PROCESS AND DEVICE FOR INTERFEROMETRIC EVENNESS MEASUREMENT

Abstract: 1. Method for determining the first and the second derivative of a substantially planar surface of a sample as a function of the location on that surface, characterized in that - two coherent optical beams including a small angle and each having a planar wave front are superimposed to form an interference field, - the superimposed beams are guided by reflection at the sample surface to a grating aligned substantially in parallel to said surface and to the interference fringes of the interference field, the constant of said grating being in the same order as the distance between the fringes of the interference field, and - that the fringe pattern generated by the grating in a detection plane immediately behind the grating is evaluated with respect to the course of the isoclines-forming fringes of this pattern and to their distances.

Description: Verfahren und Vorrichtung zur interferometrischen Ebenheitsmessung Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur interferometrischen Ebenheitsmessung mit extrem hohem Auflösungsvermögen, insbesondere zur Bestimmung der ersten und zweiten Ableitung einer Oberfläche. Auf vielen Gebieten der Forschung und der Technik sind Messverfahren erforderlich, die bei geringem technischem Aufwand und bei geringen Anforderungen an die Geschicklichkeit und Konzentration der Bedienungspersonen in rascher Folge Messungen von Steigungen einer Oberfläche mit einer Genauigkeit von Bruchteilen von Bogensekunden möglich machen. Neben einer Bestimmung und Messung der Steigungen ist es oft erwünscht, auch das Vorzeichen (die Richtung) der Steigungen bestimmen zu können. Mit den bisher bekannten Interferenz- und Moire-Verfahren konnte das Vorzeichen einer Steigung nur mit besonderen, einen zusätzlichen technischen und zeitlichen Aufwand erfordernden Kunstgriffen ermittelt werden. Das gleiche gilt für ein aus den Verzerrungen der Abbildung einer oder mehrerer gerader Linien basierendes Verfahren, wie es beispielsweise in der US-PS 3 439 988 beschrieben wird. Bei diesem Verfahren werden Linien oder Gitter über die als Spiegel dienende, zu untersuchende Oberfläche auf einen in grosser Entfernung angeordneten Schirm abgebildet, der im Falle eines gewünschten Auflösungsvermögens für Unebenheiten der Oberfläche in der Grössenordnung von einigen pm in einem Abstand von etwa 20 bis 30 m vom Objekt angeordnet sein muss. Abgesehen davon, dass bei der Auswertung der Messergebnisse die Verzerrungen der Gitterabbildung nur schwer mit den Beträgen, Richtungen und Orten der einzelnen Unebenheiten der Objektfläche korreliert werden können ist eine an sich theoretisch mögliche Steigerung des Auflösungsvermögens durch weitere Ver längerung des abbildenden Strahlenganges nicht möglich, da die selbst bei grösster Sorgfalt nicht ganz vermeidbaren Luftturbulenzen im Verlauf des Lichtweges unerträgliche Störungen verursachen würden. Schon bei Lichtweglängen von 20 m ist der Raumbedarf derartiger Vorrichtungen so gross, dass ein Einsatz des Verfahrens nur in Ausnahmefällen möglich ist. Ausserdem sind die Anforderungen an die Konstanz der Temperatur und an die Turbulenz freiheit der diesen Raum erfüllenden Luft nur sehr schwer zu erfüllen. Die bei den bekannten Interferenz- und Moire-Verfahren, wie sie beispielsweise in den Druckschriften DE-OS 21 00 304, DE-AS 21 39 836, DE-AS 26 22 787, DE-OS 25 00 798, DE-AS 26 36 498, DE-AS 26 36 211 und DE-AS 25 37 162 beschrieben werden, auftretenden Linien sind Isohypsen, d. h. Linien, die alle Punkte gleicher Höhe verbinden. Dabei können Aussagen über die Beträge der Steigungen in den einzelnen Flächenbereichen nur durch eine Vermessung der Linienabstände erhalten werden. Aussagen über die Richtungen der Steigungen können, wie oben dargelegt, nur durch technisch und zeitlich aufwendige Kunstgriffe erhalten werden. So wird in der DE-OS 21 00 304 ein Verfahren beschrieben, bei dem mit Hilfe von zwei Gittern, drei abbildenden optischen Systemen, einem als Lummerwürfel ausgebildeten Strahlenteiler und zwei Photozellen eine Aussage über die integrierte Rauhigkeit des im Objektfeld befindlichen Objektbereiches erhalten werden kann. Angaben über den Verlauf des Oberflächenprofils in den einzelnen Teilbereichen oder Punkten der im Objektfeld befindlichen Objektfläche können mit diesem Verfahren nicht erhalten werden. In der DE-AS 26 22 787 wird ein Verfahren zur gleichzeitigen interferometrischen Messung von Dicken oder Abständen in einer Vielzahl von dicht nebeneinander liegenden Punkten, nicht aber zur Bestimmung der Neigungen der Objektfläche im Bereich dieser Punkte beschrieben. In der DE-OS 25 00 798 wird eine Vorrichtung zur Messung von Längen, Winkeln oder optischen Konstanten nach dem Moiré-Streifen- bzw. dem Interferenzstreifenprinzip beschrieben, mit der entweder die Verschiebung eines Objekts oder der Brechungsindex von Substanzen gemessen werden kann. Aussagen über den Profilverlauf einer im Objektfeld befindlichen Fläche können mit dieser Vorrichtung ebenfalls nicht gemacht werden. In der DE-AS 26 36 498 wird ein Verfahren zur interferometrischen Oberflächenmessung beschrieben, das sich von den üblichen interferometrischen Verfahren im wesentlichen dadurch unterscheidet, dass die Messstrahlung streifend auf das Messobjekt fällt, so dass auch nicht reflektierende Flächen untersucht werden können. Das dabei entstehende Interferenzlinienfeld besteht, wie bei allen bekannten Interferenz-Verfahren, aus Isohypsen. Das gleiche gilt auch für das in der DE-AS 26 36 211 beschriebene Verfahren, das sich von den bekannten Interferenz-Verfahren vor allem dadurch unterscheidet, dass das Auflösungsvermögen von A/2 auf A/4 erhöht ist. Angaben über die Neigung der Fläche in den einzelnen Objektpunkten müssen, wie bei allen bekannten interferometrischen Verfahren, durch Auswertung der Interferenzlinien errechnet werden. In der DE-AS 21 39 836 und der DE-AS 25 37 162 werden Verfahren zum berührungslosen Messen der Unebenheiten von Flächen nach dem Moire-Prinzip beschrieben, mit denen unter Zuhilfenahme von Gitterstrukturen-Isohypsenfelder erzeugt werden. Wie oben ausgeführt, können mit allen bekannten Verfahren Aussagen über die Richtung der Steigungen und die Beträge der Steigungen nur durch technisch und zeitlich aufwendige Kunstgriffe erhalten werden. Darüber hinaus liegt die Grenze des Auflösungsvermögens für Steigungen bei den bekannten Interferenz- und Moire-Verfahren im allgemeinen bei Bogen minuten oder etwas darunter. Selbst bei Anwendung des in der obengenannten DE-AS 26 36 211 beschriebenen, besonders verfeinerten interferometrischen Verfahrens, mit dem die Grenze des Tiefenauflösungsvermögens bis A/4 herabgesetzt wird, kann die Grenze des Auflösungsvermögens für Steigungen nur auf den halben Wert vermindert werden, ein Wert, der immer noch im Bereich der Grössenordnung von Bogenminuten liegt. Die Messgenauigkeit aller interferometrischer Verfahren kann zwar durch besondere, zum Teil sehr aufwendige Kunstgriffe, beispielsweise durch Verwendung von Mehrfarbeninterferometrie oder Komparatorverfahren, weiterhin gesteigert werden. Diese Kunstgriffe können aber nur bei Vorliegen besonderer Randbedingungen angewendet werden, so dass eine wesentliche Verbesserung des Auflösungsvermögens nur in wenigen Fällen möglich ist. Bei allen diesen Verfahren sind, wie oben dargelegt, die auftretenden Linien Isohypsen, so dass zur Ermittlung des Betrags und der Richtung der Neigungen besondere zeitaufwendige Verfahrensschritte erforderlich sind. Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren bzw. eine Vorrichtung zu schaffen, mit dem bzw. der die Neigungen und die Neigungsänderungen, d. h. die erste und die zweite Ableitung einer Fläche sowie die Vorzeichen dieser Neigungen und Neigungsänderungen unmittelbar ablesbar und mit extrem hoher Genauigkeit und Geschwindigkeit gemessen werden können. Um auch grosse Flächen in kürzester Zeit untersuchen zu können, sollen relativ grosse Flächenbereiche gleichzeitig erfassbar sein. Zur Vereinfachung der Auswertung der Messergebnisse soll es weiterhin möglich sein, die Messung auf bestimmte Richtungen zu beschränken - bei der Messung einer rotationssymmetrischen Platte beispielsweise die radiale oder die tangentiale Richtung. Diese Aufgabe wird durch die im Anspruch 1 bzw. 8 beschriebene Erfindung gelöst. Mit dem erfindungsgemässen Verfahren wird nicht nur das Auflösungsvermögen gegenüber den bisher bekannten Verfahren der eingangs genannten Art wesentlich erhöht, sondern auch die Auswertung der Messergebnisse wesentlich erleichtert und beschleunigt, da anstelle der bei bekannten Verfahren erzeugten Isohypsen Isoklinen erzeugt werden, deren Abstände unmittelbar die zweite Ableitung der untersuchten Fläche darstellen. Ferner ist eine einfache und eindeutige Zuordnung der Messergebnisse zu den einzelnen Messpunkten selbst grosser Messflächen sichergestellt. Die Auswertung der Messergebnisse wird weiterhin dadurch ganz wesentlich erleichtert, dass die Messung der Steigungen und der Steigerungsänderungen auf eine bestimmte vorgegebene Richtung beschränkt werden kann. Ein weiterer wesentlicher Vorteil der Erfindung besteht darin, dass der erforderliche technische Aufwand wesentlich geringer als bei allen vergleichbaren Verfahren ist. Das erfindungsgemässe Verfahren eignet sich auch trotz geringstem Raumbedarf der erforderlichen technischen Vorrichtungen besonders gut zur automatischen oder halbautomatischen Auswertung der Messergebnisse. Im Gegensatz zu den bekannten Verfahren können insbesondere bei sehr grossflächigen Unebenheiten Neigungswinkel gemessen werden, die um Zehnerpotenzen unter den bisher messbaren Neigungswinkeln liegen. Da bei der vorliegenden Erfindung über die zu prüfende Oberfläche nicht wie bei den bekannten Verfahren eine strukturierte Abbildung, sondern nur zwei parallele Strahlen, bzw. ein Gitter zu übertragen sind, sind die Anforderungen an die Reflektivität der zu untersuchenden Oberfläche wesentlich niedriger, so dass auch relativ schlecht oder diffus reflektierende Flächen, beispielsweise beschichtete Platten, geprüft werden können. Ein weiterer Vorteil der vorliegenden Erfindung besteht ferner darin, dass bei einem vorgegebenen Auflösungsvermögen und einer vorgegebenen Apparatur die Unebenheiten nicht einen Mindestdurchmesser haben müssen, um erfasst werden zu können. Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird anschliessend anhand der Figuren näher erläutert. Es zeigen: Fig. 1 die schematische Darstellung von Strahlen gängen, zur Erläuterung des Messverfahrens, Fig. 2 die schematische Darstellung eines Ausfüh rungsbeispiels der Erfindung, Fig. 3 die Darstellung eines mit dem in Fig. 2 dar gestellten Ausführungsbeispiel erzeugten Li nienmusters Fig. 4 eine bevorzugte Parallelanordnung von Mess fläche und Auswertegitter, Fig. 5 eine Doppelspiegel-Anordnung zur Erzeugung zweier, einen kleinen Winkel miteinander einschliessenden Parallelstrahlenbündel, Fig. 6 eine schematische Darstellung einer Anordnung zur Ebenheitsprüfung mit einem Doppelspiegel nach Fig. 5, Fig. 7 ein Blockschaltbild einer automatisierten Auswerteinrichtung für Isoklinen-Muster. Gemäss Fig. 1 werden zwei durch die Linien 1 und 2 angedeutete, kohärente und kollimierte Laserlichtbündel, die einen Winkel 0 miteinander einschliessen, an der Objektfläche 3 reflektiert und überlagern sich im Bereich eines Gitters 4 (Auswertegitter). Für kleine Steigungsänderungen an der Objektfläche 3 ist der Winkel, den die beiden Strahlungen A1 und A2 nach Reflexion an der Objektfläche miteinander bilden, zu , praktisch unverändert gleich O. An dem Gitter 4 mit der Gitterkonstanten EMI7.1 entstehen dabei neben den Beugungsordnungen nullter Ordnung, deren Fortpflanzungsrichtungen identisch sind mit den Richtungen der beiden an der Objektfläche reflektierten Strahlungen A1, A2, auch höhere Beugungsordnungen. Bei geeigneter Wahl der durch die Gleichung (1) definierten Gitterkonstante verläuft zumindest ein Teil der durch die Strahlungen A1 und A2 erzeugten Beugungsordnungen in den gleichen Richtungen. Diese Beugungsordnungen interferieren miteinander, so dass in jeder Beugungsordnung identische Linienmuster entstehen. In der unmittelbaren Nähe der Gitterebene oder in der Gitterebene selbst fallen diese Muster zusammen, so dass dort ein einheitliches Liniensystem beobachtet werden kann. In einer etwas grösseren Entfernung vom Gitter entsteht eine Überlagerungsfigur der einzelnen Linienmuster und erst in einem hinreichend grossen Abstand können die einzelnen Beugungsfiguren wieder ungestört und getrennt beobachtet werden. Zur Interpretation der Linienmuster werden aus den durch die Linien 1 und 2 angedeuteten Strahlenbündeln zwei durch diese Linien dargestellte Strahlen herausgegriffen, die an den Orten x und x+sO der durch die Funktion z(x) dargestellten Objektfläche 3 reflektiert werden und anschliessend am Gitter 4 zusammentreffen. Die komplexen Amplituden der Wellenzüge dieser beiden Strahlen können allgemein dargestellt werden in der Form: EMI7.2 wobei Ao die reellen Amplituden und #1, #2 die Phasen sind. Unter Vernachlässigung der Gitterbeugungsverluste entstehen durch Uberlagerung der beiden durch die Gleichung (2) definierten Komponenten in jeder Beugungsordnung die Intensitäten: (3) J = -211A1+A212 = A02 (1+cos(#2-#1))- Intensitätsminima (Interferenzlinien) treten auf für: (4) ## = #2-#1 = (2n+1)# (n=O, +1, +2 ...) Aufgrund der Reflexion an der Objektfläche entsteht die Phasendifferenz: : 4# (5) ##= # {z(x+so) - z(x)} Damit geht die Bedingung (4) für das Auftreten dunkler Linien über in (6) X (z(x+so) - z(x)} = (2n+1). zur oder EMI8.1 (n=O, +1, t2 ...) Die Gleichung (7) stellt für kleine Werte von so den Differentialquotienten oder die Steigung der Funktion z(x) dar. Intensitätsminima entstehen für: (8) dz = a = 2n+1 . X (n=O, +1, +2 ...) dx 4 so Daraus folgt, dass die kleinste messbare Steigungsänderung, die zu einem Linienwechsel führt, gegeben ist durch (9) &alpha;o = 2 so Ist der Abstand zwischen dem Gitter und der Objektfläche gegeben durch Q, so geht Gleichung (9) mit Gleichung (1) über in (10) aO 2 2 W o wobei so = Abstand zwischen den Messpunkten, X = die Wellenlänge und g = Gitterkonstante. Die obigen Betrachtungen zeigen, dass das beschriebene Messverfahren ein Interferenzlinienmuster der Objektfläche liefert, in dem der Ubergang von einer Interferenzlinie zu einer benachbarten Interferenzlinie der Steigungsänderung an dem entsprechenden Ort der Objektfläche entspricht, die durch Gleichung (10) definiert ist. Die flächenhafte Beleuchtung der Objektfläche führt zu einer flächenhaften Darstellung der Steigungen der Objektfläche in der Gitterebene. Da in der Praxis sehr kleine Oberflächenkrümmungen vorkommen, besteht zwischen dem Linienmuster in der Gitterebene und den entsprechenden Orten auf der Objektfläche eine eindeutige Zuordnung im Verhältnis 1:1. Das Linienmuster kann beispielsweise auf-einer Mattscheibe beobachtet werden, die unmittelbar hinter dem Beugungsgitter angeordnet wird. Eine andere, leichter verständliche, aber weniger allgemeine Interpretation der oben beschriebenen Gesetzmässigkeiten führt zum gleichen Ergebnis: Fasst man bei der Darstellung nach Fig. 1 die Objektfläche 3 als vollkommen eben auf, so entsteht im Bereich des Gitters 4 ein vollkommen gleichmä ssiges Interferenzlinienmuster. Wird ferner vorausgesetzt, dass die Abstände zwischen den Interferenzlinien gleich den Abständen zwischen den Gitterstäben sind, so wird in einer bestimmten Relativlage zwischen Gitter und Interferenzlinienmuster die gesamte Strahlung durchgelassen. Ist g die Gitterkonstante und Q der Abstand zwischen Objektfläche und Gitter, so wird bei einer Kippung der Objektfläche um einen Winkel cx o/2 das Interferenzlinienmuster um eine der halben Gitterkonstante gleiche Entfernung verschoben, wenn cx /2 = 0 In diesem Fall tritt kein Licht durch das Gitter. Entsprechend wird bei einer Kippung der bei den vorliegenden Uberlegungen als vollkommen eben aufgefassten Objektflä che 3 um einen Winkel cx das Interferenzstreifenmuster um 0 eine einer ganzen Gitterkonstante g gleiche Entfernung verschoben, so dass die hellen Interferenzstreifen hinter dem Gitter wieder voll sichtbar werden. Es lässt sich leicht zeigen, dass bei Vorliegen von Unebenheiten in der Objektfläche 3, deren Neigungen ganzzahlige Vielfache von aO aufweisen, hinter dem Gitter 4 ein Linienmuster auftritt, wobei eine Linie dieses Musters jeweils alle Punkte der Objektfläche 3 verbindet, die die Steigung aO oder ein ganzzahliges Vielfaches davon aufweisen. Es ist leicht einzusehen, dass diese Linien Isoklinen sind, also der ersten Ableitung der Objektfläche 3 entsprechen, und dass die Liniendichte (Abstände zwischen diesen Linien) gleich der zweiten Ableitung der Objektfläche sind. Anhand der oben erläuterten Gleichungen kann gezeigt werden, dass die seitliche Auflösung sO und die Winkelauflösung aO unabhängig von der Gitterkonstante g und dem Abstand Q sind. Der Abstand As zwischen zwei aufeinanderfolgenden Interferenzlinien hinter dem Gitter 4 ist proportional der Neigung aO des betreffenden Flächenbereichs As = R-aO wobei die Proportionalitätskonstante R der Definition des Krümmungsradius R entspricht: EMI11.1 Da der Krümmungsradius der Oberfläche einer rotierenden Platte direkt proportional ist der Beschleunigung, die ein in einem kleinen, festen Abstand zu dieser Oberfläche auf dem entstehenden Luftpolster geführter Gegenstand, z. B. ein Magnetkopf erfährt, ist das erfindungsgemässe Verfahren in besonders vorteilhafter Weise bei der Prüfung von Magnetspeicherplatten zu verwenden. Da die allgemeine Gleichung für den Krümmungsradius R = (1+zu2)3/2 Z" mit Z = Z(r, °) = Oberflächenfunktion einer Magnetspei cherplatte Z' = erste Ableitung dieser Fläche Z" = zweite Ableitung der Fläche im Bereich von kleinen Steigungen geschrieben werden kann als R = 1 Z" , ist der Krümmungsradius in diesem Fall umgekehrt proportional der zweiten Ableitung der Plattenoberfläche; diese Verhältnisse liegen z. B. bei Magnetspeicherplatten vor. Die Beziehung zwischen der zweiten Ableitung der Oberfläche und der Beschleunigung eines über eine rotierende Magnetspeicherplatte mit konstantem Abstand zwangsgeführten Magnetkopfes, nämlich 2z = t2 wird definiert durch die Beziehung 1 Z = 2 zuZ 22 w wobei r = Radius der Spur, # = 2## v = Rotationsfrequenz der Platte. Es ist leicht einzusehen, dass bei vorgegebenen maximal zulässigen Beschleunigungen des Magnetkopfes a = Z mit Hilfe der vorhergehenden Gleichungen eindeutige Angaben über den zulässigen Krümmungsradius und damit über die durch die Linienabstände des Interferenzfeldes definierte zweite Ableitung der Objektoberfläche berechnet werden können. Mit dem beschriebenen Verfahren kann durch geeignete Ausrichtung der Prüffläche in bezug auf das vor der Auswertebene angeordnete Gitter und der durch die Strahlenbündel 21 und 22 (Fig. 2) erzeugten Interferenzlinien die Messung des Profilverlaufs auf eine bestimmte Richtung beschränkt werden, wodurch die Auswertung der erzeugten Linienfelder, beispielsweise bei der Prüfung der Unebenheiten von Magnetspeicherplatten, ausserordentlich erleichtert wird. In vielen Fällen ist es zweckmässig, die Gitterkonstante so klein zu wählen, dass die Gitterstruktur bei der Beobachtung oder der Auswertung nicht sichtbar ist. Auf diese Weise können die Linienmuster ohne Störung durch die Gitter linien besonders gut ausgewertet werden. Bei dem in Fig. 2 dargestellten Ausführungsbeispiel wird durch eine als Laser ausgebildete Lichtquelle 10 ein kohärenter Lichtstrahl 11 erzeugt, der in einem aus Linsen 12 und 13 bestehenden Linsensystem aufgeweitet wird. Der die Linse 13 verlassende kohärente und kollimierte Lichtstrahl wird an einem eine teilreflektierende vordere Fläche 14 und eine vollständig reflektierende hintere Fläche 15 aufweisenden Prisma 16 in zwei Strahlenbündel 21 und 22 aufgespalten, die miteinander einen Winkel e bilden. Diese Strahlenbündel werden an einer zu prüfenden, beispielsweise den beschichteten Bereich einer Magnetspeicherplatte darstellenden Objektfläche 23 reflektiert und überlappen sich im Bereich einer Auswertebene 25. Das durch die Uberlagerung der beiden kohärenten Lichtstrahlen 21 und 22 im Bereich der Auswertebene 25 entstehende Interferenzlinienmuster durchsetzt ein in dieser Ebene oder in unmittelbarer Nachbarschaft vor dieser Ebene angeordnetes Gitter 24, dessen Gitterkonstante etwa gleich den Abständen zwischen zwei benachbarten Linien des Interferenzlinienmusters ist. Wie im Zusammenhang mit der Beschreibung der Fig. 1 erläutert, entsteht, bedingt durch die bei der Reflexion an der Unebenheiten aufweisenden Objektfläche 23 auftretenden Phasenunterschiede, hinter dem Gitter 24 ein Linienmuster, dessen Linien Isoklinen darstellen. Diese Linien stellen somit die ersten Ableitungen und die Abstände zwischen ihnen die zweiten Ableitungen der Objektfläche 23 dar. Die Auswertung kann entweder visuell oder über einen Fernsehmonitor erfolgen. In dem in Fig. 2 dargestellten Ausführungsbeispiel ist in der Auswertebene ein zweidimensionales Photodiodenarray 26 angeordnet. Die an den Ausgängen dieser Vorrichtung auftretenden elektrischen Signale enthalten genaue Informationen über den Verlauf der einzelnen Linien des hinter dem Gitter 24 auftretenden Lichtmusters und können zur weiteren Verarbeitung beispielsweise einem (nicht dargestellten) Computer zugeführt werden. In Fig. 3 wird ein aus einer Vielzahl von Linien 6 bestehendes Lichtmuster wiedergegeben, wie es beispielsweise hinter dem Gitter 24 des in Fig. 2 dargestellten Ausführungsbeispiels der Erfindung auftritt. In dem gestrichelt abgegrenzten Gebiet 30 ist der Abstand zwischen benachbarten Isoklinen gering, entsprechend einer grossen lokalen Steigung der Oberfläche. Da bei der vorliegenden Erfindung keinerlei abbildende Elemente erforderlich sind, können die Messergebnisse auch nicht durch Abbildungsfehler verfälscht werden. Es ist selbstverständlich auch möglich, anstelle der oben beschriebenen Reflexionsmessungen Transmissionsmessungen durchzuführen, wobei dann im wesentlichen Dicken- oder Dichteänderungen erfasst werden. Für die Auswertung der nach dem hier beschriebenen Verfahren erzeugten Isoklinen-Muster ist es aus praktischen Gründen notwendig, dass die Messauflösung über das gesamte Gesichtsfeld gleich bleibt; das erfordert eine genaue Parallelausrichtung zwischen der Messoberfläche 23 und dem Auswertegitter 24, da nach Gleichung (10) die Messauflösung von deren gegenseitigem Abstand Q abhängt. Auch kleine relative Verkippungen von Messfläche und Auswertegitter führen zu einer Verfälschung der Messergebnisse (z. B Verbiegung der Interferenzstreifen). Die optische Anordnung mit der geringstmöglichen Empfindlichkeit gegen kleine Verkippungen von Messfläche und Auswertegitter liegt vor, wenn die Messfläche senkrecht beleuchtet wird. Zur Umlenkung des reflektierten Strahlenbündels muss jedoch in diesen Strahlengang eine teilverspiegelte Strahlenteilerplatte eingebracht werden, die ihrerseits zu Störungen des Wellenfelds und zu einem unerwünschten Lichtverlust führt. In Fig. 4 ist eine Parallelanordnung von Messfläche 45 zu Auswertegitter 46 gezeigt, die bezüglich von Kippungen um Achsen senkrecht zu den Interferenzlinien 43 unempfindlich ist. Die aus der Strahlaufweitungsoptik 40 austretenden beiden Strahlenbündel mit (in einer Horizontalebene liegenden) Achsen 41 und 42 erzeugen senkrecht verlaufende Interferenzlinien 43, die mit den ebenfalls senkrecht angeordneten Linien des Gitters 46 die gewünschten Isoklinen auf einem Beobachtungsschirm 47 erzeugen. Die gemeinsame optische Achse der beiden Strahlenbündel 41 und 42 ist mit Bezugszeichen 44 gekennzeichnet. Infolge der senkrechten Orientierung der Gitterlinien 43 wirken sich'Kippungen um kleine Winkel ss bezüglich der horizontalen Achse 48 auf das Isoklinenbild nur sehr wenig aus; Kippwinkelaum Achsen 49 parallel zu den Interferenzlinien sind dagegen sehr störend und müssen durch entsprechend genaue Positionierung vermieden werden. Eine weitere Voraussetzung zur Realisierung der hohen Messgenauigkeit des hier beschriebenen Verfahrens ist ein störungsfreies Interferenzfeld (43 in Fig. 4), dessen einzelne Interferenzlinien möglichst wenig Abweichungen von Geraden aufweisen. Da derartige Interferenzfelder nur durch Strahlenbündel mit ebenen Wellenfronten (Abweichungen ¯X/10) entstehen, müssen an die optischen Bauelemente für Strahlaufweitung (12 in Fig. 2), für die Kollimation des Strahlenbündels (13) und für die Aufspaltung in zwei Strahlenbündel (prismatische Platte 15) die höchsten Anforderungen gestellt werden. Statt der in Fig. 2 gezeigten prismatischen Platte mit einem vorgeschalteten Kollimator kann auch ein mit zwei senkrecht zueinander verlaufenden divergenten Strahlenbündeln beaufschlagter Teilerwürfel mit nachgeschaltetem Kollimator verwendet werden, der bezüglich der Achsen der einfallenden Bündel leicht verkippt ist; diese Anordnung ist jedoch relativ schwer zu justieren. Fig. 5 zeigt ein einfaches und doch sehr genaues optisches System zur Erzeugung von nahezu störungsfreien Interferenz linienfeldern in einem (schraffiert dargestellten) Uberlap- pungsbereich 57. Eine Lochblende 51 ist im Brennpunkt einer Strahlaufweitungsoptik 52 angeordnet, deren optische Achse im Schnittpunkt C eines Doppelspiegels 53a, 53b liegt. Die Spiegel 53a, 53b spannen einen Winkel von fast 1800 auf und können um ihren Schnittpunkt C gedreht werden. Ein Kollimator 55 ist so vor dem Doppelspiegel angeordnet, dass seine optische Achse durch den Schnittpunkt C verläuft und sein Brennpunkt mit Lochblende 51 zusammenfällt. Der von Lochblende 51 ausgehende Lichtkegel wird an den Spiegeln 53a, 53b reflektiert und erzeugt so zwei virtuelle Lichtquellen 54a, 54b, die mit einem sehr geringen gegenseitigen Abstand in einer gemeinsamen Ebene E liegen. Die vom Kollimator 55 erzeugten Parallelstrahlenbündel A, B, die von diesen Lichtquellen ausgehen, schliessen einen Winkel e ein, der entsprechend der Formel g 2 sind/2 gegeben wird, wobei g die Gitterkonstante des Interferenz feldes im Uberlappungsbereich 57 darstellt. Die Gitterkonstante des Interferenz feldes kann auf einfache Weise durch Änderung des von den Spiegeln 53a, 53b eingeschlossenen Winkels eingestellt werden; die Richtung des Interferenzlinienfeldes ist durch Drehung des Doppelspiegels 53a, 53b um seine Achse c einstellbar. Auf diese Weise lässt sich ein grossflächiges Interferenzfeld mit sehr geringen Verzerrungen erzeugen, das leicht zu justieren, unempfindlich gegen Schwingungen und von kompaktem Aufbau ist. Fig. 6 zeigt den Aufbau einer vollständigen Anordnung zur interferometrischen Ebenheitsmessung mit einem Doppelspiegel nach Fig. 5. Das Ausgangsbündel eines Lasers 60 wird über einen Umlenkspiegel 61 und eine Sammellinse 62 in der öffnung einer Lochblende 63 fokussiert und durch Doppelspiegel 64 in zwei Bündel aufgespalten, die einen geringen Winkel miteinander einschliessen und beispielsweise im Bereich 65, in dem eine Kollimatorlinie angeordnet ist, ein aus waagerecht orientierten Geraden bestehendes Interferenzfeld erzeugen. Mit diesem Interferenzfeld wird die-zu prüfende Oberfläche, hier einer Magnetplatte 66, in einem Bereich 67 beleuchtet und das reflektierte Licht durch ein Auswertegitter 68 beobachtet. Die entstehenden Isoklinen sind schematisch am Ort des Gitters 68 eingezeichnet. Bei der in Fig. 6 gewählten waagerechten Lage der Interferenzlinien wird die Oberfläche der Magnetplatte 66 in radialer Richtung geprüft (die Prüfrichtung liegt immer senkrecht zu der Orientierung der auf die Messfläche projizierten Interferenzlinien). Die Ebenheitsprüfung in tangentialer Richtung kann mit dem gleichen Aufbau erfolgen, wenn die Magnetplatte 66 unter einem Winkel von 45 nach unten (gemäss Pfeil 600) verschoben wird, bis die Beleuchtung im Bereich 69 erfolgt. In diesem Bereich 69 verlaufen die Interferenzlinien in radialer Richtung, so dass die Ebenheitsprüfung in tangentialer Richtung erfolgt. In jeder der beiden Stellungen von Platte 66 wird die gesamte Oberfläche abschnittsweise ausgemessen. Die Prüfung in zwei senkrecht zueinander verlaufenden Richtungen kann auch so vorgenommen werden, dass derselbe Plattenabschnitt ein zweites Mal beleuchtet wird, nachdem Doppelspiegel 64 und Auswertegitter 68 um 900 gedreht werden. Fig. 7 zeigt in schematischer Weise die Bestandteile eines vollständigen Systems zur interferometrischen Ebenheitsmessung von Magnetplatten mit digitaler Bildverarbeitung. Der Prüfling 70 wird auf die in Fig. 6 gezeigte Weise mit zwei gegeneinander geneigten Strahlenbündeln 71 beleuchtet und die entstehenden Isoklinen mit einer Fernsehkamera 72 abgetastet. Zu diesem Zweck wird anstelle der hinter dem Gitter 68 angeordneten Mattscheibe eine Fresnellinse verwendet, die eine Abbildung der Isoklinen auf die photoempfindliche Fläche der Fernsehkamera bewirkt. Das Ausgangssignal der Fernsehkamera 72 wird einmal einem Videomischer 74 zugeführt, an den ein Fernsehmonitor 75 angeschlossen ist und zum andern einem Analog-Digital-Wandler 73, der das digitalisierte Bild über eine mit hoher Geschwindigkeit arbeitende Schnittstelle 76 in einen digitaler Speicher 77 gibt. Ein an den Speicher 77 angeschlossener Bildprozessor verarbeitet das digitale Bild und liefert es über den Speicher 77, die Schnittstelle 76 und den Videomischer 74 ebenfalls an den Fernsehmonitor 75. Das ursprüngliche und das verarbeitete Bild können somit gleichzeitig auf dem Fernsehmonitor 75 dargestellt werden. Zur Steuerung des Auswertesystems ist ein Terminal 79 an den Bildprozessor 78 angeschlossen; die abschnittsweise Fortschaltung der einzelnen zu prüfenden Abschnitte von Platte 70 erfolgt mit einem Schrittmotor 700 mit zugeordneter Steuereinheit 701. Zur Erleichterung der Auswertung von Bildern nach Art der Fig. 3 bestimmt Bildprozessor 78 die Mittellinien (Schwer- punktlinien der Linienschwärzung = Zentrallinien) der Interferenzlinien 6 und ermittelt die Gebiete, in denen der Abstand zwischen zwei benachbarten Isoklinen kleiner als ein vorgegebenes Minimum ist. Diese Gebiete ergeben zusammen mit den Schwerpunktlinien ein synthetisches Bild, das dem von TV-Kamera 72 aufgenommenen Bild im TV-Monitor 75 überlagert wird. Die Abtastung des Isoklinen-Musters kann auch mit einer Photodioden-Matrix vorgenommen werden. Die Herstellung des Auswertegitters (z. B. 24; Fig. 2) kann mit Hilfe der hier beschriebenen Messvorrichtung so erfolgen, dass als Messfläche (23) ein vollkommener ebener Spiegel (z. B. Quecksilberoberfläche) verwendet wird, um das durch Beleuchtung mit den Messstrahlen (21, 22) entstehende Interferenzmuster holographisch-photographisch als Gitter zu registrieren. Das Auswertegitter kann dabei mit geeigneten photoempfindlichen Materialien entweder als Amplitudengitter (z. B. schwarz-weiss moduliert) oder als Phasengitter (Brechungsindexänderung) registriert werden. Fehler der Messvorrichtung beeinflussen daher schon die Struktur des Auswertegitters und kompensieren sich dadurch zum Teil bei der späteren Messung von Prüfobjekten. Zur Überprüfung des Referenzgitters kann der ebene Spiegel, der zur Gitteraufnahme verwendet wurde, an der 45 Rampe (Pfeil 600 in Fig. 6) so fest angebracht werden, dass jederzeit zwischen den Einzelmessungen Kontrollmessungen erfolgen können. Wie aber die Erfahrung zeigt, sind selbst über monatelangen Messzeiten keine Fehler erkennbar.

Claims: NEUE PATENTANSpRÜCHE 1. Verfahren zur interferometrischen Messung von Uneben heiten, insbesondere zur Bestimmung der ersten und der zweiten Ableitung einer Oberfläche, dadurch gekennzeichnet, dass auf die zu untersuchende Objektfläche (3, 23) zwei kohärente, einen kleinen Winkel (0) miteinander ein schliessende Strahlenbündel (1, 2; 21, 22) mit ebenen Wellenfronten so gerichtet werden, dass diese Bündel nach Reflexion an der Objektfläche ein aus Interfe renzlinien (6) bestehendes Interferenzfeld bilden, das nach Durchtritt durch ein den Interferenzlinien im we sentlichen parallel gerichtetes Gitter (4, 24) mit ei ner in der gleichen Grössenordnung wie die Abstände der Interferenzlinien liegenden Gitterkonstante ein Li nienmuster bildet, dessen Linien (6) Isoklinen sind und dessen Linienabstände der zweiten Ableitung der Objektfläche proportional sind. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass Objektfläche (45; Fig. 4) und die Ebene des Git ters (45) parallel zueinander sind. 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass zur Ebenheitsmessung in zwei zueinander senkrech ten Richtungen die Orientierung der Interferenzlinien und der Gitterlinien bezüglich der Messfläche um 900 gedreht wird. 4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Symmetrieachsen der beiden beleuchtenden Strah lenbündel senkrecht zur Objektfläche liegen. 5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Symmetrielinien der beiden beleuchtenden Strah lenbündel mit der Normalen der Objektfläche einen Win kel einschliessen. 6. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass einer Lichtquelle (Laser 10) ein optisches System (12, 13, 16; Fig. 2; Fig. 5) nachgeschaltet ist, mit dem das von der Lichtquelle ausgehende Strahlenbündel (11) aufgeweitet und in zwei miteinander einen Winkel (s) einschliessnde Parallelbündel (21, 22) aufgespalten wird, die sich nach Reflexion an der Objektfläche (23) im Bereich einer Auswertebene (25) zumindest teilweise überlappen und nach Durchgang durch ein vor dieser Aus wertebene angeordnetes Gitter (24) ein Linienmuster erzeugen, dessen Linien (6) Punkte gleicher Neigung (Isoklinen; erste Ableitung der Objektfläche) und dessen Linienabstände die zweite Ableitung der Objekt fläche (23) darstellen. 7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass das optische System zur Aufweitung des Strahlen bündels eine Linse (12) mit einem nachgeschalteten Kollimator (13) enthält, und dass die Aufspaltung in zwei Strahlenbündel durch ein der Linse (12) nachge schaltetes Prisma (16) mit einer teilreflektierenden vorderen Fläche (14) und einer vollständig reflektieren den hinteren Fläche (15) erfolgt. 8. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass das optische System einen Doppelspiegel (53a, 53b) zur Bündelaufspaltung enthält, der zwei virtuelle Bil der (54a, 54b) einer beleuchteten Lochblende (51) er zeugt, die in der Brennebene eines Kollimators (55) liegen. 9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 6 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass zur visuellen Beobachtung hinter dem Auswertegitter (24) eine Mattscheibe angebracht ist. 10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 6 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass das Isoklinen-Muster hinter dem Auswertegitter (24) auf die Aufnahmefläche einer Fernsehkamera (72) abge bildet wird und dass eine automatische Auswertung des Musters erfolgt (in Bildprozessor 78).

Inventors: JARISCH, WALTER, DR., MAKOSCH, GUNTER, SCHMACKPFEFFER, ARNO, DR., Järisch, Walter, Dr., Makosch, Günter
Applicants: IBM DEUTSCHLAND GMBH, INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION
Application year: 1981
Main classification: G01B11
IPC codes: G01B11