# Europeiska unionens C 107E/2012

| | ISSN 1977-1061
  doi:10.3000/19771061.CE2012.107.swe |
| --- | --- |
| Europeiska unionens
  officiella tidning | C 107E |
| | |
| Svensk utgåva | Meddelanden och upplysningar | 55 årgången13 april 2012 |

ISSN 1977-1061

doi:10.3000/19771061.CE2012.107.swe

Europeiska unionens

officiella tidning

C 107E

Svensk utgåva

Meddelanden och upplysningar

55 årgången13 april 2012

---

| Informationsnummer | Innehållsförteckning | Sida |
| --- | --- | --- |
| | III   Förberedande akter |
| | RÅDET |
| 2012/C 107E/01 | Rådets ståndpunkt (EU) nr 6/2012 vid första behandlingen inför antagandet av Europaparlamentets och rådets förordning om ändring av förordning (EG) nr 428/2009 om upprättande av en gemenskapsordning för kontroll av export, överföring, förmedling och transitering av produkter med dubbla användningsområdenAntagen av rådet den 21 februari 2012 | 1 |

Informationsnummer

Innehållsförteckning

Sida

III   Förberedande akter

RÅDET

2012/C 107E/01

Rådets ståndpunkt (EU) nr 6/2012 vid första behandlingen inför antagandet av Europaparlamentets och rådets förordning om ändring av förordning (EG) nr 428/2009 om upprättande av en gemenskapsordning för kontroll av export, överföring, förmedling och transitering av produkter med dubbla användningsområdenAntagen av rådet den 21 februari 2012

1

| SV | |
| --- | --- |

SV

---

III Förberedande akter

RÅDET

| 13.4.2012 | SV | Europeiska unionens officiella tidning | CE 107/1 |
| --- | --- | --- | --- |

13.4.2012

SV

Europeiska unionens officiella tidning

CE 107/1

---

RÅDETS STÅNDPUNKT (EU) nr 6/2012 VID FÖRSTA BEHANDLINGEN

inför antagandet av Europaparlamentets och rådets förordning om ändring av förordning (EG) nr 428/2009 om upprättande av en gemenskapsordning för kontroll av export, överföring, förmedling och transitering av produkter med dubbla användningsområden

Antagen av rådet den 21 februari 2012

2012/C 107 E/01

EUROPAPARLAMENTET OCH EUROPEISKA UNIONENS RÅD HAR ANTAGIT DENNA FÖRORDNING

med beaktande av fördraget om Europeiska unionens funktionssätt, särskilt artikel 207.2,

med beaktande av Europeiska kommissionens förslag,

efter översändande av utkastet till rättsakt till de nationella parlamenten,

i enlighet med det ordinarie lagstiftningsförfarandet (1), och

av följande skäl:

| (1) | Enligt förordning (EG) nr 428/2009 (2) ska produkter med dubbla användningsområden (inbegripet programvara och teknik) verkningsfullt kontrolleras när de exporteras från eller transiterar genom unionen eller levereras till ett tredjeland på grund av förmedlingstjänster som tillhandahålls av en förmedlare som är bosatt eller etablerad i unionen. |
| --- | --- |

(1)

Enligt förordning (EG) nr 428/2009 (2) ska produkter med dubbla användningsområden (inbegripet programvara och teknik) verkningsfullt kontrolleras när de exporteras från eller transiterar genom unionen eller levereras till ett tredjeland på grund av förmedlingstjänster som tillhandahålls av en förmedlare som är bosatt eller etablerad i unionen.

| (2) | För att medlemsstaterna och unionen ska kunna fullgöra sina internationella åtaganden fastställs i bilaga I till förordning (EG) nr 428/2009 en gemensam förteckning över produkter med dubbla användningsområden som avses i artikel 3 i den förordningen, som genomför internationellt överenskomna kontroller av produkter med dubbla användningsområden. Dessa åtaganden gjordes inom ramen för Australiengruppen, Missile Technology Control Regime, Nuclear Suppliers Group, Wassenaar-arrangemanget och konventionen om kemiska vapen. |
| --- | --- |

(2)

För att medlemsstaterna och unionen ska kunna fullgöra sina internationella åtaganden fastställs i bilaga I till förordning (EG) nr 428/2009 en gemensam förteckning över produkter med dubbla användningsområden som avses i artikel 3 i den förordningen, som genomför internationellt överenskomna kontroller av produkter med dubbla användningsområden. Dessa åtaganden gjordes inom ramen för Australiengruppen, Missile Technology Control Regime, Nuclear Suppliers Group, Wassenaar-arrangemanget och konventionen om kemiska vapen.

| (3) | Enligt förordning (EG) nr 428/2009 ska förteckningen i bilaga I uppdateras i enlighet med de relevanta skyldigheter och åtaganden samt ändringar av dessa som medlemsstaterna har godtagit i egenskap av medlemmar i de internationella icke-spridningssystemen och överenskommelserna om exportkontroll eller genom ratificering av relevanta internationella fördrag. |
| --- | --- |

(3)

Enligt förordning (EG) nr 428/2009 ska förteckningen i bilaga I uppdateras i enlighet med de relevanta skyldigheter och åtaganden samt ändringar av dessa som medlemsstaterna har godtagit i egenskap av medlemmar i de internationella icke-spridningssystemen och överenskommelserna om exportkontroll eller genom ratificering av relevanta internationella fördrag.

| (4) | Bilaga I till förordning (EG) nr 428/2009 bör ändras i enlighet med de ändringar som överenskommits inom ramen för Australiengruppen, Missile Technology Control Regime, Nuclear Suppliers Group, Wassenaar-arrangemanget och konventionen om kemiska vapen sedan den förordningen antogs. |
| --- | --- |

(4)

Bilaga I till förordning (EG) nr 428/2009 bör ändras i enlighet med de ändringar som överenskommits inom ramen för Australiengruppen, Missile Technology Control Regime, Nuclear Suppliers Group, Wassenaar-arrangemanget och konventionen om kemiska vapen sedan den förordningen antogs.

| (5) | För att underlätta för exportkontrollmyndigheter och andra aktörer att ta del av texterna bör en uppdaterad och konsoliderad version av bilaga I till förordning (EG) nr 428/2009 offentliggöras. |
| --- | --- |

(5)

För att underlätta för exportkontrollmyndigheter och andra aktörer att ta del av texterna bör en uppdaterad och konsoliderad version av bilaga I till förordning (EG) nr 428/2009 offentliggöras.

| (6) | Förordning (EG) nr 428/2009 bör därför ändras i enlighet med detta. |
| --- | --- |

(6)

Förordning (EG) nr 428/2009 bör därför ändras i enlighet med detta.

HÄRIGENOM FÖRESKRIVS FÖLJANDE.

Artikel 1

Bilaga I till förordning (EG) nr 428/2009 ska ersättas med texten i bilagan till den här förordningen.

Artikel 2

Denna förordning träder i kraft den trettionde dagen efter det att den har offentliggjorts i Europeiska unionens officiella tidning.

Denna förordning är till alla delar bindande och direkt tillämplig i alla medlemsstater.

Utfärdad i

På Europaparlamentets vägnar

Ordförande

...

På rådets vägnar

Ordförande

...

---

(1)  Europaparlamentets ståndpunkt av den 19 september 2011 (ännu ej offentliggjord i EUT) och rådets beslut av den ...

1

(2)  EUT L 134, 29.5.2009, s. 1.

2

---

BILAGA

"BILAGA I

Förteckning som avses i artikel 3 i denna förordning

FÖRTECKNING ÖVER PRODUKTER MED DUBBLA ANVÄNDNINGSOMRÅDEN

Med denna förteckning genomförs internationella överenskommelser om kontroll av produkter med dubbla användningsområden, bl.a. Wassenaar-arrangemanget, Missile Technology Control Regime (MTCR), Nuclear Suppliers' Group (NSG), dvs. gruppen av länder som levererar kärnmaterial, Australiengruppen och konventionen om kemiska vapen.

INNEHÅLL

Anmärkningar

Akronymer och förkortningar

Definitioner

| Kategori 0 | Kärnmaterial, anläggningar och utrustning |
| --- | --- |

Kategori 0

| Kategori 1 | Särskilda material och därtill hörande utrustning |
| --- | --- |

Kategori 1

| Kategori 2 | Materialbearbetning |
| --- | --- |

Kategori 2

| Kategori 3 | Elektronik |
| --- | --- |

Kategori 3

| Kategori 4 | Datorer |
| --- | --- |

Kategori 4

| Kategori 5 | Telekommunikation och "informationssäkerhet" |
| --- | --- |

Kategori 5

| Kategori 6 | Sensorer och lasrar |
| --- | --- |

Kategori 6

| Kategori 7 | Navigation och avionik |
| --- | --- |

Kategori 7

| Kategori 8 | Marint |
| --- | --- |

Kategori 8

| Kategori 9 | Rymd och framdrivning |
| --- | --- |

Kategori 9

ALLMÄNNA ANMÄRKNINGAR TILL BILAGA I

| 1. | För kontroll av varor som är konstruerade eller modifierade för militär användning, se relevant förteckning (relevanta förteckningar) för kontroll av militära varor som upprätthålls av de enskilda medlemsstaterna. Hänvisningarna i denna bilaga med anmärkningen "SE ÄVEN KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING" är till samma förteckning. |
| --- | --- |

1.

För kontroll av varor som är konstruerade eller modifierade för militär användning, se relevant förteckning (relevanta förteckningar) för kontroll av militära varor som upprätthålls av de enskilda medlemsstaterna. Hänvisningarna i denna bilaga med anmärkningen "SE ÄVEN KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING" är till samma förteckning.

| 2. | Syftet med kontrollerna i denna bilaga ska inte omintetgöras genom export av varor som inte är underställda kontroll (inklusive anläggning) men som innehåller en eller flera beståndsdelar vilka är underställda kontroll, när den eller de beståndsdelar som är underställda kontroll utgör huvudbeståndsdelen av varan och det är möjligt att avlägsna den och använda den för andra ändamål.







  : | Vid bedömning huruvida en eller flera beståndsdelar ska betraktas som huvudbeståndsdel ska hänsyn tas till kvantitet, värde, tekniskt kunnande samt andra omständigheter som är av betydelse för att bedöma huruvida en eller flera av de kontrollerade beståndsdelarna är en huvudbeståndsdel av de varor som anskaffas. |
| --- | --- | --- |

2.

Syftet med kontrollerna i denna bilaga ska inte omintetgöras genom export av varor som inte är underställda kontroll (inklusive anläggning) men som innehåller en eller flera beståndsdelar vilka är underställda kontroll, när den eller de beståndsdelar som är underställda kontroll utgör huvudbeståndsdelen av varan och det är möjligt att avlägsna den och använda den för andra ändamål.

:

| 3. | Varor som anges i denna bilaga inbegriper både nya och begagnade varor. |
| --- | --- |

3.

Varor som anges i denna bilaga inbegriper både nya och begagnade varor.

| 4. | I vissa fall förtecknas kemikalier med namn och CAS-nummer. Förteckningen gäller kemikalier med samma strukturformel (inklusive hydrater) oberoende av namn eller CAS-nummer. CAS-nummer visas som ett bidrag till identifieringen av en viss kemikalie eller blandning, oberoende av nomenklatur. CAS-nummer kan inte användas som enda identifikation, eftersom vissa former av den förtecknade kemikalien har olika CAS-nummer, medan blandningar som innehåller en förtecknad kemikalie också kan ha olika CAS-nummer. |
| --- | --- |

4.

I vissa fall förtecknas kemikalier med namn och CAS-nummer. Förteckningen gäller kemikalier med samma strukturformel (inklusive hydrater) oberoende av namn eller CAS-nummer. CAS-nummer visas som ett bidrag till identifieringen av en viss kemikalie eller blandning, oberoende av nomenklatur. CAS-nummer kan inte användas som enda identifikation, eftersom vissa former av den förtecknade kemikalien har olika CAS-nummer, medan blandningar som innehåller en förtecknad kemikalie också kan ha olika CAS-nummer.

ANMÄRKNING RÖRANDE KÄRNTEKNIK (Nuclear Technology Note – NTN)

(Denna anmärkning ska läsas jämförd med kategori 0, avsnitt E.)

"Teknik" som har direkt samband med varor som finns upptagna under kategori 0 ska kontrolleras enligt bestämmelserna för kategori 0.

"Teknik" som "erfordras" för "utveckling", "produktion" eller "användning" av varor som omfattas av kontroll, omfattas av kontroll även om den kan tillämpas på varor som inte omfattas av kontroll.

Godkännande av export av varor medger även export till samma slutanvändare av det minimum av "teknik" som erfordras för installation, drift, underhåll och reparation av varan.

Kontroll av överföring av "teknik" gäller inte "allmänt tillgänglig" information eller "vetenskaplig grundforskning".

ALLMÄN ANMÄRKNING RÖRANDE TEKNIK (General Technology Note – GTN)

(Denna anmärkning ska läsas jämförd med kategorierna 1–9 i avsnitt E.)

Export av "teknik" som "erfordras" för "utveckling", "produktion" eller "användning" av varor som kontrolleras i kategorierna 1-9, kontrolleras i den ordning som föreskrivs i kategorierna 1–9.

"Teknik" som "erfordras" för "utveckling", "produktion" eller "användning" av varor som omfattas av kontroll, omfattas av kontroll även om den kan tillämpas på varor som inte omfattas av kontroll.

Kontrollen gäller inte sådan "teknik" som utgör ett nödvändigt minimum för installation, drift, underhåll (kontroll) och reparation av varor som inte är underställda kontroll eller för vilka exporttillstånd har beviljats.

| : | Denna anmärkning medger inte export av "teknik" som anges i avsnitten 1E002.e, 1E002.f, 8E002.a och 8E002.b. |
| --- | --- |

:

Kontroll av överföring av "teknik" gäller inte "allmänt tillgänglig" information, "grundforskning" eller det minimum av information som behövs för patentansökningar.

ALLMÄN ANMÄRKNING RÖRANDE PROGRAMVARA (General Software Note – GSN)

(Denna anmärkning har företräde framför bestämmelserna i kategorierna 0–9 i avsnitt D.)

Den "programvara" som beskrivs i kategorierna 0–9 omfattas inte av kontroll om den

| a) | i regel är tillgänglig för allmänheten genom att






  1. | den säljs från lager vid ett försäljningsställe i detaljistledet utan restriktioner






  a) | över disk, |
| --- | --- | --- | --- |

a)

i regel är tillgänglig för allmänheten genom att

1.

den säljs från lager vid ett försäljningsställe i detaljistledet utan restriktioner

a)

över disk,

| b) | via postorderförsäljning, |
| --- | --- |

b)

via postorderförsäljning,

| c) | på elektronisk väg, eller |
| --- | --- |

c)

på elektronisk väg, eller

| d) | via telefonförsäljning, och |
| --- | --- |

d)

via telefonförsäljning, och

| 2. | den kan installeras av användaren utan väsentlig medverkan av försäljaren, eller







  : | Punkt a i Allmän anmärkning rörande programvara tar inte bort kontrollen av "programvara" som anges i kategori 5 – del 2 ("Informationssäkerhet"). |
| --- | --- | --- |

2.

den kan installeras av användaren utan väsentlig medverkan av försäljaren, eller

:

| b) | är "allmänt tillgänglig". |
| --- | --- |

b)

är "allmänt tillgänglig".

AKRONYMER OCH FÖRKORTNINGAR SOM ANVÄNDS I DENNA BILAGA

En akronym eller en förkortning, när den används som en definierad term, återfinns under ‧Definition av termer som används i denna bilaga‧.

| Akronym eller förkortning | Betydelse |
| --- | --- |
| ABEC | Annular Bearing Engineers Committee |
| AGMA | American Gear Manufacturers' Association |
| AHRS | Attitude and Heading Reference Systems |
| AISI | American Iron and Steel Institute |
| ALU | aritmetisk logikenhet |
| ANSI | American National Standards Institute |
| ASTM | American Society for Testing and Materials |
| ATC | flygkontrolltjänst |
| AVLIS | Atomic vapour laser isotope separation (isotopseparation med "laser" tillämpad på atomär ånga) |
| CAD | computer-aided-design (datorstödd konstruktion) |
| CAS | Chemical Abstracts Service |
| CCITT | Comité Consultatif International Télégraphique et Téléphonique (Internationella rådgivande telegraf- och telefonkommittén) |
| CDU | control and display unit (kontroll- och indikatorenhet) |
| CEP | circular error probable |
| CNTD | controlled nucleation thermal deposition |
| CRISLA | Chemical reaction by isotope selective laser activation (kemisk reaktion genom isotopselektiv laseraktivering) |
| CVD | kemisk förångningsdeposition |
| CW | kemisk krigföring |
| CW (för laser) | continuous wave |
| DME | Distance Measuring Equipment (avståndsmätningsradar) |
| DS | directionally solidified |
| EB-PVD | electron beam physical vapour deposition (fysisk förångningsdeposition med elektronstråle) |
| EBU | European Broadcasting Union (Europeiska radio- och TV-företagens samarbetsorganisation) |
| ECM | electro-chemical machining (elektrokemisk bearbetning) |
| ECR | electron cyclotron resonance (elektroncyklotronresonans) |
| EDM | electrical discharge machines (elektriska urladdningsmaskiner) |
| EEPROMS | electrically erasable programmable read only memory (elektriskt raderbart programmerbart read-only minne) |
| EIA | Electronic Industries Association |
| EMC | electromagnetic compatibility (elektromagnetisk kompatibilitet) |
| ETSI | European Telecommunications Standards Institute (Europeiska institutet för telestandarder) |
| FFT | Fast Fourier Transform (Fast Fourier-transformation) |
| GLONASS | global navigation satellite system |
| GPS | global positioning system (GPS-lokaliseringssystemet) |
| HBT | hetero-bipolar transistors |
| HDDR | high density digital recording ("high density" digital inspelning) |
| HEMT | high electron mobility transistors (transistorer med hög elektronmobilitet) |
| ICAO | International Civil Aviation Organisation (Internationella civila luftfartsorganisationen) |
| IEC | International Electro-technical Commission (Internationella elektrotekniska kommissionen) |
| IEEE | Institute of Electrical and Electronic Engineers |
| IFOV | instantanous-field-of-view |
| ILS | instrument landing system (instrumentlandningssystem) |
| IRIG | inter-range instrumentation group |
| ISA | internationell standardatmosfär |
| ISAR | inverse synthetic aperture radar |
| ISO | International Organization for Standardization (Internationella standardiseringsorganisationen) |
| ITU | International Telecommunication Union (Internationella teleunionen) |
| JIS | japansk industristandard |
| JT | Joule-Thomson |
| LIDAR | light detection and ranging |
| LRU | line replaceable unit |
| MAC | message authentication code |
| Mach | förhållandet mellan ett föremåls och ljudets hastighet (efter Ernst Mach) |
| MLIS | Molecular laser isotopic separation (isotopseparation med "laser" tillämpad på gasmolekyler) |
| MLS | mikrovågslandningssystem |
| MOCVD | metal organic chemical vapour deposition (metall-organisk kemisk förångningsdeposition) |
| MRI | magnetic resonance imaging |
| MTBF | mean-time-between-failures |
| Mtops | million theoretical operations per second (miljoner teoretiska operationer per sekund) |
| MTTF | mean-time-to-failure |
| NBC | Nuclear, Biological and Chemical (nukleära, biologiska och kemiska) |
| NDT | non-destructive test (icke-förstörande prov) |
| PAR | precision approach radar (precisionsinflygningsradar) |
| PIN | personal identification number (personidentifikationsnummer) |
| ppm | parts per million (delar per miljon) |
| PSD | power spectral density |
| QAM | quadrature-amplitude-modulation (kvadraturamplitudmodulering) |
| RF | radiofrekvens |
| SACMA | Suppliers of Advanced Composite Materials Association |
| SAR | synthetic aperture radar |
| SC | single crystal (enkristall) |
| SLAR | sidelooking airborne radar |
| SMPTE | Society of Motion Picture and Television Engineers |
| SRA | shop replaceable assembly |
| SRAM | static random-access memory |
| SRM | SACMA Recommended Methods (av SACMA rekommenderade metoder) |
| SSB | single sideband (enkelt sidband) |
| SSR | secondary surveillance radar (sekundär övervakningsradar) |
| TCSEC | trusted computer system evaluation criteria |
| TIR | total indicated reading (totalt indikatorutslag) |
| UV | ultraviolett |
| UTS | ultimate tensile strength (brottgräns) |
| VOR | very high frequency omni-directional range |
| YAG | yttrium/aluminium garnet (yttrium/aluminium-granat) |

Akronym eller förkortning

Betydelse

ABEC

Annular Bearing Engineers Committee

AGMA

American Gear Manufacturers' Association

AHRS

Attitude and Heading Reference Systems

AISI

American Iron and Steel Institute

ALU

aritmetisk logikenhet

ANSI

American National Standards Institute

ASTM

American Society for Testing and Materials

ATC

flygkontrolltjänst

AVLIS

Atomic vapour laser isotope separation (isotopseparation med "laser" tillämpad på atomär ånga)

CAD

computer-aided-design (datorstödd konstruktion)

CAS

Chemical Abstracts Service

CCITT

Comité Consultatif International Télégraphique et Téléphonique (Internationella rådgivande telegraf- och telefonkommittén)

CDU

control and display unit (kontroll- och indikatorenhet)

CEP

circular error probable

CNTD

controlled nucleation thermal deposition

CRISLA

Chemical reaction by isotope selective laser activation (kemisk reaktion genom isotopselektiv laseraktivering)

CVD

kemisk förångningsdeposition

CW

kemisk krigföring

CW (för laser)

continuous wave

DME

Distance Measuring Equipment (avståndsmätningsradar)

DS

directionally solidified

EB-PVD

electron beam physical vapour deposition (fysisk förångningsdeposition med elektronstråle)

EBU

European Broadcasting Union (Europeiska radio- och TV-företagens samarbetsorganisation)

ECM

electro-chemical machining (elektrokemisk bearbetning)

ECR

electron cyclotron resonance (elektroncyklotronresonans)

EDM

electrical discharge machines (elektriska urladdningsmaskiner)

EEPROMS

electrically erasable programmable read only memory (elektriskt raderbart programmerbart read-only minne)

EIA

Electronic Industries Association

EMC

electromagnetic compatibility (elektromagnetisk kompatibilitet)

ETSI

European Telecommunications Standards Institute (Europeiska institutet för telestandarder)

FFT

Fast Fourier Transform (Fast Fourier-transformation)

GLONASS

global navigation satellite system

GPS

global positioning system (GPS-lokaliseringssystemet)

HBT

hetero-bipolar transistors

HDDR

high density digital recording ("high density" digital inspelning)

HEMT

high electron mobility transistors (transistorer med hög elektronmobilitet)

ICAO

International Civil Aviation Organisation (Internationella civila luftfartsorganisationen)

IEC

International Electro-technical Commission (Internationella elektrotekniska kommissionen)

IEEE

Institute of Electrical and Electronic Engineers

IFOV

instantanous-field-of-view

ILS

instrument landing system (instrumentlandningssystem)

IRIG

inter-range instrumentation group

ISA

internationell standardatmosfär

ISAR

inverse synthetic aperture radar

ISO

International Organization for Standardization (Internationella standardiseringsorganisationen)

ITU

International Telecommunication Union (Internationella teleunionen)

JIS

japansk industristandard

JT

Joule-Thomson

LIDAR

light detection and ranging

LRU

line replaceable unit

MAC

message authentication code

Mach

förhållandet mellan ett föremåls och ljudets hastighet (efter Ernst Mach)

MLIS

Molecular laser isotopic separation (isotopseparation med "laser" tillämpad på gasmolekyler)

MLS

mikrovågslandningssystem

MOCVD

metal organic chemical vapour deposition (metall-organisk kemisk förångningsdeposition)

MRI

magnetic resonance imaging

MTBF

mean-time-between-failures

Mtops

million theoretical operations per second (miljoner teoretiska operationer per sekund)

MTTF

mean-time-to-failure

NBC

Nuclear, Biological and Chemical (nukleära, biologiska och kemiska)

NDT

non-destructive test (icke-förstörande prov)

PAR

precision approach radar (precisionsinflygningsradar)

PIN

personal identification number (personidentifikationsnummer)

ppm

parts per million (delar per miljon)

PSD

power spectral density

QAM

quadrature-amplitude-modulation (kvadraturamplitudmodulering)

RF

radiofrekvens

SACMA

Suppliers of Advanced Composite Materials Association

SAR

synthetic aperture radar

SC

single crystal (enkristall)

SLAR

sidelooking airborne radar

SMPTE

Society of Motion Picture and Television Engineers

SRA

shop replaceable assembly

SRAM

static random-access memory

SRM

SACMA Recommended Methods (av SACMA rekommenderade metoder)

SSB

single sideband (enkelt sidband)

SSR

secondary surveillance radar (sekundär övervakningsradar)

TCSEC

trusted computer system evaluation criteria

TIR

total indicated reading (totalt indikatorutslag)

UV

ultraviolett

UTS

ultimate tensile strength (brottgräns)

VOR

very high frequency omni-directional range

YAG

yttrium/aluminium garnet (yttrium/aluminium-granat)

DEFINITION AV TERMER SOM ANVÄNDS I DENNA BILAGA

Definitioner av termer mellan ‧enkla citattecken‧ ges i en teknisk anm. till den berörda produkten.

Definitioner av termer mellan "dubbla citationstecken" är följande:

| : | Hänvisningar till kategorier ges inom parentes efter den definierade termen. |
| --- | --- |

:

"Agens för kravallhantering" (1) är ämnen som, när de används under förväntade förhållanden i samband med kravallhantering, hos människor snabbt framkallar sensorisk irritation eller funktionsnedsättande fysiska effekter som försvinner efter en kort period sedan exponeringen avbrutits.

| : | Tårgas ingår i "agens för kravallhantering". |
| --- | --- |

:

"Aktiva bildelement (pixel)" (6 8). Aktiva bildelement är det minsta (ensamma) element i en halvledarmatris som har en fotoelektrisk överföringsfunktion när den utsätts för ljusstrålning (elektromagnetisk strålning).

"Aktiva flygstyrsystem" (7). Aktiva flygstyrsystem är system som verkar för att förhindra oönskade rörelser hos "luftfartyg" eller missiler genom att autonomt bearbeta utsignaler från flera sensorer och sedan åstadkomma nödvändiga förebyggande kommandon för att utöva automatisk styrning.

"Alla tillgängliga kompensationer" (2) innebär efter att hänsyn tagits till alla rimliga åtgärder som tillverkaren har till sitt förfogande för att minska alla systematiska felmarginaler för den särskilda modell av verktygsmaskin eller mätningsfel för den särskilda koordinatmätningsmaskin som avses.

"Allmänt tillgänglig" (GTN NTN GSN). Här avses att en "teknik" eller "programvara" har gjorts allmänt tillgänglig utan restriktioner för dess vidare spridning. (Upphovsrättsliga inskränkningar innebär inte att "teknik" eller "programvara" inte är "allmänt tillgänglig".)

"Anpassad för användning i krig" (1). Härmed avses alla modifikationer eller urval (såsom en annan renhet, hållbarhetstid, virulens, spridningsegenskaper eller motståndskraft mot UV-strålning) som framtagits för att öka effektiviteten i fråga om att döda människor och djur, skada utrustningar, skördar eller miljön.

"Användartillgänglig programmeringsmöjlighet" (6) avser möjligheten för en användare att sätta in, modifiera eller ersätta program på annat sätt än

| a) | en fysisk förändring i kopplingar eller tråddragningar, eller |
| --- | --- |

a)

en fysisk förändring i kopplingar eller tråddragningar, eller

| b) | inställning av funktionskontrollerna inklusive införandet av nya parametrar. |
| --- | --- |

b)

inställning av funktionskontrollerna inklusive införandet av nya parametrar.

"Användning" (GTN NTN Alla) avser drift, installation (inklusive installation på plats), underhåll (kontroll), reparation, översyn och renovering.

"APP" (4) är detsamma som "justerad topprestanda".

"Asymmetrisk algoritm" (5) är en krypteringsalgoritm där olika nycklar av matematisk typ används för kryptering och dekryptering.

| : | Ett vanligt användningsområde för "asymmetriska algoritmer" är nyckelhantering. |
| --- | --- |

:

"Automatisk målsökning" (6). Härmed avses en processteknik som automatiskt bestämmer och som utmatning lämnar ett extrapolerat värde av målets mest sannolika position i realtid.

"Avstämbar" (6) är en lasers förmåga att producera en kontinuerlig utgångssignal vid alla våglängder över ett område av flera laserövergångar. En linjevalbar laser kan producera diskreta våglängder inom en laserövergång och betraktas icke som "avstämbar".

"Axialkast" (camming) (2) är huvudspindelns axiella kast under ett varv mätt i ett plan vinkelrätt mot spindelns fästdorn, i en punkt nära fästdornets periferi. (Referens ISO 230/1 1986 punkt 5.63.)

"Bandspridningsteknik" (5). Med bandspridningsteknik avses teknik där innehållet i en relativt smal kommunikationskanal sprids ut över ett mycket bredare frekvensspektrum.

"Bildbehandling" (4) är bearbetning av externt upphämtade informationsbärande bilder med hjälp av algoritmer som tidskompression, filtrering, extraktion, urval, korrelation, byte eller transformering mellan områden (t.ex. Fast Fourier-transform eller Walsh-transform). Det innefattar inte algoritmer som endast innehåller linjär- eller rotationsändringar av en enkel bild som translation, utdrag, registrering eller falsk färgsättning.

"Blandad" (1). Härmed avses en blandning av termoplastiska fibrer och förstärkningsfibrer med avsikt att åstadkomma en fiberförstärkt "matris" blandning i en total fiberblandning.

"Bränslecell" (8) är en elektrokemisk anordning som omvandlar kemisk energi direkt till likströmselektricitet genom att förbruka bränsle från en extern källa.

"CEP" (Troligt cirkulärt fel) (7) är ett mått på noggrannhet; radien av den cirkel med centrum i målet i vilken på ett angivet avstånd 50 % av angivelserna pekar.

"Cirkulationsstyrda, antivridmomentstyrda eller cirkulationsstyrda riktningskontrollsystem" (7) är system som använder luft som blåses över aerodynamiska ytor för att öka eller styra de krafter som genereras av ytorna.

"Civila luftfartyg" (1 3 4 7) är de "luftfartyg" som förts upp på förteckningar över flygduglighetscertifiering som ges ut av civila luftfartsmyndigheter, för att civilt flyga på inrikes eller utrikes leder för civilt, privat eller affärsmässigt bruk.

| : | Se även "luftfartyg". |
| --- | --- |

:

"CW-laser" (6) är en "laser" som producerar en nominellt konstant utgångsenergi under mer än 0,25 sekunder.

"Databaserade referensnavigerings- (Data-Based Referenced Navigation- "DBRN") (7) system" avser system som utnyttjar olika källor av tidigare uppmätta geokarteringsdata som integreras för att ge exakt navigeringsinformation under dynamiska förhållanden. Datakällor inbegriper batymetriska kartor, stjärnkartor, gravimetriska kartor, magnetkartor eller digitala, tredimensionella terrängkartor.

"Deformerbara speglar" (6) (även kända som anpassningsbara optiska speglar)

Härmed avses speglar som har

| a) | en enda kontinuerlig optisk reflekterande yta som kan deformeras dynamiskt genom att individuella vrid- eller tryckkrafter appliceras för att kompensera för distortioner i den optiska vågformen som infaller mot spegeln, eller |
| --- | --- |

a)

en enda kontinuerlig optisk reflekterande yta som kan deformeras dynamiskt genom att individuella vrid- eller tryckkrafter appliceras för att kompensera för distortioner i den optiska vågformen som infaller mot spegeln, eller

| b) | flera optiska reflekterande element som individuellt och dynamiskt kan flyttas om genom påverkan av vrid- eller tryckkrafter för att kompensera för distortioner i den optiska vågform som infaller mot spegeln. |
| --- | --- |

b)

flera optiska reflekterande element som individuellt och dynamiskt kan flyttas om genom påverkan av vrid- eller tryckkrafter för att kompensera för distortioner i den optiska vågform som infaller mot spegeln.

"Deltagande stat" (7 9). Med deltagande stat avses en stat som deltar i Wassenaar-arrangemanget.

"Diffusionsbondning" (1 2 9) är en molekylär förening i fast fas av minst två separata metaller i ett stycke som har en gemensam styrka som är lika med det svagaste materialets.

"Digital dator" (4 5) är utrustning som genom att anta en eller flera diskreta variabler, kan utföra allt det följande:

| a) | Ta emot data. |
| --- | --- |

a)

Ta emot data.

| b) | Lagra data eller instruktioner i fasta eller föränderliga (skrivbara) minnesenheter. |
| --- | --- |

b)

Lagra data eller instruktioner i fasta eller föränderliga (skrivbara) minnesenheter.

| c) | Bearbeta data med hjälp av lagrade sekvenser av instruktioner som kan förändras, och |
| --- | --- |

c)

Bearbeta data med hjälp av lagrade sekvenser av instruktioner som kan förändras, och

| d) | Mata ut data. |
| --- | --- |

d)

Mata ut data.

| : | Förändring av en lagrad sekvens av instruktioner omfattar utbyte av en fast minnesenhet, men inte en fysisk förändring av tråddragning eller interna kopplingar. |
| --- | --- |

:

"Digital överföringshastighet" (def) är den totala bithastigheten av den information som överförs direkt på varje typ av medium.

| : | Se även "total digital överföringshastighet". |
| --- | --- |

:

"Digitalt flygövervakningssystem för att optimera flygdata" (7) avser ett system som automatiskt styr "luftfartygets" flygvariabler och bana för att uppnå uppdragets mål även om realtidsförändringar uppstår beroende på omständigheter eller andra "luftfartyg".

"Direktverkande hydraulisk pressning" (2) är en formförändringsprocess som använder en vätskefylld flexibel blåsa i direkt kontakt med arbetsstycket.

"Drev" (1) är en bunt av "enfibertrådar", vanligtvis nästan parallella.

"Drifthastighet" (gyro) (7) är den komponent av ett gyros utsignal som är funktionellt oberoende av gyrots rotation. Det uttrycks som en vinkelhastighet (IEEE STD 528-2001).

"Dynamiska signalanalysatorer" (3) är "signalanalysatorer" som använder digital samplings- och transformationsteknik för att ge ett Fourierspektrum av den givna vågformen inklusive amplitud- och fasinformation.

| : | Se även "signalanalysatorer". |
| --- | --- |

:

"Effektbandbredd" (3 5 7). Effektbandbredd, ibland även benämnt 3-dB gränser, är den bandbredd inom vilken utgångseffekten förblir konstant, inom 3 dB, utan justering av andra påverkbara parametrar.

"Effektiva gram" (0 1) av "särskilt klyvbart material" är

| a) | för plutoniumisotoper och uran-233, isotopvikten i gram, |
| --- | --- |

a)

för plutoniumisotoper och uran-233, isotopvikten i gram,

| b) | för uran som anrikats 1 % eller mer med avseende på isotopen uran-235, massan av uran i gram multiplicerad med kvadraten på dess anrikning uttryckt som ett decimalviktbråk, |
| --- | --- |

b)

för uran som anrikats 1 % eller mer med avseende på isotopen uran-235, massan av uran i gram multiplicerad med kvadraten på dess anrikning uttryckt som ett decimalviktbråk,

| c) | för uran anrikat under 1 % med avseende på isotopen uran-235, massan av uran i gram multiplicerad med 0,0001. |
| --- | --- |

c)

för uran anrikat under 1 % med avseende på isotopen uran-235, massan av uran i gram multiplicerad med 0,0001.

"Ekvivalent täthet" (6) är massan (vikten) hos en optisk enhet per enhet optisk yta projicerad på den optiska ytan.

"Elektronisk sammansättning" (2 3 4 5) är ett antal elektroniska komponenter (dvs. ‧kretselement‧, ‧diskreta komponenter‧, integrerade kretsar, etc.) som kopplats samman för att utföra en eller flera angivna funktioner och är utbytbara i sin helhet och i allmänhet även kan tas isär.

| : | ‧Kretselement‧ är en enkel aktiv eller passiv funktionsdel av en elektronisk krets, t.ex. en diod, en transistor, ett motstånd, en kondensator. |
| --- | --- |

:

| : | ‧Diskret komponent‧: Ett separat inkapslat ‧kretselement‧ med sina egna externa anslutningar. |
| --- | --- |

:

"Energetiskt material" (1) är ämnen eller blandningar som reagerar kemiskt för att frigöra energi som är nödvändig för den tillämpning de är avsedda för. "Sprängämnen", "pyrotekniska produkter" och "drivmedel" är underavdelningar till "energirika material".

"Enfibertrådar" (1) eller fibertrådar är den minsta beståndsdelen av en fiber, vanligtvis flera mikrometer i diameter.

"Erfordras" (GTN 1-9) avser när det används i samband med "teknik" endast den del av "tekniken" som är särskilt ansvarig för att uppnå eller erbjuda den omfattade utförandenivån, karaktäristiken eller funktionen. Sådan "teknik" som "erfordras" kan delas av olika varor.

"Expertsystem" (7) är system som kan lämna ett resultat när en datamängd får bearbetas av regler som lagrats oberoende av "programmet", och som kan utföra något av följande:

| a) | Automatiskt förändra en "källkod" som användaren matar in; |
| --- | --- |

a)

Automatiskt förändra en "källkod" som användaren matar in;

| b) | Lämna kunskap relaterad till en art av problem i ett skenbart naturligt språk; eller |
| --- | --- |

b)

Lämna kunskap relaterad till en art av problem i ett skenbart naturligt språk; eller

| c) | Samla kunskap som erfordras för dess utveckling (symbolisk träning). |
| --- | --- |

c)

Samla kunskap som erfordras för dess utveckling (symbolisk träning).

"FADEC-system" (7 9) är detsamma som "full authority digital engine control systems". Ett digitalt elektroniskt reglersystem för en gasturbinmotor som är i stånd att självständigt kontrollera motorn över hela dess driftområde, från begärd start av motorn till begärd avstängning av motorn, under både normala omständigheter och när fel föreligger.

"Fast" (5) Med fast menas att kodnings- eller kompressionsalgoritmen inte kan ta emot externa parametrar (t.ex. krypto- eller nyckelvariabler) och inte kan ändras av användaren.

"Fasstyrda antennsystem med elektronisk styrning" (5 6) är en antenn runt vilken strålning bildas (lob) med hjälp av fasstyrning, t.ex. kan strålningsriktningen styras av komplexa magnetiseringskoefficienter för de strålande elementen och strålningsriktningen kan förändras i såväl asimut som elevation, eller bådadera, genom att en elektrisk signal läggs på, både vid mottagning och sändning.

"Feltolerans" (4) Med feltoleranta datorer avses en dator eller ett datorsystem som efter ett hård- eller programvarufel, utan mänskligt ingripande kan fortsätta att arbeta, på en given servicenivå som ger: kontinuerlig verksamhet, integritet av data och återhämtning av arbetet vid en fastställd tid.

"Fibrer eller fiberliknande material" (0 1 8) omfattar

| a) | kontinuerliga "enfibertrådar", |
| --- | --- |

a)

kontinuerliga "enfibertrådar",

| b) | kontinuerliga "garn" och "väv", |
| --- | --- |

b)

kontinuerliga "garn" och "väv",

| c) | "tejp", duk, mattor och band, |
| --- | --- |

c)

"tejp", duk, mattor och band,

| d) | hackade fibrer, cellull, rayonull och sammanhängande fiberfiltar, |
| --- | --- |

d)

hackade fibrer, cellull, rayonull och sammanhängande fiberfiltar,

| e) | tunna trådar (whiskers), antingen mono- eller polykristallina av valfri längd, |
| --- | --- |

e)

tunna trådar (whiskers), antingen mono- eller polykristallina av valfri längd,

| f) | aromatisk polyamidmassa. |
| --- | --- |

f)

aromatisk polyamidmassa.

"Finfördelning" (1) är en process där ett material sönderdelas till partiklar genom krossning eller malning.

"Fokalplansmatris" (6 8) är ett en- eller tvådimensionellt plant lager, eller en kombination av plana lager, av individuella detektorelement, med eller utan avläsningselektronik, som arbetar i det fokala planet.

| : | Avsikten är inte att inkludera en stack med enstaka detektorelement eller detektorer med två, tre eller fyra element, såvida inte tidsfördröjning och integration genomförs i elementet. |
| --- | --- |

:

"Frekvenssyntesutrustning" (3) är varje typ av frekvensgivare, oavsett vilken teknik som används, som kan avge ett flertal samtidiga eller alternativa utfrekvenser, från en eller flera utgångar, som styrs, kontrolleras och ordnas av ett färre antal standard- eller masterfrekvenser.

"III/V-föreningar" (3 6) är polykristallinska, binära eller komplexa monokristallinska produkter som består av beståndsdelar ur grupperna IIIA och VA i Mendelejevs periodiska system (t.ex. galliumarsenid, galliumaluminiumarsenid, indiumfosfid).

"Förformade kolfibrer" (1). Härmed avses ett ordnat arrangemang av fibrer med eller utan ytbehandling som är avsedda att utgöra ett ramverk för en del innan "matrisen" tillsätts för att bilda en "komposit".

"Garn" (1) är en bunt av tvinnade ‧kardeler‧.

| : | ‧Kardel‧ är en bunt av "enfibertrådar" (typiskt mer än 200) som arrangerats i stort sett parallellt. |
| --- | --- |

:

"Gasfinfördelning" (1) är en process som reducerar en smält ström av metallegering till droppar med en diameter på 500 μm eller mindre genom att den utsätts för gasström med högt tryck.

"Genomsnittlig utgångseffekt" (6) är den totala "laser" utgångsenergin i joule dividerad med "laserlängden" i sekunder.

"Geografiskt åtskilda" (6) innebär att varje avläsningsstation har ett avstånd av minst 1 500 m i alla riktningar till andra stationer. Mobila stationer betraktas alltid som "geografiskt åtskilda".

"Grundforskning" (GTN och NTN) är experimentellt eller teoretiskt arbete för inhämtande av ny kunskap om fenomens fundamentala principer eller observerbara fakta och inte är direkt inriktad mot ett bestämt praktiskt syfte eller mål.

"Grundstabilitet" (accelerometer) (7) är genomsnittet under en angiven tidsperiod av accelerometerns utsignal, mätt vid angivna driftsförhållanden som inte har någon korrelation till ingångsacceleration eller rotation. "Grundstabilitet" uttrycks i g eller i meter per sekundkvadrat (g eller m/s2). (IEEE STD 528-2001) (μg = 1 × 10-6 g).

"Grundstabilitet" (gyro) (7) är genomsnittet under en angiven tidsperiod av gyrots utsignal, mätt vid angivna driftsförhållanden som inte har någon korrelation till ingångsacceleration eller rotation. "Grundstabilitet" uttrycks vanligen i grader per timme (grader/h). (IEEE STD 528-2001).

"Hoppfrekvensteknik" (5) är en typ av "spritt spektrum" där sändningsfrekvensen för en enkel kommunikationskanal bringas att förändras genom en slumpmässig eller pseudo-slumpmässig sekvens av diskreta steg.

"Huvudbeståndsdel" (4) är när det tillämpas i kategori 4 en "huvudbeståndsdel" om dess ersättningskostnad utgör mer än 35 % av det totala värdet av det system där den utgör en beståndsdel. Beståndsdelens värde är det pris som tillverkaren, eller systemanpassaren, har betalat för beståndsdelen. Totalvärdet är det normala internationella försäljningspriset till oberoende parter vid platsen för tillverkning eller samlastning.

"Huvudminne" (4) är en dators primärminne för lagring av data eller instruktioner för snabb åtkomst av en centralprocessor. Det består av en digital dators internminne och varje till detta minne hierarkiskt anslutet minne, såsom cache-minne eller icke-sekventiellt åtkomligt utvidgat minne.

"Immuntoxin" (1) är ett konjugat av en cellspecifik monoklonal antikropp och ett "toxin" eller "toxinkomponent", som selektivt påverkar sjuka celler.

"Induktionsmagnetometer" (6) är en enda givare som känner av en enkel magnetfältsgradient och tillhörande elektronik vars utsignal är ett mått på den magnetiska fältgradienten.

"Informationssäkerhet" (4 5) är alla medel och funktioner som säkerställer att information eller kommunikation hålls åtkomlig, konfidentiell eller bevarar sin integritet, med undantag för de medel och funktioner som är avsedda att skydda mot funktionsfel. Detta inkluderar "kryptografi", "kryptografisk aktivering", ‧kryptoanalys‧, skydd mot röjande strålning samt datorsäkerhet.

| : | Med ‧kryptoanalys‧ avses analys av ett kryptografiskt system eller dess in- eller utgångar för att utvinna konfidentiella variabler eller känsliga data, inklusive klartext. |
| --- | --- |

:

"Inre foder" (9) är lämpat för limförbindelsen mellan det fasta bränslet och huset eller isoleringsinsatsen. Fodret är vanligen en vätskepolymerbaserad dispersion av svårsmält eller isolerande material, t.ex. kolfylld hydroxylterminerad polybutadien (HTPB) eller annan polymer med tillsatta härdare, som sprutas eller gjuts över insidan av huset.

"Instrumenterad räckvidd" (6) är det angivna entydiga avbildningsområdet för en radar.

"Inställningstid" (3) är den tid som en utgångssignal behöver för att nå inom en halv bit av det slutliga värdet vid växling mellan två nivåer i en omvandlare.

"Integrerad hybridkrets" (3) är varje kombination av en eller flera integrerade kretsar, eller integrerad krets med kretselement eller diskreta komponenter som kopplats samman för att utföra (en) specifik(a) funktion(er) och som har alla följande egenskaper:

| a) | Innehåller åtminstone en okapslad enhet; |
| --- | --- |

a)

Innehåller åtminstone en okapslad enhet;

| b) | Är sammankopplad med en metod som är typisk för produktion av integrerade kretsar; |
| --- | --- |

b)

Är sammankopplad med en metod som är typisk för produktion av integrerade kretsar;

| c) | Är utbytbar som en enhet; och |
| --- | --- |

c)

Är utbytbar som en enhet; och

| d) | Kan normalt inte tas isär. |
| --- | --- |

d)

Kan normalt inte tas isär.

| : | ‧Kretselement‧ är en ensam aktiv eller passiv funktionell del av en elektronisk krets, såsom en diod, en transistor, ett motstånd, en kondensator osv. |
| --- | --- |

:

| : | ‧Diskreta komponenter‧ är separat kapslade kretselement med egna anslutningar. |
| --- | --- |

:

"Integrerade kretsar av filmtyp" (3) är en grupp av ‧kretselement‧ med metalliska förbindelser som skapats genom utfällning av tjock- eller tunnfilm på ett isolerande "substrat".

| : | ‧Kretselement‧ är en ensam aktiv eller passiv funktionell del av en elektrisk krets, såsom en diod, en transistor, ett motstånd, en kondensator osv. |
| --- | --- |

:

"Integrerade multikretsar" (3). Härmed avses två eller fler "monolitiska integrerade kretsar" som bondats till ett gemensamt "substrat".

"Isolerade levande kulturer" (1) innefattar levande kulturer i vilande form och i torkade preparat.

"Isolering" (9) anbringas på komponenterna till en raketmotor, dvs. hus, munstycke, inlopp, tillslutningar, och omfattar härdade eller halvhärdade gummiduksblock innehållande ett isolerande eller eldfast material. Den kan också ingå som ett dämpningselement.

"Isostatiska pressar" (2) är utrustning, som har förmågan att genom olika medier (gasformigt, flytande, fasta partiklar osv.) trycksätta ett slutet hålrum för att skapa likformigt tryck i alla riktningar mot ett arbetsstycke eller material i hålrummet.

"Justerad topprestanda" (4) är en justerad topphastighet vid vilken "digitala datorer" utför 64-bitars eller större flyttalsadditioner och flyttalsmultiplikationer, och den i uttrycks i vägda teraflops (WT), i enheter om 1012 justerade flyttalsoperationer per sekund.

| : | Se kategori 4, teknisk anm. |
| --- | --- |

:

"Kemisk blandning" (1) är en fast, flytande eller gasformig produkt som består av två eller fler komponenter som inte reagerar tillsammans under de förhållanden under vilka blandningen lagras.

"Kemisk laser" (6) är en "laser" i vilken de exciterade nivåerna alstras genom energin från en kemisk reaktion.

"Kompensationssystem" (6) består av den primära skalärsensorn och en eller flera referenssensorer (t.ex. vektormagnetometrar) tillsammans med programvara som gör det möjligt att minska plattformens stelkroppsrotationsbuller.

"Komposit" (1 2 6 8 9) är en "matris" och en eller flera tillsatsstrukturer som består av partiklar, tunna trådar, fibrer eller någon kombination av dessa, som ingår av ett eller flera angivna skäl.

"Konturstyrning" (2) innebär att två eller flera "numeriskt styrda" rörelser arbetar i enlighet med instruktioner som specificerar nästa erforderliga position och de erforderliga matningshastigheterna till den positionen. Dessa matningshastigheter varieras i förhållande till varandra så att den önskade konturen generas (Referens ISO/DIS 2806 1980).

"Kritisk temperatur" (1 3 5) (ibland kallad övergångstemperatur) för ett angivet "supraledande" material är den temperatur då materialet upphör att ha någon resistans mot elektrisk likström.

"Kryptografisk aktivering" (5) avser all teknik som aktiverar eller möjliggör kyptografisk kapacitet, via en säker mekanism som implementeras av produktens tillverkare och som är unikt knuten till den produkt eller kund för vilken den kryptografiska kapaciteten aktiveras eller tillgängliggörs (t.ex. en serienummerbaserad licensnyckel eller ett autentiseringsinstrument så som ett digitalt signerat certifikat).

| : | Metoder och mekanismer för "kryptografisk aktivering" kan implementeras som maskinvara, "programvara" eller "teknik". |
| --- | --- |

:

"Kryptografi" (5) är verksamhet som innefattar principer, medel och metoder för att transformera data så att dess informationsinnehåll kan döljas, förhindra oupptäckt förändring därav eller förhindra obehörig användning. "Kryptografi", är begränsad till transformering av information genom att använda en eller flera ‧hemliga parametrar‧ (t.ex. kryptovariabler) eller tillhörande kryptonycklar.

| : | ‧Hemliga parametrar‧: en konstant eller nyckel som undanhålls utomstående eller endast delas inom en grupp. |
| --- | --- |

:

"Kvantkryptografi" (5) är en samling metoder för att upprätta en gemensam nyckel för "kryptografi" genom att mäta ett fysikaliskt systems kvantmekaniska egenskaper (inklusive de fysikaliska egenskaper som uttryckligen styrs av kvantoptik, kvantfältteori eller kvantelektrodynamik).

"Källkod" (eller källspråk) (6 7 9) är ett lättillgängligt uttryck för en eller flera processer som kan omvandlas av ett programmeringssystem till en för utrustningen exekverbar form ("objektkod" (eller objektspråk)).

"Kärnreaktor" (0) är en fullständig reaktor som kan upprätthålla en kontrollerad självunderhållande kedjereaktion av kärnklyvningar. En "kärnreaktor" omfattar alla föremål som är placerade i eller i direkt anslutning till reaktorkärlet, utrustningen som kontrollerar effektnivån i härden och de komponenter som normalt innesluts, kommer i direkt kontakt med eller styr primärkylmedlet i reaktorhärden.

"Laser" (0 2 3 5 6 7 8 9). En laser är en sammansättning av komponenter som producerar ett i såväl tiden som rummet koherent ljus som är förstärkt med hjälp av stimulerad strålningsemission.

| : | Se också:

  "Kemiska lasrar"


  "Super-High-Power-Lasers"


  "Transferlasrar". |
| --- | --- |

:

"Kemiska lasrar"

"Super-High-Power-Lasers"

"Transferlasrar".

"Laserlängd" (def) är den tid under vilken en "laser" sänder ut "laser" strålning, vilken för en "pulsad laser" motsvarar den tid under vilken en enstaka puls eller serier av på varandra följande pulser sänds ut.

"Linjäritet" (2) (mäts vanligen i termer av icke-linjäritet) är den maximala avvikelsen för den faktiska karaktäristiken (medelvärdet av övre och undre avläsningar), positiva eller negativa, från en rät linje som placerats så att den utjämnar och minimerar de maximala avvikelserna.

"Lokalt nät" (4 5) är ett datakommunikationssystem som har alla följande egenskaper:

| a) | Tillåter ett godtyckligt antal oberoende ‧dataenheter‧ att kommunicera direkt med varandra, och |
| --- | --- |

a)

Tillåter ett godtyckligt antal oberoende ‧dataenheter‧ att kommunicera direkt med varandra, och

| b) | Är begränsade till en geografisk area av rimlig storlek (t.ex. en kontorsbyggnad, en fabrik, ett universitetsområde, ett förråd). |
| --- | --- |

b)

Är begränsade till en geografisk area av rimlig storlek (t.ex. en kontorsbyggnad, en fabrik, ett universitetsområde, ett förråd).

| | ‧Dataenhet‧: En utrustning som kan sända eller ta emot sekvenser med digital information. |
| --- | --- |

"Luftfartyg" (1 7 9) är luftburna farkoster med fasta vingar, svängande vingar, roterande vingar (helikoptrar), tippande rotorer eller tippande vingar.

| : | Se även "civila luftfartyg". |
| --- | --- |

:

"Lättare än luft-farkoster" (9) är ballonger och luftfartyg som använder varmluft eller andra gaser som är lättare än den omgivande luften, t.ex. helium eller väte, som lyftkraft.

"Magnetiska gradiometrar" (6) är instrument som kan detektera variationen i rummet av magnetfält som härrör från källor utanför instrumentet. De består av flera "magnetometrar" och tillhörande elektronik vars utsignal ger ett mått på magnetfältsgradienten.

| : | Se även "Induktionsmagnetometrar". |
| --- | --- |

:

"Magnetometrar" (6) är instrument som är avsedda att detektera magnetfält från källor utanför instrumentet. Instrumentet består av ett enda element som känner av magnetfält samt tillhörande elektronik vars utsignal ger ett mått på magnetfältet.

"Manipulatorer" (2) är griparmar, ‧aktiva verktygsenheter‧ och andra verktyg som fästs i änden av en ‧robots‧ manipulatorarm.

| : | En ‧aktiv verktygsenhet‧ är en enhet som tillför rörelsekraft, processenergi eller avkänning till ett arbetsstycke. |
| --- | --- |

:

"Material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6" (0) kan vara koppar, rostfritt stål, aluminium, aluminiumoxid, aluminiumlegeringar, nickel eller en legering innehållande 60 viktprocent eller mer nickel och UF6-resistenta fullständigt fluorerade polymerer, beroende på separationsprocessen.

"Matris" (1 2 8 9) är en huvudsakligen kontinuerlig struktur som till stor del fyller upp utrymmet mellan partiklar, kristalliska trådar eller fibrer.

"Mekanisk legering" (1) är en legeringsprocess som är resultatet av sammanfogning, sönderdelning och ny sammanfogning av grundämnen och metallpulver genom mekanisk stöt. Icke metalliska partiklar kan tillföras legeringen genom att lämpligt pulver tillsätts.

"Mikrodator-mikrokrets" (3) är en "monolitisk integrerad krets" eller "integrerad multikrets" som innehåller en aritmetisk logisk enhet (ALU) som kan utföra allmänna instruktioner från ett internt minne på data som är lagrade i det interna minnet.

| : | Det interna minnet kan utökas genom ett extern minne. |
| --- | --- |

:

"Mikroprocessor-mikrokrets" (3) är en "monolitisk integrerad krets" eller en "integrerad multikrets" som innehåller en aritmetisk logisk enhet (ALU) som kan utföra en serie av allmänna instruktioner från ett externt minne.

| : | "Mikroprocessor-mikrokretsen" innehåller normalt inte något integrerat minne åtkomligt för användaren, även om minne som finns på chipet kan användas för att utföra dess logiska operationer. |
| --- | --- |

:

| : | Detta omfattar även satser av chip som är konstruerade för att arbeta tillsammans för att fungera som en "mikroprocessor-mikrokrets". |
| --- | --- |

:

"Mikroorganismer" (1 2) avser bakterier, virus, mycoplasma, rickettsier, chlamydia eller svampbildningar, oavsett om de är naturliga, förbättrade eller modifierade, antingen som "isolerade levande kulturer" eller som material som innehåller levande material som avsiktligt inympats eller kontaminerats med sådana kulturer.

"Missiler" (1 3 6 7 9) är kompletta raketsystem och system för obemannade luftfartyg som kan bära en last på minst 500 kg nyttolast en sträcka av minst 300 km.

"Monolitisk integrerad krets" (3) är en kombination av passiva eller aktiva ‧kretselement‧ eller både och som

| a) | har formats med hjälp av diffusionsprocesser, implantationsprocesser eller utfällningsprocesser i eller på ett enda stycke halvledande material, ett så kallat ‧chip‧, |
| --- | --- |

a)

har formats med hjälp av diffusionsprocesser, implantationsprocesser eller utfällningsprocesser i eller på ett enda stycke halvledande material, ett så kallat ‧chip‧,

| b) | kan betraktas som odelbart sammankopplade, och |
| --- | --- |

b)

kan betraktas som odelbart sammankopplade, och

| c) | utför en eller flera kretsfunktioner. |
| --- | --- |

c)

utför en eller flera kretsfunktioner.

| : | ‧Kretselement‧ är en ensam aktiv eller passiv funktionell del av en elektronisk krets, såsom en diod, en transistor, ett motstånd, en kondensator osv. |
| --- | --- |

:

"Monospektrala bildsensorer" (6) kan samla in bilddata från ett diskret spektralband.

"Multispektrala bildsensorer" (6) kan samtidigt eller i serie ta emot bilddata från två eller flera diskreta spektralband. Sensorer som har mer än 20 spektralband kallas ibland för hyperspektrala bildsensorer.

"Målindikering" (6) är bearbetad och korrigerad (förening av radarmåldata med flygplansposition) och uppdaterad flygplanspositionsrapport till flygtrafikövervakningscentrets controllers.

"Mätosäkerhet" (2) är den karakteristiska parameter som anger inom vilket område runt utgångsvärdet, som det korrekta värdet av den mätbara variabeln ligger med en konfidensnivå på 95 %. Det innefattar de okorrigerade systemavvikelserna, den okorrigerade dödgången och de slumpvisa avvikelserna. (Referens ISO 10360-2 eller VDI/VDE 2617.)

"Naturligt uran" (0) är uran som innehåller samma blandning av isotoper som förekommer i naturen.

"Neural dator" (4) är en dataenhet som är konstruerad eller modifierad för att efterlikna en neurons eller neuronsamlings beteende, dvs. en beräkningsanordning som kännetecknas av förmågan hos dess maskinvara att modulera vikten och antalet förbindelser till ett flertal beräkningskomponenter baserat på tidigare data.

"Noggrannhet" (2 6) som vanligen mäts som onoggrannhet är ett angivet värdes största avvikelse, positiv eller negativ, från en godtagen standard eller sant värde.

"Numerisk styrning" (2). Automatisk styrning av en process som utförs av en enhet som använder numeriska data, som normalt införs efterhand som operationen fortskrider (Referens ISO 2382.)

"Obemannat luftfartyg" ("UAV") (9) är ett luftfartyg som kan inleda flygning och upprätthålla kontrollerad flygning och navigation utan någon mänsklig närvaro ombord.

"Objektkod" (9) är en maskinexekverbar form av ett praktiskt uttryck för en eller flera processer ("källkod" (källspråk)) som har kompilerat av ett programmeringssystem.

"Optimering av flygbanan" (7) är en procedur som minimerar avvikelser från en fyrdimensionell (rum och tid) önskad bana på grundval av maximering av prestanda eller effektivitet med avseende på uppdragsuppgifter.

"Optisk avkännargrupp för flygplansstyrning" (Flight control optical sensor array) (7) är ett nät av fördelade optiska sensorer med "laser"-strålar som ska åstadkomma realtidflygplansstyrningsdata för bearbetning ombord.

"Optisk dator" (4) är en dator som är konstruerad eller modifierad för att använda ljus för att representera data och vars beräknande logikelement är baserade på direkt kopplade optiska enheter.

"Optisk förstärkning" (5) är i optisk kommunikation en förstärkningsteknik som för in en förstärkning av optiska signaler som har alstrats av en separat optisk källa utan omvandling till elektriska signaler, dvs. genom att använda optiska halvledarförstärkare eller ljusalstrande ljusledarförstärkare.

"Optisk integrerad krets" (3) är en "monolitisk integrerad krets" eller en "integrerad hybridkrets" som innehåller en eller flera delar som är avsedda att fungera som en fotosensor eller fotoemitter eller att utföra en eller flera optiska eller elektrooptiska funktioner.

"Optisk koppling" (5) är dirigering eller omkoppling av signaler i optisk form utan omvandling till elektriska signaler.

"Personligt nät" (5) är ett datakommunikationssystem som har båda följande egenskaper:

| a) | Tillåter ett godtyckligt antal oberoende eller sammankopplade ‧dataenheter‧ att kommunicera direkt med varandra. |
| --- | --- |

a)

Tillåter ett godtyckligt antal oberoende eller sammankopplade ‧dataenheter‧ att kommunicera direkt med varandra.

| b) | Är begränsat till kommunikation mellan enheter i en enskild persons eller enhetskontrollants omedelbara närhet (t.ex. ett enskilt rum, ett kontor eller ett motorfordon). |
| --- | --- |

b)

Är begränsat till kommunikation mellan enheter i en enskild persons eller enhetskontrollants omedelbara närhet (t.ex. ett enskilt rum, ett kontor eller ett motorfordon).

| : | ‧Dataenhet‧: En utrustning som kan sända eller ta emot sekvenser med digital information. |
| --- | --- |

:

"Plaskavkylning" (1) är en process för ‧snabb stelning‧ av en smält metallström som träffar ett nedkylt block som bildar en flingliknande produkt.

| : | ‧Snabb stelning‧: Stelning av smält material vid nedkylningshastigheter över 1 000 K/s. |
| --- | --- |

:

"Primär flygplansstyrning" (7) är en stabilitets- eller manövreringsstyrning för "luftfartyg" som använder kraft/moment-generatorer, dvs. aerodynamiska styrytor eller dragkraftsvektorisering.

"Produktion" (GTN NTN alla) är alla produktionsskeden, t.ex. konstruktion, produktionsutveckling, tillverkning, integrering, sammansättning (montering), inspektion, provning och kvalitetssäkring.

"Produktionshjälpmedel" (7 9) är "produktionsutrustning" och särskilt utvecklad programvara för denna som integrerats i installationer eller för en eller flera "produktions"-faser.

"Produktionsutrustning" (1 7 9) avser verktygsuppsättningar, mallar, jiggar, dornar, formar, gängskärningsverktyg, fixturer, uppriktningsanordningar, testutrustning, annat maskineri och därtill hörande komponenter och begränsat till att omfatta sådant som är speciellt konstruerat eller modifierat för "utveckling" eller för en eller flera "produktions"-faser.

"Program" (2 6) är en sekvens av instruktioner avsedd för utförande av en process i, eller omvandlad till, sådan form som är exekverbar för en elektronisk dator.

"Programvara" (GSN alla) är en samling av ett eller flera "program" eller ‧mikroprogram‧ som är lagrade i ett konkret uttrycksmedium.

| : | ‧Mikroprogram‧ är en sekvens elementära instruktioner som är lagrade i ett särskilt minne och vars exekvering initieras när dess referensinstruktion införs i ett instruktionsregister. |
| --- | --- |

:

"Pulsad laser" (6) är en "laser" som har en "pulslängd" som är högst 0,25 sekunder.

"Pulskompression" (6) är kodning och behandling av en radarsignalpuls av lång varaktighet till kort varaktighet under bevarande av fördelarna med hög pulsenergi.

"Radarhoppfrekvensteknik" (6) är en teknik som slumpmässigt ändrar bärfrekvensen i en pulserad radarsändare mellan pulser eller grupper av pulser med ett värde som är lika med eller större än pulsens bandbredd.

"Radialkast" (run-out) (2) är radiell förskjutning på ett varv på huvudspindeln mätt i ett plan som är vinkelrätt mot spindelaxeln i en punkt på den yttre eller inre roterande yta som ska provas (Referens ISO 230/1-1986 punkt 5.61).

"Realtidsbandbredd" (3) för "dynamiska signalanalysatorer" är det största frekvensområde som analysatorn kan avge till display eller massminne utan att förorsaka diskontinuitet i analysen av indata. Vid analysatorer med mer än en kanal ska den kanalkonfiguration som ger den största "realtidsbandbredden" användas till beräkningen.

"Realtidsbearbetning" (2 6 7) är ett datorsystems bearbetning av data som åstadkommer en erforderlig servicenivå som en funktion av de disponibla resurserna inom en garanterad svarstid oberoende av belastningen av systemet då det stimuleras av en yttre händelse.

"Relativ bandbredd" (3 5) är "effektbandbredden" dividerad med mittfrekvensen uttryckt i procent.

"Repeterbarhet" (7) är graden av överensstämmelse mellan upprepade mätningar av samma variabel under samma operativa betingelser när förändringar i villkor eller icke-operativa perioder förekommer mellan mätningarna (Referens IEEE STD 528-2001 (1 sigma standardavvikelse)).

"Robot" (2 8) är en manipuleringsmekanism som kan vara av banstyrnings- eller punktstyrningstypen, som eventuellt brukar sensorer och som har alla följande egenskaper:

| a) | Den är multifunktionell. |
| --- | --- |

a)

Den är multifunktionell.

| b) | Den är kapabel att placera eller orientera material, delar, verktyg eller speciella komponenter med variabla rörelser i tredimensionellt rum. |
| --- | --- |

b)

Den är kapabel att placera eller orientera material, delar, verktyg eller speciella komponenter med variabla rörelser i tredimensionellt rum.

| c) | Den omfattar tre eller flera servoanordningar med öppen eller sluten slinga som kan omfatta stegmotorer. |
| --- | --- |

c)

Den omfattar tre eller flera servoanordningar med öppen eller sluten slinga som kan omfatta stegmotorer.

| d) | Den har även "användartillgänglig programmerbarhet" med hjälp av lär/utför-metoden eller med hjälp av en elektronisk dator som kan vara en programmerbar logikcontroller, dvs. utan mekanisk förmedling. |
| --- | --- |

d)

Den har även "användartillgänglig programmerbarhet" med hjälp av lär/utför-metoden eller med hjälp av en elektronisk dator som kan vara en programmerbar logikcontroller, dvs. utan mekanisk förmedling.

| : | Ovanstående definition omfattar inte följande anordningar:







  1. | Manipulationsmekanismer som bara kan styras manuellt eller med fjärrstyrning. |
| --- | --- | --- |

:

1.

Manipulationsmekanismer som bara kan styras manuellt eller med fjärrstyrning.

| 2. | Mekanismer med fast-sekvens-manipulering som är automatiserade rörelseanordningar som arbetar enligt mekaniskt fasta programmerade rörelser. Programmet är mekaniskt begränsat av fasta stoppanordningar, t.ex. stift eller kammar. Rörelsernas sekvensföljd och valet av banor eller vinklar är inte variabla eller utbytbara på mekaniskt, elektroniskt eller elektriskt sätt. |
| --- | --- |

2.

Mekanismer med fast-sekvens-manipulering som är automatiserade rörelseanordningar som arbetar enligt mekaniskt fasta programmerade rörelser. Programmet är mekaniskt begränsat av fasta stoppanordningar, t.ex. stift eller kammar. Rörelsernas sekvensföljd och valet av banor eller vinklar är inte variabla eller utbytbara på mekaniskt, elektroniskt eller elektriskt sätt.

| 3. | Mekaniskt styrda manipuleringsmekanismer med variabel sekvens som är automatiserade rörelseanordningar som arbetar enligt mekaniskt fasta programmerade rörelser. Programmet är mekaniskt begränsat av fasta men justerbara stoppanordningar, t.ex. stift eller kammar. Rörelsernas sekvensföljd och valet av banor eller vinklar är variabla inom det fasta programmönstret. Variationer eller modifikationer av programmönstret (t.ex. ändringar av stift eller utbyte av kammar) längs en eller flera rörelseaxlar kan endast göras genom mekaniska operationer. |
| --- | --- |

3.

Mekaniskt styrda manipuleringsmekanismer med variabel sekvens som är automatiserade rörelseanordningar som arbetar enligt mekaniskt fasta programmerade rörelser. Programmet är mekaniskt begränsat av fasta men justerbara stoppanordningar, t.ex. stift eller kammar. Rörelsernas sekvensföljd och valet av banor eller vinklar är variabla inom det fasta programmönstret. Variationer eller modifikationer av programmönstret (t.ex. ändringar av stift eller utbyte av kammar) längs en eller flera rörelseaxlar kan endast göras genom mekaniska operationer.

| 4. | Icke servostyrda manipuleringsmekanismer med variabel sekvens som är automatiserade rörelseanordningar som arbetar enligt mekaniskt fasta programmerade rörelser. Programmet är variabelt, men sekvensen genomförs endast vid binära signaler från mekanisk fixerade elektriska binära anordningar eller justerbara stoppanordningar. |
| --- | --- |

4.

Icke servostyrda manipuleringsmekanismer med variabel sekvens som är automatiserade rörelseanordningar som arbetar enligt mekaniskt fasta programmerade rörelser. Programmet är variabelt, men sekvensen genomförs endast vid binära signaler från mekanisk fixerade elektriska binära anordningar eller justerbara stoppanordningar.

| 5. | Staplingskranar som är definierade som kartesiska koordinatmanipuleringssystem som är tillverkade som en integrerad del av ett lodrätt system av lagringsbehållare och konstruerade för att komma åt innehållet i dessa behållare för lagring eller hämtning. |
| --- | --- |

5.

Staplingskranar som är definierade som kartesiska koordinatmanipuleringssystem som är tillverkade som en integrerad del av ett lodrätt system av lagringsbehållare och konstruerade för att komma åt innehållet i dessa behållare för lagring eller hämtning.

"Rotationsfinfördelning" (1) är en process för reducering av en ström eller en behållare av smält metall till droppar med en diameter av högst 500 μm med hjälp av centrifugalkraft.

"Rymdfarkost" (7 9) är aktiva och passiva satelliter och rymdsonder.

"Rymdkvalificerade" (3 6 8) är produkter som är konstruerade, tillverkade och provade i syfte att motsvara de speciella elektriska, mekaniska eller miljömässiga kraven vid uppsändande och placering på höga höjder av satelliter eller farkoster som arbetar på en höjd av minst 100 km.

"SHPL" är detsamma som "super high power laser".

"Signalanalysatorer" (3) är anordningar som kan mäta och visa grundläggande egenskaper hos signalkomponenter för enskilda frekvenser i flerfrekvenssignaler.

"Signalbehandling" (3 4 5 6). Härmed avses den bearbetning av externt erhållna informationsbärande signaler med hjälp av algoritmer såsom tidskompression, filtrering, extraktion, selektering, korrelation, konvolution eller transformationer mellan områden (t.ex. Fast Fourier-transform eller Walsh-transform).

"Signalering på en gemensam kanal" (Common channel signalling) (5) är en signaleringsmetod där en enda kanal mellan växlarna med hjälp av etiketterade meddelanden förmedlar signalinformation, som avser ett flertal kretsar eller anrop och annan information, t.ex. för nätadministration.

"Skalfaktor" (gyro eller accelerometer) (7) är kvoten mellan en ändring i utgången och en ändring i ingången som är avsedd att mätas. Skalfaktorn uttrycks vanligen som lutningen på en rät linje som kan anpassas enligt metoden om minsta kvadraten på ingångs-utgångsdata genom att variera insignalen cykliskt över hela ingångsområdet.

"Skivor" ("substrate blanks") (6) är monolitiska föreningar med dimensioner lämpliga för framställning av optiska element såsom speglar eller optiska fönster.

"Slumpmässig vinkeldrift" (7) är det över tiden ackumulerade vinkelfel som beror på vitt brus i vinkelhastighet (IEEE STD 528-2001).

"Smältbar" (1) är förmåga att tvärbindas eller polymeriseras ytterligare (härdas) genom användning av värme, strålning, katalysatorer osv., eller förmåga att smältas utan pyrolys (förkolning).

"Smältspinning" (1) är en process för ‧snabb stelning‧ av en smält ström av metall som får rinna ut över ett kylt roterande block så att en fling-, band- eller stavliknande produkt bildas.

| : | ‧Snabb stelning‧: Stelning av smält material vid nedkylningshastigheter över 1 000 K/s. |
| --- | --- |

:

"Smältutdragning" (1) är en process för ‧snabb stelning‧ och utdragning av en bandliknande legeringsprodukt genom att ett kort segment av ett roterande kylt block förs ner i det smälta metallegeringsbadet.

| : | ‧Snabb stelning‧: Stelning av smält material vid nedkylningshastigheter över 1 000 K/s. |
| --- | --- |

:

"Specifika modulen" (0 1 9) är Youngs modul i pascal (N/m2) dividerat med specifika vikten i N/m3 mätt vid (296 ± 2) K ((23 ± 2) °C) och en relativ fuktighet av (50 ± 5) %.

"Specifik brottgräns" (0 1 9) är brottgränsen i N/m2 (Pa) dividerat med specifika vikten i N/m3 mätt vid (296 ± 2) K ((23 ± 2) °C) och en relativ fuktighet av (50 ± 5) %.

"Spridning av frekvensspektrumet" (6) är varje modulationsteknik för spridning av energi som härrör från en signal med relativt smalt frekvensband över ett mycket större frekvensband genom användning av slumpmässig eller pseudo-slumpmässig kodning.

"Sprängämnen" (1) är fasta, flytande eller gasformiga ämnen eller blandningar av ämnen som, när de används som primärt sprängämne, booster eller huvudladdning i stridsspetsar, sprängladdningar eller annan användning, är avsedda att detonera.

"Stabilitet" (7) är standardavvikelsen (1 sigma) av variationen av en bestämd parameter från dess kalibrerade värde mätt under stabila temperaturförhållanden. Den kan uttryckas som en funktion av tiden.

"Stater som (inte) är parter i konventionen om kemiska vapen" (1) är de stater för vilka konventionen om förbud mot utveckling, produktion, lagring och användning av kemiska vapen (inte) har trätt i kraft.

"Strålningskänslighet" (6); strålningsintensitet (mA/W) = 0,807 × (våglängd, nm) × kvantverkningsgrad (QE).

| : | QE uttrycks normalt som procentandel; i denna formel uttrycks dock QE som ett decimaltal som är mindre än ett och 78 % motsvaras således av 0,78. |
| --- | --- |

:

"Styrenhet för kommunikationskanal" (4). Härmed avses det fysiska gränssnitt som styr flödet av synkron eller asynkron digital information. Den är sammansatt av komponenter som kan vara integrerade i en dator eller telekommunikationsutrustning för att medge kommunikationsaccess.

"Styrenhet för åtkomst till nätverk" (4) är ett fysiskt gränssnitt till en distribuerande nätverksväxel. Det använder ett vanligt medium som genomgående arbetar med samma "digitala överföringshastighet" och använder någon form av avgränsning (t.ex. staffet [token] eller bärvågsavkänning [carrier sense]) för överföringen. Oberoende av andra kan den välja ut ett datapaket eller en datagrupp (t.ex. IEEE 802) som är adresserat till den. Den är en sammansättning som kan integreras i en dator eller telekommunikationsutrustning för att möjliggöra åtkomst till nätet.

"Styrsystem" (7) är system som integrerar processen av mätning och beräkning av en farkosts position och hastighet (dvs. navigation) med att beräkna och överföra order till farkostens flygkontrollsystem för att korrigera banan.

"Substrat" (3) är en tunn platta av basmaterialet med eller utan anslutningsmönster och på vilket eller i vilket ‧diskreta komponenter‧ eller integrerade kretsar eller både och kan vara placerade.

| : | ‧Diskret komponent‧: Ett separat inkapslat ‧kretselement‧ med sina egna externa anslutningar. |
| --- | --- |

:

| : | ‧Kretselement‧ är en enkel aktiv eller passiv funktionsdel av en elektronisk krets såsom en diod, en transistor, ett motstånd, en kondensator osv. |
| --- | --- |

:

"Superlegeringar" (2 9) är nickel-, kobolt- eller järnbaserade legeringar som har en hållfasthet överlägsen alla legeringar i serien AISI 300 vid temperaturer över 922 K (649 °C) under svåra omgivnings- och arbetsförhållanden.

"Supraledande" (1 3 5 6 8). Supraledare är material, t.ex. metaller, legeringar eller blandningar, som kan förlora all elektrisk resistans. Detta innebär att de kan uppnå oändlig elektrisk ledningsförmåga och överföra mycket stora strömmar utan joulsk upphettning.

| : | Den "supraledande" effekten hos ett material karakteriseras individuellt av en "kritisk temperatur", ett kritiskt magnetfält som är en funktion av temperaturen, samt av en kritisk strömtäthet som emellertid är beroende av både det magnetiska fältet och temperaturen. |
| --- | --- |

:

"Super-High-Power Laser" (6). Med Super-High-Power Laser (SHPL) avses en "laser" som kan leverera (totalt eller någon del av) en utgångsenergi som överstiger 1 kJ inom 50 ms, eller har en genomsnittlig eller kontinuerlig utgångseffekt som överstiger 20 kW.

"Superplastisk bearbetning" (1 2) är en deformationsprocess där värme tillsätts vid bearbetningen av metaller som normalt karakteriseras av låga töjningsvärden (mindre än 20 %) i förhållande till brottgränsen vid rumstemperatur, som den bestäms med konventionella brottgränstester. Genom uppvärmningen vid deformationsprocessen får materialet en töjningsförmåga som ökar till minst det dubbla.

"Symmetrisk algoritm" (5) är en krypteringsalgoritm där identiskt samma nyckel används för både kryptering och dekryptering.

| : | Ett vanligt användningsområde för "symmetriska algoritmer" är datasekretess. |
| --- | --- |

:

"Systoliska kedjor, datorer för" (4). Dator för systoliska kedjor är en dator där flödet och förändringen av data är dynamiskt styrbara av användaren.

"Särskilt klyvbart material" (0) är plutonium-239, uran-233, "uran anrikat med avseende på isotoperna 235 eller 233" samt varje material som innehåller de föregående.

"Tejp" (1) är ett material konstruerat av flätade eller i samma riktning lagda "enfibertrådar", ‧kardeler‧, "väv" ar, "drev" eller "garn" men vanligtvis förimpregnerat med harts.

| : | ‧Kardel‧ är en bunt av "enfibertrådar" (typiskt mer än 200), som har arrangerats i stort sett parallellt. |
| --- | --- |

:

"Teknik" (GTN NTN Alla) avser specifik information som är nödvändig för "utveckling", "produktion" eller "användning" av varor. Informationen kan ha formen ‧teknisk assistans‧ eller ‧tekniska uppgifter‧.

| : | ‧Teknisk assistans‧ kan avse instruktioner, färdigheter, träning, arbetsmetoder och konsulttjänster och kan innebära överförande av ‧tekniska uppgifter‧. |
| --- | --- |

:

| : | ‧Tekniska uppgifter‧ kan avse ritningskopior, planer, diagram, modeller, formler, tabeller, ritningar, manualer och instruktioner, skrivna eller inspelade på andra medier eller enheter såsom disketter, band eller ROM-minnen. |
| --- | --- |

:

"Tid för att byta frekvens" (3 5) avser den tid (dvs. fördröjning) som det tar för en signal som skiftas från en initial angiven utgångsfrekvens att nå en frekvens som avviker med högst ± 0,05 % från den slutliga angivna utgångsfrekvensen. Produkter med ett angivet frekvensområde som omfattar mindre än ± 0,05 % kring deras mittfrekvens definieras som oförmögna till byte av frekvens.

"Tidskonstant" (6) är den tid det tar från det en sammansättning nås av ett ljus till dess strömökningen når värdet (1-1/e) gånger slutvärdet (dvs. 63 % av det slutliga värdet).

"Skoveltak" (9) är en stationär ringkomponent (massiv eller segmenterad) som anbringas på innerytan av motorns turbinhölje eller som en funktion på turbinbladets ytterspets och som i första hand ger en gastätning mellan de stationära och de rörliga komponenterna.

"Tilldelad genom ITU" (3 5) innebär tilldelning av frekvensband i enlighet med den nuvarande upplagan av ITU:s radioreglemente för primära, tillåtna och sekundära tjänster.

| : | Ytterligare och alternativa tilldelningar är inte inkluderade. |
| --- | --- |

:

"Tipp- och vridbara arbetsbord" (Compound rotary tables) (2). Arbetsbord vars yta kan tippas och vridas runt två icke-parallella axlar som kan styras samtidigt och därmed medge "kurvlinjestyrning".

"Tippbara spindlar" (2) är verktygshållande spindlar som under bearbetningsprocessen ändrar sin centrumlinje i förhållande till andra axlar.

"Toppeffekt" (6) är den högsta effekten som uppnås under "laserlängden".

"Total digital överföringshastighet" (5). Med total digital överföringshastighet avses det antal bitar, inklusive adress- och övervakningsbitar, som per tidsenhet passerar mellan korresponderande delar i ett digitalt transmissionssystem.

| : | Se även "digital överföringshastighet". |
| --- | --- |

:

"Totala strömtätheten" (3) är det totala antalet amperevarv i en spole (t.ex. summan av antalet varv multiplicerat med maximala strömmen som går genom varje varv) dividerat med spolens tvärsektion (inbegripet de supraledande trådarna, metallmatrisen i vilken de supraledande trådarna är inbäddade, kapslingsmaterial, alla kylkanaler osv.).

"Toxiner" (1 2). Härmed avses toxiner i form av avsiktligt isolerade preparat eller blandningar, oavsett hur de producerats, andra än toxiner som förekommer som främmande ämnen i andra material såsom patologiska preparat, råvaror, livsmedel eller frökapslar av "mikroorganismer".

"Toxinkomponent" (1) är en strukturellt och funktionsmässigt diskret komponent av hela "toxinet".

"Transferlasrar" (6). Med transferlasrar avses "lasrar" i vilka de exciterande aktiva ämnena exciteras genom att energi överförs vid kollisionen mellan lasrande och icke lasrande atomer eller molekyler.

"Tryckgivare" (2) är givare som omvandlar tryckmätningar till en elektrisk signal.

"Typisk grindfördröjningstid" (3). Härmed avses den tidsfördröjning som motsvarar den tidsfördröjning som uppstår i en grind som har typisk uppbyggnad och används i en "monolitisk integrerad krets". För en ‧familj‧ av "monolitiska integrerade kretsar" kan detta anges antingen som tidsfördröjningen för en typisk grind inom den givna ‧familjen‧ eller som typisk fördröjningstid per grind inom den givna ‧familjen‧.

| : | "Typisk grindfördröjningstid" får inte förväxlas med fördröjningstiden mellan in- och utgång hos en komplex "monolitisk integrerad krets". |
| --- | --- |

:

| : | En ‧familj‧ utgörs av alla integrerade kretsar för vilka följande tillämpas till fullo när det gäller tillverkningsmetod och specifikationer, utom deras respektive funktioner:







  a) | Gemensam utformning av maskin- och programvara. |
| --- | --- | --- |

:

a)

Gemensam utformning av maskin- och programvara.

| b) | Gemensam ritning och processteknik. |
| --- | --- |

b)

Gemensam ritning och processteknik.

| c) | Gemensamma typiska egenskaper. |
| --- | --- |

c)

Gemensamma typiska egenskaper.

"Upplösning" (2). Härmed avses det minsta tillägget i en mätenhet, i digitala instrument avses den minst signifikanta biten (Referens ANSI B-89.1.12).

"Uran anrikat i isotoperna 235 eller 233" (0). Härmed avses uran som innehåller isotoperna 235 eller 233, eller båda, i en sådan mängd att förhållandet mellan summan av dessa isotoper och isotop 238 är större än det förhållande mellan isotop 235 och isotop 238 som förekommer i naturen (isotopförhållandet 0,71 %).

"Utarmat uran" (0) är sådant uran som utarmats med avseende på isotop 235 under de värden som uppträder i naturen.

"Uteffektsanpassning" (7). Härmed avses ett system där man genom att styra effekten alltid kan använda minsta möjliga signal för att från en "luftfaryg" bestämma höjdläget.

"Utveckling" (GTN NTN alla) är alla faser före serieproduktion såsom: konstruktion, konstruktionsforskning, konstruktionsanalys, konstruktionskoncept, sammansättning och provning av prototyper, pilottillverkningsplaner, konstruktionsuppgifter, datadesign, processen då konstruktionsuppgifterna förvandlas till en produkt, fastställande av design och integrering, layouter.

"Vaccin" (1) avser en medicinsk produkt i en farmaceutisk blandning för vilken tillsynsmyndigheterna i antingen tillverkningslandet eller användningslandet har beviljat licens eller gett tillstånd för marknadsföring eller kliniska test, och vars ändamål är att stimulera ett immunologiskt skydd mot sjukdomar hos de människor eller djur som produkten administreras till.

"Vakuumfinfördelning" (1). En process som reducerar en smält ström av metall till droppar med en diameter på 500 μm eller mindre genom hastig sönderdelning av en gas som utsätts för vakuum.

"Varaktighet hos pulsen" (6). Varaktigheten hos en "laser" puls är varaktigheten mätt under den tid som pulsen ligger över halva intensiteten ["Full Width Half Intensy"].

"Varm isostatisk förtätning" (2). Härmed avses en process där man trycksätter ett gjutgods vid temperaturer som överskrider 375 K (102 °C) i ett slutet hålrum med hjälp av olika medier (gas, vätska, massiva partiklar osv.) för att skapa lika tryck i alla riktningar i avsikt att reducera eller eliminera antalet håligheter i gjutgodset.

"Vingprofil med variabel geometri" (7). Härmed avses klaffar på bakkanten, eller lister på framkanten eller upphöjda framkanter som kan styras under flygning.

"Vinkelavvikelse från en position" (2). Med vinkelavvikelse från en position menas den maximala differensen mellan den aktuella positionen och den ursprungliga positionen som ett arbetsstycke har efter att det förflyttats från sin ursprungliga position och sedan återförts. (Referens VDI/VDE 2617 Draft: ‧Rotary tables on coordinate measuring machines‧.)

"Väv" (1) är en bunt (typiskt 12-120) av nästan parallella ‧kardeler‧.

| : | ‧Kardel‧ är en bunt av "enfibertrådar" (vanligen fler än 200) som arrangerats i stort sett parallellt. |
| --- | --- |

:

KATEGORI 0

KÄRNMATERIAL, ANLÄGGNINGAR OCH UTRUSTNING

0ASystem, utrustning och komponenter

0A001"Kärnreaktorer" och utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda för sådana enligt följande:

| a) | "Kärnreaktorer". |
| --- | --- |

a)

"Kärnreaktorer".

| b) | Metallkärl eller större fabrikstillverkade delar till sådana, inklusive reaktortankens lock för ett reaktortryckkärl, som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att innesluta härden hos en "kärnreaktor". |
| --- | --- |

b)

Metallkärl eller större fabrikstillverkade delar till sådana, inklusive reaktortankens lock för ett reaktortryckkärl, som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att innesluta härden hos en "kärnreaktor".

| c) | Hanteringsutrustning som är särskilt konstruerad eller iordningställd för att föra in eller avlägsna bränsle i en "kärnreaktor". |
| --- | --- |

c)

Hanteringsutrustning som är särskilt konstruerad eller iordningställd för att föra in eller avlägsna bränsle i en "kärnreaktor".

| d) | Styrstavar som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att reglera klyvningsprocessen i en "kärnreaktor", tillhörande stöd- och upphängningsanordningar samt drivdon och styrrör för stavarna. |
| --- | --- |

d)

Styrstavar som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att reglera klyvningsprocessen i en "kärnreaktor", tillhörande stöd- och upphängningsanordningar samt drivdon och styrrör för stavarna.

| e) | Tryckrör som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att innesluta bränsleelement och primärkylmedel i en "kärnreaktor" vid ett drifttryck som överstiger 5,1 MPa. |
| --- | --- |

e)

Tryckrör som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att innesluta bränsleelement och primärkylmedel i en "kärnreaktor" vid ett drifttryck som överstiger 5,1 MPa.

| f) | Zirkoniummetall och -legeringar, i form av rör eller hopsättningar av rör, i vilka andelen hafnium i förhållande till zirkonium är mindre än 1:500 per viktenhet och som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att användas i en "kärnreaktor". |
| --- | --- |

f)

Zirkoniummetall och -legeringar, i form av rör eller hopsättningar av rör, i vilka andelen hafnium i förhållande till zirkonium är mindre än 1:500 per viktenhet och som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att användas i en "kärnreaktor".

| g) | Kylmedelpumpar som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att pumpa runt primärkylmedel i en "kärnreaktor". |
| --- | --- |

g)

Kylmedelpumpar som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att pumpa runt primärkylmedel i en "kärnreaktor".

| h) | ‧Kärnreaktors interna delar‧ som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att användas i en "kärnreaktor", inklusive bottenplatta för härden, bränslekanaler (bränsleboxar), termiska skärmar, bafflar, härdgaller samt diffusorplåtar.







  : | I avsnitt 0A001.h betyder ‧kärnreaktors interna delar‧ varje större konstruktion inuti ett reaktorkärl som fyller en eller flera funktioner, som att bära upp härden, upprätthålla härdens geometri, rikta primärkylmedlets flöde, utgöra strålskärmar för reaktorkärlet och leda härdinstrumentering på plats. |
| --- | --- | --- |

h)

‧Kärnreaktors interna delar‧ som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att användas i en "kärnreaktor", inklusive bottenplatta för härden, bränslekanaler (bränsleboxar), termiska skärmar, bafflar, härdgaller samt diffusorplåtar.

:

| i) | Värmeväxlare (ånggeneratorer) som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att användas i primärkylkretsen i en "kärnreaktor". |
| --- | --- |

i)

Värmeväxlare (ånggeneratorer) som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att användas i primärkylkretsen i en "kärnreaktor".

| j) | Instrument för detektering och mätning av neutroner, särskilt konstruerade eller iordningställda för att bestämma neutronflödesnivåerna inuti härden i en "kärnreaktor". |
| --- | --- |

j)

Instrument för detektering och mätning av neutroner, särskilt konstruerade eller iordningställda för att bestämma neutronflödesnivåerna inuti härden i en "kärnreaktor".

0BTest-, inspektions- och produktionsutrustning

0B001Anläggning för separation av isotoper ur "naturligt uran", "utarmat uran" och "särskilt klyvbart material" och utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda härför enligt följande:

| a) | Anläggning som är särskilt konstruerad för separation av isotoper ur "naturligt uran", "utarmat uran" och "särskilt klyvbart material" enligt följande:






  1. | Anläggning för separation med gascentrifug. |
| --- | --- | --- |

a)

Anläggning som är särskilt konstruerad för separation av isotoper ur "naturligt uran", "utarmat uran" och "särskilt klyvbart material" enligt följande:

1.

Anläggning för separation med gascentrifug.

| 2. | Anläggning för separation med gasdiffusion. |
| --- | --- |

2.

Anläggning för separation med gasdiffusion.

| 3. | Anläggning för separation med aerodynamisk process. |
| --- | --- |

3.

Anläggning för separation med aerodynamisk process.

| 4. | Anläggning för separation med kemisk utbytesprocess. |
| --- | --- |

4.

Anläggning för separation med kemisk utbytesprocess.

| 5. | Anläggning för separation med jonbytesprocess. |
| --- | --- |

5.

Anläggning för separation med jonbytesprocess.

| 6. | Anläggning för isotopseparation med "laser" tillämpat på atomär ånga (AVLIS). |
| --- | --- |

6.

Anläggning för isotopseparation med "laser" tillämpat på atomär ånga (AVLIS).

| 7. | Anläggning för isotopseparation med "laser" tillämpat på gasmolekyler (MLIS). |
| --- | --- |

7.

Anläggning för isotopseparation med "laser" tillämpat på gasmolekyler (MLIS).

| 8. | Anläggning för separation med plasmaprocess. |
| --- | --- |

8.

Anläggning för separation med plasmaprocess.

| 9. | Anläggning för separation med elektromagnetisk process. |
| --- | --- |

9.

Anläggning för separation med elektromagnetisk process.

| b) | Gascentrifuger, hopsatta delar och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda för separation med gascentrifuger enligt följande:







  : | I avsnitt 0B001.b betyder ‧material med hög hållfasthet i förhållande till sin densitet‧ något av följande:






  a) | Maråldrat stål som kan ges en brottgräns på 2 050 MPa eller mer. |
| --- | --- | --- | --- |

b)

Gascentrifuger, hopsatta delar och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda för separation med gascentrifuger enligt följande:

:

a)

Maråldrat stål som kan ges en brottgräns på 2 050 MPa eller mer.

| b) | Aluminiumlegeringar som kan ges en brottgräns på 460 MPa eller mer. |
| --- | --- |

b)

Aluminiumlegeringar som kan ges en brottgräns på 460 MPa eller mer.

| c) | "Fibrer eller fiberliknande material" med en "specifik modul" större än 3,18 × 106 m och en "specifik brottgräns" större än 76,2 × 103 m. |
| --- | --- |

c)

"Fibrer eller fiberliknande material" med en "specifik modul" större än 3,18 × 106 m och en "specifik brottgräns" större än 76,2 × 103 m.

| 1. | Gascentrifuger. |
| --- | --- |

1.

Gascentrifuger.

| 2. | Kompletta rotorenheter. |
| --- | --- |

2.

Kompletta rotorenheter.

| 3. | Rotorrör med en väggtjocklek av 12 mm eller mindre med en diameter mellan 75 mm och 400 mm tillverkade av ‧material som har hög hållfasthet i förhållande till sin densitet‧. |
| --- | --- |

3.

Rotorrör med en väggtjocklek av 12 mm eller mindre med en diameter mellan 75 mm och 400 mm tillverkade av ‧material som har hög hållfasthet i förhållande till sin densitet‧.

| 4. | Ringar eller bälgar med en väggtjocklek som är 3 mm eller mindre och en diameter mellan 75 mm och 400 mm konstruerade för att lokalt förstärka rotorröret eller för att förena ett antal sådana rör och är tillverkade av ‧material som har hög hållfasthet i förhållande till sin densitet‧. |
| --- | --- |

4.

Ringar eller bälgar med en väggtjocklek som är 3 mm eller mindre och en diameter mellan 75 mm och 400 mm konstruerade för att lokalt förstärka rotorröret eller för att förena ett antal sådana rör och är tillverkade av ‧material som har hög hållfasthet i förhållande till sin densitet‧.

| 5. | Mellanväggar (bafflar) med en diameter mellan 75 mm och 400 mm avsedda att monteras inne i centrifugens rotorrör, tillverkade av ‧material som har hög hållfasthet i förhållande till sin densitet‧. |
| --- | --- |

5.

Mellanväggar (bafflar) med en diameter mellan 75 mm och 400 mm avsedda att monteras inne i centrifugens rotorrör, tillverkade av ‧material som har hög hållfasthet i förhållande till sin densitet‧.

| 6. | Topp- eller bottenplattor med en diameter mellan 75 mm och 400 mm avsedda att passa till ändarna av rotorröret och tillverkade av ‧material som har hög hållfasthet i förhållande till sin densitet‧. |
| --- | --- |

6.

Topp- eller bottenplattor med en diameter mellan 75 mm och 400 mm avsedda att passa till ändarna av rotorröret och tillverkade av ‧material som har hög hållfasthet i förhållande till sin densitet‧.

| 7. | Magnetiskt upphängda lager bestående av en ringformig magnet som är upphängd i ett lagerhus tillverkat eller skyddat av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6", och som innehåller ett dämpande medium där magneten är kopplad till en polkärna eller en annan magnet som är monterad på rotorns topplatta. |
| --- | --- |

7.

Magnetiskt upphängda lager bestående av en ringformig magnet som är upphängd i ett lagerhus tillverkat eller skyddat av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6", och som innehåller ett dämpande medium där magneten är kopplad till en polkärna eller en annan magnet som är monterad på rotorns topplatta.

| 8. | Särskilt iordningställda lager som består av en lagertapp/lagerskålenhet monterad på en dämpare. |
| --- | --- |

8.

Särskilt iordningställda lager som består av en lagertapp/lagerskålenhet monterad på en dämpare.

| 9. | Molekylpumpar bestående av cylindrar med invändigt maskinbearbetade eller utpressade spiralformade spår och maskinbearbetade innerytor. |
| --- | --- |

9.

Molekylpumpar bestående av cylindrar med invändigt maskinbearbetade eller utpressade spiralformade spår och maskinbearbetade innerytor.

| 10. | Ringformade statorer för elektriska motorer till flerfasiga växelströmshysteres-(eller reluktans-)motorer för synkron drift i vakuum i frekvensområdet 600 till 2 000 Hz och i effektområdet 50 till 1 000 VA (Voltampere). |
| --- | --- |

10.

Ringformade statorer för elektriska motorer till flerfasiga växelströmshysteres-(eller reluktans-)motorer för synkron drift i vakuum i frekvensområdet 600 till 2 000 Hz och i effektområdet 50 till 1 000 VA (Voltampere).

| 11. | Centrifugbehållare som ska innesluta gascentrifugens rotor och som består av en styv cylinder med väggtjockleken upp till 30 mm och med precisionsbearbetade ändar. Cylindern ska vara tillverkad eller skyddad av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6". |
| --- | --- |

11.

Centrifugbehållare som ska innesluta gascentrifugens rotor och som består av en styv cylinder med väggtjockleken upp till 30 mm och med precisionsbearbetade ändar. Cylindern ska vara tillverkad eller skyddad av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6".

| 12. | Uttagsrör med upp till 12 mm innerdiameter, för avtappning av UF6-gas från centrifugens rotorrör enligt pitotrörsprincipen, tillverkade eller skyddade av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6". |
| --- | --- |

12.

Uttagsrör med upp till 12 mm innerdiameter, för avtappning av UF6-gas från centrifugens rotorrör enligt pitotrörsprincipen, tillverkade eller skyddade av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6".

| 13. | Frekvensomvandlare som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att mata motorstatorn vid anrikning med gascentrifuger och som har alla följande egenskaper samt därför särskilt konstruerade komponenter:






  a) | Flerfasig utgång inom frekvensområdet 600 Hz till 2 000 Hz. |
| --- | --- | --- |

13.

Frekvensomvandlare som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att mata motorstatorn vid anrikning med gascentrifuger och som har alla följande egenskaper samt därför särskilt konstruerade komponenter:

a)

Flerfasig utgång inom frekvensområdet 600 Hz till 2 000 Hz.

| b) | Frekvenskontroll bättre än 0,1 %. |
| --- | --- |

b)

Frekvenskontroll bättre än 0,1 %.

| c) | Harmonisk distorsion mindre än 2 %. |
| --- | --- |

c)

Harmonisk distorsion mindre än 2 %.

| d) | Verkningsgrad bättre än 80 %. |
| --- | --- |

d)

Verkningsgrad bättre än 80 %.

| 14. | Bälgventiler, med en diameter mellan 10 och 160 mm, tillverkade eller skyddade av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6". |
| --- | --- |

14.

Bälgventiler, med en diameter mellan 10 och 160 mm, tillverkade eller skyddade av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6".

| c) | Utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda för separation med gasdiffusion, enligt följande:






  1. | Membran för gasdiffusion, tillverkade av porösa metalliska, polymera eller keramiska "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6" med en porstorlek mellan 10 och 100 nm, en tjocklek på 5 mm eller mindre och, om i form av rör, med en diameter som är 25 mm eller mindre. |
| --- | --- | --- |

c)

Utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda för separation med gasdiffusion, enligt följande:

1.

Membran för gasdiffusion, tillverkade av porösa metalliska, polymera eller keramiska "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6" med en porstorlek mellan 10 och 100 nm, en tjocklek på 5 mm eller mindre och, om i form av rör, med en diameter som är 25 mm eller mindre.

| 2. | Behållare för gasdiffusorer tillverkade eller skyddade av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6". |
| --- | --- |

2.

Behållare för gasdiffusorer tillverkade eller skyddade av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6".

| 3. | Kompressorer (axial-, centrifugal- och deplacementkompressorer) eller blåsmaskiner med en sugkapacitet för UF6 på 1 m3/min eller mer, och ett utloppstryck upp till 666,7 kPa, tillverkade eller skyddade av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6". |
| --- | --- |

3.

Kompressorer (axial-, centrifugal- och deplacementkompressorer) eller blåsmaskiner med en sugkapacitet för UF6 på 1 m3/min eller mer, och ett utloppstryck upp till 666,7 kPa, tillverkade eller skyddade av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6".

| 4. | Axeltätningar för kompressorer eller blåsmaskiner som anges i avsnitt 0B001.c.3 och som är konstruerade så att inläckningen av buffertgas är mindre än 1 000 cm3/min. |
| --- | --- |

4.

Axeltätningar för kompressorer eller blåsmaskiner som anges i avsnitt 0B001.c.3 och som är konstruerade så att inläckningen av buffertgas är mindre än 1 000 cm3/min.

| 5. | Värmeväxlare tillverkade av aluminium, koppar, nickel eller legeringar som innehåller mer än 60 procent nickel, eller kombinationer av dessa metaller i form av pläterade rör och som är konstruerade för drift vid ett tryck lägre än det atmosfäriska med en läckhastighet som begränsar tryckhöjningen till mindre än 10 Pa/h när tryckskillnaden uppgår till 100 kPa. |
| --- | --- |

5.

Värmeväxlare tillverkade av aluminium, koppar, nickel eller legeringar som innehåller mer än 60 procent nickel, eller kombinationer av dessa metaller i form av pläterade rör och som är konstruerade för drift vid ett tryck lägre än det atmosfäriska med en läckhastighet som begränsar tryckhöjningen till mindre än 10 Pa/h när tryckskillnaden uppgår till 100 kPa.

| 6. | Bälgventiler, med en diameter mellan 40 och 1 500 mm, tillverkade eller skyddade av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6". |
| --- | --- |

6.

Bälgventiler, med en diameter mellan 40 och 1 500 mm, tillverkade eller skyddade av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6".

| d) | Utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda för separation med aerodynamisk process, enligt följande:






  1. | Separationsmunstycken, dysor, som består av slitsformade böjda kanaler vars krökningsradie är mindre än 1 mm, och som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6, och som i munstycket har en knivsegg som delar gasflödet genom munstycket i två strömmar. |
| --- | --- | --- |

d)

Utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda för separation med aerodynamisk process, enligt följande:

1.

Separationsmunstycken, dysor, som består av slitsformade böjda kanaler vars krökningsradie är mindre än 1 mm, och som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6, och som i munstycket har en knivsegg som delar gasflödet genom munstycket i två strömmar.

| 2. | Strömningsdrivna cylindriska eller koniska rör med tangentiellt inlopp (vortexrör) vilka är tillverkade eller skyddade av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6", med en diameter mellan 0,5 cm och 4 cm och ett förhållande mellan längd och diameter på 20:1 eller mindre och med ett eller flera tangentiella inlopp. |
| --- | --- |

2.

Strömningsdrivna cylindriska eller koniska rör med tangentiellt inlopp (vortexrör) vilka är tillverkade eller skyddade av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6", med en diameter mellan 0,5 cm och 4 cm och ett förhållande mellan längd och diameter på 20:1 eller mindre och med ett eller flera tangentiella inlopp.

| 3. | Kompressorer (axial-, centrifugal- eller deplacementkompressorer) eller blåsmaskiner med en sugkapacitet av 2 m3/min eller mer, tillverkade eller skyddade av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6", och till kompressorerna hörande axeltätningar. |
| --- | --- |

3.

Kompressorer (axial-, centrifugal- eller deplacementkompressorer) eller blåsmaskiner med en sugkapacitet av 2 m3/min eller mer, tillverkade eller skyddade av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6", och till kompressorerna hörande axeltätningar.

| 4. | Värmeväxlare tillverkade eller skyddade av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6". |
| --- | --- |

4.

Värmeväxlare tillverkade eller skyddade av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6".

| 5. | Behållare, avsedda att innesluta vortexrör eller separationsmunstycken, tillverkade eller skyddade av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6". |
| --- | --- |

5.

Behållare, avsedda att innesluta vortexrör eller separationsmunstycken, tillverkade eller skyddade av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6".

| 6. | Bälgventiler, med en diameter mellan 40 och 1 500 mm, som är tillverkade eller skyddade av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6". |
| --- | --- |

6.

Bälgventiler, med en diameter mellan 40 och 1 500 mm, som är tillverkade eller skyddade av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6".

| 7. | Processystem för att separera UF6 (uranhexafluorid) från bärgasen (väte eller helium) så att innehållet av UF6 blir 1 ppm eller mindre, innefattande följande:






  a) | Kryogena värmeväxlare och kryogena separatorer som kan arbeta vid temperaturen 153 K (– 120 °C) eller lägre. |
| --- | --- | --- |

7.

Processystem för att separera UF6 (uranhexafluorid) från bärgasen (väte eller helium) så att innehållet av UF6 blir 1 ppm eller mindre, innefattande följande:

a)

Kryogena värmeväxlare och kryogena separatorer som kan arbeta vid temperaturen 153 K (– 120 °C) eller lägre.

| b) | Kryogena kylenheter som kan arbeta vid temperaturen 153 K (– 120 °C) eller lägre. |
| --- | --- |

b)

Kryogena kylenheter som kan arbeta vid temperaturen 153 K (– 120 °C) eller lägre.

| c) | Separationsmunstycken eller vortexrör för separation av UF6 (uranhexafluorid) från bärgasen. |
| --- | --- |

c)

Separationsmunstycken eller vortexrör för separation av UF6 (uranhexafluorid) från bärgasen.

| d) | Kylfällor för UF6 (uranhexafluorid) som kan arbeta vid temperaturen 253 K (– 20 °C) eller lägre. |
| --- | --- |

d)

Kylfällor för UF6 (uranhexafluorid) som kan arbeta vid temperaturen 253 K (– 20 °C) eller lägre.

| e) | Utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda för separation med kemisk utbytesprocess, enligt följande:






  1. | Vätske-vätskepulskolonner med snabbt utbyte där uppehållstiden i varje steg är 30 sekunder eller mindre och som är resistenta mot koncentrerad saltsyra (t.ex. tillverkade av eller skyddade med lämpliga plastmaterial såsom fluorkarbonpolymerer eller glas). |
| --- | --- | --- |

e)

Utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda för separation med kemisk utbytesprocess, enligt följande:

1.

Vätske-vätskepulskolonner med snabbt utbyte där uppehållstiden i varje steg är 30 sekunder eller mindre och som är resistenta mot koncentrerad saltsyra (t.ex. tillverkade av eller skyddade med lämpliga plastmaterial såsom fluorkarbonpolymerer eller glas).

| 2. | Vätske-vätskecentrifugalkontaktorer med snabbt utbyte där uppehållstiden i varje steg är 30 sekunder eller mindre och som är resistenta mot koncentrerad saltsyra (t.ex. tillverkade av eller skyddade med lämpliga plastmaterial såsom fluorkarbonpolymerer eller glas). |
| --- | --- |

2.

Vätske-vätskecentrifugalkontaktorer med snabbt utbyte där uppehållstiden i varje steg är 30 sekunder eller mindre och som är resistenta mot koncentrerad saltsyra (t.ex. tillverkade av eller skyddade med lämpliga plastmaterial såsom fluorkarbonpolymerer eller glas).

| 3. | Elektrokemiska reduktionsceller som är resistenta mot koncentrerade saltsyrelösningar, för reduktion av uran från ett valenstal till ett annat valenstal. |
| --- | --- |

3.

Elektrokemiska reduktionsceller som är resistenta mot koncentrerade saltsyrelösningar, för reduktion av uran från ett valenstal till ett annat valenstal.

| 4. | Matningsutrustning för elektrokemiska reduktionsceller, avsedd att överföra U+4 från det organiska flödet och för vilken de delar som kommer i kontakt med flödet är tillverkade av eller skyddade med lämpligt material (t.ex. glas, fluorkarbonpolymerer, polyfenylsulfat, polyetersulfon och hartsimpregnerad grafit). |
| --- | --- |

4.

Matningsutrustning för elektrokemiska reduktionsceller, avsedd att överföra U+4 från det organiska flödet och för vilken de delar som kommer i kontakt med flödet är tillverkade av eller skyddade med lämpligt material (t.ex. glas, fluorkarbonpolymerer, polyfenylsulfat, polyetersulfon och hartsimpregnerad grafit).

| 5. | System för att producera lösningar av uranklorid med hög renhet, bestående av utrustning för upplösning, vätskeextraktion och/eller jonbyte för rening och elektrolytiska celler för att reducera U+6 eller U+4 till U+3. |
| --- | --- |

5.

System för att producera lösningar av uranklorid med hög renhet, bestående av utrustning för upplösning, vätskeextraktion och/eller jonbyte för rening och elektrolytiska celler för att reducera U+6 eller U+4 till U+3.

| 6. | Uranoxidationssystem för oxidation av U+3 till U+4. |
| --- | --- |

6.

Uranoxidationssystem för oxidation av U+3 till U+4.

| f) | Utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda för separation med jonbytesprocess, enligt följande:






  1. | Snabbreagerande jonbytarmassor, som film eller porösa makronätverk, i vilka de aktiva kemiska utbytesgrupperna är begränsade till ytbeläggningen på en inaktiv porös bärarkropp, samt andra kompositstrukturer i lämplig form, inklusive partiklar och fibrer, med en diameter som är 0,2 mm eller mindre, resistenta mot koncentrerad saltsyra och gjorda för att ha en utbyteshalveringstid som är mindre än 10 sekunder och som kan arbeta i temperaturområdet 373 K (100 °C) till 473 K (200 °C). |
| --- | --- | --- |

f)

Utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda för separation med jonbytesprocess, enligt följande:

1.

Snabbreagerande jonbytarmassor, som film eller porösa makronätverk, i vilka de aktiva kemiska utbytesgrupperna är begränsade till ytbeläggningen på en inaktiv porös bärarkropp, samt andra kompositstrukturer i lämplig form, inklusive partiklar och fibrer, med en diameter som är 0,2 mm eller mindre, resistenta mot koncentrerad saltsyra och gjorda för att ha en utbyteshalveringstid som är mindre än 10 sekunder och som kan arbeta i temperaturområdet 373 K (100 °C) till 473 K (200 °C).

| 2. | Jonbyteskolonner (cylindriska) med en diameter som är större än 1 000 mm, tillverkade av eller skyddade med material som är resistenta mot koncentrerad saltsyra (t.ex. titan eller fluorkarbonplaster) och som kan arbeta i temperaturområdet 373 K (100 °C) till 473 K (200 °C) och vid tryck över 0,7 MPa. |
| --- | --- |

2.

Jonbyteskolonner (cylindriska) med en diameter som är större än 1 000 mm, tillverkade av eller skyddade med material som är resistenta mot koncentrerad saltsyra (t.ex. titan eller fluorkarbonplaster) och som kan arbeta i temperaturområdet 373 K (100 °C) till 473 K (200 °C) och vid tryck över 0,7 MPa.

| 3. | Återströmningssystem för jonbyte (kemiska eller elektrokemiska oxidations- eller reduktionssystem) för regenerering av kemiska reducerande eller oxiderande ämnen som använts i anrikningskaskader som utnyttjar jonbyte. |
| --- | --- |

3.

Återströmningssystem för jonbyte (kemiska eller elektrokemiska oxidations- eller reduktionssystem) för regenerering av kemiska reducerande eller oxiderande ämnen som använts i anrikningskaskader som utnyttjar jonbyte.

| g) | Utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda för isotopseparation med "laser" tillämpad på atomär ånga (AVLIS), enligt följande:






  1. | Högeffektselektronstrålekanoner som arbetar i band eller med svep och som kan leverera mer effekt än 2,5 kW/cm och som är avsedda att användas för att förånga uran. |
| --- | --- | --- |

g)

Utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda för isotopseparation med "laser" tillämpad på atomär ånga (AVLIS), enligt följande:

1.

Högeffektselektronstrålekanoner som arbetar i band eller med svep och som kan leverera mer effekt än 2,5 kW/cm och som är avsedda att användas för att förånga uran.

| 2. | System för hantering av flytande metall avsedda för uran eller uranlegeringar i smält form, bestående av deglar som är tillverkade av eller skyddade med lämpligt korrosions- och värmebeständigt material (t.ex. tantal, yttriumoxidbelagd grafit, grafit belagd med oxider av andra sällsynta jordartsmetaller eller blandningar av sådana) samt kylutrustning för deglarna.







  ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 2A225. |
| --- | --- | --- |

2.

System för hantering av flytande metall avsedda för uran eller uranlegeringar i smält form, bestående av deglar som är tillverkade av eller skyddade med lämpligt korrosions- och värmebeständigt material (t.ex. tantal, yttriumoxidbelagd grafit, grafit belagd med oxider av andra sällsynta jordartsmetaller eller blandningar av sådana) samt kylutrustning för deglarna.

ANM.:

| 3. | System för att uppsamla slutprodukt och restfraktion tillverkade av eller fodrade med material som är resistent mot värmen och korrosionen från förångad uranmetall eller flytande uran, t.ex. yttriumoxidbelagd grafit eller tantal. |
| --- | --- |

3.

System för att uppsamla slutprodukt och restfraktion tillverkade av eller fodrade med material som är resistent mot värmen och korrosionen från förångad uranmetall eller flytande uran, t.ex. yttriumoxidbelagd grafit eller tantal.

| 4. | Behållare för separatormodul (cylindriska eller rektangulära behållare) som ska användas för att innesluta källan som producerar uranmetallånga, elektronstrålekanonen och uppsamlare av slutprodukt och restfraktion. |
| --- | --- |

4.

Behållare för separatormodul (cylindriska eller rektangulära behållare) som ska användas för att innesluta källan som producerar uranmetallånga, elektronstrålekanonen och uppsamlare av slutprodukt och restfraktion.

| 5. | "Lasrar" eller "laser"-system för separation av uranisotoper som är frekvensstabiliserade för drift över långa tidsperioder.







  ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 6A005 OCH 6A205. |
| --- | --- | --- |

5.

"Lasrar" eller "laser"-system för separation av uranisotoper som är frekvensstabiliserade för drift över långa tidsperioder.

ANM.:

| h) | Utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda för isotopseparation med "laser" tillämpad på gasmolekyler (MLIS) eller kemisk reaktion genom isotopselektiv laseraktivering (CRISLA), enligt följande:






  1. | Expansionsmunstycken för överljudshastighet som är avsedda att kyla blandningen av UF6 och bärgasen till 150 K (– 123 °C) eller lägre och är tillverkade av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6". |
| --- | --- | --- |

h)

Utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda för isotopseparation med "laser" tillämpad på gasmolekyler (MLIS) eller kemisk reaktion genom isotopselektiv laseraktivering (CRISLA), enligt följande:

1.

Expansionsmunstycken för överljudshastighet som är avsedda att kyla blandningen av UF6 och bärgasen till 150 K (– 123 °C) eller lägre och är tillverkade av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6".

| 2. | Uppsamlare för uranpentafluorid (UF5) bestående av filter, uppsamlare av impakt- (anslags-) eller cyklontyp, eller kombinationer av dessa typer, och som är tillverkade av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF5/UF6". |
| --- | --- |

2.

Uppsamlare för uranpentafluorid (UF5) bestående av filter, uppsamlare av impakt- (anslags-) eller cyklontyp, eller kombinationer av dessa typer, och som är tillverkade av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF5/UF6".

| 3. | Kompressorer som är tillverkade eller skyddade av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6" samt axeltätningar för sådana kompressorer. |
| --- | --- |

3.

Kompressorer som är tillverkade eller skyddade av "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6" samt axeltätningar för sådana kompressorer.

| 4. | Utrustning för att fluorera UF5 (fast) till UF6 (gas). |
| --- | --- |

4.

Utrustning för att fluorera UF5 (fast) till UF6 (gas).

| 5. | Processystem för att separera UF6 från bärgasen (t.ex. kväve eller argon), innefattande följande:






  a) | Kryogena värmeväxlare och kryogena separatorer som kan arbeta vid temperaturer på 153 K (– 120 °C) eller lägre. |
| --- | --- | --- |

5.

Processystem för att separera UF6 från bärgasen (t.ex. kväve eller argon), innefattande följande:

a)

Kryogena värmeväxlare och kryogena separatorer som kan arbeta vid temperaturer på 153 K (– 120 °C) eller lägre.

| b) | Kryogena kylenheter som kan arbeta vid temperaturer på 153 K (– 120 °C) eller lägre. |
| --- | --- |

b)

Kryogena kylenheter som kan arbeta vid temperaturer på 153 K (– 120 °C) eller lägre.

| c) | Kylfällor för UF6 som kan arbeta vid temperaturer på 253 K (– 20 °C) eller lägre. |
| --- | --- |

c)

Kylfällor för UF6 som kan arbeta vid temperaturer på 253 K (– 20 °C) eller lägre.

| 6. | "Lasrar" eller "laser"-system för separation av uranisotoper som är frekvensstabiliserade för drift över långa tidsperioder.







  ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 6A005 OCH 6A205. |
| --- | --- | --- |

6.

"Lasrar" eller "laser"-system för separation av uranisotoper som är frekvensstabiliserade för drift över långa tidsperioder.

ANM.:

| i) | Utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda för separation med plasmaprocess, enligt följande:






  1. | Mikrovågskällor och antenner som kan producera eller accelerera joner och som har en utgångsfrekvens som är högre än 30 GHz, och en utgångseffekt (medeleffekt) som är större än 50 kW. |
| --- | --- | --- |

i)

Utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda för separation med plasmaprocess, enligt följande:

1.

Mikrovågskällor och antenner som kan producera eller accelerera joner och som har en utgångsfrekvens som är högre än 30 GHz, och en utgångseffekt (medeleffekt) som är större än 50 kW.

| 2. | Jonexcitationsspolar för radiofrekvenser över 100 kHz och som kan arbeta med mer än 40 kW medeleffekt. |
| --- | --- |

2.

Jonexcitationsspolar för radiofrekvenser över 100 kHz och som kan arbeta med mer än 40 kW medeleffekt.

| 3. | System för att generera uranplasma. |
| --- | --- |

3.

System för att generera uranplasma.

| 4. | System för hantering av flytande metall avsedda för uran eller uranlegeringar i smält form, bestående av deglar som är tillverkade eller skyddade av lämpligt korrosions- och värmebeständigt material (t.ex. tantal, yttriumoxidbelagd grafit, grafit belagd med oxider av andra sällsynta jordartsmetaller eller blandningar av sådana), samt kylutrustning för deglarna.







  ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 2A225. |
| --- | --- | --- |

4.

System för hantering av flytande metall avsedda för uran eller uranlegeringar i smält form, bestående av deglar som är tillverkade eller skyddade av lämpligt korrosions- och värmebeständigt material (t.ex. tantal, yttriumoxidbelagd grafit, grafit belagd med oxider av andra sällsynta jordartsmetaller eller blandningar av sådana), samt kylutrustning för deglarna.

ANM.:

| 5. | Uppsamlare för slutprodukt och restfraktion tillverkade av eller skyddade med material som är resistent mot värmen och korrosionen från uranånga. Skyddande material kan vara yttriumoxidbelagd grafit eller tantal. |
| --- | --- |

5.

Uppsamlare för slutprodukt och restfraktion tillverkade av eller skyddade med material som är resistent mot värmen och korrosionen från uranånga. Skyddande material kan vara yttriumoxidbelagd grafit eller tantal.

| 6. | Cylindriska behållare för separatormodul avsedda att innesluta uranplasmakällan, radiofrekvensdrivspolen samt uppsamlare för slutprodukt och restfraktion tillverkade av lämpligt icke-magnetiskt material (t.ex. rostfritt stål). |
| --- | --- |

6.

Cylindriska behållare för separatormodul avsedda att innesluta uranplasmakällan, radiofrekvensdrivspolen samt uppsamlare för slutprodukt och restfraktion tillverkade av lämpligt icke-magnetiskt material (t.ex. rostfritt stål).

| j) | Utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda för separation med elektromagnetisk process, enligt följande:






  1. | Jonkällor, enkla eller multipla, som består av en förångningskälla, joniserare och strålaccelerator vilka är tillverkade av lämpligt icke-magnetiskt material (t.ex. grafit, rostfritt stål eller koppar) och som kan leverera en jonstråleström som är 50 mA eller mer. |
| --- | --- | --- |

j)

Utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda för separation med elektromagnetisk process, enligt följande:

1.

Jonkällor, enkla eller multipla, som består av en förångningskälla, joniserare och strålaccelerator vilka är tillverkade av lämpligt icke-magnetiskt material (t.ex. grafit, rostfritt stål eller koppar) och som kan leverera en jonstråleström som är 50 mA eller mer.

| 2. | Jonkollektorer för uppsamling av anrikade eller utarmade uranjonstrålar och som består av två eller flera slitsar och fickor och är gjorda av lämpligt icke-magnetiskt material (t.ex. grafit eller rostfritt stål). |
| --- | --- |

2.

Jonkollektorer för uppsamling av anrikade eller utarmade uranjonstrålar och som består av två eller flera slitsar och fickor och är gjorda av lämpligt icke-magnetiskt material (t.ex. grafit eller rostfritt stål).

| 3. | Vakuumbehållare för elektromagnetiska uranseparatorer tillverkade av icke-magnetiskt material (t.ex. rostfritt stål) och konstruerade för drift vid ett tryck som är 0,1 Pa eller lägre. |
| --- | --- |

3.

Vakuumbehållare för elektromagnetiska uranseparatorer tillverkade av icke-magnetiskt material (t.ex. rostfritt stål) och konstruerade för drift vid ett tryck som är 0,1 Pa eller lägre.

| 4. | Magnetpolskor med en diameter större än 2 m. |
| --- | --- |

4.

Magnetpolskor med en diameter större än 2 m.

| 5. | Högspänningsaggregat för jonkällor som har alla följande egenskaper:






  a) | Gjorda för kontinuerlig drift. |
| --- | --- | --- |

5.

Högspänningsaggregat för jonkällor som har alla följande egenskaper:

a)

Gjorda för kontinuerlig drift.

| b) | Utspänning 20 kV eller högre. |
| --- | --- |

b)

Utspänning 20 kV eller högre.

| c) | Utström 1 A eller mer. |
| --- | --- |

c)

Utström 1 A eller mer.

| d) | Spänningsreglering bättre än 0,01 % över en tidsperiod på 8 h.







  ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 3A227. |
| --- | --- | --- |

d)

Spänningsreglering bättre än 0,01 % över en tidsperiod på 8 h.

ANM.:

| 6. | Kraftaggregat för magneter (högeffekt, likström) som har alla följande egenskaper:






  a) | Möjlighet att kontinuerligt lämna en utström som är 500 A eller mer samtidigt som utspänningen är 100 V eller högre. |
| --- | --- | --- |

6.

Kraftaggregat för magneter (högeffekt, likström) som har alla följande egenskaper:

a)

Möjlighet att kontinuerligt lämna en utström som är 500 A eller mer samtidigt som utspänningen är 100 V eller högre.

| b) | Ström- eller spänningsreglering bättre än 0,01 % över en tidsperiod på 8 h.







  ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 3A226. |
| --- | --- | --- |

b)

Ström- eller spänningsreglering bättre än 0,01 % över en tidsperiod på 8 h.

ANM.:

0B002Särskilt konstruerade eller iordningställda hjälpsystem, utrustning och komponenter, enligt följande, för isotopseparationsanläggningar som omfattas av avsnitt 0B001 och som är tillverkade av eller skyddade med "material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6".

| a) | Matningsautoklaver, ugnar eller system som används för att överföra UF6 till anrikningsprocessen. |
| --- | --- |

a)

Matningsautoklaver, ugnar eller system som används för att överföra UF6 till anrikningsprocessen.

| b) | Desublimeringsutrustning eller kylfällor som används för att bortföra UF6 från anrikningsprocessen och för vidaretransport efter upphettning. |
| --- | --- |

b)

Desublimeringsutrustning eller kylfällor som används för att bortföra UF6 från anrikningsprocessen och för vidaretransport efter upphettning.

| c) | Stationer för slutprodukt och restfraktion vilka används för att överföra UF6 till behållare. |
| --- | --- |

c)

Stationer för slutprodukt och restfraktion vilka används för att överföra UF6 till behållare.

| d) | Kondenserings- eller solidifieringsstationer som används för att avlägsna UF6 från anrikningsprocessen genom att komprimera, kyla och överföra UF6 till flytande eller fast form. |
| --- | --- |

d)

Kondenserings- eller solidifieringsstationer som används för att avlägsna UF6 från anrikningsprocessen genom att komprimera, kyla och överföra UF6 till flytande eller fast form.

| e) | Rörsystem och grenrör som är särskilt konstruerade för transport av UF6 inom kaskader som utnyttjar gasdiffusion, centrifuger eller aerodynamiska processer. |
| --- | --- |

e)

Rörsystem och grenrör som är särskilt konstruerade för transport av UF6 inom kaskader som utnyttjar gasdiffusion, centrifuger eller aerodynamiska processer.

| f) | 1. | Samlings- och förgreningsrör för vakuum som tillåter en sugkapacitet på minst 5 m3/min, eller |
| --- | --- | --- |

f)

1.

Samlings- och förgreningsrör för vakuum som tillåter en sugkapacitet på minst 5 m3/min, eller

| 2. | vakuumpumpar som är speciellt konstruerade för användning i UF6-haltig atmosfär. |
| --- | --- |

2.

vakuumpumpar som är speciellt konstruerade för användning i UF6-haltig atmosfär.

| g) | UF6-masspektrometrar/jonkällor som är särskilt konstruerade eller iordningställda för on-line-prover på matarflöde, slutprodukt eller restfraktion från UF6-gasflöden och som har alla följande egenskaper:






  1. | Upplösning lika med en massenhet för massor större än 320 amu. |
| --- | --- | --- |

g)

UF6-masspektrometrar/jonkällor som är särskilt konstruerade eller iordningställda för on-line-prover på matarflöde, slutprodukt eller restfraktion från UF6-gasflöden och som har alla följande egenskaper:

1.

Upplösning lika med en massenhet för massor större än 320 amu.

| 2. | Jonkälla tillverkad av eller fodrad med kromnickellegering (NiCr) eller monel eller som är nickelpläterad. |
| --- | --- |

2.

Jonkälla tillverkad av eller fodrad med kromnickellegering (NiCr) eller monel eller som är nickelpläterad.

| 3. | Jonkälla med indirekt upphettning (electron bombardment). |
| --- | --- |

3.

Jonkälla med indirekt upphettning (electron bombardment).

| 4. | Uppsamlingssystem lämpligt för isotopanalys. |
| --- | --- |

4.

Uppsamlingssystem lämpligt för isotopanalys.

0B003Anläggning för konvertering av uran och utrustning som är särskilt konstruerad eller iordningställd för detta, enligt följande:

| a) | System för konvertering av uranmalmkoncentrat till UO3. |
| --- | --- |

a)

System för konvertering av uranmalmkoncentrat till UO3.

| b) | System för konvertering av UO3 till UF6. |
| --- | --- |

b)

System för konvertering av UO3 till UF6.

| c) | System för konvertering av UO3 till UO2. |
| --- | --- |

c)

System för konvertering av UO3 till UO2.

| d) | System för konvertering av UO2 till UF4. |
| --- | --- |

d)

System för konvertering av UO2 till UF4.

| e) | System för konvertering av UF4 till UF6. |
| --- | --- |

e)

System för konvertering av UF4 till UF6.

| f) | System för konvertering av UF4 till uranmetall. |
| --- | --- |

f)

System för konvertering av UF4 till uranmetall.

| g) | System för konvertering av UF6 till UO2. |
| --- | --- |

g)

System för konvertering av UF6 till UO2.

| h) | System för konvertering av UF6 till UF4. |
| --- | --- |

h)

System för konvertering av UF6 till UF4.

| i) | System för konvertering av UO2 till UCl4. |
| --- | --- |

i)

System för konvertering av UO2 till UCl4.

0B004Anläggning för produktion eller koncentrering av tungt vatten, deuterium eller deuteriumföreningar och utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda härför, enligt följande:

| a) | Anläggning för produktion av tungt vatten, deuterium eller deuteriumföreningar enligt följande:






  1. | Anläggning för vatten-vätesulfidutbyte. |
| --- | --- | --- |

a)

Anläggning för produktion av tungt vatten, deuterium eller deuteriumföreningar enligt följande:

1.

Anläggning för vatten-vätesulfidutbyte.

| 2. | Anläggning för ammoniak-väteutbyte. |
| --- | --- |

2.

Anläggning för ammoniak-väteutbyte.

| b) | Utrustning och komponenter enligt följande:






  1. | Kolonner för vatten-vätesulfidutbyte som är tillverkade av finkornstål (t.ex. ASTM A516) med en diameter mellan 6 och 9 m och som kan arbeta vid tryck som är lika med eller högre än 2 MPa och med en korrosionsmån på 6 mm eller mer. |
| --- | --- | --- |

b)

Utrustning och komponenter enligt följande:

1.

Kolonner för vatten-vätesulfidutbyte som är tillverkade av finkornstål (t.ex. ASTM A516) med en diameter mellan 6 och 9 m och som kan arbeta vid tryck som är lika med eller högre än 2 MPa och med en korrosionsmån på 6 mm eller mer.

| 2. | Enstegs centrifugalfläktar eller -kompressorer med låg tryckhöjd (dvs. 0,2 MPa) för cirkulation av vätesulfidgas (dvs. gas som innehåller mer än 70 % H2S) med en drivningskapacitet lika med eller större än 56 m3/sekund vid tryck lika med eller högre än 1,8 MPa insugningstryck och utrustade med tätningar som är konstruerade för att användas i våt H2S-miljö. |
| --- | --- |

2.

Enstegs centrifugalfläktar eller -kompressorer med låg tryckhöjd (dvs. 0,2 MPa) för cirkulation av vätesulfidgas (dvs. gas som innehåller mer än 70 % H2S) med en drivningskapacitet lika med eller större än 56 m3/sekund vid tryck lika med eller högre än 1,8 MPa insugningstryck och utrustade med tätningar som är konstruerade för att användas i våt H2S-miljö.

| 3. | Kolonner för ammoniak-väteutbyte vars höjd är lika med eller mer än 35 m och med en diameter mellan 1,5 och 2,5 m och som kan arbeta vid tryck högre än 15 MPa. |
| --- | --- |

3.

Kolonner för ammoniak-väteutbyte vars höjd är lika med eller mer än 35 m och med en diameter mellan 1,5 och 2,5 m och som kan arbeta vid tryck högre än 15 MPa.

| 4. | Inre delar till utbyteskolonnerna, inklusive stegkontaktorer, och stegpumpar, inklusive sådana som är dränkbara, som används för produktion av tungt vatten med ammoniak-väteutbytesprocessen. |
| --- | --- |

4.

Inre delar till utbyteskolonnerna, inklusive stegkontaktorer, och stegpumpar, inklusive sådana som är dränkbara, som används för produktion av tungt vatten med ammoniak-väteutbytesprocessen.

| 5. | Ammoniakkrackers med ett drifttryck lika med eller högre än 3 MPa för produktion av tungt vatten med ammoniak-väteutbytesprocessen. |
| --- | --- |

5.

Ammoniakkrackers med ett drifttryck lika med eller högre än 3 MPa för produktion av tungt vatten med ammoniak-väteutbytesprocessen.

| 6. | Analysatorer för absorption i det infraröda området som under drift kan analysera förhållandet mellan väte och deuterium när deuteriumkoncentrationen är lika med eller högre än 90 %. |
| --- | --- |

6.

Analysatorer för absorption i det infraröda området som under drift kan analysera förhållandet mellan väte och deuterium när deuteriumkoncentrationen är lika med eller högre än 90 %.

| 7. | Katalytiska brännare för omvandling av anrikad deuteriumgas till tungt vatten med ammoniak-väteutbytesprocessen. |
| --- | --- |

7.

Katalytiska brännare för omvandling av anrikad deuteriumgas till tungt vatten med ammoniak-väteutbytesprocessen.

| 8. | Kompletta uppgraderingssystem för tungt vatten eller kolonner för detta, avsedda för uppgradering av tungt vatten till en deuteriumkoncentration motsvarande reaktorkvalitet. |
| --- | --- |

8.

Kompletta uppgraderingssystem för tungt vatten eller kolonner för detta, avsedda för uppgradering av tungt vatten till en deuteriumkoncentration motsvarande reaktorkvalitet.

0B005Anläggning som är särskilt konstruerad för tillverkning av bränsleelement för "kärnreaktorer" och utrustning särskilt konstruerad eller iordningställd härför.

| : | En anläggning för tillverkning av bränsleelement för "kärnreaktorer" omfattar utrustning som







  a) | i produktionsprocessen normalt kommer i direkt kontakt med eller direkt behandlar eller styr flödet av kärnämne, |
| --- | --- | --- |

:

a)

i produktionsprocessen normalt kommer i direkt kontakt med eller direkt behandlar eller styr flödet av kärnämne,

| b) | förseglar kapslingen av kärnämne, |
| --- | --- |

b)

förseglar kapslingen av kärnämne,

| c) | kontrollerar att kapsling eller försegling är oskadd, eller |
| --- | --- |

c)

kontrollerar att kapsling eller försegling är oskadd, eller

| d) | kontrollerar ytbehandlingen av det förseglade bränslet. |
| --- | --- |

d)

kontrollerar ytbehandlingen av det förseglade bränslet.

0B006Anläggning för upparbetning av bestrålade bränsleelement från "kärnreaktor" och utrustning och komponenter särskilt konstruerade eller iordningställda härför.

| : | Avsnitt 0B006 innefattar följande:







  a) | Anläggning för upparbetning av bestrålade bränsleelement från "kärnreaktor" samt utrustning och komponenter som normalt kommer i direkt kontakt med och direkt kontrollerar det bestrålade bränslet och huvudflödena av kärnämne och klyvningsprodukter. |
| --- | --- | --- |

:

a)

Anläggning för upparbetning av bestrålade bränsleelement från "kärnreaktor" samt utrustning och komponenter som normalt kommer i direkt kontakt med och direkt kontrollerar det bestrålade bränslet och huvudflödena av kärnämne och klyvningsprodukter.

| b) | Maskiner för att hugga, klippa eller skära bränsleelement, dvs. fjärrmanövrerad utrustning för att skära, hugga, riva eller klippa bestrålade bränsleelement, knippen eller stavar från "kärnreaktor". |
| --- | --- |

b)

Maskiner för att hugga, klippa eller skära bränsleelement, dvs. fjärrmanövrerad utrustning för att skära, hugga, riva eller klippa bestrålade bränsleelement, knippen eller stavar från "kärnreaktor".

| c) | Upplösningskar, kriticitetssäkra behållare (t.ex. med liten diameter, ringformade eller skivformade) som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att användas för upplösning av bestrålat "kärnreaktor" bränsle, och kan tåla varm, starkt korrosiv vätska och fyllas och hanteras genom fjärrmanövrering. |
| --- | --- |

c)

Upplösningskar, kriticitetssäkra behållare (t.ex. med liten diameter, ringformade eller skivformade) som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att användas för upplösning av bestrålat "kärnreaktor" bränsle, och kan tåla varm, starkt korrosiv vätska och fyllas och hanteras genom fjärrmanövrering.

| d) | Utrustning för motströms vätskeextraktion och jonbytesutrustning som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att användas i en anläggning för upparbetning av bestrålat "naturligt uran", "utarmat uran" eller "särskilt klyvbart material". |
| --- | --- |

d)

Utrustning för motströms vätskeextraktion och jonbytesutrustning som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att användas i en anläggning för upparbetning av bestrålat "naturligt uran", "utarmat uran" eller "särskilt klyvbart material".

| e) | Lagringstankar som är särskilt konstruerade för att vara kriticitetssäkra och resistenta mot salpetersyras korrosiva verkan.








  : | En lagringstank kan ha följande egenskaper:







  1. | Väggar eller en inre uppbyggnad med en borekvivalent (beräknad för alla beståndsdelar enligt definition i anmärkningen till avsnitt 0C004) på minst 2 %. |
| --- | --- | --- | --- |

e)

Lagringstankar som är särskilt konstruerade för att vara kriticitetssäkra och resistenta mot salpetersyras korrosiva verkan.

:

1.

Väggar eller en inre uppbyggnad med en borekvivalent (beräknad för alla beståndsdelar enligt definition i anmärkningen till avsnitt 0C004) på minst 2 %.

| 2. | En maximal diameter på 175 mm för ett cylindriskt kärl, eller |
| --- | --- |

2.

En maximal diameter på 175 mm för ett cylindriskt kärl, eller

| 3. | en maximal bredd på 75 mm för antingen en skiv- eller ringformad behållare. |
| --- | --- |

3.

en maximal bredd på 75 mm för antingen en skiv- eller ringformad behållare.

| f) | Processövervakningsutrustning som är särskilt konstruerad eller iordningställd för att övervaka eller styra upparbetningen av bestrålat "naturligt uran", "utarmat uran" eller "särskilt klyvbart material". |
| --- | --- |

f)

Processövervakningsutrustning som är särskilt konstruerad eller iordningställd för att övervaka eller styra upparbetningen av bestrålat "naturligt uran", "utarmat uran" eller "särskilt klyvbart material".

0B007Anläggning för konvertering av plutonium och utrustning särskilt konstruerad eller iordningställd härför, enligt följande:

| a) | System för konvertering av plutoniumnitrat till plutoniumoxid. |
| --- | --- |

a)

System för konvertering av plutoniumnitrat till plutoniumoxid.

| b) | System för produktion av plutoniummetall. |
| --- | --- |

b)

System för produktion av plutoniummetall.

0CMaterial

0C001"Naturligt uran" eller "utarmat uran" eller torium i form av metall, legeringar, kemiska föreningar eller koncentrat och varje annat material som innehåller ett eller flera av de ovan nämnda materialen.

| : | Avsnitt 0C001 omfattar inte följande:







  a) | Fyra gram eller mindre av "naturligt uran" eller "utarmat uran", när det ingår i sensorkomponenter i instrument. |
| --- | --- | --- |

:

a)

Fyra gram eller mindre av "naturligt uran" eller "utarmat uran", när det ingår i sensorkomponenter i instrument.

| b) | "Utarmat uran" speciellt framställt för följande civila icke-nukleära tillämpningar:








  1. | Skärmning. |
| --- | --- | --- |

b)

"Utarmat uran" speciellt framställt för följande civila icke-nukleära tillämpningar:

1.

Skärmning.

| 2. | Emballering. |
| --- | --- |

2.

Emballering.

| 3. | Ballast med en massa som inte är större än 100 kg. |
| --- | --- |

3.

Ballast med en massa som inte är större än 100 kg.

| 4. | Motvikter med en massa som inte är större än 100 kg. |
| --- | --- |

4.

Motvikter med en massa som inte är större än 100 kg.

| c) | Legeringar innehållande mindre än 5 % torium. |
| --- | --- |

c)

Legeringar innehållande mindre än 5 % torium.

| d) | Keramiska produkter innehållande torium vilka har framställts för icke-nukleär användning. |
| --- | --- |

d)

Keramiska produkter innehållande torium vilka har framställts för icke-nukleär användning.

0C002"Särskilt klyvbart material".

| : | Avsnitt 0C002 omfattar inte mängder om fyra "effektiva gram" eller mindre när materialet ingår i sensorkomponenter i instrument. |
| --- | --- |

:

0C003Deuterium, tungt vatten (deuteriumoxid) och andra deuteriumföreningar samt blandningar och lösningar som innehåller deuterium i vilka isotopförhållandet deuterium-väte överstiger 1:5 000.

0C004Grafit, kärnteknisk kvalitet, som har en renhetsgrad som är bättre än 5 delar per miljon ‧borekvivalenter‧ och en densitet som är större än 1,5 g/cm3.

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 1C107. |
| --- | --- |

ANM.:

| : | Avsnitt 0C004 omfattar inte följande:







  a) | Grafitprodukter med en massa som är mindre än 1 kg, utom de som är särskilt avsedda eller preparerade för användning i en kärnreaktor. |
| --- | --- | --- |

:

a)

Grafitprodukter med en massa som är mindre än 1 kg, utom de som är särskilt avsedda eller preparerade för användning i en kärnreaktor.

| b) | Grafitpulver. |
| --- | --- |

b)

Grafitpulver.

| : | I avsnitt 0C004 definieras ‧borekvivalent‧ (BE) som summan av BE
  z
  för föroreningar (utom BE
  kol
  eftersom kol inte betraktas som en förorening) inklusive bor, där

  BEZ (ppm) = CF × koncentrationen av element Z i ppm





  och σB och σz är de termiska neutroninfångningstvärsnitten (i barn) för naturligt förekommande bor respektive element Z, och AB och Az är atommassan hos naturligt förekommande bor respektive element Z. |
| --- | --- |

:

BEZ (ppm) = CF × koncentrationen av element Z i ppm

Formula

och σB och σz är de termiska neutroninfångningstvärsnitten (i barn) för naturligt förekommande bor respektive element Z, och AB och Az är atommassan hos naturligt förekommande bor respektive element Z.

0C005Speciellt förberedda föreningar eller pulver avsedda för tillverkning av gasdiffusionsmembran som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6 (t.ex. nickel eller legering innehållande 60 viktprocent eller mer nickel, aluminiumoxid och fullständigt fluorerade polymerer) och som har en renhet på 99,9 viktprocent eller bättre och en genomsnittlig partikelstorlek som är mindre än 10 μm mätt enligt American Society for Testing and Materials (ASTM) B 330 standard och en hög grad av likformighet i partikelstorleken.

0DProgramvara

0D001"Programvara" som är särskilt konstruerad eller modifierad för "utveckling", "produktion" eller "användning" av varor som omfattas av denna kategori.

0ETeknik

0E001"Teknik" enligt anmärkning rörande kärnteknik för "utveckling", "produktion" eller "användning" av varor som omfattas av denna kategori.

KATEGORI 1

SÄRSKILDA MATERIAL OCH TILLHÖRANDE UTRUSTNING

1ASystem, utrustning och komponenter

1A001Komponenter tillverkade av fluorerade blandningar, enligt följande:

| a) | Packningar, tätningar, tätningsmaterial eller bränsletankar, speciellt konstruerade för "luftfartyg" eller rymdfarkoster, tillverkade till mer än 50 viktprocent av något material som omfattas av avsnitt 1C009.b eller 1C009.c. |
| --- | --- |

a)

Packningar, tätningar, tätningsmaterial eller bränsletankar, speciellt konstruerade för "luftfartyg" eller rymdfarkoster, tillverkade till mer än 50 viktprocent av något material som omfattas av avsnitt 1C009.b eller 1C009.c.

| b) | Piezoelektriska polymerer och sampolymerer, tillverkade av vinylidenfluoridmaterial (CAS 75-38-7), enligt avsnitt 1C009.a, vilka






  1. | är i form av blad eller film, och |
| --- | --- | --- |

b)

Piezoelektriska polymerer och sampolymerer, tillverkade av vinylidenfluoridmaterial (CAS 75-38-7), enligt avsnitt 1C009.a, vilka

1.

är i form av blad eller film, och

| 2. | har en tjocklek på över 200 μm. |
| --- | --- |

2.

har en tjocklek på över 200 μm.

| c) | Packningar, tätningar, ventilsäten, tankar eller membran med båda följande egenskaper:






  1. | Tillverkade av fluorelastomerer som innehåller åtminstone en vinyletergrupp. |
| --- | --- | --- |

c)

Packningar, tätningar, ventilsäten, tankar eller membran med båda följande egenskaper:

1.

Tillverkade av fluorelastomerer som innehåller åtminstone en vinyletergrupp.

| 2. | Speciellt konstruerade för användning i "luftfartyg", rymdfarkoster eller ‧missiler‧. |
| --- | --- |

2.

Speciellt konstruerade för användning i "luftfartyg", rymdfarkoster eller ‧missiler‧.

| : | I avsnitt 1A001.c avses med ‧missil‧ kompletta raketsystem och system för obemannade luftfartyg. |
| --- | --- |

:

1A002"Kompositer" eller laminat med något av följande:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITTEN 1A202, 9A010 OCH 9A110. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | Bestående av en organisk "matris" och material som omfattas av avsnitt 1C010.c, 1C010.d eller 1C010.e, eller |
| --- | --- |

a)

Bestående av en organisk "matris" och material som omfattas av avsnitt 1C010.c, 1C010.d eller 1C010.e, eller

| b) | Bestående av en metall- eller kol-"matris" och något av följande:






  1. | "Fibrer eller fiberliknande material" av kol med följande egenskaper:






  a) | en "specifik modul" överstigande 10,15 × 106 m, och |
| --- | --- | --- | --- |

b)

Bestående av en metall- eller kol-"matris" och något av följande:

1.

"Fibrer eller fiberliknande material" av kol med följande egenskaper:

a)

en "specifik modul" överstigande 10,15 × 106 m, och

| b) | en "specifik brottgräns" som överstiger 17,7 × 104 m, eller |
| --- | --- |

b)

en "specifik brottgräns" som överstiger 17,7 × 104 m, eller

| 2. | Material som omfattas av avsnitt 1C010.c. |
| --- | --- |

2.

Material som omfattas av avsnitt 1C010.c.

| : | Avsnitt 1A002 omfattar inte kompositstrukturer eller laminat tillverkade av epoxyhartsimpregnerade "fibrer eller fiberliknande material" av kol, som ska användas för reparation av "civila luftfartyg" eller dess laminat, för vilka







  a) | ytan inte överstiger 1 m2, |
| --- | --- | --- |

:

a)

ytan inte överstiger 1 m2,

| b | längden inte överstiger 2,5 m, och |
| --- | --- |

b

längden inte överstiger 2,5 m, och

| c) | bredden överstiger 15 mm. |
| --- | --- |

c)

bredden överstiger 15 mm.

| : | Avsnitt 1A002 omfattar inte halvfabrikat som är speciellt konstruerade för följande helt civila tillämpningar:







  a) | Sportutrustning. |
| --- | --- | --- |

:

a)

Sportutrustning.

| b) | Bilindustrin. |
| --- | --- |

b)

Bilindustrin.

| c) | Verktygsmaskinindustrin. |
| --- | --- |

c)

Verktygsmaskinindustrin.

| d) | Medicinska tillämpningar. |
| --- | --- |

d)

Medicinska tillämpningar.

| : | Avsnitt 1A002.b.1 omfattar inte halvfabrikat som innehåller sammanvävda fibertrådar av högst två dimensioner och som är speciellt konstruerade för följande tillämpningar:







  a) | Värmebehandlingsugnar för härdning av metaller. |
| --- | --- | --- |

:

a)

Värmebehandlingsugnar för härdning av metaller.

| b) | Produktionsutrustning för kiselkulor. |
| --- | --- |

b)

Produktionsutrustning för kiselkulor.

| : | 1A002 omfattar inte färdiga detaljer som är speciellt konstruerade för en specifik tillämpning. |
| --- | --- |

:

1A003Föremål av icke-"smältbara" aromatiska polyimider i form av film, blad eller band med någon av följande egenskaper:

| a) | En tjocklek som överstiger 0,254 mm, eller |
| --- | --- |

a)

En tjocklek som överstiger 0,254 mm, eller

| b) | är belagd eller laminerad med kol, grafit, metall eller magnetiskt material. |
| --- | --- |

b)

är belagd eller laminerad med kol, grafit, metall eller magnetiskt material.

| : | Avsnitt 1A003 omfattar inte produktion av kopparbelagda eller kopparlaminerade filmer konstruerade för produktion av elektroniska mönsterkort. |
| --- | --- |

:

| : | För alla former av "smältbara" aromatiska polyimider, se avsnitt 1C008.a.3. |
| --- | --- |

:

1A004Utrustning och komponenter för skydd och detektering, som inte omfattas av kontrollbestämmelserna för varor med militär användning, enligt följande:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITTEN 2B351 OCH 2B352. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | Gasmasker, filterbehållare och saneringsutrustning till dessa, konstruerade eller modifierade för försvar mot något av följande, och speciellt konstruerade komponenter till dessa:






  1. | Biologiska agens "anpassade för användning i krig". |
| --- | --- | --- |

a)

Gasmasker, filterbehållare och saneringsutrustning till dessa, konstruerade eller modifierade för försvar mot något av följande, och speciellt konstruerade komponenter till dessa:

1.

Biologiska agens "anpassade för användning i krig".

| 2. | Radioaktiva material "anpassade för användning i krig". |
| --- | --- |

2.

Radioaktiva material "anpassade för användning i krig".

| 3. | Kemiska stridsmedel (CW), eller |
| --- | --- |

3.

Kemiska stridsmedel (CW), eller

| 4. | "Agens för kravallhantering", bland annat






  a) | alpha-brombensenacetonitril (brombensylcyanid) (CA) (CAS 5798-79-8), |
| --- | --- | --- |

4.

"Agens för kravallhantering", bland annat

a)

alpha-brombensenacetonitril (brombensylcyanid) (CA) (CAS 5798-79-8),

| b) | [(2-klorofenyl)metylen] propandinitril, (o-klorbensalmalononitril) (CS) (CAS 2698-41-1), |
| --- | --- |

b)

[(2-klorofenyl)metylen] propandinitril, (o-klorbensalmalononitril) (CS) (CAS 2698-41-1),

| c) | 2-klor-1-fenyletanon, fenylacylklorid (omega-kloracetofenon) (CN) (CAS 532-27-4), |
| --- | --- |

c)

2-klor-1-fenyletanon, fenylacylklorid (omega-kloracetofenon) (CN) (CAS 532-27-4),

| d) | dibens-(b,f)-1,4-oxazepin (CR) (CAS 257-07-8), |
| --- | --- |

d)

dibens-(b,f)-1,4-oxazepin (CR) (CAS 257-07-8),

| e) | 10-klor-5,10-dihydrofenarsazin, (fenarsazinklorid), (adamsit), (DM) (CAS 578-94-9), |
| --- | --- |

e)

10-klor-5,10-dihydrofenarsazin, (fenarsazinklorid), (adamsit), (DM) (CAS 578-94-9),

| f) | n-nonanoylmorfolin, (MPA) (CAS 5299-64-9). |
| --- | --- |

f)

n-nonanoylmorfolin, (MPA) (CAS 5299-64-9).

| b) | Skyddsdräkter, handskar och skor, speciellt konstruerade eller modifierade för att skydda mot något av följande:






  1. | Biologiska agens "anpassade för användning i krig". |
| --- | --- | --- |

b)

Skyddsdräkter, handskar och skor, speciellt konstruerade eller modifierade för att skydda mot något av följande:

1.

Biologiska agens "anpassade för användning i krig".

| 2. | Radioaktiva material "anpassade för användning i krig", eller |
| --- | --- |

2.

Radioaktiva material "anpassade för användning i krig", eller

| 3. | Kemiska stridsmedel (CW). |
| --- | --- |

3.

Kemiska stridsmedel (CW).

| c) | Detekteringssystem, speciellt konstruerade eller modifierade för detektering eller identifiering av något av följande, och speciellt konstruerade komponenter till dessa:






  1. | Biologiska agens "anpassade för användning i krig". |
| --- | --- | --- |

c)

Detekteringssystem, speciellt konstruerade eller modifierade för detektering eller identifiering av något av följande, och speciellt konstruerade komponenter till dessa:

1.

Biologiska agens "anpassade för användning i krig".

| 2. | Radioaktiva material "anpassade för användning i krig", eller |
| --- | --- |

2.

Radioaktiva material "anpassade för användning i krig", eller

| 3. | Kemiska stridsmedel (CW). |
| --- | --- |

3.

Kemiska stridsmedel (CW).

| d) | Elektronisk utrustning som är konstruerad för automatisk detektering eller identifiering av förekomsten av restmängder av "sprängämnen" och som utnyttjar ‧spårdetektion‧ stekniker (t.ex. akustiska ytvågor, spektrometri för jonrörlighet, spektrometri för differentiell rörlighet, masspektrometri). |
| --- | --- |

d)

Elektronisk utrustning som är konstruerad för automatisk detektering eller identifiering av förekomsten av restmängder av "sprängämnen" och som utnyttjar ‧spårdetektion‧ stekniker (t.ex. akustiska ytvågor, spektrometri för jonrörlighet, spektrometri för differentiell rörlighet, masspektrometri).

:

‧Spårdetektion‧ definieras som förmågan att detektera mindre än 1 ppm ånga eller 1 mg fast eller flytande ämne.

| : | Avsnitt 1A004.d omfattar inte kontrollutrustning som är speciellt konstruerad för laboratorieanvändning. |
| --- | --- |

:

| : | Avsnitt 1A004.d omfattar inte säkerhetsbågar som passeras utan att vidröras. |
| --- | --- |

:

| : | Avsnitt 1A004 omfattar inte följande:







  a) | Personliga dosimetrar för mätning av strålning. |
| --- | --- | --- |

:

a)

Personliga dosimetrar för mätning av strålning.

| b) | Utrustning som genom konstruktion eller funktion är begränsade till att skydda för olyckor inom bostadsområden eller civil industri, inklusive








  1. | gruvor, |
| --- | --- | --- |

b)

Utrustning som genom konstruktion eller funktion är begränsade till att skydda för olyckor inom bostadsområden eller civil industri, inklusive

1.

gruvor,

| 2. | stenbrott, |
| --- | --- |

2.

stenbrott,

| 3. | jordbruk, |
| --- | --- |

3.

jordbruk,

| 4. | läkemedelsindustrin, |
| --- | --- |

4.

läkemedelsindustrin,

| 5. | medicinskt bruk, |
| --- | --- |

5.

medicinskt bruk,

| 6. | veterinärt bruk, |
| --- | --- |

6.

veterinärt bruk,

| 7. | miljöskydd, |
| --- | --- |

7.

miljöskydd,

| 8. | avfallshantering, |
| --- | --- |

8.

avfallshantering,

| 9. | livsmedelsindustrin. |
| --- | --- |

9.

livsmedelsindustrin.

:

| 1. | Avsnitt 1A004 omfattar utrustning och komponenter som har identifierats, framgångsrikt testats i enlighet med nationella standarder eller på annat sätt visats vara effektiva för detektering av eller försvar mot radioaktiva material "anpassade för användning i krig", biologiska agens "anpassade för användning i krig", kemiska stridsmedel, ‧simulatorer‧ eller "agens för kravallhantering", även om sådan utrustning eller sådana komponenter används inom civil industri, t.ex. gruvor, stenbrott, jordbruk, läkemedelsindustrin, för medicinskt och veterinärt bruk, miljöskydd, avfallshantering eller livsmedelsindustrin. |
| --- | --- |

1.

Avsnitt 1A004 omfattar utrustning och komponenter som har identifierats, framgångsrikt testats i enlighet med nationella standarder eller på annat sätt visats vara effektiva för detektering av eller försvar mot radioaktiva material "anpassade för användning i krig", biologiska agens "anpassade för användning i krig", kemiska stridsmedel, ‧simulatorer‧ eller "agens för kravallhantering", även om sådan utrustning eller sådana komponenter används inom civil industri, t.ex. gruvor, stenbrott, jordbruk, läkemedelsindustrin, för medicinskt och veterinärt bruk, miljöskydd, avfallshantering eller livsmedelsindustrin.

| 2. | En ‧simulator‧ är ett ämne eller material som används i stället för en toxisk agens (kemisk eller biologisk) i samband med utbildning, forskning, testning eller utvärdering. |
| --- | --- |

2.

En ‧simulator‧ är ett ämne eller material som används i stället för en toxisk agens (kemisk eller biologisk) i samband med utbildning, forskning, testning eller utvärdering.

1A005Skyddsvästar och därtill speciellt konstruerade delar, andra än sådana som tillverkats enligt militära standarder och specifikationer eller ekvivalenter till dessa vad avser prestationsförmåga.

| ANM.: | SE ÄVEN KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING. |
| --- | --- |

ANM.:

:

För "fibrer eller fiberliknande material" som används för tillverkning av skyddsvästar, se avsnitt 1C010.

| : | Avsnitt 1A005 omfattar inte skyddsvästar eller skyddskläder när de används eller medföres för användarens eget bruk. |
| --- | --- |

:

| : | Avsnitt 1A005 omfattar inte skyddsvästar som är konstruerade endast för frontalskydd från splitter och tryckvågor från icke militära explosiva produkter. |
| --- | --- |

:

1A006Utrustning, speciellt konstruerad eller modifierad för desarmering av improviserade sprängladdningar, enligt följande, och speciellt konstruerade komponenter och tillbehör till sådan utrustning:

| ANM.: | SE ÄVEN KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | Fjärrstyrda fordon. |
| --- | --- |

a)

Fjärrstyrda fordon.

| b) | ‧Desarmeringsanordningar‧. |
| --- | --- |

b)

‧Desarmeringsanordningar‧.

:

‧Desarmeringsanordningar‧ är anordningar som är speciellt konstruerade för att förhindra att en sprängladdning utlöses, genom att skjuta ut en vätskeprojektil, en fast projektil eller en brytbar projektil.

| : | Avsnitt 1A006 omfattar inte sådan utrustning som åtföljer dess operatör. |
| --- | --- |

:

1A007Utrustning och anordningar, speciellt konstruerade för att på elektrisk väg initiera tändning av sprängladdningar och anordningar som innehåller "energetiska material", enligt följande:

| ANM.: | SE ÄVEN KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING SAMT AVSNITTEN 3A229 OCH 3A232. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | Tändaggregat avsedda att initiera tändning av sprängkapslar som specificeras i avsnitt 1A007.b. |
| --- | --- |

a)

Tändaggregat avsedda att initiera tändning av sprängkapslar som specificeras i avsnitt 1A007.b.

| b) | Elektriskt initierade sprängkapslar enligt följande:






  1. | Exploderande brygga (EB). |
| --- | --- | --- |

b)

Elektriskt initierade sprängkapslar enligt följande:

1.

Exploderande brygga (EB).

| 2. | Exploderande tråd (EBW). |
| --- | --- |

2.

Exploderande tråd (EBW).

| 3. | Slapper. |
| --- | --- |

3.

Slapper.

| 4. | Exploderande folie (EFI). |
| --- | --- |

4.

Exploderande folie (EFI).

:

| 1. | Ordet tändare eller tändanordning används ibland i stället för sprängkapsel. |
| --- | --- |

1.

| 2. | De sprängkapslar som avses i avsnitt 1A007.b utnyttjar alla en liten elektriskt ledare (brygga, tråd eller folie) som förångas explosivt när en kortvarig elektrisk puls med hög strömstyrka passerar genom denna. I sprängkapslar som inte är av typ slapper startar den exploderande ledaren en kemisk detonation i ett anslutande högexplosivt sprängämne, exempelvis pentyl (pentaerytritoltetranitrat). I en slapper-tändare driver den explosiva förångningen av den elektriska ledaren en tunn skiva eller en slapper över ett luftgap mot ett sprängämne som vid anslaget initierar en kemisk detonation. I vissa konstruktioner drivs slapper-tändaren av en magnetisk kraft. Termen exploderande foliedetonator refererar antingen till en exploderande brygga eller en sprängkapsel av typ slapper. |
| --- | --- |

2.

1A008Sprängladdningar, anordningar och komponenter enligt följande:

| a) | ‧Formade sprängladdningar‧ med båda följande egenskaper:






  1. | Nettosprängämnesmängden (NEQ) överstiger 90 g. |
| --- | --- | --- |

a)

‧Formade sprängladdningar‧ med båda följande egenskaper:

1.

Nettosprängämnesmängden (NEQ) överstiger 90 g.

| 2. | Höljets yttre diameter är minst 75 mm. |
| --- | --- |

2.

Höljets yttre diameter är minst 75 mm.

| b) | Linjära formade skärsprängladdningar (cutting charges) med båda följande egenskaper, och speciellt konstruerade komponenter till dessa:






  1. | En sprängladdning som överstiger 40 g/m. |
| --- | --- | --- |

b)

Linjära formade skärsprängladdningar (cutting charges) med båda följande egenskaper, och speciellt konstruerade komponenter till dessa:

1.

En sprängladdning som överstiger 40 g/m.

| 2. | En bredd på minst 10 mm. |
| --- | --- |

2.

En bredd på minst 10 mm.

| c) | Snabbstubin med en sprängladdning i den inre delen som överstiger 64 g/m. |
| --- | --- |

c)

Snabbstubin med en sprängladdning i den inre delen som överstiger 64 g/m.

| d) | Andra skärsprängladdningar än de som anges i avsnitt 1A008.b och avskiljningsverktyg med en nettosprängämnesmängd (NEQ) som överstiger 3,5 kg. |
| --- | --- |

d)

Andra skärsprängladdningar än de som anges i avsnitt 1A008.b och avskiljningsverktyg med en nettosprängämnesmängd (NEQ) som överstiger 3,5 kg.

:

‧Formade sprängladdningar‧ är sprängladdningar som formats för att målinrikta verkan av explosionen.

1A102Återmättade pyrolyserade kol-kol-komponenter konstruerade för rymduppskjutningsfarkoster som anges i avsnitt 9A004 eller sondraketer som anges i avsnitt 9A104.

1A202Kompositmaterial, andra än de som omfattas av avsnitt 1A002, i form av rör och som har båda följande egenskaper:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITTEN 9A010 OCH 9A110. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | En inre diameter mellan 75 mm och 400 mm och |
| --- | --- |

a)

En inre diameter mellan 75 mm och 400 mm och

| b) | tillverkade av "fibrer eller fiberliknande material" som omfattas av avsnitt 1C010.a, 1C010.b. eller 1C210.a eller av förimpregnerat material av kol som omfattas av avsnitt 1C210.c. |
| --- | --- |

b)

tillverkade av "fibrer eller fiberliknande material" som omfattas av avsnitt 1C010.a, 1C010.b. eller 1C210.a eller av förimpregnerat material av kol som omfattas av avsnitt 1C210.c.

1A225Platinerade katalysatorer som är särskilt utformade eller iordningställda för att befrämja väteisotoputbyte mellan väte och vatten för att utvinna tritium ur tungt vatten eller för produktion av tungt vatten.

1A226Fyllkroppar, som kan användas för separation av tungt vatten från vanligt vatten, och som har båda följande egenskaper:

| a) | Tillverkade av fosforbronsnät som är kemiskt behandlade för att förbättra vätbarheten och |
| --- | --- |

a)

Tillverkade av fosforbronsnät som är kemiskt behandlade för att förbättra vätbarheten och

| b) | utformade för att användas i kolonner för vakuumdestillation. |
| --- | --- |

b)

utformade för att användas i kolonner för vakuumdestillation.

1A227Strålningsskyddande fönster med hög densitet (blyglas eller annat glas) som har alla följande egenskaper och särskilt utformade ramar för sådana fönster:

| a) | En ‧inaktiv area‧ större än 0,09 m2. |
| --- | --- |

a)

En ‧inaktiv area‧ större än 0,09 m2.

| b) | En densitet större än 3 g/cm3, och |
| --- | --- |

b)

En densitet större än 3 g/cm3, och

| c) | En tjocklek av 100 mm eller mer. |
| --- | --- |

c)

En tjocklek av 100 mm eller mer.

:

I avsnitt 1A227 avses med ‧inaktiv area‧ den genomsiktliga area av fönstret som utsätts för den lägsta strålningsnivån vid tillämpningen.

1BTest-, inspektions- och produktionsutrustning

1B001Utrustning för produktion eller inspektion av "kompositer eller laminat" enligt avsnitt 1A002 eller "fibrer eller fiberliknande material" enligt 1C010, enligt följande, samt speciellt konstruerade komponenter och tillbehör till sådan utrustning.

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITTEN 1B101 OCH 1B201. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | Lindningsmaskiner, i vilka rörelserna för positionering, omslag och lindning av fibrerna är samordnade och programmerade i minst tre ‧primära servopositioneringsaxlar‧, speciellt konstruerade för tillverkning av "kompositer" eller laminat som består av "fibrer eller fiberliknande" material. |
| --- | --- |

a)

Lindningsmaskiner, i vilka rörelserna för positionering, omslag och lindning av fibrerna är samordnade och programmerade i minst tre ‧primära servopositioneringsaxlar‧, speciellt konstruerade för tillverkning av "kompositer" eller laminat som består av "fibrer eller fiberliknande" material.

| b) | Maskiner för påläggning av band, i vilka påläggning av band eller väv kan samordnas och programmeras i minst fem ‧primära servopositioneringsaxlar‧, speciellt konstruerade för tillverkning av kroppar för luftfarkoster eller ‧missiler‧ i "komposit" material.







  : | Med ‧missil‧ avses i avsnitt 1B001.b kompletta raketsystem och system för obemannade luftfartyg. |
| --- | --- | --- |

b)

Maskiner för påläggning av band, i vilka påläggning av band eller väv kan samordnas och programmeras i minst fem ‧primära servopositioneringsaxlar‧, speciellt konstruerade för tillverkning av kroppar för luftfarkoster eller ‧missiler‧ i "komposit" material.

:

| c) | Vävstolar, som kan väva i flera riktningar och med flera dimensioner, inbegripet adaptrar och modifieringsutrustning, som är speciellt konstruerade eller modifierade för sammanvävning, sammanflätning eller sammantvinning av fibrer för "komposit" strukturer.

  :


  I avsnitt 1B001.c inkluderas stickas i tekniken tvinnas. |
| --- | --- |

c)

Vävstolar, som kan väva i flera riktningar och med flera dimensioner, inbegripet adaptrar och modifieringsutrustning, som är speciellt konstruerade eller modifierade för sammanvävning, sammanflätning eller sammantvinning av fibrer för "komposit" strukturer.

:

I avsnitt 1B001.c inkluderas stickas i tekniken tvinnas.

| d) | Utrustning speciellt konstruerad eller anpassad för produktion av armeringsfibrer enligt följande:






  1. | Utrustning för omvandling av polymeriska fibrer (t.ex. polyakrylonnitril, rayon, beck eller polykarbosilan) till kol- eller kiselkarbidfibrer, innefattande specialutrustning för att töja fibrerna under upphettning. |
| --- | --- | --- |

d)

Utrustning speciellt konstruerad eller anpassad för produktion av armeringsfibrer enligt följande:

1.

Utrustning för omvandling av polymeriska fibrer (t.ex. polyakrylonnitril, rayon, beck eller polykarbosilan) till kol- eller kiselkarbidfibrer, innefattande specialutrustning för att töja fibrerna under upphettning.

| 2. | Utrustning för kemisk förångningsdeposition av grundämnen eller föreningar på upphettade trådformade substrat för att tillverka kiselkarbidfibrer. |
| --- | --- |

2.

Utrustning för kemisk förångningsdeposition av grundämnen eller föreningar på upphettade trådformade substrat för att tillverka kiselkarbidfibrer.

| 3. | Utrustning för våtspinning av eldfasta keramer (t.ex. aluminiumoxid). |
| --- | --- |

3.

Utrustning för våtspinning av eldfasta keramer (t.ex. aluminiumoxid).

| 4. | Utrustning för omvandling av aluminium som innehåller fiberämnen till aluminiumfibrer genom värmebehandling. |
| --- | --- |

4.

Utrustning för omvandling av aluminium som innehåller fiberämnen till aluminiumfibrer genom värmebehandling.

| e) | Utrustning för att producera förimpregnerade mattor som omfattas av avsnitt 1C010.e genom varmsmältning. |
| --- | --- |

e)

Utrustning för att producera förimpregnerade mattor som omfattas av avsnitt 1C010.e genom varmsmältning.

| f) | Ickeförstörande inspektionsutrustning som är särskilt konstruerad för "komposit" material enligt följande:






  1. | Röntgentomografisystem för upptäckt av fel tredimensionellt. |
| --- | --- | --- |

f)

Ickeförstörande inspektionsutrustning som är särskilt konstruerad för "komposit" material enligt följande:

1.

Röntgentomografisystem för upptäckt av fel tredimensionellt.

| 2. | Numeriskt styrda ultraljudstestmaskiner i vilka rörelserna för positionering av sändare eller mottagare samtidigt är samordnade och programmerade i minst fyra axlar för att följa de tredimensionella konturerna av den komponent som inspekteras. |
| --- | --- |

2.

Numeriskt styrda ultraljudstestmaskiner i vilka rörelserna för positionering av sändare eller mottagare samtidigt är samordnade och programmerade i minst fyra axlar för att följa de tredimensionella konturerna av den komponent som inspekteras.

| g) | Maskiner för påläggning av blånor, i vilka påläggning av blånor eller väv kan samordnas och programmeras i minst två ‧primära servopositioneringsaxlar‧, speciellt konstruerade för tillverkning av kroppar för luftfarkoster eller ‧missiler‧ i "komposit" material. |
| --- | --- |

g)

Maskiner för påläggning av blånor, i vilka påläggning av blånor eller väv kan samordnas och programmeras i minst två ‧primära servopositioneringsaxlar‧, speciellt konstruerade för tillverkning av kroppar för luftfarkoster eller ‧missiler‧ i "komposit" material.

:

I avsnitt 1B001 omfattar ‧primära servopositioneringsaxlar‧ axlar som styrda av datorprogram orienterar och styr arbetsdonets (dvs. huvudets) position i rummet i förhållande till arbetsstycket för uppnående av den önskade processen.

1B002Utrustning för att producera metallegeringar, metallegeringar i pulverform eller legeringar speciellt konstruerade för att undvika föroreningar och speciellt konstruerade för att användas inom en av de processer som omfattas av avsnitt 1C002.c.2.

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 1B102. |
| --- | --- |

ANM.:

1B003Verktyg, formar, kokiller eller fixturer för "superplastisk bearbetning" eller "diffusionsbondning" av titan, aluminium eller legeringar av dessa, speciellt konstruerade för tillverkning av någon av följande produkter:

| a) | Kroppar för flygplan eller rymdfarkoster. |
| --- | --- |

a)

Kroppar för flygplan eller rymdfarkoster.

| b) | Motorer för "luftfartyg" eller rymdfarkoster. |
| --- | --- |

b)

Motorer för "luftfartyg" eller rymdfarkoster.

| c) | Speciellt konstruerade komponenter för kroppar som anges i avsnitt 1B003.a eller för motorer som anges i avsnitt 1B003.b. |
| --- | --- |

c)

Speciellt konstruerade komponenter för kroppar som anges i avsnitt 1B003.a eller för motorer som anges i avsnitt 1B003.b.

1B101Utrustning, annan än sådan som omfattas av avsnitt 1B001, för "produktion" av strukturella kompositer enligt följande, liksom särskilt utformade komponenter och tillbehör därtill.

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 1B201. |
| --- | --- |

ANM.:

| : | Exempel på komponenter och tillbehör som omfattas av avsnitt 1B101 är formar, gjutkärnor, matriser, fixturer och verktyg för pressning, härdning, gjutning, sintring eller bindning av förformar till kompositstrukturer, laminat och produkter därav. |
| --- | --- |

:

| a) | Maskiner för trådlindning eller fiberlindning vilka är utformade för att tillverka kompositstrukturer eller laminat från fibrer eller fiberliknande material där rörelserna för att placera, vira och linda fibrer samordnas och programmeras i tre eller flera axlar, samt samordnings- och programstyrning härför. |
| --- | --- |

a)

Maskiner för trådlindning eller fiberlindning vilka är utformade för att tillverka kompositstrukturer eller laminat från fibrer eller fiberliknande material där rörelserna för att placera, vira och linda fibrer samordnas och programmeras i tre eller flera axlar, samt samordnings- och programstyrning härför.

| b) | Bandläggningsmaskiner, konstruerade för tillverkning av flygplansskrov och "missil"-konstruktioner i kompositmaterial, där rörelserna för att placera och lägga band och ark är samordnade och programmerade i två eller flera axlar. |
| --- | --- |

b)

Bandläggningsmaskiner, konstruerade för tillverkning av flygplansskrov och "missil"-konstruktioner i kompositmaterial, där rörelserna för att placera och lägga band och ark är samordnade och programmerade i två eller flera axlar.

| c) | Utrustning som konstruerats eller modifierats för "produktion" av "fibrer eller fiberliknande material" enligt följande:






  1. | Utrustning för omformning av polymerfibrer (som polyakrylnitril, rayon eller polykarbosilan) inklusive speciella åtgärder för att sträcka fibrerna under upphettning. |
| --- | --- | --- |

c)

Utrustning som konstruerats eller modifierats för "produktion" av "fibrer eller fiberliknande material" enligt följande:

1.

Utrustning för omformning av polymerfibrer (som polyakrylnitril, rayon eller polykarbosilan) inklusive speciella åtgärder för att sträcka fibrerna under upphettning.

| 2. | Utrustning för ångutfällning av ämnen eller föreningar på upphettat fibersubstrat. |
| --- | --- |

2.

Utrustning för ångutfällning av ämnen eller föreningar på upphettat fibersubstrat.

| 3. | Utrustning för våtspinning av eldfasta keramer (t.ex. aluminiumoxid). |
| --- | --- |

3.

Utrustning för våtspinning av eldfasta keramer (t.ex. aluminiumoxid).

| d) | Utrustning utformad eller modifierad för särskild fiberytbehandling eller för produktion av förimpregnerade mattor och förformer som omfattas av avsnitt 9C110.







  : | Avsnitt 1B101.d innehåller bl.a. rullar, sträckare, ytbeläggningsutrustningar, skärmaskiner och stansar. |
| --- | --- | --- |

d)

Utrustning utformad eller modifierad för särskild fiberytbehandling eller för produktion av förimpregnerade mattor och förformer som omfattas av avsnitt 9C110.

:

1B102Utrustning för "produktion" av metallpulver, annan än den som omfattas av avsnitt 1B002, och komponenter enligt följande:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 1B115.b. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | Utrustning för "produktion" av metallpulver som kan användas för att i en kontrollerad omgivning "producera" sfäriska eller finfördelade material som omfattas av avsnitten 1C011.a, 1C011.b, 1C111.a.1, 1C111.a.2 eller kontrollbestämmelserna för varor med militär användning. |
| --- | --- |

a)

Utrustning för "produktion" av metallpulver som kan användas för att i en kontrollerad omgivning "producera" sfäriska eller finfördelade material som omfattas av avsnitten 1C011.a, 1C011.b, 1C111.a.1, 1C111.a.2 eller kontrollbestämmelserna för varor med militär användning.

| b) | Komponenter som konstruerats särskilt för sådan "produktionsutrustning" som omfattas av avsnitt 1B002 eller 1B102.a. |
| --- | --- |

b)

Komponenter som konstruerats särskilt för sådan "produktionsutrustning" som omfattas av avsnitt 1B002 eller 1B102.a.

| : | Avsnitt 1B102 omfattar följande:







  a) | Plasmageneratorer (bågstråle med hög frekvens) som kan användas för att framställa finfördelat eller sfäriskt metallpulver där processen sker i en argon-vatten-omgivning. |
| --- | --- | --- |

:

Avsnitt 1B102 omfattar följande:

a)

Plasmageneratorer (bågstråle med hög frekvens) som kan användas för att framställa finfördelat eller sfäriskt metallpulver där processen sker i en argon-vatten-omgivning.

| b) | Electroburst-utrustning som kan användas för att framställa finfördelat eller sfäriskt metallpulver där processen sker i en argon-vatten-omgivning. |
| --- | --- |

b)

Electroburst-utrustning som kan användas för att framställa finfördelat eller sfäriskt metallpulver där processen sker i en argon-vatten-omgivning.

| c) | Utrustning som kan användas för att "producera" sfäriskt aluminiumpulver genom att pulvrisera en smälta i ett inert medium (t.ex. kväve). |
| --- | --- |

c)

Utrustning som kan användas för att "producera" sfäriskt aluminiumpulver genom att pulvrisera en smälta i ett inert medium (t.ex. kväve).

1B115Utrustning, annan än den som omfattas av avsnitt 1B002 eller 1B102, för produktion av drivmedel eller beståndsdelar i dessa, enligt följande, samt tillhörande särskilt konstruerade komponenter:

| a) | "Produktionsutrustning" för "produktion", hantering eller acceptanstest av flytande drivmedel eller beståndsdelar i dessa som omfattas av avsnitten 1C011.a, 1C011.b, 1C111 eller kontrollbestämmelserna för varor med militär användning. |
| --- | --- |

a)

"Produktionsutrustning" för "produktion", hantering eller acceptanstest av flytande drivmedel eller beståndsdelar i dessa som omfattas av avsnitten 1C011.a, 1C011.b, 1C111 eller kontrollbestämmelserna för varor med militär användning.

| b) | "Produktionsutrustning" för "produktion", hantering, blandning, härdning, gjutning, pressning, maskinbehandling, strängpressning eller acceptanstest av fasta drivmedel eller beståndsdelar i dessa som omfattas av avsnitten 1C011.a, 1C011.b, 1C111 eller kontrollbestämmelserna för varor med militär användning.







  : | Avsnitt 1B115.b omfattar inte satsblandare, kontinuerliga blandare och luftstrålekvarnar. Dessa omfattas av avsnitten 1B117, 1B118 och 1B119. |
| --- | --- | --- |

b)

"Produktionsutrustning" för "produktion", hantering, blandning, härdning, gjutning, pressning, maskinbehandling, strängpressning eller acceptanstest av fasta drivmedel eller beståndsdelar i dessa som omfattas av avsnitten 1C011.a, 1C011.b, 1C111 eller kontrollbestämmelserna för varor med militär användning.

:

| : | För utrustning speciellt konstruerad för produktion av militära artiklar, se kontrollbestämmelserna för varor med militär användning. |
| --- | --- |

:

| : | Avsnitt 1B115 omfattar inte kontrollutrustning för "produktion", hantering och acceptanstest av borkarbid. |
| --- | --- |

:

1B116Speciellt konstruerade munstycken för att producera pyrolytiskt erhållet material på en form, dorn eller annat underlag från gaser vilka sönderdelas vid temperaturer från 1 573 K (1 300 °C) till 3 173 K (2 900 °C) vid ett tryck av 130 Pa till 20 kPa.

1B117Satsblandare som ger möjlighet till såväl blandning under vakuum vid tryck från 0 till 13,326 kPa som till temperaturstyrning av blandningskammaren och som har alla följande egenskaper, samt därför särskilt konstruerade komponenter:

| a) | En total volymmässig kapacitet av minst 110 liter och |
| --- | --- |

a)

En total volymmässig kapacitet av minst 110 liter och

| b) | åtminstone en blandande/knådande axel excentriskt monterad. |
| --- | --- |

b)

åtminstone en blandande/knådande axel excentriskt monterad.

1B118Kontinuerliga blandare som ger möjlighet till såväl blandning under vakuum vid tryck från 0 till 13,326 kPa som till temperaturstyrning av blandningskammaren och som har någon av följande egenskaper, samt därför särskilt konstruerade komponenter:

| a) | Två eller flera blandande/knådande axlar eller |
| --- | --- |

a)

Två eller flera blandande/knådande axlar eller

| b) | en enda roterande axel med en oscillerande rörelse och vars axel och blandningskammares insida är försedda med knådande stift/kuggar. |
| --- | --- |

b)

en enda roterande axel med en oscillerande rörelse och vars axel och blandningskammares insida är försedda med knådande stift/kuggar.

1B119Luftstrålekvarnar som kan användas för att krossa eller mala ämnen som omfattas av avsnitten 1C011.a, 1C011.b, 1C111 eller kontrollbestämmelserna för varor med militär användning, samt därför särskilt konstruerade komponenter.

1B201Lindningsmaskiner för fibrer, andra än de som omfattas av avsnitt 1B001 eller 1B101, och tillhörande utrustning, enligt följande:

| a) | Lindningsmaskiner för fibrer som har samtliga följande egenskaper:






  1. | Samordnade och programmerade för positionering, omslagning och lindning av fibrer i två eller flera axlar. |
| --- | --- | --- |

a)

Lindningsmaskiner för fibrer som har samtliga följande egenskaper:

1.

Samordnade och programmerade för positionering, omslagning och lindning av fibrer i två eller flera axlar.

| 2. | Speciellt utformade för tillverkning av kompositmaterial och laminat utgående från "fibrer och fiberliknande material" och |
| --- | --- |

2.

Speciellt utformade för tillverkning av kompositmaterial och laminat utgående från "fibrer och fiberliknande material" och

| 3. | i stånd att linda cylindriska rotorer med en diameter mellan 75 mm och 400 mm och med en längd av 600 mm eller mer. |
| --- | --- |

3.

i stånd att linda cylindriska rotorer med en diameter mellan 75 mm och 400 mm och med en längd av 600 mm eller mer.

| b) | Styrutrustning för samordning och programmering för de lindningsmaskiner för fibrer som omfattas av avsnitt 1B201.a. |
| --- | --- |

b)

Styrutrustning för samordning och programmering för de lindningsmaskiner för fibrer som omfattas av avsnitt 1B201.a.

| c) | Precisionsdorn för de lindningsmaskiner för fibrer som omfattas av avsnitt 1B201.a. |
| --- | --- |

c)

Precisionsdorn för de lindningsmaskiner för fibrer som omfattas av avsnitt 1B201.a.

1B225Elektrolytiska celler för produktion av fluor med en produktionskapacitet större än 250 g fluor per timme.

1B226Elektromagnetiska isotopseparatorer konstruerade för, eller utrustade med, en eller flera jonkällor, som kan producera en total jonström av 50 mA eller mer.

| : | Avsnitt 1B226 omfattar separatorer som







  a) | kan anrika stabila isotoper, |
| --- | --- | --- |

:

a)

kan anrika stabila isotoper,

| b) | har både jonkälla och kollektor inom samma magnetfält och sådana konfigurationer i vilka de ligger utanför magnetfältet. |
| --- | --- |

b)

har både jonkälla och kollektor inom samma magnetfält och sådana konfigurationer i vilka de ligger utanför magnetfältet.

1B227Konverteringsutrustning för ammoniaksyntes i vilka syntesgaserna (kväve och väte) avlägsnas från en högtryckskolonn för utbyte av ammoniak/väte och där den syntetiserade ammoniaken återförs till kolonnen.

1B228Kolonner för kryogen destillering av väte, som har samtliga följande egenskaper:

| a) | Konstruerade för drift vid en inre temperatur av 35 K (– 238 °C) eller lägre. |
| --- | --- |

a)

Konstruerade för drift vid en inre temperatur av 35 K (– 238 °C) eller lägre.

| b) | Konstruerade för drift vid ett inre tryck mellan 0,5 och 5 MPa. |
| --- | --- |

b)

Konstruerade för drift vid ett inre tryck mellan 0,5 och 5 MPa.

| c) | Tillverkade av antingen






  1. | rostfritt stål ur 300-serien med låg svavelhalt och med en austenitisk ASTM-kornstorlek nummer 5 eller mer (eller motsvarande standard), eller |
| --- | --- | --- |

c)

Tillverkade av antingen

1.

rostfritt stål ur 300-serien med låg svavelhalt och med en austenitisk ASTM-kornstorlek nummer 5 eller mer (eller motsvarande standard), eller

| 2. | likvärdiga material som är både kryo- och H2-kompatibla, och |
| --- | --- |

2.

likvärdiga material som är både kryo- och H2-kompatibla, och

| d) | Har en inre diameter av 1 m eller mer och en effektiv längd av 5 m eller mer. |
| --- | --- |

d)

Har en inre diameter av 1 m eller mer och en effektiv längd av 5 m eller mer.

1B229Utbyteskolonner för vatten-vätesulfid och ‧inre kontaktanordningar‧ enligt följande:

| : | För kolonner som är speciellt utformade eller förberedda för produktion av tungt vatten, se avsnitt 0B004. |
| --- | --- |

:

| a) | Utbyteskolonner för vatten-vätesulfid som har samtliga följande egenskaper:






  1. | Ett arbetstryck på 2 MPa eller högre. |
| --- | --- | --- |

a)

Utbyteskolonner för vatten-vätesulfid som har samtliga följande egenskaper:

1.

Ett arbetstryck på 2 MPa eller högre.

| 2. | Tillverkade av kolstål med en austenitisk ASTM- kornstorlek nummer 5 eller mer (eller motsvarande standard), och |
| --- | --- |

2.

Tillverkade av kolstål med en austenitisk ASTM- kornstorlek nummer 5 eller mer (eller motsvarande standard), och

| 3. | En diameter av 1,8 m eller mer. |
| --- | --- |

3.

En diameter av 1,8 m eller mer.

| b) | Sådana ‧inre kontaktanordningar‧ för utbyteskolonnerna för vatten-vätesulfid som anges i avsnitt 1B229 a.

  :


  De ‧inre kontaktanordningarna‧ i kolonnerna består av segmenterade bottnar med en effektiv diameter av 1,8 m eller mer efter montering, är utformade för att underlätta motströmskontakt och är tillverkade av rostfritt stål med en kolhalt av mindre än eller lika med 0,03 %. De kan utgöras av silbottnar, ventilbottnar, klockbottnar eller turbogrid-bottnar. |
| --- | --- |

b)

Sådana ‧inre kontaktanordningar‧ för utbyteskolonnerna för vatten-vätesulfid som anges i avsnitt 1B229 a.

:

De ‧inre kontaktanordningarna‧ i kolonnerna består av segmenterade bottnar med en effektiv diameter av 1,8 m eller mer efter montering, är utformade för att underlätta motströmskontakt och är tillverkade av rostfritt stål med en kolhalt av mindre än eller lika med 0,03 %. De kan utgöras av silbottnar, ventilbottnar, klockbottnar eller turbogrid-bottnar.

1B230Pumpar som kan cirkulera koncentrerad eller utspädd kaliumamidkatalysator i flytande ammoniak (KNH2/NH3) och som har alla följande egenskaper:

| a) | Lufttäta (dvs. hermetiskt tillslutna). |
| --- | --- |

a)

Lufttäta (dvs. hermetiskt tillslutna).

| b) | En pumpkapacitet större än 8,5 m3/h, och |
| --- | --- |

b)

En pumpkapacitet större än 8,5 m3/h, och

| c) | någon av följande egenskaper:






  1. | avsedda för koncentrerade kaliumamidlösningar (1 % eller mer) med ett arbetstryck mellan 1,5 och 60 MPa, eller |
| --- | --- | --- |

c)

någon av följande egenskaper:

1.

avsedda för koncentrerade kaliumamidlösningar (1 % eller mer) med ett arbetstryck mellan 1,5 och 60 MPa, eller

| 2. | avsedda för utspädda lösningar av kaliumamid (mindre än 1 %) med ett arbetstryck mellan 20 och 60 MPa. |
| --- | --- |

2.

avsedda för utspädda lösningar av kaliumamid (mindre än 1 %) med ett arbetstryck mellan 20 och 60 MPa.

1B231Anordningar eller anläggningar för tritium och utrustning för dessa enligt följande:

| a) | Anordningar eller anläggningar för produktion, återvinning, utvinning, koncentrering eller hantering av tritium. |
| --- | --- |

a)

Anordningar eller anläggningar för produktion, återvinning, utvinning, koncentrering eller hantering av tritium.

| b) | Utrustning för tritiumanläggningar enligt följande:






  1. | Frysaggregat för väte eller helium med kapacitet att kyla ned till 23 K (– 250 °C) eller lägre, och med en värmebortledningskapacitet som är större än 150 W. |
| --- | --- | --- |

b)

Utrustning för tritiumanläggningar enligt följande:

1.

Frysaggregat för väte eller helium med kapacitet att kyla ned till 23 K (– 250 °C) eller lägre, och med en värmebortledningskapacitet som är större än 150 W.

| 2. | Lagrings- eller reningssystem för väteisotoper som använder metallhydrider som medium för lagring eller rening. |
| --- | --- |

2.

Lagrings- eller reningssystem för väteisotoper som använder metallhydrider som medium för lagring eller rening.

1B232Expansionsturbiner eller expansionsturbindrivna kompressorer med båda följande egenskaper:

| a) | Konstruerade för drift med en utgående temperatur lika med eller lägre än 35 K (– 238 °C). |
| --- | --- |

a)

Konstruerade för drift med en utgående temperatur lika med eller lägre än 35 K (– 238 °C).

| b) | Konstruerade för en vätgasgenomströmning lika med 1 000 kg/h eller mer. |
| --- | --- |

b)

Konstruerade för en vätgasgenomströmning lika med 1 000 kg/h eller mer.

1B233Anordningar eller anläggningar för separation av litiumisotoper och utrustning för dessa enligt följande:

| a) | Anordningar eller anläggningar för separation av litiumisotoper. |
| --- | --- |

a)

Anordningar eller anläggningar för separation av litiumisotoper.

| b) | Utrustning för separation av litiumisotoper enligt följande:






  1. | Packade vätske-vätske-utbyteskolonner speciellt konstruerade för litiumamalgam. |
| --- | --- | --- |

b)

Utrustning för separation av litiumisotoper enligt följande:

1.

Packade vätske-vätske-utbyteskolonner speciellt konstruerade för litiumamalgam.

| 2. | Kvicksilver- eller litiumamalgampumpar. |
| --- | --- |

2.

Kvicksilver- eller litiumamalgampumpar.

| 3. | Elektrolysceller för litiumamalgam. |
| --- | --- |

3.

Elektrolysceller för litiumamalgam.

| 4. | Förångare för koncentrerad litiumhydroxidlösning. |
| --- | --- |

4.

Förångare för koncentrerad litiumhydroxidlösning.

1CMaterial

:

Metaller och legeringar:

Om inte annat uttryckligen anges avses med orden ‧metaller‧ och ‧legeringar‧ i avsnitten 1C001-1C012 råmaterial och halvfabrikat enligt följande:

Råmaterial:

Anoder, kulor, stavar (inkl. stavar med nockar och trådartade stavar), billetter, block, valsämnen, briketter, kakor, katoder, kristaller, kuber, tärningar, korn, granulat, tackor, klumpar, pellets, tackjärn, pulver, rondeller, hagel, plattor, stångbitar, svamp, stänger.

Halvfabrikat (vare sig de är belagda, pläterade, borrade, stansade eller ej):

| a) | Förarbetade eller bearbetade material som tillverkats genom valsning, dragning, strängpressning, smidning, stötsträngpressning, pressning, ådring, finfördelning eller slipning, t.ex. vinklar, kanaler, cirklar, skivor, stoft, flingor, folier och blad, smiden, plattor, pulver, pressningar och stansningar, ribbor, ringar, stavar (inklusive släta svetstrådar, valstrådar och vridna trådar) sektioner, modeller, ark, strimlor, tuber och rör (inkl. runda och fyrkantiga rör och rör med håligheter), dragen eller strängsprutad tråd. |
| --- | --- |

a)

Förarbetade eller bearbetade material som tillverkats genom valsning, dragning, strängpressning, smidning, stötsträngpressning, pressning, ådring, finfördelning eller slipning, t.ex. vinklar, kanaler, cirklar, skivor, stoft, flingor, folier och blad, smiden, plattor, pulver, pressningar och stansningar, ribbor, ringar, stavar (inklusive släta svetstrådar, valstrådar och vridna trådar) sektioner, modeller, ark, strimlor, tuber och rör (inkl. runda och fyrkantiga rör och rör med håligheter), dragen eller strängsprutad tråd.

| b) | Gjutet material som tillverkats genom gjutning i sand, dynor, metall, gips eller andra gjutformar, inklusive högtrycksgjutning, sintrade formar och formar tillverkade genom pulvermetallografi. |
| --- | --- |

b)

Gjutet material som tillverkats genom gjutning i sand, dynor, metall, gips eller andra gjutformar, inklusive högtrycksgjutning, sintrade formar och formar tillverkade genom pulvermetallografi.

Kontrollen ska inte omintetgöras genom export av former som inte är upptagna i listan och som påstås vara färdiga produkter men som i verkligheten är ett råmaterial eller halvfabrikat.

1C001Material speciellt konstruerat för att kunna absorbera elektromagnetiska vågor samt elektriskt ledande polymerer enligt följande:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 1C101. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | Material som kan absorbera frekvenser överstigande 2 × 108 Hz men mindre än 3 × 1012 Hz.







  : | Avsnitt 1C001.a omfattar inte följande:







  a) | Hårabsorbenter som konstruerats av naturliga eller syntetiska fibrer och som belagts med icke-magnetiskt material för att absorbera strålning. |
| --- | --- | --- | --- |

a)

Material som kan absorbera frekvenser överstigande 2 × 108 Hz men mindre än 3 × 1012 Hz.

:

a)

Hårabsorbenter som konstruerats av naturliga eller syntetiska fibrer och som belagts med icke-magnetiskt material för att absorbera strålning.

| b) | Absorbenter som inte har några magnetiska förluster och vars infallsyta inte är plan i formen, innefattande pyramider, koner, kilformade eller i utförande med vindlingar på ytan. |
| --- | --- |

b)

Absorbenter som inte har några magnetiska förluster och vars infallsyta inte är plan i formen, innefattande pyramider, koner, kilformade eller i utförande med vindlingar på ytan.

| c) | Plana absorbenter som








  1. | är tillverkade av








  a) | skumplastmaterial (böjligt eller fast) med kolinnehåll eller organiska material, inbegripet föreningar så att materialets reflektionsförmåga uppgår till mer än 5 % av motsvarande för metall, över en bandbredd som överstiger ± 15 % av mittfrekvensen av den infallande energin, och som dessutom inte kan motstå högre temperaturer än 450 K (177 °C), eller |
| --- | --- | --- | --- |

c)

Plana absorbenter som

1.

är tillverkade av

a)

skumplastmaterial (böjligt eller fast) med kolinnehåll eller organiska material, inbegripet föreningar så att materialets reflektionsförmåga uppgår till mer än 5 % av motsvarande för metall, över en bandbredd som överstiger ± 15 % av mittfrekvensen av den infallande energin, och som dessutom inte kan motstå högre temperaturer än 450 K (177 °C), eller

| b) | keramiska material som ger mer än 20 % eko jämfört med metall över en bandbredd som är ± 15 % av mittfrekvensen av den infallande energin och som dessutom inte kan motstå temperaturer som överstiger 800 K (527 °C), |
| --- | --- |

b)

keramiska material som ger mer än 20 % eko jämfört med metall över en bandbredd som är ± 15 % av mittfrekvensen av den infallande energin och som dessutom inte kan motstå temperaturer som överstiger 800 K (527 °C),

:

Testplattor för att mäta absorptionen enligt avsnitt 1C001.a. Anm. 1.c.1 ska vara en kvadrat med minst 5 våglängders sida (våglängden för mittfrekvensen) som placerats i ett från det strålande elementet avlägset fält.

| 2. | har en brottgräns vid dragning som är mindre än 7 × 106 N/m2, och |
| --- | --- |

2.

har en brottgräns vid dragning som är mindre än 7 × 106 N/m2, och

| 3. | en sträckgräns vid tryckning som är mindre än 14 × 106 N/m2. |
| --- | --- |

3.

en sträckgräns vid tryckning som är mindre än 14 × 106 N/m2.

| d) | Plana absorbenter tillverkade av sintrad ferrit, med








  1. | ett densitetstal som överstiger 4,4, och |
| --- | --- | --- |

d)

Plana absorbenter tillverkade av sintrad ferrit, med

1.

ett densitetstal som överstiger 4,4, och

| 2. | en högsta arbetstemperatur på 548 K (275 °C). |
| --- | --- |

2.

en högsta arbetstemperatur på 548 K (275 °C).

| : | Ingenting i anmärkning 1 till avsnitt 1C001.a friger magnetiska material som förorsakar absorption när de blandas i färg. |
| --- | --- |

:

| b) | Material som kan absorbera frekvenser som överstiger 1,5 × 1014 Hz men mindre än 3,7 × 1014 Hz och som inte är genomsläppliga för synligt ljus. |
| --- | --- |

b)

Material som kan absorbera frekvenser som överstiger 1,5 × 1014 Hz men mindre än 3,7 × 1014 Hz och som inte är genomsläppliga för synligt ljus.

| c) | Verkligt ledande polymeriska material med en ‧elektrisk ledningsförmåga‧ som överstiger 10 000 S/m (Siemens per meter) eller en ‧ytresistivitet‧ på mindre än 100 ohm/kvadrat som är baserade på någon av följande polymerer:






  1. | Polyanilin. |
| --- | --- | --- |

c)

Verkligt ledande polymeriska material med en ‧elektrisk ledningsförmåga‧ som överstiger 10 000 S/m (Siemens per meter) eller en ‧ytresistivitet‧ på mindre än 100 ohm/kvadrat som är baserade på någon av följande polymerer:

1.

Polyanilin.

| 2. | Polypyrol. |
| --- | --- |

2.

Polypyrol.

| 3. | Polytiofen. |
| --- | --- |

3.

Polytiofen.

| 4. | Polyfenylenvinylen, eller |
| --- | --- |

4.

Polyfenylenvinylen, eller

| 5. | Polytienylenvinylen. |
| --- | --- |

5.

Polytienylenvinylen.

:

‧Ledningsförmåga‧ och ‧ytresistivitet‧ ska mätas enligt ASTM D-257 eller nationella motsvarigheter.

1C002Metallegeringar, pulver av metallegeringar samt legerat material enligt följande:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 1C202. |
| --- | --- |

ANM.:

| : | Avsnitt 1C002 omfattar inte metallegeringar, pulver av metallegeringar eller legerade material för beläggning av substrat. |
| --- | --- |

:

:

| 1. | Metallegeringar i avsnitt 1C002 är sådana som innehåller ett högre viktprocenttal av den angivna metallen än av något annat grundämne. |
| --- | --- |

1.

| 2. | ‧Spänningsbrottslivslängden‧ ska mätas i enlighet med ASTM-standard E-139 eller motsvarande nationell standard. |
| --- | --- |

2.

| 3. | Den ‧lågcykliska utmattningslivslängden‧ ska mätas i enlighet med ASTM-standard E-606 ‧Recommended Practice for Constant- Amplitude Low-Cycle Fatigue Testing‧ eller motsvarande nationell standard. Testningen ska ske axiellt med ett genomsnittligt tryckförhållande lika med 1 och en tryckkoncentrationsfaktor (Kt) lika med 1. Det genomsnittliga trycket definieras som maximalt tryck minus minimalt tryck dividerat med maximalt tryck. |
| --- | --- |

3.

| a) | Aluminider enligt följande:






  1. | Nickelaluminid som innehåller 15 viktprocent eller mer aluminium, högst 38 viktprocent aluminium och åtminstone en tillsatslegering. |
| --- | --- | --- |

a)

Aluminider enligt följande:

1.

Nickelaluminid som innehåller 15 viktprocent eller mer aluminium, högst 38 viktprocent aluminium och åtminstone en tillsatslegering.

| 2. | Titanaluminid som innehåller 10 viktprocent eller mer aluminium och åtminstone en tillsatslegering. |
| --- | --- |

2.

Titanaluminid som innehåller 10 viktprocent eller mer aluminium och åtminstone en tillsatslegering.

| b) | Metallegeringar, enligt följande, tillverkade av pulver eller partikelmaterial enligt avsnitt 1C002.c.






  1. | Nickellegeringar med






  a) | en ‧spänningsbrottslivslängd‧ på 10 000 timmar eller längre vid 923 K (650 °C) och en dragspänning på 676 MPa, eller |
| --- | --- | --- | --- |

b)

Metallegeringar, enligt följande, tillverkade av pulver eller partikelmaterial enligt avsnitt 1C002.c.

1.

Nickellegeringar med

a)

en ‧spänningsbrottslivslängd‧ på 10 000 timmar eller längre vid 923 K (650 °C) och en dragspänning på 676 MPa, eller

| b) | en ‧lågcyklisk utmattningslivslängd‧ på 10 000 cykler eller mer vid 823 K (550 °C) och en maximal spänning på 1 095 MPa. |
| --- | --- |

b)

en ‧lågcyklisk utmattningslivslängd‧ på 10 000 cykler eller mer vid 823 K (550 °C) och en maximal spänning på 1 095 MPa.

| 2. | Nioblegeringar med






  a) | en ‧spänningsbrottslivslängd‧ på 10 000 timmar eller längre vid 1 073 K (800 °C) och dragspänning på 400 MPa, eller |
| --- | --- | --- |

2.

Nioblegeringar med

a)

en ‧spänningsbrottslivslängd‧ på 10 000 timmar eller längre vid 1 073 K (800 °C) och dragspänning på 400 MPa, eller

| b) | en ‧lågcyklisk utmattningslivslängd‧ på 10 000 cykler eller mer vid 973 K (700 °C) och en maximal spänning på 700 MPa. |
| --- | --- |

b)

en ‧lågcyklisk utmattningslivslängd‧ på 10 000 cykler eller mer vid 973 K (700 °C) och en maximal spänning på 700 MPa.

| 3. | Titanlegeringar med






  a) | en ‧spänningsbrottslivslängd‧ på 10 000 timmar eller längre vid 723 K (450 °C) och en dragspänning på 200 MPa, eller |
| --- | --- | --- |

3.

Titanlegeringar med

a)

en ‧spänningsbrottslivslängd‧ på 10 000 timmar eller längre vid 723 K (450 °C) och en dragspänning på 200 MPa, eller

| b) | en ‧lågcyklisk utmattningslivslängd‧ på 10 000 cykler eller mer vid 723 K (450 °C) och en maximal spänning på 400 MPa. |
| --- | --- |

b)

en ‧lågcyklisk utmattningslivslängd‧ på 10 000 cykler eller mer vid 723 K (450 °C) och en maximal spänning på 400 MPa.

| 4. | Aluminiumlegeringar med






  a) | en brottgräns på 240 MPa eller mer vid 473 K (200 °C), eller |
| --- | --- | --- |

4.

Aluminiumlegeringar med

a)

en brottgräns på 240 MPa eller mer vid 473 K (200 °C), eller

| b) | en brottgräns på 415 MPa eller mer vid 298 K (25 °C). |
| --- | --- |

b)

en brottgräns på 415 MPa eller mer vid 298 K (25 °C).

| 5. | Magnesiumlegeringar med






  a) | en brottgräns på 345 MPa eller mer, och |
| --- | --- | --- |

5.

Magnesiumlegeringar med

a)

en brottgräns på 345 MPa eller mer, och

| b) | en korrosionshastighet som är mindre än 1 mm/år i 3 % natriumkloridlösning. Mätningen ska ske enligt ASTM-standard G-31 eller motsvarande nationell standard. |
| --- | --- |

b)

en korrosionshastighet som är mindre än 1 mm/år i 3 % natriumkloridlösning. Mätningen ska ske enligt ASTM-standard G-31 eller motsvarande nationell standard.

| c) | Metallegeringar i pulverform eller i form av finkorniga materialpartiklar som har alla följande egenskaper:






  1. | De är tillverkade av någon av följande sammansättningar:

  :


  X = ett eller flera legeringsgrundämnen.






  a) | Nickellegeringar (Ni-Al-X, Ni-X-Al) godkända för tillverkning av delar till turbinmotorer, dvs. med mindre än tre icke metalliska partiklar (som tillförts under tillverkningsprocessen) med en storlek större än 100 μm per 109 legeringspartiklar. |
| --- | --- | --- | --- |

c)

Metallegeringar i pulverform eller i form av finkorniga materialpartiklar som har alla följande egenskaper:

1.

De är tillverkade av någon av följande sammansättningar:

:

X = ett eller flera legeringsgrundämnen.

a)

Nickellegeringar (Ni-Al-X, Ni-X-Al) godkända för tillverkning av delar till turbinmotorer, dvs. med mindre än tre icke metalliska partiklar (som tillförts under tillverkningsprocessen) med en storlek större än 100 μm per 109 legeringspartiklar.

| b) | Nioblegeringar (Nb-Al-X eller Nb-X-Al, Nb-Si-X eller Nb-X-Si, Nb-Ti-X eller Nb-X-Ti). |
| --- | --- |

b)

Nioblegeringar (Nb-Al-X eller Nb-X-Al, Nb-Si-X eller Nb-X-Si, Nb-Ti-X eller Nb-X-Ti).

| c) | Titanlegeringar (Ti-Al-X eller Ti-X-Al). |
| --- | --- |

c)

Titanlegeringar (Ti-Al-X eller Ti-X-Al).

| d) | Aluminiumlegeringar (Al-Mg-X eller Al-X-Mg, Al-Zn-X eller Al-X-Zn, Al-Fe-X eller Al-X-Fe), eller |
| --- | --- |

d)

Aluminiumlegeringar (Al-Mg-X eller Al-X-Mg, Al-Zn-X eller Al-X-Zn, Al-Fe-X eller Al-X-Fe), eller

| e) | Magnesiumlegeringar (Mg-Al-X eller Mg-X-Al). |
| --- | --- |

e)

Magnesiumlegeringar (Mg-Al-X eller Mg-X-Al).

| 2. | De är tillverkade i en kontrollerad omgivning genom någon av följande processer:






  a) | "Vakuumfinfördelning". |
| --- | --- | --- |

2.

De är tillverkade i en kontrollerad omgivning genom någon av följande processer:

a)

"Vakuumfinfördelning".

| b) | "Gasfinfördelning". |
| --- | --- |

b)

"Gasfinfördelning".

| c) | "Rotationsfinfördelning". |
| --- | --- |

c)

"Rotationsfinfördelning".

| d) | "Plaskavkylning". |
| --- | --- |

d)

"Plaskavkylning".

| e) | "Smältspinning" och "finfördelning". |
| --- | --- |

e)

"Smältspinning" och "finfördelning".

| f) | "Smältutdragning" och "finfördelning". |
| --- | --- |

f)

"Smältutdragning" och "finfördelning".

| g) | "Mekanisk legering". |
| --- | --- |

g)

"Mekanisk legering".

| 3. | De kan bilda sådana material som omfattas av avsnitt 1C002.a. eller 1C002.b. |
| --- | --- |

3.

De kan bilda sådana material som omfattas av avsnitt 1C002.a. eller 1C002.b.

| d) | Legerade material som har alla följande egenskaper:






  1. | De är tillverkade av någon av sammansättningarna i avsnitt 1C002.c.1. |
| --- | --- | --- |

d)

Legerade material som har alla följande egenskaper:

1.

De är tillverkade av någon av sammansättningarna i avsnitt 1C002.c.1.

| 2. | De finns i form av icke finfördelade flingor, band eller tunna stavar. |
| --- | --- |

2.

De finns i form av icke finfördelade flingor, band eller tunna stavar.

| 3. | De har tillverkats i kontrollerad miljö genom någon av följande processer:






  a) | "Plaskavkylning". |
| --- | --- | --- |

3.

De har tillverkats i kontrollerad miljö genom någon av följande processer:

a)

"Plaskavkylning".

| b) | "Smältspinning". |
| --- | --- |

b)

"Smältspinning".

| c) | "Smältutdragning". |
| --- | --- |

c)

"Smältutdragning".

1C003Magnetiska metaller av alla typer och former som har någon av följande egenskaper:

| a) | Den relativa begynnelsepermeabiliteten är 120 000 eller mer och tjockleken 0,05 mm eller mindre.

  :


  Mätning av den relativa begynnelsepermeabiliteten ska genomföras på helt utglödgat material. |
| --- | --- |

a)

Den relativa begynnelsepermeabiliteten är 120 000 eller mer och tjockleken 0,05 mm eller mindre.

:

Mätning av den relativa begynnelsepermeabiliteten ska genomföras på helt utglödgat material.

| b) | Magnetostriktiva legeringar med






  1. | en mättad magnetostriktion som är mer än 5 × 10-4, eller |
| --- | --- | --- |

b)

Magnetostriktiva legeringar med

1.

en mättad magnetostriktion som är mer än 5 × 10-4, eller

| 2. | en magnetomekanisk kopplingsfaktor (k) som är mer än 0,8, eller |
| --- | --- |

2.

en magnetomekanisk kopplingsfaktor (k) som är mer än 0,8, eller

| c) | Amorfa eller ‧nanokristallina‧ legeringar i remsor med alla följande egenskaper:






  1. | Legeringar som innehåller minst 75 viktprocent av järn, nickel eller kobolt. |
| --- | --- | --- |

c)

Amorfa eller ‧nanokristallina‧ legeringar i remsor med alla följande egenskaper:

1.

Legeringar som innehåller minst 75 viktprocent av järn, nickel eller kobolt.

| 2. | Legeringar som har en mättad magnetisk induktion (Bs) som är minst 1,6 T, och |
| --- | --- |

2.

Legeringar som har en mättad magnetisk induktion (Bs) som är minst 1,6 T, och

| 3. | något av följande






  a) | remsor vars tjocklek är 0,02 mm eller mindre, eller |
| --- | --- | --- |

3.

något av följande

a)

remsor vars tjocklek är 0,02 mm eller mindre, eller

| b) | där den elektriska resistiviteten är minst 2 × 10-4ohm cm. |
| --- | --- |

b)

där den elektriska resistiviteten är minst 2 × 10-4ohm cm.

:

‧Nanokristallina‧ materiel i avsnitt 1C003.c är sådana material som har en kristallkornsstorlek som är 50 nm eller mindre när de bestäms med hjälp av röntgen-diffraktion.

1C004Urantitanlegeringar eller volframlegeringar med en "matris" av järn, koppar eller nickel som bas, och med alla följande egenskaper:

| a) | Densiteten överstiger 17,5 g/cm3. |
| --- | --- |

a)

Densiteten överstiger 17,5 g/cm3.

| b) | Elasticitetsgränsen överstiger 880 MPa. |
| --- | --- |

b)

Elasticitetsgränsen överstiger 880 MPa.

| c) | Brottgränsen överstiger 1 270 MPa. |
| --- | --- |

c)

Brottgränsen överstiger 1 270 MPa.

| d) | Töjningen överstiger 8 %. |
| --- | --- |

d)

Töjningen överstiger 8 %.

1C005"Supraledande" ledare i "komposit" material i längder på mer än 100 m eller med en vikt som överstiger 100 g enligt följande:

| a) | "Supraledande""komposit" ledare som innehåller minst en ‧fibertråd‧ av niob-titan och med båda följande egenskaper:






  1. | Inlagd i en "matris" av annat material än koppar eller kopparbaserad "matris", och |
| --- | --- | --- |

a)

"Supraledande""komposit" ledare som innehåller minst en ‧fibertråd‧ av niob-titan och med båda följande egenskaper:

1.

Inlagd i en "matris" av annat material än koppar eller kopparbaserad "matris", och

| 2. | Med en tvärsnittsarea som är mindre än 0,28 × 10-4mm2(6 μm i diameter för en cirkulär ‧fibertråd‧). |
| --- | --- |

2.

Med en tvärsnittsarea som är mindre än 0,28 × 10-4mm2(6 μm i diameter för en cirkulär ‧fibertråd‧).

| b) | "Supraledande""komposit" ledare som består av en eller flera "supraledande"‧fibertrådar‧ av annat material än niob-titan och med båda följande egenskaper:






  1. | En "kritisk temperatur" utan magnetfält som är högre än 9,85 K (– 263,31 °C), och |
| --- | --- | --- |

b)

"Supraledande""komposit" ledare som består av en eller flera "supraledande"‧fibertrådar‧ av annat material än niob-titan och med båda följande egenskaper:

1.

En "kritisk temperatur" utan magnetfält som är högre än 9,85 K (– 263,31 °C), och

| 2. | Kvarstår i sitt "supraledande" tillstånd vid temperaturen 4,2 K (– 268,96 °C) då den utsätts för ett magnetfält som är riktat vinkelrätt mot ledarens längdaxel och motsvarar en magnetisk induktion på 12 T med en kritisk strömtäthet som överstiger 1,750 A/mm2 på ledarens hela tvärsnittsarea. |
| --- | --- |

2.

Kvarstår i sitt "supraledande" tillstånd vid temperaturen 4,2 K (– 268,96 °C) då den utsätts för ett magnetfält som är riktat vinkelrätt mot ledarens längdaxel och motsvarar en magnetisk induktion på 12 T med en kritisk strömtäthet som överstiger 1,750 A/mm2 på ledarens hela tvärsnittsarea.

| c) | "Supraledande""komposit" ledare som består av en eller flera "supraledande"‧fibertrådar‧ som förblir "supraledande" vid en temperatur som överstiger 115 K (– 158,16 °C).

  :


  För avsnitt 1C005 gäller att ‧fibertrådar‧ kan vara i tråd-, cylinder-, film- eller bandform. |
| --- | --- |

c)

"Supraledande""komposit" ledare som består av en eller flera "supraledande"‧fibertrådar‧ som förblir "supraledande" vid en temperatur som överstiger 115 K (– 158,16 °C).

:

För avsnitt 1C005 gäller att ‧fibertrådar‧ kan vara i tråd-, cylinder-, film- eller bandform.

1C006Vätskor och smörjmedel enligt följande:

| a) | Hydrauloljor som innehåller som huvudkomponent något av följande:






  1. | Syntetiska ‧kiselkolväteoljor‧ med alla följande egenskaper:

  :


  Med ‧kiselkolväteolja‧ avses i avsnitt 1C006.a.1 en olja som uteslutande innehåller kisel, väte och kol.







  a) | En ‧flampunkt‧ som överstiger 477 K (204 °C), |
| --- | --- | --- | --- |

a)

Hydrauloljor som innehåller som huvudkomponent något av följande:

1.

Syntetiska ‧kiselkolväteoljor‧ med alla följande egenskaper:

:

Med ‧kiselkolväteolja‧ avses i avsnitt 1C006.a.1 en olja som uteslutande innehåller kisel, väte och kol.

a)

En ‧flampunkt‧ som överstiger 477 K (204 °C),

| b) | en ‧flytpunkt‧ vid 239 K (– 34 °C) eller lägre, |
| --- | --- |

b)

en ‧flytpunkt‧ vid 239 K (– 34 °C) eller lägre,

| c) | ett ‧viskositetsindex‧ på minst 75, och |
| --- | --- |

c)

ett ‧viskositetsindex‧ på minst 75, och

| d) | en ‧termisk stabilitet‧ vid 616 K (343 °C), eller |
| --- | --- |

d)

en ‧termisk stabilitet‧ vid 616 K (343 °C), eller

| 2. | ‧Klor-fluor-kolföreningar‧ som har alla följande egenskaper:

  :


  Med ‧klor-fluor-kolföreningar‧ avses i avsnitt 1C006.a.2 en olja som uteslutande innehåller klor, fluor och kol.







  a) | Saknar ‧flampunkt‧, |
| --- | --- | --- |

2.

‧Klor-fluor-kolföreningar‧ som har alla följande egenskaper:

:

Med ‧klor-fluor-kolföreningar‧ avses i avsnitt 1C006.a.2 en olja som uteslutande innehåller klor, fluor och kol.

a)

Saknar ‧flampunkt‧,

| b) | en ‧gasantändningstemperatur‧ som överstiger 977 K (704 °C), |
| --- | --- |

b)

en ‧gasantändningstemperatur‧ som överstiger 977 K (704 °C),

| c) | en ‧flytpunkt‧ vid 219 K (– 54 °C) eller lägre, |
| --- | --- |

c)

en ‧flytpunkt‧ vid 219 K (– 54 °C) eller lägre,

| d) | ett ‧viskositetsindex‧ på minst 80, och |
| --- | --- |

d)

ett ‧viskositetsindex‧ på minst 80, och

| e) | en kokpunkt vid 473 K (200 °C) eller högre. |
| --- | --- |

e)

en kokpunkt vid 473 K (200 °C) eller högre.

| b) | Smörjmedel vars huvudkomponent är något av följande:






  1. | Fenylen- eller alkylfenylenetrar eller tioetrar eller blandningar därav, som innehåller mer än två etrar eller tioeterfunktioner eller blandningar härav. |
| --- | --- | --- |

b)

Smörjmedel vars huvudkomponent är något av följande:

1.

Fenylen- eller alkylfenylenetrar eller tioetrar eller blandningar därav, som innehåller mer än två etrar eller tioeterfunktioner eller blandningar härav.

| 2. | Fluorinerad kiselvätska med kinematisk viskositet som är mindre än 5 000 mm2/s (5 000 centistoke) mätt vid 298 K (25 °C). |
| --- | --- |

2.

Fluorinerad kiselvätska med kinematisk viskositet som är mindre än 5 000 mm2/s (5 000 centistoke) mätt vid 298 K (25 °C).

| c) | Dämpnings- eller flotationsvätskor som har alla följande egenskaper:






  1. | Renhet bättre än 99,8 %. |
| --- | --- | --- |

c)

Dämpnings- eller flotationsvätskor som har alla följande egenskaper:

1.

Renhet bättre än 99,8 %.

| 2. | Innehåller färre än 25 partiklar som är 200 μm eller större per 100 ml. |
| --- | --- |

2.

Innehåller färre än 25 partiklar som är 200 μm eller större per 100 ml.

| 3. | Tillverkad till minst 85 % av något av följande:






  a) | Dibromtetrafluoretan (CAS 25497-30-7, 124-73-2, 27336-23-8). |
| --- | --- | --- |

3.

Tillverkad till minst 85 % av något av följande:

a)

Dibromtetrafluoretan (CAS 25497-30-7, 124-73-2, 27336-23-8).

| b) | Polyklortrifluoretylen (endast oljiga och vaxiga varianter), eller |
| --- | --- |

b)

Polyklortrifluoretylen (endast oljiga och vaxiga varianter), eller

| c) | Polybromtrifluoretylen. |
| --- | --- |

c)

Polybromtrifluoretylen.

| d) | Kylvätskor för elektronik tillverkat av fluorkarboner som har alla följande egenskaper:






  1. | Till minst 85 viktprocent består av något av följande ämnen eller blandningar därav:






  a) | Monomera former av perfluorpolyalkyletertriasiner eller perfluoralifatiketrar. |
| --- | --- | --- | --- |

d)

Kylvätskor för elektronik tillverkat av fluorkarboner som har alla följande egenskaper:

1.

Till minst 85 viktprocent består av något av följande ämnen eller blandningar därav:

a)

Monomera former av perfluorpolyalkyletertriasiner eller perfluoralifatiketrar.

| b) | Perfluoralkylaminer. |
| --- | --- |

b)

Perfluoralkylaminer.

| c) | Perfluorcykloalkaner. |
| --- | --- |

c)

Perfluorcykloalkaner.

| d) | Perfluoralkaner. |
| --- | --- |

d)

Perfluoralkaner.

| 2. | Densiteten vid 298 K (25 °C) är 1,5 g/ml eller mer. |
| --- | --- |

2.

Densiteten vid 298 K (25 °C) är 1,5 g/ml eller mer.

| 3. | Är i flytande form vid 273 K (0 °C), och |
| --- | --- |

3.

Är i flytande form vid 273 K (0 °C), och

| 4. | Innehåller 60 viktprocent eller mer av fluor. |
| --- | --- |

4.

Innehåller 60 viktprocent eller mer av fluor.

:

För avsnitt 1C006 gäller följande:

| 1. | ‧Flampunkten‧ ska bestämmas med hjälp av Cleveland Open Cup Method som beskrivs i ASTM D-92 eller motsvarande nationell standard. |
| --- | --- |

1.

‧Flampunkten‧ ska bestämmas med hjälp av Cleveland Open Cup Method som beskrivs i ASTM D-92 eller motsvarande nationell standard.

| 2. | ‧Flytpunkten‧ ska bestämmas enligt ASTM D-97 eller motsvarande nationell standard. |
| --- | --- |

2.

‧Flytpunkten‧ ska bestämmas enligt ASTM D-97 eller motsvarande nationell standard.

| 3. | ‧Viskositetsindex‧ ska bestämmas enligt den metod som beskrivs i ASTM D-2270 eller motsvarande nationell standard. |
| --- | --- |

3.

‧Viskositetsindex‧ ska bestämmas enligt den metod som beskrivs i ASTM D-2270 eller motsvarande nationell standard.

| 4. | ‧Termisk stabilitet‧ bestäms genom följande testprocedur eller motsvarande nationell standard:

  20 ml av vätskan som ska testas placeras i en 46 ml typ 317 kammare av rostfritt stål som innehåller en kula med 12,5 mm diameter tillverkad av verktygsstål M-10, 52 100 stål samt marinbrons (60 % Cu, 39 % Zn och 0,75 % Sn).
  Kammaren fylls sedan med kvävgas, förseglas vid rumstemperatur och temperaturen ökas sedan till 644 ± 6 K (371 ± 6 °C) och behålls vid denna temperatur i 6 timmar. Provet ska betraktas som termiskt stabilt om efter ovanstående behandling alla följande villkor är uppfyllda:







  a) | Viktförlusten hos varje kula är mindre än 10 mg/mm2 av kulans yta. |
| --- | --- | --- |

4.

‧Termisk stabilitet‧ bestäms genom följande testprocedur eller motsvarande nationell standard:

a)

Viktförlusten hos varje kula är mindre än 10 mg/mm2 av kulans yta.

| b) | Förändringen i viskositeten i förhållande till den ursprungliga, bestämd vid 311 K (38 °C), är mindre än 25 %. |
| --- | --- |

b)

Förändringen i viskositeten i förhållande till den ursprungliga, bestämd vid 311 K (38 °C), är mindre än 25 %.

| c) | Det totala syra- eller bastalet är mindre än 0,40. |
| --- | --- |

c)

Det totala syra- eller bastalet är mindre än 0,40.

| 5. | ‧Gasantändningstemperaturen‧ ska mätas enligt den metod som beskrivs i ASTM E-659 eller motsvarande nationell standard. |
| --- | --- |

5.

‧Gasantändningstemperaturen‧ ska mätas enligt den metod som beskrivs i ASTM E-659 eller motsvarande nationell standard.

1C007Keramiska basmaterial, keramiska material som inte är "kompositer", keramiska "matris"-"komposit"-material och utgångsmaterial, enligt följande:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 1C107. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | Basmaterial av enkla eller komplexa titanborider där den metalliska föroreningen (exklusive avsiktliga tillsatser) är mindre än 5 000 ppm, och den genomsnittliga partikelstorleken är lika med eller mindre än 5 μm och högst 10 % av partiklarna är större 10 μm. |
| --- | --- |

a)

Basmaterial av enkla eller komplexa titanborider där den metalliska föroreningen (exklusive avsiktliga tillsatser) är mindre än 5 000 ppm, och den genomsnittliga partikelstorleken är lika med eller mindre än 5 μm och högst 10 % av partiklarna är större 10 μm.

| b) | Keramiska material som inte är "kompositer", i form av råmaterial eller halvfabrikat, och som är sammansatta av titanborider med en densitet som är 98 % eller mer av den teoretiska densiteten







  : | Avsnitt 1C007.b omfattar inte slipmedel. |
| --- | --- | --- |

b)

Keramiska material som inte är "kompositer", i form av råmaterial eller halvfabrikat, och som är sammansatta av titanborider med en densitet som är 98 % eller mer av den teoretiska densiteten

:

| c) | Keramiska basmaterial, keramiska material "komposit"-material, med en glas- eller oxid-"matris" som är förstärkt med fibrer som har alla följande egenskaper:






  1. | De är tillverkade av något av följande material:






  a) | Si-N, |
| --- | --- | --- | --- |

c)

Keramiska basmaterial, keramiska material "komposit"-material, med en glas- eller oxid-"matris" som är förstärkt med fibrer som har alla följande egenskaper:

1.

De är tillverkade av något av följande material:

a)

Si-N,

| b) | Si-C, |
| --- | --- |

b)

Si-C,

| c) | Si-Al-O-N eller |
| --- | --- |

c)

Si-Al-O-N eller

| d) | Si-O-N och |
| --- | --- |

d)

Si-O-N och

| 2. | De har en "specifik brottgräns" som överstiger 12,7 × 103 m. |
| --- | --- |

2.

De har en "specifik brottgräns" som överstiger 12,7 × 103 m.

| d) | Keram-keram-"komposit"-material, med eller utan en kontinuerlig metallstruktur, som innehåller partiklar eller strukturer av något fibröst eller kristalltrådsliknande material när "matrisen" bildas av karbider eller nitrider av kisel, zirkonium eller bor. |
| --- | --- |

d)

Keram-keram-"komposit"-material, med eller utan en kontinuerlig metallstruktur, som innehåller partiklar eller strukturer av något fibröst eller kristalltrådsliknande material när "matrisen" bildas av karbider eller nitrider av kisel, zirkonium eller bor.

| e) | Utgångsmaterial (dvs. speciella polymeriska eller metallorganiska material) för att producera material som omfattas av avsnitt 1C007.c enligt följande:






  1. | Polydiorganosilaner (för att producera kiselkarbid). |
| --- | --- | --- |

e)

Utgångsmaterial (dvs. speciella polymeriska eller metallorganiska material) för att producera material som omfattas av avsnitt 1C007.c enligt följande:

1.

Polydiorganosilaner (för att producera kiselkarbid).

| 2. | Polysilazaner (för att producera kiselnitrid). |
| --- | --- |

2.

Polysilazaner (för att producera kiselnitrid).

| 3. | Polykarbosilazaner (för att tillverka keramer som innehåller kisel-, kol- och kvävekomponenter). |
| --- | --- |

3.

Polykarbosilazaner (för att tillverka keramer som innehåller kisel-, kol- och kvävekomponenter).

| f) | Keram-keram-"komposit"-material med en "matris" av glas eller oxid förstärkt med kontinuerliga fibrer av någon av följande sammansättningar:






  1. | Al2O3(CAS 1344-28-1), eller |
| --- | --- | --- |

f)

Keram-keram-"komposit"-material med en "matris" av glas eller oxid förstärkt med kontinuerliga fibrer av någon av följande sammansättningar:

1.

Al2O3(CAS 1344-28-1), eller

| 2. | Si-C-N. |
| --- | --- |

2.

Si-C-N.

| : | Avsnitt 1C007.f omfattar inte "kompositer" som innehåller fibrer med sammansättningar vars brottgräns är mindre än 700 MPa vid 1 273 K (1 000 °C) eller vars dragkryphållfasthet är större än 1 % krypning vid en belastning av 100 MPa vid 1 273 K (1 000 °C) i 100 timmar. |
| --- | --- |

:

1C008Icke fluorhaltiga polymerer enligt följande:

| a) | Imider enligt följande:






  1. | Bismaleimider. |
| --- | --- | --- |

a)

Imider enligt följande:

1.

Bismaleimider.

| 2. | Aromatiska polyamidimider (PAI) med en ‧glasningstemperatur‧ (Tg) som överstiger 563 K (290 °C). |
| --- | --- |

2.

Aromatiska polyamidimider (PAI) med en ‧glasningstemperatur‧ (Tg) som överstiger 563 K (290 °C).

| 3. | Aromatiska polyimider. |
| --- | --- |

3.

Aromatiska polyimider.

| 4. | Aromatiska polyeterimider som har en glasningstemperatur (Tg) som är högre än 513 K (240 °C). |
| --- | --- |

4.

Aromatiska polyeterimider som har en glasningstemperatur (Tg) som är högre än 513 K (240 °C).

| : | Avsnitt 1C008.a omfattar ämnen i flytande eller fast "smältbar" form, inklusive harts, pulver, korn, film, blad och band. |
| --- | --- |

:

:

För icke-"smältbara" aromatiska polyimider i form av film, blad eller band, se avsnitt 1A003.

| b) | Termoplastiska flytande kristallpolymerer som har en värmebeständighetstemperatur som är högre än 523 K (250 °C), mätt enligt ISO 75-2 (2004), metod A, eller motsvarande nationella standard, med en belastning av 1,80 N/mm2 och som är sammansatta av






  1. | någon av följande föreningar:






  a) | fenylen, bifenylen eller naftalen, eller |
| --- | --- | --- | --- |

b)

Termoplastiska flytande kristallpolymerer som har en värmebeständighetstemperatur som är högre än 523 K (250 °C), mätt enligt ISO 75-2 (2004), metod A, eller motsvarande nationella standard, med en belastning av 1,80 N/mm2 och som är sammansatta av

1.

någon av följande föreningar:

a)

fenylen, bifenylen eller naftalen, eller

| b) | metyl, tertiär butyl eller fenylsubstituterad bifenylen eller naftalen, och |
| --- | --- |

b)

metyl, tertiär butyl eller fenylsubstituterad bifenylen eller naftalen, och

| 2. | någon av följande syror:






  a) | terftalsyra (CAS 100-21-0), |
| --- | --- | --- |

2.

någon av följande syror:

a)

terftalsyra (CAS 100-21-0),

| b) | 6-hydroxy-2-naftoesyra (CAS 16712-64-4), eller |
| --- | --- |

b)

6-hydroxy-2-naftoesyra (CAS 16712-64-4), eller

| c) | 4-hydroxybensoesyra (CAS 99-96-7). |
| --- | --- |

c)

4-hydroxybensoesyra (CAS 99-96-7).

| c) | Används inte. |
| --- | --- |

c)

Används inte.

| d) | Polyarylenketoner. |
| --- | --- |

d)

Polyarylenketoner.

| e) | Polyarylensulfider, där arylengruppen är bifenylen, trifenylen eller kombinationer av dessa. |
| --- | --- |

e)

Polyarylensulfider, där arylengruppen är bifenylen, trifenylen eller kombinationer av dessa.

| f) | Polybifenylenetersulfon som har en ‧glasningstemperatur (Tg)‧ som är högre än 513 K (240 °C). |
| --- | --- |

f)

Polybifenylenetersulfon som har en ‧glasningstemperatur (Tg)‧ som är högre än 513 K (240 °C).

:

‧Glasningstemperaturen (Tg)‧ för material i 1C008 ska bestämmas med den metod som beskrivs i ISO 11357-2 (1999) eller nationella motsvarigheter. När det gäller material i 1C008.a.2. ska ‧glasningstemperaturen (Tg)‧ dessutom bestämmas för ett provstycke som först härdatsvid en temperatur av minst 310 °C under minst 15 minuter.

1C009Icke bearbetade fluorföreningar enligt följande:

| a) | Sampolymerer av vinylidenfluorid som har 75 % eller mer av betakristallinsk struktur utan att det är utdraget. |
| --- | --- |

a)

Sampolymerer av vinylidenfluorid som har 75 % eller mer av betakristallinsk struktur utan att det är utdraget.

| b) | Fluorinerade polyimider som innehåller 10 viktprocent eller mer av bundet fluor. |
| --- | --- |

b)

Fluorinerade polyimider som innehåller 10 viktprocent eller mer av bundet fluor.

| c) | Fluorinerade fosfazenelastomerer som innehåller mer än 30 viktprocent bundet fluor. |
| --- | --- |

c)

Fluorinerade fosfazenelastomerer som innehåller mer än 30 viktprocent bundet fluor.

1C010"Fibrer eller fiberliknande material" enligt följande:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITTEN 1C210 och 9C110. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | Organiska "fibrer eller fiberliknande material" med båda följande egenskaper:






  1. | En "specifik modul" som överstiger 12,7 × 106 m, och |
| --- | --- | --- |

a)

Organiska "fibrer eller fiberliknande material" med båda följande egenskaper:

1.

En "specifik modul" som överstiger 12,7 × 106 m, och

| 2. | "specifik brottgräns" som överstiger 23,5 × 104 m. |
| --- | --- |

2.

"specifik brottgräns" som överstiger 23,5 × 104 m.

| : | Avsnitt 1C010.a omfattar inte polyetylen. |
| --- | --- |

:

| b) | "Fibrer eller fiberliknande material" av kolföreningar med båda följande egenskaper:






  1. | En "specifik modul" som överstiger 14,65 × 106m, och |
| --- | --- | --- |

b)

"Fibrer eller fiberliknande material" av kolföreningar med båda följande egenskaper:

1.

En "specifik modul" som överstiger 14,65 × 106m, och

| 2. | "specifik brottgräns" som överstiger 26,82 × 104 m. |
| --- | --- |

2.

"specifik brottgräns" som överstiger 26,82 × 104 m.

| : | Avsnitt 1C010 b omfattar inte







  a) | "fibrer eller fiberliknande material" som ska användas för reparation av "civila luftfartyg" eller dess laminat, för vilka








  1) | ytan inte överstiger 1 m2, |
| --- | --- | --- | --- |

:

a)

"fibrer eller fiberliknande material" som ska användas för reparation av "civila luftfartyg" eller dess laminat, för vilka

1)

ytan inte överstiger 1 m2,

| 2) | längden inte överstiger 2,5 m, och |
| --- | --- |

2)

längden inte överstiger 2,5 m, och

| 3) | bredden överstiger 15 mm. |
| --- | --- |

3)

bredden överstiger 15 mm.

| b) | Mekaniskt hackat, malet eller skuret kolfiber- eller kolfiberliknande material med en längd på 25,0 mm eller mindre. |
| --- | --- |

b)

Mekaniskt hackat, malet eller skuret kolfiber- eller kolfiberliknande material med en längd på 25,0 mm eller mindre.

:

Egenskaperna hos material som beskrivs i avsnitt 1C010.b ska fastställas med hjälp av de rekommenderade metoderna (SACMA) SRM 12-17, ISO 10618 (2004) 10.2.1 metod A eller motsvarande nationella tester, och baseras på genomsnittet i ett parti.

| c) | Oorganiska "fibrer eller fiberliknande material" med båda följande egenskaper:






  1. | En "specifik modul" som överstiger 2,54 × 10
  6
  m, och |
| --- | --- | --- |

c)

Oorganiska "fibrer eller fiberliknande material" med båda följande egenskaper:

1.

En "specifik modul" som överstiger 2,54 × 10
  6
  m, och

| 2. | en smält-, mjuknings-, sönderdelnings- eller förångningstemperatur som överstiger 1 922 K (1 649 °C) i en inert miljö. |
| --- | --- |

2.

en smält-, mjuknings-, sönderdelnings- eller förångningstemperatur som överstiger 1 922 K (1 649 °C) i en inert miljö.

| : | Avsnitt 1C010.c omfattar inte följande:







  a) | Icke kontinuerliga flerfasiga polykristallinska aluminiumfibrer i form av avhuggna fibrer eller oregelbundna mattor som innehåller 3 viktprocent eller mer av kvarts och som har en "specifik modul" som är mindre än 10 × 106m. |
| --- | --- | --- |

:

a)

Icke kontinuerliga flerfasiga polykristallinska aluminiumfibrer i form av avhuggna fibrer eller oregelbundna mattor som innehåller 3 viktprocent eller mer av kvarts och som har en "specifik modul" som är mindre än 10 × 106m.

| b) | Fibrer av molybden eller molybdenlegeringar. |
| --- | --- |

b)

Fibrer av molybden eller molybdenlegeringar.

| c) | Fibrer av bor. |
| --- | --- |

c)

Fibrer av bor.

| d) | Icke kontinuerliga keramiska fibrer med en smält-, mjuknings-, sönderdelnings- eller förångningstemperatur som är lägre än 2 043 K (1 770 °C) i en inert miljö. |
| --- | --- |

d)

Icke kontinuerliga keramiska fibrer med en smält-, mjuknings-, sönderdelnings- eller förångningstemperatur som är lägre än 2 043 K (1 770 °C) i en inert miljö.

| d) | "Fibrer eller fiberliknande material"






  1. | sammansatta av något av följande ämnen:






  a) | polyeterimider som omfattas av avsnitt 1C008.a eller |
| --- | --- | --- | --- |

d)

"Fibrer eller fiberliknande material"

1.

sammansatta av något av följande ämnen:

a)

polyeterimider som omfattas av avsnitt 1C008.a eller

| b) | material som omfattas av avsnitten 1C008.b-1C008.f eller |
| --- | --- |

b)

material som omfattas av avsnitten 1C008.b-1C008.f eller

| 2. | sammansatta av material som omfattas av avsnitten 1C010.d.1.a eller 1C010d.1.b och "blandad" med andra fibrer som omfattas av avsnitten 1C010.a, 1C1010.b. eller 1C010.c. |
| --- | --- |

2.

sammansatta av material som omfattas av avsnitten 1C010.d.1.a eller 1C010d.1.b och "blandad" med andra fibrer som omfattas av avsnitten 1C010.a, 1C1010.b. eller 1C010.c.

| e) | Helt eller delvis harts- eller beckimpregnerat "fibröst eller fiberliknande material" (förimpregnerat), metall- eller kolbelagt "fibröst eller fiberliknande material" (förformat) eller "förformade kolfibrer"






  1. | för vilka något av följande gäller:






  a) | Oorganiska "fibrer eller fiberliknande material" som omfattas av avsnitt 1C010.c, eller |
| --- | --- | --- | --- |

e)

Helt eller delvis harts- eller beckimpregnerat "fibröst eller fiberliknande material" (förimpregnerat), metall- eller kolbelagt "fibröst eller fiberliknande material" (förformat) eller "förformade kolfibrer"

1.

för vilka något av följande gäller:

a)

Oorganiska "fibrer eller fiberliknande material" som omfattas av avsnitt 1C010.c, eller

| b) | organiska eller kol-"fibrer eller fiberliknande material" med samtliga följande egenskaper:






  1) | En "specifik modul" som överstiger 10,15 × 106 m, och |
| --- | --- | --- |

b)

organiska eller kol-"fibrer eller fiberliknande material" med samtliga följande egenskaper:

1)

En "specifik modul" som överstiger 10,15 × 106 m, och

| 2) | en "specifik brottgräns" som överstiger 17,7 × 104 m, och |
| --- | --- |

2)

en "specifik brottgräns" som överstiger 17,7 × 104 m, och

| 2. | för vilka något av följande gäller:






  a) | Harts eller beck enligt 1C008 eller 1C009 b, |
| --- | --- | --- |

2.

för vilka något av följande gäller:

a)

Harts eller beck enligt 1C008 eller 1C009 b,

| b) | ‧Dynamic Mechanical Analysis glass transition temperature (DMA Tg)‧ lika med eller över 453 K (180 °C) med en fenolharts, eller |
| --- | --- |

b)

‧Dynamic Mechanical Analysis glass transition temperature (DMA Tg)‧ lika med eller över 453 K (180 °C) med en fenolharts, eller

| c) | ‧Dynamic Mechanical Analysis glass transition temperature (DMA Tg)‧ lika med eller över 505 K (232 °C) med harts eller beck som inte omfattas av 1C008 eller 1C009.b och inte är en fenolharts. |
| --- | --- |

c)

‧Dynamic Mechanical Analysis glass transition temperature (DMA Tg)‧ lika med eller över 505 K (232 °C) med harts eller beck som inte omfattas av 1C008 eller 1C009.b och inte är en fenolharts.

| : | Metall- eller kolbelagt fibröst eller fiberliknande material (förformat) eller "förformade kolfibrer" som inte är harts- eller beckimpregnerat omfattas av "fibrer eller fiberliknande material" i avsnitt 1C010.a, 1C010.b eller 1C010.c. |
| --- | --- |

:

| : | Avsnitt 1C010.e omfattar inte







  a) | epoxyharts ”matris”impregnerade "fibrer eller fiberliknande material" av kol (förimpregnerade) som ska användas för reparation av "civila luftfartyg" eller dess laminat, för vilka








  1. | ytan inte överstiger 1 m2, |
| --- | --- | --- | --- |

:

a)

epoxyharts ”matris”impregnerade "fibrer eller fiberliknande material" av kol (förimpregnerade) som ska användas för reparation av "civila luftfartyg" eller dess laminat, för vilka

1.

ytan inte överstiger 1 m2,

| 2. | längden inte överstiger 2,5 m, och |
| --- | --- |

2.

längden inte överstiger 2,5 m, och

| 3. | bredden överstiger 15 mm. |
| --- | --- |

3.

bredden överstiger 15 mm.

| b) | Mekaniskt hackade, malda eller skurna ′′fibrer eller fiberliknande material′′ av kol som är helt eller delvis "impregnerade" med epoxyharts och är kortare än 25,0 mm, förutsatt att ett annat harts eller beck än vad som specificeras i 1C008 och 1C009.b används. |
| --- | --- |

b)

Mekaniskt hackade, malda eller skurna ′′fibrer eller fiberliknande material′′ av kol som är helt eller delvis "impregnerade" med epoxyharts och är kortare än 25,0 mm, förutsatt att ett annat harts eller beck än vad som specificeras i 1C008 och 1C009.b används.

:

‧Dynamic Mechanical Analysis glass transition temperature (DMA Tg)‧ för material som specificeras i avsnitt 1C010.e ska bestämmas med den metod som beskrivs i ASTM D 7028-07 eller en likvärdig nationell standard på ett torrt provexemplar. När det gäller härdade material ska graden av härdning för ett torrt provexemplar vara minst 90 % enligt definition i ASTM E 2160-04 eller likvärdig nationell standard.

1C011Metaller och föreningar enligt följande:

| ANM.: | SE ÄVEN KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING SAMT AVSNITT 1C111. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | Metaller som har en partikelstorlek som är mindre än 60 μm, oberoende av om de är sfäriska, finfördelade, sfäroida, i form av flagor eller pulver, och som är tillverkade av material som består till 99 % eller mer av zirkonium, magnesium eller legeringar av dessa.

  :


  Det hafnium som naturligt ingår i zirkonium (vanligen 2-7 %) inräknas i mängden zirkonium.








  : | Metallerna eller legeringarna som anges i avsnitt 1C011.a omfattas vare sig metallerna eller legeringarna är inkapslade i aluminium, magnesium, zirkonium eller beryllium eller ej. |
| --- | --- | --- |

a)

Metaller som har en partikelstorlek som är mindre än 60 μm, oberoende av om de är sfäriska, finfördelade, sfäroida, i form av flagor eller pulver, och som är tillverkade av material som består till 99 % eller mer av zirkonium, magnesium eller legeringar av dessa.

:

Det hafnium som naturligt ingår i zirkonium (vanligen 2-7 %) inräknas i mängden zirkonium.

:

| b) | Bor eller borlegeringar som har en partikelstorlek som är 60 μm eller mindre enligt följande.






  1. | Bor med en renhet av 85 viktprocent eller mer. |
| --- | --- | --- |

b)

Bor eller borlegeringar som har en partikelstorlek som är 60 μm eller mindre enligt följande.

1.

Bor med en renhet av 85 viktprocent eller mer.

| 2. | Borlegeringar med en borinnehåll av 85 viktprocent eller mer.







  : | Metallerna eller legeringarna som anges i avsnitt 1C011.b omfattas antingen metallerna eller legeringarna är inkapslade i aluminium, magnesium, zirkonium eller beryllium eller ej. |
| --- | --- | --- |

2.

Borlegeringar med en borinnehåll av 85 viktprocent eller mer.

:

| c) | Guanidinnitrat (CAS 506-93-4). |
| --- | --- |

c)

Guanidinnitrat (CAS 506-93-4).

| d) | Nitroguanidin (NQ) (CAS 556-88-7).

  :


  Se även militärförteckningen för metallpulver som blandats med andra ämnen för att få fram en blandning som är särskilt avsedd för militära ändamål. |
| --- | --- |

d)

Nitroguanidin (NQ) (CAS 556-88-7).

:

Se även militärförteckningen för metallpulver som blandats med andra ämnen för att få fram en blandning som är särskilt avsedd för militära ändamål.

1C012Material enligt följande:

:

Dessa material används framför allt för nukleära värmekällor.

| a) | Plutonium i alla former som är isotopprovade till att innehålla mer är 50 viktprocent plutonium-238.







  : | Avsnitt 1C012.a omfattar inte följande:







  a) | Skeppningar som innehåller 1 g plutonium eller mindre. |
| --- | --- | --- | --- |

a)

Plutonium i alla former som är isotopprovade till att innehålla mer är 50 viktprocent plutonium-238.

:

a)

Skeppningar som innehåller 1 g plutonium eller mindre.

| b) | Skeppningar med 3 "effektiva gram" eller mindre när den är innesluten i en avkännande kropp i ett instrument. |
| --- | --- |

b)

Skeppningar med 3 "effektiva gram" eller mindre när den är innesluten i en avkännande kropp i ett instrument.

| b) | "Tidigare separerat" neptunium-237 i alla former.







  : | Avsnitt 1C012.b omfattar inte skeppningar som innehåller 1 g neptunium-237 eller mindre. |
| --- | --- | --- |

b)

"Tidigare separerat" neptunium-237 i alla former.

:

Avsnitt 1C012.b omfattar inte skeppningar som innehåller 1 g neptunium-237 eller mindre.

1C101Material och apparater för att minska sannolikheten för upptäckt genom radarreflexioner, ultravioletta/infraröda och akustiska signaturer, andra än de som omfattas av avsnitt 1C001, och som kan användas för ‧missiler‧, "missil" delsystem eller obemannade luftfartyg som omfattas av avsnitt 9A012.

| : | Avsnitt 1C101 omfattar följande:







  a) | Strukturella material och beläggningar särskilt konstruerade för att minska radarreflexionen. |
| --- | --- | --- |

:

a)

Strukturella material och beläggningar särskilt konstruerade för att minska radarreflexionen.

| b) | Beläggningar, inklusive färger, särskilt konstruerade för att minska eller väl avpassa reflexion eller utstrålning i mikrovågs-, infraröd- eller ultraviolettområdet av det elektromagnetiska spektrumet. |
| --- | --- |

b)

Beläggningar, inklusive färger, särskilt konstruerade för att minska eller väl avpassa reflexion eller utstrålning i mikrovågs-, infraröd- eller ultraviolettområdet av det elektromagnetiska spektrumet.

| : | Avsnitt 1C101 omfattar inte beläggningar när de används för värmereglering av satelliter. |
| --- | --- |

:

:

Med ‧missil‧ avses i avsnitt 1C101 kompletta raketsystem och system för obemannade luftfartyg med en räckvidd som överstiger 300 km.

1C102Återmättade pyrolyserade kol-kol-material konstruerade för rymdfarkoster som omfattas av avsnitt 9A004 eller sondraketer som omfattas av avsnitt 9A104.

1C107Grafit och keramiska material, andra än de som omfattas av avsnitt 1C007, enligt följande:

| a) | Finkorniga grafiter med en bulkdensitet på minst 1,72 g/cm3, uppmätt vid 288 K (15 °C), och med en kornstorlek på högst 100 μm, som kan användas för raketdysor och för nosspetsar till farkoster för återinträde i jordatmosfären, och som kan maskinbearbetas till någon av följande produkter:






  1. | Cylindrar med en diameter på minst 120 mm och en längd på minst 50 mm. |
| --- | --- | --- |

a)

Finkorniga grafiter med en bulkdensitet på minst 1,72 g/cm3, uppmätt vid 288 K (15 °C), och med en kornstorlek på högst 100 μm, som kan användas för raketdysor och för nosspetsar till farkoster för återinträde i jordatmosfären, och som kan maskinbearbetas till någon av följande produkter:

1.

Cylindrar med en diameter på minst 120 mm och en längd på minst 50 mm.

| 2. | Rör med en innerdiameter på minst 65 mm, en väggtjocklek på minst 25 mm och en längd på minst 50 mm, eller |
| --- | --- |

2.

Rör med en innerdiameter på minst 65 mm, en väggtjocklek på minst 25 mm och en längd på minst 50 mm, eller

| 3. | Block vars dimensioner är minst 120 mm × 120 mm × 50 mm. |
| --- | --- |

3.

Block vars dimensioner är minst 120 mm × 120 mm × 50 mm.

| : | Se även avsnitt 0C004. |
| --- | --- |

:

Se även avsnitt 0C004.

| b) | Pyrolytiska eller trådförstärkta grafiter för användning i raketdysor och för nosspetsar till farkoster för återinträde i jordatmosfären, som kan användas i "missiler" och rymduppskjutningsfarkoster som omfattas av avsnitt 9A004 eller sondraketer som omfattas av avsnitt 9A104.







  : | Se även avsnitt 0C004. |
| --- | --- | --- |

b)

Pyrolytiska eller trådförstärkta grafiter för användning i raketdysor och för nosspetsar till farkoster för återinträde i jordatmosfären, som kan användas i "missiler" och rymduppskjutningsfarkoster som omfattas av avsnitt 9A004 eller sondraketer som omfattas av avsnitt 9A104.

:

| c) | Keramiska kompositmaterial (dielektricitetskonstant mindre än 6 vid alla frekvenser från 100 MHz till 100 GHz) för användning i radomer, som kan användas i "missiler" och rymduppskjutningsfarkoster som omfattas av avsnitt 9A004 eller sondraketer som omfattas av avsnitt 9A104. |
| --- | --- |

c)

Keramiska kompositmaterial (dielektricitetskonstant mindre än 6 vid alla frekvenser från 100 MHz till 100 GHz) för användning i radomer, som kan användas i "missiler" och rymduppskjutningsfarkoster som omfattas av avsnitt 9A004 eller sondraketer som omfattas av avsnitt 9A104.

| d) | Bulkbearbetbar förstärkt obränd kiselkarbidkeram för användning i nosspetsar, som kan användas i "missiler" och rymduppskjutningsfarkoster som omfattas av avsnitt 9A004 eller sondraketer som omfattas av avsnitt 9A104. |
| --- | --- |

d)

Bulkbearbetbar förstärkt obränd kiselkarbidkeram för användning i nosspetsar, som kan användas i "missiler" och rymduppskjutningsfarkoster som omfattas av avsnitt 9A004 eller sondraketer som omfattas av avsnitt 9A104.

| e) | Förstärkta keramiska kompositmaterial av kiselkarbid för användning i nosspetsar, farkoster för återinträde i jordatmosfären och dysklaffar, som kan användas i "missiler" och rymduppskjutningsfarkoster som omfattas av avsnitt 9A004 eller sondraketer som omfattas av avsnitt 9A104. |
| --- | --- |

e)

Förstärkta keramiska kompositmaterial av kiselkarbid för användning i nosspetsar, farkoster för återinträde i jordatmosfären och dysklaffar, som kan användas i "missiler" och rymduppskjutningsfarkoster som omfattas av avsnitt 9A004 eller sondraketer som omfattas av avsnitt 9A104.

1C111Drivmedel och kemikalier som ingår i dessa, andra än de som omfattas av avsnitt 1C011, enligt följande:

| a) | Framdrivningssubstanser:






  1. | Sfäriskt aluminiumpulver, andra än de som anges i kontrollbestämmelserna för varor med militär användning, med partiklar av enhetligt tvärsnitt på mindre än 200 μm och ett aluminiuminnehåll av 97 viktprocent eller mer, om minst 10 % av den totala vikten består av partiklar som är mindre än 63 μm enligt ISO 2591:1988 eller motsvarande nationell standard.

  :


  En partikelstorlek av 63 μm (ISO R-565) motsvarar 250 mesh (Tyler) eller 230 mesh (ASTM-standard E-11). |
| --- | --- | --- |

a)

Framdrivningssubstanser:

1.

Sfäriskt aluminiumpulver, andra än de som anges i kontrollbestämmelserna för varor med militär användning, med partiklar av enhetligt tvärsnitt på mindre än 200 μm och ett aluminiuminnehåll av 97 viktprocent eller mer, om minst 10 % av den totala vikten består av partiklar som är mindre än 63 μm enligt ISO 2591:1988 eller motsvarande nationell standard.

:

En partikelstorlek av 63 μm (ISO R-565) motsvarar 250 mesh (Tyler) eller 230 mesh (ASTM-standard E-11).

| 2. | Metalliska bränslen, andra än de som anges i kontrollbestämmelserna för varor med militär användning, med partikelstorlekar mindre än 60 μm, antingen sfäriska, finfördelade, sfäroida, flingade eller malda, innehållande 97 viktprocent eller mer av något av följande ämnen:






  a) | Zirkonium, |
| --- | --- | --- |

2.

Metalliska bränslen, andra än de som anges i kontrollbestämmelserna för varor med militär användning, med partikelstorlekar mindre än 60 μm, antingen sfäriska, finfördelade, sfäroida, flingade eller malda, innehållande 97 viktprocent eller mer av något av följande ämnen:

a)

Zirkonium,

| b) | beryllium, |
| --- | --- |

b)

beryllium,

| c) | magnesium, eller |
| --- | --- |

c)

magnesium, eller

| d) | legeringar av metaller specificerade i leden a-c ovan. |
| --- | --- |

d)

legeringar av metaller specificerade i leden a-c ovan.

:

Det hafnium som naturligt ingår i zirkonium (vanligen 2-7 %) inräknas i mängden zirkonium.

| 3. | Oxiderande ämnen som kan användas i raketmotorer för flytande bränsle enligt följande:






  a) | Dikvävetrioxid (CAS 10544-73-7). |
| --- | --- | --- |

3.

Oxiderande ämnen som kan användas i raketmotorer för flytande bränsle enligt följande:

a)

Dikvävetrioxid (CAS 10544-73-7).

| b) | Kvävedioxid (CAS 10102-44-0)/dikvävetetraoxid (CAS 10544-72-6). |
| --- | --- |

b)

Kvävedioxid (CAS 10102-44-0)/dikvävetetraoxid (CAS 10544-72-6).

| c) | Dikvävepentoxid (CAS 10102-03-1). |
| --- | --- |

c)

Dikvävepentoxid (CAS 10102-03-1).

| d) | Blandade kväveoxider (MON).

  :


  Blandade kväveoxider (MON) är lösningar av kväveoxid (NO) i dikvävetetraoxid/kvävedioxid N2O4/NO2) som kan användas i missilsystem. Det finns en rad sammansättningar som kan betecknas som MONi eller MONij, där i och j är heltal som anger procentandelen kväveoxid i blandningen (t.ex. MON3 innehåller 3 % kväveoxid, MON25 25 % kväveoxid. En övre gräns är MON40, 40 viktprocent). |
| --- | --- |

d)

Blandade kväveoxider (MON).

:

Blandade kväveoxider (MON) är lösningar av kväveoxid (NO) i dikvävetetraoxid/kvävedioxid N2O4/NO2) som kan användas i missilsystem. Det finns en rad sammansättningar som kan betecknas som MONi eller MONij, där i och j är heltal som anger procentandelen kväveoxid i blandningen (t.ex. MON3 innehåller 3 % kväveoxid, MON25 25 % kväveoxid. En övre gräns är MON40, 40 viktprocent).

| e) | SE KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING FÖR Inhibitorförsedd rödrykande salpetersyra (IRFNA). |
| --- | --- |

e)

SE KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING FÖR Inhibitorförsedd rödrykande salpetersyra (IRFNA).

| f) | SE KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING OCH AVSNITT 1C238 FÖR Föreningar sammansatta av fluor och en eller flera andra halogener, syre eller kväve. |
| --- | --- |

f)

SE KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING OCH AVSNITT 1C238 FÖR Föreningar sammansatta av fluor och en eller flera andra halogener, syre eller kväve.

| 4. | Hydrazinderivat enligt följande:







  : | Se även kontrollbestämmelserna för varor med militär användning |
| --- | --- | --- |

4.

Hydrazinderivat enligt följande:

:

| a) | Trimetylhydrazin (CAS 1741-01-1). |
| --- | --- |

a)

Trimetylhydrazin (CAS 1741-01-1).

| b) | Tetrametylhydrazin (CAS 6415-12-9). |
| --- | --- |

b)

Tetrametylhydrazin (CAS 6415-12-9).

| c) | N.N. diallylhydrazin. |
| --- | --- |

c)

N.N. diallylhydrazin.

| d) | Allylhydrazin (CAS 7422-78-8). |
| --- | --- |

d)

Allylhydrazin (CAS 7422-78-8).

| e) | Etyldihydrazin. |
| --- | --- |

e)

Etyldihydrazin.

| f) | Monometylhydrazindinitrat. |
| --- | --- |

f)

Monometylhydrazindinitrat.

| g) | Asymmetriskt dimetylhydrazinnitrat. |
| --- | --- |

g)

Asymmetriskt dimetylhydrazinnitrat.

| h) | Hydrazinazid (CAS 14546-44-2). |
| --- | --- |

h)

Hydrazinazid (CAS 14546-44-2).

| i) | Dimetylhydrazinazid. |
| --- | --- |

i)

Dimetylhydrazinazid.

| j) | Hydrazindinitrat. |
| --- | --- |

j)

Hydrazindinitrat.

| k) | Diimido-oxalsyredihydrazin (CAS 3457-37-2). |
| --- | --- |

k)

Diimido-oxalsyredihydrazin (CAS 3457-37-2).

| l) | 2-hydroxyetylhydrazinnitrat (HEHN). |
| --- | --- |

l)

2-hydroxyetylhydrazinnitrat (HEHN).

| m) | Se kontrollbestämmelserna för varor med militär användning för hydrazinperklorat. |
| --- | --- |

m)

Se kontrollbestämmelserna för varor med militär användning för hydrazinperklorat.

| n) | Hydrazindiperklorat (CAS 13812-39-0). |
| --- | --- |

n)

Hydrazindiperklorat (CAS 13812-39-0).

| o) | Metylhydrazinnitrat (MHN). |
| --- | --- |

o)

Metylhydrazinnitrat (MHN).

| p) | Dietylhydrazinnitrat (DEHN). |
| --- | --- |

p)

Dietylhydrazinnitrat (DEHN).

| q) | 3,6-dihydrazintetrazinnitrat (1,4-dihydrazinnitrat) (DHTN). |
| --- | --- |

q)

3,6-dihydrazintetrazinnitrat (1,4-dihydrazinnitrat) (DHTN).

| 5. | Andra material med hög energitäthet än de som anges i den kontrollbestämmelserna för varor med militär användning, vilka kan användas i ‧missiler‧ eller obemannade luftfartyg enligt 9A012.






  a) | Blandat bränsle som innehåller både fasta och flytande bränslen, såsom boronslurry, med en viktbaserad energitäthet på 40 × 106 J/kg eller mer. |
| --- | --- | --- |

5.

Andra material med hög energitäthet än de som anges i den kontrollbestämmelserna för varor med militär användning, vilka kan användas i ‧missiler‧ eller obemannade luftfartyg enligt 9A012.

a)

Blandat bränsle som innehåller både fasta och flytande bränslen, såsom boronslurry, med en viktbaserad energitäthet på 40 × 106 J/kg eller mer.

| b) | Andra bränslen och bränsletillsatser med hög energitäthet (t.ex. kuban, jonlösningar, JP-10) med en volymbaserad energitäthet på 37,5 × 109 J/m3eller mer, mätt vid 20 °C och ett atmosfäriskt (101,325 kPa) tryck.







  : | 1C111.a.5.b omfattar inte raffinerade fossila bränslen och biobränslen framställda av grönsaker, inklusive bränslen som certifierats för användning i civil luftfart, om de inte speciellt utformats för ‧missiler‧ eller obemannade luftfartyg enligt 9A012. |
| --- | --- | --- |

b)

Andra bränslen och bränsletillsatser med hög energitäthet (t.ex. kuban, jonlösningar, JP-10) med en volymbaserad energitäthet på 37,5 × 109 J/m3eller mer, mätt vid 20 °C och ett atmosfäriskt (101,325 kPa) tryck.

:

:

I 1C111.a.5 avses med ‧missil‧ kompletta raketsystem och system för obemannade luftfordon med en räckvidd som överstiger 300 km.

| b) | Polymeriska substanser:






  1. | Karboxyterminerad polybutadien (inklusive karboxylterminerad polybutadien) (CTPB). |
| --- | --- | --- |

b)

Polymeriska substanser:

1.

Karboxyterminerad polybutadien (inklusive karboxylterminerad polybutadien) (CTPB).

| 2. | Hydroxyterminerad polybutadien (inklusive hydroxylterminerad polybutadien) (HTPB), andra än de som anges i kontrollbestämmelserna för varor med militär användning. |
| --- | --- |

2.

Hydroxyterminerad polybutadien (inklusive hydroxylterminerad polybutadien) (HTPB), andra än de som anges i kontrollbestämmelserna för varor med militär användning.

| 3. | Polybutadienakrylsyra (PBAA). |
| --- | --- |

3.

Polybutadienakrylsyra (PBAA).

| 4. | Polybutadienakrylnitril (PBAN). |
| --- | --- |

4.

Polybutadienakrylnitril (PBAN).

| 5. | Polytetrahydrofuran-polyetylenglykol (TPEG).

  :


  Polytetrahydrofuran-polyetylenglykol (TPEG) är en segementsampolymer av poly-1,4-butandiol och polyetylenglykol (PEG). |
| --- | --- |

5.

Polytetrahydrofuran-polyetylenglykol (TPEG).

:

Polytetrahydrofuran-polyetylenglykol (TPEG) är en segementsampolymer av poly-1,4-butandiol och polyetylenglykol (PEG).

| c) | Andra drivmedelstillsatser och agens:







  1. | SE KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING FÖR Karboraner, dekaboraner, pentaboraner och derivat därav. |
| --- | --- | --- |

c)

Andra drivmedelstillsatser och agens:

1.

SE KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING FÖR Karboraner, dekaboraner, pentaboraner och derivat därav.

| 2. | Trietylenglykoldinitrat (TEGDN) (CAS 111-22-8). |
| --- | --- |

2.

Trietylenglykoldinitrat (TEGDN) (CAS 111-22-8).

| 3. | 2-nitrodifenylamin (CAS 119-75-5). |
| --- | --- |

3.

2-nitrodifenylamin (CAS 119-75-5).

| 4. | Trimetyletantrinitrat (TMETN) (CAS 3032-55-1. |
| --- | --- |

4.

Trimetyletantrinitrat (TMETN) (CAS 3032-55-1.

| 5. | Dietylenglykoldinitrat (DEGDN) (CAS 693-21-0). |
| --- | --- |

5.

Dietylenglykoldinitrat (DEGDN) (CAS 693-21-0).

| 6. | Ferrocenderivat enligt följande:







  a) | Se kontrollbestämmelserna för varor med militär användning för katocen. |
| --- | --- | --- |

6.

Ferrocenderivat enligt följande:

a)

Se kontrollbestämmelserna för varor med militär användning för katocen.

| b) | Etylferrocen (CAS 1273-89-8). |
| --- | --- |

b)

Etylferrocen (CAS 1273-89-8).

| c) | Propylferrocen. |
| --- | --- |

c)

Propylferrocen.

| d) | Se kontrollbestämmelserna för varor med militär användning för n-butyl-ferrocen. |
| --- | --- |

d)

Se kontrollbestämmelserna för varor med militär användning för n-butyl-ferrocen.

| e) | Pentylferrocen (CAS 1274-00-6). |
| --- | --- |

e)

Pentylferrocen (CAS 1274-00-6).

| f) | Dicyklopentyferrocen. |
| --- | --- |

f)

Dicyklopentyferrocen.

| g) | Dicyklohexylferrocen. |
| --- | --- |

g)

Dicyklohexylferrocen.

| h) | Dietylferrocen (CAS 1273-97-8). |
| --- | --- |

h)

Dietylferrocen (CAS 1273-97-8).

| i) | Dipropylferrocen. |
| --- | --- |

i)

Dipropylferrocen.

| j) | Dibutylferrocen (CAS 1274-08-4). |
| --- | --- |

j)

Dibutylferrocen (CAS 1274-08-4).

| k) | Dihexylferrocen (CAS 93894-59-8). |
| --- | --- |

k)

Dihexylferrocen (CAS 93894-59-8).

| l) | Acetylferrocen (CAS 1271-55-2) / 1,1′-diacetylferrocen (CAS 1273-94-5). |
| --- | --- |

l)

Acetylferrocen (CAS 1271-55-2) / 1,1′-diacetylferrocen (CAS 1273-94-5).

| m) | Se kontrollbestämmelserna för varor med militär användning för ferrocenkarboxylsyror. |
| --- | --- |

m)

Se kontrollbestämmelserna för varor med militär användning för ferrocenkarboxylsyror.

| n) | Se kontrollbestämmelserna för varor med militär användning för butacen. |
| --- | --- |

n)

Se kontrollbestämmelserna för varor med militär användning för butacen.

| o) | Andra ferrocenderivat som kan användas för att ändra förbränningshastigheten för raketdrivmedel, andra än de som omfattas av kontrollbestämmelserna för varor med militär användning. |
| --- | --- |

o)

Andra ferrocenderivat som kan användas för att ändra förbränningshastigheten för raketdrivmedel, andra än de som omfattas av kontrollbestämmelserna för varor med militär användning.

| : | 1C111.c.6.o omfattar inte ferrocenderivat som innehåller en funktionsgrupp med sex aromatiska kolatomer bundna till ferrocenmolekylen. |
| --- | --- |

:

| 7. | 4,5 diazidometyl-2-metyl-1,2,3-triazol (iso-DAMTR) som inte omfattas av kontrollbestämmelserna för varor med militär användning. |
| --- | --- |

7.

4,5 diazidometyl-2-metyl-1,2,3-triazol (iso-DAMTR) som inte omfattas av kontrollbestämmelserna för varor med militär användning.

| : | För drivmedel och kemikalier som ingår i dessa och som inte omfattas av avsnitt 1C111, se kontrollbestämmelserna för varor med militär användning. |
| --- | --- |

:

1C116Maråldrat stål med en brottgräns på 1 500 MPa eller högre mätt vid 293 K (20 °C), i form av skivor, plåtar eller rör med en material- eller plåttjocklek som är lika med eller mindre än 5 mm.

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 1C216. |
| --- | --- |

ANM.:

:

Maråldrat stål är järnlegeringar som vanligen kännetecknas av hög nickelhalt och mycket låg kolhalt samt användning av ersättande ämnen eller fällningar för att uppnå ökad hållfasthet och åldringshärdning.

1C117Material för framställning av ‧missiler‧ enligt följande:

| a) | Volfram och legeringar i partikelform med ett volframinnehåll på 97 viktprocent eller mer och en partikelstorlek på 50 × 10-6 m (50 μm) eller mindre. |
| --- | --- |

a)

Volfram och legeringar i partikelform med ett volframinnehåll på 97 viktprocent eller mer och en partikelstorlek på 50 × 10-6 m (50 μm) eller mindre.

| b) | Molybden och legeringar i partikelform med ett molybdeninnehåll på 97 viktprocent eller mer och en partikelstorlek på 50 × 10-6 m (50 μm) eller mindre. |
| --- | --- |

b)

Molybden och legeringar i partikelform med ett molybdeninnehåll på 97 viktprocent eller mer och en partikelstorlek på 50 × 10-6 m (50 μm) eller mindre.

| c) | Volframmaterial i fast form med allt följande:






  1. | Någon av följande materialsammansättningar:






  a) | Volfram och legeringar med ett volframinnehåll på 97 viktprocent eller mer. |
| --- | --- | --- | --- |

c)

Volframmaterial i fast form med allt följande:

1.

Någon av följande materialsammansättningar:

a)

Volfram och legeringar med ett volframinnehåll på 97 viktprocent eller mer.

| b) | Volfram i legering med koppar med ett volframinnehåll på 80 viktprocent eller mer, eller |
| --- | --- |

b)

Volfram i legering med koppar med ett volframinnehåll på 80 viktprocent eller mer, eller

| c) | Volfram i legering med silver med ett volframinnehåll på 80 viktprocent eller mer, och |
| --- | --- |

c)

Volfram i legering med silver med ett volframinnehåll på 80 viktprocent eller mer, och

| 2. | möjligt att maskinbearbeta till någon av följande produkter:






  a) | Cylindrar med en diameter på 120 mm eller mer och en längd på 50 mm eller mer. |
| --- | --- | --- |

2.

möjligt att maskinbearbeta till någon av följande produkter:

a)

Cylindrar med en diameter på 120 mm eller mer och en längd på 50 mm eller mer.

| b) | Rör med en inre diameter på 65 mm eller mer och en väggtjocklek på 25 mm eller mer och en längd på 50 mm eller mer, eller |
| --- | --- |

b)

Rör med en inre diameter på 65 mm eller mer och en väggtjocklek på 25 mm eller mer och en längd på 50 mm eller mer, eller

| c) | block med en storlek på 120 mm × 120 mm × 50 mm eller mer. |
| --- | --- |

c)

block med en storlek på 120 mm × 120 mm × 50 mm eller mer.

:

I C117 avses med ‧missil‧ kompletta raketsystem och system för obemannade luftfordon med en räckvidd som överstiger 300 km.

1C118Titanstabiliserat duplex rostfritt stål (Ti-DSS) enligt följande:

| a) | Med samtliga följande egenskaper:






  1. | Innehåller 17,0-23,0 viktprocent krom och 4,5-7,0 viktprocent nickel. |
| --- | --- | --- |

a)

Med samtliga följande egenskaper:

1.

Innehåller 17,0-23,0 viktprocent krom och 4,5-7,0 viktprocent nickel.

| 2. | Innehåller mer än 0,10 viktprocent titan, och |
| --- | --- |

2.

Innehåller mer än 0,10 viktprocent titan, och

| 3. | Har en ferritisk-austenitisk mikrostruktur (också kallad tvåfasig mikrostruktur) där minst 10 volymprocent är austenit (enligt ASTM E-1181-87 eller motsvarande nationell standard), och |
| --- | --- |

3.

Har en ferritisk-austenitisk mikrostruktur (också kallad tvåfasig mikrostruktur) där minst 10 volymprocent är austenit (enligt ASTM E-1181-87 eller motsvarande nationell standard), och

| b) | med någon av följande former:






  1. | Tackor eller stavar med en storlek av minst 100 mm i varje dimension. |
| --- | --- | --- |

b)

med någon av följande former:

1.

Tackor eller stavar med en storlek av minst 100 mm i varje dimension.

| 2. | Plåtar med en bredd av minst 600 mm och en tjocklek av högst 3 mm, eller |
| --- | --- |

2.

Plåtar med en bredd av minst 600 mm och en tjocklek av högst 3 mm, eller

| 3. | Rör med en ytterdiameter av minst 600 mm och en materialtjocklek av högst 3 mm. |
| --- | --- |

3.

Rör med en ytterdiameter av minst 600 mm och en materialtjocklek av högst 3 mm.

1C202Legeringar, andra än de som omfattas av avsnitten 1C002.b.3 eller 1C002.b.4, enligt följande:

| a) | Aluminiumlegeringar med båda följande egenskaper:






  1. | ‧I stånd till‧ en brottgräns på 460 MPa eller mer vid 293 K (20 °C), och |
| --- | --- | --- |

a)

Aluminiumlegeringar med båda följande egenskaper:

1.

‧I stånd till‧ en brottgräns på 460 MPa eller mer vid 293 K (20 °C), och

| 2. | föreligger som rör eller som cylindrar i massiv form (även smidesämnen) med en yttre diameter av mer än 75 mm. |
| --- | --- |

2.

föreligger som rör eller som cylindrar i massiv form (även smidesämnen) med en yttre diameter av mer än 75 mm.

| b) | Titanlegeringar med båda följande egenskaper:






  1. | ‧I stånd till‧ en brottgräns på 900 MPa eller mer vid 293 K (20 °C), och |
| --- | --- | --- |

b)

Titanlegeringar med båda följande egenskaper:

1.

‧I stånd till‧ en brottgräns på 900 MPa eller mer vid 293 K (20 °C), och

| 2. | föreligger som rör eller som cylindrar i massiv form (även smidesämnen) med en yttre diameter av mer än 75 mm. |
| --- | --- |

2.

föreligger som rör eller som cylindrar i massiv form (även smidesämnen) med en yttre diameter av mer än 75 mm.

:

Uttrycket legeringar ‧i stånd till‧ omfattar legeringar före eller efter värmebehandling.

1C210‧Fibrer eller fiberliknande material‧ eller prepregs, andra än sådana som omfattas av avsnitt 1C010.a, b eller e, enligt följande:

| a) | ‧Fibrer eller fiberliknande material‧ av kol eller aramid med någon av följande egenskaper:






  1. | Har en "specifik modul" av 12,7 × 106 m eller större, eller |
| --- | --- | --- |

a)

‧Fibrer eller fiberliknande material‧ av kol eller aramid med någon av följande egenskaper:

1.

Har en "specifik modul" av 12,7 × 106 m eller större, eller

| 2. | en "specifik brottgräns" på 235 × 103 m eller större. |
| --- | --- |

2.

en "specifik brottgräns" på 235 × 103 m eller större.

| : | Avsnitt 1C210.a omfattar inte ‧fibrer eller fiberliknande material‧ av aramid som har 0,25 viktprocent eller mer av en esterbaserad ytmodifierare för fibrer. |
| --- | --- |

:

| b) | ‧Fibrer eller fiberliknande material‧ av glas som har båda följande egenskaper:






  1. | En "specifik modul" av 3,18 × 106 m eller större och |
| --- | --- | --- |

b)

‧Fibrer eller fiberliknande material‧ av glas som har båda följande egenskaper:

1.

En "specifik modul" av 3,18 × 106 m eller större och

| 2. | en "specifik brottgräns" på 76,2 × 103 m eller större. |
| --- | --- |

2.

en "specifik brottgräns" på 76,2 × 103 m eller större.

| c) | Härdade hartsimpregnerade kontinuerliga "garner", "väv", "drev" eller "tejp" med en bredd som inte överstiger 15 mm (prepregs) tillverkad av ‧fibrer eller fiberliknande material‧ av kol eller glas och som omfattas av avsnitt 1C210.a eller b.

  :


  Hartsen bildar kompositens matris. |
| --- | --- |

c)

Härdade hartsimpregnerade kontinuerliga "garner", "väv", "drev" eller "tejp" med en bredd som inte överstiger 15 mm (prepregs) tillverkad av ‧fibrer eller fiberliknande material‧ av kol eller glas och som omfattas av avsnitt 1C210.a eller b.

:

Hartsen bildar kompositens matris.

| : | ‧Fibrer eller fiberliknande material‧ i avsnitt 1C210. är begränsade till kontinuerliga "enfibertrådar", "garn", "väv", "drev" och "tejp". |
| --- | --- |

:

1C216Maråldrat stål som inte omfattas av avsnitt 1C116 och ‧i stånd till‧ en brottgräns på 2 050 MPa eller mer vid 293 K (20 °C).

| : | Avsnitt 1C216 omfattar inte former i vilka inga linjära dimensioner överstiger 75 mm. |
| --- | --- |

:

:

Uttrycket maråldrat stål ‧i stånd till‧ omfattar maråldrat stål både före och efter värmebehandling.

1C225Bor, som anrikats med avseende på bor-10-isotopen (10B) till större halt än den naturliga halten av denna isotop enligt följande: Elementärt bor, föreningar, blandningar som innehåller bor, produkter som innehåller dessa samt avfall och skrot av något av föregående.

| : | I avsnitt 1C225 inbegrips i blandningar som innehåller bor även boranrikade material. |
| --- | --- |

:

:

Den naturliga isotophalten för bor-10 är ungefär 18,5 viktprocent (20 atomprocent).

1C226Volfram, volframkarbid och legeringar som innehåller mer än 90 viktprocent volfram, som inte omfattas av 1C117 och som har båda följande egenskaper:

| a) | I former med ihålig cylindrisk symmetri (inklusive cylindersegment) med en inre diameter mellan 100 mm och 300 mm, och |
| --- | --- |

a)

I former med ihålig cylindrisk symmetri (inklusive cylindersegment) med en inre diameter mellan 100 mm och 300 mm, och

| b) | en massa större än 20 kg. |
| --- | --- |

b)

en massa större än 20 kg.

| : | Avsnitt 1C226 omfattar inte delar som särskilt utformats som vikter eller som kollimatorer för gammastrålning. |
| --- | --- |

:

1C227Kalcium med båda följande egenskaper:

| a) | Innehåller mindre än 1 000 delar per miljon (ppm) i vikt räknat av metalliska orenheter andra än magnesium, och |
| --- | --- |

a)

Innehåller mindre än 1 000 delar per miljon (ppm) i vikt räknat av metalliska orenheter andra än magnesium, och

| b) | innehåller mindre än 10 delar per miljon (ppm)i vikt räknat av bor. |
| --- | --- |

b)

innehåller mindre än 10 delar per miljon (ppm)i vikt räknat av bor.

1C228Magnesium med båda följande egenskaper:

| a) | Innehåller mindre än 200 delar per miljon (ppm) i vikt räknat av metalliska orenheter andra än kalcium, och |
| --- | --- |

a)

Innehåller mindre än 200 delar per miljon (ppm) i vikt räknat av metalliska orenheter andra än kalcium, och

| b) | innehåller mindre än 10 delar per miljon (ppm) i vikt räknat av bor. |
| --- | --- |

b)

innehåller mindre än 10 delar per miljon (ppm) i vikt räknat av bor.

1C229Vismut med båda följande egenskaper:

| a) | En renhetsgrad av 99,99 viktprocent eller högre, och |
| --- | --- |

a)

En renhetsgrad av 99,99 viktprocent eller högre, och

| b) | innehåller mindre än 10 delar per miljon (ppm) i vikt räknat av silver. |
| --- | --- |

b)

innehåller mindre än 10 delar per miljon (ppm) i vikt räknat av silver.

1C230Berylliummetall, legeringar som innehåller mer än 50 viktprocent beryllium, berylliumföreningar, produkter därav, samt avfall och skrot av något av föregående, förutsatt att detta inte omfattas av den kontrollbestämmelserna för varor med militär användning.

| ANM.: | SE KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING. |
| --- | --- |

ANM.:

| : | Avsnitt 1C230 omfattar inte följande:







  a) | Metallfönster för röntgenapparater eller för apparater för borrhålsloggning. |
| --- | --- | --- |

:

a)

Metallfönster för röntgenapparater eller för apparater för borrhålsloggning.

| b) | Oxidprodukter, färdigtillverkade eller halvfabrikat särskilt konstruerade för elektroniska komponentdelar eller som bärarmaterial för elektroniska kretsar. |
| --- | --- |

b)

Oxidprodukter, färdigtillverkade eller halvfabrikat särskilt konstruerade för elektroniska komponentdelar eller som bärarmaterial för elektroniska kretsar.

| c) | Beryl (berylliumsilikat och aluminiumsilikat) i form av smaragder eller akvamariner. |
| --- | --- |

c)

Beryl (berylliumsilikat och aluminiumsilikat) i form av smaragder eller akvamariner.

1C231Hafniummetall, legeringar som innehåller mer än 60 viktprocent hafnium, hafniumföreningar som innehåller mer än 60 viktprocent hafnium, produkter därav, samt avfall och skrot av något av föregående.

1C232Helium-3 (3He), blandningar som innehåller helium-3 och produkter eller apparatur som innehåller något av föregående.

| : | Avsnitt 1C232 omfattar inte en produkt eller apparatur som innehåller mindre än 1 g helium-3. |
| --- | --- |

:

1C233Litium anrikat med avseende på isotopen litium-6 (6Li) till en halt som överskrider den naturliga isotophalten och produkter eller apparatur som innehåller anrikat litium enligt följande: elementärt litium, legeringar, föreningar, blandningar som innehåller litium, produkter därav, avfall eller skrot av något av föregående.

| : | Avsnitt 1C233 omfattar inte dosimetrar baserade på termoluminiscens. |
| --- | --- |

:

:

Den naturliga isotophalten av litium-6 är ungefär 6,5 viktprocent (7,5 atomprocent).

1C234Zirkonium med ett hafniuminnehåll på mindre än 1 viktdel hafnium på 500 viktdelar zirkonium enligt följande: metall, legeringar innehållande mer än 50 viktprocent zirkonium, föreningar, produkter därav, avfall eller skrot av något av föregående.

| : | Avsnitt 1C234 omfattar inte zirkonium i form av folier med en tjocklek som inte överstiger 0,10 mm. |
| --- | --- |

:

1C235Tritium, tritiumföreningar och blandningar som innehåller tritium i vilka förhållandet tritiumatomer/väteatomer överstiger 1/1 000, samt produkter eller apparatur som innehåller något av föregående.

| : | Avsnitt 1C235 omfattar inte produkter eller apparatur som innehåller mindre än 1,48 × 103 GBq (40 Ci) tritium. |
| --- | --- |

:

1C236Alfastrålande radionuklider med en halveringstid för alfasönderfall lika med eller längre än 10 dagar men kortare än 200 år i följande former:

| a) | Grundform. |
| --- | --- |

a)

Grundform.

| b) | Föreningar med en total alfaaktivitet av 37 GBq/kg (1 Ci/kg) eller mer. |
| --- | --- |

b)

Föreningar med en total alfaaktivitet av 37 GBq/kg (1 Ci/kg) eller mer.

| c) | Blandningar med en total alfaaktivitet av 37 GBq/kg (1 Ci/kg) eller mer. |
| --- | --- |

c)

Blandningar med en total alfaaktivitet av 37 GBq/kg (1 Ci/kg) eller mer.

| d) | Produkter eller apparatur som innehåller något av det föregående. |
| --- | --- |

d)

Produkter eller apparatur som innehåller något av det föregående.

| : | Avsnitt 1C236 omfattar inte produkter eller apparatur som innehåller mindre än 3,7 GBq (100 mCi) alfaaktivitet. |
| --- | --- |

:

1C237Radium-226 (226Ra), radium-226-legeringar, radium-226-föreningar, blandningar innehållande radium-226, produkter av dessa och produkter eller apparatur som innehåller något av föregående.

| : | Avsnitt 1C237 omfattar inte följande:







  a) | Medicinska applikatorer. |
| --- | --- | --- |

:

a)

Medicinska applikatorer.

| b) | Produkter eller apparatur som innehåller mindre än 0,37 GBq (10 mCi) av radium-226. |
| --- | --- |

b)

Produkter eller apparatur som innehåller mindre än 0,37 GBq (10 mCi) av radium-226.

1C238Klortrifluorid (ClF3).

1C239Sprängämnen, andra än de som omfattas av kontrollbestämmelserna för varor med militär användning, eller ämnen eller blandningar av ämnen som innehåller mer än 2 viktprocent av sådana sprängämnen, med en kristalldensitet större än 1,8 g/cm3 och som har en detonationshastighet högre än 8 000 m/s.

1C240Nickelpulver och porös nickelmetall som inte omfattas av avsnitt 0C005, enligt följande:

| a) | Nickelpulver med båda följande egenskaper:






  1. | En nickelrenhet på 99,0 viktprocent eller mer, och |
| --- | --- | --- |

a)

Nickelpulver med båda följande egenskaper:

1.

En nickelrenhet på 99,0 viktprocent eller mer, och

| 2. | en partikelstorlek som i medeltal är mindre än 10 μm mätt enligt ASTM B330 standard. |
| --- | --- |

2.

en partikelstorlek som i medeltal är mindre än 10 μm mätt enligt ASTM B330 standard.

| b) | Porös nickelmetall som framställts av material som omfattas av avsnitt 1C240.a. |
| --- | --- |

b)

Porös nickelmetall som framställts av material som omfattas av avsnitt 1C240.a.

| : | Avsnitt 1C240 omfattar inte följande:







  a) | Fiberliknande nickelpulver. |
| --- | --- | --- |

:

a)

Fiberliknande nickelpulver.

| b) | Enkla porösa nickelskivor med en yta på 1 000 cm2 per skiva eller mindre. |
| --- | --- |

b)

Enkla porösa nickelskivor med en yta på 1 000 cm2 per skiva eller mindre.

:

Avsnitt 1C240.b avser porösa metaller som formats genom komprimering och sintring av materialen i avsnitt 1C240.a för att skapa ett metallmaterial med fina porer som är internt förbundna genom hela strukturen.

1C350Kemikalier som kan användas som prekursorer för giftiga kemiska agens, enligt följande, och "kemiska blandningar" som innehåller en eller flera av dessa:

| ANM.: | SE ÄVEN KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING OCH AVSNITT 1C450. |
| --- | --- |

ANM.:

| 1. | Tiodiglykol (111-48-8) |
| --- | --- |

1.

Tiodiglykol (111-48-8)

| 2. | Fosforoxiklorid (10025-87-3) |
| --- | --- |

2.

Fosforoxiklorid (10025-87-3)

| 3. | Dimetylmetylfosfonat (756-79-6) |
| --- | --- |

3.

Dimetylmetylfosfonat (756-79-6)

| 4. | SE KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING FÖR Metylfosfonyldifluorid (676-99-3) |
| --- | --- |

4.

SE KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING FÖR Metylfosfonyldifluorid (676-99-3)

| 5. | Metylfosfonyldiklorid (676-97-1) |
| --- | --- |

5.

Metylfosfonyldiklorid (676-97-1)

| 6. | Dimetylfosfit (DMP) (868-85-9) |
| --- | --- |

6.

Dimetylfosfit (DMP) (868-85-9)

| 7. | Fosfortriklorid (7719-12-2) |
| --- | --- |

7.

Fosfortriklorid (7719-12-2)

| 8. | Trimetylfosfit (TMP) (121-45-9) |
| --- | --- |

8.

Trimetylfosfit (TMP) (121-45-9)

| 9. | Tionylklorid (7719-09-7) |
| --- | --- |

9.

Tionylklorid (7719-09-7)

| 10. | 3-Hydroxi-1-metylpiperidin (3554-74-3) |
| --- | --- |

10.

3-Hydroxi-1-metylpiperidin (3554-74-3)

| 11. | N,N-diisopropyl-(beta)-aminoetylklorid (96-79-7) |
| --- | --- |

11.

N,N-diisopropyl-(beta)-aminoetylklorid (96-79-7)

| 12. | N,N-diisopropyl-(beta)-aminoetantiol (5842-07-9) |
| --- | --- |

12.

N,N-diisopropyl-(beta)-aminoetantiol (5842-07-9)

| 13. | 3-Kinuklidinol (1619-34-7) |
| --- | --- |

13.

3-Kinuklidinol (1619-34-7)

| 14. | Kaliumfluorid (7789-23-3) |
| --- | --- |

14.

Kaliumfluorid (7789-23-3)

| 15. | 2-Kloretanol (107-07-3) |
| --- | --- |

15.

2-Kloretanol (107-07-3)

| 16. | Dimetylamin (124-40-3) |
| --- | --- |

16.

Dimetylamin (124-40-3)

| 17. | Dietyletylfosfonat (78-38-6) |
| --- | --- |

17.

Dietyletylfosfonat (78-38-6)

| 18. | Dietyl-N,N-dimetylfosforamidat (2404-03-7) |
| --- | --- |

18.

Dietyl-N,N-dimetylfosforamidat (2404-03-7)

| 19. | Dietylfosfit (762-04-9) |
| --- | --- |

19.

Dietylfosfit (762-04-9)

| 20. | Dimetylaminhydroklorid (506-59-2) |
| --- | --- |

20.

Dimetylaminhydroklorid (506-59-2)

| 21. | Etyldiklorfosfin (1498-40-4) |
| --- | --- |

21.

Etyldiklorfosfin (1498-40-4)

| 22. | Etylfosfonyldiklorid (1066-50-8) |
| --- | --- |

22.

Etylfosfonyldiklorid (1066-50-8)

| 23. | SE KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING FÖR Etylfosfonyldifluorid (753-98-0) |
| --- | --- |

23.

SE KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING FÖR Etylfosfonyldifluorid (753-98-0)

| 24. | Fluorväte (7664-39-3) |
| --- | --- |

24.

Fluorväte (7664-39-3)

| 25. | Metylbensilat (76-89-1) |
| --- | --- |

25.

Metylbensilat (76-89-1)

| 26. | Metyldiklorfosfin (676-83-5) |
| --- | --- |

26.

Metyldiklorfosfin (676-83-5)

| 27. | N,N-diisopropyl-(beta)-aminoetanol (96-80-0) |
| --- | --- |

27.

N,N-diisopropyl-(beta)-aminoetanol (96-80-0)

| 28. | Pinakolylalkohol (464-07-3) |
| --- | --- |

28.

Pinakolylalkohol (464-07-3)

| 29. | SE KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING FÖR O-etyl-2-diisopropylaminoetyl-metylfosfonit (QL) (57856-11-8) |
| --- | --- |

29.

SE KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING FÖR O-etyl-2-diisopropylaminoetyl-metylfosfonit (QL) (57856-11-8)

| 30. | Trietylfosfit (122-52-1) |
| --- | --- |

30.

Trietylfosfit (122-52-1)

| 31. | Arseniktriklorid (7784-34-1) |
| --- | --- |

31.

Arseniktriklorid (7784-34-1)

| 32. | Bensilsyra (76-93-7) |
| --- | --- |

32.

Bensilsyra (76-93-7)

| 33. | Dietylmetylfosfonit (15715-41-0) |
| --- | --- |

33.

Dietylmetylfosfonit (15715-41-0)

| 34. | Dimetyletylfosfonat (6163-75-3) |
| --- | --- |

34.

Dimetyletylfosfonat (6163-75-3)

| 35. | Etyldifluorfosfin (430-78-4) |
| --- | --- |

35.

Etyldifluorfosfin (430-78-4)

| 36. | Metyldifluorfosfin (753-59-3) |
| --- | --- |

36.

Metyldifluorfosfin (753-59-3)

| 37. | 3-Kinuklidinon (3731-38-2) |
| --- | --- |

37.

3-Kinuklidinon (3731-38-2)

| 38. | Fosforpentaklorid (10026-13-8) |
| --- | --- |

38.

Fosforpentaklorid (10026-13-8)

| 39. | Pinakolon (75-97-8) |
| --- | --- |

39.

Pinakolon (75-97-8)

| 40. | Kaliumcyanid (151-50-8) |
| --- | --- |

40.

Kaliumcyanid (151-50-8)

| 41. | Kaliumvätefluorid (7789-29-9) |
| --- | --- |

41.

Kaliumvätefluorid (7789-29-9)

| 42. | Ammoniumvätefluorid eller ammoniumbifluorid (1341-49-7) |
| --- | --- |

42.

Ammoniumvätefluorid eller ammoniumbifluorid (1341-49-7)

| 43. | Natriumfluorid (7681-49-4) |
| --- | --- |

43.

Natriumfluorid (7681-49-4)

| 44. | Natriumvätefluorid (1333-83-1) |
| --- | --- |

44.

Natriumvätefluorid (1333-83-1)

| 45. | Natriumcyanid (143-33-9) |
| --- | --- |

45.

Natriumcyanid (143-33-9)

| 46. | Trietanolamin (102-71-6) |
| --- | --- |

46.

Trietanolamin (102-71-6)

| 47. | Fosforpentasulfid (1314-80-3) |
| --- | --- |

47.

Fosforpentasulfid (1314-80-3)

| 48. | Diisopropylamin (108-18-9) |
| --- | --- |

48.

Diisopropylamin (108-18-9)

| 49. | Dietylaminoetanol (100-37-8) |
| --- | --- |

49.

Dietylaminoetanol (100-37-8)

| 50. | Natriumsulfid (1313-82-2) |
| --- | --- |

50.

Natriumsulfid (1313-82-2)

| 51. | Svavelmonoklorid (10025-67-9) |
| --- | --- |

51.

Svavelmonoklorid (10025-67-9)

| 52. | Svaveldiklorid (10545-99-0) |
| --- | --- |

52.

Svaveldiklorid (10545-99-0)

| 53. | Trietanolaminhydroklorid (637-39-8) |
| --- | --- |

53.

Trietanolaminhydroklorid (637-39-8)

| 54. | N,N-Diisopropyl-(Beta)-aminoetylkloridhydroklorid (4261-68-1) |
| --- | --- |

54.

N,N-Diisopropyl-(Beta)-aminoetylkloridhydroklorid (4261-68-1)

| 55. | Metylfosfonsyra (993-13-5) |
| --- | --- |

55.

Metylfosfonsyra (993-13-5)

| 56. | Dietylmetylfosfonat (683-08-9) |
| --- | --- |

56.

Dietylmetylfosfonat (683-08-9)

| 57. | N,N-Dimetylfosforamidodiklorid (677-43-0) |
| --- | --- |

57.

N,N-Dimetylfosforamidodiklorid (677-43-0)

| 58. | Triisopropylfosfit (116-17-6) |
| --- | --- |

58.

Triisopropylfosfit (116-17-6)

| 59. | Etyldietanolamin (139-87-7) |
| --- | --- |

59.

Etyldietanolamin (139-87-7)

| 60. | O,O-Dietylfosfortioat (2465-65-8) |
| --- | --- |

60.

O,O-Dietylfosfortioat (2465-65-8)

| 61. | O,O-Dietylfosforditioat (298-06-6) |
| --- | --- |

61.

O,O-Dietylfosforditioat (298-06-6)

| 62. | Natriumhexafluorosilikat (16893-85-9) |
| --- | --- |

62.

Natriumhexafluorosilikat (16893-85-9)

| 63. | Metyltiofosfonyldiklorid (676-98-2) |
| --- | --- |

63.

Metyltiofosfonyldiklorid (676-98-2)

| : | För export till "stater som inte är parter i konventionen om kemiska vapen" omfattar avsnitt 1C350 inte "kemiska blandningar" som innehåller en eller flera av de kemikalier som anges under avsnitt 1C350.1, 3, 5, 11, 12, 13, 17, 18, 21, 22, 26, 27, 28, 31, 32, 33, 34, 35, 36, 54, 55, 56, 57 och 63 i vilka ingen individuellt specificerad kemikalie utgör mer än 10 viktprocent av blandningen. |
| --- | --- |

:

| : | För export till "stater som är parter i konventionen om kemiska vapen" omfattar avsnitt 1C350 inte "kemiska blandningar" som innehåller en eller flera av de kemikalier som anges under 1C350.1, 3, 5, 11, 12, 13, 17, 18, 21, 22, 26, 27, 28, 31, 32, 33, 34, 35, 36, 54, 55, 56, 57 och 63 i vilka ingen individuellt specificerad kemikalie utgör mer än 30 viktprocent av blandningen. |
| --- | --- |

:

| : | Avsnitt 1C350 omfattar inte "kemiska blandningar" som innehåller en eller flera av de kemikalier som anges under 1C350.2, 6, 7, 8, 9, 10, 14, 15, 16, 19, 20, 24, 25, 30, 37-53 och 58-62 i vilka ingen individuellt specificerad kemikalie utgör mer än 30 viktprocent av blandningen. |
| --- | --- |

:

| : | Avsnitt 1C350 omfattar inte produkter som identifieras som konsumentvaror förpackade för detaljhandelsförsäljning för personligt bruk eller förpackade för enskilt bruk. |
| --- | --- |

:

1C351Humana patogener, zoonoser och "toxiner", enligt följande:

| a) | Virus, såväl naturliga som förstärkta eller modifierade, både som "isolerade levande kulturer" eller som material som innehåller levande material som avsiktligt har blivit inympat eller förorenat med sådana kulturer, enligt följande:






  1. | Andesvirus |
| --- | --- | --- |

a)

Virus, såväl naturliga som förstärkta eller modifierade, både som "isolerade levande kulturer" eller som material som innehåller levande material som avsiktligt har blivit inympat eller förorenat med sådana kulturer, enligt följande:

1.

Andesvirus

| 2. | Chaparevirus |
| --- | --- |

2.

Chaparevirus

| 3. | Chikungunyavirus |
| --- | --- |

3.

Chikungunyavirus

| 4. | Choclovirus |
| --- | --- |

4.

Choclovirus

| 5. | Kongo-Krim hemorragiskt febervirus |
| --- | --- |

5.

Kongo-Krim hemorragiskt febervirus

| 6. | Denguefebervirus |
| --- | --- |

6.

Denguefebervirus

| 7. | Dobrava–Belgrade-virus |
| --- | --- |

7.

Dobrava–Belgrade-virus

| 8. | Östligt hästencefalitvirus |
| --- | --- |

8.

Östligt hästencefalitvirus

| 9. | Ebolavirus |
| --- | --- |

9.

Ebolavirus

| 10. | Guanaritovirus |
| --- | --- |

10.

Guanaritovirus

| 11. | Hantaanvirus |
| --- | --- |

11.

Hantaanvirus

| 12. | Hendravirus (Equint morbillivirus) |
| --- | --- |

12.

Hendravirus (Equint morbillivirus)

| 13. | Japanskt encefalitvirus |
| --- | --- |

13.

Japanskt encefalitvirus

| 14. | Juninvirus |
| --- | --- |

14.

Juninvirus

| 15. | Kyasanur Forest-virus |
| --- | --- |

15.

Kyasanur Forest-virus

| 16. | Laguna Negra-virus |
| --- | --- |

16.

Laguna Negra-virus

| 17. | Lassafebervirus |
| --- | --- |

17.

Lassafebervirus

| 18. | Louping ill-virus |
| --- | --- |

18.

Louping ill-virus

| 19. | Lujovirus |
| --- | --- |

19.

Lujovirus

| 20. | Lymfocitärt koriomengit-virus |
| --- | --- |

20.

Lymfocitärt koriomengit-virus

| 21. | Machupovirus |
| --- | --- |

21.

Machupovirus

| 22. | Marburgvirus |
| --- | --- |

22.

Marburgvirus

| 23. | Monkey pox-virus |
| --- | --- |

23.

Monkey pox-virus

| 24. | Murray Valley-encefalitvirus |
| --- | --- |

24.

Murray Valley-encefalitvirus

| 25. | Nipahvirus |
| --- | --- |

25.

Nipahvirus

| 26. | Omsk hemorragiskt febervirus |
| --- | --- |

26.

Omsk hemorragiskt febervirus

| 27. | Oropouchevirus |
| --- | --- |

27.

Oropouchevirus

| 28. | Powassanvirus |
| --- | --- |

28.

Powassanvirus

| 29. | Rift Valley febervirus |
| --- | --- |

29.

Rift Valley febervirus

| 30. | Rociovirus |
| --- | --- |

30.

Rociovirus

| 31. | Sabiavirus |
| --- | --- |

31.

Sabiavirus

| 32. | Seoulvirus |
| --- | --- |

32.

Seoulvirus

| 33. | Sin nombre-virus |
| --- | --- |

33.

Sin nombre-virus

| 34. | St Louis-encefalitvirus |
| --- | --- |

34.

St Louis-encefalitvirus

| 35. | Fästingburet encefalitvirus (TBE) (Ryskt sommar-vår-encefalitvirus) |
| --- | --- |

35.

Fästingburet encefalitvirus (TBE) (Ryskt sommar-vår-encefalitvirus)

| 36. | Variolavirus |
| --- | --- |

36.

Variolavirus

| 37. | Venezuelanskt hästencefalit-virus |
| --- | --- |

37.

Venezuelanskt hästencefalit-virus

| 38. | Västligt hästencefalit-virus |
| --- | --- |

38.

Västligt hästencefalit-virus

| 39. | Gula febern-virus |
| --- | --- |

39.

Gula febern-virus

| b) | Rikettsier, såväl naturliga som förstärkta eller modifierade, både som "isolerade levande kulturer" eller som material som innehåller levande material som avsiktligt har blivit inympat eller förorenat med sådana kulturer, enligt följande:






  1. | Coxiella burnetii |
| --- | --- | --- |

b)

Rikettsier, såväl naturliga som förstärkta eller modifierade, både som "isolerade levande kulturer" eller som material som innehåller levande material som avsiktligt har blivit inympat eller förorenat med sådana kulturer, enligt följande:

1.

Coxiella burnetii

| 2. | Bartonella quintana (Rochalimaea quintana, Rickettsia quintana) |
| --- | --- |

2.

Bartonella quintana (Rochalimaea quintana, Rickettsia quintana)

| 3. | Rickettsia prowasecki |
| --- | --- |

3.

Rickettsia prowasecki

| 4. | Rickettsia rickettsii |
| --- | --- |

4.

Rickettsia rickettsii

| c) | Bakterier, såväl naturliga som förstärkta eller modifierade, både som "isolerade levande kulturer" eller som material som innehåller levande material som avsiktligt har blivit inympat eller förorenat med sådana kulturer, enligt följande:






  1. | Bacillus anthracis |
| --- | --- | --- |

c)

Bakterier, såväl naturliga som förstärkta eller modifierade, både som "isolerade levande kulturer" eller som material som innehåller levande material som avsiktligt har blivit inympat eller förorenat med sådana kulturer, enligt följande:

1.

Bacillus anthracis

| 2. | Brucella abortus |
| --- | --- |

2.

Brucella abortus

| 3. | Brucella melitensis |
| --- | --- |

3.

Brucella melitensis

| 4. | Brucella suis |
| --- | --- |

4.

Brucella suis

| 5. | Chlamydia psittaci |
| --- | --- |

5.

Chlamydia psittaci

| 6. | Clostridium botulinum |
| --- | --- |

6.

Clostridium botulinum

| 7. | Francisella tularensis |
| --- | --- |

7.

Francisella tularensis

| 8. | Burkholderia mallei (Pseudomonas mallei) |
| --- | --- |

8.

Burkholderia mallei (Pseudomonas mallei)

| 9. | Burkholderia pseudomallei (Pseudomonas pseudomallei) |
| --- | --- |

9.

Burkholderia pseudomallei (Pseudomonas pseudomallei)

| 10. | Salmonella typhi |
| --- | --- |

10.

Salmonella typhi

| 11. | Shigella dysenteriae |
| --- | --- |

11.

Shigella dysenteriae

| 12. | Vibrio cholerae |
| --- | --- |

12.

Vibrio cholerae

| 13. | Yersinia pestis |
| --- | --- |

13.

Yersinia pestis

| 14. | Toxinproducerande typer av Clostridium perfringens epsilon |
| --- | --- |

14.

Toxinproducerande typer av Clostridium perfringens epsilon

| 15. | Enterohemorragisk Escherichia coli, serotyp O157 och andra verotoxinproducerande serotyper |
| --- | --- |

15.

Enterohemorragisk Escherichia coli, serotyp O157 och andra verotoxinproducerande serotyper

| d) | "Toxiner" och "toxinkomponenter", enligt följande:






  1. | Botulinus-toxiner |
| --- | --- | --- |

d)

"Toxiner" och "toxinkomponenter", enligt följande:

1.

Botulinus-toxiner

| 2. | Clostridium perfringens-toxiner |
| --- | --- |

2.

Clostridium perfringens-toxiner

| 3. | Conotoxin |
| --- | --- |

3.

Conotoxin

| 4. | Ricin |
| --- | --- |

4.

Ricin

| 5. | Saxitoxin |
| --- | --- |

5.

Saxitoxin

| 6. | Shiga-toxin |
| --- | --- |

6.

Shiga-toxin

| 7. | Staphylococcus aureus-toxiner |
| --- | --- |

7.

Staphylococcus aureus-toxiner

| 8. | Tetrodotoxin |
| --- | --- |

8.

Tetrodotoxin

| 9. | Verotoxin och shigaliknande ribosominaktiverande proteiner. |
| --- | --- |

9.

Verotoxin och shigaliknande ribosominaktiverande proteiner.

| 10. | Mikrocystin (Cyanginosin) |
| --- | --- |

10.

Mikrocystin (Cyanginosin)

| 11. | Aflatoxiner |
| --- | --- |

11.

Aflatoxiner

| 12. | Abrin |
| --- | --- |

12.

Abrin

| 13. | Choleratoxin |
| --- | --- |

13.

Choleratoxin

| 14. | Diacetoxyscirpenoltoxin |
| --- | --- |

14.

Diacetoxyscirpenoltoxin

| 15. | T-2-toxin |
| --- | --- |

15.

T-2-toxin

| 16. | HT-2-toxin |
| --- | --- |

16.

HT-2-toxin

| 17. | Modeccin |
| --- | --- |

17.

Modeccin

| 18. | Volkensin |
| --- | --- |

18.

Volkensin

| 19. | Viscum album Lectin 1 (Viscumin) |
| --- | --- |

19.

Viscum album Lectin 1 (Viscumin)

| : | Avsnitt 1C351.d omfattar inte botulinustoxiner eller conotoxiner i form av produkter som uppfyller samtliga följande kriterier:







  1. | Är farmaceutiska formuleringar konstruerade för behandling av sjukdomar hos människor. |
| --- | --- | --- |

:

1.

Är farmaceutiska formuleringar konstruerade för behandling av sjukdomar hos människor.

| 2. | Är förpackade för distribution som läkemedel. |
| --- | --- |

2.

Är förpackade för distribution som läkemedel.

| 3. | Har godkänts av en statlig myndighet för att släppas ut på marknaden som läkemedel. |
| --- | --- |

3.

Har godkänts av en statlig myndighet för att släppas ut på marknaden som läkemedel.

| e) | Svampbildningar, oavsett om de är naturliga, förbättrade eller modifierade, antingen som "isolerade levande kulturer" eller som material som innehåller levande material som avsiktligt inympats eller kontaminerats med sådana kulturer, enligt följande:






  1. | Coccidioides immitis. |
| --- | --- | --- |

e)

Svampbildningar, oavsett om de är naturliga, förbättrade eller modifierade, antingen som "isolerade levande kulturer" eller som material som innehåller levande material som avsiktligt inympats eller kontaminerats med sådana kulturer, enligt följande:

1.

Coccidioides immitis.

| 2. | Coccidioides posadsii. |
| --- | --- |

2.

Coccidioides posadsii.

| : | Avsnitt 1C351 omfattar inte "vaccin" eller "immuntoxiner". |
| --- | --- |

:

1C352Animala patogener enligt följande:

| a) | Virus, såväl naturliga som förstärkta eller modifierade, både som "isolerade levande kulturer" eller som material som innehåller levande material som avsiktligt har blivit inympat eller förorenat med sådana kulturer, enligt följande:






  1. | Afrikansk svinpest-virus |
| --- | --- | --- |

a)

Virus, såväl naturliga som förstärkta eller modifierade, både som "isolerade levande kulturer" eller som material som innehåller levande material som avsiktligt har blivit inympat eller förorenat med sådana kulturer, enligt följande:

1.

Afrikansk svinpest-virus

| 2. | Aviär influensa-virus som är






  a) | okarakteriserade, eller |
| --- | --- | --- |

2.

Aviär influensa-virus som är

a)

okarakteriserade, eller

| b) | definierade som högpatogena i bilaga I.2 till rådets direktiv 2005/94/EG av den 20 december 2005 om gemenskapsåtgärder för bekämpning av aviär influensa (EUT L 10, 14.1.2006, s. 16), enligt följande:






  1. | Typ A virus med ett IVPI (intravenöst patogenitetsindex) på 6 veckor gamla kycklingar vilket är större än 1,2, eller |
| --- | --- | --- |

b)

definierade som högpatogena i bilaga I.2 till rådets direktiv 2005/94/EG av den 20 december 2005 om gemenskapsåtgärder för bekämpning av aviär influensa (EUT L 10, 14.1.2006, s. 16), enligt följande:

1.

Typ A virus med ett IVPI (intravenöst patogenitetsindex) på 6 veckor gamla kycklingar vilket är större än 1,2, eller

| 2. | typ A virus av subtyp H5 eller H7 med en genomsekvens som kodar för flerbasiska aminosyror vid hemagglutininmolekylens klyvningsställe, motsvarande den genomsekvens som har påvisats för andra HPAI-virus och som tyder på att hemagglutininmolekylen kan klyvas med hjälp av allmänt förekommande proteaser i värdcellen. |
| --- | --- |

2.

typ A virus av subtyp H5 eller H7 med en genomsekvens som kodar för flerbasiska aminosyror vid hemagglutininmolekylens klyvningsställe, motsvarande den genomsekvens som har påvisats för andra HPAI-virus och som tyder på att hemagglutininmolekylen kan klyvas med hjälp av allmänt förekommande proteaser i värdcellen.

| 3. | Bluetongue virus |
| --- | --- |

3.

Bluetongue virus

| 4. | Mul- och klövsjukevirus |
| --- | --- |

4.

Mul- och klövsjukevirus

| 5. | Getkoppsvirus |
| --- | --- |

5.

Getkoppsvirus

| 6. | Svinherpesvirus (Aujeszky's disease) |
| --- | --- |

6.

Svinherpesvirus (Aujeszky's disease)

| 7. | Klassiskt svinpestvirus |
| --- | --- |

7.

Klassiskt svinpestvirus

| 8. | Rabiesvirus |
| --- | --- |

8.

Rabiesvirus

| 9. | Newcastlesjukevirus |
| --- | --- |

9.

Newcastlesjukevirus

| 10. | Peste des petits ruminants-virus |
| --- | --- |

10.

Peste des petits ruminants-virus

| 11. | Svinenterovirus typ 9 (swine vesicular disease virus) |
| --- | --- |

11.

Svinenterovirus typ 9 (swine vesicular disease virus)

| 12. | Boskapspestvirus |
| --- | --- |

12.

Boskapspestvirus

| 13. | Fårkoppsvirus |
| --- | --- |

13.

Fårkoppsvirus

| 14. | Teschensjukevirus |
| --- | --- |

14.

Teschensjukevirus

| 15. | Vesikulär stomatitvirus |
| --- | --- |

15.

Vesikulär stomatitvirus

| 16. | Lumpy skin desease-virus |
| --- | --- |

16.

Lumpy skin desease-virus

| 17. | Afrikanskt hästpestvirus |
| --- | --- |

17.

Afrikanskt hästpestvirus

| b) | Mycoplasma, såväl naturliga som förstärkta eller modifierade, både som "isolerade levande kulturer" eller som material som innehåller levande material som avsiktligt har blivit inympat eller förorenat med sådana kulturer, enligt följande:






  1. | Mycoplasma mycoides underart mycoides SC (små kolonier). |
| --- | --- | --- |

b)

Mycoplasma, såväl naturliga som förstärkta eller modifierade, både som "isolerade levande kulturer" eller som material som innehåller levande material som avsiktligt har blivit inympat eller förorenat med sådana kulturer, enligt följande:

1.

Mycoplasma mycoides underart mycoides SC (små kolonier).

| 2. | Mycoplasma capricolum underart capripneumoniae. |
| --- | --- |

2.

Mycoplasma capricolum underart capripneumoniae.

| : | Avsnitt 1C352 omfattar inte "vacciner". |
| --- | --- |

:

1C353Genetiska beståndsdelar och genetiskt modifierade organismer enligt följande:

| a) | Genetiskt modifierade organismer eller genetiska beståndsdelar som innehåller nukleinsyresekvenser förknippade med patogenitet som har sitt ursprung i organismer som omfattas av avsnitt 1C351.a, 1C351.b, 1C351.c, 1C351.e, 1C352 eller 1C354. |
| --- | --- |

a)

Genetiskt modifierade organismer eller genetiska beståndsdelar som innehåller nukleinsyresekvenser förknippade med patogenitet som har sitt ursprung i organismer som omfattas av avsnitt 1C351.a, 1C351.b, 1C351.c, 1C351.e, 1C352 eller 1C354.

| b) | Genetiskt modifierade organismer eller genetiska beståndsdelar som innehåller nukleinsyresekvenser kodade för någon av de "toxiner" som omfattas av avsnitt 1C351.d eller "toxinkomponenter" i dessa. |
| --- | --- |

b)

Genetiskt modifierade organismer eller genetiska beståndsdelar som innehåller nukleinsyresekvenser kodade för någon av de "toxiner" som omfattas av avsnitt 1C351.d eller "toxinkomponenter" i dessa.

:

| 1. | Genetiska beståndsdelar omfattar bland annat kromosomer, genom, plasmider, transposoner och vektorer, vare sig de är genetiskt modifierade eller icke modifierade. |
| --- | --- |

1.

Genetiska beståndsdelar omfattar bland annat kromosomer, genom, plasmider, transposoner och vektorer, vare sig de är genetiskt modifierade eller icke modifierade.

| 2. | Med nukleinsyresekvenser förknippade med patogenitet som har sitt ursprung i någon av de mikroorganismer som omfattas av avsnitt 1C351.a, 1C351.b, 1C351.c, 1C351.e, 1C352 eller IC354 avses en sekvens som är specifik för den angivna mikroorgansimen och som








  a) | i sig själv eller genom dess transkriberade eller translaterade produkter utgör en betydande risk för människors, djurs eller växters hälsa, eller |
| --- | --- | --- |

2.

Med nukleinsyresekvenser förknippade med patogenitet som har sitt ursprung i någon av de mikroorganismer som omfattas av avsnitt 1C351.a, 1C351.b, 1C351.c, 1C351.e, 1C352 eller IC354 avses en sekvens som är specifik för den angivna mikroorgansimen och som

a)

i sig själv eller genom dess transkriberade eller translaterade produkter utgör en betydande risk för människors, djurs eller växters hälsa, eller

| b) | är känd för att öka förmågan hos en angiven mikroorganism, eller någon annan organism i vilken den kan införas eller på annat sätt integreras, att orsaka allvarlig skada för människors, djurs eller växters hälsa. |
| --- | --- |

b)

är känd för att öka förmågan hos en angiven mikroorganism, eller någon annan organism i vilken den kan införas eller på annat sätt integreras, att orsaka allvarlig skada för människors, djurs eller växters hälsa.

| : | Avsnitt 1C353 gäller inte nukleinsyresekvenser förknippade med patogenitet som har sitt ursprung i Enterohemorragisk Escherichia coli, serotyp O157 och andra verotoxinproducerande stammar, andra än de som är kodade för verotoxiner eller deras komponenter. |
| --- | --- |

:

1C354Växtpatogener, enligt följande:

| a) | Virus, naturliga, förstärkta eller modifierade, antingen i form av "isolerade levande kulturer" eller som material som innehåller levande material, och som avsiktligt har blivit inympade eller förorenade med sådana kulturer, enligt följande:






  1. | Potato andean latent tymovirus. |
| --- | --- | --- |

a)

Virus, naturliga, förstärkta eller modifierade, antingen i form av "isolerade levande kulturer" eller som material som innehåller levande material, och som avsiktligt har blivit inympade eller förorenade med sådana kulturer, enligt följande:

1.

Potato andean latent tymovirus.

| 2. | Potato spindle tuber viroid. |
| --- | --- |

2.

Potato spindle tuber viroid.

| b) | Bakterier, naturliga, förstärkta eller modifierade, antingen i form av "isolerade levande kulturer" eller som material som avsiktligt har blivit inympade eller förorenade med sådana kulturer, enligt följande:






  1. | Xanthomonas albilineans. |
| --- | --- | --- |

b)

Bakterier, naturliga, förstärkta eller modifierade, antingen i form av "isolerade levande kulturer" eller som material som avsiktligt har blivit inympade eller förorenade med sådana kulturer, enligt följande:

1.

Xanthomonas albilineans.

| 2. | Xanthomonas campestris pv. citri, inklusive stammar som refereras till som Xanthomonas campestris pv. citri typ A, B, C, D, E eller på annat sätt klassificerade som Xanthomonas citri, Xanthomonas campestris pv. aurantifolia eller Xanthomonas campestris pv. citrumelo. |
| --- | --- |

2.

Xanthomonas campestris pv. citri, inklusive stammar som refereras till som Xanthomonas campestris pv. citri typ A, B, C, D, E eller på annat sätt klassificerade som Xanthomonas citri, Xanthomonas campestris pv. aurantifolia eller Xanthomonas campestris pv. citrumelo.

| 3. | Xanthomonas oryzae pv. Oryzae (Pseudomonas campestris pv. Oryzae). |
| --- | --- |

3.

Xanthomonas oryzae pv. Oryzae (Pseudomonas campestris pv. Oryzae).

| 4. | Clavibacter michiganensis subsp. Sepedonicus (Corynebacterium michiganensis subsp. Sepedonicum eller Corynebacterium Sepedonicum). |
| --- | --- |

4.

Clavibacter michiganensis subsp. Sepedonicus (Corynebacterium michiganensis subsp. Sepedonicum eller Corynebacterium Sepedonicum).

| 5. | Ralstonia solanacearum raserna 2 och 3 (Pseudomonas solanacearum raserna 2 och 3 eller Burkholderia solanacearum raserna 2 och 3). |
| --- | --- |

5.

Ralstonia solanacearum raserna 2 och 3 (Pseudomonas solanacearum raserna 2 och 3 eller Burkholderia solanacearum raserna 2 och 3).

| c) | Svampar, naturliga, förstärkta eller modifierade, antingen i form av "isolerade levande kulturer" eller som material som avsiktligt har blivit inympade eller förorenade med sådana kulturer, enligt följande:






  1. | Colletotrichum coffeanum var. virulans (Colletotrichum kahawae). |
| --- | --- | --- |

c)

Svampar, naturliga, förstärkta eller modifierade, antingen i form av "isolerade levande kulturer" eller som material som avsiktligt har blivit inympade eller förorenade med sådana kulturer, enligt följande:

1.

Colletotrichum coffeanum var. virulans (Colletotrichum kahawae).

| 2. | Cochliobolus miyabeanus (Helminthosporium oryzae). |
| --- | --- |

2.

Cochliobolus miyabeanus (Helminthosporium oryzae).

| 3. | Microcyclus ulei (syn. Dothidella ulei). |
| --- | --- |

3.

Microcyclus ulei (syn. Dothidella ulei).

| 4. | Puccinia graminis (syn. Puccinia graminis f. sp. tritici). |
| --- | --- |

4.

Puccinia graminis (syn. Puccinia graminis f. sp. tritici).

| 5. | Puccinia striiformis (syn. Puccinia glumarum). |
| --- | --- |

5.

Puccinia striiformis (syn. Puccinia glumarum).

| 6. | Magnaporthe grisea (Pyricularia grisea/Pyricularia oryzae). |
| --- | --- |

6.

Magnaporthe grisea (Pyricularia grisea/Pyricularia oryzae).

1C450Giftiga kemikalier och prekursorer för giftiga kemikalier, enligt följande, och "kemiska blandningar" som innehåller en eller flera av dessa:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITTEN 1C350, 1C351.d OCH KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | Giftiga kemikalier enligt följande:






  1. | Amiton: O,O-dietyl S-[2-(dietylamino)etyl] fosforotiolat (78-53-5) och motsvarande alkylerade eller protonerade salter. |
| --- | --- | --- |

a)

Giftiga kemikalier enligt följande:

1.

Amiton: O,O-dietyl S-[2-(dietylamino)etyl] fosforotiolat (78-53-5) och motsvarande alkylerade eller protonerade salter.

| 2. | PFIB: 1,1,3,3,3-pentafluor-2-(trifluormetyl)-1-propen (382-21-8). |
| --- | --- |

2.

PFIB: 1,1,3,3,3-pentafluor-2-(trifluormetyl)-1-propen (382-21-8).

| 3. | SE KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING FÖR BZ: 3-kinuklidinylbensilat (6581-06-2). |
| --- | --- |

3.

SE KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING FÖR BZ: 3-kinuklidinylbensilat (6581-06-2).

| 4. | Fosgen: karbonyldiklorid (75-44-5). |
| --- | --- |

4.

Fosgen: karbonyldiklorid (75-44-5).

| 5. | Cyanklorid (506-77-4). |
| --- | --- |

5.

Cyanklorid (506-77-4).

| 6. | Vätecyanid (74-90-8). |
| --- | --- |

6.

Vätecyanid (74-90-8).

| 7. | Klorpikrin: triklornitrometan (76-06-2). |
| --- | --- |

7.

Klorpikrin: triklornitrometan (76-06-2).

| : | För export till "stater som inte är parter i konventionen om kemiska vapen" omfattar avsnitt 1C450 inte "kemiska blandningar" som innehåller en eller flera av de kemikalier som anges under avsnitt 1C450.a.1 och a.2 i vilka ingen individuellt specificerad kemikalie utgör mer än 1 viktprocent av blandningen. |
| --- | --- |

:

| : | För export till "stater som är parter i konventionen om kemiska vapen" omfattar avsnitt 1C450 inte "kemiska blandningar" som innehåller en eller flera av de kemikalier som anges under avsnitt 1C450.a.1 och a.2 i vilka ingen individuellt specificerad kemikalie utgör mer än 30 viktprocent av blandningen. |
| --- | --- |

:

| : | Avsnitt 1C450 omfattar inte "kemiska blandningar" som innehåller en eller flera av de kemikalier som anges under avsnitt 1C450.a.4, a.5, a.6 och a.7 i vilka ingen individuellt specificerad kemikalie utgör mer än 30 viktprocent av blandningen. |
| --- | --- |

:

| : | Avsnitt 1C450 omfattar inte produkter som identifieras som konsumentvaror förpackade för detaljhandelsförsäljning för personligt bruk eller förpackade för enskilt bruk. |
| --- | --- |

:

| b) | Giftiga kemiska prekursorer enligt följande:






  1. | Kemikalier, andra än de som anges i kontrollbestämmelserna för varor med militär användning eller i avsnitt 1C350, som innehåller en fosforatom till vilken är bunden en metyl-, etyl- eller propyl-(normal eller iso) grupp men inga ytterligare kolatomer.







  : | Avsnitt 1C450.b.1 omfattar inte fonofos: O-etyl-S-fenyletylfosfonotiolotionat, (944-22-9). |
| --- | --- | --- | --- |

b)

Giftiga kemiska prekursorer enligt följande:

1.

Kemikalier, andra än de som anges i kontrollbestämmelserna för varor med militär användning eller i avsnitt 1C350, som innehåller en fosforatom till vilken är bunden en metyl-, etyl- eller propyl-(normal eller iso) grupp men inga ytterligare kolatomer.

:

| 2. | N,N-dialkyl [metyl, etyl eller propyl (normal eller iso)] fosforamidodihalider, andra än N,N-dimetylfosforamidodiklorid.

  :


  Se avsnitt 1C350.57 för N,N-dimetylfosforamidodiklorid. |
| --- | --- |

2.

N,N-dialkyl [metyl, etyl eller propyl (normal eller iso)] fosforamidodihalider, andra än N,N-dimetylfosforamidodiklorid.

:

Se avsnitt 1C350.57 för N,N-dimetylfosforamidodiklorid.

| 3. | Dialkyl [metyl, etyl eller propyl (normal eller iso)] N,N-dialkyl [metyl, etyl eller propyl (normal eller iso)] fosforamidater, andra än dietyl-N,N-dimetylfosforamidat, som anges i avsnitt 1C350. |
| --- | --- |

3.

Dialkyl [metyl, etyl eller propyl (normal eller iso)] N,N-dialkyl [metyl, etyl eller propyl (normal eller iso)] fosforamidater, andra än dietyl-N,N-dimetylfosforamidat, som anges i avsnitt 1C350.

| 4. | N,N-dialkyl [metyl, etyl eller propyl (normal eller iso)] aminoetyl-2-klorider och motsvarande protonerade salter, andra än N,N-diisopropyl-(beta)-aminoetylklorid eller N,N-diisopropyl-(beta)-aminoetylkloridhydroklorid, som anges i avsnitt 1C350. |
| --- | --- |

4.

N,N-dialkyl [metyl, etyl eller propyl (normal eller iso)] aminoetyl-2-klorider och motsvarande protonerade salter, andra än N,N-diisopropyl-(beta)-aminoetylklorid eller N,N-diisopropyl-(beta)-aminoetylkloridhydroklorid, som anges i avsnitt 1C350.

| 5. | N,N-dialkyl [metyl, etyl eller propyl (normal eller iso)] aminoetan-2-oler och motsvarande protonerade salter, andra än N,N-diisopropyl-(beta)-aminoetanol (96-80-0) och N,N-dietylaminoetanol (100-37-8), som anges i avsnitt 1C350.







  : | Avsnitt 1C450.b.5 omfattar inte följande:







  a) | N,N-dimetylaminoetanol (108-01-0) och motsvarande protonerade salter. |
| --- | --- | --- | --- |

5.

N,N-dialkyl [metyl, etyl eller propyl (normal eller iso)] aminoetan-2-oler och motsvarande protonerade salter, andra än N,N-diisopropyl-(beta)-aminoetanol (96-80-0) och N,N-dietylaminoetanol (100-37-8), som anges i avsnitt 1C350.

:

a)

N,N-dimetylaminoetanol (108-01-0) och motsvarande protonerade salter.

| b) | Protonerade salter av N,N-dietylaminoetanol (100-37-8). |
| --- | --- |

b)

Protonerade salter av N,N-dietylaminoetanol (100-37-8).

| 6. | N,N-dialkyl [metyl, etyl eller propyl (normal eller iso)] aminoetan-2-tioler och motsvarande protonerade salter, andra än N,N-diisopropyl-(beta)-aminoetantiol, som anges i avsnitt 1C350. |
| --- | --- |

6.

N,N-dialkyl [metyl, etyl eller propyl (normal eller iso)] aminoetan-2-tioler och motsvarande protonerade salter, andra än N,N-diisopropyl-(beta)-aminoetantiol, som anges i avsnitt 1C350.

| 7. | Se avsnitt 1C350 när det gäller etyldietanolamin (139-87-7). |
| --- | --- |

7.

Se avsnitt 1C350 när det gäller etyldietanolamin (139-87-7).

| 8. | Metyldietanolamin (105-59-9). |
| --- | --- |

8.

Metyldietanolamin (105-59-9).

| : | För export till "stater som inte är parter i konventionen om kemiska vapen" omfattar avsnitt 1C450 inte "kemiska blandningar" som innehåller en eller flera av de kemikalier som anges under avsnitt 1C450.b.1, b.2, b.3, b.4, b.5 och b.6 i vilka ingen individuellt specificerad kemikalie utgör mer än 10 viktprocent av blandningen. |
| --- | --- |

:

| : | För export till "stater som är parter i konventionen om kemiska vapen" omfattar avsnitt 1C450 inte "kemiska blandningar" som innehåller en eller flera av de kemikalier som anges under avsnitt 1C450.b.1, b.2, b.3, b.4, b.5 och b.6 i vilka ingen individuellt specificerad kemikalie utgör mer än 30 viktprocent av blandningen. |
| --- | --- |

:

| : | 1C450 omfattar inte "kemiska blandningar" som innehåller en eller flera av de kemikalier som anges under 1C450.b.8 i vilka ingen individuellt specificerad kemikalie utgör mer än 30 viktprocent av blandningen. |
| --- | --- |

:

| : | Avsnitt 1C450 omfattar inte produkter som identifieras som konsumentvaror förpackade för detaljhandelsförsäljning för personligt bruk eller förpackade för enskilt bruk. |
| --- | --- |

:

Avsnitt 1C450 omfattar inte produkter som identifieras som konsumentvaror förpackade för detaljhandelsförsäljning för personligt bruk eller förpackade för enskilt bruk.

1DProgramvara

1D001"Programvara" som är särskilt utformad eller modifierad för "utveckling", "produktion" eller "användning" av utrustning som omfattas av avsnitten 1B001–1B003.

1D002"Programvara" för "utveckling" av organiska "matriser", metall-"matriser", kol-"matris"-laminat eller "kompositer".

1D003"Programvara" som är särskilt utformad eller modifierad för att utrustning ska kunna utföra de funktioner som utförs av utrustning som anges i avsnitt 1A004.c eller 1A004.d.

1D101"Programvara" som är särskilt utformad eller modifierad för "användning" av produkter som anges i avsnitt 1B101, 1B102, 1B115, 1B117, 1B118 eller 1B119.

1D103"Programvara" som är speciellt utformad för analys av signaturanpassning avseende t.ex. radarreflektioner, ultravioletta/infraröda signaturer och akustiska signaturer.

1D201"Programvara" som är särskilt utformad för "användning" av produkter som omfattas av avsnitt 1B201.

1ETeknik

1E001"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för "utveckling" eller "produktion" av utrustning eller material som omfattas av avsnitt 1A001.b, 1A001.c, 1A002–1A005, 1A006.b, 1A007, 1B eller 1C.

1E002Annan "teknik" enligt följande:

| a) | "Teknik" för "utveckling" eller "produktion" av polybensotiazoler eller polybensooxazoler. |
| --- | --- |

a)

"Teknik" för "utveckling" eller "produktion" av polybensotiazoler eller polybensooxazoler.

| b) | "Teknik" för "utveckling" eller "produktion" av fluorelastomerföreningar som innehåller åtminstone en vinyletermonomer. |
| --- | --- |

b)

"Teknik" för "utveckling" eller "produktion" av fluorelastomerföreningar som innehåller åtminstone en vinyletermonomer.

| c) | "Teknik" för konstruktion eller "produktion" av följande basmaterial eller keramiska material som inte är "kompositer":






  1. | Basmaterial som har alla följande egenskaper:






  a) | Någon av följande sammansättningar






  1. | Enkla eller komplexa oxider av zirkonium och komplexa oxider av kisel eller aluminium, |
| --- | --- | --- | --- | --- |

c)

"Teknik" för konstruktion eller "produktion" av följande basmaterial eller keramiska material som inte är "kompositer":

1.

Basmaterial som har alla följande egenskaper:

a)

Någon av följande sammansättningar

1.

Enkla eller komplexa oxider av zirkonium och komplexa oxider av kisel eller aluminium,

| 2. | enkla bornitrider (kubisk kristallinsk form), |
| --- | --- |

2.

enkla bornitrider (kubisk kristallinsk form),

| 3. | enkla eller komplexa kisel- eller borkarbider, eller |
| --- | --- |

3.

enkla eller komplexa kisel- eller borkarbider, eller

| 4. | enkla eller komplexa kiselnitrider. |
| --- | --- |

4.

enkla eller komplexa kiselnitrider.

| b) | Någon av följande totala metalliska föroreningar (exklusive avsiktliga tillsatser):






  1. | Mindre än 1 000 ppm för enkla oxider eller karbider, eller |
| --- | --- | --- |

b)

Någon av följande totala metalliska föroreningar (exklusive avsiktliga tillsatser):

1.

Mindre än 1 000 ppm för enkla oxider eller karbider, eller

| 2. | mindre än 5 000 ppm för komplexa föreningar eller enkla nitrider. |
| --- | --- |

2.

mindre än 5 000 ppm för komplexa föreningar eller enkla nitrider.

| c) | Som är något av följande:






  1. | Zirkonium (CAS 1314-23-4) där den genomsnittliga partikelstorleken är högst 1 μm och högst 10 % av partiklarna är större än 5 μm. |
| --- | --- | --- |

c)

Som är något av följande:

1.

Zirkonium (CAS 1314-23-4) där den genomsnittliga partikelstorleken är högst 1 μm och högst 10 % av partiklarna är större än 5 μm.

| 2. | Andra basmaterial där den genomsnittliga partikelstorleken är högst 5 μm och högst 10 % av partiklarna är större än 10 μm. |
| --- | --- |

2.

Andra basmaterial där den genomsnittliga partikelstorleken är högst 5 μm och högst 10 % av partiklarna är större än 10 μm.

| 3. | Har samtliga följande egenskaper:






  a) | Partiklar med ett förhållande mellan längd och tjocklek som är större än 5, |
| --- | --- | --- |

3.

Har samtliga följande egenskaper:

a)

Partiklar med ett förhållande mellan längd och tjocklek som är större än 5,

| b) | trådar med ett förhållande mellan längd och diameter som är större än 10 för diametrar som är mindre än 2 μm, och |
| --- | --- |

b)

trådar med ett förhållande mellan längd och diameter som är större än 10 för diametrar som är mindre än 2 μm, och

| c) | kontinuerliga eller avskurna fibrer som har en diameter som är mindre än 10 μm. |
| --- | --- |

c)

kontinuerliga eller avskurna fibrer som har en diameter som är mindre än 10 μm.

| 2. | Keramiska material som inte är "kompositer" sammansatta av material som anges i avsnitt 1E002.c.1.







  : | Avsnitt 1E002.c.2. omfattar inte "teknik" för att konstruera eller producera slipmedel. |
| --- | --- | --- |

2.

Keramiska material som inte är "kompositer" sammansatta av material som anges i avsnitt 1E002.c.1.

:

| d) | "Teknik" för "produktion" av fibrer gjorda av aromatiska polyamider. |
| --- | --- |

d)

"Teknik" för "produktion" av fibrer gjorda av aromatiska polyamider.

| e) | "Teknik" för installation, underhåll eller reparation av material som omfattas av avsnitt 1C001. |
| --- | --- |

e)

"Teknik" för installation, underhåll eller reparation av material som omfattas av avsnitt 1C001.

| f) | "Teknik" för reparation av "komposit" strukturer, laminat eller material som omfattas av avsnitt 1A002, 1C007.c eller 1C007.d.







  : | Avsnitt 1E002.f omfattar inte "teknik" för reparation av "civila luftfartyg" med hjälp av material som innehåller kol-"fibrer eller fiberliknande material" samt epoxiharts, och som beskrivs i flygplantillverkarens manualer. |
| --- | --- | --- |

f)

"Teknik" för reparation av "komposit" strukturer, laminat eller material som omfattas av avsnitt 1A002, 1C007.c eller 1C007.d.

:

| g) | ‧Bibliotek (parametriserade tekniska databaser)‧ som är särskilt utformade eller modifierade för att utrustning ska kunna utföra de funktioner som utförs av utrustning som omfattas av avsnitt 1A004.c eller 1A004.d.

  :


  I avsnitt 1E002.g avses med ‧bibliotek (parametriserad teknisk databas)‧ en samling teknisk information med vars hjälp den berörda utrustningens eller de berörda systemens prestanda kan förbättras. |
| --- | --- |

g)

‧Bibliotek (parametriserade tekniska databaser)‧ som är särskilt utformade eller modifierade för att utrustning ska kunna utföra de funktioner som utförs av utrustning som omfattas av avsnitt 1A004.c eller 1A004.d.

:

I avsnitt 1E002.g avses med ‧bibliotek (parametriserad teknisk databas)‧ en samling teknisk information med vars hjälp den berörda utrustningens eller de berörda systemens prestanda kan förbättras.

1E101"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för "användning" av varor som omfattas av avsnitt 1A102, 1B001, 1B101, 1B102, 1B115-1B119, 1C001, 1C101, 1C107, 1C111–1C118, 1D101 eller 1D103.

1E102"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för "utveckling" av "programvara" som omfattas av avsnitt 1D001, 1D101 eller 1D103.

1E103"Teknik" för reglering av temperatur, tryck eller atmosfär i autoklaver eller hydroklaver när dessa används för "produktion" av "kompositer" eller delvis bearbetade "kompositer".

1E104"Teknik" för "produktion" av pyrolytiskt erhållet material på en form, dorn eller annat underlag från prekursorgaser som bryts ner inom temperaturintervallet 1 573 K (1 300 °C) till 3 173 K (2 900 °C) och ett tryck mellan 130 Pa och 20 kPa.

| : | Avsnitt 1E104 inbegriper "teknik" för bildandet av prekursorgaser, bestämning av flödeshastigheter och processkontrollscheman och parametrar. |
| --- | --- |

:

1E201"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för "användning" av varor som omfattas av avsnitt 1A002, 1A007, 1A202, 1A225-1A227, 1B201, 1B225-1B233, 1C002.b.3 eller b.4, 1C010.b, 1C202, 1C210, 1C216, 1C225-1C240 eller 1D201.

1E202"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för "utveckling" eller "produktion" av varor som omfattas av avsnitt 1A007, 1A202 eller 1A225-1A227.

1E203"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för "utveckling" av "programvara" som omfattas av avsnitt 1D201.

KATEGORI 2

MATERIALBEARBETNING

2ASystem, utrustning och komponenter

| : | För tystgående lager, se kontrollbestämmelserna för varor med militär användning. |
| --- | --- |

:

2A001Lager med låg friktion och lagersystem, enligt följande, samt komponenter härtill:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 2A101 |
| --- | --- |

ANM.:

| : | Avsnitt 2A001 omfattar inte kulor med toleranser som har specificerats av tillverkaren i enlighet med ISO 3290 som grad 5 eller sämre. |
| --- | --- |

:

| a) | Kullager och massiva rullager, alla med toleranser som har specificerats av tillverkaren i enlighet med ISO 492 toleransklass 4 (eller nationella motsvarigheter) eller bättre, och där både ringar och rullkroppar (ISO 5593), är tillverkade av monel eller beryllium.







  : | Avsnitt 2A001.a omfattar inte koniska rullager. |
| --- | --- | --- |

a)

Kullager och massiva rullager, alla med toleranser som har specificerats av tillverkaren i enlighet med ISO 492 toleransklass 4 (eller nationella motsvarigheter) eller bättre, och där både ringar och rullkroppar (ISO 5593), är tillverkade av monel eller beryllium.

:

| b) | Används inte. |
| --- | --- |

b)

Används inte.

| c) | Aktiva magnetiska lagersystem som använder något av följande:






  1. | Material med en flödestäthet på 2,0 T eller mer och en sträckgräns som överstiger 414 MPa. |
| --- | --- | --- |

c)

Aktiva magnetiska lagersystem som använder något av följande:

1.

Material med en flödestäthet på 2,0 T eller mer och en sträckgräns som överstiger 414 MPa.

| 2. | Helt elektromagnetisk tredimensionell likpolig manövrering av förspänningen. |
| --- | --- |

2.

Helt elektromagnetisk tredimensionell likpolig manövrering av förspänningen.

| 3. | Högtemperatursensorer för positionering (450 K (177 °C) eller högre). |
| --- | --- |

3.

Högtemperatursensorer för positionering (450 K (177 °C) eller högre).

2A101Andra radialkullager än dem som specificeras i 2A001, förutsatt att de har alla toleranser specificerade i enlighet med ISO 492 toleransklass 2 (eller ANSI/ABMA Std 20 toleransklass ABEC-9 eller RBEC-9 eller andra nationella motsvarigheter) eller bättre och har alla följande egenskaper:

| a) | En innerring med en håldiameter av mellan 12 mm och 50 mm. |
| --- | --- |

a)

En innerring med en håldiameter av mellan 12 mm och 50 mm.

| b) | En ytterring med en håldiameter av mellan 25 mm och 100 mm. |
| --- | --- |

b)

En ytterring med en håldiameter av mellan 25 mm och 100 mm.

| c) | Dessutom en bredd på mellan 10 mm och 20 mm. |
| --- | --- |

c)

Dessutom en bredd på mellan 10 mm och 20 mm.

2A225Smältdeglar tillverkade av material som är resistenta mot flytande aktinidmetaller, enligt följande:

| a) | Smältdeglar som har följande två egenskaper:






  1. | En volym mellan 150 cm3 och 8 000 cm3, och |
| --- | --- | --- |

a)

Smältdeglar som har följande två egenskaper:

1.

En volym mellan 150 cm3 och 8 000 cm3, och

| 2. | tillverkade av eller belagda med något av följande material med en renhet av 98 viktprocent eller högre:






  a) | Kalciumfluorid (CaF2). |
| --- | --- | --- |

2.

tillverkade av eller belagda med något av följande material med en renhet av 98 viktprocent eller högre:

a)

Kalciumfluorid (CaF2).

| b) | Kalciumzirkonat (metazirkonat) (CaZrO3). |
| --- | --- |

b)

Kalciumzirkonat (metazirkonat) (CaZrO3).

| c) | Ceriumsulfid (Ce2S3). |
| --- | --- |

c)

Ceriumsulfid (Ce2S3).

| d) | Erbiumoxid (erbia) (Er2O3). |
| --- | --- |

d)

Erbiumoxid (erbia) (Er2O3).

| e) | Hafniumoxid (hafnia) (HfO2). |
| --- | --- |

e)

Hafniumoxid (hafnia) (HfO2).

| f) | Magnesiumoxid (MgO). |
| --- | --- |

f)

Magnesiumoxid (MgO).

| g) | Nitrerade niob-titan-volframlegeringar (ca 50 % Nb, 30 % Ti, 20 % W). |
| --- | --- |

g)

Nitrerade niob-titan-volframlegeringar (ca 50 % Nb, 30 % Ti, 20 % W).

| h) | Yttriumoxid (yttria) (Y2O3) eller |
| --- | --- |

h)

Yttriumoxid (yttria) (Y2O3) eller

| i) | Zirkoniumoxid (zirkonia) (ZrO2). |
| --- | --- |

i)

Zirkoniumoxid (zirkonia) (ZrO2).

| b) | Smältdeglar som har följande två egenskaper:






  1. | En volym mellan 50 cm3 och 2 000 cm3, och |
| --- | --- | --- |

b)

Smältdeglar som har följande två egenskaper:

1.

En volym mellan 50 cm3 och 2 000 cm3, och

| 2. | tillverkade av eller fodrade med tantal som har en renhet av 99,9 viktprocent eller högre. |
| --- | --- |

2.

tillverkade av eller fodrade med tantal som har en renhet av 99,9 viktprocent eller högre.

| c) | Smältdeglar som har alla följande egenskaper:






  1. | En volym mellan 50 cm3 och 2 000 cm3, |
| --- | --- | --- |

c)

Smältdeglar som har alla följande egenskaper:

1.

En volym mellan 50 cm3 och 2 000 cm3,

| 2. | tillverkade av eller fodrade med tantal som har en renhet av 98 viktprocent eller högre, och |
| --- | --- |

2.

tillverkade av eller fodrade med tantal som har en renhet av 98 viktprocent eller högre, och

| 3. | belagda med tantalkarbid, -nitrid eller -borid (eller någon kombination därav). |
| --- | --- |

3.

belagda med tantalkarbid, -nitrid eller -borid (eller någon kombination därav).

2A226Ventiler som har alla följande egenskaper:

| a) | En ‧nominell storlek‧ av 5 mm eller mer, |
| --- | --- |

a)

En ‧nominell storlek‧ av 5 mm eller mer,

| b) | med bälgtätning, och |
| --- | --- |

b)

med bälgtätning, och

| c) | helt tillverkade av eller fodrade med aluminium, aluminiumlegering, nickel eller nickellegering som innehåller mer än 60 viktprocent nickel. |
| --- | --- |

c)

helt tillverkade av eller fodrade med aluminium, aluminiumlegering, nickel eller nickellegering som innehåller mer än 60 viktprocent nickel.

:

För ventiler med olika in- och utloppsdiametrar avser den ‧nominella storleken‧ i avsnitt 2A226 den minsta diametern.

2BTest-, inspektions- och produktionsutrustning

:

| 1. | Sekundära parallella konturskapande axlar, (t.ex. w-axeln i en horisontell arborrmaskin eller en sekundär roterande axel vars centrumlinje är parallell med den primära roterande axeln), ska inte räknas in i det totala antalet konturskapande axlar. Roterande axlar behöver inte kunna vridas 360°. En roterande axel kan drivas av en linjär axel (t.ex. en skruv eller en kuggstångsväxel). |
| --- | --- |

1.

| 2. | I avsnitt 2B är det antal axlar som kan styras samtidigt för att uppnå "konturstyrning" lika med det antal axlar längs eller runt vilka, under bearbetningen av arbetsstycket, samtidiga och inbördes relaterade rörelser sker mellan arbetsstycket och ett verktyg. Hit räknas inte några ytterligare axlar längs eller runt vilka annan inbördes rörelse i maskinen sker, såsom







  a) | avrivningssystem för slipmaskiner, |
| --- | --- | --- |

2.

a)

avrivningssystem för slipmaskiner,

| b) | parallella roterande axlar konstruerade för upphängning av separata arbetsstycken, |
| --- | --- |

b)

parallella roterande axlar konstruerade för upphängning av separata arbetsstycken,

| c) | kolinjära roterande axlar konstruerade för hantering av samma arbetsstycke genom att detta hålls fast från olika håll i en chuck. |
| --- | --- |

c)

kolinjära roterande axlar konstruerade för hantering av samma arbetsstycke genom att detta hålls fast från olika håll i en chuck.

| 3. | Nomenklaturen för axlarna ska vara i överensstämmelse med Internationell Standard ISO 841, ‧Numerical Control Machines – Axis and Motion Nomenclature‧. |
| --- | --- |

3.

| 4. | I avsnitten 2B001–2B009 ska en "tippbar spindel" räknas som en roterande axel. |
| --- | --- |

4.

| 5. | ‧Angiven positioneringsnoggrannhet‧ som härrör från mätningar enligt ISO 230/2 (1988) (1) eller nationella motsvarigheter får användas för varje verktygsmaskinmodell som ett alternativ till individuella maskintester. ‧Angiven positioneringsnoggrannhet‧ är det noggrannhetsvärde som lämnas till de behöriga myndigheterna i den medlemsstat där exportören är etablerad som representativt för en specifik maskinmodells noggrannhet.

  Bestämning av ‧angiven positioneringsnoggrannhet‧:








  a) | Välj ut fem maskiner av en modell som ska få ett värde. |
| --- | --- | --- |

5.

Bestämning av ‧angiven positioneringsnoggrannhet‧:

a)

Välj ut fem maskiner av en modell som ska få ett värde.

| b) | Mät linjära axelns noggrannhet enligt ISO 230/2 (1988) (1). |
| --- | --- |

b)

Mät linjära axelns noggrannhet enligt ISO 230/2 (1988) (1).

| c) | Bestäm A-värdena för varje axel på varje maskin. Hur A-värdet räknas ut beskrivs i ISO-standarden. |
| --- | --- |

c)

Bestäm A-värdena för varje axel på varje maskin. Hur A-värdet räknas ut beskrivs i ISO-standarden.

| d) | Bestäm A-värdenas medelvärde för varje axel. Detta medelvärde Â blir det angivna värdet för varje axel på denna modell (Âx, Ây, osv.). |
| --- | --- |

d)

Bestäm A-värdenas medelvärde för varje axel. Detta medelvärde Â blir det angivna värdet för varje axel på denna modell (Âx, Ây, osv.).

| e) | Eftersom kategori 2-förteckningen hänför sig till varje linjär axel kommer det att finnas lika många angivna värden som linjära axlar. |
| --- | --- |

e)

Eftersom kategori 2-förteckningen hänför sig till varje linjär axel kommer det att finnas lika många angivna värden som linjära axlar.

| f) | Om någon axel på en maskinmodell som inte omfattas av avsnitt 2B001.a-2B001.c eller 2B201 har en angiven noggrannhet Â på 6 mikroner för slipmaskiner och 8 mikroner för fräsmaskiner och svarvar eller bättre, bör man kräva att tillverkaren bekräftar noggrannhetsnivån en gång var 18:e månad. |
| --- | --- |

f)

Om någon axel på en maskinmodell som inte omfattas av avsnitt 2B001.a-2B001.c eller 2B201 har en angiven noggrannhet Â på 6 mikroner för slipmaskiner och 8 mikroner för fräsmaskiner och svarvar eller bättre, bör man kräva att tillverkaren bekräftar noggrannhetsnivån en gång var 18:e månad.

2B001Verktygsmaskiner och alla kombinationer av dessa, för bearbetning av metaller, keramer eller "kompositer", som, i enlighet med tillverkarens tekniska specifikation, kan utrustas med elektronisk utrustning för "numerisk styrning", samt speciellt konstruerade komponenter enligt följande:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 2B201. |
| --- | --- |

ANM.:

| : | Avsnitt 2B001 omfattar inte verktygsmaskiner för särskilda ändamål som endast är avsedda för tillverkning av kuggar. Se avsnitt 2B003 för sådana maskiner. |
| --- | --- |

:

| : | Avsnitt 2B001 omfattar inte verktygsmaskiner för särskilda ändamål som enbart är avsedda för tillverkning av något av följande:







  a) | Kam- eller vevaxlar. |
| --- | --- | --- |

:

a)

Kam- eller vevaxlar.

| b) | Verktyg eller fräsar. |
| --- | --- |

b)

Verktyg eller fräsar.

| c) | Matarskruvar. |
| --- | --- |

c)

Matarskruvar.

| d) | Graverade eller slipade delar av smycken. |
| --- | --- |

d)

Graverade eller slipade delar av smycken.

| : | En verktygsmaskin som klarar minst två av de tre funktionerna svarvning, fräsning och slipning (t.ex. en svarv med fräsningsfunktion), ska bedömas efter vart och ett av de relevanta avsnitten 2B001.a, 2B001.b eller 2B001.c. |
| --- | --- |

:

| : | För maskiner för optisk slutbearbetning, se avsnitt 2B002. |
| --- | --- |

:

| a) | Verktygsmaskiner för svarvning som uppfyller följande:






  1. | Positioneringsnoggrannheten med "alla tillgängliga kompensationer" är lika med eller mindre (bättre) än 6 μm enligt ISO 230/2 (1988) (2) eller nationella motsvarigheter längs med någon linjär axel, och |
| --- | --- | --- |

a)

Verktygsmaskiner för svarvning som uppfyller följande:

1.

Positioneringsnoggrannheten med "alla tillgängliga kompensationer" är lika med eller mindre (bättre) än 6 μm enligt ISO 230/2 (1988) (2) eller nationella motsvarigheter längs med någon linjär axel, och

| 2. | två eller flera axlar kan styras samtidigt för att uppnå "konturstyrning".







  : | Avsnitt 2B001.a omfattar inte svarvar speciellt konstruerade för att producera kontaktlinser, som uppfyller följande:







  a) | Maskinstyrningen är begränsad till användning av oftalmologiskt baserad programvara för delprogrammering av indata, och |
| --- | --- | --- | --- |

2.

två eller flera axlar kan styras samtidigt för att uppnå "konturstyrning".

:

a)

Maskinstyrningen är begränsad till användning av oftalmologiskt baserad programvara för delprogrammering av indata, och

| b) | vacuumchuck saknas. |
| --- | --- |

b)

vacuumchuck saknas.

| b) | Verktygsmaskiner för fräsning som uppfyller något av följande:






  1. | Som har alla följande egenskaper:






  a) | Positioneringsnoggrannheten med "alla tillgängliga kompensationer" är lika med eller mindre (bättre) än 6 μm enligt ISO 230/2 (1988) (2) eller nationella motsvarigheter längs med någon linjär axel, och |
| --- | --- | --- | --- |

b)

Verktygsmaskiner för fräsning som uppfyller något av följande:

1.

Som har alla följande egenskaper:

a)

Positioneringsnoggrannheten med "alla tillgängliga kompensationer" är lika med eller mindre (bättre) än 6 μm enligt ISO 230/2 (1988) (2) eller nationella motsvarigheter längs med någon linjär axel, och

| b) | tre linjära axlar plus en roterande axel kan styras samtidigt för att uppnå "konturstyrning". |
| --- | --- |

b)

tre linjära axlar plus en roterande axel kan styras samtidigt för att uppnå "konturstyrning".

| 2. | Fem eller flera axlar kan styras samtidigt för att uppnå "konturstyrning". |
| --- | --- |

2.

Fem eller flera axlar kan styras samtidigt för att uppnå "konturstyrning".

| 3. | Positioneringsnoggrannheten för jiggborrmaskiner med "alla tillgängliga kompensationer" är lika med eller mindre (bättre) än 4 μm enligt ISO 230/2 (1988) (2) eller nationella motsvarigheter längs med någon linjär axel, eller |
| --- | --- |

3.

Positioneringsnoggrannheten för jiggborrmaskiner med "alla tillgängliga kompensationer" är lika med eller mindre (bättre) än 4 μm enligt ISO 230/2 (1988) (2) eller nationella motsvarigheter längs med någon linjär axel, eller

| 4. | Kuggbearbetningsmaskiner som uppfyller följande:






  a) | Spindelns "axialkast" och "radialkast" är mindre (bättre) än 0,0004 mm (TIR), och |
| --- | --- | --- |

4.

Kuggbearbetningsmaskiner som uppfyller följande:

a)

Spindelns "axialkast" och "radialkast" är mindre (bättre) än 0,0004 mm (TIR), och

| b) | Slidens vinkelfel (gir, lutning, roll) är mindre (bättre) än 2 bågsekunder (TIR) över 300 mm rörelse. |
| --- | --- |

b)

Slidens vinkelfel (gir, lutning, roll) är mindre (bättre) än 2 bågsekunder (TIR) över 300 mm rörelse.

| c) | Verktygsmaskiner för slipning som uppfyller något av följande:






  1. | Som uppfyller har följande egenskaper:






  a) | Positioneringsnoggrannheten med "alla tillgängliga kompensationer" är lika med eller mindre (bättre) än 4 μm enligt ISO 230/2 (1988) (3) eller nationella motsvarigheter längs med någon linjär axel, och |
| --- | --- | --- | --- |

c)

Verktygsmaskiner för slipning som uppfyller något av följande:

1.

Som uppfyller har följande egenskaper:

a)

Positioneringsnoggrannheten med "alla tillgängliga kompensationer" är lika med eller mindre (bättre) än 4 μm enligt ISO 230/2 (1988) (3) eller nationella motsvarigheter längs med någon linjär axel, och

| b) | tre eller flera axlar kan styras samtidigt för att uppnå "konturstyrning". |
| --- | --- |

b)

tre eller flera axlar kan styras samtidigt för att uppnå "konturstyrning".

| 2. | Fem eller flera axlar kan styras samtidigt för att uppnå "konturstyrning".







  : | Avsnitt 2B001.c omfattar inte slipmaskiner enligt följande:







  a) | Rundslipmaskiner för invändig, utvändig eller kombinerad invändig och utvändig slipning som uppfyller följande:








  1. | Begränsade till cylindrisk slipning och |
| --- | --- | --- | --- | --- |

2.

Fem eller flera axlar kan styras samtidigt för att uppnå "konturstyrning".

:

a)

Rundslipmaskiner för invändig, utvändig eller kombinerad invändig och utvändig slipning som uppfyller följande:

1.

Begränsade till cylindrisk slipning och

| 2. | begränsade till ett arbetsstycke som är högst 150 mm i ytterdiameter eller längd. |
| --- | --- |

2.

begränsade till ett arbetsstycke som är högst 150 mm i ytterdiameter eller längd.

| b) | Maskiner speciellt konstruerade som jiggslipmaskiner som inte har någon z-axel eller w-axel och vars positioneringsnoggrannhet med "alla tillgängliga kompensationer" är mindre (bättre) än 4 μm enligt ISO 230/2 (1988) (3) eller nationella motsvarigheter. |
| --- | --- |

b)

Maskiner speciellt konstruerade som jiggslipmaskiner som inte har någon z-axel eller w-axel och vars positioneringsnoggrannhet med "alla tillgängliga kompensationer" är mindre (bättre) än 4 μm enligt ISO 230/2 (1988) (3) eller nationella motsvarigheter.

| c) | Planslipmaskiner. |
| --- | --- |

c)

Planslipmaskiner.

| d) | Trådlös elektrisk gnistbearbetningsmaskin (EDM) som har två eller flera roterande axlar som kan styras samtidigt för att uppnå "konturstyrning". |
| --- | --- |

d)

Trådlös elektrisk gnistbearbetningsmaskin (EDM) som har två eller flera roterande axlar som kan styras samtidigt för att uppnå "konturstyrning".

| e) | Verktygsmaskiner för borttagning av metaller, keramer eller "kompositer" som uppfyller följande:






  1. | Borttagning av material med hjälp av






  a) | vatten eller andra sprutade vätskor, inklusive sådana som innehåller slipmedelstillsatser, |
| --- | --- | --- | --- |

e)

Verktygsmaskiner för borttagning av metaller, keramer eller "kompositer" som uppfyller följande:

1.

Borttagning av material med hjälp av

a)

vatten eller andra sprutade vätskor, inklusive sådana som innehåller slipmedelstillsatser,

| b) | elektronstrålar, eller |
| --- | --- |

b)

elektronstrålar, eller

| c) | "laser"-stråle, och |
| --- | --- |

c)

"laser"-stråle, och

| 2. | som har minst två roterande axlar som både






  a) | kan styras samtidigt för att uppnå "konturstyrning", och |
| --- | --- | --- |

2.

som har minst två roterande axlar som både

a)

kan styras samtidigt för att uppnå "konturstyrning", och

| b) | har en positioneringsnoggrannhet som är mindre (bättre) än 0,003°. |
| --- | --- |

b)

har en positioneringsnoggrannhet som är mindre (bättre) än 0,003°.

| f) | Långhålsborrmaskiner och svarvar som är modifierade för långhålsborrning, som har en borrkapacitet som är större än 5 m och speciellt konstruerade komponenter till dessa. |
| --- | --- |

f)

Långhålsborrmaskiner och svarvar som är modifierade för långhålsborrning, som har en borrkapacitet som är större än 5 m och speciellt konstruerade komponenter till dessa.

2B002Numeriskt styrda verktygsmaskiner för optisk slutbearbetning, utrustade för selektivt borttagande av material för att producera icke-sfäriska optiska ytor med samtliga följande egenskaper:

| a) | Slutbearbetar formen till mindre (bättre) än 1,0 μm. |
| --- | --- |

a)

Slutbearbetar formen till mindre (bättre) än 1,0 μm.

| b) | Slutbearbetar till en ojämnhet som är mindre (bättre) än 100 nm rms. |
| --- | --- |

b)

Slutbearbetar till en ojämnhet som är mindre (bättre) än 100 nm rms.

| c) | Minst fyra axlar som kan styras samtidigt för "konturstyrning". |
| --- | --- |

c)

Minst fyra axlar som kan styras samtidigt för "konturstyrning".

| d) | Använder någon av följande processer:






  1. | Magnetreologisk slutbearbetning (‧MRF‧). |
| --- | --- | --- |

d)

Använder någon av följande processer:

1.

Magnetreologisk slutbearbetning (‧MRF‧).

| 2. | Elektroreologisk slutbearbetning (‧ERF‧). |
| --- | --- |

2.

Elektroreologisk slutbearbetning (‧ERF‧).

| 3. | ‧Slutbearbetning med energirik partikelstråle‧. |
| --- | --- |

3.

‧Slutbearbetning med energirik partikelstråle‧.

| 4. | ‧Slutbearbetning med tänjbart membran‧. |
| --- | --- |

4.

‧Slutbearbetning med tänjbart membran‧.

| 5. | ‧Slutbearbetning med vätskestråle‧. |
| --- | --- |

5.

‧Slutbearbetning med vätskestråle‧.

:

I avsnitt 2B002 avses med

| 1. | ‧MRF‧: borttagande av material med hjälp av en magnetisk slipvätska vars viskositet styrs av ett magnetfält, |
| --- | --- |

1.

‧MRF‧: borttagande av material med hjälp av en magnetisk slipvätska vars viskositet styrs av ett magnetfält,

| 2. | ‧ERF‧: borttagande med hjälp av en slipvätska vars viskositet styrs av ett elektriskt fält, |
| --- | --- |

2.

‧ERF‧: borttagande med hjälp av en slipvätska vars viskositet styrs av ett elektriskt fält,

| 3. | ‧slutbearbetning med energirik partikelstråle‧: användning av RAP (Reactive Atom Plasmas) eller jonstrålar för selektivt borttagande av material, |
| --- | --- |

3.

‧slutbearbetning med energirik partikelstråle‧: användning av RAP (Reactive Atom Plasmas) eller jonstrålar för selektivt borttagande av material,

| 4. | ‧slutbearbetning med tänjbart membran‧: en process som använder ett membran som utsätts för tryck och ändrar form för att komma i kontakt med arbetsstycket över en liten area, |
| --- | --- |

4.

‧slutbearbetning med tänjbart membran‧: en process som använder ett membran som utsätts för tryck och ändrar form för att komma i kontakt med arbetsstycket över en liten area,

| 5. | ‧slutbearbetning med vätskestråle‧: användning av en vätskeström för borttagning av material. |
| --- | --- |

5.

‧slutbearbetning med vätskestråle‧: användning av en vätskeström för borttagning av material.

2B003Manuellt eller "numeriskt styrda" verktygsmaskiner, och speciellt konstruerade komponenter, styrutrustningar och tillbehör för dem, speciellt konstruerade för skärning, finslipning, polering eller hening av härdade (Rockwell=40 eller mer) spår, spiralskurna och dubbelspiralskurna kugghjul med en delningsdiameter som är större än 1 250 mm och med en kuggbredd som är minst 15 % av delningsdiametern och som har bearbetats till en kvalitet av AGMA 14 eller bättre (motsvarande ISO 1328 klass 3).

2B004Varma "isostatiska pressar" som har alla följande egenskaper samt till dessa speciellt konstruerade komponenter och tillbehör:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITTEN 2B104 OCH 2B204. |
| --- | --- |

ANM.:

SE ÄVEN AVSNITTEN 2B104 OCH 2B204.

| a) | En kontrollerad termisk omgivning i slutet utrymme och ett kammarutrymme med en innerdiameter på minst 406 mm, och |
| --- | --- |

a)

En kontrollerad termisk omgivning i slutet utrymme och ett kammarutrymme med en innerdiameter på minst 406 mm, och

| b) | som har antingen






  1. | ett maximalt arbetstryck som överstiger 207 MPa, |
| --- | --- | --- |

b)

som har antingen

1.

ett maximalt arbetstryck som överstiger 207 MPa,

| 2. | en kontrollerad termisk omgivning som överstiger 1 773 K (1 500 °C), eller |
| --- | --- |

2.

en kontrollerad termisk omgivning som överstiger 1 773 K (1 500 °C), eller

| 3. | en anordning för kolväteimpregnering och för bortforsling av uppkomna restgaser. |
| --- | --- |

3.

en anordning för kolväteimpregnering och för bortforsling av uppkomna restgaser.

:

Med kammarens innerdiameter avses den del av kammaren där arbetstemperatur och -tryck kan hållas. I diametern ska inte inräknas utrymme för lasthållare. Innerdiametern är den mindre av tryckkammarens eller den isolerade ugnskammarens, beroende på vilken av de två som är placerad i den andra.

| : | För speciellt konstruerade kapslar, formar och verktyg, se avsnitten 1B003 och 9B009 samt kontrollbestämmelserna för varor med militär användning. |
| --- | --- |

:

2B005Följande utrustning, som är speciellt konstruerad för utfällning, behandling och styrning under behandlingen av oorganiska beläggningar, ytbeläggningar och ytförändringsbeläggningar, för icke elektroniska substrat, med de processer som beskrivs i tabellen med tillhörande anmärkningar efter avsnitt 2E003.f, samt speciellt konstruerad utrustning till denna för automatisk hantering, positionering, manövrering och styrning.

| a) | Utrustning för produktion med kemisk förångningsdeponering (CVD) som har båda följande angivna egenskaper:







  ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 2B105. |
| --- | --- | --- |

a)

Utrustning för produktion med kemisk förångningsdeponering (CVD) som har båda följande angivna egenskaper:

ANM.:

| 1. | En process som är modifierad till en av följande typer:






  a) | Pulserande CVD. |
| --- | --- | --- |

1.

En process som är modifierad till en av följande typer:

a)

Pulserande CVD.

| b) | Styrd nukleär termisk deponering (CNTD, Controlled nucleation thermal deposition), eller |
| --- | --- |

b)

Styrd nukleär termisk deponering (CNTD, Controlled nucleation thermal deposition), eller

| c) | Plasmaförstärkt eller plasmaassisterad CVD, och |
| --- | --- |

c)

Plasmaförstärkt eller plasmaassisterad CVD, och

| 2. | Något av följande:






  a) | Fast monterade roterande högvakuumtätningar (tryck lika med eller mindre än 0,01 Pa), eller |
| --- | --- | --- |

2.

Något av följande:

a)

Fast monterade roterande högvakuumtätningar (tryck lika med eller mindre än 0,01 Pa), eller

| b) | fast monterad utrustning för mätning eller styrning av tjockleken av pålagt skikt. |
| --- | --- |

b)

fast monterad utrustning för mätning eller styrning av tjockleken av pålagt skikt.

| b) | Produktionsutrustning för jonimplantation som kan leverera 5 mA eller mera i jonstrålen. |
| --- | --- |

b)

Produktionsutrustning för jonimplantation som kan leverera 5 mA eller mera i jonstrålen.

| c) | Produktionsutrustning för fysisk elektronstråleförångning (EB-PVD) med en systemeffekt specificerad till att överstiga 80 kW och som innefattar något av följande:






  1. | Vätskenivåkontroll med hjälp av ett "laser"-assisterat mätsystem som med precision kan styra inmatningen av götet, eller |
| --- | --- | --- |

c)

Produktionsutrustning för fysisk elektronstråleförångning (EB-PVD) med en systemeffekt specificerad till att överstiga 80 kW och som innefattar något av följande:

1.

Vätskenivåkontroll med hjälp av ett "laser"-assisterat mätsystem som med precision kan styra inmatningen av götet, eller

| 2. | en datorkontrollerad matningshastighet som övervakas med bildskärmar som arbetar med principen att genom luminiscens från de joniserade atomerna i förångningsstrålen mäta beläggninghastigheten för beläggningar som innehåller två eller flera beståndsdelar. |
| --- | --- |

2.

en datorkontrollerad matningshastighet som övervakas med bildskärmar som arbetar med principen att genom luminiscens från de joniserade atomerna i förångningsstrålen mäta beläggninghastigheten för beläggningar som innehåller två eller flera beståndsdelar.

| d) | Produktionsutrustning för plasmasprutning med något av följande:






  1. | Arbetar med styrd och reducerad atmosfär (lika med eller mindre än 10 kPa mätt ovanför och inom ett avstånd av 300 mm från strålkanonens munstycke) i en vakuumkammare, där trycket före plasmasprutningen kan sänkas ner till 0,01 Pa, eller |
| --- | --- | --- |

d)

Produktionsutrustning för plasmasprutning med något av följande:

1.

Arbetar med styrd och reducerad atmosfär (lika med eller mindre än 10 kPa mätt ovanför och inom ett avstånd av 300 mm från strålkanonens munstycke) i en vakuumkammare, där trycket före plasmasprutningen kan sänkas ner till 0,01 Pa, eller

| 2. | innehåller fast monterad utrustning för mätning eller styrning av tjockleken av pålagt skikt. |
| --- | --- |

2.

innehåller fast monterad utrustning för mätning eller styrning av tjockleken av pålagt skikt.

| e) | Produktionsutrustning för sputtering som kan avge strömtätheter på minst 0,1 mA/mm2 vid en förångningshastighet på minst 15 μm/h. |
| --- | --- |

e)

Produktionsutrustning för sputtering som kan avge strömtätheter på minst 0,1 mA/mm2 vid en förångningshastighet på minst 15 μm/h.

| f) | Produktionsutrustning för katodstrålebeläggning med hjälp av en utrustning som innehåller ett galler bestående av elektromagneter för att styra strålningspunkten på katoden. |
| --- | --- |

f)

Produktionsutrustning för katodstrålebeläggning med hjälp av en utrustning som innehåller ett galler bestående av elektromagneter för att styra strålningspunkten på katoden.

| g) | Produktionsutrustning för jonplätering kapabel till in situ-mätning av någon av följande parametrar:






  1. | Tjocklek på substratet och matningshastighet, eller |
| --- | --- | --- |

g)

Produktionsutrustning för jonplätering kapabel till in situ-mätning av någon av följande parametrar:

1.

Tjocklek på substratet och matningshastighet, eller

| 2. | optiska egenskaper. |
| --- | --- |

2.

optiska egenskaper.

| : | Avsnitt 2B005 omfattar inte utrustning för kemisk förångningsdeponering, katodstråle, sputtering, jonplätering eller joninplantation speciellt konstruerad för skärande och bearbetande verktyg. |
| --- | --- |

:

2B006Mät- eller inspektionssystem, utrustning och "elektroniska sammansättningar" enligt följande:

| a) | Datorstyrda eller "numeriskt styrda" koordinatmätmaskiner (CMM) som har en tredimensionell (volymetrisk) maximal tillåten längdmåttsavvikelse (E0,MPE) vid varje punkt inom maskinens arbetsområde (dvs. inom axellängden) som är lika med eller mindre (bättre) än (1,7 + L/1 000) μm (L är den uppmätta längden i mm), enligt ISO 10360-2 (2009).

  :


  E0,MPE för den mest noggranna konfigurationen av CMM enligt tillverkarens specifikation (t.ex bäst av följande: prob, mätstiftslängd, rörelseparametrar, omgivning) och med "alla tillgängliga kompensationer" ska jämföras med tröskeln på (1,7 + L/1 000) μm.








  ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 2B206. |
| --- | --- | --- |

a)

Datorstyrda eller "numeriskt styrda" koordinatmätmaskiner (CMM) som har en tredimensionell (volymetrisk) maximal tillåten längdmåttsavvikelse (E0,MPE) vid varje punkt inom maskinens arbetsområde (dvs. inom axellängden) som är lika med eller mindre (bättre) än (1,7 + L/1 000) μm (L är den uppmätta längden i mm), enligt ISO 10360-2 (2009).

:

E0,MPE för den mest noggranna konfigurationen av CMM enligt tillverkarens specifikation (t.ex bäst av följande: prob, mätstiftslängd, rörelseparametrar, omgivning) och med "alla tillgängliga kompensationer" ska jämföras med tröskeln på (1,7 + L/1 000) μm.

ANM.:

| b) | Mätinstrument för mätning av linjär- och vinkelförskjutning enligt följande:






  1. | Instrument för mätning av ‧linjärförskjutning‧ som har någon av följande egenskaper:

  :


  I avsnitt 2B006.b.1 avser ‧linjärförskjutning‧ ändring av avståndet mellan mätprob och mätobjekt.







  a) | System som mäter utan kontakt med en "upplösning" som är lika med eller mindre (bättre) än 0,2 μm inom ett mätområde upp till 0,2 mm. |
| --- | --- | --- | --- |

b)

Mätinstrument för mätning av linjär- och vinkelförskjutning enligt följande:

1.

Instrument för mätning av ‧linjärförskjutning‧ som har någon av följande egenskaper:

:

I avsnitt 2B006.b.1 avser ‧linjärförskjutning‧ ändring av avståndet mellan mätprob och mätobjekt.

a)

System som mäter utan kontakt med en "upplösning" som är lika med eller mindre (bättre) än 0,2 μm inom ett mätområde upp till 0,2 mm.

| b) | System med linjära differentialtransformatorer som uppfyller båda följande egenskaper:






  1. | "Linjäriteten" är lika med eller mindre (bättre) än 0,1 % inom ett mätområde på upp till 5 mm, och |
| --- | --- | --- |

b)

System med linjära differentialtransformatorer som uppfyller båda följande egenskaper:

1.

"Linjäriteten" är lika med eller mindre (bättre) än 0,1 % inom ett mätområde på upp till 5 mm, och

| 2. | avdrift lika med eller mindre (bättre) än 0,1 % per dag i normal testrumstemperatur ± 1 K. |
| --- | --- |

2.

avdrift lika med eller mindre (bättre) än 0,1 % per dag i normal testrumstemperatur ± 1 K.

| c) | Mätsystem som har alla följande egenskaper:






  1. | Innehåller "laser" och |
| --- | --- | --- |

c)

Mätsystem som har alla följande egenskaper:

1.

Innehåller "laser" och

| 2. | upprätthåller följande under minst 12 timmar, vid en temperatur av 20 ± 1 °C:






  a) | En "upplösning" över hela skalområdet som är lika med eller mindre (bättre) än 0,1 μm och |
| --- | --- | --- |

2.

upprätthåller följande under minst 12 timmar, vid en temperatur av 20 ± 1 °C:

a)

En "upplösning" över hela skalområdet som är lika med eller mindre (bättre) än 0,1 μm och

| b) | förmåga att uppnå en "mätosäkerhet", när det kompenseras för refraktionsindexet för luft, som är lika med eller mindre (bättre) än (0,2 + L/2 000) μm (L är den uppmätta längden i mm). |
| --- | --- |

b)

förmåga att uppnå en "mätosäkerhet", när det kompenseras för refraktionsindexet för luft, som är lika med eller mindre (bättre) än (0,2 + L/2 000) μm (L är den uppmätta längden i mm).

| d) | "Elektroniska sammansättningar" som är särskilt konstruerade för att ge återkopplingskapacitet i system som omfattas av avsnitt 2B006.b.1.c. |
| --- | --- |

d)

"Elektroniska sammansättningar" som är särskilt konstruerade för att ge återkopplingskapacitet i system som omfattas av avsnitt 2B006.b.1.c.

| : | Avsnitt 2B006.b.1 omfattar inte interferometersystem för mätning, med ett automatiskt kontrollsystem som är konstruerat för att inte använda någon återkopplingsteknik, och som innehåller en "laser" för att mäta slidens rörelsefel på verktygsmaskiner, mätmaskiner eller liknande utrustning. |
| --- | --- |

:

| 2. | Instrument för mätning av vinkelförskjutning som har en "vinkelavvikelse från en position" som är lika med eller mindre (bättre) än 0,00025°.







  : | Avsnitt 2B006.b.2 omfattar inte optiska instrument såsom autokollimatorer som använder parallellt ljus (t.ex. laserljus) för att upptäcka vinkelförskjutning hos en spegel. |
| --- | --- | --- |

2.

Instrument för mätning av vinkelförskjutning som har en "vinkelavvikelse från en position" som är lika med eller mindre (bättre) än 0,00025°.

:

| c) | Utrustning för mätning av ojämnheter i en yta genom att mäta den optiska spridningen som en funktion av vinkeln med en känslighet som är 0,5 nm eller mindre (bättre). |
| --- | --- |

c)

Utrustning för mätning av ojämnheter i en yta genom att mäta den optiska spridningen som en funktion av vinkeln med en känslighet som är 0,5 nm eller mindre (bättre).

| : | 2B006 inkluderar andra verktygsmaskiner än dem som specificeras i 2B001, förutsatt att de kan användas som mät- eller avsyningsmaskiner och uppfyller eller överskrider de kriterier som anges för mät- och avsyningsmaskiner. |
| --- | --- |

:

2B007"Robotar" som har någon av följande egenskaper samt därtill hörande särskilt konstruerade styrsystem och "manipulatorer":

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 2B207. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | I realtid kan utföra en fullständig 3-dimensionell bildbehandling eller ‧analys av en bild‧ för att generera eller modifiera "program" eller data för ett numeriskt program.

  :


  Begränsningen avseende ‧analys av en bild‧ innefattar inte approximation av den tredje dimensionen genom att man betraktar föremålen med en given vinkel eller genom att man med begränsad gråskaletolkning får en djup- eller mönsterförnimmelse av det analyserade föremålet (2,5-D). |
| --- | --- |

a)

I realtid kan utföra en fullständig 3-dimensionell bildbehandling eller ‧analys av en bild‧ för att generera eller modifiera "program" eller data för ett numeriskt program.

:

Begränsningen avseende ‧analys av en bild‧ innefattar inte approximation av den tredje dimensionen genom att man betraktar föremålen med en given vinkel eller genom att man med begränsad gråskaletolkning får en djup- eller mönsterförnimmelse av det analyserade föremålet (2,5-D).

| b) | Speciellt konstruerade för att tillåtas arbeta i en potentiellt explosiv omgivning enligt nationella säkerhetsbestämmelser.







  : | Avsnitt 2B007.b omfattar inte "robotar" som är särskilt konstruerade för sprutlackeringsbås. |
| --- | --- | --- |

b)

Speciellt konstruerade för att tillåtas arbeta i en potentiellt explosiv omgivning enligt nationella säkerhetsbestämmelser.

:

| c) | Speciellt konstruerade för eller specificerade som strålningståliga för att motstå en total strålningsdos som är större än 5 × 103 Gy (kisel) utan försämrad prestanda, eller

  :


  Termen Gy (kisel) avser den energi uttryckt i joule per kg som ett oavskärmat kiselprov absorberar när den utsätts för joniserande strålning. |
| --- | --- |

c)

Speciellt konstruerade för eller specificerade som strålningståliga för att motstå en total strålningsdos som är större än 5 × 103 Gy (kisel) utan försämrad prestanda, eller

:

Termen Gy (kisel) avser den energi uttryckt i joule per kg som ett oavskärmat kiselprov absorberar när den utsätts för joniserande strålning.

| d) | Specialkonstruerade för drift på höjder över 30 000 m. |
| --- | --- |

d)

Specialkonstruerade för drift på höjder över 30 000 m.

2B008Sammansättningar eller enheter som är särskilt konstruerade för verktygsmaskiner eller mät- och inspektionsutrustning och -system, enligt följande:

| a) | Linjära återkopplade positioneringsenheter (t.ex. induktiva enheter, graderade skalor, infraröda system eller "laser" mätsystem) som har en "noggrannhet" som är mindre (bättre) än [800 + (600 × L × 10-3)] nm, (L är den effektiva längden i mm).







  : | För "laser" system se även anmärkningen till avsnitt 2B006.b.1.c och d. |
| --- | --- | --- |

a)

Linjära återkopplade positioneringsenheter (t.ex. induktiva enheter, graderade skalor, infraröda system eller "laser" mätsystem) som har en "noggrannhet" som är mindre (bättre) än [800 + (600 × L × 10-3)] nm, (L är den effektiva längden i mm).

:

| b) | Roterande återkopplade positionsenheter (t.ex. induktiva enheter, graderade skalor, infraröda system eller "laser" mätsystem) som har en "noggrannhet" som är mindre (bättre) än 0,00025°.







  : | För "laser" system se även anmärkningen till avsnitt 2B006.b.2. |
| --- | --- | --- |

b)

Roterande återkopplade positionsenheter (t.ex. induktiva enheter, graderade skalor, infraröda system eller "laser" mätsystem) som har en "noggrannhet" som är mindre (bättre) än 0,00025°.

:

| c) | "Tipp- och vridbara arbetsbord" och "tippbara spindlar" som enligt tillverkarens specifikationer kan förbättra prestanda hos verktygsmaskiner till eller över prestandanivåer angivna i avsnitt 2B. |
| --- | --- |

c)

"Tipp- och vridbara arbetsbord" och "tippbara spindlar" som enligt tillverkarens specifikationer kan förbättra prestanda hos verktygsmaskiner till eller över prestandanivåer angivna i avsnitt 2B.

2B009Maskiner för trycksvarvning och maskiner för tryckvalsning vilka enligt tillverkarens tekniska specifikation kan utrustas med "numeriska styrenheter" eller en datorkontroll och som har båda följande egenskaper:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITTEN 2B109 och 2B209. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | Har minst två styrda axlar av vilka minst två kan styras samtidigt för "konturstyrning", och |
| --- | --- |

a)

Har minst två styrda axlar av vilka minst två kan styras samtidigt för "konturstyrning", och

| b) | kraften från pressrullen är större än 60 kN. |
| --- | --- |

b)

kraften från pressrullen är större än 60 kN.

:

I avsnitt 2B009 ska maskiner som kombinerar trycksvarvning och tryckvalsning betraktas som maskiner för tryckvalsning.

2B104"Isostatiska pressar", andra än de som omfattas av avsnitt 2B004, med samtliga följande egenskaper:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 2B204. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | Maximalt arbetstryck av 69 MPa eller högre. |
| --- | --- |

a)

Maximalt arbetstryck av 69 MPa eller högre.

| b) | Utformade för att uppnå och bibehålla en termiskt reglerad miljö av 873 K (600 °C) eller mer, och |
| --- | --- |

b)

Utformade för att uppnå och bibehålla en termiskt reglerad miljö av 873 K (600 °C) eller mer, och

| c) | Kammarutrymme med en innerdiameter av 254 mm eller större. |
| --- | --- |

c)

Kammarutrymme med en innerdiameter av 254 mm eller större.

2B105Ugnar för kemisk förångningsdeposition (CVD), andra än de som omfattas av avsnitt 2B005.a, som är konstruerade eller modifierade för förtätning av kol-kol-kompositer.

2B109Maskiner för tryckvalsning, andra än de som omfattas av avsnitt 2B009, och särskilt konstruerade komponenter enligt följande:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 2B209. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | Maskiner för tryckvalsning med båda följande egenskaper:






  1. | Maskinerna kan enligt tillverkarens tekniska specifikation utrustas med "numeriska styrenheter" eller en datorkontroll, även om de inte är försedda med sådana enheter, och |
| --- | --- | --- |

a)

Maskiner för tryckvalsning med båda följande egenskaper:

1.

Maskinerna kan enligt tillverkarens tekniska specifikation utrustas med "numeriska styrenheter" eller en datorkontroll, även om de inte är försedda med sådana enheter, och

| 2. | de har mer än två axlar som kan styras samtidigt för att uppnå "konturstyrning". |
| --- | --- |

2.

de har mer än två axlar som kan styras samtidigt för att uppnå "konturstyrning".

| b) | Särskilt konstruerade komponenter för maskiner för tryckvalsning som omfattas av avsnitt 2B009 eller 2B109.a. |
| --- | --- |

b)

Särskilt konstruerade komponenter för maskiner för tryckvalsning som omfattas av avsnitt 2B009 eller 2B109.a.

| : | Avsnitt 2B109 omfattar inte maskiner som inte kan användas för produktion av framdrivningskomponenter och -utrustning (t.ex. motorhus) i de system som anges i avsnitt 9A005, 9A007.a eller 9A105.a. |
| --- | --- |

:

:

Maskiner som kombinerar trycksvarvning och tryckvalsning ska i avsnitt 2B109 betraktas som maskiner för tryckvalsning.

2B116Vibrationsprovsystem med därtill hörande utrustning och komponenter, enligt följande:

| a) | Vibrationsprovsystem med återkoppling och digital styrteknik, som kan vibrera ett system med en acceleration som är lika med eller större än 10 g rms mellan 20 Hz och 2 kHz samtidigt som det överför krafter som är lika med eller större än 50 kN, mätta vid ‧obelastat bord‧. |
| --- | --- |

a)

Vibrationsprovsystem med återkoppling och digital styrteknik, som kan vibrera ett system med en acceleration som är lika med eller större än 10 g rms mellan 20 Hz och 2 kHz samtidigt som det överför krafter som är lika med eller större än 50 kN, mätta vid ‧obelastat bord‧.

| b) | Digital styrutrustning, tillsammans med särskilt utformad programvara för vibrationsprovning, med en ‧realtidskontrollbandbredd‧ större än 5 kHz och utformad för vibrationsprovsystem som omfattas av avsnitt 2B116.a.

  :


  I avsnitt 2B116.b avses med ‧realtidskontrollbandbredd‧ den maximala hastighet med vilken en styrutrustning kan utföra fullständiga cykler av insamling, databehandling och utsändning av kontrollsignaler. |
| --- | --- |

b)

Digital styrutrustning, tillsammans med särskilt utformad programvara för vibrationsprovning, med en ‧realtidskontrollbandbredd‧ större än 5 kHz och utformad för vibrationsprovsystem som omfattas av avsnitt 2B116.a.

:

I avsnitt 2B116.b avses med ‧realtidskontrollbandbredd‧ den maximala hastighet med vilken en styrutrustning kan utföra fullständiga cykler av insamling, databehandling och utsändning av kontrollsignaler.

| c) | Vibratorer (skakutrustningar), med eller utan tillhörande förstärkare, som kan åstadkomma en kraft som är lika med eller större än 50 kN, mätt vid ‧obelastat bord‧, och användbara i provningssystem som omfattas av avsnitt 2B116.a. |
| --- | --- |

c)

Vibratorer (skakutrustningar), med eller utan tillhörande förstärkare, som kan åstadkomma en kraft som är lika med eller större än 50 kN, mätt vid ‧obelastat bord‧, och användbara i provningssystem som omfattas av avsnitt 2B116.a.

| d) | Stödkonstruktioner och elektroniska enheter utformade för att kombinera flera skakenheter till ett komplett skakbordsystem som kan åstadkomma en sammansatt effektiv kraft som är lika med eller större än 50 kN, mätt vid ‧obelastat bord‧ och användbart i vibrationssystem som omfattas av avsnitt 2B116.a. |
| --- | --- |

d)

Stödkonstruktioner och elektroniska enheter utformade för att kombinera flera skakenheter till ett komplett skakbordsystem som kan åstadkomma en sammansatt effektiv kraft som är lika med eller större än 50 kN, mätt vid ‧obelastat bord‧ och användbart i vibrationssystem som omfattas av avsnitt 2B116.a.

:

Med ‧obelastat bord‧ avses i avsnitt 2B116 ett arbetsbord eller yta utan fixtur eller fastspänningsanordningar.

2B117Utrustning och processregleringssystem, andra än de som omfattas av avsnitt 2B004, 2B005.a., 2B104 eller 2B105, som konstruerats eller modifierats för förtätning och pyrolys av raketdysor och nosspetsar på farkoster för återinträde i jordatmosfären.

2B119Balanseringsmaskiner och tillhörande utrustning enligt följande:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 2B219. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | Balanseringsmaskiner som har samtliga följande egenskaper:






  1. | Kan inte balansera rotorer/enheter som har en massa som överstiger 3 kg. |
| --- | --- | --- |

a)

Balanseringsmaskiner som har samtliga följande egenskaper:

1.

Kan inte balansera rotorer/enheter som har en massa som överstiger 3 kg.

| 2. | Kan balansera rotorer/enheter vid hastigheter som överstiger 12 500 varv/min. |
| --- | --- |

2.

Kan balansera rotorer/enheter vid hastigheter som överstiger 12 500 varv/min.

| 3. | Kan korrigera obalans i minst två plan. |
| --- | --- |

3.

Kan korrigera obalans i minst två plan.

| 4. | Kan balansera till en specifik återstående obalans av 0,2 gmm per kg rotormassa.







  : | Avsnitt 2B119.a omfattar inte balanseringsmaskiner som är konstruerade eller modifierade för tandläkarutrustning eller annan medicinsk utrustning. |
| --- | --- | --- |

4.

Kan balansera till en specifik återstående obalans av 0,2 gmm per kg rotormassa.

:

| b) | Avläsningsenheter som är konstruerade eller modifierade för att användas i maskiner som omfattas av avsnitt 2B119.a.

  :


  Avläsningsenheter betecknas ibland som balanseringsinstrument. |
| --- | --- |

b)

Avläsningsenheter som är konstruerade eller modifierade för att användas i maskiner som omfattas av avsnitt 2B119.a.

:

Avläsningsenheter betecknas ibland som balanseringsinstrument.

2B120Rörelsesimulatorer eller vridbara bord med samtliga följande egenskaper:

| a) | Minst två axlar. |
| --- | --- |

a)

Minst två axlar.

| b) | Konstruerade eller modifierade för att innehålla släpringar eller integrerade kontaktfria anordningar som kan överföra elkraft, signalinformation eller båda delarna. |
| --- | --- |

b)

Konstruerade eller modifierade för att innehålla släpringar eller integrerade kontaktfria anordningar som kan överföra elkraft, signalinformation eller båda delarna.

| c) | Har någon av följande egenskaper:






  1. | Alla följande egenskaper hos varje enskild axel:






  a) | Kan vridas minst 400 grader/s eller högst 30 grader/s, och |
| --- | --- | --- | --- |

c)

Har någon av följande egenskaper:

1.

Alla följande egenskaper hos varje enskild axel:

a)

Kan vridas minst 400 grader/s eller högst 30 grader/s, och

| b) | En hastighetsupplösning på högst 6 grader/s och en noggrannhet på lika med eller mindre än 0,6 grader/s. |
| --- | --- |

b)

En hastighetsupplösning på högst 6 grader/s och en noggrannhet på lika med eller mindre än 0,6 grader/s.

| 2. | Har en hastighetsstabilitet som i sämsta fall är lika med eller bättre (mindre) än +/- 0,05 % som ett genomsnitt över 10 grader eller mer, eller |
| --- | --- |

2.

Har en hastighetsstabilitet som i sämsta fall är lika med eller bättre (mindre) än +/- 0,05 % som ett genomsnitt över 10 grader eller mer, eller

| 3. | En positionerings "noggrannhet" som är lika med eller mindre (bättre) än 5 bågsekunder.







  : | Avsnitt 2B120 omfattar inte vridbara bord som är konstruerade eller modifierade för verktygsmaskiner eller för medicinsk utrustning. Vridbara bord för verktygsmaskiner omfattas av avsnitt 2B008. |
| --- | --- | --- |

3.

En positionerings "noggrannhet" som är lika med eller mindre (bättre) än 5 bågsekunder.

:

| : | Rörelsesimulatorer eller vridbara bord som anges i avsnitt 2B120 omfattas oavsett om släpringar eller integrerade kontaktfria anordningar är monterade eller ej vid tidpunkten för exporten. |
| --- | --- |

:

2B121Positioneringsbord (utrustning med möjlighet till exakt rotationspositionering i var och en av axlarna), andra än de som omfattas av avsnitt 2B120, med samtliga följande egenskaper:

| a) | Minst två axlar, och |
| --- | --- |

a)

Minst två axlar, och

| b) | En positionerings "noggrannhet" som är lika med eller mindre (bättre) än 5 bågsekunder. |
| --- | --- |

b)

En positionerings "noggrannhet" som är lika med eller mindre (bättre) än 5 bågsekunder.

| : | Avsnitt 2B121 omfattar inte vridbara bord som är konstruerade eller modifierade för verktygsmaskiner eller för medicinsk utrustning. Vridbara bord för verktygsmaskiner omfattas av avsnitt 2B008. |
| --- | --- |

:

2B122Centrifuger som kan åstadkomma accelerationer på mer än 100 g och som är konstruerade eller modifierade för att innehålla släpringar eller integrerade kontaktfria anordningar som kan överföra elkraft, signalinformation eller båda delarna.

| : | Centrifuger som anges i avsnitt 2B122 omfattas oavsett om släpringar eller kontaktfria anordningar är monterade eller ej vid tidpunkten för exporten. |
| --- | --- |

:

2B201Verktygsmaskiner och alla kombinationer av dessa, andra än de som omfattas av avsnitt 2B001, enligt följande, för avlägsnande eller fräsning av metaller, keramer eller "kompositer" som enligt tillverkarens tekniska specifikationer kan utrustas med elektronisk styrning för simultan styrning av minst två axlar för att uppnå "konturstyrning":

| a) | Verktygsmaskiner för fräsning som har någon av följande egenskaper:






  1. | Positioneringsnoggrannheten med "alla tillgängliga kompensationer" är lika med eller mindre (bättre) än 6 μm enligt ISO 230/2 (1988) (4) eller nationella motsvarigheter längs med någon linjär axel, eller |
| --- | --- | --- |

a)

Verktygsmaskiner för fräsning som har någon av följande egenskaper:

1.

Positioneringsnoggrannheten med "alla tillgängliga kompensationer" är lika med eller mindre (bättre) än 6 μm enligt ISO 230/2 (1988) (4) eller nationella motsvarigheter längs med någon linjär axel, eller

| 2. | minst två roterande axlar som kan utföra konturslipning.







  : | Avsnitt 2B201.a omfattar inte fräsmaskiner som har följande egenskaper:







  a) | X-axelns förflyttning större än 2 m, och |
| --- | --- | --- | --- |

2.

minst två roterande axlar som kan utföra konturslipning.

:

a)

X-axelns förflyttning större än 2 m, och

| b) | totala positioneringsnoggrannheten hos x-axeln är mer (sämre) än 30 μm. |
| --- | --- |

b)

totala positioneringsnoggrannheten hos x-axeln är mer (sämre) än 30 μm.

| b) | Verktygsmaskiner för slipning som har någon av följande egenskaper:






  1. | Positioneringsnoggrannheten med "alla tillgängliga kompensationer" är lika med eller mindre (bättre) än 4 μm enligt ISO 230/2 (1988) (4) eller nationella motsvarigheter längs med någon linjär axel, eller |
| --- | --- | --- |

b)

Verktygsmaskiner för slipning som har någon av följande egenskaper:

1.

Positioneringsnoggrannheten med "alla tillgängliga kompensationer" är lika med eller mindre (bättre) än 4 μm enligt ISO 230/2 (1988) (4) eller nationella motsvarigheter längs med någon linjär axel, eller

| 2. | Minst två roterande axlar som kan utföra konturslipning. |
| --- | --- |

2.

Minst två roterande axlar som kan utföra konturslipning.

| : | Avsnitt 2B201.b omfattar inte följande slipmaskiner:







  a) | Rundslipmaskiner för invändig, utvändig eller kombinerad invändig och utvändig slipning som har samtliga följande egenskaper:








  1. | Kapaciteten är begränsad till ett arbetsstycke som är högst 150 mm i ytterdiameter eller längd. |
| --- | --- | --- | --- |

:

a)

Rundslipmaskiner för invändig, utvändig eller kombinerad invändig och utvändig slipning som har samtliga följande egenskaper:

1.

Kapaciteten är begränsad till ett arbetsstycke som är högst 150 mm i ytterdiameter eller längd.

| 2. | Begränsade till x-, z- och c-axlar. |
| --- | --- |

2.

Begränsade till x-, z- och c-axlar.

| b) | Jiggslipmaskiner som inte har en z- eller w-axel med en total positioneringsnoggrannhet som är mindre (bättre) än 4μm enligt ISO 230/2 (1988) (4) eller nationella motsvarigheter. |
| --- | --- |

b)

Jiggslipmaskiner som inte har en z- eller w-axel med en total positioneringsnoggrannhet som är mindre (bättre) än 4μm enligt ISO 230/2 (1988) (4) eller nationella motsvarigheter.

| : | Avsnitt 2B201 omfattar inte verktygsmaskiner för särskilda ändamål som endast är avsedda för tillverkning av någon av följande delar:







  a) | Kuggar. |
| --- | --- | --- |

:

a)

Kuggar.

| b) | Kam- eller vevaxlar. |
| --- | --- |

b)

Kam- eller vevaxlar.

| c) | Verktyg eller fräsar. |
| --- | --- |

c)

Verktyg eller fräsar.

| d) | Matarskruvar. |
| --- | --- |

d)

Matarskruvar.

| : | En verktygsmaskin som klarar minst två av de tre funktionerna svarvning, fräsning och slipning (t.ex. en svarv med fräsningsfunktion) ska bedömas efter vart och ett av de relevanta avsnitten 2B001.a, 2B201.a eller 2B201.b. |
| --- | --- |

:

2B204"Isostatiska pressar", andra än de som omfattas av avsnitt 2B004 eller 2B104, och tillhörande utrustning enligt följande:

| a) | "Isostatiska pressar" som har följande två egenskaper:






  1. | Kan uppnå ett maximalt arbetstryck av 69 MPa eller högre, och |
| --- | --- | --- |

a)

"Isostatiska pressar" som har följande två egenskaper:

1.

Kan uppnå ett maximalt arbetstryck av 69 MPa eller högre, och

| 2. | har ett kammarutrymme med en innerdiameter över 152 mm. |
| --- | --- |

2.

har ett kammarutrymme med en innerdiameter över 152 mm.

| b) | Matriser, formar och styrutrustning, speciellt konstruerade för "isostatiska pressar" som specificeras i avsnitt 2B204.a. |
| --- | --- |

b)

Matriser, formar och styrutrustning, speciellt konstruerade för "isostatiska pressar" som specificeras i avsnitt 2B204.a.

:

I avsnitt 2B204 avses med innerdiameter den del av arbetskammaren där arbetstemperatur och -tryck kan hållas. I diametern ska inte inräknas utrymme för lasthållare. Innerdiametern är den mindre av tryckkammarens eller den isolerade ugnskammarens, beroende på vilken av de två som är placerad i den andra.

2B206Mät- och inspektionsutrustning, andra än de som omfattas av avsnitt 2B006, enligt följande:

| a) | Datorstyrda eller numeriskt styrda koordinatmätningsmaskiner (CMM) med båda följande egenskaper:






  1. | Två eller fler axlar, och |
| --- | --- | --- |

a)

Datorstyrda eller numeriskt styrda koordinatmätningsmaskiner (CMM) med båda följande egenskaper:

1.

Två eller fler axlar, och

| 2. | en maximalt tillåten längdmätosäkerhet (E0,MPE) längs någon (endimensionell) axel, identifierad som E0x, E0y eller E0z, som är lika med eller mindre (bättre) än (1,25 + L/1 000) μm (där L är den uppmätta längden i mm) vid någon punkt inom maskinens räckvidd (dvs. inom axelns längd), testad enligt ISO 10360-2(2009). |
| --- | --- |

2.

en maximalt tillåten längdmätosäkerhet (E0,MPE) längs någon (endimensionell) axel, identifierad som E0x, E0y eller E0z, som är lika med eller mindre (bättre) än (1,25 + L/1 000) μm (där L är den uppmätta längden i mm) vid någon punkt inom maskinens räckvidd (dvs. inom axelns längd), testad enligt ISO 10360-2(2009).

| b) | System för samtidig linjär mätning och vinkelmätning av ett halvskal som har båda följande egenskaper:






  1. | "Mätosäkerheten" längs med någon linjär axel är lika med eller mindre (bättre) än 3,5 μm per 5 mm, och |
| --- | --- | --- |

b)

System för samtidig linjär mätning och vinkelmätning av ett halvskal som har båda följande egenskaper:

1.

"Mätosäkerheten" längs med någon linjär axel är lika med eller mindre (bättre) än 3,5 μm per 5 mm, och

| 2. | "vinkelavvikelsen från en position" är lika med eller mindre (bättre) än 0,02°. |
| --- | --- |

2.

"vinkelavvikelsen från en position" är lika med eller mindre (bättre) än 0,02°.

| : | Verktygsmaskiner som kan användas som mät- eller avsyningsmaskiner ska kontrolleras om de motsvarar eller överskrider kriterierna för verktygsmaskiner eller mät- och avsyningsmaskiner. |
| --- | --- |

:

| : | En maskin som beskrivs i avsnitt 2B206 omfattas om den överstiger angivna parametrar någonstans inom sitt arbetsområde. |
| --- | --- |

:

:

Alla parametrar för mätvärden enligt avsnitt 2B206 motsvarar plus/minus, dvs. inte hela bandet.

2B207"Robotar", "manipulatorer" och styrsystem som inte omfattas av avsnitt 2B007, enligt följande:

| a) | "Robotar" eller "manipulatorer" som är speciellt konstruerade för att uppfylla nationella säkerhetsbestämmelser för hantering av högexplosiva ämnen (t.ex. uppfyller elektriska märkdata för högexplosiva ämnen). |
| --- | --- |

a)

"Robotar" eller "manipulatorer" som är speciellt konstruerade för att uppfylla nationella säkerhetsbestämmelser för hantering av högexplosiva ämnen (t.ex. uppfyller elektriska märkdata för högexplosiva ämnen).

| b) | Styrsystem speciellt konstruerade för de "robotar" och "manipulatorer" som anges i avsnitt 2B207.a. |
| --- | --- |

b)

Styrsystem speciellt konstruerade för de "robotar" och "manipulatorer" som anges i avsnitt 2B207.a.

2B209Maskiner för tryckvalsning, maskiner för trycksvarvning med tryckvalsande funktioner, andra än de som anges i avsnitten 2B009 eller 2B109, och dorn enligt följande:

| a) | Maskiner som har följande två egenskaper:






  1. | Tre eller fler rullar (aktiva eller styrnings-), och |
| --- | --- | --- |

a)

Maskiner som har följande två egenskaper:

1.

Tre eller fler rullar (aktiva eller styrnings-), och

| 2. | som enligt tillverkarens specifikation kan utrustas med "numerisk styrning" eller datorkontroll. |
| --- | --- |

2.

som enligt tillverkarens specifikation kan utrustas med "numerisk styrning" eller datorkontroll.

| b) | Rotorskapande dorn konstruerade för att bilda rotorer med en inre diameter på mellan 75 mm och 400 mm. |
| --- | --- |

b)

Rotorskapande dorn konstruerade för att bilda rotorer med en inre diameter på mellan 75 mm och 400 mm.

| : | Avsnitt 2B209.a omfattar maskiner som endast har en rulle för att deformera metallen plus två extra rullar som understöder dornen men som inte direkt deltar i processen. |
| --- | --- |

:

2B219Maskiner för centrifugalbalansering i flera plan, stationära eller portabla, horisontella eller vertikala, enligt följande:

| a) | Maskiner för centrifugalbalansering konstruerade för balansering av böjliga rotorer med en längd av 600 mm eller mer och som uppfyller samtliga följande villkor:






  1. | Axeltappdiameter större än 75 mm. |
| --- | --- | --- |

a)

Maskiner för centrifugalbalansering konstruerade för balansering av böjliga rotorer med en längd av 600 mm eller mer och som uppfyller samtliga följande villkor:

1.

Axeltappdiameter större än 75 mm.

| 2. | Balanserar vikter från 0,9 kg till 23 kg, och |
| --- | --- |

2.

Balanserar vikter från 0,9 kg till 23 kg, och

| 3. | kan balansera med en rotationshastighet större än 5 000 varv/min. |
| --- | --- |

3.

kan balansera med en rotationshastighet större än 5 000 varv/min.

| b) | Maskiner för centrifugalbalansering konstruerade för balansering av ihåliga cylindriska rotorkomponenter, som uppfyller samtliga följande villkor:






  1. | Axeltappdiameter större än 75 mm. |
| --- | --- | --- |

b)

Maskiner för centrifugalbalansering konstruerade för balansering av ihåliga cylindriska rotorkomponenter, som uppfyller samtliga följande villkor:

1.

Axeltappdiameter större än 75 mm.

| 2. | Balanserar vikter från 0,9 kg till 23 kg. |
| --- | --- |

2.

Balanserar vikter från 0,9 kg till 23 kg.

| 3. | Balanserar till en återstående obalans lika med eller mindre än 0,01 kg × mm/kg per plan, och |
| --- | --- |

3.

Balanserar till en återstående obalans lika med eller mindre än 0,01 kg × mm/kg per plan, och

| 4. | Använder remdrift. |
| --- | --- |

4.

Använder remdrift.

2B225Fjärrstyrda manipulatorer som överför fjärrstyrd mekanisk rörelse vid radiokemisk separation eller i s.k. hot cells, som har någon av följande egenskaper:

| a) | Kan arbeta genom en vägg med en tjocklek av 0,6 m eller mer, eller |
| --- | --- |

a)

Kan arbeta genom en vägg med en tjocklek av 0,6 m eller mer, eller

| b) | kan överbrygga en skiljevägg med en tjocklek av 0,6 m eller mer. |
| --- | --- |

b)

kan överbrygga en skiljevägg med en tjocklek av 0,6 m eller mer.

:

Fjärrstyrda manipulatorer överför en mänsklig operatörs handlande till en fjärrstyrd arbetande arm med ett avslutande verktyg. Överföringen kan vara av master-slave-typ eller styrd av styrpinne (joystick) eller knappsats.

2B226Induktionsugnar med kontrollerad atmosfär (genom vakuum eller inert gas) och kraftförsörjning till dessa enligt följande:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 3B. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | Ugnar med alla följande egenskaper:






  1. | Kan arbeta vid temperaturer över 1 123 K (850 °C), |
| --- | --- | --- |

a)

Ugnar med alla följande egenskaper:

1.

Kan arbeta vid temperaturer över 1 123 K (850 °C),

| 2. | har induktionsspolar med 600 mm i diameter eller mindre, och |
| --- | --- |

2.

har induktionsspolar med 600 mm i diameter eller mindre, och

| 3. | är konstruerade för en ingångseffekt på minst 5 kW. |
| --- | --- |

3.

är konstruerade för en ingångseffekt på minst 5 kW.

| b) | Kraftförsörjning med en specificerad utgångseffekt på minst 5 kW, särskilt konstruerade för ugnar specificerade i 2B.226.a. |
| --- | --- |

b)

Kraftförsörjning med en specificerad utgångseffekt på minst 5 kW, särskilt konstruerade för ugnar specificerade i 2B.226.a.

| : | Avsnitt 2B226.a omfattar inte ugnar konstruerade för behandling av halvledarwafers. |
| --- | --- |

:

2B227Vakuumkontrollerade eller andra ugnar med kontrollerad atmosfär för smältning och gjutning av metall och därtill hörande utrustning enligt följande:

| a) | Omsmältningsugnar (ljusbåge) och gjutugnar med följande två egenskaper:






  1. | Elektrodåtgång mellan 1 000 cm3 och 20 000 cm3, och |
| --- | --- | --- |

a)

Omsmältningsugnar (ljusbåge) och gjutugnar med följande två egenskaper:

1.

Elektrodåtgång mellan 1 000 cm3 och 20 000 cm3, och

| 2. | som kan arbeta med smälttemperaturer över 1 973 K (1 700 °C). |
| --- | --- |

2.

som kan arbeta med smälttemperaturer över 1 973 K (1 700 °C).

| b) | Ugnar med elektronstrålesmältning samt plasmaatomisering och smältning med följande två egenskaper:






  1. | En effekt på minst 50 kW och |
| --- | --- | --- |

b)

Ugnar med elektronstrålesmältning samt plasmaatomisering och smältning med följande två egenskaper:

1.

En effekt på minst 50 kW och

| 2. | som kan arbeta med smälttemperaturer över 1 473 K (1 200 °C). |
| --- | --- |

2.

som kan arbeta med smälttemperaturer över 1 473 K (1 200 °C).

| c) | Datorstyrning och datorövervakning speciellt utformade för någon av ugnarna i avsnitt 2B227.a eller 2B227.b. |
| --- | --- |

c)

Datorstyrning och datorövervakning speciellt utformade för någon av ugnarna i avsnitt 2B227.a eller 2B227.b.

2B228Utrustning för tillverkning, sammansättning och upplinjering av rotorer för gascentrifuger, bälgformande dorn och formar enligt följande:

| a) | Utrustning för hopsättning av rotorrörsektioner för gascentrifuger, mellanväggar och ändstycken.







  : | Avsnitt 2B228.a omfattar precisionsdorn, inspänningsanordningar och maskiner för krymppassning. |
| --- | --- | --- |

a)

Utrustning för hopsättning av rotorrörsektioner för gascentrifuger, mellanväggar och ändstycken.

:

| b) | Utrustning för upplinjering av rotorrörsektioner längs en gemensam axel.

  :


  I avsnitt 2B228.b består sådan utrustning vanligen av precisionsmätprobar kopplade till en dator som kontrollerar exempelvis pneumatiska kolvar som används för att rikta rörsektionerna. |
| --- | --- |

b)

Utrustning för upplinjering av rotorrörsektioner längs en gemensam axel.

:

I avsnitt 2B228.b består sådan utrustning vanligen av precisionsmätprobar kopplade till en dator som kontrollerar exempelvis pneumatiska kolvar som används för att rikta rörsektionerna.

| c) | Bälgformande dorn och formar för produktion av bälgar med en enkel utbuktning.

  :


  I avsnitt 2B228.c ska bälgarna ha alla följande egenskaper:








  1. | Innerdiameter mellan 75 mm och 400 mm. |
| --- | --- | --- |

c)

Bälgformande dorn och formar för produktion av bälgar med en enkel utbuktning.

:

I avsnitt 2B228.c ska bälgarna ha alla följande egenskaper:

1.

Innerdiameter mellan 75 mm och 400 mm.

| 2. | Längd 12,7 mm eller mer. |
| --- | --- |

2.

Längd 12,7 mm eller mer.

| 3. | Utbuktningsdjup större än 2 mm, och |
| --- | --- |

3.

Utbuktningsdjup större än 2 mm, och

| 4. | Tillverkade av höghållfasta aluminium-legeringar, maråldrat stål eller höghållfasta "fibrer eller fiberliknande material". |
| --- | --- |

4.

Tillverkade av höghållfasta aluminium-legeringar, maråldrat stål eller höghållfasta "fibrer eller fiberliknande material".

2B230"Tryckgivare" som kan mäta absolut tryck i området 0 till 13 kPa och som har följande två egenskaper:

| a) | Tryckkännande element tillverkat av eller skyddat av aluminium eller aluminiumlegering, nickel eller nickellegering med mer än 60 viktprocent nickel, och |
| --- | --- |

a)

Tryckkännande element tillverkat av eller skyddat av aluminium eller aluminiumlegering, nickel eller nickellegering med mer än 60 viktprocent nickel, och

| b) | någon av följande egenskaper:






  1. | Fullt skalutslag är mindre än 13 kPa och ‧noggrannheten‧ bättre än ± 1 % av fullt skalutslag, eller |
| --- | --- | --- |

b)

någon av följande egenskaper:

1.

Fullt skalutslag är mindre än 13 kPa och ‧noggrannheten‧ bättre än ± 1 % av fullt skalutslag, eller

| 2. | fullt skalutslag är 13 kPa eller mer och ‧noggrannheten‧ är bättre än ± 130 Pa. |
| --- | --- |

2.

fullt skalutslag är 13 kPa eller mer och ‧noggrannheten‧ är bättre än ± 130 Pa.

:

Med ‧noggrannhet‧ avses i avsnitt 2B230 ett värde som innefattar icke-linjäritet, hysteres och repeterbarhet vid omgivningstemperaturen.

2B231Vakuumpumpar som har alla följande egenskaper:

| a) | Insugningsrör med en diameter 380 mm eller mer, |
| --- | --- |

a)

Insugningsrör med en diameter 380 mm eller mer,

| b) | pumphastighet av 15 m3/s eller högre, och |
| --- | --- |

b)

pumphastighet av 15 m3/s eller högre, och

| c) | kan åstadkomma ett slutvakuum bättre än 13 mPa. |
| --- | --- |

c)

kan åstadkomma ett slutvakuum bättre än 13 mPa.

:

| 1. | Pumphastigheten bestäms vid mätpunkten med kväve eller luft. |
| --- | --- |

1.

| 2. | Slutvakuumet bestäms i pumpens ingång med pumpens inlopp blockerat. |
| --- | --- |

2.

2B232Flerstegs lättgaskanoner eller andra höghastighetskanonsystem (coil-gun, elektromagnetiska och elektrotermiska typer och andra avancerade system) som kan accelerera projektiler till 2 km/s eller mer.

2B350Hjälpmedel, utrustning och komponenter för kemisk tillverkning enligt följande:

| a) | Reaktorkärl eller reaktorer, med eller utan omrörare, med en total inre (geometrisk) volym större än 0,1 m3(100 liter) och mindre än 20 m3(20 000 liter), där alla ytor som kommer i direkt kontakt med den kemikalie som bearbetas eller innesluts är gjorda av något av följande material:






  1. | ‧Legeringar‧ med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom. |
| --- | --- | --- |

a)

Reaktorkärl eller reaktorer, med eller utan omrörare, med en total inre (geometrisk) volym större än 0,1 m3(100 liter) och mindre än 20 m3(20 000 liter), där alla ytor som kommer i direkt kontakt med den kemikalie som bearbetas eller innesluts är gjorda av något av följande material:

1.

‧Legeringar‧ med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom.

| 2. | Fluorpolymerer (polymer- eller elastomermaterial som innehåller mer än 35 viktprocent fluor). |
| --- | --- |

2.

Fluorpolymerer (polymer- eller elastomermaterial som innehåller mer än 35 viktprocent fluor).

| 3. | Glas (inklusive keramiskt bunden eller emaljerad beläggning eller glasinfodring). |
| --- | --- |

3.

Glas (inklusive keramiskt bunden eller emaljerad beläggning eller glasinfodring).

| 4. | Nickel eller ‧legeringar‧ med mer än 40 viktprocent nickel. |
| --- | --- |

4.

Nickel eller ‧legeringar‧ med mer än 40 viktprocent nickel.

| 5. | Tantal eller tantal ‧legeringar‧. |
| --- | --- |

5.

Tantal eller tantal ‧legeringar‧.

| 6. | Titan eller titan ‧legeringar‧. |
| --- | --- |

6.

Titan eller titan ‧legeringar‧.

| 7. | Zirkonium eller zirkonium ‧legeringar‧, eller |
| --- | --- |

7.

Zirkonium eller zirkonium ‧legeringar‧, eller

| 8. | Niob (columbium) eller niob ‧legeringar‧. |
| --- | --- |

8.

Niob (columbium) eller niob ‧legeringar‧.

| b) | Omrörare för användning i reaktionskärl eller reaktorer enligt avsnitt 2B350.a, samt impellrar, blad eller axlar konstruerade för sådana omrörare, där alla omrörarens ytor som kommer i direkt kontakt med den kemikalie som bearbetas eller innesluts är gjorda av något av följande material:






  1. | ‧Legeringar‧ med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom. |
| --- | --- | --- |

b)

Omrörare för användning i reaktionskärl eller reaktorer enligt avsnitt 2B350.a, samt impellrar, blad eller axlar konstruerade för sådana omrörare, där alla omrörarens ytor som kommer i direkt kontakt med den kemikalie som bearbetas eller innesluts är gjorda av något av följande material:

1.

‧Legeringar‧ med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom.

| 2. | Fluorpolymerer (polymer- eller elastomermaterial som innehåller mer än 35 viktprocent fluor). |
| --- | --- |

2.

Fluorpolymerer (polymer- eller elastomermaterial som innehåller mer än 35 viktprocent fluor).

| 3. | Glas (inklusive keramiskt bundna eller emaljerade beläggningar eller glasinfodring). |
| --- | --- |

3.

Glas (inklusive keramiskt bundna eller emaljerade beläggningar eller glasinfodring).

| 4. | Nickel eller ‧legeringar‧ med mer än 40 viktprocent nickel. |
| --- | --- |

4.

Nickel eller ‧legeringar‧ med mer än 40 viktprocent nickel.

| 5. | Tantal eller tantal ‧legeringar‧. |
| --- | --- |

5.

Tantal eller tantal ‧legeringar‧.

| 6. | Titan eller titan ‧legeringar‧. |
| --- | --- |

6.

Titan eller titan ‧legeringar‧.

| 7. | Zirkonium eller zirkonium ‧legeringar‧, eller |
| --- | --- |

7.

Zirkonium eller zirkonium ‧legeringar‧, eller

| 8. | Niob (columbioum) eller niob ‧legeringar‧. |
| --- | --- |

8.

Niob (columbioum) eller niob ‧legeringar‧.

| c) | Lagertankar, reservoarer eller behållare med en total inre (geometrisk) volym större än 0,1 m3 (100 liter) där alla ytor som kommer i direkt kontakt med den kemikalie som bearbetas eller innesluts är gjorda av något av följande material:






  1. | ‧Legeringar‧ med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom. |
| --- | --- | --- |

c)

Lagertankar, reservoarer eller behållare med en total inre (geometrisk) volym större än 0,1 m3 (100 liter) där alla ytor som kommer i direkt kontakt med den kemikalie som bearbetas eller innesluts är gjorda av något av följande material:

1.

‧Legeringar‧ med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom.

| 2. | Fluorpolymerer (polymer- eller elastomermaterial som innehåller mer än 35 viktprocent fluor). |
| --- | --- |

2.

Fluorpolymerer (polymer- eller elastomermaterial som innehåller mer än 35 viktprocent fluor).

| 3. | Glas (inklusive keramiskt bunden eller emaljerad beläggning eller glasinfodring). |
| --- | --- |

3.

Glas (inklusive keramiskt bunden eller emaljerad beläggning eller glasinfodring).

| 4. | Nickel eller ‧legeringar‧ med mer än 40 viktprocent nickel. |
| --- | --- |

4.

Nickel eller ‧legeringar‧ med mer än 40 viktprocent nickel.

| 5. | Tantal eller tantal ‧legeringar‧. |
| --- | --- |

5.

Tantal eller tantal ‧legeringar‧.

| 6. | Titan eller titan ‧legeringar‧. |
| --- | --- |

6.

Titan eller titan ‧legeringar‧.

| 7. | Zirkonium eller zirkonium ‧legeringar‧, eller |
| --- | --- |

7.

Zirkonium eller zirkonium ‧legeringar‧, eller

| 8. | Niob (columbium) eller niob ‧legeringar‧. |
| --- | --- |

8.

Niob (columbium) eller niob ‧legeringar‧.

| d) | Värmeväxlare eller kondensorer med en värmeöverföringsyta större än 0,15 m2 och mindre än 20 m2, samt rör, plattor, slingor eller block (kylpaket) konstruerade för sådana värmeväxlare eller kondensorer, där alla ytor som kommer i direkt kontakt med den kemikalie som behandlas är gjorda av något av följande material:






  1. | ‧Legeringar‧ med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom. |
| --- | --- | --- |

d)

Värmeväxlare eller kondensorer med en värmeöverföringsyta större än 0,15 m2 och mindre än 20 m2, samt rör, plattor, slingor eller block (kylpaket) konstruerade för sådana värmeväxlare eller kondensorer, där alla ytor som kommer i direkt kontakt med den kemikalie som behandlas är gjorda av något av följande material:

1.

‧Legeringar‧ med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom.

| 2. | Fluorpolymerer (polymer- eller elastomermaterial som innehåller mer än 35 viktprocent fluor). |
| --- | --- |

2.

Fluorpolymerer (polymer- eller elastomermaterial som innehåller mer än 35 viktprocent fluor).

| 3. | Glas (inklusive keramiskt bunden eller emaljerad beläggning eller glasinfodring). |
| --- | --- |

3.

Glas (inklusive keramiskt bunden eller emaljerad beläggning eller glasinfodring).

| 4. | Grafit eller ‧kolgrafit‧. |
| --- | --- |

4.

Grafit eller ‧kolgrafit‧.

| 5. | Nickel eller ‧legeringar‧ med mer än 40 viktprocent nickel. |
| --- | --- |

5.

Nickel eller ‧legeringar‧ med mer än 40 viktprocent nickel.

| 6. | Tantal eller tantal ‧legeringar‧. |
| --- | --- |

6.

Tantal eller tantal ‧legeringar‧.

| 7. | Titan eller titan ‧legeringar‧. |
| --- | --- |

7.

Titan eller titan ‧legeringar‧.

| 8. | Zirkonium eller zirkonium ‧legeringar‧, eller |
| --- | --- |

8.

Zirkonium eller zirkonium ‧legeringar‧, eller

| 9. | Kiselkarbid. |
| --- | --- |

9.

Kiselkarbid.

| 10. | Titankarbid. |
| --- | --- |

10.

Titankarbid.

| 11. | Niob (columbium) eller niob ‧legeringar‧. |
| --- | --- |

11.

Niob (columbium) eller niob ‧legeringar‧.

| e) | Destillations- eller absorptionskolonner med en innerdiameter större än 0,1 m, samt vätskefördelare, ångfördelare eller vätskeuppsamlare konstruerade för sådana destillations- eller absorptionskolonner, där alla ytor som kommer i direkt kontakt med den kemikalie som bearbetas är gjorda av något av följande material:






  1. | ‧Legeringar‧ med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom. |
| --- | --- | --- |

e)

Destillations- eller absorptionskolonner med en innerdiameter större än 0,1 m, samt vätskefördelare, ångfördelare eller vätskeuppsamlare konstruerade för sådana destillations- eller absorptionskolonner, där alla ytor som kommer i direkt kontakt med den kemikalie som bearbetas är gjorda av något av följande material:

1.

‧Legeringar‧ med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom.

| 2. | Fluorpolymerer (polymer- eller elastomermaterial som innehåller mer än 35 viktprocent fluor). |
| --- | --- |

2.

Fluorpolymerer (polymer- eller elastomermaterial som innehåller mer än 35 viktprocent fluor).

| 3. | Glas (inklusive keramiskt bunden eller emaljerad beläggning eller glasinfodring). |
| --- | --- |

3.

Glas (inklusive keramiskt bunden eller emaljerad beläggning eller glasinfodring).

| 4. | Grafit eller ‧kolgrafit‧. |
| --- | --- |

4.

Grafit eller ‧kolgrafit‧.

| 5. | Nickel eller ‧legeringar‧ med mer än 40 viktprocent nickel. |
| --- | --- |

5.

Nickel eller ‧legeringar‧ med mer än 40 viktprocent nickel.

| 6. | Tantal eller tantal ‧legeringar‧. |
| --- | --- |

6.

Tantal eller tantal ‧legeringar‧.

| 7. | Titan eller titan ‧legeringar‧. |
| --- | --- |

7.

Titan eller titan ‧legeringar‧.

| 8. | Zirkonium eller zirkonium ‧legeringar‧, eller |
| --- | --- |

8.

Zirkonium eller zirkonium ‧legeringar‧, eller

| 9. | Niob (columbium) eller niob ‧legeringar‧. |
| --- | --- |

9.

Niob (columbium) eller niob ‧legeringar‧.

| f) | Fjärrstyrda doseringsutrustningar där alla ytor som kommer i direkt kontakt med den kemikalie som behandlas är gjorda av något av följande material:






  1. | ‧Legeringar‧ med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom. |
| --- | --- | --- |

f)

Fjärrstyrda doseringsutrustningar där alla ytor som kommer i direkt kontakt med den kemikalie som behandlas är gjorda av något av följande material:

1.

‧Legeringar‧ med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom.

| 2. | Nickel eller ‧legeringar‧ med mer än 40 viktprocent nickel. |
| --- | --- |

2.

Nickel eller ‧legeringar‧ med mer än 40 viktprocent nickel.

| g) | Ventiler med en ‧nominell storlek‧ över 10 mm och hus (ventilhus) eller förformade infodringar som är konstruerade för sådana ventiler, i vilka alla ytor som kommer i direkt kontakt med den kemikalie som bearbetas eller innesluts är gjorda av något av följande material:






  1. | ‧Legeringar‧ med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom. |
| --- | --- | --- |

g)

Ventiler med en ‧nominell storlek‧ över 10 mm och hus (ventilhus) eller förformade infodringar som är konstruerade för sådana ventiler, i vilka alla ytor som kommer i direkt kontakt med den kemikalie som bearbetas eller innesluts är gjorda av något av följande material:

1.

‧Legeringar‧ med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom.

| 2. | Fluorpolymerer (polymer- eller elastomermaterial som innehåller mer än 35 viktprocent fluor). |
| --- | --- |

2.

Fluorpolymerer (polymer- eller elastomermaterial som innehåller mer än 35 viktprocent fluor).

| 3. | Glas (inklusive keramiskt bunden eller emaljerad beläggning eller glasinfodring). |
| --- | --- |

3.

Glas (inklusive keramiskt bunden eller emaljerad beläggning eller glasinfodring).

| 4. | Nickel eller ‧legeringar‧ med mer än 40 viktprocent nickel. |
| --- | --- |

4.

Nickel eller ‧legeringar‧ med mer än 40 viktprocent nickel.

| 5. | Tantal eller tantal ‧legeringar‧. |
| --- | --- |

5.

Tantal eller tantal ‧legeringar‧.

| 6. | Titan eller titan ‧legeringar‧. |
| --- | --- |

6.

Titan eller titan ‧legeringar‧.

| 7. | Zirkonium eller zirkonium ‧legeringar‧. |
| --- | --- |

7.

Zirkonium eller zirkonium ‧legeringar‧.

| 8. | Niob (columbium) eller niob ‧legeringar‧, eller |
| --- | --- |

8.

Niob (columbium) eller niob ‧legeringar‧, eller

| 9. | keramiska material enligt följande:






  a) | Kiselkarbid med en renhet av minst 80 viktprocent. |
| --- | --- | --- |

9.

keramiska material enligt följande:

a)

Kiselkarbid med en renhet av minst 80 viktprocent.

| b) | Aluminiumoxid med en renhet av minst 99,9 viktprocent. |
| --- | --- |

b)

Aluminiumoxid med en renhet av minst 99,9 viktprocent.

| c) | Zirkoniumoxid. |
| --- | --- |

c)

Zirkoniumoxid.

:

Med ‧nominell storlek‧ avses den mindre av in- och utloppsdiametrarna.

| h) | Flerväggiga rör försedda med en öppning för läckindikering, i vilka alla ytor som kommer i direkt kontakt med den kemikalie som bearbetas eller innesluts är gjorda av något av följande material:






  1. | ‧Legeringar‧ med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom. |
| --- | --- | --- |

h)

Flerväggiga rör försedda med en öppning för läckindikering, i vilka alla ytor som kommer i direkt kontakt med den kemikalie som bearbetas eller innesluts är gjorda av något av följande material:

1.

‧Legeringar‧ med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom.

| 2. | Fluorpolymerer (polymer- eller elastomermaterial som innehåller mer än 35 viktprocent fluor). |
| --- | --- |

2.

Fluorpolymerer (polymer- eller elastomermaterial som innehåller mer än 35 viktprocent fluor).

| 3. | Glas (inklusive keramiskt bunden eller emaljerad beläggning eller glasinfodring). |
| --- | --- |

3.

Glas (inklusive keramiskt bunden eller emaljerad beläggning eller glasinfodring).

| 4. | Grafit eller ‧kolgrafit‧. |
| --- | --- |

4.

Grafit eller ‧kolgrafit‧.

| 5. | Nickel eller ‧legeringar‧ med mer än 40 viktprocent nickel. |
| --- | --- |

5.

Nickel eller ‧legeringar‧ med mer än 40 viktprocent nickel.

| 6. | Tantal eller tantal ‧legeringar‧. |
| --- | --- |

6.

Tantal eller tantal ‧legeringar‧.

| 7. | Titan eller titan ‧legeringar‧. |
| --- | --- |

7.

Titan eller titan ‧legeringar‧.

| 8. | Zirkonium eller zirkonium ‧legeringar‧, eller |
| --- | --- |

8.

Zirkonium eller zirkonium ‧legeringar‧, eller

| 9. | Niob (columbium) eller niob ‧legeringar‧. |
| --- | --- |

9.

Niob (columbium) eller niob ‧legeringar‧.

| i) | Multipeltätade och tätningsfria pumpar som har en av tillverkaren specificerad flödeshastighet som är större än 0,6 m3/timme, eller vakuumpumpar med en av tillverkaren specificerad flödeshastighet större än 5 m3/timme (vid standardtemperatur (273 K (0 °C)) och tryck (101,3 kPa), samt hus (pumphus), förformade infodringar, impellrar, rotorer eller strålpumpsmunstycken konstruerade för sådana pumpar, i vilka alla ytor som kommer i direkt kontakt med den kemikalie som bearbetas eller innesluts är gjorda av något av följande material:






  1. | ‧Legeringar‧ med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom. |
| --- | --- | --- |

i)

Multipeltätade och tätningsfria pumpar som har en av tillverkaren specificerad flödeshastighet som är större än 0,6 m3/timme, eller vakuumpumpar med en av tillverkaren specificerad flödeshastighet större än 5 m3/timme (vid standardtemperatur (273 K (0 °C)) och tryck (101,3 kPa), samt hus (pumphus), förformade infodringar, impellrar, rotorer eller strålpumpsmunstycken konstruerade för sådana pumpar, i vilka alla ytor som kommer i direkt kontakt med den kemikalie som bearbetas eller innesluts är gjorda av något av följande material:

1.

‧Legeringar‧ med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom.

| 2. | Keramiska material. |
| --- | --- |

2.

Keramiska material.

| 3. | Ferrokisel (järnlegeringar med hög kiselhalt). |
| --- | --- |

3.

Ferrokisel (järnlegeringar med hög kiselhalt).

| 4. | Fluorpolymerer (polymer- eller elastomermaterial som innehåller mer än 35 viktprocent fluor). |
| --- | --- |

4.

Fluorpolymerer (polymer- eller elastomermaterial som innehåller mer än 35 viktprocent fluor).

| 5. | Glas (inklusive keramiskt bunden eller emaljerad beläggning eller glasinfodring). |
| --- | --- |

5.

Glas (inklusive keramiskt bunden eller emaljerad beläggning eller glasinfodring).

| 6. | Grafit eller ‧kolgrafit‧. |
| --- | --- |

6.

Grafit eller ‧kolgrafit‧.

| 7. | Nickel eller ‧legeringar‧ med mer än 40 viktprocent nickel. |
| --- | --- |

7.

Nickel eller ‧legeringar‧ med mer än 40 viktprocent nickel.

| 8. | Tantal eller tantal ‧legeringar‧. |
| --- | --- |

8.

Tantal eller tantal ‧legeringar‧.

| 9. | Titan eller titan ‧legeringar‧. |
| --- | --- |

9.

Titan eller titan ‧legeringar‧.

| 10. | Zirkonium eller zirkonium ‧legeringar‧, eller |
| --- | --- |

10.

Zirkonium eller zirkonium ‧legeringar‧, eller

| 11. | Niob (columbium) eller niob ‧legeringar‧. |
| --- | --- |

11.

Niob (columbium) eller niob ‧legeringar‧.

| j) | Förbränningsugnar utformade för att förstöra kemikalier som omfattas av avsnitt 1C350 vilka har särskilt utformade hanteringssystem för förbränningsprodukterna, särskilda hanteringshjälpmedel och en medeltemperatur i förbränningskammaren över 1 273 K (1 000 °C), i vilka alla ytor som kommer direkt i kontakt med förbränningsprodukterna är gjorda av eller beklädda med något av följande material:






  1. | ‧Legeringar‧ med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom. |
| --- | --- | --- |

j)

Förbränningsugnar utformade för att förstöra kemikalier som omfattas av avsnitt 1C350 vilka har särskilt utformade hanteringssystem för förbränningsprodukterna, särskilda hanteringshjälpmedel och en medeltemperatur i förbränningskammaren över 1 273 K (1 000 °C), i vilka alla ytor som kommer direkt i kontakt med förbränningsprodukterna är gjorda av eller beklädda med något av följande material:

1.

‧Legeringar‧ med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom.

| 2. | Keramer. |
| --- | --- |

2.

Keramer.

| 3. | Nickel eller ‧legeringar‧ med mer än 40 viktprocent nickel. |
| --- | --- |

3.

Nickel eller ‧legeringar‧ med mer än 40 viktprocent nickel.

:

| 1. | ‧Kolgrafit‧ är en sammansättning som består av amorft kol och grafit, där grafitinnehållet är åtta viktprocent eller mer. |
| --- | --- |

1.

| 2. | För materialen i förteckningarna ovan avses med termen ‧legering‧, när det inte anges någon specifik koncentration av någon beståndsdel, de legeringar i vilka den identifierade metallen förekommer i en högre viktprocentandel än någon annan beståndsdel. |
| --- | --- |

2.

2B351Övervakningssystem för giftig gas och för dem avsedda detekteringskomponenter, andra än de som anges i avsnitt 1A004, enligt följande, samt detektorer, sensoranordningar och ersättningsbara sensorpatroner

| a) | som är konstruerade för kontinuerlig drift och i stånd att upptäcka kemiska stridsmedel eller kemikalier som omfattas av avsnitt 1C350 vid en koncentration på mindre än 0,3 mg/m3, eller |
| --- | --- |

a)

som är konstruerade för kontinuerlig drift och i stånd att upptäcka kemiska stridsmedel eller kemikalier som omfattas av avsnitt 1C350 vid en koncentration på mindre än 0,3 mg/m3, eller

| b) | som är konstruerade för att upptäcka kemiska föreningar med en kolinesterashämmande funktion. |
| --- | --- |

b)

som är konstruerade för att upptäcka kemiska föreningar med en kolinesterashämmande funktion.

2B352Utrustning som kan användas vid hantering av biologiska material, enligt följande:

| a) | Kompletta biologiska säkerhetslaboratorier (complete biological containment facilities) av P3, P4 säkerhetsklass.

  :


  P3 eller P4 (BL3, BL4, L3, L4) säkerhetsklass finns specificerad i WHO Laboratory Biosafety manual (3:e upplagan, Genève, 2004). |
| --- | --- |

a)

Kompletta biologiska säkerhetslaboratorier (complete biological containment facilities) av P3, P4 säkerhetsklass.

:

P3 eller P4 (BL3, BL4, L3, L4) säkerhetsklass finns specificerad i WHO Laboratory Biosafety manual (3:e upplagan, Genève, 2004).

| b) | Fermentorer som kan odla patogena "mikroorganismer" eller virus eller som kan producera toxiner utan spridning av aerosoler, och som har en total kapacitet av 20 liter eller mer.

  :


  Fermentorer omfattar bioreaktorer, kemostater och system med kontinuerligt flöde. |
| --- | --- |

b)

Fermentorer som kan odla patogena "mikroorganismer" eller virus eller som kan producera toxiner utan spridning av aerosoler, och som har en total kapacitet av 20 liter eller mer.

:

Fermentorer omfattar bioreaktorer, kemostater och system med kontinuerligt flöde.

| c) | Centrifugalseparatorer som kan användas för kontinuerlig avskiljning, utan spridning av aerosoler, och som har samtliga följande egenskaper:






  1. | En flödeshastighet högre än 100 liter per timme. |
| --- | --- | --- |

c)

Centrifugalseparatorer som kan användas för kontinuerlig avskiljning, utan spridning av aerosoler, och som har samtliga följande egenskaper:

1.

En flödeshastighet högre än 100 liter per timme.

| 2. | Beståndsdelar av polerat rostfritt stål eller titan. |
| --- | --- |

2.

Beståndsdelar av polerat rostfritt stål eller titan.

| 3. | En avtätning mot läckage genom en eller flera tätningar mellan vilka upprätthålls ett kontinuerligt ångtryck, och |
| --- | --- |

3.

En avtätning mot läckage genom en eller flera tätningar mellan vilka upprätthålls ett kontinuerligt ångtryck, och

| 4. | en utformning så att de kan steriliseras i slutet tillstånd på plats. |
| --- | --- |

4.

en utformning så att de kan steriliseras i slutet tillstånd på plats.

:

Centrifugalseparatorer omfattar också dekanteringsutrustning.

| d) | Genomströmningsfilterutrustning (tangentiell) och komponenter, enligt följande:






  1. | Genomströmningsfilterutrustning (tangentiell) utformad för avskiljning av patogena mikroorganismer, virus, toxiner eller cellodlingar, utan spridning av aerosoler, som har båda följande egenskaper:






  a) | En total filteryta på 1 m2eller större. |
| --- | --- | --- | --- |

d)

Genomströmningsfilterutrustning (tangentiell) och komponenter, enligt följande:

1.

Genomströmningsfilterutrustning (tangentiell) utformad för avskiljning av patogena mikroorganismer, virus, toxiner eller cellodlingar, utan spridning av aerosoler, som har båda följande egenskaper:

a)

En total filteryta på 1 m2eller större.

| b) | Som har någon av följande egenskaper:






  1. | En utformning så att de kan steriliseras eller desinficeras på plats. |
| --- | --- | --- |

b)

Som har någon av följande egenskaper:

1.

En utformning så att de kan steriliseras eller desinficeras på plats.

| 2. | Använder filtreringskomponenter för engångsbruk. |
| --- | --- |

2.

Använder filtreringskomponenter för engångsbruk.

:

Med sterilisera avses i avsnitt 2B352.d.1.b eliminering av alla livskraftiga mikrober från utrustningen, med användning av antingen fysikaliska agens (t.ex. ånga) eller kemiska agens. Med desinficera avses dödande av eventuella mikrobiella smittämnen på utrustningen genom användning av kemiska agens med bakteriedödande effekt. Desinficering och sterilisering skiljer sig från hygienisering, som avser rengöringsåtgärder för att minska antalet mikrober på utrustningen, utan att alla mikrobiella smittämnen eller livskraftiga mikrober nödvändigtvis elimineras.

| 2. | Komponenter till genomströmningsfilterutrustning (tangentiell) (t.ex. moduler, element, kassetter, patroner, enheter eller skivor) med en filteryta som är 0,2 m2 eller större för varje komponent och som är konstruerade för användning i genomströmningsfilterutrustning (tangentiell) enligt avsnitt 2B352.d. |
| --- | --- |

2.

Komponenter till genomströmningsfilterutrustning (tangentiell) (t.ex. moduler, element, kassetter, patroner, enheter eller skivor) med en filteryta som är 0,2 m2 eller större för varje komponent och som är konstruerade för användning i genomströmningsfilterutrustning (tangentiell) enligt avsnitt 2B352.d.

| : | Avsnitt 2B352.d omfattar inte utrustning för omvänd osmos enligt tillverkarens specifikation. |
| --- | --- |

:

| e) | Ångsteriliserbar frystorkningsutrustning med en kylkapacitet av 10 kg is eller mer per dygn och mindre än 1 000 kg is per dygn. |
| --- | --- |

e)

Ångsteriliserbar frystorkningsutrustning med en kylkapacitet av 10 kg is eller mer per dygn och mindre än 1 000 kg is per dygn.

| f) | Skydds- och inneslutningsutrustning enligt följande:






  1. | Skyddskläder i form av hel- eller halvdräkter, eller kåpor som är beroende av bunden extern lufttillförsel och fungerar med övertryck.







  : | Avsnitt 2B352.f.1 omfattar inte dräkter som ska bäras med inbyggd andningsapparat. |
| --- | --- | --- | --- |

f)

Skydds- och inneslutningsutrustning enligt följande:

1.

Skyddskläder i form av hel- eller halvdräkter, eller kåpor som är beroende av bunden extern lufttillförsel och fungerar med övertryck.

:

| 2. | Biologiska säkerhetsskåp eller isolatorer från klass III med liknande prestandanormer.







  : | Med isolatorer avses i avsnitt 2B352.f.2 flyttbara isolatorer, torkskåp, anaerobatiska kammare, lådor med manövrering via handskar och laminarflowhuvar (slutna med vertikalt flöde). |
| --- | --- | --- |

2.

Biologiska säkerhetsskåp eller isolatorer från klass III med liknande prestandanormer.

:

| g) | Kammare vilka konstruerats för aerosoltestning (aerosolinhalationskammare) med "mikroorganismer", virus eller "toxiner" och som har en volym av 1 m3 eller mer. |
| --- | --- |

g)

Kammare vilka konstruerats för aerosoltestning (aerosolinhalationskammare) med "mikroorganismer", virus eller "toxiner" och som har en volym av 1 m3 eller mer.

2CMaterial

Inga.

2DProgramvara

2D001Annan "programvara" än den i 2D002 och som är speciellt framtagen för "utveckling", "produktion" eller "användning" av utrustning som anges i avsnitten 2A001 eller 2B001–2B009.

2D002"Programvara" för elektroniska enheter, även om den finns i en elektronisk utrustning eller i ett system, som möjliggör för denna utrustning eller detta system att fungera som en utrustning för "numerisk styrning" som simultant kan koordinera mer än fyra axlar för "konturstyrning".

| : | Avsnitt 2D002 omfattar inte "programvara" speciellt utformad eller modifierad för drift av verktygsmaskiner som inte anges i kategori 2. |
| --- | --- |

:

| : | Avsnitt 2D002 omfattar inte "programvara" för produkter som anges i avsnitt 2B002. Se avsnitt 2D001 för "programvara" för produkter som anges i avsnitt 2B002. |
| --- | --- |

:

2D101"Programvara" speciellt utformad eller modifierad för "användning" av utrustningar som anges i avsnitten 2B104, 2B105, 2B109, 2B116, 2B117 eller 2B119-2B122.

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 9D004. |
| --- | --- |

ANM.:

2D201"Programvara" speciellt utformad för "användning" av utrustning som anges i avsnitten 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B219 eller 2B227.

2D202"Programvara" speciellt utformad eller modifierad för "utveckling", "produktion" eller "användning" av utrustning som anges i avsnitt 2B201.

2D351"Programvara", annan än den som omfattas av avsnitt 1D003, speciellt utformad för "användning" av utrustning som anges i avsnitt 2B351.

2ETeknik

2E001"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik för "utveckling" av utrustning eller "programvara" som anges i avsnitten 2A, 2B eller 2D.

2E002"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik för "produktion" av utrustning som anges i avsnitten 2A eller 2B.

2E003Annan "teknik" enligt följande:

| a) | "Teknik" för "utveckling" av interaktiv grafik som en integrerad del i enheter för "numerisk styrning" för förberedelser eller ändringar av delprogram. |
| --- | --- |

a)

"Teknik" för "utveckling" av interaktiv grafik som en integrerad del i enheter för "numerisk styrning" för förberedelser eller ändringar av delprogram.

| b) | "Teknik" för metallbearbetningsprocesser enligt följande:






  1. | "Teknik" för konstruktion av verktyg, formar eller fixturer speciellt konstruerade för någon av följande processer:






  a) | "superplastisk bearbetning", |
| --- | --- | --- | --- |

b)

"Teknik" för metallbearbetningsprocesser enligt följande:

1.

"Teknik" för konstruktion av verktyg, formar eller fixturer speciellt konstruerade för någon av följande processer:

a)

"superplastisk bearbetning",

| b) | "diffusionsbondning", eller |
| --- | --- |

b)

"diffusionsbondning", eller

| c) | "direktverkande hydraulisk pressning". |
| --- | --- |

c)

"direktverkande hydraulisk pressning".

| 2. | Tekniska data som består av följande processmetoder eller parametrar och som används för att styra följande:






  a) | "Superplastisk bearbetning" av aluminium-, titan- eller "superlegeringar" genom






  1. | ytpreparering, |
| --- | --- | --- | --- |

2.

Tekniska data som består av följande processmetoder eller parametrar och som används för att styra följande:

a)

"Superplastisk bearbetning" av aluminium-, titan- eller "superlegeringar" genom

1.

ytpreparering,

| 2. | sträckhastighet, |
| --- | --- |

2.

sträckhastighet,

| 3. | temperatur, |
| --- | --- |

3.

temperatur,

| 4. | tryck. |
| --- | --- |

4.

tryck.

| b) | "Diffusionsbondning" av "superlegeringar" eller titanlegeringar genom






  1. | ytpreparering, |
| --- | --- | --- |

b)

"Diffusionsbondning" av "superlegeringar" eller titanlegeringar genom

1.

ytpreparering,

| 2. | temperatur, |
| --- | --- |

2.

temperatur,

| 3. | tryck. |
| --- | --- |

3.

tryck.

| c) | "Direktverkande hydraulisk pressning" av aluminium- eller titanlegeringar genom






  1. | tryck, |
| --- | --- | --- |

c)

"Direktverkande hydraulisk pressning" av aluminium- eller titanlegeringar genom

1.

tryck,

| 2. | cyklingstid. |
| --- | --- |

2.

cyklingstid.

| d) | "Varm isostatisk förtätning" av titanlegeringar, aluminiumlegeringar eller "superlegeringar" genom






  1. | temperatur, |
| --- | --- | --- |

d)

"Varm isostatisk förtätning" av titanlegeringar, aluminiumlegeringar eller "superlegeringar" genom

1.

temperatur,

| 2. | tryck, |
| --- | --- |

2.

tryck,

| 3. | cyklingstid. |
| --- | --- |

3.

cyklingstid.

| c) | "Teknik" för "utveckling" eller "produktion" av hydrauliska sträckbearbetningsmaskiner, inklusive formar härför, för tillverkning av flygplansskrov. |
| --- | --- |

c)

"Teknik" för "utveckling" eller "produktion" av hydrauliska sträckbearbetningsmaskiner, inklusive formar härför, för tillverkning av flygplansskrov.

| d) | "Teknik" för "utveckling" av generatorer för verktygsmaskiners instruktioner (t.ex. delprogram) från konstruktionsdata som finns inlagda i enheter för "numerisk styrning". |
| --- | --- |

d)

"Teknik" för "utveckling" av generatorer för verktygsmaskiners instruktioner (t.ex. delprogram) från konstruktionsdata som finns inlagda i enheter för "numerisk styrning".

| e) | "Teknik" för "utveckling" av integrerad "programvara" för inkorporering av expertsystem i enheter för "numerisk styrning" för att understödja avancerade beslut i s.k. shop floor operations. |
| --- | --- |

e)

"Teknik" för "utveckling" av integrerad "programvara" för inkorporering av expertsystem i enheter för "numerisk styrning" för att understödja avancerade beslut i s.k. shop floor operations.

| f) | "Teknik" för applicering av oorganiska ytbeläggningar eller oorganisk ytförändringsbeläggning (specificerade i kolumn 3 i följande tabell) till icke elektroniskt ledande substrat (specificerade i kolumn 2 i följande tabell) med en process som anges i kolumn 1 i följande tabell och som definieras i de tekniska anmärkningarna efter tabellen.







  : | Tabell och teknisk anmärkning återfinns efter avsnitt 2E301. |
| --- | --- | --- |

f)

"Teknik" för applicering av oorganiska ytbeläggningar eller oorganisk ytförändringsbeläggning (specificerade i kolumn 3 i följande tabell) till icke elektroniskt ledande substrat (specificerade i kolumn 2 i följande tabell) med en process som anges i kolumn 1 i följande tabell och som definieras i de tekniska anmärkningarna efter tabellen.

:

:

Denna tabell ska läsas för att specificera tekniken för en särskild beläggningsprocess endast då resultatet av ytbeläggningen i kolumn 3 är i ett stycke direkt mittför det relevanta substratet under kolumn 2. Till exempel, tekniska uppgifter om beläggningsprocessen med kemisk förångningsdeposition (CVD) är inbegripna för applicering av silicider till kol-kol-, keram- och metall-"matris"-"komposit" substrat, men är inte inbegripna för applicering av silicider till substrat av ‧hårdmetall innehållande volfram‧ (16) och ‧kiselkarbid‧ (18). I det andra fallet är den resulterande ytbeläggningen inte förtecknad i stycket under kolumn 3 direkt mittför stycket under kolumn 2 där ‧hårdmetall innehållande volfram‧ (16) och ‧kiselkarbid‧ (18) är förtecknade.

2E101"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik för "användning" av utrustning eller "programvara" som omfattas av avsnitten 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116, 2B119–2B122 eller 2D101.

2E201"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik för "användning" av utrustning eller "programvara" som omfattas av avsnitten 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b, 2B007.c, 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225–2B232, 2D201 eller 2D202.

2E301"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik för "användning" av varor som omfattas av avsnitten 2B350–2B352.

Tabell

Ytbeläggningstekniker

| 1. | Beläggningsprocess (1) (5) |
| --- | --- |

1.

Beläggningsprocess (1) (5)

| 2. | Substrat |
| --- | --- |

2.

Substrat

| 3. | Resultat av ytbeläggning |
| --- | --- |

3.

Resultat av ytbeläggning

| A. | Kemisk förångningsdeposition (CVD) |
| --- | --- |

A.

Kemisk förångningsdeposition (CVD)

"Superlegering"

Aluminider för interna genomgångar

Keramer (19) och glas med låg expansion (14)

Silicider

Karbider

Dielektriska lager (15)

Diamant

Diamantlikt kol (17)

Kol-kol, keram och metall-"matris"-"kompositer"

Silicider

Karbider

Svårsmälta metaller

Blandningar därav (4)

Dielektriska lager (15)

Aluminider

Legerade aluminider (2)

Bornitrid

Hårdmetall innehållande volfram (16) Kiselkarbid (18)

Karbider

Volfram

Blandningar därav (4)

Dielektriska lager (15)

Molybden och molybdenlegeringar

Dielektriska lager (15)

Beryllium och berylliumlegeringar

Dielektriska lager (15)

Diamant

Diamantlikt kol (17)

Detektorfönstermaterial (9)

Dielektriska lager (15)

Diamant

Diamantlikt kol (17)

| B. | Termisk förångning Fysisk förångningsdeposition (TE-PVD) |
| --- | --- |

B.

Termisk förångning Fysisk förångningsdeposition (TE-PVD)

| B.1 | Fysisk förångningsdeposition (PVD): Elektronstrålar (EB-PVD) |
| --- | --- |

B.1

Fysisk förångningsdeposition (PVD): Elektronstrålar (EB-PVD)

"Superlegeringar"

Kisellegeringar

Legerade aluminider (2)

MCrAlX (5)

Modifierat zirkonium (12)

Silicider

Aluminider

Blandningar därav (4)

Keramer (19) och glas med låg expansion (14)

Dielektriska lager (15)

Korrosionsbeständigt stål (7)

MCrAlX (5)

Modifierat zirkonium (12)

Blandningar därav (4)

Kol-kol, keram och metall-"matris"-"kompositer"

Silicider

Karbider

Svårsmälta metaller

Blandningar därav (4)

Dielektriska lager (15)

Bornitrid

Hårdmetall innehållande volfram (16), Kiselkarbid (18)

Karbider

Volfram

Blandningar därav (4)

Dielektriska lager (15)

Molybden och molybdenlegeringar

Dielektriska lager (15)

Beryllium och berylliumlegeringar

Dielektriska lager (15)

Borider

Beryllium

Detektorfönstermaterial (9)

Dielektriska lager (15)

Titanlegeringar (13)

Borider

Nitrider

| B.2 | Jonassisterad resistivt upphettad fysisk förångnings-deposition (PVD) (Jonplätering) |
| --- | --- |

B.2

Jonassisterad resistivt upphettad fysisk förångnings-deposition (PVD) (Jonplätering)

Keramer (19) och glas med låg expansion(14)

Dielektriska lager (15)

Diamantlikt kol (17)

Kol-kol, keram och metall-"matris"-"kompositer"

Dielektriska lager (15)

Hårdmetall innehållande volfram (16) Kiselkarbid

Dielektriska lager (15)

Molybden och molybdenlegeringar

Dielektriska lager (15)

Beryllium och berylliumlegeringar

Dielektriska lager (15)

Detektorfönstermaterial (9)

Dielektriska lager (15)

Diamantlikt kol (17)

| B.3 | Fysisk förångningsdeposition (PVD): "Laser" förångning |
| --- | --- |

B.3

Fysisk förångningsdeposition (PVD): "Laser" förångning

Keramer (19) och glas med låg expansion (14)

Silicider

Dielektriska lager (15)

Diamantlikt kol (17)

Kol-kol, keram och metall-"matris"-"kompositer"

Dielektriska lager (15)

Hårdmetall innehållande volfram (16) Kiselkarbid

Dielektriska lager (15)

Molybden och molybdenlegeringar

Dielektriska lager (15)

Beryllium och berylliumlegeringar

Dielektriska lager (15)

Detektorfönster-material (9)

Dielektriska lager (15)

Diamantlikt kol

| B.4 | Fysisk förångningsdeposition (PVD): katodstråleurladdning |
| --- | --- |

B.4

Fysisk förångningsdeposition (PVD): katodstråleurladdning

"Superlegeringar"

Legerade silicider

Legerade aluminider (2)

MCrAlX (5)

Polymerer (11) och organiska "matris"-"kompositer"

Borider

Karbider

Nitrider

Diamantlikt kol (17)

| C. | Pack cementation (se A ovan för out-of-pack cementation) (10) |
| --- | --- |

C.

Pack cementation (se A ovan för out-of-pack cementation) (10)

Kol-kol, keram och metall-"matris"-"kompositer"

Silicider

Karbider

Blandningar därav (4)

Titanlegeringar (13)

Silicider

Aluminider

Legerade aluminider (2)

Svårsmälta metaller och legeringar (8)

Silicider

Oxider

| D. | Plasmasprutning |
| --- | --- |

D.

Plasmasprutning

"Superlegeringar"

MCrAlX (5)

Modifierat zirkonium (12)

Blandningar därav (4)

Slipbar nickel-grafit

Slipbara material som innehåller Ni-Cr-Al

Slipbar Al-Si-polyester

Legerade aluminider (2)

Aluminiumlegeringar (6)

MCrAlX (5)

Modifierat zirkonium (12)

Silicider

Blandningar därav (4)

Svårsmälta metaller och legeringar (8)

Aluminider

Silicider

Karbider

Korrosionsbeständigt stål (7)

MCrAlX (5)

Modifierat zirkonium (12)

Blandningar därav (4)

Titanlegeringar (13)

Karbider

Aluminider

Silicider

Legerade aluminider (2)

Slipbar nickel-grafit

Slipbara material som innehåller Ni-Cr-Al

Slipbar Al-Si-polyester

| E. | Målningsbeläggning |
| --- | --- |

E.

Målningsbeläggning

Svårsmälta metaller och legeringar (8)

Brända silicider

Brända aluminider utom för resistiva värmeelement

Kol-kol, keram och metall-"matris"-"kompositer"

Silicider

Karbider

Blandningar därav (4)

| F. | Sputteringbeläggning |
| --- | --- |

F.

Sputteringbeläggning

"Superlegeringar"

Legerade silicider

Legerade aluminider (2)

Ädelmetallmodifierade aluminider (3)

MCrAlX (5)

Modifierat zirkonium (12)

Platina

Blandningar därav (4)

Keramer och glas med låg expansion (14)

Silicider

Platina

Blandningar därav (4)

Dielektriska lager (15)

Diamantlikt kol (17)

Titanlegeringar (13)

Borider

Nitrider

Oxider

Silicider

Aluminider

Legerade aluminider (2)

Karbider

Kol-kol, keram och metall-"matris"-"kompositer"

Silicider

Karbider

Svårsmälta metaller

Blandningar därav (4)

Dielektriska lager (15)

Bornitrid

Hårdmetall innehållande volfram (16) Kiselkarbid (18)

Karbider

Volfram

Blandningar därav (4)

Dielektriska lager (15)

Bornitrid

Molybden och molybdenlegeringar

Dielektriska lager (15)

Beryllium och berylliumlegeringar

Borider

Dielektriska lager (15)

Beryllium

Detektorfönstermaterial (9)

Dielektriska lager (15)

Diamantlikt kol (17)

Svårsmälta metaller och legeringar (8)

Aluminider

Silicider

Oxider

Karbider

| G. | Jonimplantation |
| --- | --- |

G.

Jonimplantation

Lagerstål för höga temperaturer

Tillsatser av krom, tantal eller niobium (columbium)

Titanlegeringar (13)

Borider

Nitrider

Beryllium och berylliumlegeringar

Borider

Hårdmetall innehållande volfram (16)

Karbider

Nitrider

Tabell – Ytbeläggningstekniker – Anmärkningar

| 1. | Termen ‧beläggningsprocess‧ omfattar såväl reparation och förbättring av ytbehandlingen som den ursprungliga ytbehandlingen. |
| --- | --- |

1.

Termen ‧beläggningsprocess‧ omfattar såväl reparation och förbättring av ytbehandlingen som den ursprungliga ytbehandlingen.

| 2. | Termen ‧legerade aluminidbeläggningar‧ omfattar enkel- eller flerstegsbeläggningar varvid ett eller flera ämnen överförs före eller samtidigt med aluminidbeläggningen även om dessa ämnen överförs med en annan ytbehandlingsmetod. Däremot omfattas inte upprepad användning av s.k. enkelstegs "pack cementation"-processer för att uppnå legerade aluminider. |
| --- | --- |

2.

Termen ‧legerade aluminidbeläggningar‧ omfattar enkel- eller flerstegsbeläggningar varvid ett eller flera ämnen överförs före eller samtidigt med aluminidbeläggningen även om dessa ämnen överförs med en annan ytbehandlingsmetod. Däremot omfattas inte upprepad användning av s.k. enkelstegs "pack cementation"-processer för att uppnå legerade aluminider.

| 3. | Termen ‧ädelmetallmodifierade aluminider‧ omfattar flerstegsbeläggningar varvid ädelmetallen eller ädelmetallerna påläggs med någon annan beläggningsprocess före påläggningen av aluminidbeläggningen. |
| --- | --- |

3.

Termen ‧ädelmetallmodifierade aluminider‧ omfattar flerstegsbeläggningar varvid ädelmetallen eller ädelmetallerna påläggs med någon annan beläggningsprocess före påläggningen av aluminidbeläggningen.

| 4. | Termen ‧blandningar därav‧ omfattar infiltrerade material, sorterade blandningar, hjälpbeläggningar och multilagerbeläggningar och erhålls genom en eller flera av de beläggningsprocesser som anges i tabellen. |
| --- | --- |

4.

Termen ‧blandningar därav‧ omfattar infiltrerade material, sorterade blandningar, hjälpbeläggningar och multilagerbeläggningar och erhålls genom en eller flera av de beläggningsprocesser som anges i tabellen.

| 5. | ‧MCrAlX‧ avser till en legerad beläggning där M står för kobolt, järn, nickel eller blandningar därav och X står för hafnium, yttrium, kisel, tantal oberoende av mängd eller andra avsiktliga tillsatser som är större än 0,01 viktprocent, i olika proportioner och kombinationer, utom






  a) | CoCrAlY-beläggningar som innehåller mindre än 22 viktprocent krom, mindre än 7 viktprocent aluminium och mindre än 2 viktprocent yttrium, |
| --- | --- | --- |

5.

‧MCrAlX‧ avser till en legerad beläggning där M står för kobolt, järn, nickel eller blandningar därav och X står för hafnium, yttrium, kisel, tantal oberoende av mängd eller andra avsiktliga tillsatser som är större än 0,01 viktprocent, i olika proportioner och kombinationer, utom

a)

CoCrAlY-beläggningar som innehåller mindre än 22 viktprocent krom, mindre än 7 viktprocent aluminium och mindre än 2 viktprocent yttrium,

| b) | CoCrAlY-beläggningar som innehåller 22–24 viktprocent krom, 10–12 viktprocent aluminium och 0,5-0,7 viktprocent yttrium, eller |
| --- | --- |

b)

CoCrAlY-beläggningar som innehåller 22–24 viktprocent krom, 10–12 viktprocent aluminium och 0,5-0,7 viktprocent yttrium, eller

| c) | NiCrAlY-beläggningar som innehåller 21–23 viktprocent krom, 10–12 viktprocent aluminium och 0,9-1,1 viktprocent yttrium. |
| --- | --- |

c)

NiCrAlY-beläggningar som innehåller 21–23 viktprocent krom, 10–12 viktprocent aluminium och 0,9-1,1 viktprocent yttrium.

| 6. | Med termen ‧aluminiumlegeringar‧ avses legeringar som har en brottgräns på minst 190 MPa mätt vid 293 K (20° C). |
| --- | --- |

6.

Med termen ‧aluminiumlegeringar‧ avses legeringar som har en brottgräns på minst 190 MPa mätt vid 293 K (20° C).

| 7. | Med termen ‧korrosionsbeständigt stål‧ avses AISI (American Iron and Steel Institute)- serien 300 eller motsvarande nationella standard för stål. |
| --- | --- |

7.

Med termen ‧korrosionsbeständigt stål‧ avses AISI (American Iron and Steel Institute)- serien 300 eller motsvarande nationella standard för stål.

| 8. | ‧Svårsmälta metaller och legeringar‧ omfattar följande metaller och deras legeringar: niobium (columbium), molybden, volfram och tantal. |
| --- | --- |

8.

‧Svårsmälta metaller och legeringar‧ omfattar följande metaller och deras legeringar: niobium (columbium), molybden, volfram och tantal.

| 9. | ‧Detektorfönstermaterial‧ enligt följande: aluminiumoxid, kisel, germanium, zinksulfid, zinkselenid, galliumarsenid, diamant, galliumfosfid, safir och följande metallhalogenider: detektorfönstermaterial som har en diameter som är större än 40 mm för zirkoniumfluorid och hafniumfluorid. |
| --- | --- |

9.

‧Detektorfönstermaterial‧ enligt följande: aluminiumoxid, kisel, germanium, zinksulfid, zinkselenid, galliumarsenid, diamant, galliumfosfid, safir och följande metallhalogenider: detektorfönstermaterial som har en diameter som är större än 40 mm för zirkoniumfluorid och hafniumfluorid.

| 10. | "Tekniken" för s.k. enstegs pack-cementation av massiva luftfolier omfattas inte av kategori 2. |
| --- | --- |

10.

"Tekniken" för s.k. enstegs pack-cementation av massiva luftfolier omfattas inte av kategori 2.

| 11. | ‧Polymerer‧ enligt följande: polyimid, polyester, polysulfid, polykarbonater och polyuretaner. |
| --- | --- |

11.

‧Polymerer‧ enligt följande: polyimid, polyester, polysulfid, polykarbonater och polyuretaner.

| 12. | Med ‧modifierat zirkonium‧ avses tillsatser av andra metalloxider (t.ex. kalciumoxid, magnesiumoxid, yttriumoxid, hafniumoxid, oxider till sällsynta jordmetaller) till zirkonium för att stabilisera speciella kristallografiska faser och faskompositioner. Termisk barriärbeläggning som görs av zirkonium modifierad med kalciumoxid eller magnesiumoxid genom blandning eller fusion omfattas inte. |
| --- | --- |

12.

Med ‧modifierat zirkonium‧ avses tillsatser av andra metalloxider (t.ex. kalciumoxid, magnesiumoxid, yttriumoxid, hafniumoxid, oxider till sällsynta jordmetaller) till zirkonium för att stabilisera speciella kristallografiska faser och faskompositioner. Termisk barriärbeläggning som görs av zirkonium modifierad med kalciumoxid eller magnesiumoxid genom blandning eller fusion omfattas inte.

| 13. | Med ‧titanlegeringar‧ avses endast rymdlegeringar som har en brottgräns som är minst 900 MPa mätt vid 293 K (20° C). |
| --- | --- |

13.

Med ‧titanlegeringar‧ avses endast rymdlegeringar som har en brottgräns som är minst 900 MPa mätt vid 293 K (20° C).

| 14. | Med ‧glas med låg expansion‧ avses glas med en termisk expansionskoefficient på högst 1 × 10-7 K-1 mätt vid 293 K (20° C). |
| --- | --- |

14.

Med ‧glas med låg expansion‧ avses glas med en termisk expansionskoefficient på högst 1 × 10-7 K-1 mätt vid 293 K (20° C).

| 15. | ‧Dielektriska lager‧ är beläggningar som är uppbyggda av flera lager isolationsmaterial i vilka interferensegenskaperna hos en konstruktion som är sammansatt av material med olika brytningsindex används så att reflexion, genomsläpplighet eller absorption erhålls vid olika våglängder. Med dielektriskta lager avses minst fyra dielektriska lager eller dielektriska/metall-"komposit"-lager. |
| --- | --- |

15.

‧Dielektriska lager‧ är beläggningar som är uppbyggda av flera lager isolationsmaterial i vilka interferensegenskaperna hos en konstruktion som är sammansatt av material med olika brytningsindex används så att reflexion, genomsläpplighet eller absorption erhålls vid olika våglängder. Med dielektriskta lager avses minst fyra dielektriska lager eller dielektriska/metall-"komposit"-lager.

| 16. | ‧Hårdmetall innehållande volframkarbid‧ omfattar inte skärande och bearbetande verktygsmaterial som består av volframkarbid/(kobolt, nickel), titankarbid/(kobolt, nickel), kromkarbid/nickel-krom och kromkarbid/nickel. |
| --- | --- |

16.

‧Hårdmetall innehållande volframkarbid‧ omfattar inte skärande och bearbetande verktygsmaterial som består av volframkarbid/(kobolt, nickel), titankarbid/(kobolt, nickel), kromkarbid/nickel-krom och kromkarbid/nickel.

| 17. | "Teknik" som är särskilt avsedd för beläggning av diamantlikt kol på något av följande omfattas inte:
  Diskettstationer samt läs- och skrivhuvuden, utrustning för tillverkning av engångsmaterial, ventiler för kranar, akustiska membran för högtalare, motordelar till bilar, skärverktyg, stans- och pressmatriser, kontorsmaskiner, mikrofoner och medicintekniska produkter eller formar för plastgjutning eller plastformning, tillverkade av legeringar som innehåller mindre än 5 % beryllium. |
| --- | --- |

17.

"Teknik" som är särskilt avsedd för beläggning av diamantlikt kol på något av följande omfattas inte:

Diskettstationer samt läs- och skrivhuvuden, utrustning för tillverkning av engångsmaterial, ventiler för kranar, akustiska membran för högtalare, motordelar till bilar, skärverktyg, stans- och pressmatriser, kontorsmaskiner, mikrofoner och medicintekniska produkter eller formar för plastgjutning eller plastformning, tillverkade av legeringar som innehåller mindre än 5 % beryllium.

| 18. | ‧Kiselkarbid‧ omfattar inte skärande och bearbetande verktygsmaterial. |
| --- | --- |

18.

‧Kiselkarbid‧ omfattar inte skärande och bearbetande verktygsmaterial.

| 19. | Keramiska substrat i denna punkt omfattar inte keramiska material som innehåller minst 5 viktprocent lera eller cement, antingen som separata beståndsdelar eller i kombination. |
| --- | --- |

19.

Keramiska substrat i denna punkt omfattar inte keramiska material som innehåller minst 5 viktprocent lera eller cement, antingen som separata beståndsdelar eller i kombination.

Tabell – Ytbeläggningstekniker – Tekniska Anmärkningar

De processer som anges i kolumn 1 i tabellen definieras enligt följande:

| a) | Kemisk förångningsdeposition (CVD) är en ytbehandlings- eller ytförändringsprocess varvid metall, legering, "komposit", ett dielektrikum eller en keram deponeras på ett upphettat substrat. Reaktansgaserna sönderdelas eller kombineras i närheten av substratet, varvid en beläggning sker på substratet av det önskade grundämnet, den önskade legeringen eller kompositmaterialet. Energi för denna sönderdelning eller kemiska reaktionsprocess kan erhållas från värmen i substratet, en glimurladdningsplasma eller från upphettning med "laser"-strålning.







  : | CVD omfattar följande processer: beläggning med ett gasflöde out-of-pack-beläggning, pulserande CVD, styrd termisk kärnbildande nedbrytningsprocess (CNTD), plasmaförstärkta eller plasmaassisterade CVD-processer. |
| --- | --- | --- |

a)

Kemisk förångningsdeposition (CVD) är en ytbehandlings- eller ytförändringsprocess varvid metall, legering, "komposit", ett dielektrikum eller en keram deponeras på ett upphettat substrat. Reaktansgaserna sönderdelas eller kombineras i närheten av substratet, varvid en beläggning sker på substratet av det önskade grundämnet, den önskade legeringen eller kompositmaterialet. Energi för denna sönderdelning eller kemiska reaktionsprocess kan erhållas från värmen i substratet, en glimurladdningsplasma eller från upphettning med "laser"-strålning.

:

| : | Med pack menas ett substrat som är inbakat i en pulverblandning. |
| --- | --- |

:

| : | De reaktansgaser som används i en out-of-pack-process produceras med hjälp av samma basreaktioner och parametrar som pack cementation-processen, med undantag av att substratet som ska beläggas inte är i kontakt med pulverblandningen. |
| --- | --- |

:

| b) | Termisk förångning – fysisk förångningsdeposition (TE-PVD) är en ytbeläggningsprocess som sker i vakuum vid ett tryck som är lägre än 0,1 Pa varvid en termisk energikälla används för att förånga beläggningsmaterialet. Denna process resulterar i en kondensation eller en beläggning av det förångade materialet på lämpligt placerade substrat.
  Tillsatsen av gaser i vakuumkammaren under beläggningsprocessen för att skapa blandad beläggning är en vanlig modifiering av denna process.
  Användningen av jon- eller elektronstrålar eller plasma för att aktivera eller assistera vid beläggningen är också en vanlig modifikation av denna teknik. Användningen av monitorer för att under processen mäta beläggningens optiska egenskaper och tjocklek kan utgöra en del av dessa processer.
  Specifika TE-PVD processer är följande:






  1. | Elektronstråle-PVD använder en elektronstråle för att upphetta och förånga det material som ska bilda beläggningen. |
| --- | --- | --- |

b)

Termisk förångning – fysisk förångningsdeposition (TE-PVD) är en ytbeläggningsprocess som sker i vakuum vid ett tryck som är lägre än 0,1 Pa varvid en termisk energikälla används för att förånga beläggningsmaterialet. Denna process resulterar i en kondensation eller en beläggning av det förångade materialet på lämpligt placerade substrat.

Tillsatsen av gaser i vakuumkammaren under beläggningsprocessen för att skapa blandad beläggning är en vanlig modifiering av denna process.

Användningen av jon- eller elektronstrålar eller plasma för att aktivera eller assistera vid beläggningen är också en vanlig modifikation av denna teknik. Användningen av monitorer för att under processen mäta beläggningens optiska egenskaper och tjocklek kan utgöra en del av dessa processer.

Specifika TE-PVD processer är följande:

1.

Elektronstråle-PVD använder en elektronstråle för att upphetta och förånga det material som ska bilda beläggningen.

| 2. | Jonassisterad resistivt upphettad PVD arbetar med elektroresistiva värmekällor i kombination med direkt inverkan från jonstrålar för att producera ett kontrollerat och likformigt flöde av de förångade beläggningsmaterialen. |
| --- | --- |

2.

Jonassisterad resistivt upphettad PVD arbetar med elektroresistiva värmekällor i kombination med direkt inverkan från jonstrålar för att producera ett kontrollerat och likformigt flöde av de förångade beläggningsmaterialen.

| 3. | "Laser" förångning använder antingen pulsade eller kontinuerliga "laser" vågor för att förånga det material som ska bilda beläggning. |
| --- | --- |

3.

"Laser" förångning använder antingen pulsade eller kontinuerliga "laser" vågor för att förånga det material som ska bilda beläggning.

| 4. | Katodstrålebeläggning arbetar med en katod av det material som ska bilda beläggning, varvid katoden förbrukas, och vid katoden uppstår en gnisturladdning på ytan genom en kortvarig jordkontakt med hjälp av en trigger. En styrd rörelse av gnistan urholkar katodytan och skapar ett kraftigt joniserat plasma. Anoden kan antingen vara en kon fastsatt till katodens periferi, med hjälp av isolatorer, eller till kammaren. Substratet förspänns så att icke-synlig beläggning kan ske.







  : | Denna definition omfattar inte slumpmässig katodstrålebeläggning utan förspänt substrat. |
| --- | --- | --- |

4.

Katodstrålebeläggning arbetar med en katod av det material som ska bilda beläggning, varvid katoden förbrukas, och vid katoden uppstår en gnisturladdning på ytan genom en kortvarig jordkontakt med hjälp av en trigger. En styrd rörelse av gnistan urholkar katodytan och skapar ett kraftigt joniserat plasma. Anoden kan antingen vara en kon fastsatt till katodens periferi, med hjälp av isolatorer, eller till kammaren. Substratet förspänns så att icke-synlig beläggning kan ske.

:

| 5. | Jonplätering är en speciell modifikation av den vanliga TE-PVD-processen, varvid ett plasma eller en jonkälla används för att jonisera de ämnen som ska användas för beläggning, och en negativ förspänning läggs på substratet för att underlätta extraktionen av de ämnen som ska deponeras från plasman. Införandet av reaktiva ämnen, förångning av fasta material i kammaren samt användning av monitorer för att under processen mäta beläggningens optiska egenskaper och tjocklek är vanliga modifieringar av denna process. |
| --- | --- |

5.

Jonplätering är en speciell modifikation av den vanliga TE-PVD-processen, varvid ett plasma eller en jonkälla används för att jonisera de ämnen som ska användas för beläggning, och en negativ förspänning läggs på substratet för att underlätta extraktionen av de ämnen som ska deponeras från plasman. Införandet av reaktiva ämnen, förångning av fasta material i kammaren samt användning av monitorer för att under processen mäta beläggningens optiska egenskaper och tjocklek är vanliga modifieringar av denna process.

| c) | "Pack Cementation" är en ytförändringsprocess eller en överlagringsbeläggningsprocess varvid substratet packas in i en pulverblandning ("pack") som består av






  1. | metallpulver som ska utgöra beläggningen (vanligtvis aluminium, krom, kisel eller kombinationer av dessa), |
| --- | --- | --- |

c)

"Pack Cementation" är en ytförändringsprocess eller en överlagringsbeläggningsprocess varvid substratet packas in i en pulverblandning ("pack") som består av

1.

metallpulver som ska utgöra beläggningen (vanligtvis aluminium, krom, kisel eller kombinationer av dessa),

| 2. | en aktivator (vanligtvis ett halogent salt), och |
| --- | --- |

2.

en aktivator (vanligtvis ett halogent salt), och

| 3. | ett ballastpulver, oftast aluminium. |
| --- | --- |

3.

ett ballastpulver, oftast aluminium.

Substratet och pulverblandningen placeras i en retort som upphettas till en temperatur mellan 1 030 K (757 °C) och 1 375 K (1 102 °C) i tillräckligt lång tid för att beläggningen ska ske.

| d) | Plasmasprutning är en ytbehandlingsprocess i vilken en kanon ("blåslampa"), som producerar och styr ett plasma tar emot pulver eller tråd av beläggningsmaterialet, smälter det och skjuter det mot ett substrat, varpå en integrerad sammanfogning sker. Plasmasprutning kan antingen ske som lågtryckssprutning eller höghastighetssprutning.







  : | Med lågtryck avses lägre tryck än omgivande atmosfärtryck. |
| --- | --- | --- |

d)

Plasmasprutning är en ytbehandlingsprocess i vilken en kanon ("blåslampa"), som producerar och styr ett plasma tar emot pulver eller tråd av beläggningsmaterialet, smälter det och skjuter det mot ett substrat, varpå en integrerad sammanfogning sker. Plasmasprutning kan antingen ske som lågtryckssprutning eller höghastighetssprutning.

:

| : | Med höghastighet avses en gashastighet vid sprutmunstycket som överskrider 750 m/s beräknat vid 293 K (20 °C) och 0,1 MPa. |
| --- | --- |

:

| e) | Målningsbeläggning är en ytförändringsprocess eller en överlagringsbeläggningsprocess i vilken ett metalliskt eller keramiskt pulver med ett organiskt bindemedel uppslammas i en vätska och appliceras på ett substrat genom antingen sprutning, doppning eller målning, med påföljande luft- eller ugnstorkning, samt värmebehandling för att uppnå önskad beläggning. |
| --- | --- |

e)

Målningsbeläggning är en ytförändringsprocess eller en överlagringsbeläggningsprocess i vilken ett metalliskt eller keramiskt pulver med ett organiskt bindemedel uppslammas i en vätska och appliceras på ett substrat genom antingen sprutning, doppning eller målning, med påföljande luft- eller ugnstorkning, samt värmebehandling för att uppnå önskad beläggning.

| f) | Sputteringbeläggning är en överlagringsbeläggningsprocess som baseras på impulsöverföringsfenomen, varvid positiva joner accelereras av ett elektriskt fält mot ytan av ett mål (beläggningsmaterialet). Den kinetiska energin hos de laddade jonerna är tillräcklig för att atomer från ytan ska frigöras och beläggas på det lämpligt placerade substratet.







  : | Tabellen hänvisar endast till triod-, magnetron- eller reaktiv sputteringbeläggning som används för att öka vidhäftningen av beläggningen samt radiofrekvent (RF)-förstärkt sputteringbeläggning som används för att tillåta förångning i icke metalliska beläggningsmaterial. |
| --- | --- | --- |

f)

Sputteringbeläggning är en överlagringsbeläggningsprocess som baseras på impulsöverföringsfenomen, varvid positiva joner accelereras av ett elektriskt fält mot ytan av ett mål (beläggningsmaterialet). Den kinetiska energin hos de laddade jonerna är tillräcklig för att atomer från ytan ska frigöras och beläggas på det lämpligt placerade substratet.

:

| : | Lågenergijonstrålar (mindre än 5 keV) kan användas för att aktivera beläggningen. |
| --- | --- |

:

| g) | Jonimplantation är en ytförändringsbeläggningsprocess i vilken det ämne som ska legeras joniseras, accelereras genom en potentialgradient och förs in till ytregionen för substratet. Detta inbegriper processer där jonimplantationen sker samtidigt med fysisk förångningsdeposition med elektronstråle eller sputteringbeläggning. |
| --- | --- |

g)

Jonimplantation är en ytförändringsbeläggningsprocess i vilken det ämne som ska legeras joniseras, accelereras genom en potentialgradient och förs in till ytregionen för substratet. Detta inbegriper processer där jonimplantationen sker samtidigt med fysisk förångningsdeposition med elektronstråle eller sputteringbeläggning.

KATEGORI 3

ELEKTRONIK

3ASystem, utrustningar och komponenter

| : | Kontrollstatusen för den utrustning och de komponenter som beskrivs i avsnitten 3A001 eller 3A002, förutom för de som beskrivs i avsnitten 3A001.a.3–3A001.a.10 eller 3A001.a.12, och som är speciellt konstruerade för eller som har samma funktionella egenskaper som annan utrustning, bestäms av den andra utrustningens kontrollstatus. |
| --- | --- |

:

| : | Kontrollstatusen för de integrerade kretsar som beskrivs i avsnitten 3A001.a.3–3A001.a.9 eller 3A001.a.12, och som är icke föränderligt programmerade till eller konstruerade för en speciell funktion för en annan utrustning bestäms av den andra utrustningens kontrollstatus.

  :


  Om en tillverkare eller sökande inte kan avgöra den andra utrustningens kontrollstatus, bestäms de integrerade kretsarnas kontrollstatus av avsnitten 3A001.a.3–3A001.a.9 och 3A001.a.12. |
| --- | --- |

:

:

Om en tillverkare eller sökande inte kan avgöra den andra utrustningens kontrollstatus, bestäms de integrerade kretsarnas kontrollstatus av avsnitten 3A001.a.3–3A001.a.9 och 3A001.a.12.

3A001Elektroniska komponenter och speciellt konstruerade komponenter till dessa, enligt följande:

| a) | Integrerade kretsar för allmänna ändamål, enligt följande:







  : | Kontrollstatusen för wafers (färdigbearbetade eller obearbetade), vars funktion har fastställts, ska bedömas efter parametrarna i avsnitt 3A001.a. |
| --- | --- | --- |

a)

Integrerade kretsar för allmänna ändamål, enligt följande:

:

| : | Integrerade kretsar omfattar följande typer:






  — | "Monolitiska integrerade kretsar". |
| --- | --- | --- |

:

—

"Monolitiska integrerade kretsar".

| — | "Integrerade hybridkretsar". |
| --- | --- |

—

"Integrerade hybridkretsar".

| — | "Integrerade multikretsar". |
| --- | --- |

—

"Integrerade multikretsar".

| — | "Integrerade kretsar av filmtyp" inklusive integrerade kretsar av typ kisel på safir. |
| --- | --- |

—

"Integrerade kretsar av filmtyp" inklusive integrerade kretsar av typ kisel på safir.

| — | "Optiska integrerade kretsar". |
| --- | --- |

—

"Optiska integrerade kretsar".

| 1. | Integrerade kretsar som har konstruerats eller specificerats för att vara motståndskraftiga mot en total strålning enligt någon av följande parametrar:






  a) | En total dos om minst 5 × 103 Gy (kisel), |
| --- | --- | --- |

1.

Integrerade kretsar som har konstruerats eller specificerats för att vara motståndskraftiga mot en total strålning enligt någon av följande parametrar:

a)

En total dos om minst 5 × 103 Gy (kisel),

| b) | en dosratsändring genom störning om minst 5 × 106 Gy (kisel)/s, eller |
| --- | --- |

b)

en dosratsändring genom störning om minst 5 × 106 Gy (kisel)/s, eller

| c) | en fluens (integrerat flöde) av neutroner (1 MeV ekvivalent) på 5 × 1013 n/cm2 eller högre på kisel, eller dess ekvivalent för andra material.







  : | 3A001 a.1 c gäller inte för halvledare av metallisolatortyp (MIS - Metal Insulator Semiconductors). |
| --- | --- | --- |

c)

en fluens (integrerat flöde) av neutroner (1 MeV ekvivalent) på 5 × 1013 n/cm2 eller högre på kisel, eller dess ekvivalent för andra material.

:

| 2. | "Mikroprocessor-mikrokretsar", "mikrodator-mikrokretsar", mikrocontroller-mikrokretsar, integrerade minneskretsar tillverkade av blandade halvledare, analog-till digital omvandlare, digital-till-analog-omvandlare, elektro-optiska eller "optiska integrerade kretsar" konstruerade för "signalbehandling", fältprogrammerbara logiska komponenter, kundanpassade integrerade kretsar för vilka antingen funktionen är okänd eller kontrollstatusen hos den utrustning i vilken kretsarna ska användas är okänd, processorer för Fast Fourier-transformation (FFT), elektriskt raderbara PROM-minnen (EEPROM), flash-minnen eller statiska RAM (SRAM) med någon av följande egenskaper:






  a) | Specificerade för drift i omgivningstemperaturer över 398 K (125 °C). |
| --- | --- | --- |

2.

"Mikroprocessor-mikrokretsar", "mikrodator-mikrokretsar", mikrocontroller-mikrokretsar, integrerade minneskretsar tillverkade av blandade halvledare, analog-till digital omvandlare, digital-till-analog-omvandlare, elektro-optiska eller "optiska integrerade kretsar" konstruerade för "signalbehandling", fältprogrammerbara logiska komponenter, kundanpassade integrerade kretsar för vilka antingen funktionen är okänd eller kontrollstatusen hos den utrustning i vilken kretsarna ska användas är okänd, processorer för Fast Fourier-transformation (FFT), elektriskt raderbara PROM-minnen (EEPROM), flash-minnen eller statiska RAM (SRAM) med någon av följande egenskaper:

a)

Specificerade för drift i omgivningstemperaturer över 398 K (125 °C).

| b) | Specificerade för drift i omgivningstemperaturer under 218 K (– 55 °C). |
| --- | --- |

b)

Specificerade för drift i omgivningstemperaturer under 218 K (– 55 °C).

| c) | Specificerade för drift i omgivningstemperaturer inkluderande hela intervallet från 218 K (– 55 °C) till och med 398 K (125 °C). |
| --- | --- |

c)

Specificerade för drift i omgivningstemperaturer inkluderande hela intervallet från 218 K (– 55 °C) till och med 398 K (125 °C).

| : | Avsnitt 3A001.a.2 gäller inte integrerade kretsar som konstruerats för civila bil- eller tågapplikationer. |
| --- | --- |

:

| 3. | "Mikroprocessor-mikrokretsar", "mikrodator-mikrokretsar" och mikrocontroller-mikrokretsar tillverkade av en halvledare med blandade material och som har en klockfrekvens som överstiger 40 MHz.







  : | Avsnitt 3A001.a.3 omfattar digitala signalprocessorer, digitala matrisprocessorer (array processors) och digitala hjälpprocessorer (coprocessors). |
| --- | --- | --- |

3.

"Mikroprocessor-mikrokretsar", "mikrodator-mikrokretsar" och mikrocontroller-mikrokretsar tillverkade av en halvledare med blandade material och som har en klockfrekvens som överstiger 40 MHz.

:

| 4. | Används inte. |
| --- | --- |

4.

Används inte.

| 5. | Integrerade kretsar med digitalomvandlare (ADC) och digital-till-analog-omvandlare (DAC) enligt följande:






  a) | ADC som har någon av följande egenskaper:







  ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 3A101. |
| --- | --- | --- | --- |

5.

Integrerade kretsar med digitalomvandlare (ADC) och digital-till-analog-omvandlare (DAC) enligt följande:

a)

ADC som har någon av följande egenskaper:

ANM.:

| 1. | En upplösning på 8 bitar eller mer, men mindre än 10 bitar, med en dataöverföringshastighet som är högre än 500 miljoner ord per sekund, |
| --- | --- |

1.

En upplösning på 8 bitar eller mer, men mindre än 10 bitar, med en dataöverföringshastighet som är högre än 500 miljoner ord per sekund,

| 2. | en upplösning på 10 bitar eller mer, men mindre än 12 bitar med en dataöverföringshastighet som är högre än 300 miljoner ord per sekund, |
| --- | --- |

2.

en upplösning på 10 bitar eller mer, men mindre än 12 bitar med en dataöverföringshastighet som är högre än 300 miljoner ord per sekund,

| 3. | en upplösning på 12 bitar med en dataöverföringshastighet som är högre än 200 miljoner ord per sekund, |
| --- | --- |

3.

en upplösning på 12 bitar med en dataöverföringshastighet som är högre än 200 miljoner ord per sekund,

| 4. | en upplösning på mer än 12 bitar, men högst 14 bitar med en dataöverföringshastighet som är högre än 125 miljoner ord per sekund, eller |
| --- | --- |

4.

en upplösning på mer än 12 bitar, men högst 14 bitar med en dataöverföringshastighet som är högre än 125 miljoner ord per sekund, eller

| 5. | en upplösning på mer än 14 bitar med en dataöverföringshastighet som är högre än 20 miljoner ord per sekund. |
| --- | --- |

5.

en upplösning på mer än 14 bitar med en dataöverföringshastighet som är högre än 20 miljoner ord per sekund.

:

| 1. | En upplösning på n bitar motsvarar en kvantisering av 2n nivåer. |
| --- | --- |

1.

| 2. | Antalet bitar i utdataord är lika med upplösningen i ADC:n. |
| --- | --- |

2.

| 3. | Dataöverföringshastigheten är omvandlarens maximala dataöverföringshastighet, oavsett arkitektur eller översampling. |
| --- | --- |

3.

| 4. | För ‧flerkanals-ADC‧ ska dataöverföringshastigheterna inte läggas ihop, och dataöverföringshastigheten är den maximala dataöverföringshastigheten för en enstaka kanal. |
| --- | --- |

4.

| 5. | För ‧interfolierade ADC‧ (interleaved ADC's) eller för ‧flerkanals-ADC‧ som är specificerad till att drivas interfolierat, ska dataöverföringshastigheterna läggas ihop och dataöverföringshastigheten är den maximala sammanlagda totala dataöverföringshastigheten av all dataöverföring. |
| --- | --- |

5.

| 6. | Säljare kan även med dataöverföringshastighet mena samplingshastigheten, omvandlingshastigheten eller kapaciteten. Den anges ofta i megahertz (MHz) eller miljoner sampel per sekund (Msps). |
| --- | --- |

6.

| 7. | I syfte att mäta överföringshastigheten motsvarar ett utdataord per sekund en hertz eller ett sampel per sekund. |
| --- | --- |

7.

| 8. | ‧Flerkanals-ADC‧ definieras som anordningar som integrerar mer än en ADC och har konstruerats så att varje ADC har en separat analog ingång. |
| --- | --- |

8.

| 9. | ‧Interfolierade ADC‧ (Interleaved ADC's) definieras som anordningar med flera ADC-enheter som samplar samma analoga ingång vid skilda tidpunkter så att den analoga insignalen, när utsignalerna läggs samman, faktiskt har samplats och konverterats med högre samplingshastighet. |
| --- | --- |

9.

| b) | Digitalomvandlare (DAC) som har någon av följande egenskaper:






  1. | En upplösning på minst 10 bitar med en ‧justerad uppdateringshastighet‧ på minst 3 500 Msps. |
| --- | --- | --- |

b)

Digitalomvandlare (DAC) som har någon av följande egenskaper:

1.

En upplösning på minst 10 bitar med en ‧justerad uppdateringshastighet‧ på minst 3 500 Msps.

| 2. | En upplösning på minst 12 bitar med en ‧justerad uppdateringshastighet‧ på minst 1 250 Msps och med






  a) | en "inställningstid" på mindre än 9 ns till nivån 0,024 % av fullskala från ett fullskalesteg, eller |
| --- | --- | --- |

2.

En upplösning på minst 12 bitar med en ‧justerad uppdateringshastighet‧ på minst 1 250 Msps och med

a)

en "inställningstid" på mindre än 9 ns till nivån 0,024 % av fullskala från ett fullskalesteg, eller

| b) | ett ‧spuriosfritt dynamiskt område‧ (SFDR) som är större än 68 dBc (bärare) vid syntetisering av en fullskalig analog signal på 100 MHz eller den högsta fullskaliga analoga signalen under 100 MHz. |
| --- | --- |

b)

ett ‧spuriosfritt dynamiskt område‧ (SFDR) som är större än 68 dBc (bärare) vid syntetisering av en fullskalig analog signal på 100 MHz eller den högsta fullskaliga analoga signalen under 100 MHz.

:

| 1. | ‧Spuriosfritt dynamiskt område‧ (SFDR) definieras som kvoten av RMS-värdet för bärfrekvensen (maximisignalkomponent) på digitalomvandlarens ingång och RMS-värdet av den näst största bruskomponenten eller komponenten av harmonisk distorsion på dess utgång. |
| --- | --- |

1.

| 2. | SFDR fastställs direkt i specifikationstabellen eller med utgångspunkt i karaktäriseringsdiagrammen med SFDR mot frekvens. |
| --- | --- |

2.

| 3. | En signal definieras som fullskalig när amplituden är större än -3 dBfs (full skala). |
| --- | --- |

3.

| 4. | ‧Justerad uppdateringshastighet‧ för DAC:







  a) | För konventionella (icke-interpolerande) DAC avses med ‧justerad uppdateringshastighet‧ den hastighet med vilken den digitala signalen omvandlas till en analog signal och utgångens analoga värden ändras av DAC. För DAC där det går att koppla förbi interpoleringsmoden (interpolationsfaktorn är ett), bör DAC anses vara konventionella (icke-interpolerande) DAC. |
| --- | --- | --- |

4.

a)

För konventionella (icke-interpolerande) DAC avses med ‧justerad uppdateringshastighet‧ den hastighet med vilken den digitala signalen omvandlas till en analog signal och utgångens analoga värden ändras av DAC. För DAC där det går att koppla förbi interpoleringsmoden (interpolationsfaktorn är ett), bör DAC anses vara konventionella (icke-interpolerande) DAC.

| b) | För en interpolerande DAC (översamplande DAC) definieras ‧justerad uppdateringshastighet‧ som DAC:ens uppdateringshastighet dividerat med den minsta interpolationsfaktorn. För en interpolerande DAC kan ‧justerad uppdateringshastighet‧ kallas







  — | indatahastighet (input data rate) |
| --- | --- | --- |

b)

För en interpolerande DAC (översamplande DAC) definieras ‧justerad uppdateringshastighet‧ som DAC:ens uppdateringshastighet dividerat med den minsta interpolationsfaktorn. För en interpolerande DAC kan ‧justerad uppdateringshastighet‧ kallas

—

indatahastighet (input data rate)

| — | inordhastighet (input word rate) |
| --- | --- |

—

inordhastighet (input word rate)

| — | insamplingshastighet (input sample rate) |
| --- | --- |

—

insamplingshastighet (input sample rate)

| — | högsta sammanlagda inbusshastighet (maximum total input bus rate) |
| --- | --- |

—

högsta sammanlagda inbusshastighet (maximum total input bus rate)

| — | högsta DAC-klockfrekvens för DAC-klockinsignalen. |
| --- | --- |

—

högsta DAC-klockfrekvens för DAC-klockinsignalen.

| 6. | Elektro-optiska eller "optiska integrerade kretsar" konstruerade för "signalbehandling" som har alla följande egenskaper:






  a) | En eller flera interna "laser"-dioder, |
| --- | --- | --- |

6.

Elektro-optiska eller "optiska integrerade kretsar" konstruerade för "signalbehandling" som har alla följande egenskaper:

a)

En eller flera interna "laser"-dioder,

| b) | en eller flera interna ljusdetekterande element, och |
| --- | --- |

b)

en eller flera interna ljusdetekterande element, och

| c) | optiska vågledare. |
| --- | --- |

c)

optiska vågledare.

| 7. | ‧Fältprogrammerbara logiska komponenter‧ med något av följande:






  a) | Det maximala antalet digitala inmatningar/utmatningar överstiger 200. |
| --- | --- | --- |

7.

‧Fältprogrammerbara logiska komponenter‧ med något av följande:

a)

Det maximala antalet digitala inmatningar/utmatningar överstiger 200.

| b) | Antalet systemgrindar överstiger 230 000. |
| --- | --- |

b)

Antalet systemgrindar överstiger 230 000.

| : | Avsnitt 3A001.a.7 omfattar följande:






  — | Enkla programmerbara logiska komponenter (SPLD) |
| --- | --- | --- |

:

—

Enkla programmerbara logiska komponenter (SPLD)

| — | Komplexa programmerbara logiska komponenter (CPLD) |
| --- | --- |

—

Komplexa programmerbara logiska komponenter (CPLD)

| — | Fältprogrammerbara grindmatriser (FPGA) |
| --- | --- |

—

Fältprogrammerbara grindmatriser (FPGA)

| — | Fältprogrammerbara logiska matriser (FPLA) |
| --- | --- |

—

Fältprogrammerbara logiska matriser (FPLA)

| — | Fältprogrammerbara kopplingar (FPIC) |
| --- | --- |

—

Fältprogrammerbara kopplingar (FPIC)

:

| 1. | ‧Fältprogrammerbara logiska komponenter‧ betecknas även fältprogrammerbara grindmatriser eller fältprogrammerbara logiska matriser. |
| --- | --- |

1.

‧Fältprogrammerbara logiska komponenter‧ betecknas även fältprogrammerbara grindmatriser eller fältprogrammerbara logiska matriser.

| 2. | Det maximala antalet digitala inmatningar/utmatningar i avsnitt 3A001.a.7.a betecknas också det maximala antalet inmatningar/utmatningar för användaren eller det maximala antalet tillgängliga inmatningar/utmatningar, oavsett om den integrerade kretsen är inkapslad eller ej. |
| --- | --- |

2.

Det maximala antalet digitala inmatningar/utmatningar i avsnitt 3A001.a.7.a betecknas också det maximala antalet inmatningar/utmatningar för användaren eller det maximala antalet tillgängliga inmatningar/utmatningar, oavsett om den integrerade kretsen är inkapslad eller ej.

| 8. | Används inte. |
| --- | --- |

8.

Används inte.

| 9. | Integrerade kretsar för neurala nätverk. |
| --- | --- |

9.

Integrerade kretsar för neurala nätverk.

| 10. | Kundanpassade integrerade kretsar för vilka antingen funktionen är okänd eller kretstillverkaren saknar uppgift om kontrollstatusen hos den utrustning där kretsarna ska ingå och där något av följande villkor är uppfyllt:






  a) | Fler än 1 500 anslutningar, |
| --- | --- | --- |

10.

Kundanpassade integrerade kretsar för vilka antingen funktionen är okänd eller kretstillverkaren saknar uppgift om kontrollstatusen hos den utrustning där kretsarna ska ingå och där något av följande villkor är uppfyllt:

a)

Fler än 1 500 anslutningar,

| b) | den "typiska grindfördröjningstiden" är kortare än 0,02 ns, eller |
| --- | --- |

b)

den "typiska grindfördröjningstiden" är kortare än 0,02 ns, eller

| c) | arbetsfrekvensen överstiger 3 GHz. |
| --- | --- |

c)

arbetsfrekvensen överstiger 3 GHz.

| 11. | Andra digitala kretsar än de som beskrivits i avsnitten 3A001.a.3–3A001.a.10 och 3A001.a.12 och som baseras på en blandning av halvledarmaterial, med något av följande:






  a) | Ett antal grindekvivalenter som är större än 3 000 (grindar med 2 ingångar), eller |
| --- | --- | --- |

11.

Andra digitala kretsar än de som beskrivits i avsnitten 3A001.a.3–3A001.a.10 och 3A001.a.12 och som baseras på en blandning av halvledarmaterial, med något av följande:

a)

Ett antal grindekvivalenter som är större än 3 000 (grindar med 2 ingångar), eller

| b) | en vippfrekvens som överstiger 1,2 GHz. |
| --- | --- |

b)

en vippfrekvens som överstiger 1,2 GHz.

| 12. | Processorer för Fast Fourier Transform (FFT) och som har en specificerad verkställighetstid som är mindre än (N log2N)/20 480 ms för en N-punkters komplex FFT, där N är antalet punkter.

  :


  När N är lika med 1 024 punkter ger formeln i 3A001.a.12 en verkställighetstid på 500 μs. |
| --- | --- |

12.

Processorer för Fast Fourier Transform (FFT) och som har en specificerad verkställighetstid som är mindre än (N log2N)/20 480 ms för en N-punkters komplex FFT, där N är antalet punkter.

:

När N är lika med 1 024 punkter ger formeln i 3A001.a.12 en verkställighetstid på 500 μs.

| b) | Mikrovåg- eller millimetervågutrustning, enligt följande:






  1. | Elektroniska vakuumrör och katoder enligt följande:







  : | Avsnitt 3A001.b.1 omfattar inte sådana rör som är tillverkade eller specificerade för att fungera i frekvensband och som uppfyller båda följande egenskaper:







  a) | De överstiger inte 31,8 GHz, och |
| --- | --- | --- | --- | --- |

b)

Mikrovåg- eller millimetervågutrustning, enligt följande:

1.

Elektroniska vakuumrör och katoder enligt följande:

:

a)

De överstiger inte 31,8 GHz, och

| b) | de är "tilldelade av ITU" för radiokommunikationstjänster, men inte för radiobestämning. |
| --- | --- |

b)

de är "tilldelade av ITU" för radiokommunikationstjänster, men inte för radiobestämning.

| : | Avsnitt 3A001.b.1 omfattar inte icke-"rymdkvalificerade" rör som uppfyller följande:







  a) | De har en genomsnittlig utgångseffekt på högst 50 W, och |
| --- | --- | --- |

:

a)

De har en genomsnittlig utgångseffekt på högst 50 W, och

| b) | de är tillverkade eller specificerade för att fungera i frekvensband som har alla följande egenskaper:








  1. | De överstiger 31,8 GHz, men överstiger inte 43.5 GHz, och |
| --- | --- | --- |

b)

de är tillverkade eller specificerade för att fungera i frekvensband som har alla följande egenskaper:

1.

De överstiger 31,8 GHz, men överstiger inte 43.5 GHz, och

| 2. | de är "tilldelade av ITU" för radiokommunikationstjänster men inte för radiobestämning. |
| --- | --- |

2.

de är "tilldelade av ITU" för radiokommunikationstjänster men inte för radiobestämning.

| a) | Vandringsvågrör, för pulsad eller kontinuerlig drift, enligt följande:






  1. | Rör som kan arbeta vid frekvenser som överstiger 31,8 GHz. |
| --- | --- | --- |

a)

Vandringsvågrör, för pulsad eller kontinuerlig drift, enligt följande:

1.

Rör som kan arbeta vid frekvenser som överstiger 31,8 GHz.

| 2. | Rör som har en katodupphettning som möjliggör full högfrekvensdrift på kortare tid än 3 s efter tillslag. |
| --- | --- |

2.

Rör som har en katodupphettning som möjliggör full högfrekvensdrift på kortare tid än 3 s efter tillslag.

| 3. | Rör som har kopplade kaviteter eller är utvecklingar av sådana rör med en "relativ bandbredd" som är större än 7 % eller en toppeffekt som överskrider 2,5 kW. |
| --- | --- |

3.

Rör som har kopplade kaviteter eller är utvecklingar av sådana rör med en "relativ bandbredd" som är större än 7 % eller en toppeffekt som överskrider 2,5 kW.

| 4. | Helix-rör, eller utvecklingar av dessa, som uppfyller något av följande:






  a) | De har en "effektbandbredd" som är mer än en oktav och produkten av den specificerade genomsnittliga uteffekten (uttryckt i kW) och den högsta arbetsfrekvensen (uttryckt i GHz) överstiger mätetalet 0,5, |
| --- | --- | --- |

4.

Helix-rör, eller utvecklingar av dessa, som uppfyller något av följande:

a)

De har en "effektbandbredd" som är mer än en oktav och produkten av den specificerade genomsnittliga uteffekten (uttryckt i kW) och den högsta arbetsfrekvensen (uttryckt i GHz) överstiger mätetalet 0,5,

| b) | de har en "effektbandbredd" som är en oktav eller mindre, och produkten av den specificerade uteffekten (uttryckt i kW) och den maximala specificerade arbetsfrekvensen (uttryckt i GHz) överstiger mätetalet 1, eller |
| --- | --- |

b)

de har en "effektbandbredd" som är en oktav eller mindre, och produkten av den specificerade uteffekten (uttryckt i kW) och den maximala specificerade arbetsfrekvensen (uttryckt i GHz) överstiger mätetalet 1, eller

| c) | de är "rymdkvalificerade". |
| --- | --- |

c)

de är "rymdkvalificerade".

| b) | Korsfältsförstärkarrör med en förstärkning på mer än 17 dB. |
| --- | --- |

b)

Korsfältsförstärkarrör med en förstärkning på mer än 17 dB.

| c) | Impregnerade katoder konstruerade för elektronrör som producerar en kontinuerlig emissionsströmtäthet på mer än 5 A/cm2. |
| --- | --- |

c)

Impregnerade katoder konstruerade för elektronrör som producerar en kontinuerlig emissionsströmtäthet på mer än 5 A/cm2.

| 2. | Effektförstärkare för ‧monolitiska integrerade kretsar‧ som arbetar inom mikrovågsområdet (MMIC-effektförstärkare) som uppfyller något av följande:






  a) | De är specificerade för frekvenser som överstiger 3,2 GHz, men inte 6,8 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 4 W (36 dBm) och med en "relativ bandbredd" som överstiger 15 %. |
| --- | --- | --- |

2.

Effektförstärkare för ‧monolitiska integrerade kretsar‧ som arbetar inom mikrovågsområdet (MMIC-effektförstärkare) som uppfyller något av följande:

a)

De är specificerade för frekvenser som överstiger 3,2 GHz, men inte 6,8 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 4 W (36 dBm) och med en "relativ bandbredd" som överstiger 15 %.

| b) | De är specificerade för frekvenser som överstiger 6,8 GHz, men inte 16 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 1 W (30 dBm) och med en "relativ bandbredd" som överstiger 10 %. |
| --- | --- |

b)

De är specificerade för frekvenser som överstiger 6,8 GHz, men inte 16 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 1 W (30 dBm) och med en "relativ bandbredd" som överstiger 10 %.

| c) | De är specificerade för frekvenser som överstiger 16 GHz, men inte 31,8 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 0,8 W (29 dBm) och med en "relativ bandbredd" som överstiger 10 %. |
| --- | --- |

c)

De är specificerade för frekvenser som överstiger 16 GHz, men inte 31,8 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 0,8 W (29 dBm) och med en "relativ bandbredd" som överstiger 10 %.

| d) | De är specificerade för frekvenser som överstiger 31,8 GHz, men inte 37,5 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 0,1 nW. |
| --- | --- |

d)

De är specificerade för frekvenser som överstiger 31,8 GHz, men inte 37,5 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 0,1 nW.

| e) | De är specificerade för frekvenser som överstiger 37,5 GHz, men inte 43,5 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 0,25 W (24 dBm) och med en "relativ bandbredd" som överstiger 10 %. |
| --- | --- |

e)

De är specificerade för frekvenser som överstiger 37,5 GHz, men inte 43,5 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 0,25 W (24 dBm) och med en "relativ bandbredd" som överstiger 10 %.

| f) | De är specificerade för frekvenser som överstiger 43,5 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 0,1 nW. |
| --- | --- |

f)

De är specificerade för frekvenser som överstiger 43,5 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 0,1 nW.

| : | Används inte. |
| --- | --- |

:

| : | Kontrollstatusen för MMIC vars specificerade arbetsfrekvens omfattar frekvenser i mer än ett frekvensområde, enligt definitionen i avsnitt 3A001.b.2.a-3A001.b.2.f, bestäms genom angivna parametrar för lägsta genomsnittliga utgångseffekt. |
| --- | --- |

:

| : | Anm. 1 och 2 i 3A anger att avsnitt 3A001.b.2 inte omfattar MMIC som speciellt är konstruerade för andra tillämpningar, t.ex. telekommunikation, radar och bilar. |
| --- | --- |

:

| 3. | Diskreta mikrovågstransistorer som uppfyller något av följande villkor:






  a) | De är specificerade för frekvenser som överstiger 3,2 GHz, men inte 6,8 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 60 W (47,8 dBm). |
| --- | --- | --- |

3.

Diskreta mikrovågstransistorer som uppfyller något av följande villkor:

a)

De är specificerade för frekvenser som överstiger 3,2 GHz, men inte 6,8 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 60 W (47,8 dBm).

| b) | De är specificerade för frekvenser som överstiger 6,8 GHz, men inte 31,8 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 20 W (43 dBm). |
| --- | --- |

b)

De är specificerade för frekvenser som överstiger 6,8 GHz, men inte 31,8 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 20 W (43 dBm).

| c) | De är specificerade för frekvenser som överstiger 31,8 GHz, men inte 37,5 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 0,5 W (27 dBm). |
| --- | --- |

c)

De är specificerade för frekvenser som överstiger 31,8 GHz, men inte 37,5 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 0,5 W (27 dBm).

| d) | De är specificerade för frekvenser som överstiger 37,5 GHz, men inte 43,5 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 1 W (30 dBm). |
| --- | --- |

d)

De är specificerade för frekvenser som överstiger 37,5 GHz, men inte 43,5 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 1 W (30 dBm).

| e) | De är specificerade för frekvenser som överstiger 43,5 GHz, och har en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 0,1 nW. |
| --- | --- |

e)

De är specificerade för frekvenser som överstiger 43,5 GHz, och har en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 0,1 nW.

| : | Kontrollstatusen för transistorer vars specificerade arbetsfrekvens omfattar frekvenser i mer än ett frekvensområde, enligt definitionen i avsnitt 3A001.b.3.a-3A001.b.3.e, bestäms genom angivna parametrar för lägsta genomsnittliga utgångseffekt. |
| --- | --- |

:

| 4. | Halvledarbestyckade mikrovågsförstärkare och mikrovågsutrustningar/moduler som innehåller halvledarbestyckade mikrovågsförstärkare, med någon av följande egenskaper:






  a) | De är specificerade för frekvenser som överstiger 3,2 GHz, men inte 6,8 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 60 W (47,8 dBm) och med en "relativ bandbredd" som överstiger 15 %. |
| --- | --- | --- |

4.

Halvledarbestyckade mikrovågsförstärkare och mikrovågsutrustningar/moduler som innehåller halvledarbestyckade mikrovågsförstärkare, med någon av följande egenskaper:

a)

De är specificerade för frekvenser som överstiger 3,2 GHz, men inte 6,8 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 60 W (47,8 dBm) och med en "relativ bandbredd" som överstiger 15 %.

| b) | De är specificerade för frekvenser som överstiger 6,8 GHz, men inte 31,8 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 15 W (42 dBm) och med en "relativ bandbredd" som överstiger 10 %. |
| --- | --- |

b)

De är specificerade för frekvenser som överstiger 6,8 GHz, men inte 31,8 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 15 W (42 dBm) och med en "relativ bandbredd" som överstiger 10 %.

| c) | De är specificerade för frekvenser som överstiger 31,8 GHz, men inte 37,5 GHz, och har en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 0,1 nW. |
| --- | --- |

c)

De är specificerade för frekvenser som överstiger 31,8 GHz, men inte 37,5 GHz, och har en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 0,1 nW.

| d) | De är specificerade för frekvenser som överstiger 37,5 GHz, men inte 43,5 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 1 W (30 dBm) och med en "relativ bandbredd" som överstiger 10 %. |
| --- | --- |

d)

De är specificerade för frekvenser som överstiger 37,5 GHz, men inte 43,5 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 1 W (30 dBm) och med en "relativ bandbredd" som överstiger 10 %.

| e) | De är specificerade för frekvenser som överstiger 43,5 GHz, och har en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 0,1 nW. |
| --- | --- |

e)

De är specificerade för frekvenser som överstiger 43,5 GHz, och har en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 0,1 nW.

| f) | De är specificerade för frekvenser som överstiger 3,2 GHz och uppfyller samtliga av följande villkor:






  1. | De har en genomsnittligt utgångseffekt (i watt), P, större än 150 dividerat med en maximal arbetsfrekvens (i GHz) i kvadrat [P>150 W*GHz2/fGHZ
  2]. |
| --- | --- | --- |

f)

De är specificerade för frekvenser som överstiger 3,2 GHz och uppfyller samtliga av följande villkor:

1.

De har en genomsnittligt utgångseffekt (i watt), P, större än 150 dividerat med en maximal arbetsfrekvens (i GHz) i kvadrat [P>150 W*GHz2/fGHZ
  2].

| 2. | De har en "relativ bandbredd" på 5 % eller mer. |
| --- | --- |

2.

De har en "relativ bandbredd" på 5 % eller mer.

| 3. | Två av sidorna är vinkelräta med en längd, d, (i cm) som är lika med eller mindre än 15 dividerat med den lägsta arbetsfrekvensen i GHz [d≤ 15 cm*GHz/ f GHZ]. |
| --- | --- |

3.

Två av sidorna är vinkelräta med en längd, d, (i cm) som är lika med eller mindre än 15 dividerat med den lägsta arbetsfrekvensen i GHz [d≤ 15 cm*GHz/ f GHZ].

:

3,2 GHz bör användas som den lägsta arbetsfrekvensen (fGHz) i formeln i avsnitt 3A001.b.4.f.3 för förstärkare som har en specificerad arbetsfrekvens som sträcker sig ner till 3,2 GHz och lägre [d≤ 15 cm*GHz/3.2 GHz].

:

MMIC-effektförstärkare ska bedömas mot bakgrund av kriterierna i avsnitt 3A001.b.2.

| : | Används inte. |
| --- | --- |

:

| : | Kontrollstatusen för en produkt vars specificerade arbetsfrekvens omfattar frekvenser i mer än ett frekvensområde, enligt definitionen i avsnitt 3A001.b.4.a-3A001.b.4.e, bestäms genom angivna parametrar för lägsta genomsnittliga utgångseffekt. |
| --- | --- |

:

| 5. | Elektroniskt eller magnetiskt avstämbara bandpass- eller bandstoppfilter, som har mer än 5 avstämbara resonatorer och som kan avstämmas inom ett frekvensband fmax/fmin= 1,5:1 på mindre än 10 μs, och som har något av följande:






  a) | En bandbredd på mer än 0,5 % av mittfrekvensen för bandpassfiltret, eller |
| --- | --- | --- |

5.

Elektroniskt eller magnetiskt avstämbara bandpass- eller bandstoppfilter, som har mer än 5 avstämbara resonatorer och som kan avstämmas inom ett frekvensband fmax/fmin= 1,5:1 på mindre än 10 μs, och som har något av följande:

a)

En bandbredd på mer än 0,5 % av mittfrekvensen för bandpassfiltret, eller

| b) | en bandbredd på mindre än 0,5 % av mittfrekvensen för bandstoppfiltret. |
| --- | --- |

b)

en bandbredd på mindre än 0,5 % av mittfrekvensen för bandstoppfiltret.

| 6. | Används inte. |
| --- | --- |

6.

Används inte.

| 7. | Omvandlare och harmoniska blandare som är konstruerade för att utöka frekvensområdet för utrustning som beskrivs i avsnitt 3A002.c, 3A002.d, 3A002.e eller 3A002.f utanför vad som stadgas i dessa avsnitt. |
| --- | --- |

7.

Omvandlare och harmoniska blandare som är konstruerade för att utöka frekvensområdet för utrustning som beskrivs i avsnitt 3A002.c, 3A002.d, 3A002.e eller 3A002.f utanför vad som stadgas i dessa avsnitt.

| 8. | Effektförstärkare för mikrovåg som innehåller rör som omfattas av avsnitt 3A001.b.1 och som har alla följande egenskaper:






  a) | Arbetsfrekvensen är över 3 GHz, |
| --- | --- | --- |

8.

Effektförstärkare för mikrovåg som innehåller rör som omfattas av avsnitt 3A001.b.1 och som har alla följande egenskaper:

a)

Arbetsfrekvensen är över 3 GHz,

| b) | ett genomsnittligt förhållande mellan effekt och massa som överstiger 80 W/kg, och |
| --- | --- |

b)

ett genomsnittligt förhållande mellan effekt och massa som överstiger 80 W/kg, och

| c) | en volym som är mindre än 400 cm3. |
| --- | --- |

c)

en volym som är mindre än 400 cm3.

| : | Avsnitt 3A001.b.8 omfattar inte utrustning som är konstruerad eller specificerad för att arbeta i frekvensband som är "tilldelade av ITU" för radiokommunikationstjänster men inte för radiobestämning. |
| --- | --- |

:

| 9. | Effektmoduler för mikrovåg (MPM) som består av åtminstone ett vandringsvågrör, en "monolitisk integrerad krets" för mikrovåg och en integrerad elektronisk effektkonditionerare och som har följande egenskaper:






  a) | En ‧tillslagstid‧ från avstängd till full drift som är mindre än 10 sekunder, |
| --- | --- | --- |

9.

Effektmoduler för mikrovåg (MPM) som består av åtminstone ett vandringsvågrör, en "monolitisk integrerad krets" för mikrovåg och en integrerad elektronisk effektkonditionerare och som har följande egenskaper:

a)

En ‧tillslagstid‧ från avstängd till full drift som är mindre än 10 sekunder,

| b) | En volym som understiger den maximala specificerade effekten i W multiplicerad med 10 cm3/W, och |
| --- | --- |

b)

En volym som understiger den maximala specificerade effekten i W multiplicerad med 10 cm3/W, och

| c) | En "effektbandbredd" som överstiger 1 oktav (fmax > 2fmin) och som har något av följande:






  1. | För frekvenser som är högst 18 GHz, en utgångseffekt i radiofrekvensområdet som överstiger 100 W, eller |
| --- | --- | --- |

c)

En "effektbandbredd" som överstiger 1 oktav (fmax > 2fmin) och som har något av följande:

1.

För frekvenser som är högst 18 GHz, en utgångseffekt i radiofrekvensområdet som överstiger 100 W, eller

| 2. | en frekvens som överstiger 18 GHz. |
| --- | --- |

2.

en frekvens som överstiger 18 GHz.

:

| 1. | För beräkning av volymen i avsnitt 3A001.b.9.b ges följande exempel: För en maximal specificerad effekt på 20 W blir volymen 20 W × 10 cm3/W = 200 cm3. |
| --- | --- |

1.

| 2. | ‧Tillslagstiden‧ i avsnitt 3A001.b.9.a avser tiden från helt avstängd till full drift, dvs. inklusive uppvärmningstiden för MPM. |
| --- | --- |

2.

| 10. | Oscillatorer eller sammansättningar av oscillatorer som konstruerats för drift med följande:






  a) | Ett fasbrus i enkelt sidbandsläge (SSB), uttryckt i dBc/Hz, som är bättre än –(126 + 20log10F - 20log10f) för 10 Hz < F < 10 kHz. |
| --- | --- | --- |

10.

Oscillatorer eller sammansättningar av oscillatorer som konstruerats för drift med följande:

a)

Ett fasbrus i enkelt sidbandsläge (SSB), uttryckt i dBc/Hz, som är bättre än –(126 + 20log10F - 20log10f) för 10 Hz < F < 10 kHz.

| b) | Ett fasbrus i enkelt sidbandsläge (SSB), uttryckt i dBc/Hz, som är bättre än –(114 + 20log10F - 20log10f) för 10 kHz ≤ F < 500 kHz. |
| --- | --- |

b)

Ett fasbrus i enkelt sidbandsläge (SSB), uttryckt i dBc/Hz, som är bättre än –(114 + 20log10F - 20log10f) för 10 kHz ≤ F < 500 kHz.

:

I avsnitt 3A001.b.10 är F frekvensförskjutningen från arbetsfrekvensen i Hz och f är arbetsfrekvensen i MHz.

| 11. | "Frekvenssyntesutrustning" med "elektroniska sammansättningar" med en "tid för att byta frekvens" enligt något av följande:






  a) | Mindre än 312 ps. |
| --- | --- | --- |

11.

"Frekvenssyntesutrustning" med "elektroniska sammansättningar" med en "tid för att byta frekvens" enligt något av följande:

a)

Mindre än 312 ps.

| b) | Mindre än 100 μs för varje frekvensbyte som överstiger 1,6 GHz inom en syntetiserad frekvensräckvidd som överstiger 3,2 GHz men inte 10,6 GHz. |
| --- | --- |

b)

Mindre än 100 μs för varje frekvensbyte som överstiger 1,6 GHz inom en syntetiserad frekvensräckvidd som överstiger 3,2 GHz men inte 10,6 GHz.

| c) | Mindre än 250 μs för varje frekvensbyte som överstiger 550 MHz inom en syntetiserad frekvensräckvidd som överstiger 10,6 GHz men inte 31,8 GHz. |
| --- | --- |

c)

Mindre än 250 μs för varje frekvensbyte som överstiger 550 MHz inom en syntetiserad frekvensräckvidd som överstiger 10,6 GHz men inte 31,8 GHz.

| d) | Mindre än 500 μs för varje frekvensbyte som överstiger 550 MHz inom en syntetiserad frekvensräckvidd som överstiger 31,8 GHz men inte 43,5 GHz, eller |
| --- | --- |

d)

Mindre än 500 μs för varje frekvensbyte som överstiger 550 MHz inom en syntetiserad frekvensräckvidd som överstiger 31,8 GHz men inte 43,5 GHz, eller

| e) | Mindre än 1 ms inom en syntetiserad frekvensräckvidd som överstiger 43,5 GHz. |
| --- | --- |

e)

Mindre än 1 ms inom en syntetiserad frekvensräckvidd som överstiger 43,5 GHz.

:

För "signalanalysatorer", signalgeneratorer, nätverksanalysatorer och testmottagare för mikrovåg avsedda för allmän användning se 3A002.c, 3A002.d, 3A002.e respektive 3A002.f.

| c) | Anordningar för akustiska vågor, enligt följande, och speciellt konstruerade komponenter till dessa:






  1. | Anordningar för akustiska ytvågor samt för akustiska vågor nära ytan (shallow bulk) som har någon av följande egenskaper:






  a) | Bärfrekvensen överstiger 6 GHz. |
| --- | --- | --- | --- |

c)

Anordningar för akustiska vågor, enligt följande, och speciellt konstruerade komponenter till dessa:

1.

Anordningar för akustiska ytvågor samt för akustiska vågor nära ytan (shallow bulk) som har någon av följande egenskaper:

a)

Bärfrekvensen överstiger 6 GHz.

| b) | Bärfrekvensen överstiger 1 GHz, men inte 6 GHz, och de har någon av följande egenskaper:






  1. | ‧Frekvensundertryckningen av sidloben‧ överstiger 65 dB, |
| --- | --- | --- |

b)

Bärfrekvensen överstiger 1 GHz, men inte 6 GHz, och de har någon av följande egenskaper:

1.

‧Frekvensundertryckningen av sidloben‧ överstiger 65 dB,

| 2. | produkten av maximala fördröjningstiden och bandbredden (tid i μs och bandbredd i MHz) överstiger 100, |
| --- | --- |

2.

produkten av maximala fördröjningstiden och bandbredden (tid i μs och bandbredd i MHz) överstiger 100,

| 3. | bandbredden överstiger 250 MHz, eller |
| --- | --- |

3.

bandbredden överstiger 250 MHz, eller

| 4. | dispersionsfördröjningen är mer än 10 μs. |
| --- | --- |

4.

dispersionsfördröjningen är mer än 10 μs.

| c) | Bärfrekvensen är 1 GHz eller lägre och den har någon av följande egenskaper:






  1. | Produkten av maximala fördröjningstiden och bandbredden (tid i μs och bandbredd i MHz) överstiger 100, |
| --- | --- | --- |

c)

Bärfrekvensen är 1 GHz eller lägre och den har någon av följande egenskaper:

1.

Produkten av maximala fördröjningstiden och bandbredden (tid i μs och bandbredd i MHz) överstiger 100,

| 2. | dispersionsfördröjningen är mer än 10 μs, eller |
| --- | --- |

2.

dispersionsfördröjningen är mer än 10 μs, eller

| 3. | ‧frekvensundertryckningen av sidloben‧ överstiger 65 dB och bandbredden är större än 100 MHz, |
| --- | --- |

3.

‧frekvensundertryckningen av sidloben‧ överstiger 65 dB och bandbredden är större än 100 MHz,

:

‧Frekvensundertryckningen av sidloben‧ är det maximala undertryckningsvärde som anges i databladet.

| 2. | Anordningar för s.k. bulk-vågor som direkt kan behandla signaler med frekvenser som överstiger 6 GHz. |
| --- | --- |

2.

Anordningar för s.k. bulk-vågor som direkt kan behandla signaler med frekvenser som överstiger 6 GHz.

| 3. | Akustisk-optiska anordningar för "signalbehandling" som medger ömsesidig påverkan mellan akustiska vågor (s.k. bulk-vågor eller ytvågor) och ljusvågor och som tillåter direkt signal- eller bildbehandling, inklusive spektralanalys, korrelation och convolution. |
| --- | --- |

3.

Akustisk-optiska anordningar för "signalbehandling" som medger ömsesidig påverkan mellan akustiska vågor (s.k. bulk-vågor eller ytvågor) och ljusvågor och som tillåter direkt signal- eller bildbehandling, inklusive spektralanalys, korrelation och convolution.

| : | Avsnitt 3A001.c omfattar inte anordningar för akustiska vågor som begränsas till enkelbandpass-, lågpass-, högpass- eller notch-filtrering eller resonansfunktion. |
| --- | --- |

:

| d) | Elektroniska enheter och kretsar som innehåller komponenter tillverkade av "supraledande" material, speciellt konstruerade för drift vid temperaturer under den "kritiska temperaturen" för åtminstone en av dess "supraledande" beståndsdelar, och som är försedda med något av följande:






  1. | Strömomkoppling i digitala kretsar med användning av "supraledande" grindar och där produkten av grindfördröjningstiden per grind (i sekunder) och effektförlusten per grind (i watt) är mindre än 10-14 J, eller |
| --- | --- | --- |

d)

Elektroniska enheter och kretsar som innehåller komponenter tillverkade av "supraledande" material, speciellt konstruerade för drift vid temperaturer under den "kritiska temperaturen" för åtminstone en av dess "supraledande" beståndsdelar, och som är försedda med något av följande:

1.

Strömomkoppling i digitala kretsar med användning av "supraledande" grindar och där produkten av grindfördröjningstiden per grind (i sekunder) och effektförlusten per grind (i watt) är mindre än 10-14 J, eller

| 2. | frekvensval för alla frekvenser med användning av resonanskretsar med Q-värden som överstiger 10 000. |
| --- | --- |

2.

frekvensval för alla frekvenser med användning av resonanskretsar med Q-värden som överstiger 10 000.

| e) | Högenergienheter enligt följande:






  1. | ‧Celler‧ enligt följande:






  a) | ‧Primärceller‧ som har en ‧energitäthet‧ som överstiger 550 Wh/kg vid 20 °C. |
| --- | --- | --- | --- |

e)

Högenergienheter enligt följande:

1.

‧Celler‧ enligt följande:

a)

‧Primärceller‧ som har en ‧energitäthet‧ som överstiger 550 Wh/kg vid 20 °C.

| b) | ‧Sekundärceller‧ som har en ‧energitäthet‧ som överstiger 250 Wh/kg vid 20 °C. |
| --- | --- |

b)

‧Sekundärceller‧ som har en ‧energitäthet‧ som överstiger 250 Wh/kg vid 20 °C.

:

| 1. | I avsnitt 3A001.e.1 beräknas ‧energitäthet‧ (Wh/kg) utifrån den nominella spänningen multiplicerad med den nominella kapaciteten i amperetimmar (Ah) dividerat med massan i kg. Om den nominella kapaciteten inte är specificerad beräknas energitätheten utifrån den nominella spänningen i kvadrat multiplicerad med urladdningstiden i timmar dividerat med urladdningsbelastningen i ohm och massan i kg. |
| --- | --- |

1.

| 2. | I avsnitt 3A001.e.1 definieras ‧cell‧ som en elektrokemisk enhet som har positiva och negativa elektroder och elektrolyt samt är en källa till elektrisk energi. Den är grundkomponenten i ett batteri. |
| --- | --- |

2.

| 3. | I avsnitt 3A001.e.1.a definieras ‧primärcell‧ som en ‧cell‧ som inte är avsedd att laddas genom någon annan källa. |
| --- | --- |

3.

| 4. | I avsnitt 3A001.e.1.b definieras ‧sekundärcell‧ som en ‧cell‧ som är avsedd att laddas genom en extern elektrisk källa. |
| --- | --- |

4.

| : | Avsnitt 3A001.e.1 omfattar inte batterier, inbegripet batterier som består av en enda cell. |
| --- | --- |

:

| 2. | Högenergikondensatorer enligt följande:







  ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 3A201.a. |
| --- | --- | --- |

2.

Högenergikondensatorer enligt följande:

ANM.:

| a) | Kondensatorer med en repetitionsfrekvens som understiger 10 Hz (enkelpulskondensatorer) och som har samtliga följande egenskaper:






  1. | En specificerad spänning lika med eller överstigande 5 kV, |
| --- | --- | --- |

a)

Kondensatorer med en repetitionsfrekvens som understiger 10 Hz (enkelpulskondensatorer) och som har samtliga följande egenskaper:

1.

En specificerad spänning lika med eller överstigande 5 kV,

| 2. | en energitäthet lika med eller högre än 250 J/kg, och |
| --- | --- |

2.

en energitäthet lika med eller högre än 250 J/kg, och

| 3. | en total energi lika med eller större än 25 kJ. |
| --- | --- |

3.

en total energi lika med eller större än 25 kJ.

| b) | Kondensatorer med en repetitionsfrekvens som är lika med eller överstiger 10 Hz (repetitionsspecificerade kondensatorer) och som har samtliga följande egenskaper:






  1. | En specificerad spänning lika med eller överstigande 5 kV, |
| --- | --- | --- |

b)

Kondensatorer med en repetitionsfrekvens som är lika med eller överstiger 10 Hz (repetitionsspecificerade kondensatorer) och som har samtliga följande egenskaper:

1.

En specificerad spänning lika med eller överstigande 5 kV,

| 2. | en energitäthet lika med eller högre än 50 J/kg, |
| --- | --- |

2.

en energitäthet lika med eller högre än 50 J/kg,

| 3. | en total energi lika med eller större än 100 J, och |
| --- | --- |

3.

en total energi lika med eller större än 100 J, och

| 4. | en laddnings/urladdnings-livslängd som är lika med eller överstiger 10 000 cykler. |
| --- | --- |

4.

en laddnings/urladdnings-livslängd som är lika med eller överstiger 10 000 cykler.

| 3. | "Supraledande" elektromagneter eller solenoider, speciellt konstruerade för att kunna helt laddas eller urladdas på mindre än 1 sekund och som har samtliga följande egenskaper:







  ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 3A201.b. |
| --- | --- | --- |

3.

"Supraledande" elektromagneter eller solenoider, speciellt konstruerade för att kunna helt laddas eller urladdas på mindre än 1 sekund och som har samtliga följande egenskaper:

ANM.:

| : | Avsnitt 3A001.e.3 omfattar inte "supraledande" elektromagneter och solenoider som är speciellt konstruerade för att användas i medicinsk utrustning till magnetisk resonans bildbehandling (MRI). |
| --- | --- |

:

| a) | Energin som levereras vid urladdning överstiger 10 kJ under den första sekunden, |
| --- | --- |

a)

Energin som levereras vid urladdning överstiger 10 kJ under den första sekunden,

| b) | innerdiametern på den strömförande lindningen är större än 250 mm, och |
| --- | --- |

b)

innerdiametern på den strömförande lindningen är större än 250 mm, och

| c) | är specificerad för en magnetisk induktion som är större än 8 T eller en "total strömtäthet" i lindningen som är större än 300 A/mm2. |
| --- | --- |

c)

är specificerad för en magnetisk induktion som är större än 8 T eller en "total strömtäthet" i lindningen som är större än 300 A/mm2.

| 4. | Solceller, CIC-hopsättningar (cell-interconnect-coverglass), solpaneler och solmoduler som är "rymdkvalificerade" och har en minsta genomsnittlig verkningsgrad som överstiger 20 % vid en driftstemperatur på 301 K (28 °C) under simulerad ‧AM0‧-belysning med en irradians på 1,367 watt per kvadratmeter (W/m2).

  :


  ‧AM0‧ eller ‧luftmassenollpunkt‧ avser solljusets spektrala irradians i jordens yttre atmosfär där avståndet mellan jorden och solen är en astronomisk enhet (AU). |
| --- | --- |

4.

Solceller, CIC-hopsättningar (cell-interconnect-coverglass), solpaneler och solmoduler som är "rymdkvalificerade" och har en minsta genomsnittlig verkningsgrad som överstiger 20 % vid en driftstemperatur på 301 K (28 °C) under simulerad ‧AM0‧-belysning med en irradians på 1,367 watt per kvadratmeter (W/m2).

:

‧AM0‧ eller ‧luftmassenollpunkt‧ avser solljusets spektrala irradians i jordens yttre atmosfär där avståndet mellan jorden och solen är en astronomisk enhet (AU).

| f) | Roterande kodare som anger positionens absolutvärde med en noggrannhet som är mindre (bättre) än ± 1,0 bågsekunder. |
| --- | --- |

f)

Roterande kodare som anger positionens absolutvärde med en noggrannhet som är mindre (bättre) än ± 1,0 bågsekunder.

| g) | Pulsade effektomriktande halvledartyristorenheter och ‧tyristormoduler‧ som använder elektriskt eller optiskt styrda eller elektronstrålestyrda omriktningsmetoder och som har någon av följande egenskaper:






  1. | En maximal strömökningstakt vid påslagning (di/dt) som överstiger 30 000 A/μs och en spänning i avstängt tillstånd som överstiger 1 100 V. |
| --- | --- | --- |

g)

Pulsade effektomriktande halvledartyristorenheter och ‧tyristormoduler‧ som använder elektriskt eller optiskt styrda eller elektronstrålestyrda omriktningsmetoder och som har någon av följande egenskaper:

1.

En maximal strömökningstakt vid påslagning (di/dt) som överstiger 30 000 A/μs och en spänning i avstängt tillstånd som överstiger 1 100 V.

| 2. | En maximal strömökningstakt vid påslagning (di/dt) som överstiger 2 000 A/μs och som har båda följande egenskaper:






  a) | En toppspänning i avstängt tillstånd som är minst 3 000 V. |
| --- | --- | --- |

2.

En maximal strömökningstakt vid påslagning (di/dt) som överstiger 2 000 A/μs och som har båda följande egenskaper:

a)

En toppspänning i avstängt tillstånd som är minst 3 000 V.

| b) | En toppström (strömstöt) som är minst 3 000 A. |
| --- | --- |

b)

En toppström (strömstöt) som är minst 3 000 A.

| : | Avsnitt 3A001.g omfattar följande:






  — | Kiselstyrda likriktare (SRC). |
| --- | --- | --- |

:

—

Kiselstyrda likriktare (SRC).

| — | T-tyristorer (Electrical Triggering Thyristors) |
| --- | --- |

—

T-tyristorer (Electrical Triggering Thyristors)

| — | LT-tyristorer (Light Triggering Thyristors) |
| --- | --- |

—

LT-tyristorer (Light Triggering Thyristors)

| — | IGC-tyristorer (Integrated Gate Commutated Thyristors) |
| --- | --- |

—

IGC-tyristorer (Integrated Gate Commutated Thyristors)

| — | GTO-tyristorer (Gate Turn-off Thyristors) |
| --- | --- |

—

GTO-tyristorer (Gate Turn-off Thyristors)

| — | MOS-styrda tyristorer (MCT) |
| --- | --- |

—

MOS-styrda tyristorer (MCT)

| — | Solidtroner |
| --- | --- |

—

Solidtroner

| : | Avsnitt 3A001.g omfattar inte tyristorenheter och ‧tyristormoduler‧ som ingår i utrustning som är konstruerad för civila järnvägstillämpningar eller "civila luftfartygs"-tillämpningar. |
| --- | --- |

:

:

En ‧tyristormodul‧ i avsnitt 3A001.g innehåller en eller flera tyristorenheter.

| h) | Effektomriktande halvledare, dioder eller ‧moduler‧ som har samtliga följande egenskaper:






  1. | Specificerade för en maximal gränsskiktstemperatur vid drift som överstiger 488 K (215 °C). |
| --- | --- | --- |

h)

Effektomriktande halvledare, dioder eller ‧moduler‧ som har samtliga följande egenskaper:

1.

Specificerade för en maximal gränsskiktstemperatur vid drift som överstiger 488 K (215 °C).

| 2. | En repetitiv toppspänning i frånläge (blockeringsspänning) som överstiger 300 V. |
| --- | --- |

2.

En repetitiv toppspänning i frånläge (blockeringsspänning) som överstiger 300 V.

| 3. | En kontinuerlig strömstyrka som överstiger 1 A. |
| --- | --- |

3.

En kontinuerlig strömstyrka som överstiger 1 A.

| : | I avsnitt 3A001.h inbegriper repetitiv toppspänning i frånläge drain till source-spänning, collector till emitter-spänning, repetitiv toppbackspänning och repetitiv toppblockeringsspänning i frånläge. |
| --- | --- |

:

| : | Avsnitt 3A001.h omfattar följande:






  — | JFE-transistorer (Junction Field Effect Transistors) |
| --- | --- | --- |

:

—

JFE-transistorer (Junction Field Effect Transistors)

| — | VJFE-transistorer (Vertical Junction Field Effect Transistors) |
| --- | --- |

—

VJFE-transistorer (Vertical Junction Field Effect Transistors)

| — | MOSFE-transistorer (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistors) |
| --- | --- |

—

MOSFE-transistorer (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistors)

| — | DMOSFE-transistorer (Double Diffused Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistors) |
| --- | --- |

—

DMOSFE-transistorer (Double Diffused Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistors)

| — | IGB-transistorer (Insulated Gate Bipolar Transistors) |
| --- | --- |

—

IGB-transistorer (Insulated Gate Bipolar Transistors)

| — | HEM-transistorer (High Electron Mobility Transistors) |
| --- | --- |

—

HEM-transistorer (High Electron Mobility Transistors)

| — | BJ-transistorer (Bipolar Junction Transistors) |
| --- | --- |

—

BJ-transistorer (Bipolar Junction Transistors)

| — | Tyristorer och kiselstyrda likriktare (SRC) |
| --- | --- |

—

Tyristorer och kiselstyrda likriktare (SRC)

| — | GTO-tyristorer (Gate Turn-off Thyristors) |
| --- | --- |

—

GTO-tyristorer (Gate Turn-off Thyristors)

| — | ETO-tyristorer (Emitter Turn-off Thyristors) |
| --- | --- |

—

ETO-tyristorer (Emitter Turn-off Thyristors)

| — | PiN-dioder |
| --- | --- |

—

PiN-dioder

| — | Schottkydioder |
| --- | --- |

—

Schottkydioder

| : | Avsnitt 3A001.h omfattar inte effektomriktare, dioder eller ‧moduler‧ som ingår i utrustning som är konstruerad för civila motorfordonstillämpningar, civila järnvägstillämpningar eller "civila luftfartygs"-tillämpningar. |
| --- | --- |

:

:

En ‧modul‧ i avsnitt 3A001.h innehåller en eller flera effektomriktande halvledare eller dioder.

3A002Elektronisk utrustning med allmän användning och tillbehör till sådan utrustning, enligt följande:

| a) | Följande inspelningsutrustning samt till dessa utrustningar speciellt konstruerade testband:






  1. | Analoga magnetiska instrumentbandspelare, inklusive sådana som tillåter inspelning av digitala signaler (t.ex. genom att använda digitala moduler (HDDR) för hög packningstäthet) som har någon av följande egenskaper:






  a) | En bandbredd som överstiger 4 MHz per elektronisk kanal eller spår, |
| --- | --- | --- | --- |

a)

Följande inspelningsutrustning samt till dessa utrustningar speciellt konstruerade testband:

1.

Analoga magnetiska instrumentbandspelare, inklusive sådana som tillåter inspelning av digitala signaler (t.ex. genom att använda digitala moduler (HDDR) för hög packningstäthet) som har någon av följande egenskaper:

a)

En bandbredd som överstiger 4 MHz per elektronisk kanal eller spår,

| b) | en bandbredd som överstiger 2 MHz per elektronisk kanal eller spår om utrustningen har mer än 42 spår, eller |
| --- | --- |

b)

en bandbredd som överstiger 2 MHz per elektronisk kanal eller spår om utrustningen har mer än 42 spår, eller

| c) | ett tidsförskjutnings(bas)-fel, mätt enligt tillämpliga IRIG- eller EIA-dokument, som är mindre än ± 0,1 μs. |
| --- | --- |

c)

ett tidsförskjutnings(bas)-fel, mätt enligt tillämpliga IRIG- eller EIA-dokument, som är mindre än ± 0,1 μs.

| : | Analoga magnetiska bandspelare speciellt konstruerade för civilt bruk ska inte betraktas som instrumentbandspelare. |
| --- | --- |

:

| 2. | Digitala magnetiska videobandspelare som har en maximal digital överföringshastighet som överstiger 360 Mbit/s.







  : | Avsnitt 3A002.a.2 omfattar inte sådana digitala magnetiska videobandspelare som är speciellt konstruerade för TV-inspelningar i signalformat, som kan omfatta ett komprimerat signalformat enligt standarder eller rekommendationer från ITU, IEC, SMPTE, EBU, ETSI eller IEEE för civila TV-tillämpningar. |
| --- | --- | --- |

2.

Digitala magnetiska videobandspelare som har en maximal digital överföringshastighet som överstiger 360 Mbit/s.

:

| 3. | Digitala magnetiska instrumentdatabandspelare som har fast eller roterande huvud och som har båda följande egenskaper:






  a) | En maximal digital interfaceöverföringshastighet som överstiger 175 Mbit/s, eller |
| --- | --- | --- |

3.

Digitala magnetiska instrumentdatabandspelare som har fast eller roterande huvud och som har båda följande egenskaper:

a)

En maximal digital interfaceöverföringshastighet som överstiger 175 Mbit/s, eller

| b) | som är "rymdkvalificerade". |
| --- | --- |

b)

som är "rymdkvalificerade".

| : | Avsnitt 3A002.a.3 omfattar inte analoga magnetiska bandspelare som är utrustade med HDDR omvandlingselektronik och utformade för att endast spela in digitala data. |
| --- | --- |

:

| 4. | Utrustning med en maximal digital interfaceöverföringshastighet som överstiger 175 Mbit/s, och som är konstruerad för att omvandla digitala magnetiska videobandspelare till digitala instrumentdatabandspelare. |
| --- | --- |

4.

Utrustning med en maximal digital interfaceöverföringshastighet som överstiger 175 Mbit/s, och som är konstruerad för att omvandla digitala magnetiska videobandspelare till digitala instrumentdatabandspelare.

| 5. | Utrustning för digitalisering av vågformer samt utrustning för registrering av transienter (transient recorders), med båda följande egenskaper:






  a) | Digitaliseringshastigheten är lika med eller bättre än 200 miljoner samplingar per sekund och en upplösning på 10 bitar eller mer, och |
| --- | --- | --- |

5.

Utrustning för digitalisering av vågformer samt utrustning för registrering av transienter (transient recorders), med båda följande egenskaper:

a)

Digitaliseringshastigheten är lika med eller bättre än 200 miljoner samplingar per sekund och en upplösning på 10 bitar eller mer, och

| b) | en ‧kontinuerlig kapacitet‧ på 2 Gbit/s eller mer. |
| --- | --- |

b)

en ‧kontinuerlig kapacitet‧ på 2 Gbit/s eller mer.

:

| 1. | För sådana instrument, som är uppbyggda med en parallell bussarkitektur, är den ‧kontinuerliga kapaciteten‧ lika med högsta ordhastigheten multiplicerat med antalet bitar i ordet. |
| --- | --- |

1.

| 2. | ‧Kontinuerlig kapacitet‧ är den högsta datahastigheten som instrumentet kontinuerligt kan förse ett massminne med information utan att någon information går förlorad med bibehållen samplingsfrekvens och analog-till-digital konvertering. |
| --- | --- |

2.

| 6. | Digital instrumentdataupptagningsutrustning som använder teknik för lagring av data på magnetskivor och har båda följande egenskaper:






  a) | Digitaliseringshastighet på minst 100 miljoner samplingar per sekund och en upplösning på 8 bitar eller mer, och |
| --- | --- | --- |

6.

Digital instrumentdataupptagningsutrustning som använder teknik för lagring av data på magnetskivor och har båda följande egenskaper:

a)

Digitaliseringshastighet på minst 100 miljoner samplingar per sekund och en upplösning på 8 bitar eller mer, och

| b) | en ‧kontinuerlig kapacitet‧ på 1 Gbit/s eller mer. |
| --- | --- |

b)

en ‧kontinuerlig kapacitet‧ på 1 Gbit/s eller mer.

| b) | Används inte. |
| --- | --- |

b)

Används inte.

| c) | Radiofrekvens-"signalanalysatorer" enligt följande:






  1. | "Signalanalysatorer" som har en upplösningsbandbredd (RBW) på 3 dB som överstiger 10 MHz varsomhelst i frekvensområdet över 31,8 GHz men inte över 37,5 GHz. |
| --- | --- | --- |

c)

Radiofrekvens-"signalanalysatorer" enligt följande:

1.

"Signalanalysatorer" som har en upplösningsbandbredd (RBW) på 3 dB som överstiger 10 MHz varsomhelst i frekvensområdet över 31,8 GHz men inte över 37,5 GHz.

| 2. | "Signalanalysatorer" som har en visad genomsnittlig brusnivå (DANL) som är lägre (bättre) än -150 dBm/Hz varsomhelst i frekvensområdet över 43,5 GHz men inte över 70 GHz. |
| --- | --- |

2.

"Signalanalysatorer" som har en visad genomsnittlig brusnivå (DANL) som är lägre (bättre) än -150 dBm/Hz varsomhelst i frekvensområdet över 43,5 GHz men inte över 70 GHz.

| 3. | "Signalanalysatorer" med en frekvens som överstiger 70 kHz. |
| --- | --- |

3.

"Signalanalysatorer" med en frekvens som överstiger 70 kHz.

| 4. | "Dynamiska signalanalysatorer" med en "realtidsbandbredd" som överstiger 40 MHz.







  : | Avsnitt 3A002.c.4 omfattar inte de "dynamiska signalanalysatorer" som endast använder filter som har en konstant procentuell bandbredd (kallas även oktavfilter eller filter för del av en oktav). |
| --- | --- | --- |

4.

"Dynamiska signalanalysatorer" med en "realtidsbandbredd" som överstiger 40 MHz.

:

| d) | Signalgeneratorer där utgångssignalen genereras genom frekvenssyntes, där noggrannheten, kort- och långtidsstabiliteten kontrolleras från, avleds från eller korrigeras av en intern masterreferensoscillator och som har någon av följande egenskaper:






  1. | Specificerad för att alstra en ‧pulslängd‧ av mindre än 100 ns varsomhelst inom det syntetiskt erhållna frekvensområde som överstiger 31,8 GHz men inte 70 GHz. |
| --- | --- | --- |

d)

Signalgeneratorer där utgångssignalen genereras genom frekvenssyntes, där noggrannheten, kort- och långtidsstabiliteten kontrolleras från, avleds från eller korrigeras av en intern masterreferensoscillator och som har någon av följande egenskaper:

1.

Specificerad för att alstra en ‧pulslängd‧ av mindre än 100 ns varsomhelst inom det syntetiskt erhållna frekvensområde som överstiger 31,8 GHz men inte 70 GHz.

| 2. | En utgångseffekt som övestiger 100 mW (20 dBm) varsomhelst inom det syntetiskt erhållna frekvensområde som överstiger 43,5 GHz men inte 70 GHz. |
| --- | --- |

2.

En utgångseffekt som övestiger 100 mW (20 dBm) varsomhelst inom det syntetiskt erhållna frekvensområde som överstiger 43,5 GHz men inte 70 GHz.

| 3. | En "tid för att byta frekvens" enligt något av följande:






  a) | Mindre än 312 ps. |
| --- | --- | --- |

3.

En "tid för att byta frekvens" enligt något av följande:

a)

Mindre än 312 ps.

| b) | Mindre än 100 μs för ett frekvensbyte som överstiger 1,6 GHz inom det syntetiskt erhållna frekvensområde som överstiger 3,2 GHz men inte 10,6 GHz. |
| --- | --- |

b)

Mindre än 100 μs för ett frekvensbyte som överstiger 1,6 GHz inom det syntetiskt erhållna frekvensområde som överstiger 3,2 GHz men inte 10,6 GHz.

| c) | Mindre än 250 μs för ett frekvensbyte som överstiger 550 MHz inom det syntetiskt erhållna frekvensområde som överstiger 10,6 GHz men inte 31,8 GHz. |
| --- | --- |

c)

Mindre än 250 μs för ett frekvensbyte som överstiger 550 MHz inom det syntetiskt erhållna frekvensområde som överstiger 10,6 GHz men inte 31,8 GHz.

| d) | Mindre än 500 μs för ett frekvensbyte som överstiger 550 MHz inom det syntetiskt erhållna frekvensområde som överstiger 31,8 GHz men inte 43,5 GHz. |
| --- | --- |

d)

Mindre än 500 μs för ett frekvensbyte som överstiger 550 MHz inom det syntetiskt erhållna frekvensområde som överstiger 31,8 GHz men inte 43,5 GHz.

| e) | Mindre än 1 ms för ett frekvensbyte som överstiger 550 MHz inom det syntetiskt erhållna frekvensområde som överstiger 43,5 GHz men inte 56 GHz. |
| --- | --- |

e)

Mindre än 1 ms för ett frekvensbyte som överstiger 550 MHz inom det syntetiskt erhållna frekvensområde som överstiger 43,5 GHz men inte 56 GHz.

| f) | Mindre än 1 ms för ett frekvensbyte som överstiger 2,2 GHz inom det syntetiskt erhållna frekvensområde som överstiger 56 GHz men inte 70 GHz. |
| --- | --- |

f)

Mindre än 1 ms för ett frekvensbyte som överstiger 2,2 GHz inom det syntetiskt erhållna frekvensområde som överstiger 56 GHz men inte 70 GHz.

| 4. | En syntetiskt erhållen frekvens som överstiger 3,2 GHz men inte 70 GHz och som har båda följande egenskaper:






  a) | Ett fasbrus i enkelt sidbandsläge (SSB), uttryckt i dBc/Hz, som är bättre än –(126 + 20log10F - 20log10f) för 10 Hz < F < 10 kHz. |
| --- | --- | --- |

4.

En syntetiskt erhållen frekvens som överstiger 3,2 GHz men inte 70 GHz och som har båda följande egenskaper:

a)

Ett fasbrus i enkelt sidbandsläge (SSB), uttryckt i dBc/Hz, som är bättre än –(126 + 20log10F - 20log10f) för 10 Hz < F < 10 kHz.

| b) | Ett fasbrus i enkelt sidbandsläge (SSB), uttryckt i dBc/Hz, som är bättre än –(114 + 20log10F - 20log10f) för 10 kHz ≤ F < 500 kHz. |
| --- | --- |

b)

Ett fasbrus i enkelt sidbandsläge (SSB), uttryckt i dBc/Hz, som är bättre än –(114 + 20log10F - 20log10f) för 10 kHz ≤ F < 500 kHz.

:

I avsnitt 3A002.d.4 är F frekvensförskjutningen från arbetsfrekvensen i Hz och f är arbetsfrekvensen i MHz.

| 5. | En maximal syntetiskt erhållen frekvens som överstiger 70 GHz. |
| --- | --- |

5.

En maximal syntetiskt erhållen frekvens som överstiger 70 GHz.

| : | I avsnitt 3A002.d inkluderar signalgeneratorer där utgångssignalen genereras genom frekvenssyntes även godtyckliga vågforms- och funktionsgeneratorer. |
| --- | --- |

:

| : | Avsnitt 3A002.d omfattar inte utrustningar där utgångsfrekvensen produceras antingen genom addition eller subtraktion av två eller flera frekvenser från kristalloscillatorer eller genom en addition eller subtraktion följd av en multiplikation av resultatet. |
| --- | --- |

:

:

| 1. | Godtyckliga vågforms- och funktionsgeneratorer specificeras normalt genom samplingshastigheten (t.ex. Gsampling/s), som omvandlas till radiofrekvensområdet genom Nyquistfaktorn två. En godtycklig vågform på 1 Gsampling/s har således en direkt utgångskapacitet på 500 MHz. När översampling används är den direkta utgångskapaciteten emellertid proportionellt lägre. |
| --- | --- |

1.

| 2. | Med ‧pulslängd‧ avses i avsnitt 3A002.d.1 den tid som förflyter mellan det att pulsens framkant uppnår 90 % av toppeffekten och dess bakkant uppnår 10 % av toppeffekten. |
| --- | --- |

2.

| e) | Nätverksanalysatorer med något av följande:






  1. | En maximal arbetsfrekvens som överstiger 43,5 GHz och en utgångseffekt som överstiger 31,62 mW (15 dBm), eller |
| --- | --- | --- |

e)

Nätverksanalysatorer med något av följande:

1.

En maximal arbetsfrekvens som överstiger 43,5 GHz och en utgångseffekt som överstiger 31,62 mW (15 dBm), eller

| 2. | en maximal arbetsfrekvens som överstiger 70 GHz. |
| --- | --- |

2.

en maximal arbetsfrekvens som överstiger 70 GHz.

| f) | Testmottagare för mikrovåg som har båda följande egenskaper:






  1. | En maximal arbetsfrekvens som överstiger 43,5 GHz, och |
| --- | --- | --- |

f)

Testmottagare för mikrovåg som har båda följande egenskaper:

1.

En maximal arbetsfrekvens som överstiger 43,5 GHz, och

| 2. | kan mäta amplitud och fas simultant. |
| --- | --- |

2.

kan mäta amplitud och fas simultant.

| g) | Atomfrekvensstandarder som har någon av följande egenskaper:






  1. | "Rymdkvalificerade". |
| --- | --- | --- |

g)

Atomfrekvensstandarder som har någon av följande egenskaper:

1.

"Rymdkvalificerade".

| 2. | Icke-rubidium och med en långtidsstabilitet som är mindre (bättre) än 1 × 10-11/månad. |
| --- | --- |

2.

Icke-rubidium och med en långtidsstabilitet som är mindre (bättre) än 1 × 10-11/månad.

| 3. | Icke-"rymdkvalificerade" och med alla följande egenskaper:






  a) | En rubidiumstandard. |
| --- | --- | --- |

3.

Icke-"rymdkvalificerade" och med alla följande egenskaper:

a)

En rubidiumstandard.

| b) | Långtidsstabilitet som är mindre (bättre) än 1 × 10-11/månad. |
| --- | --- |

b)

Långtidsstabilitet som är mindre (bättre) än 1 × 10-11/månad.

| c) | En total effektförbrukning som understiger 1 W. |
| --- | --- |

c)

En total effektförbrukning som understiger 1 W.

3A003Värmestyrningssystem för kallsprutning som använder en sluten slinga med inkapslad vätskehanterings- och rekonditioneringsutrustning där en dielektrisk vätska sprutas in i den elektroniska komponenten med hjälp av särskilt konstruerade sprutmunstycken som är konstruerade för att hålla de elektroniska komponenterna inom respektive temperaturområde, och särskilt konstruerade komponenter till dessa.

3A101Elektroniska utrustningar, enheter och komponenter, andra än de som omfattas av avsnitt 3A001, enligt följande:

| a) | Analog-till-digitalomvandlare, användbara i "missiler", konstruerade för att uppfylla militära krav för miljötålig utrustning. |
| --- | --- |

a)

Analog-till-digitalomvandlare, användbara i "missiler", konstruerade för att uppfylla militära krav för miljötålig utrustning.

| b) | Radiografisk utrustning (acceleratorer) i stånd att alstra elektromagnetisk strålning framkallad av bromsstrålning från accelererade elektroner på 2 MeV eller mer, samt system som innehåller denna radiografiska utrustning (accelerators). |
| --- | --- |

b)

Radiografisk utrustning (acceleratorer) i stånd att alstra elektromagnetisk strålning framkallad av bromsstrålning från accelererade elektroner på 2 MeV eller mer, samt system som innehåller denna radiografiska utrustning (accelerators).

| : | Avsnitt 3A101.b omfattar inte utrustning som är speciellt konstruerad för medicinska ändamål. |
| --- | --- |

:

3A102‧Termiska batterier‧ som är utformade eller modifierade för ‧missiler‧.

:

| 1. | Med ‧termiska batterier‧ avses i avsnitt 3A102 engångsbatterier som innehåller ett fast icke-ledande oorganiskt salt som elektrolyt. Dessa batterier innehåller ett pyrotekniskt material som när det antänds smälter elektrolyten och aktiverar batteriet. |
| --- | --- |

1.

| 2. | Med ‧missil‧ avses i avsnitt 3A102 kompletta raketsystem och system för obemannade luftfarkoster med en räckvidd som överstiger 300 km. |
| --- | --- |

2.

3A201Elektroniska komponenter som inte omfattas av avsnitt 3A001, enligt följande:

| a) | Kondensatorer som har någon av följande uppsättning egenskaper:






  1. | a) | Märkspänning större än 1,4 kV, |
| --- | --- | --- | --- |

a)

Kondensatorer som har någon av följande uppsättning egenskaper:

1.

a)

Märkspänning större än 1,4 kV,

| b) | energiinnehåll större än 10 J, |
| --- | --- |

b)

energiinnehåll större än 10 J,

| c) | kapacitans större än 0,5 μF, och |
| --- | --- |

c)

kapacitans större än 0,5 μF, och

| d) | serieinduktans mindre än 50 nH, eller |
| --- | --- |

d)

serieinduktans mindre än 50 nH, eller

| 2. | a) | märkspänning större än 750 V, |
| --- | --- | --- |

2.

a)

märkspänning större än 750 V,

| b) | kapacitans större än 0,25 μF, och |
| --- | --- |

b)

kapacitans större än 0,25 μF, och

| c) | serieinduktans mindre än 10 nH. |
| --- | --- |

c)

serieinduktans mindre än 10 nH.

| b) | Elektromagneter med supraledande solenoider och som uppfyller samtliga följande krav:






  1. | Kan producera magnetfält kraftigare än 2 T. |
| --- | --- | --- |

b)

Elektromagneter med supraledande solenoider och som uppfyller samtliga följande krav:

1.

Kan producera magnetfält kraftigare än 2 T.

| 2. | Längdens förhållande till innerdiametern är större än 2. |
| --- | --- |

2.

Längdens förhållande till innerdiametern är större än 2.

| 3. | En inre diameter större än 300 mm, och |
| --- | --- |

3.

En inre diameter större än 300 mm, och

| 4. | ett magnetfält som är homogent, bättre än 1 % över de centrala 50 % av den inre volymen. |
| --- | --- |

4.

ett magnetfält som är homogent, bättre än 1 % över de centrala 50 % av den inre volymen.

| : | Avsnitt 3A201.b omfattar inte magneter som är speciellt konstruerade för och exporterade ‧som del av‧ bildsystem för medicinsk tillämpning baserade på kärnspinnresonans (NMR). Frasen ‧som del av‧ avser inte nödvändigtvis fysisk del av samma skeppning; separata skeppningar från olika källor är tillåtna, under förutsättning att ifrågavarande exportdokument tydligt anger att skeppningarna används ‧som del av‧ bildsystemen. |
| --- | --- |

:

| c) | Röntgenblixtaggregat eller pulsade elektronacceleratorer som har någon av följande uppsättning egenskaper:






  1. | a) | En toppenergi för de accelererade elektronerna om 500 keV eller mer men mindre än 25 MeV, och |
| --- | --- | --- | --- |

c)

Röntgenblixtaggregat eller pulsade elektronacceleratorer som har någon av följande uppsättning egenskaper:

1.

a)

En toppenergi för de accelererade elektronerna om 500 keV eller mer men mindre än 25 MeV, och

| b) | ett ‧godhetstal‧ (K) lika med 0,25 eller mer, eller |
| --- | --- |

b)

ett ‧godhetstal‧ (K) lika med 0,25 eller mer, eller

| 2. | a) | en toppenergi för de accelererade elektronerna om 25 MeV eller mer, och |
| --- | --- | --- |

2.

a)

en toppenergi för de accelererade elektronerna om 25 MeV eller mer, och

| b) | en ‧toppeffekt‧ större än 50 MW. |
| --- | --- |

b)

en ‧toppeffekt‧ större än 50 MW.

| : | Avsnitt 3A201.c omfattar inte acceleratorer som ingår som delar i apparatur konstruerad för annat än användning av elektronstråle eller röntgenstrålning (t.ex. elektronmikroskop) och sådana som konstruerats för medicinska ändamål: |
| --- | --- |

:

:

| 1. | ‧Godhetstalet‧ (K) definieras som

  K = 1.7 × 103× V2.65× Q


  V är elektronernas toppenergi i millioner elektronvolt.


  Om pulslängden i acceleratorstrålen är kortare än eller lika med 1 μs, då är Q den totala accelererade laddningen i coulomb. Om strålens pulslängd är längre än 1 μs då är Q den maximala accelererade laddningen på 1 μs.


  Q är lika med integralen av i med avseende på t, över den tidslängd som är kortast av 1 μs eller tidslängden av pulsen (Q = ∫ idt) där i är strålströmmen i ampere och t tiden i sekunder. |
| --- | --- |

1.

K = 1.7 × 103× V2.65× Q

V är elektronernas toppenergi i millioner elektronvolt.

Om pulslängden i acceleratorstrålen är kortare än eller lika med 1 μs, då är Q den totala accelererade laddningen i coulomb. Om strålens pulslängd är längre än 1 μs då är Q den maximala accelererade laddningen på 1 μs.

Q är lika med integralen av i med avseende på t, över den tidslängd som är kortast av 1 μs eller tidslängden av pulsen (Q = ∫ idt) där i är strålströmmen i ampere och t tiden i sekunder.

| 2. | ‧Toppeffekt‧= (toppspänning i volt) × (toppström i ampere). |
| --- | --- |

2.

| 3. | I maskiner baserade på accelerations-kaviteter för mikrovågor är pulsens tidsutsträckning det mindre av 1 μs och längden av det sammanpressade (bunchade) vågpaketets varaktighet genererad av en modulatorpuls. |
| --- | --- |

3.

| 4. | I maskiner baserade på accelerationskaviteter för mikrovågor är strålens toppström lika med medelströmmen under det sammanpressade (bunchade) vågpaketets varaktighet. |
| --- | --- |

4.

3A225Frekvensomvandlare eller generatorer, andra än de som omfattas av avsnitt 0B001.b.13, som uppfyller samtliga följande villkor:

| a) | Flerfasig utgång och som kan producera en effekt av 40 W eller mer. |
| --- | --- |

a)

Flerfasig utgång och som kan producera en effekt av 40 W eller mer.

| b) | Kan arbeta inom frekvensområdet 600 till 2 000 Hz. |
| --- | --- |

b)

Kan arbeta inom frekvensområdet 600 till 2 000 Hz.

| c) | Total harmonisk distorsion bättre (mindre) än 10 %. |
| --- | --- |

c)

Total harmonisk distorsion bättre (mindre) än 10 %.

| d) | Frekvensstyrning bättre (lägre) än 0,1 %. |
| --- | --- |

d)

Frekvensstyrning bättre (lägre) än 0,1 %.

:

Frekvensomvandlarna i avsnitt 3A225 benämns också med de engelska beteckningarna converters eller inverters.

3A226Likströmsaggregat med hög effekt, andra än de som omfattas av avsnitt 0B001.j.6, och som uppfyller följande båda villkor:

| a) | Kan kontinuerligt producera, över en tidsperiod om 8 timmar, 100 V eller mer, med en utgångsström av 500 A eller mer, och |
| --- | --- |

a)

Kan kontinuerligt producera, över en tidsperiod om 8 timmar, 100 V eller mer, med en utgångsström av 500 A eller mer, och

| b) | en ström- eller spänningsstabilitet som är bättre än 0,1 % över en tidsperiod om 8 timmar. |
| --- | --- |

b)

en ström- eller spänningsstabilitet som är bättre än 0,1 % över en tidsperiod om 8 timmar.

3A227Högspänning-likströmsaggregat, andra än de som omfattas av avsnitt 0B001.j.5, och som uppfyller följande båda villkor:

| a) | Kan kontinuerligt producera, över en tidsperiod om 8 timmar, 20 kV eller mer med en utgångsström av 1 A eller mer, och |
| --- | --- |

a)

Kan kontinuerligt producera, över en tidsperiod om 8 timmar, 20 kV eller mer med en utgångsström av 1 A eller mer, och

| b) | en ström- eller spänningsstabilitet som är bättre än 0,1 % över en tidsperiod om 8 timmar. |
| --- | --- |

b)

en ström- eller spänningsstabilitet som är bättre än 0,1 % över en tidsperiod om 8 timmar.

3A228Brytarenheter enligt följande:

| a) | Kallkatodrör, oavsett om de är gasfyllda eller ej, vilka fungerar på liknande sätt som gnistgap, och uppfyller samtliga följande krav:






  1. | Har tre eller flera elektroder. |
| --- | --- | --- |

a)

Kallkatodrör, oavsett om de är gasfyllda eller ej, vilka fungerar på liknande sätt som gnistgap, och uppfyller samtliga följande krav:

1.

Har tre eller flera elektroder.

| 2. | Anodens märkta toppspänning är minst 2,5 kV. |
| --- | --- |

2.

Anodens märkta toppspänning är minst 2,5 kV.

| 3. | Anodens märkta toppström är minst 100 A. |
| --- | --- |

3.

Anodens märkta toppström är minst 100 A.

| 4. | Anodens fördröjning är högst 10 μs. |
| --- | --- |

4.

Anodens fördröjning är högst 10 μs.

| : | Avsnitt 3A228 omfattar krytroner och sprytroner. |
| --- | --- |

:

| b) | Triggade gnistgap som uppfyller följande båda villkor:






  1. | En anodfördröjning om 15 μs eller mindre, och |
| --- | --- | --- |

b)

Triggade gnistgap som uppfyller följande båda villkor:

1.

En anodfördröjning om 15 μs eller mindre, och

| 2. | en märkt toppström om minst 500 A. |
| --- | --- |

2.

en märkt toppström om minst 500 A.

| c) | Moduler eller delsystem med en snabb slutarfunktion, andra än de som omfattas av avsnitt 3A001.g eller 3A001.h, som uppfyller samtliga följande krav:






  1. | Anodens märkta toppspänning är större än 2 kV, |
| --- | --- | --- |

c)

Moduler eller delsystem med en snabb slutarfunktion, andra än de som omfattas av avsnitt 3A001.g eller 3A001.h, som uppfyller samtliga följande krav:

1.

Anodens märkta toppspänning är större än 2 kV,

| 2. | anodens märkta toppström minst 500 A, och |
| --- | --- |

2.

anodens märkta toppström minst 500 A, och

| 3. | tillslagstiden är 1 μs eller mindre. |
| --- | --- |

3.

tillslagstiden är 1 μs eller mindre.

3A229Pulsgeneratorer för hög strömstyrka enligt följande:

| ANM.: | SE ÄVEN KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING. |
| --- | --- |

ANM.:

Se avsnitt 1A007.a för tändaggregat.

| a) | Används inte. |
| --- | --- |

a)

Används inte.

| b) | Moduluppbyggda elektriska pulsgeneratorer som har alla följande egenskaper:






  1. | Portabla, mobila eller konstruerade för svåra förhållanden. |
| --- | --- | --- |

b)

Moduluppbyggda elektriska pulsgeneratorer som har alla följande egenskaper:

1.

Portabla, mobila eller konstruerade för svåra förhållanden.

| 2. | Inneslutna i en dammtät behållare. |
| --- | --- |

2.

Inneslutna i en dammtät behållare.

| 3. | Kapabla att leverera sin energi på mindre än 15 μs. |
| --- | --- |

3.

Kapabla att leverera sin energi på mindre än 15 μs.

| 4. | Kapabla att leverera en strömstyrka överstigande 100 A. |
| --- | --- |

4.

Kapabla att leverera en strömstyrka överstigande 100 A.

| 5. | Har en ‧stigtid‧ som är kortare än 10 μs vid lägre belastning än 40 Ω. |
| --- | --- |

5.

Har en ‧stigtid‧ som är kortare än 10 μs vid lägre belastning än 40 Ω.

| 6. | Ingen dimension är större än 254 mm. |
| --- | --- |

6.

Ingen dimension är större än 254 mm.

| 7. | Väger mindre än 25 kg. |
| --- | --- |

7.

Väger mindre än 25 kg.

| 8. | Specificerad för användning i ett brett temperaturområde 223 K (– 50 °C) till 373 K (100 °C) eller specificerad som lämplig för rymdanvändning. |
| --- | --- |

8.

Specificerad för användning i ett brett temperaturområde 223 K (– 50 °C) till 373 K (100 °C) eller specificerad som lämplig för rymdanvändning.

| : | Avsnitt 3A229.b omfattar drivaggregat till xenonblixtar. |
| --- | --- |

:

:

I avsnitt 3A229.b.5 definieras ‧stigtid‧ som tidsintervallet mellan 10 % och 90 % av strömamplituden när generatorn driver en resistiv last.

3A230Snabba pulsgeneratorer som har följande två egenskaper:

| a) | Utgående spänning högre än 6 V vid en resistiv belastning av mindre än 55 Ω, och |
| --- | --- |

a)

Utgående spänning högre än 6 V vid en resistiv belastning av mindre än 55 Ω, och

| b) | en ‧stigtid för pulsen‧ som är kortare än 500 ps. |
| --- | --- |

b)

en ‧stigtid för pulsen‧ som är kortare än 500 ps.

:

I avsnitt 3A230 definieras ‧stigtid för pulsen‧ som tidsintervallet mellan 10 % och 90 % av spänningsamplituden.

3A231Neutrongeneratorsystem, även rör, som har följande två egenskaper:

| a) | Konstruerade för drift utan yttre vakuumsystem, och |
| --- | --- |

a)

Konstruerade för drift utan yttre vakuumsystem, och

| b) | som använder elektrostatisk acceleration för att inducera en reaktion mellan tritium och deuterium. |
| --- | --- |

b)

som använder elektrostatisk acceleration för att inducera en reaktion mellan tritium och deuterium.

3A232Tändsystem för flerpunktständning, andra än de som omfattas av avsnitt 1A007, enligt följande:

| ANM.: | SE ÄVEN KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING. |
| --- | --- |

ANM.:

:

Se avsnitt 1A007.b för sprängkapslar.

| a) | Används inte. |
| --- | --- |

a)

Används inte.

| b) | Anordningar som, utlösta av en enda puls, använder en eller flera sprängkapslar i syfte att nästan samtidigt initiera detonation i en sprängämnesyta över en area större än 5 000 mm2 med en spridning i tändtid över hela ytan som är mindre än 2,5 μs. |
| --- | --- |

b)

Anordningar som, utlösta av en enda puls, använder en eller flera sprängkapslar i syfte att nästan samtidigt initiera detonation i en sprängämnesyta över en area större än 5 000 mm2 med en spridning i tändtid över hela ytan som är mindre än 2,5 μs.

| : | Avsnitt 3A232 omfattar inte detonatorer som endast använder primära explosiver såsom blyazid (Pb(N3)2). |
| --- | --- |

:

3A233Masspektrometrar, andra än de som omfattas av avsnitt 0B002.g, som kan mäta joner med en massa av 230 amu (amu = atommassenhet) eller mer och som har en upplösning bättre än 2/230, samt jonkällor till sådana, enligt följande:

| a) | Masspektrometrar med induktivt kopplad plasmajonkälla (ICP/MS). |
| --- | --- |

a)

Masspektrometrar med induktivt kopplad plasmajonkälla (ICP/MS).

| b) | Masspektrometrar med glimurladdningsjonkälla (GDMS). |
| --- | --- |

b)

Masspektrometrar med glimurladdningsjonkälla (GDMS).

| c) | Masspektrometrar med jonkälla som bygger på termisk jonisation (TIMS). |
| --- | --- |

c)

Masspektrometrar med jonkälla som bygger på termisk jonisation (TIMS).

| d) | Masspektrometrar med jonkälla som använder indirekt upphettning (electron bombardment) och med en jonisationskammare tillverkad av, fodrad eller klädd med material som är resistenta mot UF6 (uranhexafluorid). |
| --- | --- |

d)

Masspektrometrar med jonkälla som använder indirekt upphettning (electron bombardment) och med en jonisationskammare tillverkad av, fodrad eller klädd med material som är resistenta mot UF6 (uranhexafluorid).

| e) | Masspektrometer av molekylstråletyp, antingen






  1. | med en jonisationskammare gjord av, fodrad eller klädd med rostfritt stål eller molybden och som är försedd med en kylfälla för 193 K (– 80 °C) eller lägre, eller |
| --- | --- | --- |

e)

Masspektrometer av molekylstråletyp, antingen

1.

med en jonisationskammare gjord av, fodrad eller klädd med rostfritt stål eller molybden och som är försedd med en kylfälla för 193 K (– 80 °C) eller lägre, eller

| 2. | med en jonisationskammare gjord av, fodrad eller klädd med material som är resistenta mot UF6. |
| --- | --- |

2.

med en jonisationskammare gjord av, fodrad eller klädd med material som är resistenta mot UF6.

| f) | Masspektrometrar utrustade med jonkälla med mikrofluorering konstruerad för att användas med aktinider eller aktinidfluorider. |
| --- | --- |

f)

Masspektrometrar utrustade med jonkälla med mikrofluorering konstruerad för att användas med aktinider eller aktinidfluorider.

3BTest-, inspektions- och produktionsutrustning

3B001Utrustning konstruerad för tillverkning av halvledarenheter eller material, enligt följande, och för dessa utrustningar speciellt konstruerade komponenter och tillbehör:

| a) | Utrustning för epitaxiell tillväxt enligt följande:






  1. | Utrustning som kan producera ett lager av ett annat material än kisel med en jämnhetsavvikelse mindre än ± 2,5 % över en sträcka av minst 75 mm.







  : | Avsnitt 3B001.a.1 omfattar utrustning för atomskiktsepitaxi (ALE). |
| --- | --- | --- | --- |

a)

Utrustning för epitaxiell tillväxt enligt följande:

1.

Utrustning som kan producera ett lager av ett annat material än kisel med en jämnhetsavvikelse mindre än ± 2,5 % över en sträcka av minst 75 mm.

:

| 2. | Metallorganiska kemiska förångningsreaktorer (MOCVD) speciellt konstruerade för att ge kristalltillväxt av halvledarblandningar genom kemisk reaktion mellan material enligt avsnitt 3C003 eller 3C004. |
| --- | --- |

2.

Metallorganiska kemiska förångningsreaktorer (MOCVD) speciellt konstruerade för att ge kristalltillväxt av halvledarblandningar genom kemisk reaktion mellan material enligt avsnitt 3C003 eller 3C004.

| 3. | Utrustning för epitaxiell tillväxt med hjälp av molekylärstrålar och gaskällor. |
| --- | --- |

3.

Utrustning för epitaxiell tillväxt med hjälp av molekylärstrålar och gaskällor.

| b) | Utrustning konstruerad för jonimplantation som har någon av följande egenskaper:






  1. | En strålenergi (accelerationsspänning) som överstiger 1 MeV, |
| --- | --- | --- |

b)

Utrustning konstruerad för jonimplantation som har någon av följande egenskaper:

1.

En strålenergi (accelerationsspänning) som överstiger 1 MeV,

| 2. | är speciellt konstruerad för att optimalt kunna arbeta vid en strålenergi (accelerationsspänning) som är mindre än 2 keV, |
| --- | --- |

2.

är speciellt konstruerad för att optimalt kunna arbeta vid en strålenergi (accelerationsspänning) som är mindre än 2 keV,

| 3. | har direkt skrivmöjlighet, eller |
| --- | --- |

3.

har direkt skrivmöjlighet, eller

| 4. | en strålenergi som är 65 keV eller mer och en strålenergi som är 45 mA eller mer för att med hög energi införa syre i det upphettade halvledar-"substratet". |
| --- | --- |

4.

en strålenergi som är 65 keV eller mer och en strålenergi som är 45 mA eller mer för att med hög energi införa syre i det upphettade halvledar-"substratet".

| c) | Utrustning för torr anisotropisk plasmaetsning med båda följande egenskaper:






  1. | Den är speciellt konstruerad för att optimalt kunna producera kritiska dimensioner på 65 nm eller mindre, och |
| --- | --- | --- |

c)

Utrustning för torr anisotropisk plasmaetsning med båda följande egenskaper:

1.

Den är speciellt konstruerad för att optimalt kunna producera kritiska dimensioner på 65 nm eller mindre, och

| 2. | det föreligger ojämn fördelning inom wafern lika med eller mindre än 10 % 3σ mätt med en kantuteslutning på 2 mm eller mindre. |
| --- | --- |

2.

det föreligger ojämn fördelning inom wafern lika med eller mindre än 10 % 3σ mätt med en kantuteslutning på 2 mm eller mindre.

| d) | Utrustning för plasmaförstärkt kemisk förångningsdeposition (CVD) enligt följande:






  1. | Utrustningen arbetar med kassett-till-kassettmatning och slussöppning, och är speciellt konstruerad enligt tillverkarens specifikationer eller optimerad för användning vid produktion av halvledarenheter med kritiska dimensioner på 65 nm eller mindre. |
| --- | --- | --- |

d)

Utrustning för plasmaförstärkt kemisk förångningsdeposition (CVD) enligt följande:

1.

Utrustningen arbetar med kassett-till-kassettmatning och slussöppning, och är speciellt konstruerad enligt tillverkarens specifikationer eller optimerad för användning vid produktion av halvledarenheter med kritiska dimensioner på 65 nm eller mindre.

| 2. | Utrustningen är speciellt konstruerad för utrustning som anges i avsnitt 3B001.e och konstruerad enligt tillverkarens specifikationer eller optimerad för användning vid produktion av halvledarenheter med kritiska dimensioner på 65 nm eller mindre. |
| --- | --- |

2.

Utrustningen är speciellt konstruerad för utrustning som anges i avsnitt 3B001.e och konstruerad enligt tillverkarens specifikationer eller optimerad för användning vid produktion av halvledarenheter med kritiska dimensioner på 65 nm eller mindre.

| e) | Automatiskt laddningssystem för flera kammare för tillverkning av halvledare med båda följande egenskaper:






  1. | Gränssnitt för såväl in- som utgång för wafers till vilket minst två funktionellt olika ‧halvledarprocessverktyg‧ enligt 3B001.a, 3B001.b, 3B001.c eller 3B001.d är avsedda att anslutas, och |
| --- | --- | --- |

e)

Automatiskt laddningssystem för flera kammare för tillverkning av halvledare med båda följande egenskaper:

1.

Gränssnitt för såväl in- som utgång för wafers till vilket minst två funktionellt olika ‧halvledarprocessverktyg‧ enligt 3B001.a, 3B001.b, 3B001.c eller 3B001.d är avsedda att anslutas, och

| 2. | vara konstruerade för att bilda ett integrerat system i vakuumomgivning för ‧sekventiell bearbetning av wafers i flera steg‧. |
| --- | --- |

2.

vara konstruerade för att bilda ett integrerat system i vakuumomgivning för ‧sekventiell bearbetning av wafers i flera steg‧.

| : | Avsnitt 3B001.e omfattar inte automatisk robothantering av wafers särskilt konstruerade för parallell waferbehandling. |
| --- | --- |

:

:

| 1 | I 3B001.e avses med ‧halvledarbearbetningsverktyg‧ modulära verktyg som möjliggör fysiska processer för halvledarframställning vilka är funktionellt olika, såsom deponering, etsning, implantering eller värmebehandling. |
| --- | --- |

1

| 2. | I 3B001.e avses med ‧sekventiell bearbetning av wafers i flera steg‧ möjligheten att bearbeta warje wafer i olika ‧halvledarbearbetningsverktyg‧, t.ex. genom att överföra varje wafer från ett verktyg till ett annat och vidare till ett tredje via de automatiska centrala klustersystemen för hantering av wafers. |
| --- | --- |

2.

| f) | Litografisk utrustning med egenskaper enligt följande:






  1. | Utrustning för uppriktning samt exponering med repetermöjlighet (step and repeat, direkt step on wafer) eller scanner (step and scan) som använder röntgen eller foto-optiska metoder, och som har någon av följande egenskaper:






  a) | Ljuskällans våglängd är kortare än 245 nm, eller |
| --- | --- | --- | --- |

f)

Litografisk utrustning med egenskaper enligt följande:

1.

Utrustning för uppriktning samt exponering med repetermöjlighet (step and repeat, direkt step on wafer) eller scanner (step and scan) som använder röntgen eller foto-optiska metoder, och som har någon av följande egenskaper:

a)

Ljuskällans våglängd är kortare än 245 nm, eller

| b) | kan producera ett mönster med en ‧minsta upplösning för systemdimensionen‧ (MRF) på 95 nm eller mindre.

  :


  Den ‧minsta upplösningen för systemdimensionen‧ (MRF) beräknas med följande formel:




  där K är en skalfaktor = 0,35 |
| --- | --- |

b)

kan producera ett mönster med en ‧minsta upplösning för systemdimensionen‧ (MRF) på 95 nm eller mindre.

:

Den ‧minsta upplösningen för systemdimensionen‧ (MRF) beräknas med följande formel:

Formula

där K är en skalfaktor = 0,35

| 2. | Litografisk präglingsutrustning som kan framställa detaljer på 95 nm eller mindre.







  : | Avsnitt 3B001.f.2 omfattar följande:






  — | Verktyg för mikrokontakttryck. |
| --- | --- | --- | --- |

2.

Litografisk präglingsutrustning som kan framställa detaljer på 95 nm eller mindre.

:

—

Verktyg för mikrokontakttryck.

| — | Verktyg för värmeprägling. |
| --- | --- |

—

Verktyg för värmeprägling.

| — | Verktyg för nanopräglingslitografi. |
| --- | --- |

—

Verktyg för nanopräglingslitografi.

| — | S-FIL-verktyg (step and flash imprint lithography). |
| --- | --- |

—

S-FIL-verktyg (step and flash imprint lithography).

| 3. | Utrustning som är speciellt konstruerad för att tillverka masker eller halvledarenheter med hjälp av direkta skrivmetoder, och som uppfyller följande:






  a) | Den använder avlänkade fokuserade elektron-, jon- eller "laser" strålar, och |
| --- | --- | --- |

3.

Utrustning som är speciellt konstruerad för att tillverka masker eller halvledarenheter med hjälp av direkta skrivmetoder, och som uppfyller följande:

a)

Den använder avlänkade fokuserade elektron-, jon- eller "laser" strålar, och

| b) | den har någon av följande egenskaper:






  1. | En strålpunkt som är mindre än 0,2 μm. |
| --- | --- | --- |

b)

den har någon av följande egenskaper:

1.

En strålpunkt som är mindre än 0,2 μm.

| 2. | Förmåga att producera mönster med en karaktäristisk ledningsbredd som är mindre än 1 μm. |
| --- | --- |

2.

Förmåga att producera mönster med en karaktäristisk ledningsbredd som är mindre än 1 μm.

| 3. | En passningsnoggrannhet som är bättre än ± 0,20 μm (3 sigma). |
| --- | --- |

3.

En passningsnoggrannhet som är bättre än ± 0,20 μm (3 sigma).

| g) | Masker eller mastermasker som är konstruerade för tillverkning av integrerade kretsar enligt avsnitt 3A001. |
| --- | --- |

g)

Masker eller mastermasker som är konstruerade för tillverkning av integrerade kretsar enligt avsnitt 3A001.

| h) | Flerlagermasker som är försedda med ett fasskiftlager.







  : | Avsnitt 3B001.h omfattar inte flerlagermasker som är försedda med ett fasskiftlager konstruerat för tillverkning av minnen som inte omfattas av avsnitt 3A001. |
| --- | --- | --- |

h)

Flerlagermasker som är försedda med ett fasskiftlager.

:

| i) | Schabloner för litografisk prägling som är konstruerade för integrerade kretsar som omfattas av avsnitt 3A001. |
| --- | --- |

i)

Schabloner för litografisk prägling som är konstruerade för integrerade kretsar som omfattas av avsnitt 3A001.

3B002Provutrustning som är speciellt konstruerad för provning av färdiga halvledarenheter eller halvfabrikat enligt följande, samt tillhörande komponenter och tillbehör:

| a) | Utrustning för provning av transistorers S-parametrar vid frekvenser som överstiger 31,8 GHz. |
| --- | --- |

a)

Utrustning för provning av transistorers S-parametrar vid frekvenser som överstiger 31,8 GHz.

| b) | Används inte. |
| --- | --- |

b)

Används inte.

| c) | Utrustning som kan prova integrerade mikrovågskretsar som omfattas av avsnitt 3A001.b.2. |
| --- | --- |

c)

Utrustning som kan prova integrerade mikrovågskretsar som omfattas av avsnitt 3A001.b.2.

3CMaterial

3C001Hetero-epitaxiella material som består av ett "substrat" med ovanpå varandra liggande epitaxiellt tillvuxna multipelskikt av något av följande:

| a) | Kisel (Si). |
| --- | --- |

a)

Kisel (Si).

| b) | Germanium (Ge). |
| --- | --- |

b)

Germanium (Ge).

| c) | Kiselkarbid (SiC). |
| --- | --- |

c)

Kiselkarbid (SiC).

| d) | "III/V-föreningar" av gallium eller indium. |
| --- | --- |

d)

"III/V-föreningar" av gallium eller indium.

3C002Resistmaterial enligt följande, och "substrat" belagda med följande resistmaterial:

| a) | Positiva resistmaterial som är konstruerade för halvledarlitografi och speciellt justerade (optimerade) för våglängder under 245 nm. |
| --- | --- |

a)

Positiva resistmaterial som är konstruerade för halvledarlitografi och speciellt justerade (optimerade) för våglängder under 245 nm.

| b) | Alla resistmaterial som är konstruerade för att användas tillsammans med elektron- eller jonstrålar och vars känslighet är 0,01 μC/mm2 eller bättre. |
| --- | --- |

b)

Alla resistmaterial som är konstruerade för att användas tillsammans med elektron- eller jonstrålar och vars känslighet är 0,01 μC/mm2 eller bättre.

| c) | Alla resistmaterial som är konstruerade för att användas tillsammans med röntgenstrålar och som har en känslighet som är 2,5 mJ/mm2 eller bättre. |
| --- | --- |

c)

Alla resistmaterial som är konstruerade för att användas tillsammans med röntgenstrålar och som har en känslighet som är 2,5 mJ/mm2 eller bättre.

| d) | Alla resistmaterial som optimerats för ytbildstekniker inklusive ‧silylated‧ resistmaterial.

  :


  Med ‧silylated‧-teknik avses processer som innebär att resistmaterialet oxideras på ytan för att förstärka effekten av såväl torr som våt framkallning. |
| --- | --- |

d)

Alla resistmaterial som optimerats för ytbildstekniker inklusive ‧silylated‧ resistmaterial.

:

Med ‧silylated‧-teknik avses processer som innebär att resistmaterialet oxideras på ytan för att förstärka effekten av såväl torr som våt framkallning.

| e) | Alla resistmaterial som är utformade eller optimerade för att användas tillsammans med litografisk präglingsutrustning som omfattas av avsnitt 3B001.f.2 och som använder antingen en värmeprocess eller en photo-curable-process. |
| --- | --- |

e)

Alla resistmaterial som är utformade eller optimerade för att användas tillsammans med litografisk präglingsutrustning som omfattas av avsnitt 3B001.f.2 och som använder antingen en värmeprocess eller en photo-curable-process.

3C003Organiska-oorganiska blandningar enligt följande:

| a) | Metallorganiska blandningar av aluminium, gallium eller indium, med en renhetsgrad (på metallbasen) som är bättre än 99,999 %. |
| --- | --- |

a)

Metallorganiska blandningar av aluminium, gallium eller indium, med en renhetsgrad (på metallbasen) som är bättre än 99,999 %.

| b) | Organiska blandningar med antimon, arsenik eller fosfor som har en renhet (baserat på det oorganiska elementet) som är bättre än 99,999 %. |
| --- | --- |

b)

Organiska blandningar med antimon, arsenik eller fosfor som har en renhet (baserat på det oorganiska elementet) som är bättre än 99,999 %.

| : | Avsnitt 3C003 omfattar endast blandningar vars metalliska, delvis metalliska eller icke metalliska element är direkt bundna till kolet i den organiska delen av molekylen. |
| --- | --- |

:

3C004Hydrider av fosfor, arsenik eller antimon som har en renhet som är bttre än 99,999 %, även utspädd i ädelgaser eller väte.

| : | Avsnitt 3C004 omfattar inte hydrider som innehåller 20 % molar eller mer av ädelgaser eller väte. |
| --- | --- |

:

3C005"Substrat" av kiselkarbid (SiC), galliumnitrid (GaN), aluminumnitrid (AlN) eller aluminiumgalliumnitrid (AlGaN), eller tackor, halvrunda stycken eller andra förformer av dessa material, med en resistivitet som överstiger 10 000 ohm-cm vid 20 °C.

3C006"Substrat" som omfattas av avsnitt 3C005 med minst ett epitaxiellt lager av kiselkarbid, galliumnitrid, aluminiumnitrid eller alluminiumgalliumnitrid.

3DProgramvara

3D001"Programvara" som är speciellt utformad för "utveckling" eller "produktion" av utrustning som omfattas av avsnitten 3A001.b–3A002.g eller 3B.

3D002"Programvara" som är speciellt utformad för "användning" av utrustning som omfattas av avsnitt 3B001.a-3B001.f eller 3B002.

3D003‧Fysikbaserad‧ simulerings "programvara" speciellt konstruerad för "utveckling" av litografiska, etsnings- eller uppbyggnads (depositions) -processen så att maskvärdena omvandlas till specifika typografiska mönster i de olika ledar-, dielektriska eller halvledarlagren.

:

Med ‧fysikbaserad‧ avses i avsnitt 3.D.003 beräkningar för att fastställa en sekvens av fysiska samband mellan orsak och verkan på grundval av fysiska egenskaper (t.ex. temperatur, tryck, diffusionskonstanter och halvledare).

| : | Bibliotek, konstruktionsanvisningar eller liknande data för konstruktion av halvledarenheter eller integrerade kretsar ska betraktas som "teknik". |
| --- | --- |

:

3D004"Programvara" som är speciellt utformad för "utveckling" av utrustning som omfattas av avsnitt 3A003.

3D101"Programvara" som är speciellt utformad eller modifierad för "användning" av utrustning som omfattas av avsnitt 3A101.b.

3ETeknik

3E001"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik för "utveckling" eller "produktion" av utrustning eller material som omfattas av avsnitten 3A, 3B eller 3C.

| : | Avsnitt 3E001 omfattar inte "teknik" för "produktion" av utrustning eller komponenter som omfattas av avsnitt 3A003. |
| --- | --- |

:

| : | Avsnitt 3E001 omfattar inte "teknik" för "utveckling" eller "produktion" av integrerade kretsar som omfattas av avsnitten 3A001.a.3-3A001.a.12 som har båda följande egenskaper







  a) | använder en "teknik" för lägst 0,130 μm, och |
| --- | --- | --- |

:

a)

använder en "teknik" för lägst 0,130 μm, och

| b) | strukturer i flera lager med tre eller färre metallager. |
| --- | --- |

b)

strukturer i flera lager med tre eller färre metallager.

3E002"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik, som inte omfattas av avsnitt 3E001, för "utveckling" eller "produktion" av "mikroprocessor-mikrokretsar", "mikrodator-mikrokretsar" och mikrokretsar för mikrostyrsystem med en aritmetisk logisk enhet som kan hantera minst 32 bitar och som har någon av följande egenskaper:

| a) | En ‧vektorprocessorenhet‧ som är utformad för att utföra mer än två beräkningar på flyttalsvektorer (32-bitars eller större endimensionella matriser) samtidigt.

  :


  En ‧vektorprocessorenhet‧ är ett processorelement med inbyggda instruktioner som utför multipla beräkningar på flyttalsvektorer (32-bitars eller större endimensionella matriser) samtidigt, och som har minst en aritmetisk logisk vektorenhet. |
| --- | --- |

a)

En ‧vektorprocessorenhet‧ som är utformad för att utföra mer än två beräkningar på flyttalsvektorer (32-bitars eller större endimensionella matriser) samtidigt.

:

En ‧vektorprocessorenhet‧ är ett processorelement med inbyggda instruktioner som utför multipla beräkningar på flyttalsvektorer (32-bitars eller större endimensionella matriser) samtidigt, och som har minst en aritmetisk logisk vektorenhet.

| b) | Utformad för att utföra mer än två 64-bitars eller större flyttalsoperationsresultat per cykel, eller |
| --- | --- |

b)

Utformad för att utföra mer än två 64-bitars eller större flyttalsoperationsresultat per cykel, eller

| c) | Utformad för att utföra mer än fyra 16-bitars ackumulerade fasttalsmultiplikationsresultat per cykel (t.ex. digital manipulering av analog information som tidigare omvandlats till digital form, även känd som digital "signalbehandling").







  : | Avsnitt 3E002.c omfattar inte "teknik" för multimediaanslutningar. |
| --- | --- | --- |

c)

Utformad för att utföra mer än fyra 16-bitars ackumulerade fasttalsmultiplikationsresultat per cykel (t.ex. digital manipulering av analog information som tidigare omvandlats till digital form, även känd som digital "signalbehandling").

:

| : | Avsnitt 3E002 omfattar inte "teknik" för "utveckling" eller "produktion" av mikroprocessorer med följande egenskaper:







  a) | Använder "teknik" på eller över 0,130 μm. |
| --- | --- | --- |

:

a)

Använder "teknik" på eller över 0,130 μm.

| b) | Innehåller strukturer i flera lager med högst fem metallager. |
| --- | --- |

b)

Innehåller strukturer i flera lager med högst fem metallager.

| : | Avsnitt 3E002 omfattar "teknik" för digitala signalprocessorer och digitala grupprocessorer. |
| --- | --- |

:

3E003Annan "teknik" för "utveckling" eller "produktion" av följande:

| a) | Vakuumenheter för mikroelektronik. |
| --- | --- |

a)

Vakuumenheter för mikroelektronik.

| b) | Halvledarelement med ovanlig uppbyggnad ("hetero-structure") såsom transistorer med hög elektronrörlighet (HEMT), hetero-bipolära transistorer (HBT), quantum well och super lattice element.







  : | Avsnitt 3E003.b omfattar inte "teknik" för transistorer med hög elektronrörlighet (HEMT) som arbetar vid frekvenser under 31,8 GHz och hetero-bipolära transistorer (HBT) som arbetar vid frekvenser under 31,8 GHz. |
| --- | --- | --- |

b)

Halvledarelement med ovanlig uppbyggnad ("hetero-structure") såsom transistorer med hög elektronrörlighet (HEMT), hetero-bipolära transistorer (HBT), quantum well och super lattice element.

:

| c) | "Supraledande" elektroniska element. |
| --- | --- |

c)

"Supraledande" elektroniska element.

| d) | Filmsubstrat av diamant för elektroniska kretsar. |
| --- | --- |

d)

Filmsubstrat av diamant för elektroniska kretsar.

| e) | Substrat av kisel på insulator (SOI) för integrerade kretsar i vilka insulatorn är kiseldioxid. |
| --- | --- |

e)

Substrat av kisel på insulator (SOI) för integrerade kretsar i vilka insulatorn är kiseldioxid.

| f) | Substrat av kiselkarbid för elektroniska komponenter. |
| --- | --- |

f)

Substrat av kiselkarbid för elektroniska komponenter.

| g) | Elektroniska vakuumrör som arbetar vid frekvenser på 31,8 GHz eller mer. |
| --- | --- |

g)

Elektroniska vakuumrör som arbetar vid frekvenser på 31,8 GHz eller mer.

3E101"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik för "användning" av utrustning eller "programvara", vilken omfattas av avsnitt 3A001.a.1 eller 2, 3A101, 3A102 eller 3D101.

3E102"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik för "utveckling" av "programvara" som omfattas av avsnitt 3D101.

3E201"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik för "användning" av utrustning som omfattas av avsnitten 3A001.e.2, 3A001.e.3, 3A001.g, 3A201 och 3A225-3A233.

KATEGORI 4

DATORER

| : | Datorer, kringutrustning och "programvara" som utför telekommunikations- eller "lokala nät"-funktioner ska också utvärderas i förhållande till prestandaegenskaper i kategori 5, del 1 (telekommunikation). |
| --- | --- |

:

| : | Styrenheter som direkt kopplar samman bussar eller kanaler i datorers centralenheter, styrenheter för "huvudminne" eller skivminne ska inte betraktas som telekommunikationsutrustning enligt kategori 5, del 1 (telekommunikation).

  :


  När det gäller kontrollstatus för "programvara", särskilt konstruerad för paketväxlar, se avsnitt 5D001. |
| --- | --- |

:

:

När det gäller kontrollstatus för "programvara", särskilt konstruerad för paketväxlar, se avsnitt 5D001.

| : | För datorer, kringutrustning eller "programvara" som utför kryptografi, kryptoanalys, certifierbar säkerhet i flera nivåer eller certifierbar användarisolering, eller som begränsar den elektromagnetiska kompatibiliteten (EMC), ska också utvärderas i förhållande till prestandakarakteristika i kategori 5, del 2 ("informationssäkerhet"). |
| --- | --- |

:

4ASystem, utrustningar och komponenter

4A001Elektroniska datorer och därmed sammanhörande utrustning, med någon av följande egenskaper, och "elektroniska sammansättningar", och speciellt konstruerade komponenter till dessa:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 4A101. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | Speciellt konstruerade för att ha någon av följande egenskaper:






  1. | Specificerade för att arbeta vid omgivande temperaturer under 228 K (– 45 °C) eller över 358 K (85 °C).







  : | Avsnitt 4A001.a.1 omfattar inte datorer som konstruerats särskilt för att användas i civila bil-, tåg- eller "civila luftfartygs"- tillämpningar. |
| --- | --- | --- | --- |

a)

Speciellt konstruerade för att ha någon av följande egenskaper:

1.

Specificerade för att arbeta vid omgivande temperaturer under 228 K (– 45 °C) eller över 358 K (85 °C).

:

| 2. | Strålningståliga så att de överträffar någon av följande specifikationer:







  a) | Total strålningsdos | 5 × 103 Gy (Si), |
| --- | --- | --- | --- |
| b) | absorberad dosrat | 5 × 106Gy (Si)/s, eller |
| c) | enstaka fel på grund av strålning ej överstigande | 1 × 10–8 fel/bit/dag. |

2.

Strålningståliga så att de överträffar någon av följande specifikationer:

a)

Total strålningsdos

5 × 103 Gy (Si),

b)

absorberad dosrat

5 × 106Gy (Si)/s, eller

c)

enstaka fel på grund av strålning ej överstigande

1 × 10–8 fel/bit/dag.

| : | 4A001.a.2. omfattar inte datorer särskilt konstruerade för tillämpningar för "civila luftfartyg". |
| --- | --- |

:

| b) | Används inte. |
| --- | --- |

b)

Används inte.

4A003"Digitala datorer", "elektroniska sammansättningar" och därmed sammanhörande utrustning, enligt följande, och specialkonstruerade komponenter därtill.

| : | Avsnitt 4A003 omfattar följande:






  — | ‧Vektorprocessorer‧. |
| --- | --- | --- |

:

—

‧Vektorprocessorer‧.

| — | Grupp- (array-) processorer. |
| --- | --- |

—

Grupp- (array-) processorer.

| — | Digitala signalprocessorer. |
| --- | --- |

—

Digitala signalprocessorer.

| — | Logikprocessorer. |
| --- | --- |

—

Logikprocessorer.

| — | Utrustning konstruerad för "bildbehandling". |
| --- | --- |

—

Utrustning konstruerad för "bildbehandling".

| — | Utrustning konstruerad för "signalbehandling". |
| --- | --- |

—

Utrustning konstruerad för "signalbehandling".

| : | Kontrollstatus för "digitala datorer" och därmed sammanhörande utrustning enligt beskrivningen i avsnitt 4A003 bestäms av kontrollstatus för annan utrustning eller andra system, under förutsättning att







  a) | de "digitala datorerna" eller den därmed sammanhörande utrustningen är väsentliga för den andra utrustningens eller de andra systemens funktion, |
| --- | --- | --- |

:

a)

de "digitala datorerna" eller den därmed sammanhörande utrustningen är väsentliga för den andra utrustningens eller de andra systemens funktion,

| b) | de "digitala datorerna" eller den därmed sammanhörande utrustningen inte är en "huvudbeståndsdel" i den andra utrustningen eller de andra systemen, och


  :


  Kontrollstatus för "signalbehandlings"- eller "bildbehandlings"-utrustning särskilt konstruerad för en annan utrustning med funktioner, som är begränsade till dem, som krävs för den andra utrustningen, ska bestämmas av kontrollstatus för den andra utrustningen även om den överskrider värdena för "huvudbeståndsdelen".


  :


  När det gäller kontrollstatus för "digitala datorer" eller därmed tillhörande utrustning för telekommunikation, se kategori 5, del 1 (telekommunikation). |
| --- | --- |

b)

de "digitala datorerna" eller den därmed sammanhörande utrustningen inte är en "huvudbeståndsdel" i den andra utrustningen eller de andra systemen, och

:

Kontrollstatus för "signalbehandlings"- eller "bildbehandlings"-utrustning särskilt konstruerad för en annan utrustning med funktioner, som är begränsade till dem, som krävs för den andra utrustningen, ska bestämmas av kontrollstatus för den andra utrustningen även om den överskrider värdena för "huvudbeståndsdelen".

:

När det gäller kontrollstatus för "digitala datorer" eller därmed tillhörande utrustning för telekommunikation, se kategori 5, del 1 (telekommunikation).

| c) | "teknik" för "digitala datorer" och tillhörande utrustning bestäms av avsnitt 4E. |
| --- | --- |

c)

"teknik" för "digitala datorer" och tillhörande utrustning bestäms av avsnitt 4E.

| a) | Konstruerade eller modifierade för "feltolerans".







  : | När det gäller avsnitt 4A003.a betraktas inte "digitala datorer" och tillhörande utrustning som konstruerade eller modifierade för "feltolerans", om de använder något av följande:







  1. | Feldetektering eller korrektionsalgoritmer i "huvudminnet", |
| --- | --- | --- | --- |

a)

Konstruerade eller modifierade för "feltolerans".

:

När det gäller avsnitt 4A003.a betraktas inte "digitala datorer" och tillhörande utrustning som konstruerade eller modifierade för "feltolerans", om de använder något av följande:

1.

Feldetektering eller korrektionsalgoritmer i "huvudminnet",

| 2. | Hopkoppling av två "digitala datorer" på ett sådant sätt att om den aktiva centralenheten faller ur, den andra, ej arbetande centralenheten som speglar den första, kan ta över systemets funktioner, |
| --- | --- |

2.

Hopkoppling av två "digitala datorer" på ett sådant sätt att om den aktiva centralenheten faller ur, den andra, ej arbetande centralenheten som speglar den första, kan ta över systemets funktioner,

| 3. | Hopkoppling av två centralenheter med datakanaler eller genom användning av delat minne så att de kan arbeta på ett sådant sätt att en central enhet utför annat arbete fram till dess att den andra centralenheten får fel, varvid den första centralenheten tar över så att systemet kan fortsätta att fungera, eller |
| --- | --- |

3.

Hopkoppling av två centralenheter med datakanaler eller genom användning av delat minne så att de kan arbeta på ett sådant sätt att en central enhet utför annat arbete fram till dess att den andra centralenheten får fel, varvid den första centralenheten tar över så att systemet kan fortsätta att fungera, eller

| 4. | Synkronisering av två datorer med hjälp av "programvara" så att en centralenhet upptäcker om det uppstår fel på den andra och i så fall tar över arbetet från denna. |
| --- | --- |

4.

Synkronisering av två datorer med hjälp av "programvara" så att en centralenhet upptäcker om det uppstår fel på den andra och i så fall tar över arbetet från denna.

| b) | "Digitala datorer" som har en "justerad topprestanda" ("Adjusted Peak Performance", "APP") som överstiger 1,5 vägda Teraflops (WT). |
| --- | --- |

b)

"Digitala datorer" som har en "justerad topprestanda" ("Adjusted Peak Performance", "APP") som överstiger 1,5 vägda Teraflops (WT).

| c) | "Elektroniska sammansättningar" som är särskilt konstruerade eller modifierade för att förbättra prestandan genom sammankoppling av processorer så att aggregatets "APP" överskrider den gräns som anges i avsnitt 4A003.b.







  : | Avsnitt 4A003.c omfattar endast "elektroniska sammansättningar" och programmerbara anslutningar som inte överskrider den gräns som anges i avsnitt 4A003.b när de levereras som icke inmonterade "elektroniska sammansättningar". Det omfattar inte "elektroniska sammansättningar" som på grund av sin konstruktion har begränsad användning som sammanhörande utrustning enligt avsnitt 4A003.e. |
| --- | --- | --- |

c)

"Elektroniska sammansättningar" som är särskilt konstruerade eller modifierade för att förbättra prestandan genom sammankoppling av processorer så att aggregatets "APP" överskrider den gräns som anges i avsnitt 4A003.b.

:

| : | Avsnitt 4A003.c omfattar inte "elektroniska sammansättningar" som är specialkonstruerade för en produkt eller familj av produkter vars maximala konfiguration inte överskrider den gräns som anges i avsnitt 4A003.b. |
| --- | --- |

:

| d) | Används inte. |
| --- | --- |

d)

Används inte.

| e) | Utrustning som kan utföra analog-till-digital-omvandling som överskrider de gränser som anges i avsnitt 3A001.a.5. |
| --- | --- |

e)

Utrustning som kan utföra analog-till-digital-omvandling som överskrider de gränser som anges i avsnitt 3A001.a.5.

| f) | Används inte. |
| --- | --- |

f)

Används inte.

| g) | Utrustning som är specialkonstruerad för aggregering av "digitala datorers" prestanda genom att möjliggöra externa sammankopplingar som tillåter kommunikation med en enkelriktad datahastighet som överskrider 2,0 Gbyte/s per länk.







  : | Avsnitt 4A003.g omfattar inte intern utrustning för sammankoppling (t.ex. backplan, bussar), passiva kopplingselement, "styrenheter för åtkomst till nätverk" eller "styrenheter för kommunikationskanaler". |
| --- | --- | --- |

g)

Utrustning som är specialkonstruerad för aggregering av "digitala datorers" prestanda genom att möjliggöra externa sammankopplingar som tillåter kommunikation med en enkelriktad datahastighet som överskrider 2,0 Gbyte/s per länk.

:

4A004Datorer enligt följande och specialkonstruerad därmed sammanhörande utrustning, "elektroniska sammansättningar" och komponenter till dessa:

| a) | "Datorer för systoliska kedjor". |
| --- | --- |

a)

"Datorer för systoliska kedjor".

| b) | "Neurala datorer". |
| --- | --- |

b)

"Neurala datorer".

| c) | "Optiska datorer". |
| --- | --- |

c)

"Optiska datorer".

4A101Analoga datorer, "digitala datorer" eller digitala differentialanalysatorer andra än dem som beskrivs i avsnitt 4A001.a.1, och som är motståndskraftiga och utformade eller modifierade för användning i rymduppskjutningsfarkoster som omfattas av avsnitt 9A004 eller sondraketer som omfattas av avsnitt 9A104.

4A102"Hybriddatorer" som är särskilt konstruerade för modellering, simulering eller konstruktionsintegrering av rymduppskjutningsfarkoster som omfattas av avsnitt 9A004 eller sondraketer som omfattas av avsnitt 9A104.

| : | Denna kontroll ska endast tillämpas om utrustningen levereras med "programvara" som omfattas av avsnitten 7D103 eller 9D103. |
| --- | --- |

:

4BTest-, inspektions- och produktionsutrustning

Ingen.

4CMaterial

Inga.

4DProgramvara

| : | Exportkontrollstatus för "programvara" för "utveckling", "produktion", eller "användning" av utrustning som beskrivs i andra kategorier ska behandlas enligt tillhörande kategori. |
| --- | --- |

:

4D001"Programvara" enligt följande:

| a) | "Programvara" som är särskilt konstruerad eller modifierad för "utveckling", "produktion" eller "användning" av utrustning eller "programvara" enligt något av avsnitten 4A001-4A004 eller 4D. |
| --- | --- |

a)

"Programvara" som är särskilt konstruerad eller modifierad för "utveckling", "produktion" eller "användning" av utrustning eller "programvara" enligt något av avsnitten 4A001-4A004 eller 4D.

| b) | "Programvara", annan än sådan som omfattas av avsnitt 4D001.a, speciellt konstruerad eller modifierad för "utveckling" eller "produktion" av utrustning enligt följande:






  1. | "Digitala datorer" som har en "justerad topprestanda" ("APP") som överstiger 0,25 vägda Teraflops (WT). |
| --- | --- | --- |

b)

"Programvara", annan än sådan som omfattas av avsnitt 4D001.a, speciellt konstruerad eller modifierad för "utveckling" eller "produktion" av utrustning enligt följande:

1.

"Digitala datorer" som har en "justerad topprestanda" ("APP") som överstiger 0,25 vägda Teraflops (WT).

| 2. | "Elektroniska enheter", speciellt konstruerade eller modifierade för att förbättra prestandan genom aggregering av processorer så att aggregatets "APP" överstiger gränsen i avsnitt 4D001.b.1. |
| --- | --- |

2.

"Elektroniska enheter", speciellt konstruerade eller modifierade för att förbättra prestandan genom aggregering av processorer så att aggregatets "APP" överstiger gränsen i avsnitt 4D001.b.1.

4D002"Programvara" som är speciellt utformad eller modifierad för att understödja "teknik" som omfattas av avsnitt 4E.

4D003Används inte.

4ETeknik

4E001

| a) | "Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik för "utveckling", "produktion" eller "användning" av utrustning eller "programvara" som omfattas av avsnitt 4A eller 4D. |
| --- | --- |

a)

"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik för "utveckling", "produktion" eller "användning" av utrustning eller "programvara" som omfattas av avsnitt 4A eller 4D.

| b) | "Teknik", annan än sådan som omfattas av avsnitt 4E001.a, speciellt konstruerad eller modifierad för "utveckling" eller "produktion" av utrustning enligt följande:






  1. | "Digitala datorer" som har en "justerad topprestanda" ("APP") som överstiger 0,25 vägda Teraflops (WT). |
| --- | --- | --- |

b)

"Teknik", annan än sådan som omfattas av avsnitt 4E001.a, speciellt konstruerad eller modifierad för "utveckling" eller "produktion" av utrustning enligt följande:

1.

"Digitala datorer" som har en "justerad topprestanda" ("APP") som överstiger 0,25 vägda Teraflops (WT).

| 2. | "Elektroniska enheter", särskilt konstruerade eller modifierade för att förbättra prestandan genom aggregering av processorer så att aggregatets "APP" överstiger gränsen i avsnitt 4E001.b.1. |
| --- | --- |

2.

"Elektroniska enheter", särskilt konstruerade eller modifierade för att förbättra prestandan genom aggregering av processorer så att aggregatets "APP" överstiger gränsen i avsnitt 4E001.b.1.

TEKNISK ANMÄRKNING FÖR "JUSTERAD TOPPRESTANDA" ("APP")

"APP" är en justerad topphastighet vid vilken "digitala datorer" utför 64 bitars eller större flyttalsadditioner och flyttalsmultiplikationer.

"APP" uttrycks i vägda Teraflops (WT), i enheter om 1012 justerade flyttalsoperationer per sekund.

| n | Antalet processorer i den "digitala datorn" |
| --- | --- |
| i | Processornummer (i, ... n) |
| ti | Processorcykeltid (ti = 1/Fi) |
| Fi | Processorfrekvens |
| Ri | Högsta beräkningshastighet för flyttalsoperationer |
| Wi | Justeringsfaktor för arkitektur |

n

Antalet processorer i den "digitala datorn"

i

Processornummer (i, ... n)

ti

Processorcykeltid (ti = 1/Fi)

Fi

Processorfrekvens

Ri

Högsta beräkningshastighet för flyttalsoperationer

Wi

Justeringsfaktor för arkitektur

| 1. | För varje processor i, bestäm det högsta antalet 64 bitars eller större flyttalsoperationer, FPOi, som utförs per cykel för varje processor i den "digitala datorn".







  : | För bestämningen av FPO ska endast inkluderas 64 bitars eller större flyttalsadditioner och/eller flyttalsmultiplikationer. Alla flyttalsoperationer ska uttryckas i operationer per processorcykel. Operationer som kräver flera cykler kan uttryckas i delresultat per cykel. För processorer som inte kan utföra beräkningar på 64 bitars eller större flyttalsoperander, är den effektiva beräkningshastigheten lika med noll. |
| --- | --- | --- |

1.

För varje processor i, bestäm det högsta antalet 64 bitars eller större flyttalsoperationer, FPOi, som utförs per cykel för varje processor i den "digitala datorn".

:

För bestämningen av FPO ska endast inkluderas 64 bitars eller större flyttalsadditioner och/eller flyttalsmultiplikationer. Alla flyttalsoperationer ska uttryckas i operationer per processorcykel. Operationer som kräver flera cykler kan uttryckas i delresultat per cykel. För processorer som inte kan utföra beräkningar på 64 bitars eller större flyttalsoperander, är den effektiva beräkningshastigheten lika med noll.

| 2. | Beräkna flyttalshastigheten R för varje processor Ri = FPOi/ti. |
| --- | --- |

2.

Beräkna flyttalshastigheten R för varje processor Ri = FPOi/ti.

| 3. | Beräkna "APP" som "APP" = W1 × R1 + W2 × R2 + ... + Wn × Rn. |
| --- | --- |

3.

Beräkna "APP" som "APP" = W1 × R1 + W2 × R2 + ... + Wn × Rn.

| 4. | För ‧vektorprocessorer‧, Wi = 0,9. För övriga processorer, Wi = 0,3.







  : | För processorer som utför sammansatta operationer i en cykel, exempelvis addition och multiplikation, räknas varje operation. |
| --- | --- | --- |

4.

För ‧vektorprocessorer‧, Wi = 0,9. För övriga processorer, Wi = 0,3.

:

För processorer som utför sammansatta operationer i en cykel, exempelvis addition och multiplikation, räknas varje operation.

| : | För en kanalprocessor (pipelined processor) är den effektiva beräkningshastigheten R kanalens hastighet efter det att kanalen är full, eller hastigheten utan denna kanal om denna är högre. |
| --- | --- |

:

För en kanalprocessor (pipelined processor) är den effektiva beräkningshastigheten R kanalens hastighet efter det att kanalen är full, eller hastigheten utan denna kanal om denna är högre.

| : | Beräkningshastigheten R för varje bidragande processor ska beräknas vid dess högsta teoretiskt möjliga värde innan kombinationens "APP" beräknas. Samtidiga operationer antas förekomma när datortillverkaren i en manual eller broschyr för datorn hävdar förekomsten av samverkande, parallella eller samtidiga operationer eller verkställighet. |
| --- | --- |

:

Beräkningshastigheten R för varje bidragande processor ska beräknas vid dess högsta teoretiskt möjliga värde innan kombinationens "APP" beräknas. Samtidiga operationer antas förekomma när datortillverkaren i en manual eller broschyr för datorn hävdar förekomsten av samverkande, parallella eller samtidiga operationer eller verkställighet.

| : | Processorer som är begränsade till in- eller utgångar och perifera funktioner (t.ex. diskettenhet, gränssnitt för kommunikation eller video) ska inte tas med vid beräkningen av "APP". |
| --- | --- |

:

Processorer som är begränsade till in- eller utgångar och perifera funktioner (t.ex. diskettenhet, gränssnitt för kommunikation eller video) ska inte tas med vid beräkningen av "APP".

| : | "APP"-värden ska inte beräknas för processorer som är sammankopplade genom "lokala nätverk", stora nätverk, anslutningar/enheter med delade in- och utgångar, in- och utgångsgränssnitt samt alla kommunikationsanslutningar som införts genom "programvara". |
| --- | --- |

:

"APP"-värden ska inte beräknas för processorer som är sammankopplade genom "lokala nätverk", stora nätverk, anslutningar/enheter med delade in- och utgångar, in- och utgångsgränssnitt samt alla kommunikationsanslutningar som införts genom "programvara".

| : | "APP"-värden ska beräknas för






  1. | processorkombinationer som innehåller processorer som är särskilt konstruerade för att förbättra prestandan genom aggregering, samtidiga operationer och delat minne, eller |
| --- | --- | --- |

:

"APP"-värden ska beräknas för

1.

processorkombinationer som innehåller processorer som är särskilt konstruerade för att förbättra prestandan genom aggregering, samtidiga operationer och delat minne, eller

| 2. | multipelminne/processorkombinationer som arbetar samtidigt och utnyttjar särskilt konstruerad hårdvara. |
| --- | --- |

2.

multipelminne/processorkombinationer som arbetar samtidigt och utnyttjar särskilt konstruerad hårdvara.

| : | En ‧vektorprocessor‧ definieras som en processor med inbyggda instruktioner som utför multipla beräkningar på flyttalsvektorer (64 bitars eller större endimensionella matriser) samtidigt, och som har minst två vektorfunktionsenheter och minst åtta vektorregister på vardera minst 64 element. |
| --- | --- |

:

En ‧vektorprocessor‧ definieras som en processor med inbyggda instruktioner som utför multipla beräkningar på flyttalsvektorer (64 bitars eller större endimensionella matriser) samtidigt, och som har minst två vektorfunktionsenheter och minst åtta vektorregister på vardera minst 64 element.

KATEGORI 5

TELEKOMMUNIKATION OCH "INFORMATIONSSÄKERHET"

DEL 1

TELEKOMMUNIKATION

| : | Kontrollen av komponenter, "lasrar", test- och "produktions"-utrustning och "programvara" för dessa, som är särskilt konstruerade för telekommunikationsutrustningar eller -system, regleras i kategori 5, del 1.

  :


  För "lasrar" särskilt konstruerade för telekommunikationsutrustning eller -system, se 6A005.


  :


  Se även kategori 5, del 2 för utrustning, komponenter och "programvara" som utför eller innehåller "informationssäkerhets"-funktioner. |
| --- | --- |

:

:

För "lasrar" särskilt konstruerade för telekommunikationsutrustning eller -system, se 6A005.

:

Se även kategori 5, del 2 för utrustning, komponenter och "programvara" som utför eller innehåller "informationssäkerhets"-funktioner.

| : | "Digitala datorer", tillhörande utrustning eller "programvara" som är väsentlig för drift och stöd för telekommunikationsutrustningar som omfattas av denna kategori, betraktas som särskilt konstruerade komponenter, förutsatt att de är standardmodeller som vanligtvis tillhandahålls av tillverkaren. Detta innefattar datorsystem för drift, administration, underhåll, felsökning eller debitering. |
| --- | --- |

:

5A1System, utrustning och komponenter

5A001System, utrustning, komponenter och tillbehör för telekommunikation enligt följande:

| a) | Alla typer av telekommunikationsutrustning som har någon av följande egenskaper, funktioner eller kännetecken:






  1. | Särskilt konstruerade för att motstå de övergående elektroniska effekterna eller elektromagnetiska pulserna från en nukleär explosion. |
| --- | --- | --- |

a)

Alla typer av telekommunikationsutrustning som har någon av följande egenskaper, funktioner eller kännetecken:

1.

Särskilt konstruerade för att motstå de övergående elektroniska effekterna eller elektromagnetiska pulserna från en nukleär explosion.

| 2. | Särskilt förstärkta för att kunna motstå gamma–, neutron– eller joniserad strålning. |
| --- | --- |

2.

Särskilt förstärkta för att kunna motstå gamma–, neutron– eller joniserad strålning.

| 3. | Särskilt konstruerade för drift utanför temperaturintervallet 218 K (– 55 °C) - 397 K (124 °C).







  : | Avsnitt 5A001.a.3 omfattar endast elektronisk utrustning. |
| --- | --- | --- |

3.

Särskilt konstruerade för drift utanför temperaturintervallet 218 K (– 55 °C) - 397 K (124 °C).

:

| : | Avsnitten 5A001.a.2 och 5A001.a.3 omfattar inte utrustning som konstruerats eller modifierats för användning ombord på satelliter. |
| --- | --- |

:

| b) | Telekommunikationssystem och telekommunikationsutrustning, och särskilt konstruerade komponenter och tillbehör för dessa, som har någon av följande egenskaper, funktioner eller kännetecken:






  1. | Icke trådstyrda (frisimmande) kommunikationssystem för undervattensbruk som har något av följande:






  a) | En akustisk bärfrekvens som ligger utanför frekvensområdet 20-60 kHz. |
| --- | --- | --- | --- |

b)

Telekommunikationssystem och telekommunikationsutrustning, och särskilt konstruerade komponenter och tillbehör för dessa, som har någon av följande egenskaper, funktioner eller kännetecken:

1.

Icke trådstyrda (frisimmande) kommunikationssystem för undervattensbruk som har något av följande:

a)

En akustisk bärfrekvens som ligger utanför frekvensområdet 20-60 kHz.

| b) | En elektromagnetisk bärfrekvens som ligger under 30 kHz. |
| --- | --- |

b)

En elektromagnetisk bärfrekvens som ligger under 30 kHz.

| c) | Teknik för elektronstrålestyrning. |
| --- | --- |

c)

Teknik för elektronstrålestyrning.

| d) | "Lasrar" eller lysdioder (LED) med en utgångsvåglängd som är större än 400 nm och mindre än 700 nm, i ett "lokalt nät". |
| --- | --- |

d)

"Lasrar" eller lysdioder (LED) med en utgångsvåglängd som är större än 400 nm och mindre än 700 nm, i ett "lokalt nät".

| 2. | Radioutrustning som arbetar i frekvensområdet 1,5–87,5 MHz och som har båda följande egenskaper:






  a) | Automatisk förutsägelse och val av frekvenser och "total digital överföringshastighet" för varje kanal för att optimera överföringen. |
| --- | --- | --- |

2.

Radioutrustning som arbetar i frekvensområdet 1,5–87,5 MHz och som har båda följande egenskaper:

a)

Automatisk förutsägelse och val av frekvenser och "total digital överföringshastighet" för varje kanal för att optimera överföringen.

| b) | En linjär effektförstärkningskonfiguration med kapacitet att simultant stödja multipla signaler vid en utgångseffekt av minst 1 kW i frekvensområdet 1,5 MHz eller över men under 30 MHz eller vid en utgångseffekt av minst 250 W i frekvensområdet 30 MHz eller över, men inte över 87,5 MHz, allt mätt över en "effektbandbredd" på minst 1 oktav och med en harmonisk distorsion bättre än -80 dB. |
| --- | --- |

b)

En linjär effektförstärkningskonfiguration med kapacitet att simultant stödja multipla signaler vid en utgångseffekt av minst 1 kW i frekvensområdet 1,5 MHz eller över men under 30 MHz eller vid en utgångseffekt av minst 250 W i frekvensområdet 30 MHz eller över, men inte över 87,5 MHz, allt mätt över en "effektbandbredd" på minst 1 oktav och med en harmonisk distorsion bättre än -80 dB.

| 3. | Radioutrustning som utnyttjar "bandspridningsteknik", bland annat "hoppfrekvensteknik", som inte omfattas av avsnitt 5A001.b.4, och som har någon av följande egenskaper:






  a) | För användaren programmerbara spridningskoder. |
| --- | --- | --- |

3.

Radioutrustning som utnyttjar "bandspridningsteknik", bland annat "hoppfrekvensteknik", som inte omfattas av avsnitt 5A001.b.4, och som har någon av följande egenskaper:

a)

För användaren programmerbara spridningskoder.

| b) | En total bandbredd som är minst 100 gånger större än bandbredden hos någon informationskanal och som överstiger 50 kHz.







  : | Avsnitt 5A001.b.3.b omfattar inte radioutrustning som är särskilt konstruerad för att användas inom civila cellulära radiokommunikationssystem. |
| --- | --- | --- |

b)

En total bandbredd som är minst 100 gånger större än bandbredden hos någon informationskanal och som överstiger 50 kHz.

:

| : | Avsnitt 5A001.b.3 omfattar inte utrustning konstruerad för drift vid en utgångseffekt av högst 1 W. |
| --- | --- |

:

| 4. | Radioutrustning som utnyttjar teknik för ultrabredbandsmodulering, som har programmerbara kanaliserings-, förvrängnings- eller nätidentifikationskoder och som har någon av följande egenskaper:






  a) | En bandbredd som överstiger 500 MHz. |
| --- | --- | --- |

4.

Radioutrustning som utnyttjar teknik för ultrabredbandsmodulering, som har programmerbara kanaliserings-, förvrängnings- eller nätidentifikationskoder och som har någon av följande egenskaper:

a)

En bandbredd som överstiger 500 MHz.

| b) | En "relativ bandbredd" på minst 20 %. |
| --- | --- |

b)

En "relativ bandbredd" på minst 20 %.

| 5. | Digitalt kontrollerade radiomottagare som har samtliga följande egenskaper:






  a) | Mer än 1 000 kanaler. |
| --- | --- | --- |

5.

Digitalt kontrollerade radiomottagare som har samtliga följande egenskaper:

a)

Mer än 1 000 kanaler.

| b) | "Tid för att byta frekvens" på mindre än 1 ms. |
| --- | --- |

b)

"Tid för att byta frekvens" på mindre än 1 ms.

| c) | Automatisk sökning över en del av det elektromagnetiska bandet. |
| --- | --- |

c)

Automatisk sökning över en del av det elektromagnetiska bandet.

| d) | Identifiering av mottagen signal eller sändartyp.







  : | Avsnitt 5A001.b.5 omfattar inte radioutrustning som är särskilt konstruerad för att användas inom civila cellulära radiokommunikationssystem. |
| --- | --- | --- |

d)

Identifiering av mottagen signal eller sändartyp.

:

| 6. | Funktioner för digital "signalbehandling" för att tillhandahålla ‧talkodning‧ seffekt (voice coding output) med omvandlingshastigheter på mindre än 2 400 bit/s.

  :








  1. | För ‧talkodning‧ med variabel hastighet gäller avsnitt 5A001.b.6 för ‧talkodning‧ seffekten för löpande tal. |
| --- | --- | --- |

6.

Funktioner för digital "signalbehandling" för att tillhandahålla ‧talkodning‧ seffekt (voice coding output) med omvandlingshastigheter på mindre än 2 400 bit/s.

:

1.

| 2. | I avsnitt 5A001.b.6 avses med ‧talkodning‧ den teknik som används för att samla prov på mänskliga röster och sedan omvandla dessa prov till en digital signal, med hänsyn till det mänskliga talets specifika egenskaper. |
| --- | --- |

2.

| c) | Optiska fibrer som är längre än 500 m och som av tillverkaren anges ha kapacitet att kunna klara ett ‧hållfasthetsprov‧ med en dragpåkänning som är minst 2,0 × 109 N/m2.







  : | För undervattensfiberoptikkablar, se avsnitt 8A002.a.3. |
| --- | --- | --- |

c)

Optiska fibrer som är längre än 500 m och som av tillverkaren anges ha kapacitet att kunna klara ett ‧hållfasthetsprov‧ med en dragpåkänning som är minst 2,0 × 109 N/m2.

:

:

‧Hållfasthetsprovet‧ är ett produktionsprov som görs inom eller utanför produktionsbandet som ett draghållfasthetsprov på en fiber med en längd av 0,5-3 m när denna rör sig med en hastighet av 2–5 m/s mellan kapstanhjul med cirka 150 mm diameter.

Omgivningstemperaturen ska vara nominell 293 K (20 °C) och den relativa luftfuktigheten 40 %. Likvärdiga nationella standarder får användas vid utförandet av provet.

| d) | "Fasstyrda antennsystem med elektronisk styrning" som arbetar över 31,8 GHz.







  : | Avsnitt 5A001.d omfattar inte "fasstyrda antennsystem med elektronisk styrning" för landningssystem med instrument som uppnår ICAO-standard för mikrovågslandningssystem (MLS). |
| --- | --- | --- |

d)

"Fasstyrda antennsystem med elektronisk styrning" som arbetar över 31,8 GHz.

:

| e) | Radiopejlutrustning som arbetar vid frekvenser över 30 MHz och som har båda följande egenskaper, samt därtill särskilt konstruerade komponenter:






  1. | "Effektbandbredden" är 10 MHz eller mera. |
| --- | --- | --- |

e)

Radiopejlutrustning som arbetar vid frekvenser över 30 MHz och som har båda följande egenskaper, samt därtill särskilt konstruerade komponenter:

1.

"Effektbandbredden" är 10 MHz eller mera.

| 2. | Kan finna en bäringslinje (LOB) till icke-samarbetande radiosändare där signalens varaktighet understiger 1 ms. |
| --- | --- |

2.

Kan finna en bäringslinje (LOB) till icke-samarbetande radiosändare där signalens varaktighet understiger 1 ms.

| f) | Störningsutrustning som är särskilt konstruerad eller modifierad för att avsiktligt och selektivt störa, vägra tillträde till, hindra, försämra eller avleda telekommunikationstjänster för mobiltelefoner och som utför någon av följande funktioner, samt speciellt konstruerade komponenter till denna:






  1. | Simulera funktionerna hos utrustning för radioaccessnät (RAN). |
| --- | --- | --- |

f)

Störningsutrustning som är särskilt konstruerad eller modifierad för att avsiktligt och selektivt störa, vägra tillträde till, hindra, försämra eller avleda telekommunikationstjänster för mobiltelefoner och som utför någon av följande funktioner, samt speciellt konstruerade komponenter till denna:

1.

Simulera funktionerna hos utrustning för radioaccessnät (RAN).

| 2. | Upptäcka och utnyttja särskilda egenskaper hos det protokoll för mobiltelefonkommunikationer som används (t.ex. GSM). |
| --- | --- |

2.

Upptäcka och utnyttja särskilda egenskaper hos det protokoll för mobiltelefonkommunikationer som används (t.ex. GSM).

| 3. | Utnyttja särskilda egenskaper hos det protokoll för mobiltelefonkommunikationer som används (t.ex. GSM).







  : | För GNSS-störningsutrustning, se kontrollbestämmelserna för varor med militär användning. |
| --- | --- | --- |

3.

Utnyttja särskilda egenskaper hos det protokoll för mobiltelefonkommunikationer som används (t.ex. GSM).

:

| g) | PCL-system (Passive Coherent Location) eller utrustning som är särskilt konstruerad för att upptäcka och spåra rörliga föremål genom mätning av reflexioner av omgivande radiofrekvensemissioner, som tillhandahålls av icke-radarsändare.

  :


  Icke-radarsändare kan omfatta kommersiella radio- eller TV-stationer eller basstationer för mobiltelefoni.








  : | Avsnitt 5A001.g omfattar inte följande:







  a) | Radioastronomisk utrustning. |
| --- | --- | --- | --- |

g)

PCL-system (Passive Coherent Location) eller utrustning som är särskilt konstruerad för att upptäcka och spåra rörliga föremål genom mätning av reflexioner av omgivande radiofrekvensemissioner, som tillhandahålls av icke-radarsändare.

:

Icke-radarsändare kan omfatta kommersiella radio- eller TV-stationer eller basstationer för mobiltelefoni.

:

a)

Radioastronomisk utrustning.

| b) | System eller utrustning som kräver radiosändning från målet. |
| --- | --- |

b)

System eller utrustning som kräver radiosändning från målet.

| h) | Sändningsutrustning för radiofrekvens (RF) som är utformad eller modifierad för att i förtid aktivera improviserade sprängladdningar (IED) eller för att förhindra att de utlöses.







  ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 5A001.f. OCH KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING. |
| --- | --- | --- |

h)

Sändningsutrustning för radiofrekvens (RF) som är utformad eller modifierad för att i förtid aktivera improviserade sprängladdningar (IED) eller för att förhindra att de utlöses.

ANM.:

5A101Telemetri- och fjärrmanövreringsutrustning, däribland markutrustning, som är konstruerad eller modifierad för ‧missiler‧.

:

Med ‧missil‧ avses i avsnitt 5A101 kompletta raketsystem och system för obemannade luftfartyg med en räckvidd som överstiger 300 km.

| : | Avsnitt 5A101 omfattar inte följande:







  a) | Utrustning som är konstruerad eller modifierad för bemannade luftfartyg eller satelliter. |
| --- | --- | --- |

:

a)

Utrustning som är konstruerad eller modifierad för bemannade luftfartyg eller satelliter.

| b) | Markbaserad utrustning som är konstruerad eller modifierad för tillämpningar på land eller till sjöss. |
| --- | --- |

b)

Markbaserad utrustning som är konstruerad eller modifierad för tillämpningar på land eller till sjöss.

| c) | Utrustning som är konstruerad för kommersiella eller civila GNSS-tjänster, eller GNSS-tjänster avseende ‘Safety of Life’ (t.ex. dataintegritet, flygsäkerhet). |
| --- | --- |

c)

Utrustning som är konstruerad för kommersiella eller civila GNSS-tjänster, eller GNSS-tjänster avseende ‘Safety of Life’ (t.ex. dataintegritet, flygsäkerhet).

5B1Test-, inspektions- och produktionsutrustning

5B001Test-, inspektions- och produktionsutrustning, komponenter och tillbehör för telekommunikation, enligt följande:

| a) | Utrustning och därtill hörande särskilt konstruerade komponenter eller tillbehör, som är särskilt konstruerade för "utveckling", "produktion" eller "användning" av utrustning, funktioner eller egenskaper enligt avsnitt 5A001.







  : | Avsnitt 5B001.a omfattar inte utrustning för att fastställa egenskaperna hos optiska fibrer. |
| --- | --- | --- |

a)

Utrustning och därtill hörande särskilt konstruerade komponenter eller tillbehör, som är särskilt konstruerade för "utveckling", "produktion" eller "användning" av utrustning, funktioner eller egenskaper enligt avsnitt 5A001.

:

| b) | Utrustning och därtill hörande särskilt konstruerade komponenter eller tillbehör, som är särskilt konstruerade för "utveckling" av någon av följande utrustningar för telekommunikationsöverföring eller koppling:






  1. | Används inte. |
| --- | --- | --- |

b)

Utrustning och därtill hörande särskilt konstruerade komponenter eller tillbehör, som är särskilt konstruerade för "utveckling" av någon av följande utrustningar för telekommunikationsöverföring eller koppling:

1.

Används inte.

| 2. | Utrustning som använder "laser" och som har någon av följande egenskaper:






  a) | En överföringsvåglängd som överstiger 1 750 nm. |
| --- | --- | --- |

2.

Utrustning som använder "laser" och som har någon av följande egenskaper:

a)

En överföringsvåglängd som överstiger 1 750 nm.

| b) | "Optisk förstärkning" med användning av praseodymbehandlade fluoridfiberförstärkare (PDFFA). |
| --- | --- |

b)

"Optisk förstärkning" med användning av praseodymbehandlade fluoridfiberförstärkare (PDFFA).

| c) | Koherent optisk överföringsteknik eller koherent optisk detekteringsteknik (även kallad optisk heterodyr- eller homodynteknik"). |
| --- | --- |

c)

Koherent optisk överföringsteknik eller koherent optisk detekteringsteknik (även kallad optisk heterodyr- eller homodynteknik").

| d) | Analog teknik och en bandbredd på minst 2,5 GHz.







  : | 5B001.b.2.d omfattar inte utrustning som är särskilt konstruerad för "utveckling" av kommersiella TV-system. |
| --- | --- | --- |

d)

Analog teknik och en bandbredd på minst 2,5 GHz.

:

| 3. | Används inte. |
| --- | --- |

3.

Används inte.

| 4. | Radioutrustning som använder kvadratur-amplitud-modulationsteknik (QAM) över nivå 256. |
| --- | --- |

4.

Radioutrustning som använder kvadratur-amplitud-modulationsteknik (QAM) över nivå 256.

| 5. | Utrustning som tillåter "signalering på gemensam kanal" (Common Channel Signalling) som arbetar i icke-associerat läge. |
| --- | --- |

5.

Utrustning som tillåter "signalering på gemensam kanal" (Common Channel Signalling) som arbetar i icke-associerat läge.

5C1Material

Inga.

5D1Programvara

5D001"Programvara" enligt följande:

| a) | "Programvara" som är speciellt utformad eller modifierad för "utveckling", "produktion" eller "användning" av utrustning, funktioner eller egenskaper som omfattas av avsnitt 5A001. |
| --- | --- |

a)

"Programvara" som är speciellt utformad eller modifierad för "utveckling", "produktion" eller "användning" av utrustning, funktioner eller egenskaper som omfattas av avsnitt 5A001.

| b) | "Programvara" som är speciellt utformad eller modifierad för att understödja "teknik" som omfattas av avsnitt 5E001. |
| --- | --- |

b)

"Programvara" som är speciellt utformad eller modifierad för att understödja "teknik" som omfattas av avsnitt 5E001.

| c) | Specifik "programvara" som är speciellt utformad eller modifierad för att tillhandahålla egenskaper, funktioner eller kännetecken i utrustningar som omfattas av avsnitt 5A001 eller 5B001. |
| --- | --- |

c)

Specifik "programvara" som är speciellt utformad eller modifierad för att tillhandahålla egenskaper, funktioner eller kännetecken i utrustningar som omfattas av avsnitt 5A001 eller 5B001.

| d) | "Programvara" som är speciellt konstruerad eller modifierad för "utveckling" av någon av följande utrustningar för telekommunikationsöverföring eller telekommunikationskoppling:






  1. | Används inte. |
| --- | --- | --- |

d)

"Programvara" som är speciellt konstruerad eller modifierad för "utveckling" av någon av följande utrustningar för telekommunikationsöverföring eller telekommunikationskoppling:

1.

Används inte.

| 2. | Utrustning i vilken "laser" används och som har någon av följande egenskaper:






  a) | En överföringsvåglängd som överstiger 1,750 nm. |
| --- | --- | --- |

2.

Utrustning i vilken "laser" används och som har någon av följande egenskaper:

a)

En överföringsvåglängd som överstiger 1,750 nm.

| b) | Analog teknik och en bandbredd som överstiger 2,5 GHz.







  : | 5D001.d.2.b omfattar inte "programvara" som är särskilt konstruerad eller modifierad för "utveckling" av kommersiella TV-system. |
| --- | --- | --- |

b)

Analog teknik och en bandbredd som överstiger 2,5 GHz.

:

| 3. | Används inte. |
| --- | --- |

3.

Används inte.

| 4. | Radioutrustning som använder kvadratur-amplitud-modulationsteknik (QAM) över nivå 256. |
| --- | --- |

4.

Radioutrustning som använder kvadratur-amplitud-modulationsteknik (QAM) över nivå 256.

5D101"Programvara" som är särskilt konstruerad eller modifierad för "användning" av den utrustning som omfattas av avsnitt 5A10l.

5E1Teknik

5E001"Teknik" enligt följande:

| a) | "Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik för "utveckling", "produktion" eller "användning" (drift undantaget) av utrustning, funktioner eller egenskaper som omfattas av avsnitt 5A001 eller "programvara" som omfattas av avsnitt 5D001.a. |
| --- | --- |

a)

"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik för "utveckling", "produktion" eller "användning" (drift undantaget) av utrustning, funktioner eller egenskaper som omfattas av avsnitt 5A001 eller "programvara" som omfattas av avsnitt 5D001.a.

| b) | Specifik "teknik" enligt följande:






  1. | "Teknik" som "erfordras" för "utveckling" eller "produktion" av telekommunikationsutrustning särskilt konstruerad för användning ombord på satelliter. |
| --- | --- | --- |

b)

Specifik "teknik" enligt följande:

1.

"Teknik" som "erfordras" för "utveckling" eller "produktion" av telekommunikationsutrustning särskilt konstruerad för användning ombord på satelliter.

| 2. | "Teknik" för "utveckling" eller "användning" av "laser"-kommunikationsteknik med möjlighet att automatiskt uppfånga och följa signalerna och att vidmakthålla kommunikationen genom exosfären eller undervattensmedia. |
| --- | --- |

2.

"Teknik" för "utveckling" eller "användning" av "laser"-kommunikationsteknik med möjlighet att automatiskt uppfånga och följa signalerna och att vidmakthålla kommunikationen genom exosfären eller undervattensmedia.

| 3. | "Teknik" för "utveckling" av mottagningsutrustning vid digitala, cellulära radiobasstationer vars mottagningskapacitet, som medger flerbands-, flerkanal-, multimod-, multikodningsalgoritm- eller flerprotokollfunktion, kan modifieras genom ändringar i "programvaran". |
| --- | --- |

3.

"Teknik" för "utveckling" av mottagningsutrustning vid digitala, cellulära radiobasstationer vars mottagningskapacitet, som medger flerbands-, flerkanal-, multimod-, multikodningsalgoritm- eller flerprotokollfunktion, kan modifieras genom ändringar i "programvaran".

| 4. | "Teknik" för "utveckling" av "bandspridningsteknik", bland annat "hoppfrekvensteknik".







  : | 5E001.b.4. omfattar inte "teknik" för "utveckling" av civila cellulära radiokommunikationssystem. |
| --- | --- | --- |

4.

"Teknik" för "utveckling" av "bandspridningsteknik", bland annat "hoppfrekvensteknik".

:

| c) | "Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik för "utveckling" eller "produktion" av något av följande:






  1. | Utrustning i vilken digital teknik används som konstruerats för drift vid en "total digital överföringshastighet" som överstiger 50 Gbit/s.

  :


  För telekommunikationskopplingsutrustning ska "total digital överföringshastighet" vara den enkelriktade hastigheten hos ett enda gränssnitt, mätt vid den port eller ledning som har högst hastighet. |
| --- | --- | --- |

c)

"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik för "utveckling" eller "produktion" av något av följande:

1.

Utrustning i vilken digital teknik används som konstruerats för drift vid en "total digital överföringshastighet" som överstiger 50 Gbit/s.

:

För telekommunikationskopplingsutrustning ska "total digital överföringshastighet" vara den enkelriktade hastigheten hos ett enda gränssnitt, mätt vid den port eller ledning som har högst hastighet.

| 2. | Utrustning i vilken "laser" används och som har någon av följande egenskaper:






  a) | En överföringsvåglängd som överstiger 1 750 nm. |
| --- | --- | --- |

2.

Utrustning i vilken "laser" används och som har någon av följande egenskaper:

a)

En överföringsvåglängd som överstiger 1 750 nm.

| b) | "Optisk förstärkning" med användning av praseodymbehandlade fluoridfiberförstärkare (PDFFA). |
| --- | --- |

b)

"Optisk förstärkning" med användning av praseodymbehandlade fluoridfiberförstärkare (PDFFA).

| c) | Koherent optisk överföringsteknik eller koherent optisk detekteringsteknik (även kallad optisk heterodyr- eller homodynteknik). |
| --- | --- |

c)

Koherent optisk överföringsteknik eller koherent optisk detekteringsteknik (även kallad optisk heterodyr- eller homodynteknik).

| d) | Multiplex våglängdsdelningsteknik med optiska bärare på ett avstånd av mindre än 100 GHz. |
| --- | --- |

d)

Multiplex våglängdsdelningsteknik med optiska bärare på ett avstånd av mindre än 100 GHz.

| e) | Analog teknik och en bandbredd på minst 2,5 GHz.







  : | 5E001.c.2.e omfattar inte "teknik" för "utveckling" eller "produktion" av kommersiella TV-system. |
| --- | --- | --- |

e)

Analog teknik och en bandbredd på minst 2,5 GHz.

:

:

För "teknik" för "utveckling" eller "produktion" av utrustning som använder laser och som inte är avsedd för telekommunikation, se avsnitt 6E.

| 3. | Utrustning med "optisk koppling" och med en kopplingstid på mindre än en ms. |
| --- | --- |

3.

Utrustning med "optisk koppling" och med en kopplingstid på mindre än en ms.

| 4. | Radioutrustning med någon av följande egenskaper:






  a) | Kvadratur-amplitud-modulationsteknik (QAM) över nivå 256. |
| --- | --- | --- |

4.

Radioutrustning med någon av följande egenskaper:

a)

Kvadratur-amplitud-modulationsteknik (QAM) över nivå 256.

| b) | Ingångs- eller utgångsfrekvens som överstiger 31,8 GHz.







  : | Avsnitt 5E001.c.4.b omfattar inte "teknik" för "utveckling" eller "produktion" av utrustning som konstruerats eller modifierats för användning inom frekvensband som "tilldelats av International Telecommunications Union (ITU)" för radiokommunikationstjänster men inte för radiobestämning. |
| --- | --- | --- |

b)

Ingångs- eller utgångsfrekvens som överstiger 31,8 GHz.

:

| c) | Arbetar i frekvensbandet 1,5–87,5 MHz och har adaptiv teknik som dämpar en interfererande signal med mer än 15 dB. |
| --- | --- |

c)

Arbetar i frekvensbandet 1,5–87,5 MHz och har adaptiv teknik som dämpar en interfererande signal med mer än 15 dB.

| 5. | Utrustning som tillåter "signalering på gemensam kanal" (Common Channel Signalling) som arbetar i icke-associerad mode. |
| --- | --- |

5.

Utrustning som tillåter "signalering på gemensam kanal" (Common Channel Signalling) som arbetar i icke-associerad mode.

| 6. | Mobil utrustning med båda följande egenskaper:






  a) | Arbetar på en optisk våglängd som är minst 200 nm och högst 400 nm. |
| --- | --- | --- |

6.

Mobil utrustning med båda följande egenskaper:

a)

Arbetar på en optisk våglängd som är minst 200 nm och högst 400 nm.

| b) | Arbetar som ett "lokalt nät". |
| --- | --- |

b)

Arbetar som ett "lokalt nät".

| d) | "Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik för "utveckling" eller "produktion" av effektförstärkare för monolitiska integrerade kretsar som arbetar inom mikrovågsområdet (MMIC-effektförstärkare) som är speciellt konstruerade för telekommunikation och som uppfyller något av följande:






  1. | De är specificerade för frekvenser som överstiger 3,2 GHz, men inte 6,8 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 4 W (36 dBm) och med en "relativ bandbredd" som överstiger 15 %. |
| --- | --- | --- |

d)

"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik för "utveckling" eller "produktion" av effektförstärkare för monolitiska integrerade kretsar som arbetar inom mikrovågsområdet (MMIC-effektförstärkare) som är speciellt konstruerade för telekommunikation och som uppfyller något av följande:

1.

De är specificerade för frekvenser som överstiger 3,2 GHz, men inte 6,8 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 4 W (36 dBm) och med en "relativ bandbredd" som överstiger 15 %.

| 2. | De är specificerade för frekvenser som överstiger 6,8 GHz, men inte 16 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 1 W (30 dBm) och med en "relativ bandbredd" som överstiger 10 %. |
| --- | --- |

2.

De är specificerade för frekvenser som överstiger 6,8 GHz, men inte 16 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 1 W (30 dBm) och med en "relativ bandbredd" som överstiger 10 %.

| 3. | De är specificerade för frekvenser som överstiger 16 GHz, men inte 31,8 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 0,8 W (29 dBm) och med en "relativ bandbredd" som överstiger 10 %. |
| --- | --- |

3.

De är specificerade för frekvenser som överstiger 16 GHz, men inte 31,8 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 0,8 W (29 dBm) och med en "relativ bandbredd" som överstiger 10 %.

| 4. | De är specificerade för frekvenser som överstiger 31,8 GHz, men inte 37,5 GHz. |
| --- | --- |

4.

De är specificerade för frekvenser som överstiger 31,8 GHz, men inte 37,5 GHz.

| 5. | De är specificerade för frekvenser som överstiger 37,5 GHz, men inte 43,5 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 0,25 W (24 dBm) och med en "relativ bandbredd" som överstiger 10 %. |
| --- | --- |

5.

De är specificerade för frekvenser som överstiger 37,5 GHz, men inte 43,5 GHz, med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 0,25 W (24 dBm) och med en "relativ bandbredd" som överstiger 10 %.

| 6. | De är specificerade för frekvenser som överstiger 43,5 GHz. |
| --- | --- |

6.

De är specificerade för frekvenser som överstiger 43,5 GHz.

| e) | "Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik för "utveckling" eller "produktion" av elektroniska enheter och kretsar, som är speciellt konstruerade för telekommunikation och som innehåller komponenter tillverkade av "supraledande" material, speciellt konstruerade för drift vid temperaturer under den "kritiska temperaturen" för åtminstone en av dess "supraledande" beståndsdelar, och som är försedda med något av följande:






  1. | Strömomkoppling i digitala kretsar med användning av "supraledande" grindar och där produkten av grindfördröjningstiden per grind (i sekunder) och effektförlusten per grind (i watt) är mindre än 10– 14 J. |
| --- | --- | --- |

e)

"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik för "utveckling" eller "produktion" av elektroniska enheter och kretsar, som är speciellt konstruerade för telekommunikation och som innehåller komponenter tillverkade av "supraledande" material, speciellt konstruerade för drift vid temperaturer under den "kritiska temperaturen" för åtminstone en av dess "supraledande" beståndsdelar, och som är försedda med något av följande:

1.

Strömomkoppling i digitala kretsar med användning av "supraledande" grindar och där produkten av grindfördröjningstiden per grind (i sekunder) och effektförlusten per grind (i watt) är mindre än 10– 14 J.

| 2. | Frekvensval för alla frekvenser med användning av resonanskretsar med Q-värden som överstiger 10 000. |
| --- | --- |

2.

Frekvensval för alla frekvenser med användning av resonanskretsar med Q-värden som överstiger 10 000.

5E101"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik för "utveckling", "produktion" eller "användning" av utrustningar som omfattas av avsnitt 5A101.

DEL 2

"INFORMATIONSSÄKERHET"

| : | Kontrollen av "informationssäkerhets" utrustning, "programvara", system, användningsspecifika "elektroniska sammansättningar", moduler, integrerade kretsar, komponenter eller funktioner regleras i kategori 5 del 2, även om de är komponenter eller "elektroniska sammansättningar" för annan utrustning. |
| --- | --- |

:

| : | Kategori 5 del 2 omfattar inte varor som åtföljer användaren för dennes personliga bruk. |
| --- | --- |

:

| : | Kryptografisk anm.

  Avsnitt 5A002 och 5D002 omfattar inte varor som uppfyller samtliga följande villkor:








  a) | De är allmänt tillgängliga för allmänheten genom att de säljs från lager via en detaljists försäljningsställe utan restriktioner på något av följande sätt:








  1. | Transaktioner över disk. |
| --- | --- | --- | --- |

:

Avsnitt 5A002 och 5D002 omfattar inte varor som uppfyller samtliga följande villkor:

a)

De är allmänt tillgängliga för allmänheten genom att de säljs från lager via en detaljists försäljningsställe utan restriktioner på något av följande sätt:

1.

Transaktioner över disk.

| 2. | Postordertransaktioner. |
| --- | --- |

2.

Postordertransaktioner.

| 3. | Elektroniska transaktioner. |
| --- | --- |

3.

Elektroniska transaktioner.

| 4. | Transaktioner som genomförs via telefonsamtal. |
| --- | --- |

4.

Transaktioner som genomförs via telefonsamtal.

| b) | Den kryptografiska funktionen kan inte lätt ändras av användaren. |
| --- | --- |

b)

Den kryptografiska funktionen kan inte lätt ändras av användaren.

| c) | De är konstruerade så att användaren själv kan installera dem utan väsentlig medverkan av leverantören. |
| --- | --- |

c)

De är konstruerade så att användaren själv kan installera dem utan väsentlig medverkan av leverantören.

| d) | Närmare uppgifter om varorna finns tillgängliga vid behov och ska på begäran lämnas till de behöriga myndigheterna i den medlemsstat där exportören är etablerad i syfte att säkerställa att villkoren i punkterna a–c är uppfyllda. |
| --- | --- |

d)

Närmare uppgifter om varorna finns tillgängliga vid behov och ska på begäran lämnas till de behöriga myndigheterna i den medlemsstat där exportören är etablerad i syfte att säkerställa att villkoren i punkterna a–c är uppfyllda.

| : | Kategori 5 del 2 omfattar inte varor som innehåller eller använder "kryptografi" och uppfyller samtliga följande villkor:







  a) | Dess primära funktion eller funktioner är inte något av följande:








  1. | "Informationssäkerhet". |
| --- | --- | --- | --- |

:

a)

Dess primära funktion eller funktioner är inte något av följande:

1.

"Informationssäkerhet".

| 2. | En dator, inklusive operativsystem, och delar och komponenter till denna. |
| --- | --- |

2.

En dator, inklusive operativsystem, och delar och komponenter till denna.

| 3. | Sändning, mottagning eller lagring av information (utom för underhållning, kommersiella massutsändningar, hantering av digitala rättigheter eller hantering av patientjournaler). |
| --- | --- |

3.

Sändning, mottagning eller lagring av information (utom för underhållning, kommersiella massutsändningar, hantering av digitala rättigheter eller hantering av patientjournaler).

| 4. | Nätverkstjänster (inklusive drift, administration, förvaltning och tillhandahållande). |
| --- | --- |

4.

Nätverkstjänster (inklusive drift, administration, förvaltning och tillhandahållande).

| b) | Den kryptografiska funktionaliteten stöder enbart dess primära funktion eller funktioner. |
| --- | --- |

b)

Den kryptografiska funktionaliteten stöder enbart dess primära funktion eller funktioner.

| c) | Närmare uppgifter om produkterna finns vid behov tillgängliga och kommer på begäran att tillhandahållas den lämpliga myndigheten i exportörens land, så att överensstämmelse med de i a och b ovan beskrivna villkoren säkerställs. |
| --- | --- |

c)

Närmare uppgifter om produkterna finns vid behov tillgängliga och kommer på begäran att tillhandahållas den lämpliga myndigheten i exportörens land, så att överensstämmelse med de i a och b ovan beskrivna villkoren säkerställs.

:

I kategori 5 – del 2 ingår inte paritetsbitar i nyckellängden.

5A2System, utrustning och komponenter

5A002"Informationssäkerhets" system samt utrustning och komponenter till dessa, enligt följande:

| a) | System, utrustning, användningsspecifika "elektroniska sammansättningar", moduler och integrerade kretsar för "informationssäkerhet" enligt följande samt komponenter till dessa, särskilt konstruerade för "informationssäkerhet":

  :


  För kontrollen av mottagare för globala satellitnavigeringssystem (GNSS) som innehåller eller utför dekryptering se avsnitt 7A005.







  1. | Konstruerade eller modifierade för att använda "kryptografi" som innehåller digital teknik för någon annan kryptografisk funktion än autentisering eller digital signatur och som har något av följande:

  :








  1. | Funktionerna för autentisering och digital signatur omfattar de tillhörande nyckelhanteringsfunktionerna. |
| --- | --- | --- | --- |

a)

System, utrustning, användningsspecifika "elektroniska sammansättningar", moduler och integrerade kretsar för "informationssäkerhet" enligt följande samt komponenter till dessa, särskilt konstruerade för "informationssäkerhet":

:

För kontrollen av mottagare för globala satellitnavigeringssystem (GNSS) som innehåller eller utför dekryptering se avsnitt 7A005.

1.

Konstruerade eller modifierade för att använda "kryptografi" som innehåller digital teknik för någon annan kryptografisk funktion än autentisering eller digital signatur och som har något av följande:

:

1.

| 2. | Autentisering omfattar alla aspekter av åtkomstskydd när det inte finns någon annan kryptering av filer eller text än den som är direkt knuten till skydd av lösenord, personliga identifikationsnummer (PIN) eller liknande data som hindrar obehörig tillgång |
| --- | --- |

2.

| 3. | "Kryptografi" omfattar inte "fasta" datakompressions- eller datakodningstekniker.







  : | 5A002.a.1 omfattar utrustning som är konstruerad eller modifierad för att använda "kryptografi" med användning av analoga principer som genomförs med digitala tekniker.






  a) | En "symmetrisk algoritm" med en nyckellängd som överstiger 56 bitar. |
| --- | --- | --- | --- |

3.

:

a)

En "symmetrisk algoritm" med en nyckellängd som överstiger 56 bitar.

| b) | En "asymmetrisk algoritm" där algoritmens säkerhet baseras på något av följande:






  1. | Faktorisering av heltal utöver 512 bitar (t.ex. RSA). |
| --- | --- | --- |

b)

En "asymmetrisk algoritm" där algoritmens säkerhet baseras på något av följande:

1.

Faktorisering av heltal utöver 512 bitar (t.ex. RSA).

| 2. | Beräkning av diskreta logaritmer i en multiplikativ grupp i en ändlig kropp som är större än 512 bitar (t.ex. Diffie-Hellman över Z/pZ). |
| --- | --- |

2.

Beräkning av diskreta logaritmer i en multiplikativ grupp i en ändlig kropp som är större än 512 bitar (t.ex. Diffie-Hellman över Z/pZ).

| 3. | Diskreta logaritmer i någon annan grupp än de som anges i punkt 5A002.a.1.b.2 utöver 112 bitar (t.ex. Diffie-Hellman över en elliptisk kurva). |
| --- | --- |

3.

Diskreta logaritmer i någon annan grupp än de som anges i punkt 5A002.a.1.b.2 utöver 112 bitar (t.ex. Diffie-Hellman över en elliptisk kurva).

| 2. | Konstruerade eller modifierade för att utföra kryptoanalytiska funktioner. |
| --- | --- |

2.

Konstruerade eller modifierade för att utföra kryptoanalytiska funktioner.

| 3. | Används inte. |
| --- | --- |

3.

Används inte.

| 4. | Särskilt konstruerade eller modifierade för att undertrycka röjande strålning från informationsbärande signaler utöver vad som är nödvändigt enligt standarder för hälsa, säkerhet och elektromagnetisk interferens. |
| --- | --- |

4.

Särskilt konstruerade eller modifierade för att undertrycka röjande strålning från informationsbärande signaler utöver vad som är nödvändigt enligt standarder för hälsa, säkerhet och elektromagnetisk interferens.

| 5. | Konstruerade eller modifierade för att använda kryptografisk teknik för att generera spridningskoden för "bandspridnings" system, andra än de som omfattas av avsnitt 5A002.a.6, bland annat hoppkoden för "hoppfrekvens" system. |
| --- | --- |

5.

Konstruerade eller modifierade för att använda kryptografisk teknik för att generera spridningskoden för "bandspridnings" system, andra än de som omfattas av avsnitt 5A002.a.6, bland annat hoppkoden för "hoppfrekvens" system.

| 6. | Konstruerade eller modifierade för användning av kryptografisk teknik för att alstra kanaliserings-, förvrängnings- eller nätidentifikationskoder, för system som utnyttjar teknik för ultrabredbandsmodulering, och som har något av följande:






  a) | En bandbredd som överstiger 500 MHz. |
| --- | --- | --- |

6.

Konstruerade eller modifierade för användning av kryptografisk teknik för att alstra kanaliserings-, förvrängnings- eller nätidentifikationskoder, för system som utnyttjar teknik för ultrabredbandsmodulering, och som har något av följande:

a)

En bandbredd som överstiger 500 MHz.

| b) | En "relativ bandbredd" på minst 20 %. |
| --- | --- |

b)

En "relativ bandbredd" på minst 20 %.

| 7. | Säkerhetssystem och säkerhetsanordningar för icke-krypterad informations- och kommunikationsteknik (IKT) som bedömts uppfylla en säkerhetsnivå som överstiger klass EAL-6 (bedömning av säkerhetsnivå) enligt de gemensamma kriterierna eller motsvarande. |
| --- | --- |

7.

Säkerhetssystem och säkerhetsanordningar för icke-krypterad informations- och kommunikationsteknik (IKT) som bedömts uppfylla en säkerhetsnivå som överstiger klass EAL-6 (bedömning av säkerhetsnivå) enligt de gemensamma kriterierna eller motsvarande.

| 8. | Kommunikationskabelsystem konstruerade eller modifierade med mekanisk, elektrisk eller elektronisk utrustning för att upptäcka olovliga, dolda intrång. |
| --- | --- |

8.

Kommunikationskabelsystem konstruerade eller modifierade med mekanisk, elektrisk eller elektronisk utrustning för att upptäcka olovliga, dolda intrång.

| 9. | Konstruerade eller modifierade för att använda "kvantkryptografi".

  :


  "Kvantkryptografi" är även känd som kvantnyckelfördelning (QKD). |
| --- | --- |

9.

Konstruerade eller modifierade för att använda "kvantkryptografi".

:

"Kvantkryptografi" är även känd som kvantnyckelfördelning (QKD).

| b) | System, utrustning, användningsspecifika "elektroniska sammansättningar", moduler och integrerade kretsar som konstruerats eller modifierats för göra det möjligt för en produkt att kunna uppnå eller överskrida de kontrollerade prestandanivåer för funktionalitet som specificeras i 5A002.a och som annars inte skulle vara möjligt.







  : | Avsnitt 5A002 omfattar inte följande:







  a) | Smartkort och smartkorts-‧läsare/skrivare‧ enligt följande:








  1. | Ett smartkort eller en elektroniskt läsbar personhandling (t.ex. periodkort, e-pass) vilka uppfyller något av följande villkor:








  a) | Krypteringsmöjligheterna kan bara användas i utrustning eller system som är undantagna från 5A002 genom anmärkning 4 i kategori 5 del 2 eller b-i i denna anmärkning och kan inte omprogrammeras för annan användning, eller |
| --- | --- | --- | --- | --- | --- |

b)

System, utrustning, användningsspecifika "elektroniska sammansättningar", moduler och integrerade kretsar som konstruerats eller modifierats för göra det möjligt för en produkt att kunna uppnå eller överskrida de kontrollerade prestandanivåer för funktionalitet som specificeras i 5A002.a och som annars inte skulle vara möjligt.

:

a)

Smartkort och smartkorts-‧läsare/skrivare‧ enligt följande:

1.

Ett smartkort eller en elektroniskt läsbar personhandling (t.ex. periodkort, e-pass) vilka uppfyller något av följande villkor:

a)

Krypteringsmöjligheterna kan bara användas i utrustning eller system som är undantagna från 5A002 genom anmärkning 4 i kategori 5 del 2 eller b-i i denna anmärkning och kan inte omprogrammeras för annan användning, eller

| b) | har allt följande:








  1. | De är särskilt konstruerade och kan enbart användas för att möjliggöra skydd av lagrade ‧personuppgifter‧. |
| --- | --- | --- |

b)

har allt följande:

1.

De är särskilt konstruerade och kan enbart användas för att möjliggöra skydd av lagrade ‧personuppgifter‧.

| 2. | De har blivit eller kan enbart personanpassas för offentliga eller kommersiella transaktioner eller personidentifiering, och |
| --- | --- |

2.

De har blivit eller kan enbart personanpassas för offentliga eller kommersiella transaktioner eller personidentifiering, och

| 3. | krypteringsmöjligheterna är inte åtkomliga för användaren.


  :


  ‧Personuppgifter‧ omfattar alla uppgifter som är specifika för en viss person eller enhet, såsom lagrat penningbelopp och uppgifter som behövs för autentisering. |
| --- | --- |

3.

krypteringsmöjligheterna är inte åtkomliga för användaren.

:

‧Personuppgifter‧ omfattar alla uppgifter som är specifika för en viss person eller enhet, såsom lagrat penningbelopp och uppgifter som behövs för autentisering.

| 2. | ‧Läsare/skrivare‧ som är särskilt konstruerade eller modifierade och enbart kan användas för de produkter som nämns i punkt a.1 i denna anmärkning.


  :


  ‧Läsare/skrivare‧ omfattar utrustning som kommunicerar med smartkort eller elektroniskt läsbara handlingar via ett nätverk. |
| --- | --- |

2.

‧Läsare/skrivare‧ som är särskilt konstruerade eller modifierade och enbart kan användas för de produkter som nämns i punkt a.1 i denna anmärkning.

:

‧Läsare/skrivare‧ omfattar utrustning som kommunicerar med smartkort eller elektroniskt läsbara handlingar via ett nätverk.

| b) | Används inte. |
| --- | --- |

b)

Används inte.

| c) | Används inte. |
| --- | --- |

c)

Används inte.

| d) | Kryptografisk utrustning som är särskilt konstruerad och begränsad för bankändamål eller ‧penningtransaktioner‧.


  :


  ‧Penningtransaktioner‧ i avsnitt 5A002 anmärkning d omfattar utfärdande och betalning av biljetter eller kreditfunktioner. |
| --- | --- |

d)

Kryptografisk utrustning som är särskilt konstruerad och begränsad för bankändamål eller ‧penningtransaktioner‧.

:

‧Penningtransaktioner‧ i avsnitt 5A002 anmärkning d omfattar utfärdande och betalning av biljetter eller kreditfunktioner.

| e) | Bärbara eller mobila radiotelefoner för civil användning (t.ex. för användning i civila kommersiella cellulära radiokommunikationssystem) och som inte medger överföring av krypterade data direkt till en annan radiotelefon eller utrustning (annan än utrustning för radioaccessnät (RAN)) eller utväxling av krypterade data genom RAN-utrustning (t.ex. radionätkontroller (RNC) eller basstationskontroller (BSC)). |
| --- | --- |

e)

Bärbara eller mobila radiotelefoner för civil användning (t.ex. för användning i civila kommersiella cellulära radiokommunikationssystem) och som inte medger överföring av krypterade data direkt till en annan radiotelefon eller utrustning (annan än utrustning för radioaccessnät (RAN)) eller utväxling av krypterade data genom RAN-utrustning (t.ex. radionätkontroller (RNC) eller basstationskontroller (BSC)).

| f) | Trådlös telefonutrustning som inte medger kryptering från början till slut och där den maximala effektiva räckvidden av en oförstärkt trådlös operation (t.ex. ett enkelt hopp utan relä mellan terminal och basstation) är mindre än 400 meter enligt tillverkarens specifikationer. |
| --- | --- |

f)

Trådlös telefonutrustning som inte medger kryptering från början till slut och där den maximala effektiva räckvidden av en oförstärkt trådlös operation (t.ex. ett enkelt hopp utan relä mellan terminal och basstation) är mindre än 400 meter enligt tillverkarens specifikationer.

| g) | Bärbara eller mobila radiotelefoner och liknande kundanpassade trådlösa anordningar för civil användning, som enbart tillämpar publicerade eller kommersiella kryptografiska standarder (med undantag av funktioner för bekämpning av piratverksamhet, vilka kan vara opublicerade) och som också följer villkoren i punkterna b-d i den kryptografiska anmärkningen (anmärkning 3 i kategori 5 - del 2), som har kundanpassats för en specifik civil industriell tillämpning med egenskaper som inte påverkar funktionen hos dessa ursprungligen icke-kundanpassade anordningar. |
| --- | --- |

g)

Bärbara eller mobila radiotelefoner och liknande kundanpassade trådlösa anordningar för civil användning, som enbart tillämpar publicerade eller kommersiella kryptografiska standarder (med undantag av funktioner för bekämpning av piratverksamhet, vilka kan vara opublicerade) och som också följer villkoren i punkterna b-d i den kryptografiska anmärkningen (anmärkning 3 i kategori 5 - del 2), som har kundanpassats för en specifik civil industriell tillämpning med egenskaper som inte påverkar funktionen hos dessa ursprungligen icke-kundanpassade anordningar.

| h) | Används inte. |
| --- | --- |

h)

Används inte.

| i) | Utrustning för trådlösa "personliga nät" som enbart tillämpar publicerade eller kommersiella kryptografiska standarder och där krypteringsmöjligheterna är begränsade till en nominell funktionsradie som inte överstiger 30 meter enligt tillverkarens specifikationer, eller |
| --- | --- |

i)

Utrustning för trådlösa "personliga nät" som enbart tillämpar publicerade eller kommersiella kryptografiska standarder och där krypteringsmöjligheterna är begränsade till en nominell funktionsradie som inte överstiger 30 meter enligt tillverkarens specifikationer, eller

| j) | Utrustning som inte har någon sådan funktionalitet som specificeras i 5A002.a.2., 5A002.a.4., 5A002.a.7., eller 5A002.a.8., där all kryptografisk kapacitet som specificeras i 5A002.a. uppfyller något av följande:








  1. | Den kan inte användas. |
| --- | --- | --- |

j)

Utrustning som inte har någon sådan funktionalitet som specificeras i 5A002.a.2., 5A002.a.4., 5A002.a.7., eller 5A002.a.8., där all kryptografisk kapacitet som specificeras i 5A002.a. uppfyller något av följande:

1.

Den kan inte användas.

| 2. | Den kan endast göras användbar genom "kryptografisk aktivering".


  :


  Se 5A002.a för utrustning som genomgått "kryptografisk aktivering". |
| --- | --- |

2.

Den kan endast göras användbar genom "kryptografisk aktivering".

:

Se 5A002.a för utrustning som genomgått "kryptografisk aktivering".

5B2Test-, inspektions- och produktionsutrustning

5B002Test-, inspektions- och "produktions" utrustning för "informationssäkerhet", enligt följande:

| a) | Utrustning särskilt konstruerad för "utveckling" eller "produktion" av utrustning som omfattas av avsnitt 5A002 eller 5B002.b. |
| --- | --- |

a)

Utrustning särskilt konstruerad för "utveckling" eller "produktion" av utrustning som omfattas av avsnitt 5A002 eller 5B002.b.

| b) | Mätutrustning särskilt konstruerad för att bedöma och värdera de "informationssäkerhets" funktioner hos utrustning som omfattas av avsnitt 5A002 eller "programvara" som omfattas av avsnitt 5D002.a eller 5D002.c. |
| --- | --- |

b)

Mätutrustning särskilt konstruerad för att bedöma och värdera de "informationssäkerhets" funktioner hos utrustning som omfattas av avsnitt 5A002 eller "programvara" som omfattas av avsnitt 5D002.a eller 5D002.c.

5C2Material

Inga.

5D2Programvara

5D002"Programvara" enligt följande:

| a) | "Programvara" särskilt utformad eller modifierad för "utveckling", "produktion" eller "användning" av utrustning som omfattas av avsnitt 5A002 eller "programvara" som omfattas av avsnitt 5D002.c. |
| --- | --- |

a)

"Programvara" särskilt utformad eller modifierad för "utveckling", "produktion" eller "användning" av utrustning som omfattas av avsnitt 5A002 eller "programvara" som omfattas av avsnitt 5D002.c.

| b) | "Programvara" särskilt utformad eller modifierad för att understödja "teknik" som omfattas av avsnitt 5E002. |
| --- | --- |

b)

"Programvara" särskilt utformad eller modifierad för att understödja "teknik" som omfattas av avsnitt 5E002.

| c) | Specifik "programvara" enligt följande:






  1. | "Programvara" som har samma egenskaper eller kan utföra eller simulera funktionen hos utrustning som omfattas av avsnitt 5A002. |
| --- | --- | --- |

c)

Specifik "programvara" enligt följande:

1.

"Programvara" som har samma egenskaper eller kan utföra eller simulera funktionen hos utrustning som omfattas av avsnitt 5A002.

| 2. | "Programvara" som bestyrker "programvara" som omfattas av punkt 5D002.c.1. |
| --- | --- |

2.

"Programvara" som bestyrker "programvara" som omfattas av punkt 5D002.c.1.

| d) | "Programvara" som utformats eller modifierats för att göra det möjligt för en produkt att kunna uppnå eller överskrida de kontrollerade prestandanivåer för funktionalitet som specificeras i 5A002.a och som annars inte skulle vara möjligt. |
| --- | --- |

d)

"Programvara" som utformats eller modifierats för att göra det möjligt för en produkt att kunna uppnå eller överskrida de kontrollerade prestandanivåer för funktionalitet som specificeras i 5A002.a och som annars inte skulle vara möjligt.

| : | Avsnitt 5D002 omfattar inte "programvara" enligt följande:







  a) | "Programvara" som erfordras för "användning" av utrustning som är undantagen från kontroll genom anmärkningen till avsnitt 5A002. |
| --- | --- | --- |

:

a)

"Programvara" som erfordras för "användning" av utrustning som är undantagen från kontroll genom anmärkningen till avsnitt 5A002.

| b) | "Programvara" som erbjuder någon av funktionerna hos utrustning som är undantagen från kontroll genom anmärkningen till avsnitt 5A002. |
| --- | --- |

b)

"Programvara" som erbjuder någon av funktionerna hos utrustning som är undantagen från kontroll genom anmärkningen till avsnitt 5A002.

5E2Teknik

5E002"Teknik" enligt följande:

| a) | "Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik för "utveckling", "produktion" eller "användning" av utrustning som omfattas av avsnitt 5A002 eller 5B002 eller "programvara" som omfattas av avsnitt 5D002.a eller 5D002.c. |
| --- | --- |

a)

"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik för "utveckling", "produktion" eller "användning" av utrustning som omfattas av avsnitt 5A002 eller 5B002 eller "programvara" som omfattas av avsnitt 5D002.a eller 5D002.c.

| b) | "Teknik" för att göra det möjligt för en produkt att kunna uppnå eller överskrida de kontrollerade prestandanivåer för funktionalitet som specificeras i 5A002.a och som annars inte skulle vara möjligt. |
| --- | --- |

b)

"Teknik" för att göra det möjligt för en produkt att kunna uppnå eller överskrida de kontrollerade prestandanivåer för funktionalitet som specificeras i 5A002.a och som annars inte skulle vara möjligt.

KATEGORI 6

SENSORER OCH LASRAR

6ASystem, utrustningar och komponenter

6A001Akustiska system, utrustningar och komponenter, enligt följande:

| a) | Marina akustiska system, utrustningar samt komponenter som särskilt konstruerats för dessa, enligt följande:






  1. | Aktiva (sändande eller sändande och mottagande) system, utrustningar samt komponenter som särskilt konstruerats för dessa, enligt följande:







  : | Avsnitt 6A001.a.1 omfattar inte följande utrustning:







  a) | Ekolod som arbetar vertikalt under apparaturen och inte innehåller någon avsökande funktion som överstiger ± 20 °, och som är begränsade till att mäta vattendjup, avståndet till sjunkna föremål eller att söka fisk. |
| --- | --- | --- | --- | --- |

a)

Marina akustiska system, utrustningar samt komponenter som särskilt konstruerats för dessa, enligt följande:

1.

Aktiva (sändande eller sändande och mottagande) system, utrustningar samt komponenter som särskilt konstruerats för dessa, enligt följande:

:

a)

Ekolod som arbetar vertikalt under apparaturen och inte innehåller någon avsökande funktion som överstiger ± 20 °, och som är begränsade till att mäta vattendjup, avståndet till sjunkna föremål eller att söka fisk.

| b) | Riktade vågor, enligt följande:








  1. | Riktade vågor för nödsändningar. |
| --- | --- | --- |

b)

Riktade vågor, enligt följande:

1.

Riktade vågor för nödsändningar.

| 2. | Ljudgivare som särskilt konstruerats för förflyttning eller för att återkomma till en undervattensposition. |
| --- | --- |

2.

Ljudgivare som särskilt konstruerats för förflyttning eller för att återkomma till en undervattensposition.

| a) | Akustisk utrustning konstruerad för kartläggning av sjöbotten enligt följande:






  1. | Kartläggningsutrustning för ytfartyg som konstruerats för topografisk kartläggning av havsbottnen och har samtliga följande egenskaper:






  a) | Konstruerade för att kunna mäta vid en vinkel som överstiger 20 ° från vertikallinjen. |
| --- | --- | --- | --- |

a)

Akustisk utrustning konstruerad för kartläggning av sjöbotten enligt följande:

1.

Kartläggningsutrustning för ytfartyg som konstruerats för topografisk kartläggning av havsbottnen och har samtliga följande egenskaper:

a)

Konstruerade för att kunna mäta vid en vinkel som överstiger 20 ° från vertikallinjen.

| b) | Konstruerade för att mäta havsbottnens topografi där havsbottnen ligger på större djup än 600 meter. |
| --- | --- |

b)

Konstruerade för att mäta havsbottnens topografi där havsbottnen ligger på större djup än 600 meter.

| c) | En ‧lodupplösning‧ som är mindre än 2. |
| --- | --- |

c)

En ‧lodupplösning‧ som är mindre än 2.

| d) | ‧Förbättring‧ av djupnoggrannheten genom kompensation för allt följande:






  1. | Den akustiska sensorns rörelse. |
| --- | --- | --- |

d)

‧Förbättring‧ av djupnoggrannheten genom kompensation för allt följande:

1.

Den akustiska sensorns rörelse.

| 2. | Fortplantningen i vattnet från sensorn till havsbottnen och tillbaka. |
| --- | --- |

2.

Fortplantningen i vattnet från sensorn till havsbottnen och tillbaka.

| 3. | Ljudhastigheten vid sensorns. |
| --- | --- |

3.

Ljudhastigheten vid sensorns.

:

| 1. | Med ‧lodupplösning‧ avses svepets bredd (grader) dividerat med högsta antal lodningar per svep. |
| --- | --- |

1.

| 2. | I ‧förbättring‧ ingår förmågan att kompensera genom yttre medel. |
| --- | --- |

2.

| 2. | Utrustning konstruerad för kartläggning under vatten som konstruerats för topografisk kartläggning av havsbottnen och har samtliga följande egenskaper:






  a) | Konstruerade eller modifierad för att arbeta på större djup än 300 m. |
| --- | --- | --- |

2.

Utrustning konstruerad för kartläggning under vatten som konstruerats för topografisk kartläggning av havsbottnen och har samtliga följande egenskaper:

a)

Konstruerade eller modifierad för att arbeta på större djup än 300 m.

| b) | En ‧lodningshastighet‧ som är högre än 3 800. |
| --- | --- |

b)

En ‧lodningshastighet‧ som är högre än 3 800.

:

Med ‧lodningshastighet‧ avses produkten av den maximihastighet (m/s) med vilken sensorn kan arbeta och högsta antal lodningar per svep.

| 3. | Sidoskannande sonar (SSS) eller syntetisk apertursonar (SAS) som konstruerats för avbildning av havsbotten och som har samtliga följande egenskaper:






  a) | Konstruerad eller modifierad för att arbeta på större djup än 500 m. |
| --- | --- | --- |

3.

Sidoskannande sonar (SSS) eller syntetisk apertursonar (SAS) som konstruerats för avbildning av havsbotten och som har samtliga följande egenskaper:

a)

Konstruerad eller modifierad för att arbeta på större djup än 500 m.

| b) | En ‧yttäckningshastighet‧ som är högre än 570 m2/s vid drift med både en ‧upplösning i längdled‧ och en ‧upplösning i tvärled‧ som är mindre än 15 cm. |
| --- | --- |

b)

En ‧yttäckningshastighet‧ som är högre än 570 m2/s vid drift med både en ‧upplösning i längdled‧ och en ‧upplösning i tvärled‧ som är mindre än 15 cm.

:

| 1. | ‧Yttäckningshastigheten‧ (m2/s) är två gånger produkten av den maximala sonarräckvidden (m) och den maximihastighet (m/s) med vilken sensorn kan arbeta. |
| --- | --- |

1.

| 2. | ‧Upplösningen i längdled‧ (cm), endast för SSS), är lika med produkten av azimutens (horisontell) lobbredd (grader), maximal sonarräckvidd (m) och 0,873. |
| --- | --- |

2.

| 3. | ‧Upplösningen i tvärled‧ (cm) är lika med 75 dividerad med signalens bandbredd (kHz). |
| --- | --- |

3.

| b) | System för att upptäcka eller lokalisera föremål med någon av följande egenskaper:






  1. | en sändningsfrekvens under 10 kHz, |
| --- | --- | --- |

b)

System för att upptäcka eller lokalisera föremål med någon av följande egenskaper:

1.

en sändningsfrekvens under 10 kHz,

| 2. | ett ljudtryck över 224 dB (referens 1 μPa på 1 m avstånd) för utrustningar som arbetar inom frekvensområdet 10 kHz till och med 24 kHz, |
| --- | --- |

2.

ett ljudtryck över 224 dB (referens 1 μPa på 1 m avstånd) för utrustningar som arbetar inom frekvensområdet 10 kHz till och med 24 kHz,

| 3. | ett ljudtryck över 235 dB (referens 1 μPa på 1 m avstånd) för utrustningar som arbetar inom frekvensområdet 24 kHz till 30 kHz, |
| --- | --- |

3.

ett ljudtryck över 235 dB (referens 1 μPa på 1 m avstånd) för utrustningar som arbetar inom frekvensområdet 24 kHz till 30 kHz,

| 4. | ett system med strålar med mindre än 1 ° utbredning längs någon axel och en arbetsfrekvens under 100 kHz, |
| --- | --- |

4.

ett system med strålar med mindre än 1 ° utbredning längs någon axel och en arbetsfrekvens under 100 kHz,

| 5. | ett system som konstruerats för att fungera med en räckvidd på mer än 5 120 m, eller |
| --- | --- |

5.

ett system som konstruerats för att fungera med en räckvidd på mer än 5 120 m, eller

| 6. | systemen som konstruerats för att kunna motstå trycket på mer än 1 000 m djup och som har en givare med något av följande






  a) | dynamisk tryckutjämning, eller |
| --- | --- | --- |

6.

systemen som konstruerats för att kunna motstå trycket på mer än 1 000 m djup och som har en givare med något av följande

a)

dynamisk tryckutjämning, eller

| b) | sändande element som inte består av bly-zirconat-titanat. |
| --- | --- |

b)

sändande element som inte består av bly-zirconat-titanat.

| c) | Akustiska projektorer, inklusive givare som innehåller piezoelektriska, magnetostriktiva, elektrostriktiva, elektrodynamiska eller hydrauliska element som kan arbeta individuellt eller i en bestämd konfiguration och med någon av följande egenskaper:







  : | Akustiska projektorer, inklusive sändare, som särskilt konstruerats för en viss utrustning, ska behandlas som den utrustningen. |
| --- | --- | --- |

c)

Akustiska projektorer, inklusive givare som innehåller piezoelektriska, magnetostriktiva, elektrostriktiva, elektrodynamiska eller hydrauliska element som kan arbeta individuellt eller i en bestämd konfiguration och med någon av följande egenskaper:

:

| : | Avsnitt 6A001.a.1.c omfattar inte elektroniska källor som riktar ljudet enbart vertikalt, eller mekaniska (t.ex. luftkanoner eller ångchockskanoner) eller kemiska (t.ex. explosiva) källor. |
| --- | --- |

:

| 1. | En momentan strålad ‧akustisk effekttäthet‧ som överstiger 0,01 mW/mm2/Hz för apparater som arbetar på frekvenser under 10 kHz. |
| --- | --- |

1.

En momentan strålad ‧akustisk effekttäthet‧ som överstiger 0,01 mW/mm2/Hz för apparater som arbetar på frekvenser under 10 kHz.

| 2. | En kontinuerligt strålad ‧akustisk effekttäthet‧ som överstiger 0,001 mW/mm2/Hz för apparater som arbetar på frekvenser under 10 kHz.

  :


  ‧Akustiska effekttätheten‧ erhålls om man dividerar utgångseffekten med produkten av den strålande ytan och arbetsfrekvensen. |
| --- | --- |

2.

En kontinuerligt strålad ‧akustisk effekttäthet‧ som överstiger 0,001 mW/mm2/Hz för apparater som arbetar på frekvenser under 10 kHz.

:

‧Akustiska effekttätheten‧ erhålls om man dividerar utgångseffekten med produkten av den strålande ytan och arbetsfrekvensen.

| 3. | Sidlobsundertrycket är över 22 dB. |
| --- | --- |

3.

Sidlobsundertrycket är över 22 dB.

| d) | Akustiska system och utrustningar konstruerade för att bestämma ytfartygs eller undervattensfarkosters position med alla följande egenskaper och för dem särskilt konstruerade komponenter:






  1. | Detekteringsavstånd som överstiger 1 000 m, och |
| --- | --- | --- |

d)

Akustiska system och utrustningar konstruerade för att bestämma ytfartygs eller undervattensfarkosters position med alla följande egenskaper och för dem särskilt konstruerade komponenter:

1.

Detekteringsavstånd som överstiger 1 000 m, och

| 2. | Positioneringsnoggrannhet på mindre än 10 m rms (effektivvärdet) vid mätning på 1 000 m avstånd. |
| --- | --- |

2.

Positioneringsnoggrannhet på mindre än 10 m rms (effektivvärdet) vid mätning på 1 000 m avstånd.

| : | Avsnitt 6A001.a.1.d omfattar







  a) | utrustning som använder koherent "signalbehandling" mellan två eller flera pejlsändare och hydrofonutrustning som bärs av ytfartyget eller undervattensfarkosten, |
| --- | --- | --- |

:

a)

utrustning som använder koherent "signalbehandling" mellan två eller flera pejlsändare och hydrofonutrustning som bärs av ytfartyget eller undervattensfarkosten,

| b) | utrustning som automatiskt kan korrigera för det fel som uppstår vid positionsbestämningen på grund av ljudets utbredningshastighet. |
| --- | --- |

b)

utrustning som automatiskt kan korrigera för det fel som uppstår vid positionsbestämningen på grund av ljudets utbredningshastighet.

| e) | Aktiva individuella sonarer som är särskilt konstruerade eller modifierade för att upptäcka, lokalisera och automatiskt klassificera simmare eller dykare, med alla följande egenskaper:






  1. | Detekteringsavstånd som överstiger 530 m. |
| --- | --- | --- |

e)

Aktiva individuella sonarer som är särskilt konstruerade eller modifierade för att upptäcka, lokalisera och automatiskt klassificera simmare eller dykare, med alla följande egenskaper:

1.

Detekteringsavstånd som överstiger 530 m.

| 2. | Positioneringsnoggrannhet på mindre än 15 m rms (effektivvärdet) vid mätning på 530 m avstånd. |
| --- | --- |

2.

Positioneringsnoggrannhet på mindre än 15 m rms (effektivvärdet) vid mätning på 530 m avstånd.

| 3. | Bandbredd för utsänd pulssignal överstiger 3kHz. |
| --- | --- |

3.

Bandbredd för utsänd pulssignal överstiger 3kHz.

För dykardetekteringssystem som särskilt konstruerats eller ändrats för militär användning, se den kontrollbestämmelserna för varor med militär användning.

| : | För 6A001.a.1.e används det största detekteringsavståndet, om flera olika detekteringsavstånd är angivna för olika omgivningar. |
| --- | --- |

:

| 2. | Passiva system, utrustning och komponenter som konstruerats speciellt för dessa, enligt följande:






  a) | Hydrofoner med någon av följande egenskaper:







  : | Hydrofoner som särskilt konstruerats för en viss utrustning ska behandlas som den utrustningen. |
| --- | --- | --- | --- |

2.

Passiva system, utrustning och komponenter som konstruerats speciellt för dessa, enligt följande:

a)

Hydrofoner med någon av följande egenskaper:

:

| 1. | Innehåller kontinuerliga flexibla avkänningselement. |
| --- | --- |

1.

Innehåller kontinuerliga flexibla avkänningselement.

| 2. | Innehåller flexibla sammansättningar av diskreta avkänningselement med en längd eller diameter på mindre än 20 mm och med ett avstånd mellan elementen som understiger 20 mm. |
| --- | --- |

2.

Innehåller flexibla sammansättningar av diskreta avkänningselement med en längd eller diameter på mindre än 20 mm och med ett avstånd mellan elementen som understiger 20 mm.

| 3. | Innehåller något av följande avkänningselement:






  a) | Optiska fibrer, |
| --- | --- | --- |

3.

Innehåller något av följande avkänningselement:

a)

Optiska fibrer,

| b) | annan ‧piezoelektrisk polymerfilm‧ än polyvinylidenfluorid (PVDF) och dess sampolymerer {P(VDF-TrFE) och P(VDF-TFE)} eller |
| --- | --- |

b)

annan ‧piezoelektrisk polymerfilm‧ än polyvinylidenfluorid (PVDF) och dess sampolymerer {P(VDF-TrFE) och P(VDF-TFE)} eller

| c) | ‧flexibla piezoelektriska kompositer‧. |
| --- | --- |

c)

‧flexibla piezoelektriska kompositer‧.

| 4. | Med en ‧hydrofon känslighet‧ högre än - 180 dB på alla djup, utan accelerationskompensation. |
| --- | --- |

4.

Med en ‧hydrofon känslighet‧ högre än - 180 dB på alla djup, utan accelerationskompensation.

| 5. | Med utrustning som konstruerats för drift på större djup än 35 m med accelerationskompensation. |
| --- | --- |

5.

Med utrustning som konstruerats för drift på större djup än 35 m med accelerationskompensation.

| 6. | Med utrustning som konstruerats för arbete på större djup än 1 000 m. |
| --- | --- |

6.

Med utrustning som konstruerats för arbete på större djup än 1 000 m.

:

| 1. | Avkänningselement ‧piezoelektrisk polymerfilm‧ består av polariserad polymerfilm som är spänd över och fäst vid en stödjande ram eller spole (dorn). |
| --- | --- |

1.

| 2. | Avkänningselement ‧flexibla piezoelektriska kompositer‧ består av keramiska piezoelektriska partiklar eller fibrer i kombination med en elektriskt isolerande, akustiskt genomskinlig gummi-, polymer- eller epoxiförening där föreningen utgör en integrerad del av avkänningselementet. |
| --- | --- |

2.

| 3. | ‧Hydrofon känslighet‧ definieras som 20 gånger logaritmen med bas 10 för förhållandet rms utgångsspänning genom referensen 1 V rms, när hydrofongivaren, utan förförstärkare, placeras i ett plant akustiskt fält med trycket 1 μPa rms. Exempel: En hydrofon med känsligheten – 160 dB (referens 1 V per μPa) som placeras i ett sådant fält ger en utgångsspänning på 10-8 V medan en som har känsligheten – 180 dB endast ger en utgångsspänning på 10-9 V. – 160 dB är därför bättre än – 180 dB. |
| --- | --- |

3.

‧Hydrofon känslighet‧ definieras som 20 gånger logaritmen med bas 10 för förhållandet rms utgångsspänning genom referensen 1 V rms, när hydrofongivaren, utan förförstärkare, placeras i ett plant akustiskt fält med trycket 1 μPa rms. Exempel: En hydrofon med känsligheten – 160 dB (referens 1 V per μPa) som placeras i ett sådant fält ger en utgångsspänning på 10-8 V medan en som har känsligheten – 180 dB endast ger en utgångsspänning på 10-9 V. – 160 dB är därför bättre än – 180 dB.

| b) | Akustiska släphydrofonsystem med något av följande:






  1. | Hydrofoner placerade i grupper med ett avstånd som understiger 12,5 m eller som ‧kan ändras till‧ att medge hydrofoner placerade i grupper med ett avstånd som understiger 12,5 m. |
| --- | --- | --- |

b)

Akustiska släphydrofonsystem med något av följande:

1.

Hydrofoner placerade i grupper med ett avstånd som understiger 12,5 m eller som ‧kan ändras till‧ att medge hydrofoner placerade i grupper med ett avstånd som understiger 12,5 m.

| 2. | Som är konstruerade för eller ‧kan ändras till‧ ett utförande som tillåter användning vid större djup än 35 m.

  :


  Uttrycket ‧kan ändras till‧ i avsnitt 6A001.a.2.b.1 och 6A001.a.2.b.2. avser att man har möjlighet att genom att förändra tråddragningen eller anslutningarna ändra hydrofonernas gruppering eller djupbegränsningar. Förutsättningen är: mer än 10 % av antalet trådar i reserv, hydrofonernas gruppering och djupbegränsningar är variabla eller styr mer än en grupp. |
| --- | --- |

2.

Som är konstruerade för eller ‧kan ändras till‧ ett utförande som tillåter användning vid större djup än 35 m.

:

Uttrycket ‧kan ändras till‧ i avsnitt 6A001.a.2.b.1 och 6A001.a.2.b.2. avser att man har möjlighet att genom att förändra tråddragningen eller anslutningarna ändra hydrofonernas gruppering eller djupbegränsningar. Förutsättningen är: mer än 10 % av antalet trådar i reserv, hydrofonernas gruppering och djupbegränsningar är variabla eller styr mer än en grupp.

| 3. | Huvudsensorer som omfattas av avsnitt 6A001.a.2.d. |
| --- | --- |

3.

Huvudsensorer som omfattas av avsnitt 6A001.a.2.d.

| 4. | Longitudinellt förstärkta uppsättningar av slangar. |
| --- | --- |

4.

Longitudinellt förstärkta uppsättningar av slangar.

| 5. | En sammansatt apparat vars diameter understiger 40 mm. |
| --- | --- |

5.

En sammansatt apparat vars diameter understiger 40 mm.

| 6. | Används inte. |
| --- | --- |

6.

Används inte.

| 7. | Hydrofoner med egenskaper enligt avsnitt 6A001.a.2.a. |
| --- | --- |

7.

Hydrofoner med egenskaper enligt avsnitt 6A001.a.2.a.

| c) | Beräkningsutrustning som särskilt konstruerats för att beräkna resultatet från släphydrofonsystem med "användartillgänglig programmeringsmöjlighet", med tids- och frekvensdomänberäkning samt korrelation, inklusive spektralanalys, digital filtrering och lobformning med användande av Fast Fourier eller andra transformler eller processer. |
| --- | --- |

c)

Beräkningsutrustning som särskilt konstruerats för att beräkna resultatet från släphydrofonsystem med "användartillgänglig programmeringsmöjlighet", med tids- och frekvensdomänberäkning samt korrelation, inklusive spektralanalys, digital filtrering och lobformning med användande av Fast Fourier eller andra transformler eller processer.

| d) | Huvudsensorer med alla följande egenskaper:






  1. | En noggrannhet som är bättre än ± 0,5 ° och |
| --- | --- | --- |

d)

Huvudsensorer med alla följande egenskaper:

1.

En noggrannhet som är bättre än ± 0,5 ° och

| 2. | som är konstruerade för drift på större djup än 35 m eller som har en justerbar eller borttagbar djupsensor för att kunna arbeta på större djup än 35 m. |
| --- | --- |

2.

som är konstruerade för drift på större djup än 35 m eller som har en justerbar eller borttagbar djupsensor för att kunna arbeta på större djup än 35 m.

| e) | Kabelsystem för bottnar eller havsvikar med någon av följande egenskaper:






  1. | Som innehåller hydrofoner som omfattas av avsnitt 6A001.a.2.a eller |
| --- | --- | --- |

e)

Kabelsystem för bottnar eller havsvikar med någon av följande egenskaper:

1.

Som innehåller hydrofoner som omfattas av avsnitt 6A001.a.2.a eller

| 2. | som innehåller multiplexade hydrofongruppssignalmoduler som har alla följande egenskaper:






  a) | Som konstruerats för drift på större djup än 35 m, eller har justerbara eller utbytbara djupavkännare för arbete på större djup än 35 m, och |
| --- | --- | --- |

2.

som innehåller multiplexade hydrofongruppssignalmoduler som har alla följande egenskaper:

a)

Som konstruerats för drift på större djup än 35 m, eller har justerbara eller utbytbara djupavkännare för arbete på större djup än 35 m, och

| b) | som kan användas för samma ändamål som bogserade akustiska hydrofonsystemmoduler. |
| --- | --- |

b)

som kan användas för samma ändamål som bogserade akustiska hydrofonsystemmoduler.

| f) | Beräkningsutrustning som särskilt konstruerats för att beräkna resultatet från kabelsystem för bottnar eller havsvikar med "användartillgänglig programmeringsmöjlighet", med tids- och frekvensdomänberäkning samt korrelation, inklusive spektralanalys, digital filtrering och lobformning med användande av Fast Fourier eller andra transformler eller processer. |
| --- | --- |

f)

Beräkningsutrustning som särskilt konstruerats för att beräkna resultatet från kabelsystem för bottnar eller havsvikar med "användartillgänglig programmeringsmöjlighet", med tids- och frekvensdomänberäkning samt korrelation, inklusive spektralanalys, digital filtrering och lobformning med användande av Fast Fourier eller andra transformler eller processer.

| : | 6A001.a.2. omfattar även mottagande utrustning, oavsett om den i normala tillämpningar är kopplad till separat, aktiv utrustning, samt komponenter som konstruerats särskilt för denna. |
| --- | --- |

:

| b) | Sonarutrustning som arbetar med korrelationshastighet och dopplerhastighet och som konstruerats för att mäta den horisontella hastigheten av farkosten med utrustning jämfört med sjöbotten, enligt följande:






  1. | Sonarutrustning som arbetar med korrelationshastighet och som har någon av följande egenskaper:






  a) | Konstruerad för drift på ett avstånd mellan farkosten och sjöbotten som överstiger 500 m. |
| --- | --- | --- | --- |

b)

Sonarutrustning som arbetar med korrelationshastighet och dopplerhastighet och som konstruerats för att mäta den horisontella hastigheten av farkosten med utrustning jämfört med sjöbotten, enligt följande:

1.

Sonarutrustning som arbetar med korrelationshastighet och som har någon av följande egenskaper:

a)

Konstruerad för drift på ett avstånd mellan farkosten och sjöbotten som överstiger 500 m.

| b) | En hastighetsnoggrannhet som är bättre än 1 % av hastigheten. |
| --- | --- |

b)

En hastighetsnoggrannhet som är bättre än 1 % av hastigheten.

| 2. | Sonarutrustning som arbetar med dopplerhastighet och som har en hastighetsnoggrannhet som är bättre än 1 % av hastigheten. |
| --- | --- |

2.

Sonarutrustning som arbetar med dopplerhastighet och som har en hastighetsnoggrannhet som är bättre än 1 % av hastigheten.

| : | Avsnitt 6A001.b omfattar inte djuplod som begränsas till något av följande:







  a) | Mätning av vattendjup. |
| --- | --- | --- |

:

a)

Mätning av vattendjup.

| b) | Mätning av avståndet till föremål som ligger under vatten eller är begravda. |
| --- | --- |

b)

Mätning av avståndet till föremål som ligger under vatten eller är begravda.

| c) | Sökning efter fisk. |
| --- | --- |

c)

Sökning efter fisk.

| : | Avsnitt 6A001.b omfattar inte kontrollutrustning som är speciellt konstruerad för installation på ytfartyg. |
| --- | --- |

:

| c) | Används inte. |
| --- | --- |

c)

Används inte.

6A002Optiska sensorer eller utrustning och komponenter till dessa, enligt följande:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 6A102. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | Optiska detektorer enligt följande:






  1. | "Rymdkvalificerade" halvledardetektorer, enligt följande:







  : | I avsnitt 6A002.a.1 inbegrips "fokalplansmatriser" i halvledardetektorer. |
| --- | --- | --- | --- |

a)

Optiska detektorer enligt följande:

1.

"Rymdkvalificerade" halvledardetektorer, enligt följande:

:

| a) | "Rymdkvalificerade" halvledardetektorer med samtliga följande egenskaper:






  1. | En största känslighet vid ett våglängdsområde som överstiger 10 nm men inte 300 nm. |
| --- | --- | --- |

a)

"Rymdkvalificerade" halvledardetektorer med samtliga följande egenskaper:

1.

En största känslighet vid ett våglängdsområde som överstiger 10 nm men inte 300 nm.

| 2. | En känslighet vid våglängder över 400 nm på mindre än 0,1 % av den maximala känsligheten. |
| --- | --- |

2.

En känslighet vid våglängder över 400 nm på mindre än 0,1 % av den maximala känsligheten.

| b) | "Rymdkvalificerade" halvledardetektorer med samtliga följande egenskaper:






  1. | En maximal känslighet inom våglängdsområdet som överstiger 900 nm men inte 1 200 nm. |
| --- | --- | --- |

b)

"Rymdkvalificerade" halvledardetektorer med samtliga följande egenskaper:

1.

En maximal känslighet inom våglängdsområdet som överstiger 900 nm men inte 1 200 nm.

| 2. | En "svarstidskonstant" på högst 95 ns. |
| --- | --- |

2.

En "svarstidskonstant" på högst 95 ns.

| c) | "Rymdkvalificerade" halvledardetektorer med en maximal känslighet inom våglängdsområdet som överstiger 1 200 nm men inte 30 000 nm. |
| --- | --- |

c)

"Rymdkvalificerade" halvledardetektorer med en maximal känslighet inom våglängdsområdet som överstiger 1 200 nm men inte 30 000 nm.

| d) | "Rymdkvalificerade""fokalplansmatriser" med mer än 2 048 element per matris och en maximal känslighet i våglängdsområdet som överstiger 300 nm men inte 900 nm. |
| --- | --- |

d)

"Rymdkvalificerade""fokalplansmatriser" med mer än 2 048 element per matris och en maximal känslighet i våglängdsområdet som överstiger 300 nm men inte 900 nm.

| 2. | Bildförstärkarrör och komponenter som särskilt konstruerats för dessa enligt följande:







  : | Avsnitt 6A002.a.2 omfattar inte icke-bildbehandlande fotomultiplikatorrör med en elektronavkännare i vakuumutrymmet som uteslutande begränsas till något av följande:







  a) | En enda metallanod. |
| --- | --- | --- | --- |

2.

Bildförstärkarrör och komponenter som särskilt konstruerats för dessa enligt följande:

:

a)

En enda metallanod.

| b) | Metallanoder med ett avstånd som är större än 500 μm från mittpunkt till mittpunkt. |
| --- | --- |

b)

Metallanoder med ett avstånd som är större än 500 μm från mittpunkt till mittpunkt.

:

‧Laddningsförstärkning‧ är en form av elektronisk bildförstärkning och definieras som generering av laddningsbärare till följd av en förstärkningsprocess med stötjonisering. ‧Laddningsförstärknings‧ sensorer kan utgöras av bildförstärkarrör, halvledardetektorer eller "fokalplansmatriser".

| a) | Bildförstärkarrör som har samtliga följande egenskaper:






  1. | En maximal känslighet inom ett våglängdsområde som överstiger 400 nm men inte 1 050 nm. |
| --- | --- | --- |

a)

Bildförstärkarrör som har samtliga följande egenskaper:

1.

En maximal känslighet inom ett våglängdsområde som överstiger 400 nm men inte 1 050 nm.

| 2. | Elektronbildförstärkning med användning av något av följande:






  a) | En mikrokanalplatta med en håldelning (avstånd från ett håls mittpunkt till närmaste håls mittpunkt) på högst 12 μm. |
| --- | --- | --- |

2.

Elektronbildförstärkning med användning av något av följande:

a)

En mikrokanalplatta med en håldelning (avstånd från ett håls mittpunkt till närmaste håls mittpunkt) på högst 12 μm.

| b) | En elektronavkännare med ett non-binned pixelavstånd på högst 500 μm, speciellt konstruerad eller modifierad för att uppnå ‧laddningsförstärkning‧ på annat sätt än genom en mikrokanalplatta. |
| --- | --- |

b)

En elektronavkännare med ett non-binned pixelavstånd på högst 500 μm, speciellt konstruerad eller modifierad för att uppnå ‧laddningsförstärkning‧ på annat sätt än genom en mikrokanalplatta.

| 3. | Någon av följande fotoceller:






  a) | Multialkaliska fotoceller (t.ex. S-20 och S-25) med en ljuskänslighet som överstiger 350 μA/lm. |
| --- | --- | --- |

3.

Någon av följande fotoceller:

a)

Multialkaliska fotoceller (t.ex. S-20 och S-25) med en ljuskänslighet som överstiger 350 μA/lm.

| b) | GaAs- eller GaInAs-fotoceller. |
| --- | --- |

b)

GaAs- eller GaInAs-fotoceller.

| c) | Andra fotoceller av halvledartyp bestående av "III/-V-föreningar" med en maximal "strålningskänslighet" som överstiger 10 mA/W. |
| --- | --- |

c)

Andra fotoceller av halvledartyp bestående av "III/-V-föreningar" med en maximal "strålningskänslighet" som överstiger 10 mA/W.

| b) | Bildförstärkarrör som har samtliga följande egenskaper:






  1. | En maximal känslighet inom ett våglängdsområde som överstiger 1 050 nm men inte 1 800 nm. |
| --- | --- | --- |

b)

Bildförstärkarrör som har samtliga följande egenskaper:

1.

En maximal känslighet inom ett våglängdsområde som överstiger 1 050 nm men inte 1 800 nm.

| 2. | Elektronbildförstärkning med användning av något av följande:






  a) | En mikrokanalplatta med en håldelning (avstånd från ett håls mittpunkt till närmaste håls mittpunkt) på högst 12 μm. |
| --- | --- | --- |

2.

Elektronbildförstärkning med användning av något av följande:

a)

En mikrokanalplatta med en håldelning (avstånd från ett håls mittpunkt till närmaste håls mittpunkt) på högst 12 μm.

| b) | En elektronavkännare med ett non-binned pixelavstånd på högst 500 μm, speciellt konstruerad eller modifierad för att uppnå ‧laddningsförstärkning‧ på annat sätt än genom en mikrokanalplatta. |
| --- | --- |

b)

En elektronavkännare med ett non-binned pixelavstånd på högst 500 μm, speciellt konstruerad eller modifierad för att uppnå ‧laddningsförstärkning‧ på annat sätt än genom en mikrokanalplatta.

| 3. | Fotoceller av halvledartyp bestående av "III/-V-föreningar" (t.ex. GaAs eller GaInAs) och överförda elektronfotoceller med en maximal "strålningskänslighet" som överstiger 15 mA/W. |
| --- | --- |

3.

Fotoceller av halvledartyp bestående av "III/-V-föreningar" (t.ex. GaAs eller GaInAs) och överförda elektronfotoceller med en maximal "strålningskänslighet" som överstiger 15 mA/W.

| c) | Speciellt konstruerade komponenter enligt följande:






  1. | Mikrokanalplattor med en håldelning (avstånd från ett håls mittpunkt till närmaste håls mittpunkt) på högst 12 μm. |
| --- | --- | --- |

c)

Speciellt konstruerade komponenter enligt följande:

1.

Mikrokanalplattor med en håldelning (avstånd från ett håls mittpunkt till närmaste håls mittpunkt) på högst 12 μm.

| 2. | En elektronavkännare med ett non-binned pixelavstånd på högst 500 μm, speciellt konstruerad eller modifierad för att uppnå ‧laddningsförstärkning‧ på annat sätt än genom en mikrokanalplatta. |
| --- | --- |

2.

En elektronavkännare med ett non-binned pixelavstånd på högst 500 μm, speciellt konstruerad eller modifierad för att uppnå ‧laddningsförstärkning‧ på annat sätt än genom en mikrokanalplatta.

| 3. | Fotoceller av halvledartyp bestående av "III/-V-föreningar" (t.ex. GaAs eller GaInAs) och överförda elektronfotoceller. |
| --- | --- |

3.

Fotoceller av halvledartyp bestående av "III/-V-föreningar" (t.ex. GaAs eller GaInAs) och överförda elektronfotoceller.

| : | Avsnitt 6A002.a.2.c.3 omfattar inte sammansatta fotoceller av halvledartyp som är konstruerade för att uppnå en maximal "strålningskänslighet" enligt något av följande:







  a) | 10 mA/W eller mindre vid maximal känslighet inom ett våglängdsområde som överstiger 400 nm men inte 1 050 nm. |
| --- | --- | --- |

:

a)

10 mA/W eller mindre vid maximal känslighet inom ett våglängdsområde som överstiger 400 nm men inte 1 050 nm.

| b) | 15 mA/W eller mindre vid maximal känslighet inom ett våglängdsområde som överstiger 1 050 nm men inte 1 800 nm. |
| --- | --- |

b)

15 mA/W eller mindre vid maximal känslighet inom ett våglängdsområde som överstiger 1 050 nm men inte 1 800 nm.

| 3. | Icke "rymdkvalificerade""fokalplansmatriser" enligt följande:

  :


  Icke "rymdkvalificerade""fokalplansmatriser" av ‧mikrobolometer‧-typ omfattas endast av avsnitt 6A002.a.3.f.


  :


  Linjära eller tvådimensionella flerelementsdetektorer ska betraktas som "fokalplansmatriser".








  : | Avsnitt 6A002.a.3 innefattar fotokonduktiva och fotovoltaiska matriser. |
| --- | --- | --- |

3.

Icke "rymdkvalificerade""fokalplansmatriser" enligt följande:

:

Icke "rymdkvalificerade""fokalplansmatriser" av ‧mikrobolometer‧-typ omfattas endast av avsnitt 6A002.a.3.f.

:

Linjära eller tvådimensionella flerelementsdetektorer ska betraktas som "fokalplansmatriser".

:

| : | Avsnitt 6A002.a.3 omfattar inte följande:







  a) | Inkapslade fotokonduktiva matriser (med högst 16 element) som innehåller blysulfid eller blyselenid. |
| --- | --- | --- |

:

a)

Inkapslade fotokonduktiva matriser (med högst 16 element) som innehåller blysulfid eller blyselenid.

| b) | Pyroelektriska detektorer som innehåller något av följande mat0erial:








  1. | Triglycinsulfat och varianter därav, |
| --- | --- | --- |

b)

Pyroelektriska detektorer som innehåller något av följande mat0erial:

1.

Triglycinsulfat och varianter därav,

| 2. | blylantanzirkoniumtitanat och varianter därav, |
| --- | --- |

2.

blylantanzirkoniumtitanat och varianter därav,

| 3. | litiumtantalat, |
| --- | --- |

3.

litiumtantalat,

| 4. | polyvinylidenfluorid och varianter därav, eller |
| --- | --- |

4.

polyvinylidenfluorid och varianter därav, eller

| 5. | strontiumbariumniobat och varianter därav. |
| --- | --- |

5.

strontiumbariumniobat och varianter därav.

| c) | "Fokalplansmatriser" som är speciellt konstruerade eller modifierade för att åstadkomma ‧laddningsförstärkning‧ och som genom sin konstruktion begränsas till en maximal "strålningskänslighet" på 10 mA/W eller mindre inom ett våglängdsområde som överstiger 760 nm, och som har samtliga följande egenskaper:








  1. | Innehåller en känslighetsbegränsande mekanism som är konstruerad så att den inte kan avlägsnas eller modifieras. |
| --- | --- | --- |

c)

"Fokalplansmatriser" som är speciellt konstruerade eller modifierade för att åstadkomma ‧laddningsförstärkning‧ och som genom sin konstruktion begränsas till en maximal "strålningskänslighet" på 10 mA/W eller mindre inom ett våglängdsområde som överstiger 760 nm, och som har samtliga följande egenskaper:

1.

Innehåller en känslighetsbegränsande mekanism som är konstruerad så att den inte kan avlägsnas eller modifieras.

| 2. | Något av följande:








  a) | Den känslighetsbegränsande mekanismen är integrerad i eller kombinerad med detektorelementet. |
| --- | --- | --- |

2.

Något av följande:

a)

Den känslighetsbegränsande mekanismen är integrerad i eller kombinerad med detektorelementet.

| b) | "Fokalplansmatrisen" kan fungera endast när det finns en känslighetsbegränsande mekanism. |
| --- | --- |

b)

"Fokalplansmatrisen" kan fungera endast när det finns en känslighetsbegränsande mekanism.

:

En känslighetsbegränsande mekanism som är integrerad i detektorelementet är konstruerad så att den inte kan avlägsnas eller modifieras utan att detektorn blir oanvändbar.

:

‧Laddningsförstärkning‧ är en form av elektronisk bildförstärkning och definieras som generering av laddningsbärare till följd av en förstärkningsprocess med stötjonisering. ‧Laddningsförstärknings‧ sensorer kan utgöras av bildförstärkarrör, halvledardetektorer eller "fokalplansmatriser".

| a) | Icke "rymdkvalificerade""fokalplansmatriser" (FPA = Focal Plane Arrays) med alla följande egenskaper:






  1. | Individuella element med maximal känslighet inom ett våglängdsområde som överstiger 900 nm men inte 1 050 nm. |
| --- | --- | --- |

a)

Icke "rymdkvalificerade""fokalplansmatriser" (FPA = Focal Plane Arrays) med alla följande egenskaper:

1.

Individuella element med maximal känslighet inom ett våglängdsområde som överstiger 900 nm men inte 1 050 nm.

| 2. | Något av följande:






  a) | En "tidskonstant" för svarstiden på mindre än 0,5 ns. |
| --- | --- | --- |

2.

Något av följande:

a)

En "tidskonstant" för svarstiden på mindre än 0,5 ns.

| b) | Speciellt konstruerade eller modifierade för att åstadkomma ‧laddningsförstärkning‧ och med en maximal "strålningskänslighet" som överstiger 10 mA/W. |
| --- | --- |

b)

Speciellt konstruerade eller modifierade för att åstadkomma ‧laddningsförstärkning‧ och med en maximal "strålningskänslighet" som överstiger 10 mA/W.

| b) | Icke "rymdkvalificerade""fokalplansmatriser" med alla följande egenskaper:






  1. | Individuella element som har sin maximala känslighet inom ett våglängdsområde som överstiger 1 050 nm men inte 1 200 nm. |
| --- | --- | --- |

b)

Icke "rymdkvalificerade""fokalplansmatriser" med alla följande egenskaper:

1.

Individuella element som har sin maximala känslighet inom ett våglängdsområde som överstiger 1 050 nm men inte 1 200 nm.

| 2. | Något av följande:






  a) | En "tidskonstant" för svarstiden på högst 95 ns. |
| --- | --- | --- |

2.

Något av följande:

a)

En "tidskonstant" för svarstiden på högst 95 ns.

| b) | Speciellt konstruerade eller modifierade för att åstadkomma ‧laddningsförstärkning‧ och med en maximal "strålningskänslighet" som överstiger 10 mA/W. |
| --- | --- |

b)

Speciellt konstruerade eller modifierade för att åstadkomma ‧laddningsförstärkning‧ och med en maximal "strålningskänslighet" som överstiger 10 mA/W.

| c) | Icke "rymdkvalificerade" icke-linjära (tvådimensionella) "fokalplansmatriser" med individuella element som har sin maximala känslighet inom ett våglängdsområde som överstiger 1 200 nm men inte 30 000 nm.

  :


  Icke "rymdkvalificerade""fokalplansmatriser" av ‧mikrobolometer‧-typ som baseras på kisel eller annat material omfattas endast av avsnitt 6A002.a.3.f. |
| --- | --- |

c)

Icke "rymdkvalificerade" icke-linjära (tvådimensionella) "fokalplansmatriser" med individuella element som har sin maximala känslighet inom ett våglängdsområde som överstiger 1 200 nm men inte 30 000 nm.

:

Icke "rymdkvalificerade""fokalplansmatriser" av ‧mikrobolometer‧-typ som baseras på kisel eller annat material omfattas endast av avsnitt 6A002.a.3.f.

| d) | Icke "rymdkvalificerade" linjära (endimensionella) "fokalplansmatriser" med alla följande egenskaper:






  1. | Individuella element som har sin maximala känslighet inom ett våglängdsområde som överstiger 1 200 nm men inte 3 000 nm. |
| --- | --- | --- |

d)

Icke "rymdkvalificerade" linjära (endimensionella) "fokalplansmatriser" med alla följande egenskaper:

1.

Individuella element som har sin maximala känslighet inom ett våglängdsområde som överstiger 1 200 nm men inte 3 000 nm.

| 2. | Någon av följande egenskaper:






  a) | Ett förhållande mellan detektorelementets dimension i ‧avsökningsriktningen‧ och dess dimension i ‧tväravsökningsriktningen‧ som är mindre än 3,8. |
| --- | --- | --- |

2.

Någon av följande egenskaper:

a)

Ett förhållande mellan detektorelementets dimension i ‧avsökningsriktningen‧ och dess dimension i ‧tväravsökningsriktningen‧ som är mindre än 3,8.

| b) | Signalbehandling i elementet (SPRITE). |
| --- | --- |

b)

Signalbehandling i elementet (SPRITE).

| : | Avsnitt 6A002.a.3.d omfattar inte "fokalplansmatriser" (som inte får ha mer än 32 element) vars detektorelement uteslutande består av germanium. |
| --- | --- |

:

:

I avsnitt 6A002.a.3.d definieras ‧tväravsökningsriktning‧ (cross scan direction) som den med detektorelementens linjära matriser parallella axeln och ‧avsökningsriktning‧ som den mot detektorelementens linjära matriser vinkelräta axeln.

| e) | Icke "rymdkvalificerade" linjära (endimensionella) "fokalplansmatriser" med individuella element som har sin maximala känslighet inom ett våglängdsområde som överstiger 3 000 nm men inte 30 000 nm. |
| --- | --- |

e)

Icke "rymdkvalificerade" linjära (endimensionella) "fokalplansmatriser" med individuella element som har sin maximala känslighet inom ett våglängdsområde som överstiger 3 000 nm men inte 30 000 nm.

| f) | Icke "rymdkvalificerade" icke-linjära (tvådimensionella) infraröda "fokalplansmatriser" som baseras på ‧mikrobolometer‧-material med individuella element som har en ofiltrerad känslighet inom ett våglängdsområde som är lika med eller överstiger 8 000 nm men som inte överstiger 14 000 nm.

  :


  I avsnitt 6A002.a.3.f avses med ‧mikrobolometer‧ en termobilddetektor som, till följd av en temperaturförändring i detektorn orsakad av att infraröd strålning absorberas, används för att generera en användbar signal. |
| --- | --- |

f)

Icke "rymdkvalificerade" icke-linjära (tvådimensionella) infraröda "fokalplansmatriser" som baseras på ‧mikrobolometer‧-material med individuella element som har en ofiltrerad känslighet inom ett våglängdsområde som är lika med eller överstiger 8 000 nm men som inte överstiger 14 000 nm.

:

I avsnitt 6A002.a.3.f avses med ‧mikrobolometer‧ en termobilddetektor som, till följd av en temperaturförändring i detektorn orsakad av att infraröd strålning absorberas, används för att generera en användbar signal.

| g) | Icke "rymdkvalificerade""fokalplansmatriser" med samtliga följande egenskaper:






  1. | Individuella element som har sin maximala känslighet inom ett våglängdsområde som överstiger 400 nm men inte 900 nm. |
| --- | --- | --- |

g)

Icke "rymdkvalificerade""fokalplansmatriser" med samtliga följande egenskaper:

1.

Individuella element som har sin maximala känslighet inom ett våglängdsområde som överstiger 400 nm men inte 900 nm.

| 2. | Speciellt konstruerade eller modifierade för att åstadkomma ‧laddningsförstärkning‧ och med en maximal "strålningskänslighet" som överstiger 10 mA/W för våglängder som överstiger 760 nm. |
| --- | --- |

2.

Speciellt konstruerade eller modifierade för att åstadkomma ‧laddningsförstärkning‧ och med en maximal "strålningskänslighet" som överstiger 10 mA/W för våglängder som överstiger 760 nm.

| 3. | Mer än 32 element. |
| --- | --- |

3.

Mer än 32 element.

| b) | "Monospektrala bildsensorer" och "multispektrala bildsensorer" som konstruerats för fjärranalystillämpningar och med någon av följande egenskaper:






  1. | Ett lokalt (IFOV = Instantaneous-Field-Of-View) bildfält på mindre än 200 μrad (mikroradianer). |
| --- | --- | --- |

b)

"Monospektrala bildsensorer" och "multispektrala bildsensorer" som konstruerats för fjärranalystillämpningar och med någon av följande egenskaper:

1.

Ett lokalt (IFOV = Instantaneous-Field-Of-View) bildfält på mindre än 200 μrad (mikroradianer).

| 2. | Specifikt konstruerade för arbete inom ett våglängdsområde som överstiger 400 nm men inte 30 000 nm och som har båda följande egenskaper:






  a) | De lämnar bildinformationen i digital form. |
| --- | --- | --- |

2.

Specifikt konstruerade för arbete inom ett våglängdsområde som överstiger 400 nm men inte 30 000 nm och som har båda följande egenskaper:

a)

De lämnar bildinformationen i digital form.

| b) | De har någon av följande egenskaper:






  1. | "Rymdkvalificerade". |
| --- | --- | --- |

b)

De har någon av följande egenskaper:

1.

"Rymdkvalificerade".

| 2. | Konstruerade för att fungera i luftburna applikationer med något annat än kisel som detektormaterial och de har ett IFOV (IFOV = Instantaneous-Field-Of-View) på mindre än 2,5 mrad (milliradianer). |
| --- | --- |

2.

Konstruerade för att fungera i luftburna applikationer med något annat än kisel som detektormaterial och de har ett IFOV (IFOV = Instantaneous-Field-Of-View) på mindre än 2,5 mrad (milliradianer).

| : | Avsnitt 6A002.b.1 omfattar inte "monospektrala bildsensorer" med en största känslighet i ett våglängdsområde som överstiger 300 nm men inte 900 nm och som endast innehåller någon av följande icke-"rymdkvalificerade" detektorer eller icke-"rymdkvalificerade""fokalplansmatriser":







  1. | Laddningskopplade enheter (CCD) som inte är konstruerade eller modifierade för att åstadkomma ‧laddningsförstärkning‧. |
| --- | --- | --- |

:

1.

Laddningskopplade enheter (CCD) som inte är konstruerade eller modifierade för att åstadkomma ‧laddningsförstärkning‧.

| 2. | Komplementära metalloxidhalvledarenheter (CMOS) som inte är konstruerade eller modifierade för att åstadkomma ‧laddningsförstärkning‧. |
| --- | --- |

2.

Komplementära metalloxidhalvledarenheter (CMOS) som inte är konstruerade eller modifierade för att åstadkomma ‧laddningsförstärkning‧.

| c) | Bildförstärkarutrustning som ‧direkt ger en synlig bild‧, och som har något av följande:






  1. | Bildförstärkarrör som omfattas av avsnitt 6A002.a.2.a eller 6A002.a.2.b. |
| --- | --- | --- |

c)

Bildförstärkarutrustning som ‧direkt ger en synlig bild‧, och som har något av följande:

1.

Bildförstärkarrör som omfattas av avsnitt 6A002.a.2.a eller 6A002.a.2.b.

| 2. | "Fokalplansmatriser" som omfattas av avsnitt 6A002.a.3. |
| --- | --- |

2.

"Fokalplansmatriser" som omfattas av avsnitt 6A002.a.3.

| 3. | Halvledardetektorer som omfattas av avsnitt 6A002.a.1. |
| --- | --- |

3.

Halvledardetektorer som omfattas av avsnitt 6A002.a.1.

:

Med ‧direkt ger en synlig bild‧ avses en bildförstärkarutrustning som visar en synlig bild till den mänskliga observatören utan att bilden omvandlas till en elektronisk signal för att visas på TV-skärm. Bilden kan inte spelas in eller lagras fotografiskt, elektroniskt eller på annat sätt.

| : | Avsnitt 6A002.c omfattar inte utrustning enligt följande, som innehåller andra än GaAs- eller GaInAs-fotokatoder:







  a) | Industriella eller civila inbrottslarm, rörelsedetektorer för trafik- eller industriändamål eller räknesystem. |
| --- | --- | --- |

:

a)

Industriella eller civila inbrottslarm, rörelsedetektorer för trafik- eller industriändamål eller räknesystem.

| b) | Medicinsk utrustning. |
| --- | --- |

b)

Medicinsk utrustning.

| c) | Industriell utrustning för inspektion, sortering eller analys av materialsammansättning. |
| --- | --- |

c)

Industriell utrustning för inspektion, sortering eller analys av materialsammansättning.

| d) | Flamdetektorer för industriella brännugnar. |
| --- | --- |

d)

Flamdetektorer för industriella brännugnar.

| e) | Utrustning som särskilt konstruerats för laboratoriebruk. |
| --- | --- |

e)

Utrustning som särskilt konstruerats för laboratoriebruk.

| d) | Särskilda komponenter som används för att understödja optiska givare, enligt följande:






  1. | "Rymdkvalificerade" lågtemperaturkylare (cryocoolers). |
| --- | --- | --- |

d)

Särskilda komponenter som används för att understödja optiska givare, enligt följande:

1.

"Rymdkvalificerade" lågtemperaturkylare (cryocoolers).

| 2. | Icke "rymdkvalificerade" lågtemperaturkylare (cryocoolers) med en kylkälla som är kallare än 218 K (– 55 °C) och som har






  a) | ett slutet system med en MTBF eller MTTF (medeltid mellan fel eller medeltid till fel) som överstiger 2 500 timmar, |
| --- | --- | --- |

2.

Icke "rymdkvalificerade" lågtemperaturkylare (cryocoolers) med en kylkälla som är kallare än 218 K (– 55 °C) och som har

a)

ett slutet system med en MTBF eller MTTF (medeltid mellan fel eller medeltid till fel) som överstiger 2 500 timmar,

| b) | självreglerande minikylare, typ Joule-Thomson, med en cylinder(ytter)diameter under 8 mm. |
| --- | --- |

b)

självreglerande minikylare, typ Joule-Thomson, med en cylinder(ytter)diameter under 8 mm.

| 3. | Optiska fibrer som kan användas som givare, speciellt tillverkade antingen genom sin sammansättning eller struktur eller modifierade genom ytbeläggning för att bli akustiskt, termiskt, elektromagnetiskt, tröghets- eller strålningsmässigt känsliga.







  : | Avnitt 6A002.d.3 omfattar inte inkapslade optiska fibrer som kan användas som givare, speciellt konstruerade för tillämpningar för avkänning av borrhål. |
| --- | --- | --- |

3.

Optiska fibrer som kan användas som givare, speciellt tillverkade antingen genom sin sammansättning eller struktur eller modifierade genom ytbeläggning för att bli akustiskt, termiskt, elektromagnetiskt, tröghets- eller strålningsmässigt känsliga.

:

| e) | Används inte. |
| --- | --- |

e)

Används inte.

6A003Kameror, system eller utrustning, samt komponenter därtill, enligt följande:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 6A203. |
| --- | --- |

ANM.:

ANM.:

För televisions och filmbaserade fotografiska stillbildskameror som är speciellt konstruerade eller modifierade för undervattensbruk, se avsnitten 8A002.d.1 och 8A002.e.

| a) | Instrumentkameror och speciellt konstruerade komponenter i dem enligt följande:







  : | Instrumentkameror som omfattas av avsnitten 6A003.a.3-6A003.a.5 och som har modulstruktur ska bedömas efter sin maximala kapacitet med hjälp av de anslutningar som är tillgängliga enligt kameratillverkarens specifikationer. |
| --- | --- | --- |

a)

Instrumentkameror och speciellt konstruerade komponenter i dem enligt följande:

:

| 1. | Höghastighetsfilmkameror med filmformat från och med 8 mm till och med 16 mm, i vilka filmen kontinuerligt matas fram under inspelningstiden och som kan fotografera med en hastighet av mer än 13 150 bilder/s.







  : | Avsnitt 6A003.a.1 omfattar inte filmkameror avsedda för civilt bruk. |
| --- | --- | --- |

1.

Höghastighetsfilmkameror med filmformat från och med 8 mm till och med 16 mm, i vilka filmen kontinuerligt matas fram under inspelningstiden och som kan fotografera med en hastighet av mer än 13 150 bilder/s.

:

| 2. | Mekaniska höghastighetskameror i vilka filmen inte rör sig, och som kan registrera mer än 1 000 000 bilder/s i 35 mm format, eller proportionellt färre bilder för större format, respektive fler bilder för mindre format. |
| --- | --- |

2.

Mekaniska höghastighetskameror i vilka filmen inte rör sig, och som kan registrera mer än 1 000 000 bilder/s i 35 mm format, eller proportionellt färre bilder för större format, respektive fler bilder för mindre format.

| 3. | Mekaniska eller elektroniska spaltkameror med en skrivhastighet som överstiger 10 mm/μs. |
| --- | --- |

3.

Mekaniska eller elektroniska spaltkameror med en skrivhastighet som överstiger 10 mm/μs.

| 4. | Elektroniska bildkameror med en hastighet på mer än 1 000 000 bilder/s. |
| --- | --- |

4.

Elektroniska bildkameror med en hastighet på mer än 1 000 000 bilder/s.

| 5. | Elektroniska kameror med alla följande egenskaper:






  a) | En elektronisk slutarhastighet som är kortare än 1 μs för en hel bild, och |
| --- | --- | --- |

5.

Elektroniska kameror med alla följande egenskaper:

a)

En elektronisk slutarhastighet som är kortare än 1 μs för en hel bild, och

| b) | en avläsningshastighet som tillåter mer än 125 hela bilder/s. |
| --- | --- |

b)

en avläsningshastighet som tillåter mer än 125 hela bilder/s.

| 6. | Anslutningar med alla följande egenskaper:






  a) | Särskilt konstruerade för instrumentkameror med modulstruktur och som specificeras i avsnitt 6A003.a, och |
| --- | --- | --- |

6.

Anslutningar med alla följande egenskaper:

a)

Särskilt konstruerade för instrumentkameror med modulstruktur och som specificeras i avsnitt 6A003.a, och

| b) | som gör att dessa kameror uppfyller egenskaperna enligt avsnitt 6A003.a.3, 6A003.a.4 eller 6A003.a.5 enligt tillverkarens specifikationer. |
| --- | --- |

b)

som gör att dessa kameror uppfyller egenskaperna enligt avsnitt 6A003.a.3, 6A003.a.4 eller 6A003.a.5 enligt tillverkarens specifikationer.

| b) | Bildkameror enligt följande:







  : | Avsnitt 6A003.b omfattar inte televisions- eller videokameror som särskilt konstruerats för TV-sändning. |
| --- | --- | --- |

b)

Bildkameror enligt följande:

:

| 1. | Videokameror med halvledarsensorer, som har sin maximala känslighet inom ett våglängdsområde som överstiger 10 nm men inte 30 000 nm och som har alla följande egenskaper:






  a) | De har någon av följande egenskaper:






  1. | mer än 4 × 106"aktiva bildelement" för varje detektormatris i monokroma (svart-vita) kameror, |
| --- | --- | --- | --- |

1.

Videokameror med halvledarsensorer, som har sin maximala känslighet inom ett våglängdsområde som överstiger 10 nm men inte 30 000 nm och som har alla följande egenskaper:

a)

De har någon av följande egenskaper:

1.

mer än 4 × 106"aktiva bildelement" för varje detektormatris i monokroma (svart-vita) kameror,

| 2. | mer än 4 × 106"aktiva bildelement" för varje detektormatris i färgkameror med tre halvledarsystem, eller |
| --- | --- |

2.

mer än 4 × 106"aktiva bildelement" för varje detektormatris i färgkameror med tre halvledarsystem, eller

| 3. | mer än 12 × 106"aktiva bildelement" för den ingående detektormatrisen i färgkameror som endast har en detektormatris, och |
| --- | --- |

3.

mer än 12 × 106"aktiva bildelement" för den ingående detektormatrisen i färgkameror som endast har en detektormatris, och

| b) | har någon av följande egenskaper:






  1. | Optiska speglar enligt avsnitt 6A004.a, |
| --- | --- | --- |

b)

har någon av följande egenskaper:

1.

Optiska speglar enligt avsnitt 6A004.a,

| 2. | optisk styrutrustning enligt avsnitt 6A004.d, eller |
| --- | --- |

2.

optisk styrutrustning enligt avsnitt 6A004.d, eller

| 3. | kan frambringa internt framtagen ‧kameraspårningsinformation‧. |
| --- | --- |

3.

kan frambringa internt framtagen ‧kameraspårningsinformation‧.

:

| 1. | I detta avsnitt ska digitala videokameror bedömas utifrån maximiantalet "aktiva bildelement" som används för att ta upp rörliga bilder. |
| --- | --- |

1.

| 2. | I detta avsnitt avses med ‧kameraspårningsinformation‧ de uppgifter som behövs för att kunna fastställa kamerans siktriktning i förhållande till jorden. Detta omfattar 1) den horisontella siktriktningen i förhållande till riktningen på jordens magnetfält, och 2) den vertikala vinkeln mellan kamerans siktriktning och jordens horisont. |
| --- | --- |

2.

| 2. | Avsökande kameror och kamerasystem som har alla följande egenskaper:






  a) | Maximal känslighet i ett våglängdsområde som överstiger 10 nm men inte 30 000 nm, |
| --- | --- | --- |

2.

Avsökande kameror och kamerasystem som har alla följande egenskaper:

a)

Maximal känslighet i ett våglängdsområde som överstiger 10 nm men inte 30 000 nm,

| b) | linjära detektorsystem med mer än 8 192 element/system, och |
| --- | --- |

b)

linjära detektorsystem med mer än 8 192 element/system, och

| c) | mekanisk avsökning i en riktning. |
| --- | --- |

c)

mekanisk avsökning i en riktning.

| : | 6A003.b.2 omfattar inte avsökande kameror och kamerasystem som särskilt konstruerats för något av följande:







  a) | Industriella eller civila fotokopiatorer. |
| --- | --- | --- |

:

a)

Industriella eller civila fotokopiatorer.

| b) | Bildläsare som är särskilt konstruerade för civila, stationära tillämpningar för avläsning på kort avstånd (t.ex. reproduktion av bilder eller tryck i handlingar, konstverk eller fotografier). |
| --- | --- |

b)

Bildläsare som är särskilt konstruerade för civila, stationära tillämpningar för avläsning på kort avstånd (t.ex. reproduktion av bilder eller tryck i handlingar, konstverk eller fotografier).

| c) | Medicinsk utrustning. |
| --- | --- |

c)

Medicinsk utrustning.

| 3. | Bildkameror som innehåller bildförstärkarrör enligt avsnitt 6A002.a.2.a eller 6A002.a.2.b. |
| --- | --- |

3.

Bildkameror som innehåller bildförstärkarrör enligt avsnitt 6A002.a.2.a eller 6A002.a.2.b.

| 4. | Bildkameror som innehåller "fokalplansmatriser" med någon av följande egenskaper:






  a) | Innehåller "fokalplansmatriser" enligt avsnitt 6A002.a.3.a-6A002a.3.e. |
| --- | --- | --- |

4.

Bildkameror som innehåller "fokalplansmatriser" med någon av följande egenskaper:

a)

Innehåller "fokalplansmatriser" enligt avsnitt 6A002.a.3.a-6A002a.3.e.

| b) | Innehåller "fokalplansmatriser" enligt avsnitt 6A002.a.3.f. |
| --- | --- |

b)

Innehåller "fokalplansmatriser" enligt avsnitt 6A002.a.3.f.

| c) | Innehåller "fokalplansmatriser" enligt avsnitt 6A002.a.3.g. |
| --- | --- |

c)

Innehåller "fokalplansmatriser" enligt avsnitt 6A002.a.3.g.

| : | ‧Bildkameror‧ enligt avsnitt 6A003.b.4 inbegriper "fokalplansmatriser" kombinerade med tillräcklig "signalbehandlings" elektronik, utöver integrerad krets för avläsning, för att minst göra det möjligt att sända ut en analog eller digital signal så snart energi tillförs. |
| --- | --- |

:

| : | Avsnitt 6A003.b.4.a omfattar inte bildkameror som är utrustade med linjära "fokalplansmatriser" med 12 eller färre element som inte använder sig av integrerad tidsfördröjning i själva elementen och som är konstruerade för något av följande:







  a) | Inbrottslarm för industriellt eller civilt bruk, trafikkontroll eller industriell övervakning eller räknesystem. |
| --- | --- | --- |

:

a)

Inbrottslarm för industriellt eller civilt bruk, trafikkontroll eller industriell övervakning eller räknesystem.

| b) | Industriell utrustning för kontroll eller övervakning av värmeflöden i byggnader, utrustning eller tillverkningsprocesser. |
| --- | --- |

b)

Industriell utrustning för kontroll eller övervakning av värmeflöden i byggnader, utrustning eller tillverkningsprocesser.

| c) | Industriell utrustning för kontroll, sortering eller analys av materialets egenskaper. |
| --- | --- |

c)

Industriell utrustning för kontroll, sortering eller analys av materialets egenskaper.

| d) | Utrustning som särskilt konstruerats för laboratoriebruk, eller |
| --- | --- |

d)

Utrustning som särskilt konstruerats för laboratoriebruk, eller

| e) | Medicinsk utrustning. |
| --- | --- |

e)

Medicinsk utrustning.

| : | Avsnitt 6A003.b.4.b omfattar inte bildkameror med någon av följande egenskaper:







  a) | Bildhastigheter som är lika med eller lägre än 9 Hz. |
| --- | --- | --- |

:

a)

Bildhastigheter som är lika med eller lägre än 9 Hz.

| b) | Med alla följande egenskaper:








  1. | Har ett minsta horisontellt eller vertikalt ‧IFOV (Instantaneous-Field-of-View)‧ på åtminstone 10 mrad/pixel (milliradianer/pixel). |
| --- | --- | --- |

b)

Med alla följande egenskaper:

1.

Har ett minsta horisontellt eller vertikalt ‧IFOV (Instantaneous-Field-of-View)‧ på åtminstone 10 mrad/pixel (milliradianer/pixel).

| 2. | Innehåller en lins med fast brännvidd som inte är avsedd att avlägsnas. |
| --- | --- |

2.

Innehåller en lins med fast brännvidd som inte är avsedd att avlägsnas.

| 3. | Innehåller inte en display som ‧direkt ger en synlig bild‧, och |
| --- | --- |

3.

Innehåller inte en display som ‧direkt ger en synlig bild‧, och

| 4. | med någon av följande egenskaper:








  a) | Saknar möjlighet att ge en synlig bild av det detekterade synfältet, eller |
| --- | --- | --- |

4.

med någon av följande egenskaper:

a)

Saknar möjlighet att ge en synlig bild av det detekterade synfältet, eller

| b) | Kameran är konstruerad för en enda tillämpning och är inte konstruerad för att ändras av användaren; eller |
| --- | --- |

b)

Kameran är konstruerad för en enda tillämpning och är inte konstruerad för att ändras av användaren; eller

| c) | Kameran är särskilt konstruerad för att installeras i ett civilt landfordon för persontransporter med en vikt som understiger 3 ton (bruttofordonsvikt) och med alla följande egenskaper:








  1. | Den kan användas endast om den är installerad i något av följande:








  a) | Det civila landfordon för persontransporter för vilket den är avsedd; eller |
| --- | --- | --- | --- |

c)

Kameran är särskilt konstruerad för att installeras i ett civilt landfordon för persontransporter med en vikt som understiger 3 ton (bruttofordonsvikt) och med alla följande egenskaper:

1.

Den kan användas endast om den är installerad i något av följande:

a)

Det civila landfordon för persontransporter för vilket den är avsedd; eller

| b) | En särskilt konstruerad godkänd anordning för underhållstest; och |
| --- | --- |

b)

En särskilt konstruerad godkänd anordning för underhållstest; och

| 2. | Den innehåller en aktiv mekanism som gör att kameran inte fungerar när den avlägsnas från det fordon för vilket den är avsedd. |
| --- | --- |

2.

Den innehåller en aktiv mekanism som gör att kameran inte fungerar när den avlägsnas från det fordon för vilket den är avsedd.

:

| 1. | ‧Instantaneous-Field-of-View (IFOV)‧ som anges i avsnitt 6A003.b.4, anm. 3 b, är det lägsta värdet av ‧horisontell IFOV‧ och ‧vertikal IFOV‧.

  ‧Horisontell IFOV‧ = horisontell Field-of-View (FOV) / antalet horisontella detektorelement.


  ‧Vertikal IFOV‧ = vertikal Field-of-View (FOV) / antalet vertikala detektorelement. |
| --- | --- |

1.

‧Horisontell IFOV‧ = horisontell Field-of-View (FOV) / antalet horisontella detektorelement.

‧Vertikal IFOV‧ = vertikal Field-of-View (FOV) / antalet vertikala detektorelement.

| 2. | ‧Direkt ger en synlig bild‧ i avsnitt 6A003.b.4, anm. 3 b, avser en bildkamera som fungerar inom det infraröda spektrum som ger en synlig bild till en mänsklig observatör som använder en nära ögat-mikrodisplay som innehåller någon ljussäkerhetsmekanism. |
| --- | --- |

2.

| : | Avsnitt 6A003.b.4.c omfattar inte bildkameror som har något av följande:







  a) | Samtliga följande egenskaper:








  1. | Kameran är speciellt konstruerad för att installeras som en integrerad komponent i system eller utrustning som används inomhus med strömförsörjning via vägguttag, och som genom sin konstruktion begränsas till en enda typ av tillämpning, enligt följande:








  a) | Övervakning av industriprocesser, kvalitetskontroll eller analys av materialegenskaper. |
| --- | --- | --- | --- | --- |

:

a)

Samtliga följande egenskaper:

1.

Kameran är speciellt konstruerad för att installeras som en integrerad komponent i system eller utrustning som används inomhus med strömförsörjning via vägguttag, och som genom sin konstruktion begränsas till en enda typ av tillämpning, enligt följande:

a)

Övervakning av industriprocesser, kvalitetskontroll eller analys av materialegenskaper.

| b) | Laboratorieutrustning som är speciellt konstruerad för vetenskaplig forskning. |
| --- | --- |

b)

Laboratorieutrustning som är speciellt konstruerad för vetenskaplig forskning.

| c) | Medicinsk utrustning. |
| --- | --- |

c)

Medicinsk utrustning.

| d) | Utrustning för avslöjande av ekonomiska bedrägerier. |
| --- | --- |

d)

Utrustning för avslöjande av ekonomiska bedrägerier.

| 2. | Den kan användas endast när den är installerad i något av följande:








  a) | System eller utrustning som den är avsedd för. |
| --- | --- | --- |

2.

Den kan användas endast när den är installerad i något av följande:

a)

System eller utrustning som den är avsedd för.

| b) | En speciellt konstruerad, godkänd underhållsanordning. |
| --- | --- |

b)

En speciellt konstruerad, godkänd underhållsanordning.

| 3. | Den innehåller en aktiv mekanism som gör att kameran inte kan användas när den avlägsnas från det eller de system eller den utrustning som den är avsedd för. |
| --- | --- |

3.

Den innehåller en aktiv mekanism som gör att kameran inte kan användas när den avlägsnas från det eller de system eller den utrustning som den är avsedd för.

| b) | Kameran är speciellt konstruerad för att installeras i ett civilt landfordon för persontransporter med en vikt som understiger 3 ton (bruttofordonsvikt) eller färjor för person- och fordonstransporter med en total längd på minst 65 m, och har samtliga följande egenskaper:








  1. | Den kan användas endast när den är installerad i något av följande:








  a) | Det civila landfordon för persontransporter eller den färja för person- och fordonstransporter som den är avsedd för. |
| --- | --- | --- | --- |

b)

Kameran är speciellt konstruerad för att installeras i ett civilt landfordon för persontransporter med en vikt som understiger 3 ton (bruttofordonsvikt) eller färjor för person- och fordonstransporter med en total längd på minst 65 m, och har samtliga följande egenskaper:

1.

Den kan användas endast när den är installerad i något av följande:

a)

Det civila landfordon för persontransporter eller den färja för person- och fordonstransporter som den är avsedd för.

| b) | En speciellt konstruerad, godkänd underhållsanordning. |
| --- | --- |

b)

En speciellt konstruerad, godkänd underhållsanordning.

| 2. | Den innehåller en aktiv mekanism som gör att kameran inte kan användas när den avlägsnas från det fordon som den är avsedd för. |
| --- | --- |

2.

Den innehåller en aktiv mekanism som gör att kameran inte kan användas när den avlägsnas från det fordon som den är avsedd för.

| c) | Kameran begränsas genom sin konstruktion till en maximal "strålningskänslighet" på högst 10 mA/W för våglängder som överstiger 760 nm, och har alla följande egenskaper:








  1. | Den innehåller en känslighetsbegränsande mekanism som är konstruerad så att den inte kan avlägsnas eller modifieras. |
| --- | --- | --- |

c)

Kameran begränsas genom sin konstruktion till en maximal "strålningskänslighet" på högst 10 mA/W för våglängder som överstiger 760 nm, och har alla följande egenskaper:

1.

Den innehåller en känslighetsbegränsande mekanism som är konstruerad så att den inte kan avlägsnas eller modifieras.

| 2. | Den innehåller en aktiv mekanism som gör att kameran inte kan användas när den känslighetsbegränsande mekanismen avlägsnas. |
| --- | --- |

2.

Den innehåller en aktiv mekanism som gör att kameran inte kan användas när den känslighetsbegränsande mekanismen avlägsnas.

| 3. | Den är inte särskilt konstruerad eller modifierad för undervattensbruk. |
| --- | --- |

3.

Den är inte särskilt konstruerad eller modifierad för undervattensbruk.

| d) | Kameran har samtliga följande egenskaper:








  1. | Den innehåller inte en display som ‧direkt ger en synlig bild‧ eller en elektronisk bild. |
| --- | --- | --- |

d)

Kameran har samtliga följande egenskaper:

1.

Den innehåller inte en display som ‧direkt ger en synlig bild‧ eller en elektronisk bild.

| 2. | Den saknar möjlighet att ge en synlig bild av det detekterade synfältet. |
| --- | --- |

2.

Den saknar möjlighet att ge en synlig bild av det detekterade synfältet.

| 3. | "Fokalplansmatrisen" kan användas endast när den är installerad i den kamera som den är avsedd för. |
| --- | --- |

3.

"Fokalplansmatrisen" kan användas endast när den är installerad i den kamera som den är avsedd för.

| 4. | "Fokalplansmatrisen" innehåller en aktiv mekanism som gör att den är permanent oanvändbar när den avlägsnas från den kamera som den är avsedd för. |
| --- | --- |

4.

"Fokalplansmatrisen" innehåller en aktiv mekanism som gör att den är permanent oanvändbar när den avlägsnas från den kamera som den är avsedd för.

| 5. | Bildkameror som innehåller halvledardetektorer som omfattas av avsnitt 6A002.a.1. |
| --- | --- |

5.

Bildkameror som innehåller halvledardetektorer som omfattas av avsnitt 6A002.a.1.

6A004Optisk utrustning och optiska komponenter, enligt följande:

| a) | Optiska speglar (reflektorer) enligt följande:

  :


  För optiska speglar som är särskilt konstruerade för litografisk utrustning, se avsnitt 3B001.







  1. | "Deformerbara speglar" med en antingen kontinuerlig eller av flera element bestående yta, och därtill speciellt konstruerade komponenter som dynamiskt kan återta en tidigare position med en hastighet som överstiger 100 Hz. |
| --- | --- | --- |

a)

Optiska speglar (reflektorer) enligt följande:

:

För optiska speglar som är särskilt konstruerade för litografisk utrustning, se avsnitt 3B001.

1.

"Deformerbara speglar" med en antingen kontinuerlig eller av flera element bestående yta, och därtill speciellt konstruerade komponenter som dynamiskt kan återta en tidigare position med en hastighet som överstiger 100 Hz.

| 2. | Monolitiska lättviktsspeglar med genomsnittlig "ekvivalent täthet" på mindre än 30 kg/m2, och en totalvikt över 10 kg. |
| --- | --- |

2.

Monolitiska lättviktsspeglar med genomsnittlig "ekvivalent täthet" på mindre än 30 kg/m2, och en totalvikt över 10 kg.

| 3. | "Komposit"- eller skumspegelkonstruktioner med en genomsnittlig "ekvivalent täthet" som är mindre än 30 kg/m2, och en totalvikt över 2 kg. |
| --- | --- |

3.

"Komposit"- eller skumspegelkonstruktioner med en genomsnittlig "ekvivalent täthet" som är mindre än 30 kg/m2, och en totalvikt över 2 kg.

| 4. | Speglar som kan styra en ljusstråle och har en diameter eller huvudaxel överstigande 100 mm som behåller sin planhet inom λ/2 (λ = 633 nm) eller bättre och har en styrande bandbredd som överstiger 100 Hz. |
| --- | --- |

4.

Speglar som kan styra en ljusstråle och har en diameter eller huvudaxel överstigande 100 mm som behåller sin planhet inom λ/2 (λ = 633 nm) eller bättre och har en styrande bandbredd som överstiger 100 Hz.

| b) | Optiska komponenter tillverkade av zinkselenid (ZnSe) eller zinksulfid (ZnS) med en genomsläpplighet i våglängdsområdet som överstiger 3 000 nm men inte 25 000 nm och som har någon av följande egenskaper:






  1. | de överstiger 100 cm3 i volym, eller |
| --- | --- | --- |

b)

Optiska komponenter tillverkade av zinkselenid (ZnSe) eller zinksulfid (ZnS) med en genomsläpplighet i våglängdsområdet som överstiger 3 000 nm men inte 25 000 nm och som har någon av följande egenskaper:

1.

de överstiger 100 cm3 i volym, eller

| 2. | överstiger 80 mm i diameter eller längd hos huvudaxeln samt har ett djup (en tjocklek) på mer än 20 mm. |
| --- | --- |

2.

överstiger 80 mm i diameter eller längd hos huvudaxeln samt har ett djup (en tjocklek) på mer än 20 mm.

| c) | "Rymdkvalificerade" komponenter för optiska system, enligt följande:






  1. | Komponenter som lättats till mindre än 20 % av den "ekvivalenta tätheten" jämfört med ett massivt ämne med samma öppning och tjocklek. |
| --- | --- | --- |

c)

"Rymdkvalificerade" komponenter för optiska system, enligt följande:

1.

Komponenter som lättats till mindre än 20 % av den "ekvivalenta tätheten" jämfört med ett massivt ämne med samma öppning och tjocklek.

| 2. | Råsubstrater, bearbetade substrater som har en ytbeläggning (enkel- eller multipelskikt, metalliska eller dielektriska, ledande, halvledande eller isolerande) eller skyddsfilm. |
| --- | --- |

2.

Råsubstrater, bearbetade substrater som har en ytbeläggning (enkel- eller multipelskikt, metalliska eller dielektriska, ledande, halvledande eller isolerande) eller skyddsfilm.

| 3. | Segment eller system av speglar som konstruerats för att sammansättas till ett system i rymden med en insamlande bländaröppning som är lika med eller större än en enda spegel med 1 meters diameter. |
| --- | --- |

3.

Segment eller system av speglar som konstruerats för att sammansättas till ett system i rymden med en insamlande bländaröppning som är lika med eller större än en enda spegel med 1 meters diameter.

| 4. | Komponenter tillverkade av "komposit" material med en koefficient för linjär termisk expansion som är lika med eller mindre än 5 × 10-6 i någon koordinatriktning. |
| --- | --- |

4.

Komponenter tillverkade av "komposit" material med en koefficient för linjär termisk expansion som är lika med eller mindre än 5 × 10-6 i någon koordinatriktning.

| d) | Optisk styrutrustning enligt följande:






  1. | Utrustning som speciellt konstruerats för att bibehålla ytans form eller orienteringen hos de "rymdkvalificerade" komponenterna som omfattas av avsnitten 6A004.c.1 eller 6A004.c.3. |
| --- | --- | --- |

d)

Optisk styrutrustning enligt följande:

1.

Utrustning som speciellt konstruerats för att bibehålla ytans form eller orienteringen hos de "rymdkvalificerade" komponenterna som omfattas av avsnitten 6A004.c.1 eller 6A004.c.3.

| 2. | Utrustning med en bandbredd för styrning, följning, stabilisering och resonatorupplinjering som är minst 100 Hz och en noggrannhet som är 10 μrad (mikroradianer) eller mindre. |
| --- | --- |

2.

Utrustning med en bandbredd för styrning, följning, stabilisering och resonatorupplinjering som är minst 100 Hz och en noggrannhet som är 10 μrad (mikroradianer) eller mindre.

| 3. | Kardansk upphängning med alla följande egenskaper:






  a) | en maximal utvridning som överstiger 5 °, |
| --- | --- | --- |

3.

Kardansk upphängning med alla följande egenskaper:

a)

en maximal utvridning som överstiger 5 °,

| b) | en bandbredd som är lika med 100 Hz eller mer |
| --- | --- |

b)

en bandbredd som är lika med 100 Hz eller mer

| c) | ett vinkelvisarfel som är högst 200 μrad (mikroradianer), och |
| --- | --- |

c)

ett vinkelvisarfel som är högst 200 μrad (mikroradianer), och

| d) | någon av följande egenskaper






  1. | en diameter eller huvudaxel som är mer än 0,15 m men inte överstiger 1 m, och vars vinkelacceleration kan överstiga 2 rad (radianer)/s2, eller |
| --- | --- | --- |

d)

någon av följande egenskaper

1.

en diameter eller huvudaxel som är mer än 0,15 m men inte överstiger 1 m, och vars vinkelacceleration kan överstiga 2 rad (radianer)/s2, eller

| 2. | en diameter eller huvudaxel som överstiger 1 m, och vars vinkelacceleration kan överstiga 0,5 rad (radianer)/s2, |
| --- | --- |

2.

en diameter eller huvudaxel som överstiger 1 m, och vars vinkelacceleration kan överstiga 0,5 rad (radianer)/s2,

| 4. | som speciellt konstruerats för att bibehålla placeringen hos infasade spegelsystem eller infasade spegelsegmentsystem där segmentens diameter eller huvudaxel är 1 m eller mer. |
| --- | --- |

4.

som speciellt konstruerats för att bibehålla placeringen hos infasade spegelsystem eller infasade spegelsegmentsystem där segmentens diameter eller huvudaxel är 1 m eller mer.

| e) | ‧Icke-sfäriska optiska element‧ med alla följande egenskaper:






  1. | Den optiska bländarens största dimension överstiger 400 mm, |
| --- | --- | --- |

e)

‧Icke-sfäriska optiska element‧ med alla följande egenskaper:

1.

Den optiska bländarens största dimension överstiger 400 mm,

| 2. | ytjämnheten understiger 1 nm (rms) för referenslängder på minst 1 mm, och |
| --- | --- |

2.

ytjämnheten understiger 1 nm (rms) för referenslängder på minst 1 mm, och

| 3. | koefficienten för den linjära värmeutvidgningens absoluta storhet understiger 3 × 10-6/K vid 25 °C. |
| --- | --- |

3.

koefficienten för den linjära värmeutvidgningens absoluta storhet understiger 3 × 10-6/K vid 25 °C.

:

| 1. | Ett ‧icke-sfäriskt optiskt element‧ är ett element som används i ett optiskt system vars bildyta eller bildytor är avsedda att avvika från formen av en ideal sfär. |
| --- | --- |

1.

| 2. | Det krävs att tillverkarna ska mäta den ytjämnhet som anges i avsnitt 6A004.e.2 endast om det optiska elementet är konstruerat eller tillverkat för att uppfylla eller överstiga kontrollparametern. |
| --- | --- |

2.

| : | Avsnitt 6A004.e omfattar inte ‧icke-sfäriska optiska element‧ som har någon av följande egenskaper:







  a) | Den optiska bländarens största dimension understiger 1 m och kvoten mellan brännvidden och den optiska bländaren är lika med eller större än 4,5:1. |
| --- | --- | --- |

:

a)

Den optiska bländarens största dimension understiger 1 m och kvoten mellan brännvidden och den optiska bländaren är lika med eller större än 4,5:1.

| b) | Den optiska bländarens största dimension överstiger 1 m och kvoten mellan brännvidden och den optiska bländaren är lika med eller större än 7:1. |
| --- | --- |

b)

Den optiska bländarens största dimension överstiger 1 m och kvoten mellan brännvidden och den optiska bländaren är lika med eller större än 7:1.

| c) | Det är konstruerat som ett optiskt element av Fresnel-, flyeye-, rand-, prisma- eller diffraktionstyp. |
| --- | --- |

c)

Det är konstruerat som ett optiskt element av Fresnel-, flyeye-, rand-, prisma- eller diffraktionstyp.

| d) | Det är tillverkat av borsilikatglas med en koefficient för lineär värmeutvidgning som överstiger 2,5 × 10-6/K vid 25 °C. |
| --- | --- |

d)

Det är tillverkat av borsilikatglas med en koefficient för lineär värmeutvidgning som överstiger 2,5 × 10-6/K vid 25 °C.

| e) | Det är ett röntgenoptiskt element med inre spegelkapacitet (t.ex. speglar av rörtyp). |
| --- | --- |

e)

Det är ett röntgenoptiskt element med inre spegelkapacitet (t.ex. speglar av rörtyp).

:

‧Icke-sfäriska optiska element‧ som är särskilt konstruerade för litografiutrustning omfattas av avsnitt 3B001.

6A005"Lasrar", andra än de som specificeras i avsnitt 0B001.g.5 eller 0B001.h.6, komponenter och optisk utrustning enligt följande:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 6A205. |
| --- | --- |

ANM.:

| : | Pulsade "lasrar" inkluderar "lasrar" som arbetar i kontinuerlig mod (CW) med överlagrade pulseffekter. |
| --- | --- |

:

| : | Excimer "lasrar", halvledar "lasrar", kemiska "lasrar", kolmonoxid(CO)"lasrar", koldioxid(CO2)"lasrar" och icke-repetitiva pulsade neodymglas "lasrar" omfattas endast av avsnitt 6A005.d. |
| --- | --- |

:

| : | Avsnitt 6A005 omfattar fiber "lasrar". |
| --- | --- |

:

| : | Kontrollstatusen för "lasrar" med frekvensomvandling (dvs. våglängdsändring) genom andra medel än att en "laser" pumpar en annan "laser" bestäms genom tillämpning av parametrarna för både käll "laserns" utgångseffekt och den frekvensomvandlade optiska utgångseffekten. |
| --- | --- |

:

| : | Avsnitt 6A005 omfattar inte "lasrar" enligt följande:







  a) | Rubin med en utgångsenergi som understiger 20 J. |
| --- | --- | --- |

:

a)

Rubin med en utgångsenergi som understiger 20 J.

| b) | Kväve. |
| --- | --- |

b)

Kväve.

| c) | Krypton. |
| --- | --- |

c)

Krypton.

:

I avsnitt 6A005 definieras ‧stickproppseffektivitet‧ som kvoten mellan "laser" utgångsenergin (eller "genomsnittlig utgångseffekt") och den totala elektriska ingångseffekt som krävs för att "lasern" ska fungera, inklusive energitillförsel/konditionering och termisk konditionering/värmeväxlare.

| a) | Icke-"avstämbara""CW(continuous wave)-lasrar" som har något av följande:






  1. | En utgångsvåglängd som understiger 150 nm och en utgångseffekt som överstiger 1 W. |
| --- | --- | --- |

a)

Icke-"avstämbara""CW(continuous wave)-lasrar" som har något av följande:

1.

En utgångsvåglängd som understiger 150 nm och en utgångseffekt som överstiger 1 W.

| 2. | En utgångsvåglängd på minst 150 nm men som inte överstiger 520 nm och en utgångseffekt som överstiger 30 W.







  : | Avsnitt 6A005.a.2 omfattar inte argon "lasrar" som har en utgångseffekt på högst 50 W. |
| --- | --- | --- |

2.

En utgångsvåglängd på minst 150 nm men som inte överstiger 520 nm och en utgångseffekt som överstiger 30 W.

:

| 3. | En utgångsvåglängd som överstiger 520 nm men inte 540 nm och som har något av följande:






  a) | En enkel transversell mod och en utgångseffekt som överstiger 50 W. |
| --- | --- | --- |

3.

En utgångsvåglängd som överstiger 520 nm men inte 540 nm och som har något av följande:

a)

En enkel transversell mod och en utgångseffekt som överstiger 50 W.

| b) | En multipel transversell mod och en utgångseffekt som överstiger 150 W. |
| --- | --- |

b)

En multipel transversell mod och en utgångseffekt som överstiger 150 W.

| 4. | En utgångsvåglängd som överstiger 540 nm men inte 800 nm och en utgångseffekt som överstiger 30 W. |
| --- | --- |

4.

En utgångsvåglängd som överstiger 540 nm men inte 800 nm och en utgångseffekt som överstiger 30 W.

| 5. | En utgångsvåglängd som överstiger 800 nm men inte 975 nm och som har något av följande:






  a) | En enkel transversell mod och en utgångseffekt som överstiger 50 W. |
| --- | --- | --- |

5.

En utgångsvåglängd som överstiger 800 nm men inte 975 nm och som har något av följande:

a)

En enkel transversell mod och en utgångseffekt som överstiger 50 W.

| b) | En multipel transversell mod och en utgångseffekt som överstiger 80 W. |
| --- | --- |

b)

En multipel transversell mod och en utgångseffekt som överstiger 80 W.

| 6. | En utgångsvåglängd som överstiger 975 nm men inte 1 150 nm och som har något av följande:






  a) | En enkel transversell mod och något av följande:






  1. | En ‧stickproppseffektivitet‧ som överstiger 12 % och en utgångseffekt som överstiger 100 W. |
| --- | --- | --- | --- |

6.

En utgångsvåglängd som överstiger 975 nm men inte 1 150 nm och som har något av följande:

a)

En enkel transversell mod och något av följande:

1.

En ‧stickproppseffektivitet‧ som överstiger 12 % och en utgångseffekt som överstiger 100 W.

| 2. | En utgångseffekt som överstiger 150 W. |
| --- | --- |

2.

En utgångseffekt som överstiger 150 W.

| b) | En multipel transversell mod och något av följande:






  1. | En ‧stickproppseffektivitet‧ som överstiger 18 % och en utgångseffekt som överstiger 500 W. |
| --- | --- | --- |

b)

En multipel transversell mod och något av följande:

1.

En ‧stickproppseffektivitet‧ som överstiger 18 % och en utgångseffekt som överstiger 500 W.

| 2. | En utgångseffekt som överstiger 2 kW. |
| --- | --- |

2.

En utgångseffekt som överstiger 2 kW.

| : | Avsnitt 6A005.a.6.b omfattar inte industriella "lasrar" med multipel transversell mod med en utgångseffekt som överstiger 2 kW men inte 6 kW och en total massa som överstiger 1 200 kg. Med total massa avses i denna anmärkning alla komponenter som krävs för att "lasern" ska fungera, t.ex. "laser" energitillförsel och värmeväxlare, men inte extern optik för strålkonditionering och/eller tillförsel. |
| --- | --- |

:

| 7. | En utgångsvåglängd som överstiger 1 150 nm men inte 1 555 nm och som har något av följande:






  a) | En enkel transversell mod och en utgångseffekt som överstiger 50 W. |
| --- | --- | --- |

7.

En utgångsvåglängd som överstiger 1 150 nm men inte 1 555 nm och som har något av följande:

a)

En enkel transversell mod och en utgångseffekt som överstiger 50 W.

| b) | En multipel transversell mod och en utgångseffekt som överstiger 80 W. |
| --- | --- |

b)

En multipel transversell mod och en utgångseffekt som överstiger 80 W.

| 8. | En utgångsvåglängd som överstiger 1 555 nm och en utgångseffekt som överstiger 1 W. |
| --- | --- |

8.

En utgångsvåglängd som överstiger 1 555 nm och en utgångseffekt som överstiger 1 W.

| b) | Icke-"avstämbara""pulsade lasrar" som har något av följande:






  1. | En utgångsvåglängd som understiger 150 nm och något av följande:






  a) | En utgångsenergi som överstiger 50 mJ/puls och en "toppeffekt" som överstiger 1 W. |
| --- | --- | --- | --- |

b)

Icke-"avstämbara""pulsade lasrar" som har något av följande:

1.

En utgångsvåglängd som understiger 150 nm och något av följande:

a)

En utgångsenergi som överstiger 50 mJ/puls och en "toppeffekt" som överstiger 1 W.

| b) | En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 1 W. |
| --- | --- |

b)

En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 1 W.

| 2. | En utgångsvåglängd på minst 150 nm och högst 520 nm och något av följande:






  a) | En utgångsenergi som överstiger 1,5 J/puls och en "toppeffekt" som överstiger 30 W. |
| --- | --- | --- |

2.

En utgångsvåglängd på minst 150 nm och högst 520 nm och något av följande:

a)

En utgångsenergi som överstiger 1,5 J/puls och en "toppeffekt" som överstiger 30 W.

| b) | En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 30 W.







  : | Avsnitt 6A005.b.2.b omfattar inte argon "lasrar" som har en "genomsnittlig utgångseffekt" på högst 50 W. |
| --- | --- | --- |

b)

En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 30 W.

:

| 3. | En utgångsvåglängd som överstiger 520 nm men inte 540 nm och något av följande:






  a) | En enkel transversell mod och något av följande:






  1. | En utgångsenergi som överstiger 1,5 J/puls och en "toppeffekt" som överstiger 50 W. |
| --- | --- | --- | --- |

3.

En utgångsvåglängd som överstiger 520 nm men inte 540 nm och något av följande:

a)

En enkel transversell mod och något av följande:

1.

En utgångsenergi som överstiger 1,5 J/puls och en "toppeffekt" som överstiger 50 W.

| 2. | En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 50 W. |
| --- | --- |

2.

En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 50 W.

| b) | En multipel transversell mod och något av följande:






  1. | En utgångsenergi som överstiger 1,5 J/puls och en "toppeffekt" som överstiger 150 W. |
| --- | --- | --- |

b)

En multipel transversell mod och något av följande:

1.

En utgångsenergi som överstiger 1,5 J/puls och en "toppeffekt" som överstiger 150 W.

| 2. | En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 150 W. |
| --- | --- |

2.

En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 150 W.

| 4. | En utgångsvåglängd som överstiger 540 nm men inte 800 nm och något av följande:






  a) | En utgångsenergi som överstiger 1,5 J/puls och en "toppeffekt" som överstiger 30 W. |
| --- | --- | --- |

4.

En utgångsvåglängd som överstiger 540 nm men inte 800 nm och något av följande:

a)

En utgångsenergi som överstiger 1,5 J/puls och en "toppeffekt" som överstiger 30 W.

| b) | En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 30 W. |
| --- | --- |

b)

En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 30 W.

| 5. | En utgångsvåglängd som överstiger 800 nm men inte 975 nm och något av följande:






  a) | En "pulslängd" som inte överstiger 1 μs och som har något av följande:






  1. | En utgångsenergi som överstiger 0,5 J/puls och en "toppeffekt" som överstiger 50 W. |
| --- | --- | --- | --- |

5.

En utgångsvåglängd som överstiger 800 nm men inte 975 nm och något av följande:

a)

En "pulslängd" som inte överstiger 1 μs och som har något av följande:

1.

En utgångsenergi som överstiger 0,5 J/puls och en "toppeffekt" som överstiger 50 W.

| 2. | En enkel transversell mod och en "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 20 W. |
| --- | --- |

2.

En enkel transversell mod och en "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 20 W.

| 3. | En multipel transversell mod och en "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 50 W. |
| --- | --- |

3.

En multipel transversell mod och en "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 50 W.

| b) | En "pulslängd" som överstiger 1 μs och något av följande:






  1. | En utgångsenergi som överstiger 2 J/puls och en "toppeffekt" som överstiger 50 W. |
| --- | --- | --- |

b)

En "pulslängd" som överstiger 1 μs och något av följande:

1.

En utgångsenergi som överstiger 2 J/puls och en "toppeffekt" som överstiger 50 W.

| 2. | En enkel transversell mod och en "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 50 W. |
| --- | --- |

2.

En enkel transversell mod och en "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 50 W.

| 3. | En multipel transversell mod och en "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 80 W. |
| --- | --- |

3.

En multipel transversell mod och en "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 80 W.

| 6. | En utgångsvåglängd som överstiger 975 nm men inte 1 150 nm och något av följande:






  a) | En "pulslängd" som understiger 1 ns och något av följande:






  1. | En utgångs "toppeffekt" som överstiger 5 GW/puls. |
| --- | --- | --- | --- |

6.

En utgångsvåglängd som överstiger 975 nm men inte 1 150 nm och något av följande:

a)

En "pulslängd" som understiger 1 ns och något av följande:

1.

En utgångs "toppeffekt" som överstiger 5 GW/puls.

| 2. | En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 10 W. |
| --- | --- |

2.

En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 10 W.

| 3. | En utgångsenergi som överstiger 0,1 J/puls. |
| --- | --- |

3.

En utgångsenergi som överstiger 0,1 J/puls.

| b) | En "pulslängd" som är lika med eller överstiger 1 ns men inte 1 μs och något av följande:






  1. | En enkel transversell mod och något av följande:






  a) | En "toppeffekt" som överstiger 100 MW. |
| --- | --- | --- | --- |

b)

En "pulslängd" som är lika med eller överstiger 1 ns men inte 1 μs och något av följande:

1.

En enkel transversell mod och något av följande:

a)

En "toppeffekt" som överstiger 100 MW.

| b) | En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 20 W som genom konstruktionen är begränsad till en maximal pulsrepetitionsfrekvens på högst 1 kHz. |
| --- | --- |

b)

En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 20 W som genom konstruktionen är begränsad till en maximal pulsrepetitionsfrekvens på högst 1 kHz.

| c) | En ‧stickproppseffektivitet‧ som överstiger 12 % och en "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 100 W och som kan fungera vid en pulsrepetitionsfrekvens som överstiger 1 kHz. |
| --- | --- |

c)

En ‧stickproppseffektivitet‧ som överstiger 12 % och en "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 100 W och som kan fungera vid en pulsrepetitionsfrekvens som överstiger 1 kHz.

| d) | En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 150 W och som kan fungera vid en pulsrepetitionsfrekvens som överstiger 1 kHz. |
| --- | --- |

d)

En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 150 W och som kan fungera vid en pulsrepetitionsfrekvens som överstiger 1 kHz.

| e) | En utgångsenergi som överstiger 2 J/puls. |
| --- | --- |

e)

En utgångsenergi som överstiger 2 J/puls.

| 2. | En multipel transversell mod och något av följande:






  a) | En "toppeffekt" som överstiger 400 MW. |
| --- | --- | --- |

2.

En multipel transversell mod och något av följande:

a)

En "toppeffekt" som överstiger 400 MW.

| b) | En ‧stickproppseffektivitet‧ som överstiger 18 % och en "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 500 W. |
| --- | --- |

b)

En ‧stickproppseffektivitet‧ som överstiger 18 % och en "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 500 W.

| c) | En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 2 kW. |
| --- | --- |

c)

En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 2 kW.

| d) | En utgångsenergi som överstiger 4 J/puls. |
| --- | --- |

d)

En utgångsenergi som överstiger 4 J/puls.

| c) | En "pulslängd" som överstiger 1 μs och något av följande:






  1. | En enkel transversell mod och något av följande:






  a) | En "toppeffekt" som överstiger 500 kW. |
| --- | --- | --- | --- |

c)

En "pulslängd" som överstiger 1 μs och något av följande:

1.

En enkel transversell mod och något av följande:

a)

En "toppeffekt" som överstiger 500 kW.

| b) | En ‧stickproppseffektivitet‧ som överstiger 12 % och en "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 100 W. |
| --- | --- |

b)

En ‧stickproppseffektivitet‧ som överstiger 12 % och en "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 100 W.

| c) | En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 150 W. |
| --- | --- |

c)

En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 150 W.

| 2. | En multipel transversell mod och något av följande:






  a) | En "toppeffekt" som överstiger 1 MW. |
| --- | --- | --- |

2.

En multipel transversell mod och något av följande:

a)

En "toppeffekt" som överstiger 1 MW.

| b) | En ‧stickproppseffektivitet‧ som överstiger 18 % och en "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 500 W. |
| --- | --- |

b)

En ‧stickproppseffektivitet‧ som överstiger 18 % och en "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 500 W.

| c) | En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 2 kW. |
| --- | --- |

c)

En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 2 kW.

| 7. | En utgångsvåglängd som överstiger 1 150 nm men inte 1 555 nm, och något av följande:






  a) | En "pulslängd" som inte överstiger 1 μs och något av följande:






  1. | En utgångsenergi som överstiger 0,5 J/puls och en "toppeffekt" som överstiger 50 W. |
| --- | --- | --- | --- |

7.

En utgångsvåglängd som överstiger 1 150 nm men inte 1 555 nm, och något av följande:

a)

En "pulslängd" som inte överstiger 1 μs och något av följande:

1.

En utgångsenergi som överstiger 0,5 J/puls och en "toppeffekt" som överstiger 50 W.

| 2. | En enkel transversell mod och en "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 20 W. |
| --- | --- |

2.

En enkel transversell mod och en "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 20 W.

| 3. | En multipel transversell mod och en "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 50 W. |
| --- | --- |

3.

En multipel transversell mod och en "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 50 W.

| b) | En "pulslängd" som överstiger 1 μs och något av följande:






  1. | En utgångsenergi som överstiger 2 J/puls och en "toppeffekt" som överstiger 50 W. |
| --- | --- | --- |

b)

En "pulslängd" som överstiger 1 μs och något av följande:

1.

En utgångsenergi som överstiger 2 J/puls och en "toppeffekt" som överstiger 50 W.

| 2. | En enkel transversell mod och en "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 50 W. |
| --- | --- |

2.

En enkel transversell mod och en "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 50 W.

| 3. | En multipel transversell mod och en "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 80 W. |
| --- | --- |

3.

En multipel transversell mod och en "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 80 W.

| 8. | En utgångsvåglängd som överstiger 1 555 nm och något av följande:






  a) | En utgångsenergi som överstiger 100 mJ/puls och en "toppeffekt" som överstiger 1 W. |
| --- | --- | --- |

8.

En utgångsvåglängd som överstiger 1 555 nm och något av följande:

a)

En utgångsenergi som överstiger 100 mJ/puls och en "toppeffekt" som överstiger 1 W.

| b) | En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 1 W. |
| --- | --- |

b)

En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 1 W.

| c) | "Avstämbara""lasrar" som har något av följande:







  : | Avsnitt 6A005.c omfattar titansafir- (Ti-Al2O3), tulium-YAG- {YAG = yttrium, aluminium, granat}, tulium-YSGG- {YSGG = yttrium, svavel, granat, granat}, alexandrit- (Cr-BeAl2O4), färgcenter "lasrar", färgämnes "lasrar" och vätske "lasrar". |
| --- | --- | --- |

c)

"Avstämbara""lasrar" som har något av följande:

:

| 1. | En utgångsvåglängd som understiger 600 nm och något av följande:






  a) | En utgångsenergi som överstiger 50 mJ/puls och en "toppeffekt" som överstiger 1 W. |
| --- | --- | --- |

1.

En utgångsvåglängd som understiger 600 nm och något av följande:

a)

En utgångsenergi som överstiger 50 mJ/puls och en "toppeffekt" som överstiger 1 W.

| b) | en genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångseffekt som överstiger 1 W.







  : | Avsnitt 6A005.c.1. omfattar inte färgämneslasrar och andra vätskelasrar med en multimodal utsignal och en våglängd av minst 150 nm och högst 600 nm och med samtliga följande egenskaper:







  1. | En utgångsenergi som understiger 1,5 J/puls eller en "toppeffekt" som understiger 20 W. |
| --- | --- | --- | --- |

b)

en genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångseffekt som överstiger 1 W.

:

1.

En utgångsenergi som understiger 1,5 J/puls eller en "toppeffekt" som understiger 20 W.

| 2. | En genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångseffekt som understiger 20 W. |
| --- | --- |

2.

En genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångseffekt som understiger 20 W.

| 2. | En utgångsvåglängd på minst 600 nm men högst 1 400 nm och något av följande:






  a) | En utgångsenergi som överstiger 1 J/puls och en "toppeffekt" som överstiger 20 W. |
| --- | --- | --- |

2.

En utgångsvåglängd på minst 600 nm men högst 1 400 nm och något av följande:

a)

En utgångsenergi som överstiger 1 J/puls och en "toppeffekt" som överstiger 20 W.

| b) | En genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångseffekt som överstiger 20 W. |
| --- | --- |

b)

En genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångseffekt som överstiger 20 W.

| 3. | En utgångsvåglängd som överstiger 1 400 nm och något av följande:






  a) | En utgångsenergi som överstiger 50 mJ/puls och en "toppeffekt" som överstiger 1 W. |
| --- | --- | --- |

3.

En utgångsvåglängd som överstiger 1 400 nm och något av följande:

a)

En utgångsenergi som överstiger 50 mJ/puls och en "toppeffekt" som överstiger 1 W.

| b) | En genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångseffekt som överstiger 1 W. |
| --- | --- |

b)

En genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångseffekt som överstiger 1 W.

| d) | Andra "lasrar", som inte omfattas av avsnitt 6A005.a, 6A005.b eller 6A005.c, enligt följande:






  1. | Halvledar "lasrar" enligt följande:







  : | Avsnitt 6A005.d.1 omfattar halvledar "lasrar" som har ett utgående optiskt anslutningsdon (t.ex. optisk kopplingsfläta). |
| --- | --- | --- | --- |

d)

Andra "lasrar", som inte omfattas av avsnitt 6A005.a, 6A005.b eller 6A005.c, enligt följande:

1.

Halvledar "lasrar" enligt följande:

:

| : | Halvledar "lasrar" som speciellt har konstruerats för annan utrustning klassificeras som denna andra utrustning. |
| --- | --- |

:

| a) | Individuella halvledar "lasrar" med enkel transversell mod som har någon av följande egenskaper:






  1. | En våglängd på högst 1 510 nm och en genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångseffekt som överstiger 1,5 W. |
| --- | --- | --- |

a)

Individuella halvledar "lasrar" med enkel transversell mod som har någon av följande egenskaper:

1.

En våglängd på högst 1 510 nm och en genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångseffekt som överstiger 1,5 W.

| 2. | En våglängd som överstiger 1 510 nm och en genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångseffekt som överstiger 500 mW. |
| --- | --- |

2.

En våglängd som överstiger 1 510 nm och en genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångseffekt som överstiger 500 mW.

| b) | Individuella halvledar "lasrar" med multipel transversell mod som har någon av följande egenskaper:






  1. | En våglängd som understiger 1 400 nm och en genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångseffekt som överstiger 15 W. |
| --- | --- | --- |

b)

Individuella halvledar "lasrar" med multipel transversell mod som har någon av följande egenskaper:

1.

En våglängd som understiger 1 400 nm och en genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångseffekt som överstiger 15 W.

| 2. | En våglängd på 1 400 nm eller mer och som understiger 1 900 nm och en genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångseffekt på över 2,5 W. |
| --- | --- |

2.

En våglängd på 1 400 nm eller mer och som understiger 1 900 nm och en genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångseffekt på över 2,5 W.

| 3. | En våglängd på 1 900 nm eller mer och en genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångseffekt på över 1 W. |
| --- | --- |

3.

En våglängd på 1 900 nm eller mer och en genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångseffekt på över 1 W.

| c) | Individuella ‧stavar‧ av halvledar "lasrar" med någon av följande egenskaper:






  1. | En våglängd på mindre än 1 400 nm och en genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångseffekt på över 100 W, |
| --- | --- | --- |

c)

Individuella ‧stavar‧ av halvledar "lasrar" med någon av följande egenskaper:

1.

En våglängd på mindre än 1 400 nm och en genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångseffekt på över 100 W,

| 2. | En våglängd på 1 400 nm eller mer och som understiger 1 900 nm och en genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångseffekt på över 25 W. |
| --- | --- |

2.

En våglängd på 1 400 nm eller mer och som understiger 1 900 nm och en genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångseffekt på över 25 W.

| 3. | En våglängd på 1 900 nm eller mer och en genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångseffekt på över 10 W. |
| --- | --- |

3.

En våglängd på 1 900 nm eller mer och en genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångseffekt på över 10 W.

| d) | ‧Stackade system‧ (matrisstackar) av halvledar "lasrar" (tvådimensionella system) med någon av följande egenskaper:






  1. | En våglängd på mindre än 1 400 nm och med någon av följande egenskaper:






  a) | En genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) total utgångseffekt under 3 kW och en genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångs ‧effekttäthet‧ som överstiger 500 W/cm2. |
| --- | --- | --- | --- |

d)

‧Stackade system‧ (matrisstackar) av halvledar "lasrar" (tvådimensionella system) med någon av följande egenskaper:

1.

En våglängd på mindre än 1 400 nm och med någon av följande egenskaper:

a)

En genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) total utgångseffekt under 3 kW och en genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångs ‧effekttäthet‧ som överstiger 500 W/cm2.

| b) | En genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) total utgångseffekt lika med eller över 3 kW men under eller lika med 5 kW och med en genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångs ‧effekttäthet‧ som överstiger 350 W/cm2. |
| --- | --- |

b)

En genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) total utgångseffekt lika med eller över 3 kW men under eller lika med 5 kW och med en genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångs ‧effekttäthet‧ som överstiger 350 W/cm2.

| c) | En genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) total utgångseffekt som överstiger 5 kW. |
| --- | --- |

c)

En genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) total utgångseffekt som överstiger 5 kW.

| d) | Maximal pulsad effekttäthet som överstiger 2 500 W/cm2. |
| --- | --- |

d)

Maximal pulsad effekttäthet som överstiger 2 500 W/cm2.

| e) | En rumsligt koherent genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) total utgångseffekt som överstiger 150 W. |
| --- | --- |

e)

En rumsligt koherent genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) total utgångseffekt som överstiger 150 W.

| 2. | En våglängd större eller lika med 1,400 nm men under 1 900 nm och med någon av följande egenskaper:






  a) | En genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) total utgångseffekt under 250 W och en genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångs ‧effekttäthet‧ som överstiger 150 W/cm2. |
| --- | --- | --- |

2.

En våglängd större eller lika med 1,400 nm men under 1 900 nm och med någon av följande egenskaper:

a)

En genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) total utgångseffekt under 250 W och en genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångs ‧effekttäthet‧ som överstiger 150 W/cm2.

| b) | En genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) total utgångseffekt lika med eller över 250 W men under eller lika med 500 W och med en genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångs ‧effekttäthet‧ som överstiger 50 W/cm2. |
| --- | --- |

b)

En genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) total utgångseffekt lika med eller över 250 W men under eller lika med 500 W och med en genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångs ‧effekttäthet‧ som överstiger 50 W/cm2.

| c) | En genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) total utgångseffekt som överstiger 500 W. |
| --- | --- |

c)

En genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) total utgångseffekt som överstiger 500 W.

| d) | Maximal pulsad ‧effekttäthet‧ som överstiger 500 W/cm2. |
| --- | --- |

d)

Maximal pulsad ‧effekttäthet‧ som överstiger 500 W/cm2.

| e) | En rumsligt koherent genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) total utgångseffekt som överstiger 15 W. |
| --- | --- |

e)

En rumsligt koherent genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) total utgångseffekt som överstiger 15 W.

| 3. | En våglängd större eller lika med 1 900 nm med någon av följande egenskaper:






  a) | En genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångs ‧effekttäthet‧ som överstiger 50 W/cm2. |
| --- | --- | --- |

3.

En våglängd större eller lika med 1 900 nm med någon av följande egenskaper:

a)

En genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångs ‧effekttäthet‧ som överstiger 50 W/cm2.

| b) | En genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångseffekt över 10 W. |
| --- | --- |

b)

En genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångseffekt över 10 W.

| c) | En rumsligt koherent genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) total utgångseffekt som överstiger 1,5 W. |
| --- | --- |

c)

En rumsligt koherent genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) total utgångseffekt som överstiger 1,5 W.

| 4. | Åtminstone en "laser"‧stav‧ enligt 6A005.d.1.c. |
| --- | --- |

4.

Åtminstone en "laser"‧stav‧ enligt 6A005.d.1.c.

:

I 6A005.d.1.d avses med ‧effekttäthet‧ den totala "laser" utgångseffekten delad med ytan på det ‧stackade systemets‧ emitter.

| e) | Andra ‧stackade system‧ (matrisstackar) av halvledar "lasrar" än de som avses i 6A005.d.1.d, med alla följande egenskaper:






  1. | Särskilt konstruerade eller modifierade för att kombineras med andra ‧stackade system‧, så att de bildar ett större ‧stackat system‧. |
| --- | --- | --- |

e)

Andra ‧stackade system‧ (matrisstackar) av halvledar "lasrar" än de som avses i 6A005.d.1.d, med alla följande egenskaper:

1.

Särskilt konstruerade eller modifierade för att kombineras med andra ‧stackade system‧, så att de bildar ett större ‧stackat system‧.

| 2. | Integrerade anslutningar, gemensamma för både elektronik och kylning.







  : | ‧Stackade system‧ som har bildats genom en kombination av ‧stackade system‧ (matrisstackar) av halvledar "lasrar" enligt 6A005.d.1.e och inte är avsedda att kombineras eller modifieras ytterligare omfattas av 6A005.d.1.d. |
| --- | --- | --- |

2.

Integrerade anslutningar, gemensamma för både elektronik och kylning.

:

| : | ‧Stackade system‧ som har bildats genom en kombination av ‧stackade system‧ (matrisstackar) av halvledar "lasrar" enligt 6A005.d.1.e och är avsedda att kombineras eller modifieras ytterligare omfattas av 6A005.d.1.e. |
| --- | --- |

:

| : | 6A005.d.1.e är inte tillämplig på modulära sammansättningar av enstaka ‧stavar‧ avsedda att sättas ihop i genomgående stackade lineära system. |
| --- | --- |

:

:

| 1. | Halvledar "lasrar" kallas ofta "laser" dioder. |
| --- | --- |

1.

| 2. | En ‧stav‧ (också kallad halvledar "laser"‧stav‧, "laser" diod ‧stav‧ eller diod ‧stav‧) består av flera halvledar "lasrar" i ett endimensionellt system. |
| --- | --- |

2.

| 3. | En ‧stackat system‧ består av flera ‧stavar‧, som bildar ett tvådimensionellt system av halvledar "lasrar". |
| --- | --- |

3.

| 2. | Kolmonoxid(CO)"lasrar" som har något av följande:






  a) | En utgångsenergi som överstiger 2 J/puls och en "toppeffekt" som överstiger 5 kW. |
| --- | --- | --- |

2.

Kolmonoxid(CO)"lasrar" som har något av följande:

a)

En utgångsenergi som överstiger 2 J/puls och en "toppeffekt" som överstiger 5 kW.

| b) | En genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångseffekt som överstiger 5 kW. |
| --- | --- |

b)

En genomsnittlig eller kontinuerlig (CW) utgångseffekt som överstiger 5 kW.

| 3. | Koldioxid(CO2)"lasrar" som har något av följande:






  a) | En kontinuerlig (CW) utgångseffekt som överstiger 15 kW. |
| --- | --- | --- |

3.

Koldioxid(CO2)"lasrar" som har något av följande:

a)

En kontinuerlig (CW) utgångseffekt som överstiger 15 kW.

| b) | En pulsad utgångseffekt med en "pulslängd" som överstiger 10 μs, och något av följande:






  1. | En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 10 kW. |
| --- | --- | --- |

b)

En pulsad utgångseffekt med en "pulslängd" som överstiger 10 μs, och något av följande:

1.

En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 10 kW.

| 2. | En "toppeffekt" som överstiger 100 kW. |
| --- | --- |

2.

En "toppeffekt" som överstiger 100 kW.

| c) | En pulsad uteffekt med en "pulslängd" som är högst 10 μs och något av följande:






  1. | En pulsenergi som överstiger 5 J/puls. |
| --- | --- | --- |

c)

En pulsad uteffekt med en "pulslängd" som är högst 10 μs och något av följande:

1.

En pulsenergi som överstiger 5 J/puls.

| 2. | En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 2,5 kW. |
| --- | --- |

2.

En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 2,5 kW.

| 4. | Excimer "lasrar" som har något av följande:






  a) | En utgångsvåglängd som inte överstiger 150 nm och något av följande:






  1. | En utgångsenergi som överstiger 50 mJ/puls. |
| --- | --- | --- | --- |

4.

Excimer "lasrar" som har något av följande:

a)

En utgångsvåglängd som inte överstiger 150 nm och något av följande:

1.

En utgångsenergi som överstiger 50 mJ/puls.

| 2. | En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 1 W. |
| --- | --- |

2.

En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 1 W.

| b) | En utgångsvåglängd som överstiger 150 nm men inte 190 nm och något av följande:






  1. | En utgångsenergi som överstiger 1,5 J/puls. |
| --- | --- | --- |

b)

En utgångsvåglängd som överstiger 150 nm men inte 190 nm och något av följande:

1.

En utgångsenergi som överstiger 1,5 J/puls.

| 2. | En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 120 W. |
| --- | --- |

2.

En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 120 W.

| c) | En utgångsvåglängd som överstiger 190 nm men inte 360 nm och något av följande:






  1. | En utgångsenergi som överstiger 10 J/puls. |
| --- | --- | --- |

c)

En utgångsvåglängd som överstiger 190 nm men inte 360 nm och något av följande:

1.

En utgångsenergi som överstiger 10 J/puls.

| 2. | En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 500 W. |
| --- | --- |

2.

En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 500 W.

| d) | En utgångsvåglängd som överstiger 360 nm och något av följande:






  1. | En utgångsenergi som överstiger 1,5 J/puls. |
| --- | --- | --- |

d)

En utgångsvåglängd som överstiger 360 nm och något av följande:

1.

En utgångsenergi som överstiger 1,5 J/puls.

| 2. | En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 30 W. |
| --- | --- |

2.

En "genomsnittlig utgångseffekt" som överstiger 30 W.

:

Se avsnitt 3B001 för excimer "lasrar" som speciellt konstruerats för litografisk utrustning.

| 5. | "Kemiska lasrar" enligt följande:






  a) | Vätefluorid(HF)"lasrar". |
| --- | --- | --- |

5.

"Kemiska lasrar" enligt följande:

a)

Vätefluorid(HF)"lasrar".

| b) | Deuteriumfluorid(DF)"lasrar". |
| --- | --- |

b)

Deuteriumfluorid(DF)"lasrar".

| c) | "Transferlasrar", enligt följande:






  1. | Syre-jod (O2-I)-"lasrar". |
| --- | --- | --- |

c)

"Transferlasrar", enligt följande:

1.

Syre-jod (O2-I)-"lasrar".

| 2. | Deuteriumfluorid-koldioxid (DF-CO2)-"lasrar". |
| --- | --- |

2.

Deuteriumfluorid-koldioxid (DF-CO2)-"lasrar".

| 6. | ‧Icke-repetitiva pulsade‧ neodymglas "lasrar" som har något av följande:






  a) | En "pulslängd" som inte överstiger 1 μs och en utgångsenergi som överstiger 50 J/puls. |
| --- | --- | --- |

6.

‧Icke-repetitiva pulsade‧ neodymglas "lasrar" som har något av följande:

a)

En "pulslängd" som inte överstiger 1 μs och en utgångsenergi som överstiger 50 J/puls.

| b) | En "pulslängd" som överstiger 1 μs och en utgångsenergi som överstiger 100 J/puls. |
| --- | --- |

b)

En "pulslängd" som överstiger 1 μs och en utgångsenergi som överstiger 100 J/puls.

| : | ‧Icke-repetitiva pulsade‧ avser "lasrar" som producerar antingen en enda utgångspuls eller som har ett tidsintervall mellan pulserna som överstiger 1 minut. |
| --- | --- |

:

| e) | Komponenter enligt följande:






  1. | Speglar som kyls antingen med ‧aktiv kylning‧ eller genom s.k. heat pipes.

  :


  Med ‧aktiv kylning‧ avses en kylningsteknik för optiska komponenter där man använder en vätska under den optiska ytan (nominellt mindre än 1 mm under den optiska ytan) för att transportera bort värme. |
| --- | --- | --- |

e)

Komponenter enligt följande:

1.

Speglar som kyls antingen med ‧aktiv kylning‧ eller genom s.k. heat pipes.

:

Med ‧aktiv kylning‧ avses en kylningsteknik för optiska komponenter där man använder en vätska under den optiska ytan (nominellt mindre än 1 mm under den optiska ytan) för att transportera bort värme.

| 2. | Optiska speglar eller genomskinliga eller delvis genomskinliga optiska eller elektrooptiska komponenter som är särskilt konstruerade för att användas tillsammans med specificerade "lasrar". |
| --- | --- |

2.

Optiska speglar eller genomskinliga eller delvis genomskinliga optiska eller elektrooptiska komponenter som är särskilt konstruerade för att användas tillsammans med specificerade "lasrar".

| f) | Optisk utrustning enligt följande:







  : | För optiska element med delad öppning, som kan arbeta i "Super-High Power Laser" ("SHPL")-tillämpningar, se kontrollbestämmelserna för varor med militär användning. |
| --- | --- | --- |

f)

Optisk utrustning enligt följande:

:

| 1. | Dynamiska mätinstrument avsedda att mäta vågfronter och som kan känna av åtminstone 50 positioner hos en stråles vågfront och något av följande:






  a) | Bildhastigheter lika med eller högre än 100 Hz och fasupplösning som är minst 5 % av strålens våglängd, eller |
| --- | --- | --- |

1.

Dynamiska mätinstrument avsedda att mäta vågfronter och som kan känna av åtminstone 50 positioner hos en stråles vågfront och något av följande:

a)

Bildhastigheter lika med eller högre än 100 Hz och fasupplösning som är minst 5 % av strålens våglängd, eller

| b) | bildhastigheter lika med eller högre än 1 000 Hz och fasupplösning som är minst 20 % av strålens våglängd. |
| --- | --- |

b)

bildhastigheter lika med eller högre än 1 000 Hz och fasupplösning som är minst 20 % av strålens våglängd.

| 2. | "Laser" analysutrustning som kan mäta vinkelfel vid strålstyrning i "Super-High Power Laser" ("SHPL")-system som är lika med eller mindre än 10 μrad. |
| --- | --- |

2.

"Laser" analysutrustning som kan mäta vinkelfel vid strålstyrning i "Super-High Power Laser" ("SHPL")-system som är lika med eller mindre än 10 μrad.

| 3. | Optisk utrustning och komponenter, speciellt konstruerade för faskopplade "SHPL"-system för koherent strålkombination, med en noggrannhet på λ/10 vid beräknad våglängd, dock högst 0,1 μm. |
| --- | --- |

3.

Optisk utrustning och komponenter, speciellt konstruerade för faskopplade "SHPL"-system för koherent strålkombination, med en noggrannhet på λ/10 vid beräknad våglängd, dock högst 0,1 μm.

| 4. | Projektionsteleskop speciellt konstruerade för att arbeta i "SHPL"-system. |
| --- | --- |

4.

Projektionsteleskop speciellt konstruerade för att arbeta i "SHPL"-system.

| g) | ‧Laserutrustning för akustisk detektion‧ med samtliga följande egenskaper:






  1. | En kontinuerlig (CW) utgångseffekt av minst 20 mW. |
| --- | --- | --- |

g)

‧Laserutrustning för akustisk detektion‧ med samtliga följande egenskaper:

1.

En kontinuerlig (CW) utgångseffekt av minst 20 mW.

| 2. | En laserfrekvensstabilititet som är lika med eller bättre (mindre) än 10 MHz. |
| --- | --- |

2.

En laserfrekvensstabilititet som är lika med eller bättre (mindre) än 10 MHz.

| 3. | Laservåglängder som är minst 1 000 nm och högst 2 000 nm |
| --- | --- |

3.

Laservåglängder som är minst 1 000 nm och högst 2 000 nm

| 4. | Optisk systemupplösning bättre (mindre) än 1 nm. |
| --- | --- |

4.

Optisk systemupplösning bättre (mindre) än 1 nm.

| 5. | Optiskt signal-brus-förhållande större än eller lika med 103. |
| --- | --- |

5.

Optiskt signal-brus-förhållande större än eller lika med 103.

:

‧Laserutrustning för akustisk detektion‧ betecknas ibland som en lasermikrofon eller mikrofon för detektion av partikelflöde.

6A006"Magnetometrar", "magnetiska gradiometrar", "induktionsmagnetometrar", sensorer för elektriska undervattensfält och "kompensationssystem", samt speciellt konstruerade komponenter till dessa, enligt följande:

| : | Avsnitt 6A006 omfattar inte kontrollinstrument som är speciellt konstruerade för fiskeritillämpningar eller biomagnetiska mätningar för medicinsk diagnostik. |
| --- | --- |

:

| a) | "Magnetometrar" och delsystem enligt följande:






  1. | "Magnetometrar" som använder "supraledande" (SQUID) "teknik" och har någon av följande egenskaper:






  a) | SQUID-system som är konstruerade för stationärt arbete, utan speciellt konstruerade delsystem för att minska bruset vid rörelse och som har en ‧känslighet‧ lika med eller lägre (bättre) än 50 fT rms/√Hz vid frekvenser lika med 1 Hz; eller |
| --- | --- | --- | --- |

a)

"Magnetometrar" och delsystem enligt följande:

1.

"Magnetometrar" som använder "supraledande" (SQUID) "teknik" och har någon av följande egenskaper:

a)

SQUID-system som är konstruerade för stationärt arbete, utan speciellt konstruerade delsystem för att minska bruset vid rörelse och som har en ‧känslighet‧ lika med eller lägre (bättre) än 50 fT rms/√Hz vid frekvenser lika med 1 Hz; eller

| b) | SQUID-system som har en magnetometer för rörligt arbete med en ‧känslighet‧ som är lägre (bättre) än 20 pT rms/√Hz vid en frekvens av 1 Hz och som är speciellt konstruerade för att minska bruset vid arbete i rörelse. |
| --- | --- |

b)

SQUID-system som har en magnetometer för rörligt arbete med en ‧känslighet‧ som är lägre (bättre) än 20 pT rms/√Hz vid en frekvens av 1 Hz och som är speciellt konstruerade för att minska bruset vid arbete i rörelse.

| 2. | "Magnetometrar" som använder optiskt pumpad "teknik" eller kärnrotationsteknik (proton/Overhauser) som har en ‧känslighet‧ som är lägre (bättre) än 20 pT rms/√Hz vid en frekvens av 1 Hz. |
| --- | --- |

2.

"Magnetometrar" som använder optiskt pumpad "teknik" eller kärnrotationsteknik (proton/Overhauser) som har en ‧känslighet‧ som är lägre (bättre) än 20 pT rms/√Hz vid en frekvens av 1 Hz.

| 3. | "Magnetometrar" som använder fluxgate-"teknik" och som har en ‧känslighet‧ som är lika med eller lägre (bättre) än 10 pT rms /√Hz vid en frekvens av 1 Hz. |
| --- | --- |

3.

"Magnetometrar" som använder fluxgate-"teknik" och som har en ‧känslighet‧ som är lika med eller lägre (bättre) än 10 pT rms /√Hz vid en frekvens av 1 Hz.

| 4. | Induktionsspole-"magnetometrar" som har en ‧känslighet‧ som är lägre (bättre) än något av följande:






  a) | 0,05 nT rms / √Hz vid frekvenser under 1 Hz, |
| --- | --- | --- |

4.

Induktionsspole-"magnetometrar" som har en ‧känslighet‧ som är lägre (bättre) än något av följande:

a)

0,05 nT rms / √Hz vid frekvenser under 1 Hz,

| b) | 1 × 10-3 nT rms / √Hz vid frekvenser på 1 Hz eller mer men som inte överstiger 10Hz, eller |
| --- | --- |

b)

1 × 10-3 nT rms / √Hz vid frekvenser på 1 Hz eller mer men som inte överstiger 10Hz, eller

| c) | 1 × 10-4 nT rms / √Hz vid frekvenser som är större än 10 Hz. |
| --- | --- |

c)

1 × 10-4 nT rms / √Hz vid frekvenser som är större än 10 Hz.

| 5. | Fiberoptiska "magnetometrar" som har en ‧känslighet‧ som är lägre (bättre) än 1 nT rms / √Hz. |
| --- | --- |

5.

Fiberoptiska "magnetometrar" som har en ‧känslighet‧ som är lägre (bättre) än 1 nT rms / √Hz.

| b) | Sensorer för elektriska undervattensfält som har en ‧känslighet‧ som är lägre (bättre) än 8 nV/√Hz, mätt vid 1 Hz. |
| --- | --- |

b)

Sensorer för elektriska undervattensfält som har en ‧känslighet‧ som är lägre (bättre) än 8 nV/√Hz, mätt vid 1 Hz.

| c) | "Magnetiska gradiometrar" enligt följande:






  1. | "Magnetiska gradiometrar" som använder flera "magnetometrar" som omfattas av avsnitt 6A006.a. |
| --- | --- | --- |

c)

"Magnetiska gradiometrar" enligt följande:

1.

"Magnetiska gradiometrar" som använder flera "magnetometrar" som omfattas av avsnitt 6A006.a.

| 2. | Fiberoptiska "induktionsmagnetometrar" som har en ‧känslighet‧ av det magnetiska gradientfältet som är lägre (bättre) än 0,3 nT/m rms/√Hz. |
| --- | --- |

2.

Fiberoptiska "induktionsmagnetometrar" som har en ‧känslighet‧ av det magnetiska gradientfältet som är lägre (bättre) än 0,3 nT/m rms/√Hz.

| 3. | "Induktionsmagnetometrar" som använder annan "teknik" än fiberoptisk "teknik" och som har en ‧känslighet‧ av det magnetiska gradientfältet som är lägre (bättre) än 0,015 nT/m rms / √Hz. |
| --- | --- |

3.

"Induktionsmagnetometrar" som använder annan "teknik" än fiberoptisk "teknik" och som har en ‧känslighet‧ av det magnetiska gradientfältet som är lägre (bättre) än 0,015 nT/m rms / √Hz.

| d) | "Kompensationssystem" för magnetiska sensorer eller sensorer för elektriska undervattensfält som leder till en prestanda som är minst lika bra som de kontrollparametrar som anges i avsnitt 6A006.a, 6A006b eller 6A006c. |
| --- | --- |

d)

"Kompensationssystem" för magnetiska sensorer eller sensorer för elektriska undervattensfält som leder till en prestanda som är minst lika bra som de kontrollparametrar som anges i avsnitt 6A006.a, 6A006b eller 6A006c.

| e) | Elektromagnetiska mottagare för undervattensbruk som innehåller magnetfältssensorer som specificeras i 6A006.a. eller sensorer för elektriska undervattensfält som specificeras i 6A006.b |
| --- | --- |

e)

Elektromagnetiska mottagare för undervattensbruk som innehåller magnetfältssensorer som specificeras i 6A006.a. eller sensorer för elektriska undervattensfält som specificeras i 6A006.b

:

I avsnitt 6A006 definieras ‧känslighet‧ (brusnivå) som effektivvärdet av den genom anordningen begränsade lägsta brusnivån, som är den lägsta signal som kan mätas.

6A007Gravitationsmetrar (gravimetrar) och gravitationsgradiometrar, enligt följande:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 6A107. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | Gravitationsmetrar som är konstruerade eller modifierade för markbruk och har en statisk noggrannhet som är mindre (bättre) än 10 μGal.







  : | Avsnitt 6A007.a omfattar inte markbundna gravitationsmetrar som är gjorda av kvartselement (Worden-typ). |
| --- | --- | --- |

a)

Gravitationsmetrar som är konstruerade eller modifierade för markbruk och har en statisk noggrannhet som är mindre (bättre) än 10 μGal.

:

| b) | Gravitationsmetrar som är konstruerade för mobila plattformar, och som har alla följande egenskaper:






  1. | En statisk noggrannhet som är mindre (bättre) än 0,7 mGal, och |
| --- | --- | --- |

b)

Gravitationsmetrar som är konstruerade för mobila plattformar, och som har alla följande egenskaper:

1.

En statisk noggrannhet som är mindre (bättre) än 0,7 mGal, och

| 2. | en driftsnoggrannhet som är mindre (bättre) än 0,7 mGal och som har en inställningstid till dess den visar stadigvarande värde som är mindre än 2 minuter under vilken som helst kombination av medföljande korrektionskompensationer och rörelsepåverkan. |
| --- | --- |

2.

en driftsnoggrannhet som är mindre (bättre) än 0,7 mGal och som har en inställningstid till dess den visar stadigvarande värde som är mindre än 2 minuter under vilken som helst kombination av medföljande korrektionskompensationer och rörelsepåverkan.

| c) | Gravitationsgradiometrar. |
| --- | --- |

c)

Gravitationsgradiometrar.

6A008Radarsystem, utrustning och enheter med en eller flera av följande egenskaper, samt speciellt konstruerade tillhörande komponenter:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 6A108. |
| --- | --- |

ANM.:

| : | Avsnitt 6A008 omfattar inte följande:






  — | Sekundär övervakningsradar (SSR). |
| --- | --- | --- |

:

—

Sekundär övervakningsradar (SSR).

| — | Civil fordonsradar. |
| --- | --- |

—

Civil fordonsradar.

| — | Bildskärmar eller monitorer som används för flygkontrolltjänst (ATC). |
| --- | --- |

—

Bildskärmar eller monitorer som används för flygkontrolltjänst (ATC).

| — | Meteorologisk (väder-)radar. |
| --- | --- |

—

Meteorologisk (väder-)radar.

| — | Precisionsinflygningsradarutrustning (PAR) som överensstämmer med ICAO-standard och utnyttjar lineära (endimensionella) system med elektronisk styrning eller mekaniskt positionerade passiva antenner. |
| --- | --- |

—

Precisionsinflygningsradarutrustning (PAR) som överensstämmer med ICAO-standard och utnyttjar lineära (endimensionella) system med elektronisk styrning eller mekaniskt positionerade passiva antenner.

| a) | Arbetar vid frekvenser från 40 GHz till 230 GHz och som har någon av följande egenskaper:






  1. | En genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 100 mW. |
| --- | --- | --- |

a)

Arbetar vid frekvenser från 40 GHz till 230 GHz och som har någon av följande egenskaper:

1.

En genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 100 mW.

| 2. | En lokaliseringsnoggrannhet på 1 m eller mindre (bättre) i räckvidd och 0,2 grader eller mindre (bättre) i azimut. |
| --- | --- |

2.

En lokaliseringsnoggrannhet på 1 m eller mindre (bättre) i räckvidd och 0,2 grader eller mindre (bättre) i azimut.

| b) | En avstämbar bandbredd som överstiger ± 6,25 % av ‧mittarbetsfrekvensen‧.

  :


  ‧Mittarbetsfrekvensen‧ definieras som hälften av summan av den högsta och den lägsta angivna arbetsfrekvensen. |
| --- | --- |

b)

En avstämbar bandbredd som överstiger ± 6,25 % av ‧mittarbetsfrekvensen‧.

:

‧Mittarbetsfrekvensen‧ definieras som hälften av summan av den högsta och den lägsta angivna arbetsfrekvensen.

| c) | Samtidigt kan arbeta på mer än två bärfrekvenser. |
| --- | --- |

c)

Samtidigt kan arbeta på mer än två bärfrekvenser.

| d) | Kan arbeta i synthetic aperture (SAR), radarmod med inverterad synthetic aperture (ISAR), eller sidospanande flygburen (SLAR) radarmod. |
| --- | --- |

d)

Kan arbeta i synthetic aperture (SAR), radarmod med inverterad synthetic aperture (ISAR), eller sidospanande flygburen (SLAR) radarmod.

| e) | Innehåller antennsystem med elektronisk styrning. |
| --- | --- |

e)

Innehåller antennsystem med elektronisk styrning.

| f) | Kan bestämma höjden hos ett icke samarbetande mål. |
| --- | --- |

f)

Kan bestämma höjden hos ett icke samarbetande mål.

| g) | Är speciellt konstruerad utrustning för luftburen (monterad på ballong eller flygplanskropp) funktion och som har doppler ‧signalbehandling‧ för att upptäcka ett måls rörelse. |
| --- | --- |

g)

Är speciellt konstruerad utrustning för luftburen (monterad på ballong eller flygplanskropp) funktion och som har doppler ‧signalbehandling‧ för att upptäcka ett måls rörelse.

| h) | Använder radarsignalbehandling och något av följande:






  1. | "Spridning av frekvensspektrat"-teknik. |
| --- | --- | --- |

h)

Använder radarsignalbehandling och något av följande:

1.

"Spridning av frekvensspektrat"-teknik.

| 2. | "Radarhoppfrekvens"-teknik. |
| --- | --- |

2.

"Radarhoppfrekvens"-teknik.

| i) | Utför landbaserad operation med en maximal "instrumenterad räckvidd" som överstiger 185 km.







  : | Avsnitt 6A008.i omfattar inte följande:







  a) | Radarutrustning för övervakning av fiskevatten. |
| --- | --- | --- | --- |

i)

Utför landbaserad operation med en maximal "instrumenterad räckvidd" som överstiger 185 km.

:

a)

Radarutrustning för övervakning av fiskevatten.

| b) | Markradarutrustning speciellt konstruerad för långdistansflygsäkerhetskontroll ("enroute air traffic control") och med samtliga följande egenskaper:








  1. | En maximal "instrumenterad räckvidd" om 500 km eller mindre. |
| --- | --- | --- |

b)

Markradarutrustning speciellt konstruerad för långdistansflygsäkerhetskontroll ("enroute air traffic control") och med samtliga följande egenskaper:

1.

En maximal "instrumenterad räckvidd" om 500 km eller mindre.

| 2. | Konfigurerad så att radarns måldata endast kan sändas en väg från radarns uppställningsplats till en eller flera civila luftkontrollcentraler. |
| --- | --- |

2.

Konfigurerad så att radarns måldata endast kan sändas en väg från radarns uppställningsplats till en eller flera civila luftkontrollcentraler.

| 3. | Innehåller inga utrustningar för fjärrkontroll av radarns avsökningshastighet från luftkontrollcentralen på rutten. |
| --- | --- |

3.

Innehåller inga utrustningar för fjärrkontroll av radarns avsökningshastighet från luftkontrollcentralen på rutten.

| 4. | Permanent installerad. |
| --- | --- |

4.

Permanent installerad.

| c) | Radar för att spåra väderballonger. |
| --- | --- |

c)

Radar för att spåra väderballonger.

| j) | Är "laser"-radar eller utrustning för att söka och upptäcka ljus (LIDAR = "Light Detection and Ranging") och har någon av följande egenskaper:






  1. | Är "rymdkvalificerad". |
| --- | --- | --- |

j)

Är "laser"-radar eller utrustning för att söka och upptäcka ljus (LIDAR = "Light Detection and Ranging") och har någon av följande egenskaper:

1.

Är "rymdkvalificerad".

| 2. | Använder koherent heterodyn eller homodyn detekteringsteknik och har en vinkelupplösning som är mindre (bättre) än 20 μrad (mikroradianer). |
| --- | --- |

2.

Använder koherent heterodyn eller homodyn detekteringsteknik och har en vinkelupplösning som är mindre (bättre) än 20 μrad (mikroradianer).

| 3. | Är konstruerad för att utföra batymetriska kustkartläggningar från luften enligt Internationella hydrografiska organisationens (IHO) Order 1a Standard (5:e upplagan, februari 2008) för hydrografiska kartläggningar, eller bättre, med användning av en eller flera lasrar med en våglängd som överstiger 400 nm men inte 600 nm. |
| --- | --- |

3.

Är konstruerad för att utföra batymetriska kustkartläggningar från luften enligt Internationella hydrografiska organisationens (IHO) Order 1a Standard (5:e upplagan, februari 2008) för hydrografiska kartläggningar, eller bättre, med användning av en eller flera lasrar med en våglängd som överstiger 400 nm men inte 600 nm.

| : | LIDAR-utrustning som är speciellt konstruerad för kartläggning omfattas endast av avsnitt 6A008.j.3. |
| --- | --- |

:

| : | Avsnitt 6A008.j omfattar inte LIDAR-utrustning som är speciellt konstruerad för meteorologisk observation. |
| --- | --- |

:

| : | Parametrarna i IHO:s Order 1a Standard, 5:e upplagan, februari 2008, kan sammanfattas enligt följande:






  — | Horisontell noggrannhet (95 % konfidensnivå) = 5 m + 5 % av djupet. |
| --- | --- | --- |

:

—

Horisontell noggrannhet (95 % konfidensnivå) = 5 m + 5 % av djupet.

| — | Djupnoggrannhet för reducerade djup (95 % konfidensnivå)

  där:

  a=
  0,5 m = konstant djupfel, dvs. summan av alla konstanta djupfel
  b=
  0,013 = faktorn för djupberoende fel
  b*d=
  djupberoende fel, dvs. summan av alla djupberoende fel
  d=
  djup |
| --- | --- |

—

Djupnoggrannhet för reducerade djup (95 % konfidensnivå)
  Formula
  där:

a=

b=

b*d=

d=

| — | Detektion av strukturer = Rymdstrukturer > 2 m i djup upp till 40 m, 10 % av djup som är större än 40 m. |
| --- | --- |

—

Detektion av strukturer = Rymdstrukturer > 2 m i djup upp till 40 m, 10 % av djup som är större än 40 m.

| k) | Har "signalbehandlings"-undersystem som använder "pulskompression", med något av följande:






  1. | Ett "pulskompressions"-förhållande som överstiger 150. |
| --- | --- | --- |

k)

Har "signalbehandlings"-undersystem som använder "pulskompression", med något av följande:

1.

Ett "pulskompressions"-förhållande som överstiger 150.

| 2. | En pulsbredd som är kortare än 200 ns. |
| --- | --- |

2.

En pulsbredd som är kortare än 200 ns.

| l) | Har databehandlande undersystem och något av följande:






  1. | "Automatisk målsökning" som för varje antennläge anger målets beräknade position bortom tidpunkten för nästa antennlobspassage, eller







  : | Avsnitt 6A008.l.1 omfattar inte konfliktberedskapskapacitet i ATC-system, eller marin eller hamnradar. |
| --- | --- | --- | --- |

l)

Har databehandlande undersystem och något av följande:

1.

"Automatisk målsökning" som för varje antennläge anger målets beräknade position bortom tidpunkten för nästa antennlobspassage, eller

:

| 2. | Används inte. |
| --- | --- |

2.

Används inte.

| 3. | Används inte. |
| --- | --- |

3.

Används inte.

| 4. | Konfigurerad för att tillhandahålla överlagring och samband, eller sammanslagning, av måldata inom sex sekunder från två eller flera "geografiskt åtskilda" radarsensorer, så att den aggregerade prestandan blir bättre än för varje sådan enskild sensor som omfattas av avsnitt 6A008.f. eller 6A008.i.

  .


  Se även den kontrollbestämmelserna för varor med militär användning.








  : | Avsnitt 6A008.l.4 omfattar inte system, utrustningar eller enheter som används för marin trafikövervakning. |
| --- | --- | --- |

4.

Konfigurerad för att tillhandahålla överlagring och samband, eller sammanslagning, av måldata inom sex sekunder från två eller flera "geografiskt åtskilda" radarsensorer, så att den aggregerade prestandan blir bättre än för varje sådan enskild sensor som omfattas av avsnitt 6A008.f. eller 6A008.i.

.

Se även den kontrollbestämmelserna för varor med militär användning.

:

6A102Strålningståliga ‧detektorer‧, andra än dem som omfattas av avsnitt 6A002, som är särskilt konstruerade eller modifierade för att skydda mot nukleära effekter (t.ex. elektromagnetiska pulser (EMP), röntgenstrålar, kombinerad tryck- och termisk effekt), och användbara för "missiler", konstruerade eller specificerade för att motstå strålningsnivåer som svarar till eller överskrider en total strålningsdos om 5 × 105 rads (kisel).

:

I avsnitt 6A102 definieras en ‧detektor‧ som en mekanisk, elektrisk, optisk eller kemisk komponent som automatiskt identifierar och lagrar, eller registrerar en retning såsom en miljöförändring i tryck eller temperatur, en elektrisk eller elektromagnetisk signal eller strålning från ett radioaktivt material. Detta omfattar också komponenter som känner av genom en "one time operation" eller misslyckande.

6A107Gravitationsmetrar (gravimetrar) och komponenter för gravitationsmetrar och gravitationsgradiometrar enligt följande:

| a) | Gravitationsmetrar andra än de som specificeras i avsnitt 6A007.b, avsedda eller modifierade för bruk i luften eller i havet, med en statisk noggrannhet eller en driftsnoggrannhet på 7 × 10-6 m/s2 (0,7 mGal) eller mindre (bättre) och en inställningstid på 2 minuter eller mindre. |
| --- | --- |

a)

Gravitationsmetrar andra än de som specificeras i avsnitt 6A007.b, avsedda eller modifierade för bruk i luften eller i havet, med en statisk noggrannhet eller en driftsnoggrannhet på 7 × 10-6 m/s2 (0,7 mGal) eller mindre (bättre) och en inställningstid på 2 minuter eller mindre.

| b) | Speciellt konstruerade komponenter för gravitationsmetrar enligt specifikation i avsnitt 6A007.b eller 6A107.a och gravitationsgradiometrar enligt specifikation i avsnitt 6A007.c. |
| --- | --- |

b)

Speciellt konstruerade komponenter för gravitationsmetrar enligt specifikation i avsnitt 6A007.b eller 6A107.a och gravitationsgradiometrar enligt specifikation i avsnitt 6A007.c.

6A108Radar och målsökningssystem, andra än de som omfattas av avsnitt 6A008, enligt följande:

| a) | Radar- och laserradarsystem som är konstruerade eller modifierade för användning i rymduppskjutningsfarkoster som omfattas av avsnitt 9A004 eller sondraketer som omfattas av avsnitt 9A104.







  : | Avsnitt 6A108.a omfattar följande:







  a) | utrustning för kartläggning av markkontur |
| --- | --- | --- | --- |

a)

Radar- och laserradarsystem som är konstruerade eller modifierade för användning i rymduppskjutningsfarkoster som omfattas av avsnitt 9A004 eller sondraketer som omfattas av avsnitt 9A104.

:

a)

utrustning för kartläggning av markkontur

| b) | bildsensorutrustning |
| --- | --- |

b)

bildsensorutrustning

| c) | utrustning för scenkartläggning och korrelation (både digital och analog) |
| --- | --- |

c)

utrustning för scenkartläggning och korrelation (både digital och analog)

| d) | radarutrustning för dopplernavigering. |
| --- | --- |

d)

radarutrustning för dopplernavigering.

| b) | Precisionsmålsökningssystem, användbara för ‧missiler‧, enligt följande:






  1. | Sökningssystem som använder en kodöversättare (code translator) i förening med antingen markbundna eller luftburna referenser eller navigationssatellitsystem för att tillhandahålla realtidsmätningar av position och hastighet under flygningen. |
| --- | --- | --- |

b)

Precisionsmålsökningssystem, användbara för ‧missiler‧, enligt följande:

1.

Sökningssystem som använder en kodöversättare (code translator) i förening med antingen markbundna eller luftburna referenser eller navigationssatellitsystem för att tillhandahålla realtidsmätningar av position och hastighet under flygningen.

| 2. | Avståndsmätande radar inklusive tillhörande optiska/infraröda sökare med alla följande egenskaper:






  a) | Vinkelupplösning bättre än 1,5 mrad. |
| --- | --- | --- |

2.

Avståndsmätande radar inklusive tillhörande optiska/infraröda sökare med alla följande egenskaper:

a)

Vinkelupplösning bättre än 1,5 mrad.

| b) | Räckvidd av 30 km eller längre med en avståndsupplösning, som är bättre än 10 m rms. |
| --- | --- |

b)

Räckvidd av 30 km eller längre med en avståndsupplösning, som är bättre än 10 m rms.

| c) | Hastighetsupplösning som är bättre än 3 m/s. |
| --- | --- |

c)

Hastighetsupplösning som är bättre än 3 m/s.

:

Med ‧missil‧ avses i avsnitt 6A108.b kompletta raketsystem och system för obemannade luftfartyg som har en räckvidd som överstiger 300 km.

6A202Fotomultiplikatorrör med båda följande egenskaper:

| a) | Fotokatodyta som är större än 20 cm2 och |
| --- | --- |

a)

Fotokatodyta som är större än 20 cm2 och

| b) | en anodpulsstigtid på mindre än 1 ns. |
| --- | --- |

b)

en anodpulsstigtid på mindre än 1 ns.

6A203Kameror och komponenter, andra än de som omfattas av avsnitt 6A003, enligt följande:

| a) | Mekaniska kameror med roterande spegel, enligt följande, och speciellt konstruerade tillhörande komponenter:






  1. | Mekaniska trumkameror (framing cameras) med en bildhastighet, som är större än 225 000 bilder/s. |
| --- | --- | --- |

a)

Mekaniska kameror med roterande spegel, enligt följande, och speciellt konstruerade tillhörande komponenter:

1.

Mekaniska trumkameror (framing cameras) med en bildhastighet, som är större än 225 000 bilder/s.

| 2. | Svepkameror (spaltkameror) med en skrivhastighet större än 0,5 mm per mikrosekund. |
| --- | --- |

2.

Svepkameror (spaltkameror) med en skrivhastighet större än 0,5 mm per mikrosekund.

| : | I avsnitt 6A203.a omfattar komponenter till sådana kameror deras synkroniseringselektronikenheter och rotorenheter bestående av turbiner, speglar och lager. |
| --- | --- |

:

| b) | Elektroniska svep- (spalt-) och trumkameror, bildrör samt utrustning enligt följande:






  1. | Elektroniska svepkameror (spaltkameror) med vilka en tidsupplösning av 50 ns eller kortare kan uppnås. |
| --- | --- | --- |

b)

Elektroniska svep- (spalt-) och trumkameror, bildrör samt utrustning enligt följande:

1.

Elektroniska svepkameror (spaltkameror) med vilka en tidsupplösning av 50 ns eller kortare kan uppnås.

| 2. | Bildrör (streak tubes) till kameror definierade i avsnitt 6A203.b.l. |
| --- | --- |

2.

Bildrör (streak tubes) till kameror definierade i avsnitt 6A203.b.l.

| 3. | Elektroniska bildkameror (framing cameras) eller kameror med elektronisk slutare med vilka kan uppnås exponeringstider om 50 ns eller kortare. |
| --- | --- |

3.

Elektroniska bildkameror (framing cameras) eller kameror med elektronisk slutare med vilka kan uppnås exponeringstider om 50 ns eller kortare.

| 4. | Följande bildrör till bildkameror och s.k. solid state imaging-anordningar för användning med de kameror som anges i avsnitt 6A203.b.3, nämligen






  a) | zonfokuserande bildförstärkarrör (proximity focused) med en fotokatod på en transparent ledande hinna för att minska resistensen för fotokatodskiktet, |
| --- | --- | --- |

4.

Följande bildrör till bildkameror och s.k. solid state imaging-anordningar för användning med de kameror som anges i avsnitt 6A203.b.3, nämligen

a)

zonfokuserande bildförstärkarrör (proximity focused) med en fotokatod på en transparent ledande hinna för att minska resistensen för fotokatodskiktet,

| b) | gate- (Silicon Intensifier Target) vidikonrör där ett snabbt system tillåter slussning av fotoelektronerna från fotokatoden innan de kolliderar med SIT-plattan, |
| --- | --- |

b)

gate- (Silicon Intensifier Target) vidikonrör där ett snabbt system tillåter slussning av fotoelektronerna från fotokatoden innan de kolliderar med SIT-plattan,

| c) | elektro-optiska slutare av celltyp Kerr eller Pockel, eller |
| --- | --- |

c)

elektro-optiska slutare av celltyp Kerr eller Pockel, eller

| d) | andra bildrör och s.k. solid-state imaging-anordningar som har en snabb-bilds gating-tid på mindre än 50 ns speciellt konstruerade för kameror som anges i 6A203.b.3. |
| --- | --- |

d)

andra bildrör och s.k. solid-state imaging-anordningar som har en snabb-bilds gating-tid på mindre än 50 ns speciellt konstruerade för kameror som anges i 6A203.b.3.

| c) | Strålningshärdade TV-kameror eller linser därtill, särskilt utformade eller klassade att motstå en total stråldos på mer än 50 × 103 Gy (kisel) (5 × 106 rad (kisel) utan att försämras operativt.

  :


  Termen Gy (kisel) avser energi i J/kg som tagits upp av ett oskyddat kiselprov när det utsatts för joniserande strålning. |
| --- | --- |

c)

Strålningshärdade TV-kameror eller linser därtill, särskilt utformade eller klassade att motstå en total stråldos på mer än 50 × 103 Gy (kisel) (5 × 106 rad (kisel) utan att försämras operativt.

:

Termen Gy (kisel) avser energi i J/kg som tagits upp av ett oskyddat kiselprov när det utsatts för joniserande strålning.

6A205"Lasrar", "laser"-förstärkare och oscillatorer, andra än de som omfattas av avsnitt 0B001.g.5, 0B001.h.6 och 6A005, enligt följande:

| ANM.: | För lasrar som arbetar med kopparånga, se avsnitt 6A005.b. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | Argon-jon-"lasrar" som har båda följande egenskaper:






  1. | Är verksam vid våglängder mellan 400 nm och 515 nm, och |
| --- | --- | --- |

a)

Argon-jon-"lasrar" som har båda följande egenskaper:

1.

Är verksam vid våglängder mellan 400 nm och 515 nm, och

| 2. | producerar en medeleffekt större än 40 W. |
| --- | --- |

2.

producerar en medeleffekt större än 40 W.

| b) | Avstämbara pulsade single-mod färgämneslaseroscillatorer med alla följande egenskaper:






  1. | Verksam vid våglängder mellan 300 nm och 800 nm, |
| --- | --- | --- |

b)

Avstämbara pulsade single-mod färgämneslaseroscillatorer med alla följande egenskaper:

1.

Verksam vid våglängder mellan 300 nm och 800 nm,

| 2. | producerar en medeleffekt som är större än 1 W, |
| --- | --- |

2.

producerar en medeleffekt som är större än 1 W,

| 3. | en pulsrepetitionsfrekvens högre än 1 kHz, och |
| --- | --- |

3.

en pulsrepetitionsfrekvens högre än 1 kHz, och

| 4. | en pulsbredd mindre än 100 ns. |
| --- | --- |

4.

en pulsbredd mindre än 100 ns.

| c) | Avstämbara pulsade färgämneslaserförstärkare och oscillatorer med alla följande egenskaper:






  1. | Verksam vid våglängder mellan 300 nm och 800 nm, |
| --- | --- | --- |

c)

Avstämbara pulsade färgämneslaserförstärkare och oscillatorer med alla följande egenskaper:

1.

Verksam vid våglängder mellan 300 nm och 800 nm,

| 2. | med en medeleffekt större än 30 W, |
| --- | --- |

2.

med en medeleffekt större än 30 W,

| 3. | en pulsrepetitionsfrekvens högre än 1 kHz, och |
| --- | --- |

3.

en pulsrepetitionsfrekvens högre än 1 kHz, och

| 4. | en pulsbredd mindre än 100 ns. |
| --- | --- |

4.

en pulsbredd mindre än 100 ns.

| : | Avsnittet 6A205.c omfattar inte single-mod oscillatorer. |
| --- | --- |

:

| d) | Pulsade koldioxid-"lasrar" med alla följande egenskaper:






  1. | Verksam vid våglängder mellan 9 000 nm och 11 000 nm, |
| --- | --- | --- |

d)

Pulsade koldioxid-"lasrar" med alla följande egenskaper:

1.

Verksam vid våglängder mellan 9 000 nm och 11 000 nm,

| 2. | med en pulsrepetitionsfrekvens som är högre än 250 Hz, |
| --- | --- |

2.

med en pulsrepetitionsfrekvens som är högre än 250 Hz,

| 3. | en medeleffekt större än 500 W och |
| --- | --- |

3.

en medeleffekt större än 500 W och

| 4. | en pulsbredd mindre än 200 ns. |
| --- | --- |

4.

en pulsbredd mindre än 200 ns.

| e) | Para-vätefyllda Ramanceller konstruerade för drift vid en utgående våglängd av 16 μm och en repetitionsfrekvens som är högre än 250 Hz. |
| --- | --- |

e)

Para-vätefyllda Ramanceller konstruerade för drift vid en utgående våglängd av 16 μm och en repetitionsfrekvens som är högre än 250 Hz.

| f) | Neodym-dopade (andra än glas) "lasrar" med en utgångsvåglängd mellan 1 000 och 1 100 nm och som har någon av följande egenskaper:






  1. | Pulsexciterade och Q-switchade med en pulslängd på minst 1 ns och som har någon av följande egenskaper:






  a) | En enkel transversell mod med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 40 W. |
| --- | --- | --- | --- |

f)

Neodym-dopade (andra än glas) "lasrar" med en utgångsvåglängd mellan 1 000 och 1 100 nm och som har någon av följande egenskaper:

1.

Pulsexciterade och Q-switchade med en pulslängd på minst 1 ns och som har någon av följande egenskaper:

a)

En enkel transversell mod med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 40 W.

| b) | En multipel transversell mod med en genomsnittlig effekt som överstiger 50 W. |
| --- | --- |

b)

En multipel transversell mod med en genomsnittlig effekt som överstiger 50 W.

| 2. | Har frekvensdubblering för att ge en utgångsvåglängd mellan 500 och 550 nm med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 40 W. |
| --- | --- |

2.

Har frekvensdubblering för att ge en utgångsvåglängd mellan 500 och 550 nm med en genomsnittlig utgångseffekt som överstiger 40 W.

6A225Hastighetsinterferometrar för mätning av hastigheter över 1 km/s under tidsintervall kortare än 10 μs.

| : | 6A225 omfattar hastighetsinterferometrar som VISAR (Velocity interferometer systems for any reflector) och DLI (Doppler laser interferometers). |
| --- | --- |

:

6A226Tryckgivare enligt följande:

| a) | Manganingivare för tryck överstigande 10 GPa. |
| --- | --- |

a)

Manganingivare för tryck överstigande 10 GPa.

| b) | Trycktransduktorer av kvartstyp för tryck överstigande 10 GPa. |
| --- | --- |

b)

Trycktransduktorer av kvartstyp för tryck överstigande 10 GPa.

6BTest-, inspektions- och produktionsutrustning

6B004Optisk utrustning enligt följande:

| a) | Utrustning för mätning av absoluta reflektionsfaktorn med en noggrannhet av ± 0,1 % av reflektionsvärdet. |
| --- | --- |

a)

Utrustning för mätning av absoluta reflektionsfaktorn med en noggrannhet av ± 0,1 % av reflektionsvärdet.

| b) | Utrustning annan än utrustning som optiskt mäter ytan med hjälp av spridning (scattering) och som har en icke nedbländad (unobscured) öppning på mer än 10 cm, speciellt konstruerad för optisk mätning utan kontakt av icke plan yta (profil) med en "noggrannhet" av 2 nm eller mindre (bättre) än optisk begärd profil.







  : | Avsnitt 6B004 omfattar inte mikroskop. |
| --- | --- | --- |

b)

Utrustning annan än utrustning som optiskt mäter ytan med hjälp av spridning (scattering) och som har en icke nedbländad (unobscured) öppning på mer än 10 cm, speciellt konstruerad för optisk mätning utan kontakt av icke plan yta (profil) med en "noggrannhet" av 2 nm eller mindre (bättre) än optisk begärd profil.

:

6B007Utrustning för att producera, rikta upp och kalibrera landbaserade gravitationsmetrar med en statisk noggrannhet som är bättre än 0,1 mGal.

6B008Pulsradarsystem för mätning av tvärsnitt med en sändningspuls om 100 ns eller mindre samt till dessa speciellt konstruerade komponenter.

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 6B108. |
| --- | --- |

ANM.:

6B108System, andra än de som omfattas av avsnitt 6B008, som är speciellt konstruerade för mätning av radarmålarea och som kan användas för ‧missiler‧ och deras delsystem.

:

Med ‧missil‧ avses i avsnitt 6B108 kompletta raketsystem och system för obemannade luftfartyg med en räckvidd som överstiger 300 km.

6CMaterial

6C002Optiska sensormaterial enligt följande:

| a) | Ren tellurmetall (Te) med en renhetsnivå som är bättre än 99,9995 %. |
| --- | --- |

a)

Ren tellurmetall (Te) med en renhetsnivå som är bättre än 99,9995 %.

| b) | En kristall (inklusive epitaxiella skivor ("wafers")) av något av följande:






  1. | Kadmiumzinktellurid (CdZnTe) med en zinkhalt som understiger 6 % i ‧molfraktion‧. |
| --- | --- | --- |

b)

En kristall (inklusive epitaxiella skivor ("wafers")) av något av följande:

1.

Kadmiumzinktellurid (CdZnTe) med en zinkhalt som understiger 6 % i ‧molfraktion‧.

| 2. | Kadmiumtellurid (CdTe) oberoende av renhetsgrad, eller |
| --- | --- |

2.

Kadmiumtellurid (CdTe) oberoende av renhetsgrad, eller

| 3. | kvicksilverkadmiumtellurid (HgCdTe) oberoende av renhetsgrad.

  :


  ‧Molfraktion‧ definieras som andelen mol av ZnTe i förhållande till summan av mol av CdTe och ZnTe i kristallen. |
| --- | --- |

3.

kvicksilverkadmiumtellurid (HgCdTe) oberoende av renhetsgrad.

:

‧Molfraktion‧ definieras som andelen mol av ZnTe i förhållande till summan av mol av CdTe och ZnTe i kristallen.

6C004Optiska material enligt följande:

| a) | "Skivor" ("substrate blanks") av zinkselenid (ZnSe) och zinksulfid (ZnS) som framställts genom kemisk förångningsdeposition och som har någon av följande egenskaper:






  1. | En volym som är större än 100 cm3. |
| --- | --- | --- |

a)

"Skivor" ("substrate blanks") av zinkselenid (ZnSe) och zinksulfid (ZnS) som framställts genom kemisk förångningsdeposition och som har någon av följande egenskaper:

1.

En volym som är större än 100 cm3.

| 2. | En diameter som är större än 80 mm och en tjocklek på minst 20 mm. |
| --- | --- |

2.

En diameter som är större än 80 mm och en tjocklek på minst 20 mm.

| b) | Handtagsformade (halvrunda) stycken av något av följande elektrooptiska material:






  1. | Kaliumtitanarsenat (KTA) (CAS 59400-80-5). |
| --- | --- | --- |

b)

Handtagsformade (halvrunda) stycken av något av följande elektrooptiska material:

1.

Kaliumtitanarsenat (KTA) (CAS 59400-80-5).

| 2. | Silvergalliumselenid (AgGaSe2) (CAS 12002-67-4). |
| --- | --- |

2.

Silvergalliumselenid (AgGaSe2) (CAS 12002-67-4).

| 3. | Talliumarsenikselenid (Tl3AsSe3, även känt som TAS) (CAS 16142-89-5). |
| --- | --- |

3.

Talliumarsenikselenid (Tl3AsSe3, även känt som TAS) (CAS 16142-89-5).

| c) | Icke linjära optiska material med följande egenskaper:






  1. | Tredje ordningens mottaglighet (chi 3) på 10-6 m2/V2 eller mer, och |
| --- | --- | --- |

c)

Icke linjära optiska material med följande egenskaper:

1.

Tredje ordningens mottaglighet (chi 3) på 10-6 m2/V2 eller mer, och

| 2. | en svarstid som är mindre än 1 ms. |
| --- | --- |

2.

en svarstid som är mindre än 1 ms.

| d) | "Skivor" ("substrat blank") av kiselkarbid eller beryllium-beryllium (Be-Be) där det deponerade materialet överstiger 300 mm i diameter eller huvudaxellängd. |
| --- | --- |

d)

"Skivor" ("substrat blank") av kiselkarbid eller beryllium-beryllium (Be-Be) där det deponerade materialet överstiger 300 mm i diameter eller huvudaxellängd.

| e) | Glas, inklusive smält kvarts, fosfatglas, fluorfosfatglas, zirkoniumfluorid (ZrF4) (CAS 7783-64-4) och hafniumfluorid (HfF4) (CAS 13709-52-9), som har samtliga följande egenskaper:






  1. | en hydroxyljon (OH-)koncentration som är mindre än 5 ppm, |
| --- | --- | --- |

e)

Glas, inklusive smält kvarts, fosfatglas, fluorfosfatglas, zirkoniumfluorid (ZrF4) (CAS 7783-64-4) och hafniumfluorid (HfF4) (CAS 13709-52-9), som har samtliga följande egenskaper:

1.

en hydroxyljon (OH-)koncentration som är mindre än 5 ppm,

| 2. | en renhetsnivå från ingående metaller mindre än 1 ppm, och |
| --- | --- |

2.

en renhetsnivå från ingående metaller mindre än 1 ppm, och

| 3. | hög homogenitet (brytningsindexvariation) mindre än 5 × 10-6. |
| --- | --- |

3.

hög homogenitet (brytningsindexvariation) mindre än 5 × 10-6.

| f) | Syntetiskt producerade diamantmaterial med en absorption som är mindre än 10-5 cm-1 för våglängder som överstiger 200 nm men inte 14 000 nm. |
| --- | --- |

f)

Syntetiskt producerade diamantmaterial med en absorption som är mindre än 10-5 cm-1 för våglängder som överstiger 200 nm men inte 14 000 nm.

6C005Syntetiska kristallina värdmaterial för "lasrar" i obearbetad form enligt följande:

| a) | Titan-dopad safir. |
| --- | --- |

a)

Titan-dopad safir.

| b) | Alexandrit. |
| --- | --- |

b)

Alexandrit.

6DProgramvara

6D001"Programvara" speciellt utformad för "utveckling" eller "produktion" av utrustning som omfattas av avsnitten 6A004, 6A005, 6A008 eller 6B008.

6D002"Programvara" speciellt utformad för "användning" av utrustning som omfattas av avsnitten 6A002.b, 6A008 eller 6B008.

6D003Annan "programvara", enligt följande:

| a) | "Programvara" enligt följande:






  1. | "Programvara" speciellt utformad för att skapa akustiska strålar för "realtidsbearbetning" av akustiska data som insamlats från passiva mottagare i bogserade hydrofoner som arbetar i grupp. |
| --- | --- | --- |

a)

"Programvara" enligt följande:

1.

"Programvara" speciellt utformad för att skapa akustiska strålar för "realtidsbearbetning" av akustiska data som insamlats från passiva mottagare i bogserade hydrofoner som arbetar i grupp.

| 2. | "Källkod" för "realtidsbearbetning" av akustiska data som insamlats från passiva mottagare i bogserade hydrofoner som arbetar i grupp. |
| --- | --- |

2.

"Källkod" för "realtidsbearbetning" av akustiska data som insamlats från passiva mottagare i bogserade hydrofoner som arbetar i grupp.

| 3. | "Programvara" speciellt utformad för att skapa akustiska strålar för "realtidsbearbetning" av akustiska data som insamlats från passiva mottagare och som utnyttjar kabelsystem för bottnar eller havsvikar. |
| --- | --- |

3.

"Programvara" speciellt utformad för att skapa akustiska strålar för "realtidsbearbetning" av akustiska data som insamlats från passiva mottagare och som utnyttjar kabelsystem för bottnar eller havsvikar.

| 4. | "Källkod" för "realtidsbearbetning" av akustiska data som insamlats från passiva mottagare och som utnyttjar kabelsystem för bottnar eller havsvikar. |
| --- | --- |

4.

"Källkod" för "realtidsbearbetning" av akustiska data som insamlats från passiva mottagare och som utnyttjar kabelsystem för bottnar eller havsvikar.

| 5. | "Programvara" eller "källkod", särskilt utformade för allt följande:






  a) | "Realtidsbearbetning" av akustiska data från sonarsystem enligt 6A001.a.1.e. |
| --- | --- | --- |

5.

"Programvara" eller "källkod", särskilt utformade för allt följande:

a)

"Realtidsbearbetning" av akustiska data från sonarsystem enligt 6A001.a.1.e.

| b) | Automatisk upptäckt, klassificering och lokalisering av dykare eller simmare. |
| --- | --- |

b)

Automatisk upptäckt, klassificering och lokalisering av dykare eller simmare.

| : | För "programvara" eller "källkod" för upptäckt av dykare, särskilt utformad eller modifierad för militär användning, se den kontrollbestämmelserna för varor med militär användning. |
| --- | --- |

:

| b) | Används inte. |
| --- | --- |

b)

Används inte.

| c) | "Programvara" som är utformad eller modifierad för kameror som innehåller "fokalplansmatriser" som omfattas av avsnitt 6A002.a.3.f och som är utformad eller modifierad för att avlägsna begränsningen av bildhastigheten och göra det möjligt för kameran att överskrida den bildhastighet som anges i avsnitt 6A003.b.4, anm. 3.a. |
| --- | --- |

c)

"Programvara" som är utformad eller modifierad för kameror som innehåller "fokalplansmatriser" som omfattas av avsnitt 6A002.a.3.f och som är utformad eller modifierad för att avlägsna begränsningen av bildhastigheten och göra det möjligt för kameran att överskrida den bildhastighet som anges i avsnitt 6A003.b.4, anm. 3.a.

| d) | Används inte. |
| --- | --- |

d)

Används inte.

| e) | Används inte. |
| --- | --- |

e)

Används inte.

| f) | "Programvara" enligt följande:






  1. | "Programvara" speciellt utformad för "kompensationssystem" med avseende på magnetfält och elektriska fält för magnetiska givare konstruerade för drift på mobila plattformar. |
| --- | --- | --- |

f)

"Programvara" enligt följande:

1.

"Programvara" speciellt utformad för "kompensationssystem" med avseende på magnetfält och elektriska fält för magnetiska givare konstruerade för drift på mobila plattformar.

| 2. | "Programvara" speciellt utformad för att upptäcka avvikelser i magnetfält och elektriska fält på mobila plattformar. |
| --- | --- |

2.

"Programvara" speciellt utformad för att upptäcka avvikelser i magnetfält och elektriska fält på mobila plattformar.

| 3. | "Programvara" särskilt utformad för "realtidsbearbetning" av elektromagnetiska data som insamlats från sådana elektromagnetiska mottagare för undervattensbruk som specificeras i 6A006.e. |
| --- | --- |

3.

"Programvara" särskilt utformad för "realtidsbearbetning" av elektromagnetiska data som insamlats från sådana elektromagnetiska mottagare för undervattensbruk som specificeras i 6A006.e.

| 4. | "Källkod" för "realtidsbearbetning" av elektromagnetiska data som insamlats från sådana elektromagnetiska mottagare för undervattensbruk som specificeras i 6A006.e. |
| --- | --- |

4.

"Källkod" för "realtidsbearbetning" av elektromagnetiska data som insamlats från sådana elektromagnetiska mottagare för undervattensbruk som specificeras i 6A006.e.

| g) | "Programvara" speciellt utformad för att korrigera för rörelsers inflytande på gravitationsmetrar eller gravitationsgradiometrar. |
| --- | --- |

g)

"Programvara" speciellt utformad för att korrigera för rörelsers inflytande på gravitationsmetrar eller gravitationsgradiometrar.

| h) | "Programvara" enligt följande:






  1. | "Programvara" för flygkontrolltjänst (ATC) utformad för att som installeras i datorer av standardtyp vid en luftövervakningscentral och i stånd att ta emot måldata från mer än fyra primärradarstationer. |
| --- | --- | --- |

h)

"Programvara" enligt följande:

1.

"Programvara" för flygkontrolltjänst (ATC) utformad för att som installeras i datorer av standardtyp vid en luftövervakningscentral och i stånd att ta emot måldata från mer än fyra primärradarstationer.

| 2. | "Programvara" för konstruktion eller "produktion" av radomer, som har båda följande egenskaper:






  a) | Speciellt konstruerade för att skydda de "elektroniskt styrbara infasade antennsammansättningarna" som omfattas av avsnitt 6A008.e. |
| --- | --- | --- |

2.

"Programvara" för konstruktion eller "produktion" av radomer, som har båda följande egenskaper:

a)

Speciellt konstruerade för att skydda de "elektroniskt styrbara infasade antennsammansättningarna" som omfattas av avsnitt 6A008.e.

| b) | Resulterar i ett antenndiagram som har en ‧genomsnittlig sidlobsnivå‧ som är mer än 40 dB under maxvärdet av huvudlobens nivå.

  :


  Med ‧genomsnittlig sidlobsnivå‧ avses i avsnitt 6D003.h.2.b en nivå som mäts över hela antennsammansättningen utom den vinkel där huvudloben och de två första sidoloberna på vardera sidan om huvudloben finns. |
| --- | --- |

b)

Resulterar i ett antenndiagram som har en ‧genomsnittlig sidlobsnivå‧ som är mer än 40 dB under maxvärdet av huvudlobens nivå.

:

Med ‧genomsnittlig sidlobsnivå‧ avses i avsnitt 6D003.h.2.b en nivå som mäts över hela antennsammansättningen utom den vinkel där huvudloben och de två första sidoloberna på vardera sidan om huvudloben finns.

6D102"Programvara" speciellt utformad eller modifierad för "användning" av varor som omfattas av avsnitt 6A108.

6D103"Programvara", speciellt utformad eller modifierad för ‧missiler‧, som efter avslutad flygning behandlar inspelade data för fastställande av farkostens position under hela flygvägen.

:

Med ‧missil‧ avses i avsnitt 6D103 kompletta raketsystem och system för obemannade luftfartyg som har en räckvidd som överstiger 300 km.

6ETeknik

6E001"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för "utveckling" av utrustning, material eller "programvara" som omfattas av avsnitten 6A, 6B, 6C eller 6D.

6E002"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för "produktion" av utrustning eller material som omfattas av avsnitten 6A, 6B eller 6C.

6E003Övrig "teknik" enligt följande:

| a) | "Teknik" enligt följande:






  1. | "Teknik" som "erfordras" för behandling och beläggning av optiska ytor för att uppnå en ‧optisk tjocklek‧ likformighet som är 99,5 % eller bättre för optiska ytor med en diameter eller huvudaxel som är minst 500 mm och vars totala förluster (absorption och spridning) är mindre än 5 × 10-3.







  : | Se även avsnitt 2E003.f. |
| --- | --- | --- | --- |

a)

"Teknik" enligt följande:

1.

"Teknik" som "erfordras" för behandling och beläggning av optiska ytor för att uppnå en ‧optisk tjocklek‧ likformighet som är 99,5 % eller bättre för optiska ytor med en diameter eller huvudaxel som är minst 500 mm och vars totala förluster (absorption och spridning) är mindre än 5 × 10-3.

:

:

Den ‧optiska tjockleken‧ är lika med den matematiska produkten av refraktionsindexet och den fysiska tjockleken av ytan.

| 2. | Optisk tillverknings-"teknik" med enpunkts diamantslipningsteknik med en ytnoggrannhet som är bättre än 10 nm rms på icke plana ytor som överstiger 0,5 m2. |
| --- | --- |

2.

Optisk tillverknings-"teknik" med enpunkts diamantslipningsteknik med en ytnoggrannhet som är bättre än 10 nm rms på icke plana ytor som överstiger 0,5 m2.

| b) | "Teknik" som "erfordras" för "utveckling", "produktion" eller "användning" av speciellt konstruerade diagnostiska instrument eller objekt i anläggningar där högeffekts-"lasrar" ("Super High Power Laser" ("SHPL")) testas eller för utvärdering av material som bestrålats med "SHPL"-strålar. |
| --- | --- |

b)

"Teknik" som "erfordras" för "utveckling", "produktion" eller "användning" av speciellt konstruerade diagnostiska instrument eller objekt i anläggningar där högeffekts-"lasrar" ("Super High Power Laser" ("SHPL")) testas eller för utvärdering av material som bestrålats med "SHPL"-strålar.

6E101"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för "användning" av utrustning eller "programvara" som omfattas av avsnitten 6A002, 6A007.b och c, 6A008, 6A102, 6A107, 6A108, 6B108, 6D102 eller 6D103.

| : | Avsnitt 6E101 omfattar endast "teknik" för utrustning som omfattas av avsnitt 6A008 när utrustningen är konstruerad för luftfarkoster och kan användas i "missiler". |
| --- | --- |

:

6E201"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för "användning" av utrustning som omfattas av avsnitt 6A003, 6A005.a.2, 6A005.b.2, 6A005.b.3, 6A005.b.4, 6A005.b.6, 6A005.c.2, 6A005.d.3.c, 6A005.d.4.c, 6A202, 6A203, 6A205, 6A225 eller 6A226.

KATEGORI 7

NAVIGATION OCH AVIONIK

7ASystem, utrustning och komponenter

| : | För autopiloter till undervattensfarkoster, se kategori 8. För radar, se kategori 6. |
| --- | --- |

:

7A001Accelerometrar enligt följande, samt tillhörande speciellt konstruerade komponenter:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 7A101. |
| --- | --- |

ANM.:

| : | För vinkel- eller rotationsaccelerometrar, se avsnitt 7A001.b. |
| --- | --- |

:

| a) | Linjära accelerometrar som har någon av följande egenskaper:






  1. | Specificerade för att kunna arbeta vid linjära accelerationsnivåer på högst 15 g och som har någon av följande egenskaper:






  a) | En "grundstabilitet" som är mindre (bättre) än 130 μg med hänsyn till ett fast kalibreringsvärde över en tidsperiod på 1 år. |
| --- | --- | --- | --- |

a)

Linjära accelerometrar som har någon av följande egenskaper:

1.

Specificerade för att kunna arbeta vid linjära accelerationsnivåer på högst 15 g och som har någon av följande egenskaper:

a)

En "grundstabilitet" som är mindre (bättre) än 130 μg med hänsyn till ett fast kalibreringsvärde över en tidsperiod på 1 år.

| b) | En "skalfaktor"-"stabilitet" som är mindre (bättre) än 130 ppm med hänsyn till ett fast kalibreringsvärde över en tidsperiod på 1 år. |
| --- | --- |

b)

En "skalfaktor"-"stabilitet" som är mindre (bättre) än 130 ppm med hänsyn till ett fast kalibreringsvärde över en tidsperiod på 1 år.

| 2. | Specificerade för att kunna arbeta vid linjära accelerationsnivåer som överstiger 15 g men är högst 100 g och som har båda följande egenskaper:






  a) | En "grundstabilitets"-"repeterbarhet" på mindre (bättre) än 5 000 μg över en tidsperiod på 1 år. |
| --- | --- | --- |

2.

Specificerade för att kunna arbeta vid linjära accelerationsnivåer som överstiger 15 g men är högst 100 g och som har båda följande egenskaper:

a)

En "grundstabilitets"-"repeterbarhet" på mindre (bättre) än 5 000 μg över en tidsperiod på 1 år.

| b) | En "skalfaktors"-"repeterbarhet" på mindre (bättre) än 2 500 ppm över en tidsperiod på 1 år. |
| --- | --- |

b)

En "skalfaktors"-"repeterbarhet" på mindre (bättre) än 2 500 ppm över en tidsperiod på 1 år.

| 3. | Konstruerade för användning i tröghetsnavigeringssystem eller styrsystem och specificerade för att kunna arbeta vid linjära accelerationsnivåer som överstiger 100 g.







  : | 7A001.a.1. och 7A001.a.2. omfattar inte accelerometrar som är begränsade till mätning av vibration eller stötar. |
| --- | --- | --- |

3.

Konstruerade för användning i tröghetsnavigeringssystem eller styrsystem och specificerade för att kunna arbeta vid linjära accelerationsnivåer som överstiger 100 g.

:

| b) | Vinkel- eller rotationsaccelerometrar som är specificerade för att kunna arbeta vid linjära accelerationsnivåer som överstiger 100 g. |
| --- | --- |

b)

Vinkel- eller rotationsaccelerometrar som är specificerade för att kunna arbeta vid linjära accelerationsnivåer som överstiger 100 g.

7A002Gyron eller vinkelhastighetssensorer som har någon av följande egenskaper, samt tillhörande speciellt konstruerade komponenter:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 7A102. |
| --- | --- |

ANM.:

| : | För vinkel- eller rotationsaccelerometrar, se avsnitt 7A001.b. |
| --- | --- |

:

| a) | Specificerade för att fungera vid linjära accelerationsnivåer på högst 100 g och som har någon av följande egenskaper:






  1. | Ett mätområde som är mindre än 500 °/s och som har någon av följande egenskaper:






  a) | En "grundstabilitet" som är mindre (bättre) än 0,5 °/h som när den mäts i en 1 g-omgivning under en tidsperiod på 1 månad i förhållande till ett fast kalibreringsvärde. |
| --- | --- | --- | --- |

a)

Specificerade för att fungera vid linjära accelerationsnivåer på högst 100 g och som har någon av följande egenskaper:

1.

Ett mätområde som är mindre än 500 °/s och som har någon av följande egenskaper:

a)

En "grundstabilitet" som är mindre (bättre) än 0,5 °/h som när den mäts i en 1 g-omgivning under en tidsperiod på 1 månad i förhållande till ett fast kalibreringsvärde.

| b) | En "slumpmässig vinkeldrift" som är mindre (bättre) än eller lika med 0,0035° per kvadrotstimme.







  : | Avsnitt 7A002a.1.b omfattar inte ‧gyron med roterande massa‧. |
| --- | --- | --- |

b)

En "slumpmässig vinkeldrift" som är mindre (bättre) än eller lika med 0,0035° per kvadrotstimme.

:

:

‧Gyron med roterande massa‧ är gyron som använder en ständigt roterande massa för att känna av vinkelrörelser.

| 2. | Ett mätområde som är minst 500 °/s och som har någon av följande egenskaper:






  a) | En "grundstabilitet" som är mindre (bättre) än 40 °/h när den mäts i en 1 g-omgivning under en tidsperiod på 3 minuter i förhållande till ett fast kalibreringsvärde. |
| --- | --- | --- |

2.

Ett mätområde som är minst 500 °/s och som har någon av följande egenskaper:

a)

En "grundstabilitet" som är mindre (bättre) än 40 °/h när den mäts i en 1 g-omgivning under en tidsperiod på 3 minuter i förhållande till ett fast kalibreringsvärde.

| b) | En "slumpmässig vinkeldrift" som är mindre (bättre) än eller lika med 0,2° per kvadrotstimme.







  : | 7A002.a.2.b. omfattar inte ‧gyron med roterande massa‧. |
| --- | --- | --- |

b)

En "slumpmässig vinkeldrift" som är mindre (bättre) än eller lika med 0,2° per kvadrotstimme.

:

:

‧Gyron med roterande massa‧ är gyron som använder en ständigt roterande massa för att känna av vinkelrörelser.

| b) | Specificerade för att fungera vid linjära accelerationsnivåer över 100 g. |
| --- | --- |

b)

Specificerade för att fungera vid linjära accelerationsnivåer över 100 g.

7A003Tröghetssystem och speciellt konstruerade komponenter enligt följande:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 7A103. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | Tröghetsnavigeringssystem (INS) (kardanupphängda eller skrovfasta) och tröghetssystem konstruerade för "luftfartyg", landfordon, fartyg (ytfartyg eller undervattensfarkoster) eller "rymdfarkoster" för navigering, positionering, styrning eller kontroll och som har någon av följande egenskaper, samt speciellt konstruerade komponenter därtill:






  1. | Navigationsfel (fri tröghet) på 0,8 nautiska mil/tim (nm/hr) ‧troligt cirkulärt fel‧ (‧Circular Error Probable‧ (‧CEP‧)) eller mindre (bättre) efter normal justering, eller |
| --- | --- | --- |

a)

Tröghetsnavigeringssystem (INS) (kardanupphängda eller skrovfasta) och tröghetssystem konstruerade för "luftfartyg", landfordon, fartyg (ytfartyg eller undervattensfarkoster) eller "rymdfarkoster" för navigering, positionering, styrning eller kontroll och som har någon av följande egenskaper, samt speciellt konstruerade komponenter därtill:

1.

Navigationsfel (fri tröghet) på 0,8 nautiska mil/tim (nm/hr) ‧troligt cirkulärt fel‧ (‧Circular Error Probable‧ (‧CEP‧)) eller mindre (bättre) efter normal justering, eller

| 2. | specificerade för att fungera vid linjära accelerationsnivåer över 10 g. |
| --- | --- |

2.

specificerade för att fungera vid linjära accelerationsnivåer över 10 g.

| b) | Hybrida tröghetsnavigeringssystem med globalt/globala navigationssatellitsystem (GNSS) eller med databaserat/"databaserade refererensnavigerings"- ("DBRN") - system för navigering, positionering, styrning eller kontroll, efter normal justering och som har en INS-navigeringslägesnoggrannhet efter förlust av GNSS eller "DBRN" under upp till fyra minuter på mindre (bättre) än 10 m (‧troligt cirkulärt fel‧ – ‧CEP‧ – ‧Circular Error Probable‧). |
| --- | --- |

b)

Hybrida tröghetsnavigeringssystem med globalt/globala navigationssatellitsystem (GNSS) eller med databaserat/"databaserade refererensnavigerings"- ("DBRN") - system för navigering, positionering, styrning eller kontroll, efter normal justering och som har en INS-navigeringslägesnoggrannhet efter förlust av GNSS eller "DBRN" under upp till fyra minuter på mindre (bättre) än 10 m (‧troligt cirkulärt fel‧ – ‧CEP‧ – ‧Circular Error Probable‧).

| c) | Tröghetsmätningsutrustning för bestämning av riktning eller geografisk nordpol och som har någon av följande egenskaper, samt därtill särskilt konstruerade komponenter:






  1. | Konstruerad för bestämning av riktning eller geografisk nordpol med en noggrannhet som är lika med eller mindre (bättre) än 0,07 grader dividerat med cosinus för latituden (vilket är lika med 6 bågminuter rms vid 45 graders latitud), eller |
| --- | --- | --- |

c)

Tröghetsmätningsutrustning för bestämning av riktning eller geografisk nordpol och som har någon av följande egenskaper, samt därtill särskilt konstruerade komponenter:

1.

Konstruerad för bestämning av riktning eller geografisk nordpol med en noggrannhet som är lika med eller mindre (bättre) än 0,07 grader dividerat med cosinus för latituden (vilket är lika med 6 bågminuter rms vid 45 graders latitud), eller

| 2. | konstruerad för att, när den inte är i drift, ha en stöttolerans på 900 g eller mer under 1 millisekund eller mer. |
| --- | --- |

2.

konstruerad för att, när den inte är i drift, ha en stöttolerans på 900 g eller mer under 1 millisekund eller mer.

| d) | Mätutrustning för tröghetsnavigering som omfattar mätenheter för tröghetsnavigering (IMU) och referenssystem för tröghetsnavigering (IRS), inbegripet accelerometrar eller gyron som specificeras i avsnitt 7A001 eller 7A002.







  : | Parametrarna i avsnitten 7A003.a och 7A003.b är tillämpbara under något av följande omgivningsförhållanden:







  a) | Slumpmässiga vibrationer med en magnitud av 7,7 g rms under de första 30 minuterna och en total testtid på 90 minuter per axel i var och en av de tre mot varandra vinkelräta axlarna när den slumpvisa vibrationer uppfyller båda följande villkor:








  1. | En konstant effekttäthet (PSD = power spectral density) med värdet 0,04 g2/Hz över frekvensområdet 15 till 1 000 Hz. |
| --- | --- | --- | --- | --- |

d)

Mätutrustning för tröghetsnavigering som omfattar mätenheter för tröghetsnavigering (IMU) och referenssystem för tröghetsnavigering (IRS), inbegripet accelerometrar eller gyron som specificeras i avsnitt 7A001 eller 7A002.

:

a)

Slumpmässiga vibrationer med en magnitud av 7,7 g rms under de första 30 minuterna och en total testtid på 90 minuter per axel i var och en av de tre mot varandra vinkelräta axlarna när den slumpvisa vibrationer uppfyller båda följande villkor:

1.

En konstant effekttäthet (PSD = power spectral density) med värdet 0,04 g2/Hz över frekvensområdet 15 till 1 000 Hz.

| 2. | Effekttätheten dämpas med frekvensen från 0,04 g2/Hz till 0,01 g2/Hz inom frekvensområdet 1 000 till 2 000 Hz. |
| --- | --- |

2.

Effekttätheten dämpas med frekvensen från 0,04 g2/Hz till 0,01 g2/Hz inom frekvensområdet 1 000 till 2 000 Hz.

| b) | En vinkelhastighetsförmåga kring en eller flera axlar som är lika med eller mer än + 2,62 radianer/s (150 °/s). |
| --- | --- |

b)

En vinkelhastighetsförmåga kring en eller flera axlar som är lika med eller mer än + 2,62 radianer/s (150 °/s).

| c) | I enlighet med nationella standarder som motsvarar a och b ovan. |
| --- | --- |

c)

I enlighet med nationella standarder som motsvarar a och b ovan.

| : | Avsnitt 7A003 omfattar inte tröghetssystem för navigering som certifierats för användning på "civila luftfartyg" av civila myndigheter i "deltagande stat". |
| --- | --- |

:

| : | Avsnitt 7A003.c.1 omfattar inte teodolitsystem som innehåller tröghetsutrustning speciellt konstruerad för civil övervakning. |
| --- | --- |

:

:

| 1. | Avsnitt 7A003.b avser system där ett INS eller annat navigeringshjälpmedel integreras till en enda enhet för förbättrad prestanda. |
| --- | --- |

1.

| 2. | ‧Circular Error Probable‧ (CEP) – Vid cirkulär, normal distribution, den radie av en cirkel som innehåller 50 % av de enskilda mätningar som görs eller den radie av en cirkel inom vilken sannolikheten att de finns är 50 %. |
| --- | --- |

2.

7A004Astrogyrokompasser och andra utrustningar som beräknar position eller orientering genom att automatiskt följa himlakroppar eller satelliter, med en azimut noggrannhet som är lika med eller mindre (bättre) än 5 bågsekunder.

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 7A104. |
| --- | --- |

ANM.:

7A005Mottagarutrustning för det globala systemet för satellitnavigering (GNSS) med någon av följande egenskaper samt till dem speciellt konstruerade komponenter:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 7A105. |
| --- | --- |

ANM.:

| : | För utrustning som särskilt utformats för militär användning, se den kontrollbestämmelserna för varor med militär användning. |
| --- | --- |

:

| a) | Använder en dekrypteringsalgoritm som särskilt utformats eller modifierats för statlig användning för åtkomst till avståndsbestämningskoden för position och tid. |
| --- | --- |

a)

Använder en dekrypteringsalgoritm som särskilt utformats eller modifierats för statlig användning för åtkomst till avståndsbestämningskoden för position och tid.

| b) | Använder ‧adaptiva gruppantenner‧.







  : | 7A005.b omfattar inte GNSS-mottagarutrustning som enbart utnyttjar komponenter som utformats för att filtrera, koppla om eller kombinera signaler från flera rundstrålande antenner i vilka inga adaptiva gruppantenner används. |
| --- | --- | --- |

b)

Använder ‧adaptiva gruppantenner‧.

:

:

De i 7A005.b avsedda ‧adaptiva gruppantennerna‧ genererar på ett dynamiskt sätt en eller flera rumsliga nollor i ett antennsystemmönster genom signalbehandling i tids- eller frekvensdomänen.

7A006Luftburna höjdmätare som arbetar utanför frekvensområdet 4,2-4,4 GHz och som har någon av följande egenskaper:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 7A106. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | "Uteffektsanpassning", eller |
| --- | --- |

a)

"Uteffektsanpassning", eller

| b) | fasskiftsmodulation. |
| --- | --- |

b)

fasskiftsmodulation.

7A008Sonarsystem för undervattensnavigering som arbetar med dopplerhastighet eller korrelationshastighet integrerat med en kursgivare, och som har en positioneringsnoggrannhet som är lika med eller mindre (bättre) än 3 % av det tillryggalagda avståndet ‧CEP‧ (‧Circular Error Probable‧), samt därtill särskilt konstruerade komponenter.

| : | Avsnitt 7A008 omfattar inte system som är särskilt konstruerade för att installeras på ytfartyg eller system som kräver akustiska strålar eller bojar för att ge positioneringsdata. |
| --- | --- |

:

| : | Se avsnitt 6A001.a för akustiska system och avsnitt 6A001.b för sonarutrustning som arbetar med korrelationshastighet och dopplerhastighet. Se avsnitt 8A002 för andra marina system. |
| --- | --- |

:

7A101Linjära accelerometrar, andra än de som omfattas av avsnitt 7A001, konstruerade för användning i tröghetsnavigeringssystem eller i styrsystem av alla typer, som kan användas i ‧missiler‧, och som har båda följande egenskaper, samt speciellt konstruerade komponenter till dessa:

| a) | En "grundstabilitets"-"repeterbarhet" på mindre (bättre) än 1 250 μg. |
| --- | --- |

a)

En "grundstabilitets"-"repeterbarhet" på mindre (bättre) än 1 250 μg.

| b) | En "skalfaktors"-"repeterbarhet" på mindre (bättre) än 1 250 ppm. |
| --- | --- |

b)

En "skalfaktors"-"repeterbarhet" på mindre (bättre) än 1 250 ppm.

| : | Avsnitt 7A101 omfattar inte accelerometrar som är speciellt konstruerade och utvecklade för MWD (Measurement While Drilling) sensorer för användning vid borrning i gruvor. |
| --- | --- |

:

Avsnitt 7A101 omfattar inte accelerometrar som är speciellt konstruerade och utvecklade för MWD (Measurement While Drilling) sensorer för användning vid borrning i gruvor.

:

| 1. | I avsnitt 7A101 avses med ‧missil‧ kompletta raketsystem och system för obemannade luftfartyg med en räckvidd som överstiger 300 km. |
| --- | --- |

1.

| 2. | I avsnitt 7A101 avser mätningen av "grundstabilitet" och "skalfaktor" en 1 sigma standardavvikelse med avseende på en fast kalibrering under en period av ett år. |
| --- | --- |

2.

7A102Alla slags gyron, andra än de som omfattas av avsnitt 7A002, som kan användas i ‧missiler‧ med en beräknad "drifthastighets"-‧stabilitet‧ på mindre än 0,5 ° (1 sigma eller rms)/timme i en 1 g-omgivning och därtill speciellt konstruerade komponenter.

:

| 1. | I avsnitt 7A102 avses med ‧missil‧ kompletta raketsystem och system för obemannade luftfartyg med en räckvidd som överstiger 300 km. |
| --- | --- |

1.

| 2. | I avsnitt 7A102 definieras ‧stabilitet‧ som måttet på en specifik mekanisms eller resultatkoefficients förmåga att förbli oförändrad när den kontinuerligt exponeras för fasta operativa betingelser (IEEE STD 528-2001 punkt 2.247). |
| --- | --- |

2.

7A103Instrumentering, navigationsutrustning och system, andra än de som omfattas av avsnitt 7A003, enligt följande, samt därtill speciellt konstruerade komponenter:

| a) | Tröghetsutrustning eller annan utrustning, som använder accelerometrar eller gyron enligt följande, samt system som innehåller sådan utrustning:






  1. | Accelerometrar som omfattas av avsnitt 7A001.a.3, 7A001.b eller 7A101 eller gyron som omfattas av avsnitt 7A002 eller 7A102, eller |
| --- | --- | --- |

a)

Tröghetsutrustning eller annan utrustning, som använder accelerometrar eller gyron enligt följande, samt system som innehåller sådan utrustning:

1.

Accelerometrar som omfattas av avsnitt 7A001.a.3, 7A001.b eller 7A101 eller gyron som omfattas av avsnitt 7A002 eller 7A102, eller

| 2. | accelerometrar som omfattas av avsnitt 7A001.a.1 eller 7A001.a.2 och som har samtliga följande egenskaper:






  a) | Konstruerade för användning i tröghetsnavigeringssystem eller i styrsystem av alla typer och som kan användas i ‧missiler‧. |
| --- | --- | --- |

2.

accelerometrar som omfattas av avsnitt 7A001.a.1 eller 7A001.a.2 och som har samtliga följande egenskaper:

a)

Konstruerade för användning i tröghetsnavigeringssystem eller i styrsystem av alla typer och som kan användas i ‧missiler‧.

| b) | En "grundstabilitets"-"repeterbarhet" på mindre (bättre) än 1 250 μg. |
| --- | --- |

b)

En "grundstabilitets"-"repeterbarhet" på mindre (bättre) än 1 250 μg.

| c) | En "skalfaktors"-"repeterbarhet" på mindre (bättre) än 1 250 ppm. |
| --- | --- |

c)

En "skalfaktors"-"repeterbarhet" på mindre (bättre) än 1 250 ppm.

| : | Avsnitt 7A103.a omfattar inte utrustning som innehåller acceleratorer som omfattas av avsnitt 7A001 när accelerometrarna är speciellt konstruerade och utvecklade för att fungera som MWD-sensorer vid borrning i gruvor. |
| --- | --- |

:

| b) | Integrerade flyginstrumentsystem som innehåller gyrostabilisatorer eller autopiloter, konstruerade eller modifierade för användning i ‧missiler‧. |
| --- | --- |

b)

Integrerade flyginstrumentsystem som innehåller gyrostabilisatorer eller autopiloter, konstruerade eller modifierade för användning i ‧missiler‧.

| c) | ‧Integrerade navigationssystem‧ som är konstruerade eller modifierade för ‧missiler‧ och som kan ge en navigationsnoggrannhet på 200 m CEP (Circle of Equal Probability) eller mindre.

  :


  Ett ‧integrerat navigationssystem‧ inbegriper vanligtvis följande komponenter:








  1. | En tröghetsmätanordning (t.ex. ett system som anger orienterings- och riktningsreferenser, en tröghetsreferensenhet eller ett tröghetsnavigationssystem). |
| --- | --- | --- |

c)

‧Integrerade navigationssystem‧ som är konstruerade eller modifierade för ‧missiler‧ och som kan ge en navigationsnoggrannhet på 200 m CEP (Circle of Equal Probability) eller mindre.

:

Ett ‧integrerat navigationssystem‧ inbegriper vanligtvis följande komponenter:

1.

En tröghetsmätanordning (t.ex. ett system som anger orienterings- och riktningsreferenser, en tröghetsreferensenhet eller ett tröghetsnavigationssystem).

| 2. | En eller flera externa sensorer som används för att uppdatera läge och/eller hastighet, periodiskt eller kontinuerligt under hela flygningen (t.ex. satellitnavigeringsmottagare, radarhöjdmätare och/eller dopplerradar). |
| --- | --- |

2.

En eller flera externa sensorer som används för att uppdatera läge och/eller hastighet, periodiskt eller kontinuerligt under hela flygningen (t.ex. satellitnavigeringsmottagare, radarhöjdmätare och/eller dopplerradar).

| 3. | Maskinvara och programvara för integrering. |
| --- | --- |

3.

Maskinvara och programvara för integrering.

| d) | Treaxlade magnetiska kurssensorer, konstruerade eller modifierade för att integreras i flygstyr- och navigationssystem, som har båda följande egenskaper, och därtill särskilt konstruerade komponenter:






  1. | Intern lutningskompensation i tipp- (± 90 grader) och roll- (± 180 grader) axlar. |
| --- | --- | --- |

d)

Treaxlade magnetiska kurssensorer, konstruerade eller modifierade för att integreras i flygstyr- och navigationssystem, som har båda följande egenskaper, och därtill särskilt konstruerade komponenter:

1.

Intern lutningskompensation i tipp- (± 90 grader) och roll- (± 180 grader) axlar.

| 2. | Förmåga att ge en azimutnoggrannhet som är bättre (mindre) än 0,5 grader rms vid en latitud på ± 80 grader, med referens till lokala magnetfält. |
| --- | --- |

2.

Förmåga att ge en azimutnoggrannhet som är bättre (mindre) än 0,5 grader rms vid en latitud på ± 80 grader, med referens till lokala magnetfält.

| : | Flygstyr- och navigationssystem i avsnitt 7A103.d omfattar gyrostabilisatorer, autopiloter och tröghetsnavigationssystem. |
| --- | --- |

:

:

I avsnitt 7A103 avses med ‧missil‧ kompletta raketsystem och system för obemannade luftfartyg med en räckvidd som överstiger 300 km.

7A104Astrogyrokompasser och apparater andra än de som omfattas av avsnitt 7A004, som fastställer position eller orientering genom att automatiskt följa himlakroppar eller satelliter och därtill speciellt konstruerade komponenter.

7A105Mottagningsutrustning för globala satellitbaserade navigationssystem (GNSS; t.ex. GPS, GLONASS eller Galileo) som har någon av följande karakteristika och därför särskilt konstruerade komponenter:

| a) | Konstruerad eller modifierad för användning i rymduppskjutningsfarkoster enligt avsnitt 9A004, obemannade rymdfarkoster enligt avsnitt 9A012 eller sondraketer enligt avsnitt 9A104; eller |
| --- | --- |

a)

Konstruerad eller modifierad för användning i rymduppskjutningsfarkoster enligt avsnitt 9A004, obemannade rymdfarkoster enligt avsnitt 9A012 eller sondraketer enligt avsnitt 9A104; eller

| b) | Konstruerad eller modifierad för luftburna tillämpningar och med någon av följande egenskaper:






  1. | Kan ge navigeringsinformation vid hastigheter över 600 m/s. |
| --- | --- | --- |

b)

Konstruerad eller modifierad för luftburna tillämpningar och med någon av följande egenskaper:

1.

Kan ge navigeringsinformation vid hastigheter över 600 m/s.

| 2. | Använder dekryptering, konstruerad eller modifierad för militär eller statlig användning för att ge åtkomst till säkrade GNSS-signaler/data; eller |
| --- | --- |

2.

Använder dekryptering, konstruerad eller modifierad för militär eller statlig användning för att ge åtkomst till säkrade GNSS-signaler/data; eller

| 3. | Särskilt konstruerad för störningsskyddsfunktioner (t.ex. nollstyrningsantenn eller elektroniskt styrbar antenn) som fungerar i en miljö med aktiva eller passiva motmedel. |
| --- | --- |

3.

Särskilt konstruerad för störningsskyddsfunktioner (t.ex. nollstyrningsantenn eller elektroniskt styrbar antenn) som fungerar i en miljö med aktiva eller passiva motmedel.

| : | Avsnitten 7A105.b.2 och 7A105.b.3 gäller inte utrustning som är konstruerad för kommersiella eller civila GNSS-tjänster eller GNSS-tjänster avseende "Safety of Life" (t.ex. dataintegritet, flygsäkerhet). |
| --- | --- |

:

7A106Höjdmätare andra än de som omfattas av avsnitt 7A006, av radar- eller lasertyp, konstruerade eller modifierade för användning i rymduppskjutningsfarkoster som omfattas av avsnitt 9A004, eller sondraketer som omfattas av avsnitt 9A104.

7A115Passiva sensorer för att bestämma bäringen till specifika elektromagnetiska källor (pejlutrustning) eller kännetecken i terrängen, som konstruerats eller modifierats för användning i rymduppskjutningsfarkoster som omfattas av avsnitt 9A004, eller sondraketer som omfattas av avsnitt 9A104.

| : | Avsnitt 7A115 omfattar sensorer för följande utrustning:







  a) | Utrustning för att kartlägga terrängkonturer. |
| --- | --- | --- |

:

a)

Utrustning för att kartlägga terrängkonturer.

| b) | Bildalstrande sensorutrustning (både aktiv och passiv). |
| --- | --- |

b)

Bildalstrande sensorutrustning (både aktiv och passiv).

| c) | Passiv interferensmätarutrustning. |
| --- | --- |

c)

Passiv interferensmätarutrustning.

7A116Flygstyrsystem och servoventiler enligt följande, konstruerade eller modifierade för användning i rymduppskjutningsfarkoster som omfattas av avsnitt 9A004, eller sondraketer som omfattas av avsnitt 9A104.

| a) | Hydrauliska, mekaniska, elektrooptiska eller elektromekaniska flygstyrsystem (inklusive "fly-by-wire"-system). |
| --- | --- |

a)

Hydrauliska, mekaniska, elektrooptiska eller elektromekaniska flygstyrsystem (inklusive "fly-by-wire"-system).

| b) | Utrustning för att styra orienteringen. |
| --- | --- |

b)

Utrustning för att styra orienteringen.

| c) | Flygstyrservoventiler, konstruerade eller modifierade för system enligt avsnitt 7A116.a eller 7A116.b, och konstruerade eller modifierade för användning i en vibrationsmiljö som är större än 10 g rms mellan 20 Hz och 2 kHz. |
| --- | --- |

c)

Flygstyrservoventiler, konstruerade eller modifierade för system enligt avsnitt 7A116.a eller 7A116.b, och konstruerade eller modifierade för användning i en vibrationsmiljö som är större än 10 g rms mellan 20 Hz och 2 kHz.

7A117"Styrsystem" som kan användas i "missiler", som kan uppnå en noggrannhet av 3,33 % eller mindre av räckvidden (t.ex. en "CEP" av 10 km eller mindre på en räckvidd av 300 km).

7BTest-, inspektions- och produktionsutrustning

7B001Test-, kalibrerings- eller injusteringsutrustning speciellt konstruerad för utrustning som anges i av avsnitt 7A.

| : | Avsnitt 7B001 omfattar inte test-, kalibrerings- eller injusteringsutrustning avsedd för ‧underhållsnivå I‧ eller ‧underhållsnivå II‧. |
| --- | --- |

:

Avsnitt 7B001 omfattar inte test-, kalibrerings- eller injusteringsutrustning avsedd för ‧underhållsnivå I‧ eller ‧underhållsnivå II‧.

:

| 1. | ‧Underhållsnivå I‧
  Fel i tröghetsnavigeringsutrustningen upptäcks i flygplanet genom indikationer på avioniksystemets kontrollenhet CDU (Control and Display Unit) eller genom ett statusmeddelande från en ansluten utrustning. Genom att följa tillverkarens instruktionsbok ska felet kunna lokaliseras till en felaktig apparat (line replaceable unit, LRU) till vilken det finns utbytesenheter. Operatören ska sedan kunna åtgärda felet genom att byta ut den felaktiga enheten. |
| --- | --- |

1.

Fel i tröghetsnavigeringsutrustningen upptäcks i flygplanet genom indikationer på avioniksystemets kontrollenhet CDU (Control and Display Unit) eller genom ett statusmeddelande från en ansluten utrustning. Genom att följa tillverkarens instruktionsbok ska felet kunna lokaliseras till en felaktig apparat (line replaceable unit, LRU) till vilken det finns utbytesenheter. Operatören ska sedan kunna åtgärda felet genom att byta ut den felaktiga enheten.

| 2. | ‧Underhållsnivå II‧
  Den felaktiga utbytesenheten ska sändas till en underhållsverkstad (tillverkarens eller operatörens, som är ansvarig för underhållsnivå II). Vid denna underhållsverkstad ska den felaktiga utbytesenheten testas på olika sätt för att identifiera felaktig modul.


  Denna modul ska sedan tas bort och ersättas av en fungerande del. Den felaktiga delen ska sändas till tillverkaren för reparation (eventuellt måste hela utbytesenheten sändas för reparation). ‧Underhållsnivå II‧ omfattar inte demontering eller reparation av kontrollerade accelerometrar eller gyrogivar. |
| --- | --- |

2.

Den felaktiga utbytesenheten ska sändas till en underhållsverkstad (tillverkarens eller operatörens, som är ansvarig för underhållsnivå II). Vid denna underhållsverkstad ska den felaktiga utbytesenheten testas på olika sätt för att identifiera felaktig modul.

Denna modul ska sedan tas bort och ersättas av en fungerande del. Den felaktiga delen ska sändas till tillverkaren för reparation (eventuellt måste hela utbytesenheten sändas för reparation). ‧Underhållsnivå II‧ omfattar inte demontering eller reparation av kontrollerade accelerometrar eller gyrogivar.

7B002Utrustning speciellt konstruerad för att mäta egenskaperna hos speglar till "laser" gyron, enligt följande:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 7B102. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | Instrument för mätning av ljusspridningen med en mätnoggrannhet på 10 ppm eller mindre (bättre). |
| --- | --- |

a)

Instrument för mätning av ljusspridningen med en mätnoggrannhet på 10 ppm eller mindre (bättre).

| b) | Instrument för mätning av ytfinhet med en mätnoggrannhet på 0,5 nm (5 Ångström) eller mindre (bättre). |
| --- | --- |

b)

Instrument för mätning av ytfinhet med en mätnoggrannhet på 0,5 nm (5 Ångström) eller mindre (bättre).

7B003Utrustning enligt följande, speciellt konstruerad för "produktion" av utrustning som anges i av avsnitt 7A.

| : | Avsnitt 7B003 omfattar följande:






  — | Avstämningsutrustning för gyron. |
| --- | --- | --- |

:

—

Avstämningsutrustning för gyron.

| — | Dynamiska balansutrustningar för gyron. |
| --- | --- |

—

Dynamiska balansutrustningar för gyron.

| — | Inkörnings- och motortestutrustningar för gyron. |
| --- | --- |

—

Inkörnings- och motortestutrustningar för gyron.

| — | Utrustningar för att evakuera och fylla gyron med gas. |
| --- | --- |

—

Utrustningar för att evakuera och fylla gyron med gas.

| — | Centrifugfixturer för gyrolager. |
| --- | --- |

—

Centrifugfixturer för gyrolager.

| — | Utrustning för justering av accelerometeraxlar. |
| --- | --- |

—

Utrustning för justering av accelerometeraxlar.

| — | Fiberoptiska gyrospollindningsmaskiner. |
| --- | --- |

—

Fiberoptiska gyrospollindningsmaskiner.

7B102Reflektometrar speciellt konstruerade för att karaktärisera speglar, för "laser"-gyron, som har en mätnoggrannhet på 50 ppm eller mindre (bättre).

7B103"Produktionshjälpmedel" och "produktionsutrustning" enligt följande:

| a) | "Produktionshjälpmedel" speciellt konstruerade för utrustning som omfattas av avsnitt 7A117. |
| --- | --- |

a)

"Produktionshjälpmedel" speciellt konstruerade för utrustning som omfattas av avsnitt 7A117.

| b) | "Produktionsutrustning" och annan testkalibrerings- och injusteringsutrustning som inte omfattas av avsnitt 7B001–7B003, konstruerad eller modifierad för användning tillsammans med utrustning som omfattas av avsnitt 7A. |
| --- | --- |

b)

"Produktionsutrustning" och annan testkalibrerings- och injusteringsutrustning som inte omfattas av avsnitt 7B001–7B003, konstruerad eller modifierad för användning tillsammans med utrustning som omfattas av avsnitt 7A.

7CMaterial

Inga.

7DProgramvara

7D001"Programvara" speciellt utformad eller modifierad för "utveckling" eller "produktion" av utrustning som omfattas av avsnitten 7A eller 7B.

7D002"Källkod" för "användning" i tröghetsnavigeringssystem inklusive tröghetsutrustning som inte specificeras i avsnitt 7A003 eller 7A004 eller Attitude and Heading Reference Systems (‧AHRS‧).

| : | Avsnitt 7D002 omfattar inte "källkod" för "användning" av kardanskt upphängda ‧AHRS‧. |
| --- | --- |

:

:

‧AHRS‧ skiljer sig i allmänhet från tröghetsnavigeringssystem (INS) på så sätt att ‧AHRS‧ lämnar kurs- och positionsinformation men lämnar normalt inte uppgifter om acceleration, hastighet och position som ett INS gör.

7D003Annan "programvara" enligt följande:

| a) | "Programvara" speciellt utformad eller modifierad för att förbättra de operativa egenskaperna eller för att reducera navigationsfelet hos navigationssystem till nivåer specificerade i avsnitt 7A003, 7A004 eller 7A008. |
| --- | --- |

a)

"Programvara" speciellt utformad eller modifierad för att förbättra de operativa egenskaperna eller för att reducera navigationsfelet hos navigationssystem till nivåer specificerade i avsnitt 7A003, 7A004 eller 7A008.

| b) | "Källkod" för kombinerade (hybrid) system, som förbättrar de operativa egenskaperna eller reducerar navigationsfel i system till nivåer som anges i avsnitt 7A003 eller 7A008, genom att kontinuerligt kombinera riktningsdata med något av följande:






  1. | Hastighetsdata uppmätt med dopplerradar eller sonar. |
| --- | --- | --- |

b)

"Källkod" för kombinerade (hybrid) system, som förbättrar de operativa egenskaperna eller reducerar navigationsfel i system till nivåer som anges i avsnitt 7A003 eller 7A008, genom att kontinuerligt kombinera riktningsdata med något av följande:

1.

Hastighetsdata uppmätt med dopplerradar eller sonar.

| 2. | Positionsangivelser från ett globalt system för satellitnavigering (GNSS). |
| --- | --- |

2.

Positionsangivelser från ett globalt system för satellitnavigering (GNSS).

| 3. | Data från "databaserade referensnavigerings- ("Data-Based Referenced Navigation"- "DBRN") system". |
| --- | --- |

3.

Data från "databaserade referensnavigerings- ("Data-Based Referenced Navigation"- "DBRN") system".

| c) | "Källkod" för integrerade avioniksystem eller system för speciella flyguppdrag, som kombinerar information från givare och utnyttjar "expertsystem". |
| --- | --- |

c)

"Källkod" för integrerade avioniksystem eller system för speciella flyguppdrag, som kombinerar information från givare och utnyttjar "expertsystem".

| d) | "Källkod" för "utveckling" av något av följande system:






  1. | Digitala system för "optimering av flygbanan". |
| --- | --- | --- |

d)

"Källkod" för "utveckling" av något av följande system:

1.

Digitala system för "optimering av flygbanan".

| 2. | Integrerade framdrivnings- och styrsystem för flygplan. |
| --- | --- |

2.

Integrerade framdrivnings- och styrsystem för flygplan.

| 3. | ‧Fly-by-wire‧ eller ‧fly-by-light‧-styrsystem. |
| --- | --- |

3.

‧Fly-by-wire‧ eller ‧fly-by-light‧-styrsystem.

| 4. | "Aktiva flygstyrsystem" för flygplan som är feltoleranta eller som är självkorrigerande. |
| --- | --- |

4.

"Aktiva flygstyrsystem" för flygplan som är feltoleranta eller som är självkorrigerande.

| 5. | Flygburen automatisk pejlingsutrustning. |
| --- | --- |

5.

Flygburen automatisk pejlingsutrustning.

| 6. | Luftdatasystem samverkande med speciell ytskiktsavkännande sensor för mätning av temperatur och tryck. |
| --- | --- |

6.

Luftdatasystem samverkande med speciell ytskiktsavkännande sensor för mätning av temperatur och tryck.

| 7. | Siktlinjesindikator utnyttjande rasterteknik eller indikatorer för tredimensionell presentation. |
| --- | --- |

7.

Siktlinjesindikator utnyttjande rasterteknik eller indikatorer för tredimensionell presentation.

| e) | "Programvara" för datastödd design (CAD) speciellt utformad för "utveckling" av "aktiva flygstyrsystem", fleraxliga fly by wire- eller fly by light-styrsystem för helikopter eller "cirkulationsstyrd antivridmomentstyrd eller cirkulationsstyrt riktningskontrollsystem" för helikoptrar vars "teknik" anges i 7E004.b, 7E004.c.1 eller 7E004.c.2. |
| --- | --- |

e)

"Programvara" för datastödd design (CAD) speciellt utformad för "utveckling" av "aktiva flygstyrsystem", fleraxliga fly by wire- eller fly by light-styrsystem för helikopter eller "cirkulationsstyrd antivridmomentstyrd eller cirkulationsstyrt riktningskontrollsystem" för helikoptrar vars "teknik" anges i 7E004.b, 7E004.c.1 eller 7E004.c.2.

7D101"Programvara" speciellt utformad eller modifierad för "användning" av utrustning som omfattas av avsnitten 7A001–7A006, 7A101–7A106, 7A115, 7A116.a, 7A116.b, 7B001, 7B002, 7B003, 7B102 eller 7B103.

7D102Integrerande "programvara" enligt följande:

| a) | Integrerande "programvara" för utrustning som anges i avsnitt 7A103.b. |
| --- | --- |

a)

Integrerande "programvara" för utrustning som anges i avsnitt 7A103.b.

| b) | Integrerande "programvara" speciellt utformad för utrustning som anges i avsnitten 7A003 eller 7A103.a. |
| --- | --- |

b)

Integrerande "programvara" speciellt utformad för utrustning som anges i avsnitten 7A003 eller 7A103.a.

| c) | Integrerande "programvara" utformad eller modifierad för utrustning som anges i avsnitt 7A103.c.







  : | En vanlig form av integrerande "programvara" använder Kalmanfiltrering. |
| --- | --- | --- |

c)

Integrerande "programvara" utformad eller modifierad för utrustning som anges i avsnitt 7A103.c.

:

7D103"Programvara" speciellt utformad för utformning eller simulering av "styrsystemen" som anges i avsnitt 7A117 eller för integrering av styrsystemen med rymduppskjutningsfarkoster som anges i avsnitt 9A004 eller sondraketer som anges i avsnitt 9A104.

| : | "Programvara" som anges i avsnitt 7D103 omfattas även om den kombineras med fysiska system som anges i avsnitt 4A102. |
| --- | --- |

:

7ETeknik

7E001"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för "utveckling" av utrustning eller "programvara" som anges i avsnitten 7A, 7B eller 7D.

7E002"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för "produktion" av utrustning som anges i avsnitten 7A eller 7B.

7E003"Teknik" enligt allmänna anmärkningar rörande teknik som erfordras för reparation, renovering eller översyn av komponenter som anges i avsnitten 7A001–7A004.

| : | Avsnitt 7A003 omfattar inte underhålls-"teknik" direkt knuten till kalibrering, borttagande eller ersättning av skadad icke servicebara LRU och SRA till ett "civilt luftfartyg" som beskrivits i ‧underhållsnivå I‧ eller ‧underhållsnivå II‧. |
| --- | --- |

:

| : | Se vidare teknisk anm. till avsnitt 7B001. |
| --- | --- |

:

7E004Annan "teknik" enligt följande:

| a) | "Teknik" för "utveckling" eller "produktion" av något av följande:






  1. | Flygburen automatisk pejlingsutrustning som arbetar med frekvenser överstigande 5 MHz. |
| --- | --- | --- |

a)

"Teknik" för "utveckling" eller "produktion" av något av följande:

1.

Flygburen automatisk pejlingsutrustning som arbetar med frekvenser överstigande 5 MHz.

| 2. | Luftdatasystem som baseras endast på de statiska data som gäller vid markytan, t.ex. sådana som innehåller konventionella luftdatakänselkroppar. |
| --- | --- |

2.

Luftdatasystem som baseras endast på de statiska data som gäller vid markytan, t.ex. sådana som innehåller konventionella luftdatakänselkroppar.

| 3. | Tredimensionell presentation i "luftfartyg". |
| --- | --- |

3.

Tredimensionell presentation i "luftfartyg".

| 4. | Används inte. |
| --- | --- |

4.

Används inte.

| 5. | Elektriska styrdon (t.ex. elektromekaniska, elektrohydrostatiska och integrerade styrdonspaket) speciellt konstruerade för "primär flygplansstyrning". |
| --- | --- |

5.

Elektriska styrdon (t.ex. elektromekaniska, elektrohydrostatiska och integrerade styrdonspaket) speciellt konstruerade för "primär flygplansstyrning".

| 6. | "Optisk avkännargrupp för flygplansstyrning" (Flight control optical sensor array) speciellt konstruerad för att byggas in i "aktiva flygstyrsystem". |
| --- | --- |

6.

"Optisk avkännargrupp för flygplansstyrning" (Flight control optical sensor array) speciellt konstruerad för att byggas in i "aktiva flygstyrsystem".

| 7. | "DBRN"-system som är konstruerade för undervattensnavigation med hjälp av sonar eller gravitationsdatabaser som ger en positioneringsnoggrannhet som är lika med eller mindre (bättre) än 0,4 nautiska mil. |
| --- | --- |

7.

"DBRN"-system som är konstruerade för undervattensnavigation med hjälp av sonar eller gravitationsdatabaser som ger en positioneringsnoggrannhet som är lika med eller mindre (bättre) än 0,4 nautiska mil.

| b) | "Utvecklings"-"teknik", enligt följande, för "aktiva flygstyrsystem" (inklusive fly-by-wire eller fly-by-light):






  1. | Konfigurationskonstruktion för att koppla ihop flera mikroelektroniska processelement (ombord-datorer) för att uppnå "realtidsbearbetning" på så sätt att kontrollregler kan införas. |
| --- | --- | --- |

b)

"Utvecklings"-"teknik", enligt följande, för "aktiva flygstyrsystem" (inklusive fly-by-wire eller fly-by-light):

1.

Konfigurationskonstruktion för att koppla ihop flera mikroelektroniska processelement (ombord-datorer) för att uppnå "realtidsbearbetning" på så sätt att kontrollregler kan införas.

| 2. | Kontrollregler som kompenserar för sensorplacering eller dynamiska belastningar på flygplanskroppen, t.ex. kompensation av vibrationer runt en sensor eller för variation i en sensors avstånd från gravitationscentrat. |
| --- | --- |

2.

Kontrollregler som kompenserar för sensorplacering eller dynamiska belastningar på flygplanskroppen, t.ex. kompensation av vibrationer runt en sensor eller för variation i en sensors avstånd från gravitationscentrat.

| 3. | Elektronisk övervakning av dataredundans eller systemredundans för att upptäcka fel, feltolerans, felisolation eller omkonfigurering.







  : | Avsnitt 7E004.b.3 omfattar inte "teknik" för fysisk redundans. |
| --- | --- | --- |

3.

Elektronisk övervakning av dataredundans eller systemredundans för att upptäcka fel, feltolerans, felisolation eller omkonfigurering.

:

| 4. | Flygkontrollsystem som medger omkonfigurering under flygningen av tryck- och momentstyrning i realtid för självstyrning av luftfarkoster. |
| --- | --- |

4.

Flygkontrollsystem som medger omkonfigurering under flygningen av tryck- och momentstyrning i realtid för självstyrning av luftfarkoster.

| 5. | Integrering av digitalt flygkontrollsystem, navigation och styrdata för framdrivningen, till ett "digitalt flygövervakningssystem för att optimera flygdata".







  : | Avsnitt 7E004.b.5 omfattar inte följande:







  a) | "Utvecklings"-teknik för integrering av digitalt flygkontrollsystem, navigation och styrdata för framdrivningen till ett digitalt flygövervakningssystem för "optimering av flygbanan". |
| --- | --- | --- | --- |

5.

Integrering av digitalt flygkontrollsystem, navigation och styrdata för framdrivningen, till ett "digitalt flygövervakningssystem för att optimera flygdata".

:

a)

"Utvecklings"-teknik för integrering av digitalt flygkontrollsystem, navigation och styrdata för framdrivningen till ett digitalt flygövervakningssystem för "optimering av flygbanan".

| b) | "Utvecklings"-teknik för "flygplans" flyginstrumentsystem som integreras endast för VOR, DME, ILS eller MLS navigation eller inflygning. |
| --- | --- |

b)

"Utvecklings"-teknik för "flygplans" flyginstrumentsystem som integreras endast för VOR, DME, ILS eller MLS navigation eller inflygning.

| 6. | Helt övertagande digitalt flygkontrollsystem (Full authority digital flight control) eller system för att övervaka en flygning baserat på multipla givare som använder "expertsystem".







  : | För "teknik" för "Full Authority Digital Engine Control Systems" ["FADEC-system"], se avsnitt 9E003.h. |
| --- | --- | --- |

6.

Helt övertagande digitalt flygkontrollsystem (Full authority digital flight control) eller system för att övervaka en flygning baserat på multipla givare som använder "expertsystem".

:

| c) | "Teknik" för "utveckling" av helikoptersystem enligt följande:






  1. | Fleraxliga fly-by-wire- eller fly-by-light-styrsystem som kombinerar åtminstone två av följande system till ett kollektivt system:






  a) | Kollektiv styrning. |
| --- | --- | --- | --- |

c)

"Teknik" för "utveckling" av helikoptersystem enligt följande:

1.

Fleraxliga fly-by-wire- eller fly-by-light-styrsystem som kombinerar åtminstone två av följande system till ett kollektivt system:

a)

Kollektiv styrning.

| b) | Cyklisk styrning. |
| --- | --- |

b)

Cyklisk styrning.

| c) | Girstyrning. |
| --- | --- |

c)

Girstyrning.

| 2. | "Cirkulationsstyrda antivridmomentstyrda eller cirkulationsstyrda riktningskontrollsystem". |
| --- | --- |

2.

"Cirkulationsstyrda antivridmomentstyrda eller cirkulationsstyrda riktningskontrollsystem".

| 3. | Rotorblad som innehåller "vingprofil med variabel geometri" för användning i system med individuell bladstyrning. |
| --- | --- |

3.

Rotorblad som innehåller "vingprofil med variabel geometri" för användning i system med individuell bladstyrning.

7E101"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för "användning" av utrustning som omfattas av avsnitten 7A001–7A006, 7A101–7A106, 7A115–7A117, 7B001, 7B002, 7B003, 7B102, 7B103, 7D101–7D103.

7E102"Teknik" för skydd av flygavionik och elektriska delsystem mot elektromagnetisk puls (EMP) och elektromagnetisk interferens (EMI) från yttre källor enligt följande:

| a) | Konstruktions-"teknik" för skärmande system. |
| --- | --- |

a)

Konstruktions-"teknik" för skärmande system.

| b) | Konstruktions-"teknik" för härdade elektriska kretsar och delsystem. |
| --- | --- |

b)

Konstruktions-"teknik" för härdade elektriska kretsar och delsystem.

| c) | Konstruktions-"teknik" för bestämning av härdningsnormer för avsnitten 7E102.a och 7E102.b. |
| --- | --- |

c)

Konstruktions-"teknik" för bestämning av härdningsnormer för avsnitten 7E102.a och 7E102.b.

7E104"Teknik" för samordning av flygkontroll, styrning och framdrivningsdata till ett system för optimering av raketbanan.

KATEGORI 8

MARINT

8ASystem, utrustningar och komponenter

8A001Undervattensfarkoster och ytfartyg, enligt följande:

| : | För exportkontrollstatus av utrustning för undervattensfartyg, se följande:






  — | Kategori 5, del 2 "Informationssäkerhet" för krypterad kommunikationsutrustning. |
| --- | --- | --- |

:

—

Kategori 5, del 2 "Informationssäkerhet" för krypterad kommunikationsutrustning.

| — | Kategori 6, för sensorer. |
| --- | --- |

—

Kategori 6, för sensorer.

| — | Kategori 7 och 8, för navigationsutrustning. |
| --- | --- |

—

Kategori 7 och 8, för navigationsutrustning.

| — | Kategori 8A för undervattensutrustning. |
| --- | --- |

—

Kategori 8A för undervattensutrustning.

| a) | Bemannade, trådstyrda undervattensfarkoster som är konstruerade för drift på större djup än 1 000 m. |
| --- | --- |

a)

Bemannade, trådstyrda undervattensfarkoster som är konstruerade för drift på större djup än 1 000 m.

| b) | Bemannade icke trådstyrda (frisimmande) undervattensfarkoster med någon av följande egenskaper:






  1. | Farkoster som är konstruerade för att ‧operera autonomt‧ och har en lyftförmåga på






  a) | 10 % eller mer av farkostens vikt i luft, och |
| --- | --- | --- | --- |

b)

Bemannade icke trådstyrda (frisimmande) undervattensfarkoster med någon av följande egenskaper:

1.

Farkoster som är konstruerade för att ‧operera autonomt‧ och har en lyftförmåga på

a)

10 % eller mer av farkostens vikt i luft, och

| b) | 15 kN eller mer. |
| --- | --- |

b)

15 kN eller mer.

| 2. | Farkoster som är konstruerade för drift på större djup än 1 000 m, eller |
| --- | --- |

2.

Farkoster som är konstruerade för drift på större djup än 1 000 m, eller

| 3. | Farkoster som har båda följande egenskaper:






  a) | Konstruerade för att kontinuerligt ‧operera autonomt‧ i 10 timmar eller mer. |
| --- | --- | --- |

3.

Farkoster som har båda följande egenskaper:

a)

Konstruerade för att kontinuerligt ‧operera autonomt‧ i 10 timmar eller mer.

| b) | En ‧räckvidd‧ på 25 nautiska mil eller mer. |
| --- | --- |

b)

En ‧räckvidd‧ på 25 nautiska mil eller mer.

:

| 1. | I avsnitt 8A001.b avses med ‧operera autonomt‧ att fartyget är helt i undervattensläge, utan snorkel, alla system arbetar och att den lägsta marschfart används vid vilken undervattensfarkosten säkert kan styra sitt djupgående dynamiskt enbart med hjälp av sina dykroder, utan behov av understödsfartyg eller annat understöd från ytan, havsbottnen eller stranden, och som har ett framdrivningssystem för undervattens- eller ytgång. |
| --- | --- |

1.

| 2. | Med ‧räckvidd‧ avses i avsnitt 8A001.b halva den maximala distansen som en undervattensfarkost kan ‧operera autonomt‧. |
| --- | --- |

2.

| c) | Obemannade, trådstyrda undervattensfarkoster konstruerade för drift på större djup än 1 000 m och som har någon av följande egenskaper:






  1. | Konstruerade för att kunna utföra manövrer av egen kraft med användande av framdrivningsmotorer eller andra drivkraftsalstrare som omfattas av avsnitt 8A002.a.2, eller |
| --- | --- | --- |

c)

Obemannade, trådstyrda undervattensfarkoster konstruerade för drift på större djup än 1 000 m och som har någon av följande egenskaper:

1.

Konstruerade för att kunna utföra manövrer av egen kraft med användande av framdrivningsmotorer eller andra drivkraftsalstrare som omfattas av avsnitt 8A002.a.2, eller

| 2. | har en fiberoptisk datalänk. |
| --- | --- |

2.

har en fiberoptisk datalänk.

| d) | Obemannade icke trådstyrda (frisimmande) undervattensfarkoster, som har någon av följande egenskaper:






  1. | Konstruerade för att bestämma kurs relativt en geografisk referens utan mänsklig assistans i realtid, |
| --- | --- | --- |

d)

Obemannade icke trådstyrda (frisimmande) undervattensfarkoster, som har någon av följande egenskaper:

1.

Konstruerade för att bestämma kurs relativt en geografisk referens utan mänsklig assistans i realtid,

| 2. | har en akustisk data- eller orderlänk, eller |
| --- | --- |

2.

har en akustisk data- eller orderlänk, eller

| 3. | har en optisk data- eller orderlänk som är längre än 1 000 m. |
| --- | --- |

3.

har en optisk data- eller orderlänk som är längre än 1 000 m.

| e) | Oceangående bärgningssystem med en lyftkapacitet som överstiger 5 MN för bärgningsobjekt på djup som överstiger 250 m och med något av följande:






  1. | Ett dynamiskt positionssystem som gör det möjligt att hålla position inom 20 m från en given punkt som anges av navigationssystemet. |
| --- | --- | --- |

e)

Oceangående bärgningssystem med en lyftkapacitet som överstiger 5 MN för bärgningsobjekt på djup som överstiger 250 m och med något av följande:

1.

Ett dynamiskt positionssystem som gör det möjligt att hålla position inom 20 m från en given punkt som anges av navigationssystemet.

| 2. | Ett system för navigation mot sjöbotten och ett integrerat navigationssystem för större djup än 1 000 m och med en positionsnoggrannhet inom 10 m från en förutbestämd punkt. |
| --- | --- |

2.

Ett system för navigation mot sjöbotten och ett integrerat navigationssystem för större djup än 1 000 m och med en positionsnoggrannhet inom 10 m från en förutbestämd punkt.

| f) | Yteffektfarkoster (försedda helt med kjolar) som har alla följande egenskaper:






  1. | Konstruerade för en toppfart med full last som överstiger 30 knop vid en signifikant våghöjd på 1,25 m (Sea State 3) eller mer. |
| --- | --- | --- |

f)

Yteffektfarkoster (försedda helt med kjolar) som har alla följande egenskaper:

1.

Konstruerade för en toppfart med full last som överstiger 30 knop vid en signifikant våghöjd på 1,25 m (Sea State 3) eller mer.

| 2. | Ett luftkuddetryck som överstiger 3 830 Pa. |
| --- | --- |

2.

Ett luftkuddetryck som överstiger 3 830 Pa.

| 3. | Ett förhållande mellan tom- och fullviktsdeplacementet som är mindre än 0,70. |
| --- | --- |

3.

Ett förhållande mellan tom- och fullviktsdeplacementet som är mindre än 0,70.

| g) | Yteffektfarkoster (med massiva sidor) konstruerade för en toppfart med full last som överstiger 40 knop i en signifikant våghöjd på 3,25 m (Sea State 5) eller mer. |
| --- | --- |

g)

Yteffektfarkoster (med massiva sidor) konstruerade för en toppfart med full last som överstiger 40 knop i en signifikant våghöjd på 3,25 m (Sea State 5) eller mer.

| h) | Bärplansfartyg med aktiva system för automatisk kontroll av bärplanssystemet och som är konstruerade för en toppfart med full last på 40 knop vid en våghöjd på 3,25 m (Sea State 5) eller mer. |
| --- | --- |

h)

Bärplansfartyg med aktiva system för automatisk kontroll av bärplanssystemet och som är konstruerade för en toppfart med full last på 40 knop vid en våghöjd på 3,25 m (Sea State 5) eller mer.

| i) | ‧Fartyg med liten vattenlinjearea‧ med någon av följande egenskaper:






  1. | Ett deplacement när de är fullastade som överstiger 500 ton och som är konstruerade för en toppfart med full last som överstiger 35 knop vid en våghöjd som är 3,25 m (Sea State 5) eller mer. |
| --- | --- | --- |

i)

‧Fartyg med liten vattenlinjearea‧ med någon av följande egenskaper:

1.

Ett deplacement när de är fullastade som överstiger 500 ton och som är konstruerade för en toppfart med full last som överstiger 35 knop vid en våghöjd som är 3,25 m (Sea State 5) eller mer.

| 2. | Ett deplacement när de är fullastade som överstiger 1 500 ton och som är konstruerade för en toppfart med full last som överstiger 25 knop vid en våghöjd som är 4 m (Sea State 6) eller mer. |
| --- | --- |

2.

Ett deplacement när de är fullastade som överstiger 1 500 ton och som är konstruerade för en toppfart med full last som överstiger 25 knop vid en våghöjd som är 4 m (Sea State 6) eller mer.

:

Ett ‧fartyg med liten vattenlinjearea‧ definieras genom följande formel: Vattenlinjearean på konstruktionsritningen mindre än 2 × (deplacementsvolymen på konstruktionsritningen)2/3.

8A002Marina system, marin utrustning och marina komponenter enligt följande:

| : | För undervattenskommunikationssystem se även kategori 5, del 1 – Telekommunikationer, |
| --- | --- |

:

| a) | System, utrustning och komponenter som särskilt konstruerats eller modifierats för undervattensfarkoster och som är konstruerade för drift på större djup än 1 000 m, enligt följande:






  1. | De har trycksatt hölje eller skrov med en maximal innerdiameter på kammaren som överstiger 1,5 m. |
| --- | --- | --- |

a)

System, utrustning och komponenter som särskilt konstruerats eller modifierats för undervattensfarkoster och som är konstruerade för drift på större djup än 1 000 m, enligt följande:

1.

De har trycksatt hölje eller skrov med en maximal innerdiameter på kammaren som överstiger 1,5 m.

| 2. | De har likströmsmotor för framdrivning eller drivkraftsalstring. |
| --- | --- |

2.

De har likströmsmotor för framdrivning eller drivkraftsalstring.

| 3. | De har manöverkablar (navelsträngar) av optiska fibrer förstärkta med syntetmaterial, samt anslutningsdon. |
| --- | --- |

3.

De har manöverkablar (navelsträngar) av optiska fibrer förstärkta med syntetmaterial, samt anslutningsdon.

| 4. | Komponenter som tillverkats av material som specificeras i avsnitt 8C001. |
| --- | --- |

4.

Komponenter som tillverkats av material som specificeras i avsnitt 8C001.

:

Syftet med avsnitt 8A002.a.4 ska inte omintetgöras genom export av ‧syntaktiskt skum‧ som specificeras i avsnitt 8C001 när ett mellanled i tillverkningen har utförts och det ännu inte föreligger i den slutliga komponentformen.

| b) | System som särskilt konstruerats eller modifierats för automatisk rörelsekontroll av undervattensfarkoster som omfattas av avsnitt 8A001, som använder navigationsdata, som har återkopplade slutna reglersystem och som har något av följande:






  1. | Som gör det möjligt för en farkost att röra sig inom 10 m från en förutbestämd punkt i vattnet, |
| --- | --- | --- |

b)

System som särskilt konstruerats eller modifierats för automatisk rörelsekontroll av undervattensfarkoster som omfattas av avsnitt 8A001, som använder navigationsdata, som har återkopplade slutna reglersystem och som har något av följande:

1.

Som gör det möjligt för en farkost att röra sig inom 10 m från en förutbestämd punkt i vattnet,

| 2. | som bibehåller farkostens position inom 10 m från den förutbestämda punkten i vattnet, eller |
| --- | --- |

2.

som bibehåller farkostens position inom 10 m från den förutbestämda punkten i vattnet, eller

| 3. | som bibehåller farkostens position inom 10 m när den följer en kabel på eller under sjöbottnen. |
| --- | --- |

3.

som bibehåller farkostens position inom 10 m när den följer en kabel på eller under sjöbottnen.

| c) | Fiberoptiska skrovgenomföringar eller anslutningar. |
| --- | --- |

c)

Fiberoptiska skrovgenomföringar eller anslutningar.

| d) | Betraktningssystem för undervattensbruk enligt följande:






  1. | Televisionssystem och televisionskameror, enligt följande:






  a) | Televisionssystem (bestående av kamera, övervaknings- och signalöverföringsutrustning) med en ‧begränsad upplösning‧ mätt i luft på mer än 800 linjer, speciellt konstruerade eller modifierade för att fjärrmanövreras tillsammans med en undervattensfarkost. |
| --- | --- | --- | --- |

d)

Betraktningssystem för undervattensbruk enligt följande:

1.

Televisionssystem och televisionskameror, enligt följande:

a)

Televisionssystem (bestående av kamera, övervaknings- och signalöverföringsutrustning) med en ‧begränsad upplösning‧ mätt i luft på mer än 800 linjer, speciellt konstruerade eller modifierade för att fjärrmanövreras tillsammans med en undervattensfarkost.

| b) | Televisionskameror för undervattensbruk med en ‧begränsad upplösning‧ mätt i luft på mer än 1 100 linjer. |
| --- | --- |

b)

Televisionskameror för undervattensbruk med en ‧begränsad upplösning‧ mätt i luft på mer än 1 100 linjer.

| c) | Televisionskameror avsedda att arbeta vid låga ljusnivåer, speciellt konstruerade eller modifierade för undervattensbruk och med alla följande egenskaper:






  1. | Bildförstärkarrör enligt avsnitt 6A002.a.2.a. |
| --- | --- | --- |

c)

Televisionskameror avsedda att arbeta vid låga ljusnivåer, speciellt konstruerade eller modifierade för undervattensbruk och med alla följande egenskaper:

1.

Bildförstärkarrör enligt avsnitt 6A002.a.2.a.

| 2. | Mer än 150 000"aktiva bildelement (pixel)" för varje grupp av halvledarareor. |
| --- | --- |

2.

Mer än 150 000"aktiva bildelement (pixel)" för varje grupp av halvledarareor.

:

‧Begränsad upplösning‧ bestäms genom en mätning av den horisontella upplösningen, uttryckt i linjer per bildhöjd när man betraktar en testbild, enligt IEEE Standard 208/1960 eller motsvarande standard.

| 2. | System, som är särskilt konstruerade eller modifierade för fjärrmanövrering och arbetar tillsammans med en undervattensfarkost, och rymmer teknik för att eliminera återspridning, inklusive områdesstyrd belysning eller "laser"-system: |
| --- | --- |

2.

System, som är särskilt konstruerade eller modifierade för fjärrmanövrering och arbetar tillsammans med en undervattensfarkost, och rymmer teknik för att eliminera återspridning, inklusive områdesstyrd belysning eller "laser"-system:

| e) | Fotografiska stillbildskameror som är särskilt konstruerade eller modifierade för undervattensbruk på större djup än 150 m, med ett filmformat på 35 mm eller större och som har något av följande:






  1. | Tillåter att filmen förses med data från en källa utanför kameran, |
| --- | --- | --- |

e)

Fotografiska stillbildskameror som är särskilt konstruerade eller modifierade för undervattensbruk på större djup än 150 m, med ett filmformat på 35 mm eller större och som har något av följande:

1.

Tillåter att filmen förses med data från en källa utanför kameran,

| 2. | har bakstyckesfokusering för distanskorrektion, eller |
| --- | --- |

2.

har bakstyckesfokusering för distanskorrektion, eller

| 3. | har automatisk tryckutjämningskontroll som särskilt utformats för att göra det möjligt att använda kameran på större djup än 1 000 m. |
| --- | --- |

3.

har automatisk tryckutjämningskontroll som särskilt utformats för att göra det möjligt att använda kameran på större djup än 1 000 m.

| f) | Används inte. |
| --- | --- |

f)

Används inte.

| g) | Ljussystem som särskilt konstruerats eller modifierats för undervattensbruk, enligt följande:






  1. | Stroboskopiska ljussystem där varje blixt kan ge mer än 300 J/blixt och en blixthastighet på mer än 5 blixtar per sekund. |
| --- | --- | --- |

g)

Ljussystem som särskilt konstruerats eller modifierats för undervattensbruk, enligt följande:

1.

Stroboskopiska ljussystem där varje blixt kan ge mer än 300 J/blixt och en blixthastighet på mer än 5 blixtar per sekund.

| 2. | Argonblixtsystem som särskilt konstruerats för användning på större djup än 1 000 m. |
| --- | --- |

2.

Argonblixtsystem som särskilt konstruerats för användning på större djup än 1 000 m.

| h) | "Robotar" som särskilt konstruerats för undervattensbruk, som styrs av en speciell dator och som har något av följande:






  1. | System som styr "roboten" med hjälp av information från sensorer som mäter krafter och vridmoment som appliceras på ett externt objekt, avståndet till ett externt objekt, eller faktila 3-förnimmelser mellan "robot" och det externa föremålet, eller |
| --- | --- | --- |

h)

"Robotar" som särskilt konstruerats för undervattensbruk, som styrs av en speciell dator och som har något av följande:

1.

System som styr "roboten" med hjälp av information från sensorer som mäter krafter och vridmoment som appliceras på ett externt objekt, avståndet till ett externt objekt, eller faktila 3-förnimmelser mellan "robot" och det externa föremålet, eller

| 2. | som kan applicera en kraft på 250 N eller mer eller ett moment på 250 Nm eller mer och som är uppbyggd av titanbaserade legeringar eller "komposit"-"fibrer eller fiberliknande material". |
| --- | --- |

2.

som kan applicera en kraft på 250 N eller mer eller ett moment på 250 Nm eller mer och som är uppbyggd av titanbaserade legeringar eller "komposit"-"fibrer eller fiberliknande material".

| i) | Fjärrmanövrerade ledbara manipulatorer som konstruerats eller modifierats för undervattensbruk och har något av följande:






  1. | System som styr manipulatorer genom att använda information från givare som mäter något av följande:






  a) | Vridmoment eller krafter som anbringas på ett externt objekt. |
| --- | --- | --- | --- |

i)

Fjärrmanövrerade ledbara manipulatorer som konstruerats eller modifierats för undervattensbruk och har något av följande:

1.

System som styr manipulatorer genom att använda information från givare som mäter något av följande:

a)

Vridmoment eller krafter som anbringas på ett externt objekt.

| b) | Taktila förnimmelser mellan manipulatorn och ett externt objekt. |
| --- | --- |

b)

Taktila förnimmelser mellan manipulatorn och ett externt objekt.

| 2. | Manipulationer som styrs genom proportionell servoteknik eller med hjälp av en speciell dator och som har 5 ‧frihetsgrader för rörelse‧ eller mer. |
| --- | --- |

2.

Manipulationer som styrs genom proportionell servoteknik eller med hjälp av en speciell dator och som har 5 ‧frihetsgrader för rörelse‧ eller mer.

| : | Endast rörelser styrda av proportionell servoteknik eller med hjälp av en speciell dator ska inbegripas vid beräkningen av antalet ‧frihetsgrader för rörelse‧. |
| --- | --- |

:

| j) | Luftoberoende kraftsystem, speciellt konstruerade för undervattensbruk, enligt följande:






  1. | Brayton eller Rankine luftoberoende motorsystem med någon av följande egenskaper:






  a) | Kemiska gastvättare eller absorptionssystem som särskilt konstruerats för att avlägsna koldioxid, koloxid och partiklar ur återcirkulerande avgaser. |
| --- | --- | --- | --- |

j)

Luftoberoende kraftsystem, speciellt konstruerade för undervattensbruk, enligt följande:

1.

Brayton eller Rankine luftoberoende motorsystem med någon av följande egenskaper:

a)

Kemiska gastvättare eller absorptionssystem som särskilt konstruerats för att avlägsna koldioxid, koloxid och partiklar ur återcirkulerande avgaser.

| b) | System som är speciellt konstruerade för att använda en enatomig gas. |
| --- | --- |

b)

System som är speciellt konstruerade för att använda en enatomig gas.

| c) | Enheter eller höljen, som särskilt konstruerats för att ge ljudreduktion under vattnet för frekvenser under 10 kHz eller speciella upphängningsanordningar som kan mildra stötar. |
| --- | --- |

c)

Enheter eller höljen, som särskilt konstruerats för att ge ljudreduktion under vattnet för frekvenser under 10 kHz eller speciella upphängningsanordningar som kan mildra stötar.

| d) | System som har samtliga följande egenskaper:






  1. | Särskilt konstruerade för att trycksätta reaktionsprodukter eller förändra bränsle. |
| --- | --- | --- |

d)

System som har samtliga följande egenskaper:

1.

Särskilt konstruerade för att trycksätta reaktionsprodukter eller förändra bränsle.

| 2. | Särskilt konstruerade för att lagra reaktionsprodukter. |
| --- | --- |

2.

Särskilt konstruerade för att lagra reaktionsprodukter.

| 3. | Särskilt konstruerade för att släppa ut reaktionsprodukter mot ett tryck på 100 kPa eller mer. |
| --- | --- |

3.

Särskilt konstruerade för att släppa ut reaktionsprodukter mot ett tryck på 100 kPa eller mer.

| 2. | Luftoberoende dieselmotorer med alla följande egenskaper:






  a) | Kemiska gastvättar eller absorptionssystem som särskilt konstruerats för att avlägsna koldioxid, koloxid och partiklar ur återcirkulerade avgaser. |
| --- | --- | --- |

2.

Luftoberoende dieselmotorer med alla följande egenskaper:

a)

Kemiska gastvättar eller absorptionssystem som särskilt konstruerats för att avlägsna koldioxid, koloxid och partiklar ur återcirkulerade avgaser.

| b) | System som särskilt konstruerats för att använda en enatomig gas. |
| --- | --- |

b)

System som särskilt konstruerats för att använda en enatomig gas.

| c) | Enheter eller höljen som särskilt konstruerats för att ge ljudreduktion under vattnet för frekvenser under 10 kHz eller speciella upphängningsanordningar som kan mildra stötar. |
| --- | --- |

c)

Enheter eller höljen som särskilt konstruerats för att ge ljudreduktion under vattnet för frekvenser under 10 kHz eller speciella upphängningsanordningar som kan mildra stötar.

| d) | Särskilt konstruerade avgassystem som inte släpper ut avgaserna kontinuerligt. |
| --- | --- |

d)

Särskilt konstruerade avgassystem som inte släpper ut avgaserna kontinuerligt.

| 3. | Luftoberoende kraftsystem med "bränsleceller" med en utgångseffekt som överstiger 2 kW och som har någon av följande egenskaper:






  a) | Enheter eller höljen som särskilt konstruerats för att ge ljudreduktion under vattnet för frekvenser under 10 kHz eller speciella upphängningsanordningar som kan mildra stötar. |
| --- | --- | --- |

3.

Luftoberoende kraftsystem med "bränsleceller" med en utgångseffekt som överstiger 2 kW och som har någon av följande egenskaper:

a)

Enheter eller höljen som särskilt konstruerats för att ge ljudreduktion under vattnet för frekvenser under 10 kHz eller speciella upphängningsanordningar som kan mildra stötar.

| b) | System som har samtliga följande egenskaper:






  1. | Särskilt konstruerade för att trycksätta reaktionsprodukter eller förändra bränsle. |
| --- | --- | --- |

b)

System som har samtliga följande egenskaper:

1.

Särskilt konstruerade för att trycksätta reaktionsprodukter eller förändra bränsle.

| 2. | Särskilt konstruerade för att lagra reaktionsprodukter. |
| --- | --- |

2.

Särskilt konstruerade för att lagra reaktionsprodukter.

| 3. | Särskilt konstruerade för att släppa ut reaktionsprodukter mot ett tryck på 100 kPa eller mer. |
| --- | --- |

3.

Särskilt konstruerade för att släppa ut reaktionsprodukter mot ett tryck på 100 kPa eller mer.

| 4. | Stirling luftoberoende motorsystem med alla följande egenskaper:






  a) | Enheter eller höljen som särskilt konstruerats för att ge ljudreduktion under vattnet för frekvenser under 10 kHz eller speciella upphängningsanordningar som kan mildra stötar. |
| --- | --- | --- |

4.

Stirling luftoberoende motorsystem med alla följande egenskaper:

a)

Enheter eller höljen som särskilt konstruerats för att ge ljudreduktion under vattnet för frekvenser under 10 kHz eller speciella upphängningsanordningar som kan mildra stötar.

| b) | Speciellt konstruerade avgassystem som släpper ut förbränningsprodukterna mot ett mottryck på 100 kPa eller mer. |
| --- | --- |

b)

Speciellt konstruerade avgassystem som släpper ut förbränningsprodukterna mot ett mottryck på 100 kPa eller mer.

| k) | Kjolar, tätningar och fingrar, med någon av följande egenskaper:






  1. | Konstruerade för kuddtryck på 3 830 Pa eller mer och kan arbeta vid signifikanta våghöjder på 1,25 m (Sea State 3) eller mer och som är speciellt konstruerade för yteffektfordon (helt med kjolar) enligt avsnitt 8A001.f. |
| --- | --- | --- |

k)

Kjolar, tätningar och fingrar, med någon av följande egenskaper:

1.

Konstruerade för kuddtryck på 3 830 Pa eller mer och kan arbeta vid signifikanta våghöjder på 1,25 m (Sea State 3) eller mer och som är speciellt konstruerade för yteffektfordon (helt med kjolar) enligt avsnitt 8A001.f.

| 2. | Konstruerade för kuddtryck på 6 224 Pa eller mer, och kan arbeta vid signifikanta våghöjder på 3,25 m (Sea State 5) eller mer och som är speciellt konstruerade för yteffektfordon (massiva sidoväggar) enligt avsnitt 8A001.g. |
| --- | --- |

2.

Konstruerade för kuddtryck på 6 224 Pa eller mer, och kan arbeta vid signifikanta våghöjder på 3,25 m (Sea State 5) eller mer och som är speciellt konstruerade för yteffektfordon (massiva sidoväggar) enligt avsnitt 8A001.g.

| l) | Lyftande fläktar på mer än 400 kW som särskilt konstruerats för yteffektfartyg enligt avsnitten 8A001.f eller g. |
| --- | --- |

l)

Lyftande fläktar på mer än 400 kW som särskilt konstruerats för yteffektfartyg enligt avsnitten 8A001.f eller g.

| m) | Helt nedsänkta bärplan med kavitation på över- eller undersidan som särskilt konstruerats för fartyg enligt avsnitt 8A001.h. |
| --- | --- |

m)

Helt nedsänkta bärplan med kavitation på över- eller undersidan som särskilt konstruerats för fartyg enligt avsnitt 8A001.h.

| n) | Aktiva system som särskilt konstruerats eller modifierats för att automatiskt reglera rörelsen från sjöhävningen på fartyg eller farkoster som omfattas av avsnitten 8A001.f, 8A001.g, 8A001.h eller 8A001.i. |
| --- | --- |

n)

Aktiva system som särskilt konstruerats eller modifierats för att automatiskt reglera rörelsen från sjöhävningen på fartyg eller farkoster som omfattas av avsnitten 8A001.f, 8A001.g, 8A001.h eller 8A001.i.

| o) | Propellrar, effektöverföringssystem, effektgenererande system och ljuddämpande system, enligt följande:






  1. | Vattenskruvpropellrar eller effektöverföringssystem som särskilt konstruerats för yteffektfartyg (helt med kjolar eller med massiva sidoväggar) bärplansbåtar eller ‧små planande fartyg‧ enligt avsnitten 8A001.f, 8A001.g, 8A001.h eller 8A001.i, enligt följande:






  a) | Propellrar som är superkaviterande, superventilerade, delvis nedsänkta eller som skär genom ytan och är dimensionerade för mer än 7,5 MW. |
| --- | --- | --- | --- |

o)

Propellrar, effektöverföringssystem, effektgenererande system och ljuddämpande system, enligt följande:

1.

Vattenskruvpropellrar eller effektöverföringssystem som särskilt konstruerats för yteffektfartyg (helt med kjolar eller med massiva sidoväggar) bärplansbåtar eller ‧små planande fartyg‧ enligt avsnitten 8A001.f, 8A001.g, 8A001.h eller 8A001.i, enligt följande:

a)

Propellrar som är superkaviterande, superventilerade, delvis nedsänkta eller som skär genom ytan och är dimensionerade för mer än 7,5 MW.

| b) | Motroterande propellrar som är dimensionerade för mer än 15 MW. |
| --- | --- |

b)

Motroterande propellrar som är dimensionerade för mer än 15 MW.

| c) | System som innehåller virvelteknik före eller efter propellern för att få ett jämnare flöde genom propellern. |
| --- | --- |

c)

System som innehåller virvelteknik före eller efter propellern för att få ett jämnare flöde genom propellern.

| d) | Lättvikts-, högkapacitets- (K-faktor över 300) reduktionsväxlar. |
| --- | --- |

d)

Lättvikts-, högkapacitets- (K-faktor över 300) reduktionsväxlar.

| e) | Effektöverföringssystem med axlar som innehåller "kompositer" och är dimensionerade för att överföra mer än 1 MW. |
| --- | --- |

e)

Effektöverföringssystem med axlar som innehåller "kompositer" och är dimensionerade för att överföra mer än 1 MW.

| 2. | Vattenskruvpropellrar, effektgenererande eller överförande system konstruerade för användning på fartyg, enligt följande:






  a) | Propellrar med ställbar stigning och navsystem som är dimensionerade för mer än 30 MW. |
| --- | --- | --- |

2.

Vattenskruvpropellrar, effektgenererande eller överförande system konstruerade för användning på fartyg, enligt följande:

a)

Propellrar med ställbar stigning och navsystem som är dimensionerade för mer än 30 MW.

| b) | Internt vätskekylda elektriska framdrivningsmotorer med en utgångseffekt som överstiger 2,5 MW. |
| --- | --- |

b)

Internt vätskekylda elektriska framdrivningsmotorer med en utgångseffekt som överstiger 2,5 MW.

| c) | Supraledande framdrivningsmotorer eller elektriska framdrivningsmotorer med permanentmagneter, med en utgångseffekt som överstiger 0,1 MW. |
| --- | --- |

c)

Supraledande framdrivningsmotorer eller elektriska framdrivningsmotorer med permanentmagneter, med en utgångseffekt som överstiger 0,1 MW.

| d) | Effektöverföringssystem med axlar som innehåller kompositer och är dimensionerade för att överföra mer än 2 MW. |
| --- | --- |

d)

Effektöverföringssystem med axlar som innehåller kompositer och är dimensionerade för att överföra mer än 2 MW.

| e) | Ventilerade eller vid basen ventilerade propellersystem som är dimensionerade för mer än 2,5 MW. |
| --- | --- |

e)

Ventilerade eller vid basen ventilerade propellersystem som är dimensionerade för mer än 2,5 MW.

| 3. | Ljudreduktionssystem konstruerade för användning på fartyg med ett deplacement på 1 000 ton eller mer, enligt följande:






  a) | Ljudreduktionssystem som dämpar undervattensbuller vid frekvenser under 500 Hz och består av ljudabsorberande dämpare för akustisk isolering av dieselmotorer, dieselgeneratoraggregat, gasturbiner, gasturbingeneratoraggregat, framdrivningsmotorer eller växlar för framdrivningsmotorer, speciellt konstruerade för att dämpa ljud och vibrationer och som har en mellanliggande massa som överstiger 30 % av utrustningen som ska monteras. |
| --- | --- | --- |

3.

Ljudreduktionssystem konstruerade för användning på fartyg med ett deplacement på 1 000 ton eller mer, enligt följande:

a)

Ljudreduktionssystem som dämpar undervattensbuller vid frekvenser under 500 Hz och består av ljudabsorberande dämpare för akustisk isolering av dieselmotorer, dieselgeneratoraggregat, gasturbiner, gasturbingeneratoraggregat, framdrivningsmotorer eller växlar för framdrivningsmotorer, speciellt konstruerade för att dämpa ljud och vibrationer och som har en mellanliggande massa som överstiger 30 % av utrustningen som ska monteras.

| b) | ‧Aktiva system för reduktion eller utsläckning av ljud‧ eller magnetiska lager som särskilt konstruerats för mekaniska överföringssystem. |
| --- | --- |

b)

‧Aktiva system för reduktion eller utsläckning av ljud‧ eller magnetiska lager som särskilt konstruerats för mekaniska överföringssystem.

:

‧Aktiva system för reduktion eller utsläckning av ljud‧ innehåller elektroniska styrsystem som aktivt kan reducera utrustningens vibrationer genom att tillföra ljudkällan motljud eller motvibrationer.

| p) | Framdrivningssystem enligt pump-jet-principen med samtliga följande egenskaper:






  1. | En utgångseffekt över 2,5 MW. |
| --- | --- | --- |

p)

Framdrivningssystem enligt pump-jet-principen med samtliga följande egenskaper:

1.

En utgångseffekt över 2,5 MW.

| 2. | Använder divergerande munstycken och flödesskapande skovelteknik för att förbättra framdrivningsegenskaperna eller reducera det ljud som skapas under vattnet av framdrivningen. |
| --- | --- |

2.

Använder divergerande munstycken och flödesskapande skovelteknik för att förbättra framdrivningsegenskaperna eller reducera det ljud som skapas under vattnet av framdrivningen.

| q) | Undervattenssim- och dykutrustning enligt följande:






  1. | Slutna andningssystem. |
| --- | --- | --- |

q)

Undervattenssim- och dykutrustning enligt följande:

1.

Slutna andningssystem.

| 2. | Halvslutna andningssystem. |
| --- | --- |

2.

Halvslutna andningssystem.

:

Avsnitt 8A002.q omfattar inte enskilda syreandningssystem som åtföljer användaren för dennes personliga bruk.

| r) | Akustiska system för att avskräcka dykare, särskilt konstruerade eller modifierade för att störa dykare och med ett ljudtryck på 190 dB (referens 1 μPa vid 1 m) eller högre på frekvenser av 200 Hz och under. |
| --- | --- |

r)

Akustiska system för att avskräcka dykare, särskilt konstruerade eller modifierade för att störa dykare och med ett ljudtryck på 190 dB (referens 1 μPa vid 1 m) eller högre på frekvenser av 200 Hz och under.

| : | 8A002.r. omfattar inte system för att avskräcka dykare baserade på sprängladdningar, luftkanoner eller antändbara källor under vatten. |
| --- | --- |

:

| : | 8A002.r. omfattar system för att avskräcka dykare som använder gnistgapkällor, också kända som plasmaljudkällor. |
| --- | --- |

:

8BUtrustning för prov, inspektion och produktion

8B001Vattentunnlar med ett bakgrundsbrus under 100 dB (referens 1 μPa, 1 Hz) i ett frekvensområde från 0 till 500 Hz, och som konstruerats för att mäta akustiska fält som genereras av vattenströmningen runt en modell av ett framdrivningssystem.

8CMaterial

8C001‧Syntaktiskt skum‧ konstruerat för undervattensbruk med följande egenskaper:

:

Se även avsnitt 8A002.a.4.

| a) | Konstruerat för användning på marina djup som överstiger 1 000 m, och |
| --- | --- |

a)

Konstruerat för användning på marina djup som överstiger 1 000 m, och

| b) | täthet som är mindre än 561 kg/m3. |
| --- | --- |

b)

täthet som är mindre än 561 kg/m3.

:

‧Syntaktiskt skum‧ består av ihåliga kulor av plast eller glas inbäddade i en hartsmatris.

8DProgramvara

8D001"Programvara" speciellt utformad eller modifierad för "utveckling", "produktion" eller "användning" av utrustning eller material som omfattas av avsnitten 8.A, 8.B eller 8.C.

8D002Specifik "programvara" speciellt utformad eller modifierad för "utveckling", "produktion", reparation, renovering eller ombearbetning av propellrar som är speciellt konstruerade för att reducera undervattensbrus.

8ETeknik

8E001"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik för "utveckling" eller "produktion" av utrustning eller material som omfattas av avsnitten 8A, 8B, eller 8C.

8E002Annan "teknik" enligt följande:

| a) | "Teknik" för "utveckling", "produktion", reparation, renovering eller ombearbetning av propellrar som är speciellt konstruerade för att reducera undervattensbrus. |
| --- | --- |

a)

"Teknik" för "utveckling", "produktion", reparation, renovering eller ombearbetning av propellrar som är speciellt konstruerade för att reducera undervattensbrus.

| b) | "Teknik" för renovering eller ombearbetning av utrustning som omfattas av avsnitten 8A001, 8A002.b, 8A002.j, 8A002.o eller 8A002.p. |
| --- | --- |

b)

"Teknik" för renovering eller ombearbetning av utrustning som omfattas av avsnitten 8A001, 8A002.b, 8A002.j, 8A002.o eller 8A002.p.

KATEGORI 9

FLYG, RYMD OCH FRAMDRIVNING

9ASystem, utrustning och komponenter

| : | För framdrivningssystem konstruerade eller specificerade mot neutron eller transient joniserande strålning, se kontrollbestämmelserna för varor med militär användning. |
| --- | --- |

:

9A001Gasturbinmotorer för flygändamål med något av följande:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 9A101. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | Innehåller någon av de "tekniker" som omfattas av avsnitt 9E003.a, 9E003.h eller 9E003.i.







  : | Avsnitt 9A001.a. omfattar inte gasturbinmotorer som fullt ut uppfyller följande:







  a) | Certifierade av de civila luftfartsmyndigheterna i en "deltagande stat" och |
| --- | --- | --- | --- |

a)

Innehåller någon av de "tekniker" som omfattas av avsnitt 9E003.a, 9E003.h eller 9E003.i.

:

a)

Certifierade av de civila luftfartsmyndigheterna i en "deltagande stat" och

| b) | avsedda att driva ett icke-militärt bemannat flygplan för vilket något av följande har utfärdats av en "deltagande stat" för ett flygplan med denna specifika motortyp:








  1. | Ett civilt typcertifikat, eller |
| --- | --- | --- |

b)

avsedda att driva ett icke-militärt bemannat flygplan för vilket något av följande har utfärdats av en "deltagande stat" för ett flygplan med denna specifika motortyp:

1.

Ett civilt typcertifikat, eller

| 2. | ett likvärdigt dokument som erkänns av Internationella civila luftfartsorganisationen (ICAO). |
| --- | --- |

2.

ett likvärdigt dokument som erkänns av Internationella civila luftfartsorganisationen (ICAO).

| b) | Konstruerade för att driva ett flygplan med en marschhastighet på Mach 1 eller över under mer än 30 minuter. |
| --- | --- |

b)

Konstruerade för att driva ett flygplan med en marschhastighet på Mach 1 eller över under mer än 30 minuter.

9A002‧Marina gasturbinmotorer‧ med en kontinuerlig uteffekt, mätt enligt ISO standard, på 24 245 kW eller mer och som har en specifik bränsleförbrukning som inte överstiger 0,219 kg/kWh i kraftområdet 35-100 % samt till dessa motorer speciellt konstruerade enheter och komponenter.

| : | Termen ‧marina gasturbinmotorer‧ omfattar även sådana industriella, eller luftfartsvarianter av, gasturbinmotorer som är anpassade för fartygsframdrivning eller för elgenerering ombord på fartyg. |
| --- | --- |

:

9A003Speciellt konstruerade system och komponenter som innehåller någon av de "tekniker" som omfattas av avsnitt 9E003.a, 9E003.h eller 9E003.i, för något av följande framdrivningssystem med gasturbinmotorer:

| a) | Omfattas av avsnitt 9A001. |
| --- | --- |

a)

Omfattas av avsnitt 9A001.

| b) | Deras konstruktion eller produktion har sitt ursprung i antingen icke-"deltagande stater" eller är okänt för tillverkaren. |
| --- | --- |

b)

Deras konstruktion eller produktion har sitt ursprung i antingen icke-"deltagande stater" eller är okänt för tillverkaren.

9A004Rymduppskjutningsfarkoster och "rymdfarkoster".

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 9A104. |
| --- | --- |

ANM.:

| : | Avsnitt 9A004 omfattar inte nyttolasten.

  :


  För regleringen av produkter i "rymdfarkostens" nyttolast, se lämplig kategori. |
| --- | --- |

:

:

För regleringen av produkter i "rymdfarkostens" nyttolast, se lämplig kategori.

9A005Raketframdrivningssystem som drivs med flytande bränsle och som innehåller något av de system eller komponenter som omfattas av avsnitt 9A006.

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITTEN 9A105 OCH 9A119. |
| --- | --- |

ANM.:

9A006System och komponenter, enligt följande, speciellt konstruerade för raketmotorer som drivs med flytande bränsle.

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITTEN 9A106, 9A108 OCH 9A120. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | Lågtemperaturkylskåp, termosbehållare med låg vikt, lågtemperaturvärmeledare eller lågtemperaturssystem speciellt konstruerade för användning i rymdfarkoster och med möjlighet att begränsa förlusterna hos lågtempererade vätskor till mindre än 30 % per år. |
| --- | --- |

a)

Lågtemperaturkylskåp, termosbehållare med låg vikt, lågtemperaturvärmeledare eller lågtemperaturssystem speciellt konstruerade för användning i rymdfarkoster och med möjlighet att begränsa förlusterna hos lågtempererade vätskor till mindre än 30 % per år.

| b) | Lågtemperaturbehållare eller slutna kylsystem som kan arbeta med temperaturer på 100 K (– 173 °C) eller mindre, avsedda för "luftfartyg" som klarar långvariga flygningar vid hastigheter över Mach 3, "rymdfarkoster" samt uppskjutningsfarkoster för dessa. |
| --- | --- |

b)

Lågtemperaturbehållare eller slutna kylsystem som kan arbeta med temperaturer på 100 K (– 173 °C) eller mindre, avsedda för "luftfartyg" som klarar långvariga flygningar vid hastigheter över Mach 3, "rymdfarkoster" samt uppskjutningsfarkoster för dessa.

| c) | Förvarings- och transportsystem för väte som är omgivet av issörja (slush hydrogen). |
| --- | --- |

c)

Förvarings- och transportsystem för väte som är omgivet av issörja (slush hydrogen).

| d) | Högtrycks (mer än 17,5 MPa) turbopumpar, pumpkomponenter eller deras tillhörande gasgeneratorer eller drivsystem för turbiners expansionscykel. |
| --- | --- |

d)

Högtrycks (mer än 17,5 MPa) turbopumpar, pumpkomponenter eller deras tillhörande gasgeneratorer eller drivsystem för turbiners expansionscykel.

| e) | Högtrycks (mer än 10,6 MPa) dragkraftskammare och tillhörande munstycken. |
| --- | --- |

e)

Högtrycks (mer än 10,6 MPa) dragkraftskammare och tillhörande munstycken.

| f) | Bränsletanksystem som arbetar enligt kapillärupptagningsprincipen eller med positiv utdrivning (t.ex. med en flexibel blåsa). |
| --- | --- |

f)

Bränsletanksystem som arbetar enligt kapillärupptagningsprincipen eller med positiv utdrivning (t.ex. med en flexibel blåsa).

| g) | Insprutare för flytande bränsle med individuella munstycken vars diameter är 0,381 mm eller mindre (arean är 1,14 × 10-3 cm2 eller mindre för icke cirkulära munstycken) och som är speciellt konstruerade för raketmotorer som drivs med flytande bränsle. |
| --- | --- |

g)

Insprutare för flytande bränsle med individuella munstycken vars diameter är 0,381 mm eller mindre (arean är 1,14 × 10-3 cm2 eller mindre för icke cirkulära munstycken) och som är speciellt konstruerade för raketmotorer som drivs med flytande bränsle.

| h) | Kol-kol förbränningskammare som gjorts i ett stycke eller utloppskoner gjorda i ett stycke av kol-kol med täthet som överstiger 1,4 g/cm3 och brottgräns som överstiger 48 MPa. |
| --- | --- |

h)

Kol-kol förbränningskammare som gjorts i ett stycke eller utloppskoner gjorda i ett stycke av kol-kol med täthet som överstiger 1,4 g/cm3 och brottgräns som överstiger 48 MPa.

9A007Raketmotorsystem för fasta bränslen som har någon av följande egenskaper:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITTEN 9A107 OCH 9A119. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | En total impulskapacitet som överstiger 1,1 MNs. |
| --- | --- |

a)

En total impulskapacitet som överstiger 1,1 MNs.

| b) | Specifika impulsen är minst 2,4 kNs/kg när munstycksflödet är anpassat till havsnivå och ett kammartryck på 7 MPa. |
| --- | --- |

b)

Specifika impulsen är minst 2,4 kNs/kg när munstycksflödet är anpassat till havsnivå och ett kammartryck på 7 MPa.

| c) | Raketstegets viktandel överskrider 88 %, och fasta bränsledelen överskrider 86 %. |
| --- | --- |

c)

Raketstegets viktandel överskrider 88 %, och fasta bränsledelen överskrider 86 %.

| d) | Komponenter som omfattas av avsnitt 9A008. |
| --- | --- |

d)

Komponenter som omfattas av avsnitt 9A008.

| e) | Sammanfogningssystem mellan isolering och bränsle som använder direktsammanfogning av motorn för att ge ett ‧starkt mekaniskt förband‧ eller ett förfarande med barriär till kemisk migration mellan bränslet och höljets isolering.

  :


  Med ‧starkt mekaniskt förband‧ avses ett förband som är lika starkt eller starkare än bränslet. |
| --- | --- |

e)

Sammanfogningssystem mellan isolering och bränsle som använder direktsammanfogning av motorn för att ge ett ‧starkt mekaniskt förband‧ eller ett förfarande med barriär till kemisk migration mellan bränslet och höljets isolering.

:

Med ‧starkt mekaniskt förband‧ avses ett förband som är lika starkt eller starkare än bränslet.

9A008Komponenter som är speciellt konstruerade för raketmotorsystem som använder fasta bränslen, enligt följande:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 9A108. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | Sammanfogningssystem mellan bränsle och isolering som använder foder för att uppnå ett ‧starkt mekaniskt förband‧ eller en barriär till kemisk migration mellan bränslet och husisoleringen.

  :


  Med ‧starkt mekaniskt förband‧ avses ett förband som är lika starkt eller starkare än bränslet. |
| --- | --- |

a)

Sammanfogningssystem mellan bränsle och isolering som använder foder för att uppnå ett ‧starkt mekaniskt förband‧ eller en barriär till kemisk migration mellan bränslet och husisoleringen.

:

Med ‧starkt mekaniskt förband‧ avses ett förband som är lika starkt eller starkare än bränslet.

| b) | Trådlindade "komposit"-motorhus med en diameter större än 0,61 m eller som har ett ‧strukturellt effektivitetsförhållande (PV/W)‧ som är större än 25 km.

  :


  Med ‧strukturellt effektivitetsförhållande (PV/W)‧ avses brännartrycket (P) gånger kärlets volym (V) dividerat med tryckkärlets totala tyngd (W). |
| --- | --- |

b)

Trådlindade "komposit"-motorhus med en diameter större än 0,61 m eller som har ett ‧strukturellt effektivitetsförhållande (PV/W)‧ som är större än 25 km.

:

Med ‧strukturellt effektivitetsförhållande (PV/W)‧ avses brännartrycket (P) gånger kärlets volym (V) dividerat med tryckkärlets totala tyngd (W).

| c) | Munstycken med drivkraft som överskrider 45 kN eller där erosionshastigheten i munstyckshalsen är mindre än 0,075 mm/s. |
| --- | --- |

c)

Munstycken med drivkraft som överskrider 45 kN eller där erosionshastigheten i munstyckshalsen är mindre än 0,075 mm/s.

| d) | Styrsystem med rörliga munstycken eller sekundär bränsleinsprutning som kan ge någon av följande:






  1. | En rörelse runt valfri axel som är större än ± 5 °. |
| --- | --- | --- |

d)

Styrsystem med rörliga munstycken eller sekundär bränsleinsprutning som kan ge någon av följande:

1.

En rörelse runt valfri axel som är större än ± 5 °.

| 2. | En vektor för rotationsrörelsen som är 20 °/s eller mer. |
| --- | --- |

2.

En vektor för rotationsrörelsen som är 20 °/s eller mer.

| 3. | En vektor för rotationsacceleration som är 40 °/s2 eller mer. |
| --- | --- |

3.

En vektor för rotationsacceleration som är 40 °/s2 eller mer.

9A009Hybridframdrivningssystem för raketer som har någon av följande egenskaper:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITTEN 9A109 OCH 9A119. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | En impuls större än 1,1 MNs, eller |
| --- | --- |

a)

En impuls större än 1,1 MNs, eller

| b) | med drivkraft större än 220 kN om det råder vakuum vid utloppet. |
| --- | --- |

b)

med drivkraft större än 220 kN om det råder vakuum vid utloppet.

9A010Speciellt konstruerade komponenter, system eller kroppar, för uppskjutningsfarkoster eller deras drivsystem eller "rymdfarkoster" enligt följande:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITTEN 1A002 OCH 9A110. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | Komponenter och kroppar som väger mer än 10 kg och som är speciellt konstruerade för uppskjutningsfarkoster och som tillverkats av metall "matris", "komposit", organisk "komposit", keramisk "matris" eller intermetalliskt förstärkta material som omfattas av avsnitt 1C007 eller 1C010.







  : | Viktangivelsen gäller inte för noskoner. |
| --- | --- | --- |

a)

Komponenter och kroppar som väger mer än 10 kg och som är speciellt konstruerade för uppskjutningsfarkoster och som tillverkats av metall "matris", "komposit", organisk "komposit", keramisk "matris" eller intermetalliskt förstärkta material som omfattas av avsnitt 1C007 eller 1C010.

:

| b) | Komponenter och kroppar som är speciellt konstruerade för framdrivningssystemen på uppskjutningsfarkoster som omfattas av avsnitten 9A005-9A009 och som tillverkats av metall "matris", "komposit", organisk "komposit", keramisk "matris" eller intermetalliskt förstärkta material som omfattas av avsnitt 1C007 eller 1C010. |
| --- | --- |

b)

Komponenter och kroppar som är speciellt konstruerade för framdrivningssystemen på uppskjutningsfarkoster som omfattas av avsnitten 9A005-9A009 och som tillverkats av metall "matris", "komposit", organisk "komposit", keramisk "matris" eller intermetalliskt förstärkta material som omfattas av avsnitt 1C007 eller 1C010.

| c) | Komponenter för kroppar och isolationssystem som speciellt konstruerats för att aktivt styra det dynamiska svaret eller distortionen av "rymdfarkostens" kropp. |
| --- | --- |

c)

Komponenter för kroppar och isolationssystem som speciellt konstruerats för att aktivt styra det dynamiska svaret eller distortionen av "rymdfarkostens" kropp.

| d) | Pulsade raketmotorer för flytande bränsle som har ett förhållande mellan dragkraft och vikt som är lika med eller större än 1 kN/kg och som har en svarstid (tiden det tar att uppnå 90 % av den totala specificerade dragkraften) som är mindre än 30 ms. |
| --- | --- |

d)

Pulsade raketmotorer för flytande bränsle som har ett förhållande mellan dragkraft och vikt som är lika med eller större än 1 kN/kg och som har en svarstid (tiden det tar att uppnå 90 % av den totala specificerade dragkraften) som är mindre än 30 ms.

9A011Rammotorer, scrammotorer eller kombinationsmotorer och särskilt konstruerade komponenter för sådana.

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITTEN 9A111 OCH 9A118. |
| --- | --- |

ANM.:

9A012"Obemannade luftfartyg" ("UAV") och därmed sammanhörande system, utrustning och komponenter enligt följande:

| a) | "Obemannade luftfartyg" som har något av följande:






  1. | Autonom flyglednings- och navigeringsfunktion (t.ex. autopilot med ett tröghetsnavigeringssystem). |
| --- | --- | --- |

a)

"Obemannade luftfartyg" som har något av följande:

1.

Autonom flyglednings- och navigeringsfunktion (t.ex. autopilot med ett tröghetsnavigeringssystem).

| 2. | En funktion för flygledning utanför det direkta synfältet med hjälp av en mänsklig operatör (t.ex. tv-fjärrkontroll). |
| --- | --- |

2.

En funktion för flygledning utanför det direkta synfältet med hjälp av en mänsklig operatör (t.ex. tv-fjärrkontroll).

| b) | Sammanhörande system, utrustning och komponenter enligt följande:






  1. | Utrustning som är särskilt konstruerad för fjärrkontroll av de "UAV" som anges i avsnitt 9A012.a. |
| --- | --- | --- |

b)

Sammanhörande system, utrustning och komponenter enligt följande:

1.

Utrustning som är särskilt konstruerad för fjärrkontroll av de "UAV" som anges i avsnitt 9A012.a.

| 2. | System för navigation, positionering, styrning eller kontroll, andra än de som omfattas av avsnitt 7A, särskilt konstruerade för att tillhandahålla autonom flygstyrning eller navigationsförmåga för "UAV" som anges i avsnitt 9A012.a. |
| --- | --- |

2.

System för navigation, positionering, styrning eller kontroll, andra än de som omfattas av avsnitt 7A, särskilt konstruerade för att tillhandahålla autonom flygstyrning eller navigationsförmåga för "UAV" som anges i avsnitt 9A012.a.

| 3. | Utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade för att omvandla ett bemannat "luftfartyg" till en "UAV" som anges i avsnitt 9A012.a. |
| --- | --- |

3.

Utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade för att omvandla ett bemannat "luftfartyg" till en "UAV" som anges i avsnitt 9A012.a.

| 4. | Kolv- eller turbinmotorer av förbränningstyp som använder syre, särskilt konstruerade eller modifierade för framdrivning av "UAV" på höjder över 50 000 fot (15 240 meter). |
| --- | --- |

4.

Kolv- eller turbinmotorer av förbränningstyp som använder syre, särskilt konstruerade eller modifierade för framdrivning av "UAV" på höjder över 50 000 fot (15 240 meter).

9A101Turbojet- och turbofläktmotorer, andra än de som omfattas av avsnitt 9A001, enligt följande:

| a) | Motorer som har båda följande egenskaper:






  1. | Maximal dragkraft större än 400 N (uppmätt oinstallerad) utom civilt certifierade motorer med en maximal dragkraft större än 8 890 N (uppmätt oinstallerad), och |
| --- | --- | --- |

a)

Motorer som har båda följande egenskaper:

1.

Maximal dragkraft större än 400 N (uppmätt oinstallerad) utom civilt certifierade motorer med en maximal dragkraft större än 8 890 N (uppmätt oinstallerad), och

| 2. | specifik bränsleförbrukning på 0,15 kg/N/h eller mindre (vid maximal kontinuerlig effekt under statiska standardförhållanden vid havsnivå). |
| --- | --- |

2.

specifik bränsleförbrukning på 0,15 kg/N/h eller mindre (vid maximal kontinuerlig effekt under statiska standardförhållanden vid havsnivå).

| b) | Motorer som är konstruerade eller modifierade för användning i "missiler" eller obemannade luftfartyg som specificeras i avsnitt 9A012. |
| --- | --- |

b)

Motorer som är konstruerade eller modifierade för användning i "missiler" eller obemannade luftfartyg som specificeras i avsnitt 9A012.

9A102‧Turbopropmotorsystem‧ som är särskilt konstruerade för obemannade luftfartyg som specificeras i avsnitt 9A012, och särskilt konstruerade komponenter till dessa, med en ‧maximal effekt‧ som överstiger 10 kW.

| : | Avsnitt 9A102 omfattar inte civilt certifierade motorer. |
| --- | --- |

:

:

| 1. | I avsnitt 9A102 avses med ‧turbopropmotorsystem‧ ett system som inbegriper följande:







  a) | Gasturbin. |
| --- | --- | --- |

1.

a)

Gasturbin.

| b) | Effektöverföringssystem för överföring av effekt till en propeller. |
| --- | --- |

b)

Effektöverföringssystem för överföring av effekt till en propeller.

| 2. | I avsnitt 9A102 avses med ‧maximal effekt‧ den maximala effekt som uppnås i ett oinstallerat system vid havsnivå under standardförhållanden. |
| --- | --- |

2.

9A104Sondraketer som har en räckvidd på minst 300 km.

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 9A004. |
| --- | --- |

ANM.:

9A105Raketmotorer för flytande bränsle, enligt följande:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 9A119. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | Raketmotorer för flytande bränsle som kan användas i "missiler", andra än de som omfattas av avsnitt 9A005, och som har en total impulskapacitet som är lika med eller mer än 1,1 MNs. |
| --- | --- |

a)

Raketmotorer för flytande bränsle som kan användas i "missiler", andra än de som omfattas av avsnitt 9A005, och som har en total impulskapacitet som är lika med eller mer än 1,1 MNs.

| b) | Raketmotorer för flytande bränsle som kan användas i kompletta raketsystem eller obemannade luftfartyg med en räckvidd på 300 km, andra än de som omfattas av avsnitt 9A005 eller 9A105.a, och som har en total impulskapacitet som är lika med eller mer än 0,841 MNs. |
| --- | --- |

b)

Raketmotorer för flytande bränsle som kan användas i kompletta raketsystem eller obemannade luftfartyg med en räckvidd på 300 km, andra än de som omfattas av avsnitt 9A005 eller 9A105.a, och som har en total impulskapacitet som är lika med eller mer än 0,841 MNs.

9A106System och komponenter, som inte specificeras i avsnitt 9A006, speciellt konstruerade för användning i raketframdrivningssystem som drivs med flytande bränsle, enligt följande:

| a) | Värmeavledande foder för drag- eller brännkammare som kan användas i "missiler", rymduppskjutningsanordningar som specificeras i avsnitt 9A004 eller sondraketer som specificeras i avsnitt 9A104. |
| --- | --- |

a)

Värmeavledande foder för drag- eller brännkammare som kan användas i "missiler", rymduppskjutningsanordningar som specificeras i avsnitt 9A004 eller sondraketer som specificeras i avsnitt 9A104.

| b) | Raketmunstycken som kan användas i "missiler", rymduppskjutningsanordningar som specificeras i avsnitt 9A004 eller sondraketer som specificeras i avsnitt 9A104. |
| --- | --- |

b)

Raketmunstycken som kan användas i "missiler", rymduppskjutningsanordningar som specificeras i avsnitt 9A004 eller sondraketer som specificeras i avsnitt 9A104.

| c) | Delsystem för styrning av utblåsningsvektorn som kan användas i "missiler".

  :


  Exempel på olika metoder som används för styrning av utblåsningsvektorn enligt 9A106.c:








  1. | Flexibelt munstycke. |
| --- | --- | --- |

c)

Delsystem för styrning av utblåsningsvektorn som kan användas i "missiler".

:

Exempel på olika metoder som används för styrning av utblåsningsvektorn enligt 9A106.c:

1.

Flexibelt munstycke.

| 2. | Bränsle- eller sekundärgasinsprutning. |
| --- | --- |

2.

Bränsle- eller sekundärgasinsprutning.

| 3. | Rörlig motor eller rörligt munstycke. |
| --- | --- |

3.

Rörlig motor eller rörligt munstycke.

| 4. | Avböjning av utblåsningsstrålen (blad eller sonder), eller |
| --- | --- |

4.

Avböjning av utblåsningsstrålen (blad eller sonder), eller

| 5. | användande av utblåsningsroder. |
| --- | --- |

5.

användande av utblåsningsroder.

| d) | Styrsystem för flytande och uppslammade bränslen (inklusive oxidationsmedel) och speciellt konstruerade komponenter till dessa, som kan användas i "missiler", vilka utformats eller anpassats att verka i vibrerande omgivning större än 10 g rms mellan 20 Hz och 2 kHz.







  : | De enda servoventiler och pumpar som omfattas av avsnitt 9A106.d är:







  a) | Servoventiler konstruerade för flödeshastigheter lika med eller mer än 24 l/min, vid ett absolut tryck lika med eller mer än 7 MPa, vilka har en reaktionstid av mindre än 100 ms. |
| --- | --- | --- | --- |

d)

Styrsystem för flytande och uppslammade bränslen (inklusive oxidationsmedel) och speciellt konstruerade komponenter till dessa, som kan användas i "missiler", vilka utformats eller anpassats att verka i vibrerande omgivning större än 10 g rms mellan 20 Hz och 2 kHz.

:

a)

Servoventiler konstruerade för flödeshastigheter lika med eller mer än 24 l/min, vid ett absolut tryck lika med eller mer än 7 MPa, vilka har en reaktionstid av mindre än 100 ms.

| b) | Pumpar för flytande bränsle, med axelhastigheter lika med eller större än 8 000 varv/min eller med ett avlastningstryck lika med eller större än 7 MPa. |
| --- | --- |

b)

Pumpar för flytande bränsle, med axelhastigheter lika med eller större än 8 000 varv/min eller med ett avlastningstryck lika med eller större än 7 MPa.

9A107Raketmotorer för fasta bränslen som kan användas i kompletta raketsystem eller obemannade luftfartyg med en räckvidd på 300 km, andra än de som omfattas av avsnitt 9A007 och som har en total impulskapacitet som är lika med eller större än 0,841 MNs.

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 9A119. |
| --- | --- |

ANM.:

9A108Komponenter andra än de som anges i avsnitt 9A008, enligt följande, speciellt konstruerade för framdrivningssystem för fasta bränslen:

| a) | Raketmotorhus samt "isolerings"-komponenter till dessa, som kan användas i "missiler", rymduppskjutningsanordningar som omfattas av avsnitt 9A004 eller sondraketer som omfattas av avsnitt 9A104. |
| --- | --- |

a)

Raketmotorhus samt "isolerings"-komponenter till dessa, som kan användas i "missiler", rymduppskjutningsanordningar som omfattas av avsnitt 9A004 eller sondraketer som omfattas av avsnitt 9A104.

| b) | Raketmunstycken som kan användas i "missiler", rymduppskjutningsanordningar som omfattas av avsnitt 9A004 eller sondraketer som omfattas av avsnitt 9A104. |
| --- | --- |

b)

Raketmunstycken som kan användas i "missiler", rymduppskjutningsanordningar som omfattas av avsnitt 9A004 eller sondraketer som omfattas av avsnitt 9A104.

| c) | Delsystem för styrning av utblåsningsvektorn som kan användas i "missiler".

  :


  Exempel på olika metoder som används för styrning av utblåsningsvektorn enligt avsnitt 9A108.c:








  1. | Flexibelt munstycke. |
| --- | --- | --- |

c)

Delsystem för styrning av utblåsningsvektorn som kan användas i "missiler".

:

Exempel på olika metoder som används för styrning av utblåsningsvektorn enligt avsnitt 9A108.c:

1.

Flexibelt munstycke.

| 2. | Bränsle- eller sekundärgasinsprutning. |
| --- | --- |

2.

Bränsle- eller sekundärgasinsprutning.

| 3. | Rörlig motor eller rörligt munstycke. |
| --- | --- |

3.

Rörlig motor eller rörligt munstycke.

| 4. | Avböjning av utblåsningsstrålen (blad eller sonder). |
| --- | --- |

4.

Avböjning av utblåsningsstrålen (blad eller sonder).

| 5. | Användande av utblåsningsroder. |
| --- | --- |

5.

Användande av utblåsningsroder.

9A109Hybridraketmotorer och till dessa speciellt konstruerade komponenter enligt följande:

| a) | Hybridraketmotorer som kan användas i kompletta raketsystem eller obemannade luftfartyg med en räckvidd på 300 km, utom de som specifieras i 9A009, med en total impulskapacitet som är större än eller lika med 0,841 MNs, samt för detta ändamål speciellt konstruerade komponenter. |
| --- | --- |

a)

Hybridraketmotorer som kan användas i kompletta raketsystem eller obemannade luftfartyg med en räckvidd på 300 km, utom de som specifieras i 9A009, med en total impulskapacitet som är större än eller lika med 0,841 MNs, samt för detta ändamål speciellt konstruerade komponenter.

| b) | Speciellt konstruerade komponenter för hybridraketmotorer som omfattas av 9A009 och användbara i "missiler". |
| --- | --- |

b)

Speciellt konstruerade komponenter för hybridraketmotorer som omfattas av 9A009 och användbara i "missiler".

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 9A009 och 9A119. |
| --- | --- |

ANM.:

9A110Kompositstrukturer och laminat samt produkter framställda därav, andra än de som anges i avsnitt 9A010, speciellt konstruerade för användning i ‧missiler‧ eller de delsystem som anges i avsnitt 9A005, 9A007, 9A105, 9A106.c, 9A107, 9A108.c, 9A116 eller 9A119.

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 1A002. |
| --- | --- |

ANM.:

:

I avsnitt 9A110 avses med ‧missiler‧ kompletta raketsystem och system för obemannade luftfartyg med en räckvidd som överstiger 300 km.

9A111Pulsjetmotorer, som kan användas i "missiler" eller obemannade luftfartyg som specificeras i avsnitt 9A012, och till dem speciellt konstruerade komponenter.

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITTEN 9A011 OCH 9A118. |
| --- | --- |

ANM.:

9A115Utrustningar enligt följande:

| a) | Apparater och anordningar för hantering, kontroll aktivering och uppskjutning, konstruerade eller modifierade för rymduppskjutningsanordningar som anges i avsnitt 9A004, obemannade system för luftfartyg som anges i avsnitt 9A012 eller sondraketer som anges i avsnitt 9A104. |
| --- | --- |

a)

Apparater och anordningar för hantering, kontroll aktivering och uppskjutning, konstruerade eller modifierade för rymduppskjutningsanordningar som anges i avsnitt 9A004, obemannade system för luftfartyg som anges i avsnitt 9A012 eller sondraketer som anges i avsnitt 9A104.

| b) | Fordon för transport, handhavande, styrning, aktivering och uppskjutning, konstruerade eller modifierade för att användas vid uppskjutning av rymdfarkoster som omfattas av avsnitt 9A004 eller sondraketer som anges i avsnitt 9A104. |
| --- | --- |

b)

Fordon för transport, handhavande, styrning, aktivering och uppskjutning, konstruerade eller modifierade för att användas vid uppskjutning av rymdfarkoster som omfattas av avsnitt 9A004 eller sondraketer som anges i avsnitt 9A104.

9A116Farkoster för återinträde i jordatmosfären, användbara i "missiler", och utrustning konstruerad eller modifierad härför, enligt följande:

| a) | Farkoster för återinträde i jordatmosfären. |
| --- | --- |

a)

Farkoster för återinträde i jordatmosfären.

| b) | Värmesköldar och komponenter för dessa tillverkade av keramiska material eller ablativmaterial (= material som bortför värme). |
| --- | --- |

b)

Värmesköldar och komponenter för dessa tillverkade av keramiska material eller ablativmaterial (= material som bortför värme).

| c) | Kylutrustningar och komponenter för dessa tillverkade av material med låg vikt och förmåga att motstå höga temperaturer. |
| --- | --- |

c)

Kylutrustningar och komponenter för dessa tillverkade av material med låg vikt och förmåga att motstå höga temperaturer.

| d) | Elektronisk utrustning särskilt konstruerad för farkoster för återinträde i jordatmosfären. |
| --- | --- |

d)

Elektronisk utrustning särskilt konstruerad för farkoster för återinträde i jordatmosfären.

9A117Hopkopplings- och separationsmekanismer och mellansteg härför, användbara i "missiler".

9A118Anordningar för att reglera förbränningen i motorer, som kan användas i "missiler" eller obemannade luftfartyg som specificeras i avsnitt 9A012, och anges i av avsnitt 9A011 eller 9A111.

9A119Enskilda raketsteg, som kan användas i kompletta raketsystem eller obemannade luftfartyg med en räckvidd på 300 km, andra än de som anges i avsnitten 9A005, 9A007, 9A009, 9A105, 9A107 och 9A109.

9A120Tankar för flytande bränsle, andra än de som anges i avsnitt 9A006, särskilt konstruerade för bränslen som omfattas av avsnitt 1C111 eller ‧andra flytande bränslen‧ som används i raketsystem som kan bära en last på minst 500 kg nyttolast en sträcka av minst 300 km.

| : | I avsnitt 9A120 inkluderar ‧andra flytande bränslen‧ bland annat bränslen som omfattas av kontrollbestämmelserna för varor med militär användning. |
| --- | --- |

:

9A350Besprutnings- eller dimbildningssystem, särskilt konstruerade eller modifierade för montering på flygplan, "lättare än luft-farkoster" eller obemannade luftfartyg samt särskilt konstruerade komponenter för dessa, enligt följande:

| a) | Fullständiga besprutnings- eller dimbildningssystem som, från en vätskesuspension, kan sprida en initial droppe med ‧VMD‧ som understiger 50 μm vid en flödeshastighet som överstiger två liter per minut. |
| --- | --- |

a)

Fullständiga besprutnings- eller dimbildningssystem som, från en vätskesuspension, kan sprida en initial droppe med ‧VMD‧ som understiger 50 μm vid en flödeshastighet som överstiger två liter per minut.

| b) | Besprutningskranarmar eller system av aerosolgenereringsenheter som, från en vätskesuspension, kan sprida en intitial droppe med ‧VMD‧ som understiger 50 μm vid en flödeshastighet som överstiger två liter per minut. |
| --- | --- |

b)

Besprutningskranarmar eller system av aerosolgenereringsenheter som, från en vätskesuspension, kan sprida en intitial droppe med ‧VMD‧ som understiger 50 μm vid en flödeshastighet som överstiger två liter per minut.

| c) | Aerosolgenereringsenheter som är särskilt konstruerade för montering på system som anges i avsnitt 9A350.a och b.







  : | Aerosolgeneringsenheter är anordningar som är särskilt konstruerade eller modifierade för montering på flygplan, t.ex. munstycken, spridningsmunstycken med roterande trumma och liknande anordningar. |
| --- | --- | --- |

c)

Aerosolgenereringsenheter som är särskilt konstruerade för montering på system som anges i avsnitt 9A350.a och b.

:

| : | Avsnitt 9A350 omfattar inte besprutnings- eller dimbildningssystem för vilka det kan visas att de inte kan sprida biologiska agens i form av smittsamma aerosoler. |
| --- | --- |

:

:

| 1. | Droppstorleken för besprutningsutrustning eller munstycken som är särskilt konstruerade för användning på flygplan, "lättare än luft-farkoster" eller obemannade luftfartyg bör mätas enligt någon av följande metoder:







  a) | Dopplerlasermetoden. |
| --- | --- | --- |

1.

a)

Dopplerlasermetoden.

| b) | Främre laserdiffraktionsmetoden. |
| --- | --- |

b)

Främre laserdiffraktionsmetoden.

| 2. | I avsnitt 9A350 avses med ‧VMD‧ volymmediandiametern och för vattenbaserade system motsvarar detta massmediandiametern (MMD). |
| --- | --- |

2.

9BTest-, inspektions- och produktionsutrustning

9B001Utrustning, verktyg och fixturer, speciellt konstruerade för tillverkning av gasturbinskovlar, ledskenor eller "skoveltak" gjutgods, enligt följande:

| a) | Utrustning för riktningsstelnad gjutning eller enkristallgjutning. |
| --- | --- |

a)

Utrustning för riktningsstelnad gjutning eller enkristallgjutning.

| b) | Keramiska kärnor eller skal. |
| --- | --- |

b)

Keramiska kärnor eller skal.

9B002Styrsystem som arbetar i realtid, instrumentering (inklusive givare) eller utrustning för automatisk datainsamling och databehandling med samtliga följande egenskaper:

| a) | Speciellt konstruerade för "utveckling" av gasturbinmotorer, utrustning eller komponenter. |
| --- | --- |

a)

Speciellt konstruerade för "utveckling" av gasturbinmotorer, utrustning eller komponenter.

| b) | Innehåller "teknik" som anges i avsnitt 9E003.h eller 9E003.i. |
| --- | --- |

b)

Innehåller "teknik" som anges i avsnitt 9E003.h eller 9E003.i.

9B003Utrustning speciellt konstruerad för "produktion" eller test av gasturbinborsttätningar som är konstruerade för drift vid topphastigheter över 335 m/s och temperaturer som överskrider 773 K (500 °C) samt härtill speciellt konstruerade komponenter och tillbehör.

9B004Verktyg, formar eller fixturer för hopfogning i fast tillstånd av "superlegeringar", titan eller intermetalliska bäryta-till-skiva-kombinationer som beskrivs i avsnitten 9E003.a.3 eller 9E003.a.6 för gasturbiner.

9B005Styrsystem som arbetar i realtid, instrumentering (inklusive givare) eller utrustning för automatisk datainsamling och databehandling, speciellt konstruerad för användning med något av följande:

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 9B105. |
| --- | --- |

ANM.:

| a) | Vindtunnlar konstruerade för hastigheter av Mach 1,2 eller mer.







  : | Avsnitt 9B005.a omfattar inte vindtunnlar som är speciellt konstruerade för utbildningsändamål och som har en ‧testsektionsstorlek‧ (mätt i sidled) på mindre än 250 mm.

  :


  Med ‧testsektionsstorlek‧ avses diametern på den cirkel, eller sidan av en kvadrat eller längsta sidan på en rektangel vid den största testsektionen. |
| --- | --- | --- |

a)

Vindtunnlar konstruerade för hastigheter av Mach 1,2 eller mer.

:

:

Med ‧testsektionsstorlek‧ avses diametern på den cirkel, eller sidan av en kvadrat eller längsta sidan på en rektangel vid den största testsektionen.

| b) | Utrustning för simulering av strömningsomgivningen vid hastigheter som överskrider Mach 5, inklusive kanontunnlar, plasmatunnlar, stötrör, stöttunnlar, gastunnlar och lättgaskanoner, eller |
| --- | --- |

b)

Utrustning för simulering av strömningsomgivningen vid hastigheter som överskrider Mach 5, inklusive kanontunnlar, plasmatunnlar, stötrör, stöttunnlar, gastunnlar och lättgaskanoner, eller

| c) | vindtunnlar eller utrustning, andra än tvådimensionella sektioner, som kan simulera Reynoldstal för strömningar som överskrider 25 × 106. |
| --- | --- |

c)

vindtunnlar eller utrustning, andra än tvådimensionella sektioner, som kan simulera Reynoldstal för strömningar som överskrider 25 × 106.

9B006Akustisk vibrationsmätutrustning som kan producera ljudtrycksnivåer på 160 dB eller mer (referens 20 μPa) med en specificerad utgångseffekt på 4 kW eller mer vid en testcelltemperatur som överstiger 1 273 K (1 000 °C), och därtill speciellt konstruerade kvartsvärmare.

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 9B106. |
| --- | --- |

ANM.:

9B007Utrustning speciellt konstruerad för inspektion av raketmotorer och som använder oförstörande provning (NDT), andra än konventionell enplansröntgen eller grundläggande fysisk eller kemisk analys.

9B008Omvandlare för direktmätning av ytfriktion mot som är speciellt konstruerade för drift vid ett testflöde med en sammanlagd (stagnations)temperatur som överstiger 833 K (560 °C).

9B009Verktyg som är speciellt konstruerade för att tillverka pulver-metalliska rotorkomponenter för turbinmotorer, som kan arbeta vid spänningsnivåer upp till 60 % av den slutliga brottgränsen (UTS) eller mer och med metalltemperaturer på 873 K (600 °C) eller mer.

9B010Utrustning speciellt konstruerad för produktion av "obemannade luftfartyg" och därmed sammanhörande system, utrustning och komponenter som anges i avsnitt 9A012.

9B105Vindtunnlar för hastigheter på Mach 0,9 eller mer som kan användas för ‧missiler‧ och deras delsystem.

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITT 9B005. |
| --- | --- |

ANM.:

:

Med ‧missil‧ avses i avsnitt 9B105 kompletta raketsystem och system för obemannade luftfartyg med en räckvidd på minst 300 km.

9B106Miljökammare och ekofria rum, enligt följande:

| a) | Miljökammare som kan simulera samtliga följande flygförhållanden:






  1. | Något av följande:






  a) | En höjd som är lika med eller mer än 15 km. |
| --- | --- | --- | --- |

a)

Miljökammare som kan simulera samtliga följande flygförhållanden:

1.

Något av följande:

a)

En höjd som är lika med eller mer än 15 km.

| b) | Ett temperaturområde omfattande minst intervallet mellan 223 K (– 50 °C) och 398 K (+ 125 °C). |
| --- | --- |

b)

Ett temperaturområde omfattande minst intervallet mellan 223 K (– 50 °C) och 398 K (+ 125 °C).

| 2. | Innehåller eller är ‧konstruerad eller modifierad‧ för att införliva skakutrustning eller annan vibrationstestutrustning som producerar en vibrationsomgivning lika med eller större än 10 g rms, mätt vid ‧obelastat bord‧ mellan 20 Hz och 2 kHz överförande krafter lika med eller större än 5 kN. |
| --- | --- |

2.

Innehåller eller är ‧konstruerad eller modifierad‧ för att införliva skakutrustning eller annan vibrationstestutrustning som producerar en vibrationsomgivning lika med eller större än 10 g rms, mätt vid ‧obelastat bord‧ mellan 20 Hz och 2 kHz överförande krafter lika med eller större än 5 kN.

:

| 1. | I avsnitt 9B106.a.2 beskrivs system som kan generera en vibration med en enda våg (t.ex. en sinusvåg) och system som kan generera en slumpmässig bredbandig vibration (dvs. kraftspektrum). |
| --- | --- |

1.

| 2. | I avsnitt 9B106.a.2 avses med ‧konstruerad eller modifierad‧ att miljökammaren har lämpliga gränssnitt (t.ex. förseglingsanordningar) för att införliva skakutrustning eller annan vibrationtestsutrustning som specificeras i avsnitt 2B116. |
| --- | --- |

2.

| 3. | I avsnitt 9B106.a.2 avses med ‧obelastat bord‧ ett arbetsbord eller yta utan fixtur eller fastspänningsanordningar. |
| --- | --- |

3.

| b) | Miljökammare som kan simulera följande flygförhållanden:






  1. | En akustisk omgivning med en ljudnivå på 140 dB eller mer (referens 20 μPa) eller med en uteffekt på totalt 4 kW eller mer, och |
| --- | --- | --- |

b)

Miljökammare som kan simulera följande flygförhållanden:

1.

En akustisk omgivning med en ljudnivå på 140 dB eller mer (referens 20 μPa) eller med en uteffekt på totalt 4 kW eller mer, och

| 2. | på höjder lika med eller mer än 15 000 meter, eller |
| --- | --- |

2.

på höjder lika med eller mer än 15 000 meter, eller

| 3. | inom ett temperaturområde omfattande minst intervallet mellan 223 K (– 50 °C) och 398 K (+ 125 °C). |
| --- | --- |

3.

inom ett temperaturområde omfattande minst intervallet mellan 223 K (– 50 °C) och 398 K (+ 125 °C).

9B115Speciellt konstruerad "produktionsutrustning" för system, delsystem och komponenter som omfattas av avsnitten 9A005-9A009, 9A011, 9A101, 9A102, 9A105-9A109, 9A111 eller 9A116-9A120.

9B116Speciellt konstruerade "produktionshjälpmedel" för rymduppskjutningsanordningar som omfattas av avsnitt 9A004 eller system, delsystem och komponenter som omfattas av avsnitten 9A005-9A009, 9A011, 9A101, 9A102, 9A104-9A109, 9A111, 9A116-9A120 eller ‧missiler‧.

:

Med ‧missil‧ avses i avsnitt 9B116 kompletta raketsystem och system för obemannade luftfartyg med en räckvidd på över 300 km.

9B117Provbänkar och provbockar som har kapacitet för provning av raketer eller raketmotorer, som drivs med fast eller flytande bränsle och som har någon av följande möjligheter:

| a) | Kapacitet att mäta dragkrafter på mer än 68 kN, eller |
| --- | --- |

a)

Kapacitet att mäta dragkrafter på mer än 68 kN, eller

| b) | möjlighet att mäta dragkraften simultant i tre riktningar. |
| --- | --- |

b)

möjlighet att mäta dragkraften simultant i tre riktningar.

9CMaterial

9C108"Isolerings" material i bulkform och "invändigt foder", annat än det som anges i avsnitt 9A008, för raketmotorhus som kan användas i "missiler" eller som är särskilt konstruerat för ‧missiler‧.

:

Med ‧missil‧ avses i avsnitt 9C108 kompletta raketsystem och system för obemannade luftfartyg med en räckvidd som överstiger 300 km.

9C110Hartsimpregnerade fibermattor och metallbelagda fiber för formar till dessa, för kompositstrukturer, laminat och produkter som omfattas av avsnitt 9A110, tillverkade med organisk matris eller metallmatris med användande av tråd- eller fiberförstärkningar, som har en "specifik brottgräns" större än 7,62 × 104 m och en "specifik modul" större än 3,18 × 106 m.

| ANM.: | SE ÄVEN AVSNITTEN 1C010 OCH 1C210. |
| --- | --- |

ANM.:

| : | De enda hartsimpregnerade fibermattorna som omfattas av avsnitt 9C110 är de som efter härdning har en glasningstemperatur (Tg) som överskrider 418 K (145 °C) bestämd enligt ASTM D4065 eller motsvarande. |
| --- | --- |

:

9DProgramvara

9D001"Programvara" som är särskilt utformad eller modifierad för "utveckling" av utrustning eller "teknik" som anges i avsnitten 9A001-9A119, 9B eller 9E003.

9D002"Programvara" som är särskilt utformad eller modifierad för "produktion" av utrustning som anges i avsnitten 9A001-9A119 eller 9B.

9D003"Programvara" som innehåller "teknik" som anges i 9E003.h. och används i "FADEC-system" för framdrivningssystem som omfattas av avsnitt 9A eller utrustning som anges i avsnitt 9B.

9D004Annan "programvara", enligt följande:

| a) | Två- eller tredimensionell flytande "programvara" bekräftad med nödvändig data från vindtunnelprov eller flygprov för detaljerad motorflödesmodellering. |
| --- | --- |

a)

Två- eller tredimensionell flytande "programvara" bekräftad med nödvändig data från vindtunnelprov eller flygprov för detaljerad motorflödesmodellering.

| b) | "Programvara" för att testa flygburna gasturbiner, delar eller komponenter, speciellt utformad så att den samlar, reducerar och analyserar data i realtid och har en feedback-kontroll (återkoppling) inklusive dynamiska justeringar av testföremål eller testbetingelser, efterhand som proven pågår. |
| --- | --- |

b)

"Programvara" för att testa flygburna gasturbiner, delar eller komponenter, speciellt utformad så att den samlar, reducerar och analyserar data i realtid och har en feedback-kontroll (återkoppling) inklusive dynamiska justeringar av testföremål eller testbetingelser, efterhand som proven pågår.

| c) | "Programvara" speciellt utformad för att styra riktningsstelnad eller enkristallgjutning. |
| --- | --- |

c)

"Programvara" speciellt utformad för att styra riktningsstelnad eller enkristallgjutning.

| d) | "Programvara" i "källkod", "objektkod" eller maskinkod som erfordras för "användande" av aktiva kompensationssystem för kontroll av spel för skoveltoppar.







  : | Avsnitt 9D004.d omfattar inte "programvara" som finns inbyggd i utrustning som inte anges i bilaga I eller som erfordras för underhållsaktiviteter i samband med kalibrering, reparation eller uppdatering av det aktiva kompenserande kontrollsystemet av spelet. |
| --- | --- | --- |

d)

"Programvara" i "källkod", "objektkod" eller maskinkod som erfordras för "användande" av aktiva kompensationssystem för kontroll av spel för skoveltoppar.

:

| e) | "Programvara" speciellt utformad eller modifierad för "användning" av "obemannade luftfartyg" och sammanhörande system, utrustning och komponenter som omfattas av avsnitt 9A012. |
| --- | --- |

e)

"Programvara" speciellt utformad eller modifierad för "användning" av "obemannade luftfartyg" och sammanhörande system, utrustning och komponenter som omfattas av avsnitt 9A012.

| f) | "Programvara" speciellt utformad för konstruktion av interna kylkanaler i flygburna gasturbinskovlar, ledskenor eller "skoveltak". |
| --- | --- |

f)

"Programvara" speciellt utformad för konstruktion av interna kylkanaler i flygburna gasturbinskovlar, ledskenor eller "skoveltak".

| g) | "Programvara" som har båda följande egenskaper:






  1. | Särskilt utformad för att förutsäga flygtermiska och flygmekaniska betingelser och förbränningsbetingelser i flygburna gasturbinmotorer. |
| --- | --- | --- |

g)

"Programvara" som har båda följande egenskaper:

1.

Särskilt utformad för att förutsäga flygtermiska och flygmekaniska betingelser och förbränningsbetingelser i flygburna gasturbinmotorer.

| 2. | Har teoretiska modellförutsägelser av de flygtermiska och flygmekaniska betingelser och de förbränningsbetingelser som har validerats genom faktiska (experimentella eller produktions-) prestandadata för flygburna gasturbinmotorer. |
| --- | --- |

2.

Har teoretiska modellförutsägelser av de flygtermiska och flygmekaniska betingelser och de förbränningsbetingelser som har validerats genom faktiska (experimentella eller produktions-) prestandadata för flygburna gasturbinmotorer.

9D101"Programvara" speciellt utformad eller modifierad för "användning" av varor som anges i avsnitten 9B105, 9B106, 9B116 eller 9B117.

9D103"Programvara" speciellt utformad för modellering, simulering eller konstruktionsintegrering av rymduppskjutningsanordningar som anges i avsnitt 9A004, sondraketer som omfattas av avsnitt 9A104 eller delsystem som anges i avsnitt 9A005, 9A007, 9A105, 9A106.c, 9A107, 9A108.c, 9A116 eller 9A119.

| : | "Programvara" som anges i avsnitt 9D103 omfattas av det avsnittet även om den kombineras med den speciellt konstruerade utrustning som anges i avsnitt 4A102. |
| --- | --- |

:

9D104"Programvara" speciellt utformad eller modifierad för "användning" av varor som anges i avsnitten 9A001, 9A005, 9A006.d, 9A006.g, 9A007.a., 9A008.d, 9A009.a, 9A010.d, 9A011, 9A101, 9A102, 9A105, 9A106.c, 9A106.d, 9A107, 9A108.c, 9A109, 9A111, 9A115.a, 9A116.d, 9A117 eller 9A118.

9D105"Programvara" som samordnar mer än ett undersystem, speciellt utformad eller modifierad för "användning" i rymdfarkoster som anges i avsnitt 9A004 eller sondraketer som anges i avsnitt 9A104.

9ETeknik

| : | "Utvecklings"- eller "produktions"-"teknik" som anges i avsnitt 9E001-9E003 för gasturbinmotorer omfattas även när den används som "användnings""teknik" för reparation, ombyggnad och översyn. Vad som inte omfattas av avsnittet är tekniska data, ritningar eller dokumentation för underhållsaktiviteter direkt sammankopplade med kalibrering, borttagande eller ersättning av skadade eller icke servicebara delar, inklusive utbyte av hela motorer eller motormoduler. |
| --- | --- |

:

9E001"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för "utveckling" av utrustning eller "programvara" som omfattas av avsnitten 9A001.b, 9A004-9A012, 9A350, 9B eller 9D.

9E002"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för "produktion" av utrustning som omfattas av avsnitten 9A001.b, 9A004-9A011, 9A350 eller 9B.

| : | För "teknik" för reparation av kontrollerade kroppar, laminat eller material, se avsnitt 1E002.f. |
| --- | --- |

:

9E003Annan "teknik" enligt följande:

| a) | "Teknik" som "erfordras" för "utveckling" eller "produktion" av någon av följande komponenter eller system avsedda för gasturbinmotorer:






  1. | Riktningsstelnade gasturbinblad, ledskenor eller "skoveltak" tillverkade via styrd stelning ("directionally solidified" DS) eller enkelkristall ("singel crystal" SC)-legeringar med (i 001 Miller Index Direction) en spänningsbrottslivstid över 400 timmar vid 1 273 K (1 000 °C) vid ett tryck på 200 MPa, baserat på genomsnittliga värden. |
| --- | --- | --- |

a)

"Teknik" som "erfordras" för "utveckling" eller "produktion" av någon av följande komponenter eller system avsedda för gasturbinmotorer:

1.

Riktningsstelnade gasturbinblad, ledskenor eller "skoveltak" tillverkade via styrd stelning ("directionally solidified" DS) eller enkelkristall ("singel crystal" SC)-legeringar med (i 001 Miller Index Direction) en spänningsbrottslivstid över 400 timmar vid 1 273 K (1 000 °C) vid ett tryck på 200 MPa, baserat på genomsnittliga värden.

| 2. | Ringformade brännkammare som kan arbeta med en genomsnittlig utloppstemperatur från brännkammaren som överskrider 1 813 K (1 540 °C), eller brännkammare som har termiskt avledande foder, icke metalliska foder eller skal. |
| --- | --- |

2.

Ringformade brännkammare som kan arbeta med en genomsnittlig utloppstemperatur från brännkammaren som överskrider 1 813 K (1 540 °C), eller brännkammare som har termiskt avledande foder, icke metalliska foder eller skal.

| 3. | Komponenter tillverkade av något av följande:






  a) | Organiska "komposit" material konstruerade för drift vid temperaturer som överskrider 588 K (315 °C). |
| --- | --- | --- |

3.

Komponenter tillverkade av något av följande:

a)

Organiska "komposit" material konstruerade för drift vid temperaturer som överskrider 588 K (315 °C).

| b) | Metall "matris"-"kompositer", keramiska "matriser", intermetalliska eller intermetalliskt förstärkta material som anges i avsnitt 1C007; eller |
| --- | --- |

b)

Metall "matris"-"kompositer", keramiska "matriser", intermetalliska eller intermetalliskt förstärkta material som anges i avsnitt 1C007; eller

| c) | "komposit" material som anges i avsnitt 1C010 och tillverkas med hartser som anges i avsnitt 1C008. |
| --- | --- |

c)

"komposit" material som anges i avsnitt 1C010 och tillverkas med hartser som anges i avsnitt 1C008.

| 4. | Okylda turbinblad, ledskenor, "skoveltak" eller andra komponenter konstruerade för drift i gasströmmar med en total (stagnations)temperatur på 1 323 K (1 050 °C) eller mer vid statisk start vid havsnivå (ISA) under ‧stationär‧ motordrift. |
| --- | --- |

4.

Okylda turbinblad, ledskenor, "skoveltak" eller andra komponenter konstruerade för drift i gasströmmar med en total (stagnations)temperatur på 1 323 K (1 050 °C) eller mer vid statisk start vid havsnivå (ISA) under ‧stationär‧ motordrift.

| 5. | Kylda turbinblad, ledskenor eller "skoveltak", andra än de som omfattas av avsnitt 9E003.a.1, som exponeras för gasströmmar med en total (stagnations)temperatur på 1 643 K (1 370 °C) eller mer vid statisk start vid havsnivå (ISA) under ‧stationär‧ motordrift.

  :


  Termen ‧stationär‧ definierar driftsförhållanden för motorn där motorparametrar, t.ex. drivkraft/effekt och rpm, inte har några märkbara fluktuationer, när lufttemperatur och lufttryck vid motorns luftintag är konstanta. |
| --- | --- |

5.

Kylda turbinblad, ledskenor eller "skoveltak", andra än de som omfattas av avsnitt 9E003.a.1, som exponeras för gasströmmar med en total (stagnations)temperatur på 1 643 K (1 370 °C) eller mer vid statisk start vid havsnivå (ISA) under ‧stationär‧ motordrift.

:

Termen ‧stationär‧ definierar driftsförhållanden för motorn där motorparametrar, t.ex. drivkraft/effekt och rpm, inte har några märkbara fluktuationer, när lufttemperatur och lufttryck vid motorns luftintag är konstanta.

| 6. | Metalliskt förenade kombinationer av skivor och turbinblad. |
| --- | --- |

6.

Metalliskt förenade kombinationer av skivor och turbinblad.

| 7. | Gasturbinmotorkomponenter där man använt sådan "diffusionsbondningsteknik" som specificeras i avsnitt 2E003.b. |
| --- | --- |

7.

Gasturbinmotorkomponenter där man använt sådan "diffusionsbondningsteknik" som specificeras i avsnitt 2E003.b.

| 8. | Rotorkomponenter i gasturbinmotorer som är ‧motståndskraftiga mot skador‧ genom att de tillverkas av pulvermetallurgiska material som specificeras i avsnitt 1C002.b.

  :


  Komponenter som är ‧motståndskraftiga mot skador‧ är konstruerade med metoder och dokumentation för att spricktillväxten ska kunna förutsägas och begränsas. |
| --- | --- |

8.

Rotorkomponenter i gasturbinmotorer som är ‧motståndskraftiga mot skador‧ genom att de tillverkas av pulvermetallurgiska material som specificeras i avsnitt 1C002.b.

:

Komponenter som är ‧motståndskraftiga mot skador‧ är konstruerade med metoder och dokumentation för att spricktillväxten ska kunna förutsägas och begränsas.

| 9. | Används inte. |
| --- | --- |

9.

Används inte.

| 10. | Används inte. |
| --- | --- |

10.

Används inte.

| 11. | Fläktblad med håligheter. |
| --- | --- |

11.

Fläktblad med håligheter.

| b) | "Teknik" som "erfordras" för "utveckling" eller "produktion" av följande:






  1. | Flygplansmodeller för vindtunnelbruk som är försedda med icke störande givare som kan sända information till det informationsinsamlande systemet, eller |
| --- | --- | --- |

b)

"Teknik" som "erfordras" för "utveckling" eller "produktion" av följande:

1.

Flygplansmodeller för vindtunnelbruk som är försedda med icke störande givare som kan sända information till det informationsinsamlande systemet, eller

| 2. | propellerblad eller turbopropfläktar tillverkade av "komposit"-material och som har möjlighet att absorbera mer än 2 000 kW vid flyghastigheter som överskrider Mach 0,55. |
| --- | --- |

2.

propellerblad eller turbopropfläktar tillverkade av "komposit"-material och som har möjlighet att absorbera mer än 2 000 kW vid flyghastigheter som överskrider Mach 0,55.

| c) | "Teknik" som "erfordras" för "utveckling" eller "produktion" av gasturbinmotorkomponenter som använder "laser", vattenstråle, ECM-(Electro-Chemical Machining) eller EDM-(Electrical Discharge Machines) hålborrningsprocesser för att producera hål som uppfyller någon av följande egenskaper:






  1. | Alla följande egenskaper:






  a) | Djup mer än 4 gånger diametern. |
| --- | --- | --- | --- |

c)

"Teknik" som "erfordras" för "utveckling" eller "produktion" av gasturbinmotorkomponenter som använder "laser", vattenstråle, ECM-(Electro-Chemical Machining) eller EDM-(Electrical Discharge Machines) hålborrningsprocesser för att producera hål som uppfyller någon av följande egenskaper:

1.

Alla följande egenskaper:

a)

Djup mer än 4 gånger diametern.

| b) | Diameter mindre än 0,76 mm. |
| --- | --- |

b)

Diameter mindre än 0,76 mm.

| c) | ‧Infallsvinklar‧ som är lika med eller mindre än 25 °, eller |
| --- | --- |

c)

‧Infallsvinklar‧ som är lika med eller mindre än 25 °, eller

| 2. | Alla följande egenskaper:






  a) | Djup mer än 5 gånger diametern. |
| --- | --- | --- |

2.

Alla följande egenskaper:

a)

Djup mer än 5 gånger diametern.

| b) | Diametern mindre än 0,4 mm. |
| --- | --- |

b)

Diametern mindre än 0,4 mm.

| c) | ‧Infallsvinklar‧ som är mer än 25 °. |
| --- | --- |

c)

‧Infallsvinklar‧ som är mer än 25 °.

:

I avsnitt 9E003.c mäts ‧infallsvinkeln‧ från ett plan tangentiellt till strömningsytan vid den punkt där hålets axel går in i strömningsytan.

| d) | "Teknik" som "erfordras" för "utveckling" eller "produktion" av kraftöverföringssystem för helikoptrar, kraftöverföringssystem för tippbara rotorer eller vingar i "luftfartyg". |
| --- | --- |

d)

"Teknik" som "erfordras" för "utveckling" eller "produktion" av kraftöverföringssystem för helikoptrar, kraftöverföringssystem för tippbara rotorer eller vingar i "luftfartyg".

| e) | "Teknik" för "utveckling" eller "produktion" av kolvdieselmotorer för framdrivning av markfordon som har alla följande egenskaper:






  1. | En ‧boxvolym‧ som är 1,2 m3 eller mindre. |
| --- | --- | --- |

e)

"Teknik" för "utveckling" eller "produktion" av kolvdieselmotorer för framdrivning av markfordon som har alla följande egenskaper:

1.

En ‧boxvolym‧ som är 1,2 m3 eller mindre.

| 2. | En total utgångseffekt som är mer än 750 kW baserat på 80/1269/EEC eller ISO 2534, eller nationella motsvarigheter; och |
| --- | --- |

2.

En total utgångseffekt som är mer än 750 kW baserat på 80/1269/EEC eller ISO 2534, eller nationella motsvarigheter; och

| 3. | en effekttäthet som är mer än 700 kW/m3"boxvolym". |
| --- | --- |

3.

en effekttäthet som är mer än 700 kW/m3"boxvolym".

:

Den ‧boxvolym‧ som avses i avsnitt 9E003.e.1 är produkten av tre axlar i rät vinkel mot varandra mätt på följande sätt:

:

: Den bredaste av följande

: Det största av följande

| f) | "Teknik" som "erfordras" för "produktion" av speciellt konstruerade komponenter för dieselmotorer med hög utgångseffekt, enligt följande:






  1. | "Teknik" som "erfordras" för "produktion" av motorsystem där alla följande delar är gjorda av keramiska material som specificeras i avsnitt 1C007:






  a) | Cylinderfoder. |
| --- | --- | --- | --- |

f)

"Teknik" som "erfordras" för "produktion" av speciellt konstruerade komponenter för dieselmotorer med hög utgångseffekt, enligt följande:

1.

"Teknik" som "erfordras" för "produktion" av motorsystem där alla följande delar är gjorda av keramiska material som specificeras i avsnitt 1C007:

a)

Cylinderfoder.

| b) | Kolvar. |
| --- | --- |

b)

Kolvar.

| c) | Topplock. |
| --- | --- |

c)

Topplock.

| d) | En eller flera andra komponenter (inklusive avgasportar, turboladdare, ventilstyrningar, ventiltillbehör eller isolerade bränsleinsprutningar). |
| --- | --- |

d)

En eller flera andra komponenter (inklusive avgasportar, turboladdare, ventilstyrningar, ventiltillbehör eller isolerade bränsleinsprutningar).

| 2. | "Teknik" som "erfordras" för "produktion" av turboladdningssystem med en enkelstegskompressor och med alla följande egenskaper:






  a) | Arbetar med tryckförhållande 4:1 eller högre. |
| --- | --- | --- |

2.

"Teknik" som "erfordras" för "produktion" av turboladdningssystem med en enkelstegskompressor och med alla följande egenskaper:

a)

Arbetar med tryckförhållande 4:1 eller högre.

| b) | Har ett massflöde i området 30 till 130 kg/min. |
| --- | --- |

b)

Har ett massflöde i området 30 till 130 kg/min.

| c) | Möjlighet till variabel flödesarea i kompressorn eller i turbinsektionen. |
| --- | --- |

c)

Möjlighet till variabel flödesarea i kompressorn eller i turbinsektionen.

| 3. | "Teknik" som "erfordras" för "produktion" av bränsleinsprutningssystem konstruerade för flerbränsleanvändning (t.ex. diesel- eller flygbränsle) som täcker viskositetsområdet från dieselbränsle (2,5 cSt vid 310,8 K (37,8 °C)) ner till bensin (0,5 cSt vid 310,8 K (37,8 °C)) och har båda följande egenskaper:






  a) | Insprutningsmängd som överstiger 230 mm3 per insprutning och cylinder. |
| --- | --- | --- |

3.

"Teknik" som "erfordras" för "produktion" av bränsleinsprutningssystem konstruerade för flerbränsleanvändning (t.ex. diesel- eller flygbränsle) som täcker viskositetsområdet från dieselbränsle (2,5 cSt vid 310,8 K (37,8 °C)) ner till bensin (0,5 cSt vid 310,8 K (37,8 °C)) och har båda följande egenskaper:

a)

Insprutningsmängd som överstiger 230 mm3 per insprutning och cylinder.

| b) | Elektroniskt styrsystem som är speciellt konstruerat för att automatiskt övervaka egenskaperna och med hjälp av givare känna att det avgivna vridmomentet är oberoende av bränsleblandningen. |
| --- | --- |

b)

Elektroniskt styrsystem som är speciellt konstruerat för att automatiskt övervaka egenskaperna och med hjälp av givare känna att det avgivna vridmomentet är oberoende av bränsleblandningen.

| g) | "Teknik" som "erfordras" för "utveckling" eller "produktion" av ‧dieselmotorer med hög utgångseffekt‧ som arbetar med smörjning av cylinderväggen med hjälp av fast, gasfas eller vätskefilm (eller kombinationer därav), och som tillåter att cylindertemperaturen får överskrida 723 K (450 °C), mätt på cylinderväggen vid övre vändpunkten för den övre kolvringen.

  :


  ‧Dieselmotorer med hög utgångseffekt‧ är sådana dieselmotorer där det specificerade genomsnittliga bromstrycket är 1,8 MPa eller mer vid 2 300 varv/min, förutsatt att det specificerade varvtalet är 2 300 varv/min eller mer. |
| --- | --- |

g)

"Teknik" som "erfordras" för "utveckling" eller "produktion" av ‧dieselmotorer med hög utgångseffekt‧ som arbetar med smörjning av cylinderväggen med hjälp av fast, gasfas eller vätskefilm (eller kombinationer därav), och som tillåter att cylindertemperaturen får överskrida 723 K (450 °C), mätt på cylinderväggen vid övre vändpunkten för den övre kolvringen.

:

‧Dieselmotorer med hög utgångseffekt‧ är sådana dieselmotorer där det specificerade genomsnittliga bromstrycket är 1,8 MPa eller mer vid 2 300 varv/min, förutsatt att det specificerade varvtalet är 2 300 varv/min eller mer.

| h) | "Teknik" för "FADEC-system" för gasturbinmotorer enligt följande:






  1. | "Utvecklings""teknik" för erhållande av de funktionella kraven för de komponenter som behövs för att "FADEC-systemet" ska reglera motorns drivkraft eller axeleffekt (t.ex. Feedback Sensor-tidskonstanter och -noggrannhet, bränsleventilens rotationshastighet). |
| --- | --- | --- |

h)

"Teknik" för "FADEC-system" för gasturbinmotorer enligt följande:

1.

"Utvecklings""teknik" för erhållande av de funktionella kraven för de komponenter som behövs för att "FADEC-systemet" ska reglera motorns drivkraft eller axeleffekt (t.ex. Feedback Sensor-tidskonstanter och -noggrannhet, bränsleventilens rotationshastighet).

| 2. | "Utvecklings-" eller "produktions""teknik" för kontroll- och diagnoskomponenter vilka är unika för "FADEC-systemet" och används för att reglera motorns drivkraft eller axeleffekt. |
| --- | --- |

2.

"Utvecklings-" eller "produktions""teknik" för kontroll- och diagnoskomponenter vilka är unika för "FADEC-systemet" och används för att reglera motorns drivkraft eller axeleffekt.

| 3. | "Utvecklings""teknik" för regleringsalgoritmerna ("control law"), inklusive "källkod", vilken är unik för "FADEC-systemet" och används för att reglera motorns drivkraft eller axeleffekt.







  : | 9E003.h omfattar inte sådana tekniska data för integration av motor och flygplan som de civila luftfartscertifieringsmyndigheterna kräver att flygbolagen ska offentliggöra för allmänt bruk (t.ex. installationshandledningar, driftsinstruktioner, instruktioner för bibehållen flygduglighet) eller gränssnittsfunktioner (t.ex. input/output-bearbetning, flygplansskrovets drivkrafts- eller axeleffektsbehov). |
| --- | --- | --- |

3.

"Utvecklings""teknik" för regleringsalgoritmerna ("control law"), inklusive "källkod", vilken är unik för "FADEC-systemet" och används för att reglera motorns drivkraft eller axeleffekt.

:

| i) | "Teknik" för system för justerbar geometri för flödesvägar som är konstruerade för att bevara motorstabiliteten för kompressorturbiner, fläkt- eller kraftturbiner eller utloppsmunstycken enligt följande:






  1. | "Teknik" för "utveckling" för härledning av de funktionskrav som gäller för de komponenter som ska bevara motorstabiliteten. |
| --- | --- | --- |

i)

"Teknik" för system för justerbar geometri för flödesvägar som är konstruerade för att bevara motorstabiliteten för kompressorturbiner, fläkt- eller kraftturbiner eller utloppsmunstycken enligt följande:

1.

"Teknik" för "utveckling" för härledning av de funktionskrav som gäller för de komponenter som ska bevara motorstabiliteten.

| 2. | "Teknik" för "utveckling" eller "produktion" av komponenter som är unika för systemet för justerbar geometri för flödesvägar och bevarar motorstabiliteten. |
| --- | --- |

2.

"Teknik" för "utveckling" eller "produktion" av komponenter som är unika för systemet för justerbar geometri för flödesvägar och bevarar motorstabiliteten.

| 3. | "Teknik" för "utveckling" för styralgoritmer, inbegripet "källkod", vilka är unika för systemet för justerbar geometri för flödesvägar och bevarar motorstabiliteten. |
| --- | --- |

3.

"Teknik" för "utveckling" för styralgoritmer, inbegripet "källkod", vilka är unika för systemet för justerbar geometri för flödesvägar och bevarar motorstabiliteten.

| : | 9E003.i omfattar inte "teknik" för "utveckling" eller "produktion" av något av följande:







  a) | Inloppsledskenor. |
| --- | --- | --- |

:

a)

Inloppsledskenor.

| b) | Fläktar med variabel stigning eller turbopropfläktar. |
| --- | --- |

b)

Fläktar med variabel stigning eller turbopropfläktar.

| c) | Omställbara kompressorledskenor. |
| --- | --- |

c)

Omställbara kompressorledskenor.

| d) | Avtappningsventiler för kompressorer. |
| --- | --- |

d)

Avtappningsventiler för kompressorer.

| e) | Justerbar geometri för flödesvägar för reverserande dragkraft. |
| --- | --- |

e)

Justerbar geometri för flödesvägar för reverserande dragkraft.

9E101

| a) | "Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik för "utveckling" av varor som omfattas av avsnitt 9A101, 9A102, 9A104-9A111 eller 9A115-9A119. |
| --- | --- |

a)

"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik för "utveckling" av varor som omfattas av avsnitt 9A101, 9A102, 9A104-9A111 eller 9A115-9A119.

| b) | "Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik för "produktion" av ‧UAV‧ som omfattas av avsnitt 9A012 eller varor som omfattas av avsnitt 9A101, 9A102, 9A104-9A111 eller 9A115-9A119.

  :


  I avsnitt 9E101.b avses med ‧UAV‧ system för obemannade luftfartyg med en räckvidd som överstiger 300 km. |
| --- | --- |

b)

"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik för "produktion" av ‧UAV‧ som omfattas av avsnitt 9A012 eller varor som omfattas av avsnitt 9A101, 9A102, 9A104-9A111 eller 9A115-9A119.

:

I avsnitt 9E101.b avses med ‧UAV‧ system för obemannade luftfartyg med en räckvidd som överstiger 300 km.

9E102"Teknik" enligt den allmänna anmärkningen om teknik för "användning" av rymduppskjutningsanordningar som omfattas av avsnitt 9A004, varor som omfattas av avsnitt 9A005-9A011, ‧UAV‧ som omfattas av avsnitt 9A012 eller varor som omfattas av avsnitt 9A101, 9A102, 9A104-9A111, 9A115–9A119, 9B105, 9B106, 9B115, 9B116, 9B117, 9D101 eller 9D103.

:

I avsnitt 9E102 avses med ‧UAV‧ system för obemannade luftfartyg med en räckvidd som överstiger 300 km."

---

(1)  De tillverkare som beräknar positioneringsnoggrannheten enligt ISO 230/2 (1997) bör rådfråga behöriga myndigheter i den medlemsstat där de är etablerade.

1

(2)  De tillverkare som beräknar positioneringsnoggrannheten i enlighet med ISO 230/2 (1997) bör rådfråga behöriga myndigheter i den medlemsstat där de är etablerade.

2

(3)  De tillverkare som beräknar positioneringsnoggrannheten enligt ISO 230/2 (1997) bör rådfråga behöriga myndigheter i den medlemsstat där de är etablerade.

3

(4)  De tillverkare som beräknar positioneringsnoggrannheten enligt ISO 230/2 (1997) bör rådfråga de behöriga myndigheterna i den medlemsstat där de är etablerade.

4

(5)  Siffrorna inom parentes hänvisar till de anmärkningar som följer efter tabellen.

5

---

RÅDETS MOTIVERING

I.   INLEDNING

| 1. | Kommissionen antog sitt förslag den 27 september 2010 (1). |
| --- | --- |

1.

Kommissionen antog sitt förslag den 27 september 2010 (1).

| 2. | Europaparlamentet antog sin ståndpunkt vid första behandlingen i plenum den 13 september 2011 och godkände då kommissionens förslag utan ändringar (2). |
| --- | --- |

2.

Europaparlamentet antog sin ståndpunkt vid första behandlingen i plenum den 13 september 2011 och godkände då kommissionens förslag utan ändringar (2).

| 3. | Den 5 december 2011 nådde rådet en politisk överenskommelse om förslaget (3). |
| --- | --- |

3.

Den 5 december 2011 nådde rådet en politisk överenskommelse om förslaget (3).

| 4. | I enlighet med artikel 294 i fördraget antog rådet sin ståndpunkt vid första behandlingen den 21 februari 2012. |
| --- | --- |

4.

I enlighet med artikel 294 i fördraget antog rådet sin ståndpunkt vid första behandlingen den 21 februari 2012.

II.   SYFTE

Syftet med förslaget är att anpassa förordning (EG) nr 428/2009 (4) till den senaste utvecklingen inom de relevanta internationella exportkontrollsystemen (5) för att ytterligare begränsa risken för att känsliga produkter med dubbla användningsområden används för militära ändamål och/eller i spridningsprogram, samtidigt som man ser till att den legitima handeln inte hindras.

III.   ANALYS AV RÅDETS STÅNDPUNKT VID FÖRSTA BEHANDLINGEN

Rådets ståndpunkt vid första behandlingen är resultatet av informella kontakter mellan Europaparlamentet, kommissionen och rådet i enlighet med punkterna 16–18 i den gemensamma förklaringen om praktiska bestämmelser för medbeslutandeförfarandet (6).

Rådet har behållit det tillvägagångssätt som föreslås av kommissionen samt alla de viktigaste beståndsdelarna i kommissionens förslag. Dessutom inbegriper rådets ståndpunkt vid första behandlingen ett antal ändringar av teknisk art rörande kontrollförteckningarna över produkter och teknik med dubbla användningsområden. Likaså har vissa definitioner uppdaterats. Dessa ändringar är avsedda att på bästa sätt uppdatera förordningen och återspeglar de senaste ändringar som man helt nyligen har enats om inom de internationella exportkontrollsystemen och som därför inte beaktats i kommissionens förslag.

---

(1)  Dok. 14933/10.

(2)  Dok. 13964/11.

(3)  Dok. 17331/11.

(4)  EUT L 134, 29.5.2009, s. 1.

(5)  Australiengruppen (AG) för biologiska och kemiska produkter, gruppen av länder som levererar kärnmaterial (NSG) för civila nukleära produkter, kontrollsystemet för missilteknik (MTCR) och Wassenaar-arrangemanget för konventionella vapen samt produkter och teknik med dubbla användningsområden.

(6)  EUT C 145, 30.6.2007, s. 5.

---