Patent DE-102008038443-B4 (DE)
Title: Maskenloser Belichtungsapparat
Inventor: OSHIDA YOSHITADA
IPC: G03F7/20
Filed: 2008-08-20
Granted: 2023-07-27
Abstract: Maskenlose Belichtungsvorrichtung, die umfasst:mehrere optische Systeme, jeweils umfassend:- ein Belichtungs-Beleuchtungssystem (17) zum Ausgeben von Belichtungslicht,- einen zweidimensionalen räumlichen Modulator (37),- eine erste Projektionslinse (47),- eine Mikrolinsenanordnung (57),- eine zweite Projektionslinse (67),- ein erstes und ein zweites keilförmiges Glas (717 und 727), wovon jedes gegenüberliegende Keiloberflächen (717a, 717b, 727a, 727b) mit einem Winkel θ zwischen den Oberflächen aufweist, und- eine Bewegungseinheit zum Bewegen wenigstens eines der keilförmigen Gläser; wobei- eine Keiloberfläche (717a) des ersten keilförmigen Glases senkrecht zur optischen Achse der zweiten Projektionslinse angeordnet ist und das zweite keilförmige Glas mit dem ersten keilförmigen Glas kombiniert ist, wobei ihre dickeren Enden in entgegengesetzter Richtung angeordnet sind, so dass ein Abstand zwischen der anderen Keiloberfläche (717b) des ersten keilförmigen Glases und einer Keiloberfläche (727b) des zweiten keilförmigen Glases auf einen vorgegebenen Wert gesetzt ist, während das erste und das zweite keilförmige Glas auf einer Eintrittseite oder einer Austrittseite der zweiten Projektionslinse angeordnet sind, und- dann, wenn eine Position, in der die zweite Projektionslinse (67) ein Bild längs ihrer optischen Achse erzeugt, von einer Oberfläche des Substrats verschoben wird, eines der keilförmigen Gläser in einer Aufwärts- oder Abwärtsrichtung längs der Neigung durch die Bewegungseinheit bewegt wird, während der Abstand zwischen den keilförmigen Oberflächen des ersten und des zweiten keilförmigen Glases konstant gehalten wird, so dass eine Ebene, in der die zweite Projektionslinse ein Bild erzeugt, auf der Oberfläche des Substrats positioniert ist;eine Plattform (80) zum Halten eines Substrats (8), auf dem sich eine photoempfindliche Schicht befindet, und zum Bewegen des Substrats in einer Richtung senkrecht zu den optischen Achsen der zweiten Projektionslinsen;einen Mehrhöhen-Detektor (600U) mit einer Vielzahl von Höhendetektoren (600) zum Detektieren einer Vielzahl von Substratoberflächenhöhen gelegen auf der nahen Seite der zweiten Projektionslinse in der Belichtungsvorschubrichtung und angeordnet senkrecht zu der Belichtungsvorschubrichtung; undeine Steuereinheit (9), die dazu eingerichtet ist:- bis eine Fläche auf dem Substrat die optischen Achsen der jeweiligen zweiten Projektionslinsen (67) der optischen Systeme erreicht durch das Belichtungsabtasten des Substrats, einen durchschnittlichen Wert der Vielzahl der Substratoberflächenhöhen, die von dem Mehrhöhen-Detektor (600U) detektiert wurden, senkrecht zu der Belichtungsvorschubrichtung zu berechnen; und- wenn die Fläche auf dem Substrat die optischen Achsen der jeweiligen zweiten Projektionslinsen (67) der optischen Systeme erreicht, die jeweilige Bewegungseinheit anzusteuern, sodass eine Höhe der Abbildungsebene der jeweiligen zweiten Projektionslinse mit dem durchschnittlichen Wert zusammenfällt; unddie Steuereinheit weiter dazu eingerichtet ist:- ein Detektionsergebnis durch den Mehrhöhen-Detektor (600U) zu speichern; und- einen Bereich im Voraus auf dem Substrat anzuzeigen, der nach der Belichtung fehlerhaft sein wird, da die Höhe der Abbildungsebene die Fokustiefe der jeweiligen zweiten Projektionslinsen (67) übersteigt.