Judul: Jumlah Mikrob dan Koliform pada Pisau saat Proses Penanganan Karkas di Rumah Potong Hewan Ruminansia Bubulak Kota Bogor.
Abstrak: Penelitian ini bertujuan untuk mengevaluasi jumlah mikrob dan koliform pada pisau saat proses penanganan karkas di Rumah Potong Hewan Ruminansia (RPHR) Bubulak Kota Bogor. Sampel adalah usapan swab pada pisau penanganan karkas yaitu pisau pengulitan, pisau pemotong karkas, dan kapak. Sebanyak 12 sampel diambil untuk pengujian jumlah mikrob dan jumlah koliform untuk masingmasing pisau penanganan. Pengambilan sampel menggunakan teknik swab. Pengujian sampel dilakukan dengan metode hitungan cawan untuk pemeriksaan jumlah mikrob dan koliform. Data dianalisis secara deskriptif dan menentukan standar deviasi untuk mengidentifikasi perbedaan. Hasil penelitian menunjukkan bahwa rataan jumlah mikrob pada pisau pengulitan, pisau pemotong karkas, dan kapak berturut-turut yaitu 1.0 x 105 cfu/cm2, 1.7 x 104 cfu/cm2, dan 2.4 x 104 cfu/cm2, sedangkan rataan jumlah koliform pisau pengulitan, pisau pemotong karkas, dan kapak berturut-turut yaitu 3.2 x 103 cfu/cm2, 1.8 x 103 cfu/cm2, dan 3.2 x 103 cfu/cm2. Tingginya jumlah mikrob dan jumlah koliform dipengaruhi oleh berbagai faktor seperti tingkat sanitasi dan higiene peralatan, serta kontak dengan lingkungan dan karkas. Jumlah mikrob dan koliform yang memiliki nilai paling tinggi berdasarkan 3 jenis sampel yang digunakan adalah pisau pengulitan.
Keyword: pisau, jumlah mikrob, koliform, rumah potong hewan

Judul: Jumlah Mikrob dan Koliform pada Beberapa Lantai saat Proses di Rumah Potong Hewan Ruminansia Bubulak Kota Bogor.
Abstrak: Penelitian ini bertujuan untuk mengidentifikasi jumlah mikrob dan koliform pada lantai penyembelihan, lantai pemotongan karkas, dan lantai penanganan jeroan saat proses di Rumah Potong Hewan Ruminansia Bubulak Kota Bogor. Sebanyak 36 sampel swab lantai yang terdiri dari 12 sampel lantai penyembelihan, 12 sampel lantai pemotongan karkas, dan 12 sampel lantai penanganan jeroan saat proses. Pengujian sampel dilakukan dengan metode hitungan cawan untuk pemeriksaan jumlah mikrob dan koliform. Data dianalisis secara deskriptif. Hasil penelitian menunjukkan bahwa rataan jumlah mikrob pada lantai penyembelihan, lantai pemotongan karkas, dan lantai penanganan jeroan saat proses berturut-turut yaitu 2.5 x 105 cfu/cm2, 1.9 x 106 cfu/cm2, dan 2.3 x 106 cfu/cm2. Sedangkan rataan jumlah koliform pada lantai penyembelihan, lantai pemotongan karkas, dan lantai penanganan jeroan saat proses berturut-turut yaitu 4.3 x 103 cfu/cm2, 1.5 x 105 cfu/cm2, dan 4.4 x 104 cfu/cm2. Tingginya jumlah mikrob dan koliform pada lantai di RPHR berpotensi sebagai sumber pencemar bakteri kepada daging yang dapat memengaruhi keamanan dan kualitas daging.
Keyword: jumlah mikrob, koliform, lantai, RPH

Judul: Elektrodeposisi Film Tipis Semikonduktor Cu2ZnSnS4 (CZTS) pada Substrat Kaca ITO
Abstrak: Semiconductor Cu2ZnSnS4 (CZTS) thin film that can be used as absorber layers on solar cell module was made via electrodeposition method. CZTS thin film was electrodeposited on the surface of a silicate glass coated with a thin layer of indium tin oxide (ITO). Deposition process was done using potentiostatic mode at room temperature with a potential of 1.05 V for 30, 45, and 60 minutes, followed with annealing the film at 2 different temperatures, 500 ºC using furnace and 180 ºC using hot plate, both treatments for 45 minutes in N2/H2S atmosphere. The X-ray difractograms were analyzed using Match 2 program and showed that the CZTS thin films had kesterit crystalline structure, with a low percentage of CZTS phase. The thin film also contained secondary phases such as Cu2S, ZnS, and SnS. The obtained CZTS thin films had a thickness between 1.039 and 1.676 μm. Absorption study showed that the band gap energy of CZTS thin films which was annealed using furnace ranged from 1.50 to 1.52 eV, whereas that annealed using the hot plate was not observed. The band gap energy value showed that CZTS thin films can be used as sunlight absorber layers on solar cell. The formation of CZTS crystal film on this investigation was effectively performed using furnace annealing process at a temperature of 500 ºC with deposition time of 45 minutes.
Keyword: Thin film, Electrodeposition, Cu2ZnSnS4