baber/WOPTO huggingface dataset:
Patent IN-171404-B (IN)
Inventor: HOLLOWELL DAVID LOUIS
IPC: H01L21/60
Filed: 1987-08-25
Abstract: A method for aligning and bonding the outer leads (20) of the conductive fingers (16, Fig.3) of a tape-and-semiconductor-chip sub-assembly to a package substrate (12) is disclosed. Each section of tape is provided with an inner support ring (18) and an outer support ring (22). The conductive fingers extend from under the inner support ring (18) to under the outer support ring (22). The outer support ring (22) is spaced away from the inner support ring (18) to expose portions (23) of the tape outer leads (20) therebetween. The tape-and-chip sub-assembly (10) is positioned over the package substrate (12) so the outer leads (20) are in register with the appropriate package substrate leads (26). A deposit of flux (28) is applied to at least one location (30) between the substrate (18) and outer support ring (22) to bond the sub-assembly to the substrate. The bonded outer support ring prevents the sub-assembly from moving so the leads do not become out of register with the substrate prior to and during the lead bonding process.
Patent IN-170306-B (IN)
Inventor: BROWN DALE GORDON
IPC: C07D207/42
Filed: 1989-11-17
Abstract: There are provided certain insecticidal, acaricidal and molluscicidal pyrrole carbonitrile and nitropyrrole compounds and a method for controlling insects, acarids and mollusks therewith. The invention also provides a method for protecting growing plants from insect, acarid and mollusk attack by applying to said plants or the soil or water in which they are growing, an insecticidally, acaricidally or molluscicidally effective amount of a pyrrole carbonitrile or nitropyrrole compound. The present invention further relates to methods for the preparation of said pyrrole carbonitrile and nitropyrrole compounds.
Patent RS-51880-B (RS)
Inventor: VAN GROENESTIJN JOHANNES WOUTERUS
IPC: C01B17/90
Filed: 2006-02-13
Abstract: DOBIJANJE SUMPORNE KISELINE. Postupak za dobijanje sumporne kiseline iz smeše koja sadrži sumpornu kiselinu i organsku materiju, koji obuhvata fazu u kojoj se navedena smeša dovodi u kontakt sa anjon-selektivnom membranom, na taj način proizvodeći filtratni tok bogat sumpornom kiselinom i tok osiromašen sumpornom kiselinom, gde navedena smeša potiče iz faze kontakta u kojoj se biomasa dovodi u kontakt sa svežim tokom sumporne kiseline, i gde je navedeni svezi tok sumporne kiseline bar delimično dobijen iz filtrata koji se dobija u navedenoj fazi dovođenja u kontakt navedene smeše sa navedenom anjon-selektivnom membranom, i gde navedeni svezi tok sumporne kiseline dalje sadrži sumpornu kiselinu koja se dobija sagorevanjem H2S, gde je H2S poželjno dobijen iz faze redukcije sulfata koja se primenjuje na tok koji se dobija iz navedenog toka osiromašenog sumpornom kiselinom.Prijava sadrži još 5 patentnih zahteva.
Patent RS-52437-B (RS)
Inventor: LANGSTON STEVEN P
IPC: A61K31/519
Filed: 2007-01-31
Abstract: Jedinjenje formule (VII)ili njegova farmaceutski prihvatljiva so, naznačeno time, što:stereohemijske konfiguracije opisane na pozicijama označenim zvezdicom pokazujurelativnu stereohemiju;Q je=N- ili =C(RK)-;X je -CH2-, -CHF-, -CH2-, -NH-, ili -O-;Y je-O-, -S-, ili -C(Rm)(Rn)-;Ra je odabrano iz grupe koja sadrži vodonik, fluoro, -OH,-OCH3 i -CH3; ili Ra i Rc zajedno formiraju vezu;Rb je odabrano iz grupe koja sadrži vodonik, fluoro, C1-4 alifatičnu, i C1-4 fluoroalifatičnu grupu;Rc je odabrano iz grupe koja sadrži vodonik, fluoro i -OR5; ili Ra i Rc zajedno formiraju vezu;Rd  je odabrano iz grupe koja sadrži vodonik, fluoro, C1-4 alifatičnu, i C1-4 fluoroalifatičnu grupu;Re je vodonik ili C1-4 alifatična grupa;svako Rf je nezavisno vodonik ili C1-4 alifatična grupa;svako Rh je nezavisno vodonik, halo, -CN-, -OR5, -N(R4)2, -SR , ili opciono supstituisana C1-4 alifatična grupa;Rj je vodonik, -OR5, -SR6, -N(R4)2, ili opciono supstituisana alifatična, aril ili heteroaril grupa;Rk je vodonik, halo, -OR3, -SR6, -N(R4)2, ili opciono supstituisana C1-4 alifatična grupa;Rm je vodonik, fluoro, -N(R4)2, ili opciono supstituisana C1-4 alifatična grupa; Rn je   vodonik, fluoro, ili opciono supstituisana C1-4 alifatična grupa; ili Rm i Rn zajedno formiraju =O ili =C(R5)2;svako R4 je nezavisno vodonik ili opciono supstituisana alifatična, aril, heteroaril ili heterociklil grupa; ili dva R4 na istom azotovom atomu, zajedno sa azotovim atomom, formiraju opciono supstituisani 4- do 8-člani heterociklični prsten sa, pored atoma azota, 0-2 heteroatoma u prstenu nezavisno odabrana između N, O, i S; svaki R5 je nezavisno vodonik ili opciono supstituisana alifatična, aril, heteroaril ili heterociklil grupa;svaki R6 nezavisno je opciono supstituisana alifatična, aril, ili heteroaril grupa; i m je 1,2, ili 3;V2 je-N(R8)-, -O-, ili -S-;R8 je vodonik ili C1-4 alifatična grupa;Prsten D je opciono supstituisani aril, heteroaril, heterociklil ili cikloalifatični prsten, svaki supstitutabilni zasićeni ugljenikov atom prstena u Prstenu D je nesupstituisan ili supstituisan sa =O, =S, =C(R5)2, =NN(R4)2, =N-OR5, =N-NHC(O)R5, =N-NHCO2R6, =N-NHSO2R6, =N-R5 ili -RP;svaki supstitutabilni nezasićeni ugljenikov atom prstena u Prstenu D je nesupstituisan ili supstituisan sa -RP;svaki supstitutabilni prstenov atom azota u Prstenu D je nesupstituisan ili supstituisan sa-R9p;svaki -R9p je nezavisno -C(O)R5, -C(O)N(R4)2, -CO2R6, -SO2R6, -SO2N(R4)2, ili C1-4 alifatična grupa opciono supstituisana sa R7 ;svaki Rp nezavisno odabran je iz grupe koja sadrži halo, C1-6 alifatičnu grupu, C1-6 fluoroalifatičnu grupu, -R1p, -R2p, -T2-R1p, i -T2-R2p; ili dva RP na istom zasićenom atomu ugljenika, zajedno sa ugljenikovim atomom za koji su prikačeni, formiraju opciono supstituisani 3- do 6-člani spirociklični cikloalifatični prsten;T2 je C1-6 alkilen lanac opciono supstituisan sa R3a ili R3b;svaki Rlp nezavisno je opciono supstituisana aril, heteroaril ili heterocikl
Patent RS-52998-B (RS)
Inventor: JOHNSON MICHAEL R
IPC: A61K31/495
Filed: 2006-04-27
Abstract: Jedinjenje predstavljeno formulom (I):naznačeno time što:X je vodonik, halogen, trifluormetil, C1-C7 alkil grupa, nesupstituisana ili supstituisana fenil grupa, C1-C7 alkil-tio, fenil-C1-C7 alkil-tio, C1-C7 alkil-sulfonil ili fenil-C1-C7 alkil-sulfonil grupa;Y je vodonik, hidroksilna grupa, merkapto, C1- C7alkoksi, C1-C7 alkiltio grupa, halogen, C1-C7 alkil, nesupstituisana ili supstituisana fenil grupa ili -N(R2)2;R1 je vodonik ili C1-C7 alkil grupa;svaki R2 je nezavisno jedan od drugog, -R7, -(CH2)m-OR8, -(CH2)m-NR7R10, -(CH2)n(CHOR8)(CHOR8)n-CH2OR8, -(CH2CH2O)m-R8, -(CH2CH2O)m-CH2CH2NR7R10, -(CH2)n-C(O)NR7R10, -(CH2)n-Zg-R7, -(CH2)m-NR10-CH2(CHOR8)(CHOR8)n-CH2OR8, -(CH2)n-CO2R7 iliR3 i R4 su, svaki nezavisno od onog drugog, vodonik, grupa predstavljena formulom (A), C1-C7 alkil, hidroksi C1-C7 alkil, fenil, fenil-C1-C7 alkil, (halofenil)-C1-C7 alkil, C1-C7-(alkilfenilaklil), C1-C7 (alkoksifenil)-C1-C7 alkil, naftil-C1-C7 alkil ili piridil-C1-C7 alkil grupa, uz uslov da je najmanje jedan od R3 i R4 grupa predstavljena formulom (A):u kojoj:svaki RL je, nezavisno jedan od drugog, -R7, -(CH2)n-OR8, -O-(CH2)m-OR8, (CH2)n-NR7R10, -O-(CH2)m-NR7R10, -(CH2)n(CHOR8)(CHOR8)n-CH2OR8, -O-(CH2)m(CHOR8)(CHOR8)n-CH2OR8, -(CH2CH2O)m-R8, -O-(CH2CH2O)m-R8, -(CH2CH2O)m-CH2CH2NR7R10, -O-(CH2CH2O)m-CH2CH2NR7R10, -(CH2)n-C(=O)NR7R10, -O-(CH2)m-C(=O)NR7R10, -(CH2)n-(Z)g-R7, -O-(CH2)m-(Z)g-R7, -(CH2)n-NR10-CH2(CHOR8)(CHOR8)n-CH2OR8, -O-(CH2)m-NR'°-CH2(CHOR8)(CHOR8)n-CH2OR8, -(CH2)n-CO2R7, -O-(CH2)m-CO2R7, -OSO3H, -O-glukuronid, -O-glukoza,svako o je, nezavisno, ceo broj od 0 do 10;svako p je ceo broj od 0 do 10;uz uslov da je zbir o i p u svakom kontinualnom lancu od 1 do 10;svako x je, nezavisno jedno od drugog, -O-, -NR10-, -C(=O)-, -CHOH-, -C(=N-R10)-, CHNR7R10- ili predstavlja jednogubu (prostu) vezu;svaki R5 je, nezavisno jedan od drugog, -Link-(CH2)m-CAP, -Link-(CH2)n(CHOR8)(CHOR8)n-CAP, -Link-(CH2CH2O)m-CH2-CAP, -Link-(CH2CH2O)m-CH2CH2-CAP, -Link-(CH2)m-(Z)g-CAP, -Link-(CH2)n(Z)g-(CH2)m-CAP, -Link-(CH2)n-NR13-CH2(CHOR8)(CHOR8)n-CAP, -Link-(CH2)n-(CHOR8)mCH2-NR13-(Z)g-CAP, -Link-(CH2)nNR13-(CH2)m(CHOR8)nCH2NR13-(Z)g-CAP, -Link-(CH2)m-(Z)g-(CH2)m-CAP, -Link-NH-C(=O)-NH-(CH2)m-CAP, -Link-(CH2)m-C(=O)NR13-(CH2)m- CAP, -Link-(CH2)n-(Z)g-(CH2)m-(Z)g-CAP, ili -Link-Zg-(CH2)m-Het-(CH2)m-CAP;svaki Link je, nezavisno jedan od drugog, -O-, -(CH2)m-, -O(CH2)m-, -NR13-C(=O)-NR13-, -NR13-C(=O)-(CH2)m-, -C(=O)NR13-(CH2)m-, -(CH2)n-Zg-(CH2)n, -S-, -SO-, -SO2-, -SO2NR7-, - SO2NR10- ili -Het-;svaki CAP je, nezavisno jedan od drugog -CR10(-(CH2)m-R9)(-(CH2)m-R9);svaki Ar je, nezavisno jedan od drugog fenil grupa ili supstituisana fenil grupa, gde je naznačeni supstituent 1-3 grupe nezavisno izabrane iz grupe koja se sastoji od -OH, -OCH3, -NR13R13, -Cl, -F i -CH3, ili heteroaril grupa;gde je naznačena heteroaril grupa izabrana iz grupe koja se sastoji od piridin, pirazia, tinazin, furil, furfuril, tienil, tetrazol, tiazolidindion i imidazoil grupapirol, furan, tiofen, piridi
Patent TW-I668052-B (TW)
Inventor: MAYR CHRISTOPH
IPC: B05C9/08
Filed: 2014-04-25
Granted: 2019-08-11
Abstract: 本發明係關於一種用於使用具有至少一塗覆成分及至少一溶劑之一塗覆材料塗覆一基板(9)之一表面(9o)之裝置，其具有以下特徵部：- 一腔室(7)，其可經加壓，- 一固持設備(8)，其用於將該基板(9)固持在一固持表面(12)上，及- 一噴射噴嘴(11)，其用於塗覆該基板(9)，其特徵在於該裝置具有用於冷卻固持在該固持設備(8)之該固持表面(12)上之該基板(9)之至少該表面(9o)之冷卻構件。
 
     此外，本發明係關於一對應方法。
Patent TW-I618522-B (TW)
Title: 集塵裝置
Inventor: HATANO TSUYOSHI
IPC: A47L7/00
Filed: 2014-08-06
Granted: 2018-03-21
Abstract: 一種集塵裝置，具備有：具有下本體與前本體及後本體之本體、及夾在前本體與下本體之間之彈性板。彈性板具有孔洞，前本體具有突部，並且構造成在將彈性板安裝於前本體的狀態下，前本體之突部插入彈性板之孔洞。藉此，可實現一種可容易地更換彈性板的集塵裝置。
Patent TW-I629304-B (TW)
Inventor: IMADA TOMOYUKI
IPC: C08G8/28
Filed: 2014-09-16
Granted: 2018-07-11
Abstract: 本發明所提供的改質羥基萘酚醛樹脂為將由下述結構式(1)所表示的結構部位(I)作為重複單元的酚醛樹脂，且樹脂中所存在的R 1 中的至少一個為三級烷基、烷氧基烷基、醯基、烷氧基羰基、含有雜原子的環狀烴基、三烷基矽烷基的任一者。
 
     
       
         
       
     
     (式中，R 1 為氫原子、三級烷基、烷氧基烷基、醯基、烷氧基羰基、含有雜原子的環狀烴基、三烷基矽烷基的任一者，m為1或2。當m為2時，2個R 1 相互可相同，亦可不同。R 2 分別獨立
地為氫原子、烷基、烷氧基、芳基、芳烷基、鹵素原子的任一者)
Patent TW-I633877-B (TW)
Title: Absorbent article
Inventor: SAITO KYOUTA
IPC: A61F13/515
Filed: 2014-10-03
Granted: 2018-09-01
Abstract: 一種吸收性物品係具有縱方向、和與前述縱方向交叉之橫方向的吸收性物品，其特徵為具有：沿著前述縱方向設置，用來吸收排泄物的吸收性本體；沿著前述橫方向設置，一邊從前述吸收性本體的非肌膚側覆蓋前述吸收性本體的前述縱方向的一端部一邊將前述橫方向的中央部固定在前述一端部的腹部側帶構件；及作為與前述腹部側帶構件不同的構件，其沿著前述橫方向設置，一邊從前述吸收性本體的非肌膚側覆蓋前述吸收性本體的前述縱方向的另一端部一邊將前述橫方向的中央部固定在前述另一端部的背部側帶構件，在前述腹部側帶構件及背部側帶構件，分別配置有沿著前述橫方向進行伸縮之彈性構件，前述腹部側帶構件係在前述橫方向兩側緣具有腹部側帶構件側緣部，前述背部側帶構件係在前述橫方向兩側緣具有背部側帶構件側緣部，藉由接合前述腹部側帶構件側緣部及前述背部側帶構件側緣部，將前述吸收性物品成形為筒狀，前述吸收性本體具有將液體吸收性材料層積而構成之吸收性
芯材、和將前述吸收性芯材從該吸收性芯材的非肌膚側予以覆蓋的不透液性之防漏薄片，前述吸收性芯材係在腹部側端部與背部側端部之間，具有前述橫方向的寬度較前述腹部側端部及前述背部側端部窄之縮徑部，前述背部側帶構件側緣部的至少一部分的位置在前述縱方向上與前述縮徑部重複。
Patent TW-I655500-B (TW)
Title: 含有聚醯亞胺前驅物的樹脂組成物與其硬化膜、硬化膜的製造方法、圖案硬化膜與其製造方法以及電子零件
Inventor: ONO KEISHI
IPC: H01L21/312
Filed: 2014-10-07
Granted: 2019-04-01
Abstract: 一種樹脂組成物，其含有：(a)具有下述通式(1)所表示的結構單元的聚醯亞胺前驅物、(b)下述通式(2)所表示的化合物、及(c)藉由照射光化射線而產生自由基的化合物。
Patent TW-I622994-B (TW)
Inventor: CHEN ANDY WANGKUN
IPC: G11C8/08
Filed: 2014-10-27
Granted: 2018-05-01
Abstract: 在包含位元格6之陣列4的記憶體2內，寫入驅動電路14使用增壓之寫入信號，該增壓之寫入信號在寫入操作期間經增壓低於正常位準。行選擇電晶體16由行選擇電路12驅動。在未選中行時，該行選擇信號經增壓低於正常位準；及在選中行時，該行選擇信號經增壓高於正常位準。在行選擇電路12內使用電壓增壓電路(諸如電荷泵20、22)，以達成行選擇信號之此等增壓位準。
Patent TW-I654604-B (TW)
Title: Recording layer for optical recording medium and optical recording medium
Inventor: SONE YASUHIRO
IPC: G11B7/254
Filed: 2014-11-27
Granted: 2019-03-21
Abstract: 光記錄媒體具備包含金屬M A 之氧化物、金屬M B 之氧化物、及金屬M C 之氧化物之透過型記錄層。金屬M A 係選自由Mn及Ni所組成之群中之至少1種，金屬M B 係選自由W及Mo所組成之群中之至少1種，金屬M C 係Zr。金屬M A 相對於金屬M B 之原子比(M A /M B )為0.37以上且1.31以下。透過型記錄層中之金屬M C 之含量為0.9原子%以上且27.5原子%以下。
Patent TW-I647784-B (TW)
Inventor: CHHATRE RISH
IPC: H01L21/683
Filed: 2014-12-16
Granted: 2019-01-11
Abstract: 本發明係關於一種安裝固定架，其用以將一彈性材料帶安裝在圍繞一半導體基板支架的一安裝槽內，該半導體基板支架用於在一電漿處理腔室內支撐一半導體基板，該安裝固定架包含：一圈環，具有位於該圈環之一外緣上的一垂直延伸部，並且用以容納該彈性材料帶；以及一底板，設置成與該圈環附接，該底板具有複數徑向延伸部，該等徑向延伸部用以在與該半導體基板支架中之安裝孔相對應的位置容納複數機械式扣件。
Patent TW-I675624-B (TW)
Title: 殺芽方法
Inventor: SAKAI TOMOMI
IPC: A61L2/16
Filed: 2015-04-01
Granted: 2019-11-01
Abstract: 本發明提供一種可與菌種無關地高效且有效地對芽胞形成菌進行殺菌之殺芽方法。本發明提供於下述步驟1結束後進行下述步驟2之殺芽方法。即，作為步驟1，使芽胞形成菌與吡啶二羧酸或其鹽於pH值6以下之條件下接觸，於步驟1結束後，作為步驟2，對芽胞形成菌進行殺菌。又，本發明提供一種具有同時進行下述步驟1與下述步驟2A之期間之殺芽方法。即，作為步驟1，使芽胞形成菌與吡啶二羧酸或其鹽於pH值6以下之條件下接觸，及作為步驟2A，對芽胞形成菌進行物理性殺菌。
Patent TW-I614945-B (TW)
Inventor: LIAN WUN CHENG
IPC: H01R12/72
Filed: 2015-04-28
Granted: 2018-02-11
Abstract: 一種卡緣連接器，包括一第一絕緣體、至少一導電端子和一上殼。第一絕緣體具有至少一定位槽、至少一第一端子孔與至少一第二端子孔，定位槽位於第一端子孔與第二端子孔之間。導電端子具有一定位凸部與分別位於定位凸部兩側的一第一接觸部與一第二接觸部，定位凸部係以可轉動的方式設置於定位槽中。第一接觸部經由第一端子孔凸出於第一絕緣體的一下表面，第二接觸部經由第二端子孔凸出於第一絕緣體的下表面。上殼覆蓋於第一絕緣體之上。藉此當導電端子分別接合於電路板之金手指時，其可提供的接觸力可增加，提供卡緣連接器與其連接的電路板更好的電性接觸。
Patent TW-I661460-B (TW)
Inventor: SHIRAIWA NORIO
IPC: H01L21/683
Filed: 2015-05-21
Granted: 2019-06-01
Abstract: 一種靜電夾具，包括一包含一貫穿孔之基板，一插置於該貫穿孔內之圓柱絕緣組件，該圓柱絕緣組件包括一自該貫穿孔的一上端凸伸之凸伸部，一配置於該基板上之置放台，一形成於該置放台的一下表面內之凹陷部，該圓柱絕緣組件的凸伸部係緊配於該凹陷部內，一形成於該置放台的凹陷部內之凹部，一形成於該置放台的凹部內之電極，及一配置於該圓柱絕緣組件的內部之饋電端子，該饋電端子連接於該電極。
Patent TW-I670070-B (TW)
Inventor: JEON HONG RYEOL
IPC: A61K38/08
Filed: 2015-06-16
Granted: 2019-09-01
Abstract: 本發明係有關一種含有活性成分及安定劑之醫藥組成物，其中該活性成分係去氨加壓素(desmopressin)或其醫藥上可接受鹽類，且其中該安定劑係至少一樹膠(gum)；一種一或多個樹膠用以增加醫藥組成物安定性以對抗變性之用途，該組成物包含作為活性成分之去氨加壓素或其醫藥上可接受鹽類；一種製備含有去氨加壓素或其藥學上可接受鹽類之口崩膜(orally disintegrating film)之方法，以及一種可由此獲得之口崩膜。
Patent TW-I634630-B (TW)
Inventor: CHEAH BOK ENG
IPC: H01L23/31
Filed: 2015-08-25
Granted: 2018-09-01
Abstract: 描述一種適合用於彎曲包裝物形狀的可撓性包裝結構。在一實施例中，包裝物具有：一第一晶粒，在該第一晶粒上面的一第一模造化合物層，在該第一模造化合物層上面的一配線層，在該配線層上面且電氣耦合至該配線層的一第二晶粒，以及在該第二晶粒上面的一第二模造化合物層。
Patent TW-I656068-B (TW)
Title: 多晶矽包裝袋
Inventor: YOSHIMURA SATOKO
IPC: B65D30/02
Filed: 2015-09-23
Granted: 2019-04-11
Abstract: 本發明之課題係提供一種包裝袋，其在藉由厚度小，具體而言厚度為300µm以下之聚乙烯系樹脂薄膜所形成的袋中充填有多晶矽破碎物(Si破碎物)，且有效地防止因該Si破碎物造成之袋破損。依據本發明，提供一種多晶矽包裝袋，其在藉由平均厚度300µm以下之聚乙烯系樹脂薄膜形成的袋1中充填有Si破碎物4，且其特徵為袋1在底部具有熱封接合部2，且充填有Si破碎物4，使在將袋1保持於以底部為接地面之直立狀態時之袋1的最大伸長率為5%以下。
Patent TW-I614434-B (TW)
Inventor: BIRTCHER CHARLES MICHAEL
IPC: F16K11/10
Filed: 2015-11-13
Granted: 2018-02-11
Abstract: 一方面，本發明為一改良閥塊，具有最小的或無滯流(死角)，可改善系統清洗程序的效率。另一方面，本發明為採用該改良閥塊的一系統。
Patent TW-I612619-B (TW)
Inventor: LIN BOJIUN
IPC: H01L23/532
Filed: 2015-11-16
Granted: 2018-01-21
Abstract: 一種製造半導體之方法，包含接收具有基板及置於基板上之第一層之裝置，其中第一層包含溝渠。此方法還包含於施加第一材料於第一層之上及溝渠之中，其中此第一材料包含填充物和與填充物化學鍵結之成孔劑。此方法更包含固化第一材料以形成多孔材料層。多孔材料層具有第一部分和第二部分，第一部分置於溝渠之中，而第二部分則置於第一層之上。第一和第二部分大致上含有相同百分比的矽、氧和碳。第一和第二部分大致上含有相同的孔隙率。
Patent TW-I614603-B (TW)
Inventor: LIN WEN HUA
IPC: G06F11/26
Filed: 2015-12-03
Granted: 2018-02-11
Abstract: 一種以伺服器自動地安裝系統軟體之方法，其包括藉由伺服器之控制器得到用以安裝系統軟體至伺服器之組態檔案，然後儲存組態檔案至伺服器之儲存器。該方法包括於儲存組態檔案後啟動伺服器，以及從儲存器中擷取儲存之回應檔案。該方法更包括響應於啟動伺服器，基於該組態檔案而安裝系統軟體至伺服器，而不會產生新的組態檔案。
Patent TW-I647993-B (TW)
Title: 控制伺服器機櫃中氣流之系統及方法
Inventor: LI YUNG-FU
IPC: G05D7/06
Filed: 2016-02-01
Granted: 2019-01-11
Abstract: 一種在伺服器機櫃中控制氣流的方法，包含藉由交換器儲存連接表，連接表包含對應於交換器之交換埠之機櫃位置之資訊。交換器獲得連接到交換器之交換埠之至少一裝置相對應的至少一管理控制器之位址資訊。交換器基於連接表及位址資訊測定至少一裝置之每一個的機櫃位置。交換器從機櫃管理控制器(RMC)接收至少一裝置之每一個之機櫃位置的請求。交換器發送至少一裝置之每一個的機櫃位置至機櫃管理控制器。機櫃管理控制器基於至少一裝置之每一個的機櫃位置而控制至少一裝置的風扇速度。
Patent TW-I621756-B (TW)
Title: Overflow hole drainage device
Inventor: YAN JIN-ZHONG
IPC: E03C1/26
Filed: 2016-03-30
Granted: 2018-04-21
Abstract: 本發明一種溢水孔排水裝置，包括一固定組件於其中央設一排水口以及一樞設孔，該樞設孔位於排水口內部的上側；一導流管在一端形成一導流出口，且導流管在導流出口設有向外擴大一體延伸有錐面狀的一外導流板，該導流管的導流出口接設於排水口，且該外導流板由排水口向下傾斜凸伸於固定組件外側一段距離，避免由導流出口排出之液體沾觸到安裝使用的牆面；以及對應排水口形狀的一活動蓋，該活動蓋具有一樞組部且樞組於該樞設孔，該活動蓋常態下垂蓋住導流出口以阻擋外部異物沿著導流出口進入，且於排水時藉排水水流頂推該活動蓋向外完全打開。
Patent TW-I609816-B (TW)
Inventor: YONEDA YUUICHI
IPC: B62M7/12
Filed: 2016-05-10
Granted: 2018-01-01
Abstract: 本發明之跨坐型電動車輛10包括將馬達32之驅動力傳遞至後輪11R之動力傳遞機構40。動力傳遞機構40包含：後輪軸42，其於軸表面形成有相對於軸向傾斜之花鍵槽421；第2齒輪44，其形成有與花鍵槽421嵌合之花鍵441且於與後輪軸42之間進行旋轉力之授受；及彈性構件51，其對安裝於後輪軸42之第2齒輪44朝右方向施力。花鍵槽421、441之傾斜係如下傾斜，即，於後輪11R向使跨坐型電動車輛10前進之方向旋轉之情形時，當相對於後輪11R之旋轉速度減少而欲使第2齒輪44維持旋轉速度時，使第2齒輪44朝左方向移動。
Patent TW-I624830-B (TW)
Inventor: CHIEN YING REN
IPC: H04M9/08
Filed: 2016-05-25
Granted: 2018-05-21
Abstract: 本發明提出一種仿射組合的回聲消除方法與系統，利用仿射組合的回聲消除方法結合能快速收斂但不可抗脈衝雜訊的仿射投影演算法(Affine Projection Algorithm,APA)和收斂速度慢但可抗脈衝雜訊的時變步階仿射投影演算法(Variable Step-Size Affine Projection Algorithm,VSSAPA)，並且以介於0與1之間仿射組合函數訊號作為所述二演算法的輸出權重，使得仿射組合的回聲消除系統可以達到快速收斂且抗脈衝雜訊的優點。更佳地，本發明之仿射組合函數訊號可進一步使用非線性轉換模組優化，使得仿射組合的回聲消除系統可以達到更好的回音往返耗損增強(Echo Return Loss Enhancement,ERLE)效能。
Patent TW-I617541-B (TW)
Title: １,２-二環丙基乙基苯酚及其光學異構物的製備方法
Inventor: QIN LIN-LIN
IPC: C07C39/06
Filed: 2016-05-30
Granted: 2018-03-11
Abstract: 本發明關於一種通式(A)所述化合物及其光學異構物的製備方法，該製備方法包括將鹵代苯酚衍生物與硼化合物偶聯後再催化氫化得到通式(A)化合物，該方法具有反應路線短，原料價廉易得、適合工業化生產等優點。通式(A)化合物結構如下所示，R的定義與說明書定義一致。
Patent TW-I702281-B (TW)
Title: 研磨材及研磨材的製造方法
Inventor: SAITO KAZUO
IPC: B24D3/04
Filed: 2016-06-08
Granted: 2020-08-21
Abstract: 本發明的目的在於提供一種研磨速率及平坦化精度優異且歷經比較長的期間而研磨速率難以下降的研磨材。本發明的研磨材包括基材、積層於該基材的表面側且包含研磨粒及其黏合劑的研磨層、及積層於所述基材的背面側的黏接層，其特徵在於：所述研磨粒為金剛石研磨粒，藉由泰伯磨耗試驗而得的所述研磨層的磨耗量為0.03 g以上、0.18 g以下，且自所述研磨層的表面側測定而得的阿斯卡D硬度為80°以上、98°以下。所述黏合劑的主成分可為無機物。所述黏合劑可含有以無機氧化物為主成分的填充劑。所述研磨層可於表面包括多個槽。所述研磨層可利用印刷法形成。
Patent TW-I624489-B (TW)
Inventor: DING PING
IPC: C08G61/00
Filed: 2016-06-14
Granted: 2018-05-21
Abstract: 由具有溶解度提高部分的芳族二炔烴單體形成的聚伸芳基寡聚物顯示在某些有機溶劑中溶解度提高並且適用於形成電子應用中的介電材料層。
Patent TW-I793061-B (TW)
Inventor: KE TUNG HUEI
IPC: H01L21/027
Filed: 2016-06-29
Granted: 2023-02-21
Abstract: A method is provided for photolithographic patterning of an organic layer, such as an organic semiconductor layer of an organic electronic device, the method comprising providing a water soluble shielding layer over the organic layer, providing a photoresist layer on the shielding layer, photolithographic patterning of the photoresist layer to thereby form a patterned photoresist layer, etching the shielding layer and the organic layer using the patterned photoresist layer as a mask, to thereby form a patterned shielding layer and a patterned organic layer, and afterwards removing the patterned shielding layer. The method is characterized in that it comprises, before providing the water soluble shielding layer, providing a hydrophobic protection layer having a hydrophobic upper surface on the organic layer.
Patent TW-I615278-B (TW)
Inventor: BECKMANN RUDOLF
IPC: C30B29/20
Filed: 2014-03-18
Granted: 2018-02-21
Abstract: 本發明係關於一種表面拉緊之藍寶石板及一種對應製造製程，其中該板包含一平面藍寶石基板(10)及安置於該基板(10)之表面(11)上以用於拉緊該基板(10)之至少一個層(12)，且其中該層(12)包含至少50重量%之Al 2 O 3 。
Patent TW-I621951-B (TW)
Title: Machine sorting device
Inventor: TOYAMA YASUHIRO
IPC: G06F17/00
Filed: 2016-07-29
Granted: 2018-04-21
Abstract: 資料取得部(101)係從機器分類指標資料庫(201)取得機器分類指標資料。分類指標定量化部(102)係將機器分類指標資料所含的定性性資料變換成表示定性性資料間之類似度的定量性資料。機器分類部(103)係使用定量性資料，按照機器單位進行設備分類。
Patent TW-I624164-B (TW)
Title: Pilot structures for ack and cqi in a wireless communication system
Inventor: XU HAO
IPC: H04L5/00
Filed: 2008-05-16
Granted: 2018-05-11
Abstract: Techniques for transmitting data and pilot for control information are described. In one aspect, a user equipment (UE) may spread a reference signal sequence with a first orthogonal sequence to obtain multiple pilot sequences. The UE may then send the multiple pilot sequences on multiple subcarriers in multiple symbol periods, one pilot sequence in each symbol period. The UE may modulate the reference signal sequence with control information (e.g., ACK information) to obtain a modulated sequence. The UE may spread the modulated sequence with a second orthogonal sequence to obtain multiple data sequences. The UE may then send the multiple data sequences on the multiple subcarriers in multiple symbol periods for data. In another aspect, the UE may send multiple pilot sequences on multiple subcarriers in multiple symbol periods separated by at least one symbol period, one pilot sequence in each symbol period.
Patent TW-I712198-B (TW)
Title: 非水電解液及非水電解液二次電池
Inventor: NOHARA YUTA
IPC: C07F7/18
Filed: 2016-09-14
Granted: 2020-12-01
Abstract: 本發明之非水電解液二次電池包含鋰鹽溶解於有機溶劑中而成之非水電解液。陰極活性物質係含有錳之含鋰過渡金屬氧化物之鹽。本發明之非水電解液包含下述通式(1)所表示之化合物、較佳為下述通式(1')所表示之化合物之至少1種。通式(1)及通式(1')所表示之化合物之含量為0.001～10質量%。關於通式(1)及通式(1')之具體內容，如本說明書所記載。
Patent TW-I711537-B (TW)
Title: Heat-curable resin film and sheet for forming first protective film
Inventor: FUSE KEISHI
IPC: H01L23/29
Filed: 2016-10-05
Granted: 2020-12-01
Abstract: A sheet for forming a first protective film of the present application includes a heat-curable resin film on a surface of one side of a first supporting sheet, wherein the heat-curable resin film is adhered to a semiconductor wafer surface having bumps and is cured by heat, whereby the first protective film is formed on the surface thereon. The heat-curable resin film includes a polymerization component (A) and a heat-curable component (B0), wherein the weight-avarage molecular weight of the heat-curable component (B0) is 450 or more, and the dispersity thereof is 10 or less.
Patent TW-I658581-B (TW)
Inventor: KIM YEONJI
IPC: H01L51/52
Filed: 2016-10-28
Granted: 2019-05-01
Abstract: 一種光學組件，適用於一顯示裝置且包含一線性偏光片、位於線性偏光片的下方並且具有一負色散特徵值的一第一四分之一波片層以及位於線性偏光片下方的一膽固醇液晶層。將具有負色散特徵值的第一四分之一波片和膽固醇液晶層依序設置在線性偏光片下方可提高反射率和亮度、降低色偏。並且，當第二四分之一波片設置於線性偏光片上時，使用者即使在戴上太陽眼鏡時仍可在任意角度看到影像。
Patent TW-I662420-B (TW)
Inventor: PESAVENTO GERRY
IPC: G06F17/00
Filed: 2014-05-27
Granted: 2019-06-11
Abstract: 在一個具體實施例內，可確定與一媒體項目相關聯的一組標記。至少部分根據與該媒體項目相關聯的該標記集合以及複數個分享偏好設定集合，可識別複數個個體集合之一或多者，其中該等複數個分享偏好設定集合之每一者關聯於對應的該等複數個個體之一者，並指示哪些媒體項目要與對應的該等複數個個體之一者自動分享之標記。屬於該媒體項目的資訊可與該等已識別的個體分享。
Patent TW-I712099-B (TW)
Title: Self-damping end effector
Inventor: LOPICCOLO JACK
IPC: H01L21/677
Filed: 2016-11-18
Granted: 2020-12-01
Abstract: A self-damping end effector including a base, a finger extending from the base and adapted to support a substrate, and a damper associated with the finger, the damper having a natural frequency within a predetermined tolerance of a natural frequency of the finger.
Patent TW-I709105-B (TW)
Title: 用於影像分析之系統、方法及非暫時性電腦可讀儲存媒體
Inventor: BANERJEE SAIBAL
IPC: G06T1/20
Filed: 2016-12-05
Granted: 2020-11-01
Abstract: 形狀基元係用於一半導體晶圓或其他工件之檢測。該等形狀基元可界定一設計之局部拓樸及幾何性質。一或多個規則應用至該等形狀基元。該等規則可指示一缺陷之存在或一缺陷存在之可能性。一規則執行引擎可搜尋由該至少一個規則涵蓋之該等形狀基元之一出現。
Patent TW-I621845-B (TW)
Inventor: SOCHA ROBERT JOHN
IPC: G06N7/00
Filed: 2016-12-14
Granted: 2018-04-21
Abstract: 本發明提供一種校準一模型之程序，該程序包括：獲得訓練資料，該訓練資料包括來自複數個結構之散射輻射資訊，該散射輻射資訊之個別部分與為該等個別結構之一圖案化程序之特性的各別程序條件相關聯；及使用一或多個處理器運用該訓練資料藉由判定將該等程序特性中之一者之一改變與散射輻射資訊之一對應改變相關之一第一比率而校準一模型。
Patent TW-I624349-B (TW)
Inventor: ASADA KUNIHIKO
IPC: H01L21/68
Filed: 2016-12-14
Granted: 2018-05-21
Abstract: 本發明提供一種壓印裝置的調整方法、壓印方法和物品製造方法。一種用於調整壓印裝置的調整方法包括：準備步驟，準備用於對測試模具的接觸區域與供給在基板上的壓印材料接觸的狀態進行評估的樣品；評估步驟，對樣品進行評估；以及調整步驟，基於在評估步驟中獲得的評估結果來調整壓印裝置。接觸區域包括不包括圖案的平坦區域，評估步驟中的評估包括第一評估，該第一評估是對平坦區域中的壓印材料的狀態的評估，並且，在調整步驟中基於第一評估的結果來調整壓印裝置。
Patent TW-I771279-B (TW)
Title: 固態電解質、固態電解質膜及其製造方法、以及二次電池
Inventor: YANG LI
IPC: H01M10/0562
Filed: 2016-12-16
Granted: 2022-07-21
Abstract: 本發明提供一種固態電解質、固態電解質膜及其製造方法、以及二次電池。該固態電解質含有離子液體聚合物、腈類化合物和鋰鹽。本發明的固態電解質所形成的電池在高充放電倍率(例如0.5C和1.0C)下具有非常好的放電比容量和優異的循環性能，非常適合作為電池使用，特別適合於鋰二次電池使用。
Patent TW-I706859-B (TW)
Title: 具有保護膜之透明導電膜層積用薄膜以及透明導電性薄膜之製造方法
Inventor: TODAKA MASAYA
IPC: G06F3/041
Filed: 2016-12-23
Granted: 2020-10-11
Abstract: 本發明之課題係提供一種具有優異的防多重取得性且即便擦拭表面時亦能夠維持該優異的防多重取得性之具有保護膜之透明導電膜層積用薄膜。
 
     
     
       本發明之解決手段，係提供一種具有保護膜之透明導電膜層積用薄膜1a、1b，其係具備透明導電膜層積用薄膜3a、3b、及保護膜2之具有保護膜之透明導電膜層積用薄膜1a、1b，前述透明導電膜層積用薄膜3a、3b係具備支撐體31及第一功能層32，保護膜2係具備基材22、黏著劑層23、及塗覆層21，在塗覆層21之與基材22為相反側的面之表面電阻值為1.0×10 12 Ω/cm 2 以下，將前述面在預定的條件下擦拭之後之前述面的表面電阻值為1.0×10 12 Ω/cm 2 以下，前述面及第一功能層32之與支撐體31為相反側的面的至少一方之算術平均粗糙度Ra為7nm以上。
Patent TW-I633078-B (TW)
Inventor: TANAKA NAOYUKI
IPC: C07C233/05
Filed: 2017-01-16
Granted: 2018-08-21
Abstract: 本發明係提供著眼於反應所生成之不純物的不飽和醛類之N-乙烯基羧酸醯胺之製造方法。該N-乙烯基羧酸醯胺之製造方法為，特徵係N-乙烯基羧酸醯胺之製造方法中，具有將N-乙烯基羧酸醯胺中不飽和醛類之含量控制於20質量ppm以下之步驟。
Patent TW-I707714-B (TW)
Title: 離子交換裝置及其使用方法
Inventor: MIYAZAKI YOICHI
IPC: C02F103/04
Filed: 2017-03-17
Granted: 2020-10-21
Abstract: 本發明使用離子交換裝置，所述離子交換裝置包括陰離子交換槽、陽離子交換槽、及塔體側部，藉由在陰離子交換槽及陽離子交換槽之外引繞的連通單元而陰離子交換槽與陽離子交換槽連通，具備用以對陰離子交換槽的上部及下部供給或排出液體的供給排出配管及用以對所述陽離子交換槽的上部及下部供給或排出液體的供給排出配管，在平板配置著供水透過而阻止離子交換樹脂的通過的水收集輸送構件，上部供給排出配管、第1連通配管、第2連通配管及下部供給排出配管的末端分別連接於所述水收集輸送構件。
Patent TW-I644928-B (TW)
Title: (Meth)acrylic resin composition, resin molded body, resin Method for producing laminated body and (meth)acrylic resin composition
Inventor: NAKANO MASAHIRO
IPC: C08L33/04
Filed: 2017-03-22
Granted: 2018-12-21
Abstract: 本發明提供一種具有高阻燃性的(甲基)丙烯酸系樹脂組成物、及包含所述(甲基)丙烯酸系樹脂組成物的樹脂成形體、以及穩定地製造所述(甲基)丙烯酸系樹脂組成物的方法。本發明的(甲基)丙烯酸系樹脂組成物包括：含有源自於側鏈上具有芳香族烴基或碳數3~20的脂環式烴基的(甲基)丙烯酸酯(M)的重複單元的(甲基)丙烯酸系聚合物(P)、磷系阻燃劑(C)、及兩親性化合物(E)。本發明的組成物的製造方法包括：向預先含有(甲基)丙烯酸系樹脂組成物的單體原料與兩親性化合物(E)的組成物中後添加磷系阻燃劑(C)。