真空乾燥

水の沸点は圧力が低くなるにつれて低くなる。ここで、湿った材料の温度は水分を含んでいれば沸点以上に上がらないので、沸点が下がれば低温度での乾燥となる。また、真空条件下では乾燥速度も高くなる。真空乾燥では材料の加熱に工夫が必要であり、よく使用される方法は伝導伝熱方式である。伝導伝熱方式では材料と熱源(加熱面)とを良好に接触させることが重要であり､ﾌﾚｰｸ状あるいは粉粒状の材料では撹拌によって材料と加熱面(乾燥室壁面)との接触を良好に保つことができる。塊状の材料では、伝導伝熱方式での加熱が困難であり、乾燥時間も長くなる。近年では熱源としてﾏｲｸﾛ波加熱を利用する方法も実用化されており、伝導伝熱で均一に加熱することが困難な材料に対して有効である。

真空凍結乾燥

凍結した材料を真空条件下で加熱し、氷の状態から水蒸気へと状態変化(昇華)させて取り除く操作が真空凍結乾燥である。昇華した水蒸気を直ちに冷却装置にて氷に戻すことで乾燥機内を低圧に保つ。氷の部分がそのまま空隙として残るため、材料の収縮が小さく多孔質な製品が得られる。また揮発性物質(アロマ成分など)が材料中に残りやすいという利点がある。乾燥速度は非常に低く、また氷から水蒸気、再び氷という形で状態変化し、そのたびに熱量を消費するため、使用エネルギー量が多い。製品品質面での利点を追求した乾燥方式である。

カテゴリ: 化学
質問: 真空乾燥で、伝導伝熱で均一に加熱することが困難な材料に対して、近年利用されている熱源は何ですか。
回答: 真空乾燥で、伝導伝熱で均一に加熱することが困難な材料に対して、近年利用されている熱源はﾏｲｸﾛ波加熱です。

カテゴリ: 化学
質問: 真空乾燥で、材料の加熱によく使用される方法は何方式ですか。
回答: 真空乾燥で、材料の加熱によく使用される方法は伝導伝熱方式です。