研究目的
 ナノスケールの機能性材料は、21世紀の新規産業の牽引役の1つとして注目されている。その中で，ナノサイズ粒子の製造法の１つである気相合成法で、最も工業化が容易とされているのが化学炎（フレーム）法である。本法は、火炎に原料となるプリカーサを導入するだけで粒子が合成できることから、簡便で安価であり、生産性が高い点や高温の反応場が得られる等の利点があるため、サブミクロン粒子の工業的な製造に既に利用されている。その一方で，急激な温度降下が生じるため、粒子の径やモルフォロジーの制御が非常に困難であるという大きな欠点を有しており、それを解決するためにいくつかの試みが行われているが、工業的に実用的な技術として確立されていないのが現状である。
 本研究では，ナノ機能性材料として高機能光触媒用酸化チタン（金属ドープ型）を取り上げて，軟Ｘ線照射により火炎をイオン化することにより，フレーム法の欠点（粒径，モルフォロジーの制御）を克服できうるかどうかを検証した上で，同時に合成した酸化チタンの光触媒活性の向上を試みることを目的としている。
 
 研究成果の概要
 本研究は，前述の研究目的にもあるように，プリカーサを導入した化学炎に軟X線を照射して，当初モルフォロジーを制御する予定であった。しかし，予備実験で化学炎に軟Ｘ線を照射したところ，軟X線照射により生成した高濃度の両極イオンにより化学炎で生成したイオンが中和されてしまい，プリカーサの濃度や供給速度を変えても顕著な差が見られなかったため，軟X線照射によるモルフォロジーの制御は困難であると判断した。

カテゴリ: 化学
質問: 化学炎（フレーム）法は、粒子の形態や何を制御するのが非常に困難ですか。
回答: 化学炎（フレーム）法は、粒子の形態や径を制御するのが非常に困難です。