Judul: Nilai Dari Manajemen Risiko Riil dan Finansial
Abstrak: Karya tulis ini menyajikan suatu pandangan baru tentang nilai manajemen risiko perusahaan. Perusahaan didefinisikan sebagai suatu yang berkaitan dengan pelaksanaan proyek-proyek, dimana proyek-proyek tersebut berhubungan dengan arus kas dan risiko. Aktivitas-aktivitas Manajemen Operasi dan Produksi serta Manajemen Risiko Riil perusahaan menghasilkan nilai perusahaan. Perbedaan tujuan aktivitas-aktivitas manajemen operasi dan produksi serta manajemen risiko riil adalah sumber ketidak-efisienan perusahaan dalam menentukan nilai perusahaan. Manajemen risiko finansial bertujuan untuk memberikan suatu tingkatan fleksibilitas di dalam perusahaan untuk mengurangi masalah ketidak-efisienan tersebut. Dalam menentukan nilai perusahaan, terdapat berbagai macam kendala yang dihadapi perusahaan. Kendala kebebasan dan koordinasi serta fleksibilitas yang terjadi dalam perusahaan disebabkan adanya perbedaan tujuan dari manajer-manajer di perusahaan. Masalah batasan CaR (Cashflow-at-Risk) yang dibuat oleh pengatur pasar. Perubahan parameter pasar dalam harga resiko dapat mempengaruhi tingkatan yang optimal dari aktivitas riil di dalam perusahaan sehingga mempengaruhi nilai perusahaan.
Keyword: 

Judul: Analisis Risiko Operasional Bank Xxx Dengan Menggunakan Teori Nilai Ekstrim
Abstrak: Bank dalam kegiatan usahanya selalu dihadapkan pada risiko-risiko yang berkaitan erat karena posisinya sebagai lembaga intermediasi keuangan. Salah satu risiko yang mengemuka saat ini adalah risiko operasional. Risiko operasional menjadi salah satu faktor tambahan yang harus diukur dan diperhitungkan dalam nilai minimum kecukupan modal (Capital Adequacy Ratio), selain risiko kredit dan pasar. Terdapat tiga pendekatan dalam menetapkan beban modal untuk risiko operasional yaitu Basic Indicator Approach, Standardized Approach, dan Advanced Measurement Approach. Sebaran data risiko operasional memiliki kecenderungan menjulur. Oleh karena itu, penelitian ini menggunakan metode Advanced Measurement Approach khususnya penggunaan teori nilai ekstrim untuk mengukur risiko operasional bank XXX. Metode identifikasi nilai ekstrim yang digunakan adalah metode melebihi nilai ambang (Peaks over Threshold, POT). Hasil menunjukkan bahwa besarnya dana yang harus dicadangkan bank XXX untuk menutupi kemungkinan terjadinya risiko operasional pada periode 2010 sebesar Rp 737.210.874,- pada tingkat kepercayaan 99,9%. Hasil prediksi menunjukkan bahwa model layak untuk dipergunakan sebagai alat ukur risiko operasional dengan tingkat kepercayaan 99,9%, untuk semua tipe kejadian risiko operasional.
Keyword: 

Judul: Elektrodeposisi Film Tipis Semikonduktor Cu2ZnSnS4 (CZTS) pada Substrat Kaca ITO
Abstrak: Semiconductor Cu2ZnSnS4 (CZTS) thin film that can be used as absorber layers on solar cell module was made via electrodeposition method. CZTS thin film was electrodeposited on the surface of a silicate glass coated with a thin layer of indium tin oxide (ITO). Deposition process was done using potentiostatic mode at room temperature with a potential of 1.05 V for 30, 45, and 60 minutes, followed with annealing the film at 2 different temperatures, 500 ºC using furnace and 180 ºC using hot plate, both treatments for 45 minutes in N2/H2S atmosphere. The X-ray difractograms were analyzed using Match 2 program and showed that the CZTS thin films had kesterit crystalline structure, with a low percentage of CZTS phase. The thin film also contained secondary phases such as Cu2S, ZnS, and SnS. The obtained CZTS thin films had a thickness between 1.039 and 1.676 μm. Absorption study showed that the band gap energy of CZTS thin films which was annealed using furnace ranged from 1.50 to 1.52 eV, whereas that annealed using the hot plate was not observed. The band gap energy value showed that CZTS thin films can be used as sunlight absorber layers on solar cell. The formation of CZTS crystal film on this investigation was effectively performed using furnace annealing process at a temperature of 500 ºC with deposition time of 45 minutes.
Keyword: Thin film, Electrodeposition, Cu2ZnSnS4