Patent DE-102008041178-B4 (DE)
Title: Herstellungsverfahren für ein mikromechanisches Bauteil
Inventor: FINKBEINER STEFAN
IPC: B81B3/00
Filed: 2008-08-12
Granted: 2018-11-15
Abstract: Herstellungsverfahren für ein mikromechanisches Bauteil (100,120,140) mit den Schritten:
 Bilden einer ersten Ätzstoppschicht (12) auf einem Grundsubstrat (10), wobei die erste Ätzstoppschicht (12) so ausgebildet wird, dass sie ein erstes Muster von durchgehenden Aussparungen (14) aufweist, und wobei mindestens eine erste Teilfläche der ersten Ätzstoppschicht (12) so ausgebildet wird, dass sie äquidistant angeordnete erste Aussparungen (14) mit gleichen Ausdehnungen und einem ersten Abstand (d1) zwischen den äquidistant angeordneten ersten Aussparungen (14) aufweist;
 Bilden einer ersten Elektroden-Material-Schicht (16) auf der ersten Ätzstoppschicht (12);
 Bilden einer zweiten Ätzstoppschicht (18) auf der ersten Elektroden-Material-Schicht (16), wobei die zweite Ätzstoppschicht (18) so ausgebildet wird, dass sie ein von dem ersten Muster verschiedenes zweites Muster von durchgehenden Aussparungen (20) aufweist, und wobei mindestens eine zweite Teilfläche der zweiten Ätzstoppschicht (18) so ausgebildet wird, dass sie äquidistant angeordnete zweite Aussparungen (20) mit gleichen Ausdehnungen und einem zweiten Abstand (d2) zwischen den äquidistant angeordneten zweiten Aussparungen (20) aufweist;
 Bilden einer zweiten Elektroden-Material-Schicht (22) auf der zweiten Ätzstoppschicht (18);
 Bilden einer strukturierten Maske (30) auf der zweiten Elektroden-Material-Schicht (22), wobei die Maske (30) auf der zweiten Elektroden-Material-Schicht (22) so strukturiert wird, dass sie ein von dem ersten Muster und dem zweiten Muster verschiedenes drittes Muster von durchgehenden Aussparungen aufweist, und wobei mindestens eine dritte Teilfläche der strukturierten Maske (30) so ausgebildet wird, dass sie äquidistant angeordnete dritte Aussparungen mit gleichen Ausdehnungen und einem dritten Abstand (d3) zwischen den äquidistant angeordneten dritten Aussparungen aufweist; und
 Ausführen eines ersten Ätzschritts in einer ersten Richtung (28,32) und eines zweiten Ätzschritts in einer der ersten Richtung (28,32) entgegen gerichteten zweiten Richtung (28,32) zum Ätzen mindestens einer ersten Elektrodeneinheit (44) aus der ersten Elektroden-Material-Schicht (16) und zum Ätzen mindestens einer zweiten Elektrodeneinheit (42) aus der zweiten Elektroden-Material-Schicht (22); 
 dadurch gekennzeichnet, dass
 der erste Abstand (d1) und die Ausdehnungen der äquidistant angeordneten ersten Aussparungen (14) so festgelegt werden, dass bei einer Projektion der zweiten Teilfläche der zweiten Ätzstoppschicht (18) auf die erste Teilfläche der ersten Ätzstoppschicht (12) jeder zweite der Zwischenbereiche (18a) zwischen den äquidistant angeordneten zweiten Aussparungen (20) der zweiten Teilfläche der zweiten Ätzstoppschicht (18) auf eine erste Aussparung (14) in der ersten Teilfläche der ersten Ätzstoppschicht (12) projiziert wird; und
 der dritte Abstand (d3) gleich dem ersten Abstand (d1) und die Ausdehnungen der äquidistant angeordneten dritten Aussparungen so festgelegt werden, dass bei einer Projektion der zweiten Teilfläche der zweiten Ätzstoppschicht (18) auf die dritte Teilfläche der strukturierten Maske (30) jeder zweite der Zwischenbereiche (18a) zwischen den äquidistant angeordneten zweiten Aussparungen (20) der zweiten Teilfläche der zweiten Ätzstoppschicht (18) auf eine dritte Aussparung in der dritten Teilfläche der strukturierten Maske (30) projiziert wird, wobei zwischen zwei Zwischenbereichen (18a) der zweiten Teilfläche der zweiten Ätzstoppschicht (18), welche auf erste Aussparungen (14) in der ersten Teilfläche der ersten Ätzstoppschicht (12) projiziert werden, genau ein Zwischenbereich (18a) der zweiten Teilfläche der zweiten Ätzstoppschicht (18) liegt, welcher auf eine dritte Aussparung in der dritten Teilfläche der strukturierten Maske (30) projiziert wird;
 wodurch die erste Elektrodeneinheit (44) und die zweite Elektrodeneinheit (42) mit einer Breite ihrer Elektrodenfinger gleich dem zweiten Abstand (d2) zwischen den äquidistant angeordneten zweiten Aussparungen (20) geätzt werden.