HALOGEN LAMP WITH AN ELLIPTICAL COLD LIGHT REFLECTOR

Abstract: 1. A halogen lamp with an ellipsoid dichroic reflector consisting of a layer system (3) of thin layers applied by vapour deposition of ZnS and MgF2 or ZnS and SiO on a glass cup (2) consisting of pressed glass, the dichroic reflector being coated with a protective layer (4) of SiO2 , wherein the protective layer (4, 4') of SiO2 extends not only over the layer system (3) of the dichroic reflector but also over the rim and the outer surface of the glass cup (2).

Description: Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH., München Halogenellipsoidreflektorlampe mit Kaltlichtreflektor Die Erfindung betrifft Halogenellipsoidreflektorlampen mit Kaltlichtreflektor. Die Kaltlichtreflektoren dieser Lampen sind mit Spie gelschichten bedampfte ellipsoidförmige Glaskalotten aus Pressglas. Die Spiegelschichten sind Dünnschichtsysteme mit der optischen Dicke pro Schicht von und zusätzlich möglichen Ausgleichs schichten anderer optischen Dicken. Die Wellenlängen sind den spektralen Eigenschaften eines Kaltlichtspiegels angepasst. Die Schichten sind aufgedampft. Das Aufdampfen geschieht im Streugasverfahren oder Hochvakuumverfahren. Die Schichten bestehen aus ZnS und MgF2 oder ZnS und einer durch reaktives Aufdampfen entstehenden Oxydation (SiO2, Ski203, ...) von SiO. Die erste Schicht auf der Glaskalotte und die letzte Schicht bei ZnS und MgF2 ist ZnS, bei ZnS und SiO sind beide Materialien möglich. Schichten aus den Aufdampfmaterialien ZnS und MgF2 bzw. ZnS und SiO werden als Weiche Schichten" bezeichnet. Sie haben nur eine sehr begrenzte Haltbarkeit bei Lampenbetriebsbedingungen mit Wärmebelastung von µ 670 K und werden im Mittel nach 100 Stunden mit 670 K und 25 h mit 720 K Wärmebelastung beim Lampenbetrieb unbrauchbar. Aufgabe der Erfindung ist es, bei einer Halogenellipsoidreflektorlampe nach dem Oberbegriff des ersten Anspruchs die Haltbarkeit von deren Kaltlichtreflektor bei Bärmebelastlmg zu verbessern. Die gestellte Aufgabe wird mit den Merkmalen des kennzeichnenden Teils des Anspruchs 1 gelöst. Die Dicke dieser Schutzschicht beträgt 5 bis 12 Mm. Mit ihr wird die Haltbarkeit der Kaltlichtreflektoren vorstehend genannter Lampen um mehr als 800 Stunden gegenüber dem Bekannten erhöht. Für die Verspiegelung ergibt sich zusätzlich eine verbesserte Transmissionseigenschaft im IR-Wellenlängenbereich. Die Schutzschicht kann durch Tauchen des Kaltlichtreflektors in eine SiO2 - Lösung oder durch Besprühen mit SiO2-Lösung erhalten werden. Nachfolgend ein Ausführungsbeispiel. Von den Figuren zeigen Figur 1 eine Halogenellipsoidreflektorlampe; Figur 2 einen Reflektorausschnitt. Die ellipsoidförmige Glaskalotte 2 aus Pressglas der Halogenellipsoidreflektorlampe 1 weist ein Schichtsystem 3 aus abwechselnd aufgebrachten dünnen Schichten aus ZnS und MgF2 auf. Die erste und die letzte Schicht bestehen aus ZnS (Figuren 1 und 2). Die Kaltlichtspie gelschichten sind auf die Glaskalotte 2 in zwei Schichtpaketen mit 19 -t Schichten im Streugasverfahren aufgedampft. Das Schichtsystem 3 ist überzogen mit einer SiO2-Schicht 4, die eine Dicke von etwa 10 rim besitzt. Diese Schutzschicht 4 wird mittels Tauchen aufgebracht. Nach dem Bedampfen - Aufbringen von ZnS und Mg?2 - werden die soweit fertiggestellten Kaltlichtreflektoren in ein SiO2-Tauchbad getaucht. Das Eintauchen und das Herausziehen aus dem Tauchbad erfolgt mit konstanter Geschwindigkeit von etwa 20 cm/min. Getaucht wird bis zum Halsansatz des Reflektors. Dabei wird auch die äussere Oberfläche der Glaskalotte 2 benetzt, was zum Bilden einer äusseren SiO2-Schicht 4' führt. Die zunächst noch flüssige SiO2-Schicht wird nach dem Tauchen bei Raumtemperatur etwa 10 min vorgetrocknet und anschlie ssend durch Erwärmen ausgehärtet.

Claims: Patentansprüche 1. Halogenellipsoidreflektorlampe mit Kaltlichtreflek tor, der aus einem Schichtsystem aus dünnen Schich ten besteht, die durch Verdampfen von ZnS und MgF2 oder ZnS und SiO auf eine ellipsoidförmige Glaska lotte aufgebracht sind, dadurch gekennzeichnet, dass dieses Schichtsystem 3 mit einer Schutzschicht 4 aus SiO2 überzogen ist. 2. Halogenellipsoidreflektorlampe nach Anspruch 1, da durch gekennzeichnet, dass die Glaskalotte 2 aus Pressglas besteht. 3. Verfahren zur Herstellung einer Halogenellipsoid reflektorlampe nach Anspruch 1, dadurch gekenn zeichnet, dass nach dem Aufdampfen der Schichten aus ZnS und MgF2 oder ZnS und SiO die Glaskalotte 2 mit dem Schichtsystem 3 in eine SiO2-Lösung getaucht wird oder mit der SiO2-Lösung besprüht wird, und der so aufgetragene Uberzug anschliessend durch Erwärmen ausgehärtet wird und eine feste SiO2-Schicht 4, 4' bildet.

Inventors: DORING, HARALD, PREISSNER, JURGEN, Döring, Harald, Preissner, Jürgen
Applicants: PATENT-TREUHAND-GESELLSCHAFT FUR ELEKTRISCHE GLUHLAMPEN MBH
Application year: 1982
Main classification: F21V9
IPC codes: H01K1, F21V9, C03C17, F21V7