Patent AR-097971-A1 (AR)
Title: Formas cristalinas de derivado de diazabiciclooctano y proceso de producción de ellas
Inventor: TAKAO ABE
IPC: A61P31/04
Filed: 2014-10-08
Abstract: Reivindicación 1: Un proceso para producir un compuesto representado por la fórmula (4), caracterizado porque comprende: hacer reaccionar un compuesto representado por la fórmula (1) con un compuesto: R³ONH₂ para obtener un compuesto representado por la fórmula (2) tratar con un catalizador de paladio sobre carbón bajo una atmósfera de hidrógeno, someter simultánea o consecutivamente a una reacción de sulfatación usando complejo de trióxido de azufre-trimetilamina en presencia de una cantidad catalítica de base en un solvente acuoso y tratar con hidrógeno-sulfato de tetrabutilamonio para obtener un compuesto representado por la fórmula (3) seguido, en un caso en que la cadena lateral de R³ONHC(=O)- tenga un grupo protector, eliminación del grupo protector con un ácido y precipitación de un producto crudo por adición de un solvente pobre a la solución de reacción para obtener un compuesto crudo representado por la fórmula (4-CR) seguido alternativamente por adición del compuesto crudo representado por la fórmula (4-CR) y tampón helado para obtener una solución que tiene un pH de 4 a 5,5, concentración después de desalar con un adsorbente sintético de ser necesario, ajuste de la temperatura, siembra de ser necesario y cristalización por adición de un solvente pobre para producir el compuesto representado por la fórmula (4) (en cada una de las fórmulas anteriores, OBn es benciloxi; R¹ es 2,5-dioxopirrolidin-1-ilo, 1,3-dioxo-3a,4,7,7a-tetrahidro-1H-isoindol-2(3H)-ilo, 1,3-dioxohexahidro-1H-isoindol-2(3H)-ilo o 3,5-dioxo-4-azatriciclo[5,2,1,02,6]dec-8-en-4-ilo; R³ es alquilo C₁₋₆ o heterociclilo, R³ se puede modificar con 0 a 5 R⁴; R⁴ se pueden sustituir consecutivamente; aquí, R⁴ es alquilo C₁₋₆, heterociclilo, R⁵(R⁶)N- o un grupo protector; R⁵ y R⁶ son cada uno, de modo independiente, hidrógeno o alquilo C₁₋₆ o forman juntos heterociclilo; por otra parte, R³, R⁵ y R⁶ se pueden someter a cierre del anillo en una posición arbitraria. Reivindicación 12: Una forma cristalina I de un compuesto representado por la fórmula (5) caracterizado porque tiene picos característicos que aparecen en el espaciado reticular (d) de 7,34, 5,66, 5,53, 5,30, 5,02, 4,66, 4,37, 4,28, 4,06, 3,68, 3,62, 3,47, 3,36, 3,30, 3,16, 3,11, 3,03, 2,99 y 2,50 Å en el patrón de difracción de polvos por rayos X. Reivindicación 17: Una forma cristalina II de un compuesto representado por la fórmula (5) caracterizado porque tiene picos característicos que aparecen en el espaciado reticular (d) de 9,46, 5,62, 5,23, 5,10, 5,00, 4,91, 4,67, 4,45, 4,29, 3,96, 3,78, 3,71, 3,52, 3,24, 3,18, 3,10, 3,02, 2,88, 2,81, 2,77, 2,67, 2,50 y 2,45 Å en el patrón de difracción de polvos por rayos X. Reivindicación 22: Una forma cristalina III de un compuesto representado por la fórmula (5) caracterizado porque tiene picos característicos que aparecen en el espaciado reticular (d) de 8,32, 6,10, 5,98, 5,51, 5,16, 5,07, 4,85, 4,70, 4,61, 4,35, 4,20, 4,06, 4,00, 3,95, 3,77, 3,73, 3,65, 3,42, 3,39, 3,36, 3,26, 3,23, 3,13, 3,09, 2,99, 2,81 y 2,52 Å en el patrón de difracción de polvos por rayos X. Reivindicación 27: Una forma cristalina IV de un compuesto representado por la fórmula (5) caracterizado porque tiene picos característicos que aparecen en el espaciado reticular (d) de 7,88, 6,41, 5,20, 4,67, 4,50, 4,02, 3,81, 3,75, 3,70, 3,62, 3,38, 3,23, 3,20 y 2,74 Å en el patrón de difracción de polvos por rayos X.