સર્જન એક એવી પ્રક્રિયાનો ઉપયોગ કરે છે જે વાસ ડેફરન્સના કટ અંતને કાબૂમાં રાખે છે, તે સ્કાય પેશીઓ છોડીને તે આ પ્રકારની સ્વ-રિપેર બનાવવાનું વધુ મુશ્કેલ બનાવે છે.