# Amtsblatt L 281/31.

| | ISSN 1725-2539 |
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| Amtsblatt
  der Europäischen Union | L 281 |
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| Ausgabe in deutscher Sprache | Rechtsvorschriften | 47. Jahrgang31. August 2004 |

ISSN 1725-2539

Amtsblatt

der Europäischen Union

L 281

Ausgabe in deutscher Sprache

Rechtsvorschriften

47. Jahrgang31. August 2004

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| Inhalt | | I   Veröffentlichungsbedürftige Rechtsakte | Seite |
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| | * | Verordnung (EG) Nr. 1504/2004 des Rates vom 19. Juli 2004 zur Änderung und Aktualisierung der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 über eine Gemeinschaftsregelung für die Kontrolle der Ausfuhr von Gütern und Technologien mit doppeltem Verwendungszweck | 1 |

Inhalt

I   Veröffentlichungsbedürftige Rechtsakte

Seite

*

Verordnung (EG) Nr. 1504/2004 des Rates vom 19. Juli 2004 zur Änderung und Aktualisierung der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 über eine Gemeinschaftsregelung für die Kontrolle der Ausfuhr von Gütern und Technologien mit doppeltem Verwendungszweck

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| DE | Bei Rechtsakten, deren Titel in magerer Schrift gedruckt sind, handelt es sich um Rechtsakte der laufenden Verwaltung im Bereich der Agrarpolitik, die normalerweise nur eine begrenzte Geltungsdauer haben.
  Rechtsakte, deren Titel in fetter Schrift gedruckt sind und denen ein Sternchen vorangestellt ist, sind sonstige Rechtsakte. |
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DE

Bei Rechtsakten, deren Titel in magerer Schrift gedruckt sind, handelt es sich um Rechtsakte der laufenden Verwaltung im Bereich der Agrarpolitik, die normalerweise nur eine begrenzte Geltungsdauer haben.

Rechtsakte, deren Titel in fetter Schrift gedruckt sind und denen ein Sternchen vorangestellt ist, sind sonstige Rechtsakte.

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I Veröffentlichungsbedürftige Rechtsakte

| 31.8.2004 | DE | Amtsblatt der Europäischen Union | L 281/1 |
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31.8.2004

DE

Amtsblatt der Europäischen Union

L 281/1

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VERORDNUNG (EG) Nr. 1504/2004 DES RATES

vom 19. Juli 2004

zur Änderung und Aktualisierung der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 über eine Gemeinschaftsregelung für die Kontrolle der Ausfuhr von Gütern und Technologien mit doppeltem Verwendungszweck

DER RAT DER EUROPÄISCHEN UNION —

gestützt auf den Vertrag zur Gründung der Europäischen Gemeinschaft, insbesondere auf Artikel 133,

auf Vorschlag der Kommission,

in Erwägung nachstehender Gründe:

| (1) | Gemäß der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 (1) müssen Güter mit doppeltem Verwendungszweck (einschließlich Software und Technologien) bei ihrer Ausfuhr aus der Gemeinschaft wirksam kontrolliert werden. |
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(1)

Gemäß der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 (1) müssen Güter mit doppeltem Verwendungszweck (einschließlich Software und Technologien) bei ihrer Ausfuhr aus der Gemeinschaft wirksam kontrolliert werden.

| (2) | Damit die Mitgliedstaaten und die Gemeinschaft ihren internationalen Verpflichtungen nachkommen können, enthält Anhang I zu Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 die gemeinsame Liste der Güter und Technologien mit doppeltem Verwendungszweck, auf die in Artikel 3 der genannten Verordnung verwiesen wird und mit der die international vereinbarten Kontrollen dieser Güter und Technologien — einschließlich der Wassenaar-Vereinbarung, des Trägertechnologie-Kontrollsystems (Missile Technology Control Regime — MTCR), der Gruppe der Nuklearen Lieferländer (Nuclear Suppliers' Group — NSG), der Australischen Gruppe und des Chemiewaffen-Übereinkommens (CWC) — umgesetzt werden. |
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(2)

Damit die Mitgliedstaaten und die Gemeinschaft ihren internationalen Verpflichtungen nachkommen können, enthält Anhang I zu Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 die gemeinsame Liste der Güter und Technologien mit doppeltem Verwendungszweck, auf die in Artikel 3 der genannten Verordnung verwiesen wird und mit der die international vereinbarten Kontrollen dieser Güter und Technologien — einschließlich der Wassenaar-Vereinbarung, des Trägertechnologie-Kontrollsystems (Missile Technology Control Regime — MTCR), der Gruppe der Nuklearen Lieferländer (Nuclear Suppliers' Group — NSG), der Australischen Gruppe und des Chemiewaffen-Übereinkommens (CWC) — umgesetzt werden.

| (3) | Artikel 11 der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 sieht vor, dass Anhang I und Anhang IV im Einklang mit den Verpflichtungen und Zusagen und deren Änderungen, die jeder Mitgliedstaat als Mitglied der jeweiligen internationalen Nichtverbreitungsregime und Ausfuhrkontrollvereinbarungen oder durch die Ratifizierung einschlägiger internationaler Verträge übernommen hat, aktualisiert werden. |
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(3)

Artikel 11 der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 sieht vor, dass Anhang I und Anhang IV im Einklang mit den Verpflichtungen und Zusagen und deren Änderungen, die jeder Mitgliedstaat als Mitglied der jeweiligen internationalen Nichtverbreitungsregime und Ausfuhrkontrollvereinbarungen oder durch die Ratifizierung einschlägiger internationaler Verträge übernommen hat, aktualisiert werden.

| (4) | Anhang I zur Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 sollte geändert werden, um den Änderungen Rechnung zu tragen, die im Rahmen der Wassenaar-Vereinbarung, der Australischen Gruppe und des Trägertechnologie-Kontrollsystems (Missile Technology Control Regime — MTCR) in der Folge der Änderungen durch die Verordnung (EG) Nr. 149/2003 (2) am 227. Januar 2003 beschlossen wurden. |
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(4)

Anhang I zur Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 sollte geändert werden, um den Änderungen Rechnung zu tragen, die im Rahmen der Wassenaar-Vereinbarung, der Australischen Gruppe und des Trägertechnologie-Kontrollsystems (Missile Technology Control Regime — MTCR) in der Folge der Änderungen durch die Verordnung (EG) Nr. 149/2003 (2) am 227. Januar 2003 beschlossen wurden.

| (5) | Durch die Verordnung (EG) Nr. 885/2004 wurde Teil 3 des Anhangs II zur Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 geändert, und die Tschechische Republik, Ungarn und Polen wurden von der Liste der Länder gestrichen, für die die Allgemeine Ausfuhrgenehmigung der Gemeinschaft gilt. |
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(5)

Durch die Verordnung (EG) Nr. 885/2004 wurde Teil 3 des Anhangs II zur Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 geändert, und die Tschechische Republik, Ungarn und Polen wurden von der Liste der Länder gestrichen, für die die Allgemeine Ausfuhrgenehmigung der Gemeinschaft gilt.

| (6) | Zur übersichtlicheren Gestaltung für die Ausfuhrkontrollbehörden und die Wirtschaftsakteure ist es erforderlich, eine aktualisierte und konsolidierte Fassung der Anhänge zur Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 zu veröffentlichen unter Berücksichtigung aller von den Mitgliedstaaten auf internationalen Foren in der Zeit von Dezember 2002 bis Dezember 2003 angenommenen Änderungen. |
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(6)

Zur übersichtlicheren Gestaltung für die Ausfuhrkontrollbehörden und die Wirtschaftsakteure ist es erforderlich, eine aktualisierte und konsolidierte Fassung der Anhänge zur Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 zu veröffentlichen unter Berücksichtigung aller von den Mitgliedstaaten auf internationalen Foren in der Zeit von Dezember 2002 bis Dezember 2003 angenommenen Änderungen.

| (7) | Die Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 ist daher entsprechend zu ändern — |
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(7)

Die Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 ist daher entsprechend zu ändern —

HAT FOLGENDE VERORDNUNG ERLASSEN:

Artikel 1

Die Anhänge der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 werden durch den Wortlaut im Anhang zu dieser Verordnung ersetzt.

Artikel 2

Diese Verordnung tritt am dreißigsten Tag nach ihrer Veröffentlichung im Amtsblatt der Europäischen Union in Kraft.

Diese Verordnung ist in allen ihren Teilen verbindlich und gilt unmittelbar in jedem Mitgliedstaat.

Geschehen zu Brüssel am 19. Juli 2004

Im Namen des Rates

Der Präsident

P. H. DONNER

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(1)  ABl. L 159 vom 30.6.2000, S. 1. Zuletzt geändert durch die Verordnung (EG) Nr. 885/2004 (ABl. L 168 vom 1.5.2004, S. 1).

1

(2)  ABl. L 30 vom 5.2.2003, S. 1.

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ANHANG I

LISTE DER DUAL-USE-GÜTER UND -TECHNOLOGIE

(Gemäß Artikel 3 der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000)

Mit dieser Liste werden die international vereinbarten Kontrollen für Dual-Use-Güter — einschließlich des Wassenaar Arrangement, des Missile Technology Control Regime (MTCR), der Nuclear Suppliers' Group (NSG), der Australischen Gruppe und des Chemiewaffen-Übereinkommens (CWÜ) — umgesetzt. Anträge von Mitgliedstaaten auf einen Ausschluss bestimmter Güter wurden nicht berücksichtigt. Ferner wurden keine nationalen Kontrollen (nicht auf Regimen basierende Kontrollen) berücksichtigt, die von den Mitgliedstaaten beibehalten werden können.

ALLGEMEINE ANMERKUNG ZU ANHANG I

| 1. | Für die Kontrolle von Gütern, die für militärische Zwecke entwickelt oder geändert sind, gelten die entsprechenden Kontrolllisten für militärische Güter, die von den einzelnen Mitgliedstaaten geführt werden. Bei den in Anhang I verwendeten Verweisen mit dem Inhalt "SIEHE AUCH TEIL I A" sind genau diese Listen gemeint. |
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1.

Für die Kontrolle von Gütern, die für militärische Zwecke entwickelt oder geändert sind, gelten die entsprechenden Kontrolllisten für militärische Güter, die von den einzelnen Mitgliedstaaten geführt werden. Bei den in Anhang I verwendeten Verweisen mit dem Inhalt "SIEHE AUCH TEIL I A" sind genau diese Listen gemeint.

| 2. | Der Zweck der in Anhang I angegebenen Kontrollen darf nicht dadurch unterlaufen werden, dass nicht erfasste Güter (einschließlich Anlagen) mit einem oder mehreren erfassten Bestandteilen ausgeführt werden, wenn das (die) erfasste(n) Bestandteil(e) ein Hauptelement des Ausfuhrgutes ist (sind) und leicht entfernt oder für andere Zwecke verwendet werden kann (können).


  Anmerkung: Bei der Beurteilung darüber, ob das (die) erfasste(n) Bestandteil(e) ein Hauptelement bildet (bilden), müssen Menge, Wert und eingesetztes technologisches Know-how sowie andere besondere Bedingungen berücksichtigt werden. |
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2.

Der Zweck der in Anhang I angegebenen Kontrollen darf nicht dadurch unterlaufen werden, dass nicht erfasste Güter (einschließlich Anlagen) mit einem oder mehreren erfassten Bestandteilen ausgeführt werden, wenn das (die) erfasste(n) Bestandteil(e) ein Hauptelement des Ausfuhrgutes ist (sind) und leicht entfernt oder für andere Zwecke verwendet werden kann (können).

Anmerkung: Bei der Beurteilung darüber, ob das (die) erfasste(n) Bestandteil(e) ein Hauptelement bildet (bilden), müssen Menge, Wert und eingesetztes technologisches Know-how sowie andere besondere Bedingungen berücksichtigt werden.

| 3. | Die von Anhang I erfassten Güter umfassen sowohl neue als auch gebrauchte Güter. |
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3.

Die von Anhang I erfassten Güter umfassen sowohl neue als auch gebrauchte Güter.

NUKLEARTECHNOLOGIE-ANMERKUNG (NTA)

(gültig im Zusammenhang mit Gattung E der Kategorie 0)

Die Kontrolle der Ausfuhr von "Technologie", die direkt mit den von Kategorie 0 erfassten Gütern in Verbindung steht, erfolgt entsprechend den Vorgaben der Kategorie 0.

"Technologie" für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" von erfassten Gütern bleibt auch dann erfasst, wenn sie für nicht erfasste Güter einsetzbar ist.

Mit einer Genehmigung der Ausfuhr von Gütern wird auch die Ausfuhr der "Technologie" an denselben Endverwender genehmigt, die für Aufbau, Betrieb, Wartung und Reparatur der jeweiligen Güter unbedingt erforderlich ist.

Die Beschränkungen hinsichtlich der Ausfuhr von "Technologie" gelten nicht für "allgemein zugängliche" Informationen oder "wissenschaftliche Grundlagenforschung".

ALLGEMEINE TECHNOLOGIE-ANMERKUNG (ATA)

(gültig im Zusammenhang mit Gattung E der Kategorien 1 bis 9)

Die Kontrolle der Ausfuhr von "Technologie", die für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" der von den Kategorien 1 bis 9 erfassten Güter "unverzichtbar" ist, erfolgt entsprechend den Vorgaben der Kategorien 1 bis 9.

"Technologie", die für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" von erfassten Gütern "unverzichtbar" ist, bleibt auch dann erfasst, wenn sie für nicht erfasste Güter einsetzbar ist.

Nicht erfasst ist "Technologie", die das unbedingt notwendige Minimum für Aufbau, Betrieb, Wartung und Reparatur derjenigen Güter darstellt, die nicht erfasst sind oder für die eine Ausfuhrgenehmigung erteilt wurde.

Anmerkung: Hierdurch werden die von den Unternummern 1E002e, 1E002f, 8E002a und 8E002b erfassten Reparatur-"Technologien" nicht freigestellt.

Die Beschränkungen hinsichtlich der Ausfuhr von "Technologie" gelten nicht für "allgemein zugängliche" Informationen, "wissenschaftliche Grundlagenforschung" oder für die für Patentanmeldungen erforderlichen Informationen.

ALLGEMEINE SOFTWARE-ANMERKUNG (ASA)

(Soweit in Gattung D der Kategorien 0 bis 9 "Software" erfasst wird, entfallen die Kontrollen, wenn nachstehende Voraussetzungen erfüllt sind.)

Die Gattungen der Kategorien 0 bis 9 dieser Liste erfassen keine "Software", die entweder:

| a) | frei erhältlich ist und






  1. | im Einzelhandel ohne Einschränkungen mittels einer der folgenden Geschäftspraktiken verkauft wird:






  a) | Barverkauf, |
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a)

frei erhältlich ist und

1.

im Einzelhandel ohne Einschränkungen mittels einer der folgenden Geschäftspraktiken verkauft wird:

a)

Barverkauf,

| b) | Versandverkauf, |
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b)

Versandverkauf,

| c) | Verkauf über elektronische Medien oder |
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c)

Verkauf über elektronische Medien oder

| d) | Telefonverkauf |
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d)

Telefonverkauf

und

| 2. | dazu entwickelt ist, vom Benutzer ohne umfangreiche Unterstützung durch den Anbieter installiert zu werden, oder |
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2.

dazu entwickelt ist, vom Benutzer ohne umfangreiche Unterstützung durch den Anbieter installiert zu werden, oder

Anmerkung: Buchstabe a) der Allgemeinen Software-Anmerkung stellt keine "Software" frei, die von Kategorie 5, Teil 2 ("Informationssicherheit") erfasst wird.

| b) | "allgemein zugänglich" ist. |
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b)

"allgemein zugänglich" ist.

BEGRIFFSBESTIMMUNGEN

Anmerkung:

Begriffe in ‧einfachen Anführungszeichen‧ werden in einer Anmerkung zu dem entsprechenden Eintrag erläutert.

Begriffe in "doppelten Anführungszeichen" werden in folgenden Begriffsbestimmungen erläutert:

Ergänzende Anmerkung: Der Bezug zur Kategorie steht in Klammern nach dem definierten Begriff.

| | "Abgereichertes Uran" (0) (depleted uranium): Uran, dessen Gehalt an 235U-Isotopen so verringert wurde, dass er geringer ist als bei natürlichem Uran. |
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"Abgereichertes Uran" (0) (depleted uranium): Uran, dessen Gehalt an 235U-Isotopen so verringert wurde, dass er geringer ist als bei natürlichem Uran.

| | "Abschrecken aus der Schmelze" (1) (splat quenching): ein Verfahren, bei dem der Strom einer Metallschmelze zur ‧schnellen Erstarrung‧ auf einen Abschreck-Block aufprallt, wobei ein flockiges Erzeugnis entsteht.


  Anmerkung:‧Schnelle Erstarrung‧ (solidify rapidly) ist die Erstarrung geschmolzenen Materials bei Abkühlungsraten größer als 1 000 K/s. |
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"Abschrecken aus der Schmelze" (1) (splat quenching): ein Verfahren, bei dem der Strom einer Metallschmelze zur ‧schnellen Erstarrung‧ auf einen Abschreck-Block aufprallt, wobei ein flockiges Erzeugnis entsteht.

Anmerkung:‧Schnelle Erstarrung‧ (solidify rapidly) ist die Erstarrung geschmolzenen Materials bei Abkühlungsraten größer als 1 000 K/s.

| | "Abstimmbar" (6) (tunable): die Fähigkeit eines "Lasers", eine Ausgangsstrahlung mit jeder beliebigen Wellenlänge über den Bereich von mehreren "Laser"übergängen zu erzeugen. Ein "Laser", der verschiedene auswählbare Linien mit diskreten Wellenlängen innerhalb eines "Laser"übergangs erzeugt, gilt nicht als abstimmbar. |
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"Abstimmbar" (6) (tunable): die Fähigkeit eines "Lasers", eine Ausgangsstrahlung mit jeder beliebigen Wellenlänge über den Bereich von mehreren "Laser"übergängen zu erzeugen. Ein "Laser", der verschiedene auswählbare Linien mit diskreten Wellenlängen innerhalb eines "Laser"übergangs erzeugt, gilt nicht als abstimmbar.

| | "Aktives Bildelement" (6 8) (active pixel): das kleinste Einzelelement einer Halbleiter-Matrix (Sensor), das eine fotoelektrische Übertragungsfunktion hat, wenn es Licht (elektromagnetischer Strahlung) ausgesetzt ist. |
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"Aktives Bildelement" (6 8) (active pixel): das kleinste Einzelelement einer Halbleiter-Matrix (Sensor), das eine fotoelektrische Übertragungsfunktion hat, wenn es Licht (elektromagnetischer Strahlung) ausgesetzt ist.

| | "Aktives Flugsteuerungssystem" (7) (active flight control system): Funktionseinheit zur Vermeidung unerwünschter "Luftfahrzeug"- und Flugkörperbewegungen oder unerwünschter Strukturbelastungen durch die autonome Verarbeitung der von mehreren Sensoren gelieferten Signale und die Bereitstellung der erforderlichen Steuerbefehle für die automatische Steuerung. |
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"Aktives Flugsteuerungssystem" (7) (active flight control system): Funktionseinheit zur Vermeidung unerwünschter "Luftfahrzeug"- und Flugkörperbewegungen oder unerwünschter Strukturbelastungen durch die autonome Verarbeitung der von mehreren Sensoren gelieferten Signale und die Bereitstellung der erforderlichen Steuerbefehle für die automatische Steuerung.

| | "Alle verfügbaren Kompensationen" (2) (all compensation available): alle dem Hersteller zur Verfügung stehenden Maßnahmen zur Minimierung aller systematischer Positionsfehler für die betreffende Werkzeugmaschine sind berücksichtigt. |
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"Alle verfügbaren Kompensationen" (2) (all compensation available): alle dem Hersteller zur Verfügung stehenden Maßnahmen zur Minimierung aller systematischer Positionsfehler für die betreffende Werkzeugmaschine sind berücksichtigt.

| | "Allgemein zugänglich" (ASA ATA NTA) (in the public domain): bezieht sich auf "Technologie" oder "Software", die ohne Beschränkung ihrer weiteren Verbreitung erhältlich ist (Copyright-Beschränkungen heben die allgemeine Zugänglichkeit nicht auf). |
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"Allgemein zugänglich" (ASA ATA NTA) (in the public domain): bezieht sich auf "Technologie" oder "Software", die ohne Beschränkung ihrer weiteren Verbreitung erhältlich ist (Copyright-Beschränkungen heben die allgemeine Zugänglichkeit nicht auf).

| | "Anwenderzugängliche Programmierbarkeit" (6) (user accessible programmability): die Möglichkeit für den Anwender, "Programme" einzufügen, zu ändern oder auszutauschen durch andere Maßnahmen als durch






  a) | eine physikalische Veränderung der Verdrahtung oder von Verbindungen oder |
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"Anwenderzugängliche Programmierbarkeit" (6) (user accessible programmability): die Möglichkeit für den Anwender, "Programme" einzufügen, zu ändern oder auszutauschen durch andere Maßnahmen als durch

a)

eine physikalische Veränderung der Verdrahtung oder von Verbindungen oder

| b) | das Setzen von Funktionsbedienelementen einschließlich Parametereingaben. |
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b)

das Setzen von Funktionsbedienelementen einschließlich Parametereingaben.

| | "Äquivalente Dichte" (6) (equivalent density): die Masse einer Optik pro Einheit der optischen Fläche, die auf die optisch wirksame Oberfläche projiziert wird. |
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"Äquivalente Dichte" (6) (equivalent density): die Masse einer Optik pro Einheit der optischen Fläche, die auf die optisch wirksame Oberfläche projiziert wird.

| | "Asymmetrischer Algorithmus" (5) (asymmetric algorithm): ein kryptografischer Algorithmus, der für die Verschlüsselung und die Entschlüsselung unterschiedliche, mathematisch miteinander verknüpfte Schlüssel verwendet.


  Anmerkung: Eine übliche Anwendung asymmetrischer Algorithmen ist das Schlüsselmanagement. |
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"Asymmetrischer Algorithmus" (5) (asymmetric algorithm): ein kryptografischer Algorithmus, der für die Verschlüsselung und die Entschlüsselung unterschiedliche, mathematisch miteinander verknüpfte Schlüssel verwendet.

Anmerkung: Eine übliche Anwendung asymmetrischer Algorithmen ist das Schlüsselmanagement.

| | "Auflösung" (2) (resolution): das kleinste Inkrement einer Messeinrichtung, bei digitalen Geräten das kleinste bedeutsame Bit (Bezug: ANSI B-89.1.12). |
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"Auflösung" (2) (resolution): das kleinste Inkrement einer Messeinrichtung, bei digitalen Geräten das kleinste bedeutsame Bit (Bezug: ANSI B-89.1.12).

| | "Automatische Zielverfolgung" (6) (automatic target tracking): ein Verarbeitungsverfahren, bei dem automatisch ein extrapolierter Wert der wahrscheinlichsten Position des Ziels in Echtzeit ermittelt und ausgegeben wird. |
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"Automatische Zielverfolgung" (6) (automatic target tracking): ein Verarbeitungsverfahren, bei dem automatisch ein extrapolierter Wert der wahrscheinlichsten Position des Ziels in Echtzeit ermittelt und ausgegeben wird.

| | "Bahnsteuerung" (2) (contouring control): zwei oder mehr "numerisch gesteuerte" Bewegungen, die nach Befehlen ausgeführt werden, welche die nächste benötigte Position und die zum Erreichen dieser Position benötigten Vorschubgeschwindigkeiten vorgeben. Diese Vorschubgeschwindigkeiten werden im Verhältnis zueinander so geändert, dass eine gewünschte Bahn erzeugt wird (Bezug: ISO/DIS 2806-1980). |
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"Bahnsteuerung" (2) (contouring control): zwei oder mehr "numerisch gesteuerte" Bewegungen, die nach Befehlen ausgeführt werden, welche die nächste benötigte Position und die zum Erreichen dieser Position benötigten Vorschubgeschwindigkeiten vorgeben. Diese Vorschubgeschwindigkeiten werden im Verhältnis zueinander so geändert, dass eine gewünschte Bahn erzeugt wird (Bezug: ISO/DIS 2806-1980).

| | "Band" (1) (tape): ein Material aus geflochtenen oder in eine Richtung verlaufenden "Einzelfäden" (monofilaments), ‧Litzen‧, "Faserbündeln" (rovings), "Seilen" oder "Garnen" usw., die normalerweise mit Harz imprägniert sind.


  Anmerkung:‧Litze‧ (strand): ein Bündel von typischerweise mehr als 200 "Einzelfäden" (monofilaments), die annähernd parallel verlaufen. |
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"Band" (1) (tape): ein Material aus geflochtenen oder in eine Richtung verlaufenden "Einzelfäden" (monofilaments), ‧Litzen‧, "Faserbündeln" (rovings), "Seilen" oder "Garnen" usw., die normalerweise mit Harz imprägniert sind.

Anmerkung:‧Litze‧ (strand): ein Bündel von typischerweise mehr als 200 "Einzelfäden" (monofilaments), die annähernd parallel verlaufen.

| | "Besonderes spaltbares Material" (0) (special fissile material): Plutonium-239, Uran-233, ‧mit den Isotopen 235 oder 233 angereichertes Uran‧ und jedes Material, das die vorgenannten Stoffe enthält.


  Anmerkung:‧Mit den Isotopen 235 oder 233 angereichertes Uran‧ (uranium enriched in the isotopes 235 or 233): Uran, das die Isotope 235 oder 233 oder beide zusammen im Verhältnis zum Isotop 238 in einer größeren Menge enthält als natürliches Uran (Isotopenverhältnis im natürlichen Uran: 0,72 %). |
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"Besonderes spaltbares Material" (0) (special fissile material): Plutonium-239, Uran-233, ‧mit den Isotopen 235 oder 233 angereichertes Uran‧ und jedes Material, das die vorgenannten Stoffe enthält.

Anmerkung:‧Mit den Isotopen 235 oder 233 angereichertes Uran‧ (uranium enriched in the isotopes 235 or 233): Uran, das die Isotope 235 oder 233 oder beide zusammen im Verhältnis zum Isotop 238 in einer größeren Menge enthält als natürliches Uran (Isotopenverhältnis im natürlichen Uran: 0,72 %).

| | "Bildverarbeitung" (4) (image enhancement): Verarbeitung von außen abgeleiteter, informationstragender Bilddaten durch Algorithmen wie Zeitkompression, Filterung, Auszug, Auswahl, Korrelation, Konvolution oder Transformation zwischen Bereichen (z. B. Fast-Fourier-Transformation oder Walsh-Transformation). Dazu gehören keine Algorithmen, die nur lineare oder Drehtransformation eines einzelnen Bildes verwenden wie Translation, Merkmalauszug, Bilderfassung oder Falschfarbendarstellung. |
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"Bildverarbeitung" (4) (image enhancement): Verarbeitung von außen abgeleiteter, informationstragender Bilddaten durch Algorithmen wie Zeitkompression, Filterung, Auszug, Auswahl, Korrelation, Konvolution oder Transformation zwischen Bereichen (z. B. Fast-Fourier-Transformation oder Walsh-Transformation). Dazu gehören keine Algorithmen, die nur lineare oder Drehtransformation eines einzelnen Bildes verwenden wie Translation, Merkmalauszug, Bilderfassung oder Falschfarbendarstellung.

| | "CE" (4): siehe "Rechenelement". |
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"CE" (4): siehe "Rechenelement".

| | "CEP-Wert" (7) ((Kreisfehlerwahrscheinlichkeit) CEP — Circular Error Probability): ein Maß für die Genauigkeit; der Wert wird als der Radius des bei einer spezifischen Entfernung auf das Ziel zentrierten Kreises definiert, innerhalb dessen die Nutzlasten in 50 % der Fälle auftreffen. |
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"CEP-Wert" (7) ((Kreisfehlerwahrscheinlichkeit) CEP — Circular Error Probability): ein Maß für die Genauigkeit; der Wert wird als der Radius des bei einer spezifischen Entfernung auf das Ziel zentrierten Kreises definiert, innerhalb dessen die Nutzlasten in 50 % der Fälle auftreffen.

| | "Chemischer Laser" (6) (chemical laser): ein "Laser", bei dem die angeregten Elemente durch die Ausgangsenergie einer chemischen Reaktion erzeugt werden. |
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"Chemischer Laser" (6) (chemical laser): ein "Laser", bei dem die angeregten Elemente durch die Ausgangsenergie einer chemischen Reaktion erzeugt werden.

| | "CTP" (3 4): siehe "zusammengesetzte theoretische Verarbeitungsrate" (composite theoretical performance). |
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"CTP" (3 4): siehe "zusammengesetzte theoretische Verarbeitungsrate" (composite theoretical performance).

| | "Datenbankgestützte Navigationssysteme" (7) (Data-Based Referenced Navigation, "DBRN"): Systeme, die verschiedene Quellen von vorher gemessenen geophysikalischen Daten kombinieren, um exakte Navigationsdaten unter veränderlichen Bedingungen bereitzustellen. Solche Datenquellen schließen Tiefseekarten, Sternenkarten, Gravitationskarten, Magnetismuskarten oder digitale 3-D-Geländekarten ein. |
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"Datenbankgestützte Navigationssysteme" (7) (Data-Based Referenced Navigation, "DBRN"): Systeme, die verschiedene Quellen von vorher gemessenen geophysikalischen Daten kombinieren, um exakte Navigationsdaten unter veränderlichen Bedingungen bereitzustellen. Solche Datenquellen schließen Tiefseekarten, Sternenkarten, Gravitationskarten, Magnetismuskarten oder digitale 3-D-Geländekarten ein.

| | "DBRN" (7): siehe "Datenbankgestützte Navigationssysteme" (Data-Based Referenced Navigation). |
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"DBRN" (7): siehe "Datenbankgestützte Navigationssysteme" (Data-Based Referenced Navigation).

| | "Diffusionsschweißen" (1 2 9) (diffusion bonding): molekulares Zusammenfügen von mindestens zwei verschiedenen Metallen im festen Zustand zu einem Stück mit einer Festigkeit der Schweißverbindung, die der des schwächsten Werkstoffs entspricht. |
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"Diffusionsschweißen" (1 2 9) (diffusion bonding): molekulares Zusammenfügen von mindestens zwei verschiedenen Metallen im festen Zustand zu einem Stück mit einer Festigkeit der Schweißverbindung, die der des schwächsten Werkstoffs entspricht.

| | "Digitale Übertragungsrate" (5) (digital transfer rate): die gesamte Informationsbitrate, die direkt über ein beliebiges Medium übertragen wird (siehe auch "gesamte digitale Übertragungsrate"). |
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"Digitale Übertragungsrate" (5) (digital transfer rate): die gesamte Informationsbitrate, die direkt über ein beliebiges Medium übertragen wird (siehe auch "gesamte digitale Übertragungsrate").

| | "Digitalrechner" (4 5) (digital computer): Geräte, die alle folgenden Operationen in Form einer oder mehrerer diskreter Variablen ausführen können:






  a) | Daten aufnehmen, |
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"Digitalrechner" (4 5) (digital computer): Geräte, die alle folgenden Operationen in Form einer oder mehrerer diskreter Variablen ausführen können:

a)

Daten aufnehmen,

| b) | Daten oder Befehle in einem festen oder veränderbaren (beschreibbaren) Speicher speichern, |
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b)

Daten oder Befehle in einem festen oder veränderbaren (beschreibbaren) Speicher speichern,

| c) | Daten durch eine gespeicherte und veränderbare Befehlsfolge verarbeiten und |
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c)

Daten durch eine gespeicherte und veränderbare Befehlsfolge verarbeiten und

| d) | Daten ausgeben. |
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d)

Daten ausgeben.

Anmerkung: Veränderungen einer gespeicherten Befehlsfolge schließen den Austausch von festprogrammierten Speichervorrichtungen mit ein, nicht aber physische Veränderungen der Verdrahtung oder von Verbindungen.

| | "Drehmomentausgleichs- oder Richtungssteuerungssysteme mit regelbarer Zirkulation" (7) (circulation-controlled anti-torque or circulation controlled direction control systems): Systeme, bei denen Luft über aerodynamische Oberflächen geblasen wird, um die von den Oberflächen erzeugten Luftkräfte zu erhöhen oder zu steuern. |
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"Drehmomentausgleichs- oder Richtungssteuerungssysteme mit regelbarer Zirkulation" (7) (circulation-controlled anti-torque or circulation controlled direction control systems): Systeme, bei denen Luft über aerodynamische Oberflächen geblasen wird, um die von den Oberflächen erzeugten Luftkräfte zu erhöhen oder zu steuern.

| | "Driftrate" (Kreisel) (7) (drift rate (gyro)): Abweichung des Kreiselausgangssignals vom Sollwert als Funktion der Zeit. Die Abweichung besteht aus statistisch verteilten und systematischen Komponenten und wird als äquivalente Winkelverschiebung pro Zeiteinheit in Bezug auf den Inertialraum ausgedrückt. |
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"Driftrate" (Kreisel) (7) (drift rate (gyro)): Abweichung des Kreiselausgangssignals vom Sollwert als Funktion der Zeit. Die Abweichung besteht aus statistisch verteilten und systematischen Komponenten und wird als äquivalente Winkelverschiebung pro Zeiteinheit in Bezug auf den Inertialraum ausgedrückt.

| | "Druckmessgeräte" (2) (pressure transducers): Geräte, die Druckmessungen in elektrische Signale umwandeln. |
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"Druckmessgeräte" (2) (pressure transducers): Geräte, die Druckmessungen in elektrische Signale umwandeln.

| | "Dynamisch adaptive Leitweglenkung" (5) (dynamic adaptive routing): automatische Verkehrsumleitung, basierend auf Erkennung und Auswertung des momentanen aktuellen Netzzustandes.


  Anmerkung: Hierzu gehören keine Verkehrsleitungsentscheidungen, die auf vorher festgelegter Information beruhen. |
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"Dynamisch adaptive Leitweglenkung" (5) (dynamic adaptive routing): automatische Verkehrsumleitung, basierend auf Erkennung und Auswertung des momentanen aktuellen Netzzustandes.

Anmerkung: Hierzu gehören keine Verkehrsleitungsentscheidungen, die auf vorher festgelegter Information beruhen.

| | "Dynamische Signalanalysatoren" (3) (dynamic signal analysers): "Signalanalysatoren", die digitale Abtast- und Umsetzungsverfahren verwenden, um eine Fourier-Spektren-Darstellung der vorhandenen Wellenform einschließlich Amplituden- und Phaseninformation zu liefern. |
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"Dynamische Signalanalysatoren" (3) (dynamic signal analysers): "Signalanalysatoren", die digitale Abtast- und Umsetzungsverfahren verwenden, um eine Fourier-Spektren-Darstellung der vorhandenen Wellenform einschließlich Amplituden- und Phaseninformation zu liefern.

| | "Echtzeit-Bandbreite" (3) (real-time bandwidth): bei "dynamischen Signalanalysatoren" die größte Frequenzbandbreite, die der Analysator zur Anzeige oder Massenspeicherung ausgeben kann, ohne bei der Analyse der Eingabedaten eine Unstetigkeit zu verursachen. Bei Analysatoren mit mehr als einem Kanal wird für die Berechnung die Kanalanordnung verwendet, die die größte Echtzeit-Bandbreite ergibt. |
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"Echtzeit-Bandbreite" (3) (real-time bandwidth): bei "dynamischen Signalanalysatoren" die größte Frequenzbandbreite, die der Analysator zur Anzeige oder Massenspeicherung ausgeben kann, ohne bei der Analyse der Eingabedaten eine Unstetigkeit zu verursachen. Bei Analysatoren mit mehr als einem Kanal wird für die Berechnung die Kanalanordnung verwendet, die die größte Echtzeit-Bandbreite ergibt.

| | "Echtzeitverarbeitung" (2 4 6 7) (real-time processing): Verarbeitung von Daten durch ein Rechnersystem, das in Abhängigkeit der verfügbaren Mittel eine bestimmte Leistung innerhalb einer garantierten Antwortzeit als Reaktion auf ein äußeres Ereignis erbringt, unabhängig von der aktuellen Systemauslastung. |
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"Echtzeitverarbeitung" (2 4 6 7) (real-time processing): Verarbeitung von Daten durch ein Rechnersystem, das in Abhängigkeit der verfügbaren Mittel eine bestimmte Leistung innerhalb einer garantierten Antwortzeit als Reaktion auf ein äußeres Ereignis erbringt, unabhängig von der aktuellen Systemauslastung.

| | "Effektives Gramm" (0 1) (effective gramme): von "besonderem spaltbarem Material" ist






  a) | für Plutonium und Uran-233 die Isotopen-Masse in Gramm, |
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"Effektives Gramm" (0 1) (effective gramme): von "besonderem spaltbarem Material" ist

a)

für Plutonium und Uran-233 die Isotopen-Masse in Gramm,

| b) | für angereichertes Uran mit 1 % oder mehr Uran-235 die Uran-Masse in Gramm multipliziert mit dem Quadrat seiner Anreicherung (in dezimaler Schreibweise), |
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b)

für angereichertes Uran mit 1 % oder mehr Uran-235 die Uran-Masse in Gramm multipliziert mit dem Quadrat seiner Anreicherung (in dezimaler Schreibweise),

| c) | für angereichertes Uran mit weniger als 1 % Uran-235 die Uran-Masse in Gramm multipliziert mit 0,0001. |
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c)

für angereichertes Uran mit weniger als 1 % Uran-235 die Uran-Masse in Gramm multipliziert mit 0,0001.

| | "Einstellzeit" (3) (settling time): die Zeit, welche der Ausgang beim Umschalten zwischen zwei beliebigen Werten benötigt, um bis auf ein halbes Bit den Endwert zu erreichen. |
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"Einstellzeit" (3) (settling time): die Zeit, welche der Ausgang beim Umschalten zwischen zwei beliebigen Werten benötigt, um bis auf ein halbes Bit den Endwert zu erreichen.

| | "Einzelfaden" (1) (monofilament): die kleinste Unterteilung einer Faser, normalerweise mit einem Durchmesser von einigen μm. |
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"Einzelfaden" (1) (monofilament): die kleinste Unterteilung einer Faser, normalerweise mit einem Durchmesser von einigen μm.

| | "Elektronische Baugruppe" (3 4 5) (electronic assembly): eine Anzahl elektronischer Bauelemente (d. h. ‧Schaltungselemente‧, ‧diskrete Bauelemente‧, integrierte Schaltungen u. ä.), die miteinander verbunden sind, um eine bestimmte Funktion oder mehrere bestimmte Funktionen zu erfüllen. Die "elektronische Baugruppe" ist als Ganzes austauschbar und normalerweise demontierbar.


  Anmerkung 1:‧Schaltungselement‧ (circuit element): eine einzelne aktive oder passive Funktionseinheit einer elektronischen Schaltung, z. B. eine Diode, ein Transistor, ein Widerstand, ein Kondensator.



  Anmerkung 2:‧Diskretes Bauelement‧ (discrete component): ein in einem eigenen Gehäuse befindliches Schaltungselement mit eigenen äußeren Anschlüssen. |
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"Elektronische Baugruppe" (3 4 5) (electronic assembly): eine Anzahl elektronischer Bauelemente (d. h. ‧Schaltungselemente‧, ‧diskrete Bauelemente‧, integrierte Schaltungen u. ä.), die miteinander verbunden sind, um eine bestimmte Funktion oder mehrere bestimmte Funktionen zu erfüllen. Die "elektronische Baugruppe" ist als Ganzes austauschbar und normalerweise demontierbar.

Anmerkung 1:‧Schaltungselement‧ (circuit element): eine einzelne aktive oder passive Funktionseinheit einer elektronischen Schaltung, z. B. eine Diode, ein Transistor, ein Widerstand, ein Kondensator.

Anmerkung 2:‧Diskretes Bauelement‧ (discrete component): ein in einem eigenen Gehäuse befindliches Schaltungselement mit eigenen äußeren Anschlüssen.

| | "Elektronisch phasengesteuerte Antennengruppen" (5 6) (electronically steerable phased array antenna): eine Antenne, deren Strahl durch Phasenkopplung gebildet wird (d. h. die Strahlungsrichtung wird durch die komplexen Erregungskoeffizienten der Strahlerelemente gesteuert), und die Strahlungsrichtung (beim Senden und beim Empfang) kann durch ein elektrisches Signal im Azimut und/oder Höhenwinkel verändert werden. |
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"Elektronisch phasengesteuerte Antennengruppen" (5 6) (electronically steerable phased array antenna): eine Antenne, deren Strahl durch Phasenkopplung gebildet wird (d. h. die Strahlungsrichtung wird durch die komplexen Erregungskoeffizienten der Strahlerelemente gesteuert), und die Strahlungsrichtung (beim Senden und beim Empfang) kann durch ein elektrisches Signal im Azimut und/oder Höhenwinkel verändert werden.

| | "Endeffektoren" (2) (end-effectors): umfassen Greifer, ‧aktive Werkzeugeinheiten‧ und alle anderen Werkzeuge, die am Anschlussflansch am Ende des "Roboter"-Greifarms bzw. der -Greifarme angebaut sind.


  Anmerkung:‧Aktive Werkzeugeinheit‧ (active tooling unit): eine Einrichtung, die dem Werkzeug Bewegungskraft, Prozessenergie oder Sensorsignale zuführt. |
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"Endeffektoren" (2) (end-effectors): umfassen Greifer, ‧aktive Werkzeugeinheiten‧ und alle anderen Werkzeuge, die am Anschlussflansch am Ende des "Roboter"-Greifarms bzw. der -Greifarme angebaut sind.

Anmerkung:‧Aktive Werkzeugeinheit‧ (active tooling unit): eine Einrichtung, die dem Werkzeug Bewegungskraft, Prozessenergie oder Sensorsignale zuführt.

| | "Entwicklung" (ATA NTA 0 bis 9) (development): schließt alle Stufen vor der Serienfertigung ein, z. B. Konstruktion, Forschung, Analyse, Konzepte, Zusammenbau und Test von Prototypen, Pilotserienpläne, Konstruktionsdaten, Verfahren zur Umsetzung der Konstruktionsdaten ins Produkt, Konfigurationsplanung, Integrationsplanung, Lay-out. |
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"Entwicklung" (ATA NTA 0 bis 9) (development): schließt alle Stufen vor der Serienfertigung ein, z. B. Konstruktion, Forschung, Analyse, Konzepte, Zusammenbau und Test von Prototypen, Pilotserienpläne, Konstruktionsdaten, Verfahren zur Umsetzung der Konstruktionsdaten ins Produkt, Konfigurationsplanung, Integrationsplanung, Lay-out.

| | "Erfassungsbereich" (6) (instrumented range): der spezifizierte Sichtanzeigebereich eines Radargeräts, in dem Ziele eindeutig dargestellt werden. |
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"Erfassungsbereich" (6) (instrumented range): der spezifizierte Sichtanzeigebereich eines Radargeräts, in dem Ziele eindeutig dargestellt werden.

| | "Expertensysteme" (4 7) (expert systems): Systeme, die Ergebnisse durch Anwendungen von Regeln auf Daten erzielen, die unabhängig von einem "Programm" gespeichert sind, mit einer der folgenden Fähigkeiten:






  a) | automatische Modifikation des vom Benutzer eingegebenen "Quellcodes", |
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"Expertensysteme" (4 7) (expert systems): Systeme, die Ergebnisse durch Anwendungen von Regeln auf Daten erzielen, die unabhängig von einem "Programm" gespeichert sind, mit einer der folgenden Fähigkeiten:

a)

automatische Modifikation des vom Benutzer eingegebenen "Quellcodes",

| b) | Bereitstellung von Kenntnissen zu Problemklassen in quasi-natürlicher Sprache oder |
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b)

Bereitstellung von Kenntnissen zu Problemklassen in quasi-natürlicher Sprache oder

| c) | Erwerb des zur systemeigenen Weiterentwicklung nötigen Wissens (symbolisches Training). |
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c)

Erwerb des zur systemeigenen Weiterentwicklung nötigen Wissens (symbolisches Training).

| | "FADEC" (7 9): siehe "Volldigitale Triebwerksregelung" (full authority digital engine control). |
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"FADEC" (7 9): siehe "Volldigitale Triebwerksregelung" (full authority digital engine control).

| | "Faserbündel" (1) (roving): ein Bündel von typischerweise 12-120 annähernd parallel verlaufenden ‧Litzen‧.


  Anmerkung:‧Litze‧ (strand): ein Bündel von typischerweise mehr als 200 "Einzelfäden" (monofilaments), die annähernd parallel verlaufen. |
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"Faserbündel" (1) (roving): ein Bündel von typischerweise 12-120 annähernd parallel verlaufenden ‧Litzen‧.

Anmerkung:‧Litze‧ (strand): ein Bündel von typischerweise mehr als 200 "Einzelfäden" (monofilaments), die annähernd parallel verlaufen.

| | "Faser- oder fadenförmige Materialien" (0 1 8) (fibrous or filamentary materials): umfassen






  a) | endlose "Einzelfäden" (monofilaments), |
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"Faser- oder fadenförmige Materialien" (0 1 8) (fibrous or filamentary materials): umfassen

a)

endlose "Einzelfäden" (monofilaments),

| b) | endlose "Garne" und "Faserbündel" (rovings), |
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b)

endlose "Garne" und "Faserbündel" (rovings),

| c) | "Bänder", Webwaren, regellos geschichtete Matten und Flechtwaren, |
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c)

"Bänder", Webwaren, regellos geschichtete Matten und Flechtwaren,

| d) | geschnittene Fasern, Stapelfasern und zusammenhängende Oberflächenvliese, |
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d)

geschnittene Fasern, Stapelfasern und zusammenhängende Oberflächenvliese,

| e) | frei gewachsene Mikrokristalle (Whiskers), monokristallin oder polykristallin, in jeder Länge, |
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e)

frei gewachsene Mikrokristalle (Whiskers), monokristallin oder polykristallin, in jeder Länge,

| f) | Pulpe aus aromatischen Polyamiden. |
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f)

Pulpe aus aromatischen Polyamiden.

| | "Fehlertoleranz" (4) (fault tolerance): die Fähigkeit eines Rechnersystems, nach beliebiger Fehlfunktion einer beliebigen Hardware- oder "Software"komponente ohne menschlichen Eingriff mit einer bestimmten Leistung weiterzuarbeiten, die eine Aufrechterhaltung des Betriebs, die Datenintegrität und die Wiederherstellung der vollen Funktionsfähigkeit innerhalb einer bestimmten Zeit garantiert. |
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"Fehlertoleranz" (4) (fault tolerance): die Fähigkeit eines Rechnersystems, nach beliebiger Fehlfunktion einer beliebigen Hardware- oder "Software"komponente ohne menschlichen Eingriff mit einer bestimmten Leistung weiterzuarbeiten, die eine Aufrechterhaltung des Betriebs, die Datenintegrität und die Wiederherstellung der vollen Funktionsfähigkeit innerhalb einer bestimmten Zeit garantiert.

| | "Fest" (5) (fixed): die Codier- oder Kompressions-Algorithmen sind nicht durch externe Parameter (z. B.: kryptografische oder Schlüssel-Variable) beeinflussbar und können nicht durch den Anwender geändert werden. |
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"Fest" (5) (fixed): die Codier- oder Kompressions-Algorithmen sind nicht durch externe Parameter (z. B.: kryptografische oder Schlüssel-Variable) beeinflussbar und können nicht durch den Anwender geändert werden.

| | "Flugkörper" (1 3 5 6 7 9) (missiles): vollständige Raketensysteme und unbemannte Luftfahrzeugsysteme, die eine Nutzlast von mindestens 500 kg über eine Reichweite von mindestens 300 km verbringen können.


  Anmerkung: Diese Definition bezieht sich auf "Flugkörper", die in Positionen mit den Kennungen 101 bis 199 (Teil I C) genannt sind. |
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"Flugkörper" (1 3 5 6 7 9) (missiles): vollständige Raketensysteme und unbemannte Luftfahrzeugsysteme, die eine Nutzlast von mindestens 500 kg über eine Reichweite von mindestens 300 km verbringen können.

Anmerkung: Diese Definition bezieht sich auf "Flugkörper", die in Positionen mit den Kennungen 101 bis 199 (Teil I C) genannt sind.

| | "Flugwegoptimierung" (7) (flight path optimisation): ein Verfahren, mittels dessen Abweichungen von einem vierdimensionalen (Raum und Zeit) gewünschten Flugweg auf der Grundlage einer Maximierung der Leistung oder Effektivität für Einsätze minimiert werden. |
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"Flugwegoptimierung" (7) (flight path optimisation): ein Verfahren, mittels dessen Abweichungen von einem vierdimensionalen (Raum und Zeit) gewünschten Flugweg auf der Grundlage einer Maximierung der Leistung oder Effektivität für Einsätze minimiert werden.

| | "Focal plane array" (6): eine lineare oder zweidimensionale planare Schicht aus einzelnen Detektorelementen bzw. die Kombination aus mehreren solchen Schichten, die in der fokalen Ebene arbeitet. Die Detektorelemente können sowohl mit als auch ohne Ausleseelektronik sein.


  Anmerkung: Diese Definition beschreibt keine schichtweise Anordnung (Stack) von einzelnen Detektorelementen oder beliebige Detektoren mit zwei, drei oder vier Elementen, vorausgesetzt, sie arbeiten nicht nach dem "Time-delay-and-integration"-Prinzip. |
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"Focal plane array" (6): eine lineare oder zweidimensionale planare Schicht aus einzelnen Detektorelementen bzw. die Kombination aus mehreren solchen Schichten, die in der fokalen Ebene arbeitet. Die Detektorelemente können sowohl mit als auch ohne Ausleseelektronik sein.

Anmerkung: Diese Definition beschreibt keine schichtweise Anordnung (Stack) von einzelnen Detektorelementen oder beliebige Detektoren mit zwei, drei oder vier Elementen, vorausgesetzt, sie arbeiten nicht nach dem "Time-delay-and-integration"-Prinzip.

| | "Frequenzsprung (Radar)" (6) (radar frequency agility): jedes Verfahren, bei dem die Trägerfrequenz eines Impulsradarsenders in pseudo-zufälliger Folge zwischen einzelnen Radarimpulsen oder Gruppen von Radarimpulsen um einen Betrag verändert wird, der gleich der oder größer als die Bandbreite des Radarimpulses ist. |
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"Frequenzsprung (Radar)" (6) (radar frequency agility): jedes Verfahren, bei dem die Trägerfrequenz eines Impulsradarsenders in pseudo-zufälliger Folge zwischen einzelnen Radarimpulsen oder Gruppen von Radarimpulsen um einen Betrag verändert wird, der gleich der oder größer als die Bandbreite des Radarimpulses ist.

| | "Frequenzsprungverfahren" (5) (frequency hopping): ein Verfahren des "gespreizten Spektrums". Dabei wird die Übertragungsfrequenz eines einzelnen Nachrichtenkanals durch eine zufällige oder pseudozufällige Folge von diskreten Stufen geändert. |
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"Frequenzsprungverfahren" (5) (frequency hopping): ein Verfahren des "gespreizten Spektrums". Dabei wird die Übertragungsfrequenz eines einzelnen Nachrichtenkanals durch eine zufällige oder pseudozufällige Folge von diskreten Stufen geändert.

| | "Frequenz-Syntheziser" (3) (frequency syntheziser): ungeachtet der im Einzelfall benutzten Technik jede Art von Frequenzquelle oder Messsender, die an einem oder mehreren Ausgängen eine Vielfalt gleichzeitig oder abwechselnd vorhandener Ausgangsfrequenzen liefert, die durch eine kleinere Anzahl von Normal- oder Steuerfrequenzen geregelt, von ihr abgeleitet oder von ihr gesteuert sind. |
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"Frequenz-Syntheziser" (3) (frequency syntheziser): ungeachtet der im Einzelfall benutzten Technik jede Art von Frequenzquelle oder Messsender, die an einem oder mehreren Ausgängen eine Vielfalt gleichzeitig oder abwechselnd vorhandener Ausgangsfrequenzen liefert, die durch eine kleinere Anzahl von Normal- oder Steuerfrequenzen geregelt, von ihr abgeleitet oder von ihr gesteuert sind.

| | "Frequenzumschaltzeit" (3 5) (frequency switching time): die maximal benötigte Zeit (d. h. Verzögerung) eines Signals bei der Umschaltung von einer gewählten Ausgangsfrequenz zu einer anderen gewählten Ausgangsfrequenz zur Erreichung einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | einer Frequenz innerhalb von 100 Hz der Endfrequenz oder |
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"Frequenzumschaltzeit" (3 5) (frequency switching time): die maximal benötigte Zeit (d. h. Verzögerung) eines Signals bei der Umschaltung von einer gewählten Ausgangsfrequenz zu einer anderen gewählten Ausgangsfrequenz zur Erreichung einer der folgenden Eigenschaften:

a)

einer Frequenz innerhalb von 100 Hz der Endfrequenz oder

| b) | eines Ausgangspegels innerhalb von 1,0 dB des Endausgangspegels. |
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b)

eines Ausgangspegels innerhalb von 1,0 dB des Endausgangspegels.

| | "Für den Kriegsgebrauch" (1) (adapted for use in war): jede Änderung oder zielgerichtete Auslese (z. B. Änderung der Reinheit, Lagerbeständigkeit, Virulenz, Verbreitungsmerkmale oder Widerstandsfähigkeit gegen UV-Strahlung), die für die Steigerung der Wirksamkeit bei der Außergefechtsetzung von Menschen oder Tieren, der Schädigung von Ausrüstung oder Vernichtung von Ernten oder der Umwelt ausgeführt wird. |
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"Für den Kriegsgebrauch" (1) (adapted for use in war): jede Änderung oder zielgerichtete Auslese (z. B. Änderung der Reinheit, Lagerbeständigkeit, Virulenz, Verbreitungsmerkmale oder Widerstandsfähigkeit gegen UV-Strahlung), die für die Steigerung der Wirksamkeit bei der Außergefechtsetzung von Menschen oder Tieren, der Schädigung von Ausrüstung oder Vernichtung von Ernten oder der Umwelt ausgeführt wird.

| | "Garn" (1) (yarn): ein Bündel von verdrillten ‧Litzen‧.


  Anmerkung:‧Litze‧ (strand): ein Bündel von typischerweise mehr als 200 "Einzelfäden" (monofilaments), die annähernd parallel verlaufen. |
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"Garn" (1) (yarn): ein Bündel von verdrillten ‧Litzen‧.

Anmerkung:‧Litze‧ (strand): ein Bündel von typischerweise mehr als 200 "Einzelfäden" (monofilaments), die annähernd parallel verlaufen.

| | "Gaszerstäubung" (1) (gas atomisation): ein Verfahren, bei dem der Strom einer Metalllegierungsschmelze durch einen Hochdruck-Gasstrom zu Tröpfchen mit einem Durchmesser kleiner/gleich 500 μm zerstäubt wird. |
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"Gaszerstäubung" (1) (gas atomisation): ein Verfahren, bei dem der Strom einer Metalllegierungsschmelze durch einen Hochdruck-Gasstrom zu Tröpfchen mit einem Durchmesser kleiner/gleich 500 μm zerstäubt wird.

| | "Genauigkeit" (2 6) (accuracy): die maximale positive oder negative Abweichung eines angezeigten Wertes von einem anerkannten Richtmaß oder dem wahren Wert. Sie wird gewöhnlich als Ungenauigkeit (Positionsunsicherheit, Messunsicherheit) gemessen. |
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"Genauigkeit" (2 6) (accuracy): die maximale positive oder negative Abweichung eines angezeigten Wertes von einem anerkannten Richtmaß oder dem wahren Wert. Sie wird gewöhnlich als Ungenauigkeit (Positionsunsicherheit, Messunsicherheit) gemessen.

| | "Geografisch verteilt" (6) (geografically dispersed): Sensoren gelten als geografisch verteilt, wenn der Abstand zwischen jedem Sensor mehr als 1 500 m in jeder Richtung beträgt. Mobile Sensoren gelten grundsätzlich als geografisch verteilt. |
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"Geografisch verteilt" (6) (geografically dispersed): Sensoren gelten als geografisch verteilt, wenn der Abstand zwischen jedem Sensor mehr als 1 500 m in jeder Richtung beträgt. Mobile Sensoren gelten grundsätzlich als geografisch verteilt.

| | "Gesamte digitale Übertragungsrate" (5) (total digital transfer rate): die Anzahl Bits einschließlich der für Leitungscodierung, Overhead usw. pro Zeiteinheit, die zwischen korrespondierenden Geräten in einem digitalen Übertragungssystem übertragen wird (siehe auch "digitale Übertragungsrate"). |
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"Gesamte digitale Übertragungsrate" (5) (total digital transfer rate): die Anzahl Bits einschließlich der für Leitungscodierung, Overhead usw. pro Zeiteinheit, die zwischen korrespondierenden Geräten in einem digitalen Übertragungssystem übertragen wird (siehe auch "digitale Übertragungsrate").

| | "Gesamtstromdichte" (3) (overall current density): die Gesamtzahl der Amperewindungen in der Spule (das ist die Summe der Windungen multipliziert mit dem maximalen Strom, der in jeder Windung fließt), geteilt durch die gesamte Querschnittfläche der Spule (einschließlich der supraleitenden Drähte, der metallischen Matrizen, in denen die supraleitenden Drähte eingebettet sind, des Ummantelungsmaterials, aller Kühlkanäle u. ä.). |
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"Gesamtstromdichte" (3) (overall current density): die Gesamtzahl der Amperewindungen in der Spule (das ist die Summe der Windungen multipliziert mit dem maximalen Strom, der in jeder Windung fließt), geteilt durch die gesamte Querschnittfläche der Spule (einschließlich der supraleitenden Drähte, der metallischen Matrizen, in denen die supraleitenden Drähte eingebettet sind, des Ummantelungsmaterials, aller Kühlkanäle u. ä.).

| | "Gespreiztes-Spektrum-Verfahren" (5) (spread spectrum): die Technik, bei der die Energie in einem relativ engen Nachrichtenkanal über ein wesentlich breiteres Spektrum verteilt wird. |
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"Gespreiztes-Spektrum-Verfahren" (5) (spread spectrum): die Technik, bei der die Energie in einem relativ engen Nachrichtenkanal über ein wesentlich breiteres Spektrum verteilt wird.

| | "Gespreiztes Spektrum (Radar)" (6) (radar spread spectrum): jedes Modulationsverfahren, um die Bandbreite des relativ schmalbandigen Spektrums eines Signals durch Zufalls- oder Pseudozufallscodierung zu verbreitern. |
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"Gespreiztes Spektrum (Radar)" (6) (radar spread spectrum): jedes Modulationsverfahren, um die Bandbreite des relativ schmalbandigen Spektrums eines Signals durch Zufalls- oder Pseudozufallscodierung zu verbreitern.

| | "Gütegeschalteter Laser" (6) (Q-switched laser): ein "Laser", bei dem die Energie in der Besetzungsinversion oder im optischen Resonator gespeichert und nachfolgend in einem Puls emittiert wird. |
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"Gütegeschalteter Laser" (6) (Q-switched laser): ein "Laser", bei dem die Energie in der Besetzungsinversion oder im optischen Resonator gespeichert und nachfolgend in einem Puls emittiert wird.

| | "Hauptbestandteil" (4) (principal element): ein Bestandteil, dessen Austauschwert mehr als 35 % des Gesamtwertes für das vollständige System beträgt. Bestandteilwert ist der vom Systemhersteller oder -integrator für den Bestandteil gezahlte Preis. Gesamtwert ist der übliche internationale Verkaufspreis an unverbundene Käufer im Zeitpunkt der Fertigstellung oder Lieferung. |
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"Hauptbestandteil" (4) (principal element): ein Bestandteil, dessen Austauschwert mehr als 35 % des Gesamtwertes für das vollständige System beträgt. Bestandteilwert ist der vom Systemhersteller oder -integrator für den Bestandteil gezahlte Preis. Gesamtwert ist der übliche internationale Verkaufspreis an unverbundene Käufer im Zeitpunkt der Fertigstellung oder Lieferung.

| | "Hauptspeicher" (4) (main storage): Primärspeicher für Daten oder Befehle zum schnellen Zugriff durch eine Zentraleinheit. Er besteht aus dem internen Speicher eines "Digitalrechners" und jeder Art von hierarchischer Erweiterung wie Pufferspeicher (cache) oder zusätzliche Speicher mit nichtsequenziellem Direktzugriff. |
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"Hauptspeicher" (4) (main storage): Primärspeicher für Daten oder Befehle zum schnellen Zugriff durch eine Zentraleinheit. Er besteht aus dem internen Speicher eines "Digitalrechners" und jeder Art von hierarchischer Erweiterung wie Pufferspeicher (cache) oder zusätzliche Speicher mit nichtsequenziellem Direktzugriff.

| | "Hauptsteuerung" (7) (primary flight control): Steuerorgane zum Stabilisieren oder Manövrieren eines "Luftfahrzeugs" unter Verwendung von Kraft/Momenterzeugern, d. h. aerodynamischer Steuerflächen oder Schubvektorsteuerung. |
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"Hauptsteuerung" (7) (primary flight control): Steuerorgane zum Stabilisieren oder Manövrieren eines "Luftfahrzeugs" unter Verwendung von Kraft/Momenterzeugern, d. h. aerodynamischer Steuerflächen oder Schubvektorsteuerung.

| | "Heißisostatisches Verdichten" (2) (hot isostatic densification): ein Verfahren, bei dem ein Gussstück bei Temperaturen größer als 375 K (+ 102 °C) in einer geschlossenen Kammer über ein Medium (Gas, Flüssigkeit, Feststoffteilchen, usw.) gleichmäßig in allen Richtungen so mit Druck beaufschlagt wird, dass Hohlräume im Innern des Gussstücks verkleinert oder beseitigt werden. |
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"Heißisostatisches Verdichten" (2) (hot isostatic densification): ein Verfahren, bei dem ein Gussstück bei Temperaturen größer als 375 K (+ 102 °C) in einer geschlossenen Kammer über ein Medium (Gas, Flüssigkeit, Feststoffteilchen, usw.) gleichmäßig in allen Richtungen so mit Druck beaufschlagt wird, dass Hohlräume im Innern des Gussstücks verkleinert oder beseitigt werden.

| | "Herstellung" (ATA NTA 0 bis 9) (production): schließt alle Fabrikationsstufen ein, z. B. Fertigungsvorbereitung, Fertigung, Integration, Zusammenbau, Kontrolle, Prüfung (Test), Qualitätssicherung. |
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"Herstellung" (ATA NTA 0 bis 9) (production): schließt alle Fabrikationsstufen ein, z. B. Fertigungsvorbereitung, Fertigung, Integration, Zusammenbau, Kontrolle, Prüfung (Test), Qualitätssicherung.

| | "Herstellungsanlagen" (9) (production facilities): Ausrüstung und besonders entwickelte "Software" hierfür, eingebaut in Anlagen für die "Entwicklung" oder für eine oder mehrere Phasen der "Herstellung".


  Anmerkung: Diese Definition bezieht sich auf "Herstellungsanlagen", die in Positionen mit den Kennungen 101 bis 199 (Teil I C) genannt sind. |
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"Herstellungsanlagen" (9) (production facilities): Ausrüstung und besonders entwickelte "Software" hierfür, eingebaut in Anlagen für die "Entwicklung" oder für eine oder mehrere Phasen der "Herstellung".

Anmerkung: Diese Definition bezieht sich auf "Herstellungsanlagen", die in Positionen mit den Kennungen 101 bis 199 (Teil I C) genannt sind.

| | "Herstellungsausrüstung" (1 9) (production equipment): Werkzeuge, Schablonen, werkzeugführende Vorrichtungen, Dorne, Gussformen, Gesenke, Spann- und Ausrichtungsvorrichtungen, Prüfeinrichtungen sowie andere Einrichtungen und Bestandteile hierfür, besonders konstruiert oder geändert für die "Entwicklung" oder für eine oder mehrere Phasen der "Herstellung".


  Anmerkung: Diese Definition bezieht sich auf "Herstellungsausrüstung", die in Positionen mit den Kennungen 101 bis 199 (Teil I C) genannt ist. |
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"Herstellungsausrüstung" (1 9) (production equipment): Werkzeuge, Schablonen, werkzeugführende Vorrichtungen, Dorne, Gussformen, Gesenke, Spann- und Ausrichtungsvorrichtungen, Prüfeinrichtungen sowie andere Einrichtungen und Bestandteile hierfür, besonders konstruiert oder geändert für die "Entwicklung" oder für eine oder mehrere Phasen der "Herstellung".

Anmerkung: Diese Definition bezieht sich auf "Herstellungsausrüstung", die in Positionen mit den Kennungen 101 bis 199 (Teil I C) genannt ist.

| | "Hybridrechner" (4) (hybrid computer): Geräte, die alle folgenden Operationen ausführen können:






  a) | Daten aufnehmen, |
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"Hybridrechner" (4) (hybrid computer): Geräte, die alle folgenden Operationen ausführen können:

a)

Daten aufnehmen,

| b) | Daten sowohl in analoger als auch in digitaler Darstellung verarbeiten und |
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b)

Daten sowohl in analoger als auch in digitaler Darstellung verarbeiten und

| c) | Daten ausgeben. |
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c)

Daten ausgeben.

| | "Hydrostatisches Umformen mit direkter Druckbeaufschlagung" (2) (direct acting hydraulic pressing): ein Umformverfahren, bei dem ein flüssigkeitsgefülltes, elastisches Kissen in unmittelbarem Kontakt mit dem Werkstück steht. |
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"Hydrostatisches Umformen mit direkter Druckbeaufschlagung" (2) (direct acting hydraulic pressing): ein Umformverfahren, bei dem ein flüssigkeitsgefülltes, elastisches Kissen in unmittelbarem Kontakt mit dem Werkstück steht.

| | "Immunotoxin" (1) (immunotoxin): ein Konjugat eines zellspezifischen monoklonalen Antikörpers und eines "Toxins" oder einer "Toxinuntereinheit", das selektiv erkrankte Zellen befällt. |
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"Immunotoxin" (1) (immunotoxin): ein Konjugat eines zellspezifischen monoklonalen Antikörpers und eines "Toxins" oder einer "Toxinuntereinheit", das selektiv erkrankte Zellen befällt.

| | "Impfstoff" (1) (vaccine): ein Arzneimittel, das dazu bestimmt ist, eine schützende Immunreaktion bei Menschen oder Tieren zur Verhütung einer Erkrankung derjenigen, denen es verabreicht wurde, hervorzurufen, und das in einer Darreichungsform (pharmaceutical formulation) von der zuständigen Behörde des Herstellungs- oder Verbrauchslandes für das Inverkehrbringen oder die klinische Prüfung genehmigt oder zugelassen wurde. |
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"Impfstoff" (1) (vaccine): ein Arzneimittel, das dazu bestimmt ist, eine schützende Immunreaktion bei Menschen oder Tieren zur Verhütung einer Erkrankung derjenigen, denen es verabreicht wurde, hervorzurufen, und das in einer Darreichungsform (pharmaceutical formulation) von der zuständigen Behörde des Herstellungs- oder Verbrauchslandes für das Inverkehrbringen oder die klinische Prüfung genehmigt oder zugelassen wurde.

| | "Impulskompression" (6) (pulse compression): die Codierung und Verarbeitung eines Radarimpulses großer Impulsbreite mit dem Resultat eines Impulses geringerer Breite und höherer Auflösung unter Beibehaltung der Vorteile hoher Impulsenergie. |
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"Impulskompression" (6) (pulse compression): die Codierung und Verarbeitung eines Radarimpulses großer Impulsbreite mit dem Resultat eines Impulses geringerer Breite und höherer Auflösung unter Beibehaltung der Vorteile hoher Impulsenergie.

| | "Informationssicherheit" (4 5) (information security): sämtliche Mittel und Funktionen, die die Zugriffsmöglichkeit, die Vertraulichkeit oder Unversehrtheit von Information oder Kommunikation sichern, ausgenommen die Mittel und Funktionen zur Absicherung gegen Funktionsstörungen. Eingeschlossen sind: "Kryptotechnik", "Kryptoanalyse", Schutz gegen kompromittierende Abstrahlung und Rechnersicherheit.


  Anmerkung:"Kryptoanalyse" (cryptanalysis): die Analyse eines Kryptosystems oder seiner Eingänge und Ausgänge, um vertrauliche variable oder sensitive Daten einschließlich Klartext abzuleiten (ISO 7498-2-1988 (E), Paragraf 3.3.18). |
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"Informationssicherheit" (4 5) (information security): sämtliche Mittel und Funktionen, die die Zugriffsmöglichkeit, die Vertraulichkeit oder Unversehrtheit von Information oder Kommunikation sichern, ausgenommen die Mittel und Funktionen zur Absicherung gegen Funktionsstörungen. Eingeschlossen sind: "Kryptotechnik", "Kryptoanalyse", Schutz gegen kompromittierende Abstrahlung und Rechnersicherheit.

Anmerkung:"Kryptoanalyse" (cryptanalysis): die Analyse eines Kryptosystems oder seiner Eingänge und Ausgänge, um vertrauliche variable oder sensitive Daten einschließlich Klartext abzuleiten (ISO 7498-2-1988 (E), Paragraf 3.3.18).

| | "Innenbeschichtung" (9) (interior lining): geeignet für die Nahtstelle zwischen dem Festtreibstoff und dem Gehäuse oder der Isolierschicht; normalerweise eine flüssige Dispersion auf Polymerbasis aus feuerfestem oder isolierendem Material, z. B. kohlenstoffgefülltes Hydroxyl Terminated Polybutadiene (HTPB) oder ein anderes Polymer mit Aushärtungszusatz, mit dem das Gehäuseinnere durch Besprühen oder Aufziehen beschichtet wird. |
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"Innenbeschichtung" (9) (interior lining): geeignet für die Nahtstelle zwischen dem Festtreibstoff und dem Gehäuse oder der Isolierschicht; normalerweise eine flüssige Dispersion auf Polymerbasis aus feuerfestem oder isolierendem Material, z. B. kohlenstoffgefülltes Hydroxyl Terminated Polybutadiene (HTPB) oder ein anderes Polymer mit Aushärtungszusatz, mit dem das Gehäuseinnere durch Besprühen oder Aufziehen beschichtet wird.

| | "Integrierte Hybrid-Schaltung" (3) (hybrid integrated circuit): jede Kombination aus integrierten Schaltungen oder integrierter Schaltung mit "Schaltungselementen" oder "diskreten Bauelementen", die miteinander verbunden sind, um eine bestimmte Funktion oder mehrere bestimmte Funktionen zu erfüllen, mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | mit mindestens einem Bauelement ohne eigenes Gehäuse, |
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"Integrierte Hybrid-Schaltung" (3) (hybrid integrated circuit): jede Kombination aus integrierten Schaltungen oder integrierter Schaltung mit "Schaltungselementen" oder "diskreten Bauelementen", die miteinander verbunden sind, um eine bestimmte Funktion oder mehrere bestimmte Funktionen zu erfüllen, mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

mit mindestens einem Bauelement ohne eigenes Gehäuse,

| b) | miteinander verbunden unter Verwendung typischer IC-Herstellungsverfahren, |
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b)

miteinander verbunden unter Verwendung typischer IC-Herstellungsverfahren,

| c) | als Ganzes austauschbar und |
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c)

als Ganzes austauschbar und

| d) | üblicherweise nicht zerlegbar. |
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d)

üblicherweise nicht zerlegbar.

Anmerkung 1:"Schaltungselement" (circuit element): eine unteilbare aktive oder passive Funktionseinheit einer elektronischen Schaltung, z. B. eine Diode, ein Transistor, ein Widerstand, ein Kondensator.

Anmerkung 2:"Diskretes Bauelement" (discrete component): ein in einem eigenen Gehäuse befindliches Schaltungselement mit eigenen äußeren Anschlüssen.

| | "Integrierte Multichip-Schaltung" (3) (multichip integrated circuit): zwei oder mehrere "monolithisch integrierte Schaltungen", die auf ein gemeinsames "Substrat" aufgebracht sind. |
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"Integrierte Multichip-Schaltung" (3) (multichip integrated circuit): zwei oder mehrere "monolithisch integrierte Schaltungen", die auf ein gemeinsames "Substrat" aufgebracht sind.

| | "Integrierte optische Schaltung" (3) (optical integrated circuit): eine "monolithisch integrierte Schaltung" oder eine "integrierte Hybrid-Schaltung" mit einem oder mehreren integrierten Elementen, die als Fotosensor oder Fotosender oder zur Durchführung einer optischen oder elektrooptischen Funktion oder mehrerer optischer oder elektrooptischer Funktionen konstruiert sind. |
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"Integrierte optische Schaltung" (3) (optical integrated circuit): eine "monolithisch integrierte Schaltung" oder eine "integrierte Hybrid-Schaltung" mit einem oder mehreren integrierten Elementen, die als Fotosensor oder Fotosender oder zur Durchführung einer optischen oder elektrooptischen Funktion oder mehrerer optischer oder elektrooptischer Funktionen konstruiert sind.

| | "Integrierte Schichtschaltung" (3) (film type integrated circuit): eine Anordnung von "Schaltungselementen" und metallischen Leitverbindungen, die durch Abscheiden einer dicken oder dünnen Schicht auf einem isolierenden "Substrat" gebildet wird.


  Anmerkung:"Schaltungselement" (circuit element): eine einzelne aktive oder passive Funktionseinheit einer elektronischen Schaltung, z. B. eine Diode, ein Transistor, ein Widerstand, ein Kondensator. |
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"Integrierte Schichtschaltung" (3) (film type integrated circuit): eine Anordnung von "Schaltungselementen" und metallischen Leitverbindungen, die durch Abscheiden einer dicken oder dünnen Schicht auf einem isolierenden "Substrat" gebildet wird.

Anmerkung:"Schaltungselement" (circuit element): eine einzelne aktive oder passive Funktionseinheit einer elektronischen Schaltung, z. B. eine Diode, ein Transistor, ein Widerstand, ein Kondensator.

| | "Intrinsische Magnetfeldgradientenmesser" (6) (intrinsic magnetic gradiometers): Geräte zur Messung des Gradienten eines Magnetfelds, die einen einzelnen Magnetfeldgradienten-Messwertaufnehmer sowie zugehörige Elektronikschaltungen enthalten und ein zum gemessenen Magnetfeldgradienten proportionales Ausgangssignal liefern (siehe auch "Magnetfeldgradientenmesser"). |
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"Intrinsische Magnetfeldgradientenmesser" (6) (intrinsic magnetic gradiometers): Geräte zur Messung des Gradienten eines Magnetfelds, die einen einzelnen Magnetfeldgradienten-Messwertaufnehmer sowie zugehörige Elektronikschaltungen enthalten und ein zum gemessenen Magnetfeldgradienten proportionales Ausgangssignal liefern (siehe auch "Magnetfeldgradientenmesser").

| | "Isolierte lebende Kulturen" (1) (isolated livecultures): schließen lebende Kulturen in gefrorener Form und als Trockenpräparat ein. |
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"Isolierte lebende Kulturen" (1) (isolated livecultures): schließen lebende Kulturen in gefrorener Form und als Trockenpräparat ein.

| | "Isolierung" (9) (insulation): für die Bestandteile eines Raketenmotors (d. h. Gehäuse, Düseneinlass, Gehäusedeckel); schließt gehärtetes oder halbgehärtetes Gummiverbundmaterial ein, das isolierendes oder feuerfestes Material enthält, und kann auch zur Spannungsentlastung eingebracht sein. |
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"Isolierung" (9) (insulation): für die Bestandteile eines Raketenmotors (d. h. Gehäuse, Düseneinlass, Gehäusedeckel); schließt gehärtetes oder halbgehärtetes Gummiverbundmaterial ein, das isolierendes oder feuerfestes Material enthält, und kann auch zur Spannungsentlastung eingebracht sein.

| | "Isostatische Pressen" (2) (isostatic presses): haben eine geschlossene Druckkammer, in der über verschiedene Medien (Gas, Flüssigkeit, Feststoffteilchen) ein in allen Richtungen gleicher, auf Werkstück oder Werkstoff wirkender Druck erzeugt wird. |
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"Isostatische Pressen" (2) (isostatic presses): haben eine geschlossene Druckkammer, in der über verschiedene Medien (Gas, Flüssigkeit, Feststoffteilchen) ein in allen Richtungen gleicher, auf Werkstück oder Werkstoff wirkender Druck erzeugt wird.

| | "Kernreaktor" (0) (nuclear reactor): umfasst alle Bauteile im Inneren des Reaktorbehälters oder die mit dem Reaktorbehälter direkt verbundenen Bauteile, die Einrichtungen für die Steuerung des Leistungspegels des Reaktorkerns und die Bestandteile, die üblicherweise das Primärkühlmittel des Reaktorkerns enthalten und damit in unmittelbaren Kontakt kommen oder es steuern. |
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"Kernreaktor" (0) (nuclear reactor): umfasst alle Bauteile im Inneren des Reaktorbehälters oder die mit dem Reaktorbehälter direkt verbundenen Bauteile, die Einrichtungen für die Steuerung des Leistungspegels des Reaktorkerns und die Bestandteile, die üblicherweise das Primärkühlmittel des Reaktorkerns enthalten und damit in unmittelbaren Kontakt kommen oder es steuern.

| | "Kohlenstofffaser-Preform" (1) (carbon fibre preform): eine geregelte Anordnung unbeschichteter oder beschichteter Fasern für die Errichtung der Rahmenkonstruktion von einem Teil, bevor die "Matrix" zur Bildung eines "Verbundwerkstoffs" eingefügt wird. |
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"Kohlenstofffaser-Preform" (1) (carbon fibre preform): eine geregelte Anordnung unbeschichteter oder beschichteter Fasern für die Errichtung der Rahmenkonstruktion von einem Teil, bevor die "Matrix" zur Bildung eines "Verbundwerkstoffs" eingefügt wird.

| | "Kombinierter Schwenkrundtisch" (2) (compound rotary table): ein Tisch, mit dem ein Werkstück in zwei nicht parallelen Achsen gedreht und geschwenkt werden kann, wobei die Achsen simultan durch eine "Bahnsteuerung" koordiniert werden können. |
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"Kombinierter Schwenkrundtisch" (2) (compound rotary table): ein Tisch, mit dem ein Werkstück in zwei nicht parallelen Achsen gedreht und geschwenkt werden kann, wobei die Achsen simultan durch eine "Bahnsteuerung" koordiniert werden können.

| | "Kommunikationskanalsteuerung" (4) (communications channel controller): physikalische Schnittstelle zur Steuerung des Ablaufs von synchronen oder asynchronen digitalen Datenströmen. Es handelt sich um eine Baugruppe, die in Rechner oder in Telekommunikationseinrichtungen integriert werden kann, um Kommunikation zu ermöglichen. |
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"Kommunikationskanalsteuerung" (4) (communications channel controller): physikalische Schnittstelle zur Steuerung des Ablaufs von synchronen oder asynchronen digitalen Datenströmen. Es handelt sich um eine Baugruppe, die in Rechner oder in Telekommunikationseinrichtungen integriert werden kann, um Kommunikation zu ermöglichen.

| | "Kritische Temperatur (auch als Sprungtemperatur bezeichnet)" (1 3 6) (critical temperature (or transition temperature)): eines speziellen "supraleitenden" Materials ist die Temperatur, bei der das Material den Widerstand gegen den Gleichstromfluss vollständig verliert. |
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"Kritische Temperatur (auch als Sprungtemperatur bezeichnet)" (1 3 6) (critical temperature (or transition temperature)): eines speziellen "supraleitenden" Materials ist die Temperatur, bei der das Material den Widerstand gegen den Gleichstromfluss vollständig verliert.

| | "Kryptotechnik" (5) (cryptografy): die Technik der Prinzipien, Mittel und Methoden zur Transformation von Daten, um ihren Informationsinhalt unkenntlich zu machen, ihre unbemerkte Änderung oder ihren unerlaubten Gebrauch zu verhindern. Kryptotechnik beschränkt sich auf die Transformation von Informationen unter Benutzung eines oder mehrerer ‧geheimer Parameter‧ (z. B. Schlüssel-Variable) oder des zugehörigen Schlüssel-Managements.


  Anmerkung:‧Geheimer Parameter‧ (secret parameter): eine Konstante oder ein Schlüssel, der vor anderen geheim gehalten wird oder nur innerhalb einer Gruppe bekannt ist. |
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"Kryptotechnik" (5) (cryptografy): die Technik der Prinzipien, Mittel und Methoden zur Transformation von Daten, um ihren Informationsinhalt unkenntlich zu machen, ihre unbemerkte Änderung oder ihren unerlaubten Gebrauch zu verhindern. Kryptotechnik beschränkt sich auf die Transformation von Informationen unter Benutzung eines oder mehrerer ‧geheimer Parameter‧ (z. B. Schlüssel-Variable) oder des zugehörigen Schlüssel-Managements.

Anmerkung:‧Geheimer Parameter‧ (secret parameter): eine Konstante oder ein Schlüssel, der vor anderen geheim gehalten wird oder nur innerhalb einer Gruppe bekannt ist.

| | "Laser" (0 2 3 5 6 7 8 9) (laser): eine Anordnung von Bauteilen zum Erzeugen von räumlich und zeitlich kohärentem Licht, das durch stimulierte Emission von Strahlung verstärkt wird.

  Anmerkung: siehe auch | "Chemische Laser", |
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"Laser" (0 2 3 5 6 7 8 9) (laser): eine Anordnung von Bauteilen zum Erzeugen von räumlich und zeitlich kohärentem Licht, das durch stimulierte Emission von Strahlung verstärkt wird.

"Chemische Laser",

| | "Gütegeschaltete Laser", |
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"Gütegeschaltete Laser",

| | "Super-High Power Laser", |
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"Super-High Power Laser",

| | "Transfer-Laser". |
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"Transfer-Laser".

| | "Leistungsmanagement" (7) (power management): verändert die auf das Höhenmessersignal übertragene Leistung so, dass die erhaltene Leistung in der "Luftfahrzeug"-Höhe stets die geringstnötige zur Bestimmung der Höhe ist. |
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"Leistungsmanagement" (7) (power management): verändert die auf das Höhenmessersignal übertragene Leistung so, dass die erhaltene Leistung in der "Luftfahrzeug"-Höhe stets die geringstnötige zur Bestimmung der Höhe ist.

| | "Linearität" (2) (linearity): die maximale Abweichung der Ist-Kennlinie (Mittelwert der oberen und unteren Messwerte), in positiver oder negativer Richtung, von einer Geraden, die so gelegt ist, dass die größten Abweichungen ausgeglichen und so klein wie möglich gehalten werden. |
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"Linearität" (2) (linearity): die maximale Abweichung der Ist-Kennlinie (Mittelwert der oberen und unteren Messwerte), in positiver oder negativer Richtung, von einer Geraden, die so gelegt ist, dass die größten Abweichungen ausgeglichen und so klein wie möglich gehalten werden.

| | "Local Area Network" (4) (local area network): ein Datenkommunikationssystem mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | es erlaubt die direkte Kommunikation einer beliebigen Anzahl unabhängiger ‧Datengeräte‧ miteinander, und |
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"Local Area Network" (4) (local area network): ein Datenkommunikationssystem mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

es erlaubt die direkte Kommunikation einer beliebigen Anzahl unabhängiger ‧Datengeräte‧ miteinander, und

| b) | es ist beschränkt auf einen engen geografischen Bereich (z. B. Bürohaus, Fabrik, Universitätsgelände, Warenhaus). |
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b)

es ist beschränkt auf einen engen geografischen Bereich (z. B. Bürohaus, Fabrik, Universitätsgelände, Warenhaus).

Anmerkung:‧Datengerät‧ (data device): Geräte, die digitale Datenfolgen senden oder empfangen können.

| | "Luftfahrzeug" (1 7 9) (aircraft): ein Fluggerät mit feststehenden, schwenkbaren oder rotierenden (Hubschrauber) Tragflächen, mit Kipprotoren oder Kippflügeln (siehe auch "zivile Luftfahrzeuge"). |
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"Luftfahrzeug" (1 7 9) (aircraft): ein Fluggerät mit feststehenden, schwenkbaren oder rotierenden (Hubschrauber) Tragflächen, mit Kipprotoren oder Kippflügeln (siehe auch "zivile Luftfahrzeuge").

| | "Magnetfeldgradientenmesser" (6) (magnetic gradiometers): Geräte zur Messung der räumlichen Veränderung der Magnetfelder von Quellen außerhalb des Geräts. Ein Magnetfeldgradientenmesser besteht aus mehreren "Magnetometern" sowie zugehörigen Elektronikschaltungen, deren Ausgangssignal ein Maß für den Magnetfeldgradienten ist (siehe auch "intrinsische Magnetfeldgradientenmesser"). |
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"Magnetfeldgradientenmesser" (6) (magnetic gradiometers): Geräte zur Messung der räumlichen Veränderung der Magnetfelder von Quellen außerhalb des Geräts. Ein Magnetfeldgradientenmesser besteht aus mehreren "Magnetometern" sowie zugehörigen Elektronikschaltungen, deren Ausgangssignal ein Maß für den Magnetfeldgradienten ist (siehe auch "intrinsische Magnetfeldgradientenmesser").

| | "Magnetometer" (6) (magnetometers): Geräte zur Messung der Magnetfelder von Quellen außerhalb des Geräts. Ein Magnetometer besteht aus einem einzelnen Magnetfeld-Messwertaufnehmer sowie zugehörigen Elektronikschaltungen und liefert ein zum gemessenen Magnetfeld proportionales Ausgangssignal. |
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"Magnetometer" (6) (magnetometers): Geräte zur Messung der Magnetfelder von Quellen außerhalb des Geräts. Ein Magnetometer besteht aus einem einzelnen Magnetfeld-Messwertaufnehmer sowie zugehörigen Elektronikschaltungen und liefert ein zum gemessenen Magnetfeld proportionales Ausgangssignal.

| | "Matrix" (1 2 8 9) (matrix): eine im Wesentlichen einheitliche Phase, die den Raum zwischen Partikeln, Whiskern oder Fasern füllt. |
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"Matrix" (1 2 8 9) (matrix): eine im Wesentlichen einheitliche Phase, die den Raum zwischen Partikeln, Whiskern oder Fasern füllt.

| | "Mechanisches Legieren" (1) (mechanical alloying): ein Legierungsverfahren, das sich aus der Bindung, Zerbrechung und Wiederbindung elementarer und Vorlegierungspulver durch mechanischen Aufprall ergibt. Nichtmetallische Teilchen können durch Zugabe des geeigneten Pulvers in die Legierung eingebracht werden. |
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"Mechanisches Legieren" (1) (mechanical alloying): ein Legierungsverfahren, das sich aus der Bindung, Zerbrechung und Wiederbindung elementarer und Vorlegierungspulver durch mechanischen Aufprall ergibt. Nichtmetallische Teilchen können durch Zugabe des geeigneten Pulvers in die Legierung eingebracht werden.

| | "Mehrfachdatenstromverarbeitung" (4) (multi-data-stream processing): ‧Mikroprogramm‧- oder Rechnerarchitektur-Technik zur simultanen Verarbeitung von mindestens zwei Datenfolgen unter der Steuerung mindestens einer Befehlsfolge, wie:






  a) | SIMD (single instruction multiple data) für z. B. Vektor- oder Array-Rechner, |
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"Mehrfachdatenstromverarbeitung" (4) (multi-data-stream processing): ‧Mikroprogramm‧- oder Rechnerarchitektur-Technik zur simultanen Verarbeitung von mindestens zwei Datenfolgen unter der Steuerung mindestens einer Befehlsfolge, wie:

a)

SIMD (single instruction multiple data) für z. B. Vektor- oder Array-Rechner,

| b) | MSIMD (multiple single instruction multiple data), |
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b)

MSIMD (multiple single instruction multiple data),

| c) | MIMD (multiple instruction multiple data) einschließlich straff (tightly), eng (closely) oder lose (loosely) gekoppelter Architekturen oder |
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c)

MIMD (multiple instruction multiple data) einschließlich straff (tightly), eng (closely) oder lose (loosely) gekoppelter Architekturen oder

| d) | strukturierte Anordnungen (Datenfelder) von Recheneinheiten einschließlich "systolischer Array-Rechner". |
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d)

strukturierte Anordnungen (Datenfelder) von Recheneinheiten einschließlich "systolischer Array-Rechner".

Anmerkung:‧Mikroprogramm‧(microprogramme): eine in einem speziellen Speicherbereich dauerhaft gespeicherte Folge von elementaren Befehlen, deren Ausführung durch das Einbringen des Referenzbefehls in ein Befehlsregister eingeleitet wird.

| | "Messunsicherheit" (2) (measurement uncertainty): die Kenngröße, die angibt, in welchem Bereich um den angegebenen Wert der richtige Wert der Messgröße mit einer statistischen Sicherheit von 95 % (Bezug: VDI/VDE 2617, Blatt 1) oder 100 % (Bezug: ISO 10360-2) liegt. Sie umfasst die nicht korrigierten, systematischen Abweichungen, die nicht korrigierte Umkehrspanne und die zufälligen Abweichungen. |
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"Messunsicherheit" (2) (measurement uncertainty): die Kenngröße, die angibt, in welchem Bereich um den angegebenen Wert der richtige Wert der Messgröße mit einer statistischen Sicherheit von 95 % (Bezug: VDI/VDE 2617, Blatt 1) oder 100 % (Bezug: ISO 10360-2) liegt. Sie umfasst die nicht korrigierten, systematischen Abweichungen, die nicht korrigierte Umkehrspanne und die zufälligen Abweichungen.

| | "Mikrocomputer" (3) (microcomputer microcircuit): eine "monolithisch integrierte Schaltung" oder "integrierte Multichip-Schaltung" mit einer arithmetischen Logikeinheit (ALU), die geeignet ist, allgemeine Befehle aus einem internen Speicher zur Abarbeitung von Daten, die in dem internen Speicher enthalten sind, auszuführen.


  Anmerkung: Der interne Speicher kann durch einen externen Speicher erweitert werden. |
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"Mikrocomputer" (3) (microcomputer microcircuit): eine "monolithisch integrierte Schaltung" oder "integrierte Multichip-Schaltung" mit einer arithmetischen Logikeinheit (ALU), die geeignet ist, allgemeine Befehle aus einem internen Speicher zur Abarbeitung von Daten, die in dem internen Speicher enthalten sind, auszuführen.

Anmerkung: Der interne Speicher kann durch einen externen Speicher erweitert werden.

| | "Mikroorganismen" (1 2) (microorganisms): Bakterien, Viren, Mycoplasma, Rickettsiae, Chlamydiae oder Pilze in natürlicher, adaptierter oder modifizierter Form entweder in Form "isolierter lebender Kulturen" oder als Material, das gezielt mit solchen Kulturen geimpft oder kontaminiert wurde. |
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"Mikroorganismen" (1 2) (microorganisms): Bakterien, Viren, Mycoplasma, Rickettsiae, Chlamydiae oder Pilze in natürlicher, adaptierter oder modifizierter Form entweder in Form "isolierter lebender Kulturen" oder als Material, das gezielt mit solchen Kulturen geimpft oder kontaminiert wurde.

| | "Mikroprozessor" (3) (microprocessor microcircuit): eine "monolithisch integrierte Schaltung" oder "integrierte Multichip-Schaltung" mit einer arithmetischen Logikeinheit (ALU), die geeignet ist, eine Reihe allgemeiner Befehle von einem externen Speicher auszuführen.


  Anmerkung 1: Der "Mikroprozessor" enthält üblicherweise keinen anwenderzugänglichen Speicher als integralen Bestandteil, es kann jedoch auf dem Chip vorhandener Speicherplatz zur Erfüllung seiner Logikfunktionen genutzt werden.



  Anmerkung 2: Diese Definition schließt auch Chipsets ein, die entwickelt wurden, um zusammengeschaltet wie ein "Mikroprozessor" zu arbeiten. |
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"Mikroprozessor" (3) (microprocessor microcircuit): eine "monolithisch integrierte Schaltung" oder "integrierte Multichip-Schaltung" mit einer arithmetischen Logikeinheit (ALU), die geeignet ist, eine Reihe allgemeiner Befehle von einem externen Speicher auszuführen.

Anmerkung 1: Der "Mikroprozessor" enthält üblicherweise keinen anwenderzugänglichen Speicher als integralen Bestandteil, es kann jedoch auf dem Chip vorhandener Speicherplatz zur Erfüllung seiner Logikfunktionen genutzt werden.

Anmerkung 2: Diese Definition schließt auch Chipsets ein, die entwickelt wurden, um zusammengeschaltet wie ein "Mikroprozessor" zu arbeiten.

| | "Mischungen von Chemikalien" (1) (chemical mixture): ein festes, flüssiges oder gasförmiges Produkt, zusammengesetzt aus zwei oder mehreren Komponenten, die unter den Bedingungen, unter denen die Mischung gelagert wird, nicht miteinander reagieren. |
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"Mischungen von Chemikalien" (1) (chemical mixture): ein festes, flüssiges oder gasförmiges Produkt, zusammengesetzt aus zwei oder mehreren Komponenten, die unter den Bedingungen, unter denen die Mischung gelagert wird, nicht miteinander reagieren.

| | "Miteinander verbundene Radarsensoren" (6) (interconnected radar sensors): zwei oder mehrere Radarsensoren, die miteinander Daten in Echtzeit austauschen können. |
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"Miteinander verbundene Radarsensoren" (6) (interconnected radar sensors): zwei oder mehrere Radarsensoren, die miteinander Daten in Echtzeit austauschen können.

| | "Momentan-Bandbreite" (3 5 7) (instantaneous bandwidth): die Bandbreite, bei der die Ausgangsleistung innerhalb einer Toleranz von 3 dB konstant bleibt, ohne dass andere Funktionsparameter angepasst werden müssen. |
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"Momentan-Bandbreite" (3 5 7) (instantaneous bandwidth): die Bandbreite, bei der die Ausgangsleistung innerhalb einer Toleranz von 3 dB konstant bleibt, ohne dass andere Funktionsparameter angepasst werden müssen.

| | "Monolithische Substrate" (6) (substrate blanks): monolithische Verbindungen mit Abmessungen, die geeignet sind zur Herstellung optischer Bauteile wie Spiegel oder Linsen. |
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"Monolithische Substrate" (6) (substrate blanks): monolithische Verbindungen mit Abmessungen, die geeignet sind zur Herstellung optischer Bauteile wie Spiegel oder Linsen.

| | "Monolithisch integrierte Schaltung" (3) (monolithic integrated circuit): eine Kombination aus passiven oder aktiven ‧Schaltungselementen‧ oder aus beiden, die






  a) | durch Diffusions-, Implantations- oder Abscheidungsverfahren in oder auf einem einzelnen Halbleiter-Substrat, einem so genannten Chip, gebildet sind, |
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"Monolithisch integrierte Schaltung" (3) (monolithic integrated circuit): eine Kombination aus passiven oder aktiven ‧Schaltungselementen‧ oder aus beiden, die

a)

durch Diffusions-, Implantations- oder Abscheidungsverfahren in oder auf einem einzelnen Halbleiter-Substrat, einem so genannten Chip, gebildet sind,

| b) | unteilbar miteinander verbunden sind und |
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b)

unteilbar miteinander verbunden sind und

| c) | eine oder mehrere Funktionen einer Schaltung ausführen. |
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c)

eine oder mehrere Funktionen einer Schaltung ausführen.

Anmerkung:‧Schaltungselement‧ (circuit element): eine einzelne aktive oder passive Funktionseinheit einer elektronischen Schaltung, z. B. eine Diode, ein Transistor, ein Widerstand, ein Kondensator.

| | "Monospektrale Bildsensoren" (6) (monospectral imaging sensors): können Bilddaten von einem diskreten Spektralband erfassen. |
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"Monospektrale Bildsensoren" (6) (monospectral imaging sensors): können Bilddaten von einem diskreten Spektralband erfassen.

| | "Multispektrale Bildsensoren" (6) (multispectral imaging sensors): können Bilddaten von zwei oder mehreren diskreten Spektralbändern gleichzeitig oder seriell erfassen. Sensoren mit mehr als zwanzig diskreten Spektralbändern werden auch als hyperspektrale Bildsensoren bezeichnet. |
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"Multispektrale Bildsensoren" (6) (multispectral imaging sensors): können Bilddaten von zwei oder mehreren diskreten Spektralbändern gleichzeitig oder seriell erfassen. Sensoren mit mehr als zwanzig diskreten Spektralbändern werden auch als hyperspektrale Bildsensoren bezeichnet.

| | "Natürliches Uran" (0) (natural uranium): Uran mit einer natürlich vorkommenden Mischung von Isotopen. |
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"Natürliches Uran" (0) (natural uranium): Uran mit einer natürlich vorkommenden Mischung von Isotopen.

| | "Netzzugangssteuerung" (4) (network access controller): physikalische Schnittstelle zu einem dezentralen Netzwerk. Hierbei wird ein gemeinsames Übertragungsmedium eingesetzt, das überall mit derselben "digitalen Übertragungsrate" arbeitet und beliebige Übermittlung durch das Netz bietet (z. B. "Token" oder "Carrier sense"). Es werden voneinander unabhängige Datenpakete oder Datengruppen, die entsprechend adressiert sind, angenommen (z. B. IEEE 802). Die Netzzugangssteuerung ist eine Baugruppe, die in Rechnern oder Telekommunikationseinrichtungen integriert sein kann, um diesen Telekommunikationszugang zu verschaffen. |
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"Netzzugangssteuerung" (4) (network access controller): physikalische Schnittstelle zu einem dezentralen Netzwerk. Hierbei wird ein gemeinsames Übertragungsmedium eingesetzt, das überall mit derselben "digitalen Übertragungsrate" arbeitet und beliebige Übermittlung durch das Netz bietet (z. B. "Token" oder "Carrier sense"). Es werden voneinander unabhängige Datenpakete oder Datengruppen, die entsprechend adressiert sind, angenommen (z. B. IEEE 802). Die Netzzugangssteuerung ist eine Baugruppe, die in Rechnern oder Telekommunikationseinrichtungen integriert sein kann, um diesen Telekommunikationszugang zu verschaffen.

| | "Neuronaler Rechner" (4) (neural computer): Rechengerät, konstruiert oder geändert zur Nachahmung des Verhaltens eines oder mehrerer Neuronen, d. h. ein Rechengerät, das durch seine Hardwareeigenschaften geeignet ist, die Gewichtungen und Anzahl von Verbindungen einer Vielzahl von Recheneinheiten in Abhängigkeit von verarbeiteten Daten zu regulieren. |
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"Neuronaler Rechner" (4) (neural computer): Rechengerät, konstruiert oder geändert zur Nachahmung des Verhaltens eines oder mehrerer Neuronen, d. h. ein Rechengerät, das durch seine Hardwareeigenschaften geeignet ist, die Gewichtungen und Anzahl von Verbindungen einer Vielzahl von Recheneinheiten in Abhängigkeit von verarbeiteten Daten zu regulieren.

| | "(Nicht-) Vertragsstaaten des Chemiewaffenübereinkommens" (1) (States (not) Party to the Chemical Weapons Convention): solche Staaten, die das Übereinkommen über das Verbot der Entwicklung, Herstellung, Lagerung und des Einsatzes chemischer Waffen (nicht) ratifiziert haben. (siehe: www.opcw.org) |
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"(Nicht-) Vertragsstaaten des Chemiewaffenübereinkommens" (1) (States (not) Party to the Chemical Weapons Convention): solche Staaten, die das Übereinkommen über das Verbot der Entwicklung, Herstellung, Lagerung und des Einsatzes chemischer Waffen (nicht) ratifiziert haben. (siehe: www.opcw.org)

| | "Normierte Bandbreite" (3) (fractional bandwidth): die "Momentan-Bandbreite" geteilt durch die Mittenfrequenz, angegeben in Prozent. |
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"Normierte Bandbreite" (3) (fractional bandwidth): die "Momentan-Bandbreite" geteilt durch die Mittenfrequenz, angegeben in Prozent.

| | "Nullpunkt" (Beschleunigungsmesser) (7) (bias (accelerometer)): das von einem Beschleunigungsmesser ohne vorhandene Beschleunigung ausgegebene Signal. |
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"Nullpunkt" (Beschleunigungsmesser) (7) (bias (accelerometer)): das von einem Beschleunigungsmesser ohne vorhandene Beschleunigung ausgegebene Signal.

| | "Numerische Steuerung" (2) (numerical control): die automatische Steuerung eines Prozesses durch ein Gerät, das numerische Daten benutzt, die normalerweise während des Arbeitsgangs eingegeben werden (Bezug: ISO 2382). |
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"Numerische Steuerung" (2) (numerical control): die automatische Steuerung eines Prozesses durch ein Gerät, das numerische Daten benutzt, die normalerweise während des Arbeitsgangs eingegeben werden (Bezug: ISO 2382).

| | "Objektcode" (9) (object code): die maschinenlauffähige Form einer geeigneten Beschreibung einer oder mehrerer Prozesse, die durch ein Programmiersystem umgewandelt wurde. |
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"Objektcode" (9) (object code): die maschinenlauffähige Form einer geeigneten Beschreibung einer oder mehrerer Prozesse, die durch ein Programmiersystem umgewandelt wurde.

| | "Optische Sensor-Arrays für Flugsteuerungszwecke" (7) (flight control optical sensor array): miteinander verbundene optische Sensoren auf "Laser"basis, die Echtzeit-Flugdaten für die bordseitige Verarbeitung liefern. |
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"Optische Sensor-Arrays für Flugsteuerungszwecke" (7) (flight control optical sensor array): miteinander verbundene optische Sensoren auf "Laser"basis, die Echtzeit-Flugdaten für die bordseitige Verarbeitung liefern.

| | "Optische Vermittlung" (5) (optical switching): das Vermitteln oder Durchschalten optischer Signale ohne Umwandlung in elektrische Signale. |
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"Optische Vermittlung" (5) (optical switching): das Vermitteln oder Durchschalten optischer Signale ohne Umwandlung in elektrische Signale.

| | "Optische Verstärkung" (5) (optical amplification): eine Verstärkertechnik für die optische Kommunikation, die eine Verstärkung optischer Signale, die durch eine separate optische Quelle generiert werden, ohne Umwandlung in elektrische Signale erlaubt, z. B. durch Verwendung von optischen Halbleiterverstärkern, LWL-Luminiszenzverstärkern. |
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"Optische Verstärkung" (5) (optical amplification): eine Verstärkertechnik für die optische Kommunikation, die eine Verstärkung optischer Signale, die durch eine separate optische Quelle generiert werden, ohne Umwandlung in elektrische Signale erlaubt, z. B. durch Verwendung von optischen Halbleiterverstärkern, LWL-Luminiszenzverstärkern.

| | "Optischer Rechner" (4) (optical computer): Rechner, konstruiert oder geändert zur Darstellung von Daten durch Licht. Seine logischen Schaltungen basieren auf direkt gekoppelten Optoschaltelementen. |
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"Optischer Rechner" (4) (optical computer): Rechner, konstruiert oder geändert zur Darstellung von Daten durch Licht. Seine logischen Schaltungen basieren auf direkt gekoppelten Optoschaltelementen.

| | "Personenbezogene Mikroprozessor-Karte" (5) (personalized smart card): eine Chip-Karte mit einer Mikroprozessor-/Mikrocomputerschaltung, die für eine bestimmte Anwendung programmiert wurde und die vom Benutzer nicht für eine andere Anwendung umprogrammiert werden kann. |
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"Personenbezogene Mikroprozessor-Karte" (5) (personalized smart card): eine Chip-Karte mit einer Mikroprozessor-/Mikrocomputerschaltung, die für eine bestimmte Anwendung programmiert wurde und die vom Benutzer nicht für eine andere Anwendung umprogrammiert werden kann.

| | "Planlaufabweichung" (2) (camming): die axiale Verlagerung bei einer Umdrehung der Hauptspindel, gemessen senkrecht zur Stirnfläche der Spindel in der Nähe des Umfangs der Stirnfläche (Bezug ISO 230/1 1986, Nr. 5.63). |
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"Planlaufabweichung" (2) (camming): die axiale Verlagerung bei einer Umdrehung der Hauptspindel, gemessen senkrecht zur Stirnfläche der Spindel in der Nähe des Umfangs der Stirnfläche (Bezug ISO 230/1 1986, Nr. 5.63).

| | "Programm" (2 4 5 6) (programme): eine Folge von Befehlen zur Ausführung eines Prozesses in einer Form oder umsetzbar in eine Form, die von einem Elektronenrechner ausführbar ist. |
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"Programm" (2 4 5 6) (programme): eine Folge von Befehlen zur Ausführung eines Prozesses in einer Form oder umsetzbar in eine Form, die von einem Elektronenrechner ausführbar ist.

| | "Pulsdauer" (6) (pulse duration): Dauer eines "Laser"-Pulses, gemessen als volle Halbwertsbreite des Intensitätsmaximums (FWHI). |
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"Pulsdauer" (6) (pulse duration): Dauer eines "Laser"-Pulses, gemessen als volle Halbwertsbreite des Intensitätsmaximums (FWHI).

| | "Pulverisierung" (1) (comminution): ein Verfahren, bei dem ein Material durch Zerbrechen, Zerstoßen oder Zerreiben zu Teilchen zerkleinert wird. |
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"Pulverisierung" (1) (comminution): ein Verfahren, bei dem ein Material durch Zerbrechen, Zerstoßen oder Zerreiben zu Teilchen zerkleinert wird.

| | "Quellcode oder Quell-Programmiersprache" (4 5 6 7 9) (source code or source language): geeignete Beschreibung eines oder mehrerer Prozesse, die durch ein Programmiersystem in maschinenablauffähigen Code ("Objectcode" oder Object-Programmiersprache) umgewandelt werden kann. |
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"Quellcode oder Quell-Programmiersprache" (4 5 6 7 9) (source code or source language): geeignete Beschreibung eines oder mehrerer Prozesse, die durch ein Programmiersystem in maschinenablauffähigen Code ("Objectcode" oder Object-Programmiersprache) umgewandelt werden kann.

| | "Raumfahrzeuge" (7 9) (spacecraft): aktive und passive Satelliten und Raumsonden. |
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"Raumfahrzeuge" (7 9) (spacecraft): aktive und passive Satelliten und Raumsonden.

| | "Rauschpegel" (6) (noise level): ein Maß, basierend auf der spektralen Leistungsdichte eines elektrischen Signals. Der Spitze-Spitze-Wert des Rauschpegels ist gleich S2
  pp = 8 No (f2-f1), wobei Spp die Spitze-Spitze-Amplitude des Signals (z. B. in nT), No die spektrale Leistungsdichte (z. B. nT2/Hz) und f2-f1 die interessierende Bandbreite ist. |
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"Rauschpegel" (6) (noise level): ein Maß, basierend auf der spektralen Leistungsdichte eines elektrischen Signals. Der Spitze-Spitze-Wert des Rauschpegels ist gleich S2
  pp = 8 No (f2-f1), wobei Spp die Spitze-Spitze-Amplitude des Signals (z. B. in nT), No die spektrale Leistungsdichte (z. B. nT2/Hz) und f2-f1 die interessierende Bandbreite ist.

| | "Rechenelement" (4) (computing element, CE): kleinste rechnende Einheit, die ein arithmetisches oder logisches Ergebnis liefert. |
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"Rechenelement" (4) (computing element, CE): kleinste rechnende Einheit, die ein arithmetisches oder logisches Ergebnis liefert.

| | "Roboter" (2 8) (robot): ein Handhabungssystem, das bahn- oder punktgesteuert sein kann, Sensoren benutzen kann und alle folgenden Eigenschaften aufweist:






  a) | multifunktional, |
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"Roboter" (2 8) (robot): ein Handhabungssystem, das bahn- oder punktgesteuert sein kann, Sensoren benutzen kann und alle folgenden Eigenschaften aufweist:

a)

multifunktional,

| b) | fähig, Material, Teile, Werkzeuge oder Spezialvorrichtungen durch veränderliche Bewegungen im dreidimensionalen Raum zu positionieren oder auszurichten, |
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b)

fähig, Material, Teile, Werkzeuge oder Spezialvorrichtungen durch veränderliche Bewegungen im dreidimensionalen Raum zu positionieren oder auszurichten,

| c) | mit drei oder mehr Regel- oder Stellantrieben, die Schrittmotoren einschließen können, und |
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c)

mit drei oder mehr Regel- oder Stellantrieben, die Schrittmotoren einschließen können, und

| d) | mit "anwenderzugänglicher Programmierbarkeit" durch Eingabe-/Wiedergabe-Verfahren (teach/playback) oder durch einen Elektronenrechner, der auch eine speicherprogrammierbare Steuerung sein kann, d. h. ohne mechanischen Eingriff. |
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d)

mit "anwenderzugänglicher Programmierbarkeit" durch Eingabe-/Wiedergabe-Verfahren (teach/playback) oder durch einen Elektronenrechner, der auch eine speicherprogrammierbare Steuerung sein kann, d. h. ohne mechanischen Eingriff.

Anmerkung: Diese Definition umfasst nicht folgende Geräte:

| 1. | ausschließlich hand- oder fernsteuerbare Handhabungssysteme, |
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1.

ausschließlich hand- oder fernsteuerbare Handhabungssysteme,

| 2. | Handhabungssysteme mit festem Ablauf (Bewegungsautomaten), die mechanisch festgelegte Bewegungen ausführen. Das Programm wird durch feste Anschläge wie Stifte oder Nocken mechanisch begrenzt. Der Bewegungsablauf und die Wahl der Bahnen oder Winkel können mechanisch, elektronisch oder elektrisch nicht geändert werden, |
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2.

Handhabungssysteme mit festem Ablauf (Bewegungsautomaten), die mechanisch festgelegte Bewegungen ausführen. Das Programm wird durch feste Anschläge wie Stifte oder Nocken mechanisch begrenzt. Der Bewegungsablauf und die Wahl der Bahnen oder Winkel können mechanisch, elektronisch oder elektrisch nicht geändert werden,

| 3. | mechanisch gesteuerte Handhabungssysteme mit veränderlichem Ablauf (Bewegungsautomaten), die mechanisch festgelegte Bewegungen ausführen. Das Programm wird durch feste, aber verstellbare Anschläge wie Stifte und Nocken mechanisch begrenzt. Der Bewegungsablauf und die Wahl der Bahnen oder Winkel sind innerhalb des festgelegten Programmablaufs veränderbar. Veränderungen oder Modifikationen des Programmablaufs (z. B. durch Wechsel von Stiften oder Austausch von Nocken) in einer oder mehreren Bewegungsachsen werden nur durch mechanische Vorgänge ausgeführt, |
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3.

mechanisch gesteuerte Handhabungssysteme mit veränderlichem Ablauf (Bewegungsautomaten), die mechanisch festgelegte Bewegungen ausführen. Das Programm wird durch feste, aber verstellbare Anschläge wie Stifte und Nocken mechanisch begrenzt. Der Bewegungsablauf und die Wahl der Bahnen oder Winkel sind innerhalb des festgelegten Programmablaufs veränderbar. Veränderungen oder Modifikationen des Programmablaufs (z. B. durch Wechsel von Stiften oder Austausch von Nocken) in einer oder mehreren Bewegungsachsen werden nur durch mechanische Vorgänge ausgeführt,

| 4. | nicht antriebsgeregelte Handhabungssysteme mit veränderlichem Ablauf (Bewegungsautomaten), die mechanisch festgelegte Bewegungen ausführen. Das Programm ist veränderbar, der Ablauf erfolgt aber nur nach dem Binärsignal von mechanisch festgelegten elektrischen Binärgeräten oder verstellbaren Anschlägen, |
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4.

nicht antriebsgeregelte Handhabungssysteme mit veränderlichem Ablauf (Bewegungsautomaten), die mechanisch festgelegte Bewegungen ausführen. Das Programm ist veränderbar, der Ablauf erfolgt aber nur nach dem Binärsignal von mechanisch festgelegten elektrischen Binärgeräten oder verstellbaren Anschlägen,

| 5. | Regalförderzeuge, die als Handhabungssysteme mit kartesischen Koordinaten bezeichnet werden und als wesentlicher Bestandteil vertikaler Lagereinrichtungen gefertigt und so konstruiert sind, dass sie Lagergut in die Lagereinrichtungen einbringen und aus diesen entnehmen. |
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5.

Regalförderzeuge, die als Handhabungssysteme mit kartesischen Koordinaten bezeichnet werden und als wesentlicher Bestandteil vertikaler Lagereinrichtungen gefertigt und so konstruiert sind, dass sie Lagergut in die Lagereinrichtungen einbringen und aus diesen entnehmen.

| | "Rotationszerstäubung" (1) (rotary atomization): ein Verfahren, bei dem ein schmelzflüssiger Metallstrom oder eine Metallschmelze durch Zentrifugalkraft zu Tröpfchen mit einem Durchmesser kleiner/gleich 500 μm zerstäubt wird. |
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"Rotationszerstäubung" (1) (rotary atomization): ein Verfahren, bei dem ein schmelzflüssiger Metallstrom oder eine Metallschmelze durch Zentrifugalkraft zu Tröpfchen mit einem Durchmesser kleiner/gleich 500 μm zerstäubt wird.

| | "Rundlaufabweichung" (2) (run-out): die radiale Verlagerung bei einer Umdrehung der Hauptspindel, gemessen senkrecht zur Spindelachse auf der zu prüfenden inneren und äußeren Oberfläche der Spindel (Bezug ISO 230/1 1986, Nr. 5.61). |
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"Rundlaufabweichung" (2) (run-out): die radiale Verlagerung bei einer Umdrehung der Hauptspindel, gemessen senkrecht zur Spindelachse auf der zu prüfenden inneren und äußeren Oberfläche der Spindel (Bezug ISO 230/1 1986, Nr. 5.61).

| | "Schmelzextraktion" (1) (melt extraction): ein Verfahren, bei dem zur ‧schnellen Erstarrung‧ und Extraktion eines streifenförmigen Legierungserzeugnisses ein kurzes Segment eines rotierenden Abschreckblockes in eine Metalllegierungsschmelze eingetaucht wird.


  Anmerkung:‧Schnelle Erstarrung‧ (solidify rapidly) ist die Erstarrung geschmolzenen Materials bei Abkühlungsraten größer als 1 000 K/s. |
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"Schmelzextraktion" (1) (melt extraction): ein Verfahren, bei dem zur ‧schnellen Erstarrung‧ und Extraktion eines streifenförmigen Legierungserzeugnisses ein kurzes Segment eines rotierenden Abschreckblockes in eine Metalllegierungsschmelze eingetaucht wird.

Anmerkung:‧Schnelle Erstarrung‧ (solidify rapidly) ist die Erstarrung geschmolzenen Materials bei Abkühlungsraten größer als 1 000 K/s.

| | "Schmelzspinnen" (1) (melt spinning): ein Verfahren, bei dem der Strom einer Metallschmelze zur ‧schnellen Erstarrung‧ auf einen rotierenden Abschreckblock aufprallt, wobei flockige, streifen- oder stäbchenförmige Erzeugnisse entstehen.


  Anmerkung:‧Schnelle Erstarrung‧ (solidify rapidly) ist die Erstarrung geschmolzenen Materials bei Abkühlungsraten größer als 1 000 K/s. |
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"Schmelzspinnen" (1) (melt spinning): ein Verfahren, bei dem der Strom einer Metallschmelze zur ‧schnellen Erstarrung‧ auf einen rotierenden Abschreckblock aufprallt, wobei flockige, streifen- oder stäbchenförmige Erzeugnisse entstehen.

Anmerkung:‧Schnelle Erstarrung‧ (solidify rapidly) ist die Erstarrung geschmolzenen Materials bei Abkühlungsraten größer als 1 000 K/s.

| | "Schwenkspindel" (2) (tilting spindle): eine Werkzeugspindel, die die Winkelposition ihrer Spindel-Mittellinie zu jeder anderen Achse während des Bearbeitungsvorgangs verändert. |
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"Schwenkspindel" (2) (tilting spindle): eine Werkzeugspindel, die die Winkelposition ihrer Spindel-Mittellinie zu jeder anderen Achse während des Bearbeitungsvorgangs verändert.

| | "Seil" (1) (tow): ein Bündel von "Einzelfäden" (monofilaments), die normalerweise annähernd parallel verlaufen. |
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"Seil" (1) (tow): ein Bündel von "Einzelfäden" (monofilaments), die normalerweise annähernd parallel verlaufen.

| | "SHPL" (6): siehe "Super-High Power Laser". |
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"SHPL" (6): siehe "Super-High Power Laser".

| | "Signalanalysatoren" (3) (signal analysers): Geräte, die Hauptmerkmale der Einzelfrequenzanteile aus Mehrfrequenzsignalen messen und anzeigen können. Siehe auch "dynamische Signalanalysatoren". |
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"Signalanalysatoren" (3) (signal analysers): Geräte, die Hauptmerkmale der Einzelfrequenzanteile aus Mehrfrequenzsignalen messen und anzeigen können. Siehe auch "dynamische Signalanalysatoren".

| | "Signaldatenverarbeitung" (3 4 5 6) (signal processing): die Verarbeitung von außen kommender, informationstragender Signale durch Algorithmen wie Zeitkompression, Filterung, Auszug, Auswahl, Korrelation, Konvolution oder Transformationen zwischen Bereichen (z. B. Fast-Fourier-Transformation oder Walsh-Transformation). |
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"Signaldatenverarbeitung" (3 4 5 6) (signal processing): die Verarbeitung von außen kommender, informationstragender Signale durch Algorithmen wie Zeitkompression, Filterung, Auszug, Auswahl, Korrelation, Konvolution oder Transformationen zwischen Bereichen (z. B. Fast-Fourier-Transformation oder Walsh-Transformation).

| | "Signalisierung über zentralen Zeichengabekanal" (5) (common channel signalling): ein Signalisierungsverfahren zwischen Vermittlungen, bei dem über einen einzelnen Kanal Signalisierungsinformationen für eine Vielzahl von Verbindungen oder Rufen und anderen Informationen, z. B. für die Netzwerksteuerung (Network Management), übermittelt werden, wobei adressierte Nachrichten (labelled messages) verwendet werden. |
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"Signalisierung über zentralen Zeichengabekanal" (5) (common channel signalling): ein Signalisierungsverfahren zwischen Vermittlungen, bei dem über einen einzelnen Kanal Signalisierungsinformationen für eine Vielzahl von Verbindungen oder Rufen und anderen Informationen, z. B. für die Netzwerksteuerung (Network Management), übermittelt werden, wobei adressierte Nachrichten (labelled messages) verwendet werden.

| | "Signallaufzeit des Grundgatters" (3) (basic gate propagation delay time): der Wert der Signallaufzeit, bezogen auf das Grundgatter, welches in einer "monolithisch integrierten Schaltung" verwendet wird. Für eine Familie von "monolithisch integrierten Schaltungen" kann dieser Wert entweder als Signallaufzeit je typisches Grundgatter in dieser Familie oder als typische Signallaufzeit je Gatter in dieser Familie angegeben werden.


  Anmerkung 1: Die "Signallaufzeit des Grundgatters" ist nicht mit der Eingangs-/Ausgangsverzögerungszeit einer komplexen, monolithisch integrierten Schaltung zu verwechseln.



  Anmerkung 2: Eine Familie besteht aus allen Integrierten Schaltungen, bei denen alle folgenden Eigenschaften bei ihren Herstellmethoden und -regeln sowie Spezifikationen angewendet worden sind, ausgenommen ihre speziellen Funktionen:








  a) | gemeinsame Hard- und Softwarearchitektur, |
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"Signallaufzeit des Grundgatters" (3) (basic gate propagation delay time): der Wert der Signallaufzeit, bezogen auf das Grundgatter, welches in einer "monolithisch integrierten Schaltung" verwendet wird. Für eine Familie von "monolithisch integrierten Schaltungen" kann dieser Wert entweder als Signallaufzeit je typisches Grundgatter in dieser Familie oder als typische Signallaufzeit je Gatter in dieser Familie angegeben werden.

Anmerkung 1: Die "Signallaufzeit des Grundgatters" ist nicht mit der Eingangs-/Ausgangsverzögerungszeit einer komplexen, monolithisch integrierten Schaltung zu verwechseln.

Anmerkung 2: Eine Familie besteht aus allen Integrierten Schaltungen, bei denen alle folgenden Eigenschaften bei ihren Herstellmethoden und -regeln sowie Spezifikationen angewendet worden sind, ausgenommen ihre speziellen Funktionen:

a)

gemeinsame Hard- und Softwarearchitektur,

| b) | gemeinsame Entwurfs- und Prozess-Technologie und |
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b)

gemeinsame Entwurfs- und Prozess-Technologie und

| c) | gemeinsame Grundcharakteristiken. |
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c)

gemeinsame Grundcharakteristiken.

| | "Skalierungsfaktor" (Kreisel oder Beschleunigungsmesser) (7) (scale factor (gyro or accelerometer)): das Verhältnis zwischen einer Änderung der Ausgangsgröße und der Änderung der zu messenden Größe. Als Skalierungsfaktor wird im Allgemeinen die Steigung einer geraden Linie bezeichnet, die nach dem Verfahren der kleinsten Quadrate an die Ein- und Ausgangswerte angepasst werden kann, indem die Eingangsgröße zyklisch über den Eingangsgrößenbereich verändert wird. |
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"Skalierungsfaktor" (Kreisel oder Beschleunigungsmesser) (7) (scale factor (gyro or accelerometer)): das Verhältnis zwischen einer Änderung der Ausgangsgröße und der Änderung der zu messenden Größe. Als Skalierungsfaktor wird im Allgemeinen die Steigung einer geraden Linie bezeichnet, die nach dem Verfahren der kleinsten Quadrate an die Ein- und Ausgangswerte angepasst werden kann, indem die Eingangsgröße zyklisch über den Eingangsgrößenbereich verändert wird.

| | "Software" (ASA 0 bis 9) (software): eine Sammlung eines oder mehrerer "Programme" oder ‧Mikroprogramme‧, die auf einem beliebigen greifbaren (Ausdrucks-) Medium fixiert sind.


  Anmerkung:‧Mikroprogramm‧(microprogramme): eine in einem speziellen Speicherbereich dauerhaft gespeicherte Folge von elementaren Befehlen, deren Ausführung durch das Einbringen des Referenzbefehls in ein Befehlsregister eingeleitet wird. |
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"Software" (ASA 0 bis 9) (software): eine Sammlung eines oder mehrerer "Programme" oder ‧Mikroprogramme‧, die auf einem beliebigen greifbaren (Ausdrucks-) Medium fixiert sind.

Anmerkung:‧Mikroprogramm‧(microprogramme): eine in einem speziellen Speicherbereich dauerhaft gespeicherte Folge von elementaren Befehlen, deren Ausführung durch das Einbringen des Referenzbefehls in ein Befehlsregister eingeleitet wird.

| | "Speicherprogrammierbar" (2 3 5) (stored programm controlled): eine Steuerung, die in einem elektronischen Speicher Befehle speichert, die ein Prozessor zur Ausführung von vorher festgelegten Funktionsabläufen verwenden kann.


  Anmerkung: Ausrüstung kann unabhängig davon "speicherprogrammierbar" sein, ob sich der elektronische Speicher innerhalb oder außerhalb der Ausrüstung befindet. |
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"Speicherprogrammierbar" (2 3 5) (stored programm controlled): eine Steuerung, die in einem elektronischen Speicher Befehle speichert, die ein Prozessor zur Ausführung von vorher festgelegten Funktionsabläufen verwenden kann.

Anmerkung: Ausrüstung kann unabhängig davon "speicherprogrammierbar" sein, ob sich der elektronische Speicher innerhalb oder außerhalb der Ausrüstung befindet.

| | "Spezifischer Modul" (0 1 9) (specific modulus): der Young'sche Modul gemessen in Pascal, entsprechend N/m2, dividiert durch das spezifische Gewicht gemessen in N/m3, bei einer Temperatur von 296 K ± 2 K (23 °C ± 2 °C) und bei einer relativen Luftfeuchtigkeit von 50 % ± 5 %. |
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"Spezifischer Modul" (0 1 9) (specific modulus): der Young'sche Modul gemessen in Pascal, entsprechend N/m2, dividiert durch das spezifische Gewicht gemessen in N/m3, bei einer Temperatur von 296 K ± 2 K (23 °C ± 2 °C) und bei einer relativen Luftfeuchtigkeit von 50 % ± 5 %.

| | "Spezifische Zugfestigkeit" (0 1 9) (specific tensile strength): Höchstfestigkeit gemessen in Pascal, entsprechend N/m2, dividiert durch das spezifische Gewicht gemessen in N/m3, bei einer Temperatur von 296 K ± 2 K (23 °C ± 2 °C) und bei einer relativen Luftfeuchtigkeit von 50 % ± 5 %. |
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"Spezifische Zugfestigkeit" (0 1 9) (specific tensile strength): Höchstfestigkeit gemessen in Pascal, entsprechend N/m2, dividiert durch das spezifische Gewicht gemessen in N/m3, bei einer Temperatur von 296 K ± 2 K (23 °C ± 2 °C) und bei einer relativen Luftfeuchtigkeit von 50 % ± 5 %.

| | "Spitzenleistung" (6) (peak power): Energie je Puls in Joule geteilt durch die Pulsdauer in Sekunden. |
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"Spitzenleistung" (6) (peak power): Energie je Puls in Joule geteilt durch die Pulsdauer in Sekunden.

| | "Stabilität" (7) (stability): die Standardabweichung (1 sigma) der Änderung eines bestimmten Parameters von seinem Kalibrierwert, der unter stabilen Temperaturbedingungen gemessen wurde. Die "Stabilität" kann als Funktion der Zeit ausgedrückt werden. |
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"Stabilität" (7) (stability): die Standardabweichung (1 sigma) der Änderung eines bestimmten Parameters von seinem Kalibrierwert, der unter stabilen Temperaturbedingungen gemessen wurde. Die "Stabilität" kann als Funktion der Zeit ausgedrückt werden.

| | "Steuerungssysteme" (7) (guidance set): Systeme, die das Mess- und Berechnungsverfahren zur Ermittlung von Position und Geschwindigkeit (d. h. zur Navigation) eines "Flugkörpers" mit dem Verfahren integrieren, das für die Berechnung und Übertragung von Kommandos zu den Flugsteuerungssystemen des "Flugkörpers" eingesetzt wird, um die Flugbahn zu korrigieren. |
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"Steuerungssysteme" (7) (guidance set): Systeme, die das Mess- und Berechnungsverfahren zur Ermittlung von Position und Geschwindigkeit (d. h. zur Navigation) eines "Flugkörpers" mit dem Verfahren integrieren, das für die Berechnung und Übertragung von Kommandos zu den Flugsteuerungssystemen des "Flugkörpers" eingesetzt wird, um die Flugbahn zu korrigieren.

| | "Substrat" (3) (substrate): ein Träger aus Basismaterial mit oder ohne Leiterbahnen, auf oder in dem ‧diskrete Bauelemente‧ oder integrierte Schaltungen oder beide angebracht werden können.


  Anmerkung 1:‧Diskretes Bauelement‧ (discrete component): ein in einem eigenen Gehäuse befindliches ‧Schaltungselement‧ mit eigenen äußeren Anschlüssen.



  Anmerkung 2:‧Schaltungselement‧ (circuit element): eine einzelne aktive oder passive Funktionseinheit einer elektronischen Schaltung, z. B. eine Diode, ein Transistor, ein Widerstand, ein Kondensator. |
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"Substrat" (3) (substrate): ein Träger aus Basismaterial mit oder ohne Leiterbahnen, auf oder in dem ‧diskrete Bauelemente‧ oder integrierte Schaltungen oder beide angebracht werden können.

Anmerkung 1:‧Diskretes Bauelement‧ (discrete component): ein in einem eigenen Gehäuse befindliches ‧Schaltungselement‧ mit eigenen äußeren Anschlüssen.

Anmerkung 2:‧Schaltungselement‧ (circuit element): eine einzelne aktive oder passive Funktionseinheit einer elektronischen Schaltung, z. B. eine Diode, ein Transistor, ein Widerstand, ein Kondensator.

| | "Super-High Power Laser" (6) (SHPL): ein "Laser", der eine Ausgangsleistung von mehr als 1 kJ über 50 ms oder eine mittlere oder eine Dauerstrich-Ausgangsleistung von mehr als 20 kW abgeben kann. |
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"Super-High Power Laser" (6) (SHPL): ein "Laser", der eine Ausgangsleistung von mehr als 1 kJ über 50 ms oder eine mittlere oder eine Dauerstrich-Ausgangsleistung von mehr als 20 kW abgeben kann.

| | "Superlegierungen" (2 9) (superalloys): Legierungen auf der Basis von Nickel, Kobalt oder Eisen mit höheren Festigkeiten als denen in der AISI-300-Serie bei Temperaturen über 922 K (649 °C) unter schweren Umwelt- und Betriebsbedingungen. |
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"Superlegierungen" (2 9) (superalloys): Legierungen auf der Basis von Nickel, Kobalt oder Eisen mit höheren Festigkeiten als denen in der AISI-300-Serie bei Temperaturen über 922 K (649 °C) unter schweren Umwelt- und Betriebsbedingungen.

| | "Superplastisches Umformen" (1 2) (superplastic forming): ein Warmumformverfahren für Metalle, deren im herkömmlichen Zugversuch bei Raumtemperatur ermittelte Bruchdehnung weniger als 20 % beträgt; durch Wärmezufuhr werden Dehnungen erzielt, die mindestens das Zweifache des vorgenannten Wertes betragen. |
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"Superplastisches Umformen" (1 2) (superplastic forming): ein Warmumformverfahren für Metalle, deren im herkömmlichen Zugversuch bei Raumtemperatur ermittelte Bruchdehnung weniger als 20 % beträgt; durch Wärmezufuhr werden Dehnungen erzielt, die mindestens das Zweifache des vorgenannten Wertes betragen.

| | "Supraleitend" (1 3 6 8) (superconductive): Materialien (d. h. Metalle, Legierungen oder Verbindungen), die ihren elektrischen Widerstand vollständig verlieren können, d. h., sie können unbegrenzte elektrische Leitfähigkeit erreichen und sehr große elektrische Ströme ohne Joulesche Erwärmung übertragen.


  Anmerkung: Der supraleitende Zustand eines Materials ist jeweils gekennzeichnet durch eine "kritische Temperatur", ein kritisches Magnetfeld, das eine Funktion der Temperatur ist, und eine kritische Stromdichte, die eine Funktion des Magnetfelds und der Temperatur ist. |
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"Supraleitend" (1 3 6 8) (superconductive): Materialien (d. h. Metalle, Legierungen oder Verbindungen), die ihren elektrischen Widerstand vollständig verlieren können, d. h., sie können unbegrenzte elektrische Leitfähigkeit erreichen und sehr große elektrische Ströme ohne Joulesche Erwärmung übertragen.

Anmerkung: Der supraleitende Zustand eines Materials ist jeweils gekennzeichnet durch eine "kritische Temperatur", ein kritisches Magnetfeld, das eine Funktion der Temperatur ist, und eine kritische Stromdichte, die eine Funktion des Magnetfelds und der Temperatur ist.

| | "Symmetrischer Algorithmus" (5) (symmetric algorithm): ein kryptografischer Algorithmus, der für die Verschlüsselung und die Entschlüsselung den identischen Schlüssel verwendet.


  Anmerkung: Eine übliche Anwendung symmetrischer Algorithmen ist die Gewährleistung der Vertraulichkeit von Daten. |
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"Symmetrischer Algorithmus" (5) (symmetric algorithm): ein kryptografischer Algorithmus, der für die Verschlüsselung und die Entschlüsselung den identischen Schlüssel verwendet.

Anmerkung: Eine übliche Anwendung symmetrischer Algorithmen ist die Gewährleistung der Vertraulichkeit von Daten.

| | "Systemzieldaten" (6) (system tracks): die verarbeiteten, korrelierten und aktualisierten Informationen über die Flugpositionen von Luftfahrzeugen, die dem Personal einer Luftverkehrskontrollzentrale zur Verfügung gestellt werden. Bei diesen Informationen handelt es sich um mit Flugplanpositionen kombinierte Radarzieldaten. |
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"Systemzieldaten" (6) (system tracks): die verarbeiteten, korrelierten und aktualisierten Informationen über die Flugpositionen von Luftfahrzeugen, die dem Personal einer Luftverkehrskontrollzentrale zur Verfügung gestellt werden. Bei diesen Informationen handelt es sich um mit Flugplanpositionen kombinierte Radarzieldaten.

| | "Systolischer Array-Rechner" (4) (systolic array computer): ein Rechner, bei dem Datenfluss und -modifikation durch den Benutzer auf der Ebene der Schaltkreistechnik dynamisch gesteuert werden können. |
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"Systolischer Array-Rechner" (4) (systolic array computer): ein Rechner, bei dem Datenfluss und -modifikation durch den Benutzer auf der Ebene der Schaltkreistechnik dynamisch gesteuert werden können.

| | "Technologie" (ATA NTA 0 bis 9) (technology): spezifisches technisches Wissen, das für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" eines Produkts nötig ist. Das technische Wissen wird in der Form von ‧technischen Unterlagen‧ oder ‧technischer Unterstützung‧ verkörpert.


  Anmerkung 1:‧Technische Unterlagen‧ (technical data): können verschiedenartig sein, z. B. Blaupausen, Pläne, Diagramme, Modelle, Formeln, Tabellen, Konstruktionspläne und -spezifikationen, Beschreibungen und Anweisungen in Schriftform oder auf anderen Medien aufgezeichnet, wie Magnetplatten, Bänder oder Lesespeicher.



  Anmerkung 2:‧Technische Unterstützung‧ (technical assistance): kann verschiedenartig sein, z. B. Unterweisung, Vermittlung von Fertigkeiten, Schulung, Arbeitshilfe, Beratungsdienste, und kann auch die Weitergabe von technischen Unterlagen einbeziehen. |
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"Technologie" (ATA NTA 0 bis 9) (technology): spezifisches technisches Wissen, das für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" eines Produkts nötig ist. Das technische Wissen wird in der Form von ‧technischen Unterlagen‧ oder ‧technischer Unterstützung‧ verkörpert.

Anmerkung 1:‧Technische Unterlagen‧ (technical data): können verschiedenartig sein, z. B. Blaupausen, Pläne, Diagramme, Modelle, Formeln, Tabellen, Konstruktionspläne und -spezifikationen, Beschreibungen und Anweisungen in Schriftform oder auf anderen Medien aufgezeichnet, wie Magnetplatten, Bänder oder Lesespeicher.

Anmerkung 2:‧Technische Unterstützung‧ (technical assistance): kann verschiedenartig sein, z. B. Unterweisung, Vermittlung von Fertigkeiten, Schulung, Arbeitshilfe, Beratungsdienste, und kann auch die Weitergabe von technischen Unterlagen einbeziehen.

| | "Teilnehmerstaat" (7 9) (participating state): Mitgliedsstaat des Wassenaar-Arrangements.


  Anmerkung: Mitgliedsstaaten des Wassenaar Arrangements sind zurzeit folgende Länder: Argentinien, Australien, Belgien, Bulgarien, Dänemark, Deutschland, Finnland, Frankreich, Griechenland, Irland, Italien, Japan, Kanada, Luxemburg, Neuseeland, Niederlande, Norwegen, Österreich, Polen, Portugal, Rumänien, Russische Föderation, Schweden, Schweiz, Slowakische Republik, Spanien, Südkorea, Tschechische Republik, Türkei, Ungarn, Ukraine, Vereinigtes Königreich, Vereinigte Staaten von Amerika. |
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"Teilnehmerstaat" (7 9) (participating state): Mitgliedsstaat des Wassenaar-Arrangements.

Anmerkung: Mitgliedsstaaten des Wassenaar Arrangements sind zurzeit folgende Länder: Argentinien, Australien, Belgien, Bulgarien, Dänemark, Deutschland, Finnland, Frankreich, Griechenland, Irland, Italien, Japan, Kanada, Luxemburg, Neuseeland, Niederlande, Norwegen, Österreich, Polen, Portugal, Rumänien, Russische Föderation, Schweden, Schweiz, Slowakische Republik, Spanien, Südkorea, Tschechische Republik, Türkei, Ungarn, Ukraine, Vereinigtes Königreich, Vereinigte Staaten von Amerika.

| | "Time-Modulated-Ultra-Wideband" (5) (time-modulated ultra-wideband): ein Verfahren, bei dem sehr kurze, präzise zeitkontrollierte HF-Impulse abhängig von den zu übertragenden Daten moduliert werden, indem die Pulsposition verschoben wird (auch bekannt als Pulse-Position-Modulation, PPM). Die HF-Pulse werden von Pseudozufallsfolgen mittels PPM kanalisiert (channelised) oder gescrambelt und dann in der direkten Pulsform ohne Benutzung einer Trägerfrequenz gesendet und empfangen, was zu einer extrem niedrigen Leistungsdichte in einem extrem breiten Frequenzband führt. Das Verfahren ist auch als Impuls-Radio bekannt. |
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"Time-Modulated-Ultra-Wideband" (5) (time-modulated ultra-wideband): ein Verfahren, bei dem sehr kurze, präzise zeitkontrollierte HF-Impulse abhängig von den zu übertragenden Daten moduliert werden, indem die Pulsposition verschoben wird (auch bekannt als Pulse-Position-Modulation, PPM). Die HF-Pulse werden von Pseudozufallsfolgen mittels PPM kanalisiert (channelised) oder gescrambelt und dann in der direkten Pulsform ohne Benutzung einer Trägerfrequenz gesendet und empfangen, was zu einer extrem niedrigen Leistungsdichte in einem extrem breiten Frequenzband führt. Das Verfahren ist auch als Impuls-Radio bekannt.

| | "Toxine" (1 2) (toxins): Toxine in der Form gezielt isolierter Zubereitung oder Mischungen, unabhängig von ihrer Herstellungsart, mit Ausnahme von Toxinen als Kontaminanten anderer Materialien wie pathologische Präparate, Kulturpflanzen, Lebensmittel oder Mutterkulturen von "Mikroorganismen". |
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"Toxine" (1 2) (toxins): Toxine in der Form gezielt isolierter Zubereitung oder Mischungen, unabhängig von ihrer Herstellungsart, mit Ausnahme von Toxinen als Kontaminanten anderer Materialien wie pathologische Präparate, Kulturpflanzen, Lebensmittel oder Mutterkulturen von "Mikroorganismen".

| | "Toxinuntereinheit" (1) (sub-unit toxin): ein strukturell und funktional diskreter Bestandteil eines ganzen "Toxins". |
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"Toxinuntereinheit" (1) (sub-unit toxin): ein strukturell und funktional diskreter Bestandteil eines ganzen "Toxins".

| | "Transfer-Laser" (6) (transfer laser): ein "Laser", bei dem das Laser-Material durch den Energietransfer erregt wird, der durch Stoß eines Nicht-Laser-Atoms oder -Moleküls mit einem Laser-Atom oder -Molekül bewirkt wird. |
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"Transfer-Laser" (6) (transfer laser): ein "Laser", bei dem das Laser-Material durch den Energietransfer erregt wird, der durch Stoß eines Nicht-Laser-Atoms oder -Moleküls mit einem Laser-Atom oder -Molekül bewirkt wird.

| | "Übertragungsrate" (4 5): siehe auch "Datenübertragungsrate", "Digitale Übertragungsrate", "Gesamte digitale Übertragungsrate". |
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"Übertragungsrate" (4 5): siehe auch "Datenübertragungsrate", "Digitale Übertragungsrate", "Gesamte digitale Übertragungsrate".

| | "UF6-resistente Werkstoffe" (0) (materials resistant to corrosion by UF6): können — je nach Art des Trennverfahrens — Kupfer, nicht rostender Stahl, Aluminium, Aluminiumoxid, Aluminiumlegierungen, Nickel oder Nickellegierungen mit mehr als 60 Gew.-% Nickel und UF6-resistente vollfluorierte Kohlenwasserstoff-Polymere sein. |
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"UF6-resistente Werkstoffe" (0) (materials resistant to corrosion by UF6): können — je nach Art des Trennverfahrens — Kupfer, nicht rostender Stahl, Aluminium, Aluminiumoxid, Aluminiumlegierungen, Nickel oder Nickellegierungen mit mehr als 60 Gew.-% Nickel und UF6-resistente vollfluorierte Kohlenwasserstoff-Polymere sein.

| | "Unverzichtbar" (ATA 1 bis 9) (required): auf "Technologie" angewendet, bezieht sich ausschließlich auf den Teil der "Technologie", der besonders dafür verantwortlich ist, dass die erfassten Leistungsmerkmale, Charakteristiken oder Funktionen erreicht oder überschritten werden. Diese "unverzichtbare""Technologie" kann auch für verschiedenartige Produkte einsetzbar sein. |
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"Unverzichtbar" (ATA 1 bis 9) (required): auf "Technologie" angewendet, bezieht sich ausschließlich auf den Teil der "Technologie", der besonders dafür verantwortlich ist, dass die erfassten Leistungsmerkmale, Charakteristiken oder Funktionen erreicht oder überschritten werden. Diese "unverzichtbare""Technologie" kann auch für verschiedenartige Produkte einsetzbar sein.

| | "Vakuum-Zerstäubung" (1) (vacuum atomisation): ein Verfahren, bei dem der Strom einer Metallschmelze durch die schnelle Abgabe eines verflüssigten Gases, das einem Vakuum ausgesetzt wird, zu Tröpfchen mit einem Durchmesser kleiner/gleich 500 μm zerstäubt wird. |
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"Vakuum-Zerstäubung" (1) (vacuum atomisation): ein Verfahren, bei dem der Strom einer Metallschmelze durch die schnelle Abgabe eines verflüssigten Gases, das einem Vakuum ausgesetzt wird, zu Tröpfchen mit einem Durchmesser kleiner/gleich 500 μm zerstäubt wird.

| | "Verbundwerkstoff" (1 2 6 8 9 ) (composite): eine "Matrix" und eine oder mehrere zusätzliche Phasen, die aus Partikeln, Whiskern, Fasern oder beliebigen Kombinationen hiervon bestehen und die zum Erreichen von bestimmten Eigenschaften eingebracht werden. |
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"Verbundwerkstoff" (1 2 6 8 9 ) (composite): eine "Matrix" und eine oder mehrere zusätzliche Phasen, die aus Partikeln, Whiskern, Fasern oder beliebigen Kombinationen hiervon bestehen und die zum Erreichen von bestimmten Eigenschaften eingebracht werden.

| | "Verformbare Spiegel" (6) (deformable mirrors):






  a) | Kontinuierlich verformbarer Spiegel (Einzelspiegel), dessen optisch wirksame Oberfläche dynamisch durch Drehmomente oder Kräfte verformt werden kann, um Verzerrungen der Form der optischen Welle, die auf den Spiegel auftrifft, auszugleichen, oder |
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"Verformbare Spiegel" (6) (deformable mirrors):

a)

Kontinuierlich verformbarer Spiegel (Einzelspiegel), dessen optisch wirksame Oberfläche dynamisch durch Drehmomente oder Kräfte verformt werden kann, um Verzerrungen der Form der optischen Welle, die auf den Spiegel auftrifft, auszugleichen, oder

| b) | Segmentierter Spiegel, aus mehreren Einzelelementen bestehend; diese können jeweils für sich dynamisch durch Drehmomente oder Kräfte positioniert werden, um Verzerrungen der Form der optischen Welle, die auf den Gesamtspiegel auftrifft, auszugleichen. |
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b)

Segmentierter Spiegel, aus mehreren Einzelelementen bestehend; diese können jeweils für sich dynamisch durch Drehmomente oder Kräfte positioniert werden, um Verzerrungen der Form der optischen Welle, die auf den Gesamtspiegel auftrifft, auszugleichen.

| | "Verformbare Spiegel" werden auch adaptive Spiegel genannt. |
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"Verformbare Spiegel" werden auch adaptive Spiegel genannt.

| | "Vermischt" (1) (commingled): Mischung von Filamenten aus thermoplastischen Fasern und Verstärkungsfasern zur Herstellung eines Gemischs von Verstärkungs- und "Matrix"-Material in Form von Fasern. |
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"Vermischt" (1) (commingled): Mischung von Filamenten aus thermoplastischen Fasern und Verstärkungsfasern zur Herstellung eines Gemischs von Verstärkungs- und "Matrix"-Material in Form von Fasern.

| | "Verstellbare Blattprofilgeometrie" (7) (variable geometry airfoils): Verwendung von Klappen oder Trimmblechen an der Blatthinterkante oder an der Blattvorderkante, angebauten Vorflügeln oder einer beweglichen Blattnase, deren Position während des Fluges gesteuert werden kann. |
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"Verstellbare Blattprofilgeometrie" (7) (variable geometry airfoils): Verwendung von Klappen oder Trimmblechen an der Blatthinterkante oder an der Blattvorderkante, angebauten Vorflügeln oder einer beweglichen Blattnase, deren Position während des Fluges gesteuert werden kann.

| | "Vertragsstaaten des Chemiewaffenübereinkommens" (1): siehe "(Nicht-) Vertragsstaaten des Chemiewaffenübereinkommens". |
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"Vertragsstaaten des Chemiewaffenübereinkommens" (1): siehe "(Nicht-) Vertragsstaaten des Chemiewaffenübereinkommens".

| | "Verwendung" (ATA NTA 0 bis 9) (use): Betrieb, Aufbau (einschließlich Vor-Ort-Aufbau), Wartung (Test), Reparatur, Überholung, Wiederaufarbeitung. |
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"Verwendung" (ATA NTA 0 bis 9) (use): Betrieb, Aufbau (einschließlich Vor-Ort-Aufbau), Wartung (Test), Reparatur, Überholung, Wiederaufarbeitung.

| | "Vollautomatische Regelung eines Fluges" (7) (total control of flight): bedeutet eine automatisierte Regelung der Zustandsgrößen oder des Flugweges von Flugkörpern zur Erfüllung von Einsatzzielen, die auf Echtzeitänderungen von Daten bezüglich Zielen, Gefahren oder anderer Flugkörper anspricht. |
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"Vollautomatische Regelung eines Fluges" (7) (total control of flight): bedeutet eine automatisierte Regelung der Zustandsgrößen oder des Flugweges von Flugkörpern zur Erfüllung von Einsatzzielen, die auf Echtzeitänderungen von Daten bezüglich Zielen, Gefahren oder anderer Flugkörper anspricht.

| | "Volldigitale Triebwerksregelung" (FADEC) (7 9) (full authority digital engine control): ein elektronisches Regelungssystem für Gasturbinentriebwerke oder Triebwerke mit kombiniertem Arbeitszyklus unter Verwendung eines Digitalrechners zur Steuerung der Variablen, die für die Regelung des Triebwerksschubes oder der Triebwerkswellenleistung über den gesamten Betriebsbereich des Triebwerkes vom Beginn der Kraftstoffzumessung bis zum Absperren des Kraftstoffes erforderlich sind. |
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"Volldigitale Triebwerksregelung" (FADEC) (7 9) (full authority digital engine control): ein elektronisches Regelungssystem für Gasturbinentriebwerke oder Triebwerke mit kombiniertem Arbeitszyklus unter Verwendung eines Digitalrechners zur Steuerung der Variablen, die für die Regelung des Triebwerksschubes oder der Triebwerkswellenleistung über den gesamten Betriebsbereich des Triebwerkes vom Beginn der Kraftstoffzumessung bis zum Absperren des Kraftstoffes erforderlich sind.

| | "Von der ITU zugewiesen" (3 5) (allocated by ITU): die Zuweisung von Frequenzbändern in Übereinstimmung mit den ITU Radio Regulations (Ausgabe 1998) für primäre, zugelassene und sekundäre Funkdienste.


  Anmerkung: Zusätzliche und alternative Zuweisungen sind nicht eingeschlossen. |
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"Von der ITU zugewiesen" (3 5) (allocated by ITU): die Zuweisung von Frequenzbändern in Übereinstimmung mit den ITU Radio Regulations (Ausgabe 1998) für primäre, zugelassene und sekundäre Funkdienste.

Anmerkung: Zusätzliche und alternative Zuweisungen sind nicht eingeschlossen.

| | "Vorher abgetrennt" (0 1) (previously separated): Material, das nach seiner Abtrennung durch einen Prozess hergestellt wurde, der zu einer Erhöhung der Konzentration des erfassten Isotops führt. |
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"Vorher abgetrennt" (0 1) (previously separated): Material, das nach seiner Abtrennung durch einen Prozess hergestellt wurde, der zu einer Erhöhung der Konzentration des erfassten Isotops führt.

| | "Weltraumgeeignet" (3 6) (space qualified): Produkte, die so konstruiert, gefertigt und geprüft wurden, dass sie die besonderen elektrischen, mechanischen oder umgebungsbedingten Anforderungen für die Verwendung beim Start und Einsatz von Satelliten oder Höhen-Flugsystemen, die in Höhen von 100 km und mehr operieren, erfüllen. |
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"Weltraumgeeignet" (3 6) (space qualified): Produkte, die so konstruiert, gefertigt und geprüft wurden, dass sie die besonderen elektrischen, mechanischen oder umgebungsbedingten Anforderungen für die Verwendung beim Start und Einsatz von Satelliten oder Höhen-Flugsystemen, die in Höhen von 100 km und mehr operieren, erfüllen.

| | "Winkelpositionsabweichung" (2) (angular position deviation): die maximale Differenz zwischen der angezeigten Winkelposition und der richtigen Winkelposition, die mit Hilfe eines genauen Messverfahrens nach Drehung der Werkstückaufnahme eines Drehtisches aus einer Anfangsposition ermittelt wird (Bezug: VDI/VDE 2617, Blatt 4/Teil 4 "Drehtische auf Koordinatenmaschinen"). |
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"Winkelpositionsabweichung" (2) (angular position deviation): die maximale Differenz zwischen der angezeigten Winkelposition und der richtigen Winkelposition, die mit Hilfe eines genauen Messverfahrens nach Drehung der Werkstückaufnahme eines Drehtisches aus einer Anfangsposition ermittelt wird (Bezug: VDI/VDE 2617, Blatt 4/Teil 4 "Drehtische auf Koordinatenmaschinen").

| | "Wissenschaftliche Grundlagenforschung" (ATA NTA) (basic scientific research): experimentelle oder theoretische Arbeiten zur Erlangung von neuen Erkenntnissen über grundlegende Prinzipien von Phänomenen oder Tatsachen, die nicht in erster Linie auf ein spezifisches praktisches Ziel oder einen spezifischen praktischen Zweck gerichtet sind. |
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"Wissenschaftliche Grundlagenforschung" (ATA NTA) (basic scientific research): experimentelle oder theoretische Arbeiten zur Erlangung von neuen Erkenntnissen über grundlegende Prinzipien von Phänomenen oder Tatsachen, die nicht in erster Linie auf ein spezifisches praktisches Ziel oder einen spezifischen praktischen Zweck gerichtet sind.

| | "Zeitkonstante" (6) (time constant): die Zeit, gerechnet vom Beginn des Lichteinfalls, in der der Strom auf das 1-1/e-fache des Endwertes anwächst (das sind 63 % des Endwertes). |
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"Zeitkonstante" (6) (time constant): die Zeit, gerechnet vom Beginn des Lichteinfalls, in der der Strom auf das 1-1/e-fache des Endwertes anwächst (das sind 63 % des Endwertes).

| | "Zivile Luftfahrzeuge" (1 7 9) (civil aircraft): sind solche "Luftfahrzeuge", die mit genauer Bezeichnung in veröffentlichten Zulassungsverzeichnissen der zivilen Luftfahrtbehörde für den zivilen Verkehr auf Inlands- und Auslandsrouten oder für rechtmäßige zivile Privat- oder Geschäftsflüge registriert sind (siehe auch "Luftfahrzeug"). |
| --- | --- |

"Zivile Luftfahrzeuge" (1 7 9) (civil aircraft): sind solche "Luftfahrzeuge", die mit genauer Bezeichnung in veröffentlichten Zulassungsverzeichnissen der zivilen Luftfahrtbehörde für den zivilen Verkehr auf Inlands- und Auslandsrouten oder für rechtmäßige zivile Privat- oder Geschäftsflüge registriert sind (siehe auch "Luftfahrzeug").

| | "Zusammengesetzte theoretische Verarbeitungsrate" (3 4) (composite theoretical performance, "CTP"): eine Maßzahl für die Rechnerleistung, angegeben in Millionen theoretischer Operationen je Sekunde (Mtops) und berechnet durch die Summierung von "Rechenelementen""CEs".


  Anmerkung: Siehe Kategorie 4, Technische Anmerkung. |
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"Zusammengesetzte theoretische Verarbeitungsrate" (3 4) (composite theoretical performance, "CTP"): eine Maßzahl für die Rechnerleistung, angegeben in Millionen theoretischer Operationen je Sekunde (Mtops) und berechnet durch die Summierung von "Rechenelementen""CEs".

Anmerkung: Siehe Kategorie 4, Technische Anmerkung.

VERZEICHNIS DER VERWENDETEN ABKÜRZUNGEN

Abkürzungen, für die eine Definition vorliegt: Siehe Begriffsbestimmungen

| Abkürzung | Bedeutung |
| --- | --- |
| ABEC | Qualitätsnorm des Verbandes der amerikanischen Wälzlagerhersteller (Annular Bearing Engineers Committee) |
| AGMA | Qualitätsnorm des Verbandes der amerikanischen Getriebehersteller (American Gear Manufacturers' Association) |
| AHRS | Lage- und Kurs-Referenzsystem (attitude and heading reference systems) |
| ALU | Arithmetisch-Logische Einheit (arithmetic logic unit) |
| ANSI | American National Standards Institute |
| ASTM | American Society for Testing and Materials |
| AVLIS | Isotopentrennung nach dem atomaren Laserverfahren (Atomic Vapour Laser Isotope Separation) |
| CAD | Rechnerunterstützter Entwurf (computer-aided-design) |
| CAS | Chemical Abstracts Service |
| CEP | CEP-Wert (circular error probable) |
| CNTD | Thermische Zersetzung mit geregelter Keimbildung (controlled nucleation thermal deposition) |
| CRISLA | Laserangeregtes chemisches Verfahren (Chemical Reaction by Isotope Selective Laser Activation) |
| CVD | Chemische Beschichtung aus der Gasphase (chemical vapour deposition) |
| CW (für Laser) | Dauerstrich (continuous wave) |
| DME | Entfernungsmesseinrichtung (distance measuring equipment) |
| DS | Gerichtete Erstarrung (directionally solidified) |
| EB-PVD | Physikalische Beschichtung aus der Gasphase durch thermisches Verdampfen (electron beam physical vapour deposition) |
| EBU | European Broadcasting Union |
| EDM | Funkenerosionsmaschinen (electrical discharge machines) |
| EEPROM | Elektrisch programmierbarer und löschbarer Festwertspeicher (electrically erasable programmable read only memory) |
| EIA | Verband der Elektronikindustrie (Electronic Industries Association) |
| EMV | Elektromagnetische Verträglichkeit (electromagnetic compatibility) |
| ETSI | European Telecommunications Standards Institute |
| FFT | Schnelle Fouriertransformation (Fast Fourier Transform) |
| GLONASS | Globales Satellitennavigationssystem (global navigation satellite system) |
| GNSS | Global Navigation Satellite System |
| GPS | Globales Positionierungssystem (global positioning system) |
| HBT | Hetero-Bipolartransistor (hetero-bipolar transistors) |
| HDDR | Digitale Aufzeichnung hoher Dichte (high density digital recording) |
| HEMT | Transistor auf der Basis hoher Elektronenbeweglichkeit (high electron mobility transistors) |
| ICAO | Internationale zivile Luftfahrtorganisation (International Civil Aviation Organisation) |
| IEC | Internationale Elektrotechnische Kommission (International Electrotechnical Commission) |
| IEEE | Institute of Electrical and Electronic Engineers |
| IFOV | Momentaner Bildfeldwinkel (instantaneous-field-of-view) |
| ILS | Instrumentenlandesystem (instrument landing system) |
| IRIG | Ausschuss zur Normung von Aufzeichnungsmethoden (inter-range instrumentation group) |
| ISAR | Radar mit inverser künstlicher Apertur (inverse synthetic aperture radar) |
| ISO | Internationale Organisation für Standardisierung (International Organization for Standardization) |
| ITU | Internationale Fernmeldeunion (International Telecommunication Union) |
| JIS | Japanischer Industriestandard (Japanese Industrial Standard) |
| LIDAR | Laser- oder Lichtradar (light detection and ranging) |
| LRU | Auswechselbare Einheit (line replaceable unit) |
| Mach | Verhältnis der Geschwindigkeit eines Objektes zu der von Schall (nach Ernst Mach) (ratio of speed of an object to speed of sound (after Ernst Mach)) |
| MLIS | Isotopentrennung nach dem molekularen Laserverfahren (Molecular Laser Isotope Separation) |
| MLS | Mikrowellenlandesystem (microwave landing systems) |
| MOCVD | CVD-Verfahren auf der Basis metallorganischer Verbindungen (metal organic chemical vapour deposition) |
| MTBF | Mittlere ausfallfreie Zeit (mean-time-between-failures) |
| Mtops | Millionen theoretischer Operationen pro Sekunde (million theoretical operations per second) |
| MTTF | Mittlere Zeit bis zum beobachteten Fehler (mean-time-to-failure) |
| PAR | Präzisionsanflugradar (precision approach radar) |
| PIN | Persönliche Identifikationsnummer (personal identification number) |
| ppm | Entspricht 1 × 10– 6 (parts per million) |
| PSD | Spektrale Leistungsdichte (power spectral density) |
| QAM | Quadratur-Amplituden-Modulation (quadrature-amplitude-modulation) |
| RF | Hochfrequenz (radio frequency) |
| SACMA | Qualitätsnorm des Verbandes der amerikanischen Hersteller von modernen Verbundwerkstoffen (Suppliers of Advanced Composite Materials Association) |
| SAR | Radar mit künstlicher Apertur (synthetic aperture radar) |
| SC | Einkristall [monokristallin] (single crystal) |
| SLAR | Seitensicht-Luftfahrzeug-Bordradarsystem (sidelooking airborne radar) |
| SMPTE | Society of Motion Picture & Television Engineers |
| SRA | Auswechselbare Baugruppe (shop replaceable assembly) |
| SRAM | Statischer Schreib-Lese-Speicher (static random access memory) |
| SRM | Ausschuss zur Normung von Materialprüfmethoden (SACMA Recommended Methods) |
| SSB | Einseitenband (single sideband) |
| SSR | Sekundärüberwachungsradar (secondary surveillance radar) |
| TCSEC | Amerikanische Beurteilungsnorm für die Informationssicherheit von Rechnersystemen (trusted computer system evaluation criteria) |
| TIR | Gesamtmessuhrausschlag (total indicated reading) |
| UV | ultraviolett |
| VOR | UKW-Drehfunkfeuer (very high frequency omni-directional range) |
| YAG | Yttrium-Aluminium-Granat (yttrium/aluminum garnet) |
| ZfP | Zerstörungsfreie Prüfverfahren |

Abkürzung

Bedeutung

ABEC

Qualitätsnorm des Verbandes der amerikanischen Wälzlagerhersteller (Annular Bearing Engineers Committee)

AGMA

Qualitätsnorm des Verbandes der amerikanischen Getriebehersteller (American Gear Manufacturers' Association)

AHRS

Lage- und Kurs-Referenzsystem (attitude and heading reference systems)

ALU

Arithmetisch-Logische Einheit (arithmetic logic unit)

ANSI

American National Standards Institute

ASTM

American Society for Testing and Materials

AVLIS

Isotopentrennung nach dem atomaren Laserverfahren (Atomic Vapour Laser Isotope Separation)

CAD

Rechnerunterstützter Entwurf (computer-aided-design)

CAS

Chemical Abstracts Service

CEP

CEP-Wert (circular error probable)

CNTD

Thermische Zersetzung mit geregelter Keimbildung (controlled nucleation thermal deposition)

CRISLA

Laserangeregtes chemisches Verfahren (Chemical Reaction by Isotope Selective Laser Activation)

CVD

Chemische Beschichtung aus der Gasphase (chemical vapour deposition)

CW (für Laser)

Dauerstrich (continuous wave)

DME

Entfernungsmesseinrichtung (distance measuring equipment)

DS

Gerichtete Erstarrung (directionally solidified)

EB-PVD

Physikalische Beschichtung aus der Gasphase durch thermisches Verdampfen (electron beam physical vapour deposition)

EBU

European Broadcasting Union

EDM

Funkenerosionsmaschinen (electrical discharge machines)

EEPROM

Elektrisch programmierbarer und löschbarer Festwertspeicher (electrically erasable programmable read only memory)

EIA

Verband der Elektronikindustrie (Electronic Industries Association)

EMV

Elektromagnetische Verträglichkeit (electromagnetic compatibility)

ETSI

European Telecommunications Standards Institute

FFT

Schnelle Fouriertransformation (Fast Fourier Transform)

GLONASS

Globales Satellitennavigationssystem (global navigation satellite system)

GNSS

Global Navigation Satellite System

GPS

Globales Positionierungssystem (global positioning system)

HBT

Hetero-Bipolartransistor (hetero-bipolar transistors)

HDDR

Digitale Aufzeichnung hoher Dichte (high density digital recording)

HEMT

Transistor auf der Basis hoher Elektronenbeweglichkeit (high electron mobility transistors)

ICAO

Internationale zivile Luftfahrtorganisation (International Civil Aviation Organisation)

IEC

Internationale Elektrotechnische Kommission (International Electrotechnical Commission)

IEEE

Institute of Electrical and Electronic Engineers

IFOV

Momentaner Bildfeldwinkel (instantaneous-field-of-view)

ILS

Instrumentenlandesystem (instrument landing system)

IRIG

Ausschuss zur Normung von Aufzeichnungsmethoden (inter-range instrumentation group)

ISAR

Radar mit inverser künstlicher Apertur (inverse synthetic aperture radar)

ISO

Internationale Organisation für Standardisierung (International Organization for Standardization)

ITU

Internationale Fernmeldeunion (International Telecommunication Union)

JIS

Japanischer Industriestandard (Japanese Industrial Standard)

LIDAR

Laser- oder Lichtradar (light detection and ranging)

LRU

Auswechselbare Einheit (line replaceable unit)

Mach

Verhältnis der Geschwindigkeit eines Objektes zu der von Schall (nach Ernst Mach) (ratio of speed of an object to speed of sound (after Ernst Mach))

MLIS

Isotopentrennung nach dem molekularen Laserverfahren (Molecular Laser Isotope Separation)

MLS

Mikrowellenlandesystem (microwave landing systems)

MOCVD

CVD-Verfahren auf der Basis metallorganischer Verbindungen (metal organic chemical vapour deposition)

MTBF

Mittlere ausfallfreie Zeit (mean-time-between-failures)

Mtops

Millionen theoretischer Operationen pro Sekunde (million theoretical operations per second)

MTTF

Mittlere Zeit bis zum beobachteten Fehler (mean-time-to-failure)

PAR

Präzisionsanflugradar (precision approach radar)

PIN

Persönliche Identifikationsnummer (personal identification number)

ppm

Entspricht 1 × 10– 6 (parts per million)

PSD

Spektrale Leistungsdichte (power spectral density)

QAM

Quadratur-Amplituden-Modulation (quadrature-amplitude-modulation)

RF

Hochfrequenz (radio frequency)

SACMA

Qualitätsnorm des Verbandes der amerikanischen Hersteller von modernen Verbundwerkstoffen (Suppliers of Advanced Composite Materials Association)

SAR

Radar mit künstlicher Apertur (synthetic aperture radar)

SC

Einkristall [monokristallin] (single crystal)

SLAR

Seitensicht-Luftfahrzeug-Bordradarsystem (sidelooking airborne radar)

SMPTE

Society of Motion Picture & Television Engineers

SRA

Auswechselbare Baugruppe (shop replaceable assembly)

SRAM

Statischer Schreib-Lese-Speicher (static random access memory)

SRM

Ausschuss zur Normung von Materialprüfmethoden (SACMA Recommended Methods)

SSB

Einseitenband (single sideband)

SSR

Sekundärüberwachungsradar (secondary surveillance radar)

TCSEC

Amerikanische Beurteilungsnorm für die Informationssicherheit von Rechnersystemen (trusted computer system evaluation criteria)

TIR

Gesamtmessuhrausschlag (total indicated reading)

UV

ultraviolett

VOR

UKW-Drehfunkfeuer (very high frequency omni-directional range)

YAG

Yttrium-Aluminium-Granat (yttrium/aluminum garnet)

ZfP

Zerstörungsfreie Prüfverfahren

KATEGORIE 0

KERNTECHNISCHE MATERIALIEN, ANLAGEN UND AUSRÜSTUNG

0ASysteme, Ausrüstung und Bestandteile

0A001"Kernreaktoren" und besonders konstruierte oder hergerichtete Ausrüstung und Bestandteile hierfür wie folgt:

| a) | "Kernreaktoren", geeignet für den Betrieb mit einer kontrollierten, sich selbst erhaltenden Kernspaltungs-Kettenreaktion; |
| --- | --- |

a)

"Kernreaktoren", geeignet für den Betrieb mit einer kontrollierten, sich selbst erhaltenden Kernspaltungs-Kettenreaktion;

| b) | Metallbehälter oder wichtige vorgefertigte Teile hierfür, besonders konstruiert oder hergerichtet zur Aufnahme des Kerns eines "Kernreaktors", einschließlich des Reaktorbehälter-Deckels des Reaktordruckbehälters; |
| --- | --- |

b)

Metallbehälter oder wichtige vorgefertigte Teile hierfür, besonders konstruiert oder hergerichtet zur Aufnahme des Kerns eines "Kernreaktors", einschließlich des Reaktorbehälter-Deckels des Reaktordruckbehälters;

| c) | Bedienungseinrichtungen, besonders konstruiert oder hergerichtet zum Be- und Entladen von Kernbrennstoff in einem "Kernreaktor"; |
| --- | --- |

c)

Bedienungseinrichtungen, besonders konstruiert oder hergerichtet zum Be- und Entladen von Kernbrennstoff in einem "Kernreaktor";

| d) | Steuerstäbe, besonders konstruiert oder hergerichtet für die Steuerung der Spaltprozesse in einem "Kernreaktor", Trage- oder Aufhängevorrichtungen hierfür, Steuerstabantriebe und Stabführungsrohre; |
| --- | --- |

d)

Steuerstäbe, besonders konstruiert oder hergerichtet für die Steuerung der Spaltprozesse in einem "Kernreaktor", Trage- oder Aufhängevorrichtungen hierfür, Steuerstabantriebe und Stabführungsrohre;

| e) | Druckrohre, besonders konstruiert oder hergerichtet für die Aufnahme der Brennelemente und des Primärkühlmittels in einem "Kernreaktor" bei einem Betriebsdruck von mehr als 5,1 MPa; |
| --- | --- |

e)

Druckrohre, besonders konstruiert oder hergerichtet für die Aufnahme der Brennelemente und des Primärkühlmittels in einem "Kernreaktor" bei einem Betriebsdruck von mehr als 5,1 MPa;

| f) | Rohre oder Rohrsysteme aus Zirkoniummetall oder -legierungen, bei denen der Hafniumgehalt weniger als 0,2 Gew.-% beträgt, besonders konstruiert oder hergerichtet zur Verwendung in einem "Kernreaktor"; |
| --- | --- |

f)

Rohre oder Rohrsysteme aus Zirkoniummetall oder -legierungen, bei denen der Hafniumgehalt weniger als 0,2 Gew.-% beträgt, besonders konstruiert oder hergerichtet zur Verwendung in einem "Kernreaktor";

| g) | Kühlmittelpumpen, besonders konstruiert oder hergerichtet für den Kreislauf des Primärkühlmittels von "Kernreaktoren"; |
| --- | --- |

g)

Kühlmittelpumpen, besonders konstruiert oder hergerichtet für den Kreislauf des Primärkühlmittels von "Kernreaktoren";

| h) | ‧innere Einbauten eines Kernreaktors‧, besonders konstruiert oder hergerichtet für die Verwendung in einem "Kernreaktor", einschließlich Trägerkonstruktionen für den Reaktorkern, Brennelementkanäle, thermische Abschirmungen, Leitbleche, Kerngitter- und Strömungsplatten;


  Anmerkung: ‧Innere Einbauten eines Kernreaktors‧ (nuclear reactor internals) im Sinne von Unternummer 0A001h sind Hauptstrukturen innerhalb des Reaktorbehälters mit einer oder mehreren Aufgaben wie z. B. Stützfunktion für den Kern, Aufrechterhaltung der Brennstoff-Anordnung, Führung des Kühlmittelflusses, Bereitstellung von Strahlungsabschirmungen für den Reaktorbehälter und Steuerung der Innenkern-Instrumentierung. |
| --- | --- |

h)

‧innere Einbauten eines Kernreaktors‧, besonders konstruiert oder hergerichtet für die Verwendung in einem "Kernreaktor", einschließlich Trägerkonstruktionen für den Reaktorkern, Brennelementkanäle, thermische Abschirmungen, Leitbleche, Kerngitter- und Strömungsplatten;

Anmerkung: ‧Innere Einbauten eines Kernreaktors‧ (nuclear reactor internals) im Sinne von Unternummer 0A001h sind Hauptstrukturen innerhalb des Reaktorbehälters mit einer oder mehreren Aufgaben wie z. B. Stützfunktion für den Kern, Aufrechterhaltung der Brennstoff-Anordnung, Führung des Kühlmittelflusses, Bereitstellung von Strahlungsabschirmungen für den Reaktorbehälter und Steuerung der Innenkern-Instrumentierung.

| i) | Wärmetauscher (Dampferzeuger), besonders konstruiert oder hergerichtet für die Verwendung im Primärkühlmittel-Kreislauf eines "Kernreaktors"; |
| --- | --- |

i)

Wärmetauscher (Dampferzeuger), besonders konstruiert oder hergerichtet für die Verwendung im Primärkühlmittel-Kreislauf eines "Kernreaktors";

| j) | Neutronenerfassungs- und -messeinrichtungen, besonders konstruiert oder hergerichtet für die Bestimmung von Neutronenflusshöhen innerhalb des Kerns eines "Kernreaktors". |
| --- | --- |

j)

Neutronenerfassungs- und -messeinrichtungen, besonders konstruiert oder hergerichtet für die Bestimmung von Neutronenflusshöhen innerhalb des Kerns eines "Kernreaktors".

0BPrüf-, Test- und Herstellungseinrichtungen

0B001Anlagen für die Isotopentrennung von "natürlichem Uran", "abgereichertem Uran" und "besonderem spaltbaren Material" sowie besonders konstruierte oder hergerichtete Ausrüstung und Bestandteile hierfür, wie folgt:

| a) | Anlagen, besonders konstruiert für die Isotopentrennung von "natürlichem Uran", "abgereichertem Uran" und "besonderem spaltbaren Material", wie folgt:






  1. | Gaszentrifugen-Trennanlagen, |
| --- | --- | --- |

a)

Anlagen, besonders konstruiert für die Isotopentrennung von "natürlichem Uran", "abgereichertem Uran" und "besonderem spaltbaren Material", wie folgt:

1.

Gaszentrifugen-Trennanlagen,

| 2. | Gasdiffusions-Trennanlagen |
| --- | --- |

2.

Gasdiffusions-Trennanlagen

| 3. | aerodynamische Trennanlagen, |
| --- | --- |

3.

aerodynamische Trennanlagen,

| 4. | Trennanlagen durch chemischen Austausch, |
| --- | --- |

4.

Trennanlagen durch chemischen Austausch,

| 5. | Trennanlagen durch Ionenaustausch, |
| --- | --- |

5.

Trennanlagen durch Ionenaustausch,

| 6. | Isotopentrennanlagen nach dem atomaren "Laser"verfahren (AVLIS = Atomic Vapour Laser Isotope Separation), |
| --- | --- |

6.

Isotopentrennanlagen nach dem atomaren "Laser"verfahren (AVLIS = Atomic Vapour Laser Isotope Separation),

| 7. | Isotopentrennanlagen nach dem molekularen "Laser"verfahren (MLIS = Molecular Laser Isotope Separation), |
| --- | --- |

7.

Isotopentrennanlagen nach dem molekularen "Laser"verfahren (MLIS = Molecular Laser Isotope Separation),

| 8. | Plasmatrennanlagen, |
| --- | --- |

8.

Plasmatrennanlagen,

| 9. | Trennanlagen nach dem elektromagnetischen Verfahren; |
| --- | --- |

9.

Trennanlagen nach dem elektromagnetischen Verfahren;

| b) | Gaszentrifugen sowie Zentrifugensysteme und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für das Gaszentrifugen-Trennverfahren, wie folgt:


  Anmerkung:‧Hochfeste Materialien‧ im Sinne von Unternummer 0B001b sind die folgenden Materialien:








  a) | martensitaushärtender Stahl (maraging steel) mit einer erreichbaren Zugfestigkeit größer/gleich 2 050 MPa, |
| --- | --- | --- |

b)

Gaszentrifugen sowie Zentrifugensysteme und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für das Gaszentrifugen-Trennverfahren, wie folgt:

Anmerkung:‧Hochfeste Materialien‧ im Sinne von Unternummer 0B001b sind die folgenden Materialien:

a)

martensitaushärtender Stahl (maraging steel) mit einer erreichbaren Zugfestigkeit größer/gleich 2 050 MPa,

| b) | Aluminiumlegierungen mit einer erreichbaren Zugfestigkeit größer/gleich 460 MPa oder |
| --- | --- |

b)

Aluminiumlegierungen mit einer erreichbaren Zugfestigkeit größer/gleich 460 MPa oder

| c) | "faser- oder fadenförmige Materialien" mit einem "spezifischen Modul" größer als 3,18 × 106 m und einer "spezifischen Zugfestigkeit" größer als 76,2 × 103 m. |
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c)

"faser- oder fadenförmige Materialien" mit einem "spezifischen Modul" größer als 3,18 × 106 m und einer "spezifischen Zugfestigkeit" größer als 76,2 × 103 m.

| 1. | Gaszentrifugen, |
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1.

Gaszentrifugen,

| 2. | vollständige Rotorsysteme, |
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2.

vollständige Rotorsysteme,

| 3. | Rotorrohre mit einer Wandstärke kleiner/gleich 12 mm, einem Durchmesser zwischen 75 mm und 400 mm, hergestellt aus ‧hochfesten Materialien‧, |
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3.

Rotorrohre mit einer Wandstärke kleiner/gleich 12 mm, einem Durchmesser zwischen 75 mm und 400 mm, hergestellt aus ‧hochfesten Materialien‧,

| 4. | Ringe oder Sickenbänder mit einer Wandstärke kleiner/gleich 3 mm, einem Durchmesser zwischen 75 mm und 400 mm und konstruiert für die Verstärkung oder Verbindung der Rotorteile untereinander, hergestellt aus ‧hochfesten Materialien‧, |
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4.

Ringe oder Sickenbänder mit einer Wandstärke kleiner/gleich 3 mm, einem Durchmesser zwischen 75 mm und 400 mm und konstruiert für die Verstärkung oder Verbindung der Rotorteile untereinander, hergestellt aus ‧hochfesten Materialien‧,

| 5. | Leitbleche mit einem Durchmesser zwischen 75 mm und 400 mm zur Montage innerhalb der Rotorrohre, hergestellt aus ‧hochfesten Materialien‧, |
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5.

Leitbleche mit einem Durchmesser zwischen 75 mm und 400 mm zur Montage innerhalb der Rotorrohre, hergestellt aus ‧hochfesten Materialien‧,

| 6. | obere und untere Deckel mit einem Durchmesser zwischen 75 mm und 400 mm als Rotorrohrenden, hergestellt aus ‧hochfesten Materialien‧, |
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6.

obere und untere Deckel mit einem Durchmesser zwischen 75 mm und 400 mm als Rotorrohrenden, hergestellt aus ‧hochfesten Materialien‧,

| 7. | magnetisch aufgehängte Lager, die aus einem Ringmagneten bestehen, der innerhalb eines Gehäuses aufgehängt ist, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen", das ein Dämpfungsmedium enthält. Der Magnet ist mit einem am Rotordeckel montierten Polstück oder zweiten Magneten gekoppelt, |
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7.

magnetisch aufgehängte Lager, die aus einem Ringmagneten bestehen, der innerhalb eines Gehäuses aufgehängt ist, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen", das ein Dämpfungsmedium enthält. Der Magnet ist mit einem am Rotordeckel montierten Polstück oder zweiten Magneten gekoppelt,

| 8. | besonders hergerichtete Lager, die ein halbkugelförmiges Gegenlager (pivot-cup) enthalten und auf einem Dämpfer montiert sind, |
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8.

besonders hergerichtete Lager, die ein halbkugelförmiges Gegenlager (pivot-cup) enthalten und auf einem Dämpfer montiert sind,

| 9. | Molekularpumpen aus Zylindern mit inneren spiralförmigen gepressten oder gefrästen Nuten und inneren Bohrungen, |
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9.

Molekularpumpen aus Zylindern mit inneren spiralförmigen gepressten oder gefrästen Nuten und inneren Bohrungen,

| 10. | ringförmige Motorstatoren für mehrphasige Wechselstromhysteresemotoren (oder -reluktanzmotoren) für Synchronbetrieb unter Vakuumbedingungen im Frequenzbereich von 600 Hz bis 2 000 Hz und mit einem Leistungsbereich von 50 VA bis 1 000 VA, |
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10.

ringförmige Motorstatoren für mehrphasige Wechselstromhysteresemotoren (oder -reluktanzmotoren) für Synchronbetrieb unter Vakuumbedingungen im Frequenzbereich von 600 Hz bis 2 000 Hz und mit einem Leistungsbereich von 50 VA bis 1 000 VA,

| 11. | Zentrifugenrezipienten- oder Zentrifugengehäuse, um den Gesamtrotor der Gaszentrifuge aufzunehmen, bestehend aus einem starren Zylinder mit einer Wandstärke bis zu 30 mm mit präzisionsgefertigten Enden und hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen", |
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11.

Zentrifugenrezipienten- oder Zentrifugengehäuse, um den Gesamtrotor der Gaszentrifuge aufzunehmen, bestehend aus einem starren Zylinder mit einer Wandstärke bis zu 30 mm mit präzisionsgefertigten Enden und hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen",

| 12. | Entnahmevorrichtungen, bestehend aus Röhren mit Innendurchmessern bis zu 12 mm, zur Entnahme von UF6-Gas aus dem Inneren des Zentrifugenrotors nach dem Pitot-Prinzip, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen", |
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12.

Entnahmevorrichtungen, bestehend aus Röhren mit Innendurchmessern bis zu 12 mm, zur Entnahme von UF6-Gas aus dem Inneren des Zentrifugenrotors nach dem Pitot-Prinzip, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen",

| 13. | Frequenzumwandler (Konverter oder Inverter), besonders konstruiert oder hergerichtet für die Spannungsversorgung von Motorstatoren für die Gaszentrifugenanreicherung, mit allen folgenden Eigenschaften und besonders konstruierte Bestandteile hierfür:






  a) | Mehrphasenausgang von 600 Hz bis 2 000 Hz, |
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13.

Frequenzumwandler (Konverter oder Inverter), besonders konstruiert oder hergerichtet für die Spannungsversorgung von Motorstatoren für die Gaszentrifugenanreicherung, mit allen folgenden Eigenschaften und besonders konstruierte Bestandteile hierfür:

a)

Mehrphasenausgang von 600 Hz bis 2 000 Hz,

| b) | Frequenzstabilisierung besser als 0,1 %, |
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b)

Frequenzstabilisierung besser als 0,1 %,

| c) | Klirrfaktor kleiner als 2 % und |
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c)

Klirrfaktor kleiner als 2 % und

| d) | Wirkungsgrad besser als 80 %; |
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d)

Wirkungsgrad besser als 80 %;

| c) | Ausrüstung und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für das Gasdiffusions-Trennverfahren, wie folgt:






  1. | Gasdiffusionstrennwände aus porometallischen, polymeren oder keramischen "UF6-resistenten Werkstoffen" mit einer Porengröße von 10 nm bis 100 nm, einer Dicke kleiner/gleich 5 mm und, bei Röhrenform, mit einem Durchmesser kleiner/gleich 25 mm, |
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c)

Ausrüstung und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für das Gasdiffusions-Trennverfahren, wie folgt:

1.

Gasdiffusionstrennwände aus porometallischen, polymeren oder keramischen "UF6-resistenten Werkstoffen" mit einer Porengröße von 10 nm bis 100 nm, einer Dicke kleiner/gleich 5 mm und, bei Röhrenform, mit einem Durchmesser kleiner/gleich 25 mm,

| 2. | Gasdiffusorgehäuse, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen", |
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2.

Gasdiffusorgehäuse, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen",

| 3. | Kompressoren (volumenfördernd in Zentrifugal- oder Axialbauweise) oder Ventilatoren mit einem Ansaugvermögen größer/gleich 1 m3/min UF6 und einem Förderdruck bis zu 666,7 kPa, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen", |
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3.

Kompressoren (volumenfördernd in Zentrifugal- oder Axialbauweise) oder Ventilatoren mit einem Ansaugvermögen größer/gleich 1 m3/min UF6 und einem Förderdruck bis zu 666,7 kPa, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen",

| 4. | Wellendichtungen für Kompressoren oder Ventilatoren, erfasst von Unternummer 0B001c3, konstruiert für eine Einwärtsleckrate des Puffergases von weniger als 1 000 cm3/min, |
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4.

Wellendichtungen für Kompressoren oder Ventilatoren, erfasst von Unternummer 0B001c3, konstruiert für eine Einwärtsleckrate des Puffergases von weniger als 1 000 cm3/min,

| 5. | Wärmetauscher, hergestellt aus Aluminium, Kupfer, Nickel oder Nickellegierungen mit mehr als 60 Gew.-% Nickel oder bei Verwendung plattierter Rohre aus Kombinationen dieser Metalle untereinander und konstruiert für den Betrieb bei Unterdruck mit einer Leckrate, die den Druckanstieg auf weniger als 10 Pa/h bei einem Druckunterschied von 100 kPa begrenzt, |
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5.

Wärmetauscher, hergestellt aus Aluminium, Kupfer, Nickel oder Nickellegierungen mit mehr als 60 Gew.-% Nickel oder bei Verwendung plattierter Rohre aus Kombinationen dieser Metalle untereinander und konstruiert für den Betrieb bei Unterdruck mit einer Leckrate, die den Druckanstieg auf weniger als 10 Pa/h bei einem Druckunterschied von 100 kPa begrenzt,

| 6. | Federbalgventile, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen", mit einer Nennweite von 40 mm bis 1 500 mm; |
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6.

Federbalgventile, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen", mit einer Nennweite von 40 mm bis 1 500 mm;

| d) | Ausrüstung und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für das aerodynamische Trennverfahren, wie folgt:






  1. | Trenndüsen mit schlitzförmigen, gekrümmten Kanälen mit einem Krümmungsradius kleiner als 1 mm, hergestellt aus "UF6-resistenten Werkstoffen", mit einem Trennblech innerhalb der Düse, welches das durch die Düse strömende Gas in zwei Ströme teilt, |
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d)

Ausrüstung und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für das aerodynamische Trennverfahren, wie folgt:

1.

Trenndüsen mit schlitzförmigen, gekrümmten Kanälen mit einem Krümmungsradius kleiner als 1 mm, hergestellt aus "UF6-resistenten Werkstoffen", mit einem Trennblech innerhalb der Düse, welches das durch die Düse strömende Gas in zwei Ströme teilt,

| 2. | zylindrische oder konische Wirbelrohre mit tangentialem Gaseintritt, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen", mit einem Durchmesser zwischen 0,5 cm und 4 cm, mit einem Verhältnis Länge/Durchmesser von kleiner/gleich 20 zu 1 und mit einem oder mehreren tangentialen Gaseinlässen, |
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2.

zylindrische oder konische Wirbelrohre mit tangentialem Gaseintritt, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen", mit einem Durchmesser zwischen 0,5 cm und 4 cm, mit einem Verhältnis Länge/Durchmesser von kleiner/gleich 20 zu 1 und mit einem oder mehreren tangentialen Gaseinlässen,

| 3. | Kompressoren (volumenfördernd in Zentrifugal- oder Axialbauweise) oder Ventilatoren mit einem Ansaugvermögen von 2 m3/min oder mehr, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen", und Kompressorwellendichtungen hierfür, |
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3.

Kompressoren (volumenfördernd in Zentrifugal- oder Axialbauweise) oder Ventilatoren mit einem Ansaugvermögen von 2 m3/min oder mehr, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen", und Kompressorwellendichtungen hierfür,

| 4. | Wärmetauscher, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen", |
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4.

Wärmetauscher, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen",

| 5. | Gehäuse für aerodynamische Trennelemente, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen", entwickelt zur Aufnahme von Wirbelrohren oder Trenndüsen, |
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5.

Gehäuse für aerodynamische Trennelemente, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen", entwickelt zur Aufnahme von Wirbelrohren oder Trenndüsen,

| 6. | Federbalgventile, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen", mit einem Durchmesser von 40 mm bis 1 500 mm, |
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6.

Federbalgventile, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen", mit einem Durchmesser von 40 mm bis 1 500 mm,

| 7. | Verfahrenssysteme zur Trennung von UF6 und Trägergas (Wasserstoff oder Helium) bis zu einem UF6-Gehalt von kleiner/gleich 1 ppm, einschließlich:






  a) | Tieftemperatur-Wärmetauscher und -Trennanlagen, ausgelegt für Temperaturen kleiner/gleich 153 K (– 120 °C), |
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7.

Verfahrenssysteme zur Trennung von UF6 und Trägergas (Wasserstoff oder Helium) bis zu einem UF6-Gehalt von kleiner/gleich 1 ppm, einschließlich:

a)

Tieftemperatur-Wärmetauscher und -Trennanlagen, ausgelegt für Temperaturen kleiner/gleich 153 K (– 120 °C),

| b) | Tieftemperatur-Gefriergeräte, ausgelegt für Temperaturen kleiner/gleich 153 K (– 120 °C), |
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b)

Tieftemperatur-Gefriergeräte, ausgelegt für Temperaturen kleiner/gleich 153 K (– 120 °C),

| c) | Trenndüsen oder Wirbelrohre zum Trennen von UF6 und Trägergas, |
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c)

Trenndüsen oder Wirbelrohre zum Trennen von UF6 und Trägergas,

| d) | UF6-Kühlfallen, ausgelegt für Temperaturen kleiner/gleich 253 K (– 20 °C); |
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d)

UF6-Kühlfallen, ausgelegt für Temperaturen kleiner/gleich 253 K (– 20 °C);

| e) | Ausrüstung und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für das Trennverfahren durch chemischen Austausch, wie folgt:






  1. | Pulsationskolonnen für schnelle Flüssig-Flüssig-Extraktion mit Stufenverweilzeiten kleiner/gleich 30 Sekunden und resistent gegen konzentrierte Salzsäure (HCl) (z. B. hergestellt aus oder geschützt mit geeigneten Kunststoffmaterialien wie Fluorkohlenwasserstoff-Polymere oder Glas), |
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e)

Ausrüstung und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für das Trennverfahren durch chemischen Austausch, wie folgt:

1.

Pulsationskolonnen für schnelle Flüssig-Flüssig-Extraktion mit Stufenverweilzeiten kleiner/gleich 30 Sekunden und resistent gegen konzentrierte Salzsäure (HCl) (z. B. hergestellt aus oder geschützt mit geeigneten Kunststoffmaterialien wie Fluorkohlenwasserstoff-Polymere oder Glas),

| 2. | Zentrifugalextraktoren für schnelle Flüssig-Flüssig-Extraktionen mit Stufenverweilzeiten kleiner/gleich 30 Sekunden und resistent gegen konzentrierte Salzsäure (HCl) (z. B. hergestellt aus oder geschützt mit geeigneten Kunststoffmaterialien wie Fluorkohlenwasserstoff-Polymere oder Glas), |
| --- | --- |

2.

Zentrifugalextraktoren für schnelle Flüssig-Flüssig-Extraktionen mit Stufenverweilzeiten kleiner/gleich 30 Sekunden und resistent gegen konzentrierte Salzsäure (HCl) (z. B. hergestellt aus oder geschützt mit geeigneten Kunststoffmaterialien wie Fluorkohlenwasserstoff-Polymere oder Glas),

| 3. | elektrochemische Reduktionszellen, resistent gegen konzentrierte Salzsäure (HCl), entwickelt zur Reduktion von Uran von einer Valenzstufe zu einer anderen, |
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3.

elektrochemische Reduktionszellen, resistent gegen konzentrierte Salzsäure (HCl), entwickelt zur Reduktion von Uran von einer Valenzstufe zu einer anderen,

| 4. | elektrochemische Reduktionszellen, Einspeiseausrüstung zur Aufnahme von U4+ aus dem organischen Materialstrom und Teile, die im Kontakt mit dem Prozessstrom stehen, hergestellt aus oder geschützt mit geeigneten Materialien (z. B. Glas, Fluorkohlenwasserstoff-Polymere, Polyphenylsulfat, Polyethersulfon und harzimprägnierte Grafite), |
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4.

elektrochemische Reduktionszellen, Einspeiseausrüstung zur Aufnahme von U4+ aus dem organischen Materialstrom und Teile, die im Kontakt mit dem Prozessstrom stehen, hergestellt aus oder geschützt mit geeigneten Materialien (z. B. Glas, Fluorkohlenwasserstoff-Polymere, Polyphenylsulfat, Polyethersulfon und harzimprägnierte Grafite),

| 5. | Einspeise-Aufbereitungssysteme zur Herstellung hochreiner Uranchloridlösung, bestehend aus Lösemitteltrennungs-, Lösungsabscheidungs- und/oder Ionenaustauschausrüstung für die Reinigung, sowie Elektrolysezellen zur Reduzierung von U6+ oder U4+ zu U3+, |
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5.

Einspeise-Aufbereitungssysteme zur Herstellung hochreiner Uranchloridlösung, bestehend aus Lösemitteltrennungs-, Lösungsabscheidungs- und/oder Ionenaustauschausrüstung für die Reinigung, sowie Elektrolysezellen zur Reduzierung von U6+ oder U4+ zu U3+,

| 6. | Uranoxidationssysteme zur Oxidation von U3+ zu U4+; |
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6.

Uranoxidationssysteme zur Oxidation von U3+ zu U4+;

| f) | Ausrüstung und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für das Trennverfahren durch Ionenaustausch, wie folgt:






  1. | schnell reagierende Ionenaustauschharze, membranartig- oder porös-makrovernetzte Harze, in denen die aktiven chemischen Austauschgruppen auf eine Oberflächenschicht eines inaktiven porösen Trägermaterials begrenzt sind und andere zusammengesetzte Strukturen in geeigneter Form, einschließlich Teilchen oder Fasern mit Durchmessern von 0,2 mm oder weniger, resistent gegen konzentrierte Salzsäure, präpariert für eine Austauschhalbwertszeit von weniger als 10 Sekunden und geeignet für den Betrieb bei Temperaturen im Bereich von 373 K (100 °C) bis 473 K (200 °C), |
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f)

Ausrüstung und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für das Trennverfahren durch Ionenaustausch, wie folgt:

1.

schnell reagierende Ionenaustauschharze, membranartig- oder porös-makrovernetzte Harze, in denen die aktiven chemischen Austauschgruppen auf eine Oberflächenschicht eines inaktiven porösen Trägermaterials begrenzt sind und andere zusammengesetzte Strukturen in geeigneter Form, einschließlich Teilchen oder Fasern mit Durchmessern von 0,2 mm oder weniger, resistent gegen konzentrierte Salzsäure, präpariert für eine Austauschhalbwertszeit von weniger als 10 Sekunden und geeignet für den Betrieb bei Temperaturen im Bereich von 373 K (100 °C) bis 473 K (200 °C),

| 2. | Ionenaustauschsäulen (zylindrisch) mit einem Durchmesser größer als 1 000 mm, hergestellt aus oder geschützt mit Materialien, die resistent sind gegen konzentrierte Salzsäure (z. B. Titan oder fluorkohlenwasserstoffhaltige Kunststoffe) und die geeignet sind zum Betrieb bei Temperaturen im Bereich von 373 K (100 °C) bis 473 K (200 °C) und Drücken oberhalb 0,7 MPa, |
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2.

Ionenaustauschsäulen (zylindrisch) mit einem Durchmesser größer als 1 000 mm, hergestellt aus oder geschützt mit Materialien, die resistent sind gegen konzentrierte Salzsäure (z. B. Titan oder fluorkohlenwasserstoffhaltige Kunststoffe) und die geeignet sind zum Betrieb bei Temperaturen im Bereich von 373 K (100 °C) bis 473 K (200 °C) und Drücken oberhalb 0,7 MPa,

| 3. | Ionenaustausch-Rückflusssysteme (chemische oder elektrochemische Oxidations- oder Reduktionssysteme) zur Wiederaufbereitung der chemischen Reduktions- oder Oxidationsmittel, die in Anreicherungskaskaden nach dem Ionenaustauschverfahren benutzt werden; |
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3.

Ionenaustausch-Rückflusssysteme (chemische oder elektrochemische Oxidations- oder Reduktionssysteme) zur Wiederaufbereitung der chemischen Reduktions- oder Oxidationsmittel, die in Anreicherungskaskaden nach dem Ionenaustauschverfahren benutzt werden;

| g) | Ausrüstung und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für Anlagen zur Isotopentrennung nach dem atomaren "Laser"verfahren (AVLIS = Atomic Vapour Laser Isotope Separation), wie folgt:






  1. | Hochleistungs-Elektronenstrahlkanonen, linienbestrahlend oder rasternd, mit einer Auftreffleistung von mehr als 2,5 kW/cm zur Verwendung in Uranverdampfungssystemen, |
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g)

Ausrüstung und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für Anlagen zur Isotopentrennung nach dem atomaren "Laser"verfahren (AVLIS = Atomic Vapour Laser Isotope Separation), wie folgt:

1.

Hochleistungs-Elektronenstrahlkanonen, linienbestrahlend oder rasternd, mit einer Auftreffleistung von mehr als 2,5 kW/cm zur Verwendung in Uranverdampfungssystemen,

| 2. | Handhabungssysteme für flüssiges Uranmetall oder Uranlegierungen, bestehend aus Tiegeln, hergestellt aus oder geschützt mit geeigneten wärme- und korrosionsbeständigen Materialien (z. B. Tantal, yttriumoxid(Y2O3)-beschichtetem Grafit, Grafit, beschichtet mit anderen Oxiden «Seltener Erden», oder Mischungen daraus) und Ausrüstung zur Kühlung der Tiegel,

  ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 2A225. |
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2.

Handhabungssysteme für flüssiges Uranmetall oder Uranlegierungen, bestehend aus Tiegeln, hergestellt aus oder geschützt mit geeigneten wärme- und korrosionsbeständigen Materialien (z. B. Tantal, yttriumoxid(Y2O3)-beschichtetem Grafit, Grafit, beschichtet mit anderen Oxiden «Seltener Erden», oder Mischungen daraus) und Ausrüstung zur Kühlung der Tiegel,

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 2A225.

| 3. | Product(angereichertes Uran)- und Tails("abgereichertes Uran")-Sammler, hergestellt aus oder beschichtet mit Materialien, die wärme- und korrosionsbeständig gegenüber Uranmetalldampf oder flüssigem Uran sind, wie yttriumoxid(Y2O3)-beschichteter Grafit oder Tantal, |
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3.

Product(angereichertes Uran)- und Tails("abgereichertes Uran")-Sammler, hergestellt aus oder beschichtet mit Materialien, die wärme- und korrosionsbeständig gegenüber Uranmetalldampf oder flüssigem Uran sind, wie yttriumoxid(Y2O3)-beschichteter Grafit oder Tantal,

| 4. | Behälter für Separatoren (zylindrische oder rechteckige Kessel) zur Aufnahme der Uranmetalldampfquelle, der Elektronenstrahlkanone und der Sammler für Product(angereichertes Uran) und Tails("abgereichertes Uran"), |
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4.

Behälter für Separatoren (zylindrische oder rechteckige Kessel) zur Aufnahme der Uranmetalldampfquelle, der Elektronenstrahlkanone und der Sammler für Product(angereichertes Uran) und Tails("abgereichertes Uran"),

| 5. | "Laser" oder "Laser"systeme zur Trennung von Uranisotopen mit einer Wellenlängenstabilisierung, geeignet für den Betrieb über längere Zeitabstände;

  ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMERN 6A005 UND 6A205. |
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5.

"Laser" oder "Laser"systeme zur Trennung von Uranisotopen mit einer Wellenlängenstabilisierung, geeignet für den Betrieb über längere Zeitabstände;

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMERN 6A005 UND 6A205.

| h) | Ausrüstung und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für Anlagen zur Isotopentrennung nach dem molekularen "Laser"verfahren (MLIS = Molecular Laser Isotope Separation) oder nach dem laserangeregten chemischen Verfahren (CRISLA = Chemical Reaction by Isotope Selective Laser Activation), wie folgt:






  1. | Überschallexpansionsdüsen zur Kühlung von Mischungen aus UF6 und Trägergas auf Temperaturen kleiner/gleich 150 K (– 123 °C), hergestellt aus "UF6-resistenten Werkstoffen", |
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h)

Ausrüstung und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für Anlagen zur Isotopentrennung nach dem molekularen "Laser"verfahren (MLIS = Molecular Laser Isotope Separation) oder nach dem laserangeregten chemischen Verfahren (CRISLA = Chemical Reaction by Isotope Selective Laser Activation), wie folgt:

1.

Überschallexpansionsdüsen zur Kühlung von Mischungen aus UF6 und Trägergas auf Temperaturen kleiner/gleich 150 K (– 123 °C), hergestellt aus "UF6-resistenten Werkstoffen",

| 2. | Uranpentafluorid(UF5)-Product-Sammler, bestehend aus Filter, Prallabscheider, Zyklonen oder Kombinationen daraus, hergestellt aus UF5/"UF6-resistenten Werkstoffen", |
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2.

Uranpentafluorid(UF5)-Product-Sammler, bestehend aus Filter, Prallabscheider, Zyklonen oder Kombinationen daraus, hergestellt aus UF5/"UF6-resistenten Werkstoffen",

| 3. | Kompressoren, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen", und Kompressorwellendichtungen hierfür, |
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3.

Kompressoren, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen", und Kompressorwellendichtungen hierfür,

| 4. | Ausrüstung zur Fluorierung von UF5 (fest) zu UF6 (gasförmig), |
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4.

Ausrüstung zur Fluorierung von UF5 (fest) zu UF6 (gasförmig),

| 5. | Verfahrenssysteme zur Trennung von UF6 und Trägergas (z. B. Stickstoff oder Argon), einschließlich:






  a) | Tieftemperatur-Wärmetauscher und -Trennanlagen, geeignet für Temperaturen kleiner/gleich 153 K (– 120 °C), |
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5.

Verfahrenssysteme zur Trennung von UF6 und Trägergas (z. B. Stickstoff oder Argon), einschließlich:

a)

Tieftemperatur-Wärmetauscher und -Trennanlagen, geeignet für Temperaturen kleiner/gleich 153 K (– 120 °C),

| b) | Tieftemperatur-Kühlgeräte, geeignet für Temperaturen kleiner/gleich 153 K (– 120 °C), |
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b)

Tieftemperatur-Kühlgeräte, geeignet für Temperaturen kleiner/gleich 153 K (– 120 °C),

| c) | UF6-Kühlfallen, geeignet für Temperaturen kleiner/gleich 253 K (– 20 °C), |
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c)

UF6-Kühlfallen, geeignet für Temperaturen kleiner/gleich 253 K (– 20 °C),

| 6. | "Laser" oder "Laser"systeme zur Trennung von Uranisotopen mit einer Wellenlängenstabilisierung, geeignet für den Betrieb über längere Zeitabstände;

  ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMERN 6A005 UND 6A205. |
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6.

"Laser" oder "Laser"systeme zur Trennung von Uranisotopen mit einer Wellenlängenstabilisierung, geeignet für den Betrieb über längere Zeitabstände;

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMERN 6A005 UND 6A205.

| i) | Ausrüstung und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für das Plasmatrennverfahren, wie folgt:






  1. | Mikrowellenleistungsquellen und -sender zur Produktion oder Beschleunigung von Ionen mit einer Ausgangsfrequenz größer als 30 GHz und einer mittleren Ausgangsleistung größer als 50 kW, |
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i)

Ausrüstung und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für das Plasmatrennverfahren, wie folgt:

1.

Mikrowellenleistungsquellen und -sender zur Produktion oder Beschleunigung von Ionen mit einer Ausgangsfrequenz größer als 30 GHz und einer mittleren Ausgangsleistung größer als 50 kW,

| 2. | Anregungsspulen für Radiofrequenzen größer als 100 kHz und geeignet für eine mittlere Leistung größer als 40 kW, |
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2.

Anregungsspulen für Radiofrequenzen größer als 100 kHz und geeignet für eine mittlere Leistung größer als 40 kW,

| 3. | Uranplasmaerzeugungssysteme, |
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3.

Uranplasmaerzeugungssysteme,

| 4. | Handhabungssysteme für flüssiges Uranmetall oder Uranlegierungen, bestehend aus Tiegeln, hergestellt aus oder geschützt mit geeigneten wärme- und korrosionsbeständigen Materialien (z. B. Tantal, yttriumoxid(Y2O3)-beschichtetem Grafit, Grafit, beschichtet mit anderen Oxiden «Seltener Erden», oder Mischungen daraus) und Ausrüstung zur Kühlung der Tiegel,

  ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 2A225. |
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4.

Handhabungssysteme für flüssiges Uranmetall oder Uranlegierungen, bestehend aus Tiegeln, hergestellt aus oder geschützt mit geeigneten wärme- und korrosionsbeständigen Materialien (z. B. Tantal, yttriumoxid(Y2O3)-beschichtetem Grafit, Grafit, beschichtet mit anderen Oxiden «Seltener Erden», oder Mischungen daraus) und Ausrüstung zur Kühlung der Tiegel,

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 2A225.

| 5. | Product(angereichertes Uran)- und Tails("abgereichertes Uran")-Sammler, hergestellt aus oder geschützt mit Materialien, die wärme- und korrosionsbeständig gegenüber Urandampf sind, wie yttriumoxid(Y2O3)-beschichteter Grafit oder Tantal, |
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5.

Product(angereichertes Uran)- und Tails("abgereichertes Uran")-Sammler, hergestellt aus oder geschützt mit Materialien, die wärme- und korrosionsbeständig gegenüber Urandampf sind, wie yttriumoxid(Y2O3)-beschichteter Grafit oder Tantal,

| 6. | Separatorbehälter (zylindrisch) zur Aufnahme der Uranplasmaquelle, Anregungsspulen der Radiofrequenz und der Product- und Tails-Sammler und hergestellt aus geeigneten nichtmagnetischen Materialien (z. B. Edelstahl); |
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6.

Separatorbehälter (zylindrisch) zur Aufnahme der Uranplasmaquelle, Anregungsspulen der Radiofrequenz und der Product- und Tails-Sammler und hergestellt aus geeigneten nichtmagnetischen Materialien (z. B. Edelstahl);

| j) | Ausrüstung und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für den Trennprozess nach dem elektromagnetischen Verfahren, wie folgt:






  1. | Einzel- oder Mehrfach-Ionenquellen, die eine Strahlquelle enthalten, Ionisierer und Strahlbeschleuniger, hergestellt aus geeigneten Materialien (z. B. Grafit, Edelstahl oder Kupfer) und geeignet zur Erzeugung eines Gesamtionenstroms größer/gleich 50 mA, |
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j)

Ausrüstung und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für den Trennprozess nach dem elektromagnetischen Verfahren, wie folgt:

1.

Einzel- oder Mehrfach-Ionenquellen, die eine Strahlquelle enthalten, Ionisierer und Strahlbeschleuniger, hergestellt aus geeigneten Materialien (z. B. Grafit, Edelstahl oder Kupfer) und geeignet zur Erzeugung eines Gesamtionenstroms größer/gleich 50 mA,

| 2. | Ionenkollektorplatten zum Aufsammeln von angereicherten oder abgereicherten Uranionenstrahlen, die zwei oder mehr Spalte einschließlich Sammelbehälter enthalten und hergestellt sind aus geeigneten nichtmagnetischen Materialien (z. B. Grafit oder Edelstahl), |
| --- | --- |

2.

Ionenkollektorplatten zum Aufsammeln von angereicherten oder abgereicherten Uranionenstrahlen, die zwei oder mehr Spalte einschließlich Sammelbehälter enthalten und hergestellt sind aus geeigneten nichtmagnetischen Materialien (z. B. Grafit oder Edelstahl),

| 3. | Vakuumbehälter für elektromagnetische Uranseparatoren, hergestellt aus nichtmagnetischen Materialien (z. B. Edelstahl) und konstruiert zum Betrieb bei Drücken kleiner/gleich 0,1 Pa, |
| --- | --- |

3.

Vakuumbehälter für elektromagnetische Uranseparatoren, hergestellt aus nichtmagnetischen Materialien (z. B. Edelstahl) und konstruiert zum Betrieb bei Drücken kleiner/gleich 0,1 Pa,

| 4. | Magnetpolstücke mit einem Durchmesser größer als 2 m, |
| --- | --- |

4.

Magnetpolstücke mit einem Durchmesser größer als 2 m,

| 5. | Hochspannungsversorgungen für Ionenquellen mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | geeignet für kontinuierlichen Betrieb, |
| --- | --- | --- |

5.

Hochspannungsversorgungen für Ionenquellen mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

geeignet für kontinuierlichen Betrieb,

| b) | Ausgangsspannung größer/gleich 20 000 V, |
| --- | --- |

b)

Ausgangsspannung größer/gleich 20 000 V,

| c) | Ausgangsstrom größer/gleich 1 A und |
| --- | --- |

c)

Ausgangsstrom größer/gleich 1 A und

| d) | Spannungsstabilisierung besser als 0,01 % über eine Zeitdauer von 8 Stunden, |
| --- | --- |

d)

Spannungsstabilisierung besser als 0,01 % über eine Zeitdauer von 8 Stunden,

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 3A227.

| 6. | Leistungsversorgungen für die Magnete (Hochleistung, Gleichstrom) mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | geeignet für kontinuierlichen Betrieb mit einem Ausgangsstrom größer/gleich 500 A bei einer Spannung größer/gleich 100 V und |
| --- | --- | --- |

6.

Leistungsversorgungen für die Magnete (Hochleistung, Gleichstrom) mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

geeignet für kontinuierlichen Betrieb mit einem Ausgangsstrom größer/gleich 500 A bei einer Spannung größer/gleich 100 V und

| b) | Strom- oder Spannungsstabilisierung besser als 0,01 % über eine Zeitdauer von 8 Stunden. |
| --- | --- |

b)

Strom- oder Spannungsstabilisierung besser als 0,01 % über eine Zeitdauer von 8 Stunden.

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 3A226.

0B002Zusatzsysteme, Ausrüstung und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für von Nummer 0B001 erfasste Anlagen zur Isotopentrennung, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen", wie folgt:

| a) | Speiseautoklaven, Öfen oder Systeme, mit denen UF6 zum Anreicherungsort geleitet wird; |
| --- | --- |

a)

Speiseautoklaven, Öfen oder Systeme, mit denen UF6 zum Anreicherungsort geleitet wird;

| b) | Desublimierer (Phasenübergang gasförmig-fest) oder Kühlfallen zur Entnahme von UF6 aus dem Anreicherungsprozess und zur nachfolgenden Weiterleitung mittels Heizung; |
| --- | --- |

b)

Desublimierer (Phasenübergang gasförmig-fest) oder Kühlfallen zur Entnahme von UF6 aus dem Anreicherungsprozess und zur nachfolgenden Weiterleitung mittels Heizung;

| c) | Product- und Tails-Ausspeisesysteme zur Weiterleitung von UF6 in Behälter; |
| --- | --- |

c)

Product- und Tails-Ausspeisesysteme zur Weiterleitung von UF6 in Behälter;

| d) | Verflüssigungs- oder Erstarrungsstationen zur Entnahme von UF6 aus dem Anreicherungsprozess mittels Kompression, Kühlung und Umwandlung von UF6 in die flüssige oder feste Form; |
| --- | --- |

d)

Verflüssigungs- oder Erstarrungsstationen zur Entnahme von UF6 aus dem Anreicherungsprozess mittels Kompression, Kühlung und Umwandlung von UF6 in die flüssige oder feste Form;

| e) | Rohr- und Verteilersysteme, besonders konstruiert zur Führung von UF6 innerhalb von Gasdiffusions-, Zentrifugen- oder aerodynamischen Kaskaden; |
| --- | --- |

e)

Rohr- und Verteilersysteme, besonders konstruiert zur Führung von UF6 innerhalb von Gasdiffusions-, Zentrifugen- oder aerodynamischen Kaskaden;

| f) | 1. | Vakuumrohrleitungssysteme oder Vakuumsammelleitungen mit einem Durchsatz von mindestens 5 m3 pro Minute oder |
| --- | --- | --- |

f)

1.

Vakuumrohrleitungssysteme oder Vakuumsammelleitungen mit einem Durchsatz von mindestens 5 m3 pro Minute oder

| 2. | Vakuumpumpen, besonders konstruiert zum Gebrauch in UF6-haltiger Atmosphäre; |
| --- | --- |

2.

Vakuumpumpen, besonders konstruiert zum Gebrauch in UF6-haltiger Atmosphäre;

| g) | UF6-Massenspektrometer/Ionenquellen, besonders konstruiert oder hergerichtet zur Aufnahme von Online-Proben des Beschickungsgutes (feed), Products oder Tails des UF6-Gasstromes und mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | Auflösungsvermögen von 1 amu (atomic mass units) für Massen größer als 320 amu, |
| --- | --- | --- |

g)

UF6-Massenspektrometer/Ionenquellen, besonders konstruiert oder hergerichtet zur Aufnahme von Online-Proben des Beschickungsgutes (feed), Products oder Tails des UF6-Gasstromes und mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

Auflösungsvermögen von 1 amu (atomic mass units) für Massen größer als 320 amu,

| 2. | Ionenquellen, hergestellt aus oder beschichtet mit Nichrom oder Monel bzw. vernickelt, |
| --- | --- |

2.

Ionenquellen, hergestellt aus oder beschichtet mit Nichrom oder Monel bzw. vernickelt,

| 3. | Elektronenstoß-Ionenquellen und |
| --- | --- |

3.

Elektronenstoß-Ionenquellen und

| 4. | Kollektorsystem, geeignet für die Isotopenanalyse. |
| --- | --- |

4.

Kollektorsystem, geeignet für die Isotopenanalyse.

0B003Anlagen zur Konversion von Uran und besonders konstruierte oder hergerichtete Ausrüstung hierfür, wie folgt:

| a) | Systeme zur Umwandlung von Uranerzkonzentraten zu UO3; |
| --- | --- |

a)

Systeme zur Umwandlung von Uranerzkonzentraten zu UO3;

| b) | Systeme zur Umwandlung von UO3 zu UF6; |
| --- | --- |

b)

Systeme zur Umwandlung von UO3 zu UF6;

| c) | Systeme zur Umwandlung von UO3 zu UO2; |
| --- | --- |

c)

Systeme zur Umwandlung von UO3 zu UO2;

| d) | Systeme zur Umwandlung von UO2 zu UF4; |
| --- | --- |

d)

Systeme zur Umwandlung von UO2 zu UF4;

| e) | Systeme zur Umwandlung von UF4 zu UF6; |
| --- | --- |

e)

Systeme zur Umwandlung von UF4 zu UF6;

| f) | Systeme zur Umwandlung von UF4 zu Uranmetall; |
| --- | --- |

f)

Systeme zur Umwandlung von UF4 zu Uranmetall;

| g) | Systeme zur Umwandlung von UF6 zu UO2; |
| --- | --- |

g)

Systeme zur Umwandlung von UF6 zu UO2;

| h) | Systeme zur Umwandlung von UF6 zu UF4; |
| --- | --- |

h)

Systeme zur Umwandlung von UF6 zu UF4;

| i) | Systeme zur Umwandlung von UO2 zu UCl4. |
| --- | --- |

i)

Systeme zur Umwandlung von UO2 zu UCl4.

0B004Anlagen zur Herstellung oder Konzentration von Schwerem Wasser, Deuterium oder Deuteriumverbindungen und besonders konstruierte oder hergerichtete Ausrüstung und Bestandteile hierfür, wie folgt:

| a) | Anlagen zur Herstellung von Schwerem Wasser, Deuterium oder Deuteriumverbindungen wie folgt:






  1. | Schwefelwasserstoff-Wasser-Austauschanlagen, |
| --- | --- | --- |

a)

Anlagen zur Herstellung von Schwerem Wasser, Deuterium oder Deuteriumverbindungen wie folgt:

1.

Schwefelwasserstoff-Wasser-Austauschanlagen,

| 2. | Ammoniak-Wasserstoff-Austauschanlagen; |
| --- | --- |

2.

Ammoniak-Wasserstoff-Austauschanlagen;

| b) | Ausrüstung und Bestandteile wie folgt:






  1. | Schwefelwasserstoff-Wasser-Austauschkolonnen, hergestellt aus kohlenstoffarmem Stahl (z. B. ASTM A516) mit Durchmessern von 6 m bis 9 m, geeignet zum Betrieb bei Drücken größer/gleich 2 MPa und mit einer Materialstärke, die eine Korrosion von 6 mm oder mehr erlaubt, |
| --- | --- | --- |

b)

Ausrüstung und Bestandteile wie folgt:

1.

Schwefelwasserstoff-Wasser-Austauschkolonnen, hergestellt aus kohlenstoffarmem Stahl (z. B. ASTM A516) mit Durchmessern von 6 m bis 9 m, geeignet zum Betrieb bei Drücken größer/gleich 2 MPa und mit einer Materialstärke, die eine Korrosion von 6 mm oder mehr erlaubt,

| 2. | einstufige Niederdruck (d. h. 0,2 MPa)-Zentrifugalgebläse oder Kompressoren für die Umwälzung von Schwefelwasserstoffgas (d. h. Gas mit mehr als 70 % H2S) mit einem Durchsatz größer/gleich 56 m3/s bei einem Ansaugdruck größer/gleich 1,8 MPa und ausgestattet mit Dichtungen, konstruiert zum Gebrauch bei feuchtem Schwefelwasserstoff, |
| --- | --- |

2.

einstufige Niederdruck (d. h. 0,2 MPa)-Zentrifugalgebläse oder Kompressoren für die Umwälzung von Schwefelwasserstoffgas (d. h. Gas mit mehr als 70 % H2S) mit einem Durchsatz größer/gleich 56 m3/s bei einem Ansaugdruck größer/gleich 1,8 MPa und ausgestattet mit Dichtungen, konstruiert zum Gebrauch bei feuchtem Schwefelwasserstoff,

| 3. | Ammoniak-Wasserstoff-Austauschkolonnen mit einer Höhe größer/gleich 35 m und Durchmessern von 1,5 m bis 2,5 m, geeignet zum Betrieb bei Drücken größer als 15 MPa, |
| --- | --- |

3.

Ammoniak-Wasserstoff-Austauschkolonnen mit einer Höhe größer/gleich 35 m und Durchmessern von 1,5 m bis 2,5 m, geeignet zum Betrieb bei Drücken größer als 15 MPa,

| 4. | Kolonneneinrichtungen, einschließlich Stufenreaktoren, und Stufenpumpen, einschließlich Tauchpumpen, zur Produktion von Schwerem Wasser nach dem Ammoniak-Wasserstoff-Austauschverfahren, |
| --- | --- |

4.

Kolonneneinrichtungen, einschließlich Stufenreaktoren, und Stufenpumpen, einschließlich Tauchpumpen, zur Produktion von Schwerem Wasser nach dem Ammoniak-Wasserstoff-Austauschverfahren,

| 5. | Ammoniak-Cracker mit Betriebsdrücken größer/gleich 3 MPa zur Produktion von Schwerem Wasser nach dem Ammoniak-Wasserstoff-Austauschverfahren, |
| --- | --- |

5.

Ammoniak-Cracker mit Betriebsdrücken größer/gleich 3 MPa zur Produktion von Schwerem Wasser nach dem Ammoniak-Wasserstoff-Austauschverfahren,

| 6. | Infrarot-Absorptionsanalysegeräte, geeignet zur laufenden (online) Messung des Wasserstoff-Deuterium-Verhältnisses bei Deuterium-Konzentrationen größer/gleich 90 Gew.-%, |
| --- | --- |

6.

Infrarot-Absorptionsanalysegeräte, geeignet zur laufenden (online) Messung des Wasserstoff-Deuterium-Verhältnisses bei Deuterium-Konzentrationen größer/gleich 90 Gew.-%,

| 7. | katalytische Verbrennungsanlagen zur Umwandlung von angereichertem Deuteriumgas zu Schwerem Wasser nach dem Ammoniak-Wasserstoff-Austauschverfahren, |
| --- | --- |

7.

katalytische Verbrennungsanlagen zur Umwandlung von angereichertem Deuteriumgas zu Schwerem Wasser nach dem Ammoniak-Wasserstoff-Austauschverfahren,

| 8. | vollständige Systeme zur Anreicherung oder Reinigung (upgrade systems) von Schwerem Wasser oder Säulen hierfür, zur Anreicherung oder Reinigung von Schwerem Wasser auf Reaktorkonzentration. |
| --- | --- |

8.

vollständige Systeme zur Anreicherung oder Reinigung (upgrade systems) von Schwerem Wasser oder Säulen hierfür, zur Anreicherung oder Reinigung von Schwerem Wasser auf Reaktorkonzentration.

0B005Anlagen, besonders konstruiert für die Herstellung von "Kernreaktor"-Brennelementen, und besonders konstruierte oder hergerichtete Ausrüstung hierfür.

Anmerkung: Eine Anlage, besonders konstruiert für die Herstellung von "Kernreaktor"-Brennelementen, schließt Ausrüstung ein, die

| a) | üblicherweise mit dem Kernmaterial im Produktionsfluss in unmittelbaren Kontakt kommt oder dieses bearbeitet oder den Produktionsfluss steuert, |
| --- | --- |

a)

üblicherweise mit dem Kernmaterial im Produktionsfluss in unmittelbaren Kontakt kommt oder dieses bearbeitet oder den Produktionsfluss steuert,

| b) | das Kernmaterial innerhalb der Umhüllung verschließt, |
| --- | --- |

b)

das Kernmaterial innerhalb der Umhüllung verschließt,

| c) | die Unversehrtheit der Umhüllung oder des Verschlusses prüft oder |
| --- | --- |

c)

die Unversehrtheit der Umhüllung oder des Verschlusses prüft oder

| d) | die Endbehandlung des umschlossenen Brennstoffs prüft. |
| --- | --- |

d)

die Endbehandlung des umschlossenen Brennstoffs prüft.

0B006Anlagen für die Wiederaufarbeitung bestrahlter "Kernreaktor"-Brennelemente und besonders konstruierte oder hergerichtete Ausrüstung und Bestandteile hierfür.

Anmerkung: Nummer 0B006 schließt ein:

| a) | Anlagen für die Wiederaufarbeitung von bestrahlten "Kernreaktor"-Brennelementen, einschließlich Ausrüstung und Bestandteile, die üblicherweise mit dem bestrahlten Kernbrennstoff, den Hauptkernmaterialien und den Spaltprodukten der Prozessströme in direkten Kontakt kommen oder diese direkt steuern, |
| --- | --- |

a)

Anlagen für die Wiederaufarbeitung von bestrahlten "Kernreaktor"-Brennelementen, einschließlich Ausrüstung und Bestandteile, die üblicherweise mit dem bestrahlten Kernbrennstoff, den Hauptkernmaterialien und den Spaltprodukten der Prozessströme in direkten Kontakt kommen oder diese direkt steuern,

| b) | Brennelementzerhacker- oder -Schreddermaschinen, d. h. fernbediente Ausrüstung zum Zerschneiden, Zerhacken, Schreddern oder Abscheren von bestrahlten "Kernreaktor"-Brennelementen, -stäben oder -stabbündeln, |
| --- | --- |

b)

Brennelementzerhacker- oder -Schreddermaschinen, d. h. fernbediente Ausrüstung zum Zerschneiden, Zerhacken, Schreddern oder Abscheren von bestrahlten "Kernreaktor"-Brennelementen, -stäben oder -stabbündeln,

| c) | Auflösetanks und kritikalitätssichere Tanks (z. B. mit kleinem Durchmesser, ring- oder plattenförmige Tanks), besonders konstruiert oder hergerichtet zur Auflösung bestrahlten "Kernreaktor"-Brennstoffs, beständig gegen heiße, hochkorrosive Flüssigkeiten und geeignet, fernbedient befüllt und gewartet zu werden, |
| --- | --- |

c)

Auflösetanks und kritikalitätssichere Tanks (z. B. mit kleinem Durchmesser, ring- oder plattenförmige Tanks), besonders konstruiert oder hergerichtet zur Auflösung bestrahlten "Kernreaktor"-Brennstoffs, beständig gegen heiße, hochkorrosive Flüssigkeiten und geeignet, fernbedient befüllt und gewartet zu werden,

| d) | Gegenstrom-Lösungsextraktoren und Ionenaustauscher, besonders konstruiert oder hergerichtet für die Verwendung in einer Anlage zur Wiederaufarbeitung von bestrahltem "natürlichen Uran", "abgereicherten Uran" oder "besonderen spaltbaren Material", |
| --- | --- |

d)

Gegenstrom-Lösungsextraktoren und Ionenaustauscher, besonders konstruiert oder hergerichtet für die Verwendung in einer Anlage zur Wiederaufarbeitung von bestrahltem "natürlichen Uran", "abgereicherten Uran" oder "besonderen spaltbaren Material",

| e) | Aufbewahrungs- oder Lagerbehälter, besonders konstruiert, um Kritikalitätssicherheit zu gewährleisten und den korrosiven Eigenschaften von Salpetersäure standzuhalten,



  Ergänzende Anmerkung: Aufbewahrungs- oder Lagerbehälter können folgende Eigenschaften besitzen:








  1. | Wände oder innere Strukturen mit einem Boräquivalent (berechnet für alle Anteile gemäß Anmerkung zu Nummer 0C004) von mindestens 2 %, |
| --- | --- | --- |

e)

Aufbewahrungs- oder Lagerbehälter, besonders konstruiert, um Kritikalitätssicherheit zu gewährleisten und den korrosiven Eigenschaften von Salpetersäure standzuhalten,

Ergänzende Anmerkung: Aufbewahrungs- oder Lagerbehälter können folgende Eigenschaften besitzen:

1.

Wände oder innere Strukturen mit einem Boräquivalent (berechnet für alle Anteile gemäß Anmerkung zu Nummer 0C004) von mindestens 2 %,

| 2. | einen maximalen Durchmesser von 175 mm bei zylindrischen Behältern oder |
| --- | --- |

2.

einen maximalen Durchmesser von 175 mm bei zylindrischen Behältern oder

| 3. | eine maximale Breite von 75 mm bei platten- oder ringförmigen Behältern. |
| --- | --- |

3.

eine maximale Breite von 75 mm bei platten- oder ringförmigen Behältern.

| f) | Prozesssteuerungseinrichtungen, besonders konstruiert oder hergerichtet für die Überwachung oder Steuerung der Wiederaufarbeitung von bestrahltem "natürlichen Uran", "abgereicherten Uran" oder "besonderen spaltbaren Material". |
| --- | --- |

f)

Prozesssteuerungseinrichtungen, besonders konstruiert oder hergerichtet für die Überwachung oder Steuerung der Wiederaufarbeitung von bestrahltem "natürlichen Uran", "abgereicherten Uran" oder "besonderen spaltbaren Material".

0B007Anlagen zur Konversion von Plutonium und besonders konstruierte oder hergerichtete Ausrüstung hierfür, wie folgt:

| a) | Systeme zur Umwandlung von Plutoniumnitrat in Plutoniumoxid; |
| --- | --- |

a)

Systeme zur Umwandlung von Plutoniumnitrat in Plutoniumoxid;

| b) | Systeme zur Herstellung von Plutoniummetall. |
| --- | --- |

b)

Systeme zur Herstellung von Plutoniummetall.

0CWerkstoffe und Materialien

0C001"Natürliches Uran" oder "abgereichertes Uran" oder Thorium als Metall, Legierung, chemische Verbindung oder Konzentrat, sowie jedes andere Material, das einen oder mehrere der vorstehend genannten Stoffe enthält.

Anmerkung: Nummer 0C001 erfasst nicht:

| a) | Mengen bis zu vier Gramm "natürlichen Urans" oder "abgereicherten Urans", wenn es in einer Fühlanordnung von Instrumenten enthalten ist, |
| --- | --- |

a)

Mengen bis zu vier Gramm "natürlichen Urans" oder "abgereicherten Urans", wenn es in einer Fühlanordnung von Instrumenten enthalten ist,

| b) | "abgereichertes Uran", besonders hergestellt für folgende, nicht nukleare, zivile Verwendungszwecke:








  1. | Abschirmungen, |
| --- | --- | --- |

b)

"abgereichertes Uran", besonders hergestellt für folgende, nicht nukleare, zivile Verwendungszwecke:

1.

Abschirmungen,

| 2. | Verpackungen, |
| --- | --- |

2.

Verpackungen,

| 3. | Ballast mit einer Masse kleiner/gleich 100 kg, |
| --- | --- |

3.

Ballast mit einer Masse kleiner/gleich 100 kg,

| 4. | Ausgleichsgewichte mit einer Masse kleiner/gleich 100 kg. |
| --- | --- |

4.

Ausgleichsgewichte mit einer Masse kleiner/gleich 100 kg.

| c) | Legierungen mit weniger als 5 % Thorium, |
| --- | --- |

c)

Legierungen mit weniger als 5 % Thorium,

| d) | thoriumhaltige keramische Erzeugnisse, die für nichtnukleare Zwecke hergestellt wurden. |
| --- | --- |

d)

thoriumhaltige keramische Erzeugnisse, die für nichtnukleare Zwecke hergestellt wurden.

0C002"Besonderes spaltbares Material".

Anmerkung: Nummer 0C002 erfasst nicht Mengen bis zu vier "effektiven Gramm", wenn es in einer Fühlanordnung von Instrumenten enthalten ist.

0C003Deuterium, Schweres Wasser (Deuteriumoxid), andere Deuteriumverbindungen sowie Mischungen und Lösungen, in denen das Isotopenverhältnis von Deuterium zu Wasserstoff 1 : 5 000 überschreitet.

0C004Nuklearreiner Grafit mit einem ‧Boräquivalent‧ von weniger als 5 ppm und einer Dichte von mehr als 1,5 g/cm3.

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 1C107.

Anmerkung 1: Nummer 0C004 erfasst nicht:

| a) | Erzeugnisse aus Grafit mit einer Masse kleiner als 1 kg, soweit diese nicht zur Verwendung in einem Kernreaktor besonders konstruiert oder hergerichtet sind, |
| --- | --- |

a)

Erzeugnisse aus Grafit mit einer Masse kleiner als 1 kg, soweit diese nicht zur Verwendung in einem Kernreaktor besonders konstruiert oder hergerichtet sind,

| b) | Grafitpulver. |
| --- | --- |

b)

Grafitpulver.

Anmerkung 2: In Nummer 0C004 wird ‧Boräquivalent‧ (BÄ) definiert als Summe der BÄZ für Verunreinigungen (ausgenommen BÄKohlenstoff, da Kohlenstoff nicht als Verunreinigung angesehen wird) einschließlich Bor, wobei:

BÄZ (ppm) = UF × Konzentration des Elementes Z in ppm

mit UF als Umrechnungsfaktor Formula

dabei bedeuten:

σB (sigma B) und σZ (sigma Z) die Wirkungsquerschnitte (in barn) für die Absorption thermischer Neutronen für Bor und das Element Z, AB und AZ die Atomgewichte der natürlich vorkommenden Elemente Bor und Z.

0C005Besonders hergerichtete Verbindungen oder Pulver zur Herstellung von Gasdiffusionstrennwänden, resistent gegen UF6 (z. B. Nickel oder Verbindungen, die 60 Gew.-% oder mehr Nickel enthalten, Aluminiumoxid und vollfluorierte Kohlenwasserstoff-Polymere), mit einer Reinheit von 99,9 Gew.-% oder mehr und einer mittleren Korngröße kleiner als 10 μm gemäß ASTM-Standard B 330 sowie einem hohen Grad einheitlicher Korngrößen.

0DDatenverarbeitungsprogramme (Software)

0D001"Software", besonders entwickelt oder geändert für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" von Gütern, die von dieser Kategorie erfasst werden.

0ETechnologie

0E001"Technologie" entsprechend der Nukleartechnologie-Anmerkung für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" von Gütern, die von dieser Kategorie erfasst werden.

KATEGORIE 1

WERKSTOFFE, CHEMIKALIEN, MIKROORGANISMEN UND TOXINE

1ASysteme, Ausrüstung und Bestandteile

1A001Bauteile aus fluorierten Verbindungen wie folgt:

| a) | Verschlüsse, Dichtungen, Dichtungsmassen oder Brennstoffblasen (fuel bladders), besonders konstruiert für "Luftfahrzeug"- und Raumfahrtanwendungen und zu über 50 Gew.- % aus einem der von Unternummer 1C009b oder 1C009c erfassten Werkstoffe hergestellt; |
| --- | --- |

a)

Verschlüsse, Dichtungen, Dichtungsmassen oder Brennstoffblasen (fuel bladders), besonders konstruiert für "Luftfahrzeug"- und Raumfahrtanwendungen und zu über 50 Gew.- % aus einem der von Unternummer 1C009b oder 1C009c erfassten Werkstoffe hergestellt;

| b) | piezoelektrische Polymere und Copolymere aus Vinylidenfluorid, erfasst von Unternummer 1C009a, mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | in Form einer Plane oder einer Folie und |
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b)

piezoelektrische Polymere und Copolymere aus Vinylidenfluorid, erfasst von Unternummer 1C009a, mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

in Form einer Plane oder einer Folie und

| 2. | mit einer Dicke größer als 200 μm; |
| --- | --- |

2.

mit einer Dicke größer als 200 μm;

| c) | Verschlüsse, Dichtungen, Ventilsitze, Blasen oder Membrane aus Fluorelastomeren, die mindestens eine Vinylethergruppe als Strukturbaustein enthalten, besonders konstruiert für "Luftfahrzeug"- und Raumfahrt- oder für ‧Flugkörper‧-Anwendungen.


  Anmerkung:‧Flugkörper‧ im Sinne von Unternummer 1A001c bedeutet vollständige Raketensysteme und unbemannte Luftfahrzeugsysteme. |
| --- | --- |

c)

Verschlüsse, Dichtungen, Ventilsitze, Blasen oder Membrane aus Fluorelastomeren, die mindestens eine Vinylethergruppe als Strukturbaustein enthalten, besonders konstruiert für "Luftfahrzeug"- und Raumfahrt- oder für ‧Flugkörper‧-Anwendungen.

Anmerkung:‧Flugkörper‧ im Sinne von Unternummer 1A001c bedeutet vollständige Raketensysteme und unbemannte Luftfahrzeugsysteme.

1A002"Verbundwerkstoff"-Strukturen oder Laminate mit einer der folgenden Eigenschaften:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMERN 1A202, 9A010 UND 9A110.

| a) | mit einer organischen "Matrix" und hergestellt aus von Unternummer 1C010c, 1C010d oder 1C010e erfassten Materialien oder |
| --- | --- |

a)

mit einer organischen "Matrix" und hergestellt aus von Unternummer 1C010c, 1C010d oder 1C010e erfassten Materialien oder

| b) | mit einer Metall- oder Kohlenstoff-"Matrix" und hergestellt aus einem der folgenden Materialien:






  1. | "faser- oder fadenförmige Materialien" aus Kohlenstoff mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | "spezifischer Modul" größer als 10,15 × 106 m und |
| --- | --- | --- | --- |

b)

mit einer Metall- oder Kohlenstoff-"Matrix" und hergestellt aus einem der folgenden Materialien:

1.

"faser- oder fadenförmige Materialien" aus Kohlenstoff mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

"spezifischer Modul" größer als 10,15 × 106 m und

| b) | "spezifische Zugfestigkeit" größer als 17,7 × 104 m oder |
| --- | --- |

b)

"spezifische Zugfestigkeit" größer als 17,7 × 104 m oder

| 2. | Werkstoffe, die von Unternummer 1C010c erfasst werden. |
| --- | --- |

2.

Werkstoffe, die von Unternummer 1C010c erfasst werden.

Anmerkung 1: Nummer 1A002 erfasst nicht "Verbundwerkstoff"-Strukturen oder Laminate, hergestellt aus epoxyharzimprägnierten "faser- oder fadenförmigen Materialien" aus Kohlenstoff für die Reparatur von Luftfahrzeug-Strukturen oder Laminaten, sofern sie nicht größer sind als 1 m2.

Anmerkung 2: Nummer 1A002 erfasst nicht Fertig- oder Halbfertigprodukte, besonders konstruiert für rein zivile Verwendungen wie folgt:

| a) | Sportartikel, |
| --- | --- |

a)

Sportartikel,

| b) | Automobilindustrie, |
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b)

Automobilindustrie,

| c) | Werkzeugmaschinenindustrie, |
| --- | --- |

c)

Werkzeugmaschinenindustrie,

| d) | medizinischer Bereich. |
| --- | --- |

d)

medizinischer Bereich.

1A003Erzeugnisse aus von Unternummer 1C008a3 erfassten nichtfluorierten, polymeren Substanzen in Form von Folien, Planen, Bändern oder Streifen, mit einer der folgenden Eigenschaften:

| a) | Dicke größer als 0,254 mm oder |
| --- | --- |

a)

Dicke größer als 0,254 mm oder

| b) | beschichtet oder laminiert mit Kohlenstoff, Grafit, Metallen oder magnetischen Substanzen. |
| --- | --- |

b)

beschichtet oder laminiert mit Kohlenstoff, Grafit, Metallen oder magnetischen Substanzen.

Anmerkung: Nummer 1A003 erfasst nicht Erzeugnisse, die mit Kupfer beschichtet oder laminiert sind, konstruiert für die Herstellung von flexiblen gedruckten Schaltungen.

1A004Schutz- und Nachweisausrüstung sowie Bestandteile, soweit nicht erfasst von Teil I A, wie folgt:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMERN 2B351 UND 2B352.

| a) | Gasmasken, Filter und Ausrüstung zur Dekontamination, konstruiert oder modifiziert zur Abwehr von biologischen Agenzien oder radioaktiven Stoffen "für den Kriegsgebrauch" oder chemischen Kampfstoffen und besonders konstruierte Bestandteile hierfür; |
| --- | --- |

a)

Gasmasken, Filter und Ausrüstung zur Dekontamination, konstruiert oder modifiziert zur Abwehr von biologischen Agenzien oder radioaktiven Stoffen "für den Kriegsgebrauch" oder chemischen Kampfstoffen und besonders konstruierte Bestandteile hierfür;

| b) | Schutzanzüge, Handschuhe und Schuhe, besonders konstruiert oder modifiziert zur Abwehr von biologischen Agenzien oder radioaktiven Stoffen "für den Kriegsgebrauch" oder chemischen Kampfstoffen; |
| --- | --- |

b)

Schutzanzüge, Handschuhe und Schuhe, besonders konstruiert oder modifiziert zur Abwehr von biologischen Agenzien oder radioaktiven Stoffen "für den Kriegsgebrauch" oder chemischen Kampfstoffen;

| c) | ABC-Nachweisausrüstung, besonders konstruiert oder modifiziert zur Feststellung oder Identifizierung von biologischen Agenzien oder radioaktiven Stoffen "für den Kriegsgebrauch" oder chemischen Kampfstoffen und besonders konstruierte Bestandteile hierfür. |
| --- | --- |

c)

ABC-Nachweisausrüstung, besonders konstruiert oder modifiziert zur Feststellung oder Identifizierung von biologischen Agenzien oder radioaktiven Stoffen "für den Kriegsgebrauch" oder chemischen Kampfstoffen und besonders konstruierte Bestandteile hierfür.

Anmerkung: Nummer 1A004 erfasst nicht:

| a) | Strahlendosimeter für den persönlichen Gebrauch, |
| --- | --- |

a)

Strahlendosimeter für den persönlichen Gebrauch,

| b) | Ausrüstung, die durch Konstruktion oder Funktion auf den Schutz gegen bestimmte Gefahren im gewerblichen Bereich, wie Bergbau, Steinbrüche, Landwirtschaft, Pharmazie, Medizin, Tierheilkunde, Umwelt oder Nahrungsmittelindustrie, begrenzt ist. |
| --- | --- |

b)

Ausrüstung, die durch Konstruktion oder Funktion auf den Schutz gegen bestimmte Gefahren im gewerblichen Bereich, wie Bergbau, Steinbrüche, Landwirtschaft, Pharmazie, Medizin, Tierheilkunde, Umwelt oder Nahrungsmittelindustrie, begrenzt ist.

1A005Körperpanzer und besonders konstruierte Bestandteile hierfür, die nicht gemäß militärischen Standards bzw. Spezifikationen oder hierzu äquivalenten Leistungsanforderungen hergestellt sind.

ANMERKUNG: SIEHE AUCH TEIL I A.

Ergänzende Anmerkung: Zur Erfassung von "faser- oder fadenförmige Materialien", die bei der Fertigung von Körperpanzern verwendet werden, siehe Nummer 1C010

Anmerkung 1: Nummer 1A005 erfasst nicht einzelne Körperpanzer oder Schutzbekleidung, wenn diese von ihren Benutzern zu deren eigenem persönlichen Schutz mitgeführt werden.

Anmerkung 2: Nummer 1A005 erfasst nicht Körperpanzer, die nur zum frontalen Schutz gegen Splitter und Druckwellen von nichtmilitärischen Sprengkörpern konstruiert sind.

1A102Restaurierte, pyrolysierte Kohlenstoff-Kohlenstoff-Komponenten, konstruiert für von Nummer 9A004 erfasste Trägerraketen oder von Nummer 9A104 erfasste Höhenforschungsraketen.

1A202"Verbundwerkstoff"-Strukturen, soweit nicht erfasst von Nummer 1A002, in Rohrform und mit allen folgenden Eigenschaften:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMERN 9A010 UND 9A110.

| a) | einem Innendurchmesser zwischen 75 mm und 400 mm und |
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a)

einem Innendurchmesser zwischen 75 mm und 400 mm und

| b) | hergestellt aus beliebigen "faser- oder fadenförmigen Materialien" gemäß Unternummer 1C010a, 1C010b oder 1C210a oder aus Prepreg-Materialien aus Kohlenstoff gemäß Unternummer 1C210c. |
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b)

hergestellt aus beliebigen "faser- oder fadenförmigen Materialien" gemäß Unternummer 1C010a, 1C010b oder 1C210a oder aus Prepreg-Materialien aus Kohlenstoff gemäß Unternummer 1C210c.

1A225Platinierte Katalysatoren, besonders konstruiert oder hergerichtet zur Förderung der Wasserstoffaustauschreaktion zwischen Wasserstoff und Wasser zur Tritiumrückgewinnung aus Schwerem Wasser oder zur Schwerwasserproduktion.

1A226Besonders hergerichtete Füllstoffe, die zur Trennung von Schwerem Wasser aus Wasser verwendet werden können, mit allen folgenden Eigenschaften:

| a) | hergestellt aus Phosphorbronze-Geflecht, chemisch behandelt zur Verbesserung der Benetzbarkeit und |
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a)

hergestellt aus Phosphorbronze-Geflecht, chemisch behandelt zur Verbesserung der Benetzbarkeit und

| b) | konstruiert zur Verwendung in Vakuum-Destillationskolonnen. |
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b)

konstruiert zur Verwendung in Vakuum-Destillationskolonnen.

1A227Strahlenschutzfenster hoher Dichte (z. B. Bleiglas) mit allen folgenden Eigenschaften, sowie besonders konstruierte Rahmen hierfür:

| a) | einer Fläche größer als 0,09 m2 auf der ‧aktivitätsfreien Seite‧, |
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a)

einer Fläche größer als 0,09 m2 auf der ‧aktivitätsfreien Seite‧,

| b) | einer Dichte größer als 3 g/cm3
  und |
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b)

einer Dichte größer als 3 g/cm3
  und

| c) | einer Dicke größer/gleich 100 mm. |
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c)

einer Dicke größer/gleich 100 mm.

Technische Anmerkung:

‧Aktivitätsfreie Seite‧ im Sinne von Nummer 1A227 bezeichnet die Sichtfläche des Fensters, die bei der Soll-Anwendung der niedrigsten Strahlung ausgesetzt ist.

1BPrüf-, Test- und Herstellungseinrichtungen

1B001Ausrüstung für die Herstellung der von Nummer 1A002 oder 1C010 erfassten Fasern, Prepregs, Preforms oder "Verbundwerkstoffe" wie folgt sowie besonders konstruierte Bestandteile und besonders konstruiertes Zubehör hierfür:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMERN 1B101 UND 1B201.

| a) | Faserwickelmaschinen, deren Bewegungen zum Positionieren, Wickeln und Aufrollen von Fäden in drei oder mehr Achsen koordiniert und programmiert sind, besonders konstruiert für die Fertigung von "Verbundwerkstoff"-Strukturen oder Laminaten aus "faser- oder fadenförmigen Materialien"; |
| --- | --- |

a)

Faserwickelmaschinen, deren Bewegungen zum Positionieren, Wickeln und Aufrollen von Fäden in drei oder mehr Achsen koordiniert und programmiert sind, besonders konstruiert für die Fertigung von "Verbundwerkstoff"-Strukturen oder Laminaten aus "faser- oder fadenförmigen Materialien";

| b) | Bandlegemaschinen oder Kabelplatzierungsmaschinen, deren Bewegungen zum Positionieren und Legen von Bändern, Kabeln oder Bahnen in zwei oder mehr Achsen koordiniert und programmiert sind, besonders konstruiert zur Fertigung von Luftfahrzeugzellen und ‧Flugkörper‧-Strukturen aus "Verbundwerkstoffen";


  Anmerkung:‧Flugkörper‧ im Sinne von Unternummer 1B001b bedeutet vollständige Raketensysteme und unbemannte Luftfahrzeugsysteme. |
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b)

Bandlegemaschinen oder Kabelplatzierungsmaschinen, deren Bewegungen zum Positionieren und Legen von Bändern, Kabeln oder Bahnen in zwei oder mehr Achsen koordiniert und programmiert sind, besonders konstruiert zur Fertigung von Luftfahrzeugzellen und ‧Flugkörper‧-Strukturen aus "Verbundwerkstoffen";

Anmerkung:‧Flugkörper‧ im Sinne von Unternummer 1B001b bedeutet vollständige Raketensysteme und unbemannte Luftfahrzeugsysteme.

| c) | mehrfachgerichtete und mehrdimensionale Web- oder «interlacing»-Maschinen einschließlich Anpassungsteilen und Umbauteilsätzen zum Weben, Stricken, Wirken, Flechten oder Umspinnen von Fasern für die Fertigung von "Verbundwerkstoff"-Strukturen;
  Technische Anmerkung:

  «Interlacing»-Verfahren im Sinne von Unternummer 1B001c schließen Stricken und Wirken ein.



  Anmerkung: Unternummer 1B001c erfasst nicht Textilmaschinen, die nicht für die oben genannten Endverwendungen geändert worden sind. |
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c)

mehrfachgerichtete und mehrdimensionale Web- oder «interlacing»-Maschinen einschließlich Anpassungsteilen und Umbauteilsätzen zum Weben, Stricken, Wirken, Flechten oder Umspinnen von Fasern für die Fertigung von "Verbundwerkstoff"-Strukturen;

Technische Anmerkung:

«Interlacing»-Verfahren im Sinne von Unternummer 1B001c schließen Stricken und Wirken ein.

Anmerkung: Unternummer 1B001c erfasst nicht Textilmaschinen, die nicht für die oben genannten Endverwendungen geändert worden sind.

| d) | Ausrüstung, besonders konstruiert oder angepasst für die Herstellung von Verstärkungsfasern, wie folgt:






  1. | Ausrüstung für die Umwandlung von Polymerfasern (wie Polyacrylnitril, Rayon, Pech oder Polycarbosilan) in Kohlenstofffasern oder Siliciumcarbidfasern, einschließlich besonderer Vorrichtungen zum Strecken der Faser während der Wärmebehandlung, |
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d)

Ausrüstung, besonders konstruiert oder angepasst für die Herstellung von Verstärkungsfasern, wie folgt:

1.

Ausrüstung für die Umwandlung von Polymerfasern (wie Polyacrylnitril, Rayon, Pech oder Polycarbosilan) in Kohlenstofffasern oder Siliciumcarbidfasern, einschließlich besonderer Vorrichtungen zum Strecken der Faser während der Wärmebehandlung,

| 2. | Ausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD) mit Elementen oder Verbindungen auf erhitzte fadenförmige Substrate zur Fertigung von Siliciumcarbidfasern, |
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2.

Ausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD) mit Elementen oder Verbindungen auf erhitzte fadenförmige Substrate zur Fertigung von Siliciumcarbidfasern,

| 3. | Ausrüstung für das Nassverspinnen hochtemperaturbeständiger Keramiken (z. B. Aluminiumoxid), |
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3.

Ausrüstung für das Nassverspinnen hochtemperaturbeständiger Keramiken (z. B. Aluminiumoxid),

| 4. | Ausrüstung für die Umwandlung durch Wärmebehandlung von aluminiumhaltigen Faser-Preforms in Aluminiumoxid-Fasern; |
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4.

Ausrüstung für die Umwandlung durch Wärmebehandlung von aluminiumhaltigen Faser-Preforms in Aluminiumoxid-Fasern;

| e) | Ausrüstung zur Herstellung der von Unternummer 1C010e erfassten Prepregs durch Heißschmelz-Verfahren; |
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e)

Ausrüstung zur Herstellung der von Unternummer 1C010e erfassten Prepregs durch Heißschmelz-Verfahren;

| f) | Ausrüstung zur zerstörungsfreien, dreidimensionalen Prüfung von Fehlern mittels Ultraschall- oder Röntgentomografie, besonders konstruiert für "Verbundwerkstoffe". |
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f)

Ausrüstung zur zerstörungsfreien, dreidimensionalen Prüfung von Fehlern mittels Ultraschall- oder Röntgentomografie, besonders konstruiert für "Verbundwerkstoffe".

1B002Ausrüstung zum Herstellen von Metalllegierungen, Metalllegierungspulver oder legierten Werkstoffen, besonders konstruiert zur Vermeidung von Verunreinigungen und besonders konstruiert zur Verwendung in einem der in Unternummer 1C002c2 genannten Verfahren.

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 1B102.

1B003Werkzeuge, Matrizen, Formen oder Spannvorrichtungen für das "superplastische Umformen" oder "Diffusionsschweißen" von Titan oder Aluminium oder deren Legierungen, besonders konstruiert zur Fertigung von:

| a) | Strukturen für die Luft- und Raumfahrt, |
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a)

Strukturen für die Luft- und Raumfahrt,

| b) | Motoren für "Luftfahrzeuge" oder Raumfahrt oder |
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b)

Motoren für "Luftfahrzeuge" oder Raumfahrt oder

| c) | besonders konstruierten Bauteilen für solche Strukturen oder Motoren. |
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c)

besonders konstruierten Bauteilen für solche Strukturen oder Motoren.

1B101Ausrüstung, die nicht von Nummer 1B001 erfasst wird, für die "Herstellung" von Struktur-"Verbundwerkstoffen", wie folgt sowie besonders konstruierte Bestandteile und besonders konstruiertes Zubehör hierfür:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 1B201.

Anmerkung: Von Nummer 1B101 erfasste Bestandteile und erfasstes Zubehör schließt Gussformen, Dorne, Gesenke, Vorrichtungen und Werkzeuge zum Formpressen, Aushärten, Gießen, Sintern oder Kleben von "Verbundwerkstoff"-Strukturen und Laminaten sowie Erzeugnisse daraus ein.

| a) | Faserwickelmaschinen, deren Bewegungen zum Positionieren, Wickeln und Aufrollen von Fäden in drei oder mehr Achsen koordiniert und programmiert werden können, konstruiert für die Fertigung von "Verbundwerkstoff"-Strukturen oder Laminaten aus "faser- oder fadenförmigen Materialien" und Steuereinrichtungen zum Koordinieren und Programmieren hierfür; |
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a)

Faserwickelmaschinen, deren Bewegungen zum Positionieren, Wickeln und Aufrollen von Fäden in drei oder mehr Achsen koordiniert und programmiert werden können, konstruiert für die Fertigung von "Verbundwerkstoff"-Strukturen oder Laminaten aus "faser- oder fadenförmigen Materialien" und Steuereinrichtungen zum Koordinieren und Programmieren hierfür;

| b) | Bandlegemaschinen, deren Bewegungen zum Positionieren und Legen von Bändern oder Bahnen in zwei oder mehr Achsen koordiniert und programmiert werden können, konstruiert zur Fertigung von Luftfahrzeugzellen und "Flugkörper"-Strukturen aus "Verbundwerkstoffen"; |
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b)

Bandlegemaschinen, deren Bewegungen zum Positionieren und Legen von Bändern oder Bahnen in zwei oder mehr Achsen koordiniert und programmiert werden können, konstruiert zur Fertigung von Luftfahrzeugzellen und "Flugkörper"-Strukturen aus "Verbundwerkstoffen";

| c) | Ausrüstung, konstruiert oder geändert für die "Herstellung" von "faser- oder fadenförmigen Materialien", wie folgt:






  1. | Ausrüstung für die Umwandlung von Polymerfasern (z. B. Polyacrylnitril, Rayon oder Polycarbosilan) einschließlich besonderer Einrichtungen zum Strecken der Faser während der Wärmebehandlung, |
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c)

Ausrüstung, konstruiert oder geändert für die "Herstellung" von "faser- oder fadenförmigen Materialien", wie folgt:

1.

Ausrüstung für die Umwandlung von Polymerfasern (z. B. Polyacrylnitril, Rayon oder Polycarbosilan) einschließlich besonderer Einrichtungen zum Strecken der Faser während der Wärmebehandlung,

| 2. | Ausrüstung für die Beschichtung aus der Gasphase (VD) mit Elementen oder Verbindungen auf erhitzte fadenförmige Substrate, |
| --- | --- |

2.

Ausrüstung für die Beschichtung aus der Gasphase (VD) mit Elementen oder Verbindungen auf erhitzte fadenförmige Substrate,

| 3. | Ausrüstung für das Nassverspinnen hochtemperaturbeständiger Keramiken (z. B. Aluminiumoxid); |
| --- | --- |

3.

Ausrüstung für das Nassverspinnen hochtemperaturbeständiger Keramiken (z. B. Aluminiumoxid);

| d) | Ausrüstung, konstruiert oder geändert zur speziellen Faseroberflächenbehandlung oder für die Herstellung von Prepregs oder Preforms, erfasst von Nummer 9C110.


  Anmerkung: Von Unternummer 1B101d erfasste Ausrüstung schließt Rollen, Streckeinrichtungen, Beschichtungs- und Schneideinrichtungen sowie Stanzformen (clicker dies) ein. |
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d)

Ausrüstung, konstruiert oder geändert zur speziellen Faseroberflächenbehandlung oder für die Herstellung von Prepregs oder Preforms, erfasst von Nummer 9C110.

Anmerkung: Von Unternummer 1B101d erfasste Ausrüstung schließt Rollen, Streckeinrichtungen, Beschichtungs- und Schneideinrichtungen sowie Stanzformen (clicker dies) ein.

1B102"Herstellungsausrüstung" für Metallpulver, die nicht von Nummer 1B002 erfasst wird und Bestandteile wie folgt:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 1B115B.

| a) | "Herstellungsausrüstung" für Metallpulver, verwendbar zur "Herstellung" von kugelförmigen oder atomisierten Materialien, die von Unternummer 1C011a, 1C011b, 1C111a1, 1C111a2 oder Teil I A Nummer 0008 erfasst werden, in einer kontrollierten Umgebung; |
| --- | --- |

a)

"Herstellungsausrüstung" für Metallpulver, verwendbar zur "Herstellung" von kugelförmigen oder atomisierten Materialien, die von Unternummer 1C011a, 1C011b, 1C111a1, 1C111a2 oder Teil I A Nummer 0008 erfasst werden, in einer kontrollierten Umgebung;

| b) | besonders konstruierte Bestandteile für "Herstellungsausrüstung" die von Nummer 1B002 oder 1B102a erfasst werden. |
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b)

besonders konstruierte Bestandteile für "Herstellungsausrüstung" die von Nummer 1B002 oder 1B102a erfasst werden.

Anmerkung: Unternummer 1B102 schließt ein:

| a) | Plasmageneratoren (high frequency arc-jet), geeignet zur Erzeugung von gesputterten oder kugelförmigen Metallpulvern unter Argon-Wasser-Umgebung. |
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a)

Plasmageneratoren (high frequency arc-jet), geeignet zur Erzeugung von gesputterten oder kugelförmigen Metallpulvern unter Argon-Wasser-Umgebung.

| b) | «Elektroburst»-Ausrüstung, geeignet zur Erzeugung von gesputterten oder kugelförmigen Metallpulvern unter Argon-Wasser-Umgebung. |
| --- | --- |

b)

«Elektroburst»-Ausrüstung, geeignet zur Erzeugung von gesputterten oder kugelförmigen Metallpulvern unter Argon-Wasser-Umgebung.

| c) | Ausrüstung, geeignet zur "Herstellung" von kugelförmigen Aluminiumpulvern durch Pulverisieren einer Schmelze unter Schutzgas (z. B. Stickstoff). |
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c)

Ausrüstung, geeignet zur "Herstellung" von kugelförmigen Aluminiumpulvern durch Pulverisieren einer Schmelze unter Schutzgas (z. B. Stickstoff).

1B115Ausrüstung, die nicht von Nummer 1B002 oder 1B102 erfasst wird, für die "Herstellung" von Flugkörpertreibstoffen oder Treibstoffzusätzen, wie folgt, und besonders konstruierte Bestandteile hierfür:

| a) | "Herstellungsausrüstung" für die "Herstellung", Handhabung oder Abnahmeprüfung von Flüssigtreibstoffen oder Treibstoffzusätzen, die von Unternummer 1C011a, 1C011b, Nummer 1C111 oder Teil I A Nummer 0008 erfasst werden; |
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a)

"Herstellungsausrüstung" für die "Herstellung", Handhabung oder Abnahmeprüfung von Flüssigtreibstoffen oder Treibstoffzusätzen, die von Unternummer 1C011a, 1C011b, Nummer 1C111 oder Teil I A Nummer 0008 erfasst werden;

| b) | "Herstellungsausrüstung" für die "Herstellung", Handhabung, das Mischen, Aushärten, Gießen, Pressen, Bearbeiten, Extrudieren oder die Abnahmeprüfung von Festtreibstoffen oder Treibstoffzusätzen, die von Unternummer 1C011a, 1C011b, Nummer 1C111 oder Teil I A Nummer 0008 erfasst werden.


  Anmerkung: Unternummer 1B115b erfasst nicht Chargenmischer, Durchlaufmischer oder Strahlmühlen. Für die Erfassung von Chargenmischern, Durchlaufmischern oder Strahlmühlen siehe Nummer 1B117, 1B118 oder 1B119. |
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b)

"Herstellungsausrüstung" für die "Herstellung", Handhabung, das Mischen, Aushärten, Gießen, Pressen, Bearbeiten, Extrudieren oder die Abnahmeprüfung von Festtreibstoffen oder Treibstoffzusätzen, die von Unternummer 1C011a, 1C011b, Nummer 1C111 oder Teil I A Nummer 0008 erfasst werden.

Anmerkung: Unternummer 1B115b erfasst nicht Chargenmischer, Durchlaufmischer oder Strahlmühlen. Für die Erfassung von Chargenmischern, Durchlaufmischern oder Strahlmühlen siehe Nummer 1B117, 1B118 oder 1B119.

Anmerkung 1: Ausrüstung, besonders konstruiert für die Herstellung militärischer Güter: Siehe Teil I A Nummer 0018.

Anmerkung 2: Nummer 1B115 erfasst nicht Ausrüstung für die "Herstellung", Handhabung oder Abnahmeprüfung von Borcarbid.

1B116Düsen, besonders konstruiert zur Fertigung pyrolytisch erzeugter Materialien, die in einer Form, auf einem Dorn oder einem anderen Substrat aus Vorstufengasen abgeschieden werden, die in einem Temperaturbereich von 1 573K (1 300 °C) bis 3 173 K (2 900 °C) und bei einem Druck von 130 Pa bis 20 kPa zerfallen.

1B117Chargenmischer, die für das Mischen im Vakuum im Bereich von 0 bis 13,326 kPa geeignet sind, mit Temperaturregelung der Mischkammer und allen folgenden Eigenschaften und besonders konstruierte Bestandteile hierfür:

| a) | Gesamtfassungsvermögen größer/gleich 110 l und |
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a)

Gesamtfassungsvermögen größer/gleich 110 l und

| b) | mindestens einer exzentrischen Misch-/Knetwelle. |
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b)

mindestens einer exzentrischen Misch-/Knetwelle.

1B118Durchlaufmischer, die für das Mischen im Vakuum im Bereich von 0 bis 13,326 kPa geeignet sind, mit Temperaturregelung der Mischkammer und einer der folgenden Eigenschaften, sowie besonders konstruierte Bestandteile hierfür:

| a) | zwei oder mehrere Misch-/Knetwellen oder |
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a)

zwei oder mehrere Misch-/Knetwellen oder

| b) | eine einzige rotierende und oszillierende Welle mit Zähnen/Nocken sowohl auf der Welle als auch innen im Mischkammergehäuse. |
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b)

eine einzige rotierende und oszillierende Welle mit Zähnen/Nocken sowohl auf der Welle als auch innen im Mischkammergehäuse.

1B119Strahlmühlen (fluid energy mills), geeignet zum Zerkleinern oder Zermahlen von Materialien, die von Unternummer 1C011a, 1C011b, Nummer 1C111 oder Teil I A Nummer 0008 erfasst werden und besonders konstruierte Bestandteile hierfür.

1B201Faserwickelmaschinen, soweit nicht erfasst von Nummer 1B001 oder 1B101, und zugehörige Ausrüstung wie folgt:

| a) | Faserwickelmaschinen mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | Bewegungen zum Positionieren, Wickeln und Aufrollen von Fäden in zwei oder mehr Achsen koordiniert und programmiert, |
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a)

Faserwickelmaschinen mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

Bewegungen zum Positionieren, Wickeln und Aufrollen von Fäden in zwei oder mehr Achsen koordiniert und programmiert,

| 2. | besonders konstruiert für die Fertigung von "Verbundwerkstoff"-Strukturen oder Laminaten aus "faser- oder fadenförmigen Materialien"und |
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2.

besonders konstruiert für die Fertigung von "Verbundwerkstoff"-Strukturen oder Laminaten aus "faser- oder fadenförmigen Materialien"und

| 3. | geeignet zum Wickeln zylindrischer Rotoren mit Durchmessern zwischen 75 mm und 400 mm und Längen größer/gleich 600 mm; |
| --- | --- |

3.

geeignet zum Wickeln zylindrischer Rotoren mit Durchmessern zwischen 75 mm und 400 mm und Längen größer/gleich 600 mm;

| b) | Steuereinrichtungen zum Koordinieren und Programmieren von Faserwickelmaschinen, die von Unternummer 1B201a erfasst werden; |
| --- | --- |

b)

Steuereinrichtungen zum Koordinieren und Programmieren von Faserwickelmaschinen, die von Unternummer 1B201a erfasst werden;

| c) | Präzisionsdorne für Faserwickelmaschinen, die von Unternummer 1B201a erfasst werden. |
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c)

Präzisionsdorne für Faserwickelmaschinen, die von Unternummer 1B201a erfasst werden.

1B225Elektrolytische Zellen für die Erzeugung von Fluor mit einer Fertigungskapazität von mehr als 250 g Fluor je Stunde.

1B226Separatoren zur elektromagnetischen Isotopentrennung, konstruiert für den Betrieb mit einer oder mehreren Ionenquellen, die einen Gesamtstrahlstrom von größer/gleich 50 mA liefern können, oder die mit solchen Ionenquellen ausgestattet sind.

Anmerkung: Nummer 1B226 schließt Separatoren ein:

| a) | die stabile Isotope anreichern können; |
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a)

die stabile Isotope anreichern können;

| b) | mit Ionenquellen und Kollektoren innerhalb und außerhalb des magnetischen Feldes. |
| --- | --- |

b)

mit Ionenquellen und Kollektoren innerhalb und außerhalb des magnetischen Feldes.

1B227Konverter oder Ausrüstung für die Ammoniak-Synthese, bei der das Synthesegas (Stickstoff und Wasserstoff) einer Ammoniak-Wasserstoff-Hochdruck-Austauschkolonne entnommen und das synthetisierte Ammoniak in die Kolonne zurückgeführt wird.

1B228Wasserstoff-Tieftemperaturdestillationskolonnen mit allen folgenden Eigenschaften:

| a) | konstruiert zum Einsatz bei Betriebstemperaturen kleiner/gleich 35 K (– 238 °C), |
| --- | --- |

a)

konstruiert zum Einsatz bei Betriebstemperaturen kleiner/gleich 35 K (– 238 °C),

| b) | konstruiert zum Einsatz bei Betriebsdrücken von 0,5 bis 5 MPa, |
| --- | --- |

b)

konstruiert zum Einsatz bei Betriebsdrücken von 0,5 bis 5 MPa,

| c) | hergestellt aus:






  1. | rostfreien Stählen der Serie 300 mit niedrigem Schwefelgehalt und mit einer austenitischen Korngrößenzahl nach ASTM (oder einer gleichwertigen Norm) von 5 oder darüber oder |
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c)

hergestellt aus:

1.

rostfreien Stählen der Serie 300 mit niedrigem Schwefelgehalt und mit einer austenitischen Korngrößenzahl nach ASTM (oder einer gleichwertigen Norm) von 5 oder darüber oder

| 2. | vergleichbaren tieftemperatur- und wasserstoffverträglichen Werkstoffen und |
| --- | --- |

2.

vergleichbaren tieftemperatur- und wasserstoffverträglichen Werkstoffen und

| d) | mit einem Innendurchmesser größer/gleich 1 m und effektiven Längen größer/gleich 5 m. |
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d)

mit einem Innendurchmesser größer/gleich 1 m und effektiven Längen größer/gleich 5 m.

1B229Wasser-Schwefelwasserstoff-Austauschkolonnen und ‧interne Kontaktoren‧, wie folgt:

Anmerkung: Kolonnen, besonders konstruiert oder hergerichtet für die Herstellung von Schwerem Wasser: Siehe Nummer 0B004.

| a) | Wasser-Schwefelwasserstoff-Austauschkolonnen mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | Betrieb bei Nenndrücken größer/gleich 2 MPa, |
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a)

Wasser-Schwefelwasserstoff-Austauschkolonnen mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

Betrieb bei Nenndrücken größer/gleich 2 MPa,

| 2. | hergestellt aus kohlenstoffarmem Stahl mit einer austenitischen Korngrößenzahl nach ASTM (oder einer gleichwertigen Norm) von 5 oder darüber und |
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2.

hergestellt aus kohlenstoffarmem Stahl mit einer austenitischen Korngrößenzahl nach ASTM (oder einer gleichwertigen Norm) von 5 oder darüber und

| 3. | Durchmesser größer/gleich 1,8 m; |
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3.

Durchmesser größer/gleich 1,8 m;

| b) | ‧Interne Kontaktoren‧ für Wasser-Schwefelwasserstoff-Austauschkolonnen erfasst in Unternummer 1B229a.
  Technische Anmerkung:

  ‧Interne Kontaktoren‧ der Kolonnen sind segmentierte Böden mit einem effektiven Verbunddurchmesser größer/gleich 1,8 m, konstruiert zur Erleichterung der Gegenstromextraktion und hergestellt aus rostfreien Stählen mit einem Kohlenstoffgehalt kleiner/gleich 0,03 %. Hierbei kann es sich um Siebböden, Ventilböden, Glockenböden oder Turbogridböden handeln. |
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b)

‧Interne Kontaktoren‧ für Wasser-Schwefelwasserstoff-Austauschkolonnen erfasst in Unternummer 1B229a.

Technische Anmerkung:

‧Interne Kontaktoren‧ der Kolonnen sind segmentierte Böden mit einem effektiven Verbunddurchmesser größer/gleich 1,8 m, konstruiert zur Erleichterung der Gegenstromextraktion und hergestellt aus rostfreien Stählen mit einem Kohlenstoffgehalt kleiner/gleich 0,03 %. Hierbei kann es sich um Siebböden, Ventilböden, Glockenböden oder Turbogridböden handeln.

1B230Umwälzpumpen für Kaliumamid-Katalysatoren (Kontaktmittel) in verdünnter oder konzentrierter Lösung in flüssigem Ammoniak (KNH2/NH3) mit allen folgenden Eigenschaften:

| a) | hermetisch dicht, |
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a)

hermetisch dicht,

| b) | Leistung größer als 8,5 m3/h und |
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b)

Leistung größer als 8,5 m3/h und

| c) | mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | für konzentrierte Kaliumamidlösungen größer/gleich 1 % bei einem Arbeitsdruck von 1,5 bis 60 MPa oder |
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c)

mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

für konzentrierte Kaliumamidlösungen größer/gleich 1 % bei einem Arbeitsdruck von 1,5 bis 60 MPa oder

| 2. | für verdünnte Kaliumamidlösungen kleiner als 1 % bei einem Arbeitsdruck von 20 bis 60 MPa. |
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2.

für verdünnte Kaliumamidlösungen kleiner als 1 % bei einem Arbeitsdruck von 20 bis 60 MPa.

1B231Tritium-Anlagen oder -Einrichtungen und Ausrüstung hierfür, wie folgt:

| a) | Anlagen oder Einrichtungen für die Herstellung, Rückgewinnung, Extraktion, Konzentration oder Handhabung von Tritium; |
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a)

Anlagen oder Einrichtungen für die Herstellung, Rückgewinnung, Extraktion, Konzentration oder Handhabung von Tritium;

| b) | Ausrüstung für Tritium-Anlagen oder -Einrichtungen, wie folgt:






  1. | Wasserstoff- oder Helium-Kälteaggregate, die auf 23 K (– 250 °C) oder weniger kühlen können, mit einer Wärmeabfuhrkapazität größer als 150 W; |
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b)

Ausrüstung für Tritium-Anlagen oder -Einrichtungen, wie folgt:

1.

Wasserstoff- oder Helium-Kälteaggregate, die auf 23 K (– 250 °C) oder weniger kühlen können, mit einer Wärmeabfuhrkapazität größer als 150 W;

| 2. | Wasserstoffisotopen-Speicher- oder Reinigungssysteme mit Metallhydriden als Speicher- oder Reinigungsmedium. |
| --- | --- |

2.

Wasserstoffisotopen-Speicher- oder Reinigungssysteme mit Metallhydriden als Speicher- oder Reinigungsmedium.

1B232Expansionsturbinen oder Expansions-Kompressionsturbinen-Sätze, mit allen folgenden Eigenschaften:

| a) | konstruiert für den Betrieb bei Ausgangstemperaturen kleiner/gleich 35 K (– 238 °C) und |
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a)

konstruiert für den Betrieb bei Ausgangstemperaturen kleiner/gleich 35 K (– 238 °C) und

| b) | konstruiert für einen Wasserstoffgas-Durchsatz größer/gleich 1 000 kg/h. |
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b)

konstruiert für einen Wasserstoffgas-Durchsatz größer/gleich 1 000 kg/h.

1B233Anlagen oder Einrichtungen für die Lithium-Isotopentrennung und Ausrüstung hierfür, wie folgt:

| a) | Anlagen oder Einrichtungen für die Trennung von Lithiumisotopen; |
| --- | --- |

a)

Anlagen oder Einrichtungen für die Trennung von Lithiumisotopen;

| b) | Ausrüstung für die Trennung von Lithiumisotopen, wie folgt:






  1. | Flüssig-flüssig-Füllkörper-Extraktions-Kolonnen, besonders konstruiert für Lithiumamalgame, |
| --- | --- | --- |

b)

Ausrüstung für die Trennung von Lithiumisotopen, wie folgt:

1.

Flüssig-flüssig-Füllkörper-Extraktions-Kolonnen, besonders konstruiert für Lithiumamalgame,

| 2. | Quecksilber- oder Lithium-Amalgampumpen, |
| --- | --- |

2.

Quecksilber- oder Lithium-Amalgampumpen,

| 3. | Lithiumamalgam-Elektrolysezellen, |
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3.

Lithiumamalgam-Elektrolysezellen,

| 4. | Verdampfer für konzentrierte Lithiumhydroxid-Lösung. |
| --- | --- |

4.

Verdampfer für konzentrierte Lithiumhydroxid-Lösung.

1CWerkstoffe und Materialien

Technische Anmerkung:

Metalle und Legierungen:

| | Soweit in einzelnen Nummern nichts Gegenteiliges angegeben ist, umfassen im Sinne der Nummern 1C001 bis 1C012 die Begriffe Metalle und Legierungen folgende Roh- und Halbzeugformen: |
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Soweit in einzelnen Nummern nichts Gegenteiliges angegeben ist, umfassen im Sinne der Nummern 1C001 bis 1C012 die Begriffe Metalle und Legierungen folgende Roh- und Halbzeugformen:

Rohformen:

| | Anoden, Kugeln, Barren (einschließlich Kerbbarren und Drahtbarren), Knüppel, Blöcke, Walzplatten, Briketts, Klumpen, Kathoden, Kristalle, Würfel, Kokillen, Körner, Granalien, Brammen, Kügelchen, Masseln, Pulver, Ronden, Schrot, Platten, Rohlinge, Schwamm, Stangen. |
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Anoden, Kugeln, Barren (einschließlich Kerbbarren und Drahtbarren), Knüppel, Blöcke, Walzplatten, Briketts, Klumpen, Kathoden, Kristalle, Würfel, Kokillen, Körner, Granalien, Brammen, Kügelchen, Masseln, Pulver, Ronden, Schrot, Platten, Rohlinge, Schwamm, Stangen.

Halbzeugformen (auch überzogen, plattiert, gebohrt oder gestanzt):

| a) | Geformte oder bearbeitete Materialien, hergestellt durch Walzen, Ziehen, Strangpressen, Schmieden, Schlagstrangpressen, Pressen, Granulieren, Pulverisieren und Mahlen, wie folgt: Winkel, U-Profile, Ronden, Scheiben, Staub, Schuppen, Folien und Blattmetall, Schmiedestücke, Platten, Pulver, Press- und Stanzstücke, Bänder, Ringe, Stäbe (einschließlich nicht umhüllter Schweißstäbe, Drahtstangen und Walzdraht), Profile aller Art, Formstücke, Bleche, Streifen, Rohre und Röhren (einschließlich solcher mit runden, quadratischen oder sonstigen Querschnitten), gezogener oder stranggepresster Draht. |
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a)

Geformte oder bearbeitete Materialien, hergestellt durch Walzen, Ziehen, Strangpressen, Schmieden, Schlagstrangpressen, Pressen, Granulieren, Pulverisieren und Mahlen, wie folgt: Winkel, U-Profile, Ronden, Scheiben, Staub, Schuppen, Folien und Blattmetall, Schmiedestücke, Platten, Pulver, Press- und Stanzstücke, Bänder, Ringe, Stäbe (einschließlich nicht umhüllter Schweißstäbe, Drahtstangen und Walzdraht), Profile aller Art, Formstücke, Bleche, Streifen, Rohre und Röhren (einschließlich solcher mit runden, quadratischen oder sonstigen Querschnitten), gezogener oder stranggepresster Draht.

| b) | Gussmaterialien, hergestellt durch Gießen in Sand, Kokillen, Formen aus Metall, Gips oder anderen Materialien, einschließlich Druckguss, Sintererzeugnissen und pulvermetallurgischen Erzeugnissen. |
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b)

Gussmaterialien, hergestellt durch Gießen in Sand, Kokillen, Formen aus Metall, Gips oder anderen Materialien, einschließlich Druckguss, Sintererzeugnissen und pulvermetallurgischen Erzeugnissen.

Der Kontrollzweck darf nicht unterlaufen werden durch die Ausfuhr von nicht gelisteten, angeblich fertigen Formen, die in Wirklichkeit aber Roh- oder Halbzeugformen darstellen.

1C001Werkstoffe, besonders entwickelt zum Gebrauch als Absorptionsmittel für elektromagnetische Wellen, oder eigenleitfähige Polymere wie folgt:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 1C101.

| a) | Werkstoffe für die Absorption von Frequenzen größer als 2 × 108 Hz und kleiner als 3 × 1012 Hz;


  Anmerkung 1: Unternummer 1C001a erfasst nicht:








  a) | Absorptionsmittel (absorber) aus haarförmigen natürlichen oder synthetischen Fasern mit nichtmagnetischen Einlagerungen für die Absorption, |
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a)

Werkstoffe für die Absorption von Frequenzen größer als 2 × 108 Hz und kleiner als 3 × 1012 Hz;

Anmerkung 1: Unternummer 1C001a erfasst nicht:

a)

Absorptionsmittel (absorber) aus haarförmigen natürlichen oder synthetischen Fasern mit nichtmagnetischen Einlagerungen für die Absorption,

| b) | Absorptionsmittel (absorber) mit nichtebener Einfallfläche, einschließlich Pyramiden, Kegeln, Keilen und gefalteten Oberflächen, die keinen Magnetverlust haben, |
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b)

Absorptionsmittel (absorber) mit nichtebener Einfallfläche, einschließlich Pyramiden, Kegeln, Keilen und gefalteten Oberflächen, die keinen Magnetverlust haben,

| c) | ebene Absorptionsmittel (absorber) mit allen folgenden Eigenschaften:








  1. | hergestellt aus einem der folgenden Materialien:








  a) | Schaumkunststoffen (biegsam oder nichtbiegsam) mit eingelagertem Kohlenstoff oder organischen Werkstoffen einschließlich Bindemitteln, mit Rückstrahlung (Echo) größer als 5 % im Vergleich zu Metall über eine Bandbreite größer als ± 15 % der Mittenfrequenz der einfallenden Energie und nicht geeignet, Temperaturen größer als 450 K (177 °C) zu widerstehen, oder |
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c)

ebene Absorptionsmittel (absorber) mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

hergestellt aus einem der folgenden Materialien:

a)

Schaumkunststoffen (biegsam oder nichtbiegsam) mit eingelagertem Kohlenstoff oder organischen Werkstoffen einschließlich Bindemitteln, mit Rückstrahlung (Echo) größer als 5 % im Vergleich zu Metall über eine Bandbreite größer als ± 15 % der Mittenfrequenz der einfallenden Energie und nicht geeignet, Temperaturen größer als 450 K (177 °C) zu widerstehen, oder

| b) | keramischen Werkstoffen mit Rückstrahlung (Echo) größer als 20 % im Vergleich zu Metall über eine Bandbreite größer als ± 15 % der Mittenfrequenz der einfallenden Energie und nicht geeignet, Temperaturen größer als 800 K (527 °C) zu widerstehen, |
| --- | --- |

b)

keramischen Werkstoffen mit Rückstrahlung (Echo) größer als 20 % im Vergleich zu Metall über eine Bandbreite größer als ± 15 % der Mittenfrequenz der einfallenden Energie und nicht geeignet, Temperaturen größer als 800 K (527 °C) zu widerstehen,

Technische Anmerkung:

Probekörper für Absorptionstests gemäß Anmerkung 1.c.1. zu Unternummer 1C001a sollten ein Quadrat der Seitenlänge von mindestens 5 Wellenlängen der Mittenfrequenz bilden und in das Fernfeld des abstrahlenden Teils gegeben werden.

| 2. | Zugfestigkeit kleiner als 7 × 106 N/m2
  und |
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2.

Zugfestigkeit kleiner als 7 × 106 N/m2
  und

| 3. | Druckfestigkeit kleiner als 14 × 106 N/m2, |
| --- | --- |

3.

Druckfestigkeit kleiner als 14 × 106 N/m2,

| d) | ebene Absorptionsmittel aus gesintertem Ferrit mit allen folgenden Eigenschaften:








  1. | spezifische Dichte größer als 4,4 und |
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d)

ebene Absorptionsmittel aus gesintertem Ferrit mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

spezifische Dichte größer als 4,4 und

| 2. | maximale Betriebstemperatur 548 K (275 °C). |
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2.

maximale Betriebstemperatur 548 K (275 °C).

Anmerkung 2: Für Absorptionszwecke benutzte magnetische Stoffe, die in Farben enthalten sind, bleiben von Unternummer 1C001a erfasst.

| b) | Werkstoffe für die Absorption von Frequenzen größer als 1,5 × 1014 Hz und kleiner als 3,7 × 1014 Hz und nicht transparent für sichtbares Licht; |
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b)

Werkstoffe für die Absorption von Frequenzen größer als 1,5 × 1014 Hz und kleiner als 3,7 × 1014 Hz und nicht transparent für sichtbares Licht;

| c) | eigenleitfähige polymere Werkstoffe mit einer ‧elektrischen Volumenleitfähigkeit‧ größer als 10 000 S/m (Siemens pro m) oder einem ‧Schicht-/Oberflächenwiderstand‧ kleiner als 100 Ohm/Flächenquadrat, auf der Grundlage eines oder mehrerer der folgenden Polymere:






  1. | Polyanilin, |
| --- | --- | --- |

c)

eigenleitfähige polymere Werkstoffe mit einer ‧elektrischen Volumenleitfähigkeit‧ größer als 10 000 S/m (Siemens pro m) oder einem ‧Schicht-/Oberflächenwiderstand‧ kleiner als 100 Ohm/Flächenquadrat, auf der Grundlage eines oder mehrerer der folgenden Polymere:

1.

Polyanilin,

| 2. | Polypyrrol, |
| --- | --- |

2.

Polypyrrol,

| 3. | Polythiophen, |
| --- | --- |

3.

Polythiophen,

| 4. | Polyphenylenvinylen oder |
| --- | --- |

4.

Polyphenylenvinylen oder

| 5. | Polythienylenvinylen. |
| --- | --- |

5.

Polythienylenvinylen.

Technische Anmerkung:

Die ‧elektrische Volumenleitfähigkeit‧ und der ‧Schicht-/Oberflächenwiderstand‧ werden gemäß ASTM D-527 oder vergleichbaren nationalen Verfahren bestimmt.

1C002Metalllegierungen, Metalllegierungspulver oder legierte Werkstoffe wie folgt:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 1C202.

Anmerkung: Nummer 1C002 erfasst nicht Metalllegierungen, Metalllegierungspulver oder legierte Werkstoffe für die Beschichtung von Substraten.

Technische Anmerkungen:

| 1. | Die von Nummer 1C002 erfassten Metalllegierungen sind solche, die einen höheren Gewichtsanteil des genannten Metalls enthalten als von jedem anderem Element. |
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1.

Die von Nummer 1C002 erfassten Metalllegierungen sind solche, die einen höheren Gewichtsanteil des genannten Metalls enthalten als von jedem anderem Element.

| 2. | Der Zeitstandskennwert wird gemäß ASTM-Standard E-139 oder vergleichbaren nationalen Verfahren ermittelt. |
| --- | --- |

2.

Der Zeitstandskennwert wird gemäß ASTM-Standard E-139 oder vergleichbaren nationalen Verfahren ermittelt.

| 3. | Die Ermüdung bei geringer Lastspielzahl wird gemäß ASTM-Standard E-606 "Recommended Practice for Constant-Amplitude Low-Cycle Fatigue Testing" oder vergleichbaren nationalen Verfahren ermittelt. Die Prüfung sollte axial erfolgen mit einem durchschnittlichen Spannungsverhältnis gleich 1 und einem Formfaktor (Kt) gleich 1. Das durchschnittliche Spannungsverhältnis wird als (maximale Beanspruchung — minimale Beanspruchung)/ maximale Beanspruchung definiert. |
| --- | --- |

3.

Die Ermüdung bei geringer Lastspielzahl wird gemäß ASTM-Standard E-606 "Recommended Practice for Constant-Amplitude Low-Cycle Fatigue Testing" oder vergleichbaren nationalen Verfahren ermittelt. Die Prüfung sollte axial erfolgen mit einem durchschnittlichen Spannungsverhältnis gleich 1 und einem Formfaktor (Kt) gleich 1. Das durchschnittliche Spannungsverhältnis wird als (maximale Beanspruchung — minimale Beanspruchung)/ maximale Beanspruchung definiert.

| a) | Aluminide wie folgt:






  1. | Nickelaluminide mit einem Aluminiumgehalt größer/gleich 15 Gew.-% und kleiner/gleich 38 Gew.-% und mindestens einem zusätzlichen Legierungselement, |
| --- | --- | --- |

a)

Aluminide wie folgt:

1.

Nickelaluminide mit einem Aluminiumgehalt größer/gleich 15 Gew.-% und kleiner/gleich 38 Gew.-% und mindestens einem zusätzlichen Legierungselement,

| 2. | Titanaluminide mit einem Aluminiumgehalt größer/gleich 10 Gew.-% und mindestens einem zusätzlichen Legierungselement; |
| --- | --- |

2.

Titanaluminide mit einem Aluminiumgehalt größer/gleich 10 Gew.-% und mindestens einem zusätzlichen Legierungselement;

| b) | Metalllegierungen wie folgt, hergestellt aus den von Unternummer 1C002c erfassten Materialien:






  1. | Nickellegierungen mit:






  a) | einem Zeitstandskennwert größer/gleich 10 000 Stunden bei 923 K (650 °C) und bei einer Belastung von 676 MPa oder |
| --- | --- | --- | --- |

b)

Metalllegierungen wie folgt, hergestellt aus den von Unternummer 1C002c erfassten Materialien:

1.

Nickellegierungen mit:

a)

einem Zeitstandskennwert größer/gleich 10 000 Stunden bei 923 K (650 °C) und bei einer Belastung von 676 MPa oder

| b) | einer Ermüdung bei niedriger Lastspielzahl von 10 000 Zyklen oder mehr bei 823 K (550 °C) mit einer maximalen Belastung von 1 095 MPa, |
| --- | --- |

b)

einer Ermüdung bei niedriger Lastspielzahl von 10 000 Zyklen oder mehr bei 823 K (550 °C) mit einer maximalen Belastung von 1 095 MPa,

| 2. | Nioblegierungen mit:






  a) | einem Zeitstandskennwert größer/gleich 10 000 Stunden bei 1 073 K (800 °C) und bei einer Belastung von 400 MPa oder |
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2.

Nioblegierungen mit:

a)

einem Zeitstandskennwert größer/gleich 10 000 Stunden bei 1 073 K (800 °C) und bei einer Belastung von 400 MPa oder

| b) | einer Ermüdung bei niedriger Lastspielzahl von 10 000 Zyklen oder mehr bei 973 K (700 °C) mit einer maximalen Belastung von 700 MPa, |
| --- | --- |

b)

einer Ermüdung bei niedriger Lastspielzahl von 10 000 Zyklen oder mehr bei 973 K (700 °C) mit einer maximalen Belastung von 700 MPa,

| 3. | Titanlegierungen mit:






  a) | einem Zeitstandskennwert größer/gleich 10 000 Stunden bei 723 K (450 °C) und bei einer Belastung von 200 MPa oder |
| --- | --- | --- |

3.

Titanlegierungen mit:

a)

einem Zeitstandskennwert größer/gleich 10 000 Stunden bei 723 K (450 °C) und bei einer Belastung von 200 MPa oder

| b) | einer Ermüdung bei niedriger Lastspielzahl von 10 000 Zyklen oder mehr bei 723 K (450 °C) mit einer maximalen Belastung von 400 MPa, |
| --- | --- |

b)

einer Ermüdung bei niedriger Lastspielzahl von 10 000 Zyklen oder mehr bei 723 K (450 °C) mit einer maximalen Belastung von 400 MPa,

| 4. | Aluminiumlegierungen mit einer Zugfestigkeit:






  a) | größer/gleich 240 MPa bei 473 K (200 °C) oder |
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4.

Aluminiumlegierungen mit einer Zugfestigkeit:

a)

größer/gleich 240 MPa bei 473 K (200 °C) oder

| b) | größer/gleich 415 MPa bei 298 K (25 °C), |
| --- | --- |

b)

größer/gleich 415 MPa bei 298 K (25 °C),

| 5. | Magnesiumlegierungen mit:






  a) | einer Zugfestigkeit größer/gleich 345 MPa und |
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5.

Magnesiumlegierungen mit:

a)

einer Zugfestigkeit größer/gleich 345 MPa und

| b) | einer Korrosionsrate kleiner als 1 mm/Jahr in 3 %iger, wässriger Kochsalzlösung, gemessen unter Beachtung von ASTM-Standard G-31 oder vergleichbaren nationalen Verfahren; |
| --- | --- |

b)

einer Korrosionsrate kleiner als 1 mm/Jahr in 3 %iger, wässriger Kochsalzlösung, gemessen unter Beachtung von ASTM-Standard G-31 oder vergleichbaren nationalen Verfahren;

| c) | Metalllegierungspulver oder feine Materialpartikel mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | hergestellt aus einem der folgenden Legierungs-Systeme:
  Technische Anmerkung:

  X in den folgenden Formeln entspricht einem Legierungselement oder mehreren Legierungselementen.







  a) | Nickellegierungen (Ni-Al-X, Ni-X-Al), die sich für Turbinenmotorteile oder Bauteile eignen, die auf 109 Legierungspartikel weniger als 3 (während des Herstellprozesses eingeführte) nichtmetallische Partikel enthalten, die größer als 100 μm sind, |
| --- | --- | --- | --- |

c)

Metalllegierungspulver oder feine Materialpartikel mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

hergestellt aus einem der folgenden Legierungs-Systeme:

Technische Anmerkung:

X in den folgenden Formeln entspricht einem Legierungselement oder mehreren Legierungselementen.

a)

Nickellegierungen (Ni-Al-X, Ni-X-Al), die sich für Turbinenmotorteile oder Bauteile eignen, die auf 109 Legierungspartikel weniger als 3 (während des Herstellprozesses eingeführte) nichtmetallische Partikel enthalten, die größer als 100 μm sind,

| b) | Nioblegierungen (Nb-Al-X oder Nb-X-Al, Nb-Si-X oder Nb-X-Si, Nb-Ti-X oder Nb-X-Ti), |
| --- | --- |

b)

Nioblegierungen (Nb-Al-X oder Nb-X-Al, Nb-Si-X oder Nb-X-Si, Nb-Ti-X oder Nb-X-Ti),

| c) | Titanlegierungen (Ti-Al-X oder Ti-X-Al), |
| --- | --- |

c)

Titanlegierungen (Ti-Al-X oder Ti-X-Al),

| d) | Aluminiumlegierungen (Al-Mg-X oder Al-X-Mg, Al-Zn-X oder Al-X-Zn, Al-Fe-X oder Al-X-Fe) oder |
| --- | --- |

d)

Aluminiumlegierungen (Al-Mg-X oder Al-X-Mg, Al-Zn-X oder Al-X-Zn, Al-Fe-X oder Al-X-Fe) oder

| e) | Magnesiumlegierungen (Mg-Al-X oder Mg-X-Al), |
| --- | --- |

e)

Magnesiumlegierungen (Mg-Al-X oder Mg-X-Al),

| 2. | hergestellt unter kontrollierten Bedingungen mit einem der folgenden Verfahren:






  a) | "Vakuumzerstäubung", |
| --- | --- | --- |

2.

hergestellt unter kontrollierten Bedingungen mit einem der folgenden Verfahren:

a)

"Vakuumzerstäubung",

| b) | "Gaszerstäubung", |
| --- | --- |

b)

"Gaszerstäubung",

| c) | "Rotationszerstäubung", |
| --- | --- |

c)

"Rotationszerstäubung",

| d) | "Abschrecken aus der Schmelze" (splat quenching), |
| --- | --- |

d)

"Abschrecken aus der Schmelze" (splat quenching),

| e) | "Schmelzspinnen" und "Pulverisierung", |
| --- | --- |

e)

"Schmelzspinnen" und "Pulverisierung",

| f) | "Schmelzextraktion" und "Pulverisierung"oder |
| --- | --- |

f)

"Schmelzextraktion" und "Pulverisierung"oder

| g) | "mechanisches Legieren"und |
| --- | --- |

g)

"mechanisches Legieren"und

| 3. | geeignet zur Herstellung der von Unternummer 1C002a oder 1C002b erfassten Materialien; |
| --- | --- |

3.

geeignet zur Herstellung der von Unternummer 1C002a oder 1C002b erfassten Materialien;

| d) | legierte Werkstoffe mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | hergestellt aus einem der in Unternummer 1C002c1 erfassten Legierungs-Systeme, |
| --- | --- | --- |

d)

legierte Werkstoffe mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

hergestellt aus einem der in Unternummer 1C002c1 erfassten Legierungs-Systeme,

| 2. | in Form von unzerkleinerten Flocken, Bändern oder dünnen Stäben und |
| --- | --- |

2.

in Form von unzerkleinerten Flocken, Bändern oder dünnen Stäben und

| 3. | hergestellt unter kontrollierten Bedingungen mit einem der folgenden Verfahren:






  a) | "Abschrecken aus der Schmelze" (splat quenching), |
| --- | --- | --- |

3.

hergestellt unter kontrollierten Bedingungen mit einem der folgenden Verfahren:

a)

"Abschrecken aus der Schmelze" (splat quenching),

| b) | "Schmelzspinnen"oder |
| --- | --- |

b)

"Schmelzspinnen"oder

| c) | "Schmelzextraktion". |
| --- | --- |

c)

"Schmelzextraktion".

1C003Magnetische Metalle aller Typen und in jeder Form mit einer der folgenden Eigenschaften:

| a) | Anfangsrelativpermeabilität (initial relative permeability) größer/gleich 120 000 und Dicke kleiner/gleich 0,05 mm;
  Technische Anmerkung:

  Die Messung der Anfangspermeabilität muss an den vorstehend spezifizierten Materialien vorgenommen werden, die vollständig geglüht sind. |
| --- | --- |

a)

Anfangsrelativpermeabilität (initial relative permeability) größer/gleich 120 000 und Dicke kleiner/gleich 0,05 mm;

Technische Anmerkung:

Die Messung der Anfangspermeabilität muss an den vorstehend spezifizierten Materialien vorgenommen werden, die vollständig geglüht sind.

| b) | magnetostriktive Legierungen mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | Sättigungsmagnetostriktion größer als 5 × 10–4
  oder |
| --- | --- | --- |

b)

magnetostriktive Legierungen mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

Sättigungsmagnetostriktion größer als 5 × 10–4
  oder

| 2. | magnetomechanischer Kopplungsfaktor (k) größer als 0,8 oder |
| --- | --- |

2.

magnetomechanischer Kopplungsfaktor (k) größer als 0,8 oder

| c) | Streifen aus amorphen oder ‧nanokristallinen‧ Legierungen mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | Legierungen, die mindestens 75 Gew.-% Eisen, Kobalt oder Nickel enthalten, |
| --- | --- | --- |

c)

Streifen aus amorphen oder ‧nanokristallinen‧ Legierungen mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

Legierungen, die mindestens 75 Gew.-% Eisen, Kobalt oder Nickel enthalten,

| 2. | eine magnetische Sättigungsinduktion (Bs) größer/gleich 1,6 T und |
| --- | --- |

2.

eine magnetische Sättigungsinduktion (Bs) größer/gleich 1,6 T und

| 3. | mit einer der folgenden Eigenscraften:






  a) | Streifendicke kleiner/gleich 0,02 mm oder |
| --- | --- | --- |

3.

mit einer der folgenden Eigenscraften:

a)

Streifendicke kleiner/gleich 0,02 mm oder

| b) | spezifischer elektrischer Widerstand größer/gleich 2 × 10-4 Ohm cm. |
| --- | --- |

b)

spezifischer elektrischer Widerstand größer/gleich 2 × 10-4 Ohm cm.

Technische Anmerkung:

Unternummer 1C003c erfasst nur ‧nanokristalline‧ Materialien mit einer Korngröße kleiner/gleich 50 nm, bestimmt durch Röntgenuntersuchungen.

1C004Uran-Titanlegierungen oder Wolframlegierungen mit einer "Matrix" auf Eisen-, Nickel- oder Kupferbasis mit allen folgenden Eigenschaften:

| a) | Dichte größer als 17,5 g/cm3, |
| --- | --- |

a)

Dichte größer als 17,5 g/cm3,

| b) | Elastizitätsgrenze größer als 880 MPa, |
| --- | --- |

b)

Elastizitätsgrenze größer als 880 MPa,

| c) | spezifische Zugfestigkeit größer als 1 270 MPa und |
| --- | --- |

c)

spezifische Zugfestigkeit größer als 1 270 MPa und

| d) | Dehnung größer als 8 %. |
| --- | --- |

d)

Dehnung größer als 8 %.

1C005"Supraleitende" Doppelleiter (composite conductors) mit einer Länge größer als 100 m oder einer Masse größer als 100 g wie folgt:

| a) | "supraleitende" Multifilament-Doppelleiter (composite conductors), die ein Niob-Titan-Filament oder mehrere Niob-Titan-Filamente enthalten:






  1. | eingebettet in eine andere "Matrix" als eine "Matrix" aus Kupfer oder Kupferbasislegierungen oder |
| --- | --- | --- |

a)

"supraleitende" Multifilament-Doppelleiter (composite conductors), die ein Niob-Titan-Filament oder mehrere Niob-Titan-Filamente enthalten:

1.

eingebettet in eine andere "Matrix" als eine "Matrix" aus Kupfer oder Kupferbasislegierungen oder

| 2. | mit einem Flächenquerschnitt kleiner als 0,28 × 10–4 mm2 (d. h. 6 μm Durchmesser bei kreisrunden Filamenten); |
| --- | --- |

2.

mit einem Flächenquerschnitt kleiner als 0,28 × 10–4 mm2 (d. h. 6 μm Durchmesser bei kreisrunden Filamenten);

| b) | "supraleitende" Doppelleiter (composite conductors), die aus einem anderen "supraleitenden" Filament oder mehreren anderen "supraleitenden" Filamenten bestehen als aus Niob-Titan, mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | "kritische Temperatur" bei einer magnetischen Induktion von Null größer als 9,85 K (– 263,31 °C) und kleiner als 24 K (– 249,16 °C), |
| --- | --- | --- |

b)

"supraleitende" Doppelleiter (composite conductors), die aus einem anderen "supraleitenden" Filament oder mehreren anderen "supraleitenden" Filamenten bestehen als aus Niob-Titan, mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

"kritische Temperatur" bei einer magnetischen Induktion von Null größer als 9,85 K (– 263,31 °C) und kleiner als 24 K (– 249,16 °C),

| 2. | Flächenquerschnitt kleiner als 0,28 × 10-4 mm2
  und |
| --- | --- |

2.

Flächenquerschnitt kleiner als 0,28 × 10-4 mm2
  und

| 3. | die Filamente verbleiben im "supraleitenden" Zustand bei einer Temperatur von 4,2 K (– 268,96 °C), wenn sie einem magnetischen Feld ausgesetzt werden, das einer magnetischen Induktion von 12 Tesla entspricht. |
| --- | --- |

3.

die Filamente verbleiben im "supraleitenden" Zustand bei einer Temperatur von 4,2 K (– 268,96 °C), wenn sie einem magnetischen Feld ausgesetzt werden, das einer magnetischen Induktion von 12 Tesla entspricht.

1C006Flüssigkeiten und Schmiermittel wie folgt:

| a) | hydraulische Flüssigkeiten, die als Hauptbestandteil eine der folgenden Verbindungen oder einen der folgenden Stoffe enthalten:






  1. | synthetische Sila-Kohlenwasserstofföle mit allen folgenden Eigenschaften:
  Technische Anmerkung:

  Sila-Kohlenwasserstofföle im Sinne von Unternummer 1C006a1 enthalten ausschließlich Silizium, Wasserstoff und Kohlenstoff.







  a) | Flammpunkt größer als 477 K (204 °C), |
| --- | --- | --- | --- |

a)

hydraulische Flüssigkeiten, die als Hauptbestandteil eine der folgenden Verbindungen oder einen der folgenden Stoffe enthalten:

1.

synthetische Sila-Kohlenwasserstofföle mit allen folgenden Eigenschaften:

Technische Anmerkung:

Sila-Kohlenwasserstofföle im Sinne von Unternummer 1C006a1 enthalten ausschließlich Silizium, Wasserstoff und Kohlenstoff.

a)

Flammpunkt größer als 477 K (204 °C),

| b) | Pourpoint kleiner/gleich 239 K (– 34 °C), |
| --- | --- |

b)

Pourpoint kleiner/gleich 239 K (– 34 °C),

| c) | Viskositätsindex größer/gleich 75 und |
| --- | --- |

c)

Viskositätsindex größer/gleich 75 und

| d) | Wärmebeständigkeit bei 616 K (343 °C) oder |
| --- | --- |

d)

Wärmebeständigkeit bei 616 K (343 °C) oder

| 2. | Fluorchlorkohlenstoffe mit allen folgenden Eigenschaften:
  Technische Anmerkung:

  Fluorchlorkohlenstoffe im Sinne von Unternummer 1C006a2 enthalten ausschließlich Kohlenstoff, Fluor und Chlor.







  a) | kein Flammpunkt, |
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2.

Fluorchlorkohlenstoffe mit allen folgenden Eigenschaften:

Technische Anmerkung:

Fluorchlorkohlenstoffe im Sinne von Unternummer 1C006a2 enthalten ausschließlich Kohlenstoff, Fluor und Chlor.

a)

kein Flammpunkt,

| b) | autogene Zündtemperatur größer als 977 K (704 °C), |
| --- | --- |

b)

autogene Zündtemperatur größer als 977 K (704 °C),

| c) | Pourpoint kleiner/gleich 219 K (– 54 °C), |
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c)

Pourpoint kleiner/gleich 219 K (– 54 °C),

| d) | Viskositätsindex größer/gleich 80 und |
| --- | --- |

d)

Viskositätsindex größer/gleich 80 und

| e) | Siedepunkt größer/gleich 473 K (200 °C); |
| --- | --- |

e)

Siedepunkt größer/gleich 473 K (200 °C);

| b) | Schmiermittel, die als Hauptbestandteil eine der folgenden Verbindungen oder einen der folgenden Stoffe enthalten:






  1. | Phenylether, Alkylphenylether, Thioether oder deren Mischungen, die mehr als zwei Ether- oder Thioether-Funktionen enthalten, oder Mischungen hieraus oder |
| --- | --- | --- |

b)

Schmiermittel, die als Hauptbestandteil eine der folgenden Verbindungen oder einen der folgenden Stoffe enthalten:

1.

Phenylether, Alkylphenylether, Thioether oder deren Mischungen, die mehr als zwei Ether- oder Thioether-Funktionen enthalten, oder Mischungen hieraus oder

| 2. | fluorierte, flüssige Silikone mit einer kinematischen Viskosität kleiner als 5 000 mm2/s (5 000 Centistokes), gemessen bei 298 K (25 °C); |
| --- | --- |

2.

fluorierte, flüssige Silikone mit einer kinematischen Viskosität kleiner als 5 000 mm2/s (5 000 Centistokes), gemessen bei 298 K (25 °C);

| c) | Dämpfungs- oder Flotationsflüssigkeiten, die zu mindestens 85 % aus einer oder mehreren der folgenden Verbindungen oder einem oder mehreren der folgenden Stoffe bestehen, eine Reinheit größer als 99,8 % aufweisen und weniger als 25 Partikel größer/gleich 200 μm pro 100 ml enthalten:






  1. | Dibromtetrafluorethan, |
| --- | --- | --- |

c)

Dämpfungs- oder Flotationsflüssigkeiten, die zu mindestens 85 % aus einer oder mehreren der folgenden Verbindungen oder einem oder mehreren der folgenden Stoffe bestehen, eine Reinheit größer als 99,8 % aufweisen und weniger als 25 Partikel größer/gleich 200 μm pro 100 ml enthalten:

1.

Dibromtetrafluorethan,

| 2. | Polychlortrifluorethylen (nur öl- oder wachsartige Modifikationen) oder |
| --- | --- |

2.

Polychlortrifluorethylen (nur öl- oder wachsartige Modifikationen) oder

| 3. | Polybromtrifluorethylen; |
| --- | --- |

3.

Polybromtrifluorethylen;

| d) | Elektronikkühlflüssigkeiten auf Fluor-Kohlenstoff-Basis mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | mit einem Gehalt von 85 Gew.-% oder mehr eines der folgenden Stoffe oder Mischungen daraus:






  a) | Monomere Formen der Perfluorpolyalkylethertriazine oder perfluoraliphatischen Ether, |
| --- | --- | --- | --- |

d)

Elektronikkühlflüssigkeiten auf Fluor-Kohlenstoff-Basis mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

mit einem Gehalt von 85 Gew.-% oder mehr eines der folgenden Stoffe oder Mischungen daraus:

a)

Monomere Formen der Perfluorpolyalkylethertriazine oder perfluoraliphatischen Ether,

| b) | Perfluoralkylamine, |
| --- | --- |

b)

Perfluoralkylamine,

| c) | Perfluorcycloalkane oder |
| --- | --- |

c)

Perfluorcycloalkane oder

| d) | Perfluoralkane, |
| --- | --- |

d)

Perfluoralkane,

| 2. | Dichte bei 298 K (25 °C) größer/gleich 1,5 g/ml, |
| --- | --- |

2.

Dichte bei 298 K (25 °C) größer/gleich 1,5 g/ml,

| 3. | in flüssigem Zustand bei 273 K (0 °C) und |
| --- | --- |

3.

in flüssigem Zustand bei 273 K (0 °C) und

| 4. | mit einem Gehalt von 60 Gew.-% oder mehr gebundenem Fluor. |
| --- | --- |

4.

mit einem Gehalt von 60 Gew.-% oder mehr gebundenem Fluor.

Technische Anmerkung:

Im Sinne von Nummer 1C006 wird:

| a) | der Flammpunkt unter Anwendung des Cleveland-Verfahrens im offenen Tiegel gemäß ASTM-Standard D-92 oder vergleichbaren nationalen Verfahren bestimmt, |
| --- | --- |

a)

der Flammpunkt unter Anwendung des Cleveland-Verfahrens im offenen Tiegel gemäß ASTM-Standard D-92 oder vergleichbaren nationalen Verfahren bestimmt,

| b) | der Pourpoint nach der im ASTM-Standard D-97 beschriebenen Methode oder vergleichbaren nationalen Verfahren ermittelt, |
| --- | --- |

b)

der Pourpoint nach der im ASTM-Standard D-97 beschriebenen Methode oder vergleichbaren nationalen Verfahren ermittelt,

| c) | der Viskositätsindex nach der im ASTM-Standard D-2270 beschriebenen Methode oder vergleichbaren nationalen Verfahren ermittelt, |
| --- | --- |

c)

der Viskositätsindex nach der im ASTM-Standard D-2270 beschriebenen Methode oder vergleichbaren nationalen Verfahren ermittelt,

| d) | die Wärmebeständigkeit gemäß ASTM-Standard D-2160 (- 85) oder nach folgendem Prüfverfahren oder vergleichbaren nationalen Verfahren ermittelt:

  20 ml der zu prüfenden Flüssigkeit werden in ein 46 ml fassendes Gefäß aus rostfreiem US-Normstahl 317 eingefüllt, das je eine Kugel mit einem Nenndurchmesser von 12,5 mm (0,5 Zoll) aus den US-Normstählen M10 (Werkzeugstahl) und SEA 52.100 (Chromstahl) sowie aus Schiffsbronze (60 % Kupfer, 39 % Zink und 0,75 % Zinn) enthält. Das Gefäß wird mit Stickstoff gespült und bei atmosphärischem Druck dicht verschlossen. Danach wird die Temperatur auf 644 ± 6 K (371 ± 6 °C) erhöht und 6 Stunden lang konstant gehalten. Die Probe gilt als wärmebeständig, wenn nach dem oben beschriebenen Verfahren alle folgenden Bedingungen erfüllt sind:







  1. | Gewichtsverlust jeder Kugel kleiner als 10 mg/mm2 der Kugeloberfläche, |
| --- | --- | --- |

d)

die Wärmebeständigkeit gemäß ASTM-Standard D-2160 (- 85) oder nach folgendem Prüfverfahren oder vergleichbaren nationalen Verfahren ermittelt:

1.

Gewichtsverlust jeder Kugel kleiner als 10 mg/mm2 der Kugeloberfläche,

| 2. | Änderung der Viskosität gegenüber der bei 311 K (38 °C) ermittelten Anfangsviskosität kleiner als 25 % und |
| --- | --- |

2.

Änderung der Viskosität gegenüber der bei 311 K (38 °C) ermittelten Anfangsviskosität kleiner als 25 % und

| 3. | Gesamtsäure- oder -basenzahl kleiner als 0,40, |
| --- | --- |

3.

Gesamtsäure- oder -basenzahl kleiner als 0,40,

| e) | die autogene Zündtemperatur nach der im ASTM-Standard E-659 beschriebenen Methode oder vergleichbaren nationalen Verfahren ermittelt. |
| --- | --- |

e)

die autogene Zündtemperatur nach der im ASTM-Standard E-659 beschriebenen Methode oder vergleichbaren nationalen Verfahren ermittelt.

1C007Keramische Ausgangsmaterialien, keramische Nicht-"Verbundwerkstoffe", "Verbundwerkstoffe" mit keramischer "Matrix" und keramische Vormaterialien wie folgt:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 1C107.

| a) | Ausgangsmaterialien aus einfachen oder komplexen Boriden des Elements Titan, wobei die Summe der metallischen Verunreinigungen, ohne beigemischte Zusätze, weniger als 5 000 ppm beträgt, die durchschnittliche Partikelgröße kleiner/gleich 5 μm misst und nicht mehr als 10 % der Partikel größer als 10 μm sind; |
| --- | --- |

a)

Ausgangsmaterialien aus einfachen oder komplexen Boriden des Elements Titan, wobei die Summe der metallischen Verunreinigungen, ohne beigemischte Zusätze, weniger als 5 000 ppm beträgt, die durchschnittliche Partikelgröße kleiner/gleich 5 μm misst und nicht mehr als 10 % der Partikel größer als 10 μm sind;

| b) | keramische Nicht-"Verbundwerkstoffe" in Roh- oder Halbzeugformen aus Boriden des Elements Titan mit einer Dichte größer/gleich 98 % der theoretischen Dichte;


  Anmerkung: Unternummer 1C007b erfasst nicht Schleifmittel. |
| --- | --- |

b)

keramische Nicht-"Verbundwerkstoffe" in Roh- oder Halbzeugformen aus Boriden des Elements Titan mit einer Dichte größer/gleich 98 % der theoretischen Dichte;

Anmerkung: Unternummer 1C007b erfasst nicht Schleifmittel.

| c) | Keramik-Keramik-"Verbundwerkstoffe" mit einer Glas- oder Oxid-"Matrix" und verstärkt mit Fasern, hergestellt aus einem der folgenden Systeme:






  1. | hergestellt aus einem der folgenden Systeme:






  a) | Si-N, |
| --- | --- | --- | --- |

c)

Keramik-Keramik-"Verbundwerkstoffe" mit einer Glas- oder Oxid-"Matrix" und verstärkt mit Fasern, hergestellt aus einem der folgenden Systeme:

1.

hergestellt aus einem der folgenden Systeme:

a)

Si-N,

| b) | Si-C, |
| --- | --- |

b)

Si-C,

| c) | Si-Al-O-N oder |
| --- | --- |

c)

Si-Al-O-N oder

| d) | Si-O-N und |
| --- | --- |

d)

Si-O-N und

| 2. | mit einer spezifischen Zugfestigkeit größer als 12,7 × 103 m; |
| --- | --- |

2.

mit einer spezifischen Zugfestigkeit größer als 12,7 × 103 m;

| d) | Keramik-Keramik-"Verbundwerkstoffe" mit einer kontinuierlichen metallischen Phase oder ohne diese, die fein dispergierte Partikel oder Phasen beliebiger Faser- oder Whiskermaterialien enthalten, wobei Carbide oder Nitride von Silizium, Zirkon oder Bor die "Matrix" bilden; |
| --- | --- |

d)

Keramik-Keramik-"Verbundwerkstoffe" mit einer kontinuierlichen metallischen Phase oder ohne diese, die fein dispergierte Partikel oder Phasen beliebiger Faser- oder Whiskermaterialien enthalten, wobei Carbide oder Nitride von Silizium, Zirkon oder Bor die "Matrix" bilden;

| e) | Vormaterialien (d. h. spezielle polymere oder metallorganische Verbindungen) zur Herstellung einer beliebigen Phase oder beliebiger Phasen der von Unternummer 1C007c erfassten Materialien, wie folgt:






  1. | Polydiorganosilane (zur Herstellung von Siliziumcarbid), |
| --- | --- | --- |

e)

Vormaterialien (d. h. spezielle polymere oder metallorganische Verbindungen) zur Herstellung einer beliebigen Phase oder beliebiger Phasen der von Unternummer 1C007c erfassten Materialien, wie folgt:

1.

Polydiorganosilane (zur Herstellung von Siliziumcarbid),

| 2. | Polysilazane (zur Herstellung von Siliziumnitrid), |
| --- | --- |

2.

Polysilazane (zur Herstellung von Siliziumnitrid),

| 3. | Polycarbosilazane (zur Herstellung von Keramikprodukten, die Silizium, Kohlenstoff und Stickstoff enthalten); |
| --- | --- |

3.

Polycarbosilazane (zur Herstellung von Keramikprodukten, die Silizium, Kohlenstoff und Stickstoff enthalten);

| f) | Keramik-Keramik-"Verbundwerkstoffe" mit einer Oxid- oder Glas-"Matrix" und verstärkt mit Endlosfasern aus einem der folgenden Systeme:






  1. | Al2O3
  oder |
| --- | --- | --- |

f)

Keramik-Keramik-"Verbundwerkstoffe" mit einer Oxid- oder Glas-"Matrix" und verstärkt mit Endlosfasern aus einem der folgenden Systeme:

1.

Al2O3
  oder

| 2. | Si-C-N. |
| --- | --- |

2.

Si-C-N.

Anmerkung: Unternummer 1C007f erfasst nicht "Verbundwerkstoffe", die Fasern dieser Systeme mit einer Zugfestigkeit kleiner als 700 MPa bei 1 273 K (1 000 °C) oder einer Dauerstandzugfestigkeit größer als 1 % Kriechdehnung bei einer Belastung von 100 MPa bei 1 273 K (1 000 °C) über eine Zeitdauer von 100 Stunden enthalten.

1C008Nichtfluorierte Polymere wie folgt:

| a) | 1. | Bismaleinimide, |
| --- | --- | --- |

a)

1.

Bismaleinimide,

| 2. | aromatische Polyamidimide, |
| --- | --- |

2.

aromatische Polyamidimide,

| 3. | aromatische Polyimide, |
| --- | --- |

3.

aromatische Polyimide,

| 4. | aromatische Polyetherimide mit einer Glasübergangstemperatur (Tg) größer als 513 K (240 °C), bestimmt nach der in ASTM D 3418 beschriebenen Methode mit dem Trockenverfahren; |
| --- | --- |

4.

aromatische Polyetherimide mit einer Glasübergangstemperatur (Tg) größer als 513 K (240 °C), bestimmt nach der in ASTM D 3418 beschriebenen Methode mit dem Trockenverfahren;

Anmerkung: Unternummer 1C008a erfasst keine nichtschmelzbaren, durch Pressen formbaren Pulver oder Pressteile.

| b) | thermoplastische Flüssigkristall-Copolymere mit einer Wärmeformbeständigkeitstemperatur größer als 523 K (250 °C), gemessen gemäß ASTM-Standard D-648, Methode A oder vergleichbaren nationalen Verfahren, mit einer Belastung von 1,82 N/mm2 und folgender Zusammensetzung:






  1. | einer der folgenden Stoffe:






  a) | Phenylen, Biphenylen oder Naphthalin oder |
| --- | --- | --- | --- |

b)

thermoplastische Flüssigkristall-Copolymere mit einer Wärmeformbeständigkeitstemperatur größer als 523 K (250 °C), gemessen gemäß ASTM-Standard D-648, Methode A oder vergleichbaren nationalen Verfahren, mit einer Belastung von 1,82 N/mm2 und folgender Zusammensetzung:

1.

einer der folgenden Stoffe:

a)

Phenylen, Biphenylen oder Naphthalin oder

| b) | Methyl, tertiär-butyl- oder phenyl-substituiertes Phenylen, Biphenylen oder Naphthalin und |
| --- | --- |

b)

Methyl, tertiär-butyl- oder phenyl-substituiertes Phenylen, Biphenylen oder Naphthalin und

| 2. | eine der folgenden Säuren:






  a) | Terephthalsäure, |
| --- | --- | --- |

2.

eine der folgenden Säuren:

a)

Terephthalsäure,

| b) | 6-Hydroxy-2-Naphthoesäure oder |
| --- | --- |

b)

6-Hydroxy-2-Naphthoesäure oder

| c) | 4-Hydroxybenzoesäure; |
| --- | --- |

c)

4-Hydroxybenzoesäure;

| c) | aromatische Polyetherketone wie folgt:






  1. | Polyetheretherketon (PEEK), |
| --- | --- | --- |

c)

aromatische Polyetherketone wie folgt:

1.

Polyetheretherketon (PEEK),

| 2. | Polyetherketonketon (PEKK), |
| --- | --- |

2.

Polyetherketonketon (PEKK),

| 3. | Polyetherketon (PEK), |
| --- | --- |

3.

Polyetherketon (PEK),

| 4. | Polyetherketonetherketonketon (PEKEKK); |
| --- | --- |

4.

Polyetherketonetherketonketon (PEKEKK);

| d) | aromatische Polyketone; |
| --- | --- |

d)

aromatische Polyketone;

| e) | aromatische Polysulfide, wobei es sich bei der Arylengruppe um Biphenylen, Triphenylen oder Kombinationen hieraus handelt; |
| --- | --- |

e)

aromatische Polysulfide, wobei es sich bei der Arylengruppe um Biphenylen, Triphenylen oder Kombinationen hieraus handelt;

| f) | Polybiphenylenethersulfon. |
| --- | --- |

f)

Polybiphenylenethersulfon.

Technische Anmerkung:

Die Glasübergangstemperatur (Tg) für die von Nummer 1C008 erfassten Materialien wird bestimmt nach der in ASTM D 3418 beschriebenen Methode mit dem Trockenverfahren.

1C009Unverarbeitete fluorierte Verbindungen wie folgt:

| a) | Copolymere des Vinylidenfluorids, die ungereckt zu mindestens 75 % eine beta-kristalline Struktur aufweisen; |
| --- | --- |

a)

Copolymere des Vinylidenfluorids, die ungereckt zu mindestens 75 % eine beta-kristalline Struktur aufweisen;

| b) | fluorierte Polyimide, die mindestens 10 Gew.-% gebundenes Fluor enthalten; |
| --- | --- |

b)

fluorierte Polyimide, die mindestens 10 Gew.-% gebundenes Fluor enthalten;

| c) | fluorierte Phosphazen-Elastomere, die mindestens 30 Gew.-% gebundenes Fluor enthalten. |
| --- | --- |

c)

fluorierte Phosphazen-Elastomere, die mindestens 30 Gew.-% gebundenes Fluor enthalten.

1C010"Faser- oder fadenförmige Materialien", die in "Verbundwerkstoff"-Strukturen oder Laminaten mit organischer "Matrix", Metall-"Matrix" oder Kohlenstoff-"Matrix" verwendet werden können, wie folgt:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 1C210.

| a) | organische "faser- oder fadenförmige Materialien" mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | "spezifischer Modul" größer als 12,7 × 106 m und |
| --- | --- | --- |

a)

organische "faser- oder fadenförmige Materialien" mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

"spezifischer Modul" größer als 12,7 × 106 m und

| 2. | "spezifische Zugfestigkeit" größer als 23,5 × 104 m; |
| --- | --- |

2.

"spezifische Zugfestigkeit" größer als 23,5 × 104 m;

Anmerkung: Unternummer 1C010a erfasst nicht Polyethylen.

| b) | "faser- oder fadenförmige" Kohlenstoff-"Materialien" mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | "spezifischer Modul" größer als 12,7 × 106 m und |
| --- | --- | --- |

b)

"faser- oder fadenförmige" Kohlenstoff-"Materialien" mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

"spezifischer Modul" größer als 12,7 × 106 m und

| 2. | "spezifische Zugfestigkeit" größer als 23,5 × 104 m; |
| --- | --- |

2.

"spezifische Zugfestigkeit" größer als 23,5 × 104 m;

Anmerkung: Unternummer 1C010b erfasst nicht Gewebe, hergestellt aus "faser- oder fadenförmigen Materialien", für die Reparatur von Luftfahrzeug-Strukturen oder Laminaten, bei dem die Größe der Einzelmatten nicht größer ist als 50 cm × 90 cm.

Technische Anmerkung:

Die Eigenschaften der in Unternummer 1C010b beschriebenen Materialien sollten gemäß den von der SACMA empfohlenen Methoden SRM 12 bis 17 oder entsprechenden nationalen Zugprüfungen untersucht werden (z. B. der japanische Industriestandard JIS-R-7601, Absatz 6.6.2.) und sich auf Chargenmittelwerte stützen.

| c) | anorganische "faser- oder fadenförmige Materialien" mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | "spezifischer Modul" größer als 2,54 × 106 m und |
| --- | --- | --- |

c)

anorganische "faser- oder fadenförmige Materialien" mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

"spezifischer Modul" größer als 2,54 × 106 m und

| 2. | Schmelz-, Zersetzungs- oder Sublimationspunkt größer als 1 922 K (1 649 °C) in einer inerten Umgebung; |
| --- | --- |

2.

Schmelz-, Zersetzungs- oder Sublimationspunkt größer als 1 922 K (1 649 °C) in einer inerten Umgebung;

Anmerkung: Unternummer 1C010c erfasst nicht:

| 1. | diskontinuierliche, vielphasige, polykristalline Aluminiumoxidfasern als geschnittene Fasern oder regellos geschichtete Matten mit einem Siliziumoxidgehalt größer/gleich 3 Gew.-% und einem "spezifischen Modul" kleiner als 10 × 106 m, |
| --- | --- |

1.

diskontinuierliche, vielphasige, polykristalline Aluminiumoxidfasern als geschnittene Fasern oder regellos geschichtete Matten mit einem Siliziumoxidgehalt größer/gleich 3 Gew.-% und einem "spezifischen Modul" kleiner als 10 × 106 m,

| 2. | Fasern aus Molybdän und Molybdänlegierungen, |
| --- | --- |

2.

Fasern aus Molybdän und Molybdänlegierungen,

| 3. | Borfasern, |
| --- | --- |

3.

Borfasern,

| 4. | diskontinuierliche Keramikfasern mit einem Schmelz-, Zersetzungs- oder Sublimationspunkt kleiner als 2 043 K (1 770 °C) in einer inerten Umgebung. |
| --- | --- |

4.

diskontinuierliche Keramikfasern mit einem Schmelz-, Zersetzungs- oder Sublimationspunkt kleiner als 2 043 K (1 770 °C) in einer inerten Umgebung.

| d) | "faser- oder fadenförmige Materialien":






  1. | bestehend aus einem der folgenden Stoffe:






  a) | von Unternummer 1C008a erfasste Polyetherimide oder |
| --- | --- | --- | --- |

d)

"faser- oder fadenförmige Materialien":

1.

bestehend aus einem der folgenden Stoffe:

a)

von Unternummer 1C008a erfasste Polyetherimide oder

| b) | von Unternummer 1C008b bis 1C008f erfasste Materialien oder |
| --- | --- |

b)

von Unternummer 1C008b bis 1C008f erfasste Materialien oder

| 2. | bestehend aus den von Unternummer 1C010d1a oder 1C010d1b erfassten Stoffen, auch "vermischt" (commingled) mit anderen von Unternummer 1C010a, 1C010b oder 1C010c erfassten Fasern; |
| --- | --- |

2.

bestehend aus den von Unternummer 1C010d1a oder 1C010d1b erfassten Stoffen, auch "vermischt" (commingled) mit anderen von Unternummer 1C010a, 1C010b oder 1C010c erfassten Fasern;

| e) | harzimprägnierte oder pechimprägnierte Fasern (Prepregs), metall- oder kohlenstoffbeschichtete Fasern (Preforms) oder "Kohlenstofffaser-Preforms" wie folgt:






  1. | hergestellt aus von Unternummer 1C010a, 1C010b oder 1C010c erfassten "faser- oder fadenförmigen Materialien", |
| --- | --- | --- |

e)

harzimprägnierte oder pechimprägnierte Fasern (Prepregs), metall- oder kohlenstoffbeschichtete Fasern (Preforms) oder "Kohlenstofffaser-Preforms" wie folgt:

1.

hergestellt aus von Unternummer 1C010a, 1C010b oder 1C010c erfassten "faser- oder fadenförmigen Materialien",

| 2. | hergestellt aus "faser- oder fadenförmigen Materialien" aus organischen Stoffen oder Kohlenstoff mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | "spezifische Zugfestigkeit" größer als 17,7 × 104 m, |
| --- | --- | --- |

2.

hergestellt aus "faser- oder fadenförmigen Materialien" aus organischen Stoffen oder Kohlenstoff mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

"spezifische Zugfestigkeit" größer als 17,7 × 104 m,

| b) | "spezifischer Modul" größer als 10,15 × 106 m, |
| --- | --- |

b)

"spezifischer Modul" größer als 10,15 × 106 m,

| c) | nicht erfasst von Unternummer 1C010a oder 1C010b und |
| --- | --- |

c)

nicht erfasst von Unternummer 1C010a oder 1C010b und

| d) | mit einer Glasübergangstemperatur (Tg) größer als 383 K (110 °C) bei Imprägnierung mit von Nummer 1C008 oder Unternummer 1C009b erfassten Materialien oder mit einer Glasübergangstemperatur (Tg) größer/gleich 418 K (145 °C) bei Imprägnierung mit Phenol- oder Epoxyharzen. |
| --- | --- |

d)

mit einer Glasübergangstemperatur (Tg) größer als 383 K (110 °C) bei Imprägnierung mit von Nummer 1C008 oder Unternummer 1C009b erfassten Materialien oder mit einer Glasübergangstemperatur (Tg) größer/gleich 418 K (145 °C) bei Imprägnierung mit Phenol- oder Epoxyharzen.

Anmerkung: Unternummer 1C010e erfasst nicht:

| a) | epoxyharzimprägnierte "Matrix" aus "faser- oder fadenförmigen Materialien" aus Kohlenstoff (Prepregs) für die Reparatur von Luftfahrzeug-Strukturen oder Laminaten, bei der die Größe der Einzelmatte des Prepregs nicht größer ist als 50 cm × 90 cm, |
| --- | --- |

a)

epoxyharzimprägnierte "Matrix" aus "faser- oder fadenförmigen Materialien" aus Kohlenstoff (Prepregs) für die Reparatur von Luftfahrzeug-Strukturen oder Laminaten, bei der die Größe der Einzelmatte des Prepregs nicht größer ist als 50 cm × 90 cm,

| b) | Prepregs, die mit Phenol- oder Epoxyharzen imprägniert sind, deren Glasübergangstemperatur (Tg) kleiner als 433 K (160 °C) und deren Aushärtungstemperatur kleiner als die Glasübergangstemperatur ist. |
| --- | --- |

b)

Prepregs, die mit Phenol- oder Epoxyharzen imprägniert sind, deren Glasübergangstemperatur (Tg) kleiner als 433 K (160 °C) und deren Aushärtungstemperatur kleiner als die Glasübergangstemperatur ist.

Technische Anmerkung:

Die Glasübergangstemperatur (Tg) für die in Unternummer 1C010e genannten Materialien wird bestimmt nach der in ASTM D 3418 beschriebenen Methode mit dem Trockenverfahren. Die Glasübergangstemperatur (Tg) für Phenol- oder Epoxyharze wird bestimmt nach der in ASTM D 4065 beschriebenen Methode bei einer Frequenz von 1 Hz und einer Aufheizrate von 2 K (°C) pro Minute mit dem Trockenverfahren.

1C011Metalle und Verbindungen, wie folgt:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH TEIL I A UND NUMMER 1C111.

| a) | Metalle mit Partikelgrößen kleiner als 60 μm (kugelförmig, staubförmig, kugelähnlich, flockenförmig oder gemahlen), die mindestens zu 99 % aus Zirkonium, Magnesium oder Legierungen dieser Metalle bestehen;
  Technische Anmerkung:

  Der natürliche Hafnium-Gehalt im Zirkonium (typischerweise 2 % bis 7 %) wird dem Zirkonium-Gehalt hinzugerechnet.



  Anmerkung: Die in Unternummer 1C011a aufgeführten Metalle und Legierungen werden auch dann erfasst, wenn sie in Aluminium, Magnesium, Zirkonium oder Beryllium eingekapselt sind. |
| --- | --- |

a)

Metalle mit Partikelgrößen kleiner als 60 μm (kugelförmig, staubförmig, kugelähnlich, flockenförmig oder gemahlen), die mindestens zu 99 % aus Zirkonium, Magnesium oder Legierungen dieser Metalle bestehen;

Technische Anmerkung:

Der natürliche Hafnium-Gehalt im Zirkonium (typischerweise 2 % bis 7 %) wird dem Zirkonium-Gehalt hinzugerechnet.

Anmerkung: Die in Unternummer 1C011a aufgeführten Metalle und Legierungen werden auch dann erfasst, wenn sie in Aluminium, Magnesium, Zirkonium oder Beryllium eingekapselt sind.

| b) | Bor oder Borcarbid mit einer Reinheit größer/gleich 85 % und einer Partikelgröße kleiner/gleich 60 μm;


  Anmerkung: Die in Unternummer 1C011b aufgeführten Stoffe werden auch dann erfasst, wenn sie in Aluminium, Magnesium, Zirkonium oder Beryllium eingekapselt sind. |
| --- | --- |

b)

Bor oder Borcarbid mit einer Reinheit größer/gleich 85 % und einer Partikelgröße kleiner/gleich 60 μm;

Anmerkung: Die in Unternummer 1C011b aufgeführten Stoffe werden auch dann erfasst, wenn sie in Aluminium, Magnesium, Zirkonium oder Beryllium eingekapselt sind.

| c) | Guanidinnitrat; |
| --- | --- |

c)

Guanidinnitrat;

| d) | Nitroguanidin (NQ) (CAS-Nr. 556-88-7). |
| --- | --- |

d)

Nitroguanidin (NQ) (CAS-Nr. 556-88-7).

1C012Materialien, wie folgt:

Technische Anmerkung:

Diese Materialien werden typischerweise für nukleare Wärmequellen verwendet.

| a) | Plutonium in jeder Form, dessen Isotopenanteil an Plutonium-238 größer als 50 Gew.-% ist;


  Anmerkung: Unternummer 1C012a erfasst nicht:








  a) | Lieferungen mit einem Gehalt an Plutonium von kleiner/gleich 1 Gramm, |
| --- | --- | --- |

a)

Plutonium in jeder Form, dessen Isotopenanteil an Plutonium-238 größer als 50 Gew.-% ist;

Anmerkung: Unternummer 1C012a erfasst nicht:

a)

Lieferungen mit einem Gehalt an Plutonium von kleiner/gleich 1 Gramm,

| b) | Lieferungen von kleiner/gleich drei "effektiven Gramm", wenn in einer Fühlanordnung von Instrumenten enthalten. |
| --- | --- |

b)

Lieferungen von kleiner/gleich drei "effektiven Gramm", wenn in einer Fühlanordnung von Instrumenten enthalten.

| b) | "vorher abgetrenntes" Neptunium in jeder Form.


  Anmerkung: Unternummer 1C012b erfasst nicht Lieferungen mit einem Gehalt an Neptunium-237 kleiner/gleich 1 Gramm. |
| --- | --- |

b)

"vorher abgetrenntes" Neptunium in jeder Form.

Anmerkung: Unternummer 1C012b erfasst nicht Lieferungen mit einem Gehalt an Neptunium-237 kleiner/gleich 1 Gramm.

1C101Andere als die von Nummer 1C001 erfassten Werkstoffe und Geräte zur Verminderung von Messgrößen wie Radarreflexion, Ultraviolett-/Infrarot-Rückstrahlung und Schallsignatur, geeignet für "Flugkörper" und "Flugkörper"-Subsysteme.

Anmerkung 1: Nummer 1C101 schließt Folgendes ein:

| a) | Strukturwerkstoffe und Beschichtungen, besonders konstruiert für reduzierte Radarreflexion, |
| --- | --- |

a)

Strukturwerkstoffe und Beschichtungen, besonders konstruiert für reduzierte Radarreflexion,

| b) | Beschichtungen einschließlich Farbanstrichen, besonders konstruiert für reduzierte oder speziell zugeschnittene Reflexion oder Emission im Mikrowellen-, IR- oder UV-Spektrum. |
| --- | --- |

b)

Beschichtungen einschließlich Farbanstrichen, besonders konstruiert für reduzierte oder speziell zugeschnittene Reflexion oder Emission im Mikrowellen-, IR- oder UV-Spektrum.

Anmerkung 2: Nummer 1C101 erfasst nicht Materialien für die Verwendung zur Temperaturregelung von Satelliten.

1C102Resaturierte, pyrolysierte Kohlenstoff-Kohlenstoff-Materialien, konstruiert für von Nummer 9A004 erfasste Trägerraketen oder von Nummer 9A104 erfasste Höhenforschungsraketen.

1C107Keramik- oder Grafitmaterialien, die nicht von Nummer 1C007 erfasst werden, wie folgt:

| a) | feinkörnige, rekristallisierte Grafite mit einer Dichte größer/gleich 1,72 g/cm3, gemessen bei 288 K (15 °C), und einer Partikelgröße kleiner/gleich 100 μm, geeignet für "Flugkörper"-Düsen oder Bugspitzen von Wiedereintrittskörpern, wie folgt:






  1. | Zylinder mit einem Durchmesser von größer/gleich 120 mm und einer Länge von größer/gleich 50 mm, |
| --- | --- | --- |

a)

feinkörnige, rekristallisierte Grafite mit einer Dichte größer/gleich 1,72 g/cm3, gemessen bei 288 K (15 °C), und einer Partikelgröße kleiner/gleich 100 μm, geeignet für "Flugkörper"-Düsen oder Bugspitzen von Wiedereintrittskörpern, wie folgt:

1.

Zylinder mit einem Durchmesser von größer/gleich 120 mm und einer Länge von größer/gleich 50 mm,

| 2. | Rohre mit einem Innendurchmesser von größer/gleich 65 mm, einer Wandstärke von größer/gleich 25 mm und einer Länge von größer/gleich 50 mm, |
| --- | --- |

2.

Rohre mit einem Innendurchmesser von größer/gleich 65 mm, einer Wandstärke von größer/gleich 25 mm und einer Länge von größer/gleich 50 mm,

| 3. | Blöcke mit einer Abmessung von größer/gleich 120 mm × 120 mm × 50 mm. |
| --- | --- |

3.

Blöcke mit einer Abmessung von größer/gleich 120 mm × 120 mm × 50 mm.

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 0C004.

| b) | pyrolytische oder faserverstärkte Grafite, geeignet für "Flugkörper"-Düsen oder Bugspitzen von Wiedereintrittskörpern;

  ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 0C004. |
| --- | --- |

b)

pyrolytische oder faserverstärkte Grafite, geeignet für "Flugkörper"-Düsen oder Bugspitzen von Wiedereintrittskörpern;

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 0C004.

| c) | keramische "Verbundwerkstoffe" mit einer Dielektrizitätskonstanten kleiner als 6 bei Frequenzen von 100 Hz bis 10 000 MHz, geeignet für "Flugkörper"-Radome; |
| --- | --- |

c)

keramische "Verbundwerkstoffe" mit einer Dielektrizitätskonstanten kleiner als 6 bei Frequenzen von 100 Hz bis 10 000 MHz, geeignet für "Flugkörper"-Radome;

| d) | maschinell bearbeitbare, mit Siliziumcarbid verstärkte, ungebrannte keramische Werkstoffe, geeignet für "Flugkörper"-Bugspitzen. |
| --- | --- |

d)

maschinell bearbeitbare, mit Siliziumcarbid verstärkte, ungebrannte keramische Werkstoffe, geeignet für "Flugkörper"-Bugspitzen.

1C111Treibstoffe und chemische Bestandteile für Treibstoffe, die nicht von Nummer 1C011 erfasst werden, wie folgt:

| a) | Treibstoffzusätze wie folgt:






  1. | kugelförmiges Aluminiumpulver, das nicht von Teil I A erfasst wird, aus Partikeln mit einem einheitlichen Durchmesser kleiner als 200 μm und einem Aluminiumgehalt von mindestens 97 Gew -%, falls mindestens 10 % des Gesamtgewichts aus Teilchen kleiner als 63 μm besteht entsprechend ISO 2591 (1988) oder vergleichbaren nationalen Standards;
  Technische Anmerkung:

  Eine Teilchengröße von 63 μm (ISO R-565) entspricht 250 mesh (Tyler) oder 230 mesh (ASTM Standard E-11). |
| --- | --- | --- |

a)

Treibstoffzusätze wie folgt:

1.

kugelförmiges Aluminiumpulver, das nicht von Teil I A erfasst wird, aus Partikeln mit einem einheitlichen Durchmesser kleiner als 200 μm und einem Aluminiumgehalt von mindestens 97 Gew -%, falls mindestens 10 % des Gesamtgewichts aus Teilchen kleiner als 63 μm besteht entsprechend ISO 2591 (1988) oder vergleichbaren nationalen Standards;

Technische Anmerkung:

Eine Teilchengröße von 63 μm (ISO R-565) entspricht 250 mesh (Tyler) oder 230 mesh (ASTM Standard E-11).

| 2. | metallische Brennstoffe, die nicht von Teil I A erfasst werden, mit Partikelgrößen kleiner als 60 μm (kugelförmig, staubförmig, flockenförmig oder gemahlen), die mindestens zu 97 Gew -% aus einem der folgenden Elemente bestehen:






  a) | Zirkonium, |
| --- | --- | --- |

2.

metallische Brennstoffe, die nicht von Teil I A erfasst werden, mit Partikelgrößen kleiner als 60 μm (kugelförmig, staubförmig, flockenförmig oder gemahlen), die mindestens zu 97 Gew -% aus einem der folgenden Elemente bestehen:

a)

Zirkonium,

| b) | Beryllium, |
| --- | --- |

b)

Beryllium,

| c) | Magnesium oder |
| --- | --- |

c)

Magnesium oder

| d) | Legierungen der Stoffe unter a) bis d), |
| --- | --- |

d)

Legierungen der Stoffe unter a) bis d),

Technische Anmerkung:

Der natürliche Hafnium-Gehalt im Zirkonium (typischerweise 2 % bis 7 %) wird dem Zirkonium-Gehalt hinzugerechnet.

| 3. | Flüssigoxidatoren wie folgt:






  a) | Distickstofftrioxid, |
| --- | --- | --- |

3.

Flüssigoxidatoren wie folgt:

a)

Distickstofftrioxid,

| b) | Stickstoffdioxid/Distickstofftetroxid, |
| --- | --- |

b)

Stickstoffdioxid/Distickstofftetroxid,

| c) | Distickstoffpentoxid, |
| --- | --- |

c)

Distickstoffpentoxid,

| d) | Stickstoffmischoxide (MON),
  Technische Anmerkung:

  Stickstoffmischoxide (MON = Mixed Oxide of Nitrogen) sind Lösungen von Stickstoffoxid (NO) in Distickstofftetroxid/Stickstoffdioxid (N2O4/NO2), die in Raketensystemen verwendet werden können. Es gibt unterschiedliche Konzentrationen, die mit MONi oder MONij gekennzeichnet werden, wobei i und j ganze Zahlen bedeuten, die den Prozentsatz des Stickstoffoxids in der Mischung angeben (z. B. MON3 enthält 3 % Stickstoffoxid, MON25 enthält 25 % Stickstoffoxid. Eine Obergrenze ist MON40 entsprechend 40 Gew -%). |
| --- | --- |

d)

Stickstoffmischoxide (MON),

Technische Anmerkung:

Stickstoffmischoxide (MON = Mixed Oxide of Nitrogen) sind Lösungen von Stickstoffoxid (NO) in Distickstofftetroxid/Stickstoffdioxid (N2O4/NO2), die in Raketensystemen verwendet werden können. Es gibt unterschiedliche Konzentrationen, die mit MONi oder MONij gekennzeichnet werden, wobei i und j ganze Zahlen bedeuten, die den Prozentsatz des Stickstoffoxids in der Mischung angeben (z. B. MON3 enthält 3 % Stickstoffoxid, MON25 enthält 25 % Stickstoffoxid. Eine Obergrenze ist MON40 entsprechend 40 Gew -%).

| e) | ZUR ERFASSUNG VON inhibierter rauchender Salpetersäure (IRFNA): SIEHE TEIL I A, |
| --- | --- |

e)

ZUR ERFASSUNG VON inhibierter rauchender Salpetersäure (IRFNA): SIEHE TEIL I A,

| f) | ZUR ERFASSUNG VON Verbindungen, die aus Fluor und einem oder mehreren der folgenden Elemente zusammengesetzt sind: sonstige Halogene, Sauerstoff oder Stickstoff: SIEHE TEIL I A UND NUMMER 1C238; |
| --- | --- |

f)

ZUR ERFASSUNG VON Verbindungen, die aus Fluor und einem oder mehreren der folgenden Elemente zusammengesetzt sind: sonstige Halogene, Sauerstoff oder Stickstoff: SIEHE TEIL I A UND NUMMER 1C238;

| b) | Polymere wie folgt:






  1. | Carboxyl-terminiertes Polybutadien (CTPB), |
| --- | --- | --- |

b)

Polymere wie folgt:

1.

Carboxyl-terminiertes Polybutadien (CTPB),

| 2. | Hydroxyl-terminiertes Polybutadien (HTPB), das nicht von Teil I A erfasst wird, |
| --- | --- |

2.

Hydroxyl-terminiertes Polybutadien (HTPB), das nicht von Teil I A erfasst wird,

| 3. | Polybutadien-Akrylsäure (PBAA), |
| --- | --- |

3.

Polybutadien-Akrylsäure (PBAA),

| 4. | Polybutadien-Akrylsäure-Akrylnitril (PBAN); |
| --- | --- |

4.

Polybutadien-Akrylsäure-Akrylnitril (PBAN);

| c) | andere Additive und Agenzien wie folgt:







  1. | ZUR ERFASSUNG VON Carboranen, Decarboran, Pentaborane und Derivaten daraus: SIEHE TEIL I A, |
| --- | --- | --- |

c)

andere Additive und Agenzien wie folgt:

1.

ZUR ERFASSUNG VON Carboranen, Decarboran, Pentaborane und Derivaten daraus: SIEHE TEIL I A,

| 2. | Triethylenglykoldinitrat (TEGDN), |
| --- | --- |

2.

Triethylenglykoldinitrat (TEGDN),

| 3. | 2-Nitrodiphenylamin, |
| --- | --- |

3.

2-Nitrodiphenylamin,

| 4. | Trimethylolethantrinitrat (TMETN), |
| --- | --- |

4.

Trimethylolethantrinitrat (TMETN),

| 5. | Diethylenglykoldinitrat (DEGDN), |
| --- | --- |

5.

Diethylenglykoldinitrat (DEGDN),

| 6. | Ferrocenderivate wie folgt:







  a) | zur Erfassung von Catocen siehe Teil I A, |
| --- | --- | --- |

6.

Ferrocenderivate wie folgt:

a)

zur Erfassung von Catocen siehe Teil I A,

| b) | Ethylferrocen, |
| --- | --- |

b)

Ethylferrocen,

| c) | Propylferrocen, |
| --- | --- |

c)

Propylferrocen,

| d) | zur Erfassung von n-Butylferrocen siehe Teil I A, |
| --- | --- |

d)

zur Erfassung von n-Butylferrocen siehe Teil I A,

| e) | Pentylferrocen, |
| --- | --- |

e)

Pentylferrocen,

| f) | Dicyclopentylferrocen, |
| --- | --- |

f)

Dicyclopentylferrocen,

| g) | Dicyclohexylferrocen, |
| --- | --- |

g)

Dicyclohexylferrocen,

| h) | Diethylferrocen, |
| --- | --- |

h)

Diethylferrocen,

| i) | Dipropylferrocen, |
| --- | --- |

i)

Dipropylferrocen,

| j) | Dibutylferrocen, |
| --- | --- |

j)

Dibutylferrocen,

| k) | Dihexylferrocen, |
| --- | --- |

k)

Dihexylferrocen,

| l) | Acetylferrocen, |
| --- | --- |

l)

Acetylferrocen,

| m) | zur Erfassung von Ferrocencarbonsäuren siehe Teil I A, |
| --- | --- |

m)

zur Erfassung von Ferrocencarbonsäuren siehe Teil I A,

| n) | zur Erfassung von Butacen siehe Teil I A, |
| --- | --- |

n)

zur Erfassung von Butacen siehe Teil I A,

| o) | andere Ferrocenderivate, verwendbar als Abbrandmoderatoren in Raketentreibmitteln, die nicht von Teil I A erfasst werden. |
| --- | --- |

o)

andere Ferrocenderivate, verwendbar als Abbrandmoderatoren in Raketentreibmitteln, die nicht von Teil I A erfasst werden.

Anmerkung: Treibstoffe und chemische Treibstoffzusätze, die nicht von Nummer 1C111 erfasst werden: Siehe Teil I A.

1C116Martensitaushärtender Stahl (maraging steel) (im Allgemeinen mit hohem Nickel- und sehr geringem Kohlenstoffgehalt sowie gekennzeichnet durch die Verwendung von Substitutionselementen zur Ausscheidungshärtung) mit einer erreichbaren Zugfestigkeit größer/gleich 1 500 MPa, gemessen bei 293 K (20 °C), in Form von Blechen, Platten oder Rohren mit einer Wand-/Plattenstärke kleiner/gleich 5 mm.

ANMERKUNG SIEHE AUCH NUMMER 1C216.

1C117Wolfram, Molybdän und Legierungen dieser Metalle in Form einheitlich kugelförmiger oder staubförmiger Partikel mit einer Partikelgröße kleiner/gleich 500 μm und einer Reinheit von mindestens 97 %, für die Herstellung von "Flugkörper"-Motorteilen, d. h. Hitzeschilden, Düsensubstraten, Düsenhälsen und Steuerflächen zur Schubvektorsteuerung.

1C118Titanstabilisierter Duplexstahl (Ti-DSS) mit allen folgenden Eigenschaften:

| a) | mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | 17,0 — 23,0 Gew.-% Chrom-Gehalt und 4,5 — 7,0 Gew.-% Nickel-Gehalt, |
| --- | --- | --- |

a)

mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

17,0 — 23,0 Gew.-% Chrom-Gehalt und 4,5 — 7,0 Gew.-% Nickel-Gehalt,

| 2. | Titangehalt größer als 0,10 Gew.-% und |
| --- | --- |

2.

Titangehalt größer als 0,10 Gew.-% und

| 3. | Zwei-Phasen-Mikrostruktur (ferritic-austenitic microstructure), wovon mindestens 10 % (gemäß ASTM E-118-87 oder vergleichbare nationale Standards) volumenbezogen Austenit ist und |
| --- | --- |

3.

Zwei-Phasen-Mikrostruktur (ferritic-austenitic microstructure), wovon mindestens 10 % (gemäß ASTM E-118-87 oder vergleichbare nationale Standards) volumenbezogen Austenit ist und

| b) | mit einer der folgenden Formen:






  1. | Blöcke oder Stangen, größer/gleich 100 mm in jeder Dimension, |
| --- | --- | --- |

b)

mit einer der folgenden Formen:

1.

Blöcke oder Stangen, größer/gleich 100 mm in jeder Dimension,

| 2. | Bleche mit einer Breite von größer/gleich 600 mm und einer Dicke von kleiner/gleich 3 mm oder |
| --- | --- |

2.

Bleche mit einer Breite von größer/gleich 600 mm und einer Dicke von kleiner/gleich 3 mm oder

| 3. | Rohre mit einem Außendurchmesser von größer/gleich 600 mm und einer Wandstärke von kleiner/gleich 3 mm. |
| --- | --- |

3.

Rohre mit einem Außendurchmesser von größer/gleich 600 mm und einer Wandstärke von kleiner/gleich 3 mm.

1C202Legierungen, die nicht von Unternummer 1C002b3 oder 1C002b4 erfasst werden, wie folgt:

| a) | Aluminiumlegierungen mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | erreichbare Zugfestigkeit größer/gleich 460 MPa bei 293 K (20 °C) und |
| --- | --- | --- |

a)

Aluminiumlegierungen mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

erreichbare Zugfestigkeit größer/gleich 460 MPa bei 293 K (20 °C) und

| 2. | als Rohre oder massive zylindrische Formen (einschließlich Schmiedestücken) mit einem Außendurchmesser größer als 75 mm; |
| --- | --- |

2.

als Rohre oder massive zylindrische Formen (einschließlich Schmiedestücken) mit einem Außendurchmesser größer als 75 mm;

| b) | Titanlegierungen mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | erreichbare Zugfestigkeit größer/gleich 900 MPa bei 293 K (20 °C) und |
| --- | --- | --- |

b)

Titanlegierungen mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

erreichbare Zugfestigkeit größer/gleich 900 MPa bei 293 K (20 °C) und

| 2. | als Rohre oder massive zylindrische Formen (einschließlich Schmiedestücken) mit einem Außendurchmesser größer als 75 mm. |
| --- | --- |

2.

als Rohre oder massive zylindrische Formen (einschließlich Schmiedestücken) mit einem Außendurchmesser größer als 75 mm.

Technische Anmerkung:

Nummer 1C202 erfasst Legierungen vor und nach einer Wärmebehandlung.

1C210"Faser- oder fadenförmige Materialien" oder Prepregs, die nicht von Unternummer 1C010a, 1C010b oder 1C010e erfasst werden, wie folgt:

| a) | "Faser- oder fadenförmige Materialien" aus Kohlenstoff oder Aramid mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | "spezifischer Modul" größer/gleich 12,7 × 106 m oder |
| --- | --- | --- |

a)

"Faser- oder fadenförmige Materialien" aus Kohlenstoff oder Aramid mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

"spezifischer Modul" größer/gleich 12,7 × 106 m oder

| 2. | "spezifische Zugfestigkeit" größer/gleich 235 × 103 m; |
| --- | --- |

2.

"spezifische Zugfestigkeit" größer/gleich 235 × 103 m;

Anmerkung: Unternummer 1C210a erfasst nicht "faser- oder fadenförmige Materialien" aus Aramid mit einem Anteil eines Faseroberflächen-Modifiziermittels auf Ester-Basis größer/gleich 0,25 Gew.-%;

| b) | "Faser- oder fadenförmige Materialien" aus Glas mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | "spezifischer Modul" größer/gleich 3,18 × 106 m und |
| --- | --- | --- |

b)

"Faser- oder fadenförmige Materialien" aus Glas mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

"spezifischer Modul" größer/gleich 3,18 × 106 m und

| 2. | "spezifische Zugfestigkeit" größer/gleich 76,2 × 103 m; |
| --- | --- |

2.

"spezifische Zugfestigkeit" größer/gleich 76,2 × 103 m;

| c) | mit warmaushärtendem Harz imprägnierte endlose "Garne", "Faserbündel" (rovings), "Seile" oder "Bänder" mit einer Breite kleiner/gleich 15 mm (Prepregs) aus "faser- oder fadenförmigen Materialien" aus Kohlenstoff oder Glas gemäß Unternummer 1C210a oder 1C210b.
  Technische Anmerkung:

  Das Harz bildet die "Matrix" des "Verbundwerkstoffs". |
| --- | --- |

c)

mit warmaushärtendem Harz imprägnierte endlose "Garne", "Faserbündel" (rovings), "Seile" oder "Bänder" mit einer Breite kleiner/gleich 15 mm (Prepregs) aus "faser- oder fadenförmigen Materialien" aus Kohlenstoff oder Glas gemäß Unternummer 1C210a oder 1C210b.

Technische Anmerkung:

Das Harz bildet die "Matrix" des "Verbundwerkstoffs".

Anmerkung: In Nummer 1C210 sind die "faser- oder fadenförmigen Materialien" begrenzt auf endlose "Einzelfäden" (monofilaments), "Garne", "Faserbündel" (rovings), "Seile" oder "Bänder".

1C216Martensitaushärtender Stahl (maraging steel), der nicht von Nummer 1C116 erfasst wird, mit einer erreichbaren Zugfestigkeit größer/gleich 2 050 MPa bei 293 K (20 °C).

Anmerkung: Nummer 1C216 erfasst nicht Teile, bei denen keine lineare Dimension 75 mm überschreitet.

Technische Anmerkung:

Nummer 1C216 erfasst martensitaushärtenden Stahl vor und nach einer Wärmebehandlung.

1C225Bor, angereichert mit dem Bor-10 (10B)-Isotop über seine natürliche Isotopenhäufigkeit hinaus, wie folgt: elementares Bor, Verbindungen, borhaltige Mischungen, Erzeugnisse hieraus und Abfall und Schrott aus einem der vorgenannten.

Anmerkung: Borhaltige Mischungen im Sinne der Nummer 1C225 schließen mit Bor belastete Materialien ein.

Technische Anmerkung:

Die natürliche Isotopenhäufigkeit von Bor-10 beträgt etwa 18,5 Gew.-% (20 Atom-%).

1C226Wolfram, Wolframcarbid und Legierungen mit einem Wolframanteil von mehr als 90 Gew.-%, mit allen folgenden Eigenschaften:

| a) | in Formen mit hohlzylindrischer Symmetrie (einschließlich Zylindersegmente) mit einem Innendurchmesser zwischen 100 mm und 300 mm und |
| --- | --- |

a)

in Formen mit hohlzylindrischer Symmetrie (einschließlich Zylindersegmente) mit einem Innendurchmesser zwischen 100 mm und 300 mm und

| b) | einer Masse über 20 kg. |
| --- | --- |

b)

einer Masse über 20 kg.

Anmerkung: Nummer 1C226 erfasst nicht Erzeugnisse, besonders konstruiert für die Verwendung als Gewichte oder Kollimatoren für Gammastrahlen.

1C227Kalzium mit allen folgenden Eigenschaften:

| a) | weniger als 1 000 ppm an Gewicht an metallischen Verunreinigungen außer Magnesium und |
| --- | --- |

a)

weniger als 1 000 ppm an Gewicht an metallischen Verunreinigungen außer Magnesium und

| b) | weniger als 10 ppm an Gewicht Bor. |
| --- | --- |

b)

weniger als 10 ppm an Gewicht Bor.

1C228Magnesium mit allen folgenden Eigenschaften:

| a) | weniger als 200 ppm an Gewicht an metallischen Verunreinigungen außer Kalzium und |
| --- | --- |

a)

weniger als 200 ppm an Gewicht an metallischen Verunreinigungen außer Kalzium und

| b) | weniger als 10 ppm an Gewicht Bor. |
| --- | --- |

b)

weniger als 10 ppm an Gewicht Bor.

1C229Wismut mit allen folgenden Eigenschaften:

| a) | Reinheit größer (besser)/gleich 99,99 % an Gewicht und |
| --- | --- |

a)

Reinheit größer (besser)/gleich 99,99 % an Gewicht und

| b) | Silbergehalt kleiner als 10 ppm an Gewicht. |
| --- | --- |

b)

Silbergehalt kleiner als 10 ppm an Gewicht.

1C230Beryllium-Metall, Legierungen mit einem Berylliumanteil von mehr als 50 Gew.-%, Berylliumverbindungen, Erzeugnisse hieraus und Abfall und Schrott aus einem der vorgenannten.

Anmerkung: Nummer 1C230 erfasst nicht:

| a) | Metallfenster für Röntgengeräte oder für Bohrlochmessgeräte, |
| --- | --- |

a)

Metallfenster für Röntgengeräte oder für Bohrlochmessgeräte,

| b) | Oxidformteile in Fertig- oder Halbzeugformen, besonders konstruiert für Elektronikteile oder als Substrat für elektronische Schaltungen, |
| --- | --- |

b)

Oxidformteile in Fertig- oder Halbzeugformen, besonders konstruiert für Elektronikteile oder als Substrat für elektronische Schaltungen,

| c) | Beryll (Silikat aus Beryllium und Aluminium) in Form von Smaragden oder Aquamarinen. |
| --- | --- |

c)

Beryll (Silikat aus Beryllium und Aluminium) in Form von Smaragden oder Aquamarinen.

1C231Hafnium-Metall, Legierungen und Verbindungen mit einem Hafniumanteil von mehr als 60 Gew.-%, Erzeugnisse hieraus und Abfall und Schrott aus einem der vorgenannten.

1C232Helium-3 (3He), Mischungen, die Helium-3 enthalten, oder Erzeugnisse oder Geräte, die einen der vorstehenden Stoffe enthalten.

Anmerkung: Nummer 1C232 erfasst nicht Erzeugnisse oder Geräte, die weniger als 1 g Helium-3 enthalten.

1C233Lithium, angereichert mit dem Lithium-6 (6Li)-Isotop über seine natürliche Isotopenhäufigkeit hinaus, und Erzeugnisse oder Geräte, die angereichertes Lithium enthalten, wie folgt: elementares Lithium, Legierungen, Verbindungen, lithiumhaltige Mischungen, Erzeugnisse hieraus und Abfall und Schrott aus einem der vorgenannten.

Anmerkung: Nummer 1C233 erfasst nicht Thermolumineszenz-Dosimeter.

Technische Anmerkung:

Die natürliche Isotopenhäufigkeit von Lithium-6 beträgt etwa 6,5 Gew.-% (7,5 Atom-%).

1C234Zirkonium mit einem Gewichtsanteil Hafnium kleiner als 2 000 ppm bezogen auf den Zirkoniumanteil, wie folgt: Metall, Legierungen mit einem Zirkoniumanteil größer als 50 Gew -%, Verbindungen, Erzeugnisse hieraus und Abfall und Schrott aus einem der vorgenannten.

Anmerkung: Nummer 1C234 erfasst nicht Zirkonium in Form von Folien mit einer Dicke kleiner/gleich 0,10 mm.

1C235Tritium, Tritiumverbindungen, Mischungen mit einem Verhältnis der Anzahl der Tritiumatome zur Anzahl der Wasserstoffatome größer als 1:1 000 und Erzeugnisse oder Geräte, die eines der vorgenannten enthalten.

Anmerkung: Nummer 1C235 erfasst nicht Erzeugnisse oder Geräte mit weniger als 1,48 × 103 GBq (40 Ci) Tritium.

1C236Alphastrahlen emittierende Radionuklide mit einer Halbwertszeit größer/gleich 10 Tage, jedoch kleiner als 200 Jahre, in folgenden Formen:

| a) | als Element; |
| --- | --- |

a)

als Element;

| b) | Verbindungen mit einer Gesamt-Alphaaktivität größer/gleich 37 GBq/kg (1 Ci/kg); |
| --- | --- |

b)

Verbindungen mit einer Gesamt-Alphaaktivität größer/gleich 37 GBq/kg (1 Ci/kg);

| c) | Mischungen mit einer Gesamt-Alphaaktivität größer/gleich 37 GBq/kg (1 Ci/kg); |
| --- | --- |

c)

Mischungen mit einer Gesamt-Alphaaktivität größer/gleich 37 GBq/kg (1 Ci/kg);

| d) | Erzeugnisse oder Geräte, die einen der vorgenannten Stoffe enthalten. |
| --- | --- |

d)

Erzeugnisse oder Geräte, die einen der vorgenannten Stoffe enthalten.

Anmerkung: Nummer 1C236 erfasst nicht Erzeugnisse oder Geräte mit einer Alphaaktivität kleiner als 3,7 GBq (100 Millicurie).

1C237Radium-226 (226Ra), Radium-226-Legierungen, Radium-226-Verbindungen, Mischungen, die Radium-226 enthalten, Erzeugnisse hieraus und Erzeugnisse oder Geräte, die eines der vorgenannten enthalten.

Anmerkung: Nummer 1C237 erfasst nicht:

| a) | medizinische Geräte, |
| --- | --- |

a)

medizinische Geräte,

| b) | Erzeugnisse oder Geräte, die weniger als 0,37 Gbq (10 Millicurie) Radium-226 enthalten. |
| --- | --- |

b)

Erzeugnisse oder Geräte, die weniger als 0,37 Gbq (10 Millicurie) Radium-226 enthalten.

1C238Chlortrifluorid (Cl F3).

1C239Sprengstoffe, die nicht von Teil I A erfasst werden, mit einer Kristalldichte größer als 1,8 g/cm3 und einer Detonationsgeschwindigkeit größer als 8 000 m/s oder Stoffe oder Mischungen, die diese Sprengstoffe mit mehr als 2 Gew -% enthalten.

1C240Nickelpulver und poröses Nickelmetall, soweit nicht von Nummer 0C005 erfasst, wie folgt:

| a) | Nickelpulver mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | Reinheitsgrad größer/gleich 99,0 Gew -% und |
| --- | --- | --- |

a)

Nickelpulver mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

Reinheitsgrad größer/gleich 99,0 Gew -% und

| 2. | mittlere Partikelgröße kleiner als 10 μm gemäß ASTM-Standard B 330; |
| --- | --- |

2.

mittlere Partikelgröße kleiner als 10 μm gemäß ASTM-Standard B 330;

| b) | poröses Nickelmetall, hergestellt aus den von Unternummer 1C240a erfassten Materialien; |
| --- | --- |

b)

poröses Nickelmetall, hergestellt aus den von Unternummer 1C240a erfassten Materialien;

Anmerkung: Nummer 1C240 erfasst nicht:

| a) | fadenförmiges Nickelpulver; |
| --- | --- |

a)

fadenförmiges Nickelpulver;

| b) | einzelne Bleche aus porösem Nickel mit einer Fläche kleiner/gleich 1 000 cm2 je Blech. |
| --- | --- |

b)

einzelne Bleche aus porösem Nickel mit einer Fläche kleiner/gleich 1 000 cm2 je Blech.

Technische Anmerkung:

Unternummer 1C240b erstreckt sich auf das poröse Metall, das durch Verdichten und Sintern der von Unternummer 1C240a erfassten Materialien zu einem Metallmaterial mit feinen, über die ganze Struktur miteinander verbundenen Poren gewonnen wird.

1C350Chemikalien, die als Ausgangsstoffe für toxische Wirkstoffe verwendet werden können, wie folgt und "Mischungen von Chemikalien", die eine oder mehrere dieser Chemikalien enthalten:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH TEIL I A UND NUMMER 1C450.

| 1. | Thiodiglykol (CAS-Nr. 111-48-8); |
| --- | --- |

1.

Thiodiglykol (CAS-Nr. 111-48-8);

| 2. | Phosphoroxidchlorid (CAS-Nr. 10025-87-3); |
| --- | --- |

2.

Phosphoroxidchlorid (CAS-Nr. 10025-87-3);

| 3. | Methylphosphonsäuredimethylester (CAS-Nr. 756-79-6); |
| --- | --- |

3.

Methylphosphonsäuredimethylester (CAS-Nr. 756-79-6);

| 4. | ZUR ERFASSUNG VON Methylphosphonsäuredifluorid (CAS-Nr. 676-99-3): SIEHE TEIL I A; |
| --- | --- |

4.

ZUR ERFASSUNG VON Methylphosphonsäuredifluorid (CAS-Nr. 676-99-3): SIEHE TEIL I A;

| 5. | Methylphosphonsäuredichlorid (CAS-Nr. 676-97-1); |
| --- | --- |

5.

Methylphosphonsäuredichlorid (CAS-Nr. 676-97-1);

| 6. | Dimethylphosphit (CAS-Nr. 868-85-9); |
| --- | --- |

6.

Dimethylphosphit (CAS-Nr. 868-85-9);

| 7. | Phosphortrichlorid (CAS-Nr. 7719-12-2); |
| --- | --- |

7.

Phosphortrichlorid (CAS-Nr. 7719-12-2);

| 8. | Trimethylphosphit (CAS-Nr. 121-45-9); |
| --- | --- |

8.

Trimethylphosphit (CAS-Nr. 121-45-9);

| 9. | Thionylchlorid (CAS-Nr. 7719-09-7); |
| --- | --- |

9.

Thionylchlorid (CAS-Nr. 7719-09-7);

| 10. | 3-Hydroxy-1-methylpiperidin (CAS-Nr. 3554-74-3); |
| --- | --- |

10.

3-Hydroxy-1-methylpiperidin (CAS-Nr. 3554-74-3);

| 11. | N,N-Diisopropyl-2-aminochlorethan (CAS-Nr. 96-79-7); |
| --- | --- |

11.

N,N-Diisopropyl-2-aminochlorethan (CAS-Nr. 96-79-7);

| 12. | N,N-Diisopropyl-2-aminoethanthiol (CAS-Nr. 5842-07-9); |
| --- | --- |

12.

N,N-Diisopropyl-2-aminoethanthiol (CAS-Nr. 5842-07-9);

| 13. | 3-Chinuclidinol (CAS-Nr. 1619-34-7); |
| --- | --- |

13.

3-Chinuclidinol (CAS-Nr. 1619-34-7);

| 14. | Kaliumfluorid (CAS-Nr. 7789-23-3); |
| --- | --- |

14.

Kaliumfluorid (CAS-Nr. 7789-23-3);

| 15. | 2-Chlorethanol (CAS-Nr. 107-07-3); |
| --- | --- |

15.

2-Chlorethanol (CAS-Nr. 107-07-3);

| 16. | Dimethylamin (CAS-Nr. 124-40-3); |
| --- | --- |

16.

Dimethylamin (CAS-Nr. 124-40-3);

| 17. | Ethylphosphonsäurediethylester (CAS-Nr. 78-38-6); |
| --- | --- |

17.

Ethylphosphonsäurediethylester (CAS-Nr. 78-38-6);

| 18. | N,N-Dimethylaminodiethylphosphat (CAS-Nr. 2404-03-7); |
| --- | --- |

18.

N,N-Dimethylaminodiethylphosphat (CAS-Nr. 2404-03-7);

| 19. | Diethylphosphit (CAS-Nr. 762-04-9); |
| --- | --- |

19.

Diethylphosphit (CAS-Nr. 762-04-9);

| 20. | Dimethylaminhydrochlorid (CAS-Nr. 506-59-2); |
| --- | --- |

20.

Dimethylaminhydrochlorid (CAS-Nr. 506-59-2);

| 21. | Ethylphosphonigsäuredichlorid (CAS-Nr. 1498-40-4); |
| --- | --- |

21.

Ethylphosphonigsäuredichlorid (CAS-Nr. 1498-40-4);

| 22. | Ethylphosphonsäuredichlorid (CAS-Nr. 1066-50-8); |
| --- | --- |

22.

Ethylphosphonsäuredichlorid (CAS-Nr. 1066-50-8);

| 23. | ZUR ERFASSUNG VON Ethylphosphonsäuredifluorid (CAS-Nr. 753-98-0): SIEHE TEIL I A; |
| --- | --- |

23.

ZUR ERFASSUNG VON Ethylphosphonsäuredifluorid (CAS-Nr. 753-98-0): SIEHE TEIL I A;

| 24. | Fluorwasserstoff (CAS-Nr. 7664-39-3); |
| --- | --- |

24.

Fluorwasserstoff (CAS-Nr. 7664-39-3);

| 25. | Methylbenzilat (CAS-Nr. 76-89-1); |
| --- | --- |

25.

Methylbenzilat (CAS-Nr. 76-89-1);

| 26. | Methylphosphonigsäuredichlorid (CAS-Nr. 676-83-5); |
| --- | --- |

26.

Methylphosphonigsäuredichlorid (CAS-Nr. 676-83-5);

| 27. | N,N-Diisopropyl-2-aminoethanol (CAS-Nr. 96-80-0); |
| --- | --- |

27.

N,N-Diisopropyl-2-aminoethanol (CAS-Nr. 96-80-0);

| 28. | Pinakolylalkohol (CAS-Nr. 464-07-3); |
| --- | --- |

28.

Pinakolylalkohol (CAS-Nr. 464-07-3);

| 29. | ZUR ERFASSUNG VON O-Ethyl-2-diisopropylaminoethylmethylphosphonit (CAS-Nr. 57856-11-8): SIEHE TEIL I A; |
| --- | --- |

29.

ZUR ERFASSUNG VON O-Ethyl-2-diisopropylaminoethylmethylphosphonit (CAS-Nr. 57856-11-8): SIEHE TEIL I A;

| 30. | Triethylphosphit (CAS-Nr. 122-52-1); |
| --- | --- |

30.

Triethylphosphit (CAS-Nr. 122-52-1);

| 31. | Arsentrichlorid (CAS-Nr. 7784-34-1); |
| --- | --- |

31.

Arsentrichlorid (CAS-Nr. 7784-34-1);

| 32. | Benzilsäure (CAS-Nr. 76-93-7); |
| --- | --- |

32.

Benzilsäure (CAS-Nr. 76-93-7);

| 33. | Methylphosphonigsäurediethylester (CAS-Nr. 15715-41-0); |
| --- | --- |

33.

Methylphosphonigsäurediethylester (CAS-Nr. 15715-41-0);

| 34. | Ethylphosphonsäuredimethylester (CAS-Nr. 6163-75-3); |
| --- | --- |

34.

Ethylphosphonsäuredimethylester (CAS-Nr. 6163-75-3);

| 35. | Ethylphosphonigsäuredifluorid (CAS-Nr. 430-78-4); |
| --- | --- |

35.

Ethylphosphonigsäuredifluorid (CAS-Nr. 430-78-4);

| 36. | Methylphosphonigsäuredifluorid (CAS-Nr. 753-59-3); |
| --- | --- |

36.

Methylphosphonigsäuredifluorid (CAS-Nr. 753-59-3);

| 37. | 3-Chinuclidon (CAS-Nr. 3731-38-2); |
| --- | --- |

37.

3-Chinuclidon (CAS-Nr. 3731-38-2);

| 38. | Phosphorpentachlorid (CAS-Nr. 10026-13-8); |
| --- | --- |

38.

Phosphorpentachlorid (CAS-Nr. 10026-13-8);

| 39. | Pinakolon (CAS-Nr. 75-97-8); |
| --- | --- |

39.

Pinakolon (CAS-Nr. 75-97-8);

| 40. | Kaliumcyanid (CAS-Nr. 151-50-8); |
| --- | --- |

40.

Kaliumcyanid (CAS-Nr. 151-50-8);

| 41. | Kaliumhydrogendifluorid (CAS-Nr. 7789-29-9); |
| --- | --- |

41.

Kaliumhydrogendifluorid (CAS-Nr. 7789-29-9);

| 42. | Ammoniumhydrogendifluorid (CAS-Nr. 1341-49-7); |
| --- | --- |

42.

Ammoniumhydrogendifluorid (CAS-Nr. 1341-49-7);

| 43. | Natriumfluorid (CAS-Nr. 7681-49-4); |
| --- | --- |

43.

Natriumfluorid (CAS-Nr. 7681-49-4);

| 44. | Natriumhydrogendifluorid (CAS-Nr. 1333-83-1); |
| --- | --- |

44.

Natriumhydrogendifluorid (CAS-Nr. 1333-83-1);

| 45. | Natriumcyanid (CAS-Nr. 143-33-9); |
| --- | --- |

45.

Natriumcyanid (CAS-Nr. 143-33-9);

| 46. | Triethanolamin (CAS-Nr. 102-71-6); |
| --- | --- |

46.

Triethanolamin (CAS-Nr. 102-71-6);

| 47. | Phosphorpentasulfid (CAS-Nr. 1314-80-3); |
| --- | --- |

47.

Phosphorpentasulfid (CAS-Nr. 1314-80-3);

| 48. | Diisopropylamin (CAS-Nr. 108-18-9); |
| --- | --- |

48.

Diisopropylamin (CAS-Nr. 108-18-9);

| 49. | Diethylaminoethanol (CAS-Nr. 100-37-8); |
| --- | --- |

49.

Diethylaminoethanol (CAS-Nr. 100-37-8);

| 50. | Natriumsulfid (CAS-Nr. 1313-82-2); |
| --- | --- |

50.

Natriumsulfid (CAS-Nr. 1313-82-2);

| 51. | Schwefelmonochlorid (CAS-Nr. 10025-67-9); |
| --- | --- |

51.

Schwefelmonochlorid (CAS-Nr. 10025-67-9);

| 52. | Schwefeldichlorid (CAS-Nr. 10545-99-0); |
| --- | --- |

52.

Schwefeldichlorid (CAS-Nr. 10545-99-0);

| 53. | Triethanolamin-Hydrochlorid (CAS-Nr. 637-39-8); |
| --- | --- |

53.

Triethanolamin-Hydrochlorid (CAS-Nr. 637-39-8);

| 54. | N,N-Diisopropyl-2-aminochlorethan-Hydrochlorid (CAS-Nr. 4261-68-1). |
| --- | --- |

54.

N,N-Diisopropyl-2-aminochlorethan-Hydrochlorid (CAS-Nr. 4261-68-1).

Anmerkung 1: Für Ausfuhren in "Nichtvertragsstaaten des Chemiewaffenübereinkommens" erfasst Nummer 1C350 nicht "Mischungen von Chemikalien", die eine oder mehrere der von den Unternummern 1C350 1, 3, 5, 11, 12, 13, 17, 18, 21, 22, 26, 27, 28, 31, 32, 33, 34, 35, 36 und 54 erfassten Chemikalien enthalten, in denen keine der einzeln erfassten Chemikalien zu mehr als 10 Gew.-% in der Mischung enthalten sind.

Anmerkung 2: Für Ausfuhren in "Vertragsstaaten des Chemiewaffenübereinkommens" erfasst Nummer 1C350 nicht "Mischungen von Chemikalien", die eine oder mehrere der von den Unternummern 1C350 1, 3, 5, 11, 12, 13, 17, 18, 21, 22, 26, 27, 28, 31, 32, 33, 34, 35, 36 und 54 erfassten Chemikalien enthalten, in denen keine der einzeln erfassten Chemikalien zu mehr als 30 Gew.-% in der Mischung enthalten sind.

Anmerkung 3: Nummer 1C350 erfasst nicht "Mischungen von Chemikalien", die eine oder mehrere der von den Unternummern 1C350 2, 6, 7, 8, 9, 10, 14, 15, 16, 19, 20, 24, 25, 30, 37, 38, 39, 40, 41, 42, 43, 44, 45, 46, 47, 48, 49, 50, 51, 52 und 53 erfassten Chemikalien enthalten, in denen keine der einzeln erfassten Chemikalien zu mehr als 30 Gew.-% in der Mischung enthalten sind.

Anmerkung 4: Nummer 1C350 erfasst nicht als Verbrauchsgüter bestimmte Waren, die zum Verkauf im Einzelhandel verpackt und für den persönlichen Gebrauch bestimmt sind oder zum einzelnen Gebrauch verpackt sind.

1C351Human- und tierpathogene Erreger sowie "Toxine":

| a) | Viren (natürlich, adaptiert oder modifiziert, entweder in Form "isolierter lebender Kulturen" oder als Material mit lebendem Material, das gezielt mit solchen Kulturen geimpft oder kontaminiert ist) wie folgt:






  1. | Chikungunya-Virus, |
| --- | --- | --- |

a)

Viren (natürlich, adaptiert oder modifiziert, entweder in Form "isolierter lebender Kulturen" oder als Material mit lebendem Material, das gezielt mit solchen Kulturen geimpft oder kontaminiert ist) wie folgt:

1.

Chikungunya-Virus,

| 2. | Haemorrhagisches Kongo-Krim-Fieber-Virus, |
| --- | --- |

2.

Haemorrhagisches Kongo-Krim-Fieber-Virus,

| 3. | Dengue-Fiebervirus, |
| --- | --- |

3.

Dengue-Fiebervirus,

| 4. | Eastern Equine Enzephalitis-Virus, |
| --- | --- |

4.

Eastern Equine Enzephalitis-Virus,

| 5. | Ebola-Virus, |
| --- | --- |

5.

Ebola-Virus,

| 6. | Hantaan-Virus, |
| --- | --- |

6.

Hantaan-Virus,

| 7. | Junin-Virus, |
| --- | --- |

7.

Junin-Virus,

| 8. | Lassa-Virus, |
| --- | --- |

8.

Lassa-Virus,

| 9. | Lymphozytäre-Choriomeningitis-Virus, |
| --- | --- |

9.

Lymphozytäre-Choriomeningitis-Virus,

| 10. | Machupo-Virus, |
| --- | --- |

10.

Machupo-Virus,

| 11. | Marburg-Virus, |
| --- | --- |

11.

Marburg-Virus,

| 12. | Affenpockenvirus, |
| --- | --- |

12.

Affenpockenvirus,

| 13. | Rift-Valley-Fieber-Virus, |
| --- | --- |

13.

Rift-Valley-Fieber-Virus,

| 14. | Zeckenenzephalitis-Virus (Virus der russischen Frühjahr/Sommerenzephalitis), |
| --- | --- |

14.

Zeckenenzephalitis-Virus (Virus der russischen Frühjahr/Sommerenzephalitis),

| 15. | Variola-Virus, |
| --- | --- |

15.

Variola-Virus,

| 16. | Venezuelan Equine Enzephalitis-Virus, |
| --- | --- |

16.

Venezuelan Equine Enzephalitis-Virus,

| 17. | Western Equine Enzephalitis-Virus, |
| --- | --- |

17.

Western Equine Enzephalitis-Virus,

| 18. | Whitepox-Virus, |
| --- | --- |

18.

Whitepox-Virus,

| 19. | Gelbfieber-Virus, |
| --- | --- |

19.

Gelbfieber-Virus,

| 20. | Japan-B-Enzephalitis-Virus, |
| --- | --- |

20.

Japan-B-Enzephalitis-Virus,

| 21. | Kyasanur-Forest-Virus, |
| --- | --- |

21.

Kyasanur-Forest-Virus,

| 22. | Louping-Ill-Virus, |
| --- | --- |

22.

Louping-Ill-Virus,

| 23. | Murray-Valley-Encephalitis-Virus, |
| --- | --- |

23.

Murray-Valley-Encephalitis-Virus,

| 24. | Omsk-Hämorrhagisches Fieber-Virus, |
| --- | --- |

24.

Omsk-Hämorrhagisches Fieber-Virus,

| 25. | Oropouche-Virus, |
| --- | --- |

25.

Oropouche-Virus,

| 26. | Powassan-Virus, |
| --- | --- |

26.

Powassan-Virus,

| 27. | Rocio-Virus, |
| --- | --- |

27.

Rocio-Virus,

| 28. | St-Louis-Eencephalitis-Virus, |
| --- | --- |

28.

St-Louis-Eencephalitis-Virus,

| 29. | Hendra-Virus (Equine-Morbillivirus), |
| --- | --- |

29.

Hendra-Virus (Equine-Morbillivirus),

| 30. | Südamerikanisches hämorrhagisches Fieber-Virus (Sabia, Flexal, Guanarito), |
| --- | --- |

30.

Südamerikanisches hämorrhagisches Fieber-Virus (Sabia, Flexal, Guanarito),

| 31. | Pulmonary & renal-Syndrome-Hämorrhagisches Fieber-Virus (Seoul, Dobrava, Puumala, Sin Nombre), |
| --- | --- |

31.

Pulmonary & renal-Syndrome-Hämorrhagisches Fieber-Virus (Seoul, Dobrava, Puumala, Sin Nombre),

| 32. | Nipah-Virus; |
| --- | --- |

32.

Nipah-Virus;

| b) | Rickettsiae (natürlich, adaptiert oder modifiziert, entweder in Form "isolierter lebender Kulturen" oder als Material mit lebendem Material, das gezielt mit solchen Kulturen geimpft oder kontaminiert ist) wie folgt:






  1. | Coxiella burnetii, |
| --- | --- | --- |

b)

Rickettsiae (natürlich, adaptiert oder modifiziert, entweder in Form "isolierter lebender Kulturen" oder als Material mit lebendem Material, das gezielt mit solchen Kulturen geimpft oder kontaminiert ist) wie folgt:

1.

Coxiella burnetii,

| 2. | Bartonella quintana (Rochalimaea quintana, Rickettsia quintana), |
| --- | --- |

2.

Bartonella quintana (Rochalimaea quintana, Rickettsia quintana),

| 3. | Rickettsia prowasecki, |
| --- | --- |

3.

Rickettsia prowasecki,

| 4. | Rickettsia rickettsii; |
| --- | --- |

4.

Rickettsia rickettsii;

| c) | Bakterien (natürlich, adaptiert oder modifiziert, entweder in Form "isolierter lebender Kulturen" oder als Material mit lebendem Material, das gezielt mit solchen Kulturen geimpft oder kontaminiert ist) wie folgt:






  1. | Bacillus anthracis, |
| --- | --- | --- |

c)

Bakterien (natürlich, adaptiert oder modifiziert, entweder in Form "isolierter lebender Kulturen" oder als Material mit lebendem Material, das gezielt mit solchen Kulturen geimpft oder kontaminiert ist) wie folgt:

1.

Bacillus anthracis,

| 2. | Brucella abortus, |
| --- | --- |

2.

Brucella abortus,

| 3. | Brucella melitensis, |
| --- | --- |

3.

Brucella melitensis,

| 4. | Brucella suis, |
| --- | --- |

4.

Brucella suis,

| 5. | Chlamydia psittaci, |
| --- | --- |

5.

Chlamydia psittaci,

| 6. | Clostridium botulinum, |
| --- | --- |

6.

Clostridium botulinum,

| 7. | Francisella tularensis, |
| --- | --- |

7.

Francisella tularensis,

| 8. | Burkholderia mallei (Pseudomonas mallei), |
| --- | --- |

8.

Burkholderia mallei (Pseudomonas mallei),

| 9. | Burkholderia pseudomallei (Pseudomonas pseudomallei), |
| --- | --- |

9.

Burkholderia pseudomallei (Pseudomonas pseudomallei),

| 10. | Salmonella typhi, |
| --- | --- |

10.

Salmonella typhi,

| 11. | Shigella dysenteriae, |
| --- | --- |

11.

Shigella dysenteriae,

| 12. | Vibrio cholerae, |
| --- | --- |

12.

Vibrio cholerae,

| 13. | Yersinia pestis |
| --- | --- |

13.

Yersinia pestis

| 14. | Clostridium perfringens Epsilon-Toxin bildende Type, |
| --- | --- |

14.

Clostridium perfringens Epsilon-Toxin bildende Type,

| 15. | Enterohämorrhagische Escherichia coli, Serotyp O157 und andere Verotoxin-bildende Type. |
| --- | --- |

15.

Enterohämorrhagische Escherichia coli, Serotyp O157 und andere Verotoxin-bildende Type.

| d) | "Toxine" wie folgt und deren "Toxinuntereinheiten":






  1. | Clostridium-botulinum-Toxine, |
| --- | --- | --- |

d)

"Toxine" wie folgt und deren "Toxinuntereinheiten":

1.

Clostridium-botulinum-Toxine,

| 2. | Clostridium-perfringens-Toxine, |
| --- | --- |

2.

Clostridium-perfringens-Toxine,

| 3. | Conotoxin, |
| --- | --- |

3.

Conotoxin,

| 4. | Ricin, |
| --- | --- |

4.

Ricin,

| 5. | Saxitoxin, |
| --- | --- |

5.

Saxitoxin,

| 6. | Shiga-Toxin, |
| --- | --- |

6.

Shiga-Toxin,

| 7. | Staphylococcus-aureus-Toxine, |
| --- | --- |

7.

Staphylococcus-aureus-Toxine,

| 8. | Tetrodotoxin, |
| --- | --- |

8.

Tetrodotoxin,

| 9. | Verotoxin, |
| --- | --- |

9.

Verotoxin,

| 10. | Microcystin (Cyanoginosin), |
| --- | --- |

10.

Microcystin (Cyanoginosin),

| 11. | Aflatoxine, |
| --- | --- |

11.

Aflatoxine,

| 12. | Abrin, |
| --- | --- |

12.

Abrin,

| 13. | Cholera toxin, |
| --- | --- |

13.

Cholera toxin,

| 14. | Diacetoxyscirpenol, |
| --- | --- |

14.

Diacetoxyscirpenol,

| 15. | T-2-Toxin, |
| --- | --- |

15.

T-2-Toxin,

| 16. | HT-2-Toxin, |
| --- | --- |

16.

HT-2-Toxin,

| 17. | Modeccin, |
| --- | --- |

17.

Modeccin,

| 18. | Volkensin, |
| --- | --- |

18.

Volkensin,

| 19. | Viscum album Lectin 1 (Viscumin). |
| --- | --- |

19.

Viscum album Lectin 1 (Viscumin).

Anmerkung: Unternummer 1C351d erfasst nicht Botulinumtoxine oder Conotoxine in Fertigprodukten mit allen folgenden Eigenschaften:

| 1. | pharmazeutische Zubereitungen, entwickelt für die Behandlung von Menschen mit entsprechender Indikation, |
| --- | --- |

1.

pharmazeutische Zubereitungen, entwickelt für die Behandlung von Menschen mit entsprechender Indikation,

| 2. | abgepackt in einer für medizinische Produkte handelsüblichen Form (Fertigarzneimittel) und |
| --- | --- |

2.

abgepackt in einer für medizinische Produkte handelsüblichen Form (Fertigarzneimittel) und

| 3. | mit staatlicher Zulassung als medizinisches Produkt. |
| --- | --- |

3.

mit staatlicher Zulassung als medizinisches Produkt.

Anmerkung: Nummer 1C351 erfasst keine "Impfstoffe" oder "Immunotoxine".

1C352Tierpathogene Erreger wie folgt:

| a) | Viren (natürlich, adaptiert oder modifiziert, entweder in Form "isolierter lebender Kulturen" oder als Material mit lebendem Material, das gezielt mit solchen Kulturen geimpft oder kontaminiert ist) wie folgt:






  1. | Afrikanisches Schweinepest-Virus, |
| --- | --- | --- |

a)

Viren (natürlich, adaptiert oder modifiziert, entweder in Form "isolierter lebender Kulturen" oder als Material mit lebendem Material, das gezielt mit solchen Kulturen geimpft oder kontaminiert ist) wie folgt:

1.

Afrikanisches Schweinepest-Virus,

| 2. | Aviäre Influenza-Viren wie folgt:






  a) | uncharakterisiert oder |
| --- | --- | --- |

2.

Aviäre Influenza-Viren wie folgt:

a)

uncharakterisiert oder

| b) | Viren mit hoher Pathogenität gemäß EU-Richtlinie 92/40/EWG (ABl. Nr. L 167 vom 22.06.1992, S. 1) wie folgt:






  1. | Typ-A-Viren mit einem IVPI (intravenöser Pathogenitätsindex) in 6 Wochen alten Hühnern größer als 1,2 oder |
| --- | --- | --- |

b)

Viren mit hoher Pathogenität gemäß EU-Richtlinie 92/40/EWG (ABl. Nr. L 167 vom 22.06.1992, S. 1) wie folgt:

1.

Typ-A-Viren mit einem IVPI (intravenöser Pathogenitätsindex) in 6 Wochen alten Hühnern größer als 1,2 oder

| 2. | Typ-A-Viren vom Subtyp H5 oder H7, für welche die Nukleotid-Sequenzierung an der Spaltstelle für Hämagglutinin multiple basische Aminosäuren aufweist, |
| --- | --- |

2.

Typ-A-Viren vom Subtyp H5 oder H7, für welche die Nukleotid-Sequenzierung an der Spaltstelle für Hämagglutinin multiple basische Aminosäuren aufweist,

| 3. | Bluetongue-Virus, |
| --- | --- |

3.

Bluetongue-Virus,

| 4. | Maul- und Klauenseuche-Virus, |
| --- | --- |

4.

Maul- und Klauenseuche-Virus,

| 5. | Ziegenpockenvirus, |
| --- | --- |

5.

Ziegenpockenvirus,

| 6. | Aujeszky-Virus, |
| --- | --- |

6.

Aujeszky-Virus,

| 7. | Schweinepest-Virus (Hog cholera-Virus), |
| --- | --- |

7.

Schweinepest-Virus (Hog cholera-Virus),

| 8. | Lyssa-Virus, |
| --- | --- |

8.

Lyssa-Virus,

| 9. | Newcastle-Virus, |
| --- | --- |

9.

Newcastle-Virus,

| 10. | Virus der Pest der kleinen Wiederkäuer, |
| --- | --- |

10.

Virus der Pest der kleinen Wiederkäuer,

| 11. | Schweine-Entero-Virus vom Typ 9 (Virus der vesikulären Schweinekrankheit), |
| --- | --- |

11.

Schweine-Entero-Virus vom Typ 9 (Virus der vesikulären Schweinekrankheit),

| 12. | Rinderpest-Virus, |
| --- | --- |

12.

Rinderpest-Virus,

| 13. | Schafpocken-Virus, |
| --- | --- |

13.

Schafpocken-Virus,

| 14. | Teschen-Virus, |
| --- | --- |

14.

Teschen-Virus,

| 15. | Vesikuläre Stomatitis-Virus, |
| --- | --- |

15.

Vesikuläre Stomatitis-Virus,

| 16. | Lumpy Skin Disease-Virus, |
| --- | --- |

16.

Lumpy Skin Disease-Virus,

| 17. | African Horse Sickness-Virus; |
| --- | --- |

17.

African Horse Sickness-Virus;

| b) | Mycoplasma mycoides (natürlich, adaptiert oder modifiziert, entweder in Form "isolierter lebender Kulturen" oder als Material mit lebendem Material, das gezielt mit solchen Mycoplasma mycoides geimpft oder kontaminiert ist). |
| --- | --- |

b)

Mycoplasma mycoides (natürlich, adaptiert oder modifiziert, entweder in Form "isolierter lebender Kulturen" oder als Material mit lebendem Material, das gezielt mit solchen Mycoplasma mycoides geimpft oder kontaminiert ist).

Anmerkung: Nummer 1C352 erfasst keine "Impfstoffe".

1C353Genetische Elemente und genetisch modifizierte Organismen wie folgt:

| a) | genetisch modifizierte Organismen oder genetische Elemente, die Nukleinsäuresequenzen enthalten, welche mit der Pathogenität der von Unternummer 1C351a bis 1C351c, Nummer 1C352 oder 1C354 erfassten Organismen assoziiert sind; |
| --- | --- |

a)

genetisch modifizierte Organismen oder genetische Elemente, die Nukleinsäuresequenzen enthalten, welche mit der Pathogenität der von Unternummer 1C351a bis 1C351c, Nummer 1C352 oder 1C354 erfassten Organismen assoziiert sind;

| b) | genetisch modifizierte Organismen oder genetische Elemente, die eine Nukleinsäuresequenz-Codierung für eines der von Unternummer 1C351d erfassten "Toxine" oder deren "Toxinuntereinheiten" enthalten. |
| --- | --- |

b)

genetisch modifizierte Organismen oder genetische Elemente, die eine Nukleinsäuresequenz-Codierung für eines der von Unternummer 1C351d erfassten "Toxine" oder deren "Toxinuntereinheiten" enthalten.

Technische Anmerkung:

Genetische Elemente schließen unter anderem genetisch modifizierte oder unmodifizierte Chromosomen, Genome, Plasmide, Transposons und Vektoren ein.

Anmerkung: Nummer 1C353 erfasst keine Nukleinsäuresequenzen die im Zusammenhang mit der Pathogenität von enterohämorrhagischen Escherichia coli, Serotyp O157 und anderen Verotoxin-bildenden Stämmen stehen, ausgenommen jene, die Verotoxin selbst oder Untereinheiten davon kodieren.

1C354Pflanzenpathogene Erreger wie folgt:

| a) | Viren (natürlich, adapiert oder modifiziert, entweder in Form "isolierter lebender Kulturen" oder als Material mit lebendem Material, das gezielt mit solchen Kulturen geimpft oder kontaminiert ist) wie folgt:






  1. | Potato Andean latent tymovirus |
| --- | --- | --- |

a)

Viren (natürlich, adapiert oder modifiziert, entweder in Form "isolierter lebender Kulturen" oder als Material mit lebendem Material, das gezielt mit solchen Kulturen geimpft oder kontaminiert ist) wie folgt:

1.

Potato Andean latent tymovirus

| 2. | Potato spindle tuber viroid |
| --- | --- |

2.

Potato spindle tuber viroid

| b) | Bakterien (natürlich, adaptiert oder modifiziert, entweder in Form "isolierter lebender Kulturen" oder als Material, das gezielt mit solchen Kulturen geimpft oder kontaminiert ist) wie folgt:






  1. | Xanthomonas albilineans, |
| --- | --- | --- |

b)

Bakterien (natürlich, adaptiert oder modifiziert, entweder in Form "isolierter lebender Kulturen" oder als Material, das gezielt mit solchen Kulturen geimpft oder kontaminiert ist) wie folgt:

1.

Xanthomonas albilineans,

| 2. | Xanthomonas campestries pv. citri, einschließlich darauf zurückzuführender Stämme, wie Xanthomonas campestris pv. citri Typen A, B, C, D, E oder anders klassifizierte wie Xanthomonas citri, Xanthomonas campestris pv. aurantifolia oder Xanthomonas pv. campestris pv. citromelo; |
| --- | --- |

2.

Xanthomonas campestries pv. citri, einschließlich darauf zurückzuführender Stämme, wie Xanthomonas campestris pv. citri Typen A, B, C, D, E oder anders klassifizierte wie Xanthomonas citri, Xanthomonas campestris pv. aurantifolia oder Xanthomonas pv. campestris pv. citromelo;

| 3. | Xanthomonas oryzae pv. Oryzae (Pseudomonas campestris pv. Oryzae); |
| --- | --- |

3.

Xanthomonas oryzae pv. Oryzae (Pseudomonas campestris pv. Oryzae);

| 4. | Clavibacter michiganensis subsp. Sepedonicus (Corynebacterium michiganensis subsp. Sepedonicum oder Corynebacterium Sepedonicum); |
| --- | --- |

4.

Clavibacter michiganensis subsp. Sepedonicus (Corynebacterium michiganensis subsp. Sepedonicum oder Corynebacterium Sepedonicum);

| 5. | Ralstonia solanacearum Rasse 2 und 3 (Pseudomonas solanacearum Rasse 2 und 3 oder Burkholderia solanacearum Rasse 2 und 3); |
| --- | --- |

5.

Ralstonia solanacearum Rasse 2 und 3 (Pseudomonas solanacearum Rasse 2 und 3 oder Burkholderia solanacearum Rasse 2 und 3);

| c) | Pilze (natürlich, adaptiert oder modifiziert, entweder in Form "isolierter lebender Kulturen" oder als Material, das gezielt mit solchen Kulturen geimpft oder kontaminiert ist) wie folgt:






  1. | Colletotrichum coffeanum var. virulans (Colletotrichum kahawae), |
| --- | --- | --- |

c)

Pilze (natürlich, adaptiert oder modifiziert, entweder in Form "isolierter lebender Kulturen" oder als Material, das gezielt mit solchen Kulturen geimpft oder kontaminiert ist) wie folgt:

1.

Colletotrichum coffeanum var. virulans (Colletotrichum kahawae),

| 2. | Cochliobolus miyabeanus (Helminthosporium oryzae), |
| --- | --- |

2.

Cochliobolus miyabeanus (Helminthosporium oryzae),

| 3. | Micricyclus ulei (syn. Dothidella ulei), |
| --- | --- |

3.

Micricyclus ulei (syn. Dothidella ulei),

| 4. | Puccinia graminis (syn. Puccinia graminis f. sp. tritici), |
| --- | --- |

4.

Puccinia graminis (syn. Puccinia graminis f. sp. tritici),

| 5. | Puccinia striiformis (syn. Puccinia glumarum), |
| --- | --- |

5.

Puccinia striiformis (syn. Puccinia glumarum),

| 6. | Magnaporthe grisea (Pyricularia grisea/Pyricularia oryzae). |
| --- | --- |

6.

Magnaporthe grisea (Pyricularia grisea/Pyricularia oryzae).

1C450Toxische Chemikalien und Ausgangsstoffe für toxische Chemikalien wie folgt und "Mischungen von Chemikalien", die eine oder mehrere dieser Chemikalien enthalten:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH TEIL I A, NUMMER 1C350 UND UNTERNUMMER 1C351D.

| a) | toxische Chemikalien wie folgt:






  1. | Amiton: 0,0-Diethyl-S-[-2-(diethylamino) ethyl]phosphorthiolat (CAS-Nr. 78-53-5) sowie die entsprechenden alkylierten oder protonierten Salze, |
| --- | --- | --- |

a)

toxische Chemikalien wie folgt:

1.

Amiton: 0,0-Diethyl-S-[-2-(diethylamino) ethyl]phosphorthiolat (CAS-Nr. 78-53-5) sowie die entsprechenden alkylierten oder protonierten Salze,

| 2. | PFIB: 1,1,3,3,3-Pentafluor-2-(trifluormethyl)-1-propen (CAS-Nr. 382-21-8), |
| --- | --- |

2.

PFIB: 1,1,3,3,3-Pentafluor-2-(trifluormethyl)-1-propen (CAS-Nr. 382-21-8),

| 3. | ZUR ERFASSUNG VON BZ: 3-Chinuklidinylbenzylat (CAS-Nr. 6581-06-2): SIEHE TEIL I A, |
| --- | --- |

3.

ZUR ERFASSUNG VON BZ: 3-Chinuklidinylbenzylat (CAS-Nr. 6581-06-2): SIEHE TEIL I A,

| 4. | Phosgen: Carbonyldichlorid (CAS-Nr. 75-44-5), |
| --- | --- |

4.

Phosgen: Carbonyldichlorid (CAS-Nr. 75-44-5),

| 5. | Cyanogenchlorid: Chlorcyan (CAS-Nr. 506-77-4), |
| --- | --- |

5.

Cyanogenchlorid: Chlorcyan (CAS-Nr. 506-77-4),

| 6. | Hydrogencyanid: Cyanwasserstoffsäure (CAS-Nr. 74-90-8), |
| --- | --- |

6.

Hydrogencyanid: Cyanwasserstoffsäure (CAS-Nr. 74-90-8),

| 7. | Chlorpikrin: Trichlornitromethan (CAS-Nr. 76-06-2); |
| --- | --- |

7.

Chlorpikrin: Trichlornitromethan (CAS-Nr. 76-06-2);

Anmerkung 1: Für Ausfuhren in "Nichtvertragsstaaten des Chemiewaffenübereinkommens" erfasst Nummer 1C450 nicht "Mischungen von Chemikalien", die eine oder mehrere der von Unternummern 1C450a1 und 1C450a2 erfassten Chemikalien enthalten, in denen keine der einzeln erfassten Chemikalien zu mehr als 1 Gew.-% in der Mischung enthalten sind.

Anmerkung 2: Für Ausfuhren in "Vertragsstaaten des Chemiewaffenübereinkommens" erfasst Nummer 1C450 nicht "Mischungen von Chemikalien", die eine oder mehrere der von Unternummern 1C450a1 und 1C450a2 erfassten Chemikalien enthalten, in denen keine der einzeln erfassten Chemikalien zu mehr als 30 Gew.-% in der Mischung enthalten sind.

Anmerkung 3: Nummer 1C450 erfasst nicht "Mischungen von Chemikalien", die eine oder mehrere der von Unternummern 1C450a4, 1C450a5, 1C450a6 und 1C450a7 erfassten Chemikalien enthalten, in denen keine der einzeln erfassten Chemikalien zu mehr als 30 Gew.-% in der Mischung enthalten sind.

| b) | Ausgangsstoffe für toxische Chemikalien wie folgt:






  1. | andere als die von Teil I A oder Nummer 1C350 erfassten Chemikalien mit einem Phosphoratom, das mit einer (Normal- oder Iso-) methyl-, ethyl- oder propyl-Gruppe, nicht jedoch mit weiteren Kohlenstoffatomen gebunden ist,


  Anmerkung: Unternummer 1C450b1 erfasst nicht Fonofos: O-Ethyl-S-phenylethyldithiophosphonat (CAS-Nr. 944-22-9). |
| --- | --- | --- |

b)

Ausgangsstoffe für toxische Chemikalien wie folgt:

1.

andere als die von Teil I A oder Nummer 1C350 erfassten Chemikalien mit einem Phosphoratom, das mit einer (Normal- oder Iso-) methyl-, ethyl- oder propyl-Gruppe, nicht jedoch mit weiteren Kohlenstoffatomen gebunden ist,

Anmerkung: Unternummer 1C450b1 erfasst nicht Fonofos: O-Ethyl-S-phenylethyldithiophosphonat (CAS-Nr. 944-22-9).

| 2. | N,N-Dialkyl-(Methyl-, Ethyl-, n-Propyl- oder Isopropyl) phosphoramino-dihalogenide, |
| --- | --- |

2.

N,N-Dialkyl-(Methyl-, Ethyl-, n-Propyl- oder Isopropyl) phosphoramino-dihalogenide,

| 3. | andere Dialkyl-(Methyl-, Ethyl-, n-Propyl- oder Isopropyl) phosphoramidate als das von Nummer 1C350 erfasste N,N-Dimethylaminodiethylphosphat, |
| --- | --- |

3.

andere Dialkyl-(Methyl-, Ethyl-, n-Propyl- oder Isopropyl) phosphoramidate als das von Nummer 1C350 erfasste N,N-Dimethylaminodiethylphosphat,

| 4. | N,N-Dialkyl-(Methyl-, Ethyl-, n-Propyl- oder Isopropyl) aminoethyl-2-chloride sowie die entsprechenden protonierten Salze, ausgenommen die von Nummer 1C350 erfassten Stoffe N,N-Diisopropyl-2-aminochlorethan und N,N-Diisopropyl-2-amino-chlorethan-Hydrochlorid, |
| --- | --- |

4.

N,N-Dialkyl-(Methyl-, Ethyl-, n-Propyl- oder Isopropyl) aminoethyl-2-chloride sowie die entsprechenden protonierten Salze, ausgenommen die von Nummer 1C350 erfassten Stoffe N,N-Diisopropyl-2-aminochlorethan und N,N-Diisopropyl-2-amino-chlorethan-Hydrochlorid,

| 5. | N,N-Dialkyl-(Methyl-, Ethyl-, n-Propyl- oder Isopropyl) aminoethan-2-ole sowie die entsprechenden protonierten Salze, ausgenommen die von Nummer 1C350 erfassten Stoffe N,N-Diisopropyl-2-aminoethanol (CAS-Nr. 96-80-0) und N,N-Diethyl-aminoethanol (CAS-Nr. 100-37-8),


  Anmerkung: Unternummer 1C450b5 erfasst nicht:








  a) | N,N-Dimethylaminoethanol (CAS-Nr. 108-01-0) und die entsprechenden protonierten Salze, |
| --- | --- | --- |

5.

N,N-Dialkyl-(Methyl-, Ethyl-, n-Propyl- oder Isopropyl) aminoethan-2-ole sowie die entsprechenden protonierten Salze, ausgenommen die von Nummer 1C350 erfassten Stoffe N,N-Diisopropyl-2-aminoethanol (CAS-Nr. 96-80-0) und N,N-Diethyl-aminoethanol (CAS-Nr. 100-37-8),

Anmerkung: Unternummer 1C450b5 erfasst nicht:

a)

N,N-Dimethylaminoethanol (CAS-Nr. 108-01-0) und die entsprechenden protonierten Salze,

| b) | protonierte Salze von N,N-Diethylaminoethanol (CAS-Nr. 100-37-8), |
| --- | --- |

b)

protonierte Salze von N,N-Diethylaminoethanol (CAS-Nr. 100-37-8),

| 6. | N,N-Dialkyl-(Methyl-, Ethyl-, n-Propyl- oder Isopropyl) aminoethan-2-thiole sowie die entsprechenden protonierten Salze, ausgenommen das von Nummer 1C350 erfasste N,N-Diisopropyl-2-amino-ethanthiol, |
| --- | --- |

6.

N,N-Dialkyl-(Methyl-, Ethyl-, n-Propyl- oder Isopropyl) aminoethan-2-thiole sowie die entsprechenden protonierten Salze, ausgenommen das von Nummer 1C350 erfasste N,N-Diisopropyl-2-amino-ethanthiol,

| 7. | Ethyldiethanolamin (CAS-Nr. 139-87-7), |
| --- | --- |

7.

Ethyldiethanolamin (CAS-Nr. 139-87-7),

| 8. | Methyldiethanolamin (CAS-Nr. 105-59-9). |
| --- | --- |

8.

Methyldiethanolamin (CAS-Nr. 105-59-9).

Anmerkung 1: Für Ausfuhren in "Nichtvertragsstaaten des Chemiewaffenübereinkommens" erfasst Nummer 1C450 nicht "Mischungen von Chemikalien", die eine oder mehrere der von Unternummern 1C450b1, 1C450b2, 1C450b3, 1C450b4, 1C450b5 und 1C450b6 erfassten Chemikalien enthalten, in denen keine der einzeln erfassten Chemikalien zu mehr als 10 Gew.-% in der Mischung enthalten sind.

Anmerkung 2: Für Ausfuhren in "Vertragsstaaten des Chemiewaffenübereinkommens" erfasst Nummer 1C450 nicht "Mischungen von Chemikalien", die eine oder mehrere der von Unternummern 1C450b1, 1C450b2, 1C450b3, 1C450b4, 1C450b5 und 1C450b6 erfassten Chemikalien enthalten, in denen keine der einzeln erfassten Chemikalien zu mehr als 30 Gew.-% in der Mischung enthalten sind.

Anmerkung 3: Nummer 1C450 erfasst nicht "Mischungen von Chemikalien", die eine oder mehrere der von Unternummern 1C450b7 und 1C450b8 erfassten Chemikalien enthalten, in denen keine der einzeln erfassten Chemikalien zu mehr als 30 Gew.-% in der Mischung enthalten sind.

Anmerkung 4: Nummer 1C450 erfasst nicht als Verbrauchsgüter bestimmte Waren, die zum Verkauf im Einzelhandel verpackt sind für den persönlichen Gebrauch oder zum einzelnen Gebrauch verpackt sind.

1DDatenverarbeitungsprogramme (Software)

1D001"Software", besonders entwickelt oder geändert für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" der von Nummer 1B001, 1B002 oder 1B003 erfassten Ausrüstung.

1D002"Software" für die "Entwicklung" von Laminaten oder "Verbundwerkstoffen" mit einer "Matrix" aus organischen Stoffen, Metallen oder Kohlenstoff.

1D101"Software", besonders entwickelt oder geändert für die "Verwendung" der von Nummer 1B101, 1B102, 1B115, 1B117, 1B118 oder 1B119 erfassten Ausrüstung.

1D103"Software", besonders entwickelt für die Analyse zur Reduktion von Messgrößen, wie z. B. Radarreflexion, Ultraviolett-/Infrarot-Rückstrahlung oder Schallsignatur.

1D201"Software", besonders entwickelt für die "Verwendung" der von Nummer 1B201 erfassten Ausrüstung.

1ETechnologie

1E001"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von Ausrüstung oder Werkstoffen, die von Unternummer 1A001b, 1A001c, Nummer 1A002 bis 1A005, 1B oder 1C erfasst werden.

1E002"Technologie" wie folgt:

| a) | "Technologie" für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von Polybenzothiazolen oder Polybenzoxazolen; |
| --- | --- |

a)

"Technologie" für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von Polybenzothiazolen oder Polybenzoxazolen;

| b) | "Technologie" für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von (Per) fluorelastomer-Verbindungen, die mindestens einen Vinylethermonomer enthalten; |
| --- | --- |

b)

"Technologie" für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von (Per) fluorelastomer-Verbindungen, die mindestens einen Vinylethermonomer enthalten;

| c) | "Technologie" für die "Entwicklung" oder "Herstellung" folgender Ausgangsmaterialien oder keramischer Materialien, die keine "Verbundwerkstoffe" sind:






  1. | Ausgangsmaterialien mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | eine der folgenden Zusammensetzungen:






  1. | einfache oder komplexe Oxide des Elements Zirkonium und komplexe Oxide der Elemente Silizium oder Aluminium, |
| --- | --- | --- | --- | --- |

c)

"Technologie" für die "Entwicklung" oder "Herstellung" folgender Ausgangsmaterialien oder keramischer Materialien, die keine "Verbundwerkstoffe" sind:

1.

Ausgangsmaterialien mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

eine der folgenden Zusammensetzungen:

1.

einfache oder komplexe Oxide des Elements Zirkonium und komplexe Oxide der Elemente Silizium oder Aluminium,

| 2. | einfache Nitride des Elements Bor (kubisch kristalline Formen), |
| --- | --- |

2.

einfache Nitride des Elements Bor (kubisch kristalline Formen),

| 3. | einfache oder komplexe Carbide der Elemente Silizium oder Bor oder |
| --- | --- |

3.

einfache oder komplexe Carbide der Elemente Silizium oder Bor oder

| 4. | einfache oder komplexe Nitride des Elements Silizium, |
| --- | --- |

4.

einfache oder komplexe Nitride des Elements Silizium,

| b) | Summe der metallischen Verunreinigungen, ohne beigemischte Zusätze, kleiner als:






  1. | 1 000 ppm für einfache Oxide oder Carbide oder |
| --- | --- | --- |

b)

Summe der metallischen Verunreinigungen, ohne beigemischte Zusätze, kleiner als:

1.

1 000 ppm für einfache Oxide oder Carbide oder

| 2. | 5 000 ppm für komplexe Verbindungen oder einfache Nitride und |
| --- | --- |

2.

5 000 ppm für komplexe Verbindungen oder einfache Nitride und

| c) | mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | Zirkonia mit einer durchschnittlichen Partikelgröße kleiner/gleich 1 μm und nicht mehr als 10 % aller Partikel größer als 10 μm; |
| --- | --- | --- |

c)

mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

Zirkonia mit einer durchschnittlichen Partikelgröße kleiner/gleich 1 μm und nicht mehr als 10 % aller Partikel größer als 10 μm;

| 2. | die anderen Ausgangsmaterialien mit einer durchschnittlichen Partikelgröße kleiner/gleich 5 μm und nicht mehr als 10 % aller Partikel größer als 10 μm oder |
| --- | --- |

2.

die anderen Ausgangsmaterialien mit einer durchschnittlichen Partikelgröße kleiner/gleich 5 μm und nicht mehr als 10 % aller Partikel größer als 10 μm oder

| 3. | mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | Plättchen mit einem Verhältnis Länge zu Dicke größer als 5, |
| --- | --- | --- |

3.

mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

Plättchen mit einem Verhältnis Länge zu Dicke größer als 5,

| b) | Whiskers mit einem Verhältnis Länge zu Durchmesser größer als 10 bei Durchmessern kleiner als 2 μm und |
| --- | --- |

b)

Whiskers mit einem Verhältnis Länge zu Durchmesser größer als 10 bei Durchmessern kleiner als 2 μm und

| c) | kontinuierliche oder geschnittene Fasern mit einem Durchmesser kleiner als 10 μm, |
| --- | --- |

c)

kontinuierliche oder geschnittene Fasern mit einem Durchmesser kleiner als 10 μm,

| 2. | Keramikmaterialien, die keine "Verbundwerkstoffe" sind und die aus von Unternummer 1E002c1 erfassten Materialien bestehen;


  Anmerkung: Unternummer 1E002c2 erfasst nicht "Technologie" für die Entwicklung oder Herstellung von Schleifmitteln. |
| --- | --- |

2.

Keramikmaterialien, die keine "Verbundwerkstoffe" sind und die aus von Unternummer 1E002c1 erfassten Materialien bestehen;

Anmerkung: Unternummer 1E002c2 erfasst nicht "Technologie" für die Entwicklung oder Herstellung von Schleifmitteln.

| d) | "Technologie" für die "Herstellung" aromatischer Polyamidfasern; |
| --- | --- |

d)

"Technologie" für die "Herstellung" aromatischer Polyamidfasern;

| e) | "Technologie" für die Installation, Wartung oder Reparatur der von Nummer 1C001 erfassten Werkstoffe; |
| --- | --- |

e)

"Technologie" für die Installation, Wartung oder Reparatur der von Nummer 1C001 erfassten Werkstoffe;

| f) | "Technologie" für die Reparatur der von Nummer 1A002, Unternummer 1C007c oder 1C007d erfassten "Verbundwerkstoff"-Strukturen, Laminate oder Werkstoffe.


  Anmerkung: Unternummer 1E002f erfasst nicht "Technologie" für die Reparatur von Strukturen "ziviler Luftfahrzeuge", die "faser- oder fadenförmige Materialien" aus Kohlenstoff und Epoxyharzen verwenden entsprechend den Handbüchern des Luftfahrzeugherstellers. |
| --- | --- |

f)

"Technologie" für die Reparatur der von Nummer 1A002, Unternummer 1C007c oder 1C007d erfassten "Verbundwerkstoff"-Strukturen, Laminate oder Werkstoffe.

Anmerkung: Unternummer 1E002f erfasst nicht "Technologie" für die Reparatur von Strukturen "ziviler Luftfahrzeuge", die "faser- oder fadenförmige Materialien" aus Kohlenstoff und Epoxyharzen verwenden entsprechend den Handbüchern des Luftfahrzeugherstellers.

1E101"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Verwendung" von Waren oder "Software", erfasst von Nummer 1A102, 1B001, 1B101, 1B102, 1B115 bis 1B119, 1C001, 1C101, 1C107, 1C111 bis 1C117, 1D101 oder 1D103.

1E102"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Entwicklung" von "Software", erfasst von Nummer 1D001, 1D101 oder 1D103.

1E103"Technologie" zur Temperatur-, Druck- und Atmosphärenregelung in Autoklaven oder Hydroklaven für die "Herstellung" von "Verbundwerkstoffen" oder von teilweise verarbeiteten "Verbundwerkstoffen".

1E104"Technologie" zur "Herstellung" pyrolytisch erzeugter Materialien, die in einer Form, auf einem Dorn oder einem anderen Substrat aus Vorstufengasen abgeschieden werden, die in einem Temperaturbereich von 1 573 K (1 300 °C) bis 3 173 K (2 900 °C) bei einem Druck von 130 Pa bis 20 kPa zerfallen.

Anmerkung: Nummer 1E104 gilt auch für "Technologie" für die Bildung von Vorstufengasen, Durchflussraten sowie Prozesssteuerungsplänen und -parametern.

1E201"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Verwendung" von Waren oder "Software", erfasst von Nummer 1A002, 1A202 bis 1A227, 1B201 bis 1B233, Unternummer 1C002a2c, 1C002a2d, 1C010b, Nummer 1C202 bis 1C240 oder 1D201.

1E202"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von Waren, erfasst von Nummer 1A202 bis 1A227.

1E203"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Entwicklung" von "Software", erfasst von Nummer 1D201.

KATEGORIE 2

WERKSTOFFBEARBEITUNG

2ASysteme, Ausrüstung und Bestandteile

Anmerkung: Geräuscharme Lager: Siehe Teil IA.

2A001Wälzlager und Lagersysteme wie folgt und Bestandteile hierfür:

Anmerkung: Nummer 2A001 erfasst nicht Kugeln mit einer vom Hersteller spezifizierten Toleranz gemäß ISO 3290 Grad 5 oder schlechter.

| a) | Kugel- und Rollenlager mit allen vom Hersteller spezifizierten Toleranzen gemäß ISO 492 Klasse 4 (oder ANSI/ABMA Std 20 Toleranz Klasse ABEC-7 oder RBEC-7 oder vergleichbaren nationalen Normen) oder besser und bei denen sowohl Ringe als auch Wälzkörper (ISO 5593) aus Monel-Metall oder Beryllium sind;


  Anmerkung: Unternummer 2A001a erfasst nicht Kegelrollenlager. |
| --- | --- |

a)

Kugel- und Rollenlager mit allen vom Hersteller spezifizierten Toleranzen gemäß ISO 492 Klasse 4 (oder ANSI/ABMA Std 20 Toleranz Klasse ABEC-7 oder RBEC-7 oder vergleichbaren nationalen Normen) oder besser und bei denen sowohl Ringe als auch Wälzkörper (ISO 5593) aus Monel-Metall oder Beryllium sind;

Anmerkung: Unternummer 2A001a erfasst nicht Kegelrollenlager.

| b) | Andere Kugel- und Rollenlager mit allen vom Hersteller spezifizierten Toleranzen gemäß ISO 492 Klasse 2 (oder ANSI/ABMA Std 20 Toleranz Klasse ABEC-9 oder RBEC-9 oder vergleichbaren nationalen Normen) oder besser;


  Anmerkung: Unternummer 2A001b erfasst nicht Kegelrollenlager |
| --- | --- |

b)

Andere Kugel- und Rollenlager mit allen vom Hersteller spezifizierten Toleranzen gemäß ISO 492 Klasse 2 (oder ANSI/ABMA Std 20 Toleranz Klasse ABEC-9 oder RBEC-9 oder vergleichbaren nationalen Normen) oder besser;

Anmerkung: Unternummer 2A001b erfasst nicht Kegelrollenlager

| c) | Aktive Magnetlagersysteme mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | Einsatz von Materialien mit einer magnetischen Flussdichte größer/gleich 2,0 T und einer Streckgrenze größer als 414 MPa, |
| --- | --- | --- |

c)

Aktive Magnetlagersysteme mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

Einsatz von Materialien mit einer magnetischen Flussdichte größer/gleich 2,0 T und einer Streckgrenze größer als 414 MPa,

| 2. | Verwendung von vollelektromagnetischen 3D homopolar vormagnetisierten Konstruktionen für Aktuatoren oder |
| --- | --- |

2.

Verwendung von vollelektromagnetischen 3D homopolar vormagnetisierten Konstruktionen für Aktuatoren oder

| 3. | Verwendung von Hochtemperatur (450 K (177 °C) und höher)-Positionssensoren. |
| --- | --- |

3.

Verwendung von Hochtemperatur (450 K (177 °C) und höher)-Positionssensoren.

2A225Tiegel aus Materialien, die gegen flüssige, geschmolzene Aktiniden-Metalle resistent sind, wie folgt:

| a) | Tiegel mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | Fassungsvermögen von 150 cm3 bis 8 000 cm3
  und |
| --- | --- | --- |

a)

Tiegel mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

Fassungsvermögen von 150 cm3 bis 8 000 cm3
  und

| 2. | hergestellt aus oder ausgekleidet mit einem der folgenden Materialien der Reinheit größer/gleich 98 Gew.-%:






  a) | Kalziumfluorid (Ca F2), |
| --- | --- | --- |

2.

hergestellt aus oder ausgekleidet mit einem der folgenden Materialien der Reinheit größer/gleich 98 Gew.-%:

a)

Kalziumfluorid (Ca F2),

| b) | Kalziummetazirkonat (Ca Zr O3), |
| --- | --- |

b)

Kalziummetazirkonat (Ca Zr O3),

| c) | Cersulfid (Ce2 S3), |
| --- | --- |

c)

Cersulfid (Ce2 S3),

| d) | Erbiumoxid (Er2 O3), |
| --- | --- |

d)

Erbiumoxid (Er2 O3),

| e) | Hafniumoxid (Hf O2), |
| --- | --- |

e)

Hafniumoxid (Hf O2),

| f) | Magnesiumoxid (Mg O), |
| --- | --- |

f)

Magnesiumoxid (Mg O),

| g) | nitridhaltige Niob-Titan-Wolfram-Legierungen (etwa 50 % Nb, 30 % Ti, 20 % W), |
| --- | --- |

g)

nitridhaltige Niob-Titan-Wolfram-Legierungen (etwa 50 % Nb, 30 % Ti, 20 % W),

| h) | Yttriumoxid (Y2 O3) oder |
| --- | --- |

h)

Yttriumoxid (Y2 O3) oder

| i) | Zirkondioxid (Zr O2); |
| --- | --- |

i)

Zirkondioxid (Zr O2);

| b) | Tiegel mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | Fassungsvermögen von 50 cm3 bis 2 000 cm3
  und |
| --- | --- | --- |

b)

Tiegel mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

Fassungsvermögen von 50 cm3 bis 2 000 cm3
  und

| 2. | hergestellt aus oder ausgekleidet mit Tantal der Reinheit größer/gleich 99,9 Gew.-%; |
| --- | --- |

2.

hergestellt aus oder ausgekleidet mit Tantal der Reinheit größer/gleich 99,9 Gew.-%;

| c) | Tiegel mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | Fassungsvermögen von 50 cm3 bis 2 000 cm3, |
| --- | --- | --- |

c)

Tiegel mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

Fassungsvermögen von 50 cm3 bis 2 000 cm3,

| 2. | hergestellt aus oder ausgekleidet mit Tantal der Reinheit größer/gleich 98 Gew.-% und |
| --- | --- |

2.

hergestellt aus oder ausgekleidet mit Tantal der Reinheit größer/gleich 98 Gew.-% und

| 3. | beschichtet mit Tantalkarbid, Tantalnitrid oder Tantalborid oder jeder Kombination hieraus. |
| --- | --- |

3.

beschichtet mit Tantalkarbid, Tantalnitrid oder Tantalborid oder jeder Kombination hieraus.

2A226Ventile mit allen folgenden Eigenschaften:

| a) | einer ‧Nennweite‧ größer/gleich 5 mm |
| --- | --- |

a)

einer ‧Nennweite‧ größer/gleich 5 mm

| b) | mit Federbalgabdichtung, und |
| --- | --- |

b)

mit Federbalgabdichtung, und

| c) | ganz aus Aluminium, Aluminiumlegierungen, Nickel oder Nickellegierungen mit mehr als 60 Gew.-% Nickel hergestellt oder damit ausgekleidet. |
| --- | --- |

c)

ganz aus Aluminium, Aluminiumlegierungen, Nickel oder Nickellegierungen mit mehr als 60 Gew.-% Nickel hergestellt oder damit ausgekleidet.

Technische Anmerkung:

Bei Ventilen mit unterschiedlichem Einlass- und Auslassdurchmesser bezieht sich die in Nummer 2A226 genannte ‧Nennweite‧ auf den kleineren der beiden Durchmesser.

2BPrüf-, Test- und Herstellungseinrichtungen

Technische Anmerkungen:

| 1. | In der Summe der bahnsteuerungsfähigen Achsen werden zweite parallele, bahnsteuerungsfähige Achsen nicht gezählt, z. B. die W-Achse in Horizontal-Bohrwerken oder ein zweiter Rundtisch, dessen Mittelpunktslinie parallel zu der des ersten Rundtisches verläuft. Als Rundachsen werden auch solche Achsen bezeichnet, die nicht 360° drehen können. Eine Rundachse kann von Linearsystemen angetrieben werden, z. B. einer Schraube oder einem Zahnrad und einer Zahnstange. |
| --- | --- |

1.

In der Summe der bahnsteuerungsfähigen Achsen werden zweite parallele, bahnsteuerungsfähige Achsen nicht gezählt, z. B. die W-Achse in Horizontal-Bohrwerken oder ein zweiter Rundtisch, dessen Mittelpunktslinie parallel zu der des ersten Rundtisches verläuft. Als Rundachsen werden auch solche Achsen bezeichnet, die nicht 360° drehen können. Eine Rundachse kann von Linearsystemen angetrieben werden, z. B. einer Schraube oder einem Zahnrad und einer Zahnstange.

| 2. | Im Sinne der Nummer 2B sind in der Summe der Achsen zur simultanen "Bahnsteuerung" nur die Achsen mitzuzählen, die zur eigentlichen Bewegung zwischen Werkstück und Werkzeug erforderlich sind, wie Schneidwerkzeuge oder Schleifscheiben, die das Material vom Werkstück abtragen. Nicht mitzuzählen sind alle zusätzlichen Achsen, die andere Bewegungen an der Maschine bewirken. Dazu zählen:








  a) | Abrichteinrichtungen bei Schleifscheiben, |
| --- | --- | --- |

2.

Im Sinne der Nummer 2B sind in der Summe der Achsen zur simultanen "Bahnsteuerung" nur die Achsen mitzuzählen, die zur eigentlichen Bewegung zwischen Werkstück und Werkzeug erforderlich sind, wie Schneidwerkzeuge oder Schleifscheiben, die das Material vom Werkstück abtragen. Nicht mitzuzählen sind alle zusätzlichen Achsen, die andere Bewegungen an der Maschine bewirken. Dazu zählen:

a)

Abrichteinrichtungen bei Schleifscheiben,

| b) | Parallele Rundachsen zur separaten Aufspannung von Werkstücken, |
| --- | --- |

b)

Parallele Rundachsen zur separaten Aufspannung von Werkstücken,

| c) | Hilfsachsen zur Handhabung eines Werkstückes beim Einspannen in ein Futter an verschiedenen Enden. |
| --- | --- |

c)

Hilfsachsen zur Handhabung eines Werkstückes beim Einspannen in ein Futter an verschiedenen Enden.

| 3. | Die Achsenbezeichnungen entsprechen der Internationalen Norm ISO 841, "Numerisch gesteuerte Maschinen- Achsen- und Bewegungsbezeichnungen". |
| --- | --- |

3.

Die Achsenbezeichnungen entsprechen der Internationalen Norm ISO 841, "Numerisch gesteuerte Maschinen- Achsen- und Bewegungsbezeichnungen".

| 4. | Im Sinne der Nummern 2B001 bis 2B009 zählt eine "Schwenkspindel" als Rundachse. |
| --- | --- |

4.

Im Sinne der Nummern 2B001 bis 2B009 zählt eine "Schwenkspindel" als Rundachse.

| 5. | Anstelle von individuellen Testprotokollen können für jedes Werkzeugmaschinenmodell amtliche Werte für die Positioniergenauigkeit herangezogen werden, die aus Messungen nach ISO 230/2 (1988) (1) oder entsprechenden nationalen Normen hergeleitet werden. Der amtliche Wert für die Positioniergenauigkeit bezeichnet den Genauigkeitswert, der mit den zuständigen Behörden des Mitgliedstaates, in dem der Ausführer niedergelassen ist, als repräsentativ für die Genauigkeit eines Maschinenmodells festgestellt wird.


  Bestimmung der amtlichen Werte:







  a) | Auswahl von fünf Maschinen eines zu bewertenden Modells. |
| --- | --- | --- |

5.

Anstelle von individuellen Testprotokollen können für jedes Werkzeugmaschinenmodell amtliche Werte für die Positioniergenauigkeit herangezogen werden, die aus Messungen nach ISO 230/2 (1988) (1) oder entsprechenden nationalen Normen hergeleitet werden. Der amtliche Wert für die Positioniergenauigkeit bezeichnet den Genauigkeitswert, der mit den zuständigen Behörden des Mitgliedstaates, in dem der Ausführer niedergelassen ist, als repräsentativ für die Genauigkeit eines Maschinenmodells festgestellt wird.

Bestimmung der amtlichen Werte:

a)

Auswahl von fünf Maschinen eines zu bewertenden Modells.

| b) | Messung der Genauigkeiten entlang der Linearachse nach ISO 230/2(1988). |
| --- | --- |

b)

Messung der Genauigkeiten entlang der Linearachse nach ISO 230/2(1988).

| c) | Bestimmung der A-Werte für jede Achse jeder Maschine. Das Verfahren für die Berechnung des A-Wertes ist in der ISO-Norm beschrieben. |
| --- | --- |

c)

Bestimmung der A-Werte für jede Achse jeder Maschine. Das Verfahren für die Berechnung des A-Wertes ist in der ISO-Norm beschrieben.

| d) | Bestimmung des Mittelwertes des A-Wertes für jede Achse. Dieser Mittelwert Â-Wert wird der amtliche Wert für jede Achse des Modells (Âx, Ây, ...). |
| --- | --- |

d)

Bestimmung des Mittelwertes des A-Wertes für jede Achse. Dieser Mittelwert Â-Wert wird der amtliche Wert für jede Achse des Modells (Âx, Ây, ...).

| e) | Da sich die Liste der Kategorie 2 auf jede Linearachse bezieht, gibt es für jede Linearachse einen entsprechenden amtlichen Wert. |
| --- | --- |

e)

Da sich die Liste der Kategorie 2 auf jede Linearachse bezieht, gibt es für jede Linearachse einen entsprechenden amtlichen Wert.

| f) | Hat eine Achse eines Maschinenmodells, das nicht von den Unternummern 2B001a bis 2B001c oder von Nummer 2B201 erfasst wird, einen amtlichen Wert für die Genauigkeit Â von 0,0060 mm bei Schleifmaschinen und 0,0080 mm bei Fräs- und Drehmaschinen oder bessere Werte, ist der Hersteller aufgefordert, den Genauigkeitswert alle 18 Monate zu bestätigen. |
| --- | --- |

f)

Hat eine Achse eines Maschinenmodells, das nicht von den Unternummern 2B001a bis 2B001c oder von Nummer 2B201 erfasst wird, einen amtlichen Wert für die Genauigkeit Â von 0,0060 mm bei Schleifmaschinen und 0,0080 mm bei Fräs- und Drehmaschinen oder bessere Werte, ist der Hersteller aufgefordert, den Genauigkeitswert alle 18 Monate zu bestätigen.

2B001Werkzeugmaschinen und eine beliebige Kombination von diesen, für das Abtragen (oder Schneiden) von Metallen, Keramiken oder "Verbundwerkstoffen", die gemäß den technischen Spezifikationen des Herstellers mit elektronischen Geräten zur "numerischen Steuerung" ausgerüstet werden können, und besonders konstruierte Bestandteile wie folgt:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 2B201.

Anmerkung 1: Nummer 2B001 erfasst keine speziellen Werkzeugmaschinen zur Bearbeitung von Zahnrädern. Für diese Maschinen siehe Nummer 2B003.

Anmerkung 2: Nummer 2B001 erfasst keine speziellen Werkzeugmaschinen zur Bearbeitung eines der folgenden Teile:

| a) | Kurbelwellen oder Nockenwellen; |
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a)

Kurbelwellen oder Nockenwellen;

| b) | Schneidwerkzeuge; |
| --- | --- |

b)

Schneidwerkzeuge;

| c) | Extruderschnecken; |
| --- | --- |

c)

Extruderschnecken;

| d) | Gravierteile oder Juwelierwaren. |
| --- | --- |

d)

Gravierteile oder Juwelierwaren.

Anmerkung 3: Eine Werkzeugmaschine, die mindestens zwei der drei Bearbeitungsverfahren Drehen, Fräsen oder Schleifen kombiniert (z. B. eine Drehmaschine mit Fräsfunktion), muss nach jeder der zutreffenden Unternummern 2B001a, b oder c geprüft werden.

| a) | Werkzeugmaschinen für Drehbearbeitung mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | Positioniergenauigkeit mit "allen verfügbaren Kompensationen" von kleiner (besser)/gleich 0,006 mm nach ISO 230/2 (1988) (1) oder entsprechenden nationalen Normen entlang einer Linearachse und |
| --- | --- | --- |

a)

Werkzeugmaschinen für Drehbearbeitung mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

Positioniergenauigkeit mit "allen verfügbaren Kompensationen" von kleiner (besser)/gleich 0,006 mm nach ISO 230/2 (1988) (1) oder entsprechenden nationalen Normen entlang einer Linearachse und

| 2. | zwei oder mehr Achsen zur simultanen "Bahnsteuerung"; |
| --- | --- |

2.

zwei oder mehr Achsen zur simultanen "Bahnsteuerung";

Anmerkung: Unternummer 2B001a erfasst keine Drehmaschinen, besonders konstruiert für die Bearbeitung von Kontaktlinsen.

| b) | Werkzeugmaschinen für Fräsbearbeitung mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | Positioniergenauigkeit mit "allen verfügbaren Kompensationen" von kleiner (besser)/gleich 0,006 mm nach ISO 230/2 (1988) (1) oder entsprechenden nationalen Normen entlang einer Linearachse und |
| --- | --- | --- | --- |

b)

Werkzeugmaschinen für Fräsbearbeitung mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

Positioniergenauigkeit mit "allen verfügbaren Kompensationen" von kleiner (besser)/gleich 0,006 mm nach ISO 230/2 (1988) (1) oder entsprechenden nationalen Normen entlang einer Linearachse und

| b) | drei Linearachsen plus einer Rundachse zur simultanen "Bahnsteuerung", |
| --- | --- |

b)

drei Linearachsen plus einer Rundachse zur simultanen "Bahnsteuerung",

| 2. | fünf oder mehr Achsen zur simultanen "Bahnsteuerung"oder |
| --- | --- |

2.

fünf oder mehr Achsen zur simultanen "Bahnsteuerung"oder

| 3. | Positioniergenauigkeit für Lehrenbohrmaschinen, mit "allen verfügbaren Kompensationen", von kleiner (besser)/gleich 0,004 mm nach ISO 230/2 (1988) (1) oder entsprechenden nationalen Normen entlang einer Linearachse, |
| --- | --- |

3.

Positioniergenauigkeit für Lehrenbohrmaschinen, mit "allen verfügbaren Kompensationen", von kleiner (besser)/gleich 0,004 mm nach ISO 230/2 (1988) (1) oder entsprechenden nationalen Normen entlang einer Linearachse,

| 4. | Schlagfräsmaschinen (fly cutting machines) mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | Spindel-"Rundlaufabweichung" und Spindel-"Planlaufabweichung" kleiner (besser) 0,0004 mm Gesamtmessuhrausschlag (TIR) und |
| --- | --- | --- |

4.

Schlagfräsmaschinen (fly cutting machines) mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

Spindel-"Rundlaufabweichung" und Spindel-"Planlaufabweichung" kleiner (besser) 0,0004 mm Gesamtmessuhrausschlag (TIR) und

| b) | Winkelabweichung der Schlittenbewegung (Gieren, Stampfen und Rollen) kleiner (besser) 2 Bogensekunden Gesamtmessuhrausschlag (TIR) über einen Verfahrweg von 300 mm. |
| --- | --- |

b)

Winkelabweichung der Schlittenbewegung (Gieren, Stampfen und Rollen) kleiner (besser) 2 Bogensekunden Gesamtmessuhrausschlag (TIR) über einen Verfahrweg von 300 mm.

| c) | Werkzeugmaschinen für Schleifbearbeitung mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | Positioniergenauigkeit mit "allen verfügbaren Kompensationen" von kleiner (besser)/gleich 0,004 mm nach ISO 230/2 (1988) (1) oder entsprechenden nationalen Normen entlang einer Linearachse und |
| --- | --- | --- | --- |

c)

Werkzeugmaschinen für Schleifbearbeitung mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

Positioniergenauigkeit mit "allen verfügbaren Kompensationen" von kleiner (besser)/gleich 0,004 mm nach ISO 230/2 (1988) (1) oder entsprechenden nationalen Normen entlang einer Linearachse und

| b) | drei oder mehr Achsen zur simultanen "Bahnsteuerung"oder |
| --- | --- |

b)

drei oder mehr Achsen zur simultanen "Bahnsteuerung"oder

| 2. | fünf oder mehr Achsen zur simultanen "Bahnsteuerung"; |
| --- | --- |

2.

fünf oder mehr Achsen zur simultanen "Bahnsteuerung";

Anmerkung: Unternummer 2B001c erfasst nicht folgende Schleifmaschinen:

| 1. | Außen-, Innen-, Außen-/Innen-Rundschleifmaschinen mit allen folgenden Merkmalen:








  a) | Begrenzung auf Rundschleifen und |
| --- | --- | --- |

1.

Außen-, Innen-, Außen-/Innen-Rundschleifmaschinen mit allen folgenden Merkmalen:

a)

Begrenzung auf Rundschleifen und

| b) | maximaler Arbeitsbereich von 150 mm Außendurchmesser oder Länge, |
| --- | --- |

b)

maximaler Arbeitsbereich von 150 mm Außendurchmesser oder Länge,

| 2. | Maschinen, besonders konstruiert als Koordinatenschleifmaschinen, mit einer der folgenden Eigenschaften:








  a) | die C-Achse wird verwendet, um die Schleifscheibe senkrecht zur Arbeitsoberfläche zu halten, oder |
| --- | --- | --- |

2.

Maschinen, besonders konstruiert als Koordinatenschleifmaschinen, mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

die C-Achse wird verwendet, um die Schleifscheibe senkrecht zur Arbeitsoberfläche zu halten, oder

| b) | die A-Achse ist zum Schleifen von Trommelkurven bestimmt, |
| --- | --- |

b)

die A-Achse ist zum Schleifen von Trommelkurven bestimmt,

| 3. | Flachschleifmaschinen. |
| --- | --- |

3.

Flachschleifmaschinen.

| d) | Funkenerosionsmaschinen (EDM) — Senkerodiermaschinen — mit zwei oder mehr Drehachsen, die für eine "Bahnsteuerung" simultan koordiniert werden können; |
| --- | --- |

d)

Funkenerosionsmaschinen (EDM) — Senkerodiermaschinen — mit zwei oder mehr Drehachsen, die für eine "Bahnsteuerung" simultan koordiniert werden können;

| e) | Werkzeugmaschinen zum Abtragen von Metallen, Keramiken oder "Verbundwerkstoffen" mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | zum Abtragen von Material mittels






  a) | Wasser oder anderen Flüssigkeitsstrahlen, einschließlich solcher, die abrasive Zusätze enthalten, |
| --- | --- | --- | --- |

e)

Werkzeugmaschinen zum Abtragen von Metallen, Keramiken oder "Verbundwerkstoffen" mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

zum Abtragen von Material mittels

a)

Wasser oder anderen Flüssigkeitsstrahlen, einschließlich solcher, die abrasive Zusätze enthalten,

| b) | Elektronenstrahlen oder |
| --- | --- |

b)

Elektronenstrahlen oder

| c) | "Laser"strahlen und |
| --- | --- |

c)

"Laser"strahlen und

| 2. | mit zwei oder mehr Drehachsen, welche






  a) | für eine "Bahnsteuerung" simultan koordiniert werden können und |
| --- | --- | --- |

2.

mit zwei oder mehr Drehachsen, welche

a)

für eine "Bahnsteuerung" simultan koordiniert werden können und

| b) | eine Positioniergenauigkeit besser als 0,003° haben; |
| --- | --- |

b)

eine Positioniergenauigkeit besser als 0,003° haben;

| f) | Tiefloch-Bohrmaschinen und Drehmaschinen, hergerichtet zum Tieflochbohren, mit einer maximalen Bohrtiefe über 5 000 mm und besonders konstruierte Bestandteile hierfür. |
| --- | --- |

f)

Tiefloch-Bohrmaschinen und Drehmaschinen, hergerichtet zum Tieflochbohren, mit einer maximalen Bohrtiefe über 5 000 mm und besonders konstruierte Bestandteile hierfür.

2B002"Numerisch gesteuerte" Werkzeugmaschinen, die ein magnetorheologisches Bearbeitungsverfahren (MRF) anwenden.

Technische Anmerkung:

Im Sinne von Nummer 2B002 ist ‧MRF‧ (magnetorheological finishing) ein Materialabtragungsverfahren, das eine abrasive Flüssigkeit verwendet, deren Viskosität durch ein magnetisches Feld gesteuert wird.

2B003"Numerisch gesteuerte" oder manuell bedienbare Werkzeugmaschinen und besonders konstruierte Bestandteile, Steuerungen und Zubehör hierfür, besonders konstruiert für Schabradbearbeitung, Feinbearbeitung, Schleifen oder Honen von gehärteten (Rc = 40 oder mehr) geradverzahnten, schrägverzahnten und pfeilverzahnten Rädern mit einem Teilkreisdurchmesser größer als 1 250 mm und einer Zahnbreite von 15 % oder mehr des Teilkreisdurchmessers, fein bearbeitet mit einer Qualität AGMA 14 oder besser (entsprechend ISO 1328 Klasse 3).

2B004Heiß-"Isostatische Pressen" mit allen folgenden Eigenschaften und besonders konstruierte Bestandteile und Zubehör hierfür:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMERN 2B104 UND 2B204.

| a) | mit geregelter thermischer Umgebung innerhalb des geschlossenen Kammerraums und Innendurchmesser (lichte Weite) des Kammerraums von 406 mm oder mehr und |
| --- | --- |

a)

mit geregelter thermischer Umgebung innerhalb des geschlossenen Kammerraums und Innendurchmesser (lichte Weite) des Kammerraums von 406 mm oder mehr und

| b) | mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | maximaler Arbeitsdruck größer als 207 MPa, |
| --- | --- | --- |

b)

mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

maximaler Arbeitsdruck größer als 207 MPa,

| 2. | geregelter thermischer Umgebung größer als 1 773 K (1 500 °C) oder |
| --- | --- |

2.

geregelter thermischer Umgebung größer als 1 773 K (1 500 °C) oder

| 3. | mit einer Einrichtung zum Imprägnieren mit Kohlenwasserstoffen und zur Entfernung entstehender gasförmiger Reaktionsprodukte. |
| --- | --- |

3.

mit einer Einrichtung zum Imprägnieren mit Kohlenwasserstoffen und zur Entfernung entstehender gasförmiger Reaktionsprodukte.

Technische Anmerkung:

Die lichte Weite des Kammerraums bezieht sich auf die Kammer, in der sowohl die Arbeitstemperatur als auch der Arbeitsdruck erreicht werden, und schließt Spannvorrichtungen nicht mit ein. Sie ist die Abmessung der kleineren Kammer, entweder die lichte Weite der Druckkammer oder die lichte Weite der isolierten Ofenkammer, je nachdem, welche der beiden Kammern sich innerhalb der anderen befindet.

Anmerkung: Für besonders konstruierte Formen, Gesenke und Werkzeuge siehe Nummer 1B003, 9B009 und Teil I A.

2B005Ausrüstung, besonders konstruiert für die Abscheidung, Bearbeitung und Verfahrenskontrolle von anorganischen Auflageschichten, sonstigen Schichten und oberflächenverändernden Schichten, wie folgt, auf Substrate für nichtelektronische Anwendungen durch Verfahren, die in der nach Unternummer 2E003f aufgeführten Tabelle nebst zugehörigen Anmerkungen dargestellt sind, und besonders konstruierte Bauteile zur automatischen Handhabung, Positionierung, Bewegung und Regelung hierfür:

| a) | "speicherprogrammierbare" Herstellungsausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD = chemical vapour deposition) mit allen folgenden Eigenschaften:

  ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 2B105.







  1. | Verwendung eines für eine der folgenden Beschichtungsarten abgeänderten Verfahrens:






  a) | CVD-Beschichten bei pulsierendem Druck, |
| --- | --- | --- | --- |

a)

"speicherprogrammierbare" Herstellungsausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD = chemical vapour deposition) mit allen folgenden Eigenschaften:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 2B105.

1.

Verwendung eines für eine der folgenden Beschichtungsarten abgeänderten Verfahrens:

a)

CVD-Beschichten bei pulsierendem Druck,

| b) | thermische Beschichtung mit geregelter Keimbildung (CNTD = controlled nucleation thermal deposition) oder |
| --- | --- |

b)

thermische Beschichtung mit geregelter Keimbildung (CNTD = controlled nucleation thermal deposition) oder

| c) | plasmaverstärktes oder -unterstütztes CVD-Beschichten und |
| --- | --- |

c)

plasmaverstärktes oder -unterstütztes CVD-Beschichten und

| 2. | mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | mit rotierenden Hochvakuumdichtungen (Druck kleiner/gleich 0,01 Pa) oder |
| --- | --- | --- |

2.

mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

mit rotierenden Hochvakuumdichtungen (Druck kleiner/gleich 0,01 Pa) oder

| b) | mit Schichtdickenüberwachung in der Anlage; |
| --- | --- |

b)

mit Schichtdickenüberwachung in der Anlage;

| b) | "speicherprogrammierbare" Herstellungsausrüstung für die Ionenimplantation mit Strahlströmen größer/gleich 5 mA; |
| --- | --- |

b)

"speicherprogrammierbare" Herstellungsausrüstung für die Ionenimplantation mit Strahlströmen größer/gleich 5 mA;

| c) | "speicherprogrammierbare" Herstellungsausrüstung für die physikalische Beschichtung aus der Dampfphase (PVD = physical vapour deposition) mittels Elektronenstrahl (EB-PVD) mit einer Stromversorgungsanlage von mehr als 80 kW Nennleistung und mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | mit eingebautem "Laser"-Regelsystem für den Stand des Flüssigkeitsbads, das die Zufuhrgeschwindigkeit des Schichtwerkstoffs genau regelt oder |
| --- | --- | --- |

c)

"speicherprogrammierbare" Herstellungsausrüstung für die physikalische Beschichtung aus der Dampfphase (PVD = physical vapour deposition) mittels Elektronenstrahl (EB-PVD) mit einer Stromversorgungsanlage von mehr als 80 kW Nennleistung und mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

mit eingebautem "Laser"-Regelsystem für den Stand des Flüssigkeitsbads, das die Zufuhrgeschwindigkeit des Schichtwerkstoffs genau regelt oder

| 2. | mit eingebautem Monitor zur rechnergesteuerten Überwachung der Abscheiderate bei einer Schicht aus zwei oder mehreren Elementen, wobei das Verfahren auf dem Prinzip der Fotolumineszenz der ionisierten Atome im Dampfstrahl beruht; |
| --- | --- |

2.

mit eingebautem Monitor zur rechnergesteuerten Überwachung der Abscheiderate bei einer Schicht aus zwei oder mehreren Elementen, wobei das Verfahren auf dem Prinzip der Fotolumineszenz der ionisierten Atome im Dampfstrahl beruht;

| d) | "speicherprogrammierbare" Herstellungsausrüstung für das Plasmaspritzen mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | Betrieb in geregelter Schutzgasatmosphäre bei verringertem Druck (kleiner/gleich 10 kPa, gemessen oberhalb des Spritzdüsenaustritts und innerhalb eines Umkreises von 300 mm um den Austritt) in einer Vakuumkammer, in der der Druck vor dem Spritzvorgang auf 0,01 Pa reduziert werden kann oder |
| --- | --- | --- |

d)

"speicherprogrammierbare" Herstellungsausrüstung für das Plasmaspritzen mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

Betrieb in geregelter Schutzgasatmosphäre bei verringertem Druck (kleiner/gleich 10 kPa, gemessen oberhalb des Spritzdüsenaustritts und innerhalb eines Umkreises von 300 mm um den Austritt) in einer Vakuumkammer, in der der Druck vor dem Spritzvorgang auf 0,01 Pa reduziert werden kann oder

| 2. | mit Schichtdickenüberwachung in der Anlage; |
| --- | --- |

2.

mit Schichtdickenüberwachung in der Anlage;

| e) | "speicherprogrammierbare" Herstellungsausrüstung für die Kathodenzerstäubungs-(Sputter-) Beschichtung, geeignet für Stromdichten von 0,1 mA/mm2 oder höher bei einer Beschichtungsrate größer/gleich 15 μm/h; |
| --- | --- |

e)

"speicherprogrammierbare" Herstellungsausrüstung für die Kathodenzerstäubungs-(Sputter-) Beschichtung, geeignet für Stromdichten von 0,1 mA/mm2 oder höher bei einer Beschichtungsrate größer/gleich 15 μm/h;

| f) | "speicherprogrammierbare" Herstellungsausrüstung für die Bogenentladungs-Kathodenzerstäubungs-Beschichtung (cathodic arc deposition), die über ein Gitter aus Elektromagneten zur Steuerung des Auftreffpunkts des Lichtbogens auf der Kathode verfügt; |
| --- | --- |

f)

"speicherprogrammierbare" Herstellungsausrüstung für die Bogenentladungs-Kathodenzerstäubungs-Beschichtung (cathodic arc deposition), die über ein Gitter aus Elektromagneten zur Steuerung des Auftreffpunkts des Lichtbogens auf der Kathode verfügt;

| g) | "speicherprogrammierbare" Herstellungsausrüstung zur Ionenplattierung, die in der Anlage die Messung einer der folgenden Eigenschaften ermöglicht:






  1. | Schichtdicke auf dem Substrat und Abscheidegeschwindigkeit oder |
| --- | --- | --- |

g)

"speicherprogrammierbare" Herstellungsausrüstung zur Ionenplattierung, die in der Anlage die Messung einer der folgenden Eigenschaften ermöglicht:

1.

Schichtdicke auf dem Substrat und Abscheidegeschwindigkeit oder

| 2. | optische Eigenschaften. |
| --- | --- |

2.

optische Eigenschaften.

Anmerkung: Nummer 2B005 erfasst nicht Ausrüstung für chemische Beschichtung aus der Gasphase, Bogenentladungs-Kathodenzerstäubungs-Beschichtung, Kathodenzerstäubungs-Beschichtung, Ionenplattierung oder Ionenimplantation, besonders konstruiert für Schneidwerkzeuge oder für Werkzeuge zur spanenden Bearbeitung.

2B006Koordinatenmessmaschinen oder -geräte und Ausrüstung wie folgt:

| a) | rechnergesteuerte, "numerisch gesteuerte" oder "speicherprogrammierbare" Koordinatenmessmaschinen (CMM = coordinate measuring machines), mit einer dreidimensionalen (volumetrischen) Längenmessabweichung (MPEE = maximum permissible error of indication) an jedem Punkt innerhalb des Arbeitsbereiches der Maschine (z. B. innerhalb der Achslängen) kleiner (besser)/gleich (1,7 + L/1 000) μm (L ist die Messlänge in mm), geprüft nach ISO 10360-2 (2001); |
| --- | --- |

a)

rechnergesteuerte, "numerisch gesteuerte" oder "speicherprogrammierbare" Koordinatenmessmaschinen (CMM = coordinate measuring machines), mit einer dreidimensionalen (volumetrischen) Längenmessabweichung (MPEE = maximum permissible error of indication) an jedem Punkt innerhalb des Arbeitsbereiches der Maschine (z. B. innerhalb der Achslängen) kleiner (besser)/gleich (1,7 + L/1 000) μm (L ist die Messlänge in mm), geprüft nach ISO 10360-2 (2001);

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 2B206.

| b) | Längen- und Winkelmesseinrichtungen wie folgt:






  1. | Längenmessgeräte mit einer der folgenden Eigenschaften:
  Technische Anmerkung:

  Im Sinne der Unternummer 2B006b1 bedeutet "Längenmessung" die Änderung des Abstandes zwischen der Messeinrichtung und dem zu messenden Objekt.







  a) | berührungslose Messsysteme mit einer "Auflösung" kleiner (besser)/gleich 0,2 μm in einem Messbereich bis 0,2 mm, |
| --- | --- | --- | --- |

b)

Längen- und Winkelmesseinrichtungen wie folgt:

1.

Längenmessgeräte mit einer der folgenden Eigenschaften:

Technische Anmerkung:

Im Sinne der Unternummer 2B006b1 bedeutet "Längenmessung" die Änderung des Abstandes zwischen der Messeinrichtung und dem zu messenden Objekt.

a)

berührungslose Messsysteme mit einer "Auflösung" kleiner (besser)/gleich 0,2 μm in einem Messbereich bis 0,2 mm,

| b) | Linearspannungs-Differenzialtransformatoren mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | "Linearität" kleiner (besser)/gleich 0,1 % innerhalb eines Messbereichs bis zu 5 mm und |
| --- | --- | --- |

b)

Linearspannungs-Differenzialtransformatoren mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

"Linearität" kleiner (besser)/gleich 0,1 % innerhalb eines Messbereichs bis zu 5 mm und

| 2. | Drift kleiner (besser)/gleich 0,1 % pro Tag bei Standardumgebungstemperatur im Prüfraum ± 1 K oder |
| --- | --- |

2.

Drift kleiner (besser)/gleich 0,1 % pro Tag bei Standardumgebungstemperatur im Prüfraum ± 1 K oder

| c) | Messsysteme mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | sie enthalten einen "Laser"und |
| --- | --- | --- |

c)

Messsysteme mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

sie enthalten einen "Laser"und

| 2. | sie behalten über mindestens 12 Stunden über einen Temperaturbereich von ± 1 K um eine Standardtemperatur und bei einem Standarddruck alle folgenden Eigenschaften bei:






  a) | "Auflösung" von ±0,1 μm oder besser über den vollen Messbereich und |
| --- | --- | --- |

2.

sie behalten über mindestens 12 Stunden über einen Temperaturbereich von ± 1 K um eine Standardtemperatur und bei einem Standarddruck alle folgenden Eigenschaften bei:

a)

"Auflösung" von ±0,1 μm oder besser über den vollen Messbereich und

| b) | "Messunsicherheit" kleiner (besser)/gleich (0,2 + L/2 000) μm (Messlänge L in mm), |
| --- | --- |

b)

"Messunsicherheit" kleiner (besser)/gleich (0,2 + L/2 000) μm (Messlänge L in mm),

Anmerkung: Unternummer 2B006b1 erfasst keine Interferometersysteme ohne geschlossene oder offene Regelkreise, die einen "Laser" für die Messung von Verfahrbewegungsfehlern von Werkzeugmaschinen, Messmaschinen oder ähnlichen Geräten enthalten.

| 2. | Winkelmessgeräte mit einer "Winkelpositionsabweichung" kleiner (besser)/gleich 0,00025 Grad;


  Anmerkung: Unternummer 2B006b2 erfasst nicht optische Geräte, z. B. Autokollimatoren, die ausgeblendetes Licht (z. B. "Laser"-Licht) benutzen, um die Winkelverstellung eines Spiegels festzustellen. |
| --- | --- |

2.

Winkelmessgeräte mit einer "Winkelpositionsabweichung" kleiner (besser)/gleich 0,00025 Grad;

Anmerkung: Unternummer 2B006b2 erfasst nicht optische Geräte, z. B. Autokollimatoren, die ausgeblendetes Licht (z. B. "Laser"-Licht) benutzen, um die Winkelverstellung eines Spiegels festzustellen.

| c) | Ausrüstung zur Messung von Oberflächenunebenheiten mittels optischer Streuung als eine Funktion des Winkels mit einer Empfindlichkeit kleiner (besser)/gleich 0,5 nm. |
| --- | --- |

c)

Ausrüstung zur Messung von Oberflächenunebenheiten mittels optischer Streuung als eine Funktion des Winkels mit einer Empfindlichkeit kleiner (besser)/gleich 0,5 nm.

Anmerkung : Werkzeugmaschinen, die auch als Messmaschinen verwendet werden können, werden erfasst, wenn sie die für Werkzeugmaschinen- oder Messmaschinenfunktionen festgelegten Kriterien erreichen oder überschreiten.

2B007"Roboter" mit einer der folgenden Eigenschaften sowie besonders konstruierte Steuerungen und "Endeffektoren" hierfür:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 2B207.

| a) | geeignet zur Verarbeitung oder Auswertung von vollständigen dreidimensionalen Bilddaten in Echtzeit, um "Programme" und numerische Programmdaten zu erzeugen oder zu verändern;
  Technische Anmerkung:

  Die Begrenzung der Bildauswertung schließt nicht die Annäherung an die dritte Dimension durch Wahl eines bestimmten Blickwinkels oder eine begrenzte Grauwert-Interpretation zur Wahrnehmung von Tiefe und Struktur für die jeweils vorgesehenen Aufgaben ein (21/2 D). |
| --- | --- |

a)

geeignet zur Verarbeitung oder Auswertung von vollständigen dreidimensionalen Bilddaten in Echtzeit, um "Programme" und numerische Programmdaten zu erzeugen oder zu verändern;

Technische Anmerkung:

Die Begrenzung der Bildauswertung schließt nicht die Annäherung an die dritte Dimension durch Wahl eines bestimmten Blickwinkels oder eine begrenzte Grauwert-Interpretation zur Wahrnehmung von Tiefe und Struktur für die jeweils vorgesehenen Aufgaben ein (21/2 D).

| b) | besonders konstruiert zur Erfüllung nationaler Sicherheitsvorschriften für explosionsgefährliche Munitions-Umgebungen; |
| --- | --- |

b)

besonders konstruiert zur Erfüllung nationaler Sicherheitsvorschriften für explosionsgefährliche Munitions-Umgebungen;

| c) | besonders konstruiert oder ausgelegt als strahlungsgehärtet, um ohne Funktionseinbuße einer Strahlendosis von 5 x 103 Gy (Silizium) standhalten zu können oder

  Technische Anmerkung:

  Der Ausdruck Gy (Silizium) bezieht sich auf die in Joules pro Kilogramm ausgedrückte Energie, die von einer ionisierender Strahlung ausgesetzten Probe von nicht abgeschirmtem Silizium absorbiert wird. |
| --- | --- |

c)

besonders konstruiert oder ausgelegt als strahlungsgehärtet, um ohne Funktionseinbuße einer Strahlendosis von 5 x 103 Gy (Silizium) standhalten zu können oder

Technische Anmerkung:

Der Ausdruck Gy (Silizium) bezieht sich auf die in Joules pro Kilogramm ausgedrückte Energie, die von einer ionisierender Strahlung ausgesetzten Probe von nicht abgeschirmtem Silizium absorbiert wird.

| d) | besonders konstruiert für Betriebsfähigkeit in Höhen über 30 000 m. |
| --- | --- |

d)

besonders konstruiert für Betriebsfähigkeit in Höhen über 30 000 m.

2B008Baugruppen oder Baueinheiten, besonders konstruiert für Werkzeugmaschinen oder Koordinatenmessmaschinen oder Messsysteme und Messeinrichtungen, wie folgt:

| a) | lineare Positions-Rückmeldeeinheiten (z. B. induktive Geber, Maßskalen, Infrarot-Systeme oder "Laser"-Systeme) mit einer Gesamt"genauigkeit" besser als (800 + (600 × L × 10 -3)) nm (L ist die nutzbare Länge in mm);


  Anmerkung:"Laser"-Systeme: Siehe auch Anmerkung zu Unternummer 2B006b1. |
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a)

lineare Positions-Rückmeldeeinheiten (z. B. induktive Geber, Maßskalen, Infrarot-Systeme oder "Laser"-Systeme) mit einer Gesamt"genauigkeit" besser als (800 + (600 × L × 10 -3)) nm (L ist die nutzbare Länge in mm);

Anmerkung:"Laser"-Systeme: Siehe auch Anmerkung zu Unternummer 2B006b1.

| b) | Winkel-Positions-Rückmeldeeinheiten (z. B. induktive Geber, Maßskalen, Infrarot-Systeme oder "Laser"-Systeme) mit einer "Genauigkeit" besser als ±0,00025 Grad;


  Anmerkung:"Laser"-Systeme: Siehe auch Anmerkung zu Unternummer 2B006b1. |
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b)

Winkel-Positions-Rückmeldeeinheiten (z. B. induktive Geber, Maßskalen, Infrarot-Systeme oder "Laser"-Systeme) mit einer "Genauigkeit" besser als ±0,00025 Grad;

Anmerkung:"Laser"-Systeme: Siehe auch Anmerkung zu Unternummer 2B006b1.

| c) | "Kombinierte Schwenk-Rundtische" und "Schwenkspindeln", die nach Spezifikation des Herstellers Werkzeugmaschinen auf oder über das in Nummer 2B angegebene Niveau verbessern können. |
| --- | --- |

c)

"Kombinierte Schwenk-Rundtische" und "Schwenkspindeln", die nach Spezifikation des Herstellers Werkzeugmaschinen auf oder über das in Nummer 2B angegebene Niveau verbessern können.

2B009Drück- und Fließdrückmaschinen, die nach der technischen Beschreibung des Herstellers mit"numerischen Steuerungen" oder Rechnersteuerungen ausgerüstet werden können und mit allen folgenden Eigenschaften:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMERN 2B109 UND 2B209.

| a) | mit zwei oder mehr Achsen, bei denen mindestens zwei simultan für die "Bahnsteuerung" koordiniert werden können und |
| --- | --- |

a)

mit zwei oder mehr Achsen, bei denen mindestens zwei simultan für die "Bahnsteuerung" koordiniert werden können und

| b) | mit einer Supportkraft größer als 60 kN. |
| --- | --- |

b)

mit einer Supportkraft größer als 60 kN.

Technische Anmerkung:

Maschinen mit kombinierter Drück- und Fließdrückfunktion werden im Sinne von Nummer 2B009 als Fließdrückmaschinen betrachtet.

2B104"Isostatische Pressen", die nicht von Nummer 2B004 erfasst werden, mit allen folgenden Eigenschaften:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 2B204.

| a) | maximaler Arbeitsdruck größer/gleich 69 MPa; |
| --- | --- |

a)

maximaler Arbeitsdruck größer/gleich 69 MPa;

| b) | konstruiert, um eine geregelte thermische Umgebung größer/gleich 873 K (600 °C) zu erreichen und aufrechtzuerhalten und |
| --- | --- |

b)

konstruiert, um eine geregelte thermische Umgebung größer/gleich 873 K (600 °C) zu erreichen und aufrechtzuerhalten und

| c) | lichte Weite des Kammerraums (Innendurchmesser) größer/gleich 254 mm. |
| --- | --- |

c)

lichte Weite des Kammerraums (Innendurchmesser) größer/gleich 254 mm.

2B105Öfen zur chemischen Beschichtung aus der Gasphase (CVD), die nicht von Unternummer 2B005a erfasst werden, konstruiert oder geändert für die Verdichtung von Kohlenstoff-Kohlenstoff-"Verbundwerkstoffen".

2B109Fließdrückmaschinen, die nicht von Nummer 2B009 erfasst werden, und besonders konstruierte Bestandteile wie folgt:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 2B209.

| a) | Fließdrückmaschinen mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | die nach der technischen Spezifikation des Herstellers mit einer "numerischen Steuerung" oder einer Rechnersteuerung ausgerüstet werden können, auch wenn sie zum Zeitpunkt der Lieferung nicht damit ausgestattet sind, und |
| --- | --- | --- |

a)

Fließdrückmaschinen mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

die nach der technischen Spezifikation des Herstellers mit einer "numerischen Steuerung" oder einer Rechnersteuerung ausgerüstet werden können, auch wenn sie zum Zeitpunkt der Lieferung nicht damit ausgestattet sind, und

| 2. | die über mehr als zwei Achsen verfügen, die simultan für die "Bahnsteuerung" koordiniert werden können; |
| --- | --- |

2.

die über mehr als zwei Achsen verfügen, die simultan für die "Bahnsteuerung" koordiniert werden können;

| b) | besonders konstruierte Bestandteile für Fließdrückmaschinen, die von Nummer 2B009 oder Unternummer 2B109a erfasst werden. |
| --- | --- |

b)

besonders konstruierte Bestandteile für Fließdrückmaschinen, die von Nummer 2B009 oder Unternummer 2B109a erfasst werden.

Anmerkung: Nummer 2B109 erfasst nur Maschinen, die zur Herstellung von Antriebskomponenten und -ausrüstung (z. B. Motorgehäuse) für von Nummer 9A005, Unternummer 9A007a oder 9A105a erfasste Systeme geeignet sind.

Technische Anmerkung:

Maschinen mit kombinierter Fließdrück- und Drückfunktion werden im Sinne von Nummer 2B109 als Fließdrückmaschinen betrachtet.

2B116Vibrationsprüfsysteme, Ausrüstung und Bestandteile hierfür, wie folgt:

| a) | Vibrationsprüfsysteme mit Rückkopplungs- oder Closed-Loop-Technik mit integrierter digitaler Steuerung, geeignet für Vibrationsbeanspruchungen des Prüflings mit größer/gleich 10 g rms im gesamten Frequenzbereich zwischen 20 Hz und 2 000 Hz und bei Übertragungskräften größer/gleich 50 kN, gemessen am ‧Prüftisch‧; |
| --- | --- |

a)

Vibrationsprüfsysteme mit Rückkopplungs- oder Closed-Loop-Technik mit integrierter digitaler Steuerung, geeignet für Vibrationsbeanspruchungen des Prüflings mit größer/gleich 10 g rms im gesamten Frequenzbereich zwischen 20 Hz und 2 000 Hz und bei Übertragungskräften größer/gleich 50 kN, gemessen am ‧Prüftisch‧;

| b) | Digitale Steuerungen in Verbindung mit besonders für Vibrationsprüfung entwickelter "Software", mit einer Echtzeit-Bandbreite größer/gleich 5 kHz und konstruiert zum Einsatz in den von Unternummer 2B116a erfassten Systemen; |
| --- | --- |

b)

Digitale Steuerungen in Verbindung mit besonders für Vibrationsprüfung entwickelter "Software", mit einer Echtzeit-Bandbreite größer/gleich 5 kHz und konstruiert zum Einsatz in den von Unternummer 2B116a erfassten Systemen;

| c) | Schwingerreger (Shaker units) mit oder ohne zugehörige Verstärker, geeignet für Übertragungskräfte von größer/gleich 50 kN, gemessen am ‧Prüftisch‧, und geeignet für die von Unternummer 2B116a erfassten Systeme; |
| --- | --- |

c)

Schwingerreger (Shaker units) mit oder ohne zugehörige Verstärker, geeignet für Übertragungskräfte von größer/gleich 50 kN, gemessen am ‧Prüftisch‧, und geeignet für die von Unternummer 2B116a erfassten Systeme;

| d) | Prüflingshaltevorrichtungen und Elektronikeinheiten, konstruiert, um mehrere Schwingerreger zu einem Schwingerregersystem, das Übertragungskräfte größer/gleich 50 kN, gemessen am ‧Prüftisch‧, erzeugen kann, zusammenzufassen, und geeignet für die von Unternummer 2B116a erfassten Systeme. |
| --- | --- |

d)

Prüflingshaltevorrichtungen und Elektronikeinheiten, konstruiert, um mehrere Schwingerreger zu einem Schwingerregersystem, das Übertragungskräfte größer/gleich 50 kN, gemessen am ‧Prüftisch‧, erzeugen kann, zusammenzufassen, und geeignet für die von Unternummer 2B116a erfassten Systeme.

Technische Anmerkung:

Ein ‧Prüftisch‧ im Sinne von Nummer 2B116 ist ein flacher Tisch oder eine flache Oberfläche ohne Aufnahmen oder Halterungen.

2B117Ausrüstung und Prozesssteuerungen, die nicht von Nummer 2B004, Unternummer 2B005a, Nummer 2B104 oder 2B105 erfasst werden, konstruiert oder geändert zur Verdichtung und Pyrolyse von Raketendüsen und Bugspitzen von Wiedereintrittskörpern aus Struktur-"Verbundwerkstoffen".

2B119Auswuchtmaschinen und zugehörige Ausrüstung, wie folgt:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 2B219.

| a) | Auswuchtmaschinen mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | nicht geeignet zum Auswuchten von Rotoren/Baugruppen mit einer Masse größer als 3 kg, |
| --- | --- | --- |

a)

Auswuchtmaschinen mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

nicht geeignet zum Auswuchten von Rotoren/Baugruppen mit einer Masse größer als 3 kg,

| 2. | geeignet zum Auswuchten von Rotoren/Baugruppen bei Drehzahlen größer als 12 500 U/min, |
| --- | --- |

2.

geeignet zum Auswuchten von Rotoren/Baugruppen bei Drehzahlen größer als 12 500 U/min,

| 3. | geeignet zur Korrektur von Unwuchten in zwei oder mehr Ebenen und |
| --- | --- |

3.

geeignet zur Korrektur von Unwuchten in zwei oder mehr Ebenen und

| 4. | geeignet zum Auswuchten bis zu einer spezifischen Restunwucht von 0,2 gmm/kg der Rotormasse; |
| --- | --- |

4.

geeignet zum Auswuchten bis zu einer spezifischen Restunwucht von 0,2 gmm/kg der Rotormasse;

Anmerkung: 2B119a erfasst nicht Auswuchtmaschinen, konstruiert oder geändert für zahnmedizinische oder andere medizinische Ausrüstung.

| b) | Messgeräte (indicator heads/balancing instrumentation), konstruiert oder geändert für den Einsatz in Maschinen, erfasst von Unternummer 2B119a.
  Technische Anmerkung:

  "Indicator heads" werden auch als "balancing instrumentation" bezeichnet. |
| --- | --- |

b)

Messgeräte (indicator heads/balancing instrumentation), konstruiert oder geändert für den Einsatz in Maschinen, erfasst von Unternummer 2B119a.

Technische Anmerkung:

"Indicator heads" werden auch als "balancing instrumentation" bezeichnet.

2B120Bewegungssimulatoren oder Drehtische mit allen folgenden Eigenschaften:

| a) | zwei oder mehr Achsen; |
| --- | --- |

a)

zwei oder mehr Achsen;

| b) | Schleifringe, geeignet zur Übertragung von elektrischer Energie und/oder von Signalen und |
| --- | --- |

b)

Schleifringe, geeignet zur Übertragung von elektrischer Energie und/oder von Signalen und

| c) | mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | mit allen folgenden Eigenschaften für jede einzelne Achse:






  a) | geeignet für Drehraten (rate) größer/gleich 400 °/s oder kleiner/gleich 30 °/s und |
| --- | --- | --- | --- |

c)

mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

mit allen folgenden Eigenschaften für jede einzelne Achse:

a)

geeignet für Drehraten (rate) größer/gleich 400 °/s oder kleiner/gleich 30 °/s und

| b) | Auflösung der Drehrate (rate resolution) kleiner/gleich 6 °/s und Genauigkeit kleiner/gleich 0,6 °/s, |
| --- | --- |

b)

Auflösung der Drehrate (rate resolution) kleiner/gleich 6 °/s und Genauigkeit kleiner/gleich 0,6 °/s,

| 2. | Mindeststabilität der Drehrate (worst-case rate stability) kleiner/gleich (besser) ± 0,05 %, gemittelt über einen Bereich größer/gleich 10° oder |
| --- | --- |

2.

Mindeststabilität der Drehrate (worst-case rate stability) kleiner/gleich (besser) ± 0,05 %, gemittelt über einen Bereich größer/gleich 10° oder

| 3. | Positioniergenauigkeit kleiner/gleich 5 Bogensekunden. |
| --- | --- |

3.

Positioniergenauigkeit kleiner/gleich 5 Bogensekunden.

Anmerkung: Nummer 2B120 erfasst nicht Drehtische, konstruiert oder geändert für Werkzeugmaschinen oder für medizinische Ausrüstung. Für die Erfassung von Rundtischen für Werkzeugmaschinen: Siehe Nummer 2B008.

2B121Positioniertische (Ausrüstung, geeignet für Präzisionsteilung in jeder Achse), die nicht von Nummer 2B120 erfasst werden, mit allen folgenden Eigenschaften:

| a) | zwei oder mehr Achsen und |
| --- | --- |

a)

zwei oder mehr Achsen und

| b) | Positioniergenauigkeit kleiner/gleich 5 Bogensekunden. |
| --- | --- |

b)

Positioniergenauigkeit kleiner/gleich 5 Bogensekunden.

Anmerkung: Nummer 2B121 erfasst nicht Drehtische, konstruiert oder geändert für Werkzeugmaschinen, für medizinische Ausrüstung oder für Röntgendiffraktometrie. Für die Erfassung von Rundtischen für Werkzeugmaschinen: Siehe Nummer 2B008.

2B122Zentrifugen, die Beschleunigungen größer/gleich 100 g erzeugen können und mit Schleifringen, geeignet zur Übertragung von elektrischer Energie und von Signalen, ausgerüstet sind.

2B201Werkzeugmaschinen, die nicht von Nummer 2B001 erfasst werden, wie folgt, für das Abtragen oder Schneiden von Metallen, Keramiken oder "Verbundwerkstoffen", die gemäß den technischen Spezifikationen des Herstellers mit elektronischen Geräten zur simultanen "Bahnsteuerung" in zwei oder mehr Achsen ausgerüstet werden können:

| a) | Werkzeugmaschinen für Fräsbearbeitung mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | Positioniergenauigkeit mit "allen verfügbaren Kompensationen" von kleiner (besser)/gleich 0,006 mm nach ISO 230/2 (1988) (1) oder entsprechenden nationalen Normen entlang einer Linearachse oder |
| --- | --- | --- |

a)

Werkzeugmaschinen für Fräsbearbeitung mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

Positioniergenauigkeit mit "allen verfügbaren Kompensationen" von kleiner (besser)/gleich 0,006 mm nach ISO 230/2 (1988) (1) oder entsprechenden nationalen Normen entlang einer Linearachse oder

| 2. | zwei oder mehr bahnsteuerfähigen Rundachsen;


  Anmerkung: Unternummer 2B201a erfasst keine Fräsmaschinen mit allen folgenden Eigenschaften:








  a) | Verfahrweg der X-Achse größer als 2 000 mm und |
| --- | --- | --- |

2.

zwei oder mehr bahnsteuerfähigen Rundachsen;

Anmerkung: Unternummer 2B201a erfasst keine Fräsmaschinen mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

Verfahrweg der X-Achse größer als 2 000 mm und

| b) | Gesamtpositioniergenauigkeit der X-Achse größer (schlechter) als 0,030 mm. |
| --- | --- |

b)

Gesamtpositioniergenauigkeit der X-Achse größer (schlechter) als 0,030 mm.

| b) | Werkzeugmaschinen für Schleifbearbeitung mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | Positioniergenauigkeit mit "allen verfügbaren Kompensationen" von kleiner (besser)/gleich 0,004 mm nach ISO 230/2 (1988) (1) oder entsprechenden nationalen Normen entlang einer Linearachse oder |
| --- | --- | --- |

b)

Werkzeugmaschinen für Schleifbearbeitung mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

Positioniergenauigkeit mit "allen verfügbaren Kompensationen" von kleiner (besser)/gleich 0,004 mm nach ISO 230/2 (1988) (1) oder entsprechenden nationalen Normen entlang einer Linearachse oder

| 2. | zwei oder mehr bahnsteuerfähige Rundachsen. |
| --- | --- |

2.

zwei oder mehr bahnsteuerfähige Rundachsen.

Anmerkung: Unternummer 2B201b erfasst nicht folgende Schleifmaschinen:

| a) | Außen-, Innen- und Außen-/Innen-Rundschleifmaschinen mit allen folgenden Eigenschaften:








  1. | Begrenzung auf Rundschleifen, |
| --- | --- | --- |

a)

Außen-, Innen- und Außen-/Innen-Rundschleifmaschinen mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

Begrenzung auf Rundschleifen,

| 2. | Maximaler Arbeitsbereich von 150 mm Außendurchmesser oder Länge, |
| --- | --- |

2.

Maximaler Arbeitsbereich von 150 mm Außendurchmesser oder Länge,

| 3. | nur zwei Achsen, die simultan für eine "Bahnsteuerung" koordiniert werden können, und |
| --- | --- |

3.

nur zwei Achsen, die simultan für eine "Bahnsteuerung" koordiniert werden können, und

| 4. | keine bahnsteuerfähige C-Achse, |
| --- | --- |

4.

keine bahnsteuerfähige C-Achse,

| b) | Koordinatenschleifmaschinen, beschränkt auf die Achsen X, Y, C und A, wobei die C-Achse verwendet wird, um die Schleifscheibe senkrecht zur Arbeitsoberfläche zu halten, und die A-Achse zum Schleifen von Trommelkurven bestimmt ist, |
| --- | --- |

b)

Koordinatenschleifmaschinen, beschränkt auf die Achsen X, Y, C und A, wobei die C-Achse verwendet wird, um die Schleifscheibe senkrecht zur Arbeitsoberfläche zu halten, und die A-Achse zum Schleifen von Trommelkurven bestimmt ist,

| c) | Werkzeugschleif- oder -schärfmaschinen mit "Software", besonders entwickelt für die Herstellung von Werkzeugen, oder |
| --- | --- |

c)

Werkzeugschleif- oder -schärfmaschinen mit "Software", besonders entwickelt für die Herstellung von Werkzeugen, oder

| d) | Kurbelwellen- und Nockenwellen-Schleifmaschinen. |
| --- | --- |

d)

Kurbelwellen- und Nockenwellen-Schleifmaschinen.

2B204"Isostatische Pressen", die nicht von Nummer 2B004 oder 2B104 erfasst werden, und zugehörige Ausrüstung, wie folgt:

| a) | "Isostatische Pressen", mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | einem maximalen Arbeitsdruck größer/gleich 69 MPa und |
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a)

"Isostatische Pressen", mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

einem maximalen Arbeitsdruck größer/gleich 69 MPa und

| 2. | einer Druckkammer mit einer lichten Weite (Innendurchmesser) größer als 152 mm; |
| --- | --- |

2.

einer Druckkammer mit einer lichten Weite (Innendurchmesser) größer als 152 mm;

| b) | besonders konstruierte Gesenke, Formen oder Steuerungen für "Isostatische Pressen", efasst von 2B204a. |
| --- | --- |

b)

besonders konstruierte Gesenke, Formen oder Steuerungen für "Isostatische Pressen", efasst von 2B204a.

Technische Anmerkung:

In Nummer 2B204 bezieht sich die lichte Weite des Kammerraums auf die Kammer, in der sowohl die Arbeitstemperatur als auch der Arbeitsdruck erreicht werden, und schließt Spannvorrichtungen nicht mit ein. Sie ist die Abmessung der kleineren Kammer, entweder die lichte Weite der Druckkammer oder die lichte Weite der isolierten Ofenkammer, je nachdem, welche der beiden Kammern sich innerhalb der anderen befindet.

2B206Koordinatenmessmaschinen, -geräte oder Systeme, die nicht von Nummer 2B006 erfasst werden, wie folgt:

| a) | Rechnergesteuerte oder numerisch gesteuerte Koordinatenmessmaschinen mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | zwei oder mehr Achsen und |
| --- | --- | --- |

a)

Rechnergesteuerte oder numerisch gesteuerte Koordinatenmessmaschinen mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

zwei oder mehr Achsen und

| 2. | eine eindimensionale Längen-"Messunsicherheit" kleiner (besser)/gleich (1,25 + L/1 000) μm, gemessen mit einem Prüfmittel mit einer Genauigkeit kleiner (besser) als 0,2 μm (L ist die Länge in mm) (Ref. VDI/VDE 2617 Teil 1 und Teil 2); |
| --- | --- |

2.

eine eindimensionale Längen-"Messunsicherheit" kleiner (besser)/gleich (1,25 + L/1 000) μm, gemessen mit einem Prüfmittel mit einer Genauigkeit kleiner (besser) als 0,2 μm (L ist die Länge in mm) (Ref. VDI/VDE 2617 Teil 1 und Teil 2);

| b) | Systeme zum simultanen Messen von Linear- und Winkelkoordinaten von Halbkugeln mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | "Messunsicherheit" in jeder Achse kleiner (besser)/gleich 3,5 μm auf 5 mm und |
| --- | --- | --- |

b)

Systeme zum simultanen Messen von Linear- und Winkelkoordinaten von Halbkugeln mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

"Messunsicherheit" in jeder Achse kleiner (besser)/gleich 3,5 μm auf 5 mm und

| 2. | "Winkelpositionsabweichung" kleiner/gleich 0,02°. |
| --- | --- |

2.

"Winkelpositionsabweichung" kleiner/gleich 0,02°.

Anmerkung 1: Werkzeugmaschinen, die auch als Messmaschinen verwendet werden können, werden erfasst, wenn sie die für Werkzeugmaschinen- oder Messmaschinenfunktionen festgelegten Kriterien erreichen oder überschreiten.

Anmerkung 2: Eine in Nummer 2B206 genannte Maschine wird erfasst, wenn sie die Erfassungsschwelle innerhalb ihres Arbeitsbereiches überschreitet.

Technische Anmerkungen:

| 1. | Das Prüfmittel, das bei Bestimmung der "Messunsicherheit" eines Längenmesssystems verwendet wird, soll dem in VDI/VDE 2617 Teil 2, 3 und 4 beschriebenen entsprechen. |
| --- | --- |

1.

Das Prüfmittel, das bei Bestimmung der "Messunsicherheit" eines Längenmesssystems verwendet wird, soll dem in VDI/VDE 2617 Teil 2, 3 und 4 beschriebenen entsprechen.

| 2. | Alle Parameter für die Messwerte unter 2B206 lassen positive und negative Abweichungen zu, d. h., sie stellen nicht die gesamte Bandbreite dar. |
| --- | --- |

2.

Alle Parameter für die Messwerte unter 2B206 lassen positive und negative Abweichungen zu, d. h., sie stellen nicht die gesamte Bandbreite dar.

2B207"Roboter", "Endeffektoren" und Steuerungen, die nicht von Nummer 2B007 erfasst werden, wie folgt:

| a) | "Roboter" oder "Endeffektoren", besonders konstruiert zur Einhaltung nationaler Sicherheitsnormen für die Handhabung hochexplosiver Stoffe (z. B. Einhaltung elektrischer Kenndaten bei hochexplosiven Stoffen); |
| --- | --- |

a)

"Roboter" oder "Endeffektoren", besonders konstruiert zur Einhaltung nationaler Sicherheitsnormen für die Handhabung hochexplosiver Stoffe (z. B. Einhaltung elektrischer Kenndaten bei hochexplosiven Stoffen);

| b) | besonders konstruierte Steuerungen für einen der "Roboter" oder "Endeffektoren", erfasst von Unternummer 2B207a. |
| --- | --- |

b)

besonders konstruierte Steuerungen für einen der "Roboter" oder "Endeffektoren", erfasst von Unternummer 2B207a.

2B209Fließdrückmaschinen und Drückmaschinen mit Fließdrückfunktion, die nicht von Nummer 2B009 oder 2B109 erfasst werden, und Dorne, wie folgt:

| a) | Maschinen, mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | drei oder mehr Rollen (Drückrollen oder Führungsrollen) und |
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a)

Maschinen, mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

drei oder mehr Rollen (Drückrollen oder Führungsrollen) und

| 2. | nach der technischen Spezifikation des Herstellers mit "numerischer Steuerung" oder Rechnersteuerung ausrüstbar; |
| --- | --- |

2.

nach der technischen Spezifikation des Herstellers mit "numerischer Steuerung" oder Rechnersteuerung ausrüstbar;

| b) | Dorne zum Formen von zylindrischen Rotoren mit einem Innendurchmesser zwischen 75 mm und 400 mm. |
| --- | --- |

b)

Dorne zum Formen von zylindrischen Rotoren mit einem Innendurchmesser zwischen 75 mm und 400 mm.

Anmerkung: Nummer 2B209a schließt Maschinen ein, die nur eine einzige Rolle zur Verformung des Metalls und zwei Hilfsrollen aufweisen, die den Dorn abstützen, am Verformungsprozess aber nicht direkt beteiligt sind.

2B219Rotierende Mehrebenenauswuchtmaschinen, festinstalliert oder beweglich, horizontal oder vertikal, wie folgt:

| a) | Rotierende Mehrebenenauswuchtmaschinen, konstruiert zum Auswuchten von flexiblen Rotoren mit einer Länge größer/gleich 600 mm, mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | Rotor- oder Zapfen-Durchmesser größer als 75 mm, |
| --- | --- | --- |

a)

Rotierende Mehrebenenauswuchtmaschinen, konstruiert zum Auswuchten von flexiblen Rotoren mit einer Länge größer/gleich 600 mm, mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

Rotor- oder Zapfen-Durchmesser größer als 75 mm,

| 2. | Tragfähigkeit von 0,9 bis 23 kg und |
| --- | --- |

2.

Tragfähigkeit von 0,9 bis 23 kg und

| 3. | nutzbare Auswuchtdrehzahl größer als 5 000 U/min; |
| --- | --- |

3.

nutzbare Auswuchtdrehzahl größer als 5 000 U/min;

| b) | Rotierende Mehrebenenauswuchtmaschinen, konstruiert zum Auswuchten von hohlzylindrischen Rotorbauteilen, mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | Aufnahme-Durchmesser größer als 75 mm,; |
| --- | --- | --- |

b)

Rotierende Mehrebenenauswuchtmaschinen, konstruiert zum Auswuchten von hohlzylindrischen Rotorbauteilen, mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

Aufnahme-Durchmesser größer als 75 mm,;

| 2. | Tragfähigkeit von 0,9 bis 23 kg, |
| --- | --- |

2.

Tragfähigkeit von 0,9 bis 23 kg,

| 3. | Eignung zum Auswuchten für eine Restunwucht kleiner (besser)/gleich 0,01 kgmm/kg pro Auswuchtebene und |
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3.

Eignung zum Auswuchten für eine Restunwucht kleiner (besser)/gleich 0,01 kgmm/kg pro Auswuchtebene und

| 4. | Riemenantriebsausführung. |
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4.

Riemenantriebsausführung.

2B225Fernlenk-Manipulatoren, die für ferngesteuerte Tätigkeiten bei radiochemischen Trennprozessen oder in Heißen Zellen eingesetzt werden können, mit einer der folgenden Eigenschaften:

| a) | Eignung zur Durchdringung der Wand einer Heißen Zelle mit einer Dicke größer/gleich 0,6 m (Durch-die-Wand-Modifikation) oder |
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a)

Eignung zur Durchdringung der Wand einer Heißen Zelle mit einer Dicke größer/gleich 0,6 m (Durch-die-Wand-Modifikation) oder

| b) | Eignung zur Überbrückung der Wand einer Heißen Zelle mit einer Dicke größer/gleich 0,6 m (Über-die-Wand-Modifikation). |
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b)

Eignung zur Überbrückung der Wand einer Heißen Zelle mit einer Dicke größer/gleich 0,6 m (Über-die-Wand-Modifikation).

Technische Anmerkung:

Fernlenk-Manipulatoren ermöglichen die Übertragung der Bewegungen einer Bedienungsperson auf einen ferngelenkten Funktionsarm und eine Endhalterung. Sie können über Master-Slave-Steuerung, Steuerknüppel oder Tastatur bedient werden.

2B226Mit kontrollierter Atmosphäre (Vakuum oder Schutzgas) betriebene Induktionsöfen und Netzgeräte hierfür, wie folgt:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH 3B.

| a) | Öfen mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | geeignet für Betriebstemperaturen größer 1 123 K (850 °C); |
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a)

Öfen mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

geeignet für Betriebstemperaturen größer 1 123 K (850 °C);

| 2. | ausgerüstet mit Induktionsspulen mit einem Innendurchmesser kleiner/gleich 600 mm und |
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2.

ausgerüstet mit Induktionsspulen mit einem Innendurchmesser kleiner/gleich 600 mm und

| 3. | konstruiert für Eingangsleistungen größer/gleich 5 kW; |
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3.

konstruiert für Eingangsleistungen größer/gleich 5 kW;

| b) | Netzgeräte, besonders konstruiert für von Nummer 2B226a erfasste Öfen, mit einer angegebenen Ausgangsleistung größer/gleich 5 kW; |
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b)

Netzgeräte, besonders konstruiert für von Nummer 2B226a erfasste Öfen, mit einer angegebenen Ausgangsleistung größer/gleich 5 kW;

Anmerkung: Nummer 2B226a erfasst keine Öfen zur Bearbeitung von Halbleiterwafern;

2B227Vakuum- oder Schutzgas-Metallschmelz- und Metallgießöfen und zugehörige Ausrüstung, wie folgt:

| a) | Lichtbogenöfen (Schmelz-, Umschmelz- und Gießöfen) mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | Abschmelzelektrodenvolumen zwischen 1 000 cm3 und 20 000 cm3
  und |
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a)

Lichtbogenöfen (Schmelz-, Umschmelz- und Gießöfen) mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

Abschmelzelektrodenvolumen zwischen 1 000 cm3 und 20 000 cm3
  und

| 2. | geeignet für den Betrieb bei Schmelztemperaturen über 1 973 K (1 700 °C); |
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2.

geeignet für den Betrieb bei Schmelztemperaturen über 1 973 K (1 700 °C);

| b) | Elektronenstrahlschmelzöfen und Plasma-Schmelz- oder Plasma-Zerstäubungsschmelzöfen mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | Leistung größer/gleich 50 kW und |
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b)

Elektronenstrahlschmelzöfen und Plasma-Schmelz- oder Plasma-Zerstäubungsschmelzöfen mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

Leistung größer/gleich 50 kW und

| 2. | geeignet für den Betrieb bei Schmelztemperaturen über 1 473 K (1 200 °C); |
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2.

geeignet für den Betrieb bei Schmelztemperaturen über 1 473 K (1 200 °C);

| c) | Rechnersteuerungs- und Überwachungssysteme besonders entwickelt für von Unternummer 2B227a oder 2B227b erfasste Öfen. |
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c)

Rechnersteuerungs- und Überwachungssysteme besonders entwickelt für von Unternummer 2B227a oder 2B227b erfasste Öfen.

2B228Rotorfertigungs- oder Rotormontageausrüstung, Rotorrichtausrüstung, Dorne zur Sickenformung und Gesenke hierfür, wie folgt:

| a) | Rotormontageausrüstung für den Zusammenbau von Gaszentrifugenteilrohren, Scheiben und Enddeckeln;


  Anmerkung: Unternummer 2B228a schließt Präzisionsdorne, Haltevorrichtungen und Einschrumpfvorrichtungen ein. |
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a)

Rotormontageausrüstung für den Zusammenbau von Gaszentrifugenteilrohren, Scheiben und Enddeckeln;

Anmerkung: Unternummer 2B228a schließt Präzisionsdorne, Haltevorrichtungen und Einschrumpfvorrichtungen ein.

| b) | Rotorrichtausrüstung zum Ausrichten von Gaszentrifugenteilrohren auf eine gemeinsame Achse;
  Technische Anmerkung:

  Im Sinne von Unternummer 2B228b besteht diese Ausrüstung üblicherweise aus Präzisionsmesssonden, die mit einem Rechner verbunden sind, der die Funktion, z.B. der pneumatisch betriebenen Backen zum Ausrichten der Teilrohre, steuert. |
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b)

Rotorrichtausrüstung zum Ausrichten von Gaszentrifugenteilrohren auf eine gemeinsame Achse;

Technische Anmerkung:

Im Sinne von Unternummer 2B228b besteht diese Ausrüstung üblicherweise aus Präzisionsmesssonden, die mit einem Rechner verbunden sind, der die Funktion, z.B. der pneumatisch betriebenen Backen zum Ausrichten der Teilrohre, steuert.

| c) | Dorne zur Sickenformung und Gesenke zur Herstellung von Einfachsicken.
  Technische Anmerkung:

  Sicken gemäß Unternummer 2B228c besitzen alle folgenden Eigenschaften:








  1. | Innendurchmesser zwischen 75 mm und 400 mm, |
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c)

Dorne zur Sickenformung und Gesenke zur Herstellung von Einfachsicken.

Technische Anmerkung:

Sicken gemäß Unternummer 2B228c besitzen alle folgenden Eigenschaften:

1.

Innendurchmesser zwischen 75 mm und 400 mm,

| 2. | Länge größer/gleich 12,7 mm, |
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2.

Länge größer/gleich 12,7 mm,

| 3. | Sickenhöhe größer als 2 mm und |
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3.

Sickenhöhe größer als 2 mm und

| 4. | hergestellt aus hochfesten Aluminiumlegierungen, martensitaushärtendem Stahl oder hochfesten "faser- oder fadenförmigen Materialien". |
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4.

hergestellt aus hochfesten Aluminiumlegierungen, martensitaushärtendem Stahl oder hochfesten "faser- oder fadenförmigen Materialien".

2B230"Druckmessgeräte", geeignet zum Messen von Absolutdrücken im Bereich von 0 bis 13 kPa, mit allen folgenden Eigenschaften:

| a) | Drucksensoren, die aus Aluminium, Aluminiumlegierungen, Nickel oder Nickellegierungen mit mehr als 60 Gew.-% Nickel hergestellt oder damit geschützt sind und |
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a)

Drucksensoren, die aus Aluminium, Aluminiumlegierungen, Nickel oder Nickellegierungen mit mehr als 60 Gew.-% Nickel hergestellt oder damit geschützt sind und

| b) | mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | Messbereich kleiner als 13 kPa und ‧Messgenauigkeit‧ kleiner (besser) als ± 1 % vom Skalenendwert oder |
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b)

mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

Messbereich kleiner als 13 kPa und ‧Messgenauigkeit‧ kleiner (besser) als ± 1 % vom Skalenendwert oder

| 2. | Messbereich größer/gleich 13 kPa und ‧Messgenauigkeit‧ kleiner (besser) als ± 130 Pa. |
| --- | --- |

2.

Messbereich größer/gleich 13 kPa und ‧Messgenauigkeit‧ kleiner (besser) als ± 130 Pa.

Technische Anmerkung:

‧Messgenauigkeit‧ im Sinne der Nummer 2B230 schließt Nichtlinearität, Hysterese und Reproduzierbarkeit bei Umgebungstemperatur ein.

2B231Vakuumpumpen mit allen folgenden Eigenschaften:

| a) | Ansaugdurchmesser größer/gleich 380 mm; |
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a)

Ansaugdurchmesser größer/gleich 380 mm;

| b) | Saugvermögen größer/gleich 15 m3/s und |
| --- | --- |

b)

Saugvermögen größer/gleich 15 m3/s und

| c) | geeignet zur Erzeugung eines Endvakuumdrucks kleiner als 13 mPa. |
| --- | --- |

c)

geeignet zur Erzeugung eines Endvakuumdrucks kleiner als 13 mPa.

Technische Anmerkungen:

| 1. | Das Saugvermögen wird am Messpunkt mit Stickstoffgas oder Luft bestimmt. |
| --- | --- |

1.

Das Saugvermögen wird am Messpunkt mit Stickstoffgas oder Luft bestimmt.

| 2. | Der Endvakuumdruck wird an der geschlossenen Saugseite der Pumpe bestimmt. |
| --- | --- |

2.

Der Endvakuumdruck wird an der geschlossenen Saugseite der Pumpe bestimmt.

2B232Mehrkammer-Leichtgaskanonen oder andere Hochgeschwindigkeitsbeschleunigungssysteme (spulenartige, elektromagnetische und elektrothermische Typen und andere fortgeschrittene Systeme), die Projektile auf Geschwindigkeiten größer/gleich 2 km/s beschleunigen können.

2B350Chemische Herstellungseinrichtungen, Apparate und Bestandteile wie folgt:

| a) | Reaktionsbehälter oder Reaktoren, mit oder ohne Rührer, mit einem inneren (geometrischen) Gesamtvolumen größer als 0,1 m3 (100 l) und kleiner als 20 m3 (20 000 l), bei denen die medienberührenden Flächen ganz aus einem der folgenden Werkstoffe bestehen:






  1. | Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und 20 Gew.-% Chrom, |
| --- | --- | --- |

a)

Reaktionsbehälter oder Reaktoren, mit oder ohne Rührer, mit einem inneren (geometrischen) Gesamtvolumen größer als 0,1 m3 (100 l) und kleiner als 20 m3 (20 000 l), bei denen die medienberührenden Flächen ganz aus einem der folgenden Werkstoffe bestehen:

1.

Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und 20 Gew.-% Chrom,

| 2. | Fluorpolymere, |
| --- | --- |

2.

Fluorpolymere,

| 3. | Glas oder Email, |
| --- | --- |

3.

Glas oder Email,

| 4. | Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als 40 Gew.-% Nickel, |
| --- | --- |

4.

Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als 40 Gew.-% Nickel,

| 5. | Tantal oder Tantal-Legierungen, |
| --- | --- |

5.

Tantal oder Tantal-Legierungen,

| 6. | Titan oder Titan-Legierungen oder |
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6.

Titan oder Titan-Legierungen oder

| 7. | Zirkonium oder Zirkonium-Legierungen; |
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7.

Zirkonium oder Zirkonium-Legierungen;

| b) | Rührer für die Verwendung in den von Unternummer 2B350a erfassten Reaktionskesseln oder Reaktoren sowie für solche Rührer konstruierte Rührflügel, Rührblätter und Rührwellen, bei denen die medienberührenden Flächen ganz aus einem der folgenden Werkstoffe bestehen:






  1. | Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und 20 Gew.-% Chrom, |
| --- | --- | --- |

b)

Rührer für die Verwendung in den von Unternummer 2B350a erfassten Reaktionskesseln oder Reaktoren sowie für solche Rührer konstruierte Rührflügel, Rührblätter und Rührwellen, bei denen die medienberührenden Flächen ganz aus einem der folgenden Werkstoffe bestehen:

1.

Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und 20 Gew.-% Chrom,

| 2. | Fluorpolymere, |
| --- | --- |

2.

Fluorpolymere,

| 3. | Glas oder Email, |
| --- | --- |

3.

Glas oder Email,

| 4. | Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als 40 Gew.-% Nickel, |
| --- | --- |

4.

Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als 40 Gew.-% Nickel,

| 5. | Tantal oder Tantal-Legierungen, |
| --- | --- |

5.

Tantal oder Tantal-Legierungen,

| 6. | Titan oder Titan-Legierungen oder |
| --- | --- |

6.

Titan oder Titan-Legierungen oder

| 7. | Zirkonium oder Zirkonium-Legierungen; |
| --- | --- |

7.

Zirkonium oder Zirkonium-Legierungen;

| c) | Lagertanks, Container oder Vorlagen mit einem inneren (geometrischen) Gesamtvolumen größer als 0,1 m3 (100 l), bei denen die medienberührenden Flächen ganz aus einem der folgenden Werkstoffe bestehen:






  1. | Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und 20 Gew.-% Chrom, |
| --- | --- | --- |

c)

Lagertanks, Container oder Vorlagen mit einem inneren (geometrischen) Gesamtvolumen größer als 0,1 m3 (100 l), bei denen die medienberührenden Flächen ganz aus einem der folgenden Werkstoffe bestehen:

1.

Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und 20 Gew.-% Chrom,

| 2. | Fluorpolymere, |
| --- | --- |

2.

Fluorpolymere,

| 3. | Glas oder Email, |
| --- | --- |

3.

Glas oder Email,

| 4. | Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als 40 Gew.-% Nickel, |
| --- | --- |

4.

Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als 40 Gew.-% Nickel,

| 5. | Tantal oder Tantal-Legierungen, |
| --- | --- |

5.

Tantal oder Tantal-Legierungen,

| 6. | Titan oder Titan-Legierungen oder |
| --- | --- |

6.

Titan oder Titan-Legierungen oder

| 7. | Zirkonium oder Zirkonium-Legierungen; |
| --- | --- |

7.

Zirkonium oder Zirkonium-Legierungen;

| d) | Wärmetauscher oder Kondensatoren mit einer Wärmeaustauschfläche größer als 0,15 m2 und kleiner als 20 m2 sowie für solche Wärmetauscher oder Kondensatoren konstruierte Rohre, Platten, Coils oder Blöcke, bei denen die medienberührenden Flächen ganz aus einem der foļgenden Werkstoffe bestehen:






  1. | Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und 20 Gew.-% Chrom, |
| --- | --- | --- |

d)

Wärmetauscher oder Kondensatoren mit einer Wärmeaustauschfläche größer als 0,15 m2 und kleiner als 20 m2 sowie für solche Wärmetauscher oder Kondensatoren konstruierte Rohre, Platten, Coils oder Blöcke, bei denen die medienberührenden Flächen ganz aus einem der foļgenden Werkstoffe bestehen:

1.

Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und 20 Gew.-% Chrom,

| 2. | Fluorpolymere, |
| --- | --- |

2.

Fluorpolymere,

| 3. | Glas oder Email, |
| --- | --- |

3.

Glas oder Email,

| 4. | Grafit oder ‧Carbon-Grafit‧, |
| --- | --- |

4.

Grafit oder ‧Carbon-Grafit‧,

| 5. | Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als 40 Gew.-% Nickel, |
| --- | --- |

5.

Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als 40 Gew.-% Nickel,

| 6. | Tantal oder Tantal-Legierungen, |
| --- | --- |

6.

Tantal oder Tantal-Legierungen,

| 7. | Titan oder Titan-Legierungen, |
| --- | --- |

7.

Titan oder Titan-Legierungen,

| 8. | Zirkonium oder Zirkonium-Legierungen, |
| --- | --- |

8.

Zirkonium oder Zirkonium-Legierungen,

| 9. | Siliziumcarbid oder |
| --- | --- |

9.

Siliziumcarbid oder

| 10. | Titancarbid; |
| --- | --- |

10.

Titancarbid;

| e) | Destillations- oder Absorptionskolonnen mit einem inneren Durchmesser größer als 0,1 m sowie für solche Destillations- oder Absorptionskolonnen konstruierte Flüssigkeitsverteiler, Dampfverteiler oder Flüssigkeitssammler, bei denen die medienberührenden Flächen ganz aus einem der folgenden Werkstoffe bestehen:






  1. | Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und 20 Gew.-% Chrom, |
| --- | --- | --- |

e)

Destillations- oder Absorptionskolonnen mit einem inneren Durchmesser größer als 0,1 m sowie für solche Destillations- oder Absorptionskolonnen konstruierte Flüssigkeitsverteiler, Dampfverteiler oder Flüssigkeitssammler, bei denen die medienberührenden Flächen ganz aus einem der folgenden Werkstoffe bestehen:

1.

Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und 20 Gew.-% Chrom,

| 2. | Fluorpolymere, |
| --- | --- |

2.

Fluorpolymere,

| 3. | Glas oder Email, |
| --- | --- |

3.

Glas oder Email,

| 4. | Grafit oder ‧Carbon-Grafit‧, |
| --- | --- |

4.

Grafit oder ‧Carbon-Grafit‧,

| 5. | Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als 40 Gew.-% Nickel, |
| --- | --- |

5.

Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als 40 Gew.-% Nickel,

| 6. | Tantal oder Tantal-Legierungen, |
| --- | --- |

6.

Tantal oder Tantal-Legierungen,

| 7. | Titan oder Titan-Legierungen oder |
| --- | --- |

7.

Titan oder Titan-Legierungen oder

| 8. | Zirkonium oder Zirkonium-Legierungen; |
| --- | --- |

8.

Zirkonium oder Zirkonium-Legierungen;

| f) | fernbedienbare Abfülleinrichtungen, bei denen die medienberührenden Flächen ganz aus einem der folgenden Werkstoffe bestehen:






  1. | Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und 20 Gew.-% Chrom oder |
| --- | --- | --- |

f)

fernbedienbare Abfülleinrichtungen, bei denen die medienberührenden Flächen ganz aus einem der folgenden Werkstoffe bestehen:

1.

Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und 20 Gew.-% Chrom oder

| 2. | Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als 40 Gew.-% Nickel; |
| --- | --- |

2.

Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als 40 Gew.-% Nickel;

| g) | Ventile mit einer Nennweite größer als 10 mm sowie für solche Ventile konstruierte Ventilgehäuse oder vorgeformte Gehäuseverkleidungen, bei denen die medienberührenden Flächen ganz aus einem der folgenden Werkstoffe bestehen:






  1. | Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und 20 Gew.-% Chrom, |
| --- | --- | --- |

g)

Ventile mit einer Nennweite größer als 10 mm sowie für solche Ventile konstruierte Ventilgehäuse oder vorgeformte Gehäuseverkleidungen, bei denen die medienberührenden Flächen ganz aus einem der folgenden Werkstoffe bestehen:

1.

Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und 20 Gew.-% Chrom,

| 2. | Fluorpolymere, |
| --- | --- |

2.

Fluorpolymere,

| 3. | Glas oder Email, |
| --- | --- |

3.

Glas oder Email,

| 4. | Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als 40 Gew.-% Nickel, |
| --- | --- |

4.

Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als 40 Gew.-% Nickel,

| 5. | Tantal oder Tantal-Legierungen, |
| --- | --- |

5.

Tantal oder Tantal-Legierungen,

| 6. | Titan oder Titan-Legierungen oder |
| --- | --- |

6.

Titan oder Titan-Legierungen oder

| 7. | Zirkonium oder Zirkonium-Legierungen; |
| --- | --- |

7.

Zirkonium oder Zirkonium-Legierungen;

| h) | Mehrwandige Rohre mit Leckdetektor-Anschluss, bei denen die medienberührenden Flächen ganz aus einem der folgenden Werkstoffe bestehen:






  1. | Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und 20 Gew.-% Chrom, |
| --- | --- | --- |

h)

Mehrwandige Rohre mit Leckdetektor-Anschluss, bei denen die medienberührenden Flächen ganz aus einem der folgenden Werkstoffe bestehen:

1.

Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und 20 Gew.-% Chrom,

| 2. | Fluorpolymere, |
| --- | --- |

2.

Fluorpolymere,

| 3. | Glas oder Email, |
| --- | --- |

3.

Glas oder Email,

| 4. | Grafit oder "Carbon-Grafit", |
| --- | --- |

4.

Grafit oder "Carbon-Grafit",

| 5. | Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als 40 Gew.-% Nickel, |
| --- | --- |

5.

Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als 40 Gew.-% Nickel,

| 6. | Tantal oder Tantal-Legierungen, |
| --- | --- |

6.

Tantal oder Tantal-Legierungen,

| 7. | Titan oder Titan-Legierungen oder |
| --- | --- |

7.

Titan oder Titan-Legierungen oder

| 8. | Zirkonium oder Zirkonium-Legierungen; |
| --- | --- |

8.

Zirkonium oder Zirkonium-Legierungen;

| i) | Pumpen mit Mehrfachdichtung, Spaltrohrmotorpumpen, Magnetkupplungspumpen, Faltenbalgpumpen oder Membranpumpen mit einer vom Hersteller angegebenen maximalen Förderleistung größer als 0,6 m3/h oder Vakuumpumpen mit einer vom Hersteller angegebenen maximalen Förderleistung größer als 5 m3/h (jeweils unter Standard-Bedingungen von 273 K (0 °C) und 101,3 kPa) sowie für solche Pumpen konstruierte Pumpengehäuse, vorgeformte Gehäuseauskleidungen, Laufräder, Rotoren oder Strahlpumpendüsen, bei denen die medienberührenden Flächen ganz aus einem der folgenden Werkstoffe bestehen:






  1. | Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und 20 Gew.-% Chrom, |
| --- | --- | --- |

i)

Pumpen mit Mehrfachdichtung, Spaltrohrmotorpumpen, Magnetkupplungspumpen, Faltenbalgpumpen oder Membranpumpen mit einer vom Hersteller angegebenen maximalen Förderleistung größer als 0,6 m3/h oder Vakuumpumpen mit einer vom Hersteller angegebenen maximalen Förderleistung größer als 5 m3/h (jeweils unter Standard-Bedingungen von 273 K (0 °C) und 101,3 kPa) sowie für solche Pumpen konstruierte Pumpengehäuse, vorgeformte Gehäuseauskleidungen, Laufräder, Rotoren oder Strahlpumpendüsen, bei denen die medienberührenden Flächen ganz aus einem der folgenden Werkstoffe bestehen:

1.

Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und 20 Gew.-% Chrom,

| 2. | Keramik, |
| --- | --- |

2.

Keramik,

| 3. | Ferrosiliziumguss, |
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3.

Ferrosiliziumguss,

| 4. | Fluorpolymere, |
| --- | --- |

4.

Fluorpolymere,

| 5. | Glas oder Email, |
| --- | --- |

5.

Glas oder Email,

| 6. | Grafit oder ‧Carbon-Grafit‧, |
| --- | --- |

6.

Grafit oder ‧Carbon-Grafit‧,

| 7. | Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als 40 Gew.-% Nickel, |
| --- | --- |

7.

Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als 40 Gew.-% Nickel,

| 8. | Tantal oder Tantal-Legierungen, |
| --- | --- |

8.

Tantal oder Tantal-Legierungen,

| 9. | Titan oder Titan-Legierungen oder |
| --- | --- |

9.

Titan oder Titan-Legierungen oder

| 10. | Zirkonium oder Zirkonium-Legierungen; |
| --- | --- |

10.

Zirkonium oder Zirkonium-Legierungen;

| j) | Verbrennungseinrichtungen, entwickelt zur Vernichtung der in Nummer 1C350 genannten Substanzen, mit besonders entwickelten Abfall-Zuführungssystemen, speziellen Handhabungseinrichtungen und einer durchschnittlichen Brennraumtemperatur größer als 1 273 K (1 000 °C), wobei die medienberührenden Flächen des Zuführungssystems ganz aus einem der folgenden Werkstoffe bestehen:






  1. | Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und 20 Gew.-% Chrom, |
| --- | --- | --- |

j)

Verbrennungseinrichtungen, entwickelt zur Vernichtung der in Nummer 1C350 genannten Substanzen, mit besonders entwickelten Abfall-Zuführungssystemen, speziellen Handhabungseinrichtungen und einer durchschnittlichen Brennraumtemperatur größer als 1 273 K (1 000 °C), wobei die medienberührenden Flächen des Zuführungssystems ganz aus einem der folgenden Werkstoffe bestehen:

1.

Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und 20 Gew.-% Chrom,

| 2. | Keramik oder |
| --- | --- |

2.

Keramik oder

| 3. | Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als 40 Gew.-% Nickel. |
| --- | --- |

3.

Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als 40 Gew.-% Nickel.

Technische Anmerkung:

‧Carbon-Grafit‧ besteht aus amorphem Kohlenstoff und Grafit, wobei der Grafitgehalt 8 Gew.-% oder mehr beträgt.

2B351Systeme zur Feststellung oder Überwachung toxischer Gase, wie folgt, sowie dafür bestimmte Detektoren:

| a) | entwickelt für den kontinuierlichen Betrieb und verwendbar für die Detektion von chemischen Kampfstoffen oder den in Nummer 1C350 genannten Substanzen unterhalb einer Konzentration von 0,3 mg/m3
  oder |
| --- | --- |

a)

entwickelt für den kontinuierlichen Betrieb und verwendbar für die Detektion von chemischen Kampfstoffen oder den in Nummer 1C350 genannten Substanzen unterhalb einer Konzentration von 0,3 mg/m3
  oder

| b) | entwickelt für die Detektion cholinesterase-hemmender Wirkung. |
| --- | --- |

b)

entwickelt für die Detektion cholinesterase-hemmender Wirkung.

2B352Ausrüstung, geeignet zur Handhabung biologischer Stoffe, wie folgt:

| a) | Vollständige biologische Sicherheitsbereiche, ausgestattet nach den Richtlinien für die Sicherheitsstufen P3 oder P4;
  Technische Anmerkung:

  Die Sicherheitsstufen P3 oder P4 (BL3, BL4, L3, L4) entsprechen der Definition im WHO-Handbuch "Laboratory Biosafety" (2.Auflage, Genf 1993). |
| --- | --- |

a)

Vollständige biologische Sicherheitsbereiche, ausgestattet nach den Richtlinien für die Sicherheitsstufen P3 oder P4;

Technische Anmerkung:

Die Sicherheitsstufen P3 oder P4 (BL3, BL4, L3, L4) entsprechen der Definition im WHO-Handbuch "Laboratory Biosafety" (2.Auflage, Genf 1993).

| b) | Fermenter, geeignet zur Kultivierung pathogener "Mikroorganismen" oder Viren oder geeignet zur Erzeugung von "Toxinen", ohne Aerosolfreisetzung, mit einer Gesamtkapazität größer/gleich 20 l;
  Technische Anmerkung:

  Fermenter schließen Bioreaktoren, Chemostate und kontinuierliche Fermentationssysteme ein. |
| --- | --- |

b)

Fermenter, geeignet zur Kultivierung pathogener "Mikroorganismen" oder Viren oder geeignet zur Erzeugung von "Toxinen", ohne Aerosolfreisetzung, mit einer Gesamtkapazität größer/gleich 20 l;

Technische Anmerkung:

Fermenter schließen Bioreaktoren, Chemostate und kontinuierliche Fermentationssysteme ein.

| c) | Zentrifugalseparatoren, geeignet zur kontinuierlichen Trennung ohne Aerosolfreisetzung, mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | Durchflussrate größer als 100 l/h, |
| --- | --- | --- |

c)

Zentrifugalseparatoren, geeignet zur kontinuierlichen Trennung ohne Aerosolfreisetzung, mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

Durchflussrate größer als 100 l/h,

| 2. | Bestandteile aus poliertem Edelstahl oder Titan, |
| --- | --- |

2.

Bestandteile aus poliertem Edelstahl oder Titan,

| 3. | Ein- oder Mehrfachdichtung im Dampfsterilisationsbereich und |
| --- | --- |

3.

Ein- oder Mehrfachdichtung im Dampfsterilisationsbereich und

| 4. | geeignet zur In-situ-Sterilisation im geschlossenen Zustand; |
| --- | --- |

4.

geeignet zur In-situ-Sterilisation im geschlossenen Zustand;

Technische Anmerkung:

Zentrifugalseparatoren schließen Dekanter ein.

| d) | Ausrüstung, geeignet zur Handhabung biologischer Stoffe, wie folgt:






  1. | Kreuz-(Tangential-) stromfilterAusrüstung, geeignet zur Abtrennung von pathogenen Mikroorganismen, Viren, Toxinen oder Zellkulturen ohne Aerosolfreisetzung, mit beiden folgenden Eigenschaften:






  a) | Gesamtfilterfläche größer/gleich 1 m2
  und |
| --- | --- | --- | --- |

d)

Ausrüstung, geeignet zur Handhabung biologischer Stoffe, wie folgt:

1.

Kreuz-(Tangential-) stromfilterAusrüstung, geeignet zur Abtrennung von pathogenen Mikroorganismen, Viren, Toxinen oder Zellkulturen ohne Aerosolfreisetzung, mit beiden folgenden Eigenschaften:

a)

Gesamtfilterfläche größer/gleich 1 m2
  und

| b) | geeignet zur In-situ-Sterilisation oder zur In-situ-Desinfektion;
  Technische Anmerkung:

  Im Sinne von Unternummer 2B352d1b bezeichnet ‧Sterilisation‧ die Entfernung aller vermehrungsfähigen Mikroben von der Ausrüstung durch die Verwendung physikalischer (z. B. Dampf) oder chemischer Agenzien.‧Desinfektion‧ bezeichnet die Zerstörung der potenziellen mikrobiellen Infektiösität der Ausrüstung durch die Verwendung chemischer Agenzien mit germiziden Effekten. Desinfektion und Sterilisation unterscheiden sich von der Sanitisation. Die Sanitisation bezieht sich auf Reinigungsoperationen, die entwickelt wurden, um die Menge des mikrobiellen Materials auf der Ausrüstung zu verringern ohne notwendigerweise deren völlige Infektiösität oder Vermehrungsfähigkeit zu beseitigen. |
| --- | --- |

b)

geeignet zur In-situ-Sterilisation oder zur In-situ-Desinfektion;

Technische Anmerkung:

Im Sinne von Unternummer 2B352d1b bezeichnet ‧Sterilisation‧ die Entfernung aller vermehrungsfähigen Mikroben von der Ausrüstung durch die Verwendung physikalischer (z. B. Dampf) oder chemischer Agenzien.‧Desinfektion‧ bezeichnet die Zerstörung der potenziellen mikrobiellen Infektiösität der Ausrüstung durch die Verwendung chemischer Agenzien mit germiziden Effekten. Desinfektion und Sterilisation unterscheiden sich von der Sanitisation. Die Sanitisation bezieht sich auf Reinigungsoperationen, die entwickelt wurden, um die Menge des mikrobiellen Materials auf der Ausrüstung zu verringern ohne notwendigerweise deren völlige Infektiösität oder Vermehrungsfähigkeit zu beseitigen.

| 2. | Bestandteile von Kreuz-(Tangential-) stromfiltern (z. B. Module, Elemente, Kassetten, Kartuschen oder Platten) mit einer Filterfläche größer/gleich 0,2 m2 pro Bestandteil und konstruiert für die Verwendung in Kreuz-(Tangential-)-stromfilter-Ausrüstung, die von Unternummer 2B352d1 erfasst wird. |
| --- | --- |

2.

Bestandteile von Kreuz-(Tangential-) stromfiltern (z. B. Module, Elemente, Kassetten, Kartuschen oder Platten) mit einer Filterfläche größer/gleich 0,2 m2 pro Bestandteil und konstruiert für die Verwendung in Kreuz-(Tangential-)-stromfilter-Ausrüstung, die von Unternummer 2B352d1 erfasst wird.

Anmerkung: Unternummer 2B352d erfasst nicht Umkehrosmose-Ausrüstung gemäß Herstellerangaben.

| e) | Dampfsterilisierbare Gefriertrocknungsanlagen mit einer Eiskapazität des Kondensators größer als 10 kg und kleiner als 1 000 kg in 24 Stunden; |
| --- | --- |

e)

Dampfsterilisierbare Gefriertrocknungsanlagen mit einer Eiskapazität des Kondensators größer als 10 kg und kleiner als 1 000 kg in 24 Stunden;

| f) | Schutz- und Containment-Ausrüstungen wie folgt:






  1. | Voll- oder Halbschutzanzüge oder Hauben, die auf die Anbindung an eine externe Luftversorgung angewiesen sind und mit Überdruck betrieben werden,


  Anmerkung: Anzüge, entwickelt für das Tragen mit unabhängigen Atemgeräten, werden von Unternummer 2B352f1 nicht erfasst. |
| --- | --- | --- |

f)

Schutz- und Containment-Ausrüstungen wie folgt:

1.

Voll- oder Halbschutzanzüge oder Hauben, die auf die Anbindung an eine externe Luftversorgung angewiesen sind und mit Überdruck betrieben werden,

Anmerkung: Anzüge, entwickelt für das Tragen mit unabhängigen Atemgeräten, werden von Unternummer 2B352f1 nicht erfasst.

| 2. | biologische Sicherheitswerkbänke der Klasse III oder Isolatoren mit ähnlichen Leistungsmerkmalen;


  Anmerkung: Die in Unternummer 2B352f2 genannten Isolatoren schließen flexible Isolatoren, Trockenkästen (dry boxes), Kästen für anaerobe Arbeiten, Handschuharbeitskästen und Hauben mit laminarer Strömung (geschlossen mit vertikaler Strömung) ein. |
| --- | --- |

2.

biologische Sicherheitswerkbänke der Klasse III oder Isolatoren mit ähnlichen Leistungsmerkmalen;

Anmerkung: Die in Unternummer 2B352f2 genannten Isolatoren schließen flexible Isolatoren, Trockenkästen (dry boxes), Kästen für anaerobe Arbeiten, Handschuharbeitskästen und Hauben mit laminarer Strömung (geschlossen mit vertikaler Strömung) ein.

| g) | Aerosolprüfkammern mit einem Volumen größer/gleich 1 m3, konstruiert für Aerosoleignungsprüfungen von "Mikroorganismen", Viren oder "Toxinen". |
| --- | --- |

g)

Aerosolprüfkammern mit einem Volumen größer/gleich 1 m3, konstruiert für Aerosoleignungsprüfungen von "Mikroorganismen", Viren oder "Toxinen".

2CWerkstoffe und Materialien

Kein Eintrag.

2DDatenverarbeitungsprogramme (Software)

2D001"Software", andere als von Nummer 2D002 erfasst, besonders entwickelt oder geändert für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" von Ausrüstung, die von Nummer 2A001 oder 2B001 bis 2B009 erfasst wird.

2D002"Software" für elektronische Bauteile, auch wenn sie in einem elektronischen Bauteil oder System dauerhaft gespeichert ist, die solche Bauteile oder Systeme zu Funktionen einer "numerischen Steuerung" befähigt, die mehr als vier interpolierende Achsen simultan zur "Bahnsteuerung" koordinieren kann.

Anmerkung 1: Nummer 2D002 erfasst keine "Software", besonders entwickelt oder geändert zur Verwendung in nicht von Kategorie 2 erfassten Werkzeugmaschinen.

Anmerkung 2: Nummer 2D002 erfasst keine "Software" für Maschinen, die von Nummer 2B002 erfasst werden. Zur Erfassung von "Software" für MRF-Maschinen: Siehe Nummer 2D001.

2D101"Software", besonders entwickelt oder geändert für die "Verwendung" von Ausrüstung, erfasst von Nummer 2B104, 2B105, 2B109, 2B116, 2B117 oder 2B119 bis 2B122.

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 9D004.

2D201"Software", besonders entwickelt für die "Verwendung" von Ausrüstung, erfasst von Nummer 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B219 oder 2B227.

2D202"Software", besonders entwickelt oder geändert für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" von Ausrüstung, erfasst von Nummer 2B201.

2ETechnologie

2E001"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Entwicklung" von Ausrüstung oder "Software", die von Nummer 2A, 2B oder 2D erfasst wird.

2E002"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Herstellung" von Ausrüstung, die von Nummer 2A oder 2B erfasst wird.

2E003"Technologie" wie folgt:

| a) | "Technologie" für die "Entwicklung" von interaktiver Grafik als integraler Bestandteil "numerischer Steuerungen" zur Vorbereitung oder Änderung von Teileprogrammen; |
| --- | --- |

a)

"Technologie" für die "Entwicklung" von interaktiver Grafik als integraler Bestandteil "numerischer Steuerungen" zur Vorbereitung oder Änderung von Teileprogrammen;

| b) | "Technologie" für metallbearbeitende Fertigungsverfahren wie folgt:






  1. | "Technologie" für den Entwurf von Werkzeugen, Gesenken oder Spannvorrichtungen, besonders entwickelt für eines der folgenden Verfahren:






  a) | "superplastisches Umformen", |
| --- | --- | --- | --- |

b)

"Technologie" für metallbearbeitende Fertigungsverfahren wie folgt:

1.

"Technologie" für den Entwurf von Werkzeugen, Gesenken oder Spannvorrichtungen, besonders entwickelt für eines der folgenden Verfahren:

a)

"superplastisches Umformen",

| b) | "Diffusionsschweißen"oder |
| --- | --- |

b)

"Diffusionsschweißen"oder

| c) | "hydrostatisches Umformen mit direkter Druckbeaufschlagung", |
| --- | --- |

c)

"hydrostatisches Umformen mit direkter Druckbeaufschlagung",

| 2. | technische Daten, d.h. Verfahrensbeschreibungen oder Parameter, wie folgt, für die Verfahrenssteuerung:






  a) | "superplastisches Umformen" von Aluminium-, Titan- oder "Superlegierungen":






  1. | Oberflächenbehandlung, |
| --- | --- | --- | --- |

2.

technische Daten, d.h. Verfahrensbeschreibungen oder Parameter, wie folgt, für die Verfahrenssteuerung:

a)

"superplastisches Umformen" von Aluminium-, Titan- oder "Superlegierungen":

1.

Oberflächenbehandlung,

| 2. | Dehngeschwindigkeit, |
| --- | --- |

2.

Dehngeschwindigkeit,

| 3. | Temperatur, |
| --- | --- |

3.

Temperatur,

| 4. | Druck, |
| --- | --- |

4.

Druck,

| b) | "Diffusionsschweißen" von "Superlegierungen" oder Titanlegierungen:






  1. | Oberflächenbehandlung, |
| --- | --- | --- |

b)

"Diffusionsschweißen" von "Superlegierungen" oder Titanlegierungen:

1.

Oberflächenbehandlung,

| 2. | Temperatur, |
| --- | --- |

2.

Temperatur,

| 3. | Druck, |
| --- | --- |

3.

Druck,

| c) | "hydrostatisches Umformen mit direkter Druckbeaufschlagung" von Aluminium- oder Titanlegierungen:






  1. | Druck, |
| --- | --- | --- |

c)

"hydrostatisches Umformen mit direkter Druckbeaufschlagung" von Aluminium- oder Titanlegierungen:

1.

Druck,

| 2. | Dauer des Arbeitsvorgangs, |
| --- | --- |

2.

Dauer des Arbeitsvorgangs,

| d) | "heißisostatisches Verdichten" von Titan-, Aluminium- oder "Superlegierungen":






  1. | Temperatur, |
| --- | --- | --- |

d)

"heißisostatisches Verdichten" von Titan-, Aluminium- oder "Superlegierungen":

1.

Temperatur,

| 2. | Druck, |
| --- | --- |

2.

Druck,

| 3. | Dauer des Arbeitsvorgangs; |
| --- | --- |

3.

Dauer des Arbeitsvorgangs;

| c) | "Technologie" für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von hydraulischen Streckziehpressen und dazugehörigen Formwerkzeugen zur Fertigung von Bauelementen für Flugzeugzellen; |
| --- | --- |

c)

"Technologie" für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von hydraulischen Streckziehpressen und dazugehörigen Formwerkzeugen zur Fertigung von Bauelementen für Flugzeugzellen;

| d) | "Technologie" für die "Entwicklung" von Generatoren für die Erstellung von Steuerbefehlen für Werkzeugmaschinen (z. B. Teileprogramme) aus Konstruktionsdaten innerhalb der "numerischen Steuerungen"; |
| --- | --- |

d)

"Technologie" für die "Entwicklung" von Generatoren für die Erstellung von Steuerbefehlen für Werkzeugmaschinen (z. B. Teileprogramme) aus Konstruktionsdaten innerhalb der "numerischen Steuerungen";

| e) | "Technologie" für die "Entwicklung" von Integrations-"Software" zum Einfügen von "Expertensystemen" in "numerische Steuerungen" zur weit gehenden Unterstützung von Entscheidungen im maschinennahen Bereich; |
| --- | --- |

e)

"Technologie" für die "Entwicklung" von Integrations-"Software" zum Einfügen von "Expertensystemen" in "numerische Steuerungen" zur weit gehenden Unterstützung von Entscheidungen im maschinennahen Bereich;

| f) | "Technologie" für das Aufbringen von anorganischen Auflageschichten oder anorganischen, oberflächen-verändernden Schichten (gemäß Spalte 3 der nachstehenden Tabelle) auf Substrate für nichtelektronische Anwendungen (gemäß Spalte 2 der nachstehenden Tabelle) durch die in Spalte 1 der nachstehenden Tabelle aufgeführten und in der Technischen Anmerkung definierten Verfahren.


  Anmerkung: Tabelle und Technische Anmerkung folgen nach Nummer 2E301. |
| --- | --- |

f)

"Technologie" für das Aufbringen von anorganischen Auflageschichten oder anorganischen, oberflächen-verändernden Schichten (gemäß Spalte 3 der nachstehenden Tabelle) auf Substrate für nichtelektronische Anwendungen (gemäß Spalte 2 der nachstehenden Tabelle) durch die in Spalte 1 der nachstehenden Tabelle aufgeführten und in der Technischen Anmerkung definierten Verfahren.

Anmerkung: Tabelle und Technische Anmerkung folgen nach Nummer 2E301.

2E101"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Verwendung" von Ausrüstung oder "Software", erfasst von Nummer 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116, 2B119 bis 2B122 oder 2D101.

2E201"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Verwendung" von Ausrüstung oder "Software", erfasst von Nummer 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, Unternummer 2B007b oder 2B007c, Nummer 2B008, 2B009, 2B201 bis 2B232, 2D201 oder 2D202.

2E301"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Verwendung" von Waren, erfasst von Nummer 2B350 bis 2B352.

Tabelle

Abscheidungsverfahren

| 1. | Beschichtungsverfahren (1) (2) |
| --- | --- |

1.

Beschichtungsverfahren (1) (2)

| 2. | Substrat |
| --- | --- |

2.

Substrat

| 3. | Schichten |
| --- | --- |

3.

Schichten

| A) | Chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD-Beschichten) |
| --- | --- |

A)

Chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD-Beschichten)

"Superlegierungen"

Aluminide für Innenbeschichtungen

Keramik (19) und Glas mit niedriger Wärmeausdehnung (14)

Silicide

Carbide

Dielektrische Schichten (15)

Diamant

Diamantartiger Kohlenstoff (17)

Kohlenstoff-Kohlenstoff-, Keramik- und Metall-"Matrix"-"Verbundwerkstoffe"

Silicide

Carbide

Hochschmelzende Metalle

Mischschichten daraus (4)

Dielektrische Schichten (15)

Aluminide

Legierte Aluminide (2)

Bornitrid

Gesintertes Wolframcarbid (16), Siliciumcarbid (18)

Carbide

Wolfram

Mischschichten daraus (4)

Dielektrische Schichten (15)

Molybdän und Molybdänlegierungen

Dielektrische Schichten (15)

Beryllium und Berylliumlegierungen

Dielektrische Schichten (15)

Diamant

Diamantartiger Kohlenstoff (17)

Werkstoffe für Sensorenfenster (9)

Dielektrische Schichten (15)

Diamant

Diamantartiger Kohlenstoff (17)

| B) | Physikalische Beschichtung aus der Gasphase (PVD-Beschichten) durch thermisches Verdampfen (TE-PVD) |
| --- | --- |

B)

Physikalische Beschichtung aus der Gasphase (PVD-Beschichten) durch thermisches Verdampfen (TE-PVD)

| B) 1. | PVD-Beschichten mittels Elektronenstrahl (EB-PVD) |
| --- | --- |

B) 1.

PVD-Beschichten mittels Elektronenstrahl (EB-PVD)

"Superlegierungen"

Legierte Silicide

Legierte Aluminide (2)

MCrAlX (5)

modifiziertes Zirkoniumdioxid (12)

Silicide

Aluminide

Mischschichten daraus (4)

Keramik (19) und Glas mit niedriger Wärmeausdehnung (14)

Dielektrische Schichten (15)

Korrosionsbeständiger Stahl (7)

MCrAlX (5)

Modifiziertes Zirkoniumdioxid (12)

Mischschichten daraus (4)

Kohlenstoff-Kohlenstoff-, Keramik- und Metall-"Matrix"-"Verbundwerkstoffe"

Silicide

Carbide

Hochschmelzende Metalle

Mischschichten daraus (4)

Dielektrische Schichten (15)

Bornitrid

Gesintertes Wolframcarbid (16), Siliciumcarbid (18)

Carbide

Wolfram

Mischschichten daraus (4)

Dielektrische Schichten (15)

Molybdän und Molybdänlegierungen

Dielektrische Schichten (15)

Beryllium und Berylliumlegierungen

Dielektrische Schichten (15)

Boride

Beryllium

Werkstoffe für Sensorenfenster (9)

Dielektrische Schichten (15)

Titanlegierungen (13)

Boride

Nitride

| B) 2. | Ionenunterstütztes PVD-Beschichten mittels Widerstandsheizung (PVD-Ionenplattieren) |
| --- | --- |

B) 2.

Ionenunterstütztes PVD-Beschichten mittels Widerstandsheizung (PVD-Ionenplattieren)

Keramik (19) und Glas mit niedriger Wärmeausdehnung (14)

Dielektrische Schichten (15)

Diamantartiger Kohlenstoff (17)

Kohlenstoff-Kohlenstoff-, Keramik- und Metall-"Matrix"-"Verbundwerkstoffe"

Dielektrische Schichten (15)

Gesintertes Wolframcarbid (16), Siliciumcarbid

Dielektrische Schichten (15)

Molybdän und Molybdänlegierungen

Dielektrische Schichten (15)

Beryllium und Berylliumlegierungen

Dielektrische Schichten (15)

Werkstoffe für Sensorenfenster (9)

Dielektrische Schichten (15)

Diamantartiger Kohlenstoff (17)

| B) 3. | PVD-Beschichten: "Laser"-Verdampfung |
| --- | --- |

B) 3.

PVD-Beschichten: "Laser"-Verdampfung

Keramik (19) und Glas mit niedriger Wärmeausdehnung (14)

Silicide

Dielektrische Schichten (15)

Diamantartiger Kohlenstoff (17)

Kohlenstoff-Kohlenstoff-, Keramik- und Metall-"Matrix"-"Verbundwerkstoffe"

Dielektrische Schichten (15)

Gesintertes Wolframcarbid (16), Siliciumcarbid

Dielektrische Schichten (15)

Molybdän und Molybdänlegierungen

Dielektrische Schichten (15)

Beryllium und Berylliumlegierungen

Dielektrische Schichten (15)

Werkstoffe für Sensorenfenster (9)

Dielektrische Schichten (15)

Diamantartiger Kohlenstoff

| B) 4. | Physikalische Abscheidung aus der Gasphase (PVD): Kathodenzerstäubung durch Bogenentladung (Arc-Verdampfen) |
| --- | --- |

B) 4.

Physikalische Abscheidung aus der Gasphase (PVD): Kathodenzerstäubung durch Bogenentladung (Arc-Verdampfen)

"Superlegierungen"

Legierte Silicide

Legierte Aluminide (2)

MCrAlX (5)

Polymere (11) und "Verbundwerkstoffe" mit organischer "Matrix"

Boride

Carbide

Nitride

Diamantartiger Kohlenstoff (17)

| C) | Pack-Beschichten (Pack-Beschichten ohne direkten Pulverkontakt (out-of-pack) (10): Siehe oben unter A) |
| --- | --- |

C)

Pack-Beschichten (Pack-Beschichten ohne direkten Pulverkontakt (out-of-pack) (10): Siehe oben unter A)

Kohlenstoff-Kohlenstoff-, Keramik- und Metall-"Matrix"-"Verbundwerkstoffe"

Silicide

Carbide

Mischschichten daraus (4)

Titanlegierungen (13)

Silicide

Aluminide

Legierte Aluminide (2)

Hochschmelzende Metalle und Legierungen (8)

Silicide

Oxide

| D) | Plasmaspritzen |
| --- | --- |

D)

Plasmaspritzen

"Superlegierungen"

MCrAlX (5)

Modifiziertes Zirkoniumdioxid (12)

Mischschichten daraus (4)

Nickel-Grafit-Einlaufbeläge

Ni-Cr-Al-haltige Einlaufbeläge

Al-Si-Polyester-Einlaufbeläge Legierte Aluminide (2)

Aluminiumlegierungen (6)

MCrAlX (5)

Modifiziertes Zirkoniumdioxid (12)

Silicide

Mischschichten daraus (4)

Hochschmelzende Metalle und Legierungen (8)

Aluminide

Silicide

Carbide

Korrosionsbeständiger Stahl (7)

MCrAlX (5)

Modifiziertes Zirkoniumdioxid (12)

Mischschichten daraus (4)

Titanlegierungen (13)

Carbide

Aluminide

Legierte Aluminide (2)

Nickel-Grafit-Einlaufbeläge

Ni-Cr-Al-haltige

Einlaufbeläge

Al-Si-Polyester-Einlaufbeläge

Polyester

| E) | Schlickerbeschichten |
| --- | --- |

E)

Schlickerbeschichten

Hochschmelzende Metalle und Legierungen (8)

Aufgeschmolzene Silicide

Aufgeschmolzene Aluminide, ausgenommen für Widerstandsheizelemente

Kohlenstoff-Kohlenstoff-, Keramik- und Metall-"Matrix"-"Verbundwerkstoffe"

Silicide

Carbide

Mischschichten daraus (4)

| F) | Kathodenzerstäubungsbeschichtung (Sputtern/Aufstäuben) |
| --- | --- |

F)

Kathodenzerstäubungsbeschichtung (Sputtern/Aufstäuben)

"Superlegierungen"

Legierte Silicide

Legierte Aluminide (2)

Mit Edelmetallen modifizierte Aluminide (3)

MCrAlX (5)

Modifiziertes Zirkoniumdioxid (12)

Platin

Mischschichten daraus (4)

Keramik und Glas mit niedriger Wärmeausdehnung (14)

Silicide

Platin

Mischschichten daraus (4)

Dielektrische Schichten (15)

Diamantartiger Kohlenstoff (17)

Titanlegierungen (13)

Boride

Nitride

Oxide

Silicide

Aluminide

Legierte Aluminide (2)

Carbide

Kohlenstoff-Kohlenstoff-, Keramik- und Metall-"Matrix"-"Verbundwerkstoffe"

Silicide

Carbide

Hochschmelzende Metalle

Mischschichten daraus (4)

Dielektrische Schichten (15)

Bornitrid

Gesintertes Wolframcarbid (16), Siliciumcarbid (18)

Carbide

Wolfram

Mischschichten daraus (4)

Dielektrische Schichten (15)

Bornitrid

Molybdän und Molybdänlegierungen

Dielektrische Schichten (15)

Beryllium und Berylliumlegierungen

Boride

Dielektrische Schichten (15)

Beryllium

Werkstoffe für Sensorenfenster (9)

Dielektrische Schichten (15)

Diamantartiger Kohlenstoff (17)

Hochschmelzende Metalle und Legierungen (8)

Aluminide

Silicide

Oxide

Carbide

| G) | Ionenimplantation |
| --- | --- |

G)

Ionenimplantation

Hochwarmfeste Lagerstähle

Zusatz von Chrom, Tantal oder Niob (Columbium)

Titanlegierungen (13)

Boride

Nitride

Beryllium und Berylliumlegierungen

Boride

Gesintertes Wolframcarbid (16)

Carbide

Nitride

Anmerkungen zur Tabelle — Abscheidungsverfahren:

| 1. | Die ‧Beschichtungsverfahren‧ schließen das Ausbessern und Erneuern von Schichten ebenso ein wie die Originalbeschichtung. |
| --- | --- |

1.

Die ‧Beschichtungsverfahren‧ schließen das Ausbessern und Erneuern von Schichten ebenso ein wie die Originalbeschichtung.

| 2. | ‧Legierte Aluminid‧-Beschichtung schließt das Beschichten nach Einzel- oder Mehrschrittverfahren ein, bei denen ein oder mehrere Elemente vor oder während des Aufbringens der Aluminid-Schicht abgeschieden werden, selbst wenn diese Elemente nach einem anderen Beschichtungsverfahren aufgebracht werden. Es schließt jedoch nicht die mehrfache Anwendung von Einzelschritt-Packbeschichtungsverfahren zur Erzielung von legierten Aluminidschichten ein. |
| --- | --- |

2.

‧Legierte Aluminid‧-Beschichtung schließt das Beschichten nach Einzel- oder Mehrschrittverfahren ein, bei denen ein oder mehrere Elemente vor oder während des Aufbringens der Aluminid-Schicht abgeschieden werden, selbst wenn diese Elemente nach einem anderen Beschichtungsverfahren aufgebracht werden. Es schließt jedoch nicht die mehrfache Anwendung von Einzelschritt-Packbeschichtungsverfahren zur Erzielung von legierten Aluminidschichten ein.

| 3. | ‧Mit Edelmetallen modifizierte Aluminid‧-Beschichtung schließt die Mehrschrittbeschichtungen ein, bei denen das Edelmetall oder die Edelmetalle vor der Aluminidschicht durch ein anderes Beschichtungsverfahren aufgebracht wird/werden. |
| --- | --- |

3.

‧Mit Edelmetallen modifizierte Aluminid‧-Beschichtung schließt die Mehrschrittbeschichtungen ein, bei denen das Edelmetall oder die Edelmetalle vor der Aluminidschicht durch ein anderes Beschichtungsverfahren aufgebracht wird/werden.

| 4. | Der Ausdruck ‧Mischungen daraus‧ schließt infiltrierten Werkstoff, abgestufte Zusammensetzungen, Simultanabscheidungen und Mehrschichten-Abscheidungen ein. Sie werden durch Anwendung eines oder mehrerer der in der Tabelle aufgeführten Beschichtungsverfahren hergestellt. |
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4.

Der Ausdruck ‧Mischungen daraus‧ schließt infiltrierten Werkstoff, abgestufte Zusammensetzungen, Simultanabscheidungen und Mehrschichten-Abscheidungen ein. Sie werden durch Anwendung eines oder mehrerer der in der Tabelle aufgeführten Beschichtungsverfahren hergestellt.

| 5. | ‧MCrAlX‧ bezieht sich auf eine Beschichtungslegierung, bei der‧M‧ für Cobalt, Eisen, Nickel oder Kombinationen aus diesen Elementen und ‧X‧ für Hafnium, Yttrium, Silicium, Tantal in jeder gewünschten Menge oder für sonstige beabsichtigte Zusätze über 0,01 Masseprozent in unterschiedlichen Verhältnissen und Mischungen steht, ausgenommen






  a) | CoCrAlY-Schichten, die weniger als 22 Masseprozent Chrom, weniger als 7 Masseprozent Aluminium und weniger als 2 Masseprozent Yttrium enthalten, |
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5.

‧MCrAlX‧ bezieht sich auf eine Beschichtungslegierung, bei der‧M‧ für Cobalt, Eisen, Nickel oder Kombinationen aus diesen Elementen und ‧X‧ für Hafnium, Yttrium, Silicium, Tantal in jeder gewünschten Menge oder für sonstige beabsichtigte Zusätze über 0,01 Masseprozent in unterschiedlichen Verhältnissen und Mischungen steht, ausgenommen

a)

CoCrAlY-Schichten, die weniger als 22 Masseprozent Chrom, weniger als 7 Masseprozent Aluminium und weniger als 2 Masseprozent Yttrium enthalten,

| b) | CoCrAlY-Schichten, die 22 bis 24 Masseprozent Chrom, 10 bis 12 Masseprozent Aluminium und 0,5 bis 0,7 Masseprozent Yttrium enthalten oder |
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b)

CoCrAlY-Schichten, die 22 bis 24 Masseprozent Chrom, 10 bis 12 Masseprozent Aluminium und 0,5 bis 0,7 Masseprozent Yttrium enthalten oder

| c) | NiCrAlY-Schichten, die 21 bis 23 Masseprozent Chrom, 10 bis 12 Masseprozent Aluminium und 0,9 bis 1,1 Masseprozent Yttrium enthalten. |
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c)

NiCrAlY-Schichten, die 21 bis 23 Masseprozent Chrom, 10 bis 12 Masseprozent Aluminium und 0,9 bis 1,1 Masseprozent Yttrium enthalten.

| 6. | ‧Aluminiumlegierungen‧ beziehen sich auf Legierungen mit einer Zugfestigkeit von 190 MPa oder mehr, gemessen bei einer Temperatur von 293 K (20 °C). |
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6.

‧Aluminiumlegierungen‧ beziehen sich auf Legierungen mit einer Zugfestigkeit von 190 MPa oder mehr, gemessen bei einer Temperatur von 293 K (20 °C).

| 7. | ‧Korrosionsbeständige Stähle‧ beziehen sich auf Stähle der AISI-Nummernreihe 300 (AISI = American Iron and Steel Institute) oder Stähle vergleichbarer nationaler Normen. |
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7.

‧Korrosionsbeständige Stähle‧ beziehen sich auf Stähle der AISI-Nummernreihe 300 (AISI = American Iron and Steel Institute) oder Stähle vergleichbarer nationaler Normen.

| 8. | ‧Hochschmelzende Metalle und Legierungen‧ schließen die folgenden Metalle und ihre Legierungen ein: Niob (Columbium), Molybdän, Wolfram und Tantal. |
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8.

‧Hochschmelzende Metalle und Legierungen‧ schließen die folgenden Metalle und ihre Legierungen ein: Niob (Columbium), Molybdän, Wolfram und Tantal.

| 9. | ‧Werkstoffe für Sensorenfenster‧ wie folgt: Aluminiumoxid, Silicium, Germanium, Zinksulfid, Zinkselenid, Galliumarsenid, Diamant, Galliumphosphid, Saphir und die folgenden Metallhalogenide: Werkstoffe für Sensorenfenster mit einem Durchmesser von mehr als 40 mm bei Zirkoniumfluorid und Hafniumfluorid. |
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9.

‧Werkstoffe für Sensorenfenster‧ wie folgt: Aluminiumoxid, Silicium, Germanium, Zinksulfid, Zinkselenid, Galliumarsenid, Diamant, Galliumphosphid, Saphir und die folgenden Metallhalogenide: Werkstoffe für Sensorenfenster mit einem Durchmesser von mehr als 40 mm bei Zirkoniumfluorid und Hafniumfluorid.

| 10. | Kategorie 2 erfasst nicht die "Technologie" für das Pack-Beschichten im Einzelschrittverfahren von massiven Turbinenschaufelblättern. |
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10.

Kategorie 2 erfasst nicht die "Technologie" für das Pack-Beschichten im Einzelschrittverfahren von massiven Turbinenschaufelblättern.

| 11. | ‧Polymere‧ wie folgt: Polyimid, Polyester, Polysulfid, Polycarbonate und Polyurethane. |
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11.

‧Polymere‧ wie folgt: Polyimid, Polyester, Polysulfid, Polycarbonate und Polyurethane.

| 12. | ‧Modifiziertes Zirkoniumdioxid‧ bezieht sich auf Zirkoniumdioxid mit Zusätzen von anderen Metalloxiden (z.B. Calciumoxid, Magnesiumoxid, Yttriumoxid, Hafniumoxid, Seltenerdoxide) zur Stabilisierung bestimmter Kristallphasen und Phasenzusammensetzungen. Wärmedämmschichten aus Zirkoniumdioxid, das durch Mischung oder Verschmelzung mit Calciumoxid oder Magnesiumoxid modifiziert wurde, werden nicht erfasst. |
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12.

‧Modifiziertes Zirkoniumdioxid‧ bezieht sich auf Zirkoniumdioxid mit Zusätzen von anderen Metalloxiden (z.B. Calciumoxid, Magnesiumoxid, Yttriumoxid, Hafniumoxid, Seltenerdoxide) zur Stabilisierung bestimmter Kristallphasen und Phasenzusammensetzungen. Wärmedämmschichten aus Zirkoniumdioxid, das durch Mischung oder Verschmelzung mit Calciumoxid oder Magnesiumoxid modifiziert wurde, werden nicht erfasst.

| 13. | ‧Titanlegierungen‧ beziehen sich nur auf in der Luft- und Raumfahrt verwendete Legierungen, die über eine Zugfestigkeit von 900 MPa oder mehr verfügen, gemessen bei einer Temperatur von 293 K (20 °C). |
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13.

‧Titanlegierungen‧ beziehen sich nur auf in der Luft- und Raumfahrt verwendete Legierungen, die über eine Zugfestigkeit von 900 MPa oder mehr verfügen, gemessen bei einer Temperatur von 293 K (20 °C).

| 14. | ‧Glas mit niedriger Wärmeausdehnung‧ bezieht sich auf Glas mit einem Wärmeausdehnungskoeffizienten von 1 × 10 –7 K–1 oder weniger, gemessen bei einer Temperatur von 293 K (20 °C). |
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14.

‧Glas mit niedriger Wärmeausdehnung‧ bezieht sich auf Glas mit einem Wärmeausdehnungskoeffizienten von 1 × 10 –7 K–1 oder weniger, gemessen bei einer Temperatur von 293 K (20 °C).

| 15. | ‧Dielektrische Schichten‧ sind Mehrfachschichten aus Isolierstoffen, wobei die Interferenzeigenschaften eines Schichtsystems, das aus Werkstoffen mit unterschiedlichem Brechungsindex besteht, zur Reflexion, Transmission oder Absorption von Wellen verschiedener Längenbereiche verwendet werden. ‧Dielektrische Schichten‧ bestehen aus mehr als vier dielektrischen Lagen oder mehr als vier Dielektrikum/Metall-"Verbundwerkstoff"lagen. |
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15.

‧Dielektrische Schichten‧ sind Mehrfachschichten aus Isolierstoffen, wobei die Interferenzeigenschaften eines Schichtsystems, das aus Werkstoffen mit unterschiedlichem Brechungsindex besteht, zur Reflexion, Transmission oder Absorption von Wellen verschiedener Längenbereiche verwendet werden. ‧Dielektrische Schichten‧ bestehen aus mehr als vier dielektrischen Lagen oder mehr als vier Dielektrikum/Metall-"Verbundwerkstoff"lagen.

| 16. | ‧Gesintertes Wolframcarbid‧ bezieht sich nicht auf Werkstoffe für Schneid- und Formwerkzeuge aus Wolframcarbid/(Cobalt, Nickel), Titancarbid/(Cobalt, Nickel), Chromcarbid/Nickel-Chrom und Chromcarbid/Nickel. |
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16.

‧Gesintertes Wolframcarbid‧ bezieht sich nicht auf Werkstoffe für Schneid- und Formwerkzeuge aus Wolframcarbid/(Cobalt, Nickel), Titancarbid/(Cobalt, Nickel), Chromcarbid/Nickel-Chrom und Chromcarbid/Nickel.

| 17. | "Technologie", besonders entwickelt zum Abscheiden von diamantartigem Kohlenstoff auf den folgenden Gegenständen, unterliegt nicht der Ausfuhrgenehmigungspflicht: | Festplatten und Festplattenköpfe, Ausrüstung für die Herstellung von Einwegartikeln, Ventile für Wasserhähne, Lautsprechermembranen, Teile für Automobilmotoren, spangebende Werkzeuge, Stanz- und Presswerkzeuge, Ausrüstung für Büroautomation, Mikrofone, medizinische Geräte oder Formen für das Gießen oder Spritzen von Plastik, wenn sie aus Legierungen hergestellt sind, die weniger als 5 % Beryllium enthalten. |
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17.

"Technologie", besonders entwickelt zum Abscheiden von diamantartigem Kohlenstoff auf den folgenden Gegenständen, unterliegt nicht der Ausfuhrgenehmigungspflicht:

Festplatten und Festplattenköpfe, Ausrüstung für die Herstellung von Einwegartikeln, Ventile für Wasserhähne, Lautsprechermembranen, Teile für Automobilmotoren, spangebende Werkzeuge, Stanz- und Presswerkzeuge, Ausrüstung für Büroautomation, Mikrofone, medizinische Geräte oder Formen für das Gießen oder Spritzen von Plastik, wenn sie aus Legierungen hergestellt sind, die weniger als 5 % Beryllium enthalten.

| 18. | ‧Siliciumcarbid‧ schließt nicht Materialien für spanende und umformende Werkzeuge ein. |
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18.

‧Siliciumcarbid‧ schließt nicht Materialien für spanende und umformende Werkzeuge ein.

| 19. | Keramiksubstrate, wie sie in dieser Position benutzt werden, beinhalten nicht Keramikmaterialien mit einem Anteil größer/gleich 5 Gew.-% an Lehm oder Bindemittel als separater Bestandteil oder als Kombination. |
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19.

Keramiksubstrate, wie sie in dieser Position benutzt werden, beinhalten nicht Keramikmaterialien mit einem Anteil größer/gleich 5 Gew.-% an Lehm oder Bindemittel als separater Bestandteil oder als Kombination.

Die in Spalte 1 der Tabelle angegebenen Verfahren sind wie folgt definiert:

| a) | Chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD-Beschichten) ist ein Verfahren zum Aufbringen von Auflageschichten oder oberflächenverändernden Schichten, bei dem ein Metall, eine Legierung, ein "Verbundwerkstoff", ein Dielektrikum oder Keramik auf einem erhitzten Substrat abgeschieden wird. Gasförmige Reaktanten werden im oberflächennahen Bereich eines Substrats zersetzt oder verbunden, wobei der gewünschte Schichtstoff als Element, Legierung oder Verbindung auf dem Substrat abgeschieden wird. Die für die Zersetzung oder chemische Reaktion benötigte Energie wird entweder durch die Hitze des Substrats, durch die elektrische Entladung in einem Glimmlichtplasma oder durch "Laser"strahlen geliefert.


  Anmerkung 1: Das CVD-Beschichten schließt folgende Verfahren ein: Abscheidung mittels gerichtetem Gasfluss ohne direkten Pulverkontakt des Substrats (out of pack), CVD-Beschichten mit pulsierendem Druck, thermische Zersetzung mit geregelter Keimbildung (CNTD), plasmaverstärktes oder -unterstütztes CVD-Beschichten.



  Anmerkung 2: Pack-Beschichten bedeutet, dass ein Substrat in ein Pulvergemisch eingebettet wird.



  Anmerkung 3: Die beim Out-of-Pack-Verfahren verwendeten gasförmigen Reaktanten werden mit denselben Hauptreaktionen und Parametern erzeugt wie beim Pack-Beschichten, mit der Ausnahme, dass das zu beschichtende Substrat keinen Kontakt mit dem Pulvergemisch hat. |
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a)

Chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD-Beschichten) ist ein Verfahren zum Aufbringen von Auflageschichten oder oberflächenverändernden Schichten, bei dem ein Metall, eine Legierung, ein "Verbundwerkstoff", ein Dielektrikum oder Keramik auf einem erhitzten Substrat abgeschieden wird. Gasförmige Reaktanten werden im oberflächennahen Bereich eines Substrats zersetzt oder verbunden, wobei der gewünschte Schichtstoff als Element, Legierung oder Verbindung auf dem Substrat abgeschieden wird. Die für die Zersetzung oder chemische Reaktion benötigte Energie wird entweder durch die Hitze des Substrats, durch die elektrische Entladung in einem Glimmlichtplasma oder durch "Laser"strahlen geliefert.

Anmerkung 1: Das CVD-Beschichten schließt folgende Verfahren ein: Abscheidung mittels gerichtetem Gasfluss ohne direkten Pulverkontakt des Substrats (out of pack), CVD-Beschichten mit pulsierendem Druck, thermische Zersetzung mit geregelter Keimbildung (CNTD), plasmaverstärktes oder -unterstütztes CVD-Beschichten.

Anmerkung 2: Pack-Beschichten bedeutet, dass ein Substrat in ein Pulvergemisch eingebettet wird.

Anmerkung 3: Die beim Out-of-Pack-Verfahren verwendeten gasförmigen Reaktanten werden mit denselben Hauptreaktionen und Parametern erzeugt wie beim Pack-Beschichten, mit der Ausnahme, dass das zu beschichtende Substrat keinen Kontakt mit dem Pulvergemisch hat.

| b) | Physikalische Beschichtung aus der Gasphase durch thermisches Verdampfen (TE-PVD = thermal evaporation physical vapour deposition) ist ein Beschichtungsverfahren zur Herstellung von Auflageschichten in einem Vakuum bei einem Druck von weniger als 0,1 Pa, wobei Wärmeenergie zum Verdampfen des Schichtwerkstoffes eingesetzt wird. Bei diesem Verfahren wird das dampfförmige Beschichtungsmaterial durch Kondensation oder Abscheidung auf entsprechend positionierten Substraten aufgebracht.
  Die Zufuhr von Gasen in die Vakuumkammer während des Beschichtungsvorgangs zum Zwecke der Synthese von zusammengesetzten Schichten ist eine übliche Variante dieses Verfahrens.
  Die Verwendung von Ionen- oder Elektronenstrahlen oder von Plasma zur Einleitung oder Förderung des Abscheidungsvorgangs ist ebenfalls eine übliche Variante dieses Verfahrens. Der Einsatz von Monitoren zur Messung der optischen Eigenschaften und der Schichtdicke während des Beschichtungsvorgangs kann ein Merkmal dieser Verfahren sein.
  Spezifische TE-PVD-Verfahren sind folgende:






  1. | Beim PVD-Beschichten mittels Elektronenstrahl wird das Beschichtungsmaterial mittels Elektronenstrahl erhitzt und verdampft. |
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b)

Physikalische Beschichtung aus der Gasphase durch thermisches Verdampfen (TE-PVD = thermal evaporation physical vapour deposition) ist ein Beschichtungsverfahren zur Herstellung von Auflageschichten in einem Vakuum bei einem Druck von weniger als 0,1 Pa, wobei Wärmeenergie zum Verdampfen des Schichtwerkstoffes eingesetzt wird. Bei diesem Verfahren wird das dampfförmige Beschichtungsmaterial durch Kondensation oder Abscheidung auf entsprechend positionierten Substraten aufgebracht.

Die Zufuhr von Gasen in die Vakuumkammer während des Beschichtungsvorgangs zum Zwecke der Synthese von zusammengesetzten Schichten ist eine übliche Variante dieses Verfahrens.

Die Verwendung von Ionen- oder Elektronenstrahlen oder von Plasma zur Einleitung oder Förderung des Abscheidungsvorgangs ist ebenfalls eine übliche Variante dieses Verfahrens. Der Einsatz von Monitoren zur Messung der optischen Eigenschaften und der Schichtdicke während des Beschichtungsvorgangs kann ein Merkmal dieser Verfahren sein.

Spezifische TE-PVD-Verfahren sind folgende:

1.

Beim PVD-Beschichten mittels Elektronenstrahl wird das Beschichtungsmaterial mittels Elektronenstrahl erhitzt und verdampft.

| 2. | Beim PVD-Beschichten mittels ionenunterstützter Widerstandsheizung werden Heizquellen mit elektrischem Widerstand in Kombination mit auftreffendem(n) Ionenstrahl(en) verwendet, mit dem ein kontrollierter und gleichmäßiger Fluss aus verdampftem Beschichtungsmaterial erzeugt wird. |
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2.

Beim PVD-Beschichten mittels ionenunterstützter Widerstandsheizung werden Heizquellen mit elektrischem Widerstand in Kombination mit auftreffendem(n) Ionenstrahl(en) verwendet, mit dem ein kontrollierter und gleichmäßiger Fluss aus verdampftem Beschichtungsmaterial erzeugt wird.

| 3. | Bei der "Laser"-Verdampfung werden zum Verdampfen des Beschichtungsmaterials Impuls"laser" oder Dauerstrich-"Laser" verwendet. |
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3.

Bei der "Laser"-Verdampfung werden zum Verdampfen des Beschichtungsmaterials Impuls"laser" oder Dauerstrich-"Laser" verwendet.

| 4. | Bei der Kathodenzerstäubung durch Bogenentladung (Arc-Verdampfen) wird eine selbstverzehrende Kathode verwendet, die aus dem Beschichtungsmaterial besteht. Dabei wird durch den Momentkontakt einer geerdeten Zündelektrode auf der Kathodenoberfläche eine Lichtbogenentladung ausgelöst. Durch die kontrollierte Bewegung des Lichtbogens wird die Kathodenoberfläche abgetragen, wobei ein hochionisiertes Plasma entsteht. Als Anode kann entweder ein am Rande der Kathode über einem Isolator angebrachter Kegel oder die Kammer selbst verwendet werden. Bei nicht geradliniger Abscheidung wird an das Substrat eine Vorspannung angelegt.


  Anmerkung: Diese Definition beinhaltet nicht die Kathodenzerstäubungsabscheidung mit unkontrollierter Bogenentladung und Substraten ohne Vorspannung. |
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4.

Bei der Kathodenzerstäubung durch Bogenentladung (Arc-Verdampfen) wird eine selbstverzehrende Kathode verwendet, die aus dem Beschichtungsmaterial besteht. Dabei wird durch den Momentkontakt einer geerdeten Zündelektrode auf der Kathodenoberfläche eine Lichtbogenentladung ausgelöst. Durch die kontrollierte Bewegung des Lichtbogens wird die Kathodenoberfläche abgetragen, wobei ein hochionisiertes Plasma entsteht. Als Anode kann entweder ein am Rande der Kathode über einem Isolator angebrachter Kegel oder die Kammer selbst verwendet werden. Bei nicht geradliniger Abscheidung wird an das Substrat eine Vorspannung angelegt.

Anmerkung: Diese Definition beinhaltet nicht die Kathodenzerstäubungsabscheidung mit unkontrollierter Bogenentladung und Substraten ohne Vorspannung.

| 5. | Ionenplattieren ist eine spezielle Variante eines allgemeinen TE-PVD-Verfahrens, bei dem ein Plasma oder eine Ionenquelle zur Ionisierung des Beschichtungsmaterials verwendet und an das Substrat eine negative Vorspannung angelegt wird, um die Abscheidung des Beschichtungsmaterials aus dem Plasma zu fördern. Die Einbringung von reaktiven Stoffen, die Verdampfung von Feststoffen im Reaktionsbehälter und der Einsatz von Monitoren zur Messung der optischen Eigenschaften und der Schichtdicke während des Beschichtungsvorgangs sind übliche Varianten dieses Verfahrens. |
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5.

Ionenplattieren ist eine spezielle Variante eines allgemeinen TE-PVD-Verfahrens, bei dem ein Plasma oder eine Ionenquelle zur Ionisierung des Beschichtungsmaterials verwendet und an das Substrat eine negative Vorspannung angelegt wird, um die Abscheidung des Beschichtungsmaterials aus dem Plasma zu fördern. Die Einbringung von reaktiven Stoffen, die Verdampfung von Feststoffen im Reaktionsbehälter und der Einsatz von Monitoren zur Messung der optischen Eigenschaften und der Schichtdicke während des Beschichtungsvorgangs sind übliche Varianten dieses Verfahrens.

| c) | Pack-Beschichten ist ein Verfahren zur Herstellung von oberflächenverändernden Schichten oder Auflageschichten, bei dem das Substrat in ein Pulvergemisch eingebettet wird, das aus folgenden Stoffen besteht:






  1. | den Metallpulvern, die abgeschieden werden sollen (normalerweise Aluminium, Chrom, Silicium oder Gemische daraus), |
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c)

Pack-Beschichten ist ein Verfahren zur Herstellung von oberflächenverändernden Schichten oder Auflageschichten, bei dem das Substrat in ein Pulvergemisch eingebettet wird, das aus folgenden Stoffen besteht:

1.

den Metallpulvern, die abgeschieden werden sollen (normalerweise Aluminium, Chrom, Silicium oder Gemische daraus),

| 2. | einem Aktivator (normalerweise ein Halogenid) und |
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2.

einem Aktivator (normalerweise ein Halogenid) und

| 3. | einem inerten Pulver, in der Regel Aluminiumoxid. |
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3.

einem inerten Pulver, in der Regel Aluminiumoxid.

Das Substrat und das Pulvergemisch befinden sich in einer Retorte, die auf eine Temperatur zwischen 1 030 K (757 °C) und 1 375 K (1 102 °C) erhitzt wird, wobei die Haltezeit ausreichend bemessen sein muss, um die Beschichtung abzuscheiden.

| d) | Plasmaspritzen ist ein Verfahren zur Herstellung von Auflageschichten, wobei mit einer Plasmaspritzpistole, die ein Plasma erzeugt und regelt, Spritzwerkstoffe in Pulver- oder Drahtform aufgenommen, aufgeschmolzen und auf die Oberfläche des Substrats geschleudert werden. Dabei entsteht auf dem Substrat eine homogene, gut haftende Schicht. Plasmaspritzen bezieht sich auf Niederdruckplasmaspritzen oder Hochgeschwindigkeitsplasmaspritzen.


  Anmerkung 1 Niederdruck bezeichnet einen Druck unterhalb des normalen Atmosphärendrucks.



  Anmerkung 2 Hochgeschwindigkeit bezieht sich auf eine Gasgeschwindigkeit am Düsenaustritt von mehr als 750 m/s, bei einer Temperatur von 293 K (20 °C) und einem Druck von 0,1 MPa. |
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d)

Plasmaspritzen ist ein Verfahren zur Herstellung von Auflageschichten, wobei mit einer Plasmaspritzpistole, die ein Plasma erzeugt und regelt, Spritzwerkstoffe in Pulver- oder Drahtform aufgenommen, aufgeschmolzen und auf die Oberfläche des Substrats geschleudert werden. Dabei entsteht auf dem Substrat eine homogene, gut haftende Schicht. Plasmaspritzen bezieht sich auf Niederdruckplasmaspritzen oder Hochgeschwindigkeitsplasmaspritzen.

Anmerkung 1 Niederdruck bezeichnet einen Druck unterhalb des normalen Atmosphärendrucks.

Anmerkung 2 Hochgeschwindigkeit bezieht sich auf eine Gasgeschwindigkeit am Düsenaustritt von mehr als 750 m/s, bei einer Temperatur von 293 K (20 °C) und einem Druck von 0,1 MPa.

| e) | Schlickerbeschichten (Aufbringen von Schichten durch Aufschlämmen) ist ein Verfahren zur Herstellung von oberflächenverändernden Schichten oder Auflageschichten, bei dem ein Metall- oder Keramikpulver zusammen mit einem organischen Binder in einer Flüssigkeit suspendiert und durch Aufspritzen, Tauchen oder Aufpinseln auf ein Substrat aufgebracht wird. Die gewünschte Schicht wird anschließend durch Luft- oder Ofentrocknung und Wärmebehandlung gebildet. |
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e)

Schlickerbeschichten (Aufbringen von Schichten durch Aufschlämmen) ist ein Verfahren zur Herstellung von oberflächenverändernden Schichten oder Auflageschichten, bei dem ein Metall- oder Keramikpulver zusammen mit einem organischen Binder in einer Flüssigkeit suspendiert und durch Aufspritzen, Tauchen oder Aufpinseln auf ein Substrat aufgebracht wird. Die gewünschte Schicht wird anschließend durch Luft- oder Ofentrocknung und Wärmebehandlung gebildet.

| f) | Kathodenzerstäubungsbeschichtung (Sputtern/Aufstäuben) ist ein Verfahren zur Herstellung von Auflageschichten, das auf dem Prinzip der Impulsübertragung beruht. Dabei werden positiv geladene Ionen mit Hilfe eines elektrischen Feldes auf die Oberfläche eines Targets (Beschichtungsmaterial) geschossen. Die Bewegungsenergie der auftreffenden Ionen reicht aus, um Atome aus der Oberfläche des Targets herauszulösen, die sich auf einem entsprechend angebrachten Substrat niederschlagen.


  Anmerkung 1: Die Tabelle bezieht sich ausschließlich auf das Abscheiden mittels Trioden- oder Magnetronanlagen oder reaktivem Aufstäuben, wodurch die Haftfestigkeit der Schicht und die Beschichtungsrate erhöht werden, sowie auf das beschleunigte Aufstäuben mittels einer am Target anliegenden HF-Spannung, wodurch nichtmetallische Schichtwerkstoffe zerstäubt werden können.



  Anmerkung 2: Ionenstrahlen mit niedriger Energie (weniger als 5 keV) können verwendet werden, um die Abscheidung zu aktivieren. |
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f)

Kathodenzerstäubungsbeschichtung (Sputtern/Aufstäuben) ist ein Verfahren zur Herstellung von Auflageschichten, das auf dem Prinzip der Impulsübertragung beruht. Dabei werden positiv geladene Ionen mit Hilfe eines elektrischen Feldes auf die Oberfläche eines Targets (Beschichtungsmaterial) geschossen. Die Bewegungsenergie der auftreffenden Ionen reicht aus, um Atome aus der Oberfläche des Targets herauszulösen, die sich auf einem entsprechend angebrachten Substrat niederschlagen.

Anmerkung 1: Die Tabelle bezieht sich ausschließlich auf das Abscheiden mittels Trioden- oder Magnetronanlagen oder reaktivem Aufstäuben, wodurch die Haftfestigkeit der Schicht und die Beschichtungsrate erhöht werden, sowie auf das beschleunigte Aufstäuben mittels einer am Target anliegenden HF-Spannung, wodurch nichtmetallische Schichtwerkstoffe zerstäubt werden können.

Anmerkung 2: Ionenstrahlen mit niedriger Energie (weniger als 5 keV) können verwendet werden, um die Abscheidung zu aktivieren.

| g) | Ionenimplantation ist ein oberflächenveränderndes Beschichtungsverfahren, bei dem das zu legierende Element ionisiert, durch ein Spannungsgefälle beschleunigt und in die Oberfläche des Substrats implantiert wird. Dies schließt Verfahren ein, bei denen neben der Ionenimplantation gleichzeitig das PVD-Beschichten mittels Elektronenstrahl und das Sputtern/Aufstäuben zur Anwendung kommen. |
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g)

Ionenimplantation ist ein oberflächenveränderndes Beschichtungsverfahren, bei dem das zu legierende Element ionisiert, durch ein Spannungsgefälle beschleunigt und in die Oberfläche des Substrats implantiert wird. Dies schließt Verfahren ein, bei denen neben der Ionenimplantation gleichzeitig das PVD-Beschichten mittels Elektronenstrahl und das Sputtern/Aufstäuben zur Anwendung kommen.

KATEGORIE 3

ALLGEMEINE ELEKTRONIK

3ASysteme, Ausrüstung und Bestandteile

Anmerkung1: Die Erfassung der in den Nummern 3A001 oder 3A002 - ohne die Unternummern 3A001a3 bis 3A001a10 oder 3A001a12 - beschriebenen Ausrüstung, Baugruppen und Bauelemente, die besonders konstruiert sind oder dieselben Funktionsmerkmale wie andere Waren aufweisen, richtet sich nach deren Erfassungsstatus.

Anmerkung2: Die Erfassung der in den Unternummern 3A001a3 bis 3A001a9 oder 3A001a12 beschriebenen integrierten Schaltungen, die festprogrammiert sind oder für eine bestimmte Funktion entwickelt wurden, richtet sich nach dem Erfassungsstatus der Waren, in denen sie verwendet werden.

Ergänzende Anmerkung: Wenn der Hersteller oder Ausführer den Erfassungsstatus der anderen für die Endbenutzung vorgesehenen Ware nicht festlegen kann, richtet sich die Erfassung der integrierten Schaltungen nach den Unternummern 3A001a3 bis 3A001a9 oder 3A001a12. Ist die integrierte Schaltung aus Silizium und ein "Mikrocomputer" oder Mikrocontroller gemäß Unternummer 3A001a3 mit einer Datenwortlänge von kleiner/gleich 8 bit, gelten die Grenzwerte von Unternummer 3A001a3.

3A001Elektronische Bauelemente und Baugruppen wie folgt:

| a) | integrierte Schaltungen für allgemeine Anwendungen wie folgt:


  Anmerkung1: Die Erfassung von (fertigen oder noch nicht fertigen) Wafern, deren Funktion festliegt, richtet sich nach den Parametern von Unternummer 3A001a.



  Anmerkung2: Zu den integrierten Schaltungen gehören:







  — | "monolithisch integrierte Schaltungen", |
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a)

integrierte Schaltungen für allgemeine Anwendungen wie folgt:

Anmerkung1: Die Erfassung von (fertigen oder noch nicht fertigen) Wafern, deren Funktion festliegt, richtet sich nach den Parametern von Unternummer 3A001a.

Anmerkung2: Zu den integrierten Schaltungen gehören:

—

"monolithisch integrierte Schaltungen",

| — | "integrierte Hybrid-Schaltungen", |
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—

"integrierte Hybrid-Schaltungen",

| — | "integrierte Multichip-Schaltungen", |
| --- | --- |

—

"integrierte Multichip-Schaltungen",

| — | "integrierte Schichtschaltungen" einschließlich integrierter Schaltungen in SOS-Technologie, |
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—

"integrierte Schichtschaltungen" einschließlich integrierter Schaltungen in SOS-Technologie,

| — | "integrierte optische Schaltungen". |
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—

"integrierte optische Schaltungen".

| 1. | integrierte Schaltungen, entwickelt oder ausgelegt für eine der folgenden Strahlungsfestigkeiten:






  a) | Gesamtdosis größer/gleich 5 × 103 Gy (Silizium), |
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1.

integrierte Schaltungen, entwickelt oder ausgelegt für eine der folgenden Strahlungsfestigkeiten:

a)

Gesamtdosis größer/gleich 5 × 103 Gy (Silizium),

| b) | Dosisrate größer/gleich 5 × 106 Gy (Silizium)/s oder |
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b)

Dosisrate größer/gleich 5 × 106 Gy (Silizium)/s oder

| c) | integrierter Teilchenfluss (integrated flux) der Neutronen (1 MeV-Äquivalent) größer/gleich 5 × 1013 n/cm2 bezogen auf Silizium oder der äquivalente Wert für andere Materialien.


  Anmerkung: Unternummer 3A001a1c gilt nicht für Metall/Isolator/Halbleiter-Strukturen (MIS-Strukturen). |
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c)

integrierter Teilchenfluss (integrated flux) der Neutronen (1 MeV-Äquivalent) größer/gleich 5 × 1013 n/cm2 bezogen auf Silizium oder der äquivalente Wert für andere Materialien.

Anmerkung: Unternummer 3A001a1c gilt nicht für Metall/Isolator/Halbleiter-Strukturen (MIS-Strukturen).

| 2. | "Mikroprozessoren", "Mikrocomputer", Mikrocontroller, elektrisch löschbare, programmierbare Festwertspeicher (EEPROMs), Flash-Speicher, statische Speicher (SRAM), aus einem Verbindungshalbleiter hergestellte integrierte Speicherschaltungen, Analog-Digital-Wandler, Digital-Analog-Wandler, elektrooptische oder "integrierte optische Schaltungen" für die "Signaldatenverarbeitung", anwenderprogrammierbare Logikschaltkreise (FPLDs), integrierte Schaltungen für neuronale Netze, kundenspezifische integrierte Schaltungen, deren Funktion oder deren Erfassungsstatus in Bezug auf die Endbenutzergeräte unbekannt ist, oder FFT-Prozessoren (Fast Fourier Transform) mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | ausgelegt für eine Betriebstemperatur über 398 K (+ 125 °C), |
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2.

"Mikroprozessoren", "Mikrocomputer", Mikrocontroller, elektrisch löschbare, programmierbare Festwertspeicher (EEPROMs), Flash-Speicher, statische Speicher (SRAM), aus einem Verbindungshalbleiter hergestellte integrierte Speicherschaltungen, Analog-Digital-Wandler, Digital-Analog-Wandler, elektrooptische oder "integrierte optische Schaltungen" für die "Signaldatenverarbeitung", anwenderprogrammierbare Logikschaltkreise (FPLDs), integrierte Schaltungen für neuronale Netze, kundenspezifische integrierte Schaltungen, deren Funktion oder deren Erfassungsstatus in Bezug auf die Endbenutzergeräte unbekannt ist, oder FFT-Prozessoren (Fast Fourier Transform) mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

ausgelegt für eine Betriebstemperatur über 398 K (+ 125 °C),

| b) | ausgelegt für eine Betriebstemperatur unter 218 K (– 55 °C) oder |
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b)

ausgelegt für eine Betriebstemperatur unter 218 K (– 55 °C) oder

| c) | ausgelegt für einen Bereich von 218 K (– 55 °C) bis 398 K (+ 125 °C), |
| --- | --- |

c)

ausgelegt für einen Bereich von 218 K (– 55 °C) bis 398 K (+ 125 °C),

Anmerkung: Unternummer 3A001a2 gilt nicht für integrierte Schaltungen, die in zivilen Kraftfahrzeugen oder Eisenbahnzügen verwendet werden.

| 3. | "Mikroprozessoren", "Mikrocomputer" und Mikrocontroller mit einer der folgenden Eigenschaften:


  Anmerkung: Unternummer 3A001a3 schließt digitale Signal-Prozessoren, Vektorprozessoren und Coprozessoren ein.







  a) | nicht belegt, |
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3.

"Mikroprozessoren", "Mikrocomputer" und Mikrocontroller mit einer der folgenden Eigenschaften:

Anmerkung: Unternummer 3A001a3 schließt digitale Signal-Prozessoren, Vektorprozessoren und Coprozessoren ein.

a)

nicht belegt,

| b) | hergestellt aus einem Verbindungshalbleiter und mit einer Taktfrequenz größer als 40 MHz oder |
| --- | --- |

b)

hergestellt aus einem Verbindungshalbleiter und mit einer Taktfrequenz größer als 40 MHz oder

| c) | mit mehr als einem Daten- oder Befehlsbus oder mehr als einer seriellen Kommunikationsschnittstelle für die direkte externe Zusammenschaltung paralleler "Mikroprozessoren" mit einer Übertragungsrate größer als 150 Mbyte/s, |
| --- | --- |

c)

mit mehr als einem Daten- oder Befehlsbus oder mehr als einer seriellen Kommunikationsschnittstelle für die direkte externe Zusammenschaltung paralleler "Mikroprozessoren" mit einer Übertragungsrate größer als 150 Mbyte/s,

| 4. | Speicherschaltungen aus einem Verbindungshalbleiter, |
| --- | --- |

4.

Speicherschaltungen aus einem Verbindungshalbleiter,

| 5. | Analog-Digital- und Digital-Analog-Wandlerschaltungen wie folgt:






  a) | Analog-Digital-Wandler mit einer der folgenden Eigenschaften:

  ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 3A101.







  1. | Auflösung größer/gleich 8 bit, aber kleiner als 12 bit, mit einer ‧Gesamtwandlungszeit‧ kleiner als 5 ns, |
| --- | --- | --- | --- |

5.

Analog-Digital- und Digital-Analog-Wandlerschaltungen wie folgt:

a)

Analog-Digital-Wandler mit einer der folgenden Eigenschaften:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 3A101.

1.

Auflösung größer/gleich 8 bit, aber kleiner als 12 bit, mit einer ‧Gesamtwandlungszeit‧ kleiner als 5 ns,

| 2. | Auflösung von 12 bit mit einer ‧Gesamtwandlungszeit‧ kleiner als 20 ns, |
| --- | --- |

2.

Auflösung von 12 bit mit einer ‧Gesamtwandlungszeit‧ kleiner als 20 ns,

| 3. | Auflösung größer als 12 bit, aber kleiner/gleich 14 bit mit einer ‧Gesamtwandlungszeit‧ kleiner als 200 ns oder |
| --- | --- |

3.

Auflösung größer als 12 bit, aber kleiner/gleich 14 bit mit einer ‧Gesamtwandlungszeit‧ kleiner als 200 ns oder

| 4. | Auflösung größer als 14 bit mit einer ‧Gesamtwandlungszeit‧ kleiner als 1 μs, |
| --- | --- |

4.

Auflösung größer als 14 bit mit einer ‧Gesamtwandlungszeit‧ kleiner als 1 μs,

| b) | Digital-Analog-Wandler mit einer Auflösung größer/gleich 12 bit und einer "Einstellzeit" (settling time) kleiner als 10 ns, |
| --- | --- |

b)

Digital-Analog-Wandler mit einer Auflösung größer/gleich 12 bit und einer "Einstellzeit" (settling time) kleiner als 10 ns,

Technische Anmerkungen:

| 1. | Eine Auflösung von n Bit entspricht einer Quantisierung von 2n Zuständen. |
| --- | --- |

1.

Eine Auflösung von n Bit entspricht einer Quantisierung von 2n Zuständen.

| 2. | Die ‧Gesamtwandlungszeit‧ (total conversion time) ist der Kehrwert der Abtastrate (sample rate). |
| --- | --- |

2.

Die ‧Gesamtwandlungszeit‧ (total conversion time) ist der Kehrwert der Abtastrate (sample rate).

| 6. | elektrooptische oder "integrierte optische Schaltungen", entwickelt für die "Signaldatenverarbeitung" mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | mit einer oder mehreren internen "Laser"-Diode(n), |
| --- | --- | --- |

6.

elektrooptische oder "integrierte optische Schaltungen", entwickelt für die "Signaldatenverarbeitung" mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

mit einer oder mehreren internen "Laser"-Diode(n),

| b) | mit einem oder mehreren internen lichtempfindlichen Element(en) und |
| --- | --- |

b)

mit einem oder mehreren internen lichtempfindlichen Element(en) und

| c) | mit optischen Strahlführungselementen, |
| --- | --- |

c)

mit optischen Strahlführungselementen,

| 7. | anwenderprogrammierbare Logikschaltkreise (FPLDs) mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | nutzbares Gatteräquivalent (equivalent usable gate count) größer als 30 000 (Gatter mit zwei Eingängen), |
| --- | --- | --- |

7.

anwenderprogrammierbare Logikschaltkreise (FPLDs) mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

nutzbares Gatteräquivalent (equivalent usable gate count) größer als 30 000 (Gatter mit zwei Eingängen),

| b) | typische "Signallaufzeit des Grundgatters" (basic gate propagation delay time) kleiner als 0,1 ns oder |
| --- | --- |

b)

typische "Signallaufzeit des Grundgatters" (basic gate propagation delay time) kleiner als 0,1 ns oder

| c) | Umschalt-Frequenz (toggle frequency) größer als 133 MHz, |
| --- | --- |

c)

Umschalt-Frequenz (toggle frequency) größer als 133 MHz,

Anmerkung: Unternummer 3A001a7 schließt ein:

| — | SPLDs (Simple Programmable Logic Devices), |
| --- | --- |

—

SPLDs (Simple Programmable Logic Devices),

| — | CPLDs (Complex Programmable Logic Devices), |
| --- | --- |

—

CPLDs (Complex Programmable Logic Devices),

| — | FPGAs (Field Programmable Gate Arrays), |
| --- | --- |

—

FPGAs (Field Programmable Gate Arrays),

| — | FPLAs (Field Programmable Logic Arrays), |
| --- | --- |

—

FPLAs (Field Programmable Logic Arrays),

| — | FPICs (Field Programmable Interconnects). |
| --- | --- |

—

FPICs (Field Programmable Interconnects).

Ergänzende Anmerkung: FPLAs und FPGAs werden auch FPLDs (Field Programmable Logic Devices) genannt.

| 8. | nicht belegt |
| --- | --- |

8.

nicht belegt

| 9. | integrierte Schaltungen für neuronale Netze, |
| --- | --- |

9.

integrierte Schaltungen für neuronale Netze,

| 10. | kundenspezifische integrierte Schaltungen, deren Funktion unbekannt ist oder deren Erfassungsstatus in Bezug auf die Endbenutzergeräte dem Hersteller nicht bekannt ist, mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | mehr als 1 000 Anschlüsse, |
| --- | --- | --- |

10.

kundenspezifische integrierte Schaltungen, deren Funktion unbekannt ist oder deren Erfassungsstatus in Bezug auf die Endbenutzergeräte dem Hersteller nicht bekannt ist, mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

mehr als 1 000 Anschlüsse,

| b) | typische "Signallaufzeit des Grundgatters" (basic gate propagation delay time) kleiner als 0,1 ns oder |
| --- | --- |

b)

typische "Signallaufzeit des Grundgatters" (basic gate propagation delay time) kleiner als 0,1 ns oder

| c) | Betriebsfrequenz größer als 3 GHz, |
| --- | --- |

c)

Betriebsfrequenz größer als 3 GHz,

| 11. | andere als die in den Unternummern 3A001a3 bis 3A001a10 oder 3A001a12 beschriebenen digitalen, integrierten Schaltungen, die auf einem Verbindungshalbleiter basieren und eine der folgenden Eigenschaften aufweisen:






  a) | Gatteräquivalent (equivalent gate count) größer als 3 000 (Gatter mit zwei Eingängen) oder |
| --- | --- | --- |

11.

andere als die in den Unternummern 3A001a3 bis 3A001a10 oder 3A001a12 beschriebenen digitalen, integrierten Schaltungen, die auf einem Verbindungshalbleiter basieren und eine der folgenden Eigenschaften aufweisen:

a)

Gatteräquivalent (equivalent gate count) größer als 3 000 (Gatter mit zwei Eingängen) oder

| b) | Umschalt-Frequenz (toggle frequency) größer als 1,2 GHz, |
| --- | --- |

b)

Umschalt-Frequenz (toggle frequency) größer als 1,2 GHz,

| 12. | FFT-Prozessoren (Fast Fourier Transform), ausgelegt für eine komplexe FFT mit n Punkten in weniger als n × log2n)/20 480 ms;
  Technische Anmerkung:

  Wenn n gleich 1 024 ist, dann ergibt die Formel in 3A001a12 eine Berechnungszeit von 500 μs. |
| --- | --- |

12.

FFT-Prozessoren (Fast Fourier Transform), ausgelegt für eine komplexe FFT mit n Punkten in weniger als n × log2n)/20 480 ms;

Technische Anmerkung:

Wenn n gleich 1 024 ist, dann ergibt die Formel in 3A001a12 eine Berechnungszeit von 500 μs.

| b) | Mikro- oder Millimeterwellenbauelemente oder -baugruppen wie folgt:






  1. | elektronische Vakuumröhren und Kathoden wie folgt:


  Anmerkung 1: Unternummer 3A001b1 erfasst nicht Röhren, entwickelt oder ausgelegt für den Betrieb in einem Frequenzband, das alle folgenden Eigenschaften besitzt:








  a) | Das Frequenzband überschreitet nicht 31,8 GHz und |
| --- | --- | --- | --- |

b)

Mikro- oder Millimeterwellenbauelemente oder -baugruppen wie folgt:

1.

elektronische Vakuumröhren und Kathoden wie folgt:

Anmerkung 1: Unternummer 3A001b1 erfasst nicht Röhren, entwickelt oder ausgelegt für den Betrieb in einem Frequenzband, das alle folgenden Eigenschaften besitzt:

a)

Das Frequenzband überschreitet nicht 31,8 GHz und

| b) | ist "von der ITU zugewiesen" für Funkdienste, jedoch nicht für Ortungsfunkdienste. |
| --- | --- |

b)

ist "von der ITU zugewiesen" für Funkdienste, jedoch nicht für Ortungsfunkdienste.

Anmerkung 2: Unternummer 3A001b1 erfasst keine nicht "weltraumgeeigneten" Röhren, mit allen folgenden Eigenschaften:

| a) | mittlere Ausgangsleistung kleiner/gleich 50 W und |
| --- | --- |

a)

mittlere Ausgangsleistung kleiner/gleich 50 W und

| b) | entwickelt oder ausgelegt für den Betrieb in einem Frequenzband, das alle folgenden Eigenschaften besitzt:








  1. | Das Frequenzband überschreitet 31,8 GHz, aber nicht 43,5 GHz und |
| --- | --- | --- |

b)

entwickelt oder ausgelegt für den Betrieb in einem Frequenzband, das alle folgenden Eigenschaften besitzt:

1.

Das Frequenzband überschreitet 31,8 GHz, aber nicht 43,5 GHz und

| 2. | ist "von der ITU zugewiesen" für Funkdienste, jedoch nicht für Ortungsfunkdienste. |
| --- | --- |

2.

ist "von der ITU zugewiesen" für Funkdienste, jedoch nicht für Ortungsfunkdienste.

| a) | Wanderfeldröhren für Impuls- oder Dauerstrichbetrieb wie folgt:






  1. | Betriebsfrequenz größer als 31,8 GHz, |
| --- | --- | --- |

a)

Wanderfeldröhren für Impuls- oder Dauerstrichbetrieb wie folgt:

1.

Betriebsfrequenz größer als 31,8 GHz,

| 2. | mit einem Kathodenheizelement, das eine Einschaltzeit von weniger als 3 Sekunden bis zum Erreichen der HF-Nennleistung ermöglicht, |
| --- | --- |

2.

mit einem Kathodenheizelement, das eine Einschaltzeit von weniger als 3 Sekunden bis zum Erreichen der HF-Nennleistung ermöglicht,

| 3. | hohlraumgekoppelte oder davon abgeleitete Röhren, mit einer "normierten Bandbreite" größer als 7 % oder einer Spitzenleistung größer als 2,5 kW, |
| --- | --- |

3.

hohlraumgekoppelte oder davon abgeleitete Röhren, mit einer "normierten Bandbreite" größer als 7 % oder einer Spitzenleistung größer als 2,5 kW,

| 4. | Wendelröhren oder davon abgeleitete Röhren mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | "Momentan-Bandbreite" größer als eine Oktave und Produkt der mittleren Leistung (in Kilowatt) und der Frequenz (in Gigahertz) größer als 0,5, |
| --- | --- | --- |

4.

Wendelröhren oder davon abgeleitete Röhren mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

"Momentan-Bandbreite" größer als eine Oktave und Produkt der mittleren Leistung (in Kilowatt) und der Frequenz (in Gigahertz) größer als 0,5,

| b) | "Momentan-Bandbreite" kleiner/gleich eine Oktave und Produkt der mittleren Leistung (in Kilowatt) und der Frequenz (in Gigahertz) größer als 1 oder |
| --- | --- |

b)

"Momentan-Bandbreite" kleiner/gleich eine Oktave und Produkt der mittleren Leistung (in Kilowatt) und der Frequenz (in Gigahertz) größer als 1 oder

| c) | "weltraumgeeignet", |
| --- | --- |

c)

"weltraumgeeignet",

| b) | Cross-Field-Verstärkerröhren mit einem Verstärkungsfaktor größer als 17 dB, |
| --- | --- |

b)

Cross-Field-Verstärkerröhren mit einem Verstärkungsfaktor größer als 17 dB,

| c) | getränkte (impregnated) Kathoden, entwickelt für elektronische Röhren, zur Erzeugung einer Stromdichte größer als 5 A/cm2 bei kontinuierlicher Emission und Nenn-Betriebsbedingungen, |
| --- | --- |

c)

getränkte (impregnated) Kathoden, entwickelt für elektronische Röhren, zur Erzeugung einer Stromdichte größer als 5 A/cm2 bei kontinuierlicher Emission und Nenn-Betriebsbedingungen,

| 2. | monolithisch integrierte Mikrowellen-Leistungsverstärkerschaltungen (MMIC power amplifiers) mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer 3,2 GHz bis einschließlich 6 GHz und mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 4 Watt (36 dBm) bei einer "normierten Bandbreite" (fractional bandwith) größer als 15 |
| --- | --- | --- |

2.

monolithisch integrierte Mikrowellen-Leistungsverstärkerschaltungen (MMIC power amplifiers) mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer 3,2 GHz bis einschließlich 6 GHz und mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 4 Watt (36 dBm) bei einer "normierten Bandbreite" (fractional bandwith) größer als 15

| b) | ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer 6 GHz bis einschließlich 16 GHz und mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 1 Watt (30 dBm) bei einer "normierten Bandbreite" (fractional bandwith) größer als 10 %, |
| --- | --- |

b)

ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer 6 GHz bis einschließlich 16 GHz und mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 1 Watt (30 dBm) bei einer "normierten Bandbreite" (fractional bandwith) größer als 10 %,

| c) | ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer 16 GHz bis einschließlich 31,8 GHz und mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 0,8 Watt (29 dBm) bei einer "normierten Bandbreite" (fractional bandwith) größer als 10 %, |
| --- | --- |

c)

ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer 16 GHz bis einschließlich 31,8 GHz und mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 0,8 Watt (29 dBm) bei einer "normierten Bandbreite" (fractional bandwith) größer als 10 %,

| d) | ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer 31,8 GHz bis einschließlich 37,5 GHz, |
| --- | --- |

d)

ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer 31,8 GHz bis einschließlich 37,5 GHz,

| e) | ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer 37,5 GHz bis einschließlich 43,5 GHz und mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 0,25 Watt (24 dBm) bei einer "normierten Bandbreite" (fractional bandwith) größer als 10 % oder |
| --- | --- |

e)

ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer 37,5 GHz bis einschließlich 43,5 GHz und mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 0,25 Watt (24 dBm) bei einer "normierten Bandbreite" (fractional bandwith) größer als 10 % oder

| f) | ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer als 43,5 GHz, |
| --- | --- |

f)

ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer als 43,5 GHz,

Anmerkung 1: 3A001b2 erfasst nicht Ausrüstung für Rundfunksatelliten, konstruiert oder ausgelegt für den Betrieb im Frequenzbereich von 40,5 GHz bis 42,5 GHz.

Anmerkung 2: Der Erfassungsstatus von MMIC, deren Betriebsfrequenzbereich mehr als einen der in 3A001b2 definierten Frequenzbereiche überstreicht, richtet sich nach dem niedrigsten Grenzwert für die mittlere Ausgangsleistung.

Anmerkung 3: Die Anmerkungen 1 und 2 am Beginn der Kategorie 3 bedeuten, dass die Unternummer 3A001b2 keine MMIC erfasst, die für andere Anwendungen besonders konstruiert sind, wie z. B. Telekommunikation, Radar, Kraftfahrzeuge.

| 3. | Mikrowellentransistoren mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer 3,2 GHz bis einschließlich 6 GHz und mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 60 Watt (47,8 dBm), |
| --- | --- | --- |

3.

Mikrowellentransistoren mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer 3,2 GHz bis einschließlich 6 GHz und mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 60 Watt (47,8 dBm),

| b) | ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer 6 GHz bis einschließlich 31,8 GHz und mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 20 Watt (43 dBm), |
| --- | --- |

b)

ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer 6 GHz bis einschließlich 31,8 GHz und mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 20 Watt (43 dBm),

| c) | ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer 31,8 GHz bis einschließlich 37,5 GHz und mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 0,5 Watt (27 dBm), |
| --- | --- |

c)

ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer 31,8 GHz bis einschließlich 37,5 GHz und mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 0,5 Watt (27 dBm),

| d) | ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer 37,5 GHz bis einschließlich 43,5 GHz und mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 1 Watt (30 dBm) oder |
| --- | --- |

d)

ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer 37,5 GHz bis einschließlich 43,5 GHz und mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 1 Watt (30 dBm) oder

| e) | ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer als 43,5 GHz, |
| --- | --- |

e)

ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer als 43,5 GHz,

Anmerkung: Der Erfassungsstatus von Mikrowellentransistoren, deren Betriebsfrequenzbereich mehr als einen der in 3A001b3 definierten Frequenzbereiche überstreicht, richtet sich nach dem niedrigsten Grenzwert für die mittlere Ausgangsleistung.

| 4. | Halbleitermikrowellenverstärker, Mikrowellenbaugruppen, die Mikrowellenverstärker enthalten, und Mikrowellenmodule, die Mikrowellenverstärker enthalten, mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer 3,2 GHz bis einschließlich 6 GHz und mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 60 Watt (47,8 dBm) bei einer "normierten Bandbreite" (fractional bandwith) größer als 15 %, |
| --- | --- | --- |

4.

Halbleitermikrowellenverstärker, Mikrowellenbaugruppen, die Mikrowellenverstärker enthalten, und Mikrowellenmodule, die Mikrowellenverstärker enthalten, mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer 3,2 GHz bis einschließlich 6 GHz und mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 60 Watt (47,8 dBm) bei einer "normierten Bandbreite" (fractional bandwith) größer als 15 %,

| b) | ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer 6 GHz bis einschließlich 31,8 GHz und mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 15 Watt (42 dBm) bei einer "normierten Bandbreite" (fractional bandwith) größer als 10 %, |
| --- | --- |

b)

ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer 6 GHz bis einschließlich 31,8 GHz und mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 15 Watt (42 dBm) bei einer "normierten Bandbreite" (fractional bandwith) größer als 10 %,

| c) | ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer 31,8 GHz bis einschließlich 37,5 GHz, |
| --- | --- |

c)

ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer 31,8 GHz bis einschließlich 37,5 GHz,

| d) | ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer 37,5 GHz bis einschließlich 43,5 GHz und mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 1 Watt (30 dBm) bei einer "normierten Bandbreite" (fractional bandwith) größer als 10 %, |
| --- | --- |

d)

ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer 37,5 GHz bis einschließlich 43,5 GHz und mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 1 Watt (30 dBm) bei einer "normierten Bandbreite" (fractional bandwith) größer als 10 %,

| e) | ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer als 43,5 GHz oder |
| --- | --- |

e)

ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer als 43,5 GHz oder

| f) | ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer 3 GHz und mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | mittlere Ausgangsleistung P (in Watt) größer als 150 geteilt durch das Quadrat der maximalen Betriebsfrequenz (in GHz) [P150 W*GHz2/fGHz
  2], |
| --- | --- | --- |

f)

ausgelegt für den Betrieb bei Frequenzen größer 3 GHz und mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

mittlere Ausgangsleistung P (in Watt) größer als 150 geteilt durch das Quadrat der maximalen Betriebsfrequenz (in GHz) [P150 W*GHz2/fGHz
  2],

| 2. | „normierte Bandbreite“ größer/gleich 5 % und |
| --- | --- |

2.

„normierte Bandbreite“ größer/gleich 5 % und

| 3. | Länge d (in cm) zweier zueinander rechtwinkliger Seiten kleiner/gleich 15 geteilt durch die kleinste Betriebsfrequenz in GHz [d<15cm*GHz/ fGHz], |
| --- | --- |

3.

Länge d (in cm) zweier zueinander rechtwinkliger Seiten kleiner/gleich 15 geteilt durch die kleinste Betriebsfrequenz in GHz [d<15cm*GHz/ fGHz],

Anmerkung 1: 3A001b4 erfasst nicht Ausrüstung für Rundfunksatelliten, konstruiert oder ausgelegt für den Betrieb im Frequenzbereich von 40,5 GHz bis 42,5 GHz.

Anmerkung 2: Der Erfassungsstatus von Ausrüstung, deren Betriebsfrequenzbereich mehr als einen der in 3A001b4 definierten Frequenzbereiche überstreicht, richtet sich nach dem niedrigsten Grenzwert für die mittlere Ausgangsleistung.

Ergänzende Anmerkung: Monolithisch integrierte Mikrowellen-Leistungsverstärkerschaltungen (MMIC power amplifiers) sind nach den Leistungsmerkmalen der Unternummer 3A001b2 zu bewerten.

| 5. | elektronisch oder magnetisch abstimmbare Bandpassfilter oder Bandsperrfilter mit mehr als fünf abstimmbaren Resonatoren, die in weniger als 10 μs über einen Frequenzbereich im Verhältnis 1,5 : 1 (fmax/fmin) abgestimmt werden können, mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | mit einer Durchlassbandbreite größer als 0,5 % der Mittenfrequenz oder |
| --- | --- | --- |

5.

elektronisch oder magnetisch abstimmbare Bandpassfilter oder Bandsperrfilter mit mehr als fünf abstimmbaren Resonatoren, die in weniger als 10 μs über einen Frequenzbereich im Verhältnis 1,5 : 1 (fmax/fmin) abgestimmt werden können, mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

mit einer Durchlassbandbreite größer als 0,5 % der Mittenfrequenz oder

| b) | mit einer Sperrbandbreite kleiner als 0,5 % der Mittenfrequenz, |
| --- | --- |

b)

mit einer Sperrbandbreite kleiner als 0,5 % der Mittenfrequenz,

| 6. | nicht belegt, |
| --- | --- |

6.

nicht belegt,

| 7. | Mischer und Umsetzer, entwickelt um den Frequenzbereich von Ausrüstung gemäß Unternummer 3A002c, 3A002e oder 3A002f über die dort genannten Grenzwerte hinaus zu erweitern, |
| --- | --- |

7.

Mischer und Umsetzer, entwickelt um den Frequenzbereich von Ausrüstung gemäß Unternummer 3A002c, 3A002e oder 3A002f über die dort genannten Grenzwerte hinaus zu erweitern,

| 8. | Mikrowellenleistungsverstärker mit von Unternummer 3A001b erfassten Röhren und allen folgenden Eigenschaften:






  a) | Betriebsfrequenz größer als 3 GHz, |
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8.

Mikrowellenleistungsverstärker mit von Unternummer 3A001b erfassten Röhren und allen folgenden Eigenschaften:

a)

Betriebsfrequenz größer als 3 GHz,

| b) | mittlere Ausgangsleistungsdichte größer als 80 W/kg und |
| --- | --- |

b)

mittlere Ausgangsleistungsdichte größer als 80 W/kg und

| c) | Volumen kleiner als 400 cm3; |
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c)

Volumen kleiner als 400 cm3;

Anmerkung: Unternummer 3A001b8 erfasst nicht Ausrüstung, konstruiert oder ausgelegt für den Einsatz in einem Frequenzband, das für Funkdienste, jedoch nicht für Ortungsfunkdienste, "von der ITU zugewiesen" ist.

| c) | Akustikwellenvorrichtungen wie folgt und besonders konstruierte Bestandteile hierfür:






  1. | Vorrichtungen mit akustischen Oberflächenwellen (surface acoustic waves) und mit akustischen, oberflächennahen Volumenwellen (surface skimming [shallow bulk] acoustic waves), d. h. "Signaldatenverarbeitungs"-Vorrichtungen, die akustisch-mechanische Schwingungen (elastic waves) in Werkstoffen verwenden, mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Trägerfrequenz größer als 2,5 GHz, |
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c)

Akustikwellenvorrichtungen wie folgt und besonders konstruierte Bestandteile hierfür:

1.

Vorrichtungen mit akustischen Oberflächenwellen (surface acoustic waves) und mit akustischen, oberflächennahen Volumenwellen (surface skimming [shallow bulk] acoustic waves), d. h. "Signaldatenverarbeitungs"-Vorrichtungen, die akustisch-mechanische Schwingungen (elastic waves) in Werkstoffen verwenden, mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Trägerfrequenz größer als 2,5 GHz,

| b) | Trägerfrequenz größer als 1 GHz und kleiner/gleich 2,5 GHz und mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | Frequenz-Nebenkeulendämpfung größer als 55 dB, |
| --- | --- | --- |

b)

Trägerfrequenz größer als 1 GHz und kleiner/gleich 2,5 GHz und mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

Frequenz-Nebenkeulendämpfung größer als 55 dB,

| 2. | Produkt aus maximaler Verzögerungszeit (in Mikrosekunden) und Bandbreite (in Megahertz) größer als 100, |
| --- | --- |

2.

Produkt aus maximaler Verzögerungszeit (in Mikrosekunden) und Bandbreite (in Megahertz) größer als 100,

| 3. | Bandbreite größer als 250 MHz oder |
| --- | --- |

3.

Bandbreite größer als 250 MHz oder

| 4. | dispergierende Verzögerung größer als 10 μs oder |
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4.

dispergierende Verzögerung größer als 10 μs oder

| c) | Trägerfrequenz kleiner/gleich 1 GHz und mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | Produkt aus maximaler Verzögerungszeit (in Mikrosekunden) und Bandbreite (in Megahertz) größer als 100, |
| --- | --- | --- |

c)

Trägerfrequenz kleiner/gleich 1 GHz und mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

Produkt aus maximaler Verzögerungszeit (in Mikrosekunden) und Bandbreite (in Megahertz) größer als 100,

| 2. | dispergierende Verzögerung größer als 10 μs oder |
| --- | --- |

2.

dispergierende Verzögerung größer als 10 μs oder

| 3. | Frequenz-Nebenkeulendämpfung größer als 55 dB und Bandbreite größer als 50 MHz, |
| --- | --- |

3.

Frequenz-Nebenkeulendämpfung größer als 55 dB und Bandbreite größer als 50 MHz,

| 2. | akustische Volumenwellenvorrichtungen, d. h. "Signaldatenverarbeitungs"-Vorrichtungen, die akustisch-mechanische Schwingungen verwenden, mit denen die unmittelbare Aufbereitung von Signalen bei einer Frequenz größer als 1 GHz möglich ist, |
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2.

akustische Volumenwellenvorrichtungen, d. h. "Signaldatenverarbeitungs"-Vorrichtungen, die akustisch-mechanische Schwingungen verwenden, mit denen die unmittelbare Aufbereitung von Signalen bei einer Frequenz größer als 1 GHz möglich ist,

| 3. | akustisch-optische "Signaldatenverarbeitungs"-Vorrichtungen, die die Wechselwirkung zwischen Schallwellen (Volumen- oder Oberflächenwellen) und Lichtwellen ausnutzen und die eine unmittelbare Aufbereitung von Signalen oder Bildern ermöglichen einschließlich Spektralanalyse, Korrelation oder Konvolution (Faltung); |
| --- | --- |

3.

akustisch-optische "Signaldatenverarbeitungs"-Vorrichtungen, die die Wechselwirkung zwischen Schallwellen (Volumen- oder Oberflächenwellen) und Lichtwellen ausnutzen und die eine unmittelbare Aufbereitung von Signalen oder Bildern ermöglichen einschließlich Spektralanalyse, Korrelation oder Konvolution (Faltung);

| d) | elektronische Bauelemente oder Schaltungen, die Bauteile aus "supraleitenden" Werkstoffen enthalten, besonders konstruiert für den Betrieb bei Temperaturen unter der "kritischen Temperatur" von wenigstens einem ihrer "supraleitenden" Bestandteile mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | Stromschalter für digitale Schaltungen mit "supraleitenden" Gattern mit einem Produkt aus Laufzeit pro Gatter (in Sekunden) und Verlustleistung je Gatter (in Watt) kleiner als 10– 14 J oder |
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d)

elektronische Bauelemente oder Schaltungen, die Bauteile aus "supraleitenden" Werkstoffen enthalten, besonders konstruiert für den Betrieb bei Temperaturen unter der "kritischen Temperatur" von wenigstens einem ihrer "supraleitenden" Bestandteile mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

Stromschalter für digitale Schaltungen mit "supraleitenden" Gattern mit einem Produkt aus Laufzeit pro Gatter (in Sekunden) und Verlustleistung je Gatter (in Watt) kleiner als 10– 14 J oder

| 2. | Frequenzselektion bei allen Frequenzen mit Resonanzkreisen, die Güte-Faktoren von mehr als 10 000 aufweisen; |
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2.

Frequenzselektion bei allen Frequenzen mit Resonanzkreisen, die Güte-Faktoren von mehr als 10 000 aufweisen;

| e) | hochenergietechnische Geräte wie folgt:






  1. | Batterien und fotovoltaische Generatoren (photovoltaic arrays) wie folgt:


  Anmerkung: Unternummer 3A001e1 erfasst nicht Batterien, deren Volumen kleiner/gleich 27 cm3 ist (wie z. B. C-Zellen, UM-2, R 14 oder so genannte Babyzellen).







  a) | Primärzellen und Batterien, die über eine ‧Energiedichte‧ größer als 480 Wh/kg verfügen und für den Betrieb in einem Temperaturbereich von unter 243 K (– 30 °C) bis über 343 K (70 °C) ausgelegt sind, |
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e)

hochenergietechnische Geräte wie folgt:

1.

Batterien und fotovoltaische Generatoren (photovoltaic arrays) wie folgt:

Anmerkung: Unternummer 3A001e1 erfasst nicht Batterien, deren Volumen kleiner/gleich 27 cm3 ist (wie z. B. C-Zellen, UM-2, R 14 oder so genannte Babyzellen).

a)

Primärzellen und Batterien, die über eine ‧Energiedichte‧ größer als 480 Wh/kg verfügen und für den Betrieb in einem Temperaturbereich von unter 243 K (– 30 °C) bis über 343 K (70 °C) ausgelegt sind,

| b) | wiederaufladbare Zellen und Batterien, die nach 75 Ladungs-/Entladungszyklen bei einem Entladungsstrom gleich C/5 Stunden (wobei C die Nennkapazität in Amperestunden ist) in einem Temperaturbereich von unter 253 K (– 20 °C) bis über 333 K (60 °C) über eine ‧Energiedichte‧ größer als 150 Wh/kg verfügen,
  Technische Anmerkung:

  Die ‧Energiedichte'‧ errechnet sich durch Multiplikation der Durchschnittsleistung in Watt (durchschnittliche Spannung in Volt mal durchschnittlicher Strom in Ampere) mit der Dauer der Entladung in Stunden bis auf 75 % der Leerlaufspannung und dividiert durch die gesamte Masse der Zelle (oder Batterie) in Kilogramm. |
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b)

wiederaufladbare Zellen und Batterien, die nach 75 Ladungs-/Entladungszyklen bei einem Entladungsstrom gleich C/5 Stunden (wobei C die Nennkapazität in Amperestunden ist) in einem Temperaturbereich von unter 253 K (– 20 °C) bis über 333 K (60 °C) über eine ‧Energiedichte‧ größer als 150 Wh/kg verfügen,

Technische Anmerkung:

Die ‧Energiedichte'‧ errechnet sich durch Multiplikation der Durchschnittsleistung in Watt (durchschnittliche Spannung in Volt mal durchschnittlicher Strom in Ampere) mit der Dauer der Entladung in Stunden bis auf 75 % der Leerlaufspannung und dividiert durch die gesamte Masse der Zelle (oder Batterie) in Kilogramm.

| c) | "weltraumgeeignete" (space qualified) und strahlungsfeste Solargeneratoren mit einer spezifischen Leistung größer als 160 W/m2 bei einer Betriebstemperatur von 301 K (28 °C) und bei einer Beleuchtung mit 1 kW/m2 durch einen Wolframglühfaden von 2 800 K (2 527 °C), |
| --- | --- |

c)

"weltraumgeeignete" (space qualified) und strahlungsfeste Solargeneratoren mit einer spezifischen Leistung größer als 160 W/m2 bei einer Betriebstemperatur von 301 K (28 °C) und bei einer Beleuchtung mit 1 kW/m2 durch einen Wolframglühfaden von 2 800 K (2 527 °C),

| 2. | Hochenergie-Speicherkondensatoren wie folgt:

  ANMERKUNG: SIEHE AUCH UNTERNUMMER 3A201A.







  a) | Kondensatoren mit einer Folgefrequenz kleiner als 10 Hz (single shot capacitors) mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | Nennspannung größer/gleich 5 kV, |
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2.

Hochenergie-Speicherkondensatoren wie folgt:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH UNTERNUMMER 3A201A.

a)

Kondensatoren mit einer Folgefrequenz kleiner als 10 Hz (single shot capacitors) mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

Nennspannung größer/gleich 5 kV,

| 2. | Energiedichte größer/gleich 250 J/kg und |
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2.

Energiedichte größer/gleich 250 J/kg und

| 3. | Gesamtenergie größer/gleich 25 kJ, |
| --- | --- |

3.

Gesamtenergie größer/gleich 25 kJ,

| b) | Kondensatoren mit einer Folgefrequenz größer/gleich 10 Hz (repetition rated capacitors) mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | Nennspannung größer/gleich 5 kV, |
| --- | --- | --- |

b)

Kondensatoren mit einer Folgefrequenz größer/gleich 10 Hz (repetition rated capacitors) mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

Nennspannung größer/gleich 5 kV,

| 2. | Energiedichte größer/gleich 50 J/kg, |
| --- | --- |

2.

Energiedichte größer/gleich 50 J/kg,

| 3. | Gesamtenergie größer/gleich 100 J und |
| --- | --- |

3.

Gesamtenergie größer/gleich 100 J und

| 4. | Lebensdauer größer/gleich 10 000 Ladungs-/Entladungszyklen, |
| --- | --- |

4.

Lebensdauer größer/gleich 10 000 Ladungs-/Entladungszyklen,

| 3. | "supraleitende" Elektromagnete oder Zylinderspulen, besonders konstruiert, um in weniger als einer Sekunde vollständig geladen oder entladen zu werden, mit allen folgenden Eigenschaften:

  ANMERKUNG: SIEHE AUCH UNTERNUMMER 3A201B.



  Anmerkung: Unternummer 3A001e3 erfasst nicht "supraleitende" Elektromagnete oder Zylinderspulen, besonders konstruiert für medizinisches Gerät für Magnetresonanzbilderzeugung (Magnetic Resonance Imaging).







  a) | Energieabgabe während der ersten Sekunde der Entladung größer als 10 kJ, |
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3.

"supraleitende" Elektromagnete oder Zylinderspulen, besonders konstruiert, um in weniger als einer Sekunde vollständig geladen oder entladen zu werden, mit allen folgenden Eigenschaften:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH UNTERNUMMER 3A201B.

Anmerkung: Unternummer 3A001e3 erfasst nicht "supraleitende" Elektromagnete oder Zylinderspulen, besonders konstruiert für medizinisches Gerät für Magnetresonanzbilderzeugung (Magnetic Resonance Imaging).

a)

Energieabgabe während der ersten Sekunde der Entladung größer als 10 kJ,

| b) | innerer Durchmesser der Strom führenden Windungen größer als 250 mm und |
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b)

innerer Durchmesser der Strom führenden Windungen größer als 250 mm und

| c) | spezifiziert für eine magnetische Induktion größer als 8 Tesla oder eine "Gesamtstromdichte" (overall current density) in der Windung größer als 300 A/mm2; |
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c)

spezifiziert für eine magnetische Induktion größer als 8 Tesla oder eine "Gesamtstromdichte" (overall current density) in der Windung größer als 300 A/mm2;

| f) | Absolut-Drehwinkelgeber mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | Auflösung besser als 1 zu 265 000 vom Skalenendwert (Auflösung 18 bit) oder |
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f)

Absolut-Drehwinkelgeber mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

Auflösung besser als 1 zu 265 000 vom Skalenendwert (Auflösung 18 bit) oder

| 2. | Genauigkeit kleiner (besser) als ± 2,5 Bogensekunden. |
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2.

Genauigkeit kleiner (besser) als ± 2,5 Bogensekunden.

3A002Elektronische Ausrüstung für allgemeine Zwecke wie folgt:

| a) | Aufzeichnungsgeräte wie folgt und besonders entwickelte Test-Magnetbänder hierfür:






  1. | analoge Messmagnetbandgeräte einschließlich solcher, die die Aufnahme digitaler Signale gestatten, z. B. mit einem «high density digital recording (HDDR) module», mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Bandbreite größer als 4 MHz je elektronischem Kanal oder je Spur, |
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a)

Aufzeichnungsgeräte wie folgt und besonders entwickelte Test-Magnetbänder hierfür:

1.

analoge Messmagnetbandgeräte einschließlich solcher, die die Aufnahme digitaler Signale gestatten, z. B. mit einem «high density digital recording (HDDR) module», mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Bandbreite größer als 4 MHz je elektronischem Kanal oder je Spur,

| b) | Bandbreite größer als 2 MHz je elektronischem Kanal oder je Spur und mit mehr als 42 Spuren oder |
| --- | --- |

b)

Bandbreite größer als 2 MHz je elektronischem Kanal oder je Spur und mit mehr als 42 Spuren oder

| c) | Zeitfehler gegenüber der Zeitbasis (time displacement [base] error), gemessen in Übereinstimmung mit den zutreffenden IRIG- oder EIA-Normen, kleiner als ± 0,1 μs, |
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c)

Zeitfehler gegenüber der Zeitbasis (time displacement [base] error), gemessen in Übereinstimmung mit den zutreffenden IRIG- oder EIA-Normen, kleiner als ± 0,1 μs,

Anmerkung: Analoge Magnetbandgeräte, besonders konstruiert für zivile Videoanwendungen, werden nicht als Messmagnetbandgeräte im Sinne von Unternummer 3A002a1 betrachtet.

| 2. | digitale Videomagnetbandgeräte mit einer höchsten Bit-Übertragungsrate (der digitalen Schnittstelle) größer als 360 Mbit/s,


  Anmerkung: Unternummer 3A002a2 erfasst nicht digitale Videomagnetbandgeräte, besonders konstruiert für Fernsehaufzeichnungen mit einem Signalformat, das ein komprimiertes Signalformat enthalten kann, genormt oder empfohlen von ITU, IEC, SMPTE, EBU, ETSI oder IEEE für zivile Fernsehanwendungen. |
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2.

digitale Videomagnetbandgeräte mit einer höchsten Bit-Übertragungsrate (der digitalen Schnittstelle) größer als 360 Mbit/s,

Anmerkung: Unternummer 3A002a2 erfasst nicht digitale Videomagnetbandgeräte, besonders konstruiert für Fernsehaufzeichnungen mit einem Signalformat, das ein komprimiertes Signalformat enthalten kann, genormt oder empfohlen von ITU, IEC, SMPTE, EBU, ETSI oder IEEE für zivile Fernsehanwendungen.

| 3. | digitale Mess-/Datenaufzeichnungsmagnetbandgeräte mit Schrägschriftverfahren oder Festkopfverfahren mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | maximale Übertragungsrate über die digitale Schnittstelle größer als 175 Mbit/s oder |
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3.

digitale Mess-/Datenaufzeichnungsmagnetbandgeräte mit Schrägschriftverfahren oder Festkopfverfahren mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

maximale Übertragungsrate über die digitale Schnittstelle größer als 175 Mbit/s oder

| b) | "weltraumgeeignet", |
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b)

"weltraumgeeignet",

Anmerkung: Unternummer 3A002a3 erfasst nicht Analogmagnetbandgeräte, die mit einer Umsetzelektronik für digitale Aufzeichnungen hoher Dichte (HDDR) ausgestattet und so konfiguriert sind, dass sie nur digitale Daten aufzeichnen können.

| 4. | Einrichtungen mit einer maximalen Übertragungsrate über die digitale Schnittstelle größer als 175 Mbit/s, konstruiert, um digitale Videobandgeräte als digitale Messmagnetbandgeräte einsetzen zu können, |
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4.

Einrichtungen mit einer maximalen Übertragungsrate über die digitale Schnittstelle größer als 175 Mbit/s, konstruiert, um digitale Videobandgeräte als digitale Messmagnetbandgeräte einsetzen zu können,

| 5. | Signal-Digitalisierer (waveform digitisers) und Transientenrekorder mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | Digitalisierungsrate größer/gleich 200 × 106 Abtastwerte (samples) pro Sekunde und einer Auflösung von 10 bit oder mehr und |
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5.

Signal-Digitalisierer (waveform digitisers) und Transientenrekorder mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

Digitalisierungsrate größer/gleich 200 × 106 Abtastwerte (samples) pro Sekunde und einer Auflösung von 10 bit oder mehr und

| b) | kontinuierlicher Datendurchlauf von 2 Gbit/s oder mehr, |
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b)

kontinuierlicher Datendurchlauf von 2 Gbit/s oder mehr,

Technische Anmerkung:

Für solche Geräte mit einer parallelen Bus-Architektur ist der kontinuierliche Datendurchlauf die höchste Wortgeschwindigkeit (word rate) multipliziert mit der Anzahl der Bit pro Wort. Der kontinuierliche Datendurchlauf ist der schnellste Datenfluss (data rate), den das Gerät ohne Informationsverlust und bei gleich bleibender Abtastrate und A/D-Wandlung an den Massenspeicher ausgeben kann.

| 6. | digitale Instrumentenrekorder, die Magnetplatten als Speichermedium verwenden, mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | Digitalisierungsrate größer/gleich 100 × 106 Abtastwerte (samples) pro Sekunde und einer Auflösung von 8 bit oder mehr und |
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6.

digitale Instrumentenrekorder, die Magnetplatten als Speichermedium verwenden, mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

Digitalisierungsrate größer/gleich 100 × 106 Abtastwerte (samples) pro Sekunde und einer Auflösung von 8 bit oder mehr und

| b) | kontinuierlicher Datendurchlauf von 1 Gbit/s oder mehr; |
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b)

kontinuierlicher Datendurchlauf von 1 Gbit/s oder mehr;

| b) | Elektronische "Frequenz-Synthesizer"-Baugruppen mit einer "Frequenzumschaltzeit" für das Umschalten von einer gewählten Frequenz zu einer anderen kleiner als 1 ms; |
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b)

Elektronische "Frequenz-Synthesizer"-Baugruppen mit einer "Frequenzumschaltzeit" für das Umschalten von einer gewählten Frequenz zu einer anderen kleiner als 1 ms;

| c) | Funkfrequenz-"Signalanalysatoren" wie folgt:






  1. | "Signalanalysatoren", geeignet zur Analyse von Frequenzen größer als 31,8 GHz und kleiner als 37,5 GHz oder Frequenzen größer als 43,5 GHz, |
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c)

Funkfrequenz-"Signalanalysatoren" wie folgt:

1.

"Signalanalysatoren", geeignet zur Analyse von Frequenzen größer als 31,8 GHz und kleiner als 37,5 GHz oder Frequenzen größer als 43,5 GHz,

| 2. | "dynamische Signalanalysatoren" mit einer "Echtzeitbandbreite" größer als 500 kHz;


  Anmerkung: Unternummer 3A002c2 erfasst nicht "dynamische Signalanalysatoren", die nur konstante, prozentuale Bandbreitenfilter verwenden (auch bekannt als Oktaven- oder Teiloktavenfilter). |
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2.

"dynamische Signalanalysatoren" mit einer "Echtzeitbandbreite" größer als 500 kHz;

Anmerkung: Unternummer 3A002c2 erfasst nicht "dynamische Signalanalysatoren", die nur konstante, prozentuale Bandbreitenfilter verwenden (auch bekannt als Oktaven- oder Teiloktavenfilter).

| d) | mit Frequenzsynthese arbeitende Signalgeneratoren, die Ausgangsfrequenzen erzeugen, deren Genauigkeit sowie Kurz- und Langzeitstabilität von der geräteeigenen Normalfrequenz gesteuert, abgeleitet oder geregelt werden, und die eine der folgenden Eigenschaften aufweisen:






  1. | größte, durch Frequenzsynthese erzeugte Ausgangsfrequenz größer als 31,8 GHz, aber nicht größer als 43,5 GHz sowie ausgelegt, um eine ‧Impulsbreite‧ kleiner als 100 ns zu generieren, |
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d)

mit Frequenzsynthese arbeitende Signalgeneratoren, die Ausgangsfrequenzen erzeugen, deren Genauigkeit sowie Kurz- und Langzeitstabilität von der geräteeigenen Normalfrequenz gesteuert, abgeleitet oder geregelt werden, und die eine der folgenden Eigenschaften aufweisen:

1.

größte, durch Frequenzsynthese erzeugte Ausgangsfrequenz größer als 31,8 GHz, aber nicht größer als 43,5 GHz sowie ausgelegt, um eine ‧Impulsbreite‧ kleiner als 100 ns zu generieren,

| 2. | größte, durch Frequenzsynthese erzeugte Ausgangsfrequenz größer als 43,5 GHz, |
| --- | --- |

2.

größte, durch Frequenzsynthese erzeugte Ausgangsfrequenz größer als 43,5 GHz,

| 3. | "Frequenzumschaltzeit" für das Umschalten von einer gewählten Frequenz zu einer anderen kleiner als 1 ms oder |
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3.

"Frequenzumschaltzeit" für das Umschalten von einer gewählten Frequenz zu einer anderen kleiner als 1 ms oder

| 4. | Phasenrauschen im Einseitenband (SSB) besser als – (126 + 20 log10F – 20 log10f) in dBc/Hz, wobei F für den Abstand von der Betriebsfrequenz (in Hertz) und f für die Betriebsfrequenz (in Megahertz) steht;
  Technische Anmerkung:

  Im Sinne der Unternummer 3A002d1 ist die ‧'Impulsbreite‧ als das Zeitintervall definiert, in dem der Impuls an der Vorderflanke 90 % und an der Rückflanke 10 % seines Spitzenwertes erreicht. |
| --- | --- |

4.

Phasenrauschen im Einseitenband (SSB) besser als – (126 + 20 log10F – 20 log10f) in dBc/Hz, wobei F für den Abstand von der Betriebsfrequenz (in Hertz) und f für die Betriebsfrequenz (in Megahertz) steht;

Technische Anmerkung:

Im Sinne der Unternummer 3A002d1 ist die ‧'Impulsbreite‧ als das Zeitintervall definiert, in dem der Impuls an der Vorderflanke 90 % und an der Rückflanke 10 % seines Spitzenwertes erreicht.

Anmerkung: Unternummer 3A002d erfasst nicht Geräte, in denen die Ausgangsfrequenz entweder durch Addition oder Subtraktion von zwei oder mehreren quarzgesteuerten Oszillatorfrequenzen oder durch Addition oder Subtraktion und darauf folgende Multiplikation des Ergebnisses erzeugt wird.

| e) | Netzwerkanalysatoren mit einer höchsten Betriebsfrequenz größer als 43,5 GHz; |
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e)

Netzwerkanalysatoren mit einer höchsten Betriebsfrequenz größer als 43,5 GHz;

| f) | Mikrowellenmessempfänger mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | höchste Betriebsfrequenz größer als 43,5 GHz und |
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f)

Mikrowellenmessempfänger mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

höchste Betriebsfrequenz größer als 43,5 GHz und

| 2. | geeignet zur gleichzeitigen Messung von Amplitude und Phase; |
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2.

geeignet zur gleichzeitigen Messung von Amplitude und Phase;

| g) | Atomfrequenznormale mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | Langzeitstabilität (Alterung) kleiner (besser) als 1 × 10– 11 pro Monat oder |
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g)

Atomfrequenznormale mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

Langzeitstabilität (Alterung) kleiner (besser) als 1 × 10– 11 pro Monat oder

| 2. | "weltraumgeeignet". |
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2.

"weltraumgeeignet".

Anmerkung: Unternummer 3A002g1 erfasst nicht Rubidiumnormale, die nicht "weltraumgeeignet" sind.

3A003Sprühkühlsysteme (spray cooling thermal management systems), die geschlossene Kreisläufe für das Fördern und Wiederaufbereiten von Flüssigkeiten in hermetisch abgedichteten Gehäusen verwenden, in denen eine dielektrische Flüssigkeit mittels besonders konstruierter Sprühdüsen auf Bauteile gesprüht wird, dafür entwickelt, elektronische Bauelemente in ihrem Betriebstemperaturbereich zu halten, sowie besonders konstruierte Bestandteile hierfür.

3A101Elektronische Ausrüstung, Geräte und Komponenten, die nicht von Nummer 3A001 erfasst werden, wie folgt:

| a) | Analog-Digital-Wandler, geeignet für "Flugkörper", besonders robust konstruiert (ruggedized), um militärischen Spezifikationen zu genügen; |
| --- | --- |

a)

Analog-Digital-Wandler, geeignet für "Flugkörper", besonders robust konstruiert (ruggedized), um militärischen Spezifikationen zu genügen;

| b) | Beschleuniger, geeignet zur Erzeugung elektromagnetischer Strahlung, erzeugt durch Bremsstrahlung mit Elektronenenergien größer/gleich 2 MeV, und Systeme, die solche Beschleuniger enthalten.


  Anmerkung: Unternummer 3A101b erfasst nicht Ausrüstung, besonders konstruiert für medizinische Zwecke. |
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b)

Beschleuniger, geeignet zur Erzeugung elektromagnetischer Strahlung, erzeugt durch Bremsstrahlung mit Elektronenenergien größer/gleich 2 MeV, und Systeme, die solche Beschleuniger enthalten.

Anmerkung: Unternummer 3A101b erfasst nicht Ausrüstung, besonders konstruiert für medizinische Zwecke.

3A201Elektronische Ausrüstung, die nicht von Nummer 3A001 erfasst wird, wie folgt:

| a) | Kondensatoren mit einer der folgenden Kombinationen von Eigenschaften:






  1. | a) | Betriebsspannung größer als 1,4 kV, |
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a)

Kondensatoren mit einer der folgenden Kombinationen von Eigenschaften:

1.

a)

Betriebsspannung größer als 1,4 kV,

| b) | gespeicherte Energie größer als 10 J, |
| --- | --- |

b)

gespeicherte Energie größer als 10 J,

| c) | Kapazität größer als 0,5 μF und |
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c)

Kapazität größer als 0,5 μF und

| d) | Reiheninduktivität kleiner als 50 nH oder |
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d)

Reiheninduktivität kleiner als 50 nH oder

| 2. | a) | Betriebsspannung größer als 750 V, |
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2.

a)

Betriebsspannung größer als 750 V,

| b) | Kapazität größer als 0,25 μF und |
| --- | --- |

b)

Kapazität größer als 0,25 μF und

| c) | Reiheninduktivität kleiner als 10 nH; |
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c)

Reiheninduktivität kleiner als 10 nH;

| b) | Supraleitende Solenoid-Elektromagnete mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | geeignet zum Aufbau magnetischer Felder größer als 2 Tesla (20 kGauß), |
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b)

Supraleitende Solenoid-Elektromagnete mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

geeignet zum Aufbau magnetischer Felder größer als 2 Tesla (20 kGauß),

| 2. | Verhältnis Länge / innerer Durchmesser größer als 2, |
| --- | --- |

2.

Verhältnis Länge / innerer Durchmesser größer als 2,

| 3. | Innendurchmesser größer als 300 mm und |
| --- | --- |

3.

Innendurchmesser größer als 300 mm und

| 4. | Gleichmäßigkeit des Magnetfeldes im Bereich der innenliegenden 50 % des inneren Volumens besser als 1 %; |
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4.

Gleichmäßigkeit des Magnetfeldes im Bereich der innenliegenden 50 % des inneren Volumens besser als 1 %;

Anmerkung: Unternummer 3A201b erfasst nicht Magnete, die besonders konstruiert sind für medizinische NMR-Bildsysteme (nuclear magnetic resonance imaging systems) und als Teile davon exportiert werden. Dabei ist es nicht notwendig, dass alle Teile in einer Lieferung zusammengefasst sind. Jedoch muss aus den Ausfuhr-Dokumenten jeder Einzellieferung eindeutig hervorgehen, dass es sich um Teile der Gesamtlieferung handelt.

| c) | Röntgenblitzgeneratoren oder gepulste Elektronenbeschleuniger mit einer der folgenden Kombinationen von Eigenschaften:






  1. | a) | Spitzenelektronenenergie des Beschleunigers größer/gleich 500 keV und kleiner als 25 MeV und |
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c)

Röntgenblitzgeneratoren oder gepulste Elektronenbeschleuniger mit einer der folgenden Kombinationen von Eigenschaften:

1.

a)

Spitzenelektronenenergie des Beschleunigers größer/gleich 500 keV und kleiner als 25 MeV und

| b) | ein ‧Gütefaktor‧ K größer/gleich 0,25 oder |
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b)

ein ‧Gütefaktor‧ K größer/gleich 0,25 oder

| 2. | a) | Spitzenelektronenenergie des Beschleunigers größer/gleich 25 MeV und |
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2.

a)

Spitzenelektronenenergie des Beschleunigers größer/gleich 25 MeV und

| b) | ‧Spitzenleistung‧ größer als 50 MW. |
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b)

‧Spitzenleistung‧ größer als 50 MW.

Anmerkung: Unternummer 3A201c erfasst nicht Beschleuniger als Bestandteile von Geräten, die für die Anwendungsgebiete außerhalb der Elektronen- oder Röntgenbestrahlung (z. B. Elektronenmikroskopie) oder für medizinische Zwecke entwickelt wurden.

Technische Anmerkungen:

| 1. | Im Sinne von Unternummer 3A201c ist der ‧Gütefaktor‧ K definiert als:


  V = Spitzenelektronenenergie in MeV
  Bei einer Dauer des Strahlpulses kleiner/gleich 1 μs ist Q die gesamte beschleunigte Ladung in Coulomb. Falls die Dauer größer ist als 1 μs, ist Q die maximale beschleunigte Ladung in 1 μs.
  Q = Integral des Strahlstromes i in Ampere über der Dauer t in Sekunden bis zum kleineren Wert von 1 μs oder der Dauer des Strahlpulses. |
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1.

Im Sinne von Unternummer 3A201c ist der ‧Gütefaktor‧ K definiert als:

| 2. | ‧Spitzenleistung‧ = Produkt aus Spitzenpotenzial in Volt und Spitzenstrahlstrom in Ampere. |
| --- | --- |

2.

‧Spitzenleistung‧ = Produkt aus Spitzenpotenzial in Volt und Spitzenstrahlstrom in Ampere.

| 3. | Im Sinne von Unternummer 3A201c ist bei Beschleunigern, die auf Hohlraumresonatoren basieren (microwave accelerating cavities), die Dauer des Strahlpulses der kleinere Wert von 1 μs oder der Dauer des Strahlbündels, das durch einen Modulatorimpuls erzeugt wird. |
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3.

Im Sinne von Unternummer 3A201c ist bei Beschleunigern, die auf Hohlraumresonatoren basieren (microwave accelerating cavities), die Dauer des Strahlpulses der kleinere Wert von 1 μs oder der Dauer des Strahlbündels, das durch einen Modulatorimpuls erzeugt wird.

| 4. | Bei Beschleunigern, die auf Hohlraumresonatoren basieren, ist der Spitzenstrahlstrom der Durchschnittsstrom während der Dauer eines Strahlbündels. |
| --- | --- |

4.

Bei Beschleunigern, die auf Hohlraumresonatoren basieren, ist der Spitzenstrahlstrom der Durchschnittsstrom während der Dauer eines Strahlbündels.

3A225Frequenzumwandler oder Generatoren, die nicht von Unternummer 0B001b13 erfasst werden, mit allen folgenden Eigenschaften:

| a) | Mehrphasenausgang mit einer Leistung größer/gleich 40 W; |
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a)

Mehrphasenausgang mit einer Leistung größer/gleich 40 W;

| b) | Frequenzbereich von 600 Hz bis 2 000 Hz; |
| --- | --- |

b)

Frequenzbereich von 600 Hz bis 2 000 Hz;

| c) | Klirrfaktor kleiner (besser) als 10 % und |
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c)

Klirrfaktor kleiner (besser) als 10 % und

| d) | Frequenzstabilisierung kleiner (besser) als 0,1 %. |
| --- | --- |

d)

Frequenzstabilisierung kleiner (besser) als 0,1 %.

Technische Anmerkung:

Frequenzumwandler im Sinne von Nummer 3A225 werden auch als Konverter oder Inverter bezeichnet.

3A226Hochenergie-Gleichstromversorgungsgeräte, die nicht von Unternummer 0B001j6 erfasst werden, mit allen folgenden Eigenschaften:

| a) | Erzeugung von 100 V oder mehr im Dauerbetrieb über einen Zeitraum von 8 h mit einem Ausgangsstrom größer/gleich 500 A und |
| --- | --- |

a)

Erzeugung von 100 V oder mehr im Dauerbetrieb über einen Zeitraum von 8 h mit einem Ausgangsstrom größer/gleich 500 A und

| b) | Strom- oder Spannungsregelung kleiner (besser) als 0,1 % über einen Zeitraum von 8 h. |
| --- | --- |

b)

Strom- oder Spannungsregelung kleiner (besser) als 0,1 % über einen Zeitraum von 8 h.

3A227Hochspannungs-Gleichstromversorgungsgeräte, die nicht von Unternummer 0B001j5 erfasst werden, mit allen folgenden Eigenschaften:

| a) | Erzeugung von 20 kV oder mehr im Dauerbetrieb über einen Zeitraum von 8 h mit einem Ausgangsstrom größer/gleich 1 A und |
| --- | --- |

a)

Erzeugung von 20 kV oder mehr im Dauerbetrieb über einen Zeitraum von 8 h mit einem Ausgangsstrom größer/gleich 1 A und

| b) | Strom- oder Spannungsregelung kleiner (besser) als 0,1 % über einen Zeitraum von 8 h. |
| --- | --- |

b)

Strom- oder Spannungsregelung kleiner (besser) als 0,1 % über einen Zeitraum von 8 h.

3A228Schaltelemente wie folgt:

| a) | Kaltkathodenröhren mit oder ohne Gasfüllung, die wie Schaltfunkenstrecken funktionieren, mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | mit drei oder mehr Elektroden, |
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a)

Kaltkathodenröhren mit oder ohne Gasfüllung, die wie Schaltfunkenstrecken funktionieren, mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

mit drei oder mehr Elektroden,

| 2. | spezifizierte Anodenspitzenspannung größer/gleich 2,5 kV, |
| --- | --- |

2.

spezifizierte Anodenspitzenspannung größer/gleich 2,5 kV,

| 3. | spezifizierter Anodenspitzenstrom größer/gleich 100 A und |
| --- | --- |

3.

spezifizierter Anodenspitzenstrom größer/gleich 100 A und

| 4. | Zündverzögerungszeit kleiner/gleich 10 μs; |
| --- | --- |

4.

Zündverzögerungszeit kleiner/gleich 10 μs;

Anmerkung: Nummer 3A228 schließt gasgefüllte Krytrons und Vakuum-Sprytrons ein.

| b) | getriggerte Schaltfunkenstrecken mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | Zündverzögerungszeit kleiner/gleich 15 μs und |
| --- | --- | --- |

b)

getriggerte Schaltfunkenstrecken mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

Zündverzögerungszeit kleiner/gleich 15 μs und

| 2. | spezifiziert für Spitzenströme größer/gleich 500 A; |
| --- | --- |

2.

spezifiziert für Spitzenströme größer/gleich 500 A;

| c) | Module oder Baugruppen zum schnellen Schalten mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | spezifizierte Anodenspitzenspannung größer als 2 kV, |
| --- | --- | --- |

c)

Module oder Baugruppen zum schnellen Schalten mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

spezifizierte Anodenspitzenspannung größer als 2 kV,

| 2. | spezifizierter Anodenspitzenstrom größer/gleich 500 A und |
| --- | --- |

2.

spezifizierter Anodenspitzenstrom größer/gleich 500 A und

| 3. | Einschaltzeit kleiner/gleich 1 μs. |
| --- | --- |

3.

Einschaltzeit kleiner/gleich 1 μs.

3A229Zündvorrichtungen und gleichwertige Hochstrom-Impulsgeneratoren wie folgt:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH TEIL I A.

| a) | Zündvorrichtungen für Explosivstoffdetonatoren, entwickelt zur gleichzeitigen Zündung mehrerer von Nummer 3A232 erfassten Detonatoren; |
| --- | --- |

a)

Zündvorrichtungen für Explosivstoffdetonatoren, entwickelt zur gleichzeitigen Zündung mehrerer von Nummer 3A232 erfassten Detonatoren;

| b) | modulare elektrische Impulsgeneratoren (Impulsgeber), mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | konstruiert für beweglichen oder besonders robusten (ruggedized) Einsatz, |
| --- | --- | --- |

b)

modulare elektrische Impulsgeneratoren (Impulsgeber), mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

konstruiert für beweglichen oder besonders robusten (ruggedized) Einsatz,

| 2. | staubdichte Ausführung, |
| --- | --- |

2.

staubdichte Ausführung,

| 3. | Energieabgabe in weniger als 15 μs, |
| --- | --- |

3.

Energieabgabe in weniger als 15 μs,

| 4. | Ausgangsstrom größer als 100 A, |
| --- | --- |

4.

Ausgangsstrom größer als 100 A,

| 5. | ‧Anstiegszeit‧ kleiner als 10 μs bei Lasten kleiner als 40 Ohm, |
| --- | --- |

5.

‧Anstiegszeit‧ kleiner als 10 μs bei Lasten kleiner als 40 Ohm,

| 6. | keine Abmessung größer als 25,4 cm, |
| --- | --- |

6.

keine Abmessung größer als 25,4 cm,

| 7. | Gewicht kleiner als 25 kg und |
| --- | --- |

7.

Gewicht kleiner als 25 kg und

| 8. | spezifiziert für einen erweiterten Temperaturbereich zwischen 223 K (– 50 °C) und 373 K (100 °C) oder luftfahrttauglich. |
| --- | --- |

8.

spezifiziert für einen erweiterten Temperaturbereich zwischen 223 K (– 50 °C) und 373 K (100 °C) oder luftfahrttauglich.

Anmerkung: Unternummer 3A229b schließt Xenon-Blitzlampentreiber ein.

Technische Anmerkung:

Die ‧Anstiegszeit‧ ist definiert als das Zeitintervall von 10 % bis 90 % der Stromamplitude beim Treiben einer ohmschen Last.

3A230Hochgeschwindigkeits-Impulsgeneratoren mit allen folgenden Eigenschaften:

| a) | Ausgangsspannung größer als 6 V an einer ohmschen Last kleiner als 55 Ohm und |
| --- | --- |

a)

Ausgangsspannung größer als 6 V an einer ohmschen Last kleiner als 55 Ohm und

| b) | ‧Impulsanstiegszeit‧ kleiner als 500 ps. |
| --- | --- |

b)

‧Impulsanstiegszeit‧ kleiner als 500 ps.

Technische Anmerkung:

‧Impulsanstiegszeit‧ im Sinne von Nummer 3A230 ist das Zeitintervall, in dem die Spannungsamplitude zwischen 10 % und 90 % des Maximalwertes beträgt.

3A231Neutronengeneratorsysteme einschließlich Neutronengeneratorröhren mit allen folgenden Eigenschaften:

| a) | konstruiert für den Betrieb ohne äußeres Vakuumsystem und |
| --- | --- |

a)

konstruiert für den Betrieb ohne äußeres Vakuumsystem und

| b) | mit elektrostatischer Beschleunigung zur Auslösung einer Tritium-Deuterium-Kernreaktion. |
| --- | --- |

b)

mit elektrostatischer Beschleunigung zur Auslösung einer Tritium-Deuterium-Kernreaktion.

3A232Detonatoren und Mehrfachzündersysteme wie folgt:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH TEIL I A.

| a) | elektrisch betriebene Detonatoren wie folgt:






  1. | Brückenzünder (EB), |
| --- | --- | --- |

a)

elektrisch betriebene Detonatoren wie folgt:

1.

Brückenzünder (EB),

| 2. | Brückenzünderdraht (EBW), |
| --- | --- |

2.

Brückenzünderdraht (EBW),

| 3. | Slapperzünder, |
| --- | --- |

3.

Slapperzünder,

| 4. | Folienzünder (EFI); |
| --- | --- |

4.

Folienzünder (EFI);

| b) | Vorrichtungen mit einzelnen oder mehreren Detonatoren zum annähernd gleichzeitigen Zünden explosiver Oberflächen größer als 5 000 mm2, mit nur einem Zündsignal und mit einer maximalen zeitlichen Abweichung vom ursprünglichen Zündsignal über der gesamten zu zündenden Oberfläche kleiner als 2,5 μs. |
| --- | --- |

b)

Vorrichtungen mit einzelnen oder mehreren Detonatoren zum annähernd gleichzeitigen Zünden explosiver Oberflächen größer als 5 000 mm2, mit nur einem Zündsignal und mit einer maximalen zeitlichen Abweichung vom ursprünglichen Zündsignal über der gesamten zu zündenden Oberfläche kleiner als 2,5 μs.

Anmerkung: Nummer 3A232 erfasst keine Detonatoren, die nur Initialsprengstoffe, wie z. B. Bleiazid, verwenden.

Technische Anmerkung:

Die von Nummer 3A232 erfassten Detonatoren basieren auf einem elektrischen Leiter (Brücke, Drahtbrücke, Folien), der explosionsartig verdampft, wenn ein schneller Hochstromimpuls angelegt wird. Außer bei den Slapperzündern wird durch den explodierenden Leiter die chemische Detonation im Material, wie z. B. PETN (Pentaerythrittetranitrat), in Gang gesetzt. Bei den Slapperzündern wird durch den explodierenden Leiter ein Zündhammer getrieben, der bei Aufschlag auf eine Zündmasse die chemische Detonation startet. Bei einigen Ausführungen wird der Zündhammer magnetisch angetrieben. Der Begriff Folienzünder kann sich sowohl auf Brückenzünder als auch auf Slapperzünder beziehen. Der Begriff Detonator wird auch anstelle von Zünder verwendet.

3A233Massenspektrometer, die nicht von Unternummer 0B002g erfasst werden, für die Messung von Ionen einer Atommasse größer/gleich 230 amu (atomic mass units) mit einer Auflösung besser als 2 amu bei 230 amu oder größer, und Ionenquellen hierfür wie folgt:

| a) | induktiv gekoppelte Plasma-Massenspektrometer (ICP/MS); |
| --- | --- |

a)

induktiv gekoppelte Plasma-Massenspektrometer (ICP/MS);

| b) | Glühentladungs-Massenspektrometer (GDMS); |
| --- | --- |

b)

Glühentladungs-Massenspektrometer (GDMS);

| c) | Thermoionisations-Massenspektrometer (TIMS); |
| --- | --- |

c)

Thermoionisations-Massenspektrometer (TIMS);

| d) | Elektronenstoß-Massenspektrometer mit einer Quellenkammer, hergestellt aus UF6-resistenten Werkstoffen, damit ausgekleidet oder plattiert; |
| --- | --- |

d)

Elektronenstoß-Massenspektrometer mit einer Quellenkammer, hergestellt aus UF6-resistenten Werkstoffen, damit ausgekleidet oder plattiert;

| e) | Molekularstrahl-Massenspektrometer mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | mit einer Quellenkammer, hergestellt aus rostfreiem Stahl oder Molybdän, damit ausgekleidet oder plattiert, und mit einer Kühlfalle, die auf 193 K (– 80 °C) oder weniger kühlen kann, oder |
| --- | --- | --- |

e)

Molekularstrahl-Massenspektrometer mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

mit einer Quellenkammer, hergestellt aus rostfreiem Stahl oder Molybdän, damit ausgekleidet oder plattiert, und mit einer Kühlfalle, die auf 193 K (– 80 °C) oder weniger kühlen kann, oder

| 2. | mit einer Quellenkammer, hergestellt aus UF6-resistenten Werkstoffen, damit ausgekleidet oder plattiert; |
| --- | --- |

2.

mit einer Quellenkammer, hergestellt aus UF6-resistenten Werkstoffen, damit ausgekleidet oder plattiert;

| f) | Massenspektrometer, ausgestattet mit einer Mikrofluorierungs-Ionenquelle, konstruiert für Aktinide oder Aktinidenfluoride. |
| --- | --- |

f)

Massenspektrometer, ausgestattet mit einer Mikrofluorierungs-Ionenquelle, konstruiert für Aktinide oder Aktinidenfluoride.

3BPrüf-, Test- und Herstellungseinrichtungen

3B001Ausrüstung für die Fertigung von Halbleiterbauelementen oder -materialien wie folgt sowie besonders konstruierte Bestandteile und besonders konstruiertes Zubehör hierfür:

| a) | Epitaxieausrüstung wie folgt:






  1. | Ausrüstung, geeignet zur Herstellung einer der folgenden Schichten:






  a) | einer Siliziumschicht mit einer gleichmäßigen Schichtdicke mit weniger als ± 2,5 % Abweichung auf einer Strecke von größer/gleich 200 mm oder |
| --- | --- | --- | --- |

a)

Epitaxieausrüstung wie folgt:

1.

Ausrüstung, geeignet zur Herstellung einer der folgenden Schichten:

a)

einer Siliziumschicht mit einer gleichmäßigen Schichtdicke mit weniger als ± 2,5 % Abweichung auf einer Strecke von größer/gleich 200 mm oder

| b) | einer Schicht aus einem anderen Material als Silizium mit einer gleichmäßigen Schichtdicke mit weniger als ± 2,5 % Abweichung auf einer Strecke von größer/gleich 75 mm, |
| --- | --- |

b)

einer Schicht aus einem anderen Material als Silizium mit einer gleichmäßigen Schichtdicke mit weniger als ± 2,5 % Abweichung auf einer Strecke von größer/gleich 75 mm,

| 2. | MOCVD-(Metal-Organic-Chemical-Vapour-Deposition-) Reaktoren, besonders konstruiert für das Kristallwachstum von Verbindungshalbleitern aus der chemischen Reaktion zwischen Substanzen (Materialien, Werkstoffen), die von Nummer 3C003 oder 3C004 erfasst werden, |
| --- | --- |

2.

MOCVD-(Metal-Organic-Chemical-Vapour-Deposition-) Reaktoren, besonders konstruiert für das Kristallwachstum von Verbindungshalbleitern aus der chemischen Reaktion zwischen Substanzen (Materialien, Werkstoffen), die von Nummer 3C003 oder 3C004 erfasst werden,

| 3. | Molekularstrahlepitaxie-Ausrüstung, die Gas- oder Feststoff-Quellen verwendet; |
| --- | --- |

3.

Molekularstrahlepitaxie-Ausrüstung, die Gas- oder Feststoff-Quellen verwendet;

| b) | Ausrüstung, konstruiert für Ionenimplantation, mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | Elektronenenergie (Beschleunigungsspannung) größer als 1 MeV, |
| --- | --- | --- |

b)

Ausrüstung, konstruiert für Ionenimplantation, mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

Elektronenenergie (Beschleunigungsspannung) größer als 1 MeV,

| 2. | besonders konstruiert und optimiert, um bei einer Elektronenenergie (Beschleunigungsspannung) kleiner als 2 keV zu arbeiten, |
| --- | --- |

2.

besonders konstruiert und optimiert, um bei einer Elektronenenergie (Beschleunigungsspannung) kleiner als 2 keV zu arbeiten,

| 3. | mit Direktschreibbetrieb oder |
| --- | --- |

3.

mit Direktschreibbetrieb oder

| 4. | Elektronenenergie größer/gleich 65 keV und Strahlstrom größer/gleich 45 mA für das Implantieren von Sauerstoff mit hoher Energie in ein erhitztes Halbleiter"substrat"; |
| --- | --- |

4.

Elektronenenergie größer/gleich 65 keV und Strahlstrom größer/gleich 45 mA für das Implantieren von Sauerstoff mit hoher Energie in ein erhitztes Halbleiter"substrat";

| c) | Ausrüstung zum anisotropen Trockenätzen im Plasma wie folgt:






  1. | Ausrüstung mit Kassettenbetrieb und Ladeschleusen und mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | entwickelt oder optimiert um einen CD-Wert (critical dimensions) von kleiner oder gleich 0,3 μm mit einer 3-Sigma-Abweichung von ± 5 % zu erreichen oder |
| --- | --- | --- | --- |

c)

Ausrüstung zum anisotropen Trockenätzen im Plasma wie folgt:

1.

Ausrüstung mit Kassettenbetrieb und Ladeschleusen und mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

entwickelt oder optimiert um einen CD-Wert (critical dimensions) von kleiner oder gleich 0,3 μm mit einer 3-Sigma-Abweichung von ± 5 % zu erreichen oder

| b) | entwickelt, um eine Partikeldichte von weniger als 0,04 Partikel/cm2 mit einem messbaren Partikeldurchmesser größer als 0,1 μm zu verursachen, |
| --- | --- |

b)

entwickelt, um eine Partikeldichte von weniger als 0,04 Partikel/cm2 mit einem messbaren Partikeldurchmesser größer als 0,1 μm zu verursachen,

| 2. | Ausrüstung, besonders konstruiert für die von Unternummer 3B001e erfasste Ausrüstung und mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | entwickelt oder optimiert um einen CD-Wert (critical dimensions) von kleiner oder gleich 0,3 μm mit einer 3-Sigma-Abweichung von ± 5 % zu erreichen oder |
| --- | --- | --- |

2.

Ausrüstung, besonders konstruiert für die von Unternummer 3B001e erfasste Ausrüstung und mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

entwickelt oder optimiert um einen CD-Wert (critical dimensions) von kleiner oder gleich 0,3 μm mit einer 3-Sigma-Abweichung von ± 5 % zu erreichen oder

| b) | entwickelt, um eine Partikeldichte von weniger als 0,04 Partikel/cm2 mit einem messbaren Partikeldurchmesser größer als 0,1 μm zu verursachen; |
| --- | --- |

b)

entwickelt, um eine Partikeldichte von weniger als 0,04 Partikel/cm2 mit einem messbaren Partikeldurchmesser größer als 0,1 μm zu verursachen;

| d) | Ausrüstung für plasmaunterstützte chemische Abscheidung (PECVD) wie folgt:






  1. | Ausrüstung mit Kassettenbetrieb und Ladeschleusen sowie entwickelt gemäß Herstellerangaben oder optimiert für die Verwendung bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen mit einem CD-Wert (critical dimensions) von kleiner/gleich 180 nm, |
| --- | --- | --- |

d)

Ausrüstung für plasmaunterstützte chemische Abscheidung (PECVD) wie folgt:

1.

Ausrüstung mit Kassettenbetrieb und Ladeschleusen sowie entwickelt gemäß Herstellerangaben oder optimiert für die Verwendung bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen mit einem CD-Wert (critical dimensions) von kleiner/gleich 180 nm,

| 2. | Ausrüstung, besonders konstruiert für die von Unternummer 3B001e erfasste Ausrüstung sowie entwickelt gemäß Herstellerangaben oder optimiert für die Verwendung bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen mit einem CD-Wert (critical dimensions) von kleiner/gleich 180 nm; |
| --- | --- |

2.

Ausrüstung, besonders konstruiert für die von Unternummer 3B001e erfasste Ausrüstung sowie entwickelt gemäß Herstellerangaben oder optimiert für die Verwendung bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen mit einem CD-Wert (critical dimensions) von kleiner/gleich 180 nm;

| e) | zentrale Waferhandlingsysteme für das automatische Beladen von Mehrkammersystemen mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | Schnittstellen für Waferein- und -ausgabe, an die mehr als zwei Halbleiterprozessgeräte angeschlossen werden können, und |
| --- | --- | --- |

e)

zentrale Waferhandlingsysteme für das automatische Beladen von Mehrkammersystemen mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

Schnittstellen für Waferein- und -ausgabe, an die mehr als zwei Halbleiterprozessgeräte angeschlossen werden können, und

| 2. | entwickelt, um ein integrales System zur sequenziellen, multiplen Waferverarbeitung innerhalb einer geschlossenen Vakuumumgebung aufbauen zu können; |
| --- | --- |

2.

entwickelt, um ein integrales System zur sequenziellen, multiplen Waferverarbeitung innerhalb einer geschlossenen Vakuumumgebung aufbauen zu können;

Anmerkung: Unternummer 3B001e erfasst nicht automatische Robotersysteme für das Waferhandling, die nicht für den Betrieb im Vakuum ausgelegt sind.

| f) | Lithografieanlagen wie folgt:






  1. | «Stepp-and-repeat» (direct step on wafer)- oder «step-and-scan» (scanner)-Justier- und Belichtungsanlagen für die Waferfertigung, die lichtoptische oder röntgentechnische Verfahren verwenden, mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Wellenlänge der Lichtquelle kleiner als 350 nm oder |
| --- | --- | --- | --- |

f)

Lithografieanlagen wie folgt:

1.

«Stepp-and-repeat» (direct step on wafer)- oder «step-and-scan» (scanner)-Justier- und Belichtungsanlagen für die Waferfertigung, die lichtoptische oder röntgentechnische Verfahren verwenden, mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Wellenlänge der Lichtquelle kleiner als 350 nm oder

| b) | geeignet, ‧kleinste auflösbare Strukturbreiten‧ von kleiner/gleich 0,35 μm zu erzeugen,
  Technische Anmerkung:

  Die ‧kleinste auflösbare Strukturbreite‧ KAS wird berechnet nach der Formel:





  wobei K = 0,7


  KAS = ‧kleinste auflösbare Strukturbreite‧ |
| --- | --- |

b)

geeignet, ‧kleinste auflösbare Strukturbreiten‧ von kleiner/gleich 0,35 μm zu erzeugen,

Technische Anmerkung:

Die ‧kleinste auflösbare Strukturbreite‧ KAS wird berechnet nach der Formel:

Formula

wobei K = 0,7

KAS = ‧kleinste auflösbare Strukturbreite‧

| 2. | Anlagen, besonders konstruiert für die Maskenherstellung oder die Herstellung von Halbleiterbauelementen, die abgelenkte, fokussierte Elektronenstrahlen, Ionenstrahlen oder "Laser"strahlen verwenden, mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Auflösungsvermögen kleiner als 0,2 μm, |
| --- | --- | --- |

2.

Anlagen, besonders konstruiert für die Maskenherstellung oder die Herstellung von Halbleiterbauelementen, die abgelenkte, fokussierte Elektronenstrahlen, Ionenstrahlen oder "Laser"strahlen verwenden, mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Auflösungsvermögen kleiner als 0,2 μm,

| b) | Fähigkeit, Strukturen mit Abmessungen kleiner als 1 μm zu erzeugen, oder |
| --- | --- |

b)

Fähigkeit, Strukturen mit Abmessungen kleiner als 1 μm zu erzeugen, oder

| c) | Justiergenauigkeit (overlay accuracy) besser als ± 0,20 μm (3 Sigma); |
| --- | --- |

c)

Justiergenauigkeit (overlay accuracy) besser als ± 0,20 μm (3 Sigma);

| g) | Masken oder Reticles, entwickelt für von Nummer 3A001 erfasste integrierte Schaltungen; |
| --- | --- |

g)

Masken oder Reticles, entwickelt für von Nummer 3A001 erfasste integrierte Schaltungen;

| h) | Multilayer-Masken mit einer phasenverschiebenden Schicht.


  Anmerkung: Unternummer 3B001h erfasst nicht Multilayer-Masken mit einer phasenverschiebenden Schicht, entwickelt für die Fertigung von Speicherbauelementen, die nicht von Unternummer 3A001erfasst sind. |
| --- | --- |

h)

Multilayer-Masken mit einer phasenverschiebenden Schicht.

Anmerkung: Unternummer 3B001h erfasst nicht Multilayer-Masken mit einer phasenverschiebenden Schicht, entwickelt für die Fertigung von Speicherbauelementen, die nicht von Unternummer 3A001erfasst sind.

3B002"speicherprogrammierbare" Prüfgeräte, besonders konstruiert für das Testen von fertigen oder unfertigen Halbleiterbauelementen, wie folgt, sowie besonders konstruierte Bestandteile und besonders konstruiertes Zubehör hierfür:

| a) | zum Prüfen der S-Parameter von Transistoren bei Frequenzen größer als 31,8 GHz; |
| --- | --- |

a)

zum Prüfen der S-Parameter von Transistoren bei Frequenzen größer als 31,8 GHz;

| b) | zum Prüfen von integrierten Schaltungen mit Wahrheitstabellen (truth tables) bei einer ‧Testmusterrate‧ größer als 667 MHz;


  Anmerkung: Unternummer 3B002b erfasst nicht Prüfgeräte, besonders konstruiert für die Prüfung von:








  1. | "elektronischen Baugruppen" oder einer Klasse von "elektronischen Baugruppen" für die Haushalts- oder Unterhaltungs-Elektronik, |
| --- | --- | --- |

b)

zum Prüfen von integrierten Schaltungen mit Wahrheitstabellen (truth tables) bei einer ‧Testmusterrate‧ größer als 667 MHz;

Anmerkung: Unternummer 3B002b erfasst nicht Prüfgeräte, besonders konstruiert für die Prüfung von:

1.

"elektronischen Baugruppen" oder einer Klasse von "elektronischen Baugruppen" für die Haushalts- oder Unterhaltungs-Elektronik,

| 2. | nicht erfassten elektronischen Bauteilen, "elektronischen Baugruppen" oder integrierten Schaltungen, |
| --- | --- |

2.

nicht erfassten elektronischen Bauteilen, "elektronischen Baugruppen" oder integrierten Schaltungen,

| 3. | Speicherschaltungen. |
| --- | --- |

3.

Speicherschaltungen.

Technische Anmerkung:

Im Sinne von Unternummer 3B002b wird ‧Testmusterrate‧ (pattern rate) definiert als die maximal mögliche Frequenz in der digitalen Betriebsart eines Testers. Sie entspricht der höchstmöglichen Datenrate, die ein Tester im nicht gemultiplexten Betrieb erreichen kann, und wird auch Testgeschwindigkeit (test speed), maximale Digitalfrequenz (maximum digital frequency) oder maximale digitale Geschwindigkeit (maximum digital speed) genannt.

| c) | zum Prüfen von integrierten Mikrowellenschaltungen, die von Unternummer 3A001b2 erfasst werden. |
| --- | --- |

c)

zum Prüfen von integrierten Mikrowellenschaltungen, die von Unternummer 3A001b2 erfasst werden.

3CWerkstoffe und Materialien

3C001Hetero-epitaxiale Werkstoffe aus einem "Substrat", das mehrere Epitaxieschichten aus einem der folgenden Materialien enthält:

| a) | Silizium; |
| --- | --- |

a)

Silizium;

| b) | Germanium; |
| --- | --- |

b)

Germanium;

| c) | Siliziumkarbid oder |
| --- | --- |

c)

Siliziumkarbid oder

| d) | III/V-Verbindungen von Gallium oder Indium.
  Technische Anmerkung:

  III/V-Verbindungen sind polykristalline, binäre oder komplexe monokristalline Produkte, die aus den Elementen der Gruppen IIIA und VA des Mendelejeffschen Periodensystems (z. B. Galliumarsenid, Galliumaluminiumarsenid, Indiumphosphid) bestehen. |
| --- | --- |

d)

III/V-Verbindungen von Gallium oder Indium.

Technische Anmerkung:

III/V-Verbindungen sind polykristalline, binäre oder komplexe monokristalline Produkte, die aus den Elementen der Gruppen IIIA und VA des Mendelejeffschen Periodensystems (z. B. Galliumarsenid, Galliumaluminiumarsenid, Indiumphosphid) bestehen.

3C002Fotoresists wie folgt und "Substrate", die mit erfassten Fotoresists beschichtet sind:

| a) | Positiv-Fotoresists, entwickelt für die Halbleiter-Lithografie, besonders eingestellt (optimiert) für den Einsatz bei Wellenlängen kleiner als 350 nm; |
| --- | --- |

a)

Positiv-Fotoresists, entwickelt für die Halbleiter-Lithografie, besonders eingestellt (optimiert) für den Einsatz bei Wellenlängen kleiner als 350 nm;

| b) | alle Fotoresists, entwickelt zur Verwendung mit Elektronen- oder Ionenstrahlen mit einer Empfindlichkeit besser/gleich 0,01 μCb/mm2; |
| --- | --- |

b)

alle Fotoresists, entwickelt zur Verwendung mit Elektronen- oder Ionenstrahlen mit einer Empfindlichkeit besser/gleich 0,01 μCb/mm2;

| c) | alle Fotoresists, entwickelt zur Verwendung mit Röntgenstrahlen mit einer Empfindlichkeit besser/gleich 2,5 mJ/mm2; |
| --- | --- |

c)

alle Fotoresists, entwickelt zur Verwendung mit Röntgenstrahlen mit einer Empfindlichkeit besser/gleich 2,5 mJ/mm2;

| d) | alle Fotoresists, optimiert für Oberflächen-Belichtungstechnologien einschließlich ‧silylierter‧ Fotoresists (silylated resists).
  Technische Anmerkung:

  ‧Silylation‧-Techniken sind Verfahren, bei denen Oxydation innerhalb der Resistschicht zur Verbesserung der Nass- und Trockenentwicklung angewendet wird. |
| --- | --- |

d)

alle Fotoresists, optimiert für Oberflächen-Belichtungstechnologien einschließlich ‧silylierter‧ Fotoresists (silylated resists).

Technische Anmerkung:

‧Silylation‧-Techniken sind Verfahren, bei denen Oxydation innerhalb der Resistschicht zur Verbesserung der Nass- und Trockenentwicklung angewendet wird.

3C003Organisch-anorganische Verbindungen wie folgt:

| a) | Metallorganische Verbindungen aus Aluminium, Gallium oder Indium mit einer Reinheit (bezogen auf das Metall) größer als 99,999 %; |
| --- | --- |

a)

Metallorganische Verbindungen aus Aluminium, Gallium oder Indium mit einer Reinheit (bezogen auf das Metall) größer als 99,999 %;

| b) | Organische Arsen-, Antimon- oder Phosphorverbindungen mit einer Reinheit (bezogen auf das anorganische Element) größer als 99,999 %. |
| --- | --- |

b)

Organische Arsen-, Antimon- oder Phosphorverbindungen mit einer Reinheit (bezogen auf das anorganische Element) größer als 99,999 %.

Anmerkung: Nummer 3C003 erfasst nur Verbindungen, deren metallisches, halbmetallisches oder nichtmetallisches Element direkt an das Kohlenstoffatom im organischen Teil des Moleküls gebunden ist.

3C004Phosphor-, Arsen- oder Antimonhydride mit einer Reinheit größer als 99,999 %, auch verdünnt in Inertgasen oder Wasserstoff.

Anmerkung: Nummer 3C004 erfasst nicht Hydride, die 20 Molprozent oder mehr Inertgase oder Wasserstoff enthalten.

3DDatenverarbeitungsprogramme (Software)

3D001"Software", besonders entwickelt für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von Ausrüstung, die von den Unternummern 3A001b bis 3A002g oder Nummer 3B erfasst wird.

3D002"Software", besonders entwickelt für die "Verwendung" einer der folgenden Ausrüstungen:

| a) | Ausrüstung erfasst von 3B001a bis f oder |
| --- | --- |

a)

Ausrüstung erfasst von 3B001a bis f oder

| b) | Ausrüstung erfasst von 3B002. |
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b)

Ausrüstung erfasst von 3B002.

3D003‧Physik-basierende‧ (physics-based) Simulations"software", besonders entwickelt für die "Entwicklung" von lithografischen, Ätz- oder Abscheidungsprozessen für das Übertragen von Maskenmustern in spezifische topografische Muster von Leiterbahnen, dielektrischen oder Halbleitermaterialien.

Technische Anmerkung:

‧Physik-basierend‧ (physics-based) bedeutet in Nummer 3D003, eine Abfolge von physikalischen Kausalvorgängen auf der Grundlage physikalischer Kennwerte (z. B. Temperatur, Druck, Diffusionskonstanten sowie Materialeigenschaften von Halbleitern) rechnerisch zu ermitteln.

Anmerkung: Die Bibliotheken, die Entwurfsattribute oder die zugehörigen Daten zum Entwurf von Halbleiterbauelementen oder integrierten Schaltungen gelten als "Technologie".

3D004"Software", besonders entwickelt für die "Entwicklung" der von Unternummer 3A003 erfassten Ausrüstung.

3D101"Software", besonders entwickelt oder geändert für die "Verwendung" der von Unternummer 3A101b erfassten Ausrüstung.

3ETechnologie

3E001"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von Ausrüstung oder Werkstoffen, die von Nummer 3A, 3B oder 3C erfasst werden.

Anmerkung 1: Nummer 3E001 erfasst nicht "Technologie" für die "Herstellung" von Ausrüstung oder Bestandteilen, die von Nummer 3A003 erfasst werden.

Anmerkung 2: Nummer 3E001 erfasst nicht "Technologie" für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von integrierten Schaltungen, die von den Unternummern 3A001a3 bis 3A001a12 erfasst werden und folgende Merkmale aufweisen:

| 1. | Verwendung einer "Technologie" mit minimalen Strukturbreiten größer/gleich 0,5 μm und |
| --- | --- |

1.

Verwendung einer "Technologie" mit minimalen Strukturbreiten größer/gleich 0,5 μm und

| 2. | keine ‧Multilayer-Strukturen‧. |
| --- | --- |

2.

keine ‧Multilayer-Strukturen‧.

Technische Anmerkung:

Der Begriff ‧Multilayer-Strukturen‧ schließt nicht Bauelemente mit höchstens drei Metallisierungsschichten und drei Polysiliziumschichten ein.

3E002"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung, die nicht von Nummer 3E001 erfasst wird, für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von "Mikroprozessoren", "Mikrocomputern" und Mikrocontrollern mit einer "zusammengesetzten theoretischen Verarbeitungsrate""CTP" größer/ gleich 530 Mtops (Millionen theoretischer Operationen pro Sekunde) und einer arithmetisch-logischen Einheit (ALU) mit einer Zugriffsbreite größer/gleich 32 bit.

Anmerkung: Die Anmerkung zu Nummer 3E001 gilt auch für Unternummer 3E002.

3E003"Technologie" wie folgt für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von:

| a) | mikroelektronischen Vakuumbauelementen; |
| --- | --- |

a)

mikroelektronischen Vakuumbauelementen;

| b) | Halbleiterbauelementen mit heterogener Struktur, z. B. HEMT (high electron mobility transistors), HBT (hetero-bipolar transistors), «quantum well devices» oder «super lattice devices»;


  Anmerkung: Nummer 3E003b erfasst nicht "Technologie" für HEMT (high electron mobility transistors) mit Betriebsfrequenzen kleiner als 31,8 GHz sowie HBT (hetero-bipolar transistors) mit Betriebsfrequenzen kleiner als 31,8 GHz. |
| --- | --- |

b)

Halbleiterbauelementen mit heterogener Struktur, z. B. HEMT (high electron mobility transistors), HBT (hetero-bipolar transistors), «quantum well devices» oder «super lattice devices»;

Anmerkung: Nummer 3E003b erfasst nicht "Technologie" für HEMT (high electron mobility transistors) mit Betriebsfrequenzen kleiner als 31,8 GHz sowie HBT (hetero-bipolar transistors) mit Betriebsfrequenzen kleiner als 31,8 GHz.

| c) | "supraleitenden" elektronischen Bauelementen; |
| --- | --- |

c)

"supraleitenden" elektronischen Bauelementen;

| d) | Substraten mit Diamantfilmen für elektronische Bauelemente; |
| --- | --- |

d)

Substraten mit Diamantfilmen für elektronische Bauelemente;

| e) | Substraten aus «silicon-on-insulator» (SOI) für integrierte Schaltungen, wobei der Isolator aus Siliziumdioxid besteht; |
| --- | --- |

e)

Substraten aus «silicon-on-insulator» (SOI) für integrierte Schaltungen, wobei der Isolator aus Siliziumdioxid besteht;

| f) | Substraten aus Siliziumkarbid für elektronische Bauelemente; |
| --- | --- |

f)

Substraten aus Siliziumkarbid für elektronische Bauelemente;

| g) | elektronischen Vakuumröhren mit Betriebsfrequenzen größer/gleich 31,8 GHz. |
| --- | --- |

g)

elektronischen Vakuumröhren mit Betriebsfrequenzen größer/gleich 31,8 GHz.

3E101"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Verwendung" von Ausrüstung oder "Software", erfasst von Unternummer 3A001a1, 3A001a2, Nummer 3A101 oder 3D101.

3E102"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Entwicklung" von "Software", erfasst von Nummer 3D101.

3E201"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Verwendung" von Ausrüstung, erfasst von Unternummer 3A001e2, 3A001e3, Nummer 3A201, 3A225 bis 3A233.

KATEGORIE 4

RECHNER

Anmerkung 1: Rechner, verwandte Geräte und "Software" für Telekommunikations- oder "Local Area Network"-Funktionen sind auch nach den Leistungsmerkmalen der Kategorie 5, Teil 1 (Telekommunikation), zu bewerten.

Anmerkung 2: Steuereinheiten, die Bussysteme oder Kanäle von Zentraleinheiten, "Hauptspeicher" oder Plattensteuerungen direkt verbinden, gelten nicht als Telekommunikationsgeräte im Sinne der Kategorie 5, Teil 1 (Telekommunikation).

Ergänzende Anmerkung: Die Erfassung von "Software", besonders entwickelt für die Paketvermittlung, richtet sich nach Nummer 5D001 Kategorie 5, Teil 1 (Telekommunikation).

Anmerkung 3: Rechner, verwandte Geräte und "Software" mit kryptografischen, kryptoanalytischen, einstufbaren, mehrstufigen Sicherheits- oder einstufbaren Teilnehmerabgrenzungs-Funktionen oder mit einer Begrenzung elektromagnetischer Verträglichkeit (EMV) sind auch nach den Leistungsmerkmalen der Kategorie 5, Teil 2 ("Informationssicherheit"), zu bewerten.

4ASysteme, Ausrüstung und Bestandteile

4A001Elektronische Rechner und verwandte Geräte wie folgt sowie "elektronische Baugruppen" und besonders konstruierte Bestandteile hierfür:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 4A101.

| a) | besonders konstruiert für eine der folgenden Eigenschaften:






  1. | ausgelegt für den Betrieb bei Umgebungstemperaturen unterhalb 228 K (– 45 °C) oder oberhalb 358 K (+ 85 °C) oder



  Anmerkung: Unternummer 4A001a1 gilt nicht für Rechner, besonders konstruiert zur Verwendung in zivilen Kraftfahrzeugen oder Eisenbahnzügen. |
| --- | --- | --- |

a)

besonders konstruiert für eine der folgenden Eigenschaften:

1.

ausgelegt für den Betrieb bei Umgebungstemperaturen unterhalb 228 K (– 45 °C) oder oberhalb 358 K (+ 85 °C) oder

Anmerkung: Unternummer 4A001a1 gilt nicht für Rechner, besonders konstruiert zur Verwendung in zivilen Kraftfahrzeugen oder Eisenbahnzügen.

| 2. | unempfindlich gegen Strahlungsbelastungen (radiation-hardened), die höher sind als einer der folgenden Grenzwerte:







  a) | Gesamtstrahlungsdosis | 5 × 103 Gy (Silizium), |
| --- | --- | --- | --- |
| b) | kritische Strahlungsdosisleistung | 5 × 106 Gy (Silizium)/s oder |
| c) | Einzelereignis-Grenzwerte (SEU) | 1 × 10–7 Fehler/bit/Tag; |

2.

unempfindlich gegen Strahlungsbelastungen (radiation-hardened), die höher sind als einer der folgenden Grenzwerte:

a)

Gesamtstrahlungsdosis

5 × 103 Gy (Silizium),

b)

kritische Strahlungsdosisleistung

5 × 106 Gy (Silizium)/s oder

c)

Einzelereignis-Grenzwerte (SEU)

1 × 10–7 Fehler/bit/Tag;

| b) | mit Eigenschaften oder Funktionen, die die Grenzwerte der Kategorie 5, Teil 2 ("Informationssicherheit"), überschreiten.


  Anmerkung: Unternummer 4A001b erfasst nicht elektronische Rechner und verwandte Geräte, wenn diese von ihrem Benutzer zum persönlichen Gebrauch mitgeführt werden. |
| --- | --- |

b)

mit Eigenschaften oder Funktionen, die die Grenzwerte der Kategorie 5, Teil 2 ("Informationssicherheit"), überschreiten.

Anmerkung: Unternummer 4A001b erfasst nicht elektronische Rechner und verwandte Geräte, wenn diese von ihrem Benutzer zum persönlichen Gebrauch mitgeführt werden.

4A003"Digitalrechner", "elektronische Baugruppen" und verwandte Geräte wie folgt sowie besonders konstruierte Bestandteile hierfür:

Anmerkung 1: Nummer 4A003 schließt Folgendes ein:

| a) | Vektorrechner, |
| --- | --- |

a)

Vektorrechner,

| b) | Array-Rechner, |
| --- | --- |

b)

Array-Rechner,

| c) | digitale Signaldatenverarbeitungsrechner, |
| --- | --- |

c)

digitale Signaldatenverarbeitungsrechner,

| d) | Logikrechner, |
| --- | --- |

d)

Logikrechner,

| e) | Geräte, entwickelt für "Bildverarbeitung", |
| --- | --- |

e)

Geräte, entwickelt für "Bildverarbeitung",

| f) | Geräte, entwickelt für "Signaldatenverarbeitung". |
| --- | --- |

f)

Geräte, entwickelt für "Signaldatenverarbeitung".

Anmerkung 2: Die Erfassung von in Nummer 4A003 beschriebenen "Digitalrechnern" und verwandten Geräten richtet sich nach dem Erfassungsstatus anderer Geräte oder Systeme, sofern

| a) | die "Digitalrechner" oder die verwandten Geräte wesentlich sind für die Funktion der anderen Geräte oder Systeme, |
| --- | --- |

a)

die "Digitalrechner" oder die verwandten Geräte wesentlich sind für die Funktion der anderen Geräte oder Systeme,

| b) | die "Digitalrechner" oder verwandten Geräte nicht einen "Hauptbestandteil" der anderen Geräte oder Systeme darstellen und




  Ergänzende Anmerkung 1: Die Erfassung von Geräten zur "Signaldatenverarbeitung" oder "Bildverarbeitung", besonders konstruiert für andere Einrichtungen unter Einhaltung der Funktionsgrenzwerte dieser anderen Einrichtungen, wird durch den Erfassungsstatus der anderen Einrichtungen auch dann bestimmt, wenn das Kriterium des "Hauptbestandteils" nicht mehr erfüllt ist.



  Ergänzende Anmerkung 2: Die Erfassung von "Digitalrechnern" oder verwandten Geräten für Telekommunikationseinrichtungen richtet sich nach Kategorie 5, Teil 1 (Telekommunikation). |
| --- | --- |

b)

die "Digitalrechner" oder verwandten Geräte nicht einen "Hauptbestandteil" der anderen Geräte oder Systeme darstellen und

Ergänzende Anmerkung 1: Die Erfassung von Geräten zur "Signaldatenverarbeitung" oder "Bildverarbeitung", besonders konstruiert für andere Einrichtungen unter Einhaltung der Funktionsgrenzwerte dieser anderen Einrichtungen, wird durch den Erfassungsstatus der anderen Einrichtungen auch dann bestimmt, wenn das Kriterium des "Hauptbestandteils" nicht mehr erfüllt ist.

Ergänzende Anmerkung 2: Die Erfassung von "Digitalrechnern" oder verwandten Geräten für Telekommunikationseinrichtungen richtet sich nach Kategorie 5, Teil 1 (Telekommunikation).

| c) | die "Technologie" für die "Digitalrechner" oder verwandten Geräte von Nummer 4E geregelt wird. |
| --- | --- |

c)

die "Technologie" für die "Digitalrechner" oder verwandten Geräte von Nummer 4E geregelt wird.

| a) | konstruiert oder geändert für Systeme mit "Fehlertoleranz";


  Anmerkung: Im Sinne von Unternummer 4A003a gelten "Digitalrechner" und verwandte Geräte nicht als konstruiert oder geändert für "Fehlertoleranz", wenn sie








  1. | Fehlererkennungs- oder Fehlerkorrekturalgorithmen im "Hauptspeicher" verwenden, |
| --- | --- | --- |

a)

konstruiert oder geändert für Systeme mit "Fehlertoleranz";

Anmerkung: Im Sinne von Unternummer 4A003a gelten "Digitalrechner" und verwandte Geräte nicht als konstruiert oder geändert für "Fehlertoleranz", wenn sie

1.

Fehlererkennungs- oder Fehlerkorrekturalgorithmen im "Hauptspeicher" verwenden,

| 2. | die gegenseitige Verbindung von zwei "Digitalrechnern" so verwenden, dass bei Ausfall der aktiven Zentraleinheit eine mitlaufende Zentraleinheit die Aufgaben des Systems fortführen kann, |
| --- | --- |

2.

die gegenseitige Verbindung von zwei "Digitalrechnern" so verwenden, dass bei Ausfall der aktiven Zentraleinheit eine mitlaufende Zentraleinheit die Aufgaben des Systems fortführen kann,

| 3. | die gegenseitige Verbindung von zwei Zentraleinheiten über Datenkanäle oder gemeinsame Speicher so verwenden, dass eine mitlaufende Zentraleinheit so lange andere Aufgaben ausführen kann, bis die aktive Zentraleinheit ausfällt; dann übernimmt die mitlaufende Zentraleinheit, um die Aufgaben des Systems fortzuführen oder |
| --- | --- |

3.

die gegenseitige Verbindung von zwei Zentraleinheiten über Datenkanäle oder gemeinsame Speicher so verwenden, dass eine mitlaufende Zentraleinheit so lange andere Aufgaben ausführen kann, bis die aktive Zentraleinheit ausfällt; dann übernimmt die mitlaufende Zentraleinheit, um die Aufgaben des Systems fortzuführen oder

| 4. | die Synchronisierung von zwei Zentraleinheiten mittels "Software" so verwenden, dass die mitlaufende Zentraleinheit erkennt, wenn die aktive Zentraleinheit ausfällt, um dann die Aufgaben der ausgefallenen Zentraleinheit zu übernehmen. |
| --- | --- |

4.

die Synchronisierung von zwei Zentraleinheiten mittels "Software" so verwenden, dass die mitlaufende Zentraleinheit erkennt, wenn die aktive Zentraleinheit ausfällt, um dann die Aufgaben der ausgefallenen Zentraleinheit zu übernehmen.

| b) | "Digitalrechner" mit einer "zusammengesetzten theoretischen Verarbeitungsrate""CTP" größer als 190 000 Mtops (Millionen theoretischer Operationen pro Sekunde); |
| --- | --- |

b)

"Digitalrechner" mit einer "zusammengesetzten theoretischen Verarbeitungsrate""CTP" größer als 190 000 Mtops (Millionen theoretischer Operationen pro Sekunde);

| c) | "elektronische Baugruppen", besonders konstruiert oder geändert zur Steigerung der Rechenleistung durch Zusammenschalten von "Rechenelementen""CEs", so dass die "zusammengesetzte theoretische Verarbeitungsrate""CTP" den Grenzwert von Unternummer 4A003b überschreiten kann;


  Anmerkung 1: Unternummer 4A003c gilt nur für "elektronische Baugruppen" und programmierbare Zusammenschaltungen von "Rechenelementen""CEs", die die Grenzwerte der Unternummer 4A003b nicht überschreiten, soweit sie als einzelne "elektronische Baugruppen" geliefert werden. Unternummer 4A003c gilt nicht für "elektronische Baugruppen", die aufgrund ihrer Konstruktion auf eine Verwendung als von Unternummer 4A003d oder 4A003e erfasste verwandte Geräte beschränkt sind.



  Anmerkung 2: Unternummer 4A003c erfasst keine "elektronischen Baugruppen", besonders konstruiert für Produkte oder Produktfamilien, deren Maximalkonfiguration den Grenzwert der Unternummer 4A003b nicht überschreitet. |
| --- | --- |

c)

"elektronische Baugruppen", besonders konstruiert oder geändert zur Steigerung der Rechenleistung durch Zusammenschalten von "Rechenelementen""CEs", so dass die "zusammengesetzte theoretische Verarbeitungsrate""CTP" den Grenzwert von Unternummer 4A003b überschreiten kann;

Anmerkung 1: Unternummer 4A003c gilt nur für "elektronische Baugruppen" und programmierbare Zusammenschaltungen von "Rechenelementen""CEs", die die Grenzwerte der Unternummer 4A003b nicht überschreiten, soweit sie als einzelne "elektronische Baugruppen" geliefert werden. Unternummer 4A003c gilt nicht für "elektronische Baugruppen", die aufgrund ihrer Konstruktion auf eine Verwendung als von Unternummer 4A003d oder 4A003e erfasste verwandte Geräte beschränkt sind.

Anmerkung 2: Unternummer 4A003c erfasst keine "elektronischen Baugruppen", besonders konstruiert für Produkte oder Produktfamilien, deren Maximalkonfiguration den Grenzwert der Unternummer 4A003b nicht überschreitet.

| d) | nicht belegt; |
| --- | --- |

d)

nicht belegt;

| e) | Geräte für Analog/Digital-Umwandlungen, die die Grenzwerte der Unternummer 3A001a5 überschreiten; |
| --- | --- |

e)

Geräte für Analog/Digital-Umwandlungen, die die Grenzwerte der Unternummer 3A001a5 überschreiten;

| f) | nicht belegt; |
| --- | --- |

f)

nicht belegt;

| g) | Geräte, besonders konstruiert für die externe Vernetzung von "Digitalrechnern" oder verwandten Geräten, die eine Kommunikation mit Datenraten über 1,25 GByte/s erlauben.


  Anmerkung: Unternummer 4A003g erfasst keine Geräte zur internen Vernetzung (z. B. Rückwandplatinen, Bussysteme), passives Netzwerkzubehör, "Netzzugangssteuerungen" oder "Kommunikationskanalsteuerungen". |
| --- | --- |

g)

Geräte, besonders konstruiert für die externe Vernetzung von "Digitalrechnern" oder verwandten Geräten, die eine Kommunikation mit Datenraten über 1,25 GByte/s erlauben.

Anmerkung: Unternummer 4A003g erfasst keine Geräte zur internen Vernetzung (z. B. Rückwandplatinen, Bussysteme), passives Netzwerkzubehör, "Netzzugangssteuerungen" oder "Kommunikationskanalsteuerungen".

4A004Rechner wie folgt und besonders konstruierte, verwandte Geräte, "elektronische Baugruppen" und Bauteile hierfür:

| a) | "systolische Array-Rechner"; |
| --- | --- |

a)

"systolische Array-Rechner";

| b) | "neuronale Rechner"; |
| --- | --- |

b)

"neuronale Rechner";

| c) | "optische Rechner". |
| --- | --- |

c)

"optische Rechner".

4A101Analogrechner, "Digitalrechner" oder digitale Differenzialanalysatoren, die nicht von Unternummer 4A001a1 erfasst werden, besonders robust (ruggedized) und konstruiert oder geändert zur Verwendung in von Nummer 9A004 erfassten Trägerraketen oder von Nummer 9A104 erfassten Höhenforschungsraketen.

4A102"Hybridrechner", besonders konstruiert für die Modellbildung, Simulation oder Integrationsplanung der von Nummer 9A004 erfassten Trägerraketen oder von Nummer 9A104 erfassten Höhenforschungsraketen.

Anmerkung: Nummer 4A102 erfasst nur Ausrüstung in Verbindung mit der von Nummer 7D103 oder 9D103 erfassten "Software".

4BPrüf-, Test- und Herstellungseinrichtungen

Kein Eintrag.

4CWerkstoffe und Materialien

Kein Eintrag.

4DDatenverarbeitungsprogramme (Software)

Anmerkung: Der Erfassungsstatus von "Software" für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" von in anderen Kategorien beschriebenen Einrichtungen wird in den zutreffenden Kategorien geregelt. Die Erfassung von "Software" für die in Kategorie 4 beschriebenen Einrichtungen richtet sich nach Nummer 4D.

| a) | "Software", besonders entwickelt oder geändert für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" von Einrichtungen oder "Software", die von Nummer 4A001 bis 4A004 oder 4D erfasst werden; |
| --- | --- |

a)

"Software", besonders entwickelt oder geändert für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" von Einrichtungen oder "Software", die von Nummer 4A001 bis 4A004 oder 4D erfasst werden;

| b) | "Software", die nicht von Unternummer 4D001a erfasst wird, besonders entwickelt oder geändert für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von:






  1. | "Digitalrechnern" mit einer "zusammengesetzten theoretischen Verarbeitungsrate""CTP" größer als 28 000 Mtops (Millionen theoretischer Operationen pro Sekunde) oder |
| --- | --- | --- |

b)

"Software", die nicht von Unternummer 4D001a erfasst wird, besonders entwickelt oder geändert für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von:

1.

"Digitalrechnern" mit einer "zusammengesetzten theoretischen Verarbeitungsrate""CTP" größer als 28 000 Mtops (Millionen theoretischer Operationen pro Sekunde) oder

| 2. | "elektronischen Baugruppen", besonders konstruiert oder geändert zur Steigerung der Rechenleistung durch Zusammenschalten von "Rechenelementen""CEs", so dass die "zusammengesetzte theoretische Verarbeitungsrate""CTP" den Grenzwert von Unternummer 4D001b1 überschreiten kann. |
| --- | --- |

2.

"elektronischen Baugruppen", besonders konstruiert oder geändert zur Steigerung der Rechenleistung durch Zusammenschalten von "Rechenelementen""CEs", so dass die "zusammengesetzte theoretische Verarbeitungsrate""CTP" den Grenzwert von Unternummer 4D001b1 überschreiten kann.

4D002"Software", besonders entwickelt oder geändert zur Unterstützung der "Technologie", die von Nummer 4E erfasst wird.

4D003"Software" wie folgt:

| a) | "Quellcodes" von Betriebssystem-"Software", "Software"-Entwicklungswerkzeugen und Compilern, besonders entwickelt für Geräte zur "Mehrfachdatenstromverarbeitung"; |
| --- | --- |

a)

"Quellcodes" von Betriebssystem-"Software", "Software"-Entwicklungswerkzeugen und Compilern, besonders entwickelt für Geräte zur "Mehrfachdatenstromverarbeitung";

| b) | nicht belegt; |
| --- | --- |

b)

nicht belegt;

| c) | "Software" mit Eigenschaften oder Funktionen, die die Grenzwerte der Kategorie 5, Teil 2 ("Informationssicherheit"), überschreiten.


  Anmerkung: Unternummer 4D003c erfasst nicht "Software", wenn diese von ihrem Benutzer zum persönlichen Gebrauch mitgeführt wird. |
| --- | --- |

c)

"Software" mit Eigenschaften oder Funktionen, die die Grenzwerte der Kategorie 5, Teil 2 ("Informationssicherheit"), überschreiten.

Anmerkung: Unternummer 4D003c erfasst nicht "Software", wenn diese von ihrem Benutzer zum persönlichen Gebrauch mitgeführt wird.

4ETechnologie

| a) | "Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" von Einrichtungen oder "Software", die von Nummer 4A oder 4D erfasst werden; |
| --- | --- |

a)

"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" von Einrichtungen oder "Software", die von Nummer 4A oder 4D erfasst werden;

| b) | "Technologie", die nicht von Unternummer 4E001a erfasst wird, besonders entwickelt oder geändert für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von:






  1. | "Digitalrechnern" mit einer "zusammengesetzten theoretischen Verarbeitungsrate""CTP" größer als 28 000 Mtops (Millionen theoretischer Operationen pro Sekunde) oder |
| --- | --- | --- |

b)

"Technologie", die nicht von Unternummer 4E001a erfasst wird, besonders entwickelt oder geändert für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von:

1.

"Digitalrechnern" mit einer "zusammengesetzten theoretischen Verarbeitungsrate""CTP" größer als 28 000 Mtops (Millionen theoretischer Operationen pro Sekunde) oder

| 2. | "elektronischen Baugruppen", besonders konstruiert oder geändert zur Steigerung der Rechenleistung durch Zusammenschalten von "Rechenelementen""CEs", so dass die "zusammengesetzte theoretische Verarbeitungsrate""CTP" den Grenzwert von Unternummer 4E001b1 überschreiten kann. |
| --- | --- |

2.

"elektronischen Baugruppen", besonders konstruiert oder geändert zur Steigerung der Rechenleistung durch Zusammenschalten von "Rechenelementen""CEs", so dass die "zusammengesetzte theoretische Verarbeitungsrate""CTP" den Grenzwert von Unternummer 4E001b1 überschreiten kann.

Technische Anmerkung zur "zusammengesetzten theoretischen Verarbeitungsrate""CTP" (Composite Theoretical Performance)

Abkürzungen:

| "CE" | "Rechenelement" (i.d.R. eine arithmetische oder logische Einheit) |
| --- | --- |
| FP | Gleitkomma |
| XP | Festkomma |
| t | Ausführungszeit eines Befehls (in Mikrosekunden) |
| XOR | exklusive ODER-Verknüpfung |
| CPU | Zentraleinheit |
| TP | theoretische Verarbeitungsrate (eines einzelnen "Rechenelements""CEs") (in Mtops, Millionen theoretischer Operationen pro Sekunde) |
| "CTP" | "zusammengesetzte theoretische Verarbeitungsrate" (in Mtops, Millionen theoretischer Operationen pro Sekunde) von mehreren "Rechenelementen""CEs" |
| R | effektive Verarbeitungsrate |
| WL | Wortlänge (in Bit) |
| L | Wortlängen-Normierung |
| × | Multiplikation |

"CE"

"Rechenelement" (i.d.R. eine arithmetische oder logische Einheit)

FP

Gleitkomma

XP

Festkomma

t

Ausführungszeit eines Befehls (in Mikrosekunden)

XOR

exklusive ODER-Verknüpfung

CPU

Zentraleinheit

TP

theoretische Verarbeitungsrate (eines einzelnen "Rechenelements""CEs") (in Mtops, Millionen theoretischer Operationen pro Sekunde)

"CTP"

"zusammengesetzte theoretische Verarbeitungsrate" (in Mtops, Millionen theoretischer Operationen pro Sekunde) von mehreren "Rechenelementen""CEs"

R

effektive Verarbeitungsrate

WL

Wortlänge (in Bit)

L

Wortlängen-Normierung

×

Multiplikation

Berechnung der "zusammengesetzten theoretischen Verarbeitungsrate""CTP"

Die "zusammengesetzte theoretische Verarbeitungsrate""CTP" ist eine Maßzahl für die Rechnerleistung, angegeben in Millionen theoretischer Operationen pro Sekunde (Mtops). Zur Berechnung der "zusammengesetzten theoretischen Verarbeitungsrate""CTP" eines Systems mit "Rechenelementen""CEs" sind folgende drei prinzipielle Schritte erforderlich:

| 1. | Berechnung der effektiven Verarbeitungsrate R für jedes "Rechenelement""CE". |
| --- | --- |

1.

Berechnung der effektiven Verarbeitungsrate R für jedes "Rechenelement""CE".

| 2. | Berechnung der theoretischen Verarbeitungsrate TP durch Verknüpfung der effektiven Verarbeitungsrate R und der zugehörigen Wortlängen-Normierung L je "Rechenelement""CE". |
| --- | --- |

2.

Berechnung der theoretischen Verarbeitungsrate TP durch Verknüpfung der effektiven Verarbeitungsrate R und der zugehörigen Wortlängen-Normierung L je "Rechenelement""CE".

| 3. | Enthält ein System mehr als ein "Rechenelement""CE", so sind zur Berechnung der "zusammengesetzten theoretischen Verarbeitungsrate""CTP" die einzelnen theoretischen Verarbeitungsraten TP zu aggregieren. |
| --- | --- |

3.

Enthält ein System mehr als ein "Rechenelement""CE", so sind zur Berechnung der "zusammengesetzten theoretischen Verarbeitungsrate""CTP" die einzelnen theoretischen Verarbeitungsraten TP zu aggregieren.

Die Einzelheiten dieser drei Schritte werden in den folgenden Abschnitten erläutert:

Anmerkung 1: Für Zusammenschaltungen mehrerer "Rechenelemente""CEs", die sowohl gemeinsamen Speicher als auch lokalen (keinen gemeinsamen) Speicher besitzen, ist die Berechnung der "zusammengesetzten theoretischen Verarbeitungsrate""CTP" in zwei Schritten nacheinander durchzuführen: a) es ist die "zusammengesetzte theoretische Verarbeitungsrate""CTP" der Zusammenschaltung (Gruppen) der "Rechenelemente""CEs" mit gemeinsamem Speicher und dann b) die "zusammengesetzte theoretische Verarbeitungsrate""CTP" der Gruppen unter Verwendung der Rechenvorschrift für mehrere parallel arbeitende "Rechenelemente""CEs" ohne einen gemeinsamen Speicher zu berechnen.

Anmerkung 2:"Rechenelemente""CEs", deren Funktion beschränkt ist auf Ein-/Ausgabe und periphere Funktionen (z. B. Festplatten-, Kommunikations- und Bildschirm-Steuereinheiten), sind nicht in die "CTP"-Berechnung mit einzubeziehen.

Schritt 1: Berechnung der effektiven Verarbeitungsrate R verschiedener "Rechenelemente""CEs":

| "Rechenelement""CE"


  Anmerkung: Jedes "Rechenelement""CE" muss unabhängig von den anderen berechnet warden. | Effektive Verarbeitungsrate R |
| --- | --- |
| mit Festkommabefehlen: | Ist kein Additionsbefehl vorhanden, so ist die Ausführungszeit des schnellsten Multiplikationsbefehls zu verwenden:



  Ist weder ein Additions- noch ein Multiplikationsbefehl vorhanden, so ist die Ausführungszeit des schnellsten arithmetischen Befehls zu verwenden:



  Siehe Anmerkungen X und Z. |
| mit Gleitkommabefehlen: | ,


  Siehe Anmerkungen X und Y. |
| mit Festkomma- und Gleitkommabefehlen: | Sowohl Rxp als auch Rfp sind zu berechnen |
| mit nur logischen Befehlen (keine arithmetischen Befehle vorhanden): | tlog ist die Ausführungszeit des schnellsten XOR-Befehls. Ist kein XOR-Befehl vorhanden, so ist die Ausführungszeit des schnellsten logischen Befehls zu verwenden.
  Siehe Anmerkungen X und Z. |
| ohne die spezifizierten arithmetischen oder logischen Befehle (spezielle "Rechenelemente""CEs"): | R = R' × WL/64
  R' ist die Anzahl der Rechenoperationen je Sekunde. WL ist die Anzahl der Bits, die miteinander logisch verknüpft werden. 64 ist eine Konstante zur Normalisierung, bezogen auf Operationen mit einer Wortlänge von 64 bit. |

"Rechenelement""CE"

Anmerkung: Jedes "Rechenelement""CE" muss unabhängig von den anderen berechnet warden.

Effektive Verarbeitungsrate R

mit Festkommabefehlen:

Formula

Ist kein Additionsbefehl vorhanden, so ist die Ausführungszeit des schnellsten Multiplikationsbefehls zu verwenden:

Formula

Ist weder ein Additions- noch ein Multiplikationsbefehl vorhanden, so ist die Ausführungszeit des schnellsten arithmetischen Befehls zu verwenden:

Formula

Siehe Anmerkungen X und Z.

mit Gleitkommabefehlen:

Formula

Formula

Siehe Anmerkungen X und Y.

mit Festkomma- und Gleitkommabefehlen:

Sowohl Rxp als auch Rfp sind zu berechnen

mit nur logischen Befehlen (keine arithmetischen Befehle vorhanden):

Formula

tlog ist die Ausführungszeit des schnellsten XOR-Befehls. Ist kein XOR-Befehl vorhanden, so ist die Ausführungszeit des schnellsten logischen Befehls zu verwenden.

Siehe Anmerkungen X und Z.

ohne die spezifizierten arithmetischen oder logischen Befehle (spezielle "Rechenelemente""CEs"):

R = R' × WL/64

R' ist die Anzahl der Rechenoperationen je Sekunde. WL ist die Anzahl der Bits, die miteinander logisch verknüpft werden. 64 ist eine Konstante zur Normalisierung, bezogen auf Operationen mit einer Wortlänge von 64 bit.

Anmerkung W: Für ein "Rechenelement""CE" in Fließbandtechnik (pipelined "CE"), das in einer seiner sequenziellen Funktionseinheiten bis zu einem Befehl pro Zyklus ausführen kann, nachdem das Fließband (pipeline) gefüllt ist, kann eine Verarbeitungsrate für "Rechenelemente""CEs" in Fließbandtechnik eingeführt werden. Die effektive Verarbeitungsrate R für ein derartiges "Rechenelement""CE" ist die größere der beiden Verarbeitungsraten für den Fließband-(Pipeline-) und den Nicht-Fließband-Betrieb des "Rechenelementes""CE".

Anmerkung X: Für ein "Rechenelement""CE", das mehrere gleichartige arithmetische Operationen während eines Maschinenzyklusses ausführt (z. B. zwei Additionen je Zyklus oder zwei identische logische Operationen pro Zyklus), ergibt sich die Ausführungszeit t wie folgt:

Formula

"Rechenelemente""CEs", die verschiedenartige arithmetische oder logische Operationen in einem Maschinenzyklus ausführen, sind als mehrere selbstständige, simultan arbeitende "Rechenelemente""CEs" zu behandeln (z. B., führt ein "Rechenelement""CE" in demselben Zyklus einen Additions- und einen Multiplikationsbefehl aus, so ist diese Operation als in zwei "Rechenelementen""CEs" ausgeführt anzusehen. Das erste "Rechenelement""CE" führt in einem Zyklus den Additionsbefehl und das zweite in einem Zyklus den Multiplikationsbefehl aus).

Kann ein "Rechenelement""CE" sowohl skalare Operationen als auch Vektoroperationen ausführen, so ist die kürzere Ausführungszeit zu verwenden.

Anmerkung Y: Sind in einem "Rechenelement""CE" keine Gleitkomma-Additions- oder Gleitkomma-Multiplikationsbefehle vorhanden, hingegen Divisionsbefehle, so gilt:

Formula

Wenn in einem Gleitkomma-"Rechenelement""CE" der Reziprok-Befehl implementiert ist, jedoch weder die Addition noch die Multiplikation oder Division implementiert ist, dann gilt:

Formula

Sind keine der angegebenen Befehle vorhanden, so ist die effektive Verarbeitungsrate R für Gleitkomma-Operationen gleich Null zu setzen.

Anmerkung Z: Durch einfache logische Operationen werden von einem Befehl nicht mehr als zwei Operanden bestimmter Länge miteinander verknüpft. Durch komplexe logische Operationen werden von einem Befehl mehrere Verknüpfungen ausgeführt, um ein oder mehrere Ergebnisse aus zwei oder mehreren Operanden zu erzeugen.

Die Verarbeitungsraten sind für alle im System vorhandenen Operandenlängen zu ermitteln, und zwar unter Berücksichtigung der schnellsten Befehlsausführungszeit je Operandenlänge, sowohl für Operationen in Fließbandtechnik (pipelined operations), wenn vorhanden, als auch für sequenzielle Befehle, basierend auf:

| 1. | Register-Register-Operationen oder Operationen in Fließbandtechnik (pipelined operations). Sehr kurze Befehlsausführungszeiten für Operationen mit vorab festgelegtem Operand oder bestimmten Operanden (z. B. eine Multiplikation mit 0 und 1) können außer Betracht bleiben. Sind keine Register-Register-Operationen vorhanden, so ist mit 2. fortzufahren. |
| --- | --- |

1.

Register-Register-Operationen oder Operationen in Fließbandtechnik (pipelined operations). Sehr kurze Befehlsausführungszeiten für Operationen mit vorab festgelegtem Operand oder bestimmten Operanden (z. B. eine Multiplikation mit 0 und 1) können außer Betracht bleiben. Sind keine Register-Register-Operationen vorhanden, so ist mit 2. fortzufahren.

| 2. | Register-Speicher- oder Register-Register-Operationen. Sind keine Register-Speicher- oder Speicher-Register-Operationen vorhanden, so ist mit 3. fortzufahren. |
| --- | --- |

2.

Register-Speicher- oder Register-Register-Operationen. Sind keine Register-Speicher- oder Speicher-Register-Operationen vorhanden, so ist mit 3. fortzufahren.

| 3. | Speicher-Speicher-Operationen. |
| --- | --- |

3.

Speicher-Speicher-Operationen.

In jedem der vorstehenden Fälle ist die vom Hersteller angegebene kürzeste Befehlsausführungszeit anzuwenden.

Schritt 2: Berechnung der theoretischen Verarbeitungsrate TP unter Berücksichtigung der Wortlänge WL:

Die effektive Verarbeitungsrate R (oder R') ist wie folgt durch die Wortlänge WL zu normalisieren:

| | TP = R × L
  wobei L = (1/3 + WL/96) |
| --- | --- |

TP = R × L

wobei L = (1/3 + WL/96)

Anmerkung: Die Wortlänge WL entspricht der Länge der Operanden in Bits. Verwendet ein Befehl Operanden unterschiedlicher Länge, so ist die größte Wortlänge zu benutzen.

Bei der Berechnung der "zusammengesetzten theoretischen Verarbeitungsrate""CTP" ist die Kombination einer arithmetisch logischen Einheit ALU zur Berechnung der Mantisse mit einer ALU zur Berechnung des Exponenten einer Gleitkommazahl in einem Gleitkommaprozessor oder einer Gleitkommaeinheit als ein einziges "Rechenelement""CE" mit einer Wortlänge WL entsprechend der Anzahl der Datenbits in der Datendarstellung (typisch 32 oder 64 Bit) zu betrachten.

Die Normalisierung der effektiven Verarbeitungsrate R (oder R') ist nicht für spezielle "Rechenelemente""CEs" ohne XOR-Befehle anzuwenden. Hier gilt TP = R.

Die größtmögliche theoretische Verarbeitungsrate TP ergibt sich aus:

| | Rxp ="Rechenelement""CE" mit Festkommaarithmetik, |
| --- | --- |

Rxp ="Rechenelement""CE" mit Festkommaarithmetik,

| | Rfp ="Rechenelement""CE" mit Gleitkommaarithmetik, |
| --- | --- |

Rfp ="Rechenelement""CE" mit Gleitkommaarithmetik,

| | Rxp und Rfp="Rechenelement""CE" mit Fest- und Gleitkommaarithmetik, |
| --- | --- |

Rxp und Rfp="Rechenelement""CE" mit Fest- und Gleitkommaarithmetik,

| | R = "Rechenelement""CE" mit nur logischen Befehlen (keine arithmetischen Befehle) und |
| --- | --- |

R = "Rechenelement""CE" mit nur logischen Befehlen (keine arithmetischen Befehle) und

| | R = "Rechenelement""CE" ohne die spezifizierten arithmetischen oder logischen Befehle. |
| --- | --- |

R = "Rechenelement""CE" ohne die spezifizierten arithmetischen oder logischen Befehle.

Schritt 3: Berechnung der "zusammengesetzten theoretischen Verarbeitungsrate""CTP" zusammengeschalteter "Rechenelemente""CEs", einschließlich Rechenwerke CPUs:

Für ein Rechenwerk mit nur einem "Rechenelement""CE" gilt:

"CTP" = TP

[Für "Rechenelemente""CEs" mit Fest- und Gleitkommaarithmetik gilt:

TP = max (TPxp; TPfp)].

Für Systeme mit mehreren simultan arbeitenden "Rechenelementen""CEs":

Anmerkung 1: Für Zusammenschaltungen, in denen nicht alle "Rechenelemente""CEs" simultan arbeiten, ist diejenige mögliche Kombination simultan arbeitender "Rechenelemente""CEs" auszuwählen, die den höchsten "CTP"-Wert ergibt. Die zum Gesamtergebnis beitragende höchste erreichbare theoretische Verarbeitungsrate jedes "Rechenelementes""CEs" ist zu ermitteln, ehe die "zusammengesetzte theoretische Verarbeitungsrate""CTP" des Systems berechnet wird.

Ergänzende Anmerkung: Um die möglichen Kombinationen von gleichzeitig arbeitenden "Rechenelementen""CEs" zu bestimmen, soll eine Befehlssequenz erstellt werden, die Operationen in mehreren "Rechenelementen""CEs" in Gang setzt, beginnend mit dem langsamsten "Rechenelement""CE" (das "Rechenelement""CE", das die größte Anzahl von Instruktionszyklen für die Ausführung der Operation benötigt) und endend mit dem schnellsten "Rechenelement""CE". Während jedes Zyklus der Befehlssequenz ist jede Kombination von "Rechenelementen""CEs", die arbeitet, eine mögliche Kombination. Die Befehlssequenz muss alle hardware- und/oder architekturbedingten Einschränkungen für überlappende Operationen berücksichtigen.

Anmerkung 2: Ein einzelner integrierter Schaltkreis oder eine Platine kann mehrere "Rechenelemente""CEs" enthalten.

Anmerkung 3: Es ist von simultan arbeitenden "Rechenelementen""CEs" auszugehen, wenn der Hersteller in seinen Handbüchern oder Datenblättern die parallele oder simultane Verarbeitung von Befehlen angibt.

Anmerkung 4: Eine Aggregation der "CTP"-Werte einzelner "Rechenelemente""CEs" ist nicht vorzunehmen bei Kombinationen von "Rechenelementen""CEs", die verbunden oder vernetzt sind über: "Local Area Networks" (LANs), Weitverkehrsnetze (WANs), Systeme, die über gemeinsame I/O-Verbindungen vernetzt sind, Systeme mit gemeinsamen I/O-Steuereinheiten und alle Systeme, bei denen die Kommunikationsverbindung ausschließlich durch "Software" implementiert ist.

Anmerkung 5: Eine Aggregation der "CTP"-Werte ist vorzunehmen bei mehreren "Rechenelementen""CEs", wenn diese besonders konstruiert sind, um die Rechenleistung durch Zusammenschaltung zu erhöhen, sie gleichzeitig arbeiten und gemeinsamen Speicher besitzen. Ebenfalls aggregiert werden müssen Speicher/"Rechenelement"-Kombinationen, die gleichzeitig arbeiten und besonders konstruierte Hardware zur Parallelverarbeitung benutzen. Diese Aggregation ist nicht für "elektronische Baugruppen" gemäß Unternummer 4A003c anzuwenden, wenn diese als Einzelbaugruppen exportiert werden.

"CTP" = TP1 + C2 × TP2 + . . .+ Cn × TPn,

wobei TP1 der höchste aller TP-Werte und Ci ein durch den Grad der Kopplung der "Rechenelemente""CEs" bestimmter Faktor ist wie folgt:

Für mehrere parallel arbeitende "Rechenelemente""CEs" mit einem gemeinsamen Speicher:

| | C2 = C3 = C4 = . . . = Cn = 0,75 |
| --- | --- |

C2 = C3 = C4 = . . . = Cn = 0,75

Anmerkung 1: Wenn die "zusammengesetzte theoretische Verarbeitungsrate""CTP", die nach vorstehender Methode berechnet wurde, 194 Mtops nicht übersteigt, kann folgende Formel zur Berechnung von Ci verwendet werden:

Formula
  (i = 2, . . ., n)

wobei m = Anzahl der "Rechenelemente""CEs" oder Gruppen von "Rechenelementen""CEs", die auf einen gemeinsamen Speicher zugreifen, vorausgesetzt:

| 1. | die TPi jedes "Rechenelements""CEs" oder jeder Gruppe von "Rechenelementen""CEs" übersteigt nicht 30 Mtops; |
| --- | --- |

1.

die TPi jedes "Rechenelements""CEs" oder jeder Gruppe von "Rechenelementen""CEs" übersteigt nicht 30 Mtops;

| 2. | die "Rechenelemente""CEs" oder Gruppen von "Rechenelementen""CEs" haben über einen einzelnen Kanal Zugriff zum Hauptspeicher, ausgenommen Cache-Speicher, und |
| --- | --- |

2.

die "Rechenelemente""CEs" oder Gruppen von "Rechenelementen""CEs" haben über einen einzelnen Kanal Zugriff zum Hauptspeicher, ausgenommen Cache-Speicher, und

| 3. | nur ein "Rechenelement""CE" oder eine Gruppe von "Rechenelementen "CEs" kann den Kanal zu einer bestimmten Zeit benutzen.



  Ergänzende Anmerkung: Anmerkung 1 gilt nicht für Güter, die von Kategorie 3 erfasst werden. |
| --- | --- |

3.

nur ein "Rechenelement""CE" oder eine Gruppe von "Rechenelementen "CEs" kann den Kanal zu einer bestimmten Zeit benutzen.

Ergänzende Anmerkung: Anmerkung 1 gilt nicht für Güter, die von Kategorie 3 erfasst werden.

Anmerkung 2:"Rechenelemente""CEs" haben einen gemeinsamen Speicher, falls sie zu mindestens einem gemeinsamen Segment eines Halbleiterspeichers zugreifen können. Der Speicher kann aus Pufferspeicher, Hauptspeicher oder einem anderen internem Speicher bestehen. Periphere Speichergeräte wie Plattenspeicher, Magnetbandspeicher oder «RAM disk» sind ausgeschlossen.

Für parallel arbeitende "Rechenelemente""CEs" oder Rechenwerke ohne einen gemeinsamen Speicher, die über einen oder mehrere Datenkanäle verbunden sind:

| | Ci = 0,75 × ki (i = 2, . . ., 32) (siehe unten) |
| --- | --- |

Ci = 0,75 × ki (i = 2, . . ., 32) (siehe unten)

| | = 0,60 × ki (i = 33, . . ., 64) |
| --- | --- |

= 0,60 × ki (i = 33, . . ., 64)

| | = 0,45 × ki (i = 65, . . ., 256) |
| --- | --- |

= 0,45 × ki (i = 65, . . ., 256)

| | = 0,30 × ki (i > 256) |
| --- | --- |

= 0,30 × ki (i > 256)

Der Wert von Ci bezieht sich auf die Anzahl der "Rechenelemente""CEs" und nicht auf die Anzahl der Knoten mit:

| ki | = | min (Si/Kr, 1) und |
| --- | --- | --- |
| Kr | = | Normalisierungsfaktor auf 20 MByte/s. |
| Si | = | Summe der höchsten Datenraten in MByte/s aller Datenkanäle, die mit dem i-ten "Rechenelement""CE" oder Rechenwerk verbunden sind. |

ki

=

min (Si/Kr, 1) und

Kr

=

Normalisierungsfaktor auf 20 MByte/s.

Si

=

Summe der höchsten Datenraten in MByte/s aller Datenkanäle, die mit dem i-ten "Rechenelement""CE" oder Rechenwerk verbunden sind.

Bei der Berechnung von Ci für ein Rechenwerk bestimmt die laufende Nummer des ersten "Rechenelementes""CE" den richtigen Grenzwert für Ci. Zum Beispiel, in einer Zusammenschaltung von Rechenwerken, die jeweils aus 3 "Rechenelementen""CEs" bestehen, enthält das 22. Rechenwerk die "Rechenelemente""CEs" Nr. 64, 65 und 66. Der richtige Ci-Wert für dieses Rechenwerk ist 0,60.

Die Zusammenschaltung (von "Rechenelementen""CEs" oder Rechenwerken) sollte in der Reihenfolge vom schnellsten zum langsamsten geschehen, d. h.

| | TP1 ≥ TP2 ≥ TP3 ≥ . . . TPn und |
| --- | --- |

TP1 ≥ TP2 ≥ TP3 ≥ . . . TPn und

im Falle von TPi = TPi + 1 vom größten zum kleinsten Ci, d. h.

| | Ci ≥ Ci + 1. |
| --- | --- |

Ci ≥ Ci + 1.

Anmerkung: Der ki-Faktor wird nicht auf die "Rechenelemente""CEs" Nr. 2 bis Nr. 12 angewendet, wenn die TPi des "Rechenelementes""CE" oder des Rechenwerks größer als 50 Mtops ist, d. h. Ci für die "Rechenelemente""CEs" 2 bis 12 ist dann 0,75.

KATEGORIE 5

TELEKOMMUNIKATION UND INFORMATIONSSICHERHEIT

TEIL 1

TELEKOMMUNIKATION

Anmerkung 1: Die Erfassung von Bauteilen, "Lasern", Test- und "Herstellungs"einrichtungen und "Software" hierfür, die für Telekommunikationseinrichtungen oder -systeme besonders entwickelt sind, richtet sich nach Kategorie 5, Teil 1.

Anmerkung 2:"Digitalrechner", verwandte Geräte (Peripherie) oder "Software", soweit notwendig für den Betrieb und die Unterstützung von in dieser Kategorie beschriebenen Telekommunikationsgeräten, gelten als besonders entwickelte Bestandteile, sofern sie standardmäßig vom Hersteller vorgesehene Typen sind. Dies schließt Betriebs-, Verwaltungs-, Wartungs-, Entwicklungs- oder Gebühren-(Billing-) Computer-Systeme ein.

5A1Systeme, Ausrüstung und Bestandteile

| a) | Jede Art von Telekommunikationsgeräten mit einer der folgenden Eigenschaften, Funktionen oder einem der folgenden Leistungsmerkmale:






  1. | besonders entwickelt, um transienten Störstrahlungen oder elektromagnetischen Impulsen (EMP), erzeugt durch eine Kernexplosion, zu widerstehen, |
| --- | --- | --- |

a)

Jede Art von Telekommunikationsgeräten mit einer der folgenden Eigenschaften, Funktionen oder einem der folgenden Leistungsmerkmale:

1.

besonders entwickelt, um transienten Störstrahlungen oder elektromagnetischen Impulsen (EMP), erzeugt durch eine Kernexplosion, zu widerstehen,

| 2. | besonders geschützt, um Gamma-, Neutronen- oder Ionen-Strahlung zu widerstehen oder |
| --- | --- |

2.

besonders geschützt, um Gamma-, Neutronen- oder Ionen-Strahlung zu widerstehen oder

| 3. | besonders entwickelt für den Betrieb unter 218 K (– 55 °C) oder über 397 K (124 °C);


  Anmerkung: Unternummer 5A001a3 gilt nur für elektronische Geräte. |
| --- | --- |

3.

besonders entwickelt für den Betrieb unter 218 K (– 55 °C) oder über 397 K (124 °C);

Anmerkung: Unternummer 5A001a3 gilt nur für elektronische Geräte.

Anmerkung: Unternummern 5A001a2 und 5A001a3 erfassen nicht Geräte, entwickelt oder geändert für den Einsatz in Satelliten.

| b) | Telekommunikationsübertragungseinrichtungen und -systeme sowie besonders entwickelte Bestandteile und besonders entwickeltes Zubehör hierfür mit einer der folgenden Eigenschaften, Funktionen oder einem der folgenden Leistungsmerkmale:






  1. | Unterwasser-Kommunikationssysteme mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | akustische Trägerfrequenz außerhalb des Bereichs von 20 kHz bis 60 kHz, |
| --- | --- | --- | --- |

b)

Telekommunikationsübertragungseinrichtungen und -systeme sowie besonders entwickelte Bestandteile und besonders entwickeltes Zubehör hierfür mit einer der folgenden Eigenschaften, Funktionen oder einem der folgenden Leistungsmerkmale:

1.

Unterwasser-Kommunikationssysteme mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

akustische Trägerfrequenz außerhalb des Bereichs von 20 kHz bis 60 kHz,

| b) | elektromagnetische Trägerfrequenz kleiner als 30 kHz oder |
| --- | --- |

b)

elektromagnetische Trägerfrequenz kleiner als 30 kHz oder

| c) | elektronische Strahlsteuerungstechniken, |
| --- | --- |

c)

elektronische Strahlsteuerungstechniken,

| 2. | Funkgeräte für den Einsatz im Bereich 1,5 MHz bis 87,5 MHz mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Einsatz von adaptiven Verfahren, die ein Störsignal größer als 15 dB kompensieren oder |
| --- | --- | --- |

2.

Funkgeräte für den Einsatz im Bereich 1,5 MHz bis 87,5 MHz mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Einsatz von adaptiven Verfahren, die ein Störsignal größer als 15 dB kompensieren oder

| b) | mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | automatische Vorwahl und Auswahl der Frequenzen und der "gesamten digitalen Übertragungsraten" pro Kanal zur Optimierung der Übertragung und |
| --- | --- | --- |

b)

mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

automatische Vorwahl und Auswahl der Frequenzen und der "gesamten digitalen Übertragungsraten" pro Kanal zur Optimierung der Übertragung und

| 2. | ausgestattet mit einem Linear-Leistungsverstärker mit der Fähigkeit, gleichzeitig Mehrfachsignale mit einer Ausgangsleistung größer/gleich 1 kW im Frequenzbereich größer/gleich 1,5 MHz und kleiner als 30 MHz oder größer/gleich 250 W im Frequenzbereich größer/gleich 30 MHz und kleiner/gleich 87,5 MHz abzugeben, bei einer "Momentan-Bandbreite" größer/ gleich einer Oktave und mit einem Oberwellen- und Klirranteil besser als –80 dB, |
| --- | --- |

2.

ausgestattet mit einem Linear-Leistungsverstärker mit der Fähigkeit, gleichzeitig Mehrfachsignale mit einer Ausgangsleistung größer/gleich 1 kW im Frequenzbereich größer/gleich 1,5 MHz und kleiner als 30 MHz oder größer/gleich 250 W im Frequenzbereich größer/gleich 30 MHz und kleiner/gleich 87,5 MHz abzugeben, bei einer "Momentan-Bandbreite" größer/ gleich einer Oktave und mit einem Oberwellen- und Klirranteil besser als –80 dB,

| 3. | Funkgeräte, die "Gespreiztes-Spektrum-Verfahren", einschließlich "Frequenzsprungverfahren", verwenden, mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | anwenderprogrammierbare Spreizungs-Codes oder |
| --- | --- | --- |

3.

Funkgeräte, die "Gespreiztes-Spektrum-Verfahren", einschließlich "Frequenzsprungverfahren", verwenden, mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

anwenderprogrammierbare Spreizungs-Codes oder

| b) | eine gesamte gesendete Bandbreite mit 100facher oder mehr als 100facher Bandbreite eines beliebigen einzelnen Informationskanals und mit mehr als 50 kHz Bandbreite,


  Anmerkung: Unternummer 5A001b3b erfasst keine Funkausrüstung, die besonders für die Verwendung in zivilen zellularen Funk-Kommunikationssystemen entwickelt ist. |
| --- | --- |

b)

eine gesamte gesendete Bandbreite mit 100facher oder mehr als 100facher Bandbreite eines beliebigen einzelnen Informationskanals und mit mehr als 50 kHz Bandbreite,

Anmerkung: Unternummer 5A001b3b erfasst keine Funkausrüstung, die besonders für die Verwendung in zivilen zellularen Funk-Kommunikationssystemen entwickelt ist.

Anmerkung: Unternummer 5A001b3 erfasst keine Geräte entwickelt für eine Ausgangsleistung (Sendeleistung) von kleiner/gleich 1,0 W.

| 4. | Funkgeräte, die "Time-Modulated-Ultra-Wideband"-Verfahren verwenden, mit anwenderprogrammierbaren Channelization- oder Scramblingcodes, |
| --- | --- |

4.

Funkgeräte, die "Time-Modulated-Ultra-Wideband"-Verfahren verwenden, mit anwenderprogrammierbaren Channelization- oder Scramblingcodes,

| 5. | digitale Funkempfänger mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | mit mehr als 1 000 Kanälen, |
| --- | --- | --- |

5.

digitale Funkempfänger mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

mit mehr als 1 000 Kanälen,

| b) | "Frequenzumschaltzeit" kleiner als 1 ms, |
| --- | --- |

b)

"Frequenzumschaltzeit" kleiner als 1 ms,

| c) | automatisches Absuchen eines Teils des elektromagnetischen Spektrums und |
| --- | --- |

c)

automatisches Absuchen eines Teils des elektromagnetischen Spektrums und

| d) | Identifizierung der empfangenen Signale oder des Sendertyps oder



  Anmerkung: Unternummer 5A001b5 erfasst keine Funkausrüstung, die besonders für die Verwendung in zivilen zellularen Funk-Kommunikationssystemen entwickelt ist. |
| --- | --- |

d)

Identifizierung der empfangenen Signale oder des Sendertyps oder

Anmerkung: Unternummer 5A001b5 erfasst keine Funkausrüstung, die besonders für die Verwendung in zivilen zellularen Funk-Kommunikationssystemen entwickelt ist.

| 6. | Funktionen der digitalen "Signaldatenverarbeitung", die ein sprachcodiertes Ausgangssignal mit einer Übertragungsrate von weniger als 2 400 bit/s erlauben;
  Technische Anmerkung:

  Für Sprachcodierung mit variabler Codierrate (variable rate voice coding) ist die Unternummer 5A001b6 auf das sprachcodierte Ausgangssignal bei kontinuierlicher Sprache (voice coding output of continuous speech) anzuwenden. |
| --- | --- |

6.

Funktionen der digitalen "Signaldatenverarbeitung", die ein sprachcodiertes Ausgangssignal mit einer Übertragungsrate von weniger als 2 400 bit/s erlauben;

Technische Anmerkung:

Für Sprachcodierung mit variabler Codierrate (variable rate voice coding) ist die Unternummer 5A001b6 auf das sprachcodierte Ausgangssignal bei kontinuierlicher Sprache (voice coding output of continuous speech) anzuwenden.

| c) | Lichtwellenleiterkabel, Lichtwellenleiter und Zubehör hierfür, wie folgt:






  1. | Lichtwellenleiter von mehr als 500 m Länge mit einer vom Hersteller spezifizierten Prüf-Zugfestigkeit größer/gleich 2 × 109 N/m2,
  Technische Anmerkung:

  Prüf-Zugfestigkeit (proof test): Eine an den Produktionsprozess gekoppelte oder davon unabhängige Fertigungsprüfung, bei der die vorgeschriebene Zugbeanspruchung dynamisch auf eine Länge des Lichtwellenleiters von 0,5 bis 3 m und mit einer Geschwindigkeit von 2 bis 5 m/s beim Durchzug zwischen Antriebsrollen von ca. 15 cm Durchmesser aufgebracht wird. Die Umgebungstemperatur muss dabei nominell 293 K (20 °C) und die relative Feuchte 40 % betragen. Vergleichbare nationale Normen können zum Messen der Prüf-Zugfestigkeit verwendet werden. |
| --- | --- | --- |

c)

Lichtwellenleiterkabel, Lichtwellenleiter und Zubehör hierfür, wie folgt:

1.

Lichtwellenleiter von mehr als 500 m Länge mit einer vom Hersteller spezifizierten Prüf-Zugfestigkeit größer/gleich 2 × 109 N/m2,

Technische Anmerkung:

Prüf-Zugfestigkeit (proof test): Eine an den Produktionsprozess gekoppelte oder davon unabhängige Fertigungsprüfung, bei der die vorgeschriebene Zugbeanspruchung dynamisch auf eine Länge des Lichtwellenleiters von 0,5 bis 3 m und mit einer Geschwindigkeit von 2 bis 5 m/s beim Durchzug zwischen Antriebsrollen von ca. 15 cm Durchmesser aufgebracht wird. Die Umgebungstemperatur muss dabei nominell 293 K (20 °C) und die relative Feuchte 40 % betragen. Vergleichbare nationale Normen können zum Messen der Prüf-Zugfestigkeit verwendet werden.

| 2. | Lichtwellenleiterkabel und Zubehör, entwickelt für Unterwasserbetrieb;


  Anmerkung: Unternummer 5A001c2 erfasst nicht Standard-Kabel für die zivile Telekommunikation sowie Zubehör.

  Ergänzende Anmerkung 1:

  Unterwasser-Versorgungskabel und -Steckverbinder hierfür: siehe Unternummer 8A002a3.

  Ergänzende Anmerkung 2:

  Faseroptische Schiffskörper-Durchführungen oder -Steckverbinder: siehe Unternummer 8A002c. |
| --- | --- |

2.

Lichtwellenleiterkabel und Zubehör, entwickelt für Unterwasserbetrieb;

Anmerkung: Unternummer 5A001c2 erfasst nicht Standard-Kabel für die zivile Telekommunikation sowie Zubehör.

Ergänzende Anmerkung 1:

Unterwasser-Versorgungskabel und -Steckverbinder hierfür: siehe Unternummer 8A002a3.

Ergänzende Anmerkung 2:

Faseroptische Schiffskörper-Durchführungen oder -Steckverbinder: siehe Unternummer 8A002c.

| d) | "Elektronisch phasengesteuerte Antennengruppen" für Frequenzen über 31 GHz.


  Anmerkung: Unternummer 5A001d erfasst nicht "elektronisch phasengesteuerte Antennengruppen" für Instrumenten-Landesysteme gemäß ICAO-Empfehlungen (Mikrowellen-Landesysteme — MLS). |
| --- | --- |

d)

"Elektronisch phasengesteuerte Antennengruppen" für Frequenzen über 31 GHz.

Anmerkung: Unternummer 5A001d erfasst nicht "elektronisch phasengesteuerte Antennengruppen" für Instrumenten-Landesysteme gemäß ICAO-Empfehlungen (Mikrowellen-Landesysteme — MLS).

5A101Fernmess- und Fernsteuerungsausrüstung, einschließlich Bodenausrüstung konstruiert oder geändert für ‧Flugkörper‧.

Technische Anmerkung:

‧Flugkörper‧ im Sinne von Nummer 5A101 bedeutet vollständige Raketensysteme und unbemannte Luftfahrzeugsysteme mit einer Reichweite größer als 300 km.

Anmerkung: Nummer 5A101 erfasst nicht:

| a) | Ausrüstung konstruiert oder geändert für bemannte Luftfahrzeuge oder Satelliten; |
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a)

Ausrüstung konstruiert oder geändert für bemannte Luftfahrzeuge oder Satelliten;

| b) | Bodengestützte Ausrüstung konstruiert oder geändert für terrestrische oder maritime Anwendungen; |
| --- | --- |

b)

Bodengestützte Ausrüstung konstruiert oder geändert für terrestrische oder maritime Anwendungen;

| c) | Ausrüstung konstruiert für kommerzielle, zivile oder "Safety of life-" (z. B. Datenintegrität, Flugsicherheit) GNSS-Dienste. |
| --- | --- |

c)

Ausrüstung konstruiert für kommerzielle, zivile oder "Safety of life-" (z. B. Datenintegrität, Flugsicherheit) GNSS-Dienste.

5B1Prüf-, Test- und Herstellungseinrichtungen

| a) | Einrichtungen und besonders konstruierte Bestandteile sowie besonders konstruiertes Zubehör hierfür, besonders entwickelt für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" von Einrichtungen, Funktionen oder Leistungsmerkmalen, die von Nummer 5A001, 5B001, 5D001 oder 5E001 erfasst werden;


  Anmerkung: Unternummer 5B001a erfasst nicht Ausrüstung zur Charakterisierung von Lichtwellenleitern. |
| --- | --- |

a)

Einrichtungen und besonders konstruierte Bestandteile sowie besonders konstruiertes Zubehör hierfür, besonders entwickelt für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" von Einrichtungen, Funktionen oder Leistungsmerkmalen, die von Nummer 5A001, 5B001, 5D001 oder 5E001 erfasst werden;

Anmerkung: Unternummer 5B001a erfasst nicht Ausrüstung zur Charakterisierung von Lichtwellenleitern.

| b) | Einrichtungen und besonders konstruierte Bestandteile sowie besonders konstruiertes Zubehör hierfür, besonders entwickelt für die "Entwicklung" von Telekommunikationsübertragungseinrichtungen oder Vermittlungseinrichtungen wie folgt:






  1. | Verwendung von digitalen Techniken entwickelt für eine "gesamte digitale Übertragungsrate" größer als 15 Gbit/s,
  Technische Anmerkung:

  Bei Vermittlungseinrichtungen wird die "gesamte digitale Übertragungsrate" an dem Leitungsanschluss mit der höchsten Übermittlungsgeschwindigkeit gemessen. |
| --- | --- | --- |

b)

Einrichtungen und besonders konstruierte Bestandteile sowie besonders konstruiertes Zubehör hierfür, besonders entwickelt für die "Entwicklung" von Telekommunikationsübertragungseinrichtungen oder Vermittlungseinrichtungen wie folgt:

1.

Verwendung von digitalen Techniken entwickelt für eine "gesamte digitale Übertragungsrate" größer als 15 Gbit/s,

Technische Anmerkung:

Bei Vermittlungseinrichtungen wird die "gesamte digitale Übertragungsrate" an dem Leitungsanschluss mit der höchsten Übermittlungsgeschwindigkeit gemessen.

| 2. | Verwendung von "Lasern" mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Übertragungswellenlänge größer als 1 750 nm, |
| --- | --- | --- |

2.

Verwendung von "Lasern" mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Übertragungswellenlänge größer als 1 750 nm,

| b) | Einsatz "optischer Verstärkung", |
| --- | --- |

b)

Einsatz "optischer Verstärkung",

| c) | Einsatz von heterodynen oder homodynen optischen Techniken oder |
| --- | --- |

c)

Einsatz von heterodynen oder homodynen optischen Techniken oder

| d) | Bandbreite größer als 2,5 GHz bei Einsatz analoger Techniken,


  Anmerkung: Unternummer 5B001b2d erfasst nicht Ausrüstung, besonders entwickelt für die "Entwicklung" kommerzieller TV-Systeme. |
| --- | --- |

d)

Bandbreite größer als 2,5 GHz bei Einsatz analoger Techniken,

Anmerkung: Unternummer 5B001b2d erfasst nicht Ausrüstung, besonders entwickelt für die "Entwicklung" kommerzieller TV-Systeme.

| 3. | "Optische Vermittlung", |
| --- | --- |

3.

"Optische Vermittlung",

| 4. | Funkgeräte mit Quadratur-Amplituden-Modulation (QAM) höher als Stufe 256 oder |
| --- | --- |

4.

Funkgeräte mit Quadratur-Amplituden-Modulation (QAM) höher als Stufe 256 oder

| 5. | "Signalisierung über zentralen Zeichengabekanal" bei nichtassoziierter Betriebsweise. |
| --- | --- |

5.

"Signalisierung über zentralen Zeichengabekanal" bei nichtassoziierter Betriebsweise.

5C1Werkstoffe und Materialien

Kein Eintrag.

5D1Datenverarbeitungsprogramme (Software)

| a) | "Software", besonders entwickelt oder geändert für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" der von Nummer 5A001 oder 5B001 erfassten Einrichtungen, Funktionen oder Leistungsmerkmale; |
| --- | --- |

a)

"Software", besonders entwickelt oder geändert für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" der von Nummer 5A001 oder 5B001 erfassten Einrichtungen, Funktionen oder Leistungsmerkmale;

| b) | "Software", besonders entwickelt oder geändert für die Unterstützung der von Nummer 5E001 erfassten "Technologie"; |
| --- | --- |

b)

"Software", besonders entwickelt oder geändert für die Unterstützung der von Nummer 5E001 erfassten "Technologie";

| c) | "Software" wie folgt:






  1. | "Software", besonders entwickelt oder geändert zur Erzielung der von Nummer 5A001 oder 5B001 erfassten Eigenschaften, Funktionen oder Leistungsmerkmale, |
| --- | --- | --- |

c)

"Software" wie folgt:

1.

"Software", besonders entwickelt oder geändert zur Erzielung der von Nummer 5A001 oder 5B001 erfassten Eigenschaften, Funktionen oder Leistungsmerkmale,

| 2. | nicht belegt, |
| --- | --- |

2.

nicht belegt,

| 3. | "Software", besonders entwickelt für "dynamisch adaptive Leitweglenkung" (dynamic adaptive routing), außer in maschinenausführbarem Code; |
| --- | --- |

3.

"Software", besonders entwickelt für "dynamisch adaptive Leitweglenkung" (dynamic adaptive routing), außer in maschinenausführbarem Code;

| d) | "Software", besonders entwickelt oder geändert für die "Entwicklung" einer der folgenden Telekommunikationsübertragungseinrichtungen oder Vermittlungseinrichtungen, wie folgt:






  1. | Verwendung von digitalen Techniken entwickelt für eine "gesamte digitale Übertragungsrate" größer als 15 Gbit/s,
  Technische Anmerkung:

  Bei Vermittlungseinrichtungen wird die "gesamte digitale Übertragungsrate" an dem Leitungsanschluss mit der höchsten Übermittlungsgeschwindigkeit gemessen. |
| --- | --- | --- |

d)

"Software", besonders entwickelt oder geändert für die "Entwicklung" einer der folgenden Telekommunikationsübertragungseinrichtungen oder Vermittlungseinrichtungen, wie folgt:

1.

Verwendung von digitalen Techniken entwickelt für eine "gesamte digitale Übertragungsrate" größer als 15 Gbit/s,

Technische Anmerkung:

Bei Vermittlungseinrichtungen wird die "gesamte digitale Übertragungsrate" an dem Leitungsanschluss mit der höchsten Übermittlungsgeschwindigkeit gemessen.

| 2. | Verwendung von "Lasern" mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Übertragungswellenlänge größer als 1 750 nm oder |
| --- | --- | --- |

2.

Verwendung von "Lasern" mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Übertragungswellenlänge größer als 1 750 nm oder

| b) | Bandbreite größer als 2,5 GHz bei Einsatz analoger Techniken,


  Anmerkung: Unternummer 5D001d2b erfasst keine "Software", die besonders entwickelt oder geändert ist für die "Entwicklung" von kommerziellen TV-Systemen. |
| --- | --- |

b)

Bandbreite größer als 2,5 GHz bei Einsatz analoger Techniken,

Anmerkung: Unternummer 5D001d2b erfasst keine "Software", die besonders entwickelt oder geändert ist für die "Entwicklung" von kommerziellen TV-Systemen.

| 3. | "Optische Vermittlung"oder |
| --- | --- |

3.

"Optische Vermittlung"oder

| 4. | Funkgeräte mit Quadratur-Amplituden-Modulation (QAM) höher als Stufe 256. |
| --- | --- |

4.

Funkgeräte mit Quadratur-Amplituden-Modulation (QAM) höher als Stufe 256.

5D101"Software", besonders entwickelt oder geändert für die "Verwendung" von Ausrüstung, erfasst von Nummer 5A101.

5E1Technologie

| a) | "Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" (außer Betrieb) von Einrichtungen, Funktionen oder Leistungsmerkmalen oder "Software", die von Nummer 5A001, 5B001 oder 5D001 erfasst werden; |
| --- | --- |

a)

"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" (außer Betrieb) von Einrichtungen, Funktionen oder Leistungsmerkmalen oder "Software", die von Nummer 5A001, 5B001 oder 5D001 erfasst werden;

| b) | "Technologie" wie folgt:






  1. | "unverzichtbare""Technologie" für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von Telekommunikationseinrichtungen, besonders entwickelt zur Verwendung in Satelliten, |
| --- | --- | --- |

b)

"Technologie" wie folgt:

1.

"unverzichtbare""Technologie" für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von Telekommunikationseinrichtungen, besonders entwickelt zur Verwendung in Satelliten,

| 2. | "Technologie" für die "Entwicklung" oder "Verwendung" von "Laser"-Kommunikationstechniken mit der Fähigkeit, Signale automatisch zu erfassen und zu verfolgen und Kommunikationsverbindungen durch die Exoatmosphäre oder durch Wasser zu gewährleisten, |
| --- | --- |

2.

"Technologie" für die "Entwicklung" oder "Verwendung" von "Laser"-Kommunikationstechniken mit der Fähigkeit, Signale automatisch zu erfassen und zu verfolgen und Kommunikationsverbindungen durch die Exoatmosphäre oder durch Wasser zu gewährleisten,

| 3. | "Technologie" für die "Entwicklung" von Empfangsausrüstung für digitale, zellulare Mobilfunk-Basisstationen, die Multiband-, Multichannel,- Multimode-, Multicodingalgorithmen- oder Multiprotokollbetrieb erlaubt und deren Empfangsfähigkeiten durch Änderungen in der "Software" modifiziert werden können, |
| --- | --- |

3.

"Technologie" für die "Entwicklung" von Empfangsausrüstung für digitale, zellulare Mobilfunk-Basisstationen, die Multiband-, Multichannel,- Multimode-, Multicodingalgorithmen- oder Multiprotokollbetrieb erlaubt und deren Empfangsfähigkeiten durch Änderungen in der "Software" modifiziert werden können,

| 4. | "Technologie" für die "Entwicklung" von "Gepreiztem-Spektrum-Verfahren", einschließlich "Frequenzsprungverfahren"; |
| --- | --- |

4.

"Technologie" für die "Entwicklung" von "Gepreiztem-Spektrum-Verfahren", einschließlich "Frequenzsprungverfahren";

| c) | "Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von Telekommunikationsübertragungseinrichtungen oder Vermittlungseinrichtungen mit einer der folgenden Funktionen oder mit einem der folgenden Leistungsmerkmale:






  1. | Verwendung von digitalen Techniken, einschließlich entwickelt für eine "gesamte digitale Übertragungsrate" größer als 15 Gbit/s,
  Technische Anmerkung:

  Bei Vermittlungseinrichtungen wird die "gesamte digitale Übertragungsrate" an dem Leitungsanschluss mit der höchsten Übermittlungsgeschwindigkeit gemessen. |
| --- | --- | --- |

c)

"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von Telekommunikationsübertragungseinrichtungen oder Vermittlungseinrichtungen mit einer der folgenden Funktionen oder mit einem der folgenden Leistungsmerkmale:

1.

Verwendung von digitalen Techniken, einschließlich entwickelt für eine "gesamte digitale Übertragungsrate" größer als 15 Gbit/s,

Technische Anmerkung:

Bei Vermittlungseinrichtungen wird die "gesamte digitale Übertragungsrate" an dem Leitungsanschluss mit der höchsten Übermittlungsgeschwindigkeit gemessen.

| 2. | Verwendung von "Lasern" mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Übertragungswellenlänge größer als 1 750 nm, |
| --- | --- | --- |

2.

Verwendung von "Lasern" mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Übertragungswellenlänge größer als 1 750 nm,

| b) | Einsatz "optischer Verstärkung" unter Verwendung Praseodym-dotierter Fluoridfaserverstärker (PDFFA), |
| --- | --- |

b)

Einsatz "optischer Verstärkung" unter Verwendung Praseodym-dotierter Fluoridfaserverstärker (PDFFA),

| c) | Einsatz von heterodynen oder homodynen optischen Techniken, |
| --- | --- |

c)

Einsatz von heterodynen oder homodynen optischen Techniken,

| d) | Einsatz von Wellenlängen-Multiplex-Techniken, sofern die Anzahl der optischen Trägerwellen pro optischem Fenster größer als 8 ist oder |
| --- | --- |

d)

Einsatz von Wellenlängen-Multiplex-Techniken, sofern die Anzahl der optischen Trägerwellen pro optischem Fenster größer als 8 ist oder

| e) | Bandbreite größer als 2,5 GHz beim Einsatz von analogen Techniken,


  Anmerkung: Unternummer 5E001c2e erfasst keine "Technologie" für "Entwicklung" oder "Herstellung" kommerzieller TV-Systeme. |
| --- | --- |

e)

Bandbreite größer als 2,5 GHz beim Einsatz von analogen Techniken,

Anmerkung: Unternummer 5E001c2e erfasst keine "Technologie" für "Entwicklung" oder "Herstellung" kommerzieller TV-Systeme.

| 3. | Einsatz von "optischer Vermittlung", |
| --- | --- |

3.

Einsatz von "optischer Vermittlung",

| 4. | Funkgeräte mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Quadratur-Amplituden-Modulation (QAM) höher als Stufe 256 oder |
| --- | --- | --- |

4.

Funkgeräte mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Quadratur-Amplituden-Modulation (QAM) höher als Stufe 256 oder

| b) | Ein- oder Ausgangsfrequenzen größer als 31,8 GHz oder



  Anmerkung: Unternummer 5E001c4b erfasst keine "Technologie" für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von Geräten, entwickelt oder geändert für den Betrieb in einem Frequenzband, das für Funkdienste, jedoch nicht für Ortungsfunkdienste, "von der ITU zugewiesen" ist. |
| --- | --- |

b)

Ein- oder Ausgangsfrequenzen größer als 31,8 GHz oder

Anmerkung: Unternummer 5E001c4b erfasst keine "Technologie" für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von Geräten, entwickelt oder geändert für den Betrieb in einem Frequenzband, das für Funkdienste, jedoch nicht für Ortungsfunkdienste, "von der ITU zugewiesen" ist.

| 5. | "Signalisierung über zentralen Zeichengabekanal" bei nichtassoziierter Betriebsweise. |
| --- | --- |

5.

"Signalisierung über zentralen Zeichengabekanal" bei nichtassoziierter Betriebsweise.

5E101"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" von Ausrüstung, erfasst von Nummer 5A101.

TEIL 2

INFORMATIONSSICHERHEIT

Anmerkung 1: Die Erfassung von Einrichtungen, "Software", Systemen, anwenderspezifischen "elektronischen Baugruppen", Modulen, integrierten Schaltungen, Bauteilen oder Funktionen der "Informationssicherheit" richtet sich nach Kategorie 5, Teil 2 auch dann, wenn es sich um Komponenten oder "elektronische Baugruppen" anderer Einrichtungen handelt.

Anmerkung 2: Die Kategorie 5, Teil 2 erfasst keine Güter, wenn diese von ihrem Benutzer für den persönlichen Gebrauch mitgeführt werden.

Anmerkung 3:

Kryptotechnik-Anmerkung:

Die Nummern 5A002 und 5D002 erfassen keine Güter, die alle folgenden Voraussetzungen erfüllen:

| a) | die Güter sind frei erhältlich und werden im Einzelhandel ohne Einschränkungen mittels einer der folgenden Geschäftspraktiken verkauft:








  1. | Barverkauf, |
| --- | --- | --- |

a)

die Güter sind frei erhältlich und werden im Einzelhandel ohne Einschränkungen mittels einer der folgenden Geschäftspraktiken verkauft:

1.

Barverkauf,

| 2. | Versandverkauf, |
| --- | --- |

2.

Versandverkauf,

| 3. | Verkauf über elektronische Medien oder |
| --- | --- |

3.

Verkauf über elektronische Medien oder

| 4. | Telefonverkauf; |
| --- | --- |

4.

Telefonverkauf;

| b) | die kryptografische Funktionalität der Güter kann nicht mit einfachen Mitteln durch den Benutzer geändert werden; |
| --- | --- |

b)

die kryptografische Funktionalität der Güter kann nicht mit einfachen Mitteln durch den Benutzer geändert werden;

| c) | die Güter sind entwickelt, um vom Benutzer ohne umfangreiche Unterstützung durch den Anbieter installiert zu werden, und |
| --- | --- |

c)

die Güter sind entwickelt, um vom Benutzer ohne umfangreiche Unterstützung durch den Anbieter installiert zu werden, und

| d) | um die Übereinstimmung mit den unter a) bis d) beschriebenen Voraussetzungen feststellen zu können, sind detaillierte technische Beschreibungen der Güter vorzuhalten und auf Verlangen der zuständigen Behörde des Mitgliedsstaates, in dem der Ausführer niedergelassen ist, vorzulegen. |
| --- | --- |

d)

um die Übereinstimmung mit den unter a) bis d) beschriebenen Voraussetzungen feststellen zu können, sind detaillierte technische Beschreibungen der Güter vorzuhalten und auf Verlangen der zuständigen Behörde des Mitgliedsstaates, in dem der Ausführer niedergelassen ist, vorzulegen.

Technische Anmerkung:

Der in der Kategorie 5, Teil 2 verwendete Begriff der Schlüssellänge schließt Paritätsbits nicht mit ein.

5A2Systeme, Ausrüstung und Bestandteile

5A002

| a) | Systeme, Geräte, anwenderspezifische "elektronische Baugruppen", Module und integrierte Schaltungen für "Informationssicherheit", wie folgt, und andere besonders entwickelte Bestandteile hierfür:


  Ergänzende Anmerkung: Bezüglich der Erfassung von GPS- oder GLONASS-Empfangseinrichtungen mit "Kryptotechnik" siehe Nummer 7A005.







  1. | entwickelt oder geändert zum Einsatz von "Kryptotechnik" unter Verwendung digitaler Verfahren, soweit es sich nicht um Authentisierung oder Digitale Signatur handelt, mit einer der folgenden Eigenschaften:
  Technische Anmerkungen:







  1. | Funktionen der Authentisierung und Digitalen Signatur schließen zugehörige Schlüsselmanagementfunktionen ein. |
| --- | --- | --- | --- |

a)

Systeme, Geräte, anwenderspezifische "elektronische Baugruppen", Module und integrierte Schaltungen für "Informationssicherheit", wie folgt, und andere besonders entwickelte Bestandteile hierfür:

Ergänzende Anmerkung: Bezüglich der Erfassung von GPS- oder GLONASS-Empfangseinrichtungen mit "Kryptotechnik" siehe Nummer 7A005.

1.

entwickelt oder geändert zum Einsatz von "Kryptotechnik" unter Verwendung digitaler Verfahren, soweit es sich nicht um Authentisierung oder Digitale Signatur handelt, mit einer der folgenden Eigenschaften:

Technische Anmerkungen:

1.

Funktionen der Authentisierung und Digitalen Signatur schließen zugehörige Schlüsselmanagementfunktionen ein.

| 2. | Der Begriff der Authentisierung schließt alle Elemente der Zugangskontrolle ein, welche nicht die Verschlüsselung von Dateien oder Texten ermöglichen, mit Ausnahme derer, die im direkten Zusammenhang mit dem Schutz von Passwörtern, persönlicher Identifikationsnummern (PIN) oder vergleichbarer Daten stehen und den unbefugten Zugriff verhindern. |
| --- | --- |

2.

Der Begriff der Authentisierung schließt alle Elemente der Zugangskontrolle ein, welche nicht die Verschlüsselung von Dateien oder Texten ermöglichen, mit Ausnahme derer, die im direkten Zusammenhang mit dem Schutz von Passwörtern, persönlicher Identifikationsnummern (PIN) oder vergleichbarer Daten stehen und den unbefugten Zugriff verhindern.

| 3. | Der Begriff "Kryptotechnik" beinhaltet nicht "feste" Datenkompressions- oder Codierungstechniken. |
| --- | --- |

3.

Der Begriff "Kryptotechnik" beinhaltet nicht "feste" Datenkompressions- oder Codierungstechniken.

Anmerkung: Die Unternummer 5A002a1 schließt Einrichtungen, entwickelt oder geändert zum Einsatz analoger "Kryptotechnik", ein, wenn deren Funktion auf der Verwendung digitaler Verfahren beruht.

| a) | Verwendung "symmetrischer Algorithmen" mit einer Schlüssellänge größer 56 Bit oder |
| --- | --- |

a)

Verwendung "symmetrischer Algorithmen" mit einer Schlüssellänge größer 56 Bit oder

| b) | Verwendung "asymmetrischer Algorithmen", deren Sicherheit auf einem der folgenden Verfahren beruht:






  1. | Faktorisierung ganzer Zahlen, die größer als 2512 sind (z. B. RSA-Verfahren), |
| --- | --- | --- |

b)

Verwendung "asymmetrischer Algorithmen", deren Sicherheit auf einem der folgenden Verfahren beruht:

1.

Faktorisierung ganzer Zahlen, die größer als 2512 sind (z. B. RSA-Verfahren),

| 2. | Berechnung des diskreten Logarithmus in der Multiplikationsgruppe eines endlichen Körpers mit mehr als 2512 Elementen (z. B. Diffie-Hellman-Verfahren über Z/pZ) oder |
| --- | --- |

2.

Berechnung des diskreten Logarithmus in der Multiplikationsgruppe eines endlichen Körpers mit mehr als 2512 Elementen (z. B. Diffie-Hellman-Verfahren über Z/pZ) oder

| 3. | Berechnung des diskreten Logarithmus in anderen Gruppen als den unter 5A002a1b2 aufgeführten mit größerer Ordnung als 2112 (z. B. Diffie-Hellman-Verfahren über einer elliptischen Kurve), |
| --- | --- |

3.

Berechnung des diskreten Logarithmus in anderen Gruppen als den unter 5A002a1b2 aufgeführten mit größerer Ordnung als 2112 (z. B. Diffie-Hellman-Verfahren über einer elliptischen Kurve),

| 2. | entwickelt oder geändert zur Ausführung kryptoanalytischer Funktionen, |
| --- | --- |

2.

entwickelt oder geändert zur Ausführung kryptoanalytischer Funktionen,

| 3. | nicht belegt, |
| --- | --- |

3.

nicht belegt,

| 4. | besonders entwickelt oder geändert, um kompromittierende Abstrahlung von Informationssignalen über das Maß hinaus zu unterdrücken, das aus Gründen des Gesundheitsschutzes, der Sicherheit oder der Einhaltung von Standards zur elektromagnetischen Verträglichkeit (EMV) erforderlich ist, |
| --- | --- |

4.

besonders entwickelt oder geändert, um kompromittierende Abstrahlung von Informationssignalen über das Maß hinaus zu unterdrücken, das aus Gründen des Gesundheitsschutzes, der Sicherheit oder der Einhaltung von Standards zur elektromagnetischen Verträglichkeit (EMV) erforderlich ist,

| 5. | entwickelt oder geändert, um kryptografische Verfahren zur Erzeugung eines Spreizungscodes für Systeme mit "Gespreiztem-Spektrum-Verfahren", einschließlich der Erzeugung von Sprung-Codes für Systeme mit "Frequenzsprungverfahren", zu verwenden, |
| --- | --- |

5.

entwickelt oder geändert, um kryptografische Verfahren zur Erzeugung eines Spreizungscodes für Systeme mit "Gespreiztem-Spektrum-Verfahren", einschließlich der Erzeugung von Sprung-Codes für Systeme mit "Frequenzsprungverfahren", zu verwenden,

| 6. | entwickelt oder geändert, um kryptografische Verfahren zur Erzeugung von Channelization- oder Scramblingcodes für "Time-Modulated-Ultra-Wideband"-Systeme zu verwenden, |
| --- | --- |

6.

entwickelt oder geändert, um kryptografische Verfahren zur Erzeugung von Channelization- oder Scramblingcodes für "Time-Modulated-Ultra-Wideband"-Systeme zu verwenden,

| 7. | nicht belegt, |
| --- | --- |

7.

nicht belegt,

| 8. | Kommunikations-Kabelsysteme, entwickelt oder geändert, um unter Einsatz von mechanischen, elektrischen oder elektronischen Mitteln heimliches Eindringen zu erkennen. |
| --- | --- |

8.

Kommunikations-Kabelsysteme, entwickelt oder geändert, um unter Einsatz von mechanischen, elektrischen oder elektronischen Mitteln heimliches Eindringen zu erkennen.

Anmerkung: Nummer 5A002 erfasst nicht:

| a) | "personenbezogene Mikroprozessor-Karten" (personalized smart cards):








  1. | deren kryptografische Funktionalität beschränkt ist auf die Verwendung in Geräten oder Systemen, die gemäß Anmerkungen b) bis f) dieser Anmerkung von der Erfassung ausgenommen sind oder |
| --- | --- | --- |

a)

"personenbezogene Mikroprozessor-Karten" (personalized smart cards):

1.

deren kryptografische Funktionalität beschränkt ist auf die Verwendung in Geräten oder Systemen, die gemäß Anmerkungen b) bis f) dieser Anmerkung von der Erfassung ausgenommen sind oder

| 2. | für allgemeine Anwendungen im öffentlichen Bereich, bei denen die kryptografischen Funktionen dem Anwender nicht zugänglich sind und die besonders entwickelt sowie darauf beschränkt sind, intern gespeicherte personenbezogene Daten zu schützen, |
| --- | --- |

2.

für allgemeine Anwendungen im öffentlichen Bereich, bei denen die kryptografischen Funktionen dem Anwender nicht zugänglich sind und die besonders entwickelt sowie darauf beschränkt sind, intern gespeicherte personenbezogene Daten zu schützen,

Anmerkung: Falls eine "personenbezogene Mikroprozessor-Karte" über verschiedene Funktionen verfügt, ist jede einzelne Funktion hinsichtlich der Erfassung zu prüfen.

| b) | Empfangseinrichtungen für Rundfunk, Pay-TV oder ähnliche Verteildienste mit eingeschränktem Empfängerkreis, für den allgemeinen Gebrauch, ohne digitale Verschlüsselungsfunktionen, ausgenommen derer, die ausschließlich für die Übermittlung von Zahlungs- bzw. programmbezogenen Informationen an den Dienstanbieter benutzt werden, |
| --- | --- |

b)

Empfangseinrichtungen für Rundfunk, Pay-TV oder ähnliche Verteildienste mit eingeschränktem Empfängerkreis, für den allgemeinen Gebrauch, ohne digitale Verschlüsselungsfunktionen, ausgenommen derer, die ausschließlich für die Übermittlung von Zahlungs- bzw. programmbezogenen Informationen an den Dienstanbieter benutzt werden,

| c) | Einrichtungen, deren kryptografische Funktionalität nicht anwenderzugänglich ist und die für folgende Anwendungen sowohl besonders entwickelt als auch beschränkt sind:








  1. | Ausführung kopiergeschützter "Software", |
| --- | --- | --- |

c)

Einrichtungen, deren kryptografische Funktionalität nicht anwenderzugänglich ist und die für folgende Anwendungen sowohl besonders entwickelt als auch beschränkt sind:

1.

Ausführung kopiergeschützter "Software",

| 2. | Zugriff auf:








  a) | kopiergeschützte Inhalte, gespeichert auf nur mit Leseberechtigung versehenen Medien (read-only media), oder |
| --- | --- | --- |

2.

Zugriff auf:

a)

kopiergeschützte Inhalte, gespeichert auf nur mit Leseberechtigung versehenen Medien (read-only media), oder

| b) | in verschlüsselter Form gespeicherte Informationen (z. B. in Verbindung mit dem Schutz von Urheberrechten), wenn die entsprechenden Medien in jeweils identischer Form zum Verkauf im Einzelhandel angeboten werden, oder |
| --- | --- |

b)

in verschlüsselter Form gespeicherte Informationen (z. B. in Verbindung mit dem Schutz von Urheberrechten), wenn die entsprechenden Medien in jeweils identischer Form zum Verkauf im Einzelhandel angeboten werden, oder

| 3. | Sicherung der Urheberrechte (copyrights) beim Kopieren von Audio/Video-Daten, |
| --- | --- |

3.

Sicherung der Urheberrechte (copyrights) beim Kopieren von Audio/Video-Daten,

| d) | Kryptoeinrichtungen, besonders entwickelt für den Bankgebrauch oder "Geldtransaktionen", soweit sie nur für diese Anwendungen einsetzbar sind,

  Technische Anmerkung:

  ‧Geldtransaktionen‧ im Sinne der Anmerkung d) zur Nummer 5A002 schließen auch die Erfassung und den Einzug von Gebühren sowie Kreditfunktionen ein. |
| --- | --- |

d)

Kryptoeinrichtungen, besonders entwickelt für den Bankgebrauch oder "Geldtransaktionen", soweit sie nur für diese Anwendungen einsetzbar sind,

Technische Anmerkung:

‧Geldtransaktionen‧ im Sinne der Anmerkung d) zur Nummer 5A002 schließen auch die Erfassung und den Einzug von Gebühren sowie Kreditfunktionen ein.

| e) | tragbare oder mobile Funktelefone für zivilen Einsatz, z. B. für den Einsatz in kommerziellen, zivilen, zellularen Funksystemen, die Verschlüsselung enthalten, jedoch ohne End-zu-End-Verschlüsselung, |
| --- | --- |

e)

tragbare oder mobile Funktelefone für zivilen Einsatz, z. B. für den Einsatz in kommerziellen, zivilen, zellularen Funksystemen, die Verschlüsselung enthalten, jedoch ohne End-zu-End-Verschlüsselung,

| f) | Ausrüstung für schnurlose Telefone, die keine Möglichkeit der End-zu-End-Verschlüsselung bieten und deren maximal erzielbare einfache Reichweite (das ist die Reichweite zwischen Terminal und Basisstation ohne Maßnahmen zur Reichweitenerhöhung) nach Angaben des Herstellers kleiner ist als 400 m. |
| --- | --- |

f)

Ausrüstung für schnurlose Telefone, die keine Möglichkeit der End-zu-End-Verschlüsselung bieten und deren maximal erzielbare einfache Reichweite (das ist die Reichweite zwischen Terminal und Basisstation ohne Maßnahmen zur Reichweitenerhöhung) nach Angaben des Herstellers kleiner ist als 400 m.

5B2Prüf-, Test- und Herstellungseinrichtungen

| a) | Einrichtungen, besonders entwickelt für






  1. | die "Entwicklung" von Geräten oder Funktionen, die von Nummer 5A002, 5B002, 5D002 oder 5E002 erfasst werden, einschließlich entsprechender Mess- und Prüfeinrichtungen, |
| --- | --- | --- |

a)

Einrichtungen, besonders entwickelt für

1.

die "Entwicklung" von Geräten oder Funktionen, die von Nummer 5A002, 5B002, 5D002 oder 5E002 erfasst werden, einschließlich entsprechender Mess- und Prüfeinrichtungen,

| 2. | die "Herstellung" von Geräten oder Funktionen, die von Nummer 5A002, 5B002, 5D002 oder 5E002 erfasst werden, einschließlich entsprechender Mess-, Prüf-, Reparatur- oder Herstellungseinrichtungen; |
| --- | --- |

2.

die "Herstellung" von Geräten oder Funktionen, die von Nummer 5A002, 5B002, 5D002 oder 5E002 erfasst werden, einschließlich entsprechender Mess-, Prüf-, Reparatur- oder Herstellungseinrichtungen;

| b) | Messeinrichtungen, besonders entwickelt, um "Informationssicherheits"-Funktionen, die von Nummer 5A002 oder 5D002 erfasst werden, auszuwerten und zu bestätigen. |
| --- | --- |

b)

Messeinrichtungen, besonders entwickelt, um "Informationssicherheits"-Funktionen, die von Nummer 5A002 oder 5D002 erfasst werden, auszuwerten und zu bestätigen.

5C2Werkstoffe und Materialien

Kein Eintrag.

5D2Datenverarbeitungsprogramme (Software)

| a) | "Software", besonders entwickelt oder geändert für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" von Einrichtungen oder "Software", die von Nummer 5A002, 5B002 oder 5D002 erfasst werden; |
| --- | --- |

a)

"Software", besonders entwickelt oder geändert für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" von Einrichtungen oder "Software", die von Nummer 5A002, 5B002 oder 5D002 erfasst werden;

| b) | "Software", besonders entwickelt oder geändert zur Unterstützung der von Nummer 5E002 erfassten "Technologie"; |
| --- | --- |

b)

"Software", besonders entwickelt oder geändert zur Unterstützung der von Nummer 5E002 erfassten "Technologie";

| c) | "Software" wie folgt:






  1. | "Software", die die Eigenschaften der von Nummer 5A002 oder 5B002 erfassten Geräte besitzt oder deren Funktionen ausführt oder simuliert, |
| --- | --- | --- |

c)

"Software" wie folgt:

1.

"Software", die die Eigenschaften der von Nummer 5A002 oder 5B002 erfassten Geräte besitzt oder deren Funktionen ausführt oder simuliert,

| 2. | "Software" zur Zertifizierung der von Unternummer 5D002c1 erfassten "Software". |
| --- | --- |

2.

"Software" zur Zertifizierung der von Unternummer 5D002c1 erfassten "Software".

Anmerkung: Nummer 5D002 erfasst nicht:

| a) | "Software", erforderlich für die "Verwendung" von Einrichtungen, die gemäß der Anmerkung zu Nummer 5A002 von der Erfassung ausgenommen sind, |
| --- | --- |

a)

"Software", erforderlich für die "Verwendung" von Einrichtungen, die gemäß der Anmerkung zu Nummer 5A002 von der Erfassung ausgenommen sind,

| b) | "Software", die Funktionen von Einrichtungen bereitstellt, die gemäß der Anmerkung zu Nummer 5A002 von der Erfassung ausgenommen sind. |
| --- | --- |

b)

"Software", die Funktionen von Einrichtungen bereitstellt, die gemäß der Anmerkung zu Nummer 5A002 von der Erfassung ausgenommen sind.

5E2Technologie

5E002"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" von Einrichtungen oder "Software", die von Nummer 5A002, 5B002 oder 5D002 erfasst werden.

KATEGORIE 6

SENSOREN UND LASER

6ASysteme, Ausrüstung und Bestandteile

6A001Akustik

| a) | Marine-Akustiksysteme, -ausrüstung und besonders konstruierte Bestandteile hierfür wie folgt:






  1. | aktive (Sende- oder Sende-/Empfangs-) Systeme, Ausrüstung und besonders konstruierte Bestandteile hierfür wie folgt:


  Anmerkung: Unternummer 6A001a1 erfasst nicht:








  a) | akustische Tiefenmesser, die in vertikaler Richtung unter dem Geräteträger betrieben werden, keinen größeren selektiven Abtastwinkel als ± 20° haben und begrenzt sind auf das Messen der Wassertiefe, der Entfernung von unter der Wasseroberfläche oder im Boden befindlichen Objekten oder auf die Fischortung, |
| --- | --- | --- | --- |

a)

Marine-Akustiksysteme, -ausrüstung und besonders konstruierte Bestandteile hierfür wie folgt:

1.

aktive (Sende- oder Sende-/Empfangs-) Systeme, Ausrüstung und besonders konstruierte Bestandteile hierfür wie folgt:

Anmerkung: Unternummer 6A001a1 erfasst nicht:

a)

akustische Tiefenmesser, die in vertikaler Richtung unter dem Geräteträger betrieben werden, keinen größeren selektiven Abtastwinkel als ± 20° haben und begrenzt sind auf das Messen der Wassertiefe, der Entfernung von unter der Wasseroberfläche oder im Boden befindlichen Objekten oder auf die Fischortung,

| b) | akustische Baken wie folgt:








  1. | akustische Notfall-Baken, |
| --- | --- | --- |

b)

akustische Baken wie folgt:

1.

akustische Notfall-Baken,

| 2. | Pinger, besonders konstruiert für das Wiederauffinden einer Unterwasser-Position oder die Rückkehr zu dieser. |
| --- | --- |

2.

Pinger, besonders konstruiert für das Wiederauffinden einer Unterwasser-Position oder die Rückkehr zu dieser.

| a) | Fächer-Echolotsysteme, entwickelt zum Erstellen topografischer Meeresbodenkarten mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | entwickelt für selektive Messungen innerhalb eines Abtastwinkels größer als 20° von der Vertikalen, |
| --- | --- | --- |

a)

Fächer-Echolotsysteme, entwickelt zum Erstellen topografischer Meeresbodenkarten mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

entwickelt für selektive Messungen innerhalb eines Abtastwinkels größer als 20° von der Vertikalen,

| 2. | entwickelt für die Messung von Tiefen größer als 600 m unter der Wasseroberfläche und |
| --- | --- |

2.

entwickelt für die Messung von Tiefen größer als 600 m unter der Wasseroberfläche und

| 3. | entwickelt zur Gewährleistung einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Verwendung von mehrfachen Strahlkeulen, deren einzelne Keulenbreite kleiner als 1,9° ist oder |
| --- | --- | --- |

3.

entwickelt zur Gewährleistung einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Verwendung von mehrfachen Strahlkeulen, deren einzelne Keulenbreite kleiner als 1,9° ist oder

| b) | Messgenauigkeit besser als 0,3 % der Wassertiefe über den gesamten Messwinkel, gemittelt über die Einzelmessungen innerhalb des Messwinkels, |
| --- | --- |

b)

Messgenauigkeit besser als 0,3 % der Wassertiefe über den gesamten Messwinkel, gemittelt über die Einzelmessungen innerhalb des Messwinkels,

| b) | Objekterfassungs- oder Lokalisierungssysteme mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | Sendefrequenz kleiner als 10 kHz, |
| --- | --- | --- |

b)

Objekterfassungs- oder Lokalisierungssysteme mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

Sendefrequenz kleiner als 10 kHz,

| 2. | Schalldruckpegel größer als 224 dB (bezogen auf 1 μPa in 1 m Entfernung) für Geräte mit Betriebsfrequenzen größer/gleich 10 kHz und kleiner/gleich 24 kHz, |
| --- | --- |

2.

Schalldruckpegel größer als 224 dB (bezogen auf 1 μPa in 1 m Entfernung) für Geräte mit Betriebsfrequenzen größer/gleich 10 kHz und kleiner/gleich 24 kHz,

| 3. | Schalldruckpegel größer als 235 dB (bezogen auf 1 μPa in 1 m Entfernung) für Geräte mit Betriebsfrequenzen größer als 24 kHz und kleiner/gleich 30 kHz, |
| --- | --- |

3.

Schalldruckpegel größer als 235 dB (bezogen auf 1 μPa in 1 m Entfernung) für Geräte mit Betriebsfrequenzen größer als 24 kHz und kleiner/gleich 30 kHz,

| 4. | mit Strahlkeulen, deren Keulenbreite in jeder Achse kleiner als 1° ist, und mit einer Betriebsfrequenz kleiner als 100 kHz, |
| --- | --- |

4.

mit Strahlkeulen, deren Keulenbreite in jeder Achse kleiner als 1° ist, und mit einer Betriebsfrequenz kleiner als 100 kHz,

| 5. | konstruiert zum Betrieb mit einem eindeutigen Anzeigenbereich größer als 5 120 m oder |
| --- | --- |

5.

konstruiert zum Betrieb mit einem eindeutigen Anzeigenbereich größer als 5 120 m oder

| 6. | konstruiert, um während des Normalbetriebs Drücken in Tiefen größer als 1 000 m standzuhalten, und mit Wandlern mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | mit dynamischem Druckausgleich oder |
| --- | --- | --- |

6.

konstruiert, um während des Normalbetriebs Drücken in Tiefen größer als 1 000 m standzuhalten, und mit Wandlern mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

mit dynamischem Druckausgleich oder

| b) | mit anderen Wandlungselementen als Blei-Zirkon-Titanat, |
| --- | --- |

b)

mit anderen Wandlungselementen als Blei-Zirkon-Titanat,

| c) | Akustikprojektoren einschließlich Wandlern mit piezoelektrischen, magnetostriktiven, elektrostriktiven, elektrodynamischen oder hydraulischen Bauteilen, die einzeln oder in einer konstruierten Zusammensetzung arbeiten und eine der folgenden Eigenschaften haben:


  Anmerkung 1: Die Erfassung von Akustikprojektoren einschließlich Wandlern, besonders entwickelt für andere Geräte, richtet sich nach der Erfassung der anderen Geräte.



  Anmerkung 2: Unternummer 6A001a1c erfasst nicht elektronische Geräuschquellen, ausschließlich für Anwendungen mit vertikaler Richtwirkung, mechanische (z. B. «air gun» oder «vapour-shock gun») oder chemische (z. B. Verwendung von Explosivstoffen) Geräuschquellen.







  1. | momentan (pulsförmig) abgestrahlte ‧Schallleistungsdichte‧ größer als 0,01 mW/mm2 je Hz bei Geräten, die mit Frequenzen unter 10 kHz arbeiten, |
| --- | --- | --- |

c)

Akustikprojektoren einschließlich Wandlern mit piezoelektrischen, magnetostriktiven, elektrostriktiven, elektrodynamischen oder hydraulischen Bauteilen, die einzeln oder in einer konstruierten Zusammensetzung arbeiten und eine der folgenden Eigenschaften haben:

Anmerkung 1: Die Erfassung von Akustikprojektoren einschließlich Wandlern, besonders entwickelt für andere Geräte, richtet sich nach der Erfassung der anderen Geräte.

Anmerkung 2: Unternummer 6A001a1c erfasst nicht elektronische Geräuschquellen, ausschließlich für Anwendungen mit vertikaler Richtwirkung, mechanische (z. B. «air gun» oder «vapour-shock gun») oder chemische (z. B. Verwendung von Explosivstoffen) Geräuschquellen.

1.

momentan (pulsförmig) abgestrahlte ‧Schallleistungsdichte‧ größer als 0,01 mW/mm2 je Hz bei Geräten, die mit Frequenzen unter 10 kHz arbeiten,

| 2. | kontinuierlich (Dauerstrich) abgestrahlte ‧Schallleistungsdichte‧ größer als 0,001 mW/mm2 je Hz bei Geräten, die mit Frequenzen unter 10 kHz arbeiten, oder |
| --- | --- |

2.

kontinuierlich (Dauerstrich) abgestrahlte ‧Schallleistungsdichte‧ größer als 0,001 mW/mm2 je Hz bei Geräten, die mit Frequenzen unter 10 kHz arbeiten, oder

Technische Anmerkung:

‧Schallleistungsdichte‧ wird wie folgt bestimmt: Schallausgangsleistung geteilt durch das Produkt aus der Größe der Abstrahlfläche und der Arbeitsfrequenz.

| 3. | Nebenkeulenunterdrückung größer als 22 dB, |
| --- | --- |

3.

Nebenkeulenunterdrückung größer als 22 dB,

| d) | Akustiksysteme, -ausrüstung und besonders konstruierte Bestandteile zur Ermittlung der Position von Überwasserschiffen oder Unterwasserfahrzeugen, konstruiert zum Betrieb bei Reichweiten größer als 1 000 m mit einer Positionsgenauigkeit besser (kleiner) als 10 m rms bei einer Messung mit einer Reichweite von 1 000 m,


  Anmerkung: Unternummer 6A001a1d schließt ein:








  a) | Ausrüstung, die kohärente "Signaldatenverarbeitung" zwischen zwei oder mehreren Baken und der auf einem Überwasserschiff oder Unterwasserfahrzeug befindlichen Hydrofoneinheit verwendet, |
| --- | --- | --- |

d)

Akustiksysteme, -ausrüstung und besonders konstruierte Bestandteile zur Ermittlung der Position von Überwasserschiffen oder Unterwasserfahrzeugen, konstruiert zum Betrieb bei Reichweiten größer als 1 000 m mit einer Positionsgenauigkeit besser (kleiner) als 10 m rms bei einer Messung mit einer Reichweite von 1 000 m,

Anmerkung: Unternummer 6A001a1d schließt ein:

a)

Ausrüstung, die kohärente "Signaldatenverarbeitung" zwischen zwei oder mehreren Baken und der auf einem Überwasserschiff oder Unterwasserfahrzeug befindlichen Hydrofoneinheit verwendet,

| b) | Ausrüstung, die automatisch Ausbreitungsgeschwindigkeitsfehler in der Berechnung eines Punkts berichtigen kann. |
| --- | --- |

b)

Ausrüstung, die automatisch Ausbreitungsgeschwindigkeitsfehler in der Berechnung eines Punkts berichtigen kann.

| 2. | passive Systeme oder Geräte (Empfangssysteme, unabhängig ob in der normalen Anwendung mit einer separaten aktiven Ausrüstung in Zusammenhang stehend oder nicht) und besonders konstruierte Bestandteile hierfür wie folgt:






  a) | Hydrofone (Wandler) mit einer der folgenden Eigenschaften:


  Anmerkung: Die Erfassung von Hydrofonen, besonders konstruiert für andere Ausrüstung, richtet sich nach der Erfassung der anderen Ausrüstung.







  1. | mit kontinuierlichen, flexiblen Sensoren oder mit Anordnungen diskreter Sensoren mit einem Durchmesser oder einer Länge kleiner als 20 mm und mit einem Abstand zwischen den Elementen kleiner als 20 mm, |
| --- | --- | --- | --- |

2.

passive Systeme oder Geräte (Empfangssysteme, unabhängig ob in der normalen Anwendung mit einer separaten aktiven Ausrüstung in Zusammenhang stehend oder nicht) und besonders konstruierte Bestandteile hierfür wie folgt:

a)

Hydrofone (Wandler) mit einer der folgenden Eigenschaften:

Anmerkung: Die Erfassung von Hydrofonen, besonders konstruiert für andere Ausrüstung, richtet sich nach der Erfassung der anderen Ausrüstung.

1.

mit kontinuierlichen, flexiblen Sensoren oder mit Anordnungen diskreter Sensoren mit einem Durchmesser oder einer Länge kleiner als 20 mm und mit einem Abstand zwischen den Elementen kleiner als 20 mm,

| 2. | mit einem der folgenden Sensor-Elemente:






  a) | Lichtwellenleiter oder |
| --- | --- | --- |

2.

mit einem der folgenden Sensor-Elemente:

a)

Lichtwellenleiter oder

| b) | flexible piezoelektrische Keramik-Werkstoffe, |
| --- | --- |

b)

flexible piezoelektrische Keramik-Werkstoffe,

| 3. | ‧Hydrofonempfindlichkeit‧ besser als – 180 dB bei jeder Tiefe ohne Beschleunigungskompensation, |
| --- | --- |

3.

‧Hydrofonempfindlichkeit‧ besser als – 180 dB bei jeder Tiefe ohne Beschleunigungskompensation,

| 4. | konstruiert für Betrieb in Tiefen größer als 35 m mit Beschleunigungskompensation oder |
| --- | --- |

4.

konstruiert für Betrieb in Tiefen größer als 35 m mit Beschleunigungskompensation oder

| 5. | konstruiert für Betrieb in Tiefen größer als 1 000 m, |
| --- | --- |

5.

konstruiert für Betrieb in Tiefen größer als 1 000 m,

Technische Anmerkung:

Die ‧Hydrofonempfindlichkeit‧ eines Hydrofons wird definiert als 20 × log10 des Effektivwerts (rms) der Ausgangsspannung, bezogen auf 1 V, wenn sich der Hydrofonsensor ohne einen Vorverstärker in einem ebenen Schallwellenfeld mit effektivem Schalldruck von 1 Mikropascal befindet. Beispiel: Ein Hydrofon mit einer Empfindlichkeit von – 160 dB (Bezugseinheit 1 V je Mikropascal) würde in einem solchen Feld eine Ausgangsspannung von 10–8 V abgeben, während ein Hydrofon mit einer Empfindlichkeit von – 180 dB eine Ausgangsspannung von nur 10–9 V abgeben würde. Somit ist – 160 dB besser als – 180 dB.

| b) | akustische Schlepp-Hydrofonanordnungen mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | mit einem Abstand oder ‧änderungsfähig‧ für einen Abstand zwischen den einzelnen Hydrofongruppen kleiner als 12,5 m, |
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b)

akustische Schlepp-Hydrofonanordnungen mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

mit einem Abstand oder ‧änderungsfähig‧ für einen Abstand zwischen den einzelnen Hydrofongruppen kleiner als 12,5 m,

| 2. | konstruiert oder ‧änderungsfähig‧ für Betrieb in Tiefen größer als 35 m,
  Technische Anmerkung:

  ‧Änderungsfähig‧ im Sinne von Unternummer 6A001a2b1 und 6A001a2b2 bedeutet, dass Vorkehrungen bestehen, die eine Veränderung der Verdrahtung oder von Verbindungen ermöglichen, um den Abstand zwischen den einzelnen Hydrofongruppen oder die Begrenzung der Betriebstauchtiefe zu ändern. Diese Vorkehrungen sind: Zusatzverdrahtung von mehr als 10 % der Anzahl der Kabeladern, Blöcke zur Einstellung des Abstands zwischen den einzelnen Hydrofongruppen oder interne Mittel zur Begrenzung der Betriebstauchtiefe, die einstellbar sind oder die mehr als eine Gruppe von Hydrofonen steuern. |
| --- | --- |

2.

konstruiert oder ‧änderungsfähig‧ für Betrieb in Tiefen größer als 35 m,

Technische Anmerkung:

‧Änderungsfähig‧ im Sinne von Unternummer 6A001a2b1 und 6A001a2b2 bedeutet, dass Vorkehrungen bestehen, die eine Veränderung der Verdrahtung oder von Verbindungen ermöglichen, um den Abstand zwischen den einzelnen Hydrofongruppen oder die Begrenzung der Betriebstauchtiefe zu ändern. Diese Vorkehrungen sind: Zusatzverdrahtung von mehr als 10 % der Anzahl der Kabeladern, Blöcke zur Einstellung des Abstands zwischen den einzelnen Hydrofongruppen oder interne Mittel zur Begrenzung der Betriebstauchtiefe, die einstellbar sind oder die mehr als eine Gruppe von Hydrofonen steuern.

| 3. | mit Steuerkurssensoren, erfasst von Unternummer 6A001a2d, |
| --- | --- |

3.

mit Steuerkurssensoren, erfasst von Unternummer 6A001a2d,

| 4. | mit Schlauchanordnungen mit Strukturverstärkung in Längsrichtung, |
| --- | --- |

4.

mit Schlauchanordnungen mit Strukturverstärkung in Längsrichtung,

| 5. | mit einem Durchmesser der fertigmontierten Schlauchanordnung kleiner als 40 mm, |
| --- | --- |

5.

mit einem Durchmesser der fertigmontierten Schlauchanordnung kleiner als 40 mm,

| 6. | mit gebündelten (multiplexed) Signalen der Hydrofone einer Gruppe, entwickelt für den Betrieb in Tiefen größer als 35 m oder mit einer einstellbaren oder entfernbaren Tiefenmesseinrichtung, um in Tiefen größer als 35 m arbeiten zu können oder |
| --- | --- |

6.

mit gebündelten (multiplexed) Signalen der Hydrofone einer Gruppe, entwickelt für den Betrieb in Tiefen größer als 35 m oder mit einer einstellbaren oder entfernbaren Tiefenmesseinrichtung, um in Tiefen größer als 35 m arbeiten zu können oder

| 7. | mit Hydrofoneigenschaften gemäß Unternummer 6A001a2a, |
| --- | --- |

7.

mit Hydrofoneigenschaften gemäß Unternummer 6A001a2a,

| c) | Daten-Verarbeitungsausrüstung, besonders konstruiert für akustische Schlepp-Hydrofonanordnungen, mit "anwenderzugänglicher Programmierbarkeit" und Verarbeitung und Korrelation im Zeit- oder Frequenzbereich einschließlich Spektralanalyse, digitaler Filterung und Strahlformung unter Verwendung der schnellen Fourier-Transformation (FFT) oder anderer Transformationen oder Verfahren, |
| --- | --- |

c)

Daten-Verarbeitungsausrüstung, besonders konstruiert für akustische Schlepp-Hydrofonanordnungen, mit "anwenderzugänglicher Programmierbarkeit" und Verarbeitung und Korrelation im Zeit- oder Frequenzbereich einschließlich Spektralanalyse, digitaler Filterung und Strahlformung unter Verwendung der schnellen Fourier-Transformation (FFT) oder anderer Transformationen oder Verfahren,

| d) | Steuerkurssensoren mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | Genauigkeit besser als ± 0,5° und |
| --- | --- | --- |

d)

Steuerkurssensoren mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

Genauigkeit besser als ± 0,5° und

| 2. | konstruiert für Betrieb in Tiefen größer als 35 m oder mit einer einstellbaren oder entfernbaren Tiefenmesseinrichtung, um in Tiefen größer als 35 m arbeiten zu können, |
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2.

konstruiert für Betrieb in Tiefen größer als 35 m oder mit einer einstellbaren oder entfernbaren Tiefenmesseinrichtung, um in Tiefen größer als 35 m arbeiten zu können,

| e) | Flachwasser-Messkabelsysteme (bottom or bay cable systems) mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | mit eingebauten Hydrofonen, erfasst von Unternummer 6A001a2a oder |
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e)

Flachwasser-Messkabelsysteme (bottom or bay cable systems) mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

mit eingebauten Hydrofonen, erfasst von Unternummer 6A001a2a oder

| 2. | Einsatz von Multiplexermodulen zur Bündelung der Signale der Hydrofongruppen mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | konstruiert für Betrieb in Tiefen größer als 35 m oder mit einer einstellbaren oder entfernbaren Tiefenmesseinrichtung, um in Tiefen größer als 35 m arbeiten zu können, und |
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2.

Einsatz von Multiplexermodulen zur Bündelung der Signale der Hydrofongruppen mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

konstruiert für Betrieb in Tiefen größer als 35 m oder mit einer einstellbaren oder entfernbaren Tiefenmesseinrichtung, um in Tiefen größer als 35 m arbeiten zu können, und

| b) | geeignet, um alternativ mit akustischen Schlepp-Hydrofonanordnungen betrieben werden zu können, |
| --- | --- |

b)

geeignet, um alternativ mit akustischen Schlepp-Hydrofonanordnungen betrieben werden zu können,

| f) | Daten-Verarbeitungsausrüstung, besonders konstruiert für Flachwasser-Messkabelsysteme, mit "anwenderzugänglicher Programmierbarkeit" und Verarbeitung und Korrelation im Zeit- oder Frequenzbereich einschließlich Spektralanalyse, digitaler Filterung und Strahlformung unter Verwendung der schnellen Fourier-Transformation (FFT) oder anderer Transformationen oder Verfahren; |
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f)

Daten-Verarbeitungsausrüstung, besonders konstruiert für Flachwasser-Messkabelsysteme, mit "anwenderzugänglicher Programmierbarkeit" und Verarbeitung und Korrelation im Zeit- oder Frequenzbereich einschließlich Spektralanalyse, digitaler Filterung und Strahlformung unter Verwendung der schnellen Fourier-Transformation (FFT) oder anderer Transformationen oder Verfahren;

| b) | Sonar-Korrelationsausrüstung zur Messung der horizontalen Geschwindigkeit des Geräteträgers in Bezug zum Meeresboden bei Entfernungen zwischen Träger und Meeresboden größer als 500 m. |
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b)

Sonar-Korrelationsausrüstung zur Messung der horizontalen Geschwindigkeit des Geräteträgers in Bezug zum Meeresboden bei Entfernungen zwischen Träger und Meeresboden größer als 500 m.

6A002Optische Sensoren

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 6A102.

| a) | Optische Detektoren wie folgt:


  Anmerkung: Unternummer 6A002a erfasst nicht optoelektronische Bauelemente aus Germanium oder Silizium.







  1. | "weltraumgeeignete" Detektoren wie folgt:






  a) | "weltraumgeeignete" Detektoren mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | Spitzenempfindlichkeit innerhalb eines Wellenlängenbereichs größer als 10 nm und kleiner/gleich 300 nm und |
| --- | --- | --- | --- | --- |

a)

Optische Detektoren wie folgt:

Anmerkung: Unternummer 6A002a erfasst nicht optoelektronische Bauelemente aus Germanium oder Silizium.

1.

"weltraumgeeignete" Detektoren wie folgt:

a)

"weltraumgeeignete" Detektoren mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

Spitzenempfindlichkeit innerhalb eines Wellenlängenbereichs größer als 10 nm und kleiner/gleich 300 nm und

| 2. | Empfindlichkeit kleiner als 0,1 % bezogen auf die Spitzenempfindlichkeit bei einer Wellenlänge größer als 400 nm, |
| --- | --- |

2.

Empfindlichkeit kleiner als 0,1 % bezogen auf die Spitzenempfindlichkeit bei einer Wellenlänge größer als 400 nm,

| b) | "weltraumgeeignete" Detektoren mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | Spitzenempfindlichkeit innerhalb des Wellenlängenbereichs von größer als 900 nm und kleiner/gleich 1 200 nm und |
| --- | --- | --- |

b)

"weltraumgeeignete" Detektoren mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

Spitzenempfindlichkeit innerhalb des Wellenlängenbereichs von größer als 900 nm und kleiner/gleich 1 200 nm und

| 2. | Ansprech"zeitkonstante" kleiner/gleich 95 ns, |
| --- | --- |

2.

Ansprech"zeitkonstante" kleiner/gleich 95 ns,

| c) | "weltraumgeeignete" Detektoren mit einer Spitzenempfindlichkeit innerhalb des Wellenlängenbereichs von größer als 1 200 nm und kleiner/gleich 30 000 nm, |
| --- | --- |

c)

"weltraumgeeignete" Detektoren mit einer Spitzenempfindlichkeit innerhalb des Wellenlängenbereichs von größer als 1 200 nm und kleiner/gleich 30 000 nm,

| 2. | Bildverstärkerröhren und besonders konstruierte Bestandteile hierfür wie folgt:






  a) | Bildverstärkerröhren mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | Spitzenempfindlichkeit innerhalb des Wellenlängenbereichs von größer als 400 nm und kleiner/gleich 1 050 nm, |
| --- | --- | --- | --- |

2.

Bildverstärkerröhren und besonders konstruierte Bestandteile hierfür wie folgt:

a)

Bildverstärkerröhren mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

Spitzenempfindlichkeit innerhalb des Wellenlängenbereichs von größer als 400 nm und kleiner/gleich 1 050 nm,

| 2. | Mikrokanalplatte zur elektronischen Bildverstärkung mit einem Lochabstand (Lochmitte zu Lochmitte) kleiner/gleich 12 μm und |
| --- | --- |

2.

Mikrokanalplatte zur elektronischen Bildverstärkung mit einem Lochabstand (Lochmitte zu Lochmitte) kleiner/gleich 12 μm und

| 3. | eine der folgenden Fotokathoden:






  a) | S-20, S-25 oder multialkalische Fotokathode mit einer Lichtempfindlichkeit (luminous sensitivity) von mehr als 350 μA/lm, |
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3.

eine der folgenden Fotokathoden:

a)

S-20, S-25 oder multialkalische Fotokathode mit einer Lichtempfindlichkeit (luminous sensitivity) von mehr als 350 μA/lm,

| b) | GaAs- oder GaInAs-Fotokathode oder |
| --- | --- |

b)

GaAs- oder GaInAs-Fotokathode oder

| c) | andere III-V-Verbindungshalbleiter-Fotokathoden,


  Anmerkung: Unternummer 6A002a2a3c gilt nicht für Verbindungshalbleiter-Fotokathoden mit einer maximalen Strahlungsempfindlichkeit (radiant sensitivity) von kleiner/gleich 10 mA/W. |
| --- | --- |

c)

andere III-V-Verbindungshalbleiter-Fotokathoden,

Anmerkung: Unternummer 6A002a2a3c gilt nicht für Verbindungshalbleiter-Fotokathoden mit einer maximalen Strahlungsempfindlichkeit (radiant sensitivity) von kleiner/gleich 10 mA/W.

| b) | besonders konstruierte Bauteile wie folgt:






  1. | Mikrokanalplatten mit einem Lochabstand (Lochmitte zu Lochmitte) kleiner/gleich 12 μm, |
| --- | --- | --- |

b)

besonders konstruierte Bauteile wie folgt:

1.

Mikrokanalplatten mit einem Lochabstand (Lochmitte zu Lochmitte) kleiner/gleich 12 μm,

| 2. | GaAs- oder GaInAs-Fotokathoden, |
| --- | --- |

2.

GaAs- oder GaInAs-Fotokathoden,

| 3. | andere III-V-Verbindungshalbleiter-Fotokathoden,


  Anmerkung: Unternummer 6A002a2b3 erfasst keine Verbindungshalbleiter-Fotokathoden mit einer maximalen Strahlungsempfindlichkeit (radiant sensitivity) von kleiner/gleich 10 mA/W. |
| --- | --- |

3.

andere III-V-Verbindungshalbleiter-Fotokathoden,

Anmerkung: Unternummer 6A002a2b3 erfasst keine Verbindungshalbleiter-Fotokathoden mit einer maximalen Strahlungsempfindlichkeit (radiant sensitivity) von kleiner/gleich 10 mA/W.

| 3. | nicht"weltraumgeeignete""Focal-plane-arrays" wie folgt:
  Technische Anmerkungen:







  1. | Detektorarrays mit mehreren Elementen in Zeilenanordnung oder zweidimensionaler Anordnung gelten als "Focal-plane-arrays". |
| --- | --- | --- |

3.

nicht"weltraumgeeignete""Focal-plane-arrays" wie folgt:

Technische Anmerkungen:

1.

Detektorarrays mit mehreren Elementen in Zeilenanordnung oder zweidimensionaler Anordnung gelten als "Focal-plane-arrays".

| 2. | Im Sinne von Unternummer 6A002a3 wird die ‧Querabtastrichtung‧ als die Achse parallel zur linearen Anordnung der Detektorelemente und die ‧Abtastrichtung‧ als die Achse senkrecht zur linearen Anordnung der Detektorelemente definiert. |
| --- | --- |

2.

Im Sinne von Unternummer 6A002a3 wird die ‧Querabtastrichtung‧ als die Achse parallel zur linearen Anordnung der Detektorelemente und die ‧Abtastrichtung‧ als die Achse senkrecht zur linearen Anordnung der Detektorelemente definiert.

Anmerkung 1: Unternummer 6A002a3 schließt fotoleitende und fotovoltaische Anordnungen (arrays) ein.

Anmerkung 2: Unternummer 6A002a3 erfasst nicht:

| a) | "Focal-plane-arrays" aus Silizium, |
| --- | --- |

a)

"Focal-plane-arrays" aus Silizium,

| b) | gekapselte fotoleitende Multielementzellen mit maximal 16 Elementen aus Bleisulfid oder Bleiselenid, |
| --- | --- |

b)

gekapselte fotoleitende Multielementzellen mit maximal 16 Elementen aus Bleisulfid oder Bleiselenid,

| c) | pyroelektrische Detektoren aus einem der folgenden Materialien:








  1. | Triglyzinsulfat (TGS) und Derivate, |
| --- | --- | --- |

c)

pyroelektrische Detektoren aus einem der folgenden Materialien:

1.

Triglyzinsulfat (TGS) und Derivate,

| 2. | Blei-Lanthan-Zirkonium-Titanat (PLZT) und Derivate, |
| --- | --- |

2.

Blei-Lanthan-Zirkonium-Titanat (PLZT) und Derivate,

| 3. | Lithiumtantalat, |
| --- | --- |

3.

Lithiumtantalat,

| 4. | Polyvinylidenfluorid (PVDF) und Derivate oder |
| --- | --- |

4.

Polyvinylidenfluorid (PVDF) und Derivate oder

| 5. | Strontium-Barium-Niobat (SBN) und Derivate. |
| --- | --- |

5.

Strontium-Barium-Niobat (SBN) und Derivate.

| a) | nicht"weltraumgeeignete""Focal-plane-arrays" mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | bestehend aus Einzelelementen mit einer Spitzenempfindlichkeit innerhalb des Wellenlängenbereichs größer als 900 nm und kleiner/gleich 1 050 nm und |
| --- | --- | --- |

a)

nicht"weltraumgeeignete""Focal-plane-arrays" mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

bestehend aus Einzelelementen mit einer Spitzenempfindlichkeit innerhalb des Wellenlängenbereichs größer als 900 nm und kleiner/gleich 1 050 nm und

| 2. | Ansprech"zeitkonstante" kleiner als 0,5 ns, |
| --- | --- |

2.

Ansprech"zeitkonstante" kleiner als 0,5 ns,

| b) | nicht"weltraumgeeignete""Focal-plane-arrays" mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | bestehend aus Einzelelementen mit einer Spitzenempfindlichkeit innerhalb des Wellenlängenbereichs größer als 1 050 nm und kleiner/gleich 1 200 nm und |
| --- | --- | --- |

b)

nicht"weltraumgeeignete""Focal-plane-arrays" mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

bestehend aus Einzelelementen mit einer Spitzenempfindlichkeit innerhalb des Wellenlängenbereichs größer als 1 050 nm und kleiner/gleich 1 200 nm und

| 2. | Ansprech"zeitkonstante" kleiner/gleich 95 ns, |
| --- | --- |

2.

Ansprech"zeitkonstante" kleiner/gleich 95 ns,

| c) | nicht"weltraumgeeignete" nichtlineare (zweidimensionale) "Focal-plane-arrays", bestehend aus Einzelelementen mit einer Spitzenempfindlichkeit innerhalb des Wellenlängenbereichs größer als 1 200 nm und kleiner/gleich 30 000 nm, |
| --- | --- |

c)

nicht"weltraumgeeignete" nichtlineare (zweidimensionale) "Focal-plane-arrays", bestehend aus Einzelelementen mit einer Spitzenempfindlichkeit innerhalb des Wellenlängenbereichs größer als 1 200 nm und kleiner/gleich 30 000 nm,

| d) | nicht"weltraumgeeignete" lineare (eindimensionale) "Focal-plane-arrays" mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | bestehend aus Einzelelementen mit einer Spitzenempfindlichkeit innerhalb des Wellenlängenbereichs größer als 1 200 nm und kleiner/gleich 2 500 nm und |
| --- | --- | --- |

d)

nicht"weltraumgeeignete" lineare (eindimensionale) "Focal-plane-arrays" mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

bestehend aus Einzelelementen mit einer Spitzenempfindlichkeit innerhalb des Wellenlängenbereichs größer als 1 200 nm und kleiner/gleich 2 500 nm und

| 2. | mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Verhältnis der Detektorelementabmessung in der ‧Abtastrichtung‧ zur Detektorelementabmessung in der ‧Querabtastrichtung‧ kleiner 3,8 oder |
| --- | --- | --- |

2.

mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Verhältnis der Detektorelementabmessung in der ‧Abtastrichtung‧ zur Detektorelementabmessung in der ‧Querabtastrichtung‧ kleiner 3,8 oder

| b) | Signalverarbeitung im Element (SPRITE), |
| --- | --- |

b)

Signalverarbeitung im Element (SPRITE),

| e) | nicht "weltraumgeeignete" lineare (eindimensionale) "Focal-plane-arrays", bestehend aus Einzelelementen mit einer Spitzenempfindlichkeit innerhalb des Wellenlängenbereichs größer als 2 500 nm und kleiner/gleich 30 000 nm; |
| --- | --- |

e)

nicht "weltraumgeeignete" lineare (eindimensionale) "Focal-plane-arrays", bestehend aus Einzelelementen mit einer Spitzenempfindlichkeit innerhalb des Wellenlängenbereichs größer als 2 500 nm und kleiner/gleich 30 000 nm;

| b) | "monospektrale Bildsensoren" und "multispektrale Bildsensoren", entwickelt für die Fernerkennung, mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | momentaner Bildfeldwinkel (IFOV, Instantaneous Field Of View) kleiner als 200 μrad oder |
| --- | --- | --- |

b)

"monospektrale Bildsensoren" und "multispektrale Bildsensoren", entwickelt für die Fernerkennung, mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

momentaner Bildfeldwinkel (IFOV, Instantaneous Field Of View) kleiner als 200 μrad oder

| 2. | spezifiziert für Betrieb im Wellenlängenbereich größer als 400 nm und kleiner/gleich 30 000 nm und mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | Ausgabe von Bilddaten in Digitalformat und |
| --- | --- | --- |

2.

spezifiziert für Betrieb im Wellenlängenbereich größer als 400 nm und kleiner/gleich 30 000 nm und mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

Ausgabe von Bilddaten in Digitalformat und

| b) | mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | "weltraumgeeignet"oder |
| --- | --- | --- |

b)

mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

"weltraumgeeignet"oder

| 2. | entwickelt für Luftfahrtbetrieb, Verwendung anderer als Silizium-Detektoren und mit einem momentanen Bildfeldwinkel (IFOV) kleiner als 2,5 mrad; |
| --- | --- |

2.

entwickelt für Luftfahrtbetrieb, Verwendung anderer als Silizium-Detektoren und mit einem momentanen Bildfeldwinkel (IFOV) kleiner als 2,5 mrad;

| c) | Ausrüstung zur ‧direkten Bildwandlung‧ für das sichtbare oder Infrarotspektrum mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | mit eingebauten Bildverstärkerröhren, erfasst von Unternummer 6A002a2a, oder |
| --- | --- | --- |

c)

Ausrüstung zur ‧direkten Bildwandlung‧ für das sichtbare oder Infrarotspektrum mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

mit eingebauten Bildverstärkerröhren, erfasst von Unternummer 6A002a2a, oder

| 2. | mit eingebauten "Focal-plane-arrays", erfasst von Unternummer 6A002a3; |
| --- | --- |

2.

mit eingebauten "Focal-plane-arrays", erfasst von Unternummer 6A002a3;

Technische Anmerkung:

‧Direkte Bildwandlung‧ bezieht sich auf Bildausrüstung, die im sichtbaren oder Infrarotspektrum arbeitet und einem Beobachter ein sichtbares Bild ohne Umwandlung in ein elektronisches Signal für TV-Bildschirme liefert. Dabei kann das Bild nicht fotografisch, elektronisch oder durch andere Mittel aufgezeichnet oder gespeichert werden.

Anmerkung: Unternummer 6A002c erfasst nicht folgende Ausrüstung, wenn sie andere als GaAs- oder GaInAs-Fotokathoden enthält:

| a) | industrielle oder zivile Einbruch-Alarmanlagen, Bewegungsmelder und Zählsysteme für den Verkehr und für industrielle Anwendungen, |
| --- | --- |

a)

industrielle oder zivile Einbruch-Alarmanlagen, Bewegungsmelder und Zählsysteme für den Verkehr und für industrielle Anwendungen,

| b) | medizinische Geräte, |
| --- | --- |

b)

medizinische Geräte,

| c) | industrielle Geräte zum Prüfen, Sortieren oder Analysieren von Werkstoffeigenschaften, |
| --- | --- |

c)

industrielle Geräte zum Prüfen, Sortieren oder Analysieren von Werkstoffeigenschaften,

| d) | Flammenwächter für industrielle Öfen, |
| --- | --- |

d)

Flammenwächter für industrielle Öfen,

| e) | Geräte, besonders entwickelt zum Einsatz in Laboratorien. |
| --- | --- |

e)

Geräte, besonders entwickelt zum Einsatz in Laboratorien.

| d) | Teile für optische Sensoren wie folgt:






  1. | "weltraumgeeignete" kryogenische Kühler, |
| --- | --- | --- |

d)

Teile für optische Sensoren wie folgt:

1.

"weltraumgeeignete" kryogenische Kühler,

| 2. | nicht "weltraumgeeignete" kryogenische Kühler mit einer Kühlerausgangstemperatur unter 218 K (– 55° C) wie folgt:






  a) | geschlossener Kühlmittelkreislauf mit einer spezifizierten mittleren Zeit bis zum Ausfall (MTTF, Mean Time To Failure) oder mit einer mittleren Zeit zwischen zwei Ausfällen (MTBF, Mean Time Between Failures) größer als 2 500 Stunden, |
| --- | --- | --- |

2.

nicht "weltraumgeeignete" kryogenische Kühler mit einer Kühlerausgangstemperatur unter 218 K (– 55° C) wie folgt:

a)

geschlossener Kühlmittelkreislauf mit einer spezifizierten mittleren Zeit bis zum Ausfall (MTTF, Mean Time To Failure) oder mit einer mittleren Zeit zwischen zwei Ausfällen (MTBF, Mean Time Between Failures) größer als 2 500 Stunden,

| b) | selbstregelnde Joule-Thomson-Miniaturkühler für Bohrungsdurchmesser kleiner als 8 mm, |
| --- | --- |

b)

selbstregelnde Joule-Thomson-Miniaturkühler für Bohrungsdurchmesser kleiner als 8 mm,

| 3. | optische Fasern für Sensorzwecke, besonders gefertigt, entweder durch die Zusammensetzung oder die Struktur, oder durch Beschichtung so verändert, dass sie akustisch, thermisch, trägheitsmäßig, elektromagnetisch oder gegen ionisierende Strahlung empfindlich sind; |
| --- | --- |

3.

optische Fasern für Sensorzwecke, besonders gefertigt, entweder durch die Zusammensetzung oder die Struktur, oder durch Beschichtung so verändert, dass sie akustisch, thermisch, trägheitsmäßig, elektromagnetisch oder gegen ionisierende Strahlung empfindlich sind;

| e) | "weltraumgeeignete""Focal-plane-arrays" mit mehr als 2 048 Elementen pro Array und einer Spitzenempfindlichkeit im Wellenlängenbereich größer als 300 nm und kleiner/gleich 900 nm. |
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e)

"weltraumgeeignete""Focal-plane-arrays" mit mehr als 2 048 Elementen pro Array und einer Spitzenempfindlichkeit im Wellenlängenbereich größer als 300 nm und kleiner/gleich 900 nm.

6A003Kameras

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 6A203.

Ergänzende Anmerkung: Kameras, besonders konstruiert oder geändert für Unterwassereinsatz: Siehe Unternummer 8A002d und 8A002e.

| a) | Kameraausrüstung und besonders konstruierte Bestandteile hierfür, wie folgt:


  Anmerkung: Die Erfassung von modular aufgebauter Kameraausrüstung durch die Unternummern 6A003a3 bis 6A003a5 richtet sich nach den maximal erreichbaren Parametern, die bei Verwendung von Einschüben (plug-ins) gemäß den Spezifikationen des Kameraherstellers möglich sind.







  1. | Hochgeschwindigkeitsfilmkameras für die Filmformate von 8 mm bis 16 mm, bei denen der Film während der Aufzeichnungsdauer kontinuierlich transportiert wird und die mehr als 13 150 Einzelbilder pro Sekunde aufnehmen können,


  Anmerkung: Unternummer 6A003a1 erfasst nicht Filmkameras, konstruiert für zivile Zwecke. |
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a)

Kameraausrüstung und besonders konstruierte Bestandteile hierfür, wie folgt:

Anmerkung: Die Erfassung von modular aufgebauter Kameraausrüstung durch die Unternummern 6A003a3 bis 6A003a5 richtet sich nach den maximal erreichbaren Parametern, die bei Verwendung von Einschüben (plug-ins) gemäß den Spezifikationen des Kameraherstellers möglich sind.

1.

Hochgeschwindigkeitsfilmkameras für die Filmformate von 8 mm bis 16 mm, bei denen der Film während der Aufzeichnungsdauer kontinuierlich transportiert wird und die mehr als 13 150 Einzelbilder pro Sekunde aufnehmen können,

Anmerkung: Unternummer 6A003a1 erfasst nicht Filmkameras, konstruiert für zivile Zwecke.

| 2. | mechanische Hochgeschwindigkeitskameras mit stillstehendem Film, die mehr als 1 Million Einzelbilder pro Sekunde mit der vollen Bildhöhe im 35-mm-Bildformat aufnehmen können oder proportional höhere Aufnahmegeschwindigkeiten für geringere Bildhöhen oder proportional niedrigere Aufnahmegeschwindigkeiten für größere Bildhöhen ermöglichen, |
| --- | --- |

2.

mechanische Hochgeschwindigkeitskameras mit stillstehendem Film, die mehr als 1 Million Einzelbilder pro Sekunde mit der vollen Bildhöhe im 35-mm-Bildformat aufnehmen können oder proportional höhere Aufnahmegeschwindigkeiten für geringere Bildhöhen oder proportional niedrigere Aufnahmegeschwindigkeiten für größere Bildhöhen ermöglichen,

| 3. | mechanische oder elektronische Streakkameras mit Aufzeichnungsgeschwindigkeiten größer als 10 mm/μs, |
| --- | --- |

3.

mechanische oder elektronische Streakkameras mit Aufzeichnungsgeschwindigkeiten größer als 10 mm/μs,

| 4. | elektronische Bildkameras mit einer Aufzeichnungsgeschwindigkeit größer als 1 Million Einzelbilder pro Sekunde, |
| --- | --- |

4.

elektronische Bildkameras mit einer Aufzeichnungsgeschwindigkeit größer als 1 Million Einzelbilder pro Sekunde,

| 5. | elektronische Kameras mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | elektronische Verschlussgeschwindigkeit (Ausblendfähigkeit) kleiner als 1 μs pro Vollbild und |
| --- | --- | --- |

5.

elektronische Kameras mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

elektronische Verschlussgeschwindigkeit (Ausblendfähigkeit) kleiner als 1 μs pro Vollbild und

| b) | Ausgabezeit, die eine Bildgeschwindigkeit größer als 125 Vollbilder pro Sekunde ermöglicht, |
| --- | --- |

b)

Ausgabezeit, die eine Bildgeschwindigkeit größer als 125 Vollbilder pro Sekunde ermöglicht,

| 6. | Einschübe (plug-ins) mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | besonders konstruiert für modular aufgebaute Kameraausrüstung, die in Unternummer 6A003a erfasst ist und |
| --- | --- | --- |

6.

Einschübe (plug-ins) mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

besonders konstruiert für modular aufgebaute Kameraausrüstung, die in Unternummer 6A003a erfasst ist und

| b) | gemäß Herstellerangaben erreichbare Veränderung der Kameradaten, um die in Unternummer 6A003a3, 6A003a4 oder 6A003a5 genannten Grenzwerte zu erreichen; |
| --- | --- |

b)

gemäß Herstellerangaben erreichbare Veränderung der Kameradaten, um die in Unternummer 6A003a3, 6A003a4 oder 6A003a5 genannten Grenzwerte zu erreichen;

| b) | Bildkameras wie folgt:


  Anmerkung: Unternummer 6A003b erfasst nicht Fernseh- oder Videokameras, besonders konstruiert für Fernseh-Rundfunk-Einsatz.







  1. | Videokameras, die Halbleitersensoren enthalten, mit einer Spitzenempfindlichkeit innerhalb des Wellenlängenbereichs größer als 10 nm und kleiner/gleich 30 000 nm und mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | mehr als 4 × 106"aktive Bildelemente" (active pixels) je Halbleiter-Sensor-Anordnung für Monochrom-Kameras (Schwarzweißkameras), |
| --- | --- | --- | --- | --- |

b)

Bildkameras wie folgt:

Anmerkung: Unternummer 6A003b erfasst nicht Fernseh- oder Videokameras, besonders konstruiert für Fernseh-Rundfunk-Einsatz.

1.

Videokameras, die Halbleitersensoren enthalten, mit einer Spitzenempfindlichkeit innerhalb des Wellenlängenbereichs größer als 10 nm und kleiner/gleich 30 000 nm und mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

mehr als 4 × 106"aktive Bildelemente" (active pixels) je Halbleiter-Sensor-Anordnung für Monochrom-Kameras (Schwarzweißkameras),

| 2. | mehr als 4 × 106"aktive Bildelemente" je Halbleiter-Sensor-Anordnung für Farbkameras mit drei Halbleiter-Sensor-Anordnungen oder |
| --- | --- |

2.

mehr als 4 × 106"aktive Bildelemente" je Halbleiter-Sensor-Anordnung für Farbkameras mit drei Halbleiter-Sensor-Anordnungen oder

| 3. | mehr als 12 × 106"aktive Bildelemente" für Halbleiter-Farbkameras mit einer Halbleiter-Sensor-Anordnung und |
| --- | --- |

3.

mehr als 12 × 106"aktive Bildelemente" für Halbleiter-Farbkameras mit einer Halbleiter-Sensor-Anordnung und

| b) | mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | optische Spiegel erfasst von 6A004a, |
| --- | --- | --- |

b)

mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

optische Spiegel erfasst von 6A004a,

| 2. | Steuereinrichtungen für optische Elemente erfasst von 6A004d oder |
| --- | --- |

2.

Steuereinrichtungen für optische Elemente erfasst von 6A004d oder

| 3. | Fähigkeit zum Festhalten intern generierter Kamera-Positionsdaten. |
| --- | --- |

3.

Fähigkeit zum Festhalten intern generierter Kamera-Positionsdaten.

Technische Anmerkung:

| 1. | Die Erfassung digitaler Videokameras unter 6A003b1 richtet sich nach der maximalen Anzahl "aktiver Bildelemente" (aktive pixels), die für die Aufnahme bewegter Bilder verwendet werden. |
| --- | --- |

1.

Die Erfassung digitaler Videokameras unter 6A003b1 richtet sich nach der maximalen Anzahl "aktiver Bildelemente" (aktive pixels), die für die Aufnahme bewegter Bilder verwendet werden.

| 2. | Im Sinne dieser Unternummer sind Kamera-Positionsdaten die Informationen, die erforderlich sind, um die Ausrichtung der Sichtlinie einer Kamera im Bezug auf die Erde zu bestimmen. Eingeschlossen sind der horizontale Winkel zwischen der Sichtlinie der Kamera und der Richtung des Erdmagnetfeldes sowie der vertikale Winkel zwischen der Sichtlinie der Kamera und dem Horizont der Erde. |
| --- | --- |

2.

Im Sinne dieser Unternummer sind Kamera-Positionsdaten die Informationen, die erforderlich sind, um die Ausrichtung der Sichtlinie einer Kamera im Bezug auf die Erde zu bestimmen. Eingeschlossen sind der horizontale Winkel zwischen der Sichtlinie der Kamera und der Richtung des Erdmagnetfeldes sowie der vertikale Winkel zwischen der Sichtlinie der Kamera und dem Horizont der Erde.

| 2. | Abtastkameras und Abtastkamerasysteme mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | mit einer Spitzenempfindlichkeit innerhalb des Wellenlängenbereichs größer als 10 nm und kleiner/gleich 30 000 nm, |
| --- | --- | --- |

2.

Abtastkameras und Abtastkamerasysteme mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

mit einer Spitzenempfindlichkeit innerhalb des Wellenlängenbereichs größer als 10 nm und kleiner/gleich 30 000 nm,

| b) | mit linearen Sensor-Anordnungen (linear detector arrays) mit mehr als 8 192 Elementen je Anordnung und |
| --- | --- |

b)

mit linearen Sensor-Anordnungen (linear detector arrays) mit mehr als 8 192 Elementen je Anordnung und

| c) | mit mechanischer Abtastung in einer Richtung, |
| --- | --- |

c)

mit mechanischer Abtastung in einer Richtung,

| 3. | Bildkameras mit eingebauten Bildverstärkerröhren, die von Unternummer 6A002a2a erfasst werden, |
| --- | --- |

3.

Bildkameras mit eingebauten Bildverstärkerröhren, die von Unternummer 6A002a2a erfasst werden,

| 4. | Bildkameras mit eingebauten "Focal-plane-arrays", die von Unternummer 6A002a3 erfasst werden.


  Anmerkung: Unternummer 6A003b4 erfasst nicht Bildkameras mit linearen "Focal-plane-arrays" mit zwölf Elementen oder weniger, sofern keine zeitlich verschobene Signalintegration (time-delay-and-integration) im Element selbst vorgenommen wird, konstruiert für eines der Folgenden:








  a) | industrielle oder zivile Einbruch-Alarmanlagen, Bewegungsmelder und Zählsysteme für den Verkehr oder für industrielle Anwendungen, |
| --- | --- | --- |

4.

Bildkameras mit eingebauten "Focal-plane-arrays", die von Unternummer 6A002a3 erfasst werden.

Anmerkung: Unternummer 6A003b4 erfasst nicht Bildkameras mit linearen "Focal-plane-arrays" mit zwölf Elementen oder weniger, sofern keine zeitlich verschobene Signalintegration (time-delay-and-integration) im Element selbst vorgenommen wird, konstruiert für eines der Folgenden:

a)

industrielle oder zivile Einbruch-Alarmanlagen, Bewegungsmelder und Zählsysteme für den Verkehr oder für industrielle Anwendungen,

| b) | industrielle Ausrüstung für Inspektion oder Überwachung des Wärmeflusses in Gebäuden, Ausrüstung oder industriellen Prozessen, |
| --- | --- |

b)

industrielle Ausrüstung für Inspektion oder Überwachung des Wärmeflusses in Gebäuden, Ausrüstung oder industriellen Prozessen,

| c) | industrielle Ausrüstung zum Prüfen, Sortieren oder Analysieren von Werkstoffeigenschaften, |
| --- | --- |

c)

industrielle Ausrüstung zum Prüfen, Sortieren oder Analysieren von Werkstoffeigenschaften,

| d) | Ausrüstung, besonders konstruiert für den Einsatz in Laboratorien, oder |
| --- | --- |

d)

Ausrüstung, besonders konstruiert für den Einsatz in Laboratorien, oder

| e) | medizinische Ausrüstung. |
| --- | --- |

e)

medizinische Ausrüstung.

6A004Optik

| a) | Optische Spiegel (Reflektoren) wie folgt:






  1. | "verformbare Spiegel" mit kontinuierlichen oder aus mehreren Elementen bestehenden Oberflächen und besonders entwickelte Bauteile hierfür, die in der Lage sind, Teile der Oberfläche dynamisch mit einer Frequenz größer als 100 Hz zu positionieren, |
| --- | --- | --- |

a)

Optische Spiegel (Reflektoren) wie folgt:

1.

"verformbare Spiegel" mit kontinuierlichen oder aus mehreren Elementen bestehenden Oberflächen und besonders entwickelte Bauteile hierfür, die in der Lage sind, Teile der Oberfläche dynamisch mit einer Frequenz größer als 100 Hz zu positionieren,

| 2. | monolithische Leichtspiegel mit einer mittleren "äquivalenten Dichte" kleiner als 30 kg/m2 und einem Gesamtgewicht größer als 10 kg, |
| --- | --- |

2.

monolithische Leichtspiegel mit einer mittleren "äquivalenten Dichte" kleiner als 30 kg/m2 und einem Gesamtgewicht größer als 10 kg,

| 3. | "Verbundwerkstoff"- oder Schaumstoffstrukturen für Leichtspiegel mit einer mittleren "äquivalenten Dichte" kleiner als 30 kg/m2 und einem Gesamtgewicht größer als 2 kg, |
| --- | --- |

3.

"Verbundwerkstoff"- oder Schaumstoffstrukturen für Leichtspiegel mit einer mittleren "äquivalenten Dichte" kleiner als 30 kg/m2 und einem Gesamtgewicht größer als 2 kg,

| 4. | strahllenkende Spiegel (beam steering mirrors) mit einem Durchmesser oder einer Hauptachsenlänge größer als 100 mm, die eine Ebenheit (flatness) kleiner (besser)/gleich Lambda/2 (Lambda entspricht 633 nm) bewahren, und einer Regelbandbreite größer als 100 Hz; |
| --- | --- |

4.

strahllenkende Spiegel (beam steering mirrors) mit einem Durchmesser oder einer Hauptachsenlänge größer als 100 mm, die eine Ebenheit (flatness) kleiner (besser)/gleich Lambda/2 (Lambda entspricht 633 nm) bewahren, und einer Regelbandbreite größer als 100 Hz;

| b) | optische Elemente aus Zinkselenid (ZnSe) oder Zinksulfid (ZnS) mit einer Transmissionswellenlänge im Bereich von größer als 3 000 nm bis 25 000 nm und mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | Volumen größer als 100 cm3
  oder |
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b)

optische Elemente aus Zinkselenid (ZnSe) oder Zinksulfid (ZnS) mit einer Transmissionswellenlänge im Bereich von größer als 3 000 nm bis 25 000 nm und mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

Volumen größer als 100 cm3
  oder

| 2. | Durchmesser oder Hauptachsenlänge größer als 80 mm und Dicke (Tiefe) größer als 20 mm; |
| --- | --- |

2.

Durchmesser oder Hauptachsenlänge größer als 80 mm und Dicke (Tiefe) größer als 20 mm;

| c) | "weltraumgeeignete" Bauteile für optische Systeme wie folgt:






  1. | Gewichtsreduzierung auf weniger als 20 % der "äquivalenten Dichte" eines massiven Werkstücks gleicher Blendenöffnung und Dicke, |
| --- | --- | --- |

c)

"weltraumgeeignete" Bauteile für optische Systeme wie folgt:

1.

Gewichtsreduzierung auf weniger als 20 % der "äquivalenten Dichte" eines massiven Werkstücks gleicher Blendenöffnung und Dicke,

| 2. | unbearbeitete Substrate, bearbeitete Substrate mit Oberflächenbeschichtungen (eine oder mehrere Schichten, metallisch oder dielektrisch, elektrisch leitend, halbleitend oder nicht leitend) oder mit Schutzfilmen, |
| --- | --- |

2.

unbearbeitete Substrate, bearbeitete Substrate mit Oberflächenbeschichtungen (eine oder mehrere Schichten, metallisch oder dielektrisch, elektrisch leitend, halbleitend oder nicht leitend) oder mit Schutzfilmen,

| 3. | Segmente oder Baugruppen von Spiegeln, entwickelt für den Zusammenbau im Weltraum zu einem optischen System, dessen Sammelblendenöffnung der einer Einzeloptik mit einem Durchmesser größer/gleich 1 m entspricht, |
| --- | --- |

3.

Segmente oder Baugruppen von Spiegeln, entwickelt für den Zusammenbau im Weltraum zu einem optischen System, dessen Sammelblendenöffnung der einer Einzeloptik mit einem Durchmesser größer/gleich 1 m entspricht,

| 4. | hergestellt aus "Verbundwerkstoffen" mit einem linearen thermischen Ausdehnungskoeffizienten kleiner/gleich 5 × 10–6 in jeder Koordinatenrichtung; |
| --- | --- |

4.

hergestellt aus "Verbundwerkstoffen" mit einem linearen thermischen Ausdehnungskoeffizienten kleiner/gleich 5 × 10–6 in jeder Koordinatenrichtung;

| d) | Steuereinrichtungen für optische Elemente wie folgt:






  1. | besonders entwickelt, um die Oberflächenform (surface figure) oder -ausrichtung der von Unternummer 6A004c1 oder 6A004c3 erfassten "weltraumgeeigneten" Bauteile beizubehalten, |
| --- | --- | --- |

d)

Steuereinrichtungen für optische Elemente wie folgt:

1.

besonders entwickelt, um die Oberflächenform (surface figure) oder -ausrichtung der von Unternummer 6A004c1 oder 6A004c3 erfassten "weltraumgeeigneten" Bauteile beizubehalten,

| 2. | mit Steuer-, Verfolgungs-, Stabilisierungs- oder Resonatoreinstellbandbreiten größer/gleich 100 Hz und mit einer Genauigkeit von 10 μrad oder besser, |
| --- | --- |

2.

mit Steuer-, Verfolgungs-, Stabilisierungs- oder Resonatoreinstellbandbreiten größer/gleich 100 Hz und mit einer Genauigkeit von 10 μrad oder besser,

| 3. | kardanische Aufhängungen mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | maximaler Schwenkbereich größer als 5°, |
| --- | --- | --- |

3.

kardanische Aufhängungen mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

maximaler Schwenkbereich größer als 5°,

| b) | Bandbreite größer/gleich 100 Hz, |
| --- | --- |

b)

Bandbreite größer/gleich 100 Hz,

| c) | Winkelfehler kleiner/gleich 200 μrad und |
| --- | --- |

c)

Winkelfehler kleiner/gleich 200 μrad und

| d) | mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | Hauptachsenlänge oder Durchmesser größer als 0,15 m und kleiner/gleich 1 m und Winkelbeschleunigungen größer als 2 rad/s2
  oder |
| --- | --- | --- |

d)

mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

Hauptachsenlänge oder Durchmesser größer als 0,15 m und kleiner/gleich 1 m und Winkelbeschleunigungen größer als 2 rad/s2
  oder

| 2. | Hauptachsenlänge oder Durchmesser größer als 1 m und Winkelbeschleunigungen größer als 0,5 rad/s2, |
| --- | --- |

2.

Hauptachsenlänge oder Durchmesser größer als 1 m und Winkelbeschleunigungen größer als 0,5 rad/s2,

| 4. | besonders entwickelt für die Beibehaltung der Justierung von Gruppenstrahler-Spiegelsystemen (auch mit Phasenkopplung zwischen Segmenten), die aus Spiegeln mit einem Segmentdurchmesser oder einer Hauptachsenlänge größer/gleich 1 m bestehen; |
| --- | --- |

4.

besonders entwickelt für die Beibehaltung der Justierung von Gruppenstrahler-Spiegelsystemen (auch mit Phasenkopplung zwischen Segmenten), die aus Spiegeln mit einem Segmentdurchmesser oder einer Hauptachsenlänge größer/gleich 1 m bestehen;

| e) | ‧Asphärische optische Elemente‧ mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | größte Abmessung der optischen Apertur größer als 400 mm, |
| --- | --- | --- |

e)

‧Asphärische optische Elemente‧ mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

größte Abmessung der optischen Apertur größer als 400 mm,

| 2. | Oberflächenrauigkeit kleiner als 1 nm (rms) über eine Messlänge größer/gleich 1 mm und |
| --- | --- |

2.

Oberflächenrauigkeit kleiner als 1 nm (rms) über eine Messlänge größer/gleich 1 mm und

| 3. | linearer thermischer Ausdehnungskoeffizient kleiner als 3 × 10–6/K bei 25 °C.) |
| --- | --- |

3.

linearer thermischer Ausdehnungskoeffizient kleiner als 3 × 10–6/K bei 25 °C.)

Technische Anmerkungen:

| 1. | Ein ‧asphärisches optisches Element‧ ist jede Art von Element, das in einem optischen System verwendet wird und dessen Form der optischen Oberfläche oder Oberflächen so konstruiert wurde, dass sie von der Form einer idealen Kugelfläche abweicht. |
| --- | --- |

1.

Ein ‧asphärisches optisches Element‧ ist jede Art von Element, das in einem optischen System verwendet wird und dessen Form der optischen Oberfläche oder Oberflächen so konstruiert wurde, dass sie von der Form einer idealen Kugelfläche abweicht.

| 2. | Der Hersteller ist nicht verpflichtet, die in Unternummer 6A004e2 angegebene Oberflächenrauigkeit zu messen, es sei denn, das Erreichen oder Überschreiten dieses Parameters wurde bereits bei der Konstruktion oder Produktion des optischen Elementes vorgegeben. |
| --- | --- |

2.

Der Hersteller ist nicht verpflichtet, die in Unternummer 6A004e2 angegebene Oberflächenrauigkeit zu messen, es sei denn, das Erreichen oder Überschreiten dieses Parameters wurde bereits bei der Konstruktion oder Produktion des optischen Elementes vorgegeben.

Anmerkung: Unternummer 6A004e erfasst nicht asphärische optische Elemente mit einer der folgenden Eigenschaften:

| a) | größte Abmessung der optischen Apertur kleiner als 1 m und Öffnungsverhältnis größer/gleich 4,5:1, |
| --- | --- |

a)

größte Abmessung der optischen Apertur kleiner als 1 m und Öffnungsverhältnis größer/gleich 4,5:1,

| b) | größte Abmessung der optischen Apertur größer/gleich 1 m und Öffnungsverhältnis größer/gleich 7:1, |
| --- | --- |

b)

größte Abmessung der optischen Apertur größer/gleich 1 m und Öffnungsverhältnis größer/gleich 7:1,

| c) | konstruiert als Fresnel-, Flyeye-, Streifen-, Prismen- oder diffraktives Element, |
| --- | --- |

c)

konstruiert als Fresnel-, Flyeye-, Streifen-, Prismen- oder diffraktives Element,

| d) | hergestellt aus Borsilikatglas mit einem linearen thermischen Ausdehnungskoeffizienten größer als 2,5 × 10–6/K bei 25 °C oder |
| --- | --- |

d)

hergestellt aus Borsilikatglas mit einem linearen thermischen Ausdehnungskoeffizienten größer als 2,5 × 10–6/K bei 25 °C oder

| e) | Röntgenoptiken mit innengerichteter Spiegelfläche (z.B. tube-type-mirrors). |
| --- | --- |

e)

Röntgenoptiken mit innengerichteter Spiegelfläche (z.B. tube-type-mirrors).

Ergänzende Anmerkung: Für asphärische optische Elemente, besonders konstruiert für die Fotolithografie: Siehe Nummer 3B001.

6A005"Laser", die nicht von Unternummer 0B001g5 oder 0B001h6 erfasst werden, Bauteile und optische Ausrüstung wie folgt:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 6A205.

Anmerkung 1: Gepulste "Laser" schließen solche ein, die im Dauerstrichbetrieb mit überlagerten Pulsen arbeiten.

Anmerkung 2: Impulserregte "Laser" schließen solche ein, die im kontinuierlich angeregten Betrieb mit überlagerten Erregungsimpulsen arbeiten.

Anmerkung 3: Der Erfassungsstatus von Raman-"Lasern" richtet sich nach den Parametern der Pump-"Laser"quelle. Eine Pump-"Laser"quelle kann jeder der nachstehend beschriebenen "Laser" sein.

| a) | Gas"laser" wie folgt:






  1. | Excimer-"Laser" mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Ausgangswellenlänge kleiner/gleich 150 nm und






  1. | Ausgangsenergie größer als 50 mJ je Puls oder |
| --- | --- | --- | --- | --- |

a)

Gas"laser" wie folgt:

1.

Excimer-"Laser" mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Ausgangswellenlänge kleiner/gleich 150 nm und

1.

Ausgangsenergie größer als 50 mJ je Puls oder

| 2. | mittlere Ausgangsleistung größer als 1 W, |
| --- | --- |

2.

mittlere Ausgangsleistung größer als 1 W,

| b) | Ausgangswellenlänge größer als 150 nm und kleiner/gleich 190 nm und






  1. | Ausgangsenergie größer als 1,5 J je Puls oder |
| --- | --- | --- |

b)

Ausgangswellenlänge größer als 150 nm und kleiner/gleich 190 nm und

1.

Ausgangsenergie größer als 1,5 J je Puls oder

| 2. | mittlere Ausgangsleistung größer als 120 W, |
| --- | --- |

2.

mittlere Ausgangsleistung größer als 120 W,

| c) | Ausgangswellenlänge größer als 190 nm und kleiner/gleich 360 nm und






  1. | Ausgangsenergie größer als 10 J je Puls oder |
| --- | --- | --- |

c)

Ausgangswellenlänge größer als 190 nm und kleiner/gleich 360 nm und

1.

Ausgangsenergie größer als 10 J je Puls oder

| 2. | mittlere Ausgangsleistung größer als 500 W oder |
| --- | --- |

2.

mittlere Ausgangsleistung größer als 500 W oder

| d) | Ausgangswellenlänge größer als 360 nm und






  1. | Ausgangsenergie größer als 1,5 J je Puls oder |
| --- | --- | --- |

d)

Ausgangswellenlänge größer als 360 nm und

1.

Ausgangsenergie größer als 1,5 J je Puls oder

| 2. | mittlere Ausgangsleistung größer als 30 W, |
| --- | --- |

2.

mittlere Ausgangsleistung größer als 30 W,

Anmerkung: Für Eximer-"Laser", besonders konstruiert für Lithografie-Ausrüstung: Siehe Nummer 3B001.

| 2. | Metalldampf-"Laser" wie folgt:






  a) | Kupfer-(Cu-)"Laser" mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 20 W, |
| --- | --- | --- |

2.

Metalldampf-"Laser" wie folgt:

a)

Kupfer-(Cu-)"Laser" mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 20 W,

| b) | Gold-(Au-)"Laser" mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 5 W, |
| --- | --- |

b)

Gold-(Au-)"Laser" mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 5 W,

| c) | Natrium-(Na-)"Laser" mit einer Ausgangsleistung größer als 5 W, |
| --- | --- |

c)

Natrium-(Na-)"Laser" mit einer Ausgangsleistung größer als 5 W,

| d) | Barium-(Ba-)"Laser" mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 2 W, |
| --- | --- |

d)

Barium-(Ba-)"Laser" mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 2 W,

| 3. | CO-"Laser" mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Ausgangsenergie größer als 2 J je Puls und "Spitzenleistung" größer als 5 kW oder |
| --- | --- | --- |

3.

CO-"Laser" mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Ausgangsenergie größer als 2 J je Puls und "Spitzenleistung" größer als 5 kW oder

| b) | mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 5 kW, |
| --- | --- |

b)

mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 5 kW,

| 4. | CO2-"Laser" mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | CW-Ausgangsleistung größer als 15 kW, |
| --- | --- | --- |

4.

CO2-"Laser" mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

CW-Ausgangsleistung größer als 15 kW,

| b) | gepulste Ausgangsstrahlung mit einer "Pulsdauer" größer als 10 μs und einer






  1. | mittleren Ausgangsleistung größer als 10 kW oder |
| --- | --- | --- |

b)

gepulste Ausgangsstrahlung mit einer "Pulsdauer" größer als 10 μs und einer

1.

mittleren Ausgangsleistung größer als 10 kW oder

| 2. | gepulsten "Spitzenleistung" größer als 100 kW oder |
| --- | --- |

2.

gepulsten "Spitzenleistung" größer als 100 kW oder

| c) | gepulste Ausgangsstrahlung mit einer "Pulsdauer" kleiner/gleich 10 μs und einer






  1. | Pulsenergie größer als 5 J je Puls oder |
| --- | --- | --- |

c)

gepulste Ausgangsstrahlung mit einer "Pulsdauer" kleiner/gleich 10 μs und einer

1.

Pulsenergie größer als 5 J je Puls oder

| 2. | mittleren Ausgangsleistung größer als 2,5 kW, |
| --- | --- |

2.

mittleren Ausgangsleistung größer als 2,5 kW,

| 5. | "chemische Laser" wie folgt:






  a) | Wasserstoff-Fluorid-(HF-)"Laser", |
| --- | --- | --- |

5.

"chemische Laser" wie folgt:

a)

Wasserstoff-Fluorid-(HF-)"Laser",

| b) | Deuteriumfluorid-(DF-)"Laser", |
| --- | --- |

b)

Deuteriumfluorid-(DF-)"Laser",

| c) | "Transfer-Laser" wie folgt:






  1. | Sauerstoff-Jod-(O2-J-)"Laser", |
| --- | --- | --- |

c)

"Transfer-Laser" wie folgt:

1.

Sauerstoff-Jod-(O2-J-)"Laser",

| 2. | Deuteriumfluorid-Kohlendioxid(DF-CO2-)"Laser", |
| --- | --- |

2.

Deuteriumfluorid-Kohlendioxid(DF-CO2-)"Laser",

| 6. | Kryptonionen- oder Argonionen-"Laser", mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Ausgangsenergie größer als 1,5 J je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 50 W oder |
| --- | --- | --- |

6.

Kryptonionen- oder Argonionen-"Laser", mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Ausgangsenergie größer als 1,5 J je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 50 W oder

| b) | mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 50 W, |
| --- | --- |

b)

mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 50 W,

| 7. | andere Gas-"Laser" mit einer der folgenden Eigenschaften:


  Anmerkung: Unternummer 6A005a7 erfasst keine Stickstoff"laser".







  a) | Ausgangswellenlänge kleiner/gleich 150 nm und






  1. | Ausgangsenergie größer als 50 mJ je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 1 W oder |
| --- | --- | --- | --- |

7.

andere Gas-"Laser" mit einer der folgenden Eigenschaften:

Anmerkung: Unternummer 6A005a7 erfasst keine Stickstoff"laser".

a)

Ausgangswellenlänge kleiner/gleich 150 nm und

1.

Ausgangsenergie größer als 50 mJ je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 1 W oder

| 2. | mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 1 W, |
| --- | --- |

2.

mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 1 W,

| b) | Ausgangswellenlänge größer als 150 nm und kleiner/gleich 800 nm und






  1. | Ausgangsenergie größer als 1,5 J je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 30 W oder |
| --- | --- | --- |

b)

Ausgangswellenlänge größer als 150 nm und kleiner/gleich 800 nm und

1.

Ausgangsenergie größer als 1,5 J je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 30 W oder

| 2. | mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 30 W, |
| --- | --- |

2.

mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 30 W,

| c) | Ausgangswellenlänge größer als 800 nm und kleiner/gleich 1 400 nm und






  1. | Ausgangsenergie größer als 0,25 J je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 10 W oder |
| --- | --- | --- |

c)

Ausgangswellenlänge größer als 800 nm und kleiner/gleich 1 400 nm und

1.

Ausgangsenergie größer als 0,25 J je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 10 W oder

| 2. | mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 10 W oder |
| --- | --- |

2.

mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 10 W oder

| d) | Ausgangswellenlänge größer als 1 400 nm und mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 1 W; |
| --- | --- |

d)

Ausgangswellenlänge größer als 1 400 nm und mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 1 W;

| b) | Halbleiter-"Laser" wie folgt:






  1. | einzelne Halbleiter-"Laser", die im «single-transverse-mode» arbeiten, mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Wellenlänge kleiner/gleich 1 510 nm und eine mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 1,5 W oder |
| --- | --- | --- | --- |

b)

Halbleiter-"Laser" wie folgt:

1.

einzelne Halbleiter-"Laser", die im «single-transverse-mode» arbeiten, mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Wellenlänge kleiner/gleich 1 510 nm und eine mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 1,5 W oder

| b) | Wellenlänge größer als 1 510 nm und eine mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 500 mW, |
| --- | --- |

b)

Wellenlänge größer als 1 510 nm und eine mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 500 mW,

| 2. | einzelne Halbleiter-"Laser", die im «multi-transverse-mode» arbeiten, mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Wellenlänge kleiner als 1 400 nm oder größer als 2 000 nm und mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 10 W, |
| --- | --- | --- |

2.

einzelne Halbleiter-"Laser", die im «multi-transverse-mode» arbeiten, mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Wellenlänge kleiner als 1 400 nm oder größer als 2 000 nm und mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 10 W,

| b) | Wellenlänge größer gleich 1 400 nm und kleiner als 1 900 nm und mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 2,5 W oder |
| --- | --- |

b)

Wellenlänge größer gleich 1 400 nm und kleiner als 1 900 nm und mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 2,5 W oder

| c) | Wellenlänge größer gleich 1 900 nm und mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 1 W, |
| --- | --- |

c)

Wellenlänge größer gleich 1 900 nm und mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 1 W,

| 3. | einzelne Halbleiter-"Laser"-Arrays, mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Wellenlänge kleiner als 1 400 nm oder größer als 2 000 nm und mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 80 W, |
| --- | --- | --- |

3.

einzelne Halbleiter-"Laser"-Arrays, mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Wellenlänge kleiner als 1 400 nm oder größer als 2 000 nm und mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 80 W,

| b) | Wellenlänge größer gleich 1 400 nm und kleiner als 1 900 nm und mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 25 W oder |
| --- | --- |

b)

Wellenlänge größer gleich 1 400 nm und kleiner als 1 900 nm und mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 25 W oder

| c) | Wellenlänge größer gleich 1 900 nm und mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 10 W, |
| --- | --- |

c)

Wellenlänge größer gleich 1 900 nm und mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 10 W,

| 4. | Stacks aus Halbleiter-"Laser"-Arrays, die wenigstens ein von 6A005b3 erfasstes Array enthalten. |
| --- | --- |

4.

Stacks aus Halbleiter-"Laser"-Arrays, die wenigstens ein von 6A005b3 erfasstes Array enthalten.

Technische Anmerkung:

| 1. | Halbleiter-"Laser" werden gewöhnlich als "Laser"-Dioden bezeichnet. |
| --- | --- |

1.

Halbleiter-"Laser" werden gewöhnlich als "Laser"-Dioden bezeichnet.

| 2. | Ein ‧Array‧ besteht aus mehreren Halbleiter-"Laser"quellen, die so auf einem Chip angeordnet sind, dass die Achsen der emittierten Lichtstrahlen parallel verlaufen. |
| --- | --- |

2.

Ein ‧Array‧ besteht aus mehreren Halbleiter-"Laser"quellen, die so auf einem Chip angeordnet sind, dass die Achsen der emittierten Lichtstrahlen parallel verlaufen.

| 3. | Ein ‧Stack aus Halbleiter-"Laser"-Arrays‧ wird durch Stapeln oder anderweitiges Zusammenfügen von ‧Arrays‧ so hergestellt, dass die Achsen der emittierten Lichtstrahlen parallel verlaufen. |
| --- | --- |

3.

Ein ‧Stack aus Halbleiter-"Laser"-Arrays‧ wird durch Stapeln oder anderweitiges Zusammenfügen von ‧Arrays‧ so hergestellt, dass die Achsen der emittierten Lichtstrahlen parallel verlaufen.

Anmerkung 1: Unternummer 6A005b schließt Halbleiter-"Laser" mit faser-optischen Anschlussstücken (fibre optic pigtails) ein.

Anmerkung 2: Die Erfassung von Halbleiter-"Lasern", besonders konstruiert für andere Einrichtungen, richtet sich nach dem Erfassungsstatus der anderen Einrichtungen.

| c) | Festkörper-"Laser" wie folgt:






  1. | "abstimmbare""Laser" mit einer der folgenden Eigenschaften:


  Anmerkung: Unternummer 6A005c1 schließt Titan-Saphir-(Ti:Al2O3-)"Laser", Thulium-YAG-(Tm:YAG-) "Laser", Thulium-YSGG-(Tm:YSSG-)"Laser", Alexandrit-(Cr:BeAl2O4-)"Laser" und Farbzentren-(Colour-Centre-)"Laser" ein.







  a) | Ausgangswellenlänge kleiner als 600 nm und






  1. | Ausgangsenergie größer als 50 mJ je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 1 W oder |
| --- | --- | --- | --- | --- |

c)

Festkörper-"Laser" wie folgt:

1.

"abstimmbare""Laser" mit einer der folgenden Eigenschaften:

Anmerkung: Unternummer 6A005c1 schließt Titan-Saphir-(Ti:Al2O3-)"Laser", Thulium-YAG-(Tm:YAG-) "Laser", Thulium-YSGG-(Tm:YSSG-)"Laser", Alexandrit-(Cr:BeAl2O4-)"Laser" und Farbzentren-(Colour-Centre-)"Laser" ein.

a)

Ausgangswellenlänge kleiner als 600 nm und

1.

Ausgangsenergie größer als 50 mJ je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 1 W oder

| 2. | mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 1 W, |
| --- | --- |

2.

mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 1 W,

| b) | Ausgangswellenlänge größer/gleich 600 nm und kleiner/gleich 1 400 nm und






  1. | Ausgangsenergie größer als 1 J je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 20 W oder |
| --- | --- | --- |

b)

Ausgangswellenlänge größer/gleich 600 nm und kleiner/gleich 1 400 nm und

1.

Ausgangsenergie größer als 1 J je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 20 W oder

| 2. | mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 20 W oder |
| --- | --- |

2.

mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 20 W oder

| c) | Ausgangswellenlänge größer als 1 400 nm und






  1. | Ausgangsenergie größer als 50 mJ je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 1 W oder |
| --- | --- | --- |

c)

Ausgangswellenlänge größer als 1 400 nm und

1.

Ausgangsenergie größer als 50 mJ je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 1 W oder

| 2. | mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 1 W, |
| --- | --- |

2.

mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 1 W,

| 2. | nicht"abstimmbare""Laser" wie folgt:


  Anmerkung: Unternummer 6A005c2 schließt nach dem Prinzip der Atomtransition arbeitende Festkörper-"Laser" ein.







  a) | Neodym-Glas-"Laser" wie folgt:






  1. | "gütegeschaltete Laser" mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Ausgangsenergie je Impuls größer als 20 J und kleiner/gleich 50 J und mittlere Ausgangsleistung größer als 10 W oder |
| --- | --- | --- | --- | --- |

2.

nicht"abstimmbare""Laser" wie folgt:

Anmerkung: Unternummer 6A005c2 schließt nach dem Prinzip der Atomtransition arbeitende Festkörper-"Laser" ein.

a)

Neodym-Glas-"Laser" wie folgt:

1.

"gütegeschaltete Laser" mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Ausgangsenergie je Impuls größer als 20 J und kleiner/gleich 50 J und mittlere Ausgangsleistung größer als 10 W oder

| b) | Ausgangsenergie je Impuls größer als 50 J, |
| --- | --- |

b)

Ausgangsenergie je Impuls größer als 50 J,

| 2. | nicht "gütegeschaltete Laser" mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Ausgangsenergie je Impuls größer als 50 J und kleiner/gleich 100 J und mittlere Ausgangsleistung größer als 20 W oder |
| --- | --- | --- |

2.

nicht "gütegeschaltete Laser" mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Ausgangsenergie je Impuls größer als 50 J und kleiner/gleich 100 J und mittlere Ausgangsleistung größer als 20 W oder

| b) | Ausgangsenergie größer als 100 J je Impuls, |
| --- | --- |

b)

Ausgangsenergie größer als 100 J je Impuls,

| b) | Neodym-dotierte (andere als Glas) "Laser" mit einer Ausgangswellenlänge größer als 1 000 nm und kleiner/gleich 1 100 nm wie folgt:


  Anmerkung: Neodym-dotierte (andere als Glas) "Laser", bei denen die Ausgangswellenlänge nicht zwischen 1 000 nm und 1 100 nm liegt: Siehe Unternummer 6A005c2c.







  1. | pulserregte, modengekoppelte und "gütegeschaltete Laser" mit einer "Pulsdauer" kleiner als 1 ns und einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | "Spitzenleistung" größer als 5 GW, |
| --- | --- | --- | --- |

b)

Neodym-dotierte (andere als Glas) "Laser" mit einer Ausgangswellenlänge größer als 1 000 nm und kleiner/gleich 1 100 nm wie folgt:

Anmerkung: Neodym-dotierte (andere als Glas) "Laser", bei denen die Ausgangswellenlänge nicht zwischen 1 000 nm und 1 100 nm liegt: Siehe Unternummer 6A005c2c.

1.

pulserregte, modengekoppelte und "gütegeschaltete Laser" mit einer "Pulsdauer" kleiner als 1 ns und einer der folgenden Eigenschaften:

a)

"Spitzenleistung" größer als 5 GW,

| b) | mittlere Ausgangsleistung größer als 10 W oder |
| --- | --- |

b)

mittlere Ausgangsleistung größer als 10 W oder

| c) | Pulsenergie größer als 0,1 J, |
| --- | --- |

c)

Pulsenergie größer als 0,1 J,

| 2. | pulserregte, "gütegeschaltete Laser" mit einer "Pulsdauer" größer/gleich 1 ns und einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Ausgangsstrahlung im transversalen Singlemodebetrieb (single transverse mode) mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | "Spitzenleistung" größer als 100 MW, |
| --- | --- | --- | --- |

2.

pulserregte, "gütegeschaltete Laser" mit einer "Pulsdauer" größer/gleich 1 ns und einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Ausgangsstrahlung im transversalen Singlemodebetrieb (single transverse mode) mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

"Spitzenleistung" größer als 100 MW,

| 2. | mittlere Ausgangsleistung größer als 20 W oder |
| --- | --- |

2.

mittlere Ausgangsleistung größer als 20 W oder

| 3. | Pulsenergie größer als 2 J oder |
| --- | --- |

3.

Pulsenergie größer als 2 J oder

| b) | Ausgangsstrahlung im transversalen Multimodebetrieb (multiple transverse mode) mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | "Spitzenleistung" größer als 400 MW, |
| --- | --- | --- |

b)

Ausgangsstrahlung im transversalen Multimodebetrieb (multiple transverse mode) mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

"Spitzenleistung" größer als 400 MW,

| 2. | mittlere Ausgangsleistung größer als 2 kW oder |
| --- | --- |

2.

mittlere Ausgangsleistung größer als 2 kW oder

| 3. | Pulsenergie größer als 2 J, |
| --- | --- |

3.

Pulsenergie größer als 2 J,

| 3. | pulserregte, nicht"gütegeschaltete Laser" mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Ausgangsstrahlung im transversalen Singlemodebetrieb (single transverse mode) mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | "Spitzenleistung" größer als 500 kW oder |
| --- | --- | --- | --- |

3.

pulserregte, nicht"gütegeschaltete Laser" mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Ausgangsstrahlung im transversalen Singlemodebetrieb (single transverse mode) mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

"Spitzenleistung" größer als 500 kW oder

| 2. | mittlere Ausgangsleistung größer als 150 W oder |
| --- | --- |

2.

mittlere Ausgangsleistung größer als 150 W oder

| b) | Ausgangsstrahlung im transversalen Multimodebetrieb (multiple transverse mode) mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | "Spitzenleistung" größer als 1 MW oder |
| --- | --- | --- |

b)

Ausgangsstrahlung im transversalen Multimodebetrieb (multiple transverse mode) mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

"Spitzenleistung" größer als 1 MW oder

| 2. | mittlere Ausgangsleistung größer als 2 kW, |
| --- | --- |

2.

mittlere Ausgangsleistung größer als 2 kW,

| 4. | kontinuierlich angeregte "Laser" mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Ausgangsstrahlung im transversalen Singlemodebetrieb (single transverse mode) mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | "Spitzenleistung" größer als 500 kW oder |
| --- | --- | --- | --- |

4.

kontinuierlich angeregte "Laser" mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Ausgangsstrahlung im transversalen Singlemodebetrieb (single transverse mode) mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

"Spitzenleistung" größer als 500 kW oder

| 2. | mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 150 W oder |
| --- | --- |

2.

mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 150 W oder

| b) | Ausgangsstrahlung im transversalen Multimodebetrieb (multiple transverse mode) mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | "Spitzenleistung" größer als 1 MW oder |
| --- | --- | --- |

b)

Ausgangsstrahlung im transversalen Multimodebetrieb (multiple transverse mode) mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

"Spitzenleistung" größer als 1 MW oder

| 2. | mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 2 kW; |
| --- | --- |

2.

mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 2 kW;

| c) | andere nicht"abstimmbare""Laser" mit einer der folgenden Eigenschaften,






  1. | Wellenlänge kleiner als 150 nm und mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Ausgangsenergie größer als 50 mJ je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 1 W oder |
| --- | --- | --- | --- |

c)

andere nicht"abstimmbare""Laser" mit einer der folgenden Eigenschaften,

1.

Wellenlänge kleiner als 150 nm und mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Ausgangsenergie größer als 50 mJ je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 1 W oder

| b) | mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 1 W, |
| --- | --- |

b)

mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 1 W,

| 2. | Wellenlänge größer/gleich 150 nm und kleiner/gleich 800 nm und mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Ausgangsenergie größer als 1,5 J je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 30 W oder |
| --- | --- | --- |

2.

Wellenlänge größer/gleich 150 nm und kleiner/gleich 800 nm und mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Ausgangsenergie größer als 1,5 J je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 30 W oder

| b) | mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 30 W, |
| --- | --- |

b)

mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 30 W,

| 3. | Wellenlänge größer als 800 nm und kleiner/gleich 1 400 nm wie folgt:






  a) | "gütegeschaltete Laser" mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | Ausgangsenergie größer als 0,5 J je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 50 W oder |
| --- | --- | --- | --- |

3.

Wellenlänge größer als 800 nm und kleiner/gleich 1 400 nm wie folgt:

a)

"gütegeschaltete Laser" mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

Ausgangsenergie größer als 0,5 J je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 50 W oder

| 2. | mittlere Ausgangsleistung größer als:






  a) | 10 W für "Laser" im transversalen Singlemodebetrieb, |
| --- | --- | --- |

2.

mittlere Ausgangsleistung größer als:

a)

10 W für "Laser" im transversalen Singlemodebetrieb,

| b) | 30 W für "Laser" im transversalen Multimodebetrieb, |
| --- | --- |

b)

30 W für "Laser" im transversalen Multimodebetrieb,

| b) | nicht"gütegeschaltete Laser" mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | Ausgangsenergie größer als 2 J je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 50 W oder |
| --- | --- | --- |

b)

nicht"gütegeschaltete Laser" mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

Ausgangsenergie größer als 2 J je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 50 W oder

| 2. | mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 50 W oder |
| --- | --- |

2.

mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 50 W oder

| 4. | Wellenlänge größer als 1 400 nm und mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Ausgangsenergie größer als 100 mJ je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 1 W oder |
| --- | --- | --- |

4.

Wellenlänge größer als 1 400 nm und mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Ausgangsenergie größer als 100 mJ je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 1 W oder

| b) | mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 1 W; |
| --- | --- |

b)

mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 1 W;

| d) | Farbstoff-(Dye-) und andere Flüssigkeits-"Laser" mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | Wellenlänge kleiner als 150 nm und mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Ausgangsenergie größer als 50 mJ je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 1 W oder |
| --- | --- | --- | --- |

d)

Farbstoff-(Dye-) und andere Flüssigkeits-"Laser" mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

Wellenlänge kleiner als 150 nm und mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Ausgangsenergie größer als 50 mJ je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 1 W oder

| b) | mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 1 W, |
| --- | --- |

b)

mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 1 W,

| 2. | Wellenlänge größer/gleich 150 nm und kleiner/gleich 800 nm und mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Ausgangsenergie größer als 1,5 J je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 20 W, |
| --- | --- | --- |

2.

Wellenlänge größer/gleich 150 nm und kleiner/gleich 800 nm und mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Ausgangsenergie größer als 1,5 J je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 20 W,

| b) | mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 20 W oder |
| --- | --- |

b)

mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 20 W oder

| c) | gepulster Oszillator im longitudinalen Singlemodebetrieb (single longitudinal mode) mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 1 W und einer Pulswiederholfrequenz größer als 1 kHz, wenn die "Pulsdauer" kleiner als 100 ns ist, |
| --- | --- |

c)

gepulster Oszillator im longitudinalen Singlemodebetrieb (single longitudinal mode) mit einer mittleren Ausgangsleistung größer als 1 W und einer Pulswiederholfrequenz größer als 1 kHz, wenn die "Pulsdauer" kleiner als 100 ns ist,

| 3. | Wellenlänge größer als 800 nm und kleiner/gleich 1 400 nm und mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Ausgangsenergie größer als 0,5 J je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 10 W oder |
| --- | --- | --- |

3.

Wellenlänge größer als 800 nm und kleiner/gleich 1 400 nm und mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Ausgangsenergie größer als 0,5 J je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 10 W oder

| b) | mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 10 W oder |
| --- | --- |

b)

mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 10 W oder

| 4. | Wellenlänge größer als 1 400 nm und mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Ausgangsenergie größer als 100 mJ je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 1 W oder |
| --- | --- | --- |

4.

Wellenlänge größer als 1 400 nm und mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Ausgangsenergie größer als 100 mJ je Puls und gepulste "Spitzenleistung" größer als 1 W oder

| b) | mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 1 W; |
| --- | --- |

b)

mittlere oder CW-Ausgangsleistung größer als 1 W;

| e) | Bauteile wie folgt:






  1. | gekühlte Spiegel mit ‧aktiver Kühlung‧ oder mit Kühlung durch Wärmeübertragungsrohre (heat pipe),
  Technische Anmerkung:

  ‧Aktive Kühlung‧ ist ein Kühlverfahren für optische Bauteile, bei dem strömende Medien im oberflächennahen Bereich (allgemein weniger als 1 mm unter der optischen Oberfläche) des optischen Bauteils verwendet werden, um Wärme von der Optik abzuleiten. |
| --- | --- | --- |

e)

Bauteile wie folgt:

1.

gekühlte Spiegel mit ‧aktiver Kühlung‧ oder mit Kühlung durch Wärmeübertragungsrohre (heat pipe),

Technische Anmerkung:

‧Aktive Kühlung‧ ist ein Kühlverfahren für optische Bauteile, bei dem strömende Medien im oberflächennahen Bereich (allgemein weniger als 1 mm unter der optischen Oberfläche) des optischen Bauteils verwendet werden, um Wärme von der Optik abzuleiten.

| 2. | optische Spiegel und vollkommen oder teilweise lichtdurchlässige, optische oder elektrooptische Bauteile, besonders konstruiert für die Verwendung in Verbindung mit erfassten "Lasern"; |
| --- | --- |

2.

optische Spiegel und vollkommen oder teilweise lichtdurchlässige, optische oder elektrooptische Bauteile, besonders konstruiert für die Verwendung in Verbindung mit erfassten "Lasern";

| f) | optische Ausrüstung wie folgt:


  Anmerkung: Optische Elemente mit gemeinsamer Blende (shared aperture optical elements), geeignet zum Einsatz in Verbindung mit "Super-High Power Lasern""SHPL": Siehe Teil I A, Unternummer 0019d.







  1. | Ausrüstung zur Messung dynamischer Wellenfronten (Phasenlage), die in der Lage ist, mindestens 50 Positionen einer Wellenfront zu messen, mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Bildwechselfrequenz größer/gleich 100 Hz und Phasendiskriminierung von mindestens 5 % der Wellenlänge des Signals oder |
| --- | --- | --- | --- |

f)

optische Ausrüstung wie folgt:

Anmerkung: Optische Elemente mit gemeinsamer Blende (shared aperture optical elements), geeignet zum Einsatz in Verbindung mit "Super-High Power Lasern""SHPL": Siehe Teil I A, Unternummer 0019d.

1.

Ausrüstung zur Messung dynamischer Wellenfronten (Phasenlage), die in der Lage ist, mindestens 50 Positionen einer Wellenfront zu messen, mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Bildwechselfrequenz größer/gleich 100 Hz und Phasendiskriminierung von mindestens 5 % der Wellenlänge des Signals oder

| b) | Bildwechselfrequenz größer/gleich 1 000 Hz und Phasendiskriminierung von mindestens 20 % der Wellenlänge des Signals, |
| --- | --- |

b)

Bildwechselfrequenz größer/gleich 1 000 Hz und Phasendiskriminierung von mindestens 20 % der Wellenlänge des Signals,

| 2. | Ausrüstung zur Diagnose von Strahlführungs-Winkelfehlern kleiner/gleich 10 μrad an "Super-High Power Lasern""SHPL", |
| --- | --- |

2.

Ausrüstung zur Diagnose von Strahlführungs-Winkelfehlern kleiner/gleich 10 μrad an "Super-High Power Lasern""SHPL",

| 3. | optische Ausrüstung und Bauteile, besonders entwickelt für ein "Super-High Power Laser"-System mit Gruppenstrahlern (phased array "SHPL"-system) zur kohärenten Strahlzusammenführung, mit einer Genauigkeit von Lambda/10 der ausgelegten Wellenlänge oder 0,1 μm, wobei der kleinere Wert zählt, |
| --- | --- |

3.

optische Ausrüstung und Bauteile, besonders entwickelt für ein "Super-High Power Laser"-System mit Gruppenstrahlern (phased array "SHPL"-system) zur kohärenten Strahlzusammenführung, mit einer Genauigkeit von Lambda/10 der ausgelegten Wellenlänge oder 0,1 μm, wobei der kleinere Wert zählt,

| 4. | Projektionsteleskope, besonders konstruiert für die Verwendung mit "Super-High Power Lasern""SHPL". |
| --- | --- |

4.

Projektionsteleskope, besonders konstruiert für die Verwendung mit "Super-High Power Lasern""SHPL".

6A006"Magnetometer", "Magnetfeldgradientenmesser", "intrinsische Magnetfeldgradientenmesser" und Kompensationssysteme sowie besonders konstruierte Bestandteile hierfür wie folgt:

Anmerkung: Nummer 6A006 erfasst keine Ausrüstung, besonders konstruiert für biomagnetische Messungen im Rahmen medizinischer Diagnose.

| a) | "Magnetometer" auf der Basis von "supraleitenden", optisch gepumpten, Kernpräzessions-(Proton/Overhauser-) oder dreiachsigen Fluxgate-Verfahren mit einem "Rauschpegel" (Empfindlichkeit) kleiner (besser) als 0,05 nTrms/

  ; |
| --- | --- |

a)

Formula

| b) | Induktionsspulen-"Magnetometer" mit einem "Rauschpegel" (Empfindlichkeit) kleiner (besser) als einer der folgenden Werte:






  1. | 0,05 nTrms/

  bei Frequenzen kleiner als 1 Hz, |
| --- | --- | --- |

b)

Induktionsspulen-"Magnetometer" mit einem "Rauschpegel" (Empfindlichkeit) kleiner (besser) als einer der folgenden Werte:

1.

Formula

| 2. | 1 pTrms/

  bei Frequenzen größer/gleich 1 Hz und kleiner/gleich 10 Hz oder |
| --- | --- |

2.

Formula

| 3. | 0,1 pTrms/

  bei Frequenzen größer als 10 Hz; |
| --- | --- |

3.

Formula

| c) | Lichtwellenleiter-"Magnetometer" mit einem "Rauschpegel" (Empfindlichkeit) kleiner (besser) als 1 nTrms/

  ; |
| --- | --- |

c)

Formula

| d) | "Magnetfeldgradientenmesser" mit mehreren "Magnetometern", die von Unternummer 6A006a, 6A006b oder 6A006c erfasst werden; |
| --- | --- |

d)

"Magnetfeldgradientenmesser" mit mehreren "Magnetometern", die von Unternummer 6A006a, 6A006b oder 6A006c erfasst werden;

| e) | "intrinsische Magnetfeldgradientenmesser" auf Lichtwellenleiterbasis mit einem "Rauschpegel" (Empfindlichkeit) des Magnetfeldgradienten kleiner (besser) als 0,3 nT/m rms/

  ; |
| --- | --- |

e)

Formula

| f) | "intrinsische Magnetfeldgradientenmesser", die auf der Basis anderer als der Lichtwellenleitertechnik arbeiten, mit einem "Rauschpegel" (Empfindlichkeit) des Magnetfeldgradienten kleiner (besser) als 15 pT/m rms/

  ; |
| --- | --- |

f)

Formula

| g) | Magnetfeld-Kompensationssysteme für Magnetfeld-Sensoren, die für Betrieb auf mobilen Plattformen konstruiert wurden; |
| --- | --- |

g)

Magnetfeld-Kompensationssysteme für Magnetfeld-Sensoren, die für Betrieb auf mobilen Plattformen konstruiert wurden;

| h) | "supraleitende" elektromagnetische Sensoren, die Bauteile aus "supraleitenden" Materialien enthalten, mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | konstruiert zum Betrieb mindestens eines ihrer "supraleitenden" Bestandteile bei Temperaturen unterhalb der "kritischen Temperatur" (einschließlich Josephson-Elementen und SQUIDs [superconductive quantum interference devices]), |
| --- | --- | --- |

h)

"supraleitende" elektromagnetische Sensoren, die Bauteile aus "supraleitenden" Materialien enthalten, mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

konstruiert zum Betrieb mindestens eines ihrer "supraleitenden" Bestandteile bei Temperaturen unterhalb der "kritischen Temperatur" (einschließlich Josephson-Elementen und SQUIDs [superconductive quantum interference devices]),

| 2. | konstruiert zum Erkennen von Änderungen des elektromagnetischen Felds bei Frequenzen kleiner/gleich 1 kHz und |
| --- | --- |

2.

konstruiert zum Erkennen von Änderungen des elektromagnetischen Felds bei Frequenzen kleiner/gleich 1 kHz und

| 3. | mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | mit Dünnfilm-SQUIDs, deren kleinste Strukturabmessung kleiner ist als 2 μm, und mit zugehörigen Ein- und Ausgangskopplungsschaltungen, |
| --- | --- | --- |

3.

mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

mit Dünnfilm-SQUIDs, deren kleinste Strukturabmessung kleiner ist als 2 μm, und mit zugehörigen Ein- und Ausgangskopplungsschaltungen,

| b) | konstruiert zum Betrieb mit einer Magnetfeldänderungsgeschwindigkeit von mehr als 1 × 106 magnetischen Flussquanten pro Sekunde, |
| --- | --- |

b)

konstruiert zum Betrieb mit einer Magnetfeldänderungsgeschwindigkeit von mehr als 1 × 106 magnetischen Flussquanten pro Sekunde,

| c) | konstruiert zum Betrieb ohne magnetische Abschirmung innerhalb des Erdmagnetfelds oder |
| --- | --- |

c)

konstruiert zum Betrieb ohne magnetische Abschirmung innerhalb des Erdmagnetfelds oder

| d) | mit einem Temperaturkoeffizienten kleiner (weniger) als 0,1 magnetische Flussquanten/K. |
| --- | --- |

d)

mit einem Temperaturkoeffizienten kleiner (weniger) als 0,1 magnetische Flussquanten/K.

6A007Schwerkraftmesser (Gravimeter) und Schwerkraftgradientenmesser (gravity gradiometers) wie folgt:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 6A107.

| a) | Schwerkraftmesser, konstruiert oder geändert für die Verwendung an Land mit einer statischen Genauigkeit kleiner (besser) als 10–7 m/s2 (10 μgal);


  Anmerkung: Unternummer 6A007a erfasst nicht Landgravimeter mit Quarzelement (Worden-Prinzip). |
| --- | --- |

a)

Schwerkraftmesser, konstruiert oder geändert für die Verwendung an Land mit einer statischen Genauigkeit kleiner (besser) als 10–7 m/s2 (10 μgal);

Anmerkung: Unternummer 6A007a erfasst nicht Landgravimeter mit Quarzelement (Worden-Prinzip).

| b) | Schwerkraftmesser, konstruiert für mobile Plattformen, mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | statische Genauigkeit kleiner (besser) als 7 × 10–6 m/s2 (0,7 mgal) und |
| --- | --- | --- |

b)

Schwerkraftmesser, konstruiert für mobile Plattformen, mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

statische Genauigkeit kleiner (besser) als 7 × 10–6 m/s2 (0,7 mgal) und

| 2. | Betriebsgenauigkeit kleiner (besser) als 7 × 10–6 m/s2 (0,7 mgal) bei einer Zeit kleiner als 2 min bis zur Stabilisierung des Messwerts bei jeder Kombination von manuellen Kompensationsmaßnahmen und dynamischen Einflüssen; |
| --- | --- |

2.

Betriebsgenauigkeit kleiner (besser) als 7 × 10–6 m/s2 (0,7 mgal) bei einer Zeit kleiner als 2 min bis zur Stabilisierung des Messwerts bei jeder Kombination von manuellen Kompensationsmaßnahmen und dynamischen Einflüssen;

| c) | Schwerkraftgradientenmesser. |
| --- | --- |

c)

Schwerkraftgradientenmesser.

6A008Radarsysteme, -geräte und Baugruppen mit einer der folgenden Eigenschaften sowie besonders konstruierte Bestandteile hierfür:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 6A108.

Anmerkung: Nummer 6A008 erfasst nicht:

| a) | Sekundär-Überwachungsradarsysteme (SSR, Secondary Surveillance Radar), |
| --- | --- |

a)

Sekundär-Überwachungsradarsysteme (SSR, Secondary Surveillance Radar),

| b) | Fahrzeug-Radarsysteme zum Kollisionsschutz, |
| --- | --- |

b)

Fahrzeug-Radarsysteme zum Kollisionsschutz,

| c) | Überwachungs- und Anzeigegeräte für die Flugsicherung mit einer Auflösung von maximal 12 Elementen pro mm, |
| --- | --- |

c)

Überwachungs- und Anzeigegeräte für die Flugsicherung mit einer Auflösung von maximal 12 Elementen pro mm,

| d) | Meteorologische (Wetter-) Radarsysteme. |
| --- | --- |

d)

Meteorologische (Wetter-) Radarsysteme.

| a) | mit einer Betriebsfrequenz von 40 bis 230 GHz und einer mittleren Ausgangsleistung größer als 100 mW; |
| --- | --- |

a)

mit einer Betriebsfrequenz von 40 bis 230 GHz und einer mittleren Ausgangsleistung größer als 100 mW;

| b) | über mehr als ± 6,25 % der ‧nominalen Betriebsfrequenz‧ abstimmbare Bandbreite;
  Technische Anmerkung:

  Die ‧nominale Betriebsfrequenz‧ entspricht der Hälfte der Summe der höchsten plus der niedrigsten spezifizierten Betriebsfrequenz. |
| --- | --- |

b)

über mehr als ± 6,25 % der ‧nominalen Betriebsfrequenz‧ abstimmbare Bandbreite;

Technische Anmerkung:

Die ‧nominale Betriebsfrequenz‧ entspricht der Hälfte der Summe der höchsten plus der niedrigsten spezifizierten Betriebsfrequenz.

| c) | Möglichkeit zum gleichzeitigen Betrieb auf mehr als zwei Trägerfrequenzen; |
| --- | --- |

c)

Möglichkeit zum gleichzeitigen Betrieb auf mehr als zwei Trägerfrequenzen;

| d) | Radar mit künstlicher Apertur (SAR, Synthetic-Aperture Radar), inverser künstlicher Apertur (ISAR, Inverse-Synthetic-Aperture Radar) oder als Seitensicht-Luftfahrzeug-Bordradarsystem (SLAR, Side Looking Airborne Radar); |
| --- | --- |

d)

Radar mit künstlicher Apertur (SAR, Synthetic-Aperture Radar), inverser künstlicher Apertur (ISAR, Inverse-Synthetic-Aperture Radar) oder als Seitensicht-Luftfahrzeug-Bordradarsystem (SLAR, Side Looking Airborne Radar);

| e) | mit "elektronisch phasengesteuerten Antennengruppen" (phased array antennae); |
| --- | --- |

e)

mit "elektronisch phasengesteuerten Antennengruppen" (phased array antennae);

| f) | Möglichkeit zur autonomen Zielhöhenmessung;


  Anmerkung: Unternummer 6A008f erfasst nicht Präzisionsanflug-Radarsysteme (PAR, Precision Approach Radar) gemäß den ICAO-Normen. |
| --- | --- |

f)

Möglichkeit zur autonomen Zielhöhenmessung;

Anmerkung: Unternummer 6A008f erfasst nicht Präzisionsanflug-Radarsysteme (PAR, Precision Approach Radar) gemäß den ICAO-Normen.

| g) | besonders entwickelt für Betrieb in Luftfahrzeugen (Montage in Ballons oder Flugzeugzellen) und mit "Signaldatenverarbeitung" von Doppler-Signalen zur Bewegtzielerkennung; |
| --- | --- |

g)

besonders entwickelt für Betrieb in Luftfahrzeugen (Montage in Ballons oder Flugzeugzellen) und mit "Signaldatenverarbeitung" von Doppler-Signalen zur Bewegtzielerkennung;

| h) | Verarbeitung von Radarsignalen unter Anwendung einer der folgenden Verfahren:






  1. | "gespreiztes Spektrum (Radar)"oder |
| --- | --- | --- |

h)

Verarbeitung von Radarsignalen unter Anwendung einer der folgenden Verfahren:

1.

"gespreiztes Spektrum (Radar)"oder

| 2. | "Frequenzsprung (Radar)"; |
| --- | --- |

2.

"Frequenzsprung (Radar)";

| i) | vorgesehen für Bodenbetrieb mit einem maximalen "Erfassungsbereich" größer als 185 km;


  Anmerkung: Unternummer 6A008i erfasst nicht:








  a) | Radarsysteme zur Überwachung von Fischereigebieten, |
| --- | --- | --- |

i)

vorgesehen für Bodenbetrieb mit einem maximalen "Erfassungsbereich" größer als 185 km;

Anmerkung: Unternummer 6A008i erfasst nicht:

a)

Radarsysteme zur Überwachung von Fischereigebieten,

| b) | Bodenradarsysteme, besonders konstruiert für die Strecken- (enroute) Flugsicherung, mit allen folgenden Eigenschaften:








  1. | maximaler Erfassungsbereich kleiner/gleich 500 km, |
| --- | --- | --- |

b)

Bodenradarsysteme, besonders konstruiert für die Strecken- (enroute) Flugsicherung, mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

maximaler Erfassungsbereich kleiner/gleich 500 km,

| 2. | so konfiguriert, dass die Radarzieldaten nur in einer Richtung an eine oder mehrere zivile Flugsicherungszentralen übermittelt werden können, |
| --- | --- |

2.

so konfiguriert, dass die Radarzieldaten nur in einer Richtung an eine oder mehrere zivile Flugsicherungszentralen übermittelt werden können,

| 3. | keine Fernsteuerungsmöglichkeiten der Abtastgeschwindigkeit durch die Flugsicherungszentrale zur Luftraumüberwachung von Streckenflügen und |
| --- | --- |

3.

keine Fernsteuerungsmöglichkeiten der Abtastgeschwindigkeit durch die Flugsicherungszentrale zur Luftraumüberwachung von Streckenflügen und

| 4. | fest installiert, |
| --- | --- |

4.

fest installiert,

| c) | Wetterballon-Verfolgungsradare. |
| --- | --- |

c)

Wetterballon-Verfolgungsradare.

| j) | "Laser"- oder Lichtradar (LIDAR, Light Detection And Ranging) mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | "weltraumgeeignet"oder |
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j)

"Laser"- oder Lichtradar (LIDAR, Light Detection And Ranging) mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

"weltraumgeeignet"oder

| 2. | Verwendung von kohärenten Überlagerungsverfahren (heterodyn oder homodyn) und einer Winkelauflösung kleiner (besser) als 20 μrad; |
| --- | --- |

2.

Verwendung von kohärenten Überlagerungsverfahren (heterodyn oder homodyn) und einer Winkelauflösung kleiner (besser) als 20 μrad;

Anmerkung: Unternummer 6A008j erfasst nicht Lichtradar (LIDAR), besonders entwickelt für die Landvermessung oder für meteorologische Beobachtung, einschließlich Luftschadstoffmessung.

| k) | mit Subsystemen für die "Signaldatenverarbeitung", die "Impulskompression" anwenden, mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | "Impulskompressions"-Verhältnis größer als 150 oder |
| --- | --- | --- |

k)

mit Subsystemen für die "Signaldatenverarbeitung", die "Impulskompression" anwenden, mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

"Impulskompressions"-Verhältnis größer als 150 oder

| 2. | Impulsbreite kleiner als 200 ns oder |
| --- | --- |

2.

Impulsbreite kleiner als 200 ns oder

| l) | mit Subsystemen für die Datenverarbeitung mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | "automatische Zielverfolgung", bei der während jeder Antennenumdrehung die wahrscheinliche Zielposition vor dem Zeitpunkt des nächsten Zieldurchgangs der Antennenkeule geliefert wird,


  Anmerkung: Unternummer 6A008l1 erfasst nicht die Kollisionswarnmöglichkeit in Flugsicherungssystemen, Marine- oder Hafenradar. |
| --- | --- | --- |

l)

mit Subsystemen für die Datenverarbeitung mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

"automatische Zielverfolgung", bei der während jeder Antennenumdrehung die wahrscheinliche Zielposition vor dem Zeitpunkt des nächsten Zieldurchgangs der Antennenkeule geliefert wird,

Anmerkung: Unternummer 6A008l1 erfasst nicht die Kollisionswarnmöglichkeit in Flugsicherungssystemen, Marine- oder Hafenradar.

| 2. | Berechnung der Zielgeschwindigkeit aus den Signalen von Primärradarsystemen, die mit nichtperiodischer (variabler) Abtastung arbeiten, |
| --- | --- |

2.

Berechnung der Zielgeschwindigkeit aus den Signalen von Primärradarsystemen, die mit nichtperiodischer (variabler) Abtastung arbeiten,

| 3. | Aufbereitung für automatische Mustererkennung (Gewinnung von Merkmalen) und Vergleich mit in Datenbanken gespeicherten Zielmerkmalen (Signal- oder Bilddaten) zur Identifizierung oder Klassifizierung von Zielen oder |
| --- | --- |

3.

Aufbereitung für automatische Mustererkennung (Gewinnung von Merkmalen) und Vergleich mit in Datenbanken gespeicherten Zielmerkmalen (Signal- oder Bilddaten) zur Identifizierung oder Klassifizierung von Zielen oder

| 4. | Überlagerung und Korrelation oder Verknüpfung von Zieldaten von zwei oder mehreren "geografisch verteilten" und "miteinander verbundenen Radarsensoren" zur Verbesserung der Unterscheidung von Zielen.


  Anmerkung: Unternummer 6A008l4 erfasst nicht Systeme, Geräte und Baugruppen, die für die Überwachung des Schiffsverkehrs verwendet werden. |
| --- | --- |

4.

Überlagerung und Korrelation oder Verknüpfung von Zieldaten von zwei oder mehreren "geografisch verteilten" und "miteinander verbundenen Radarsensoren" zur Verbesserung der Unterscheidung von Zielen.

Anmerkung: Unternummer 6A008l4 erfasst nicht Systeme, Geräte und Baugruppen, die für die Überwachung des Schiffsverkehrs verwendet werden.

6A102Strahlungsfeste ‧Detektoren‧, die nicht von Nummer 6A002 erfasst werden, besonders konstruiert oder geändert zum Schutz gegen atomare Detonationswirkungen (z. B. elektromagnetischer Impuls [EMP], Röntgenstrahlung, kombinierte Druck- und Wärmewirkung) und geeignet für "Flugkörper", konstruiert oder ausgelegt, um einer Gesamtstrahlungsdosis von größer/gleich 5 × 105 Rad (Silizium) zu widerstehen.

Technische Anmerkung:

Im Sinne von Nummer 6A102 ist ein ‧Detektor‧ definiert als eine mechanische, elektrische, optische oder chemische Vorrichtung, die automatisch identifiziert, aufzeichnet oder ein Signal registriert, wie z. B. Änderungen von Umgebungstemperatur oder -druck, elektromagnetische Signale oder die Strahlung eines radioaktiven Materials. Dies schließt Vorrichtungen ein, die durch einmaliges Ansprechen oder Versagen wirksam werden.

6A107Schwerkraftmesser (Gravimeter) und Bestandteile für Schwerkraftmesser und für Schwerkraftgradientenmesser (gravity gradiometers) wie folgt:

| a) | Schwerkraftmesser, die nicht von Unternummer 6A007b erfasst werden, konstruiert oder geändert für die Verwendung in Luftfahrzeugen oder auf See, mit einer statischen Genauigkeit oder Betriebsgenauigkeit kleiner (besser)/gleich 7 × 10–6 m/s2 (0,7 mgal) bei einer Zeit kleiner/gleich 2 min bis zur Stabilisierung des Messwerts; |
| --- | --- |

a)

Schwerkraftmesser, die nicht von Unternummer 6A007b erfasst werden, konstruiert oder geändert für die Verwendung in Luftfahrzeugen oder auf See, mit einer statischen Genauigkeit oder Betriebsgenauigkeit kleiner (besser)/gleich 7 × 10–6 m/s2 (0,7 mgal) bei einer Zeit kleiner/gleich 2 min bis zur Stabilisierung des Messwerts;

| b) | besonders konstruierte Bestandteile für die von Unternummer 6A007b oder 6A107a erfassten Schwerkraftmesser oder die von Unternummer 6A007c erfassten Schwerkraftgradientenmesser. |
| --- | --- |

b)

besonders konstruierte Bestandteile für die von Unternummer 6A007b oder 6A107a erfassten Schwerkraftmesser oder die von Unternummer 6A007c erfassten Schwerkraftgradientenmesser.

6A108Radarsysteme und Bahnverfolgungssysteme, die nicht von Nummer 6A008 erfasst werden, wie folgt:

| a) | Radarsysteme und Laserradarsysteme, konstruiert oder geändert zur Verwendung in von Nummer 9A004 erfassten Trägerraketen oder von Nummer 9A104 erfassten Höhenforschungsraketen;


  Anmerkung: Unternummer 6A108a schließt Folgendes ein:








  a) | Ausrüstung für die Darstellung von Geländekonturen, |
| --- | --- | --- |

a)

Radarsysteme und Laserradarsysteme, konstruiert oder geändert zur Verwendung in von Nummer 9A004 erfassten Trägerraketen oder von Nummer 9A104 erfassten Höhenforschungsraketen;

Anmerkung: Unternummer 6A108a schließt Folgendes ein:

a)

Ausrüstung für die Darstellung von Geländekonturen,

| b) | Bildsensorausrüstung, |
| --- | --- |

b)

Bildsensorausrüstung,

| c) | Geländeabbildungs- und Korrelationsausrüstung, |
| --- | --- |

c)

Geländeabbildungs- und Korrelationsausrüstung,

| d) | Doppler-Radar-Navigationsausrüstung. |
| --- | --- |

d)

Doppler-Radar-Navigationsausrüstung.

| b) | Präzisionsbahnverfolgungssysteme, geeignet für ‧Flugkörper‧, wie folgt:






  1. | Verfolgungssysteme mit einem Code-Umsetzer in Verbindung mit Boden- oder Luftreferenzsystemen oder Navigationssatellitensystemen, zur Echtzeitmessung von Flugposition und Geschwindigkeit, |
| --- | --- | --- |

b)

Präzisionsbahnverfolgungssysteme, geeignet für ‧Flugkörper‧, wie folgt:

1.

Verfolgungssysteme mit einem Code-Umsetzer in Verbindung mit Boden- oder Luftreferenzsystemen oder Navigationssatellitensystemen, zur Echtzeitmessung von Flugposition und Geschwindigkeit,

| 2. | Vermessungsradare (range instrumentation radars) einschließlich zugehöriger optischer/Infrarot-Zielverfolgungsgeräte mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | Winkelauflösung kleiner (besser) als 3 mrad (0,5 mils), |
| --- | --- | --- |

2.

Vermessungsradare (range instrumentation radars) einschließlich zugehöriger optischer/Infrarot-Zielverfolgungsgeräte mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

Winkelauflösung kleiner (besser) als 3 mrad (0,5 mils),

| b) | Reichweite größer/gleich 30 km mit einer Entfernungsauflösung besser als 10 m rms und |
| --- | --- |

b)

Reichweite größer/gleich 30 km mit einer Entfernungsauflösung besser als 10 m rms und

| c) | Geschwindigkeitsauflösung besser als 3 m/s. |
| --- | --- |

c)

Geschwindigkeitsauflösung besser als 3 m/s.

Technische Anmerkung:

‧Flugkörper‧ im Sinne von Nummer 6A108b bedeutet vollständige Raketensysteme und unbemannte Luftfahrzeugsysteme mit einer Reichweite größer als 300 km.

6A202Fotoelektronenvervielfacherröhren mit allen folgenden Eigenschaften:

| a) | Fotokathodenfläche größer als 20 cm2
  und |
| --- | --- |

a)

Fotokathodenfläche größer als 20 cm2
  und

| b) | Pulsanstiegszeit an der Anode kleiner als 1 ns. |
| --- | --- |

b)

Pulsanstiegszeit an der Anode kleiner als 1 ns.

6A203Kameras und Bestandteile, die nicht von Nummer 6A003 erfasst werden, wie folgt:

| a) | mechanische Drehspiegelkameras wie folgt und besonders konstruierte Bestandteile hierfür:






  1. | Bildkameras mit einer Aufnahmegeschwindigkeit größer als 225 000 Einzelbilder/s, |
| --- | --- | --- |

a)

mechanische Drehspiegelkameras wie folgt und besonders konstruierte Bestandteile hierfür:

1.

Bildkameras mit einer Aufnahmegeschwindigkeit größer als 225 000 Einzelbilder/s,

| 2. | Streakkameras mit Aufzeichnungsgeschwindigkeiten größer als 0,5 mm/μs; |
| --- | --- |

2.

Streakkameras mit Aufzeichnungsgeschwindigkeiten größer als 0,5 mm/μs;

Anmerkung: Im Sinne von Unternummer 6A203a schließen besonders konstruierte Bestandteile solcher Kameras deren Elektronikbaugruppen zur Synchronisation und Rotationsbaugruppen, bestehend aus Antriebsturbinen, Spiegeln und Lagern, ein.

| b) | elektronische Streakkameras, elektronische Bildkameras, Elektronenröhren und Vorrichtungen wie folgt:






  1. | elektronische Streakkameras mit einer Zeitauflösung kleiner/gleich 50 ns, |
| --- | --- | --- |

b)

elektronische Streakkameras, elektronische Bildkameras, Elektronenröhren und Vorrichtungen wie folgt:

1.

elektronische Streakkameras mit einer Zeitauflösung kleiner/gleich 50 ns,

| 2. | Streak-Elektronenröhren für Kameras, die von Unternummer 6A203b1 erfasst werden, |
| --- | --- |

2.

Streak-Elektronenröhren für Kameras, die von Unternummer 6A203b1 erfasst werden,

| 3. | elektronische Bildkameras (oder Bildkameras mit elektronischem Verschluss) mit einer Bild-Belichtungszeit kleiner/gleich 50 ns, |
| --- | --- |

3.

elektronische Bildkameras (oder Bildkameras mit elektronischem Verschluss) mit einer Bild-Belichtungszeit kleiner/gleich 50 ns,

| 4. | Aufnahmeröhren und Halbleiter-Bildsensoren für die Verwendung in Kameras, die von Unternummer 6A203b3 erfasst werden, wie folgt:






  a) | Nahfokusbildverstärkerröhren mit kleiner Brennweite, die eine Fotokathode haben, die auf einem durchsichtigen, leitfähigen Belag aufgebracht ist, zur Verkleinerung des Fotokathoden-Flächenwiderstands, |
| --- | --- | --- |

4.

Aufnahmeröhren und Halbleiter-Bildsensoren für die Verwendung in Kameras, die von Unternummer 6A203b3 erfasst werden, wie folgt:

a)

Nahfokusbildverstärkerröhren mit kleiner Brennweite, die eine Fotokathode haben, die auf einem durchsichtigen, leitfähigen Belag aufgebracht ist, zur Verkleinerung des Fotokathoden-Flächenwiderstands,

| b) | Gate-SIT-(silicon-intensifier-target)-Vidicon-Röhren, bei denen ein schnelles System das Steuern der Fotoelektronen von der Fotokathode ermöglicht, ehe sie auf die SIT-Platte auftreffen, |
| --- | --- |

b)

Gate-SIT-(silicon-intensifier-target)-Vidicon-Röhren, bei denen ein schnelles System das Steuern der Fotoelektronen von der Fotokathode ermöglicht, ehe sie auf die SIT-Platte auftreffen,

| c) | elektrooptische Kerr- oder Pockels-Zellen-Verschlüsse, |
| --- | --- |

c)

elektrooptische Kerr- oder Pockels-Zellen-Verschlüsse,

| d) | andere Bildröhren und Halbleiter-Bildsensoren, die eine Schnellbild-Abtastzeit kleiner als 50 ns haben und besonders konstruiert sind für Kameras, die von Unternummer 6A203b3 erfasst werden; |
| --- | --- |

d)

andere Bildröhren und Halbleiter-Bildsensoren, die eine Schnellbild-Abtastzeit kleiner als 50 ns haben und besonders konstruiert sind für Kameras, die von Unternummer 6A203b3 erfasst werden;

| c) | strahlungsfeste TV-Kameras oder Linsen hierfür, besonders konstruiert oder ausgelegt als unempfindlich gegen Strahlungsbelastungen größer als 50 × 103 Gy (Silizium) (5 × 106 Rad [Silizium]) ohne betriebsbedingten Qualitätsverlust.
  Technische Anmerkung:

  Der Ausdruck Gy (Silizium) bezieht sich auf die in Joules pro Kilogramm ausgedrückte Energie, die von einer ionisierender Strahlung ausgesetzten Probe von nicht abgeschirmtem Silizium absorbiert wird. |
| --- | --- |

c)

strahlungsfeste TV-Kameras oder Linsen hierfür, besonders konstruiert oder ausgelegt als unempfindlich gegen Strahlungsbelastungen größer als 50 × 103 Gy (Silizium) (5 × 106 Rad [Silizium]) ohne betriebsbedingten Qualitätsverlust.

Technische Anmerkung:

Der Ausdruck Gy (Silizium) bezieht sich auf die in Joules pro Kilogramm ausgedrückte Energie, die von einer ionisierender Strahlung ausgesetzten Probe von nicht abgeschirmtem Silizium absorbiert wird.

6A205"Laser", "Laser"verstärker und Oszillatoren, die nicht von Unternummer 0B001g5 oder 0B001h6 oder Nummer 6A005 erfasst werden, wie folgt:

| a) | Argonionen-"Laser" mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | einer Betriebswellenlänge größer/gleich 400 nm und kleiner/gleich 515 nm und |
| --- | --- | --- |

a)

Argonionen-"Laser" mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

einer Betriebswellenlänge größer/gleich 400 nm und kleiner/gleich 515 nm und

| 2. | einer mittleren Ausgangsleistung größer als 40 W; |
| --- | --- |

2.

einer mittleren Ausgangsleistung größer als 40 W;

| b) | abstimmbare, gepulste Farbstoff-(Dye-) Oszillatoren für Single-Mode-Betrieb mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | einer Wellenlänge größer/gleich 300 nm und kleiner/gleich 800 nm, |
| --- | --- | --- |

b)

abstimmbare, gepulste Farbstoff-(Dye-) Oszillatoren für Single-Mode-Betrieb mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

einer Wellenlänge größer/gleich 300 nm und kleiner/gleich 800 nm,

| 2. | einer mittleren Ausgangsleistung größer als 1 W, |
| --- | --- |

2.

einer mittleren Ausgangsleistung größer als 1 W,

| 3. | einer Pulsfrequenz größer als 1 kHz und |
| --- | --- |

3.

einer Pulsfrequenz größer als 1 kHz und

| 4. | einer Pulsdauer kleiner als 100 ns; |
| --- | --- |

4.

einer Pulsdauer kleiner als 100 ns;

| c) | abstimmbare, gepulste Farbstoff-(Dye-)"Laser"verstärker und -Oszillatoren mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | einer Wellenlänge größer/gleich 300 nm und kleiner/gleich 800 nm, |
| --- | --- | --- |

c)

abstimmbare, gepulste Farbstoff-(Dye-)"Laser"verstärker und -Oszillatoren mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

einer Wellenlänge größer/gleich 300 nm und kleiner/gleich 800 nm,

| 2. | einer mittleren Ausgangsleistung größer als 30 W, |
| --- | --- |

2.

einer mittleren Ausgangsleistung größer als 30 W,

| 3. | einer Pulsfrequenz größer als 1 kHz und |
| --- | --- |

3.

einer Pulsfrequenz größer als 1 kHz und

| 4. | einer Pulsdauer kleiner als 100 ns; |
| --- | --- |

4.

einer Pulsdauer kleiner als 100 ns;

Anmerkung: Unternummer 6A205c erfasst nicht Single-Mode-Oszillatoren.

| d) | gepulste CO2-"Laser" mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | einer Betriebswellenlänge größer/gleich 9 000 nm und kleiner/gleich 11 000 nm, |
| --- | --- | --- |

d)

gepulste CO2-"Laser" mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

einer Betriebswellenlänge größer/gleich 9 000 nm und kleiner/gleich 11 000 nm,

| 2. | einer Pulsfrequenz größer als 250 Hz, |
| --- | --- |

2.

einer Pulsfrequenz größer als 250 Hz,

| 3. | einer mittleren Ausgangsleistung größer als 500 W und |
| --- | --- |

3.

einer mittleren Ausgangsleistung größer als 500 W und

| 4. | einer Pulsdauer kleiner als 200 ns; |
| --- | --- |

4.

einer Pulsdauer kleiner als 200 ns;

| e) | Para-Wasserstoff-Raman-Shifter, entwickelt für Ausgangswellenlängen von 16 μm und eine Pulsfrequenz größer als 250 Hz; |
| --- | --- |

e)

Para-Wasserstoff-Raman-Shifter, entwickelt für Ausgangswellenlängen von 16 μm und eine Pulsfrequenz größer als 250 Hz;

| f) | pulserregte, gütegeschaltete neodymdotierte (andere als Glas) "Laser" mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | Ausgangswellenlänge größer als 1 000 nm und kleiner/gleich 1 100 nm, |
| --- | --- | --- |

f)

pulserregte, gütegeschaltete neodymdotierte (andere als Glas) "Laser" mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

Ausgangswellenlänge größer als 1 000 nm und kleiner/gleich 1 100 nm,

| 2. | Pulsdauer größer/gleich 1 ns und |
| --- | --- |

2.

Pulsdauer größer/gleich 1 ns und

| 3. | mittlere Leistung im Multimodebetrieb (multiple-transverse mode) größer als 50 W. |
| --- | --- |

3.

mittlere Leistung im Multimodebetrieb (multiple-transverse mode) größer als 50 W.

6A225Interferometer zum Messen von Geschwindigkeiten größer als 1 km/s in Zeitintervallen kleiner als 10 μs.

Anmerkung: Nummer 6A225 schließt Interferometer zum Messen von Geschwindigkeiten ein, wie z. B. VISAR's (Velocity interferometer systems for any reflector) und DLIs (Doppler Laser Interferometer).

6A226Drucksensoren wie folgt:

| a) | Manganin-Sensorelemente für Drücke größer als 10 GPa; |
| --- | --- |

a)

Manganin-Sensorelemente für Drücke größer als 10 GPa;

| b) | Quarz-Messwertaufnehmer für Drücke größer als 10 GPa. |
| --- | --- |

b)

Quarz-Messwertaufnehmer für Drücke größer als 10 GPa.

6BPrüf-, Test- und Herstellungseinrichtungen

6B004Optik

| a) | Ausrüstung zur Messung des absoluten Reflexionsgrads mit einer Genauigkeit von ± 0,1 % des tatsächlichen Reflexionsgrads; |
| --- | --- |

a)

Ausrüstung zur Messung des absoluten Reflexionsgrads mit einer Genauigkeit von ± 0,1 % des tatsächlichen Reflexionsgrads;

| b) | Ausrüstung, mit Ausnahme von Ausrüstung zur optischen Vermessung des Oberflächenstreueffekts, mit einem Messfenster größer als 10 cm, besonders konstruiert für die berührungslose Vermessung von nichtplanaren Oberflächen mit einer "Genauigkeit" kleiner/gleich 2 nm bezogen auf das Referenzprofil. |
| --- | --- |

b)

Ausrüstung, mit Ausnahme von Ausrüstung zur optischen Vermessung des Oberflächenstreueffekts, mit einem Messfenster größer als 10 cm, besonders konstruiert für die berührungslose Vermessung von nichtplanaren Oberflächen mit einer "Genauigkeit" kleiner/gleich 2 nm bezogen auf das Referenzprofil.

Anmerkung: Unternummer 6B004b erfasst nicht Mikroskope.

6B007Gravimeter

Ausrüstung für die Herstellung, Justierung und Kalibrierung von Landgravimetern mit einer statischen Genauigkeit besser als 10–6 m/s2 (0,1 mgal).

6B008Radar

Impulsradarmesseinrichtungen zur Bestimmung des Rückstrahlquerschnitts mit einer Sendeimpulsbreite kleiner/gleich 100 ns und besonders konstruierte Bestandteile hierfür.

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 6B108.

6B108Messsysteme, die nicht von Nummer 6B008 erfasst werden, besonders konstruiert zur Bestimmung von Radarrückstrahlquerschnitten, geeignet für "Flugkörper" und "Flugkörper"-Subsysteme.

6CWerkstoffe und Materialien

6C002Optische Sensormaterialien wie folgt:

| a) | Tellur (Te) mit einem Reinheitsgrad von 99,9995 % oder größer; |
| --- | --- |

a)

Tellur (Te) mit einem Reinheitsgrad von 99,9995 % oder größer;

| b) | Einkristalle (einschließlich epitaktischer Wafer) aus einem der folgenden Werkstoffe:






  1. | CdZnTe mit einem Zinkgehalt, ermittelt durch ‧Molenbruch‧, von weniger als 6 %, |
| --- | --- | --- |

b)

Einkristalle (einschließlich epitaktischer Wafer) aus einem der folgenden Werkstoffe:

1.

CdZnTe mit einem Zinkgehalt, ermittelt durch ‧Molenbruch‧, von weniger als 6 %,

| 2. | CdTe jeden Reinheitsgrades oder |
| --- | --- |

2.

CdTe jeden Reinheitsgrades oder

| 3. | HgCdTe jeden Reinheitsgrades. |
| --- | --- |

3.

HgCdTe jeden Reinheitsgrades.

Technische Anmerkung:

Der ‧Molenbruch‧ ist definiert durch das Verhältnis der Mole von ZnTe durch die Summe der Mole von CdTe und ZnTe, die im Kristall vorhanden sind.

6C004Optische Materialien wie folgt:

| a) | Durch CVD-Verfahren mit Zinkselenid (ZnSe) oder Zinksulfid (ZnS) bedampfte "monolithische Substrate" mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | Volumen größer als 100 cm3
  oder |
| --- | --- | --- |

a)

Durch CVD-Verfahren mit Zinkselenid (ZnSe) oder Zinksulfid (ZnS) bedampfte "monolithische Substrate" mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

Volumen größer als 100 cm3
  oder

| 2. | Durchmesser größer als 80 mm und mit einer Dicke größer/gleich 20 mm; |
| --- | --- |

2.

Durchmesser größer als 80 mm und mit einer Dicke größer/gleich 20 mm;

| b) | birnenförmige Rohkristalle (boules) der folgenden elektrooptischen Materialien:






  1. | Kaliumtitanarsenat (KTA), |
| --- | --- | --- |

b)

birnenförmige Rohkristalle (boules) der folgenden elektrooptischen Materialien:

1.

Kaliumtitanarsenat (KTA),

| 2. | Silbergalliumselenid (AgGaSe2), |
| --- | --- |

2.

Silbergalliumselenid (AgGaSe2),

| 3. | Thalliumarsenselenid (Tl3AsSe3, auch als TAS bezeichnet); |
| --- | --- |

3.

Thalliumarsenselenid (Tl3AsSe3, auch als TAS bezeichnet);

| c) | Materialien für nichtlineare Optik mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | Suszeptibilität dritter Ordnung (Chi 3) größer/gleich 10–6 m2/V2
  und |
| --- | --- | --- |

c)

Materialien für nichtlineare Optik mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

Suszeptibilität dritter Ordnung (Chi 3) größer/gleich 10–6 m2/V2
  und

| 2. | Ansprechzeit kleiner als 1 ms; |
| --- | --- |

2.

Ansprechzeit kleiner als 1 ms;

| d) | "monolithische Substrate" aus abgeschiedenem Siliziumkarbid oder Be/Be mit einem Durchmesser oder einer Hauptachsenlänge größer als 300 mm; |
| --- | --- |

d)

"monolithische Substrate" aus abgeschiedenem Siliziumkarbid oder Be/Be mit einem Durchmesser oder einer Hauptachsenlänge größer als 300 mm;

| e) | optisches Glas einschließlich geschmolzenen Quarzes, Phosphatglas, Fluorphosphatglas und Schwermetallfluoride (ZrF4 und HfF4) mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | einer OH-Ionen-Konzentration kleiner als 5 ppm, |
| --- | --- | --- |

e)

optisches Glas einschließlich geschmolzenen Quarzes, Phosphatglas, Fluorphosphatglas und Schwermetallfluoride (ZrF4 und HfF4) mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

einer OH-Ionen-Konzentration kleiner als 5 ppm,

| 2. | einem Reinheitsgrad integrierter metallischer Bestandteile besser als 1 ppm und |
| --- | --- |

2.

einem Reinheitsgrad integrierter metallischer Bestandteile besser als 1 ppm und

| 3. | hoher Homogenität (Varianz des Brechungsindex) kleiner als 5 × 10–6; |
| --- | --- |

3.

hoher Homogenität (Varianz des Brechungsindex) kleiner als 5 × 10–6;

| f) | synthetische Diamanten mit einer Absorption kleiner als 10–5 cm–1 bei einer Wellenlänge größer als 200 nm und kleiner/gleich 14 000 nm. |
| --- | --- |

f)

synthetische Diamanten mit einer Absorption kleiner als 10–5 cm–1 bei einer Wellenlänge größer als 200 nm und kleiner/gleich 14 000 nm.

6C005Synthetisches, kristallines Grundmaterial für "Laser" in nicht einbaufertiger Form wie folgt:

| a) | titandotierte Saphire; |
| --- | --- |

a)

titandotierte Saphire;

| b) | Alexandrit. |
| --- | --- |

b)

Alexandrit.

6DDatenverarbeitungsprogramme (Software)

6D001"Software", besonders entwickelt für die "Entwicklung" oder "Herstellung" der von Nummer 6A004, 6A005, 6A008 oder 6B008 erfassten Ausrüstung.

6D002"Software", besonders entwickelt für die "Verwendung" der von Unternummer 6A002b, Nummer 6A008 oder 6B008 erfassten Ausrüstung.

6D003"Software" wie folgt:

| a) | 1. | "Software", besonders entwickelt zur Formung akustischer Keulen für die "Echtzeitverarbeitung" akustischer Daten für den passiven Empfang unter Verwendung von Schlepp-Hydrofonanordnungen, |
| --- | --- | --- |

a)

1.

"Software", besonders entwickelt zur Formung akustischer Keulen für die "Echtzeitverarbeitung" akustischer Daten für den passiven Empfang unter Verwendung von Schlepp-Hydrofonanordnungen,

| 2. | "Quellcode" zur "Echtzeitverarbeitung" akustischer Daten für den passiven Empfang unter Verwendung von Schlepp-Hydrofonanordnungen, |
| --- | --- |

2.

"Quellcode" zur "Echtzeitverarbeitung" akustischer Daten für den passiven Empfang unter Verwendung von Schlepp-Hydrofonanordnungen,

| 3. | "Software", besonders entwickelt zur Formung akustischer Keulen für die "Echtzeitverarbeitung" akustischer Daten für den passiven Empfang unter Verwendung von Flachwasser-Messkabelsystemen (bottom or bay cable systems), |
| --- | --- |

3.

"Software", besonders entwickelt zur Formung akustischer Keulen für die "Echtzeitverarbeitung" akustischer Daten für den passiven Empfang unter Verwendung von Flachwasser-Messkabelsystemen (bottom or bay cable systems),

| 4. | "Quellcode" zur "Echtzeitverarbeitung" akustischer Daten für den passiven Empfang unter Verwendung von Flachwasser-Messkabelsystemen (bottom or bay cable systems); |
| --- | --- |

4.

"Quellcode" zur "Echtzeitverarbeitung" akustischer Daten für den passiven Empfang unter Verwendung von Flachwasser-Messkabelsystemen (bottom or bay cable systems);

| b) | 1. | "Software", besonders entwickelt für Magnetfeld-Kompensationssysteme für Magnetfeld-Sensoren, entwickelt für den Betrieb auf mobilen Plattformen, |
| --- | --- | --- |

b)

1.

"Software", besonders entwickelt für Magnetfeld-Kompensationssysteme für Magnetfeld-Sensoren, entwickelt für den Betrieb auf mobilen Plattformen,

| 2. | "Software", besonders entwickelt für die Erkennung magnetischer Anomalien auf mobilen Plattformen; |
| --- | --- |

2.

"Software", besonders entwickelt für die Erkennung magnetischer Anomalien auf mobilen Plattformen;

| c) | "Software", besonders entwickelt zur Korrektur von Bewegungseinflüssen auf Schwerkraftmesser oder Schwerkraftgradientenmesser; |
| --- | --- |

c)

"Software", besonders entwickelt zur Korrektur von Bewegungseinflüssen auf Schwerkraftmesser oder Schwerkraftgradientenmesser;

| d) | 1. | "Software" (Anwendungs"programme") für Flugsicherungszwecke, die auf Universalrechnern in Flugsicherungszentralen verwendet wird und über eine der folgenden Funktionen verfügt:






  a) | Möglichkeit zur gleichzeitigen Verarbeitung und Darstellung von mehr als 150 "Systemzieldaten"oder |
| --- | --- | --- | --- |

d)

1.

"Software" (Anwendungs"programme") für Flugsicherungszwecke, die auf Universalrechnern in Flugsicherungszentralen verwendet wird und über eine der folgenden Funktionen verfügt:

a)

Möglichkeit zur gleichzeitigen Verarbeitung und Darstellung von mehr als 150 "Systemzieldaten"oder

| b) | Möglichkeit zur Übernahme von Radarzieldaten von mehr als vier Primärradarsystemen, |
| --- | --- |

b)

Möglichkeit zur Übernahme von Radarzieldaten von mehr als vier Primärradarsystemen,

| 2. | "Software" für die Konstruktion oder "Herstellung" von Antennenkuppeln (Radome), die






  a) | besonders konstruiert sind zum Schutz der von Unternummer 6A008e erfassten Antennen mit "elektronisch phasengesteuerten Antennengruppen"und |
| --- | --- | --- |

2.

"Software" für die Konstruktion oder "Herstellung" von Antennenkuppeln (Radome), die

a)

besonders konstruiert sind zum Schutz der von Unternummer 6A008e erfassten Antennen mit "elektronisch phasengesteuerten Antennengruppen"und

| b) | ein Antennen-Strahlungsdiagramm erzielen, bei dem der ‧mittlere Nebenkeulenpegel‧ mehr als 40 dB unter dem Spitzenwert des Hauptkeulenpegels liegt.
  Technische Anmerkung:

  Der ‧mittlere Nebenkeulenpegel‧ in Unternummer 6D003d2b wird über die gesamte Gruppe gemessen, wobei der Winkelbereich, der durch die Hauptkeule und die ersten beiden Nebenkeulen auf jeder Seite der Hauptkeule gebildet wird, ausgenommen ist. |
| --- | --- |

b)

ein Antennen-Strahlungsdiagramm erzielen, bei dem der ‧mittlere Nebenkeulenpegel‧ mehr als 40 dB unter dem Spitzenwert des Hauptkeulenpegels liegt.

Technische Anmerkung:

Der ‧mittlere Nebenkeulenpegel‧ in Unternummer 6D003d2b wird über die gesamte Gruppe gemessen, wobei der Winkelbereich, der durch die Hauptkeule und die ersten beiden Nebenkeulen auf jeder Seite der Hauptkeule gebildet wird, ausgenommen ist.

6D102"Software", besonders entwickelt oder geändert für die "Verwendung" der von Nummer 6A108 erfassten Waren.

6D103"Software", besonders entwickelt oder geändert für die Verarbeitung von Daten, die während des Fluges zur nachträglichen Bestimmung der Position eines ‧Flugkörpers‧ auf seiner Flugbahn aufgezeichnet wurden.

Technische Anmerkung:

‧Flugkörper‧ im Sinne von Nummer 6D103 bedeutet vollständige Raketensysteme und unbemannte Luftfahrzeugsysteme mit einer Reichweite größer als 300 km.

6ETechnologie

6E001"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Entwicklung" von Ausrüstung, Werkstoffen oder "Software", die von Nummer 6A, 6B, 6C oder 6D erfasst werden.

6E002"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Herstellung" von Ausrüstung oder Werkstoffen, die von Nummer 6A, 6B oder 6C erfasst werden.

6E003"Technologie" wie folgt:

| a) | 1. | "Technologie" für die optische Beschichtung und Oberflächenbehandlung, die "unverzichtbar" ist, um für optische Beschichtungen von Gegenständen mit einem Durchmesser oder einer Hauptachsenlänge größer/gleich 500 mm eine Gleichförmigkeit besser/gleich 99,5 % und einen Gesamtverlust (durch Absorption und Streuung) kleiner als 5 × 10–3 zu erreichen,


  ANMERKUNG: SIEHE AUCH UNTERNUMMER 2E003F. |
| --- | --- | --- |

a)

1.

"Technologie" für die optische Beschichtung und Oberflächenbehandlung, die "unverzichtbar" ist, um für optische Beschichtungen von Gegenständen mit einem Durchmesser oder einer Hauptachsenlänge größer/gleich 500 mm eine Gleichförmigkeit besser/gleich 99,5 % und einen Gesamtverlust (durch Absorption und Streuung) kleiner als 5 × 10–3 zu erreichen,

ANMERKUNG: SIEHE AUCH UNTERNUMMER 2E003F.

| 2. | "Technologie" für die Herstellung optischer Gegenstände mit Verfahren zum Einpunkt-Diamantdrehen (SPDT, Single-Point Diamond Turning), mit denen auf nichtplanaren Oberflächen mit einer Fläche von mehr als 0,5 m2 effektive Oberflächengenauigkeiten von besser als 10 nm rms erreicht werden; |
| --- | --- |

2.

"Technologie" für die Herstellung optischer Gegenstände mit Verfahren zum Einpunkt-Diamantdrehen (SPDT, Single-Point Diamond Turning), mit denen auf nichtplanaren Oberflächen mit einer Fläche von mehr als 0,5 m2 effektive Oberflächengenauigkeiten von besser als 10 nm rms erreicht werden;

| b) | "Technologie", die "unverzichtbar" ist für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" besonders entwickelter Diagnosegeräte oder Targets in Einrichtungen zum Testen von "Super-High Power Lasern""SHPL" oder zum Testen oder Auswerten von durch "SHPL"-Strahlen bestrahlten Werkstoffen; |
| --- | --- |

b)

"Technologie", die "unverzichtbar" ist für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" besonders entwickelter Diagnosegeräte oder Targets in Einrichtungen zum Testen von "Super-High Power Lasern""SHPL" oder zum Testen oder Auswerten von durch "SHPL"-Strahlen bestrahlten Werkstoffen;

| c) | "Technologie", die "unverzichtbar" ist für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von nicht-dreiachsigen Luftspalt-"Magnetometern" (fluxgate magnetometers) oder nicht-dreiachsigen Luftspalt-"Magnetometer"-Systemen mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | "Rauschpegel" kleiner (besser) als 50 pTrms/

  bei Frequenzen kleiner als 1 Hz oder |
| --- | --- | --- |

c)

"Technologie", die "unverzichtbar" ist für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von nicht-dreiachsigen Luftspalt-"Magnetometern" (fluxgate magnetometers) oder nicht-dreiachsigen Luftspalt-"Magnetometer"-Systemen mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

Formula

| 2. | "Rauschpegel" kleiner (besser) als 1 pTrms/

  bei Frequenzen größer/gleich 1 Hz. |
| --- | --- |

2.

Formula

6E101"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Verwendung" von Ausrüstung oder "Software", die von Nummer 6A002, Unternummer 6A007b, 6A007c, Nummer 6A008, 6A102, 6A107, 6A108, 6B108, 6D102 oder 6D103 erfasst wird.

Anmerkung: Nummer 6E101 erfasst "Technologie" für Ausrüstung, die von Nummer 6A008 erfasst wird, nur, sofern sie für Anwendungen in Luftfahrzeugen entwickelt wurde und in "Flugkörpern" verwendet werden kann.

6E201"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Verwendung" von Ausrüstung, erfasst von Nummer 6A003, Unternummer 6A005a1c, 6A005a2a, 6A005c1b, 6A005c2c2, 6A005c2d2b oder Nummer 6A202 bis 6A226.

KATEGORIE 7

LUFTFAHRTELEKTRONIK UND NAVIGATION

7ASysteme, Ausrüstung und Bestandteile

Anmerkung: Autopiloten für Unterwasserfahrzeuge: Siehe Kategorie 8.

Radargeräte: Siehe Kategorie 6.

7A001Linearbeschleunigungsmesser, konstruiert für den Einsatz in Trägheitsnavigationssystemen oder Lenksystemen, mit einer der folgenden Eigenschaften und besonders konstruierte Bestandteile hierfür:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 7A101. FÜR WINKEL- ODER DREHBESCHLEUNIGUNGSMESSER: SIEHE NUMMER 7A002.

| a) | "Nullpunkt"-"Stabilität" (bias stability) kleiner (besser) als 130 μg über ein Jahr, bezogen auf einen festen Kalibrierwert; |
| --- | --- |

a)

"Nullpunkt"-"Stabilität" (bias stability) kleiner (besser) als 130 μg über ein Jahr, bezogen auf einen festen Kalibrierwert;

| b) | "Stabilität" des "Skalierungsfaktors" kleiner (besser) als 130 ppm über ein Jahr, bezogen auf einen festen Kalibrierwert, oder |
| --- | --- |

b)

"Stabilität" des "Skalierungsfaktors" kleiner (besser) als 130 ppm über ein Jahr, bezogen auf einen festen Kalibrierwert, oder

| c) | spezifiziert zum Betrieb bei linearen Beschleunigungswerten größer als 100 g. |
| --- | --- |

c)

spezifiziert zum Betrieb bei linearen Beschleunigungswerten größer als 100 g.

7A002Kreisel und Winkel- oder Drehbeschleunigungsmesser mit einer der folgenden Eigenschaften und besonders konstruierte Bestandteile hierfür:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 7A102.

| a) | "Stabilität" der "Driftrate", gemessen in einer 1-g-Umgebung über einen Zeitraum von drei Monaten bezogen auf einen festen Kalibrierwert, von:






  1. | kleiner (besser) als 0,1°/h, spezifiziert zum Betrieb bei linearen Beschleunigungspegeln kleiner als 10 g, oder |
| --- | --- | --- |

a)

"Stabilität" der "Driftrate", gemessen in einer 1-g-Umgebung über einen Zeitraum von drei Monaten bezogen auf einen festen Kalibrierwert, von:

1.

kleiner (besser) als 0,1°/h, spezifiziert zum Betrieb bei linearen Beschleunigungspegeln kleiner als 10 g, oder

| 2. | kleiner (besser) als 0,5°/h, spezifiziert zum Betrieb bei linearen Beschleunigungspegeln im Bereich von 10 g bis 100 g, oder |
| --- | --- |

2.

kleiner (besser) als 0,5°/h, spezifiziert zum Betrieb bei linearen Beschleunigungspegeln im Bereich von 10 g bis 100 g, oder

| b) | spezifiziert zum Betrieb bei linearen Beschleunigungswerten größer als 100 g. |
| --- | --- |

b)

spezifiziert zum Betrieb bei linearen Beschleunigungswerten größer als 100 g.

7A003Trägheitssysteme und besonders konstruierte Bestandteile wie folgt:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 7A103.

| a) | Trägheitsnavigationssysteme (INS) (kardanisch oder "strapdown") und Trägheitsgeräte, konstruiert für Lageregelung, Lenkung oder Steuerung von "Luftfahrzeugen", (Über- oder Unterwasser-) Schiffen, Land- oder "Raumfahrzeugen", mit einer der folgenden Eigenschaften und besonders konstruierte Bestandteile hierfür:






  1. | Navigationsfehler (trägheitsfrei) kleiner/gleich 0,8 nautische Meilen/h ‧Circular Error Probable‧ (CEP) nach normaler Ausrichtung oder |
| --- | --- | --- |

a)

Trägheitsnavigationssysteme (INS) (kardanisch oder "strapdown") und Trägheitsgeräte, konstruiert für Lageregelung, Lenkung oder Steuerung von "Luftfahrzeugen", (Über- oder Unterwasser-) Schiffen, Land- oder "Raumfahrzeugen", mit einer der folgenden Eigenschaften und besonders konstruierte Bestandteile hierfür:

1.

Navigationsfehler (trägheitsfrei) kleiner/gleich 0,8 nautische Meilen/h ‧Circular Error Probable‧ (CEP) nach normaler Ausrichtung oder

| 2. | spezifiziert zum Betrieb bei linearen Beschleunigungswerten größer als 10 g; |
| --- | --- |

2.

spezifiziert zum Betrieb bei linearen Beschleunigungswerten größer als 10 g;

| b) | Hybride Trägheitsnavigationssysteme mit einem integrierten weltweiten Satelliten-Navigationssystem (GNSS) oder "Datenbankgestützten Navigationssystem" ("DBRN") zur Lageregelung, Lenkung oder Steuerung, nach normaler Ausrichtung, mit einer Positionsgenauigkeit des INS, nach Ausfall des GNSS oder des "DBRN" von bis zu vier Minuten Dauer, von kleiner als 10 m ‧Circular Error Probable‧ (CEP). |
| --- | --- |

b)

Hybride Trägheitsnavigationssysteme mit einem integrierten weltweiten Satelliten-Navigationssystem (GNSS) oder "Datenbankgestützten Navigationssystem" ("DBRN") zur Lageregelung, Lenkung oder Steuerung, nach normaler Ausrichtung, mit einer Positionsgenauigkeit des INS, nach Ausfall des GNSS oder des "DBRN" von bis zu vier Minuten Dauer, von kleiner als 10 m ‧Circular Error Probable‧ (CEP).

| c) | Trägheitsgeräte für Azimuth, Kurs oder Nordweisung mit einer der folgenden Eigenschaften und besonders konstruierte Bestandteile hierfür:






  1. | konstruiert für eine Azimuth-, Kurs- oder Nordweisungsgenauigkeit kleiner (besser)/gleich 6 Bogenminuten (rms) bei 45 Grad geographischer Breite oder |
| --- | --- | --- |

c)

Trägheitsgeräte für Azimuth, Kurs oder Nordweisung mit einer der folgenden Eigenschaften und besonders konstruierte Bestandteile hierfür:

1.

konstruiert für eine Azimuth-, Kurs- oder Nordweisungsgenauigkeit kleiner (besser)/gleich 6 Bogenminuten (rms) bei 45 Grad geographischer Breite oder

| 2. | konstruiert für Nicht-Betriebs-Schockwerte (non-operating shock level) von größer/gleich 900 g über eine Zeitdauer von größer/gleich 1 ms. |
| --- | --- |

2.

konstruiert für Nicht-Betriebs-Schockwerte (non-operating shock level) von größer/gleich 900 g über eine Zeitdauer von größer/gleich 1 ms.

Anmerkung 1: Die in Unternummer 7A003a und 7A003b genannten Parameter müssen unter einer der folgenden Umgebungsbedingungen eingehalten werden:

| 1. | Zufallsverteilte Vibration (input random vibration) mit einer Gesamtstärke von 7,7 g rms in der ersten halben Stunde und einer Gesamttestzeit von 1,5 Stunden in allen drei Achsen mit folgenden Schwingungseigenschaften:








  a) | Konstante spektrale Leistungsdichte (power spectral density, PSD) von 0,04 g2/Hz im Frequenzbereich 15 Hz bis 1 000 Hz und |
| --- | --- | --- |

1.

Zufallsverteilte Vibration (input random vibration) mit einer Gesamtstärke von 7,7 g rms in der ersten halben Stunde und einer Gesamttestzeit von 1,5 Stunden in allen drei Achsen mit folgenden Schwingungseigenschaften:

a)

Konstante spektrale Leistungsdichte (power spectral density, PSD) von 0,04 g2/Hz im Frequenzbereich 15 Hz bis 1 000 Hz und

| b) | Spektrale Leistungsdichte von 0,04 g2/Hz bei 1 000 Hz auf 0,01 g2/Hz bei 2 000 Hz abfallend; |
| --- | --- |

b)

Spektrale Leistungsdichte von 0,04 g2/Hz bei 1 000 Hz auf 0,01 g2/Hz bei 2 000 Hz abfallend;

| 2. | Roll- und Gierrate größer/gleich 2,62 rad/s (150°/s) oder |
| --- | --- |

2.

Roll- und Gierrate größer/gleich 2,62 rad/s (150°/s) oder

| 3. | Nationale Prüfbedingungen äquivalent den in 1. und 2. beschriebenen Bedingungen. |
| --- | --- |

3.

Nationale Prüfbedingungen äquivalent den in 1. und 2. beschriebenen Bedingungen.

Anmerkung 2: Nummer 7A003 erfasst keine Trägheitsnavigationssysteme, die für den Einsatz in "zivilen Luftfahrzeugen" von einer Zivilluftfahrtbehörde in einem "Teilnehmerstaat" zugelassen sind.

Anmerkung 3: Nummer 7A003c1 erfasst nicht Theodolitensysteme mit eingebauten Trägheitsgeräten, die besonders konstruiert sind für zivile Überwachungszwecke.

Technische Anmerkungen:

| 1. | Nummer 7A003b bezieht sich auf Systeme, in denen ein INS und andere unabhängige Hilfsnavigationseinrichtungen in eine Einheit integriert sind, um eine Leistungssteigerung zu erreichen. |
| --- | --- |

1.

Nummer 7A003b bezieht sich auf Systeme, in denen ein INS und andere unabhängige Hilfsnavigationseinrichtungen in eine Einheit integriert sind, um eine Leistungssteigerung zu erreichen.

| 2. | ‧Circular Error Probable‧ (CEP) bezeichnet innerhalb einer kreisförmigen Normalverteilung den Radius des Kreises, der 50 % der einzelnen durchgeführten Messungen enthält, oder den Radius des Kreises, in dem eine 50 %-Wahrscheinlichkeit des Vorhandenseins besteht. |
| --- | --- |

2.

‧Circular Error Probable‧ (CEP) bezeichnet innerhalb einer kreisförmigen Normalverteilung den Radius des Kreises, der 50 % der einzelnen durchgeführten Messungen enthält, oder den Radius des Kreises, in dem eine 50 %-Wahrscheinlichkeit des Vorhandenseins besteht.

7A004Astro-Kreiselkompasse und andere Vorrichtungen, die Position oder Orientierung durch automatisches Verfolgen von Himmelskörpern oder Satelliten bestimmen, mit einer Azimutgenauigkeit kleiner (besser)/gleich 5 Bogensekunden.

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 7A104.

7A005Empfangseinrichtungen für weltweite Satelliten-Navigationssysteme (GPS oder GLONASS), mit einer der folgenden Eigenschaften, und besonders konstruierte Bestandteile hierfür:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 7A105.

| a) | Verwendung von Entschlüsselungsverfahren oder |
| --- | --- |

a)

Verwendung von Entschlüsselungsverfahren oder

| b) | Verwendung einer null-steuernden (null-steerable) Antenne. |
| --- | --- |

b)

Verwendung einer null-steuernden (null-steerable) Antenne.

7A006Luftfahrzeughöhenmesser mit Betriebsfrequenzen außerhalb des Frequenzbereichs von 4,2 bis 4,4 GHz und mit einer der folgenden Eigenschaften:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 7A106.

| a) | "Leistungsmanagement"oder |
| --- | --- |

a)

"Leistungsmanagement"oder

| b) | Anwendung von Phasensprungmodulation (PSK). |
| --- | --- |

b)

Anwendung von Phasensprungmodulation (PSK).

7A007Funkpeilgeräte mit Betriebfrequenzen über 30 MHz und mit allen folgenden Eigenschaften und besonders konstruierte Bestandteile hierfür:

| a) | "Momentan-Bandbreite" größer/gleich 1 MHz; |
| --- | --- |

a)

"Momentan-Bandbreite" größer/gleich 1 MHz;

| b) | parallele Verarbeitung von mehr als 100 Frequenzkanälen und |
| --- | --- |

b)

parallele Verarbeitung von mehr als 100 Frequenzkanälen und

| c) | Verarbeitungsgeschwindigkeit von mehr als 1 000 Funkpeilwerten pro Sekunde und pro Frequenzkanal. |
| --- | --- |

c)

Verarbeitungsgeschwindigkeit von mehr als 1 000 Funkpeilwerten pro Sekunde und pro Frequenzkanal.

7A101Beschleunigungsmesser, die nicht von Nummer 7A001 erfasst werden, wie folgt, sowie besonders konstruierte Bestandteile hierfür:

| a) | Beschleunigungsmesser mit einem Ansprechschwellwert kleiner/gleich 0,05 g oder einem Linearitätsfehler innerhalb von 0,25 % des vollen Messbereichs oder beides, konstruiert für den Einsatz in Trägheitsnavigationssystemen oder Lenksystemen jeder Art;


  Anmerkung: Nummer 7A101a erfasst nicht für Arbeiten an Bohrlöchern bestimmte Beschleunigungsmesser, konstruiert als Sensoren zur Messung während des Bohrvorgangs. |
| --- | --- |

a)

Beschleunigungsmesser mit einem Ansprechschwellwert kleiner/gleich 0,05 g oder einem Linearitätsfehler innerhalb von 0,25 % des vollen Messbereichs oder beides, konstruiert für den Einsatz in Trägheitsnavigationssystemen oder Lenksystemen jeder Art;

Anmerkung: Nummer 7A101a erfasst nicht für Arbeiten an Bohrlöchern bestimmte Beschleunigungsmesser, konstruiert als Sensoren zur Messung während des Bohrvorgangs.

| b) | kontinuierlich messende Beschleunigungsmesser spezifiziert zum Betrieb bei Beschleunigungswerten größer als 100 g. |
| --- | --- |

b)

kontinuierlich messende Beschleunigungsmesser spezifiziert zum Betrieb bei Beschleunigungswerten größer als 100 g.

7A102Jede Art von Kreiseln, die nicht von Nummer 7A002 erfasst werden, geeignet für "Flugkörper"mit einer Nenn-"Stabilität" der "Driftrate" kleiner (besser) als 0,5°/h (1 Sigma oder rms) in einer 1-g-Umgebung und besonders konstruierte Bestandteile hierfür.

7A103Navigationsausrüstung und -systeme, die nicht von Nummer 7A003 erfasst werden, wie folgt, sowie besonders konstruierte Bestandteile hierfür:

| a) | Trägheits- oder sonstige Geräte, die von Nummer 7A001 oder 7A101 erfasste Beschleunigungsmesser oder die von Nummer 7A002 oder 7A102 erfasste Kreisel verwenden, und Systeme, in denen solche Geräte eingebaut sind;


  Anmerkung: Unternummer 7A103a erfasst keine Ausrüstung, die von Nummer 7A001 erfasste Beschleunigungsmesser enthält, sofern diese Beschleunigungsmesser für Arbeiten an Bohrlöchern bestimmt und als MWD-(Measurement-Whil-Drilling-) Sensoren zur Messung während des Bohrvorgangs besonders konstruiert sind. |
| --- | --- |

a)

Trägheits- oder sonstige Geräte, die von Nummer 7A001 oder 7A101 erfasste Beschleunigungsmesser oder die von Nummer 7A002 oder 7A102 erfasste Kreisel verwenden, und Systeme, in denen solche Geräte eingebaut sind;

Anmerkung: Unternummer 7A103a erfasst keine Ausrüstung, die von Nummer 7A001 erfasste Beschleunigungsmesser enthält, sofern diese Beschleunigungsmesser für Arbeiten an Bohrlöchern bestimmt und als MWD-(Measurement-Whil-Drilling-) Sensoren zur Messung während des Bohrvorgangs besonders konstruiert sind.

| b) | Integrierte Fluginstrumentensysteme, die Stabilisierungskreisel oder Autopiloten enthalten, konstruiert oder geändert zur Verwendung in von Nummer 9A004 erfassten Trägerraketen, von Nummer 9A012 erfassten unbemannten Luftfahrzeugen oder von Nummer 9A104 erfassten Höhenforschungsraketen; |
| --- | --- |

b)

Integrierte Fluginstrumentensysteme, die Stabilisierungskreisel oder Autopiloten enthalten, konstruiert oder geändert zur Verwendung in von Nummer 9A004 erfassten Trägerraketen, von Nummer 9A012 erfassten unbemannten Luftfahrzeugen oder von Nummer 9A104 erfassten Höhenforschungsraketen;

| c) | ‧Integrierte Navigationssysteme‧, konstruiert oder geändert für von Nummer 9A004 erfasste Trägerraketen, von Nummer 9A012 erfasste unbemannten Luftfahrzeuge oder von Nummer 9A104 erfasste Höhenforschungsraketen und mit einer Navigationsgenauigkeit von 200 m CEP (Circle of Equal Probability) oder weniger.
  Technische Anmerkung:

  Ein ‧Integriertes Navigationssystem‧ besteht typischerweise aus folgenden Komponenten:








  1. | Trägheitsmesseinrichtung (z. B. Fluglage- und Steuerkursreferenzsystem, Trägheitsreferenzeinheit oder Trägheitsnavigationssystem), |
| --- | --- | --- |

c)

‧Integrierte Navigationssysteme‧, konstruiert oder geändert für von Nummer 9A004 erfasste Trägerraketen, von Nummer 9A012 erfasste unbemannten Luftfahrzeuge oder von Nummer 9A104 erfasste Höhenforschungsraketen und mit einer Navigationsgenauigkeit von 200 m CEP (Circle of Equal Probability) oder weniger.

Technische Anmerkung:

Ein ‧Integriertes Navigationssystem‧ besteht typischerweise aus folgenden Komponenten:

1.

Trägheitsmesseinrichtung (z. B. Fluglage- und Steuerkursreferenzsystem, Trägheitsreferenzeinheit oder Trägheitsnavigationssystem),

| 2. | mindestens einem externen Sensor, um die Position und/oder die Geschwindigkeit entweder periodisch oder kontinuierlich während des Fluges zu aktualisieren (z. B. Satellitennavigationsempfänger, Radarhöhenmesser und/oder Doppler-Radar) und |
| --- | --- |

2.

mindestens einem externen Sensor, um die Position und/oder die Geschwindigkeit entweder periodisch oder kontinuierlich während des Fluges zu aktualisieren (z. B. Satellitennavigationsempfänger, Radarhöhenmesser und/oder Doppler-Radar) und

| 3. | Hardware und "Software" für die Integration. |
| --- | --- |

3.

Hardware und "Software" für die Integration.

7A104Astro-Kreiselkompasse und andere Vorrichtungen, die nicht von Nummer 7A004 erfasst werden, die Position oder Orientierung durch automatisches Verfolgen von Himmelskörpern oder Satelliten bestimmen, sowie besonders konstruierte Bestandteile hierfür.

7A105Empfangseinrichtungen für weltweite Satelliten-Navigationssysteme (GNSS, z. B. GPS, GLONASS oder Galileo) mit einer der folgenden Eigenschaften und besonders konstruierte Bestandteile hierfür:

| a) | konstruiert oder geändert zur Verwendung in von Nummer 9A004 erfassten Trägerraketen, von Nummer 9A012 erfassten unbemannten Luftfahrzeugen oder von Nummer 9A104 erfassten Höhenforschungsraketen oder |
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a)

konstruiert oder geändert zur Verwendung in von Nummer 9A004 erfassten Trägerraketen, von Nummer 9A012 erfassten unbemannten Luftfahrzeugen oder von Nummer 9A104 erfassten Höhenforschungsraketen oder

| b) | konstruiert oder geändert für Luftfahrtanwendungen und mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | geeignet zur Ermittlung von Navigationsdaten bei Geschwindigkeiten größer als 600 m/s (1 165 nautische Meilen/h), |
| --- | --- | --- |

b)

konstruiert oder geändert für Luftfahrtanwendungen und mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

geeignet zur Ermittlung von Navigationsdaten bei Geschwindigkeiten größer als 600 m/s (1 165 nautische Meilen/h),

| 2. | Verwendung von Entschlüsselungsverfahren, konstruiert oder geändert für militärische oder staatliche Zwecke, um Zugriff auf verschlüsselte GNSS-Signale/Daten zu erlangen, oder |
| --- | --- |

2.

Verwendung von Entschlüsselungsverfahren, konstruiert oder geändert für militärische oder staatliche Zwecke, um Zugriff auf verschlüsselte GNSS-Signale/Daten zu erlangen, oder

| 3. | besonders konstruiert, um mittels Störschutzmaßnahmen (anti-jam features), z. B. null-steuernde Antennen oder elektronisch steuerbare Antennen, den Betrieb in einer Umgebung von aktiven oder passiven Gegenmaßnahmen zu gewährleisten. |
| --- | --- |

3.

besonders konstruiert, um mittels Störschutzmaßnahmen (anti-jam features), z. B. null-steuernde Antennen oder elektronisch steuerbare Antennen, den Betrieb in einer Umgebung von aktiven oder passiven Gegenmaßnahmen zu gewährleisten.

Anmerkung: Die Unternummern 7A105b2 und 7A105b3 erfassen keine GNSS-Einrichtungen, konstruiert für kommerzielle oder zivile Zwecke oder "Safety of Life"-Dienste (z. B. Datenintegrität, Flugsicherheit).

7A106Höhenmesser, die nicht von Nummer 7A006 erfasst werden, die nach dem Radar- oder "Laser"-Radarprinzip arbeiten, konstruiert oder geändert zur Verwendung in von Nummer 9A004 erfassten Trägerraketen oder von Nummer 9A104 erfassten Höhenforschungsraketen.

7A115Passive Sensoren zur Ermittlung von Peilwinkeln zu spezifischen elektromagnetischen Quellen (Peilgeräte) oder Geländecharakteristiken, konstruiert oder geändert zur Verwendung in von Nummer 9A004 erfassten Trägerraketen oder von Nummer 9A104 erfassten Höhenforschungsraketen.

Anmerkung: Nummer 7A115 schließt Sensoren für folgende Ausrüstung ein:

| a) | Ausrüstung für die Darstellung von Geländekonturen, |
| --- | --- |

a)

Ausrüstung für die Darstellung von Geländekonturen,

| b) | Bildsensorausrüstung (aktive und passive), |
| --- | --- |

b)

Bildsensorausrüstung (aktive und passive),

| c) | passive Interferometerausrüstung. |
| --- | --- |

c)

passive Interferometerausrüstung.

7A116Flugsteuerungssysteme und -servoventile wie folgt, konstruiert oder geändert zur Verwendung in von Nummer 9A004 erfassten Trägerraketen oder von Nummer 9A104 erfassten Höhenforschungsraketen:

| a) | Hydraulische, mechanische, optronische oder elektromechanische Flugsteuerungssysteme einschließlich "fly-by-wire"-Systemen; |
| --- | --- |

a)

Hydraulische, mechanische, optronische oder elektromechanische Flugsteuerungssysteme einschließlich "fly-by-wire"-Systemen;

| b) | Ausrüstung zur Fluglageregelung; |
| --- | --- |

b)

Ausrüstung zur Fluglageregelung;

| c) | Flugsteuerungsservoventile, konstruiert oder geändert für die in Unternummer 7A116a oder 7A116b erfassten Systeme und konstruiert oder geändert für den Betrieb in Vibrationsumgebungen von mehr als 10 g rms über den gesamten Bereich zwischen 20 Hz und 2 kHz. |
| --- | --- |

c)

Flugsteuerungsservoventile, konstruiert oder geändert für die in Unternummer 7A116a oder 7A116b erfassten Systeme und konstruiert oder geändert für den Betrieb in Vibrationsumgebungen von mehr als 10 g rms über den gesamten Bereich zwischen 20 Hz und 2 kHz.

7A117"Steuerungssysteme", geeignet für "Flugkörper", mit einer erreichbaren Systemgenauigkeit kleiner/gleich 3,33 % der Reichweite (z. B. ein "CEP-Wert" kleiner/gleich 10 km bei einer Reichweite von 300 km).

7BPrüf-, Test- und Herstellungseinrichtungen

7B001Prüf-, Kalibrier- oder Justiereinrichtungen, besonders konstruiert für die von Nummer 7A erfasste Ausrüstung.

Anmerkung: Nummer 7B001 erfasst nicht Ausrüstung für Wartung und Inspektion der Instandhaltungsstufe I oder der Instandhaltungsstufe II.

Technische Anmerkungen:

| 1. | Instandhaltungsstufe I:


  Der Ausfall einer Einheit eines Trägheitsnavigationssystems wird im Luftfahrzeug durch entsprechende Anzeigen an der Überwachungs- und Anzeigeeinheit oder durch Statusmeldungen vom entsprechenden Subsystem gemeldet. Anhand des Wartungshandbuchs kann die Ausfallursache bis auf die Ebene der defekten auswechselbaren Einheit (LRU) lokalisiert werden. Die defekte LRU wird dann vom Bedienpersonal ausgewechselt. |
| --- | --- |

1.

Instandhaltungsstufe I:

| 2. | Instandhaltungsstufe II:


  Die defekte LRU wird an die Reparaturwerkstatt (die des Herstellers oder die der für die Durchführung der Instandhaltungsstufe II zuständigen Stelle) geschickt. Dort wird die defekte LRU mit entsprechenden Hilfsmitteln geprüft, um die für den Ausfall verantwortliche wechselbare Baugruppe (SRA) zu lokalisieren. Die defekte SRA wird anschließend durch eine funktionierende Einheit ersetzt. Die defekte SRA (oder auch die komplette LRU) wird dann zur Instandsetzung an den Hersteller eingesandt.


  Ergänzende Anmerkung: Wartung der Instandhaltungsstufe II schließt nicht den Ausbau erfasster Beschleunigungsmesser oder Kreiselsensoren aus einer SRA ein. |
| --- | --- |

2.

Instandhaltungsstufe II:

Ergänzende Anmerkung: Wartung der Instandhaltungsstufe II schließt nicht den Ausbau erfasster Beschleunigungsmesser oder Kreiselsensoren aus einer SRA ein.

7B002Ausrüstung wie folgt, besonders konstruiert für die Charakterisierung von Spiegeln für Ring"laser"-Kreisel:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 7B102.

| a) | Streustrahlungsmesser mit einer Messgenauigkeit kleiner (besser)/gleich 10 ppm; |
| --- | --- |

a)

Streustrahlungsmesser mit einer Messgenauigkeit kleiner (besser)/gleich 10 ppm;

| b) | Profilmesser mit einer Messgenauigkeit kleiner (besser)/gleich 0,5 nm. |
| --- | --- |

b)

Profilmesser mit einer Messgenauigkeit kleiner (besser)/gleich 0,5 nm.

7B003Einrichtungen, besonders konstruiert für die "Herstellung" der von Nummer 7A erfassten Ausrüstung.

Anmerkung: Nummer 7B003 schließt folgende Ausrüstung ein:

| a) | Prüfstände für Kreiselabstimmung, |
| --- | --- |

a)

Prüfstände für Kreiselabstimmung,

| b) | dynamische Auswuchtvorrichtungen für Kreisel, |
| --- | --- |

b)

dynamische Auswuchtvorrichtungen für Kreisel,

| c) | Kreisel-Einlaufprüfstände und -Motorprüfstände, |
| --- | --- |

c)

Kreisel-Einlaufprüfstände und -Motorprüfstände,

| d) | Vorrichtungen zum Evakuieren und Füllen von Kreiseln, |
| --- | --- |

d)

Vorrichtungen zum Evakuieren und Füllen von Kreiseln,

| e) | Zentrifugalvorrichtungen für Kreisellager, |
| --- | --- |

e)

Zentrifugalvorrichtungen für Kreisellager,

| f) | Einrichtungen für die Achsenjustierungen von Beschleunigungsmessern. |
| --- | --- |

f)

Einrichtungen für die Achsenjustierungen von Beschleunigungsmessern.

7B102Reflektometer, besonders konstruiert zur Charakterisierung von Spiegeln für Ring"laser"-Kreisel, mit einer Messgenauigkeit kleiner (besser)/gleich 50 ppm.

7B103"Herstellungsanlagen" und "Herstellungsausrüstung" wie folgt:

| a) | "Herstellungsanlagen", besonders konstruiert für die "Herstellung" der von Nummer 7A117 erfassten "Steuerungssysteme"; |
| --- | --- |

a)

"Herstellungsanlagen", besonders konstruiert für die "Herstellung" der von Nummer 7A117 erfassten "Steuerungssysteme";

| b) | "Herstellungsausrüstung" und andere Prüf-, Kalibrier- oder Justiereinrichtungen, die nicht von Nummer 7B001 oder 7B003 erfasst werden, konstruiert oder geändert für die von Nummer 7A erfasste Ausrüstung. |
| --- | --- |

b)

"Herstellungsausrüstung" und andere Prüf-, Kalibrier- oder Justiereinrichtungen, die nicht von Nummer 7B001 oder 7B003 erfasst werden, konstruiert oder geändert für die von Nummer 7A erfasste Ausrüstung.

7CWerkstoffe und Materialien

Kein Eintrag.

7DDatenverarbeitungsprogramme (Software)

7D001"Software", besonders entwickelt oder geändert für die "Entwicklung" oder "Herstellung" der von Nummer 7A oder 7B erfassten Ausrüstung.

7D002"Software" (nur "Quellcode") für die "Verwendung" aller Trägheitsnavigationssysteme, einschließlich Trägheitsnavigationsgeräten, die von Nummer 7A003 oder 7A004 nicht erfasst werden, sowie für Fluglage- und Steuerkursreferenzsysteme (AHRS-Systeme).

Anmerkung: Nummer 7D002 erfasst nicht "Quellcode" für die "Verwendung" kardanisch aufgehängter AHRS.

Technische Anmerkung:

AHRS unterscheidet sich im Allgemeinen von Trägheitsnavigationssystemen (INS) dadurch, dass AHRS die Fluglageinformationen liefert, aber normalerweise nicht die bei INS üblichen Informationen über Beschleunigung, Geschwindigkeit und Position.

7D003"Software" wie folgt:

| a) | "Software", besonders entwickelt oder geändert zur Verbesserung des Betriebsverhaltens oder zur Verringerung des Navigationsfehlers von Systemen auf die in Nummer 7A003 oder 7A004 angegebenen Werte; |
| --- | --- |

a)

"Software", besonders entwickelt oder geändert zur Verbesserung des Betriebsverhaltens oder zur Verringerung des Navigationsfehlers von Systemen auf die in Nummer 7A003 oder 7A004 angegebenen Werte;

| b) | "Software" (nur "Quellcode") für hybride integrierte Systeme, die das Betriebsverhalten von Systemen verbessern oder deren Navigations-Genauigkeit auf den in Nummer 7A003 spezifizierten Wert erhöhen, indem kontinuierlich Trägheitsnavigationsdaten mit einer Art der folgenden Navigationsdaten kombiniert werden:






  1. | Geschwindigkeitsdaten von Doppler-Radarsystemen, |
| --- | --- | --- |

b)

"Software" (nur "Quellcode") für hybride integrierte Systeme, die das Betriebsverhalten von Systemen verbessern oder deren Navigations-Genauigkeit auf den in Nummer 7A003 spezifizierten Wert erhöhen, indem kontinuierlich Trägheitsnavigationsdaten mit einer Art der folgenden Navigationsdaten kombiniert werden:

1.

Geschwindigkeitsdaten von Doppler-Radarsystemen,

| 2. | Referenzdaten von weltweiten Satelliten-Navigationssystemen (GPS oder GLONASS) oder |
| --- | --- |

2.

Referenzdaten von weltweiten Satelliten-Navigationssystemen (GPS oder GLONASS) oder

| 3. | Daten von "Datenbankgestützten Navigationssystemen" ("DBRN"); |
| --- | --- |

3.

Daten von "Datenbankgestützten Navigationssystemen" ("DBRN");

| c) | "Software"(nur "Quellcode") für integrierte Luftfahrtelektronik- oder Flugkontrollsysteme, die Sensordaten kombinieren und wissensbasierte "Expertensysteme" verwenden; |
| --- | --- |

c)

"Software"(nur "Quellcode") für integrierte Luftfahrtelektronik- oder Flugkontrollsysteme, die Sensordaten kombinieren und wissensbasierte "Expertensysteme" verwenden;

| d) | "Software" (nur "Quellcode") für die "Entwicklung" von:






  1. | digitalen Flugsteuerungssystemen zur "vollautomatischen Regelung eines Fluges", |
| --- | --- | --- |

d)

"Software" (nur "Quellcode") für die "Entwicklung" von:

1.

digitalen Flugsteuerungssystemen zur "vollautomatischen Regelung eines Fluges",

| 2. | integrierten Antriebs- und Flugregelsystemen, |
| --- | --- |

2.

integrierten Antriebs- und Flugregelsystemen,

| 3. | Flugregelsystemen mit drahtgebundener ("fly-by-wire") oder lichtleitergebundener ("fly-by-light") Steuerung, |
| --- | --- |

3.

Flugregelsystemen mit drahtgebundener ("fly-by-wire") oder lichtleitergebundener ("fly-by-light") Steuerung,

| 4. | fehlertoleranten oder selbstrekonfigurierenden "aktiven Flugsteuerungssystemen", |
| --- | --- |

4.

fehlertoleranten oder selbstrekonfigurierenden "aktiven Flugsteuerungssystemen",

| 5. | automatischen Luftfahrzeugpeilanlagen, |
| --- | --- |

5.

automatischen Luftfahrzeugpeilanlagen,

| 6. | Luftwertesystemen auf der Basis statischer Oberflächenwerte oder |
| --- | --- |

6.

Luftwertesystemen auf der Basis statischer Oberflächenwerte oder

| 7. | nach dem Rasterverfahren arbeitenden "Head-up-displays" oder dreidimensionalen Anzeigen; |
| --- | --- |

7.

nach dem Rasterverfahren arbeitenden "Head-up-displays" oder dreidimensionalen Anzeigen;

| e) | "Software" für den computergestützten Entwurf (CAD), besonders entwickelt für die "Entwicklung" von "aktiven Flugsteuerungssystemen", mehrachsigen, drahtgebundenen ("fly-by-wire") oder lichtleitergebundenen ("fly-by-light") Hubschraubersteuerungen oder "Drehmomentausgleichs- oder Richtungssteuerungssystemen mit regelbarer Zirkulation", deren "Technologie" von Unternummer 7E004b, 7E004c1 oder 7E004c2 erfasst wird. |
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e)

"Software" für den computergestützten Entwurf (CAD), besonders entwickelt für die "Entwicklung" von "aktiven Flugsteuerungssystemen", mehrachsigen, drahtgebundenen ("fly-by-wire") oder lichtleitergebundenen ("fly-by-light") Hubschraubersteuerungen oder "Drehmomentausgleichs- oder Richtungssteuerungssystemen mit regelbarer Zirkulation", deren "Technologie" von Unternummer 7E004b, 7E004c1 oder 7E004c2 erfasst wird.

7D101"Software", besonders entwickelt oder geändert für die Verwendung der von Nummer 7A001 bis 7A006, 7A101 bis 7A106, 7A115, 7A116, 7B001, 7B002, 7B003, 7B102 oder 7B103 erfassten Ausrüstung.

7D102"Software" für die Integration (Integrations"software") wie folgt:

| a) | "Software" für die Integration der von Unternummer 7A103b erfassten Ausrüstung; |
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a)

"Software" für die Integration der von Unternummer 7A103b erfassten Ausrüstung;

| b) | "Software", besonders entwickelt für die Integration der von Nummer 7A003 oder Unternummer 7A103a erfassten Ausrüstung; |
| --- | --- |

b)

"Software", besonders entwickelt für die Integration der von Nummer 7A003 oder Unternummer 7A103a erfassten Ausrüstung;

| c) | "Software" für die Integration, konstruiert oder geändert für von Unternummer 7A103c erfasste Ausrüstung.


  Anmerkung: Üblicherweise enthält "Software" für die Integration eine Kalmanfilterung. |
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c)

"Software" für die Integration, konstruiert oder geändert für von Unternummer 7A103c erfasste Ausrüstung.

Anmerkung: Üblicherweise enthält "Software" für die Integration eine Kalmanfilterung.

7D103"Software", besonders entwickelt für die Modelldarstellung oder Simulation von "Steuerungssystemen", die von Nummer 7A117 erfasst werden, oder für deren Integrationsplanung in von Nummer 9A004 erfasste Trägerraketen oder von Nummer 9A104 erfasste Höhenforschungsraketen.

Anmerkung: Von Nummer 7D103 erfasste "Software" bleibt erfasst, wenn sie mit der von Nummer 4A102 erfassten Hardwareausrüstung kombiniert wird.

7ETechnologie

7E001"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Entwicklung" von Ausrüstung oder "Software", die von Nummer 7A, 7B oder 7D erfasst wird.

7E002"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Herstellung" von Ausrüstung, die von Nummer 7A oder 7B erfasst wird.

7E003"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die Reparatur, Überholung oder Wartung von Ausrüstung, die von den Nummern 7A001 bis 7A004 erfasst wird.

Anmerkung: Nummer 7E003 erfasst nicht Wartungs"technologie", die in unmittelbarem Zusammenhang mit der Kalibrierung, dem Entfernen oder dem Auswechseln beschädigter oder nicht mehr instandsetzbarer auswechselbarer Einheiten (LRU) und auswechselbarer Baugruppen (SRA) eines "zivilen Luftfahrzeugs" gemäß Definition in der Wartung der Instandhaltungsstufe I oder der Wartung der Instandhaltungsstufe II steht (siehe Technische Anmerkungen zu Nummer 7B001).

7E004"Technologie"wie folgt:

| a) | "Technologie" für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von:






  1. | automatischen Luftfahrzeugpeilanlagen mit Betriebsfrequenzen größer als 5 MHz, |
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a)

"Technologie" für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von:

1.

automatischen Luftfahrzeugpeilanlagen mit Betriebsfrequenzen größer als 5 MHz,

| 2. | Luftwertesystemen, die ausschließlich auf der Basis statischer Oberflächenwerte arbeiten, d. h., die konventionelle Luftwertesensoren unnötig machen, |
| --- | --- |

2.

Luftwertesystemen, die ausschließlich auf der Basis statischer Oberflächenwerte arbeiten, d. h., die konventionelle Luftwertesensoren unnötig machen,

| 3. | nach dem Rasterverfahren arbeitenden "Head-up-displays" oder dreidimensionalen Anzeigen für "Luftfahrzeuge", |
| --- | --- |

3.

nach dem Rasterverfahren arbeitenden "Head-up-displays" oder dreidimensionalen Anzeigen für "Luftfahrzeuge",

| 4. | Trägheitsnavigationssystemen oder Astro-Kreiselkompassen, die von Nummer 7A001 oder 7A002 erfasste Beschleunigungsmesser oder Kreisel enthalten, |
| --- | --- |

4.

Trägheitsnavigationssystemen oder Astro-Kreiselkompassen, die von Nummer 7A001 oder 7A002 erfasste Beschleunigungsmesser oder Kreisel enthalten,

| 5. | elektrischen Stellmotoren (elektromechanische, elektrohydrostatische und in Stelleinheiten integrierte Stellmotoren), besonders konstruiert zur "Hauptsteuerung" (primary flight control), |
| --- | --- |

5.

elektrischen Stellmotoren (elektromechanische, elektrohydrostatische und in Stelleinheiten integrierte Stellmotoren), besonders konstruiert zur "Hauptsteuerung" (primary flight control),

| 6. | "optischen Sensor-Arrays für Flugsteuerungszwecke" (flight control optical sensor array), besonders konstruiert zur Realisierung von "aktiven Flugsteuerungssystemen"; |
| --- | --- |

6.

"optischen Sensor-Arrays für Flugsteuerungszwecke" (flight control optical sensor array), besonders konstruiert zur Realisierung von "aktiven Flugsteuerungssystemen";

| b) | "Technologie" für die "Entwicklung" von "aktiven Flugsteuerungssystemen" (einschließlich "fly-by-wire" oder "fly-by-light") wie folgt:






  1. | Konfigurationsentwurf für die Verknüpfung zwischen mehreren mikroelektronischen Datenverarbeitungselementen (Bordcomputern), um eine "Echtzeitverarbeitung" zur Durchführung der Flugregelung zu erreichen, |
| --- | --- | --- |

b)

"Technologie" für die "Entwicklung" von "aktiven Flugsteuerungssystemen" (einschließlich "fly-by-wire" oder "fly-by-light") wie folgt:

1.

Konfigurationsentwurf für die Verknüpfung zwischen mehreren mikroelektronischen Datenverarbeitungselementen (Bordcomputern), um eine "Echtzeitverarbeitung" zur Durchführung der Flugregelung zu erreichen,

| 2. | Kompensation der Flugregelung hinsichtlich Einbauart der Sensoren und dynamischer Zellenbelastung, d.h. Kompensation von Schwingungen in der Umgebung der Sensoren oder von Veränderungen der Lage der Sensoren zum Flugzeugschwerpunkt, |
| --- | --- |

2.

Kompensation der Flugregelung hinsichtlich Einbauart der Sensoren und dynamischer Zellenbelastung, d.h. Kompensation von Schwingungen in der Umgebung der Sensoren oder von Veränderungen der Lage der Sensoren zum Flugzeugschwerpunkt,

| 3. | elektronische Überwachung von Datenredundanz oder Systemredundanz für Fehlererkennung, Fehlerbewertung, Fehlerlokalisierung oder Neukonfiguration,


  Anmerkung: Unternummer 7E004b3 erfasst nicht die "Technologie" zur Entwicklung physikalischer (mechanischer, elektrischer, hydraulischer) Redundanz. |
| --- | --- |

3.

elektronische Überwachung von Datenredundanz oder Systemredundanz für Fehlererkennung, Fehlerbewertung, Fehlerlokalisierung oder Neukonfiguration,

Anmerkung: Unternummer 7E004b3 erfasst nicht die "Technologie" zur Entwicklung physikalischer (mechanischer, elektrischer, hydraulischer) Redundanz.

| 4. | Flugsteuerungen, die während des Fluges eine Neukonfiguration der Widerstandsgröße des Steuergefühls erlauben, um eine autonome Steuerung von Luftfahrzeugen in Echtzeit zu erreichen, |
| --- | --- |

4.

Flugsteuerungen, die während des Fluges eine Neukonfiguration der Widerstandsgröße des Steuergefühls erlauben, um eine autonome Steuerung von Luftfahrzeugen in Echtzeit zu erreichen,

| 5. | Integration digitaler Flugregelungs-, Navigations- und Antriebssteuerdaten in ein digitales Flugmanagementsystem zur "vollautomatischen Regelung eines Fluges",


  Anmerkung: Unternummer 7E004b5 erfasst nicht:








  a) | "Technologie" für die "Entwicklung" der Integration von digitalen Flugsteuerungs-, Navigations- und Triebwerkssteuerungsdaten in ein digitales Flugmanagementsystem zur"Flugwegoptimierung". |
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5.

Integration digitaler Flugregelungs-, Navigations- und Antriebssteuerdaten in ein digitales Flugmanagementsystem zur "vollautomatischen Regelung eines Fluges",

Anmerkung: Unternummer 7E004b5 erfasst nicht:

a)

"Technologie" für die "Entwicklung" der Integration von digitalen Flugsteuerungs-, Navigations- und Triebwerkssteuerungsdaten in ein digitales Flugmanagementsystem zur"Flugwegoptimierung".

| b) | "Technologie" für die "Entwicklung" von "Luftfahrzeug"-Fluginstrumentensystemen, die ausschließlich für Navigation und Landeanflüge mit VOR, DME, ILS oder MLS integriert wurden. |
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b)

"Technologie" für die "Entwicklung" von "Luftfahrzeug"-Fluginstrumentensystemen, die ausschließlich für Navigation und Landeanflüge mit VOR, DME, ILS oder MLS integriert wurden.

| 6. | vollautomatische, digitale Flugsteuerungssysteme oder mit mehreren Sensoren ausgerüstete vollautomatische Flugführungssysteme, die wissensgestützte "Expertensysteme" beinhalten;


  Anmerkung:"Technologie" für "FADEC" (full authority digital engine control): Siehe Unternummer 9E003a9. |
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6.

vollautomatische, digitale Flugsteuerungssysteme oder mit mehreren Sensoren ausgerüstete vollautomatische Flugführungssysteme, die wissensgestützte "Expertensysteme" beinhalten;

Anmerkung:"Technologie" für "FADEC" (full authority digital engine control): Siehe Unternummer 9E003a9.

| c) | "Technologie" für die "Entwicklung" von Hubschraubersystemen wie folgt:






  1. | mehrachsige "fly-by-wire"- oder "fly-by-light"-Steuerungen für Hubschrauber, bei denen mindestens zwei der folgenden Funktionen in einem Steuerungselement zusammengefasst sind:






  a) | kollektive Steuerung, |
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c)

"Technologie" für die "Entwicklung" von Hubschraubersystemen wie folgt:

1.

mehrachsige "fly-by-wire"- oder "fly-by-light"-Steuerungen für Hubschrauber, bei denen mindestens zwei der folgenden Funktionen in einem Steuerungselement zusammengefasst sind:

a)

kollektive Steuerung,

| b) | zyklische Steuerung, |
| --- | --- |

b)

zyklische Steuerung,

| c) | Giersteuerung, |
| --- | --- |

c)

Giersteuerung,

| 2. | "Drehmomentausgleichs- oder Richtungssteuerungssysteme mit regelbarer Zirkulation", |
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2.

"Drehmomentausgleichs- oder Richtungssteuerungssysteme mit regelbarer Zirkulation",

| 3. | Rotorblätter mit "verstellbarer Blattprofilgeometrie", die in Systemen mit individueller Blattansteuerung verwendet werden. |
| --- | --- |

3.

Rotorblätter mit "verstellbarer Blattprofilgeometrie", die in Systemen mit individueller Blattansteuerung verwendet werden.

7E101"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Verwendung" von Ausrüstung oder "Software", erfasst von Nummer 7A001 bis 7A006, 7A101 bis 7A106, 7A115 bis 7A117, 7B001, 7B002, 7B003, 7B102, 7B103 oder 7D101 bis 7D103.

7E102"Technologie" zum Schutz flugelektronischer und elektrischer Bauteile gegen elektromagnetische Impulse (EMP) und elektromagnetische Störungen (EMI) durch externe Quellen wie folgt:

| a) | Entwurfs"technologie" für Abschirmungsvorrichtungen; |
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a)

Entwurfs"technologie" für Abschirmungsvorrichtungen;

| b) | Entwurfs"technologie" für die Auslegung von gehärteten elektrischen Schaltkreisen und gehärteten Bauteilen; |
| --- | --- |

b)

Entwurfs"technologie" für die Auslegung von gehärteten elektrischen Schaltkreisen und gehärteten Bauteilen;

| c) | Entwurfs"technologie" für die Ermittlung von Härtungskriterien für Unternummer 7E102a oder 7E102b. |
| --- | --- |

c)

Entwurfs"technologie" für die Ermittlung von Härtungskriterien für Unternummer 7E102a oder 7E102b.

7E104"Technologie" für die Integration von Flugsteuerungs-, Lenk- und Antriebsdaten in ein Flug-Managementsystem zur Flugbahnoptimierung von Raketensystemen.

KATEGORIE 8

MEERES- UND SCHIFFSTECHNIK

8ASysteme, Ausrüstung und Bestandteile

8A001Tauchfahrzeuge und Überwasserfahrzeuge wie folgt:

Anmerkung: Wegen der Erfassung von Ausrüstung für Tauchfahrzeuge:

| | Siehe Kategorie 5, Teil 2 — "Informationssicherheit" für verschlüsselte Nachrichtengeräte, |
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Siehe Kategorie 5, Teil 2 — "Informationssicherheit" für verschlüsselte Nachrichtengeräte,

| | Kategorie 6 für Sensoren, |
| --- | --- |

Kategorie 6 für Sensoren,

| | Kategorien 7 und 8 für Navigationsausrüstung, |
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Kategorien 7 und 8 für Navigationsausrüstung,

| | Nummer 8A für Unterwasserausrüstung. |
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Nummer 8A für Unterwasserausrüstung.

| a) | bemannte, gefesselte Tauchfahrzeuge, konstruiert für Betriebstauchtiefen größer als 1 000 m; |
| --- | --- |

a)

bemannte, gefesselte Tauchfahrzeuge, konstruiert für Betriebstauchtiefen größer als 1 000 m;

| b) | bemannte, ungefesselte Tauchfahrzeuge mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | konstruiert für ‧autonomen Betrieb‧ und mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | Hubkraft größer/gleich 10 % ihres Gewichts in Luft und |
| --- | --- | --- | --- |

b)

bemannte, ungefesselte Tauchfahrzeuge mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

konstruiert für ‧autonomen Betrieb‧ und mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

Hubkraft größer/gleich 10 % ihres Gewichts in Luft und

| b) | Hubkraft größer/gleich 15 kN, |
| --- | --- |

b)

Hubkraft größer/gleich 15 kN,

| 2. | konstruiert für den Betrieb in Wassertiefen größer als 1 000 m, oder |
| --- | --- |

2.

konstruiert für den Betrieb in Wassertiefen größer als 1 000 m, oder

| 3. | mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | konstruiert für eine Besatzung größer/gleich vier Personen, |
| --- | --- | --- |

3.

mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

konstruiert für eine Besatzung größer/gleich vier Personen,

| b) | konstruiert für ‧autonomen Betrieb‧ größer/gleich 10 Stunden, |
| --- | --- |

b)

konstruiert für ‧autonomen Betrieb‧ größer/gleich 10 Stunden,

| c) | ‧Reichweite‧ größer/gleich 25 Nautische Meilen und |
| --- | --- |

c)

‧Reichweite‧ größer/gleich 25 Nautische Meilen und

| d) | Länge kleiner/gleich 21 m; |
| --- | --- |

d)

Länge kleiner/gleich 21 m;

Technische Anmerkungen:

| 1. | Im Sinne von Unternummer 8A001b bedeutet ‧autonomer Betrieb‧ vollständig untergetaucht, ohne Schnorchel, alle Systeme in Betrieb und mit der für die sichere dynamische Tiefensteuerung mittels Tiefenrudern geringstnötigen Geschwindigkeit, ohne Unterstützung durch ein Versorgungsschiff oder eine Versorgungsbasis auf der Meeresoberfläche, dem Meeresboden oder an der Küste und mit einem Antriebssystem für den Unter- oder Überwassereinsatz. |
| --- | --- |

1.

Im Sinne von Unternummer 8A001b bedeutet ‧autonomer Betrieb‧ vollständig untergetaucht, ohne Schnorchel, alle Systeme in Betrieb und mit der für die sichere dynamische Tiefensteuerung mittels Tiefenrudern geringstnötigen Geschwindigkeit, ohne Unterstützung durch ein Versorgungsschiff oder eine Versorgungsbasis auf der Meeresoberfläche, dem Meeresboden oder an der Küste und mit einem Antriebssystem für den Unter- oder Überwassereinsatz.

| 2. | Im Sinne von Unternummer 8A001b bedeutet ‧Reichweite‧ die Hälfte der größten Entfernung, die ein Tauchfahrzeug zurücklegen kann; |
| --- | --- |

2.

Im Sinne von Unternummer 8A001b bedeutet ‧Reichweite‧ die Hälfte der größten Entfernung, die ein Tauchfahrzeug zurücklegen kann;

| c) | unbemannte, gefesselte Tauchfahrzeuge, konstruiert für den Einsatz in Tiefen größer als 1 000 m, mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | konstruiert zur Bewegung mit eigenem Antrieb unter Nutzung von Antriebsmotoren oder Strahlrudern (thrusters), die von Unternummer 8A002a2 erfasst werden, oder |
| --- | --- | --- |

c)

unbemannte, gefesselte Tauchfahrzeuge, konstruiert für den Einsatz in Tiefen größer als 1 000 m, mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

konstruiert zur Bewegung mit eigenem Antrieb unter Nutzung von Antriebsmotoren oder Strahlrudern (thrusters), die von Unternummer 8A002a2 erfasst werden, oder

| 2. | mit einer Datenübertragung über Lichtwellenleiter; |
| --- | --- |

2.

mit einer Datenübertragung über Lichtwellenleiter;

| d) | unbemannte, ungefesselte Tauchfahrzeuge mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | konstruiert zur Ermittlung des Kurses relativ zu einem beliebigen geografischen Bezugspunkt ohne Echtzeitunterstützung durch eine Bedienperson, |
| --- | --- | --- |

d)

unbemannte, ungefesselte Tauchfahrzeuge mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

konstruiert zur Ermittlung des Kurses relativ zu einem beliebigen geografischen Bezugspunkt ohne Echtzeitunterstützung durch eine Bedienperson,

| 2. | mit einer akustischen Daten- oder Steuerübertragung oder |
| --- | --- |

2.

mit einer akustischen Daten- oder Steuerübertragung oder

| 3. | mit einem Lichtwellenleiter-Daten- oder Steuerungsübertragungskabel länger als 1 000 m; |
| --- | --- |

3.

mit einem Lichtwellenleiter-Daten- oder Steuerungsübertragungskabel länger als 1 000 m;

| e) | Hochseebergungssysteme mit einer Hubkraft größer als 5 MN zur Bergung von Objekten aus Tiefen größer als 250 m und mit einer der folgenden Ausrüstungen:






  1. | dynamische Positionierungssysteme, die es dem Fahrzeug ermöglichen, eine Position innerhalb von 20 m von einem Punkt zu halten, der vom Navigationssystem vorgegeben wird, oder |
| --- | --- | --- |

e)

Hochseebergungssysteme mit einer Hubkraft größer als 5 MN zur Bergung von Objekten aus Tiefen größer als 250 m und mit einer der folgenden Ausrüstungen:

1.

dynamische Positionierungssysteme, die es dem Fahrzeug ermöglichen, eine Position innerhalb von 20 m von einem Punkt zu halten, der vom Navigationssystem vorgegeben wird, oder

| 2. | Systeme für die Meeresbodennavigation und für die Integration von Navigationsdaten für Tiefen größer als 1 000 m mit einer Positionierungsgenauigkeit bis 10 m Abstand von einem vorgegebenen Punkt; |
| --- | --- |

2.

Systeme für die Meeresbodennavigation und für die Integration von Navigationsdaten für Tiefen größer als 1 000 m mit einer Positionierungsgenauigkeit bis 10 m Abstand von einem vorgegebenen Punkt;

| f) | Oberflächeneffektfahrzeuge (vollständig mit Schürzen ausgerüstete Fahrzeuge) mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | konzipierte Höchstgeschwindigkeit, voll beladen, größer als 30 Knoten bei signifikanten Wellenhöhen größer/gleich 1,25 m (Seegang 3), |
| --- | --- | --- |

f)

Oberflächeneffektfahrzeuge (vollständig mit Schürzen ausgerüstete Fahrzeuge) mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

konzipierte Höchstgeschwindigkeit, voll beladen, größer als 30 Knoten bei signifikanten Wellenhöhen größer/gleich 1,25 m (Seegang 3),

| 2. | Luftkissendruck größer als 3 830 Pa und |
| --- | --- |

2.

Luftkissendruck größer als 3 830 Pa und

| 3. | Verdrängungsverhältnis des leeren zum voll beladenen Schiff kleiner als 0,7; |
| --- | --- |

3.

Verdrängungsverhältnis des leeren zum voll beladenen Schiff kleiner als 0,7;

| g) | Oberflächeneffektfahrzeuge (mit festen Seitenwänden) mit einer konzipierten Höchstgeschwindigkeit, voll beladen, größer als 40 Knoten bei signifikanten Wellenhöhen größer/gleich 3,25 m (Seegang 5); |
| --- | --- |

g)

Oberflächeneffektfahrzeuge (mit festen Seitenwänden) mit einer konzipierten Höchstgeschwindigkeit, voll beladen, größer als 40 Knoten bei signifikanten Wellenhöhen größer/gleich 3,25 m (Seegang 5);

| h) | Tragflügelboote mit automatisch gesteuerten, aktiven Tragflügelsystemen mit einer konzipierten Höchstgeschwindigkeit, voll beladen, größer/gleich 40 Knoten bei signifikanten Wellenhöhen größer/gleich 3,25 m (Seegang 5); |
| --- | --- |

h)

Tragflügelboote mit automatisch gesteuerten, aktiven Tragflügelsystemen mit einer konzipierten Höchstgeschwindigkeit, voll beladen, größer/gleich 40 Knoten bei signifikanten Wellenhöhen größer/gleich 3,25 m (Seegang 5);

| i) | ‧SWATH‧-(Small-Waterplane-Area-Twin-Hull-) Schiffe (Fahrzeuge mit kleiner Wasserlinienfläche) mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | Verdrängung, voll beladen, größer als 500 t mit einer konzipierten Höchstgeschwindigkeit, voll beladen, größer als 35 Knoten bei signifikanten Wellenhöhen größer/gleich 3,25 m (Seegang 5) oder |
| --- | --- | --- |

i)

‧SWATH‧-(Small-Waterplane-Area-Twin-Hull-) Schiffe (Fahrzeuge mit kleiner Wasserlinienfläche) mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

Verdrängung, voll beladen, größer als 500 t mit einer konzipierten Höchstgeschwindigkeit, voll beladen, größer als 35 Knoten bei signifikanten Wellenhöhen größer/gleich 3,25 m (Seegang 5) oder

| 2. | Verdrängung, voll beladen, größer als 1 500 t mit einer konzipierten Höchstgeschwindigkeit, voll beladen, größer als 25 Knoten bei signifikanten Wellenhöhen größer/gleich 4 m (Seegang 6). |
| --- | --- |

2.

Verdrängung, voll beladen, größer als 1 500 t mit einer konzipierten Höchstgeschwindigkeit, voll beladen, größer als 25 Knoten bei signifikanten Wellenhöhen größer/gleich 4 m (Seegang 6).

Technische Anmerkung:

Ein ‧SWATH‧-Schiff ist durch folgende Formel definiert: Wasserlinienfläche bei einem konzipierten Tiefgang kleiner als 2x (verdrängtes Volumen bei einem konzipierten Tiefgang)2/3.

8A002Systeme und Ausrüstung wie folgt:

Anmerkung: Unterwasser-Kommunikationssysteme: Siehe Kategorie 5, Teil 1 — Telekommunikation.

| a) | Systeme oder Ausrüstung, besonders konstruiert oder geändert für Tauchfahrzeuge, die für den Einsatz in Tiefen größer als 1 000 m konstruiert sind, wie folgt:






  1. | Druckgehäuse oder Druckkörper mit einem maximalen Innendurchmesser der Kammer größer als 1,5 m, |
| --- | --- | --- |

a)

Systeme oder Ausrüstung, besonders konstruiert oder geändert für Tauchfahrzeuge, die für den Einsatz in Tiefen größer als 1 000 m konstruiert sind, wie folgt:

1.

Druckgehäuse oder Druckkörper mit einem maximalen Innendurchmesser der Kammer größer als 1,5 m,

| 2. | Gleichstrom-Antriebsmotoren oder -Strahlruder, |
| --- | --- |

2.

Gleichstrom-Antriebsmotoren oder -Strahlruder,

| 3. | Versorgungskabel und Steckverbinder hierfür, die mit Lichtwellenleitern und Verstärkungselementen aus synthetischem Material ausgerüstet sind; |
| --- | --- |

3.

Versorgungskabel und Steckverbinder hierfür, die mit Lichtwellenleitern und Verstärkungselementen aus synthetischem Material ausgerüstet sind;

| b) | Systeme, besonders konstruiert oder geändert zur automatischen Bewegungssteuerung, für von Nummer 8A001 erfasste Tauchfahrzeuge, die Navigationsdaten verwenden und über eine Rückkopplungs-Servosteuerung verfügen, um






  1. | es dem Fahrzeug zu ermöglichen, sich innerhalb eines Abstands von 10 m von einem vorher bestimmten Punkt in der Wassersäule zu bewegen, |
| --- | --- | --- |

b)

Systeme, besonders konstruiert oder geändert zur automatischen Bewegungssteuerung, für von Nummer 8A001 erfasste Tauchfahrzeuge, die Navigationsdaten verwenden und über eine Rückkopplungs-Servosteuerung verfügen, um

1.

es dem Fahrzeug zu ermöglichen, sich innerhalb eines Abstands von 10 m von einem vorher bestimmten Punkt in der Wassersäule zu bewegen,

| 2. | die Position des Fahrzeugs innerhalb eines Abstands von 10 m von einem vorher bestimmten Punkt in der Wassersäule zu halten oder |
| --- | --- |

2.

die Position des Fahrzeugs innerhalb eines Abstands von 10 m von einem vorher bestimmten Punkt in der Wassersäule zu halten oder

| 3. | die Position des Fahrzeugs innerhalb eines Abstands von 10 m zu halten, während es einem Kabel auf oder unter dem Meeresboden folgt; |
| --- | --- |

3.

die Position des Fahrzeugs innerhalb eines Abstands von 10 m zu halten, während es einem Kabel auf oder unter dem Meeresboden folgt;

| c) | Schiffskörper-Durchführungen oder -Steckverbinder für Lichtwellenleiter; |
| --- | --- |

c)

Schiffskörper-Durchführungen oder -Steckverbinder für Lichtwellenleiter;

| d) | Unterwasser-Beobachtungssysteme wie folgt:






  1. | Fernsehsysteme und Fernsehkameras wie folgt:






  a) | Fernsehsysteme (die Kamera, Überwachungs- und Signalübertragungseinrichtungen enthalten) mit einer ‧Grenzauflösung‧ von mehr als 800 Linien, gemessen in Luft, und besonders konstruiert oder geändert für ferngesteuerte Operationen mit einem Tauchfahrzeug, |
| --- | --- | --- | --- |

d)

Unterwasser-Beobachtungssysteme wie folgt:

1.

Fernsehsysteme und Fernsehkameras wie folgt:

a)

Fernsehsysteme (die Kamera, Überwachungs- und Signalübertragungseinrichtungen enthalten) mit einer ‧Grenzauflösung‧ von mehr als 800 Linien, gemessen in Luft, und besonders konstruiert oder geändert für ferngesteuerte Operationen mit einem Tauchfahrzeug,

| b) | Unterwasser-Fernsehkameras mit einer ‧Grenzauflösung‧ von mehr als 1 100 Linien, gemessen in Luft, |
| --- | --- |

b)

Unterwasser-Fernsehkameras mit einer ‧Grenzauflösung‧ von mehr als 1 100 Linien, gemessen in Luft,

| c) | Restlichtverstärkende Fernsehkameras, besonders konstruiert oder geändert für den Unterwassereinsatz, mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | mit von Unternummer 6A002a2a erfassten Bildverstärkerröhren und |
| --- | --- | --- |

c)

Restlichtverstärkende Fernsehkameras, besonders konstruiert oder geändert für den Unterwassereinsatz, mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

mit von Unternummer 6A002a2a erfassten Bildverstärkerröhren und

| 2. | mit mehr als 150 000"aktiven Bildelementen" pro Halbleitersensoranordnung, |
| --- | --- |

2.

mit mehr als 150 000"aktiven Bildelementen" pro Halbleitersensoranordnung,

Technische Anmerkung:

‧Grenzauflösung‧ bedeutet beim Fernsehen ein Maß für die horizontale Auflösung, die normalerweise ausgedrückt wird als die maximale Anzahl von Linien pro Bildhöhe, die auf einem Testbild unterschieden werden können nach IEEE-Standard 208/1960 oder einer vergleichbaren Norm.

| 2. | Systeme, besonders konstruiert oder geändert für ferngesteuerte Operationen mit einem Tauchfahrzeug, die Verfahren verwenden, welche die Rückstreuungseffekte auf ein Minimum reduzieren, einschließlich Beleuchtungseinrichtungen mit Entfernungsgattern (range-gated illuminators) oder "Laser"-Systemen; |
| --- | --- |

2.

Systeme, besonders konstruiert oder geändert für ferngesteuerte Operationen mit einem Tauchfahrzeug, die Verfahren verwenden, welche die Rückstreuungseffekte auf ein Minimum reduzieren, einschließlich Beleuchtungseinrichtungen mit Entfernungsgattern (range-gated illuminators) oder "Laser"-Systemen;

| e) | fotografische Stehbildkameras, besonders konstruiert oder geändert für den Unterwassereinsatz in Wassertiefen größer als 150 m, mit Filmbreiten größer/gleich 35 mm und einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | Markieren des Films mit Daten, die von einer Datenquelle außerhalb der Kamera geliefert werden, |
| --- | --- | --- |

e)

fotografische Stehbildkameras, besonders konstruiert oder geändert für den Unterwassereinsatz in Wassertiefen größer als 150 m, mit Filmbreiten größer/gleich 35 mm und einer der folgenden Eigenschaften:

1.

Markieren des Films mit Daten, die von einer Datenquelle außerhalb der Kamera geliefert werden,

| 2. | automatische Angleichung der Brennweite oder |
| --- | --- |

2.

automatische Angleichung der Brennweite oder

| 3. | automatische Kompensationssteuerung, besonders konstruiert für den Einsatz von Unterwasserkameragehäusen in Tiefen größer als 1 000 m; |
| --- | --- |

3.

automatische Kompensationssteuerung, besonders konstruiert für den Einsatz von Unterwasserkameragehäusen in Tiefen größer als 1 000 m;

| f) | elektronische Abbildungssysteme, besonders konstruiert oder geändert für den Unterwassereinsatz, die mehr als 50 belichtete Aufnahmen digital speichern können; |
| --- | --- |

f)

elektronische Abbildungssysteme, besonders konstruiert oder geändert für den Unterwassereinsatz, die mehr als 50 belichtete Aufnahmen digital speichern können;

| g) | Beleuchtungssysteme wie folgt, besonders konstruiert oder geändert für den Unterwassereinsatz:






  1. | Stroboskopleuchten mit einer Lichtausgangsenergie größer als 300 J pro Blitz und einer Blitzfolgegeschwindigkeit von mehr als 5 Blitzen pro Sekunde, |
| --- | --- | --- |

g)

Beleuchtungssysteme wie folgt, besonders konstruiert oder geändert für den Unterwassereinsatz:

1.

Stroboskopleuchten mit einer Lichtausgangsenergie größer als 300 J pro Blitz und einer Blitzfolgegeschwindigkeit von mehr als 5 Blitzen pro Sekunde,

| 2. | Argon-Bogenlampen-Systeme, besonders konstruiert für den Einsatz in Wassertiefen größer als 1 000 m; |
| --- | --- |

2.

Argon-Bogenlampen-Systeme, besonders konstruiert für den Einsatz in Wassertiefen größer als 1 000 m;

| h) | "Roboter", besonders konstruiert für den Unterwassereinsatz, die durch einen anwendungsspezifischen, "speicherprogrammierbaren" Rechner gesteuert werden, mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | Einsatz von Systemen, die den "Roboter" mit Informationen von Sensoren steuern, welche die auf ein externes Objekt ausgeübte Kraft oder das auf ein solches Objekt ausgeübte Drehmoment, die Entfernung von einem externen Objekt oder den Tastsinn zwischen dem "Roboter" und einem externen Objekt messen, oder |
| --- | --- | --- |

h)

"Roboter", besonders konstruiert für den Unterwassereinsatz, die durch einen anwendungsspezifischen, "speicherprogrammierbaren" Rechner gesteuert werden, mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

Einsatz von Systemen, die den "Roboter" mit Informationen von Sensoren steuern, welche die auf ein externes Objekt ausgeübte Kraft oder das auf ein solches Objekt ausgeübte Drehmoment, die Entfernung von einem externen Objekt oder den Tastsinn zwischen dem "Roboter" und einem externen Objekt messen, oder

| 2. | fähig zur Ausübung einer Kraft größer/gleich 250 N oder eines Drehmoments größer/gleich 250 Nm und mit Bauteilen versehen, die Legierungen auf Titanbasis oder "Verbundwerkstoffe" aus "faser- oder fadenförmigen Materialien" enthalten; |
| --- | --- |

2.

fähig zur Ausübung einer Kraft größer/gleich 250 N oder eines Drehmoments größer/gleich 250 Nm und mit Bauteilen versehen, die Legierungen auf Titanbasis oder "Verbundwerkstoffe" aus "faser- oder fadenförmigen Materialien" enthalten;

| i) | ferngesteuerte Gelenkmanipulatoren, besonders konstruiert oder geändert für den Einsatz mit Tauchfahrzeugen, mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | Einsatz von Systemen, die den Manipulator mit Informationen von Sensoren steuern, welche die auf ein externes Objekt ausgeübte Kraft oder das auf ein solches Objekt ausgeübte Drehmoment oder den Tastsinn zwischen dem Manipulator und einem externen Objekt messen, oder |
| --- | --- | --- |

i)

ferngesteuerte Gelenkmanipulatoren, besonders konstruiert oder geändert für den Einsatz mit Tauchfahrzeugen, mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

Einsatz von Systemen, die den Manipulator mit Informationen von Sensoren steuern, welche die auf ein externes Objekt ausgeübte Kraft oder das auf ein solches Objekt ausgeübte Drehmoment oder den Tastsinn zwischen dem Manipulator und einem externen Objekt messen, oder

| 2. | Steuerung durch proportionale Master-Slave-Verfahren oder durch einen anwendungsspezifischen, "speicherprogrammierbaren Rechner" und mit größer/gleich 5 Freiheitsgraden der Bewegung;


  Anmerkung: Bei der Bestimmung der Anzahl der Freiheitsgrade werden nur Funktionen mit Proportionalsteuerung gezählt, die Stellungsrückkoppelung oder einen anwendungsspezifischen, "speicherprogrammierbaren" Rechner verwenden. |
| --- | --- |

2.

Steuerung durch proportionale Master-Slave-Verfahren oder durch einen anwendungsspezifischen, "speicherprogrammierbaren Rechner" und mit größer/gleich 5 Freiheitsgraden der Bewegung;

Anmerkung: Bei der Bestimmung der Anzahl der Freiheitsgrade werden nur Funktionen mit Proportionalsteuerung gezählt, die Stellungsrückkoppelung oder einen anwendungsspezifischen, "speicherprogrammierbaren" Rechner verwenden.

| j) | außenluftunabhängige Energieversorgungsanlagen, besonders konstruiert für Unterwassereinsatz, wie folgt:






  1. | Brayton- oder Rankine-Prozess-Motoren als außenluftunabhängige Energieversorgungsanlagen mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Einsatz von chemischen Reinigungs- oder Absorber-Systemen, besonders konstruiert zur Beseitigung von Kohlendioxid, Kohlenmonoxid und Partikeln aus dem zurückgeführten Motorenabgas, |
| --- | --- | --- | --- |

j)

außenluftunabhängige Energieversorgungsanlagen, besonders konstruiert für Unterwassereinsatz, wie folgt:

1.

Brayton- oder Rankine-Prozess-Motoren als außenluftunabhängige Energieversorgungsanlagen mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Einsatz von chemischen Reinigungs- oder Absorber-Systemen, besonders konstruiert zur Beseitigung von Kohlendioxid, Kohlenmonoxid und Partikeln aus dem zurückgeführten Motorenabgas,

| b) | Einsatz von Systemen, besonders konstruiert zur Verwendung von monoatomarem Gas, |
| --- | --- |

b)

Einsatz von Systemen, besonders konstruiert zur Verwendung von monoatomarem Gas,

| c) | Einsatz von Einrichtungen oder Gehäusen, besonders konstruiert zur Unterwasser-Geräuschminderung von Frequenzen kleiner als 10 kHz, oder besonderem Befestigungszubehör zur Schockdämpfung oder |
| --- | --- |

c)

Einsatz von Einrichtungen oder Gehäusen, besonders konstruiert zur Unterwasser-Geräuschminderung von Frequenzen kleiner als 10 kHz, oder besonderem Befestigungszubehör zur Schockdämpfung oder

| d) | Einsatz von Systemen, besonders konstruiert






  1. | zur Verdichtung von Reaktionsstoffen oder zur Reformierung von Brennstoff, |
| --- | --- | --- |

d)

Einsatz von Systemen, besonders konstruiert

1.

zur Verdichtung von Reaktionsstoffen oder zur Reformierung von Brennstoff,

| 2. | zum Speichern von Reaktionsstoffen und |
| --- | --- |

2.

zum Speichern von Reaktionsstoffen und

| 3. | zum Abführen (discharge) der Reaktionsstoffe gegen einen Druck größer/gleich 100 kPa, |
| --- | --- |

3.

zum Abführen (discharge) der Reaktionsstoffe gegen einen Druck größer/gleich 100 kPa,

| 2. | Diesel-Motoren als außenluftunabhängige Anlagen mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | Einsatz von chemischen Reinigungs- oder Absorber-Subsystemen, besonders konstruiert zur Beseitigung von Kohlendioxid, Kohlenmonoxid und Partikeln aus dem umgelaufenen Motorenabgas, |
| --- | --- | --- |

2.

Diesel-Motoren als außenluftunabhängige Anlagen mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

Einsatz von chemischen Reinigungs- oder Absorber-Subsystemen, besonders konstruiert zur Beseitigung von Kohlendioxid, Kohlenmonoxid und Partikeln aus dem umgelaufenen Motorenabgas,

| b) | Einsatz von Systemen, besonders konstruiert zur Verwendung von monoatomarem Gas, |
| --- | --- |

b)

Einsatz von Systemen, besonders konstruiert zur Verwendung von monoatomarem Gas,

| c) | Einsatz von Einrichtungen oder Gehäusen, besonders konstruiert zur Unterwasser-Geräuschminderung von Frequenzen kleiner als 10 kHz, oder besonderem Befestigungszubehör zur Schockdämpfung und |
| --- | --- |

c)

Einsatz von Einrichtungen oder Gehäusen, besonders konstruiert zur Unterwasser-Geräuschminderung von Frequenzen kleiner als 10 kHz, oder besonderem Befestigungszubehör zur Schockdämpfung und

| d) | Einsatz von besonders konstruierten Abgassystemen, die Verbrennungsprodukte nicht kontinuierlich auslassen, |
| --- | --- |

d)

Einsatz von besonders konstruierten Abgassystemen, die Verbrennungsprodukte nicht kontinuierlich auslassen,

| 3. | Brennstoffzellen zur außenluftunabhängigen Energieerzeugung mit einer Leistung größer als 2 kW mit einer der folgenden Eigenschaften:






  a) | Einsatz von Einrichtungen oder Gehäusen, besonders konstruiert zur Unterwasser-Geräuschminderung von Frequenzen kleiner als 10 kHz, oder besonderem Befestigungszubehör zur Schockdämpfung oder |
| --- | --- | --- |

3.

Brennstoffzellen zur außenluftunabhängigen Energieerzeugung mit einer Leistung größer als 2 kW mit einer der folgenden Eigenschaften:

a)

Einsatz von Einrichtungen oder Gehäusen, besonders konstruiert zur Unterwasser-Geräuschminderung von Frequenzen kleiner als 10 kHz, oder besonderem Befestigungszubehör zur Schockdämpfung oder

| b) | Einsatz von Systemen, besonders konstruiert






  1. | zur Verdichtung von Reaktionsstoffen oder zur Reformierung von Brennstoff, |
| --- | --- | --- |

b)

Einsatz von Systemen, besonders konstruiert

1.

zur Verdichtung von Reaktionsstoffen oder zur Reformierung von Brennstoff,

| 2. | zum Speichern von Reaktionsstoffen und |
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2.

zum Speichern von Reaktionsstoffen und

| 3. | zum Abführen (discharge) der Reaktionsstoffe gegen einen Druck größer/gleich 100 kPa, |
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3.

zum Abführen (discharge) der Reaktionsstoffe gegen einen Druck größer/gleich 100 kPa,

| 4. | Stirling-Prozess-Motoren als außenluftunabhängige Energieversorgungsanlagen mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | Einsatz von Einrichtungen oder Gehäusen, besonders konstruiert zur Unterwasser-Geräuschminderung von Frequenzen kleiner als 10 kHz, oder besonderem Befestigungszubehör zur Schockdämpfung und |
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4.

Stirling-Prozess-Motoren als außenluftunabhängige Energieversorgungsanlagen mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

Einsatz von Einrichtungen oder Gehäusen, besonders konstruiert zur Unterwasser-Geräuschminderung von Frequenzen kleiner als 10 kHz, oder besonderem Befestigungszubehör zur Schockdämpfung und

| b) | Einsatz von besonders konstruierten Abgassystemen zum Abführen (discharge) von Verbrennungsprodukten gegen einen Druck größer/gleich 100 kPa; |
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b)

Einsatz von besonders konstruierten Abgassystemen zum Abführen (discharge) von Verbrennungsprodukten gegen einen Druck größer/gleich 100 kPa;

| k) | flexible Schürzen, Abdichtungen und Schürzenfinger mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | konstruiert für Luftkissendrücke größer/gleich 3 830 Pa, für den Einsatz bei signifikanten Wellenhöhen größer/gleich 1,25 m (Seegang 3) und besonders konstruiert für Oberflächeneffektfahrzeuge (Fahrzeugvarianten, die voll mit Schürzen ausgerüstet sind), die von Unternummer 8A001f erfasst werden oder |
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k)

flexible Schürzen, Abdichtungen und Schürzenfinger mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

konstruiert für Luftkissendrücke größer/gleich 3 830 Pa, für den Einsatz bei signifikanten Wellenhöhen größer/gleich 1,25 m (Seegang 3) und besonders konstruiert für Oberflächeneffektfahrzeuge (Fahrzeugvarianten, die voll mit Schürzen ausgerüstet sind), die von Unternummer 8A001f erfasst werden oder

| 2. | konstruiert für Luftkissendrücke größer/gleich 6 224 Pa, für den Einsatz bei signifikanten Wellenhöhen größer/gleich 3,25 m (Seegang 5) und besonders konstruiert für Oberflächeneffektfahrzeuge (mit festen Seitenwänden), die von Unternummer 8A001g erfasst werden; |
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2.

konstruiert für Luftkissendrücke größer/gleich 6 224 Pa, für den Einsatz bei signifikanten Wellenhöhen größer/gleich 3,25 m (Seegang 5) und besonders konstruiert für Oberflächeneffektfahrzeuge (mit festen Seitenwänden), die von Unternummer 8A001g erfasst werden;

| l) | Hubgebläse mit einer Leistung größer als 400 kW, besonders konstruiert für Oberflächeneffektfahrzeuge, die von Unternummer 8A001f oder 8A001g erfasst werden; |
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l)

Hubgebläse mit einer Leistung größer als 400 kW, besonders konstruiert für Oberflächeneffektfahrzeuge, die von Unternummer 8A001f oder 8A001g erfasst werden;

| m) | vollgetauchte, unterkavitierende oder superkavitierende Tragflügel, besonders konstruiert für Boote, die von Unternummer 8A001h erfasst werden; |
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m)

vollgetauchte, unterkavitierende oder superkavitierende Tragflügel, besonders konstruiert für Boote, die von Unternummer 8A001h erfasst werden;

| n) | aktive Systeme, besonders konstruiert oder geändert für die automatische Steuerung der Stabilität (sea-induced motion) von Fahrzeugen, die von Unternummer 8A001f, 8A001g, 8A001h oder 8A001i erfasst werden; |
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n)

aktive Systeme, besonders konstruiert oder geändert für die automatische Steuerung der Stabilität (sea-induced motion) von Fahrzeugen, die von Unternummer 8A001f, 8A001g, 8A001h oder 8A001i erfasst werden;

| o) | Propeller, Leistungsübertragungssysteme, Energieerzeugungssysteme und Geräuschminderungssysteme wie folgt:






  1. | Wasserschraubenpropeller oder Leistungsübertragungssysteme wie folgt, besonders konstruiert für Oberflächeneffektfahrzeuge (sowohl mit Schürzen als auch mit festen Seitenwänden), Tragflügelboote oder SWATH-(Small-Waterplane-Area-Twin-Hull-) Schiffe, die von Unternummer 8A001f, 8A001g, 8A001h oder 8A001i erfasst werden:






  a) | superkavitierende, superbelüftete, teilgetauchte oder die Oberfläche durchstoßende Propeller mit einer Leistung größer als 7,5 MW, |
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o)

Propeller, Leistungsübertragungssysteme, Energieerzeugungssysteme und Geräuschminderungssysteme wie folgt:

1.

Wasserschraubenpropeller oder Leistungsübertragungssysteme wie folgt, besonders konstruiert für Oberflächeneffektfahrzeuge (sowohl mit Schürzen als auch mit festen Seitenwänden), Tragflügelboote oder SWATH-(Small-Waterplane-Area-Twin-Hull-) Schiffe, die von Unternummer 8A001f, 8A001g, 8A001h oder 8A001i erfasst werden:

a)

superkavitierende, superbelüftete, teilgetauchte oder die Oberfläche durchstoßende Propeller mit einer Leistung größer als 7,5 MW,

| b) | gegenläufige Propellersysteme mit einer Leistung größer als 15 MW, |
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b)

gegenläufige Propellersysteme mit einer Leistung größer als 15 MW,

| c) | Systeme mit Anwendung von Pre-Swirl- oder Post-Swirl-Techniken zur Glättung der Propelleranströmung, |
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c)

Systeme mit Anwendung von Pre-Swirl- oder Post-Swirl-Techniken zur Glättung der Propelleranströmung,

| d) | Hochleistungsuntersetzungsgetriebe in Leichtbauweise (K-Faktor größer als 300), |
| --- | --- |

d)

Hochleistungsuntersetzungsgetriebe in Leichtbauweise (K-Faktor größer als 300),

| e) | Leistungsübertragungs-Wellensysteme für Übertragungsleistungen von mehr als 1 MW, die Bestandteile aus "Verbundwerkstoff" enthalten, |
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e)

Leistungsübertragungs-Wellensysteme für Übertragungsleistungen von mehr als 1 MW, die Bestandteile aus "Verbundwerkstoff" enthalten,

| 2. | Wasserschraubenpropeller, Energieerzeugungssysteme oder -übertragungssysteme, konstruiert für den Einsatz auf Schiffen, wie folgt:






  a) | Verstellpropeller und Nabenbaugruppen mit einer Leistung größer als 30 MW, |
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2.

Wasserschraubenpropeller, Energieerzeugungssysteme oder -übertragungssysteme, konstruiert für den Einsatz auf Schiffen, wie folgt:

a)

Verstellpropeller und Nabenbaugruppen mit einer Leistung größer als 30 MW,

| b) | innenflüssigkeitsgekühlte elektrische Antriebsmaschinen mit einer Ausgangsleistung größer als 2,5 MW, |
| --- | --- |

b)

innenflüssigkeitsgekühlte elektrische Antriebsmaschinen mit einer Ausgangsleistung größer als 2,5 MW,

| c) | elektrische Antriebsmaschinen mit "Supraleitung" oder Permanentmagneten mit einer Leistung größer als 0,1 MW, |
| --- | --- |

c)

elektrische Antriebsmaschinen mit "Supraleitung" oder Permanentmagneten mit einer Leistung größer als 0,1 MW,

| d) | Leistungsübertragungs-Wellensysteme mit einer Übertragungsleistung größer als 2 MW, die Bestandteile aus "Verbundwerkstoff" enthalten, |
| --- | --- |

d)

Leistungsübertragungs-Wellensysteme mit einer Übertragungsleistung größer als 2 MW, die Bestandteile aus "Verbundwerkstoff" enthalten,

| e) | belüftete oder basisbelüftete Propellersysteme mit einer Leistung größer als 2,5 MW, |
| --- | --- |

e)

belüftete oder basisbelüftete Propellersysteme mit einer Leistung größer als 2,5 MW,

| 3. | Geräuschminderungssysteme, konstruiert für den Einsatz auf Schiffen größer/gleich 1 000 Tonnen Wasserverdrängung, wie folgt:






  a) | Geräuschminderungssysteme, die bei Frequenzen kleiner als 500 Hz dämpfend wirken und aus zusammengesetzten, schalldämpfenden Halterungen für die akustische Isolation von Dieselmotoren, Dieselgeneratorsets, Gasturbinen, Gasturbinen-Generatorsets, Antriebsmotoren oder Antriebsuntersetzungsgetrieben bestehen, besonders konstruiert für die Isolierung gegen Schall oder Vibration, mit einer Zwischenmasse größer als 30 % der Masse der Ausrüstung, die darauf montiert werden soll, |
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3.

Geräuschminderungssysteme, konstruiert für den Einsatz auf Schiffen größer/gleich 1 000 Tonnen Wasserverdrängung, wie folgt:

a)

Geräuschminderungssysteme, die bei Frequenzen kleiner als 500 Hz dämpfend wirken und aus zusammengesetzten, schalldämpfenden Halterungen für die akustische Isolation von Dieselmotoren, Dieselgeneratorsets, Gasturbinen, Gasturbinen-Generatorsets, Antriebsmotoren oder Antriebsuntersetzungsgetrieben bestehen, besonders konstruiert für die Isolierung gegen Schall oder Vibration, mit einer Zwischenmasse größer als 30 % der Masse der Ausrüstung, die darauf montiert werden soll,

| b) | aktive Geräuschminderungs- oder -tilgungs-Systeme oder Magnetlager, besonders konstruiert für Leistungsübertragungssysteme, die elektronische Steuerungen enthalten, welche aktiv die Vibration der Ausrüstung durch die Erzeugung von Anti-Geräusch- oder Anti-Vibrationssignalen direkt an der Entstehungsstelle verringern können; |
| --- | --- |

b)

aktive Geräuschminderungs- oder -tilgungs-Systeme oder Magnetlager, besonders konstruiert für Leistungsübertragungssysteme, die elektronische Steuerungen enthalten, welche aktiv die Vibration der Ausrüstung durch die Erzeugung von Anti-Geräusch- oder Anti-Vibrationssignalen direkt an der Entstehungsstelle verringern können;

| p) | Wasserstrahlantriebssysteme mit einer Leistung größer als 2,5 MW, die divergierende Düsen und strömungsbeeinflussende Leitschaufeln ausnutzen, um die Antriebswirkung zu verstärken oder die durch den Antrieb erzeugten, unter Wasser ausgestrahlten Geräusche zu vermindern; |
| --- | --- |

p)

Wasserstrahlantriebssysteme mit einer Leistung größer als 2,5 MW, die divergierende Düsen und strömungsbeeinflussende Leitschaufeln ausnutzen, um die Antriebswirkung zu verstärken oder die durch den Antrieb erzeugten, unter Wasser ausgestrahlten Geräusche zu vermindern;

| q) | Unabhängige Tauch- oder Unterwasserschwimmgeräte mit geschlossener oder halbgeschlossener Atemlufterneuerung.


  Anmerkung: Unternummer 8A002q erfasst nicht ein einzelnes Gerät, wenn dieses von seinem Benutzer zum persönlichen Gebrauch mitgeführt wird. |
| --- | --- |

q)

Unabhängige Tauch- oder Unterwasserschwimmgeräte mit geschlossener oder halbgeschlossener Atemlufterneuerung.

Anmerkung: Unternummer 8A002q erfasst nicht ein einzelnes Gerät, wenn dieses von seinem Benutzer zum persönlichen Gebrauch mitgeführt wird.

8BPrüf-, Test- und Herstellungseinrichtungen

8B001Wasserumlauftanks (water tunnels) mit einem Hintergrundgeräuschpegel kleiner als 100 dB (bezogen auf 1 μPa, 1 Hz) im Frequenzbereich von 0 bis 500 Hz, konstruiert für die Messung akustischer Felder, die durch die Wasserströmung um Modelle von Antriebssystemen erzeugt werden.

8CWerkstoffe und Materialien

8C001‧Syntaktischer Schaum‧, konstruiert für den Einsatz unter Wasser, mit allen folgenden Eigenschaften:

| 1. | konstruiert für Wassertiefen größer als 1 000 m und |
| --- | --- |

1.

konstruiert für Wassertiefen größer als 1 000 m und

| 2. | mit einer Dichte kleiner als 561 kg/m3. |
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2.

mit einer Dichte kleiner als 561 kg/m3.

Technische Anmerkung:

‧Syntaktischer Schaum‧ besteht aus Hohlkugeln aus Kunststoff oder Glas, die in eine Harzmatrix eingebettet sind.

8DDatenverarbeitungsprogramme (Software)

8D001"Software", besonders entwickelt oder geändert für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" der von Nummer 8A, 8B oder 8C erfassten Ausrüstung oder Werkstoffe.

8D002Spezifische "Software", besonders entwickelt oder geändert für die "Entwicklung", "Herstellung", Reparatur, Überholung oder Wiederaufarbeitung (re-machining) von Propellern, besonders konstruiert für die Geräuschminderung unter Wasser.

8ETechnologie

8E001"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von Ausrüstung oder Werkstoffen, die von Nummer 8A, 8B oder 8C erfasst werden.

8E002"Technologie" wie folgt:

| a) | "Technologie" für die "Entwicklung", "Herstellung", Reparatur, Überholung oder Wiederaufarbeitung (re-machining) von Propellern, besonders konstruiert für die Geräuschminderung unter Wasser; |
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a)

"Technologie" für die "Entwicklung", "Herstellung", Reparatur, Überholung oder Wiederaufarbeitung (re-machining) von Propellern, besonders konstruiert für die Geräuschminderung unter Wasser;

| b) | "Technologie" für die Überholung oder Wiederaufarbeitung von Ausrüstung, die von Nummer 8A001, Unternummer 8A002b, 8A002j, 8A002o oder 8A002p erfasst wird. |
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b)

"Technologie" für die Überholung oder Wiederaufarbeitung von Ausrüstung, die von Nummer 8A001, Unternummer 8A002b, 8A002j, 8A002o oder 8A002p erfasst wird.

KATEGORIE 9

ANTRIEBSSYSTEME, RAUMFAHRZEUGE UND ZUGEHÖRIGE AUSRÜSTUNG

9ASysteme, Ausrüstung und Bestandteile

Anmerkung: Gegen Neutronenstrahlung oder kurzzeitige ionisierende Strahlung konstruierte oder ausgelegte Antriebssysteme: Siehe Teil I A.

9A001Gasturbinenflugtriebwerke, die von Unternummer 9E003a erfasste "Technologien" enthalten, wie folgt:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 9A101.

| a) | nicht zugelassen für die spezifischen "zivilen Luftfahrzeuge", für die sie bestimmt sind; |
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a)

nicht zugelassen für die spezifischen "zivilen Luftfahrzeuge", für die sie bestimmt sind;

| b) | zur zivilen Verwendung von keiner Zivilluftfahrtbehörde eines "Teilnehmerstaates" zugelassen; |
| --- | --- |

b)

zur zivilen Verwendung von keiner Zivilluftfahrtbehörde eines "Teilnehmerstaates" zugelassen;

| c) | entwickelt für Reisegeschwindigkeiten größer als Mach 1,2 für mehr als 30 Minuten. |
| --- | --- |

c)

entwickelt für Reisegeschwindigkeiten größer als Mach 1,2 für mehr als 30 Minuten.

9A002‧Schiffsgasturbinen‧ mit einer ISO-Standardnennleistung bei Dauerbetrieb größer/gleich 24 245 kW und einem spezifischen Kraftstoffverbrauch kleiner als 0,219 kg/kWh in jedem Punkt des Leistungsbereichs von 35 % bis 100 % sowie besonders entwickelte Baugruppen und Bestandteile hierfür.

Anmerkung: Der Begriff ‧Schiffsgasturbinen‧ schließt diejenigen Industriegasturbinen oder aus Flugtriebwerken abgeleiteten Gasturbinen ein, die für den Schiffsantrieb oder die Stromerzeugung an Bord angepasst wurden.

9A003Besonders entwickelte Baugruppen und Bestandteile, die von Unternummer 9E003a erfasste "Technologien" enthalten, für folgende Gasturbinenantriebssysteme:

| a) | erfasst von Nummer 9A001; |
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a)

erfasst von Nummer 9A001;

| b) | entwicklungs- oder fertigungsmäßige Herkunft ist entweder ein Nicht-"Teilnehmerstaat" oder dem Hersteller unbekannt. |
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b)

entwicklungs- oder fertigungsmäßige Herkunft ist entweder ein Nicht-"Teilnehmerstaat" oder dem Hersteller unbekannt.

9A004Trägerraketen (für "Raumfahrzeuge") oder "Raumfahrzeuge".

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 9A104.

Anmerkung: Nummer 9A004 erfasst nicht Nutzlasten.

Ergänzende Anmerkung: Zum Erfassungsstatus von Erzeugnissen, die in den Nutzlasten von "Raumfahrzeugen" enthalten sind: Siehe die zutreffenden Kategorien von Teil I C.

9A005Flüssigkeitsraketenantriebssysteme, die eines der von Nummer 9A006 erfassten Systeme oder Bestandteile enthalten.

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMERN 9A105 UND 9A119.

9A006Systeme und Bestandteile, besonders konstruiert für Flüssigkeitsraketenantriebssysteme, wie folgt:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMERN 9A106 UND 9A108.

| a) | Kryogenkühler, Leichtbau-Dewar-Gefäße, kryogene Wärmeleitrohre oder kryogene Systeme, besonders konstruiert zur Verwendung in Trägerraketen, die Verluste an kryogener Flüssigkeit auf weniger als 30 % pro Jahr beschränken können; |
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a)

Kryogenkühler, Leichtbau-Dewar-Gefäße, kryogene Wärmeleitrohre oder kryogene Systeme, besonders konstruiert zur Verwendung in Trägerraketen, die Verluste an kryogener Flüssigkeit auf weniger als 30 % pro Jahr beschränken können;

| b) | kryogene Behälter oder Tiefkühlsysteme mit geschlossenem Kreislauf, die Temperaturen kleiner/gleich 100 K (– 173 °C) aufrechterhalten können, für "Luftfahrzeuge" mit Dauerfluggeschwindigkeiten größer als Mach 3, Trägerraketen oder "Raumfahrzeuge"; |
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b)

kryogene Behälter oder Tiefkühlsysteme mit geschlossenem Kreislauf, die Temperaturen kleiner/gleich 100 K (– 173 °C) aufrechterhalten können, für "Luftfahrzeuge" mit Dauerfluggeschwindigkeiten größer als Mach 3, Trägerraketen oder "Raumfahrzeuge";

| c) | Lager- oder Umfüllsysteme für pastenförmigen Wasserstoff (slush hydrogen); |
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c)

Lager- oder Umfüllsysteme für pastenförmigen Wasserstoff (slush hydrogen);

| d) | Hochdruckturbopumpen (über 17,5 MPa), Pumpenbestandteile oder zugehörige Gaserzeuger- oder Antriebssysteme der Entspannungsturbine; |
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d)

Hochdruckturbopumpen (über 17,5 MPa), Pumpenbestandteile oder zugehörige Gaserzeuger- oder Antriebssysteme der Entspannungsturbine;

| e) | Hochdruckbrennkammern (über 10,6 MPa) und zugehörige Düsen; |
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e)

Hochdruckbrennkammern (über 10,6 MPa) und zugehörige Düsen;

| f) | Treibstofflagersysteme, die mit dem Prinzip der kapillaren Einlagerung oder der Druckförderung mit elastischen Bälgen (positive expulsion) arbeiten; |
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f)

Treibstofflagersysteme, die mit dem Prinzip der kapillaren Einlagerung oder der Druckförderung mit elastischen Bälgen (positive expulsion) arbeiten;

| g) | Einspritzdüsen für flüssige Treibstoffe mit einer Austrittsöffnung kleiner als 0,381 mm im Durchmesser (bzw. mit einer Fläche kleiner als 1,14 × 10-3 cm2 für nicht kreisförmige Austrittsöffnungen), besonders konstruiert für Flüssigkeitsraketenantriebssysteme; |
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g)

Einspritzdüsen für flüssige Treibstoffe mit einer Austrittsöffnung kleiner als 0,381 mm im Durchmesser (bzw. mit einer Fläche kleiner als 1,14 × 10-3 cm2 für nicht kreisförmige Austrittsöffnungen), besonders konstruiert für Flüssigkeitsraketenantriebssysteme;

| h) | aus einem Stück gefertigte Brennkammern oder Austrittsdüsen aus kohlenstofffaserverstärktem Kohlenstoff mit einer Dichte größer als 1,4 g/cm3 und einer Zugfestigkeit größer als 48 MPa. |
| --- | --- |

h)

aus einem Stück gefertigte Brennkammern oder Austrittsdüsen aus kohlenstofffaserverstärktem Kohlenstoff mit einer Dichte größer als 1,4 g/cm3 und einer Zugfestigkeit größer als 48 MPa.

9A007Feststoffraketenantriebssysteme mit einer der folgenden Eigenschaften:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 9A119.

| a) | Gesamtimpuls größer als 1,1 MNs; |
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a)

Gesamtimpuls größer als 1,1 MNs;

| b) | massenspezifischer Impuls größer/gleich 2,4 kNs/kg bei auf atmosphärische Bedingungen in Meereshöhe entspannter Düsenströmung für einen auf 7 MPa korrigierten Brennkammerdruck; |
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b)

massenspezifischer Impuls größer/gleich 2,4 kNs/kg bei auf atmosphärische Bedingungen in Meereshöhe entspannter Düsenströmung für einen auf 7 MPa korrigierten Brennkammerdruck;

| c) | Stufenmassenanteile größer als 88 % und Festtreibstoffanteile größer als 86 %; |
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c)

Stufenmassenanteile größer als 88 % und Festtreibstoffanteile größer als 86 %;

| d) | mit einem der von Nummer 9A008 erfassten Bestandteile oder |
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d)

mit einem der von Nummer 9A008 erfassten Bestandteile oder

| e) | Einsatz von Isolierungs- und Klebesystemen für Festtreibstoffe, die eine direkt mit dem Motor verklebte Konstruktion verwenden, um eine ‧feste mechanische Verbindung‧ oder eine Sperrschicht gegen chemischen Austausch zwischen Festtreibstoff und Gehäuse-Isolationsmaterial zu gewährleisten.
  Technische Anmerkung:

  Eine ‧feste mechanische Verbindung‧ im Sinne von Unternummer 9A007e weist eine Haftfestigkeit von mindestens der Festigkeit des Treibstoffs auf. |
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e)

Einsatz von Isolierungs- und Klebesystemen für Festtreibstoffe, die eine direkt mit dem Motor verklebte Konstruktion verwenden, um eine ‧feste mechanische Verbindung‧ oder eine Sperrschicht gegen chemischen Austausch zwischen Festtreibstoff und Gehäuse-Isolationsmaterial zu gewährleisten.

Technische Anmerkung:

Eine ‧feste mechanische Verbindung‧ im Sinne von Unternummer 9A007e weist eine Haftfestigkeit von mindestens der Festigkeit des Treibstoffs auf.

9A008Bestandteile wie folgt, besonders konstruiert für Feststoffraketenantriebssysteme:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 9A108.

| a) | Isolierungs- und Klebesysteme für Festtreibstoffe, die Zwischenlager (liner) verwenden, um eine ‧feste mechanische Verbindung‧ oder eine Sperrschicht gegen chemischen Austausch zwischen Festtreibstoff und Gehäuse-Isolationsmaterial zu gewährleisten;
  Technische Anmerkung:

  Eine ‧feste mechanische Verbindung‧ im Sinne von Unternummer 9A008a weist eine Haftfestigkeit von mindestens der Festigkeit des Treibstoffs auf. |
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a)

Isolierungs- und Klebesysteme für Festtreibstoffe, die Zwischenlager (liner) verwenden, um eine ‧feste mechanische Verbindung‧ oder eine Sperrschicht gegen chemischen Austausch zwischen Festtreibstoff und Gehäuse-Isolationsmaterial zu gewährleisten;

Technische Anmerkung:

Eine ‧feste mechanische Verbindung‧ im Sinne von Unternummer 9A008a weist eine Haftfestigkeit von mindestens der Festigkeit des Treibstoffs auf.

| b) | Motorgehäuse aus fasergewickeltem "Verbundwerkstoff" mit einem Durchmesser größer als 0,61 m oder einem ‧strukturellen Wirkungsgrad (PV/W)‧ größer als 25 km;
  Technische Anmerkung:

  Der ‧strukturelle Wirkungsgrad (PV/W)‧ ist gleich dem Berstdruck (P) mal dem Behältervolumen (V) geteilt durch das Gesamtgewicht (W) des Druckbehälters. |
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b)

Motorgehäuse aus fasergewickeltem "Verbundwerkstoff" mit einem Durchmesser größer als 0,61 m oder einem ‧strukturellen Wirkungsgrad (PV/W)‧ größer als 25 km;

Technische Anmerkung:

Der ‧strukturelle Wirkungsgrad (PV/W)‧ ist gleich dem Berstdruck (P) mal dem Behältervolumen (V) geteilt durch das Gesamtgewicht (W) des Druckbehälters.

| c) | Schubdüsen für den Schubbereich größer als 45 kN oder mit Düsenhalserosionsraten kleiner als 0,075 mm/s; |
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c)

Schubdüsen für den Schubbereich größer als 45 kN oder mit Düsenhalserosionsraten kleiner als 0,075 mm/s;

| d) | Schubvektorsteuersysteme mittels Schwenkdüsen oder Sekundäreinspritzung, die für eines der Folgenden geeignet sind:






  1. | Bewegungen in alle Richtungen von mehr als ± 5°, |
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d)

Schubvektorsteuersysteme mittels Schwenkdüsen oder Sekundäreinspritzung, die für eines der Folgenden geeignet sind:

1.

Bewegungen in alle Richtungen von mehr als ± 5°,

| 2. | Winkelgeschwindigkeiten größer/gleich 20°/s oder |
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2.

Winkelgeschwindigkeiten größer/gleich 20°/s oder

| 3. | Winkelbeschleunigungen größer/gleich 40°/s2. |
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3.

Winkelbeschleunigungen größer/gleich 40°/s2.

9A009Hybridraketenantriebssysteme mit:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMERN 9A109 UND 9A119.

| a) | einem Gesamtimpuls größer als 1,1 MNs oder |
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a)

einem Gesamtimpuls größer als 1,1 MNs oder

| b) | einem Schub größer als 220 kN bei Entspannung gegen Vakuum. |
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b)

einem Schub größer als 220 kN bei Entspannung gegen Vakuum.

9A010Besonders konstruierte Bestandteile, Systeme und Strukturbauteile für Trägerraketen, Trägerraketenantriebssysteme oder "Raumfahrzeuge" wie folgt:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMERN 1A002 UND 9A110.

| a) | Bestandteile und Strukturbauteile mit einem Gewicht größer als 10 kg, besonders konstruiert für Trägerraketen, die aus von Nummer 1C007 oder 1C010 erfassten "Verbundwerkstoffen" mit Metall-"Matrix", aus organischen "Verbundwerkstoffen", aus "Verbundwerkstoffen" mit keramischer "Matrix" oder aus intermetallisch verstärkten Werkstoffen hergestellt sind;


  Anmerkung: Die Gewichtsbeschränkung ist nicht relevant für Bugspitzen. |
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a)

Bestandteile und Strukturbauteile mit einem Gewicht größer als 10 kg, besonders konstruiert für Trägerraketen, die aus von Nummer 1C007 oder 1C010 erfassten "Verbundwerkstoffen" mit Metall-"Matrix", aus organischen "Verbundwerkstoffen", aus "Verbundwerkstoffen" mit keramischer "Matrix" oder aus intermetallisch verstärkten Werkstoffen hergestellt sind;

Anmerkung: Die Gewichtsbeschränkung ist nicht relevant für Bugspitzen.

| b) | Bestandteile und Strukturbauteile, besonders konstruiert für von Nummer 9A005 bis 9A009 erfasste Trägerraketenantriebssysteme, die aus von Nummer 1C007 oder 1C010 erfassten "Verbundwerkstoffen" mit Metall-"Matrix", aus organischen "Verbundwerkstoffen", aus "Verbundwerkstoffen" mit keramischer "Matrix" oder aus intermetallisch verstärkten Werkstoffen hergestellt sind; |
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b)

Bestandteile und Strukturbauteile, besonders konstruiert für von Nummer 9A005 bis 9A009 erfasste Trägerraketenantriebssysteme, die aus von Nummer 1C007 oder 1C010 erfassten "Verbundwerkstoffen" mit Metall-"Matrix", aus organischen "Verbundwerkstoffen", aus "Verbundwerkstoffen" mit keramischer "Matrix" oder aus intermetallisch verstärkten Werkstoffen hergestellt sind;

| c) | Strukturbestandteile und einzelne Systeme, besonders konstruiert zur aktiven Kontrolle des dynamischen Verhaltens oder der Formänderungen von "Raumfahrzeug"strukturen; |
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c)

Strukturbestandteile und einzelne Systeme, besonders konstruiert zur aktiven Kontrolle des dynamischen Verhaltens oder der Formänderungen von "Raumfahrzeug"strukturen;

| d) | Gepulste Flüssigraketentriebwerke mit einem Verhältnis von Schub zu Gewicht größer/gleich 1 kN/kg und einer Ansprechzeit (Zeit, die erforderlich ist, um 90 % des Gesamtschubs nach dem Start zu erreichen) kleiner als 30 ms. |
| --- | --- |

d)

Gepulste Flüssigraketentriebwerke mit einem Verhältnis von Schub zu Gewicht größer/gleich 1 kN/kg und einer Ansprechzeit (Zeit, die erforderlich ist, um 90 % des Gesamtschubs nach dem Start zu erreichen) kleiner als 30 ms.

9A011Staustrahltriebwerke, Staustrahltriebwerke mit Überschallverbrennung oder Triebwerke mit Kombinationsantrieb sowie besonders konstruierte Bestandteile hierfür.

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMERN 9A111 UND 9A118.

9A012Unbemannte Luftfahrzeuge mit einer der folgenden Eigenschaften:

| a) | Fähigkeit zur autonomen Flugsteuerung und zur autonomen Navigation (z. B. mittels Autopilot mit Trägheitsnavigationssystem) oder |
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a)

Fähigkeit zur autonomen Flugsteuerung und zur autonomen Navigation (z. B. mittels Autopilot mit Trägheitsnavigationssystem) oder

| b) | Fähigkeit zum gesteuerten Fliegen außerhalb des unmittelbaren Sichtbereiches durch einen Bediener (z. B. mittels Fernsteuerung mit Videobildübertragung). |
| --- | --- |

b)

Fähigkeit zum gesteuerten Fliegen außerhalb des unmittelbaren Sichtbereiches durch einen Bediener (z. B. mittels Fernsteuerung mit Videobildübertragung).

9A101Kleine, treibstoffeffiziente Turbojet- und Turbofan-Triebwerke (einschließlich Turbo-Compound-Triebwerken) mit geringem Gewicht, die nicht von Nummer 9A001 erfasst werden, geeignet für "Flugkörper", wie folgt:

| a) | Triebwerke mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | Maximalschub größer als 400 N (erreicht in nicht eingebautem Zustand), außer zivil zugelassene Triebwerke mit einem Maximalschub größer als 8 890 N (erreicht in nicht eingebautem Zustand), und |
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a)

Triebwerke mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

Maximalschub größer als 400 N (erreicht in nicht eingebautem Zustand), außer zivil zugelassene Triebwerke mit einem Maximalschub größer als 8 890 N (erreicht in nicht eingebautem Zustand), und

| 2. | spezifischer Treibstoffverbrauch kleiner/gleich 0,15 kg/N/h (bei maximaler Dauerleistung auf Meereshöhe und unter Standardbedingungen); |
| --- | --- |

2.

spezifischer Treibstoffverbrauch kleiner/gleich 0,15 kg/N/h (bei maximaler Dauerleistung auf Meereshöhe und unter Standardbedingungen);

| b) | Triebwerke, konstruiert oder geändert für "Flugkörper". |
| --- | --- |

b)

Triebwerke, konstruiert oder geändert für "Flugkörper".

9A104Höhenforschungsraketen (sounding rockets), geeignet für eine Reichweite von mindestens 300 km.

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 9A004.

9A105Flüssigkeitsraketentriebwerke wie folgt:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 9A119.

| a) | Flüssigkeitsraketentriebwerke, die nicht von Nummer 9A005 erfasst werden, mit einem Gesamtimpuls größer/gleich 1,1 MNs, geeignet für "Flugkörper"; |
| --- | --- |

a)

Flüssigkeitsraketentriebwerke, die nicht von Nummer 9A005 erfasst werden, mit einem Gesamtimpuls größer/gleich 1,1 MNs, geeignet für "Flugkörper";

| b) | Flüssigkeitsraketentriebwerke, die nicht von Nummer 9A005 oder Unternummer 9A105a erfasst werden, mit einem Gesamtimpuls größer/gleich 0,841 MNs, geeignet für vollständige Raketensysteme oder unbemannte Luftfahrzeuge mit einer Reichweite von mindestens 300 km. |
| --- | --- |

b)

Flüssigkeitsraketentriebwerke, die nicht von Nummer 9A005 oder Unternummer 9A105a erfasst werden, mit einem Gesamtimpuls größer/gleich 0,841 MNs, geeignet für vollständige Raketensysteme oder unbemannte Luftfahrzeuge mit einer Reichweite von mindestens 300 km.

9A106Systeme oder Bestandteile, die nicht von Nummer 9A006 erfasst werden, geeignet für "Flugkörper", wie folgt, besonders konstruiert für Flüssigkeitsraketenantriebssysteme:

| a) | Auskleidungen für Brennkammern; |
| --- | --- |

a)

Auskleidungen für Brennkammern;

| b) | Raketendüsen; |
| --- | --- |

b)

Raketendüsen;

| c) | Schubvektorsteuerungs-Subsysteme;
  Technische Anmerkung:

  Unternummer 9A106c schließt Ausrüstung ein, die in folgenden Verfahren zur Schubvektorsteuerung Verwendung findet:








  1. | flexible Düse, |
| --- | --- | --- |

c)

Schubvektorsteuerungs-Subsysteme;

Technische Anmerkung:

Unternummer 9A106c schließt Ausrüstung ein, die in folgenden Verfahren zur Schubvektorsteuerung Verwendung findet:

1.

flexible Düse,

| 2. | Flüssig- oder Sekundärgaseinspritzung, |
| --- | --- |

2.

Flüssig- oder Sekundärgaseinspritzung,

| 3. | bewegliches Triebwerk oder bewegliche Düse, |
| --- | --- |

3.

bewegliches Triebwerk oder bewegliche Düse,

| 4. | Ablenkung des Abgasstroms (Strahlschaufeln oder Sonden) oder |
| --- | --- |

4.

Ablenkung des Abgasstroms (Strahlschaufeln oder Sonden) oder

| 5. | Verwendung von Schubklappen. |
| --- | --- |

5.

Verwendung von Schubklappen.

| d) | Regelungssysteme für Flüssig- oder Suspensionstreibstoffe (einschließlich Oxidatoren), konstruiert oder geändert für den Betrieb in Vibrationsumgebungen von mehr als 10 g rms zwischen 20 Hz und 2 000 Hz sowie, besonders konstruierte Bestandteile hierfür.


  Anmerkung: Unternummer 9A106d erfasst nur folgende Servoventile und Pumpen:








  a) | Servoventile, konstruiert für einen Durchfluss größer/gleich 24 l/min bei einem absoluten Druck größer/gleich 7 MPa und einer Stellzeit kleiner als 100 ms, |
| --- | --- | --- |

d)

Regelungssysteme für Flüssig- oder Suspensionstreibstoffe (einschließlich Oxidatoren), konstruiert oder geändert für den Betrieb in Vibrationsumgebungen von mehr als 10 g rms zwischen 20 Hz und 2 000 Hz sowie, besonders konstruierte Bestandteile hierfür.

Anmerkung: Unternummer 9A106d erfasst nur folgende Servoventile und Pumpen:

a)

Servoventile, konstruiert für einen Durchfluss größer/gleich 24 l/min bei einem absoluten Druck größer/gleich 7 MPa und einer Stellzeit kleiner als 100 ms,

| b) | Pumpen für Flüssigtreibstoff mit einer Drehzahl größer/gleich 8 000 U/min oder einem Pumpendruck größer/gleich 7 MPa. |
| --- | --- |

b)

Pumpen für Flüssigtreibstoff mit einer Drehzahl größer/gleich 8 000 U/min oder einem Pumpendruck größer/gleich 7 MPa.

9A107Feststoffraketentriebwerke, die nicht von Nummer 9A007 erfasst werden, mit einem Gesamtimpuls größer/gleich 0,841 MNs, geeignet für vollständige Raketensysteme oder unbemannte Luftfahrzeuge mit einer Reichweite von mindestens 300 km.

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 9A119.

9A108Bestandteile, die nicht von Nummer 9A008 erfasst werden, geeignet für "Flugkörper", wie folgt, besonders konstruiert für Feststoffraketenantriebssysteme:

| a) | Raketenmotorgehäuse, deren "Innenbeschichtung" und "Isolierung"; |
| --- | --- |

a)

Raketenmotorgehäuse, deren "Innenbeschichtung" und "Isolierung";

| b) | Raketendüsen; |
| --- | --- |

b)

Raketendüsen;

| c) | Schubvektorsteuerungs-Subsysteme.
  Technische Anmerkung:

  Unternummer 9A108c schließt Ausrüstung ein, die in folgenden Verfahren zur Schubvektorsteuerung Verwendung findet:








  1. | flexible Düse, |
| --- | --- | --- |

c)

Schubvektorsteuerungs-Subsysteme.

Technische Anmerkung:

Unternummer 9A108c schließt Ausrüstung ein, die in folgenden Verfahren zur Schubvektorsteuerung Verwendung findet:

1.

flexible Düse,

| 2. | Flüssig- oder Sekundärgaseinspritzung, |
| --- | --- |

2.

Flüssig- oder Sekundärgaseinspritzung,

| 3. | bewegliches Triebwerk oder bewegliche Düse, |
| --- | --- |

3.

bewegliches Triebwerk oder bewegliche Düse,

| 4. | Ablenkung des Abgasstroms (Strahlschaufeln oder Sonden) oder |
| --- | --- |

4.

Ablenkung des Abgasstroms (Strahlschaufeln oder Sonden) oder

| 5. | Verwendung von Schubklappen. |
| --- | --- |

5.

Verwendung von Schubklappen.

9A109Hybridraketenmotoren, die nicht von Nummer 9A009 erfasst werden, geeignet für "Flugkörper", sowie besonders konstruierte Bestandteile hierfür.

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 9A119.

9A110"Verbundwerkstoff"-Strukturen, Laminate und Erzeugnisse hieraus, die nicht von Nummer 9A010 erfasst werden, besonders konstruiert zur Verwendung in von Nummer 9A004 erfassten Trägerraketen oder von Nummer 9A104 erfassten Höhenforschungsraketen oder in Subsystemen, erfasst von Nummer 9A005, 9A007, Unternummer 9A105a, Nummer 9A106 bis 9A108, 9A116 oder 9A119.

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 1A002.

9A111Pulsostrahltriebwerke, geeignet für "Flugkörper", und besonders konstruierte Bestandteile hierfür.

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMERN 9A011 UND 9A118.

9A115Startausrüstung wie folgt:

| a) | Geräte und Vorrichtungen für die Handhabung, Kontrolle, Aktivierung oder den Start konstruiert oder geändert für von Nummer 9A004 erfasste Trägerraketen, von Nummer 9A012 erfasste unbemannte Luftfahrzeugsysteme, oder von Nummer 9A104 erfasste Höhenforschungsraketen; |
| --- | --- |

a)

Geräte und Vorrichtungen für die Handhabung, Kontrolle, Aktivierung oder den Start konstruiert oder geändert für von Nummer 9A004 erfasste Trägerraketen, von Nummer 9A012 erfasste unbemannte Luftfahrzeugsysteme, oder von Nummer 9A104 erfasste Höhenforschungsraketen;

| b) | Fahrzeuge für Transport, Handhabung, Kontrolle, Aktivierung oder den Start, konstruiert oder geändert für von Nummer 9A004 erfasste Trägerraketen oder von Nummer 9A104 erfasste Höhenforschungsraketen. |
| --- | --- |

b)

Fahrzeuge für Transport, Handhabung, Kontrolle, Aktivierung oder den Start, konstruiert oder geändert für von Nummer 9A004 erfasste Trägerraketen oder von Nummer 9A104 erfasste Höhenforschungsraketen.

9A116Wiedereintrittsfahrzeuge, geeignet für "Flugkörper", sowie dafür konstruierte oder abgeänderte Ausrüstung wie folgt:

| a) | Wiedereintrittsfahrzeuge; |
| --- | --- |

a)

Wiedereintrittsfahrzeuge;

| b) | Hitzeschilde und Bestandteile hierfür, hergestellt aus Keramik oder wärmeableitendem Material; |
| --- | --- |

b)

Hitzeschilde und Bestandteile hierfür, hergestellt aus Keramik oder wärmeableitendem Material;

| c) | Kühlkörper und Bestandteile hierfür, hergestellt aus leichtem Material mit hoher Wärmekapazität; |
| --- | --- |

c)

Kühlkörper und Bestandteile hierfür, hergestellt aus leichtem Material mit hoher Wärmekapazität;

| d) | Elektronische Ausrüstung, besonders konstruiert für Wiedereintrittsfahrzeuge. |
| --- | --- |

d)

Elektronische Ausrüstung, besonders konstruiert für Wiedereintrittsfahrzeuge.

9A117Stufungsmechanismen, Trennmechanismen und Stufenverbindungen, geeignet für "Flugkörper".

9A118Vorrichtungen zur Verbrennungsregelung für Triebwerke, geeignet für von Nummer 9A011 oder 9A111 erfasste "Flugkörper".

9A119Einzelne Raketenstufen, die nicht von Nummer 9A005, 9A007, 9A009, 9A105, 9A107 oder 9A109 erfasst werden, geeignet für vollständige Raketensysteme oder unbemannte Luftfahrzeuge mit einer Reichweite von mindestens 300 km.

9BPrüf-, Test- und Herstellungseinrichtungen

9B001Besonders konstruierte Ausrüstung, Werkzeuge und Vorrichtungen wie folgt für die Herstellung von Gasturbinenlaufschaufeln, -leitschaufeln oder gegossenen Deckbändern (tip shroud castings):

| a) | Ausrüstung zum Gießen mit gerichteter Erstarrung oder mit monokristalliner Erstarrung; |
| --- | --- |

a)

Ausrüstung zum Gießen mit gerichteter Erstarrung oder mit monokristalliner Erstarrung;

| b) | Keramikkerne oder -schalen. |
| --- | --- |

b)

Keramikkerne oder -schalen.

9B002Online-(Echtzeit-)Überwachungssysteme, Instrumentierung (einschließlich Sensoren) oder Ausrüstung für die automatische Datenerfassung und -verarbeitung, besonders konstruiert für die "Entwicklung" von Gasturbinentriebwerken, -baugruppen oder -bestandteilen, die von Unternummer 9E003a erfasste "Technologien" enthalten.

9B003Besonders konstruierte Ausrüstung für die "Herstellung" oder Prüfung von Gasturbinenbürstendichtungen, die für Schaufelspitzengeschwindigkeiten größer als 335 m/s und für Betriebstemperaturen größer als 773 K (500 °C) ausgelegt sind, und besonders konstruierte Bestandteile oder besonders konstruiertes Zubehör hierfür.

9B004Werkzeuge, Matrizen oder Vorrichtungen für das Fügen im festen Zustand (solid state joining) von Gasturbinenbauteilen, die in Unternummer 9E003a3 oder 9E003a6 beschrieben werden, aus "Superlegierungen", Titan oder intermetallischen Verbindungen.

9B005Online-(Echtzeit-)Überwachungssysteme, Instrumentierung (einschließlich Sensoren) oder automatische Datenerfassungs- und -verarbeitungsgeräte, besonders konstruiert für die Verwendung an einem der folgenden Windkanäle oder einer der folgenden Einrichtungen:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 9B105.

| a) | Windkanäle für Geschwindigkeiten größer/gleich Mach 1,2, ausgenommen besonders für Unterrichtszwecke konstruierte Kanäle mit einer ‧Abmessung des Messquerschnitts‧ (quer gemessen) kleiner als 250 mm;
  Technische Anmerkung:

  Unter ‧Abmessung des Messquerschnitts‧ werden in Unternummer 9B005a der Durchmesser des Kreises, die Seitenlänge des Quadrats oder die längste Seite des Rechtecks an der größten Ausdehnung des Messquerschnitts verstanden. |
| --- | --- |

a)

Windkanäle für Geschwindigkeiten größer/gleich Mach 1,2, ausgenommen besonders für Unterrichtszwecke konstruierte Kanäle mit einer ‧Abmessung des Messquerschnitts‧ (quer gemessen) kleiner als 250 mm;

Technische Anmerkung:

Unter ‧Abmessung des Messquerschnitts‧ werden in Unternummer 9B005a der Durchmesser des Kreises, die Seitenlänge des Quadrats oder die längste Seite des Rechtecks an der größten Ausdehnung des Messquerschnitts verstanden.

| b) | Einrichtungen zur Simulierung von Strömungsverhältnissen bei Geschwindigkeiten größer als Mach 5, einschließlich Lichtbogenwindkanälen, Plasmalichtbogenkanälen, Stoßwellenrohren, Stoßwellenkanälen, Gaskanälen und Leichtgaskanonen, oder |
| --- | --- |

b)

Einrichtungen zur Simulierung von Strömungsverhältnissen bei Geschwindigkeiten größer als Mach 5, einschließlich Lichtbogenwindkanälen, Plasmalichtbogenkanälen, Stoßwellenrohren, Stoßwellenkanälen, Gaskanälen und Leichtgaskanonen, oder

| c) | Windkanäle oder Einrichtungen, ausgenommen solche mit zweidimensionalen Querschnitten, mit denen Strömungsverhältnisse mit einer Reynoldszahl größer als 25 × 106 simuliert werden können. |
| --- | --- |

c)

Windkanäle oder Einrichtungen, ausgenommen solche mit zweidimensionalen Querschnitten, mit denen Strömungsverhältnisse mit einer Reynoldszahl größer als 25 × 106 simuliert werden können.

9B006Besonders konstruierte akustische Schwingungsprüfausrüstung, mit der Schalldruckpegel größer/gleich 160 dB (bezogen auf 20 μPa) mit einem Nennausgang größer/gleich 4 kW bei einer Prüfzellentemperatur größer als 1 273 K (1 000 °C) erzeugt werden können, sowie besonders konstruierte Messwertgeber, Dehnungsmessstreifen, Beschleunigungsmesser, Thermoelemente oder Quarzheizelemente hierfür.

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 9B106.

9B007Besonders konstruierte Ausrüstung zur Prüfung der Integrität von Raketenmotoren mit Hilfe anderer zerstörungsfreier Prüfverfahren (ZfP) als planares Röntgen oder grundlegende physikalische oder chemische Analysen.

9B008Besonders konstruierte Messwertgeber für die direkte Messung der Wandreibung von Prüfströmungen mit einer Staupunkttemperatur größer als 833 K (560 °C).

9B009Werkzeuge, besonders konstruiert für die Fertigung von pulvermetallurgischen Turbinenrotorkomponenten, die bei einem Spannungsniveau größer/gleich 60 % der Zugfestigkeit und Metalltemperaturen größer/gleich 873 K (600 °C) betrieben werden können.

9B105Windkanäle für Strömungsgeschwindigkeiten größer/gleich Mach 0,9, geeignet für "Flugkörper" und deren Subsysteme.

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 9B005.

9B106Umweltprüfkammern und schalltote Räume wie folgt:

| a) | Umweltprüfkammern für die Simulation folgender Flugbedingungen:






  1. | Vibrationsumgebungen größer/gleich 10 g rms zwischen 20 Hz und 2 000 Hz und bei Übertragungskräften größer/gleich 5 kN und entweder |
| --- | --- | --- |

a)

Umweltprüfkammern für die Simulation folgender Flugbedingungen:

1.

Vibrationsumgebungen größer/gleich 10 g rms zwischen 20 Hz und 2 000 Hz und bei Übertragungskräften größer/gleich 5 kN und entweder

| 2. | Höhe größer/gleich 15 000 m oder |
| --- | --- |

2.

Höhe größer/gleich 15 000 m oder

| 3. | Temperaturbereich von mindestens 223 K (– 50 °C) bis 398 K (+ 125 °C); |
| --- | --- |

3.

Temperaturbereich von mindestens 223 K (– 50 °C) bis 398 K (+ 125 °C);

| b) | schalltote Räume für die Simulation folgender Flugbedingungen:






  1. | akustische Umgebungsbedingungen mit einem Gesamt-Schalldruckpegel größer/gleich 140 dB (bezogen auf 20 μPa) oder mit einer Nennausgangsleistung größer/gleich 4 kW und entweder |
| --- | --- | --- |

b)

schalltote Räume für die Simulation folgender Flugbedingungen:

1.

akustische Umgebungsbedingungen mit einem Gesamt-Schalldruckpegel größer/gleich 140 dB (bezogen auf 20 μPa) oder mit einer Nennausgangsleistung größer/gleich 4 kW und entweder

| 2. | Höhe größer/gleich 15 000 m oder |
| --- | --- |

2.

Höhe größer/gleich 15 000 m oder

| 3. | Temperaturbereich von mindestens 223 K (– 50 °C) bis 398 K (+ 125 °C). |
| --- | --- |

3.

Temperaturbereich von mindestens 223 K (– 50 °C) bis 398 K (+ 125 °C).

9B115Besonders konstruierte "Herstellungsausrüstung" für die von Nummer 9A005 bis 9A009, 9A011, 9A101, 9A105 bis 9A109, 9A111 oder 9A116 bis 9A119 erfassten Systeme, Subsysteme oder Bestandteile.

9B116Besonders konstruierte "Herstellungsanlagen" für von Nummer 9A004 erfasste Trägerraketen oder von Nummer 9A005 bis 9A009, 9A011, 9A101, 9A104 bis 9A109, 9A111 oder 9A116 bis 9A119 erfasste Systeme, Subsysteme oder Bestandteile.

9B117Prüfstände für den Test von Raketenmotoren oder von Feststoff- oder Flüssigkeitsraketen mit einer der folgenden Eigenschaften:

| a) | ausgelegt für einen Schub größer als 90 kN oder |
| --- | --- |

a)

ausgelegt für einen Schub größer als 90 kN oder

| b) | gleichzeitige Messung der drei Schubkomponenten. |
| --- | --- |

b)

gleichzeitige Messung der drei Schubkomponenten.

9CWerkstoffe und Materialien

9C110Harzimprägnierte Faser-Prepregs und metallbeschichtete Faser-Preforms für die von Nummer 9A110 erfassten "Verbundwerkstoff"-Strukturen, Laminate und Erzeugnisse hieraus, hergestellt aus organischer "Matrix" oder Metall-"Matrix" unter Verwendung einer Faser- oder Fadenverstärkung mit einer "spezifischen Zugfestigkeit" größer als 7,62 × 104 m und einem "spezifischen Modul" größer als 3,18 × 106 m.

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMERN 1C010 UND 1C210.

Anmerkung: Nummer 9C110 erfasst nur harzimprägnierte Faser-Prepregs mit solchen Harzen, die nach dem Aushärten eine Glasübergangstemperatur (Tg) von 418 K (145 °C) erreichen (bestimmt nach ASTM D 4065 oder vergleichbaren nationalen Standards).

9DDatenverarbeitungsprogramme (Software)

9D001"Software", besonders entwickelt oder geändert für die "Entwicklung" von Ausrüstung oder "Technologie", die von Nummer 9A, 9B oder 9E003 erfasst wird.

9D002"Software", besonders entwickelt oder geändert für die "Herstellung" von Ausrüstung, die von Nummer 9A oder 9B erfasst wird.

9D003"Software", besonders entwickelt oder geändert für die "Verwendung" von "volldigitalen Triebwerksregelungen" ("FADEC" = Full Authority Digital Electronic Engine Control) für Antriebssysteme, die von Nummer 9A erfasst werden, oder für Ausrüstung, die von Nummer 9B erfasst wird, wie folgt:

| a) | "Software" in digitalen elektronischen Reglern für Antriebssysteme, Luft- und Raumfahrtprüfeinrichtungen oder Prüfeinrichtungen für luftatmende Flugtriebwerke; |
| --- | --- |

a)

"Software" in digitalen elektronischen Reglern für Antriebssysteme, Luft- und Raumfahrtprüfeinrichtungen oder Prüfeinrichtungen für luftatmende Flugtriebwerke;

| b) | fehlertolerante "Software", die in "FADEC"-Systemen für Antriebssysteme und zugehörige Prüfeinrichtungen verwendet wird. |
| --- | --- |

b)

fehlertolerante "Software", die in "FADEC"-Systemen für Antriebssysteme und zugehörige Prüfeinrichtungen verwendet wird.

9D004"Software" wie folgt:

| a) | "Software" für zwei- oder dreidimensionale viskose Strömung, die für die gezielte Modellierung der Triebwerkströmung nötig und mit Windkanal- oder Flugprüfdaten validiert ist; |
| --- | --- |

a)

"Software" für zwei- oder dreidimensionale viskose Strömung, die für die gezielte Modellierung der Triebwerkströmung nötig und mit Windkanal- oder Flugprüfdaten validiert ist;

| b) | "Software" für die Prüfung von Gasturbinenflugtriebwerken, -baugruppen oder -bestandteilen, die besonders entwickelt ist, Daten in Echtzeit zu erfassen, zu verarbeiten und zu analysieren mit während des Prüfvorgangs selbsttätiger Regelung einschließlich dynamischer Einstellungen an Prüflingen oder Prüfbedingungen; |
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b)

"Software" für die Prüfung von Gasturbinenflugtriebwerken, -baugruppen oder -bestandteilen, die besonders entwickelt ist, Daten in Echtzeit zu erfassen, zu verarbeiten und zu analysieren mit während des Prüfvorgangs selbsttätiger Regelung einschließlich dynamischer Einstellungen an Prüflingen oder Prüfbedingungen;

| c) | "Software", besonders entwickelt für die Steuerung des Vorgangs beim Gießen mit gerichteter Erstarrung und mit monokristalliner Erstarrung; |
| --- | --- |

c)

"Software", besonders entwickelt für die Steuerung des Vorgangs beim Gießen mit gerichteter Erstarrung und mit monokristalliner Erstarrung;

| d) | "Software" in der Form von "Quellcode", "Objektcode" oder Maschinencode, die für die "Verwendung" aktiver Ausgleichssysteme für die Spaltregelung von Laufschaufelspitzen nötig ist.


  Anmerkung: Unternummer 9D004d erfasst nicht "Software", die in nichterfasster Ausrüstung integriert ist oder die für Wartungstätigkeiten im Zusammenhang mit der Kalibrierung, Instandsetzung oder Aktualisierung des aktiven Spaltregelungssystems nötig ist. |
| --- | --- |

d)

"Software" in der Form von "Quellcode", "Objektcode" oder Maschinencode, die für die "Verwendung" aktiver Ausgleichssysteme für die Spaltregelung von Laufschaufelspitzen nötig ist.

Anmerkung: Unternummer 9D004d erfasst nicht "Software", die in nichterfasster Ausrüstung integriert ist oder die für Wartungstätigkeiten im Zusammenhang mit der Kalibrierung, Instandsetzung oder Aktualisierung des aktiven Spaltregelungssystems nötig ist.

9D101"Software", besonders entwickelt oder geändert für die "Verwendung“ von Ausrüstung, erfasst von Nummer 9B105, 9B106, 9B116 oder 9B117.

9D103"Software", besonders entwickelt für die Modellbildung, Simulation oder Integrationsplanung der von Nummer 9A004 erfassten Trägerraketen oder von Nummer 9A104 erfassten Höhenforschungsraketen oder von Subsystemen, erfasst von Nummer 9A005, 9A007, Unternummer 9A105a, Nummer 9A106, 9A108, 9A116 oder 9A119.

Anmerkung: Die von Nummer 9D103 erfasste "Software" bleibt erfasst, auch wenn sie mit der von Nummer 4A102 erfassten Hardwareausrüstung kombiniert wird.

9D104"Software", besonders entwickelt oder geändert für die "Verwendung" von Ausrüstung, erfasst von Nummer bzw. Unternummer 9A001, 9A005, 9A006d, 9A006g, 9A007a, 9A008d, 9A009a, 9A010d, 9A011, 9A101, 9A105, 9A106c, 9A106d, 9A107, 9A108c, 9A109, 9A111, 9A115a, 9A116d, 9A117 oder 9A118.

9D105"Software", die das Zusammenwirken von mehr als einem Subsystem koordiniert, besonders entwickelt oder geändert für die "Verwendung" in von Nummer 9A004 erfassten Trägerraketen oder von Nummer 9A104 erfassten Höhenforschungsraketen.

9ETechnologie

Anmerkung: Von Nummer 9E001 bis 9E003 erfasste "Entwicklungs"- oder "Herstellungs"-"Technologie" für Gasturbinentriebwerke bleibt erfasst, wenn sie als "Verwendungs"-"Technologie" für Instandsetzung, Modernisierung und Überholung verwendet wird. Von der Erfassung ausgenommen sind: technische Daten, Zeichnungen oder Dokumentation für Wartungstätigkeiten, die unmittelbar mit der Kalibrierung, dem Ausbau oder Austausch von beschädigten oder nichtbetriebsfähigen, am Einsatzstützpunkt ersetzbaren Teilen (LRU) verbunden sind, einschließlich des Austausches ganzer Triebwerke oder Triebwerkmodule.

9E001"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Entwicklung" von Ausrüstung oder "Software", die von Unternummer 9A001c, Nummer 9A004 bis 9A011, 9B oder 9D erfasst wird.

9E002"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Herstellung" von Ausrüstung, die von Unternummer 9A001c, Nummer 9A004 bis 9A011 oder 9B erfasst wird.

Anmerkung:"Technologie" für die Instandsetzung von erfassten Strukturen, Laminaten oder Werkstoffen: Siehe Unternummer 1E002f.

9E003"Technologie" wie folgt:

| a) | "Technologie", die "unverzichtbar" ist für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von einem der folgenden Gasturbinenbestandteile oder -systeme:






  1. | Gasturbinenlaufschaufeln, -leitschaufeln oder Deckbänder (tipp shrouds) aus gerichtet erstarrten (DS) oder Einkristall (SC)-Legierungen, die bei 1 273 K (1 000 °C) und einer Spannung von 200 MPa eine Zeitstandfestigkeit (in der kristallografischen Orientierung 001) von mehr als 400 Stunden aufweisen, wobei die mittleren Materialkennwerte zugrunde gelegt werden, |
| --- | --- | --- |

a)

"Technologie", die "unverzichtbar" ist für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von einem der folgenden Gasturbinenbestandteile oder -systeme:

1.

Gasturbinenlaufschaufeln, -leitschaufeln oder Deckbänder (tipp shrouds) aus gerichtet erstarrten (DS) oder Einkristall (SC)-Legierungen, die bei 1 273 K (1 000 °C) und einer Spannung von 200 MPa eine Zeitstandfestigkeit (in der kristallografischen Orientierung 001) von mehr als 400 Stunden aufweisen, wobei die mittleren Materialkennwerte zugrunde gelegt werden,

| 2. | Mehrfachdombrennkammern mit einer mittleren Brenneraustrittstemperatur größer als 1 813 K (1 540 °C) oder Brennkammern mit thermisch entkoppelten Flammrohren (combustion liner), nichtmetallischen Flammrohren oder nichtmetallischen Ummantelungen, |
| --- | --- |

2.

Mehrfachdombrennkammern mit einer mittleren Brenneraustrittstemperatur größer als 1 813 K (1 540 °C) oder Brennkammern mit thermisch entkoppelten Flammrohren (combustion liner), nichtmetallischen Flammrohren oder nichtmetallischen Ummantelungen,

| 3. | Bestandteile, hergestellt aus einem der folgenden Stoffe:






  a) | organische "Verbundwerkstoffe", entwickelt für Betriebstemperaturen größer als 588 K (315 °C), |
| --- | --- | --- |

3.

Bestandteile, hergestellt aus einem der folgenden Stoffe:

a)

organische "Verbundwerkstoffe", entwickelt für Betriebstemperaturen größer als 588 K (315 °C),

| b) | "Verbundwerkstoffe" mit Metall-"Matrix", Werkstoffe mit Keramik-"Matrix" und intermetallische oder intermetallisch verstärkte Werkstoffe, erfasst von Nummer 1C007, oder |
| --- | --- |

b)

"Verbundwerkstoffe" mit Metall-"Matrix", Werkstoffe mit Keramik-"Matrix" und intermetallische oder intermetallisch verstärkte Werkstoffe, erfasst von Nummer 1C007, oder

| c) | "Verbundwerkstoffe", erfasst von Nummer 1C010 und hergestellt mit Harzen, erfasst von Nummer 1C008, |
| --- | --- |

c)

"Verbundwerkstoffe", erfasst von Nummer 1C010 und hergestellt mit Harzen, erfasst von Nummer 1C008,

| 4. | ungekühlte Turbinenlaufschaufeln, -leitschaufeln, Deckbänder (tipp shrouds) oder andere Bestandteile, die für den Betrieb bei Gastemperaturen im Schaufelkanal größer/gleich 1 323 K (1 050 °C) ausgelegt sind, |
| --- | --- |

4.

ungekühlte Turbinenlaufschaufeln, -leitschaufeln, Deckbänder (tipp shrouds) oder andere Bestandteile, die für den Betrieb bei Gastemperaturen im Schaufelkanal größer/gleich 1 323 K (1 050 °C) ausgelegt sind,

| 5. | gekühlte Turbinenschaufeln, -leitschaufeln oder Deckbänder (tipp shrouds), andere als die in Unternummer 9E003a1 beschriebenen, die Gastemperaturen im Schaufelkanal größer/gleich 1 643 K (1 370 °C) ausgesetzt sind, |
| --- | --- |

5.

gekühlte Turbinenschaufeln, -leitschaufeln oder Deckbänder (tipp shrouds), andere als die in Unternummer 9E003a1 beschriebenen, die Gastemperaturen im Schaufelkanal größer/gleich 1 643 K (1 370 °C) ausgesetzt sind,

| 6. | durch Fügen im festen Zustand (solid state joining) verbundene Schaufelblatt/Scheiben-Kombinationen, |
| --- | --- |

6.

durch Fügen im festen Zustand (solid state joining) verbundene Schaufelblatt/Scheiben-Kombinationen,

| 7. | Gasturbinenbestandteile, bei denen von Unternummer 2E003b erfasste "Diffusionsschweiß"-"Technologie" verwendet wird, |
| --- | --- |

7.

Gasturbinenbestandteile, bei denen von Unternummer 2E003b erfasste "Diffusionsschweiß"-"Technologie" verwendet wird,

| 8. | schadenstolerante rotierende Bestandteile von Gasturbinentriebwerken, bei denen von Unternummer 1C002b erfasste pulvermetallurgische Werkstoffe verwendet werden, |
| --- | --- |

8.

schadenstolerante rotierende Bestandteile von Gasturbinentriebwerken, bei denen von Unternummer 1C002b erfasste pulvermetallurgische Werkstoffe verwendet werden,

| 9. | "FADEC" (Full Authority Digital Electronic Engine Control) für Gasturbinentriebwerke und Kombinationsantriebe sowie zugehörige Diagnosebauteile, Sensoren und besonders entwickelte Bestandteile, |
| --- | --- |

9.

"FADEC" (Full Authority Digital Electronic Engine Control) für Gasturbinentriebwerke und Kombinationsantriebe sowie zugehörige Diagnosebauteile, Sensoren und besonders entwickelte Bestandteile,

| 10. | Strömungskanäle mit veränderlicher Geometrie und zugehörige Regelsysteme für:






  a) | Gasgeneratorturbinen, |
| --- | --- | --- |

10.

Strömungskanäle mit veränderlicher Geometrie und zugehörige Regelsysteme für:

a)

Gasgeneratorturbinen,

| b) | Fans oder Arbeitsturbinen, |
| --- | --- |

b)

Fans oder Arbeitsturbinen,

| c) | Schubdüsen oder |
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c)

Schubdüsen oder

Anmerkung 1: Strömungskanäle mit veränderlicher Geometrie und zugehörige Regelsysteme in Unternummer 9E003a10 schließen Eintrittsleitschaufeln, verstellbare Fans, verstellbare Leitkränze oder Abblasventile für Verdichter nicht ein.

Anmerkung 2: Unternummer 9E003a10 erfasst nicht "Entwicklungs"- oder "Herstellungs"-"Technologie" für Strömungskanäle mit veränderlicher Geometrie für Umkehrschub.

| 11. | hohle Fanlaufschaufeln großer Profiltiefe ohne gegenseitige Abstützung der Schaufeln; |
| --- | --- |

11.

hohle Fanlaufschaufeln großer Profiltiefe ohne gegenseitige Abstützung der Schaufeln;

| b) | "Technologie", die "unverzichtbar" ist für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von:






  1. | Flugmodellen für Windkanäle mit nicht störend auf den Luftstrom wirkenden Sensoren, die Daten von den Sensoren zum Datenerfassungssystem übertragen können oder |
| --- | --- | --- |

b)

"Technologie", die "unverzichtbar" ist für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von:

1.

Flugmodellen für Windkanäle mit nicht störend auf den Luftstrom wirkenden Sensoren, die Daten von den Sensoren zum Datenerfassungssystem übertragen können oder

| 2. | Propellerblättern und Propfanblättern aus "Verbundwerkstoffen", die mehr als 2 000 kW bei Fluggeschwindigkeiten größer als Mach 0,55 aufnehmen können; |
| --- | --- |

2.

Propellerblättern und Propfanblättern aus "Verbundwerkstoffen", die mehr als 2 000 kW bei Fluggeschwindigkeiten größer als Mach 0,55 aufnehmen können;

| c) | "Technologie", die "unverzichtbar" ist für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von Bestandteilen für Gasturbinentriebwerke unter Verwendung von "Laser"-, Wasserstrahl-, elektrochemischen oder funkenerosiven Bohrverfahren zur Herstellung von Löchern mit einer der folgenden Kombinationen von Eigenschaften:






  1. | Mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | Tiefen größer als das 4fache ihres Durchmessers, |
| --- | --- | --- | --- |

c)

"Technologie", die "unverzichtbar" ist für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von Bestandteilen für Gasturbinentriebwerke unter Verwendung von "Laser"-, Wasserstrahl-, elektrochemischen oder funkenerosiven Bohrverfahren zur Herstellung von Löchern mit einer der folgenden Kombinationen von Eigenschaften:

1.

Mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

Tiefen größer als das 4fache ihres Durchmessers,

| b) | Durchmesser kleiner als 0,76 mm und |
| --- | --- |

b)

Durchmesser kleiner als 0,76 mm und

| c) | Bohrwinkel kleiner/gleich 25° oder |
| --- | --- |

c)

Bohrwinkel kleiner/gleich 25° oder

| 2. | Mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | Tiefen größer als das 5fache ihres Durchmessers, |
| --- | --- | --- |

2.

Mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

Tiefen größer als das 5fache ihres Durchmessers,

| b) | Durchmesser kleiner als 0,4 mm und |
| --- | --- |

b)

Durchmesser kleiner als 0,4 mm und

| c) | Bohrwinkel größer als 25°; |
| --- | --- |

c)

Bohrwinkel größer als 25°;

Technische Anmerkung:

Im Sinne von Unternummer 9E003c wird der Bohrwinkel von einer Ebene aus gemessen, die tangential zur Schaufelblattoberfläche an dem Punkt verläuft, an dem die Mittellinie der Bohrung in die Blattoberfläche eintritt.

| d) | "Technologie", die "unverzichtbar" ist für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von Leistungsübertragungssystemen für Hubschrauber oder Schwenkrotor- oder Kippflügel-"Luftfahrzeuge"; |
| --- | --- |

d)

"Technologie", die "unverzichtbar" ist für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von Leistungsübertragungssystemen für Hubschrauber oder Schwenkrotor- oder Kippflügel-"Luftfahrzeuge";

| e) | "Technologie" für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von Dieselmotor-Antriebssystemen für Landfahrzeuge mit allen folgenden technischen Daten:






  1. | ‧Boxvolumen‧ kleiner/gleich 1,2 m3, |
| --- | --- | --- |

e)

"Technologie" für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von Dieselmotor-Antriebssystemen für Landfahrzeuge mit allen folgenden technischen Daten:

1.

‧Boxvolumen‧ kleiner/gleich 1,2 m3,

| 2. | Gesamtleistung größer als 750 kW, basierend auf 80/1269/EEC, ISO 2534 oder gleichwertigen nationalen Normen und |
| --- | --- |

2.

Gesamtleistung größer als 750 kW, basierend auf 80/1269/EEC, ISO 2534 oder gleichwertigen nationalen Normen und

| 3. | Leistungsdichte größer als 700 kW/m3‧Boxvolumen‧, |
| --- | --- |

3.

Leistungsdichte größer als 700 kW/m3‧Boxvolumen‧,

Technische Anmerkung:

Das ‧Boxvolumen‧ in Unternummer 9E003e wird als das Produkt aus drei wie folgt gemessenen, aufeinander senkrecht stehenden Abmessungen definiert:

| Länge | : | die Länge der Kurbelwelle von der Motorstirnseite bis zur Flanschfläche des Schwungrads, |
| --- | --- | --- |
| Breite | : | die größte der folgenden Abmessungen:








  a) | das Außenmaß zwischen den Ventildeckeln, |

Länge

:

die Länge der Kurbelwelle von der Motorstirnseite bis zur Flanschfläche des Schwungrads,

Breite

:

die größte der folgenden Abmessungen:

a)

das Außenmaß zwischen den Ventildeckeln,

| b) | das Maß zwischen den Außenkanten der Zylinderköpfe oder |
| --- | --- |

b)

das Maß zwischen den Außenkanten der Zylinderköpfe oder

| c) | der Durchmesser des Schwungradgehäuses, |
| --- | --- |

c)

der Durchmesser des Schwungradgehäuses,

Höhe

:

die größere der folgenden Abmessungen:

| a) | das Maß zwischen der Kurbelwellen-Mittellinie und der Oberkante des Ventildeckels (oder Zylinderkopfes) zuzüglich des doppelten Hubs oder |
| --- | --- |

a)

das Maß zwischen der Kurbelwellen-Mittellinie und der Oberkante des Ventildeckels (oder Zylinderkopfes) zuzüglich des doppelten Hubs oder

| b) | der Durchmesser des Schwungradgehäuses. |
| --- | --- |

b)

der Durchmesser des Schwungradgehäuses.

| f) | "Technologie", die "unverzichtbar" ist für die "Herstellung" von besonders entwickelten Bestandteilen wie folgt für Hochleistungsdieselmotoren:






  1. | "Technologie", die "unverzichtbar" ist für die "Herstellung" von Motorensystemen, bei denen für alle folgenden Bauteile keramische Werkstoffe verwendet werden, die von Nummer 1C007 erfasst werden:






  a) | Zylinderlaufbuchsen, |
| --- | --- | --- | --- |

f)

"Technologie", die "unverzichtbar" ist für die "Herstellung" von besonders entwickelten Bestandteilen wie folgt für Hochleistungsdieselmotoren:

1.

"Technologie", die "unverzichtbar" ist für die "Herstellung" von Motorensystemen, bei denen für alle folgenden Bauteile keramische Werkstoffe verwendet werden, die von Nummer 1C007 erfasst werden:

a)

Zylinderlaufbuchsen,

| b) | Kolben, |
| --- | --- |

b)

Kolben,

| c) | Zylinderköpfe und |
| --- | --- |

c)

Zylinderköpfe und

| d) | ein oder mehrere weitere Bauteile (einschl. Auslassöffnungen, Turboladern, Ventilführungen, Ventilbaugruppen oder isolierter Kraftstoffeinspritzdüsen), |
| --- | --- |

d)

ein oder mehrere weitere Bauteile (einschl. Auslassöffnungen, Turboladern, Ventilführungen, Ventilbaugruppen oder isolierter Kraftstoffeinspritzdüsen),

| 2. | "Technologie", die "unverzichtbar" ist für die "Herstellung" von Turboladersystemen mit Einstufenkompressoren mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | Betrieb bei Druckverhältnissen von 4 : 1 oder höher, |
| --- | --- | --- |

2.

"Technologie", die "unverzichtbar" ist für die "Herstellung" von Turboladersystemen mit Einstufenkompressoren mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

Betrieb bei Druckverhältnissen von 4 : 1 oder höher,

| b) | Massendurchsatz im Bereich von 30 bis 130 kg/min und |
| --- | --- |

b)

Massendurchsatz im Bereich von 30 bis 130 kg/min und

| c) | Veränderbarkeit des Strömungsquerschnitts innerhalb des Kompressor- oder Turbinenbereichs, |
| --- | --- |

c)

Veränderbarkeit des Strömungsquerschnitts innerhalb des Kompressor- oder Turbinenbereichs,

| 3. | "Technologie", die "unverzichtbar" ist für die "Herstellung" von Kraftstoffeinspritzsystemen, die eine besonders konstruierte Eignung zur Verwendung verschiedener Kraftstoffe (z. B. Diesel- oder Düsenkraftstoff) aufweisen, die den Viskositätsbereich von Dieselkraftstoff (2,5 cSt bei 310,8 K (37,8 °C)) bis zu Benzin (0,5 cSt bei 310,8 K (37,8 °C)) abdecken, mit allen folgenden Eigenschaften:






  a) | Einspritzmenge größer als 230 mm3 pro Einspritzung pro Zylinder und |
| --- | --- | --- |

3.

"Technologie", die "unverzichtbar" ist für die "Herstellung" von Kraftstoffeinspritzsystemen, die eine besonders konstruierte Eignung zur Verwendung verschiedener Kraftstoffe (z. B. Diesel- oder Düsenkraftstoff) aufweisen, die den Viskositätsbereich von Dieselkraftstoff (2,5 cSt bei 310,8 K (37,8 °C)) bis zu Benzin (0,5 cSt bei 310,8 K (37,8 °C)) abdecken, mit allen folgenden Eigenschaften:

a)

Einspritzmenge größer als 230 mm3 pro Einspritzung pro Zylinder und

| b) | Einsatz von besonders konstruierten elektronischen Regeleinrichtungen zum automatischen Umschalten der Drehzahlreglercharakteristiken in Abhängigkeit von den Kraftstoffeigenschaften, um eine gleich bleibende Drehmomentcharakteristik mit Hilfe geeigneter Sensoren zu erzielen, |
| --- | --- |

b)

Einsatz von besonders konstruierten elektronischen Regeleinrichtungen zum automatischen Umschalten der Drehzahlreglercharakteristiken in Abhängigkeit von den Kraftstoffeigenschaften, um eine gleich bleibende Drehmomentcharakteristik mit Hilfe geeigneter Sensoren zu erzielen,

| g) | "Technologie", die "unverzichtbar" ist für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von ‧Hochleistungsdieselmotoren‧ mit Fest-, Gasphasen- oder Flüssigfilmschmierung (auch in Kombination) der Zylinderwand für den Betrieb bei Temperaturen größer als 723 K (450 °C), die an der Zylinderwand an der oberen Grenze des Wegs des obersten Kolbenringes gemessen werden.
  Technische Anmerkung:

  ‧Hochleistungsdieselmotoren‧ sind Dieselmotoren mit einem mittleren, spezifischen Effektivdruck größer/gleich 1,8 MPa bei einer Drehzahl von 2 300 min-1, sofern die Nenndrehzahl mindestens 2 300 min-1 beträgt. |
| --- | --- |

g)

"Technologie", die "unverzichtbar" ist für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von ‧Hochleistungsdieselmotoren‧ mit Fest-, Gasphasen- oder Flüssigfilmschmierung (auch in Kombination) der Zylinderwand für den Betrieb bei Temperaturen größer als 723 K (450 °C), die an der Zylinderwand an der oberen Grenze des Wegs des obersten Kolbenringes gemessen werden.

Technische Anmerkung:

‧Hochleistungsdieselmotoren‧ sind Dieselmotoren mit einem mittleren, spezifischen Effektivdruck größer/gleich 1,8 MPa bei einer Drehzahl von 2 300 min-1, sofern die Nenndrehzahl mindestens 2 300 min-1 beträgt.

9E101"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von Ausrüstung, die von Nummer 9A101, 9A104 bis 9A111 oder 9A115 bis 9A119 erfasst wird.

9E102"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Verwendung" der von Nummer 9A004 erfassten Trägerraketen oder der von Nummer 9A005 bis 9A011, 9A101, 9A104 bis 9A111, 9A115 bis 9A119, 9B105, 9B106, 9B115 bis 9B117, 9D101 oder 9D103 erfassten Güter.

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(1)  Hersteller die ihre Positioniergenauigkeit nach ISO 230/2 (1997) ermitteln, sollten sich mit der zuständigen Behörde in dem Mitgliedstaat ins Benehmen setzen, in dem sie niedergelassen sind.

(2)  Die in Klammern gesetzten Ziffern verweisen auf nachstehende Anmerkungen zu dieser Tabelle.

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ANHANG II

ALLGEMEINE AUSFUHRGENEHMIGUNG DER GEMEINSCHAFT Nr. EU001

(gemäß Artikel 6 der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000)

Ausstellende Behörde: Europäische Gemeinschaft

Teil 1

Diese Ausfuhrgenehmigung betrifft folgende Güter:

Alle Güter mit doppeltem Verwendungszweck, die in einer Nummer des Anhangs I der vorliegenden Verordnung aufgeführt sind, mit Ausnahme der nachstehend in Teil 2 aufgeführten Güter.

Teil 2

| — | | Alle in Anhang IV aufgeführten Güter. |
| --- | --- | --- |
| — | 0C001 | "Natürliches Uran" oder "abgereichertes Uran" oder Thorium als Metall, Legierung, chemische Verbindung oder Konzentrat, sowie jedes andere Material, das einen oder mehrere der vorstehend genannten Stoffe enthält; |
| — | 0C002 | "Besonders spaltbares Material", anderes als in Anhang IV genannt; |
| — | 0D001 | "Software", besonders entwickelt oder geändert für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" von Gütern, die von Kategorie 0 erfasst werden, soweit sie sich auf die Nummer 0C001 oder auf die Güter der Nummer 0C002 bezieht, die nicht unter Anhang IV fallen. |
| — | 0E001 | "Technologie" entsprechend der Nukleartechnologie-Anmerkung für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" von Gütern, die von Kategorie 0 erfasst werden, soweit sie sich auf die Nummer 0C001 oder auf die Güter der Nummer 0C002 bezieht, die nicht unter Anhang IV fallen. |
| — | 1A102 | Resaturierte, pyrolysierte Kohlenstoff-Kohlenstoff-Komponenten, konstruiert für von Nummer 9A004 erfasste Trägerraketen oder von Nummer 9A104 erfasste Höhenforschungsraketen. |
| — | 1C351 | Human- und tierpathogene Erreger sowie "Toxine". |
| — | 1C352 | Tierpathogene Erreger. |
| — | 1C353 | Genetische Elemente und genetisch modifizierte Organismen. |
| — | 1C354 | Pflanzenpathogene Erreger. |
| — | 7E104 | "Technologie" für die Integration von Flugsteuerungs-, Lenk- und Antriebsdaten in ein Flug-Managementsystem zur Flugbahnoptimierung von Raketensystemen. |
| — | 9A009.a. | Hybridraketenantriebssysteme mit einem Gesamtimpuls größer als 1,1 MNs. |
| — | 9A117 | Stufungsmechanismen, Trennmechanismen und Stufenverbindungen, geeignet für "Flugkörper". |

—

Alle in Anhang IV aufgeführten Güter.

—

0C001

"Natürliches Uran" oder "abgereichertes Uran" oder Thorium als Metall, Legierung, chemische Verbindung oder Konzentrat, sowie jedes andere Material, das einen oder mehrere der vorstehend genannten Stoffe enthält;

—

0C002

"Besonders spaltbares Material", anderes als in Anhang IV genannt;

—

0D001

"Software", besonders entwickelt oder geändert für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" von Gütern, die von Kategorie 0 erfasst werden, soweit sie sich auf die Nummer 0C001 oder auf die Güter der Nummer 0C002 bezieht, die nicht unter Anhang IV fallen.

—

0E001

"Technologie" entsprechend der Nukleartechnologie-Anmerkung für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" von Gütern, die von Kategorie 0 erfasst werden, soweit sie sich auf die Nummer 0C001 oder auf die Güter der Nummer 0C002 bezieht, die nicht unter Anhang IV fallen.

—

1A102

Resaturierte, pyrolysierte Kohlenstoff-Kohlenstoff-Komponenten, konstruiert für von Nummer 9A004 erfasste Trägerraketen oder von Nummer 9A104 erfasste Höhenforschungsraketen.

—

1C351

Human- und tierpathogene Erreger sowie "Toxine".

—

1C352

Tierpathogene Erreger.

—

1C353

Genetische Elemente und genetisch modifizierte Organismen.

—

1C354

Pflanzenpathogene Erreger.

—

7E104

"Technologie" für die Integration von Flugsteuerungs-, Lenk- und Antriebsdaten in ein Flug-Managementsystem zur Flugbahnoptimierung von Raketensystemen.

—

9A009.a.

Hybridraketenantriebssysteme mit einem Gesamtimpuls größer als 1,1 MNs.

—

9A117

Stufungsmechanismen, Trennmechanismen und Stufenverbindungen, geeignet für "Flugkörper".

Teil 3

Diese Ausfuhrgenehmigung gilt in der gesamten Gemeinschaft für Ausfuhren nach folgenden Bestimmungszielen:

| | Australien |
| --- | --- |

Australien

| | Japan |
| --- | --- |

Japan

| | Kanada |
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Kanada

| | Neuseeland |
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Neuseeland

| | Norwegen |
| --- | --- |

Norwegen

| | Schweiz |
| --- | --- |

Schweiz

| | Vereinigte Staaten von Amerika |
| --- | --- |

Vereinigte Staaten von Amerika

Anmerkung: Eine Änderung der Teile 2 und 3 darf nur in Übereinstimmung mit den einschlägigen Verpflichtungen vorgenommen werden, die jeder Mitgliedstaat als Mitglied der internationalen Nichtverbreitungsregime und Ausfuhrkontrollvereinbarungen übernommen hat, und im Einklang mit den die öffentliche Sicherheit betreffenden Interessen eines jeden Mitgliedstaats, wie sie in seiner Zuständigkeit für Entscheidungen über Anträge auf Genehmigungen für die Ausfuhr von Gütern mit doppeltem Verwendungszweck gemäß Artikel 6 Absatz 2 dieser Verordnung zum Ausdruck kommen.

Nebenbestimmungen und Voraussetzungen für die Verwendung dieser Genehmigung

| 1. | Diese Allgemeingenehmigung darf nicht verwendet werden, wenn der Ausführer von den zuständigen Behörden des Mitgliedstaates, in dem er niedergelassen ist, davon unterrichtet worden ist, dass die betreffenden Güter ganz oder teilweise zur Verwendung im Zusammenhang mit der Entwicklung, der Herstellung, der Handhabung, dem Betrieb, der Wartung, der Lagerung, der Ortung, der Identifizierung oder der Verbreitung von chemischen, biologischen oder Kernwaffen oder sonstigen Kernsprengkörpern oder der Entwicklung, Herstellung, Wartung oder Lagerung von Flugkörpern für derartige Waffen bestimmt sind oder bestimmt sein können, oder wenn dem Ausführer bekannt ist, dass die betreffenden Güter für eine derartige Verwendung bestimmt sind. |
| --- | --- |

1.

Diese Allgemeingenehmigung darf nicht verwendet werden, wenn der Ausführer von den zuständigen Behörden des Mitgliedstaates, in dem er niedergelassen ist, davon unterrichtet worden ist, dass die betreffenden Güter ganz oder teilweise zur Verwendung im Zusammenhang mit der Entwicklung, der Herstellung, der Handhabung, dem Betrieb, der Wartung, der Lagerung, der Ortung, der Identifizierung oder der Verbreitung von chemischen, biologischen oder Kernwaffen oder sonstigen Kernsprengkörpern oder der Entwicklung, Herstellung, Wartung oder Lagerung von Flugkörpern für derartige Waffen bestimmt sind oder bestimmt sein können, oder wenn dem Ausführer bekannt ist, dass die betreffenden Güter für eine derartige Verwendung bestimmt sind.

| 2. | Diese Allgemeingenehmigung darf nicht verwendet werden, wenn der Ausführer von den zuständigen Behörden des Mitgliedstaates, in dem er niedergelassen ist, davon unterrichtet worden ist, dass die betreffenden Güter für eine militärische Endverwendung im Sinne des Artikels 4 Absatz 2 dieser Verordnung in einem Land, gegen das ein Waffenembargo der EU, der OSZE oder der VN verhängt wurde, bestimmt sind oder bestimmt sein können, oder wenn dem Ausführer bekannt ist, dass die betreffenden Güter für eine derartige Verwendung bestimmt sind. |
| --- | --- |

2.

Diese Allgemeingenehmigung darf nicht verwendet werden, wenn der Ausführer von den zuständigen Behörden des Mitgliedstaates, in dem er niedergelassen ist, davon unterrichtet worden ist, dass die betreffenden Güter für eine militärische Endverwendung im Sinne des Artikels 4 Absatz 2 dieser Verordnung in einem Land, gegen das ein Waffenembargo der EU, der OSZE oder der VN verhängt wurde, bestimmt sind oder bestimmt sein können, oder wenn dem Ausführer bekannt ist, dass die betreffenden Güter für eine derartige Verwendung bestimmt sind.

| 3. | Diese Allgemeingenehmigung darf nicht verwendet werden, wenn die betreffenden Güter in eine Freizone oder ein Freilager ausgeführt werden, das sich in einem Bestimmungsziel befindet, auf das sich diese Genehmigung erstreckt. |
| --- | --- |

3.

Diese Allgemeingenehmigung darf nicht verwendet werden, wenn die betreffenden Güter in eine Freizone oder ein Freilager ausgeführt werden, das sich in einem Bestimmungsziel befindet, auf das sich diese Genehmigung erstreckt.

| 4. | Die Registrierungs- und Meldeanforderungen, die mit der Verwendung dieser Allgemeingenehmigung verknüpft sind, sowie die zusätzlichen Angaben, die der Mitgliedstaat, aus dem die Ausfuhr erfolgt, gegebenenfalls zu den im Rahmen dieser Genehmigung ausgeführten Gütern verlangt, werden von den Mitgliedstaaten festgelegt. Diese Anforderungen müssen auf den Anforderungen aufbauen, die für die Verwendung von allgemeinen Ausfuhrgenehmigungen festgelegt sind, die von denjenigen Mitgliedstaaten, die derartige Genehmigungen vorsehen, erteilt werden. |
| --- | --- |

4.

Die Registrierungs- und Meldeanforderungen, die mit der Verwendung dieser Allgemeingenehmigung verknüpft sind, sowie die zusätzlichen Angaben, die der Mitgliedstaat, aus dem die Ausfuhr erfolgt, gegebenenfalls zu den im Rahmen dieser Genehmigung ausgeführten Gütern verlangt, werden von den Mitgliedstaaten festgelegt. Diese Anforderungen müssen auf den Anforderungen aufbauen, die für die Verwendung von allgemeinen Ausfuhrgenehmigungen festgelegt sind, die von denjenigen Mitgliedstaaten, die derartige Genehmigungen vorsehen, erteilt werden.

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ANHANG III a

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ANHANG III b

EINHEITLICHE ANGABEN FÜR DIE VERÖFFENTLICHUNG VON ALLGEMEINEN AUSFUHRGENEHMIGUNGEN

(gemäß Artikel 10 Absatz 3)

| 1. | Titel der allgemeinen Ausfuhrgenehmigung |
| --- | --- |

1.

Titel der allgemeinen Ausfuhrgenehmigung

| 2. | Ausstellende Behörde |
| --- | --- |

2.

Ausstellende Behörde

| 3. | Gültigkeit für die EG. Es ist folgender Text zu verwenden:
  „Dies ist eine allgemeine Ausfuhrgenehmigung gemäß Artikel 6 Absatz 2 der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000. Diese Genehmigung ist nach Artikel 6 Absatz 2 jener Verordnung in allen Mitgliedstaaten der Europäischen Gemeinschaft gültig.“ |
| --- | --- |

3.

Gültigkeit für die EG. Es ist folgender Text zu verwenden:

„Dies ist eine allgemeine Ausfuhrgenehmigung gemäß Artikel 6 Absatz 2 der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000. Diese Genehmigung ist nach Artikel 6 Absatz 2 jener Verordnung in allen Mitgliedstaaten der Europäischen Gemeinschaft gültig.“

| 4. | Erfasste Güter. Folgende Einleitungsformel ist zu verwenden:
  „Diese Ausfuhrgenehmigung betrifft folgende Güter:“ |
| --- | --- |

4.

Erfasste Güter. Folgende Einleitungsformel ist zu verwenden:

„Diese Ausfuhrgenehmigung betrifft folgende Güter:“

| 5. | Erfasste Bestimmungsziele. Folgende Einleitungsformel ist zu verwenden:
  „Diese Ausfuhrgenehmigung gilt für Ausfuhren nach folgenden Bestimmungszielen:“ |
| --- | --- |

5.

Erfasste Bestimmungsziele. Folgende Einleitungsformel ist zu verwenden:

„Diese Ausfuhrgenehmigung gilt für Ausfuhren nach folgenden Bestimmungszielen:“

| 6. | Voraussetzungen und Nebenbestimmungen. |
| --- | --- |

6.

Voraussetzungen und Nebenbestimmungen.

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ANHANG IV

(Liste gemäß Artikel 21 Absatz 1 der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000)

Die Einträge enthalten nicht immer die vollständige Beschreibung der betreffenden Güter und die zugehörigen Anmerkungen des Anhangs I (1). Lediglich Anhang I enthält die vollständige Beschreibung der Güter. Die Nennung eines Guts in diesem Anhang berührt nicht die Anwendung der Bestimmungen über Massenprodukte des Anhangs I.

Teil I

(Möglichkeit einer nationalen Allgemeingenehmigung für den innergemeinschaftlichen Handel)

Güter der Tarn(Stealth)-Technologie

| 1C001 | Werkstoffe, besonders entwickelt zum Gebrauch als Absorptionsmittel für elektromagnetische Wellen oder eigenleitfähige Polymere.

  ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 1C101. |
| --- | --- |
| 1C101 | Andere als die von Nummer 1C001 erfassten Werkstoffe und Geräte zur Verminderung von Messgrößen wie Radarreflexion, Ultraviolett-/Infrarot-Rückstrahlung und Schallsignatur, geeignet für "Flugkörper" und "Flugkörper"-Subsysteme. |
| 1D103 | "Software", besonders entwickelt für die Analyse zur Reduktion von Messgrößen, wie z. B. Radarreflexion, Ultraviolett-/Infrarot-Rückstrahlung oder Schallsignatur. |
| 1E101 | "Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Verwendung" von Waren oder "Software", erfasst von Nummer 1C101 oder 1D103. |
| 1E102 | "Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Entwicklung" von "Software", erfasst von Nummer 1D103. |
| 6B008 | Impulsradarmesseinrichtungen zur Bestimmung des Rückstrahlquerschnitts mit einer Sendeimpulsbreite kleiner/gleich 100 ns und besonders konstruierte Bestandteile hierfür.

  ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 6B108. |
| 6B108 | Messsysteme, besonders konstruiert zur Bestimmung von Radarrückstrahlquerschnitten, geeignet für "Flugkörper" und "Flugkörper"-Subsysteme. |

1C001

Werkstoffe, besonders entwickelt zum Gebrauch als Absorptionsmittel für elektromagnetische Wellen oder eigenleitfähige Polymere.

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 1C101.

1C101

Andere als die von Nummer 1C001 erfassten Werkstoffe und Geräte zur Verminderung von Messgrößen wie Radarreflexion, Ultraviolett-/Infrarot-Rückstrahlung und Schallsignatur, geeignet für "Flugkörper" und "Flugkörper"-Subsysteme.

1D103

"Software", besonders entwickelt für die Analyse zur Reduktion von Messgrößen, wie z. B. Radarreflexion, Ultraviolett-/Infrarot-Rückstrahlung oder Schallsignatur.

1E101

"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Verwendung" von Waren oder "Software", erfasst von Nummer 1C101 oder 1D103.

1E102

"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Entwicklung" von "Software", erfasst von Nummer 1D103.

6B008

Impulsradarmesseinrichtungen zur Bestimmung des Rückstrahlquerschnitts mit einer Sendeimpulsbreite kleiner/gleich 100 ns und besonders konstruierte Bestandteile hierfür.

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 6B108.

6B108

Messsysteme, besonders konstruiert zur Bestimmung von Radarrückstrahlquerschnitten, geeignet für "Flugkörper" und "Flugkörper"-Subsysteme.

Güter der gemeinschaftlichen strategischen Überwachung

| 1C239 | Sprengstoffe, die nicht von Teil I A erfasst werden, mit einer Kristalldichte größer als 1,8 g/cm3 und einer Detonationsgeschwindigkeit größer als 8 000 m/s oder Stoffe oder Mischungen, die diese Sprengstoffe mit mehr als 2 Gew.-% enthalten. |
| --- | --- |
| 1E201 | "Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Verwendung" von Waren, erfasst von Nummer 1C239. |
| 3A229 | Zündvorrichtungen und gleichwertige Hochstrom-Impulsgeneratoren wie folgt ...

  ANMERKUNG: SIEHE AUCH TEIL I A. |
| 3A232 | Detonatoren und Mehrfachzündersysteme wie folgt ...

  ANMERKUNG: SIEHE AUCH TEIL I A. |
| 3E201 | "Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Verwendung" von Ausrüstung, erfasst von Nummer 3A229 oder 3A232. |
| 6A001 | Akustik, beschränkt auf Folgendes: |
| 6A001a1b | Objekterfassungs- oder Lokalisierungssysteme mit einer der folgenden Eigenschaften:






  1. | Sendefrequenz
  kleiner als 5 kHz
  , |

1C239

Sprengstoffe, die nicht von Teil I A erfasst werden, mit einer Kristalldichte größer als 1,8 g/cm3 und einer Detonationsgeschwindigkeit größer als 8 000 m/s oder Stoffe oder Mischungen, die diese Sprengstoffe mit mehr als 2 Gew.-% enthalten.

1E201

"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Verwendung" von Waren, erfasst von Nummer 1C239.

3A229

Zündvorrichtungen und gleichwertige Hochstrom-Impulsgeneratoren wie folgt ...

ANMERKUNG: SIEHE AUCH TEIL I A.

3A232

Detonatoren und Mehrfachzündersysteme wie folgt ...

ANMERKUNG: SIEHE AUCH TEIL I A.

3E201

"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Verwendung" von Ausrüstung, erfasst von Nummer 3A229 oder 3A232.

6A001

Akustik, beschränkt auf Folgendes:

6A001a1b

Objekterfassungs- oder Lokalisierungssysteme mit einer der folgenden Eigenschaften:

1.

Sendefrequenz
  kleiner als 5 kHz
  ,

| 6. | konstruiert, um ... standzuhalten, |
| --- | --- |

6.

konstruiert, um ... standzuhalten,

6A001a2a1

Hydrofone (Wandler) ... mit ...

6A001a2a2

Hydrofone (Wandler) ... mit ...

6A001a2a5

Hydrofone (Wandler) ... konstruiert für ...

6A001a2b

Akustische Schlepp-Hydrofonanordnungen ...

6A001a2c

Daten-Verarbeitungsausrüstung, besonders konstruiert für
  Echtzeitanwendungen mit
  akustischen Schlepp-Hydrofonanordnungen, mit "anwenderzugänglicher Programmierbarkeit" und Verarbeitung und Korrelation im Zeit- oder Frequenzbereich einschließlich Spektralanalyse, digitaler Filterung und Strahlformung unter Verwendung der schnellen Fourier-Transformation (FFT) oder anderer Transformationen oder Verfahren.

6A001a2e

Flachwasser-Messkabelsysteme (bottom or bay cable systems) mit einer der folgenden Eigenschaften:

| 1. | mit eingebauten Hydrofonen ... oder |
| --- | --- |

1.

mit eingebauten Hydrofonen ... oder

| 2. | Einsatz von Multiplexermodulen zur Bündelung der Signale der Hydrofongruppen. |
| --- | --- |

2.

Einsatz von Multiplexermodulen zur Bündelung der Signale der Hydrofongruppen.

6A001a2f

Daten-Verarbeitungsausrüstung, besonders konstruiert für
  Echtzeitanwendungen mit
  Flachwasser-Messkabelsystemen, mit "anwenderzugänglicher Programmierbarkeit" und Verarbeitung und Korrelation im Zeit- oder Frequenzbereich einschließlich Spektralanalyse, digitaler Filterung und Strahlformung unter Verwendung der schnellen Fourier-Transformation (FFT) oder anderer Transformationen oder Verfahren.

6D003a

"Software" für die "Echtzeitverarbeitung" akustischer Daten.

8A002o3

Geräuschminderungssysteme, konstruiert für den Einsatz auf Schiffen größer/gleich 1 000 Tonnen Wasserverdrängung, wie folgt:

| b) | aktive Geräuschminderungs- oder -tilgungs-Systeme oder Magnetlager, besonders konstruiert für Leistungsübertragungssysteme, die elektronische Steuerungen enthalten, welche aktiv die Vibration der Ausrüstung durch die Erzeugung von Anti-Geräusch- oder Anti-Vibrationssignalen direkt an der Entstehungsstelle verringern können. |
| --- | --- |

b)

aktive Geräuschminderungs- oder -tilgungs-Systeme oder Magnetlager, besonders konstruiert für Leistungsübertragungssysteme, die elektronische Steuerungen enthalten, welche aktiv die Vibration der Ausrüstung durch die Erzeugung von Anti-Geräusch- oder Anti-Vibrationssignalen direkt an der Entstehungsstelle verringern können.

8E002a

"Technologie" für die "Entwicklung", "Herstellung", Reparatur, Überholung oder Wiederaufarbeitung (re-machining) von Propellern, besonders konstruiert für die Geräuschminderung unter Wasser.

Güter der gemeinschaftlichen strategischen Überwachung — Kryptotechnik — Kategorie 5 Teil 2

| 5A002a2 | Geräte, entwickelt oder geändert zur Ausführung kryptoanalytischer Funktionen. |
| --- | --- |
| 5D002c1 | Nur "Software", die die Eigenschaften der von Unternummer 5A002a2 erfassten Geräte besitzt oder deren Funktionen ausführt oder simuliert. |
| 5E002 | Nur "Technologie" für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" von Einrichtungen oder "Software", die von den obigen Nummern 5A002a2 oder 5D002c1 erfasst werden. |

5A002a2

Geräte, entwickelt oder geändert zur Ausführung kryptoanalytischer Funktionen.

5D002c1

Nur "Software", die die Eigenschaften der von Unternummer 5A002a2 erfassten Geräte besitzt oder deren Funktionen ausführt oder simuliert.

5E002

Nur "Technologie" für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" von Einrichtungen oder "Software", die von den obigen Nummern 5A002a2 oder 5D002c1 erfasst werden.

Güter der MTCR-Technologie

| 7A117 | "Steuerungssysteme", geeignet für "Flugkörper", mit einer erreichbaren Systemgenauigkeit kleiner/gleich 3,33 % der Reichweite (z. B. ein "CEP-Wert" kleiner/gleich 10 km bei einer Reichweite von 300 km),
  ausgenommen "Steuerungssysteme" für "Flugkörper" mit einer Reichweite unter 300 km oder bemannte "Luftfahrzeuge". |
| --- | --- |
| 7B001 | Prüf-, Kalibrier- oder Justiereinrichtungen, besonders konstruiert für die von
  obiger Nummer 7A117
  erfasste Ausrüstung.


  Anmerkung: Nummer 7B001 erfasst nicht Ausrüstung für Wartung und Inspektion der Instandhaltungsstufe I oder der Instandhaltungsstufe II. |
| 7B003 | Einrichtungen, besonders konstruiert für die "Herstellung" der von
  obiger Nummer 7A117
  erfassten Ausrüstung. |
| 7B103 | "Herstellungsanlagen", besonders konstruiert für die Herstellung der von
  obiger Nummer 7A117
  erfassten "Steuerungssysteme". |
| 7D101 | "Software", besonders entwickelt oder geändert für die Verwendung der von
  obigen
  Nummern 7B003 oder 7B103 erfassten Ausrüstung. |
| 7E001 | "Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Entwicklung" von Ausrüstung oder "Software", die von
  obigen
  Nummern 7A117, 7B003, 7B103 oder 7D101 erfasst wird. |
| 7E002 | "Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Herstellung" von Ausrüstung, die von
  obigen
  Nummern 7A117, 7B003 oder 7B103 erfasst wird. |
| 7E101 | "Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Verwendung" von Ausrüstung oder "Software", erfasst von
  obigen
  Nummern 7A117, 7B003, 7B103 oder 7D101. |
| 9A004 | Trägerraketen für "Raumfahrzeuge",
  geeignet für die Beförderung von mindestens 500 kg Nutzlast über eine Reichweite von mindestens 300 km.



  ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 9A104.



  Anmerkung: Nummer 9A004 erfasst nicht Nutzlasten. |
| 9A005 | Flüssigkeitsraketenantriebssysteme, die eines der von Nummer 9A006 erfassten Systeme oder Bestandteile enthalten,
  geeignet für Trägerraketen, erfasst von obiger Nummer 9A004, oder für Höhenforschungsraketen, erfasst von nachstehender Nummer 9A104.



  ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMERN 9A105 UND 9A119. |
| 9A007a | Feststoffraketenantriebssysteme,
  geeignet für Trägerraketen, erfasst von obiger Nummer 9A004, oder für Höhenforschungsraketen, erfasst von nachstehender Nummer 9A104
  , mit einer der folgenden Eigenschaften:

  ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 9A119.







  a) | Gesamtimpuls größer als 1,1 MNs. |

7A117

"Steuerungssysteme", geeignet für "Flugkörper", mit einer erreichbaren Systemgenauigkeit kleiner/gleich 3,33 % der Reichweite (z. B. ein "CEP-Wert" kleiner/gleich 10 km bei einer Reichweite von 300 km),
  ausgenommen "Steuerungssysteme" für "Flugkörper" mit einer Reichweite unter 300 km oder bemannte "Luftfahrzeuge".

7B001

Prüf-, Kalibrier- oder Justiereinrichtungen, besonders konstruiert für die von
  obiger Nummer 7A117
  erfasste Ausrüstung.

Anmerkung: Nummer 7B001 erfasst nicht Ausrüstung für Wartung und Inspektion der Instandhaltungsstufe I oder der Instandhaltungsstufe II.

7B003

Einrichtungen, besonders konstruiert für die "Herstellung" der von
  obiger Nummer 7A117
  erfassten Ausrüstung.

7B103

"Herstellungsanlagen", besonders konstruiert für die Herstellung der von
  obiger Nummer 7A117
  erfassten "Steuerungssysteme".

7D101

"Software", besonders entwickelt oder geändert für die Verwendung der von
  obigen
  Nummern 7B003 oder 7B103 erfassten Ausrüstung.

7E001

"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Entwicklung" von Ausrüstung oder "Software", die von
  obigen
  Nummern 7A117, 7B003, 7B103 oder 7D101 erfasst wird.

7E002

"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Herstellung" von Ausrüstung, die von
  obigen
  Nummern 7A117, 7B003 oder 7B103 erfasst wird.

7E101

"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Verwendung" von Ausrüstung oder "Software", erfasst von
  obigen
  Nummern 7A117, 7B003, 7B103 oder 7D101.

9A004

Trägerraketen für "Raumfahrzeuge",
  geeignet für die Beförderung von mindestens 500 kg Nutzlast über eine Reichweite von mindestens 300 km.

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 9A104.

Anmerkung: Nummer 9A004 erfasst nicht Nutzlasten.

9A005

Flüssigkeitsraketenantriebssysteme, die eines der von Nummer 9A006 erfassten Systeme oder Bestandteile enthalten,
  geeignet für Trägerraketen, erfasst von obiger Nummer 9A004, oder für Höhenforschungsraketen, erfasst von nachstehender Nummer 9A104.

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMERN 9A105 UND 9A119.

9A007a

Feststoffraketenantriebssysteme,
  geeignet für Trägerraketen, erfasst von obiger Nummer 9A004, oder für Höhenforschungsraketen, erfasst von nachstehender Nummer 9A104
  , mit einer der folgenden Eigenschaften:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 9A119.

a)

Gesamtimpuls größer als 1,1 MNs.

9A008d

Bestandteile wie folgt, besonders konstruiert für Feststoffraketenantriebssysteme:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 9A108c.

| d) | Schubvektorsteuersysteme mittels Schwenkdüsen oder Sekundäreinspritzung,
  geeignet für Trägerraketen, erfasst von obiger Nummer 9A004, oder für Höhenforschungsraketen, erfasst von nachstehender Nummer 9A104
  , und geeignet für eines der folgenden:






  1. | Bewegungen in alle Richtungen von mehr als ± 5°, |
| --- | --- | --- |

d)

Schubvektorsteuersysteme mittels Schwenkdüsen oder Sekundäreinspritzung,
  geeignet für Trägerraketen, erfasst von obiger Nummer 9A004, oder für Höhenforschungsraketen, erfasst von nachstehender Nummer 9A104
  , und geeignet für eines der folgenden:

1.

Bewegungen in alle Richtungen von mehr als ± 5°,

| 2. | Winkelgeschwindigkeiten größer/gleich 20 °/s oder |
| --- | --- |

2.

Winkelgeschwindigkeiten größer/gleich 20 °/s oder

| 3. | Winkelbeschleunigungen größer/gleich 40 °/s2. |
| --- | --- |

3.

Winkelbeschleunigungen größer/gleich 40 °/s2.

9A104

Höhenforschungsraketen (sounding rockets), geeignet
  für die Beförderung von mindestens 500 kg Nutzlast über
  eine Reichweite von mindestens 300 km.

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 9A004.

9A105a

Flüssigkeitsraketentriebwerke wie folgt:

ANMERKUNG: SIEHE AUCH NUMMER 9A119.

| a) | Flüssigkeitsraketentriebwerke, die nicht von Nummer 9A005 erfasst werden, mit einem Gesamtimpuls größer/gleich 1,1 MNs, geeignet für "Flugkörper";
  ausgenommen Flüssigkeitsapogäumstriebwerke, konstruiert oder geändert für Satellitenanwendungen mit allen folgenden Eigenschaften:










  1. | Düsenhalsdurchmesser kleiner/gleich 20 mm und |
| --- | --- | --- |

a)

Flüssigkeitsraketentriebwerke, die nicht von Nummer 9A005 erfasst werden, mit einem Gesamtimpuls größer/gleich 1,1 MNs, geeignet für "Flugkörper";
  ausgenommen Flüssigkeitsapogäumstriebwerke, konstruiert oder geändert für Satellitenanwendungen mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

Düsenhalsdurchmesser kleiner/gleich 20 mm und

| 2. | Brennkammerdruck kleiner/gleich 15 bar. |
| --- | --- |

2.

Brennkammerdruck kleiner/gleich 15 bar.

9A106c

Systeme oder Bestandteile, die nicht von Nummer 9A006 erfasst werden, geeignet für "Flugkörper", wie folgt, besonders konstruiert für Flüssigkeitsraketen-Antriebssysteme:

| c) | Schubvektorsteuerungs-Subsysteme,
  ausgenommen Systeme, konstruiert für Raketensysteme, die nicht für die Beförderung von mindestens 500 kg Nutzlast über eine Reichweite von mindestens 300 km geeignet sind. |
| --- | --- |

c)

Schubvektorsteuerungs-Subsysteme,
  ausgenommen Systeme, konstruiert für Raketensysteme, die nicht für die Beförderung von mindestens 500 kg Nutzlast über eine Reichweite von mindestens 300 km geeignet sind.

Technische Anmerkung:

Unternummer 9A106c schließt Ausrüstung ein, die in folgenden Verfahren zur Schubvektorsteuerung Verwendung findet:

| 1. | flexible Düse, |
| --- | --- |

1.

flexible Düse,

| 2. | Flüssig- oder Sekundärgaseinspritzung, |
| --- | --- |

2.

Flüssig- oder Sekundärgaseinspritzung,

| 3. | bewegliches Triebwerk oder bewegliche Düse, |
| --- | --- |

3.

bewegliches Triebwerk oder bewegliche Düse,

| 4. | Ablenkung des Abgasstroms (Strahlschaufeln oder Sonden) oder |
| --- | --- |

4.

Ablenkung des Abgasstroms (Strahlschaufeln oder Sonden) oder

| 5. | Verwendung von Schubklappen. |
| --- | --- |

5.

Verwendung von Schubklappen.

9A108c

Bestandteile, die nicht von Nummer 9A008 erfasst werden, geeignet für "Flugkörper", wie folgt, besonders konstruiert für Feststoffraketenantriebssysteme:

| c) | Schubvektorsteuerungs-Subsysteme,
  ausgenommen Systeme, konstruiert für Raketensysteme, die nicht für die Beförderung von mindestens 500 kg Nutzlast über eine Reichweite von mindestens 300 km geeignet sind. |
| --- | --- |

c)

Schubvektorsteuerungs-Subsysteme,
  ausgenommen Systeme, konstruiert für Raketensysteme, die nicht für die Beförderung von mindestens 500 kg Nutzlast über eine Reichweite von mindestens 300 km geeignet sind.

Technische Anmerkung:

Unternummer 9A108c schließt Ausrüstung ein, die in folgenden Verfahren zur Schubvektorsteuerung Verwendung findet:

| 1. | flexible Düse, |
| --- | --- |

1.

flexible Düse,

| 2. | Flüssig- oder Sekundärgaseinspritzung, |
| --- | --- |

2.

Flüssig- oder Sekundärgaseinspritzung,

| 3. | bewegliches Triebwerk oder bewegliche Düse, |
| --- | --- |

3.

bewegliches Triebwerk oder bewegliche Düse,

| 4. | Ablenkung des Abgasstroms (Strahlschaufeln oder Sonden) oder |
| --- | --- |

4.

Ablenkung des Abgasstroms (Strahlschaufeln oder Sonden) oder

| 5. | Verwendung von Schubklappen. |
| --- | --- |

5.

Verwendung von Schubklappen.

9A116

Wiedereintrittsfahrzeuge, geeignet für "Flugkörper", sowie dafür konstruierte oder abgeänderte Ausrüstung wie folgt,
  ausgenommen Wiedereintrittsfahrzeuge für Nicht-Waffen-Nutzlast:

| a) | Wiedereintrittsfahrzeuge; |
| --- | --- |

a)

Wiedereintrittsfahrzeuge;

| b) | Hitzeschilde und Bestandteile hierfür, hergestellt aus Keramik oder wärmeableitendem Material; |
| --- | --- |

b)

Hitzeschilde und Bestandteile hierfür, hergestellt aus Keramik oder wärmeableitendem Material;

| c) | Kühlkörper und Bestandteile hierfür, hergestellt aus leichtem Material mit hoher Wärmekapazität; |
| --- | --- |

c)

Kühlkörper und Bestandteile hierfür, hergestellt aus leichtem Material mit hoher Wärmekapazität;

| d) | Elektronische Ausrüstung, besonders konstruiert für Wiedereintrittsfahrzeuge. |
| --- | --- |

d)

Elektronische Ausrüstung, besonders konstruiert für Wiedereintrittsfahrzeuge.

9A119

Einzelne Raketenstufen, die nicht von
  obigen
  Nummern 9A005 oder 9A007 erfasst werden, geeignet für vollständige Raketensysteme oder unbemannte Luftfahrzeuge, die
  für die Beförderung von mindestens 500 kg Nutzlast über eine
  Reichweite von mindestens 300 km
  geeignet sind.

9B115

Besonders konstruierte "Herstellungsausrüstung" für die von
  obigen
  Nummern 9A005, 9A007a, 9A008d, 9A105a, 9A106c, 9A108c, 9A116 oder 9A119 erfassten Systeme, Subsysteme oder Bestandteile.

9B116

Besonders konstruierte "Herstellungsanlagen" für von Nummer 9A004 erfasste Trägerraketen oder von
  obigen
  Nummern 9A005, 9A007a, 9A008d, 9A104, 9A105a, 9A106c, 9A108c, 9A116 oder 9A119 erfasste Systeme, Subsysteme oder Bestandteile.

9D101

"Software" , besonders entwickelt für die "Verwendung" von Ausrüstung, erfasst von
  obiger
  Nummer 9B116.

9E001

"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Entwicklung" von Ausrüstung oder "Software", die von
  obigen
  Nummern 9A004, 9A005, 9A007a, 9A008d, 9B115, 9B116 oder 9D101 erfasst wird.

9E002

"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Herstellung" von Ausrüstung, die von
  obigen
  Nummern 9A004, 9A005, 9A007a, 9A008d, 9B115 oder 9B116 erfasst wird.

Anmerkung:"Technologie" für die Instandsetzung von erfassten Strukturen, Laminaten oder Werkstoffen: Siehe Unternummer 1E002f.

9E101

"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von Ausrüstung, die von
  obigen
  Nummern 9A104, 9A105a, 9A106c, 9A108c, 9A116 oder 9A119 erfasst wird.

9E102

"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Verwendung" der von
  obigen
  Nummern 9A004, 9A005, 9A007a, 9A008d, 9A104, 9A105a, 9A106c, 9A108c, 9A116, 9A119, 9B115, 9B116 oder 9D101 erfassten Trägerraketen.

—   Ausnahmen:

Anhang IV erfasst nicht die folgenden Güter der MTCR-Technologie:

| 1. | Güter, die aufgrund von vertraglich geregelten Bestellungen der Europäischen Weltraumorganisation verbracht werden oder von der Europäischen Weltraumorganisation zur Wahrnehmung ihrer offiziellen Aufgaben verbracht werden. |
| --- | --- |

1.

Güter, die aufgrund von vertraglich geregelten Bestellungen der Europäischen Weltraumorganisation verbracht werden oder von der Europäischen Weltraumorganisation zur Wahrnehmung ihrer offiziellen Aufgaben verbracht werden.

| 2. | Güter, die aufgrund von vertraglich geregelten Bestellungen einer nationalen Weltraumorganisation eines Mitgliedstaats verbracht werden oder von dieser Organisation zur Wahrnehmung ihrer offiziellen Aufgaben verbracht werden. |
| --- | --- |

2.

Güter, die aufgrund von vertraglich geregelten Bestellungen einer nationalen Weltraumorganisation eines Mitgliedstaats verbracht werden oder von dieser Organisation zur Wahrnehmung ihrer offiziellen Aufgaben verbracht werden.

| 3. | Güter, die aufgrund von vertraglich geregelten Bestellungen im Zusammenhang mit einem Entwicklungs- und Herstellungsprogramm der Gemeinschaft zum Starten von Satelliten, das von zwei oder mehr europäischen Regierungen unterzeichnet wurde, verbracht werden. |
| --- | --- |

3.

Güter, die aufgrund von vertraglich geregelten Bestellungen im Zusammenhang mit einem Entwicklungs- und Herstellungsprogramm der Gemeinschaft zum Starten von Satelliten, das von zwei oder mehr europäischen Regierungen unterzeichnet wurde, verbracht werden.

| 4. | Güter, die zu einem staatlich kontrollierten Satellitenstartplatz im Gebiet eines Mitgliedstaats verbracht werden, es sei denn, dieser Mitgliedstaat kontrolliert diese Verbringung im Rahmen dieser Verordnung. |
| --- | --- |

4.

Güter, die zu einem staatlich kontrollierten Satellitenstartplatz im Gebiet eines Mitgliedstaats verbracht werden, es sei denn, dieser Mitgliedstaat kontrolliert diese Verbringung im Rahmen dieser Verordnung.

Teil II

(keine Möglichkeit einer nationalen Allgemeingenehmigung für den innergemeinschaftlichen Handel)

Güter des Chemiewaffenübereinkommens

| 1C351d4 | Ricin; |
| --- | --- |
| 1C351d5 | Saxitoxin. |

1C351d4

Ricin;

1C351d5

Saxitoxin.

Güter der NSG-Technologie

Vorbehaltlich der nachstehend genannten Materialien ist die gesamte Kategorie 0 des Anhangs I in Anhang IV einbezogen:

| — | 0C001: Diese Nummer ist nicht in Anhang IV einbezogen. |
| --- | --- |

—

0C001: Diese Nummer ist nicht in Anhang IV einbezogen.

| — | 0C002: Die Nummer 0C002 ist nicht in Anhang IV einbezogen, mit Ausnahme des folgenden besonderen spaltbaren Materials:






  a) | abgetrenntes Plutonium; |
| --- | --- | --- |

—

0C002: Die Nummer 0C002 ist nicht in Anhang IV einbezogen, mit Ausnahme des folgenden besonderen spaltbaren Materials:

a)

abgetrenntes Plutonium;

| b) | Uran, in dem die Isotope 233 oder 235 auf mehr als 20 % angereichert wurden. |
| --- | --- |

b)

Uran, in dem die Isotope 233 oder 235 auf mehr als 20 % angereichert wurden.

| — | 0D001: Die Nummer 0D001 (Software) ist im Anhang IV einbezogen, außer wenn sie sich auf die Nummer 0C001 oder auf die Güter der Nummer 0C002 bezieht, die nicht unter Anhang IV fallen. |
| --- | --- |

—

0D001: Die Nummer 0D001 (Software) ist im Anhang IV einbezogen, außer wenn sie sich auf die Nummer 0C001 oder auf die Güter der Nummer 0C002 bezieht, die nicht unter Anhang IV fallen.

| — | 0E001: Die Nummer 0E001 (Technologie) ist im Anhang IV einbezogen, außer wenn sie sich auf die Nummer 0C001 oder auf die Güter der Nummer 0C002 bezieht, die nicht unter Anhang IV fallen. |
| --- | --- |

—

0E001: Die Nummer 0E001 (Technologie) ist im Anhang IV einbezogen, außer wenn sie sich auf die Nummer 0C001 oder auf die Güter der Nummer 0C002 bezieht, die nicht unter Anhang IV fallen.

Anmerkung: Bei den Nummern 0C003 und 0C004 nur zur "Verwendung" in einem "Kernreaktor" (innerhalb von Unternummer 0A001a).

| 1B226 | Separatoren zur elektromagnetischen Isotopentrennung, konstruiert für den Betrieb mit einer oder mehreren Ionenquellen, die einen Gesamtstrahlstrom von größer/gleich 50 mA liefern können, oder die mit solchen Ionenquellen ausgestattet sind.


  Anmerkung: Nummer 1B226 schließt Separatoren ein:








  a) | die stabile Isotope anreichern können, |
| --- | --- | --- |

1B226

Separatoren zur elektromagnetischen Isotopentrennung, konstruiert für den Betrieb mit einer oder mehreren Ionenquellen, die einen Gesamtstrahlstrom von größer/gleich 50 mA liefern können, oder die mit solchen Ionenquellen ausgestattet sind.

Anmerkung: Nummer 1B226 schließt Separatoren ein:

a)

die stabile Isotope anreichern können,

| b) | mit Ionenquellen und Kollektoren innerhalb und außerhalb des magnetischen Feldes. |
| --- | --- |

b)

mit Ionenquellen und Kollektoren innerhalb und außerhalb des magnetischen Feldes.

1C012

Materialien, wie folgt:

Technische Anmerkung:

Diese Materialien werden typischerweise für nukleare Wärmequellen verwendet.

| b) | "vorher abgetrenntes" Neptunium in jeder Form.


  Anmerkung: Unternummer 1C012b erfasst nicht Lieferungen mit einem Gehalt an Neptunium-237 kleiner/gleich 1 Gramm. |
| --- | --- |

b)

"vorher abgetrenntes" Neptunium in jeder Form.

Anmerkung: Unternummer 1C012b erfasst nicht Lieferungen mit einem Gehalt an Neptunium-237 kleiner/gleich 1 Gramm.

1B231

Tritium-Anlagen oder -Einrichtungen und Ausrüstung hierfür, wie folgt:

| a) | Anlagen oder Einrichtungen für die Herstellung, Rückgewinnung, Extraktion, Konzentration oder Handhabung von Tritium; |
| --- | --- |

a)

Anlagen oder Einrichtungen für die Herstellung, Rückgewinnung, Extraktion, Konzentration oder Handhabung von Tritium;

| b) | Ausrüstung für Tritium-Anlagen oder -Einrichtungen, wie folgt:






  1. | Wasserstoff- oder Helium-Kälteaggregate, die auf 23 K (– 250 °C) oder weniger kühlen können, mit einer Wärmeabfuhrkapazität größer als 150 W; |
| --- | --- | --- |

b)

Ausrüstung für Tritium-Anlagen oder -Einrichtungen, wie folgt:

1.

Wasserstoff- oder Helium-Kälteaggregate, die auf 23 K (– 250 °C) oder weniger kühlen können, mit einer Wärmeabfuhrkapazität größer als 150 W;

| 2. | Wasserstoffisotopen-Speicher- oder Reinigungssysteme mit Metallhydriden als Speicher- oder Reinigungsmedium. |
| --- | --- |

2.

Wasserstoffisotopen-Speicher- oder Reinigungssysteme mit Metallhydriden als Speicher- oder Reinigungsmedium.

1B233

Anlagen oder Einrichtungen für die Lithium-Isotopentrennung und Ausrüstung hierfür, wie folgt:

| a) | Anlagen oder Einrichtungen für die Trennung von Lithiumisotopen; |
| --- | --- |

a)

Anlagen oder Einrichtungen für die Trennung von Lithiumisotopen;

| b) | Ausrüstung für die Trennung von Lithiumisotopen, wie folgt:






  1. | Flüssig-flüssig-Füllkörper-Extraktions-Kolonnen, besonders konstruiert für Lithiumamalgame, |
| --- | --- | --- |

b)

Ausrüstung für die Trennung von Lithiumisotopen, wie folgt:

1.

Flüssig-flüssig-Füllkörper-Extraktions-Kolonnen, besonders konstruiert für Lithiumamalgame,

| 2. | Quecksilber- oder Lithium-Amalgampumpen, |
| --- | --- |

2.

Quecksilber- oder Lithium-Amalgampumpen,

| 3. | Lithiumamalgam-Elektrolysezellen, |
| --- | --- |

3.

Lithiumamalgam-Elektrolysezellen,

| 4. | Verdampfer für konzentrierte Lithiumhydroxid-Lösung. |
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4.

Verdampfer für konzentrierte Lithiumhydroxid-Lösung.

1C233

Lithium, angereichert mit dem Lithium-6(6Li)-Isotop über seine natürliche Isotopenhäufigkeit hinaus, und Erzeugnisse oder Geräte, die angereichertes Lithium enthalten, wie folgt: elementares Lithium, Legierungen, Verbindungen, lithiumhaltige Mischungen, Erzeugnisse hieraus und Abfall und Schrott aus einem der vorgenannten.

Anmerkung: Nummer 1C233 erfasst nicht Thermolumineszenz-Dosimeter.

Technische Anmerkung:

Die natürliche Isotopenhäufigkeit von Lithium-6 beträgt etwa 6,5 Gew.-% (7,5 Atom-%).

1C235

Tritium, Tritiumverbindungen, Mischungen mit einem Verhältnis der Anzahl der Tritiumatome zur Anzahl der Wasserstoffatome größer als 1 : 1 000 und Erzeugnisse oder Geräte, die eines der vorgenannten enthalten.

Anmerkung: Nummer 1C235 erfasst nicht Erzeugnisse oder Geräte mit weniger als 1,48 × 103 GBq (40 Ci) Tritium.

1E001

"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Entwicklung" oder "Herstellung" von Ausrüstung oder Werkstoffen, die von Nummer 1C012b erfasst werden.

1E201

"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Verwendung" von Waren, erfasst von Nummer 1B226, 1B231, 1B233, 1C233 oder 1C235.

3A228

Schaltelemente wie folgt:

| a) | Kaltkathodenröhren mit oder ohne Gasfüllung, die wie Schaltfunkenstrecken funktionieren, mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | mit drei oder mehr Elektroden, |
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a)

Kaltkathodenröhren mit oder ohne Gasfüllung, die wie Schaltfunkenstrecken funktionieren, mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

mit drei oder mehr Elektroden,

| 2. | spezifizierte Anodenspitzenspannung größer/gleich 2,5 kV, |
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2.

spezifizierte Anodenspitzenspannung größer/gleich 2,5 kV,

| 3. | spezifizierter Anodenspitzenstrom größer/gleich 100 A und |
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3.

spezifizierter Anodenspitzenstrom größer/gleich 100 A und

| 4. | Zündverzögerungszeit kleiner/gleich 10 μs; |
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4.

Zündverzögerungszeit kleiner/gleich 10 μs;

Anmerkung: Nummer 3A228 schließt gasgefüllte Krytrons und Vakuum-Sprytrons ein.

| b) | getriggerte Schaltfunkenstrecken mit allen folgenden Eigenschaften:






  1. | Zündverzögerungszeit kleiner/gleich 15 μs und |
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b)

getriggerte Schaltfunkenstrecken mit allen folgenden Eigenschaften:

1.

Zündverzögerungszeit kleiner/gleich 15 μs und

| 2. | spezifiziert für Spitzenströme größer/gleich 500 A; |
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2.

spezifiziert für Spitzenströme größer/gleich 500 A;

3A231

Neutronengeneratorsysteme einschließlich Neutronengeneratorröhren mit allen folgenden Eigenschaften:

| a) | konstruiert für den Betrieb ohne äußeres Vakuumsystem und |
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a)

konstruiert für den Betrieb ohne äußeres Vakuumsystem und

| b) | mit elektrostatischer Beschleunigung zur Auslösung einer Tritium-Deuterium-Kernreaktion. |
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b)

mit elektrostatischer Beschleunigung zur Auslösung einer Tritium-Deuterium-Kernreaktion.

3E201

"Technologie" entsprechend der Allgemeinen Technologie-Anmerkung für die "Verwendung" von Ausrüstung, erfasst von Nummer 3A228a, 3A228b oder 3A231.

6A203

Kameras und Bestandteile, die nicht von Nummer 6A003 erfasst werden, wie folgt:

| a) | mechanische Drehspiegelkameras wie folgt und besonders konstruierte Bestandteile hierfür:






  1. | Bildkameras mit einer Aufnahmegeschwindigkeit größer als 225 000 Einzelbilder/s; |
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a)

mechanische Drehspiegelkameras wie folgt und besonders konstruierte Bestandteile hierfür:

1.

Bildkameras mit einer Aufnahmegeschwindigkeit größer als 225 000 Einzelbilder/s;

| 2. | Streakkameras mit Aufzeichnungsgeschwindigkeiten größer 0,5 mm/μs; |
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2.

Streakkameras mit Aufzeichnungsgeschwindigkeiten größer 0,5 mm/μs;

Anmerkung: Im Sinne von Unternummer 6A203a schließen besonders konstruierte Bestandteile solcher Kameras deren Elektronikbaugruppen zur Synchronisation und Rotationsbaugruppen, bestehend aus Antriebsturbinen, Spiegeln und Lagern, ein.

6A225

Interferometer zum Messen von Geschwindigkeiten größer als 1 km/s in Zeitintervallen kleiner als 10 μs.

Anmerkung: Nummer 6A225 schließt Interferometer zum Messen von Geschwindigkeiten ein, wie z.B. VISAR's (Velocity interferometer systems for any reflector) und DLI's (Doppler Laser Interferometer).

6A226

Drucksensoren wie folgt:

| a) | Manganin-Sensorelemente für Drücke größer als 10 GPa; |
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a)

Manganin-Sensorelemente für Drücke größer als 10 GPa;

| b) | Quarz-Messwertaufnehmer für Drücke größer als 10 GPa. |
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b)

Quarz-Messwertaufnehmer für Drücke größer als 10 GPa.

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(1)  Abweichungen (Formulierung oder Geltungsbereich) gegenüber Anhang I sind durch
  Fettdruck in Kursivschrift
  kenntlich gemacht.

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