baber/WOPTO huggingface dataset:
Patent DE-112009000613-T5 (DE)
Title: Steuersystem für Automatikgetriebe
Inventor: ASAI MASAHIRO
IPC: F16H59/18
Filed: 2009-08-24
Abstract: Eine Aufrechterhaltungsleistungsabgabe-Berechnungseinrichtung 33 berechnet eine Aufrechterhaltungsleistungsabgabe, die erforderlich ist, um eine Fahrzeuggeschwindigkeit aufrechtzuerhalten, auf Grundlage eines Fahrwiderstands. Eine Forderungsleistungsabgabe-Berechnungseinrichtung 32 berechnet eine geforderte Forderungsleistungsabgabe zum Beispiel auf Grundlage eines Fahrpedalwinkels. Eine Maximalleistungsabgabe-Berechnungseinrichtung 40 berechnet eine Momentanübersetzungsverhältnis-Maximalleistungsabgabe, die eine maximale Leistungsabgabe eines Fahrzeugs bei einem momentanen Übersetzungsverhältnis ist, auf Grundlage der maximalen Leistungsabgabefähigkeit einer Maschine 2, und sie berechnet auch eine Nachhochschalten-Maximalleistungsabgabe, die eine maximale Leistungsabgabe des Fahrzeugs bei einem aus einem Hochschalten resultierenden Übersetzungsverhältnis ist. Wenn ein erster Wert basierend auf der Aufrechterhaltungsleistungsabgabe, der Forderungsleistungsabgabe und einer Reserveleistungsabgabe größer wird als ein zweiter Wert basierend auf der Momentanübersetzungsverhältnis-Maximalleistungsabgabe, wird eine Entscheidung für ein Herunterschalten getroffen. Wenn ein dritter Wert basierend auf der Aufrechterhaltungsleistungsabgabe, der Forderungsleistungsabgabe und der Reserveleistungsabgabe kleiner wird als ein vierter Wert basierend auf einer Nachhochschalten-Maximalleistungsabgabe, wird eine Entscheidung für ein Hochschalten getroffen. Somit wird eine Auswahl eines Übersetzungsverhältnisses mittels einer Berechnung ermöglicht und wird eine weitere Verbesserung beim Kraftstoffverbrauch erreicht.
Patent DE-112009001556-T5 (DE)
Title: Elektrische Anordnung mit einer Akkuladefunktion
Inventor: ROSENBECKER JAY
IPC: F21L4/00
Filed: 2009-06-23
Abstract: Elektrische Anordnung, die wahlweise Strom von einer externen Stromversorgung empfängt, wobei die elektrische Anordnung umfasst:  eine Basis, die einen Einrichtungsanschluss und einen Akkuanschluss wenigstens teilweise definiert,  eine elektrische Einrichtung, die wahlweise mit dem Einrichtungsanschluss verbunden wird,  einen wiederaufladbaren Akkupack, der wahlweise mit dem Akkuanschluss verbunden wird, und  einen Schaltungsaufbau, der durch die Basis gehalten wird und betrieben wird, um Strom zu dem Einrichtungsanschluss und dem Akkuanschluss zuzuführen, sodass die externe Stromversorgung Strom zu der elektrischen Einrichtung zuführt, um die elektrische Einrichtung zu betreiben und den wiederaufladbaren Akkupack zu laden.
Patent DE-112009005345-T5 (DE)
Title: Dämpfermechanismus
Inventor: HARADA TAKU
IPC: F16D13/64
Filed: 2009-11-06
Abstract: In diesem Dämpfermechanismus (100) wird als Folge eines Druckkontakts zwischen einer radial angeordneten Platte (153) und einem ersten Reibungsabschnitt (126a) ein kleines Hysteresemoment erzeugt, wenn Schwankungen in dem auf den Dämpfermechanismus (100) übertragenen Drehmoment auftreten. Folglich können die kleinen Drehmomentschwankungen zwischen der radial angeordneten Platte (153) und dem ersten Reibungsbereich (126a) des Dämpfermechanismus (100) gedämpft und zu einer Eingangswelle ausgegeben werden. Ferner werden die Reibungskoeffizienten einer ringförmigen Platte (126) und der radial angeordneten Platte (153) entlang der Richtung relativer Drehung der ringförmigen Platte (126) und der radial angeordneten Platte (152) mit zunehmenden Torsionswinkeln beider Platten größer. Daher kann das Hysteresemoment in Übereinstimmung mit dem Betrag der Drehmomentschwankungen erzeugt werden, selbst wenn die Drehmomentschwankungen groß werden.
Patent DE-112011101834-T5 (DE)
Title: Werkzeugkasten
Inventor: NAKAZAWA YOSHIKI
IPC: B60R11/06
Filed: 2011-03-07
Abstract: Ein Werkzeugkasten umfasst einen Kastenkörper 11, in dem ein Werkzeug verstaut ist, einen Deckel 12, der einen Öffnungsabschnitt 11K des Kastenkörpers 11 abdeckt, wobei in Seitenwänden 22 des Kastenkörpers 11 zur Außenseite des obengenannten Öffnungsabschnitts 11K geöffnete Aussparungen 23 und 24 ausgebildet sind, konvexe Passabschnitte 25 und 26, die an den Aussparungen 23 und 24 angebracht werden, an dem Deckel 12 vorgesehen sind, der Deckel 12 innen am Öffnungsabschnitt 11K des Kastenkörpers 11 angebracht ist und in einem Zustand, in dem der Deckel 12 am Kastenkörper 11 montiert ist, ein geschlossener Querschnitt ausgebildet ist.
Patent DE-112011101964-T5 (DE)
Title: Halbleitereinrichtung und Verfahren zum  Herstellen der Halbleitereinrichtung
Inventor: TAKAYA HIDEFUMI
IPC: H01L29/06
Filed: 2011-06-02
Abstract: Die Durchbruchspannungscharakteristik einer Halbleitereinrichtung kann verbessert werden. Die Halbleitereinrichtung hat ein Abschlussgebiet, das ein Zellgebiet umgibt. In dem Zellgebiet sind Hauptgräben gebildet. In dem Abschlussgebiet sind Abschlussgräben gebildet, die das Zellgebiet umgeben. Einer der Abschlussgräben ist an der innersten Umfangsseite der Abschlussgräben lokalisiert. Eine Raumregion ist auf der Oberfläche einer Drift-Region gestapelt. Die Hauptgräben erreichen die Drift-Region und haben darin gebildete Gate-Elektroden. Der eine der Abschlussgräben erreicht die Drift-Region und ihre Wand und ihr Boden sind bedeckt mit einer Oxidschicht. Eine Oberfläche der Oxidschicht, die den Boden des einen der Abschlussgräben bedeckt, ist mit einer vergrabenen Elektrode bedeckt. Eine Gate-Spannung ist an die vergrabene Elektrode angelegt.
Patent DE-112011102927-T5 (DE)
Title: Verfahren zum Ausbilden eines Schutzfilms und Verfahren zur Oberflächenabflachung
Inventor: OMORI DAISUKE
IPC: B05D3/06
Filed: 2011-08-30
Abstract: Es werden ein Verfahren zum Abflachen einer Oberfläche eines Substrats (5), in dem eine Filmausbildungsoberfläche eine Vertiefung und eine Wölbung hat, und ein Verfahren zum Ausbilden eines Schutzfilms unter Verwendung eines lichthärtbaren organischen Dünnfilmmaterials bereitgestellt. Ein Gas aus einem organischen Dünnfilmmaterial mit Lichthärtbarkeit wird auf der Oberfläche eines Substrats (5) mit der Vertiefung und der Wölbung verflüssigt, und eine flüssige organische Schicht wird auf der Oberfläche des Substrats (5) wachsen gelassen (Schritt T1 zum Wachsenlassen einer ersten flüssigen Schicht); und das Wachstum wird beendet, wenn eine flüssige organische Schicht mit einer flachen Oberfläche ausgebildet ist (erster Wachstumsbeendigungsschritt T2). Um die Verdampfung des flüssigen organischen Dünnfilmmaterials zu beschränken, wird ein Druck auf einen Druck festgelegt, der nicht kleiner als ein erster Aushärtungsdruck ist, der ein Dampfdruck des organischen Dünnfilmmaterials ist, und Ultraviolettstrahlen werden abgestrahlt, um das Material auszuhärten (Schritt T3 zum Ausbilden einer abgeflachten Schicht (22)) und eine abgeflachte Schicht (22) auszubilden. Durch Abscheiden einer ersten Keramikschicht (23), einer Pufferschicht (24) und einer zweiten Keramikschicht (25) auf der abgeflachten Schicht (22) in dieser Reihenfolge wird ein Schutzfilm (26) mit den ersten und zweiten Keramikschichten (23) (25) mit einer großen Gesamtfilmdicke ausgebildet.
Patent DE-112012000717-T5 (DE)
Title: Halbleitereinheit, die Bereiche mit hohen Feldern beinhaltet, sowie zugehöriges Verfahren
Inventor: SHI YUN
IPC: H01L21/336
Filed: 2012-01-18
Abstract: Es ist eine Halbleitereinheit (100) offenbart. In einer Ausführungsform beinhaltet eine Halbleitereinheit eine n-Wanne (114) innerhalb einer p-Wanne (112) in einer Siliciumschicht (107), die oben auf einer vergrabenen Oxidschicht (109) eines Silicium-auf-Isolator(SOI)-Substrats angeordnet ist; einen ersten Source-Bereich (125) und einen zweiten Source-Bereich (127) innerhalb eines Teils der p-Wanne (112); einen ersten Drain-Bereich (145) und einen zweiten Drain-Bereich (147) innerhalb eines Teils der p-Wanne (112) und innerhalb eines Teils der n-Wanne (114); sowie ein Gate (150), das oben auf der n-Wanne (114) angeordnet ist, wobei zwischen der n-Wanne (114) und der p-Wanne (112) ein Bereich mit einem lateralen hohen Feld erzeugt wird und zwischen dem Gate (150) und der n-Wanne (114) ein Bereich mit einem vertikalen hohen Feld erzeugt wird. Es ist ein zugehöriges Verfahren offenbart.
Patent DE-112012004333-T5 (DE)
Title: Feldeffekttransistor-Einheit mit Nanodrähten
Inventor: BANGSARUNTIP SARUNYA
IPC: H01L21/336
Filed: 2012-10-16
Abstract: Ein Verfahren zum Bilden einer Feldeffekttransistor-Einheit beinhaltet ein Bilden eines Nanodrahts, der oberhalb eines Substrats aufgehängt wird, ein Bilden eines Dummy-Gate-Stapels auf einem Anteil des Substrats und um einen Anteil des Nanodrahts herum, ein Entfernen von freiliegenden Anteilen des Nanodrahts, ein epitaxiales Aufbauen von Verlängerungsanteilen des Nanodrahts aus freiliegenden Anteilen des Nanodrahts, ein Abscheiden einer Schicht aus einem Halbleitermaterial über freiliegenden Anteilen des Substrats, des Dummy-Gate-Stapels und der Verlängerungsanteile des Nanodrahts sowie ein Entfernen von Anteilen des Halbleitermaterials, um Seitenwand-Kontakt-Bereiche zu bilden, die angrenzend an den Dummy-Gate-Stapel angeordnet sind und sich in Kontakt mit den Verlängerungsanteilen des Nanodrahts befinden.
Patent DE-112012004914-T5 (DE)
Title: Ein Rotor des eingebauten Permanentmagnetmotos und ein eingebauterPemianentmagnetmotor mit einem Rotor
Inventor: LIN YAN
IPC: H02K1/27
Filed: 2012-11-23
Abstract: Ein Rotor (24) des eingebauten Permanentmagnetmotors und ein eingebauter Permanentmagnetmotor (20) mit dem Rotor, wobei der Rotor (24) des eingebauten Permanentmagnetmotors einen Rotoreisenkern (15), mehrere Permanentmagnetkörper (27), wobei die mehreren Permanentmagnetkörper (27) mit einem Abstand zueinander im Inneren des Rotoreisenkerns angeordnet sind, und mehrere Luftspalte (30) aufweist, die am Endabschnitt des benachbarten Permanentmagnetkörpers (27) und in der Nähe vom Außenumfang des Rotors angeordnet sind. Der Motor (20) kann eine nahezu sinusförmige Luftspaltflussdichte zwischen den Spalten des Stators (21) und des Rotors (21) erzeugen.
Patent DE-112013000445-T5 (DE)
Title: LCD-Monitorbildschirm für dreidimensionale Bilder
Inventor: DECUSATIS CASIMER M
IPC: G02F1/133
Filed: 2013-01-22
Abstract: Ein Erzeugen eines dreidimensionalen (3D) Bildes auf einer Flüssigkristallanzeige (LCD) beinhaltet ein Bereitstellen einer Lichtquelle, einer Pixelmatrix und einer Vielzahl von Elektroden zum Anlegen einer Spannung an die Pixelmatrix. Die Pixelmatrix beinhaltet eine Vielzahl erster Pixel mit einer ersten Polarisation und eine Vielzahl zweiter Pixel mit einer zweiten Polarisation. Von der Lichtquelle wird ein erstes Licht emittiert, und an mindestens eines aus der Vielzahl erster Pixel wird eine erste Spannung angelegt. Von der zweiten Lichtquelle wird ein zweites Licht emittiert, und an mindestens eines aus der Vielzahl zweiter Pixel wird eine zweite Spannung angelegt.
Patent DE-112013004277-T5 (DE)
Title: Verfahren zur Bildung eines ausgezeichneten vielschichtigen Beschichtungsfilmes
Inventor: AOKI YOSHIKO
IPC: C09D201/00
Filed: 2013-04-18
Abstract: Der Zweck dieser Erfindung liegt darin, ein Verfahren zur Bildung eines ausgezeichneten vielschichtigen Beschichtungsfilmes mit hohem Chroma und Helligkeit und reicher Farbe anzugeben. Mit dem Verfahren tritt bei dem Beschichtungsfilm eine Farbfleckigkeit nicht leicht auf und das erhaltene Design ist homogen selbst ohne strikte Steuerung von Variationen bei der Filmdicke während der Beschichtung. Das Verfahren zur Bildung des ausgezeichneten vielschichtigen Beschichtungsfilmes umfaßt: Bildung eines Beschichtungsfilmes aus metallischer Basis auf der Oberfläche des zu beschichtenden Objektes durch Auftragen einer Beschichtung aus metallischer Basis, umfassend ein glänzendes Material; anschließende Bildung eines Farbbasis-Beschichtungsfilmes durch Auftragen einer Farbbasis-Beschichtung; anschließendes Bilden eines klaren Beschichtungsfilmes durch Auftragen einer klaren Beschichtung auf dem Farbbasis-Beschichtungsfilm; und Wärmehärten des Beschichtungsfilmes aus der metallischen Basis, des Beschichtungsfilmes auf Farbbasis und des erhaltenen klaren Beschichtungsfilmes. Bei dem Verfahren liegt die Lichtreflexion des Beschichtungsfilmes aus metallischer Basis in einem spezifischen Bereich und die Lichttransmission des einzelnen Farbbasis-Beschichtungsfilmes, erhalten durch Wärmehärten des Farbbasis-Beschichtungsfilmes als einzelner Film, werden auf einen spezifischen Bereich eingestellt.
Patent DE-112013004463-T5 (DE)
Title: Verfahren zur Unterscheidung des Differenzierungsgrades von pluripotenten Stammzellen
Inventor: YAMAUCHI TOYOHIKO
IPC: C12Q1/02
Filed: 2013-08-09
Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bestimmung des Differenzierungsgrades pluripotenter Stammzellen, das einen Schritt zur Bestimmung einer Ebenheit von kultivierten pluripotenten Stammzellen umfasst, wobei die Ebenheit eine Oberflächenebenheit einer Zelle oder eine Oberflächenebenheit einer Zellpopulation umfasst, und wobei die Ebenheit ein Maß für den Differenzierungsgrad darstellt.
Patent DE-112013005151-T5 (DE)
Title: Verfahren zum Ermitteln eines Problems in Eigenschaften eines Regelwerks für eine automatisierte Überwachung eines technischen Systems und eine Vorrichtung zum Durchführen des Verfahrens
Inventor: ROSHCHIN MIKHAIL
IPC: G06N5/00
Filed: 2013-10-21
Abstract: Es wird ein Verfahren zum Prüfen eines Regelwerks, das für ein automatisiertes Überwachen eines technischen Systems auf das Vorhandensein eines Problems verwendet wird, bereitgestellt. Das Verfahren enthält die folgenden Schritte: – Auswählen eines gewissen Problems, angesichts dessen das Regelwerk geprüft werden soll; – Übersetzen der zu prüfenden Regeln in eine Wissensbasis formaler logischer Aussagen; – Übersetzen des Problems in eine formale logische Problemaussage; – Anwenden eines Computeralgorithmus um festzustellen, ob die Wissensbasis logischer Aussagen gemeinsam mit der logischen Problemaussage erfüllbar ist; – Markieren des Problems als nicht vorhanden, wenn die Wissensbasis logischer Aussagen gemeinsam mit der logischen Problemaussage erfüllbar ist.
Patent DE-112013006294-T5 (DE)
Title: Vorrichtung zum Erzeugen einer Wirbelströmung eines Fluids
Inventor: YOAVAPHANKUL METHA
IPC: F15D1/00
Filed: 2013-07-29
Abstract: Eine Vorrichtung zum Erzeugen einer Wirbelströmung eines Fluids weist eine Übertragungsbasis (1) mit einem Innenhohlraum (2) auf, um die Fluidströmung von außen über ein seitliches Loch (3) aufzunehmen, das eine Loch-Seitenkante (4) wird, um das Durchströmen des Fluids in die Übertragungsbasis in einer laminaren Wirbelströmung in dem Innenhohlraum der Übertragungsbasis zu steuern. Ein Teil der Loch-Seitenkante kann einen erhöhten Einsatzstützabsatz (10) zum Stützen des darüber liegenden Ansatzstücks einer anderen Übertragungsbasis aufweisen, um diese höher zu stapeln.
Patent DE-112013006651-T5 (DE)
Title: Optisches Mehrfachmodus-Messgerät und Betriebsverfahren
Inventor: STEFFEY KENNETH
IPC: G01S17/66
Filed: 2013-12-30
Abstract: Es ist ein optisches Messgerät vorgesehen, das ein Trackergerät umfasst, das dafür konfiguriert ist, einen ersten Lichtstrahl zu emittieren und einen Teil des von einem Ziel reflektierten ersten Lichtstrahls aufzufangen. Der erste Lichtstrahl wird von einer Kardanposition aus emittiert, wobei das Trackergerät ferner einen Absolutdistanzmesser umfasst, der dafür konfiguriert ist, den Abstand zum Ziel zu ermitteln. Es ist ein Scannergerät vorgesehen, das dafür konfiguriert ist, einen zweiten Lichtstrahl entlang einem Weg ohne Richtungsumkehr zu emittieren und einen Teil des von einem Objekt reflektierten zweiten Lichtstrahls aufzufangen. Der zweite Lichtstrahl wird von der Kardanposition aus emittiert, wobei der Scanner ferner dafür konfiguriert ist, den Abstand zum Objekt basierend zumindest teilweise auf der Lichtgeschwindigkeit zu ermitteln.
Patent DE-112013006823-T5 (DE)
Title: Abbildungsobjektiv und Abbildungsvorrichtung
Inventor: ASAMI TARO
IPC: G02B13/18
Filed: 2013-12-26
Abstract: [Ziel] Schaffen einer kleineren Größe, geringeren Kosten, eines größeren Blickwinkel und höherer Performanz in einem Abbildungsobjektiv und weiterhin Sicherstellen eines Rückfokus. [Lösungsmittel] Ein Abbildungsobjektiv (1) besteht aus vier Linsen, in der Reihenfolge ausgehend von der Objektseite, aus einer negativen ersten Linse (L1), einer negativen zweiten Linse (L2), einer positiven dritten Linse (L3) und einer positiven vierten Linse (L4). Die folgenden Bedingungsausdrücke werden erfüllt: 0,22 < Nd3 – Nd2(1);und 1,2 < D3/f(2),wobei Nd3 ein Brechungsindex des Materials der dritten Linse (L3) für die d-Linie ist, Nd2 ein Brechungsindex des Materials der zweiten Linse (L2) für die d-Linie ist, D3 eine Zentrumsdicke der zweiten Linse (L2) ist, und f eine Brennweite eines gesamten Systems ist.
Patent DE-112014003678-T5 (DE)
Title: Sintermagnet auf R-T-B Basis und Motor
Inventor: KANADA ISAO
IPC: H01F1/08
Filed: 2014-08-08
Abstract: Die vorliegende Erfindung stellt einen Sintermagnet auf R-T-B-Basis bereit, der die Entmagnetisierungsrate bei einer hohen Temperatur hemmt, auch wenn weniger oder keine schweren Seltenerdelemente, wie z. B. Dy, Tb und dergleichen, verwendet werden. Der Sintermagnet auf R-T-B-Basis umfasst R2T14B-Kristallkörner und Zweikorngrenzteile zwischen den R2T14B-Kristallkörnern. Vorhanden sind Zweikorngrenzteile, die von einer R-Co-Cu-M-Fe-Phase gebildet werden, wobei M zumindest eines aus der aus Ga, Si, Sn, Ge und Bi bestehenden Gruppe ist.
Patent DE-112014003839-T5 (DE)
Title: Mikropartikeldetektionssystem
Inventor: SUGIYAMA TAKESHI
IPC: G01N27/60
Filed: 2014-07-07
Abstract: Es ist ein Ziel, ein Partikeldetektionssystem bereitzustellen, welches die Menge an Partikeln genau detektieren kann, indem verhindert wird, dass die Detektion in einem Zustand ausgeführt wird, in dem die Detektionsgenauigkeit gering ist. Ein Partikeldetektionssystem 1 zum Detektieren der Menge an Partikeln S in einem zu messenden Gas EG umfasst einen Detektionsabschnitt 10, eine Treiberschaltung 210, 240 und einen Steuerabschnitt 230, 202. Der Detektionsabschnitt 10 umfasst eine Ionenquelle 11 und einen Partikelaufladungsabschnitt 12. Die Treiberschaltung 210 umfasst eine Ionenquellen-Treiberschaltung 210, um Konstantstromsteuerung derart durchzuführen, dass der der Ionenquelle zugeführte Gasentladungsstrom Id gleich einem vorbestimmten Zielstrom It wird. Der Steuerabschnitt 230, 202 umfasst Stromannäherungsbestimmungsmittel S2–S3, S5–S6 zum Bestimmen, ob der durch die Ionenquellen-Treiberschaltung 210 zugeführte Gasentladungsstrom Id sich einem vorbestimmten zulässigen Bereich IR, welcher den Zielstrom It enthält, angenähert hat oder nicht, nachdem der Betrieb der Ionenquelle 11 durch die Ionenquellen-Treiberschaltung 210 gestartet wurde, und Detektionsstartmittel S8 zum Starten der Detektion der Menge an Partikeln S über Verwendung des durch die Detektionsschaltung detektierten Signals Is, nachdem der Gasentladungsstrom Id sich dem erlaubten Bereich IR angenähert hat.
Patent DE-112014004205-T5 (DE)
Title: Staubabdeckung
Inventor: MATSUMURA HIROYUKI
IPC: F16F9/38
Filed: 2014-05-12
Abstract: Eine Staubabdeckung mit einer neuartigen Struktur wird bereitgestellt, die in der Lage ist, die Anzahl an Haupteinbuchtungen zu verringern, um eine Länge eines Faltenbalg-Röhrenabschnitts während einer Kontraktion zu verringern, sowie eine gleichmäßige Verformung bei dessen Kontraktion zu verwirklichen. Eine Staubabdeckung (10) weist einen Faltenbalg-Röhrenabschnitt (12) auf mit einer Mehrzahl von Haupteinbuchtungen (14) von konkaver Form, die sich in Richtung auf einen äußeren Umfang des Röhrenabschnitts hin öffnen und auf verkettete Weise angeordnet sind. Jede der Haupteinbuchtungen (14) weist ein Paar geneigter Wandabschnitte (16, 16) auf, die zu entgegengesetzten axialen Außenseiten hin geneigt sind, während sie sich zu einer äußeren Umfangsseite hin erstrecken, und der geneigte Wandabschnitt (16) hat einen Neigungswinkel (β) an dessen äußerem Umfangsabschnitt (60), der kleiner ist als ein Neigungswinkel (α) an dessen innerem Umfangsabschnitt (58) (α > β).
Patent DE-112014006261-T5 (DE)
Title: Produktlinie von absorbierenden Artikeln
Inventor: BRIDGER KYLIE BROOKE
IPC: A61F13/511
Filed: 2014-02-25
Abstract: Eine Produktlinie eines absorbierenden Artikels beinhaltet einen ersten absorbierenden Artikel für einen männlichen Träger mit einer Größe innerhalb eines ersten Größenbereichs. Der erste absorbierende Artikel weist eine äußere Abdeckung, ein zum Körper weisendes Material in entgegengesetzter Beziehung zur äußeren Abdeckung und einen absorbierenden Körper auf, der zwischen dem zum Körper weisenden Material und der äußeren Abdeckung zum Absorbieren von Flüssigkeit angeordnet ist, die durch das zum Körper weisende Material hindurchgeht. Das zum Körper weisende Material definiert ein männliches Urinhandhabungsmerkmal mit einer Vielzahl von Projektionen, die zum Handhaben von Urin eingerichtet sind, der vom männlichen Träger abgegeben wird. Ein zweiter absorbierender Artikel für eine weibliche Trägerin weist eine Größe innerhalb des ersten Größenbereichs auf. Der zweite absorbierende Artikel beinhaltet eine äußere Abdeckung, ein zum Körper weisendes Material in entgegengesetzter Beziehung zur äußeren Abdeckung und einen absorbierenden Körper, der zwischen dem zum Körper weisenden Material und der äußeren Abdeckung zum Absorbieren von Flüssigkeit angeordnet ist, die durch das zum Körper weisende Material hindurchgeht. Das zum Körper weisende Material definiert ein weibliches Urinhandhabungsmerkmal mit einer Vielzahl von Projektionen, die zum Handhaben von Urin eingerichtet sind, der von der weiblichen Trägerin abgegeben wird. Mindestens ein Teil der Projektionen des weiblichen Urinhandhabungsmerkmals weist eine andere Konfiguration als die Projektionen des männlichen Handhabungsmerkmals auf.
Patent DE-112014007049-T5 (DE)
Title: Verfahren zur Fertigung einer Halbleitervorrichtung
Inventor: NAKATA KAZUNARI
IPC: H01L21/304
Filed: 2014-10-10
Abstract: Als ein erster Schleifschritt wird ein Umfangsabschnitt einer rückseitigen Oberfläche eines Wafers (1) mit einem ersten Schleifstein (17) geschliffen, um eine gebrochene Schicht (19) in dem Umfangsabschnitt auszubilden. Anschließend wird als ein zweiter Schleifschritt ein zentraler Abschnitt der rückseitigen Oberfläche des Wafers (1) mit dem ersten Schleifstein (17) geschliffen, um eine Vertiefung (21) auszubilden, während der Umfangsabschnitt, in welchem die gebrochene Schicht (19) ausgebildet ist, als eine Verstärkungsrippe oder -ring (20) gelassen wird. Anschließend wird als ein dritter Schleifschritt eine untere Oberfläche der Vertiefung (21) mit einem zweiten Schleifstein (22) einer abtragenden Korngröße, die kleiner ist als diejenige des ersten Schleifsteins (17), geschliffen, um eine Dicke des Wafers (1) zu reduzieren.
Patent DE-112015002417-T5 (DE)
Title: Vorrichtung und Verfahren zum Steuern eines Rotordetektionssensors für einen Rotor mit einem Rundlauffehler
Inventor: KWON WOO-YOUNG
IPC: G01D5/245
Filed: 2015-07-01
Abstract: Es wird eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Steuern eines Rotordetektionssensors für einen Rotor mit einem Rundlauffehler bereitgestellt. Das Verfahren zum Steuern eines Rotordetektionssensors für einen Rotor mit einem Rundlauffehler umfasst das Erkennen eines Musters durch eine Mustererkennungseinheit, das auf der Grundlage einer magnetischen Flussdichte des Rotors, die für ein voreingestelltes Zeitintervall gemessen wird, Spitzen aufweist, das Erkennen der Anzahl von Vorsprüngen des Rotors durch die Mustererkennungseinheit auf der Grundlage des Musters, das die Spitzen der magnetischen Flussdichte aufweist, und das Einstellen von Schaltpegeln für die magnetische Flussdichte durch eine Schaltpegeleinstelleinheit auf der Grundlage der Anzahl der Vorsprünge. Die magnetische Flussdichte weist mehrere Spitzen auf, die der Anzahl von Vorsprüngen des Rotors entsprechen. Die Schaltpegel für die magnetische Flussdichte werden jeweils an einem Punkt eingestellt, der einem voreingestellten Prozentsatz an jeder der Spitzen entspricht.