baber/WOPTO huggingface dataset:
Patent KR-100271467-B1 (KR)
Title: Low speed compensation device for turbo charger
Inventor: YANG IL-SEOK
IPC: F02D33/00
Filed: 1996-12-12
Granted: 2000-11-15
Abstract: PURPOSE: A device for compensating low speed of an engine is provided to improve efficiency of the engine while reducing an exhaust air emission through compensating air in a low speed section of the engine. CONSTITUTION: An air inlet(11) is connected to an exhaust turbine supercharge compressor. By a low compressing force of the compressor, a valve(16) is lowered by a compressing spring(17). A channel is formed for inputting compressed air in an air compressor to an intake manifold(4). By increasing rpm(revolutions per minute) of an engine, the compressing force of the compressor is increased to lift the valve. Therefore, the channel to the intake manifold is closed while opening a channel to an air tank. Thus, the air in the air compressor is charged to the air tank. A cylinder(12) is connected to the air inlet. A valve(16) is installed on the cylinder for having a through hole(14) and an inclined unit(15). A compressing spring(17) supports the valve. An air inlet(18) is connected to the air compressor by being opened and closed by the valve. A three-way valve includes an air outlet(19) connected to the air tank, and an air outlet(20) connected to the intake manifold.
Patent KR-100484265-B1 (KR)
IPC: C08K5/3492
Filed: 1996-12-13
Granted: 2005-08-10
Abstract: There is described a process for the preparation of 2-(2-4-dihydroxyphenyl)-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-s-triazine of the formula I, which comprises (a) reacting cyanuric chloride of the formula II, in the presence of a Lewis acid in a ratio of 2.3 to 3.0 ml of Lewis acid per mole of cyanuric chloride employed in the presence of at least one inert chlorinated aromatic solvent, with 1,3-xylene of the formula III, in a ratio of 2.1 to 2.5 mol of compound of the formula III per mole of cyanuric chloride employed with addition of compound of the formula III in two steps, wherein the addition of 0.5 to 1.1 mol of the compound of the formula III takes place at 60 to 110 DEG C in the course of 2 to 12 hours, then the mixture is cooled to 20 to 50 DEG C in the course of 0 to 3 hours, after which the additional of 2.0 to 1.0 mol of the compound of the formula III takes place in the temperature range from 20 to 50 DEG C in the course of 5 to 15 hours to give the compound of the formula IV and then, (b) without isolating the compound of the formula IV obtained reacting this with resorcinol in a ratio of 0.5 to 1.0 mol of resorcinol per mole of cyanuric chloride employed at a temperature from 0 to 100 DEG C to give the compound of the formula I.
Patent KR-100293229-B1 (KR)
Title: Method for determining correction values of rolling load in plate rolling
Inventor: LEE SANG HYEOK
IPC: B21B37/00
Filed: 1996-12-19
Granted: 2001-10-24
Abstract: PURPOSE: A method for determining correction values of rolling load in plate rolling is provided which is simple and has a high prediction accuracy compared to a conventional method. CONSTITUTION: The method for determining correction values of rolling load in plate rolling comprises the steps of obtaining a temporary rolling load value(R.f temporary) by the following equation 6 using a heat stress resistance(Kf), a width of plate(B), and a projected contact length(a length in which rolls are actually contacted with a rolling material)(1d); £Equation 6 : R.f temporary = Kf·B·1d| obtaining a correctional function of the actual rolling load(Qpreal) by the following equation 7 using an actually measured rolling load and the obtained temporary rolling load value(R.f temporary); £Equation 7 : Qpreal = actually measured rolling load/R.f temporary| obtaining a correctional function of the rolling load by the following equation 9 through regression analysis after linear collating variables of the following equation 8 presuming the above equation 7 as a correctional function of the rolling load such as the following equation 8, and performing correlation analysis on each of the variables: £Equation 8 : Qpreal = f(R',h,r,1d...)| where R' is a radius of a flat roll, h is an outlet thickness of a material to be processes, r is a reduction ratio, and 1d is a projected contact length £Equation 9 : Qpreal = (a1+a2/r)·(R'/h)¬(1/2)+a3·ln(R'/h)+(a4+a5·(1d/h))·(l/r)+(a6+a7·1/r)·(h/ld)¬(1/2)+a8/r¬(1/2)+a9| where a1-a9 are values between -0.1 and 1.0 as a regression coefficient; and determining a correction value of the rolling load by the correctional function of the rolling load.
Patent KR-100386719-B1 (KR)
Title: Diazo type of photosensitive film
Inventor: CHOI HYEON SEOK
IPC: G03C1/52
Filed: 1996-12-19
Granted: 2004-05-22
Abstract: PURPOSE: Provided is a diazo photosensitive film having excellent adhesion and transparency of white paper part, which is formed by applying a diazonium photosensitive layer on plastic substrate. CONSTITUTION: The diazo photosensitive film produced by applying a diazonium photosensitive layer comprising a binder and organic acids on the plastic film substrate, is characterized in that the binder is at least three kinds or more selected from the group consisting of carboxylate acryl copolymer, cellulose acetate butyrate, thermoplastic acryloid binder, and acrylic polymer, and the organic acids are at least three kinds or more selected from the group consisting of oxalate, zinc chloride, tin chloride, thiourea, p-toluene sulfonate, dibutyl phthalate, and salicylic acid.
Patent KR-100291267-B1 (KR)
Title: System and method for manufacturing data cd-rom disc capable of booting and cd-rom disc thereof
Inventor: JUN YEONG IL
IPC: G06F9/445
Filed: 1996-12-23
Granted: 2001-09-17
Abstract: PURPOSE: A system and a method for manufacturing a CD-ROM disc capable of booting and a CD-ROM disc made thereby are provided to supply large-capacity programs, booting and data-storing CD-ROM functions by a single CD-ROM disc and recover the data of a damaged hard disc automatically. CONSTITUTION: A system for manufacturing a CD-ROM disc capable of booting includes a data source for providing data to read to a CD-ROM disc, a floppy disc(30) recorded with a manage system of a booting computer and a program to perform after booting, a computer(10) for aligning the data source and the contents of the floppy disc to form a master file, a master hard disc(40) for storing the master file, and a CD-ROM recording unit(50) to be controlled by the computer for recording the master file stored in the master hard disc to the CD-ROM disc.
Patent KR-100316944-B1 (KR)
Title: Method and apparatus of measuring impedance mode
Inventor: KIM WAN JU
IPC: G01R27/00
Filed: 1996-12-27
Granted: 2002-02-28
Abstract: PURPOSE: A method and apparatus of measuring an impedance mode is provided to prevent an unstable state of a measured value owing to a DC offset, and to measure an exact value of a device under test by reducing a phase difference between an AC source and a response signal. CONSTITUTION: A control part(4) switches an AC source signal and a response signal, and an input part(5) is supplied with the AC source signal and the response signal. A positive peak detector(1) detects positive peak values of the AC source signal and the response signal supplied from the input part(5). A negative peak detector(1A) detects a negative peak value of the response signal supplied from the input part(5). A data sample part(2) samples a value of the response signal and a value of the AC source signal every constant time. A sample and hold part(3) holds result values obtained by the positive and negative peak detectors and the data sample part.
Patent KR-100417646-B1 (KR)
Title: Method for cleaning interlayer dielectric of semiconductor device
Inventor: LEE SEONG HUI
IPC: H01L21/304
Filed: 1996-12-28
Granted: 2004-04-13
Abstract: PURPOSE: A method for cleaning an interlayer dielectric of a semiconductor device is provided to improve yield by forming an interlayer dielectric on a silicon substrate having undergone a predetermined fabricating process and by performing a sulphuric acid cleaning process and an ammonia cleaning process on the interlayer dielectric to remove particles. CONSTITUTION: A sulphuric acid cleaning process is performed on an interlayer dielectric formed on a silicon substrate(1) to eliminate an organic material remaining on the interlayer dielectric. A hot QDR(quick dump rinse) cleaning process is performed on the interlayer dielectric. An ammonia cleaning process is performed on the interlayer dielectric to eliminate an inorganic material and metallic ions remaining on the interlayer dielectric. A cold QDR cleaning process is performed on the interlayer dielectric. A final cleaning process is performed by using deionized water.
Patent KR-100251976-B1 (KR)
Inventor: KIM MOON-JIN
IPC: E05D1/00
Filed: 1996-12-30
Granted: 2000-12-01
Abstract: PURPOSE: Shelf hinge structure of a bus is provided to simplify structure and to compose a leaf spring formed as a curved surface, a hinge and roller. CONSTITUTION: An end portion of a hinge(25) is inserted to a frame(23) of a shelf to fix an end portion of a leaf spring(15). The other end of the hinge is inserted to a shelf door(21) to fix a roller supporting plate(29). A roller(11) is rotatably fixed on an end portion of the roller supporting plate. The leaf spring includes a fixing unit(15b), an elasticity unit, a guide unit and a roller contacting end unit(15a). A shelf hinge structure of a bus minimizes components of the hinge portion. Moreover, the shelf hinge structure of the bus easily opens the shelf door by simplifying opening structure of the shelf door in the bus.
Patent KR-100321885-B1 (KR)
IPC: A61K31/41
Filed: 1994-10-04
Granted: 2002-06-24
Abstract: This invention relates to the enhancement of memory and cognition and the treatment of Alzheimer's disease and Wernicke-Korsakoff syndrome by administration of 3-aryl-4-alkyl and 4,5-dialkyl-4H-1,2,4-triazoles of formula (I) wherein R1 and R2 independently represent hydrogen, halogen, trifluoromethyl, nitro, C1-4 lower alkyl or C1-4 lower alkoxy, or together, R1 and R2 represent -CH=CH-CH=CH-, forming a 1- or 2-naphthylenyl ring system; R3 represents hydrogen or C1-4 lower alkyl; and R4 represents C1-4 lower alkyl, benzyl, or benzyl substituted by one or two groups selected from halogen, trifluoromethyl, nitro, C1-4 lower alkyl or C1-4 lower alkoxy.
Patent KR-100210525-B1 (KR)
Title: Mo-w material for wiring, mo-w target thin film
Inventor: KOISHAKA YASUO
IPC: H01L21/02
Filed: 1994-12-14
Granted: 1999-07-15
Abstract: A Mo-W material for the formation of wirings is discloses which, as viewed integrally, comprises 20 to 95% of tungsten and the balance of molybdenum and inevitable impurities by atomic percentage. The Mo-W material for wirings is a product obtained by compounding and integrating a Mo material and a W material as by the powder metallurgy technique or the smelting technique or a product obtained by arranging these materials in amounts calculated to account for the percentage composition mentioned above. The Mo-W material containing W in a proportion in the range of from 20 to 95% manifests low resistance and, at the same time, excels in workability and tolerance for etchants. The wiring thin film which is formed of the Mo-W alloy of this percentage composition is used as address wirings and others for liquid crystal display devices. The Mo-W target for the formation of wirings is composed of 20 to 95% of tungsten and the balance of molybdenum and inevitable impurities by atomic percentage and allows the Mo-W wiring thin film to be produced with high repeatability. <IMAGE>
Patent KR-100359377-B1 (KR)
Title: 주입노에서컴팩트흑연철제조의공정제어방법
IPC: B22D1/00
Filed: 1994-12-07
Granted: 2003-01-15
Abstract: 컴팩트 흑연철(CGI)을 주조하기 위한 용융주철을 연속적으로 제공하는 공정은 용융철을 제조하는 단계, 흑연화 퍼텐셜을 조절하는 작용제를 도입하는 단계, 필요하다면 황의 함량이 0.025%미만이 되도록 용융철을 탈황화시키는 단계, 용융철을 조건로로 이동시키는 단계로서, 노에서 따라낸 철을 용융철의 보충량으로 보상하여 용융철의 양을 소정한계내로 유지시키는 단계, 용융철을 몰드 또는 레이들로, 그리고 상기 레이들로부터 몰드로 주입하는 단계로 이루어지며, 그리고 흑연형상 변형제 및 접종제를 첨가하고 용융철의 샘플을 상기 주입전이나 또는 몰드로부터 취하고, 샘플의 중심에서와 샘플용기벽에 바로 접하는 지점에서 용융철의 온도변화를 기록하면서, 샘플과 샘플용기가 결정화 온도이상의 온도에서 열적으로 평형한 상태로부터 샘플을 응고하게 하며, 기록된 온도변화를 공지된 방법으로 철의 구조적 성질과 흑연화 퍼텐셜을 확정하는데 사용하고, 주철주물의 확정된 흑연화 퍼텐셜 및 구조적 성질이 CGI의 공지된 성질로부터 벗어날때는 상기 편차와의 소정관계로, 가해지는 흑연화 퍼텐셜 조절제의 양을 조정하거나, 가해지거나 또는 제거되는 흑연형상 변형제의 양을 조정하거나, 가해지는 접종제의 양을 조정한다.
Patent KR-100586567-B1 (KR)
Title: 체액내lbp의정량방법
IPC: G01N33/68
Filed: 1995-01-24
Granted: 2006-09-22
Abstract: 본 발명은 피검자에게서 수득한 혈장을 면역검정함을 포함하는, 피검자의 혈액을 함유한 체액내의 세포외 LBP 의 존재를 정량하는 방법에 관한 것이다.
Patent KR-100244918-B1 (KR)
Inventor: CHOI SANG BONG
IPC: H01L21/66
Filed: 1997-01-16
Granted: 2000-02-15
Abstract: 웨이퍼상에  형성된  패턴을  재정렬하도록  하여  정렬  불량에  따른  검사  오류를  방지하도록  하는  반도체  패턴  검사장치  및  그  검사방법에  관한  것이다. 
     본  발명은  웨이퍼가  위치되는  스테이지와,  상기  스테이지를  수평  이동시키는  구동부와,  초점  위치에  웨이퍼상의  패턴을  촬영하는  촬영부  및  상기  촬영부로부터  인가되는  패턴화상을  기억된  기준  패턴화상과  비교  판단하고  상기  구동부에  신호를  인가하여  상기  스테이지의  이동을  제어하는  제어부를  포함하여  구성된  반도체  패턴  검사장치에  있어서,  상기  촬영부는  기억된  기준  패턴화상과  비교  판단하기  위한  패턴화상을  상기  제어부에  인가하는  메인  카메라와,  상기  메인  카메라에  의해  촬영된  패턴화상이  기준  패턴화상의  이격  위치되는  오차  간격을  조절하기  위한  적어도  두  개  이상의  위치조정  카메라를  포함하여  구성됨을  특징으로  한다. 
     따라서,  본  발명에  의하면,  정렬에  따른  웨이퍼의  불량을  없도록  하고,  개별  패턴의  검사  정밀도를  향상시키고,  생산라인의  경제성을  높이며,  검사에  따른  시간을  단축하게  되는  효과가  있다.
Patent KR-100461523-B1 (KR)
Title: 일본어문자입력장치및방법,휴대전화단말기및휴대전화단말기의일본어문자입력방법
IPC: G06F15/02
Filed: 1997-01-29
Granted: 2005-04-25
Abstract: 입력문자(가나)를 입력문자의 독출에 대응하는 문자열(한자)로 변환하는 변환테이블을 갖는 사전메모리와, 문자열이 입력될 때, 사전메모리 내의 변환테이블로부터 입력된 문자열의 독출에 대한 정보에 대응하는 후보의 문자열을 검색하는 변환부를 가지는 다이얼형 셀렉터가 회전하고 그에 의해 변환목표로서의 문자의 독출을 선택한다.    다이얼형 셀렉터를 클릭 함으로써, 문자가 하나씩 입력된다.    변환목표로서 문자의 독출이 입력되면, 다이얼형 셀렉터를 더블클릭한다.    다이얼형 셀렉터가 더블클릭되면, 변환후보모드로 된다.    변환후보모드에서, 다이얼형 셀렉터가 회전할 때, 입력된 문자열의 독출에 대응하는 문자열이 사전메모리로부터 독출되고 변환후보로서 표시된다.    원하는 변환후보가 선택되면, 다이얼형 셀렉터를 클릭 함으로써, 문자가 결정되고 변환 후의 문자열이 입력된다.
Patent KR-100233217-B1 (KR)
Inventor: SUITO KEN
IPC: F04B27/14
Filed: 1997-03-31
Granted: 1999-12-01
Abstract: 캠 플레이트(22)의 경사를 조절함으로써 제2영역 변위를 조정하는 압축기 내에 있는 제어 밸브(49)가 개시된다. 압축기는 제2영역(38)을 크랭크실(15)과 연결하기 위한 공급통로(48)를 포함한다. 제어 밸브(49)는 공급 통로(48)의 중도에 위치된다. 제어 밸브(49)는 공급통로(48)의 중도에 각각 놓인 밸브 구멍(66)과 밸브실(63)을 갖는다. 밸브 몸체(64)는 밸브실(63)내에 위치된다. 반응 부재(70)는 제1영역(32,37) 내의 압력에 반응한다. 반응 부재(70)는 제1영역(32,37)의 압력에따라 제1봉(72)을 경유해서 밸브 몸체(64)를 이동시킨다. 솔레노이드(62)는 밸브 몸체(64)에 대해 반응 부재(70)에 대향된다. 솔레노이드(62)는 고정 코어(76), 플런저(78) 및 플런저실(77)을 갖는다. 솔레노이드(62)로 보내진 전류는 코어(76)와 플런저(78) 사이에서 자기 인력을 생성한다. 제2봉(81)은 자기 인력에 의해서 밸브 몸체(64)를 밀어내도록 플런저(78)와 밸브 몸체(64) 사이에 위치된다. 제2영역(38)은 밸브실(63)과 연결된다. 크랭크실은 밸브 구멍(66) 및 플런저실(77)과 연결된다.
Patent KR-100218143-B1 (KR)
Inventor: YOO BYONG SEOP
IPC: C03B27/04
Filed: 1997-04-08
Granted: 1999-09-01
Abstract: 본 발명은 강화유리 제조장치에 관한 것이며, 상세하게는 판유리를 열처리할 때 노와 냉각수단 사이에 성형수단을 구비한 강화유리 제조장치에 관한 것으로서, 가열된 소재를 성형할 때 냉각되는 것을 방지하여 강도가 작아지는 것을 억제하므로서 안전성을 증대시킨 것이다. 
     본 발명은 노본체(1)에 가열실(3)내를 회전하는 콘베어(2)를 설치하여 받침부재 겸 하부 금형(5)을 설치하고, 가열실(3)의 일부를 절단하여 형성한 소재 삽입부 겸 인출부(4)에 상부 금형(5')을 설치하며, 상기 소재 삽입부 겸 인출부(4)의 인접 위치에 이송판(7)과 냉각수단(17)을 설치한 것에 있어서, 상기 상부 금형(5')에 히터(18)를 설치하여 받침부재 겸 하부 금형(5)에 재치된 소재를 성형할 때 냉각되는 것을 방지토록 한 것이다.
Patent KR-100205250-B1 (KR)
Inventor: SONN JIN-KI
IPC: C08L23/06
Filed: 1997-04-02
Granted: 1999-07-01
Abstract: 본 발명은 원적외선 방사 조명용커버의 수지조성물에 관한것으로서, 특히 액상상태의 투명성수지와 원적외선 방사물질, 그리고 광학산제를 소정의 중량부 혼합 및 성형시켜 원적외선을 방출시키는 조명용커버를 형성함으로서 다수인의 건강증진과 실내 냄새제거는 물론 산업용 동식물의 신선도유지, 숙성 성장촉진 등을 도모할 수 있도록 한 원적외선 방사 조명용커버의 수지조성물에 관한 것이다. 
     이를 위하여 메타크릴산메틸 80~100%와 공중합성모노마 20~0%로 조성된 투명성수지 100 중량부와, 상기 투명성수지에 대해 0.2~15 중량부의 인산칼슘인 광확산제와, 상기 투명성수지에 대해 0.5~20 중량부의 알루미나실리게이트가 혼합된 것이다.
Patent KR-100430314-B1 (KR)
IPC: G11C19/00
Filed: 1997-04-10
Granted: 2004-07-15
Abstract: 토글링 백플레인(backplane) 전압을 갖는 액정 디스플레이의 어레이내에 소정의 로우[118(n)]가 선택 해제 되었을 때, 로우 선택 라인 전압[OUT(n)a]도 또한 화소 용량의 용량성 전류를 방지하도록 토글링한다. 로우 선택 라인 구동기는 푸시-풀 구조로 결합되는 한쌍의 트랜지스터(81, 79)를 포함한다. 상기 쌍의 트랜지스터는 시프트 레지스터의 캐스케이드된 스테이지(cascaded stage)의 대응하는 스테이지(도 3의 N-1)에서 생성되는 제어 신호[OUT(n-1)]에 응답한다. 상기 쌍의 트랜지스터는 상기 로우가 선택 해제될 때 로우 선택 라인[118(n)]에서 발생된 토글링 전압[OUT(n)a]이 시프트 레지스터의 동작에 영향을 주는 것을 방지하는 버퍼 스테이지를 형성한다.
Patent KR-100429050-B1 (KR)
IPC: B29C33/38
Filed: 1997-04-29
Granted: 2004-09-08
Abstract: Low alloy steel comprises (wt.%): 0.35-0.5 carbon; 0.2-2.5 manganese; 0.005-0.2 aluminium; and up to 0.5 silicon; 4 nickel; 4 chromium; 1 copper; and 0.015 boron; and also molybdenum, tungsten, vanadium, niobium and tantalum, in which Mo+W/2 = 0-2% and V+Nb/2+Ta/4 = 0-0.5%. The proportions are also governed by the following equations: Cr+3 (Mo+W/2)+10 (V+Nb/2+Ta/4) ≥ 1; R = 3.8 C+10 Si+3.3 Mn+2.4 Ni+1.4 (Cr+Mo+W/2) ≤ 11; and Tr = 3.8 C+1.1 Mn+0.7 Ni+0.6 Cr+1.6 (Mo+W/2)+kB ≥ 3, in which kB is 0.5 if B is 0.0005% or more, and otherwise kB is zero; and R ≤ Max(2.33 Tr-1 ; 0.9 Tr+4). Also claimed are a block of such steel with characteristic dimension 20-1500 mm, a martensitic or bainitic crystal structure and hardness 250-370 Brinell, the use of the steel to make by casting a mould for forming plastics and a wire made of the steel for welding or making welding electrodes.
Patent KR-100250071-B1 (KR)
Inventor: JANG SUNG CHUN
IPC: C03B23/025
Filed: 1997-05-12
Granted: 2000-03-15
Abstract: 본 발명은 곡면유리 성형틀에 관한 것으로, 종래의 곡면유리는 곡면유리성형틀을 이용하여 성형되어 왔으며, 또한 곡면유리는 소량으로 생산되고, 한번 사용한 곡면유리성형틀은 재사용하는 경우가 드물게 되어, 일정한 장소에 장기간 보관하거나, 수직지지대의 길이와 곡면철판의 기울기를 조정시켜 새로운 기울기를 갖는 곡면유리를 성형시키기 위해 재작업을 하는데, 그 작업이 매우 번거러워 작업성과 정밀성이 떨어지는 문제점이 있었다. 
     이에 본 발명은 일측에 작동핸들(54)이 부착된 웜기어(32)와 작동간(36)과 회동간(38)이 일체를 이루고 있는 회전축(34)을 통해 작동되는 "ㄱ"자형 지지편(30)의 지지부(46)에 의해 승강되는 가변지지판(24)이 곡면자바라판(20)의 곡면기울기를 가변시키게 됨으로, 하나의 곡면유리성형틀을 이용하여 유리곡면의 기울기가 상이한 곡면유리를 성형시키는데 있어 작동핸들(54)을 회전시키는 것으로 곡면자바라판(20)의 곡면기울기를 간단하게 조정할 수 있으므로 작업성이 향상되고, 특히 가변지지판(24)과 "ㄱ"자형 지지편(30)에 의해 곡면기울기의 정밀성을 향상시킬 수 있도록 한 것이다.
Patent KR-100225523-B1 (KR)
Inventor: KIM YOUNG-JE
IPC: H04B7/26
Filed: 1997-05-13
Granted: 1999-10-15
Abstract: 본 발명은 일반 이동 가입자가 통화중 상태에서 이기종의 교환기가 제어하는 영역으로 핸드오프 시 단절없이 핸드오프 처리하기에 적합한 교환기 간의 핸드오프 처리 방법에 관한 것으로서, 종래의 기술에 있어서는 이동 가입자가 이기종 교환기가 제어하는 셀로 이동시에 무선 채널에 대한 정보를 이기종 교환기로 전달하는 데 있어서, 서로 간의 전달 방법이 상이하며, 이를 코딩하는 방법 및 디코딩하는 방법이 상이하였으며, 동일 기종 교환기 간에 퍼실리티 명령을 송신하는 경우에 동일 기종 교환기에서 필요한 정보만을 송신함으로 인하여 핸드오프시, 이동 통화가 단절되는 결점이 있었으나, 본 발명에서는 일반 가입자가 통화중에 이기종 교환기가 제어하는 영역으로 핸드오프시에 서빙 교환기에서도 디코딩이 가능하며, 이를 수신하는 목표 교환기에서도 디코딩이 가능하도록 함으로써, 상술한 결점을 개선시킬수 있는 것이다.
Patent KR-100354076-B1 (KR)
Title: Structure for bracket of steering shaft of vehicle
Inventor: HWANG JEONG YEON
IPC: B62D1/16
Filed: 1997-05-30
Granted: 2002-11-18
Abstract: PURPOSE: Bracket structure of a steering shaft for a vehicle is provided to improve the rigidity of the bracket, and to reduce expenses and assembling process by integrally forming reinforcing parts in the steering shaft bracket. CONSTITUTION: A protruded part(31) is formed by striking the center of a steering shaft bracket(3) with blanking, and welding nuts(32) are welded into both sides of the protruded part. Reinforcing parts(33) are formed in upper and lower parts of the protruded part, and the length of the reinforcing part is formed corresponding to the projection length of the protruded part. The reinforcing part is fixed with welding both sides of the reinforcing part into both inner walls of the protruded part. Assembling process is reduced with integrally forming reinforcing parts in the steering shaft bracket.
Patent KR-100219370-B1 (KR)
Inventor: BAEK JAE-HYUP
IPC: B60K20/00
Filed: 1997-05-30
Granted: 1999-09-01
Abstract: 본 발명은 변속레버의 상단에 나사결합되는 손잡이의 조립위치를 손쉽게 설정할 수 있도록 하는 시프트레버 손잡이 조립지그에 관한 것으로서, 복수의 체결공(24)을 갖는 베이스플레이트(22)와, 이 베이스플레이트(22)에 조립되는 변속레버(26)의 상단에 나사결합되는 손잡이(28)를 포함하는 시프트레버조립체(20)를 구성함에 있어서, 변속레버(26)의 상단에 나사결합되며, 하단 일측에 반경방향 내측으로 관통되는 셋팅홀(28a)이 형성되는 손잡이(28)와; 상기 체결공(24)에 대응하는 복수의 고정공(12)을 갖으며, 고정공(12)삽입되는 볼트에 의해 베이스플레이트(22)를 지지하는 베이스(10)와; 베이스(10)에 대해 고정되며, 베이스(10)와 소정간격을 두고 나란하게 배열되어 단부에 변속레버(26)를 유동없이 지지하는 수용홈(26a)을 갖춘 지지편(16)과; 베이스(10)의 일측에서 상부로 연장되는 지지벽(18)상에 고정되어 베이스플레이트(22)에 대해 고정된 변속레버(26)에 나사결합중인 손잡이(28)의 셋팅홀(28a)이 특정위치에 도달하였을 때 손잡이의 회전을 제한하는 위치결정수단(30)으로 이루어진 자동차의 시프트레버 손잡이 조립지그를 제공한다.
Patent KR-100232074-B1 (KR)
Inventor: BAE YUN-HAN
IPC: E05D5/00
Filed: 1997-06-13
Granted: 1999-12-01
Abstract: 본 발명은 산업용 대형 도어의 힌지에 관한 것으로, 그 목적은 산업용 대형 도어의 사이즈에 상관없이 축하중에 대한 지지력이 우수하고, 별도의 작업 없이 조작이 간편하며, 보수 및 조립이 용이한 산업용 대형 도어의 볼 타입 힌지를 제공하는 것이다. 
     본 발명은 산업용 대형 도어의 일 측에 장착되어 액튜에이터에 의해 대형 도어를 개폐 시키는 힌지장치에 있어서; 상기 힌지 장치는 로터리 액튜에이터의 회전력을 직접 전달받는 토크 바와, 로터리 액튜에이터에서 발생한 회전력을 받아 산업용 대형 도어로 전달하는 토크 커넥션 플레이트와, 회전부의 회전력은 산업용 대형 도어로 전달하고 산업용 대형 도어의 축하중에 대한 지지력은 볼타입 힌지 클램프부로 전달시키는 스페리컬 볼을 구비하는 회전부와; 상기 회전부의 스페리컬 볼과 접촉되는 부위에 회전부의 볼과 동일한 형태의 스페리컬 홀이 형성된 커넥션 샤프트부와, 상기 커넥션 샤프트부를 지지하고, 산업용 대형 도어와 산업용 대형 도어가 설치되는 벽면을 서로 연결시켜주는 커넥션 샤프트 브래킷을 구비하는 클램프부로 구성된 산업용 대형 도어의 볼 타입 힌지를 제공함에 있다.
Patent KR-100259610-B1 (KR)
Title: Lcd and its fabrication method
Inventor: KIM WOONG-KWON
IPC: G02F1/136
Filed: 1997-06-24
Granted: 2000-06-15
Abstract: PURPOSE: An LCD and manufacturing method thereof maintain the original surface flatness of an organic dielectric layer and prevent the uneven surface of a passivation layer. CONSTITUTION: An organic dielectric layer(126) of benzocyclobutene(BCB) including Si bonding structure is coated on the front surface of a transparent substrate(111). Then, a photo resist is removed with a wet strip method by using a compound of an n-methyl-pyrrolidone(NMP), an alcohol and an amine not to etch the surface of the organic dielectric layer(126). A surface oxide film(126') of a SiOx is formed in the surface of the organic dielectric layer(126) by soaking the photo resist-removed substrate(111) in a nitric acid or a sulfuric acid. So, the organic dielectric layer(126) and the surface oxide film(126') form a flat passivation layer(200) for enhancing the adhesiveness with an ITO layer to be laminated on the passivation layer(200). The passivation layer(200) reduces the crack of the ITO layer caused by the thermal expansion coefficient difference between the organic dielectric layer(126) and the ITO layer.
Patent KR-100454628-B1 (KR)
Title: Method for forming wordline strapping of semiconductor device to improve photolithography process margin and area of semiconductor device
Inventor: LEE CHANG HYEOK
IPC: H01L21/28
Filed: 1997-06-24
Granted: 2005-01-05
Abstract: PURPOSE: A method for forming wordline strapping of a semiconductor device is provided to improve a photolithography process margin and the area of a semiconductor device by forming a high density impurity diffusion region in an interface between a semiconductor substrate and a bitline contact in making a layout without making the bitline contact overlap with a wordline and by generating a reverse voltage. CONSTITUTION: A field oxide layer(13), a wordline(15), the first insulation layer(17) and the second insulation layer(19) are sequentially formed on a semiconductor substrate(11). An etch process is performed by a photolithography process using a contact mask for a bitline(21) until the lower part of the semiconductor substrate is exposed. The bitline is coupled to the lower part of the semiconductor substrate through a contact having a high density impurity diffusion region in an interface between the exposed lower part of the semiconductor substrate and the contact. The third insulation layer pattern(23) and a metal interconnection(25) are sequentially formed on the resultant structure.
Patent KR-100238029-B1 (KR)
Title: 원고스캔방법
Inventor: KIM HAN-SHIN
IPC: H04N1/00
Filed: 1997-07-04
Granted: 2000-03-02
Abstract: 본 발명은 스캔할 실제 원고 크기가 상기 복합기가 갖는 스캔 가능한 최대 크기보다 작을 경우 상기 원고가 차지하는 영역바깥에서 스캔되는 데이터를 백색으로 처리하기 위한 원고스캔방법에 관한 것이다. 
     본 발명은 스캔할 원고를 원고의 진행방향으로 소정 개수의 블럭으로 나누고 상기 소정 개수의 블럭을 각각 원고의 진행방향과 직교하는 방향으로 소정 개수의 슬라이스로 분할하고, 원고지지대에서 하나의 블럭을 스캔하여 얻은 기준블럭과 상기 원고를 스캔한 블럭에 대해 하나의 슬라이스 단위로 비교함으로써 동일데이터가 임계치 이상 발견되면 원고 바깥영역에 있으므로, 상기 원고가 팩시밀리로 전송되는 데이터인 경우에는 상기 원고 바깥 영역을 백색(white)으로 처리하고, 상기 원고가 PC로 업로딩(Uploading)되는 경우에는 상기 원고 바깥 영역을 스킵(skip) 처리한다. 따라서, 본 발명의 원고스캔방법을 적용한 복합기의 수신 측에서는 순수한 실제 원고의 크기만큼 인쇄하게 됨으로써 수신측 인쇄장치의 토너 혹은 잉크의 과잉 소모를 방지할 수 있는 효과가  있다.