PROCESS FOR THE CORRECTION OF PHOTO MASKS

Abstract: 1. A method of correcting optical exposure masks comprising on a substrate transparent to the exposure radiation used a mask structure not transparent to the exposure radiation used, in which areas to be corrected of the exposure masks are covered with a material not transparent to the exposure radiation used, characterized in that the areas to be corrected of the exposure mask, whilst masking the areas not to be corrected, are metallized by electroless deposition of silver from baths acting autocatalytically.

Description: Verfahren zum Nachbessern von optischen Belichtungsmasken Verfahren zum Nachbessern von optischen, auf einem für die angewendete Belichtungsstrahlung transparenten Substrat eine fur die angewendete Belichtungsstrahlung nicht transparente Maskenstruktur enthaltenden Belichtungsmasken, bei dem nachzubessernde Stellen der Belichtungsmasken mit fur die angewendete Belichtungsstrahlung nicht transparentem Material abgedeckt werden. Optische Belichtungsmasken werden z.B. bei der Herstellung von elektronischen Bauelementen wie Transistoren, Dioden oder integrierten Schaltungen benötigt. Bei diesen Bauelementen sind die Kenngrössen in hohem Mass durch die Anbringungsstellen und die Abmessungen von am Haibleiterkörper angebrachten Metallisierungen und in bestimmten Fallen durch im Halbleiterkörper angebrachte Muster von Zonen unterschiedlichen Leitfahigkeitstyps bedingt, die z.B. durch Diffusion unter Anwendung maskierender Schichten erhalten werden. Aus diesem Grund muss eine sehr grosse Genauigkeit beim Anbringen von Metallisierungen und Zonen gefordert werden. Die beim Anbringen der verlangten Muster anzuwendenden Masken mussen daruberhinaus auch eine solche Festigkeit haben, dass sie mehrmals verwendet werden können. Aus diesen Gründen ist die Herstellung optischer Masken jeder Form mit der zu diesem Zweck notwendigen Genauigkeit technisch kompliziert und verhaltnismässig kostspielig. In der Praxis hat sich gezeigt, dass die besten Resultate erzielt werden, wenn eine Maske möglichst flach ist. Dabei muss die Maskenstruktur abriebfest sein, damit eine Maske mehrfach benutzt werden kann und sie muss ausserdem exakte, scharfe Ränder haben, damit über sie ein deutlich definiertes Bild auf der strahlungsempfindlichen Lackschicht abgebildet wird. Diese Eigenschaften haben insbesondere Masken mit einer Maskenstruktur in Form eines Dunnschichtmusters auf einem für die Belichtungsstrahlung transparenten Substrat. Diese Dünnschichtmuster werden mit den aus der Dünnschichttechnologie bekannten Techniken, z.B. durch Aufdampfen oder Aufbringen durch Kathodenzerstäubung, auf das Substrat aufgebracht. Bei diesen Herstellungsverfahren kommt es jedoch vor, dass die Maskenstruktur infolge von Poren (sogenannte pinholes) stellenweise transparent für die Belichtungsstrahlung wird und damit den optischen Anforderungen nicht mehr genügt. Da die Maskenherstellung aufwendig und damit kostspielig ist, hat die Praxis nach Wegen gesucht, solche fehlerhaften Masken nicht sofort als Ausschuss aussondern zu müssen, sondern sie durch Nachbessern fehlerhafter Stellen doch verwendbar zu halten. Es ist bekannt, fehlerhafte Stellen durch örtliches Aufbringen von für die Belichtungsstrahlung nicht transparentem Material mittels Kathodenzerstäubung auszubessern. Dieses Verfahren erfordert einen verhältnismässig grossen apparativen Aufwand und ist darüberhinaus auch zeitaufwendig. Weiter wird in der Praxis so vorgegangen, fehlerhafte Stellen durch Auftupfen von Lack optisch zu schliessen. Dieses Verfahren ist zwar vom Vorrichtungsaufwand nicht so nachteilig wie die Kathodenzerstäubung, führt jedoch nicht zu reproduzierbar guten Ergebnissen aufgrund der unterschiedlichen Schichtdicke der ursprünglichen Maskenstruktur im Vergleich zu den nachträglich aufgebrachten Lack tupfern. Ausserdem ist es ausserordentlich schwierig, bei den üblicherweise angewendeten Strukturen kleinster Abmessungen (pm-Bereich) gezielt Lacktupfer anzubringen. Ein weiterer Nachteil ist, dass durch das Anbringen von Lacktupfern auf einer Dünnschichtmaskenstruktur Materialien unterschiedlicher Abriebfestigkeit in der Maskenstruktur vorhanden sind, denn Dünnschichtmasken bestehen uberwie- gend aus Metall oder aus Metalloxid. In der Regel müssen die auf die genannten Arten ausgebesserten Masken ausgesondert werden und es bleibt nur der aufwendige Weg, für fehlerhafte Masken neue Masken anfertigen zu müssen. Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, Dünnschicht Maskenstrukturen so nachzubessern, dass bei möglichst geringem apparativem Aufwand Maskenstrukturen erhalten werden, bei denen die Ausbesserungsstellen möglichst ahnliche Eigenschaften, z.B im Hinblick auf Schichtdicke und Abriebfestigkeit haben, wie die ursprüngliche Maskenstruktur. Diese Aufgabe wird erfindungsgemäss dadurch gelöst, dass die abzudeckenden Stellen der Belichtungsmaske unter Maskierung der nicht abzudeckenden Stellen durch stromlose Metallabscheidung aus autokatalytisch arbeitenden Bädern metallisiert werden. Gerade bei den in der Praxis bevorzugt angewendeten Masken aus Chrom oder aus Eisenoxid (Fe203) ist es vorteilhaft, durch stromlose Metallabscheidung aus autokatalytisch wirkenden Bädern geeignete Metalle an den nachzubessernden Stellen anzubringen, weil durch dieses Verfahren schon bei sehr geringer Schichtdicke für die Belichtungsstrahlung nicht transparente Stellen hoher Abriebfestigkeit erzeugt werden können. Beim chemischen Anbringen von dünnen Metallschichten gilt es als besonders zweckmässig, um porenfreie, gut haftende Schichten zu erreichen, das Substrat auf dem abgeschieden werden soll, nicht nur chemisch vorzubehandeln, (zu sensibilisieren), um die für die chemische Metallabscheidung notwendigen Kristallisationskeime zu erzeugen, sondern die Abscheidungsfläche sollte auch mechanisch vorbehandelt (aufgerauht) werden, um eine wirksame Kristallisationshilfe für das weitere Verfahren zu schaffen. Der Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, dass eine mechanische Vorbehandlung der Flächen, auf denen abgeschieden werden soll, nicht erforderlich ist und trotzdem eine weitere porenfreie, diffusionsfeste, duktile und gut haftende, also abriebfeste, Beschichtung im Bereich der Nachbesserungsstellen erreicht werden kann. Die mit der Erfindung erzielten Vorteile bestehen insbesondere darin, dass Maskenstrukturen mit sehr geringem technischem Aufwand nachgebessert werden können, wobei abriebfeste Maskenstrukturen gleichmässiger Schichtdicke mit sehr guten optischen Qualitäten erreicht werden können. Ein weiterer Vorteil des erfindungsgemässen Verfahrens besteht darin, dass nicht nur Poren, also fehlerhafte Stellen, abgedeckt werden können, sondern dass die Maskenstrukturen sogar abgewandelt und ergänzt werden können,^ was mit dem Lacktupfverfahren nicht möglich und mit dem Kathodenzerstäubungsverfahren nur unter erheblichem technischem Aufwand möglich ist. Als Ausführungsbeispiel der Erfindung wird die Abscheidung von Silberschichten auf den abzudeckenden Bereichen einer Maskenstruktur aus Chrom oder Eisenoxid Fe203 beschrieben. Die Erfindung ist jedoch nicht auf dieses Ausfüh- rungsbeispiel beschränkt; es versteht sich für den Fachmann, dass auch Masken mit Dünnschichtstrukturen aus anderen Materialien mit anderen geeigneten Materialien ausser Silber mittels stromloser Metallabscheidung abgedeckt wer den können. Die Sensibilisierung der mit Silber zu beschichtenden Bereiche der Fe203-oder Cr-Maskenstruktur erfolgt in dem zu beschreibenden Ausführungsbeispiel mit einer Lösung von Zinnchlorür. Dies ist besonders vorteilhaft, weil Kristallisationskeime aus Zinn insbesondere gegenüber Glas- oder Quarzoberflachen (Glas oder Quarz haben sich bevorzugt als Maskensubstrat bewahrt) gute Grenzflächeneigenschaften zeigen. Es ist aber möglich, auch andere geeignete Sensibilisierungslösungen einzusetzen. Unterschiedliche Bäder sowohl für die Sensibilisierung von Substraten aus Glas, Quarz, Keramik, Porzellan, Harzen, Harzgemischen, Papier und ähnlichem mit und ohne Metallbelag wie auch stromlos Kupfer, Nickel, Kobalt, Silber, Gold, Zinn, Rhodium und Zink abscheidende Bäder sind dem Fachmann wohl bekannt. Durchführung des erfindungsgemässen Verfahrens: Als Substrat zur Durchführung des Verfahrens diente eine optische Belichtungsmaske in Form einer mit einer Maskenstruktur aus Fe203 versehenen Platte aus Glas. Die Belichtungsmaske wird zur Maskierung der nicht abzudeckenden Stellen zunächst mit einer etwa ipm dicken Fotolackschicht überzogen, in der auf bekannte Weise die zu versilbernden Stellen der Belichtungsmaske freigelegt werden. Nachdem die freigelegten Stellen gut gespült wurden, wird auf sie eine Sensibilisierungslösung A der nachfolgenden Zusammensetzung aufgetropft und zwei bis drei min einwirken gelassen. Lösung A: 1 i f0,1 g SnCl2 + 1 i 0,1 g c6H807.H20, gelöst in 50 ml H20reinst. Die so vorbehandelte Belichtungsmaske wird anschliessend gut gespült und durch Abschleudern der Restflüssigkeit getrocknet. Anschliessend wird eine stromlos Silber abscheidende Lösung hergestellt. Hierzu werden Lösungen B und C zu gleichen Teilen gut vermischt auf die mit Silber zu beschichtenden Stellen der Belichtungsmaske aufgetropft. Pro Minute werden etwa 0,Oipm Silber abgeschieden. Nach Erreichen der gewünschten Schichtdicke wird die Belichtungsmaske gut gespült und durch Schleudern getrocknet. Lösung B: 5 g i 0,01 g AgN03 p.a., gelöst in 75 ml H20reinst. Zu dieser Lösung werden tropfenweise 4 bis 6 ml N83 (25%) zugegeben, bis Schönung eintritt. Lösung C: 0,9 t 0,05 g Kalium-Natriumtartrat + 1,1 * 0,05 g AgN03, nacheinander gelöst in 500 ml siedendem H2Oreinst.

Claims: PATENTANSPRÜCHE 1. Verfahren zum Nachbessern von optischen, auf einem für die angewendete Belichtungsstrahlung transparenten Substrat eine für die angewendete Belichtungsstrahlung nicht transparente Maskenstruktur enthaltenden Belich tungsmasken, bei dem nachzubessernde Stellen der Be lichtungsmasken mit für die angewendete Belichtungs strahlung nicht transparentem Material abgedeckt wer den, dadurch gekennzeichnet, dass die abzudeckenden Stellen der Belichtungsmaske unter Maskierung der nicht abzudeckenden Stellen durch stromlose Metallabscheidung aus autokatalytisch ar beitenden Bädern metallisiert werden. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass als Material für die Maskenstruktur Eisenoxid Fe203 eingesetzt wird. 3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass als Material für die Maskenstruktur Chrom Cr einge setzt wird. 4. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekenn zeichnet, dass auf den abzudeckenden Stellen Silber abgeschieden wird. 5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die abzudeckenden Stellen zunächst mit einer Lösung A, bestehend aus 1 + 0,1 g SnCl2 + 1 + 0,1 g C6H807.H20, gelöst in 50 ml H20 reinst für die stromlose Metall abscheidung sensibilisiert und anschliessend ver mittels eines stromlos Silber abscheidenden, aus gleichen Teilen von Lösungen B + C bestehenden Bades der nachfolgend angegebenen Zusammensetzung metalli siert werden: Lösung B: 5 + 0,01 g AgNO3 p.a., gelöst in 75ml H20 reinst + 4-6 ml NH3 (25%mg) Lösung C: 0,9 + 0,05 g K-Na-Tartrat + 1,1 + 0,05 g AgNO3, nacheinander gelöst in 500 ml H20 reinst,1000C

Inventors: TIETJE, HANS-GERHARD
Applicants: N.V. PHILIPS' GLOEILAMPENFABRIEKEN, PHILIPS PATENTVERWALTUNG GMBH
Application year: 1984
Main classification: G03F1
IPC codes: G03F1, H01L21