METHOD AND DEVICE FOR GAS LASER EXCITATION

Abstract: 1. A method of operating a gas laser in which the discharges thereof produce a movement of the laser gas inside the laser housing by way of pressure changes in the laser gas inside the discharge chamber possibly also associated with temperature changes, characterised in that at least one gas reservoir (2) separated from the discharge chamber is in communication with a discharge chamber (1) by way of connecting ducts (6, 7) so that a stream of gas can pass through the discharge chamber, in that each connecting duct (6, 7) has different flow resistances in opposite directions, and the maximum flow resistance of at least one connecting duct is arranged in the opposite direction to that of the other connecting ducts so that, subsequent to a pressure increase in the discharge chamber caused by a gas discharge, laser gas flows from the discharge chamber into the gas reservoir through at least one of the connecting ducts, and in that subsequently thereto a pressure difference between the gas reservoir and the discharge chamber is used to enable laser gas to flow back into the discharge chamber from the gas reservoir through at least one other connecting duct so that a resultant directional circulation through the gas reservoir and the discharge chamber is produced.

Description: Verfahren und Vorrichtung zum Betreiben eines Gaslasers Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Betreiben eines im CW- (continuous wave) oder Pulsbe- trieb arbeitenden Gaslasers, dessen elektrische Entladungen in dem den Laser umgebenden Gehäuse Druck und Temperaturschwankungen sowie einen Gas-Strömungskreislauf erzeugen. Eine solche Anordnung ist u. a. Gegenstand der DE-OS 27 53 304, insbesondere Fig. 4 nebst zugehöriger Beschreibung. Bei dieser ansonsten durchaus brauchbaren Anordnung entweicht jedoch das Gas bei elektrischer Entladung durch die in Blickrichtung linken und rechten Ausnehmungen der Entladungskammer in gleichem Masse. Erst durch einen in der zweiten, angrenzenden Kammer vorgesehenen Umwälzer wird ein Gasstrom erzeugt bzw. den in Bewegung befindlichen Gasmolekülen eine Richtung aufgeprägt. Da in der Industrie heute vor allem kompakte Laser gefragt sind, bedeutet die Verwendung von Umwälzern, Pumpen, Lüftern oder dgl. einen unnötigen Platzaufwand. Eine weitere Erschwernis dieser Methode sind die bei geschlossenen Systemen hohen Anforderungen an den Reinheitsgrad. Wo jedoch bewegte Teile mit Lagern und Schmiermitteln zur Anwendung gelangen, ist dieses Erfordernis - jedenfalls nicht in befriedigendem Ausmass - zu gewährleisten. Darüberhinaus ist auch die Lebensdauer bewegter Teile, zumal wenn sie in geschlossenen Systemen nicht ausreichend gewartet werden können, begrenzt. Die Aufgabe der Erfindung wird darin gesehen, für das gattungsgemässe Verfahren einen gerichteten Gastransport auf passive Art zu bewerkstelligen. Diese Aufgabe wird erfindungsgemäss dadurch gelöst, dass mit jedem Spitzenwert einer Druck- und/oder Temperaturschwankung über in dem Innenraum des Gehäuses richtungsweisend angeordnete Mittel jeweils ein Zyklus eines Strömungskreislaufes initiiert wird. Ein solches gewissermassen quasi-passives Verfahren benötigt keine bewegten Teile, besitzt demnach eine hohe Lebensdauer und eignet sich in besonderem Masse für sogenannten Sealed-OFF-Betrieb, d.h. für Laser in völlig abgeschlossenen Systemen. Eine vorteilhafte Ausgestaltung des erfindungsgemässen Prinzips sieht vor, dass der Spitzenwert in einer von zumindest zwei miteinander verbundenen Kammern ein und desselben Gehäuses oder mehrerer Gehäuseeinheiten erzeugt wird. Eine weitere bedeutungsvolle Ausgestaltung ist sodann auch darin zu sehen, dass mit jeder Druckund/oder Temperaturschwankung über eine geöffnete oder sich öffnende Verbindungsleitung zwischen den Kammern ein volumenmässiger Gasausgleich mit geringfügigem Unterdruck in der Entladungskammer erzeugt wird, wodurch der Rückweg durch diese Verbindungsleitung blockiert und eine ursprünglich geschlossene andere Verbindungsleitung zum Rücktransport des Gases in die Entladungskammer freigegeben wird. Auch kann die Richtung des Strömungskreis laufes mit Hilfe eines gerichteten Strömungswiderstandes vorgegeben werden. Das vorgeschriebene Verfahren funktioniert bei jedem elektrisch angeregten Gaslaser, das heisst sowohl bei einem mit Gleichspannung betriebenen CW-Laser oder einem mit Radio- bzw. Hochfrequenz betriebenen CW- oder Pulslaser oder auch bei einem mit gepulster Hochspannung betriebenen Laser. Was jedoch die Anregungsmechanismen anbetrifft, so hat es sich in der Praxis als sinnvoll erwiesen, dass entweder ein in der Entladungskammer angeordnetes, sich längs oder quer zur Hauptachse entladendes Elektrodensystem mit gestrecktem oder gefaltetem Strahlengang oder aber eine mit einer kapazitiven oder induktiven Radiofrequenz-Einkopplung versehene Entladungskammer verwendet wird. Die Druck- und/oder Temperaturspitzen sind abhängig von der Energie und/oder der Geometrie der Kammern und/oder dem Material der Kammern. Eine Weiterbildung der Erfindung sieht vor, dass eine oder mehrere Kammern in einem Gehäuse integriert oder zumindest zwei Kammern auf zwei oder mehrere - mit oder ohne gegenseitigen Abstand installierte - Gehäuseeinheiten verteilt ein bis auf die Spannungszufuhr und die Ein- bzw. Auskopplung des Laserstrahls völlig abgeschlossenes System bilden, wobei die Kammern über zwei in entgegengesetzter Richtung durchlässige Leitungen verbunden sind. Zweckmässigerweise bestehen hierbei die Verbindungsleitungen aus Strömungskanälen, Rohren, Düsen, Ventilen, Membranen, Lochsystemen, Heat-Pipes (= flüssig-gasförmige Wärme tauscher) oder Kombinationen dieser Möglichkeiten. Um die bei allen Lasern auftretende Verlustenergie - sie liegt bei 80 bis fast 100 % der aufgewendeten Energie abführen zu können, sind zum sicheren Dauerbetrieb ins besondere bei Lasern höherer Energie und/oder Pulsfolge frequenz ein schneller Gasaustausch und eine gute Kühlung erforderlich. Unter diesem Blickwinkel ist es von Vorteil, dass die Innenoberfläche der zweiten Kammer möglichst gross, z.B. mäanderlinienförmig verlaufend und/oder mit sich in Längsrichtung erstreckenden Kühl rippen ausgebildet ist. Von Bedeutung kann es ferner sein, wenn entweder beide Kammern oder die rechte und die linke Hälfte einer oder beider Kammern aus die Wärme unterschiedlich ableitendem Material bestehen oder aber in zumindest einer Kammer eine Heizung bzw. ein beheizter Katalysator vorgesehen ist. Um mit einem Zahlenbeispiel zu verdeutlichen, was die Berücksichtigung dieser Massnahmen bewirkt, sei erwähnt, dass z.B. mit einem Laser, dessen Entladevolumen ca. 20 cm3 beträgt und der z.B. mit 3 Joule gepumpt wird, eine Pulsfolgefrequenz von 2 bis 3 Hz erreicht werden kann, während mit Anwendung des Gastransports die Pulsfolgefrequenz um Faktoren höher sein kann. Will man entweder die Energie oder die Pulsfolge steigern, so sind Einrichtungen der hier beschriebenen Art unerlässlich. Bei den geschilderten Vorgängen fallen insbesondere die Dissoziationsprodukte von C02 und N2 an. Um dieselben wieder in die Ausgangsverbindung zurückführen zu können, ist es von Vorteil, dass die Innenoberflächen der zweiten Kammer mit einem Katalysator ausgekleidet ist und/oder der Katalysator das Volumen dieser Kammer füllt. Er kann z.B. aus Platin oder aus einer Mangandioxid-Kupferoxydul Verbindung bestehen. Zum Zwecke der Gasreinigung kann es nach einem weiteren Merkmal der Erfindung zweckmässig sein, dass in den Strö mungsverlauf - z.B.elektrostatische -Reinigungsfilter, Kühifallen und/oder elektrische Filter eingebaut sind. Im folgenden werden an Hand einer Zeichnung Ausführungsbeispiele der Erfindung näher erläutert, wobei die in den einzelnen Figuren einander entsprechenden Teile dieselben Bezugszeichen aufweisen. Es zeigt Fig. 1 ein für die Entladungskammer und die Kammer für das Gasreservoir gemeinsames Gehäuse, mit Verbindungsleitungen zwischen beiden Kammern - im Längsschnitt, Fig. 2 eine Anordnung gemäss Fig. 1, bei der je doch jede Kammer von einem separaten Ge häuse umgeben ist, Fig. 3 eine Anordnung gemäss Fig. 1 mit einer Radio frequenz-Anregung zwischen zwei als metal lische oder dielektrische Elektroden ausge bildeten Gehäusewänden, Fig. 4 eine Anordnung gemäss Fig. 3 mit kapazitiver Radiofrequenz-Einkopplung, Fig. 5 eine Anordnung gemäss Fig. 4, jedoch mit induk tiver Radiofrequenz-Einkopplung, Fig. 6 eine Anordnung im wesentlichen gemäss Fig. 1 mit einem Elektrodensystem, das quer zur Hauptachse angeregt wird, Fig. 7 eine Anordnung im wesentlichen gemäss Fig. 6 mit einer reservoirseitig in einen Strömungs kanal übergehenden Verbindungsleitung, Fig. 8 eine Anordnung im wesentlichen gemäss Fig. 6 mit einer die Verbindungsleitungen abdecken den und bedarfsweise freigebenden Membran, Fig. 9 eine Anordnung, die im wesentlichen aus einer Kombination der Fig. 1 und 6 besteht - mit einer mäanderlinienförmig ausgebildeten Innen fläche der zweiten Kammer, Fig.10 eine Anordnung gemäss Fig. 9 mit Heat-Pipes als Verbindungsleitungen, Fig. 11 eine Anordnung im wesentlichen gemäss Fig. 2, 9 oder 10 mit Brewsterfenstern in der Entladungskammer und aussenseiti gen Kühlrippen bei der anderen Kammer, Fig. 12 eine Anordnung im wesentlichen gemäss Fig. 6, jedoch mit einem sich entlang der Hauptachse entladenden Elektroden system, Fig. 13 eine Anordnung im wesentlichen gemäss den Fig. 6 bis 8, jedoch mit zwei Gas reservoir - Ausgleichskammern und Fig. 14 die allgemeinste Form der Erfindung mit nur einem Gehäuse und nur einer Kammer. Mit 1 ist in den Fig. 1 und 2 jeweils die Entladungskammer eines beliebig angeregten und sich elektrisch entladenden Gaslasers und mit 2 eine ihr benachbarte und als Gasreservoir dienende weitere Kammer bezeichnet. Im Fall der Fig. 1 sind beide Kammern in das gemeinsame Gehäuse 3 integriert, im Fall der Fig. 2 dagegen ist jede der Kammern von einem separaten Gehäuse 4 bzw. 5 umgeben. Die beiden Gehäuse können mit oder'auch ohne Abstand nebeneinanderliegend angeordnet sein. Der konstruktive Aufbau des Ausführungsbeispiels in Fig. 3 entspricht demjenigen von Fig. 1, wenn man von den Materialien der die beiden Kammern trennenden Wand 14 und der ihr in der Entladungskammer gegenüberliegenden Aussenwand 15 absieht. Diese Wände bestehen aus Metall und dienen als Elektroden, die über eine Radio- bzw. Hochfrequenz angeregt werden. Die Fig. 4 und 5 unterscheiden sich hiervon lediglich dadurch, dass bei ersterer die beiden Wände 14 und 15 aus je einem aussenseitig mit einem elektrischen Leiter 16 beschichteten Dielektrikum bestehen und die Anregung über eine kapazitive Radiofrequenz-Einkopplung erfolgt - auch eine pulsförmige Anregung ist hier möglich. Bei der Ausführungsform der Fig. 5 dagegen sind die Wände von der Spule 17 umwickelt, so dass hier die Anregung über eine induktive Radiofrequenz-Einkopplung erfolgt. Eine Anregung mit Hilfe herkömmlicher Elektrodensysteme zeigen die Ausführungsbeispiele der Fig. 6 bis 14, die aus Vereinfachungsgründen jeweils mit einem gestreckten Strahlengang gezeichnet sind. Selbstverständlich sind bei anderen, zeichnerisch nicht dargestellten Ausführungsbeispielen auch Elektrodenkonfigurationen mit gefaltetem Strahlengang denkbar, ohne dass dadurch der Rahmen der Erfindung verlassen würde. Die Ausführungsbeispiele der Fig. 6 bis 10 und 13, 14 enthalten ein sich entlang der Längsachse erstreckendes Elektrodensystem 10 bis 13 mit je einer Elektrode 10 und 11 und je einer Entladungs fläche 12 bzw. 13, die an den einander gegenüberliegenden Längswänden 14 und 15 der Entladungskammer 1 befestigt oder in diesen Wänden integriert sind. Die in den Frei räumen zwischen den Elektroden an den Wänden 8 und 9 innenseitig befestigten oder in den Wänden eingelassenen, teils reflektierenden teils (teil-)durchlässigen optischen Elemente blieben ebenso wie die Hochspannungszuführung - weil, bekannt - in der Zeichnung unberücksichtigt. Die für die Strahlung durchlässigen optischen Elemente können auch - wie in Fig. 11 angedeutet - aus Brewsterfenstern bestehen. Fig. 12 zeigt ausserdem die Besonderheit, dass die Elektroden 11, 11' und 11 " quer zur Längsachse des Ge häuses 5 verlaufend in der Wand 15 eingelassen sind. Ihre Entladung vollzieht sich in Richtung der Längsachse. So- fern diesen Elektroden in der Wand 14 weitere Elektroden gegenüberliegen - was hier aus Vereinfachungsgründen gleichfalls nicht dargestellt ist -, erhält man wieder einen gefalteten Strahlengang, der vom Erfindungsgedanken mit umfasst ist. Fig. 13 zeigt darüberhinaus die Möglich keit, dass neben der Kammer 2 auch noch eine weitere Kammer als Gasreservoir vorgesehen sein kann. Selbstverständlich sind auch noch mehrere solcher Kammern oder auch nur eine einzige Kammer - wie in Fig. 14 als allgemeinste Ausführungsform dargestellt - denkbar, wobei die Strömungsrichtung jeweils durch entsprechend unterschiedlich ausgebildete Leitungen 6 bis 7' erzeugt wird. Die gestrichelten Linien dieser Figur deuten die Halterungen der Elektroden - beispielsweise an der Decke und am Boden der Kammer an. Die Längswände 14, 15 sind hier zu blossen Elek trodenauflagen zusamengeschrupft. Von diesem Reispiel abweichend können eine oder mehrere Kammern auch auf verschiedene Gehäuse aufgeteilt sein. Beide Kammern aller Ausführungsbeispiele sind in ihren Endbereichen über je eine Leitung 6 bzw. 7 mit einander verbunden. Diese Verbindungsleitungen können konstruktiv in den verschiedensten Formen - jeweils den speziellen Gegebenheiten angepasst - ausgebildet sein. So eignen sich für die Version mit zwei separaten Gehäusen rohrförmige Verbindungen etwa gemäss den Fig. 2, 9 und 11. Lochsysteme gemäss dem Ausführungsbeispiel der Fig. 6, Membranen gemäss demjenigen der Fig. 8 oder sogenannte Heat-Pipes gemäss dem Ausführungsbeispiel der Fig. 10 sind dagegen ebenso wie einfache Wandaussparungen gemäss den Fig. 1, 3 bis 5 und 12 eher für die eingehäusige Version geeignet. Die in Fig. 8 dargestellten Membranen sind einmal mit ausgezogener Linie dargestellt. In diesem Zustand verschliessen sie das Lochsystem. In der gestrichelt gezeichneten Lage dagegen sind die Lochsysteme für den Gasdurchtritt geöffnet. Bei den Heat-Pipes der Fig. 10 handelt es sich um eine doppelwandige Röhre. Der geschlossene Zwischenraum 7" zwischen den Rohrwänden ist mit Gas gefüllt. Durch das Rohr hindurch fliesst Lasergas, das über die Aussenwand der Röhre wieder verdampft, um anschliessend in abgekühltem, flüssigen Aggregatzustand der Röhre wieder zugeleitet zu werden. Auch Mischformen etwa gemäss Fig. 7 sind denkbar, wo auf der in Blickrichtung linken Seite eine Düse oder ein Strömungskanal und auf der anderen Seite ein Loch vorgesehen sind. Eine andere Mischform ist auch aus Fig. 6 ersichtlich, wo die Wand 14 auf der einen Seite von zwei und auf der anderen von drei Löchern perforiert ist. Wenn hierbei die Strömungswiderstände in beiden Richtungen durch verschiedene Anzahl und/oder verschiedene Querschnittsgrössen der Leitungen unterschiedlich ausgelegt sind, ergibt sich daraus eine gerichtete Durchströmung der Kammern. Wenn nun ein Pumpvorgang bzw. eine Besetzungsinversion durchgeführt wird, entsteht in der Kammer 1 infolge der elektrischen Entladung eine Druck- und - in geringerem Umfang auch eine Temperaturveränderung, und zwar im wesentlichen in Abhängigkeit von der zugeführten Energie und/oder der Geometrie der Kammern und/oder dem Material dieser Kammern. Sowohl die Temperaturveränderungen, vor allem aber die hierbei auftretenden Druckspitzen, die bis zu einigen hundert Torr betragen können, können unter den beschriebenen Voraussetzungen zum Gastransport herangezogen werden. Bei diesem Vorgang ist zunächst die Leitung 7 geschlossen, wie dies z.B. aus Fig. 8 durch die in verschiedenen Betriebszuständen gezeichnete Membran besonders deutlich hervorgeht. Die nur nach der Innenseite von Kammer 1 zu öffnende Membran lässt sich bei erhöhtem Druck innerhalb dieser Kammer nicht öffnen, sondern wird - im Gegenteil - noch fester gegen die Wand 14 gepresst - ausgezogene Linienführung. Demgegenüber lässt sich die Membran 6 nur nach der Innenseite von Kammer 2 öffnen. Diese zunächst ebenfalls geschlossene Membran 6 wird sich demnach bei erhöhtem Druck in der Kammer 1 öffnen, d.h. von der mit ausgezogener Linienführung gezeichneten Lage in diejenige mit gestrichelter Linienführung verschieben, um Gas bis zum Druckausgleich (in beiden Kammern) hindurch zulassen. Der Druckausgleich sowie ein hierbei in der Kam mer 1 entstehender geringfügiger Unterdruck lässt jetzt die Membran 6 wieder in ihre Ausgangslage - ausgezogene Linien führung - zurückkehren und öffnet gleichzeitig die Membran 7 bzw. bewirkt ein Verschieben derselben von der in ausge zogener Linienführung dargestellten Lage in diejenige mit gestrichelter Linienführung dargestellte, damit der Gasstrom wieder nach der Entladungskammer 1 zurückfliessen kann. Dieses Prinzip funktioniert grundsätzlich bei allen dargestellten und beschriebenen Varianten, wobei anstelle eines Schliessens und Öffnens der Leitungen auch durch die unterschiedlichen Querschnittsgrössen der beiden Leitungen 6 und 7 (Fig. 6) oder entsprechend geformte Düsen bzw. Strömungskanäle (Fig. 7) die Richtung des Stromflusses vorgegeben werden kann. Verschiedene Hilfsmittel, wie z.B. ein beschleunigtes Abkühlen des durch die plötzliche Druckerhöhung erhitzten Gases, beeinflussen den Gastransport günstig. Hierzu zählt u.a. eine Vergrösserung der Innenoberfläche der Kammer 2. Dies wird beispielsweise durch eine mäanderlinienförmige Ausbildung der Innenoberfläche (Fig. 9 u. 10) und/oder durch Kühlrippen 18 bzw. 19 (Fig. 6, 7, 8 und 11) erreicht. Bei innenseitig vorgesehenen Kühlrippen 18, etwa gemäss der Version der Fig. 6 bis 8, werden die Rippen in Richtung des Gasstroms verlaufend angeordnet, während sie aussenseitig, etwa gemäss der Version von Fig. 11, auch quer zur Transportrichtung verlaufen können. Zusätzlich oder alternativ können beide Kammern oder ihre - in Blickrichtung - rechten und linken Hälften unterschiedlich wärmeisoliert sein oder auch aus unterschiedlich wärmeleitendem Material bestehen, was ebenfalls zur Beschleunigung des Gastransports beiträgt. Eine weitere Möglichkeit diesen Vorgang zu beeinflussen besteht darin, dass wenigstens in einer der Kammern eine Heizung vorgesehen ist. In den Fig. 6 bis 8 ist noch angedeutet, dass die Oberflächen der Kammer 2 mit einem Katalysator 20 z.B. aus Platin oder einer Mangandioxid-Kupferoxydul-Verbindung ausgekleidet seinkönnen und bei einem anderen, zeichnerisch nicht dargestellten Ausführungsbeispiel ein solcher Kata lysator zusätzlich oder alternativ auch das gesamte Vo lumen dieser Kammer füllen kann.

Claims: Patentansprüche: 1. Verfahren zum Betreiben eines im CW-(continuous wave) oder Pulsbetrieb arbeitenden Gaslasers, dessen elek trische Entladungen in dem den Laser.umgebenden Ge häuse Druck- und Temperaturschwankungen sowie einen Gas-Strömungskreislauf erzeugen, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass mit jedem Spitzen wert einer Druck- und/oder Temperaturschwankung über in dem Innenraum (1; 2) des Gehäuses (3) richtung weisend angeordnete Mittel (6; 7) jeweils ein Zyklus eines Strömungskreislaufes initiiert wird. 2. Verfahren nach Anspruch 1, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass der Spitzenwert in einer von zumindest zwei miteinander verbundenen Kammern (1; 2) ein und desselben Gehäuses (3) oder mehrerer Gehäusee-inileiten (4; 5) erzeugt wird. 3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass mit jeder Druck und/oder Temperaturschwankung über eine geöffnete oder sich öffnende Verbindungsleitung (6) zwischen den Kammern (1; 2) ein volumnmässiger Gasausgleich mit geringfügigem Unterdruck in der Entladungs kammer (1) erzeugt wird, wodurch der Rückweg durch diese Verbindungsleitung blockiert und eine ur sprünglich geschlossene andere Verbindungsleitung (7) zum Rücktransport des Gases in die Entladungskammer freigegeben wird. 4. Verfahren nach einem der vorausgehenden Ansprüche, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass die Richtung des Strömungskreislaufes mit Hilfe eines gerichteten Strömungswiderstandes vorgegeben wird. 5. Verfahren nach einem der vorausgehenden Ansprüche, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass der Gastransport entweder mit Hilfe eines in der Entladungskammer (1) angeordneten, sich längs oder quer zur Hauptachse entladenden Elektrodensystems (10 bis 13) mit gestrecktem oder gefaltetem Strahlen gang oder aber mit Hilfe einer eine kapazitive oder induktive Radiofrequenz-Ei nkopplung enthaltenden Entladungskammer durchgeführt wird. 6. Verfahren nach einem der vorausgehenden Ansprüche, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass die Druck- und/oder Temperaturspitzen in Abhängig keit von der Energie und/oder der Geometrie der Kam mer und/oder dem Material der Kammer erzeugt werden. 7. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der vorausgehenden Ansprüche, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass eine oder mehrere Kammern (1; 2) in einem Gehäuse (3) integriert oder zumindest zwei Kammern auf zwei oder mehrere - mit oder ohne gegenseitigen Abstand installierte Gehäuseeinheiten (4; 5) verteilt ein bis auf die Spannungszufuhr und die Ein- bzw. Auskopplung des Laserstrahls völlig abgeschlossenes System bilden, wobei die Kammern über zwei in entgegengesetzter Richtung durchlässige Leitungen (6; 7) verbunden sind. 8. Vorrichtung nach Anspruch 7, d a d u r c h g e ke n n z e i c h n e t , dass die Verbindungsleitungen (6; 7) aus Strömungskanälen, Rohren, Düsen, Ventilen, Membranen, Löchern, Heat-Pipes (= flüssig-gasförmige Wärmetauscher) oder Kombinationen dieser Möglich keiten bestehen. 9. Vorrichtung nach einem der vorausgehenden Ansprüche, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass entweder beide Kammern (1; 2) oder die rechte und die linke Hälfte einer oder beider Kammern wärme mässig unterschiedlich isoliert sind oder aber die Gehäuse oder Gehäuseteile beider Kammern aus die Wärme unterschiedlich ableitendem Material bestehen. 10. Vorrichtung nach einem der vorausgehenden Ansprüche, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass in zumindest einer Kammer eine Heizung oder ein be heizter Katalysator vorgesehen ist. 11. Vorrichtung nach einem der vorausgehenden Ansprüche, d a d u r c h g e k e n n z. e i c h n e t , dass die Innenoberfläche der zweiten Kammer (2) mäander linienförmig verlaufend und/oder mit sich in Längs richtung erstreckenden Kühlrippen (18; 19) ausge bildet ist. 12. Vorrichtung nach Anspruch 11, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass das Gehäuse (5) oder der Gehäusebereich der zweiten Kammer (2) aussenseitig mit - vorzugsweise quer zur Längsachse verlaufenden Kühlrippen (19) versehen ist. 13. Vorrichtung nach -einem der vorausgehenden Ansprüche, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass die Innenoberflächen der zweiten Kammer (2) mit einem Katalysator (20) ausgekleidet sind und/oder der Kata lysator das Volumen dieser Kammer füllt. 14. Vorrichtung nach Anspruch 13, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass der Katalysator (20) aus Platin oder aus einer Mangandioxid-Kupferoxydul Verbindung besteht. 15. Vorrichtung nach einem der vorausgehenden Ansprüche, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass in den Strömungsverlauf - z.B. elektrostatische Reinigungsfilter, Kühlfallen und/oder elektrische Filter eingebaut sind. Neue Patentansprüche 1, 2, 3 und 6 1. Verfahren zum Betreiben eines im CW-(continuous wave) oder Pulsbetrieb arbeitenden Gaslasers, dessen elek trische Entladungen in dem den Laser umgebenden Ge häuse Druck- und Temperaturveränderungensowie einen Gas-Strömungskreislauf erzeugen, d a d u r c h ¯ g e k e n n z e i c h n e t , dass mit jeder Druck und/oder Temperaturveränderung über in dem Innenraum (1; 2) des Gehäuses (3) richtungweisend angeordnete Mittel (6; 7) jeweils ein Zyklus eines Strömungs kreislaufes passiv initiiert wird. 2. Verfahren nach Anspruch 1, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass die Druck- und/oder in Temperaturveränderung/einer von zumindest zwei mit- einander verbundenen Kammern (1; 2) ein und desselben Gehäuses (3) oder mehrerer Gehäuseeinheiten (4; 5) erzeugt wird. 3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass mit jeder Druck und/oder Temperaturveränderung über eine geöffnete oder sich öffnende Verbindungsleitung (6) zwischen den Kammern (1; 2) ein volumenmässiger Gasausgleich mit geringfügigem Unterdruck in der Entladungs kammer (1) erzeugt wird, wodurch der Rückweg durch diese Verbindungsleitung blockiert und eine ur sprünglich geschlossene andere Verbindungsleitung (7) zum Rücktransport des Gases in die Entladungs kammer freigegeben wird. 6. Verfahren nach einem der vorausgehenden Ansprüche, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass die Druck- und/oder Temperaturveränderung in Ab hängigkeit von der Energie und/oder der Geometrie der Kammer und/oder dem Material der Kammer erzeugt wird.

Inventors: KARNING, HEINRICH, PREIN, FRANZ, VIERLING, KARL-HEINZ
Applicants: ELTRO GMBH GESELLSCHAFT FUR STRAHLUNGSTECHNIK
Application year: 1981
Main classification: H01S3
IPC codes: H01S3