Patent DE-102011115125-B4 (DE)
Title: Herstellung einer mikrooptischen Darstellungsanordnung
Inventor: HOFFMÜLLER WINFRIED DR
IPC: B42D25/445
Filed: 2011-10-07
Granted: 2021-10-07
Abstract: Verfahren zum Erzeugen einer mikrooptischen Darstellungsanordnung (1) zur Darstellung eines mehrfarbigen Motivs, die ein Motivraster aus einer Mehrzahl von Mikromotivelementen (3), von denen mindestens ein Teil lateral mehrfarbig ist, und ein Fokussierelementraster aus einer Mehrzahl von Mikrofokussierelementen (4), das eine mikrooptische Betrachtungseinrichtung für das Motiv darstellt, aufweist, folgende Schritte umfassend:(a) Bereitstellen eines Trägermaterials (4') mit einer ersten Hauptfläche (6) und einer entgegengesetzten zweiten Hauptfläche (7), wobei die erste Hauptfläche das Fokussierelementraster aufweist und die zweite Hauptfläche eine eingeprägte Mikrostruktur (2) mit Mikroerhebungen (11) und Mikrovertiefungen (12) aufweist, wobei die Mikrovertiefungen in Form des Motivrasters angeordnet sind,(b) Bilden von ersten Mikromotivelementsegmenten (22) einer ersten Farbe durch(b1) Auftragen einer Resistzusammensetzung (20) einer ersten Farbe auf mindestens einen ersten Teilbereich der Mikrostruktur dergestalt, dass die Resistzusammensetzung in den Mikrovertiefungen (12) verbleibt,(b2) falls erforderlich, Entfernen von Resistzusammensetzung von Bereichen außerhalb der Mikrovertiefungen,(b3) Bestrahlen der Resistzusammensetzung (20) mit Strahlung einer zur strahlungsbedingten Veränderung der Resistzusammensetzung geeigneten Wellenlänge, wobei die Bestrahlung in einem definierten Winkel mit im Wesentlichen paralleler Strahlung durch die Mikrofokussierelemente (4) hindurch erfolgt, und(b4) Entfernen der nach der Bestrahlung besser löslichen Resistbereiche mit einem Lösungsmittel,(c) optional Bilden von zweiten Mikromotivelementsegmenten (25) einer zweiten Farbe durch(c1) Auftragen einer Resistzusammensetzung (23) einer zweiten Farbe, die von der ersten Farbe verschieden ist, auf mindestens einen zweiten Teilbereich der Mikrostruktur dergestalt, dass die Resistzusammensetzung in den Mikrovertiefungen (12) verbleibt, wobei der zweite Teilbereich mit dem ersten Teilbereich gleich oder von ihm verschieden sein kann,(c2) falls erforderlich, Entfernen von Resistzusammensetzung von Bereichen außerhalb der Mikrovertiefungen,(c3) Bestrahlen der Resistzusammensetzung (23) mit Strahlung einer zur strahlungsbedingten Veränderung der Resistzusammensetzung geeigneten Wellenlänge, wobei die Bestrahlung in einem definierten Winkel, der von dem in Schritt (b3) verwendeten Winkel verschieden ist, mit im Wesentlichen paralleler Strahlung durch die Mikrofokussierelemente (4) hindurch erfolgt, und(c4) Entfernen der nach der Bestrahlung besser löslichen Resistbereiche mit einem Lösungsmittel,(d) Bilden von weiteren Mikromotivelementsegmenten (25) einer weiteren Farbe durch(d1) Füllen der nach dem Bilden der ersten Mikromotivelementsegmente (22), und gegebenenfalls der zweiten Mikromotivelementsegmente (25), noch freien Bereiche der Mikrovertiefungen (12) mit einem weiteren Material einer weiteren Farbe, die von der ersten Farbe, und gegebenenfalls der zweiten Farbe, verschieden ist,(d2) falls erforderlich, Entfernen von weiterem Material von Bereichen außerhalb der Mikrovertiefungen, und(d3) wenn das weitere Material eine strahlenhärtbare Zusammensetzung ist, Bestrahlen der strahlenhärtbaren Zusammensetzung mit Strahlung einer zur Härtung geeigneten Wellenlänge, wobei die Bestrahlung ungerichtet erfolgt.