# Publicatieblad L 74/13 m

| | ISSN 1725-2598 |
| --- | --- |
| Publicatieblad
  van de Europese Unie | L 74 |
| | |
| Uitgave in de Nederlandse taal | Wetgeving | 49e jaargang13 maart 2006 |

ISSN 1725-2598

Publicatieblad

van de Europese Unie

L 74

Uitgave in de Nederlandse taal

Wetgeving

49e jaargang13 maart 2006

---

| Inhoud | | I   Besluiten waarvan de publicatie voorwaarde is voor de toepassing | Bladzijde |
| --- | --- | --- | --- |
| | * | Verordening (EG) nr. 394/2006 van de Raad van 27 februari 2006 tot wijziging en tot bijwerking van Verordening (EG) nr. 1334/2000 tot instelling van een communautaire regeling voor controle op de uitvoer van producten en technologie voor tweeërlei gebruik | 1 |

Inhoud

I   Besluiten waarvan de publicatie voorwaarde is voor de toepassing

Bladzijde

*

Verordening (EG) nr. 394/2006 van de Raad van 27 februari 2006 tot wijziging en tot bijwerking van Verordening (EG) nr. 1334/2000 tot instelling van een communautaire regeling voor controle op de uitvoer van producten en technologie voor tweeërlei gebruik

1

| NL | Besluiten waarvan de titels mager zijn gedrukt, zijn besluiten van dagelijks beheer die in het kader van het landbouwbeleid zijn genomen en die in het algemeen een beperkte geldigheidsduur hebben.
  Besluiten waarvan de titels vet zijn gedrukt en die worden voorafgegaan door een sterretje, zijn alle andere besluiten. |
| --- | --- |

NL

Besluiten waarvan de titels mager zijn gedrukt, zijn besluiten van dagelijks beheer die in het kader van het landbouwbeleid zijn genomen en die in het algemeen een beperkte geldigheidsduur hebben.

Besluiten waarvan de titels vet zijn gedrukt en die worden voorafgegaan door een sterretje, zijn alle andere besluiten.

---

I Besluiten waarvan de publicatie voorwaarde is voor de toepassing

| 13.3.2006 | NL | Publicatieblad van de Europese Unie | L 74/1 |
| --- | --- | --- | --- |

13.3.2006

NL

Publicatieblad van de Europese Unie

L 74/1

---

VERORDENING (EG) Nr. 394/2006 VAN DE RAAD

van 27 februari 2006

tot wijziging en tot bijwerking van Verordening (EG) nr. 1334/2000 tot instelling van een communautaire regeling voor controle op de uitvoer van producten en technologie voor tweeërlei gebruik

DE RAAD VAN DE EUROPESE UNIE,

Gelet op het Verdrag tot oprichting van de Europese Gemeenschap, en met name op artikel 133,

Gezien het voorstel van de Commissie,

Overwegende hetgeen volgt:

| (1) | Overeenkomstig Verordening (EG) nr. 1334/2000 (1) dienen producten (met inbegrip van software en technologie) voor tweeërlei gebruik bij uitvoer uit de Gemeenschap aan doeltreffende controle te worden onderworpen. |
| --- | --- |

(1)

Overeenkomstig Verordening (EG) nr. 1334/2000 (1) dienen producten (met inbegrip van software en technologie) voor tweeërlei gebruik bij uitvoer uit de Gemeenschap aan doeltreffende controle te worden onderworpen.

| (2) | Om de lidstaten en de Gemeenschap in staat te stellen aan hun internationale verplichtingen te voldoen, is in bijlage I bij Verordening (EG) nr. 1334/2000 een gemeenschappelijke lijst opgenomen van producten en technologie voor tweeërlei gebruik als bedoeld in artikel 3 van die verordening. Deze lijst is een technische implementatie van internationaal overeengekomen vergunningsregelingen voor goederen voor tweeërlei gebruik, waaronder de regeling van Wassenaar, de Missile Technology Control Regime, de Groep van nucleaire exportlanden, de Australiëgroep en het Verdrag inzake chemische wapens. |
| --- | --- |

(2)

Om de lidstaten en de Gemeenschap in staat te stellen aan hun internationale verplichtingen te voldoen, is in bijlage I bij Verordening (EG) nr. 1334/2000 een gemeenschappelijke lijst opgenomen van producten en technologie voor tweeërlei gebruik als bedoeld in artikel 3 van die verordening. Deze lijst is een technische implementatie van internationaal overeengekomen vergunningsregelingen voor goederen voor tweeërlei gebruik, waaronder de regeling van Wassenaar, de Missile Technology Control Regime, de Groep van nucleaire exportlanden, de Australiëgroep en het Verdrag inzake chemische wapens.

| (3) | Artikel 11 van Verordening (EG) nr. 1334/2000 bepaalt dat de bijlagen I en IV worden bijgewerkt overeenkomstig de desbetreffende verplichtingen en verbintenissen en alle wijzigingen daarin waarmee een lidstaat heeft ingestemd als partij bij de internationale regelingen inzake non-proliferatie en uitvoercontrole of door de bekrachtiging van desbetreffende internationale verdragen. |
| --- | --- |

(3)

Artikel 11 van Verordening (EG) nr. 1334/2000 bepaalt dat de bijlagen I en IV worden bijgewerkt overeenkomstig de desbetreffende verplichtingen en verbintenissen en alle wijzigingen daarin waarmee een lidstaat heeft ingestemd als partij bij de internationale regelingen inzake non-proliferatie en uitvoercontrole of door de bekrachtiging van desbetreffende internationale verdragen.

| (4) | De bijlagen I en IV bij Verordening (EG) nr. 1334/2000 dienen te worden gewijzigd om rekening te houden met de wijzigingen die zijn goedgekeurd door de Regeling van Wassenaar, de Australiëgroep, het Missile Technology Control Regime en de Groep van Nucleaire Exportlanden na de bij Verordening (EG) nr. 1504/2004 aangebrachte wijzigingen. |
| --- | --- |

(4)

De bijlagen I en IV bij Verordening (EG) nr. 1334/2000 dienen te worden gewijzigd om rekening te houden met de wijzigingen die zijn goedgekeurd door de Regeling van Wassenaar, de Australiëgroep, het Missile Technology Control Regime en de Groep van Nucleaire Exportlanden na de bij Verordening (EG) nr. 1504/2004 aangebrachte wijzigingen.

| (5) | Teneinde de raadpleging door exportcontrole-instanties en het bedrijfsleven te vereenvoudigen, dient een bijgewerkte en geconsolideerde versie van de bijlagen bij Verordening (EG) nr. 1334/2000 te worden gepubliceerd. |
| --- | --- |

(5)

Teneinde de raadpleging door exportcontrole-instanties en het bedrijfsleven te vereenvoudigen, dient een bijgewerkte en geconsolideerde versie van de bijlagen bij Verordening (EG) nr. 1334/2000 te worden gepubliceerd.

| (6) | Verordening (EG) nr. 1334/2000 moet dienovereenkomstig worden gewijzigd, |
| --- | --- |

(6)

Verordening (EG) nr. 1334/2000 moet dienovereenkomstig worden gewijzigd,

HEEFT DE VOLGENDE VERORDENING VASTGESTELD:

Artikel 1

De bijlagen bij Verordening (EG) nr. 1334/2000 worden vervangen door de tekst in de bijlage bij deze verordening.

Artikel 2

Deze verordening treedt in werking op de dertigste dag volgende op die van haar bekendmaking in het Publicatieblad van de Europese Unie.

Deze verordening is verbindend in al haar onderdelen en is rechtstreeks toepasselijk in elke lidstaat.

Gedaan te Brussel, 27 februari 2006.

Voor de Raad

De voorzitster

U. PLASSNIK

---

(1)  PB L 159 van 30.6.2000, blz. 1. Verordening laatstelijk gewijzigd bij Verordening (EG) nr. 1504/2004 (PB L 281 van 31.8.2004, blz. 1).

1

---

BIJLAGE

BIJLAGE I

LIJST VAN PRODUCTEN EN TECHNOLOGIE VOOR TWEEËRLEI GEBRUIK

(bedoeld in artikel 3 van Verordening (EG) nr. 1334/2000)

Deze lijst is een technische implementatie van internationaal overeengekomen vergunningsregelingen voor goederen voor tweeërlei gebruik, waaronder het Wassenaar Arrangement, het "Missile Technology Control Regime", de Groep van nucleaire exportlanden, de Australiëgroep en het Verdrag inzake chemische wapens. Er is geen rekening gehouden met eventuele posten die lidstaten op een exclusion list wensen te plaatsen. Er is geen rekening gehouden met eventuele nationale vergunningsregelingen (niet onder deze regeling vallende embargo’s) van de lidstaten.

ALGEMENE NOTEN BIJ BIJLAGE I

| 1. | Voor de controle op de uitvoer van goederen die zijn ontworpen of aangepast voor militair gebruik zij verwezen naar de desbetreffende lijst(en) van aan vergunningsplicht onderworpen militaire goederen van de afzonderlijke lidstaten. Verwijzingen in deze bijlage naar de "Lijst militaire goederen" hebben betrekking op deze lijst. |
| --- | --- |

1.

Voor de controle op de uitvoer van goederen die zijn ontworpen of aangepast voor militair gebruik zij verwezen naar de desbetreffende lijst(en) van aan vergunningsplicht onderworpen militaire goederen van de afzonderlijke lidstaten. Verwijzingen in deze bijlage naar de "Lijst militaire goederen" hebben betrekking op deze lijst.

| 2. | De doelstelling van de controle op de uitvoer van de goederen, vermeld in deze bijlage, mag niet worden omzeild door de uitvoer van niet aan vergunningsplicht onderworpen goederen (met inbegrip van fabrieken) die één of meer aan vergunningsplicht onderworpen onderdelen bevatten, als deze onderdelen het voornaamste element van de goederen vormen en gemakkelijk kunnen worden verwijderd of voor andere doeleinden worden aangewend.


  NB: Bij de beoordeling van de vraag of de aan vergunningsplicht onderworpen onderdelen als voornaamste element dienen te worden aangemerkt, dienen factoren als hoeveelheid, waarde en technologische knowhow alsmede andere bijzondere omstandigheden op grond waarvan de aan vergunningsplicht onderworpen onderdelen als voornaamste element van de geleverde goederen kunnen worden aangemerkt, een rol te spelen. |
| --- | --- |

2.

De doelstelling van de controle op de uitvoer van de goederen, vermeld in deze bijlage, mag niet worden omzeild door de uitvoer van niet aan vergunningsplicht onderworpen goederen (met inbegrip van fabrieken) die één of meer aan vergunningsplicht onderworpen onderdelen bevatten, als deze onderdelen het voornaamste element van de goederen vormen en gemakkelijk kunnen worden verwijderd of voor andere doeleinden worden aangewend.

NB: Bij de beoordeling van de vraag of de aan vergunningsplicht onderworpen onderdelen als voornaamste element dienen te worden aangemerkt, dienen factoren als hoeveelheid, waarde en technologische knowhow alsmede andere bijzondere omstandigheden op grond waarvan de aan vergunningsplicht onderworpen onderdelen als voornaamste element van de geleverde goederen kunnen worden aangemerkt, een rol te spelen.

| 3. | Met goederen worden in deze bijlage zowel nieuwe als gebruikte goederen bedoeld. |
| --- | --- |

3.

Met goederen worden in deze bijlage zowel nieuwe als gebruikte goederen bedoeld.

NUCLEAIRE TECHNOLOGIENOOT (NTN)

(Te lezen in samenhang met sectie E van categorie 0)

De "technologie" die rechtstreeks samenhangt met goederen die in categorie 0 vallen, valt onder de bepalingen van categorie 0.

"Technologie" voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van aan vergunningsplicht onderworpen goederen is ook aan vergunningsplicht onderworpen als deze technologie wordt toegepast op niet aan vergunningsplicht onderworpen goederen.

Het verlenen van een uitvoervergunning voor goederen houdt tevens in dat de uitvoer naar dezelfde eindgebruiker van de minimaal noodzakelijke "technologie" voor installatie, bediening, onderhoud en reparatie van de goederen is toegestaan.

Vergunningsregelingen voor overdracht van "technologie" zijn niet van toepassing op informatie die "voor iedereen beschikbaar" is, en op "fundamenteel wetenschappelijk onderzoek".

ALGEMENE TECHNOLOGIENOOT (ATN)

(Te lezen als onderdeel van sectie E van de categorieën 1 tot en met 9)

De uitvoer van "technologie" die "noodzakelijk" is voor de "ontwikkeling", "productie" of het "gebruik" van in de categorieën 1 tot en met 9 bedoelde goederen is onderworpen aan de op de categorieën 1 tot en met 9 van toepassing zijnde bepalingen.

"Technologie" die "noodzakelijk" is voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van aan vergunningsplicht onderworpen goederen is ook aan vergunningsplicht onderworpen als deze technologie wordt toegepast op niet aan vergunningsplicht onderworpen goederen.

De vergunningsplicht geldt niet voor de minimaal noodzakelijke "technologie" voor installatie, bediening, onderhoud en reparatie van niet onder de vergunningsplicht vallende goederen of op de goederen waarvan de uitvoer is toegestaan.

NB: Deze bepaling laat de embargostatus van de in 1E002.e, 1E002.f, 8E002.a en 8E002.b bedoelde "technologie" onverlet.

Vergunningsregelingen voor overdracht van "technologie" zijn niet van toepassing op informatie die "voor iedereen beschikbaar" is, op "fundamenteel wetenschappelijk onderzoek" en op de voor octrooiaanvragen noodzakelijke minimuminformatie.

ALGEMENE PROGRAMMATUURNOOT (APN)

(Deze noot heeft voorrang boven het bepaalde in sectie D van de categorieën 0 tot en met 9)

De categorieën 0 tot en met 9 van deze lijst zijn niet van toepassing op programmatuur die:

| a. | algemeen voor het publiek verkrijgbaar is doordat de "programmatuur":






  1. | via de detailhandel zonder beperkingen uit voorraad wordt verkocht via:






  a. | winkelverkoop; |
| --- | --- | --- | --- |

a.

algemeen voor het publiek verkrijgbaar is doordat de "programmatuur":

1.

via de detailhandel zonder beperkingen uit voorraad wordt verkocht via:

a.

winkelverkoop;

| b. | postorderverkoop; |
| --- | --- |

b.

postorderverkoop;

| c. | elektronische transacties, of |
| --- | --- |

c.

elektronische transacties, of

| d. | telefonische verkoop, en |
| --- | --- |

d.

telefonische verkoop, en

| 2. | is ontworpen voor installatie door de gebruiker zonder wezenlijke ondersteuning van de leverancier, of |
| --- | --- |

2.

is ontworpen voor installatie door de gebruiker zonder wezenlijke ondersteuning van de leverancier, of

NB: Punt a) van de Algemene programmatuurnoot laat de embargostatus van de in categorie 5 — deel 2 ("Informatiebeveiliging") bedoelde "programmatuur" onverlet.

| b. | "voor iedereen beschikbaar" is. |
| --- | --- |

b.

"voor iedereen beschikbaar" is.

DEFINITIES VAN IN DEZE BIJLAGE GEBRUIKTE TERMEN

De definitie van termen tussen ‧enkele aanhalingstekens‧ wordt gegeven in een technische noot bij de betrokken post.

De definitie van de termen tussen "dubbele aanhalingstekens" luidt als volgt (1):

NB: Na elke gedefinieerde term wordt tussen haakjes verwezen naar de betrokken categorie(ën).

| | "Aangepast voor gebruik in oorlogssituaties" (1): iedere aanpassing of selectie (zoals een wijziging van de zuiverheid, houdbaarheid, virulentie, verspreidingskenmerken, of weerstand tegen UV-straling) die tot doel heeft de werkzaamheid te verhogen ten aanzien van menselijke of dierlijke slachtoffers, schade aan uitrusting of aan gewassen, en aantasting van het milieu. |
| --- | --- |

"Aangepast voor gebruik in oorlogssituaties" (1): iedere aanpassing of selectie (zoals een wijziging van de zuiverheid, houdbaarheid, virulentie, verspreidingskenmerken, of weerstand tegen UV-straling) die tot doel heeft de werkzaamheid te verhogen ten aanzien van menselijke of dierlijke slachtoffers, schade aan uitrusting of aan gewassen, en aantasting van het milieu.

| | "Actieve pixel" (6 8): het kleinste (afzonderlijke) element van de halfgeleider-"array" dat nog een foto-elektrische overdrachtsfunctie vervult bij blootstelling aan elektromagnetische straling (licht). |
| --- | --- |

"Actieve pixel" (6 8): het kleinste (afzonderlijke) element van de halfgeleider-"array" dat nog een foto-elektrische overdrachtsfunctie vervult bij blootstelling aan elektromagnetische straling (licht).

| | "Actieve vluchtregelsystemen" (7): actieve vluchtregelsystemen werken zodanig dat ongewenste bewegingen of structurele belastingen van "vliegtuig" of raket kunnen worden voorkomen door de onafhankelijke verwerking van signalen van meerdere sensoren waarna preventieve commando’s voor automatische regeling worden gegeven. |
| --- | --- |

"Actieve vluchtregelsystemen" (7): actieve vluchtregelsystemen werken zodanig dat ongewenste bewegingen of structurele belastingen van "vliegtuig" of raket kunnen worden voorkomen door de onafhankelijke verwerking van signalen van meerdere sensoren waarna preventieve commando’s voor automatische regeling worden gegeven.

| | "Aërodynamische vlakken met variabel profiel" (7): deze worden verkregen door flappen aan de achterrand of aan de voorrand of door een naar beneden knikkende voorrand, welke tijdens de vlucht bestuurd kunnen worden. |
| --- | --- |

"Aërodynamische vlakken met variabel profiel" (7): deze worden verkregen door flappen aan de achterrand of aan de voorrand of door een naar beneden knikkende voorrand, welke tijdens de vlucht bestuurd kunnen worden.

| | "Afstembaar" (6): het vermogen van een "laser" om binnen een gebied van verschillende "laser"-overgangen bij elke golflengte een continuvermogen op te wekken. Een laser die slechts kan werken op een beperkt aantal vaste golflengten ‹line selectable› wekt discrete golflengten op binnen één "laser"-overgang en wordt niet beschouwd als "afstembaar". |
| --- | --- |

"Afstembaar" (6): het vermogen van een "laser" om binnen een gebied van verschillende "laser"-overgangen bij elke golflengte een continuvermogen op te wekken. Een laser die slechts kan werken op een beperkt aantal vaste golflengten ‹line selectable› wekt discrete golflengten op binnen één "laser"-overgang en wordt niet beschouwd als "afstembaar".

| | "Asymmetrisch algoritme" (5): cryptografisch algoritme waarin voor encryptie een andere wiskundige sleutel wordt gebruikt dan voor decryptie.


  NB: Voor sleutelbeheer worden gewoonlijk "asymmetrische algoritmen" gebruikt. |
| --- | --- |

"Asymmetrisch algoritme" (5): cryptografisch algoritme waarin voor encryptie een andere wiskundige sleutel wordt gebruikt dan voor decryptie.

NB: Voor sleutelbeheer worden gewoonlijk "asymmetrische algoritmen" gebruikt.

| | "Automatisch volgen van het doel" (6): een verwerkingstechniek waarbij automatisch en tijdgebonden een geëxtrapoleerde waarde van de meest waarschijnlijke positie van het doel wordt bepaald en als uitgangssignaal afgegeven. |
| --- | --- |

"Automatisch volgen van het doel" (6): een verwerkingstechniek waarbij automatisch en tijdgebonden een geëxtrapoleerde waarde van de meest waarschijnlijke positie van het doel wordt bepaald en als uitgangssignaal afgegeven.

| | "Axiale slag" (2): axiale verplaatsing tijdens één omwenteling van de hoofdspil, gemeten in een vlak loodrecht op de stelplaat van de spil aan een punt dat grenst aan de omtrek van de stelplaat van de spil. (Referentie: ISO 230, deel 1-1986, paragraaf 5.63) |
| --- | --- |

"Axiale slag" (2): axiale verplaatsing tijdens één omwenteling van de hoofdspil, gemeten in een vlak loodrecht op de stelplaat van de spil aan een punt dat grenst aan de omtrek van de stelplaat van de spil. (Referentie: ISO 230, deel 1-1986, paragraaf 5.63)

| | "Band" (1): een materiaal dat bestaat uit in elkaar gevlochten of in één richting liggende "monofilamenten", ‧strengen‧, "‹rovings›", "linten" of "garens", enz., gewoonlijk geïmpregneerd met hars.


  NB:‧streng‧: een bundel "monofilamenten" (normaal meer dan 200) die ongeveer parallel lopen. |
| --- | --- |

"Band" (1): een materiaal dat bestaat uit in elkaar gevlochten of in één richting liggende "monofilamenten", ‧strengen‧, "‹rovings›", "linten" of "garens", enz., gewoonlijk geïmpregneerd met hars.

NB:‧streng‧: een bundel "monofilamenten" (normaal meer dan 200) die ongeveer parallel lopen.

| | "Beeldverbetering" (4): het verwerken van elders verkregen informatiedragende beelden met behulp van algoritmen, zoals tijdcompressie, filteren, extractie, selectie, correlatie, convolutie of transformatie tussen domeinen (bijvoorbeeld de snelle Fourier-transformatie (‹fast Fourier transform›) of de Walsh transformatie (‹Walsh transform›)). Hieronder zijn niet begrepen algoritmen die slechts lineaire of draaiende omzettingen op een enkel beeld toepassen, zoals verschuivingen, extractie van specifieke kenmerken, registratie of het vals kleuren. |
| --- | --- |

"Beeldverbetering" (4): het verwerken van elders verkregen informatiedragende beelden met behulp van algoritmen, zoals tijdcompressie, filteren, extractie, selectie, correlatie, convolutie of transformatie tussen domeinen (bijvoorbeeld de snelle Fourier-transformatie (‹fast Fourier transform›) of de Walsh transformatie (‹Walsh transform›)). Hieronder zijn niet begrepen algoritmen die slechts lineaire of draaiende omzettingen op een enkel beeld toepassen, zoals verschuivingen, extractie van specifieke kenmerken, registratie of het vals kleuren.

| | "Bias" (versnellingsmeters) (7): uitgangssignaal van een versnellingsmeter bij afwezigheid van versnelling. |
| --- | --- |

"Bias" (versnellingsmeters) (7): uitgangssignaal van een versnellingsmeter bij afwezigheid van versnelling.

| | "Binnenbekleding" (9): de hechtlaag tussen de vaste stuwstof en de omhulling of isolerende bekleding. Doorgaans een op vloeibare polymeren gebaseerde dispersie van hittebestendige of isolerende materialen, bijvoorbeeld polybutadieen met hydroxy-eindgroep (HTPB) met koolstof als vulmateriaal of een andere polymeer waaraan hardingsmiddelen zijn toegevoegd, waarmee het inwendige van een omhulling wordt gespoten of bestreken. |
| --- | --- |

"Binnenbekleding" (9): de hechtlaag tussen de vaste stuwstof en de omhulling of isolerende bekleding. Doorgaans een op vloeibare polymeren gebaseerde dispersie van hittebestendige of isolerende materialen, bijvoorbeeld polybutadieen met hydroxy-eindgroep (HTPB) met koolstof als vulmateriaal of een andere polymeer waaraan hardingsmiddelen zijn toegevoegd, waarmee het inwendige van een omhulling wordt gespoten of bestreken.

| | "Broncode" (of brontaal) (4 6 7 9): een geschikte expressie van één of meer processen, die door een programmeersysteem kan worden omgezet in een door apparatuur uitvoerbare vorm ("objectcode" (of doeltaal)). |
| --- | --- |

"Broncode" (of brontaal) (4 6 7 9): een geschikte expressie van één of meer processen, die door een programmeersysteem kan worden omgezet in een door apparatuur uitvoerbare vorm ("objectcode" (of doeltaal)).

| | "CE": rekenelement (computing element). |
| --- | --- |

"CE": rekenelement (computing element).

| | "CEP" (circle of equal probability - 50 %-trefkanscirkel) (7): een maat voor de nauwkeurigheid; de straal van de cirkel met het doel in het middelpunt bij een bepaald bereik waarbinnen 50 % van de nuttige ladingen terechtkomen. |
| --- | --- |

"CEP" (circle of equal probability - 50 %-trefkanscirkel) (7): een maat voor de nauwkeurigheid; de straal van de cirkel met het doel in het middelpunt bij een bepaald bereik waarbinnen 50 % van de nuttige ladingen terechtkomen.

| | "Chemische laser" (6): een "laser" waarin de geëxciteerde stof wordt geproduceerd door de door een chemische reactie voortgebrachte energie. |
| --- | --- |

"Chemische laser" (6): een "laser" waarin de geëxciteerde stof wordt geproduceerd door de door een chemische reactie voortgebrachte energie.

| | "Chemisch mengsel" (1): een vast, vloeibaar of gasvormig product dat bestaat uit twee of meer bestanddelen die niet samen reageren onder de omstandigheden waarin het mengsel is opgeslagen. |
| --- | --- |

"Chemisch mengsel" (1): een vast, vloeibaar of gasvormig product dat bestaat uit twee of meer bestanddelen die niet samen reageren onder de omstandigheden waarin het mengsel is opgeslagen.

| | "Civiele vliegtuigen" (1 7 9): die types "vliegtuigen" die als zodanig zijn aangeduid in gepubliceerde overzichten van luchtwaardigheidsbewijzen van de civiele luchtvaartautoriteiten voor het vliegen van commerciële binnenlandse en buitenlandse lijnen of voor wettig civiel, privé of zakelijk gebruik.


  NB: Zie ook "vliegtuigen". |
| --- | --- |

"Civiele vliegtuigen" (1 7 9): die types "vliegtuigen" die als zodanig zijn aangeduid in gepubliceerde overzichten van luchtwaardigheidsbewijzen van de civiele luchtvaartautoriteiten voor het vliegen van commerciële binnenlandse en buitenlandse lijnen of voor wettig civiel, privé of zakelijk gebruik.

NB: Zie ook "vliegtuigen".

| | "Communicatiekanaalbesturingseenheid" (4): de fysieke verbinding die de stroom synchrone of asynchrone digitale informatie bestuurt. Deze bestaat uit een samenstelling die in de computer- of telecommunicatieapparatuur kan worden geïntegreerd ten einde toegang tot de communicatie te verschaffen. |
| --- | --- |

"Communicatiekanaalbesturingseenheid" (4): de fysieke verbinding die de stroom synchrone of asynchrone digitale informatie bestuurt. Deze bestaat uit een samenstelling die in de computer- of telecommunicatieapparatuur kan worden geïntegreerd ten einde toegang tot de communicatie te verschaffen.

| | "Composiet" (1 2 6 8 9): een "matrix" en één of meer toegevoegde fasen bestaande uit deeltjes, whiskers, vezels of iedere combinatie daarvan, aanwezig voor een specifiek doel of voor specifieke doelen. |
| --- | --- |

"Composiet" (1 2 6 8 9): een "matrix" en één of meer toegevoegde fasen bestaande uit deeltjes, whiskers, vezels of iedere combinatie daarvan, aanwezig voor een specifiek doel of voor specifieke doelen.

| | "Contourbesturen" (2): twee of meer "numeriek bestuurde" bewegingen volgens instructies die de eerstvolgende vereiste positie en de vereiste voedingssnelheden naar die positie specificeren. Deze snelheden worden in afhankelijkheid van elkaar gevarieerd, zodat een gewenste contour wordt verkregen (Referentie: ISO/DIS 2806-1980). |
| --- | --- |

"Contourbesturen" (2): twee of meer "numeriek bestuurde" bewegingen volgens instructies die de eerstvolgende vereiste positie en de vereiste voedingssnelheden naar die positie specificeren. Deze snelheden worden in afhankelijkheid van elkaar gevarieerd, zodat een gewenste contour wordt verkregen (Referentie: ISO/DIS 2806-1980).

| | "Cryptografie" (5): de tak van wetenschap die zich bezighoudt met de grondbeginselen, instrumenten en methoden voor het omzetten van gegevens teneinde de inhoud daarvan te verbergen, te voorkomen dat deze inhoud ongemerkt wordt gewijzigd of zonder toestemming wordt gebruikt. "Cryptografie" is beperkt tot het omzetten van gegevens met gebruikmaking van één of meer ‧geheime parameters‧ (bv. cryptovariabelen) of aanverwante sleutels.


  NB: Een ‧geheime parameter‧ is een constante of sleutel die voor anderen geheim wordt gehouden of slechts binnen een groep bekend wordt gemaakt. |
| --- | --- |

"Cryptografie" (5): de tak van wetenschap die zich bezighoudt met de grondbeginselen, instrumenten en methoden voor het omzetten van gegevens teneinde de inhoud daarvan te verbergen, te voorkomen dat deze inhoud ongemerkt wordt gewijzigd of zonder toestemming wordt gebruikt. "Cryptografie" is beperkt tot het omzetten van gegevens met gebruikmaking van één of meer ‧geheime parameters‧ (bv. cryptovariabelen) of aanverwante sleutels.

NB: Een ‧geheime parameter‧ is een constante of sleutel die voor anderen geheim wordt gehouden of slechts binnen een groep bekend wordt gemaakt.

| | "CTP": "totale theoretische prestatie" (‹composite theoretical performance›). |
| --- | --- |

"CTP": "totale theoretische prestatie" (‹composite theoretical performance›).

| | "DBRN" staat voor "navigatie met als referentie een gegevensbestand" ("Data-Based Referenced Navigation") (zie aldaar). |
| --- | --- |

"DBRN" staat voor "navigatie met als referentie een gegevensbestand" ("Data-Based Referenced Navigation") (zie aldaar).

| | "Deelnemende staat" (7 9): een staat die deelneemt aan het "Wassenaar Arrangement" (zie www.wassenaar.org). |
| --- | --- |

"Deelnemende staat" (7 9): een staat die deelneemt aan het "Wassenaar Arrangement" (zie www.wassenaar.org).

| | "Diffusielassen" (1 2 9): het in de vaste fase (‹solid-state›) moleculair met elkaar verbinden van tenminste twee aparte metalen tot één stuk met een bindingssterkte tenminste gelijk aan die van het zwakste materiaal. |
| --- | --- |

"Diffusielassen" (1 2 9): het in de vaste fase (‹solid-state›) moleculair met elkaar verbinden van tenminste twee aparte metalen tot één stuk met een bindingssterkte tenminste gelijk aan die van het zwakste materiaal.

| | "Digitale computer" (4 5): een apparaat dat, in de vorm van één of meer discrete variabelen, alle volgende functies kan verrichten:






  a. | gegevens opnemen; |
| --- | --- | --- |

"Digitale computer" (4 5): een apparaat dat, in de vorm van één of meer discrete variabelen, alle volgende functies kan verrichten:

a.

gegevens opnemen;

| b. | gegevens of opdrachten in onuitwisbare of wijzigbare (beschrijfbare) geheugens opslaan; |
| --- | --- |

b.

gegevens of opdrachten in onuitwisbare of wijzigbare (beschrijfbare) geheugens opslaan;

| c. | gegevens met behulp van een opgeslagen veranderbare reeks opdrachten kan verwerken; en |
| --- | --- |

c.

gegevens met behulp van een opgeslagen veranderbare reeks opdrachten kan verwerken; en

| d. | gegevens afgeven. |
| --- | --- |

d.

gegevens afgeven.

NB: Onder veranderen van een opgeslagen reeks opdrachten wordt mede verstaan het vervangen van onuitwisbare geheugenelementen, doch hieronder valt niet het in fysieke zin wijzigen van bedrading of onderlinge verbindingen.

| | "Digitale elektronische motorregelapparatuur welke volledig zelfstandig in de motorregeling kan ingrijpen" ("FADEC") (7 9): elektronische regelapparatuur voor gasturbinemotoren of motoren met een gecombineerde thermodynamische cyclus waarbij wordt gebruikgemaakt van een digitale computer voor de regeling van de variabelen die nodig zijn ter regeling van de stuwkracht of het afgegeven effectieve vermogen over het hele werkbereik van de motor vanaf het begin van de meting van de brandstoftoevoer tot het afsluiten van de brandstoftoevoer. |
| --- | --- |

"Digitale elektronische motorregelapparatuur welke volledig zelfstandig in de motorregeling kan ingrijpen" ("FADEC") (7 9): elektronische regelapparatuur voor gasturbinemotoren of motoren met een gecombineerde thermodynamische cyclus waarbij wordt gebruikgemaakt van een digitale computer voor de regeling van de variabelen die nodig zijn ter regeling van de stuwkracht of het afgegeven effectieve vermogen over het hele werkbereik van de motor vanaf het begin van de meting van de brandstoftoevoer tot het afsluiten van de brandstoftoevoer.

| | "Digitale overbrengsnelheid": de totale bitsnelheid van de informatie die direct wordt overgebracht op ieder type medium.


  NB: Zie ook "totale digitale overbrengsnelheid" |
| --- | --- |

"Digitale overbrengsnelheid": de totale bitsnelheid van de informatie die direct wordt overgebracht op ieder type medium.

NB: Zie ook "totale digitale overbrengsnelheid"

| | "Direct hydraulisch persen" (2): een vervormingsproces, waarbij wordt gebruikgemaakt van een flexibele, met vloeistof gevulde blaas die in direct contact staat met het werkstuk. |
| --- | --- |

"Direct hydraulisch persen" (2): een vervormingsproces, waarbij wordt gebruikgemaakt van een flexibele, met vloeistof gevulde blaas die in direct contact staat met het werkstuk.

| | "Door de ITU toegewezen" (3 5): toewijzing van de frequentiebanden overeenkomstig de huidige uitgave van het Radioreglement van de ITU voor primaire, toegelaten en secundaire diensten.


  NB: Extra en alternatieve toewijzingen vallen hier niet onder. |
| --- | --- |

"Door de ITU toegewezen" (3 5): toewijzing van de frequentiebanden overeenkomstig de huidige uitgave van het Radioreglement van de ITU voor primaire, toegelaten en secundaire diensten.

NB: Extra en alternatieve toewijzingen vallen hier niet onder.

| | "Door opwerking verkregen" (0 1): het toepassen van ieder procédé dat tot doel heeft het gehalte van het betrokken isotoop te doen toenemen. |
| --- | --- |

"Door opwerking verkregen" (0 1): het toepassen van ieder procédé dat tot doel heeft het gehalte van het betrokken isotoop te doen toenemen.

| | "Drukomzetters" (2): inrichtingen die de gemeten druk omzetten in een elektrisch signaal. |
| --- | --- |

"Drukomzetters" (2): inrichtingen die de gemeten druk omzetten in een elektrisch signaal.

| | "Dynamische adaptieve routebepaling" (5): automatische aanpassing van de route van verkeer op basis van de waarneming en analyse van actuele feitelijke netwerkomstandigheden.


  NB: Hieronder vallen niet de beslissingen ten aanzien van routebepaling aan de hand van vooraf vastgelegde gegevens. |
| --- | --- |

"Dynamische adaptieve routebepaling" (5): automatische aanpassing van de route van verkeer op basis van de waarneming en analyse van actuele feitelijke netwerkomstandigheden.

NB: Hieronder vallen niet de beslissingen ten aanzien van routebepaling aan de hand van vooraf vastgelegde gegevens.

| | "Dynamische signaalanalysatoren" (3): "Signaalanalysatoren" waarbij gebruik wordt gemaakt van digitale bemonsterings- en omzettingstechnieken ter verkrijging van een Fourier-spectrumafbeelding van een gegeven golfvorm met inbegrip van gegevens betreffende amplitude en fase.


  NB: Zie ook "signaalanalysatoren" |
| --- | --- |

"Dynamische signaalanalysatoren" (3): "Signaalanalysatoren" waarbij gebruik wordt gemaakt van digitale bemonsterings- en omzettingstechnieken ter verkrijging van een Fourier-spectrumafbeelding van een gegeven golfvorm met inbegrip van gegevens betreffende amplitude en fase.

NB: Zie ook "signaalanalysatoren"

| | "Eénkanaalsignalering" (‹common channel signalling›) (5): een methode van signalering, waarbij met behulp van berichten met label via een enkel kanaal signaleringsinformatie die betrekking heeft op een veelheid van lijnen of oproepen alsmede andere informatie, bv. informatie gebruikt bij het beheer van netwerken, tussen schakelcentrales wordt overgebracht. |
| --- | --- |

"Eénkanaalsignalering" (‹common channel signalling›) (5): een methode van signalering, waarbij met behulp van berichten met label via een enkel kanaal signaleringsinformatie die betrekking heeft op een veelheid van lijnen of oproepen alsmede andere informatie, bv. informatie gebruikt bij het beheer van netwerken, tussen schakelcentrales wordt overgebracht.

| | "Effectieve gram" (0 1). Onder een "effectieve gram" (0 1) van "speciale splijtstoffen" wordt verstaan:






  a. | voor plutoniumisotopen en uraan-233: het gewicht van de isotoop in gram; |
| --- | --- | --- |

"Effectieve gram" (0 1). Onder een "effectieve gram" (0 1) van "speciale splijtstoffen" wordt verstaan:

a.

voor plutoniumisotopen en uraan-233: het gewicht van de isotoop in gram;

| b. | voor uraan dat 1 % of meer verrijkt is in de isotoop uraan-235: het gewicht van het element in gram, vermenigvuldigd met het kwadraat van de verrijking, uitgedrukt in decimalen als gewichtsverhouding; |
| --- | --- |

b.

voor uraan dat 1 % of meer verrijkt is in de isotoop uraan-235: het gewicht van het element in gram, vermenigvuldigd met het kwadraat van de verrijking, uitgedrukt in decimalen als gewichtsverhouding;

| c. | voor uraan dat minder dan 1 % verrijkt is in de isotoop uraan-235: het gewicht van het element in gram, vermenigvuldigd met 0,0001. |
| --- | --- |

c.

voor uraan dat minder dan 1 % verrijkt is in de isotoop uraan-235: het gewicht van het element in gram, vermenigvuldigd met 0,0001.

| | "Eindeffectors" (2): grijpers, ‧actieve gereedschapseenheden‧ en alle andere gereedschappen die zijn verbonden met de grondplaat aan het uiteinde van de manipulatiearmen van een "robot".


  NB: Een ‧actieve gereedschapseenheid‧ is een voorziening die beweegkracht of procesenergie op het werkstuk overbrengt of waarnemingen daarvan verzorgt. |
| --- | --- |

"Eindeffectors" (2): grijpers, ‧actieve gereedschapseenheden‧ en alle andere gereedschappen die zijn verbonden met de grondplaat aan het uiteinde van de manipulatiearmen van een "robot".

NB: Een ‧actieve gereedschapseenheid‧ is een voorziening die beweegkracht of procesenergie op het werkstuk overbrengt of waarnemingen daarvan verzorgt.

| | "Elektronisch bestuurbare fasegestuurde antennesystemen, opgebouwd uit een groot aantal identieke antennes" (‹phased array antenna›) (5 6)
  Een antenne waarbij de bundel wordt gevormd door middel van fase-koppeling, d.w.z. de bundelrichting wordt gestuurd door de complexe opwekkingscoëfficiënten van de uitstralende elementen en de richting van die bundel kan in azimut of hellingshoek worden gewijzigd door toepassing van een elektrisch signaal bij zowel uitzending als ontvangst. |
| --- | --- |

"Elektronisch bestuurbare fasegestuurde antennesystemen, opgebouwd uit een groot aantal identieke antennes" (‹phased array antenna›) (5 6)

Een antenne waarbij de bundel wordt gevormd door middel van fase-koppeling, d.w.z. de bundelrichting wordt gestuurd door de complexe opwekkingscoëfficiënten van de uitstralende elementen en de richting van die bundel kan in azimut of hellingshoek worden gewijzigd door toepassing van een elektrisch signaal bij zowel uitzending als ontvangst.

| | "Equivalente dichtheid" (6): de massa van een optisch element per optische oppervlakte-eenheid, geprojecteerd op het optisch oppervlak. |
| --- | --- |

"Equivalente dichtheid" (6): de massa van een optisch element per optische oppervlakte-eenheid, geprojecteerd op het optisch oppervlak.

| | "Expert systemen" (7): systemen die hun resultaten verkrijgen door het toepassen van regels op onafhankelijk van het "programma" opgeslagen gegevens en die één of meer van de volgende functies kunnen vervullen:






  a. | automatisch wijzigen van de door de gebruiker ingevoerde "broncode"; |
| --- | --- | --- |

"Expert systemen" (7): systemen die hun resultaten verkrijgen door het toepassen van regels op onafhankelijk van het "programma" opgeslagen gegevens en die één of meer van de volgende functies kunnen vervullen:

a.

automatisch wijzigen van de door de gebruiker ingevoerde "broncode";

| b. | verschaffen van kennis betreffende een categorie problemen in een quasi-natuurlijke taal, of |
| --- | --- |

b.

verschaffen van kennis betreffende een categorie problemen in een quasi-natuurlijke taal, of

| c. | verwerven van de kennis die noodzakelijk is voor de ontwikkeling van het systeem (symbolische training). |
| --- | --- |

c.

verwerven van de kennis die noodzakelijk is voor de ontwikkeling van het systeem (symbolische training).

| | "FADEC" staat voor "digitale elektronische motorregelapparatuur welke volledig zelfstandig in de motorregeling kan ingrijpen" (‹full authority digital engine control›). |
| --- | --- |

"FADEC" staat voor "digitale elektronische motorregelapparatuur welke volledig zelfstandig in de motorregeling kan ingrijpen" (‹full authority digital engine control›).

| | "«Focal plane array»" (6): een lineaire of tweedimensionale vlakke laag of combinatie van vlakke lagen met afzonderlijke detectorelementen, met of zonder uitlees-elektronica, die in het brandvlak worden geplaatst.


  NB: Stapels afzonderlijke detectorelementen of detectoren met twee, drie of vier elementen vallen hier niet onder, op voorwaarde dat in het element geen tijdvertraging en integratie plaatsvindt. |
| --- | --- |

"«Focal plane array»" (6): een lineaire of tweedimensionale vlakke laag of combinatie van vlakke lagen met afzonderlijke detectorelementen, met of zonder uitlees-elektronica, die in het brandvlak worden geplaatst.

NB: Stapels afzonderlijke detectorelementen of detectoren met twee, drie of vier elementen vallen hier niet onder, op voorwaarde dat in het element geen tijdvertraging en integratie plaatsvindt.

| | "Fractionele bandbreedte" (3): de momentele bandbreedte gedeeld door de centrale frequentie, uitgedrukt in procenten. |
| --- | --- |

"Fractionele bandbreedte" (3): de momentele bandbreedte gedeeld door de centrale frequentie, uitgedrukt in procenten.

| | "«Frequency hopping»" (5): een vorm van "spread spectrum" waarbij de zendfrequentie van één enkel communicatiekanaal wordt verschoven in een willekeurige of pseudowillekeurige reeks discrete stappen. |
| --- | --- |

"«Frequency hopping»" (5): een vorm van "spread spectrum" waarbij de zendfrequentie van één enkel communicatiekanaal wordt verschoven in een willekeurige of pseudowillekeurige reeks discrete stappen.

| | "Frequentiesynthesizer" (3): elke soort frequentiebron of signaalgenerator, ongeacht de feitelijk daarin toegepaste techniek, die een veelheid aan uitgangsfrequenties afgeeft, gelijktijdig of naar keuze, aan één of meer uitgangen, en die worden bepaald door, afgeleid van of beheerst door een geringer aantal standaard- (of basis-) frequenties. |
| --- | --- |

"Frequentiesynthesizer" (3): elke soort frequentiebron of signaalgenerator, ongeacht de feitelijk daarin toegepaste techniek, die een veelheid aan uitgangsfrequenties afgeeft, gelijktijdig of naar keuze, aan één of meer uitgangen, en die worden bepaald door, afgeleid van of beheerst door een geringer aantal standaard- (of basis-) frequenties.

| | "Frequentiewisseltijd" (3 5): de maximale tijd (d.w.z. vertraging) welke bij het overschakelen van de ene gekozen uitgangsfrequentie naar een andere benodigd is voor het bereiken van:






  a. | een frequentie binnen 100 Hz van de uiteindelijke frequentie; of |
| --- | --- | --- |

"Frequentiewisseltijd" (3 5): de maximale tijd (d.w.z. vertraging) welke bij het overschakelen van de ene gekozen uitgangsfrequentie naar een andere benodigd is voor het bereiken van:

a.

een frequentie binnen 100 Hz van de uiteindelijke frequentie; of

| b. | een uitgangsniveau liggende binnen 1 dB van het uiteindelijke uitgangsniveau. |
| --- | --- |

b.

een uitgangsniveau liggende binnen 1 dB van het uiteindelijke uitgangsniveau.

| | "Fundamenteel wetenschappelijk onderzoek" (ATN NTN). Experimenteel of theoretisch werk dat hoofdzakelijk wordt gedaan om nieuwe kennis te verkrijgen over de fundamentele beginselen van verschijnselen of waarneembare feiten, en dat in eerste instantie niet is gericht op een bepaald praktisch doel of oogmerk. |
| --- | --- |

"Fundamenteel wetenschappelijk onderzoek" (ATN NTN). Experimenteel of theoretisch werk dat hoofdzakelijk wordt gedaan om nieuwe kennis te verkrijgen over de fundamentele beginselen van verschijnselen of waarneembare feiten, en dat in eerste instantie niet is gericht op een bepaald praktisch doel of oogmerk.

| | "Garen" (1): een bundel getwijnde "strengen"


  NB:"streng": een bundel "monofilamenten" (normaal meer dan 200) die ongeveer parallel lopen. |
| --- | --- |

"Garen" (1): een bundel getwijnde "strengen"

NB:"streng": een bundel "monofilamenten" (normaal meer dan 200) die ongeveer parallel lopen.

| | "Gebruik" (ATN NTN Alle). Bediening, installatie (met inbegrip van installatie ter plaatse), onderhoud (controle), reparatie, revisie en opknappen. |
| --- | --- |

"Gebruik" (ATN NTN Alle). Bediening, installatie (met inbegrip van installatie ter plaatse), onderhoud (controle), reparatie, revisie en opknappen.

| | "Geïnstrumenteerd bereik" (6): het gespecificeerde ondubbelzinnige beeldbereik van een radar. |
| --- | --- |

"Geïnstrumenteerd bereik" (6): het gespecificeerde ondubbelzinnige beeldbereik van een radar.

| | "Geïntegreerde schakeling van het filmtype" (3): een reeks ‧schakelelementen‧ en metallieke doorverbindingen, die gevormd zijn door afzetting van een dikke of dunne laag op een isolerend "substraat".


  NB: Een ‧schakelelement‧ is een enkelvoudig actief of passief functioneel deel van een elektronische schakeling, bijvoorbeeld één diode, één transistor, één weerstand, één condensator, enz. |
| --- | --- |

"Geïntegreerde schakeling van het filmtype" (3): een reeks ‧schakelelementen‧ en metallieke doorverbindingen, die gevormd zijn door afzetting van een dikke of dunne laag op een isolerend "substraat".

NB: Een ‧schakelelement‧ is een enkelvoudig actief of passief functioneel deel van een elektronische schakeling, bijvoorbeeld één diode, één transistor, één weerstand, één condensator, enz.

| | "Geïsoleerde levende culturen" (1): hieronder vallen levende culturen waarvan de organismen zich in een ruststadium bevinden en levende culturen in gedroogde preparaten. |
| --- | --- |

"Geïsoleerde levende culturen" (1): hieronder vallen levende culturen waarvan de organismen zich in een ruststadium bevinden en levende culturen in gedroogde preparaten.

| | "Gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte" (3 6): producten die zijn ontworpen, vervaardigd en getest volgens speciale elektrische, mechanische en omgevingseisen voor gebruik bij het lanceren en opstellen van satellieten of vluchtsystemen die opereren op hoogten van 100 km of meer. |
| --- | --- |

"Gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte" (3 6): producten die zijn ontworpen, vervaardigd en getest volgens speciale elektrische, mechanische en omgevingseisen voor gebruik bij het lanceren en opstellen van satellieten of vluchtsystemen die opereren op hoogten van 100 km of meer.

| | "Geleidingssysteem" (7): systemen waarin de meting en berekening van de positie en snelheid van een voertuig (navigatie) worden gecombineerd met de berekening en verzending van opdrachten naar de vluchtregelsystemen van het voertuig om de baan te corrigeren. |
| --- | --- |

"Geleidingssysteem" (7): systemen waarin de meting en berekening van de positie en snelheid van een voertuig (navigatie) worden gecombineerd met de berekening en verzending van opdrachten naar de vluchtregelsystemen van het voertuig om de baan te corrigeren.

| | "Geografisch gespreid" (6): sensoren worden geacht "geografisch gespreid" te zijn wanneer elke sensor zich in alle richtingen op een afstand van meer dan 1 500 m van iedere andere sensor bevindt. Mobiele sensoren worden altijd beschouwd als "geografisch gespreid". |
| --- | --- |

"Geografisch gespreid" (6): sensoren worden geacht "geografisch gespreid" te zijn wanneer elke sensor zich in alle richtingen op een afstand van meer dan 1 500 m van iedere andere sensor bevindt. Mobiele sensoren worden altijd beschouwd als "geografisch gespreid".

| | "Halffabrikaten (‹preforms›) voor koolstofvezels" (1): een geordende verzameling vezels, met of zonder deklaag, bestemd om een raamwerk van een deel te vormen alvorens de "matrix" wordt ingebracht, teneinde een "composiet" te vormen; |
| --- | --- |

"Halffabrikaten (‹preforms›) voor koolstofvezels" (1): een geordende verzameling vezels, met of zonder deklaag, bestemd om een raamwerk van een deel te vormen alvorens de "matrix" wordt ingebracht, teneinde een "composiet" te vormen;

| | "Heet isostatisch verdichten" (2): een proces waarbij op een gietstuk bij een temperatuur van meer dan 375 K (102 °C) in een gesloten holte door middel van een bepaalde stof (een gas, een vloeistof, vaste deeltjes, enz.) in alle richtingen gelijke druk wordt uitgeoefend, waardoor holten in het gietstuk worden verminderd of geëlimineerd. |
| --- | --- |

"Heet isostatisch verdichten" (2): een proces waarbij op een gietstuk bij een temperatuur van meer dan 375 K (102 °C) in een gesloten holte door middel van een bepaalde stof (een gas, een vloeistof, vaste deeltjes, enz.) in alle richtingen gelijke druk wordt uitgeoefend, waardoor holten in het gietstuk worden verminderd of geëlimineerd.

| | "Hoekafwijking" (2): het maximale verschil tussen de aangegeven hoekpositie en de feitelijke, zeer nauwkeurig gemeten hoekpositie nadat de houder van het werkstuk op de tafel uit zijn oorspronkelijke positie is weggedraaid. (Referentie: VDI/VDE 2617, concept "Draaitafels op coördinaten-meetmachines".) |
| --- | --- |

"Hoekafwijking" (2): het maximale verschil tussen de aangegeven hoekpositie en de feitelijke, zeer nauwkeurig gemeten hoekpositie nadat de houder van het werkstuk op de tafel uit zijn oorspronkelijke positie is weggedraaid. (Referentie: VDI/VDE 2617, concept "Draaitafels op coördinaten-meetmachines".)

| | "Hybride computer" (4): apparatuur die alle volgende functies kan verrichten:






  a. | gegevens opnemen; |
| --- | --- | --- |

"Hybride computer" (4): apparatuur die alle volgende functies kan verrichten:

a.

gegevens opnemen;

| b. | gegevens verwerken, zowel analoge als digitale voorstelling, en |
| --- | --- |

b.

gegevens verwerken, zowel analoge als digitale voorstelling, en

| c. | gegevens afgeven. |
| --- | --- |

c.

gegevens afgeven.

| | "Hybride geïntegreerde schakeling" (3): elke willekeurige combinatie van geïntegreerde schakelingen, ‧schakelelementen‧ of ‧discrete onderdelen‧ die onderling verbonden zijn om één of meer specifieke functies te vervullen en met alle volgende kenmerken:






  a. | met tenminste één niet-omhuld element; |
| --- | --- | --- |

"Hybride geïntegreerde schakeling" (3): elke willekeurige combinatie van geïntegreerde schakelingen, ‧schakelelementen‧ of ‧discrete onderdelen‧ die onderling verbonden zijn om één of meer specifieke functies te vervullen en met alle volgende kenmerken:

a.

met tenminste één niet-omhuld element;

| b. | onderling verbonden met gebruikmaking van kenmerkende productiemethoden voor geïntegreerde schakelingen; |
| --- | --- |

b.

onderling verbonden met gebruikmaking van kenmerkende productiemethoden voor geïntegreerde schakelingen;

| c. | als eenheid vervangbaar; en |
| --- | --- |

c.

als eenheid vervangbaar; en

| d. | gewoonlijk niet demonteerbaar. |
| --- | --- |

d.

gewoonlijk niet demonteerbaar.

NB 1: Een ‧schakelelement‧ is een enkelvoudig actief of passief functioneel deel van een elektronische schakeling, bijvoorbeeld één diode, één transistor, één weerstand, één condensator, enz.

NB 2: Een ‧discreet onderdeel‧ is een afzonderlijk omhuld ‧schakelelement‧ met eigen uitwendige aansluitingen.

| | "Immunotoxine" (1): een samenvoeging van een celspecifieke monoklonale antistof en een "toxine" of een "subeenheid van een toxine" die zieke cellen selectief aantast. |
| --- | --- |

"Immunotoxine" (1): een samenvoeging van een celspecifieke monoklonale antistof en een "toxine" of een "subeenheid van een toxine" die zieke cellen selectief aantast.

| | "Impulscompressie" (6): codering en verwerking van een radarsignaalimpuls met een lange duur tot een kortstondige impuls, met behoud van de voordelen van een hoge impulsenergie. |
| --- | --- |

"Impulscompressie" (6): codering en verwerking van een radarsignaalimpuls met een lange duur tot een kortstondige impuls, met behoud van de voordelen van een hoge impulsenergie.

| | "Inclusief alle compensaties" (2): nadat alle uitvoerbare maatregelen waarover de fabrikant beschikt om alle systematische instelfouten voor het betrokken werktuigmachinemodel tot een minimum te beperken, bekeken zijn. |
| --- | --- |

"Inclusief alle compensaties" (2): nadat alle uitvoerbare maatregelen waarover de fabrikant beschikt om alle systematische instelfouten voor het betrokken werktuigmachinemodel tot een minimum te beperken, bekeken zijn.

| | "Informatiebeveiliging" (4 5): alle middelen en functies ter verzekering van de toegankelijkheid, geheimhouding of integriteit van gegevens of communicaties, zonder inbegrip van de middelen en functies die zijn bedoeld als beveiliging tegen storingen. Het begrip omvat o.a. "cryptografie", ‧cryptanalyse‧, bescherming tegen confidentiële uitstralingen en computerbeveiliging.


  NB:‧Cryptanalyse‧: de analyse van een cryptografisch systeem of de in- en uitvoer daarvan om daaraan vertrouwelijke variabelen of gevoelige gegevens te ontlenen, met inbegrip van niet-gecodeerde tekst. |
| --- | --- |

"Informatiebeveiliging" (4 5): alle middelen en functies ter verzekering van de toegankelijkheid, geheimhouding of integriteit van gegevens of communicaties, zonder inbegrip van de middelen en functies die zijn bedoeld als beveiliging tegen storingen. Het begrip omvat o.a. "cryptografie", ‧cryptanalyse‧, bescherming tegen confidentiële uitstralingen en computerbeveiliging.

NB:‧Cryptanalyse‧: de analyse van een cryptografisch systeem of de in- en uitvoer daarvan om daaraan vertrouwelijke variabelen of gevoelige gegevens te ontlenen, met inbegrip van niet-gecodeerde tekst.

| | "Intrinsieke magnetische gradiëntmeter" (6): één enkel waarnemingselement voor de gradiënt van magnetische velden en bijbehorende elektronica waarvan de afleeswaarde een maat is van de gradiënt van het magnetisch veld.


  NB: Zie ook "magnetische gradiëntmeter". |
| --- | --- |

"Intrinsieke magnetische gradiëntmeter" (6): één enkel waarnemingselement voor de gradiënt van magnetische velden en bijbehorende elektronica waarvan de afleeswaarde een maat is van de gradiënt van het magnetisch veld.

NB: Zie ook "magnetische gradiëntmeter".

| | "Isolatie" (9): de isolatie van de onderdelen van een raketmotor, d.w.z. omhulling, straalpijp, inlaten en afdichtingen van de omhulling, waaronder gevulkaniseerd of half-gevulkaniseerd samengesteld rubber plaatmateriaal dat een isolerend of hittebestendig materiaal omvat. Isolatie kan ook zijn aangebracht in de vorm van moffen of flappen om spanningen te ontlasten. |
| --- | --- |

"Isolatie" (9): de isolatie van de onderdelen van een raketmotor, d.w.z. omhulling, straalpijp, inlaten en afdichtingen van de omhulling, waaronder gevulkaniseerd of half-gevulkaniseerd samengesteld rubber plaatmateriaal dat een isolerend of hittebestendig materiaal omvat. Isolatie kan ook zijn aangebracht in de vorm van moffen of flappen om spanningen te ontlasten.

| | "Isostatische persen" (2): apparatuur, geschikt voor het onder druk brengen van een gesloten holte door middel van een bepaalde stof (een gas, een vloeistof, vaste deeltjes, enz.) teneinde te bereiken dat binnen de holte op een werkstuk of materiaal gelijke druk in alle richtingen wordt uitgeoefend. |
| --- | --- |

"Isostatische persen" (2): apparatuur, geschikt voor het onder druk brengen van een gesloten holte door middel van een bepaalde stof (een gas, een vloeistof, vaste deeltjes, enz.) teneinde te bereiken dat binnen de holte op een werkstuk of materiaal gelijke druk in alle richtingen wordt uitgeoefend.

| | "Kantelspil" (2): een spil met gereedschap die gedurende het bewerkingsproces de hoek van zijn hartlijn ten opzichte van een andere as kan wijzigen. |
| --- | --- |

"Kantelspil" (2): een spil met gereedschap die gedurende het bewerkingsproces de hoek van zijn hartlijn ten opzichte van een andere as kan wijzigen.

| | "Kernreactor" (0): een kernreactor omvat de delen in of rechtstreeks bevestigd aan het reactorvat, de uitrusting die het vermogensniveau in de kern regelt, alsmede de onderdelen die gewoonlijk het primaire koelmiddel van de reactorkern bevatten, daarmee in rechtstreeks contact komen of dit reguleren. |
| --- | --- |

"Kernreactor" (0): een kernreactor omvat de delen in of rechtstreeks bevestigd aan het reactorvat, de uitrusting die het vermogensniveau in de kern regelt, alsmede de onderdelen die gewoonlijk het primaire koelmiddel van de reactorkern bevatten, daarmee in rechtstreeks contact komen of dit reguleren.

| | "Kritische temperatuur" (1 3 6): de "kritische temperatuur" (ook wel overgangstemperatuur genoemd) van een bepaald "supergeleidend" materiaal is de temperatuur waarbij de gelijkstroomweerstand van het materiaal nul wordt. |
| --- | --- |

"Kritische temperatuur" (1 3 6): de "kritische temperatuur" (ook wel overgangstemperatuur genoemd) van een bepaald "supergeleidend" materiaal is de temperatuur waarbij de gelijkstroomweerstand van het materiaal nul wordt.

| | "Laser" (0 2 3 5 6 9): een samenstelling van componenten welke zowel in de ruimte als in de tijd coherent licht produceert dat is versterkt door de gestimuleerde emissie van straling.








  NB: zie ook: | | "chemische laser" |
| --- | --- | --- | --- |

"Laser" (0 2 3 5 6 9): een samenstelling van componenten welke zowel in de ruimte als in de tijd coherent licht produceert dat is versterkt door de gestimuleerde emissie van straling.

NB: zie ook:

"chemische laser"

| | "Q-switched laser", |
| --- | --- |

"Q-switched laser",

| | "Super High Power Laser", |
| --- | --- |

"Super High Power Laser",

| | "Transfer laser". |
| --- | --- |

"Transfer laser".

| | "Lichter dan luchttoestellen" (9): ballonen of luchtschepen die voor het creëren van lift gebruik maken van hete lucht of andere gassen die lichter zijn dan lucht, bijvoorbeeld helium of waterstof. |
| --- | --- |

"Lichter dan luchttoestellen" (9): ballonen of luchtschepen die voor het creëren van lift gebruik maken van hete lucht of andere gassen die lichter zijn dan lucht, bijvoorbeeld helium of waterstof.

| | "Lineariteit" (2) (gewoonlijk gemeten als niet-lineariteit): dit is de maximale positieve of negatieve afwijking van het feitelijke kenmerk (gemiddelde van naar boven en naar beneden gemeten waarden) van een rechte lijn die zo is geplaatst dat de maximale afwijkingen gelijk worden gemaakt en geminimaliseerd. |
| --- | --- |

"Lineariteit" (2) (gewoonlijk gemeten als niet-lineariteit): dit is de maximale positieve of negatieve afwijking van het feitelijke kenmerk (gemiddelde van naar boven en naar beneden gemeten waarden) van een rechte lijn die zo is geplaatst dat de maximale afwijkingen gelijk worden gemaakt en geminimaliseerd.

| | "Lint" (1): een bundel "monofilamenten", die gewoonlijk ongeveer parallel lopen. |
| --- | --- |

"Lint" (1): een bundel "monofilamenten", die gewoonlijk ongeveer parallel lopen.

| | "Lokaal netwerk" (4): een datacommunicatiesysteem dat alle onderstaande kenmerken combineert:






  a. | het stelt een willekeurig aantal onafhankelijke ‧datatoestellen‧ in staat, rechtstreeks met elkaar in verbinding te staan; en |
| --- | --- | --- |

"Lokaal netwerk" (4): een datacommunicatiesysteem dat alle onderstaande kenmerken combineert:

a.

het stelt een willekeurig aantal onafhankelijke ‧datatoestellen‧ in staat, rechtstreeks met elkaar in verbinding te staan; en

| b. | het is beperkt tot een geografisch betrekkelijk klein gebied (bijvoorbeeld een kantoorgebouw, een fabriek, een universiteitscomplex of een magazijn). |
| --- | --- |

b.

het is beperkt tot een geografisch betrekkelijk klein gebied (bijvoorbeeld een kantoorgebouw, een fabriek, een universiteitscomplex of een magazijn).

NB: Een ‧datatoestel‧ is een apparaat voor het zenden of ontvangen van reeksen digitale informatie.

| | "Luchtstroom-beheerste antitorsie of richtingsregelsystemen" (7): systemen die gebruik maken van lucht die over aërodynamische vlakken wordt geblazen om de door deze oppervlakken gegenereerde krachten te verhogen en te beheersen. |
| --- | --- |

"Luchtstroom-beheerste antitorsie of richtingsregelsystemen" (7): systemen die gebruik maken van lucht die over aërodynamische vlakken wordt geblazen om de door deze oppervlakken gegenereerde krachten te verhogen en te beheersen.

| | "Magnetische gradiëntmeters" (6): deze zijn ontworpen voor het opsporen van de ruimtelijke variaties van magnetische velden van bronnen buiten het instrument. Zij bestaan uit verscheidene "magnetometers" en bijbehorende elektronica waarvan de afleeswaarde een maat is van de gradiënt van het magnetisch veld.


  NB: Zie ook "intrinsieke magnetische gradiëntmeter". |
| --- | --- |

"Magnetische gradiëntmeters" (6): deze zijn ontworpen voor het opsporen van de ruimtelijke variaties van magnetische velden van bronnen buiten het instrument. Zij bestaan uit verscheidene "magnetometers" en bijbehorende elektronica waarvan de afleeswaarde een maat is van de gradiënt van het magnetisch veld.

NB: Zie ook "intrinsieke magnetische gradiëntmeter".

| | "Magnetometers" (6): deze zijn ontworpen voor het opsporen van magnetische velden van bronnen buiten het instrument. Zij bestaan uit één enkel sensorelement voor het waarnemen van magnetische velden en bijbehorende elektronica waarvan de afleeswaarde een maat is van het magnetisch veld. |
| --- | --- |

"Magnetometers" (6): deze zijn ontworpen voor het opsporen van magnetische velden van bronnen buiten het instrument. Zij bestaan uit één enkel sensorelement voor het waarnemen van magnetische velden en bijbehorende elektronica waarvan de afleeswaarde een maat is van het magnetisch veld.

| | "Materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6" (O): koper, roestvrij staal, aluminium, aluminiumoxide, aluminiumlegeringen, nikkel of een legering met 60 of meer gewichtspercenten nikkel en UF6-bestendige gefluoreerde koolwaterstofpolymeren, naar gelang van het soort scheidingsproces. |
| --- | --- |

"Materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6" (O): koper, roestvrij staal, aluminium, aluminiumoxide, aluminiumlegeringen, nikkel of een legering met 60 of meer gewichtspercenten nikkel en UF6-bestendige gefluoreerde koolwaterstofpolymeren, naar gelang van het soort scheidingsproces.

| | "Matrix" (1 2 8 9): een in hoofdzaak continue fase die de ruimte tussen deeltjes, whiskers of vezels vult. |
| --- | --- |

"Matrix" (1 2 8 9): een in hoofdzaak continue fase die de ruimte tussen deeltjes, whiskers of vezels vult.

| | "Mechanisch legeren" (1): een legeringsproces door middel van het binden, breken en opnieuw binden van elementaire of moederlegeringspoeders met behulp van mechanische krachten. Niet-metaaldeeltjes kunnen in de legering worden opgenomen door toevoeging van de geschikte poeders. |
| --- | --- |

"Mechanisch legeren" (1): een legeringsproces door middel van het binden, breken en opnieuw binden van elementaire of moederlegeringspoeders met behulp van mechanische krachten. Niet-metaaldeeltjes kunnen in de legering worden opgenomen door toevoeging van de geschikte poeders.

| | "Meetonzekerheid" (2): de kenmerkende parameter die specificeert binnen welk bereik rond de uitvoerwaarde de juiste waarde van de te meten variabele ligt met een betrouwbaarheidsniveau van 95 procent. Deze omvat de ongecorrigeerde systematische afwijkingen, de ongecorrigeerde speling en de willekeurige afwijkingen. (Referentie: ISO 10360-2, of VDI/VDE 2617) |
| --- | --- |

"Meetonzekerheid" (2): de kenmerkende parameter die specificeert binnen welk bereik rond de uitvoerwaarde de juiste waarde van de te meten variabele ligt met een betrouwbaarheidsniveau van 95 procent. Deze omvat de ongecorrigeerde systematische afwijkingen, de ongecorrigeerde speling en de willekeurige afwijkingen. (Referentie: ISO 10360-2, of VDI/VDE 2617)

| | "Microcomputer-microschakeling" (3): een "monolithische geïntegreerde schakeling" of "multichip geïntegreerde schakeling" met een logische rekeneenheid (ALU), die in staat is om vanuit een intern geheugen algemene opdrachten uit te voeren op basis van gegevens opgeslagen in het interne geheugen.


  NB: Het interne geheugen kan worden uitgebreid met een extra geheugen. |
| --- | --- |

"Microcomputer-microschakeling" (3): een "monolithische geïntegreerde schakeling" of "multichip geïntegreerde schakeling" met een logische rekeneenheid (ALU), die in staat is om vanuit een intern geheugen algemene opdrachten uit te voeren op basis van gegevens opgeslagen in het interne geheugen.

NB: Het interne geheugen kan worden uitgebreid met een extra geheugen.

| | "Micro-organismen" (1 2): bacteriën, virussen, mycoplasma’s, rickettsiae, chlamydiae of schimmels, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van geïsoleerde levende culturen of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet. |
| --- | --- |

"Micro-organismen" (1 2): bacteriën, virussen, mycoplasma’s, rickettsiae, chlamydiae of schimmels, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van geïsoleerde levende culturen of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet.

| | "Microprocessor-microschakeling" (3): een "monolithische geïntegreerde schakeling" of "multichip geïntegreerde schakeling" met een logische rekeneenheid (ALU), die in staat is om vanuit een extern geheugen een reeks algemene opdrachten uit te voeren.


  NB 1: De "microprocessor-microschakeling" bevat gewoonlijk geen toegankelijkheid van het interne geheugen voor de gebruiker, hoewel op de "chip" aanwezig geheugen kan worden gebruikt voor uitvoering van de logische functie.



  NB 2: Hieronder vallen tevens "chip sets" die zijn ontworpen om samen de functie van een "microprocessormicroschakeling" te leveren. |
| --- | --- |

"Microprocessor-microschakeling" (3): een "monolithische geïntegreerde schakeling" of "multichip geïntegreerde schakeling" met een logische rekeneenheid (ALU), die in staat is om vanuit een extern geheugen een reeks algemene opdrachten uit te voeren.

NB 1: De "microprocessor-microschakeling" bevat gewoonlijk geen toegankelijkheid van het interne geheugen voor de gebruiker, hoewel op de "chip" aanwezig geheugen kan worden gebruikt voor uitvoering van de logische functie.

NB 2: Hieronder vallen tevens "chip sets" die zijn ontworpen om samen de functie van een "microprocessormicroschakeling" te leveren.

| | "Momentele bandbreedte" (3 5 7): de bandbreedte waarover het uitgangsvermogen binnen 3 dB constant blijft zonder bijstelling van andere werkparameters. |
| --- | --- |

"Momentele bandbreedte" (3 5 7): de bandbreedte waarover het uitgangsvermogen binnen 3 dB constant blijft zonder bijstelling van andere werkparameters.

| | "Monofilament" (1) of filament: de kleinste maat vezel, gewoonlijk enkele micrometers in diameter. |
| --- | --- |

"Monofilament" (1) of filament: de kleinste maat vezel, gewoonlijk enkele micrometers in diameter.

| | "Monolithische geïntegreerde schakeling" (3): een combinatie van passieve en/of actieve ‧schakelelementen‧ welke:






  a. | wordt gevormd door middel van diffusie, implanteren of opdampen in of op één enkel halfgeleidend stukje materiaal, een zogenaamde ‹chip›; |
| --- | --- | --- |

"Monolithische geïntegreerde schakeling" (3): een combinatie van passieve en/of actieve ‧schakelelementen‧ welke:

a.

wordt gevormd door middel van diffusie, implanteren of opdampen in of op één enkel halfgeleidend stukje materiaal, een zogenaamde ‹chip›;

| b. | wordt beschouwd als een ondeelbaar iets; en |
| --- | --- |

b.

wordt beschouwd als een ondeelbaar iets; en

| c. | de functie(s) uitvoer(t)(en) van een schakeling. |
| --- | --- |

c.

de functie(s) uitvoer(t)(en) van een schakeling.

NB: Een ‧schakelelement‧ is een enkelvoudig actief of passief functioneel deel van een elektronische schakeling, bijvoorbeeld één diode, één transistor, één weerstand, één condensator, enz.

| | "Monospectrale beeldsensoren" (6): deze zijn geschikt voor het vergaren van beeldgegevens van één afzonderlijke spectrumband. |
| --- | --- |

"Monospectrale beeldsensoren" (6): deze zijn geschikt voor het vergaren van beeldgegevens van één afzonderlijke spectrumband.

| | "Multichip geïntegreerde schakeling" (3): twee of meer "monolithische geïntegreerde schakelingen", verbonden op een gemeenschappelijk "substraat". |
| --- | --- |

"Multichip geïntegreerde schakeling" (3): twee of meer "monolithische geïntegreerde schakelingen", verbonden op een gemeenschappelijk "substraat".

| | "Multispectrale beeldsensoren" (6): deze zijn geschikt voor het gelijktijdig of serieel vergaren van beeldgegevens van twee of meer afzonderlijke spectrumbanden. Sensoren met meer dan twintig afzonderlijke spectrumbanden worden ook wel hyperspectrale beeldsensoren genoemd. |
| --- | --- |

"Multispectrale beeldsensoren" (6): deze zijn geschikt voor het gelijktijdig of serieel vergaren van beeldgegevens van twee of meer afzonderlijke spectrumbanden. Sensoren met meer dan twintig afzonderlijke spectrumbanden worden ook wel hyperspectrale beeldsensoren genoemd.

| | "Natuurlijk uraan" (0): uraan met dezelfde isotopensamenstelling als in de natuur voorkomt. |
| --- | --- |

"Natuurlijk uraan" (0): uraan met dezelfde isotopensamenstelling als in de natuur voorkomt.

| | "Navigatiesystemen met als referentie een gegevensbestand" ("DBRN-systemen"): systemen die gebruik maken van verschillende bronnen van eerder gemeten gegevens die aan een geografische referentie zijn toegewezen, welke zijn geïntegreerd om onder dynamische omstandigheden accurate navigatie-informatie te verstrekken. De gegevensbronnen omvatten bathymetrische kaarten, sterrenkaarten, zwaartekrachtkaarten, magnetische kaarten of 3-D digitale terreinkaarten. |
| --- | --- |

"Navigatiesystemen met als referentie een gegevensbestand" ("DBRN-systemen"): systemen die gebruik maken van verschillende bronnen van eerder gemeten gegevens die aan een geografische referentie zijn toegewezen, welke zijn geïntegreerd om onder dynamische omstandigheden accurate navigatie-informatie te verstrekken. De gegevensbronnen omvatten bathymetrische kaarten, sterrenkaarten, zwaartekrachtkaarten, magnetische kaarten of 3-D digitale terreinkaarten.

| | "Nauwkeurigheid" (6) (gewoonlijk uitgedrukt in mate van onnauwkeurigheid): de maximale positieve of negatieve afwijking van een aangegeven waarde ten opzichte van een erkende norm of zuivere waarde. |
| --- | --- |

"Nauwkeurigheid" (6) (gewoonlijk uitgedrukt in mate van onnauwkeurigheid): de maximale positieve of negatieve afwijking van een aangegeven waarde ten opzichte van een erkende norm of zuivere waarde.

| | "Netwerktoegangsbesturingseenheid" (4): een fysieke verbinding met een gedistribueerd schakelnetwerk. Deze verbinding maakt gebruik van een gemeenschappelijk medium dat steeds met dezelfde "digitale overbrengsnelheid" werkt en voor de transmissie gebruikt maakt van ‹arbitration› (bijvoorbeeld ‹token› of ‹carrier sense›). (Dit houdt in dat het systeem zelf zorg draagt voor de toegang tot het medium, zodanig dat de apparaten elkaar niet hinderen, bv. door onderlinge toewijzing van toegang of door aftasten of het kanaal vrij is). Geheel onafhankelijk selecteert de eenheid aan haar geadresseerde gegevenspakketten of gegevensgroepen (bv. IEEE 802). Het is een samenstelling die in computer- of telecommunicatieapparatuur kan worden geïntegreerd om toegang tot de communicatie te verschaffen. |
| --- | --- |

"Netwerktoegangsbesturingseenheid" (4): een fysieke verbinding met een gedistribueerd schakelnetwerk. Deze verbinding maakt gebruik van een gemeenschappelijk medium dat steeds met dezelfde "digitale overbrengsnelheid" werkt en voor de transmissie gebruikt maakt van ‹arbitration› (bijvoorbeeld ‹token› of ‹carrier sense›). (Dit houdt in dat het systeem zelf zorg draagt voor de toegang tot het medium, zodanig dat de apparaten elkaar niet hinderen, bv. door onderlinge toewijzing van toegang of door aftasten of het kanaal vrij is). Geheel onafhankelijk selecteert de eenheid aan haar geadresseerde gegevenspakketten of gegevensgroepen (bv. IEEE 802). Het is een samenstelling die in computer- of telecommunicatieapparatuur kan worden geïntegreerd om toegang tot de communicatie te verschaffen.

| | "Neurale computer" (4): een rekentoestel dat is ontworpen of aangepast voor nabootsing van het gedrag van een neuron of een verzameling neuronen, d.w.z. een rekentoestel dat zich onderscheidt door het vermogen van zijn apparatuur om aan de hand van eerdere gegevens het gewicht en aantal van de onderlinge verbindingen van een grote hoeveelheid rekencomponenten te wijzigen. |
| --- | --- |

"Neurale computer" (4): een rekentoestel dat is ontworpen of aangepast voor nabootsing van het gedrag van een neuron of een verzameling neuronen, d.w.z. een rekentoestel dat zich onderscheidt door het vermogen van zijn apparatuur om aan de hand van eerdere gegevens het gewicht en aantal van de onderlinge verbindingen van een grote hoeveelheid rekencomponenten te wijzigen.

| | "Noodzakelijk" (ATN 1-9): met betrekking tot "technologie" of "programmatuur" wordt hieronder verstaan uitsluitend dat deel van de "technologie" of "programmatuur" dat in het bijzonder verantwoordelijk is voor het bereiken of te boven gaan van de onder embargo vallende prestatieniveaus, kenmerken of functies. Verschillende producten kunnen dergelijke noodzakelijke "technologie" of "programmatuur" gemeen hebben. |
| --- | --- |

"Noodzakelijk" (ATN 1-9): met betrekking tot "technologie" of "programmatuur" wordt hieronder verstaan uitsluitend dat deel van de "technologie" of "programmatuur" dat in het bijzonder verantwoordelijk is voor het bereiken of te boven gaan van de onder embargo vallende prestatieniveaus, kenmerken of functies. Verschillende producten kunnen dergelijke noodzakelijke "technologie" of "programmatuur" gemeen hebben.

| | "Numerieke besturing" (2): de automatische besturing van een proces, uitgevoerd door een apparaat dat gebruik maakt van numerieke gegevens die gewoonlijk worden ingevoerd tijdens de voortgang van het proces. (Referentie ISO 2382) |
| --- | --- |

"Numerieke besturing" (2): de automatische besturing van een proces, uitgevoerd door een apparaat dat gebruik maakt van numerieke gegevens die gewoonlijk worden ingevoerd tijdens de voortgang van het proces. (Referentie ISO 2382)

| | "Objectcode" (4 5 9): een door apparatuur uitvoerbare vorm van een geschikte expressie van één of meer processen ("broncode" (brontaal) die door een programmeersysteem is omgezet). |
| --- | --- |

"Objectcode" (4 5 9): een door apparatuur uitvoerbare vorm van een geschikte expressie van één of meer processen ("broncode" (brontaal) die door een programmeersysteem is omgezet).

| | "Onafgewerkte substraten" (6): monolithische verbindingen met afmetingen die geschikt zijn voor de productie van optische elementen zoals spiegels of optische vensters. |
| --- | --- |

"Onafgewerkte substraten" (6): monolithische verbindingen met afmetingen die geschikt zijn voor de productie van optische elementen zoals spiegels of optische vensters.

| | "Onbemande luchtvaartuigen" ("UAV") (9): luchtvaartuigen zonder menselijke aanwezigheid aan boord die kunnen opstijgen en zonder onderbreking gecontroleerde vluchten kunnen uitvoeren en navigatie kunnen aanhouden. |
| --- | --- |

"Onbemande luchtvaartuigen" ("UAV") (9): luchtvaartuigen zonder menselijke aanwezigheid aan boord die kunnen opstijgen en zonder onderbreking gecontroleerde vluchten kunnen uitvoeren en navigatie kunnen aanhouden.

| | "Onderling verbonden radarsensoren" (6): twee of meer radarsensoren zijn onderling verbonden wanneer zij tijdgebonden onderling gegevens uitwisselen. |
| --- | --- |

"Onderling verbonden radarsensoren" (6): twee of meer radarsensoren zijn onderling verbonden wanneer zij tijdgebonden onderling gegevens uitwisselen.

| | "Ontwikkeling" (ATN NTN Alle). Dit bestrijkt alle fasen voorafgaand aan serieproductie, zoals ontwerp, ontwerponderzoek, ontwerpanalyse, ontwerpideeën, assemblage en testen van prototypen, proefproductieplannen, ontwerpgegevens, het vertalen van ontwerpgegevens in een product, ontwerp van configuraties, integratieontwerp, opmaak. |
| --- | --- |

"Ontwikkeling" (ATN NTN Alle). Dit bestrijkt alle fasen voorafgaand aan serieproductie, zoals ontwerp, ontwerponderzoek, ontwerpanalyse, ontwerpideeën, assemblage en testen van prototypen, proefproductieplannen, ontwerpgegevens, het vertalen van ontwerpgegevens in een product, ontwerp van configuraties, integratieontwerp, opmaak.

| | "Onvertraagde verwerking" («real time processing») (6 7): het verwerken van gegevens door een computersysteem dat afhankelijk van de beschikbare middelen een bepaalde prestatie levert binnen een gewaarborgde responsietijd als reactie op een externe gebeurtenis, ongeacht de belasting van het systeem. |
| --- | --- |

"Onvertraagde verwerking" («real time processing») (6 7): het verwerken van gegevens door een computersysteem dat afhankelijk van de beschikbare middelen een bepaalde prestatie levert binnen een gewaarborgde responsietijd als reactie op een externe gebeurtenis, ongeacht de belasting van het systeem.

| | "Optimalisering van de vliegroute" (7): een procedure waarmee afwijkingen van een vierdimensionale gewenste vliegroute (tijd en ruimte), gebaseerd op de maximalisering van de prestaties of doeltreffendheid van de taken van een missie, zo klein mogelijk worden gehouden. |
| --- | --- |

"Optimalisering van de vliegroute" (7): een procedure waarmee afwijkingen van een vierdimensionale gewenste vliegroute (tijd en ruimte), gebaseerd op de maximalisering van de prestaties of doeltreffendheid van de taken van een missie, zo klein mogelijk worden gehouden.

| | "Optisch sensor-array voor vluchtregeling" (7): met elkaar verbonden optische sensoren waarbij "laser"-bundels worden gebruikt om real-time vluchtregelingsgegevens te verkrijgen, die aan boord worden verwerkt. |
| --- | --- |

"Optisch sensor-array voor vluchtregeling" (7): met elkaar verbonden optische sensoren waarbij "laser"-bundels worden gebruikt om real-time vluchtregelingsgegevens te verkrijgen, die aan boord worden verwerkt.

| | "Optische computer" (4): een computer, ontworpen of aangepast voor het gebruik van licht voor de weergave van gegevens en waarvan de logische rekenelementen zijn gebaseerd op direct gekoppelde optische elementen. |
| --- | --- |

"Optische computer" (4): een computer, ontworpen of aangepast voor het gebruik van licht voor de weergave van gegevens en waarvan de logische rekenelementen zijn gebaseerd op direct gekoppelde optische elementen.

| | "Optische geïntegreerde schakeling" (3): een "monolithische geïntegreerde schakeling" of "hybride geïntegreerde schakeling" die één of meer delen bevat die zijn ontworpen om als een fotosensor of foto-emitter te werken of om één of meer optische of elektro-optische functies te vervullen. |
| --- | --- |

"Optische geïntegreerde schakeling" (3): een "monolithische geïntegreerde schakeling" of "hybride geïntegreerde schakeling" die één of meer delen bevat die zijn ontworpen om als een fotosensor of foto-emitter te werken of om één of meer optische of elektro-optische functies te vervullen.

| | "Optische versterking" (5): een bij optische communicatie gebruikte versterkingstechniek die een versterking bewerkstelligt van optische signalen die zijn voortgebracht door een afzonderlijke optische bron, zonder omzetting in elektrische signalen, bijvoorbeeld door gebruik te maken van optische halfgeleiderversterkers, of luminescerende versterkers van glasvezels. |
| --- | --- |

"Optische versterking" (5): een bij optische communicatie gebruikte versterkingstechniek die een versterking bewerkstelligt van optische signalen die zijn voortgebracht door een afzonderlijke optische bron, zonder omzetting in elektrische signalen, bijvoorbeeld door gebruik te maken van optische halfgeleiderversterkers, of luminescerende versterkers van glasvezels.

| | "Optisch schakelen" (5): bepaling van de route of schakelen van optische signalen zonder omzetting in elektrische signalen. |
| --- | --- |

"Optisch schakelen" (5): bepaling van de route of schakelen van optische signalen zonder omzetting in elektrische signalen.

| | "Persoonsgebonden slimme kaart" (5): een slimme kaart die een microschakeling bevat die voor een specifieke toepassing is geprogrammeerd en door de gebruiker niet opnieuw kan worden geprogrammeerd voor een andere toepassing. |
| --- | --- |

"Persoonsgebonden slimme kaart" (5): een slimme kaart die een microschakeling bevat die voor een specifieke toepassing is geprogrammeerd en door de gebruiker niet opnieuw kan worden geprogrammeerd voor een andere toepassing.

| | "Piekvermogen" (6): energie per impuls in joules gedeeld door de "pulsduur" in seconden. |
| --- | --- |

"Piekvermogen" (6): energie per impuls in joules gedeeld door de "pulsduur" in seconden.

| | "Primaire vluchtregeling" (7): een voorziening voor het regelen van de stabiliteit of de besturing van een vliegtuig waarbij gebruik wordt gemaakt van kracht-/moment-generatoren, d.w.z. aërodynamische stuurvlakken of koersbepaling door middel van stuwkrachtregeling. |
| --- | --- |

"Primaire vluchtregeling" (7): een voorziening voor het regelen van de stabiliteit of de besturing van een vliegtuig waarbij gebruik wordt gemaakt van kracht-/moment-generatoren, d.w.z. aërodynamische stuurvlakken of koersbepaling door middel van stuwkrachtregeling.

| | "Productie" (ATN NTN Alle): hieronder vallen alle productiestadia, zoals bouw, productie, ‹engineering›, fabricage, integratie, assemblage (monteren), inspectie, testen, kwaliteitsborging. |
| --- | --- |

"Productie" (ATN NTN Alle): hieronder vallen alle productiestadia, zoals bouw, productie, ‹engineering›, fabricage, integratie, assemblage (monteren), inspectie, testen, kwaliteitsborging.

| | "Productieapparatuur" (1 7 9): gereedschap, mallen, kalibers, mandrellen, matrijzen, bevestigingsmiddelen, uitlijnmiddelen, testapparatuur, andere apparatuur en componenten daarvoor, beperkt tot datgene dat speciaal is ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling" of voor een of meer fasen van de "productie". |
| --- | --- |

"Productieapparatuur" (1 7 9): gereedschap, mallen, kalibers, mandrellen, matrijzen, bevestigingsmiddelen, uitlijnmiddelen, testapparatuur, andere apparatuur en componenten daarvoor, beperkt tot datgene dat speciaal is ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling" of voor een of meer fasen van de "productie".

| | "Productiefaciliteiten" (7 9): apparatuur en speciaal ontworpen "programmatuur", samengesteld tot installaties voor de "ontwikkeling" of voor een of meer fasen van de "productie". |
| --- | --- |

"Productiefaciliteiten" (7 9): apparatuur en speciaal ontworpen "programmatuur", samengesteld tot installaties voor de "ontwikkeling" of voor een of meer fasen van de "productie".

| | "Programma" (2 6): een reeks opdrachten voor het volbrengen van een handeling in een vorm, of om om te zetten in een vorm, die voor de uitvoering door een elektronische computer geschikt is. |
| --- | --- |

"Programma" (2 6): een reeks opdrachten voor het volbrengen van een handeling in een vorm, of om om te zetten in een vorm, die voor de uitvoering door een elektronische computer geschikt is.

| | "Programmatuur" (APN Alle): een verzameling van één of meer "programma’s" of ‧microprogramma’s‧, vastgelegd op enig tastbaar medium.


  NB:‧Microprogramma‧: een reeks elementaire instructies die in een speciaal geheugen wordt bewaard en waarvan de uitvoering wordt gestart door de invoer van de bijbehorende verwijsopdracht in het instructieregister. |
| --- | --- |

"Programmatuur" (APN Alle): een verzameling van één of meer "programma’s" of ‧microprogramma’s‧, vastgelegd op enig tastbaar medium.

NB:‧Microprogramma‧: een reeks elementaire instructies die in een speciaal geheugen wordt bewaard en waarvan de uitvoering wordt gestart door de invoer van de bijbehorende verwijsopdracht in het instructieregister.

| | "Pulsduur" (6): duur van een "laser"-impuls, gemeten over volle breedte bij halve intensiteit (‹Full Width Half Intensity› - FWHI). |
| --- | --- |

"Pulsduur" (6): duur van een "laser"-impuls, gemeten over volle breedte bij halve intensiteit (‹Full Width Half Intensity› - FWHI).

| | "Quantumcryptografie": (5) een groep technieken voor het opstellen van een gemeenschappelijke encryptiesleutel door meting van de quantummechanische eigenschappen van een fysisch systeem (met inbegrip van de fysische eigenschappen die expliciet beheerst worden door quantumoptica, de quantumveldtheorie en de quantumelektrodynamica) |
| --- | --- |

"Quantumcryptografie": (5) een groep technieken voor het opstellen van een gemeenschappelijke encryptiesleutel door meting van de quantummechanische eigenschappen van een fysisch systeem (met inbegrip van de fysische eigenschappen die expliciet beheerst worden door quantumoptica, de quantumveldtheorie en de quantumelektrodynamica)

| | "Q-switched laser" (6): een "laser" waarbij de energie wordt opgeslagen in de populatie-inversie of in de optische resonator en vervolgens wordt uitgezonden in een impuls. |
| --- | --- |

"Q-switched laser" (6): een "laser" waarbij de energie wordt opgeslagen in de populatie-inversie of in de optische resonator en vervolgens wordt uitgezonden in een impuls.

| | "Radar «frequency agility»" (6): iedere techniek waarbij de draaggolffrequentie van een gepulseerde radarzender in een pseudowillekeurige volgorde van impuls tot impuls of van de ene groep impulsen tot de volgende groep kan veranderen met een hoeveelheid gelijk aan of groter dan de bandbreedte van de impuls. |
| --- | --- |

"Radar «frequency agility»" (6): iedere techniek waarbij de draaggolffrequentie van een gepulseerde radarzender in een pseudowillekeurige volgorde van impuls tot impuls of van de ene groep impulsen tot de volgende groep kan veranderen met een hoeveelheid gelijk aan of groter dan de bandbreedte van de impuls.

| | "Radar «spread spectrum»" (6): iedere modulatietechniek voor het spreiden van energie afkomstig van een signaal met een relatief smalle frequentieband over een veel bredere frequentieband, met gebruikmaking van willekeurige of pseudowillekeurige codering. |
| --- | --- |

"Radar «spread spectrum»" (6): iedere modulatietechniek voor het spreiden van energie afkomstig van een signaal met een relatief smalle frequentieband over een veel bredere frequentieband, met gebruikmaking van willekeurige of pseudowillekeurige codering.

| | "Raketten" (1 3 6 7 9): complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen die een nuttige last van tenminste 500 kg kunnen vervoeren over een afstand van ten minste 300 km. |
| --- | --- |

"Raketten" (1 3 6 7 9): complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen die een nuttige last van tenminste 500 kg kunnen vervoeren over een afstand van ten minste 300 km.

| | "Reactietijdconstante" (6): de tijd vanaf het toepassen van een lichtprikkel totdat de stroomtoename een waarde heeft bereikt van 1-1/e maal de eindwaarde (d.w.z. 63 % van de eindwaarde). |
| --- | --- |

"Reactietijdconstante" (6): de tijd vanaf het toepassen van een lichtprikkel totdat de stroomtoename een waarde heeft bereikt van 1-1/e maal de eindwaarde (d.w.z. 63 % van de eindwaarde).

| | "Rekenelement" (CE) (4): de kleinste rekeneenheid die een rekenkundig of logisch resultaat voortbrengt. |
| --- | --- |

"Rekenelement" (CE) (4): de kleinste rekeneenheid die een rekenkundig of logisch resultaat voortbrengt.

| | "Resolutie" (2): de kleinste stap van een meettoestel; op digitale instrumenten het minst significante bit. (Referentie: ANSI B-89.1.12). |
| --- | --- |

"Resolutie" (2): de kleinste stap van een meettoestel; op digitale instrumenten het minst significante bit. (Referentie: ANSI B-89.1.12).

| | "Robot" (2 8): een manipulatiemechanisme, dat kan zijn van een type dat een continu pad aflegt of van een type dat van punt naar punt gaat, eventueel voorzien van "sensoren", en dat alle volgende kenmerken heeft:






  a. | multifunctioneel; |
| --- | --- | --- |

"Robot" (2 8): een manipulatiemechanisme, dat kan zijn van een type dat een continu pad aflegt of van een type dat van punt naar punt gaat, eventueel voorzien van "sensoren", en dat alle volgende kenmerken heeft:

a.

multifunctioneel;

| b. | geschikt voor het positioneren of oriënteren van materialen, onderdelen, gereedschappen of speciale elementen door middel van regelbare bewegingen in de driedimensionale ruimte; |
| --- | --- |

b.

geschikt voor het positioneren of oriënteren van materialen, onderdelen, gereedschappen of speciale elementen door middel van regelbare bewegingen in de driedimensionale ruimte;

| c. | met drie of meer servomechanismen met open of gesloten lus waarbij inbegrepen kunnen zijn stappenmotoren; en |
| --- | --- |

c.

met drie of meer servomechanismen met open of gesloten lus waarbij inbegrepen kunnen zijn stappenmotoren; en

| d. | met "toegankelijkheid van het programma voor de gebruiker" door middel van de leer-en-terugspeelmethode (teach/playback) of door middel van een elektronische computer die een programmeerbare logische regeleenheid kan zijn (PLC), d.w.z. zonder mechanische interventie. |
| --- | --- |

d.

met "toegankelijkheid van het programma voor de gebruiker" door middel van de leer-en-terugspeelmethode (teach/playback) of door middel van een elektronische computer die een programmeerbare logische regeleenheid kan zijn (PLC), d.w.z. zonder mechanische interventie.

NB: Bovenstaande definitie slaat niet op de volgende toestellen:

| 1. | manipulatiemechanismen die alleen met de hand of met een mechanisme voor afstandsbediening te regelen zijn; |
| --- | --- |

1.

manipulatiemechanismen die alleen met de hand of met een mechanisme voor afstandsbediening te regelen zijn;

| 2. | manipulatiemechanismen die in een vaste volgorde werken en geautomatiseerde bewegende toestellen zijn, die mechanisch vastgelegde, geprogrammeerde bewegingen uitvoeren. Het programma is mechanisch beperkt door vaste aanslagen, zoals pennen of nokken. De volgorde van de bewegingen en de keuze van trajecten of hoeken mag niet op mechanische, elektronische of elektrische wijze beïnvloedbaar zijn; |
| --- | --- |

2.

manipulatiemechanismen die in een vaste volgorde werken en geautomatiseerde bewegende toestellen zijn, die mechanisch vastgelegde, geprogrammeerde bewegingen uitvoeren. Het programma is mechanisch beperkt door vaste aanslagen, zoals pennen of nokken. De volgorde van de bewegingen en de keuze van trajecten of hoeken mag niet op mechanische, elektronische of elektrische wijze beïnvloedbaar zijn;

| 3. | mechanisch geregelde manipulatiemechanismen met een variabele volgorde van bewegingen, die geautomatiseerde bewegende toestellen zijn welke mechanisch vastgelegde, geprogrammeerde bewegingen uitvoeren. Het programma is mechanisch beperkt door vaste, maar verplaatsbare aanslagen, zoals pennen en nokken. De volgorde van de bewegingen en de keuze van de trajecten of hoeken kan binnen het vaste programmapatroon worden gevarieerd. Variaties of wijzigingen in het programmapatroon (bv. verwisselen van pennen of uitwisselen van nokschijven) in één of meer bewegingsassen mogen alleen langs mechanische weg bewerkstelligd worden; |
| --- | --- |

3.

mechanisch geregelde manipulatiemechanismen met een variabele volgorde van bewegingen, die geautomatiseerde bewegende toestellen zijn welke mechanisch vastgelegde, geprogrammeerde bewegingen uitvoeren. Het programma is mechanisch beperkt door vaste, maar verplaatsbare aanslagen, zoals pennen en nokken. De volgorde van de bewegingen en de keuze van de trajecten of hoeken kan binnen het vaste programmapatroon worden gevarieerd. Variaties of wijzigingen in het programmapatroon (bv. verwisselen van pennen of uitwisselen van nokschijven) in één of meer bewegingsassen mogen alleen langs mechanische weg bewerkstelligd worden;

| 4. | niet van een servomechanisme voorziene manipulatiemechanismen met een variabele volgorde van bewegingen, die geautomatiseerde bewegende toestellen zijn welke mechanisch vastgelegde, geprogrammeerde bewegingen uitvoeren. Het programma mag variabel zijn maar de volgorde mag slechts op grond van het binaire signaal van mechanisch vaste elektrische binaire voorzieningen of verplaatsbare aanslagen verlopen; |
| --- | --- |

4.

niet van een servomechanisme voorziene manipulatiemechanismen met een variabele volgorde van bewegingen, die geautomatiseerde bewegende toestellen zijn welke mechanisch vastgelegde, geprogrammeerde bewegingen uitvoeren. Het programma mag variabel zijn maar de volgorde mag slechts op grond van het binaire signaal van mechanisch vaste elektrische binaire voorzieningen of verplaatsbare aanslagen verlopen;

| 5. | stapelkranen, waaronder te verstaan met Cartesische coördinaten werkende manipulatiesystemen, vervaardigd als integraal onderdeel van een verticale opstelling van opslagbakken en ontworpen voor het bereiken van de inhoud van deze bakken voor opslag of leeghalen. |
| --- | --- |

5.

stapelkranen, waaronder te verstaan met Cartesische coördinaten werkende manipulatiesystemen, vervaardigd als integraal onderdeel van een verticale opstelling van opslagbakken en ontworpen voor het bereiken van de inhoud van deze bakken voor opslag of leeghalen.

| | "Rondloopnauwkeurigheid" («run-out») (2): radiale verplaatsing tijdens één omwenteling van de hoofdspil gemeten in een vlak loodrecht op de hartlijn van de spil aan een punt op het te testen uitwendige of inwendige omwentelingsoppervlak. (Referentie ISO 230, deel 1-1986, paragraaf 5.61) |
| --- | --- |

"Rondloopnauwkeurigheid" («run-out») (2): radiale verplaatsing tijdens één omwenteling van de hoofdspil gemeten in een vlak loodrecht op de hartlijn van de spil aan een punt op het te testen uitwendige of inwendige omwentelingsoppervlak. (Referentie ISO 230, deel 1-1986, paragraaf 5.61)

| | "Roterend verstuiven" (1): een proces voor het verdelen van een stroom of een plas gesmolten metaal tot druppeltjes met een diameter van 500 micrometer of minder door middel van centrifugale kracht. |
| --- | --- |

"Roterend verstuiven" (1): een proces voor het verdelen van een stroom of een plas gesmolten metaal tot druppeltjes met een diameter van 500 micrometer of minder door middel van centrifugale kracht.

| | "Roving" (1): een bundel (normaal 12-120) van ongeveer evenwijdige ‧strengen‧.


  NB:‧Streng‧: een bundel monofilamenten (normaal meer dan 200) die ongeveer parallel lopen. |
| --- | --- |

"Roving" (1): een bundel (normaal 12-120) van ongeveer evenwijdige ‧strengen‧.

NB:‧Streng‧: een bundel monofilamenten (normaal meer dan 200) die ongeveer parallel lopen.

| | Ruimtevaartuig (7 9): actieve en passieve satellieten en ruimtesondes. |
| --- | --- |

Ruimtevaartuig (7 9): actieve en passieve satellieten en ruimtesondes.

| | "Ruisniveau" (6): een elektrisch signaal, uitgedrukt in spectrale vermogensdichtheid. De verhouding van "ruisniveau" van piek-tot-piek wordt gegeven met S2
  pp = 8N0 (f2-f1), waarbij Spp de piek-tot-piekwaarde is van het signaal (bv. nanotesla), N0 de spectrale vermogensdichtheid (bv. (nanotesla)2/Hz) en (f2-f1) de desbetreffende bandbreedte definieert. |
| --- | --- |

"Ruisniveau" (6): een elektrisch signaal, uitgedrukt in spectrale vermogensdichtheid. De verhouding van "ruisniveau" van piek-tot-piek wordt gegeven met S2
  pp = 8N0 (f2-f1), waarbij Spp de piek-tot-piekwaarde is van het signaal (bv. nanotesla), N0 de spectrale vermogensdichtheid (bv. (nanotesla)2/Hz) en (f2-f1) de desbetreffende bandbreedte definieert.

| | "Samengestelde draaitafel" (2): een tafel waarop het werkstuk kan draaien en kantelen rond twee niet parallelle assen, die tegelijkertijd kunnen samenwerken voor "contourbesturen". |
| --- | --- |

"Samengestelde draaitafel" (2): een tafel waarop het werkstuk kan draaien en kantelen rond twee niet parallelle assen, die tegelijkertijd kunnen samenwerken voor "contourbesturen".

| | "Samenstelling" (2 3 4 5): een aantal elektronische componenten (bijvoorbeeld ‧schakelelementen‧, ‧discrete onderdelen‧, geïntegreerde schakelingen, enz.) die onderling verbonden zijn om één of meer specifieke functies te vervullen en die als een eenheid vervangbaar en gewoonlijk demonteerbaar is.


  NB 1: Een ‧schakelelement‧ is een enkelvoudig actief of passief functioneel deel van een elektronische schakeling, bv. één diode, één transistor, één weerstand, één condensator, enz.



  NB 2: een ‧discreet onderdeel‧ is een afzonderlijk omhuld ‧schakelelement‧ met eigen uitwendige aansluitingen. |
| --- | --- |

"Samenstelling" (2 3 4 5): een aantal elektronische componenten (bijvoorbeeld ‧schakelelementen‧, ‧discrete onderdelen‧, geïntegreerde schakelingen, enz.) die onderling verbonden zijn om één of meer specifieke functies te vervullen en die als een eenheid vervangbaar en gewoonlijk demonteerbaar is.

NB 1: Een ‧schakelelement‧ is een enkelvoudig actief of passief functioneel deel van een elektronische schakeling, bv. één diode, één transistor, één weerstand, één condensator, enz.

NB 2: een ‧discreet onderdeel‧ is een afzonderlijk omhuld ‧schakelelement‧ met eigen uitwendige aansluitingen.

| | "Schaalfactor" (gyroscoop of versnellingsmeter) (7): de verhouding tussen de uitvoerverandering en de te meten invoerverandering. De schaalfactor wordt gewoonlijk gegeven als de hellingshoek van de rechte lijn die volgens de kleinstekwadratenmethode past bij de invoer-uitvoergegevens, verkregen door cyclische variatie van de invoer over het ingangstraject. |
| --- | --- |

"Schaalfactor" (gyroscoop of versnellingsmeter) (7): de verhouding tussen de uitvoerverandering en de te meten invoerverandering. De schaalfactor wordt gewoonlijk gegeven als de hellingshoek van de rechte lijn die volgens de kleinstekwadratenmethode past bij de invoer-uitvoergegevens, verkregen door cyclische variatie van de invoer over het ingangstraject.

| | "SHPL" staat voor "Super High Power Laser". |
| --- | --- |

"SHPL" staat voor "Super High Power Laser".

| | "Signaalanalysatoren" (3): instrumenten, geschikt voor het meten en afbeelden van de basiseigenschappen van de individuele frequentiecomponenten van meervoudige-frequentiesignalen. |
| --- | --- |

"Signaalanalysatoren" (3): instrumenten, geschikt voor het meten en afbeelden van de basiseigenschappen van de individuele frequentiecomponenten van meervoudige-frequentiesignalen.

| | "Signaalverwerking" (3 4 5 6): het verwerken van elders verkregen informatiedragende signalen met behulp van algoritmen, zoals tijdcompressie, filteren, extractie, selectie, correlatie, convolutie of transformatie tussen domeinen (bv. de snelle Fourier-transformatie (‹fast Fourier transform›) of de Walsh-transformatie (‹Walsh transform›)). |
| --- | --- |

"Signaalverwerking" (3 4 5 6): het verwerken van elders verkregen informatiedragende signalen met behulp van algoritmen, zoals tijdcompressie, filteren, extractie, selectie, correlatie, convolutie of transformatie tussen domeinen (bv. de snelle Fourier-transformatie (‹fast Fourier transform›) of de Walsh-transformatie (‹Walsh transform›)).

| | "Smeltextractie" (1): een proces voor het ‧snel stollen‧ en extraheren van een lintvormig legeringsproduct door een kort segment van een ronddraaiend gekoeld blok in een bad met een gesmolten metaallegering te brengen.


  NB:‧Snel stollen‧ is het stollen van gesmolten materiaal bij een koelsnelheid van meer dan 1 000 K/sec. |
| --- | --- |

"Smeltextractie" (1): een proces voor het ‧snel stollen‧ en extraheren van een lintvormig legeringsproduct door een kort segment van een ronddraaiend gekoeld blok in een bad met een gesmolten metaallegering te brengen.

NB:‧Snel stollen‧ is het stollen van gesmolten materiaal bij een koelsnelheid van meer dan 1 000 K/sec.

| | "Speciale splijtstoffen" (0): plutonium-239, uraan-233, "uraan verrijkt in de isotopen 235 of 233", en elk materiaal dat het voorgaande bevat. |
| --- | --- |

"Speciale splijtstoffen" (0): plutonium-239, uraan-233, "uraan verrijkt in de isotopen 235 of 233", en elk materiaal dat het voorgaande bevat.

| | "Specifieke modulus" (0 1 9): Youngs modulus in pascal, gelijk aan N/m2 gedeeld door het soortgelijke gewicht in N/m3, gemeten bij een temperatuur van 296 ±2 K (23 ±2 °C) en een relatieve vochtigheid van 50 ±5%. |
| --- | --- |

"Specifieke modulus" (0 1 9): Youngs modulus in pascal, gelijk aan N/m2 gedeeld door het soortgelijke gewicht in N/m3, gemeten bij een temperatuur van 296 ±2 K (23 ±2 °C) en een relatieve vochtigheid van 50 ±5%.

| | "Specifieke treksterkte" (0 1 9): de breeksterkte in pascal, gelijk aan N/m2 gedeeld door het soortgelijk gewicht in N/m3, gemeten bij een temperatuur van 296 ±2 K (23 ±2 °C) en een relatieve vochtigheid van 50 ±5%. |
| --- | --- |

"Specifieke treksterkte" (0 1 9): de breeksterkte in pascal, gelijk aan N/m2 gedeeld door het soortgelijk gewicht in N/m3, gemeten bij een temperatuur van 296 ±2 K (23 ±2 °C) en een relatieve vochtigheid van 50 ±5%.

| | "Spinnen uit de smelt" (1): een proces voor het ‧snel stollen‧ van een stroom gesmolten metaal die botst op een ronddraaiend gekoeld blok, waardoor een schilfer-, lint- of staafvormig product ontstaat.


  NB:‧Snel stollen‧ is het stollen van gesmolten materiaal bij een koelsnelheid van meer dan 1 000 K/seconde. |
| --- | --- |

"Spinnen uit de smelt" (1): een proces voor het ‧snel stollen‧ van een stroom gesmolten metaal die botst op een ronddraaiend gekoeld blok, waardoor een schilfer-, lint- of staafvormig product ontstaat.

NB:‧Snel stollen‧ is het stollen van gesmolten materiaal bij een koelsnelheid van meer dan 1 000 K/seconde.

| | "Spread spectrum" (5): de techniek waarbij de energie in een communicatiekanaal met een relatief smalle band wordt gespreid over een veel breder energiespectrum. |
| --- | --- |

"Spread spectrum" (5): de techniek waarbij de energie in een communicatiekanaal met een relatief smalle band wordt gespreid over een veel breder energiespectrum.

| | "Spread spectrum" radar (6): zie "Radar ‹spread-spectrum›". |
| --- | --- |

"Spread spectrum" radar (6): zie "Radar ‹spread-spectrum›".

| | "Stabilisatietijd" (‹settling time›) (3): de tijd die nodig is om binnen een halve bit van de uitgangseindwaarde te komen bij het schakelen tussen twee willekeurige niveaus van de omzetter. |
| --- | --- |

"Stabilisatietijd" (‹settling time›) (3): de tijd die nodig is om binnen een halve bit van de uitgangseindwaarde te komen bij het schakelen tussen twee willekeurige niveaus van de omzetter.

| | "Stabiliteit" (7): standaardafwijking (1 sigma) van de miswijzing van een bepaalde parameter van de ijkwaarde, gemeten bij stabiele temperatuuromstandigheden. Deze kan worden uitgedrukt als een functie van de tijd. |
| --- | --- |

"Stabiliteit" (7): standaardafwijking (1 sigma) van de miswijzing van een bepaalde parameter van de ijkwaarde, gemeten bij stabiele temperatuuromstandigheden. Deze kan worden uitgedrukt als een functie van de tijd.

| | "Stapel- en continuvezelmateriaal" (0 1 2 8).
  Dit omvat:






  a. | continumonofilamenten; |
| --- | --- | --- |

"Stapel- en continuvezelmateriaal" (0 1 2 8).

Dit omvat:

a.

continumonofilamenten;

| b. | continugarens en "‹rovings›"; |
| --- | --- |

b.

continugarens en "‹rovings›";

| c. | banden, weefsels en onregelmatig gelaagde matten en gevlochten banden; |
| --- | --- |

c.

banden, weefsels en onregelmatig gelaagde matten en gevlochten banden;

| d. | op lengte gesneden vezels, stapelvezels en samenhangende vezeldekens; |
| --- | --- |

d.

op lengte gesneden vezels, stapelvezels en samenhangende vezeldekens;

| e. | whiskers, hetzij monokristallijn hetzij polykristallijn, ongeacht hun lengte; |
| --- | --- |

e.

whiskers, hetzij monokristallijn hetzij polykristallijn, ongeacht hun lengte;

| f. | aromatische polyamidepulp. |
| --- | --- |

f.

aromatische polyamidepulp.

| | "Staten die (geen) partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens": staten waarvoor het Verdrag tot verbod van de ontwikkeling, de productie, de aanleg van voorraden en het gebruik van chemische wapens (niet) in werking is getreden. (Zie www.opcw.org) |
| --- | --- |

"Staten die (geen) partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens": staten waarvoor het Verdrag tot verbod van de ontwikkeling, de productie, de aanleg van voorraden en het gebruik van chemische wapens (niet) in werking is getreden. (Zie www.opcw.org)

| | "Storingstolerantie" (4): het vermogen van een computersysteem om, na een storing in een onderdeel van zijn apparatuur of "programmatuur", zonder ingrijpen van de mens te blijven functioneren op een bepaald niveau waardoor de ononderbroken werking, gegevensintegriteit en herstel van alle functies binnen een bepaalde tijd worden gegarandeerd. |
| --- | --- |

"Storingstolerantie" (4): het vermogen van een computersysteem om, na een storing in een onderdeel van zijn apparatuur of "programmatuur", zonder ingrijpen van de mens te blijven functioneren op een bepaald niveau waardoor de ononderbroken werking, gegevensintegriteit en herstel van alle functies binnen een bepaalde tijd worden gegarandeerd.

| | "Substraat" (3): een laag basismateriaal met of zonder een onderlinge verbindingsstructuur waarop of waarin ‧discrete onderdelen‧ of geïntegreerde schakelingen of beide aanwezig kunnen zijn.


  NB 1: Een ‧discreet onderdeel‧ is een afzonderlijk omhuld ‧schakelelement‧ met eigen uitwendige aansluitingen.



  NB 2: Een ‧schakelelement‧ is een enkelvoudig actief of passief functioneel deel van een elektronisch circuit, bv. één diode, één transistor, één weerstand, één condensator, enz. |
| --- | --- |

"Substraat" (3): een laag basismateriaal met of zonder een onderlinge verbindingsstructuur waarop of waarin ‧discrete onderdelen‧ of geïntegreerde schakelingen of beide aanwezig kunnen zijn.

NB 1: Een ‧discreet onderdeel‧ is een afzonderlijk omhuld ‧schakelelement‧ met eigen uitwendige aansluitingen.

NB 2: Een ‧schakelelement‧ is een enkelvoudig actief of passief functioneel deel van een elektronisch circuit, bv. één diode, één transistor, één weerstand, één condensator, enz.

| | "Subeenheid van toxine" (1): een structureel en functioneel losstaand bestanddeel van een hele "toxine". |
| --- | --- |

"Subeenheid van toxine" (1): een structureel en functioneel losstaand bestanddeel van een hele "toxine".

| | "Supergeleidend" (1 3 6 8): materialen, d.w.z. metalen, legeringen of verbindingen waarvan de elektrische weerstand nul kan worden, d.w.z. dat zij een oneindige elektrische geleidbaarheid kunnen bereiken en zeer grote stromen kunnen geleiden zonder joule-opwarming.


  NB: De "supergeleidende" toestand van elk afzonderlijk materiaal wordt gekenmerkt door een "kritische temperatuur", een kritisch magnetisch veld, dat een functie is van de temperatuur, en een kritische stroomdichtheid, die echter een functie is van zowel het magnetisch veld als de temperatuur. |
| --- | --- |

"Supergeleidend" (1 3 6 8): materialen, d.w.z. metalen, legeringen of verbindingen waarvan de elektrische weerstand nul kan worden, d.w.z. dat zij een oneindige elektrische geleidbaarheid kunnen bereiken en zeer grote stromen kunnen geleiden zonder joule-opwarming.

NB: De "supergeleidende" toestand van elk afzonderlijk materiaal wordt gekenmerkt door een "kritische temperatuur", een kritisch magnetisch veld, dat een functie is van de temperatuur, en een kritische stroomdichtheid, die echter een functie is van zowel het magnetisch veld als de temperatuur.

| | "Super High Power Laser" (SHPL) (6): een "laser" die geschikt is voor het afgeven van (het totaal of een gedeelte van) de uitgangsenergie van meer dan 1 kJ binnen 50 ms of met een gemiddeld of CW-(continugolf-) vermogen van meer dan 20 kW. |
| --- | --- |

"Super High Power Laser" (SHPL) (6): een "laser" die geschikt is voor het afgeven van (het totaal of een gedeelte van) de uitgangsenergie van meer dan 1 kJ binnen 50 ms of met een gemiddeld of CW-(continugolf-) vermogen van meer dan 20 kW.

| | "Superlegeringen" (2 9): legeringen op basis van nikkel, kobalt of ijzer, met sterkten hoger dan de standaardwaarden volgens de AISI 300 bij temperaturen boven 922 K (649 °C) onder zware omgevings- en gebruiksomstandigheden. |
| --- | --- |

"Superlegeringen" (2 9): legeringen op basis van nikkel, kobalt of ijzer, met sterkten hoger dan de standaardwaarden volgens de AISI 300 bij temperaturen boven 922 K (649 °C) onder zware omgevings- en gebruiksomstandigheden.

| | "Superplastisch vormen" (1 2): een vervormingsproces waarbij warmte wordt gebruikt om voor metalen die gewoonlijk weinig rek (minder dan 20 %) hebben bij de breeksterktegrens als bepaald bij kamertemperatuur door middel van een conventionele trekproef, tijdens het verwerken minstens tweemaal hogere rekwaarden te bereiken dan genoemde waarden. |
| --- | --- |

"Superplastisch vormen" (1 2): een vervormingsproces waarbij warmte wordt gebruikt om voor metalen die gewoonlijk weinig rek (minder dan 20 %) hebben bij de breeksterktegrens als bepaald bij kamertemperatuur door middel van een conventionele trekproef, tijdens het verwerken minstens tweemaal hogere rekwaarden te bereiken dan genoemde waarden.

| | "Symmetrisch algoritme" (5): cryptografisch algoritme waarin voor encryptie dezelfde sleutel gebruikt wordt als voor decryptie.


  NB:"Symmetrische algoritmen" worden vaak voor vertrouwelijke gegevens gebruikt. |
| --- | --- |

"Symmetrisch algoritme" (5): cryptografisch algoritme waarin voor encryptie dezelfde sleutel gebruikt wordt als voor decryptie.

NB:"Symmetrische algoritmen" worden vaak voor vertrouwelijke gegevens gebruikt.

| | "Systeemsporen" (6): verwerkt, gecorreleerd (samenvoeging van radardoelgegevens en vliegplanpositie) en met de laatste informatie bijgewerkt rapport dat ter beschikking staat van de verkeersleiders van het Luchtverkeersleidingscentrum. |
| --- | --- |

"Systeemsporen" (6): verwerkt, gecorreleerd (samenvoeging van radardoelgegevens en vliegplanpositie) en met de laatste informatie bijgewerkt rapport dat ter beschikking staat van de verkeersleiders van het Luchtverkeersleidingscentrum.

| | "«Systolic array»-computer" (4): een computer waarbij de gegevensstroom en wijziging van de gegevens dynamisch kan worden bestuurd door de gebruiker op het niveau van de logische poort. |
| --- | --- |

"«Systolic array»-computer" (4): een computer waarbij de gegevensstroom en wijziging van de gegevens dynamisch kan worden bestuurd door de gebruiker op het niveau van de logische poort.

| | "Technologie" (ATN NTN Alle): specifieke informatie die nodig is voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van een product. De informatie is in de vorm van ‧technische gegevens‧ of ‧technische bijstand‧.


  NB 1:‧Technische bijstand‧ kan zijn in de vorm van instructie, vaardigheden, opleiding, praktijkkennis, advies e.d. en kan gepaard gaan met de overdracht van ‧technische gegevens‧.



  NB 2:‧Technische gegevens‧ kunnen o.m. bestaan uit blauwdrukken, tekeningen, schema’s, modellen, formules, tabellen, technische ontwerpen en specificaties, handboeken en instructies, in geschreven vorm of vastgelegd op andere media of apparaten zoals schijf, magneetband, leesgeheugens (ROM’s). |
| --- | --- |

"Technologie" (ATN NTN Alle): specifieke informatie die nodig is voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van een product. De informatie is in de vorm van ‧technische gegevens‧ of ‧technische bijstand‧.

NB 1:‧Technische bijstand‧ kan zijn in de vorm van instructie, vaardigheden, opleiding, praktijkkennis, advies e.d. en kan gepaard gaan met de overdracht van ‧technische gegevens‧.

NB 2:‧Technische gegevens‧ kunnen o.m. bestaan uit blauwdrukken, tekeningen, schema’s, modellen, formules, tabellen, technische ontwerpen en specificaties, handboeken en instructies, in geschreven vorm of vastgelegd op andere media of apparaten zoals schijf, magneetband, leesgeheugens (ROM’s).

| | "Tijdgebonden bandbreedte" (real time bandwidth) (2 3): voor "dynamische signaalanalysatoren" is dit het grootste frequentiebereik dat de analysator kan uitvoeren naar beeldscherm of massageheugen zonder dat daardoor de analyse van de invoergegevens wordt onderbroken. Bij analysatoren met meer dan één kanaal dient bij de berekening die kanaalconfiguratie te worden gehanteerd die de breedste "tijdgebonden bandbreedte" oplevert. |
| --- | --- |

"Tijdgebonden bandbreedte" (real time bandwidth) (2 3): voor "dynamische signaalanalysatoren" is dit het grootste frequentiebereik dat de analysator kan uitvoeren naar beeldscherm of massageheugen zonder dat daardoor de analyse van de invoergegevens wordt onderbroken. Bij analysatoren met meer dan één kanaal dient bij de berekening die kanaalconfiguratie te worden gehanteerd die de breedste "tijdgebonden bandbreedte" oplevert.

| | "Toegankelijkheid van het programma voor de gebruiker" (6): de mogelijkheid voor de gebruiker om "programma’s" in te voegen, te veranderen of te vervangen anders dan door middel van:






  a. | een fysieke wijziging in de bedrading of andere onderlinge verbindingen; of |
| --- | --- | --- |

"Toegankelijkheid van het programma voor de gebruiker" (6): de mogelijkheid voor de gebruiker om "programma’s" in te voegen, te veranderen of te vervangen anders dan door middel van:

a.

een fysieke wijziging in de bedrading of andere onderlinge verbindingen; of

| b. | het instellen van functiekeuzen, het inbrengen van parameters daarbij inbegrepen. |
| --- | --- |

b.

het instellen van functiekeuzen, het inbrengen van parameters daarbij inbegrepen.

| | "Totale digitale overbrengsnelheid" (5): het aantal bits, met inbegrip van regelcodering, organisatorische bits enz., dat per tijdseenheid wordt overgebracht tussen overeenkomstige apparatuur in een digitaal transmissiesysteem.


  NB: Zie ook "digitale overbrengsnelheid" |
| --- | --- |

"Totale digitale overbrengsnelheid" (5): het aantal bits, met inbegrip van regelcodering, organisatorische bits enz., dat per tijdseenheid wordt overgebracht tussen overeenkomstige apparatuur in een digitaal transmissiesysteem.

NB: Zie ook "digitale overbrengsnelheid"

| | "Totale stroomdichtheid" (3): het totale aantal ampèrewikkelingen in de spoel (d.w.z. de som van het aantal wikkelingen vermenigvuldigd met de maximale stroom die door elke wikkeling wordt gevoerd), gedeeld door de totale doorsnede van de spoel (met inbegrip van de supergeleidende draden, de metalen matrix waarin de supergeleidende draden zijn ingebed, het omgevende materiaal, eventuele koelkanalen, enz.). |
| --- | --- |

"Totale stroomdichtheid" (3): het totale aantal ampèrewikkelingen in de spoel (d.w.z. de som van het aantal wikkelingen vermenigvuldigd met de maximale stroom die door elke wikkeling wordt gevoerd), gedeeld door de totale doorsnede van de spoel (met inbegrip van de supergeleidende draden, de metalen matrix waarin de supergeleidende draden zijn ingebed, het omgevende materiaal, eventuele koelkanalen, enz.).

| | "Totale theoretische prestatie" (CTP) (3 4): een maat voor de rekenprestatie in miljoenen theoretische bewerkingen per seconde (Mtops), berekend door samenvoeging van de "rekenelementen" (‹computing elements› (CE)).


  NB: Zie categorie 4, technische noot |
| --- | --- |

"Totale theoretische prestatie" (CTP) (3 4): een maat voor de rekenprestatie in miljoenen theoretische bewerkingen per seconde (Mtops), berekend door samenvoeging van de "rekenelementen" (‹computing elements› (CE)).

NB: Zie categorie 4, technische noot

| | "Totale vluchtregeling" (7): een geautomatiseerde regeling van de toestandsvariabelen en de vliegbaan van een "vliegtuig" om te voldoen aan de doelstellingen van een missie, waarbij wordt gereageerd op real-time veranderingen in de gegevens betreffende doelstellingen, gevaren en andere "vliegtuigen". |
| --- | --- |

"Totale vluchtregeling" (7): een geautomatiseerde regeling van de toestandsvariabelen en de vliegbaan van een "vliegtuig" om te voldoen aan de doelstellingen van een missie, waarbij wordt gereageerd op real-time veranderingen in de gegevens betreffende doelstellingen, gevaren en andere "vliegtuigen".

| | "Toxinen" (1 2): toxinen in de vorm van opzettelijk geïsoleerde preparaten of mengsels, ongeacht de wijze van bereiding, anders dan toxinen die als contaminant aanwezig zijn in andere materialen zoals pathologische monsters, gewassen, levensmiddelen of culturen van "micro-organismen". |
| --- | --- |

"Toxinen" (1 2): toxinen in de vorm van opzettelijk geïsoleerde preparaten of mengsels, ongeacht de wijze van bereiding, anders dan toxinen die als contaminant aanwezig zijn in andere materialen zoals pathologische monsters, gewassen, levensmiddelen of culturen van "micro-organismen".

| | "Transfer laser" (6): een "laser" waarbij het lasermedium wordt geëxciteerd door de overdracht van energie door middel van botsing van een niet-stralend atoom of molecuul op een atoom of molecuul dat laserstraling uitzendt. |
| --- | --- |

"Transfer laser" (6): een "laser" waarbij het lasermedium wordt geëxciteerd door de overdracht van energie door middel van botsing van een niet-stralend atoom of molecuul op een atoom of molecuul dat laserstraling uitzendt.

| | "Uraan verrijkt in de isotopen 235 of 233" (0): uraan dat de isotopen 235 of 233 of beide bevat in een zodanige hoeveelheid, dat de verhouding tussen de som van de hoeveelheden van deze isotopen en de hoeveelheid van de isotoop 238 groter is dan de verhouding tussen de hoeveelheden van de isotoop 235 en de isotoop 238 in natuurlijk uraan (isotoopverhouding: 0,71 %). |
| --- | --- |

"Uraan verrijkt in de isotopen 235 of 233" (0): uraan dat de isotopen 235 of 233 of beide bevat in een zodanige hoeveelheid, dat de verhouding tussen de som van de hoeveelheden van deze isotopen en de hoeveelheid van de isotoop 238 groter is dan de verhouding tussen de hoeveelheden van de isotoop 235 en de isotoop 238 in natuurlijk uraan (isotoopverhouding: 0,71 %).

| | "Vaccin" (1): een medisch preparaat volgens een chemische formule waarvoor een vergunning is afgegeven of waarvoor een vergunning voor het in de handel brengen of voor klinische proeven is afgegeven door de regelgevende instanties van hetzij het land waar het wordt gefabriceerd, hetzij het land waar het wordt gebruikt, en dat strekt tot stimulering van een beschermende immunorespons ter voorkoming van ziekten in de mens of het dier aan wie of waaraan het wordt toegediend. |
| --- | --- |

"Vaccin" (1): een medisch preparaat volgens een chemische formule waarvoor een vergunning is afgegeven of waarvoor een vergunning voor het in de handel brengen of voor klinische proeven is afgegeven door de regelgevende instanties van hetzij het land waar het wordt gefabriceerd, hetzij het land waar het wordt gebruikt, en dat strekt tot stimulering van een beschermende immunorespons ter voorkoming van ziekten in de mens of het dier aan wie of waaraan het wordt toegediend.

| | "Vast" (5): het coderings- of comprimeringsalgoritme kan geen parameters van buitenaf ontvangen (bv. cryptografische of sleutelvariabelen) noch gewijzigd worden door de gebruiker. |
| --- | --- |

"Vast" (5): het coderings- of comprimeringsalgoritme kan geen parameters van buitenaf ontvangen (bv. cryptografische of sleutelvariabelen) noch gewijzigd worden door de gebruiker.

| | "Verarmd uraan" (0): uraan met een gehalte aan het uraan-235-isotoop dat lager is dan in de natuur voorkomt. |
| --- | --- |

"Verarmd uraan" (0): uraan met een gehalte aan het uraan-235-isotoop dat lager is dan in de natuur voorkomt.

| | "Vergruizing" (1): een procédé voor het tot deeltjes verdelen van materiaal door stampen of malen. |
| --- | --- |

"Vergruizing" (1): een procédé voor het tot deeltjes verdelen van materiaal door stampen of malen.

| | "Verloopsnelheid" (gyroscopen) (7): de snelheid waarmee de afwijking van de uitvoer ten opzichte van de gewenste uitvoer verandert. Deze bestaat uit willekeurige en systematische componenten en wordt uitgedrukt als een equivalente invoer-hoekverplaatsing per eenheid tijd ten opzichte van de inerte ruimte. |
| --- | --- |

"Verloopsnelheid" (gyroscopen) (7): de snelheid waarmee de afwijking van de uitvoer ten opzichte van de gewenste uitvoer verandert. Deze bestaat uit willekeurige en systematische componenten en wordt uitgedrukt als een equivalente invoer-hoekverplaatsing per eenheid tijd ten opzichte van de inerte ruimte.

| | "Vermengd" (commingled) (1): het mengen van filamenten van thermoplastische vezels en versterkingsvezels voor de productie van een vezelversterking/-"matrix" mengsel in totaalvezelvorm. |
| --- | --- |

"Vermengd" (commingled) (1): het mengen van filamenten van thermoplastische vezels en versterkingsvezels voor de productie van een vezelversterking/-"matrix" mengsel in totaalvezelvorm.

| | "Vermogensaanpassing" (7): een zodanige aanpassing van het uitgezonden vermogen van het hoogtemetersignaal dat het ontvangen signaal op "vliegtuig" hoogte altijd het minimale vermogen heeft dat nodig is om de hoogte te bepalen. |
| --- | --- |

"Vermogensaanpassing" (7): een zodanige aanpassing van het uitgezonden vermogen van het hoogtemetersignaal dat het ontvangen signaal op "vliegtuig" hoogte altijd het minimale vermogen heeft dat nodig is om de hoogte te bepalen.

| | "Versplintering door snelle afkoeling" (‹splat quenching›) (1): een proces voor het ‧snel stollen‧ van een gesmolten stroom metaal die botst op een gekoeld blok, waardoor ‧flakes‧ worden gevormd.


  NB:‧Snel stollen‧ is het stollen van gesmolten materiaal bij een koelsnelheid van meer dan 1 000 K/seconde. |
| --- | --- |

"Versplintering door snelle afkoeling" (‹splat quenching›) (1): een proces voor het ‧snel stollen‧ van een gesmolten stroom metaal die botst op een gekoeld blok, waardoor ‧flakes‧ worden gevormd.

NB:‧Snel stollen‧ is het stollen van gesmolten materiaal bij een koelsnelheid van meer dan 1 000 K/seconde.

| | "Verstuiving in gas" (1): een proces voor het verdelen van een stroom gesmolten metaallegering tot druppeltjes met een diameter van 500 micrometer of minder door middel van een onder hoge druk staande gasstroom. |
| --- | --- |

"Verstuiving in gas" (1): een proces voor het verdelen van een stroom gesmolten metaallegering tot druppeltjes met een diameter van 500 micrometer of minder door middel van een onder hoge druk staande gasstroom.

| | "Verstuiving in vacuüm" (1): een proces voor het verdelen van een stroom gesmolten metaal tot druppeltjes met een diameter van 500 micrometer of minder door middel van de snelle uiteenzetting van een opgelost gas bij blootstelling aan een vacuüm. |
| --- | --- |

"Verstuiving in vacuüm" (1): een proces voor het verdelen van een stroom gesmolten metaal tot druppeltjes met een diameter van 500 micrometer of minder door middel van de snelle uiteenzetting van een opgelost gas bij blootstelling aan een vacuüm.

| | "Vervormbare spiegels" (6): (ook bekend als adaptieve optische spiegels).
  Spiegels met:






  a. | één enkel continu optisch reflecterend oppervlak dat dynamisch wordt vervormd door afzonderlijke momenten of krachten uit te oefenen om de vervormingen van de op de spiegel invallende optische golfvorm te compenseren; of |
| --- | --- | --- |

"Vervormbare spiegels" (6): (ook bekend als adaptieve optische spiegels).

Spiegels met:

a.

één enkel continu optisch reflecterend oppervlak dat dynamisch wordt vervormd door afzonderlijke momenten of krachten uit te oefenen om de vervormingen van de op de spiegel invallende optische golfvorm te compenseren; of

| b. | verscheidene optische reflecterende elementen die afzonderlijk dynamisch kunnen worden verplaatst door momenten of krachten uit te oefenen om vervormingen van de op de spiegel invallende optische golfvorm te compenseren. |
| --- | --- |

b.

verscheidene optische reflecterende elementen die afzonderlijk dynamisch kunnen worden verplaatst door momenten of krachten uit te oefenen om vervormingen van de op de spiegel invallende optische golfvorm te compenseren.

| | "Verwerking van meervoudige stromen van gegevens" (4): de op ‧microprogramma’s‧ of op de architectuur van apparatuur gebaseerde technieken, die het verwerken van twee of meer datareeksen, bestuurd door één of meer opdrachtreeksen, mogelijk maken, bijvoorbeeld door middel van:






  a. | «single instruction multiple data» (SIMD) architecturen zoals vector- of arrayverwerkingseenheden; |
| --- | --- | --- |

"Verwerking van meervoudige stromen van gegevens" (4): de op ‧microprogramma’s‧ of op de architectuur van apparatuur gebaseerde technieken, die het verwerken van twee of meer datareeksen, bestuurd door één of meer opdrachtreeksen, mogelijk maken, bijvoorbeeld door middel van:

a.

«single instruction multiple data» (SIMD) architecturen zoals vector- of arrayverwerkingseenheden;

| b. | «multiple single instruction multiple data» (MSIMD) architecturen; |
| --- | --- |

b.

«multiple single instruction multiple data» (MSIMD) architecturen;

| c. | «multiple instruction multiple data» (MIMD) architecturen, met inbegrip van die welke hechtgekoppeld, kortgekoppeld of niet-hechtgekoppeld zijn; of |
| --- | --- |

c.

«multiple instruction multiple data» (MIMD) architecturen, met inbegrip van die welke hechtgekoppeld, kortgekoppeld of niet-hechtgekoppeld zijn; of

| d. | gestructureerde «arrays» van verwerkingselementen, met inbegrip van systolische «arrays». |
| --- | --- |

d.

gestructureerde «arrays» van verwerkingselementen, met inbegrip van systolische «arrays».

NB:‧Microprogramma‧: een reeks elementaire opdrachten die in een speciaal geheugen wordt bewaard en waarvan de uitvoering wordt gestart door de invoer van de bijbehorende verwijsopdracht in het opdrachtregister.

| | "Vliegtuigen" (1 7 9): luchtvaartuigen met vaste, draaibare of roterende (hefschroefvliegtuig) vleugel en verticaal opstijgende luchtvaartuigen (met kantelende rotor of vleugel).


  NB: Zie ook "civiele vliegtuigen". |
| --- | --- |

"Vliegtuigen" (1 7 9): luchtvaartuigen met vaste, draaibare of roterende (hefschroefvliegtuig) vleugel en verticaal opstijgende luchtvaartuigen (met kantelende rotor of vleugel).

NB: Zie ook "civiele vliegtuigen".

| | "Voortplantingsvertragingstijd van de basispoort" (3): de waarde van de voortplantingsvertragingstijd die overeenkomt met die van de basispoort binnen een "monolitische geïntegreerde schakeling". Deze kan voor een bepaalde ‧familie‧ van "monolithische geïntegreerde schakelingen" gespecificeerd zijn als de voortplantingsvertragingstijd per typerende poort binnen die ‧familie‧ of als de typerende voortplantingsvertragingstijd per poort binnen die ‧familie‧.


  NB 1: De "voortplantingsvertragingstijd van de basispoort" moet niet worden verward met de in/uitgangsvertragingstijd van een complexe "monolithische geïntegreerde schakeling".



  NB 2: Een ‧familie‧ bestaat uit alle geïntegreerde schakelingen waarop alle onderstaande elementen zijn toegepast als fabricagemethoden en -specificaties, met uitzondering van hun respectieve functies:








  a. | de gebruikelijke hardware- en programmatuurarchitectuur; |
| --- | --- | --- |

"Voortplantingsvertragingstijd van de basispoort" (3): de waarde van de voortplantingsvertragingstijd die overeenkomt met die van de basispoort binnen een "monolitische geïntegreerde schakeling". Deze kan voor een bepaalde ‧familie‧ van "monolithische geïntegreerde schakelingen" gespecificeerd zijn als de voortplantingsvertragingstijd per typerende poort binnen die ‧familie‧ of als de typerende voortplantingsvertragingstijd per poort binnen die ‧familie‧.

NB 1: De "voortplantingsvertragingstijd van de basispoort" moet niet worden verward met de in/uitgangsvertragingstijd van een complexe "monolithische geïntegreerde schakeling".

NB 2: Een ‧familie‧ bestaat uit alle geïntegreerde schakelingen waarop alle onderstaande elementen zijn toegepast als fabricagemethoden en -specificaties, met uitzondering van hun respectieve functies:

a.

de gebruikelijke hardware- en programmatuurarchitectuur;

| b. | de gebruikelijke ontwerp- en verwerkingstechnologie; en |
| --- | --- |

b.

de gebruikelijke ontwerp- en verwerkingstechnologie; en

| c. | de gebruikelijke basiskenmerken. |
| --- | --- |

c.

de gebruikelijke basiskenmerken.

| | "Voor iedereen beschikbaar" (ATN NTN APN). "Technologie" of "programmatuur" die zonder beperkingen aan de verdere verspreiding daarvan beschikbaar zijn gesteld. (Auteursrechtelijke beperkingen hebben niet tot gevolg dat "technologie" of "programmatuur" niet langer "voor iedereen beschikbaar" is.) |
| --- | --- |

"Voor iedereen beschikbaar" (ATN NTN APN). "Technologie" of "programmatuur" die zonder beperkingen aan de verdere verspreiding daarvan beschikbaar zijn gesteld. (Auteursrechtelijke beperkingen hebben niet tot gevolg dat "technologie" of "programmatuur" niet langer "voor iedereen beschikbaar" is.)

| | "Voornaamste deel" (4): een deel is een "voornaamste deel" wanneer de vervangingswaarde hoger is dan 35 % van de totale waarde van het systeem waarvan het deel uitmaakt. De waarde van een deel is de prijs die door de fabrikant of door degene die het systeem heeft geïntroduceerd voor het deel is betaald. De totale waarde is de normale internationale verkoopprijs bij verkoop aan een niet-gelieerde partij af fabriek of bij bevestiging van de verzending. |
| --- | --- |

"Voornaamste deel" (4): een deel is een "voornaamste deel" wanneer de vervangingswaarde hoger is dan 35 % van de totale waarde van het systeem waarvan het deel uitmaakt. De waarde van een deel is de prijs die door de fabrikant of door degene die het systeem heeft geïntroduceerd voor het deel is betaald. De totale waarde is de normale internationale verkoopprijs bij verkoop aan een niet-gelieerde partij af fabriek of bij bevestiging van de verzending.

| | "Werkgeheugen" (4): het primaire geheugen voor gegevens of opdrachten, dat voor de centrale verwerkingseenheid snel toegankelijk is. Het bestaat uit het interne geheugen van een "digitale computer" en elke hiërarchische uitbreiding daarvan, zoals ‹cache›-geheugens of niet-sequentieel toegankelijke geheugenuitbreidingen. |
| --- | --- |

"Werkgeheugen" (4): het primaire geheugen voor gegevens of opdrachten, dat voor de centrale verwerkingseenheid snel toegankelijk is. Het bestaat uit het interne geheugen van een "digitale computer" en elke hiërarchische uitbreiding daarvan, zoals ‹cache›-geheugens of niet-sequentieel toegankelijke geheugenuitbreidingen.

IN DEZE BIJLAGE GEBRUIKTE ACRONIEMEN EN AFKORTINGEN

Een acroniem of afkorting, gebruikt als gedefinieerde term, is te vinden in "Definities van in deze bijlage gebruikte termen".

| Acroniem of afkorting | Betekenis |
| --- | --- |
| ABEC | Annular Bearing Engineers Committee |
| AGMA | American Gear Manufacturers’ Association |
| AHRS | attitude and heading reference systems |
| AISI | American Iron and Steel Institute |
| ALU | arithmetic logic unit (logische rekeneenheid) |
| ANSI | American National Standards Institute |
| ASTM | the American Society for Testing and Materials |
| ATC | air traffic control (luchtverkeersleiding) |
| AVLIS | isotopenscheidingsinstallaties werkend met atomaire-damplasers |
| CAD | computer-aided-design (computerondersteund ontwerpen) |
| CAS | Chemical Abstracts Service |
| CCITT | Comité consultatif international télégraphique et téléphonique (Internationale Raadgevende Commissie inzake telegrafie en telefonie) |
| CDU | control and display unit (besturings- en beeldeenheid) |
| CEP | circular error probability (50 %-trefkanscirkel) |
| CNTD | controlled nucleation thermal deposition (thermische ontleding met beheerste nucleatie) |
| CRISLA | chemische reactie door selectieve laseractivering van één of meer isotopen |
| CVD | chemical vapour deposition (chemische afzetting uit de dampfase) |
| CW | chemical warfare (chemische oorlogsvoering) |
| CW (voor lasers) | continuous wave (continugolf) |
| DME | distance measuring equipment |
| DS | directionally solidified |
| EB-PVD | electron beam physical vapour deposition (elektronenstraalverdampen) |
| EBU | European Broadcasting Union |
| ECM | electro-chemical machining |
| ECR | electron cyclotron resonance |
| EDM | electrical discharge machines (vonkmachines) |
| EEPROMS | electrically erasable programmable read only memory |
| EIA | Electronic Industries Association |
| EMC | elektromagnetische compatibiliteit |
| ETSI | European Telecommunications Standards Institute (Europees Instituut voor telecommunicatienormen) |
| FFT | Fast Fourier Transform (snelle Fourier-transformatie) |
| GLONASS | global navigation satellite system (wereldwijd satellietnavigatiesysteem) |
| GPS | global positioning system |
| HBT | heterobipolaire transistors |
| HDDR | high density digital recording (digitale registratie met hoge dichtheid) |
| HEMT | high electron mobility transistors (tansistors met hoge elektronenmobiliteit) |
| ICAO | International Civil Aviation Organisation (Internationale Burgerluchtvaartorganisatie) |
| IEC | International Electrotechnical Commission (CEI - Internationale Elektrotechnische Commissie) |
| IEEE | Institute of Electrical and Electronic Engineers |
| IFOV | instantaneous-field-of-view (momenteel gezichtsveld) |
| ILS | instrument landing system |
| IRIG | inter-range instrumentation group |
| ISAR | inverse synthetic aperture radar (radarmodus met omgekeerde kunstmatig ingestelde apertuur) |
| ISO | International Organization for Standardization (Internationale organisatie voor normalisatie) |
| ITU | International Telecommunication Union (Internationale Telecommunicatie Unie) |
| JIS | Japanse Industriestandaard |
| JT | Joule-Thomson |
| LIDAR | light detection and ranging (lichtdetectie- en afstandsbepaling) |
| LRU | line replaceable unit |
| MAC | message authentication code |
| Mach | verhouding van de snelheid van een voorwerp tot de geluidssnelheid (naar Ernst Mach) |
| MLIS | isotopenscheidingsinstallaties werkend met moleculaire lasers. |
| MLS | microwave landing systems (microgolflandingssystemen) |
| MOCVD | metal organic chemical vapour deposition (chemisch neerslaan van organometaaldamp) |
| MRI | magnetic resonance imaging (beeldvorming door middel van magnetische resonantie) |
| MTBF | mean-time-between-failures (gemiddeld storingsvrij interval) |
| Mtops | miljoenen technische bewerkingen per seconde |
| MTTF | mean-time-to-failure (gemiddeld interval vóór storing) |
| NBC | nucleair, biologisch en chemisch |
| NDT | non-destructive test (niet-destructief onderzoek) |
| PAR | precision approach radar (landingsradarapparatuur) |
| PIN | persoonlijk identificatienummer |
| ppm | parts per million (delen per miljoen) |
| PSD | power spectral density (constante spectrale vermogensdichtheid) |
| QAM | quadrature-amplitude-modulation (kwadratuuramplitudemodulatie) |
| RF | radiofrequentie |
| SACMA | Suppliers of Advanced Composite Materials Association |
| SAR | synthetic aperture radar (radarmodus met kunstmatig ingestelde apertuur) |
| SC | single crystal (eenkristal) |
| SLAR | sidelooking airborne radar (zijwaarts stralende radarmodus in vliegtuigen) |
| SMPTE | Society of Motion Picture and Television Engineers |
| SRA | shop replaceable assembly (in de werkplaats vervangbaar moduul) |
| SRAM | static random access memory |
| SRM | SACMA Recommended Methods |
| SSB | single sideband (enkele zijband) |
| SSR | secondary surveillance radar |
| TCSEC | trusted computer system evaluation criteria |
| TIR | total indicated reading (totale meetklokuitslag) |
| UV | Ultraviolet |
| UTS | ultimate tensile strength (eindtreksterkte) |
| VOR | very high frequency omni-directional range |
| YAG | yttrium/aluminum garnet |

Acroniem of afkorting

Betekenis

ABEC

Annular Bearing Engineers Committee

AGMA

American Gear Manufacturers’ Association

AHRS

attitude and heading reference systems

AISI

American Iron and Steel Institute

ALU

arithmetic logic unit (logische rekeneenheid)

ANSI

American National Standards Institute

ASTM

the American Society for Testing and Materials

ATC

air traffic control (luchtverkeersleiding)

AVLIS

isotopenscheidingsinstallaties werkend met atomaire-damplasers

CAD

computer-aided-design (computerondersteund ontwerpen)

CAS

Chemical Abstracts Service

CCITT

Comité consultatif international télégraphique et téléphonique (Internationale Raadgevende Commissie inzake telegrafie en telefonie)

CDU

control and display unit (besturings- en beeldeenheid)

CEP

circular error probability (50 %-trefkanscirkel)

CNTD

controlled nucleation thermal deposition (thermische ontleding met beheerste nucleatie)

CRISLA

chemische reactie door selectieve laseractivering van één of meer isotopen

CVD

chemical vapour deposition (chemische afzetting uit de dampfase)

CW

chemical warfare (chemische oorlogsvoering)

CW (voor lasers)

continuous wave (continugolf)

DME

distance measuring equipment

DS

directionally solidified

EB-PVD

electron beam physical vapour deposition (elektronenstraalverdampen)

EBU

European Broadcasting Union

ECM

electro-chemical machining

ECR

electron cyclotron resonance

EDM

electrical discharge machines (vonkmachines)

EEPROMS

electrically erasable programmable read only memory

EIA

Electronic Industries Association

EMC

elektromagnetische compatibiliteit

ETSI

European Telecommunications Standards Institute (Europees Instituut voor telecommunicatienormen)

FFT

Fast Fourier Transform (snelle Fourier-transformatie)

GLONASS

global navigation satellite system (wereldwijd satellietnavigatiesysteem)

GPS

global positioning system

HBT

heterobipolaire transistors

HDDR

high density digital recording (digitale registratie met hoge dichtheid)

HEMT

high electron mobility transistors (tansistors met hoge elektronenmobiliteit)

ICAO

International Civil Aviation Organisation (Internationale Burgerluchtvaartorganisatie)

IEC

International Electrotechnical Commission (CEI - Internationale Elektrotechnische Commissie)

IEEE

Institute of Electrical and Electronic Engineers

IFOV

instantaneous-field-of-view (momenteel gezichtsveld)

ILS

instrument landing system

IRIG

inter-range instrumentation group

ISAR

inverse synthetic aperture radar (radarmodus met omgekeerde kunstmatig ingestelde apertuur)

ISO

International Organization for Standardization (Internationale organisatie voor normalisatie)

ITU

International Telecommunication Union (Internationale Telecommunicatie Unie)

JIS

Japanse Industriestandaard

JT

Joule-Thomson

LIDAR

light detection and ranging (lichtdetectie- en afstandsbepaling)

LRU

line replaceable unit

MAC

message authentication code

Mach

verhouding van de snelheid van een voorwerp tot de geluidssnelheid (naar Ernst Mach)

MLIS

isotopenscheidingsinstallaties werkend met moleculaire lasers.

MLS

microwave landing systems (microgolflandingssystemen)

MOCVD

metal organic chemical vapour deposition (chemisch neerslaan van organometaaldamp)

MRI

magnetic resonance imaging (beeldvorming door middel van magnetische resonantie)

MTBF

mean-time-between-failures (gemiddeld storingsvrij interval)

Mtops

miljoenen technische bewerkingen per seconde

MTTF

mean-time-to-failure (gemiddeld interval vóór storing)

NBC

nucleair, biologisch en chemisch

NDT

non-destructive test (niet-destructief onderzoek)

PAR

precision approach radar (landingsradarapparatuur)

PIN

persoonlijk identificatienummer

ppm

parts per million (delen per miljoen)

PSD

power spectral density (constante spectrale vermogensdichtheid)

QAM

quadrature-amplitude-modulation (kwadratuuramplitudemodulatie)

RF

radiofrequentie

SACMA

Suppliers of Advanced Composite Materials Association

SAR

synthetic aperture radar (radarmodus met kunstmatig ingestelde apertuur)

SC

single crystal (eenkristal)

SLAR

sidelooking airborne radar (zijwaarts stralende radarmodus in vliegtuigen)

SMPTE

Society of Motion Picture and Television Engineers

SRA

shop replaceable assembly (in de werkplaats vervangbaar moduul)

SRAM

static random access memory

SRM

SACMA Recommended Methods

SSB

single sideband (enkele zijband)

SSR

secondary surveillance radar

TCSEC

trusted computer system evaluation criteria

TIR

total indicated reading (totale meetklokuitslag)

UV

Ultraviolet

UTS

ultimate tensile strength (eindtreksterkte)

VOR

very high frequency omni-directional range

YAG

yttrium/aluminum garnet

CATEGORIE 0

NUCLEAIRE GOEDEREN

0ASystemen, apparatuur en onderdelen

0A001"Kernreactoren" en speciaal ontworpen en gebouwde uitrusting en onderdelen ervan, als hieronder:

| a. | "kernreactoren" met een zodanige werking dat zij een beheerste zichzelf onderhoudende kettingreactie van kernsplijting handhaven; |
| --- | --- |

a.

"kernreactoren" met een zodanige werking dat zij een beheerste zichzelf onderhoudende kettingreactie van kernsplijting handhaven;

| b. | metalen vaten, of belangrijke speciaal vervaardigde onderdelen ervan, die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd als omhulsel van de kern van een "kernreactor", met inbegrip van het deksel van een reactordrukvat; |
| --- | --- |

b.

metalen vaten, of belangrijke speciaal vervaardigde onderdelen ervan, die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd als omhulsel van de kern van een "kernreactor", met inbegrip van het deksel van een reactordrukvat;

| c. | bedieningsapparatuur, speciaal ontworpen of vervaardigd om splijtstof in een "kernreactor" aan- of af te voeren; |
| --- | --- |

c.

bedieningsapparatuur, speciaal ontworpen of vervaardigd om splijtstof in een "kernreactor" aan- of af te voeren;

| d. | regelstaven, d.w.z. staven die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd voor de beheersing van het splijtingsproces in een "kernreactor", de draag- of ophangconstructies daarvoor, mechanismen voor het besturen van de regelstaven en buizen voor het geleiden van de regelstaven; |
| --- | --- |

d.

regelstaven, d.w.z. staven die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd voor de beheersing van het splijtingsproces in een "kernreactor", de draag- of ophangconstructies daarvoor, mechanismen voor het besturen van de regelstaven en buizen voor het geleiden van de regelstaven;

| e. | drukpijpen, d.w.z. buizen die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd om dienst te doen als houder van de splijtstofelementen en het primaire koelmiddel in een "kernreactor" bij een werkdruk van meer dan 5,1 MPa; |
| --- | --- |

e.

drukpijpen, d.w.z. buizen die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd om dienst te doen als houder van de splijtstofelementen en het primaire koelmiddel in een "kernreactor" bij een werkdruk van meer dan 5,1 MPa;

| f. | zirkoniummetaal en legeringen in de vorm van buizen of samenstellen van buizen waarin de gewichtsverhouding tussen hafnium en zirkonium minder is dan 1:500, speciaal ontworpen of vervaardigd voor gebruik in een "kernreactor"; |
| --- | --- |

f.

zirkoniummetaal en legeringen in de vorm van buizen of samenstellen van buizen waarin de gewichtsverhouding tussen hafnium en zirkonium minder is dan 1:500, speciaal ontworpen of vervaardigd voor gebruik in een "kernreactor";

| g. | koelpompen, d.w.z. pompen die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd voor het doen circuleren van het primaire koelmiddel van "kernreactoren"; |
| --- | --- |

g.

koelpompen, d.w.z. pompen die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd voor het doen circuleren van het primaire koelmiddel van "kernreactoren";

| h. | ‧inwendige delen van kernreactoren‧ die speciaal ontworpen of vervaardigd zijn voor gebruik in een "kernreactor", met inbegrip van draagconstructies voor de reactorkern, brandstofkanalen, hitteschilden, keerschotten, roosterplaten van de reactorkern en diffusorplaten;


  Noot: In 0A001.h wordt onder ‧inwendige delen van kernreactoren‧ verstaan iedere grote structuur binnen een reactorvat die één of meer functies heeft, zoals ondersteuning van de kern, handhaving van de splijtstofafstelling, sturing van het primaire koelmiddel, het verschaffen van stralingsschermen voor het reactorvat, en de besturing van instrumentatie in de kern. |
| --- | --- |

h.

‧inwendige delen van kernreactoren‧ die speciaal ontworpen of vervaardigd zijn voor gebruik in een "kernreactor", met inbegrip van draagconstructies voor de reactorkern, brandstofkanalen, hitteschilden, keerschotten, roosterplaten van de reactorkern en diffusorplaten;

Noot: In 0A001.h wordt onder ‧inwendige delen van kernreactoren‧ verstaan iedere grote structuur binnen een reactorvat die één of meer functies heeft, zoals ondersteuning van de kern, handhaving van de splijtstofafstelling, sturing van het primaire koelmiddel, het verschaffen van stralingsschermen voor het reactorvat, en de besturing van instrumentatie in de kern.

| i. | warmtewisselaars (stoomgeneratoren), speciaal ontworpen of vervaardigd voor gebruik in het primaire koelmiddelcircuit van een "kernreactor"; |
| --- | --- |

i.

warmtewisselaars (stoomgeneratoren), speciaal ontworpen of vervaardigd voor gebruik in het primaire koelmiddelcircuit van een "kernreactor";

| j. | instrumenten voor neutronenwaarneming en -meting, speciaal ontworpen of vervaardigd voor het bepalen van de niveaus van de neutronenflux in de kern van een "kernreactor". |
| --- | --- |

j.

instrumenten voor neutronenwaarneming en -meting, speciaal ontworpen of vervaardigd voor het bepalen van de niveaus van de neutronenflux in de kern van een "kernreactor".

0BTest-, inspectie- en productieapparatuur

0B001Fabrieken voor de scheiding van isotopen van "natuurlijk uraan", "verarmd uraan", en "speciale splijtstoffen" en speciaal daarvoor ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

| a. | installaties, speciaal ontworpen voor de scheiding van isotopen van "natuurlijk uraan", "verarmd uraan" en "speciale splijtstoffen" als hieronder:






  1. | gascentrifuges; |
| --- | --- | --- |

a.

installaties, speciaal ontworpen voor de scheiding van isotopen van "natuurlijk uraan", "verarmd uraan" en "speciale splijtstoffen" als hieronder:

1.

gascentrifuges;

| 2. | gasdiffusiescheidingsinstallaties; |
| --- | --- |

2.

gasdiffusiescheidingsinstallaties;

| 3. | aërodynamische scheidingsinstallaties; |
| --- | --- |

3.

aërodynamische scheidingsinstallaties;

| 4. | scheidingsinstallaties met behulp van chemische uitwisselaars; |
| --- | --- |

4.

scheidingsinstallaties met behulp van chemische uitwisselaars;

| 5. | scheidingsinstallaties met behulp van ionenuitwisselaars; |
| --- | --- |

5.

scheidingsinstallaties met behulp van ionenuitwisselaars;

| 6. | isotopenscheidingsinstallaties werkend met atomaire-damp-"lasers" (AVLIS); |
| --- | --- |

6.

isotopenscheidingsinstallaties werkend met atomaire-damp-"lasers" (AVLIS);

| 7. | isotopenscheidingsinstallaties werkend met moleculaire "lasers" (MLIS); |
| --- | --- |

7.

isotopenscheidingsinstallaties werkend met moleculaire "lasers" (MLIS);

| 8. | plasmascheidingsinstallaties; |
| --- | --- |

8.

plasmascheidingsinstallaties;

| 9. | elektromagnetische scheidingsinstallaties; |
| --- | --- |

9.

elektromagnetische scheidingsinstallaties;

| b. | Gascentrifuges en samenstellingen en onderdelen, speciaal ontworpen voor gebruik in gascentrifuges, als hieronder:


  Noot: In 0B001.b betekent ‧materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding‧:








  a. | «maraging» — staal met een maximale treksterkte van 2 050 MPa of meer; of |
| --- | --- | --- |

b.

Gascentrifuges en samenstellingen en onderdelen, speciaal ontworpen voor gebruik in gascentrifuges, als hieronder:

Noot: In 0B001.b betekent ‧materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding‧:

a.

«maraging» — staal met een maximale treksterkte van 2 050 MPa of meer; of

| b. | aluminiumlegeringen met een maximale treksterkte van 460 MPa of meer; of |
| --- | --- |

b.

aluminiumlegeringen met een maximale treksterkte van 460 MPa of meer; of

| c. | "stapel- en continuvezelmateriaal" met een "specifieke modulus" van meer dan 3,18 × 106 m en een "specifieke treksterkte" van meer dan 76,2 × 103 m; |
| --- | --- |

c.

"stapel- en continuvezelmateriaal" met een "specifieke modulus" van meer dan 3,18 × 106 m en een "specifieke treksterkte" van meer dan 76,2 × 103 m;

| 1. | gascentrifuges; |
| --- | --- |

1.

gascentrifuges;

| 2. | complete rotoren; |
| --- | --- |

2.

complete rotoren;

| 3. | rotorbuiscilinders met een wanddikte van 12 mm of minder, een diameter tussen 75 en 400 mm en vervaardigd van ‧materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding‧; |
| --- | --- |

3.

rotorbuiscilinders met een wanddikte van 12 mm of minder, een diameter tussen 75 en 400 mm en vervaardigd van ‧materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding‧;

| 4. | ringen of balgen met een wanddikte van 3 mm of minder en een diameter tussen 75 mm en 400 mm, speciaal ontworpen om een rotorbuis op bepaalde plaatsen te verstevigen of om een aantal rotorbuizen samen te voegen, vervaardigd van ‧materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding‧; |
| --- | --- |

4.

ringen of balgen met een wanddikte van 3 mm of minder en een diameter tussen 75 mm en 400 mm, speciaal ontworpen om een rotorbuis op bepaalde plaatsen te verstevigen of om een aantal rotorbuizen samen te voegen, vervaardigd van ‧materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding‧;

| 5. | keerschotten met een diameter tussen 75 mm en 400 mm, ontworpen om in een rotorbuis gemonteerd te worden en vervaardigd van ‧materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding‧; |
| --- | --- |

5.

keerschotten met een diameter tussen 75 mm en 400 mm, ontworpen om in een rotorbuis gemonteerd te worden en vervaardigd van ‧materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding‧;

| 6. | onder- en bovendeksels met een diameter tussen 75 mm en 400 mm, speciaal ontworpen om op de uiteinden van een rotorbuis te passen en vervaardigd van ‧materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding‧; |
| --- | --- |

6.

onder- en bovendeksels met een diameter tussen 75 mm en 400 mm, speciaal ontworpen om op de uiteinden van een rotorbuis te passen en vervaardigd van ‧materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding‧;

| 7. | magnetische lagers bestaande uit een ringvormige magneet in een behuizing, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", bevattende een dempend medium en waarvan de magneet is gekoppeld aan een poolschoen of een tweede magneet die aan het bovendeksel van de rotor is bevestigd; |
| --- | --- |

7.

magnetische lagers bestaande uit een ringvormige magneet in een behuizing, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", bevattende een dempend medium en waarvan de magneet is gekoppeld aan een poolschoen of een tweede magneet die aan het bovendeksel van de rotor is bevestigd;

| 8. | speciaal ontworpen lagers, bestaande uit een taats/lagerkom-samenstel, gemonteerd op een demper; |
| --- | --- |

8.

speciaal ontworpen lagers, bestaande uit een taats/lagerkom-samenstel, gemonteerd op een demper;

| 9. | turbomoleculaire pompen bestaande uit cilinders met inwendige, machinaal vervaardigde of geextrudeerde langwerpige spiraalvormige groeven en inwendige, machinaal vervaardigde boorgaten; |
| --- | --- |

9.

turbomoleculaire pompen bestaande uit cilinders met inwendige, machinaal vervaardigde of geextrudeerde langwerpige spiraalvormige groeven en inwendige, machinaal vervaardigde boorgaten;

| 10. | ringvormige stators voor meerfasige wisselstroom-hysteresis-motoren (magnetische-weerstandsmotoren) voor synchrone werking in vacuüm, met een frequentiebereik van 600 Hz tot 2 000 Hz en een vermogensbereik van 50 VA tot 1 000 VA; |
| --- | --- |

10.

ringvormige stators voor meerfasige wisselstroom-hysteresis-motoren (magnetische-weerstandsmotoren) voor synchrone werking in vacuüm, met een frequentiebereik van 600 Hz tot 2 000 Hz en een vermogensbereik van 50 VA tot 1 000 VA;

| 11. | centrifugebehuizingen/houders, speciaal ontworpen om de rotorbuis van een gascentrifuge te bevatten, bestaande uit een starre cilinder met een wanddikte tot 30 mm met nauwkeurig afgewerkte uiteinden en vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6"; |
| --- | --- |

11.

centrifugebehuizingen/houders, speciaal ontworpen om de rotorbuis van een gascentrifuge te bevatten, bestaande uit een starre cilinder met een wanddikte tot 30 mm met nauwkeurig afgewerkte uiteinden en vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6";

| 12. | inlaatstukken bestaande uit buizen met een binnendiameter tot 12 mm voor de extractie van UF6-gas uit de rotorbuis van een gascentrifuge volgens het principe van een Pitot-buis, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6"; |
| --- | --- |

12.

inlaatstukken bestaande uit buizen met een binnendiameter tot 12 mm voor de extractie van UF6-gas uit de rotorbuis van een gascentrifuge volgens het principe van een Pitot-buis, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6";

| 13. | frequentieomzetters (convertors of invertors), speciaal ontworpen of vervaardigd voor de voeding van motorstators van gascentrifugeverrijkers en speciaal ontworpen onderdelen hiervoor, die aan alle hieronderstaande specificaties voldoen:






  a. | een meerfasige elektrische spanning van 600 Hz tot 2 000 Hz, |
| --- | --- | --- |

13.

frequentieomzetters (convertors of invertors), speciaal ontworpen of vervaardigd voor de voeding van motorstators van gascentrifugeverrijkers en speciaal ontworpen onderdelen hiervoor, die aan alle hieronderstaande specificaties voldoen:

a.

een meerfasige elektrische spanning van 600 Hz tot 2 000 Hz,

| b. | frequentieafwijkingen van minder dan 0,1 %, |
| --- | --- |

b.

frequentieafwijkingen van minder dan 0,1 %,

| c. | een harmonische vervorming van minder dan 2 %, en |
| --- | --- |

c.

een harmonische vervorming van minder dan 2 %, en

| d. | een rendement, hoger dan 80 %; |
| --- | --- |

d.

een rendement, hoger dan 80 %;

| c. | speciaal voor gasdiffusiescheidingsinstallaties ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:






  1. | membranen voor gasdiffusie vervaardigd van poreus metallisch, polymeer of keramisch "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", met een poriegrootte van 10 tot 100 nm, een dikte van 5 mm of minder en, voor buisvormige membranen, met een diameter van 25 mm of minder; |
| --- | --- | --- |

c.

speciaal voor gasdiffusiescheidingsinstallaties ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1.

membranen voor gasdiffusie vervaardigd van poreus metallisch, polymeer of keramisch "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", met een poriegrootte van 10 tot 100 nm, een dikte van 5 mm of minder en, voor buisvormige membranen, met een diameter van 25 mm of minder;

| 2. | gasdiffusorvaten, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6"; |
| --- | --- |

2.

gasdiffusorvaten, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6";

| 3. | compressoren (verdringer, centrifugale en axiale typen) of aanjagers met een aanzuigcapaciteit van 1 m3/min. of meer UF6 en een werkdruk van maximaal 666,7 kPa, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6"; |
| --- | --- |

3.

compressoren (verdringer, centrifugale en axiale typen) of aanjagers met een aanzuigcapaciteit van 1 m3/min. of meer UF6 en een werkdruk van maximaal 666,7 kPa, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6";

| 4. | asafdichtingen voor compressoren of aanjagers bedoeld in 0B001.c.3., ontworpen op een inleksnelheid van het buffergas van minder dan 1 000 cm3/min; |
| --- | --- |

4.

asafdichtingen voor compressoren of aanjagers bedoeld in 0B001.c.3., ontworpen op een inleksnelheid van het buffergas van minder dan 1 000 cm3/min;

| 5. | warmtewisselaars, vervaardigd van aluminium, koper, nikkel of legeringen die meer dan 60 percent nikkel bevatten of combinaties van deze metalen, in de vorm van beklede buizen, ontworpen voor gebruik bij drukken lager dan de atmosferische druk, met een leksnelheid die een drukstijging van minder dan 10 Pa/uur veroorzaakt bij een drukverschil van 100 kPa; |
| --- | --- |

5.

warmtewisselaars, vervaardigd van aluminium, koper, nikkel of legeringen die meer dan 60 percent nikkel bevatten of combinaties van deze metalen, in de vorm van beklede buizen, ontworpen voor gebruik bij drukken lager dan de atmosferische druk, met een leksnelheid die een drukstijging van minder dan 10 Pa/uur veroorzaakt bij een drukverschil van 100 kPa;

| 6. | balgafsluiters met een diameter van 40 mm tot 1 500 mm, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6"; |
| --- | --- |

6.

balgafsluiters met een diameter van 40 mm tot 1 500 mm, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6";

| d. | speciaal voor aërodynamische scheidingsprocessen ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:






  1. | scheidingsstraalpijpen, bestaande uit spleetvormige, gebogen kanalen met een kromtestraal van minder dan 1 mm, bestand tegen corrosie door UF6, met in de straalpijp een scherpe scheidingsrand die de gasstroom in tweeën deelt; |
| --- | --- | --- |

d.

speciaal voor aërodynamische scheidingsprocessen ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1.

scheidingsstraalpijpen, bestaande uit spleetvormige, gebogen kanalen met een kromtestraal van minder dan 1 mm, bestand tegen corrosie door UF6, met in de straalpijp een scherpe scheidingsrand die de gasstroom in tweeën deelt;

| 2. | tangentiële instroombuizen (cilindrisch of conisch) (vortexbuizen), vervaardigd van of beschermd met "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", met een diameter tussen 0,5 cm en 4 cm en een lengte/diameterverhouding, gelijk aan of kleiner dan 20:1 en met een of meer tangentiële inlaten; |
| --- | --- |

2.

tangentiële instroombuizen (cilindrisch of conisch) (vortexbuizen), vervaardigd van of beschermd met "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", met een diameter tussen 0,5 cm en 4 cm en een lengte/diameterverhouding, gelijk aan of kleiner dan 20:1 en met een of meer tangentiële inlaten;

| 3. | compressoren (verdringer-, centrifugale en axiale typen) of aanjagers met een aanzuigcapaciteit van 2 m3/min of meer, vervaardigd van of beschermd met "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6" en asafdichtingen daarvoor; |
| --- | --- |

3.

compressoren (verdringer-, centrifugale en axiale typen) of aanjagers met een aanzuigcapaciteit van 2 m3/min of meer, vervaardigd van of beschermd met "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6" en asafdichtingen daarvoor;

| 4. | warmtewisselaars, vervaardigd van of beschermd met "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6"; |
| --- | --- |

4.

warmtewisselaars, vervaardigd van of beschermd met "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6";

| 5. | behuizingen van aërodynamische scheidingselementen, vervaardigd van of beschermd met "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", speciaal ontworpen om vortexbuizen of scheidingsstraalpijpen te bevatten; |
| --- | --- |

5.

behuizingen van aërodynamische scheidingselementen, vervaardigd van of beschermd met "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", speciaal ontworpen om vortexbuizen of scheidingsstraalpijpen te bevatten;

| 6. | balgafsluiters, vervaardigd van of beschermd met "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", met een diameter van 40 tot 1 500 mm; |
| --- | --- |

6.

balgafsluiters, vervaardigd van of beschermd met "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", met een diameter van 40 tot 1 500 mm;

| 7. | processystemen om UF6 van het dragergas (waterstof of helium) te scheiden tot een gehalte van 1 ppm UF6 of minder, met inbegrip van:






  a. | cryogene warmtewisselaars en cryogene scheiders die geschikt zijn voor temperaturen van 153 K (– 120 °C) of lager; |
| --- | --- | --- |

7.

processystemen om UF6 van het dragergas (waterstof of helium) te scheiden tot een gehalte van 1 ppm UF6 of minder, met inbegrip van:

a.

cryogene warmtewisselaars en cryogene scheiders die geschikt zijn voor temperaturen van 153 K (– 120 °C) of lager;

| b. | cryogene koeleenheden die geschikt zijn voor temperaturen van 153 K (– 120 °C) of lager; |
| --- | --- |

b.

cryogene koeleenheden die geschikt zijn voor temperaturen van 153 K (– 120 °C) of lager;

| c. | scheidingsstraalpijpen of vortexbuizen voor de scheiding van UF6 van het dragergas; |
| --- | --- |

c.

scheidingsstraalpijpen of vortexbuizen voor de scheiding van UF6 van het dragergas;

| d. | koudevallen voor UF6 die geschikt zijn voor temperaturen van 253 K (– 20 °C) of lager; |
| --- | --- |

d.

koudevallen voor UF6 die geschikt zijn voor temperaturen van 253 K (– 20 °C) of lager;

| e. | speciaal voor scheidingsprocessen met behulp van chemische uitwisselaars ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:






  1. | pulskolomcontactors voor snelle vloeistof-vloeistofuitwisseling met een verblijftijd per trap van 30 seconden of minder en bestand tegen geconcentreerd zoutzuur (bv. vervaardigd van of beschermd met geschikte kunststoffen zoals fluorkoolwaterstofpolymeren of glas); |
| --- | --- | --- |

e.

speciaal voor scheidingsprocessen met behulp van chemische uitwisselaars ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1.

pulskolomcontactors voor snelle vloeistof-vloeistofuitwisseling met een verblijftijd per trap van 30 seconden of minder en bestand tegen geconcentreerd zoutzuur (bv. vervaardigd van of beschermd met geschikte kunststoffen zoals fluorkoolwaterstofpolymeren of glas);

| 2. | centrifugale contactors voor snelle vloeistof-vloeistofuitwisseling met een verblijftijd per trap van 30 seconden of minder en bestand tegen geconcentreerd zoutzuur (bv. vervaardigd van of beschermd met geschikte kunststoffen zoals fluorkoolwaterstofpolymeren of glas); |
| --- | --- |

2.

centrifugale contactors voor snelle vloeistof-vloeistofuitwisseling met een verblijftijd per trap van 30 seconden of minder en bestand tegen geconcentreerd zoutzuur (bv. vervaardigd van of beschermd met geschikte kunststoffen zoals fluorkoolwaterstofpolymeren of glas);

| 3. | elektrochemische reductiecellen, bestand tegen oplossingen van geconcentreerd zoutzuur, ontworpen om uraan in valentie te veranderen; |
| --- | --- |

3.

elektrochemische reductiecellen, bestand tegen oplossingen van geconcentreerd zoutzuur, ontworpen om uraan in valentie te veranderen;

| 4. | voedingsuitrusting voor elektrochemische reductiecellen, ontworpen om U+4 uit de organische stroom te verwijderen en, voor die onderdelen die met de processtroom in contact komen, vervaardigd van of beschermd met geschikte materialen (bv. glas, fluorkoolwaterstofpolymeren, polyfenylsulfaat, polyethersulfon en met hars geïmpregneerd grafiet); |
| --- | --- |

4.

voedingsuitrusting voor elektrochemische reductiecellen, ontworpen om U+4 uit de organische stroom te verwijderen en, voor die onderdelen die met de processtroom in contact komen, vervaardigd van of beschermd met geschikte materialen (bv. glas, fluorkoolwaterstofpolymeren, polyfenylsulfaat, polyethersulfon en met hars geïmpregneerd grafiet);

| 5. | systemen voor de behandeling van het voedingsmateriaal, ontworpen om een zeer zuivere uraanchlorideoplossing te produceren, bestaande uit voorzieningen voor het in oplossing brengen, voor vloeistofextractie en/of voor ionenwisseling voor de zuivering en elektrolytische cellen voor de reductie van U+6 of U+4 tot U+3; |
| --- | --- |

5.

systemen voor de behandeling van het voedingsmateriaal, ontworpen om een zeer zuivere uraanchlorideoplossing te produceren, bestaande uit voorzieningen voor het in oplossing brengen, voor vloeistofextractie en/of voor ionenwisseling voor de zuivering en elektrolytische cellen voor de reductie van U+6 of U+4 tot U+3;

| 6. | oxidatiesystemen voor uraan, ontworpen om U+3 te oxideren tot U+4; |
| --- | --- |

6.

oxidatiesystemen voor uraan, ontworpen om U+3 te oxideren tot U+4;

| f. | speciaal voor scheidingsprocessen met behulp van ionenwisselaars ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:






  1. | ionenwisselharsen met een snelle reactietijd, vliezige of poreuze harsen met een macroscopische vernetting, waarin de actieve chemische uitwisselgroepen alleen voorkomen in een oppervlaktelaag op een inactieve poreuze ondersteunende structuur en andere composiete structuren met een geschikte vorm, waaronder deeltjes of vezels met diameters van 0,2 mm of minder, die bestand zijn tegen geconcentreerd zoutzuur en zijn ontworpen op een uitwisselingshalveringstijd van minder dan 10 seconden en die geschikt zijn voor werktemperaturen in het gebied van 373 K (100 °C) tot 473 K (200 °C); |
| --- | --- | --- |

f.

speciaal voor scheidingsprocessen met behulp van ionenwisselaars ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1.

ionenwisselharsen met een snelle reactietijd, vliezige of poreuze harsen met een macroscopische vernetting, waarin de actieve chemische uitwisselgroepen alleen voorkomen in een oppervlaktelaag op een inactieve poreuze ondersteunende structuur en andere composiete structuren met een geschikte vorm, waaronder deeltjes of vezels met diameters van 0,2 mm of minder, die bestand zijn tegen geconcentreerd zoutzuur en zijn ontworpen op een uitwisselingshalveringstijd van minder dan 10 seconden en die geschikt zijn voor werktemperaturen in het gebied van 373 K (100 °C) tot 473 K (200 °C);

| 2. | ionenwisselkolommen (cilindrisch) met een diameter groter dan 1 000 mm, vervaardigd van of beschermd met materiaal dat bestand is tegen geconcentreerd zoutzuur (bv. titaan of kunststoffen op basis van fluorkoolwaterstof), die geschikt zijn voor werktemperaturen in het gebied van 373 K (100 °C) tot 473 K (200 °C) en werkdrukken boven 0,7 MPa; |
| --- | --- |

2.

ionenwisselkolommen (cilindrisch) met een diameter groter dan 1 000 mm, vervaardigd van of beschermd met materiaal dat bestand is tegen geconcentreerd zoutzuur (bv. titaan of kunststoffen op basis van fluorkoolwaterstof), die geschikt zijn voor werktemperaturen in het gebied van 373 K (100 °C) tot 473 K (200 °C) en werkdrukken boven 0,7 MPa;

| 3. | ionenwisselrefluxsystemen (chemische of elektrochemische oxidatie- of reductiesystemen) voor het regenereren van de chemische reductie- of oxidatiemiddelen die in ionenwisselverrijkingscascades worden gebruikt; |
| --- | --- |

3.

ionenwisselrefluxsystemen (chemische of elektrochemische oxidatie- of reductiesystemen) voor het regenereren van de chemische reductie- of oxidatiemiddelen die in ionenwisselverrijkingscascades worden gebruikt;

| g. | speciaal voor isotopenscheidingsprocessen met atomaire-damp-"lasers" (AVLIS) ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:






  1. | krachtige ioniserings- of scanning-elektronenkanonnen met een afgegeven vermogen van meer dan 2,5 kW/cm, die worden gebruikt in een systeem om uraan te verdampen; |
| --- | --- | --- |

g.

speciaal voor isotopenscheidingsprocessen met atomaire-damp-"lasers" (AVLIS) ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1.

krachtige ioniserings- of scanning-elektronenkanonnen met een afgegeven vermogen van meer dan 2,5 kW/cm, die worden gebruikt in een systeem om uraan te verdampen;

| 2. | systemen voor het hanteren van vloeibaar uraanmetaal voor gesmolten uraan of uraanlegeringen, bestaande uit smeltkroezen, vervaardigd van of beschermd met geschikte corrosie- en hittebestendige materialen (bv. tantaal, met yttriumoxide bedekt grafiet, grafiet bedekt met andere oxiden van zeldzame aarden of mengsels daarvan) en koelapparatuur voor de smeltkroezen;


  NB: ZIE OOK 2A225 |
| --- | --- |

2.

systemen voor het hanteren van vloeibaar uraanmetaal voor gesmolten uraan of uraanlegeringen, bestaande uit smeltkroezen, vervaardigd van of beschermd met geschikte corrosie- en hittebestendige materialen (bv. tantaal, met yttriumoxide bedekt grafiet, grafiet bedekt met andere oxiden van zeldzame aarden of mengsels daarvan) en koelapparatuur voor de smeltkroezen;

NB: ZIE OOK 2A225

| 3. | opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan, vervaardigd van of bekleed met materialen die bestand zijn tegen de hitte en de corrosie van uraanmetaaldamp of vloeistof zoals bijvoorbeeld met yttriumoxide bedekt grafiet of tantaal; |
| --- | --- |

3.

opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan, vervaardigd van of bekleed met materialen die bestand zijn tegen de hitte en de corrosie van uraanmetaaldamp of vloeistof zoals bijvoorbeeld met yttriumoxide bedekt grafiet of tantaal;

| 4. | behuizingen voor scheidingsmodules (cilindrische of rechthoekige vaten) die zijn ontworpen om de uraanmetaaldampbron, het elektronenkanon en de opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan te bevatten; |
| --- | --- |

4.

behuizingen voor scheidingsmodules (cilindrische of rechthoekige vaten) die zijn ontworpen om de uraanmetaaldampbron, het elektronenkanon en de opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan te bevatten;

| 5. | "lasers" of "laser"-systemen voor de scheiding van uraanisotopen met een stabilisator voor het frequentiespectrum, bestemd om gedurende langere perioden in bedrijf te zijn;


  NB: ZIE OOK 6A005 EN 6A205 |
| --- | --- |

5.

"lasers" of "laser"-systemen voor de scheiding van uraanisotopen met een stabilisator voor het frequentiespectrum, bestemd om gedurende langere perioden in bedrijf te zijn;

NB: ZIE OOK 6A005 EN 6A205

| h. | speciaal voor isotopenscheidingsprocessen met moleculaire lasers (MLIS) of met chemische reacties door selectieve laseractivering van een of meer isotopen (CRISLA) ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:






  1. | supersone uitstroomstraalpijpen voor het koelen van mengsels van UF6 en transportgas tot 150 K (– 123 °C) of minder en vervaardigd van "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6"; |
| --- | --- | --- |

h.

speciaal voor isotopenscheidingsprocessen met moleculaire lasers (MLIS) of met chemische reacties door selectieve laseractivering van een of meer isotopen (CRISLA) ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1.

supersone uitstroomstraalpijpen voor het koelen van mengsels van UF6 en transportgas tot 150 K (– 123 °C) of minder en vervaardigd van "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6";

| 2. | productopvangsystemen voor uraanpentafluoride (UF5), bestaande uit collectoren van het filter-, impact- of cycloontype of combinaties daarvan en vervaardigd van "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF5/UF6"; |
| --- | --- |

2.

productopvangsystemen voor uraanpentafluoride (UF5), bestaande uit collectoren van het filter-, impact- of cycloontype of combinaties daarvan en vervaardigd van "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF5/UF6";

| 3. | compressoren, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", en asafdichtingen daarvoor; |
| --- | --- |

3.

compressoren, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", en asafdichtingen daarvoor;

| 4. | uitrusting om UF5 (vaste stof) te fluoreren tot UF6 (gas); |
| --- | --- |

4.

uitrusting om UF5 (vaste stof) te fluoreren tot UF6 (gas);

| 5. | processystemen voor het scheiden van UF6 van het transportgas (bv. stikstof of argon) met inbegrip van:






  a. | cryogene warmtewisselaars en cryogene scheiders die geschikt zijn voor temperaturen van 153 K (– 120 °C) of lager; |
| --- | --- | --- |

5.

processystemen voor het scheiden van UF6 van het transportgas (bv. stikstof of argon) met inbegrip van:

a.

cryogene warmtewisselaars en cryogene scheiders die geschikt zijn voor temperaturen van 153 K (– 120 °C) of lager;

| b. | cryogene koeleenheden die geschikt zijn voor temperaturen van 153 K (– 120 °C) of lager; |
| --- | --- |

b.

cryogene koeleenheden die geschikt zijn voor temperaturen van 153 K (– 120 °C) of lager;

| c. | koelvallen voor UF6 die geschikt zijn voor temperaturen van 253 K (– 20 °C) of lager; |
| --- | --- |

c.

koelvallen voor UF6 die geschikt zijn voor temperaturen van 253 K (– 20 °C) of lager;

| 6. | "lasers" of " laser"-systemen voor de scheiding van uraanisotopen met een stabilisator voor het frequentiespectrum, bestemd om gedurende langere perioden in bedrijf te zijn;


  NB: ZIE OOK 6A005 EN 6A205 |
| --- | --- |

6.

"lasers" of " laser"-systemen voor de scheiding van uraanisotopen met een stabilisator voor het frequentiespectrum, bestemd om gedurende langere perioden in bedrijf te zijn;

NB: ZIE OOK 6A005 EN 6A205

| i. | speciaal voor plasmascheidingsprocessen ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:






  1. | microgolfbronnen en antennes voor het produceren of versnellen van ionen, met een uitgangsfrequentie hoger dan 30 GHz en een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 50 kW; |
| --- | --- | --- |

i.

speciaal voor plasmascheidingsprocessen ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1.

microgolfbronnen en antennes voor het produceren of versnellen van ionen, met een uitgangsfrequentie hoger dan 30 GHz en een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 50 kW;

| 2. | RF-ionisatieaanslagspoelen voor frequenties boven 100 kHz en met een gemiddeld vermogen van meer dan 40 kW; |
| --- | --- |

2.

RF-ionisatieaanslagspoelen voor frequenties boven 100 kHz en met een gemiddeld vermogen van meer dan 40 kW;

| 3. | systemen voor het genereren van een uraanplasma; |
| --- | --- |

3.

systemen voor het genereren van een uraanplasma;

| 4. | systemen voor het hanteren van vloeibaar metaal, voor gesmolten uraan of uraanlegeringen, bestaande uit smeltkroezen, vervaardigd van of beschermd met geschikte corrosie- en hittebestendige materialen (bv. tantaal, met yttriumoxide bedekt grafiet, grafiet, bedekt met andere oxiden van zeldzame aarden of mengsels daarvan) en koelapparatuur voor de smeltkroezen;


  NB: ZIE OOK 2A225 |
| --- | --- |

4.

systemen voor het hanteren van vloeibaar metaal, voor gesmolten uraan of uraanlegeringen, bestaande uit smeltkroezen, vervaardigd van of beschermd met geschikte corrosie- en hittebestendige materialen (bv. tantaal, met yttriumoxide bedekt grafiet, grafiet, bedekt met andere oxiden van zeldzame aarden of mengsels daarvan) en koelapparatuur voor de smeltkroezen;

NB: ZIE OOK 2A225

| 5. | opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan, vervaardigd van of beschermd met materiaal dat bestand is tegen de hitte en de corrosie van uraandamp, zoals bijvoorbeeld met yttriumoxide bedekt grafiet of tantaal; |
| --- | --- |

5.

opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan, vervaardigd van of beschermd met materiaal dat bestand is tegen de hitte en de corrosie van uraandamp, zoals bijvoorbeeld met yttriumoxide bedekt grafiet of tantaal;

| 6. | behuizingen voor scheidingsmodules (cilindrisch), ontworpen om de uraanplasmabron, de radiofrequente spoel en de opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan te bevatten en vervaardigd van een geschikt niet-magnetisch materiaal (bv. roestvrij staal); |
| --- | --- |

6.

behuizingen voor scheidingsmodules (cilindrisch), ontworpen om de uraanplasmabron, de radiofrequente spoel en de opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan te bevatten en vervaardigd van een geschikt niet-magnetisch materiaal (bv. roestvrij staal);

| j. | speciaal voor elektromagnetische scheidingsprocessen ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:






  1. | enkel- of meervoudige ionenbronnen, bestaande uit een dampbron, ionisator en bundelversneller, vervaardigd van geschikte niet-magnetische materialen (bv. grafiet, roestvrij staal of koper) en geschikt om een totale ionenbundelstroom te leveren van 50 mA of meer; |
| --- | --- | --- |

j.

speciaal voor elektromagnetische scheidingsprocessen ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1.

enkel- of meervoudige ionenbronnen, bestaande uit een dampbron, ionisator en bundelversneller, vervaardigd van geschikte niet-magnetische materialen (bv. grafiet, roestvrij staal of koper) en geschikt om een totale ionenbundelstroom te leveren van 50 mA of meer;

| 2. | ionencollectorplaten voor het opvangen van ionenbundels met verrijkt of verarmd uraan, bestaande uit twee of meer spleten en opvangkamers en vervaardigd van geschikte niet-magnetische materialen (bv. grafiet of roestvrij staal); |
| --- | --- |

2.

ionencollectorplaten voor het opvangen van ionenbundels met verrijkt of verarmd uraan, bestaande uit twee of meer spleten en opvangkamers en vervaardigd van geschikte niet-magnetische materialen (bv. grafiet of roestvrij staal);

| 3. | vacuümbehuizingen voor elektromagnetische uraanscheiders, vervaardigd van niet-magnetische materialen (bv. roestvrij staal) en ontworpen op een werkdruk van 0,1 Pa of lager; |
| --- | --- |

3.

vacuümbehuizingen voor elektromagnetische uraanscheiders, vervaardigd van niet-magnetische materialen (bv. roestvrij staal) en ontworpen op een werkdruk van 0,1 Pa of lager;

| 4. | magnetische poolschoenen met een diameter van meer dan 2 m; |
| --- | --- |

4.

magnetische poolschoenen met een diameter van meer dan 2 m;

| 5. | hoogspanningsvoedingen voor ionenbronnen, die alle onderstaande eigenschappen hebben:






  a. | geschikt voor continubedrijf; |
| --- | --- | --- |

5.

hoogspanningsvoedingen voor ionenbronnen, die alle onderstaande eigenschappen hebben:

a.

geschikt voor continubedrijf;

| b. | uitgangsspanning 20 000 V of meer; |
| --- | --- |

b.

uitgangsspanning 20 000 V of meer;

| c. | uitgangsstroom 1 A of meer; en |
| --- | --- |

c.

uitgangsstroom 1 A of meer; en

| d. | spanningsregeling beter dan 0,01 % over een periode van 8 uur; |
| --- | --- |

d.

spanningsregeling beter dan 0,01 % over een periode van 8 uur;

NB: ZIE OOK 3A227

| 6. | voedingen voor magneten (hoog vermogen, gelijkstroom), die alle onderstaande eigenschappen hebben:






  a. | geschikt voor continubedrijf met een uitgangsstroom van 500 A of meer en een spanning van 100 V of meer; en |
| --- | --- | --- |

6.

voedingen voor magneten (hoog vermogen, gelijkstroom), die alle onderstaande eigenschappen hebben:

a.

geschikt voor continubedrijf met een uitgangsstroom van 500 A of meer en een spanning van 100 V of meer; en

| b. | stroom- of spanningsregeling beter dan 0,01 % over een periode van 8 uur. |
| --- | --- |

b.

stroom- of spanningsregeling beter dan 0,01 % over een periode van 8 uur.

NB: ZIE OOK 3A226

0B002Speciaal voor isotoopscheidingsinstallaties als bedoeld in 0B001 ontworpen of vervaardigde hulpsystemen, uitrusting en onderdelen, als hieronder, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6":

| a. | voedingsautoclaven, ovens of systemen voor het doorvoeren van UF6 naar het verrijkingsproces; |
| --- | --- |

a.

voedingsautoclaven, ovens of systemen voor het doorvoeren van UF6 naar het verrijkingsproces;

| b. | desublimatoren of koelvallen die gebruikt worden om het UF6 uit het verrijkingsproces te verwijderen voor verder transport na verhitting; |
| --- | --- |

b.

desublimatoren of koelvallen die gebruikt worden om het UF6 uit het verrijkingsproces te verwijderen voor verder transport na verhitting;

| c. | opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan om UF6 in containers op te slaan; |
| --- | --- |

c.

opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan om UF6 in containers op te slaan;

| d. | liquefactors of stollingsstations die worden gebruikt om UF6 uit het verrijkingsproces te verwijderen door UF6 samen te persen, af te koelen en om te zetten in vloeibare of vaste vorm; |
| --- | --- |

d.

liquefactors of stollingsstations die worden gebruikt om UF6 uit het verrijkingsproces te verwijderen door UF6 samen te persen, af te koelen en om te zetten in vloeibare of vaste vorm;

| e. | speciaal ontworpen stelsels van pijpen en «headers» om het UF6 te hanteren binnen de gasdiffusie-, centrifuge- of aërodynamische cascades; |
| --- | --- |

e.

speciaal ontworpen stelsels van pijpen en «headers» om het UF6 te hanteren binnen de gasdiffusie-, centrifuge- of aërodynamische cascades;

| f. | 1. | speciaal ontworpen vacuümspruitstukken en «headers» met een afzuigcapaciteit van 5 m3/min of meer, of |
| --- | --- | --- |

f.

1.

speciaal ontworpen vacuümspruitstukken en «headers» met een afzuigcapaciteit van 5 m3/min of meer, of

| 2. | vacuümpompen, speciaal ontworpen voor gebruik in een atmosfeer die UF6 bevat; |
| --- | --- |

2.

vacuümpompen, speciaal ontworpen voor gebruik in een atmosfeer die UF6 bevat;

| g. | UF6-massaspectrometers/ionenbronnen, speciaal ontworpen of vervaardigd om «on-line»-monsters te kunnen nemen van de UF6-voedingsstroom, van verarmde en van verrijkte UF6-gasstromen en die alle onderstaande eigenschappen hebben:






  1. | oplossend vermogen 1 a.m.e. voor massa’s groter dan 320 a.m.e.; |
| --- | --- | --- |

g.

UF6-massaspectrometers/ionenbronnen, speciaal ontworpen of vervaardigd om «on-line»-monsters te kunnen nemen van de UF6-voedingsstroom, van verarmde en van verrijkte UF6-gasstromen en die alle onderstaande eigenschappen hebben:

1.

oplossend vermogen 1 a.m.e. voor massa’s groter dan 320 a.m.e.;

| 2. | ionenbronnen, vervaardigd van of bekleed met nichroom of monel of vervaardigd van vernikkelde onderdelen; |
| --- | --- |

2.

ionenbronnen, vervaardigd van of bekleed met nichroom of monel of vervaardigd van vernikkelde onderdelen;

| 3. | ionisatiebronnen die werken met elektronenbeschieting, en |
| --- | --- |

3.

ionisatiebronnen die werken met elektronenbeschieting, en

| 4. | collectorsysteem, geschikt voor isotoopanalyse. |
| --- | --- |

4.

collectorsysteem, geschikt voor isotoopanalyse.

0B003Fabrieken voor de omzetting van uraan en speciaal daarvoor ontworpen of vervaardigde uitrusting, als hieronder:

| a. | systemen voor de omzetting van uraanertsconcentraten in UO3; |
| --- | --- |

a.

systemen voor de omzetting van uraanertsconcentraten in UO3;

| b. | systemen voor de omzetting van UO3 in UF6; |
| --- | --- |

b.

systemen voor de omzetting van UO3 in UF6;

| c. | systemen voor de omzetting van UO3 in UO2; |
| --- | --- |

c.

systemen voor de omzetting van UO3 in UO2;

| d. | systemen voor de omzetting van UO2 in UF4; |
| --- | --- |

d.

systemen voor de omzetting van UO2 in UF4;

| e. | systemen voor de omzetting van UF4 in UF6; |
| --- | --- |

e.

systemen voor de omzetting van UF4 in UF6;

| f. | systemen voor de omzetting van UF4 in uraanmetaal; |
| --- | --- |

f.

systemen voor de omzetting van UF4 in uraanmetaal;

| g. | systemen voor de omzetting van UF6 in UO2; |
| --- | --- |

g.

systemen voor de omzetting van UF6 in UO2;

| h. | systemen voor de omzetting van UF6 in UF4; |
| --- | --- |

h.

systemen voor de omzetting van UF6 in UF4;

| i. | systemen voor de omzetting van UO2 in UCl4. |
| --- | --- |

i.

systemen voor de omzetting van UO2 in UCl4.

0B004Fabrieken voor de productie of concentratie van zwaar water, deuterium en deuteriumverbindingen en speciaal daarvoor ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

| a. | Installaties voor de productie van zwaar water, deuterium of deuteriumverbindingen, als hieronder:






  1. | water-zwavelwaterstof-wisselinstallaties; |
| --- | --- | --- |

a.

Installaties voor de productie van zwaar water, deuterium of deuteriumverbindingen, als hieronder:

1.

water-zwavelwaterstof-wisselinstallaties;

| 2. | ammoniak-waterstof-wisselinstallaties; |
| --- | --- |

2.

ammoniak-waterstof-wisselinstallaties;

| b. | Uitrusting en onderdelen, als hieronder:






  1. | water-zwavelwaterstof-wisseltorens, vervaardigd van gezuiverd koolstofstaal (bijvoorbeeld ASTM A516) met een diameter van 6 tot 9 meter, geschikt voor werking bij een druk van 2 MPa of meer en met een corrosietoeslag van 6 mm of meer; |
| --- | --- | --- |

b.

Uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1.

water-zwavelwaterstof-wisseltorens, vervaardigd van gezuiverd koolstofstaal (bijvoorbeeld ASTM A516) met een diameter van 6 tot 9 meter, geschikt voor werking bij een druk van 2 MPa of meer en met een corrosietoeslag van 6 mm of meer;

| 2. | eentraps, centrifugale aanjagers of compressoren met lage opvoerdruk (d.w.z. 0,2 MPa), voor de circulatie van zwavelwaterstofgas (d.w.z. gas dat meer dan 70 % H2S bevat) met een verwerkingscapaciteit van ten minste 56 m3/seconde wanneer er gewerkt wordt bij drukniveaus van ten minste 1,8 MPa aan de zuigzijde, en met afdichtingen, ontworpen voor natte H2S-gassen; |
| --- | --- |

2.

eentraps, centrifugale aanjagers of compressoren met lage opvoerdruk (d.w.z. 0,2 MPa), voor de circulatie van zwavelwaterstofgas (d.w.z. gas dat meer dan 70 % H2S bevat) met een verwerkingscapaciteit van ten minste 56 m3/seconde wanneer er gewerkt wordt bij drukniveaus van ten minste 1,8 MPa aan de zuigzijde, en met afdichtingen, ontworpen voor natte H2S-gassen;

| 3. | ammoniak-waterstof-wisseltorens van 35 meter of hoger met een diameter tussen 1,5 en 2,5 meter die kunnen werken bij een druk van meer dan 15 MPa; |
| --- | --- |

3.

ammoniak-waterstof-wisseltorens van 35 meter of hoger met een diameter tussen 1,5 en 2,5 meter die kunnen werken bij een druk van meer dan 15 MPa;

| 4. | inwendige delen van torens, met inbegrip van getrapte contactgroepen, en getrapte pompen met inbegrip van dompelpompen voor de productie van zwaar water met het ammoniak-waterstof-wisselprocédé; |
| --- | --- |

4.

inwendige delen van torens, met inbegrip van getrapte contactgroepen, en getrapte pompen met inbegrip van dompelpompen voor de productie van zwaar water met het ammoniak-waterstof-wisselprocédé;

| 5. | ammoniak-kraakinstallaties die werken bij een druk van 3 MPa of meer voor de productie van zwaar water met het ammoniak-waterstof-wisselprocédé; |
| --- | --- |

5.

ammoniak-kraakinstallaties die werken bij een druk van 3 MPa of meer voor de productie van zwaar water met het ammoniak-waterstof-wisselprocédé;

| 6. | infraroodabsorptieanalyseapparatuur die "on line" waterstof-deuterium-verhoudingen kan meten waarbij de deuteriumconcentratie 90 % of meer is; |
| --- | --- |

6.

infraroodabsorptieanalyseapparatuur die "on line" waterstof-deuterium-verhoudingen kan meten waarbij de deuteriumconcentratie 90 % of meer is;

| 7. | katalytische branders voor de omzetting van verrijkt deuteriumgas in zwaar water met het ammoniak-waterstof-wisselprocédé; |
| --- | --- |

7.

katalytische branders voor de omzetting van verrijkt deuteriumgas in zwaar water met het ammoniak-waterstof-wisselprocédé;

| 8. | complete systemen voor het veredelen van zwaar water, of kolommen daarvoor, voor het veredelen van zwaar water tot een deuteriumconcentratie die in een kernreactor bruikbaar is. |
| --- | --- |

8.

complete systemen voor het veredelen van zwaar water, of kolommen daarvoor, voor het veredelen van zwaar water tot een deuteriumconcentratie die in een kernreactor bruikbaar is.

0B005Fabrieken, speciaal ontworpen voor de vervaardiging van splijtstofelementen voor "kernreactoren" en speciaal ontworpen of vervaardigde uitrusting daarvoor.

Noot: Een fabriek voor de vervaardiging van splijtstofelementen voor "kernreactoren" omvat uitrusting die:

| a. | in de regel in rechtstreeks contact komt met de productiestroom van nucleair materiaal of deze rechtstreeks verwerkt of reguleert; |
| --- | --- |

a.

in de regel in rechtstreeks contact komt met de productiestroom van nucleair materiaal of deze rechtstreeks verwerkt of reguleert;

| b. | zorgt voor de afdichting van het nucleaire materiaal in de splijtstofstaaf; |
| --- | --- |

b.

zorgt voor de afdichting van het nucleaire materiaal in de splijtstofstaaf;

| c. | de goede staat van de bekleding of van de afdichting van de splijtstofstaaf controleert; of |
| --- | --- |

c.

de goede staat van de bekleding of van de afdichting van de splijtstofstaaf controleert; of

| d. | de eindbehandeling van de afgesloten splijtstof controleert. |
| --- | --- |

d.

de eindbehandeling van de afgesloten splijtstof controleert.

0B006Fabrieken voor het opwerken van bestraalde splijtstofelementen en speciaal daarvoor ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen.

Noot: 0B006 omvat:

| a. | fabrieken voor het opwerken van bestraalde splijtstofelementen voor "kernreactoren", met inbegrip van uitrusting en onderdelen die in de regel rechtstreeks in aanraking komen met de bestraalde splijtstof en de voornaamste processtromen van nucleair materiaal en splijtingsproducten, en die rechtstreeks regelen; |
| --- | --- |

a.

fabrieken voor het opwerken van bestraalde splijtstofelementen voor "kernreactoren", met inbegrip van uitrusting en onderdelen die in de regel rechtstreeks in aanraking komen met de bestraalde splijtstof en de voornaamste processtromen van nucleair materiaal en splijtingsproducten, en die rechtstreeks regelen;

| b. | hak- en versnipperingsmachines voor splijtstofelementen, d.w.z. op afstand bediende uitrusting voor het snijden, hakken of knippen van bestraalde splijtstofpakketten, -bundels of -staven voor "kernreactoren"; |
| --- | --- |

b.

hak- en versnipperingsmachines voor splijtstofelementen, d.w.z. op afstand bediende uitrusting voor het snijden, hakken of knippen van bestraalde splijtstofpakketten, -bundels of -staven voor "kernreactoren";

| c. | oplostanks, d.w.z. kritisch veilige tanks (bv. ring- of plaattanks met een kleine diameter), speciaal ontworpen of vervaardigd voor het oplossen van bestraalde splijtstof van "kernreactoren", die bestand zijn tegen hete, sterk corrosieve vloeistoffen en die op afstand gevuld en onderhouden kunnen worden; |
| --- | --- |

c.

oplostanks, d.w.z. kritisch veilige tanks (bv. ring- of plaattanks met een kleine diameter), speciaal ontworpen of vervaardigd voor het oplossen van bestraalde splijtstof van "kernreactoren", die bestand zijn tegen hete, sterk corrosieve vloeistoffen en die op afstand gevuld en onderhouden kunnen worden;

| d. | tegenstroom-vloeistofextractors en ionenwisselapparatuur, speciaal ontworpen of vervaardigd voor gebruik in een fabriek voor het opwerken van bestraald "natuurlijk uraan", "verarmd uraan" of "speciale splijtstoffen"; |
| --- | --- |

d.

tegenstroom-vloeistofextractors en ionenwisselapparatuur, speciaal ontworpen of vervaardigd voor gebruik in een fabriek voor het opwerken van bestraald "natuurlijk uraan", "verarmd uraan" of "speciale splijtstoffen";

| e. | voorraad- of opslagvaten, speciaal ontworpen om kritisch veilig te zijn en bestand tegen de corrosieve werking van salpeterzuur;



  Noot: Voorraad- of opslagvaten kunnen de volgende kenmerken bezitten:








  1. | wanden of inwendige structuren met een boorequivalent (berekend voor alle samenstellende delen als gedefinieerd in de noot bij 0C004) van ten minste twee procent; |
| --- | --- | --- |

e.

voorraad- of opslagvaten, speciaal ontworpen om kritisch veilig te zijn en bestand tegen de corrosieve werking van salpeterzuur;

Noot: Voorraad- of opslagvaten kunnen de volgende kenmerken bezitten:

1.

wanden of inwendige structuren met een boorequivalent (berekend voor alle samenstellende delen als gedefinieerd in de noot bij 0C004) van ten minste twee procent;

| 2. | een maximale diameter van 175 mm voor cilindrische vaten; of |
| --- | --- |

2.

een maximale diameter van 175 mm voor cilindrische vaten; of

| 3. | een maximale breedte van 75 mm voor rechthoekige of ringvormige vaten. |
| --- | --- |

3.

een maximale breedte van 75 mm voor rechthoekige of ringvormige vaten.

| f. | instrumenten voor de regeling van processen, speciaal ontworpen of vervaardigd voor het bewaken of het regelen van de opwerking van bestraald "natuurlijk uraan", "verarmd uraan" of "speciale splijtstoffen". |
| --- | --- |

f.

instrumenten voor de regeling van processen, speciaal ontworpen of vervaardigd voor het bewaken of het regelen van de opwerking van bestraald "natuurlijk uraan", "verarmd uraan" of "speciale splijtstoffen".

0B007Fabrieken voor de omzetting van plutonium en speciaal daarvoor ontworpen of vervaardigde uitrusting, als hieronder:

| a) | systemen voor de omzetting van plutoniumnitraat in plutoniumoxide; |
| --- | --- |

a)

systemen voor de omzetting van plutoniumnitraat in plutoniumoxide;

| b) | systemen voor de productie van plutoniummetaal. |
| --- | --- |

b)

systemen voor de productie van plutoniummetaal.

0CMaterialen

0C001"Natuurlijk uraan" of "verarmd uraan" of thorium in de vorm van metaal, legering, chemische verbinding of concentraat en elk materiaal dat het voorgaande bevat;

Noot: In 0C001 zijn niet bedoeld:

| a. | Vier gram of minder "natuurlijk uraan" of "verarmd uraan", indien in een afgesloten gedeelte van een meetelement in instrumenten; |
| --- | --- |

a.

Vier gram of minder "natuurlijk uraan" of "verarmd uraan", indien in een afgesloten gedeelte van een meetelement in instrumenten;

| b. | "verarmd uraan", speciaal vervaardigd voor de volgende civiele en niet-nucleaire toepassingen:








  1. | afschermingsmateriaal; |
| --- | --- | --- |

b.

"verarmd uraan", speciaal vervaardigd voor de volgende civiele en niet-nucleaire toepassingen:

1.

afschermingsmateriaal;

| 2. | verpakkingsmateriaal; |
| --- | --- |

2.

verpakkingsmateriaal;

| 3. | ballast met een massa van ten hoogste 100 kg; |
| --- | --- |

3.

ballast met een massa van ten hoogste 100 kg;

| 4. | contragewichten met een massa van ten hoogste 100 kg; |
| --- | --- |

4.

contragewichten met een massa van ten hoogste 100 kg;

| c. | Legeringen met minder dan 5 % thorium; |
| --- | --- |

c.

Legeringen met minder dan 5 % thorium;

| d. | Keramische, thorium bevattende producten die zijn vervaardigd voor niet-nucleair gebruik. |
| --- | --- |

d.

Keramische, thorium bevattende producten die zijn vervaardigd voor niet-nucleair gebruik.

0C002"Speciale splijtstoffen".

Noot: In 0C002 is niet bedoeld vier "effectieve gram" of minder, indien in een afgesloten gedeelte van een meetelement in instrumenten.

0C003Deuterium, zwaar water (deuteriumoxide) en andere deuteriumverbindingen, en mengsels en oplossingen die deuterium bevatten, waarin de isotoopverhouding van deuterium tot waterstof groter is dan 1:5 000.

0C004Grafiet, geschikt voor toepassing in kernreactoren, d.w.z. met een zuiverheidsgraad beter dan 5 delen per miljoen (ppm) ‧boorequivalent‧, en met een dichtheid groter dan 1,5 g/cm3.

NB: ZIE OOK 1C107

Noot 1: is niet van toepassing op:

| a. | producten, vervaardigd van grafiet met een massa van minder dan 1 kg en niet speciaal ontworpen of vervaardigd voor gebruik in een kernreactor; |
| --- | --- |

a.

producten, vervaardigd van grafiet met een massa van minder dan 1 kg en niet speciaal ontworpen of vervaardigd voor gebruik in een kernreactor;

| b. | grafietpoeder. |
| --- | --- |

b.

grafietpoeder.

Noot 2:
  In 0C004 wordt ‧boorequivalent‧ (BE) gedefinieerd als de som van BEZ voor onzuiverheden (met uitzondering van BEkoolstof aangezien koolstof niet wordt beschouwd als een onzuiverheid), met inbegrip van boor, waarbij geldt:

BEZ (ppm) = CF x concentratie van element Z in ppm;

hierin is CF de conversiefactor Formula

en zijn σB en σZ de doorsneden voor de vangst van thermische neutronen (in barn) voor respectievelijk natuurlijk voorkomend boor en element Z; en zijn AB en AZ de atoommassa’s van respectievelijk natuurlijk voorkomend boor en element Z.

0C005Speciaal vervaardigde verbindingen of poeders voor de fabricage van membranen voor gasdiffusie die bestand zijn tegen corrosie door UF6 (bv. nikkel of een legering met 60 gewichtspercent of meer aan nikkel, aluminiumoxide en volledig gefluoreerde koolwaterstofpolymeren), met een zuiverheidsgraad van 99,9 gewichtspercent of meer, met een gemiddelde korrelgrootte, kleiner dan 10 micrometer, gemeten volgens de ASTM B-330-standaard (American Society for Testing and Materials) en met een zeer uniforme deeltjesgrootte.

0DProgrammatuur

0D001Programmatuur, speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van goederen, bedoeld in deze categorie.

0ETechnologie

0E001"Technologie" overeenkomstig de nucleaire technologienoot voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van goederen, bedoeld in deze categorie.

CATEGORIE 1

MATERIALEN, CHEMICALIËN, "MICRO-ORGANISMEN", "TOXINES"

1ASystemen, apparatuur en onderdelen

1A001Onderdelen vervaardigd van gefluoreerde verbindingen, als hieronder:

| a. | afdichtingen, pakkingen, afdichtingsmiddelen of flexibele brandstoftanks («fuel bladders»), welke voor meer dan 50 gewichtspercenten bestaan uit enig materiaal als bedoeld in 1C009.b of 1C009.c, speciaal ontworpen voor gebruik in de ruimte of in vliegtuigen; |
| --- | --- |

a.

afdichtingen, pakkingen, afdichtingsmiddelen of flexibele brandstoftanks («fuel bladders»), welke voor meer dan 50 gewichtspercenten bestaan uit enig materiaal als bedoeld in 1C009.b of 1C009.c, speciaal ontworpen voor gebruik in de ruimte of in vliegtuigen;

| b. | piëzo-elektrische polymeren en copolymeren gemaakt van vinylideenfluoride als bedoeld in 1C009.a:






  1. | in plaat- of folievorm, en |
| --- | --- | --- |

b.

piëzo-elektrische polymeren en copolymeren gemaakt van vinylideenfluoride als bedoeld in 1C009.a:

1.

in plaat- of folievorm, en

| 2. | met een dikte van meer dan 200 micrometer; |
| --- | --- |

2.

met een dikte van meer dan 200 micrometer;

| c. | afdichtingen, pakkingen, klepzittingen, flexibele brandstoftanks («fuel bladders») of membranen bestaande uit fluorelastomeren welke ten minste één vinylethergroep als structuurelement bevatten, speciaal ontworpen voor gebruik in de ruimte, in "raketten" of in "vliegtuigen".


  Noot: In 1A001.c worden onder "raketten" complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen verstaan. |
| --- | --- |

c.

afdichtingen, pakkingen, klepzittingen, flexibele brandstoftanks («fuel bladders») of membranen bestaande uit fluorelastomeren welke ten minste één vinylethergroep als structuurelement bevatten, speciaal ontworpen voor gebruik in de ruimte, in "raketten" of in "vliegtuigen".

Noot: In 1A001.c worden onder "raketten" complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen verstaan.

1A002"Composieten" of laminaten, met één of meer van de volgende eigenschappen:

NB: ZIE OOK 1A202, 9A010 EN 9A110

| a. | met een organische "matrix" en gemaakt van materialen als bedoeld in 1C010.c, 1C010.d of 1C010.e, of |
| --- | --- |

a.

met een organische "matrix" en gemaakt van materialen als bedoeld in 1C010.c, 1C010.d of 1C010.e, of

| b. | met een metaal- "matrix" of koolstof- "matrix" en gemaakt van:






  1. | koolstof- "stapel- en continuvezelmateriaal" met:






  a. | een "specifieke modulus" groter dan 10,15 × 106 m, en |
| --- | --- | --- | --- |

b.

met een metaal- "matrix" of koolstof- "matrix" en gemaakt van:

1.

koolstof- "stapel- en continuvezelmateriaal" met:

a.

een "specifieke modulus" groter dan 10,15 × 106 m, en

| b. | een "specifieke treksterkte" groter dan 17,7 × 104 m, of |
| --- | --- |

b.

een "specifieke treksterkte" groter dan 17,7 × 104 m, of

| 2. | materialen als bedoeld in 1C010.c. |
| --- | --- |

2.

materialen als bedoeld in 1C010.c.

Noot 1: 1A002 is niet van toepassing op composieten of laminaten gemaakt van met epoxyhars geïmpregneerd koolstof- "stapel- of continuvezelmateriaal" voor de reparatie van vliegtuigcasco’s of laminaten, met een maximale grootte van 1 m2.

Noot 2: 1A002 is niet van toepassing op eindproducten of halffabrikaten die speciaal zijn ontworpen voor zuiver civiele toepassingen, als hieronder:

| a. | sportartikelen; |
| --- | --- |

a.

sportartikelen;

| b. | auto-industrie; |
| --- | --- |

b.

auto-industrie;

| c. | werktuigmachine-industrie; |
| --- | --- |

c.

werktuigmachine-industrie;

| d. | medische toepassingen. |
| --- | --- |

d.

medische toepassingen.

1A003Producten vervaardigd van niet-gefluoreerde polymere stoffen als bedoeld in 1C008.a.3, in de vorm van film, vellen, band of lint, met een van de onderstaande eigenschappen:

| a. | een dikte groter dan 0,254 mm, of |
| --- | --- |

a.

een dikte groter dan 0,254 mm, of

| b. | bekleed of gelamineerd met koolstof, grafiet, metalen of magnetische substanties. |
| --- | --- |

b.

bekleed of gelamineerd met koolstof, grafiet, metalen of magnetische substanties.

Noot: 1A003 is niet van toepassing op producten bekleed of gelamineerd met koper die zijn ontworpen voor de productie van elektronische gedrukte schakelingen.

1A004Beschermings- en detectieapparatuur en onderdelen daarvan die niet onder de Lijst militaire goederen vallen, als hieronder:

NB: ZIE OOK 2B351 EN 2B352

| a. | Gasmaskers, filterbussen en decontaminatieapparatuur daarvoor die zijn ontworpen of aangepast met het oog op bescherming tegen biologische of radioactieve stoffen, aangepast voor oorlogsgebruik, of stoffen voor chemische oorlogvoering, alsmede speciaal daarvoor ontworpen onderdelen; |
| --- | --- |

a.

Gasmaskers, filterbussen en decontaminatieapparatuur daarvoor die zijn ontworpen of aangepast met het oog op bescherming tegen biologische of radioactieve stoffen, aangepast voor oorlogsgebruik, of stoffen voor chemische oorlogvoering, alsmede speciaal daarvoor ontworpen onderdelen;

| b. | Beschermingspakken, -handschoenen en -schoenen die speciaal zijn ontworpen of aangepast met het oog op bescherming tegen biologische of radioactieve stoffen, aangepast voor oorlogsgebruik of stoffen voor chemische oorlogvoering; |
| --- | --- |

b.

Beschermingspakken, -handschoenen en -schoenen die speciaal zijn ontworpen of aangepast met het oog op bescherming tegen biologische of radioactieve stoffen, aangepast voor oorlogsgebruik of stoffen voor chemische oorlogvoering;

| c. | Nucleaire, biologische en chemische (NBC) detectieapparatuur die speciaal is ontworpen of aangepast voor de detectie of identificatie van biologische of radioactieve stoffen, aangepast voor oorlogsgebruik, of stoffen voor chemische oorlogvoering, alsmede speciaal daarvoor ontworpen onderdelen. |
| --- | --- |

c.

Nucleaire, biologische en chemische (NBC) detectieapparatuur die speciaal is ontworpen of aangepast voor de detectie of identificatie van biologische of radioactieve stoffen, aangepast voor oorlogsgebruik, of stoffen voor chemische oorlogvoering, alsmede speciaal daarvoor ontworpen onderdelen.

Noot: 1A004 is niet van toepassing op:

| a. | Individuele dosismeters voor stralingscontrole; |
| --- | --- |

a.

Individuele dosismeters voor stralingscontrole;

| b. | Uitrusting die door haar ontwerp of functie beperkt is tot bescherming tegen risico’s die eigen zijn aan civiele industriesectoren, zoals mijnbouw, steengroeven, landbouw, de farmaceutische, medische, diergeneeskundige, milieu-, afvalbeheer- en voedingsindustrie. |
| --- | --- |

b.

Uitrusting die door haar ontwerp of functie beperkt is tot bescherming tegen risico’s die eigen zijn aan civiele industriesectoren, zoals mijnbouw, steengroeven, landbouw, de farmaceutische, medische, diergeneeskundige, milieu-, afvalbeheer- en voedingsindustrie.

1A005Kogelvrije kleding, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, anders dan vervaardigd volgens militaire normen of specificaties of gelijkwaardige prestatienormen.

NB: ZIE OOK LIJST MILITAIRE GOEDEREN

NB: Voor "stapel- en continuvezelmateriaal" dat gebruikt wordt voor de vervaardiging van kogelvrije kleding, zie 1C010.

Noot 1: In 1A005 zijn niet bedoeld kogelvrije kleding en beschermende kleding die de gebruiker bij zich heeft voor zijn eigen bescherming.

Noot 2: In 1A005 is niet bedoeld kogelvrije kleding die bestemd is om uitsluitend frontale bescherming te bieden tegen door niet-militaire explosieven veroorzaakte luchtverplaatsingen of scherven.

1A102Opnieuw verzadigde, door pyrolyse verkregen koolstof-koolstof-componenten bestemd voor ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104.

1A202Composieten, met uitzondering van de in 1A002 bedoelde composieten, in buisvorm, met beide volgende kenmerken:

NB: ZIE OOK 9A010 EN 9A110

| a. | een binnendiameter van 75-400 mm; en |
| --- | --- |

a.

een binnendiameter van 75-400 mm; en

| b. | vervaardigd van "stapel- en continuvezelmateriaal" als bedoeld in 1C010.a of b of 1C210.a of met koolstof-«prepreg»-materiaal als bedoeld in 1C210.c. |
| --- | --- |

b.

vervaardigd van "stapel- en continuvezelmateriaal" als bedoeld in 1C010.a of b of 1C210.a of met koolstof-«prepreg»-materiaal als bedoeld in 1C210.c.

1A225Geplatineerde katalysatoren, speciaal ontworpen of vervaardigd voor het bevorderen van de waterstofisotoopuitwisseling tussen waterstof en water voor het terugwinnen van tritium uit zwaar water of voor de productie van zwaar water.

1A226Specifieke pakkingen die kunnen worden gebruikt voor de scheiding van zwaar water van gewoon water, met beide volgende kenmerken:

| a. | vervaardigd van plaatgaas van fosforbrons (chemisch behandeld ter verbetering van de bevochtigingsraad); en |
| --- | --- |

a.

vervaardigd van plaatgaas van fosforbrons (chemisch behandeld ter verbetering van de bevochtigingsraad); en

| b. | ontworpen voor gebruik in vacuümdistillatietorens. |
| --- | --- |

b.

ontworpen voor gebruik in vacuümdistillatietorens.

1A227Stralingafschermende ramen (van loodglas of ander materiaal) met alle hiernavolgende kenmerken en speciaal ontworpen kozijnen daarvoor:

| a. | een ‧koude zone‧ groter dan 0,09 m2 |
| --- | --- |

a.

een ‧koude zone‧ groter dan 0,09 m2

| b. | een dichtheid groter dan 3 g/cm3; en |
| --- | --- |

b.

een dichtheid groter dan 3 g/cm3; en

| c. | een dikte van 100 mm of meer. |
| --- | --- |

c.

een dikte van 100 mm of meer.

Technische noot:

In 1A227 wordt onder ‧koude zone‧ verstaan de kijkzone van het raam die is blootgesteld aan het laagste stralingsniveau in de constructietoepassing.

1BTest-, inspectie- en productieapparatuur

1B001Apparatuur voor de vervaardiging van vezels, geïmpregneerde vezels («prepregs»), beklede vezels («preforms») of "composieten" als bedoeld in 1A002 of 1C010, als hieronder, en speciaal ontworpen onderdelen en toebehoren daarvoor:

NB: ZIE OOK 1B101 EN 1B201

| a. | draadwindmachines waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen, wikkelen en winden van vezelmateriaal in drie of meer richtingen zijn gecoördineerd en geprogrammeerd, speciaal ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" of laminaten uit "stapel- of continuvezelmateriaal"; |
| --- | --- |

a.

draadwindmachines waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen, wikkelen en winden van vezelmateriaal in drie of meer richtingen zijn gecoördineerd en geprogrammeerd, speciaal ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" of laminaten uit "stapel- of continuvezelmateriaal";

| b. | band- of lintlegmachines waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen en leggen van banden, linten of vellen in twee of meer richtingen zijn gecoördineerd en geprogrammeerd, speciaal ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" voor vliegtuigen en raketten;


  Noot: In 1B001.b worden onder "raketten" complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen verstaan. |
| --- | --- |

b.

band- of lintlegmachines waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen en leggen van banden, linten of vellen in twee of meer richtingen zijn gecoördineerd en geprogrammeerd, speciaal ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" voor vliegtuigen en raketten;

Noot: In 1B001.b worden onder "raketten" complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen verstaan.

| c. | weef- en vlechtmachines welke in verscheidene richtingen en dimensies kunnen werken met inbegrip van aanpassings- of wijzigingsuitrustingen, voor het weven, dooreenvlechten of omvlechten van vezelmateriaal ter vervaardiging van "composieten";
  Technische noot:

  Voor de toepassing van punt 1B001.c houdt de techniek van het dooreenvlechten tevens breien in.



  Noot: In 1B001.c zijn niet bedoeld textielmachines die niet voor bovengenoemde eindtoepassingen zijn aangepast. |
| --- | --- |

c.

weef- en vlechtmachines welke in verscheidene richtingen en dimensies kunnen werken met inbegrip van aanpassings- of wijzigingsuitrustingen, voor het weven, dooreenvlechten of omvlechten van vezelmateriaal ter vervaardiging van "composieten";

Technische noot:

Voor de toepassing van punt 1B001.c houdt de techniek van het dooreenvlechten tevens breien in.

Noot: In 1B001.c zijn niet bedoeld textielmachines die niet voor bovengenoemde eindtoepassingen zijn aangepast.

| d. | apparatuur speciaal ontworpen of aangepast voor de vervaardiging van versterkingsvezels, als hieronder:






  1. | apparatuur voor het omzetten van polymere vezels (zoals polyacrylonitryl, rayon, asfaltbitumen of polycarbosilaan) in koolstofvezels of vezels bestaande uit siliciumcarbide, met inbegrip van speciale voorzieningen voor het strekken van de vezels tijdens verhitting; |
| --- | --- | --- |

d.

apparatuur speciaal ontworpen of aangepast voor de vervaardiging van versterkingsvezels, als hieronder:

1.

apparatuur voor het omzetten van polymere vezels (zoals polyacrylonitryl, rayon, asfaltbitumen of polycarbosilaan) in koolstofvezels of vezels bestaande uit siliciumcarbide, met inbegrip van speciale voorzieningen voor het strekken van de vezels tijdens verhitting;

| 2. | apparatuur voor het neerslaan van elementen of verbindingen uit de dampfase op verwarmde continuvezelsubstraten voor de vervaardiging van vezels bestaande uit siliciumcarbide; |
| --- | --- |

2.

apparatuur voor het neerslaan van elementen of verbindingen uit de dampfase op verwarmde continuvezelsubstraten voor de vervaardiging van vezels bestaande uit siliciumcarbide;

| 3. | apparatuur voor het natspinnen van vuurvaste keramische materialen (bv. aluminiumoxide); |
| --- | --- |

3.

apparatuur voor het natspinnen van vuurvaste keramische materialen (bv. aluminiumoxide);

| 4. | apparatuur voor het omzetten van aluminium dat voorlopervezelmaterialen bevat, in aluminiumoxidevezels door middel van warmtebehandeling; |
| --- | --- |

4.

apparatuur voor het omzetten van aluminium dat voorlopervezelmaterialen bevat, in aluminiumoxidevezels door middel van warmtebehandeling;

| e. | apparatuur voor het door middel van de heetsmeltmethode vervaardigen van de «prepregs» bedoeld in 1C010.e; |
| --- | --- |

e.

apparatuur voor het door middel van de heetsmeltmethode vervaardigen van de «prepregs» bedoeld in 1C010.e;

| f. | inspectieapparatuur welke gebruik maakt van niet-destructieve technieken (NDT), geschikt voor het driedimensionaal opsporen van gebreken, welke gebruik maakt van ultrasone of röntgentomografie en speciaal is ontworpen voor "composieten". |
| --- | --- |

f.

inspectieapparatuur welke gebruik maakt van niet-destructieve technieken (NDT), geschikt voor het driedimensionaal opsporen van gebreken, welke gebruik maakt van ultrasone of röntgentomografie en speciaal is ontworpen voor "composieten".

1B002Apparatuur voor het vervaardigen van metaallegeringen, metaallegeringspoeder of gelegeerde materialen, speciaal ontworpen om contaminatie te voorkomen en speciaal ontworpen voor gebruik in één van de in 1C002.c.2 bedoelde procédés.

NB: ZIE OOK 1B102

1B003Gereedschap, matrijzen, stempels of klemmen voor het "superplastisch vormen" of "diffusielassen" van titaan of aluminium of legeringen daarvan, speciaal ontworpen voor het vervaardigen van:

| a. | constructies voor lucht- of ruimtevaart, |
| --- | --- |

a.

constructies voor lucht- of ruimtevaart,

| b. | motoren voor "vliegtuigen" of ruimtevaartuigen, of |
| --- | --- |

b.

motoren voor "vliegtuigen" of ruimtevaartuigen, of

| c. | speciaal ontworpen onderdelen voor bedoelde constructies en motoren. |
| --- | --- |

c.

speciaal ontworpen onderdelen voor bedoelde constructies en motoren.

1B101Apparatuur, met uitzondering van de onder 1B001 bedoelde apparatuur voor de vervaardiging van composieten, als hieronder, en speciaal ontworpen onderdelen en toebehoren daarvoor:

NB: ZIE OOK 1B201

Noot: De in 1B101 bedoelde onderdelen en toebehoren omvatten onder meer matrijzen, doornen, stempels, klemmen en gereedschappen voor het persen van voorvormstukken, of het harden, gieten, sinteren of binden van composieten, laminaten en producten daarvan.

| a. | draadwindmachines, waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen, wikkelen en winden van vezelmateriaal in drie of meer richtingen kunnen worden gecoördineerd en geprogrammeerd, ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" of laminaten uit "stapel- of continuvezelmateriaal", alsmede besturingseenheden voor het coördineren en het programmeren daarvan; |
| --- | --- |

a.

draadwindmachines, waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen, wikkelen en winden van vezelmateriaal in drie of meer richtingen kunnen worden gecoördineerd en geprogrammeerd, ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" of laminaten uit "stapel- of continuvezelmateriaal", alsmede besturingseenheden voor het coördineren en het programmeren daarvan;

| b. | bandlegmachines, waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen en leggen van banden en vellen in twee of meer richtingen kunnen worden gecoördineerd en geprogrammeerd, ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" voor casco’s en andere delen van vliegtuigen en "raketten"; |
| --- | --- |

b.

bandlegmachines, waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen en leggen van banden en vellen in twee of meer richtingen kunnen worden gecoördineerd en geprogrammeerd, ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" voor casco’s en andere delen van vliegtuigen en "raketten";

| c. | apparatuur, als hieronder, ontworpen of aangepast voor de "productie" van "stapel- of continuvezelmateriaal":






  1. | apparatuur voor het omzetten van polymere vezels (zoals polyacrylonitryl, rayon of polycarbosilaan) met inbegrip van speciale voorzieningen voor het strekken van de vezels tijdens verhitting, |
| --- | --- | --- |

c.

apparatuur, als hieronder, ontworpen of aangepast voor de "productie" van "stapel- of continuvezelmateriaal":

1.

apparatuur voor het omzetten van polymere vezels (zoals polyacrylonitryl, rayon of polycarbosilaan) met inbegrip van speciale voorzieningen voor het strekken van de vezels tijdens verhitting,

| 2. | apparatuur voor het neerslaan van elementen of verbindingen uit de dampfase op verhitte continuvezelsubstraten, |
| --- | --- |

2.

apparatuur voor het neerslaan van elementen of verbindingen uit de dampfase op verhitte continuvezelsubstraten,

| 3. | apparatuur voor het natspinnen van vuurbestendige keramische materialen (bv. aluminiumoxide); |
| --- | --- |

3.

apparatuur voor het natspinnen van vuurbestendige keramische materialen (bv. aluminiumoxide);

| d. | apparatuur, ontworpen of aangepast voor speciale oppervlaktebehandeling van vezels of voor het vervaardigen van de «prepregs» en «preforms», bedoeld in 9C110.


  Noot: 1B101.d omvat onder meer rollen, strektoestellen, apparatuur voor het aanbrengen van deklagen, snijapparatuur en stansvormen. |
| --- | --- |

d.

apparatuur, ontworpen of aangepast voor speciale oppervlaktebehandeling van vezels of voor het vervaardigen van de «prepregs» en «preforms», bedoeld in 9C110.

Noot: 1B101.d omvat onder meer rollen, strektoestellen, apparatuur voor het aanbrengen van deklagen, snijapparatuur en stansvormen.

1B102Andere metaalpoeder-"productieapparatuur" dan die, bedoeld in 1B002 en onderdelen, als hieronder:

NB: ZIE OOK 1B115.b.

| a. | metaalpoeder-"productieapparatuur", bruikbaar voor de "productie" in een gecontroleerde omgeving van sferische of vernevelde materialen als bedoeld in 1CO11.a, 1CO11.b, 1C111.a.1, 1C111.a.2 of in de Lijst van militaire goederen; |
| --- | --- |

a.

metaalpoeder-"productieapparatuur", bruikbaar voor de "productie" in een gecontroleerde omgeving van sferische of vernevelde materialen als bedoeld in 1CO11.a, 1CO11.b, 1C111.a.1, 1C111.a.2 of in de Lijst van militaire goederen;

| b. | speciaal ontworpen onderdelen van "productieapparatuur" als bedoeld in 1B002 of 1B102.a. |
| --- | --- |

b.

speciaal ontworpen onderdelen van "productieapparatuur" als bedoeld in 1B002 of 1B102.a.

Noot: 1B102 omvat:

| a. | Plasmageneratoren (hogefrequentieboogstraal), bruikbaar voor het verkrijgen van gesputterde of sferische metaalpoeders in een argon-waterig milieu; |
| --- | --- |

a.

Plasmageneratoren (hogefrequentieboogstraal), bruikbaar voor het verkrijgen van gesputterde of sferische metaalpoeders in een argon-waterig milieu;

| b. | «Electroburst»apparatuur, bruikbaar voor het verkrijgen van gesputterde of sferische metaalpoeders in een argon-waterig milieu; |
| --- | --- |

b.

«Electroburst»apparatuur, bruikbaar voor het verkrijgen van gesputterde of sferische metaalpoeders in een argon-waterig milieu;

| c. | Apparatuur, bruikbaar voor de "productie" van sferisch aluminiumpoeder door verpulvering van een smelt in een inert medium (bv. stikstof). |
| --- | --- |

c.

Apparatuur, bruikbaar voor de "productie" van sferisch aluminiumpoeder door verpulvering van een smelt in een inert medium (bv. stikstof).

1B115Andere apparatuur dan die, bedoeld in 1B002 en 1B102, voor de productie van stuwstoffen en bestanddelen daarvan, als hieronder, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

| a. | "productieapparatuur" voor de "productie", het hanteren of het keuren van vloeibare stuwstoffen of bestanddelen daarvan, als bedoeld in 1C011.a, 1C011.b, 1C111 of in de Lijst van militaire goederen; |
| --- | --- |

a.

"productieapparatuur" voor de "productie", het hanteren of het keuren van vloeibare stuwstoffen of bestanddelen daarvan, als bedoeld in 1C011.a, 1C011.b, 1C111 of in de Lijst van militaire goederen;

| b. | "productieapparatuur" voor de "productie", het hanteren, mengen, harden, gieten, persen, machinaal bewerken, spuitgieten of keuren van vaste stuwstoffen of bestanddelen daarvan, als bedoeld in 1C011.a, 1C011.b, 1C111 of in de Lijst militaire goederen.


  Noot: In 1B115.b zijn niet bedoeld niet-continumengers, continumengers en luchtstraalmolens. Voor de controle daarop zie 1B117, 1B118 en 1B119. |
| --- | --- |

b.

"productieapparatuur" voor de "productie", het hanteren, mengen, harden, gieten, persen, machinaal bewerken, spuitgieten of keuren van vaste stuwstoffen of bestanddelen daarvan, als bedoeld in 1C011.a, 1C011.b, 1C111 of in de Lijst militaire goederen.

Noot: In 1B115.b zijn niet bedoeld niet-continumengers, continumengers en luchtstraalmolens. Voor de controle daarop zie 1B117, 1B118 en 1B119.

Noot 1: Zie de Lijst van militaire goederen voor apparatuur speciaal ontworpen voor de productie van militaire goederen.

Noot 2: In 1B115 is niet bedoeld apparatuur voor het vervaardigen, hanteren en keuren van boorcarbide.

1B116Speciaal ontworpen spuitmonden voor de "productie" van pyrolytisch gevormde materialen op een as, mal of ander substraat van voorlopergassen die ontleden bij temperaturen van 1 573 K (1 300 °C) tot 3 173 K (2 900 °C) en een druk van 130 Pa tot 20 kPa.

1B117Niet-continumengers welke geschikt zijn voor het mengen onder vacuüm bij een druk van nul tot 13,326 kPa, met de mogelijkheid om de temperatuur van de mengkamer te regelen en met alle navolgende kenmerken, en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor:

| a. | een totale inhoud van 110 l of meer; en |
| --- | --- |

a.

een totale inhoud van 110 l of meer; en

| b. | ten minste één excentrisch geplaatste meng- of kneedas. |
| --- | --- |

b.

ten minste één excentrisch geplaatste meng- of kneedas.

1B118Continumengers welke geschikt zijn voor het mengen onder vacuüm bij een druk van nul tot 13,326 kPa, met de mogelijkheid om de temperatuur van de mengkamer te regelen en met een van de volgende kenmerken, en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor:

| a. | twee of meer meng- of kneedassen; of |
| --- | --- |

a.

twee of meer meng- of kneedassen; of

| b. | één roterende en oscillerende as met mengtanden/-pennen op de as en de mengkamerwand. |
| --- | --- |

b.

één roterende en oscillerende as met mengtanden/-pennen op de as en de mengkamerwand.

1B119Luchtstraalmolens die gebruikt kunnen worden om de stoffen, genoemd in 1C011.a, 1C011.b, 1.C.111 of in de Lijst van militaire goederen, te malen of te stampen, en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor.

1B201Draadwindmachines, uitgezonderd machines als bedoeld in 1B001 of 1B101, en bijbehorende apparatuur, als hieronder:

| a. | draadwindmachines met alle volgende kenmerken:






  1. | de bewegingen voor het gericht opbrengen, wikkelen en winden van vezelmateriaal zijn in twee of meer richtingen gecoördineerd en geprogrammeerd, |
| --- | --- | --- |

a.

draadwindmachines met alle volgende kenmerken:

1.

de bewegingen voor het gericht opbrengen, wikkelen en winden van vezelmateriaal zijn in twee of meer richtingen gecoördineerd en geprogrammeerd,

| 2. | de machines zijn speciaal ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" of laminaten uit "stapel- of continuvezelmateriaal"; en |
| --- | --- |

2.

de machines zijn speciaal ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" of laminaten uit "stapel- of continuvezelmateriaal"; en

| 3. | geschikt voor het winden van cilindrische rotoren met een diameter van 75 mm tot 400 mm en een lengte van 600 mm of meer; |
| --- | --- |

3.

geschikt voor het winden van cilindrische rotoren met een diameter van 75 mm tot 400 mm en een lengte van 600 mm of meer;

| b. | besturingseenheden voor het coördineren en programmeren van de in 1B201.a bedoelde draadwindmachines; |
| --- | --- |

b.

besturingseenheden voor het coördineren en programmeren van de in 1B201.a bedoelde draadwindmachines;

| c. | zeer nauwkeurige spillen voor de in 1B201.a bedoelde draadwindmachines. |
| --- | --- |

c.

zeer nauwkeurige spillen voor de in 1B201.a bedoelde draadwindmachines.

1B225Elektrolytische cellen voor de productie van fluor met een capaciteit van meer dan 250 g fluor per uur.

1B226Elektromagnetische isotopenscheiders, ontworpen voor of uitgerust met enkelvoudige of meervoudige ionenbronnen die een totale ionenbundelstroom van 50 mA of meer kunnen leveren.

Noot: 1B226 omvat tevens scheiders:

| a. | geschikt voor het verrijken van stabiele isotopen; |
| --- | --- |

a.

geschikt voor het verrijken van stabiele isotopen;

| b. | waarbij de ionenbronnen en collectors zich in het magneetveld bevinden en configuraties waarbij deze zich buiten het veld bevinden. |
| --- | --- |

b.

waarbij de ionenbronnen en collectors zich in het magneetveld bevinden en configuraties waarbij deze zich buiten het veld bevinden.

1B227Converters voor ammoniaksynthese of ammoniaksynthese-eenheden waarin het synthesegas (stikstof en waterstof) wordt onttrokken uit een hogedrukkolom voor de uitwisseling van ammoniak en waterstof en de gevormde ammoniak naar deze kolom wordt teruggevoerd.

1B228Kolommen voor de cryogene distillatie van waterstof met alle volgende kenmerken:

| a. | ontworpen om te werken bij een interne temperatuur van 35 K (– 238 °C) of lager; |
| --- | --- |

a.

ontworpen om te werken bij een interne temperatuur van 35 K (– 238 °C) of lager;

| b. | ontworpen om te werken bij een interne druk van 0,5-5 MPa (5-50 atm.); |
| --- | --- |

b.

ontworpen om te werken bij een interne druk van 0,5-5 MPa (5-50 atm.);

| c. | vervaardigd van






  1. | roestvrij staal van de 300-serie met een laag zwavelgehalte en een korrelgroottegetal van 5 of hoger volgens de ASTM-standaard (of een gelijkwaardige standaard), voor austenitisch staal of |
| --- | --- | --- |

c.

vervaardigd van

1.

roestvrij staal van de 300-serie met een laag zwavelgehalte en een korrelgroottegetal van 5 of hoger volgens de ASTM-standaard (of een gelijkwaardige standaard), voor austenitisch staal of

| 2. | gelijkwaardige cryogene materialen die tevens H2 verdragen; |
| --- | --- |

2.

gelijkwaardige cryogene materialen die tevens H2 verdragen;

| d. | met een binnendiameter van 1 m of meer en een nuttige lengte van 5 m of meer. |
| --- | --- |

d.

met een binnendiameter van 1 m of meer en een nuttige lengte van 5 m of meer.

1B229Schotelkolommen voor de water-zwavelwaterstof-uitwisseling en de interne contactorganen daarvoor, als hieronder:

NB: Voor kolommen die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd voor de productie van zwaar water zie 0B004.

| a. | schotelkolommen voor de water-zwavelwaterstof-uitwisseling, met alle volgende kenmerken:






  1. | geschikt voor werking bij een nominale druk van 2 MPa of groter; |
| --- | --- | --- |

a.

schotelkolommen voor de water-zwavelwaterstof-uitwisseling, met alle volgende kenmerken:

1.

geschikt voor werking bij een nominale druk van 2 MPa of groter;

| 2. | vervaardigd van koolstofstaal met een korrelgroottegetal van 5 of hoger volgens de ASTM-standaard (of een gelijkwaardige standaard), voor austenitisch staal; en |
| --- | --- |

2.

vervaardigd van koolstofstaal met een korrelgroottegetal van 5 of hoger volgens de ASTM-standaard (of een gelijkwaardige standaard), voor austenitisch staal; en

| 3. | met een diameter van 1,8 m of meer; |
| --- | --- |

3.

met een diameter van 1,8 m of meer;

| b. | de in 1B229.a bedoelde ‧interne contactgroepen‧ voor de schotelkolommen voor de water-zwavelwaterstof-uitwisseling.
  Technische noot:

  De ‧interne contactgroepen‧ van de kolommen bestaan uit gesegmenteerde schotels met een effectieve gezamenlijke diameter van 1,8 m of meer, zijn ontworpen voor het in tegenstroom met elkaar in contact brengen, en vervaardigd van roestvrij staal met een koolstofgehalte van 0,03 % of minder. Zij kunnen de vorm hebben van zeefschotels, klepschotels, borrelklokjesschotels en turboroosterschotels. |
| --- | --- |

b.

de in 1B229.a bedoelde ‧interne contactgroepen‧ voor de schotelkolommen voor de water-zwavelwaterstof-uitwisseling.

Technische noot:

De ‧interne contactgroepen‧ van de kolommen bestaan uit gesegmenteerde schotels met een effectieve gezamenlijke diameter van 1,8 m of meer, zijn ontworpen voor het in tegenstroom met elkaar in contact brengen, en vervaardigd van roestvrij staal met een koolstofgehalte van 0,03 % of minder. Zij kunnen de vorm hebben van zeefschotels, klepschotels, borrelklokjesschotels en turboroosterschotels.

1B230Pompen, geschikt voor de circulatie van geconcentreerde of verdunde oplossingen van de katalysator kaliumamide in vloeibare ammoniak (KNH2/NH3), met alle volgende kenmerken:

| a. | luchtdicht (d.w.z. hermetisch afgesloten); |
| --- | --- |

a.

luchtdicht (d.w.z. hermetisch afgesloten);

| b. | met een capaciteit van meer dan 8,5 m3/uur; en |
| --- | --- |

b.

met een capaciteit van meer dan 8,5 m3/uur; en

| c. | een van de volgende kenmerken:






  1. | voor geconcentreerde oplossingen van kaliumamide (1 % of meer), een werkdruk van 1,5-60 MPa; of |
| --- | --- | --- |

c.

een van de volgende kenmerken:

1.

voor geconcentreerde oplossingen van kaliumamide (1 % of meer), een werkdruk van 1,5-60 MPa; of

| 2. | voor verdunde oplossingen van kaliumamide (minder dan 1 %), een werkdruk van 20-60 MPa. |
| --- | --- |

2.

voor verdunde oplossingen van kaliumamide (minder dan 1 %), een werkdruk van 20-60 MPa.

1B231Tritiuminstallaties of -fabrieken, en apparatuur daarvoor, als hieronder:

| a. | installaties of fabrieken voor het produceren, terugwinnen, extraheren, concentreren of behandelen van tritium; |
| --- | --- |

a.

installaties of fabrieken voor het produceren, terugwinnen, extraheren, concentreren of behandelen van tritium;

| b. | apparatuur voor titriuminstallaties of -fabrieken, als hieronder:






  1. | waterstof- of heliumkoeleenheden die kunnen koelen tot 23 K (– 250 °C) of lager, met een warmteafvoercapaciteit van meer dan 150 W; of |
| --- | --- | --- |

b.

apparatuur voor titriuminstallaties of -fabrieken, als hieronder:

1.

waterstof- of heliumkoeleenheden die kunnen koelen tot 23 K (– 250 °C) of lager, met een warmteafvoercapaciteit van meer dan 150 W; of

| 2. | opslag- of zuiveringssystemen voor waterstofisotopen die gebruik maken van metaalhydriden als opslag- of zuiveringsmedium. |
| --- | --- |

2.

opslag- of zuiveringssystemen voor waterstofisotopen die gebruik maken van metaalhydriden als opslag- of zuiveringsmedium.

1B232«Turbo expanders» of turbo-expansie/compressiesets met beide volgende kenmerken:

| a. | ontworpen om te werken met een uitstroomtemperatuur van 35 K (– 238 °C) of lager; en |
| --- | --- |

a.

ontworpen om te werken met een uitstroomtemperatuur van 35 K (– 238 °C) of lager; en

| b. | ontworpen voor een doorvoer van waterstofgas van 1 000 kg/h of meer. |
| --- | --- |

b.

ontworpen voor een doorvoer van waterstofgas van 1 000 kg/h of meer.

1B233Installaties of fabrieken voor het scheiden van lithiumisotopen en apparatuur daarvoor, als hieronder:

| a. | installaties of fabrieken voor het scheiden van lithiumisotopen; |
| --- | --- |

a.

installaties of fabrieken voor het scheiden van lithiumisotopen;

| b. | apparatuur voor de scheiding van lithiumisotopen, als hieronder:






  1. | gestapelde kolommen voor vloeistof-vloeistofwisselkolommen, speciaal ontworpen voor lithiumamalgamen; |
| --- | --- | --- |

b.

apparatuur voor de scheiding van lithiumisotopen, als hieronder:

1.

gestapelde kolommen voor vloeistof-vloeistofwisselkolommen, speciaal ontworpen voor lithiumamalgamen;

| 2. | kwik- en/of lithiumamalgaampompen; |
| --- | --- |

2.

kwik- en/of lithiumamalgaampompen;

| 3. | lithiumamalgaam-elektrolysecellen; |
| --- | --- |

3.

lithiumamalgaam-elektrolysecellen;

| 4. | verdampers voor geconcentreerde lithiumhydroxideoplossingen. |
| --- | --- |

4.

verdampers voor geconcentreerde lithiumhydroxideoplossingen.

1CMaterialen

Technische noot:

Metalen en legeringen:

| | Behoudens andersluidende bepalingen wordt in 1C001 tot en met 1C012 onder ‧metalen‧ en ‧legeringen‧ verstaan, ruwe of onbewerkte vormen en halffabrikaten, als hieronder: |
| --- | --- |

Behoudens andersluidende bepalingen wordt in 1C001 tot en met 1C012 onder ‧metalen‧ en ‧legeringen‧ verstaan, ruwe of onbewerkte vormen en halffabrikaten, als hieronder:

Ruwe of onbewerkte vormen:

| | Anoden, kogels, staven (met inbegrip van gekerfde proefstaven en draadmetaal), knuppels, blokken, blooms, briketten, uitgangsblokken, kathoden, kristallen, kubussen, blokjes, korrels, granules, walsblokken, bobbels, pastilles, gietelingen, poeder, rondellen, schroot, plakken, brokken, sponsen, stiften; |
| --- | --- |

Anoden, kogels, staven (met inbegrip van gekerfde proefstaven en draadmetaal), knuppels, blokken, blooms, briketten, uitgangsblokken, kathoden, kristallen, kubussen, blokjes, korrels, granules, walsblokken, bobbels, pastilles, gietelingen, poeder, rondellen, schroot, plakken, brokken, sponsen, stiften;

Halffabrikaten (al dan niet bekleed, beplaat, geboord of gestanst):

| a. | gesmede of bewerkte materialen die zijn vervaardigd door middel van walsen, doortrekken, spuitgieten, smeden, slagextrusie, persen, korrelen, verstuiven en slijpen, namelijk: hoekstaven, gootmetaal, ronde voorprofielen, schijven, stof, vlokken, foelies en bladmetaal, smeedstukken, platen, poeder, geperste stukken allerhande, linten, ringen, staven (met inbegrip van ruwe lasstaven, walsdraad en diverse gewalste draden), profielen, gietvormen, dunne platen, banden en buizen allerhande (met inbegrip van ronde, vierkante en holle pijpen), getrokken of geëxtrudeerde draad; |
| --- | --- |

a.

gesmede of bewerkte materialen die zijn vervaardigd door middel van walsen, doortrekken, spuitgieten, smeden, slagextrusie, persen, korrelen, verstuiven en slijpen, namelijk: hoekstaven, gootmetaal, ronde voorprofielen, schijven, stof, vlokken, foelies en bladmetaal, smeedstukken, platen, poeder, geperste stukken allerhande, linten, ringen, staven (met inbegrip van ruwe lasstaven, walsdraad en diverse gewalste draden), profielen, gietvormen, dunne platen, banden en buizen allerhande (met inbegrip van ronde, vierkante en holle pijpen), getrokken of geëxtrudeerde draad;

| b. | gegoten metaal vervaardigd door gieten in zand, metaal, gips of andere types gietvormen, met inbegrip van onder hoge druk gegoten producten, gesinterde vormen en door middel van poedermetallurgie vervaardigde producten. |
| --- | --- |

b.

gegoten metaal vervaardigd door gieten in zand, metaal, gips of andere types gietvormen, met inbegrip van onder hoge druk gegoten producten, gesinterde vormen en door middel van poedermetallurgie vervaardigde producten.

De doelstellingen van de controle mogen niet worden omzeild door de uitvoer van niet gespecificeerde vormen waarvan wordt beweerd dat het om afgewerkte producten gaat, maar die in feite onbewerkte vormen of halffabrikaten zijn.

1C001Materialen, speciaal ontworpen om te worden gebruikt voor het absorberen van elektromagnetische golven, of intrinsiek geleidende polymeren, als hieronder:

NB: ZIE OOK 1C101

| a. | materialen voor het absorberen van frequenties hoger dan 2 × 108 Hz doch lager dan 3 × 1012 Hz;


  Noot 1: 1C001.a is niet van toepassing op:








  a. | absorberende materialen van het haartype, ongeacht of deze zijn gemaakt van natuurlijke of synthetische vezels, welke niet-magnetische stoffen bevatten voor de absorptie; |
| --- | --- | --- |

a.

materialen voor het absorberen van frequenties hoger dan 2 × 108 Hz doch lager dan 3 × 1012 Hz;

Noot 1: 1C001.a is niet van toepassing op:

a.

absorberende materialen van het haartype, ongeacht of deze zijn gemaakt van natuurlijke of synthetische vezels, welke niet-magnetische stoffen bevatten voor de absorptie;

| b. | absorberende materialen waarin geen magnetisch verlies optreedt en waarvan het invallend oppervlak niet vlak is, zoals pyramiden, kegels, wiggen en gedraaide oppervlakken; |
| --- | --- |

b.

absorberende materialen waarin geen magnetisch verlies optreedt en waarvan het invallend oppervlak niet vlak is, zoals pyramiden, kegels, wiggen en gedraaide oppervlakken;

| c. | vlakke absorberende materialen die al de onderstaande kenmerken vertonen:








  1. | gemaakt van één van de volgende materialen:








  a. | kunststof schuimmaterialen (al dan niet buigzaam) welke koolstof bevatten, of organische materialen, met inbegrip van binders, met meer dan 5 % echo vergeleken met metaal over een bandbreedte groter dan ± 15 % van de centrale frequentie van de binnenkomende energie, en niet bestand tegen temperaturen hoger dan 450 K (177 °C)
  of |
| --- | --- | --- | --- |

c.

vlakke absorberende materialen die al de onderstaande kenmerken vertonen:

1.

gemaakt van één van de volgende materialen:

a.

kunststof schuimmaterialen (al dan niet buigzaam) welke koolstof bevatten, of organische materialen, met inbegrip van binders, met meer dan 5 % echo vergeleken met metaal over een bandbreedte groter dan ± 15 % van de centrale frequentie van de binnenkomende energie, en niet bestand tegen temperaturen hoger dan 450 K (177 °C)
  of

| b. | keramische materialen met meer dan 20 % echo vergeleken met metaal over een bandbreedte groter dan ± 15 % van de centrale frequentie van de binnenkomende energie, en niet bestand tegen temperaturen hoger dan 800 K (527 °C); |
| --- | --- |

b.

keramische materialen met meer dan 20 % echo vergeleken met metaal over een bandbreedte groter dan ± 15 % van de centrale frequentie van de binnenkomende energie, en niet bestand tegen temperaturen hoger dan 800 K (527 °C);

Technische noot:

Monsters voor het testen van de absorptie ten behoeve van 1C001.a. Noot 1.c.l dienen een vierkant te zijn van ten minste vijf golflengten (van de middenfrequentie) aan één zijde en geplaatst in het verre veld van het stralingselement.

| 2. | met een treksterkte van minder dan 7 × 106 N/m2, en |
| --- | --- |

2.

met een treksterkte van minder dan 7 × 106 N/m2, en

| 3. | met een druksterkte van minder dan 14 × 106 N/m2; |
| --- | --- |

3.

met een druksterkte van minder dan 14 × 106 N/m2;

| d. | vlakke absorberende materialen gemaakt van gesinterd ferriet, met:








  1. | een relatieve dichtheid groter dan 4,4; en |
| --- | --- | --- |

d.

vlakke absorberende materialen gemaakt van gesinterd ferriet, met:

1.

een relatieve dichtheid groter dan 4,4; en

| 2. | een maximale werktemperatuur van 548 K (275 °C); |
| --- | --- |

2.

een maximale werktemperatuur van 548 K (275 °C);

Noot 2: Magnetische materialen voor absorptiedoeleinden in verf vallen wel onder 1C001.a.

| b. | materialen voor het absorberen van frequenties hoger dan 1,5 × 1014 Hz doch lager dan 3,7 × 1014 Hz welke geen zichtbaar licht doorlaten; |
| --- | --- |

b.

materialen voor het absorberen van frequenties hoger dan 1,5 × 1014 Hz doch lager dan 3,7 × 1014 Hz welke geen zichtbaar licht doorlaten;

| c. | intrinsiek geleidende polymere materialen met een ‧specifieke elektrische volumegeleidbaarheid‧ groter dan 10 000 S/m (siemens per meter) of een ‧specifieke oppervlakteweerstand‧ kleiner dan 100 ohm/vierkant, op basis van één of meer van de volgende polymeren:






  1. | polyaniline; |
| --- | --- | --- |

c.

intrinsiek geleidende polymere materialen met een ‧specifieke elektrische volumegeleidbaarheid‧ groter dan 10 000 S/m (siemens per meter) of een ‧specifieke oppervlakteweerstand‧ kleiner dan 100 ohm/vierkant, op basis van één of meer van de volgende polymeren:

1.

polyaniline;

| 2. | polypyrrool; |
| --- | --- |

2.

polypyrrool;

| 3. | polythiofeen; |
| --- | --- |

3.

polythiofeen;

| 4. | polyfenyleen-vinyleen; of |
| --- | --- |

4.

polyfenyleen-vinyleen; of

| 5. | polythienyleen-vinyleen. |
| --- | --- |

5.

polythienyleen-vinyleen.

Technische noot:

De ‧specifieke elektrische volumegeleidbaarheid‧ en de ‧specifieke oppervlakteweerstand‧ dienen te worden bepaald met behulp van ASTM D-257 of nationale gelijkwaardige methoden.

1C002Metaallegeringen, metaallegeringspoeder of gelegeerde materialen, als hieronder:

NB: ZIE OOK 1C202

Noot: In 1C002 worden niet bedoeld: metaallegeringen, metaallegeringspoeder of gelegeerde materialen, voor het bekleden van substraten.

Technische noten:

| 1. | De metaallegeringen, bedoeld in 1C002, zijn legeringen waarin het genoemde metaal een hoger gewichtspercentage heeft dan enig ander element. |
| --- | --- |

1.

De metaallegeringen, bedoeld in 1C002, zijn legeringen waarin het genoemde metaal een hoger gewichtspercentage heeft dan enig ander element.

| 2. | De levensduur voordat spanningsbreuk optreedt, dient te worden gemeten volgens ASTM Standard E-139 of gelijkwaardige nationale methoden. |
| --- | --- |

2.

De levensduur voordat spanningsbreuk optreedt, dient te worden gemeten volgens ASTM Standard E-139 of gelijkwaardige nationale methoden.

| 3. | De levensduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting dient te worden gemeten volgens ASTM Standard E-606 ‧Recommended practice for constant-amplitude low-cycle fatigue testing‧ of gelijkwaardige nationale equivalenten. Het testen dient axiaal te geschieden met een gemiddelde belastingsverhouding gelijk aan 1 en een krachten-concentratiefactor (Kt) gelijk aan 1. De gemiddelde belastingsverhouding wordt gedefinieerd als de maximale belasting min de minimale belasting gedeeld door de maximale belasting. |
| --- | --- |

3.

De levensduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting dient te worden gemeten volgens ASTM Standard E-606 ‧Recommended practice for constant-amplitude low-cycle fatigue testing‧ of gelijkwaardige nationale equivalenten. Het testen dient axiaal te geschieden met een gemiddelde belastingsverhouding gelijk aan 1 en een krachten-concentratiefactor (Kt) gelijk aan 1. De gemiddelde belastingsverhouding wordt gedefinieerd als de maximale belasting min de minimale belasting gedeeld door de maximale belasting.

| a. | aluminiden, als hieronder:






  1. | nikkelaluminiden met minstens 15 gewichtspercenten aluminium, hoogstens 38 gewichtsprocenten aluminium en minstens één extra legeringselement; |
| --- | --- | --- |

a.

aluminiden, als hieronder:

1.

nikkelaluminiden met minstens 15 gewichtspercenten aluminium, hoogstens 38 gewichtsprocenten aluminium en minstens één extra legeringselement;

| 2. | titaanaluminiden met 10 of meer gewichtspercenten aluminium en minstens één extra legeringselement; |
| --- | --- |

2.

titaanaluminiden met 10 of meer gewichtspercenten aluminium en minstens één extra legeringselement;

| b. | metaallegeringen, als hieronder, gemaakt van materiaal als bedoeld in 1C002.c:






  1. | nikkellegeringen met:






  a. | een levensduur voordat spanningsbreuk optreedt van 10 000 uur of meer bij 923 K (650 °C) en een spanning van 676 MPa, of |
| --- | --- | --- | --- |

b.

metaallegeringen, als hieronder, gemaakt van materiaal als bedoeld in 1C002.c:

1.

nikkellegeringen met:

a.

een levensduur voordat spanningsbreuk optreedt van 10 000 uur of meer bij 923 K (650 °C) en een spanning van 676 MPa, of

| b. | een levensduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting van 10 000of meer belastingscycli met een maximale spanning van 1 095 MPa bij 823 K (550 °C); |
| --- | --- |

b.

een levensduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting van 10 000of meer belastingscycli met een maximale spanning van 1 095 MPa bij 823 K (550 °C);

| 2. | niobiumlegeringen met:






  a. | een levensduur voordat spanningsbreuk optreedt van 10 000 uur of meer bij 1 073 K (800 °C) en een spanning van 400 Mpa, of |
| --- | --- | --- |

2.

niobiumlegeringen met:

a.

een levensduur voordat spanningsbreuk optreedt van 10 000 uur of meer bij 1 073 K (800 °C) en een spanning van 400 Mpa, of

| b. | een levensduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting van 10 000 of meer belastingscycli met een maximale spanning van 700 MPa bij 973 K (700 °C); |
| --- | --- |

b.

een levensduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting van 10 000 of meer belastingscycli met een maximale spanning van 700 MPa bij 973 K (700 °C);

| 3. | titaanlegeringen met:






  a. | een levensduur voordat spanningsbreuk optreedt van 10 000 uur of meer bij 723 K (450 °C) en een spanning van 200 MPa; of |
| --- | --- | --- |

3.

titaanlegeringen met:

a.

een levensduur voordat spanningsbreuk optreedt van 10 000 uur of meer bij 723 K (450 °C) en een spanning van 200 MPa; of

| b. | met een levensduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting van 10 000 of meer belastingscycli met een maximale spanning van 400 MPa bij 723 K (450 °C); |
| --- | --- |

b.

met een levensduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting van 10 000 of meer belastingscycli met een maximale spanning van 400 MPa bij 723 K (450 °C);

| 4. | aluminiumlegeringen met een treksterkte van:






  a. | 240 MPa of meer bij 473 K (200 °C), of |
| --- | --- | --- |

4.

aluminiumlegeringen met een treksterkte van:

a.

240 MPa of meer bij 473 K (200 °C), of

| b. | 415 MPa of meer bij 298 K (25 °C); |
| --- | --- |

b.

415 MPa of meer bij 298 K (25 °C);

| 5. | magnesiumlegeringen met:






  a. | een treksterkte van 345 MPa of meer; en |
| --- | --- | --- |

5.

magnesiumlegeringen met:

a.

een treksterkte van 345 MPa of meer; en

| b. | een corrosiesnelheid lager dan 1 mm/jaar in een 3 %-natriumchlorideoplossing in water, gemeten volgens ASTM Standard G-31 of gelijkwaardige nationale equivalenten; |
| --- | --- |

b.

een corrosiesnelheid lager dan 1 mm/jaar in een 3 %-natriumchlorideoplossing in water, gemeten volgens ASTM Standard G-31 of gelijkwaardige nationale equivalenten;

| c. | metaallegeringspoeder of uit deeltjes bestaand materiaal, met alle volgende kenmerken:






  1. | gemaakt van een van onderstaande samenstellingssystemen:
  Technische noot:

  X staat voor één of meer legeringselementen.







  a. | nikkellegeringen (Ni-Al-X, Ni-X-Al) gespecificeerd voor onderdelen of elementen voor turbinemotoren, d. w. z. met minder dan drie niet-metallieke deeltjes (verontreinigingen van het fabricageproces) groter dan 100 micrometer op 109 legeringsdeeltjes; |
| --- | --- | --- | --- |

c.

metaallegeringspoeder of uit deeltjes bestaand materiaal, met alle volgende kenmerken:

1.

gemaakt van een van onderstaande samenstellingssystemen:

Technische noot:

X staat voor één of meer legeringselementen.

a.

nikkellegeringen (Ni-Al-X, Ni-X-Al) gespecificeerd voor onderdelen of elementen voor turbinemotoren, d. w. z. met minder dan drie niet-metallieke deeltjes (verontreinigingen van het fabricageproces) groter dan 100 micrometer op 109 legeringsdeeltjes;

| b. | niobiumlegeringen (Nb-Al-X of Nb-X-Al, Nb-Si-X of Nb-X-Si, Nb-Ti-X of Nb-X-Ti); |
| --- | --- |

b.

niobiumlegeringen (Nb-Al-X of Nb-X-Al, Nb-Si-X of Nb-X-Si, Nb-Ti-X of Nb-X-Ti);

| c. | titaanlegeringen (Ti-Al-X of Ti-X-Al); |
| --- | --- |

c.

titaanlegeringen (Ti-Al-X of Ti-X-Al);

| d. | aluminiumlegeringen (Al-Mg-X of Al-X-Mg, Al-Zn-X of Al-X-Zn, Al-Fe-X of Al-X-Fe), of |
| --- | --- |

d.

aluminiumlegeringen (Al-Mg-X of Al-X-Mg, Al-Zn-X of Al-X-Zn, Al-Fe-X of Al-X-Fe), of

| e. | magnesiumlegeringen (Mg-Al-X of Mg-X-Al); |
| --- | --- |

e.

magnesiumlegeringen (Mg-Al-X of Mg-X-Al);

| 2. | vervaardigd in een beheerst milieu door middel van één van onderstaande procédés:






  a. | "verstuiving in vacuüm"; |
| --- | --- | --- |

2.

vervaardigd in een beheerst milieu door middel van één van onderstaande procédés:

a.

"verstuiving in vacuüm";

| b. | "verstuiving in gas"; |
| --- | --- |

b.

"verstuiving in gas";

| c. | "roterend verstuiven"; |
| --- | --- |

c.

"roterend verstuiven";

| d. | "versplintering door snelle afkoeling" («splat quenching»); |
| --- | --- |

d.

"versplintering door snelle afkoeling" («splat quenching»);

| e. | "spinnen uit de smelt" en "vergruizing"; |
| --- | --- |

e.

"spinnen uit de smelt" en "vergruizing";

| f. | "smeltextractie" en "vergruizing", of |
| --- | --- |

f.

"smeltextractie" en "vergruizing", of

| g. | "mechanisch legeren"; en |
| --- | --- |

g.

"mechanisch legeren"; en

| 3. | in staat in 1C002.a of 1C002.b bedoelde materialen te vormen; |
| --- | --- |

3.

in staat in 1C002.a of 1C002.b bedoelde materialen te vormen;

| d. | gelegeerde materialen met alle volgende kenmerken:






  1. | gemaakt van een van de in 1C002.c.1. bedoelde samenstellingssystemen; |
| --- | --- | --- |

d.

gelegeerde materialen met alle volgende kenmerken:

1.

gemaakt van een van de in 1C002.c.1. bedoelde samenstellingssystemen;

| 2. | in de vorm van niet-vergruisde schilfers, stroken of dunne staven, en |
| --- | --- |

2.

in de vorm van niet-vergruisde schilfers, stroken of dunne staven, en

| 3. | vervaardigd in een beheerst milieu door middel van een van de volgende procédés:






  a. | "versplintering door snelle afkoeling"; |
| --- | --- | --- |

3.

vervaardigd in een beheerst milieu door middel van een van de volgende procédés:

a.

"versplintering door snelle afkoeling";

| b. | "spinnen uit de smelt", of |
| --- | --- |

b.

"spinnen uit de smelt", of

| c. | "smeltextractie". |
| --- | --- |

c.

"smeltextractie".

1C003Magnetische metalen van alle soorten, ongeacht de vorm, met een of meer van de volgende kenmerken:

| a. | een relatieve beginpermeabiliteit van 120 000 of meer en een dikte van 0,05 mm of minder;
  Technische noot:

  De beginpermeabiliteit wordt gemeten aan het gespecificeerde materiaal dat volledig ontlaten is. |
| --- | --- |

a.

een relatieve beginpermeabiliteit van 120 000 of meer en een dikte van 0,05 mm of minder;

Technische noot:

De beginpermeabiliteit wordt gemeten aan het gespecificeerde materiaal dat volledig ontlaten is.

| b. | magnetostrictieve legeringen met:






  1. | een verzadigingsmagnetostrictie van meer dan 5 × 10-4, of |
| --- | --- | --- |

b.

magnetostrictieve legeringen met:

1.

een verzadigingsmagnetostrictie van meer dan 5 × 10-4, of

| 2. | een magnetomechanische koppelingsfactor (k) van meer dan 0,8; of |
| --- | --- |

2.

een magnetomechanische koppelingsfactor (k) van meer dan 0,8; of

| c. | strips van amorfe of ‧nanokristallijne‧ legeringen met de volgende eigenschappen:






  1. | een samenstelling met minimaal 75 gewichtspercenten ijzer, kobalt of nikkel, en |
| --- | --- | --- |

c.

strips van amorfe of ‧nanokristallijne‧ legeringen met de volgende eigenschappen:

1.

een samenstelling met minimaal 75 gewichtspercenten ijzer, kobalt of nikkel, en

| 2. | een magnetische verzadigingsinductie (BS) van 1,6 T of meer, en |
| --- | --- |

2.

een magnetische verzadigingsinductie (BS) van 1,6 T of meer, en

| 3. | een of meer van de volgende eigenschappen






  a. | een stripdikte van 0,02 mm of minder, of |
| --- | --- | --- |

3.

een of meer van de volgende eigenschappen

a.

een stripdikte van 0,02 mm of minder, of

| b. | een elektrische soortelijke weerstand van 2.10-4 ohm cm of meer. |
| --- | --- |

b.

een elektrische soortelijke weerstand van 2.10-4 ohm cm of meer.

Technische noot:

‧Nanokristallijne‧ materialen in 1C003.c zijn materialen met een kristalkorrelgrootte van hoogstens 50 nm, bepaald door middel van röntgendiffractie.

1C004Uraan-titaanlegeringen of wolfraamlegeringen met een "matrix" op basis van ijzer, nikkel of koper, met de volgende eigenschappen:

| a. | een dichtheid groter dan 17,5 g/cm3; |
| --- | --- |

a.

een dichtheid groter dan 17,5 g/cm3;

| b. | een elastische rekgrens groter dan 880 MPa; |
| --- | --- |

b.

een elastische rekgrens groter dan 880 MPa;

| c. | een breukspanning groter dan 1 270 MPa, en |
| --- | --- |

c.

een breukspanning groter dan 1 270 MPa, en

| d. | een rek groter dan 8 %. |
| --- | --- |

d.

een rek groter dan 8 %.

1C005"Supergeleidende""composiet"-geleiders in lengten groter dan 100 m of met een massa groter dan 100 g, als hieronder:

| a. | "supergeleidende""composiet"-geleiders met verscheidene filamenten welke een of meer niobium-titaanvezels bevatten:






  1. | ingebed in een "matrix" anders dan een koper-"matrix" of in een op koper gebaseerd "matrix"-mengsel, of |
| --- | --- | --- |

a.

"supergeleidende""composiet"-geleiders met verscheidene filamenten welke een of meer niobium-titaanvezels bevatten:

1.

ingebed in een "matrix" anders dan een koper-"matrix" of in een op koper gebaseerd "matrix"-mengsel, of

| 2. | met een doorsnedeoppervlak kleiner dan 0,28 × 10-4 mm2 (d.w.z. 6 micrometer diameter voor ronde draad); |
| --- | --- |

2.

met een doorsnedeoppervlak kleiner dan 0,28 × 10-4 mm2 (d.w.z. 6 micrometer diameter voor ronde draad);

| b. | "supergeleidende""composiet"-geleiders, bestaande uit één of meer "supergeleidende" filamenten, anders dan van niobium-titaan, met de volgende eigenschappen:






  1. | een "kritische temperatuur" bij afwezigheid van magnetische inductie hoger dan 9,85 K (– 263,31 °C) doch lager dan 24 K (– 249,16 °C); |
| --- | --- | --- |

b.

"supergeleidende""composiet"-geleiders, bestaande uit één of meer "supergeleidende" filamenten, anders dan van niobium-titaan, met de volgende eigenschappen:

1.

een "kritische temperatuur" bij afwezigheid van magnetische inductie hoger dan 9,85 K (– 263,31 °C) doch lager dan 24 K (– 249,16 °C);

| 2. | een doorsnedeoppervlakte kleiner dan 0,28 × 10-4 mm2; en |
| --- | --- |

2.

een doorsnedeoppervlakte kleiner dan 0,28 × 10-4 mm2; en

| 3. | in een "supergeleidende" toestand blijvend bij een temperatuur van 4,2 K (– 268,96 °C) bij blootstelling aan een magnetisch veld dat overeenstemt met een magnetische inductie van 12 T. |
| --- | --- |

3.

in een "supergeleidende" toestand blijvend bij een temperatuur van 4,2 K (– 268,96 °C) bij blootstelling aan een magnetisch veld dat overeenstemt met een magnetische inductie van 12 T.

1C006Vloeistoffen en smeermiddelen, als hieronder:

| a. | hydraulische vloeistoffen met als voornaamste bestanddeel een of meer van de volgende verbindingen of materialen:






  1. | oliën van synthetische silakoolwaterstoffen met:
  Technische noot:

  Voor de toepassing van 1C006.a.1 bevatten oliën van silakoolwaterstoffen uitsluitend silicium, waterstof en koolstof.






  a. | een vlampunt hoger dan 477 K (204 °C); |
| --- | --- | --- | --- |

a.

hydraulische vloeistoffen met als voornaamste bestanddeel een of meer van de volgende verbindingen of materialen:

1.

oliën van synthetische silakoolwaterstoffen met:

Technische noot:

Voor de toepassing van 1C006.a.1 bevatten oliën van silakoolwaterstoffen uitsluitend silicium, waterstof en koolstof.

a.

een vlampunt hoger dan 477 K (204 °C);

| b. | een vloeipunt bij 239 K (– 34 °C) of lager; |
| --- | --- |

b.

een vloeipunt bij 239 K (– 34 °C) of lager;

| c. | een viscositeitsindex van 75 of hoger, en |
| --- | --- |

c.

een viscositeitsindex van 75 of hoger, en

| d. | een thermische stabiliteit bij 616 K (343 °C) of hoger, of |
| --- | --- |

d.

een thermische stabiliteit bij 616 K (343 °C) of hoger, of

| 2. | chloorfluorkoolstoffen met:
  Technische noot:

  Voor de toepassing van 1C006.a.2 bevatten chloorfluorkoolstoffen uitsluitend koolstof, fluor en chloor.







  a. | geen vlampunt; |
| --- | --- | --- |

2.

chloorfluorkoolstoffen met:

Technische noot:

Voor de toepassing van 1C006.a.2 bevatten chloorfluorkoolstoffen uitsluitend koolstof, fluor en chloor.

a.

geen vlampunt;

| b. | een autogene ontbrandingstemperatuur hoger dan 977 K (704 °C); |
| --- | --- |

b.

een autogene ontbrandingstemperatuur hoger dan 977 K (704 °C);

| c. | een vloeipunt bij 219 K (– 54 °C) of lager; |
| --- | --- |

c.

een vloeipunt bij 219 K (– 54 °C) of lager;

| d. | een viscositeitsindex van 80 of hoger; en |
| --- | --- |

d.

een viscositeitsindex van 80 of hoger; en

| e. | een kookpunt bij 473 K (200 °C) of hoger; |
| --- | --- |

e.

een kookpunt bij 473 K (200 °C) of hoger;

| b. | smeermiddelen met als voornaamste bestanddeel een of meer van de volgende verbindingen of materialen:






  1. | fenyleen- of alkylfenyleenethers of thio-ethers, of mengsels daarvan, welke meer dan twee ether- of thio-ethergroepen bevatten of combinaties daarvan; of |
| --- | --- | --- |

b.

smeermiddelen met als voornaamste bestanddeel een of meer van de volgende verbindingen of materialen:

1.

fenyleen- of alkylfenyleenethers of thio-ethers, of mengsels daarvan, welke meer dan twee ether- of thio-ethergroepen bevatten of combinaties daarvan; of

| 2. | gefluoreerde siliconevloeistoffen die een kinematische viscositeit hebben van minder dan 5 000 mm2/s (5 000 centistokes), gemeten bij 298 K (25 °C); |
| --- | --- |

2.

gefluoreerde siliconevloeistoffen die een kinematische viscositeit hebben van minder dan 5 000 mm2/s (5 000 centistokes), gemeten bij 298 K (25 °C);

| c. | dempingsvloeistoffen en flotatievloeistoffen met een zuiverheid groter dan 99,8 % en met minder dan 25 deeltjes van 200 micrometer of groter per 100 ml, gemaakt van ten minste 85 % van één of meer van onderstaande verbindingen of materialen:






  1. | dibroomtetrafluorethaan; |
| --- | --- | --- |

c.

dempingsvloeistoffen en flotatievloeistoffen met een zuiverheid groter dan 99,8 % en met minder dan 25 deeltjes van 200 micrometer of groter per 100 ml, gemaakt van ten minste 85 % van één of meer van onderstaande verbindingen of materialen:

1.

dibroomtetrafluorethaan;

| 2. | polychloortrifluoretheen (uitsluitend olie- en wasmodificaties); of |
| --- | --- |

2.

polychloortrifluoretheen (uitsluitend olie- en wasmodificaties); of

| 3. | polybroomtrifluoretheen; |
| --- | --- |

3.

polybroomtrifluoretheen;

| d. | fluorkoolstoffen in koelvloeistoffen voor elektronische systemen met de volgende eigenschappen:






  1. | minstens 85 gewichtspercenten van de volgende stoffen of mengsels daarvan:






  a. | monomeren van perfluorpolyalkylether-triazinen of perfluoralifatische ethers; |
| --- | --- | --- | --- |

d.

fluorkoolstoffen in koelvloeistoffen voor elektronische systemen met de volgende eigenschappen:

1.

minstens 85 gewichtspercenten van de volgende stoffen of mengsels daarvan:

a.

monomeren van perfluorpolyalkylether-triazinen of perfluoralifatische ethers;

| b. | perfluoralkylaminen; |
| --- | --- |

b.

perfluoralkylaminen;

| c. | perfluorcycloalkanen, of |
| --- | --- |

c.

perfluorcycloalkanen, of

| d. | perfluoralkanen; |
| --- | --- |

d.

perfluoralkanen;

| 2. | een dichtheid van 1,5 g/ml of meer bij 298 K (25 °C); |
| --- | --- |

2.

een dichtheid van 1,5 g/ml of meer bij 298 K (25 °C);

| 3. | vloeibaar bij 273 K (0 °C); en |
| --- | --- |

3.

vloeibaar bij 273 K (0 °C); en

| 4. | minstens 60 gewichtspercenten fluor. |
| --- | --- |

4.

minstens 60 gewichtspercenten fluor.

Technische noot:

Voor de toepassing van 1C006:

| a. | wordt het vlampunt bepaald door gebruik te maken van de Cleveland Open Cup Methode volgens ASTM D-92 of nationale equivalenten; |
| --- | --- |

a.

wordt het vlampunt bepaald door gebruik te maken van de Cleveland Open Cup Methode volgens ASTM D-92 of nationale equivalenten;

| b. | wordt het vloeipunt bepaald volgens de methode, beschreven in ASTM D-97, of nationale equivalenten; |
| --- | --- |

b.

wordt het vloeipunt bepaald volgens de methode, beschreven in ASTM D-97, of nationale equivalenten;

| c. | wordt de viscositeitsindex bepaald volgens de methode, beschreven in ASTM D-2270, of nationale equivalenten; |
| --- | --- |

c.

wordt de viscositeitsindex bepaald volgens de methode, beschreven in ASTM D-2270, of nationale equivalenten;

| d. | wordt de thermische stabiliteit bepaald volgens onderstaande testprocedure of nationale equivalenten:

  20 ml van de te testen vloeistof wordt gebracht in een roestvrij stalen kamer (type 317) van 46 ml, die de volgende kogels met een (nominale) diameter van 12,5 mm bevat: één van M-10 gereedschapsstaal, één van 52100-staal en één van bronstobin (60 % Cu, 39 % Zn, 0,75 % Sn). De kamer wordt gespoeld met stikstofgas, bij atmosferische druk luchtdicht afgesloten en verhit tot 644 ± 6 K (371 ± 6 °C) en gedurende zes uur op deze temperatuur gehouden.
  Het monster wordt geacht thermisch stabiel te zijn indien bij het beëindigen van bovengenoemde procedure aan alle volgende voorwaarden wordt voldaan:







  1. | het gewichtsverlies van elk der kogels is minder dan 10 mg/mm2 van het oppervlak van de kogel; |
| --- | --- | --- |

d.

wordt de thermische stabiliteit bepaald volgens onderstaande testprocedure of nationale equivalenten:

1.

het gewichtsverlies van elk der kogels is minder dan 10 mg/mm2 van het oppervlak van de kogel;

| 2. | de verandering in de oorspronkelijke viscositeit zoals vastgesteld bij 311 K (38 °C) is minder dan 25 %; en |
| --- | --- |

2.

de verandering in de oorspronkelijke viscositeit zoals vastgesteld bij 311 K (38 °C) is minder dan 25 %; en

| 3. | het totale zuur- of basegetal is kleiner dan 0,40; |
| --- | --- |

3.

het totale zuur- of basegetal is kleiner dan 0,40;

| e. | wordt de autogene ontbrandingstemperatuur bepaald volgens de methode, beschreven in ASTM E-659, of nationale equivalenten daarvan. |
| --- | --- |

e.

wordt de autogene ontbrandingstemperatuur bepaald volgens de methode, beschreven in ASTM E-659, of nationale equivalenten daarvan.

1C007Keramische basismaterialen, keramische materialen die geen "composieten" zijn, "composieten" met een keramische "matrix", en voorlopermaterialen, als hieronder:

NB: ZIE OOK 1C107

| a. | basismaterialen bestaande uit enkelvoudige of meervoudige boriden van titaan met een totale hoeveelheid aan metallische verontreiniging, exclusief opzettelijke toevoegingen, van minder dan 5 000 ppm, met een gemiddelde deeltjesgrootte minder dan of gelijk aan 5 micrometer, terwijl niet meer dan 10 % van de deeltjes groter is dan 10 micrometer; |
| --- | --- |

a.

basismaterialen bestaande uit enkelvoudige of meervoudige boriden van titaan met een totale hoeveelheid aan metallische verontreiniging, exclusief opzettelijke toevoegingen, van minder dan 5 000 ppm, met een gemiddelde deeltjesgrootte minder dan of gelijk aan 5 micrometer, terwijl niet meer dan 10 % van de deeltjes groter is dan 10 micrometer;

| b. | keramische materialen die geen "composieten" zijn in ruwe vorm of als halffabrikaat samengesteld uit boriden van titaan met een dichtheid van 98 % van de theoretische dichtheid of hoger;


  Noot: In 1C007.b zijn niet bedoeld slijpmiddelen. |
| --- | --- |

b.

keramische materialen die geen "composieten" zijn in ruwe vorm of als halffabrikaat samengesteld uit boriden van titaan met een dichtheid van 98 % van de theoretische dichtheid of hoger;

Noot: In 1C007.b zijn niet bedoeld slijpmiddelen.

| c. | keramisch-keramische "composieten" met een glas- of oxide-"matrix" en versterkt met vezels, met alle volgende kenmerken:






  1. | gemaakt van een van de volgende materialen






  a. | Si-N; |
| --- | --- | --- | --- |

c.

keramisch-keramische "composieten" met een glas- of oxide-"matrix" en versterkt met vezels, met alle volgende kenmerken:

1.

gemaakt van een van de volgende materialen

a.

Si-N;

| b. | Si-C; |
| --- | --- |

b.

Si-C;

| c. | Si-Al-O-N; of |
| --- | --- |

c.

Si-Al-O-N; of

| d. | Si-O-N; en |
| --- | --- |

d.

Si-O-N; en

| 2. | met een specifieke treksterkte van meer dan 12,7 × 103 m; |
| --- | --- |

2.

met een specifieke treksterkte van meer dan 12,7 × 103 m;

| d. | keramisch-keramische "composieten", met of zonder continue metallische fase, die fijn verdeelde deeltjes of fasen bevatten van enig materiaal met vezel- of whiskerstructuur, en waarbij carbiden of nitriden van silicium, zirkoon of boor de "matrix" vormen; |
| --- | --- |

d.

keramisch-keramische "composieten", met of zonder continue metallische fase, die fijn verdeelde deeltjes of fasen bevatten van enig materiaal met vezel- of whiskerstructuur, en waarbij carbiden of nitriden van silicium, zirkoon of boor de "matrix" vormen;

| e. | voorlopermaterialen (d.w.z. voor speciale doeleinden bestemde polymere of organometaalverbindingen) voor het vervaardigen van welke fase of fasen dan ook van de materialen, bedoeld in 1C007.c, als hieronder:






  1. | polydiorganosilanen (voor het vervaardigen van siliciumcarbide); |
| --- | --- | --- |

e.

voorlopermaterialen (d.w.z. voor speciale doeleinden bestemde polymere of organometaalverbindingen) voor het vervaardigen van welke fase of fasen dan ook van de materialen, bedoeld in 1C007.c, als hieronder:

1.

polydiorganosilanen (voor het vervaardigen van siliciumcarbide);

| 2. | polysilazanen (voor het vervaardigen van siliciumnitride); of |
| --- | --- |

2.

polysilazanen (voor het vervaardigen van siliciumnitride); of

| 3. | polycarbosilazanen (voor het vervaardigen van keramische materialen met silicium-, koolstof- en stikstofcomponenten); |
| --- | --- |

3.

polycarbosilazanen (voor het vervaardigen van keramische materialen met silicium-, koolstof- en stikstofcomponenten);

| f. | keramisch-keramische "composieten" met een oxide- of glas-"matrix", versterkt met continuvezels van één van de volgende systemen:






  1. | Al203; of |
| --- | --- | --- |

f.

keramisch-keramische "composieten" met een oxide- of glas-"matrix", versterkt met continuvezels van één van de volgende systemen:

1.

Al203; of

| 2. | Si-C-N. |
| --- | --- |

2.

Si-C-N.

Noot: 1C007.f is niet van toepassing op "composieten" die vezels bevatten van deze systemen met een vezeltreksterkte van minder dan 700 MPa bij 1 273 K (1 000 °C) of een trek-krimpweerstand van meer dan 1 % krimp bij een belasting van 100 MPa bij 1 273 K (1 000 °C) gedurende 100 uur.

1C008Niet-gefluoreerde polymeren, als hieronder:

| a. | 1. | bismaleimiden; |
| --- | --- | --- |

a.

1.

bismaleimiden;

| 2. | aromatische polyamidimiden; |
| --- | --- |

2.

aromatische polyamidimiden;

| 3. | aromatische polyimiden; |
| --- | --- |

3.

aromatische polyimiden;

| 4. | aromatische polyetherimiden met een glastemperatuur (Tg) van meer dan 513 K (240 °C); |
| --- | --- |

4.

aromatische polyetherimiden met een glastemperatuur (Tg) van meer dan 513 K (240 °C);

Noot: In 1C008.a zijn niet bedoeld onsmeltbare perspoeders of gevormde (eind)producten.

| b. | thermoplastische vloeibare kristalcopolymeren met een warmtevervormingstemperatuur hoger dan 523 K (250 °C), gemeten volgens ISO 75-3 (2004), of nationale equivalenten, bij een belasting van 1,82 N/mm2 en samengesteld uit:






  1. | één van beide volgende groepen materialen:






  a. | fenyleen, bifenyleen of naftaleen, of |
| --- | --- | --- | --- |

b.

thermoplastische vloeibare kristalcopolymeren met een warmtevervormingstemperatuur hoger dan 523 K (250 °C), gemeten volgens ISO 75-3 (2004), of nationale equivalenten, bij een belasting van 1,82 N/mm2 en samengesteld uit:

1.

één van beide volgende groepen materialen:

a.

fenyleen, bifenyleen of naftaleen, of

| b. | fenyleen, bifenyleen of naftaleen met methyl-, tertiair butyl- of fenylsubstitutie, en |
| --- | --- |

b.

fenyleen, bifenyleen of naftaleen met methyl-, tertiair butyl- of fenylsubstitutie, en

| 2. | één van de volgende zuren:






  a. | tereftaalzuur; |
| --- | --- | --- |

2.

één van de volgende zuren:

a.

tereftaalzuur;

| b. | 6-hydroxy-2-naftoëzuur; of |
| --- | --- |

b.

6-hydroxy-2-naftoëzuur; of

| c. | 4-hydroxybenzoëzuur; |
| --- | --- |

c.

4-hydroxybenzoëzuur;

| c. | polyaryleenetherketonen, als hieronder:






  1. | niet gebruikt, |
| --- | --- | --- |

c.

polyaryleenetherketonen, als hieronder:

1.

niet gebruikt,

| 2. | polyetherketonketonen (PEKK), |
| --- | --- |

2.

polyetherketonketonen (PEKK),

| 3. | polyetherketonen (PEK), |
| --- | --- |

3.

polyetherketonen (PEK),

| 4. | polyetherketonenetherketonketonen (PEKEKK); |
| --- | --- |

4.

polyetherketonenetherketonketonen (PEKEKK);

| d. | polyaryleenketonen; |
| --- | --- |

d.

polyaryleenketonen;

| e. | polyaryleensulfiden, waarbij de arylgroep bestaat uit bifenyleen, trifenyleen of combinaties daarvan; |
| --- | --- |

e.

polyaryleensulfiden, waarbij de arylgroep bestaat uit bifenyleen, trifenyleen of combinaties daarvan;

| f. | polybifenyleenethersulfonen met een glastemperatuur (Tg) van meer dan 513 K (240oC). |
| --- | --- |

f.

polybifenyleenethersulfonen met een glastemperatuur (Tg) van meer dan 513 K (240oC).

Technische noot:

De glastemperatuur (Tg) voor de in 1C008 bedoelde materialen wordt bepaald volgens de methode, beschreven in ISO 11357-2 (1999) of nationale equivalenten.

1C009Onbewerkte fluorverbindingen, als hieronder:

| a. | copolymeren van vinylideenfluoride met 75 % of meer bèta kristallijnstructuur zonder strekken; |
| --- | --- |

a.

copolymeren van vinylideenfluoride met 75 % of meer bèta kristallijnstructuur zonder strekken;

| b. | gefluoreerde polyimiden die 10 of meer gewichtspercenten gebonden fluor bevatten; |
| --- | --- |

b.

gefluoreerde polyimiden die 10 of meer gewichtspercenten gebonden fluor bevatten;

| c. | gefluoreerde fosfazeen elastomeren die 30 of meer gewichtspercenten gebonden fluor bevatten. |
| --- | --- |

c.

gefluoreerde fosfazeen elastomeren die 30 of meer gewichtspercenten gebonden fluor bevatten.

1C010"Stapel- en continuvezelmateriaal" dat gebruikt kan worden in "composieten" of laminaten met een organische "matrix", metallische "matrix" of koolstof-"matrix", als hieronder:

NB: ZIE OOK 1C210

| a. | organisch "stapel- en continuvezelmateriaal" met de volgende eigenschappen:






  1. | een "specifieke modulus" groter dan 12,7 × 106 m, en |
| --- | --- | --- |

a.

organisch "stapel- en continuvezelmateriaal" met de volgende eigenschappen:

1.

een "specifieke modulus" groter dan 12,7 × 106 m, en

| 2. | een "specifieke treksterkte" groter dan 23,5 × 104 m; |
| --- | --- |

2.

een "specifieke treksterkte" groter dan 23,5 × 104 m;

Noot: 1C010.a is niet van toepassing op polyethyleen.

| b. | "stapel- en continuvezelmateriaal" van koolstof met de volgende eigenschappen:






  1. | een "specifieke modulus" groter dan 12,7 × 106 m, en |
| --- | --- | --- |

b.

"stapel- en continuvezelmateriaal" van koolstof met de volgende eigenschappen:

1.

een "specifieke modulus" groter dan 12,7 × 106 m, en

| 2. | een "specifieke treksterkte" groter dan 23,5 × 104 m; |
| --- | --- |

2.

een "specifieke treksterkte" groter dan 23,5 × 104 m;

Noot: 1C010.b is niet van toepassing op weefsels, gemaakt van "stapel- of continuvezelmateriaal" voor de reparatie van vliegtuigcasco’s of laminaten, als de afzonderlijke vellen niet groter zijn dan 50 cm × 90 cm.

Technische noot:

De eigenschappen van materialen als bedoeld in 1C010.b dienen te worden bepaald met gebruik van aanbevolen methoden SRM 12 t/m 17 van Suppliers of Advanced Composite Materials Association (SACMA) of nationale trektests, zoals de Japanse industriestandaard JIS-R-7601, paragraaf 6.6.2, en dienen te zijn gebaseerd op de gemiddelde waarden van een partij.

| c. | anorganisch "stapel- en continuvezelmateriaal" met de volgende eigenschappen:






  1. | en "specifieke modulus" groter dan 2,5 × 106 m; en |
| --- | --- | --- |

c.

anorganisch "stapel- en continuvezelmateriaal" met de volgende eigenschappen:

1.

en "specifieke modulus" groter dan 2,5 × 106 m; en

| 2. | een smelt-, verwekings-, en ontledings- of sublimatiepunt hoger dan 1 922 K (1 649 °C) in een inerte atmosfeer; |
| --- | --- |

2.

een smelt-, verwekings-, en ontledings- of sublimatiepunt hoger dan 1 922 K (1 649 °C) in een inerte atmosfeer;

Noot: in 1C010.c zijn niet bedoeld:

| 1. | discontinue, meerfasige, polykristallijne aluminiumoxidevezels als stapelvezels of als onregelmatig gelaagde matten, welke 3 of meer gewichtspercenten siliciumdioxide bevatten, met een "specifieke modulus" kleiner dan 10 × 106 m; |
| --- | --- |

1.

discontinue, meerfasige, polykristallijne aluminiumoxidevezels als stapelvezels of als onregelmatig gelaagde matten, welke 3 of meer gewichtspercenten siliciumdioxide bevatten, met een "specifieke modulus" kleiner dan 10 × 106 m;

| 2. | vezels van molybdeen en molybdeenlegeringen; |
| --- | --- |

2.

vezels van molybdeen en molybdeenlegeringen;

| 3. | boorvezels; |
| --- | --- |

3.

boorvezels;

| 4. | discontinue keramische vezels met een smelt-, verwekings-, ontledings- of sublimatiepunt lager dan 2 043 K (1 770 °C) in een inerte atmosfeer; |
| --- | --- |

4.

discontinue keramische vezels met een smelt-, verwekings-, ontledings- of sublimatiepunt lager dan 2 043 K (1 770 °C) in een inerte atmosfeer;

| d. | "stapel- of continuvezelmateriaal":






  1. | samengesteld uit een of meer van de volgende materialen:






  a. | polyetherimiden, als bedoeld in 1C008.a, of |
| --- | --- | --- | --- |

d.

"stapel- of continuvezelmateriaal":

1.

samengesteld uit een of meer van de volgende materialen:

a.

polyetherimiden, als bedoeld in 1C008.a, of

| b. | materialen, als bedoeld in 1C008.b t.em. f, of |
| --- | --- |

b.

materialen, als bedoeld in 1C008.b t.em. f, of

| 2. | samengesteld uit andere materialen als bedoeld in 1C010.d.1.a, of 1C010d.1.b, en "vermengd" («commingled») met andere vezels als bedoeld in 1C010.a, 1C010.b of 1C010.c; |
| --- | --- |

2.

samengesteld uit andere materialen als bedoeld in 1C010.d.1.a, of 1C010d.1.b, en "vermengd" («commingled») met andere vezels als bedoeld in 1C010.a, 1C010.b of 1C010.c;

| e. | met hars of asfaltbitumen geïmpregneerde vezels («prepregs»), met metaal of koolstof beklede vezels («preforms») of "halffabrikaten voor koolstofvezels", als hieronder:






  1. | gemaakt van "stapel- of continuvezelmateriaal" als bedoeld in 1C010.a, 1C010.b of 1C010.c; |
| --- | --- | --- |

e.

met hars of asfaltbitumen geïmpregneerde vezels («prepregs»), met metaal of koolstof beklede vezels («preforms») of "halffabrikaten voor koolstofvezels", als hieronder:

1.

gemaakt van "stapel- of continuvezelmateriaal" als bedoeld in 1C010.a, 1C010.b of 1C010.c;

| 2. | gemaakt van organisch "stapel- of continuvezelmateriaal" of "stapel- of continuvezelmateriaal" van koolstof:






  a. | met een "specifieke treksterkte" groter dan 17,7 × 104 m, |
| --- | --- | --- |

2.

gemaakt van organisch "stapel- of continuvezelmateriaal" of "stapel- of continuvezelmateriaal" van koolstof:

a.

met een "specifieke treksterkte" groter dan 17,7 × 104 m,

| b. | met een "specifieke modulus" groter dan 10,15 × 106 m, |
| --- | --- |

b.

met een "specifieke modulus" groter dan 10,15 × 106 m,

| c. | niet bedoeld in 1C010.a of 1C010.b, en |
| --- | --- |

c.

niet bedoeld in 1C010.a of 1C010.b, en

| d. | wanneer geïmpregneerd met materialen bedoeld in 1C008 of 1C009.b met een glastemperatuur (Tg) hoger dan 383 K (110 °C) of met fenol- of epoxyharsen met een glastemperatuur (Tg) hoger dan 418 K (145 °C). |
| --- | --- |

d.

wanneer geïmpregneerd met materialen bedoeld in 1C008 of 1C009.b met een glastemperatuur (Tg) hoger dan 383 K (110 °C) of met fenol- of epoxyharsen met een glastemperatuur (Tg) hoger dan 418 K (145 °C).

Noot: 1C010.e is niet van toepassing op

| a. | met epoxyhars geïmpregneerd koolstof- "stapel- of continuvezelmateriaal" («prepregs») voor de reparatie van vliegtuigcasco’s of laminaten als de afzonderlijke «prepreg»-vellen niet groter zijn dan 50 cm × 90 cm. |
| --- | --- |

a.

met epoxyhars geïmpregneerd koolstof- "stapel- of continuvezelmateriaal" («prepregs») voor de reparatie van vliegtuigcasco’s of laminaten als de afzonderlijke «prepreg»-vellen niet groter zijn dan 50 cm × 90 cm.

| b. | «prepregs», geïmpregneerd met fenol- of epoxyharsen met een glastemperatuur (Tg) van minder dan 433 K (160 °C) en een hardingstemperatuur die lager ligt dan de glastemperatuur. |
| --- | --- |

b.

«prepregs», geïmpregneerd met fenol- of epoxyharsen met een glastemperatuur (Tg) van minder dan 433 K (160 °C) en een hardingstemperatuur die lager ligt dan de glastemperatuur.

Technische noot:

De glastemperatuur (Tg) voor de onder 1C010.e. vallende materialen wordt bepaald met de droge methode, volgens de in ASTM D 3418 beschreven methode. De glastemperatuur voor fenol- en epoxyharsen wordt bepaald volgens de methode die is beschreven in ASTM D 4065 bij een frequentie van 1 Hz en een verwarmingssnelheid van 2 K (°C) per minuut, met toepassing van de droge methode.

1C011Metalen en verbindingen, als hieronder:

NB: ZIE OOK LIJST MILITAIRE GOEDEREN en 1C111

| a. | Metalen met een deeltjesgrootte van minder dan 60 micrometer, hetzij bolvormig, verstoven, sferoïdisch, in vlokkenvorm of gemalen, vervaardigd uit materiaal dat voor 99 % of meer bestaat uit zirkonium, magnesium en legeringen daarvan;
  Technische noot:

  Het natuurlijke hafniumgehalte van het zirkonium (normaal 2 % tot 7 %) wordt bij het zirkonium gerekend.



  Noot: De metalen of legeringen in 1C011.a vallen onder de regeling, ongeacht of zij al dan niet zijn ingekapseld in aluminium, magnesium, zirkonium of beryllium. |
| --- | --- |

a.

Metalen met een deeltjesgrootte van minder dan 60 micrometer, hetzij bolvormig, verstoven, sferoïdisch, in vlokkenvorm of gemalen, vervaardigd uit materiaal dat voor 99 % of meer bestaat uit zirkonium, magnesium en legeringen daarvan;

Technische noot:

Het natuurlijke hafniumgehalte van het zirkonium (normaal 2 % tot 7 %) wordt bij het zirkonium gerekend.

Noot: De metalen of legeringen in 1C011.a vallen onder de regeling, ongeacht of zij al dan niet zijn ingekapseld in aluminium, magnesium, zirkonium of beryllium.

| b. | Boor of boorcarbide met een zuiverheidsgraad van minstens 85 % en een deeltjesgrootte van hoogstens 60 micrometer;


  Noot: De metalen of legeringen in 1C011.b vallen onder de regeling, ongeacht of zij al dan niet zijn ingekapseld in aluminium, magnesium, zirkonium of beryllium. |
| --- | --- |

b.

Boor of boorcarbide met een zuiverheidsgraad van minstens 85 % en een deeltjesgrootte van hoogstens 60 micrometer;

Noot: De metalen of legeringen in 1C011.b vallen onder de regeling, ongeacht of zij al dan niet zijn ingekapseld in aluminium, magnesium, zirkonium of beryllium.

| c. | Guanidinenitraat; |
| --- | --- |

c.

Guanidinenitraat;

| d. | Nitroguanidine (NQ) (CAS 556-88-7). |
| --- | --- |

d.

Nitroguanidine (NQ) (CAS 556-88-7).

1C012Materialen, als hieronder:

Technische noot:

Deze materialen worden doorgaans voor nucleaire warmtebronnen gebruikt.

| a. | plutonium in iedere vorm met een plutonium-isotoopgehalte aan plutonium-238 van meer dan 50 gewichtsprocent;


  Noot: 1C012.a is niet van toepassing op:








  a. | zendingen die hoogstens 1 % plutonium bevatten; |
| --- | --- | --- |

a.

plutonium in iedere vorm met een plutonium-isotoopgehalte aan plutonium-238 van meer dan 50 gewichtsprocent;

Noot: 1C012.a is niet van toepassing op:

a.

zendingen die hoogstens 1 % plutonium bevatten;

| b. | zendingen van hoogstens 3 "effectieve grammen" in een afgesloten gedeelte van een meetelement in instrumenten. |
| --- | --- |

b.

zendingen van hoogstens 3 "effectieve grammen" in een afgesloten gedeelte van een meetelement in instrumenten.

| b. | "door opwerking verkregen" neptunium-237 in iedere vorm.


  Noot: 1C012.b. is niet van toepassing op zendingen die hoogstens 1 gram neptunium-237 bevatten. |
| --- | --- |

b.

"door opwerking verkregen" neptunium-237 in iedere vorm.

Noot: 1C012.b. is niet van toepassing op zendingen die hoogstens 1 gram neptunium-237 bevatten.

1C101Materialen voor het beperken van de zichtbaarheid zoals de radarreflectie, het ultraviolet/infrarood of akoestische beeld, anders dan de materialen bedoeld in 1C001, geschikt voor gebruik in "raketten", subsystemen van raketten of onbemande luchtvaartuigen, bedoeld in 9A012.

Noot 1: 1C101 omvat:

| a. | constructiematerialen en deklagen, speciaal ontworpen om de radarreflectie te beperken; |
| --- | --- |

a.

constructiematerialen en deklagen, speciaal ontworpen om de radarreflectie te beperken;

| b. | deklagen, inclusief verven, speciaal ontworpen om de reflectie of de uitstraling in het microgolf-, infrarood- of ultravioletgebied te beperken of aan te passen. |
| --- | --- |

b.

deklagen, inclusief verven, speciaal ontworpen om de reflectie of de uitstraling in het microgolf-, infrarood- of ultravioletgebied te beperken of aan te passen.

Noot 2: 1C101 omvat niet deklagen die speciaal bedoeld zijn om de thermische stabiliteit van satellieten te regelen.

1C102Opnieuw verzadigde, door pyrolyse verkregen koolstof-koolstof-materialen bestemd voor ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104.

Technische noot:

In 1C101 worden onder "raketten" complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen verstaan die een last kunnen vervoeren over een afstand van ten minste 300 km.

1C107Niet in 1C007 beschreven grafiet en keramische materialen, als hieronder:

| a. | grafiet met een kleine korrelgrootte en met een volumedichtheid van ten minste 1,72 g/cm3 gemeten bij 288 K (15 °C), met een korrelgrootte van 100 μm of minder, geschikt voor raketstraalpijpen of neuskegels van terugkeervoertuigen, dat gebruikt kan worden bij de productie van:






  1. | Cilinders met een diameter van ten minste 120 mm en een lengte van ten minste 50 mm; |
| --- | --- | --- |

a.

grafiet met een kleine korrelgrootte en met een volumedichtheid van ten minste 1,72 g/cm3 gemeten bij 288 K (15 °C), met een korrelgrootte van 100 μm of minder, geschikt voor raketstraalpijpen of neuskegels van terugkeervoertuigen, dat gebruikt kan worden bij de productie van:

1.

Cilinders met een diameter van ten minste 120 mm en een lengte van ten minste 50 mm;

| 2. | Buizen met een binnendiameter van ten minste 65 mm, een wanddikte van ten minste 25 mm en een lengte van ten minste 50 mm; of |
| --- | --- |

2.

Buizen met een binnendiameter van ten minste 65 mm, een wanddikte van ten minste 25 mm en een lengte van ten minste 50 mm; of

| 3. | Blokken met een minimumomvang van 120 × 120 × 50 mm. |
| --- | --- |

3.

Blokken met een minimumomvang van 120 × 120 × 50 mm.

NB: Zie ook 0C004

| b. | pyrolytisch of vezelversterkt grafiet, geschikt voor "raket"-straalpijpen of neuskegels van terugkeervoertuigen;


  NB: Zie ook 0C004 |
| --- | --- |

b.

pyrolytisch of vezelversterkt grafiet, geschikt voor "raket"-straalpijpen of neuskegels van terugkeervoertuigen;

NB: Zie ook 0C004

| c. | keramische composieten (diëlektrische constante kleiner dan 6 bij een frequentie van 100 MHz tot 100 GHz), geschikt voor "raket"-radarkoepels; |
| --- | --- |

c.

keramische composieten (diëlektrische constante kleiner dan 6 bij een frequentie van 100 MHz tot 100 GHz), geschikt voor "raket"-radarkoepels;

| d. | zgn. groene, bewerkbare, met siliciumcarbide versterkte keramiek, geschikt voor "raket"-neuskegels. |
| --- | --- |

d.

zgn. groene, bewerkbare, met siliciumcarbide versterkte keramiek, geschikt voor "raket"-neuskegels.

1C111Niet in 1C011 beschreven stuwstoffen en chemicaliën voor de vervaardiging van stuwstoffen, als hieronder:

| a. | stoffen die stuwkracht leveren:






  1. | bolvormig aluminiumpoeder, anders dan bedoeld in de Lijst militaire goederen, met deeltjes met een uniforme diameter kleiner dan 200 micrometer en een aluminiumgehalte van 97 gewichtspercenten of meer, indien ten minste 10 % van het totaalgewicht bestaat uit deeltjes van minder dan 63 micrometer overeenkomstig ISO 2591:1988 of nationale equivalenten;
  Technische noot:

  Een deeltjesgrootte van 63 micrometer (ISO R-565) stemt overeen met maasgetal 250 (Tyler) of 230 (ASTM Standard E-11). |
| --- | --- | --- |

a.

stoffen die stuwkracht leveren:

1.

bolvormig aluminiumpoeder, anders dan bedoeld in de Lijst militaire goederen, met deeltjes met een uniforme diameter kleiner dan 200 micrometer en een aluminiumgehalte van 97 gewichtspercenten of meer, indien ten minste 10 % van het totaalgewicht bestaat uit deeltjes van minder dan 63 micrometer overeenkomstig ISO 2591:1988 of nationale equivalenten;

Technische noot:

Een deeltjesgrootte van 63 micrometer (ISO R-565) stemt overeen met maasgetal 250 (Tyler) of 230 (ASTM Standard E-11).

| 2. | metaalbrandstoffen, anders dan bedoeld in de Lijst van militaire goederen, met een deeltjesgrootte kleiner dan 60 micrometer, hetzij bolvormig, verstoven, sferoïdisch, in vlokkenvorm of gemalen, welke 97 gewichtspercenten of meer van één van onderstaande stoffen bevatten:






  a. | zirkonium; |
| --- | --- | --- |

2.

metaalbrandstoffen, anders dan bedoeld in de Lijst van militaire goederen, met een deeltjesgrootte kleiner dan 60 micrometer, hetzij bolvormig, verstoven, sferoïdisch, in vlokkenvorm of gemalen, welke 97 gewichtspercenten of meer van één van onderstaande stoffen bevatten:

a.

zirkonium;

| b. | beryllium; |
| --- | --- |

b.

beryllium;

| c. | magnesium, of |
| --- | --- |

c.

magnesium, of

| d. | legeringen van de onder a tot en met c genoemde metalen; |
| --- | --- |

d.

legeringen van de onder a tot en met c genoemde metalen;

Technische noot:

Het natuurlijke hafniumgehalte van het zirkonium (normaal 2 % tot 7 %) wordt bij het zirkonium gerekend.

| 3. | vloeibare oxidatoren, als hieronder:






  a. | distikstoftrioxide; |
| --- | --- | --- |

3.

vloeibare oxidatoren, als hieronder:

a.

distikstoftrioxide;

| b. | stikstofdioxide/distikstoftetraoxide; |
| --- | --- |

b.

stikstofdioxide/distikstoftetraoxide;

| c. | distikstofpentoxide; |
| --- | --- |

c.

distikstofpentoxide;

| d. | mengsels van stikstofoxiden (mixed oxides of nitrogen, MON);
  Technische noot:

  Mengsels van stikstofoxiden (MON) zijn oplossingen van stikstofoxide (NO) in distikstoftetraoxide/stikstofdioxide (N2O4 /NO2) die in raketsystemen kunnen worden gebruikt. Er bestaan diverse verbindingen die als MONi of MONij kunnen worden aangeduid, waarbij i en j hele getallen zijn die het percentage stikstofoxide in het mengsel weergeven (zo bevat MON3 3 % stikstofoxide en MON25 25 %. Een bovengrens is MON40, d.w.z. 40 gewichtsprocent). |
| --- | --- |

d.

mengsels van stikstofoxiden (mixed oxides of nitrogen, MON);

Technische noot:

Mengsels van stikstofoxiden (MON) zijn oplossingen van stikstofoxide (NO) in distikstoftetraoxide/stikstofdioxide (N2O4 /NO2) die in raketsystemen kunnen worden gebruikt. Er bestaan diverse verbindingen die als MONi of MONij kunnen worden aangeduid, waarbij i en j hele getallen zijn die het percentage stikstofoxide in het mengsel weergeven (zo bevat MON3 3 % stikstofoxide en MON25 25 %. Een bovengrens is MON40, d.w.z. 40 gewichtsprocent).

| e. | ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR geïnhibeerd roodrokend salpeterzuur (Inhibited Red Fuming Nitric Acid, IRFNA); |
| --- | --- |

e.

ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR geïnhibeerd roodrokend salpeterzuur (Inhibited Red Fuming Nitric Acid, IRFNA);

| f. | ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN EN 1C238 VOOR verbindingen bestaande uit fluor en een of meer andere halogenen, zuurstof of stikstof; |
| --- | --- |

f.

ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN EN 1C238 VOOR verbindingen bestaande uit fluor en een of meer andere halogenen, zuurstof of stikstof;

| 4. | Hydrazinederivaten die gebruikt kunnen worden als bestanddeel voor raketbrandstof, anders dan bedoeld in de Lijst militaire goederen. |
| --- | --- |

4.

Hydrazinederivaten die gebruikt kunnen worden als bestanddeel voor raketbrandstof, anders dan bedoeld in de Lijst militaire goederen.

| b. | polymeren:






  1. | polybutadieen met carboxy-eindgroep (CTPB); |
| --- | --- | --- |

b.

polymeren:

1.

polybutadieen met carboxy-eindgroep (CTPB);

| 2. | polybutadieen met hydroxy-eindgroep (HTPB), anders dan bedoeld in de Lijst militaire goederen; |
| --- | --- |

2.

polybutadieen met hydroxy-eindgroep (HTPB), anders dan bedoeld in de Lijst militaire goederen;

| 3. | polybutadieen-acrylzuur (PBAA); |
| --- | --- |

3.

polybutadieen-acrylzuur (PBAA);

| 4. | polybutadieen-acrylzuur-acrylonitril (PBAN); |
| --- | --- |

4.

polybutadieen-acrylzuur-acrylonitril (PBAN);

| c. | andere additieven en hulpstoffen voor stuwstoffen:







  1. | ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR carboranen; decaboranen; pentaboranen en derivaten; |
| --- | --- | --- |

c.

andere additieven en hulpstoffen voor stuwstoffen:

1.

ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR carboranen; decaboranen; pentaboranen en derivaten;

| 2. | triethyleenglycoldinitraat (TEGDN); |
| --- | --- |

2.

triethyleenglycoldinitraat (TEGDN);

| 3. | 2-nitrodifenylamine; |
| --- | --- |

3.

2-nitrodifenylamine;

| 4. | trimethylethaantrinitraat (TMETN); |
| --- | --- |

4.

trimethylethaantrinitraat (TMETN);

| 5. | diethyleenglycoldinitraat (DEGDN). |
| --- | --- |

5.

diethyleenglycoldinitraat (DEGDN).

| 6. | Ferroceenderivaten, als hieronder:







  a. | zie Lijst militaire goederen voor catoceen |
| --- | --- | --- |

6.

Ferroceenderivaten, als hieronder:

a.

zie Lijst militaire goederen voor catoceen

| b. | ethylferroceen |
| --- | --- |

b.

ethylferroceen

| c. | propylferroceen |
| --- | --- |

c.

propylferroceen

| d. | zie Lijst militaire goederen voor n-butylferroceen |
| --- | --- |

d.

zie Lijst militaire goederen voor n-butylferroceen

| e. | pentylferroceenferroceen |
| --- | --- |

e.

pentylferroceenferroceen

| f. | dicyclopentylferroceen |
| --- | --- |

f.

dicyclopentylferroceen

| g. | dicyclohexylferroceen |
| --- | --- |

g.

dicyclohexylferroceen

| h. | diethylferroceen |
| --- | --- |

h.

diethylferroceen

| i. | dipropylferroceen |
| --- | --- |

i.

dipropylferroceen

| j. | dibutylferroceen |
| --- | --- |

j.

dibutylferroceen

| k. | dihexylferroceen |
| --- | --- |

k.

dihexylferroceen

| l. | acetylferroceen |
| --- | --- |

l.

acetylferroceen

| m. | zie Lijst militaire goederen voor ferroceencarboxylzuren |
| --- | --- |

m.

zie Lijst militaire goederen voor ferroceencarboxylzuren

| n. | zie Lijst militaire goederen voor butaceen |
| --- | --- |

n.

zie Lijst militaire goederen voor butaceen

| o. | andere ferroceenderivaten die kunnen worden gebruikt als verbrandingssnelheidsmodificatoren voor raketstuwstoffen, die niet onder de Lijst militaire goederen vallen. |
| --- | --- |

o.

andere ferroceenderivaten die kunnen worden gebruikt als verbrandingssnelheidsmodificatoren voor raketstuwstoffen, die niet onder de Lijst militaire goederen vallen.

Noot: Zie voor andere niet in 1C111 vermelde stuwstoffen en chemicaliën voor de vervaardiging van stuwstoffen de Lijst militaire goederen.

1C116Maragingstaal (staalsoorten die gewoonlijk door een hoog nikkelgehalte, een zeer laag koolstofgehalte en het gebruik van vervangende elementen of precipitaten voor het tijdharden worden gekenmerkt) met een eindtreksterkte (UTS) van 1 500 MPa of meer bij 293 K (20 °C) in de vorm van plaat of buis met een wand- of plaatdikte van 5 mm of minder.

NB: ZIE OOK 1C216

1C117Wolfraam, molybdeen en legeringen daarvan in de vorm van uniform bolvormige of verstoven deeltjes met een diameter van 500 micrometer of minder en met een zuiverheid van 97 % of meer voor de productie van raketmotoronderdelen, d.w.z. hitteschilden, straalpijpsubstraten, straalpijpkelen en regeloppervlakken voor de stuwstraal.

1C118Duplex roestvast staal met titaanstabilisatie (Ti-DSS), met de volgende eigenschappen:

| a. | met alle navolgende kenmerken:






  1. | het bevat 17,0-23,0 gewichtspercenten chroom en 4,5-7,0 gewichtspercenten nikkel; |
| --- | --- | --- |

a.

met alle navolgende kenmerken:

1.

het bevat 17,0-23,0 gewichtspercenten chroom en 4,5-7,0 gewichtspercenten nikkel;

| 2. | het titaangehalte bedraagt meer dan 0,10 gewichtspercenten; en |
| --- | --- |

2.

het titaangehalte bedraagt meer dan 0,10 gewichtspercenten; en

| 3. | een ferritisch-austenitische microstructuur (ook tweefasenmicrostructuur genoemd) waarvan ten minste 10 volumepercenten austeniet (volgens ASTM E-1181-87 of nationale equivalenten); en |
| --- | --- |

3.

een ferritisch-austenitische microstructuur (ook tweefasenmicrostructuur genoemd) waarvan ten minste 10 volumepercenten austeniet (volgens ASTM E-1181-87 of nationale equivalenten); en

| b. | in een van de volgende vormen:






  1. | walsblokken of staven die ten minste 100 mm groot zijn in elke richting; |
| --- | --- | --- |

b.

in een van de volgende vormen:

1.

walsblokken of staven die ten minste 100 mm groot zijn in elke richting;

| 2. | platen met een breedte van ten minste 600 mm en een dikte van 3 mm of minder; of |
| --- | --- |

2.

platen met een breedte van ten minste 600 mm en een dikte van 3 mm of minder; of

| 3. | buizen met een buitendiameter van ten minste 600 mm en een wanddikte van 3 mm of minder. |
| --- | --- |

3.

buizen met een buitendiameter van ten minste 600 mm en een wanddikte van 3 mm of minder.

1C202Legeringen, anders dan bedoeld in 1C002.b.3 of 1C002.b.4, als hieronder:

| a. | aluminiumlegeringen met beide volgende kenmerken:






  1. | ‧geschikt voor‧ een treksterkte van 460 MPa of meer bij 293 K (20 °C); en |
| --- | --- | --- |

a.

aluminiumlegeringen met beide volgende kenmerken:

1.

‧geschikt voor‧ een treksterkte van 460 MPa of meer bij 293 K (20 °C); en

| 2. | buisvormig of massief cilindervormig (met inbegrip van smeedstukken) met een buitendiameter van meer dan 75 mm; |
| --- | --- |

2.

buisvormig of massief cilindervormig (met inbegrip van smeedstukken) met een buitendiameter van meer dan 75 mm;

| b. | titaanlegeringen met beide volgende kenmerken:






  1. | ‧geschikt voor‧ een treksterkte van 900 MPa of meer bij 293 K (20 °C); en |
| --- | --- | --- |

b.

titaanlegeringen met beide volgende kenmerken:

1.

‧geschikt voor‧ een treksterkte van 900 MPa of meer bij 293 K (20 °C); en

| 2. | buisvormig of massief cilindervormig (met inbegrip van smeedstukken) met een buitendiameter van meer dan 75 mm. |
| --- | --- |

2.

buisvormig of massief cilindervormig (met inbegrip van smeedstukken) met een buitendiameter van meer dan 75 mm.

Technische noot:

De zinsnede legeringen ‧geschikt voor‧ omvat legeringen zowel voor als na warmtebehandeling.

1C210"Stapel- en continuvezelmateriaal" of «prepregs», anders dan bedoeld in 1C010.a, 1C010.b of 1C010.e, als hieronder:

| a. | "stapel- en continuvezelmateriaal" van koolstof of aramide met een van de volgende kenmerken:






  1. | een "specifieke modulus" van 12,7 × 106 m of groter: of |
| --- | --- | --- |

a.

"stapel- en continuvezelmateriaal" van koolstof of aramide met een van de volgende kenmerken:

1.

een "specifieke modulus" van 12,7 × 106 m of groter: of

| 2. | een "specifieke treksterkte" van 235 × 103 m of meer; |
| --- | --- |

2.

een "specifieke treksterkte" van 235 × 103 m of meer;

Noot: 1C210.a. is niet van toepassing op "stapel- en continuvezelmateriaal" van aramide dat ten minste 0,25 gewichtspercent bevat van een op een ester gebaseerde vezeloppervlakmodificator.

| b. | "stapel- en continuvezelmateriaal" van glas met beide volgende kenmerken:






  1. | een "specifieke modulus" van 3,18 × 106 m of meer: en |
| --- | --- | --- |

b.

"stapel- en continuvezelmateriaal" van glas met beide volgende kenmerken:

1.

een "specifieke modulus" van 3,18 × 106 m of meer: en

| 2. | een "specifieke treksterkte" van 76,2 × 104 m of meer; |
| --- | --- |

2.

een "specifieke treksterkte" van 76,2 × 104 m of meer;

| c. | thermogeharde met hars geïmpregneerde continu-"garens", -"rovings", -"linten" of "banden" met een breedte van 15 mm of minder («prepregs»), vervaardigd uit "stapel- en continuvezelmateriaal" van koolstof of glas als bedoeld in 1C210.a of 1C210.b.
  Technische noot:

  Het hars vormt de matrix van de composiet. |
| --- | --- |

c.

thermogeharde met hars geïmpregneerde continu-"garens", -"rovings", -"linten" of "banden" met een breedte van 15 mm of minder («prepregs»), vervaardigd uit "stapel- en continuvezelmateriaal" van koolstof of glas als bedoeld in 1C210.a of 1C210.b.

Technische noot:

Het hars vormt de matrix van de composiet.

Noot: In 1C210 is "stapel- en continuvezelmateriaal" beperkt tot continue "monofilamenten""garens", «rovings», "linten" of "banden".

1C216Maragingstaal, anders dan bedoeld in 1C116, ‧geschikt voor‧ een treksterkte van 2 050 MPa of meer bij 293 K (20 °C).

Noot: 1C216 is niet van toepassing op maragingstaal in een vorm waarin geen enkele lineaire maat groter is dan 75 mm.

Technische noot:

De zinsnede maragingstaal ‧geschikt voor‧ omvat maragingstaal zowel voor als na warmtebehandeling.

1C225Boor, verrijkt in de boor-10-isotoop (10B) tot meer dan de natuurlijke abundantie, in de hiernavolgende vormen: elementair boor, boorverbindingen, boorhoudende mengsels, fabrikaten daarvan, afval en schroot van deze stoffen.

Noot: De in 1C225 bedoelde boorhoudende mengsels omvatten met boor beladen materialen.

Technische noot:

De natuurlijke abundantie van boor-10 is ongeveer 18,5 gewichtspercenten (20 percent op atomaire basis).

1C226Wolfraam, wolfraamcarbide en legeringen die meer dan 90 gewichtspercenten wolfraam bevatten, met beide volgende kenmerken:

| a. | in vormen met holle cilindersymmetrie (daaronder mede begrepen cilindersegmenten) met een binnendiameter tussen 100 mm en 300 mm; en |
| --- | --- |

a.

in vormen met holle cilindersymmetrie (daaronder mede begrepen cilindersegmenten) met een binnendiameter tussen 100 mm en 300 mm; en

| b. | met een massa groter dan 20 kg. |
| --- | --- |

b.

met een massa groter dan 20 kg.

Noot: 1C226 is niet van toepassing op fabrikaten die speciaal ontworpen zijn als gewicht of collimator voor gammastralen.

1C227Calcium met beide volgende kenmerken:

| a. | bevat minder dan 1 000 gewichtsdelen per miljoen aan metallische verontreiniging anders dan magnesium; en |
| --- | --- |

a.

bevat minder dan 1 000 gewichtsdelen per miljoen aan metallische verontreiniging anders dan magnesium; en

| b. | bevat minder dan 10 gewichtsdelen per miljoen boor. |
| --- | --- |

b.

bevat minder dan 10 gewichtsdelen per miljoen boor.

1C228Magnesium met beide volgende kenmerken:

| a. | bevat minder dan 200 gewichtsdelen per miljoen aan metallische verontreiniging anders dan calcium; en |
| --- | --- |

a.

bevat minder dan 200 gewichtsdelen per miljoen aan metallische verontreiniging anders dan calcium; en

| b. | bevat minder dan 10 gewichtsdelen per miljoen boor. |
| --- | --- |

b.

bevat minder dan 10 gewichtsdelen per miljoen boor.

1C229Bismut met beide volgende kenmerken:

| a. | een zuiverheid van 99,99 gewichtspercenten of meer; en |
| --- | --- |

a.

een zuiverheid van 99,99 gewichtspercenten of meer; en

| b. | bevat minder dan 10 gewichtsdelen per miljoen zilver. |
| --- | --- |

b.

bevat minder dan 10 gewichtsdelen per miljoen zilver.

1C230Beryllium, als hierna metaal, legeringen die meer dan 50 gewichtspercenten beryllium bevatten, berylliumverbindingen, fabrikaten daarvan en afval of schroot van deze stoffen.

Noot: 1C230 is niet van toepassing op:

| a. | vensters voor röntgentoestellen of voor apparatuur voor metingen in boorgaten, van berylliummetaal; |
| --- | --- |

a.

vensters voor röntgentoestellen of voor apparatuur voor metingen in boorgaten, van berylliummetaal;

| b. | vormstukken van berylliumoxide als eindproduct of halffabrikaat, speciaal ontworpen voor elektronische onderdelen of als substraat voor elektronische schakelingen; |
| --- | --- |

b.

vormstukken van berylliumoxide als eindproduct of halffabrikaat, speciaal ontworpen voor elektronische onderdelen of als substraat voor elektronische schakelingen;

| c. | beril (beryllium-aluminiumsilicaat) in de vorm van smaragden of aquamarijnen. |
| --- | --- |

c.

beril (beryllium-aluminiumsilicaat) in de vorm van smaragden of aquamarijnen.

1C231Hafnium, als hierna: metaal, legeringen die meer dan 60 gewichtspercenten hafnium bevatten, verbindingen van hafnium die meer dan 60 gewichtspercenten hafnium bevatten, fabrikaten daarvan en afval of schroot van deze stoffen.

1C232Helium-3 (3He), mengsels die helium-3 bevatten, en producten of toestellen die een van deze stoffen bevatten.

Noot: 1C232 is niet van toepassing op een product of apparaat dat minder dan 1 g helium-3 bevat.

1C233Lithium, verrijkt in de lithium-6-isotoop (6Li) tot meer dan de natuurlijke abundantie, of producten of toestellen die verrijkt lithium bevatten, als hierna: elementair lithium, legeringen, lithiumverbindingen, mengsels die lithium bevatten, fabrikaten daarvan en afval of schroot van deze stoffen.

Noot: 1C233 is niet van toepassing op thermoluminescentiestralingsmeters.

Technische noot:

De natuurlijk abundantie van de lithium-6-isotoop is ongeveer 6,5 gewichtspercenten (7,5 % op atomaire basis).

1C234Zirkonium met een hafniumgehalte van minder dan 1 gewichtsdeel hafnium op 500 gewichtsdelen zirkonium, als hierna: metaal, legeringen die meer dan 50 gewichtspercenten zirkonium bevatten, verbindingen, fabrikaten daarvan, afval of schroot van deze stoffen.

Noot: 1C234 is niet van toepassing op zirkonium in de vorm van folie met een dikte van 0,10 mm of minder.

1C235Tritium, tritiumverbindingen en mengsels welke tritium bevatten, waarin de verhouding van het aantal tritiumatomen tot het aantal waterstofatomen groter is dan 1: 1000, en producten of toestellen die een van voorgaande stoffen bevatten,

Noot: 1C235 is niet van toepassing op een product of toestel dat minder dan 1,48 × 103 GBq (40 Ci) tritium in welke vorm dan ook bevat.

1C236Alfastralers met een alfahalveringstijd van tien dagen of langer doch korter dan 200 jaar, in de volgende vormen:

| a. | de elementaire vorm; |
| --- | --- |

a.

de elementaire vorm;

| b. | verbindingen met een totale alfa-activiteit van 37 GBq/kg (1 Ci/kg) of hoger; |
| --- | --- |

b.

verbindingen met een totale alfa-activiteit van 37 GBq/kg (1 Ci/kg) of hoger;

| c. | mengsels met een totale alfa-activiteit van 37 GBq/kg (1 Ci/kg) of hoger; |
| --- | --- |

c.

mengsels met een totale alfa-activiteit van 37 GBq/kg (1 Ci/kg) of hoger;

| d. | producten of toestellen die een van voorgaande stoffen bevatten. |
| --- | --- |

d.

producten of toestellen die een van voorgaande stoffen bevatten.

Noot: 1C236 is niet van toepassing op een product of toestel dat minder dan 3,7 GBq (100 millicurie) alfa-activiteit bevat.

1C237Radium-226 (226Ra), radium-226-legeringen, radium-226-verbindingen, mengsels die radium-226 bevatten, fabrikaten daarvan, en producten of toestellen die een van deze stoffen bevatten.

Noot: 1C237 is niet van toepassing op:

| a. | medische middelen; |
| --- | --- |

a.

medische middelen;

| b. | een product of toestel dat minder dan 0,37 GBq (10 millicurie) radium-226 bevat. |
| --- | --- |

b.

een product of toestel dat minder dan 0,37 GBq (10 millicurie) radium-226 bevat.

1C238Chloortrifluoride (ClF3)

1C239Brisante springstoffen, anders dan bedoeld in de Lijst militaire goederen, of stoffen of mengsels met een gehalte van meer dan 2 gewichtspercenten aan deze springstoffen, met een kristaldichtheid groter dan 1,8 g/cm3 en een detonatiesnelheid groter dan 8 000 m/s.

1C240Nikkelpoeder en poreus nikkelmetaal, anders dan bedoeld in OC005, als hieronder:

| a. | nikkelpoeder met beide volgende kenmerken:






  1. | een nikkelgehalte van 99,0 gewichtspercenten of meer; en |
| --- | --- | --- |

a.

nikkelpoeder met beide volgende kenmerken:

1.

een nikkelgehalte van 99,0 gewichtspercenten of meer; en

| 2. | een gemiddelde korrelgrootte kleiner dan 10 micrometer, gemeten volgens ASTM Standaard B330; |
| --- | --- |

2.

een gemiddelde korrelgrootte kleiner dan 10 micrometer, gemeten volgens ASTM Standaard B330;

| b. | poreus nikkelmetaal, gemaakt van materiaal, bedoeld in 1C240.a. |
| --- | --- |

b.

poreus nikkelmetaal, gemaakt van materiaal, bedoeld in 1C240.a.

Noot: 1C240 is niet van toepassing op:

| a. | vezelvormige nikkelpoeders; |
| --- | --- |

a.

vezelvormige nikkelpoeders;

| b. | enkelvoudige platen van poreus nikkel, met een oppervlakte per plaat van 1 000 cm2 of minder. |
| --- | --- |

b.

enkelvoudige platen van poreus nikkel, met een oppervlakte per plaat van 1 000 cm2 of minder.

Technische noot:

1C240.b heeft betrekking op poreus metaal dat gevormd is door samenpersing en sintering van de materialen in 1C240.a, om een materiaal van metaal te vormen met fijne poriën die door de gehele structuur heen onderling verbonden zijn.

1C350Chemische stoffen, geschikt voor het vervaardigen van toxische stoffen, als hieronder, en "chemische mengsels" die een of meer van deze stoffen bevatten:

NB: ZIE OOK DE LIJST MILITAIRE GOEDEREN EN 1C450

| 1. | Thiodiglycol (111-48-8); |
| --- | --- |

1.

Thiodiglycol (111-48-8);

| 2. | Fosforoxychloride (10025-87-3); |
| --- | --- |

2.

Fosforoxychloride (10025-87-3);

| 3. | Dimethylmethylfosfonaat (765-79-6); |
| --- | --- |

3.

Dimethylmethylfosfonaat (765-79-6);

| 4. | ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR Methylfosfonyldifluoride (676-99-3); |
| --- | --- |

4.

ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR Methylfosfonyldifluoride (676-99-3);

| 5. | Methylfosfonyldichloride (676-97-1); |
| --- | --- |

5.

Methylfosfonyldichloride (676-97-1);

| 6. | Dimethylfosfiet (DMP) (868-85-9); |
| --- | --- |

6.

Dimethylfosfiet (DMP) (868-85-9);

| 7. | Fosfortrichloride (7719-12-2); |
| --- | --- |

7.

Fosfortrichloride (7719-12-2);

| 8. | Trimethylfosfiet (TMP) (121-45-9); |
| --- | --- |

8.

Trimethylfosfiet (TMP) (121-45-9);

| 9. | Thionylchloride (7719-09-7); |
| --- | --- |

9.

Thionylchloride (7719-09-7);

| 10. | 3-Hydroxy-1-methylpiperidine (3554-74-3); |
| --- | --- |

10.

3-Hydroxy-1-methylpiperidine (3554-74-3);

| 11. | 2-Diisopropylaminoethylchloride (96-79-7); |
| --- | --- |

11.

2-Diisopropylaminoethylchloride (96-79-7);

| 12. | 2-Diisopropylaminoethaanthiol (5842-07-9); |
| --- | --- |

12.

2-Diisopropylaminoethaanthiol (5842-07-9);

| 13. | Chinuclidine-3-ol (1619-34-7); |
| --- | --- |

13.

Chinuclidine-3-ol (1619-34-7);

| 14. | Kaliumfluoride (7789-23-3); |
| --- | --- |

14.

Kaliumfluoride (7789-23-3);

| 15. | 2-Chloorethanol (107-07-3); |
| --- | --- |

15.

2-Chloorethanol (107-07-3);

| 16. | Dimethylamine (124-40-3); |
| --- | --- |

16.

Dimethylamine (124-40-3);

| 17. | Diethylethylfosfonaat (78-38-6); |
| --- | --- |

17.

Diethylethylfosfonaat (78-38-6);

| 18. | Diethyl-N, N-dimethylfosforamidaat (2404-03-07); |
| --- | --- |

18.

Diethyl-N, N-dimethylfosforamidaat (2404-03-07);

| 19. | Diethylfosfiet (762-04-9); |
| --- | --- |

19.

Diethylfosfiet (762-04-9);

| 20. | Dimethylamine hydrochloride (506-59-2); |
| --- | --- |

20.

Dimethylamine hydrochloride (506-59-2);

| 21. | Dichloorethylfosfine (1498-40-4); |
| --- | --- |

21.

Dichloorethylfosfine (1498-40-4);

| 22. | Ethylfosfonyldichloride (1066-50-8); |
| --- | --- |

22.

Ethylfosfonyldichloride (1066-50-8);

| 23. | ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR Ethylfosfonyldifluoride (753-98-0); |
| --- | --- |

23.

ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR Ethylfosfonyldifluoride (753-98-0);

| 24. | Waterstoffluoride (7664-39-3); |
| --- | --- |

24.

Waterstoffluoride (7664-39-3);

| 25. | Methylbenzilaat (76-89-1); |
| --- | --- |

25.

Methylbenzilaat (76-89-1);

| 26. | Dichloormethylfosfine (676-83-5); |
| --- | --- |

26.

Dichloormethylfosfine (676-83-5);

| 27. | 2-Diisopropylaminoethanol (96-80-0); |
| --- | --- |

27.

2-Diisopropylaminoethanol (96-80-0);

| 28. | Pinacolylalcohol (464-07-3); |
| --- | --- |

28.

Pinacolylalcohol (464-07-3);

| 29. | ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR O-Ethyl-2-diisopropylaminoethyl-methylfosfoniet (QL) (57856-11-8); |
| --- | --- |

29.

ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR O-Ethyl-2-diisopropylaminoethyl-methylfosfoniet (QL) (57856-11-8);

| 30. | Triethylfosfiet (122-52-1); |
| --- | --- |

30.

Triethylfosfiet (122-52-1);

| 31. | Arseentrichloride (7784-34-1); |
| --- | --- |

31.

Arseentrichloride (7784-34-1);

| 32. | Benzilzuur (76-93-7); |
| --- | --- |

32.

Benzilzuur (76-93-7);

| 33. | Diethylmethylfosfoniet (15715-41-0); |
| --- | --- |

33.

Diethylmethylfosfoniet (15715-41-0);

| 34. | Dimethylethylfosfonaat (6163-75-3); |
| --- | --- |

34.

Dimethylethylfosfonaat (6163-75-3);

| 35. | Difluorethylfosfine (430-78-4); |
| --- | --- |

35.

Difluorethylfosfine (430-78-4);

| 36. | Difluormethylfosfine (753-59-3); |
| --- | --- |

36.

Difluormethylfosfine (753-59-3);

| 37. | Chinuclidine-3-on (3731-38-2); |
| --- | --- |

37.

Chinuclidine-3-on (3731-38-2);

| 38. | Fosforpentachloride (10026-13-8); |
| --- | --- |

38.

Fosforpentachloride (10026-13-8);

| 39. | Pinacolon (75-97-8); |
| --- | --- |

39.

Pinacolon (75-97-8);

| 40. | Kaliumcyanide (151-50-8); |
| --- | --- |

40.

Kaliumcyanide (151-50-8);

| 41. | Kaliumbifluoride (7789-29-9); |
| --- | --- |

41.

Kaliumbifluoride (7789-29-9);

| 42. | Ammoniumbifluoride (1341-49-7); |
| --- | --- |

42.

Ammoniumbifluoride (1341-49-7);

| 43. | Natriumfluoride (7681-49-4); |
| --- | --- |

43.

Natriumfluoride (7681-49-4);

| 44. | Natriumbifluoride (1333-83-1); |
| --- | --- |

44.

Natriumbifluoride (1333-83-1);

| 45. | Natriumcyanide (143-33-9); |
| --- | --- |

45.

Natriumcyanide (143-33-9);

| 46. | Triethanolamine (102-71-6); |
| --- | --- |

46.

Triethanolamine (102-71-6);

| 47. | Fosforpentasulfide (1314-80-3); |
| --- | --- |

47.

Fosforpentasulfide (1314-80-3);

| 48. | Diisopropylamine (108-18-9); |
| --- | --- |

48.

Diisopropylamine (108-18-9);

| 49. | 2-Diethylaminoethanol (100-37-8); |
| --- | --- |

49.

2-Diethylaminoethanol (100-37-8);

| 50. | Natriumsulfide (1313-82-2); |
| --- | --- |

50.

Natriumsulfide (1313-82-2);

| 51. | Zwavelmonochloride (10025-67-9); |
| --- | --- |

51.

Zwavelmonochloride (10025-67-9);

| 52. | Zwaveldichloride (10545-99-0); |
| --- | --- |

52.

Zwaveldichloride (10545-99-0);

| 53. | Triethanolamine hydrochloride (637-39-8); |
| --- | --- |

53.

Triethanolamine hydrochloride (637-39-8);

| 54. | 2-Chloorethyldiisopropyl-ammoniumchloride (4261-68-1); |
| --- | --- |

54.

2-Chloorethyldiisopropyl-ammoniumchloride (4261-68-1);

| 55. | Methylfosfonzuur (993-13-5); |
| --- | --- |

55.

Methylfosfonzuur (993-13-5);

| 56. | Diethylethylfosfonaat (683-08-9); |
| --- | --- |

56.

Diethylethylfosfonaat (683-08-9);

| 57. | N,N-dymethylaminofosforyldichloride (677-43-0); |
| --- | --- |

57.

N,N-dymethylaminofosforyldichloride (677-43-0);

| 58. | Tri-isopropylfosfiet (116-17-6); |
| --- | --- |

58.

Tri-isopropylfosfiet (116-17-6);

| 59. | Ethyldiethanolamine (139-87-7); |
| --- | --- |

59.

Ethyldiethanolamine (139-87-7);

| 60. | O,O-diethylfosforothioaat (2465-65-8); |
| --- | --- |

60.

O,O-diethylfosforothioaat (2465-65-8);

| 61. | O,O-diethylfosforodithioaat (298-06-6); |
| --- | --- |

61.

O,O-diethylfosforodithioaat (298-06-6);

| 62. | Natriumhexafluorosilicaat (16893-85-9); |
| --- | --- |

62.

Natriumhexafluorosilicaat (16893-85-9);

| 63. | Methylfosfonthiodichloride (676-98-2). |
| --- | --- |

63.

Methylfosfonthiodichloride (676-98-2).

Noot 1: Voor uitvoer naar "Staten die geen partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens" worden in 1C350 niet bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van de in de punten 1C350.1, .3, .5, .11, .12, .13, .17, .18, .21, .22, .26, .27, .28, .31, .32, .33, .34, .35, .36, .54, .55, .56, .57 en .63 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 10 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt.

Noot 2: Voor uitvoer naar "Staten die partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens" worden in 1C350 niet bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van de in de punten 1C350.1, .3, .5, .11, .12, .13, .17, .18, .21, .22, .26, .27, .28, .31, .32, .33, .34, .35, .36, .54, .55, .56, .57 en .63 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 30 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt.

Noot 3: In 1C350 worden niet bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van de in de punten 1C350.2, .6, .7, .8, .9, .10, .14, .15, .16, .19, .20, .24, .25, .30, .37, .38, .39, .40, .41, .42, .43, .44, .45, .46, .47, .48, .49, .50, .51, .52, .53, .58, .59, .60, .61 en .62 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 30 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt.

Noot 4: In 1C350 worden niet bedoeld producten waarvan is vastgesteld dat het gaat om verpakte consumptiegoederen voor de detailhandelverkoop voor persoonlijk gebruik of verpakte consumptiegoederen voor individueel gebruik.

1C351Humane pathogenen, zoönosen en "toxinen", als hieronder:

| a. | virussen, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:






  1. | Chikungunyavirus; |
| --- | --- | --- |

a.

virussen, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:

1.

Chikungunyavirus;

| 2. | Haemorragische-Krim-Kongokoortsvirus (CCHF-virus); |
| --- | --- |

2.

Haemorragische-Krim-Kongokoortsvirus (CCHF-virus);

| 3. | Denguevirus; |
| --- | --- |

3.

Denguevirus;

| 4. | Eastern equine encefalitisvirus; |
| --- | --- |

4.

Eastern equine encefalitisvirus;

| 5. | Ebolavirus; |
| --- | --- |

5.

Ebolavirus;

| 6. | Hantaanvirus; |
| --- | --- |

6.

Hantaanvirus;

| 7. | Juninvirus; |
| --- | --- |

7.

Juninvirus;

| 8. | Lassavirus; |
| --- | --- |

8.

Lassavirus;

| 9. | Lymfocytaire-choriomeningitisvirus; |
| --- | --- |

9.

Lymfocytaire-choriomeningitisvirus;

| 10. | Machupovirus; |
| --- | --- |

10.

Machupovirus;

| 11. | Marburgvirus; |
| --- | --- |

11.

Marburgvirus;

| 12. | Apenpokkenvirus; |
| --- | --- |

12.

Apenpokkenvirus;

| 13. | Rift Valleyvirus; |
| --- | --- |

13.

Rift Valleyvirus;

| 14. | Tekenencephalitisvirus (RSSE-virus); |
| --- | --- |

14.

Tekenencephalitisvirus (RSSE-virus);

| 15. | Variolavirus; |
| --- | --- |

15.

Variolavirus;

| 16. | Venezuelan equine encefalitisvirus; |
| --- | --- |

16.

Venezuelan equine encefalitisvirus;

| 17. | Western equine encefalitisvirus; |
| --- | --- |

17.

Western equine encefalitisvirus;

| 18. | Witte-pokkenvirus; |
| --- | --- |

18.

Witte-pokkenvirus;

| 19. | Gele-koortsvirus; |
| --- | --- |

19.

Gele-koortsvirus;

| 20. | Japanse-encefalitisvirus; |
| --- | --- |

20.

Japanse-encefalitisvirus;

| 21. | Kyasanur Forest-virus; |
| --- | --- |

21.

Kyasanur Forest-virus;

| 22. | Louping ill-virus; |
| --- | --- |

22.

Louping ill-virus;

| 23. | Murray Valley-encefalitisvirus; |
| --- | --- |

23.

Murray Valley-encefalitisvirus;

| 24. | Omsk hemorragische-koortsvirus; |
| --- | --- |

24.

Omsk hemorragische-koortsvirus;

| 25. | Oropouche-virus; |
| --- | --- |

25.

Oropouche-virus;

| 26. | Powassan-virus; |
| --- | --- |

26.

Powassan-virus;

| 27. | Rocio-virus; |
| --- | --- |

27.

Rocio-virus;

| 28. | Saint-Louis-encefalitisvirus; |
| --- | --- |

28.

Saint-Louis-encefalitisvirus;

| 29. | Hendra-virus (Equine-morbillivirus); |
| --- | --- |

29.

Hendra-virus (Equine-morbillivirus);

| 30. | Zuid-Amerikaanse hemorragische koorts (Sabia, Flexal, Guanarito); |
| --- | --- |

30.

Zuid-Amerikaanse hemorragische koorts (Sabia, Flexal, Guanarito);

| 31. | Virussen die een hemorragische koorts met pulmonair en renaal syndroom veroorzaken (Seoul, Dobrava, Puumala, Sin Nombre); |
| --- | --- |

31.

Virussen die een hemorragische koorts met pulmonair en renaal syndroom veroorzaken (Seoul, Dobrava, Puumala, Sin Nombre);

| 32. | Nipah-virus |
| --- | --- |

32.

Nipah-virus

| b. | rickettsiën, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:






  1. | Coxiella burnetii; |
| --- | --- | --- |

b.

rickettsiën, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:

1.

Coxiella burnetii;

| 2. | Bartonella quintana (Rochalimaea quintana, Rickettsia quintana); |
| --- | --- |

2.

Bartonella quintana (Rochalimaea quintana, Rickettsia quintana);

| 3. | Rickettsia prowasecki; |
| --- | --- |

3.

Rickettsia prowasecki;

| 4. | Rickettsia rickettsii; |
| --- | --- |

4.

Rickettsia rickettsii;

| c. | bacteriën, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van geïsoleerde levende culturen of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:






  1. | Bacillus anthracis; |
| --- | --- | --- |

c.

bacteriën, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van geïsoleerde levende culturen of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:

1.

Bacillus anthracis;

| 2. | Brucella abortus; |
| --- | --- |

2.

Brucella abortus;

| 3. | Brucella melitensis; |
| --- | --- |

3.

Brucella melitensis;

| 4. | Brucella suis; |
| --- | --- |

4.

Brucella suis;

| 5. | Chlamydia psittaci; |
| --- | --- |

5.

Chlamydia psittaci;

| 6. | Chlostridium botulinum; |
| --- | --- |

6.

Chlostridium botulinum;

| 7. | Francisella tularensis; |
| --- | --- |

7.

Francisella tularensis;

| 8. | Burkholderia mallei (Pseudomonas mallei); |
| --- | --- |

8.

Burkholderia mallei (Pseudomonas mallei);

| 9. | Burkholderia pseudomallei (Pseudomonas pseudomallei); |
| --- | --- |

9.

Burkholderia pseudomallei (Pseudomonas pseudomallei);

| 10. | Salmonella typhi; |
| --- | --- |

10.

Salmonella typhi;

| 11. | Shigella dysenteriae; |
| --- | --- |

11.

Shigella dysenteriae;

| 12. | Vibrio cholerae; |
| --- | --- |

12.

Vibrio cholerae;

| 13. | Yersinia pestis; |
| --- | --- |

13.

Yersinia pestis;

| 14. | Clostridium perfringens epsilontoxine-producerende types; |
| --- | --- |

14.

Clostridium perfringens epsilontoxine-producerende types;

| 15. | Enterohemorragische Escherichia coli serotype O157 en andere verotoxineproducerende serotypes. |
| --- | --- |

15.

Enterohemorragische Escherichia coli serotype O157 en andere verotoxineproducerende serotypes.

| d. | "toxinen", als hieronder, alsmede "subeenheden van toxinen" daarvan:






  1. | Botulinum toxinen; |
| --- | --- | --- |

d.

"toxinen", als hieronder, alsmede "subeenheden van toxinen" daarvan:

1.

Botulinum toxinen;

| 2. | Clostridium perfringens toxinen; |
| --- | --- |

2.

Clostridium perfringens toxinen;

| 3. | Conotoxine; |
| --- | --- |

3.

Conotoxine;

| 4. | Ricine; |
| --- | --- |

4.

Ricine;

| 5. | Saxitoxine; |
| --- | --- |

5.

Saxitoxine;

| 6. | Shigatoxine; |
| --- | --- |

6.

Shigatoxine;

| 7. | Staphylococcus aureus toxinen; |
| --- | --- |

7.

Staphylococcus aureus toxinen;

| 8. | Tetrodotoxine; |
| --- | --- |

8.

Tetrodotoxine;

| 9. | Verotoxine; |
| --- | --- |

9.

Verotoxine;

| 10. | Microcystine (Cyanginosine); |
| --- | --- |

10.

Microcystine (Cyanginosine);

| 11. | Aflatoxinen; |
| --- | --- |

11.

Aflatoxinen;

| 12. | Abrine; |
| --- | --- |

12.

Abrine;

| 13. | Choleratoxine; |
| --- | --- |

13.

Choleratoxine;

| 14. | Diacetoxyscirpenol; |
| --- | --- |

14.

Diacetoxyscirpenol;

| 15. | T-2-toxine; |
| --- | --- |

15.

T-2-toxine;

| 16. | HT-2-toxine; |
| --- | --- |

16.

HT-2-toxine;

| 17. | Modeccine; |
| --- | --- |

17.

Modeccine;

| 18. | Volkensine; |
| --- | --- |

18.

Volkensine;

| 19. | Viscum album lectine 1 (Viscumine). |
| --- | --- |

19.

Viscum album lectine 1 (Viscumine).

Noot: 1C351.d. is niet van toepassing op botulinum toxinen of conotoxinen als product dat aan alle navolgende criteria voldoet:

| 1. | het gaat om farmaceutische formules, ontwikkeld om aan de mens te worden toegediend bij de behandeling van een aandoening; |
| --- | --- |

1.

het gaat om farmaceutische formules, ontwikkeld om aan de mens te worden toegediend bij de behandeling van een aandoening;

| 2. | zij zijn voorverpakt om als geneesmiddelen te worden verhandeld; |
| --- | --- |

2.

zij zijn voorverpakt om als geneesmiddelen te worden verhandeld;

| 3. | een overheidsinstantie heeft een vergunning afgegeven om ze als geneesmiddel in de handel te brengen. |
| --- | --- |

3.

een overheidsinstantie heeft een vergunning afgegeven om ze als geneesmiddel in de handel te brengen.

Noot: 1C351 is niet van toepassing op "vaccins" of "immunotoxinen".

1C352Dierpathogenen, als hieronder:

| a. | virussen, natuurlijk versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:






  1. | Afrikaanse varkenspestvirus; |
| --- | --- | --- |

a.

virussen, natuurlijk versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:

1.

Afrikaanse varkenspestvirus;

| 2. | Aviaire-influenzavirus, hetzij:






  a. | niet-gekarakteriseerd, hetzij |
| --- | --- | --- |

2.

Aviaire-influenzavirus, hetzij:

a.

niet-gekarakteriseerd, hetzij

| b. | zoals omschreven in Richtlijn 92/40/EEG (PB nr. L 167 van 22.6.1992, blz. 1) met een hoge pathogeniteitsindex, als hieronder:






  1. | type A-virussen met een IVPI (intraveneuze pathogeniteitsindex) bij zes weken oude kuikens van meer dan 1,2, of |
| --- | --- | --- |

b.

zoals omschreven in Richtlijn 92/40/EEG (PB nr. L 167 van 22.6.1992, blz. 1) met een hoge pathogeniteitsindex, als hieronder:

1.

type A-virussen met een IVPI (intraveneuze pathogeniteitsindex) bij zes weken oude kuikens van meer dan 1,2, of

| 2. | type A-virussen, subtype H5 of H7, waarvoor door middel van «sequencing» van de nucleotiden is aangetoond dat verschillende basische aminozuren aanwezig zijn aan de breukzijde van het hemaglutinine; |
| --- | --- |

2.

type A-virussen, subtype H5 of H7, waarvoor door middel van «sequencing» van de nucleotiden is aangetoond dat verschillende basische aminozuren aanwezig zijn aan de breukzijde van het hemaglutinine;

| 3. | Bluetonguevirus; |
| --- | --- |

3.

Bluetonguevirus;

| 4. | Mond- en klauwzeervirus; |
| --- | --- |

4.

Mond- en klauwzeervirus;

| 5. | Geitenpokkenvirus; |
| --- | --- |

5.

Geitenpokkenvirus;

| 6. | Virus van de ziekte van Aujeszky; |
| --- | --- |

6.

Virus van de ziekte van Aujeszky;

| 7. | Klassieke-varkenspestvirus; |
| --- | --- |

7.

Klassieke-varkenspestvirus;

| 8. | Lyssavirus; |
| --- | --- |

8.

Lyssavirus;

| 9. | Virus van de ziekte van Newcastle (pseudovogelpestvirus); |
| --- | --- |

9.

Virus van de ziekte van Newcastle (pseudovogelpestvirus);

| 10. | Virus van de kleine-herkauwerspest; |
| --- | --- |

10.

Virus van de kleine-herkauwerspest;

| 11. | Porcien enterovirus type 9 (vesiculaire-varkensziektevirus); |
| --- | --- |

11.

Porcien enterovirus type 9 (vesiculaire-varkensziektevirus);

| 12. | Runderpestvirus; |
| --- | --- |

12.

Runderpestvirus;

| 13. | Schapenpokkenvirus; |
| --- | --- |

13.

Schapenpokkenvirus;

| 14. | Virus van de ziekte van Teschen; |
| --- | --- |

14.

Virus van de ziekte van Teschen;

| 15. | Vesiculaire-stomatitisvirus; |
| --- | --- |

15.

Vesiculaire-stomatitisvirus;

| 16. | Virus van de nodulaire dermatose bij runderen; |
| --- | --- |

16.

Virus van de nodulaire dermatose bij runderen;

| 17. | Afrikaanse-paardenpestvirus. |
| --- | --- |

17.

Afrikaanse-paardenpestvirus.

| b. | mycoplasma mycoides, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met mycoplasma mycoides is geïnoculeerd of besmet. |
| --- | --- |

b.

mycoplasma mycoides, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met mycoplasma mycoides is geïnoculeerd of besmet.

Noot: 1C352 is niet van toepassing op "vaccins".

1C353Genetische elementen en genetisch gemodificeerde organismen, als hieronder:

| a. | genetisch gemodificeerde organismen, of genetische elementen die de nucleïnezuursequenties bevatten die de pathogeniteit bepalen van de organismen, bedoeld in 1C351.a t/m 1C351.c, 1C352 of 1C354; |
| --- | --- |

a.

genetisch gemodificeerde organismen, of genetische elementen die de nucleïnezuursequenties bevatten die de pathogeniteit bepalen van de organismen, bedoeld in 1C351.a t/m 1C351.c, 1C352 of 1C354;

| b. | genetisch gemodificeerde organismen, of genetische elementen die nucleïnezuursequenties bevatten die coderen voor een van de "toxinen" bedoeld in 1C351.d of "subeenheden van toxinen" daarvan. |
| --- | --- |

b.

genetisch gemodificeerde organismen, of genetische elementen die nucleïnezuursequenties bevatten die coderen voor een van de "toxinen" bedoeld in 1C351.d of "subeenheden van toxinen" daarvan.

Technische noten:

| 1. | Genetische elementen omvatten, onder andere, chromosomen, genomen, plasmiden, transposons en vectoren, al dan niet genetisch gemodificeerd. |
| --- | --- |

1.

Genetische elementen omvatten, onder andere, chromosomen, genomen, plasmiden, transposons en vectoren, al dan niet genetisch gemodificeerd.

| 2. | Onder nucleïnezuursequenties die de pathogeniteit bepalen van de micro-organismen bedoeld in 1C351.a t/m 1C351.c, 1 C352 of 1C354 wordt verstaan een voor het gespecificeerd micro-organisme specifieke sequentie







  a. | die op zichzelf of via de door transcriptie of translatie ontstane producten een aanzienlijk gevaar voor de gezondheid van mensen, dieren of planten oplevert; of |
| --- | --- | --- |

2.

Onder nucleïnezuursequenties die de pathogeniteit bepalen van de micro-organismen bedoeld in 1C351.a t/m 1C351.c, 1 C352 of 1C354 wordt verstaan een voor het gespecificeerd micro-organisme specifieke sequentie

a.

die op zichzelf of via de door transcriptie of translatie ontstane producten een aanzienlijk gevaar voor de gezondheid van mensen, dieren of planten oplevert; of

| b. | waarvan bekend is dat zij het vermogen versterkt van een specifiek micro-organisme, of enig organisme waarin dat micro-organisme kan worden ingebracht of anderszins geïntegreerd, om ernstige schade te berokkenen aan de gezondheid van mensen, dieren of planten. |
| --- | --- |

b.

waarvan bekend is dat zij het vermogen versterkt van een specifiek micro-organisme, of enig organisme waarin dat micro-organisme kan worden ingebracht of anderszins geïntegreerd, om ernstige schade te berokkenen aan de gezondheid van mensen, dieren of planten.

Noot: 1C353 is niet van toepassing op nucleïnezuursequenties die de pathogeniteit bepalen van enterohemorragische Escherichia coli serotype O157 en andere verotoxineproducerende stammen dan die welke coderen voor verotoxine of subeenheden daarvan.

1C354Plantpathogenen, als hieronder:

| a. | virussen, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van geïsoleerde levende culturen of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:






  1. | Potato Andean latent tymovirus; |
| --- | --- | --- |

a.

virussen, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van geïsoleerde levende culturen of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:

1.

Potato Andean latent tymovirus;

| 2. | Potato spindle tuber viroid; |
| --- | --- |

2.

Potato spindle tuber viroid;

| b. | bacteriën, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:






  1. | Xanthomonas albilineans; |
| --- | --- | --- |

b.

bacteriën, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:

1.

Xanthomonas albilineans;

| 2. | Xanthomonas campestris pv. citri., met inbegrip van stammen, aangeduid als Xanthomonas campestris pv. citri types A, B, C, D, E of anderszins ingedeeld als Xanthomonas citri, Xanthomonas campestris pv. aurantifolia of Xanthomonas campestris pv. citrumelo; |
| --- | --- |

2.

Xanthomonas campestris pv. citri., met inbegrip van stammen, aangeduid als Xanthomonas campestris pv. citri types A, B, C, D, E of anderszins ingedeeld als Xanthomonas citri, Xanthomonas campestris pv. aurantifolia of Xanthomonas campestris pv. citrumelo;

| 3. | Xanthomonas oryzae pv. Oryzae (Pseudomonas campestris pv. Oryzae); |
| --- | --- |

3.

Xanthomonas oryzae pv. Oryzae (Pseudomonas campestris pv. Oryzae);

| 4. | Clavibacter michiganensis subsp. Sepedonicus (Corynebacterium michiganensis subsp. Sepedonicum of Corynebacterium Sepedonicum); |
| --- | --- |

4.

Clavibacter michiganensis subsp. Sepedonicus (Corynebacterium michiganensis subsp. Sepedonicum of Corynebacterium Sepedonicum);

| 5. | Ralstonia solanacearum Rassen 2 en 3 (Pseudomonas solanacearum Rassen 2 en 3 of Burkholderia solanacearum Rassen 2 en 3); |
| --- | --- |

5.

Ralstonia solanacearum Rassen 2 en 3 (Pseudomonas solanacearum Rassen 2 en 3 of Burkholderia solanacearum Rassen 2 en 3);

| c. | schimmels, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:






  1. | Colletotrichum coffeanum var. virulans (colletotrichum kahawae); |
| --- | --- | --- |

c.

schimmels, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:

1.

Colletotrichum coffeanum var. virulans (colletotrichum kahawae);

| 2. | Cochliobolus miyabeanus (Helminthosporium oryzae); |
| --- | --- |

2.

Cochliobolus miyabeanus (Helminthosporium oryzae);

| 3. | Microcyclus ulei (syn. Dothidella ulei); |
| --- | --- |

3.

Microcyclus ulei (syn. Dothidella ulei);

| 4. | Puccinia graminis (syn. Puccinia graminis f. sp. tritici); |
| --- | --- |

4.

Puccinia graminis (syn. Puccinia graminis f. sp. tritici);

| 5. | Puccinia striiformis (syn. Puccinia glumarum); |
| --- | --- |

5.

Puccinia striiformis (syn. Puccinia glumarum);

| 6. | Magnaporthe grisea (Pyricularia grisea/Pyricularia oryzae). |
| --- | --- |

6.

Magnaporthe grisea (Pyricularia grisea/Pyricularia oryzae).

1C450Giftige chemische stoffen en voorlopers van giftige chemische stoffen, als hieronder, en "chemische mengsels" die een of meer van deze stoffen bevatten:

NB: ZIE OOK 1C350, 1C351.d EN DE LIJST MILITAIRE GOEDEREN

| a. | Giftige chemische stoffen, als hieronder:






  1. | amiton: O,O-diethyl-S-[2-(diethylamino)ethyl]fosforthiolaat (78-53-5) en de overeenkomstige gealkyleerde of geprotoneerde zouten; |
| --- | --- | --- |

a.

Giftige chemische stoffen, als hieronder:

1.

amiton: O,O-diethyl-S-[2-(diethylamino)ethyl]fosforthiolaat (78-53-5) en de overeenkomstige gealkyleerde of geprotoneerde zouten;

| 2. | PFIB: 1,1,3,3,3-pentafluor-2-(trifluormethyl)-1-propeen (382-21-8); |
| --- | --- |

2.

PFIB: 1,1,3,3,3-pentafluor-2-(trifluormethyl)-1-propeen (382-21-8);

| 3. | ZIE LIJST VAN MILITAIRE GOEDEREN VOOR BZ: 3-quinuclidinylbenzilaat (6581-06-2); |
| --- | --- |

3.

ZIE LIJST VAN MILITAIRE GOEDEREN VOOR BZ: 3-quinuclidinylbenzilaat (6581-06-2);

| 4. | fosgeen: carbonyldichloride (75-44-5); |
| --- | --- |

4.

fosgeen: carbonyldichloride (75-44-5);

| 5. | chloorcyaan (506-77-4); |
| --- | --- |

5.

chloorcyaan (506-77-4);

| 6. | cyaanwaterstof (74-90-8); |
| --- | --- |

6.

cyaanwaterstof (74-90-8);

| 7. | chloorpicrine: trichloornitromethaan (76-06-2); |
| --- | --- |

7.

chloorpicrine: trichloornitromethaan (76-06-2);

Noot 1: Voor uitvoer naar "Staten die geen partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens" worden in 1C450 niet bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van de in de punten 1C450.a.1 en .a.2 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 1 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt.

Noot 2: Voor uitvoer naar "Staten die partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens" worden in 1C450 niet bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van de in de punten 1C450.a.1 en .a.2 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 30 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt.

Noot 3: In 1C450 worden niet bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van de in de punten 1C450.a.4, .a.5., .a.6 en .a.7 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 30 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt.

| b. | Voorlopers van giftige chemische stoffen, als hieronder:






  1. | stoffen, behalve die welke zijn opgenomen in de Lijst van militaire goederen of in 1C350, die een fosforatoom bevatten met daaraan gebonden een methyl-, ethyl- of (normale of iso-) propylgroep maar geen andere koolstofatomen;


  Noot: 1C450.b.1. is niet van toepassing op Fonofos: O-ethyl-S-fenylethyl-fosfonthiolthionaat (944-22-9); |
| --- | --- | --- |

b.

Voorlopers van giftige chemische stoffen, als hieronder:

1.

stoffen, behalve die welke zijn opgenomen in de Lijst van militaire goederen of in 1C350, die een fosforatoom bevatten met daaraan gebonden een methyl-, ethyl- of (normale of iso-) propylgroep maar geen andere koolstofatomen;

Noot: 1C450.b.1. is niet van toepassing op Fonofos: O-ethyl-S-fenylethyl-fosfonthiolthionaat (944-22-9);

| 2. | N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso-)propyl]fosforamidodihalogeniden; |
| --- | --- |

2.

N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso-)propyl]fosforamidodihalogeniden;

| 3. | andere dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso-)propyl]-N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso-)propyl]fosforamidaten dan diethyl-N,N-dimethylfosforamidaat, dat genoemd wordt in 1C350; |
| --- | --- |

3.

andere dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso-)propyl]-N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso-)propyl]fosforamidaten dan diethyl-N,N-dimethylfosforamidaat, dat genoemd wordt in 1C350;

| 4. | andere N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso-)propyl]aminoethyl-2-chloriden en overeenkomstige geprotoneerde zouten dan N,N-diisopropyl-(beta)-aminoethylchloride of N,N-diisopropyl-(beta)-amionoethylchloride - hydrochloride, die genoemd worden in 1C350; |
| --- | --- |

4.

andere N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso-)propyl]aminoethyl-2-chloriden en overeenkomstige geprotoneerde zouten dan N,N-diisopropyl-(beta)-aminoethylchloride of N,N-diisopropyl-(beta)-amionoethylchloride - hydrochloride, die genoemd worden in 1C350;

| 5. | andere N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso-) propyl]aminoethaan-2-olen en overeenkomstige geprotoneerde zouten dan N,N-diisopropyl-(beta)-aminoethanol (96-800), en N,N-diethylaminoethanol (100-37-8) die genoemd worden in 1C350;


  Noot: 1C450.b.5. is niet van toepassing op:








  a) | N,N-dimethylaminoethanol (108-01-0) en overeenkomstige geprotoneerde zouten; |
| --- | --- | --- |

5.

andere N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso-) propyl]aminoethaan-2-olen en overeenkomstige geprotoneerde zouten dan N,N-diisopropyl-(beta)-aminoethanol (96-800), en N,N-diethylaminoethanol (100-37-8) die genoemd worden in 1C350;

Noot: 1C450.b.5. is niet van toepassing op:

a)

N,N-dimethylaminoethanol (108-01-0) en overeenkomstige geprotoneerde zouten;

| b) | geprotoneerde zouten van N,N-diethylaminoethanol (100-37-8); |
| --- | --- |

b)

geprotoneerde zouten van N,N-diethylaminoethanol (100-37-8);

| 6. | andere N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso-)propyl]aminoethaan-2-thiolen en overeenkomstige geprotoneerde zouten dan N,N-diisopropyl-(beta)-aminoethaanthiol, dat genoemd wordt in 1C350; |
| --- | --- |

6.

andere N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso-)propyl]aminoethaan-2-thiolen en overeenkomstige geprotoneerde zouten dan N,N-diisopropyl-(beta)-aminoethaanthiol, dat genoemd wordt in 1C350;

| 7. | Zie 1C350 voor ethyldiethanolamine (139-87-7); |
| --- | --- |

7.

Zie 1C350 voor ethyldiethanolamine (139-87-7);

| 8. | methyldiethanolamine (105-59-9). |
| --- | --- |

8.

methyldiethanolamine (105-59-9).

Noot 1: Voor uitvoer naar "Staten die geen partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens" worden in 1C450 niet bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van de in de punten 1C450.b.1, .b.2, .b.3, .b.4, .b.5 en .b.6 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 10 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt.

Noot 2: Voor uitvoer naar "Staten die partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens" worden in 1C450 niet bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van de in de 1C450.b.1, .b.2, .b.3, .b.4, .b.5 en .b.6 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 30 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt.

Noot 3: In 1C450 worden niet bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van de in punt 1C450.b.8. vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 30 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt.

Noot: In 1C450 worden niet bedoeld producten waarvan is vastgesteld dat het gaat om verpakte consumptiegoederen voor de detailhandelverkoop voor persoonlijk gebruik of verpakte consumptiegoederen voor individueel gebruik.

1DProgrammatuur

1D001"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van goederen, bedoeld in 1B001, 1B002 en 1B003.

1D002"Programmatuur" voor de "ontwikkeling" van laminaten of "composieten" met een organische "matrix", een metaal-"matrix" of een koolstof-"matrix".

1D101"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor het "gebruik" van de in 1B101, 1B102, 1B115, 1B117, 1B118 of 1B119 bedoelde goederen.

1D103"Programmatuur", speciaal ontwikkeld voor de analyse van de beperking van de zichtbaarheid zoals de radarreflectie, het ultraviolet/infrarood of akoestisch beeld.

1D201"Programmatuur", speciaal ontwikkeld voor het "gebruik" van de in 1B201 bedoelde goederen.

1ETechnologie

1E001"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" of "productie" van apparatuur of materialen, bedoeld in 1A001.b, 1A001.c, 1A002 tot en met 1A005, 1B en 1C.

1E002Andere "technologie", als hieronder:

| a. | "technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van polybenzothiazolen of polybenzoxazolen; |
| --- | --- |

a.

"technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van polybenzothiazolen of polybenzoxazolen;

| b. | "technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van fluorelastomeerverbindingen die ten minste één vinylethermonomeer bevatten; |
| --- | --- |

b.

"technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van fluorelastomeerverbindingen die ten minste één vinylethermonomeer bevatten;

| c. | "technologie" voor het ontwerpen of de "productie" van de volgende basismaterialen of keramische materialen, niet zijnde "composieten":






  1. | basismaterialen met alle volgende kenmerken:






  a. | met een van de onderstaande samenstellingen:






  1. | enkelvoudige of meervoudige oxiden van zirkonium en meervoudige oxiden van silicium of aluminium; |
| --- | --- | --- | --- | --- |

c.

"technologie" voor het ontwerpen of de "productie" van de volgende basismaterialen of keramische materialen, niet zijnde "composieten":

1.

basismaterialen met alle volgende kenmerken:

a.

met een van de onderstaande samenstellingen:

1.

enkelvoudige of meervoudige oxiden van zirkonium en meervoudige oxiden van silicium of aluminium;

| 2. | enkelvoudige nitriden van boor (de kubusvormige kristalvormen); |
| --- | --- |

2.

enkelvoudige nitriden van boor (de kubusvormige kristalvormen);

| 3. | enkelvoudige of meervoudige carbiden van silicium of boor; of |
| --- | --- |

3.

enkelvoudige of meervoudige carbiden van silicium of boor; of

| 4. | enkelvoudige of meervoudige nitriden van silicium; |
| --- | --- |

4.

enkelvoudige of meervoudige nitriden van silicium;

| b. | met een totale hoeveelheid metallische verontreiniging, exclusief opzettelijke toevoegingen, van minder dan:






  1. | 1 000 ppm voor enkelvoudige oxiden of carbiden; of |
| --- | --- | --- |

b.

met een totale hoeveelheid metallische verontreiniging, exclusief opzettelijke toevoegingen, van minder dan:

1.

1 000 ppm voor enkelvoudige oxiden of carbiden; of

| 2. | 5 000 ppm voor meervoudige verbindingen of enkelvoudige nitriden; en |
| --- | --- |

2.

5 000 ppm voor meervoudige verbindingen of enkelvoudige nitriden; en

| c. | zijnde een van de navolgende materialen:






  1. | zirkoonoxide met een gemiddelde deeltjesgrootte kleiner dan of gelijk aan 1 micrometer terwijl niet meer dan 10 % van de deeltjes groter is dan 5 micrometer; |
| --- | --- | --- |

c.

zijnde een van de navolgende materialen:

1.

zirkoonoxide met een gemiddelde deeltjesgrootte kleiner dan of gelijk aan 1 micrometer terwijl niet meer dan 10 % van de deeltjes groter is dan 5 micrometer;

| 2. | andere basismaterialen met een gemiddelde deeltjesgrootte kleiner dan of gelijk aan 5 micrometer terwijl niet meer dan 10 % van de deeltjes groter is dan 10 micrometer; of |
| --- | --- |

2.

andere basismaterialen met een gemiddelde deeltjesgrootte kleiner dan of gelijk aan 5 micrometer terwijl niet meer dan 10 % van de deeltjes groter is dan 10 micrometer; of

| 3. | met alle navolgende eigenschappen:






  a. | plaatjes waarvan de verhouding tussen lengte en dikte groter is dan 5; |
| --- | --- | --- |

3.

met alle navolgende eigenschappen:

a.

plaatjes waarvan de verhouding tussen lengte en dikte groter is dan 5;

| b. | whiskers waarvan de verhouding tussen lengte en diameter groter is dan 10, bij een diameter kleiner dan 2 micrometer, en |
| --- | --- |

b.

whiskers waarvan de verhouding tussen lengte en diameter groter is dan 10, bij een diameter kleiner dan 2 micrometer, en

| c. | continu- of stapelvezels met een diameter kleiner dan 10 micrometer; |
| --- | --- |

c.

continu- of stapelvezels met een diameter kleiner dan 10 micrometer;

| 2. | keramische materialen, niet zijnde "composieten", samengesteld uit de materialen omschreven in 1E002.c.1;


  Noot: 1E002.c.2 is niet van toepassing op de "technologie" voor het ontwerpen of vervaardigen van slijpmiddelen. |
| --- | --- |

2.

keramische materialen, niet zijnde "composieten", samengesteld uit de materialen omschreven in 1E002.c.1;

Noot: 1E002.c.2 is niet van toepassing op de "technologie" voor het ontwerpen of vervaardigen van slijpmiddelen.

| d. | "technologie" voor de "productie" van aromatische polyamidevezels; |
| --- | --- |

d.

"technologie" voor de "productie" van aromatische polyamidevezels;

| e. | "technologie" voor het installeren, onderhouden en repareren van materialen, bedoeld in 1C001; |
| --- | --- |

e.

"technologie" voor het installeren, onderhouden en repareren van materialen, bedoeld in 1C001;

| f. | "technologie" voor het repareren van "composieten", laminaten of materialen, bedoeld in 1A002, 1C007.c of d.


  Noot: 1E002.f is niet van toepassing op technologie voor de reparatie van casco’s van "civiele vliegtuigen" met koolstof-"stapel- of continuvezelmateriaal" en epoxyharsen, die is vermeld in de handleidingen van de vliegtuigfabrikant. |
| --- | --- |

f.

"technologie" voor het repareren van "composieten", laminaten of materialen, bedoeld in 1A002, 1C007.c of d.

Noot: 1E002.f is niet van toepassing op technologie voor de reparatie van casco’s van "civiele vliegtuigen" met koolstof-"stapel- of continuvezelmateriaal" en epoxyharsen, die is vermeld in de handleidingen van de vliegtuigfabrikant.

1E101"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot betreffende het "gebruik" van goederen, bedoeld in 1A102, 1B001, 1B101, 1B102, 1B115 tot en met 1B119, 1C001, 1C101, 1C107, 1C111 tot en met 1C117, 1D101 of 1D103.

1E102"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot betreffende de "ontwikkeling" van "programmatuur", bedoeld in 1D001, 1D101 of 1D103.

1E103"Technologie" voor het regelen van de temperatuur, druk of atmosfeer in autoclaven of hydroclaven indien gebruikt voor de "productie" van composieten of halffabrikaten van composieten.

1E104"Technologie" voor de "productie" van pyrolytisch gevormde materialen op een mal, doorn of ander substraat van gassen die ontleden bij temperaturen van 1 573 K (1 300 °C) tot 3 173 K (2 900 °C) en drukken van 130 Pa tot 20 kPa.

Noot: 1E104 omvat tevens "technologie" voor het samenstellen van voorlopergassen, schema’s en gegevens in verband met stroomsnelheden en procesregeling.

1E201"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot betreffende het "gebruik" van goederen, bedoeld in 1A002, 1A202, 1A225, 1A226, 1A227, 1B201, 1B225 t/m 1B233, 1C002.b.3. of b.4., 1C010.b, 1C202, 1C210, 1C216, 1C225 t/m 1C240 of 1D201.

1E202"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot betreffende de "ontwikkeling" of "productie" van goederen, bedoeld in 1A202, 1A225 tot en met 1A227.

1E203"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot betreffende de "ontwikkeling" van "programmatuur", bedoeld in 1D201.

CATEGORIE 2

MATERIAALBEWERKING

2ASystemen, apparatuur en onderdelen

NB: voor stillopende rollagers, zie Lijst militaire goederen.

2A001Wrijvingsloze rollagers of rollagersystemen, als hieronder, en onderdelen daarvan:

Noot: 2A001 is niet van toepassing op kogels met toleranties volgens opgave van de fabrikant volgens klasse 5 ISO-norm 3290 of slechter.

| a. | kogellagers of lagers met rollers uit één stuk met alle toleranties volgens opgave van de fabrikant volgens ISO 492 tolerantieklasse 4 (of ANSI/ABMA Std 20 tolerantieklasse ABEC-7 of RBEC-7, of andere nationale equivalenten), of beter, en met zowel ringen als rolelementen (ISO 5593) gemaakt van monel of beryllium;


  Noot: 2A001.a is niet van toepassing op kegelvormige rollagers. |
| --- | --- |

a.

kogellagers of lagers met rollers uit één stuk met alle toleranties volgens opgave van de fabrikant volgens ISO 492 tolerantieklasse 4 (of ANSI/ABMA Std 20 tolerantieklasse ABEC-7 of RBEC-7, of andere nationale equivalenten), of beter, en met zowel ringen als rolelementen (ISO 5593) gemaakt van monel of beryllium;

Noot: 2A001.a is niet van toepassing op kegelvormige rollagers.

| b. | andere kogellagers of lagers met rollers uit één stuk met alle toleranties volgens opgave van de fabrikant volgens ISO 492 tolerantieklasse 2 (of ANSI/ABMA Std 20 tolerantieklasse ABEC-9 of RBEC-9, of andere nationale equivalenten), of beter;


  Noot: 2A001.b is niet van toepassing op kegelvormige rollagers. |
| --- | --- |

b.

andere kogellagers of lagers met rollers uit één stuk met alle toleranties volgens opgave van de fabrikant volgens ISO 492 tolerantieklasse 2 (of ANSI/ABMA Std 20 tolerantieklasse ABEC-9 of RBEC-9, of andere nationale equivalenten), of beter;

Noot: 2A001.b is niet van toepassing op kegelvormige rollagers.

| c. | actieve magnetische lagersystemen waarbij gebruik wordt gemaakt van:






  1. | materialen met fluxdichtheden van 2.0 T of groter en een vloeigrens van meer dan 414 MPa; of |
| --- | --- | --- |

c.

actieve magnetische lagersystemen waarbij gebruik wordt gemaakt van:

1.

materialen met fluxdichtheden van 2.0 T of groter en een vloeigrens van meer dan 414 MPa; of

| 2. | volledig elektromagnetische 3D-homopolaire instelstroom — ontwerpen voor aandrijvers; of |
| --- | --- |

2.

volledig elektromagnetische 3D-homopolaire instelstroom — ontwerpen voor aandrijvers; of

| 3. | positiesensoren voor gebruik bij hoge temperaturen (450 K (177 °C) en hoger). |
| --- | --- |

3.

positiesensoren voor gebruik bij hoge temperaturen (450 K (177 °C) en hoger).

2A225Kroezen vervaardigd van metalen die bestand zijn tegen vloeibare actinidemetalen, als hieronder:

| a. | kroezen met beide hiernavolgende kenmerken:






  1. | een inhoud van 150 cm3 tot 8 000 cm3; en |
| --- | --- | --- |

a.

kroezen met beide hiernavolgende kenmerken:

1.

een inhoud van 150 cm3 tot 8 000 cm3; en

| 2. | vervaardigd van of bekleed met een van onderstaande materialen, met een zuiverheid van 98 gewichtspercenten of hoger:






  a. | calciumfluoride (CaF2); |
| --- | --- | --- |

2.

vervaardigd van of bekleed met een van onderstaande materialen, met een zuiverheid van 98 gewichtspercenten of hoger:

a.

calciumfluoride (CaF2);

| b. | calciumzirkonaat (metazirkonaat) (CaZrO3); |
| --- | --- |

b.

calciumzirkonaat (metazirkonaat) (CaZrO3);

| c. | ceriumsulfide (Ce2S3); |
| --- | --- |

c.

ceriumsulfide (Ce2S3);

| d. | erbiumoxide (Er2O3); |
| --- | --- |

d.

erbiumoxide (Er2O3);

| e. | hafniumoxide (HFO2); |
| --- | --- |

e.

hafniumoxide (HFO2);

| f. | magnesiumoxide (MgO); |
| --- | --- |

f.

magnesiumoxide (MgO);

| g. | legering van genitrideerd niobium-titaan-wolfraam (ca. 50 % Nb, 30 % Ti, 20 % W); |
| --- | --- |

g.

legering van genitrideerd niobium-titaan-wolfraam (ca. 50 % Nb, 30 % Ti, 20 % W);

| h. | ytttriumoxide (Y2O3); of |
| --- | --- |

h.

ytttriumoxide (Y2O3); of

| i. | zirkoniumoxide (ZrO2); |
| --- | --- |

i.

zirkoniumoxide (ZrO2);

| b. | kroezen met beide hiernavolgende kenmerken:






  1. | een inhoud van 50 cm3 tot 2 000 cm3; en |
| --- | --- | --- |

b.

kroezen met beide hiernavolgende kenmerken:

1.

een inhoud van 50 cm3 tot 2 000 cm3; en

| 2. | vervaardigd van of gevoerd met tantaal, met een zuiverheid van 99,9 gewichtspercenten of hoger; |
| --- | --- |

2.

vervaardigd van of gevoerd met tantaal, met een zuiverheid van 99,9 gewichtspercenten of hoger;

| c. | kroezen met alle hiernavolgende kenmerken:






  1. | een inhoud van 50 cm3 tot 2 000 cm3; |
| --- | --- | --- |

c.

kroezen met alle hiernavolgende kenmerken:

1.

een inhoud van 50 cm3 tot 2 000 cm3;

| 2. | vervaardigd van of gevoerd met tantaal, met een zuiverheid van 98 gewichtspercenten of hoger; en |
| --- | --- |

2.

vervaardigd van of gevoerd met tantaal, met een zuiverheid van 98 gewichtspercenten of hoger; en

| 3. | bekleed met tantaalcarbide, -nitride of -boride of ongeacht welke combinatie hiervan. |
| --- | --- |

3.

bekleed met tantaalcarbide, -nitride of -boride of ongeacht welke combinatie hiervan.

2A226Afsluiters met alle volgende kenmerken:

| a. | een ‧nominale afmeting‧ van 5 mm of groter; |
| --- | --- |

a.

een ‧nominale afmeting‧ van 5 mm of groter;

| b. | met balgafdichting; en |
| --- | --- |

b.

met balgafdichting; en

| c. | geheel vervaardigd van of gevoerd met aluminium, aluminiumlegering, nikkel of een nikkellegering die 60 gewichtspercenten of meer nikkel bevat. |
| --- | --- |

c.

geheel vervaardigd van of gevoerd met aluminium, aluminiumlegering, nikkel of een nikkellegering die 60 gewichtspercenten of meer nikkel bevat.

Technische noot:

Voor afsluiters met verschillende inlaat- en uitlaatopeningen heeft de in 2A226 bedoelde ‧nominale afmeting‧ betrekking op de kleinste diameter.

2BTest-, inspectie- en productieapparatuur

Technische noten:

| 1. | Parallelle hulpcontourassen, bijvoorbeeld de w-as op horizontale kotterbanken of een tweede roterende hulpas waarvan de hartlijn parallel loopt met de roterende hoofdas, worden niet bij het totale aantal contourassen gerekend. Roterende assen hoeven niet over 360° draaibaar te zijn. Een roterende as kan worden aangedreven door een lineair mechanisme (bijvoorbeeld een draadspil of een tandheugel met rondsel). |
| --- | --- |

1.

Parallelle hulpcontourassen, bijvoorbeeld de w-as op horizontale kotterbanken of een tweede roterende hulpas waarvan de hartlijn parallel loopt met de roterende hoofdas, worden niet bij het totale aantal contourassen gerekend. Roterende assen hoeven niet over 360° draaibaar te zijn. Een roterende as kan worden aangedreven door een lineair mechanisme (bijvoorbeeld een draadspil of een tandheugel met rondsel).

| 2. | Voor de toepassing van 2 B is het aantal assen dat gelijktijdig kan samenwerken voor "contourbesturen" het aantal assen waarlangs of waarrond tijdens de bewerking van het werkstuk gelijktijdige en samenhangende bewegingen worden verricht tussen het werkstuk en een gereedschap. Dit omvat niet eventuele extra assen waarlangs of waarrond andere relatieve bewegingen in de machine worden verricht zoals:








  a. | steenrechtsystemen in slijpmachines; |
| --- | --- | --- |

2.

Voor de toepassing van 2 B is het aantal assen dat gelijktijdig kan samenwerken voor "contourbesturen" het aantal assen waarlangs of waarrond tijdens de bewerking van het werkstuk gelijktijdige en samenhangende bewegingen worden verricht tussen het werkstuk en een gereedschap. Dit omvat niet eventuele extra assen waarlangs of waarrond andere relatieve bewegingen in de machine worden verricht zoals:

a.

steenrechtsystemen in slijpmachines;

| b. | evenwijdige roterende assen om afzonderlijke werkstukken te bevestigen; |
| --- | --- |

b.

evenwijdige roterende assen om afzonderlijke werkstukken te bevestigen;

| c. | collineaire roterende assen om hetzelfde werkstuk te bewerken door het aan verschillende kanten in een klauwplaat te klemmen. |
| --- | --- |

c.

collineaire roterende assen om hetzelfde werkstuk te bewerken door het aan verschillende kanten in een klauwplaat te klemmen.

| 3. | De benaming van de assen dient in overeenstemming te zijn met de internationale norm ISO 841 — Machines met numerieke besturing — benamingen van assen en bewegingen. |
| --- | --- |

3.

De benaming van de assen dient in overeenstemming te zijn met de internationale norm ISO 841 — Machines met numerieke besturing — benamingen van assen en bewegingen.

| 4. | Voor de toepassing van 2B001 tot en met 2B009 wordt een "kantelspil" beschouwd als een roterende as. |
| --- | --- |

4.

Voor de toepassing van 2B001 tot en met 2B009 wordt een "kantelspil" beschouwd als een roterende as.

| 5. | Aangegeven instelnauwkeurigheidsniveaus op grond van metingen overeenkomstig norm ISO 230/2 (1988) (2) of nationale equivalenten mogen voor elk model werktuigmachine in plaats van individuele machinetests worden gebruikt. Aangegeven instelnauwkeurigheid betekent de nauwkeurigheidswaarde die wordt meegedeeld aan de bevoegde autoriteiten van de lidstaat waarin de exporteur is gevestigd als representatieve waarde voor de nauwkeurigheid van een machinemodel. |
| --- | --- |

5.

Aangegeven instelnauwkeurigheidsniveaus op grond van metingen overeenkomstig norm ISO 230/2 (1988) (2) of nationale equivalenten mogen voor elk model werktuigmachine in plaats van individuele machinetests worden gebruikt. Aangegeven instelnauwkeurigheid betekent de nauwkeurigheidswaarde die wordt meegedeeld aan de bevoegde autoriteiten van de lidstaat waarin de exporteur is gevestigd als representatieve waarde voor de nauwkeurigheid van een machinemodel.

Bepaling van de aangegeven waarden

| a. | Selecteer vijf machines van een bepaald model voor beoordeling; |
| --- | --- |

a.

Selecteer vijf machines van een bepaald model voor beoordeling;

| b. | Meet de nauwkeurigheid van de lineaire assen overeenkomstig ISO 230/2 (1988)
   (2); |
| --- | --- |

b.

Meet de nauwkeurigheid van de lineaire assen overeenkomstig ISO 230/2 (1988)
   (2);

| c. | Bepaal de A-waarden voor elke as van elke machine. De methode voor de berekening van de A-waarde is beschreven in de ISO-norm; |
| --- | --- |

c.

Bepaal de A-waarden voor elke as van elke machine. De methode voor de berekening van de A-waarde is beschreven in de ISO-norm;

| d. | Bepaal de gemiddelde waarde van de A-waarde van elke as. Deze gemiddelde waarde Â wordt de aangegeven waarde van elke as van het model (Âx, Ây, ...); |
| --- | --- |

d.

Bepaal de gemiddelde waarde van de A-waarde van elke as. Deze gemiddelde waarde Â wordt de aangegeven waarde van elke as van het model (Âx, Ây, ...);

| e. | Aangezien de lijst in categorie 2 verwijst naar elke lineaire as, zullen er evenveel aangegeven waarden als lineaire assen zijn; |
| --- | --- |

e.

Aangezien de lijst in categorie 2 verwijst naar elke lineaire as, zullen er evenveel aangegeven waarden als lineaire assen zijn;

| f. | Indien een as van een niet in 2B001.a tot en met 2B001.c of 2B201 bedoeld machinemodel, een aangegeven nauwkeurigheid Â van 6 micrometer of nauwkeuriger bij machines voor slijpen en 8 micrometer of nauwkeuriger bij machines voor frezen of draaien heeft, moet de fabrikant het nauwkeurigheidsniveau om de achttien maanden opnieuw bevestigen. |
| --- | --- |

f.

Indien een as van een niet in 2B001.a tot en met 2B001.c of 2B201 bedoeld machinemodel, een aangegeven nauwkeurigheid Â van 6 micrometer of nauwkeuriger bij machines voor slijpen en 8 micrometer of nauwkeuriger bij machines voor frezen of draaien heeft, moet de fabrikant het nauwkeurigheidsniveau om de achttien maanden opnieuw bevestigen.

2B001Werktuigmachines en combinaties daarvan, voor het verspanen (of snijden) van metalen, keramische materialen of "composieten", die, volgens de technische specificaties van de fabrikant kunnen worden uitgerust met elektronische toestellen voor "numerieke besturing" en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor, als hieronder:

NB: ZIE OOK 2B201.

Noot 1: In 2B001 zijn niet bedoeld werktuigmachines voor speciale toepassingen die alleen dienen voor het vervaardigen van tandwielen. Zie voor dergelijke machines 2B003.

Noot 2: In 2B001 zijn niet bedoeld werktuigmachines voor speciale toepassingen die alleen dienen voor het vervaardigen van een van de volgende onderdelen:

| a. | krukassen of nokkenassen; |
| --- | --- |

a.

krukassen of nokkenassen;

| b. | gereedschappen of frezen; |
| --- | --- |

b.

gereedschappen of frezen;

| c. | extrusiewormen; |
| --- | --- |

c.

extrusiewormen;

| d. | gegraveerde of geslepen delen van juwelen. |
| --- | --- |

d.

gegraveerde of geslepen delen van juwelen.

Noot 3: Werktuigmachines met ten minste twee van de drie volgende gebruiksmogelijkheden: draaien, frezen of slijpen (bv. een machine voor draaien waarmee ook kan worden gefreesd) moeten op basis van iedere toepasselijke rubriek 2B001 a.,b., of c worden beoordeeld.

| a. | werktuigmachines voor draaien met de volgende eigenschappen:






  1. | een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 6 micrometer overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (2) of nationale equivalenten langs elke lineaire as; en |
| --- | --- | --- |

a.

werktuigmachines voor draaien met de volgende eigenschappen:

1.

een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 6 micrometer overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (2) of nationale equivalenten langs elke lineaire as; en

| 2. | twee of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen"; |
| --- | --- |

2.

twee of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen";

Noot: 2B001.a is niet van toepassing op machines voor draaien die speciaal zijn ontworpen voor de productie van contactlenzen.

| b. | werktuigmachines voor frezen met een of meer van de volgende eigenschappen:






  1. | met alle volgende eigenschappen:






  a. | een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 6 micrometer overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (2) of nationale equivalenten langs elke lineaire as; en |
| --- | --- | --- | --- |

b.

werktuigmachines voor frezen met een of meer van de volgende eigenschappen:

1.

met alle volgende eigenschappen:

a.

een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 6 micrometer overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (2) of nationale equivalenten langs elke lineaire as; en

| b. | drie lineaire assen plus één roterende as die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen"; |
| --- | --- |

b.

drie lineaire assen plus één roterende as die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen";

| 2. | vijf of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen"; |
| --- | --- |

2.

vijf of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen";

| 3. | een instelnauwkeurigheid voor pasmal-boormachines, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4 micrometer overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (2) of nationale equivalenten langs elke lineaire as; of |
| --- | --- |

3.

een instelnauwkeurigheid voor pasmal-boormachines, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4 micrometer overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (2) of nationale equivalenten langs elke lineaire as; of

| 4. | Machines die gebruik maken van een slagmes («fly cutters») met alle volgende kenmerken:






  a. | een "rondloopnauwkeurigheid" («run out») en "axiale slag" van de spil kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,0004 mm totale meetklokuitslag (TIR); en |
| --- | --- | --- |

4.

Machines die gebruik maken van een slagmes («fly cutters») met alle volgende kenmerken:

a.

een "rondloopnauwkeurigheid" («run out») en "axiale slag" van de spil kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,0004 mm totale meetklokuitslag (TIR); en

| b. | een hoekafwijking van de sledebeweging langs een asslag van 300 mm (gieren, stampen of slingeren) kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 2 boogseconden totale meetklokuitslag (TIR); |
| --- | --- |

b.

een hoekafwijking van de sledebeweging langs een asslag van 300 mm (gieren, stampen of slingeren) kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 2 boogseconden totale meetklokuitslag (TIR);

| c. | werktuigmachines voor slijpen met een of meer van de volgende eigenschappen:






  1. | met alle volgende eigenschappen:






  a. | een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4 micrometer overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (2) of nationale equivalenten langs elke lineaire as; en |
| --- | --- | --- | --- |

c.

werktuigmachines voor slijpen met een of meer van de volgende eigenschappen:

1.

met alle volgende eigenschappen:

a.

een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4 micrometer overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (2) of nationale equivalenten langs elke lineaire as; en

| b. | drie of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen"; of |
| --- | --- |

b.

drie of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen"; of

| 2. | vijf of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen"; |
| --- | --- |

2.

vijf of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen";

Noot: In 2B001.c zijn niet bedoeld slijpmachines als hieronder:

| 1. | Uitwendige, inwendige en uitwendig-inwendige rondslijpmachines met de volgende kenmerken:








  a. | beperkt tot rondslijpen; en |
| --- | --- | --- |

1.

Uitwendige, inwendige en uitwendig-inwendige rondslijpmachines met de volgende kenmerken:

a.

beperkt tot rondslijpen; en

| b. | een maximale buitendiameter of lengte van het werkstuk van 150 mm. |
| --- | --- |

b.

een maximale buitendiameter of lengte van het werkstuk van 150 mm.

| 2. | Machines die speciaal zijn ontworpen als pasmal-slijpmachines zonder z-as of w-as, met een instelnauwkeurigheid "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (2) of nationale equivalenten. |
| --- | --- |

2.

Machines die speciaal zijn ontworpen als pasmal-slijpmachines zonder z-as of w-as, met een instelnauwkeurigheid "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (2) of nationale equivalenten.

| 3. | Vlakslijpers. |
| --- | --- |

3.

Vlakslijpers.

| d. | vonkmachines (EDM) van het draadloze type, met twee of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen"; |
| --- | --- |

d.

vonkmachines (EDM) van het draadloze type, met twee of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen";

| e. | werktuigmachines voor het verspanen van metalen, keramische materialen of "composieten", met de volgende eigenschappen:






  1. | verspanen van materiaal met een of meer van de volgende middelen:






  a. | waterstraal of andere vloeistofstraal, met inbegrip van die met slijpmiddeltoevoegingen; |
| --- | --- | --- | --- |

e.

werktuigmachines voor het verspanen van metalen, keramische materialen of "composieten", met de volgende eigenschappen:

1.

verspanen van materiaal met een of meer van de volgende middelen:

a.

waterstraal of andere vloeistofstraal, met inbegrip van die met slijpmiddeltoevoegingen;

| b. | een elektronenbundel; of |
| --- | --- |

b.

een elektronenbundel; of

| c. | een laserstraal; en |
| --- | --- |

c.

een laserstraal; en

| 2. | twee of meer roterende assen die:






  a. | gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturing", en |
| --- | --- | --- |

2.

twee of meer roterende assen die:

a.

gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturing", en

| b. | een instelnauwkeurigheid hebben kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,003°; |
| --- | --- |

b.

een instelnauwkeurigheid hebben kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,003°;

| f. | langgatboormachines of machines voor draaien die zijn aangepast voor langgatboren, met een maximum boordiepte van meer dan 5 000 mm, alsmede speciaal daarvoor ontworpen onderdelen. |
| --- | --- |

f.

langgatboormachines of machines voor draaien die zijn aangepast voor langgatboren, met een maximum boordiepte van meer dan 5 000 mm, alsmede speciaal daarvoor ontworpen onderdelen.

2B002Numeriek bestuurde werktuigmachines die gebruik maken van een magnetoreologisch-afwerkingsprocédé (MRF) en waarmee niet-sferische oppervlakken kunnen worden geproduceerd; de machines hebben één van de volgende kenmerken:

| a. | afwerking van de vorm tot op minder (d.w.z. beter) dan 1,0 nm nauwkeurig; of |
| --- | --- |

a.

afwerking van de vorm tot op minder (d.w.z. beter) dan 1,0 nm nauwkeurig; of

| b. | afwerking tot een ruwheid van minder (d.w.z. beter) dan 100 nm rms. |
| --- | --- |

b.

afwerking tot een ruwheid van minder (d.w.z. beter) dan 100 nm rms.

Technische noot:

Voor de toepassing van 2B002 is MRF een materiaalverwijderingsprocédé waarbij wordt gebruikgemaakt van een abrasieve magnetische vloeistof waarvan de viscositeit via een magnetisch veld wordt gecontroleerd.

2B003"Numeriek bestuurde" en handgestuurde werktuigmachines en speciaal ontworpen onderdelen, regelapparatuur en toebehoren daarvoor, speciaal ontworpen voor het snijden, afwerken, slijpen of wetten van geharde (Rc = 40 of meer) rechte, schroef- en dubbelgeschroefde tandwielen met een steekdiameter groter dan 1 250 mm en een kopbreedte gelijk aan of groter dan 15 % van de steekdiameter, afgewerkt tot een kwaliteit gelijk aan of beter dan AGMA 14 (gelijkwaardig aan ISO-norm 1328, klasse 3).

2B004Hete "isostatische persen", met alle hieronder vermelde kenmerken, en speciaal ontworpen onderdelen en toebehoren daarvoor:

NB: ZIE OOK 2B104 EN 2B204

| a. | met de mogelijkheid de temperatuur in de afgesloten ruimte te beheersen, terwijl de drukkamerholte een binnendiameter heeft van 406 mm of meer, en |
| --- | --- |

a.

met de mogelijkheid de temperatuur in de afgesloten ruimte te beheersen, terwijl de drukkamerholte een binnendiameter heeft van 406 mm of meer, en

| b. | met een van de onderstaande eigenschappen:






  1. | een maximaal mogelijke werkdruk groter dan 207 MPa; |
| --- | --- | --- |

b.

met een van de onderstaande eigenschappen:

1.

een maximaal mogelijke werkdruk groter dan 207 MPa;

| 2. | een gecontroleerde thermische omgeving van meer dan 1 773 K (1 500 oC); of |
| --- | --- |

2.

een gecontroleerde thermische omgeving van meer dan 1 773 K (1 500 oC); of

| 3. | de mogelijkheid van impregnering met koolwaterstoffen en verwijdering van de overblijvende gasvormige afvalproducten. |
| --- | --- |

3.

de mogelijkheid van impregnering met koolwaterstoffen en verwijdering van de overblijvende gasvormige afvalproducten.

Technische noot:

De binnenmaat betreft de kamer waarin zowel de werktemperatuur als de werkdruk tot stand komt en omvat geen spanstukken. Deze maat is gelijk aan de kleinste van ofwel de binnendiameter van de drukkamer ofwel de binnendiameter van de geïsoleerde ovenkamer, afhankelijk van het feit welke van de twee kamers zich in de andere bevindt.

NB: Voor speciaal ontworpen matrijzen, mallen en gereedschappen, zie 1B003, 9B009 en de Lijst militaire goederen.

2B005Speciaal ontworpen apparatuur voor de afzetting, verwerking en procesbesturing van anorganische deklagen, bekledingen en oppervlakmodificaties, als hieronder, voor niet-elektronische substraten door middel van de in de tabel en bijbehorende noten na 2E003.f omschreven procédés en speciaal daarvoor ontworpen geautomatiseerde onderdelen voor de hantering, positionering, manipulatie en besturing:

| a. | Productieapparatuur voor chemische afzetting uit de dampfase (CVD) met alle onderstaande mogelijkheden:

  NB: ZIE OOK 2B105







  1. | aangepast procédé voor een van onderstaande technieken:






  a. | pulserende CVD; |
| --- | --- | --- | --- |

a.

Productieapparatuur voor chemische afzetting uit de dampfase (CVD) met alle onderstaande mogelijkheden:

NB: ZIE OOK 2B105

1.

aangepast procédé voor een van onderstaande technieken:

a.

pulserende CVD;

| b. | thermische afzetting met beheerste nucleatie (CNTD), of |
| --- | --- |

b.

thermische afzetting met beheerste nucleatie (CNTD), of

| c. | met plasma versterkte of met plasma ondersteunde CVD, en |
| --- | --- |

c.

met plasma versterkte of met plasma ondersteunde CVD, en

| 2. | met een van beide onderstaande eigenschappen:






  a. | omvat roterende afdichtingen voor hoog-vacuüm (minder dan of gelijk aan 0,01Pa), of |
| --- | --- | --- |

2.

met een van beide onderstaande eigenschappen:

a.

omvat roterende afdichtingen voor hoog-vacuüm (minder dan of gelijk aan 0,01Pa), of

| b. | omvat in situ regulering van de dikte van de bekledingslaag; |
| --- | --- |

b.

omvat in situ regulering van de dikte van de bekledingslaag;

| b. | Productieapparatuur voor ionenimplantatie met een bundelstroomsterkte van 5 mA of hoger; |
| --- | --- |

b.

Productieapparatuur voor ionenimplantatie met een bundelstroomsterkte van 5 mA of hoger;

| c. | Productieapparatuur voor elektronenstraalverdampen (EB-PVD) welke een voedingssysteem gespecificeerd voor meer dan 80 kW omvat, met een van de volgende kenmerken:






  1. | een laserbesturingssysteem dat door middel van het vloeistofniveau de toevoersnelheid van de ingot nauwkeurig reguleert, of |
| --- | --- | --- |

c.

Productieapparatuur voor elektronenstraalverdampen (EB-PVD) welke een voedingssysteem gespecificeerd voor meer dan 80 kW omvat, met een van de volgende kenmerken:

1.

een laserbesturingssysteem dat door middel van het vloeistofniveau de toevoersnelheid van de ingot nauwkeurig reguleert, of

| 2. | een computergestuurde, volgens het principe van de fotoluminescentie van de geïoniseerde atomen in de dampstroom werkende monitor die de mate van afzetting van een uit twee of meer elementen bestaande bekledingslaag reguleert; |
| --- | --- |

2.

een computergestuurde, volgens het principe van de fotoluminescentie van de geïoniseerde atomen in de dampstroom werkende monitor die de mate van afzetting van een uit twee of meer elementen bestaande bekledingslaag reguleert;

| d. | Productieapparatuur voor plasmaspuiten met een van beide volgende kenmerken:






  1. | werkend bij een beheerste verlaagde druk (minder dan of gelijk aan 10 kPa, gemeten binnen een afstand van 300 mm boven de opening van het spuitpistool) in een vacuümkamer geschikt voor het bereiken van een druk van 0,01 Pa voorafgaande aan het spuitproces, of |
| --- | --- | --- |

d.

Productieapparatuur voor plasmaspuiten met een van beide volgende kenmerken:

1.

werkend bij een beheerste verlaagde druk (minder dan of gelijk aan 10 kPa, gemeten binnen een afstand van 300 mm boven de opening van het spuitpistool) in een vacuümkamer geschikt voor het bereiken van een druk van 0,01 Pa voorafgaande aan het spuitproces, of

| 2. | omvat in situ regulering van de dikte van de bekledingslaag; |
| --- | --- |

2.

omvat in situ regulering van de dikte van de bekledingslaag;

| e. | Productieapparatuur voor sputteren, geschikt voor een stroomdichtheid van 0,1 mA/mm2 of hoger bij een afzettingssnelheid van 15 micrometer/uur of meer; |
| --- | --- |

e.

Productieapparatuur voor sputteren, geschikt voor een stroomdichtheid van 0,1 mA/mm2 of hoger bij een afzettingssnelheid van 15 micrometer/uur of meer;

| f. | Productieapparatuur voor boogverdampen welke een net van gekoppelde elektromagneten omvat voor de besturing van de punt van de boogontlading op de kathode; |
| --- | --- |

f.

Productieapparatuur voor boogverdampen welke een net van gekoppelde elektromagneten omvat voor de besturing van de punt van de boogontlading op de kathode;

| g. | Productieapparatuur voor «ion-plating» met de mogelijkheid van het in situ meten van ofwel:






  1. | de dikte van de bekledingslaag op het substraat en beheersing van de snelheid van afzetting, of |
| --- | --- | --- |

g.

Productieapparatuur voor «ion-plating» met de mogelijkheid van het in situ meten van ofwel:

1.

de dikte van de bekledingslaag op het substraat en beheersing van de snelheid van afzetting, of

| 2. | optische kenmerken. |
| --- | --- |

2.

optische kenmerken.

Noot: 2B005 is niet van toepassing op apparatuur voor chemische afzetting uit de dampfase, voor boogverdamping, sputteren, «ion-plating», of ionenimplantatie die speciaal is ontworpen voor snij- of werktuigmachines.

2B006Maatinspectie- , meetsystemen, meetapparatuur en samenstellingen, als hieronder:

| a. | computergestuurde of "numeriek bestuurde" coördinatenmeetmachines (CMM), met een driedimensionale (volumetrische) maximaal toelaatbare indicatiefout (maximum permissible error of indication, MPEF) op enig punt in het werkbereik van de machine (d.w.z. binnen de aslengte) gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan (1,7 + L/1 000) micrometer (L is de gemeten lengte in mm), getest overeenkomstig ISO 10360-2 (2001); |
| --- | --- |

a.

computergestuurde of "numeriek bestuurde" coördinatenmeetmachines (CMM), met een driedimensionale (volumetrische) maximaal toelaatbare indicatiefout (maximum permissible error of indication, MPEF) op enig punt in het werkbereik van de machine (d.w.z. binnen de aslengte) gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan (1,7 + L/1 000) micrometer (L is de gemeten lengte in mm), getest overeenkomstig ISO 10360-2 (2001);

NB: ZIE OOK 2B206

| b. | meetinstrumenten voor lineaire en hoekverplaatsingen, als hieronder:






  1. | meetinstrumenten voor lineaire verplaatsingen met een of meer van de volgende kenmerken:
  Technische noot:

  In punt 2B006.b.1 moet onder "lineaire verplaatsing" worden verstaan de verandering van de afstand tussen de meetpen en het gemeten voorwerp.







  a. | meetsystemen van het contactloze type met een "resolutie" gelijk aan of kleiner (beter) dan 0,2 micrometer binnen een meetgebied tot en met 0,2 mm; |
| --- | --- | --- | --- |

b.

meetinstrumenten voor lineaire en hoekverplaatsingen, als hieronder:

1.

meetinstrumenten voor lineaire verplaatsingen met een of meer van de volgende kenmerken:

Technische noot:

In punt 2B006.b.1 moet onder "lineaire verplaatsing" worden verstaan de verandering van de afstand tussen de meetpen en het gemeten voorwerp.

a.

meetsystemen van het contactloze type met een "resolutie" gelijk aan of kleiner (beter) dan 0,2 micrometer binnen een meetgebied tot en met 0,2 mm;

| b. | lineaire spanningsverschilomzetters met beide volgende kenmerken:






  1. | "lineariteit" gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,1 % binnen een meetgebied tot en met 5 mm; en |
| --- | --- | --- |

b.

lineaire spanningsverschilomzetters met beide volgende kenmerken:

1.

"lineariteit" gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,1 % binnen een meetgebied tot en met 5 mm; en

| 2. | verloop gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,1 % per dag bij een standaardomgevingstemperatuur in de testruimte ± 1 K; of |
| --- | --- |

2.

verloop gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,1 % per dag bij een standaardomgevingstemperatuur in de testruimte ± 1 K; of

| c. | meetsystemen met alle volgende kenmerken:






  1. | zij bevatten een "laser", en |
| --- | --- | --- |

c.

meetsystemen met alle volgende kenmerken:

1.

zij bevatten een "laser", en

| 2. | zij handhaven, bij een standaardomgevingstemperatuur ± 1 K en bij een standaarddruk, gedurende ten minste 12 uur:






  a. | een "resolutie" over hun volledige schaal van 0,1 micrometer of kleiner (beter), en |
| --- | --- | --- |

2.

zij handhaven, bij een standaardomgevingstemperatuur ± 1 K en bij een standaarddruk, gedurende ten minste 12 uur:

a.

een "resolutie" over hun volledige schaal van 0,1 micrometer of kleiner (beter), en

| b. | een "meetonzekerheid" gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan (0,2 + L/2 000) micrometer (L is de gemeten lengte in mm); |
| --- | --- |

b.

een "meetonzekerheid" gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan (0,2 + L/2 000) micrometer (L is de gemeten lengte in mm);

| d. | "Samenstellingen" speciaal ontworpen om in systemen als bedoeld in 2B006.b.1.c terugkoppelcapaciteit te leveren; |
| --- | --- |

d.

"Samenstellingen" speciaal ontworpen om in systemen als bedoeld in 2B006.b.1.c terugkoppelcapaciteit te leveren;

Noot: 2B006.b.1 is niet van toepassing op interferometermeetsystemen met een automatisch controlesysteem dat ontworpen is om geen terugkoppeltechnieken te gebruiken, die een "laser" bevatten voor het meten van fouten in de sledebeweging van machinewerktuigen, meetmachines of dergelijke apparatuur.

| 2. | meetinstrumenten voor hoekverplaatsingen met een "hoekafwijking" gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,00025o;


  Noot: In 2B006.b.2 zijn niet bedoeld optische instrumenten, zoals autocollimatoren, die gebruikmaken van gecollimeerd licht (bv. laserlicht) voor de bepaling van hoekverplaatsingen van een spiegel. |
| --- | --- |

2.

meetinstrumenten voor hoekverplaatsingen met een "hoekafwijking" gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,00025o;

Noot: In 2B006.b.2 zijn niet bedoeld optische instrumenten, zoals autocollimatoren, die gebruikmaken van gecollimeerd licht (bv. laserlicht) voor de bepaling van hoekverplaatsingen van een spiegel.

| c. | apparatuur voor het meten van ongelijkmatigheden in oppervlakken met een gevoeligheid van 0,5 nm of minder (d.w.z. nauwkeuriger), door het meten van optische verstrooiing als een functie van de hoek. |
| --- | --- |

c.

apparatuur voor het meten van ongelijkmatigheden in oppervlakken met een gevoeligheid van 0,5 nm of minder (d.w.z. nauwkeuriger), door het meten van optische verstrooiing als een functie van de hoek.

Noot: Werktuigmachines, geschikt voor gebruik als meettoestel, worden bedoeld indien hun prestaties gelijk zijn aan of beter dan de criteria neergelegd voor de werktuigmachinefunctie of de meettoestelfunctie.

2B007"Robots", met een of meer van de hieronder vermelde kenmerken, en speciaal ontworpen besturingsapparatuur en "eindeffectoren" daarvoor:

NB: ZIE OOK 2B207

| a. | geschikt voor tijdgebonden («in real time»), volledig driedimensionale beeldverwerking of volledig driedimensionale ‧beeldanalyse‧ voor het maken of wijzigen van "programma's" of voor het maken of wijzigen van numerieke programmagegevens;
  Technische noot:

  Deze beperking van de ‧beeldanalyse‧ sluit een bepaling van de derde dimensie door middel van beschouwing vanuit een vaste hoek niet uit, noch een beperkte interpretatie van grijstinten voor de waarneming van diepte of structuur voor de toegestane taken (2 1/2 D). |
| --- | --- |

a.

geschikt voor tijdgebonden («in real time»), volledig driedimensionale beeldverwerking of volledig driedimensionale ‧beeldanalyse‧ voor het maken of wijzigen van "programma's" of voor het maken of wijzigen van numerieke programmagegevens;

Technische noot:

Deze beperking van de ‧beeldanalyse‧ sluit een bepaling van de derde dimensie door middel van beschouwing vanuit een vaste hoek niet uit, noch een beperkte interpretatie van grijstinten voor de waarneming van diepte of structuur voor de toegestane taken (2 1/2 D).

| b. | speciaal ontworpen volgens nationale veiligheidsnormen voor gebruik in ruimten met explosieven; |
| --- | --- |

b.

speciaal ontworpen volgens nationale veiligheidsnormen voor gebruik in ruimten met explosieven;

| c. | speciaal ontworpen of gekwalificeerd als bestand zijnde tegen een totale stralingsdosis van een stralingsniveau hoger dan 5 × 103 Gray (silicium) zonder verslechtering van de werking; of

  Technische noot:

  De term Gray (silicium) verwijst naar de energie in Joules per kilogram die wordt geabsorbeerd door een onbeschermd siliciummonster dat aan ioniserende straling wordt blootgesteld. |
| --- | --- |

c.

speciaal ontworpen of gekwalificeerd als bestand zijnde tegen een totale stralingsdosis van een stralingsniveau hoger dan 5 × 103 Gray (silicium) zonder verslechtering van de werking; of

Technische noot:

De term Gray (silicium) verwijst naar de energie in Joules per kilogram die wordt geabsorbeerd door een onbeschermd siliciummonster dat aan ioniserende straling wordt blootgesteld.

| d. | speciaal ontworpen voor gebruik op een hoogte van meer dan 30 000 meter. |
| --- | --- |

d.

speciaal ontworpen voor gebruik op een hoogte van meer dan 30 000 meter.

2B008Samenstellingen of eenheden, speciaal ontworpen voor werktuigmachines, maatinspectie-, meetsystemen of -apparatuur, als hieronder:

| a. | lineaire plaatsbepalers, bijvoorbeeld plaatsbepalers van het inductieve type, gekalibreerde schalen, infraroodsystemen of "laser"-systemen, voor terugkoppeling van een lineaire verplaatsing die een totale "nauwkeurigheid" hebben kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan (800 + (600 × L × 10 –3)) nm (waarbij L de effectieve lengte is in mm);


  NB: Voor "laser"-systemen, zie ook noot bij 2B006.b.1. |
| --- | --- |

a.

lineaire plaatsbepalers, bijvoorbeeld plaatsbepalers van het inductieve type, gekalibreerde schalen, infraroodsystemen of "laser"-systemen, voor terugkoppeling van een lineaire verplaatsing die een totale "nauwkeurigheid" hebben kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan (800 + (600 × L × 10 –3)) nm (waarbij L de effectieve lengte is in mm);

NB: Voor "laser"-systemen, zie ook noot bij 2B006.b.1.

| b. | roterende plaatsbepalers, bijvoorbeeld van het inductieve type, gekalibreerde schalen, infraroodsystemen, of "laser"-systemen, voor terugkoppeling van een hoekverdraaiing die een "nauwkeurigheid" hebben kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,00025°;


  NB: Voor "laser"-systemen, zie ook noot bij 2B006.b.1. |
| --- | --- |

b.

roterende plaatsbepalers, bijvoorbeeld van het inductieve type, gekalibreerde schalen, infraroodsystemen, of "laser"-systemen, voor terugkoppeling van een hoekverdraaiing die een "nauwkeurigheid" hebben kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,00025°;

NB: Voor "laser"-systemen, zie ook noot bij 2B006.b.1.

| c. | "samengestelde draaitafels" of "kantelspillen" die volgens de technische specificaties van de fabrikant de mogelijkheden van werktuigmachines kunnen vergroten tot aan of boven de niveaus bedoeld in 2B. |
| --- | --- |

c.

"samengestelde draaitafels" of "kantelspillen" die volgens de technische specificaties van de fabrikant de mogelijkheden van werktuigmachines kunnen vergroten tot aan of boven de niveaus bedoeld in 2B.

2B009Forceer-(«spin-forming») of vloei-(«flow-forming») draaibanken die, volgens de technische specificaties van de fabrikant, kunnen worden uitgerust met "numerieke besturings"-eenheden of computerbesturing, en die de volgende eigenschappen bezitten:

NB: ZIE OOK 2B109 EN 2B209

| a. | twee of meer bestuurde assen waarvan er minstens twee gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen"; en |
| --- | --- |

a.

twee of meer bestuurde assen waarvan er minstens twee gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen"; en

| b. | een walskracht van meer dan 60 kN. |
| --- | --- |

b.

een walskracht van meer dan 60 kN.

Technische noot:

Machines die de functies van forceren en vloeidraaien combineren, worden voor de toepassing van 2B009 beschouwd als vloeidraaibanken.

2B104"Isostatische persen", anders dan bedoeld in 2B004, met alle volgende eigenschappen:

NB: ZIE OOK 2B204

| a. | een maximale werkdruk van 69 MPa of meer; |
| --- | --- |

a.

een maximale werkdruk van 69 MPa of meer;

| b. | ontworpen om een beheerste temperatuur van 873 K (600 °C) of meer te handhaven; en |
| --- | --- |

b.

ontworpen om een beheerste temperatuur van 873 K (600 °C) of meer te handhaven; en

| c. | met een binnenkamerdiameter van 254 mm of meer. |
| --- | --- |

c.

met een binnenkamerdiameter van 254 mm of meer.

2B105Ovens voor chemische afzetting uit de dampfase (CVD), anders dan bedoeld in 2B005.a, ontworpen of aangepast voor het verdichten van koolstof-koolstofcomposieten.

2B109Vloeidraaibanken («flow-forming-machines») die niet onder 2B009 vallen, en speciaal ontworpen onderdelen, als hieronder:

NB: ZIE OOK 2B2092

| a. | vloeidraaibanken die de volgende eigenschappen bezitten:






  1. | volgens de technische specificatie van de fabrikant kunnen zij worden uitgerust met "numerieke besturings"-eenheden of met een computerbesturing, ook indien zij bij aflevering niet met dergelijke eenheden zijn uitgerust, en |
| --- | --- | --- |

a.

vloeidraaibanken die de volgende eigenschappen bezitten:

1.

volgens de technische specificatie van de fabrikant kunnen zij worden uitgerust met "numerieke besturings"-eenheden of met een computerbesturing, ook indien zij bij aflevering niet met dergelijke eenheden zijn uitgerust, en

| 2. | meer dan twee assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen". |
| --- | --- |

2.

meer dan twee assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen".

| b. | speciaal ontworpen onderdelen van in 2B009 of 2B109.a bedoelde vloeidraaibanken. |
| --- | --- |

b.

speciaal ontworpen onderdelen van in 2B009 of 2B109.a bedoelde vloeidraaibanken.

Noot: In 2B109 worden niet bedoeld machines die niet kunnen worden gebruikt voor de productie van onderdelen en uitrusting (bv. motorhuizen) voor voortstuwingssystemen als bedoeld in 9A005, 9A007.a of 9A105.a.

Technische noot:

Machines die de functies van forceren en vloeidraaien combineren, worden voor de toepassing van 2B109 beschouwd als vloeidraaibanken.

2B116Systemen en apparatuur voor het beproeven door middel van trillingen en componenten daarvoor, als hieronder:

| a. | systemen voor het beproeven door middel van trillingen, waarbij gebruik wordt gemaakt van terugkoppel- of gesloten-kringtechnieken en welke een digitale besturing bevatten, die geschikt zijn om een systeem te laten trillen met een versnelling gelijk aan of groter dan 10 g RMS (eff.) tussen 20 Hz en 2 kHz en die krachten gelijk aan of groter dan 50 kNr, met ‧onbelaste tafel‧ gemeten, kunnen overbrengen; |
| --- | --- |

a.

systemen voor het beproeven door middel van trillingen, waarbij gebruik wordt gemaakt van terugkoppel- of gesloten-kringtechnieken en welke een digitale besturing bevatten, die geschikt zijn om een systeem te laten trillen met een versnelling gelijk aan of groter dan 10 g RMS (eff.) tussen 20 Hz en 2 kHz en die krachten gelijk aan of groter dan 50 kNr, met ‧onbelaste tafel‧ gemeten, kunnen overbrengen;

| b. | digitale besturingseenheden, in combinatie met speciaal ontworpen programmatuur voor het testen door middel van trillingen, met een "real-time-bandbreedte" van meer dan 5 kHz en ontworpen voor gebruik met de systemen, bedoeld in 2B116.a; |
| --- | --- |

b.

digitale besturingseenheden, in combinatie met speciaal ontworpen programmatuur voor het testen door middel van trillingen, met een "real-time-bandbreedte" van meer dan 5 kHz en ontworpen voor gebruik met de systemen, bedoeld in 2B116.a;

| c. | trillingsopwekkers, met of zonder bijbehorende versterkers, geschikt om een kracht gelijk aan of groter dan 50 kN uit te oefenen, met ‧onbelaste tafel‧ gemeten, en geschikt voor de systemen, bedoeld in 2B116.a; |
| --- | --- |

c.

trillingsopwekkers, met of zonder bijbehorende versterkers, geschikt om een kracht gelijk aan of groter dan 50 kN uit te oefenen, met ‧onbelaste tafel‧ gemeten, en geschikt voor de systemen, bedoeld in 2B116.a;

| d. | beproevingsopstellingen en elektronische eenheden ontworpen om verscheidene trillingsopwekkers in een geheel trillingssysteem te combineren, geschikt om een totale effectieve kracht gelijk aan of groter dan 50 kN uit te oefenen, met een ‧onbelaste tafel‧ gemeten, en geschikt voor de systemen, bedoeld in 2B116.a. |
| --- | --- |

d.

beproevingsopstellingen en elektronische eenheden ontworpen om verscheidene trillingsopwekkers in een geheel trillingssysteem te combineren, geschikt om een totale effectieve kracht gelijk aan of groter dan 50 kN uit te oefenen, met een ‧onbelaste tafel‧ gemeten, en geschikt voor de systemen, bedoeld in 2B116.a.

Technische noot:

In 2B116 betekent ‧onbelaste tafel‧ een vlakke tafel of een vlak oppervlak, zonder klemmen of hulpstukken.

2B117Apparatuur en procesregeleenheden, met uitzondering van die bedoeld in 2B004, 2B005.a, 2B104 of 2B105, ontworpen of aangepast voor de verdichting en pyrolyse van composiet raketstraalpijpen en neuskegels voor terugkeervoertuigen («re-entry»).

2B119Balanceermachines en aanverwante uitrusting, als hieronder:

NB: ZIE OOK 2B219

| a. | balanceermachines die alle navolgende eigenschappen bezitten:






  1. | niet geschikt voor het uitbalanceren van rotors/samenstellingen met een gewicht van meer dan 3 kg; |
| --- | --- | --- |

a.

balanceermachines die alle navolgende eigenschappen bezitten:

1.

niet geschikt voor het uitbalanceren van rotors/samenstellingen met een gewicht van meer dan 3 kg;

| 2. | geschikt voor het uitbalanceren van rotors/samenstellingen bij een omwentelingssnelheid hoger dan 12 500 t.p.m.; |
| --- | --- |

2.

geschikt voor het uitbalanceren van rotors/samenstellingen bij een omwentelingssnelheid hoger dan 12 500 t.p.m.;

| 3. | geschikt voor het corrigeren van onbalans in twee of meer vlakken; en |
| --- | --- |

3.

geschikt voor het corrigeren van onbalans in twee of meer vlakken; en

| 4. | geschikt voor het uitbalanceren tot op een resterende specifieke onbalans van 0,2 g mm per kg rotorgewicht; |
| --- | --- |

4.

geschikt voor het uitbalanceren tot op een resterende specifieke onbalans van 0,2 g mm per kg rotorgewicht;

Noot: 2B119.a is niet van toepassing op balanceermachines die ontworpen of aangepast zijn voor tandheelkundige of andere medische uitrusting.

| b. | indicatorkoppen die zijn ontworpen of aangepast voor gebruik met de in 2B119.a aangegeven machines.
  Technische noot:

  Indicatorkoppen worden soms ook balanceerinstrumenten genoemd. |
| --- | --- |

b.

indicatorkoppen die zijn ontworpen of aangepast voor gebruik met de in 2B119.a aangegeven machines.

Technische noot:

Indicatorkoppen worden soms ook balanceerinstrumenten genoemd.

2B120Bewegingssimulatoren of kwalificatietafels die alle navolgende kenmerken hebben:

| a. | twee of meer assen; |
| --- | --- |

a.

twee of meer assen;

| b. | sleepringen geschikt om elektrisch vermogen en/of signaalinformatie over te brengen; en |
| --- | --- |

b.

sleepringen geschikt om elektrisch vermogen en/of signaalinformatie over te brengen; en

| c. | een of meer van de navolgende kenmerken hebben:






  1. | voor elke aparte as alle navolgende kenmerken hebben:






  a. | geschikt voor kwalificaties van 400 graden/s of meer, of 30 graden/s of minder; en |
| --- | --- | --- | --- |

c.

een of meer van de navolgende kenmerken hebben:

1.

voor elke aparte as alle navolgende kenmerken hebben:

a.

geschikt voor kwalificaties van 400 graden/s of meer, of 30 graden/s of minder; en

| b. | een kwalificatieresolutie gelijk aan of minder dan 6 graden/s en een nauwkeurigheid gelijk aan of minder dan 0,6 graden/s; |
| --- | --- |

b.

een kwalificatieresolutie gelijk aan of minder dan 6 graden/s en een nauwkeurigheid gelijk aan of minder dan 0,6 graden/s;

| 2. | met een kwalificatiestabiliteit in het slechtste geval gelijk aan of beter (minder) dan een gemiddelde afwijking van 0,05 % over ten minste 10 graden; of |
| --- | --- |

2.

met een kwalificatiestabiliteit in het slechtste geval gelijk aan of beter (minder) dan een gemiddelde afwijking van 0,05 % over ten minste 10 graden; of

| 3. | een instelnauwkeurigheid gelijk aan of beter dan 5 boogseconden. |
| --- | --- |

3.

een instelnauwkeurigheid gelijk aan of beter dan 5 boogseconden.

Noot: 2B120 is niet van toepassing op draaitafels die zijn ontworpen of aangepast voor werktuigmachines of voor medische uitrusting. Voor de controle op draaitafels voor werktuigmachines, zie 2B008.

2B121Andere dan de in 2B120 aangegeven insteltafels (apparatuur, geschikt voor precieze roterende instelling in elke as), die alle navolgende kenmerken hebben:

| a. | twee of meer assen; en |
| --- | --- |

a.

twee of meer assen; en

| b. | een instelnauwkeurigheid gelijk aan of beter dan 5 boogseconden. |
| --- | --- |

b.

een instelnauwkeurigheid gelijk aan of beter dan 5 boogseconden.

Noot: 2B121 is niet van toepassing op draaitafels die zijn ontworpen of aangepast voor werktuigmachines of medische uitrusting. Voor de controle op draaitafels voor werktuigmachines, zie 2B008.

2B122Centrifuges die versnellingen van meer dan 100 g kunnen overbrengen en sleepringen bezitten die elektrisch vermogen en signaalinformatie kunnen overbrengen.

2B201Werktuigmachines en iedere andere combinatie daarvan, anders dan bedoeld in 2B001, voor het verspanen of snijden van metalen, keramische materialen of "composieten", die volgens de technische specificaties van de fabrikant kunnen worden uitgerust met elektronische toestellen voor gelijktijdig "contourbesturen" in twee of meer assen, als hieronder:

| a. | werktuigmachines voor frezen met een of meer van de volgende eigenschappen:






  1. | een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 6 micrometer overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (2) of nationale equivalenten langs elke lineaire as; of |
| --- | --- | --- |

a.

werktuigmachines voor frezen met een of meer van de volgende eigenschappen:

1.

een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 6 micrometer overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (2) of nationale equivalenten langs elke lineaire as; of

| 2. | twee of meer roterende contourassen;


  Noot: 2B201.a is niet van toepassing op werktuigmachines voor frezen met de volgende kenmerken:








  a. | axiale verplaatsing langs de x-as groter dan 2 meter; en |
| --- | --- | --- |

2.

twee of meer roterende contourassen;

Noot: 2B201.a is niet van toepassing op werktuigmachines voor frezen met de volgende kenmerken:

a.

axiale verplaatsing langs de x-as groter dan 2 meter; en

| b. | totale instelnauwkeurigheid langs de x-as groter (slechter) dan 30 micrometer; |
| --- | --- |

b.

totale instelnauwkeurigheid langs de x-as groter (slechter) dan 30 micrometer;

| b. | werktuigmachines voor slijpen, met een van de volgende kenmerken:






  1. | een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4 micrometer overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (2) of nationale equivalenten langs elke lineaire as; of |
| --- | --- | --- |

b.

werktuigmachines voor slijpen, met een van de volgende kenmerken:

1.

een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4 micrometer overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (2) of nationale equivalenten langs elke lineaire as; of

| 2. | twee of meer roterende contourassen; |
| --- | --- |

2.

twee of meer roterende contourassen;

Noot: 2B201.b is niet van toepassing op de volgende werktuigmachines voor slijpen:

| a. | uitwendige, inwendige en uitwendig-inwendige rondslijpmachines met de volgende kenmerken:








  1. | beperkt tot een maximale buitendiameter of lengte van het werkstuk van 150 mm; en |
| --- | --- | --- |

a.

uitwendige, inwendige en uitwendig-inwendige rondslijpmachines met de volgende kenmerken:

1.

beperkt tot een maximale buitendiameter of lengte van het werkstuk van 150 mm; en

| 2. | assen beperkt tot x, z en c; |
| --- | --- |

2.

assen beperkt tot x, z en c;

| b. | Pasmal-slijpmachines zonder z-as of w-as, met een totale instelnauwkeurigheid die kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (2) of nationale equivalenten. |
| --- | --- |

b.

Pasmal-slijpmachines zonder z-as of w-as, met een totale instelnauwkeurigheid die kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (2) of nationale equivalenten.

Noot 1: In 2B201 zijn niet bedoeld werktuigmachines voor speciale toepassingen die alleen dienen voor het vervaardigen van een van de volgende onderdelen:

| a. | tandwielen; |
| --- | --- |

a.

tandwielen;

| b. | krukassen of nokkenassen; |
| --- | --- |

b.

krukassen of nokkenassen;

| c. | gereedschappen of frezen; |
| --- | --- |

c.

gereedschappen of frezen;

| d. | extrusiewormen. |
| --- | --- |

d.

extrusiewormen.

Noot 2: Werktuigmachines met ten minste twee van de drie volgende gebruiksmogelijkheden: draaien, frezen of slijpen (bv. een machine voor draaien waarmee ook kan worden gefreesd) moeten op basis van iedere toepasselijke rubriek 2B001.a of 2B201.a. of b. worden beoordeeld.

2B204"Isostatische persen", anders dan bedoeld in 2B004 of 2B104 en bijbehorende apparatuur, als hieronder:

| a. | "isostatische persen" met beide volgende kenmerken:






  1. | geschikt voor een maximale werkdruk van 69 MPa of meer; en |
| --- | --- | --- |

a.

"isostatische persen" met beide volgende kenmerken:

1.

geschikt voor een maximale werkdruk van 69 MPa of meer; en

| 2. | met een drukkamerholte met een binnendiameter van meer dan 152 mm; |
| --- | --- |

2.

met een drukkamerholte met een binnendiameter van meer dan 152 mm;

| b. | matrijzen, mallen en regelapparatuur, speciaal ontworpen voor "isostatische persen", bedoeld in 2B204.a. |
| --- | --- |

b.

matrijzen, mallen en regelapparatuur, speciaal ontworpen voor "isostatische persen", bedoeld in 2B204.a.

Technische noot:

In 2B204 betreft de binnenmaat de kamer waarin zowel de werktemperatuur als de werkdruk tot stand komen en zij omvat geen spanstukken. Deze maat is gelijk aan de kleinste van ofwel de binnendiameter van de drukkamer ofwel de binnendiameter van de geïsoleerde ovenkamer, afhankelijk van het feit welke van de twee kamers zich in de andere bevindt.

2B206Niet onder 2B006 opgenomen meetmachines, -instrumenten of -systemen, als hieronder:

| a. | computergestuurde of numeriek bestuurde meetmachines met beide volgende kenmerken:






  1. | twee of meer assen; en |
| --- | --- | --- |

a.

computergestuurde of numeriek bestuurde meetmachines met beide volgende kenmerken:

1.

twee of meer assen; en

| 2. | een eendimensionale "meetonzekerheid" gelijk aan of kleiner (nauwkeuriger) dan (1,25 + L/1 000) micrometer, getest met een sonde met een "nauwkeurigheid" kleiner (nauwkeuriger) dan 0,2 micrometer (L is de gemeten lengte in mm) (ref. VDI/VDE 2617 delen 1 en 2); |
| --- | --- |

2.

een eendimensionale "meetonzekerheid" gelijk aan of kleiner (nauwkeuriger) dan (1,25 + L/1 000) micrometer, getest met een sonde met een "nauwkeurigheid" kleiner (nauwkeuriger) dan 0,2 micrometer (L is de gemeten lengte in mm) (ref. VDI/VDE 2617 delen 1 en 2);

| b. | systemen voor het gelijktijdig testen van lineaire en hoekverplaatsingen van halve bolmantels, met beide volgende kenmerken:






  1. | "meetonzekerheid" langs elke lineaire as gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 3,5 micrometer per 5 mm; en |
| --- | --- | --- |

b.

systemen voor het gelijktijdig testen van lineaire en hoekverplaatsingen van halve bolmantels, met beide volgende kenmerken:

1.

"meetonzekerheid" langs elke lineaire as gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 3,5 micrometer per 5 mm; en

| 2. | "hoekafwijking" gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,02°. |
| --- | --- |

2.

"hoekafwijking" gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,02°.

Noot 1: Werktuigmachines, geschikt voor gebruik als meettoestel, worden bedoeld indien hun prestaties gelijk zijn aan of beter zijn dan de criteria neergelegd voor de werktuigmachinefunctie of de meettoestelfunctie.

Noot 2: Indien een machine als omschreven in 2B206 op enig punt in haar werkbereik de limieten overschrijdt, wordt de machine bedoeld.

Technische noten:

| 1. | De bij de bepaling van de "meetonzekerheid" van een maatinspectiesysteem gebruikte sonde dient te voldoen aan de omschrijving in VDI/VDE 2617, delen 2, 3 en 4. |
| --- | --- |

1.

De bij de bepaling van de "meetonzekerheid" van een maatinspectiesysteem gebruikte sonde dient te voldoen aan de omschrijving in VDI/VDE 2617, delen 2, 3 en 4.

| 2. | Alle parameters van meetwaarden in 2B206 vertegenwoordigen plus/minuswaarden, niet het totale meetbereik. |
| --- | --- |

2.

Alle parameters van meetwaarden in 2B206 vertegenwoordigen plus/minuswaarden, niet het totale meetbereik.

2B207"Robots", "eindeffectoren" en besturingseenheden, anders dan bedoeld in 2B007, als hierna vermeld:

| a. | "robots" of "eindeffectoren", speciaal ontworpen volgens nationale veiligheidsnormen die gelden voor het hanteren van brisante springstoffen (bijvoorbeeld volgens elektrische normen voor brisante springstoffen); |
| --- | --- |

a.

"robots" of "eindeffectoren", speciaal ontworpen volgens nationale veiligheidsnormen die gelden voor het hanteren van brisante springstoffen (bijvoorbeeld volgens elektrische normen voor brisante springstoffen);

| b. | besturingseenheden, speciaal ontworpen voor de in 2B207.a vermelde "robots" of "eindeffectoren". |
| --- | --- |

b.

besturingseenheden, speciaal ontworpen voor de in 2B207.a vermelde "robots" of "eindeffectoren".

2B209Vloei- («flow-forming»)draaibanken, forceer- («spin-forming»)draaibanken die vloeidraaifuncties kunnen verrichten, anders dan bedoeld in 2B009 of 2B109, en spillen, als hieronder:

| a. | machines met beide volgende kenmerken:






  1. | drie of meer rollen (actieve of leirollen); en |
| --- | --- | --- |

a.

machines met beide volgende kenmerken:

1.

drie of meer rollen (actieve of leirollen); en

| 2. | volgens de technische specificatie van de fabrikant uitgerust kunnen worden met "numerieke besturings"-eenheden of computerbesturing; |
| --- | --- |

2.

volgens de technische specificatie van de fabrikant uitgerust kunnen worden met "numerieke besturings"-eenheden of computerbesturing;

| b. | spillen voor het precisievormgeven van rotoren, ontworpen voor het vormen van cilindrische rotoren met een binnendiameter van 75 mm-400 mm. |
| --- | --- |

b.

spillen voor het precisievormgeven van rotoren, ontworpen voor het vormen van cilindrische rotoren met een binnendiameter van 75 mm-400 mm.

Noot: 2B209.a omvat machines die slechts één enkele rol hebben die ontworpen is om metaal te vervormen, plus twee hulprollen ter ondersteuning van de spil, die echter niet rechtstreeks deelnemen aan het vervormingsproces.

2B219Centrifugale balanceermachines voor het uitbalanceren in verscheidene vlakken, vast of draagbaar, horizontaal of verticaal, als hieronder:

| a. | centrifugale balanceermachines ontworpen voor het uitbalanceren van flexibele rotors met een lengte van 600 mm of meer en met alle volgende kenmerken:






  1. | een nuttige of tapdiameter groter dan 75 mm; |
| --- | --- | --- |

a.

centrifugale balanceermachines ontworpen voor het uitbalanceren van flexibele rotors met een lengte van 600 mm of meer en met alle volgende kenmerken:

1.

een nuttige of tapdiameter groter dan 75 mm;

| 2. | geschikt voor een massa van 0,9 tot 23 kg; en |
| --- | --- |

2.

geschikt voor een massa van 0,9 tot 23 kg; en

| 3. | geschikt voor het uitbalanceren bij een omwentelingssnelheid hoger dan 5 000 t.p.m.; |
| --- | --- |

3.

geschikt voor het uitbalanceren bij een omwentelingssnelheid hoger dan 5 000 t.p.m.;

| b. | centrifugale balanceermachines ontworpen voor het uitbalanceren van holle cilindrische rotoronderdelen en met alle volgende kenmerken:






  1. | een tapdiameter groter dan 75 mm; |
| --- | --- | --- |

b.

centrifugale balanceermachines ontworpen voor het uitbalanceren van holle cilindrische rotoronderdelen en met alle volgende kenmerken:

1.

een tapdiameter groter dan 75 mm;

| 2. | geschikt voor een massa van 0,9 tot 23 kg; |
| --- | --- |

2.

geschikt voor een massa van 0,9 tot 23 kg;

| 3. | geschikt voor het uitbalanceren tot op een resterende onbalans van 0,01 kg × mm/kg per vlak of nauwkeuriger; en |
| --- | --- |

3.

geschikt voor het uitbalanceren tot op een resterende onbalans van 0,01 kg × mm/kg per vlak of nauwkeuriger; en

| 4. | van het type met riemaandrijving. |
| --- | --- |

4.

van het type met riemaandrijving.

2B225Op afstand bediende manipulatoren die kunnen worden aangewend voor het doen verrichten van handelingen op afstand bij radiochemische scheidingswerkingen of in hete cellen, met een van de volgende kenmerken:

| a. | geschikt om te werken bij een hete-celwand met een dikte van 0,6 m of meer (opereren door de wand heen); of |
| --- | --- |

a.

geschikt om te werken bij een hete-celwand met een dikte van 0,6 m of meer (opereren door de wand heen); of

| b. | geschikt om de afstand over de bovenkant van een hete-celwand met een dikte van 0,6 m of meer te overbruggen (opereren over de wand heen). |
| --- | --- |

b.

geschikt om de afstand over de bovenkant van een hete-celwand met een dikte van 0,6 m of meer te overbruggen (opereren over de wand heen).

Technische noot:

Op afstand bediende manipulatoren zorgen voor het mechanisch overbrengen van handelingen van een bediener naar een bedieningsarm en eindklem. Deze kunnen van het zgn. meester/slaaf-type zijn of worden bediend via een joystick of een toetsenbord.

2B226Inductieovens, werkend met beheerste atmosfeer (vacuüm of inert gas) en stroombronnen daarvoor, als hieronder:

NB: ZIE OOK 3B

| a. | ovens met alle volgende kenmerken:






  1. | geschikt voor werktemperaturen hoger dan 1 123 K (850 °C); |
| --- | --- | --- |

a.

ovens met alle volgende kenmerken:

1.

geschikt voor werktemperaturen hoger dan 1 123 K (850 °C);

| 2. | met inductiespoelen met een diameter van 600 mm of minder; en |
| --- | --- |

2.

met inductiespoelen met een diameter van 600 mm of minder; en

| 3. | ontworpen voor een ingaand vermogen van 5 kW of meer; |
| --- | --- |

3.

ontworpen voor een ingaand vermogen van 5 kW of meer;

| b. | speciaal voor in 2B226.a omschreven inductieovens ontworpen stroombronnen met een opgegeven vermogen van 5 kW of meer. |
| --- | --- |

b.

speciaal voor in 2B226.a omschreven inductieovens ontworpen stroombronnen met een opgegeven vermogen van 5 kW of meer.

Noot: Ovens, ontworpen voor het bewerken van halfgeleiderplakken («wafers») zijn niet bedoeld in 2B226.a.

2B227Metallurgische smelt- en gietovens met vacuüm of op een andere wijze beheerste atmosfeer en bijbehorende apparatuur, als hieronder:

| a. | vlamboogovens voor hersmelten en gieten met beide volgende kenmerken:






  1. | met een verbruikscapaciteit van de elektrode tussen 1 000 en 20 000 cm3; en |
| --- | --- | --- |

a.

vlamboogovens voor hersmelten en gieten met beide volgende kenmerken:

1.

met een verbruikscapaciteit van de elektrode tussen 1 000 en 20 000 cm3; en

| 2. | geschikt om te werken bij een smelttemperatuur hoger dan 1 973 K (1 700 °C); |
| --- | --- |

2.

geschikt om te werken bij een smelttemperatuur hoger dan 1 973 K (1 700 °C);

| b. | ovens voor het smelten met elektronenstralen en ovens voor het verstuiven en smelten met een plasma met beide volgende kenmerken:






  1. | een vermogen van 50 kW of meer; en |
| --- | --- | --- |

b.

ovens voor het smelten met elektronenstralen en ovens voor het verstuiven en smelten met een plasma met beide volgende kenmerken:

1.

een vermogen van 50 kW of meer; en

| 2. | geschikt om te werken bij een smelttemperatuur hoger dan 1 473 K (1 200 °C); |
| --- | --- |

2.

geschikt om te werken bij een smelttemperatuur hoger dan 1 473 K (1 200 °C);

| c. | computersystemen voor besturing en controle, speciaal geconfigureerd voor de in 2B227.a en 2B227.b bedoelde ovens. |
| --- | --- |

c.

computersystemen voor besturing en controle, speciaal geconfigureerd voor de in 2B227.a en 2B227.b bedoelde ovens.

2B228Apparatuur voor de vervaardiging of assemblage van rotoren, rotorrichtapparatuur, spillen en matrijzen voor het vormen van balgen, als hieronder:

| a. | rotorassemblageapparatuur voor de assemblage van rotorbuisdelen, schijven en deksels van gascentrifuges;


  Noot: 2B228.a omvat zeer nauwkeurige spillen, klemmen en machines voor krimppassen; |
| --- | --- |

a.

rotorassemblageapparatuur voor de assemblage van rotorbuisdelen, schijven en deksels van gascentrifuges;

Noot: 2B228.a omvat zeer nauwkeurige spillen, klemmen en machines voor krimppassen;

| b. | rotorrichtapparatuur voor het richten van de rotorbuisdelen van een gascentrifuge ten opzichte van een gemeenschappelijke as;
  Technische noot:

  Gewoonlijk bestaat de apparatuur in 2B228.b uit zeer nauwkeurige meetsondes gekoppeld aan een computer die vervolgens de werking van bijvoorbeeld de voor het richten van de rotorbuisdelen gebruikte pneumatische plunjers bestuurt. |
| --- | --- |

b.

rotorrichtapparatuur voor het richten van de rotorbuisdelen van een gascentrifuge ten opzichte van een gemeenschappelijke as;

Technische noot:

Gewoonlijk bestaat de apparatuur in 2B228.b uit zeer nauwkeurige meetsondes gekoppeld aan een computer die vervolgens de werking van bijvoorbeeld de voor het richten van de rotorbuisdelen gebruikte pneumatische plunjers bestuurt.

| c. | balgvormende spillen en matrijzen voor de productie van balgen met een enkele winding.
  Technische noot:

  De in 2B228.c bedoelde balgen hebben alle volgende kenmerken:








  1. | binnendiameter van 75 mm tot 400 mm, |
| --- | --- | --- |

c.

balgvormende spillen en matrijzen voor de productie van balgen met een enkele winding.

Technische noot:

De in 2B228.c bedoelde balgen hebben alle volgende kenmerken:

1.

binnendiameter van 75 mm tot 400 mm,

| 2. | lengte van 12,7 mm of meer, |
| --- | --- |

2.

lengte van 12,7 mm of meer,

| 3. | dikte van de enkele winding groter dan 2 mm; en |
| --- | --- |

3.

dikte van de enkele winding groter dan 2 mm; en

| 4. | vervaardigd van aluminiumlegeringen met een hoge sterkte, maragingstaal of "stapel- en continuvezelmateriaal" met een hoge sterkte. |
| --- | --- |

4.

vervaardigd van aluminiumlegeringen met een hoge sterkte, maragingstaal of "stapel- en continuvezelmateriaal" met een hoge sterkte.

2B230"Drukomzetters", geschikt voor het meten van de absolute druk op elk punt in het traject van 0 tot en met 13 kPa, met beide hiernavolgende kenmerken:

| a. | drukopneemelementen vervaardigd van of beschermd door aluminium, aluminiumlegeringen, nikkel of nikkellegeringen met meer dan 60 gewichtspercenten nikkel, en |
| --- | --- |

a.

drukopneemelementen vervaardigd van of beschermd door aluminium, aluminiumlegeringen, nikkel of nikkellegeringen met meer dan 60 gewichtspercenten nikkel, en

| b. | een van de twee hiernavolgende kenmerken:






  1. | een volledig bereik van minder dan 13 kPa en een ‧nauwkeurigheid‧ beter dan ± 1 % over het gehele bereik; of |
| --- | --- | --- |

b.

een van de twee hiernavolgende kenmerken:

1.

een volledig bereik van minder dan 13 kPa en een ‧nauwkeurigheid‧ beter dan ± 1 % over het gehele bereik; of

| 2. | een volledig bereik van 13 kPa of groter en een ‧nauwkeurigheid‧ beter dan ± 130 Pa. |
| --- | --- |

2.

een volledig bereik van 13 kPa of groter en een ‧nauwkeurigheid‧ beter dan ± 130 Pa.

Technische noot:

Voor de toepassing van 2B230 houdt ‧nauwkeurigheid‧ in non-lineariteit, hysteresis en herhaalbaarheid bij omgevingstemperatuur.

2B231Vacuümpompen met alle volgende kenmerken:

| a. | een toevoerhals van 380 mm of groter; |
| --- | --- |

a.

een toevoerhals van 380 mm of groter;

| b. | een pompsnelheid van 15 000 liter/seconde of meer; en |
| --- | --- |

b.

een pompsnelheid van 15 000 liter/seconde of meer; en

| c. | geschikt voor het bereiken van een maximale onderdruk beter dan 13 mPa. |
| --- | --- |

c.

geschikt voor het bereiken van een maximale onderdruk beter dan 13 mPa.

Technische noten:

| 1. | De pompsnelheid wordt bepaald op het meetpunt met stikstofgas of lucht. |
| --- | --- |

1.

De pompsnelheid wordt bepaald op het meetpunt met stikstofgas of lucht.

| 2. | De maximale onderdruk wordt berekend aan de invoerzijde van de pomp terwijl de invoer van de pomp is afgesloten. |
| --- | --- |

2.

De maximale onderdruk wordt berekend aan de invoerzijde van de pomp terwijl de invoer van de pomp is afgesloten.

2B232Meertrapskanonnen voor lichte gassen of andere kanonsystemen voor hoge snelheden (spoel-elektromagnetische en thermo-elektrische types en andere geavanceerde systemen) die projectielen kunnen versnellen tot een snelheid van 2 km per seconde of meer.

2B350Chemische productieapparatuur en onderdelen daarvan, als hieronder:

| a. | reactorvaten of reactors, met of zonder roerwerk, met een totaal inwendig (geometrisch) volume van meer dan 0,1 m3 (100 liter) en minder dan 20 m3 (20 000 liter), waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:






  1. | legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; |
| --- | --- | --- |

a.

reactorvaten of reactors, met of zonder roerwerk, met een totaal inwendig (geometrisch) volume van meer dan 0,1 m3 (100 liter) en minder dan 20 m3 (20 000 liter), waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1.

legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

| 2. | fluorpolymeren; |
| --- | --- |

2.

fluorpolymeren;

| 3. | glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»); |
| --- | --- |

3.

glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»);

| 4. | nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten; |
| --- | --- |

4.

nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

| 5. | tantaal of tantaallegeringen; |
| --- | --- |

5.

tantaal of tantaallegeringen;

| 6. | titaan of titaanlegeringen; of |
| --- | --- |

6.

titaan of titaanlegeringen; of

| 7. | zirkonium of zirkoniumlegeringen; |
| --- | --- |

7.

zirkonium of zirkoniumlegeringen;

| b. | roerwerken voor gebruik in reactorvaten of reactors als aangegeven in 2B350.a, en voor gebruik in dergelijke roerwerken ontworpen schoepen, bladen en assen, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:






  1. | legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; |
| --- | --- | --- |

b.

roerwerken voor gebruik in reactorvaten of reactors als aangegeven in 2B350.a, en voor gebruik in dergelijke roerwerken ontworpen schoepen, bladen en assen, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1.

legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

| 2. | fluorpolymeren; |
| --- | --- |

2.

fluorpolymeren;

| 3. | glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»); |
| --- | --- |

3.

glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»);

| 4. | nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten; |
| --- | --- |

4.

nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

| 5. | tantaal of tantaallegeringen; |
| --- | --- |

5.

tantaal of tantaallegeringen;

| 6. | titaan of titaanlegeringen; of |
| --- | --- |

6.

titaan of titaanlegeringen; of

| 7. | zirkonium of zirkoniumlegeringen; |
| --- | --- |

7.

zirkonium of zirkoniumlegeringen;

| c. | opslagtanks en vaten met een totaal inwendig (geometrisch) volume van meer dan 0,1 m3 (100 l), waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:






  1. | legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; |
| --- | --- | --- |

c.

opslagtanks en vaten met een totaal inwendig (geometrisch) volume van meer dan 0,1 m3 (100 l), waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1.

legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

| 2. | fluorpolymeren; |
| --- | --- |

2.

fluorpolymeren;

| 3. | glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»); |
| --- | --- |

3.

glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»);

| 4. | nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten; |
| --- | --- |

4.

nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

| 5. | tantaal of tantaallegeringen; |
| --- | --- |

5.

tantaal of tantaallegeringen;

| 6. | titaan of titaanlegeringen; of |
| --- | --- |

6.

titaan of titaanlegeringen; of

| 7. | zirkonium of zirkoniumlegeringen; |
| --- | --- |

7.

zirkonium of zirkoniumlegeringen;

| d. | warmtewisselaars of condensors met een warmte-uitwisseloppervlak van meer dan 0,15 m2 en minder dan 20 m2, en voor gebruik in dergelijke warmtewisselaars of condensors ontworpen buizen, platen, spoelen of blokken (kernen), waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:






  1. | legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; |
| --- | --- | --- |

d.

warmtewisselaars of condensors met een warmte-uitwisseloppervlak van meer dan 0,15 m2 en minder dan 20 m2, en voor gebruik in dergelijke warmtewisselaars of condensors ontworpen buizen, platen, spoelen of blokken (kernen), waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1.

legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

| 2. | fluorpolymeren; |
| --- | --- |

2.

fluorpolymeren;

| 3. | glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»); |
| --- | --- |

3.

glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»);

| 4. | grafiet of "koolstofgrafiet"; |
| --- | --- |

4.

grafiet of "koolstofgrafiet";

| 5. | nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten; |
| --- | --- |

5.

nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

| 6. | tantaal of tantaallegeringen; |
| --- | --- |

6.

tantaal of tantaallegeringen;

| 7. | titaan of titaanlegeringen; |
| --- | --- |

7.

titaan of titaanlegeringen;

| 8. | zirkonium of zirkoniumlegeringen; |
| --- | --- |

8.

zirkonium of zirkoniumlegeringen;

| 9. | siliciumcarbide; of |
| --- | --- |

9.

siliciumcarbide; of

| 10. | titaancarbide; |
| --- | --- |

10.

titaancarbide;

| e. | distillatiekolommen of absorptiekolommen met een inwendige diameter van meer dan 0,1 m, en voor gebruik in dergelijke distillatiekolommen of absorptiekolommen ontworpen vloeistofverdelers, dampverdelers of vloeistofcollectoren, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:






  1. | legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; |
| --- | --- | --- |

e.

distillatiekolommen of absorptiekolommen met een inwendige diameter van meer dan 0,1 m, en voor gebruik in dergelijke distillatiekolommen of absorptiekolommen ontworpen vloeistofverdelers, dampverdelers of vloeistofcollectoren, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1.

legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

| 2. | fluorpolymeren; |
| --- | --- |

2.

fluorpolymeren;

| 3. | glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»); |
| --- | --- |

3.

glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»);

| 4. | grafiet of "koolstofgrafiet"; |
| --- | --- |

4.

grafiet of "koolstofgrafiet";

| 5. | nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten; |
| --- | --- |

5.

nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

| 6. | tantaal of tantaallegeringen; |
| --- | --- |

6.

tantaal of tantaallegeringen;

| 7. | titaan of titaanlegeringen; of |
| --- | --- |

7.

titaan of titaanlegeringen; of

| 8. | zirkonium of zirkoniumlegeringen; |
| --- | --- |

8.

zirkonium of zirkoniumlegeringen;

| f. | op afstand bedienbare vulapparatuur waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:






  1. | legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; of |
| --- | --- | --- |

f.

op afstand bedienbare vulapparatuur waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1.

legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; of

| 2. | nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten; |
| --- | --- |

2.

nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

| g. | kleppen met een nominale afmeting van meer dan 10 mm en de voor die kleppen ontworpen omhulsels (klephuizen) of voorgevormde binnenbekledingen, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:






  1. | legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; |
| --- | --- | --- |

g.

kleppen met een nominale afmeting van meer dan 10 mm en de voor die kleppen ontworpen omhulsels (klephuizen) of voorgevormde binnenbekledingen, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1.

legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

| 2. | fluorpolymeren; |
| --- | --- |

2.

fluorpolymeren;

| 3. | glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»); |
| --- | --- |

3.

glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»);

| 4. | nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten; |
| --- | --- |

4.

nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

| 5. | tantaal of tantaallegeringen; |
| --- | --- |

5.

tantaal of tantaallegeringen;

| 6. | titaan of titaanlegeringen; of |
| --- | --- |

6.

titaan of titaanlegeringen; of

| 7. | zirkonium of zirkoniumlegeringen; |
| --- | --- |

7.

zirkonium of zirkoniumlegeringen;

| h. | dubbelwandige buizen met een lektestaansluiting, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:






  1. | legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; |
| --- | --- | --- |

h.

dubbelwandige buizen met een lektestaansluiting, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1.

legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

| 2. | fluorpolymeren; |
| --- | --- |

2.

fluorpolymeren;

| 3. | glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»); |
| --- | --- |

3.

glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»);

| 4. | grafiet of "koolstofgrafiet"; |
| --- | --- |

4.

grafiet of "koolstofgrafiet";

| 5. | nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten; |
| --- | --- |

5.

nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

| 6. | tantaal of tantaallegeringen; |
| --- | --- |

6.

tantaal of tantaallegeringen;

| 7. | titaan of titaanlegeringen; of |
| --- | --- |

7.

titaan of titaanlegeringen; of

| 8. | zirkonium of zirkoniumlegeringen; |
| --- | --- |

8.

zirkonium of zirkoniumlegeringen;

| i. | pompen met meervoudige afdichting en pompen zonder afdichting, met door de fabrikant opgegeven maximale pompsnelheid van meer dan 0,6 m3 per uur, of vacuümpompen met door de fabrikant opgegeven maximale pompsnelheid van meer dan 5 m3 per uur bij standaardtemperatuur (273 K (0 °C)) en druk (101,3 kPa), en voor gebruik in dergelijke pompen ontworpen omhulsels (pomphuizen), voorgevormde binnenbekledingen, schoepen, vleugelraderen of straalpompverdeelstukken, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:






  1. | legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; |
| --- | --- | --- |

i.

pompen met meervoudige afdichting en pompen zonder afdichting, met door de fabrikant opgegeven maximale pompsnelheid van meer dan 0,6 m3 per uur, of vacuümpompen met door de fabrikant opgegeven maximale pompsnelheid van meer dan 5 m3 per uur bij standaardtemperatuur (273 K (0 °C)) en druk (101,3 kPa), en voor gebruik in dergelijke pompen ontworpen omhulsels (pomphuizen), voorgevormde binnenbekledingen, schoepen, vleugelraderen of straalpompverdeelstukken, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1.

legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

| 2. | keramiek; |
| --- | --- |

2.

keramiek;

| 3. | ferrosilicium; |
| --- | --- |

3.

ferrosilicium;

| 4. | fluorpolymeren; |
| --- | --- |

4.

fluorpolymeren;

| 5. | glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»); |
| --- | --- |

5.

glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»);

| 6. | grafiet of "koolstofgrafiet"; |
| --- | --- |

6.

grafiet of "koolstofgrafiet";

| 7. | nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten; |
| --- | --- |

7.

nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

| 8. | tantaal of tantaallegeringen; |
| --- | --- |

8.

tantaal of tantaallegeringen;

| 9. | titaan of titaanlegeringen; of |
| --- | --- |

9.

titaan of titaanlegeringen; of

| 10. | zirkonium of zirkoniumlegeringen; |
| --- | --- |

10.

zirkonium of zirkoniumlegeringen;

| j. | verbrandingsovens ontworpen om chemicaliën bedoeld in 1C350 te vernietigen, met speciaal ontworpen afvaltoevoersystemen en speciale transportfaciliteiten en een gemiddelde verbrandingskamertemperatuur van meer dan 1 273 K (1 000oC), waarvan alle oppervlakken van het afvaltoevoersysteem die in direct contact komen met de afvalproducten, gemaakt zijn van of bekleed zijn met een of meer van de volgende materialen:






  1. | legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; |
| --- | --- | --- |

j.

verbrandingsovens ontworpen om chemicaliën bedoeld in 1C350 te vernietigen, met speciaal ontworpen afvaltoevoersystemen en speciale transportfaciliteiten en een gemiddelde verbrandingskamertemperatuur van meer dan 1 273 K (1 000oC), waarvan alle oppervlakken van het afvaltoevoersysteem die in direct contact komen met de afvalproducten, gemaakt zijn van of bekleed zijn met een of meer van de volgende materialen:

1.

legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

| 2. | keramiek; of |
| --- | --- |

2.

keramiek; of

| 3. | nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten. |
| --- | --- |

3.

nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten.

Technische noot:

"Koolstofgrafiet" is een composiet bestaande uit amorf koolstof en grafiet, met 8 of meer gewichtspercenten grafiet.

2B351Controleapparatuur voor giftige gassen, als hieronder, vermeld en speciaal daarvoor ontworpen detectoren:

| a. | geschikt om in continubedrijf chemische strijdgassen of chemische stoffen als bedoeld in 1C350 waar te nemen bij concentraties van minder dan 0,3 milligram per m3 lucht, of |
| --- | --- |

a.

geschikt om in continubedrijf chemische strijdgassen of chemische stoffen als bedoeld in 1C350 waar te nemen bij concentraties van minder dan 0,3 milligram per m3 lucht, of

| b. | geschikt om cholinesteraseremmende werking waar te nemen. |
| --- | --- |

b.

geschikt om cholinesteraseremmende werking waar te nemen.

2B352Uitrusting, geschikt voor het manipuleren van biologische stoffen, als hieronder:

| a. | complete installaties met fysische inperking van de klassen P3 en P4;
  Technische noot:

  P3- en P4- (BL3, BL4, L3, L4) inperkingsniveaus zijn gespecificeerd in de WHO Laboratory Biosafety Manual (2e editie, Genève 1993). |
| --- | --- |

a.

complete installaties met fysische inperking van de klassen P3 en P4;

Technische noot:

P3- en P4- (BL3, BL4, L3, L4) inperkingsniveaus zijn gespecificeerd in de WHO Laboratory Biosafety Manual (2e editie, Genève 1993).

| b. | fermentoren, geschikt voor het kweken van pathogene "micro-organismen" of virussen of de productie van "toxinen", zonder aërosolvorming, met een totale capaciteit van 20 liter of meer;
  Technische noot:

  Fermentoren omvatten bioreactoren, chemostaten en continustroomsystemen. |
| --- | --- |

b.

fermentoren, geschikt voor het kweken van pathogene "micro-organismen" of virussen of de productie van "toxinen", zonder aërosolvorming, met een totale capaciteit van 20 liter of meer;

Technische noot:

Fermentoren omvatten bioreactoren, chemostaten en continustroomsystemen.

| c. | centrifuges, geschikt voor continu scheiden zonder aërosolvorming, met alle volgende kenmerken:






  1. | een doorstroomsnelheid van meer dan 100 liter per uur; |
| --- | --- | --- |

c.

centrifuges, geschikt voor continu scheiden zonder aërosolvorming, met alle volgende kenmerken:

1.

een doorstroomsnelheid van meer dan 100 liter per uur;

| 2. | met componenten gemaakt van gepolijst roestvrij staal of titaan; |
| --- | --- |

2.

met componenten gemaakt van gepolijst roestvrij staal of titaan;

| 3. | met een of meer koppelingen binnen het met stoom steriliseerbare compartiment; en |
| --- | --- |

3.

met een of meer koppelingen binnen het met stoom steriliseerbare compartiment; en

| 4. | geschikt voor in-situ-stoomsterilisatie in afgesloten toestand; |
| --- | --- |

4.

geschikt voor in-situ-stoomsterilisatie in afgesloten toestand;

Technische noot:

Met centrifuges zijn ook bedoeld decanteerflessen.

| d. | dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur en onderdelen, als hieronder:






  1. | dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur geschikt voor het scheiden van pathogene micro-organismen, virussen, toxines of celculturen zonder aërosolvorming, met beide volgende kenmerken:






  a. | een totaal filteroppervlak van 1 m2 of meer; en |
| --- | --- | --- | --- |

d.

dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur en onderdelen, als hieronder:

1.

dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur geschikt voor het scheiden van pathogene micro-organismen, virussen, toxines of celculturen zonder aërosolvorming, met beide volgende kenmerken:

a.

een totaal filteroppervlak van 1 m2 of meer; en

| b. | in-situ gesteriliseerd of gedesinfecteerd kunnen worden;
  Technische noot:

  In 2B352.d.1.b. slaat gesteriliseerd op het verwijderen van alle levensvatbare bacteriën uit de apparatuur door middel van fysieke (bv. stoom) of chemische agentia. Gedesinfecteerd betekent dat iedere mogelijke bacteriële infectiviteit in de apparatuur door middel van chemische agentia met een kiemdodende werking volledig is uitgeschakeld. Desinfectie en sterilisatie zijn te onderscheiden van reiniging, waarmee schoonmaakprocédés worden bedoeld die het bacteriële gehalte van de apparatuur verminderen zonder de bacteriële infectiviteit of levensvatbaarheid noodzakelijkerwijze volledig uit te schakelen. |
| --- | --- |

b.

in-situ gesteriliseerd of gedesinfecteerd kunnen worden;

Technische noot:

In 2B352.d.1.b. slaat gesteriliseerd op het verwijderen van alle levensvatbare bacteriën uit de apparatuur door middel van fysieke (bv. stoom) of chemische agentia. Gedesinfecteerd betekent dat iedere mogelijke bacteriële infectiviteit in de apparatuur door middel van chemische agentia met een kiemdodende werking volledig is uitgeschakeld. Desinfectie en sterilisatie zijn te onderscheiden van reiniging, waarmee schoonmaakprocédés worden bedoeld die het bacteriële gehalte van de apparatuur verminderen zonder de bacteriële infectiviteit of levensvatbaarheid noodzakelijkerwijze volledig uit te schakelen.

| 2. | Onderdelen van dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur (bv. modules, elementen, cassettes, patronen, eenheden of platen) met een filteroppervlak van 0,2 m2 of meer voor ieder onderdeel en bedoeld voor gebruik in de in 2B352 vermelde dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur. |
| --- | --- |

2.

Onderdelen van dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur (bv. modules, elementen, cassettes, patronen, eenheden of platen) met een filteroppervlak van 0,2 m2 of meer voor ieder onderdeel en bedoeld voor gebruik in de in 2B352 vermelde dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur.

Noot: In 2B352.d wordt niet bedoeld apparatuur voor omgekeerde osmose, zoals gespecificeerd door de fabrikant.

| e. | vriesdroogapparatuur, geschikt voor stoomsterilisatie en met een condensorcapaciteit van meer dan 10 kg ijs per 24 uur en minder dan 1 000 kg ijs per 24 uur; |
| --- | --- |

e.

vriesdroogapparatuur, geschikt voor stoomsterilisatie en met een condensorcapaciteit van meer dan 10 kg ijs per 24 uur en minder dan 1 000 kg ijs per 24 uur;

| f. | beschermings- of insluitingsmiddelen, als hieronder:






  1. | pakken van het type waarbij het lichaam geheel of half wordt omsloten, of van een externe luchttoevoer afhankelijke getuide, onder positieve druk werkende afzuigkappen


  Noot: Pakken die zijn ontworpen om met onafhankelijke ademhalingsapparatuur te worden gedragen, vallen niet onder 2B352.f.1. |
| --- | --- | --- |

f.

beschermings- of insluitingsmiddelen, als hieronder:

1.

pakken van het type waarbij het lichaam geheel of half wordt omsloten, of van een externe luchttoevoer afhankelijke getuide, onder positieve druk werkende afzuigkappen

Noot: Pakken die zijn ontworpen om met onafhankelijke ademhalingsapparatuur te worden gedragen, vallen niet onder 2B352.f.1.

| 2. | biologische veiligheidskasten van klasse III of isolerende systemen met soortgelijke werkingsnormen;


  Noot: De isolerende systemen in 2B352.f.2 omvatten flexibele isolatoren, droge kasten, anaërobe kamers, handschoenkasten en afzuigkappen met laminaire stroming (gesloten met verticale stroming). |
| --- | --- |

2.

biologische veiligheidskasten van klasse III of isolerende systemen met soortgelijke werkingsnormen;

Noot: De isolerende systemen in 2B352.f.2 omvatten flexibele isolatoren, droge kasten, anaërobe kamers, handschoenkasten en afzuigkappen met laminaire stroming (gesloten met verticale stroming).

| g. | aërosol-inhalatiekamers ontworpen voor immuniteitsonderzoek met "micro-organismen", virussen of "toxinen" met een capaciteit van 1 m3 of meer. |
| --- | --- |

g.

aërosol-inhalatiekamers ontworpen voor immuniteitsonderzoek met "micro-organismen", virussen of "toxinen" met een capaciteit van 1 m3 of meer.

2CMaterialen

Geen.

2DProgrammatuur

2D001"Programmatuur" die verschilt van de in 2D002 bedoelde programmatuur, speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur, bedoeld in 2A001 of 2B001 t/m 2B009.

2D002"Programmatuur" voor elektronische toestellen, ook wanneer geïntegreerd in een elektronisch toestel of systeem, waardoor dergelijke toestellen of systemen kunnen functioneren als "numerieke besturings"-eenheid, en geschikt om meer dan vier assen gelijktijdig te laten samenwerken voor "contourbesturen".

Noot 1: 2D002 is niet van toepassing op "programmatuur" die speciaal is ontworpen of aangepast voor de bediening van werktuigmachines die niet zijn vermeld in categorie 2.

Noot 2: 2D002 is niet van toepassing op "programmatuur" voor goederen die zijn vermeld in 2B002. Zie 2D001 voor programmatuur voor goederen vermeld in 2B002.

2D101"Programmatuur" speciaal ontworpen of aangepast voor het "gebruik" van apparatuur, bedoeld in 2B104, 2B105, 2B109, 2B116, 2B117 of 2B119 tot en met 2B122.

Opmerking: ZIE OOK 9D004

2D201"Programmatuur" speciaal ontworpen voor het "gebruik" van apparatuur, bedoeld in 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B219 of 2B227.

2D202"Programmatuur" speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur, bedoeld in 2B201.

2ETechnologie

2E001"Technologie" volgens de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" van apparatuur of "programmatuur", bedoeld in 2A, 2B of 2D.

2E002"Technologie" volgens de algemene technologienoot voor de "productie" van apparatuur, bedoeld in 2A of 2B.

2E003Andere "technologie", als hieronder:

| a. | "technologie" voor de "ontwikkeling" van interactieve grafische modellen als geïntegreerd onderdeel in "numerieke besturings"-eenheden voor het maken of wijzigen van werkstukprogramma's; |
| --- | --- |

a.

"technologie" voor de "ontwikkeling" van interactieve grafische modellen als geïntegreerd onderdeel in "numerieke besturings"-eenheden voor het maken of wijzigen van werkstukprogramma's;

| b. | "technologie" voor fabricageprocessen door middel van metaalbewerking, als hieronder:






  1. | technologie voor het ontwerpen van gereedschappen, matrijzen en klemmen, speciaal ontworpen voor de volgende processen:






  a. | "superplastisch vormen"; |
| --- | --- | --- | --- |

b.

"technologie" voor fabricageprocessen door middel van metaalbewerking, als hieronder:

1.

technologie voor het ontwerpen van gereedschappen, matrijzen en klemmen, speciaal ontworpen voor de volgende processen:

a.

"superplastisch vormen";

| b. | "diffusielassen"; of |
| --- | --- |

b.

"diffusielassen"; of

| c. | "direct hydraulisch persen"; |
| --- | --- |

c.

"direct hydraulisch persen";

| 2. | technische gegevens bestaande uit procesmethoden of procesparameters als hieronder opgesomd, welke worden gebruikt voor het regelen van:






  a. | "superplastisch vormen" van aluminium-, titaan- en "superlegeringen":






  1. | oppervlaktevoorbehandeling; |
| --- | --- | --- | --- |

2.

technische gegevens bestaande uit procesmethoden of procesparameters als hieronder opgesomd, welke worden gebruikt voor het regelen van:

a.

"superplastisch vormen" van aluminium-, titaan- en "superlegeringen":

1.

oppervlaktevoorbehandeling;

| 2. | reksnelheid; |
| --- | --- |

2.

reksnelheid;

| 3. | temperatuur; |
| --- | --- |

3.

temperatuur;

| 4. | druk; |
| --- | --- |

4.

druk;

| b. | "diffusielassen" van "superlegeringen" en titaanlegeringen:






  1. | oppervlaktevoorbehandeling; |
| --- | --- | --- |

b.

"diffusielassen" van "superlegeringen" en titaanlegeringen:

1.

oppervlaktevoorbehandeling;

| 2. | temperatuur; |
| --- | --- |

2.

temperatuur;

| 3. | druk; |
| --- | --- |

3.

druk;

| c. | "direct hydraulisch persen" van aluminium en titaanlegeringen:






  1. | druk; |
| --- | --- | --- |

c.

"direct hydraulisch persen" van aluminium en titaanlegeringen:

1.

druk;

| 2. | cyclustijd; |
| --- | --- |

2.

cyclustijd;

| d. | "heet isostatisch verdichten" van titaan- , aluminium- en "superlegeringen":






  1. | temperatuur; |
| --- | --- | --- |

d.

"heet isostatisch verdichten" van titaan- , aluminium- en "superlegeringen":

1.

temperatuur;

| 2. | druk; |
| --- | --- |

2.

druk;

| 3. | cyclustijd; |
| --- | --- |

3.

cyclustijd;

| c. | "technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van machines voor hydraulisch strekvormen en matrijzen daarvoor, voor de fabricage van vliegtuigconstructies; |
| --- | --- |

c.

"technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van machines voor hydraulisch strekvormen en matrijzen daarvoor, voor de fabricage van vliegtuigconstructies;

| d. | "technologie" voor de "ontwikkeling" van generatoren van instructies voor werktuigmachines (bv. werkstukprogramma's) op basis van ontwerpgegevens welke aanwezig zijn in "numerieke besturings"-eenheden; |
| --- | --- |

d.

"technologie" voor de "ontwikkeling" van generatoren van instructies voor werktuigmachines (bv. werkstukprogramma's) op basis van ontwerpgegevens welke aanwezig zijn in "numerieke besturings"-eenheden;

| e. | "technologie" voor de "ontwikkeling" van integratie-"programmatuur" voor het inbouwen van expertsystemen in "numerieke besturings"-eenheden ten behoeve van geavanceerde beslissingsondersteuning voor verrichtingen op de werkvloer; |
| --- | --- |

e.

"technologie" voor de "ontwikkeling" van integratie-"programmatuur" voor het inbouwen van expertsystemen in "numerieke besturings"-eenheden ten behoeve van geavanceerde beslissingsondersteuning voor verrichtingen op de werkvloer;

| f. | "technologie" voor het aanbrengen van anorganische deklagen of deklagen door anorganische modificatie van het oppervlak, omschreven in kolom 3 van onderstaande tabel, op nieţ-elektronische substraten, gespecificeerd in kolom 2 van onderstaande tabel, door middel van procédés als omschreven in kolom 1 van onderstaande tabel en als gedefinieerd in de technische noten.


  Noot: De tabel en de technische noot zijn opgenomen na punt 2E301. |
| --- | --- |

f.

"technologie" voor het aanbrengen van anorganische deklagen of deklagen door anorganische modificatie van het oppervlak, omschreven in kolom 3 van onderstaande tabel, op nieţ-elektronische substraten, gespecificeerd in kolom 2 van onderstaande tabel, door middel van procédés als omschreven in kolom 1 van onderstaande tabel en als gedefinieerd in de technische noten.

Noot: De tabel en de technische noot zijn opgenomen na punt 2E301.

2E101"Technologie" volgens de algemene technologienoot voor het "gebruik" van apparatuur of "programmatuur", bedoeld in 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116 2B119 tot en met 2B122 of 2D101.

2E201"Technologie" volgens de algemene technologienoot voor het "gebruik" van apparatuur of "programmatuur", bedoeld in 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b, 2B007.c, 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225 t/m 2B232, 2D201 of 2D202.

2E301"Technologie" volgens de algemene technologienoot voor het "gebruik" van goederen bedoeld, in 2B350 t/m 2B352.

Tabel

Afzettingstechnieken

| 1. | Bekledingsprocédé (1) (3) |
| --- | --- |

1.

Bekledingsprocédé (1) (3)

| 2. | Substraat |
| --- | --- |

2.

Substraat

| 3. | Resulterende deklaag |
| --- | --- |

3.

Resulterende deklaag

| A. | Chemische afzetting uit de dampfase (CVD) |
| --- | --- |

A.

Chemische afzetting uit de dampfase (CVD)

"superlegeringen"

aluminiden voor inwendige kanalen

keramische materialen (19) en glazen met een lage uitzettingscoëfficiënt (14)

siliciden

carbiden

diëlektrische lagen (15)

diamant

diamantachtige koolstof (17)

"composieten" met een koolstof-koolstof-, keramische of metaal "matrix"

siliciden

carbiden

vuurvaste metalen

mengsels daarvan (4)

diëlektrische lagen (15)

aluminiden

gelegeerde aluminiden (2)

boriumnitride

gecementeerde wolfraamcarbide (16)

siliciumcarbide (18)

carbiden

wolfraam

mengsels daarvan (4)

diëlektrische lagen (15)

molybdeen en molybdeenlegeringen

diëlektrische lagen (15)

beryllium en berylliumlegeringen

diëlektrische lagen (15)

diamant

diamantachtige koolstof (17)

sensorvenstermaterialen (9)

diëlektrische lagen (15)

diamant

diamantachtige koolstof (17)

| B. | Thermische verdampingsafzetting (TE-PVD) (opdampen) |
| --- | --- |

B.

Thermische verdampingsafzetting (TE-PVD) (opdampen)

| B.1. | Elektronenstraalverdampen (EB-PVD) |
| --- | --- |

B.1.

Elektronenstraalverdampen (EB-PVD)

"superlegeringen"

gelegeerde siliciden

gelegeerde aluminiden (2)

McrAlX (5)

gemodificeerd zirkoniumoxide (12)

siliciden

aluminiden

mengsels daarvan (4)

keramische materialen (19) en glazen met een lage uitzettingscoëfficiënt (14)

diëlektrische lagen (15)

roestwerend staal (7)

McrAlX (5)

gemodificeerd zirkoniumoxide (12)

mengsels daarvan (4)

"composieten" met een koolstof-koolstof- , keramische of metaal "matrix"

siliciden

carbiden

vuurvaste metalen

mengsels daarvan (4)

diëlektrische lagen (15)

boriumnitride

gecementeerde wolfraamcarbide (16)

siliciumcarbide (18)

carbiden

wolfraam

mengsels daarvan (4)

diëlektrische lagen (15)

molybdeen en molybdeenlegeringen

diëlektrische lagen (15)

beryllium en berylliumlegeringen

diëlektrische lagen (15)

boriden

beryllium

sensorvenstermaterialen (9)

diëlektrische lagen (15)

titaanlegeringen (13)

boriden

nitriden

| B.2. | Afzetting uit de dampfase: ion-plating |
| --- | --- |

B.2.

Afzetting uit de dampfase: ion-plating

keramische materialen (19) en glazen met een lage uitzettingscoëfficiënt (14)

siliciden

diëlektrische lagen (15)

diamantachtige koolstof (17)

"composieten" met een koolstof-koolstof-, keramische of metaal "matrix"

diëlektrische lagen (15)

gecementeerde wolfraamcarbide (16) siliciumcarbide

diëlektrische lagen (15)

molybdeen en molybdeenlegeringen

diëlektrische lagen (15)

beryllium en berylliumlegeringen

diëlektrische lagen (15)

sensorvenstermaterialen (9)

diëlektrische lagen (15)

diamantachtige kodstof koolstof (17)

| B.3. | Afzetting uit de dampfase: "laser"-verdamping |
| --- | --- |

B.3.

Afzetting uit de dampfase: "laser"-verdamping

keramische materialen (19) en glazen met een lage uitzettingscoëfficiënt (14)

siliciden

diëlektrische lagen (15)

diamantachtige koolstof (17)

"composieten" met een koolstof-koolstof-, keramische of metaal "matrix"

diëlektrische lagen (15)

gecementeerde wolfraamcarbide (16) siliciumcarbide

diëlektrische lagen (15)

molybdeen en molybdeenlegeringen

diëlektrische lagen (15)

beryllium en berylliumlegeringen

diëlektrische lagen (15)

sensorvenstermaterialen (9)

diëlektrische lagen (15)

diamantachtige koolstof (17)

| B.4. | Afzetting uit de dampfase: boogverdampen |
| --- | --- |

B.4.

Afzetting uit de dampfase: boogverdampen

"superlegeringen"

gelegeerde siliciden

gelegeerde aluminiden (2)

McrAlX (5)

polymeren (11) en "composieten" met een organische "matrix"

boriden

carbiden

nitriden

diamantachtige koolstof (17)

| C. | «Pack» cementering (zie A hierboven voor «out-of-pack» cementering (10) |
| --- | --- |

C.

«Pack» cementering (zie A hierboven voor «out-of-pack» cementering (10)

"composieten" met een koolstof-koolstof-, keramische of metaal "matrix"

siliciden

carbiden

mengsels daarvan (4)

titaanlegeringen (13)

siliciden

aluminiden

gelegeerde aluminiden (2)

vuurvaste metalen en legeringen (8)

siliciden

oxiden

| D. | Plasmaspuiten |
| --- | --- |

D.

Plasmaspuiten

"superlegeringen"

McrAlX (5)

gemodificeerd zirkoniumoxide (12)

mengsels daarvan (4)

slijtbaar nikkelgrafiet

slijtbare materialen met Ni-Cr-Al

slijtbaar Al-Si-polyester

gelegeerde aluminiden (2)

aluminiumlegeringen (6)

McrAlX (5)

gemodificeerd zirkoniumoxide (12)

siliciden

mengsels daarvan (4)

vuurvaste metalen en legeringen (8)

aluminiden

siliciden

carbiden

roestwerend staal (7)

MCrAIX (5)

gemodificeerd zirkoniumoxide (12)

mengsels daarvan (4)

titaanlegeringen (13)

carbiden

aluminiden

siliciden

gelegeerde aluminiden (2)

slijtbaar nikkelgrafiet

slijtbare materialen met Ni-Cr-A1

slijtbaar A1-Si-polyester

| E. | Afzetting uit suspensie en legeringen |
| --- | --- |

E.

Afzetting uit suspensie en legeringen

vuurvaste metalen en legeringen (8)

ineengesmolten siliciden

ineengesmolten aluminiden met uitzondering van weerstandsverhittingselementen

"composieten" met een koolstof-koolstof-, keramische of metaal "matrix"

siliciden

carbiden

mengsels daarvan (4)

| F. | Afzetting door middel van sputteren |
| --- | --- |

F.

Afzetting door middel van sputteren

"superlegeringen"

gelegeerde siliciden

gelegeerde aluminiden (2)

aluminiden gemodificeerd met edele metalen (3)

MCrAlX (5)

gemodificeerd zirkoniumoxide (12)

platina

mengsels daarvan (4)

keramische materialen en glazen met een lage uitzettingscoëfficiënt (14)

siliciden

platina

mengsels daarvan (4)

diëlektrische lagen (15)

diamantachtige koolstof (17)

titaanlegeringen (13)

boriden

nitriden

oxiden

siliciden

aluminiden

gelegeerde aluminiden (2)

carbiden

"composieten" met een koolstof-koolstof-, keramische of metaal "matrix"

siliciden

carbiden

vuurvaste metalen

mengsels daarvan (4)

diëlektrische lagen (15)

boriumnitride

gecementeerde wolfraamcarbide (16)

siliciumcarbide (18)

carbiden

wolfraam

mengsels daarvan (4)

diëlektrische lagen (15)

boriumnitride

molybdeen en molybdeenlegeringen

diëlektrische lagen (15)

beryllium en berylliumlegeringen

boriden

diëlektrische lagen (15)

beryllium

sensorvenstermaterialen (9)

diëlektrische lagen (15)

diamantachtige koolstof (17)

vuurvaste metalen en legeringen (8)

aluminiden

siliciden

oxiden

carbiden

| G. | Ionenimplantatie |
| --- | --- |

G.

Ionenimplantatie

hoge temperatuur lagerstaalsoorten

toevoeging van chroom, tantaal of niobium (columbium)

titaanlegeringen (13)

boriden

nitriden

beryllium en berylliumlegeringen

boriden

gecementeerde wolfraamcarbide (16)

carbiden

nitriden

Tabel — Afzettingstechnieken — noten

| 1. | ‧Bekledingsprocédé‧ behelst zowel het herstel en opknappen van de deklaag als het aanbrengen van een oorspronkelijke deklaag. |
| --- | --- |

1.

‧Bekledingsprocédé‧ behelst zowel het herstel en opknappen van de deklaag als het aanbrengen van een oorspronkelijke deklaag.

| 2. | Eénfasige of meerfasebekledingen waarbij één of meer elementen worden afgezet vóór of tijdens het aanbrengen van de aluminidebekleding, worden, zelfs wanneer deze elementen door middel van een ander bekledingsprocédé worden afgezet, mede begrepen onder de term ‧bekleding met gelegeerde aluminide‧; daaronder wordt echter niet begrepen het meerdere malen toepassen van éénfasige «pack» cementeringsprocédés om gelegeerde aluminiden te verkrijgen. |
| --- | --- |

2.

Eénfasige of meerfasebekledingen waarbij één of meer elementen worden afgezet vóór of tijdens het aanbrengen van de aluminidebekleding, worden, zelfs wanneer deze elementen door middel van een ander bekledingsprocédé worden afgezet, mede begrepen onder de term ‧bekleding met gelegeerde aluminide‧; daaronder wordt echter niet begrepen het meerdere malen toepassen van éénfasige «pack» cementeringsprocédés om gelegeerde aluminiden te verkrijgen.

| 3. | Meerfase-bekleding waarbij het edele metaal of de edele metalen worden opgebracht door middel van een ander bekledingsprocédé voordat de aluminidebekleding wordt aangebracht, wordt mede begrepen onder de term ‧met edelmetaal gemodificeerde aluminide‧-bekleding. |
| --- | --- |

3.

Meerfase-bekleding waarbij het edele metaal of de edele metalen worden opgebracht door middel van een ander bekledingsprocédé voordat de aluminidebekleding wordt aangebracht, wordt mede begrepen onder de term ‧met edelmetaal gemodificeerde aluminide‧-bekleding.

| 4. | Het begrip ‧mengsels daarvan‧ omvat geïnfiltreerd materiaal, samenstellingen met een verlopend gehalte, gelijktijdig afgezette materialen en afzettingen bestaande uit meerdere lagen en zij worden verkregen door middel van één of meer van de in de tabel vermelde bekledingsprocédés. |
| --- | --- |

4.

Het begrip ‧mengsels daarvan‧ omvat geïnfiltreerd materiaal, samenstellingen met een verlopend gehalte, gelijktijdig afgezette materialen en afzettingen bestaande uit meerdere lagen en zij worden verkregen door middel van één of meer van de in de tabel vermelde bekledingsprocédés.

| 5. | Met MCrAlX wordt bedoeld een bekledingslegering waarbij M staat voor kobalt, ijzer, nikkel of combinaties daarvan en X staat voor hafnium, yttrium, silicium, tantaal in iedere hoeveelheid of voor andere opzettelijke toevoegingen van meer dan 0,01 gewichtspercent in verschillende verhoudingen en combinaties, met uitzondering van:






  a. | CoCrAlY-bekledingen die minder dan 22 gewichtspercenten chroom bevatten, minder dan 7 gewichtspercenten aluminium en minder dan 2 gewichtspercenten yttrium; |
| --- | --- | --- |

5.

Met MCrAlX wordt bedoeld een bekledingslegering waarbij M staat voor kobalt, ijzer, nikkel of combinaties daarvan en X staat voor hafnium, yttrium, silicium, tantaal in iedere hoeveelheid of voor andere opzettelijke toevoegingen van meer dan 0,01 gewichtspercent in verschillende verhoudingen en combinaties, met uitzondering van:

a.

CoCrAlY-bekledingen die minder dan 22 gewichtspercenten chroom bevatten, minder dan 7 gewichtspercenten aluminium en minder dan 2 gewichtspercenten yttrium;

| b. | CoCrAlY-bekledingen die 22 tot 24 gewichtspercenten chroom bevatten, 10 tot 12 gewichtspercenten aluminium en 0,5 tot 0,7 gewichtspercent yttrium, of |
| --- | --- |

b.

CoCrAlY-bekledingen die 22 tot 24 gewichtspercenten chroom bevatten, 10 tot 12 gewichtspercenten aluminium en 0,5 tot 0,7 gewichtspercent yttrium, of

| c. | NiCrAlY-bekledingen die 21 tot 23 gewichtspercenten chroom bevatten, 10 tot 12 gewichtspercenten aluminium en 0,9 tot 1,1 gewichtspercent yttrium. |
| --- | --- |

c.

NiCrAlY-bekledingen die 21 tot 23 gewichtspercenten chroom bevatten, 10 tot 12 gewichtspercenten aluminium en 0,9 tot 1,1 gewichtspercent yttrium.

| 6. | Met ‧aluminiumlegeringen‧ worden bedoeld legeringen met een treksterkte van 190 MPa of meer gemeten bij 293 K (20 °C). |
| --- | --- |

6.

Met ‧aluminiumlegeringen‧ worden bedoeld legeringen met een treksterkte van 190 MPa of meer gemeten bij 293 K (20 °C).

| 7. | Met ‧roestwerend staal‧ wordt bedoeld AISI (American Iron and Steel Institute) serie 300 of naar gelijkwaardige nationale normen geclassificeerde staalsoorten. |
| --- | --- |

7.

Met ‧roestwerend staal‧ wordt bedoeld AISI (American Iron and Steel Institute) serie 300 of naar gelijkwaardige nationale normen geclassificeerde staalsoorten.

| 8. | ‧Vuurvaste metalen en legeringen‧ omvatten de volgende metalen en hun legeringen: niobium (columbium), molybdeen, wolfraam en tantaal. |
| --- | --- |

8.

‧Vuurvaste metalen en legeringen‧ omvatten de volgende metalen en hun legeringen: niobium (columbium), molybdeen, wolfraam en tantaal.

| 9. | "Sensorvenstermaterialen", als hierna: aluminiumoxide, silicium, germanium, zinksulfide, zinkselenide, galliumarsenide, diamant, galliumfosfide, saffier en de volgende metaalhaliden: sensorvenstermaterialen met een diameter groter dan 40 mm indien gemaakt van zirconiumfluoride en hafniumfluoride. |
| --- | --- |

9.

"Sensorvenstermaterialen", als hierna: aluminiumoxide, silicium, germanium, zinksulfide, zinkselenide, galliumarsenide, diamant, galliumfosfide, saffier en de volgende metaalhaliden: sensorvenstermaterialen met een diameter groter dan 40 mm indien gemaakt van zirconiumfluoride en hafniumfluoride.

| 10. | Technologie voor het in één fase «pack» cementeren van massieve aërodynamische vlakken wordt niet bedoeld in deze categorie. |
| --- | --- |

10.

Technologie voor het in één fase «pack» cementeren van massieve aërodynamische vlakken wordt niet bedoeld in deze categorie.

| 11. | ‧Polymeren‧, als hierna: polyimide, polyester, polysulfide, polycarbonaten en polyurethanen. |
| --- | --- |

11.

‧Polymeren‧, als hierna: polyimide, polyester, polysulfide, polycarbonaten en polyurethanen.

| 12. | ‧Gemodificeerd zirkoniumoxide‧ verwijst naar toevoegingen van andere metaaloxiden, bv. calciumoxide, magnesiumoxide, yttriumoxide, hafniumoxide, zeldzame aardoxiden, enz. aan zirkoniumoxide teneinde bepaalde kristallografische fasen en fasesamenstellingen te stabiliseren. Warmtebarrièrebekledingen gemaakt van zirkoniumoxide, gemodificeerd met calciumoxide of magnesiumoxide door middel van mengen of versmelting worden niet bedoeld. |
| --- | --- |

12.

‧Gemodificeerd zirkoniumoxide‧ verwijst naar toevoegingen van andere metaaloxiden, bv. calciumoxide, magnesiumoxide, yttriumoxide, hafniumoxide, zeldzame aardoxiden, enz. aan zirkoniumoxide teneinde bepaalde kristallografische fasen en fasesamenstellingen te stabiliseren. Warmtebarrièrebekledingen gemaakt van zirkoniumoxide, gemodificeerd met calciumoxide of magnesiumoxide door middel van mengen of versmelting worden niet bedoeld.

| 13. | Met ‧titaanlegeringen‧ worden uitsluitend bedoeld ruimtevaartlegeringen met een treksterkte van 900 MPa of meer gemeten bij 293 K (20 °C). |
| --- | --- |

13.

Met ‧titaanlegeringen‧ worden uitsluitend bedoeld ruimtevaartlegeringen met een treksterkte van 900 MPa of meer gemeten bij 293 K (20 °C).

| 14. | Met ‧glazen met een lage thermische uitzettingscoëfficiënt‧ worden bedoeld glazen met een uitzettingscoëfficiënt van 1 × 10–7 K– 1 of minder gemeten bij 293 K (20 °C). |
| --- | --- |

14.

Met ‧glazen met een lage thermische uitzettingscoëfficiënt‧ worden bedoeld glazen met een uitzettingscoëfficiënt van 1 × 10–7 K– 1 of minder gemeten bij 293 K (20 °C).

| 15. | ‧Diëlektrische lagen‧ zijn bekledingen die zijn opgebouwd uit uit meerdere lagen bestaande isolatiematerialen waarbij gebruik wordt gemaakt van de interferentie-eigenschappen van een ontwerp dat is samengesteld uit materialen met uiteenlopende brekingsindexen voor de reflectie, transmissie of absorptie van verschillende golflengtebanden. Met diëlektrische lagen worden bedoeld meer dan vier diëlektrische lagen of "composiete" diëlektrische/metaallagen. |
| --- | --- |

15.

‧Diëlektrische lagen‧ zijn bekledingen die zijn opgebouwd uit uit meerdere lagen bestaande isolatiematerialen waarbij gebruik wordt gemaakt van de interferentie-eigenschappen van een ontwerp dat is samengesteld uit materialen met uiteenlopende brekingsindexen voor de reflectie, transmissie of absorptie van verschillende golflengtebanden. Met diëlektrische lagen worden bedoeld meer dan vier diëlektrische lagen of "composiete" diëlektrische/metaallagen.

| 16. | Materialen voor snij- en vormwerktuigen bestaande uit wolfraamcarbide/(met kobalt, nikkel), titaancarbide/(met kobalt, nikkel), chroomcarbide/(met nikkel, chroom) en chroomcarbide/(met nikkel) zijn niet mede begrepen onder de ‧gecementeerde wolfraamcarbide‧ in de tabel. |
| --- | --- |

16.

Materialen voor snij- en vormwerktuigen bestaande uit wolfraamcarbide/(met kobalt, nikkel), titaancarbide/(met kobalt, nikkel), chroomcarbide/(met nikkel, chroom) en chroomcarbide/(met nikkel) zijn niet mede begrepen onder de ‧gecementeerde wolfraamcarbide‧ in de tabel.

| 17. | Niet bedoeld wordt "technologie" die speciaal is ontwikkeld voor het aanbrengen van diamantachtige koolstof op een van de volgende artikelen: | magnetische diskdrives en koppen, apparatuur voor de vervaardiging van wegwerpartikelen, kleppen of tapkraantjes, akoestische membranen voor luidsprekers, automotoronderdelen, snijmachines, pons- en persmatrijzen, kantoorautomatiseringsapparatuur, microfoons of medische apparatuur of uit legeringen met minder dan 5 % beryllium gemaakte matrijzen voor het gieten of vormen van plastic. |
| --- | --- | --- |

17.

Niet bedoeld wordt "technologie" die speciaal is ontwikkeld voor het aanbrengen van diamantachtige koolstof op een van de volgende artikelen:

magnetische diskdrives en koppen, apparatuur voor de vervaardiging van wegwerpartikelen, kleppen of tapkraantjes, akoestische membranen voor luidsprekers, automotoronderdelen, snijmachines, pons- en persmatrijzen, kantoorautomatiseringsapparatuur, microfoons of medische apparatuur of uit legeringen met minder dan 5 % beryllium gemaakte matrijzen voor het gieten of vormen van plastic.

| 18. | ‧Siliciumcarbide‧ omvat geen materiaal voor snij- of vormwerktuigen. |
| --- | --- |

18.

‧Siliciumcarbide‧ omvat geen materiaal voor snij- of vormwerktuigen.

| 19. | Keramische substraten, zoals onder dit nummer gebruikt, omvatten geen keramische materialen met 5 % of meer gewichtspercent klei- of cementinhoud, als afzonderlijke bestanddelen dan wel in combinatie. |
| --- | --- |

19.

Keramische substraten, zoals onder dit nummer gebruikt, omvatten geen keramische materialen met 5 % of meer gewichtspercent klei- of cementinhoud, als afzonderlijke bestanddelen dan wel in combinatie.

De definities van de in kolom 1 van de tabel vermelde procédés luiden als volgt:

| a. | Chemische afzetting uit de dampfase (CVD) is een procédé voor deklaagbekleding of voor bekleding door modificatie van het oppervlak waarbij een metaal, legering, "composiet", diëlektrisch of keramisch materiaal op een verhit substraat wordt afgezet. In de nabijheid van een substraat worden gasvormige reagentia ontleed of gecombineerd, wat leidt tot de afzetting van het gewenste materiaal, zijnde een element, legering of samengesteld materiaal, op het substraat. De energie voor dit proces van ontleding of chemische reactie kan worden geleverd door de hitte van het substraat, door een gloeiontladingsplasma of door "laser"-bestraling.


  NB 1: CVD omvat de volgende procédés: «out-of-pack»-afzetting met gerichte gasstroom, pulserende CVD, thermische afzetting met beheerste kernenvorming (CNTD), met plasma versterkte of met plasma ondersteunde CVD-procédés.



  NB 2:«Pack» geeft aan dat een substraat is ingebed in een poedermengsel.



  NB 3: Het bij het «out-of-pack»-procédé gebruikte gasvormige materiaal wordt verkregen door toepassing van dezelfde basisreacties en parameters als bij het «pack» cementeringsprocédé, behalve dat het te bekleden substraat niet in contact komt met het poedermengsel. |
| --- | --- |

a.

Chemische afzetting uit de dampfase (CVD) is een procédé voor deklaagbekleding of voor bekleding door modificatie van het oppervlak waarbij een metaal, legering, "composiet", diëlektrisch of keramisch materiaal op een verhit substraat wordt afgezet. In de nabijheid van een substraat worden gasvormige reagentia ontleed of gecombineerd, wat leidt tot de afzetting van het gewenste materiaal, zijnde een element, legering of samengesteld materiaal, op het substraat. De energie voor dit proces van ontleding of chemische reactie kan worden geleverd door de hitte van het substraat, door een gloeiontladingsplasma of door "laser"-bestraling.

NB 1: CVD omvat de volgende procédés: «out-of-pack»-afzetting met gerichte gasstroom, pulserende CVD, thermische afzetting met beheerste kernenvorming (CNTD), met plasma versterkte of met plasma ondersteunde CVD-procédés.

NB 2:«Pack» geeft aan dat een substraat is ingebed in een poedermengsel.

NB 3: Het bij het «out-of-pack»-procédé gebruikte gasvormige materiaal wordt verkregen door toepassing van dezelfde basisreacties en parameters als bij het «pack» cementeringsprocédé, behalve dat het te bekleden substraat niet in contact komt met het poedermengsel.

| b. | Thermische verdampingsafzetting (TE-PVD) (opdampen) is een procédé voor deklaagbekleding in een vacuümkamer bij een druk van minder dan 0,1 Pa waarin gebruik wordt gemaakt van een thermische energiebron voor het verdampen van het bekledingsmateriaal. Dit leidt tot de neerslag, of afzetting, van de verdampte stoffen op een in een geschikte positie geplaatst substraat.
  De toevoeging van gassen aan de vacuümkamer tijdens het bekledingsprocédé voor het opbouwen van een samengestelde bekleding is een gebruikelijke aanpassing van het procédé.
  Het gebruik van een ionen of elektronenstraal, of plasma, teneinde de afzetting van de bekleding te activeren of te ondersteunen is eveneens een gebruikelijke aanpassing in deze techniek. Ook kunnen tijdens deze procédés monitoren worden gebruikt voor het tijdens het proces meten van de optische kenmerken en de dikte van de bekledingslaag.
  Specifieke TE-PVD-procédés verlopen als volgt:






  1. | bij elektronenstraalverdampen (EB-PVD) wordt gebruik gemaakt van een elektronenstraal voor het verhitten en verdampen van het materiaal waaruit de deklaag wordt gevormd; |
| --- | --- | --- |

b.

Thermische verdampingsafzetting (TE-PVD) (opdampen) is een procédé voor deklaagbekleding in een vacuümkamer bij een druk van minder dan 0,1 Pa waarin gebruik wordt gemaakt van een thermische energiebron voor het verdampen van het bekledingsmateriaal. Dit leidt tot de neerslag, of afzetting, van de verdampte stoffen op een in een geschikte positie geplaatst substraat.

De toevoeging van gassen aan de vacuümkamer tijdens het bekledingsprocédé voor het opbouwen van een samengestelde bekleding is een gebruikelijke aanpassing van het procédé.

Het gebruik van een ionen of elektronenstraal, of plasma, teneinde de afzetting van de bekleding te activeren of te ondersteunen is eveneens een gebruikelijke aanpassing in deze techniek. Ook kunnen tijdens deze procédés monitoren worden gebruikt voor het tijdens het proces meten van de optische kenmerken en de dikte van de bekledingslaag.

Specifieke TE-PVD-procédés verlopen als volgt:

1.

bij elektronenstraalverdampen (EB-PVD) wordt gebruik gemaakt van een elektronenstraal voor het verhitten en verdampen van het materiaal waaruit de deklaag wordt gevormd;

| 2. | bij weerstandsverhittingsverdampen met ionen wordt gebruik gemaakt van elektrische weerstandsverwarmingsbronnen in combinatie met een of meer botsende ionenstralen die een beheerste en gelijkmatige stroom verdampt bekledingsmateriaal leveren; |
| --- | --- |

2.

bij weerstandsverhittingsverdampen met ionen wordt gebruik gemaakt van elektrische weerstandsverwarmingsbronnen in combinatie met een of meer botsende ionenstralen die een beheerste en gelijkmatige stroom verdampt bekledingsmateriaal leveren;

| 3. | bij "laser"-verdamping wordt gebruik gemaakt van ofwel een pulserende ofwel een continue "laser"-straal voor het verdampen van het materiaal waaruit de deklaag wordt gevormd; |
| --- | --- |

3.

bij "laser"-verdamping wordt gebruik gemaakt van ofwel een pulserende ofwel een continue "laser"-straal voor het verdampen van het materiaal waaruit de deklaag wordt gevormd;

| 4. | Boogverdampen maakt gebruik van een uit het materiaal van de te vormen deklaag bestaande kathode welke opgebruikt wordt en waarbij een vonkoverslag op het oppervlak wordt gecreëerd door een kort aardcontact. De beheerste vlamboogbeweging erodeert het kathodeoppervlak waardoor een sterk geïoniseerd plasma ontstaat. De anode kan een kegel zijn die via een isolatie aan de rand van de kathode is bevestigd of de kamer wordt als anode gebruikt. Het aanleggen van een voorspanning op het substraat wordt gebruikt bij het uit de gezichtslijn opbrengen van deklagen.


  NB: Het aanbrengen van deklagen door middel van een niet beheerste vlamboog zonder een voorspanning op het substraat is niet begrepen in deze definitie. |
| --- | --- |

4.

Boogverdampen maakt gebruik van een uit het materiaal van de te vormen deklaag bestaande kathode welke opgebruikt wordt en waarbij een vonkoverslag op het oppervlak wordt gecreëerd door een kort aardcontact. De beheerste vlamboogbeweging erodeert het kathodeoppervlak waardoor een sterk geïoniseerd plasma ontstaat. De anode kan een kegel zijn die via een isolatie aan de rand van de kathode is bevestigd of de kamer wordt als anode gebruikt. Het aanleggen van een voorspanning op het substraat wordt gebruikt bij het uit de gezichtslijn opbrengen van deklagen.

NB: Het aanbrengen van deklagen door middel van een niet beheerste vlamboog zonder een voorspanning op het substraat is niet begrepen in deze definitie.

| 5. | «Ion-plating» is een speciale aanpassing van een algemeen TE-PVD-procédé waarbij een plasma of een ionenbron wordt gebruikt voor het ioniseren van de af te zetten stoffen, en waarbij een negatieve voorspanning wordt aangelegd op het substraat teneinde de stoffen gemakkelijker aan het plasma te kunnen onttrekken. Het toevoegen van reactieve stoffen, de verdamping van vaste stoffen in de proceskamer en het gebruik van monitoren voor het tijdens het proces meten van de optische kenmerken en de dikte van de bekledingslaag zijn gebruikelijke aanpassingen van het procédé. |
| --- | --- |

5.

«Ion-plating» is een speciale aanpassing van een algemeen TE-PVD-procédé waarbij een plasma of een ionenbron wordt gebruikt voor het ioniseren van de af te zetten stoffen, en waarbij een negatieve voorspanning wordt aangelegd op het substraat teneinde de stoffen gemakkelijker aan het plasma te kunnen onttrekken. Het toevoegen van reactieve stoffen, de verdamping van vaste stoffen in de proceskamer en het gebruik van monitoren voor het tijdens het proces meten van de optische kenmerken en de dikte van de bekledingslaag zijn gebruikelijke aanpassingen van het procédé.

| c. | «Pack» cementering is een procédé voor bekleding door modificatie van het oppervlak of voor deklaagbekleding waarbij een substraat wordt ingebed in een poedermengsel, een zgn. «pack», dat bestaat uit:






  1. | de metaalhoudende poeders die moeten worden afgezet (gewoonlijk aluminium, chroom, silicium of combinaties daarvan); |
| --- | --- | --- |

c.

«Pack» cementering is een procédé voor bekleding door modificatie van het oppervlak of voor deklaagbekleding waarbij een substraat wordt ingebed in een poedermengsel, een zgn. «pack», dat bestaat uit:

1.

de metaalhoudende poeders die moeten worden afgezet (gewoonlijk aluminium, chroom, silicium of combinaties daarvan);

| 2. | een activerende stof (gewoonlijk een halogenide zout), en |
| --- | --- |

2.

een activerende stof (gewoonlijk een halogenide zout), en

| 3. | een inert stof, meestal aluminiumoxide. |
| --- | --- |

3.

een inert stof, meestal aluminiumoxide.

Het substraat en het poedermengsel bevinden zich in een retort die wordt verhit tot 1 030 K (757 °C) à 1 375 K (1 102 °) gedurende een tijd lang genoeg voor afzetting van de laag.

| d. | Plasmaspuiten is een deklaagbekledingsprocédé waarbij een spuitpistool, dat een plasma produceert en reguleert, bekledingsmaterialen in poeder- of draadvorm krijgt toegevoerd, deze smelt en naar een substraat drijft, waarop zich een integraal gehechte laag vormt. Plasmaspuiten zoals hier bedoeld is ofwel plasmaspuiten bij lage druk ofwel plasmaspuiten met hoge snelheid.


  NB 1: Lage druk wil zeggen minder dan de atmosferische omgevingsdruk.



  NB 2: Met hoge snelheid wordt bedoeld een uitstroomsnelheid van het gas uit het mondstuk hoger dan 750 m/s bij 293 K (20 °C) en 0,1 MPa. |
| --- | --- |

d.

Plasmaspuiten is een deklaagbekledingsprocédé waarbij een spuitpistool, dat een plasma produceert en reguleert, bekledingsmaterialen in poeder- of draadvorm krijgt toegevoerd, deze smelt en naar een substraat drijft, waarop zich een integraal gehechte laag vormt. Plasmaspuiten zoals hier bedoeld is ofwel plasmaspuiten bij lage druk ofwel plasmaspuiten met hoge snelheid.

NB 1: Lage druk wil zeggen minder dan de atmosferische omgevingsdruk.

NB 2: Met hoge snelheid wordt bedoeld een uitstroomsnelheid van het gas uit het mondstuk hoger dan 750 m/s bij 293 K (20 °C) en 0,1 MPa.

| e. | Afzetting uit suspensie is een procédé voor bekleding door modificatie van het oppervlak of voor deklaagbekleding waarbij een metaalhoudend of keramisch poeder met een organische bindstof in suspensie wordt gebracht in een vloeistof en op een substraat wordt aangebracht door spuiten, dompelen of penselen; vervolgens droging aan de lucht of in een oven; en warmtebehandeling om de gewenste laag te verkrijgen. |
| --- | --- |

e.

Afzetting uit suspensie is een procédé voor bekleding door modificatie van het oppervlak of voor deklaagbekleding waarbij een metaalhoudend of keramisch poeder met een organische bindstof in suspensie wordt gebracht in een vloeistof en op een substraat wordt aangebracht door spuiten, dompelen of penselen; vervolgens droging aan de lucht of in een oven; en warmtebehandeling om de gewenste laag te verkrijgen.

| f. | Afzetting door middel van sputteren is een deklaagbekledingsprocédé dat is gebaseerd op een verschijnsel van impulsoverdracht, waarbij positief geladen ionen worden versneld door een elektrisch veld naar het oppervlak van een trefplaat (deklaagmateriaal). De kinetische energie van de botsende ionen is voldoende om ervoor te zorgen dat atomen aan het oppervlak van de trefplaat vrijkomen en worden afgezet op een in een geschikte positie geplaatst substraat.


  NB 1: De tabel verwijst uitsluitend naar afzetting door sputteren met een triode, magnetron of naar reactief sputteren, welke methoden worden toegepast om de hechting van de bekleding en de afzetsnelheid te vergroten, en naar hoogfrequent (RF) versterkte afzetting door sputteren, wat wordt toegepast om de verdamping van niet-metaalhoudende bekledingsmaterialen mogelijk te maken.



  NB 2: Ionenstralen met lage energie (minder dan 5 keV) kunnen worden toegepast om de afzetting in gang te zetten. |
| --- | --- |

f.

Afzetting door middel van sputteren is een deklaagbekledingsprocédé dat is gebaseerd op een verschijnsel van impulsoverdracht, waarbij positief geladen ionen worden versneld door een elektrisch veld naar het oppervlak van een trefplaat (deklaagmateriaal). De kinetische energie van de botsende ionen is voldoende om ervoor te zorgen dat atomen aan het oppervlak van de trefplaat vrijkomen en worden afgezet op een in een geschikte positie geplaatst substraat.

NB 1: De tabel verwijst uitsluitend naar afzetting door sputteren met een triode, magnetron of naar reactief sputteren, welke methoden worden toegepast om de hechting van de bekleding en de afzetsnelheid te vergroten, en naar hoogfrequent (RF) versterkte afzetting door sputteren, wat wordt toegepast om de verdamping van niet-metaalhoudende bekledingsmaterialen mogelijk te maken.

NB 2: Ionenstralen met lage energie (minder dan 5 keV) kunnen worden toegepast om de afzetting in gang te zetten.

| g. | Ionenimplantatie is een procédé voor bekleding door modificatie van het oppervlak waarbij het te legeren element wordt geïoniseerd, wordt versneld door een potentiaalgradiënt en in het substraatoppervlak wordt geïmplanteerd. De definitie omvat mede procédés waarbij tegelijk met de ionenimplantatie elektronenstraalverdamping of afzetting door middel van sputtering plaatsvindt. |
| --- | --- |

g.

Ionenimplantatie is een procédé voor bekleding door modificatie van het oppervlak waarbij het te legeren element wordt geïoniseerd, wordt versneld door een potentiaalgradiënt en in het substraatoppervlak wordt geïmplanteerd. De definitie omvat mede procédés waarbij tegelijk met de ionenimplantatie elektronenstraalverdamping of afzetting door middel van sputtering plaatsvindt.

CATEGORIE 3

ELEKTRONICA

3ASystemen, apparatuur en onderdelen

Noot 1: De embargostatus van in 3A001 of 3A002 omschreven apparatuur en onderdelen, anders dan die welke zijn omschreven in 3A001.a.3 t/m 3A001.a.10 of 3A001.a.12, die speciaal zijn ontworpen voor apparatuur waarvoor een uitvoervergunning vereist is, of die dezelfde functionele eigenschappen hebben, wordt bepaald door de embargostatus van die andere apparatuur.

Noot 2: De embargostatus van geïntegreerde schakelingen als omschreven in 3A001.a.3 t/m 3A001.a.9 of 3A001.a.12 die onveranderbaar zijn geprogrammeerd of ontworpen voor een specifieke functie, wordt eveneens bepaald door de embargostatus van die andere apparatuur.

NB: Wanneer de fabrikant of de aanvrager de embargostatus van de andere apparatuur niet kan bepalen, wordt de embargostatus bepaald op grond van 3A001.a.3 t/m 3A001.a.9 of 3A001.a.12.

Indien de geïntegreerde schakeling een "microcomputermicroschakeling" of een microbesturingsmicroschakeling op basis van silicium is als omschreven in 3A001.a.3 met een woordlengte van de ‧operand‧ (data) van 8 bit of minder, dan wordt de embargostatus van de geïntegreerde schakeling bepaald in 3A001.a.3.

3A001Elektronische onderdelen, als hieronder:

| a. | Universele geïntegreerde schakelingen, als hieronder:


  Noot 1: De vraag of een uitvoervergunning is vereist voor (al dan niet afgewerkte) plakken («wafers») waarin de functie reeds is vastgelegd, dient te worden beoordeeld aan de hand van de parameters in 3A001.a.



  Noot 2: Geïntegreerde schakelingen omvatten de volgende typen: | "monolithische geïntegreerde schakelingen"; |
| --- | --- | --- |

a.

Universele geïntegreerde schakelingen, als hieronder:

Noot 1: De vraag of een uitvoervergunning is vereist voor (al dan niet afgewerkte) plakken («wafers») waarin de functie reeds is vastgelegd, dient te worden beoordeeld aan de hand van de parameters in 3A001.a.

Noot 2: Geïntegreerde schakelingen omvatten de volgende typen:

"monolithische geïntegreerde schakelingen";

| | "hybride geïntegreerde schakelingen"; |
| --- | --- |

"hybride geïntegreerde schakelingen";

| | "multichip geïntegreerde schakelingen"; |
| --- | --- |

"multichip geïntegreerde schakelingen";

| | "geïntegreerde schakelingen van het filmtype" met inbegrip van geïntegreerde schakelingen van silicium op saffier; |
| --- | --- |

"geïntegreerde schakelingen van het filmtype" met inbegrip van geïntegreerde schakelingen van silicium op saffier;

| | "optische geïntegreerde schakelingen". |
| --- | --- |

"optische geïntegreerde schakelingen".

| 1. | geïntegreerde schakelingen, ontworpen of gespecificeerd als bestand tegen:






  a. | een totale dosis ioniserende straling van 5 × 103 Gray (silicium) of meer, of |
| --- | --- | --- |

1.

geïntegreerde schakelingen, ontworpen of gespecificeerd als bestand tegen:

a.

een totale dosis ioniserende straling van 5 × 103 Gray (silicium) of meer, of

| b. | storing bij een dosistempo van 5 × 106 Gray (silicium)/s of meer; |
| --- | --- |

b.

storing bij een dosistempo van 5 × 106 Gray (silicium)/s of meer;

| c. | een fluentie (geïntegreerde flux) van neutronen (gelijk aan 1 MeV) van 5 × 1013 n/cm2 of meer op silicium, of het equivalent daarvan voor andere materialen;


  Noot: Punt 3A001.a.1.c is niet van toepassing op MIS-condensatoren (Metal Insulator Semiconductors). |
| --- | --- |

c.

een fluentie (geïntegreerde flux) van neutronen (gelijk aan 1 MeV) van 5 × 1013 n/cm2 of meer op silicium, of het equivalent daarvan voor andere materialen;

Noot: Punt 3A001.a.1.c is niet van toepassing op MIS-condensatoren (Metal Insulator Semiconductors).

| 2. | "microprocessormicroschakelingen", "microcomputermicroschakelingen", microbesturingmicroschakelingen, geïntegreerde geheugenschakelingen vervaardigd van samengesteld halfgeleidermateriaal, analoog/digitaal-omzetters, digitaal/analoog-omzetters, elektro-optische of "optisch geïntegreerde schakelingen" voor "signaalverwerking", door de gebruiker te programmeren logische bouwstenen, geïntegreerde schakelingen voor neurale netwerken, op bestelling geïntegreerde schakelingen waarbij ofwel de functie ofwel de embargostatus van de apparatuur waarin de geïntegreerde schakelingen zullen worden toegepast, niet bekend is, of FFT ("Fast Fourier Transform")-processoren, elektrisch wisbare PROM’s (EEPROM's), flash-geheugens of statische RAM’s (SRAM's):






  a. | gespecificeerd om te werken bij een omgevingstemperatuur hoger dan 398 K (125 °C); |
| --- | --- | --- |

2.

"microprocessormicroschakelingen", "microcomputermicroschakelingen", microbesturingmicroschakelingen, geïntegreerde geheugenschakelingen vervaardigd van samengesteld halfgeleidermateriaal, analoog/digitaal-omzetters, digitaal/analoog-omzetters, elektro-optische of "optisch geïntegreerde schakelingen" voor "signaalverwerking", door de gebruiker te programmeren logische bouwstenen, geïntegreerde schakelingen voor neurale netwerken, op bestelling geïntegreerde schakelingen waarbij ofwel de functie ofwel de embargostatus van de apparatuur waarin de geïntegreerde schakelingen zullen worden toegepast, niet bekend is, of FFT ("Fast Fourier Transform")-processoren, elektrisch wisbare PROM’s (EEPROM's), flash-geheugens of statische RAM’s (SRAM's):

a.

gespecificeerd om te werken bij een omgevingstemperatuur hoger dan 398 K (125 °C);

| b. | gespecificeerd om te werken bij een omgevingstemperatuur lager dan 218 K (– 55 °C); of |
| --- | --- |

b.

gespecificeerd om te werken bij een omgevingstemperatuur lager dan 218 K (– 55 °C); of

| c. | gespecificeerd om te werken over het gehele omgevingstemperatuurbereik van 218 K (– 55 °C) tot 398 K (125 °C). |
| --- | --- |

c.

gespecificeerd om te werken over het gehele omgevingstemperatuurbereik van 218 K (– 55 °C) tot 398 K (125 °C).

Noot: 3A001.a.2 is niet van toepassing op geïntegreerde schakelingen voor toepassingen in civiele automobielen of treinen.

| 3. | "microprocessormicroschakelingen", "microcomputermicroschakelingen" en microbesturingmicroschakelingen, gefabriceerd van een samengestelde halfgeleider en werkend met een klokfrequentie hoger dan 40 MHz;


  Noot: In 3A001.a.3 worden mede bedoeld digitale signaalprocessoren, digitale «array»-processoren en digitale coprocessoren. |
| --- | --- |

3.

"microprocessormicroschakelingen", "microcomputermicroschakelingen" en microbesturingmicroschakelingen, gefabriceerd van een samengestelde halfgeleider en werkend met een klokfrequentie hoger dan 40 MHz;

Noot: In 3A001.a.3 worden mede bedoeld digitale signaalprocessoren, digitale «array»-processoren en digitale coprocessoren.

| 4. | geïntegreerde geheugenschakelingen vervaardigd van samengesteld halfgeleidermateriaal; |
| --- | --- |

4.

geïntegreerde geheugenschakelingen vervaardigd van samengesteld halfgeleidermateriaal;

| 5. | geïntegreerde analoog/digitaal- en digitaal/analoog-omzetters, als hieronder:






  a. | analoog/digitaal-omzetters met één of meer van de volgende kenmerken:

  NB: ZIE OOK 3A101







  1. | een scheidend vermogen van 8 bit of meer maar minder dan 10 bit, met een outputsnelheid van meer dan 500 miljoen woorden per seconde; |
| --- | --- | --- | --- |

5.

geïntegreerde analoog/digitaal- en digitaal/analoog-omzetters, als hieronder:

a.

analoog/digitaal-omzetters met één of meer van de volgende kenmerken:

NB: ZIE OOK 3A101

1.

een scheidend vermogen van 8 bit of meer maar minder dan 10 bit, met een outputsnelheid van meer dan 500 miljoen woorden per seconde;

| 2. | een scheidend vermogen van 10 bit of meer maar minder dan 12 bit en een outputsnelheid van meer dan 200 miljoen woorden per seconde; |
| --- | --- |

2.

een scheidend vermogen van 10 bit of meer maar minder dan 12 bit en een outputsnelheid van meer dan 200 miljoen woorden per seconde;

| 3. | een scheidend vermogen van 12 bit en een outputsnelheid van meer dan 50 miljoen woorden per seconde, of |
| --- | --- |

3.

een scheidend vermogen van 12 bit en een outputsnelheid van meer dan 50 miljoen woorden per seconde, of

| 4. | een scheidend vermogen van meer dan 12 bit maar niet meer dan 14 bit en een outputsnelheid van meer dan 5 miljoen woorden per seconde; |
| --- | --- |

4.

een scheidend vermogen van meer dan 12 bit maar niet meer dan 14 bit en een outputsnelheid van meer dan 5 miljoen woorden per seconde;

| 5. | een scheidend vermogen van meer dan 14 bit en een outputsnelheid van meer dan 1 miljoen woorden per seconde |
| --- | --- |

5.

een scheidend vermogen van meer dan 14 bit en een outputsnelheid van meer dan 1 miljoen woorden per seconde

| b. | digitaal/analoog-omzetters met een scheidend vermogen van 12 bit of meer en een "stabilisatietijd" («settling time») van minder dan 10 ns; |
| --- | --- |

b.

digitaal/analoog-omzetters met een scheidend vermogen van 12 bit of meer en een "stabilisatietijd" («settling time») van minder dan 10 ns;

Technische noten:

| 1. | Een scheidend vermogen van n bits komt overeen met een kwantisering van 2n niveaus. |
| --- | --- |

1.

Een scheidend vermogen van n bits komt overeen met een kwantisering van 2n niveaus.

| 2. | Het aantal bits in het outputwoord komt overeen met het scheidend vermogen van de analoog/digitaal-omzetter; |
| --- | --- |

2.

Het aantal bits in het outputwoord komt overeen met het scheidend vermogen van de analoog/digitaal-omzetter;

| 3. | De outputsnelheid is de maximale outputsnelheid van de omzetter, ongeacht de architectuur of de overbemonstering. Verkopers kunnen de outputsnelheid ook omschrijven als de sampling rate, de bemonsteringssnelheid of de conversiesnelheid. Deze wordt vaak uitgedrukt in Megahertz (MHz) of megasamples per seconde (MSPS). |
| --- | --- |

3.

De outputsnelheid is de maximale outputsnelheid van de omzetter, ongeacht de architectuur of de overbemonstering. Verkopers kunnen de outputsnelheid ook omschrijven als de sampling rate, de bemonsteringssnelheid of de conversiesnelheid. Deze wordt vaak uitgedrukt in Megahertz (MHz) of megasamples per seconde (MSPS).

| 4. | Voor de meting van de outputsnelheid komt één outputwoord per seconde overeen met één Hertz of één sample per seconde. |
| --- | --- |

4.

Voor de meting van de outputsnelheid komt één outputwoord per seconde overeen met één Hertz of één sample per seconde.

| 6. | elektro-optische of "optische geïntegreerde schakelingen" voor "signaalverwerking" met alle volgende kenmerken:






  a. | een of meer inwendige "laser"-dioden, |
| --- | --- | --- |

6.

elektro-optische of "optische geïntegreerde schakelingen" voor "signaalverwerking" met alle volgende kenmerken:

a.

een of meer inwendige "laser"-dioden,

| b. | een of meer inwendige lichtdetectie-elementen, en |
| --- | --- |

b.

een of meer inwendige lichtdetectie-elementen, en

| c. | optische golfgeleiders; |
| --- | --- |

c.

optische golfgeleiders;

| 7. | door de gebruiker te programmeren logische bouwstenen met één van beide volgende kenmerken:






  a. | een bruikbare «gate count» equivalent aan meer dan 30 000 (twee ingangspoorten); |
| --- | --- | --- |

7.

door de gebruiker te programmeren logische bouwstenen met één van beide volgende kenmerken:

a.

een bruikbare «gate count» equivalent aan meer dan 30 000 (twee ingangspoorten);

| b. | een typische "voortplantingsvertragingstijd van de basispoort" van minder dan 0,1 ns; of |
| --- | --- |

b.

een typische "voortplantingsvertragingstijd van de basispoort" van minder dan 0,1 ns; of

| c. | een togglefrequentie hoger dan 133 MHz; |
| --- | --- |

c.

een togglefrequentie hoger dan 133 MHz;

Noot: 3A001.a.7. omvat:

| | Simple Programmable Logic Devices — eenvoudige programmeerbare logische bouwstenen (SPLD’s) |
| --- | --- |

Simple Programmable Logic Devices — eenvoudige programmeerbare logische bouwstenen (SPLD’s)

| | Complex Programmable Logic Devices — complexe programmeerbare logische bouwstenen (CPLD’s) |
| --- | --- |

Complex Programmable Logic Devices — complexe programmeerbare logische bouwstenen (CPLD’s)

| | Field Programmable Gate Arrays — door de gebruiker te programmeren «gate arrays» (FPGA’s) |
| --- | --- |

Field Programmable Gate Arrays — door de gebruiker te programmeren «gate arrays» (FPGA’s)

| | Field Programmable Logic Arrays — door de gebruiker te programmeren «logic arrays» (FPLA’s) |
| --- | --- |

Field Programmable Logic Arrays — door de gebruiker te programmeren «logic arrays» (FPLA’s)

| | Field Programmable Interconnects — door de gebruiker te programmeren «interconnects» (FPIC’s) |
| --- | --- |

Field Programmable Interconnects — door de gebruiker te programmeren «interconnects» (FPIC’s)

NB: Door de gebruiker te programmeren logische bouwstenen worden ook door de gebruiker te programmeren «gate arrays» of door de gebruiker te programmeren «logic arrays» genoemd.

| 8. | niet gebruikt; |
| --- | --- |

8.

niet gebruikt;

| 9. | geïntegreerde schakelingen voor neurale netwerken; |
| --- | --- |

9.

geïntegreerde schakelingen voor neurale netwerken;

| 10. | op bestelling geïntegreerde schakelingen waarbij ofwel de functie ofwel de embargostatus van de apparatuur waarin de geïntegreerde schakelingen zullen worden toegepast, niet aan de fabrikant bekend is, met een of meer van de volgende kenmerken:






  a. | meer dan 1 000 in/uitgangspunten; |
| --- | --- | --- |

10.

op bestelling geïntegreerde schakelingen waarbij ofwel de functie ofwel de embargostatus van de apparatuur waarin de geïntegreerde schakelingen zullen worden toegepast, niet aan de fabrikant bekend is, met een of meer van de volgende kenmerken:

a.

meer dan 1 000 in/uitgangspunten;

| b. | een typische "voortplantingsvertragingstijd van de basispoort" van minder dan 0,1 ns, of |
| --- | --- |

b.

een typische "voortplantingsvertragingstijd van de basispoort" van minder dan 0,1 ns, of

| c. | een werkfrequentie hoger dan 3 GHz; |
| --- | --- |

c.

een werkfrequentie hoger dan 3 GHz;

| 11. | digitale geïntegreerde schakelingen, anders dan als omschreven in 3A001.a.3 t/m 3A001.a.10 of 3A001.a.12, die zijn gebaseerd op een samengestelde halfgeleider en met een van beide volgende kenmerken:






  a. | een «gate count» equivalent aan meer dan 3 000 (twee ingangspoorten), of |
| --- | --- | --- |

11.

digitale geïntegreerde schakelingen, anders dan als omschreven in 3A001.a.3 t/m 3A001.a.10 of 3A001.a.12, die zijn gebaseerd op een samengestelde halfgeleider en met een van beide volgende kenmerken:

a.

een «gate count» equivalent aan meer dan 3 000 (twee ingangspoorten), of

| b. | een «toggle»frequentie hoger dan 1,2 GHz; |
| --- | --- |

b.

een «toggle»frequentie hoger dan 1,2 GHz;

| 12. | FFT (‧Fast Fourier Transform‧)-processoren met een nominale uitvoeringstijd, voor een N-punt complexe FFT van minder dan (N log2N)/20 480 ms, waarbij N het aantal punten is;
  Technische noot:

  Wanneer N gelijk is aan 1 024 punten, geeft de formule in 3A001.a.12 een uitvoeringstijd van 500 microseconden. |
| --- | --- |

12.

FFT (‧Fast Fourier Transform‧)-processoren met een nominale uitvoeringstijd, voor een N-punt complexe FFT van minder dan (N log2N)/20 480 ms, waarbij N het aantal punten is;

Technische noot:

Wanneer N gelijk is aan 1 024 punten, geeft de formule in 3A001.a.12 een uitvoeringstijd van 500 microseconden.

| b. | Microgolf- of millimetergolfelementen:






  1. | elektronische vacuümbuizen en kathoden, als hieronder:


  Noot 1: In 3A001.b.1 worden niet bedoeld buizen die zijn ontworpen of gespecificeerd om te werken binnen een frequentieband met alle volgende kenmerken:








  a. | niet meer dan 31,8 GHz; en |
| --- | --- | --- | --- |

b.

Microgolf- of millimetergolfelementen:

1.

elektronische vacuümbuizen en kathoden, als hieronder:

Noot 1: In 3A001.b.1 worden niet bedoeld buizen die zijn ontworpen of gespecificeerd om te werken binnen een frequentieband met alle volgende kenmerken:

a.

niet meer dan 31,8 GHz; en

| b. | door de ITU toegewezen voor radiocommunicatiediensten, maar niet voor radiodeterminatie. |
| --- | --- |

b.

door de ITU toegewezen voor radiocommunicatiediensten, maar niet voor radiodeterminatie.

Noot 2: In 3A001.b.1. worden niet bedoeld buizen niet "voor gebruik in de ruimte gekwalificeerd" met alle volgende kenmerken:

| a. | een gemiddelde vermogensdichtheid aan de uitgang van 50 W of minder, en |
| --- | --- |

a.

een gemiddelde vermogensdichtheid aan de uitgang van 50 W of minder, en

| b. | buizen die zijn ontworpen of gespecificeerd om te werken binnen een frequentieband met alle volgende kenmerken:








  1. | meer dan 31,8 GHz doch niet meer dan 43,5 GHz; en |
| --- | --- | --- |

b.

buizen die zijn ontworpen of gespecificeerd om te werken binnen een frequentieband met alle volgende kenmerken:

1.

meer dan 31,8 GHz doch niet meer dan 43,5 GHz; en

| 2. | door de ITU toegewezen voor radiocommunicatiediensten, maar niet voor radiodeterminatie. |
| --- | --- |

2.

door de ITU toegewezen voor radiocommunicatiediensten, maar niet voor radiodeterminatie.

| a. | lopende golfbuizen, voor puls- of ongedempte golven, als hieronder:






  1. | werkend bij frequenties hoger dan 31,8 GHz; |
| --- | --- | --- |

a.

lopende golfbuizen, voor puls- of ongedempte golven, als hieronder:

1.

werkend bij frequenties hoger dan 31,8 GHz;

| 2. | met een kathodeverhittingselement dat in minder dan drie seconden het gespecificeerde RF-vermogen bereikt; |
| --- | --- |

2.

met een kathodeverhittingselement dat in minder dan drie seconden het gespecificeerde RF-vermogen bereikt;

| 3. | gekoppelde trilholtebuizen of afgeleiden daarvan, met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 7 % of een piekvermogen van meer dan 2,5 kW; |
| --- | --- |

3.

gekoppelde trilholtebuizen of afgeleiden daarvan, met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 7 % of een piekvermogen van meer dan 2,5 kW;

| 4. | spiraalbuizen of afgeleiden daarvan, met een of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een "momentele bandbreedte" van meer dan één octaaf, en een product van gemiddeld vermogen (in kW) en frequentie (in GHz) van meer dan 0,5; |
| --- | --- | --- |

4.

spiraalbuizen of afgeleiden daarvan, met een of meer van de volgende kenmerken:

a.

een "momentele bandbreedte" van meer dan één octaaf, en een product van gemiddeld vermogen (in kW) en frequentie (in GHz) van meer dan 0,5;

| b. | een "momentele bandbreedte" van een octaaf of minder, en een product van gemiddeld vermogen (in kW) en frequentie (in GHz) van meer dan 1, of |
| --- | --- |

b.

een "momentele bandbreedte" van een octaaf of minder, en een product van gemiddeld vermogen (in kW) en frequentie (in GHz) van meer dan 1, of

| c. | "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte". |
| --- | --- |

c.

"gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte".

| b. | dwarsveld («crossed field»)-versterkerbuizen met meer dan 17 dB versterking; |
| --- | --- |

b.

dwarsveld («crossed field»)-versterkerbuizen met meer dan 17 dB versterking;

| c. | geïmpregneerde kathoden, ontworpen voor elektronische buizen geschikt voor het voortbrengen van een continue emissiestroomdichtheid groter dan 5 A/cm2 bij gespecificeerde werkomstandigheden; |
| --- | --- |

c.

geïmpregneerde kathoden, ontworpen voor elektronische buizen geschikt voor het voortbrengen van een continue emissiestroomdichtheid groter dan 5 A/cm2 bij gespecificeerde werkomstandigheden;

| 2. | monolithisch geïntegreerde microgolfschakelingen- (MMIC-)vermogensversterkers met een van de volgende kenmerken:






  a. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 3,2 GHz en tot en met 6 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 4 W (36 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 15 %; |
| --- | --- | --- |

2.

monolithisch geïntegreerde microgolfschakelingen- (MMIC-)vermogensversterkers met een van de volgende kenmerken:

a.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 3,2 GHz en tot en met 6 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 4 W (36 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 15 %;

| b. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 6 GHz en tot en met 16 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 1 W (30 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 10 %; |
| --- | --- |

b.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 6 GHz en tot en met 16 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 1 W (30 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 10 %;

| c. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 16 GHz en tot en met 31,8 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 0,8 W (29 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 10 %; |
| --- | --- |

c.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 16 GHz en tot en met 31,8 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 0,8 W (29 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 10 %;

| d. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 31,8 GHz en tot en met 37,5 GHz . |
| --- | --- |

d.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 31,8 GHz en tot en met 37,5 GHz .

| e. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 37,5 GHz en tot en met 43,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 0,25 W (24 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 10 %; of |
| --- | --- |

e.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 37,5 GHz en tot en met 43,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 0,25 W (24 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 10 %; of

| f. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 43,5 GHz. |
| --- | --- |

f.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 43,5 GHz.

Noot 1: In 3A001.b.2 wordt niet bedoeld apparatuur voor satellietuitzendingen die is ontworpen of gespecificeerd voor een frequentiegebied van 40,5 GHz tot 42,5 GHz.

Noot 2: De embargostatus van MMIC's waarvan de gespecificeerde werkfrequentie frequenties in meer dan één frequentiegebied omvat, als omschreven in 3A001.b.2.a tot 3A001.b.2.f, wordt bepaald door het laagste gemiddelde uitgangsvermogen waarvoor een embargo geldt.

Noot 3: De noten 1 en 2 in de aanhef van categorie 3 houden in dat in 3A001.b.2. niet worden bedoeld MMIC's die speciaal zijn ontworpen voor andere toepassingen zoals telecommunicatie, radars en motorvoertuigen.

| 3. | discrete microgolftransistors, met een van de volgende eigenschappen:






  a. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 3,2 GHz en tot en met 6 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 60 W (47,8 dBm); |
| --- | --- | --- |

3.

discrete microgolftransistors, met een van de volgende eigenschappen:

a.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 3,2 GHz en tot en met 6 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 60 W (47,8 dBm);

| b. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 6 GHz en tot en met 31,8 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 20 W (43 dBm); |
| --- | --- |

b.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 6 GHz en tot en met 31,8 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 20 W (43 dBm);

| c. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 31,8 GHz en tot en met 37,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 0,5 W (27 dBm); |
| --- | --- |

c.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 31,8 GHz en tot en met 37,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 0,5 W (27 dBm);

| d. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 37,5 GHz en tot en met 43,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 1 W (30 dBm); of |
| --- | --- |

d.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 37,5 GHz en tot en met 43,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 1 W (30 dBm); of

| e. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 43,5 GHz; |
| --- | --- |

e.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 43,5 GHz;

Noot: De embargostatus van een transistor waarvan de gespecificeerde werkfrequentie frequenties in meer dan één frequentiegebied omvat, als omschreven in 3A001.b.3.a tot 3A001.b.3.e, wordt bepaald door het laagste gemiddelde uitgangsvermogen waarvoor een embargo geldt.

| 4. | microgolfhalfgeleiderversterkers en microgolfassemblages/-modules die microgolfversterkers bevatten met een van de volgende kenmerken;






  a. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 3,2 GHz en tot en met 6 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 60 W (47,8 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 15 %; |
| --- | --- | --- |

4.

microgolfhalfgeleiderversterkers en microgolfassemblages/-modules die microgolfversterkers bevatten met een van de volgende kenmerken;

a.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 3,2 GHz en tot en met 6 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 60 W (47,8 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 15 %;

| b. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 6 GHz en tot en met 31,8 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 15 W (42 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 10 %; |
| --- | --- |

b.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 6 GHz en tot en met 31,8 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 15 W (42 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 10 %;

| c. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 31,8 GHz en tot en met 37,5 GHz; |
| --- | --- |

c.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 31,8 GHz en tot en met 37,5 GHz;

| d. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 37,5 GHz en tot en met 43,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 1 W (30 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 10 %; |
| --- | --- |

d.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 37,5 GHz en tot en met 43,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 1 W (30 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 10 %;

| e. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 43,5 GHz; of |
| --- | --- |

e.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 43,5 GHz; of

| f. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 3,2 GHz en met al de volgende kenmerken:






  1. | een gemiddeld uitgangsvermogen (in watt), P, groter dan 150 gedeeld door het kwadraat van de maximumwerkfrequentie (in GHz) [P>150 W*GHz2/fGHz
  2]; |
| --- | --- | --- |

f.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 3,2 GHz en met al de volgende kenmerken:

1.

een gemiddeld uitgangsvermogen (in watt), P, groter dan 150 gedeeld door het kwadraat van de maximumwerkfrequentie (in GHz) [P>150 W*GHz2/fGHz
  2];

| 2. | een fractionele bandbreedte van 5 % of meer; en |
| --- | --- |

2.

een fractionele bandbreedte van 5 % of meer; en

| 3. | twee loodrecht op elkaar staande zijden met een lengte d (in cm) die kleiner is dan of gelijk is aan 15 gedeeld door de laagste werkfrequentie in GHz [d ≤ 15cm*GHz/ fGHz]. |
| --- | --- |

3.

twee loodrecht op elkaar staande zijden met een lengte d (in cm) die kleiner is dan of gelijk is aan 15 gedeeld door de laagste werkfrequentie in GHz [d ≤ 15cm*GHz/ fGHz].

Technische noot:

3,2 GHz moet gebruikt worden als de laagste werkfrequentie (fGHz) in de formule in 3A001.b.4.f.3. voor versterkers die een gespecificeerde werkfrequentie hebben van 3,2 GHz en lager [d= 15cm*GHz/3,2 GHz].

NB: MMIC-vermogenversterkers moeten worden beoordeeld aan de hand van de criteria in 3A001.b.2.

Noot 1: In 3A001.b.4. wordt niet bedoeld apparatuur voor satellietuitzendingen die is ontworpen of gespecificeerd voor het frequentiegebied 40,5-42,5 GHz.

Noot 2: De embargostatus van een object waarvan de gespecificeerde werkfrequentie frequenties in meer dan één frequentiegebied omvat, als omschreven in 3A001.b.4.a tot 3A001.b.4.e, wordt bepaald door het laagste gemiddelde uitgangsvermogen waarvoor een embargo geldt.

| 5. | elektronisch of magnetisch afstembare banddoorlaat- of bandsperfilters met meer dan vijf afstembare resonatoren, geschikt om af te stemmen over een frequentieband van 1,5:1 (fmax/fmin) in minder dan tien microseconden bij:






  a. | een banddoorlaatbandbreedte van meer dan 0,5 % van de centrale frequentie, of |
| --- | --- | --- |

5.

elektronisch of magnetisch afstembare banddoorlaat- of bandsperfilters met meer dan vijf afstembare resonatoren, geschikt om af te stemmen over een frequentieband van 1,5:1 (fmax/fmin) in minder dan tien microseconden bij:

a.

een banddoorlaatbandbreedte van meer dan 0,5 % van de centrale frequentie, of

| b. | een bandsperbandbreedte van minder dan 0,5 % van de centrale frequentie; |
| --- | --- |

b.

een bandsperbandbreedte van minder dan 0,5 % van de centrale frequentie;

| 6. | Niet gebruikt; |
| --- | --- |

6.

Niet gebruikt;

| 7. | mixers en converters, ontworpen voor het vergroten van het frequentiebereik van apparatuur als beschreven in 3A002.c, 3A002.e of 3A002.f boven de daarin aangegeven grenzen; |
| --- | --- |

7.

mixers en converters, ontworpen voor het vergroten van het frequentiebereik van apparatuur als beschreven in 3A002.c, 3A002.e of 3A002.f boven de daarin aangegeven grenzen;

| 8. | microgolfvermogensversterkers die buizen als omschreven in 3A001.b bevatten en alle volgende eigenschappen bezitten:






  a. | werkfrequenties hoger dan 3 GHz; |
| --- | --- | --- |

8.

microgolfvermogensversterkers die buizen als omschreven in 3A001.b bevatten en alle volgende eigenschappen bezitten:

a.

werkfrequenties hoger dan 3 GHz;

| b. | een gemiddelde vermogensdichtheid aan de uitgang van meer dan 80 W/kg; en |
| --- | --- |

b.

een gemiddelde vermogensdichtheid aan de uitgang van meer dan 80 W/kg; en

| c. | een volume van minder dan 400 cm3. |
| --- | --- |

c.

een volume van minder dan 400 cm3.

Noot: In 3A001.b.8 wordt niet bedoeld apparatuur die is ontworpen of gespecificeerd voor een frequentieband die "door de ITU toegewezen" is voor radiocommunicatiediensten, maar niet voor radiodeterminatie.

| c. | Elementen waarbij gebruik wordt gemaakt van akoestische golven, als hieronder, en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor:






  1. | elementen waarbij gebruik wordt gemaakt van akoestische oppervlaktegolven en van akoestische golven die langs de oppervlakte scheren («surface wave») (d.w.z. "signaalverwerkende" elementen die gebruikmaken van elastische golven in materialen), met een of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een draaggolffrequentie groter dan 2,5 GHz; |
| --- | --- | --- | --- |

c.

Elementen waarbij gebruik wordt gemaakt van akoestische golven, als hieronder, en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor:

1.

elementen waarbij gebruik wordt gemaakt van akoestische oppervlaktegolven en van akoestische golven die langs de oppervlakte scheren («surface wave») (d.w.z. "signaalverwerkende" elementen die gebruikmaken van elastische golven in materialen), met een of meer van de volgende kenmerken:

a.

een draaggolffrequentie groter dan 2,5 GHz;

| b. | een draaggolffrequentie groter dan 1 GHz, doch kleiner dan 2,5 GHz, en







  1. | een onderdrukking van de zijlobben groter dan 55 dB; |
| --- | --- | --- |

b.

een draaggolffrequentie groter dan 1 GHz, doch kleiner dan 2,5 GHz, en

1.

een onderdrukking van de zijlobben groter dan 55 dB;

| 2. | een product van de maximale vertragingstijd (in microseconden) en de bandbreedte (in MHz) groter dan 100; of |
| --- | --- |

2.

een product van de maximale vertragingstijd (in microseconden) en de bandbreedte (in MHz) groter dan 100; of

| 3. | een bandbreedte van meer dan 250 MHz; of |
| --- | --- |

3.

een bandbreedte van meer dan 250 MHz; of

| 4. | een dispersieve vertraging groter dan 10 microseconden; of |
| --- | --- |

4.

een dispersieve vertraging groter dan 10 microseconden; of

| c. | een draaggolffrequentie van 1 GHz of lager, en met een of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een product van de maximale vertragingstijd (in microseconden) en de bandbreedte (in MHz) groter dan 100; |
| --- | --- | --- |

c.

een draaggolffrequentie van 1 GHz of lager, en met een of meer van de volgende kenmerken:

1.

een product van de maximale vertragingstijd (in microseconden) en de bandbreedte (in MHz) groter dan 100;

| 2. | een dispersieve vertraging groter dan 10 microseconden; of |
| --- | --- |

2.

een dispersieve vertraging groter dan 10 microseconden; of

| 3. | een onderdrukking van de zijlobben groter dan 55 dB en een bandbreedte van meer dan 50 MHz; |
| --- | --- |

3.

een onderdrukking van de zijlobben groter dan 55 dB en een bandbreedte van meer dan 50 MHz;

| 2. | elementen waarbij gebruik wordt gemaakt van akoestische golven in de gehele massa van het materiaal («bulk wave») (d.w.z. "signaalverwerkende" elementen die gebruikmaken van elastische golven) en die geschikt zijn voor directe verwerking van signalen met frequenties hoger dan 1 GHz; |
| --- | --- |

2.

elementen waarbij gebruik wordt gemaakt van akoestische golven in de gehele massa van het materiaal («bulk wave») (d.w.z. "signaalverwerkende" elementen die gebruikmaken van elastische golven) en die geschikt zijn voor directe verwerking van signalen met frequenties hoger dan 1 GHz;

| 3. | akoestisch-optische "signaalverwerkende" elementen die gebruikmaken van een wisselwerking tussen akoestische golven («bulk wave» of «surface wave») en lichtgolven en die geschikt zijn voor directe verwerking van signalen of beelden, met inbegrip van, doch niet beperkt tot, spectrale analyse, correlatie of convolutie. |
| --- | --- |

3.

akoestisch-optische "signaalverwerkende" elementen die gebruikmaken van een wisselwerking tussen akoestische golven («bulk wave» of «surface wave») en lichtgolven en die geschikt zijn voor directe verwerking van signalen of beelden, met inbegrip van, doch niet beperkt tot, spectrale analyse, correlatie of convolutie.

| d. | Elektronische elementen of schakelingen die onderdelen bevatten vervaardigd van "supergeleidende" materialen die speciaal zijn ontworpen om te werken bij temperaturen beneden de "kritische temperatuur" van ten minste een van de "supergeleidende" bestanddelen en met een of meer van de volgende functies:






  1. | stroomschakelen voor digitale schakelingen die gebruikmaken van "supergeleidende" poorten waarbij het product van de vertragingstijd per poort (in seconden) en het energieverlies per poort (in watt) kleiner is dan 10– 14 J, of |
| --- | --- | --- |

d.

Elektronische elementen of schakelingen die onderdelen bevatten vervaardigd van "supergeleidende" materialen die speciaal zijn ontworpen om te werken bij temperaturen beneden de "kritische temperatuur" van ten minste een van de "supergeleidende" bestanddelen en met een of meer van de volgende functies:

1.

stroomschakelen voor digitale schakelingen die gebruikmaken van "supergeleidende" poorten waarbij het product van de vertragingstijd per poort (in seconden) en het energieverlies per poort (in watt) kleiner is dan 10– 14 J, of

| 2. | frequentieselectie bij alle frequenties met toepassing van afstemkringen met een Q-waarde hoger dan 10 000. |
| --- | --- |

2.

frequentieselectie bij alle frequenties met toepassing van afstemkringen met een Q-waarde hoger dan 10 000.

| e. | Hoge-energiecomponenten, als hieronder:






  1. | batterijen en fotovoltaïsche arrays, als hieronder:


  Noot: In 3A001.e.1 worden niet bedoeld batterijen met een inhoud gelijk aan of kleiner dan 27 cm3 (bv. standaard-C-cellen of R14-batterijen).







  a. | primaire cellen en batterijen met een ‧energiedichtheid‧ groter dan 480 Wh/kg en gespecificeerd om te werken in het temperatuurgebied van lager dan 243 K (– 30 °C) tot hoger dan 343 K (70 °C); |
| --- | --- | --- | --- |

e.

Hoge-energiecomponenten, als hieronder:

1.

batterijen en fotovoltaïsche arrays, als hieronder:

Noot: In 3A001.e.1 worden niet bedoeld batterijen met een inhoud gelijk aan of kleiner dan 27 cm3 (bv. standaard-C-cellen of R14-batterijen).

a.

primaire cellen en batterijen met een ‧energiedichtheid‧ groter dan 480 Wh/kg en gespecificeerd om te werken in het temperatuurgebied van lager dan 243 K (– 30 °C) tot hoger dan 343 K (70 °C);

| b. | herlaadbare cellen en batterijen met een ‧energiedichtheid‧ groter dan 150 Wh/kg na 75 cyclussen van laden en ontladen bij een ontlaadstroom gelijk aan C/5 uur (waarbij C de nominale capaciteit is in ampère-uren) en wanneer deze werken in het temperatuurgebied van lager dan 253 K (– 20 °C) tot hoger dan 333 K (60 °C);
  Technische noot:

  De ‧energiedichtheid‧ wordt bepaald door het gemiddelde vermogen in watt (gemiddelde spanning in volt maal gemiddelde stroomsterkte in ampère) te vermenigvuldigen met de tijd (in uur), nodig om te ontladen tot 75 % van de onbelaste beginspanning, gedeeld door de totale massa van de cel (of batterij) uitgedrukt in kilogram. |
| --- | --- |

b.

herlaadbare cellen en batterijen met een ‧energiedichtheid‧ groter dan 150 Wh/kg na 75 cyclussen van laden en ontladen bij een ontlaadstroom gelijk aan C/5 uur (waarbij C de nominale capaciteit is in ampère-uren) en wanneer deze werken in het temperatuurgebied van lager dan 253 K (– 20 °C) tot hoger dan 333 K (60 °C);

Technische noot:

De ‧energiedichtheid‧ wordt bepaald door het gemiddelde vermogen in watt (gemiddelde spanning in volt maal gemiddelde stroomsterkte in ampère) te vermenigvuldigen met de tijd (in uur), nodig om te ontladen tot 75 % van de onbelaste beginspanning, gedeeld door de totale massa van de cel (of batterij) uitgedrukt in kilogram.

| c. | stralingsbestendige fotovoltaïsche «arrays» die zijn "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", met een specifiek vermogen groter dan 160 W/m2 gemeten bij een werktemperatuur van 301 K (28 °C) onder belichting met 1 kW/m2 afkomstig van een wolfraamdraad bij 2 800 K (2 527 °C); |
| --- | --- |

c.

stralingsbestendige fotovoltaïsche «arrays» die zijn "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", met een specifiek vermogen groter dan 160 W/m2 gemeten bij een werktemperatuur van 301 K (28 °C) onder belichting met 1 kW/m2 afkomstig van een wolfraamdraad bij 2 800 K (2 527 °C);

| 2. | condensatoren geschikt voor hoge-energieopslag, als hieronder:

  NB: ZIE OOK 3A201.a







  a. | condensatoren met een herhalingssnelheid van minder dan 10 Hz («single shot»-condensatoren) met alle volgende kenmerken:






  1. | een toelaatbare spanning gelijk aan of hoger dan 5 kV; |
| --- | --- | --- | --- |

2.

condensatoren geschikt voor hoge-energieopslag, als hieronder:

NB: ZIE OOK 3A201.a

a.

condensatoren met een herhalingssnelheid van minder dan 10 Hz («single shot»-condensatoren) met alle volgende kenmerken:

1.

een toelaatbare spanning gelijk aan of hoger dan 5 kV;

| 2. | een energiedichtheid gelijk aan of hoger dan 250 J/kg, en |
| --- | --- |

2.

een energiedichtheid gelijk aan of hoger dan 250 J/kg, en

| 3. | een totale energie gelijk aan of groter dan 25 kJ; |
| --- | --- |

3.

een totale energie gelijk aan of groter dan 25 kJ;

| b. | condensatoren met een herhalingssnelheid van 10 Hz of meer («repetition-rated»-condensatoren) met alle volgende kenmerken:






  1. | een toelaatbare spanning gelijk aan of hoger dan 5 kV; |
| --- | --- | --- |

b.

condensatoren met een herhalingssnelheid van 10 Hz of meer («repetition-rated»-condensatoren) met alle volgende kenmerken:

1.

een toelaatbare spanning gelijk aan of hoger dan 5 kV;

| 2. | een energiedichtheid gelijk aan of groter dan 50 J/kg; |
| --- | --- |

2.

een energiedichtheid gelijk aan of groter dan 50 J/kg;

| 3. | een totale energie gelijk aan of meer dan 100 J, en |
| --- | --- |

3.

een totale energie gelijk aan of meer dan 100 J, en

| 4. | een levensduur gelijk aan of langer dan 10 000 cyclussen van laden en ontladen; |
| --- | --- |

4.

een levensduur gelijk aan of langer dan 10 000 cyclussen van laden en ontladen;

| 3. | "supergeleidende" elektromagneten en solenoïden die speciaal zijn ontworpen voor volledig opladen of ontladen in minder dan een seconde, met alle volgende kenmerken:

  NB: ZIE OOK 3A201.b



  Noot: In 3A001.e.3 zijn niet bedoeld "supergeleidende" elektromagneten of solenoïden die speciaal zijn ontworpen voor medische apparatuur voor beeldvorming door middel van magnetische resonantie (Magnetic Resonance Imaging — MRI).







  a. | de in de eerste seconde tijdens de ontlading geleverde energie is meer dan 10 kJ; |
| --- | --- | --- |

3.

"supergeleidende" elektromagneten en solenoïden die speciaal zijn ontworpen voor volledig opladen of ontladen in minder dan een seconde, met alle volgende kenmerken:

NB: ZIE OOK 3A201.b

Noot: In 3A001.e.3 zijn niet bedoeld "supergeleidende" elektromagneten of solenoïden die speciaal zijn ontworpen voor medische apparatuur voor beeldvorming door middel van magnetische resonantie (Magnetic Resonance Imaging — MRI).

a.

de in de eerste seconde tijdens de ontlading geleverde energie is meer dan 10 kJ;

| b. | de binnendiameter van de stroomvoerende wikkelingen is groter dan 250 mm, en |
| --- | --- |

b.

de binnendiameter van de stroomvoerende wikkelingen is groter dan 250 mm, en

| c. | de apparatuur heeft een nominale magnetische inductie van meer dan 8 T of een nominale "totale stroomdichtheid" in de wikkeling hoger dan 300 A/mm2. |
| --- | --- |

c.

de apparatuur heeft een nominale magnetische inductie van meer dan 8 T of een nominale "totale stroomdichtheid" in de wikkeling hoger dan 300 A/mm2.

| f. | Absolute positiecodeerapparaten van het type met roterende as met één van beide volgende kenmerken:






  1. | een scheidend vermogen beter dan 1:265 000 van de volle schaalwaarde (18 bit resolutie), of |
| --- | --- | --- |

f.

Absolute positiecodeerapparaten van het type met roterende as met één van beide volgende kenmerken:

1.

een scheidend vermogen beter dan 1:265 000 van de volle schaalwaarde (18 bit resolutie), of

| 2. | een nauwkeurigheid beter dan ± 2,5 boogseconden. |
| --- | --- |

2.

een nauwkeurigheid beter dan ± 2,5 boogseconden.

3A002Universele elektronische apparatuur, als hieronder:

| a. | Opnameapparatuur, als hieronder, en speciaal daarvoor ontworpen testband:






  1. | analoge magneetbandinstrumentatierecorders, met inbegrip van recorders waarmee digitale signalen kunnen worden geregistreerd (bv. met gebruik van een HDDR-moduul (digitaal registratiemoduul met hoge dichtheid) met een of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een bandbreedte per elektronisch kanaal of spoor groter dan 4 MHz; |
| --- | --- | --- | --- |

a.

Opnameapparatuur, als hieronder, en speciaal daarvoor ontworpen testband:

1.

analoge magneetbandinstrumentatierecorders, met inbegrip van recorders waarmee digitale signalen kunnen worden geregistreerd (bv. met gebruik van een HDDR-moduul (digitaal registratiemoduul met hoge dichtheid) met een of meer van de volgende kenmerken:

a.

een bandbreedte per elektronisch kanaal of spoor groter dan 4 MHz;

| b. | een bandbreedte per elektronisch kanaal of spoor groter dan 2 MHz en met meer dan 42 sporen, of |
| --- | --- |

b.

een bandbreedte per elektronisch kanaal of spoor groter dan 2 MHz en met meer dan 42 sporen, of

| c. | met een tijdverschuivingsfout van minder dan 0,1 microseconde gemeten in overeenstemming met de van toepassing zijnde IRIG (Inter Range Instrumentation Group)- of EIA (Electronic Industries Association) documenten; |
| --- | --- |

c.

met een tijdverschuivingsfout van minder dan 0,1 microseconde gemeten in overeenstemming met de van toepassing zijnde IRIG (Inter Range Instrumentation Group)- of EIA (Electronic Industries Association) documenten;

Noot: Analoge magneetbandrecorders die speciaal zijn ontworpen voor civiele videotoepassingen worden niet beschouwd als instrumentatierecorders.

| 2. | digitale magneetbandvideorecorders met een maximale digitale overbrengsnelheid van de interface groter dan 360 Mbits/s;


  Noot: In 3A002.a.2. worden niet bedoeld digitale magneetbandvideorecorders die speciaal zijn ontworpen voor televisieopnamen in een (al dan niet gecomprimeerd) signaalformaat in overeenstemming met de standaarden of aanbevelingen van de ITU, de IEC, de SMPTE, de ERU, het ETSI of het IEEE voor civiele televisietoepassingen; |
| --- | --- |

2.

digitale magneetbandvideorecorders met een maximale digitale overbrengsnelheid van de interface groter dan 360 Mbits/s;

Noot: In 3A002.a.2. worden niet bedoeld digitale magneetbandvideorecorders die speciaal zijn ontworpen voor televisieopnamen in een (al dan niet gecomprimeerd) signaalformaat in overeenstemming met de standaarden of aanbevelingen van de ITU, de IEC, de SMPTE, de ERU, het ETSI of het IEEE voor civiele televisietoepassingen;

| 3. | digitale magneetbandinstrumentatierecorders voor het vastleggen van gegevens gebruikmakend van helical scan of vaste kop techniek, met een of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een maximale digitale overbrengsnelheid van de interface groter dan 175 Mbits/s; of |
| --- | --- | --- |

3.

digitale magneetbandinstrumentatierecorders voor het vastleggen van gegevens gebruikmakend van helical scan of vaste kop techniek, met een of meer van de volgende kenmerken:

a.

een maximale digitale overbrengsnelheid van de interface groter dan 175 Mbits/s; of

| b. | "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte"; |
| --- | --- |

b.

"gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte";

Noot: In 3A002.a.3 worden niet bedoeld analoge magneetbandrecorders uitgerust met HDDR conversie-elektronica en geconfigureerd voor registratie van uitsluitend digitale gegevens.

| 4. | apparatuur met een maximale digitale overbrengsnelheid van de interface groter dan 175 Mbit/s, ontworpen voor het ombouwen van digitale magneetbandvideorecorders voor gebruik als digitale instrumentatiegegevensrecorders; |
| --- | --- |

4.

apparatuur met een maximale digitale overbrengsnelheid van de interface groter dan 175 Mbit/s, ontworpen voor het ombouwen van digitale magneetbandvideorecorders voor gebruik als digitale instrumentatiegegevensrecorders;

| 5. | waveform digitisers en recorders voor registratie van kortstondige verschijnselen (‧transient recorders‧) met beide volgende kenmerken:






  a. | digitaliseringssnelheid van 200 miljoen monsters per seconde en een scheidend vermogen van 10 bit of meer, en |
| --- | --- | --- |

5.

waveform digitisers en recorders voor registratie van kortstondige verschijnselen (‧transient recorders‧) met beide volgende kenmerken:

a.

digitaliseringssnelheid van 200 miljoen monsters per seconde en een scheidend vermogen van 10 bit of meer, en

| b. | een continue verwerkingscapaciteit van 2 Gbit/s of meer. |
| --- | --- |

b.

een continue verwerkingscapaciteit van 2 Gbit/s of meer.

Technische noot:

Bij instrumenten met een parallelle busarchitectuur is de continue verwerkingscapaciteit het product van de hoogste ‧word rate‧ en het aantal bit in een woord.

Continue verwerkingscapaciteit betekent de grootste snelheid waarmee het instrument gegevens kan uitsturen naar het massageheugen zonder verlies van informatie terwijl de bemonsteringssnelheid en analoog/digitaal-omzetting niet worden onderbroken.

| 6. | digitale instrumentatierecorders, gebruikmakend van magneetschijfgeheugentechniek, met beide volgende kenmerken:






  a. | digitaliseringssnelheid van 100 miljoen monsters per seconde en een scheidend vermogen van 8 bit of meer, en |
| --- | --- | --- |

6.

digitale instrumentatierecorders, gebruikmakend van magneetschijfgeheugentechniek, met beide volgende kenmerken:

a.

digitaliseringssnelheid van 100 miljoen monsters per seconde en een scheidend vermogen van 8 bit of meer, en

| b. | een continue verwerkingscapaciteit van 1 Gbit/s of meer. |
| --- | --- |

b.

een continue verwerkingscapaciteit van 1 Gbit/s of meer.

| b. | "Samenstellingen" van "frequentiesynthesizers" met een "frequentiewisseltijd" van de ene gekozen frequentie naar de andere van minder dan 1 ms. |
| --- | --- |

b.

"Samenstellingen" van "frequentiesynthesizers" met een "frequentiewisseltijd" van de ene gekozen frequentie naar de andere van minder dan 1 ms.

| c. | Radiofrequentie-"signaalanalysatoren", als hieronder:






  1. | "signaalanalysatoren" geschikt voor het analyseren van frequenties hoger dan 31,8 GHz, maar niet hoger dan 37,5 GHz, en met een 3 dB resolutiebandbreedte hoger dan 10 MHz; |
| --- | --- | --- |

c.

Radiofrequentie-"signaalanalysatoren", als hieronder:

1.

"signaalanalysatoren" geschikt voor het analyseren van frequenties hoger dan 31,8 GHz, maar niet hoger dan 37,5 GHz, en met een 3 dB resolutiebandbreedte hoger dan 10 MHz;

| 2. | "signaalanalysatoren" geschikt voor het analyseren van frequenties hoger dan 43.5 GHz; |
| --- | --- |

2.

"signaalanalysatoren" geschikt voor het analyseren van frequenties hoger dan 43.5 GHz;

| 3. | "dynamische signaalanalysatoren" met een "tijdgebonden bandbreedte" groter dan 25,6 kHz.


  Noot: In 3A002.c.3 worden niet bedoeld dynamische signaalanalysatoren die uitsluitend gebruikmaken van bandbreedtefilters met constant percentage (ook wel octaaf- of deeloctaaffilters genoemd). |
| --- | --- |

3.

"dynamische signaalanalysatoren" met een "tijdgebonden bandbreedte" groter dan 25,6 kHz.

Noot: In 3A002.c.3 worden niet bedoeld dynamische signaalanalysatoren die uitsluitend gebruikmaken van bandbreedtefilters met constant percentage (ook wel octaaf- of deeloctaaffilters genoemd).

| d. | «Synthesized» signaalgeneratoren die uitgangsfrequenties afgeven waarvan de nauwkeurigheid en stabiliteit op korte of lange termijn wordt bepaald door, afgeleid van, of beheerst door de inwendige referentiestandaard en met een of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een maximale «synthesized» uitgangsfrequentie hoger dan 31,8 GHz maar niet hoger dan 43,5 GHz en gespecificeerd voor een pulsduur van minder dan 100 ns; |
| --- | --- | --- |

d.

«Synthesized» signaalgeneratoren die uitgangsfrequenties afgeven waarvan de nauwkeurigheid en stabiliteit op korte of lange termijn wordt bepaald door, afgeleid van, of beheerst door de inwendige referentiestandaard en met een of meer van de volgende kenmerken:

1.

een maximale «synthesized» uitgangsfrequentie hoger dan 31,8 GHz maar niet hoger dan 43,5 GHz en gespecificeerd voor een pulsduur van minder dan 100 ns;

| 2. | Een maximale «synthesized» uitgangsfrequentie hoger dan 43,5 GHz; |
| --- | --- |

2.

Een maximale «synthesized» uitgangsfrequentie hoger dan 43,5 GHz;

| 3. | een "frequentiewisseltijd" van de ene gekozen frequentie naar de andere van minder dan 1 ms; of |
| --- | --- |

3.

een "frequentiewisseltijd" van de ene gekozen frequentie naar de andere van minder dan 1 ms; of

| 4. | een enkel zijband (SSB)-faseruis, beter dan –(126 + 20 log10F – 20 log10f) in dBc/Hz, waarin F de verschuiving van de werkfrequentie is in Hz en f de werkfrequentie in MHz.
  Technische noot:

  In 3A002.d.1. wordt onder "pulsduur" verstaan het tijdsinterval tussen het moment waarop het pulsfront 90 % van de piekwaarde bereikt en het moment waarop het pulsdal 10 % van de piekwaarde bereikt. |
| --- | --- |

4.

een enkel zijband (SSB)-faseruis, beter dan –(126 + 20 log10F – 20 log10f) in dBc/Hz, waarin F de verschuiving van de werkfrequentie is in Hz en f de werkfrequentie in MHz.

Technische noot:

In 3A002.d.1. wordt onder "pulsduur" verstaan het tijdsinterval tussen het moment waarop het pulsfront 90 % van de piekwaarde bereikt en het moment waarop het pulsdal 10 % van de piekwaarde bereikt.

Noot: In 3A002.d wordt niet bedoeld apparatuur waarbij de uitgangsfrequentie wordt verkregen door het optellen of aftrekken van twee of meer kristaloscillatorfrequenties, waarna de uitkomst eventueel wordt vermenigvuldigd.

| e. | Netwerkanalysatoren met een maximale werkfrequentie hoger dan 43,5 GHz. |
| --- | --- |

e.

Netwerkanalysatoren met een maximale werkfrequentie hoger dan 43,5 GHz.

| f. | Microgolftestontvangers met beide volgende kenmerken:






  1. | een maximale werkfrequentie hoger dan 43,5 GHz; en |
| --- | --- | --- |

f.

Microgolftestontvangers met beide volgende kenmerken:

1.

een maximale werkfrequentie hoger dan 43,5 GHz; en

| 2. | geschikt voor het gelijktijdig meten van amplitude en fase. |
| --- | --- |

2.

geschikt voor het gelijktijdig meten van amplitude en fase.

| g. | Atomaire frequentiestandaarden met een van beide volgende kenmerken:






  1. | stabiliteit (‧aging‧) minder (beter) dan 1 × 10– 11/maand, of |
| --- | --- | --- |

g.

Atomaire frequentiestandaarden met een van beide volgende kenmerken:

1.

stabiliteit (‧aging‧) minder (beter) dan 1 × 10– 11/maand, of

| 2. | "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte". |
| --- | --- |

2.

"gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte".

Noot: In 3A002.g.1 worden niet bedoeld rubidiumstandaarden die niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte" zijn.

3A003Temperatuurregelingssystemen met nevelkoeling die gebruik maken van apparatuur met een gesloten vloeistofcirculatie en -reconditioneringscircuit in een lucht- en waterdicht omhulsel waarin met speciaal daartoe ontworpen spuitmonden een diëlektrische vloeistof op elektronische componenten wordt verneveld om deze binnen de gebruikstemperatuur te houden, en speciaal hiervoor ontworpen onderdelen.

3A101Elektronische uitrusting, elementen en onderdelen, anders dan vermeld in 3A001, als hieronder:

| a. | analoog/digitaal-omzetters, geschikt voor gebruik in "raketten" en gespecificeerd om te voldoen aan de militaire specificaties voor ruw gebruik voor apparatuur; |
| --- | --- |

a.

analoog/digitaal-omzetters, geschikt voor gebruik in "raketten" en gespecificeerd om te voldoen aan de militaire specificaties voor ruw gebruik voor apparatuur;

| b. | versnellers waarmee elektromagnetische straling kan worden geproduceerd in de vorm van remstraling afkomstig van versnelde elektronen met een energie van 2 MeV of meer en systemen die deze versnellers bevatten.


  Noot: In 3A101.b wordt niet bedoeld apparatuur speciaal bestemd voor medische doeleinden. |
| --- | --- |

b.

versnellers waarmee elektromagnetische straling kan worden geproduceerd in de vorm van remstraling afkomstig van versnelde elektronen met een energie van 2 MeV of meer en systemen die deze versnellers bevatten.

Noot: In 3A101.b wordt niet bedoeld apparatuur speciaal bestemd voor medische doeleinden.

3A201Elektronische onderdelen, anders dan vermeld in 3A001, als hieronder:

| a. | condensators met een van de volgende groepen kenmerken:






  1. | a. | een toelaatbare spanning hoger dan 1,4 kV, |
| --- | --- | --- | --- |

a.

condensators met een van de volgende groepen kenmerken:

1.

a.

een toelaatbare spanning hoger dan 1,4 kV,

| b. | energieopslag groter dan 10 J, |
| --- | --- |

b.

energieopslag groter dan 10 J,

| c. | capaciteit groter dan 0,5 μF, en |
| --- | --- |

c.

capaciteit groter dan 0,5 μF, en

| d. | serie-inductantie minder dan 50 nH, of |
| --- | --- |

d.

serie-inductantie minder dan 50 nH, of

| 2. | a. | een toelaatbare spanning hoger dan 750 V, |
| --- | --- | --- |

2.

a.

een toelaatbare spanning hoger dan 750 V,

| b. | capaciteit groter dan 0,25 μF, en |
| --- | --- |

b.

capaciteit groter dan 0,25 μF, en

| c. | serie-inductantie minder dan 10 nH; |
| --- | --- |

c.

serie-inductantie minder dan 10 nH;

| b. | supergeleidende solenoïde elektromagneten met alle volgende kenmerken:






  1. | geschikt voor het opwekken van een magnetisch veld van meer dan 2 T; |
| --- | --- | --- |

b.

supergeleidende solenoïde elektromagneten met alle volgende kenmerken:

1.

geschikt voor het opwekken van een magnetisch veld van meer dan 2 T;

| 2. | L/D (lengte gedeeld door binnendiameter) groter dan 2; |
| --- | --- |

2.

L/D (lengte gedeeld door binnendiameter) groter dan 2;

| 3. | de binnendiameter is groter dan 300 mm; en |
| --- | --- |

3.

de binnendiameter is groter dan 300 mm; en

| 4. | met een magneetveld dat over 50 % van het interne veld uniform is tot beter dan 1 %; |
| --- | --- |

4.

met een magneetveld dat over 50 % van het interne veld uniform is tot beter dan 1 %;

Noot: In 3A201.b worden niet bedoeld magneten die speciaal zijn ontworpen voor en worden uitgevoerd ‧als onderdeel van‧ medische apparatuur voor beeldvorming door middel van kernmagnetische resonantie (Nuclear Magnetic Resonance — NMR). De zinsnede ‧als onderdeel van‧ betekent niet noodzakelijkerwijs werkelijk als onderdeel van dezelfde zending. Afzonderlijke zendingen vanuit verschillende bronnen zijn toegestaan, mits in de bijbehorende exportdocumenten duidelijk wordt vermeld dat de zendingen ‧als onderdeel van‧ de beeldvormende systemen worden verzonden.

| c. | röntgengeneratoren met flitsontlading of gepulseerde elektronenversnellers met een van de volgende groepen kenmerken:






  1. | a. | een elektronpiekenergie van 500 keV of meer doch minder dan 25 MeV, en |
| --- | --- | --- | --- |

c.

röntgengeneratoren met flitsontlading of gepulseerde elektronenversnellers met een van de volgende groepen kenmerken:

1.

a.

een elektronpiekenergie van 500 keV of meer doch minder dan 25 MeV, en

| b. | een prestatiegetal (K) van 0,25 of hoger, of |
| --- | --- |

b.

een prestatiegetal (K) van 0,25 of hoger, of

| 2. | a. | een elektronpiekenergie van 25 MeV of meer, en |
| --- | --- | --- |

2.

a.

een elektronpiekenergie van 25 MeV of meer, en

| b. | een piekvermogen groter dan 50 MW. |
| --- | --- |

b.

een piekvermogen groter dan 50 MW.

Noot: In 3A201.c. worden niet bedoeld versnellers die een bestanddeel zijn van toestellen ontworpen voor andere toepassingen dan elektronenbundels of röntgenstraling (bv. elektronenmicroscopie) en versnellers ontworpen voor medische toepassingen

Technische noten:

| 1. | Het prestatiegetal wordt als volgt gedefinieerd:


  ,
  waarin V de elektronpiekenergie is in miljoen elektronvolt.
  Bij een bundelpulsduur korter dan of gelijk aan 1 microseconde is Q de totale versnelde lading in coulomb. Bij een bundelpulsduur langer dan 1 microseconde is Q de maximale versnelde lading in 1 microseconde.
  Q is gelijk aan de integraal van i over de tijd t, zijnde ofwel 1 microseconde ofwel de tijdsduur van de bundelpuls, welk van de twee het kortste is (Q = idt), waarbij i de bundelstroom in ampère is en t de tijd in seconden. |
| --- | --- |

1.

Het prestatiegetal wordt als volgt gedefinieerd:

Formula,

| 2. | Piekvermogen = (piekspanning in volt) × (maximale bundelstroom in ampère). |
| --- | --- |

2.

Piekvermogen = (piekspanning in volt) × (maximale bundelstroom in ampère).

| 3. | In machines die werken op basis van versnellende microgolftrilholtes is de tijdsduur van de bundelpuls ofwel 1 microseconde ofwel de duur van de door een microgolfmodulatorpuls voortgebrachte deeltjesbundel, welk van de twee het kortste is. |
| --- | --- |

3.

In machines die werken op basis van versnellende microgolftrilholtes is de tijdsduur van de bundelpuls ofwel 1 microseconde ofwel de duur van de door een microgolfmodulatorpuls voortgebrachte deeltjesbundel, welk van de twee het kortste is.

| 4. | In machines die werken op basis van versnellende microgolftrilholtes is de maximale bundelstroom de gemiddelde stroom voor de duur van een bundelpuls. |
| --- | --- |

4.

In machines die werken op basis van versnellende microgolftrilholtes is de maximale bundelstroom de gemiddelde stroom voor de duur van een bundelpuls.

3A225Frequentieomzetters of frequentiegeneratoren, anders dan vermeld in 0B001.b.13, met alle volgende kenmerken:

| a. | een meerfasige uitgang geschikt voor het leveren van een vermogen van 40 W of groter; |
| --- | --- |

a.

een meerfasige uitgang geschikt voor het leveren van een vermogen van 40 W of groter;

| b. | geschikt om te werken in het frequentiegebied van 600 tot 2 000 Hz; |
| --- | --- |

b.

geschikt om te werken in het frequentiegebied van 600 tot 2 000 Hz;

| c. | totale harmonische vervorming beter (minder) dan 10 %, en |
| --- | --- |

c.

totale harmonische vervorming beter (minder) dan 10 %, en

| d. | frequentieafwijking kleiner dan 0,1 %. |
| --- | --- |

d.

frequentieafwijking kleiner dan 0,1 %.

Technische noot:

De in 3A225 bedoelde frequentieomzetters zijn ook bekend als «converters» of «inverters».

3A226Gelijkstroombronnen met hoog vermogen, anders dan bedoeld in 0B001.j.6, met beide volgende kenmerken:

| a. | over een periode van acht uur ononderbroken 100 V of meer kunnen produceren bij een stroom van 500 A of meer, en |
| --- | --- |

a.

over een periode van acht uur ononderbroken 100 V of meer kunnen produceren bij een stroom van 500 A of meer, en

| b. | met een stroom- of spanningsstabiliteit beter dan 0,1 % over een periode van acht uur. |
| --- | --- |

b.

met een stroom- of spanningsstabiliteit beter dan 0,1 % over een periode van acht uur.

3A227Hoogspanningsgelijkstroombronnen, anders dan vermeld in 0B001.j.5, met beide volgende kenmerken:

| a. | over een periode van acht uur ononderbroken 20 kV of meer kunnen produceren bij een stroom van 1 A of meer, en |
| --- | --- |

a.

over een periode van acht uur ononderbroken 20 kV of meer kunnen produceren bij een stroom van 1 A of meer, en

| b. | met een stroom- of spanningsstabiliteit beter dan 0,1 % over een periode van acht uur. |
| --- | --- |

b.

met een stroom- of spanningsstabiliteit beter dan 0,1 % over een periode van acht uur.

3A228Niet in 0B001.j.5 omschreven schakelelementen, als hieronder:

| a. | buizen met koude kathode, al dan niet met gas gevuld, die op dezelfde wijze als een vonkbrug werken, en alle volgende kenmerken hebben:






  1. | drie of meer elektroden; |
| --- | --- | --- |

a.

buizen met koude kathode, al dan niet met gas gevuld, die op dezelfde wijze als een vonkbrug werken, en alle volgende kenmerken hebben:

1.

drie of meer elektroden;

| 2. | een maximale anodespanning van 2 500 V of meer, |
| --- | --- |

2.

een maximale anodespanning van 2 500 V of meer,

| 3. | een maximale anodestroomsterkte van 100 A of meer, en |
| --- | --- |

3.

een maximale anodestroomsterkte van 100 A of meer, en

| 4. | een anodevertragingstijd van 10 microseconden of minder; |
| --- | --- |

4.

een anodevertragingstijd van 10 microseconden of minder;

Noot: Onder 3A228 vallen met gas gevulde krytronbuizen en vacuümsprytronbuizen.

| b. | gestuurde vonkbruggen met beide volgende kenmerken:






  1. | een anodevertragingstijd van 15 microseconden of minder, en |
| --- | --- | --- |

b.

gestuurde vonkbruggen met beide volgende kenmerken:

1.

een anodevertragingstijd van 15 microseconden of minder, en

| 2. | een toelaatbare maximale stroomsterkte van 500 A of meer; |
| --- | --- |

2.

een toelaatbare maximale stroomsterkte van 500 A of meer;

| c. | modulen of samenstellingen met een snelle schakelfunctie met alle volgende kenmerken:






  1. | een maximale anodespanning hoger dan 2 kV; |
| --- | --- | --- |

c.

modulen of samenstellingen met een snelle schakelfunctie met alle volgende kenmerken:

1.

een maximale anodespanning hoger dan 2 kV;

| 2. | een maximale anodestroomsterkte van 500 A of meer, en |
| --- | --- |

2.

een maximale anodestroomsterkte van 500 A of meer, en

| 3. | een inschakeltijd van 1 microseconde of minder. |
| --- | --- |

3.

een inschakeltijd van 1 microseconde of minder.

3A229Ontstekingstoestellen en gelijkwaardige pulsgeneratoren met hoge stroomsterkte, als hieronder:

NB: ZIE OOK LIJST MILITAIRE GOEDEREN.

| a. | ontstekingsmechanismen met explosieve detonator, ontworpen voor het starten van meervoudige detonators als vermeld in 3A232; |
| --- | --- |

a.

ontstekingsmechanismen met explosieve detonator, ontworpen voor het starten van meervoudige detonators als vermeld in 3A232;

| b. | modulaire elektrische pulsgeneratoren (pulseerders) met alle volgende kenmerken:






  1. | ontworpen voor draagbaar, mobiel of ruw gebruik; |
| --- | --- | --- |

b.

modulaire elektrische pulsgeneratoren (pulseerders) met alle volgende kenmerken:

1.

ontworpen voor draagbaar, mobiel of ruw gebruik;

| 2. | gevat in een stofdicht huis; |
| --- | --- |

2.

gevat in een stofdicht huis;

| 3. | geschikt voor afgifte van hun energie in minder dan 15 microseconden; |
| --- | --- |

3.

geschikt voor afgifte van hun energie in minder dan 15 microseconden;

| 4. | met een uitgangsstroomsterkte hoger dan 100 A; |
| --- | --- |

4.

met een uitgangsstroomsterkte hoger dan 100 A;

| 5. | met een ‧stijgtijd‧ korter dan 10 microseconden in een belasting van minder dan 40 ohm; |
| --- | --- |

5.

met een ‧stijgtijd‧ korter dan 10 microseconden in een belasting van minder dan 40 ohm;

| 6. | geen enkele afmeting groter dan 25,4 cm; |
| --- | --- |

6.

geen enkele afmeting groter dan 25,4 cm;

| 7. | gewicht minder dan 25 kg, en |
| --- | --- |

7.

gewicht minder dan 25 kg, en

| 8. | gespecificeerd voor gebruik in een breed temperatuurgebied 223 K (– 50 °C) tot 373 K (100 °C) of gespecificeerd als geschikt voor ruimtevaarttoepassingen. |
| --- | --- |

8.

gespecificeerd voor gebruik in een breed temperatuurgebied 223 K (– 50 °C) tot 373 K (100 °C) of gespecificeerd als geschikt voor ruimtevaarttoepassingen.

Noot: 3A229.b. omvat starters voor xenonflitslampen.

Technische noot:

In 3A229.b.5. is de stijgtijd gedefinieerd als het tijdsinterval dat verstrijkt tussen het bereiken van 10 % van de piekstroom en 90 % van de piekstroom als de generator op een ohmse weerstand wordt aangesloten.

3A230Hoogfrequente pulsgeneratoren met alle volgende kenmerken:

| a. | een uitgangsspanning van meer dan 6 V in een weerstandsbelasting van minder dan 55 ohm, en |
| --- | --- |

a.

een uitgangsspanning van meer dan 6 V in een weerstandsbelasting van minder dan 55 ohm, en

| b. | met een pulsstijgtijd van minder dan 500 picoseconden. |
| --- | --- |

b.

met een pulsstijgtijd van minder dan 500 picoseconden.

Technische noot:

In 3A230 is de pulsstijgtijd gedefinieerd als het tijdsinterval dat verstrijkt tussen het bereiken van 10 % van de piekspanning en 90 % van de piekspanning.

3A231Neutronengeneratorsystemen, met inbegrip van buizen, met beide volgende kenmerken:

| a. | ontworpen om te werken zonder uitwendig vacuümsysteem, en |
| --- | --- |

a.

ontworpen om te werken zonder uitwendig vacuümsysteem, en

| b. | gebruik maken van elektrostatische versnelling voor het opwekken van een tritium-deuterium-kernreactie. |
| --- | --- |

b.

gebruik maken van elektrostatische versnelling voor het opwekken van een tritium-deuterium-kernreactie.

3A232Detonators en meervoudige ontstekingssystemen, als hieronder:

NB: ZIE OOK LIJST MILITAIRE GOEDEREN.

| a. | elektrische gestarte explosieve detonators, als hieronder:






  1. | «exploding bridge» (EB); |
| --- | --- | --- |

a.

elektrische gestarte explosieve detonators, als hieronder:

1.

«exploding bridge» (EB);

| 2. | «exploding bridge wire» (EBW); |
| --- | --- |

2.

«exploding bridge wire» (EBW);

| 3. | slapper; en |
| --- | --- |

3.

slapper; en

| 4. | «exploding foil»-ontstekingen (EFI); |
| --- | --- |

4.

«exploding foil»-ontstekingen (EFI);

| b. | opstellingen waarbij gebruik wordt gemaakt van enkel- of meervoudige detonators en die zijn ontworpen om door middel van een enkel ontstekingssignaal een explosief oppervlak van meer dan 5 000 mm2 bijna gelijktijdig tot ontploffing te brengen met een ontstekingstijdmarge over het oppervlak van minder dan 2,5 microseconden. |
| --- | --- |

b.

opstellingen waarbij gebruik wordt gemaakt van enkel- of meervoudige detonators en die zijn ontworpen om door middel van een enkel ontstekingssignaal een explosief oppervlak van meer dan 5 000 mm2 bijna gelijktijdig tot ontploffing te brengen met een ontstekingstijdmarge over het oppervlak van minder dan 2,5 microseconden.

Noot: In 3A232 worden niet bedoeld detonators die uitsluitend gebruik maken van primaire springstoffen, zoals loodazide.

Technische noot:

De in 3A232 bedoelde detonators maken alle gebruik van een kleine elektrische geleider («bridge», «bridge wire» of folie) die explosief verdampt wanneer er een snelle elektrische stroomstoot doorheen wordt geleid. Bij het «non-slapper»-type brengt de exploderende geleider een chemische ontploffing op gang in een daarmee in aanraking zijnd brisant materiaal, bijvoorbeeld PETN (pentaerytritoltetranitraat). Bij «slapper»-detonators wordt een «flyer» of «slapper» door de explosieve verdamping van de elektrische geleider over een spleet gedreven en de schok van de «slapper» op een springstof brengt een chemische ontploffing op gang. Bij sommige constructies wordt de «slapper» door een magnetisch veld gestart. Met de uitdrukking «exploding foil»-detonator worden zowel EB-detonators als «slapper»-detonators bedoeld. Verder wordt soms het woord ‧ontsteking‧ gebruikt in plaats van het woord detonator.

3A233Massaspectrometers, anders dan vermeld in 0B002.g, die ionen met een massa van 230 atomaire massa eenheden (a.m.e.) of meer kunnen meten en die een oplossend vermogen hebben dat beter is dan 2 a.m.e. op 230 a.m.e., en ionenbronnen hiervoor, als hieronder:

| a. | inductief gekoppelde plasmamassaspectrometers (ICP/MS); |
| --- | --- |

a.

inductief gekoppelde plasmamassaspectrometers (ICP/MS);

| b. | massaspectrometers werkend door middel van een gloeiontlading (GDMS); |
| --- | --- |

b.

massaspectrometers werkend door middel van een gloeiontlading (GDMS);

| c. | massaspectrometers werkend door middel van thermische ionisatie (TIMS); |
| --- | --- |

c.

massaspectrometers werkend door middel van thermische ionisatie (TIMS);

| d. | massaspectrometers werkend door middel van elektronenbeschieting, met een bronkamer vervaardigd van of bedekt met een materiaal dat bestand is tegen UF6; |
| --- | --- |

d.

massaspectrometers werkend door middel van elektronenbeschieting, met een bronkamer vervaardigd van of bedekt met een materiaal dat bestand is tegen UF6;

| e. | massaspectrometers werkend met een molecuulbundel, met één van de volgende kenmerken:






  1. | een bronkamer vervaardigd van of bedekt met roestvrij staal of molybdeen en uitgerust met een koelval die tot 193 K (– 80 °C) of lager kan worden afgekoeld, of |
| --- | --- | --- |

e.

massaspectrometers werkend met een molecuulbundel, met één van de volgende kenmerken:

1.

een bronkamer vervaardigd van of bedekt met roestvrij staal of molybdeen en uitgerust met een koelval die tot 193 K (– 80 °C) of lager kan worden afgekoeld, of

| 2. | een bronkamer vervaardigd van of bedekt met materiaal dat bestand is tegen UF6, of |
| --- | --- |

2.

een bronkamer vervaardigd van of bedekt met materiaal dat bestand is tegen UF6, of

| f. | massaspectrometers werkend met een microfluoreer-ionenbron ontworpen voor actiniden of actinidefluoriden. |
| --- | --- |

f.

massaspectrometers werkend met een microfluoreer-ionenbron ontworpen voor actiniden of actinidefluoriden.

3BTest-, inspectie- en productieapparatuur

3B001Productieapparatuur voor halfgeleiderelementen of -materialen, als hieronder, en speciaal ontworpen onderdelen en toebehoren daarvoor:

| a. | Apparatuur voor epitaxiale groei, als hieronder:






  1. | geschikt om een laag van een ander materiaal dan silicium met een laagdikte-uniformiteit beter dan ± 2,5 % over een afstand van 75 mm of meer te produceren; |
| --- | --- | --- |

a.

Apparatuur voor epitaxiale groei, als hieronder:

1.

geschikt om een laag van een ander materiaal dan silicium met een laagdikte-uniformiteit beter dan ± 2,5 % over een afstand van 75 mm of meer te produceren;

| 2. | reactoren voor het chemisch neerslaan van organometaaldamp (MOCVD), speciaal ontworpen voor kristalgroei van samengestelde halfgeleiderverbindingen door de chemische reactie tussen materialen bedoeld in 3C003 of 3C004; |
| --- | --- |

2.

reactoren voor het chemisch neerslaan van organometaaldamp (MOCVD), speciaal ontworpen voor kristalgroei van samengestelde halfgeleiderverbindingen door de chemische reactie tussen materialen bedoeld in 3C003 of 3C004;

| 3. | apparatuur voor het opbrengen van epitaxiale lagen door middel van moleculaire bundels met gebruik van gasvormige of vaste bronnen; |
| --- | --- |

3.

apparatuur voor het opbrengen van epitaxiale lagen door middel van moleculaire bundels met gebruik van gasvormige of vaste bronnen;

| b. | Apparatuur ontworpen voor ionenimplantatie, met een of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een stralingsenergie (versnellingsspanning) van meer dan 1 MeV; |
| --- | --- | --- |

b.

Apparatuur ontworpen voor ionenimplantatie, met een of meer van de volgende kenmerken:

1.

een stralingsenergie (versnellingsspanning) van meer dan 1 MeV;

| 2. | speciaal ontworpen voor optimale werking met een stralingsenergie (versnellingsspanning) van minder dan 2 keV; |
| --- | --- |

2.

speciaal ontworpen voor optimale werking met een stralingsenergie (versnellingsspanning) van minder dan 2 keV;

| 3. | geschikt voor direct schrijven; of |
| --- | --- |

3.

geschikt voor direct schrijven; of

| 4. | een stralingsenergie van 65 keV of meer en een bundelstroomsterkte van 45 mA of meer om met hoge energie zuurstof te implanteren in een verwarmd "substraat" bestaande uit halfgeleidermateriaal; |
| --- | --- |

4.

een stralingsenergie van 65 keV of meer en een bundelstroomsterkte van 45 mA of meer om met hoge energie zuurstof te implanteren in een verwarmd "substraat" bestaande uit halfgeleidermateriaal;

| c. | Apparatuur voor het etsen door middel van anisotrope droge methoden (met plasma), als hieronder:






  1. | met een «cassette-to-cassette» en «load-lock»-«wafer»transportsysteem en met een van beide volgende kenmerken:






  a. | ontworpen of geoptimaliseerd om kritische afmetingen te produceren van 180 nm of minder met een precisie van ± 5 % 3 sigma; of |
| --- | --- | --- | --- |

c.

Apparatuur voor het etsen door middel van anisotrope droge methoden (met plasma), als hieronder:

1.

met een «cassette-to-cassette» en «load-lock»-«wafer»transportsysteem en met een van beide volgende kenmerken:

a.

ontworpen of geoptimaliseerd om kritische afmetingen te produceren van 180 nm of minder met een precisie van ± 5 % 3 sigma; of

| b. | ontworpen voor het voortbrengen van minder dan 0,04 deeltjes/cm2 met een meetbare deeltjesgrootte van meer dan 0,1 micrometer in doorsnede; |
| --- | --- |

b.

ontworpen voor het voortbrengen van minder dan 0,04 deeltjes/cm2 met een meetbare deeltjesgrootte van meer dan 0,1 micrometer in doorsnede;

| 2. | speciaal ontworpen voor apparatuur bedoeld in 3B001.e en met een van beide volgende kenmerken:






  a. | ontworpen of geoptimaliseerd om kritische afmetingen te produceren van 180 nm of minder met een precisie van ± 5 % 3 sigma; of |
| --- | --- | --- |

2.

speciaal ontworpen voor apparatuur bedoeld in 3B001.e en met een van beide volgende kenmerken:

a.

ontworpen of geoptimaliseerd om kritische afmetingen te produceren van 180 nm of minder met een precisie van ± 5 % 3 sigma; of

| b. | ontworpen voor het voortbrengen van minder dan 0,04 deeltjes/cm2 met een meetbare deeltjesgrootte van meer dan 0,1 micrometer in doorsnede; |
| --- | --- |

b.

ontworpen voor het voortbrengen van minder dan 0,04 deeltjes/cm2 met een meetbare deeltjesgrootte van meer dan 0,1 micrometer in doorsnede;

| d. | Apparatuur voor het met plasma versterkt chemisch neerslaan uit de dampfase (PECVD), als hieronder:






  1. | met een «cassette-to-cassette» en «load-lock»-«wafer»transportsysteem ontworpen volgens de specificaties van de fabrikant of geoptimaliseerd om te worden gebruikt voor het produceren van halfgeleiderelementen met kritische afmetingen van 180 nm of minder; |
| --- | --- | --- |

d.

Apparatuur voor het met plasma versterkt chemisch neerslaan uit de dampfase (PECVD), als hieronder:

1.

met een «cassette-to-cassette» en «load-lock»-«wafer»transportsysteem ontworpen volgens de specificaties van de fabrikant of geoptimaliseerd om te worden gebruikt voor het produceren van halfgeleiderelementen met kritische afmetingen van 180 nm of minder;

| 2. | speciaal ontworpen voor apparatuur bedoeld in 3B001.e en ontworpen volgens de specificaties van de fabrikant of geoptimaliseerd om te worden gebruikt voor het produceren van halfgeleiderelementen met kritische afmetingen van 180 nm of minder |
| --- | --- |

2.

speciaal ontworpen voor apparatuur bedoeld in 3B001.e en ontworpen volgens de specificaties van de fabrikant of geoptimaliseerd om te worden gebruikt voor het produceren van halfgeleiderelementen met kritische afmetingen van 180 nm of minder

| e. | Centrale «wafer»transportsystemen met meerdere kamers, voor het automatisch laden van de wafers en met:






  1. | interfaces voor de in- en uitvoer van de «wafers», waaraan meer dan twee halfgeleiderbewerkingsapparaten zullen worden aangesloten, en |
| --- | --- | --- |

e.

Centrale «wafer»transportsystemen met meerdere kamers, voor het automatisch laden van de wafers en met:

1.

interfaces voor de in- en uitvoer van de «wafers», waaraan meer dan twee halfgeleiderbewerkingsapparaten zullen worden aangesloten, en

| 2. | ontworpen ter vorming van een geïntegreerd systeem in een vacuümomgeving voor stapsgewijze bewerking van verscheidene «wafers» tegelijk; |
| --- | --- |

2.

ontworpen ter vorming van een geïntegreerd systeem in een vacuümomgeving voor stapsgewijze bewerking van verscheidene «wafers» tegelijk;

Noot: In 3B001.e worden niet bedoeld robotachtige automatische wafertransportsystemen die niet zijn ontworpen om te werken in een vacuümomgeving.

| f. | Lithografische apparatuur, als hieronder:






  1. | repeteerapparatuur («step and repeat» («direct step on wafer») apparatuur of «step and scan» (scanner) apparatuur) voor uitrichten en belichten ten behoeve van het bewerken van wafers, waarbij gebruik wordt gemaakt van foto-optische of röntgenmethoden, met één of beide van de volgende kenmerken:






  a. | golflengte van de lichtbron korter dan 245 nm; of |
| --- | --- | --- | --- |

f.

Lithografische apparatuur, als hieronder:

1.

repeteerapparatuur («step and repeat» («direct step on wafer») apparatuur of «step and scan» (scanner) apparatuur) voor uitrichten en belichten ten behoeve van het bewerken van wafers, waarbij gebruik wordt gemaakt van foto-optische of röntgenmethoden, met één of beide van de volgende kenmerken:

a.

golflengte van de lichtbron korter dan 245 nm; of

| b. | in staat om patronen te produceren met een MRF (‧minimum resolvable feature size‧) van 180 nm of minder;
  Technische noot:

  De ‧minimum resolvable feature‧ size wordt berekend volgens de volgende formule:





  waarbij de K factor = 0,45


  MRF = minimum resolvable feature size; |
| --- | --- |

b.

in staat om patronen te produceren met een MRF (‧minimum resolvable feature size‧) van 180 nm of minder;

Technische noot:

De ‧minimum resolvable feature‧ size wordt berekend volgens de volgende formule:

Formula

waarbij de K factor = 0,45

MRF = minimum resolvable feature size;

| 2. | apparatuur die speciaal is ontworpen voor het vervaardigen van maskers of het bewerken van halfgeleiderelementen en die gebruik maken van afgebogen en gefocusseerde elektronen-, ionen- of ‧laser‧-bundels, met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | met een brandpuntsvlak kleiner dan 0,2 micrometer; |
| --- | --- | --- |

2.

apparatuur die speciaal is ontworpen voor het vervaardigen van maskers of het bewerken van halfgeleiderelementen en die gebruik maken van afgebogen en gefocusseerde elektronen-, ionen- of ‧laser‧-bundels, met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

met een brandpuntsvlak kleiner dan 0,2 micrometer;

| b. | geschikt voor het maken van patroonelementen kleiner dan 1 micrometer; of |
| --- | --- |

b.

geschikt voor het maken van patroonelementen kleiner dan 1 micrometer; of

| c. | overlay-nauwkeurigheid beter dan 0,20 micrometer (3 sigma); |
| --- | --- |

c.

overlay-nauwkeurigheid beter dan 0,20 micrometer (3 sigma);

| g. | maskers of fijne optische netwerken («reticles») voor geïntegreerde schakelingen, vermeld in 3A001; |
| --- | --- |

g.

maskers of fijne optische netwerken («reticles») voor geïntegreerde schakelingen, vermeld in 3A001;

| h. | maskers bestaande uit verscheidene lagen met een faseverschuivingslaag.


  Noot: In 3B001.h zijn niet bedoeld maskers bestaande uit verscheidene lagen met een faseverschuivingslaag die ontworpen zijn voor de fabricage van geheugenmedia die niet onder 3AB001 vallen. |
| --- | --- |

h.

maskers bestaande uit verscheidene lagen met een faseverschuivingslaag.

Noot: In 3B001.h zijn niet bedoeld maskers bestaande uit verscheidene lagen met een faseverschuivingslaag die ontworpen zijn voor de fabricage van geheugenmedia die niet onder 3AB001 vallen.

3B002Testapparatuur, speciaal ontworpen voor het testen van afgewerkte of halfafgewerkte halfgeleiderelementen, als hieronder, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen en toebehoren:

| a. | voor het testen van S-parameters van transistorelementen bij frequenties hoger dan 31,8 GHz; |
| --- | --- |

a.

voor het testen van S-parameters van transistorelementen bij frequenties hoger dan 31,8 GHz;

| b. | niet gebruikt; |
| --- | --- |

b.

niet gebruikt;

| c. | voor het testen van in 3A001.b.2 vermelde geïntegreerde schakelingen voor microgolven; |
| --- | --- |

c.

voor het testen van in 3A001.b.2 vermelde geïntegreerde schakelingen voor microgolven;

3CMaterialen

3C001Hetero-epitaxiale materialen bestaande uit een "substraat" met verscheidene gestapelde epitaxiaal gegroeide lagen van:

| a. | silicium; |
| --- | --- |

a.

silicium;

| b. | germanium; |
| --- | --- |

b.

germanium;

| c. | siliciumcarbide; of |
| --- | --- |

c.

siliciumcarbide; of

| d. | III/V gallium- of indiumverbindingen.
  Technische noot:

  III/V-verbindingen zijn polykristallijne, binaire of complexe monokristallijne producten bestaande uit elementen uit de groepen IIIA en VA van het periodieke systeem van Mendelejev (galliumarsenide, gallium-aluminiumarsenide, indiumfosfide, enz.). |
| --- | --- |

d.

III/V gallium- of indiumverbindingen.

Technische noot:

III/V-verbindingen zijn polykristallijne, binaire of complexe monokristallijne producten bestaande uit elementen uit de groepen IIIA en VA van het periodieke systeem van Mendelejev (galliumarsenide, gallium-aluminiumarsenide, indiumfosfide, enz.).

3C002«Resists» (gevoelige lagen), als hieronder, en "substraten" bekleed met aan vergunningsplicht onderworpen «resists»:

| a. | positieve «resists» ontworpen voor halfgeleiderlithografie, die optimaal geschikt zijn gemaakt voor gebruik bij golflengten van minder dan 350 nm; |
| --- | --- |

a.

positieve «resists» ontworpen voor halfgeleiderlithografie, die optimaal geschikt zijn gemaakt voor gebruik bij golflengten van minder dan 350 nm;

| b. | alle «resists» ontworpen voor gebruik met elektronen- of ionenbundels met een gevoeligheid van 0,01 microcoulomb/mm2 of beter; |
| --- | --- |

b.

alle «resists» ontworpen voor gebruik met elektronen- of ionenbundels met een gevoeligheid van 0,01 microcoulomb/mm2 of beter;

| c. | alle «resists» ontworpen voor gebruik met röntgenstralen met een gevoeligheid van 2,5 mJ/mm2 of beter; |
| --- | --- |

c.

alle «resists» ontworpen voor gebruik met röntgenstralen met een gevoeligheid van 2,5 mJ/mm2 of beter;

| d. | alle «resists» die optimaal geschikt zijn gemaakt voor beeldvorming aan het oppervlak, met inbegrip van ‧gesilyleerde‧ resists.
  Technische noot:

  ‧Silyleer‧technieken zijn procédés waarbij het oppervlak van de «resists» wordt geoxideerd ter verhoging van de kwaliteit bij zowel natte als droge ontwikkeling. |
| --- | --- |

d.

alle «resists» die optimaal geschikt zijn gemaakt voor beeldvorming aan het oppervlak, met inbegrip van ‧gesilyleerde‧ resists.

Technische noot:

‧Silyleer‧technieken zijn procédés waarbij het oppervlak van de «resists» wordt geoxideerd ter verhoging van de kwaliteit bij zowel natte als droge ontwikkeling.

3C003Organisch-anorganische verbindingen, als hieronder:

| a. | organische metaalverbindingen van aluminium, gallium of indium met een zuiverheidsgraad (op metaalbasis) hoger dan 99,999 %; |
| --- | --- |

a.

organische metaalverbindingen van aluminium, gallium of indium met een zuiverheidsgraad (op metaalbasis) hoger dan 99,999 %;

| b. | organische arseen-, antimoon- en fosforverbindingen met een zuiverheidsgraad (op basis van de anorganische elementen) hoger dan 99,999 %. |
| --- | --- |

b.

organische arseen-, antimoon- en fosforverbindingen met een zuiverheidsgraad (op basis van de anorganische elementen) hoger dan 99,999 %.

Noot: In 3C003 worden alleen bedoeld verbindingen waarvan het metallische, deels metallische of niet-metallische element direct gekoppeld is aan koolstof in het organische deel van het molecuul.

3C004Hydriden van fosfor, arseen of antimoon, met een zuiverheid hoger dan 99,999 %, zelfs bij verdunning in edelgassen of waterstof.

Noot: In 3C004 zijn niet bedoeld hydriden die 20 mol % of meer edelgassen of waterstof bevatten.

3DProgrammatuur

3D001"Programmatuur" ("software"), speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" of de "productie" van apparatuur, vermeld in 3A001.b t/m 3A002.g of in 3B.

3D002"Programmatuur", speciaal ontworpen voor het "gebruik" van een van de volgende:

| a. | apparatuur vermeld in 3B001.a tot en met f; of |
| --- | --- |

a.

apparatuur vermeld in 3B001.a tot en met f; of

| b. | apparatuur vermeld in 3B002. |
| --- | --- |

b.

apparatuur vermeld in 3B002.

3D003Op fysische elementen gebaseerde simulatieprogrammatuur, speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" van lithografische, ets- of opdampingsprocédés voor het omzetten van maskerpatronen in specifieke topografische patronen in geleiders en diëlektrische of halfgeleidermaterialen.

Technische noot:

In 3D003 betekent "op fysische elementen gebaseerde" het gebruik maken van berekeningen om een fysische oorzaak-en-gevolg-keten te berekenen op basis van fysische grootheden (bv. temperatuur, druk, diffusieconstanten en eigenschappen van halfgeleidermaterialen).

Noot: Bibliotheken, ontwerpmodellen of daarmee samenhangende gegevens voor het ontwerpen van halfgeleiderelementen of geïntegreerde schakelingen worden beschouwd als "technologie".

3D004"Programmatuur", speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" van apparatuur als vermeld in 3A003.

3D101"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor het "gebruik" van apparatuur als vermeld in 3A101.b.

3ETechnologie

3E001"Technologie" volgens de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" of "productie" van apparatuur of materialen, vermeld in 3A, 3B of 3C;

Noot 1: In 3E001 wordt niet bedoeld "technologie" voor de "productie" van apparatuur of onderdelen die onder 3A003 vallen.

Noot 2: In 3E001 wordt niet bedoeld "technologie" voor de "ontwikkeling" of de "productie" van geïntegreerde schakelingen bedoeld in 3A001.a.3 t/m 3A001.a.12, met beide volgende kenmerken:

| 1. | er wordt gebruik gemaakt van technologie van 0,5 micrometer of meer, en |
| --- | --- |

1.

er wordt gebruik gemaakt van technologie van 0,5 micrometer of meer, en

| 2. | bevat geen ‧meerlagenstructuur‧. |
| --- | --- |

2.

bevat geen ‧meerlagenstructuur‧.

Technische noot:

De term ‧meerlagenstructuur‧ omvat niet elementen met maximaal drie metaallagen en drie lagen van polysilicium.

3E002"Technologie" volgens de algemene technologienoot, anders dan vermeld in 3E001, voor de "ontwikkeling" of de "productie" van "microprocessormicroschakelingen", "microcomputermicroschakelingen" en microbesturingmicroschakelingen met een "totale theoretische prestatie" (CTP) van 530 miljoen theoretische bewerkingen per seconde (Mtops) of meer en een logische rekeneenheid (ALU) met een toegangsbereik van 32 bit of meer.

Noot: Noot 2 betreffende de vrijstellingen bij 3E001 geldt eveneens voor 3E002.

3E003Andere "technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van:

| a. | micro-elektronische vacuümelementen; |
| --- | --- |

a.

micro-elektronische vacuümelementen;

| b. | halfgeleiderelementen met een heterostructuur, zoals transistors met hoge elektronenmobiliteit (HEMT), hetero bipolaire transistors (HBT), elementen met een quantumval of superrooster;


  Noot: In 3E003.b is niet bedoeld technologie voor hoge-elektronenmobiliteittransistoren (HEMT) werkende bij frequenties van minder dan 31,8 GHz en hetero-junction bipolaire transistoren (HBT) werkende bij frequenties van minder dan 31,8 GHz., |
| --- | --- |

b.

halfgeleiderelementen met een heterostructuur, zoals transistors met hoge elektronenmobiliteit (HEMT), hetero bipolaire transistors (HBT), elementen met een quantumval of superrooster;

Noot: In 3E003.b is niet bedoeld technologie voor hoge-elektronenmobiliteittransistoren (HEMT) werkende bij frequenties van minder dan 31,8 GHz en hetero-junction bipolaire transistoren (HBT) werkende bij frequenties van minder dan 31,8 GHz.,

| c. | "supergeleidende" elektronische elementen; |
| --- | --- |

c.

"supergeleidende" elektronische elementen;

| d. | substraten van diamantfilm voor elektronische componenten; |
| --- | --- |

d.

substraten van diamantfilm voor elektronische componenten;

| e. | SOI (silicon-on-insulator)-substraten voor geïntegreerde schakelingen met siliciumdioxide als isolator; |
| --- | --- |

e.

SOI (silicon-on-insulator)-substraten voor geïntegreerde schakelingen met siliciumdioxide als isolator;

| f. | substraten van siliciumcarbide voor elektronische onderdelen; |
| --- | --- |

f.

substraten van siliciumcarbide voor elektronische onderdelen;

| g. | elektronische vacuümbuizen werkende bij frequenties van 31,8 GHz of hoger. |
| --- | --- |

g.

elektronische vacuümbuizen werkende bij frequenties van 31,8 GHz of hoger.

3E101"Technologie" volgens de algemene technologienoot voor het "gebruik" van apparatuur of "programmatuur", vermeld in 3A001.a.1 of 2, 3A101 of 3D101.

3E102"Technologie" volgens de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" van "programmatuur", vermeld in 3D101.

3E201"Technologie" volgens de algemene technologienoot voor het "gebruik" van apparatuur, vermeld in 3A001.e.2, 3A001.e.3, 3A201, 3A225 t/m 3A233.

CATEGORIE 4

COMPUTERS

Noot 1: Computers, aanverwante apparatuur of "programmatuur" die telecommunicatie- of "lokaal netwerk-" functies verrichten, dienen tevens te worden getoetst aan de criteria van categorie 5, deel 1 (Telecommunicatie).

Noot 2: Besturingseenheden die zorgen voor de directe onderlinge verbinding van de hoofdlijnen of kanalen van de centrale verwerkingseenheden, het "werkgeheugen" en de schijvenbesturingseenheden worden niet beschouwd als telecommunicatieapparatuur als omschreven in categorie 5, deel 1 (Telecommunicatie).

NB: Zie 5D001 voor de embargostatus van "programmatuur" die speciaal is ontworpen voor pakketschakelen.

Noot 3: Computers, aanverwante apparatuur of "programmatuur" die cryptografische of cryptoanalytische functies verrichten of certificeerbare veiligheid op verscheidene niveaus of certificeerbare gebruikersisolatie verschaffen, of die de elektromagnetische compatibiliteit (EMC) beperken, dienen tevens te worden getoetst aan de criteria van categorie 5, deel 2 (Informatiebeveiliging).

4ASystemen, apparatuur en onderdelen

4A001Elektronische computers en aanverwante apparatuur, als hieronder, en "samenstellingen" en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

NB: ZIE OOK 4A101

| a. | speciaal ontworpen voor één van beide volgende kenmerken:






  1. | gespecificeerd voor werktemperaturen lager dan 228 K (– 45 °C) of hoger dan 358 K (85 °C);


  Noot: 4A001.a.1 is niet van toepassing op computers die speciaal zijn ontworpen voor toepassingen in civiele automobielen of treinen. |
| --- | --- | --- |

a.

speciaal ontworpen voor één van beide volgende kenmerken:

1.

gespecificeerd voor werktemperaturen lager dan 228 K (– 45 °C) of hoger dan 358 K (85 °C);

Noot: 4A001.a.1 is niet van toepassing op computers die speciaal zijn ontworpen voor toepassingen in civiele automobielen of treinen.

| 2. | de stralingsbestendigheid overschrijdt één of meer van de volgende specificaties:







  a. | totale dosis | 5 × 103 Gy (silicium); |
| --- | --- | --- | --- |
| b. | storing bij dosistempo | 5 × 106 Gy (silicium)/sec; of |
| c. | storing éénmalige gebeurtenis | 1 × 10-7 fout/bit/dag; |

2.

de stralingsbestendigheid overschrijdt één of meer van de volgende specificaties:

a.

totale dosis

5 × 103 Gy (silicium);

b.

storing bij dosistempo

5 × 106 Gy (silicium)/sec; of

c.

storing éénmalige gebeurtenis

1 × 10-7 fout/bit/dag;

| b. | met kenmerken of functies die de limieten van categorie 5, deel 2 (Informatiebeveiliging) te boven gaan.


  Noot: In 4A001.b zijn niet bedoeld elektronische computers en aanverwante apparatuur wanneer zij voor persoonlijk gebruik bestemd zijn en door de gebruiker worden meegevoerd. |
| --- | --- |

b.

met kenmerken of functies die de limieten van categorie 5, deel 2 (Informatiebeveiliging) te boven gaan.

Noot: In 4A001.b zijn niet bedoeld elektronische computers en aanverwante apparatuur wanneer zij voor persoonlijk gebruik bestemd zijn en door de gebruiker worden meegevoerd.

4A003"Digitale computers", "samenstellingen" en aanverwante apparatuur daarvoor, zoals hieronder vermeld, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

Noot 1: In 4A003 zijn mede bedoeld:

| a. | vectorprocessoren, |
| --- | --- |

a.

vectorprocessoren,

| b. | «array»-processoren, |
| --- | --- |

b.

«array»-processoren,

| c. | digitale signaalprocessoren, |
| --- | --- |

c.

digitale signaalprocessoren,

| d. | logische processoren, |
| --- | --- |

d.

logische processoren,

| e. | apparatuur voor "beeldverbetering", |
| --- | --- |

e.

apparatuur voor "beeldverbetering",

| f. | apparatuur voor "signaalverwerking". |
| --- | --- |

f.

apparatuur voor "signaalverwerking".

Noot 2: De embargostatus van de in 4A003 omschreven "digitale computers" of aanverwante apparatuur wordt bepaald door de embargostatus van andere apparatuur of systemen, mits:

| a. | de "digitale computers" of aanverwante apparatuur essentieel zijn voor de werking van de andere apparatuur of systemen; |
| --- | --- |

a.

de "digitale computers" of aanverwante apparatuur essentieel zijn voor de werking van de andere apparatuur of systemen;

| b. | de "digitale computers" of de aanverwante apparatuur niet een "voornaamste deel" van de andere apparatuur of systemen vormen; en




  NB 1: De embargostatus van apparatuur voor "signaalverwerking" of "beeldverbetering" speciaal ontworpen voor andere apparatuur, waarvan de functies beperkt zijn tot die welke noodzakelijk zijn voor die andere apparatuur, wordt bepaald door de embargostatus van die andere apparatuur, ook indien het criterium betreffende het "voornaamste deel" wordt overschreden.



  NB 2: Zie categorie 5 (Deel 1 — Telecommunicatie) voor de embargostatus van "digitale computers" of aanverwante apparatuur voor telecommunicatieuitrusting. |
| --- | --- |

b.

de "digitale computers" of de aanverwante apparatuur niet een "voornaamste deel" van de andere apparatuur of systemen vormen; en

NB 1: De embargostatus van apparatuur voor "signaalverwerking" of "beeldverbetering" speciaal ontworpen voor andere apparatuur, waarvan de functies beperkt zijn tot die welke noodzakelijk zijn voor die andere apparatuur, wordt bepaald door de embargostatus van die andere apparatuur, ook indien het criterium betreffende het "voornaamste deel" wordt overschreden.

NB 2: Zie categorie 5 (Deel 1 — Telecommunicatie) voor de embargostatus van "digitale computers" of aanverwante apparatuur voor telecommunicatieuitrusting.

| c. | de "technologie" voor de "digitale computers" en aanverwante apparatuur wordt bepaald door 4E. |
| --- | --- |

c.

de "technologie" voor de "digitale computers" en aanverwante apparatuur wordt bepaald door 4E.

| a. | ontworpen of aangepast voor "storingstolerantie";


  Noot:"Digitale computers" en aanverwante apparatuur als bedoeld in 4A003.a zijn niet ontworpen of aangepast voor "storingstolerantie" als zij gebruik maken van één of meer van de volgende voorzieningen:








  1. | in het "werkgeheugen" opgeslagen algoritmen voor het opsporen of corrigeren van storingen; |
| --- | --- | --- |

a.

ontworpen of aangepast voor "storingstolerantie";

Noot:"Digitale computers" en aanverwante apparatuur als bedoeld in 4A003.a zijn niet ontworpen of aangepast voor "storingstolerantie" als zij gebruik maken van één of meer van de volgende voorzieningen:

1.

in het "werkgeheugen" opgeslagen algoritmen voor het opsporen of corrigeren van storingen;

| 2. | de koppeling van twee "digitale computers", zodanig dat, als de actieve centrale verwerkingseenheid uitvalt, een niet actieve maar identieke centrale verwerkingseenheid het functioneren van het systeem kan voortzetten; |
| --- | --- |

2.

de koppeling van twee "digitale computers", zodanig dat, als de actieve centrale verwerkingseenheid uitvalt, een niet actieve maar identieke centrale verwerkingseenheid het functioneren van het systeem kan voortzetten;

| 3. | de koppeling van twee centrale verwerkingseenheden met behulp van gegevenskanalen of door middel van een gemeenschappelijk geheugen, zodanig dat één centrale verwerkingseenheid ander werk kan verrichten totdat de tweede centrale verwerkingseenheid uitvalt, op welk moment de eerste centrale verwerkingseenheid het werk overneemt teneinde het functioneren van het systeem voort te zetten; of |
| --- | --- |

3.

de koppeling van twee centrale verwerkingseenheden met behulp van gegevenskanalen of door middel van een gemeenschappelijk geheugen, zodanig dat één centrale verwerkingseenheid ander werk kan verrichten totdat de tweede centrale verwerkingseenheid uitvalt, op welk moment de eerste centrale verwerkingseenheid het werk overneemt teneinde het functioneren van het systeem voort te zetten; of

| 4. | de synchronisatie van twee centrale verwerkingseenheden met behulp van "programmatuur", zodanig dat de ene centrale verwerkingseenheid merkt wanneer de andere uitvalt en meteen taken van de uitgevallen eenheid overneemt. |
| --- | --- |

4.

de synchronisatie van twee centrale verwerkingseenheden met behulp van "programmatuur", zodanig dat de ene centrale verwerkingseenheid merkt wanneer de andere uitvalt en meteen taken van de uitgevallen eenheid overneemt.

| b. | "digitale computers" met een aangepast piekvermogen ("APP: Adjusted Peak Performance") van meer dan 0,75 gewogen TeraFLOPS (WT); |
| --- | --- |

b.

"digitale computers" met een aangepast piekvermogen ("APP: Adjusted Peak Performance") van meer dan 0,75 gewogen TeraFLOPS (WT);

| c. | "samenstellingen", speciaal ontworpen of aangepast voor verhoging van de prestaties door samenvoeging van processoren, zodat de "APP" van de samengevoegde processoren de limiet van 4A003.b overschrijdt;


  Noot 1: 4A003.c is uitsluitend van toepassing op "samenstellingen" en programmeerbare onderlinge verbindingen die de limieten van 4A003.b niet te boven gaan, wanneer deze als niet-geïntegreerde "samenstellingen" worden geëxporteerd. 4A003.c is niet van toepassing op "samenstellingen" die van zichzelf door de aard van hun ontwerp beperkt zijn tot gebruik als aanverwante apparatuur, vermeld in 4A003.e.



  Noot 2: Niet bedoeld zijn in 4A003.d "samenstellingen", speciaal ontworpen voor een product of groep van producten waarvan de maximale configuratie de limiet van 4A003.b niet te boven gaat. |
| --- | --- |

c.

"samenstellingen", speciaal ontworpen of aangepast voor verhoging van de prestaties door samenvoeging van processoren, zodat de "APP" van de samengevoegde processoren de limiet van 4A003.b overschrijdt;

Noot 1: 4A003.c is uitsluitend van toepassing op "samenstellingen" en programmeerbare onderlinge verbindingen die de limieten van 4A003.b niet te boven gaan, wanneer deze als niet-geïntegreerde "samenstellingen" worden geëxporteerd. 4A003.c is niet van toepassing op "samenstellingen" die van zichzelf door de aard van hun ontwerp beperkt zijn tot gebruik als aanverwante apparatuur, vermeld in 4A003.e.

Noot 2: Niet bedoeld zijn in 4A003.d "samenstellingen", speciaal ontworpen voor een product of groep van producten waarvan de maximale configuratie de limiet van 4A003.b niet te boven gaat.

| d. | niet gebruikt; |
| --- | --- |

d.

niet gebruikt;

| e. | apparatuur die analoog-naar-digitaal-omzettingen kan uitvoeren en de limieten van 3A001.a.5 te boven gaat; |
| --- | --- |

e.

apparatuur die analoog-naar-digitaal-omzettingen kan uitvoeren en de limieten van 3A001.a.5 te boven gaat;

| f. | niet gebruikt; |
| --- | --- |

f.

niet gebruikt;

| g. | apparatuur, speciaal ontworpen voor het extern onderling verbinden van "digitale computers" of aanverwante apparatuur, welke communicatie met een gegevenssnelheid groter dan 1,25 Gbyte/s mogelijk maakt.


  Noot: In 4A003.g worden niet bedoeld interne onderlinge verbindingen (zoals «backplanes», «buses»), passieve onderlinge verbindingen, "netwerktoegangsbesturingseenheden" of communicatiekanaalbesturingseenheden. |
| --- | --- |

g.

apparatuur, speciaal ontworpen voor het extern onderling verbinden van "digitale computers" of aanverwante apparatuur, welke communicatie met een gegevenssnelheid groter dan 1,25 Gbyte/s mogelijk maakt.

Noot: In 4A003.g worden niet bedoeld interne onderlinge verbindingen (zoals «backplanes», «buses»), passieve onderlinge verbindingen, "netwerktoegangsbesturingseenheden" of communicatiekanaalbesturingseenheden.

4A004Computers, als hieronder, en speciaal daarvoor ontworpen aanverwante apparatuur, "samenstellingen" en onderdelen:

| a. | "«systolic array»-computers"; |
| --- | --- |

a.

"«systolic array»-computers";

| b. | "neurale computers"; |
| --- | --- |

b.

"neurale computers";

| c. | "optische computers". |
| --- | --- |

c.

"optische computers".

4A101Analoge computers, "digitale computers" of digitale differentiaalanalysators, anders dan bedoeld in 4A001.a.1, geschikt voor ruw gebruik en ontworpen of aangepast voor gebruik in ruimtelanceervoertuigen, vermeld in 9A004, of sonderingsraketten, vermeld in 9A104.

4A102"Hybride computers", speciaal ontworpen voor het modelleren, simuleren of integreren van het ontwerp van ruimtelanceervoertuigen, vermeld in 9A004, of sonderingsraketten, vermeld in 9A104.

Noot: Deze post is alleen van toepassing als de apparatuur wordt geleverd met programmatuur, vermeld in 7D103 of 9D103.

4BTest-, inspectie- en productieapparatuur

Geen.

4CMaterialen

Geen.

4DProgrammatuur

Noot: De embargostatus van "programmatuur" voor de "ontwikkeling", de "productie", of het "gebruik" van apparatuur omschreven in andere categorieën, wordt in de desbetreffende categorie behandeld. De embargostatus van "programmatuur" voor apparatuur, omschreven in de onderhavige categorie, wordt hier behandeld.

| 4D001a. | "Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur, materialen of "programmatuur", vermeld in 4A001 t/m 4A004 of 4D. |
| --- | --- |

4D001a.

"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur, materialen of "programmatuur", vermeld in 4A001 t/m 4A004 of 4D.

| b. | Andere dan de onder 4D001a genoemde "programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling" of de "productie" van:






  1. | "digitale computers" met een aangepast piekvermogen ("APP") van meer dan 0,04 gewogen TeraFLOPS (WT), of |
| --- | --- | --- |

b.

Andere dan de onder 4D001a genoemde "programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling" of de "productie" van:

1.

"digitale computers" met een aangepast piekvermogen ("APP") van meer dan 0,04 gewogen TeraFLOPS (WT), of

| 2. | "samenstellingen", speciaal ontworpen of aangepast voor verhoging van de prestaties door samenvoeging van processoren zodat de "APP" van de samengevoegde processoren de limiet van 4D001.b.1 overschrijdt; |
| --- | --- |

2.

"samenstellingen", speciaal ontworpen of aangepast voor verhoging van de prestaties door samenvoeging van processoren zodat de "APP" van de samengevoegde processoren de limiet van 4D001.b.1 overschrijdt;

4D002"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor ondersteuning van "technologie", vermeld in 4E.

4D003Specifieke "programmatuur", als hieronder:

| a. | "programmatuur" voor bedrijfssystemen, ontwikkelingsinstrumenten voor "programmatuur" en compileerprogramma’s, speciaal ontworpen voor apparatuur voor "verwerking van meervoudige stromen van gegevens", in "broncode"; |
| --- | --- |

a.

"programmatuur" voor bedrijfssystemen, ontwikkelingsinstrumenten voor "programmatuur" en compileerprogramma’s, speciaal ontworpen voor apparatuur voor "verwerking van meervoudige stromen van gegevens", in "broncode";

| b. | niet gebruikt; |
| --- | --- |

b.

niet gebruikt;

| c. | "programmatuur" met kenmerken of functies die de limieten van categorie 5, deel 2 (Informatiebeveiliging) te boven gaan.


  Noot: In 4D003.c is niet bedoeld programmatuur wanneer zij voor persoonlijk gebruik bestemd is en door de gebruiker wordt meegevoerd. |
| --- | --- |

c.

"programmatuur" met kenmerken of functies die de limieten van categorie 5, deel 2 (Informatiebeveiliging) te boven gaan.

Noot: In 4D003.c is niet bedoeld programmatuur wanneer zij voor persoonlijk gebruik bestemd is en door de gebruiker wordt meegevoerd.

4ETechnologie

| 4E001a. | "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur, materialen of "programmatuur", vermeld in 4A of 4D. |
| --- | --- |

4E001a.

"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur, materialen of "programmatuur", vermeld in 4A of 4D.

| b. | Andere dan de onder 4E001a genoemde "technologie", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling" of de "productie" van:






  1. | "digitale computers" met een aangepast piekvermogen ("APP") van meer dan 0,04 TeraFLOPS (WT), of |
| --- | --- | --- |

b.

Andere dan de onder 4E001a genoemde "technologie", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling" of de "productie" van:

1.

"digitale computers" met een aangepast piekvermogen ("APP") van meer dan 0,04 TeraFLOPS (WT), of

| 2. | "samenstellingen", speciaal ontworpen of aangepast voor verhoging van de prestaties door samenvoeging van processoren zodat de "APP" van de samengevoegde processoren de limiet van 4E001.b.1 overschrijdt. |
| --- | --- |

2.

"samenstellingen", speciaal ontworpen of aangepast voor verhoging van de prestaties door samenvoeging van processoren zodat de "APP" van de samengevoegde processoren de limiet van 4E001.b.1 overschrijdt.

Technische noot betreffende de "totale theoretische prestatie"(composite theoretical performance (CTP))

Afkortingen in deze technische noot

| "CE" | «computing element» ("rekenelement" — doorgaans een rekenkundige logische eenheid) |
| --- | --- |
| FP | «Floating point» (drijvende komma) |
| XP | ‧fixed point‧ (vaste komma) |
| t | uitvoeringstijd |
| XOR | «exclusive OR» (exclusieve OF) |
| CPU | central processing unit' (centrale verwerkingseenheid) |
| TP | ‧theoretical performance‧ (theoretische prestatie van één enkel CE) |
| "CTP" | «composite theoretical performance» ("totale theoretische prestatie" van verscheidene CE’s) |
| R | ‧effective calculating rate‧ (effectieve rekensnelheid) |
| WL | woordlengte |
| L | compensatiefactor voor de woordlengte |
| * | vermenigvuldiging |

"CE"

«computing element» ("rekenelement" — doorgaans een rekenkundige logische eenheid)

FP

«Floating point» (drijvende komma)

XP

‧fixed point‧ (vaste komma)

t

uitvoeringstijd

XOR

«exclusive OR» (exclusieve OF)

CPU

central processing unit' (centrale verwerkingseenheid)

TP

‧theoretical performance‧ (theoretische prestatie van één enkel CE)

"CTP"

«composite theoretical performance» ("totale theoretische prestatie" van verscheidene CE’s)

R

‧effective calculating rate‧ (effectieve rekensnelheid)

WL

woordlengte

L

compensatiefactor voor de woordlengte

*

vermenigvuldiging

De uitvoeringstijd "t" wordt uitgedrukt in microseconden, TP en CTP worden uitgedrukt in miljoenen theoretische bewerkingen per seconde (Mtops) en WL wordt uitgedrukt in bits.

De berekening van CTP

CTP is een maat voor de rekenprestaties, uitgedrukt in Mtops. Om de CTP van een combinatie van CE’s te berekenen, worden de volgende drie stappen gevolgd:

| 1. | Bereken de effectieve rekensnelheid R voor elk CE; |
| --- | --- |

1.

Bereken de effectieve rekensnelheid R voor elk CE;

| 2. | Bepaal de theoretische prestatie (TP) voor elk CE door de compensatiefactor voor de woordlengte (L) in de effectieve rekensnelheid (R) te verrekenen; |
| --- | --- |

2.

Bepaal de theoretische prestatie (TP) voor elk CE door de compensatiefactor voor de woordlengte (L) in de effectieve rekensnelheid (R) te verrekenen;

| 3. | Combineer in het geval van meer dan één CE de TP’s tot een CTP voor de combinatie. |
| --- | --- |

3.

Combineer in het geval van meer dan één CE de TP’s tot een CTP voor de combinatie.

Hieronder worden deze stappen nader uiteengezet.

Noot 1: Voor combinaties van een aantal CE’s met zowel gemeenschappelijke als niet-gemeenschappelijke geheugensubsystemen vindt de berekening van CTP hiërarchisch plaats in twee stappen: eerst wordt de groep van CE’s met gemeenschappelijk geheugen samengevoegd, vervolgens wordt de CTP van de groepen berekend volgens de methode voor verscheidene CE’s die geen gemeenschappelijk geheugen hebben.

Noot 2: CE’s die zijn beperkt tot «input/output» en randapparatuurfuncties (bijvoorbeeld «disk drive», communicatie en «video display controllers») worden bij de berekening van CTP niet in aanmerking genomen.

TECHNISCHE NOOT BETREFFENDE DE "CTP"

In de onderstaande tabel wordt aangegeven hoe de effectieve rekensnelheid (R) voor elk rekenelement CE wordt berekend:

Stap 1: De effectieve rekensnelheid R

| Voor CE’s met daarin geïmplementeerd:


  Noot: Elk CE afzonderlijk behandelen | Effectieve rekensnelheid R |
| --- | --- |
| Alleen XP | als geen add (optellen) is geïmplementeerd dan:



  Als noch add noch multiply (vermenigvuldigen) is geïmplementeerd gebruik dan de snelste beschikbare rekenkundige bewerking als volgt:



  Zie noten X en Z |
| Alleen FP | ,


  Zie noten X en Y |
| Zowel FP als XP (R) | Bereken R xp, R fp |
| Voor eenvoudige logische processoren zonder de genoemde rekenkundige bewerkingen. | Waarin tlog de uitvoeringstijd van de XOR is, of voor logische apparatuur zonder de XOR-functie de snelste eenvoudige logische bewerking.
  Zie noten X en Z |
| Voor speciale logische processoren zonder de genoemde rekenkundige of logische bewerkingen. | R = R' × WL/64
  waarin R' het aantal resultaten per seconde is, WL het aantal bits waarop de logische bewerking plaatsvindt en 64 een factor om op een 64-bitbewerking te normeren. |

Voor CE’s met daarin geïmplementeerd:

Noot: Elk CE afzonderlijk behandelen

Effectieve rekensnelheid R

Alleen XP

Formula

als geen add (optellen) is geïmplementeerd dan:

Formula

Als noch add noch multiply (vermenigvuldigen) is geïmplementeerd gebruik dan de snelste beschikbare rekenkundige bewerking als volgt:

Formula

Zie noten X en Z

Alleen FP

Formula

Formula

Zie noten X en Y

Zowel FP als XP (R)

Bereken R xp, R fp

Voor eenvoudige logische processoren zonder de genoemde rekenkundige bewerkingen.

Formula

Waarin tlog de uitvoeringstijd van de XOR is, of voor logische apparatuur zonder de XOR-functie de snelste eenvoudige logische bewerking.

Zie noten X en Z

Voor speciale logische processoren zonder de genoemde rekenkundige of logische bewerkingen.

R = R' × WL/64

waarin R' het aantal resultaten per seconde is, WL het aantal bits waarop de logische bewerking plaatsvindt en 64 een factor om op een 64-bitbewerking te normeren.

Noot W: Voor een pijplijn CE die per klokcyclus, nadat de pijplijn vol is, maximaal één rekenkundige of logische bewerking kan uitvoeren, kan een pijplijnsnelheid worden bepaald. In dat geval wordt van de pijplijnsnelheid en de verwerkingssnelheid zonder pijplijn de hoogste waarde als effectieve rekensnelheid genomen.

Noot X: Voor CE’s die verscheidene bewerkingen van een bepaald type in één cyclus verrichten (bijvoorbeeld twee optellingen of twee identieke logische bewerkingen per cyclus), wordt de uitvoeringstijd t gegeven door:

Formula

CE’s die verschillende typen rekenkundige of logische bewerkingen in één machinecyclus verrichten, worden behandeld als verschillende afzonderlijke CE’s die gelijktijdig werken (bijvoorbeeld een CE dat een optelling en een vermenigvuldiging in één cyclus verricht, wordt behandeld als twee CE’s die respectievelijk één optelling in één cyclus en één vermenigvuldiging in één cyclus verrichten). Als een afzonderlijk CE zowel een scalaire functie als een vectorfunctie heeft, wordt de kortste uitvoeringstijd genomen.

Noot Y: Als in het CE geen «FP add» of «FP multiply» zijn geïmplementeerd maar het CE «FP divide» (delen) verricht:

Formula

Als in het CE «FP reciprocal» is geïmplementeerd, maar niet «FP add», «FP multiply» of «FP divide», dan:

Formula

Als geen van de genoemde instructies is geïmplementeerd, is de effectieve FP-snelheid 0.

Noot Z: In eenvoudige logische bewerkingen wordt door één instructie één enkele logische manipulatie met ten hoogste twee operanden met gegeven lengte verricht. In complexe logische bewerkingen wordt door één instructie een aantal logische manipulaties verricht om met twee of meer operanden een of meer resultaten te verkrijgen.

Voor alle ondersteunde operandlengtes dienen de snelheden te worden berekend voor zowel pijplijn- (indien ondersteund) als niet-pijplijnbewerkingen, waarbij wordt uitgegaan van de snelste uitvoeringsopdracht voor elke operandlengte gebaseerd op:

| 1. | Pijplijn- of register-naar-register-bewerkingen. Houd geen rekening met extreem korte uitvoeringstijden voor bewerkingen met een of meer specifieke operanden (bij voorbeeld vermenigvuldiging met 0 of 1). Als geen register-naar-register-bewerkingen zijn geïmplementeerd, ga dan naar 2. |
| --- | --- |

1.

Pijplijn- of register-naar-register-bewerkingen. Houd geen rekening met extreem korte uitvoeringstijden voor bewerkingen met een of meer specifieke operanden (bij voorbeeld vermenigvuldiging met 0 of 1). Als geen register-naar-register-bewerkingen zijn geïmplementeerd, ga dan naar 2.

| 2. | De snelste van de volgende twee bewerkingen: register naar geheugen of geheugen naar register; als deze eveneens ontbreken, ga dan naar 3. |
| --- | --- |

2.

De snelste van de volgende twee bewerkingen: register naar geheugen of geheugen naar register; als deze eveneens ontbreken, ga dan naar 3.

| 3. | Geheugen naar geheugen. |
| --- | --- |

3.

Geheugen naar geheugen.

Gebruik in elk van de bovengenoemde gevallen de kortste door de fabrikant opgegeven uitvoeringstijd.

Stap 2: TP voor elke ondersteunde operandlengte WL

Pas de compensatiefactor L voor de woordlengte toe op de effectieve snelheid R (of R') als volgt:

| | TP = R × L
  waarin L = (1/3 + WL/96) |
| --- | --- |

TP = R × L

waarin L = (1/3 + WL/96)

Noot: In deze berekeningen is de woordlengte WL de operandlengte in bits. (Als in een bewerking operanden van verschillende lengte worden gebruikt, neem dan de grootste woordlengte.)

De combinatie van een mantisse ALU en een exponent ALU van een «floating point processor» of eenheid wordt voor de berekening van CTP beschouwd als één CE met een woordlengte (WL) gelijk aan het aantal bits in de datarepresentatie (gewoonlijk 32 of 64).

Deze compensatie wordt niet toegepast op gespecialiseerde logische processoren die geen XOR-opdrachten gebruiken. In dat geval is TP = R.

Neem de hoogste verkregen waarde van TP voor:

| | Elk CE met alleen XP (Rxp); |
| --- | --- |

Elk CE met alleen XP (Rxp);

| | Elk CE met alleen FP (Rfp); |
| --- | --- |

Elk CE met alleen FP (Rfp);

| | Elk CE met zowel FP als XP (R); |
| --- | --- |

Elk CE met zowel FP als XP (R);

| | Elke eenvoudige logische processor waarin geen van de genoemde rekenkundige bewerkingen geïmplementeerd is, en |
| --- | --- |

Elke eenvoudige logische processor waarin geen van de genoemde rekenkundige bewerkingen geïmplementeerd is, en

| | Elke speciale logische processor waarin geen van de genoemde rekenkundige of logische bewerkingen geïmplementeerd is. |
| --- | --- |

Elke speciale logische processor waarin geen van de genoemde rekenkundige of logische bewerkingen geïmplementeerd is.

Stap 3: CTP voor combinaties van CE’s met inbegrip van CPU’s

Voor een CPU met één enkel CE

CTP = TP

(Voor CE’s met zowel vaste als drijvende komma,

TP = max (TPfp, TPxp)

Voor combinaties van een aantal gelijktijdig werkende CE’s wordt CTP als volgt berekend:

Noot 1: Voor combinaties waarin niet alle CE’s simultaan kunnen werken, wordt de mogelijke combinatie van CE’s gebruikt die de grootste CTP oplevert. Voor elk bijdragend CE wordt de theoretische maximale waarde van TP berekend voordat de CTP van de combinatie wordt berekend.

NB: Om de mogelijke combinaties van gelijktijdig werkende CE’s te bepalen, wordt een instructiesequentie gegenereerd die bewerkingen in verscheidene CE’s initieert, beginnend met het traagste CE (d.w.z. dat voor het voltooien van een bewerking het grootste aantal cyclussen nodig is) en eindigend met het snelste CE. In elke cyclus van de sequentie is de combinatie van CE’s die tijdens die cyclus in bedrijf zijn, een mogelijke combinatie. In de instructiesequentie moet rekening worden gehouden met alle hardware- en/of architectuurbeperkingen voor overlappende bewerkingen.

Noot 2: Eén enkele IC of kaart kan verscheidene CE’s bevatten.

Noot 3: Aangenomen wordt dat er simultane bewerkingen zijn als de computerfabrikant in een handleiding of brochure van de computer concurrente, parallelle of simultane bewerking of verwerking vermeldt.

Noot 4: CTP-waarden worden niet samengevoegd voor combinaties van CE’s die zijn verbonden via lokale netwerken, «wide area networks», gemeenschappelijke aansluitingen/apparatuur voor «input/output», «input/output controllers» en eventuele via programmatuur geïmplementeerde communicatieverbindingen.

Noot 5: CTP-waarden worden samengevoegd voor verscheidene CE’s die speciaal zijn ontworpen om hogere prestaties te leveren doordat zij worden gecombineerd, gelijktijdig werken en een geheugen delen, of combinaties van verscheidene geheugens/CE’s die gelijktijdig werken met behulp van speciaal daarvoor ontworpen apparatuur. Waarden voor samenstellingen, bedoeld in 4A003.c, worden niet samengevoegd.

"CTP" = TP1 + C2 × PT2 + ... + Cn × TPn,

waarin de TP’s zo naar waarde zijn gerangschikt dat TP1 de hoogste waarde heeft, TP2 de op één na hoogste, ... en TPn de laagste waarde. Ci is een coëfficiënt die als volgt wordt bepaald door de aard van de interconnectie:

Voor meerdere CE’s die gelijktijdig werken en een gemeenschappelijk geheugen hebben:

| | C2 = C3 = C4 = ... = Cn = 0,75. |
| --- | --- |

C2 = C3 = C4 = ... = Cn = 0,75.

Noot 1: Als CTP, berekend volgens bovenstaande methode, niet groter is dan 194 Mtops, kan de volgende formule worden gebruikt voor de berekening van Ci:

Formula
  (i = 2,...,n)

waarin m = aantal CE’s of groepen van CE’s met gemeenschappelijke toegang.

op voorwaarde dat:

| 1. | de TPi van elk CE of groep van CE’s niet groter is dan 30 Mtops; |
| --- | --- |

1.

de TPi van elk CE of groep van CE’s niet groter is dan 30 Mtops;

| 2. | de CE’s of groepen van CE’s gemeenschappelijk toegang hebben tot een werkgeheugen (uitgezonderd cachegeheugen) via één enkel kanaal, en |
| --- | --- |

2.

de CE’s of groepen van CE’s gemeenschappelijk toegang hebben tot een werkgeheugen (uitgezonderd cachegeheugen) via één enkel kanaal, en

| 3. | slechts één CE of groep van CE’s op een gegeven tijdstip gebruik van het kanaal kan maken.



  NB: Dit geldt niet voor goederen, bedoeld in categorie 3. |
| --- | --- |

3.

slechts één CE of groep van CE’s op een gegeven tijdstip gebruik van het kanaal kan maken.

NB: Dit geldt niet voor goederen, bedoeld in categorie 3.

Noot 2: CE’s hebben een gemeenschappelijk geheugen als zij een gemeenschappelijk segment van een halfgeleidergeheugen benaderen. Dit geheugen kan een cachegeheugen, werkgeheugen of ander intern geheugen zijn. Externe geheugens zoals ‧disk drives‧, ‧tape drives‧ of RAM-disks vallen hier niet onder.

Voor meerdere CE’s of groepen CE’s zonder gemeenschappelijk geheugen die via één of meer datakanalen met elkaar in verbinding staan:

| Ci | | = 0,75 × ki (i = 2, ..., 32) (zie onderstaande noot) |
| --- | --- | --- |

Ci

= 0,75 × ki (i = 2, ..., 32) (zie onderstaande noot)

| | = 0,60 × ki (i = 33, ..., 64) |
| --- | --- |

= 0,60 × ki (i = 33, ..., 64)

| | = 0,45 × ki (i = 65, ..., 256) |
| --- | --- |

= 0,45 × ki (i = 65, ..., 256)

| | = 0,30 × ki (I > 256) |
| --- | --- |

= 0,30 × ki (I > 256)

De waarde van Ci is gebaseerd op het aantal CE’s, niet op het aantal knooppunten.

waarin

| ki | = | min (Si/Kr, 1), en |
| --- | --- | --- |
| Kr | = | normalisatiefactor van 20 Mbyte/s |
| Si | = | som van de maximale gegevenssnelheden (in Mbyte/s) voor alle gegevenskanalen die zijn aangesloten op het ide CE of de ide groep CE’s met gemeenschappelijk geheugen. |

ki

=

min (Si/Kr, 1), en

Kr

=

normalisatiefactor van 20 Mbyte/s

Si

=

som van de maximale gegevenssnelheden (in Mbyte/s) voor alle gegevenskanalen die zijn aangesloten op het ide CE of de ide groep CE’s met gemeenschappelijk geheugen.

Bij de berekening van een Ci voor een groep CE’s is het nummer van het eerste CE in een groep bepalend voor de waarde die Ci krijgt. Zo zal in een combinatie van groepen van drie CE’s elke 22e groep bestaan uit CE64, CE65 en CE66. De waarde van Ci voor deze groep is 0,60.

Het combineren (van CE’s of groepen CE’s) dient te geschieden van de snelste naar de langzaamste, d.w.z.:

| | TP1 ≥ TP2 ≥ ... ≥ TPn, en |
| --- | --- |

TP1 ≥ TP2 ≥ ... ≥ TPn, en

indien TPi = TPi + 1 van de grootste naar de kleinste, d.w.z.:

| | Ci ≥ Ci + 1 |
| --- | --- |

Ci ≥ Ci + 1

Noot: De ki-factor wordt niet toegepast op de CE’s 2 tot en met 12 als de TPi van het CE of de groep CE’s meer bedraagt dan 50 Mtops, d.w.z. Ci voor de CE’s 2 tot en met 12 is 0,75.

TECHNISCHE NOOT BETREFFENDE "AANGEPAST PIEKVERMOGEN" (ADJUSTED PEAK PERFORMANCE) ("APP")

"APP" is een aangepaste pieksnelheid waarbij "digitale computers" drijvende-kommaoptellingen en -vermenigvuldigingen van 64 bit of meer uitvoeren.

"APP" wordt uitgedrukt in gewogen teraFLOPS ("Weighted TeraFLOPS (WT)"), in eenheden van 1 012 aangepaste drijvende-kommabewerkingen per seconde.

Afkortingen in deze technische noot

| n | aantal processoren in "digitale computer" |
| --- | --- |
| i | processornummer (i,...n) |
| ti | cyclustijd processor (ti = 1/Fi) |
| Fi | processorfrequentie |
| Ri | piekrekensnelheid drijvende-kommaberekeningen |
| Wi | aanpassingsfactor architectuur |

n

aantal processoren in "digitale computer"

i

processornummer (i,...n)

ti

cyclustijd processor (ti = 1/Fi)

Fi

processorfrequentie

Ri

piekrekensnelheid drijvende-kommaberekeningen

Wi

aanpassingsfactor architectuur

Berekening van "APP"

| 1. | Bepaal voor elke processor i het piekaantal drijvende-kommabewerkingen van 64-bit of meer (FPOi) per cyclus voor elke processor in de "digitale computer".


  Noot:



  Bij de bepaling van FPO mag alleen rekening worden gehouden met drijvende-kommaoptellingen en/of -vermenigvuldigingen van 64 bit of meer. Alle drijvende-kommabewerkingen moeten worden uitgedrukt in bewerkingen per processorcyclus; bewerkingen die verscheidene cycli vereisen, kunnen worden uitgedrukt in fractionele resultaten per cyclus. Bij processoren die geen berekeningen met drijvende-kommaoperanden van 64 bit of meer kunnen uitvoeren, is de effectieve rekensnelheid R gelijk aan nul. |
| --- | --- |

1.

Bepaal voor elke processor i het piekaantal drijvende-kommabewerkingen van 64-bit of meer (FPOi) per cyclus voor elke processor in de "digitale computer".

Noot:

Bij de bepaling van FPO mag alleen rekening worden gehouden met drijvende-kommaoptellingen en/of -vermenigvuldigingen van 64 bit of meer. Alle drijvende-kommabewerkingen moeten worden uitgedrukt in bewerkingen per processorcyclus; bewerkingen die verscheidene cycli vereisen, kunnen worden uitgedrukt in fractionele resultaten per cyclus. Bij processoren die geen berekeningen met drijvende-kommaoperanden van 64 bit of meer kunnen uitvoeren, is de effectieve rekensnelheid R gelijk aan nul.

| 2. | Bereken de drijvende-kommarekensnelheid R voor elke processor Ri = FPOi/ti. |
| --- | --- |

2.

Bereken de drijvende-kommarekensnelheid R voor elke processor Ri = FPOi/ti.

| 3. | Bereken het "APP" als "APP" = W1 x R1 + W2 x R2 + ... + Wn x Rn. |
| --- | --- |

3.

Bereken het "APP" als "APP" = W1 x R1 + W2 x R2 + ... + Wn x Rn.

| 4. | Voor "vectorprocessoren" is Wi = 0,9. Voor non-"vectorprocessoren" is Wi = 0,3. |
| --- | --- |

4.

Voor "vectorprocessoren" is Wi = 0,9. Voor non-"vectorprocessoren" is Wi = 0,3.

Noot 1: Voor processoren die in één cyclus samengestelde bewerkingen uitvoeren, zoals optellen en vermenigvuldigen, wordt elke bewerking geteld.

Noot 2: Voor een pijplijnprocessor is de effectieve rekensnelheid R de hoogste pijplijnsnelheid, nadat de pijplijn vol is, of de snelheid zonder pijplijn.

Noot 3: De rekensnelheid R van elke processor die een bijdrage levert, moet worden berekend als de maximumwaarde die theoretisch mogelijk is vooraleer het "APP" van de combinatie wordt afgeleid. Gelijktijdige bewerkingen worden geacht te bestaan wanneer de computerfabrikant in een handleiding of folder in verband met de computer stelt dat er zich samenlopende, parallele of gelijktijdige bewerkingen of uitvoeringen voordoen.

Noot 4: Processoren die zijn beperkt tot ‹input/output› en randapparatuurfuncties (bijvoorbeeld ‹disk drive›, communicatie en "video display") worden bij de berekening van het "APP" niet in aanmerking genomen.

Noot 5: Er worden geen "APP"-waarden berekend voor processorcombinaties die (onderling) zijn verbonden via "lokale netwerken", ‹wide area networks›, gemeenschappelijke aansluitingen/apparatuur voor "input/output", "input/output controllers" en eventuele via programmatuur geïmplementeerde communicatieverbindingen.

Noot 6: Er worden "APP"-waarden berekend voor:

| 1. | processorcombinaties die processoren omvatten welke speciaal zijn ontworpen om hogere prestaties te leveren doordat zij worden gecombineerd, gelijktijdig werken en een geheugen delen; of |
| --- | --- |

1.

processorcombinaties die processoren omvatten welke speciaal zijn ontworpen om hogere prestaties te leveren doordat zij worden gecombineerd, gelijktijdig werken en een geheugen delen; of

| 2. | combinaties van verscheidene geheugens/processoren die gelijktijdig werken met behulp van speciaal daarvoor ontworpen apparatuur. |
| --- | --- |

2.

combinaties van verscheidene geheugens/processoren die gelijktijdig werken met behulp van speciaal daarvoor ontworpen apparatuur.

Noot 7: Een "vectorprocessor" is een processor met ingebouwde instructies waarbij gelijktijdig verscheidene berekeningen worden uitgevoerd op drijvende-kommavectoren (eendimensionale "arrays" van getallen van 64 bit of meer), met ten minste 2 vectoriële functionele eenheden en ten minste 8 vectorregisters van ten minste 64 elementen elk.

CATEGORIE 5

TELECOMMUNICATIE EN "INFORMATIEBEVEILIGING"

DEEL 1

TELECOMMUNICATIE

Noot 1: In categorie 5, deel 1, wordt de embargostatus omschreven van onderdelen, "lasers", test- en "productie"-apparatuur en "programmatuur" daarvoor, die speciaal zijn ontworpen voor telecommunicatieapparatuur of -systemen.

Noot 2: Wanneer "digitale computers", aanverwante apparatuur of "programmatuur" essentieel zijn voor de werking en ondersteuning van in deze categorie omschreven telecommunicatieapparatuur, worden deze beschouwd als speciaal ontworpen onderdelen, mits het de standaarduitvoering betreft die gewoonlijk wordt geleverd door de fabrikant. Hieronder zijn mede begrepen computersystemen voor bediening, beheer, onderhoud, technische wijzigingen en facturering.

5A1Systemen, apparatuur en onderdelen

| 5A001a. | Alle soorten telecommunicatieapparatuur met een van de volgende kenmerken, functies of eigenschappen:






  1. | speciaal ontworpen om bestand te zijn tegen kortstondige elektronische gevolgen of elektromagnetische impulsie ten gevolge van een kernexplosie; |
| --- | --- | --- |

5A001a.

Alle soorten telecommunicatieapparatuur met een van de volgende kenmerken, functies of eigenschappen:

1.

speciaal ontworpen om bestand te zijn tegen kortstondige elektronische gevolgen of elektromagnetische impulsie ten gevolge van een kernexplosie;

| 2. | speciaal versterkt om bestand te zijn tegen gamma-, neutronen- of ionenstraling; of |
| --- | --- |

2.

speciaal versterkt om bestand te zijn tegen gamma-, neutronen- of ionenstraling; of

| 3. | speciaal ontworpen voor werktemperaturen buiten het gebied van 218 K (– 55 °C) tot 397 K (124 °C).


  Noot: 5A001.a.3 is uitsluitend van toepassing op elektronische apparatuur. |
| --- | --- |

3.

speciaal ontworpen voor werktemperaturen buiten het gebied van 218 K (– 55 °C) tot 397 K (124 °C).

Noot: 5A001.a.3 is uitsluitend van toepassing op elektronische apparatuur.

Noot: 5A001.a.2 en 3 zijn niet van toepassing op apparatuur, ontworpen of aangepast voor gebruik aan boord van satellieten.

| b. | Telecommunicatie-transmissieapparatuur of -systemen, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen en toebehoren, met een van de volgende kenmerken, functies of eigenschappen:






  1. | systemen voor communicatie onder water met een of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een akoestische draagfrequentie buiten het gebied tussen de 20 en 60 kHz; |
| --- | --- | --- | --- |

b.

Telecommunicatie-transmissieapparatuur of -systemen, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen en toebehoren, met een van de volgende kenmerken, functies of eigenschappen:

1.

systemen voor communicatie onder water met een of meer van de volgende kenmerken:

a.

een akoestische draagfrequentie buiten het gebied tussen de 20 en 60 kHz;

| b. | gebruikmakend van een elektromagnetische draagfrequentie lager dan 30 kHz; of |
| --- | --- |

b.

gebruikmakend van een elektromagnetische draagfrequentie lager dan 30 kHz; of

| c. | gebruikmakend van elektronenbundelbesturingstechnieken; |
| --- | --- |

c.

gebruikmakend van elektronenbundelbesturingstechnieken;

| 2. | radiotransmissieapparatuur met werkfrequentie in de 1,5 - 87,5 MHz band en met een van beide volgende kenmerken:






  a. | met adaptieve technieken die meer dan 15 dB onderdrukking van storende signalen verschaffen; of |
| --- | --- | --- |

2.

radiotransmissieapparatuur met werkfrequentie in de 1,5 - 87,5 MHz band en met een van beide volgende kenmerken:

a.

met adaptieve technieken die meer dan 15 dB onderdrukking van storende signalen verschaffen; of

| b. | al de volgende kenmerken:






  1. | automatisch aangeven en kiezen van frequenties en het bereiken van optimale transmissie; en |
| --- | --- | --- |

b.

al de volgende kenmerken:

1.

automatisch aangeven en kiezen van frequenties en het bereiken van optimale transmissie; en

| 2. | met een lineaire vermogensversterkerconfiguratie die verscheidene signalen tegelijk kan onderhouden bij een uitgangsvermogen van 1 kW of meer in het frequentiegebied van 1,5 MHz of hoger, doch lager dan 30 MHz, of van 250 W of meer in het frequentiegebied van 30 MHz of hoger, doch niet hoger dan 87,5 MHz, over een "momentele bandbreedte" van één octaaf of meer en met een harmonisch/vervormingsuitgangsniveau beter dan 80 dB; |
| --- | --- |

2.

met een lineaire vermogensversterkerconfiguratie die verscheidene signalen tegelijk kan onderhouden bij een uitgangsvermogen van 1 kW of meer in het frequentiegebied van 1,5 MHz of hoger, doch lager dan 30 MHz, of van 250 W of meer in het frequentiegebied van 30 MHz of hoger, doch niet hoger dan 87,5 MHz, over een "momentele bandbreedte" van één octaaf of meer en met een harmonisch/vervormingsuitgangsniveau beter dan 80 dB;

| 3. | radioapparatuur die gebruikmaakt van "spread spectrum"-technieken, met inbegrip van "frequency hopping"-technieken, met uitzondering van de apparatuur als bedoeld in 5A001.b.4, met één van de volgende kenmerken:






  a. | voor de gebruiker programmeerbare ‧spreading‧-codes, of |
| --- | --- | --- |

3.

radioapparatuur die gebruikmaakt van "spread spectrum"-technieken, met inbegrip van "frequency hopping"-technieken, met uitzondering van de apparatuur als bedoeld in 5A001.b.4, met één van de volgende kenmerken:

a.

voor de gebruiker programmeerbare ‧spreading‧-codes, of

| b. | een totaal uitgezonden bandbreedte die 100-maal of meer zo groot is als de bandbreedte van enig informatiekanaal en groter dan 50 kHz;


  Noot: 5A001.b.3.b is niet van toepassing op radio-apparatuur, speciaal ontworpen voor gebruik met civiele cellulaire radiocommunicatiesystemen. |
| --- | --- |

b.

een totaal uitgezonden bandbreedte die 100-maal of meer zo groot is als de bandbreedte van enig informatiekanaal en groter dan 50 kHz;

Noot: 5A001.b.3.b is niet van toepassing op radio-apparatuur, speciaal ontworpen voor gebruik met civiele cellulaire radiocommunicatiesystemen.

Noot: 5A001.b.3 is niet van toepassing op apparatuur, ontworpen voor een uitgangsvermogen van maximaal 1,0 W.

| 4. | radioapparatuur die gebruikmaakt van ultrabreedband-modulatietechnieken, met door de gebruiker programmeerbare kanaliseringscodes, versleutelingscodes of netwerkidentificatiecodes, met een van de volgende kenmerken:






  a. | een bandbreedte van meer dan 500 MHz; of |
| --- | --- | --- |

4.

radioapparatuur die gebruikmaakt van ultrabreedband-modulatietechnieken, met door de gebruiker programmeerbare kanaliseringscodes, versleutelingscodes of netwerkidentificatiecodes, met een van de volgende kenmerken:

a.

een bandbreedte van meer dan 500 MHz; of

| b. | een "fractionele bandbreedte" van 20 % of meer; |
| --- | --- |

b.

een "fractionele bandbreedte" van 20 % of meer;

| 5. | digitaal bestuurde radio-ontvangers






  a. | met meer dan 1 000 kanalen; |
| --- | --- | --- |

5.

digitaal bestuurde radio-ontvangers

a.

met meer dan 1 000 kanalen;

| b. | die een "frequentiewisseltijd" hebben korter dan 1 ms; |
| --- | --- |

b.

die een "frequentiewisseltijd" hebben korter dan 1 ms;

| c. | die de ontvangen signaalfrequentie of het zendertype identificeren; en |
| --- | --- |

c.

die de ontvangen signaalfrequentie of het zendertype identificeren; en

| d. | die automatisch een deel van het elektromagnetische spectrum afzoeken of aftasten; of



  Noot: 5A001.b.5 is niet van toepassing op radio-apparatuur, speciaal ontworpen voor gebruik met civiele cellulaire radiocommunicatiesystemen. |
| --- | --- |

d.

die automatisch een deel van het elektromagnetische spectrum afzoeken of aftasten; of

Noot: 5A001.b.5 is niet van toepassing op radio-apparatuur, speciaal ontworpen voor gebruik met civiele cellulaire radiocommunicatiesystemen.

| 6. | die gebruikmaken van digitale "signaalverwerkings"-functies met het oog op ‧spraakcodering‧ met een snelheid van minder dan 2 400 bits/s;
  Technische noten:






  1. | Voor spraakcodering met variabele snelheid is 5A001.b.6 van toepassing op de spraakcodering van continue spraak. |
| --- | --- | --- |

6.

die gebruikmaken van digitale "signaalverwerkings"-functies met het oog op ‧spraakcodering‧ met een snelheid van minder dan 2 400 bits/s;

Technische noten:

1.

Voor spraakcodering met variabele snelheid is 5A001.b.6 van toepassing op de spraakcodering van continue spraak.

| 2. | Voor de toepassing van 5A001.b.6. wordt ‧spraakcodering‧ gedefinieerd als de techniek om samples van de menselijke stem te nemen en deze om te zetten in een digitaal signaal, rekening houdend met de specifieke kenmerken van de menselijke spraak. |
| --- | --- |

2.

Voor de toepassing van 5A001.b.6. wordt ‧spraakcodering‧ gedefinieerd als de techniek om samples van de menselijke stem te nemen en deze om te zetten in een digitaal signaal, rekening houdend met de specifieke kenmerken van de menselijke spraak.

| c. | Glasvezel-communicatiekabel, glasvezels en toebehoren, als hieronder:






  1. | glasvezels met een lengte van meer dan 500 m die volgens de specificaties van de fabrikant een tijdens de ‧normtest‧ uitgeoefende trekspanning weerstaan van 2 × 109 N/m2 of meer;
  Technische noot:

  ‧Normtest‧ houdt in het steekproefsgewijs testen tijdens of buiten de productie waarbij dynamisch een voorgeschreven trekspanning wordt uitgeoefend op vezel met een lengte tussen de 0,5 en 3 m, terwijl deze met een snelheid van 2 à 5 m/s tussen rollen met een diameter van ongeveer 150 mm doorloopt. De omgevingstemperatuur is hierbij nominaal 293 K (20 °C) en de relatieve vochtigheidsgraad 40 %. Voor het uitvoeren van de "normtest" mogen gelijkwaardige nationale normen worden gehanteerd. |
| --- | --- | --- |

c.

Glasvezel-communicatiekabel, glasvezels en toebehoren, als hieronder:

1.

glasvezels met een lengte van meer dan 500 m die volgens de specificaties van de fabrikant een tijdens de ‧normtest‧ uitgeoefende trekspanning weerstaan van 2 × 109 N/m2 of meer;

Technische noot:

‧Normtest‧ houdt in het steekproefsgewijs testen tijdens of buiten de productie waarbij dynamisch een voorgeschreven trekspanning wordt uitgeoefend op vezel met een lengte tussen de 0,5 en 3 m, terwijl deze met een snelheid van 2 à 5 m/s tussen rollen met een diameter van ongeveer 150 mm doorloopt. De omgevingstemperatuur is hierbij nominaal 293 K (20 °C) en de relatieve vochtigheidsgraad 40 %. Voor het uitvoeren van de "normtest" mogen gelijkwaardige nationale normen worden gehanteerd.

| 2. | glasvezelkabels en toebehoren, ontworpen voor gebruik onder water.


  Noot: 5A001.c.2 is niet van toepassing op standaardkabels voor civiele telecommunicatiesystemen en toebehoren.



  NB 1: zie 8A002.a.3 voor voedingsleidingen en koppelingen daarvoor voor gebruik onder water.



  NB 2: zie 8A002.c. voor doorvoeren en doorvoerconnectoren voor rompen uit glasvezel. |
| --- | --- |

2.

glasvezelkabels en toebehoren, ontworpen voor gebruik onder water.

Noot: 5A001.c.2 is niet van toepassing op standaardkabels voor civiele telecommunicatiesystemen en toebehoren.

NB 1: zie 8A002.a.3 voor voedingsleidingen en koppelingen daarvoor voor gebruik onder water.

NB 2: zie 8A002.c. voor doorvoeren en doorvoerconnectoren voor rompen uit glasvezel.

| d. | Elektronisch fasegestuurde antennesystemen opgebouwd uit een aantal identieke antennes («phased array antennae») met een werkfrequentie hoger dan 31,8 GHz.


  Noot: In 5A001.d. worden niet bedoeld elektronisch fasegestuurde antennesystemen opgebouwd uit een aantal identieke antennes voor landingssystemen met instrumenten die voldoen aan de ICAO-normen (International Civil Aviation Organisation) (microgolf landingssystemen (MLS)). |
| --- | --- |

d.

Elektronisch fasegestuurde antennesystemen opgebouwd uit een aantal identieke antennes («phased array antennae») met een werkfrequentie hoger dan 31,8 GHz.

Noot: In 5A001.d. worden niet bedoeld elektronisch fasegestuurde antennesystemen opgebouwd uit een aantal identieke antennes voor landingssystemen met instrumenten die voldoen aan de ICAO-normen (International Civil Aviation Organisation) (microgolf landingssystemen (MLS)).

| e. | Radiorichtingzoekende apparatuur met een werkfrequentie van meer dan 30 MHz en met alle volgende kenmerken, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:






  1. | een "momentele bandbreedte" van 10 MHz of meer; en |
| --- | --- | --- |

e.

Radiorichtingzoekende apparatuur met een werkfrequentie van meer dan 30 MHz en met alle volgende kenmerken, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

1.

een "momentele bandbreedte" van 10 MHz of meer; en

| 2. | een peillijn ("line of bearing" ((LOB)) kunnen vinden naar niet-meewerkende radiozenders met een signaalduur van minder dan 1 ms. |
| --- | --- |

2.

een peillijn ("line of bearing" ((LOB)) kunnen vinden naar niet-meewerkende radiozenders met een signaalduur van minder dan 1 ms.

| f. | Stoorapparatuur die speciaal is ontworpen of aangepast om opzettelijk en selectief cellulaire mobiele telecommunicatiediensten te storen, onmogelijk te maken, te hinderen, de kwaliteit van die diensten te verslechteren of deze te deviëren, met een van de volgende kenmerken, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:






  1. | simuleren van de functies van apparatuur van radiotoegangsnetwerken (RAN); of |
| --- | --- | --- |

f.

Stoorapparatuur die speciaal is ontworpen of aangepast om opzettelijk en selectief cellulaire mobiele telecommunicatiediensten te storen, onmogelijk te maken, te hinderen, de kwaliteit van die diensten te verslechteren of deze te deviëren, met een van de volgende kenmerken, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

1.

simuleren van de functies van apparatuur van radiotoegangsnetwerken (RAN); of

| 2. | opsporen en gebruikmaken van specifieke kenmerken van het gebruikte protocol voor mobiele telecommunicatie (bijvoorbeeld GSM). |
| --- | --- |

2.

opsporen en gebruikmaken van specifieke kenmerken van het gebruikte protocol voor mobiele telecommunicatie (bijvoorbeeld GSM).

N.B. Voor GNSS-stoorapparatuur zie de lijst militaire goederen.

5A101Apparatuur voor telemetrie en afstandsbesturing, inclusief grondapparatuur die is ontworpen of aangepast voor "raketten".

Technische noot:

In 5A101 wordt onder "raket" verstaan: complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen met een bereik van meer dan 300 km.

Noot: In 5A101 wordt niet bedoeld:

| a. | apparatuur, speciaal ontworpen of aangepast voor bemande luchtvaartuigen of satellieten; |
| --- | --- |

a.

apparatuur, speciaal ontworpen of aangepast voor bemande luchtvaartuigen of satellieten;

| b. | grondapparatuur ontworpen of aangepast voor toepassingen te land of op zee; |
| --- | --- |

b.

grondapparatuur ontworpen of aangepast voor toepassingen te land of op zee;

| c. | apparatuur ontworpen voor commerciële, civiele of "Safety of Life"-GNSS-diensten (bv. gegevensintegriteit, vliegveiligheid); |
| --- | --- |

c.

apparatuur ontworpen voor commerciële, civiele of "Safety of Life"-GNSS-diensten (bv. gegevensintegriteit, vliegveiligheid);

5B1Test-, inspectie- en productieapparatuur

| 5B001a. | Apparatuur, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen en toebehoren, speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur, functies of eigenschappen, bedoeld in 5A001, 5B001, 5D001 of 5E001.


  Noot: In 5B001.a is niet bedoeld apparatuur voor het karakteriseren van glasvezels. |
| --- | --- |

5B001a.

Apparatuur, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen en toebehoren, speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur, functies of eigenschappen, bedoeld in 5A001, 5B001, 5D001 of 5E001.

Noot: In 5B001.a is niet bedoeld apparatuur voor het karakteriseren van glasvezels.

| b. | Apparatuur, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen en toebehoren, speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" van een of meer van de volgende soorten telecommunicatietransmissie of schakelapparatuur:






  1. | apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van digitale technieken, ontworpen voor het werken bij een "totale digitale overbrengsnelheid" hoger dan 15 Gbit/s;
  Technische noot:

  Voor schakelapparatuur wordt de "totale digitale overbrengingssnelheid" gemeten bij de snelste poort of lijn. |
| --- | --- | --- |

b.

Apparatuur, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen en toebehoren, speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" van een of meer van de volgende soorten telecommunicatietransmissie of schakelapparatuur:

1.

apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van digitale technieken, ontworpen voor het werken bij een "totale digitale overbrengsnelheid" hoger dan 15 Gbit/s;

Technische noot:

Voor schakelapparatuur wordt de "totale digitale overbrengingssnelheid" gemeten bij de snelste poort of lijn.

| 2. | apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van een "laser", en die een van de volgende kenmerken heeft:






  a. | een transmissiegolflengte groter dan 1 750 nm; |
| --- | --- | --- |

2.

apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van een "laser", en die een van de volgende kenmerken heeft:

a.

een transmissiegolflengte groter dan 1 750 nm;

| b. | met de functie "optische versterking"; |
| --- | --- |

b.

met de functie "optische versterking";

| c. | gebruikmakend van coherente optische transmissietechnieken of coherente optische detectietechnieken (ook wel optische heterodyne of homodyne technieken genoemd); of |
| --- | --- |

c.

gebruikmakend van coherente optische transmissietechnieken of coherente optische detectietechnieken (ook wel optische heterodyne of homodyne technieken genoemd); of

| d. | gebruikmakend van analoge technieken en met een bandbreedte groter dan 2,5 GHz;


  Noot: 5B001.b.2.d. is niet van toepassing op apparatuur, speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" van commerciële TV-systemen. |
| --- | --- |

d.

gebruikmakend van analoge technieken en met een bandbreedte groter dan 2,5 GHz;

Noot: 5B001.b.2.d. is niet van toepassing op apparatuur, speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" van commerciële TV-systemen.

| 3. | apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van "optisch schakelen"; |
| --- | --- |

3.

apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van "optisch schakelen";

| 4. | radioapparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van kwadratuur-amplitudemodulatie (QAM)-technieken boven niveau 256; of |
| --- | --- |

4.

radioapparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van kwadratuur-amplitudemodulatie (QAM)-technieken boven niveau 256; of

| 5. | apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van "eenkanaalsignalering" («common channel signalling») in niet-verbonden bedrijfswijze; |
| --- | --- |

5.

apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van "eenkanaalsignalering" («common channel signalling») in niet-verbonden bedrijfswijze;

5C1Materialen

Geen.

5D1Programmatuur

| 5D001a. | "Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur, functies of eigenschappen bedoeld in 5A001 of 5B001. |
| --- | --- |

5D001a.

"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur, functies of eigenschappen bedoeld in 5A001 of 5B001.

| b. | "Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor ondersteuning van "technologie", bedoeld in 5E001. |
| --- | --- |

b.

"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor ondersteuning van "technologie", bedoeld in 5E001.

| c. | Specifieke "programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor het verschaffen van kenmerken, functies of eigenschappen van apparatuur bedoeld in 5A001 of 5B001; |
| --- | --- |

c.

Specifieke "programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor het verschaffen van kenmerken, functies of eigenschappen van apparatuur bedoeld in 5A001 of 5B001;

| d. | Programmatuur speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling" van een van de volgende soorten telecommunicatietransmissie- of schakelapparatuur:






  1. | apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van digitale technieken, ontworpen voor het werken bij een "totale digitale overbrengsnelheid" hoger dan 15 Gbit/s;
  Technische noot:

  Voor schakelapparatuur wordt de "totale digitale overbrengingssnelheid" gemeten bij de snelste poort of lijn. |
| --- | --- | --- |

d.

Programmatuur speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling" van een van de volgende soorten telecommunicatietransmissie- of schakelapparatuur:

1.

apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van digitale technieken, ontworpen voor het werken bij een "totale digitale overbrengsnelheid" hoger dan 15 Gbit/s;

Technische noot:

Voor schakelapparatuur wordt de "totale digitale overbrengingssnelheid" gemeten bij de snelste poort of lijn.

| 2. | apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van een "laser", en die een van de volgende kenmerken heeft:






  a. | een transmissiegolflengte groter dan 1 750 nm; of |
| --- | --- | --- |

2.

apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van een "laser", en die een van de volgende kenmerken heeft:

a.

een transmissiegolflengte groter dan 1 750 nm; of

| b. | gebruik makend van analoge technieken en met een bandbreedte groter dan 2,5 GHz;


  Noot: 5D001.d.2.b is niet van toepassing op "programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling" van commerciële TV-systemen. |
| --- | --- |

b.

gebruik makend van analoge technieken en met een bandbreedte groter dan 2,5 GHz;

Noot: 5D001.d.2.b is niet van toepassing op "programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling" van commerciële TV-systemen.

| 3. | apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van "optisch schakelen"; of |
| --- | --- |

3.

apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van "optisch schakelen"; of

| 4. | radioapparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van kwadratuur-amplitudemodulatie (QAM)-technieken boven niveau 256; |
| --- | --- |

4.

radioapparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van kwadratuur-amplitudemodulatie (QAM)-technieken boven niveau 256;

5D101"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor het "gebruik" van in 5A101 bedoelde apparatuur.

5E1Technologie

| 5E001a. | "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" (de bediening niet inbegrepen) van apparatuur, functies, eigenschappen of "programmatuur", bedoeld in 5A001, 5B001 of 5D001. |
| --- | --- |

5E001a.

"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" (de bediening niet inbegrepen) van apparatuur, functies, eigenschappen of "programmatuur", bedoeld in 5A001, 5B001 of 5D001.

| b. | Specifieke "technologie", als hieronder:






  1. | "noodzakelijke""technologie" voor de "ontwikkeling" of de "productie" van telecommunicatieapparatuur, speciaal ontworpen voor gebruik aan boord van satellieten; |
| --- | --- | --- |

b.

Specifieke "technologie", als hieronder:

1.

"noodzakelijke""technologie" voor de "ontwikkeling" of de "productie" van telecommunicatieapparatuur, speciaal ontworpen voor gebruik aan boord van satellieten;

| 2. | "technologie" voor de "ontwikkeling" of het "gebruik" van "laser"-communicatietechnieken die geschikt zijn voor het automatisch verzamelen en volgen van signalen en die communicatie onderhouden via de exosfeer, onder de grond of onder water; |
| --- | --- |

2.

"technologie" voor de "ontwikkeling" of het "gebruik" van "laser"-communicatietechnieken die geschikt zijn voor het automatisch verzamelen en volgen van signalen en die communicatie onderhouden via de exosfeer, onder de grond of onder water;

| 3. | "technologie" voor de "ontwikkeling" van digitale ontvangstapparatuur voor cellulaire radiobasisstations waarvan de ontvangstmogelijkheden, die werking via meerdere banden, kanalen, modi, algoritmecodes of protocols mogelijk maken, door veranderingen in de programmatuur kunnen worden gewijzigd; |
| --- | --- |

3.

"technologie" voor de "ontwikkeling" van digitale ontvangstapparatuur voor cellulaire radiobasisstations waarvan de ontvangstmogelijkheden, die werking via meerdere banden, kanalen, modi, algoritmecodes of protocols mogelijk maken, door veranderingen in de programmatuur kunnen worden gewijzigd;

| 4. | "technologie" voor de "ontwikkeling" van "spread spectrum"-technieken, met inbegrip van "frequency hopping"-technieken. |
| --- | --- |

4.

"technologie" voor de "ontwikkeling" van "spread spectrum"-technieken, met inbegrip van "frequency hopping"-technieken.

| c. | "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" of de "productie" van een van de volgende soorten telecommunicatietransmissie- of schakelapparatuur, -functies of -eigenschappen:






  1. | apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van digitale technieken, ontworpen voor het werken bij een "totale digitale overbrengsnelheid" hoger dan 15 Gbit/s;
  Technische noot:

  Voor schakelapparatuur wordt de "totale digitale overbrengingssnelheid" gemeten bij de snelste poort of lijn. |
| --- | --- | --- |

c.

"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" of de "productie" van een van de volgende soorten telecommunicatietransmissie- of schakelapparatuur, -functies of -eigenschappen:

1.

apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van digitale technieken, ontworpen voor het werken bij een "totale digitale overbrengsnelheid" hoger dan 15 Gbit/s;

Technische noot:

Voor schakelapparatuur wordt de "totale digitale overbrengingssnelheid" gemeten bij de snelste poort of lijn.

| 2. | apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van een "laser", en die een van de volgende kenmerken heeft:






  a. | een transmissiegolflengte groter dan 1 750 nm; |
| --- | --- | --- |

2.

apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van een "laser", en die een van de volgende kenmerken heeft:

a.

een transmissiegolflengte groter dan 1 750 nm;

| b. | met de functie "optische versterking", waarbij gebruik wordt gemaakt van versterkers van praseodymium-gedoteerde fluorvezel (PDFFA); |
| --- | --- |

b.

met de functie "optische versterking", waarbij gebruik wordt gemaakt van versterkers van praseodymium-gedoteerde fluorvezel (PDFFA);

| c. | gebruikmakend van coherente optische transmissietechnieken of coherente optische detectietechnieken (ook wel optische heterodyne of homodyne technieken genoemd); |
| --- | --- |

c.

gebruikmakend van coherente optische transmissietechnieken of coherente optische detectietechnieken (ook wel optische heterodyne of homodyne technieken genoemd);

| d. | gebruikmakend van golflengteverdeling-multiplexing («wave length division multiplexing»)-technieken, waarbij de afzonderlijke optische vensters uit meer dan 8 optische dragers bestaan; of |
| --- | --- |

d.

gebruikmakend van golflengteverdeling-multiplexing («wave length division multiplexing»)-technieken, waarbij de afzonderlijke optische vensters uit meer dan 8 optische dragers bestaan; of

| e. | gebruikmakend van analoge technieken en met een bandbreedte groter dan 2,5 GHz;


  Noot: 5E001.c.2.e is niet van toepassing op "technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van commerciële TV-systemen. |
| --- | --- |

e.

gebruikmakend van analoge technieken en met een bandbreedte groter dan 2,5 GHz;

Noot: 5E001.c.2.e is niet van toepassing op "technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van commerciële TV-systemen.

| 3. | apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van "optisch schakelen"; |
| --- | --- |

3.

apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van "optisch schakelen";

| 4. | radioapparatuur:






  a. | waarin gebruik wordt gemaakt van kwadratuur-amplitudemodulatie (QAM)-technieken boven niveau 256; of |
| --- | --- | --- |

4.

radioapparatuur:

a.

waarin gebruik wordt gemaakt van kwadratuur-amplitudemodulatie (QAM)-technieken boven niveau 256; of

| b. | met een in- of uitvoerwerkfrequentie hoger dan 31,8 GHz;


  Noot: Niet bedoeld wordt in 5E001.c.4.b "technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van apparatuur ontworpen of aangepast voor werking in een frequentieband die is "toegewezen door de ITU" voor radiocommunicatiediensten, maar niet voor radiodeterminatie. |
| --- | --- |

b.

met een in- of uitvoerwerkfrequentie hoger dan 31,8 GHz;

Noot: Niet bedoeld wordt in 5E001.c.4.b "technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van apparatuur ontworpen of aangepast voor werking in een frequentieband die is "toegewezen door de ITU" voor radiocommunicatiediensten, maar niet voor radiodeterminatie.

| 5. | apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van "eenkanaalsignalering" («common channel signalling») in niet-verbonden bedrijfswijze. |
| --- | --- |

5.

apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van "eenkanaalsignalering" («common channel signalling») in niet-verbonden bedrijfswijze.

5E101"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur, bedoeld in 5A101.

DEEL 2

"INFORMATIEBEVEILIGING"

Noot 1: In categorie 5, deel 2, wordt de embargostatus omschreven van apparatuur, "programmatuur", systemen, voor specifieke toepassingen bestemde "samenstellingen", modulen, geïntegreerde schakelingen, onderdelen of functies ten behoeve van "informatiebeveiliging", ook indien het onderdelen of "samenstellingen" van andere apparatuur betreft.

Noot 2: Categorie 5, deel 2, is niet van toepassing op producten wanneer deze door de gebruiker voor persoonlijk gebruik worden meegevoerd.

Noot 3:

Cryptografienoot

5A002 en 5D002 gelden niet voor goederen die aan alle onderstaande criteria voldoen:

| a. | De goederen zijn algemeen voor het publiek verkrijgbaar doordat ze zonder beperkingen via de detailhandel uit voorraad wordt verkocht via:








  1. | winkelverkoop; |
| --- | --- | --- |

a.

De goederen zijn algemeen voor het publiek verkrijgbaar doordat ze zonder beperkingen via de detailhandel uit voorraad wordt verkocht via:

1.

winkelverkoop;

| 2. | postorderverkoop; |
| --- | --- |

2.

postorderverkoop;

| 3. | elektronische verkoop; of |
| --- | --- |

3.

elektronische verkoop; of

| 4. | telefonische verkoop; |
| --- | --- |

4.

telefonische verkoop;

| b. | De cryptografische werking kan niet eenvoudig door de gebruiker worden veranderd; |
| --- | --- |

b.

De cryptografische werking kan niet eenvoudig door de gebruiker worden veranderd;

| c. | De goederen zijn ontworpen voor installatie door de gebruiker zonder wezenlijke ondersteuning van de leverancier; en |
| --- | --- |

c.

De goederen zijn ontworpen voor installatie door de gebruiker zonder wezenlijke ondersteuning van de leverancier; en

| d. | Zo nodig zijn er over deze goederen nadere gegevens beschikbaar, die op verzoek worden verstrekt aan de bevoegde autoriteiten van de lidstaat waarin de exporteur gevestigd is, zodat kan worden vastgesteld of aan de onder a. tot en met c. beschreven voorwaarden wordt voldaan. |
| --- | --- |

d.

Zo nodig zijn er over deze goederen nadere gegevens beschikbaar, die op verzoek worden verstrekt aan de bevoegde autoriteiten van de lidstaat waarin de exporteur gevestigd is, zodat kan worden vastgesteld of aan de onder a. tot en met c. beschreven voorwaarden wordt voldaan.

Technische noot:

In categorie 5, deel 2, worden pariteitsbits niet meegerekend voor de sleutellengte.

5A2Systemen, apparatuur en onderdelen

| 5A002a. | Systemen, apparatuur, voor specifieke toepassingen bestemde "samenstellingen", modulen of geïntegreerde schakelingen ten behoeve van "informatiebeveiliging", als hieronder, en andere speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:


  NB: Zie 7A005 voor de embargostatus van satellietontvangers voor wereldwijde navigatiesystemen met of gebruikmakend van ontcijfering (GPS of GLONASS).







  1. | ontworpen of aangepast voor het hanteren van "cryptografie" met gebruikmaking van digitale technieken ter uitvoering van cryptografische functies, met uitzondering van authentificatie en digitale handtekening, met behulp van:
  Technische noten:







  1. | Onder authentificatie- en digitalehandtekeningfuncties valt ook de daarmee samenhangende sleutelbeheersfunctie. |
| --- | --- | --- | --- |

5A002a.

Systemen, apparatuur, voor specifieke toepassingen bestemde "samenstellingen", modulen of geïntegreerde schakelingen ten behoeve van "informatiebeveiliging", als hieronder, en andere speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

NB: Zie 7A005 voor de embargostatus van satellietontvangers voor wereldwijde navigatiesystemen met of gebruikmakend van ontcijfering (GPS of GLONASS).

1.

ontworpen of aangepast voor het hanteren van "cryptografie" met gebruikmaking van digitale technieken ter uitvoering van cryptografische functies, met uitzondering van authentificatie en digitale handtekening, met behulp van:

Technische noten:

1.

Onder authentificatie- en digitalehandtekeningfuncties valt ook de daarmee samenhangende sleutelbeheersfunctie.

| 2. | Onder authentificatie vallen alle aspecten van toegangscontrole waarbij geen encryptie van bestanden of tekst betrokken is, behalve wanneer deze rechtstreeks verband houdt met de bescherming van wachtwoorden, persoonlijke identificatienummers (PIN-codes) of vergelijkbare informatie ter voorkoming van toegang zonder toestemming. |
| --- | --- |

2.

Onder authentificatie vallen alle aspecten van toegangscontrole waarbij geen encryptie van bestanden of tekst betrokken is, behalve wanneer deze rechtstreeks verband houdt met de bescherming van wachtwoorden, persoonlijke identificatienummers (PIN-codes) of vergelijkbare informatie ter voorkoming van toegang zonder toestemming.

| 3. | Tot "cryptografie" worden niet gerekend: technieken van "vaste "gegevenscomprimering of -codering. |
| --- | --- |

3.

Tot "cryptografie" worden niet gerekend: technieken van "vaste "gegevenscomprimering of -codering.

Noot: 5A002.a.1. is ook van toepassing op apparatuur die is ontworpen of aangepast voor het gebruik van "cryptografie" op grond van analoge principes, wanneer deze met behulp van digitale technieken worden toegepast.

| a. | een "symmetrisch algoritme" met een sleutellengte van meer dan 56 bits; of |
| --- | --- |

a.

een "symmetrisch algoritme" met een sleutellengte van meer dan 56 bits; of

| b. | een "asymmetrisch algoritme" waarvan de beveiliging wordt gewaarborgd door:






  1. | ontbinding van gehele getallen van meer dan 512 bits (bv. RSA); |
| --- | --- | --- |

b.

een "asymmetrisch algoritme" waarvan de beveiliging wordt gewaarborgd door:

1.

ontbinding van gehele getallen van meer dan 512 bits (bv. RSA);

| 2. | berekening van discrete logaritmen in een groep van een eindig veld met een grootte van meer dan 512 bits (bv. Diffie-Hellman over Z/pZ); of |
| --- | --- |

2.

berekening van discrete logaritmen in een groep van een eindig veld met een grootte van meer dan 512 bits (bv. Diffie-Hellman over Z/pZ); of

| 3. | discrete logaritmen in een andere dan de in 5A002.a.1.b.2 genoemde groepen van meer dan 112 bits (bv. Diffie-Hellman over een elliptische curve); |
| --- | --- |

3.

discrete logaritmen in een andere dan de in 5A002.a.1.b.2 genoemde groepen van meer dan 112 bits (bv. Diffie-Hellman over een elliptische curve);

| 2. | ontworpen of aangepast voor het uitvoeren van cryptanalytische functies; |
| --- | --- |

2.

ontworpen of aangepast voor het uitvoeren van cryptanalytische functies;

| 3. | niet gebruikt; |
| --- | --- |

3.

niet gebruikt;

| 4. | speciaal ontworpen of aangepast voor het reduceren van ongewenste lekken van informatiedragende signalen, afgezien van hetgeen noodzakelijk is om aan de normen voor gezondheid, veiligheid en elektromagnetische interferentie te voldoen; |
| --- | --- |

4.

speciaal ontworpen of aangepast voor het reduceren van ongewenste lekken van informatiedragende signalen, afgezien van hetgeen noodzakelijk is om aan de normen voor gezondheid, veiligheid en elektromagnetische interferentie te voldoen;

| 5. | ontworpen of aangepast voor het hanteren van cryptografische technieken voor het genereren van de spreidcode voor "spread spectrum"-systemen, met uitzondering van de technieken vermeld in 5A002.a.6., met inbegrip van de «hopping»-code voor"frequency hopping"-systemen; |
| --- | --- |

5.

ontworpen of aangepast voor het hanteren van cryptografische technieken voor het genereren van de spreidcode voor "spread spectrum"-systemen, met uitzondering van de technieken vermeld in 5A002.a.6., met inbegrip van de «hopping»-code voor"frequency hopping"-systemen;

| 6. | ontworpen of aangepast voor het gebruik van cryptografische technieken om kanaliseringscodes, versleutelingscodes of netwerkidentificatiecodes te genereren voor systemen die gebruikmaken van ultrabreedband-modulatietechnieken, met een van de volgende kenmerken:






  a. | een bandbreedte van meer dan 500 MHz; of |
| --- | --- | --- |

6.

ontworpen of aangepast voor het gebruik van cryptografische technieken om kanaliseringscodes, versleutelingscodes of netwerkidentificatiecodes te genereren voor systemen die gebruikmaken van ultrabreedband-modulatietechnieken, met een van de volgende kenmerken:

a.

een bandbreedte van meer dan 500 MHz; of

| b. | een "fractionele bandbreedte" van 20% of meer; |
| --- | --- |

b.

een "fractionele bandbreedte" van 20% of meer;

| 7. | niet gebruikt; |
| --- | --- |

7.

niet gebruikt;

| 8. | communicatiekabelsystemen die met mechanische, elektrische of elektronische middelen zijn ontworpen of aangepast voor het opsporen van clandestiene binnendringing; |
| --- | --- |

8.

communicatiekabelsystemen die met mechanische, elektrische of elektronische middelen zijn ontworpen of aangepast voor het opsporen van clandestiene binnendringing;

| 9. | ontworpen of aangepast om "quantumcryptografie" te gebruiken. |
| --- | --- |

9.

ontworpen of aangepast om "quantumcryptografie" te gebruiken.

Technische noot:

"Quantumcryptografie" wordt ook aangeduid als "quantum key distribution (QKD)".

Noot: In 5A002 zijn niet bedoeld:

| a. | "persoonsgebonden slimme kaarten":








  1. | waarvan de cryptografische functie beperkt is tot het gebruik in apparatuur of systemen die van embargo zijn uitgesloten krachtens de punten b. tot en met f. van deze noot; of |
| --- | --- | --- |

a.

"persoonsgebonden slimme kaarten":

1.

waarvan de cryptografische functie beperkt is tot het gebruik in apparatuur of systemen die van embargo zijn uitgesloten krachtens de punten b. tot en met f. van deze noot; of

| 2. | waarvan de cryptografische functie, voor toepassingen voor algemeen publiek gebruik, niet toegankelijk is voor de gebruiker, en speciaal ontworpen en beperkt is om bescherming van erin opgeslagen persoonsgegevens mogelijk te maken. |
| --- | --- |

2.

waarvan de cryptografische functie, voor toepassingen voor algemeen publiek gebruik, niet toegankelijk is voor de gebruiker, en speciaal ontworpen en beperkt is om bescherming van erin opgeslagen persoonsgegevens mogelijk te maken.

NB: Indien een "persoonsgebonden slimme kaart" verscheidene functies heeft, wordt de embargostatus van elke functie afzonderlijk beoordeeld.

| b. | ontvangstapparatuur voor radio-uitzendingen, betaaltelevisie of gelijksoortige uitzendingen voor een beperkt aantal kijkers, bedoeld voor de consument, zonder digitale versleuteling, met uitzondering van de apparatuur die uitsluitend wordt gebruikt om de factuur of programmainformatie aan de zenders terug te sturen; |
| --- | --- |

b.

ontvangstapparatuur voor radio-uitzendingen, betaaltelevisie of gelijksoortige uitzendingen voor een beperkt aantal kijkers, bedoeld voor de consument, zonder digitale versleuteling, met uitzondering van de apparatuur die uitsluitend wordt gebruikt om de factuur of programmainformatie aan de zenders terug te sturen;

| c. | apparatuur waarvan het cryptografisch vermogen niet voor gebruik toegankelijk is, en die speciaal is ontworpen voor uitsluitend een of meer van de volgende functies:








  1. | het laten functioneren van tegen kopiëren beveiligde "programmatuur"; |
| --- | --- | --- |

c.

apparatuur waarvan het cryptografisch vermogen niet voor gebruik toegankelijk is, en die speciaal is ontworpen voor uitsluitend een of meer van de volgende functies:

1.

het laten functioneren van tegen kopiëren beveiligde "programmatuur";

| 2. | toegang tot:








  a. | tegen kopiëren beveiligde inhoud, vastgelegd op read-only-media; of |
| --- | --- | --- |

2.

toegang tot:

a.

tegen kopiëren beveiligde inhoud, vastgelegd op read-only-media; of

| b. | informatie die in gecodeerde vorm in een medium is opgeslagen (bv. in verband met de bescherming van de intellectuele eigendom), wanneer de media in identieke partijen aan het publiek te koop worden aangeboden; |
| --- | --- |

b.

informatie die in gecodeerde vorm in een medium is opgeslagen (bv. in verband met de bescherming van de intellectuele eigendom), wanneer de media in identieke partijen aan het publiek te koop worden aangeboden;

| 3. | kopieerbeveiliging van door auteursrecht beschermde audio- of videogegevens; of |
| --- | --- |

3.

kopieerbeveiliging van door auteursrecht beschermde audio- of videogegevens; of

| 4. | encryptie en/of decryptie voor de bescherming van bibliotheken, ontwerpmodellen of daarmee samenhangende gegevens voor het ontwerpen van halfgeleiderelementen of geïntegreerde schakelingen; |
| --- | --- |

4.

encryptie en/of decryptie voor de bescherming van bibliotheken, ontwerpmodellen of daarmee samenhangende gegevens voor het ontwerpen van halfgeleiderelementen of geïntegreerde schakelingen;

| d. | cryptografie-apparatuur die speciaal is ontworpen voor uitsluitend gebruik voor bank- of ‧geldtransacties‧;

  Technische noot:

  Onder ‧geldtransacties‧ in 5A002, noot d, valt ook het betalen van vervoerbewijzen, alsmede het uitvoeren van crediteringsfuncties. |
| --- | --- |

d.

cryptografie-apparatuur die speciaal is ontworpen voor uitsluitend gebruik voor bank- of ‧geldtransacties‧;

Technische noot:

Onder ‧geldtransacties‧ in 5A002, noot d, valt ook het betalen van vervoerbewijzen, alsmede het uitvoeren van crediteringsfuncties.

| e. | draagbare of mobiele radiotelefoons voor civiel gebruik, bijvoorbeeld voor toepassing in cellulaire commerciële civiele radiocommunicatiesystemen, niet geschikt voor eind-tot-eindversleuteling; |
| --- | --- |

e.

draagbare of mobiele radiotelefoons voor civiel gebruik, bijvoorbeeld voor toepassing in cellulaire commerciële civiele radiocommunicatiesystemen, niet geschikt voor eind-tot-eindversleuteling;

| f. | draadloze telefoonapparatuur die niet geschikt is voor eind-tot-eindversleuteling, waarvan het maximale bereik zonder versterking (d.w.z. één enkele afstand tussen het eindstation en het thuisbasisstation, die niet met elkaar in verbinding staan) volgens de gegevens van de fabrikant minder dan 400 meter is. |
| --- | --- |

f.

draadloze telefoonapparatuur die niet geschikt is voor eind-tot-eindversleuteling, waarvan het maximale bereik zonder versterking (d.w.z. één enkele afstand tussen het eindstation en het thuisbasisstation, die niet met elkaar in verbinding staan) volgens de gegevens van de fabrikant minder dan 400 meter is.

5B2Test-, inspectie- en productieapparatuur

| 5B002a. | Apparatuur speciaal ontworpen voor:






  1. | de "ontwikkeling" van apparatuur of functies, bedoeld in 5A002, 5B002, 5D002 of 5E002, met inbegrip van meet- of testapparatuur; |
| --- | --- | --- |

5B002a.

Apparatuur speciaal ontworpen voor:

1.

de "ontwikkeling" van apparatuur of functies, bedoeld in 5A002, 5B002, 5D002 of 5E002, met inbegrip van meet- of testapparatuur;

| 2. | de "productie" van apparatuur of functies, bedoeld in 5A002, 5B002, 5D002 of 5E002, met inbegrip van meet-, test-, reparatie- of productieapparatuur. |
| --- | --- |

2.

de "productie" van apparatuur of functies, bedoeld in 5A002, 5B002, 5D002 of 5E002, met inbegrip van meet-, test-, reparatie- of productieapparatuur.

| b. | Meetapparatuur, speciaal ontworpen voor het evalueren en valideren van de "informatiebeveiligings"-functies, bedoeld in 5A002 of 5D002. |
| --- | --- |

b.

Meetapparatuur, speciaal ontworpen voor het evalueren en valideren van de "informatiebeveiligings"-functies, bedoeld in 5A002 of 5D002.

5C2Materialen

Geen.

5D2Programmatuur

| 5D002a. | "Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur of "programmatuur", bedoeld in 5A002, 5B002 of 5D002. |
| --- | --- |

5D002a.

"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur of "programmatuur", bedoeld in 5A002, 5B002 of 5D002.

| b. | "Programmatuur" , speciaal ontworpen of aangepast voor het ondersteunen van technologie, bedoeld in 5E002. |
| --- | --- |

b.

"Programmatuur" , speciaal ontworpen of aangepast voor het ondersteunen van technologie, bedoeld in 5E002.

| c. | Specifieke "programmatuur", als hieronder:






  1. | "programmatuur" die de kenmerken heeft of de functies uitoefent of simuleert van de apparatuur, bedoeld in 5A002 of 5B002; |
| --- | --- | --- |

c.

Specifieke "programmatuur", als hieronder:

1.

"programmatuur" die de kenmerken heeft of de functies uitoefent of simuleert van de apparatuur, bedoeld in 5A002 of 5B002;

| 2. | "programmatuur" voor het certificeren van "programmatuur", bedoeld in 5D002.c.1. |
| --- | --- |

2.

"programmatuur" voor het certificeren van "programmatuur", bedoeld in 5D002.c.1.

Noot: In 5D002 is niet bedoeld:

| a. | "programmatuur""noodzakelijk" voor het "gebruik" van apparatuur die krachtens de noot bij 5A002 niet onder embargo valt; |
| --- | --- |

a.

"programmatuur""noodzakelijk" voor het "gebruik" van apparatuur die krachtens de noot bij 5A002 niet onder embargo valt;

| b. | "programmatuur" die een of meer van de functies verschaft van apparatuur die krachtens de noot bij 5A002 niet onder embargo valt. |
| --- | --- |

b.

"programmatuur" die een of meer van de functies verschaft van apparatuur die krachtens de noot bij 5A002 niet onder embargo valt.

5E2Technologie

5E002Technologie overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur of "programmatuur", bedoeld in 5A002, 5B002 of 5D002.

CATEGORIE 6

SENSOREN EN LASERS

6ASystemen, apparatuur en onderdelen

6A001Akoestische apparatuur

| a. | Akoestische systemen voor gebruik ter zee, apparatuur of speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:






  1. | actieve (zend- of zend/ontvang-) systemen, of apparatuur of speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:


  Noot: In 6A001.a.1 worden niet bedoeld:








  a. | echoloden die verticaal onder de apparatuur werken en die geen aftastfunctie van meer dan ± 20° hebben, en die uitsluitend worden gebruikt voor het meten van de waterdiepte of de afstand tot zich onder water of ondergronds bevindende objecten of voor het lokaliseren van vis; |
| --- | --- | --- | --- |

a.

Akoestische systemen voor gebruik ter zee, apparatuur of speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:

1.

actieve (zend- of zend/ontvang-) systemen, of apparatuur of speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:

Noot: In 6A001.a.1 worden niet bedoeld:

a.

echoloden die verticaal onder de apparatuur werken en die geen aftastfunctie van meer dan ± 20° hebben, en die uitsluitend worden gebruikt voor het meten van de waterdiepte of de afstand tot zich onder water of ondergronds bevindende objecten of voor het lokaliseren van vis;

| b. | akoestische bakens, als hieronder:








  1. | akoestische bakens voor noodsignalen; |
| --- | --- | --- |

b.

akoestische bakens, als hieronder:

1.

akoestische bakens voor noodsignalen;

| 2. | «pingers» speciaal ontworpen voor het verplaatsen of het terugkeren naar een positie onder water; |
| --- | --- |

2.

«pingers» speciaal ontworpen voor het verplaatsen of het terugkeren naar een positie onder water;

| a. | breedbaan-dieptemetingssystemen voor het topografisch verkennen van de zeebodem, met de volgende kenmerken:






  1. | ontworpen voor het verrichten van metingen bij een hoek groter dan 20o van de normaal; en |
| --- | --- | --- |

a.

breedbaan-dieptemetingssystemen voor het topografisch verkennen van de zeebodem, met de volgende kenmerken:

1.

ontworpen voor het verrichten van metingen bij een hoek groter dan 20o van de normaal; en

| 2. | ontworpen voor het meten van diepten groter dan 600 m onder de waterspiegel, en |
| --- | --- |

2.

ontworpen voor het meten van diepten groter dan 600 m onder de waterspiegel, en

| 3. | ontworpen:






  a. | voor het integreren van meervoudige bundels waarvan één of meer smaller zijn dan 1,9°, of |
| --- | --- | --- |

3.

ontworpen:

a.

voor het integreren van meervoudige bundels waarvan één of meer smaller zijn dan 1,9°, of

| b. | voor het verschaffen van gegevens met een nauwkeurigheid groter dan 0,3 % van de waterdiepte over de breedte van de baan berekend als het gemiddelde van de afzonderlijke metingen binnen de baan; |
| --- | --- |

b.

voor het verschaffen van gegevens met een nauwkeurigheid groter dan 0,3 % van de waterdiepte over de breedte van de baan berekend als het gemiddelde van de afzonderlijke metingen binnen de baan;

| b. | systemen voor de opsporing of plaatsbepaling van objecten, met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een zendfrequentie lager dan 10 kHz; |
| --- | --- | --- |

b.

systemen voor de opsporing of plaatsbepaling van objecten, met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een zendfrequentie lager dan 10 kHz;

| 2. | een geluidsdrukniveau hoger dan 224 dB (referentie: 1 micropascal op 1 m) voor apparatuur met een werkfrequentie in het gebied van 10 t/m 24 kHz; |
| --- | --- |

2.

een geluidsdrukniveau hoger dan 224 dB (referentie: 1 micropascal op 1 m) voor apparatuur met een werkfrequentie in het gebied van 10 t/m 24 kHz;

| 3. | een geluidsdrukniveau hoger dan 235 dB (referentie: 1 micropascal op 1 m) voor apparatuur met een werkfrequentie in het gebied van 24 t/m 30 kHz; |
| --- | --- |

3.

een geluidsdrukniveau hoger dan 235 dB (referentie: 1 micropascal op 1 m) voor apparatuur met een werkfrequentie in het gebied van 24 t/m 30 kHz;

| 4. | met vorming van bundels kleiner dan 1o op enige as en met een werkfrequentie lager dan 100 kHz; |
| --- | --- |

4.

met vorming van bundels kleiner dan 1o op enige as en met een werkfrequentie lager dan 100 kHz;

| 5. | ontworpen voor een ondubbelzinnig schaalbereik groter dan 5 120 m; of |
| --- | --- |

5.

ontworpen voor een ondubbelzinnig schaalbereik groter dan 5 120 m; of

| 6. | ontworpen om een druk te weerstaan tijdens normaal bedrijf op een diepte van meer dan 1 000 m en met omzetters:






  a. | met dynamische drukcompensatie; |
| --- | --- | --- |

6.

ontworpen om een druk te weerstaan tijdens normaal bedrijf op een diepte van meer dan 1 000 m en met omzetters:

a.

met dynamische drukcompensatie;

| b. | met een transductie-element anders dan loodzirkonaat-titanaat; |
| --- | --- |

b.

met een transductie-element anders dan loodzirkonaat-titanaat;

| c. | akoestische projectors, met inbegrip van omzetters, die piëzo-elektrische, magnetostrictieve, elektrostrictieve, elektrodynamische of hydraulische elementen bevatten die afzonderlijk werken of in een ontworpen combinatie, met één of meer van de volgende kenmerken:


  Noot 1: De embargostatus van akoestische projectors, met inbegrip van omzetters die speciaal zijn ontworpen voor andere apparatuur, wordt bepaald door de embargostatus van die andere apparatuur.



  Noot 2: In 6A001.a.1.c worden niet bedoeld bronnen die het geluid uitsluitend verticaal uitzenden, of mechanische bronnen (bv. door middel van luchtdruk of stoomstoten) of chemische bronnen (bv. door middel van explosieven).







  1. | een momentele uitgestraalde ‧akoestische vermogensdichtheid‧ groter dan 0,01 mW/mm2/Hz voor toestellen die werken bij een frequentie lager dan 10 kHz; |
| --- | --- | --- |

c.

akoestische projectors, met inbegrip van omzetters, die piëzo-elektrische, magnetostrictieve, elektrostrictieve, elektrodynamische of hydraulische elementen bevatten die afzonderlijk werken of in een ontworpen combinatie, met één of meer van de volgende kenmerken:

Noot 1: De embargostatus van akoestische projectors, met inbegrip van omzetters die speciaal zijn ontworpen voor andere apparatuur, wordt bepaald door de embargostatus van die andere apparatuur.

Noot 2: In 6A001.a.1.c worden niet bedoeld bronnen die het geluid uitsluitend verticaal uitzenden, of mechanische bronnen (bv. door middel van luchtdruk of stoomstoten) of chemische bronnen (bv. door middel van explosieven).

1.

een momentele uitgestraalde ‧akoestische vermogensdichtheid‧ groter dan 0,01 mW/mm2/Hz voor toestellen die werken bij een frequentie lager dan 10 kHz;

| 2. | een continu uitgestraalde ‧akoestische vermogensdichtheid‧ groter dan 0,001 mW/mm2/Hz voor toestellen die werken bij een frequentie lager dan 10 kHz; |
| --- | --- |

2.

een continu uitgestraalde ‧akoestische vermogensdichtheid‧ groter dan 0,001 mW/mm2/Hz voor toestellen die werken bij een frequentie lager dan 10 kHz;

Technische noot:

De ‧akoestische vermogensdichtheid‧ wordt verkregen door het akoestische uitgangsvermogen te delen door het product van uitstralend oppervlak en de werkfrequentie.

| 3. | met onderdrukking van de zijlobben van meer dan 22 dB; |
| --- | --- |

3.

met onderdrukking van de zijlobben van meer dan 22 dB;

| d. | akoestische systemen, apparatuur en speciaal ontworpen onderdelen voor het lokaliseren van oppervlaktevaartuigen of onderwatervaartuigen, ontworpen om te werken over een bereik van meer dan 1 000 m met een effectieve (rms) positionele nauwkeurigheid kleiner dan 10 m wanneer wordt gemeten op een afstand van 1 000 m;


  Noot: In 6A001.a.1.d wordt mede bedoeld:








  a. | apparatuur die gebruikmaakt van coherente "signaal-verwerking" tussen twee of meer bakens en de door het oppervlakte- of onderwatervaartuig meegevoerde hydrofooneenheid; |
| --- | --- | --- |

d.

akoestische systemen, apparatuur en speciaal ontworpen onderdelen voor het lokaliseren van oppervlaktevaartuigen of onderwatervaartuigen, ontworpen om te werken over een bereik van meer dan 1 000 m met een effectieve (rms) positionele nauwkeurigheid kleiner dan 10 m wanneer wordt gemeten op een afstand van 1 000 m;

Noot: In 6A001.a.1.d wordt mede bedoeld:

a.

apparatuur die gebruikmaakt van coherente "signaal-verwerking" tussen twee of meer bakens en de door het oppervlakte- of onderwatervaartuig meegevoerde hydrofooneenheid;

| b. | apparatuur die geschikt is voor het automatisch corrigeren van voortplantingssnelheidsfouten voor de berekening van een plaats. |
| --- | --- |

b.

apparatuur die geschikt is voor het automatisch corrigeren van voortplantingssnelheidsfouten voor de berekening van een plaats.

| 2. | passieve (ontvangertype, al dan niet gewoonlijk toegepast tezamen met afzonderlijke actieve apparatuur) systemen, apparatuur of speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:






  a. | hydrofoons met één of meer van de volgende kenmerken:


  Noot: De embargostatus van hydrofoons die speciaal zijn ontworpen voor andere apparatuur, wordt bepaald door de embargostatus van die andere apparatuur.







  1. | met doorlopende flexibele sensorelementen; |
| --- | --- | --- | --- |

2.

passieve (ontvangertype, al dan niet gewoonlijk toegepast tezamen met afzonderlijke actieve apparatuur) systemen, apparatuur of speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:

a.

hydrofoons met één of meer van de volgende kenmerken:

Noot: De embargostatus van hydrofoons die speciaal zijn ontworpen voor andere apparatuur, wordt bepaald door de embargostatus van die andere apparatuur.

1.

met doorlopende flexibele sensorelementen;

| 2. | met flexibele samenstellingen van afzonderlijke sensorelementen waarvan ofwel de diameter ofwel de lengte kleiner is dan 20 mm en waarbij de scheiding tussen de elementen kleiner is dan 20 mm; |
| --- | --- |

2.

met flexibele samenstellingen van afzonderlijke sensorelementen waarvan ofwel de diameter ofwel de lengte kleiner is dan 20 mm en waarbij de scheiding tussen de elementen kleiner is dan 20 mm;

| 3. | met één of meer van de volgende sensorelementen:






  a. | glasvezels, |
| --- | --- | --- |

3.

met één of meer van de volgende sensorelementen:

a.

glasvezels,

| b. | "piëzo-elektrische polymeerfolies" niet gemaakt van polyvinylideenfluoride (PVDF) en zijn copolymeren {P(VDF-TrFE) en P(VDF-TFE)}; of |
| --- | --- |

b.

"piëzo-elektrische polymeerfolies" niet gemaakt van polyvinylideenfluoride (PVDF) en zijn copolymeren {P(VDF-TrFE) en P(VDF-TFE)}; of

| c. | flexibele piëzo-elektrische composieten; |
| --- | --- |

c.

flexibele piëzo-elektrische composieten;

| 4. | met een ‧gevoeligheid van de hydrofoon‧ beter dan -180 dB op iedere diepte zonder versnellingscompensatie; |
| --- | --- |

4.

met een ‧gevoeligheid van de hydrofoon‧ beter dan -180 dB op iedere diepte zonder versnellingscompensatie;

| 5. | indien ontworpen voor werkdiepten groter dan 35 m met versnellingscompensatie; of |
| --- | --- |

5.

indien ontworpen voor werkdiepten groter dan 35 m met versnellingscompensatie; of

| 6. | ontworpen om te werken bij een diepte groter dan 1 000 m; |
| --- | --- |

6.

ontworpen om te werken bij een diepte groter dan 1 000 m;

Technische Noot:

| 1. | De sensorelementen van de "piëzo-elektrische polymeerfolie" bestaan in een gepolariseerde polymeerfolie die over een dragend frame of dragende spoel (as) wordt gespannen en daaraan wordt bevestigd. |
| --- | --- |

1.

De sensorelementen van de "piëzo-elektrische polymeerfolie" bestaan in een gepolariseerde polymeerfolie die over een dragend frame of dragende spoel (as) wordt gespannen en daaraan wordt bevestigd.

| 2. | "Flexibele piëzo-elektrische composieten" zijn piëzo-elektrische ceramische deeltjes of vezels, gecombineerd met een elektrisch geïsoleerde en akoestisch transparant rubber-, polymeer- of epoxy-mengsel waarbij het mengsel integrerend deel uitmaakt van de sensorelementen. |
| --- | --- |

2.

"Flexibele piëzo-elektrische composieten" zijn piëzo-elektrische ceramische deeltjes of vezels, gecombineerd met een elektrisch geïsoleerde en akoestisch transparant rubber-, polymeer- of epoxy-mengsel waarbij het mengsel integrerend deel uitmaakt van de sensorelementen.

| 3. | Onder de ‧gevoeligheid van een hydrofoon‧ wordt verstaan: 20-maal de logaritme bij het grondgetal 10 van de verhouding tussen de effectieve (rms) uitgangsspanning en een effectieve (rms) referentiespanning van 1 V, als de hydrofoonsensor zonder voorversterker wordt geplaatst in een akoestisch veld met vlakke golffronten met een effectieve (rms) druk van 1 micropascal. Bijvoorbeeld: een hydrofoon met een gevoeligheid van – 160 dB (referentie: 1 V per micropascal) zal in een dergelijk veld een uitgangsspanning afgeven van 10-8 V, terwijl een hydrofoon met een gevoeligheid van – 180 dB een uitgangsspanning zal afgeven van slechts 10-9 V. Dientengevolge is – 160 dB beter dan – 180 dB. |
| --- | --- |

3.

Onder de ‧gevoeligheid van een hydrofoon‧ wordt verstaan: 20-maal de logaritme bij het grondgetal 10 van de verhouding tussen de effectieve (rms) uitgangsspanning en een effectieve (rms) referentiespanning van 1 V, als de hydrofoonsensor zonder voorversterker wordt geplaatst in een akoestisch veld met vlakke golffronten met een effectieve (rms) druk van 1 micropascal. Bijvoorbeeld: een hydrofoon met een gevoeligheid van – 160 dB (referentie: 1 V per micropascal) zal in een dergelijk veld een uitgangsspanning afgeven van 10-8 V, terwijl een hydrofoon met een gevoeligheid van – 180 dB een uitgangsspanning zal afgeven van slechts 10-9 V. Dientengevolge is – 160 dB beter dan – 180 dB.

| b. | gesleepte samenstellen van regelmatig gerangschikte akoestische hydrofoons («towed acoustic hydrophone arrays») met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een onderlinge afstand tussen de hydrofoongroepen van minder dan 12,5 m of ‧aanpasbaar‧ zodat de onderlinge afstand tussen de hydrofoongroepen minder dan 12,5 m bedraagt; |
| --- | --- | --- |

b.

gesleepte samenstellen van regelmatig gerangschikte akoestische hydrofoons («towed acoustic hydrophone arrays») met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een onderlinge afstand tussen de hydrofoongroepen van minder dan 12,5 m of ‧aanpasbaar‧ zodat de onderlinge afstand tussen de hydrofoongroepen minder dan 12,5 m bedraagt;

| 2. | ontworpen voor of ‧aanpasbaar‧ voor werkdiepten groter dan 35 m;
  Technische noot:

  Onder ‧aanpasbaar‧ wordt in 6A001.a.2.b.1. en 2 verstaan dat er voorzieningen zijn getroffen waardoor het mogelijk is de onderlinge afstand tussen de hydrofoongroepen of de limiet van de werkdiepte te wijzigen door een wijziging in de elektrische bedrading of onderlinge verbindingen. Deze voorzieningen bestaan uit: reservebedrading uitgaande boven 10 % van het aantal draden, blokken voor aanpassing van de onderlinge afstand van de hydrofoongroepen of inwendige dieptebegrenzingselementen die verstelbaar zijn of meer dan één hydrofoongroep regelen. |
| --- | --- |

2.

ontworpen voor of ‧aanpasbaar‧ voor werkdiepten groter dan 35 m;

Technische noot:

Onder ‧aanpasbaar‧ wordt in 6A001.a.2.b.1. en 2 verstaan dat er voorzieningen zijn getroffen waardoor het mogelijk is de onderlinge afstand tussen de hydrofoongroepen of de limiet van de werkdiepte te wijzigen door een wijziging in de elektrische bedrading of onderlinge verbindingen. Deze voorzieningen bestaan uit: reservebedrading uitgaande boven 10 % van het aantal draden, blokken voor aanpassing van de onderlinge afstand van de hydrofoongroepen of inwendige dieptebegrenzingselementen die verstelbaar zijn of meer dan één hydrofoongroep regelen.

| 3. | richtingssensoren als bedoeld in 6A001.a.2.d; |
| --- | --- |

3.

richtingssensoren als bedoeld in 6A001.a.2.d;

| 4. | overlangs versterkte «array»-omhulsels; |
| --- | --- |

4.

overlangs versterkte «array»-omhulsels;

| 5. | een samengestelde «array» waarvan de diameter kleiner is dan 40 mm; |
| --- | --- |

5.

een samengestelde «array» waarvan de diameter kleiner is dan 40 mm;

| 6. | met multiplexverzending van de signalen van de hydrofoongroep ontworpen voor werking op diepten van meer dan 35 m en met verstelbare of afneembare dieptesensoren, om te kunnen werken op diepten van meer dan 35 m; of |
| --- | --- |

6.

met multiplexverzending van de signalen van de hydrofoongroep ontworpen voor werking op diepten van meer dan 35 m en met verstelbare of afneembare dieptesensoren, om te kunnen werken op diepten van meer dan 35 m; of

| 7. | met kenmerken van de hydrofoon als omschreven in 6A001.a.2.a; |
| --- | --- |

7.

met kenmerken van de hydrofoon als omschreven in 6A001.a.2.a;

| c. | verwerkingsapparatuur, speciaal ontworpen voor gesleepte samenstellen van regelmatig gerangschikte hydrofoons («towed hydrophone arrays»), met "toegankelijkheid van het programma voor de gebruiker" en verwerking en correlatie van tijd- of frequentiedomeinen, met inbegrip van spectrumanalyse, digitale filtering en bundelvorming met toepassing van snelle Fourier-transformatie («Fast Fourier transform») of andere herleidingen of processen; |
| --- | --- |

c.

verwerkingsapparatuur, speciaal ontworpen voor gesleepte samenstellen van regelmatig gerangschikte hydrofoons («towed hydrophone arrays»), met "toegankelijkheid van het programma voor de gebruiker" en verwerking en correlatie van tijd- of frequentiedomeinen, met inbegrip van spectrumanalyse, digitale filtering en bundelvorming met toepassing van snelle Fourier-transformatie («Fast Fourier transform») of andere herleidingen of processen;

| d. | richtingsensoren






  1. | met een nauwkeurigheid beter dan ± 0,5o, en |
| --- | --- | --- |

d.

richtingsensoren

1.

met een nauwkeurigheid beter dan ± 0,5o, en

| 2. | ontworpen om te kunnen werken bij een diepte groter dan 35 m of met een regelbaar of te verwijderen dieptesensorelement om te kunnen werken op diepten groter dan 35 m; |
| --- | --- |

2.

ontworpen om te kunnen werken bij een diepte groter dan 35 m of met een regelbaar of te verwijderen dieptesensorelement om te kunnen werken op diepten groter dan 35 m;

| e. | bodemkabelsystemen met een van de volgende kenmerken:






  1. | met ingebouwde hydrofoons als vermeld in 6A001.a.2.a; of |
| --- | --- | --- |

e.

bodemkabelsystemen met een van de volgende kenmerken:

1.

met ingebouwde hydrofoons als vermeld in 6A001.a.2.a; of

| 2. | met ingebouwde multiplex-verzendingsmodules voor de signalen van de hydrofoongroep, met alle volgende kenmerken:






  a. | ontworpen om te kunnen werken op een diepte van meer dan 35 m of met een verstelbare of afneembare dieptesensor om te kunnen werken op diepten van meer dan 35 m; |
| --- | --- | --- |

2.

met ingebouwde multiplex-verzendingsmodules voor de signalen van de hydrofoongroep, met alle volgende kenmerken:

a.

ontworpen om te kunnen werken op een diepte van meer dan 35 m of met een verstelbare of afneembare dieptesensor om te kunnen werken op diepten van meer dan 35 m;

| b. | ontworpen om operationeel te kunnen worden uitgewisseld met gesleepte samenstellen van regelmatig gerangschikte akoestische hydrofoons («towed acoustic hydrophone array»-modules); |
| --- | --- |

b.

ontworpen om operationeel te kunnen worden uitgewisseld met gesleepte samenstellen van regelmatig gerangschikte akoestische hydrofoons («towed acoustic hydrophone array»-modules);

| f. | verwerkingsapparatuur, speciaal ontworpen voor bodemkabelsystemen, met "toegankelijkheid van het programma voor de gebruiker" en verwerking en correlatie van tijd- of frequentiedomeinen, met inbegrip van spectrumanalyse, digitale filtering en bundelvorming met toepassing van snelle Fourier-transformatie of andere herleidingen of processen. |
| --- | --- |

f.

verwerkingsapparatuur, speciaal ontworpen voor bodemkabelsystemen, met "toegankelijkheid van het programma voor de gebruiker" en verwerking en correlatie van tijd- of frequentiedomeinen, met inbegrip van spectrumanalyse, digitale filtering en bundelvorming met toepassing van snelle Fourier-transformatie of andere herleidingen of processen.

| b. | Sonar-logapparatuur voor correlatiesnelheidsbepaling, ontworpen voor het meten van de horizontale snelheid van de drager van de apparatuur ten opzichte van de zeebodem bij een afstand tussen de drager en de zeebodem groter dan 500 m. |
| --- | --- |

b.

Sonar-logapparatuur voor correlatiesnelheidsbepaling, ontworpen voor het meten van de horizontale snelheid van de drager van de apparatuur ten opzichte van de zeebodem bij een afstand tussen de drager en de zeebodem groter dan 500 m.

6A002Optische sensoren

NB: ZIE OOK 6A102

| a. | Optische detectoren, als hieronder:


  Noot: In 6A002.a worden niet bedoeld lichtgevoelige elementen van germanium of silicium.


  NB: Microbolometer "focal plane arrays", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", op basis van silicium en ander materiaal, worden uitsluitend vermeld in 6A002.a.3.f.







  1. | voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde vaste-stofdetectoren, als hieronder:






  a. | voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde vaste-stofdetectoren met de volgende kenmerken:






  1. | een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 10 nm maar niet meer dan 300 nm; en |
| --- | --- | --- | --- | --- |

a.

Optische detectoren, als hieronder:

Noot: In 6A002.a worden niet bedoeld lichtgevoelige elementen van germanium of silicium.

NB: Microbolometer "focal plane arrays", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", op basis van silicium en ander materiaal, worden uitsluitend vermeld in 6A002.a.3.f.

1.

voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde vaste-stofdetectoren, als hieronder:

a.

voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde vaste-stofdetectoren met de volgende kenmerken:

1.

een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 10 nm maar niet meer dan 300 nm; en

| 2. | een reactie van minder dan 0,1 % ten opzichte van de grootste gevoeligheid bij een golflengte groter dan 400 nm; |
| --- | --- |

2.

een reactie van minder dan 0,1 % ten opzichte van de grootste gevoeligheid bij een golflengte groter dan 400 nm;

| b. | voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde vaste-stofdetectoren met de volgende kenmerken:






  1. | een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 900 nm doch niet meer dan 1 200 nm; en |
| --- | --- | --- |

b.

voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde vaste-stofdetectoren met de volgende kenmerken:

1.

een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 900 nm doch niet meer dan 1 200 nm; en

| 2. | een "reactietijdconstante" van 95 ns of minder; |
| --- | --- |

2.

een "reactietijdconstante" van 95 ns of minder;

| c. | voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde vaste-stofdetectoren met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 1 200 nm doch niet meer dan 30 000 nm; |
| --- | --- |

c.

voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde vaste-stofdetectoren met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 1 200 nm doch niet meer dan 30 000 nm;

| 2. | beeldversterkerbuizen en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor, als hieronder:






  a. | beeldversterkerbuizen met alle volgende kenmerken:






  1. | een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 400 nm doch niet meer dan 1 050 nm; |
| --- | --- | --- | --- |

2.

beeldversterkerbuizen en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor, als hieronder:

a.

beeldversterkerbuizen met alle volgende kenmerken:

1.

een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 400 nm doch niet meer dan 1 050 nm;

| 2. | een microkanalenplaat voor elektronische beeldversterking met een afstand tussen de gaten (kanalen) (hart op hart gemeten) van minder dan 15 micrometer; en |
| --- | --- |

2.

een microkanalenplaat voor elektronische beeldversterking met een afstand tussen de gaten (kanalen) (hart op hart gemeten) van minder dan 15 micrometer; en

| 3. | één of meer van de volgende fotokathoden:






  a. | een S-20, S-25 of multi-alkali-fotokathode met een lichtgevoeligheid van meer dan 350 μA/lm; of |
| --- | --- | --- |

3.

één of meer van de volgende fotokathoden:

a.

een S-20, S-25 of multi-alkali-fotokathode met een lichtgevoeligheid van meer dan 350 μA/lm; of

| b. | een GaAs- of GaInAs-fotokathode; of |
| --- | --- |

b.

een GaAs- of GaInAs-fotokathode; of

| c. | andere op III-V-verbindingen gebaseerde halfgeleiderfotokathoden;


  Noot: 6A002.a.2.a.3.c is niet van toepassing op dergelijke kathoden wanneer hun stralingsgevoeligheid maximaal 10 mA/W bedraagt. |
| --- | --- |

c.

andere op III-V-verbindingen gebaseerde halfgeleiderfotokathoden;

Noot: 6A002.a.2.a.3.c is niet van toepassing op dergelijke kathoden wanneer hun stralingsgevoeligheid maximaal 10 mA/W bedraagt.

| b. | speciaal ontworpen onderdelen, als hieronder:






  1. | microkanalenplaten met afstand tussen de gaten (kanalen) (hart op hart gemeten) van 12 micrometer of minder; |
| --- | --- | --- |

b.

speciaal ontworpen onderdelen, als hieronder:

1.

microkanalenplaten met afstand tussen de gaten (kanalen) (hart op hart gemeten) van 12 micrometer of minder;

| 2. | GaAs- of GaInAs-fotokathoden; |
| --- | --- |

2.

GaAs- of GaInAs-fotokathoden;

| 3. | andere op III/V-verbindingen gebaseerde halfgeleiderfotokathoden;


  Noot: 6A002.a.2.b.3 is niet van toepassing op dergelijke kathoden wanneer hun stralingsgevoeligheid maximaal 10 mA/W bedraagt. |
| --- | --- |

3.

andere op III/V-verbindingen gebaseerde halfgeleiderfotokathoden;

Noot: 6A002.a.2.b.3 is niet van toepassing op dergelijke kathoden wanneer hun stralingsgevoeligheid maximaal 10 mA/W bedraagt.

| 3. | "«focal plane arrays»", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", als hieronder:

  NB: Microbolometer "focal plane arrays", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", op basis van silicium en ander materiaal, worden uitsluitend vermeld in 6A002.a.3.f.

  Technische noten:







  1. | Lineaire of tweedimensionale uit verscheidene elementen bestaande detector arrays worden "«focal plane arrays»" genoemd. |
| --- | --- | --- |

3.

"«focal plane arrays»", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", als hieronder:

NB: Microbolometer "focal plane arrays", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", op basis van silicium en ander materiaal, worden uitsluitend vermeld in 6A002.a.3.f.

Technische noten:

1.

Lineaire of tweedimensionale uit verscheidene elementen bestaande detector arrays worden "«focal plane arrays»" genoemd.

| 2. | Voor de toepassing van 6A002.a.3 wordt onder "scanbreedterichting" ("cross scan direction") verstaan de as die parallel loopt aan de lineaire array van detectorelementen, en wordt onder de "scanrichting" ("scan direction") verstaan de as die loodrecht staat op de lineaire array van detectorelementen. |
| --- | --- |

2.

Voor de toepassing van 6A002.a.3 wordt onder "scanbreedterichting" ("cross scan direction") verstaan de as die parallel loopt aan de lineaire array van detectorelementen, en wordt onder de "scanrichting" ("scan direction") verstaan de as die loodrecht staat op de lineaire array van detectorelementen.

Noot 1: In 6A002.a.3 zijn mede bedoeld fotogeleidende en fotovoltaïsche «arrays».

Noot 2: Niet bedoeld in 6A002.a.3 zijn

| a. | omhulde, uit meerdere elementen (maximaal 16 elementen) bestaande fotogeleidende cellen waarbij gebruik wordt gemaakt van loodsulfide of loodselenide; |
| --- | --- |

a.

omhulde, uit meerdere elementen (maximaal 16 elementen) bestaande fotogeleidende cellen waarbij gebruik wordt gemaakt van loodsulfide of loodselenide;

| b. | pyro-elektrische detectoren waarbij één of meer van de volgende materialen zijn gebruikt:








  1. | triglycinesulfaat en varianten daarvan; |
| --- | --- | --- |

b.

pyro-elektrische detectoren waarbij één of meer van de volgende materialen zijn gebruikt:

1.

triglycinesulfaat en varianten daarvan;

| 2. | lood-lanthaan-zirkoniumtitanaat en varianten daarvan; |
| --- | --- |

2.

lood-lanthaan-zirkoniumtitanaat en varianten daarvan;

| 3. | lithiumtantalaat; |
| --- | --- |

3.

lithiumtantalaat;

| 4. | polyvinylideenfluoride en varianten daarvan; of |
| --- | --- |

4.

polyvinylideenfluoride en varianten daarvan; of

| 5. | strontium-bariumniobaat en varianten daarvan. |
| --- | --- |

5.

strontium-bariumniobaat en varianten daarvan.

| a. | "«focal plane arrays»", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", met alle volgende kenmerken:






  1. | afzonderlijke elementen met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 900 nm doch niet meer dan 1 050 nm; en |
| --- | --- | --- |

a.

"«focal plane arrays»", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", met alle volgende kenmerken:

1.

afzonderlijke elementen met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 900 nm doch niet meer dan 1 050 nm; en

| 2. | een "reactietijdconstante" van minder dan 0,5 ns; |
| --- | --- |

2.

een "reactietijdconstante" van minder dan 0,5 ns;

| b. | "focal plane arrays", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", met de volgende kenmerken:






  1. | afzonderlijke elementen met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 1 050 nm doch niet meer dan 1 200 nm; en |
| --- | --- | --- |

b.

"focal plane arrays", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", met de volgende kenmerken:

1.

afzonderlijke elementen met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 1 050 nm doch niet meer dan 1 200 nm; en

| 2. | een "reactietijdconstante" van 95 ns of minder; |
| --- | --- |

2.

een "reactietijdconstante" van 95 ns of minder;

| c. | "«focal plane arrays»", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", niet-lineair (tweedimensionaal), met afzonderlijke elementen met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 1 200 nm doch niet meer dan 30 000 nm;


  NB: Microbolometer "focal plane arrays", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", op basis van silicium en ander materiaal, worden uitsluitend vermeld in 6A002.a.3.f. |
| --- | --- |

c.

"«focal plane arrays»", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", niet-lineair (tweedimensionaal), met afzonderlijke elementen met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 1 200 nm doch niet meer dan 30 000 nm;

NB: Microbolometer "focal plane arrays", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", op basis van silicium en ander materiaal, worden uitsluitend vermeld in 6A002.a.3.f.

| d. | "«focal plane arrays»", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", lineair (eendimensionaal), met alle volgende kenmerken:






  1. | afzonderlijke elementen met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 1 200 nm, doch niet meer dan 2 500 nm; en |
| --- | --- | --- |

d.

"«focal plane arrays»", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", lineair (eendimensionaal), met alle volgende kenmerken:

1.

afzonderlijke elementen met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 1 200 nm, doch niet meer dan 2 500 nm; en

| 2. | één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een verhouding van de scanrichtingdimensie van het detectorelement tot de scanbreedterichtingdimensie van het detectorelement van minder dan 3,8; of |
| --- | --- | --- |

2.

één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een verhouding van de scanrichtingdimensie van het detectorelement tot de scanbreedterichtingdimensie van het detectorelement van minder dan 3,8; of

| b. | signaalverwerking in het element (SPRITE); |
| --- | --- |

b.

signaalverwerking in het element (SPRITE);

| e. | "«focal plane arrays»", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", lineair (eendimensionaal), met afzonderlijke elementen met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 2 500 nm, doch niet meer dan 30 000 nm; |
| --- | --- |

e.

"«focal plane arrays»", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", lineair (eendimensionaal), met afzonderlijke elementen met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 2 500 nm, doch niet meer dan 30 000 nm;

| f. | infrarode "‹focal plane arrays›", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", niet-lineair (tweedimensionaal), gebaseerd op ‧microbolometer‧-materiaal, met afzonderlijke elementen, reactie zonder filter bij een golflengte van 8 000 nm of meer, doch niet meer dan 14 000 nm.
  Technische noot:

  Voor de toepassing van 6A002.a.3.f wordt onder ‧microbolometer‧ verstaan een thermische beelddetector die, als gevolg van een wijziging van de temperatuur in de detector door de absorptie van infrarode straling, een bruikbaar signaal genereert. |
| --- | --- |

f.

infrarode "‹focal plane arrays›", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", niet-lineair (tweedimensionaal), gebaseerd op ‧microbolometer‧-materiaal, met afzonderlijke elementen, reactie zonder filter bij een golflengte van 8 000 nm of meer, doch niet meer dan 14 000 nm.

Technische noot:

Voor de toepassing van 6A002.a.3.f wordt onder ‧microbolometer‧ verstaan een thermische beelddetector die, als gevolg van een wijziging van de temperatuur in de detector door de absorptie van infrarode straling, een bruikbaar signaal genereert.

| b. | "Monospectrale beeldsensoren" en "multispectrale beeldsensoren", ontworpen voor toepassing bij het aftasten op afstand, met één van beide volgende kenmerken:






  1. | een momenteel gezichtsveld («Instantaneous-Field-of-View», IFOV) kleiner dan 200 microradiaal; of |
| --- | --- | --- |

b.

"Monospectrale beeldsensoren" en "multispectrale beeldsensoren", ontworpen voor toepassing bij het aftasten op afstand, met één van beide volgende kenmerken:

1.

een momenteel gezichtsveld («Instantaneous-Field-of-View», IFOV) kleiner dan 200 microradiaal; of

| 2. | gespecificeerd om te werken bij golflengten van meer dan 400 nm doch niet meer dan 30 000 nm; en







  a. | de uitgevoerde beeldgegevens zijn digitaal opgemaakt; en |
| --- | --- | --- |

2.

gespecificeerd om te werken bij golflengten van meer dan 400 nm doch niet meer dan 30 000 nm; en

a.

de uitgevoerde beeldgegevens zijn digitaal opgemaakt; en

| b. | 1. | de sensoren zijn "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", of |
| --- | --- | --- |

b.

1.

de sensoren zijn "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", of

| 2. | ontworpen voor gebruik in de lucht, gebruikmakend van andere dan siliciumdetectoren, en met een momenteel gezichtsveld (IFOV)) van minder dan 2,5 milliradiaal. |
| --- | --- |

2.

ontworpen voor gebruik in de lucht, gebruikmakend van andere dan siliciumdetectoren, en met een momenteel gezichtsveld (IFOV)) van minder dan 2,5 milliradiaal.

| c. | Apparatuur voor "directe beeldvorming", werkend in het zichtbare of infrarode spectrum, met één van beide volgende artikelen:






  1. | beeldversterkingsbuizen, vermeld in 6A002.a.2; of |
| --- | --- | --- |

c.

Apparatuur voor "directe beeldvorming", werkend in het zichtbare of infrarode spectrum, met één van beide volgende artikelen:

1.

beeldversterkingsbuizen, vermeld in 6A002.a.2; of

| 2. | "«focal plane arrays»", vermeld in 6A002.a.3. |
| --- | --- |

2.

"«focal plane arrays»", vermeld in 6A002.a.3.

Technische noot:

Met directe beeldvorming wordt bedoeld beeldapparatuur werkend in het zichtbare of infrarode spectrum, die de menselijke waarnemer een visueel beeld geeft zonder omzetting van het beeld in een elektronisch signaal voor televisieweergave en die het beeld noch fotografisch, noch elektronisch noch op enige andere wijze kan registreren of opslaan.

Noot: Niet bedoeld wordt in 6A002.c onderstaande apparatuur met fotokathoden anders dan van GaAs of GaInAs:

| a. | inbraakalarmsystemen voor industriële of civiele toepassing of systemen voor het regelen en tellen van bewegingen in het verkeer of in de industrie; |
| --- | --- |

a.

inbraakalarmsystemen voor industriële of civiele toepassing of systemen voor het regelen en tellen van bewegingen in het verkeer of in de industrie;

| b. | medische apparatuur; |
| --- | --- |

b.

medische apparatuur;

| c. | industriële apparatuur die wordt gebruikt voor inspectie, selectie of analyse van de eigenschappen van materialen; |
| --- | --- |

c.

industriële apparatuur die wordt gebruikt voor inspectie, selectie of analyse van de eigenschappen van materialen;

| d. | vlamdetectors voor industriële ovens; |
| --- | --- |

d.

vlamdetectors voor industriële ovens;

| e. | apparatuur die speciaal is ontworpen voor gebruik in het laboratorium. |
| --- | --- |

e.

apparatuur die speciaal is ontworpen voor gebruik in het laboratorium.

| d. | Speciale ondersteunende onderdelen voor optische sensoren, als hieronder:






  1. | "voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" cryogene koelers; |
| --- | --- | --- |

d.

Speciale ondersteunende onderdelen voor optische sensoren, als hieronder:

1.

"voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" cryogene koelers;

| 2. | niet "voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" cryogene koelers met een koelbrontemperatuur lager dan 218 K (– 5 °C), als hieronder:






  a. | met een gesloten kringloop met een gespecificeerd gemiddeld interval vóór storing (MTTF) of gemiddeld storingsvrij interval (MTBF) groter dan 2 500 uur; |
| --- | --- | --- |

2.

niet "voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" cryogene koelers met een koelbrontemperatuur lager dan 218 K (– 5 °C), als hieronder:

a.

met een gesloten kringloop met een gespecificeerd gemiddeld interval vóór storing (MTTF) of gemiddeld storingsvrij interval (MTBF) groter dan 2 500 uur;

| b. | zelfregulerende Joule-Thomson (JT)-minikoelers voor een boorgat met een middellijn kleiner dan 8 mm; |
| --- | --- |

b.

zelfregulerende Joule-Thomson (JT)-minikoelers voor een boorgat met een middellijn kleiner dan 8 mm;

| 3. | glasvezels voor aftasten die qua samenstelling of structuur speciaal zo zijn geconstrueerd of door bekleding zodanig aangepast dat zij akoestische, thermische, traagheids- of elektromagnetische gevoeligheid bezitten of gevoeligheid voor nucleaire straling. |
| --- | --- |

3.

glasvezels voor aftasten die qua samenstelling of structuur speciaal zo zijn geconstrueerd of door bekleding zodanig aangepast dat zij akoestische, thermische, traagheids- of elektromagnetische gevoeligheid bezitten of gevoeligheid voor nucleaire straling.

| e. | "Voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde""«focal plane arrays»" met meer dan 2 048 elementen per array en een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 300 nm doch niet meer dan 900 nm. |
| --- | --- |

e.

"Voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde""«focal plane arrays»" met meer dan 2 048 elementen per array en een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 300 nm doch niet meer dan 900 nm.

6A003Camera’s

NB: ZIE OOK 6A203

NB: Zie 8A002.d en 8A002.e voor camera’s die speciaal zijn ontworpen of aangepast voor gebruik onder water.

| a. | Instrumentatiecamera’s en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:


  Noot: De in 6A003.a.3. tot en met 6A003.a.5. bedoelde instrumentatiecamera’s met modulaire structuren moeten worden beoordeeld op hun maximumcapaciteit door gebruik te maken van «plug-ins» die overeenkomstig de specificaties van de fabrikant van de camera beschikbaar zijn.







  1. | filmcamera’s voor hoge opnamesnelheden waarbij gebruik wordt gemaakt van elk filmformaat van 8 tot en met 16 mm, waarin de film gedurende de registratietijd ononderbroken wordt voortbewogen en geschikt voor opnamesnelheden van meer dan 13 150 beelden per seconde;


  Noot: Niet bedoeld worden in 6A003.a.1 filmcamera’s die voor civiele doeleinden ontworpen zijn. |
| --- | --- | --- |

a.

Instrumentatiecamera’s en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:

Noot: De in 6A003.a.3. tot en met 6A003.a.5. bedoelde instrumentatiecamera’s met modulaire structuren moeten worden beoordeeld op hun maximumcapaciteit door gebruik te maken van «plug-ins» die overeenkomstig de specificaties van de fabrikant van de camera beschikbaar zijn.

1.

filmcamera’s voor hoge opnamesnelheden waarbij gebruik wordt gemaakt van elk filmformaat van 8 tot en met 16 mm, waarin de film gedurende de registratietijd ononderbroken wordt voortbewogen en geschikt voor opnamesnelheden van meer dan 13 150 beelden per seconde;

Noot: Niet bedoeld worden in 6A003.a.1 filmcamera’s die voor civiele doeleinden ontworpen zijn.

| 2. | mechanische camera’s voor hoge opnamesnelheden waarin de film niet wordt voortbewogen, en geschikt voor opnamesnelheden van meer dan 1 000 000 beelden per seconde bij volle beeldhoogte van standaard 35 mm-film of naar verhouding hogere snelheden bij een kleinere beeldhoogte, of lagere snelheden bij een grotere beeldhoogte; |
| --- | --- |

2.

mechanische camera’s voor hoge opnamesnelheden waarin de film niet wordt voortbewogen, en geschikt voor opnamesnelheden van meer dan 1 000 000 beelden per seconde bij volle beeldhoogte van standaard 35 mm-film of naar verhouding hogere snelheden bij een kleinere beeldhoogte, of lagere snelheden bij een grotere beeldhoogte;

| 3. | mechanische of elektronische «streak»-camera’s met opnamesnelheden groter dan 10 mm per microseconde; |
| --- | --- |

3.

mechanische of elektronische «streak»-camera’s met opnamesnelheden groter dan 10 mm per microseconde;

| 4. | elektronische beeld-(«framing»-) camera’s met een snelheid groter dan 1 000 000 beelden per seconde; |
| --- | --- |

4.

elektronische beeld-(«framing»-) camera’s met een snelheid groter dan 1 000 000 beelden per seconde;

| 5. | elektronische camera’s met:






  a. | een elektronische sluitertijd (venstervermogen) van minder dan 1 microseconde per volledig beeld; en |
| --- | --- | --- |

5.

elektronische camera’s met:

a.

een elektronische sluitertijd (venstervermogen) van minder dan 1 microseconde per volledig beeld; en

| b. | een uitleestijd die een opnamesnelheid van meer dan 125 volledige beelden per seconde mogelijk maakt; |
| --- | --- |

b.

een uitleestijd die een opnamesnelheid van meer dan 125 volledige beelden per seconde mogelijk maakt;

| 6. | «Plug-ins», met alle volgende kenmerken:






  a. | speciaal ontworpen voor instrumentatiecamera’s met modulaire structuren en als vermeld in 6A003.a; en |
| --- | --- | --- |

6.

«Plug-ins», met alle volgende kenmerken:

a.

speciaal ontworpen voor instrumentatiecamera’s met modulaire structuren en als vermeld in 6A003.a; en

| b. | waarmee die camera’s beantwoorden aan de kenmerken, vermeld in 6A003.a.3., 6A003.a.4. of 6A003.a.5., overeenkomstig de specificaties van de fabrikant. |
| --- | --- |

b.

waarmee die camera’s beantwoorden aan de kenmerken, vermeld in 6A003.a.3., 6A003.a.4. of 6A003.a.5., overeenkomstig de specificaties van de fabrikant.

| b. | Beeldcamera’s, als hieronder:


  Noot: Niet bedoeld worden in 6A003.b televisie- of videocamera’s die speciaal zijn ontworpen voor televisie-uitzendingen.







  1. | videocamera’s die halfgeleidersensoren bevatten, met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 10 nm, doch niet meer dan 30 000 nm en al de volgende kenmerken:






  a. | een of meer van de volgende kenmerken:






  1. | meer dan 4 × 106"actieve pixels" per halfgeleider-«array» voor monochroom- (zwart/wit) camera’s; |
| --- | --- | --- | --- | --- |

b.

Beeldcamera’s, als hieronder:

Noot: Niet bedoeld worden in 6A003.b televisie- of videocamera’s die speciaal zijn ontworpen voor televisie-uitzendingen.

1.

videocamera’s die halfgeleidersensoren bevatten, met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 10 nm, doch niet meer dan 30 000 nm en al de volgende kenmerken:

a.

een of meer van de volgende kenmerken:

1.

meer dan 4 × 106"actieve pixels" per halfgeleider-«array» voor monochroom- (zwart/wit) camera’s;

| 2. | meer dan 4 × 106"actieve pixels" per halfgeleider-«array» voor kleurencamera’s met drie halfgeleider-"arrays", of |
| --- | --- |

2.

meer dan 4 × 106"actieve pixels" per halfgeleider-«array» voor kleurencamera’s met drie halfgeleider-"arrays", of

| 3. | meer dan 12 × 106"actieve pixels" voor halfgeleider-«array» kleurencamera’s met één halfgeleider-«array»; en |
| --- | --- |

3.

meer dan 12 × 106"actieve pixels" voor halfgeleider-«array» kleurencamera’s met één halfgeleider-«array»; en

| b. | een of meer van de volgende kenmerken:






  1. | optische spiegels als bedoeld in 6A004.a; |
| --- | --- | --- |

b.

een of meer van de volgende kenmerken:

1.

optische spiegels als bedoeld in 6A004.a;

| 2. | optische regelapparatuur als bedoeld in 6A004.d of |
| --- | --- |

2.

optische regelapparatuur als bedoeld in 6A004.d of

| 3. | de mogelijkheid om intern gegenereerde cameratrackinggegevens te annoteren; |
| --- | --- |

3.

de mogelijkheid om intern gegenereerde cameratrackinggegevens te annoteren;

Technische noot:

| 1. | Voor de toepassing van dit punt moeten digitale videocamera’s worden beoordeeld volgens het maximumaantal "actieve pixels" die gebruikt worden om bewegende beelden op te nemen. |
| --- | --- |

1.

Voor de toepassing van dit punt moeten digitale videocamera’s worden beoordeeld volgens het maximumaantal "actieve pixels" die gebruikt worden om bewegende beelden op te nemen.

| 2. | Voor de toepassing van dit punt wordt onder cameratrackinggegevens verstaan: de nodige informatie om de kijkrichting van de camera ten opzichte van de aarde aan te geven. Deze omvat 1) de horizontale hoek van de kijkrichting van de camera ten opzichte van de richting van het magnetische veld van de aarde en 2) de verticale hoek tussen de kijkrichting van de camera en de horizon van de aarde. |
| --- | --- |

2.

Voor de toepassing van dit punt wordt onder cameratrackinggegevens verstaan: de nodige informatie om de kijkrichting van de camera ten opzichte van de aarde aan te geven. Deze omvat 1) de horizontale hoek van de kijkrichting van de camera ten opzichte van de richting van het magnetische veld van de aarde en 2) de verticale hoek tussen de kijkrichting van de camera en de horizon van de aarde.

| 2. | aftastcamera’s en aftastcamerasystemen met de volgende kenmerken:






  a. | een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 10 nm, doch niet meer dan 30 000 nm; |
| --- | --- | --- |

2.

aftastcamera’s en aftastcamerasystemen met de volgende kenmerken:

a.

een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 10 nm, doch niet meer dan 30 000 nm;

| b. | lineaire detectie-«arrays» met meer dan 8 192 elementen per «array», en |
| --- | --- |

b.

lineaire detectie-«arrays» met meer dan 8 192 elementen per «array», en

| c. | met mechanische aftasting in één richting; |
| --- | --- |

c.

met mechanische aftasting in één richting;

| 3. | beeldcamera’s met versterkerbuizen, vermeld in 6A002.a.2.a; |
| --- | --- |

3.

beeldcamera’s met versterkerbuizen, vermeld in 6A002.a.2.a;

| 4. | beeldcamera's met "«focal plane arrays»" met een of meer van de volgende kenmerken:.






  a. | met "«focal plane arrays»" als bedoeld in 6A002.a.3.a t/m 6A002.a.3.e; of |
| --- | --- | --- |

4.

beeldcamera's met "«focal plane arrays»" met een of meer van de volgende kenmerken:.

a.

met "«focal plane arrays»" als bedoeld in 6A002.a.3.a t/m 6A002.a.3.e; of

| b. | met "«focal plane arrays»" als bedoeld in 6A002.a.3.f. |
| --- | --- |

b.

met "«focal plane arrays»" als bedoeld in 6A002.a.3.f.

Noot 1: Beeldcamera's als bedoeld in 6A003.b.4. omvatten onder meer "«focal plane arrays»" gecombineerd met voldoende electronica voor signaalverwerking, naast de geïntegreerde schakeling voor het uitlezen, om ten minste de output van een analoog of digitaal signaal mogelijk te maken zodra er stroom wordt geleverd.

Noot 2: Niet bedoeld worden in 6A003.b.4.a beeldcamera’s met lineaire "«focal plane arrays»" met 12 elementen of minder, zonder tijdvertraging en integratie in het element, voor een of meer van de volgende doelen:

| a. | inbraakalarmsystemen voor industriële of civiele toepassing, of systemen voor het regelen en tellen van bewegingen in het verkeer of de industrie; |
| --- | --- |

a.

inbraakalarmsystemen voor industriële of civiele toepassing, of systemen voor het regelen en tellen van bewegingen in het verkeer of de industrie;

| b. | industriële apparatuur die wordt gebruikt voor inspectie van of toezicht op hittestromen in gebouwen, apparatuur of industriële processen; |
| --- | --- |

b.

industriële apparatuur die wordt gebruikt voor inspectie van of toezicht op hittestromen in gebouwen, apparatuur of industriële processen;

| c. | industriële apparatuur die wordt gebruikt voor inspectie, selectie of analyse van de eigenschappen van materialen; |
| --- | --- |

c.

industriële apparatuur die wordt gebruikt voor inspectie, selectie of analyse van de eigenschappen van materialen;

| d. | apparatuur die speciaal is ontworpen voor gebruik in het laboratorium; of |
| --- | --- |

d.

apparatuur die speciaal is ontworpen voor gebruik in het laboratorium; of

| e. | medische apparatuur. |
| --- | --- |

e.

medische apparatuur.

Noot 3: Niet bedoeld worden in 6A003.b.4.b beeldcamera's met een of meer van de volgende kenmerken:

| a. | een maximale beeldsnelheid gelijk aan of kleiner dan 9 Hz; |
| --- | --- |

a.

een maximale beeldsnelheid gelijk aan of kleiner dan 9 Hz;

| b. | met al de volgende kenmerken:








  1. | een minimaal horizontaal of verticaal momenteel gezichtsveld ("Instantaneous-Field-of-View", IFOV) van ten minste 10 mrad/pixel (milliradiaal per pixel); |
| --- | --- | --- |

b.

met al de volgende kenmerken:

1.

een minimaal horizontaal of verticaal momenteel gezichtsveld ("Instantaneous-Field-of-View", IFOV) van ten minste 10 mrad/pixel (milliradiaal per pixel);

| 2. | een ingebouwde lens met vaste brandpuntsafstand die niet is ontworpen om te worden verwijderd; |
| --- | --- |

2.

een ingebouwde lens met vaste brandpuntsafstand die niet is ontworpen om te worden verwijderd;

| 3. | geen ingebouwd beeldscherm voor "directe beeldvorming"; en |
| --- | --- |

3.

geen ingebouwd beeldscherm voor "directe beeldvorming"; en

| 4. | met een of meer van de volgende kenmerken:








  a. | geen mogelijkheid om een bekijkbaar beeld van het gedetecteerde gezichtsveld te verkrijgen, of |
| --- | --- | --- |

4.

met een of meer van de volgende kenmerken:

a.

geen mogelijkheid om een bekijkbaar beeld van het gedetecteerde gezichtsveld te verkrijgen, of

| b. | de camera is ontworpen voor één toepassing en is zodanig ontworpen dat de gebruiker haar niet kan aanpassen; of |
| --- | --- |

b.

de camera is ontworpen voor één toepassing en is zodanig ontworpen dat de gebruiker haar niet kan aanpassen; of

| c. | wanneer de camera speciaal is ontworpen voor installatie in een civiel voertuig voor passagiersvervoer te land van minder dan 3 ton (maximaal toegestaan gewicht van het voertuig) en alle volgende kenmerken heeft:








  1. | de camera werkt uitsluitend wanneer zij is geïnstalleerd in:








  a. | het civiel voertuig voor passagiersvervoer te land waarvoor zij is bestemd; of |
| --- | --- | --- | --- |

c.

wanneer de camera speciaal is ontworpen voor installatie in een civiel voertuig voor passagiersvervoer te land van minder dan 3 ton (maximaal toegestaan gewicht van het voertuig) en alle volgende kenmerken heeft:

1.

de camera werkt uitsluitend wanneer zij is geïnstalleerd in:

a.

het civiel voertuig voor passagiersvervoer te land waarvoor zij is bestemd; of

| b. | een speciaal ontworpen, erkende onderhouds- en testvoorziening; en |
| --- | --- |

b.

een speciaal ontworpen, erkende onderhouds- en testvoorziening; en

| 2. | in de camera is een actief mechanisme ingebouwd waardoor de camera niet werkt wanneer zij wordt verwijderd uit het voertuig waarvoor zij is bestemd. |
| --- | --- |

2.

in de camera is een actief mechanisme ingebouwd waardoor de camera niet werkt wanneer zij wordt verwijderd uit het voertuig waarvoor zij is bestemd.

Technische noten:

| 1. | Het momenteel gezichtsveld (‹Instantaneous-Field-of-View›, IFOV) als bedoeld in 6A003.b.4, noot 3.b, is het kleinste getal van respectievelijk de horizontale IFOV of de verticale IFOV.

  Horizontale IFOV = horizontaal gezichtsveld (FOV)/aantal horizontale detectorelementen
  Verticale IFOV = verticaal gezichtsveld (FOV)/aantal verticale detectorelementen. |
| --- | --- |

1.

Het momenteel gezichtsveld (‹Instantaneous-Field-of-View›, IFOV) als bedoeld in 6A003.b.4, noot 3.b, is het kleinste getal van respectievelijk de horizontale IFOV of de verticale IFOV.

| 2. | Met "directe beeldvorming" in 6A003.b.4, noot 3.b, wordt bedoeld een beeldcamera werkend in het infrarode spectrum, die de menselijke waarnemer een visueel beeld geeft door gebruik te maken van een ‹near-to-eye›-microbeeldscherm met een ingebouwd lichtweringsmechanisme. |
| --- | --- |

2.

Met "directe beeldvorming" in 6A003.b.4, noot 3.b, wordt bedoeld een beeldcamera werkend in het infrarode spectrum, die de menselijke waarnemer een visueel beeld geeft door gebruik te maken van een ‹near-to-eye›-microbeeldscherm met een ingebouwd lichtweringsmechanisme.

6A004Optische apparatuur

| a. | Optische spiegels (reflectoren), als hieronder:






  1. | "vervormbare spiegels" met een ongesegmenteerd of gesegmenteerd oppervlak en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, geschikt voor dynamische herinstelling van gedeelten van het oppervlak van de spiegel met snelheden groter dan 100 Hz; |
| --- | --- | --- |

a.

Optische spiegels (reflectoren), als hieronder:

1.

"vervormbare spiegels" met een ongesegmenteerd of gesegmenteerd oppervlak en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, geschikt voor dynamische herinstelling van gedeelten van het oppervlak van de spiegel met snelheden groter dan 100 Hz;

| 2. | lichtgewicht monolithische spiegels met een gemiddelde "equivalente dichtheid" van minder dan 30 kg/m2 en een totale massa van meer dan 10 kg; |
| --- | --- |

2.

lichtgewicht monolithische spiegels met een gemiddelde "equivalente dichtheid" van minder dan 30 kg/m2 en een totale massa van meer dan 10 kg;

| 3. | lichtgewicht "composiete" of schuimspiegelstructuren met een gemiddelde "equivalente dichtheid" van minder dan 30 kg/m2 en een totale massa van meer dan 2 kg; |
| --- | --- |

3.

lichtgewicht "composiete" of schuimspiegelstructuren met een gemiddelde "equivalente dichtheid" van minder dan 30 kg/m2 en een totale massa van meer dan 2 kg;

| 4. | spiegels met bundelsturing met een diameter of lengte van de hoofdas groter dan 100 mm die een vlakheid handhaven van lambda/2 of beter (lambda = 633 nm) en met een regelbandbreedte groter dan 100 Hz. |
| --- | --- |

4.

spiegels met bundelsturing met een diameter of lengte van de hoofdas groter dan 100 mm die een vlakheid handhaven van lambda/2 of beter (lambda = 633 nm) en met een regelbandbreedte groter dan 100 Hz.

| b. | Optische onderdelen vervaardigd van zinkselenide (ZnSe) of zinksulfide (ZnS) met voortplanting in het golflengtegebied van 3 000 nm tot 25 000 nm en met één van de volgende kenmerken:






  1. | een volume groter dan 100 cm3; of |
| --- | --- | --- |

b.

Optische onderdelen vervaardigd van zinkselenide (ZnSe) of zinksulfide (ZnS) met voortplanting in het golflengtegebied van 3 000 nm tot 25 000 nm en met één van de volgende kenmerken:

1.

een volume groter dan 100 cm3; of

| 2. | een diameter of lengte van de hoofdas groter dan 80 mm en een dikte (diepte) groter dan 20 mm. |
| --- | --- |

2.

een diameter of lengte van de hoofdas groter dan 80 mm en een dikte (diepte) groter dan 20 mm.

| c. | "Voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" onderdelen voor optische systemen, als hieronder:






  1. | lichtgewicht gemaakt tot minder dan 20 % "equivalente dichtheid" in vergelijking met een massief onafgewerkt model met dezelfde opening en van dezelfde dikte; |
| --- | --- | --- |

c.

"Voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" onderdelen voor optische systemen, als hieronder:

1.

lichtgewicht gemaakt tot minder dan 20 % "equivalente dichtheid" in vergelijking met een massief onafgewerkt model met dezelfde opening en van dezelfde dikte;

| 2. | ruwe substraten, bewerkte substraten met oppervlaktebekleding (met één of met meerdere lagen, metalliek of diëlektrisch, geleidend, halfgeleidend of isolerend) of met een beschermlaag; |
| --- | --- |

2.

ruwe substraten, bewerkte substraten met oppervlaktebekleding (met één of met meerdere lagen, metalliek of diëlektrisch, geleidend, halfgeleidend of isolerend) of met een beschermlaag;

| 3. | segmenten of samenstellingen van spiegels die zijn ontworpen om in de ruimte te worden samengevoegd tot een optisch systeem met een opvangopening gelijk aan of groter dan één enkel optisch onderdeel met een diameter van 1 meter; |
| --- | --- |

3.

segmenten of samenstellingen van spiegels die zijn ontworpen om in de ruimte te worden samengevoegd tot een optisch systeem met een opvangopening gelijk aan of groter dan één enkel optisch onderdeel met een diameter van 1 meter;

| 4. | vervaardigd van "composiet"-materiaal met een lineaire thermische uitzettingscoëfficiënt gelijk aan of kleiner dan 5 × 10-6 in elk der coördinaatrichtingen. |
| --- | --- |

4.

vervaardigd van "composiet"-materiaal met een lineaire thermische uitzettingscoëfficiënt gelijk aan of kleiner dan 5 × 10-6 in elk der coördinaatrichtingen.

| d. | Optische regelapparatuur, als hieronder:






  1. | speciaal ontworpen voor handhaving van het oppervlaktepatroon of de richting van de "voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" onderdelen bedoeld in 6A004.c.1 of 6A004.c.3; |
| --- | --- | --- |

d.

Optische regelapparatuur, als hieronder:

1.

speciaal ontworpen voor handhaving van het oppervlaktepatroon of de richting van de "voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" onderdelen bedoeld in 6A004.c.1 of 6A004.c.3;

| 2. | met bandbreedten voor sturen, volgen, stabiliseren of resonatorrichten gelijk aan of groter dan 100 Hz en een nauwkeurigheid van 10 microradiaal of minder; |
| --- | --- |

2.

met bandbreedten voor sturen, volgen, stabiliseren of resonatorrichten gelijk aan of groter dan 100 Hz en een nauwkeurigheid van 10 microradiaal of minder;

| 3. | cardanusringen («gimbals») met:






  a. | een maximale zwenking groter dan 5o; |
| --- | --- | --- |

3.

cardanusringen («gimbals») met:

a.

een maximale zwenking groter dan 5o;

| b. | een bandbreedte gelijk aan of groter dan 100 Hz; |
| --- | --- |

b.

een bandbreedte gelijk aan of groter dan 100 Hz;

| c. | met een hoekaanwijsfout gelijk aan of minder dan 200 microradiaal; en |
| --- | --- |

c.

met een hoekaanwijsfout gelijk aan of minder dan 200 microradiaal; en

| d. | één van de volgende kenmerken:






  1. | met een diameter of lengte van de hoofdas groter dan 0,15 m doch niet groter dan 1 m en geschikt voor hoekversnellingen groter dan 2 radiaal/s2; of |
| --- | --- | --- |

d.

één van de volgende kenmerken:

1.

met een diameter of lengte van de hoofdas groter dan 0,15 m doch niet groter dan 1 m en geschikt voor hoekversnellingen groter dan 2 radiaal/s2; of

| 2. | met een diameter of lengte van de hoofdas groter dan 1 m en geschikt voor hoekversnellingen groter dan 0,5 radiaal/s2; |
| --- | --- |

2.

met een diameter of lengte van de hoofdas groter dan 1 m en geschikt voor hoekversnellingen groter dan 0,5 radiaal/s2;

| 4. | speciaal ontworpen voor handhaving van de richting («alignment» van «phased array»- of «phased segment»-spiegelsystemen, bestaande uit spiegels met een diameter of lengte van de hoofdas per segment van 1 m of meer. |
| --- | --- |

4.

speciaal ontworpen voor handhaving van de richting («alignment» van «phased array»- of «phased segment»-spiegelsystemen, bestaande uit spiegels met een diameter of lengte van de hoofdas per segment van 1 m of meer.

| e. | ‧Asferische optische elementen‧ met alle volgende kenmerken:






  1. | de grootste afmeting van de optische apertuur bedraagt meer dan 400 mm; |
| --- | --- | --- |

e.

‧Asferische optische elementen‧ met alle volgende kenmerken:

1.

de grootste afmeting van de optische apertuur bedraagt meer dan 400 mm;

| 2. | de oppervlakteruwheid is minder dan 1 nm (rms) voor het bemonsteren van lengten van 1 mm of meer; en |
| --- | --- |

2.

de oppervlakteruwheid is minder dan 1 nm (rms) voor het bemonsteren van lengten van 1 mm of meer; en

| 3. | de absolute orde van grootte van de lineaire thermische uitzettingscoëfficiënt is kleiner dan 3 × 10-6/K bij 25 °C. |
| --- | --- |

3.

de absolute orde van grootte van de lineaire thermische uitzettingscoëfficiënt is kleiner dan 3 × 10-6/K bij 25 °C.

Technische noten:

| 1. | Een ‧asferisch optisch element‧ is een in een optisch systeem gebruikt element waarvan het beeldvormingsoppervlak of de beeldvormingsoppervlakken dusdanig ontworpen zijn dat zij afwijken van de ideale bolvorm. |
| --- | --- |

1.

Een ‧asferisch optisch element‧ is een in een optisch systeem gebruikt element waarvan het beeldvormingsoppervlak of de beeldvormingsoppervlakken dusdanig ontworpen zijn dat zij afwijken van de ideale bolvorm.

| 2. | De fabrikanten hoeven de in 6A004.e.2. vermelde oppervlakteruwheid niet te meten, tenzij het optisch element is ontworpen of vervaardigd om aan de controleparameter te voldoen of die parameter te overtreffen. |
| --- | --- |

2.

De fabrikanten hoeven de in 6A004.e.2. vermelde oppervlakteruwheid niet te meten, tenzij het optisch element is ontworpen of vervaardigd om aan de controleparameter te voldoen of die parameter te overtreffen.

Noot: Niet bedoeld worden in 6A004.e. asferische optische elementen met een of meer van de volgende kenmerken:

| a. | een grootste afmeting van de optische apertuur kleiner dan 1 m en een verhouding brandpuntsafstand/apertuur gelijk aan of groter dan 4,5:1; |
| --- | --- |

a.

een grootste afmeting van de optische apertuur kleiner dan 1 m en een verhouding brandpuntsafstand/apertuur gelijk aan of groter dan 4,5:1;

| b. | een grootste afmeting van de optische apertuur gelijk aan of groter dan 1 m en een verhouding brandpuntsafstand/apertuur gelijk aan of groter dan 7:1; |
| --- | --- |

b.

een grootste afmeting van de optische apertuur gelijk aan of groter dan 1 m en een verhouding brandpuntsafstand/apertuur gelijk aan of groter dan 7:1;

| c. | ontworpen als een optisch element van het Fresnel-, fly-eye-, lijn- («stripe»), prisma- of diffractieve type; |
| --- | --- |

c.

ontworpen als een optisch element van het Fresnel-, fly-eye-, lijn- («stripe»), prisma- of diffractieve type;

| d. | gefabriceerd van borosilicaatglas met een lineaire thermische uitzettingscoëfficiënt groter dan 2,5 × 10-6/K bij 25 °C; of |
| --- | --- |

d.

gefabriceerd van borosilicaatglas met een lineaire thermische uitzettingscoëfficiënt groter dan 2,5 × 10-6/K bij 25 °C; of

| e. | optisch element voor röntgenstraling met interne spiegeling (bv. buisvormige spiegels). |
| --- | --- |

e.

optisch element voor röntgenstraling met interne spiegeling (bv. buisvormige spiegels).

NB: Voor asferische optische elementen, speciaal ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3B001.

6A005"Lasers", onderdelen en optische apparatuur, anders dan vermeld in 0B001.g.5 of 0B001.h.6, als hieronder:

NB: ZIE OOK 6A205

Noot 1: Onder gepulseerde "lasers" worden mede begrepen "lasers" die werken in continugolf (CW)-modus met gesuperponeerde impulsen.

Noot 2: Onder "lasers" met pulsexcitatie worden mede begrepen "lasers" die werken in CW (continugolf)-modus met gesuperponeerde pulsexcitatie.

Noot 3: De embargostatus van Raman-"lasers" wordt bepaald door de parameters van de als pomp gebruikte "laser". De als pomp gebruikte "laser" kan elk der hieronder omschreven "lasers" zijn.

| a. | Gas-"lasers", als hieronder:






  1. | excimeer-"lasers" met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een golflengte aan de uitgang van niet meer dan 150 nm en met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een uitgangsenergie van meer dan 50 mJ per impuls; of |
| --- | --- | --- | --- | --- |

a.

Gas-"lasers", als hieronder:

1.

excimeer-"lasers" met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een golflengte aan de uitgang van niet meer dan 150 nm en met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een uitgangsenergie van meer dan 50 mJ per impuls; of

| 2. | een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 1 W; |
| --- | --- |

2.

een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 1 W;

| b. | een golflengte aan de uitgang van meer dan 150 nm doch niet meer dan 190 nm, en met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een uitgangsenergie van meer dan 1,5 J per impuls; of |
| --- | --- | --- |

b.

een golflengte aan de uitgang van meer dan 150 nm doch niet meer dan 190 nm, en met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een uitgangsenergie van meer dan 1,5 J per impuls; of

| 2. | een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 120 W; |
| --- | --- |

2.

een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 120 W;

| c. | een golflengte aan de uitgang van meer dan 190 nm doch niet meer dan 360 nm en met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een uitgangsenergie van meer dan 10 J per impuls; of |
| --- | --- | --- |

c.

een golflengte aan de uitgang van meer dan 190 nm doch niet meer dan 360 nm en met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een uitgangsenergie van meer dan 10 J per impuls; of

| 2. | een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 500 W; of |
| --- | --- |

2.

een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 500 W; of

| d. | een golflengte aan de uitgang van meer dan 360 nm en met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een uitgangsenergie van meer dan 1,5 J per impuls; of |
| --- | --- | --- |

d.

een golflengte aan de uitgang van meer dan 360 nm en met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een uitgangsenergie van meer dan 1,5 J per impuls; of

| 2. | een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 30 W; |
| --- | --- |

2.

een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 30 W;

NB: Voor excimeer-"lasers" die speciaal zijn ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3B001.

| 2. | metaaldamp-"lasers", als hieronder:






  a. | koper (Cu)-"lasers" met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 20 W; |
| --- | --- | --- |

2.

metaaldamp-"lasers", als hieronder:

a.

koper (Cu)-"lasers" met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 20 W;

| b. | goud (Au)-"lasers" met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 5 W; |
| --- | --- |

b.

goud (Au)-"lasers" met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 5 W;

| c. | natrium (Na)-"lasers" met een uitgangsvermogen van meer dan 5 W; |
| --- | --- |

c.

natrium (Na)-"lasers" met een uitgangsvermogen van meer dan 5 W;

| d. | barium (Ba)-"lasers" met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 2 W; |
| --- | --- |

d.

barium (Ba)-"lasers" met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 2 W;

| 3. | koolstofmonoxide (CO)-"lasers" met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een uitgangsenergie van meer dan 2 J per impuls en een "piekvermogen" per impuls van meer dan 5 kW; of |
| --- | --- | --- |

3.

koolstofmonoxide (CO)-"lasers" met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een uitgangsenergie van meer dan 2 J per impuls en een "piekvermogen" per impuls van meer dan 5 kW; of

| b. | een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 5 kW; |
| --- | --- |

b.

een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 5 kW;

| 4. | koolstofdioxide (CO2)-"lasers" met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 15 kW; |
| --- | --- | --- |

4.

koolstofdioxide (CO2)-"lasers" met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 15 kW;

| b. | een gepulseerd vermogen met een "pulsduur" van meer dan 10 microseconde, en:






  1. | een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 10 kW, of |
| --- | --- | --- |

b.

een gepulseerd vermogen met een "pulsduur" van meer dan 10 microseconde, en:

1.

een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 10 kW, of

| 2. | een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 100 kW, of |
| --- | --- |

2.

een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 100 kW, of

| c. | een gepulseerd vermogen met een "pulsduur" gelijk aan of minder dan 10 microseconden, en:






  1. | een pulsenergie van meer dan 5 J per impuls, of |
| --- | --- | --- |

c.

een gepulseerd vermogen met een "pulsduur" gelijk aan of minder dan 10 microseconden, en:

1.

een pulsenergie van meer dan 5 J per impuls, of

| 2. | een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 2,5 kW; |
| --- | --- |

2.

een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 2,5 kW;

| 5. | "chemische lasers", als hieronder:






  a. | waterstoffluoride (HF)-"lasers"; |
| --- | --- | --- |

5.

"chemische lasers", als hieronder:

a.

waterstoffluoride (HF)-"lasers";

| b. | deuteriumfluoride (DF)-"lasers"; |
| --- | --- |

b.

deuteriumfluoride (DF)-"lasers";

| c. | "transfer lasers" als hieronder:






  1. | zuurstofjood (O2-I)-"lasers"; |
| --- | --- | --- |

c.

"transfer lasers" als hieronder:

1.

zuurstofjood (O2-I)-"lasers";

| 2. | deuteriumfluoride-koolstofdioxide (DF-CO2)-"lasers"; |
| --- | --- |

2.

deuteriumfluoride-koolstofdioxide (DF-CO2)-"lasers";

| 6. | krypton-ion- of argon-ion-"lasers", met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een uitgangsenergie van meer dan 1,5 J per impuls en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 50 W, of |
| --- | --- | --- |

6.

krypton-ion- of argon-ion-"lasers", met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een uitgangsenergie van meer dan 1,5 J per impuls en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 50 W, of

| b. | een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 50 W; |
| --- | --- |

b.

een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 50 W;

| 7. | andere gas-"lasers" met één of meer van de volgende kenmerken:


  Noot: 6A005.a.7. is niet van toepassing op stikstof-"lasers".







  a. | een golflengte aan de uitgang niet langer dan 150 nm, en één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een uitgangsenergie van meer dan 50 mJ per impuls en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 1 W, of |
| --- | --- | --- | --- |

7.

andere gas-"lasers" met één of meer van de volgende kenmerken:

Noot: 6A005.a.7. is niet van toepassing op stikstof-"lasers".

a.

een golflengte aan de uitgang niet langer dan 150 nm, en één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een uitgangsenergie van meer dan 50 mJ per impuls en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 1 W, of

| 2. | een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 1 W; |
| --- | --- |

2.

een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 1 W;

| b. | een golflengte aan de uitgang langer dan 150 nm maar niet langer dan 800 nm, en één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een uitgangsenergie van meer dan 1,5 J per impuls en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 30 W, of |
| --- | --- | --- |

b.

een golflengte aan de uitgang langer dan 150 nm maar niet langer dan 800 nm, en één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een uitgangsenergie van meer dan 1,5 J per impuls en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 30 W, of

| 2. | een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 30 W; |
| --- | --- |

2.

een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 30 W;

| c. | een golflengte aan de uitgang langer dan 800 nm maar niet langer dan 1 400 nm en één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een uitgangsenergie van meer dan 0,25 J per impuls en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 10 W, of |
| --- | --- | --- |

c.

een golflengte aan de uitgang langer dan 800 nm maar niet langer dan 1 400 nm en één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een uitgangsenergie van meer dan 0,25 J per impuls en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 10 W, of

| 2. | een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 10 W, of |
| --- | --- |

2.

een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 10 W, of

| d. | een golflengte aan de uitgang langer dan 1 400 nm en een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 1 W. |
| --- | --- |

d.

een golflengte aan de uitgang langer dan 1 400 nm en een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 1 W.

| b. | Halfgeleider-"lasers", als hieronder:






  1. | afzonderlijke halfgeleider-"lasers" met enkelvoudige transversale modus, met een van de volgende kenmerken:






  a. | een golflengte van 1 510 nm of minder, en een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen meer dan 1,5 W, of |
| --- | --- | --- | --- |

b.

Halfgeleider-"lasers", als hieronder:

1.

afzonderlijke halfgeleider-"lasers" met enkelvoudige transversale modus, met een van de volgende kenmerken:

a.

een golflengte van 1 510 nm of minder, en een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen meer dan 1,5 W, of

| b. | een golflengte van meer dan 1 510 nm, en een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 500 mW; |
| --- | --- |

b.

een golflengte van meer dan 1 510 nm, en een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 500 mW;

| 2. | afzonderlijke halfgeleider-"lasers" met verschillende transversale modi, met een of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een golflengte van niet meer dan 1 400 nm en een gemiddeld CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 10 W, |
| --- | --- | --- |

2.

afzonderlijke halfgeleider-"lasers" met verschillende transversale modi, met een of meer van de volgende kenmerken:

a.

een golflengte van niet meer dan 1 400 nm en een gemiddeld CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 10 W,

| b. | een golflengte van 1 400 nm of meer, maar minder dan 1 900 nm, en een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 2,5 W, of |
| --- | --- |

b.

een golflengte van 1 400 nm of meer, maar minder dan 1 900 nm, en een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 2,5 W, of

| c. | een golflengte van 1 900 nm of meer en een gemiddeld CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 1 W; |
| --- | --- |

c.

een golflengte van 1 900 nm of meer en een gemiddeld CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 1 W;

| 3. | afzonderlijke halfgeleider-"lasers" met series («arrays»), met een van de volgende kenmerken:






  a. | een golflengte van minder dan 1 400 nm en een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 80 W, |
| --- | --- | --- |

3.

afzonderlijke halfgeleider-"lasers" met series («arrays»), met een van de volgende kenmerken:

a.

een golflengte van minder dan 1 400 nm en een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 80 W,

| b. | een golflengte van 1 400 nm of meer, maar minder dan 1 900 nm en een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 25 W, of |
| --- | --- |

b.

een golflengte van 1 400 nm of meer, maar minder dan 1 900 nm en een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 25 W, of

| c. | een golflengte van 1 900 nm of meer en een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 10 W; |
| --- | --- |

c.

een golflengte van 1 900 nm of meer en een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 10 W;

| 4. | Een stack van arrays van halfgeleider-"lasers" die ten minste één array bevat waarop 6A005.b.3 van toepassing is. |
| --- | --- |

4.

Een stack van arrays van halfgeleider-"lasers" die ten minste één array bevat waarop 6A005.b.3 van toepassing is.

Technische noten:

| 1. | Halfgeleider-"lasers" worden gewoonlijk "laser"-dioden genoemd. |
| --- | --- |

1.

Halfgeleider-"lasers" worden gewoonlijk "laser"-dioden genoemd.

| 2. | Een "array" bestaat uit verschillende halfgeleider- "laser"-zenders die als een enkele chip gefabriceerd zijn zodat de kernen van de uitgezonden lichtbundels parallel lopen. |
| --- | --- |

2.

Een "array" bestaat uit verschillende halfgeleider- "laser"-zenders die als een enkele chip gefabriceerd zijn zodat de kernen van de uitgezonden lichtbundels parallel lopen.

| 3. | Een "stack van arrays" wordt gefabriceerd door "arrays" zodanig te stapelen of anderszins samen te voegen dat de kernen van de uitgezonden lichtbundels parallel lopen. |
| --- | --- |

3.

Een "stack van arrays" wordt gefabriceerd door "arrays" zodanig te stapelen of anderszins samen te voegen dat de kernen van de uitgezonden lichtbundels parallel lopen.

Noot 1: Onder 6A005.b vallen ook halfgeleider-"lasers" met optische uitgangsconnectoren (bijvoorbeeld aanstralingsvezel).

Noot 2: De embargostatus van halfgeleider-"lasers" die speciaal zijn ontworpen voor andere apparatuur wordt bepaald door de embargostatus van die andere apparatuur.

| c. | Vaste-stof-"lasers", als hieronder:






  1. | "afstembare""lasers" met één of meer van de volgende kenmerken:


  Noot: In 6A005.c.1 worden tevens bedoeld titaan-saffier (Ti: Al2O3)-, thulium-YAG (Tm: YAG)-, thulium-YSGG (Tm: YSGG)-, alexandriet (Cr: BeAl2O4)- en kleurcentrum-"lasers".







  a. | een golflengte aan de uitgang van minder dan 600 nm, en met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een uitgangsenergie van meer dan 50 mJ per impuls en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 1 W, of |
| --- | --- | --- | --- | --- |

c.

Vaste-stof-"lasers", als hieronder:

1.

"afstembare""lasers" met één of meer van de volgende kenmerken:

Noot: In 6A005.c.1 worden tevens bedoeld titaan-saffier (Ti: Al2O3)-, thulium-YAG (Tm: YAG)-, thulium-YSGG (Tm: YSGG)-, alexandriet (Cr: BeAl2O4)- en kleurcentrum-"lasers".

a.

een golflengte aan de uitgang van minder dan 600 nm, en met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een uitgangsenergie van meer dan 50 mJ per impuls en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 1 W, of

| 2. | een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 1 W; |
| --- | --- |

2.

een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 1 W;

| b. | een golflengte aan de uitgang van 600 nm of langer doch niet langer dan 1 400 nm, en met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een uitgangsenergie van meer dan 1 J per impuls en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 20 W, of |
| --- | --- | --- |

b.

een golflengte aan de uitgang van 600 nm of langer doch niet langer dan 1 400 nm, en met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een uitgangsenergie van meer dan 1 J per impuls en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 20 W, of

| 2. | een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 20 W, of |
| --- | --- |

2.

een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 20 W, of

| c. | een golflengte aan de uitgang langer dan 1400 nm, en met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een uitgangsenergie van meer dan 50 mJ per impuls en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 1 W, of |
| --- | --- | --- |

c.

een golflengte aan de uitgang langer dan 1400 nm, en met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een uitgangsenergie van meer dan 50 mJ per impuls en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 1 W, of

| 2. | een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 1 W; |
| --- | --- |

2.

een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 1 W;

| 2. | niet-afstembare "lasers", als hieronder:


  Noot: In 6A005.c.2 worden mede bedoeld vaste-stof-"lasers" met atomaire overgang.







  a. | neodymium glas-"lasers", als hieronder:






  1. | "Q-switched lasers" met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een uitgangsenergie per impuls van meer dan 20 J doch niet meer dan 50 J en een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 10 W, of |
| --- | --- | --- | --- | --- |

2.

niet-afstembare "lasers", als hieronder:

Noot: In 6A005.c.2 worden mede bedoeld vaste-stof-"lasers" met atomaire overgang.

a.

neodymium glas-"lasers", als hieronder:

1.

"Q-switched lasers" met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een uitgangsenergie per impuls van meer dan 20 J doch niet meer dan 50 J en een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 10 W, of

| b. | een uitgangsenergie van meer dan 50 J per impuls; |
| --- | --- |

b.

een uitgangsenergie van meer dan 50 J per impuls;

| 2. | niet-"Q-switched lasers" met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een uitgangsenergie van meer dan 50 J per impuls doch niet meer dan 100 J per impuls en een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 20 W, of |
| --- | --- | --- |

2.

niet-"Q-switched lasers" met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een uitgangsenergie van meer dan 50 J per impuls doch niet meer dan 100 J per impuls en een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 20 W, of

| b. | een uitgangsenergie van meer dan 100 J per impuls; |
| --- | --- |

b.

een uitgangsenergie van meer dan 100 J per impuls;

| b. | neodymium-gedoopte (anders dan glas) "lasers", als hieronder, met een golflengte aan de uitgang langer dan 1 000 nm doch niet langer dan 1 100 nm:


  Noot: Zie 6A005.c.2.d voor neodymium-gedoopte (anders dan glas) "lasers" met een golflengte aan de uitgang niet langer dan 1 000 nm of langer dan 1 100 nm.







  1. | "Q-switched lasers" met pulsexcitatie en geblokkeerde modus met een "pulsduur" korter dan 1 ns en met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een "piekvermogen" van meer dan 5 GW; |
| --- | --- | --- | --- |

b.

neodymium-gedoopte (anders dan glas) "lasers", als hieronder, met een golflengte aan de uitgang langer dan 1 000 nm doch niet langer dan 1 100 nm:

Noot: Zie 6A005.c.2.d voor neodymium-gedoopte (anders dan glas) "lasers" met een golflengte aan de uitgang niet langer dan 1 000 nm of langer dan 1 100 nm.

1.

"Q-switched lasers" met pulsexcitatie en geblokkeerde modus met een "pulsduur" korter dan 1 ns en met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een "piekvermogen" van meer dan 5 GW;

| b. | een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 10 W, of |
| --- | --- |

b.

een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 10 W, of

| c. | een gepulseerde energie van meer dan 0,1 J; |
| --- | --- |

c.

een gepulseerde energie van meer dan 0,1 J;

| 2. | "Q-switched lasers" met pulsexcitatie met een "pulsduur" gelijk aan of langer dan 1 ns, en met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een uitvoer volgens enkelvoudige transversale modus met:






  1. | een "piekvermogen" van meer dan 100 MW, |
| --- | --- | --- | --- |

2.

"Q-switched lasers" met pulsexcitatie met een "pulsduur" gelijk aan of langer dan 1 ns, en met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een uitvoer volgens enkelvoudige transversale modus met:

1.

een "piekvermogen" van meer dan 100 MW,

| 2. | een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 20 W, of |
| --- | --- |

2.

een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 20 W, of

| 3. | een gepulseerde energie van meer dan 2 J, of |
| --- | --- |

3.

een gepulseerde energie van meer dan 2 J, of

| b. | een uitvoer volgens verschillende transversale modi met:






  1. | een "piekvermogen" van meer dan 400 MW, |
| --- | --- | --- |

b.

een uitvoer volgens verschillende transversale modi met:

1.

een "piekvermogen" van meer dan 400 MW,

| 2. | een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 2 kW, of |
| --- | --- |

2.

een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 2 kW, of

| 3. | een gepulseerde energie van meer dan 2 J; |
| --- | --- |

3.

een gepulseerde energie van meer dan 2 J;

| 3. | niet-"Q-switched lasers" met pulsexcitatie, met:






  a. | een uitvoer volgens enkelvoudige transversale modi met:






  1. | een "piekvermogen" van meer dan 500 kW, of |
| --- | --- | --- | --- |

3.

niet-"Q-switched lasers" met pulsexcitatie, met:

a.

een uitvoer volgens enkelvoudige transversale modi met:

1.

een "piekvermogen" van meer dan 500 kW, of

| 2. | een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 150 W, of |
| --- | --- |

2.

een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 150 W, of

| b. | een uitvoer volgens verschillende transversale modi met:






  1. | een "piekvermogen" van meer dan 1 MW, of |
| --- | --- | --- |

b.

een uitvoer volgens verschillende transversale modi met:

1.

een "piekvermogen" van meer dan 1 MW, of

| 2. | een gemiddeld vermogen van meer dan 2 kW; |
| --- | --- |

2.

een gemiddeld vermogen van meer dan 2 kW;

| 4. | continu geëxciteerde "lasers" met:






  a. | een uitvoer volgens enkelvoudige transversale modus met:






  1. | een "piekvermogen" van meer dan 500 kW, of |
| --- | --- | --- | --- |

4.

continu geëxciteerde "lasers" met:

a.

een uitvoer volgens enkelvoudige transversale modus met:

1.

een "piekvermogen" van meer dan 500 kW, of

| 2. | een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 150 W, of |
| --- | --- |

2.

een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 150 W, of

| b. | een uitvoer volgens verschillende transversale modi met:






  1. | een "piekvermogen" van meer dan 1 MW, of |
| --- | --- | --- |

b.

een uitvoer volgens verschillende transversale modi met:

1.

een "piekvermogen" van meer dan 1 MW, of

| 2. | een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 2 kW; |
| --- | --- |

2.

een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 2 kW;

| c. | andere niet-"afstembare""lasers" met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een golflengte van minder dan 150 nm en met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een uitgangsenergie per impuls van meer dan 50 mJ en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 1 W, of |
| --- | --- | --- | --- |

c.

andere niet-"afstembare""lasers" met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een golflengte van minder dan 150 nm en met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een uitgangsenergie per impuls van meer dan 50 mJ en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 1 W, of

| b. | een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 1 W; |
| --- | --- |

b.

een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 1 W;

| 2. | een golflengte van 150 nm of meer doch niet meer dan 800 nm, en met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een uitgangsenergie per impuls van meer dan 1,5 J en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 30 W, of |
| --- | --- | --- |

2.

een golflengte van 150 nm of meer doch niet meer dan 800 nm, en met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een uitgangsenergie per impuls van meer dan 1,5 J en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 30 W, of

| b. | een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 30 W; |
| --- | --- |

b.

een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 30 W;

| 3. | een golflengte van meer dan 800 nm doch niet meer dan 1 400 nm, als hieronder:






  a. | "Q-switched lasers" met:






  1. | een uitgangsenergie per impuls van meer dan 0,5 J en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 50 W, of |
| --- | --- | --- | --- |

3.

een golflengte van meer dan 800 nm doch niet meer dan 1 400 nm, als hieronder:

a.

"Q-switched lasers" met:

1.

een uitgangsenergie per impuls van meer dan 0,5 J en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 50 W, of

| 2. | een gemiddeld uitgangsvermogen groter dan:






  a. | 10 W voor "lasers" met enkelvoudige transversale modus, |
| --- | --- | --- |

2.

een gemiddeld uitgangsvermogen groter dan:

a.

10 W voor "lasers" met enkelvoudige transversale modus,

| b. | 30 W voor "lasers" met verschillende transversale modi; |
| --- | --- |

b.

30 W voor "lasers" met verschillende transversale modi;

| b. | niet-"Q-switched lasers" met:






  1. | een uitgangsenergie per impuls van meer dan 2 J en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 50 W, of |
| --- | --- | --- |

b.

niet-"Q-switched lasers" met:

1.

een uitgangsenergie per impuls van meer dan 2 J en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 50 W, of

| 2. | een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 50 W; of |
| --- | --- |

2.

een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 50 W; of

| 4. | een golflengte van meer dan 1 400 nm en één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een uitgangsenergie per impuls van meer dan 100 mJ en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 1 W; of |
| --- | --- | --- |

4.

een golflengte van meer dan 1 400 nm en één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een uitgangsenergie per impuls van meer dan 100 mJ en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 1 W; of

| b. | een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 1 W; |
| --- | --- |

b.

een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 1 W;

| d. | kleurstof- en andere vloeistof-"lasers", met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een golflengte korter dan 150 nm, en met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een uitgangsenergie per impuls van meer dan 50 mJ en een gepulseerd "piekvermogen" groter dan 1 W; of |
| --- | --- | --- | --- |

d.

kleurstof- en andere vloeistof-"lasers", met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een golflengte korter dan 150 nm, en met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een uitgangsenergie per impuls van meer dan 50 mJ en een gepulseerd "piekvermogen" groter dan 1 W; of

| b. | een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen groter dan 1 W; |
| --- | --- |

b.

een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen groter dan 1 W;

| 2. | een golflengte van 150 nm of meer doch niet meer dan 800 nm en met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een uitgangsenergie per impuls van meer dan 1,5 J en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 20 W; |
| --- | --- | --- |

2.

een golflengte van 150 nm of meer doch niet meer dan 800 nm en met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een uitgangsenergie per impuls van meer dan 1,5 J en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 20 W;

| b. | een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 20 W; of |
| --- | --- |

b.

een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 20 W; of

| c. | een gepulseerde oscillator met enkelvoudige longitudinale modus met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 1 W en een herhalingssnelheid groter dan 1 kHz indien de "pulsduur" korter is dan 100 ns; |
| --- | --- |

c.

een gepulseerde oscillator met enkelvoudige longitudinale modus met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 1 W en een herhalingssnelheid groter dan 1 kHz indien de "pulsduur" korter is dan 100 ns;

| 3. | een golflengte van meer dan 800 nm doch niet meer dan 1 400 nm en met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een uitgangsenergie per impuls van meer dan 0,5 J en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 10 W; of |
| --- | --- | --- |

3.

een golflengte van meer dan 800 nm doch niet meer dan 1 400 nm en met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een uitgangsenergie per impuls van meer dan 0,5 J en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 10 W; of

| b. | een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 10 W; of |
| --- | --- |

b.

een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 10 W; of

| 4. | een golflengte van meer dan 1 400 nm en met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een uitgangsenergie per impuls van meer dan 100 mJ en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 1 W; of |
| --- | --- | --- |

4.

een golflengte van meer dan 1 400 nm en met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een uitgangsenergie per impuls van meer dan 100 mJ en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 1 W; of

| b. | een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 1 W; |
| --- | --- |

b.

een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 1 W;

| e. | onderdelen, als hieronder:






  1. | spiegels met ‧actieve koeling‧ of buiskoeling;
  Technische noot:

  ‧Actieve koeling‧ is een koeltechniek voor optische onderdelen waarbij gebruik wordt gemaakt van stromende vloeistoffen onder het oppervlak (nominaal minder dan 1 mm onder het optische oppervlak) van het optische onderdeel voor de afvoer van warmte van het optische element. |
| --- | --- | --- |

e.

onderdelen, als hieronder:

1.

spiegels met ‧actieve koeling‧ of buiskoeling;

Technische noot:

‧Actieve koeling‧ is een koeltechniek voor optische onderdelen waarbij gebruik wordt gemaakt van stromende vloeistoffen onder het oppervlak (nominaal minder dan 1 mm onder het optische oppervlak) van het optische onderdeel voor de afvoer van warmte van het optische element.

| 2. | optische spiegels of doorlatende of deels doorlatende optische of elektro-optische onderdelen die speciaal zijn ontworpen voor toepassing met onder embargo vallende "lasers"; |
| --- | --- |

2.

optische spiegels of doorlatende of deels doorlatende optische of elektro-optische onderdelen die speciaal zijn ontworpen voor toepassing met onder embargo vallende "lasers";

| f. | optische apparatuur, als hieronder:


  NB: zie de Lijst militaire goederen voor optische elementen met gezamenlijke opening, geschikt om te werken in "SHPL"-toepassingen ("Super-High Power Laser").







  1. | dynamische golffront (fase)-meetapparatuur, geschikt voor het in kaart brengen van ten minste 50 punten op een bundelgolffront met:






  a. | een beeldsnelheid gelijk aan of groter dan 100 Hz en een faseverschil van ten minste 5 % van de golflengte van de bundel; of |
| --- | --- | --- | --- |

f.

optische apparatuur, als hieronder:

NB: zie de Lijst militaire goederen voor optische elementen met gezamenlijke opening, geschikt om te werken in "SHPL"-toepassingen ("Super-High Power Laser").

1.

dynamische golffront (fase)-meetapparatuur, geschikt voor het in kaart brengen van ten minste 50 punten op een bundelgolffront met:

a.

een beeldsnelheid gelijk aan of groter dan 100 Hz en een faseverschil van ten minste 5 % van de golflengte van de bundel; of

| b. | een beeldsnelheid gelijk aan of groter dan 1 000 Hz en een faseverschil van ten minste 20 % van de golflengte van de bundel; |
| --- | --- |

b.

een beeldsnelheid gelijk aan of groter dan 1 000 Hz en een faseverschil van ten minste 20 % van de golflengte van de bundel;

| 2. | diagnostische "laser"-apparatuur geschikt voor het meten van bundelhoekbesturingsfouten in "Super-High Power Laser" (SHPL)-systemen gelijk aan of kleiner dan 100 micro-radiaal; |
| --- | --- |

2.

diagnostische "laser"-apparatuur geschikt voor het meten van bundelhoekbesturingsfouten in "Super-High Power Laser" (SHPL)-systemen gelijk aan of kleiner dan 100 micro-radiaal;

| 3. | optische apparatuur en onderdelen, speciaal ontworpen voor een «phased array»-"SHPL"-systeem voor coherente samenvoeging van bundels met een nauwkeurigheid van het kleinste van lambda/10 bij de aangewezen golflengte, of van 0,1 micrometer; |
| --- | --- |

3.

optische apparatuur en onderdelen, speciaal ontworpen voor een «phased array»-"SHPL"-systeem voor coherente samenvoeging van bundels met een nauwkeurigheid van het kleinste van lambda/10 bij de aangewezen golflengte, of van 0,1 micrometer;

| 4. | projectietelescopen, speciaal ontworpen voor gebruik met "SHPL"-systemen. |
| --- | --- |

4.

projectietelescopen, speciaal ontworpen voor gebruik met "SHPL"-systemen.

6A006"Magnetometers", "magnetische gradiëntmeters", "intrinsieke magnetische gradiëntmeters" sensoren voor het meten van elektrische velden onder water en compensatiesystemen, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:

Noot: Niet bedoeld worden in 6A006 instrumenten die speciaal zijn ontworpen voor visserijtoepassingen of biomagnetische metingen ten behoeve van de medische diagnostiek.

| a. | "magnetometers" en subsystemen






  1. | die gebruikmaken van "supergeleidende", (SQUID) "technologie", met een van de volgende kenmerken:






  a. | voor stationair bedrijf ontworpen SQUID-systemen zonder speciaal ontworpen subsystemen om ruis bij beweging te beperken en met een "ruisniveau" (gevoeligheid) gelijk aan of lager (beter) dan 50fT effectieve waarde bij een frequentie van 1 Hz; of |
| --- | --- | --- | --- |

a.

"magnetometers" en subsystemen

1.

die gebruikmaken van "supergeleidende", (SQUID) "technologie", met een van de volgende kenmerken:

a.

voor stationair bedrijf ontworpen SQUID-systemen zonder speciaal ontworpen subsystemen om ruis bij beweging te beperken en met een "ruisniveau" (gevoeligheid) gelijk aan of lager (beter) dan 50fT effectieve waarde bij een frequentie van 1 Hz; of

| b. | SQUID-systemen met een magnetometer-"ruisniveau" (gevoeligheid) bij beweging lager (beter) dan 20fT effectieve waarde bij een frequentie van 1 Hz en speciaal ontworpen om ruis bij beweging te beperken; |
| --- | --- |

b.

SQUID-systemen met een magnetometer-"ruisniveau" (gevoeligheid) bij beweging lager (beter) dan 20fT effectieve waarde bij een frequentie van 1 Hz en speciaal ontworpen om ruis bij beweging te beperken;

| 2. | die gebruikmaken van optisch gepompte of kernprecessie (proton/Overhauser)"technologie" met een "ruisniveau" (gevoeligheid) lager (beter) dan 20 fT effectieve waarde; |
| --- | --- |

2.

die gebruikmaken van optisch gepompte of kernprecessie (proton/Overhauser)"technologie" met een "ruisniveau" (gevoeligheid) lager (beter) dan 20 fT effectieve waarde;

| 3. | die gebruikmaken van aardinductie-"technologie" met een "ruisniveau" (gevoeligheid) gelijk aan of lager (beter) dan 10 pT effectieve waarde bij een frequentie van 1 Hz; |
| --- | --- |

3.

die gebruikmaken van aardinductie-"technologie" met een "ruisniveau" (gevoeligheid) gelijk aan of lager (beter) dan 10 pT effectieve waarde bij een frequentie van 1 Hz;

| 4. | inductor -"magnetometers" met een "ruisniveau" (gevoeligheid) lager (beter) dan:






  a. | 0,05 nT effectieve waarde bij frequenties lager dan 1 Hz; |
| --- | --- | --- |

4.

inductor -"magnetometers" met een "ruisniveau" (gevoeligheid) lager (beter) dan:

a.

0,05 nT effectieve waarde bij frequenties lager dan 1 Hz;

| b. | 1 × 10-3 nT effectieve waarde bij frequenties van 1 Hz of meer doch niet hoger dan 10 Hz; of |
| --- | --- |

b.

1 × 10-3 nT effectieve waarde bij frequenties van 1 Hz of meer doch niet hoger dan 10 Hz; of

| c. | 1 × 10-4 nT effectieve waarde bij frequenties hoger dan 10 Hz; |
| --- | --- |

c.

1 × 10-4 nT effectieve waarde bij frequenties hoger dan 10 Hz;

| 5. | glasvezel-"magnetometers" met een "ruisniveau" (gevoeligheid) lager (beter) dan 1 nT effectieve waarde; |
| --- | --- |

5.

glasvezel-"magnetometers" met een "ruisniveau" (gevoeligheid) lager (beter) dan 1 nT effectieve waarde;

| b. | "sensoren voor het meten van elektrische velden onder water" met een ruisniveau (gevoeligheid) van minder (d.w.z. beter) dan 8 nanovolt per meter Hz bij meting bij 1 Hz; |
| --- | --- |

b.

"sensoren voor het meten van elektrische velden onder water" met een ruisniveau (gevoeligheid) van minder (d.w.z. beter) dan 8 nanovolt per meter Hz bij meting bij 1 Hz;

| c. | "magnetische gradiëntmeters"






  1. | "magnetische gradiëntmeters" waarbij gebruik wordt gemaakt van meervoudige "magnetometers" bedoeld in 6A006.a; |
| --- | --- | --- |

c.

"magnetische gradiëntmeters"

1.

"magnetische gradiëntmeters" waarbij gebruik wordt gemaakt van meervoudige "magnetometers" bedoeld in 6A006.a;

| 2. | "intrinsieke magnetische gradiëntmeters" van glasvezels met een "ruisniveau" (gevoeligheid) van de gradiënt van het magnetische veld lager (beter) dan 0,3 nT/m effectieve waarde; |
| --- | --- |

2.

"intrinsieke magnetische gradiëntmeters" van glasvezels met een "ruisniveau" (gevoeligheid) van de gradiënt van het magnetische veld lager (beter) dan 0,3 nT/m effectieve waarde;

| 3. | "intrinsieke magnetische gradiëntmeters", waarbij gebruik wordt gemaakt van andere technologie dan glasvezeltechnologie, met een "ruisniveau" (gevoeligheid) van de gradiënt van het magnetische veld lager (beter) dan 0,015 nT/m effectieve waarde; |
| --- | --- |

3.

"intrinsieke magnetische gradiëntmeters", waarbij gebruik wordt gemaakt van andere technologie dan glasvezeltechnologie, met een "ruisniveau" (gevoeligheid) van de gradiënt van het magnetische veld lager (beter) dan 0,015 nT/m effectieve waarde;

| d. | compensatiesystemen voor magnetische sensoren of voor sensoren voor het meten van elektrische velden onder water, die leiden tot een prestatie welke gelijk is aan of beter is dan de onder 6A006.a, 6A006.b, of 6A006.c vermelde controleparameters; |
| --- | --- |

d.

compensatiesystemen voor magnetische sensoren of voor sensoren voor het meten van elektrische velden onder water, die leiden tot een prestatie welke gelijk is aan of beter is dan de onder 6A006.a, 6A006.b, of 6A006.c vermelde controleparameters;

6A007Zwaartekrachtmeters (gravimeters) en zwaartekrachtgradiëntmeters, als hieronder:

NB: ZIE OOK 6A107

| a. | zwaartekrachtmeters ontworpen of aangepast voor gebruik te land met een statische nauwkeurigheid kleiner (beter) dan 10 microgal;


  Noot: Niet bedoeld worden in 6A007.a landzwaartekrachtmeters van het type met kwartselement (Worden-type). |
| --- | --- |

a.

zwaartekrachtmeters ontworpen of aangepast voor gebruik te land met een statische nauwkeurigheid kleiner (beter) dan 10 microgal;

Noot: Niet bedoeld worden in 6A007.a landzwaartekrachtmeters van het type met kwartselement (Worden-type).

| b. | zwaartekrachtmeters ontworpen voor mobiele tafels met alle volgende kenmerken:






  1. | een statische nauwkeurigheid kleiner (beter) dan 0,7 milligal; en |
| --- | --- | --- |

b.

zwaartekrachtmeters ontworpen voor mobiele tafels met alle volgende kenmerken:

1.

een statische nauwkeurigheid kleiner (beter) dan 0,7 milligal; en

| 2. | een nauwkeurigheid tijdens gebruik (operationele nauwkeurigheid) kleiner (beter) dan 0,7 milligal waarbij het minder dan twee minuten duurt voordat een stationair werkende toestand is bereikt onder willekeurig welke combinatie van bijkomende corrigerende compensaties en bewegingsbeïnvloeding; |
| --- | --- |

2.

een nauwkeurigheid tijdens gebruik (operationele nauwkeurigheid) kleiner (beter) dan 0,7 milligal waarbij het minder dan twee minuten duurt voordat een stationair werkende toestand is bereikt onder willekeurig welke combinatie van bijkomende corrigerende compensaties en bewegingsbeïnvloeding;

| c. | zwaartekrachtgradiëntmeters. |
| --- | --- |

c.

zwaartekrachtgradiëntmeters.

6A008Radarsystemen, -apparatuur en -samenstellingen met één of meer van de volgende eigenschappen, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

NB: ZIE OOK 6A108

Noot: in 6A008 worden niet bedoeld:

| a. | secundaire loodsradar («secondary surveillance radar» (SSR)); |
| --- | --- |

a.

secundaire loodsradar («secondary surveillance radar» (SSR));

| b. | boordradar voor auto’s, ontworpen ter voorkoming van botsingen; |
| --- | --- |

b.

boordradar voor auto’s, ontworpen ter voorkoming van botsingen;

| c. | beeldschermen of monitors, gebruikt ten behoeve van luchtverkeersleiding («air traffic control», ATC) met niet meer dan twaalf oplosbare elementen per mm; |
| --- | --- |

c.

beeldschermen of monitors, gebruikt ten behoeve van luchtverkeersleiding («air traffic control», ATC) met niet meer dan twaalf oplosbare elementen per mm;

| d. | meteorologische (weer) radar. |
| --- | --- |

d.

meteorologische (weer) radar.

| a. | werkend in het frequentiegebied van 40 GHz tot 230 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 100 mW; |
| --- | --- |

a.

werkend in het frequentiegebied van 40 GHz tot 230 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 100 mW;

| b. | met een afstembare bandbreedte groter dan ± 6,25 % van de centrale werkfrequentie;
  Technische noot:

  De centrale werkfrequentie is gelijk aan de helft van de som van de hoogste en de laagste gespecificeerde werkfrequentie. |
| --- | --- |

b.

met een afstembare bandbreedte groter dan ± 6,25 % van de centrale werkfrequentie;

Technische noot:

De centrale werkfrequentie is gelijk aan de helft van de som van de hoogste en de laagste gespecificeerde werkfrequentie.

| c. | geschikt om gelijktijdig te werken op meer dan twee draagfrequenties; |
| --- | --- |

c.

geschikt om gelijktijdig te werken op meer dan twee draagfrequenties;

| d. | geschikt om te werken in de radarmodus met kunstmatig ingestelde apertuur («synthetic aperture radar» (SAR)), met omgekeerde kunstmatig ingestelde apertuur («inverse synthetic aperture» (ISAR)) of in vliegtuigen in de zijwaarts stralende («sidelooking airborne» (SLAR)) radarmodus; |
| --- | --- |

d.

geschikt om te werken in de radarmodus met kunstmatig ingestelde apertuur («synthetic aperture radar» (SAR)), met omgekeerde kunstmatig ingestelde apertuur («inverse synthetic aperture» (ISAR)) of in vliegtuigen in de zijwaarts stralende («sidelooking airborne» (SLAR)) radarmodus;

| e. | met "elektronisch bestuurbare fasegestuurde antennesystemen, opgebouwd uit een groot aantal identieke antennes" («phased array antennae»); |
| --- | --- |

e.

met "elektronisch bestuurbare fasegestuurde antennesystemen, opgebouwd uit een groot aantal identieke antennes" («phased array antennae»);

| f. | geschikt voor het peilen van de hoogte van niet meewerkende doelen;


  Noot: In 6A008.f wordt niet bedoeld landingsradarapparatuur (PAR) conform de ICAO-standaarden. |
| --- | --- |

f.

geschikt voor het peilen van de hoogte van niet meewerkende doelen;

Noot: In 6A008.f wordt niet bedoeld landingsradarapparatuur (PAR) conform de ICAO-standaarden.

| g. | speciaal ontworpen om te werken in de lucht (gemonteerd in een ballon of vliegtuigstructuur) en met Doppler-"signaalverwerking" voor het opsporen van bewegende doelen; |
| --- | --- |

g.

speciaal ontworpen om te werken in de lucht (gemonteerd in een ballon of vliegtuigstructuur) en met Doppler-"signaalverwerking" voor het opsporen van bewegende doelen;

| h. | met toepassing van radarsignaalverwerking met gebruikmaking van:






  1. | "radar «spread spectrum»"-technieken; of |
| --- | --- | --- |

h.

met toepassing van radarsignaalverwerking met gebruikmaking van:

1.

"radar «spread spectrum»"-technieken; of

| 2. | "radar «frequency agility»"-technieken; |
| --- | --- |

2.

"radar «frequency agility»"-technieken;

| i. | met bediening vanaf de grond met een maximaal "geïnstrumenteerd bereik" groter dan 185 km;


  Noot: In 6A008.i worden niet bedoeld:








  a. | loodsradar voor visgronden; |
| --- | --- | --- |

i.

met bediening vanaf de grond met een maximaal "geïnstrumenteerd bereik" groter dan 185 km;

Noot: In 6A008.i worden niet bedoeld:

a.

loodsradar voor visgronden;

| b. | grondradarapparatuur, speciaal ontworpen voor luchtverkeersleiding (ATC)) op voorwaarde dat de hierna vermelde eisen vervuld zijn:








  1. | zij heeft een maximaal "geïnstrumenteerd bereik" van 500 km of minder; |
| --- | --- | --- |

b.

grondradarapparatuur, speciaal ontworpen voor luchtverkeersleiding (ATC)) op voorwaarde dat de hierna vermelde eisen vervuld zijn:

1.

zij heeft een maximaal "geïnstrumenteerd bereik" van 500 km of minder;

| 2. | zij is zodanig geconfigureerd dat de radardoelgegevens uitsluitend in één richting kunnen worden doorgegeven van de radarlocatie naar één of meer civiele ATC-centra; |
| --- | --- |

2.

zij is zodanig geconfigureerd dat de radardoelgegevens uitsluitend in één richting kunnen worden doorgegeven van de radarlocatie naar één of meer civiele ATC-centra;

| 3. | zij bevat geen voorzieningen voor besturing op afstand van de radaraftastsnelheid vanuit het vluchtbegeleidings-ATC-centrum; en |
| --- | --- |

3.

zij bevat geen voorzieningen voor besturing op afstand van de radaraftastsnelheid vanuit het vluchtbegeleidings-ATC-centrum; en

| 4. | zij is bestemd voor een vaste installatie; |
| --- | --- |

4.

zij is bestemd voor een vaste installatie;

| c. | radars voor het volgen van weerballonnen. |
| --- | --- |

c.

radars voor het volgen van weerballonnen.

| j. | "laser"-radar of lichtdetectie- en afstandsbepalings (LIDAR)-apparatuur, met één van beide volgende kenmerken:






  1. | "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte"; of |
| --- | --- | --- |

j.

"laser"-radar of lichtdetectie- en afstandsbepalings (LIDAR)-apparatuur, met één van beide volgende kenmerken:

1.

"gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte"; of

| 2. | gebruikmakend van coherente heterodyne of homodyne detectietechnieken en met een hoekresolutie kleiner (beter) dan 20 microradiaal; |
| --- | --- |

2.

gebruikmakend van coherente heterodyne of homodyne detectietechnieken en met een hoekresolutie kleiner (beter) dan 20 microradiaal;

Noot: Niet bedoeld wordt in 6A008.j LIDAR-apparatuur, speciaal ontworpen voor landmetingen of meteorologische waarnemingen.

| k. | met subsystemen voor signaalverwerking die gebruik maken van "impulscompressie" met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een "impulscompressie"-verhouding groter dan 150; of |
| --- | --- | --- |

k.

met subsystemen voor signaalverwerking die gebruik maken van "impulscompressie" met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een "impulscompressie"-verhouding groter dan 150; of

| 2. | een "pulsduur" korter dan 200 ns; of |
| --- | --- |

2.

een "pulsduur" korter dan 200 ns; of

| l. | met subsystemen voor gegevensverwerking met:






  1. | "automatisch volgen van het doel" waarbij bij iedere omwenteling van de antenne de positie van het doel kan worden voorspeld voor een tijdstip later dan de volgende bestraling met de bundel;


  Noot: Niet bedoeld wordt in 6A008.l.1 de mogelijkheid van waarschuwing voor botsingen in ATC-systemen, of zee- of havenradar. |
| --- | --- | --- |

l.

met subsystemen voor gegevensverwerking met:

1.

"automatisch volgen van het doel" waarbij bij iedere omwenteling van de antenne de positie van het doel kan worden voorspeld voor een tijdstip later dan de volgende bestraling met de bundel;

Noot: Niet bedoeld wordt in 6A008.l.1 de mogelijkheid van waarschuwing voor botsingen in ATC-systemen, of zee- of havenradar.

| 2. | snelheidsberekening van het doel via een primaire radar met niet periodieke (variabele) aftastsnelheid; |
| --- | --- |

2.

snelheidsberekening van het doel via een primaire radar met niet periodieke (variabele) aftastsnelheid;

| 3. | verwerking ten behoeve van automatische patroonherkenning (opsporen van kenmerken) en vergelijking met gegevensbestanden van doelkenmerken (golfvormen of beeldvormen) voor de identificatie of classificatie van doelen; of |
| --- | --- |

3.

verwerking ten behoeve van automatische patroonherkenning (opsporen van kenmerken) en vergelijking met gegevensbestanden van doelkenmerken (golfvormen of beeldvormen) voor de identificatie of classificatie van doelen; of

| 4. | superpositie en correlatie, of samenvoeging, van gegevens over een doel van twee of meer "geografisch gespreide" en "onderling verbonden radarsensoren" ter verduidelijking en onderscheiding van doelen.


  Noot: Niet bedoeld worden in 6A008.l.4 systemen, apparatuur en samenstellingen, gebruikt voor de regeling van het verkeer op zee. |
| --- | --- |

4.

superpositie en correlatie, of samenvoeging, van gegevens over een doel van twee of meer "geografisch gespreide" en "onderling verbonden radarsensoren" ter verduidelijking en onderscheiding van doelen.

Noot: Niet bedoeld worden in 6A008.l.4 systemen, apparatuur en samenstellingen, gebruikt voor de regeling van het verkeer op zee.

6A102Stralingbestendige ‧detectoren‧, anders dan vermeld in 6A002, speciaal ontworpen of aangepast ter bescherming tegen nucleaire effecten (bij voorbeeld elektromagnetische puls (EMP), röntgenstraling, combinatie van drukgolf en hitte) en geschikt voor gebruik in "raketten", ontworpen of gespecificeerd als zijnde bestand tegen stralingsniveaus die overeenkomen met een totale stralingsdosis van 5 × 105 rad silicium of meer.

Technische noot:

In 6A102 is een ‧detector‧ gedefinieerd als een mechanisch, elektrisch, optisch of chemisch element dat een prikkel, bij voorbeeld een verandering van de omgevingsdruk of -temperatuur, een elektrisch of elektromagnetisch signaal of straling van radioactief materiaal automatisch herkent en vastlegt of registreert. Dit omvat elementen die een werking of storing per keer waarnemen.

6A107Zwaartekrachtmeters (gravimeters) en onderdelen voor zwaartekrachtmeters, en zwaartekracht-gradiëntmeters, als hieronder:

| a. | zwaartekrachtmeters, anders dan vermeld in 6A007.b, ontworpen of gewijzigd voor gebruik in luchtvaartuigen of op zee, met een statische of operationele nauwkeurigheid van 7 × 10–6 m/s2 (0,7 milligal) of minder (beter) waarbij het twee minuten of minder duurt voordat een stationair werkende toestand is bereikt; |
| --- | --- |

a.

zwaartekrachtmeters, anders dan vermeld in 6A007.b, ontworpen of gewijzigd voor gebruik in luchtvaartuigen of op zee, met een statische of operationele nauwkeurigheid van 7 × 10–6 m/s2 (0,7 milligal) of minder (beter) waarbij het twee minuten of minder duurt voordat een stationair werkende toestand is bereikt;

| b. | speciaal ontworpen onderdelen voor zwaartekrachtmeters, vermeld in 6A007.b of 6A107.a. en zwaartekrachtgradiëntmeters, vermeld in 6A007.c. |
| --- | --- |

b.

speciaal ontworpen onderdelen voor zwaartekrachtmeters, vermeld in 6A007.b of 6A107.a. en zwaartekrachtgradiëntmeters, vermeld in 6A007.c.

6A108Radarsystemen en volgsystemen, anders dan vermeld in 6A008, als hieronder:

| a. | radar- en laserradarsystemen ontworpen of aangepast voor gebruik in ruimtelanceervoertuigen, vermeld in 9A004, of sonderingsraketten, vermeld in 9A104;


  Noot: In 6A108.a wordt mede bedoeld:








  a. | apparatuur voor het bepalen van het profiel van het aardoppervlak; |
| --- | --- | --- |

a.

radar- en laserradarsystemen ontworpen of aangepast voor gebruik in ruimtelanceervoertuigen, vermeld in 9A004, of sonderingsraketten, vermeld in 9A104;

Noot: In 6A108.a wordt mede bedoeld:

a.

apparatuur voor het bepalen van het profiel van het aardoppervlak;

| b. | beeldapparatuur; |
| --- | --- |

b.

beeldapparatuur;

| c. | apparatuur voor situationele afbeelding en correlatie (numeriek of analoog); |
| --- | --- |

c.

apparatuur voor situationele afbeelding en correlatie (numeriek of analoog);

| d. | apparatuur voor navigatie met behulp van Doppler-radar; |
| --- | --- |

d.

apparatuur voor navigatie met behulp van Doppler-radar;

| b. | precisievolgsystemen, geschikt voor "raketten", als hieronder:






  1. | volgsystemen die gebruikmaken van een vertaalsysteem voor codes gecombineerd met referentiepunten op aarde of in vliegtuigen of navigatiesatellietsystemen om onvertraagde («real time»)-metingen van vluchtpositie en -snelheid te verrichten; |
| --- | --- | --- |

b.

precisievolgsystemen, geschikt voor "raketten", als hieronder:

1.

volgsystemen die gebruikmaken van een vertaalsysteem voor codes gecombineerd met referentiepunten op aarde of in vliegtuigen of navigatiesatellietsystemen om onvertraagde («real time»)-metingen van vluchtpositie en -snelheid te verrichten;

| 2. | radar voor afstandsmeting, met inbegrip van de bijbehorende optische/infrarood volgsystemen met alle onderstaande kenmerken:






  a. | hoekresolutie beter dan 3 milliradiaal (0,5 mils); |
| --- | --- | --- |

2.

radar voor afstandsmeting, met inbegrip van de bijbehorende optische/infrarood volgsystemen met alle onderstaande kenmerken:

a.

hoekresolutie beter dan 3 milliradiaal (0,5 mils);

| b. | bereik van 30 km of meer met een effectieve (rms) afstandsresolutie beter dan 10 m; |
| --- | --- |

b.

bereik van 30 km of meer met een effectieve (rms) afstandsresolutie beter dan 10 m;

| c. | snelheidsresolutievermogen beter dan 3 m/s. |
| --- | --- |

c.

snelheidsresolutievermogen beter dan 3 m/s.

Technische noot:

In 6A108.b wordt onder "raket" verstaan: complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen met een bereik van meer dan 300 km.

6A202Fotomultiplicatorbuizen met de volgende twee kenmerken:

| a. | oppervlak van de fotokathode groter dan 20 cm2; en |
| --- | --- |

a.

oppervlak van de fotokathode groter dan 20 cm2; en

| b. | stijgtijd van de anodepuls korter dan 1 ns. |
| --- | --- |

b.

stijgtijd van de anodepuls korter dan 1 ns.

6A203Camera’s en onderdelen, anders dan vermeld in 6A003, als hieronder:

| a. | mechanisch roterende spiegelcamera’s, als hieronder, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:






  1. | beeld(«framing»)-camera’s met een registratiesnelheid groter dan 225 000 beelden per seconde; |
| --- | --- | --- |

a.

mechanisch roterende spiegelcamera’s, als hieronder, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

1.

beeld(«framing»)-camera’s met een registratiesnelheid groter dan 225 000 beelden per seconde;

| 2. | «streak»-camera’s met een opnamesnelheid groter dan 0,5 mm per microseconde; |
| --- | --- |

2.

«streak»-camera’s met een opnamesnelheid groter dan 0,5 mm per microseconde;

Noot: De in 6A203.a. bedoelde onderdelen van zulke camera’s zijn onder meer synchroniserende elektronische eenheden en rotorsamenstellen bestaande uit turbines, spiegels en lagers.

| b. | elektronische «streak»-camera’s, elektronische beeld («framing»)-camera’s, elementen en buizen, als hieronder:






  1. | elektronische «streak»-camera’s met een tijdresolutie van 50 ns of minder; |
| --- | --- | --- |

b.

elektronische «streak»-camera’s, elektronische beeld («framing»)-camera’s, elementen en buizen, als hieronder:

1.

elektronische «streak»-camera’s met een tijdresolutie van 50 ns of minder;

| 2. | «streak»-buizen voor camera’s bedoeld in 6A203.b.1.; |
| --- | --- |

2.

«streak»-buizen voor camera’s bedoeld in 6A203.b.1.;

| 3. | elektronische (of met een elektronische sluiter uitgeruste) beeld(«framing»)- camera’s met een belichtingstijd van 50 ns of minder per beeld; |
| --- | --- |

3.

elektronische (of met een elektronische sluiter uitgeruste) beeld(«framing»)- camera’s met een belichtingstijd van 50 ns of minder per beeld;

| 4. | beeld(«framing»)-buizen en halfgeleiderelementen voor beeldvorming, voor gebruik met camera’s bedoeld in 6A203.b.3, als hieronder:






  a. | beeldversterkerbuizen met zeer korte brandpuntsafstand waarbij de fotokathode wordt afgezet op een transparante geleidende bekledingslaag ter vermindering van de weerstand van de fotokathodelaag; |
| --- | --- | --- |

4.

beeld(«framing»)-buizen en halfgeleiderelementen voor beeldvorming, voor gebruik met camera’s bedoeld in 6A203.b.3, als hieronder:

a.

beeldversterkerbuizen met zeer korte brandpuntsafstand waarbij de fotokathode wordt afgezet op een transparante geleidende bekledingslaag ter vermindering van de weerstand van de fotokathodelaag;

| b. | vidiconbuizen met siliciumversterkerbeeldplaat («silicon intensifier target» (SIT)) van het poorttype, waarbij door middel van een snelschakelsysteem het doorlaten van de van de fotokathode afkomstige foto-elektronen wordt geregeld alvorens deze op de SIT-plaat botsen; |
| --- | --- |

b.

vidiconbuizen met siliciumversterkerbeeldplaat («silicon intensifier target» (SIT)) van het poorttype, waarbij door middel van een snelschakelsysteem het doorlaten van de van de fotokathode afkomstige foto-elektronen wordt geregeld alvorens deze op de SIT-plaat botsen;

| c. | elektro-optische sluiters welke gebruik maken van een Kerr- of «pockel»-cel; |
| --- | --- |

c.

elektro-optische sluiters welke gebruik maken van een Kerr- of «pockel»-cel;

| d. | andere beeld («framing»)-buizen en halfgeleiderelementen voor beeldvorming met een venstertijd van minder dan 50 ns, speciaal ontworpen voor camera’s bedoeld in 6A203.b.3; |
| --- | --- |

d.

andere beeld («framing»)-buizen en halfgeleiderelementen voor beeldvorming met een venstertijd van minder dan 50 ns, speciaal ontworpen voor camera’s bedoeld in 6A203.b.3;

| c. | stralingbestendige televisiecamera’s of lenzen daarvoor, speciaal ontworpen of gekwalificeerd als bestand zijnde tegen een stralingsniveau hoger dan 50 × 103 Gy (silicium) (5 × 106 rad(silicium)) zonder verslechtering van de werking.
  Technische noot:

  De term Gy(silicium) verwijst naar de energie in Joule per kilogram die wordt geabsorbeerd door een onbeschermde hoeveelheid silicium bij blootstelling aan ioniserende straling. |
| --- | --- |

c.

stralingbestendige televisiecamera’s of lenzen daarvoor, speciaal ontworpen of gekwalificeerd als bestand zijnde tegen een stralingsniveau hoger dan 50 × 103 Gy (silicium) (5 × 106 rad(silicium)) zonder verslechtering van de werking.

Technische noot:

De term Gy(silicium) verwijst naar de energie in Joule per kilogram die wordt geabsorbeerd door een onbeschermde hoeveelheid silicium bij blootstelling aan ioniserende straling.

6A205"Lasers", "laser"versterkers en oscillatoren, anders dan bedoeld in 0B001.g.5., 0B001.h.6. en 6A005., als hieronder:

| a. | argon-ionen-"lasers" met de twee volgende kenmerken:






  1. | werkend bij een golflengte van 400 nm tot 515 nm; en |
| --- | --- | --- |

a.

argon-ionen-"lasers" met de twee volgende kenmerken:

1.

werkend bij een golflengte van 400 nm tot 515 nm; en

| 2. | een gemiddeld uitgangsvermogen groter dan 40 W; |
| --- | --- |

2.

een gemiddeld uitgangsvermogen groter dan 40 W;

| b. | afstembare gepulseerde monomodus kleurstoflaseroscillatoren met alle volgende kenmerken:






  1. | een golflengte van 300 nm tot 800 nm; |
| --- | --- | --- |

b.

afstembare gepulseerde monomodus kleurstoflaseroscillatoren met alle volgende kenmerken:

1.

een golflengte van 300 nm tot 800 nm;

| 2. | een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 1 W; |
| --- | --- |

2.

een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 1 W;

| 3. | een herhalingssnelheid groter dan 1 kHz; en |
| --- | --- |

3.

een herhalingssnelheid groter dan 1 kHz; en

| 4. | een pulsduur korter dan 100 ns; |
| --- | --- |

4.

een pulsduur korter dan 100 ns;

| c. | afstembare gepulseerde kleurstof-"laser"-versterkers en oscillatoren met alle volgende kenmerken:






  1. | een golflengte van 300 nm tot 800 nm; |
| --- | --- | --- |

c.

afstembare gepulseerde kleurstof-"laser"-versterkers en oscillatoren met alle volgende kenmerken:

1.

een golflengte van 300 nm tot 800 nm;

| 2. | een gemiddeld uitgangsvermogen groter dan 30 W; |
| --- | --- |

2.

een gemiddeld uitgangsvermogen groter dan 30 W;

| 3. | een herhalingssnelheid groter dan 1 kHz; en |
| --- | --- |

3.

een herhalingssnelheid groter dan 1 kHz; en

| 4. | een pulsduur korter dan 100 ns; |
| --- | --- |

4.

een pulsduur korter dan 100 ns;

Noot: Niet bedoeld zijn in 6A205.c. monomodus oscillatoren;

| d. | gepulseerde koolstofdioxide "lasers" met alle volgende kenmerken:






  1. | een golflengte van 9 000 nm tot 11 000 nm; |
| --- | --- | --- |

d.

gepulseerde koolstofdioxide "lasers" met alle volgende kenmerken:

1.

een golflengte van 9 000 nm tot 11 000 nm;

| 2. | een herhalingssnelheid groter dan 250 Hz; |
| --- | --- |

2.

een herhalingssnelheid groter dan 250 Hz;

| 3. | een gemiddeld uitgangsvermogen groter dan 500 W; en |
| --- | --- |

3.

een gemiddeld uitgangsvermogen groter dan 500 W; en

| 4. | een pulsduur korter dan 200 ns; |
| --- | --- |

4.

een pulsduur korter dan 200 ns;

| e. | para-waterstof-Ramanfrequentieverschuivers, ontworpen om te werken bij een golflengte aan de uitgang van 16 micrometer en een herhalingssnelheid groter dan 250 Hz; |
| --- | --- |

e.

para-waterstof-Ramanfrequentieverschuivers, ontworpen om te werken bij een golflengte aan de uitgang van 16 micrometer en een herhalingssnelheid groter dan 250 Hz;

| f. | neodymium gedoopte (anders dan glas), «Q-switched»"lasers" met pulsexcitatie, met de volgende kenmerken:






  1. | een golflengte aan de uitgang van meer dan 1 000 nm doch niet meer dan 1 100 nm; |
| --- | --- | --- |

f.

neodymium gedoopte (anders dan glas), «Q-switched»"lasers" met pulsexcitatie, met de volgende kenmerken:

1.

een golflengte aan de uitgang van meer dan 1 000 nm doch niet meer dan 1 100 nm;

| 2. | een pulsduur van minstens 1 ns; en |
| --- | --- |

2.

een pulsduur van minstens 1 ns; en

| 3. | een uitvoer volgens verschillende transversale modi met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 50 W. |
| --- | --- |

3.

een uitvoer volgens verschillende transversale modi met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 50 W.

6A225Snelheidsinterferometers voor het meten van snelheden van meer dan 1 km per seconde over een tijdsinterval van minder dan 10 microseconden.

Noot: In 6A225 zijn bedoeld snelheidsinterferometers zoals VISARs («Velocity interferometer systems for any reflector») en DLI’s (Doppler laser interferometers), enz.).

6A226Druksensoren, als hieronder:

| a. | manganinedrukmeters voor drukken hoger dan 10 GPa; |
| --- | --- |

a.

manganinedrukmeters voor drukken hoger dan 10 GPa;

| b. | kwartsdrukopnemers voor drukken hoger dan 10 GPa. |
| --- | --- |

b.

kwartsdrukopnemers voor drukken hoger dan 10 GPa.

6BTest-, inspectie- en productieapparatuur

6B004Optische apparatuur, als hieronder:

| a. | optische apparatuur voor het meten van absolute reflectiecoëfficiënten met een nauwkeurigheid van ± 0,1 % van de reflectiecoëfficiëntswaarde; |
| --- | --- |

a.

optische apparatuur voor het meten van absolute reflectiecoëfficiënten met een nauwkeurigheid van ± 0,1 % van de reflectiecoëfficiëntswaarde;

| b. | andere apparatuur dan optische meetapparatuur voor de verstrooiing aan oppervlakken, met een vrije apertuur van meer dan 10 cm, speciaal ontworpen voor contactloze optische meting van een niet vlak zijnd optisch oppervlak (profiel) met een "nauwkeurigheid" van 2 nm of minder (beter) ten opzichte van het gewenste profiel. |
| --- | --- |

b.

andere apparatuur dan optische meetapparatuur voor de verstrooiing aan oppervlakken, met een vrije apertuur van meer dan 10 cm, speciaal ontworpen voor contactloze optische meting van een niet vlak zijnd optisch oppervlak (profiel) met een "nauwkeurigheid" van 2 nm of minder (beter) ten opzichte van het gewenste profiel.

Noot: Microscopen zijn niet bedoeld in 6B004.

6B007Apparatuur voor de productie, het richten en het ijken van op de grond gestationeerde zwaartekrachtmeters met een statische nauwkeurigheid beter dan 0,1 milligal;

6B008Gepulseerde radarsystemen voor het meten van de dwarsdoorsnede met een zendimpulsduur van 100 ns of minder en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen;

NB: ZIE OOK 6B108

6B108Systemen, anders dan vermeld in 6B008, speciaal ontworpen voor het meten van radardwarsdoorsnedes geschikt voor gebruik in "raketten", alsmede subsystemen daarvan.

6CMaterialen

6C002Materialen voor optische sensoren, als hieronder:

| a. | elementair telluur (Te) met een zuiverheidsgraad gelijk aan of hoger dan 99,9995 %; |
| --- | --- |

a.

elementair telluur (Te) met een zuiverheidsgraad gelijk aan of hoger dan 99,9995 %;

| b. | eenkristallen (met inbegrip van epitaxiale wafers daarvan) van een van de volgende stoffen:






  1. | cadmiumzinktelluride (CdZnTe) met een zinkgehalte van minder dan 6 % per ‧molfractie‧; |
| --- | --- | --- |

b.

eenkristallen (met inbegrip van epitaxiale wafers daarvan) van een van de volgende stoffen:

1.

cadmiumzinktelluride (CdZnTe) met een zinkgehalte van minder dan 6 % per ‧molfractie‧;

| 2. | cadmiumtelluride (CdTe), met iedere zuiverheidsgraad; of |
| --- | --- |

2.

cadmiumtelluride (CdTe), met iedere zuiverheidsgraad; of

| 3. | cadmiumkwiktelluride (CdHgTe) met iedere zuiverheidsgraad. |
| --- | --- |

3.

cadmiumkwiktelluride (CdHgTe) met iedere zuiverheidsgraad.

Technische noot:

Onder ‧molfractie‧ wordt verstaan de verhouding tussen het aantal mol van ZnTe en de som van de aantallen mol van CdTe en ZnTe in het kristal.

6C004Optische materialen, als hieronder:

| a. | "onafgewerkte substraten" van zinkselenide (ZnSe) en zinksulfide (ZnS) vervaardigd door middel van chemische afzetting uit de dampfase:






  1. | met een volume groter dan 100 cm3; of |
| --- | --- | --- |

a.

"onafgewerkte substraten" van zinkselenide (ZnSe) en zinksulfide (ZnS) vervaardigd door middel van chemische afzetting uit de dampfase:

1.

met een volume groter dan 100 cm3; of

| 2. | met een diameter groter dan 80 mm en een dikte gelijk aan of groter dan 20 mm; |
| --- | --- |

2.

met een diameter groter dan 80 mm en een dikte gelijk aan of groter dan 20 mm;

| b. | eenkristallen van de volgende elektro-optische materialen:






  1. | kaliumtitanylarsenaat (KTA); |
| --- | --- | --- |

b.

eenkristallen van de volgende elektro-optische materialen:

1.

kaliumtitanylarsenaat (KTA);

| 2. | zilvergalliumselenide (AgGaSe2); |
| --- | --- |

2.

zilvergalliumselenide (AgGaSe2);

| 3. | thalliumarsenicumselenide (Tl3AsSe3, ook bekend als TAS); |
| --- | --- |

3.

thalliumarsenicumselenide (Tl3AsSe3, ook bekend als TAS);

| c. | niet-lineaire optische materialen met:






  1. | een gevoeligheid van de derde orde (chi 3) gelijk aan 10-6m2/V2 of meer; en |
| --- | --- | --- |

c.

niet-lineaire optische materialen met:

1.

een gevoeligheid van de derde orde (chi 3) gelijk aan 10-6m2/V2 of meer; en

| 2. | een reactietijd van minder dan 1 ms; |
| --- | --- |

2.

een reactietijd van minder dan 1 ms;

| d. | "onafgewerkte substraten" bekleed met siliciumcarbide of beryllium beryllium (Be/Be), met een diameter of lengte van de hoofdas groter dan 300 mm; |
| --- | --- |

d.

"onafgewerkte substraten" bekleed met siliciumcarbide of beryllium beryllium (Be/Be), met een diameter of lengte van de hoofdas groter dan 300 mm;

| e. | glas, met inbegrip van gesmolten siliciumoxide, fosfaatglas, fluorfosfaatglas, zirkoniumfluoride (ZrF4) en hafniumfluoride (HfF4), met alle volgende kenmerken:






  1. | een hydroxylion (OH)-concentratie van minder dan 5 ppm; |
| --- | --- | --- |

e.

glas, met inbegrip van gesmolten siliciumoxide, fosfaatglas, fluorfosfaatglas, zirkoniumfluoride (ZrF4) en hafniumfluoride (HfF4), met alle volgende kenmerken:

1.

een hydroxylion (OH)-concentratie van minder dan 5 ppm;

| 2. | geïntegreerd metaalzuiverheidsniveau van minder dan 1 ppm; en |
| --- | --- |

2.

geïntegreerd metaalzuiverheidsniveau van minder dan 1 ppm; en

| 3. | sterke homogeniteit (variantie van de brekingsindex) minder dan 5 × 10-6; |
| --- | --- |

3.

sterke homogeniteit (variantie van de brekingsindex) minder dan 5 × 10-6;

| f. | kunstmatig geproduceerd diamantmateriaal met een absorptie van minder dan 10-5 cm-1 bij een golflengte groter dan 200 nm doch niet groter dan 14 000 nm; |
| --- | --- |

f.

kunstmatig geproduceerd diamantmateriaal met een absorptie van minder dan 10-5 cm-1 bij een golflengte groter dan 200 nm doch niet groter dan 14 000 nm;

6C005Synthetisch kristallijn "laser"-materiaal in onafgewerkte vorm, als hieronder:

| a. | titaan-gedoopt saffier; |
| --- | --- |

a.

titaan-gedoopt saffier;

| b. | alexandriet. |
| --- | --- |

b.

alexandriet.

6DProgrammatuur

6D001"Programmatuur", speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" of "productie" van apparatuur, vermeld in 6A004, 6A005, 6A008 of 6B008.

6D002"Programmatuur", speciaal ontworpen voor het "gebruik" van apparatuur, vermeld in 6A002.b, 6A008 of 6B008.

6D003Overige "programmatuur", als hieronder:

| a. | 1. | programmatuur, speciaal ontworpen voor akoestische bundelvorming voor de "tijdgebonden verwerking" van akoestische gegevens voor passieve ontvangst met gebruikmaking van gesleepte samenstellen van regelmatig gerangschikte hydrofoons («towed hydrophone arrays»); |
| --- | --- | --- |

a.

1.

programmatuur, speciaal ontworpen voor akoestische bundelvorming voor de "tijdgebonden verwerking" van akoestische gegevens voor passieve ontvangst met gebruikmaking van gesleepte samenstellen van regelmatig gerangschikte hydrofoons («towed hydrophone arrays»);

| 2. | "broncode" voor de "tijdgebonden verwerking" van akoestische gegevens voor passieve ontvangst met gebruikmaking van «towed hydrophone arrays»; |
| --- | --- |

2.

"broncode" voor de "tijdgebonden verwerking" van akoestische gegevens voor passieve ontvangst met gebruikmaking van «towed hydrophone arrays»;

| 3. | "programmatuur", speciaal ontworpen voor akoestische bundelvorming voor "tijdgebonden verwerking" van akoestische gegevens voor passieve ontvangst met gebruikmaking van bodem- of baaikabelsystemen met bundelvorming; |
| --- | --- |

3.

"programmatuur", speciaal ontworpen voor akoestische bundelvorming voor "tijdgebonden verwerking" van akoestische gegevens voor passieve ontvangst met gebruikmaking van bodem- of baaikabelsystemen met bundelvorming;

| 4. | "broncode" voor de "tijdgebonden verwerking" van akoestische gegevens voor passieve ontvangst met gebruikmaking van bodem- of baaikabelsystemen; |
| --- | --- |

4.

"broncode" voor de "tijdgebonden verwerking" van akoestische gegevens voor passieve ontvangst met gebruikmaking van bodem- of baaikabelsystemen;

| b. | 1. | "programmatuur", speciaal ontworpen voor compensatiesystemen voor magnetische en elektrische velden voor magnetische sensoren ontworpen voor bedrijf op mobiele tafels; |
| --- | --- | --- |

b.

1.

"programmatuur", speciaal ontworpen voor compensatiesystemen voor magnetische en elektrische velden voor magnetische sensoren ontworpen voor bedrijf op mobiele tafels;

| 2. | "programmatuur", speciaal ontworpen voor afwijkingsdetectie bij magnetische en elektrische velden op mobiele tafels; |
| --- | --- |

2.

"programmatuur", speciaal ontworpen voor afwijkingsdetectie bij magnetische en elektrische velden op mobiele tafels;

| c. | "programmatuur", speciaal ontworpen voor het corrigeren van bewegingsbeïnvloeding van zwaartekrachtmeters of zwaartekrachtgradiëntmeters; |
| --- | --- |

c.

"programmatuur", speciaal ontworpen voor het corrigeren van bewegingsbeïnvloeding van zwaartekrachtmeters of zwaartekrachtgradiëntmeters;

| d. | 1. | toepassings-"programma’s" van luchtverkeersleidings(ATC)- "programmatuur" die zijn geïnstalleerd op universele computers geplaatst in een luchtverkeersleidingscentrum en geschikt voor één of meer van de volgende functies:






  a. | verwerking en op het scherm tonen van meer dan 150 gelijktijdige "systeemsporen", of |
| --- | --- | --- | --- |

d.

1.

toepassings-"programma’s" van luchtverkeersleidings(ATC)- "programmatuur" die zijn geïnstalleerd op universele computers geplaatst in een luchtverkeersleidingscentrum en geschikt voor één of meer van de volgende functies:

a.

verwerking en op het scherm tonen van meer dan 150 gelijktijdige "systeemsporen", of

| b. | ontvangst van radargegevens over een doel afkomstig van meer dan vier primaire radars; |
| --- | --- |

b.

ontvangst van radargegevens over een doel afkomstig van meer dan vier primaire radars;

| 2. | "programmatuur" voor het ontwerpen of de "productie" van radarkoepels die:






  a. | speciaal zijn ontworpen voor het beschermen van de "elektronisch bestuurbare fasegestuurde antennesystemen, opgebouwd uit een groot aantal identieke antennes" («phased array antennae») bedoeld in 6A008.e, en |
| --- | --- | --- |

2.

"programmatuur" voor het ontwerpen of de "productie" van radarkoepels die:

a.

speciaal zijn ontworpen voor het beschermen van de "elektronisch bestuurbare fasegestuurde antennesystemen, opgebouwd uit een groot aantal identieke antennes" («phased array antennae») bedoeld in 6A008.e, en

| b. | resulteert in een antennepatroon met een ‧gemiddeld zijlobbenniveau‧ dat meer dan 40 dB onder de piek van het voornaamste bundelniveau ligt.
  Technische noot:

  Het ‧gemiddelde zijlobbenniveau‧ in 6D003.d.2.b wordt gemeten over de gehele «array», met uitzondering van de hoek, bestreken door de hoofdbundel en de eerste twee zijlobben aan beide zijden van de hoofdbundel. |
| --- | --- |

b.

resulteert in een antennepatroon met een ‧gemiddeld zijlobbenniveau‧ dat meer dan 40 dB onder de piek van het voornaamste bundelniveau ligt.

Technische noot:

Het ‧gemiddelde zijlobbenniveau‧ in 6D003.d.2.b wordt gemeten over de gehele «array», met uitzondering van de hoek, bestreken door de hoofdbundel en de eerste twee zijlobben aan beide zijden van de hoofdbundel.

6D102"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor het "gebruik" van in 6A108 bedoelde goederen.

6D103"Programmatuur" voor het na de vlucht verwerken van geregistreerde gegevens, waarmee de positie tijdens het gehele vluchttraject kan worden bepaald, speciaal ontworpen of aangepast voor "raketten".

Technische noot:

In 6D103 wordt onder "raket" verstaan: complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen met een bereik van meer dan 300 km.

6ETechnologie

6E001Technologie overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" van apparatuur, materialen of "programmatuur", vermeld in 6A, 6B, 6C of 6D.

6E002Technologie overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "productie" van apparatuur of materialen, vermeld in 6A, 6B of 6C.

6E003Overige "technologie", als hieronder:

| a. | 1. | "technologie" voor de optische bekleding en behandeling van het oppervlak, benodigd voor het verkrijgen van een uniformiteit van 99,5 % of beter voor optische bekledingslagen met een diameter of lengte van de hoofdas van 500 mm of meer en met een totaal verlies (absorptie en verstrooiing) van minder dan 5 × 10-3;

  NB: zie ook 2E003.f. |
| --- | --- | --- |

a.

1.

"technologie" voor de optische bekleding en behandeling van het oppervlak, benodigd voor het verkrijgen van een uniformiteit van 99,5 % of beter voor optische bekledingslagen met een diameter of lengte van de hoofdas van 500 mm of meer en met een totaal verlies (absorptie en verstrooiing) van minder dan 5 × 10-3;

NB: zie ook 2E003.f.

| 2. | optische fabricagetechnologieën met éénpuntsdiamant-draaitechnieken die afgewerkte oppervlakken leveren met een nauwkeurigheid beter dan 10 nm effectief (rms) op niet vlakke oppervlakken groter dan 0,5 m2; |
| --- | --- |

2.

optische fabricagetechnologieën met éénpuntsdiamant-draaitechnieken die afgewerkte oppervlakken leveren met een nauwkeurigheid beter dan 10 nm effectief (rms) op niet vlakke oppervlakken groter dan 0,5 m2;

| b. | "technologie""noodzakelijk" voor de "ontwikkeling", "productie" of het "gebruik" van speciaal ontworpen diagnostische instrumenten of trefplaten in testvoorzieningen voor SHPL-systemen ("super high power laser") of voor het testen of onderzoek van door SHPL-bundels bestraalde materialen. |
| --- | --- |

b.

"technologie""noodzakelijk" voor de "ontwikkeling", "productie" of het "gebruik" van speciaal ontworpen diagnostische instrumenten of trefplaten in testvoorzieningen voor SHPL-systemen ("super high power laser") of voor het testen of onderzoek van door SHPL-bundels bestraalde materialen.

6E101"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor het "gebruik" van apparatuur en "programmatuur", vermeld in 6A002, 6A007.b en c, 6A008, 6A102, 6A107, 6A108, 6B108, 6D102 of 6D103.

Noot: In 6E101 wordt alleen "technologie" vermeld voor apparatuur, vermeld in 6A008, wanneer deze is ontworpen voor gebruik in vliegtuigen en geschikt is voor gebruik in "raketten".

6E201"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor het gebruik van apparatuur, vermeld in 6A003, 6A005.a.1.c, 6A005.a.2.a, 6A005.c.1.b, 6A005.c.2.c.2, 6A005.c.2.d.2.b, 6A202, 6A203, 6A205, 6A225 of 6A226.

CATEGORIE 7

NAVIGATIE EN VLIEGTUIGELEKTRONICA

7ASystemen, apparatuur en onderdelen

NB: Voor automatische piloten voor onderwatervoertuigen, zie categorie 8.

Voor radar: zie categorie 6.

7A001Lineaire versnellingsmeters, ontworpen voor gebruik in traagheidsnavigatie of geleidingssystemen en met één of meer van de volgende kenmerken, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

NB: ZIE OOK 7A101. Voor hoek- of rotatieversnellingsmeters, zie 7A002.

| a. | een "stabiliteit" van de "bias" kleiner (beter) dan 130 micro g ten opzichte van een vaste ijkwaarde over een periode van één jaar; |
| --- | --- |

a.

een "stabiliteit" van de "bias" kleiner (beter) dan 130 micro g ten opzichte van een vaste ijkwaarde over een periode van één jaar;

| b. | een "stabiliteit" van de "schaalfactor" kleiner (beter) dan 130 ppm ten opzichte van een vaste ijkwaarde over een periode van één jaar; of |
| --- | --- |

b.

een "stabiliteit" van de "schaalfactor" kleiner (beter) dan 130 ppm ten opzichte van een vaste ijkwaarde over een periode van één jaar; of

| c. | gespecificeerd voor gebruik bij lineaire versnellingsniveaus van meer dan 100 g. |
| --- | --- |

c.

gespecificeerd voor gebruik bij lineaire versnellingsniveaus van meer dan 100 g.

7A002Gyroscopen, en hoek- of rotatieversnellingsmeters, met één of meer van de volgende kenmerken en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

NB: ZIE OOK 7A102.

| a. | een "stabiliteit" van de "verloopsnelheid", indien gemeten bij een versnellingsniveau van 1 g over een periode van een maand en ten opzichte van een vaste ijkwaarde, van:






  1. | minder (beter) dan 0,1 graad per uur indien de gyroscoop is gespecificeerd om ononderbroken te werken bij een lineair versnellingsniveau onder de 12 g; of |
| --- | --- | --- |

a.

een "stabiliteit" van de "verloopsnelheid", indien gemeten bij een versnellingsniveau van 1 g over een periode van een maand en ten opzichte van een vaste ijkwaarde, van:

1.

minder (beter) dan 0,1 graad per uur indien de gyroscoop is gespecificeerd om ononderbroken te werken bij een lineair versnellingsniveau onder de 12 g; of

| 2. | minder (beter) dan 0,5 graad per uur indien de gyroscoop is gespecificeerd om te werken bij lineaire versnellingsniveaus van 12 t/m 100 g; of |
| --- | --- |

2.

minder (beter) dan 0,5 graad per uur indien de gyroscoop is gespecificeerd om te werken bij lineaire versnellingsniveaus van 12 t/m 100 g; of

| b. | een "angle random walk" van minder (beter) dan of gelijk aan 0,0035° per uur1/2; of


  Noot: A002.b heeft geen betrekking op gyroscopen met draaimassa (gyroscopen met draaimassa zijn gyroscopen die gebruikmaken van een continu roterende massa voor het waarnemen van hoekbeweging).

  Technische noot:

  Voor de toepassing van 7A002.b is "angle random walk" de foutenontwikkeling bij hoekversnellingsmeting in tijd door witte ruis in de snelheid van de hoekbeweging (IEEE STD 528-2001). |
| --- | --- |

b.

een "angle random walk" van minder (beter) dan of gelijk aan 0,0035° per uur1/2; of

Noot: A002.b heeft geen betrekking op gyroscopen met draaimassa (gyroscopen met draaimassa zijn gyroscopen die gebruikmaken van een continu roterende massa voor het waarnemen van hoekbeweging).

Technische noot:

Voor de toepassing van 7A002.b is "angle random walk" de foutenontwikkeling bij hoekversnellingsmeting in tijd door witte ruis in de snelheid van de hoekbeweging (IEEE STD 528-2001).

| c. | gespecificeerd om te werken bij lineaire versnellingsniveaus van meer dan 100 g. |
| --- | --- |

c.

gespecificeerd om te werken bij lineaire versnellingsniveaus van meer dan 100 g.

7A003Traagheidssystemen en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:

NB: ZIE OOK 7A103.

| a. | traagheidsnavigatiesystemen (INS) (zowel met cardanische ophanging als vast) en traagheidsapparatuur ontworpen voor "vliegtuigen", voor voertuigen voor gebruik aan land, voor vaartuigen (zowel oppervlakteschepen als onderzeeboten) of voor "ruimtevaartuigen", voor standregeling, geleiding of besturing met één of meer van de volgende kenmerken, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:






  1. | (vrije traagheids) navigatiefout van 0,8 zeemijl per uur (nm/hr) ‧Circular Error Probable‧ (CEP) of minder (beter) na normale uitrichting; of |
| --- | --- | --- |

a.

traagheidsnavigatiesystemen (INS) (zowel met cardanische ophanging als vast) en traagheidsapparatuur ontworpen voor "vliegtuigen", voor voertuigen voor gebruik aan land, voor vaartuigen (zowel oppervlakteschepen als onderzeeboten) of voor "ruimtevaartuigen", voor standregeling, geleiding of besturing met één of meer van de volgende kenmerken, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

1.

(vrije traagheids) navigatiefout van 0,8 zeemijl per uur (nm/hr) ‧Circular Error Probable‧ (CEP) of minder (beter) na normale uitrichting; of

| 2. | gespecificeerd om te werken bij liniaire versnellingsniveaus van meer dan 10 g; |
| --- | --- |

2.

gespecificeerd om te werken bij liniaire versnellingsniveaus van meer dan 10 g;

| b. | hybride traagheidsnavigatiesystemen met ingebouwd wereldwijd satellietnavigatiesysteem (GNSS) of navigatiesysteem met als referentie een gegevensbestand (DBRN) voor attitude, sturing of controle, na normale uitrichting, met na uitval van GNSS of DBRN gedurende een periode tot 4 minuten een INS-precisie van minder (beter) dan tien meter ‧Circular Error Probability‧ (CEP) (50 %-trefkanscirkel). |
| --- | --- |

b.

hybride traagheidsnavigatiesystemen met ingebouwd wereldwijd satellietnavigatiesysteem (GNSS) of navigatiesysteem met als referentie een gegevensbestand (DBRN) voor attitude, sturing of controle, na normale uitrichting, met na uitval van GNSS of DBRN gedurende een periode tot 4 minuten een INS-precisie van minder (beter) dan tien meter ‧Circular Error Probability‧ (CEP) (50 %-trefkanscirkel).

| c. | traagheidsapparatuur voor azimutpeilingen, koersbepaling en bepalen van het noorden met een of meerdere van de volgende kenmerken, en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor:






  1. | ontworpen voor een azimutpeiling, koersbepaling of bepaling van het noorden met een nauwkeurigheid die gelijk is aan of minder (beter) dan 6 boogminuten RMS op een geografische breedte van 45 graden; of |
| --- | --- | --- |

c.

traagheidsapparatuur voor azimutpeilingen, koersbepaling en bepalen van het noorden met een of meerdere van de volgende kenmerken, en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor:

1.

ontworpen voor een azimutpeiling, koersbepaling of bepaling van het noorden met een nauwkeurigheid die gelijk is aan of minder (beter) dan 6 boogminuten RMS op een geografische breedte van 45 graden; of

| 2. | ontworpen om niet-operationeel bestand te zijn tegen schokken van 900 g of meer met een duur van 1 msec of meer. |
| --- | --- |

2.

ontworpen om niet-operationeel bestand te zijn tegen schokken van 900 g of meer met een duur van 1 msec of meer.

Noot 1: De parameters van 7A003.a en 7A003.b zijn van toepassing onder alle hierna vermelde omgevingsomstandigheden:

| 1. | invoer van willekeurige trillingen met een totale magnitude van 7,7 g rms tijdens het eerste half uur en een totale testduur van anderhalf uur per as voor elk van de drie loodrechte assen, wanneer de willekeurige trillingen aan de volgende voorwaarden voldoen:








  a. | een constante spectrale vermogensdichtheid (PSD) van 0,04 g2/Hz bij een frequentie-interval van 15 tot 1 000 Hz; en |
| --- | --- | --- |

1.

invoer van willekeurige trillingen met een totale magnitude van 7,7 g rms tijdens het eerste half uur en een totale testduur van anderhalf uur per as voor elk van de drie loodrechte assen, wanneer de willekeurige trillingen aan de volgende voorwaarden voldoen:

a.

een constante spectrale vermogensdichtheid (PSD) van 0,04 g2/Hz bij een frequentie-interval van 15 tot 1 000 Hz; en

| b. | de PSD verkleint naar gelang van de frequentie van 0,04 g2/Hz tot 0,01 g2/Hz bij een frequentie-interval van 1 000 tot 2 000 Hz;
  of |
| --- | --- |

b.

de PSD verkleint naar gelang van de frequentie van 0,04 g2/Hz tot 0,01 g2/Hz bij een frequentie-interval van 1 000 tot 2 000 Hz;
  of

| 2. | een slinger en giersnelheid van + 2,62 radiant/s (150 graden/s) of meer; of |
| --- | --- |

2.

een slinger en giersnelheid van + 2,62 radiant/s (150 graden/s) of meer; of

| 3. | overeenkomstig nationale normen die gelijkwaardig zijn aan bovenstaande punten 1 en 2. |
| --- | --- |

3.

overeenkomstig nationale normen die gelijkwaardig zijn aan bovenstaande punten 1 en 2.

Noot 2: 7A003 is niet van toepassing op traagheidsnavigatiesystemen die gecertificeerd zijn voor gebruik in "civiele vliegtuigen" door de civiele autoriteiten van een "deelnemende staat".

Noot 3: 7A003.c.1 is niet van toepassing op met traagheidsnavigatie werkende theodolietsystemen die speciaal ontworpen zijn voor civiele opmetingen.

Technische noten:

| 1. | 7A003.b betreft systemen waarin INS of andere onafhankelijke navigatiehulpmiddelen in een afzonderlijke entiteit zijn ingebouwd met het oog op betere prestaties. |
| --- | --- |

1.

7A003.b betreft systemen waarin INS of andere onafhankelijke navigatiehulpmiddelen in een afzonderlijke entiteit zijn ingebouwd met het oog op betere prestaties.

| 2. | ‧Circular Error Probability‧ (CEP — 50 %-trefkanscirkel): bij normale cirkelvormige spreiding de straal van de cirkel die 50 procent bestrijkt van de afzonderlijke metingen die worden verricht, of de straal van de cirkel waarbinnen er 50 procent kans is om te worden gelokaliseerd. |
| --- | --- |

2.

‧Circular Error Probability‧ (CEP — 50 %-trefkanscirkel): bij normale cirkelvormige spreiding de straal van de cirkel die 50 procent bestrijkt van de afzonderlijke metingen die worden verricht, of de straal van de cirkel waarbinnen er 50 procent kans is om te worden gelokaliseerd.

7A004Astrogyrokompassen en andere apparaten voor het bepalen van plaats en richting door het automatisch volgen van hemellichamen of satellieten, met een azimutnauwkeurigheid gelijk aan of kleiner (beter) dan 5 boogseconden.

NB: ZIE OOK 7A104.

7A005Ontvangstapparatuur voor wereldwijde satellietnavigatiesystemen (vb. GPS of GLONASS) met één van beide volgende kenmerken, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

NB: ZIE OOK 7A105.

| a. | maakt gebruik van omzetting/ontcijfering van gegevens in geheime codering; of |
| --- | --- |

a.

maakt gebruik van omzetting/ontcijfering van gegevens in geheime codering; of

| b. | met een bestuurbare antenne met nulstand. |
| --- | --- |

b.

met een bestuurbare antenne met nulstand.

7A006Hoogtemeters voor gebruik in luchtvaartuigen met werkfrequenties buiten het gebied van 4,2 t/m 4,4 GHz, met één van beide volgende kenmerken:

NB: ZIE OOK 7A106.

| a. | "vermogensaanpassing"; of |
| --- | --- |

a.

"vermogensaanpassing"; of

| b. | maakt gebruik van fasemodulatie («phase shift key modulation»). |
| --- | --- |

b.

maakt gebruik van fasemodulatie («phase shift key modulation»).

7A101Versnellingsmeters, anders dan bedoeld in 7A001, als hieronder, en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor:

| a. | Lineaire versnellingsmeters die ontworpen zijn voor gebruik in traagheidsnavigatiesystemen of in geleidingssystemen van alle soorten, geschikt voor gebruik in "raketten", met de volgende kenmerken, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen;






  1. | een "bias"-herhaalbaarheid van minder (beter) dan 1 250 micro g; en |
| --- | --- | --- |

a.

Lineaire versnellingsmeters die ontworpen zijn voor gebruik in traagheidsnavigatiesystemen of in geleidingssystemen van alle soorten, geschikt voor gebruik in "raketten", met de volgende kenmerken, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen;

1.

een "bias"-herhaalbaarheid van minder (beter) dan 1 250 micro g; en

| 2. | een "schaalfactor"-herhaalbaarheid van minder (beter) dan 1 250 ppm; |
| --- | --- |

2.

een "schaalfactor"-herhaalbaarheid van minder (beter) dan 1 250 ppm;

Noot: Versnellingsmeters die speciaal ontworpen en ontwikkeld zijn als sensoren voor gebruik in boorputten als sensoren voor gebruik tijdens het boren («Measurement While Drilling» (MWD-sensoren)) zijn niet bedoeld in 7A101.a.

Technische noten:

| 1. | In 7A101.a wordt onder "raketten" verstaan complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen die een afstand van meer dan 300 km kunnen overbruggen. |
| --- | --- |

1.

In 7A101.a wordt onder "raketten" verstaan complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen die een afstand van meer dan 300 km kunnen overbruggen.

| 2. | In 7A101.a wordt met de meting van de "bias" en de "schaalfactor" bedoeld een standaadafwijking van 1 sigma ten opzichte van een vaste ijkwaarde over een periode van één jaar. |
| --- | --- |

2.

In 7A101.a wordt met de meting van de "bias" en de "schaalfactor" bedoeld een standaadafwijking van 1 sigma ten opzichte van een vaste ijkwaarde over een periode van één jaar.

| 3. | In 7A101.a wordt "herhaalbaarheid" gedefinieerd overeenkomstig de IEEE-norm 528-2001 als de nauwkeurigheid van overeenstemming tussen herhaalde metingen van dezelfde variabele onder dezelfde gebruiksomstandigheden wanneer zich tussen metingen veranderingen in de omstandigheden of perioden zonder gebruik voordoen. |
| --- | --- |

3.

In 7A101.a wordt "herhaalbaarheid" gedefinieerd overeenkomstig de IEEE-norm 528-2001 als de nauwkeurigheid van overeenstemming tussen herhaalde metingen van dezelfde variabele onder dezelfde gebruiksomstandigheden wanneer zich tussen metingen veranderingen in de omstandigheden of perioden zonder gebruik voordoen.

| b. | Versnellingsmeters met continue output, gespecificeerd om te werken bij lineaire versnellingsniveaus van meer dan 100 g. |
| --- | --- |

b.

Versnellingsmeters met continue output, gespecificeerd om te werken bij lineaire versnellingsniveaus van meer dan 100 g.

7A102Alle types gyroscopen, anders dan bedoeld in 7A002, geschikt voor gebruik in "raketten" met een gespecificeerde "stabiliteit" van de "verloopsnelheid" (een gespecificeerde vrije precessie) van minder dan 0,5° (1 sigma of effectief (rms)) per uur bij een versnellingsniveau van 1 g, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen.

Technische noot:

In 7A102 wordt onder "raketten" verstaan complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen die een afstand van meer dan 300 km kunnen overbruggen.

7A103Instrumentatie, navigatieapparatuur en systemen, anders dan bedoeld in 7A003, als hieronder, en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor:

| a. | apparatuur voor traagheidsnavigatie of andere apparatuur, die gebruik maakt van versnellingsmeters als bedoeld in 7A001 of 7A101, of gyroscopen als bedoeld in 7A002 of 7A102, en systemen die dergelijke apparatuur bevatten;


  Noot: 7A103.a. heeft geen betrekking op apparatuur die versnellingsmeters als bedoeld in 7A001 bevat indien die versnellingsmeters speciaal ontworpen en ontwikkeld zijn voor gebruik in boorputten als sensoren voor gebruik tijdens het boren («Measurement While Drilling»-sensoren). |
| --- | --- |

a.

apparatuur voor traagheidsnavigatie of andere apparatuur, die gebruik maakt van versnellingsmeters als bedoeld in 7A001 of 7A101, of gyroscopen als bedoeld in 7A002 of 7A102, en systemen die dergelijke apparatuur bevatten;

Noot: 7A103.a. heeft geen betrekking op apparatuur die versnellingsmeters als bedoeld in 7A001 bevat indien die versnellingsmeters speciaal ontworpen en ontwikkeld zijn voor gebruik in boorputten als sensoren voor gebruik tijdens het boren («Measurement While Drilling»-sensoren).

| b. | geïntegreerde besturingssystemen voor vliegtuigen, bevattende gyrostabilisatoren of automatische piloten, ontworpen of aangepast voor gebruik in ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, onbemande luchtvaartuigen, bedoeld in 9A012, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104; |
| --- | --- |

b.

geïntegreerde besturingssystemen voor vliegtuigen, bevattende gyrostabilisatoren of automatische piloten, ontworpen of aangepast voor gebruik in ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, onbemande luchtvaartuigen, bedoeld in 9A012, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104;

| c. | "geïntegreerde navigatiesystemen", ontworpen of aangepast voor "raketten", die een navigatienauwkeurigheid kunnen bieden van een 50 %-trefkanscirkel ("Circle of Equal probability", "CEP") van 200 m of minder.
  Technische noten:







  1. | Een "geïntegreerd navigatiesysteem" bestaat normaalgesproken uit de volgende onderdelen:








  a. | een traagheidsmeetapparaat (bv. een standkoersreferentiesysteem, traagheidsreferentieplatform of traagheidsnavigatiesysteem); |
| --- | --- | --- | --- |

c.

"geïntegreerde navigatiesystemen", ontworpen of aangepast voor "raketten", die een navigatienauwkeurigheid kunnen bieden van een 50 %-trefkanscirkel ("Circle of Equal probability", "CEP") van 200 m of minder.

Technische noten:

1.

Een "geïntegreerd navigatiesysteem" bestaat normaalgesproken uit de volgende onderdelen:

a.

een traagheidsmeetapparaat (bv. een standkoersreferentiesysteem, traagheidsreferentieplatform of traagheidsnavigatiesysteem);

| b. | één of meer externe sensoren die worden gebruikt om periodiek of continu tijdens de vlucht de actuele positie en/of snelheid te bepalen (bv. satellietnavigatieontvanger, radarhoogtemeter en/of dopplerradar), en |
| --- | --- |

b.

één of meer externe sensoren die worden gebruikt om periodiek of continu tijdens de vlucht de actuele positie en/of snelheid te bepalen (bv. satellietnavigatieontvanger, radarhoogtemeter en/of dopplerradar), en

| c. | integratieapparatuur en -programmatuur. |
| --- | --- |

c.

integratieapparatuur en -programmatuur.

| 2. | In 7A103.c wordt onder "raketten" verstaan complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen die een afstand van meer dan 300 km kunnen overbruggen. |
| --- | --- |

2.

In 7A103.c wordt onder "raketten" verstaan complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen die een afstand van meer dan 300 km kunnen overbruggen.

7A104Astrogyrokompassen en andere apparaten, anders dan bedoeld in 7A004, voor het bepalen van plaats en richting door het automatisch volgen van hemellichamen of satellieten, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen.

7A105Ontvangstapparatuur voor wereldwijde satellietnavigatiesystemen (GNSS; bv. GPS, GLONASS of Galileo) met één of meer van de volgende kenmerken en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

| a. | ontworpen of aangepast voor gebruik in ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, onbemande luchtvaartuigen, bedoeld in 9A012, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104; of |
| --- | --- |

a.

ontworpen of aangepast voor gebruik in ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, onbemande luchtvaartuigen, bedoeld in 9A012, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104; of

| b. | ontworpen of aangepast voor gebruik in vliegtuigen, met een of meer van de volgende kenmerken:






  1. | geschikt om navigatiegegevens te leveren bij snelheden boven 600 m/s; |
| --- | --- | --- |

b.

ontworpen of aangepast voor gebruik in vliegtuigen, met een of meer van de volgende kenmerken:

1.

geschikt om navigatiegegevens te leveren bij snelheden boven 600 m/s;

| 2. | gebruikmakend van ontcijfering van gegevens in geheime codering, ontworpen of aangepast voor leger- of regeringsdiensten, teneinde toegang te verkrijgen tot middels GNSS beveiligde signalen/gegevens, of |
| --- | --- |

2.

gebruikmakend van ontcijfering van gegevens in geheime codering, ontworpen of aangepast voor leger- of regeringsdiensten, teneinde toegang te verkrijgen tot middels GNSS beveiligde signalen/gegevens, of

| 3. | speciaal ontworpen voor de toepassing van anti-jamkenmerken (bv. een "null steering"-antenne of een elektronisch stuurbare antenne) in een context van actieve of passieve tegenmaatregelen. |
| --- | --- |

3.

speciaal ontworpen voor de toepassing van anti-jamkenmerken (bv. een "null steering"-antenne of een elektronisch stuurbare antenne) in een context van actieve of passieve tegenmaatregelen.

Noot: 7A105b2 en 7A105b3 zijn niet van toepassing op apparatuur die is ontworpen voor GNSS-diensten van commerciële of civiele aard dan wel in het kader van "Safety of Life" (bv. gegevensintegriteit, vliegveiligheid).

7A106Hoogtemeters, anders dan bedoeld in 7A006, van het radar- of laserradartype, ontworpen of aangepast voor gebruik in ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104.

7A115Passieve sensoren voor het bepalen van de positie ten opzichte van bepaalde elektromagnetische bronnen (richtingsbepalingsapparatuur) of van karakteristieken van het terrein, ontworpen of aangepast voor gebruik in ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104.

Noot: 7A115 bevat onder meer sensoren voor:

| a. | apparatuur voor het bepalen van het profiel van het aardoppervlak; |
| --- | --- |

a.

apparatuur voor het bepalen van het profiel van het aardoppervlak;

| b. | beeldapparatuur (zowel actieve als passieve); |
| --- | --- |

b.

beeldapparatuur (zowel actieve als passieve);

| c. | passieve interferometerapparatuur. |
| --- | --- |

c.

passieve interferometerapparatuur.

7A116Vluchtregelsystemen en servokleppen, als hieronder, ontworpen of aangepast voor gebruik in ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104:

| a. | hydraulische, mechanische, elektro-optische, elektromechanische vluchtregelsystemen, met inbegrip van «fly by wire»-vluchtregelsystemen; |
| --- | --- |

a.

hydraulische, mechanische, elektro-optische, elektromechanische vluchtregelsystemen, met inbegrip van «fly by wire»-vluchtregelsystemen;

| b. | standregelapparatuur; |
| --- | --- |

b.

standregelapparatuur;

| c. | vluchtregelservokleppen, ontworpen of aangepast voor de systemen, bedoeld in 7A116a of 7A116b, en ontworpen of aangepast om te kunnen werken in trillingsomstandigheden van meer dan 10 g rms tussen 20 Hz en 2 000 Hz. |
| --- | --- |

c.

vluchtregelservokleppen, ontworpen of aangepast voor de systemen, bedoeld in 7A116a of 7A116b, en ontworpen of aangepast om te kunnen werken in trillingsomstandigheden van meer dan 10 g rms tussen 20 Hz en 2 000 Hz.

7A117"Geleidingssystemen" geschikt voor gebruik in "raketten" met een systeemnauwkeurigheid van 3,33 % of minder van het bereik (een "CEP" («circle of equal probability») van 10 km of minder bij een bereik van 300 km).

7BTest-, inspectie- en productieapparatuur

7B001Test-, ijk- of uitrichtapparatuur, speciaal ontworpen voor apparatuur, bedoeld in 7A.

Noot: 7B001 is niet van toepassing op test-, ijk- of uitrichtapparatuur voor onderhoudsniveau I of onderhoudsniveau II.

Technische noten:

| 1. | Onderhoudsniveau I


  De storing van een traagheidsnavigatie-eenheid wordt aan boord van het vliegtuig ontdekt via aanwijzingen van de besturings- en beeldeenheid («control and display unit» (CDU)) of via de toestandinformatie van het overeenkomstige subsysteem. Aan de hand van het handboek van de fabrikant kan de storing worden gelokaliseerd op het niveau van de niet goed functionerende «line replaceable unit» (LRU). De operateur verwijdert vervolgens de LRU en vervangt deze door een reserve-eenheid. |
| --- | --- |

1.

Onderhoudsniveau I

| 2. | Onderhoudsniveau II


  De defecte LRU wordt naar de onderhoudswerkplaats gestuurd (van de fabrikant of van de voor onderhoudsniveau II verantwoordelijke operateur). In de werkplaats wordt de defecte LRU getest met de daarvoor geëigende middelen teneinde het defecte, in de werkplaats vervangbare («shop replaceable assembly» (SRA)) moduul dat voor de storing verantwoordelijk is, te controleren en te lokaliseren. Dit SRA-moduul wordt verwijderd en vervangen door een goedwerkend reservemoduul. De defecte SRA (of eventueel de complete LRU) wordt vervolgens naar de fabrikant gezonden.


  NB: Onderhoudsniveau II omvat niet het verwijderen van onder embargo vallende versnellingsmeters of gyrosensoren uit de SRA. |
| --- | --- |

2.

Onderhoudsniveau II

NB: Onderhoudsniveau II omvat niet het verwijderen van onder embargo vallende versnellingsmeters of gyrosensoren uit de SRA.

7B002Apparatuur, als hieronder, speciaal ontworpen voor het bepalen van de karakteristieken van spiegels voor ring-"laser"-gyroscopen:

NB: ZIE OOK 7B102.

| a. | verstrooiingsmeters met een meetnauwkeurigheid van 10 ppm of minder (beter); |
| --- | --- |

a.

verstrooiingsmeters met een meetnauwkeurigheid van 10 ppm of minder (beter);

| b. | profielmeters met een meetnauwkeurigheid van 0,5 nm (5 ångström) of minder (beter). |
| --- | --- |

b.

profielmeters met een meetnauwkeurigheid van 0,5 nm (5 ångström) of minder (beter).

7B003Apparatuur, speciaal ontworpen voor de productie van apparatuur, bedoeld in 7A:

Noot: 7B003 omvat:

| a. | proefbanken voor het afstemmen van gyroscopen; |
| --- | --- |

a.

proefbanken voor het afstemmen van gyroscopen;

| b. | dynamische uitbalanceerbanken voor gyroscopen; |
| --- | --- |

b.

dynamische uitbalanceerbanken voor gyroscopen;

| c. | proefbanken voor het inlopen/testen van de gyromotor; |
| --- | --- |

c.

proefbanken voor het inlopen/testen van de gyromotor;

| d. | apparatuur voor het leegmaken en vullen van gyroscopen; |
| --- | --- |

d.

apparatuur voor het leegmaken en vullen van gyroscopen;

| e. | centrifugale bevestigingen voor gyroscooplagers; |
| --- | --- |

e.

centrifugale bevestigingen voor gyroscooplagers;

| f. | uitlijnbanken voor versnellingsmeters. |
| --- | --- |

f.

uitlijnbanken voor versnellingsmeters.

7B102Reflectometers, speciaal ontworpen voor het karakteriseren van spiegels voor "laser"-gyroscopen met een meetnauwkeurigheid van minder (of beter) dan 50 ppm.

7B103"Productiefaciliteiten" en "productieapparatuur", als hieronder:

| a. | speciaal ontworpen "productiefaciliteiten" voor apparatuur, bedoeld in 7A117; |
| --- | --- |

a.

speciaal ontworpen "productiefaciliteiten" voor apparatuur, bedoeld in 7A117;

| b. | productieapparatuur en andere test-, ijk- of uitrichtapparatuur, anders dan bedoeld in 7B001 t/m 7B003, ontworpen of aangepast om te worden gebruikt met apparatuur, bedoeld in 7A. |
| --- | --- |

b.

productieapparatuur en andere test-, ijk- of uitrichtapparatuur, anders dan bedoeld in 7B001 t/m 7B003, ontworpen of aangepast om te worden gebruikt met apparatuur, bedoeld in 7A.

7CMaterialen

Geen.

7DProgrammatuur

7D001"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling" of "productie" van apparatuur, bedoeld in 7A of 7B.

7D002"Broncode" voor het "gebruik" van iedere traagheidsnavigatieapparatuur met inbegrip van traagheidsapparatuur die niet is bedoeld in 7A003 of 7A004, of stand- en koersreferentiesystemen ("Attitude and Heading Reference Systems" (AHRS)).

Noot: 7D002 is niet van toepassing op "broncode" voor het "gebruik" van AHRS met cardanische ophanging.

Technische noot:

Het verschil tussen AHRS en traagheidsnavigatiesystemen (INS) is dat in het algemeen AHRS standkoersgegevens verschaft en gewoonlijk niet de gegevens omtrent versnelling, snelheid en positie verschaft die een INS wel levert.

7D003Overige "programmatuur", als hieronder:

| a. | "programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor verbetering van de operationele prestaties of vermindering van de navigatiefout van systemen tot de niveaus, vermeld in 7A003 of 7A004; |
| --- | --- |

a.

"programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor verbetering van de operationele prestaties of vermindering van de navigatiefout van systemen tot de niveaus, vermeld in 7A003 of 7A004;

| b. | "broncode" voor hybride geïntegreerde systemen waardoor de operationele prestaties van het systeem worden verbeterd of de navigatiefout wordt verkleind tot het niveau, vermeld in 7A003, door middel van continue combinatie van traagheidsgegevens met één of meer van de volgende elementen:






  1. | doppler-radarsnelheidsgegevens; |
| --- | --- | --- |

b.

"broncode" voor hybride geïntegreerde systemen waardoor de operationele prestaties van het systeem worden verbeterd of de navigatiefout wordt verkleind tot het niveau, vermeld in 7A003, door middel van continue combinatie van traagheidsgegevens met één of meer van de volgende elementen:

1.

doppler-radarsnelheidsgegevens;

| 2. | referentiegegevens van wereldwijde satellietnavigatiesystemen (bv. GPS of GLONASS); of |
| --- | --- |

2.

referentiegegevens van wereldwijde satellietnavigatiesystemen (bv. GPS of GLONASS); of

| 3. | gegevens van navigatiesystemen met als referentie een gegevensbestand (DBRN-systemen); |
| --- | --- |

3.

gegevens van navigatiesystemen met als referentie een gegevensbestand (DBRN-systemen);

| c. | "broncode" voor geïntegreerde vliegtuigelektronica of vluchtprofielsystemen die gegevens van sensoren combineren en gebruik maken van "expert-systemen"; |
| --- | --- |

c.

"broncode" voor geïntegreerde vliegtuigelektronica of vluchtprofielsystemen die gegevens van sensoren combineren en gebruik maken van "expert-systemen";

| d. | "broncode" voor de "ontwikkeling" van:






  1. | digitale systemen voor een totale vluchtbeheersing; |
| --- | --- | --- |

d.

"broncode" voor de "ontwikkeling" van:

1.

digitale systemen voor een totale vluchtbeheersing;

| 2. | geïntegreerde voorstuwings- en vluchtregelsystemen; |
| --- | --- |

2.

geïntegreerde voorstuwings- en vluchtregelsystemen;

| 3. | elektrische of opto-elektronische vluchtregelsystemen («fly by wire»/«fly by light»); |
| --- | --- |

3.

elektrische of opto-elektronische vluchtregelsystemen («fly by wire»/«fly by light»);

| 4. | foutbestendige of zichzelf herconfigurerende "actieve vluchtregelsystemen"; |
| --- | --- |

4.

foutbestendige of zichzelf herconfigurerende "actieve vluchtregelsystemen";

| 5. | automatische richtingzoekende apparatuur voor gebruik in vliegtuigen; |
| --- | --- |

5.

automatische richtingzoekende apparatuur voor gebruik in vliegtuigen;

| 6. | vluchtgegevenssystemen gebaseerd op statische gegevens van het grondoppervlak; of |
| --- | --- |

6.

vluchtgegevenssystemen gebaseerd op statische gegevens van het grondoppervlak; of

| 7. | voorruitpresentatie («head up») van het rastertype of met driedimensionale presentatie; |
| --- | --- |

7.

voorruitpresentatie («head up») van het rastertype of met driedimensionale presentatie;

| e. | "programmatuur" voor het computerondersteund ontwerpen (CAD), speciaal ontworpen voor de ontwikkeling van "actieve vluchtregelsystemen", elektrische of opto-elektronische besturingen («fly-by-wire»/«fly-by-light») of luchtstroombeheerste anti-torsie of richtingregelsystemen voor meerassige hefschroefvliegtuigsystemen, waarvoor de technologie is gespecificeerd in 7E004.b, 7E004.c.1 of 7E004.c.2. |
| --- | --- |

e.

"programmatuur" voor het computerondersteund ontwerpen (CAD), speciaal ontworpen voor de ontwikkeling van "actieve vluchtregelsystemen", elektrische of opto-elektronische besturingen («fly-by-wire»/«fly-by-light») of luchtstroombeheerste anti-torsie of richtingregelsystemen voor meerassige hefschroefvliegtuigsystemen, waarvoor de technologie is gespecificeerd in 7E004.b, 7E004.c.1 of 7E004.c.2.

7D101Speciaal ontworpen of aangepaste "programmatuur" voor vliegtuigelektronica als bedoeld in 7A001 t/m 7A006, 7A101 t/m 7A106, 7A115, 7A116.a., 7A116.b., 7B001, 7B002, 7B003, 7B102 of 7B103.

7D102Integratie-"programmatuur", als hieronder:

| a. | integratie-"programmatuur" voor apparatuur als bedoeld in 7A103.b.; |
| --- | --- |

a.

integratie-"programmatuur" voor apparatuur als bedoeld in 7A103.b.;

| b. | integratie-"programmatuur", speciaal ontworpen voor apparatuur als bedoeld in 7A003 of 7A103.a.; |
| --- | --- |

b.

integratie-"programmatuur", speciaal ontworpen voor apparatuur als bedoeld in 7A003 of 7A103.a.;

| c. | integratie-"programmatuur", ontworpen of aangepast voor apparatuur als bedoeld in 7A103c.


  Noot: Een veel voorkomende vorm van integratie-"programmatuur" maakt gebruik van kalmanfiltering. |
| --- | --- |

c.

integratie-"programmatuur", ontworpen of aangepast voor apparatuur als bedoeld in 7A103c.

Noot: Een veel voorkomende vorm van integratie-"programmatuur" maakt gebruik van kalmanfiltering.

7D103"Programmatuur", speciaal ontworpen voor het modelleren of simuleren van de "geleidingssystemen", bedoeld in 7A117, of voor de ontwerpintegratie met de ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104.

Noot:"Programmatuur" bedoeld in 7A103 blijft bedoeld, ook wanneer deze wordt gecombineerd met de speciaal ontworpen apparatuur bedoeld in 4A102.

7ETechnologie

7E001"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" van apparatuur of "programmatuur", bedoeld in 7A, 7B of 7D.

7E002"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "productie" van apparatuur, bedoeld in 7A of 7B.

7E003"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor reparatie, opknappen of revisie van apparatuur, bedoeld in 7A001 t/m 7A004.

Noot: 7E003 is niet van toepassing op onderhoudstechnologie die direct verband houdt met de ijking, verwijdering of vervanging van beschadigde of onbruikbare LRU's en SRA's van "civiele vliegtuigen" als omschreven in onderhoudsniveau I en onderhoudsniveau II.

NB: Zie de technische noten bij 7B001.

7E004Overige "technologie", als hieronder:

| a. | technologie voor de "ontwikkeling" of "productie" van:






  1. | automatische richtingzoekende apparatuur voor gebruik in vliegtuigen met een werkfrequentie hoger dan 5 MHz; |
| --- | --- | --- |

a.

technologie voor de "ontwikkeling" of "productie" van:

1.

automatische richtingzoekende apparatuur voor gebruik in vliegtuigen met een werkfrequentie hoger dan 5 MHz;

| 2. | vluchtgegevenssystemen die uitsluitend zijn gebaseerd op statische gegevens van het grondoppervlak, d.w.z. die geen conventionele richtantennes nodig hebben; |
| --- | --- |

2.

vluchtgegevenssystemen die uitsluitend zijn gebaseerd op statische gegevens van het grondoppervlak, d.w.z. die geen conventionele richtantennes nodig hebben;

| 3. | voorruitpresentatie («head up») van het rastertype of met driedimensionale presentatie voor "vliegtuigen"; |
| --- | --- |

3.

voorruitpresentatie («head up») van het rastertype of met driedimensionale presentatie voor "vliegtuigen";

| 4. | traagheidsnavigatiesystemen of astrogyrokompassen die versnellingsmeters of gyroscopen bevatten die zijn bedoeld in 7A001 of 7A002; |
| --- | --- |

4.

traagheidsnavigatiesystemen of astrogyrokompassen die versnellingsmeters of gyroscopen bevatten die zijn bedoeld in 7A001 of 7A002;

| 5. | elektrische aandrijvers (d.w.z. elektromechanische, elektrohydrostatische en geïntegreerde aandrijverpakketten) die speciaal zijn ontworpen voor "primaire vluchtregeling"); |
| --- | --- |

5.

elektrische aandrijvers (d.w.z. elektromechanische, elektrohydrostatische en geïntegreerde aandrijverpakketten) die speciaal zijn ontworpen voor "primaire vluchtregeling");

| 6. | optische sensor-«arrays» voor vluchtregeling die speciaal zijn ontworpen voor de implementatie van actieve vluchtregelsystemen); |
| --- | --- |

6.

optische sensor-«arrays» voor vluchtregeling die speciaal zijn ontworpen voor de implementatie van actieve vluchtregelsystemen);

| b. | "ontwikkelingstechnologie", als hieronder, voor "actieve vluchtregelsystemen" met inbegrip van elektrische of opto-elektronische besturing («fly by wire»/«fly by light»):






  1. | "technologie" voor het ontwerpen van de configuratie voor het koppelen van meervoudig samengestelde micro-elektronische verwerkingselementen (boordcomputers) voor het verkrijgen van "tijdgebonden («real time») gegevensverwerking" ter uitvoering van de besturingswet («control law»); |
| --- | --- | --- |

b.

"ontwikkelingstechnologie", als hieronder, voor "actieve vluchtregelsystemen" met inbegrip van elektrische of opto-elektronische besturing («fly by wire»/«fly by light»):

1.

"technologie" voor het ontwerpen van de configuratie voor het koppelen van meervoudig samengestelde micro-elektronische verwerkingselementen (boordcomputers) voor het verkrijgen van "tijdgebonden («real time») gegevensverwerking" ter uitvoering van de besturingswet («control law»);

| 2. | "technologie" voor «control law» compensatie voor de plaatsing van de sensoren en voor dynamische belastingen op de romp, d.w.z. compensatie voor het trillen van de sensoren en voor variatie in de plaats van de sensoren ten opzichte van het zwaartepunt; |
| --- | --- |

2.

"technologie" voor «control law» compensatie voor de plaatsing van de sensoren en voor dynamische belastingen op de romp, d.w.z. compensatie voor het trillen van de sensoren en voor variatie in de plaats van de sensoren ten opzichte van het zwaartepunt;

| 3. | "technologie" voor elektronische manipulatie van gegevens- of systeemredundantie voor het opsporen van storingen, storingsbestendigheid, de isolatie van storingen of herconfiguratie;


  Noot: Niet bedoeld wordt in 7E004.b.3 "technologie" voor het ontwerpen van fysieke redundantie. |
| --- | --- |

3.

"technologie" voor elektronische manipulatie van gegevens- of systeemredundantie voor het opsporen van storingen, storingsbestendigheid, de isolatie van storingen of herconfiguratie;

Noot: Niet bedoeld wordt in 7E004.b.3 "technologie" voor het ontwerpen van fysieke redundantie.

| 4. | "technologie" voor het ontwerpen van vluchtregelapparatuur die tijdens de vlucht herindeling van kracht en momentregeleenheden mogelijk maakt ten behoeve van autonome tijdgebonden («real time») besturing van het luchtvaartuig; |
| --- | --- |

4.

"technologie" voor het ontwerpen van vluchtregelapparatuur die tijdens de vlucht herindeling van kracht en momentregeleenheden mogelijk maakt ten behoeve van autonome tijdgebonden («real time») besturing van het luchtvaartuig;

| 5. | "technologie" voor het integreren van digitale vluchtregel-, navigatie- en voortstuwingsregelgegevens in een digitaal systeem voor "totale vluchtregeling";


  Noot: 7E004.b.5 is niet van toepassing op:








  a. | "ontwikkelingstechnologie" voor de integratie van digitale vluchtregel-, navigatie- en voortstuwingsregelgegevens in een digitaal vluchtbeheerssysteem voor "optimalisering van de vliegroute"; |
| --- | --- | --- |

5.

"technologie" voor het integreren van digitale vluchtregel-, navigatie- en voortstuwingsregelgegevens in een digitaal systeem voor "totale vluchtregeling";

Noot: 7E004.b.5 is niet van toepassing op:

a.

"ontwikkelingstechnologie" voor de integratie van digitale vluchtregel-, navigatie- en voortstuwingsregelgegevens in een digitaal vluchtbeheerssysteem voor "optimalisering van de vliegroute";

| b. | "ontwikkelingstechnologie" voor vlucht-instrumentsystemen welke uitsluitend worden geïntegreerd voor navigatie of aanvliegen met behulp van VOR, DME, ILS of MLS. |
| --- | --- |

b.

"ontwikkelingstechnologie" voor vlucht-instrumentsystemen welke uitsluitend worden geïntegreerd voor navigatie of aanvliegen met behulp van VOR, DME, ILS of MLS.

| 6. | volledig zelfstandige digitale systemen voor vluchtbeheersing of systemen voor vluchtprofielbeheersing met behulp van meerdere sensoren die gebruik maken van "expert-systemen";


  NB: Zie 9E003.a.10 voor technologie voor «full authority digital engine control» ("FADEC"). |
| --- | --- |

6.

volledig zelfstandige digitale systemen voor vluchtbeheersing of systemen voor vluchtprofielbeheersing met behulp van meerdere sensoren die gebruik maken van "expert-systemen";

NB: Zie 9E003.a.10 voor technologie voor «full authority digital engine control» ("FADEC").

| c. | "technologie" voor de "ontwikkeling" van hefschroefvliegtuigsystemen, als hieronder:






  1. | meerassige elektrische of opto-elektronische besturingen («fly by wire»/«fly by light») die ten minste twee van de volgende functies in één regelelement verenigen:






  a. | collectieve bladverstelling («collective control»); |
| --- | --- | --- | --- |

c.

"technologie" voor de "ontwikkeling" van hefschroefvliegtuigsystemen, als hieronder:

1.

meerassige elektrische of opto-elektronische besturingen («fly by wire»/«fly by light») die ten minste twee van de volgende functies in één regelelement verenigen:

a.

collectieve bladverstelling («collective control»);

| b. | cyclische bladverstelling («cyclic control»); |
| --- | --- |

b.

cyclische bladverstelling («cyclic control»);

| c. | gierbesturing («yaw control»); |
| --- | --- |

c.

gierbesturing («yaw control»);

| 2. | "luchtstroom-beheerste antitorsie of richtingsregelsystemen"; |
| --- | --- |

2.

"luchtstroom-beheerste antitorsie of richtingsregelsystemen";

| 3. | rotorbladen met "aërodynamische vlakken met variabel profiel" voor toepassing in systemen die gebruik maken van afzonderlijke besturing van de rotorbladen. |
| --- | --- |

3.

rotorbladen met "aërodynamische vlakken met variabel profiel" voor toepassing in systemen die gebruik maken van afzonderlijke besturing van de rotorbladen.

7E101"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor het "gebruik" van apparatuur, bedoeld in 7A001 t/m 7A006, 7A101 t/m 7A106, 7A115 t/m 7A117, 7B001, 7B002, 7B003, 7B102, 7B103, 7D101 t/m 7D103.

7E102Ontwerp-"technologie" voor bescherming van elektronische vliegtuigsystemen en elektrische subsystemen tegen elektromagnetische impulsen (EMP) en elektromagnetische storingen (EMI) door buiten het systeem gelegen bronnen, als hieronder:

| a. | "technologie" voor het ontwerpen van afschermsystemen; |
| --- | --- |

a.

"technologie" voor het ontwerpen van afschermsystemen;

| b. | "technologie" voor het ontwerpen van de configuratie van stralingbestendige elektrische schakelingen en subsystemen; |
| --- | --- |

b.

"technologie" voor het ontwerpen van de configuratie van stralingbestendige elektrische schakelingen en subsystemen;

| c. | bepaling van criteria voor het stralingbestendig maken van de onder 7E102.a en 7E102.b bedoelde systemen. |
| --- | --- |

c.

bepaling van criteria voor het stralingbestendig maken van de onder 7E102.a en 7E102.b bedoelde systemen.

7E104"Technologie" voor het integreren van vluchtregel-, navigatie- en voortstuwingsregelgegevens in een vluchtregelingsysteem om de baan van raketten te optimaliseren.

CATEGORIE 8

ZEEWEZEN EN SCHEPEN

8ASystemen, apparatuur en onderdelen

8A001Onderwatervoertuigen of oppervlaktevaartuigen, als hieronder:

Noot: Voor de embargostatus van apparatuur voor onderwatervoertuigen zie:

| | categorie 5, deel 2 Informatiebeveiliging, voor communicatieapparatuur met cryptografie; |
| --- | --- |

categorie 5, deel 2 Informatiebeveiliging, voor communicatieapparatuur met cryptografie;

| | categorie 6 voor sensoren; |
| --- | --- |

categorie 6 voor sensoren;

| | categorieën 7 en 8 voor navigatieapparatuur; |
| --- | --- |

categorieën 7 en 8 voor navigatieapparatuur;

| | categorie 8A voor onderwaterapparatuur. |
| --- | --- |

categorie 8A voor onderwaterapparatuur.

| a. | getuide onderwatervoertuigen voor bemand gebruik, ontworpen voor een werkdiepte van meer dan 1 000 m; |
| --- | --- |

a.

getuide onderwatervoertuigen voor bemand gebruik, ontworpen voor een werkdiepte van meer dan 1 000 m;

| b. | ongetuide onderwatervoertuigen voor bemand gebruik met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | ontworpen om ‧autonoom te opereren‧ en met een hijsvermogen van:






  a. | 10 % of meer van het eigen gewicht in de lucht, en |
| --- | --- | --- | --- |

b.

ongetuide onderwatervoertuigen voor bemand gebruik met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

ontworpen om ‧autonoom te opereren‧ en met een hijsvermogen van:

a.

10 % of meer van het eigen gewicht in de lucht, en

| b. | 15 kN of meer; |
| --- | --- |

b.

15 kN of meer;

| 2. | ontworpen voor een werkdiepte van meer dan 1 000 m, of |
| --- | --- |

2.

ontworpen voor een werkdiepte van meer dan 1 000 m, of

| 3. | al de volgende kenmerken:






  a. | ontworpen voor een bemanning van vier of meer personen; |
| --- | --- | --- |

3.

al de volgende kenmerken:

a.

ontworpen voor een bemanning van vier of meer personen;

| b. | ontworpen om gedurende tien uur of meer ‧autonoom te opereren‧; |
| --- | --- |

b.

ontworpen om gedurende tien uur of meer ‧autonoom te opereren‧;

| c. | met een ‧bereik‧ van 25 zeemijlen of meer, en |
| --- | --- |

c.

met een ‧bereik‧ van 25 zeemijlen of meer, en

| d. | met een lengte van 21 m of korter; |
| --- | --- |

d.

met een lengte van 21 m of korter;

Technische noten:

| 1. | Voor de toepassing van 8A001.b moet onder ‧autonoom opereren‧ het volgende worden verstaan: geheel onder water, zonder ventilatiepijp, met alle systemen in werking en zich voortbewegend met de minimumsnelheid waarbij het onderwatervoertuig uitsluitend door middel van zijn diepteroeren zijn diepgang veilig en dynamisch kan regelen, zonder dat er een ondersteuningsvaartuig of een ondersteunende basis aan de oppervlakte, op de zeebodem of aan wal nodig is, en met een voortstuwingssysteem voor gebruik onder water of aan de oppervlakte. |
| --- | --- |

1.

Voor de toepassing van 8A001.b moet onder ‧autonoom opereren‧ het volgende worden verstaan: geheel onder water, zonder ventilatiepijp, met alle systemen in werking en zich voortbewegend met de minimumsnelheid waarbij het onderwatervoertuig uitsluitend door middel van zijn diepteroeren zijn diepgang veilig en dynamisch kan regelen, zonder dat er een ondersteuningsvaartuig of een ondersteunende basis aan de oppervlakte, op de zeebodem of aan wal nodig is, en met een voortstuwingssysteem voor gebruik onder water of aan de oppervlakte.

| 2. | Voor de toepassing van 8A001.b moet onder ‧bereik‧ worden verstaan de helft van de maximumafstand die door het onderwatervoertuig kan worden afgelegd. |
| --- | --- |

2.

Voor de toepassing van 8A001.b moet onder ‧bereik‧ worden verstaan de helft van de maximumafstand die door het onderwatervoertuig kan worden afgelegd.

| c. | getuide onderwatervoertuigen voor onbemand gebruik, ontworpen voor een werkdiepte van meer dan 1 000 m:






  1. | ontworpen voor zelfaangedreven manoeuvreren met gebruik van druk- of stuwmotoren bedoeld in 8A002.a.2, of |
| --- | --- | --- |

c.

getuide onderwatervoertuigen voor onbemand gebruik, ontworpen voor een werkdiepte van meer dan 1 000 m:

1.

ontworpen voor zelfaangedreven manoeuvreren met gebruik van druk- of stuwmotoren bedoeld in 8A002.a.2, of

| 2. | met een gegevensverbindingskabel van glasvezels; |
| --- | --- |

2.

met een gegevensverbindingskabel van glasvezels;

| d. | ongetuide onderwatervoertuigen voor onbemand gebruik:






  1. | ontworpen voor het bepalen van een koers ten opzichte van een geografisch referentiepunt zonder tijdgebonden («real time») ingrijpen van de mens; |
| --- | --- | --- |

d.

ongetuide onderwatervoertuigen voor onbemand gebruik:

1.

ontworpen voor het bepalen van een koers ten opzichte van een geografisch referentiepunt zonder tijdgebonden («real time») ingrijpen van de mens;

| 2. | met een akoestische gegevens- of besturingsverbinding, of |
| --- | --- |

2.

met een akoestische gegevens- of besturingsverbinding, of

| 3. | met een gegevens- of besturingsverbindingskabel van glasvezels langer dan 1 000 m; |
| --- | --- |

3.

met een gegevens- of besturingsverbindingskabel van glasvezels langer dan 1 000 m;

| e. | systemen voor berging op zee met een hijscapaciteit groter dan 5 MN voor berging van voorwerpen die zich op een diepte van meer dan 250 m bevinden en met één of meer van de volgende systemen:






  1. | dynamische positioneersystemen geschikt voor het handhaven van een positie binnen 20 m van een door het navigatiesysteem opgegeven punt, of |
| --- | --- | --- |

e.

systemen voor berging op zee met een hijscapaciteit groter dan 5 MN voor berging van voorwerpen die zich op een diepte van meer dan 250 m bevinden en met één of meer van de volgende systemen:

1.

dynamische positioneersystemen geschikt voor het handhaven van een positie binnen 20 m van een door het navigatiesysteem opgegeven punt, of

| 2. | systemen voor navigatie op de zeebodem en voor navigatie-integratie voor een diepte groter dan 1 000 m met een positioneernauwkeurigheid tot op 10 m nauwkeurig van een vooraf vastgesteld punt; |
| --- | --- |

2.

systemen voor navigatie op de zeebodem en voor navigatie-integratie voor een diepte groter dan 1 000 m met een positioneernauwkeurigheid tot op 10 m nauwkeurig van een vooraf vastgesteld punt;

| f. | vaartuigen met grondeffect (volledig met schorten («fully skirted variety»)) met de volgende kenmerken:






  1. | een maximale ontwerpsnelheid bij volle lading van meer dan 30 knopen in golven van 1,25 m of hoger (toestand van het zeeoppervlak («sea state»): 3); |
| --- | --- | --- |

f.

vaartuigen met grondeffect (volledig met schorten («fully skirted variety»)) met de volgende kenmerken:

1.

een maximale ontwerpsnelheid bij volle lading van meer dan 30 knopen in golven van 1,25 m of hoger (toestand van het zeeoppervlak («sea state»): 3);

| 2. | een luchtkussendruk van meer dan 3 830 Pa; en |
| --- | --- |

2.

een luchtkussendruk van meer dan 3 830 Pa; en

| 3. | een ongeladen-volgeladen waterverplaatsingsverhouding van minder dan 0,70; |
| --- | --- |

3.

een ongeladen-volgeladen waterverplaatsingsverhouding van minder dan 0,70;

| g. | vaartuigen met grondeffect (met vaste zijwand («rigid sidewall»)) met een maximale ontwerpsnelheid bij volle lading van meer dan 40 knopen in golven van 3,25 m of hoger (toestand van het zeeoppervlak («sea state»): 5); |
| --- | --- |

g.

vaartuigen met grondeffect (met vaste zijwand («rigid sidewall»)) met een maximale ontwerpsnelheid bij volle lading van meer dan 40 knopen in golven van 3,25 m of hoger (toestand van het zeeoppervlak («sea state»): 5);

| h. | draagvleugelboten met actieve systemen voor automatische besturing van de vleugelsystemen, met een maximale ontwerpsnelheid bij volle lading van 40 knopen of meer in golven van 3,25 m of hoger (toestand van het zeeoppervlak («sea state»): 5); |
| --- | --- |

h.

draagvleugelboten met actieve systemen voor automatische besturing van de vleugelsystemen, met een maximale ontwerpsnelheid bij volle lading van 40 knopen of meer in golven van 3,25 m of hoger (toestand van het zeeoppervlak («sea state»): 5);

| i. | ‧vaartuigen met geringe rompdoorsnede‧ met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een waterverplaatsing bij volle lading van meer dan 500 ton met een maximale ontwerpsnelheid bij volle lading van meer dan 35 knopen in golven van 3,25 m of hoger (toestand van het zeeoppervlak («sea state»): 5), of |
| --- | --- | --- |

i.

‧vaartuigen met geringe rompdoorsnede‧ met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een waterverplaatsing bij volle lading van meer dan 500 ton met een maximale ontwerpsnelheid bij volle lading van meer dan 35 knopen in golven van 3,25 m of hoger (toestand van het zeeoppervlak («sea state»): 5), of

| 2. | een waterverplaatsing bij volle lading van meer dan 1 500 ton met een maximale ontwerpsnelheid bij volle lading van meer dan 25 knopen in golven van 4 m of hoger (toestand van het zeeoppervlak («sea state»): 6). |
| --- | --- |

2.

een waterverplaatsing bij volle lading van meer dan 1 500 ton met een maximale ontwerpsnelheid bij volle lading van meer dan 25 knopen in golven van 4 m of hoger (toestand van het zeeoppervlak («sea state»): 6).

Technische noot:

Voor ‧vaartuigen met geringe rompdoorsnede‧ geldt de volgende formule als definitie: rompdoorsnede bij een operationele ontwerpdiepgang kleiner dan 2 x (waterverplaatsing bij de operationele ontwerpdiepgang) 2/3.

8A002Systemen en apparatuur, als hieronder:

Noot: Zie categorie 5, deel 1 (Telecommunicatie) voor communicatiesystemen voor gebruik onder water.

| a. | systemen of apparatuur, speciaal ontworpen of aangepast voor onderwatervoertuigen, ontworpen voor een werkdiepte van meer dan 1 000 m, als hieronder:






  1. | drukvaste omhullingen of rompen met een maximale inwendige diameter groter dan 1,5 m; |
| --- | --- | --- |

a.

systemen of apparatuur, speciaal ontworpen of aangepast voor onderwatervoertuigen, ontworpen voor een werkdiepte van meer dan 1 000 m, als hieronder:

1.

drukvaste omhullingen of rompen met een maximale inwendige diameter groter dan 1,5 m;

| 2. | gelijkstroom-druk- of -stuwmotoren; |
| --- | --- |

2.

gelijkstroom-druk- of -stuwmotoren;

| 3. | voedingsleidingen en koppelingen daarvoor waarin glasvezels zijn gebruikt en met synthetische versterkingen; |
| --- | --- |

3.

voedingsleidingen en koppelingen daarvoor waarin glasvezels zijn gebruikt en met synthetische versterkingen;

| b. | systemen, speciaal ontworpen of aangepast voor het automatisch besturen van de bewegingen van apparatuur voor onderwatervoertuigen, bedoeld in 8A001, waarbij gebruik wordt gemaakt van navigatiegegevens en teruggekoppelde servobesturingen zodat:






  1. | het voertuig binnen 10 m van een van tevoren bepaald punt in de waterkolom gebracht kan worden; |
| --- | --- | --- |

b.

systemen, speciaal ontworpen of aangepast voor het automatisch besturen van de bewegingen van apparatuur voor onderwatervoertuigen, bedoeld in 8A001, waarbij gebruik wordt gemaakt van navigatiegegevens en teruggekoppelde servobesturingen zodat:

1.

het voertuig binnen 10 m van een van tevoren bepaald punt in de waterkolom gebracht kan worden;

| 2. | het voertuig binnen 10 m van een van tevoren bepaald punt in de waterkolom gehouden kan worden, of |
| --- | --- |

2.

het voertuig binnen 10 m van een van tevoren bepaald punt in de waterkolom gehouden kan worden, of

| 3. | het voertuig binnen 10 m van een te volgen kabel op of onder de zeebodem gehouden kan worden; |
| --- | --- |

3.

het voertuig binnen 10 m van een te volgen kabel op of onder de zeebodem gehouden kan worden;

| c. | glasvezeldoorvoeren of -doorvoerkoppelingen voor rompen; |
| --- | --- |

c.

glasvezeldoorvoeren of -doorvoerkoppelingen voor rompen;

| d. | systemen voor onderwaterzien, als hieronder:






  1. | televisiesystemen en televisiecamera's, als hieronder:






  a. | televisiesystemen (bestaande uit camera, lampen, controleapparatuur en apparatuur voor de overdracht van signalen) met een systeemoplossend vermogen, gemeten in de lucht, van meer dan 800 lijnen, die speciaal ontworpen of aangepast zijn om op afstand bediend te worden in een onderwatervoertuig; |
| --- | --- | --- | --- |

d.

systemen voor onderwaterzien, als hieronder:

1.

televisiesystemen en televisiecamera's, als hieronder:

a.

televisiesystemen (bestaande uit camera, lampen, controleapparatuur en apparatuur voor de overdracht van signalen) met een systeemoplossend vermogen, gemeten in de lucht, van meer dan 800 lijnen, die speciaal ontworpen of aangepast zijn om op afstand bediend te worden in een onderwatervoertuig;

| b. | onderwatertelevisiecamera's met een systeemoplossend vermogen, gemeten in de lucht, van meer dan 1 100 lijnen; |
| --- | --- |

b.

onderwatertelevisiecamera's met een systeemoplossend vermogen, gemeten in de lucht, van meer dan 1 100 lijnen;

| c. | televisiecamera's voor gebruik bij gering lichtniveau, speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik onder water, welke omvatten:






  1. | beeldversterkingsbuizen bedoeld in 6A002.a.2.a, en |
| --- | --- | --- |

c.

televisiecamera's voor gebruik bij gering lichtniveau, speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik onder water, welke omvatten:

1.

beeldversterkingsbuizen bedoeld in 6A002.a.2.a, en

| 2. | meer dan 150 000"actieve pixels" per halfgeleider-«array»; |
| --- | --- |

2.

meer dan 150 000"actieve pixels" per halfgeleider-«array»;

Technische noot:

Het systeemoplossende vermogen voor televisie is een maat voor het horizontale oplossende vermogen dat gewoonlijk wordt uitgedrukt als het maximale aantal lijnen per beeldschermhoogte dat op een testkaart onderscheiden kan worden, met toepassing van IEEE Standard 208/1960 of een equivalente norm.

| 2. | systemen, speciaal ontworpen of aangepast voor de bediening op afstand in een onderwatervoertuig, waarbij gebruik wordt gemaakt van technieken, zoals speciaal gerichte verlichting («range-gated illuminators«) of "laser"-systemen, om de weerkaatsing van het licht zo laag mogelijk te houden; |
| --- | --- |

2.

systemen, speciaal ontworpen of aangepast voor de bediening op afstand in een onderwatervoertuig, waarbij gebruik wordt gemaakt van technieken, zoals speciaal gerichte verlichting («range-gated illuminators«) of "laser"-systemen, om de weerkaatsing van het licht zo laag mogelijk te houden;

| e. | fotografische camera's speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik onder water, met een filmformaat van 35 mm of groter, en met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | de film kan worden voorzien van gegevens vanuit een bron van buiten de camera; |
| --- | --- | --- |

e.

fotografische camera's speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik onder water, met een filmformaat van 35 mm of groter, en met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

de film kan worden voorzien van gegevens vanuit een bron van buiten de camera;

| 2. | met automatische nacorrectie van de brandpuntsafstand, of |
| --- | --- |

2.

met automatische nacorrectie van de brandpuntsafstand, of

| 3. | met automatische compensatieregeling, speciaal ontworpen om het gebruik van onderwatercamerahuizen op een diepte van meer dan 1 000 m mogelijk te maken; |
| --- | --- |

3.

met automatische compensatieregeling, speciaal ontworpen om het gebruik van onderwatercamerahuizen op een diepte van meer dan 1 000 m mogelijk te maken;

| f. | elektronische beeldsystemen, speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik onder water, geschikt voor digitale opslag van meer dan 50 belichte beelden;


  Noot: 8A002.f is niet van toepassing op digitale camera's die speciaal zijn ontworpen voor andere consumentendoeleinden dan elektronische beeldvermenigvuldigingstechnieken. |
| --- | --- |

f.

elektronische beeldsystemen, speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik onder water, geschikt voor digitale opslag van meer dan 50 belichte beelden;

Noot: 8A002.f is niet van toepassing op digitale camera's die speciaal zijn ontworpen voor andere consumentendoeleinden dan elektronische beeldvermenigvuldigingstechnieken.

| g. | lichtbronnen, speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik onder water, als hieronder:






  1. | stroboscopische lichtbronnen met een lichtopbrengst van meer dan 300 J per flits en een flitssnelheid van meer dan 5 flitsen per seconde; |
| --- | --- | --- |

g.

lichtbronnen, speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik onder water, als hieronder:

1.

stroboscopische lichtbronnen met een lichtopbrengst van meer dan 300 J per flits en een flitssnelheid van meer dan 5 flitsen per seconde;

| 2. | argonbooglichtbronnen, speciaal ontworpen voor gebruik op een diepte van meer dan 1 000 m; |
| --- | --- |

2.

argonbooglichtbronnen, speciaal ontworpen voor gebruik op een diepte van meer dan 1 000 m;

| h. | "robots" speciaal ontworpen voor gebruik onder water, bestuurd door middel van een toepassingsgerichte computer, en met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | met systemen die voor de besturing van de "robot" gebruik maken van gegevens van sensoren die krachten of koppels uitgeoefend op een extern voorwerp, de afstand tot een extern voorwerp of de aanraking tussen de "robot" en een extern voorwerp meten, of |
| --- | --- | --- |

h.

"robots" speciaal ontworpen voor gebruik onder water, bestuurd door middel van een toepassingsgerichte computer, en met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

met systemen die voor de besturing van de "robot" gebruik maken van gegevens van sensoren die krachten of koppels uitgeoefend op een extern voorwerp, de afstand tot een extern voorwerp of de aanraking tussen de "robot" en een extern voorwerp meten, of

| 2. | geschikt voor het uitoefenen van een kracht van 250 N of meer of een koppel van 250 Nm of meer en gebruikmakend van op titaan gebaseerde legeringen of "stapel- of continuvezel" -"composiet"-materialen in hun constructie-elementen; |
| --- | --- |

2.

geschikt voor het uitoefenen van een kracht van 250 N of meer of een koppel van 250 Nm of meer en gebruikmakend van op titaan gebaseerde legeringen of "stapel- of continuvezel" -"composiet"-materialen in hun constructie-elementen;

| i. | op afstand bediende, scharnierende manipulators, speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik met onderwatervoertuigen en met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | met systemen die voor de besturing van de manipulator gebruik maken van gegevens van sensoren die krachten of koppels uitgeoefend op een extern voorwerp, de afstand tot een extern voorwerp of de aanraking tussen de manipulator en een extern voorwerp meten, of |
| --- | --- | --- |

i.

op afstand bediende, scharnierende manipulators, speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik met onderwatervoertuigen en met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

met systemen die voor de besturing van de manipulator gebruik maken van gegevens van sensoren die krachten of koppels uitgeoefend op een extern voorwerp, de afstand tot een extern voorwerp of de aanraking tussen de manipulator en een extern voorwerp meten, of

| 2. | bestuurd met behulp van evenredige meester-slaaf-technieken of door gebruik te maken van een toepassingsgerichte computer, en met een aantal vrijheidsgraden van beweging van 5 of meer;


  Noot: Bij de bepaling van het aantal vrijheidsgraden van beweging worden uitsluitend meegeteld de functies met evenredige besturing die gebruikmaken van positieterugkoppeling of van een toepassingsgerichte computer. |
| --- | --- |

2.

bestuurd met behulp van evenredige meester-slaaf-technieken of door gebruik te maken van een toepassingsgerichte computer, en met een aantal vrijheidsgraden van beweging van 5 of meer;

Noot: Bij de bepaling van het aantal vrijheidsgraden van beweging worden uitsluitend meegeteld de functies met evenredige besturing die gebruikmaken van positieterugkoppeling of van een toepassingsgerichte computer.

| j. | geen lucht vereisende aandrijfsystemen, speciaal ontworpen voor gebruik onder water, als hieronder:






  1. | geen lucht vereisende aandrijfsystemen met motoren van het type Brayton of Rankinecyclus, met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | chemische reinigings- of absorptiesystemen, speciaal ontworpen voor het verwijderen van kooldioxide, koolmonoxide en deeltjes uit de teruggevoerde uitlaatgassen van de motor; |
| --- | --- | --- | --- |

j.

geen lucht vereisende aandrijfsystemen, speciaal ontworpen voor gebruik onder water, als hieronder:

1.

geen lucht vereisende aandrijfsystemen met motoren van het type Brayton of Rankinecyclus, met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

chemische reinigings- of absorptiesystemen, speciaal ontworpen voor het verwijderen van kooldioxide, koolmonoxide en deeltjes uit de teruggevoerde uitlaatgassen van de motor;

| b. | speciaal ontworpen systemen voor het gebruik van eenatomige gassen; |
| --- | --- |

b.

speciaal ontworpen systemen voor het gebruik van eenatomige gassen;

| c. | toestellen of omhullingen, speciaal ontworpen voor geluiddemping onder water voor frequenties lager dan 10 kHz, of speciale schokdempende ophanginrichtingen, of |
| --- | --- |

c.

toestellen of omhullingen, speciaal ontworpen voor geluiddemping onder water voor frequenties lager dan 10 kHz, of speciale schokdempende ophanginrichtingen, of

| d. | systemen die speciaal zijn ontworpen:






  1. | voor het onder druk brengen van verbrandingsproducten of voor het opnieuw vormen van brandstof; |
| --- | --- | --- |

d.

systemen die speciaal zijn ontworpen:

1.

voor het onder druk brengen van verbrandingsproducten of voor het opnieuw vormen van brandstof;

| 2. | voor de opslag van verbrandingsproducten, en |
| --- | --- |

2.

voor de opslag van verbrandingsproducten, en

| 3. | voor de lozing van verbrandingsproducten tegen een druk in van 100 kPa of meer; |
| --- | --- |

3.

voor de lozing van verbrandingsproducten tegen een druk in van 100 kPa of meer;

| 2. | geen lucht vereisende systemen met een dieselmotor met alle volgende kenmerken:






  a. | chemische reinigings- of absorptiesystemen, speciaal ontworpen voor het verwijderen van kooldioxide, koolmonoxide en deeltjes uit de teruggevoerde uitlaatgassen van de motor; |
| --- | --- | --- |

2.

geen lucht vereisende systemen met een dieselmotor met alle volgende kenmerken:

a.

chemische reinigings- of absorptiesystemen, speciaal ontworpen voor het verwijderen van kooldioxide, koolmonoxide en deeltjes uit de teruggevoerde uitlaatgassen van de motor;

| b. | speciaal ontworpen systemen voor het gebruik van eenatomige gassen; |
| --- | --- |

b.

speciaal ontworpen systemen voor het gebruik van eenatomige gassen;

| c. | toestellen of omhullingen, speciaal ontworpen voor geluiddemping onder water voor frequenties lager dan 10 kHz, of speciale schokdempende ophanginrichtingen, en |
| --- | --- |

c.

toestellen of omhullingen, speciaal ontworpen voor geluiddemping onder water voor frequenties lager dan 10 kHz, of speciale schokdempende ophanginrichtingen, en

| d. | speciaal ontworpen uitlaatsystemen die niet zonder onderbreking verbrandingsproducten uitstoten; |
| --- | --- |

d.

speciaal ontworpen uitlaatsystemen die niet zonder onderbreking verbrandingsproducten uitstoten;

| 3. | geen lucht vereisende brandstofcelsystemen met een uitgangsvermogen van meer dan 2 kW met één van beide volgende kenmerken:






  a. | toestellen of omhullingen, speciaal ontworpen voor geluiddemping onder water voor frequenties lager dan 10 kHz, of speciale schokdempende ophanginrichtingen, of |
| --- | --- | --- |

3.

geen lucht vereisende brandstofcelsystemen met een uitgangsvermogen van meer dan 2 kW met één van beide volgende kenmerken:

a.

toestellen of omhullingen, speciaal ontworpen voor geluiddemping onder water voor frequenties lager dan 10 kHz, of speciale schokdempende ophanginrichtingen, of

| b. | systemen die speciaal zijn ontworpen:






  1. | voor het onder druk brengen van verbrandingsproducten of voor het opnieuw vormen van brandstof; |
| --- | --- | --- |

b.

systemen die speciaal zijn ontworpen:

1.

voor het onder druk brengen van verbrandingsproducten of voor het opnieuw vormen van brandstof;

| 2. | voor de opslag van verbrandingsproducten, en |
| --- | --- |

2.

voor de opslag van verbrandingsproducten, en

| 3. | voor de lozing van verbrandingsproducten tegen een druk in van 100 kPa of meer; |
| --- | --- |

3.

voor de lozing van verbrandingsproducten tegen een druk in van 100 kPa of meer;

| 4. | geen lucht vereisende aandrijfsystemen met motoren van het type Stirling-cyclus, met alle volgende kenmerken:






  a. | toestellen of omhullingen speciaal ontworpen voor geluiddemping onder water voor frequenties lager dan 10 kHz, of speciale schokdempende ophanginrichtingen; en |
| --- | --- | --- |

4.

geen lucht vereisende aandrijfsystemen met motoren van het type Stirling-cyclus, met alle volgende kenmerken:

a.

toestellen of omhullingen speciaal ontworpen voor geluiddemping onder water voor frequenties lager dan 10 kHz, of speciale schokdempende ophanginrichtingen; en

| b. | speciaal ontworpen uitlaatsystemen voor de lozing van verbrandingsproducten tegen een druk in van 100 kPa of meer; |
| --- | --- |

b.

speciaal ontworpen uitlaatsystemen voor de lozing van verbrandingsproducten tegen een druk in van 100 kPa of meer;

| k. | schorten, afdichtingen en zgn. vingers, als hieronder:






  1. | ontworpen voor een luchtkussendruk van 3 830 Pa of meer, werkend in golven van 1,25 m of hoger (toestand van het zeeoppervlak («sea state»): 3) en speciaal ontworpen voor vaartuigen met grondeffect (type volledig met schorten («fully skirted variety«)) bedoeld in 8A001.f; |
| --- | --- | --- |

k.

schorten, afdichtingen en zgn. vingers, als hieronder:

1.

ontworpen voor een luchtkussendruk van 3 830 Pa of meer, werkend in golven van 1,25 m of hoger (toestand van het zeeoppervlak («sea state»): 3) en speciaal ontworpen voor vaartuigen met grondeffect (type volledig met schorten («fully skirted variety«)) bedoeld in 8A001.f;

| 2. | ontworpen voor een luchtkussendruk van 6 224 Pa of meer, werkend in golven van 3,25 m of hoger (toestand van het zeeoppervlak («sea state»): 5) en speciaal ontworpen voor vaartuigen met grondeffect (type met vaste zijwand («rigid sidewalls»)), bedoeld in 8A001.g; |
| --- | --- |

2.

ontworpen voor een luchtkussendruk van 6 224 Pa of meer, werkend in golven van 3,25 m of hoger (toestand van het zeeoppervlak («sea state»): 5) en speciaal ontworpen voor vaartuigen met grondeffect (type met vaste zijwand («rigid sidewalls»)), bedoeld in 8A001.g;

| l. | stuwventilatoren gespecificeerd voor meer dan 400 kW, speciaal ontworpen voor vaartuigen met grondeffect bedoeld in 8A001.f of 8A001.g; |
| --- | --- |

l.

stuwventilatoren gespecificeerd voor meer dan 400 kW, speciaal ontworpen voor vaartuigen met grondeffect bedoeld in 8A001.f of 8A001.g;

| m. | geheel onder water werkende sub- of supercaviterende draagvleugels, speciaal ontworpen voor vaartuigen bedoeld in 8A001.h; |
| --- | --- |

m.

geheel onder water werkende sub- of supercaviterende draagvleugels, speciaal ontworpen voor vaartuigen bedoeld in 8A001.h;

| n. | actieve systemen, speciaal ontworpen of aangepast voor de automatische beheersing van door de zee veroorzaakte bewegingen van voertuigen of vaartuigen, bedoeld in 8A001.f, 8A001.g, 8A001.h of 8A001.i; |
| --- | --- |

n.

actieve systemen, speciaal ontworpen of aangepast voor de automatische beheersing van door de zee veroorzaakte bewegingen van voertuigen of vaartuigen, bedoeld in 8A001.f, 8A001.g, 8A001.h of 8A001.i;

| o. | schroefsystemen, krachtoverbrengingssystemen, krachtopwekkingssystemen en geluiddempingssystemen, als hieronder:






  1. | scheepsschroefsystemen of krachtoverbrengingssystemen, als hieronder, speciaal ontworpen voor vaartuigen met grondeffect (volledig met schorten («fully skirted variety») of met vaste zijwand («rigid sidewall variety»)), draagvleugelboten of vaartuigen met geringe rompdoorsnede bedoeld in 8A001.f, 8A001.g, 8A001.h of 8A001.i:






  a. | supercaviterende, supergeventileerde, gedeeltelijk onder water werkende («partially submerged») of door het wateroppervlak heen brekende schroeven voor een vermogen van meer dan 7,5 MW; |
| --- | --- | --- | --- |

o.

schroefsystemen, krachtoverbrengingssystemen, krachtopwekkingssystemen en geluiddempingssystemen, als hieronder:

1.

scheepsschroefsystemen of krachtoverbrengingssystemen, als hieronder, speciaal ontworpen voor vaartuigen met grondeffect (volledig met schorten («fully skirted variety») of met vaste zijwand («rigid sidewall variety»)), draagvleugelboten of vaartuigen met geringe rompdoorsnede bedoeld in 8A001.f, 8A001.g, 8A001.h of 8A001.i:

a.

supercaviterende, supergeventileerde, gedeeltelijk onder water werkende («partially submerged») of door het wateroppervlak heen brekende schroeven voor een vermogen van meer dan 7,5 MW;

| b. | systemen met tegengesteld draaiende schroeven voor een vermogen van meer dan 15 MW; |
| --- | --- |

b.

systemen met tegengesteld draaiende schroeven voor een vermogen van meer dan 15 MW;

| c. | systemen waarin draaikolktechnieken («pre swirl» of «post swirl») worden toegepast voor het effenen van de waterstroom naar de schroef; |
| --- | --- |

c.

systemen waarin draaikolktechnieken («pre swirl» of «post swirl») worden toegepast voor het effenen van de waterstroom naar de schroef;

| d. | lichtgewicht tandwieloverbrengingen voor hoge vermogens (K-factor groter dan 300); |
| --- | --- |

d.

lichtgewicht tandwieloverbrengingen voor hoge vermogens (K-factor groter dan 300);

| e. | assystemen voor krachtoverbrenging die onderdelen uit "composiete" materialen bevatten, geschikt voor het overbrengen van een vermogen van meer dan 1 MW; |
| --- | --- |

e.

assystemen voor krachtoverbrenging die onderdelen uit "composiete" materialen bevatten, geschikt voor het overbrengen van een vermogen van meer dan 1 MW;

| 2. | scheepsschroef-, krachtopwekkings- of krachtoverbrengingssystemen voor gebruik in schepen, als hieronder:






  a. | schroeven met regelbare spoed en naafsamenstellingen voor een vermogen van meer dan 30 MW; |
| --- | --- | --- |

2.

scheepsschroef-, krachtopwekkings- of krachtoverbrengingssystemen voor gebruik in schepen, als hieronder:

a.

schroeven met regelbare spoed en naafsamenstellingen voor een vermogen van meer dan 30 MW;

| b. | met interne vloeistofkoeling en elektrische voortstuwingsmotoren met een vermogen groter dan 2,5 MW; |
| --- | --- |

b.

met interne vloeistofkoeling en elektrische voortstuwingsmotoren met een vermogen groter dan 2,5 MW;

| c. | "supergeleidende" voortstuwingsmotoren, of elektrische voortstuwingsmotoren met permanente magneet, met een vermogen van meer dan 0,1 MW; |
| --- | --- |

c.

"supergeleidende" voortstuwingsmotoren, of elektrische voortstuwingsmotoren met permanente magneet, met een vermogen van meer dan 0,1 MW;

| d. | assystemen voor krachtoverbrenging die onderdelen uit "composiete" materialen bevatten, geschikt voor het overbrengen van een vermogen van meer dan 2 MW; |
| --- | --- |

d.

assystemen voor krachtoverbrenging die onderdelen uit "composiete" materialen bevatten, geschikt voor het overbrengen van een vermogen van meer dan 2 MW;

| e. | geventileerde of basisgeventileerde schroefsystemen voor een vermogen van meer dan 2,5 MW; |
| --- | --- |

e.

geventileerde of basisgeventileerde schroefsystemen voor een vermogen van meer dan 2,5 MW;

| 3. | geluiddempingssystemen voor gebruik in schepen met een waterverplaatsing van 1 000 ton of meer, als hieronder:






  a. | geluiddempingssystemen die dempen bij frequenties lager dan 500 Hz en bestaan uit samengestelde akoestische ophanginrichtingen voor het akoestisch isoleren van dieselmotoren, dieselaggregaten, gasturbines, gasturbineaggregaten, voortstuwingsmotoren of tandwieloverbrengen voor voortstuwing, speciaal ontworpen voor geluids- of trillingsisolatie, met een dempende massa van meer dan 30 % van de te monteren apparatuur; |
| --- | --- | --- |

3.

geluiddempingssystemen voor gebruik in schepen met een waterverplaatsing van 1 000 ton of meer, als hieronder:

a.

geluiddempingssystemen die dempen bij frequenties lager dan 500 Hz en bestaan uit samengestelde akoestische ophanginrichtingen voor het akoestisch isoleren van dieselmotoren, dieselaggregaten, gasturbines, gasturbineaggregaten, voortstuwingsmotoren of tandwieloverbrengen voor voortstuwing, speciaal ontworpen voor geluids- of trillingsisolatie, met een dempende massa van meer dan 30 % van de te monteren apparatuur;

| b. | actieve geluiddempings- of uitdovingssystemen of magnetische lagers, speciaal ontworpen voor krachtoverbrengingssystemen, die elektronische regelsystemen bevatten geschikt voor actieve demping van de trillingen van de apparatuur door het voortbrengen van geluid of trilling onderdrukkende signalen die direct naar de bron worden teruggekoppeld; |
| --- | --- |

b.

actieve geluiddempings- of uitdovingssystemen of magnetische lagers, speciaal ontworpen voor krachtoverbrengingssystemen, die elektronische regelsystemen bevatten geschikt voor actieve demping van de trillingen van de apparatuur door het voortbrengen van geluid of trilling onderdrukkende signalen die direct naar de bron worden teruggekoppeld;

| p. | waterstraal («pumpjet»)-voortstuwingssystemen met een vermogen van meer dan 2,5 MW, welke gebruikmaken van uitlopende straalbuizen en geleide-schoepentechnieken om de voortstuwingsefficiëntie te verbeteren en het onderwatergeluid, veroorzaakt door de voortstuwing, te verminderen; |
| --- | --- |

p.

waterstraal («pumpjet»)-voortstuwingssystemen met een vermogen van meer dan 2,5 MW, welke gebruikmaken van uitlopende straalbuizen en geleide-schoepentechnieken om de voortstuwingsefficiëntie te verbeteren en het onderwatergeluid, veroorzaakt door de voortstuwing, te verminderen;

| q. | onafhankelijk werkende duikapparatuur of apparatuur voor onderwaterzwemmen met een gesloten of half-gesloten systeem.


  Noot: 8A002.q is niet van toepassing op individuele apparatuur voor persoonlijk gebruik die door de gebruiker wordt meegevoerd. |
| --- | --- |

q.

onafhankelijk werkende duikapparatuur of apparatuur voor onderwaterzwemmen met een gesloten of half-gesloten systeem.

Noot: 8A002.q is niet van toepassing op individuele apparatuur voor persoonlijk gebruik die door de gebruiker wordt meegevoerd.

8BTest-, inspectie- en productieapparatuur

8B001Watertunnels, met een achtergrondruis van minder dan 100 dB (referentie: 1 micropascal, 1 Hz) in het frequentiegebied van 0 tot 500 Hz, ontworpen voor het meten van akoestische velden voortgebracht door een waterstroming rond modellen van voortstuwingssystemen.

8CMaterialen

8C001‧Syntactisch schuim‧ voor gebruik onder water:

| a. | ontworpen voor toepassing onder water bij een diepte groter dan 1 000 m; en |
| --- | --- |

a.

ontworpen voor toepassing onder water bij een diepte groter dan 1 000 m; en

| b. | met een dichtheid lager dan 561 kg/m3. |
| --- | --- |

b.

met een dichtheid lager dan 561 kg/m3.

Technische noot:

‧Syntactisch schuim‧ bestaat uit holle bolletjes van kunststof of glas die zijn ingebed in een harsmatrix.

8DProgrammatuur

8D001"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", "productie" of het "gebruik" van apparatuur of materialen, bedoeld in 8A, 8B of 8C.

8D002Specifieke "programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de"productie", het herstel, de revisie of het opknappen (opnieuw machinaal bewerken) van schroeven die speciaal zijn ontworpen om onderwatergeluid te beperken.

8ETechnologie

8E001"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" of "productie" van apparatuur of materialen, bedoeld in 8A, 8B of 8C.

8E002Overige "technologie", als hieronder:

| a. | "technologie" voor de "ontwikkeling", de "productie", het herstel, de revisie of het opknappen (opnieuw machinaal bewerken) van schroeven die speciaal zijn ontworpen om onderwatergeluid te beperken; |
| --- | --- |

a.

"technologie" voor de "ontwikkeling", de "productie", het herstel, de revisie of het opknappen (opnieuw machinaal bewerken) van schroeven die speciaal zijn ontworpen om onderwatergeluid te beperken;

| b. | "technologie" voor de revisie of het opknappen van apparatuur, bedoeld in 8A001, 8A002.b, 8A002.j, 8A002.o of 8A002.p. |
| --- | --- |

b.

"technologie" voor de revisie of het opknappen van apparatuur, bedoeld in 8A001, 8A002.b, 8A002.j, 8A002.o of 8A002.p.

CATEGORIE 9

VOORTSTUWINGSSYSTEMEN, RUIMTEVOERTUIGEN EN VERWANTE APPARATUUR

9ASystemen, apparatuur en onderdelen

NB: Zie lijst militaire goederen voor voortstuwingssystemen die zijn ontworpen of gespecificeerd tegen neutronenstraling of kortstondige ioniserende straling.

9A001Gasturbinemotoren voor luchtvaartuigen met één of meer van de volgende eigenschappen:

NB: ZIE OOK 9A101

| a. | zij bevatten een van de in 9E003.a bedoelde technologieën; of:


  Noot: In 9A001.a. zijn niet bedoeld: gasturbinemotoren voor luchtvaartuigen met alle volgende kenmerken:








  a. | gecertificeerd door de civiele luchtvaartautoriteiten van een "deelnemende staat"; en |
| --- | --- | --- |

a.

zij bevatten een van de in 9E003.a bedoelde technologieën; of:

Noot: In 9A001.a. zijn niet bedoeld: gasturbinemotoren voor luchtvaartuigen met alle volgende kenmerken:

a.

gecertificeerd door de civiele luchtvaartautoriteiten van een "deelnemende staat"; en

| b. | bedoeld voor het aandrijven van niet-militaire bemande luchtvaartuigen waarvoor door een "deelnemende staat" een van de volgende documenten voor het luchtvaartuig met dit specifieke motortype is afgegeven:








  1. | een civiel typecertificaat; of |
| --- | --- | --- |

b.

bedoeld voor het aandrijven van niet-militaire bemande luchtvaartuigen waarvoor door een "deelnemende staat" een van de volgende documenten voor het luchtvaartuig met dit specifieke motortype is afgegeven:

1.

een civiel typecertificaat; of

| 2. | een gelijkwaardig document dat door de Internationale Burgerluchtvaartorganisatie (ICAO) wordt erkend. |
| --- | --- |

2.

een gelijkwaardig document dat door de Internationale Burgerluchtvaartorganisatie (ICAO) wordt erkend.

| b. | zij zijn ontworpen om een luchtvaartuig in staat te stellen om zich gedurende meer dan 30 minuten voort te bewegen met een snelheid gelijk aan of groter dan Mach 1. |
| --- | --- |

b.

zij zijn ontworpen om een luchtvaartuig in staat te stellen om zich gedurende meer dan 30 minuten voort te bewegen met een snelheid gelijk aan of groter dan Mach 1.

9A002‧Gasturbinemotoren voor schepen‧ met een volgens ISO-normen continu vermogen van 24 245 kW of meer en een specifiek brandstofverbruik van minder dan 0,219 kg/kWh op elk punt binnen het vermogensbereik van 35 tot 100 %, en speciaal daarvoor ontworpen samenstellingen en onderdelen.

Noot: De term ‧gasturbinemotoren voor schepen‧ omvat tevens industriële of oorspronkelijk voor vliegtuigen bestemde gasturbinemotoren die zijn aangepast voor de voortstuwing van schepen of de opwekking van elektriciteit aan boord van schepen.

9A003Speciaal ontworpen samenstellingen en onderdelen, die technologieën bevatten die bedoeld zijn in 9E003.a, voor onderstaande gasturbinemotorvoortstuwingssystemen:

| a. | bedoeld in 9A001; |
| --- | --- |

a.

bedoeld in 9A001;

| b. | die oorspronkelijk zijn ontworpen of vervaardigd in hetzij een niet "deelnemende staat", hetzij een aan de fabrikant onbekend land. |
| --- | --- |

b.

die oorspronkelijk zijn ontworpen of vervaardigd in hetzij een niet "deelnemende staat", hetzij een aan de fabrikant onbekend land.

9A004Ruimtelanceervoertuigen of "ruimtevaartuigen".

NB: ZIE OOK 9A104

Noot: 9A004 is niet van toepassing op de nuttige lading.

NB: Zie voor de embargostatus van producten die zich in de nuttige lading van "ruimtevaartuigen" bevinden de desbetreffende categorieën.

9A005Raketvoortstuwingssystemen met vloeibare stuwstof die systemen of onderdelen bevatten die zijn bedoeld in 9A006.

NB: ZIE OOK 9A105 en 9A119

9A006Systemen of onderdelen, als hieronder, speciaal ontworpen voor raketvoortstuwingssystemen met vloeibare stuwstof:

NB: ZIE OOK 9A106, 9A108 en 9A120

| a. | cryogene koelinrichtingen, uiterst lichte dewarvaten, cryogene warmtebuizen of cryogene systemen, speciaal ontworpen voor gebruik in ruimtevoertuigen en in staat om het verlies aan cryogene vloeistof te beperken tot minder dan 30 % per jaar; |
| --- | --- |

a.

cryogene koelinrichtingen, uiterst lichte dewarvaten, cryogene warmtebuizen of cryogene systemen, speciaal ontworpen voor gebruik in ruimtevoertuigen en in staat om het verlies aan cryogene vloeistof te beperken tot minder dan 30 % per jaar;

| b. | cryogene vaten of koelsystemen met gesloten kringloop, geschikt voor het bereiken van temperaturen van 100 K (– 173 oC) of lager, voor "vliegtuigen" die ononderbroken kunnen vliegen met een snelheid van meer dan Mach 3, voor lanceervoertuigen of voor "ruimtevaartuigen"; |
| --- | --- |

b.

cryogene vaten of koelsystemen met gesloten kringloop, geschikt voor het bereiken van temperaturen van 100 K (– 173 oC) of lager, voor "vliegtuigen" die ononderbroken kunnen vliegen met een snelheid van meer dan Mach 3, voor lanceervoertuigen of voor "ruimtevaartuigen";

| c. | systemen voor opslag of transport van waterstof bij het smeltpunt («slush hydrogen»); |
| --- | --- |

c.

systemen voor opslag of transport van waterstof bij het smeltpunt («slush hydrogen»);

| d. | hogedrukturbopompen (meer dan 17,5 MPa), pomponderdelen of de aangesloten gasgenerator- of expansiecyclusturbineaandrijfsystemen; |
| --- | --- |

d.

hogedrukturbopompen (meer dan 17,5 MPa), pomponderdelen of de aangesloten gasgenerator- of expansiecyclusturbineaandrijfsystemen;

| e. | hogedrukverbrandingskamers (meer dan 10,6 MPa) en straalpijpen daarvoor; |
| --- | --- |

e.

hogedrukverbrandingskamers (meer dan 10,6 MPa) en straalpijpen daarvoor;

| f. | stuwstofopslagsystemen waarbij gebruik wordt gemaakt van het principe van capillaire insluiting of positieve uitstoting (d.w.z. met flexibele brandstoftanks); |
| --- | --- |

f.

stuwstofopslagsystemen waarbij gebruik wordt gemaakt van het principe van capillaire insluiting of positieve uitstoting (d.w.z. met flexibele brandstoftanks);

| g. | injectoren voor vloeibare stuwstof, met individuele openingen met een diameter van 0,381 mm of kleiner (een oppervlak van 1,14 × 10–3 cm2 of kleiner voor niet-cirkelvormige openingen) die speciaal zijn ontworpen voor raketmotoren voor vloeibare stuwstof; |
| --- | --- |

g.

injectoren voor vloeibare stuwstof, met individuele openingen met een diameter van 0,381 mm of kleiner (een oppervlak van 1,14 × 10–3 cm2 of kleiner voor niet-cirkelvormige openingen) die speciaal zijn ontworpen voor raketmotoren voor vloeibare stuwstof;

| h. | uit één stuk vervaardigde koolstof-koolstof verbrandingskamers of uit één stuk vervaardigde koolstof-koolstof uitlaatkegels met een dichtheid van meer dan 1,4 g/cm3 en een treksterkte van meer dan 48 MPa. |
| --- | --- |

h.

uit één stuk vervaardigde koolstof-koolstof verbrandingskamers of uit één stuk vervaardigde koolstof-koolstof uitlaatkegels met een dichtheid van meer dan 1,4 g/cm3 en een treksterkte van meer dan 48 MPa.

9A007Raketvoortstuwingssystemen met vaste stuwstof met één of meer van de volgende kenmerken:

NB: ZIE OOK 9A119

| a. | totale impulsvermogen groter dan 1,1 MNs; |
| --- | --- |

a.

totale impulsvermogen groter dan 1,1 MNs;

| b. | specifieke impuls van 2,4 kNs/kg of meer wanneer men de straalpijpstroom laat uitzetten tot omgevingsomstandigheden op zeeniveau bij een aangepaste druk in de verbrandingskamer van 7 MPa; |
| --- | --- |

b.

specifieke impuls van 2,4 kNs/kg of meer wanneer men de straalpijpstroom laat uitzetten tot omgevingsomstandigheden op zeeniveau bij een aangepaste druk in de verbrandingskamer van 7 MPa;

| c. | massabeladingstrap hoger dan 88 % en vaste brandstofbelading groter dan 86 %; |
| --- | --- |

c.

massabeladingstrap hoger dan 88 % en vaste brandstofbelading groter dan 86 %;

| d. | één of meer van de onderdelen bedoeld in 9A008, of |
| --- | --- |

d.

één of meer van de onderdelen bedoeld in 9A008, of

| e. | isolatiesystemen en systemen voor het binden van de stuwstof, die direct met de motor zijn verbonden, ter verkrijging van een ‧sterke mechanische verbinding‧ of een grenslaag die migratie van chemische stoffen tussen de vaste stuwstof en het isolatiemateriaal van de motoromhulling voorkomt.
  Technische noot:

  In 9A007.e wordt onder een ‧sterke mechanische verbinding‧ verstaan een verbindingssterkte gelijk aan of groter dan de sterkte van de stuwstof. |
| --- | --- |

e.

isolatiesystemen en systemen voor het binden van de stuwstof, die direct met de motor zijn verbonden, ter verkrijging van een ‧sterke mechanische verbinding‧ of een grenslaag die migratie van chemische stoffen tussen de vaste stuwstof en het isolatiemateriaal van de motoromhulling voorkomt.

Technische noot:

In 9A007.e wordt onder een ‧sterke mechanische verbinding‧ verstaan een verbindingssterkte gelijk aan of groter dan de sterkte van de stuwstof.

9A008Onderdelen, als hieronder, speciaal ontworpen voor raketvoortstuwingssystemen met vaste stuwstof:

NB: ZIE OOK 9A108

| a. | isolatiesystemen en systemen voor het binden van de stuwstof, die gebruikmaken van een huls («liner»), ter verkrijging van een ‧sterke mechanische verbinding‧ of een grenslaag die migratie van chemische stoffen tussen de vaste stuwstof en het isolatiemateriaal van de motoromhulling voorkomt;
  Technische noot:

  In 9A008.a wordt onder een ‧sterke mechanische verbinding‧ verstaan een verbindingssterkte gelijk aan of groter dan de sterkte van de stuwstof. |
| --- | --- |

a.

isolatiesystemen en systemen voor het binden van de stuwstof, die gebruikmaken van een huls («liner»), ter verkrijging van een ‧sterke mechanische verbinding‧ of een grenslaag die migratie van chemische stoffen tussen de vaste stuwstof en het isolatiemateriaal van de motoromhulling voorkomt;

Technische noot:

In 9A008.a wordt onder een ‧sterke mechanische verbinding‧ verstaan een verbindingssterkte gelijk aan of groter dan de sterkte van de stuwstof.

| b. | met vezels omwikkelde "composiete" motoromhullingen met een diameter groter dan 0,61 m of met een ‧structurele rendementsverhouding (PV/W)‧ groter dan 25 km;
  Technische noot:

  De ‧structurele rendementsverhouding (PV/W)‧ is de explosiedruk (P) maal het vatvolume (V) gedeeld door het totale gewicht van het drukvat (W). |
| --- | --- |

b.

met vezels omwikkelde "composiete" motoromhullingen met een diameter groter dan 0,61 m of met een ‧structurele rendementsverhouding (PV/W)‧ groter dan 25 km;

Technische noot:

De ‧structurele rendementsverhouding (PV/W)‧ is de explosiedruk (P) maal het vatvolume (V) gedeeld door het totale gewicht van het drukvat (W).

| c. | straalpijpen met een stuwdruk groter dan 45 kN of met een erosiesnelheid van de straalpijphals van minder dan 0,075 mm/s; |
| --- | --- |

c.

straalpijpen met een stuwdruk groter dan 45 kN of met een erosiesnelheid van de straalpijphals van minder dan 0,075 mm/s;

| d. | regelsystemen voor het richten van de stuwkrachtvector van het inspuitstuk of de secundaire vloeistofinjectie, geschikt voor:






  1. | bewegingen langs alle assen over een hoek groter dan ± 5°; |
| --- | --- | --- |

d.

regelsystemen voor het richten van de stuwkrachtvector van het inspuitstuk of de secundaire vloeistofinjectie, geschikt voor:

1.

bewegingen langs alle assen over een hoek groter dan ± 5°;

| 2. | vectorhoekrotaties van 20°/s of meer, of |
| --- | --- |

2.

vectorhoekrotaties van 20°/s of meer, of

| 3. | vectorhoekversnellingen van 40°/s2 of meer. |
| --- | --- |

3.

vectorhoekversnellingen van 40°/s2 of meer.

9A009Hybride raketvoortstuwingssystemen met:

NB: ZIE OOK 9A109 en 9A119

| a. | een totaal impulsvermogen groter dan 1,1 MNs, of |
| --- | --- |

a.

een totaal impulsvermogen groter dan 1,1 MNs, of

| b. | een stuwkracht groter dan 220 kN bij vacuümcondities aan de uitlaat. |
| --- | --- |

b.

een stuwkracht groter dan 220 kN bij vacuümcondities aan de uitlaat.

9A010Speciaal ontworpen onderdelen, systemen en structuren, voor lanceervoertuigen of voortstuwingssystemen voor lanceervoertuigen, of "ruimtevaartuigen", als hieronder:

NB: ZIE OOK 1A002 en 9A110

| a. | speciaal voor lanceervoertuigen ontworpen onderdelen en structuren met een gewicht van meer dan 10 kg elk, vervaardigd met gebruikmaking van metaal-"matrix" composieten, organische "composieten", keramische "matrix" materialen of met legeringen versterkte materialen bedoeld in 1C007 of 1C010;


  Noot: de gewichtsbeperking is niet relevant voor neuskegels. |
| --- | --- |

a.

speciaal voor lanceervoertuigen ontworpen onderdelen en structuren met een gewicht van meer dan 10 kg elk, vervaardigd met gebruikmaking van metaal-"matrix" composieten, organische "composieten", keramische "matrix" materialen of met legeringen versterkte materialen bedoeld in 1C007 of 1C010;

Noot: de gewichtsbeperking is niet relevant voor neuskegels.

| b. | speciaal voor in 9A005 tot en met 9A009 gespecificeerde voortstuwingssystemen voor lanceervoertuigen ontworpen onderdelen en structuren vervaardigd met gebruikmaking van metaal-"matrix" composieten, organische "composieten", keramische "matrix" materialen of met legeringen versterkte materialen bedoeld in 1C007 of 1C010; |
| --- | --- |

b.

speciaal voor in 9A005 tot en met 9A009 gespecificeerde voortstuwingssystemen voor lanceervoertuigen ontworpen onderdelen en structuren vervaardigd met gebruikmaking van metaal-"matrix" composieten, organische "composieten", keramische "matrix" materialen of met legeringen versterkte materialen bedoeld in 1C007 of 1C010;

| c. | structurele onderdelen en isolatiesystemen die speciaal zijn ontworpen met het oog op de actieve regeling van de dynamische respons of distortie van "ruimtevaartuig"-structuren; |
| --- | --- |

c.

structurele onderdelen en isolatiesystemen die speciaal zijn ontworpen met het oog op de actieve regeling van de dynamische respons of distortie van "ruimtevaartuig"-structuren;

| d. | pulserende raketmotoren voor vloeibare stuwstof met een verhouding stuwkracht/gewicht van 1 kN/kg of meer en een responstijd (de tijd die vereist is om 90 % van de totale opgegeven stuwkracht te bereiken na de start van de motor) van minder dan 30 ms. |
| --- | --- |

d.

pulserende raketmotoren voor vloeibare stuwstof met een verhouding stuwkracht/gewicht van 1 kN/kg of meer en een responstijd (de tijd die vereist is om 90 % van de totale opgegeven stuwkracht te bereiken na de start van de motor) van minder dan 30 ms.

9A011Stuwstraalmotoren («ramjet» en «scramjet») of motoren met een gecombineerde thermodynamische cyclus, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen.

NB: ZIE OOK 9A111 en 9A118

9A012Onbemande luchtvaartuigen, aanverwante systemen, apparatuur en onderdelen, als hieronder:

| a. | onbemande luchtvaartuigen met een of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een autonoom vluchtcontrole- en navigatievermogen (bv. een automatische piloot met een traagheidsnavigatiesysteem); of |
| --- | --- | --- |

a.

onbemande luchtvaartuigen met een of meer van de volgende kenmerken:

1.

een autonoom vluchtcontrole- en navigatievermogen (bv. een automatische piloot met een traagheidsnavigatiesysteem); of

| 2. | vermogen tot vluchtcontrole buiten het directe-zichtbereik met gebruikmaking van een menselijke operator (bv. controle op afstand via televisie); |
| --- | --- |

2.

vermogen tot vluchtcontrole buiten het directe-zichtbereik met gebruikmaking van een menselijke operator (bv. controle op afstand via televisie);

| b. | aanverwante systemen, apparatuur en onderdelen, als hieronder:






  1. | apparatuur die speciaal is ontworpen voor controle op afstand van de onder 9A012.a vermelde onbemande luchtvaartuigen; |
| --- | --- | --- |

b.

aanverwante systemen, apparatuur en onderdelen, als hieronder:

1.

apparatuur die speciaal is ontworpen voor controle op afstand van de onder 9A012.a vermelde onbemande luchtvaartuigen;

| 2. | andere dan onder 7A vermelde besturings- of controlesystemen die speciaal zijn ontworpen om te worden ingebouwd in onder 9A012.a vermelde onbemande luchtvaartuigen; |
| --- | --- |

2.

andere dan onder 7A vermelde besturings- of controlesystemen die speciaal zijn ontworpen om te worden ingebouwd in onder 9A012.a vermelde onbemande luchtvaartuigen;

| 3. | apparatuur en onderdelen die speciaal zijn ontworpen om een bemand luchtvaartuig te converteren in een onbemand luchtvaartuig als vermeld onder 9A012.a. |
| --- | --- |

3.

apparatuur en onderdelen die speciaal zijn ontworpen om een bemand luchtvaartuig te converteren in een onbemand luchtvaartuig als vermeld onder 9A012.a.

9A101Lichtgewicht turbinestraal- en turbofanmotoren (met inbegrip van turbocompoundmotoren), anders dan bedoeld in 9A001, als hieronder:

| a. | motoren met beide onderstaande kenmerken:






  1. | maximale stuwkracht groter dan 400 N (in niet-geïnstalleerde toestand) met uitzondering van voor civiele toepassingen gecertificeerde motoren met een maximale stuwkracht groter dan 8 890 N (in niet-geïnstalleerde toestand), en |
| --- | --- | --- |

a.

motoren met beide onderstaande kenmerken:

1.

maximale stuwkracht groter dan 400 N (in niet-geïnstalleerde toestand) met uitzondering van voor civiele toepassingen gecertificeerde motoren met een maximale stuwkracht groter dan 8 890 N (in niet-geïnstalleerde toestand), en

| 2. | specifiek brandstofverbruik 0,15 kg/N/hr of minder (bij maximaal continu vermogen onder statische standaardomstandigheden op zeeniveau), of |
| --- | --- |

2.

specifiek brandstofverbruik 0,15 kg/N/hr of minder (bij maximaal continu vermogen onder statische standaardomstandigheden op zeeniveau), of

| b. | motoren die zijn ontworpen of aangepast voor gebruik in "raketten". |
| --- | --- |

b.

motoren die zijn ontworpen of aangepast voor gebruik in "raketten".

9A104Sonderingsraketten met een bereik van minstens 300 km.

NB: ZIE OOK 9A004

9A105Raketmotoren voor vloeibare stuwstof, als hieronder:

NB: ZIE OOK 9A119

| a. | raketmotoren voor vloeibare stuwstof, geschikt voor gebruik in "raketten", anders dan bedoeld in 9A005, met een totaal impulsvermogen gelijk aan of groter dan 1,1 MNs; |
| --- | --- |

a.

raketmotoren voor vloeibare stuwstof, geschikt voor gebruik in "raketten", anders dan bedoeld in 9A005, met een totaal impulsvermogen gelijk aan of groter dan 1,1 MNs;

| b. | raketmotoren voor vloeibare stuwstof, geschikt voor gebruik in complete raketsystemen of onbemande luchtvaartuigen met een bereik van minstens 300 km, anders dan bedoeld in 9A005 of 9A105.a, met een totaal impulsvermogen gelijk aan of groter dan 0,841 MNs. |
| --- | --- |

b.

raketmotoren voor vloeibare stuwstof, geschikt voor gebruik in complete raketsystemen of onbemande luchtvaartuigen met een bereik van minstens 300 km, anders dan bedoeld in 9A005 of 9A105.a, met een totaal impulsvermogen gelijk aan of groter dan 0,841 MNs.

9A106Systemen of onderdelen, anders dan bedoeld in 9A006, geschikt voor gebruik in "raketten", als hieronder, speciaal ontworpen voor raketvoortstuwingssystemen met vloeibare stuwstof:

| a. | ablatieve bekledingen voor voortstuwings- of verbrandingskamers; |
| --- | --- |

a.

ablatieve bekledingen voor voortstuwings- of verbrandingskamers;

| b. | straalpijpen voor raketten; |
| --- | --- |

b.

straalpijpen voor raketten;

| c. | subsystemen voor het regelen van de stuwstraalrichting;
  Technische noot:

  Voorbeelden van methoden om de stuwstraalrichting te regelen zoals bedoeld in 9A106.c, zijn:








  1. | buigzame straalpijp; |
| --- | --- | --- |

c.

subsystemen voor het regelen van de stuwstraalrichting;

Technische noot:

Voorbeelden van methoden om de stuwstraalrichting te regelen zoals bedoeld in 9A106.c, zijn:

1.

buigzame straalpijp;

| 2. | vloeistof- of secundaire gasinjectie; |
| --- | --- |

2.

vloeistof- of secundaire gasinjectie;

| 3. | beweegbare motoren of straalpijpen; |
| --- | --- |

3.

beweegbare motoren of straalpijpen;

| 4. | afbuiging van de uitlaatgasstroom door vinnen of kleppen, of |
| --- | --- |

4.

afbuiging van de uitlaatgasstroom door vinnen of kleppen, of

| 5. | het gebruik van stuwstelvlakken. |
| --- | --- |

5.

het gebruik van stuwstelvlakken.

| d. | regelsystemen voor vloeibare en «slurry»-stuwstof (met inbegrip van oxidatiemiddelen), en speciaal daarvoor ontwikkelde onderdelen, die ontworpen of aangepast zijn om te kunnen werken in trillingsomstandigheden van meer dan 10 g rms tussen 20 Hz en 2k Hz.


  Noot: De enige servokleppen en pompen bedoeld in 9A106.d zijn:








  a. | servokleppen, ontworpen voor doorstroomsnelheden gelijk aan of groter dan 24 liter per minuut, bij een absolute druk gelijk aan of groter dan 7 MPa, en met een responstijd van minder dan 100 ms; |
| --- | --- | --- |

d.

regelsystemen voor vloeibare en «slurry»-stuwstof (met inbegrip van oxidatiemiddelen), en speciaal daarvoor ontwikkelde onderdelen, die ontworpen of aangepast zijn om te kunnen werken in trillingsomstandigheden van meer dan 10 g rms tussen 20 Hz en 2k Hz.

Noot: De enige servokleppen en pompen bedoeld in 9A106.d zijn:

a.

servokleppen, ontworpen voor doorstroomsnelheden gelijk aan of groter dan 24 liter per minuut, bij een absolute druk gelijk aan of groter dan 7 MPa, en met een responstijd van minder dan 100 ms;

| b. | pompen, voor vloeibare stuwstoffen, met assnelheden van 8 000 toeren per minuut of meer, of met uitgangsdrukken gelijk aan of groter dan 7 MPa. |
| --- | --- |

b.

pompen, voor vloeibare stuwstoffen, met assnelheden van 8 000 toeren per minuut of meer, of met uitgangsdrukken gelijk aan of groter dan 7 MPa.

9A107Raketmotoren voor vaste stuwstof, geschikt voor gebruik in complete raketsystemen of onbemande luchtvaartuigen met een bereik van 300 km, anders dan bedoeld in 9A007, met een totaal impulsvermogen gelijk aan of groter dan 0,841 MNs.

NB: ZIE OOK 9A119

9A108Onderdelen, anders dan bedoeld in 9A008, geschikt voor gebruik in "raketten", als hieronder, speciaal ontworpen voor raketvoortstuwingssystemen met vaste stuwstof:

| a. | raketmotoromhullingen en "isolatie"-onderdelen daarvoor; |
| --- | --- |

a.

raketmotoromhullingen en "isolatie"-onderdelen daarvoor;

| b. | straalpijpen voor raketten; |
| --- | --- |

b.

straalpijpen voor raketten;

| c. | subsystemen voor het regelen van de stuwstraalrichting.
  Technische noot:

  Voorbeelden van methoden om de stuwstraalrichting te regelen zoals bedoeld in 9A108.c, zijn:








  1. | buigzame straalpijp; |
| --- | --- | --- |

c.

subsystemen voor het regelen van de stuwstraalrichting.

Technische noot:

Voorbeelden van methoden om de stuwstraalrichting te regelen zoals bedoeld in 9A108.c, zijn:

1.

buigzame straalpijp;

| 2. | vloeistof- of secundaire gasinjectie; |
| --- | --- |

2.

vloeistof- of secundaire gasinjectie;

| 3. | beweegbare motoren of straalpijpen; |
| --- | --- |

3.

beweegbare motoren of straalpijpen;

| 4. | afbuiging van de uitlaatgasstroom door vinnen of kleppen, of |
| --- | --- |

4.

afbuiging van de uitlaatgasstroom door vinnen of kleppen, of

| 5. | het gebruik van stuwstelvlakken. |
| --- | --- |

5.

het gebruik van stuwstelvlakken.

9A109Hybride raketmotoren, geschikt voor gebruik in "raketten", anders dan bedoeld in 9A009, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen.

NB: ZIE OOK 9A119

Technische noot:

In 9A109 wordt onder "raketten" verstaan complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen die een afstand van meer dan 300 km kunnen overbruggen.

9A110Composiete structuren, laminaten en daarvan vervaardigde producten, anders dan bedoeld in 9A010, speciaal bestemd voor gebruik in ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104, of subsystemen, bedoeld in 9A005, 9A007, 9A105.a, 9A106 t/m 9A108, 9A116 of 9A119.

NB: ZIE OOK 1A002

9A111Pulserende straalmotoren, geschikt voor gebruik in "raketten" en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor.

NB: ZIE OOK 9A011 en 9A118

9A115Lanceerinrichtingen, als hieronder:

| a. | apparatuur en toestellen voor het hanteren, regelen, ontsteken of lanceren, ontworpen of aangepast voor ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004, onbemande luchtvaartuigen bedoeld in 9A012 of sonderingsraketten bedoeld in 9A104; |
| --- | --- |

a.

apparatuur en toestellen voor het hanteren, regelen, ontsteken of lanceren, ontworpen of aangepast voor ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004, onbemande luchtvaartuigen bedoeld in 9A012 of sonderingsraketten bedoeld in 9A104;

| b. | voertuigen voor het transporteren, hanteren, regelen, ontsteken of lanceren, ontworpen of aangepast voor ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten bedoeld in 9A104. |
| --- | --- |

b.

voertuigen voor het transporteren, hanteren, regelen, ontsteken of lanceren, ontworpen of aangepast voor ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten bedoeld in 9A104.

9A116Terugkeervoertuigen, geschikt voor gebruik in "raketten", en apparatuur, speciaal ontworpen of aangepast daarvoor, als hieronder:

| a. | terugkeervoertuigen; |
| --- | --- |

a.

terugkeervoertuigen;

| b. | hitteschilden en onderdelen daarvan, gemaakt van keramische of ablatieve materialen; |
| --- | --- |

b.

hitteschilden en onderdelen daarvan, gemaakt van keramische of ablatieve materialen;

| c. | koelelementen en onderdelen daarvan, gemaakt van lichtgewichtmaterialen met een hoge warmtecapaciteit; |
| --- | --- |

c.

koelelementen en onderdelen daarvan, gemaakt van lichtgewichtmaterialen met een hoge warmtecapaciteit;

| d. | elektronische apparatuur, speciaal ontworpen voor terugkeervoertuigen. |
| --- | --- |

d.

elektronische apparatuur, speciaal ontworpen voor terugkeervoertuigen.

9A117Systemen voor het scheiden of afwerpen van rakettrappen en verbindingsstukken tussen rakettrappen, geschikt voor gebruik in "raketten".

9A118Apparaten voor het regelen van de verbranding van stuwstof voor motoren, geschikt voor gebruik in "raketten" zoals bedoeld in 9A011 of 9A111.

9A119Afzonderlijke rakettrappen, geschikt voor gebruik in raketten, anders dan bedoeld in 9A005, 9A007, 9A009, 9A105, 9A107 en 9A109.

9A120Tanks voor vloeibare stuwstof, anders dan vermeld onder 9A006, speciaal ontworpen voor de onder 1C111 vermelde stuwstoffen of "andere vloeibare stuwstoffen" die worden gebruikt in raketsystemen die een nuttige last van ten minste 500 kg kunnen vervoeren over een afstand van ten minste 300 km.

Noot: Onder "andere vloeibare stuwstoffen" in 9A120 zijn onder meer de stuwstoffen begrepen die zijn vermeld in de Lijst Militaire Goederen.

9A350Spuit- of vernevelsystemen, speciaal ontworpen of aangepast voor bevestiging aan vliegtuigen, "lichter-dan-luchttoestellen" of onbemande luchtvaartuigen, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:

| a. | complete spuit- of vernevelsystemen die, vertrekkend van een vloeibare suspensie, initiële druppels met een ‧VMD‧ van minder dan 50 μm bij een doorstroomsnelheid van meer dan twee liter per minuut kunnen voortbrengen; |
| --- | --- |

a.

complete spuit- of vernevelsystemen die, vertrekkend van een vloeibare suspensie, initiële druppels met een ‧VMD‧ van minder dan 50 μm bij een doorstroomsnelheid van meer dan twee liter per minuut kunnen voortbrengen;

| b. | spuitbomen of reeksen aërosolproducerende eenheden die, vertrekkend van een vloeibare suspensie, initiële druppels met een ‧VMD‧ van minder dan 50 μm bij een doorstroomsnelheid van meer dan twee liter per minuut kunnen voortbrengen; |
| --- | --- |

b.

spuitbomen of reeksen aërosolproducerende eenheden die, vertrekkend van een vloeibare suspensie, initiële druppels met een ‧VMD‧ van minder dan 50 μm bij een doorstroomsnelheid van meer dan twee liter per minuut kunnen voortbrengen;

| c. | aërosolproducerende eenheden speciaal ontworpen om te worden bevestigd aan systemen bedoeld in 9A350.a. en 9A350.b. |
| --- | --- |

c.

aërosolproducerende eenheden speciaal ontworpen om te worden bevestigd aan systemen bedoeld in 9A350.a. en 9A350.b.

Noot 1: Aërosolproducerende eenheden zijn voorzieningen die speciaal zijn ontworpen of aangepast om aan vliegtuigen te worden bevestigd, zoals spuitdoppen, verstuivers met roterende trommel en soortgelijke voorzieningen.

Noot 2: 9A350 is niet van toepassing op spuit- of vernevelsystemen en onderdelen daarvan waarvan is aangetoond dat ze geen biologische agentia in de vorm van infectieuze aërosolen kunnen voortbrengen.

Technische noten:

| 1. | De druppelgrootte voor spuitsystemen of spuitdoppen speciaal ontworpen voor gebruik op vliegtuigen, "lichter-dan-luchttoestellen" of onbemande luchtvaartuigen moet worden gemeten met een van de volgende methoden:








  a. | doppler-lasermethode; |
| --- | --- | --- |

1.

De druppelgrootte voor spuitsystemen of spuitdoppen speciaal ontworpen voor gebruik op vliegtuigen, "lichter-dan-luchttoestellen" of onbemande luchtvaartuigen moet worden gemeten met een van de volgende methoden:

a.

doppler-lasermethode;

| b. | voorwaartse-laserdiffractiemethode. |
| --- | --- |

b.

voorwaartse-laserdiffractiemethode.

| 2. | In 9A350 wordt onder ‧VMD‧ verstaan «Volume Median Diameter» (volume mediane diameter); voor op water gebaseerde systemen is deze gelijk aan de «Mass Median Diameter» ("MDD") (massa mediane diameter). |
| --- | --- |

2.

In 9A350 wordt onder ‧VMD‧ verstaan «Volume Median Diameter» (volume mediane diameter); voor op water gebaseerde systemen is deze gelijk aan de «Mass Median Diameter» ("MDD") (massa mediane diameter).

9BTest-, inspectie- en productieapparatuur

9B001Uitrusting, gereedschappen en klemmen, speciaal ontworpen voor het vervaardigen van gasturbinebladen of -schoepen of gegoten schoepuiteindeversterkingen, als hieronder:

| a. | uitrusting voor het gieten met gericht stollen of het gieten in eenkristalvorm; |
| --- | --- |

a.

uitrusting voor het gieten met gericht stollen of het gieten in eenkristalvorm;

| b. | keramische kernen en mantels. |
| --- | --- |

b.

keramische kernen en mantels.

9B002Gekoppelde (onvertraagde («real time»)) regelsystemen, instrumentatie (met inbegrip van sensoren) of geautomatiseerde apparatuur voor het verzamelen en verwerken van gegevens, speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" van gasturbinemotoren, samenstellingen of onderdelen welke technologieën bevatten die zijn bedoeld in 9E003.a.

9B003Apparatuur speciaal ontworpen voor de "productie" of het testen van gasturbineborstelafsluitingen ontworpen om te werken bij een vleugeltipsnelheid groter dan 335 m/s en temperaturen boven 773 K (500 oC), en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen of toebehoren.

9B004Gereedschappen, stempels of klemmen voor het maken van vaste-fase-verbindingen van bladen waarbij het aërodynamische vlak doorloopt tot aan de schijf voor gasturbines, uit "superlegeringen", titaan of intermetallieke materialen, als omschreven in 9E003.a.3. of 9E003.a.6.

9B005Gekoppelde (onvertraagde («real time»)) regelsystemen, instrumentatie (met inbegrip van sensoren) en geautomatiseerde apparatuur voor het verzamelen en verwerken van gegevens, speciaal ontworpen voor gebruik met onderstaande windtunnels en toestellen:

NB: ZIE OOK 9B105

| a. | windtunnels, ontworpen voor snelheden van Mach 1,2 of meer, met uitzondering van windtunnels die speciaal zijn ontworpen voor onderwijsdoeleinden, met een ‧grootte van het meetgedeelte‧ (dwarsgemeten) kleiner dan 250 mm;
  Technische noot:

  Onder ‧grootte van het meetgedeelte‧ wordt in 9B005.a, al naar gelang van de vorm, verstaan de diameter van een cirkel, de zijde van een vierkant of de langste zijde van een rechthoek, gemeten waar het meetgedeelte het breedst is. |
| --- | --- |

a.

windtunnels, ontworpen voor snelheden van Mach 1,2 of meer, met uitzondering van windtunnels die speciaal zijn ontworpen voor onderwijsdoeleinden, met een ‧grootte van het meetgedeelte‧ (dwarsgemeten) kleiner dan 250 mm;

Technische noot:

Onder ‧grootte van het meetgedeelte‧ wordt in 9B005.a, al naar gelang van de vorm, verstaan de diameter van een cirkel, de zijde van een vierkant of de langste zijde van een rechthoek, gemeten waar het meetgedeelte het breedst is.

| b. | toestellen voor het nabootsen van omstandigheden welke optreden bij stromingssnelheden van meer dan Mach 5, met inbegrip van «hot shot-tunnels», plasmaboogtunnels, schokbuizen, schoktunnels, gastunnels en gaskanonnen; of |
| --- | --- |

b.

toestellen voor het nabootsen van omstandigheden welke optreden bij stromingssnelheden van meer dan Mach 5, met inbegrip van «hot shot-tunnels», plasmaboogtunnels, schokbuizen, schoktunnels, gastunnels en gaskanonnen; of

| c. | windtunnels en inrichtingen, niet zijnde tweedimensionale secties, die stromingen kunnen nabootsen met een Reynolds-getal hoger dan 25 × 106. |
| --- | --- |

c.

windtunnels en inrichtingen, niet zijnde tweedimensionale secties, die stromingen kunnen nabootsen met een Reynolds-getal hoger dan 25 × 106.

9B006Apparatuur voor het testen door middel van akoestische trillingen, geschikt voor het voortbrengen van een geluidsdrukniveau van 160 dB of meer (referentiestandaard: 20 μPa) met een gespecificeerd uitgangsvermogen van 4 kW of meer bij een temperatuur van de testruimte hoger dan 1 273 K (1 000 oC), en speciaal daarvoor ontworpen kwartsverwarmingselementen.

NB: ZIE OOK 9B106

9B007Apparatuur, speciaal ontworpen voor het inspecteren van raketmotoren op de afwezigheid van defecten met gebruikmaking van technieken die het materiaal niet beschadigen (NDT-technieken), anders dan analyse door middel van röntgenstraling in een vlak of elementaire fysische of chemische analyse.

9B008Omzetters, speciaal ontworpen voor het direct meten van de oppervlaktewrijving van de teststroming bij een stagnatietemperatuur van meer dan 833 K (560 oC).

9B009Gereedschappen, speciaal ontworpen voor de "productie", door middel van poedermetallurgie, van rotoronderdelen voor turbinemotoren, geschikt om te werken bij een druk gelijk aan of hoger dan 60 % van de breukspanning en bij een metaaltemperatuur van 873 K (600 oC) of hoger.

9B010Apparatuur, speciaal ontworpen voor de productie van onbemande luchtvaartuigen en aanverwante systemen, apparatuur en onderdelen vermeld onder 9A012.

9B105Windtunnels voor snelheden van Mach 0,9 of meer, geschikt voor "raketten" en subsystemen daarvan.

NB: ZIE OOK 9B005

9B106Klimaatkamers en echovrije kamers, als hieronder:

| a. | klimaatkamers, geschikt om de volgende vliegomstandigheden te simuleren:






  1. | een trildruk gelijk aan of groter dan 10 g rms, met ’onbelaste tafel’ gemeten, bij frequenties tussen 20 Hz en 2 kHz en bij een stootkracht groter of gelijk aan 5 kN; en |
| --- | --- | --- |

a.

klimaatkamers, geschikt om de volgende vliegomstandigheden te simuleren:

1.

een trildruk gelijk aan of groter dan 10 g rms, met ’onbelaste tafel’ gemeten, bij frequenties tussen 20 Hz en 2 kHz en bij een stootkracht groter of gelijk aan 5 kN; en

| 2. | een vlieghoogte gelijk aan of groter dan 15 km; of |
| --- | --- |

2.

een vlieghoogte gelijk aan of groter dan 15 km; of

| 3. | een temperatuurbereik van minimaal 223 K (– 50 °C) tot boven 398 K (+ 125 °C);
  Technische noten:







  1. | 9B106.a beschrijft systemen die trillingsomstandigheden met één enkele golf (bv. een sinusgolf) kunnen genereren en systemen die een breedbandtoevalstrilling (bv. een vermogensspectrum) kunnen genereren. |
| --- | --- | --- |

3.

een temperatuurbereik van minimaal 223 K (– 50 °C) tot boven 398 K (+ 125 °C);

Technische noten:

1.

9B106.a beschrijft systemen die trillingsomstandigheden met één enkele golf (bv. een sinusgolf) kunnen genereren en systemen die een breedbandtoevalstrilling (bv. een vermogensspectrum) kunnen genereren.

| 2. | In 9B106.a.1 betekent ‧onbelaste tafel‧ een vlakke tafel, of een vlak oppervlak, zonder klemmen of hulpstukken. |
| --- | --- |

2.

In 9B106.a.1 betekent ‧onbelaste tafel‧ een vlakke tafel, of een vlak oppervlak, zonder klemmen of hulpstukken.

| b. | klimaatkamers, geschikt om de volgende vliegomstandigheden te simuleren:






  1. | een akoestische test met een algeheel geluidsdrukniveau van 140 dB of meer (referentie: 20 μPa), of die een totaal opgegeven akoestisch vermogen van 4 kW of meer bezit; en |
| --- | --- | --- |

b.

klimaatkamers, geschikt om de volgende vliegomstandigheden te simuleren:

1.

een akoestische test met een algeheel geluidsdrukniveau van 140 dB of meer (referentie: 20 μPa), of die een totaal opgegeven akoestisch vermogen van 4 kW of meer bezit; en

| 2. | een vlieghoogte gelijk aan of groter dan 15 km; of |
| --- | --- |

2.

een vlieghoogte gelijk aan of groter dan 15 km; of

| 3. | een temperatuurbereik van minimaal 223 K (– 50 °C) tot boven 398 K (+ 125 oC). |
| --- | --- |

3.

een temperatuurbereik van minimaal 223 K (– 50 °C) tot boven 398 K (+ 125 oC).

9B115Speciaal ontworpen "productie-apparatuur" voor de systemen, subsystemen en onderdelen in 9A005 t/m 9A009, 9A011, 9A101, 9A105 t/m 9A109, 9A111 of 9A116 t/m 9A119.

9B116Speciaal ontworpen "productiefaciliteiten" voor de ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of systemen, subsystemen en onderdelen, bedoeld in 9A005 t/m 9A009, 9A011, 9A101, 9A104 t/m 9A109, 9A111 of 9A116 t/m 9A119.

9B117Testbanken en testopstellingen voor het testen van raketten of raketmotoren met vaste of vloeibare stuwstof:

| a. | met meer dan 90 kN stuwvermogen; of |
| --- | --- |

a.

met meer dan 90 kN stuwvermogen; of

| b. | met de mogelijkheid gelijktijdig de drie axiale stuwstraalvectoren te meten. |
| --- | --- |

b.

met de mogelijkheid gelijktijdig de drie axiale stuwstraalvectoren te meten.

9CMaterialen

9C108Los "isolatie"-materiaal en "binnenbekleding", anders dan vermeld onder 9A008, voor raketmotoromhullingen die geschikt zijn voor gebruik in "raketten" of speciaal zijn ontworpen voor "raketten".

Technische noot:

In 9A109 wordt onder "raketten" verstaan complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen die een afstand van meer dan 300 km kunnen overbruggen.

9C110Met hars geïmpregneerde vezels («prepregs») en met metaal beklede vezels («preforms») daarvoor, voor composiete structuren, laminaten en daarvan vervaardigde producten als bedoeld in 9A110, met een organische of metaalmatrix versterkt met stapel- of continuvezels met een "specifieke treksterkte" van meer dan 7,62 × 104 m en een "specifieke modulus" van meer dan 3,18 × 106 m.

NB: ZIE OOK 1C010 EN 1C210

Noot: De enige met hars geïmpregneerde vezels («prepregs») bedoeld in 9C110 zijn die welke harsen gebruiken met een glastemperatuur (Tg), na uitharden, van meer dan 418 K (145 oC) zoals bepaald met ASTM D 4065 of een gelijkwaardige methode.

9DProgrammatuur

9D001"Programmatuur" die speciaal ontworpen of gewijzigd is voor de "ontwikkeling" van apparatuur of "technologie", bedoeld in 9A001 t/m 9A119, 9B of 9E003.

9D002"Programmatuur" die speciaal ontworpen of gewijzigd is voor de "productie" van apparatuur, bedoeld in 9A001 t/m 9A119 of 9B.

9D003"Programmatuur" die noodzakelijk is voor het "gebruik" van "digitale elektronische motorregelapparatuur welke volledig zelfstandig in de motorregeling kan ingrijpen" ("FADEC"), voor voortstuwingssystemen, bedoeld in 9A, of apparatuur, bedoeld in 9B, als hieronder:

| a. | "programmatuur" in digitale elektronische regelapparatuur voor voortstuwingssystemen, testvoorzieningen voor lucht- en ruimtevaart of testvoorzieningen voor vliegtuigmotoren welke lucht aanzuigen; |
| --- | --- |

a.

"programmatuur" in digitale elektronische regelapparatuur voor voortstuwingssystemen, testvoorzieningen voor lucht- en ruimtevaart of testvoorzieningen voor vliegtuigmotoren welke lucht aanzuigen;

| b. | foutbestendige "programmatuur", gebruikt in "FADEC"-systemen voor voortstuwingssystemen en daarbij behorende testvoorzieningen. |
| --- | --- |

b.

foutbestendige "programmatuur", gebruikt in "FADEC"-systemen voor voortstuwingssystemen en daarbij behorende testvoorzieningen.

9D004Overige "programmatuur", als hieronder:

| a. | twee- of driedimensionale viskeuze («viscous») "programmatuur" die is gevalideerd met windtunnel of vluchttestgegevens die noodzakelijk zijn voor het nauwkeurig modelleren van de gasstroming in de motor; |
| --- | --- |

a.

twee- of driedimensionale viskeuze («viscous») "programmatuur" die is gevalideerd met windtunnel of vluchttestgegevens die noodzakelijk zijn voor het nauwkeurig modelleren van de gasstroming in de motor;

| b. | "programmatuur" voor het testen van gasturbinemotoren voor vliegtuigen en samenstellingen of onderdelen daarvan, speciaal ontworpen voor het onvertraagd («real time») vergaren, bewerken en analyseren van gegevens en geschikt voor een teruggekoppelde regeling, met inbegrip van het dynamisch aanpassen van te testen producten of de testomstandigheden tijdens het testen; |
| --- | --- |

b.

"programmatuur" voor het testen van gasturbinemotoren voor vliegtuigen en samenstellingen of onderdelen daarvan, speciaal ontworpen voor het onvertraagd («real time») vergaren, bewerken en analyseren van gegevens en geschikt voor een teruggekoppelde regeling, met inbegrip van het dynamisch aanpassen van te testen producten of de testomstandigheden tijdens het testen;

| c. | "programmatuur", speciaal ontworpen voor de besturing van het gieten met gericht stollen of éénkristalgieten; |
| --- | --- |

c.

"programmatuur", speciaal ontworpen voor de besturing van het gieten met gericht stollen of éénkristalgieten;

| d. | "programmatuur" in "broncode", "objectcode" of machinetaal die noodzakelijk is voor het "gebruik" van actieve compensatiesystemen voor de regeling van de rotorbladtipspeling;


  Noot: Niet bedoeld wordt in 9D004 "programmatuur" die is ingebouwd in niet onder embargo vallende apparatuur of die noodzakelijk is voor onderhoudswerkzaamheden in verband met ijking, reparatie of modernisering van het actief compenserende spelingsregelsysteem. |
| --- | --- |

d.

"programmatuur" in "broncode", "objectcode" of machinetaal die noodzakelijk is voor het "gebruik" van actieve compensatiesystemen voor de regeling van de rotorbladtipspeling;

Noot: Niet bedoeld wordt in 9D004 "programmatuur" die is ingebouwd in niet onder embargo vallende apparatuur of die noodzakelijk is voor onderhoudswerkzaamheden in verband met ijking, reparatie of modernisering van het actief compenserende spelingsregelsysteem.

| e. | "programmatuur", speciaal ontworpen of gewijzigd voor het "gebruik" van "onbemande luchtvaartuigen" en aanverwante systemen, apparatuur en onderdelen vermeld onder 9A012. |
| --- | --- |

e.

"programmatuur", speciaal ontworpen of gewijzigd voor het "gebruik" van "onbemande luchtvaartuigen" en aanverwante systemen, apparatuur en onderdelen vermeld onder 9A012.

9D101Speciaal ontworpen of aangepaste "programmatuur" voor het "gebruik" van goederen, bedoeld in 9B105, 9B106, 9B116 of 9B117.

9D103Speciaal ontworpen "programmatuur" voor het modelleren, het simuleren of de ontwerpintegratie van de ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104, of de subsystemen, bedoeld in 9A005, 9A007, 9A105.a, 9A106, 9A108, 9A116 of 9A119.

Noot:"Programmatuur", bedoeld in 9D103, blijft bedoeld, ook wanneer deze wordt gecombineerd met speciaal ontworpen apparatuur, bedoeld in 4A102.

9D104Speciaal ontworpen of aangepaste "programmatuur" voor het "gebruik" van goederen, bedoeld in 9A001, 9A005, 9A006.d, 9A006.g, 9A007.a, 9A008.d, 9A009.a, 9A010.d, 9A011, 9A101, 9A105, 9A106.c, 9A106.d, 9A107, 9A108.c, 9A109, 9A111, 9A115.a, 9A116.d, 9A117 en 9A118.

9D105"Programmatuur" die de functies van meer dan één subsysteem coördineert en die speciaal is ontworpen of aangepast voor het "gebruik" in ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104.

9ETechnologie

Noot:"Technologie" voor "ontwikkeling" of "productie" als bedoeld in 9E001 t/m 9E003 voor gasturbinemotoren blijft bedoeld ook wanneer deze wordt gebruikt als "gebruiks-" technologie ten behoeve van reparatie, aanbrengen van nieuwe onderdelen en revisie. Niet bedoeld zijn technische gegevens, tekeningen of documentatie voor onderhoudswerkzaamheden die direct verband houden met ijking, het verwijderen of vervangen van beschadigde of onbruikbare, uit het assortiment vervangbare, eenheden, de vervanging van gehele motoren of motorelementen daaronder begrepen.

9E001"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" van apparatuur of "programmatuur", bedoeld in 9A001.c, 9A004 t/m 9A012, 9A350, 9B of 9D.

9E002"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "productie" van apparatuur bedoeld in 9A001.c, 9A004 t/m 9A011, 9A350 of 9B.

NB: Zie 1E002.f voor "technologie" voor de reparatie van in de lijst bedoelde constructies, laminaten of materialen.

9E003Overige "technologie", als hieronder:

| a. | "technologie" die "noodzakelijk" is voor de "ontwikkeling" of "productie" van de volgende gasturbinemotoronderdelen of -systemen:






  1. | gasturbinebladen of schoepen of schoepuiteindeversterkingen, gemaakt van door middel van gerichte stolling vervaardigde of monokristallijne legeringen met (in de 001 Miller Index Direction) een levensduur tot spanningsbreuk optreedt van meer dan 400 uur bij 1 273 K (1 000 °C) bij een spanning van 200 MPa, gebaseerd op de gemiddelde waarden van de eigenschap; |
| --- | --- | --- |

a.

"technologie" die "noodzakelijk" is voor de "ontwikkeling" of "productie" van de volgende gasturbinemotoronderdelen of -systemen:

1.

gasturbinebladen of schoepen of schoepuiteindeversterkingen, gemaakt van door middel van gerichte stolling vervaardigde of monokristallijne legeringen met (in de 001 Miller Index Direction) een levensduur tot spanningsbreuk optreedt van meer dan 400 uur bij 1 273 K (1 000 °C) bij een spanning van 200 MPa, gebaseerd op de gemiddelde waarden van de eigenschap;

| 2. | branders met meerdere koppen die werken bij een gemiddelde uitlaattemperatuur hoger dan 1 813 K (1 540 °C), of branders die thermisch ontkoppelde bekleding van de verbrandingskamer, niet-metallieke bekleding of niet-metallieke omhulsels bevatten; |
| --- | --- |

2.

branders met meerdere koppen die werken bij een gemiddelde uitlaattemperatuur hoger dan 1 813 K (1 540 °C), of branders die thermisch ontkoppelde bekleding van de verbrandingskamer, niet-metallieke bekleding of niet-metallieke omhulsels bevatten;

| 3. | onderdelen, vervaardigd van een of meer van de volgende materialen:






  a. | organische "composiete" materialen, ontworpen voor werktemperaturen hoger dan 588 K (315 °C); |
| --- | --- | --- |

3.

onderdelen, vervaardigd van een of meer van de volgende materialen:

a.

organische "composiete" materialen, ontworpen voor werktemperaturen hoger dan 588 K (315 °C);

| b. | metaal "matrix""composiete" materialen, keramische "matrix" materialen of intermetallische of met legeringen versterkte materialen, vermeld in 1C007; of |
| --- | --- |

b.

metaal "matrix""composiete" materialen, keramische "matrix" materialen of intermetallische of met legeringen versterkte materialen, vermeld in 1C007; of

| c. | "composiet" materiaal, bedoeld in 1C010 en vervaardigd met harsen, bedoeld in 1C008. |
| --- | --- |

c.

"composiet" materiaal, bedoeld in 1C010 en vervaardigd met harsen, bedoeld in 1C008.

| 4. | ongekoelde turbinebladen, -schoepen, schoepuiteindeversterkingen of andere onderdelen, ontworpen om te werken bij een gastrajecttemperatuur van 1 323 K (1 050 °C) of hoger; |
| --- | --- |

4.

ongekoelde turbinebladen, -schoepen, schoepuiteindeversterkingen of andere onderdelen, ontworpen om te werken bij een gastrajecttemperatuur van 1 323 K (1 050 °C) of hoger;

| 5. | gekoelde turbinebladen, -schoepen, schoepuiteindeversterkingen, anders dan bedoeld in 9E003.a.1, blootgesteld aan een gastrajecttemperatuur van 1 643 K (1 370 °C) of hoger; |
| --- | --- |

5.

gekoelde turbinebladen, -schoepen, schoepuiteindeversterkingen, anders dan bedoeld in 9E003.a.1, blootgesteld aan een gastrajecttemperatuur van 1 643 K (1 370 °C) of hoger;

| 6. | bladen waarbij het aërodynamische vlak doorloopt tot aan de schijf, gemaakt door middel van vaste faseverbinding; |
| --- | --- |

6.

bladen waarbij het aërodynamische vlak doorloopt tot aan de schijf, gemaakt door middel van vaste faseverbinding;

| 7. | gasturbinemotoronderdelen waarbij gebruik wordt gemaakt van "technologie" voor "diffusielassen", vermeld in 2E003.b; |
| --- | --- |

7.

gasturbinemotoronderdelen waarbij gebruik wordt gemaakt van "technologie" voor "diffusielassen", vermeld in 2E003.b;

| 8. | schadebestendige roterende onderdelen van gasturbinemotoren waarbij gebruik wordt gemaakt van poedermetallurgiemetalen, vermeld in 1C002.b; |
| --- | --- |

8.

schadebestendige roterende onderdelen van gasturbinemotoren waarbij gebruik wordt gemaakt van poedermetallurgiemetalen, vermeld in 1C002.b;

| 9. | "FADEC" voor gasturbinemotoren en motoren met gecombineerde thermodynamische cyclus en hun aanverwante diagnostische onderdelen, sensoren en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen; |
| --- | --- |

9.

"FADEC" voor gasturbinemotoren en motoren met gecombineerde thermodynamische cyclus en hun aanverwante diagnostische onderdelen, sensoren en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen;

| 10. | instelbare stromingstrajectgeometrie en daarmee verbonden regelsystemen voor:






  a. | gasgeneratorturbines; |
| --- | --- | --- |

10.

instelbare stromingstrajectgeometrie en daarmee verbonden regelsystemen voor:

a.

gasgeneratorturbines;

| b. | ventilator/vermogensturbines; |
| --- | --- |

b.

ventilator/vermogensturbines;

| c. | straalpijpmondstukken; |
| --- | --- |

c.

straalpijpmondstukken;

Noot 1: Instelbare stromingstrajectgeometrie en daarmee verbonden regelsystemen als bedoeld in 9E003.a.10 omvatten geen inlaatribben, verstelbare ventilatorbladen, verstelbare stators of aftapkleppen voor compressors.

Noot 2: Niet bedoeld wordt in 9E003.a.10 "ontwikkelings-" of "productie"-"technologie" voor instelbare stromingstrajectgeometrie voor tegengestelde stuwkracht.

| 11. | holle ventilatorbladen; |
| --- | --- |

11.

holle ventilatorbladen;

| b. | "technologie""noodzakelijk" voor de "ontwikkeling" of "productie" van:






  1. | vliegtuigmodellen voor windtunnels die zijn uitgerust met niet naar buiten uitstekende sensoren, die gegevens van de sensoren kunnen overbrengen naar het gegevensverzamelsysteem; of |
| --- | --- | --- |

b.

"technologie""noodzakelijk" voor de "ontwikkeling" of "productie" van:

1.

vliegtuigmodellen voor windtunnels die zijn uitgerust met niet naar buiten uitstekende sensoren, die gegevens van de sensoren kunnen overbrengen naar het gegevensverzamelsysteem; of

| 2. | "composiete" schroefbladen of propellers, geschikt voor het absorberen van meer dan 2 000 kW bij vluchtsnelheden hoger dan Mach 0,55; |
| --- | --- |

2.

"composiete" schroefbladen of propellers, geschikt voor het absorberen van meer dan 2 000 kW bij vluchtsnelheden hoger dan Mach 0,55;

| c. | "technologie""noodzakelijk" voor de "ontwikkeling" of "productie" van gasturbinemotoronderdelen met gebruikmaking van "laser"- , waterstraal- of ECM/EDM-procédés voor het boren van gaatjes met één of meer van de volgende reeksen kenmerken:






  1. | alle volgende kenmerken:






  a. | een diepte van meer dan viermaal de gatdiameter; |
| --- | --- | --- | --- |

c.

"technologie""noodzakelijk" voor de "ontwikkeling" of "productie" van gasturbinemotoronderdelen met gebruikmaking van "laser"- , waterstraal- of ECM/EDM-procédés voor het boren van gaatjes met één of meer van de volgende reeksen kenmerken:

1.

alle volgende kenmerken:

a.

een diepte van meer dan viermaal de gatdiameter;

| b. | een diameter van minder dan 0,76 mm; en |
| --- | --- |

b.

een diameter van minder dan 0,76 mm; en

| c. | een invalshoek gelijk aan of kleiner dan 25o, of |
| --- | --- |

c.

een invalshoek gelijk aan of kleiner dan 25o, of

| 2. | alle volgende kenmerken:






  a. | een diepte van meer dan vijfmaal de gatdiameter; |
| --- | --- | --- |

2.

alle volgende kenmerken:

a.

een diepte van meer dan vijfmaal de gatdiameter;

| b. | een diameter van minder dan 0,4 mm, en |
| --- | --- |

b.

een diameter van minder dan 0,4 mm, en

| c. | een invalshoek groter dan 25o; |
| --- | --- |

c.

een invalshoek groter dan 25o;

Technische noot:

Voor het doel van 9E003.c wordt de invalshoek gemeten aan een vlak dat het aërodynamische oppervlak raakt op het punt waar de gatas het aërodynamische oppervlak binnengaat.

| d. | "technologie""noodzakelijk" voor de "ontwikkeling" of de "productie" van krachtoverbrengingssystemen voor hefschroefvliegtuigen of krachtoverbrengingssystemen voor verticaal opstijgende "vliegtuigen" (met gekantelde rotor of vleugel); |
| --- | --- |

d.

"technologie""noodzakelijk" voor de "ontwikkeling" of de "productie" van krachtoverbrengingssystemen voor hefschroefvliegtuigen of krachtoverbrengingssystemen voor verticaal opstijgende "vliegtuigen" (met gekantelde rotor of vleugel);

| e. | "technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van voortstuwingssystemen voor grondvoertuigen op basis van dieselzuigermotoren met alle volgende kenmerken:






  1. | een inwendige ruimte van 1,2 m3 of minder; |
| --- | --- | --- |

e.

"technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van voortstuwingssystemen voor grondvoertuigen op basis van dieselzuigermotoren met alle volgende kenmerken:

1.

een inwendige ruimte van 1,2 m3 of minder;

| 2. | een totaal uitgaand vermogen van meer dan 750 kW gebaseerd op Richtlijn 80/1269/EEG, ISO 2534 of een nationaal equivalent daarvan; en |
| --- | --- |

2.

een totaal uitgaand vermogen van meer dan 750 kW gebaseerd op Richtlijn 80/1269/EEG, ISO 2534 of een nationaal equivalent daarvan; en

| 3. | een vermogensdichtheid van meer dan 700 kW/m3‧inwendige ruimte‧; |
| --- | --- |

3.

een vermogensdichtheid van meer dan 700 kW/m3‧inwendige ruimte‧;

Technische noot:

‧Inwendige ruimte‧ in 9E003.e is het product van drie loodrecht op elkaar staande afmetingen, als volgt gemeten:

| lengte | : | de lengte van de krukas van voorflens tot vliegwielvlak; |
| --- | --- | --- |
| breedte | : | de grootste van de volgende drie afmetingen:








  a. | de buitenmaat van klepdeksel tot klepdeksel; |

lengte

:

de lengte van de krukas van voorflens tot vliegwielvlak;

breedte

:

de grootste van de volgende drie afmetingen:

a.

de buitenmaat van klepdeksel tot klepdeksel;

| b. | de maat van de buitenranden van de cilinderkoppen; of |
| --- | --- |

b.

de maat van de buitenranden van de cilinderkoppen; of

| c. | de diameter van de vliegwielbehuizing; |
| --- | --- |

c.

de diameter van de vliegwielbehuizing;

hoogte

:

de grootste van de volgende twee maten:

| a. | de afstand van de middellijn van de krukas tot aan het bovenvlak van het klepdeksel (of cilinderkop) plus tweemaal de slaghoogte; of |
| --- | --- |

a.

de afstand van de middellijn van de krukas tot aan het bovenvlak van het klepdeksel (of cilinderkop) plus tweemaal de slaghoogte; of

| b. | de diameter van de vliegwielbehuizing; |
| --- | --- |

b.

de diameter van de vliegwielbehuizing;

| f. | "technologie""noodzakelijk" voor de "productie" van speciaal voor dieselmotoren met hoog vermogen ontworpen onderdelen, als hieronder:






  1. | "technologie""noodzakelijk" voor de "productie" van motorsystemen met alle volgende onderdelen, met gebruikmaking van in 1C007 vermelde keramische materialen:






  a. | cilinderwanden; |
| --- | --- | --- | --- |

f.

"technologie""noodzakelijk" voor de "productie" van speciaal voor dieselmotoren met hoog vermogen ontworpen onderdelen, als hieronder:

1.

"technologie""noodzakelijk" voor de "productie" van motorsystemen met alle volgende onderdelen, met gebruikmaking van in 1C007 vermelde keramische materialen:

a.

cilinderwanden;

| b. | zuigers; |
| --- | --- |

b.

zuigers;

| c. | cilinderkoppen; en |
| --- | --- |

c.

cilinderkoppen; en

| d. | één of meer andere onderdelen (met inbegrip van uitlaatpoorten, turbocompressors, klepgeleiding, klepsamenstellingen of geïsoleerde brandstofinjectiesystemen); |
| --- | --- |

d.

één of meer andere onderdelen (met inbegrip van uitlaatpoorten, turbocompressors, klepgeleiding, klepsamenstellingen of geïsoleerde brandstofinjectiesystemen);

| 2. | "technologie""noodzakelijk" voor de "productie" van turbocompressorsystemen, met eentrapscompressors met alle volgende kenmerken:






  a. | een werkdrukverhouding van 4:1 of hoger; |
| --- | --- | --- |

2.

"technologie""noodzakelijk" voor de "productie" van turbocompressorsystemen, met eentrapscompressors met alle volgende kenmerken:

a.

een werkdrukverhouding van 4:1 of hoger;

| b. | een massastroom van 30 tot 130 kg per minuut; en |
| --- | --- |

b.

een massastroom van 30 tot 130 kg per minuut; en

| c. | uitgerust met variabele doorstroomoppervlakte in de compressor of turbinesecties; |
| --- | --- |

c.

uitgerust met variabele doorstroomoppervlakte in de compressor of turbinesecties;

| 3. | "technologie""noodzakelijk" voor de "productie" van brandstofinjectiesystemen met speciaal ontworpen mogelijkheid om met verschillende brandstoffen te werken (bv. dieselolie of straalvliegtuigbrandstof) over een viscositeitsgebied van dieselolie (2,5 cSt bij 310,8 K (37,8 oC)) tot benzine (0,5 cSt bij 310,8 K (37,8 oC)), met alle volgende kenmerken:






  a. | inspuithoeveelheid meer dan 230 mm3 per inspuiting per cilinder; en |
| --- | --- | --- |

3.

"technologie""noodzakelijk" voor de "productie" van brandstofinjectiesystemen met speciaal ontworpen mogelijkheid om met verschillende brandstoffen te werken (bv. dieselolie of straalvliegtuigbrandstof) over een viscositeitsgebied van dieselolie (2,5 cSt bij 310,8 K (37,8 oC)) tot benzine (0,5 cSt bij 310,8 K (37,8 oC)), met alle volgende kenmerken:

a.

inspuithoeveelheid meer dan 230 mm3 per inspuiting per cilinder; en

| b. | met een speciaal ontworpen elektronische besturing voor het automatisch omschakelen van de regulateurspecificaties afhankelijk van de brandstofeigenschappen ter verkrijging van gelijke draaimomenteigenschappen, door middel van geschikte sensoren; |
| --- | --- |

b.

met een speciaal ontworpen elektronische besturing voor het automatisch omschakelen van de regulateurspecificaties afhankelijk van de brandstofeigenschappen ter verkrijging van gelijke draaimomenteigenschappen, door middel van geschikte sensoren;

| g. | "technologie""noodzakelijk" voor de "ontwikkeling" of "productie" van dieselmotoren met hoog vermogen voor vaste, gas- of vloeistoffilm-cilinderwandsmering (of combinaties daarvan), welke een werktemperatuur toelaat van meer dan 723 K (450 oC), gemeten op de cilinderwand aan het eind van de slag van de bovenste zuigerveer.
  Technische noot:

  Onder dieselmotoren met hoog vermogen worden verstaan dieselmotoren met een gemiddelde effectieve remdruk van 1,8 MPa of meer bij een snelheid van 2 300 omwentelingen per minuut, mits de gespecificeerde snelheid 2 300 omwentelingen per minuut is of meer. |
| --- | --- |

g.

"technologie""noodzakelijk" voor de "ontwikkeling" of "productie" van dieselmotoren met hoog vermogen voor vaste, gas- of vloeistoffilm-cilinderwandsmering (of combinaties daarvan), welke een werktemperatuur toelaat van meer dan 723 K (450 oC), gemeten op de cilinderwand aan het eind van de slag van de bovenste zuigerveer.

Technische noot:

Onder dieselmotoren met hoog vermogen worden verstaan dieselmotoren met een gemiddelde effectieve remdruk van 1,8 MPa of meer bij een snelheid van 2 300 omwentelingen per minuut, mits de gespecificeerde snelheid 2 300 omwentelingen per minuut is of meer.

9E101"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" of "productie" van goederen bedoeld in 9A101, 9A104 t/m 9A111 of 9A115 t/m 9A119.

9E102"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor het "gebruik" van ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of goederen, bedoeld in 9A005 t/m 9A011, 9A101, 9A104 t/m 9A111, 9A115 t/m 9A119, 9B105, 9B106, 9B115, 9B116, 9B117, 9D101 of 9D103.

BIJLAGE II

COMMUNAUTAIRE ALGEMENE UITVOERVERGUNNING Nr. EU001

(bedoeld in artikel 6 van Verordening (EG) nr. 1334/2000)

Afgevende instantie: Europese Gemeenschap

Deel 1

Deze exportvergunning geldt voor de volgende goederen:

Alle goederen voor tweeërlei gebruik die zijn vermeld onder een post van bijlage I bij deze verordening, met uitzondering van de in deel 2 genoemde.

Deel 2

| — | | Alle in bijlage IV genoemde goederen |
| --- | --- | --- |
| — | 0C001 | "Natuurlijk uraan" of "verarmd uraan" of thorium in de vorm van metaal, legering, chemische verbinding of concentraat en elk materiaal dat een of meer van de voorgaande stoffen bevat. |
| — | 0C002 | "Speciale splijtstoffen" andere dan die welke in bijlage IV zijn vermeld. |
| — | 0D001 | "Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van goederen bedoeld in categorie 0, voorzover betrekking hebbend op rubriek 0C001 of goederen van rubriek 0C002 die niet zijn opgenomen in bijlage IV. |
| — | 0E001 | "Technologie" overeenkomstig de nucleaire technologienoot voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van in categorie 0 bedoelde goederen, voorzover betrekking hebbend op rubriek 0C001 of op goederen van rubriek 0C002 die niet zijn opgenomen in bijlage IV. |
| — | 1A102 | Opnieuw verzadigde, door pyrolyse verkregen koolstof-koolstof-componenten bestemd voor ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104. |
| — | 1C351 | Humane pathogenen, zoönosen en "toxinen". |
| — | 1C352 | Dierpathogenen. |
| — | 1C353 | Genetische elementen en genetisch gemodificeerde "micro-organismen". |
| — | 1C354 | Plantpathogenen. |
| — | 7E104 | "Technologie" voor het integreren van vluchtregel-, navigatie- en voortstuwingsregelgegevens in een vluchtbeheerssysteem om de baan van raketten te optimaliseren. |
| — | 9A009.a. | Hybride raketvoortstuwingssystemen met een totaal impulsvermogen groter dan 1,1 MNs. |
| — | 9A117 | Systemen voor het scheiden of afwerpen van rakettrappen en verbindingsstukken tussen rakettrappen, geschikt voor gebruik in "raketten". |

—

Alle in bijlage IV genoemde goederen

—

0C001

"Natuurlijk uraan" of "verarmd uraan" of thorium in de vorm van metaal, legering, chemische verbinding of concentraat en elk materiaal dat een of meer van de voorgaande stoffen bevat.

—

0C002

"Speciale splijtstoffen" andere dan die welke in bijlage IV zijn vermeld.

—

0D001

"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van goederen bedoeld in categorie 0, voorzover betrekking hebbend op rubriek 0C001 of goederen van rubriek 0C002 die niet zijn opgenomen in bijlage IV.

—

0E001

"Technologie" overeenkomstig de nucleaire technologienoot voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van in categorie 0 bedoelde goederen, voorzover betrekking hebbend op rubriek 0C001 of op goederen van rubriek 0C002 die niet zijn opgenomen in bijlage IV.

—

1A102

Opnieuw verzadigde, door pyrolyse verkregen koolstof-koolstof-componenten bestemd voor ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104.

—

1C351

Humane pathogenen, zoönosen en "toxinen".

—

1C352

Dierpathogenen.

—

1C353

Genetische elementen en genetisch gemodificeerde "micro-organismen".

—

1C354

Plantpathogenen.

—

7E104

"Technologie" voor het integreren van vluchtregel-, navigatie- en voortstuwingsregelgegevens in een vluchtbeheerssysteem om de baan van raketten te optimaliseren.

—

9A009.a.

Hybride raketvoortstuwingssystemen met een totaal impulsvermogen groter dan 1,1 MNs.

—

9A117

Systemen voor het scheiden of afwerpen van rakettrappen en verbindingsstukken tussen rakettrappen, geschikt voor gebruik in "raketten".

Deel 3

Deze exportvergunning geldt in de gehele Gemeenschap voor export naar onderstaande bestemmingen:

| | Australië |
| --- | --- |

Australië

| | Canada |
| --- | --- |

Canada

| | Japan |
| --- | --- |

Japan

| | Nieuw-Zeeland |
| --- | --- |

Nieuw-Zeeland

| | Noorwegen |
| --- | --- |

Noorwegen

| | Verenigde Staten van Amerika |
| --- | --- |

Verenigde Staten van Amerika

| | Zwitserland |
| --- | --- |

Zwitserland

Noot: De delen 2 en 3 kunnen uitsluitend worden gewijzigd overeenkomstig de verplichtingen en verbintenissen terzake waarmee iedere lidstaat als partij bij de desbetreffende internationale regelingen inzake non-proliferatie en exportcontrole heeft ingestemd en overeenkomstig de belangen van de openbare veiligheid van iedere lidstaat zoals die tot uiting komen in zijn verantwoordelijkheid om te beslissen over aanvragen om exportvergunningen voor producten voor tweeërlei gebruik krachtens artikel 6, lid 2, van deze verordening.

Voorwaarden en eisen voor het gebruik van deze vergunning

| 1) | Deze algemene vergunning mag niet worden gebruikt, indien de exporteur door de bevoegde instanties van de lidstaat waar hij is gevestigd ervan in kennis is gesteld dat de producten in kwestie geheel of gedeeltelijk bestemd zijn of kunnen zijn voor gebruik in verband met de ontwikkeling, de productie, de behandeling, de bediening, het onderhoud, de opslag, de opsporing, de herkenning of de verspreiding van chemische, biologische of nucleaire wapens of andere nucleaire explosiemiddelen, of voor de ontwikkeling, de productie, het onderhoud of de opslag van raketten die dergelijke wapens naar hun doel kunnen voeren of indien de exporteur er kennis van draagt dat de betrokken producten voor een dergelijk gebruik zijn bestemd. |
| --- | --- |

1)

Deze algemene vergunning mag niet worden gebruikt, indien de exporteur door de bevoegde instanties van de lidstaat waar hij is gevestigd ervan in kennis is gesteld dat de producten in kwestie geheel of gedeeltelijk bestemd zijn of kunnen zijn voor gebruik in verband met de ontwikkeling, de productie, de behandeling, de bediening, het onderhoud, de opslag, de opsporing, de herkenning of de verspreiding van chemische, biologische of nucleaire wapens of andere nucleaire explosiemiddelen, of voor de ontwikkeling, de productie, het onderhoud of de opslag van raketten die dergelijke wapens naar hun doel kunnen voeren of indien de exporteur er kennis van draagt dat de betrokken producten voor een dergelijk gebruik zijn bestemd.

| 2) | Deze algemene vergunning mag niet worden gebruikt, indien de exporteur door de bevoegde instanties van de lidstaat waar hij is gevestigd, is meegedeeld dat de producten in kwestie bestemd zijn of kunnen zijn voor militair eindgebruik zoals gedefinieerd in artikel 4, lid 2, van deze verordening in een land waarvoor een wapenembargo geldt van de EU, de OVSE of de VN, of indien de exporteur er kennis van draagt dat de betrokken producten voor een dergelijk gebruik bestemd zijn. |
| --- | --- |

2)

Deze algemene vergunning mag niet worden gebruikt, indien de exporteur door de bevoegde instanties van de lidstaat waar hij is gevestigd, is meegedeeld dat de producten in kwestie bestemd zijn of kunnen zijn voor militair eindgebruik zoals gedefinieerd in artikel 4, lid 2, van deze verordening in een land waarvoor een wapenembargo geldt van de EU, de OVSE of de VN, of indien de exporteur er kennis van draagt dat de betrokken producten voor een dergelijk gebruik bestemd zijn.

| 3) | Deze algemene vergunning mag niet worden gebruikt indien de betrokken producten worden uitgevoerd naar een douanevrije zone of een vrij entrepot, gelegen in een onder deze vergunning vallende bestemming. |
| --- | --- |

3)

Deze algemene vergunning mag niet worden gebruikt indien de betrokken producten worden uitgevoerd naar een douanevrije zone of een vrij entrepot, gelegen in een onder deze vergunning vallende bestemming.

| 4) | De aan het gebruik van deze algemene vergunning verbonden registratie- en meldingseisen, en de aanvullende informatie over krachtens deze vergunning uitgevoerde producten die kan worden vereist door de lidstaat waaruit ze worden uitgevoerd, worden door de lidstaten bepaald. Deze eisen moeten gebaseerd zijn op de eisen die bepaald zijn voor het gebruik van algemene uitvoervergunningen die worden verstrekt door de lidstaten die dergelijke vergunningen afgeven. |
| --- | --- |

4)

De aan het gebruik van deze algemene vergunning verbonden registratie- en meldingseisen, en de aanvullende informatie over krachtens deze vergunning uitgevoerde producten die kan worden vereist door de lidstaat waaruit ze worden uitgevoerd, worden door de lidstaten bepaald. Deze eisen moeten gebaseerd zijn op de eisen die bepaald zijn voor het gebruik van algemene uitvoervergunningen die worden verstrekt door de lidstaten die dergelijke vergunningen afgeven.

BIJLAGE III a

Image

Image

Image

BIJLAGE III b

PUNTEN DIE IN ALLE BEKENDMAKINGEN VAN ALGEMENE UITVOERVERGUNNINGEN MOETEN WORDEN VERMELD

(Bedoeld in artikel 10, lid 3)

| 1) | Titel van de algemene exportvergunning. |
| --- | --- |

1)

Titel van de algemene exportvergunning.

| 2) | Instantie die de vergunning afgeeft. |
| --- | --- |

2)

Instantie die de vergunning afgeeft.

| 3) | Geldigheid in de EG. Onderstaande tekst dient te worden gebruikt:
  „Dit is een algemene uitvoervergunning krachtens artikel 6, lid 2, van Verordening (EG) nr. 1334/2000. Deze vergunning is, overeenkomstig artikel 6, lid 2, van die verordening, geldig voor alle lidstaten van de Europese Gemeenschap.”. |
| --- | --- |

3)

Geldigheid in de EG. Onderstaande tekst dient te worden gebruikt:

„Dit is een algemene uitvoervergunning krachtens artikel 6, lid 2, van Verordening (EG) nr. 1334/2000. Deze vergunning is, overeenkomstig artikel 6, lid 2, van die verordening, geldig voor alle lidstaten van de Europese Gemeenschap.”.

| 4) | Betrokken producten: onderstaande inleidende tekst dient te worden gebruikt:
  „Deze exportvergunning geldt voor de volgende producten:”. |
| --- | --- |

4)

Betrokken producten: onderstaande inleidende tekst dient te worden gebruikt:

„Deze exportvergunning geldt voor de volgende producten:”.

| 5) | Betrokken bestemmingen: onderstaande inleidende tekst dient te worden gebruikt:
  „Deze exportvergunning geldt voor export naar de volgende bestemmingen:”. |
| --- | --- |

5)

Betrokken bestemmingen: onderstaande inleidende tekst dient te worden gebruikt:

„Deze exportvergunning geldt voor export naar de volgende bestemmingen:”.

| 6) | Voorwaarden en vereisten. |
| --- | --- |

6)

Voorwaarden en vereisten.

BIJLAGE IV

(Lijst, bedoeld in artikel 21, lid 1, van Verordening (EG) nr. 1334/2000)

De punten bevatten niet altijd de volledige omschrijving van de post en de noten die erop betrekking hebben in bijlage I (4). Alleen bijlage I bevat de volledige omschrijving van de posten.

Vermelding van een product in deze bijlage laat de toepassing van de bepalingen betreffende massaproducten in bijlage I onverlet.

Deel I

(mogelijkheid van een nationale algemene vergunning voor intracommunautair handelsverkeer)

Producten voor «stealth»-technologie

| 1C001 | Materialen, speciaal ontworpen om te worden gebruikt voor het absorberen van elektromagnetische golven, of intrinsiek geleidende polymeren.

  NB: ZIE OOK 1C101. |
| --- | --- |
| 1C101 | Materialen of inrichtingen voor het beperken van de zichtbaarheid zoals de radarreflectie, het ultraviolet/infrarood of akoestische beeld, anders dan de materialen bedoeld in 1C001, geschikt voor gebruik in "raketten", "subsystemen" van raketten of onbemande luchtvaartuigen als vermeld onder 9A012. |
| 1D103 | "Programmatuur", speciaal ontworpen voor de analyse van de beperking van de waarneembaarheid van bijvoorbeeld radarreflectie, ultraviolet/infrarood of akoestisch beeld. |
| 1E101 | "Technologie» overeenkomstig de algemene technologienoot betreffende het "gebruik" van goederen, bedoeld in 1C101 of 1D103. |
| 1E102 | "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot betreffende de "ontwikkeling" van "programmatuur", bedoeld in 1D103. |
| 6B008 | Gepulseerde radarsystemen voor het meten van de dwarsdoorsnede met een zendimpulsduur van 100 ns of minder en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen.

  NB: ZIE OOK 6B108. |
| 6B108 | Systemen, speciaal ontworpen voor radardwarsdoorsnedemeting, te gebruiken voor "raketten" en subsystemen daarvan. |

1C001

Materialen, speciaal ontworpen om te worden gebruikt voor het absorberen van elektromagnetische golven, of intrinsiek geleidende polymeren.

NB: ZIE OOK 1C101.

1C101

Materialen of inrichtingen voor het beperken van de zichtbaarheid zoals de radarreflectie, het ultraviolet/infrarood of akoestische beeld, anders dan de materialen bedoeld in 1C001, geschikt voor gebruik in "raketten", "subsystemen" van raketten of onbemande luchtvaartuigen als vermeld onder 9A012.

1D103

"Programmatuur", speciaal ontworpen voor de analyse van de beperking van de waarneembaarheid van bijvoorbeeld radarreflectie, ultraviolet/infrarood of akoestisch beeld.

1E101

"Technologie» overeenkomstig de algemene technologienoot betreffende het "gebruik" van goederen, bedoeld in 1C101 of 1D103.

1E102

"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot betreffende de "ontwikkeling" van "programmatuur", bedoeld in 1D103.

6B008

Gepulseerde radarsystemen voor het meten van de dwarsdoorsnede met een zendimpulsduur van 100 ns of minder en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen.

NB: ZIE OOK 6B108.

6B108

Systemen, speciaal ontworpen voor radardwarsdoorsnedemeting, te gebruiken voor "raketten" en subsystemen daarvan.

Producten voor communautaire strategische controle

| 1C239 | Brisante springstoffen, anders dan bedoeld in de lijst militaire goederen, of stoffen of mengsels met een gehalte van meer dan 2 gewichtspercenten aan deze springstoffen, met een kristaldichtheid groter dan 1,8 g/cm3 en een detonatiesnelheid groter dan 8 000 m/s. |
| --- | --- |
| 1E201 | "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor het "gebruik" van goederen, bedoeld in IC239. |
| 3A229 | Ontstekingstoestellen en gelijkwaardige pulsgeneratoren met hoge stroomsterkte, als hieronder ...

  NB: ZIE OOK LIJST MILITAIRE GOEDEREN. |
| 3A232 | Detonators en meervoudige ontstekingssystemen, als hieronder ...

  NB: ZIE OOK LIJST MILITAIRE GOEDEREN. |
| 3E201 | «Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor het "gebruik" van apparatuur, bedoeld in 3A229 of 3A232. |
| 6A001 | Akoestische apparatuur, beperkt tot: |
| 6A001.a.1.b. | systemen voor de opsporing of plaatsbepaling van objecten, met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een zendfrequentie
  lager dan 5 kHz; |

1C239

Brisante springstoffen, anders dan bedoeld in de lijst militaire goederen, of stoffen of mengsels met een gehalte van meer dan 2 gewichtspercenten aan deze springstoffen, met een kristaldichtheid groter dan 1,8 g/cm3 en een detonatiesnelheid groter dan 8 000 m/s.

1E201

"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor het "gebruik" van goederen, bedoeld in IC239.

3A229

Ontstekingstoestellen en gelijkwaardige pulsgeneratoren met hoge stroomsterkte, als hieronder ...

NB: ZIE OOK LIJST MILITAIRE GOEDEREN.

3A232

Detonators en meervoudige ontstekingssystemen, als hieronder ...

NB: ZIE OOK LIJST MILITAIRE GOEDEREN.

3E201

«Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor het "gebruik" van apparatuur, bedoeld in 3A229 of 3A232.

6A001

Akoestische apparatuur, beperkt tot:

6A001.a.1.b.

systemen voor de opsporing of plaatsbepaling van objecten, met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een zendfrequentie
  lager dan 5 kHz;

| 6. | ontworpen om een druk te weerstaan ...; |
| --- | --- |

6.

ontworpen om een druk te weerstaan ...;

6A001.a.2.a.2.

Hydrofoons ... Met doorlopende ...

6A001.a.2.a.3.

Hydrofoons ... Met een of meer ...

6A001.a.2.a.6.

Hydrofoons ... Ontworpen om ...

6A001.a.2.b.

Gesleepte samenstellen van ...

6A001.a.2.c.

Verwerkingsapparatuur, speciaal ontworpen
  voor tijdgebonden («real-time») toepassing
  met gesleepte samenstellen van regelmatig gerangschikte akoestische hydrofoons («towed acoustic hydrophone arrays»), met "toegankelijkheid van het programma voor de gebruiker" en verwerking en correlatie van tijd of frequentiedomeinen, met inbegrip van spectrumanalyse, digitale filtering en bundelvorming met toepassing van snelle Fourier-transformatie («Fast Fourier transform») of andere herleidingen of processen;

6A001.a.2.e.

Bodemkabelsystemen met een van de volgende kenmerken:

| 1. | met ingebouwde hydrofoons ...; of |
| --- | --- |

1.

met ingebouwde hydrofoons ...; of

| 2. | met ingebouwde multiplex-verzendingsmodules ...; |
| --- | --- |

2.

met ingebouwde multiplex-verzendingsmodules ...;

6A001.a.2.f.

Verwerkingsapparatuur, speciaal ontworpen
  voor tijdgebonden («real-time») toepassing
  met bodemkabelsystemen, met "toegankelijkheid van het programma voor de gebruiker" en verwerking en correlatie van tijd of frequentiedomeinen, met inbegrip van spectrumanalyse, digitale filtering en bundelvorming met toepassing van snelle Fourier-transformatie of andere herleidingen of processen.

6D003.a.

"Programmatuur", voor de "tijdgebonden verwerking" van akoestische gegevens;

8A002.o.3.

Geluiddempingssystemen voor gebruik in schepen met een waterverplaatsing van 1 000 ton of meer, als hieronder:

| b) | actieve geluiddempings- of uitdovingssystemen of magnetische lagers, speciaal ontworpen voor krachtoverbrengingssystemen, die elektronische regelsystemen bevatten geschikt voor actieve demping van de trillingen van de apparatuur door het voortbrengen van geluid of trilling onderdrukkende signalen die direct naar de bron worden teruggekoppeld. |
| --- | --- |

b)

actieve geluiddempings- of uitdovingssystemen of magnetische lagers, speciaal ontworpen voor krachtoverbrengingssystemen, die elektronische regelsystemen bevatten geschikt voor actieve demping van de trillingen van de apparatuur door het voortbrengen van geluid of trilling onderdrukkende signalen die direct naar de bron worden teruggekoppeld.

8E002.a.

"Technologie" voor de "ontwikkeling", de "productie", het herstel, de revisie of het opknappen (opnieuw machinaal bewerken) van schroeven die speciaal zijn ontworpen om onderwatergeluid te beperken.

Producten voor communautaire strategische controle — cryptografie — categorie 5, deel 2

| 5A002.a.2. | apparatuur, ontworpen of aangepast voor het uitvoeren van cryptanalytische functies. |
| --- | --- |
| 5D002.c.1 | uitsluitend programmatuur die de kenmerken heeft of de functies uitoefent of simuleert van de apparatuur, bedoeld in 5A002.a.2. |
| 5E002 | uitsluitend "technologie" voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van de in 5A002.a.2. of 5D002.c.1. bedoelde goederen. |

5A002.a.2.

apparatuur, ontworpen of aangepast voor het uitvoeren van cryptanalytische functies.

5D002.c.1

uitsluitend programmatuur die de kenmerken heeft of de functies uitoefent of simuleert van de apparatuur, bedoeld in 5A002.a.2.

5E002

uitsluitend "technologie" voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van de in 5A002.a.2. of 5D002.c.1. bedoelde goederen.

Producten voor MTCR-technologie

| 7A117 | "Geleidingssystemen" geschikt voor gebruik in "raketten" met een systeemnauwkeurigheid van 3,33 % of minder van het bereik (een "CEP" («circle of equal probability») van 10 km of minder bij een bereik van 300 km),
  uitgezonderd "geleidingssystemen", ontworpen voor raketten met een bereik van minder dan 300 km of voor bemande luchtvaartuigen. |
| --- | --- |
| 7B001 | Test-, ijk- of uitrichtapparatuur, speciaal ontworpen voor apparatuur, bedoeld
  in 7A117 hierboven.




  Noot: 7B001 is niet van toepassing op test-, ijk- of uitrichtapparatuur voor onderhoudsniveau I of onderhoudsniveau II. |
| 7B003 | Apparatuur, speciaal ontworpen voor de "productie" van apparatuur, bedoeld in 7A117
  hierboven. |
| 7B103 | "Productiefaciliteiten", speciaal ontworpen voor apparatuur, bedoeld in 7A117
  hierboven. |
| 7D101 | "Programmatuur", speciaal ontworpen voor vliegtuigelektronica als bedoeld in 7B003 of 7B103
  hierboven. |
| 7E001 | "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" van apparatuur of "programmatuur", bedoeld in 7A117, 7B103 of 7D101
  hierboven. |
| 7E002 | "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "productie" van apparatuur, bedoeld in 7A117, 7B003 en 7B103
  hierboven. |
| 7E101 | "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor het "gebruik" van apparatuur, bedoeld in 7A117, 7B003, 7B103 en 7D101
  hierboven. |
| 9A004 | Ruimtelanceervoertuigen of "ruimtevaartuigen"
  die een nuttige last van tenminste 500 kg kunnen vervoeren over een afstand van tenminste 300 km.



  NB: ZIE OOK 9A104.



  Noot 1: 9A004 is niet van toepassing op de nuttige lading. |
| 9A005 | Raketvoortstuwingssystemen met vloeibare stuwstof die systemen of onderdelen bedoeld in 9A006 bevatten
  en die bruikbaar zijn in ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004 hierboven, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104 hierna.



  NB: ZIE OOK 9A105 en 9A119. |
| 9A007.a. | Raketvoortstuwingssystemen met vaste brandstof die
  bruikbaar zijn in ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004 hierboven, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104 hierna,
  met één of meer van de volgende kenmerken:

  NB: ZIE OOK 9A119.







  a. | totaal impulsvermogen groter dan 1,1 MNs; |

7A117

"Geleidingssystemen" geschikt voor gebruik in "raketten" met een systeemnauwkeurigheid van 3,33 % of minder van het bereik (een "CEP" («circle of equal probability») van 10 km of minder bij een bereik van 300 km),
  uitgezonderd "geleidingssystemen", ontworpen voor raketten met een bereik van minder dan 300 km of voor bemande luchtvaartuigen.

7B001

Test-, ijk- of uitrichtapparatuur, speciaal ontworpen voor apparatuur, bedoeld
  in 7A117 hierboven.

Noot: 7B001 is niet van toepassing op test-, ijk- of uitrichtapparatuur voor onderhoudsniveau I of onderhoudsniveau II.

7B003

Apparatuur, speciaal ontworpen voor de "productie" van apparatuur, bedoeld in 7A117
  hierboven.

7B103

"Productiefaciliteiten", speciaal ontworpen voor apparatuur, bedoeld in 7A117
  hierboven.

7D101

"Programmatuur", speciaal ontworpen voor vliegtuigelektronica als bedoeld in 7B003 of 7B103
  hierboven.

7E001

"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" van apparatuur of "programmatuur", bedoeld in 7A117, 7B103 of 7D101
  hierboven.

7E002

"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "productie" van apparatuur, bedoeld in 7A117, 7B003 en 7B103
  hierboven.

7E101

"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor het "gebruik" van apparatuur, bedoeld in 7A117, 7B003, 7B103 en 7D101
  hierboven.

9A004

Ruimtelanceervoertuigen of "ruimtevaartuigen"
  die een nuttige last van tenminste 500 kg kunnen vervoeren over een afstand van tenminste 300 km.

NB: ZIE OOK 9A104.

Noot 1: 9A004 is niet van toepassing op de nuttige lading.

9A005

Raketvoortstuwingssystemen met vloeibare stuwstof die systemen of onderdelen bedoeld in 9A006 bevatten
  en die bruikbaar zijn in ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004 hierboven, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104 hierna.

NB: ZIE OOK 9A105 en 9A119.

9A007.a.

Raketvoortstuwingssystemen met vaste brandstof die
  bruikbaar zijn in ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004 hierboven, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104 hierna,
  met één of meer van de volgende kenmerken:

NB: ZIE OOK 9A119.

a.

totaal impulsvermogen groter dan 1,1 MNs;

9A008.d.

Onderdelen, als hieronder, speciaal ontworpen voor raketvoortstuwingssystemen met vaste stuwstof:

NB: ZIE OOK 9A108.c.

| d. | regelsystemen voor het richten van de stuwkrachtvector van het inspuitstuk of de secundaire vloeistofinjectie, die
  bruikbaar zijn in ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004 hierboven of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104 hierna,
  en die geschikt zijn voor:






  1. | bewegingen langs alle assen over een hoek groter dan ± 5 °C; |
| --- | --- | --- |

d.

regelsystemen voor het richten van de stuwkrachtvector van het inspuitstuk of de secundaire vloeistofinjectie, die
  bruikbaar zijn in ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004 hierboven of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104 hierna,
  en die geschikt zijn voor:

1.

bewegingen langs alle assen over een hoek groter dan ± 5 °C;

| 2. | vectorhoekrotaties van 20°/s of meer, of |
| --- | --- |

2.

vectorhoekrotaties van 20°/s of meer, of

| 3. | vectorhoekversnellingen van 40°/s2 of meer. |
| --- | --- |

3.

vectorhoekversnellingen van 40°/s2 of meer.

9A104

Sonderingsraketten met een bereik van minstens 300 km
  die een nuttige last van tenminste 500 kg kunnen vervoeren.

NB: ZIE OOK 9A004.

9A105.a.

Raketmotoren voor vloeibare stuwstof, als hieronder:

NB: ZIE OOK 9A119.

| a. | raketmotoren voor vloeibare stuwstof, geschikt voor gebruik in "raketten", anders dan bedoeld in 9A005, met een totaal impulsvermogen gelijk aan of groter dan 1.1 MNs;
  uitgezonderd apogeummotoren voor vloeibare stuwstof, ontworpen of aangepast voor satelliettoepassingen en met alle volgende kenmerken:










  1. | de diameter van de straalpijphals bedraagt ten hoogste 20 mm; en |
| --- | --- | --- |

a.

raketmotoren voor vloeibare stuwstof, geschikt voor gebruik in "raketten", anders dan bedoeld in 9A005, met een totaal impulsvermogen gelijk aan of groter dan 1.1 MNs;
  uitgezonderd apogeummotoren voor vloeibare stuwstof, ontworpen of aangepast voor satelliettoepassingen en met alle volgende kenmerken:

1.

de diameter van de straalpijphals bedraagt ten hoogste 20 mm; en

| 2. | de verbrandingskamerdruk bedraagt ten hoogste 15 bar. |
| --- | --- |

2.

de verbrandingskamerdruk bedraagt ten hoogste 15 bar.

9A106.c.

Systemen of onderdelen, andere dan bedoeld in 9A006, geschikt voor gebruik in "raketten", als hieronder, speciaal ontworpen voor raketvoortstuwingssystemen met vloeibare stuwstof:

| c. | subsystemen voor het regelen van de stuwstraalrichting,
  uitgezonderd subsystemen die zijn ontworpen voor raketsystemen die niet een nuttige last van ten minste 500 kg kunnen vervoeren over een afstand van ten minste 300 km; |
| --- | --- |

c.

subsystemen voor het regelen van de stuwstraalrichting,
  uitgezonderd subsystemen die zijn ontworpen voor raketsystemen die niet een nuttige last van ten minste 500 kg kunnen vervoeren over een afstand van ten minste 300 km;

Technische noot:

Voorbeelden van methoden om de stuwstraalrichting te regelen zoals bedoeld in 9A106.c, zijn:

| 1. | buigzame straalpijp; |
| --- | --- |

1.

buigzame straalpijp;

| 2. | vloeistof- of secundaire gasinjectie; |
| --- | --- |

2.

vloeistof- of secundaire gasinjectie;

| 3. | beweegbare motoren of straalpijpen; |
| --- | --- |

3.

beweegbare motoren of straalpijpen;

| 4. | afbuiging van de uitlaatgasstroom door vinnen of kleppen, of |
| --- | --- |

4.

afbuiging van de uitlaatgasstroom door vinnen of kleppen, of

| 5. | het gebruik van stuwstelvlakken. |
| --- | --- |

5.

het gebruik van stuwstelvlakken.

9A108.c.

Onderdelen, andere dan bedoeld in 9A008, geschikt voor het gebruik in raketten, als hieronder, speciaal ontworpen voor raketvoortstuwingssystemen met vaste brandstof:

| c. | subsystemen voor het regelen van de stuwstraalrichting,
  uitgezonderd subsystemen die zijn ontworpen voor raketsystemen die niet een nuttige last van ten minste 500 kg kunnen vervoeren over een afstand van ten minste 300 km. |
| --- | --- |

c.

subsystemen voor het regelen van de stuwstraalrichting,
  uitgezonderd subsystemen die zijn ontworpen voor raketsystemen die niet een nuttige last van ten minste 500 kg kunnen vervoeren over een afstand van ten minste 300 km.

Technische noot:

Voorbeelden van methoden om de stuwstraalrichting te regelen zoals bedoeld in 9A108.c, zijn:

| 1. | buigzame straalpijp; |
| --- | --- |

1.

buigzame straalpijp;

| 2. | vloeistof- of secundaire gasinjectie; |
| --- | --- |

2.

vloeistof- of secundaire gasinjectie;

| 3. | beweegbare motoren of straalpijpen; |
| --- | --- |

3.

beweegbare motoren of straalpijpen;

| 4. | afbuiging van de uitlaatgasstroom door vinnen of kleppen, of |
| --- | --- |

4.

afbuiging van de uitlaatgasstroom door vinnen of kleppen, of

| 5. | het gebruik van stuwstelvlakken. |
| --- | --- |

5.

het gebruik van stuwstelvlakken.

9A116

Terugkeervoertuigen, geschikt voor gebruik in "raketten", en apparatuur, speciaal ontworpen of aangepast daarvoor,
  uitgezonderd terugkeervoertuigen die zijn ontworpen voor het vervoeren van nuttige lading anders dan bewapening,
  als hieronder:

| a. | terugkeervoertuigen; |
| --- | --- |

a.

terugkeervoertuigen;

| b. | hitteschilden en onderdelen daarvan, gemaakt van keramische of ablatieve materialen; |
| --- | --- |

b.

hitteschilden en onderdelen daarvan, gemaakt van keramische of ablatieve materialen;

| c. | koelelementen en onderdelen daarvan, gemaakt van lichtgewichtmaterialen met een hoge warmtecapaciteit; |
| --- | --- |

c.

koelelementen en onderdelen daarvan, gemaakt van lichtgewichtmaterialen met een hoge warmtecapaciteit;

| d. | elektronische apparatuur, speciaal ontworpen voor terugkeervoertuigen. |
| --- | --- |

d.

elektronische apparatuur, speciaal ontworpen voor terugkeervoertuigen.

9A119

Individuele rakettrappen geschikt voor gebruik in complete raketsystemen of onbemande luchtvaartuigen
  die een nuttige last van ten minste 500 kg kunnen vervoeren
  over een afstand van ten minste 300 km, andere dan bedoeld in 9A005 of 9A007.a
  hierboven
  .

9B115

Speciaal ontworpen "productie-apparatuur" voor de systemen, subsystemen en onderdelen in 9A005, 9A007.a, 9A008.d, 9A105.a, 9A106.c, 9A108.c, 9A116 of 9A119
  hierboven.

9B116

Speciaal ontworpen "productiefaciliteiten" voor de ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of systemen, subsystemen en onderdelen bedoeld in 9A005, 9A007.a 9A008.d, 9A104, 9A105.a, 9A106.c, 9A108.c, 9A116 of 9A119
  hierboven.

9D101

"Programmatuur" die speciaal is ontworpen voor het gebruik van de in 9B116
  hierboven
  omschreven goederen.

9E001

"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" van apparatuur of programmatuur als omschreven in 9A004, 9A005, 9A007.a, 9A008.d, 9B115, 9B116 of 9D101
  hierboven.

9E002

"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot, voor de "productie" van uitrusting als omschreven in 9A004, 9A005, 9A007.a, 9A008.d, 9B115 en 9B116
  hierboven.

Noot: Zie 1E002.f voor "technologie" voor de reparatie van in de lijst bedoelde constructies, laminaten of materialen.

9E101

"Technologie", overeenkomstig de algemene technologienoot, voor de "ontwikkeling" of de "productie" van uitrusting als omschreven in 9A104, 9A105.a., 9A106.c., 9A108.c, 9A116 of 9A119
  hierboven.

9E102

"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor het "gebruik" van ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004, 9A005, 9A007.a., 9A008.d., 9A104, 9A105.a., 9A106.c., 9A108.c., 9A116, 9A119, 9B115, 9B116 of 9D101
  hierboven.

—   Vrijstellingen:

Bijlage IV is niet van toepassing op producten voor MTCR-technologie die:

| 1) | worden overgebracht ingevolge een bestelling krachtens een contractuele verbintenis, van het Europees Ruimteagentschap (ESA) of die door het ESA worden overgebracht ten einde zijn officiële taken te vervullen; |
| --- | --- |

1)

worden overgebracht ingevolge een bestelling krachtens een contractuele verbintenis, van het Europees Ruimteagentschap (ESA) of die door het ESA worden overgebracht ten einde zijn officiële taken te vervullen;

| 2) | worden overgebracht ingevolge bestellingen krachtens een contractuele verbintenis, van de nationale ruimteorganisatie van een lidstaat of die door deze organisatie worden overgebracht om haar officiële taken te vervullen; |
| --- | --- |

2)

worden overgebracht ingevolge bestellingen krachtens een contractuele verbintenis, van de nationale ruimteorganisatie van een lidstaat of die door deze organisatie worden overgebracht om haar officiële taken te vervullen;

| 3) | worden overgebracht ingevolge bestellingen krachtens een contractuele verbintenis, in verband met een communautair ruimtevaartprogramma voor ontwikkeling en productie dat door twee of meer Europese regeringen is ondertekend; |
| --- | --- |

3)

worden overgebracht ingevolge bestellingen krachtens een contractuele verbintenis, in verband met een communautair ruimtevaartprogramma voor ontwikkeling en productie dat door twee of meer Europese regeringen is ondertekend;

| 4) | worden overgebracht naar een door de staat gecontroleerde ruimtevaartbasis op het grondgebied van een lidstaat, tenzij die lidstaat krachtens deze verordening de overbrenging van de betrokken producten controleert. |
| --- | --- |

4)

worden overgebracht naar een door de staat gecontroleerde ruimtevaartbasis op het grondgebied van een lidstaat, tenzij die lidstaat krachtens deze verordening de overbrenging van de betrokken producten controleert.

Deel II

(nationale algemene vergunningen voor intracommunautair handelsverkeer niet mogelijk)

Producten uit hoofde van het Verdrag inzake chemische wapens

| 1C351.d.4. | Ricine |
| --- | --- |
| 1C351.d.5. | Saxitoxine |

1C351.d.4.

Ricine

1C351.d.5.

Saxitoxine

Producten voor NSG-technologie

Categorie 0
  van bijlage I is in haar geheel opgenomen in bijlage IV, met uitzondering van de volgende materialen:

| — | 0C001: deze rubriek is niet opgenomen in bijlage IV; |
| --- | --- |

—

0C001: deze rubriek is niet opgenomen in bijlage IV;

| — | 0C002: deze rubriek is niet opgenomen in bijlage IV met uitzondering van speciale splijtstoffen als hieronder:






  a. | gescheiden plutonium; |
| --- | --- | --- |

—

0C002: deze rubriek is niet opgenomen in bijlage IV met uitzondering van speciale splijtstoffen als hieronder:

a.

gescheiden plutonium;

| b. | "uraan, verrijkt in de isotopen 233 of 235" tot meer dan 20 %; |
| --- | --- |

b.

"uraan, verrijkt in de isotopen 233 of 235" tot meer dan 20 %;

| — | 0D001: (Programmatuur) is opgenomen in bijlage IV, behoudens voorzover betrekking hebbend op rubriek 0C001 of goederen van rubriek 0C002 die niet zijn opgenomen in bijlage IV; |
| --- | --- |

—

0D001: (Programmatuur) is opgenomen in bijlage IV, behoudens voorzover betrekking hebbend op rubriek 0C001 of goederen van rubriek 0C002 die niet zijn opgenomen in bijlage IV;

| — | 0E001: (Technologie) is opgenomen in bijlage IV, behoudens voorzover betrekking hebbend op rubriek 0C001 of op goederen van rubriek 0C002 die niet zijn opgenomen in bijlage IV. |
| --- | --- |

—

0E001: (Technologie) is opgenomen in bijlage IV, behoudens voorzover betrekking hebbend op rubriek 0C001 of op goederen van rubriek 0C002 die niet zijn opgenomen in bijlage IV.

NB: Voor 0C003 en 0C004 alleen indien voor gebruik in "kernreactoren" (binnen 0A001.a).

| 1B226 | Elektromagnetische isotopenscheiders, ontworpen voor of uitgerust met enkelvoudige of meervoudige ionenbronnen die een totale ionenbundelstroom van 50 mA of meer kunnen leveren.


  Noot: 1B226 omvat tevens scheiders:








  a. | geschikt voor het verrijken van stabiele isotopen; |
| --- | --- | --- |

1B226

Elektromagnetische isotopenscheiders, ontworpen voor of uitgerust met enkelvoudige of meervoudige ionenbronnen die een totale ionenbundelstroom van 50 mA of meer kunnen leveren.

Noot: 1B226 omvat tevens scheiders:

a.

geschikt voor het verrijken van stabiele isotopen;

| b. | waarbij de ionenbronnen en collectors zich in het magneetveld bevinden en configuraties waarbij deze zich buiten het veld bevinden. |
| --- | --- |

b.

waarbij de ionenbronnen en collectors zich in het magneetveld bevinden en configuraties waarbij deze zich buiten het veld bevinden.

1C012

Materialen, als hieronder:

Technische noot:

Deze materialen worden doorgaans voor nucleaire warmtebronnen gebruikt.

| b. | "door opwerking verkregen" neptunium-237 in iedere vorm.


  Noot: 1C012.b is niet van toepassing op zendingen die hoogstens 1 gram neptunium-237 bevatten. |
| --- | --- |

b.

"door opwerking verkregen" neptunium-237 in iedere vorm.

Noot: 1C012.b is niet van toepassing op zendingen die hoogstens 1 gram neptunium-237 bevatten.

1B231

Tritiuminstallaties of -fabrieken, en apparatuur daarvoor, als hieronder:

| a. | installaties of fabrieken voor het produceren, terugwinnen, extraheren, concentreren of behandelen van tritium; |
| --- | --- |

a.

installaties of fabrieken voor het produceren, terugwinnen, extraheren, concentreren of behandelen van tritium;

| b. | apparatuur voor titriuminstallaties of -fabrieken, als hieronder:






  1. | waterstof- of heliumkoeleenheden die kunnen koelen tot 23 K (– 250 °C) of lager, met een warmteafvoercapaciteit groter dan 150 W; of |
| --- | --- | --- |

b.

apparatuur voor titriuminstallaties of -fabrieken, als hieronder:

1.

waterstof- of heliumkoeleenheden die kunnen koelen tot 23 K (– 250 °C) of lager, met een warmteafvoercapaciteit groter dan 150 W; of

| 2. | opslag- of zuiveringssystemen voor waterstofisotopen die gebruikmaken van metaalhydriden als opslag- of zuiveringsmedium. |
| --- | --- |

2.

opslag- of zuiveringssystemen voor waterstofisotopen die gebruikmaken van metaalhydriden als opslag- of zuiveringsmedium.

1B233

Installaties of fabrieken voor het scheiden van lithiumisotopen en apparatuur daarvoor, als hieronder:

| a. | installaties of fabrieken voor het scheiden van lithiumisotopen; |
| --- | --- |

a.

installaties of fabrieken voor het scheiden van lithiumisotopen;

| b. | apparatuur voor de scheiding van lithiumisotopen, als hieronder:






  1. | gestapelde kolommen voor vloeistof-vloeistofwisselkolommen, speciaal ontworpen voor lithiumamalgamen; |
| --- | --- | --- |

b.

apparatuur voor de scheiding van lithiumisotopen, als hieronder:

1.

gestapelde kolommen voor vloeistof-vloeistofwisselkolommen, speciaal ontworpen voor lithiumamalgamen;

| 2. | kwik- en/of lithiumamalgaampompen; |
| --- | --- |

2.

kwik- en/of lithiumamalgaampompen;

| 3. | lithiumamalgaam-elektrolysecellen; |
| --- | --- |

3.

lithiumamalgaam-elektrolysecellen;

| 4. | verdampers voor geconcentreerde lithiumhydroxideoplossingen. |
| --- | --- |

4.

verdampers voor geconcentreerde lithiumhydroxideoplossingen.

1C233

Lithium, verrijkt in de lithium-6-isotoop (6Li) tot meer dan de natuurlijke abundantie, of producten of toestellen die verrijkt lithium bevatten, als hierna: elementair lithium, legeringen, lithiumverbindingen, mengsels die lithium bevatten, fabrikaten daarvan en afval of schroot van deze stoffen.

Noot: 1C233 is niet van toepassing op thermoluminescentie-stralingsmeters.

Technische noot:

De natuurlijk abundantie van de lithium-6-isotoop is ongeveer 6,5 gewichtspercenten (7,5 % op atomaire basis).

1C235

Tritium, tritiumverbindingen en mengsels welke tritium bevatten, waarin de verhouding van het aantal tritiumatomen tot het aantal waterstofatomen groter is dan 1: 1 000, en producten of toestellen die een van voorgaande stoffen bevatten.

Noot: 1C235 is niet van toepassing op een product of toestel dat minder dan 1,48 × 103 GBq (40 Ci) tritium in welke vorm dan ook bevat.

1E001

"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor het "ontwikkelen" of "vervaardigen" van apparatuur of materialen, bedoeld in 1C012.b.

1E201

"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot betreffende het "gebruik" van goederen, bedoeld in 1B226, 1B231, 1B233, 1C233 of 1C235.

3A228

Schakelelementen, als hieronder:

| a. | buizen met koude kathode, al dan niet met gas gevuld, die op dezelfde wijze als een vonkbrug werken, en alle volgende kenmerken hebben:






  1. | drie of meer elektroden, |
| --- | --- | --- |

a.

buizen met koude kathode, al dan niet met gas gevuld, die op dezelfde wijze als een vonkbrug werken, en alle volgende kenmerken hebben:

1.

drie of meer elektroden,

| 2. | een maximale anodespanning van 2 500 V of meer, |
| --- | --- |

2.

een maximale anodespanning van 2 500 V of meer,

| 3. | een maximale anodestroomsterkte van 100 A of meer, en |
| --- | --- |

3.

een maximale anodestroomsterkte van 100 A of meer, en

| 4. | een anodevertragingstijd van 10 microseconden of minder; |
| --- | --- |

4.

een anodevertragingstijd van 10 microseconden of minder;

Noot: Onder 3A228 vallen met gas gevulde krytronbuizen en vacuümsprytronbuizen.

| b. | gestuurde vonkbruggen met beide volgende kenmerken:






  1. | een anodevertragingstijd van 15 microseconden of minder, en |
| --- | --- | --- |

b.

gestuurde vonkbruggen met beide volgende kenmerken:

1.

een anodevertragingstijd van 15 microseconden of minder, en

| 2. | een toelaatbare maximale stroomsterkte van 500 A of meer. |
| --- | --- |

2.

een toelaatbare maximale stroomsterkte van 500 A of meer.

3A231

Neutronengeneratorsystemen, met inbegrip van buizen, met beide volgende kenmerken:

| a. | ontworpen om te werken zonder uitwendig vacuümsysteem, en |
| --- | --- |

a.

ontworpen om te werken zonder uitwendig vacuümsysteem, en

| b. | gebruikmakend van elektrostatische versnelling voor het opwekken van een tritium-deuterium-kernreactie. |
| --- | --- |

b.

gebruikmakend van elektrostatische versnelling voor het opwekken van een tritium-deuterium-kernreactie.

3E201

"Technologie" volgens de algemene technologienoot voor het "gebruik" van apparatuur, bedoeld in 3A228.a, 3A228.b of 3A231.

6A203

Camera's en onderdelen, anders dan bedoeld in 6A003, als hieronder:

| a. | mechanisch roterende spiegelcamera's, als hieronder, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:






  1. | beeld(«framing»)-camera's met een registratiesnelheid groter dan 225 000 beelden per seconde, |
| --- | --- | --- |

a.

mechanisch roterende spiegelcamera's, als hieronder, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

1.

beeld(«framing»)-camera's met een registratiesnelheid groter dan 225 000 beelden per seconde,

| 2. | «streak»-camera's met een opnamesnelheid groter dan 0,5 mm per microseconde. |
| --- | --- |

2.

«streak»-camera's met een opnamesnelheid groter dan 0,5 mm per microseconde.

Noot: De in 6A203.a bedoelde onderdelen van zulke camera's zijn onder meer synchroniserende elektronische eenheden en rotorsamenstellen bestaande uit turbines, spiegels en lagers.

6A225

Snelheidsinterferometers voor het meten van snelheden van meer dan 1 km per seconde over een tijdsinterval van minder dan 10 microseconden.

Noot: In 6A225 zijn bedoeld snelheidsinterferometers zoals VISARs (Velocity interferometer systems for any reflector) en DLI's (Doppler laser interferometers) enz.).

6A226

Druksensoren, als hieronder:

| a. | manganinedrukmeters voor druk hoger dan 10 GPa; |
| --- | --- |

a.

manganinedrukmeters voor druk hoger dan 10 GPa;

| b. | kwartsdrukopnemers voor druk hoger dan 10 GPa. |
| --- | --- |

b.

kwartsdrukopnemers voor druk hoger dan 10 GPa.

---

(1)  Niet in het Nederlands ingeburgerde Engelse termen staan tussen ‹enkele aanhalingstekens›.

1

(2)  Fabrikanten die instelnauwkeurigheden berekenen overeenkomstig ISO 230/2 (1997) dienen overleg te plegen met de bevoegde autoriteiten van de lidstaat waarin ze gevestigd zijn.

2

(3)  De nummers tussen haakjes verwijzen naar de noten na deze tabel.

3

(4)  De verschillen in formulering en werkingssfeer tussen de bijlagen I en IV zijn gecursiveerd en vetgedrukt.

4

---