Judul: Jumlah Total Mikrob dan Koliform pada Lantai Tempat Penanganan Karkas Ayam di Tempat Pemotongan Ayam Kebon Pedes Bogor.
Abstrak: Tempat pemotongan ayam memproduksi daging ayam yang akan dikonsumsi manusia. Tempat pemotongan ayam harus memenuhi syarat dan kualitas yang baik karena dapat menentukan keamanan daging ayam yang akan dikonsumsi. Penelitian ini bertujuan untuk membandingkan jumlah total mikrob dan koliform pada lantai sebelum dan saat proses penanganan karkas ayam di tempat pemotongan ayam Kebon Pedes Bogor. Sampel yang diambil sebanyak 20 sampel sebelum proses penanganan dan 20 sampel saat proses penanganan karkas. Jumlah total mikrob dan koliform sampel diperiksa dengan menggunakan metode hitung cawan. Jumlah rata-rata dari koloni (cfu) dihitung berdasarkan jumlah total mikrob dan jumlah koliform sebelum dan saat proses penanganan dengan interval kepercayaan 95%. Hasil menunjukan jumlah total mikrob dan koliform pada lantai saat proses penanganan lebih tinggi dibandingkan sebelum proses penanganan. Jumlah total mikrob berturut-turut adalah 1.1 x 106 cfu/cm2 dan 4.3 x 106 cfu/cm2, sedangkan jumlah koliform berturut-turut adalah 5.2 x 104 cfu/cm2 dan 2.0 x 105 cfu/cm2. Jumlah total mikrob dan koliform sebelum dan saat proses penanganan tersebut berbeda secara signifikan. Tingginya jumlah total mikrob dan jumlah koliform pada lantai dapat meningkatkan risiko kontaminasi silang dari lantai ke karkas ayam.
Keyword: lantai, koliform, penanganan, total mikrob

Judul: Total Mikrob dan Koliform pada Lantai Penanganan Rumah Potong Hewan Sebelum dan Saat Proses di RPH Terpadu Bubulak Kota Bogor.
Abstrak: Penelitian bertujuan untuk mengidentifikasi jumlah total mikrob dan koliform pada lantai pemotongan, penanganan karkas, dan penanganan jeroan sebelum proses dan saat proses di RPH Terpadu Bubulak kota Bogor. Sampel yang diambil 18 buah yang terdiri atas 9 sampel swab pada ketiga lantai sebelum proses dan 9 sampel swab saat proses. Pengujian sampel dilakukan dengan pemeriksaan jumlah total mikrob dan koliform. Berdasarkan hasil penelitian, rataan total mikrob pada swab lantai untuk ketiga lantai penanganan menunjukkan rata-rata total mikrob pada sebelum proses dan saat proses secara berturut-turut adalah 9.1x105 dan 2.8x106 cfu/cm2, sedangkan rataan koliform sebelum proses dan saat proses secara berturut-turut adalah 1.2x104 dan 6.2x104 cfu/cm2. Tingginya jumlah total mikrob dan koliform pada lantai penanganan dapat terjadi karena kurangnya penerapan higiene personal, sanitasi ruang dan peralatan yang digunakan, maupun hewan itu sendiri.
Keyword: Koliform, lantai, rumah potong hewan, total mikrob

Judul: Elektrodeposisi Film Tipis Semikonduktor Cu2ZnSnS4 (CZTS) pada Substrat Kaca ITO
Abstrak: Semiconductor Cu2ZnSnS4 (CZTS) thin film that can be used as absorber layers on solar cell module was made via electrodeposition method. CZTS thin film was electrodeposited on the surface of a silicate glass coated with a thin layer of indium tin oxide (ITO). Deposition process was done using potentiostatic mode at room temperature with a potential of 1.05 V for 30, 45, and 60 minutes, followed with annealing the film at 2 different temperatures, 500 ºC using furnace and 180 ºC using hot plate, both treatments for 45 minutes in N2/H2S atmosphere. The X-ray difractograms were analyzed using Match 2 program and showed that the CZTS thin films had kesterit crystalline structure, with a low percentage of CZTS phase. The thin film also contained secondary phases such as Cu2S, ZnS, and SnS. The obtained CZTS thin films had a thickness between 1.039 and 1.676 μm. Absorption study showed that the band gap energy of CZTS thin films which was annealed using furnace ranged from 1.50 to 1.52 eV, whereas that annealed using the hot plate was not observed. The band gap energy value showed that CZTS thin films can be used as sunlight absorber layers on solar cell. The formation of CZTS crystal film on this investigation was effectively performed using furnace annealing process at a temperature of 500 ºC with deposition time of 45 minutes.
Keyword: Thin film, Electrodeposition, Cu2ZnSnS4