baber/WOPTO huggingface dataset:
Patent KR-100273162-B1 (KR)
Title: Barkward flow prevention device of inlet hose for power steering system
Inventor: PARK SOO BO
IPC: B62D5/07
Filed: 1997-12-29
Granted: 2000-12-01
Abstract: PURPOSE: A back flow preventing device of a power steering system is provided to smoothly flow operating oil even if an oil pump is installed higher than an oil storage tank by being mounted between the oil pump and the oil storage tank and then the durability of the oil pump is enhanced. CONSTITUTION: A fuel feeding system of a power steering system allows an operating oil to flow into an oil pump from an oil storage tank through a suction hose(23) formed between the oil pump and the oil storage tank. A back flow prevention device(24) for the suction hose consists of a communicating pipe(25) near the oil pump; a reduction pipe(26) extended from the communicating pipe with many through holes on the outer circumference; and a cover pipe(28) elastically supporting a coil spring(27) on the outer circumference of the reduction pipe. Thus, the back flow prevention device prevents the oil pump from being damaged.
Patent KR-100469147-B1 (KR)
Title: 반도체 소자의 제조방법
Inventor: KIM GI CHEOL
IPC: H01L21/335
Filed: 1997-12-29
Granted: 2005-04-06
Abstract: 본 발명은 반도체 소자의 제조방법에 관한 것으로, 형성하고자 하는 게이트의 목표 CD 값보다 큰 패턴을 마스크/식각 공정으로 형성한 후,  열산화 공정으로 산화막을 성장시켜 게이터의 CD 값이 목표 CD 값과 거의 같아지게 된 경우, 블랭킷 식각으로 상기 산화막을 식각하여 게이트 스페이서가 형성되게 함으로써, 미세 게이트 CD 를 확보하고, N+ 소스/드레인 과 N -  의 LDD 구조를 동시에 형성할 수 있으며, 게이트의 CD 안정화로 Vt 관련 품질을 향상시킬 수 있으며, 기존의 산화막 증착으로 게이트 폴리실리콘 산화막 스페이서를 만드는 단계를 스킵(skip) 함으로 인한 공정단축, 게이트 CD 의 초미세화로 소자의 쉬링크(Shrink)가 쉬워져 웨이퍼내의 네트 다이 수 증가로 인한 생산성 향상을 기할 수 있는 기술이다.
Patent KR-100313946-B1 (KR)
Inventor: LEE YUN BOK
IPC: G02F1/1343
Filed: 1997-12-30
Granted: 2002-04-06
Abstract: PURPOSE: An in-plane switching mode liquid crystal display is provided to prevent color change, realize a wide viewing angle and improve viewing angle characteristic. CONSTITUTION: An in-plane switching mode liquid crystal display includes the first and second substrates, a liquid crystal layer formed between the first and second substrates, a gate line and a data line arranged on the first substrate, perpendicular to each other, to define a pixel region, and a common line arranged within the pixel region. The display further includes a thin film transistor formed at the intersection of the gate line and the data line, and at least one pair of electrodes(211,219) that are formed on the first substrate and apply lateral electric field to the liquid crystal layer. One of the pair of the electrodes is formed around the other electrode in the form of circle or closed line. The pair of electrodes correspond to a data electrode and a common electrode. The in-plane switching mode liquid crystal display further has a light-shielding layer formed on the second substrate, and a color filter formed on the light-shielding layer.
Patent KR-100262976-B1 (KR)
Title: Stamp refractory of spinel for repair of induction furnace
Inventor: KIM BYUNG SOO
IPC: C04B35/443
Filed: 1997-12-30
Granted: 2000-08-01
Abstract: PURPOSE: A spinel stamp material for repairing an induction furnace is provided which improves spalling-resistance and corrosion-resistance by making up for defects of a conventional spinel stamp material for repairing the induction furnace being composed of magnesia and alumina. CONSTITUTION: The spinel stamp material for repairing an induction furnace comprises: (i) 30-40 wt.% of completely molten magnesia clinker having a particle size of 1-5 millimeter; (ii) 10-25 wt.% of completely molten magnesia clinker having a particle size of not more than 1 millimeter; (iii) 15-25 wt.% of completely molten and sintered magnesia clinker having a fine particle size; (iv) 10-20 wt.% of completely molten alumina clinker having a particle size of 5-1 millimeter; (v) 15-25 wt.% of completely molten alumina clinker having a particle size of not more than 1 millimeter; and (vi) 0-10 wt.% of completely molten alumina clinker having a fine particle size.
Patent KR-100191392-B1 (KR)
Inventor: WATANABE HIROSHI
IPC: E02F3/42
Filed: 1996-08-08
Granted: 1999-06-15
Abstract: 차체(1B)를 기준으로 하여 프론트장치(1A)의 제어용 목표속도벡터(Vc)를 계산하며, 이 목표속도벡터를 보정함으로써 프론트장치가 미리 설정한 굴삭영역의 경계에 근접하면, 프론트장치의 해당 경계에 접근하는 방향의 이동속도를 제한하고, 해당경계를 따라 프론트장치를 움직이는 건설기계의 영역제한굴삭제어용 굴삭영역설정장치에 있어서, 해당 굴삭영역을 설정하기 위하여 먼저 유압셔블본체의 외부에 수평한 방향으로 외부기준(80)을 설치하고, 설정기(7)를 사용하여 외부기준으로부터 굴삭영역의 경계까지의 깊이(hr)를 설정한다. 다음에 프론트장치(1A)를 움직여 프론트기준(70)이 외부기준과 위치가 일치하였을 때 외부기준설정스위치(71)를 누르면, 제어유닛(9)은 차체기준점(0)으로부터 외부기준까지의 높이(hf)를 연산하여 높이(hf)를 보정치로서 깊이(hr)로부터 차체기준점(0)에 대한 굴삭영역의 경계면의 깊이(hs)를 연산하며 이 깊이(hs)에 의하여 목표속도벡터(Vc)의 계산과 동일한 차체(1B)를 기준으로 한 굴삭영역을 설정한다. 이로써 차체기준으로 연산을 행하는 굴삭제어에 적합한 굴삭영역의 설정을 행할 수 있어 신뢰성높은 제어를 행할 수 있다.
Patent KR-100415422-B1 (KR)
Title: 탄화규소단결정을승화성장시키기위한방법및장치
IPC: C30B29/36
Filed: 1995-11-14
Granted: 2004-03-18
Abstract: 반응 챔버(2)는 기밀한 벽(20)에 의해 둘러싸이며, 상기 벽(2) 중 적어도 반응 챔버(2)를 향한 내부면(21)이 CVD 공정에 의해 제조된 실리콘 탄화물로 이루어진다.  벽(20)의 실리콘 탄화물의 적어도 일부가 승화되어 결정 시이드(3) 상에서 실리콘 탄화물-단결정(4)으로 성장된다.
Patent KR-100257946-B1 (KR)
Inventor: OMOTO SHUICHI
IPC: F26B13/26
Filed: 1998-02-10
Granted: 2000-06-01
Abstract: 장척박판의 판폭(板幅)이 변화한 경우라도 장척박판의 양 주면(主面)을 동일한 조건으로 건조할 수 있는 장척박판의 건조장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 
     건조장치는 건조로(1)와, 장척박판(P)을 지지하여 건조로(1)안을 반송시키는 한 쌍의 반송롤러(2)를 구비한다. 건조로(1)에서의 반송롤러(2)에 의해 반송되는 장척박판(P)의 양 주면측에는 각각 한 쌍의 에어 나이프(3)와 흡수성을 가지는 스펀지 롤러(4)가 설치되어 있다. 건조로(1)는 실린더기구(6)의 구동에 의해 에어 나이프(3) 및 스펀지 롤러(4)와 함께, 도 1에 있어서 실선으로 나타내는 위치와 2점쇄선으로 나타내는 위치의 사이를 이동한다. 또한, 상류측에 설치된 반송롤러(2)보다 더 상류측에는 장척박판(P)의 판폭을 검출하기 위한 판폭검출센서(7)가 설치되어 있다.
Patent KR-100263860-B1 (KR)
Title: A forming method of a red filter layer
Inventor: KIM KI-JUN
IPC: C08F299/00
Filed: 1998-04-14
Granted: 2000-08-16
Abstract: PURPOSE: A method for forming a red filter is provided to simplify an exposure process and reduce environmental pollution by using an ultraviolet ray instead of an etching solution. CONSTITUTION: A black matrix pattern(12) is formed on a panel(11). A negative photoresist is applied on a whole face of the panel(11) formed with the black matrix pattern(12). A photoresist layer(13) is formed therefrom. An ultraviolet ray(15) is irradiated on a portion forming a green luminant pattern and a blue luminant pattern through a mask(14). An exposure process is performed the portion forming the green luminant pattern and the blue luminant pattern by using the ultraviolet ray(15).
Patent KR-100499287-B1 (KR)
Title: 지게차용 사이드 쉬프트 캐리지
Inventor: LEE I SU
IPC: B66F9/08
Filed: 1998-05-13
Granted: 2005-09-26
Abstract: 본 발명은 지게차용 사이드 쉬프트 캐리지에 관한 것이며, 보다 상세하게는 사이드 쉬프트 캐리지의 화물 인양 능력을 증가시키도록 제작되어 있는 지게차용 사이드 쉬프트 캐리지에 관한 것이다. 본 발명의 적합한 실시예에 따른 지게차용 사이드 쉬프트 캐리지는 지게차의 본체 전방에 구비된 본체 캐리지의 상부 레일과 하부 레일 상에서 상기 본체 캐리지에 장착된 실린더에 의해 좌우 이동 가능하게 장착되어 있는 지게차용 사이드 쉬프트 캐리지에 있어서, 상기 상부 레일과 미끄럼 가능하게 결합되어 있는 상부 가이드, 상기 하부 레일과 미끄럼 가능하게 결합되어 있는 하부 가이드, 및 상기 상부 가이드 및 하부 가이드를 연결하기 위한 연결 부재를 포함하며, 상기 상부 레일 및 상기 하부 레일과 상기 상부 가이드 및 상기 하부 가이드와의 미끄럼 이동 중심이  상기 실린더의 양단 로드의 중심과 대체로 일치되도록 상기 실린더의 양단 로드가 상기 상부 가이드 하측에 연장 형성된 실린더 단부 고정 브레킷에 연결되어 있는 것을 특징으로 한다.
Patent KR-100287236-B1 (KR)
Title: J-형으로구부러진리드단자를구비하는반도체장치
IPC: H01L23/50
Filed: 1998-05-18
Granted: 2001-11-22
Abstract: J-형으로 구부러진 리드 단자를 구비하는 반도체 장치가 개시된다.     그 외측부에 형성된 오목부를 구비하는 방열판은 수지 부재의 저면에 노출되고  리드 단자의 외측부는 방열판의 오목부에 위치된다.     리드 단자의 외측부의 선단과  방열판의 오목부는 서로 수지 부재의 볼록부에 의해서 격리된다.     방열판이 수지 부재의 저면에 노출되므로,  방열성은 높고,  반면에 리드 단자는 서로 전혀 단락되지 않는다.
Patent KR-100296117-B1 (KR)
Title: Method for forming cobalt disilicide contact hole by chemical vapor deposition process
Inventor: AHN BYEONG TAE
IPC: H01L21/28
Filed: 1998-05-27
Granted: 2001-10-26
Abstract: PURPOSE: A method for forming a cobalt disilicide contact hole by chemical vapor deposition process is provided to simplify a contact formation process by forming CoSi2 epitaxial layer of a single crystal or nearing to a single crystal having (100) direction such as silicon while depositing cobalt metal on a silicon substrate of (100) direction at temperature of 600 °C using a low pressure CVD method. CONSTITUTION: By introducing a cobalt-organic metal source into a reactor, cobalt is deposited at temperature of 600°C or greater using a low pressure chemical vapor deposition method. An epitaxial layer CoSi2(7) is formed on a source and a drain, and a polycrystalline CoSi2(7) is formed on a gate. A cobalt metal over an oxide layer is etched, thereby forming a cobalt disilicide contact. In CoSi2(7) formation process, the cobalt-organic metal source is selected from (C5H5)2Co, Co(CO)3NO, C5H5Co(CO)2, Co2(CO)8 or Co4(CO)12.
Patent KR-100368103-B1 (KR)
Inventor: LEE HUI JONG
IPC: C07J1/00
Filed: 1998-05-28
Granted: 2004-05-20
Abstract: PURPOSE: An estrogen derivative, a salt thereof, and a hair growing composition containing the same are provided, which has no side effect and good hair growing effect and is safe to a human body. CONSTITUTION: The estrogen derivative and a salt thereof is represented by a formula I, wherein R is hydrogen, C1-6 alkyl, C1-6 acyl, benzyl oxyl, or tetrahydropyranyl group; X1 and X2 are same or different, hydrogen, halogen, CH2COOR4, CH2CONHR4, COOR4 or CONHR4, but are not hydrogen or halogen at the same time. The hair growing composition comprises 0.01 to 10 wt.% of the estrogen derivative or salt thereof, based on total weight of the composition. The estrogen derivative represented by formula I and salt thereof act as an antidrug.
Patent KR-100618247-B1 (KR)
IPC: G06F15/00
Filed: 1998-06-16
Granted: 2006-10-24
Abstract: 정수를 저장하기 위한 정수 레지스터(36)와, 명령 레지스터(10)에 보유된 명령의 P0.0필드에 위치한 포맷 코드를 해독하는 포맷 디코더(21)와, 포맷 디코더(21)에 의해 그 명령에 정수 레지스터(36)에 저장해야 할 정수가 위치되어 있다고  해독되면 정수 레지스터에 이미 저장되어 있는 정수를 시프트시키면서 상기 새로운 정수를 정수 레지스터에 저장하는 정수 레지스터 제어부(32)를 구비한다.
Patent KR-100544252-B1 (KR)
IPC: H01B1/22
Filed: 1998-06-16
Granted: 2006-03-23
Abstract: 본 발명은 실리카질 매트릭스 중에 금속 미분말을 함유한 고반사성 도전성 하층과 실리카질 저반사성 층으로 이루어지며, CRT에 전자파 차단 특성과 눈부심 억제 특성을 부여하는 데 적합한 이중층 구조의, 저항이 낮고 반사성이 낮은 투명 도전성 막을 개시한다. 도전성 하층은 금속 미분말 외에도 흑색 분말 (예, 티타늄 블랙)을 함유할 수 있다. 이 하층에서, 금속 미분말 이차 입자는 그 안에 금속 미분말이 들어있지 않는 세공을 가진 이차원 그물 구조를 형성하도록 분포될 수 있다. 또한, 하층은 그 표면에 불규칙부를 가지며, 하층의 철부의 평균 두께는 50 내지 150 nm 범위이고 요부의 평균 두께는 철부 두께의 50 내지 85% 범위이며 철부의 평균 피치가 20 내지 300 nm 범위내이다. 본 발명에서는 각각이 금속 미분말 입자가 알콕시실란이 함유되거나 되지 않은 용매에 분산되어 있는 분산액으로 이루어지는 여러가지 하층 형성용 피복 재료 역시 개시된다. 본 발명의 투명 도전성 막은 피복 재료를 기판 상에 피복하고, 피복된 막을 건조한 다음 알콕시실란 또는 그의 가수분해 생성물의 용액으로 피복함으로써 형성된다.
Patent KR-100262698-B1 (KR)
Inventor: EOM KI-AHN
IPC: A61J3/00
Filed: 1998-06-16
Granted: 2000-09-01
Abstract: 본 발명은 약물 경피투여제(經皮投與用 patch)의 제조방법 및 제조장치에 관한 것이며, 보다 구체적으로는 이형필름(離型紙)(1)＋약물(3)＋신축성 필름(poly  urethane)(4)＋릴리스라이너(release liner)로 이루어진 원판롤 또는 이형필름(離型紙)(1)＋약물(3)＋신축성 필름(polyurethane)(4)으로 이루어진 원판롤을 일련의 공정을 통해 상기 이형필름(1), 약물층(3) 및 신축성필름(4)을 소정의 형상으로 절개, 하프다이컷팅 및 다이컷팅하는 과정을 통해 신축성, 오염방지성, 약효의 지속성, 부착의 경고성 등이 우수한 소정 형상의 약물 경피투여제를 제조하는 방법 및 그 제조장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 약물 경피투여제의 제조장치는 본 출원인의 선 국내 특허출원 제96-69415호에 개시된 약물경피투여제 제조장치 및 동 제조방법에서 채택된 2차 신축성 필름층(7)＋점착제(6)＋릴리스라이너(5')로 이루어진 점착테이프 롤(20)을 생략함으로써 점착테이프롤의 릴리스라이너(5')를 제거하는 과정, 점착테이프 롤(20)의 원판롤에 대한 임시 및 본가압 부착공정, 점착테이프 롤의 2차 신축성필름을 하프다이컷팅하는 공정, 점착테이프 롤의 2차 신축성필름에 대한 하프다이컷팅 공정시 형성되는 그 잔여스크랩 제거공정 등이 생략됨으로써 전체 공정이 대폭 단축되고 그 제조장치의 구성이 대폭 간소화될 수 있는 이점이 있으며 약물경피투여제의 생산비를 절감할 수 있는 이점이 있다.
Patent KR-100290487-B1 (KR)
Title: Preparation method of light-weight insulating material using sludge of milk of lime
Inventor: CHOI HUI TAE
IPC: C04B18/30
Filed: 1998-07-08
Granted: 2001-09-17
Abstract: PURPOSE: A method for preparing a light-weight insulating material by using the sludge of milk of lime is provided, to recycle the sludge and the waste pollutant styrofoam, and thereby producing the light-weight insulating material at a low cost. CONSTITUTION: The method comprises the steps of drying the sludge of mink of lime; pulverizing the dried sludge into 0.01-0.03 n/m; and mixing 66 wt.% of the pulverized sludge, 16 wt.% of styrofoam with a size of 1-2 n/m, 16 wt.% of magnesia and 2 wt.% of a stabilizing agent. Preferably the sludge comprises 11 wt.% of the primary residue; 13 wt.% of the secondary residue; and 76 wt.% of the hydro residue.
Patent KR-100279270-B1 (KR)
Title: 화상제어장치
Filed: 1998-07-15
Granted: 2001-01-15
Abstract: 본 발명은 비디오 폰, 감시용 카메라 등의 외부기기로부터 제공되는 화상을 텔레비전의 화면 전체를 통하여 또는 분할된 화면으로 디스플레이할 수 있는  화상 제어 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 화상 제어 장치는 일반 텔레비젼 방송 신호나 비디오 신호를 수취하여 제1 화상 신호(1001)를 제공하는 제1 입력 수단(1000); 외부의 화상신호입력수단으로부터 전송된 화상 신호를 수취하여 제2 화상신호 (2001)를 제공하는 제2 입력 수단(2000); 상기 제1 및 제2 입력수단들(1000)(2000)로부터 각각 제공되는 제1 및 제2 화상 신호들(1001)(2001)로부터 동기 신호들을 분리하고, 상기 제2 화상 신호(2001)를 계속적으로 비교하여 신호의 변화가 검출되면 상기 입력된 화상 신호들을 믹싱하여 믹싱된 화상 신호를 제공하며, 상기 믹싱된 화상 신호 가운데 선택된 화상 신호(3001)를 제공하는 화상 제어 수단(3000);  그리고 화상 제어 수단(3000)으로부터 선택적으로 제공되는 화상 신호(3001)를 화면 상에 표시하기 위한 디스플레이 수단(5000)으로 구성되는 것을 특징으로 한다. 이상과 같은 구성의 본 발명의 화상 제어 장치에 따르면, 비디오 폰 등의 외부입력기기로부터 입력된 화상신호를 확인하기 위해 장소를 이동해야 하는 불편을 없앨 수 있으며, 나아가서 비디오폰 등의 외부기기들에 있어서 화상출력부를 별도로 구비하지 않아도 되므로 비용절감 효과를 달성할 수 있다.
Patent KR-100318114-B1 (KR)
Title: 마찰감소선박및표면마찰감소방법
IPC: B63B1/38
Filed: 1998-07-23
Granted: 2002-08-21
Abstract: 이동하는 선박에 있어서 길이 방향을 따라 특정 거리 만큼 분리된 선택된 위치로부터 수중에 기체를 불어 넣는 것에 의하여 기포를 발생시키는 기술에 근거한 표면 마찰 감소 방법이 개시된다.
Patent KR-100296718-B1 (KR)
Title: 다중프로세서 시스템에서 가변폭 버스를 동시에 액세스하기 위한 방법 및 시스템
IPC: G06F13/364
Filed: 1998-08-12
Granted: 2001-08-07
Abstract: 공통 와이드 버스(common wide bus)를 통해 시스템 메모리에 결합되어 있는 다중 프로세서를 가진 다중프로세서 시스템(multiprocessor system)에서의 개선된 버스 액세스(enhanced bus access)를 위한 방법 및 시스템이 제공된다. 공통 와이드 버스는 선택된 프로세서에 의해 개별적으로 또는 그룹으로 액세스될 수 있는 다중 서브버스(multiple sub-buses)로 분할되거나, 개별 서브버스들은 다수의 프로세서에 의해서 동시에 액세스될 수 있다. 각각의 프로세서는 하나 이상의 계류중인 트랜잭션(one or more pending transactions)에 응답하여, 최대 허용된 수의 서브버스들(maximum-permitted number of sub-buses)에 대한 요구를 버스 중재 로직(bus arbitration logic)에 대해 출력한다. 특정 프로세서에 대해 허가된 서브버스의 수가 그 프로세서의 계류중인 트랜잭션의 수와 동일한 경우에는, 모든 계류중인 트랜잭션이 개개 서브버스에서 병렬로 수행된다. 허가된 서브버스의 수가 계류중인 트랜잭션의 수보다 적은 경우에는, 계류중인 트랜잭션들이 우선 순위(priority order)로 수행된다. 마지막으로, 허가된 서브버스의 수가 계류중인 트랜잭션의 수보다 많은 경우에는, 선택된 트랜잭션들이 병렬로 서브버스를 통해 수행되어, 그들 트랜잭션의 속도가 크게 개선된다.
Patent KR-100269345-B1 (KR)
Inventor: CHOI YONG SOO
IPC: H04W16/22
Filed: 1998-08-13
Granted: 2000-10-16
Abstract: CDMA 방식의 이동 통신 시스템에 있어서, 셀 전체에 할당되어 있는 트래픽 채널의 전력을 일정 비율로 낮춰 줌으로써, 셀 용량을 확보하여 전체적인 셀 용량을 증가시켜 주는 트래픽 채널 이득 조정에 의한 셀 용량 증가 방법에 관한 것으로, 기지국에 착발신호가 요구됨에 따라, 파일럿 채널 전력 대 총 순방향 채널 전력의 비로 결정되는 순방향 잉여 용량값과, 상기 기지국의 운용자에 의해 미리 설정된 이득 조정 임계값과 임계 조정값의 합산치를 비교하는 단계(S1)와,  상기 비교(S1) 결과, 상기 순방향 잉여 용량값이 더 크다고 판단되면, 상기 순방향 잉여 용량값과 상기 이득 조정 임계값을 비교하는 단계(S2)와,  상기 비교(S2) 결과, 상기 순방향 잉여 용량값이 더 작다고 판단되면, 신호 송신을 위한 임의의 채널 전력이 할당되어 있는 다수의 트래픽 채널 앨리먼트(TCE)에 대해, 상기 기지국 운용자에 의해 미리 설정된 이득 조정값만큼씩 상기 트래픽 채널 앨리먼트들의 채널 전력을 각각 감소시키는 단계(S3)로 이루지며,  순방향 채널 전력의 포화로 인해 순방향  잉여 용량값이 감소하여 더 이상 착신호 및 발신호를 위한 트래픽 채널이 할당될 수 없을 경우에도, 새로운 착신호 및 발신호 뿐만 아니라 핸드 오프 호 시도에 대한 호 할당이 가능한 트래픽 채널 이득 조정에 의한 셀 용량 증가 방법에 관한 것이다.
Patent KR-100311356-B1 (KR)
IPC: H01L23/522
Filed: 1998-10-08
Granted: 2001-11-15
Abstract: 본 발명에서는 하부 지지 IC 칩 상의 단일 레벨 금속 상호 접속 패턴(interconnection pattern)과 상부 IC 칩(upper IC chip) 상의 또 다른 단일 레벨 상호 접속 패턴 간의 비아(via)들로서 땜납 범프(solder bump) 칩간 접속에 의한 칩-온-칩 패키지(chip-on-chip package)의 상호 접속 레이아웃(layout)을 설명하고 있다.   이 구조에 의해, 양 쪽의 칩 상에서 피쳐가 공기에 의해 절연된 크로스오버(air isolated crossover) 구조로 형성될 수 있다.
Patent KR-100307914-B1 (KR)
Title: Yoke equipment for slip foam to mold excavation side in vertical tunnel
Inventor: KIM OK GYEOM
IPC: E04G11/20
Filed: 1998-10-08
Granted: 2001-11-30
Abstract: PURPOSE: Provided is yoke equipment for slip foam to mold excavation side in a vertical tunnel which prevents a jack load from being shaken and twisted to escalate the slip foam stably so that it improves quality in building the excavation side. CONSTITUTION: The yoke equipment for slip foam to mold excavation side in the vertical tunnel comprises the parts of: the jack load(10) which is vertically placed at regular intervals along the circumference between frames(200) of slip foam; an anchor(20) which is outwardly projected around the circumference of the frame wherein a guide is placed to connect the jack load and the extended anchor and a protection plate for the jack load are extended in a certain location of the guide; and an operation jack(30) which is placed at the end of the anchor to enable the jack load penetrated and cooperate.
Patent KR-100564537-B1 (KR)
IPC: G11B5/84
Filed: 1998-10-15
Granted: 2006-05-25
Abstract: 본 발명에 따른 하드 디스크 드라이브용 자기 디스크의 파킹 영역 텍스츄어링 방법은, 자기 디스크의 양면의 파킹 영역에 그 외곽으로부터 디스크의 중심으로 향할수록 점진적으로 고도가 높아지는 경사 기판부(gradient substrate)가 각각 형성되도록 디스크 원판을 가공하는 단계와 상기 각 경사 기판부(gradient substrate)에 텍스츄어링을 수행하여 다수의 범프를 형성하는 단계를 포함하며, 이와 같은 방법에 의해 제조된 자기 디스크는 데이터의 기록 및 재생이 이루어지는 데이터 영역과, 자기 헤드의 파킹을 위한 파킹 영역을 구비하는 자기 디스크에 있어서, 상기 파킹 영역에는 그 외곽으로부터 디스크의 중심으로 향할수록 점진적으로 고도가 높아지는 경사 기판부(gradient substrate)가 마련되어 있고, 그 경사 기판부(gradient substrate)에는 다수의 범프가 형성되어 있는 점에 그 특징이 있다. 
     이와 같은 본 발명에 의하면, 그 표면에 다수의 범프가 형성되어 있는 경사 기판부(gradient substrate)가 디스크의 파킹 영역에 마련되어 있어, 자기 헤드의 파킹 영역에서의 저고도 비행시 자기 헤드가 경사 기판부(gradient substrate)의 경사면을 따라 부드럽게 파킹 영역에 착륙될 수 있는 장점이 있다.
Patent KR-100565385-B1 (KR)
Title: 전자 차폐성 경량 고강도 탄소 복합재료의 제조방법
IPC: D01F6/24
Filed: 1998-10-28
Granted: 2006-05-29
Abstract: 수지와 혼합된 고분자 합금물질을 개발하여 탄소섬유 보강 복합재료를 제조하고 이를 열처리 및 후처리하여 전자 차폐성이 우수한 경량의 고강도 탄소 복합재료를 제조하는 방법이 개시된다. 본 발명에 따르면, 코오롱 유화에서 시판중인 페놀 수지(KRD-HM2)를 전처리한후 화이브리트(Fibrite)사에 의해서 시판중에 있는 PAN계 탄소섬유 메트를 페놀 수지 내에 함침시킨다. 페놀 수지의 전처리는, 최종 탄소섬유 복합재료 중에 페놀 수지의 함량이 45∼90% 내외가 되도록 수지의 농도를 조정한 후, 페놀 수지의 함량을 100으로 하였을 때, 3∼15%의 내부 이형제(RA 407), 5∼15%의 착색제(HSC-5694), 100∼300%(=페놀 수지 함량의 1∼3배)의 용매(아세톤, 에탄올 또는 메탄올)를 페놀 수지 속에 첨가시킨다. 전처리가 끝난후에는, 교반 속도를 최대로 하여 착색제가 용매에 완전히 용해될 때까지 교반하고, 페놀 수지와 내부 이형제를 가한후 다시 교반한다. 이렇게 만든 시료에 PAN 섬유 메트를 함침시킨다. 다음에는, 함침시킨 시료를 70℃에서 30∼50분간 건조시켜 프리프레그를 제조하고, 제조된 프리프레그를 몰드속에 적층시킨후, 프레스로 고온 가압한다. 프레싱이 끝난후에 시편을 냉각시킴으로서, 원하는 탄소 복합재료를 얻는다.
Patent KR-100313863-B1 (KR)
IPC: H04N5/57
Filed: 1998-10-28
Granted: 2002-01-17
Abstract: 본 발명은 조정모드 리셋기능을 갖는 TV 제어방법을 개시한다. 
     본 발명에 따른 컨트라스트, 밝기, 색농도, 선명도, 음향, 화인튠을 조정하기 위한 조정모드 메뉴화면에서 조정모드 리셋기능을 갖는 갖춘 TV 제어방법은 상기 조정모드 메뉴화면에서 값을 변경시키고자 하는 소정의 모드를 선택하는 과정; 입력된 키가 데이터업/다운키인가에 따라 선택된 상기 모드의 값을 증감하는 과정; 리셋키가 입력되면 상기 모드값을 공장출하시의 기본값으로 설정하는 과정; 및 EXIT키가 입력되면 채널화면으로 복귀하는 과정을 포함함을 특징으로 한다. 
     본 발명에 의하면, 사용자가 조정모드 메뉴화면에서 조정하고자 하는 모드값이 원하는 값보다 큰 범위로 치우쳐져 있을 때 데이터업/다운키를 계속 눌러야 하는 번거로움 없이 리셋키를 누른 후 공장출하시의 기본값에서 모드값의 증감을 간단히 조정할 수 있으며, 기본 모드값을 원할 경우에도 간단히 설정할 수 있다.
Patent KR-100277830-B1 (KR)
Title: 이동통신 시스템에서 기지국의 이중화 관리 장치 및 그 동작 변경 방법
IPC: H04B7/155
Filed: 1998-10-30
Granted: 2001-01-15
Abstract: 본 발명은 이동통신 시스템의 기지국 관리 장치 및 그 방법에 관한 것이며, 특히, 운용중인 관리 장치에 고장이 발생할 경우에 대기중인 관리 장치로 쉽고 간단하게 자동 절체할 수 있는 이동통신 시스템에서의 기지국의 이중화 관리 장치 및 그 동작 변경 방법을 제공하는 데 그 목적이 있다. 
     본 발명에 따르면, 동작 상태 보고 요청 신호에 따른 응답 신호를 생성하여 출력하고, 대기중에 활성화 요구 신호가 입력되면 활성화 되기 위한 한 쌍의 운용 관리 기능 수단; 동작 상태를 감시하고, 통신로 상태를 감시하기 위한 한 쌍의 상태 감시 수단; 상기 상태 감시 수단의 감시 결과가 기능 상태 비정상을 나타낼 경우에, 이중화 제어를 수행하는 한 쌍의 이중화 제어 수단; 상태 변경 요구 신호를 입력받아 상대방에게 송신하고, 상대방으로부터 상태 변경 요구 신호를 수신하여 출력하기 위한 이더넷 송수신 수단; 및 통신로 감시 신호와 활성 관리자 이름 변경 신호를 입력받아 기지국으로 출력하고, 상기 기지국으로부터 입력된 통신로 감시 응답 신호를 출력하며, 상기 이중화 제어 수단으로부터 입력된 활성화 요구 신호를 상기 운용 관리 기능 수단으로 출력하기 위한 스위칭 송수신 수단을 포함하여 이루어진 이동통신 시스템에서 기지국의 이중화 관리 장치가 제공된다.
Patent KR-100271504-B1 (KR)
Inventor: WATANABE MASAHITO
IPC: C30B15/00
Filed: 1998-11-05
Granted: 2000-11-15
Abstract: 융해 실리콘에 커스프 자장이 인가되는 쵸크랄스키법에 의해 실리콘 단결정을 성장시키는 방법으로서,  커스프 자장의 중심 (6) 이 융해 실리콘 (2) 의 전체 깊이 (H) 의 1/3 이상의 깊이에 위치하도록 융해 실리콘 (2) 에 커스프 자장을 인가시키는 단계를 특징으로 하는 방법이 제공되며,  상기 깊이는 융해 실리콘 (2) 의 표면 레벨 (4) 로부터의 거리로서 정의된다.     상기 방법은 성장된 실리콘 단결정의 성장 방향으로 모든 영역에서 성장 슬릿들을 제거하는 것을 가능하게 하고,  덧붙여서,  결정의 직경 방향으로 산소 농도의 차이가 5 % 이하인 균일 산소 농도 분포를 달성가능하게 한다.     또한,  상기 방법은 대구경,  예를 들면 40 cm 의 직경을 갖는 실리콘 단결정에서 성장 방향으로 모든 영역에서 성장 슬릿들을 제거하는 것을 가능하게 한다.
Patent KR-100288426-B1 (KR)
Title: 냉장고의 기능 제어방법
IPC: F25D29/00
Filed: 1998-11-18
Granted: 2001-05-02
Abstract: 냉동실 및 냉장실의 기능이 상이하게 설정된 기능키를 사용자가 미리 입력시킴으로써 별도의 온도 조절 없이 사용자가 원하는 패턴으로 냉장고의 기능 제어를 수행하도록 하는 냉장고의 기능 제어방법에 대해 개시한다. 이러한 냉장고의 기능 제어방법은, 냉장실 및 냉동실 각각의 온도가 상이하게 설정된 기능선택 스위치의 입력을 감지하는 단계와; 기능선택 스위치의 입력 감지시 선택된 스위치 입력과 기설정된 기능 패턴과 비교/판단하여 소정의 제어신호를 출력하는 단계와; 제어신호의 출력시 선택된 기능 패턴에 따라 냉동실과 냉장실의 온도를 각각 상이하게 제어하는 단계를 포함한다. 따라서, 냉장실 및 냉동실의 식품 저장 상태에 따라 기설정된 기능키를 미리 입력하여 쉽게 냉장고의 기능 제어를 수행할 수 있게 된다.
Patent KR-100516475-B1 (KR)
IPC: C07C227/32
Filed: 1998-12-15
Granted: 2005-11-25
Abstract: A process is disclosed for producing (R)-3-hydroxy-4-butyrolactone from its enantiomer, (S)-3-hydroxy-4-butyrolactone. The (R)-enantiomer can be advantageously utilised in several organic synthesis and industrial processes, such as e.g. GABOB and (R)-carnitine preparation.
Patent KR-100450258-B1 (KR)
Title: 핀 다이오드의 구조 및 그 제조방법
IPC: H01L29/868
Filed: 1998-12-26
Granted: 2004-12-30
Abstract: 본 발명은 핀 다이오드의 구조 및 그 제조방법에 관한 것으로, 종래에는 오믹금속층의 위치가 제한됨에 따라 일정한 오믹 저항값을 갖게 되어 고주파특성이 저감되는 문제점이 있고, 식각공정의 제어가 어려운 문제점이 있었다. 따라서, 본 발명은 돌출부를 갖는 화합물 반도체기판과; 상기 반도체기판의 돌출부 상에 적층 형성된 제1 엔형층, 버퍼층 및 피형층과; 상기 제1 엔형층과 반도체기판 돌출부의 경사면 및 반도체기판 상에 형성된 제2 엔형층과; 상기 피형층 및 제2 엔형층 상부에 각각 형성된 제1∼제3 오믹금속층과; 상기 제1∼제3 오믹금속층의 일정한 영역과 각기 접촉되는 제1∼제3 에어브리지 금속층을 구비하여 이루어지는 핀 다이오드의 구조를 화합물 반도체기판의 상부에 순차적으로 제1 엔형층, 버퍼층 및 피형층을 형성한 후, 제1 마스크를 이용하여 상기 피형층의 상부 일정한 영역에 제1 오믹금속층을 형성하는 공정과; 상기 제1 마스크를 제거하고, 제1 오믹금속층의 상부에 제2 마스크를 형성한 후, 상기 피형층, 버퍼층, 제1 엔형층을 식각함과 아울러 계속해서 반도체기판을 소정깊이로 식각하는 공정과; 상기 제2 마스크를 제거하고, 상부 전면에 절연층을 형성한 후, 1차 사진식각공정을 적용하여 상기 제1 오믹금속층, 피형층 및 버퍼층 상에 형성된 절연층을 식각하는 공정과; 상기 구조물을 열처리하여 잔류하는 절연층의 하부에 제2 엔형층을 형성한 후, 상기 절연층을 제거하는 공정과; 상기 구조물의 상부에 2차 사진식각공정을 적용하여 상기 제2 엔형층의 상부에 제2,제3 오믹금속층을 형성하는 공정과; 상기 제1∼제3 오믹금속층의 일정한 영역과 각기 접촉되는 제1∼제3에어브리지 금속층을 형성하는 공정을 통해 제조하여 고농도 엔형층의 경사진 측면에서 캐리어를 주입함과 아울러 고농도 엔형층 상에 형성되는 오믹금속층의 면적을 증가시킴으로써, 순방향 저항값을 최소화하여 고주파특성을 향상시킬 수 있는 효과가 있고, 또한 종래에 비해 본 발명에서는 고농도 엔형층을 완전히 식각하여 엔형층에 비해 상대적으로 매우 두꺼운 반도체기판 상에서 식각이 완료되므로, 식각공정의 제어가 용이해짐에 따라 공정이 간편해지는 효과가 있다.
Patent KR-100279719-B1 (KR)
Title: 휴대통신단말기의 사용자 현재 상태 알림방법
IPC: H04B7/26
Filed: 1998-12-26
Granted: 2001-02-01
Abstract: 가. 본 발명의 청구범위가 속하는 기술분야 
     휴대통신단말기의 사용자 현재 상태 알림방법에 관한 것이다. 
     나. 본 발명이 해결하고자 하는 과제 
     휴대통신단말기의 사용자 현재 상태를 상대방에게 알릴 수 있는 방법을 제공함에 있다. 
     다. 본 발명의 기술적 요지 
     사용자가 통화를 할 수 없는 상태에 있을 시 사용자의 현재상태를 음성메시지로 등록하면, 이후에 착신되는 호에 대해 통화로를 형성하여 상기 등록된 사용자의 현재상태를 음성으로 상대방에게 알려줌을 특징으로 한다. 
     라. 본 발명의 중요한 용도 
     사용자가 통화를 할 수 없는 상태에서 사용자의 현재 상태를 상대방에게 알리는 데 이용한다.
Patent KR-100298300-B1 (KR)
Title: Method for coding audio waveform by using psola by formant similarity measurement
Inventor: BAE MYEONG JIN
IPC: G10L15/02
Filed: 1998-12-29
Granted: 2002-05-01
Abstract: PURPOSE: A method for coding an audio waveform is provided to remove an additional DSP(Digital Sound Processor) chip by using a PSOLA(Pitch-Synchronous Overlap Add) method. CONSTITUTION: A pitch is searched by setting a certain window section in one frame of an audio signal and applying a normalized AMDF. A reference pitch period is set by segmenting a waveform from sound in a pitch period. A pitch period of a next frame is decided by applying to former processes. An area of a cross AMDF waveform is yielded by applying the cross AMDF in the reference pitch period and the next pitch period. A pitch period value and an energy value are transmitted by deciding as a large Formant similarity when the area is over a certain critical value. Otherwise, waveform information is transmitted. The processes are repeated to code by compressing the audio signal.
Patent KR-100284930-B1 (KR)
Title: 매설관의 내부보수용 패킹링
IPC: E03F3/04
Filed: 1998-12-31
Granted: 2001-03-15
Abstract: 본 발명은 상호간에 접속되는 매설관들의 내부보수부분을 통한 누수를 효율적으로 방지하는 매설관의 내부보수용 패킹링에 관한 것으로, 본 발명의 기술적구성상의 특징은 소정의 직경을 가지는 링형상으로 만들어지며 그 가운데 평활면으로 형성되는 중앙판부(10)와, 상기 중앙판부(10)의 일측에 일체로 성형되어 연장되며 그 외주면에는 원주방향을 따라 돌출형성되는 일측돌기띠(21)가 형성되고, 그 내주면의 상기 일측돌기띠(21)의 대향면에는 원주방향을 따라 일측홈(22)이 형성되는 일측판부(20)와, 상기 중앙판부(10)의 타측에 일체로 성형되어 연장되며 그 외주면에는 원주방향을 따라 돌출형성되는 타측돌기띠(31)가 형성되고, 그 내주면의 상기 타측돌기띠(31)의 대향면에는 원주방향을 따라 타측홈(32)이 형성되는 타측판부(30)로 구성되는 것에 있어서, 상기 일측홈(22)과 타측홈(32)의 외측과 중간부에 덮개홈(A)들을 형성시키고, 이 덮개홈(A)들에 끼워져서 고정되는 끼움돌기(41)들을 가지는 덮개판(40)을 포함하여서 된 것이다.
Patent KR-100427928-B1 (KR)
IPC: A01N43/76
Filed: 1996-07-03
Granted: 2004-08-09
Abstract: PCT No. PCT/US96/11346 Sec. 371 Date Jan. 9, 1997 Sec. 102(e) Date Jan. 9, 1997 PCT Filed Jul. 3, 1996 PCT Pub. No. WO97/02745 PCT Pub. Date Jan. 30, 1997Advantageous combinations of an oxazolidinone and cymoxanil (or their agriculturally suitable salts) and their use to control fungus disease in plants are disclosed, the oxazolidinone having the formula