baber/WOPTO huggingface dataset:
Patent TW-I625306-B (TW)
Inventor: CHEN HUI HUANG
IPC: B82B3/00
Filed: 2016-02-24
Granted: 2018-06-01
Abstract: 本發明涉及一種以酸鹼處理法製備稻殼萃取物生物合成高安定性且分
散可逆性奈米銀懸浮液之方法，係利用高壓反應器酸水解及鹼處理(acid and alkaline pretreatment extraction,AAPE)提高其中具還原力之抗氧化物質萃取量，總酚含量為熱水萃取法(boiling water extraction,BWE)的100倍以上。製備奈米銀條件為以1：3之體積比，pH 10之稻殼萃取物與0.00001-0.0001mol/L之硝酸銀溶液混合，於25℃的溫度下反應1小時，合成穩定分散、高結晶度、粒徑介於1-100nm之奈米銀懸浮液。本發明直接利用稻殼之萃取物作為還原劑及分散劑奈米銀，不需額外添加化學還原劑及分散劑，具綠色環保之優點。縱使奈米銀顆粒因聚集而沉澱，亦可經由稀釋而恢復高安定性奈米銀懸浮液。
Patent TW-I684065-B (TW)
Inventor: IMAI HIROFUMI
IPC: G03F7/038
Filed: 2016-03-25
Granted: 2020-02-01
Abstract: 一種負型感光性組成物，其為含有：含有環氧基之樹脂(A)，與陽離子聚合起始劑(B)，其中，陽離子聚合起始劑(B)為：具有由式(b0-1)所表示之化合物，及式(b0-2)所表示之化合物所成之群所選出之1種以上之陽離子聚合起始劑(B0)，與pKa為-3以上之產生酸之陽離子聚合起始劑(B1)。
 
           
[式中，R b01 ~R b04 ，各自獨立為氟原子，或可具有取代基之芳基。R b05 為，氟原子，或可具有取代基之氟化烷基，複數之R b05 可分別為相同亦可、相異亦可。q為1以上之整數，又，Q q+ 各自獨立為q價之有機陽離子]。
Patent TW-I709479-B (TW)
Title: 偏光件之製造方法、偏光件、偏光板及影像顯示裝置
Inventor: NAGANO SHINOBU
IPC: B29D11/00
Filed: 2016-06-24
Granted: 2020-11-11
Abstract: 本發明提供一種可實現影像顯示裝置等之電子裝置的多機能化及高機能化的偏光件之製造方法，該方法可以高精度形成所希望之非偏光部的形狀。本發明偏光件之製造方法包含以下步驟：在偏光件其中一面側透過厚度10μm以下之黏著劑層積層表面保護薄膜，而製作於該其中一面側具有露出該偏光件之至少一部分的露出部之偏光薄膜積層體；使該偏光薄膜積層體之露出部接觸鹼性溶液；及自偏光薄膜積層體去除該表面保護薄膜。
Patent TW-I719995-B (TW)
Title: Method and design of low sheet resistance meol resistors
Inventor: CHONG NUI
IPC: H01L27/04
Filed: 2016-06-27
Granted: 2021-03-01
Abstract: An integrated circuit structure includes: a semiconductor substrate; a shallow trench isolation (STI) region in the semiconductor substrate; one or more active devices formed on the semiconductor substrate; and a resistor array having a plurality of resistors disposed above the STI region; wherein the resistor array comprises a portion of one or more interconnect contact layers that are for interconnection to the one or more active devices.
Patent TW-I624700-B (TW)
Inventor: FURUYA TSUTOMU
IPC: G02B5/30
Filed: 2016-07-06
Granted: 2018-05-21
Abstract: 本發明提供一種偏光板的製造方法，係包含隔介接著劑而使偏光膜、及比前述偏光膜寬幅且在側端部具有輥紋(knurling)部之保護膜重疊，並通過1對貼合輥間藉此進行按壓而得到積層膜的貼合步驟；以及使用前述積層膜製得偏光板之偏光板製作步驟；其中，於前述積層膜中，關於其寬度方向，以前述接著劑所構成之接著劑層，其側端面位於比前述保護膜的前述輥紋部實質上更內側的位置。
Patent TW-I701004-B (TW)
Inventor: ANTHONY DOMINIC MCMAHON
IPC: A45D34/04
Filed: 2016-07-06
Granted: 2020-08-11
Abstract: 一種用於在皮膚上塗敷一產品的裝置，該裝置包含一殼體(10)，具有：一第一端部(13)，用於從一容器(12)接收該產品；及一第二端部(14)，用於接收一氣體。該殼體包含：一或以上的出口(104)，位在該殼體中(10)且該產品及氣體通過該出口被分配至皮膚的一區域；及一加熱器(16)，被排列或配置以加熱該氣體及/或該產品，使得該氣體及/或產品以一被加熱狀態塗敷至皮膚上。該殼體形成一手持裝置可由一用戶握持且移動通過人或動物的皮膚而將產品塗敷在皮膚上。該殼體的形狀及尺寸被選擇以允許裝置由用戶的手握持，也可允許用戶的手指接觸皮膚。該殼體可被排列或配置以對皮膚提供按摩的感覺及/或以手持裝置的方式允許用戶在使用裝置的同時對皮膚執行手指按摩。
Patent TW-I715597-B (TW)
Inventor: WANG RENQIU
IPC: H04W4/70
Filed: 2016-07-07
Granted: 2021-01-11
Abstract: 概括地說，本案內容的某些態樣涉及無線通訊，更具體地說，本案內容的某些態樣涉及經由支援增強型機器類型通訊(eMTC)UL多使用者多工的訊框結構來增加使用者容量。例如，使用者設備(UE)決定較寬系統頻寬內的至少一個窄頻區域。UE從基地台接收指示該窄頻區域中的分配給該UE的子區域的訊號傳遞，該子區域用於發送與由一或多個其其他UE在該窄頻區域中發送的符號多工的實體上行鏈路通道的符號。UE在所分配的子區域中發送該實體上行鏈路通道。亦提供了可應用於DL多使用者多工的類似的技術。
Patent TW-I646859-B (TW)
Inventor: HAN SEUNGHEE
IPC: H04W88/08
Filed: 2015-03-12
Granted: 2019-01-01
Abstract: 實施例允許選擇一發現信號(DS)，該DS用以將一進階節點B(eNB)識別成接收該DS之用戶設備(UE)。該DS可使該UE確定該eNB之存在及/或細胞識別碼。DS包括複數個其他信號，諸如主要同步化信號(PSS)、次要同步化信號(SSS)、細胞特定參考信號(CRS)及/或通道狀態資訊參考信號(CSI-RS)。一DS時機包括數個子訊框，包括該DS的選擇信號係在該子訊框中被發送。被選擇用於該DS的信號、其特性及性質可使UE解碼細胞識別碼。該DS時機係依指定的週期性而發生。
Patent TW-I661352-B (TW)
Inventor: CHIU SHEN TING
IPC: G06F12/02
Filed: 2016-09-22
Granted: 2019-06-01
Abstract: 本發明提供一種資料儲存裝置包括一快閃記憶體以及一控制器。控制器自一主機接收用以指示將複數資料寫入快閃記憶體之複數寫入命令，逐一根據所接到之寫入命令自主機接收資料，其中在接收資料的過程中，當資料中已接收到的資料尚未累積至一既定量時，紀錄已接收到的資料的狀態為尚未確認，當已接收到之資料中之複數第一資料累積至既定量時，將複數第一資料寫入快閃記憶體，並且在所有第一資料被寫入快閃記憶體後，傳送相應於第一資料之複數寫入確認訊號至主機。
Patent TW-I687150-B (TW)
Inventor: WANG YU-JUNG
IPC: H05K7/20
Filed: 2016-11-09
Granted: 2020-03-01
Abstract: 一種電池充電裝置包含電池室，電池室具有
用以接收電池組之插槽。電池充電裝置包含第一熱交換模組和/或第二熱交換模組。第一熱交換模組包含圍繞在插槽的流體管，且流體管包含用以接收流體的腔室。流體管亦包含設置在腔室內用以限制流體的可變流動通道的多個流動引導件。第二熱交換模組包含電池連接器和熱耦接至電池連接器的散熱槽。散熱槽設置以消散來自電池組的熱能。
Patent TW-I625025-B (TW)
Inventor: SHEN FENG-CHI
IPC: H02J7/00
Filed: 2016-12-22
Granted: 2018-05-21
Abstract: 本案提供一種充放電裝置及其控制方法。所述控制方法包含經由一通用串列匯流排連接埠之一配置通道接收一電壓輸入訊號、於一預設時間內取樣電壓輸入訊號以產生多個取樣值以及根據取樣值將配置通道選擇性地耦接於一下拉電路或一上拉電路，以於配置通道耦接於下拉電路後經由通用串列匯流排連接埠之一電源通道接收一第一充電電壓，且於配置通道耦接於上拉電路後經由電源通道輸出一第二充電電壓。
Patent TW-I705864-B (TW)
Title: Cutting tool key, cutting head key assembly and method of attaching cutting head to tool holder
Inventor: HECHT GIL
IPC: B23C5/20
Filed: 2017-01-19
Granted: 2020-10-01
Abstract: A cutting tool key includes a handle component, for actuating rotation of the cutting tool key and a locking member that is attached to the handle component. The locking member includes a head receptacle portion at a rear end thereof. A sleeve member is attached to the locking member. The sleeve member is elastically flexible and circumferentially surrounds the head receptacle portion. A cutting head key assembly includes a cutting head that is located at the head receptacle portion and elastically clamped thereat by the sleeve member. The cutting head key is rotated to releasably attach the cutting head to the tool holder.
Patent TW-I788280-B (TW)
Inventor: HSIEH MIN-HSUN
IPC: H01L33/36
Filed: 2017-02-21
Granted: 2023-01-01
Abstract: An embodiment of present invention discloses a light-emitting device which includes a light source, a transparent covering structure, a reflective structure and an optical conversion structure. The light source includes a light-emitting surface, a bottom surface opposite to the light-emitting surface, a side surface, a first electrode and a second electrode. The first electrode and the second electrode are located at the bottom surface. The transparent covering structure covers the light-emitting surface and the side surface. The reflective structure has a first reflective structure surrounding the transparent covering structure, and a second reflective structure directly contacting the first reflective structure. The optical conversion structure is formed on the reflective structure and the transparent covering structure.
Patent TW-I743090-B (TW)
Title: 矽基板之研磨方法及研磨用組成物套組
Inventor: TAKAMI SHINICHIRO
IPC: B24B37/00
Filed: 2017-02-23
Granted: 2021-10-21
Abstract: 本發明提供可共通地適用於電阻率互不相同之複數種矽基板之研磨方法及該研磨方法中所用之研磨用組成物套組。本發明所提供之矽基板之研磨方法包含對研磨對象物之矽基板於上述矽基板之研磨期間依序交替供給第1研磨漿料S 1 及第2研磨漿料S 2 。上述第1研磨漿料S 1 含有研磨粒A 1 及水溶性高分子P 1 。上述第1研磨漿料S 1 之研磨能率高於上述第2研磨漿料S 2 之研磨能率。
Patent TW-I622912-B (TW)
Inventor: CHANG CHIA-LUN
IPC: G06F3/048
Filed: 2017-03-08
Granted: 2018-05-01
Abstract: 一種具觸控功能的電子裝置，其包括蓋板以及多個第一感測元件。第一感測元件陣列排列在蓋板的內表面上。在懸浮觸控模式下，第一感測元件被劃分成多個群組，其中同一群組的第一感測元件電性相連，且不同的群組依序接收驅動訊號。在觸控感測模式下，第一感測元件依序接收驅動訊號。另提供兩種具觸控功能的電子裝置的操作方法。
Patent TW-I623727-B (TW)
Inventor: CHENG YU HSIN
IPC: G06Q50/10
Filed: 2017-03-09
Granted: 2018-05-11
Abstract: 本發明係揭示一種大型空間資訊之整合應用系統，係包含儲存模組、人群定位模組、路徑規劃模組。其中，儲存模組可儲存商場地圖及商品資料。人群定位模組可對於大型空間中的複數個第一行動載具進行定位以產生人群定位資料。路徑規劃模組可根據第二行動載具的位置資料及目的地資料選擇人群定位資料低於門檻值的路徑進行計算以產生導引資料，而導引資料可在預定時間進行更新並傳送至第二行動載具，而使導引的路徑可確實的迴避人群。
Patent TW-I724132-B (TW)
Title: Method of wireless communication, apparatus for wireless communication and computer program for performing the method
Inventor: LEE SOO BUM
IPC: H04W12/00
Filed: 2017-03-15
Granted: 2021-04-11
Abstract: A user equipment (UE) may be configured to transmit a registration message to a network to establish a secure connection for non-access stratum (NAS) messages between the network and a UE, the secure connection based at least in part on a UE identifier and security capabilities of the UE included in the registration message. The UE may then exchange NAS methods with the network over the secure connection. The UE may also establish, in response to the registration message, an authentication protocol with the network and encrypt subsequent NAS messages based in part on the authentication protocol.
Patent TW-I728080-B (TW)
Title: 感光性薄膜及電子零件或半導體裝置之製造方法
Inventor: IKEDA YOSHIFUMI
IPC: G03F7/039
Filed: 2017-03-27
Granted: 2021-05-21
Abstract: 本發明提供一種感光性薄膜，其係可得到耐熱性高的硬化膜，具有良好的圖案加工性(高感度性)，且具有相對於基板之良好的密合性，亦即，具有積層性。
 
     一種感光性薄膜，其係含有：(A1)具有通式(1)所示之結構單元的鹼可溶性樹脂、(A2)包含選自聚醯亞胺、聚苯并 唑、聚醯胺醯亞胺、此等之前驅物、及此等之共聚物之1種以上的鹼可溶性樹脂、(B)光酸產生劑、以及(C)熱交聯劑。
 
     
       
         
       
     
     (通式(1)中，R 1 表示氫原子或碳數1~5的烷基，a表示0~4，b表示1~3之範圍內的整數，R 2 為氫原子、甲基、乙基、丙基中之任一者。)
Patent TW-I624915-B (TW)
Inventor: PAN CHI-LIANG
IPC: H01L23/31
Filed: 2017-04-25
Granted: 2018-05-21
Abstract: 一種封裝結構，其包括線路載板、第一晶片、封裝層、電容器以及電磁干擾屏蔽層。線路載板包括第一接墊以及第二接墊。第一晶片配置於線路載板上並且與線路載板電性連接。封裝層配置於線路載板上以覆蓋第一晶片。電容器包括電性分離的第一電容電極與第二電容電極。第一電容電極與第二電容電極嵌於封裝層內。電磁干擾屏蔽層至少覆蓋封裝層。第一電容電極與第二電容電極從線路載板朝向電磁干擾屏蔽層延伸。電磁干擾屏蔽層藉由第一電容電極以及第一接墊而接地。第二電容電極與第二接墊電性連接。
Patent TW-I772297-B (TW)
Inventor: TAN TIEN FAK
IPC: H01L21/67
Filed: 2017-05-09
Granted: 2022-08-01
Abstract: 半導體系統及方法可包括具有氣箱之半導體處理腔室，此氣箱界定至此半導體處理腔室之入口。此腔室可包括間隔物，該間隔物特徵為與氣箱耦接之第一表面，及此間隔物可界定在第一表面之內部部分上之凹進壁架。此腔室可包括在凹進壁架上安裝之支架，該凹進壁架沿間隔物之第二表面延伸。腔室亦可包括在支架上安裝之氣體分配板。
Patent TW-I668951-B (TW)
Inventor: DJENGUERIAN ALEX B
IPC: H02M1/00
Filed: 2014-01-17
Granted: 2019-08-11
Abstract: 一種控制器，包含旁路端子、第一電源電路、第二電源電路及充電控制電路。旁路端子欲被耦合至旁路電容器。旁路電容器被耦合至分離型電源轉換器之次級側。第一電源電路被耦合至旁路端子及第一端子。第一端子欲被耦合至次級側之第一節點。第一電源電路將電荷自第一端子傳遞至旁路端子，以儲存於旁路電容器上。第二電源電路被耦合至旁路端子及第二端子。第二端子欲被耦合至次級側之第二節點。第二電源電路將電荷自第二端子傳遞至旁路端子，以儲存於旁路電容器上。充電控制電路控制第一電源電路及第二電源電路中之哪一者將電荷傳遞至旁路端子。
Patent TW-I631550-B (TW)
Inventor: HAYAKAWA MASAHIKO
IPC: G09G3/36
Filed: 2011-04-20
Granted: 2018-08-01
Abstract: 本發明的一個方式的目的是提供一種抑制在圖像保持期間中花費的電力的顯示裝置。一種顯示裝置，包括利用從轉換器或者備份電路供給的電力驅動的液晶顯示面板。當負荷大的寫入工作時在使用轉換器供給固定電位的同時對電容器進行充電，而當負荷小的圖像保持期間時優先從電容器供給固定電位而不使用轉換器。
Patent TW-I780052-B (TW)
Title: 用於自行車的制動盤
Inventor: MEGGIOLAN MARIO
IPC: F16D65/12
Filed: 2017-06-21
Granted: 2022-10-11
Abstract: 本發明涉及一種用於自行車的制動盤(10)，制動盤(10)具有預定旋轉軸線(X)並且包括：第一部件(30)，其由第一材料製成並且具有制動軌(32)，制動軌(32)被構造成與制動墊片協調；第二部件(40)，其由第二材料製成並且具有：(i)徑向內環形部(42)，用於與自行車的車輪的輪轂(12)聯接，以及(ii)多個徑向外連接部(44)，用於在第一部件(30)的相應多個連接部(34)處連接至第一部件(30)。
 
     第一部件(30)包括多個連接臂(38)，該連接臂從制動軌(32)朝向預定旋轉軸線(X)延伸並且不同於多個連接部(34)，其中第一部件(30)的連接臂(38)中的至少一個與第二部件(40)的徑向外連接部(44)中的至少一個透過至少一個形狀聯接件(60)聯接在一起。
Patent TW-I655403-B (TW)
Title: Thermal insulation structure
Inventor: IKEBE TETSUNORI
IPC: C21D1/00
Filed: 2017-08-01
Granted: 2019-04-01
Abstract: 本發明係一種利用複數個預鑄塊來被覆金屬製之被覆對象物的隔熱構造體，可抑制相鄰之預鑄塊間所設之膨脹餘隙在使用時產生間隙。 　　此一隔熱構造體，係將摻合有以CaO・6Al 2 
O 3 
為礦物組成之多孔質隔熱性骨材的預鑄塊A、B，以被覆金屬製之被覆對象物10的方式作複數性設置；其特徵在於： 　　於相鄰之預鑄塊A、A之間及B、B之間，設置有含Al 2 
O 3 
成分達70質量%以上之纖維C。
Patent TW-I688560-B (TW)
Inventor: BOEHM MARKUS
IPC: A61K31/53
Filed: 2017-08-16
Granted: 2020-03-21
Abstract: 本發明揭露抑制二醯基甘油醯基轉移酶2(DGAT2)活性之式I化合物及該式I化合物於治療動物的與該DGAT2相關之疾病的用途。
Patent TW-I633408-B (TW)
Inventor: CHEN KUAN-MIN
IPC: G05F1/56
Filed: 2017-08-17
Granted: 2018-08-21
Abstract: 穩壓輸出裝置包含第一電晶體、第一偏壓電流源、偏壓電阻、第二電晶體、第二偏壓電流源及感測調整電路。第一電晶體之第一端耦接於第一偏壓電流源並輸出參考電壓。偏壓電阻耦接於第一電晶體之第二端耦接於並接收穩壓電流。第二電晶體的第一端接收系統電壓，其第二端輸出輸出電壓，而其控制端接收參考電壓。第二偏壓電流源耦接於第二電晶體之第二端。感測調整電路包含補償電流源及差動對。補償電流源耦接於第二電晶體之控制端。差動對耦接於第一電晶體及第二電晶體。當輸出電壓過低時，差動對啟動補償電流源以提高第二電晶體之控制端的電壓。
Patent TW-I641407-B (TW)
Title: Flywheel structure
Inventor: HSIUNG BOB
IPC: F16H33/02
Filed: 2017-08-24
Granted: 2018-11-21
Abstract: 本發明係指一種飛輪結構，其包含有一基盤及至少二配重塊，該基盤具有一輪軸部，又基盤於輪軸部外緣設有一向外延伸之輪架，且輪架上形成有至少二等角、等距之配重安裝部，而各該配重安裝部之內徑輪廓大小對應前述配重塊之斷面，令各該配重塊可分別安裝於相對之基盤配重安裝部，又各該配重塊之端面直徑小於或等於配重塊之長度，使配重塊的長軸線與基盤輪軸部軸線平行，而令配重塊呈立柱狀安裝於基盤上，藉此，使飛輪轉速遞增時，不僅可以減少高速轉動的偏擺，且其慣性重量曲線能明顯拉長，進一步並能減輕飛輪的重量、降低飛輪的製備成本。
Patent TW-I805559-B (TW)
Title: 流體控制裝置以及流體控制裝置用診斷程式產品
Inventor: NISHIKAWA MASAMI
IPC: G05B19/43
Filed: 2017-10-03
Granted: 2023-06-21
Abstract: 本發明提供一種流體控制裝置以及流體控制裝置用診斷
程式產品。為了能夠獲得與流體控制裝置正常時的流體控制閥的動作相關的資訊，使閥體22移位而控制流體的流體控制閥20的診斷裝置40包括：閥體關聯值接受部41，其接受與閥體22的移位相關聯地輸入輸出的閥體關聯值；移位偵測部42，其基於閥體關聯值而偵測閥體22的移位；以及移位次數記憶部43，其記憶移位偵測部42所偵測出的移位的次數。
Patent TW-I655038-B (TW)
Title: 壓製成形品的製造方法及製造裝置
Inventor: MIYAGI TAKASHI
IPC: B21D24/00
Filed: 2017-10-05
Granted: 2019-04-01
Abstract: 此製造方法，是包含：成為墊模保持狀態的第1階段、及第1階段的完成後進行墊模拉深成形的第2階段。在墊模保持狀態下，(a)墊模(13)及沖頭(11)是將胚料(15)中被成形成天板(21)的部分保持，模具(14)及胚料支架(12)是將在胚料(15)中被成形凸緣(25)的部分保持，(b)在存在於胚料(15)中被成形成第1部分的部分的界定壓製方向剖面中，胚料支架(12)中與胚料(15)的抵接面的壓製方向的位置，是比墊模(13)中與胚料(15)的抵接面的壓製方向的存在位置，在墊模(13)及沖頭(11)的並列方向位於更沖頭(11)存在側，(c)上下逆轉剖面角度是0°以上80°以下，(d)在與界定壓製方向剖面不同的壓製方向剖面中，墊模(13)中與胚料(15)的抵接面的壓製方向的位置，是比胚料支架(12)中與胚料(15)的抵接面的壓製方向的位置，在前述並列方向位於更墊模(13)存在側。
Patent TW-I671024-B (TW)
Inventor: DUA BHUPESH
IPC: D04B1/22
Filed: 2014-02-27
Granted: 2019-09-11
Abstract: 本發明闡述設置具有一鞋面及一整體式編織舌件之一編織組件之鞋類物件。該整體式編織舌件與該鞋面一起由單一編織構造形成且延伸穿過該編織組件之一喉部區域。該整體式編織舌件包含與該舌件一起由單一編織構造形成之隆起元件。製造用於一鞋類物件之一編織組件之方法可包含：在一編織機上之一編織程序期間編織該鞋面及該整體式編織舌件。
Patent TW-I679555-B (TW)
Inventor: ZHONG XIAN
IPC: H04N5/45
Filed: 2017-10-12
Granted: 2019-12-11
Abstract: 本案涉及一種擴增實境系統以及提供擴增實境之方法。擴增實境系統包含穿戴裝置以及電子裝置。穿戴裝置具有光學鏡片以及連結單元。電子裝置透過連結單元設置於穿戴裝置上，用以偵測空間資訊並根據空間資訊顯示擴增實境景象資訊，並用以投射對應擴增實境景象資訊的光訊號至光學鏡片，其中光訊號經由光學鏡片以沿著第一光學路徑導引至平面，其中擴增實境景象資訊中包含虛擬物件，虛擬物件係設置於擴增實境景象資訊中的空間座標，空間座標係對應空間資訊中的實體位置。
Patent TW-I630153-B (TW)
Inventor: CHIU YI-CHUN
IPC: B65D85/90
Filed: 2017-11-07
Granted: 2018-07-21
Abstract: 一種晶圓裝卸及充氣系統，其包括一晶圓裝卸裝置及一氣體填充裝置，所述晶圓裝卸裝置用於裝卸晶圓盒，所述氣體填充裝置用以連接所述晶圓盒，所述晶圓裝卸裝置包括一基座及一控制晶圓盒裝卸的控制箱，所述基座包括一支架、一裝設於所述支架上的承載台及一位於所述承載台下方的容置腔，所述承載台用以裝載所述晶圓盒，所述控制箱及所述氣體填充裝置位於所述容置腔內。
Patent TW-I665095-B (TW)
Inventor: LIN FENG CHIEH
IPC: B41C1/14
Filed: 2017-11-13
Granted: 2019-07-11
Abstract: 一種網版與網印方法。網版包含網布以及阻擋層。網布包含沿第一方向延伸之複數條第一網絲和沿第二方向延伸之複數條第二網絲。第一方向和第二方向之夾角不是直角。阻擋層附著於網布且包含第一落墨孔以及複數個第二落墨孔，第一落墨孔之寬度大於每個第二落墨孔之寬度。這些第二落墨孔沿第二方向延伸，且第二落墨孔和複數條第二網絲不重疊，第一落墨孔之延伸方向垂直於第二方向。
Patent TW-I654050-B (TW)
Title: 分離式卡盤裝置以及晶圓的研磨製程
Inventor: LIU YUAN
IPC: H01L21/304
Filed: 2017-11-23
Granted: 2019-03-21
Abstract: 本發明提供了一種分離式卡盤裝置以及晶圓的研磨製程，所述分離式卡盤裝置包括：內卡盤，用於承托晶圓的中心部分，並吸附晶圓；外卡盤，用於承托晶圓的外緣部分；拋光布，用於保護晶圓，所述拋光布位於所述內卡盤和/或所述外卡盤上；以及與所述內卡盤和/或所述外卡盤連接的升降裝置，所述升降裝置用於控制所述外卡盤與所述內卡盤的高度位置。在本發明提供的分離式卡盤裝置中，利用內卡盤吸附拋光布以及晶圓，利用外卡盤輔助支撐拋光布以及晶圓，並在清洗拋光布的時候，降低外卡盤的位置使拋光布的邊緣部分完全裸露出來，從而達到徹底清洗拋光布的目的，避免了存留在拋光布和卡盤之間的研磨液對晶圓的腐蝕。
Patent TW-I774708-B (TW)
Inventor: BHATTACHARYYA SANTOSH
IPC: G01N21/95
Filed: 2017-11-30
Granted: 2022-08-21
Abstract: 本文中闡述用於發現掩埋於三維半導體結構內之受關注缺陷(DOI)及將變因最佳化的方法及系統。藉由儲存與受量測之該等半導體結構之總深度之一子組相關聯之影像而減小經受缺陷發現及驗證之一半導體晶圓之體積。記錄與一或多個焦平面或聚焦範圍處之缺陷位置相關聯之影像片塊。基於以下各項中之任一者而減少所考量光學模式之數目：一或多個所量測晶圓級缺陷圖徵與一或多個預期晶圓級缺陷圖徵之一比較、所量測之缺陷信雜比及無需還原處理而驗證之缺陷。此外，採用經驗證缺陷及所記錄影像來訓練一擾亂篩選程式且將量測變因最佳化。將該所訓練擾亂篩選程式應用於缺陷影像以選擇最佳光學模式來用於生產。
Patent TW-I664860-B (TW)
Inventor: LIU JUN-ZUO
IPC: H04N9/77
Filed: 2017-12-04
Granted: 2019-07-01
Abstract: 本發明揭露了一種影像調整裝置與方法。本發明之方法的一實施例包含下列步驟：將一影像區域劃分為複數個區塊以個別地執行亮度調整，該複數個區塊包含一目標區塊與至少一相鄰區塊；接收該目標區塊的像素資料以計算該目標區塊的一目標區塊亮度；接收該至少一相鄰區塊的像素資料以計算該至少一相鄰區塊的至少一相鄰區塊亮度；依據該目標區塊亮度與該至少一相鄰區塊亮度來計算該目標區塊內的一目標像素的一計算亮度；以及依據該計算亮度來調整該目標像素的一原始亮度，從而產生該目標像素的一調整亮度。
Patent TW-I633493-B (TW)
Inventor: Chung Chuck
IPC: G06K9/58
Filed: 2017-12-05
Granted: 2018-08-21
Abstract: 一種取像裝置包括蓋板、感測器以及光學準直器。光學準直器配置在蓋板與感測器之間且包括彼此重疊的第一遮光圖案層、第二遮光圖案層以及第三遮光圖案層。第一、第二以及第三遮光圖案層分別具有多個第一、第二以及第三透光開口。各第三透光開口的尺寸大於或等於各第二透光開口的尺寸，且各第二透光開口的尺寸大於各第一透光開口的尺寸。或者，各第三透光開口的尺寸大於各第二透光開口的尺寸，且各第二透光開口的尺寸大於或等於各第一透光開口的尺寸。
Patent TW-I780094-B (TW)
Title: Semiconductor package with emi shield and fabricating method thereof
Inventor: SHIN DOO SOUB
IPC: H01L23/60
Filed: 2017-12-15
Granted: 2022-10-11
Abstract: A semiconductor device with EMI shield and a fabricating method thereof are provided. In one embodiment, the semiconductor device includes EMI shield on all six surfaces of the semiconductor device without the use of a discrete EMI lid.
Patent TW-I647938-B (TW)
Title: 訊息傳遞方法
Inventor: You jia ming
IPC: H04L12/24
Filed: 2018-01-09
Granted: 2019-01-11
Abstract: 本發明揭露一種訊息傳遞方法，其中，第一可攜式裝置將來自第一無線訊號發送器之身分識別資訊以及具有之訊息內容傳送至雲端伺服器，該雲端伺服器分析該訊息內容以取得該訊息內容之訊息標籤，以及依據該身分識別資訊取得該第一無線訊號發送器之無線訊號發送器標籤，接著該雲端伺服器利用該訊息標籤及該無線訊號發送器標籤取得代表至少一目標無線訊號發送器之至少一目標身分識別資訊，以使該雲端伺服器獲得該訊息內容與該至少一目標身分識別資訊之關聯性，當第二可攜式裝置於收到第二身分識別資訊後，比對該第二身分識別資訊與該至少一目標身分識別資訊，以令該第二可攜式裝置自該雲端伺服器取得該訊息內容。
Patent TW-I738954-B (TW)
Inventor: LAI HSIN-KAI
IPC: D03D15/00
Filed: 2018-01-18
Granted: 2021-09-11
Abstract: 一種具有導電圖案的織物，包括紡織本體、表層導電圖案以及內層導電圖案。表層導電圖案組成包括高分子且被設置於紡織本體之上。內層導電圖案係被設置於表層導電圖案之下且電連接於表層導電圖案，內層導電圖案的片電阻係低於表層導電圖案的片電阻。表層導電圖案和內層導電圖案具有整體片電阻，當經過水洗製程後，整體片電阻會小於100Ω/□。
Patent TW-I671824-B (TW)
Title: 半導體製造裝置及半導體裝置的製造方法
Inventor: NAKUI YUKI
IPC: H01L21/67
Filed: 2018-01-26
Granted: 2019-09-11
Abstract: 本發明的課題是以頂起單元頂起晶粒時，有晶粒變形而彎曲至夾頭的吸附面之下，發生洩漏的情形。 　　其解決手段，半導體製造裝置係具備： 　　保持晶圓的晶圓保持台；及 　　從前述晶圓保持台吸附晶粒的夾頭部。 　　前述夾頭部係具備夾頭及保持前述夾頭的夾頭夾具。 　　前述夾頭係具備： 　　與前述晶粒接觸的第一部分； 　　被保持於前述夾頭夾具的第二部分； 　　連結前述第一部分的中央部與前述第二部分的中央部的第三部分；及 　　貫通前述第一部分，前述第三部分及前述第二部分的第一吸引孔。 　　前述第一部分可追隨前述晶粒的彎曲而變形。
Patent TW-I645111-B (TW)
Inventor: WU SHU MU
IPC: F04B39/00
Filed: 2018-03-19
Granted: 2018-12-21
Abstract: 本發明提供一種可變壓力打氣筒，其包括第一氣缸、第二氣缸、第一氣管、活塞組、連接裝置以及洩氣裝置。第一氣缸、第二氣缸以及第一氣管同軸設置並可相對軸向運動。活塞組能夠壓縮第一氣缸內的空氣並選擇性地壓縮第二氣缸內的空氣。連接裝置設置於第一氣缸並適於連接待充氣物。洩氣裝置包括連接件與切換件，連接件連接於第二氣缸並具有連通第二氣缸的洩氣孔，切換件連接於連接件並具有選擇性連通洩氣孔並連通外界的導氣槽。藉由導氣槽選擇性地連通洩氣孔而使活塞組選擇性地對第二氣缸內的空氣作功，以達變壓力之目的。
Patent TW-I672790-B (TW)
Inventor: LAI MING-FANG
IPC: H01L23/60
Filed: 2018-04-02
Granted: 2019-09-21
Abstract: 本揭露提供一種靜電放電保護電路，耦接於一第一參考端點和一第二參考端點之間，該靜電放電保護電路包含一第一分壓元件、一第二分壓元件、一第一觸發電路以及一第二觸發電路。該第一觸發電路包含一第一端點以及一第二端點，其中該第一端點耦接於該第一參考端點，該第二端點通過該第一分壓元件耦接至該第二參考端點。該第二觸發電路包含一第一端點以及一第二端點，其中該第一端點耦接於該第二參考端點，該第二端點通過該第二分壓元件耦接至該第一參考端點，且該第二觸發電路和該第一觸發電路是並聯設置。
Patent TW-I640710-B (TW)
Title: 旋轉自保持式流體通量電磁閥
Inventor: SU ZHAO-DENG
IPC: F16K31/08
Filed: 2018-04-13
Granted: 2018-11-11
Abstract: 本發明揭露一種旋轉自保持式流體通量電磁閥，其包括閥座、閥體、電磁鐵組及磁鐵。閥座可轉動地與閥座同軸設置。第一閥孔及第二閥孔對應設置在閥座及閥體上。電磁鐵組包括第一電磁極端、第二電磁極端及第一線圈。第一電磁極端及第二電磁極端位於相對第一角度位置及第二角度位置上。磁鐵與電磁鐵對應設置。當第一線圈導通第一正向電流時，第一電磁極端與第一固定磁極端產生第一磁吸力，第二電磁極端與第一固定磁極端產生第一磁斥力，以同向作用而使閥體相對閥座旋轉至第一角度位置。當第一線圈導通第一反向電流時，第二電磁極端與第一固定磁極端產生第二磁吸力，第一電磁極端與第一固定磁極端產生第二磁斥力，以同向作用而使閥體相對閥座旋轉至第二角度位置。當閥體位於第一角度位置或第二角度位置且第一線圈不再通電流時，第一固定磁極端則吸住第一電磁極端或第二電磁極端，使閥體與閥座固定於第一角度位置或第二角度位置，俾能在持續開啟或關閉中線圈繞組不需要持續輸入電流下即可達到自保持的節能功效。
Patent TW-I693326-B (TW)
Title: 導光隔熱排風屋頂
Inventor: WU TZUNG JIUNG
IPC: E04D3/35
Filed: 2018-04-18
Granted: 2020-05-11
Abstract: 本發明係有關於一種導光隔熱排風屋頂，其主要係設有一可安裝於建築物頂部的主框架，所述主框架上端面具有一弧樑架，所述弧樑架用以架設導光板結構，並於導光板結構兩側分別安裝有初步固定加勁用之定位件，再於所述定位件上間距設置有架高件，且所述主框架兩側分別組設側擋板及兩端分別組設端板，所述側擋板一端定位於所述架高件上方，使其兩相鄰架高件之間形成有導入氣體的氣流通道，所述側擋板另一端與組設在所述主框架上的阻隔板組設定位，且所述側擋板上設有可將氣體導出的透孔；藉此，能經由上述架構形成氣體對流，進而達成導風、排氣、隔熱與節能等多重功效。
Patent TW-I762628-B (TW)
Title: 加工裝置及加工方法
Inventor: SHIBAZAKI YUICHI
IPC: B23K26/067
Filed: 2018-04-30
Granted: 2022-05-01
Abstract: 本發明之加工裝置具備：第1載台系統，其具有載置工件(W)之平台(12)，且使保持於平台之工件移動；光束照射系統(500)，其包含射出光束(LB)之聚光光學系統(530)；以及控制裝置，其控制第1載台系統及照射系統；一邊使平台與來自聚光光學系統之光束相對移動，一邊對工件之目標部位進行加工，且可變更聚光光學系統之射出面側之第1面(MP)上之光束之強度分佈、及聚光光學系統之光軸(AX)方向上之位置與第1面不同的第2面上之光束之強度分佈之至少一者。
Patent TW-I765032-B (TW)
Title: 樹脂組成物
Inventor: TORII KOUTA
IPC: C08K3/013
Filed: 2018-05-03
Granted: 2022-05-21
Abstract: 本發明的課題為提供即使使用平均粒徑小或比表面積大之無機填充材，亦可得到薄膜絕緣性優良，且於高溫高濕環境下之環境試驗後，可維持與導體層之間的密合性之取得平衡的硬化物之樹脂組成物等。    　　其解決手段為一種樹脂組成物，其係含有(A)環氧樹脂、(B)硬化劑、(C)聚碳酸酯樹脂，及(D)無機填充材之樹脂組成物，且(D)無機填充材之平均粒徑為100nm以下。或一種樹脂組成物，其係含有(A)環氧樹脂、(B)硬化劑、(C)聚碳酸酯樹脂，及(D)無機填充材之樹脂組成物，且(D)無機填充材之比表面積為15m 2 
/g以上。
Patent TW-I692351-B (TW)
Inventor: CHANG CHEOL HO
IPC: A61M1/00
Filed: 2018-05-10
Granted: 2020-05-01
Abstract: 本發明提供眼底脂肪重置手術用針具，呈圓弧形狀，當進行眼底脂肪重置手術時，用於固定向下方重置於淚溝的眼底脂肪，其中，所述針具包括：主體部，具有方形截面，當進行手術時被持針器所夾持；針部，一側部和另一側部以逐漸尖銳的方式分別在所述主體部的兩側延伸而成，由圓形尖端形成，所述一側部比另一側部鈍；以及線壓接結合部，在所述主體部的一端部中形成在從所述針具的一端隔開總長度的1/5至1/6距離且從所述主體部的一端隔開0.5mm至1mm的位置，在以貫通的方式形成通孔並在所述通孔連接線之後，利用衝壓機對所述主體部的兩面均進行壓接來附著線。根據本發明，本發明具有如下效果：通過使眼睛內側結膜的切口最小化來減少結膜的疤痕，容易進行內部固定手術，使眼底脂肪充分下降並重置於淚溝中，從而增加手術效果，可以牢固地對內部進行固定，從而使復發可能性最小化，防止因繃帶而引起的患者的不便，使患者無需為了去除繃帶及線而訪問醫院，防止因貫通皮膚的線和繃帶而發生皮膚過敏或炎症。
Patent TW-I736780-B (TW)
Inventor: JENG SHIN PUU
IPC: H01L21/56
Filed: 2018-06-27
Granted: 2021-08-21
Abstract: 提供晶片封裝之結構及其形成方法。此方法包含：設置半導體晶粒於載體基板之上。此方法也包含設置中介層基板於此載體基板之上。此中介層基板具有凹槽，此凹槽穿過該中介層基板之相反面。此中介層基板具有圍繞半導體晶粒之內部側壁，並且此半導體晶粒等高於或高於此中介層基板。此方法更包含在中介層基板之凹槽中形成保護層，以圍繞半導體晶粒。另外，此方法包含移除載體基板以及堆疊封裝結構於該中介層基板之上。
Patent TW-I782050-B (TW)
Title: 熱硬化性材料、及該熱硬化性材料之成形方法
Inventor: OBATA YUTAKA
IPC: C08L33/04
Filed: 2018-07-02
Granted: 2022-11-01
Abstract: 本發明提供一種熱硬化性材料，其含有下述成分(A)~(C)，且於利用旋轉黏度計之恆定剪切速度下之測定(JIS K7117-2：1999)中，於25℃下10s -1 下之黏度為5Pa˙s以上且200Pa˙s以下，於同樣地利用旋轉黏度計之恆定剪切速度下之測定中，於25℃下100s -1 之剪切速度下之黏度為0.3Pa˙s以上且50Pa˙s以下。(A)酯鍵結有經取代或未經取代之碳數6以上之脂環式烴基的(甲基)丙烯酸酯化合物，其於利用旋轉黏度計之恆定剪切速度下之測定中，25℃下之黏度為5~300mPa˙s；(B)球狀二氧化矽；(C)黑色顏料。
Patent TW-I676933-B (TW)
Inventor: LIN CHIEN-TING
IPC: G06F9/445
Filed: 2018-07-05
Granted: 2019-11-11
Abstract: 本發明實施例提供一種韌體更新方法。所述韌體更新方法適用於資料儲存裝置中，且其可以是根據資料儲存裝置更新所需的更新映像檔中的轉換公式段而產生新的參數表，因此，即使在舊版韌體的程式碼段與新版韌體的程式碼段間有參數改變的情況下，更新或升級後的資料儲存裝置仍可正常運作。
Patent TW-I748115-B (TW)
Title: 硬質物品之洗淨方法
Inventor: NOMURA TAKAYUKI
IPC: A47L13/17
Filed: 2018-07-13
Granted: 2021-12-01
Abstract: 本發明係一種硬質物品之洗淨方法，其係具有使混合(a)內部烯烴磺酸之鉀鹽與(b)硬度為5°DH以上之水而得之洗淨液與硬質物品接觸之接觸步驟、及利用硬度為5°DH以上之水沖洗接觸步驟後之硬質物品之步驟者，且於上述接觸步驟之至少一部分，使30℃以上之上述洗淨液與硬質物品接觸。
Patent TW-I711063-B (TW)
Inventor: WANG YUNG CHIH
IPC: H01H13/83
Filed: 2018-07-23
Granted: 2020-11-21
Abstract: An optical keyswitch includes a housing having a movable portion, a key shaft movable disposed on the housing, a resilient member disposed in the housing and a switch module including a circuit board, an emitter, and a receiver. The key shaft is selectively in a non-pressed position and a pressed position. The emitter emits an optical signal along a light path to the receiver. When the key shaft is in the non-pressed position, the movable portion has a first spatial relation with the light path and the receiver receives the optical signal of a first intensity. When the key shaft moves, in response to a pressing force, from the non-pressed position to the pressed position, the key shaft compresses the 
resilient member and pushes the movable portion to move, so the optical signal received by the receiver has a second intensity different from the first intensity and the switch module is triggered to generate a triggering signal.
Patent TW-I811230-B (TW)
Title: Semiconductor system and method for testing semiconductor system
Inventor: JANG SOO YOUNG
IPC: G01R31/26
Filed: 2018-08-03
Granted: 2023-08-11
Abstract: A system may include a first semiconductor apparatus and a second 
semiconductor apparatus. Each of the first and second semiconductor apparatuses may receive reference data and a first clock signal. The first semiconductor apparatus may generate a first internal clock signal from the first clock signal, and may output the reference data as transmission data based on the first internal clock signal. The second semiconductor apparatus may generate a second internal clock signal from the first clock signal, and may receive the transmission data based on the second internal clock signal. The second semiconductor apparatus may generate an error detection signal based on the received data and the reference data.
Patent TW-I679859-B (TW)
Title: 一種承載映射方法、裝置
Inventor: XU MENG
IPC: H04L1/16
Filed: 2018-08-10
Granted: 2019-12-11
Abstract: 本發明提供一種承載映射方法、裝置、基地台及終端，解決如何統一網路側和終端側兩側重複傳輸啟動/去啟動的MAC CE的bitmap與承載的映射關係的問題。該方法包括：通過隱式或顯式的方式，指示承載ID與MAC CE中bitmap的映射關係；MAC CE為重複傳輸啟動指示或去啟動指示的控制元素，承載ID為配置有重複傳輸功能的承載的ID。
Patent TW-I763905-B (TW)
Title: 用於銑削工具的銑削組、及轉位或替換一小尺寸的無孔之可轉位切削嵌件之方法
Inventor: HECHT GIL
IPC: B23Q3/00
Filed: 2018-08-13
Granted: 2022-05-11
Abstract: 一定位工具經構形用於保持一小尺寸的無孔之可轉位切削嵌件。該切削嵌件可具有一個三角形或三邊形(trigonal)形狀。該定位工具具有一面向外嵌件保持表面，其具有對應於該小尺寸的切削嵌件之一側的一形狀之一伸長形狀。該定位工具經構形以使用磁力、靜電力及/或黏著力來保持該切削嵌件。一銑削組可包含此一定位工具，連同一或多個此等小尺寸的切削嵌件。該銑削組可視情況亦包含具有一或多個嵌件承窩之一銑削工具，該一或多個嵌件承窩經構形以容納此等切削嵌件，且可進一步視情況包含一或多個夾緊螺釘，該一或多個夾緊螺釘經構形以在不穿過該等嵌件之情況下夾緊地且在外部將此等嵌件固定於該承窩中。
Patent TW-I687966-B (TW)
Title: 處理基板的方法及真空處理系統與設備
Inventor: HAWRYLCHAK LARA
IPC: H01L21/67
Filed: 2018-08-30
Granted: 2020-03-11
Abstract: 本揭露的實施一般性地關於改進的真空處理系統。在一實施中，真空處理系統包含：一第一傳送腔室，該第一傳送腔室耦接到至少一氣相磊晶處理腔室、一第二傳送腔室、一過渡站，該過渡站被設置在該第一傳送腔室與該第二傳送腔室之間、一電漿清洗腔室，該電漿清洗腔室耦接至該第一傳送腔室或該第二傳送腔室以用於從一基板的一表面去除污染物，及一裝載閘腔室，該裝載閘腔室耦接至該第二傳送腔室。
Patent TW-I752261-B (TW)
Title: Face mask having transparent plastic piece
Inventor: LAM INEZ TSZ WA
IPC: A61C19/06
Filed: 2018-08-31
Granted: 2022-01-11
Abstract: Implementations of the disclosed subject matter provide a face mask that may include a transparent plastic piece having a front side, a back side, a top side, a bottom side, a left side, and a right side. A first conformable member may be affixed to a first portion of the back side and disposed parallel to the top side. A second conformable member may be affixed to a second portion of the back side and disposed parallel to the bottom side. The face mask may include straps, ear loops, and/or head bands so that it may be secured to a user.