LIGHT-SENSITIVE RECORDING MATERIAL FOR THE PRODUCTION OF RELIEF OR RESIST PATTERNS

Abstract: 1. A photosensitive recording material which is suitable for the production of relief or resist images and possesses a curable, photosensitive layer (S) which is applied to a dimensionally stable base and which contains a) a compound possessing two or more aromatic and/or heteroaromatic o-nitrocarbinol ester groups of the general formula (I) see diagramm : EP0132710,P13,F1 where A is a radical of an unsubstituted or substituted, 5-membered to 14-membered aromatic or heteroaromatic ring system, and X is hydrogen, alkyl of 1 to 8 carbon atoms or an unsubstituted or substituted aryl or aralkyl radical, b) a compound which effects crosslinking and possesses two or more reactive groups which are capable of reacting with -COOH groups under the action of heat to form a covalent chemical bond, and c) one or more catalysts for the reaction of the compound (b), which effects crosslinking, with COOH-containing compounds, with or without d) conventional additives and/or assistants, wherein there is contained, as component (c), at least one catalyst which is present in a blocked non-active form and can be activated photochemically with actinic light and/or thermally.

Description: Zur Herstellung von Reliefbildern oder Resistmustern geeignetes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterisl Die Erfindung betrifft ein lichtempfindliches, wahlweise positiv oder negativ arbeitendes Aufzeichnungsmaterial mit einer auf einem dimensionsstabilen Träger aufgebrachten lichtempfindlichen, härtbaren Schicht, welche als lichtempfindliche Komponente eine aromatische und/oder heteroaromatische o-Nitrocarbinolestergruppierungen aufweisende Verbindung und als härtende Komponente eine vernetzend wirkende Verbindung mit mindestens zwei reaktiven Gruppen enthält, die unter dem Einflua von Wärme mit Carboxyl-Gruppen unter Bildung einer kovalenten chemischen Bindung zu reagieren vermögen. Die Erfindung betrifft des weiteren positiv bzw. negativ arbeitende Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern oder Resistmustern mittels dieser lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien. In der DE-B 23 09 062 sowie den älteren Patentanmeldungen DE-A 32 31 145 und DE-A 32 31 147 werden negativ und positiv arbeitende Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern oder Resistmustern mittels lichtempfind- licher Aufzeichnungsmaterialien beschrieben, deren lichtempfindliche Schicht eine Verbindung mit mindestens zwei aromatischen und/oder heteroaromatischen o-Nitrocarbinolestergruppierungen sowie eine vernetzend wirkende Verbindung mit mindestens zwei gegenüber Carboxyl-Gruppen reaktiven Gruppen, beispielsweise Di- oder Polyepoxide, enthält. Bei den negativ arbeitenden Verfahren wird die lichtempfindliche, härtbare Schicht der Aufzeichnungsmaterialien nach einer bildmässigen Belichtung mit aktinischem Licht in den belichteten Bereichen selektiv thermisch gehärtet und vernetzt, worauf die unbelichteten, nicht vernetzten Schichtanteile mit einem geeigneten Entwicklerlösungsmittel ausgewaschen werden. Wird die reliefbildende Schicht nach der selektiven thermischen Härtung noch einmal voll flächig mit aktinischem Licht nachbelichtet, so können für die Entwicklung der Reliefbilder und Resistmuster wässrige Entwicklerlösungsmittel eingesetzt werden. Zur Herstellung von positiven Reliefbildern oder Resistmustern wird die lichtempfindliche, härtbare Schicht der Aufzeichnungsmaterialen nach der bildmässigen Belichtung mit aktinischem Licht zunächst mit einem wässrigen Entwicklerlösungsmittel unter Entfernung der belichteten Schichtanteile ausgewaschen, worauf anschlieI3end die ursprünglich nicht belichteten, verbleibenden Bereiche der Schicht vollflächig mit aktinischem Licht nachbelichtet und thermisch gehärtet werden. Gemäss der DE-B 23 09 G62 kann in dem beschriebenen negativ arbeitenden Verfahren die selektive thermische Härtung der bildmässig belichteten Schichtanteile bei Temperaturen bis zu 1600C erfolgen. Hierbei wird zwar eine fflr die Entwicklung der Reliefbilder oder Resistmuster hinreichende Laslichkeitsdifferenzierung in der lichtempfindlichen, härtbaren Schicht erreicht, die nach der Entwicklung verbleibenden Reliefbilder oder Resistmuster sind aber in ihrer physikalischen und insbesondere chemischen Stabilität und Beständigkeit far viele Anwendungszwecke, insbesondere bei Einsatz von aggressiven Galvano- oder Xtzbädern, völlig unzureichend. Zudem werden bei Härtungstemperaturen Ober 130 bis l500C die Flenken- strukturen der erzeugten Reliefbilder oder Resistmuster sehr nachteilig beeinflusst. Auch kann, wenn die lichtempfindliche, härtbare Schicht der Aufzeichnungsmaterialien auf einem thermisch empfindlichen Substrat, beispielsweise Leiterbahnen oder einem Substrat mit dünnen, mehrlagigen Metallschichten, aufgebracht ist, bei höheren Härtungstemperaturen das Substrat in Mitleidenschaft gezogen werden. In den älteren Patentanmeldungen DE-A 32 31 145 und DE-A 32 31 147 ist vorgeschlagen worden, den lichtempfindlichen, härtbaren Schichten der Aufzeichnungsmaterialien basische oder saure Katalysatoren fflr die thermische Härtung zuzusetzen. Hierdurch können unter Vermeidung hoher Härtungstemperaturen auch bei Verwendung von wärmeempfindlichen Substraten Reliefbilder oder Resistmuster mit hoher physikalischer und chemischer Stabilität und Beständigkeit erhalten werden. Die Lagerstabilität dieser Aufzeichnungsmaterialien ist jedoch noch nicht befriedigend. Ferner sind lagerstabile, härtbare Zusammensetzungen bekannt, die neben einer härtbaren Verbindung, beispielsweise einem Epoxidharz, einen therwisch oder photochemisch aktivierbaren Katalysator für die Härtung enthalten (vgl. z.B. DE-C 25 59 879, DE-A 23 61 141, EP-A 74 073). Diese härtbaren Zusammensetzungen werden vornehmlich zur Herstellung von Uberzügen und Formkörpern verwendet. Bei Einsatz dieser bekannten härtbaren Epoxidharzzusammensetzungen für die Herstellung von Reliefbildern oder Resistmustern kann jedoch nicht mit wässrigen Auswaschlösungen entwickelt werden. Ferner besitzen Aufzeichnungsmaterialien aus solchen härtbaren Epoxidharzzusammensetzungen in aller Regel nicht die angestrebten anwendungstechnischen Eigenschaften, beispielsweise bezüglich des Belichtungsverhaltens, Verarbeitungsspielraumes, der Ausbildung der Reliefstruktur etc. Aufgabe der vorliegenden Erfindung war es, ein lichtempfindliches Auf zeichnungsaaterial tür die Herstellung von Reliefbildern oder Resistmustern aufzuzeigen, welches bei guter Lagerstabilität gleichzeitig gute Belichtungseigenschaften und einen guten Verarbeitungsspielraum nach der bildmassigen Belichtung besitzt, mit wässrigen Entwicklerlösungsmitteln entwickelbar ist, auch bei Verwendung von thermisch empfindlichen Sub straten als Trigermaterialien, wie beispielsweise Leiterbahnen oder dssnnschichtlsen, mehrlagigen Metallsubstraten, die Herstellung von Relief- bildern und Resistmustern gestattet, welche eine ausgezeichnete Reliet- struktur, gute thermische Stabilität, hohe mechanische Festigkeit und hohe Beständigkeit selbst gegenüber aggressiven Prozesschemikalien autwei- sen. Es wurde nun gefunden, dass diese Aufgabe gelöst wird, wenn lichtempfind- liche Aufzeichnungsmaterialien der eingangs genannten Art mit einer lichtempfindlichen härtbaren Schicht, die eine Verbindung mit mindestens zwei aromatischen und/oder heteroaromatischen o-Nitrocarbinolestergruppierungen und eine vernetzende wirkende Verbindung mit mindestens zwei, unter dem Einfluss von Wärme gegenüber Carboxyl-Gruppen reaktiven Gruppen enthält, in der lichtempfindlichen, härtbaren Schicht einen in verkappter, nicht aktiver Form vorliegenden Katalysator enthält, der photochemisch und/oder thermisch aktivierbar ist. Gegenstand der Erfindung ist dementsprechend ein für die Herstellung von Reliefbildern oder Resistmustern geeignetes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial mit einer auf einem dimensionsstabilen Träger aufgebrachten, vorzugsweisen festen, lichtempfindlichen, härtbaren Schicht (S), die enthält (a) eine Verbindung mit mindestens zwei aromatischen und/oder hetero aromatischen o-Nitrocarbinolestergruppierungen der allgemeinen Formel (I) EMI3.1 worin A den Rest eines aromatischen oder heteroaromatischen, gegebe nenfalls substituierten Ringsystems mit S bis 14 Ringgliedern und X ein Wasserstoffatom, einen Alkylrest mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen oder einen gegebenenfalls substituierten Aryl- oder Aralkylrest bedeuten, (b) eine vernetzend wirkende Verbindung mit mindestens zwei reaktiven Gruppen, die unter dem Einfluss von Wärme mit -COOH-Gruppen unter Bildung einer kovalenten chemischen Bindung zu reagieren vermögen, (c) mindestens einen Katalysator für die Reaktion der vernetzend wirken den Verbindung (b) mit -COOH-Gruppen enthaltenden Verbindungen sowie gegebenenfalls (d) Obliche Zusatz- und/oder Hilfsstoffe. Das lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial ist dadurch gekennzeichnet, dass als Komponente (c) ein in verkappter, nicht aktiver Form vorliegender Katalysator enthalten ist, der photochemisch und/oder thermisch aktivierbar ist. Gegenstand der Erfindung sind weiterhin spezielle Ausgestaltungsformen dieser lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien sowie Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern oder Resistmustern mittels dieser Aufzeichnungsmaterialien entsprechend der nachfolgenden detaillierten Beschreibung. Die Wahl des Trägers für die lichtempfindliche, härtbare Schicht (S) richtet sich vornehmlich nach dem Anwendungszweck der lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien und der damit herzustellenden Reliefbilder oder Resistmuster. Als dimensionsstabile Träger kommen beispielsweise metallische, metalloxidische oder keramische Untergründe, aber auch Filme, Folien oder Platten aus polymeren Substanzen in Betracht. So werden beispielsweise für die Herstellung von Xtz- oder Galvanoresisten als Träger Kupferbleche oder kupferkaschierte Substrate verwendet. Pur die Herstellung von Dünnschichtschaltungen werden als Trägermaterial insbesondere Keramiksubstrate, die mit metallischen oder metalloxidischen Schichten beschichtet sind, oder Halbleiterelemente verarbeitet. Zur Herstellung von Reliefbildern und Druckplatten, sowie insbesondere von Offsetdruckplatten, können als Träger Kunststoffolien, z.B. aus Polyestern, oder Metallträger, z.B. Stahl- oder Aluminium-Bleche, eingesetzt werden. Insbesondere für die Herstellung von Offset-Druckplatten können die Kunststoffolien auch metallisch bedampft sein und die Stahl- oder Aluminium -Bleche mechanisch oder elektrochemisch aufgerauht sein und/oder eine anodisch erzeugte Oxidschicht besitzen. Für die Herstellung einer Lötstoppmaske kann die lichtempfindliche, härtbare Schicht (S) z.B. auf das Schaltbild einer gedruckten Schaltung als Träger aufgebracht werden. Für die Herstellung von Schichtübertragungsmaterialien oder Trockenfilm- resisten kommen als Träger insbesondere Kunststoffolien, beispielsweise aus Polyethylenterephthalat oder Polybutylenterephthalat, in Betracht. Die lichtempfindliche, härtbare Schicht (S) kann auf das Trägermaterial nach den bekannten Auftragstechniken entweder aus Lösung oder trocken nach den üblichen Laminiervertahren aufgebracht werden. Die lichtempfindliche, härtbare Schicht (S) der ertlndungsgegässen Auf zeichnungamaterialien enthält als Komponente (a) eine Verbindung mit mindestens zwei aromatischen und/oder heteroaromatischen o-Nitrocarbinolestergruppierungen der allgemeinen Formel (I) EMI5.1 worin A den Rest eines aromatischen oder heteroaromatischen, gegebenenfalls substituierten Ringsystems mit 5 bis 14 Ringgliedern und X ein Wasserstoffatom, einen Alkylrest mit 1 bis 8 C-Atomen oder einen gegebe nentalls substituierten Aryl- oder Aralkylrest bedeuten. Als Komponente (a) kommen dabei die gebräuchlichen und bekannten o-Nitro carbinolestergruppierungen enthaltenden niedermolekularen und/oder hochmolekularen Verbindungen in Betracht, wie sie beispielsweise in der DE-A 21 50 691, der DE-A 29 22 746, der DE-E 23 09 062, der DE-A 32 31 145 und der DE-A 32 31 147 beschrieben sind. Beispiele für das aromatische oder heteroaromatische Ringsystem A mit der o-ständigen Nitrogruppe, welches ein- oder mehrkernig sein kann, sind neben Naphthalin, Anthracen, Anthrachinon oder Phenanthren insbesondere das unsubstituierte oder substituierte Benzol. Als Substituenten für das aromatische Ringsystem A kommen neben der Nitrogruppe in o-Stellung beispielsweise Alkylreste mit 1 bis 8 C-Atomen, Alkoxyreste mit 1 bis 6 C-Atomen, Halogene, wie Chlor oder Brom, Nitro-, Amino-, Nitril- oder Sulfo-Gruppen in Betracht. Als Beispiel für heteroaromatische Ringsysteme sei der Pyridinrest genannt. Zu den bevorzugten o-Nitrocarbinolen, die den o-Nitrocarbinolestergruppierungen der allgemeinen Formel (1) zugrunde liegen, gehören beispielsweise o-Nitrobenzylalkohol, 2-Nitro-6-chlor-benzylalkohol, 2-Nitro-4-cyanobenzylalkohol, 2-Nitro-4 , 5-dimethoxybenzylalko- hol, alpha-Methyl-o-nitrobenzylalkohol, alpha-Phenyl-o-nitrobenzylalkohol, alpha-(o-Nitrophenyl)-o-nitrobenzylalkohol und 2-Nitro-3-hydroxy methylpyridin. Zur den niedermolekularen Estern, die zwei oder mehr Estergruppierungen der allgemeinen Formel (I) enthalten und als Komponente (a) in der lichtempfindlichen, härtbaren Schicht (S) enthalten sein können, gehören insbesondere die Di- und/oder Polyester von Di- und/oder Polycarbonsäuren mit aromatischen und/oder heteroaromatischen o-Nitrocarbinolen der An Rede stehenden Art. Beispiele für niedermolekulare Di- und Polyearbon- säuren, die solchen Estern zugrunde liegen können, sind Oxalsäure, Malonsäure, Adipinsäure, Maleinsäure, Fumarsäure, Crotonsäure, Terephthalsäure, Trimellithsäure und Trimesinsäure. Im Falle des Einsatzes von niedermolekularen Estern der in Rede stehenden Art als Komponente (a) enthält die lichtempfindliche, härtbare Schicht (S) vorteilhaft noch ein mit diesen Estern verträgliches polymeres Bindemittel, wobei sich hierfür z.B. Acrylat- und/oder Methacrylat-Polymerisate besonders bewährt haben. Als polymere Bindemittel kommen auch die nachfolgend bei der Komponente (b) beschriebenen, hochmolekularen, vernetzend wirkenden Verbindungen mit gegenüber Carboxylgruppen reaktiven Gruppen in Betracht. Die Menge der niedermolekularen Ester mit den o-Nitrocarbinolestergruppierungen der Formel (I) in der lichtempfindlichen, härtbaren Schicht (S) wird so bemessen, dass die Schicht (S) nach der bildmässigen Belichtung mit den Entwicklerlösungsmitteln auswaschbar ist und dass der angestrebte Vernetzungsgrad bei der thermischen Härtung der Reliefbilder oder Resistmuster erreicht wird. Hierzu ist es im allgemeinen hinreichend, wenn in der lichtempfindlichen, härtbaren Schicht (S) 0,5 bis 30 Gewichtsprozent, insbesondere 3 bis 15 Gewichtsprozent, der aromatischen und/oder heteroaromatischen o-Nitrocarbinolestergruppierungen der Formel (I), gerechnet als -COOH-, bezogen auf die lichtempfindliche, härtbare Schicht (S), enthalten sind. Besonders vorteilhaft sind als Komponente (a) in der lichtempfindlichen, härtbaren Schicht (S) die Polymeren mit einem Molekulargewicht > 500, welche mindestens 5 Gewichtsprozent, bezogen auf das Molekulargewicht des Polymeren, aromatische und/oder heteroaromatische o-Nitrocarbinolestergruppierungen der allgemeinen Formel (I) im Molekül gebunden enthalten. Als das die o-Nitrocarbinolestergruppierungen tragende Polymer kommt zweckmässigerweise eine organische Polycarbonsäure in Betracht, deren Carboxylgruppen mit den aromatischen und/oder heteroaromatischen o-Nitrocarbinolen verestert sind. Bei den organischen Polycarbonsäuren handelt es sich im allgemeinen um Homo- oder Copolymere von ethylenisch unge sattigten Mono- oder Dicarbonsäuren mit 3 bis 6 C-Atomen, insbesondere um Homo- oder Copolymerisate von Acrylsäure, Methacrylsäure, Maleinsäure, Fumarsäure oder Crotonsäure. Als Comonomeren kommt dabei Ethylen, Styrol und den C1-C8-Alkylestern der obengenannten ethylenisch ungesättigten Carbonsluren besondere Bedeutung zu. Es sei darauf hingewiesen, dass zur Erzielung einer guten Dunkellagerstabilität praktisch alle Carboxylgruppen der die o-Nitrocarbinolestergruppierungen tragenden Polycarbonsäure verestert sein oder zumindest in einer Form vorliegen müssen, in der sie mit den reaktiven Gruppen der vernetzend wirkenden Komponente (b) nicht direkt reagieren können. Andernfalls besteht die Gefahr einer zumindest teilweisen vorzeitigen Vernetzung und Härtung, wodurch die Aufzeichnungsmaterialien nur beschränkt einsatzfähig sein würden. Die Menge an o-Nitrocarbinolestergruppierungen der Formel (I) in den Polymeren kann in weiten Grenzen schwanken und wird im allgemeinen so eingestellt, dass die lichtempfindliche, härtbare Schicht (5) nach der Belichtung wasserentwickelbar ist. Die lichtempfindliche, härtbare Schicht (S) der erfindungsgemässen Aufzeichnungsmaterialien enthält auch eine vernetzend wirkende Verbindung mit mindestens zwei reaktiven Gruppen, die unter dem Einfluss von Wärme mit Carboxylgruppen unter Bildung einer kovalenten chemischen Bindung zu reagieren vermögen (Komponente b). Die Reaktivität dieser vernetzend wirkenden reaktiven Gruppen ist so auf die Verfahrensbedingungen bei der Verarbeitung der lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien, wie z.B. Belichtungs- und Entwicklungsdauer und -temperatur sowie Verarbeitungsspielraum, abzustellen, dass ein einwandfreies Verarbeiten der lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien zu den Reliefbildern oder Resistmustern gewährleistet bleibt. Vorzugsweise werden daher solche vernetzend wirkenden Verbindungen in der lichtempfindlichen, härtbaren Schicht (S) eingesetzt, die erst in der Wärme bei erhöhter Temperatur, beispielsweise bei Temperaturen oberhalb 400C, in merklicher Geschwindigkeit mit den freien Carboxyl-Gruppen reagieren. Als Komponente (b) geeignete vernetzend wirkende Verbindungen sind beispielsweise Amin-, Imin-, Amidund/oder Hydroxy-Gruppen enthaltende Verbindungen sowie besonders bevorzugt Di- und/oder Polyepoxide. Gemäss einer Ausführungsforn können in der lichtempfindlichen, härtbaren Schicht (S) der erfindungsgemässen Aufzeichnungsmaterialien solche Verbindungen enthalten sein, in denen die aromatischen und/oder heteroaromatischen o-Nitrocarbinolestergruppierungen der allgemeinen Formel (I) sowie die vernetzend wirkenden, gegenüber Carboxyl-Gruppen reaktiven Gruppen in ein und demselben Molekül gebunden enthalten sind. In diesem Fall handelt es sich bei der Komponente (a) und der Komponente (b) der lichtempfindlichen, härtbaren Schicht (S) um die gleiche Verbindung bzw. die gleichen Verbindungen, d.h. die Komponenten (a) und (b) sind identisch. Zu Verbindungen dieser Art gehören aromatische und/oder heteroaromatische o-Nitrocarbinolestergruppierungen tragende Copolymerisate, die Comonomere mit den vernetzend wirkenden, reaktiven Gruppen, z.B. Amin-, Imin-, Amid-, Hydroxy- und/oder insbesondere Epoxid-Gruppen, einpolymerisiert enthalten. Als Beispiele solcher Comonomeren seien genannt: N,N-Dimethylaminoethyl-(meth)acrylat; N-Vinylimidazol; (Meth)acrylamid, Monoester von Diolen mit ungesättigten Säuren, insbesondere von Acryl- oder Methacrylsäure, wie z.B. Hydroxyethyl-(meth)acrylat, #ydroxypropyl-(meth?acrylat, Butandiol-mono-(meth)acrylat; Methylolverbindungen vom Amoltyp, z.B. N-Methylolacrylamid, sowie vorzugsweise Glycidylester ungesättigter Säuren, insbesondere der Acryl- oder Methacrylsäure, wie Glycidyl-(meth)acrylat; Glycidylether ungesättiger Alkohole, wie z B. Allylglycidylether oder 4-Vinylcyclohexendioxid. Gemäss einer anderen Ausführungsform können in der lichtempfindlichen, härtbaren Schicht (S) der erfindungsgemässen Aufzeichnungsmaterialien die vernetzend wirkenden Verbindungen mit den gegenüber Carboxyl-Gruppen reaktiven Gruppen zusätzlich zu den Verbindungen mit den aromatischen und/oder heteroaromatischen o-Nitrocarbinolestergruppierungen enthalten sein, d.h. in diesem Fall handelt es sich bei der Komponente (a) und der Komponente (b) um zwei oder mehrere verschiedene Verbindungen. Hierbei kann die als Komponente (b) eingesetzte vernetzend wirkende Verbindung sowohl eine höhermolekulare Verbindung, wie z.B. ein entsprechendes Polymeres, oder eine niedermolekulare Verbindung sein. Wenn die vernetzend wirkenden Verbindungen (Komponente b) in der lichtempfindlichen, härt- baren Schicht (S) als von der Komponente (a) verschiedene Komponente enthalten sind, sollen sie mit der Komponente (a) verträglich sein. Bevorzugte Klassen von vernetzend wirkenden Verbindungen mit zwei oder mehr der reaktiven Gruppen, die als Zumischkomponente (b) Einsatz finden können, sind u.a. Di- oder Polyhydroxide, Di- oder Polyamine sowie vorzugsweise Di- oder Polyepoxide. Die lichtempfindliche, härtbare Schicht (S) kann dabei auch mehrere der vernetzend wirkenden Verbindungen enthalten. Bezüglich der als Komponente (b) einzusetzenden, vernetzend wirkenden Verbindungen sei ebenfalls auf die vorerwähnten Druckschriften, insbesondere die DE-B 23 09 062, die DE-A 32 31 145 sowie DE-A 32 31 147, verwiesen. Als vernetzend wirkende Komponente (b) sind die Di- oder Polyepoxide bevorzugt, welche die Umsetzungsprodukte von Epichlorhydrin mit Polyolen, die Umsetzungsprodukte von Epichlorhydrin mit Polyaminen, Polyolefinepoxide, epoxidiertes Polybutadien, Epoxiharze vom Novolaktyp, Hochpoly niere von Glycidylestern ungesättigter Carbonsäuren, insbesondere der (Meth)acrylsäure, und andere umfassen. Von besonderem Interesse sind die Epoxide auf Basis von Epichlorhydrin und Bisphenol A. Durch Substitution des Bisphenol A können die Eigenschaften dieser Epoxide in an sich bekannter Weise beeinflusst werden. Eine andere Gruppe von geeigneten Epoxiden sind diejenigen, in denen die endständigen Glycidylgruppen durch aliphatische oder araliphatische Reste verbunden sind, wofür der Glycidylether des 1,4-Butandiols als typischer Vertreter genannt sein soll. Eine weitere interessante Epoxidverbindung ist das Bis(epoxipropyl)anilin, wel ches aufgrund seiner äusserst niedrigen Viskosität als bifunktioneller Verdünner eingesetzt werden kann. Unter den hochmolekularen Epoxidverbindungen sind u.a. die Epoxiharze vom Novolaktyp und die Polyglycidyl - < meth)acrylate aufgrund ihrer hohen Funktionalität von Interesse. Durch den Einsatz von cycloaliphatischen Epoxiden, die in ihrem Molekül ein oder mehrere cycloaliphatische Ringe, jedoch keine aromatischen Ringe eingebaut enthalten, kann z.B. die Uv-Beständigkeit erhöht werden. Bei den cycloaliphatischen Epoxiden kann der Epoxidsauerstoft ausschliesslich an die cycloaliphatischen Ringe gebunden sein, wie z.B. im Dicyclopentadiendioxid, er kann ausschliesslich in den Seitenketten gebunden sein, wie z.B. beim Diglycidylester der Hexahydrophthalsäure, oder er kann sowohl an den cyclischen Ringen als auch an die Seitenketten gebunden sein, wie t.B. beim Vinylcyclohexandioxid. Weitere vernetzend wirkende Verbindungen mit mindestens zwei gegenüber Carboxylgruppen reaktiven Gruppen, die als Komponente (b) in der licht empfindlichen, härtbaren Schicht (S) enthalten sein können, sind z.B. Phenol-Formaldehyd-Harze, Harnstoff-Formaldehyd-Harze und Melamin-Forn- aldehyd-Harze, wobei die Harze vom Novolak-Typ bevorzugt sind. Die hochmolekularen vernetzend wirkenden Verbindungen mit den gegenüber Carboxylgruppen reaktiven Gruppen werden in der lichtempfindlichen, härtbaren Schicht (S) bevorzugt dann verwendet, wenn die in der lichtempfindlichen, härtbaren Schicht (S) als Komponente (a) enthaltenen Verbindungen mit den o-Nitrocarbinolestergruppierungen ein relativ niedriges Molekulargewicht besitzen, und können dann, wie bereits erwähnt, als polymeres Bindemittel für die lichtempfindliche, härtbare Schicht (S) dienen. Wenn als Komponente (a) o-Nitrocarbinolestergruppierungen tragende Polymere mit hohem Molekulargewicht eingesetzt werden, können die als Komponente (b) zuge setzten vernetzend wirkenden Verbindungen Je nach dem gewünschten Verwendungszweck und angestrebten Eigenschaftsbild der lichtemptindlichen Aufzeichnungsmaterialien niedermolekular oder auch hochmolekular sein. Das Verhältnis der reaktiven Gruppen in den vernetzend wirkenden Verbindungen der Komponente (b) zu den o-Nitrocarbinolestergruppierungen der allgemeinen Formel tI) in den Verbindungen der Komponente (a) kann in weiten Grenzen variiert werden, so dass der gewünschte Vernetzungs- und Härtungsgrad der lichtempfindlichen, härtbaren Schicht (S) und damit die gewünschten Eigenschaften des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials bzw. der daraus hergestellten Reliefbilder oder Resistmuster erreicht werden. Die erfindungs.gemässen lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien enthalten in der lichtempfindlichen, härtbaren Schicht (S) ferner als Kompo nente (c) mindestens einen in verkappter, nicht aktiver Form vorliegenden Katalysator, der photochemisch und/oder thermisch aktivierbar ist und in seiner aktivierten Form die Reaktion zwischen den Carboxylgruppen und den reaktiven Gruppen der vernetzend wirkenden Verbindung der Komponente (b) beschleunigt. Die photochemisch und/oder thermisch aktivierbaren Katalysatoren, die einzeln oder auch in Mischung miteinander eingesetzt werden können, sind in der lichtempfindlichen, härtbaren Schicht (5) im allgemeinen in einer Menge von 0,05 bis 20 Gewichtsprozent, bezogen auf die lichtempfindliche, härtbare Schicht (S), enthalten. Bezogen auf die vernetzend wirkende Verbindung (Komponente (b)) sind sie in den lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien im allgemeinen in Mengen von 0,3 bis 12 Gewichtsprozent enthalten. Verbindungen, die erfindungsgemäss als Komponente (c) in der lichtempfind lichen, härtbaren Schicht (S) enthalten sein können, sind beispielsweise die für die Polymerisation von Epoxiden an sich bekannten und vielfach beschriebenen photochemisch und/oder thermisch zu aktivierenden Katalysatoren bzw. Initiatoren. Hierzu gehören beispielsweise die photochemisch und/oder thermisch aktivierbaren basischen Katalysatoren, wie etwa Bortrifluorid-ethylamin. Günstig sind solche verkappten Katalysatoren, die bei Bestrahlung bzw. Erwärmung Säuren freisetzen. Unter den verkappten, photochemisch und/oder thermisch aktivierbaren Katalysatoren sind die Diazoniumsalze, wie sie in der US-PS 3 205 157 und der US-PS 3 708 296 beschrieben sind, die Oniumsalze von Elementen der V., VI. und VII. Hauptgruppe des Periodensystems (vgl. DE-A 25 18 656, DE-A 25 18 652, DE-A 29 04 626 und DE-A 25 18 639) sowie die in der EP-A 22 081, der EP-A 35 969 und der EP-A 44 274 genannten Sulfoxoniumsalze, und insbesondere auch die Pyryliumsalze, wie sie in der EP-A 74 073 beschrieben werden, hervorzuheben. Im allgemeinen handelt es sich bei den erfindungsgemäss einzusetzenden verkappten, photochemisch und/oder thermisch aktivierbaren Katalysatoren um Verbindungen der allgemeinen Formel (II) VsAe (11), worin Y0 ein geeignetes Kation bedeutet und Ag für ein nicht nukleophiles, wenig basisches Anion steht und insbesondere das Tetrafluoro- borat-, Hexatiuoroarsenat-, Hexatiuoroantimonat-, Hexafluorophosphat#, Pexachloroarsenat-, Hexachloroantimonat-, Hydroxypentafluoroantimonat-, Hydroxypentachloroantimonat-, Trifluormethylsulfonat- oder Perchlorat -Anion bedeutet. Als besonders günstig haben sich Verbindungen der allge meinen Formel (II) mit Hexatluoroareenat-, Hexefluoroantimonet und Hexa tiuorophosphat-Anionen erwiesen. Als Kation Yg für die Verbindungen der allgemeinen Formel (II) kommen z.B. Aryidiazonium-Ionen der allgemeinen Formel (III) EMI11.1 in Betracht, worin die Reste R1 - R5 unabhängig voneinander für Wasserstoffatome, Alkyl-, Cyclohexyl-, Phenyl-, Alkoxy-, Arylthio-, Alkylthiooder dialkylsubstituierte, diarylsubstituierte oder alkylaryldisubstituierte Amino-Gruppen stehen. Als Beispiel für entsprechende Aryldiazonium-Salze, die z.B. in der US-PS 3 205 157 und insbesondere der US-PS 3 708 296 beschrieben sind, seien insbesondere p-Methoxyphenyldiazonium-hexafluorophosphat und das 4-(p-Tolylthio > -2,5-diethoxyphenyl- diazonium-hexafluorophosphat genannt. Eine weitere Gruppe von verkappten Katalysatoren der allgemeinen Formel (II) sind diejenigen mit einem Kation y6 der allgemeinen Formel (IV) E(R6)aI# (in). Hierin kann R6 entweder ein monovalenter organischer aromatischer Rest, z.B. Phenyl oder durch eine bis drei Alkyl-, Aryl-, Alkoxy-, Aryloxy-, Alkylthiogruppen oder Halogenatome substituiertes Phenyl, sein oder auch ein divalenter aromatischer organischer Rest, wie z.B. o,o'-Biphenyl, wobei a für den Fall, dass R6 ein monovalenter aromatischer Rest ist, gleich 2 und für den Fall, dass R6 ein bivalenter aromatischer Rest ist, gleich 1 ist. Als Beispiele entsprechender Iodonium-Salze seien genannt: Diphenyliodonium-hexatiuorophosphat, Diphenyliodonium-hexafluoroarsenat, Diphenyliodonium-hexafluoroantimonat, Bis-(p-tolyl)iodoniun-hexafluoro- phosphat, Bis (p-tolyl)iodonium-hexafluoroarsenat und Bis(p-tolyl)iodonium-hexafluoroantimonat. Bezüglich der thermisch zu aktivierenden Katalysatoren dieser Klasse sei z.B. auf die DE-A 28 54 011 und die DE-A 29 53 349 verwiesen. Eine weitere Klasse von geeigneten Katalysatoren stellen die Verbindungen der allgemeinen Formel (II) dar, in denen das Kation Y0 der allgemeinen Formel (V) EMI12.1 entspricht, worin die Reste R7 und R11 eine Alkyl- oder Alkarylgruppe mit 1 bis 8 C-Atoaen und die Reste R8, R9 und R10 unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, eine Alkyl-, Alkaryl oder Cycloalkylgruppe mit bis zu 8 C-Atomen, eine gegebenenfalls alkylsubstituierte Phenyl-, Naphthyl-, Indenyl-, Indanyl- oder Fluorenyl-Gruppe oder einen heterocyclischen Substituenten mit einem oder zwei Heteroatomen bedeuten. Die Reste R7 bis Rll stehen dabei isoliert und sind nicht über Ringsysteme miteinander verbunden. Bevorzugt sind R7 und Rll Methylgruppen, R8 und R10 Wasser stoffatome und R9 ein Phenyl-, Naphthyl- oder Cyclohexyl-Rest. Entsprechende Pyryliumsalze sind beispielsweise in der EP-A 74 073 beschrieben, wobei die Hexafluoroarsenate, Hexafluorophosphate und Tetrafluoro- borate mit dem 2,6-Dimethyl-4-phenylpyrylium-Kation, dem 2,6-Dimethyl-4 cyclohexylpyrylium-Kation sowie dem 2, 6-Dimethyl-4-mepthylpyrylium -Kation besonders hervorzuheben sind. Ferner sind auch Katalysatoren der allgemeinen Formel (II) günstig, in denen das Kation Y der allgemeinen Formel (VI) [ (Rl2)b(Rl3)c(Rl4lds ] (vr) entspricht. In der Formel (VI) stehen R12 für einen monovalenten organischen aromatischen Rest, z.B. einen Phenyl- oder durch eine bis drei Alkyl-, Aryl-, Alkoxy-, Aryloxy-, Alkylthiogruppen oder Halogenatome substituierten Phenylrest, R13 für einen bivalenten aromatischen organischen Rest, z.B. o,o'-Biphenyl, R14 für einen gegebenenfalls substituierten Alkyl- oder Cycloalkyl-Rest, b für eine ganze Zahl von 0 bis 3, c für 0 oder 1 und d für eine ganze Zahl von 0 bis 2 mit der Massgabe, dass die Summe b + 2 c + d = 3 ist. Geeignete Verbindungen der allgemeinen Formel (II) mit Kationen der allgemeinen Formel (VI), wie sie beispielsweise in der DE-A 2 518 652, der DE-A 2 839 586, der DE-A 2 904 626, der DE-A 3 104 744 sowie der GB-A 1 526 511 beschrieben sind, sind insbesondere Triphenyl sulfonium-hexafluorophosphat, Triphenylsulfonium-hexafluoroarsenat, Triphenylsultonium-hexafluoroantimonat, p-Phenylthiophenyl-diphenylsul fonium-hexafluorophosphat, p-Phenylthlophenyl-diphenylsultonium-hexa- tiuorountimonat, p-Phenylthiophenyl-diphenylsulfonium-hexafluoroarsenat. Weiter sind als geeignete Katalysatoren der allgemeinen Formel (II) solche mit einem Kation der allgemeinen Formel (VII) [ (R12)eCR13) (R15) Za¯ (VII) zu nennen, worin R12 und R13 die vorerwähnte Bedeutung haben und R15 für einen gegebenenfalls substituierten Alkyl-, Alkoxy-, Aryloxy-, Cycloalkyl- oder Phenacyl-Rest, Z für ein Element der V. Hauptgruppe des Periodensystems der Elemente, wie N, P, As, Sb oder Ei, und e für eine ganze Zahl von 0 bis 4, r für eine ganze Zahl von 0 bis 2 und g für eine ganze Zahl von 0 bis 2 stehen, mit der Massgabe, dass die Summe e + 2 f + g = 4 ist. In dieser Klasse von Katalysatoren, die beispielsweise in der DE-A 2 518562 und der DE-A 3 115 460 angeführt sind, sind insbesondere die Ammoniumsalz-Katalysatoren hervorzuheben, wie sie beispielsweise in der US-PS 4 136 102 beschrieben sind, sowie die Phosphoniumsalz-Katalysatoren, wie sie z.B. in der GB-A 1 516 511, der GB-A 1 554 389 und der US-PS 4 136 102 beschrieben sind, als auch des weiteren Phenacyltriphenylphosphonium-hexafluorophosphat, Phenacyltri phenylphosphonium-hexatiuoroarsenat und Phenacyltriphenylphosphonium-hexa fluoroantimonat. Schliesslich seien als Katalysatoren auch noch die Sulfoxoniumsalze genannt, d.h. Verbindungen der allgemeinen Formel (Im), in denen das Kation der allgemeinen Formel (VIII) E(Rl6)h(R17)jCRl8)kSCO))S (VIII) entspricht In der allgemeinen Formel (VIII) bedeuten R16 einen gegebenenfalls substituierten Alkyl-, Aryl-, Cycloalkyl-, Cycloalkylalkyl oder Arylalkyl-Rest, R17 einen gegebenenfalls substituierten Carbamoylmethyl-, Acylmethyl- oder Aroylmethyl-Rest, R18 einen Alkoxy- oder Aryloxy-Rest, h eine ganze Zahl von 0 bis 3, j eine ganze Zahl von 0 bis 3 und k eine ganze Zahl von 0 bis 3, mit der Massgabe, dass die Summe h + j + k = 3 ist. Katalysatoren dieses Typs werden beispielsweise in der EP-A 22 081, der EP-A 35 969 sowie der EP-A 44 274 beschrieben. Für den Einsatz als Komponente (c) in den erfindungsgemässen lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien werden bevorzugt verkappte Katalysatoren aus den Klassen der allgemeinen Formel (II) verwendet, in denen das Kation Y+ einer der allgemeinen Formeln (V) oder (VIII) entspricht. Allgemein werden die photochemisch aktivierbaren Katalysatoren den therwisch aktivierbaren Katalysatoren wegen der damit erzielbaren höheren Lagerstabilität der so ausgerüsteten lichtempfindlichem Autzeichnungs- materialien vorgezogen. Auch wenn die verkappten, photochemisch und/oder thermisch aktivierbaren Katalysatoren als solche grundsätzlich bekannt und beispielsweise für die Härtung von Epoxid-Harzen beschrieben sind, so kommt es erfindungsgemäss darauf an, dass diese Katalysatoren die Vernetzungsreaktion zwischen den bei der Belichtung der lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien erzeugten Carboxylgruppen und den vernetzend wirkenden Verbindungen der Komponente (b) bewirken. Nach der photochemischen undSoder thermischen Aktivierung der Katalysatoren ist eine Reaktion zwischen den vernetzend wirkenden Verbindungen der Komponente (b) untereinander nicht auszuschliessen. Entscheidend für die Eigenschaften der mit den lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien hergestellten Relerbildwr oder Resiststrukturen, insbesondere deren Stabilität, Festigkeit, Reliefstruktur etc., ist jedoch die Vernetzungsreaktion zwischen den Carboxylgruppen und den reaktiven Gruppen der vernetzend wirkenden Komponente (b). Dass bei Einsatz der genannten Katalysatoren diese Reaktion in dem erforderlichen Masse abläuft und Produkte mit den verbesserten, vorteilhaften Eigenschaften erhalten werden können, war überraschend und in keiner Weise zu erwarten. Die lichtempfindliche härtbare Schicht (S) der erfindungsgemässen Aufzeich nungamaterialien kann darüber hinaus weitere übliche und an sich bekannte Zusatz- und/oder Hilfsstoffe enthalten. Hierbei kann es sich einerseits um Verbindungen handeln, die die Herstellung der lichtempfindlichen härtbaren Schicht (S) erleichtern, wie z.B. Weichmacher oder Verlaufsmittel, oder auch um solche Zusatzstoffe, die die anwendungstechnischen Eigenschaften dieser Schicht verbessern oder modifizieren. Beispiele für weichmachende Verbindungen, die insbesondere dann zugesetzt werden, wenn die lichtempfindliche härtbare Schicht (S) durch Laminieren auf den dimensionsstabilen Träger aufgebracht werden soll und die mit den die o-Nitrocarbinolestergruppierungen der allgemeinen Formel (I) enthaltenden Verbindungen verträglich sein sollen, sind Trikresylphosphat, n-Butyl-benzyl-phthalat und flüssige Polyester aus aliphatischen Dicarbonsäuren und bifunktionellen Glykolen, insbesondere Polyester aus Adipinsäure und 1,2-Propylenglykol oder 1,4-Butandiol mit einer Viskosität von 1000 bis 15000 cP. Sind in der lichtempfindlichen härtbaren Schicht (S) als Komponente (b) niedermolekulare vernetzend wirkende Verbindungen als Zumiachkomponente enthalten, so können diese auch als Weichmacher wirken und den Zusatz von gesonderten weichmachenden Verbindungen teilweise oder vollständig überflüssig machen. Verlaufsmittel, wie z.B. Silikonöle, sind insbesondere dann empfehlenswert, wenn die lichtempfindliche härtbare Schicht (S) durch Giessen aus Lösung auf den Träger aufgebracht werden soll. Weiterhin kommen als Zusatzstoffe beispielsweise Sensibilisatoren, die die Lichtempfindlichkeit und die spektrale Empfindlichkeit der Schicht (S) verbessern, Farbstoffe, Pigmente und/oder photochrome Substanzen sowie auch feinteilige Füllstoffe in Betracht. Beispiele für Sensibilisatoren sind Xanthen-Farbstoffe, wie Fluoreszein, Eosin und Rhodamin (S) sowie Triplet-Energleüberträger, wie sie beispielsweise N.3. Turro in seinem Buch "Molecular Photochemistry", W.A. Benjamin Inc., New York, 1967 auf Seite 132 beschreibt. Als Farbstoffe haben sich u.a. Sudanfarbstoffe, Polymethinfarbstoffe, Azofarbstoffe, Phthalocyanin-Farbstoffe oder Dispersionsfarbstoffe sowie Eosin, Kristallviolett oder Malachitgrün bewährt. Besonders vorteilhaft sind solche Farbstoffe, die bei der Belichtung mit aktinischem Licht ihre Färbung reversibel oder irreversibel ändern. Wenn die erfindungsgenässen lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien für die Herstellung von polymeren Tiefdruckformen eingesetzt werden sollen, können in der lichtempfindlichen härtbaren Schicht (S) insbesondere feinteilige abrasive Füllstoffe enthalten sein, wie es in der EP-A 70 511 beschrieben ist Durch Zusatz dieser Füllstoffe kann nicht nur die Härte der Schicht (S) erhöht werden, sondern es können darüber hinaus auch z.B. die Fliesseigenschaften, Steifigkeit etc. der Schicht (S) verbessert werden. Bei den feinteiligen Füllstoffen, deren mittlere Teilchengrösse vorzugsweise im Bereich von 0,01 bis 6 um liegt und deren Härte im allgemeinen grösser 4,0, insbesondere grösser 6 auf der Mohsschen Härteskala betragen soll, handelt es sich insbesondere um mineralische Füllstoffe und Pigmente, wie z.B. Siliciumdioxid, Silikate, Aluminiumoxide, Titanoxid, Siliciumkarbid, Wolframkarbid u.a. Die lichtempfindliche härtbare Schicht (S) der erfindungsgemässen Aufzeichnungsmaterialien ist im allgemeinen fest, trocken und nicht klebrig. Sie kann auf der dem Träger abgewandten Seite auch noch mit einer Schutzoder Deckfolie versehen sein, beispielsweise aus einem Polyester, Polyolefin, Polyvinylalkohol oder dergleichen. Wie bereits erwähnt, können die erfindungsgenässen lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien nach den bekannten Techniken hergestellt werden, beispielsweise durch Giessen der lichtempfindlichen härtbaren Schicht (S) aus Lösung auf den dimensionsstabilen Träger. Man kann die lichtempfindliche härtbare Schicht (S) jedoch auch beispielsweise durch Pressen oder Kalandrieren formen und anschliessend auf den Träger unter Anwendung von Druck und/oder Wärme auflaminieren. Die Schichtdicke der lichtempfindlichen härtbaren Schicht (S) hängt von dem jeweiligen Verwendungszweck der Aurzeichnung materialien ab und kann daher in weiten Grenzen variiert werden. Da sich die erfindungegemässem Aufzeichnumgamaterialiem sowohl für die Herstellung von Offaet-Oruckplatten und Resiaten einerseits, aber auch für die Herstellung von Hochdruck-, Tiefdruck- oder Reliettormen andererseits eignen, kann die Schichtdicke der lichtempfindlichem härtbaren Schicht (5) beispielsweise im Bereich von 0,01 um bis zu einigen Millimetern, z.B. 3 bis 4 mm, liegen. Die erfindungagemässen lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien können beispielsweise für die Herstellung von Hoch-, Tiet-, Ottset- oder Sieb druckformen, Resisten oder Lötstoppmasken verwendet werden. Sie eignen sich auch für Schichtübertragungsmaterialien bei der Herstellung von Leiterplatten, gedruckten Schaltungen, integrierten Schaltungen etc. Die Herstellung der Rolietbilder oder Resistmuster mittels der erfindungsge massen Aufzeichnungsmaterialien kann wahlweise nach negativ arbeitenden oder positiv arbeitenden Verfahren erfolgen, wie sie an sich bekannt und beispielsweise in der DE-B 2 309 062 sowie den älteren Patentanmeldungen EP-A-101 587, EP-A- 101 976 und EP-A-101586 beschrieben sind. Hierzu wird zunächst in allen Fällen die lichtempfindliche härtbare Schicht (S) der erfindungsge massen Aufzeichnungsmaterialien bildmässig mit aktinischem Licht belichtet. Geeignete Lichtquellen hierfür sind solche, die aktinisches Licht im Wellemlämgenbereich von 200 bis 600 nm, vorzugsweise im Wellenlängenbereich von 300 bis 420 mm, ausstrahlen, wie z.B. Kohlebogenlampen, Queck- silberhochdrucklampen, Xenonhochdrucklampen und insbesondere Quecksilber niederdruckfluoreszenzlampen. Die bildmässige Belichtung erfolgt dabei Je nach Verfahrensführung entweder durch ein Bildpositiv oder Bildnegativ oder bei der Herstellung von Tiefdruckformen auch durch ein Raster- oder Strich-Positiv bzw. ein Raster- oder Strich-Negativ, wobei letzteres auch zusammen mit einem Halbton-Negativ angewandt werden kann. Die bildmässige Belichtung der lichtempfindlichem härtbaren Schicht (S) kann auch mit einem bildmässig modulierten, aktinischen Laserstrahl, z.B. einem UV-Laser, erfolgen. Die Belichtungszeiten für die bildmässige Belichtung liegen im allgemeinen im Bereich von 0,01 bis 90 Minuten. Bei den positiv arbeitenden Verfahren zur Herstellung der Reliefbilder oder Resistmuster werden nach der bildmässigen Belichtung der lichtempfind- lichen härtbaren Schicht (S) die belichteten Schichtanteile, in denen die o-Nitrocarbinolestergruppierungen unter Bildung von freien Carboxylgruppen gespalten worden sind, mit einem wässrigen Entwicklerlösungsmittel in üblicher Weise, beispielsweise durch Besprühen, Ausreiben oder Ausbürsten, entfernt. Der Vorgang der bildmässigen Belichtung und des Auswaschens der lichtempfindlichen Schicht (S) kann bei den positiv arbeiten den Verfahren gewünschtenfalls mehrmals wiederholt werden. Nach der letzten bildmässigen Belichtung sowie dem Entfernen der belichteten Schichtanteile wird der auf dem Träger verbliebene Teil der lichtempfind- lichen Schicht (S), der nunmehr bereits ein positives Abbild der bildmässi- gen Vorlage darstellt, vollflächig mit aktinischem Licht nachbelichtet Für diese vollflächige Nachbelichtung können die gleichen Lichtquellen herangezogen werden, wie für die vorerwähnte bildmässige Belichtung, wobei die Dauer für die vollflächige Nachbelichtung im allgemeinen ebenfalls im Bereich von 0,01 bis 90 Minuten liegt. Im Anschluss an die vollflächige Nachbelichtung wird die Schicht (S) thermisch vernetzt und gehärtet. In den negativ arbeitenden Verfahren werden nach der bildmässigen Belichtung der Schicht (S) die belichteten Bereiche zunächst selektiv thermisch gehärtet und vernetzt. Die nichtvernetzten Bereiche der Schicht (S) können danach direkt mit einem geeigneten Entwicklerlösungsmittel ausgewaschen werden. Vorteilhafterweise wird jedoch die Schicht (S) zunächst noch einmal vollflächig mit aktinischem Licht nachbelichtet und dann mit einem wässrigen Entwicklerlösungsmittel ausgewaschen. Nach dem Auswaschen der Schicht (S) kann diese noch einmal thermisch nachgehärtet und nachvernetzt werden. Erfolgt das Auswaschen der Schicht (S) umittelbar nach der biidmässigen Belichtung, so ist für eine solche thermische Nachvernetzung und Nachhärtung die Schicht (S) nach dem Auswaschen noch einmal vollflächig mit aktinischem Licht zu belichten. Als Entwickler-Lösungsmittel können in den negativ arbeitenden Verfahren geeignete organische Lösungsmittel eingesetzt werden; vorzugsweise werden sowohl in den positiv arbeitenden als auch den negativ arbeitenden Verfahren wässrige Entwickler-Lösungsmittel eingesetzt. Hierbei kann es sich um Wasser oder auch um Mischungen von Wasser mit wasserlöslichen organischen Lösungsmitteln handeln, denen gegebenenfalls zur Einstellung eines optimalen pH-Wertes geringe Mengen an Alkalien oder organischen Basen zugesetzt werden können. Die Bedingungen für die thermische Härtung und Vernetzung der Schicht (S) hängt u.a. von dem als Komponente (c) eingesetzten verkappten Katalysator ab. Sind in der Schicht (S) photoaktivierbare Katalysatoren enthalten, so werden diese bei der vorerwähnten Belichtung der Schicht (S) mit aktinischem Licht in den aktivierten Zustand versetzt. Die Härtung und Vernetzung der Schicht (S) kann daher in diesen Fällen bereits bei Raumtemperatur erfolgen, jedoch sind dann im allgemeinen sehr lange Härtungszeiten notwendig. Vorteilhafterweise wird daher die Härtung und Vernetzung bei erhöhten Temperaturen durchgeführt. Sind in der Schicht (S) thermisch aktivierbare Katalysatoren enthalten, so erfolgt die Härtung und Vernetzung der Schicht (5) nach der bildmässigen oder vollflächigen Belichtung der Schicht (5) bei Temperaturen, die über der Aktivierungstemperatur für den Katalysator liegen. Es ist ein besonderer Vorteil der erfindungsgemässen Aufzeichnungsmaterialien, dass die Temperaturen für die thermische Härtung und Vernetzung der Schicht (S) vergleichsweise niedrig gehalten werden können, ohne dass die Lagerstabilität der Aufzeichnungsmaterialien beeinträchtigt wird. Im allgemeinen können mit den erfindung gemässen Aufzeichnungsmaterialien die Temperaturen für die thermische Härtung und Vernetzung der Schicht (S) unter 1500C gehalten werden, so dass auch thermisch empfindliche Untergründe, wie sie z.B. in der Dünn- schichttechnologie und bei der Herstellung von Leiterbahnen zur Anwendung kommen können, als Trägerniaterialien eingesetzt werden können. im allgemeinen liegen die Temperaturen für die thermische Härtung und Vernetzung der Schicht (S) im Bereich von 30 bis 1500c, vorzugsweise im Bereich von 50 bis 1300C. Die Dauer für die thermische Härtung und Vernetzung der Schicht (5) liegt üblicherweise im Bereich von 10 Minuten bis einigen Stunden, beispielsweise 5 Stunden. Grundsätzlich werden die Bedingungen für die thermische Hartung und Vernetzung der Schicht (S) so gewählt, dass die gehärteten und vernetzten Reliefbilder oder Resistmuster die gewünsch- ten mechanischen, physikalischen und chemischen Eigenschaften besitzen. Die erfindungsgemässen Aufzeichnungsmaterialien sind sehr lagerstabil. Sie können beispielsweise mehrere Wochen bei SOZC gelagert werden, ohne dass sich dadurch die sehr guten Eigenschaften der Aufzeichnungsmaterialien und die hohe Qualität der hieraus hergestellten Reliefbilder oder Resistmuster verschlechtert. Die Erfindung wird durch die nachfolgenden Beispiele näher erläutert. Die in den Beispielen genannten Teile und Prozente beziehen sich, sofern nicht anders angegeben, auf das Gewicht. Beispiel 1 72 Teile eines Methylmethacrylats-Copolymerisats, welches 35 % o-Nitrobenzylacrylat enthielt, 27 Teile eines Bisphenol-A-Diglycidylether (EpicoteR 828 der Firma Shell), 0,7 Teile Benzildimethylketal, 0,1 Teile eines schwarzen Farbstoffes, 0,2 Teile des Polymethinfarbstoffes der Formel EMI18.1 sowie ein Teil Bortrifluorid-ethylamin als verkappter, thermisch aktivierbarer basischer Katalysator wurden in 160 Vol.-Teilen Essigsäureethylester gelöst. Aus dieser Lösung wurde auf eine Polyesterfolie eine lichtempfindliche härtbare Schicht (S) so gegossen, dass nach Entfernung des Lösungsmittels und Trocknung eine Schichtdicke von etwa 10 ijm resultierte. Das so hergestellte Aufzeichnungamaterial wurde über 6 Wochen bei 500c gelagert. Danach wurde zur Herstellung von Resistmustern die freie Oberfläche der Schicht (S) 90 sec vollflächig mit einer 500 Watt Höchstdruck-Quecksilberlampe vorbelichtet und auf ein Palladium bedampftes Glas auflaminiert. Die lichtempfindliche Schicht (5) wurde dann mittels einer photogratischen Positiv-Vorlage durch die Polyesterfolie hindurch mit einer 500 W Höchstdruck-Quecksilberlampe 3 Minuten lang bildmässig belichtet. Anschliessend wurde die Polyesterfolie von der Schicht (5) abgezogen und die belichteten Anteile der Schicht (S) mit einem wässrigen Entwicklerlösungsmittel (81 Teile Wasser, 16 Teile 2-Butoxyethanol, 3 Teile Triethanolamin) in 1,5 Minuten ausgewaschen. Das so erhaltene vorlagengetreue Resistmuster wurde mit der gleichen Lampe wie oben nochmals vollflächig, d.h. ohne bildmässige Vorlage, für eine Dauer von 15 Minuten nachbelichtet und dann insgesamt 120 Minuten in steigenden Temperaturschritten von Je 200C im Temperaturbereich von 600C bis 1400C thermisch gehärtet und vernetzt. Der erhaltene Resist war hervorragend als fitz- resist geeignet und gegen die konzentrierte Salpetersäure (65 Xig) des Palladiumätzbades stabil. Nach dem Xtzen und Strippen des Resistes mit heissem Dimethylformamid wurden so Palladiumbahnen erhalten, die eine getreue Wiedergabe der Bildvorlage darstellten. Vergleichsversuch A Es wurde wie in Beispiel 1 verfahren, diesmal jedoch auf den Zusatz des Bortrifluorid-ethylamin-Katalysators verzichtet. Zur Erzielung einer hinreichenden Stabilität gegenüber dem Palladiumätzbad musste das Resist muster nach der vollflächigen Nachbelichtung bei steigender Temperatur Je 30 Minuten bei 600C, 80ob, 100 C, 1200C und 1600C sowie 120 Minuten bei 200 0C gehärtet und vernetzt werden. Die Flanken der Resistbahnen waren schräg und hatten im Querschnitt die Form eines Tropfens. Der Masseverlust war durch abnehmende Schichtdicke des Resists zu erkennen. Vergleichsversuch B Es wurde wie in Beispiel 1 verfahren, jedoch wurde anstelle des Bortrifluorid-ethylamin-Katalysators diesmal ein Teil Benzyldimethylamin als Härtungskatalysator eingesetzt. Die Lagerstabilität des so hergestellten Aufzeichnungsmaterials war erheblich geringer, selbst bei zügiger Verar beitung der belichteten Schicht (S) war eine einwandfreie Entwicklung des Resistmusters nicht möglich Auch mit gleichen Mengen anderer basischer Katalysatoren1 wie Diazabicyclooctan und Benzyltrimethylammoniumhydroxid, wurde keine ausreichende Lagerstabilität erreicht. Beispiel 2 Es wurde wie in Beispiel 1 gearbeitet, diesmal jedoch anstelle des Bortri- fluorid-ethylamin-katalysators 4 Teile 2,6-Dimethyl-4-phenylpyrylium- hexafluorophosphat als verkappter saurer Katalysator in die Schicht (S) eingearbeitet. Die Zeiten für die bildmässige Belichtung lagen bei 2 Minuten, und die für die vollflächige Nachbelichtung bei 15 Minuten. Bereits bei einer thermischen Härtung der belichteten und entwickelten Resistschicht von insgesamt 120 Minuten bei steigenden Temperaturen im Tempera turbereich von 60 bis 1200C wurde ein gegen konzentrierte Salpetersäure stabiler Resist erhalten. Die Flanken des Resistmusters waren steil ausgeprägt. Beispiel 3 Es wurde wie in Beispiel 2 verfahren, jedoch anstelle des Hexafluorophos phats das Tetrafluoroborat des 2,6-Dimethyl-4-phenylpyryliums eingesetzt. Es wurden entsprechende Ergebnisse wie in Beispiel 2 erzielt. Beispiel 4 Es wurde wie in Beispiel 1 gearbeitet, jedoch anstelle des Bortrifluorid- ethylamin-Katalysators diesmal 4 Teile Diphenyliodoniumhexafluorophosphat als Katalysator in die Schicht (S) eingearbeitet. Das so hergestellte Aufzeichnungsmaterial zeigte nach 6 Wochen Lagerung bei SOOC keinerlei Veränderungen der Eigenschaften. Die thermische Härtung und Nachvernetzung lieferte bereits bei Temperaturen bis 120 C (Dauer 120 Minuten) ein sehr beständiges und stabiles Resistmuster, welches sauber ausgebil dete, scharfkantige Flanken aufwies.

Claims: PatentansprOche 1. Für die Herstellung von Reliefbildern oder Resistmustern geeignetes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial mit einer auf einem dimen sionsstabilen Träger aufgebrachten lichtempfindlichen härtbaren Schicht (5), die enthält (a) eine Verbindung mit mindestens zwei aromatischen und/oder hetero aromatischen o-Nitrocarbinolestergruppierungen der allgemeinen Formel (I) EMI21.1 worin A den Rest eines aromatischen oder heteroaromatischen, gegebenenfalls substituierten Ringsystems mit 5 bis 14 Ring gliedern und X ein Wasserstoffatom, einen Alkylrest mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen oder einen gegebenenfalls substituierten Aryl- oder Aralkylrest bedeuten, (b) eine vernetzend wirkende Verbindung mit mindestens zwei reak tiven Gruppen, die unter dem Einfluss von Wärme mit -COOH-Grup pen unter Bildung einer kovalenten chemischen Bindung zu reagie ren vermögen, (c) mindestens einen Katalysator, der die Reaktion zwischen den vernetzend wirkenden Verbindungen (b) und den -COOH-Gruppen zu beschleunigen vermag, sowie gegebenenfalls (d) übliche Zusatz- und/oder Hilfsstoffe, dadurch gekennzeichnet, dass als Komponente (c) mindestens ein in verkappter, nicht aktiver Form vorliegender Katalysator enthalten ist, der photochemisch mit aktinischem Licht und/oder. thermisch aktivierbar ist. 2. Lichtempfindliches Aufzeichnungamaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der verkappte, photochemisch und/oder thermisch aktivierbare Katalysator (c) der allgemeinen Formel (II) yeAo (II), entspricht, worin A das Tetrafluorobo:at-, Hexatiuorophosphat-, Hexatiuoroantimonat-, Hexafluoroarsenat-, Hexachloroarsenat-, Hexa chloroantimonat-, Hydroxypentafluoroantimonat- oder Hydroxypenta chloroantimonat-Anion bedeutet und Y+ für ein geeignetes Gegenkation steht. 3. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial gemäss Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass in der lichtempfindlichen härtbaren Schicht (S) als Komponente (c) ein verkappter, photochemisch und/oder thermisch aktivierbarer Katalysator der allgemeinen Formel (II) enthalten ist, in der Yi ein Aryldiazoniumion der allgemeinen Formel (iii) EMI22.1 darstellt, worin die Reste R1 bis R5 unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, einen Alkyl-, Cyclohexyl-, Phenyl-, Alkoxy-, Aryl thio-, Alkylthio- oder einen disubstituierten Amino-Rest bedeuten. 4. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial gemäss Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass in der lichtempfindlichen härtbaren Schicht (S) als Komponente (c) ein verkappter photochemisch und/oder thermisch aktivierbarer Katalysator der allgemeinen Formel (11) enthalten ist, worin Y+ ein Iodoniumion der allgemeinen Formel (IV) [(R6)aI# (IV) bedeutet, in der R6 für einen monovalenten oder bivalenten organi schen aromatischen Rest steht und a für den Fall > dass R6 ein mono valenter aromatischer Rest ist, gleich 2 ist und für den Fall, dass R6 ein bivalenter aromatischer Rest ist, gleich 1 ist. 5. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Katalysator (c) der allgemeinen Formel (II) Yv ein Pyryliumion der allgemeinen Formel (V) EMI23.1 darstellt, worin die Reste R7 und R11 eine Alkyl- oder Alkarylgruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, R8, R9 und R10 unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, einen Alkyl-, Alkaryl- oder Cycloalkylrest mit bis zu 8 Kohlenstoffatomen, eine gegebenenfalls alkylsubstituierte Phenyl-, Naphthyl-, Indenyl-, Indanyl- oder Fluorenyl-Gruppe oder einen heterocyclischen Substituenten mit einem oder zwei Hetero atomen bedeuten. 6. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmateriel gemäss Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Katalysator der allgemeinen Formel (II) Y+ ein Kation der allgemeinen Formel (VI) [ CRl2)bCRl3)cCRl4)#S)# (VI) bedeutet, worin R12 für einen monovalenten organischen aromatischen Rest, R13 für einen bivalenten organischen aromatischen Rest und R14 für einen Alkyl-, substituierten Alkyl- oder Cycloalkylrest stehenund b eine ganze Zahl von 0 bis 3, c 0 oder 1 und d eine ganze Zahl von 0 bis 2 ist, mit der Massgabe, dass die Summe b + 2 c + d = 3 ist. 7. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial gemäss Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Katalysator (c) der allgemeinen For mel (II) Y+ ein Kation der allgemeinen Formel (VII) t(R12)e(Rl3)r(Rl5) z ] @ (VII) ist, worin R12 einen monovalenten organischen aromatischen Rest, R13 einen bivalenten organischen aromatischen Rest, R15 einen gegebenen falls substituierten Alkyl-, Alkoxy-, Aryloxy-, Cycloalkyl- oder Phenacyl-Rest und Z ein Element der V. Hauptgruppe des Perioden systems darstellt und worin e eine ganze Zahl von 0 bis 4, f eine ganze Zahl von 0 bis 2 und g eine ganze Zahl von 0 bis 2 darstellt mit der Massgabe, dass die Summe e + 2 f + g = 4 ist 8. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial gemäss Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Katalysator (c) der allgemeinen Formel (II) Y+ ein Kation der allgemeinen Formel (VIII) [ (R16)h(R17)j(RlB)kS(O) ] 3 (VIII) ist, worin R16 ein gegebenenfalls substituierter Alkyl-, Aryl-, Cycloalkyl-, Cycloalkylalkyl- oder Arylalkyl-Rest, R17 ein gegebenen falls substituierter Carbamoylmethyl-, Acylmethyl- oder Aroylmethyl -Rest und R18 ein Alkoxy- oder Aryloxy-Rest ist und h eine ganze Zahl von 0 bis 3, j eine ganze Zahl von 0 bis 3 sowie k eine ganze Zahl von 0 bis 3 ist mit der Massgabe, dass die Summe h + j + k = 3 ist. 9. Lichtempfindliches Autzeichnungsmaterial nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die lichtempfindliche härtbare Schicht (5) den oder die verkappten, photochemisch und/oder ther wisch aktivierbaren Katalysatoren (c) in einer Menge von 0,05 bis 20 Gew.-#, bezogen auf die lichtempfindliche härtbare Schicht (S), enthält 10. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass die lichtempfindliche härtbare Schicht (5) eine Verbindung, insbesondere ein Polymeres, enthält, welches neben den o-Nitrocarbinolestergruppierungen der allgemeinen Formel (I) gleichzeitig die ve-rnetzend wirkenden, gegenüber -COOH-Gruppen reaktiven Gruppen im Molekül eingebaut enthält. 11. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial gemäss Anspruch 10, dadurch oekennzeichnet, dass die o-Nitrocarbinolestergruppierungen der For mel (I) enthaltende Verbindung zusätzlich Amin-, Imin-, Amid-, Epoxid- oder Hydroxy-Gruppen eingebaut enthält. 12. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial gemäss einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass die lichtempfindliche härtbare Schicht < 5) neben der Verbindung mit den o-Nitrocarbinolestergrup pierungen der Formel (I) zusätzlich eine oder mehrere vernetzend wirkende Verbindungen mit mindestens zwei reaktiven Gruppen der genannten Art enthält. 13. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial gemäss Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass die lichtempfindliche härtbare Schicht 153 als vernetzend wirkende Verbindung Epoxide, Alkohole und/oder Amine enthält.

Inventors: HENNE, ANDREAS, DR., LEYRER, REINHOLD, J. DR., OCHS, WOLFRAM, DR., SCHUPP, HANS, DR.
Applicants: BASF AKTIENGESELLSCHAFT
Application year: 1984
Main classification: G03F7
IPC codes: G03C5, G03F7, C08F20, G03C1