Patent DE-102016118391-B4 (DE)
Title: Kurzpulslasersystem
Inventor: MOLTER DANIEL
IPC: H01S3/067
Filed: 2016-09-28
Granted: 2019-03-14
Abstract: Kurzpulslasersystem (10, 10', 10") zum Erzeugen elektromagnetischer Pulse mit
 einem ersten Resonator, der einen ersten Strahlengang aufweist,
 einem zweiten Resonator, der einen zweiten Strahlengang aufweist, und
 einem Verstärkungsmedium (11),
 wobei das Verstärkungsmedium (11) sowohl in dem ersten Strahlengang, sodass es in einem Betrieb des Kurzpulslasersystems (10, 10', 10") elektromagnetische Pulse in dem ersten Resonator verstärkt, als auch in dem zweiten Strahlengang, sodass es in dem Betrieb des Kurzpulslasersystems (10, 10', 10") elektromagnetische Pulse in dem zweiten Resonator verstärkt, angeordnet ist,
 wobei der erste Strahlengang und der zweite Strahlengang in dem Verstärkungsmedium (11) zumindest abschnittsweise räumlich überlagert sind und
 wobei der erste Resonator derart eingerichtet ist, dass er genau einen ersten linearen Polarisationszustand der elektromagnetischen Pulse unterstützt, und der zweite Resonator derart eingerichtet ist, dass er genau einen zweiten linearen Polarisationszustand der elektromagnetischen Pulse unterstützt, wobei der erste und der zweite Polarisationszustand senkrecht zueinander sind,
 dadurch gekennzeichnet, dass
 das Kurzpulslasersystem (10, 10', 10") einen ersten doppelbrechenden Materialabschnitt (16) und einen zweiten doppelbrechenden Materialabschnitt (17) aufweist, wobei der erste Strahlengang und der zweite Strahlengang in dem ersten doppelbrechenden Materialabschnitt (16) und in dem zweiten doppelbrechenden Materialabschnitt (17) kollinear verlaufen, wobei der erste doppelbrechende Materialabschnitt (16) von einer polarisationserhaltenden optischen Faser (1, 1', 1") gebildet ist und wobei der zweite doppelbrechende Materialabschnitt (17) von einer polarisationserhaltenden optischen Faser (1, 1', 1") gebildet ist,
 wobei das Kurzpulslasersystem (10, 10', 10") eine Einrichtung zum Ändern der geometrischen Länge (19) des ersten und/oder des zweiten doppelbrechenden Materialabschnitts (16, 17) und/oder eine Einrichtung zum Ändern einer Differenz zwischen einem ersten Brechungsindex und einem zweiten Brechungsindex des ersten und/oder des zweiten doppelbrechenden Materialabschnitts (16, 17) aufweist,
 wobei der erste doppelbrechende Materialabschnitt (16) und der zweite doppelbrechende Materialabschnitt (17) derart ausgestaltet und ausgerichtet sind, dass in einem ersten Zustand der Einrichtung zum Ändern der geometrischen Länge des ersten und/oder des zweiten doppelbrechenden Materialabschnitts (16, 17) und/oder der Einrichtung zum Ändern der Differenz zwischen dem ersten Brechungsindex und dem zweiten Brechungsindex des ersten und/oder des zweiten doppelbrechenden Materialabschnitts (16, 17) die Summe der optischen Weglänge des ersten Strahlengangs in dem ersten doppelbrechenden Materialabschnitt (16) und der optischen Weglänge des ersten Strahlengangs in dem zweiten doppelbrechenden Materialabschnitt (17) gleich der Summe der optischen Weglänge des zweiten Strahlengangs in dem ersten doppelbrechenden Materialabschnitt (16) und der optischen Weglänge des zweiten Strahlengangs in dem zweiten doppelbrechenden Materialabschnitt (17) ist, und
 wobei der erste doppelbrechende Materialabschnitt (16) oder der zweite doppelbrechende Materialabschnitt (17) derart ausgestaltet ist, dass in einem zweiten Zustand der Einrichtung zum Ändern der geometrischen Länge des ersten und/oder des zweiten doppelbrechenden Materialabschnitts (16, 17) und/oder der Einrichtung zum Ändern der Differenz zwischen dem ersten Brechungsindex und dem zweiten Brechungsindex des ersten und/oder des zweiten doppelbrechenden Materialabschnitts (16, 17) die Summe der optischen Weglänge des ersten Strahlengangs in dem ersten doppelbrechenden Materialabschnitt (16) und der optischen Weglänge des ersten Strahlengangs in dem zweiten doppelbrechenden Materialabschnitt (17) und die Summe der optischen Weglänge des zweiten Strahlengangs in dem ersten doppelbrechenden Materialabschnitt (16) und der optischen Weglänge des zweiten Strahlengangs in dem zweiten doppelbrechenden Materialabschnitt (17) voneinander verschieden sind.