PROCESS FOR MONITORING ULTRAVIOLET SOURCES, AND ARRANGEMENT FOR CARRYING OUT THE PROCESS

Abstract: 1. Process for monitoring UV sources, having a gas-filled UV tube whereof the operating voltage is a DC voltage across an electronic switching element which, to produce an off time and thus an extinction of the UV tube, has periodically applied to it a pulse sequence of square pulses and is thus short-circuited, characterized in that during the off time a positive residual voltage is maintained at the anode.

Description: Verfahren zum überwachen von UV-Quellen und Anordnung zur Durchführung des Verfahrens Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum überwachen von UV-Quellen mit einer UV-Röhre, der eine Spannung zugeführt wird, und eine Anordnung zur Durchführung des Verfahrens. Bisher ist es üblich, eine UV-Röhre mit einer sinusförmigen Netzwechselspannung zu betreiben (US-PS 546 806). Auch ist es bekannt, UV-Röhren mit gleichgerichteter, vorzugsweise einweg-gleichgerichteter Wechselspannung zu betreiben. Nachteilig ist hierbei, dass der Wechselspannungsbetrieb eine symmetrische Systemgeometrie der UV-Röhre voraussetzt. Moderne Versionen von UV-Röhren, z.B. Röhren mit UV-empfindlicher, plattenförmiger Photokathode, sind aber unsymmetrisch. Beim Wechselspannungsbetrieb sind UV-Röhren besonders anfällig gegen Nachimpulse ohne UV-Bestrahlung. Durch Anwendung symmetrischer Schaltungen lässt sich der Effekt zwar vermeiden, jedoch sind diese Schaltungen aufwendig. Darüber hinaus liefert die bipolare Wechselspannung auch eine bipolare Signalspannung, welche zur weiteren Verarbeitung erst in eine unipolare Spannung umgeformt werden muss. Dies setzt eine aufwendige Potentialtrennung voraus. Die zum Löschen einer UV-Röhre notwendige Aus-Zeit ist bei Wechselspannung undefiniert und abhängig sowohl von der Amplitude als auch von der Zünd- und Brennspannung der Röhre. Die Aus-Zeit ist bei einweg-gleichgerichteter Wechselspannung zwar besser definiert, sie ist mindestens gleich der halben Periodendauer (10 ms bei 50 Hz). Die Bedingung für das Löschen einer gasgefüllten UV-Röhre lautet: t aus Erholung Da die Erholungszeit gewöhnlich kleiner als 1 ms ist, bedeutet diese lange Aus-Zeit einen Verlust von fast 50X, während der die Röhre nicht empfindlich ist. Bei Einweggleichrichtung beträgt die Anodenspannung der UV-Röhre 0 V während der halben Periodendauer. Die Ladungsträger (Elektronen, Ionen), die während der Stromflusszeit gebildet werden, erfahren keine Beschleunigung im feldfreien Raum des spannungslosen Elektrodensystems. Dadurch ist die Rekombination der Ladungsträger hauptsächlich auf Volumen-Rekombination beschränkt, während die Rekombination an Elektroden und Gefäss weniger wirksam ist. Daraus resultiert eine lange Erholungszeit. Bei Einweggleichrichtung ist die nutzbare UV-empfindliche Zeitdauer nur ca. 25%. Generell hängen die Stromflusszeit, der Photostrom und die Empfindlichkeit bei Betrieb mit sinusförmiger Spannung von Zündspannung, Brennspannung, Scheitelspannung und Kurven form ab. Zur Vermeidung der vorstehenden Nachteile liegt der Erfin dung die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und eine Anordnung zur überwachung von UV-Quellen mit einer UV-Röhre zu schaffen, durch welche die Stabilität des Betriebs der Röhre verbessert wird, insbesondere der Einfluss innerer und äusserer Parameter verringert wird. Gelöst wird diese Aufgabe durch die Merkmale des Anspruchs 1. Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen angegeben. Die Erfindung wird beispielhaft anhand der Zeichnung näher beschrieben, in der zeigen Fig. 1 ein Schaltbild einer erfindungsgemässen Schaltungs anordnung und Fig. 2 eine Darstellung zur Erläuterung der Schaltungs anordnung der Fig. 1. Gemäss Fig. 1 liegt parallel zu der UV-Röhre 1 ein Schalt- transistor 2, an dessen Basisanschluss 3 eine Rechteckspannung angelegt wird. Der Emitter des Schalttransistors liegt an Erde 4. In Reihe mit dem Schalttransistor ist eine Zener Diode 5 geschaltet. 6 ist ein Kathodenwiderstand der Röhre und 7 ein Anodenstrombegrenzungswiderstand. Die Arbeitsweise der erfindungsgemässen Schaltungsanordnung ist wie folgt, siehe Fig. 2. Ohne Ansteuerung sperrt der Transistor. Die volle Spannung +U liegt an der UV-Röhre 1. Durch UV-Bestrahlung zündet a die Röhre und es fliesst ein Anodenstrom, der durch den Widerstand 7 begrenzt wird. Der Anodenstrom erzeugt am Kathodenwiderstand 6 einen Spannungsabfall und an diesem Kathodenwiderstand wird am Anschluss 8 das Ausgangssignal U k abgenommen. Beim Ansteuern des Transistors 2 mit der Rechteckspannung U leitet dieser und schliesst die Röhre e 1 kurz. Dadurch löscht die Gasentladung. Um eine schnelle Rekombination der Ladungsträger im Plasma zu ermöglichen, wird die Anodenspannung nicht völlig kurzgeschlossen, sondern eine gewisse Restspannung UR aufrechterhalten, welche die Ladungsträger im Elektrodenfeld beschleunigt. Die Restspannung wird auf einfac-he Weise durch die Zener-Diode 5 erzeugt, z.B. 50V. Da die Restspannung kleiner gewählt ist als die Brennspannung der Röhre, findet ein Löschen statt. Als Schalttransistor kann ein npn-Transistor hoher Spannungsfestigkeit verwendet werden, ebenfalls ein C-MOS-Transistor. Der Schalttransistor kann in Serie oder parallel geschaltet werden. Es kann auch ein freischwingender astabiler Multivibrator mit zwei Transistoren verwendet werden. Statt eines Transistors kann auch eine Elektronenröhre, eine Kaltkathodenröhre oder ein Thyristor verwendet werden. Die erfindungsgemässe Ausbildung führt zu einer möglichen Stromflusszeit von fast 100%. Der Photostrom ist U B + R ph R R a k worin U der Spannungsabfall an der UV-Röhre, R und R B a k die Werte des Anoden- und Kathodenwiderstands sind. Durch Wahl des Tastverhältnisses kann die Aus-Zeit t aus klein gehalten werden. Die mögliche Stromflusszeit von fast 100% ergibt sich bei einem Tastverhältnis nahe 1. Während der gesamten Einschaltdauer (ein) tritt die maximale, konstante Empfindlichkeit auf. Durch Wahl einer höheren Frequenz der Rechteckspannung kann die Informationsdichte erhöht werden und die System-Zeitkonstante verringert werden, womit die UV-Röhre als Explosionsschutz verwendet werden kann. Durch Verbleiben der Restspannung UR während der Aus-Zeit t wird die Erholungszeit verringert, und zwar aus durch Beschleunigung der Ladungsträger im elektrischen Feld und schnellere Rekombination. Dadurch wird die mögliche Aus-Zeit t verringert. aus Bei den durch die UV-Röhre überwachten UV-Quellen kann es sich um dauernde Quellen, wie die Flamme eines Gasbrenners oder ölbrenners, oder um zeitweilige UV-Quellen, wie Explo s i ons strahlung, Schalt funken, handeln.

Claims: Patentansprüche 1. Verfahren zum überwachen von UV-Quellen mit einer UV Röhre, der eine Spannung zugeführt wird, dadurch gekennzeichnet, dass der UV-Röhre eine Rechteckspannung zugeführt wird. 2. Anordnung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass zu der UV-Röhre (1) ein Schalttransistor (2) parallel liegt, an dessen Basis die Rechteckspannung angelegt wird. 3. Anordnung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass in Reihe mit dem Schalttransistor (2) eine Zener-Diode (5) liegt.

Inventors: LOY, H.M.
Applicants: GTE LICHT GMBH
Application year: 1984
Main classification: G01T1
IPC codes: G01T1