MOTOTORA
IPC: G02C7/04
Filed: 2019-05-31
Granted: 2022-09-01
Abstract: Provided is a polymer material capable of producing an intraocular lens having a high refractive index and low tackiness of a lens surface thereof, the intraocular lens in which generation of glistening and whitening is suppressed. Further, provided is an intraocular lens having the above properties. 
 
     A polymer material can preferably be used for producing an intraocular lens, and is obtained by polymerizing a monomer mixture containing 11 to 30 mass% 
of a macromonomer (A) represented by the following general formula (I) and at least one of a (meth)acrylate monomer having an aryl group (B). 
 
     
       
         
       
     
     [In the above formula, each of four “n”s is independently an integer number of 1 or 2, each of “a”, “b”, “c” and “d” is independently an integer number of 4 or larger, and each of four “Z”s is independently a substituent group containing a (meth)acryloyl group.]
Patent TW-I695479-B (TW)
Title: Diode with high esd protection capability and method for forming the same
Inventor: WANG LI
IPC: H01L21/76
Filed: 2019-07-02
Granted: 2020-06-01
Abstract: A diode with high ESD protection capability is provided. The diode includes a silicon substrate layer of a first conductivity type, plural first trenches and plural second trenches formed in the silicon substrate layer, plural shallow trench isolation structures, and a polysilicon layer of a second conductivity type. The shallow trench isolation structures are respectively disposed within the first trenches, thereby filling the first trenches. The polysilicon layer is conformally formed on a surface of the second trenches.
Patent TW-I720560-B (TW)
Inventor: NA YUN SUNG
IPC: G01R31/28
Filed: 2019-07-29
Granted: 2021-03-01
Abstract: 本發明涉及一種測試托盤以及電子部件測試用分選機，其在電子部件的測試中使用。根據本發明的測試托盤以及電子部件測試用分選機為了在測試區間使電子部件分階段移動，在測試托盤配備有用於裝載電子部件的單獨的可移動的裝載框架，在分選機構成有用於移動裝載框架的分步支援裝置。根據本發明，具有在要測試的電子部件變為高規格或者尺寸變大的情況下也能夠最小化處理容量的減小，同時能夠實現測試機的重新利用且能夠減小資源浪費或成本負擔的效果。
Patent TW-I733155-B (TW)
Inventor: JAYAPAL SENTHILKUMAR
IPC: G11C5/14
Filed: 2019-08-01
Granted: 2021-07-11
Abstract: 一種用於減少漏電流的裝置包括記憶體單元陣列，電源開關和核心邏輯。記憶體單元陣列電連接到提供第一電壓電平的第一電源軌。當電源開關接通時，藉由電源開關核心邏輯電路電連接到第二電源軌。第二電源軌提供低於第一電壓電平的第二電壓電平。藉由提供於電源開關的柵極端的第一電壓電平電源開關被關斷，從而將處於休眠狀態的核心邏輯電路與第二電源軌斷開。
Patent TW-I734169-B (TW)
Title: Silicon wafer subsurface detection system and detection method using the same
Inventor: LIN CHUN-FU
IPC: G01N21/88
Filed: 2019-08-16
Granted: 2021-07-21
Abstract: The present invention provides a subsurface detection system for detecting the 
subsurface of a silicon wafer. The system includes a laser source providing a detection beam having a first polarization direction; a polarizing beam splitter disposed at the route of the detection beam, reflecting the beam having a first polarization direction and transmits the beam having a second polarization direction; a first lens receiving the detection beam reflected by the polarizing beam splitter and converging the detection beam to a sample; wherein the main surface reflects the detection beam as a main surface reflected beam having the first polarization direction and the subsurface reflects the detection beam as a subsurface reflected beam having the second 
polarization direction; the polarizing beam splitter reflects the main surface reflected beam and transmits the subsurface reflected beam; a second lens converging the transmitted subsurface reflected beam; and a through hole receiving the converged subsurface reflected beam and delivering it to a light sensor.
Patent TW-I738035-B (TW)
Inventor: MONODANE Takeshi
IPC: H01L21/67
Filed: 2017-03-07
Granted: 2021-09-01
Abstract: 本發明的熱處理裝置係具備：雷射振盪器1，係使雷射振盪；一個以上的光學系統2，係使由雷射振盪器1所振盪出的雷射照射於被處理物5；以及旋轉台3，係搭載被處理物5，其中，當將由雷射之一次的照射所致之被處理物5的活化率達到目標值之被處理物5的到達溫度設為第一溫度時，將比第一溫度低的第二溫度設定成被處理物5之到達溫度的目標值，並從光學系統2對被處理物5反覆進行二次以上雷射的照射。
Patent TW-I701454-B (TW)
Inventor: LIAO TAI-SHAN
IPC: G01S17/88
Filed: 2019-09-27
Granted: 2020-08-11
Abstract: 雷射測距與影像整合裝置包括雷射測距模組、雙分支光纖束、光束分光器及影像接收模組。雷射測距模組包括光源、光學接收器及計算單元。雙分支光纖束設置於雷射測距模組及光束分光器之間。測距光束自光源出射，依序通過雙分支光纖束及光束分光器至待測物後反射出反射光束，其再經由光束分光器分成第一反射光束及第二反射光束，第一反射光束行經雙分支光纖束至光學接收器後發出量測信號，使計算單元接收並計算出待測物與雙分支光纖束之間的距離，影像接收模組對應設置於第二反射光束行進的光路，使其被影像接收模組接收而顯示待測物的影像。
Patent TW-I730434-B (TW)
Title: 雜芳基唑化合物及有害生物防除劑
Inventor: SAKANISHI Keita
IPC: A01N43/54
Filed: 2019-10-01
Granted: 2021-06-11
Abstract: 本發明之課題在於提供一種有害生物防除活性、其中尤其殺蟲活性及/或殺蟎活性優異，安全性優異，且工業上可有利地合成之雜芳基唑化合物。
本發明之化合物係式(I)所表示之化合物、其N-氧化物化合物、立體異構物、互變異構物、水合物或該等之鹽。
式(I)中，
A為CH或氮原子；
B 1 
為CX 1 
或氮原子；
X 1 
、X 2 
及X 3 
分別獨立為氫原子、經取代或未經取代之C1～6烷基、經取代或未經取代之C2～6烯基等；
R 1 
為經取代或未經取代之C1～6烷基硫基、經取代或未經取代之C1～6烷基亞磺醯基等；
R 2 
為經取代或未經取代之C1～6烷基；
R為經取代或未經取代之C1～6烷基。
Patent TW-I714291-B (TW)
Title: Active indoor planting dynamic carbon dioxide concentration adjustment system
Inventor: CHI CHAO-NUNG
IPC: A01G9/18
Filed: 2019-10-02
Granted: 2020-12-21
Abstract: An active indoor planting dynamic carbon dioxide concentration adjustment system includes a planting assembly, multiple variable light intensity illuminating devices, a carbon dioxide sensor and a controller. The planting assembly is disposed in an indoor space, and the illuminating device is adapted to illuminate the planting assembly according to a control signal to cause photosynthesis of the planting assembly. The carbon dioxide sensor is adapted to detect a concentration of carbon dioxide in the indoor space and to emit a concentration signal. The controller is signally connected to the illuminating devices and the carbon dioxide sensor, and is adapted to receive the concentration signal and give the control signal. The controller dynamically adjusts the light intensity of the illuminating devices according to the concentration signal, thereby dynamically adjusting the efficiency of the photosynthesis of the planting assembly.
Patent TW-I747068-B (TW)
Title: Lockable torque wrench with indication function
Inventor: GUO WUN-JIN
IPC: B25B23/143
Filed: 2019-10-25
Granted: 2021-11-21
Abstract: A lockable torque wrench with indication function includes a shaft, a handle, a plurality of rollers, rotary ring, and an engagement member. The shaft is inserted into the handle, and rotatable and stretchable with respect to the handle for adjusting the operation torque of the head portion. The rotary ring is mounted around the metal pipe of the handle from the outer side of the rollers, and able to rotate with respect to the metal pipe and switched between a press position and a release position. When the rollers ascend, the first and second grooves provide an allowance space with a deep section for the rollers to ascend. When the rollers descend, the first and second grooves resists the rollers against the shaft with a shallow section, and the engagement member pressurizes the rollers, so as to generate a stage sensation during the rotation between the handle against the shaft.
Patent TW-I772699-B (TW)
Inventor: CHENG CHAO CHING
IPC: H01L29/78
Filed: 2019-10-25
Granted: 2022-08-01
Abstract: 一種半導體元件的製造方法，形成鰭結構，具有下鰭結構和設置在下鰭結構上的上鰭結構。上鰭結構包括交替堆疊的多個第一半導體層和多個第二半導體層。第一半導體層被部分地蝕刻以減少第一半導體層的寬度。形成氧化物層在上鰭結構上。形成犧牲閘極結構在具有氧化物層的上鰭結構上。形成源極/汲極磊晶層在鰭結構的源極/汲極區域上。去除犧牲閘極結構以形成閘極空間。去除氧化物層以暴露閘極空間中的第二半導體層。形成閘極結構在閘極空間中的第二半導體層的周圍。
Patent TW-I716199-B (TW)
Title: 多軸工具磨床之冷卻機構
Inventor: LEE HUNG WU
IPC: B24B55/02
Filed: 2019-11-20
Granted: 2021-01-11
Abstract: 一種多軸工具磨床之冷卻機構，係設於一工作平台上，該工作平台上設有一夾頭可供夾持欲加工之一加工件，該冷卻機構包括一活動式冷卻裝置，該活動式冷卻裝置係可移動地設於該工作平台上，且可配合可程式控制器控制其相對接近或遠該夾頭之移動行程及時機，該活動式冷卻裝置具有複數第一冷卻噴管可隨著該活動式冷卻裝置移動，使其可隨時依需要將冷卻液噴向所需之位置，進而達到較佳之冷卻效果。
Patent TW-I729627-B (TW)
Inventor: JAN CHIA-MING
IPC: G06F30/00
Filed: 2019-12-17
Granted: 2021-06-01
Abstract: 一種扣件尺寸的線上預測方法，包括：在扣件的鍛造過程中線上取得感測參數，且感測參數包括鍛造模具的合模距離、溫度與鍛造力；提供一尺寸預測模型；以及輸入感測參數至預測模型，以藉由尺寸預測模型預測出扣件的尺寸。另提供一種扣件尺寸的線上預測系統。
Patent TW-I729631-B (TW)
Title: Method for measuring impedance
Inventor: TU CHIA-HAO
IPC: G01R27/08
Filed: 2019-12-18
Granted: 2021-06-01
Abstract: The invention discloses a method for measuring impedance of a device under test, briefly named DUT. In a first mode, a first end of the DUT is powered the cross voltage of the DUT is measured by the first testing module to obtain a first voltage value, and the current flow through the DUT is measured by the second testing module to obtain a first current value. In a second mode, a second end of the DUT is powered, the cross voltage of the DUT is measured by the second testing module to obtain a second voltage value, and the current flow through the DUT is measured by the first testing module to obtain a second current value. A real impedance value of the DUT is calculated according to the first voltage value , the second voltage value, the first current value, and the second current value.