PIGMENT CAKE AND PROCESS FOR OBTAINING IT

Abstract: 1. A process for the dehydration of a suspension of mineral pigments characterised in that the resistivity of said suspension is adjusted to a value of between 100 and 15 000 OMEGA cm and in particular between 500 and 5 000 OMEGA cm and sufficient to permit the deposit of pigment under the action of an electrical field, and then said suspension is subjected to the action of an electrical field.

Description: NOUVEAU GATEAU DE PIGMENT ET PROCEDE POUR SON OBTENTION La présente invention a pour objet un nouveau gâteau de pigment et notamment de silice précipitée. Elle concerne également un procédé par électrodeposition pour son obtention qui s'applique en particulier à la déshydratation d'une suspension de silice dans le but de remplacer une opération de filtration et la silice qui peut être obtenue par ce procédé. On sait que, lors de la preparation des silices précipitées, l'on tait réagir une source de silice, telle que silicate de sodium et un agent d'aciaitication tel que acide sulturique ou anhydride carbonique, de manière à former une suspension de silice. Mais cette suspension renferme une grande quantité d'eau. C'est pourquoi l'on soumet cette suspension à une opération de filtration par tout moyen connu tel que filtre rotatif. il est également connu que la teneur en eau du gâteau, ou perte au feu du gâteau, est un facteur important dans le processus d'obtention de la silice quant aux caractéristiques du produit final. Ce qui fait qu'actuellement, on est limité pour des raisons à la fois d'ordre technologique et de qualité du produit final. Pour améliorer la filtration, on a déjà proposé, par exemple, des traitements chimiques. On a aussi offert de nouveaux types de filtres censés être plus performants. Mais l'on conçoit aisément qu'avec la technologie habituelle, plus on augmente la quantité d'extrait sec dans le gâteau de silice et plus on risque d'aggraver le caractère d'irréversibilité du gâteau de silice, donc de nuire à la qualité et au contrôle du produit final. De manière générale, on a proposé depuis longtemps de mettre en oeuvre des procédés d'électro-osmoses pour réaliser la séparation de particules solides et d'une phase liquide (US 1 133 967 - US 1 156 715 - US 1 174 946) et d'appliquer ce type de traitement à une suspension d'argile (US 1 229 203). De même, on a proposé la technique d'électrophorèse pour la séparation des solides des liquides (US 2 440 504). Depuis, on a décrit et revendiqué des améliorations aux procédés et dispositifs, relatifs à la déshydratation d'une suspension de matieres solides dans un véhicule liquide, sous l'action d'un champ électrique. Cette technique a même connu un développement certain avec les argiles, voir par exemple les US 3 980 547, 4 003 811 et 4 003 819. Toutefois, à la connaissance de la demanderesse, l'enseignement de l'électroconcentration n'a pas éte appliqué jusqu a ce jour aux suspensions de silice. Or, les travaux de la demanderesse ont montré que, de manière surprenante, l'électrodéposition était applicable aux suspensions de silice et en particulier aux suspensions de silice précipitëe. Un objet de la présente invention est donc de proposer un nouveau procedé de concentration des suspensions de pigments, et en particulier de suspensions de silice précipitée et un gâteau de silice ainsi obtenu. Un autre objet est de donner quelques mises en oeuvre possibles de cette technique. Les travaux de la demanderesse ont notamment mis en évidence que si on applique la technique de l'électrodéposition telle quel à une suspension de silice provenant de la précipitation par voie humide dans les conditions habituelles de précipitation, l'on n'observe rait pas d'effet, c'est-à-dire qu'il n'y a pas dépôt de silice. Mais les travaux de la demanderesse ont montré qu'un effet se produisait si l'on atteignait un certain seuil de résistivité. Le procede de l'invention consiste donc en un procédé de déshydratation d'une suspension de pigment et notamment en vue d'obtenir un gâteau de silice, à faible teneur en eau, et se caractérise par le fait que l'on amène la résistivité de ladite suspension à un seuil suffisant pour permettre le dépôt de pigment sous l'action d'un champ électrique, puis que l'on soumet cette suspension a l'action diun champ électrique. La valeur de ce seuil dépend bien evidemment d'un certain nombre de paramètres tels que pli, nature de ltelectrode, composition du milieu. La valeur de la résistivité peut ainsi varier dans de larges limites qui vont pratiquement, selon les conditions de l'électro- déposition de 100 a 15.000 ficm et de préférence de 500 à 5000 ,çcm. Avantageusement, la tension a une valeur comprise entre 15 et 150 volts et le champ une valeur comprise entre 5 et 100 V/cm. Le procédé selon l'invention s'applique à d'autres pigments et notamment aux pigments d'oxyde de titane. Le pigment est, en particulier, constitué par une silice de precipitation. La demanderesse a notamment constaté que l'électrodéposition se produisait d'autant mieux que l'on s'éloignait du point isoélectrique de la silice, c'est-a-dire que l'on se situe dans un intervalle possible de pH de précipitation compris entre 3,5 et 10 mais que les faibles valeurs de pH correspondent aux valeurs élevées de résistivité. Celles-ci dépendent également de la nature de l'électrode et seront plus importantes dans le cas d'une anode inattaquable que dans le cas d'une anode attaquable. Bien entendu, notamment pour des raisons de consommation d'énergie, l'homme de métier n'a pas intérêt à augmenter trop la résistivité en tenant compte des exigences techniques et économiques d'une installation industrielle. Pour une suspension de silice renfermant de 50 à 150 g/l de Six2, la résistivité de la suspension se situera normalement entre 1 000 et 5 000 ascm. Mais l'on ne se situerait pas en dehors de l'invention en adoptant une autre valeur pour des raisons particulières. Un moyen simple pour augmenter la résistivité de la suspension consiste à éliminer, par lavage, les ions Na et S04 provenant de la précipitation de la silice. Ce lavage plus poussé peut ëtre réalisé par apport d'eau dés ionisée à résistivité élevée (supérieure à 1 000 Qcm) par exemple a la suite du lavage habituel sur le filtre ou lors du délitage. Par ailleurs, les travaux de la demanderesse ont montré que la productivité du procédé pouvait etre considérablement améliorée en introduisant dans la suspension à déshydrater des additifs minéraux et/ou organiques. bien que l'on ne comprenne pas actuellement le mecanisme de l'action des additifs, on sait que au moins certains d'entre eux conduisent à une modification de l'état de la dispersion permettant d'opérer à des pH relativement élevés et voir même à des concentrations plus élevées. Ainsi, dans le cas de la silice notamment, la présence d'une faible quantité d'alumine, par exemple sous forme d'aluminate de sodium joue un rôle favorable et permet de travailler à des pH d'au moins 6, ce qui est très intéressant dans le cas d'une application en caoutchouc par exemple. On peut aussi faire appel à un silicate. Un additif intéressant s'est avéré être constitué par le baryum sous forme d'hydroxyde. L'hydroxyde de Pb s'est également montré efficace. De même, on peut mettre en oeuvre des dérivés tels que des amines aliphatiques ou aromatiques en général, l'ammoniac, la pyridine et des produits non azotés tels que le sulfosuccinate de sodium, le sulfonate diesterméthylique. Cette liste ne prétend pas, bien entendu, etre exhaustive. De manière générale, ces produits sont à utiliser à une dose de 400-1 200 ppm. L'on doit faire remarquer que ces additifs, s'ils permettent d'améliorer le dépôt, ne le provoquent pas, ctest-à-dire que si l'on est dans des conditions où le dépôt ne se produit pas, la présence de ces additifs ne l'amènera pas, sauf bien entendu a élever parallelement la résistivitè de la suspension. Un autre paramètre important est constitué par la nature de l'anode. On pense qu'en raison de la corrosion électrique, le métal, se retrouvant à l'état d'impuretés dans le gâteau, participe à la tormation du gâteau et, dans certaines conditions, serait à même de chasser l'eau incluse dans les pores du gâteau. L'anode est notamment du groupe du Fe, du Cu, de l'Al, du Zn, du platine et du graphite. Mais l'on doit compter avec un pnenomène de passivation possible avec certains métaux comme l'AI ou l'acier inoxydable ou d'apport d'impuretés comme avec le zinc. Dans le cas de la passivation, on observe un dégagement d'oxygène qui vient perturber les phénomènes à l'anode et dans le second cas, il y a consommation de l'anode et pollution du produit. C'est pourquoi on peut disposer des membranes semi-perméables entre l'anode et la cathode dans certaines formes de mise en oeuvre. Cette membrane peut être disposée du côté anodique. Mais on peut aussi prévoir une membrane du côté cathodique. Selon une forme de réalisation de l'invention, on peut aussi utiliser une anode en graphite ou en platine. Bien entendu, on peut mettre en oeuvre tout procédé connu de précipitation de la silice à partir de solutions aqueuses de silicate de Na et d'un agent acidifiant, tel que H2SO4 et CO2 et notamment tel que dans les FR 2 159 580 - 2 471 948 - 2 471 949 2471 947 - 2 208 948 - 2 208 949 - 2 208 950 Comme dit précédemment, la présente invention a également trait aux gâteaux de silice ainsi obtenus, remarquables par leur caractère de reversibilité et présentant de 15 à 40 % de matières seches et un pH compris entre 3,5 et 10. La demanderesse a apprecie la délitabilité de la manière suivante. On remplit avec 6 Kg de gâteau de silice une cuve de 8 litres. Cette cuve presente un agitateur constitué par une double helice rotative et un disque rotatif, tournant à 400 trlmin et developpant une puissance de 2600 Watts selon les rigures 3 et 4. On mesure les puissances consommees au temps t = O, t = 1 min et t = 3 min. Le gâteau est considéré comme delitable si la puissance consommée est inférieure a 1 UUO watts au temps t = 3 min. On pratique également un test rendant compte de l'aptitude de la bouillie à l'atomisation sur une bouillie soumise a agitation pendant 3 minutes dans le dispositir précédent. On mesure ensuite le refus au tamis a 40 pm et on mesure l'extrait sec a 900 C. On considère que la bouillie est atomisable, sous forme pulverulente, si l'on a moins de 16 % de refus à 40 pm. Selon l'invention, on peut ainsi obtenir des gâteaux de silice qui, à un pH de l'ordre de 6 sont délitables et atomisables alors qu'ils présentent au moins 20 % de matières sèches et même a ce niveau de pH, de 20 à 28 % de matières sèches, ce qui est surprenant et en particulier, on peut obtenir, à ce niveau pH, des gâteaux ayant au moins 20 % de matières sèches pour des silices de surfaces spécifiques au moins égales à 200 m2/g. Bien entendu, ces valeurs ne sont pas limitatives et on ne sortirait pas du concept de l'invention, par exemple, en augmentant le taux de matières sèches, en abaissant la valeur du pH. L'homme de l'art sait, en particulier, qu'il doit tenir compte d'un certain nombre de facteurs tels que pH en fonction de l'application et du procédé d'obtention de la silice (H2SO4 ou C02). Le procédé selon l'invention peut être mis en oeuvre par tout type de dispositif tels qu'à éléments de dépôts rotatifs ou fixes, mettant en oeuvre ou non des diaphragmes permselectifs. L'invention a egalement trait à la silice obtenue par séchage d'une suspension issue d'un gâteau selon l'invention. Après délitage du gâteau, la suspension en résultant peut etre sechée par tout moyen connu et, en particulier, par atomisation. un moyen avantageux consiste à mettre en oeuvre le procédé d'après le brevet français 2 257 326 selon lequel on forme un ecoulement puits-tourbillon symétrique avec un gaz chaud, à grande quantité de mouvement et on introduit la suspension issue du gâteau selon l axe de symétrie de rotation de cet écoulement dans la zone de depression relative dudit ecoulement puits-tourbillon, la quantité de mouvement dudit écoulement puits-tourbillon, symetrique par rapport au flux axial de la suspension, étant suffisante pour provoquer la rupture du tlux axial, sa dispersion, sa prise en charge et son sechage. EXEMPLES Dans les exemples, on a mis en oeuvre un dispositif illustré aux figures 1 et 2 pour déposer le gâteau de silice. Les figures 3 et 4 représentent le dispositif utilisé pour tester la délitabilité dudit gâteau. Ce dispositif comprend (figure 1) - une cellule (1) d'électrodéposition - un bac tampon (2) muni d'une électrode de conductivité (3) et d'une électrode de pH (4) ainsi que d'un système (5) de régularisation de la température - un ensemble d'enregistreurs de température (6), de voltage et d'intensité (7), de pH (8) et de conductivité (9). La cellule représente (figure 2) - des cathodes (10) - des anodes telles que (11) - un couteau (12) - des entrées et sorties d'eau (13,14) Dans les exemples, le champ électrique n'est placé que sur une seule face de la roue. L'écartement cathode/anode tournante est de 3 cm, le diamètre de l'anode tournante est de 30 cm. Les électrodes sont en acier inoxydable (28 CNDT 18-12 Cr 16 20 % Ni 10 - 14 X stabilisé au Mo). Le bac tampon est de taille suffisamment importante pour que le prélèvement du gâteau soit négligeable et que l'on considère que lion opère à concentration constante. Les caractéristiques de la silice sont appréciées par la mesure des surfaces BET et CTAB. La surface spécifique BET est determinee selon la méthode de BRUNAUER - EMMETT - TELLER decrite dans "The Journal ot the American Chemical Society", Vol. 60, p. 309 - Février 1938. La surface CTAB est la surface externe appréciée par adsorption de bromure de cethyl triméthyl ammonium à pH 9 selon la méthode exposée par JAY, JANZEN et G. FRAIS dans "Rubber Chemistry and Technology 44 (1971) p. 1287 - 1296. EXEMPLE 1 Cet exemple a pour but de montrer le comportement différent entre une argile et une silice de précipitation. L'argile est un kaolin commercialisé sous la marque ARGIREC ORB24. Les conditions de travail sont les suivantes - concentration 2 100 8/1 de suspension - pH 2 7,5 - densité de courant 2 100 A/m2 - résistivité 2 1050 Qcm On prend alors une bouillie de silice précipitée correspondant à une silice selon l'EP 18 866 de surface spécifique BET et CTAB 2 175 m2/g. On se place également à pH = 7,5 pour une concentration de 100 g/l. On fait passer la meme densité de courant, soit 100 A/m2, résistivité = 170 Scm, tension = 5,10. On n'observe aucun dépôt. La demanderesse a alors constaté que la résistivité de la suspension de silico-aluminate de référence était de 1050 ncm au lieu de 170 Qcm pour la silice. Avec la meme électrode, la demanderesse a observé que pour l'argile de référence, les meilleures conditions d'électrodéposition sont de 250 Qcm (ce qui correspond, pour l'argile, à une concentration de 600 g/l). Autrement dit, si l'homme de l'art essaie de se placer dans les conditions optimales pour l'argile et de les transposer à la silice, il est conduit à l'échec et ce d'autant que, pour l'argile, il apparait que l'on doive abaisser la résistivité, au moins dans les conditions de l'expérience. Avec une silice précipitée, dans les memes conditions de pH et de concentration, il lui faut élever la valeur de la résistivité jusqu'à 1600 #cm pour observer un dépôt (tension = 48 V). Cet exemple montre donc que le comportement de la silice est surprenant, eu égard à celui de l'argile. EXEMPLE 2 Cet exemple a pour but de montrer le résultat du procédé comparativement a deux modes de filtration classique, à savoir par filtre sous vide et par filtre-presse, avec la meme silice précipitée que précédemment. EMI9.1 <tb> <SEP> Electro- <SEP> <tb> <SEP> : <SEP> Filtre <SEP> : <SEP> Filtre <SEP> : <SEP> déposition <tb> <SEP> : <SEP> sous <SEP> vide <SEP> : <SEP> presse <SEP> : <SEP> selon <tb> <SEP> l'invention <SEP> <tb> <SEP> Perte <SEP> aufeu: <SEP> 83% <SEP> :77,5% <SEP> : <SEP> 69 <SEP> à <SEP> 78 <SEP> % <tb> (2,22 <SEP> à <tb> <SEP> (4,9 <SEP> 1/kg) <SEP> : <SEP> (3,44 <SEP> 1/kg) <SEP> : <SEP> 3,55 <SEP> 1/kg) <SEP> <tb> : <SEP> Délitabilité <SEP> : <SEP> Oui <SEP> : <SEP> Oui <SEP> : <SEP> Oui <tb> Test <SEP> : <SEP> Oui <SEP> : <SEP> Non <SEP> : <SEP> Oui <tb> d'atomisation <SEP> <tb> EXEMPLE 3 Dans cet exemple, pour une silice de même caractéristique, sous forme de poudre, on fait varier la teneur en eau du gâteau dans les conditions suivantes ESSAIS 1 2 3 Concentration g/l de la bouillie 118 92 58 pH 6,8 7,1 7,6 Densité de courant A/m2 30 78 56 Tension en volts 51 220 210 Résistivité (#nm) 115 8 900 11720 Les propriétés du gâteau sont les suivantes Essais Teneur en eau du gâteau pH gâteau En % En l/kg 1 77,7 3,5 6,35 2 70,7 2,34 6,2 3 68,6 2,2 6,2 Essais Test de délitabilité Test d'atomisation t=0 t=lmin t=3min Refus à 40 pm % 1 350 105 58 7,25 2 2237 932 210 6,1 3 2673 818 473 4,82 A titre comparatif, sur une bouillie selon l'essai 1, un gâteau essoré sous vide présente une teneur en eau de 73 % (2,7 l/kg)et nécessite une puissance consommée à 3 minutes de 14jeu W et a un revus a 40 pm de 36,23. Par ailleurs, pour arriver à ce résultat, il est nécessaire d'essorer sous vide un gâteau de 1 cm d'épaisseur pendant 1 h 20, alors qu'à l'essai 1, selon l'invention, le temps de séjour dans le champ électrique est seulement de 1 minute. ExEMPLE 4 INFLUENCE DES AUTRES FACTEURS Pour une mëme silice correspondant à l'essai 1 (BET = 175 m2/g), les conditions les plus favorables, pour obtenir une siccité élevée (69 - 72 % d'eau) sont: : - concentration maximale (155 g/l) - champ relevé (écartement minimum des électrodes) 38 V/cm - résistivité moyenne (1000 à 3000 Qcm) - forte densité de courant (100 A/m2) Les conditions les plus favorables pour une consommation minimale sont au détriment de la productivité/hm2 - densité de courant très faible (5 A/m2) - temps de séjour élevé (rotation 1/10e de tr/min) - résistivité très élevée (6000 Scm) EXEMPLE 5 On prend une silice de grande surface CTAB = 250 m2/g et à prise d'huile DBP = 420 cm3/100 g. - filtration sous vide : perte au feu = 87,5 % (7 l/kg) - électrodéposition : perte au feu = 78 Z à 81 Z (3,35 à 4,251/kg) RESULTAT AU TEST PRECEDENT DE DELITABILITE : oui Les conditions d'électrodeposition sont les suivantes - concentration de 140 g/l - résistivite 2000 #cm - 170 C pH 7,5 - densité de courant = 100 A/m2 - rotation 1/3 tr/min - tension = 60 V EXEMPLE 6 ¯¯¯¯¯¯ Cet exemple a pour but de montrer l'amélioration de la productivité par des additifs. - a) Dans les conditions écartement 3 cm, densité de courant 45 A/m2, tension 29 V, mais en ayant une résistivité de 2250 #cm (moindre lavage initial économisant l'eau désionisée), la productivité n'est que de ,2 kg de SiO2 par h.m2 et la consommation de 0,21 kwh/kg SiO2. Un est amené à laver de taxon sévère la silice pour monter à la résistivité de 4650 Acm, ou à trouver des additifs donnant de bons résultats à 2250 Scm. Avec 1000 ppm d'éthylène diamine dans l'eau, et une résistivité de 2250 Scm, la productivité passe de 6,2 kg SiO2/h.m2 à 39 kg SiO2/h.m2 et la siccité du gâteau reste identique à 75 % d'eau (soit 3 l/kg d'extrait sec). - b) Avec un dispositif à plaques comprenant une anode et une cathode en acier inoxydable de 100 cm2, avec un écartement de 3 cm, on traite une suspension à 100 g/l de la même silice. Le pH est de 7,5, la température de 200 C. Avec une densité de courant de 60 A/m2, on observe qu'il faut un minimum de 2000 Qcm de résistivité pour observer la formation d'un dépit alors que l'ajout d'hydroxyde de baryum Ba (OH)2, 8H20, à raison de 0,5 g/l de suspension (soit 2,18 g de baryum par kg de Si02 anhydre) conduit à un dépôt avec une résistivité initiale de 1000 Qcm. On atteint le niveau maximum de performance dans ce cas avec un ajout de 0,75 g/l d'hydroxyde par litre de suspension (3,26 g Ba/kg SiO2). Le plomb mis en oeuvre dans les mêmes conditions conduit à des résultats équivalents. Si on ajoute 0,5 ml/l d'une bouillie d'aluminate de sodium (136 g/l d'Al2O3 et 165 g/l de Na20, soit 0,68 g de A1203 par kg de SIO2), on obtient un gâteau de silice de perte au feu égale à 74 % avec une résistivité de 1500 afcm. Par ailleurs, en ajoutant 2 g/l d'une solution de silicate à 370 g/l de SiO2 et 113,8 g/l de Na20 (soit 7,4 g de SiO2 par kg de SiO2) avec une résistivité de 2000 Qcm, on observe la formation d'un dépôt très uniforme, adhérant bien et stable alors que dans les mêmes conditions mais sans ajout de silicate, le dépôt a tendance à se décoller de l'anode. EXEMPLE 7 INFLUENCE tE LA NATURE DE L'ELECTRUt)# - a) Avec une anode de zinc, la déposition commence à exister dès la résistivité de 620 Qcm au lieu de 2000 flcm. De plus, les gâteaux contiennent moins d'eau et les pertormances énergétiques sont meilleures - production de 60 kg/h.m2 à 100 A/m' - tension 30 Volts - siccité de l'ordre de 2,1 - 2,3 ig eau/kg SiO2 - consommation de l'ordre de 0,05 kwh/kg SiO2 - b) Avec une électrode en graphite, on observe également la formation d'un dépôt pour une valeur plus faible de résistivité soit 850 Qcm au lieu de 2000 Qcm. EXEMPLE 8 Cet exemple montre un autre avantage du traitement d'une suspension de silice par le champ électrique et l'amélioration du comportement de cette bouillie pour une filtration ou une déposition ultérieure. On passe une bouillie à 100 g/l entre deux électrodes. Un peu de silice se dépose à l'anode, le reste de la bouillie étant amené vers un appareil A. On constate que si A est une nouvelle cellule de déposition, les performances sont meilleures que dans la pre mière cellule et que si A est un filtre, le gâteau a une meilleure lavabilité que si on n'était pas passé dans la première cellule d'électrodéposition.

Claims: REVENDICATIONS 1) Procédé de déshydratation d'une suspension de pigments minéraux , caractérisé par le fait que l'on amène la résisti vité de ladite suspension à un seuil suffisant pour permettre le dépôt de pigment sous l'action d'un champ électrique, puis que l'on soumet cette suspension à l'action d'un champ électrique. 2) Procède selon la revendication l, caractérisé par le tait que l'on amène la resistivité de la suspension à une valeur comprise entre 500 et 5 000 Qcm. 3) Procéda selon l'une des revendications 1 et 2, caracterisé par le fait que la tension a une valeur comprise entre 15 et lb0 Volts et le champ une valeur comprise entre 5 et lUX V/cm. 4) Procédé selon la revendication 3, caractérisé par le fait que la suspension de pigment est constituee par une suspension d'oxyde de titane. 5) Procédé selon les revendications l et 3, caractérisé par le fait que la suspension de pigment est constituée par une suspension de silice. 6) Procédé selon la revendication 5, caractérisé par le fait que l'on met en oeuvre une suspension de silice de précipitation à un pH compris entre 3,5 et 10. 7) Procede selon l'une des revendications 5 et 6, caractérisé par le fait que la suspension de silice renferme de 50 à 150 g/l de SiO2 et présente une résistivite de 1 000 à 5 000 Qcm. 8) Procédé selon l'une des revendications 1 à 7, caractérisé par le fait que l'on introduit un additif dans la suspension du groupe des additifs minéraux et organiques. 9) Procédé selon la revendication 8, caractérisé par le fait que l'additif est du groupe de l'hydroxyde de baryum, de l'aluminate et du silicate de sodium. 10) Procédé selon l'une des revendications 8 et 9, caractérisé par le fait que la suspension renferme de 400 à 1 200 ppm d'additif. 11) Procédé selon l'une des revendications 1 à 10, caractérisé par le fait que l'anode est du groupe du Fe, du Cu, de l1Ai et du Zn, le graphite et le platine. 12) Nouveau gâteau de silice présentant un caractère de réversibilité et de 15 à 40 % de matières sèches pour un pH compris entre 10 et 3,5, caractérisé par le fait qu'il peut être obtenu en mettant en oeuvre le procédé selon l'une des revendications 1, 2, 4, #, 6, 7, 8, 9 et 10. 13) Nouveau gâteau delitable selon la revendication 12, carac terisé par le fait qu'il présente un pH de 6 pour un taux de matières sèches compris entre 20 et 28 %. 14) Nouveau gâteau délitable selon la revendication 13, carac térisé par le fait qu'il présente au moins 20 % de matières sèches pour des silices de surtaces spécifiques au moins égales à 200 m*/g. 15) Nouvelle silice caractérisée par le fait qu'elle est obtenue par séchage d'une suspension issue d'un gâteau selon l'une des revendications 13 et 14. 16) Nouvelle silice selon la revendication 15, caracterisé par le fait que le gâteau de silice a été séché en mettant en oeuvre un procédé selon lequel on torme un écoulement puits tourbillon symetrique avec un gaz chaud, a grande quantité de mouvement et on introduit la suspension issue du gâteau selon l'axe de symétrie de rotation de cet écoulement dans la zone de dépression relative de cet écoulement, la quantité de mouvement dudit écoulement puits-tourbillon , symétrique par rapport au flux axial de la suspension étant suffisante pour provoquer la rupture du flux axial, sa dispersion, sa prise en charge et son séchage.

Inventors: DELEUIL, MICHEL
Applicants: RHONE-POULENC CHIMIE DE BASE
Application year: 1984
Main classification: C09C1
IPC codes: C09C1, B01D21, C09C3, C25B7, B01D57