X-RAY LITHOGRAPHIC APPARATUS

Abstract: 1. An X-ray lithographic apparatus comprising an X-ray tube having at least one outlet window for the generation of long-wave X-radiation which is provided with an electron gun formed by a hot cathode and a grid, an electric beam deflecting and focusing device, and a target made of a material having a high atomic number and a high melting point, and comprising a carrier for the substrate which is to be irradiated with X-rays and comprising a carrier for the lithographic mask, characterised in that in the X-ray tube an electron gun (17), is used, wherein the grid (9) is provided on its side facing the target (26) with an inwardly-directed flange (10) which surrounds the opening (11) in which the tip of the hot cathode (1) is located, wherein that side (12) of the flange (10) facing the hot cathode (1) is flat or is bent at an angle in the direction of the hot cathode (1), wherein that side (13) of the flange (10) facing the target extends at an angle beta of 100 degrees to 140 degrees in the direction of the tip of the hot cathode (1) and wherein the material of the flange (10) tapers at an angle alpha of 15 degrees to 60 degrees in the direction of the edge (14) which delimits the central opening, in that the focal point (36 to 41) on the target (26) has a diameter of less than 10**-4 m, in that the distance between the target (26) and the X-ray outlet window (28) of the X-ray tube amounts at the maximum to 2.10**-2 m and that the distance between the target (26) and the lithographic mask (29) amounts at the maximum to 2.10**-1 m, in that the surface of the target (26) comprises one curved surface or at least two flat surfaces which are separated from one another by an edge and which are arranged at an angle to one another, in that a part of the curved surface (31A) or one of the flat surfaces faces towards the X-ray outlet window (28) and the other part (31C) of the curved surface or the other flat surface faces away from the X-ray outlet window (28), in that the target angle for the rays emitted from each outlet window (28A, 28B) of the X-ray tube is selected to be such that it amounts to between 0 degree and 10 degrees, preferably 5.5 degrees and in that a control device is provided for the voltage fed into the deflecting device (23), by means of which control device the electron current (21) in travelling from one radiating point (36) to another radiating point (40), is deflected twice over the zenith (31B) facing the electron gun (17) or an edge facing the electron gun (17) on the target (26).

Description: Röntgenlithographiezerät Die Erfindung betrifft ein Röntgenlithographiegerät, bestehend aus einer Röntgenröhre zur Erzeugung einer langwelligen Röntgenstrahlung, die eine aus Glühkathode und Gitter bestehende Elektronenkanone, eine Elektronenstrahlablenk- und -bündelungsvorrichtung, ein Target aus einem material hoher Ordnungszahl und hohen Schmelzpunktes aufweist, aus einem Träger für das mit Röntgenstrahlen zu belichtende Substrat sowie aus einem Träger für die Lithographiemaske. Ein derartiges Röntgenlithographiegerät ist bereits vor mehr als fünf Jahren als Versuchsgerät gebaut worden. Dieses ist in der DE-OS 28 54 693 beschrieben. Als Targetmaterial wird hier Wolfram verwendet, ein Material hoher Ordnungszahl und hohen Schmelz punktes In der Elektronenkanone befindet sich eine Glühkathode mit einem Wolframfaden. Mit dieser Röntgenröhre wird langwellige Röntgenstrahlung erzeugt, welche für die Röntgenlithographie besonders geeignet ist, weil sie ebenso wie das bis heute immer noch verwendete sichtbare oder ultraviolette Licht von den hierfür vorgesehenen Stellen auf den üblichen Lithographiemasken absorbiert bzw, reflektiert wird. Diese Lithographiemasken werden üblicherweise mit einem feinen Belag aus Gold ausgestat- tet, welches diese Strahlungen zu absorbieren und zu reflektieren vermag. Dieses Röntgenlithographiegerät hat die mit Licht arbeitenden Lithographiegeräte nicht aus dem Markt zu drängen vermocht, obwohl diese mit Licht arbeitenden Lithographiegeräte sehr gewichtige Nachteile aufweisen, die vor allem in einer sehr langen Belichtungsdauer bestehen. Eingesetzt werden diese Lithographiegeräte bei der Herstellung von integrierten Schaltungen, insbesondere hochintegrierten und höchstintegrierten Schaltungen. Durch den enormen Aufschwung der An- wendung von elektronischen Schaltungen in allen Bereichen der Technik vor allem für die Steuerung und Berechnung von technisch ablaufenden Prozessen, besteht hier ein enormes 3bedürfnis nach der einfachen und schnellen Herstellung solcher integrierten Schaltungen. Daher versucht die Technik bereits seit vielen Jahren nach einer Möglichkeit mittels Röntgenstrahlen feinste Strukturen im Submikrometerbereich scharf abzubilden. Aus theoretischen uberle- gungen eignen sich hierfür Wontgenstrahlen besonders gut, inder Praxis haben aber noch nicht Geräte hergestellt werden können, die sicher und euverlassig die erforderlichen scharfen Abbildungen in Ditho- graphiegeräten durchführen konnten. Verglichen mit lichtoptischen Verfahren haben Rönt- genverfahren physikalisch den Vorteil, dass auch in der Grössenordnung kleiner als pm Röntgenstrahl beugung und -interferenz zu vernachlässigen ist und dass somit im SubmiRrometerbereic'l präzise Schaec tenrisse von zwischengeschalteten Masken zu erwarten sind, Schmutz und Staub spielen bei der Röntgenstrahlung eine weit geringere Rolle als bei der Lichtprojektion. Gegenüber elektronenoptischen Ver- fahren können auch äussere elektrische Störfelder unberücksichtigt bleiben. Weil harte Röntgenstrahlen die Lithographiemasken praktisch ungehindert durchqueren können, ist es für die Herstellung von kontrastreichen Abbildungen erforderlich, weiche Röntgenstrahlen zu verwenden, die mit Spannungen von drei bis 25 KV erzeugt werden. Bei weichen Röntgen(brems-)strahlen ist aber der Wirkungsgrad der Röntgenstrahlausbeute extrem gering. Das führt zu langen Belichtungszeiten. Wegen dieser erfolglosen Bemuhwigen, mit Röntgenbremsstrahlen in der Lithographie zu arbeiten, wurden Forschungen unternommen, um mit Hilfe von Synchrotrons und neuartigen Plasmaquellen weiche Röntgenstrahlen in genügender Ausbeute zu erzeugen. Der Einsatz von Synchrotons ist aber durch die hohen Anschaffungskosten eines Synchrotons, die sehr hohen Betriebskosten und die grossen erforderlichen Räume zur Aufstellung eines Synchrotons für die Lithographie niemals wirtschaftlich. Neuartige Plasmaquellen hingegen sind über ein Versuchsstadium nicht herausgekommen und vielleicht auch wegen sehr umfangreicher Sicherheitsvorkehrungen kaum einsetzbar. Sogar Positronen-Speicherringe wurden für die Röntgenlithographie zu Versuchszwecken hergerichtet. Aber auch diese Versuche sind über ein Experimentierstadium nicht hinausgekommen. So besteht weiterhin das Problem, ein leistungs fähigen Röntgenlithographiegerät zu schaffen. Die vorliegende Erfindung geht von der Erkenntnis aus, dass für ein solches leistungsfähiges Röntgen lithographiegerät einerseits Massnahme vor dem Target vorzusehen sind, um effektiv und ökonomisch die benötigte langwellige Röntgenstrahlung zu erzeugen, dass andererseits aber auch am Target selbst und hinter dem Target Massnahme für eine effektive Bestrahlung und somit fur kurze Bestrah- lungszeiten notwendig sind, Es ist die Aufgabe der Erfindung, ein leistungs fähigen Röntgenlithographiegerät zu erzeugen, welches mit geringem Energieaufwand bei einfacher Bauart so ausreichend langwellige Röntgenstrahlung erzeugt, dass relativ kurze Belichtungszeiten ermöglichst werden. Die Erfindung besteht darin, dass eine Elektronen- kanone, bei der das Gitter auf seiner dem target zugewandten Seite einen nach innen gerichteten Flansch aufweist, der die Öffnung, in der sich die Spitze der Glühkathode befindet, umschliesst, bei der die der Glühkathode zugewandte Seite des Flansches eben ist oder in Richtung auf die Glühkathode abgewickelt ist, bei der die dem Target zugewandte Seite des Flansches unter einem Winkel ss von 100 bis 140 in Richtung auf die Spltze der Glühkathoe zu verläuft, und bei der sich das Material des Flansches in Richtung auf den die zentrische Öffnung begrenzenden Rand unter einem Winkel &alpha; von 15 bis 600 verjüngt, in der Röntgenröhre verwendet wird, dass der Brennfleck auf dem Target einen Durchmesser von weniger als 10-4 m aufweist, dass der Abstand zwischen dem Target und dem Röntgenstrahlena##stritts- fenster der Röntgenröhre maximal 2*10 2 m beträgt, und dass der Abstand zwischen Target und Tithogra- phiemaske maximal 2t10 1 m beträgt. Die hier verwendete Elektronenkanone erzeugt auf einem besonders kleinen Fokus einen besonders intensiven Elektronenstrom, der schon infolge des kleinen Fokus in sich gut gebündelt ist, durch Elek tronenstrahlbündelungsvorri ohtungen jedoch noch weiter gebündelt werden kann, so dass auf dem Tar- get ein besonders kleiner Brennfleck entsteht, der jedoch, da Bes chletllllgungs spannungen von 3 KY bis 25 EV verwendet werden, in diesem kleinen Brennfleck eine sehr intensive langwellige Röntgenstrahlung erzeugt. Durch die Anpassung der Beschleunigungsspannung für den Elektronenstrom an das Targetmaterial hohrer Ordnungszahl und hohen Schmelzpunktes in der Art, dass eine errechnete Spannung verwendet wird, die gewährleistet, dass der grösste Anteil der Elektronen des Elektronenstromes bereits in den ersten zwei oder drei Molekülreihen gebremst wird, wird erreicht, dass die intensive langwellige Strahlung erzeugt wird. Hier wirkt der intensive, stark gebündelte Elektronenstrom mit den Atomen des Targets derart zusammen, dass die sich gegenseitig beeinflussenden Elektronen des Eiektronenstromes ein Ausweichen, wie es bei weniger gebündelten und nicht so intensiven Elektronenströmen die Regel ist, nicht vorkommen kann. - So wird durch eine Röntgenröhre mit extrem kleinem Glühemlssionsfleck, elektrische Mittel zur Verkleinerung der Abbildung des Glühemissionsflecks auf dem Target, dem Target aus einem Material hoher Ordnungszahl und hohem Schmelzpunkt, z B. Wolfram, und dem Brennfleck auf dem Target mit einem Durchmesser von weniger als 10 4m bereits in dem Bereich vor dem Target und auf dem Target die Voraussetzung für eine effektive Röntgenlithographie geschaffen. Durch die Wahl eines ungewöhnlich geringen Abstandes zwischen Target und Fenster und zwischen Target und Lithographiemaske wird dieses günstige Ergebnis noch weiter verbessert, Durch einen so kleinen Brennfleck auf dem Target wird naturgemäss das Target stark belastet. Daher ist es zweckmässig, wenn die Oberfläche des Targets aus einer gewölbten oder mindestens zwei, durch eine Kante voneinander getrennten winklig zueinander angeordneten ebenen Flächen besteht, wenn ein Teil der gewölbten Fläche oder die eine ebene Fläche dem Röntgenstrahl enaustritt sfenst er zugewandt und der andere Teil der gewölbten fläche oder die andere ebene Fläche dem Röntgenstrahlenaustrittsfen- ster abgewandt ist, wenn man für die durch jedes Austrittsfenster der Röntgenröhre austretenden Strahlen den Targetwinkel so wählt, dass er zwischen 0 und 100, vorzugsweise bei 5,50 liegt, und wenn eine Steuervorrichtung für die in die Ablenkvorrichtung eingespeisten Spannungen vorgesehen ist, mit der der Elektronenstrom bei der Wanderung von einem Abstrahlpunkt auf einen anderen Abstrahlpunkt zweimal über den der Elektronenkanone zugewandten Zenit oder eine der Elektronenkanone zugewandte Kante auf dem Target abgelenkt wird. Hierdurch wird ein ständiger Brennfleckwechsel erreicht, nämlich ein Arbeiten im Impulsbetrieb der Röntgenröhre, wobei jedoch die Röntgenröhre ständig im Betrieb bleibt, so dass nicht Nachteile durch Ein- und Abschalten des Elektronenstromes auftreten können. In diesem Impulsbetrieb ist es zweckmässig, wenn die Steuervorrichtung den Auftreffp#kt des Elektronen- strahl es auf einem Abstrahlpunkt verharren lässt und dann den Elektronenstrahl mit hoher Geschwindigkeit auf den nächsten Abstrahlpunkt bewegt und ¯ ihn dort wieder verharren lässt, weil dann diejenigen Zeiten, in denen der emittierte Elektronenstrom genutzt wird, gross sind gegenüber denjenigen Zeiten, in denen der Elektronenstrom nicht genutzt wird. Besondere wirkungsvoll für die Ausnutzung des Elektronenstromesist es jedoch, wenn die Röntgenröhre auf mindestens zwei gegenüberliegenden Seiten je ein Röntgenstrahlenaustrittsfenster aufweist, zwischen denen das Target angeordnet ist, wenn die Oberfläche des Targets aus einer gewölbten Fläche mit der Elektronenkanone zugewandten Zenit oder aus mindestens zwei ebenen, durch mindestens eine Kante voneinander getrennten, winklig zueinander angeordneten ebenen flächen besteht, wenn beidseits des Zenits je ein Teil der gewölbten Fläche oder beidseits der Kante je eine ebene Fläche je einem Röntgenaustrittsfenster zugewandt ist, wenn man für die durch jedes Austrittsfenster der Röntgenröhre austretenden Strahlen den Targetwinkel so wählt, dass er zwischen 0 und 100 vorzugsweise bei 5,50 liegt, und wenn eine Steuervorrichtung für die in die Ablenkvorrichtung eingespeisten Spannungen vorgesehen ist, mit der der Elektronenstrom bei der Wanderung von einem Abstrahlpunkt auf einer Fläche (bzw. Ela- chenteil) auf einen anderen Abstrahlpunkt auf der anderen Fläche (bzw. Flächenteil) über den Zenit oder die Kante abgelenkt wird. Hierdurch wird ein Röntgenlithographiegerät geschaffen, welches zu beiden Seiten der Röntgenröhre Träger für Lithographiemasken und Träger für das zu belichtende Substrat aufweist. Abwechselnd wird hier einmal das zur einen Seite, dann anschliessend das zur anderen Seite angeordnete Substrat bestrahlt, so dass der Elektronenstrom der Röntgenröhre ständig ausgenutzt wird. Aber nicht nur die ständige Ausnutzung des Elektronenstromes der Röntgenröhre ist hier ein besonderer Vorteil, sondern es besteht auch der weitere Vorteil, dass in derjenigen Zeit, in der das eine Substrat nicht bestrahlt wird, dieses Substrat gegen ein völlig unbestrahltes Substrat ausgewechselt werden kann. Nährend der Auswechselungszeit wird somit das auf der anderen Seite angeordnete Substrat bestrahlt. Des Wesen der Erfindung ist nachstehend anhand von in der Zeichnung schematisch dargestellten Aus- führungsbeispielen näher erläutert. Es zeigen; Fig. 1 einen Querschnitt durch eine Elektronen- kanone mit sehr kleinem Emissionsfleck und hoher Elektronenemission, Fig. 2 einen Querschnitt durch die Lithographie vorrichtung, Fig. 3 einen Querschnitt durch die Röntgenröhre im Bereich des Targets, Fig. 4 einen Querschnitt durch eine Röntgenlitho graphievorrichtung für die wechselseitige Bestrahlung zweier Substrate, Fig. 5 einen Querschnitt durch die Bontgearrröbre im Bereich des Targets der Vorrichtung nach Fig. 4, Fig. 6 einen Schnitt durch die Röntgenröhre der Fig. 4, unterhalb des Targets mit einer Darstellung der Brennflecke auf dem Target, Fig. 7 eine perspektivische Ansicht eines halb kugelförmigen Targets, Fig. 8 eine perspektivische Ansicht eines pyramiden stumpfförmigen Targets, Fig. 9 eine schematische Darstellung der Anordnung der zu bestrahlenden Substrate um die Rönt- genröhre, Für die vorliegende Erfindung ist von hoher Wichtigkeit, dass eine Elektronenkanone mit einer Glühkathode Verwendung findet, deren Elektronenaustrittsstelle einen möglichst kleinen Durchmesser aufweist. Eine solche Elektronenkanone ist in der Fig. 1 dargestellt: Der U-förmig gebogene Heizfaden 1 der Glühkathode ist mit seinen beiden Schenkeln in Xlemmvorrich- tungen 2,3 mittels der Schrauben 4 geklemmt. Die Klemmvorrichtungen 2,3 laufen in Stecker 5 aus, die an eine elektrische Stromquelle angeschlossen werden. Die beiden Elemmvorrichtungen 2,3 sind in eine Isolierscheibe 6 eingesetzt, die von einem Ring 7 getragen wird, der auf seiner Aussenseite ein Aussen- gewinde trägt, auf das das Innengewinde des topfförmigen Gitters 9 geschraubt ist. Hierdurch bilden Gitter 9 und die Glühkathode eine Baueinheit, die mittels der Stecker 5 auf einen Sockel steckbar ist. Dabei kann die Stellung des Gitters 9 gegenüber der Glühkathode 1 verändert werden. Das Gitter 9 weist einen zylindrischen Teil auf, welcher das Innengewinde an einem Ende trägt und welcher am anderen, dem nicht dargestellten Target der Röntgenröhre zugewandten Ende einen nach innen gerichteten Flansch 10 als nach innen gerichteten Vorsprung trägt. Zen trisch in diesem Flansch befindet sich die Öffnung 11, welche die Spitze des als Glühkathode dienenden Glühdrahtes 1 umgibt. Die der Glühkathode 1 zugewandte Seite 12 dieses Flansches ist entweder eben (Fig.1) oder in Richtung auf die Gluhkathode 1 abgewinkelt, wobei die Abwinkelungsstelle auch direkt an dem Übergang der Fläche 12 Fn die Innenwandung des zylindrischen Teiles des Gitters 9 befindlich sein kann, so dass hier der Winkel zwischen der Innenseite des zylindrischen Teiles des Gitters 9 und der Fläche 12 weniger als 900 beträgt. Die Aussenseite des Flansches ist kofrisch bzw. trichterförmig gestaltet, derart, dass sich der Flansch 10 in Richtung auf die Öffnung 11 verjüngt. Das Zentrum dieser trichterförmigen Fläche 13 befindet sich in der Spitze des Glühdrahtes 1 oder dicht unterhalb der Spitze des Glühdrahtes 1. Die Fläche 12 ist ebenfalls auf die Spitze des Glühdrahtes 1 oder einen Punkt dicht unterhalb der Spitze des Glühdrahtes 1 gerichtet. Die Kante des Randes 14, also der Übergangsstelle von der trichterförmigen Fläche 13 in die Fläche 12 ist abgerundet, und zwar im Querschnitt in etwa halbkreisförmig gestaltet. Der Durchmesser dieses Halbkreises ist klein. Der Durchmesser des Glühfadens wird sweckmässiger- weise mit 0,2 bis 0,4 mm gewählt, der Abstand A von dem Rand 14 des Flansches 10 des Gitters 9 vor der am nächsten liegenden Stelle des Glühfadens 1 wird zweckmässigerweise 0,4 bis 4 mm gewählt, Der Winkel das ist der von der konischen Fläche 13 und der Innenfläche 12 des flansches eingeschlossene Winkel wird zweckmässigerweise 15 bis 600 gewählt, während der Winkel ss, das ist der Konuswinkel bww. Trichterwinkel der konischen Fläche 13 wird zweckmässigerweise mit 100 bis 1400 gewählt.# Die Röntgenlithographievorrichtung ist in Fig. 2 dargestellt, Sie besteht aus einer Röntgenröhre mit dem Gehäuse 15,16, in welchem die Elektronenkanone 17 eingebaut ist, die im Querschnitt in Fig. 1 dargestellt ist. Diese Elektronenkanone 17 ist auf dem Sockel 18 mittels der zwei Stecker aufgesteckt. Das Geha#use ist durch die Trennwand 19 unterteilt. Die Trennwand 9 weist mittig eine Öffnung 20 für den Durchtritt des Elektronenstromes 21 auf. An dem Gehäuseteil 16, das auch den zMaku- ierungsstutzen 22 trägt, mit dem die gesamte Röntgenröhre für d n Begrieb evakuiert wird, ist der Gehäuseteil 15 angeflanscht. In diesem befinden sich Ablenk- und Fokussierspulen 23,24,25 und auf eine stirnseitige Öffnung ist der das Target 26 aufnehmen- de Gehäuseteil 27 angebracht. Dieser Gehäuseteil weist ein Austrittsfenster 28 für die am Target 26 erzeugte Röntgenstrahlung auf. Im Strahlungsfeld dieses Röntgenfensters 28 ist ein Träger mit der Lithographiemaske 29 sowie ein Träger mit dem zu bestrahlenden Substrat angeordnet± Bei diesem Substrat handelt es sich um einen Chip für elektroni söhe Schaltungen, In Fig. 3 ist in Vergrösserung ein Querschnitt durch den Gehäuseteil 27 mit dem Target 26 dargestellt. Die gestrichelte Linie 30 liegt in der geometrischen Mitte der Röntgenröhre und geht durch den Zenit der gewölbten Fläche 31 des Targets 26. Der Elektronenstrom 21 verläuft versetzt zu der Linie 30 und fällt unter einem Targetwinkel von 0 bis 100 auf die Oberfläche 31 des Targets 26 und erzeugt hier die Röntgenstrahlung 33, die durch das Fenster 28 ausfällt. Der Innenraum des Gehäuseteiles 27 ist mit einer Röntgenstreustrahlung absorbierenden Auskleidung 34 versehen. In dieser Röntgenröhre kann der Elektronenstrom 21 von der Teilfläche 31h durch elektronische Ablenkung über den Zenit 31 R auf die Teilfläche 31 C gelenkt werden, von wo die dort erzeugte Rönt genstrahlung nicht durch das Auftrittsfenster 28 austritt. Dieses erfolgt bei einem Wechsel der dicht neben dem Zenit 35 B liegenden Abstrahlorte auf dem Target 26. Dieser Wechsel erfolgt, damit das Target nicht an einzelnen Punkten überhitzt und dadurch beschädigt wird, Um von einen Abstrahlpunkt, z.B. dem in der Fapierebene liegenden Abstrahlpunkt, zu einem anderen Abstrahli > unkt, der vor oder hinter der Papierebene gelegen ist, zu gelangen, lässt man den Elektronenstrom zweimal den Zenit 36 B überschreiten und einen grossen Teil des Weges von einem Abstrahlpukkt zum nächsten auf der dem Fenster 28 abgewandten Seite aes Targets verlaufen. Hierdurch werden Verwischungseffekte auf dem Substrat vermieden Diese gewölbte Ausbildung des Targets und die Ablenkung des Elektronenstromes von einer Targetflä- che 31 A auf die andere Targetfläche 31 C kann aber auch ausgenutzt werden, um im Impulsbetrieb zwei Substrate 35 wechselweise mit Röntgenstrahlung zu bestrahlen. Eine hierfür geeignete Vorrichtung ist in Fig. 4 dargestellt. Sie weist den gleichen Aufbau wie die Vorrichtung der Fig. 2 auf, hat lediglich zu beiden Seiten des Gehäuseteiles 27 Je einen Träger für eine Lithographiemaske 29 und je einen Träger für ein Substrat 35 aufzuweisen. Darüber hinaus hat der Gehäuseteil 27 nicht ein Austrittsfenster 28, sondern zwei Austrittsfenster 28A, 283, wie das auch aus Fig. 5 ersichtlich ist. In Fig. 6 ist ein Schnitt durch den Gehäuseteil 27 gezeigt, bei dem man auf das Target 26 schaut. Zu beiden Seiten des Zenits 31 sind je drei Ab strahlpunkte 36,37,38 auf der DeilflEche 31A und 39, 40, 41 auf der Teilfläche 31 C angeordnet. Wie durch die gestrichelten Ifeillinien angedeutet, wandert der Abstrahlpunkt vom Ort 36 nach Abstrahlort 40, dann nach Abstrahlort 38, dann nach Abstrahlort 39, dann nach Abstrahlort 37, dann nach Abstrahlort 41 und von dort wieder zurück zum Abstrahlort 36. Bei Jeder dieser Wanderungen von einem Abstrahlort zum anderen wird der Zenit 313 überschritten. Jedes der beiden Substrate 35 wird somit für eine bestimmte Zeit bestrahlt, dann wird es ausgewechselt gegen ein unbestrahltes Substrat, wenn der Röntgenstrahl auf ein anderes Substrat gerichtet ist, und danach wird das unbestrahlte Substrat von einem anderen Fleck der gleichen Target fläche bestrahlt0 Im gezeichneten Ausführungsbei spiel werden von den sechs Abstrahlpukkten sechs Substrate bestrahlt, ehe sich der Zyklus für die nächsten sechs Substrate wiederholt. Eine Impulspause kann hier für die Auswechslung eines ausrejrhend bestrahlten Substrats gegen ein unbestrahltes Substrat genutzt werden. Hierdurch befindet sich die Röntgenröhre in Dauerbetrieb, ohne jegliche Ausfallzeit. Zur Erzeugung der gewünschten langwelligen Strah lung verwendet man Be schI euni gungs Spannungen von 3 bis 25 KV und ein Target aus Wolfram Durch Berechnung wählt man die Beschleunigungsspannung derart, dass die Abbremsung der Elektronen möglichst in der obersten Atomschicht erfolgt, so dass lediglich in den obersten Atomschichten nahezu der gesamte Elektronenstrom abgebremst ist. Fig. 7 zeigt ein gewälbtes Target, welches eine halbkugelförmig ausgebildete Abstrahlux#gsfiäche aufweist. Von den Abstrahlungspunkten 36,37,38,39 (und den nicht im Bild sichtbaren Abstrahlungspunk- ten 40,41) werden Röntgenstrahlen in solche Richtungen ausgesandt, die in radialen Ebene zur geometrischen Achse 30 des Targets 26 liegen. Der Elektronenstrahl 21 wird dabei Schritt für Schritt von einem Abstrahlpunkt zum nächsten Abstrahlpunkt weiterbewegt, um dann immer eine gewisse Zeit auf den Abstrahl#unkt zu verharren. Bei dieser Ausfüh- rungsform sind die zu bestrahlenden Substrate 35 radial um die geometrische Achse 30 des Targets angeordnet, wie dieses die Fig, 9 zeigt. Hier sina auf dem Target acht Abstrahlpunkte vorgesehen, auf die der Elektronenstrahl 21 durch elektromagnetische Ablenkung gelenkt wird und es sind entsprechend acht Austrittsfenster 28 vorgesehen, durch die jeweils der Röntgenstrahl 28 austritt. Zwischen den einselw nen Austrittsfenstern 28 sind Abschirmbleche 42 vorgesehen, die einen unerwünschten Austritt der Röntgenstrahlung aus benachbarten Austrittsfenstern 28 verhindern. Die Substrate 35 sind auf einer Kreis- linie um die geometrische Achse 30 angeordnet, hier ftu sind besondere Halterungen vorgesehen. Andere Halterungen haltern vor dem Substrat 35 je eine Lithographiemaske 29. In Fig. 8 ist eine andere mögliche vargetfor: dargestellt, die sechs ebene Flächen 43 auSweist, auf die der Elektronenstrahl 21 gelenkt wir2 und auf diesen Flächen den ÄbstrahI#unkt 36 bis 41 bildet. Hier ist das Target somit pyramidenstumpfförmig ausgebildet, in der Mitte befindet sich eine Flache 44, welche durch eine Kante von den Flächen 43 getrennt ist und die senkreCht zur geometrischen Achse des Targets liegt. Natürlich braucht die Anzahl der Abstrahlpunkte und die Anzahl der Abstrahlfiächen 43 nicht gradzahlig zu sein, auch ungradzahlige Anzahlen von Flächen und Abstrahlpunkten sind möglich, Wenn es räumliche äussere Bedingungen notwendig machen, ist es such nicht notwendig, dass die Substrate im Kreis um die Röntgenröhre angeordnet sind, sondern sie können auch auf einem Teilkreis angeordnet sein. Diese Anordnung mehrerer zu bestrahlender Substrate und die Ausnutzung eines einzigen Targets fur die Bestrahlung verschiedener Substrate durch verschiedene Austrittsfenster an verschiedenen Orten ist nicht abhängig von der im Anspruch 1 beschriebenen Elektronenkanone, wenn diese nur einen ausreichend scharf gebündelten Elektronenstrahl von ausreichend hoher Intensität auf das Target schiesst.

Claims: Patentansprüche: 1. Rontgenlithographiegerät, bestehend aus einer Röntgenröhre zur Erzeugung einer lang welligen Röntgenstrahlung, die eine aus Glüh- kathode und Gitter bestehende Elektronenkano ne, eine Elektronenstrahlablenk- und -bünde lungsvorrichtung, ein Target aus einem Material hoher Ordnungszahl und hohen Schmelzpunktes auf weist, aus einem Träger für das mit Röntgen strahlen zu belichtende Substrat sowie aus einem Träger für die Lithographiemaske, dadurch gekennzeichnet, dass eine Elektronenkanone (17), bei der das Gitter (9) auf seiner dem Target (26) zuge wandten Seite einen nach innen gerichteten flansch (10) aufweist, der die Öffnung (11), in der sich die Spitze der Glühkathode (1) befindet, umschliesst, bei der die der Glühkathode (1) zugewandte Seite (12) des Flansches (10) eben ist oder in Richtung auf die Glühkathode (1) abgewin kelt ist, bei der die dem Target zugewandte Seite (13) des Flansches (10) unter einem Winkel ss von 1000 bis 1400 in Richtung auf die Spitze der Glu¯hRathode (1) zu verläuft, und bei der sich das Material des Flansches (10) in Richtung auf den die zentrische Öffnung (ii) begrenzenden Rand (14) unter einem Win kel i von 15 bis 600 verjüngt, in der Rönt genröhre verwendet wird, dass der Brennfleck (36-41 > auf dem Target (26-) einen Durchmesser von weniger als 10 4 m aufweist, dass der Abstand zwischen dem Target (26) und dem Röntgenstrahlenaustrittsfenster (28)der Röntgenröhre maximal 2.10#2 m beträgt, und dass der Abstand zwischen Target (26) und Lithographiemaske (29) maximal 2#10 m beträgt. 2. Röntgenlithographiegerät nach Anspruch 1, deren Röntgenröhre ein Austrittsfenster aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass die Oberfläche des Targets (26) aus einer gewölbten oder mindestens zwei, durch eine tan- te voneinander getrennten winklig zueinander an geordneten ebenen Flächen besteht, dass ein Teil der gewölbten Fläche (31A) oder die eine ebene Fläche dem Röntgenstrahlenaustritts fenster (28) zugewandt und der andere Teil (310) der gewölbten fläche oder die andere ebene Fläche dem Röntgenstrahlenaustrittsfenster (28) abge wandt ist, dass man für die durch jedes Austrittsfenster (28A,28B) der Röntgenröhre austretenden Strahlen den Targetwinkel so wählt, dass er zwischen 0 und 100, vorzugsweise bei 5,50 liegt, und dass eine Steuervorrichtung für die in die Ab lenkvorrichtung (23) eingespeisten Spannungen vorgesehen ist, mit der der Elektronenstrom (21) bei der Wandung von einem Abstrahlpunkt (36) auf einen anderen Abstrahlpunkt (40) zweimal über den der Elektronenkanone (17) zugewandten Zenit ( ) oder eine der Elektronenkanone (17) zuge wandte Kante auf dem Target (26) abgelenkt wird. 3. Röntgenlithographiegerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuervorrichtung den Auftreffpunkt des Elektronenstrahles (21) auf einem Abstrahl punkt (36) verharren la#sst und dann den Elektro nenstrahl (21) mit hoher Geschwindigkeit auf den nächsten Abstrahlpunkt (40) bewegt und ihn dort wieder verharren lässt. 4. Röntgenlithographiegerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Röntgenröhre auf mindestens zwei gegen überliegenden Seiten je ein Röntgenstrahlenaus- trittsfenster (28A, 283) aufweist, zwischen denen das Target (26) angeordnet ist, dass die Oberfläche (31) des Targets (26) aus einer gewölbten Fläche mit der Elektronenkanone (17) zugewandten Zenit (133) oder aus mindestens zwei ebenen, durch eine Kante voneinander ge trennten, winklig zueinander angeordneten ebenen Flächen besteht, dass beidseits des Zenits (313) je ein Teil (31A, 313) der gewölbten Fläche (31) oder beidseits der Kante je eine ebene Fläche je einem Röntgen austrittsfenster (28A, 283) zugewandt ist. dass man für die durch jedes Austrittsfenster (28A, 28B) der Röntgenröhre austretenden Strahlen den Targetwinkel so wählt, dass er zwischen 0 und 100, vorzugsweise bei 5,50 liegt, und dass eine Steuervorrichtung für die in die Ablenk- vorrichtung (23) eingespeisten Spannungen vorge sehen ist, mit der der Elektronenstrom (21) bei der Wanderung von einem Abstrahlpunkt (36) auf einer Fläche (bzw. Flächenteil 31A) auf einen an deren Abstrahlpunkt (40) auf der anderen Fläche (bzw. Flächenteil 31C) über den Zenit (313) oder die Kante abgelenkt wird. 5. Röntgenlithographiegerät nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Target die Form einer Halbkugel, eines Kegels, eines Kegelstumpfes, einer Pyrami de mit mindestens drei Seiten oder eines Pzami- denstumpfes mit mindestens drei Pyramidenflächen aufweist, dass mehrere Austrittsfenster für die Röntgen- strahlen vorgesehen sind und dass um die Röntgenröhre herum eine der Än- zahl der Röntgenfenster entsprechende Anzahl von Halterungen für die Substrate (35) und Tialterun- gen für die Lithographiemasken vorgesehen sind. 6. Röntgenlithographiegerät nach anspruch o oder 5, dadurch gekennzeichnet, dass z-ischen den einzelnen Austrittsfenstern (28) für die Röntgenstrahlen in radialer anordnung Abschirmbleche (42) gegen seitliche Strahlung vorgesehen sind.

Inventors: REINHOLD, ALFRED
Applicants: FEINFOCUS VERWALTUNGS GMBH & CO. KG
Application year: 1984
Main classification: H01J35
IPC codes: H01J35, G03F7