# Publicatieblad C 107E/2012

| | ISSN 1977-0995
  doi:10.3000/19770995.CE2012.107.nld |
| --- | --- |
| Publicatieblad
  van de Europese Unie | C 107E |
| | |
| Uitgave in de Nederlandse taal | Mededelingen en bekendmakingen | 55e jaargang13 april 2012 |

ISSN 1977-0995

doi:10.3000/19770995.CE2012.107.nld

Publicatieblad

van de Europese Unie

C 107E

Uitgave in de Nederlandse taal

Mededelingen en bekendmakingen

55e jaargang13 april 2012

---

| Nummer | Inhoud | Bladzijde |
| --- | --- | --- |
| | III   Voorbereidende handelingen |
| | RAAD |
| 2012/C 107E/01 | Standpunt (EU) nr. 6/2012 van de Raad in eerste lezing met het oog op de vaststelling van een verordening van het Europees Parlement en de Raad tot wijziging van Verordening (EG) nr. 428/2009 van de Raad tot instelling van een communautaire regeling voor controle op de uitvoer, de overbrenging, de tussenhandel en de doorvoer van producten voor tweeërlei gebruikDoor de Raad vastgesteld op 21 februari 2012 | 1 |

Nummer

Inhoud

Bladzijde

III   Voorbereidende handelingen

RAAD

2012/C 107E/01

Standpunt (EU) nr. 6/2012 van de Raad in eerste lezing met het oog op de vaststelling van een verordening van het Europees Parlement en de Raad tot wijziging van Verordening (EG) nr. 428/2009 van de Raad tot instelling van een communautaire regeling voor controle op de uitvoer, de overbrenging, de tussenhandel en de doorvoer van producten voor tweeërlei gebruikDoor de Raad vastgesteld op 21 februari 2012

1

| NL | |
| --- | --- |

NL

---

III Voorbereidende handelingen

RAAD

| 13.4.2012 | NL | Publicatieblad van de Europese Unie | CE 107/1 |
| --- | --- | --- | --- |

13.4.2012

NL

Publicatieblad van de Europese Unie

CE 107/1

---

STANDPUNT (EU) Nr. 6/2012 VAN DE RAAD IN EERSTE LEZING

met het oog op de vaststelling van een verordening van het Europees Parlement en de Raad tot wijziging van Verordening (EG) nr. 428/2009 van de Raad tot instelling van een communautaire regeling voor controle op de uitvoer, de overbrenging, de tussenhandel en de doorvoer van producten voor tweeërlei gebruik

Door de Raad vastgesteld op 21 februari 2012

2012/C 107 E/01

HET EUROPEES PARLEMENT EN DE RAAD VAN DE EUROPESE UNIE,

Gezien het Verdrag betreffende de werking van de Europese Unie, en met name artikel 207, lid 2,

Gezien het voorstel van de Europese Commissie,

Na toezending van het ontwerp van wetgevingshandeling aan de nationale parlementen,

Handelend volgens de gewone wetgevingsprocedure (1),

Overwegende hetgeen volgt:

| (1) | Krachtens Verordening (EG) nr. 428/2009 van de Raad (2) moeten producten voor tweeërlei gebruik (met inbegrip van programmatuur en technologie) aan een doeltreffende controle worden onderworpen bij uitvoer uit of doorvoer door de Unie, of bij aflevering aan een derde land als gevolg van tussenhandeldiensten welke worden verleend door een tussenhandelaar die een ingezetene van de Unie is, of die in de Unie is gevestigd. |
| --- | --- |

(1)

Krachtens Verordening (EG) nr. 428/2009 van de Raad (2) moeten producten voor tweeërlei gebruik (met inbegrip van programmatuur en technologie) aan een doeltreffende controle worden onderworpen bij uitvoer uit of doorvoer door de Unie, of bij aflevering aan een derde land als gevolg van tussenhandeldiensten welke worden verleend door een tussenhandelaar die een ingezetene van de Unie is, of die in de Unie is gevestigd.

| (2) | Om de lidstaten en de Unie in staat te stellen aan hun internationale verplichtingen te voldoen, is in bijlage I bij Verordening (EG) nr. 428/2009 de gemeenschappelijke lijst van producten voor tweeërlei gebruik vastgesteld, zoals bedoeld in artikel 3 van die verordening, welke internationaal overeengekomen controles op goederen voor tweeërlei gebruik ten uitvoer legt. Deze verplichtingen zijn aangegaan in het kader van deelname aan de Australiëgroep, het Controleregime voor de uitvoer van rakettechnologie en -onderdelen (Missile Technology Control Regime — MTCR), de Groep van nucleaire exportlanden (NSG), het Wassenaar Arrangement en het Verdrag inzake chemische wapens (Chemical Weapons Convention — CWC). |
| --- | --- |

(2)

Om de lidstaten en de Unie in staat te stellen aan hun internationale verplichtingen te voldoen, is in bijlage I bij Verordening (EG) nr. 428/2009 de gemeenschappelijke lijst van producten voor tweeërlei gebruik vastgesteld, zoals bedoeld in artikel 3 van die verordening, welke internationaal overeengekomen controles op goederen voor tweeërlei gebruik ten uitvoer legt. Deze verplichtingen zijn aangegaan in het kader van deelname aan de Australiëgroep, het Controleregime voor de uitvoer van rakettechnologie en -onderdelen (Missile Technology Control Regime — MTCR), de Groep van nucleaire exportlanden (NSG), het Wassenaar Arrangement en het Verdrag inzake chemische wapens (Chemical Weapons Convention — CWC).

| (3) | Verordening (EG) nr. 428/2009 bepaalt dat de lijst in bijlage I wordt bijgewerkt overeenkomstig de desbetreffende verplichtingen en verbintenissen, en alle wijzigingen daarin, waarmee de lidstaten hebben ingestemd als partij bij internationale regelingen inzake non-proliferatie en uitvoercontrole of door de bekrachtiging van desbetreffende internationale verdragen. |
| --- | --- |

(3)

Verordening (EG) nr. 428/2009 bepaalt dat de lijst in bijlage I wordt bijgewerkt overeenkomstig de desbetreffende verplichtingen en verbintenissen, en alle wijzigingen daarin, waarmee de lidstaten hebben ingestemd als partij bij internationale regelingen inzake non-proliferatie en uitvoercontrole of door de bekrachtiging van desbetreffende internationale verdragen.

| (4) | Bijlage I bij Verordening (EG) nr. 428/2009 moet worden gewijzigd om rekening te houden met wijzigingen die na de vaststelling van die verordening zijn overeengekomen in de Australiëgroep, de Groep van nucleaire exportlanden, het Controleregime voor de uitvoer van rakettechnologie en -onderdelen en het Wassenaar Arrangement. |
| --- | --- |

(4)

Bijlage I bij Verordening (EG) nr. 428/2009 moet worden gewijzigd om rekening te houden met wijzigingen die na de vaststelling van die verordening zijn overeengekomen in de Australiëgroep, de Groep van nucleaire exportlanden, het Controleregime voor de uitvoer van rakettechnologie en -onderdelen en het Wassenaar Arrangement.

| (5) | Om raadpleging door instanties voor uitvoercontrole en door ondernemingen te vergemakkelijken, dient een bijgewerkte en geconsolideerde versie van bijlage I bij Verordening (EG) nr. 428/2009 te worden gepubliceerd. |
| --- | --- |

(5)

Om raadpleging door instanties voor uitvoercontrole en door ondernemingen te vergemakkelijken, dient een bijgewerkte en geconsolideerde versie van bijlage I bij Verordening (EG) nr. 428/2009 te worden gepubliceerd.

| (6) | Verordening (EG) nr. 428/2009 moet daarom dienovereenkomstig worden gewijzigd, |
| --- | --- |

(6)

Verordening (EG) nr. 428/2009 moet daarom dienovereenkomstig worden gewijzigd,

HEBBEN DE VOLGENDE VERORDENING VASTGESTELD:

Artikel 1

Bijlage I bij Verordening (EG) nr. 428/2009 wordt vervangen door de tekst in de bijlage bij deze verordening.

Artikel 2

Deze verordening treedt in werking op de dertigste dag na die van de bekendmaking ervan in het Publicatieblad van de Europese Unie.

Deze verordening is verbindend in al haar onderdelen en is rechtstreeks toepasselijk in elke lidstaat.

Gedaan te ..., ....

Voor het Europees Parlement

De voorzitter

...

Voor de Raad

De voorzitter

...

---

(1)  Standpunt van het Europees Parlement van 19 september 2011 (nog niet bekendgemaakt in het Publicatieblad) en besluit van de Raad van ....

1

(2)  PB L 134 van 29.5.2009, blz. 1.

2

---

BIJLAGE

"BIJLAGE I

Lijst bedoeld in artikel 3 van deze verordening

LIJST VAN PRODUCTEN VOOR TWEEËRLEI GEBRUIK

Deze lijst is een technische implementatie van internationaal overeengekomen vergunningsregelingen voor producten voor tweeërlei gebruik, waaronder het Wassenaar Arrangement, het "Missile Technology Control Regime" (MTCR), de Groep van Nucleaire Exportlanden, de Australiëgroep en het Verdrag inzake chemische wapens (Chemical Weapons Convention - CWC).

INHOUD

Noten

Acroniemen en afkortingen

Definities

| Categorie 0 | Nucleaire goederen |
| --- | --- |

Categorie 0

| Categorie 1 | Speciale materialen en aanverwante apparatuur |
| --- | --- |

Categorie 1

| Categorie 2 | Materiaalbewerking |
| --- | --- |

Categorie 2

| Categorie 3 | Elektronica |
| --- | --- |

Categorie 3

| Categorie 4 | Computers |
| --- | --- |

Categorie 4

| Categorie 5 | Telecommunicatie en "informatiebeveiliging" |
| --- | --- |

Categorie 5

| Categorie 6 | Sensoren en lasers |
| --- | --- |

Categorie 6

| Categorie 7 | Navigatie en vliegtuigelektronica |
| --- | --- |

Categorie 7

| Categorie 8 | Zeewezen en schepen |
| --- | --- |

Categorie 8

| Categorie 9 | Ruimtevaart en voortstuwing |
| --- | --- |

Categorie 9

ALGEMENE NOTEN BIJ BIJLAGE I

| 1. | Voor de controle op de uitvoer van goederen die zijn ontworpen of aangepast voor militair gebruik zij verwezen naar de desbetreffende lijst(en) van aan vergunningsplicht onderworpen militaire goederen van de afzonderlijke lidstaten. Verwijzingen in deze bijlage naar de "Lijst militaire goederen" hebben betrekking op deze lijst. |
| --- | --- |

1.

Voor de controle op de uitvoer van goederen die zijn ontworpen of aangepast voor militair gebruik zij verwezen naar de desbetreffende lijst(en) van aan vergunningsplicht onderworpen militaire goederen van de afzonderlijke lidstaten. Verwijzingen in deze bijlage naar de "Lijst militaire goederen" hebben betrekking op deze lijst.

| 2. | De doelstelling van de controle op de uitvoer van de goederen, vermeld in deze bijlage, mag niet worden omzeild door de uitvoer van niet aan vergunningsplicht onderworpen goederen (met inbegrip van fabrieken) die één of meer aan vergunningsplicht onderworpen onderdelen bevatten, als deze onderdelen het voornaamste element van de goederen vormen en gemakkelijk kunnen worden verwijderd of voor andere doeleinden worden aangewend.







  : | Bij de beoordeling van de vraag of de aan vergunningsplicht onderworpen onderdelen als voornaamste element dienen te worden aangemerkt, dienen factoren als hoeveelheid, waarde en technologische knowhow alsmede andere bijzondere omstandigheden op grond waarvan de aan vergunningsplicht onderworpen onderdelen als voornaamste element van de geleverde goederen kunnen worden aangemerkt, een rol te spelen. |
| --- | --- | --- |

2.

De doelstelling van de controle op de uitvoer van de goederen, vermeld in deze bijlage, mag niet worden omzeild door de uitvoer van niet aan vergunningsplicht onderworpen goederen (met inbegrip van fabrieken) die één of meer aan vergunningsplicht onderworpen onderdelen bevatten, als deze onderdelen het voornaamste element van de goederen vormen en gemakkelijk kunnen worden verwijderd of voor andere doeleinden worden aangewend.

:

| 3. | Met goederen worden in deze bijlage zowel nieuwe als gebruikte goederen bedoeld. |
| --- | --- |

3.

Met goederen worden in deze bijlage zowel nieuwe als gebruikte goederen bedoeld.

| 4. | In sommige gevallen zijn stoffen vermeld met naam en CAS-nummer. Onder de lijst vallen stoffen met dezelfde structuurformule (inclusief hydraten), ongeacht naam of CAS-nummer. De CAS-nummers zijn vermeld om een bepaalde stof of een bepaald mengsel gemakkelijker te kunnen identificeren, ongeacht de nomenclatuur. CAS-nummers kunnen niet als eenduidige identificatienummers gebruikt worden, omdat sommige vormen van de op de lijst vermelde stoffen andere CAS-nummers hebben, en ook mengsels die een op de lijst voorkomende stof bevatten, andere CAS-nummers kunnen hebben. |
| --- | --- |

4.

In sommige gevallen zijn stoffen vermeld met naam en CAS-nummer. Onder de lijst vallen stoffen met dezelfde structuurformule (inclusief hydraten), ongeacht naam of CAS-nummer. De CAS-nummers zijn vermeld om een bepaalde stof of een bepaald mengsel gemakkelijker te kunnen identificeren, ongeacht de nomenclatuur. CAS-nummers kunnen niet als eenduidige identificatienummers gebruikt worden, omdat sommige vormen van de op de lijst vermelde stoffen andere CAS-nummers hebben, en ook mengsels die een op de lijst voorkomende stof bevatten, andere CAS-nummers kunnen hebben.

NUCLEAIRE TECHNOLOGIENOOT (NTN)

(Te lezen in samenhang met sectie E van categorie 0)

De "technologie" die rechtstreeks samenhangt met goederen die in categorie 0 vallen, valt onder de bepalingen van categorie 0.

"Technologie" voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van aan vergunningsplicht onderworpen goederen is ook aan vergunningsplicht onderworpen als deze technologie wordt toegepast op niet aan vergunningsplicht onderworpen goederen.

Het verlenen van een uitvoervergunning voor goederen houdt tevens in dat de uitvoer naar dezelfde eindgebruiker van de minimaal noodzakelijke "technologie" voor installatie, bediening, onderhoud en reparatie van de goederen is toegestaan.

Vergunningsregelingen voor overdracht van "technologie" zijn niet van toepassing op informatie die "voor iedereen beschikbaar" is, en op "fundamenteel wetenschappelijk onderzoek".

ALGEMENE TECHNOLOGIENOOT (ATN)

(Te lezen als onderdeel van sectie E van de categorieën 1 tot en met 9)

De uitvoer van "technologie" die "noodzakelijk" is voor de "ontwikkeling", "productie" of het "gebruik" van in de categorieën 1 tot en met 9 bedoelde goederen is onderworpen aan de op de categorieën 1 tot en met 9 van toepassing zijnde bepalingen.

"Technologie" die "noodzakelijk" is voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van aan vergunningsplicht onderworpen goederen is ook aan vergunningsplicht onderworpen als deze technologie wordt toegepast op niet aan vergunningsplicht onderworpen goederen.

De vergunningsplicht geldt niet voor de minimaal noodzakelijke "technologie" voor installatie, bediening, onderhoud en reparatie van niet onder de vergunningsplicht vallende goederen of op de goederen waarvan de uitvoer is toegestaan.

| : | Deze bepaling laat de embargostatus van de in 1E002.e, 1E002.f, 8E002.a en 8E002.b bedoelde "technologie" onverlet. |
| --- | --- |

:

Vergunningsregelingen voor overdracht van "technologie" zijn niet van toepassing op informatie die "voor iedereen beschikbaar" is, op "fundamenteel wetenschappelijk onderzoek" en op de voor octrooiaanvragen noodzakelijke minimuminformatie.

ALGEMENE PROGRAMMATUURNOOT (APN)

(Deze noot heeft voorrang boven het bepaalde in sectie D van de categorieën 0 tot en met 9)

De categorieën 0 tot en met 9 van deze lijst zijn niet van toepassing op programmatuur die:

| a. | algemeen voor het publiek verkrijgbaar is doordat de "programmatuur":






  1. | via de detailhandel zonder beperkingen uit voorraad wordt verkocht via:






  a. | winkelverkoop; |
| --- | --- | --- | --- |

a.

algemeen voor het publiek verkrijgbaar is doordat de "programmatuur":

1.

via de detailhandel zonder beperkingen uit voorraad wordt verkocht via:

a.

winkelverkoop;

| b. | postorderverkoop; |
| --- | --- |

b.

postorderverkoop;

| c. | elektronische transacties, of |
| --- | --- |

c.

elektronische transacties, of

| d. | telefonische verkoop, en |
| --- | --- |

d.

telefonische verkoop, en

| 2. | is ontworpen voor installatie door de gebruiker zonder wezenlijke ondersteuning van de leverancier, of







  : | Punt a) van de Algemene programmatuurnoot laat de embargostatus van de in categorie 5 - deel 2 ("Informatiebeveiliging") bedoelde "programmatuur" onverlet. |
| --- | --- | --- |

2.

is ontworpen voor installatie door de gebruiker zonder wezenlijke ondersteuning van de leverancier, of

:

| b. | "voor iedereen beschikbaar" is. |
| --- | --- |

b.

"voor iedereen beschikbaar" is.

IN DEZE BIJLAGE GEBRUIKTE ACRONIEMEN EN AFKORTINGEN

Een acroniem of afkorting, gebruikt als gedefinieerde term, is te vinden in "Definities van in deze bijlage gebruikte termen".

| Acroniem of betekenis | Afkorting |
| --- | --- |
| ABEC | Annular Bearing Engineers Committee |
| AGMA | American Gear Manufacturers' Association |
| AHRS | attitude and heading reference systems |
| AISI | American Iron and Steel Institute |
| ALU | arithmetic logic unit (logische rekeneenheid) |
| ANSI | American National Standards Institute |
| ASTM | the American Society for Testing and Materials |
| ATC | air traffic control (luchtverkeersleiding) |
| AVLIS | isotopenscheidingsinstallaties werkend met atomaire-damplasers |
| CAD | computer-aided-design (computerondersteund ontwerpen) |
| CAS | Chemical Abstracts Service |
| CCITT | Comité consultatif international télégraphique et téléphonique (Internationale Raadgevende Commissie inzake telegrafie en telefonie) |
| CDU | control and display unit (besturings- en beeldeenheid) |
| CEP | circular error probability (50 %-trefkanscirkel) |
| CNTD | controlled nucleation thermal deposition (thermische ontleding met beheerste nucleatie) |
| CRISLA | chemische reactie door selectieve laseractivering van één of meer isotopen |
| CVD | chemical vapour deposition (chemische afzetting uit de dampfase) |
| CW | chemical warfare (chemische oorlogsvoering) |
| CW (voor lasers) | continuous wave (continugolf) |
| DME | distance measuring equipment |
| DS | directionally solidified |
| EB-PVD | electron beam physical vapour deposition (elektronenstraalverdampen) |
| EBU | European Broadcasting Union |
| ECM | electro-chemical machining |
| ECR | electron cyclotron resonance |
| EDM | electrical discharge machines (vonkmachines) |
| EEPROMS | electrically erasable programmable read only memory |
| EIA | Electronic Industries Association |
| EMC | elektromagnetische compatibiliteit |
| ETSI | European Telecommunications Standards Institute (Europees Instituut voor telecommunicatienormen) |
| FFT | Fast Fourier Transform (snelle Fourier-transformatie) |
| GLONASS | global navigation satellite system (wereldwijd satellietnavigatiesysteem) |
| GPS | global positioning system |
| HBT | heterobipolaire transistors |
| HDDR | high density digital recording (digitale registratie met hoge dichtheid) |
| HEMT | high electron mobility transistors (tansistors met hoge elektronenmobiliteit) |
| ICAO | International Civil Aviation Organization (Internationale Burgerluchtvaartorganisatie) |
| IEC | International Electrotechnical Commission (CEI - Internationale Elektrotechnische Commissie) |
| IEE | Institute of Electrical and Electronic Engineers |
| IFO | instantaneous-field-of-view (momenteel gezichtsveld) |
| ILS | instrument landing system |
| IRIG | inter-range instrumentation group |
| ISA | international standard atmosphere |
| ISAR | inverse synthetic aperture radar (radarmodus met omgekeerde kunstmatig ingestelde apertuur) |
| ISO | International Organization for Standardization (Internationale organisatie voor normalisatie) |
| ITU | International Telecommunication Union (Internationale Telecommunicatie Unie) |
| JIS | Japanse Industriestandaard |
| JT | Joule-Thomson |
| LIDAR | light detection and ranging (lichtdetectie- en afstandsbepaling) |
| LRU | line replaceable unit |
| MAC | message authentication code |
| Mach | verhouding van de snelheid van een voorwerp tot de geluidssnelheid (naar Ernst Mach) |
| MLIS | isotopenscheidingsinstallaties werkend met moleculaire lasers". |
| MLS | microwave landing systems (microgolf-landingssystemen) |
| MOCVD | metal organic chemical vapour deposition (chemisch neerslaan van organometaaldamp) |
| MRI | magnetic resonance imaging (beeldvorming door middel van magnetische resonantie) |
| MTBF | mean-time-between-failures (gemiddeld storingsvrij interval) |
| Mtops | miljoenen technische bewerkingen per seconde |
| MTTF | mean-time-to-failure (gemiddeld interval vóór storing) |
| NBC | nucleair, biologisch en chemisch |
| NDT | non-destructive test (niet-destructief onderzoek) |
| PAR | precision approach radar (landingsradarapparatuur) |
| PIN | persoonlijk identificatienummer |
| ppm | parts per million (delen per miljoen) |
| PSD | power spectral density (constante spectrale vermogensdichtheid) |
| QAM | quadrature-amplitude-modulation (kwadratuuramplitudemodulatie) |
| RF | radiofrequentie |
| SACMA | Suppliers of Advanced Composite Materials Association |
| SAR | synthetic aperture radar (radarmodus met kunstmatig ingestelde apertuur) |
| SC | single crystal (eenkristal) |
| SLAR | sidelooking airborne radar (zijwaarts stralende radarmodus in vliegtuigen) |
| SMPTE | Society of Motion Picture and Television Engineers |
| SRA | shop replaceable assembly (in de werkplaats vervangbaar moduul) |
| SRAM | static random access memory |
| SRM | SACMA Recommended Methods |
| SSB | single sideband (enkele zijband) |
| SSR | secondary surveillance radar |
| TCSEC | trusted computer system evaluation criteria |
| TIR | total indicated reading (totale meetklokuitslag) |
| UV | ultraviolet |
| UTS | ultimate tensile strength (eindtreksterkte) |
| VOR | very high frequency omni-directional range |
| YAG | yttrium/aluminum garnet |

Acroniem of betekenis

Afkorting

ABEC

Annular Bearing Engineers Committee

AGMA

American Gear Manufacturers' Association

AHRS

attitude and heading reference systems

AISI

American Iron and Steel Institute

ALU

arithmetic logic unit (logische rekeneenheid)

ANSI

American National Standards Institute

ASTM

the American Society for Testing and Materials

ATC

air traffic control (luchtverkeersleiding)

AVLIS

isotopenscheidingsinstallaties werkend met atomaire-damplasers

CAD

computer-aided-design (computerondersteund ontwerpen)

CAS

Chemical Abstracts Service

CCITT

Comité consultatif international télégraphique et téléphonique (Internationale Raadgevende Commissie inzake telegrafie en telefonie)

CDU

control and display unit (besturings- en beeldeenheid)

CEP

circular error probability (50 %-trefkanscirkel)

CNTD

controlled nucleation thermal deposition (thermische ontleding met beheerste nucleatie)

CRISLA

chemische reactie door selectieve laseractivering van één of meer isotopen

CVD

chemical vapour deposition (chemische afzetting uit de dampfase)

CW

chemical warfare (chemische oorlogsvoering)

CW (voor lasers)

continuous wave (continugolf)

DME

distance measuring equipment

DS

directionally solidified

EB-PVD

electron beam physical vapour deposition (elektronenstraalverdampen)

EBU

European Broadcasting Union

ECM

electro-chemical machining

ECR

electron cyclotron resonance

EDM

electrical discharge machines (vonkmachines)

EEPROMS

electrically erasable programmable read only memory

EIA

Electronic Industries Association

EMC

elektromagnetische compatibiliteit

ETSI

European Telecommunications Standards Institute (Europees Instituut voor telecommunicatienormen)

FFT

Fast Fourier Transform (snelle Fourier-transformatie)

GLONASS

global navigation satellite system (wereldwijd satellietnavigatiesysteem)

GPS

global positioning system

HBT

heterobipolaire transistors

HDDR

high density digital recording (digitale registratie met hoge dichtheid)

HEMT

high electron mobility transistors (tansistors met hoge elektronenmobiliteit)

ICAO

International Civil Aviation Organization (Internationale Burgerluchtvaartorganisatie)

IEC

International Electrotechnical Commission (CEI - Internationale Elektrotechnische Commissie)

IEE

Institute of Electrical and Electronic Engineers

IFO

instantaneous-field-of-view (momenteel gezichtsveld)

ILS

instrument landing system

IRIG

inter-range instrumentation group

ISA

international standard atmosphere

ISAR

inverse synthetic aperture radar (radarmodus met omgekeerde kunstmatig ingestelde apertuur)

ISO

International Organization for Standardization (Internationale organisatie voor normalisatie)

ITU

International Telecommunication Union (Internationale Telecommunicatie Unie)

JIS

Japanse Industriestandaard

JT

Joule-Thomson

LIDAR

light detection and ranging (lichtdetectie- en afstandsbepaling)

LRU

line replaceable unit

MAC

message authentication code

Mach

verhouding van de snelheid van een voorwerp tot de geluidssnelheid (naar Ernst Mach)

MLIS

isotopenscheidingsinstallaties werkend met moleculaire lasers".

MLS

microwave landing systems (microgolf-landingssystemen)

MOCVD

metal organic chemical vapour deposition (chemisch neerslaan van organometaaldamp)

MRI

magnetic resonance imaging (beeldvorming door middel van magnetische resonantie)

MTBF

mean-time-between-failures (gemiddeld storingsvrij interval)

Mtops

miljoenen technische bewerkingen per seconde

MTTF

mean-time-to-failure (gemiddeld interval vóór storing)

NBC

nucleair, biologisch en chemisch

NDT

non-destructive test (niet-destructief onderzoek)

PAR

precision approach radar (landingsradarapparatuur)

PIN

persoonlijk identificatienummer

ppm

parts per million (delen per miljoen)

PSD

power spectral density (constante spectrale vermogensdichtheid)

QAM

quadrature-amplitude-modulation (kwadratuuramplitudemodulatie)

RF

radiofrequentie

SACMA

Suppliers of Advanced Composite Materials Association

SAR

synthetic aperture radar (radarmodus met kunstmatig ingestelde apertuur)

SC

single crystal (eenkristal)

SLAR

sidelooking airborne radar (zijwaarts stralende radarmodus in vliegtuigen)

SMPTE

Society of Motion Picture and Television Engineers

SRA

shop replaceable assembly (in de werkplaats vervangbaar moduul)

SRAM

static random access memory

SRM

SACMA Recommended Methods

SSB

single sideband (enkele zijband)

SSR

secondary surveillance radar

TCSEC

trusted computer system evaluation criteria

TIR

total indicated reading (totale meetklokuitslag)

UV

ultraviolet

UTS

ultimate tensile strength (eindtreksterkte)

VOR

very high frequency omni-directional range

YAG

yttrium/aluminum garnet

DEFINITIES VAN IN DEZE BIJLAGE GEBRUIKTE TERMEN

De definitie van termen tussen ‧enkele aanhalingstekens‧ wordt gegeven in een technische noot bij de betrokken post.

De definitie van de termen tussen "dubbele aanhalingstekens" luidt als volgt (1):

| : | Na elke gedefinieerde term wordt tussen haakjes verwezen naar de betrokken categorie(ën). |
| --- | --- |

:

"Aangepast piekvermogen" (4): een aangepaste pieksnelheid waarbij "digitale computers" drijvende-kommaoptellingen en -vermenigvuldigingen van 64 bit of meer uitvoeren, die wordt uitgedrukt in gewogen TeraFLOPS (<Weighted TeraFLOPS (WT)>), in eenheden van 1012 aangepaste drijvende-kommabewerkingen per seconde.

| : | Zie categorie 4, Technische noot. |
| --- | --- |

:

"Aangepast voor gebruik in oorlogssituaties" (1): iedere aanpassing of selectie (zoals een wijziging van de zuiverheid, houdbaarheid, virulentie, verspreidingskenmerken, of weerstand tegen UV-straling) die tot doel heeft de werkzaamheid te verhogen ten aanzien van menselijke of dierlijke slachtoffers, schade aan uitrusting of aan gewassen, en aantasting van het milieu.

"Actieve pixel" (6 8): het kleinste (afzonderlijke) element van de halfgeleider-"array" dat nog een foto-elektrische overdrachtsfunctie vervult bij blootstelling aan elektromagnetische straling (licht).

"Actieve vluchtregelsystemen" (7): actieve vluchtregelsystemen werken zodanig dat ongewenste bewegingen of structurele belastingen van "vliegtuig" of raket kunnen worden voorkomen door de onafhankelijke verwerking van signalen van meerdere sensoren waarna preventieve commando's voor automatische regeling worden gegeven.

"Aërodynamische vlakken met variabel profiel" (7): deze worden verkregen door flappen aan de achterrand of aan de voorrand of door een naar beneden knikkende voorrand, welke tijdens de vlucht bestuurd kunnen worden.

"Afstembaar" (6): het vermogen van een "laser" om binnen een gebied van verschillende "laser"-overgangen bij elke golflengte een continu-vermogen op te wekken. Een laser die slechts kan werken op een beperkt aantal vaste golflengten ‹line selectable› wekt discrete golflengten op binnen één "laser"-overgang en wordt niet beschouwd als "afstembaar".

"<Angle random walk>" (7): de foutenontwikkeling bij hoekversnellingsmeting in tijd door witte ruis in de snelheid van de hoekbeweging (IEEE STD 528-2001).

"APP" (4): ("Adjusted Peak Performance") "Aangepast piekvermogen"

"Asymmetrisch algoritme" (5): cryptografisch algoritme waarin voor encryptie een andere wiskundige sleutel wordt gebruikt dan voor decryptie.

| : | Voor sleutelbeheer worden gewoonlijk "asymmetrische algoritmen" gebruikt. |
| --- | --- |

:

"Automatisch volgen van het doel" (6): een verwerkingstechniek waarbij automatisch en tijdgebonden een geëxtrapoleerde waarde van de meest waarschijnlijke positie van het doel wordt bepaald en als uitgangssignaal afgegeven.

"Axiale slag" (2): axiale verplaatsing tijdens één omwenteling van de hoofdspil, gemeten in een vlak loodrecht op de stelplaat van de spil aan een punt dat grenst aan de omtrek van de stelplaat van de spil. (Referentie: ISO 230, deel 1—1986, paragraaf 5.63)

"Band" (1): een materiaal dat bestaat uit in elkaar gevlochten of in één richting liggende "monofilamenten", ‧strengen‧, "‹rovings›", "linten" of "garens", enz., gewoonlijk geïmpregneerd met hars.

| : | ‧streng‧: een bundel "monofilamenten" (normaal meer dan 200) die ongeveer parallel lopen. |
| --- | --- |

:

"Beeldverbetering" (4): het verwerken van elders verkregen informatiedragende beelden met behulp van algoritmen, zoals tijdcompressie, filteren, extractie, selectie, correlatie, convolutie of transformatie tussen domeinen (bijvoorbeeld de snelle Fourier—transformatie (‹fast Fourier transform›) of de Walsh transformatie (‹Walsh transform›)). Hieronder zijn niet begrepen algoritmen die slechts lineaire of draaiende omzettingen op een enkel beeld toepassen, zoals verschuivingen, extractie van specifieke kenmerken, registratie of het vals kleuren.

"Bias" (versnellingsmeters) (7): het gemiddelde uitgangssignaal van een versnellingsmeter over een bepaalde tijd, gemeten onder gespecificeerde werkingsomstandigheden, zonder correlatie met een aanzetversnelling of rotatie. "Bias" wordt uitgedrukt in g of in meter per secondekwadraat (g of m/s2). (IEEE Std 528-2001) (Micro g = 1 × 10-6 g).

"Bias" (gyroscoop) (7): het gemiddelde uitgangssignaal van een gyroscoop over een bepaalde tijd, gemeten onder gespecificeerde werkingsomstandigheden, zonder correlatie met een aanzetrotatie of versnelling. "Bias" wordt typisch uitgedrukt in graden per uur (g/u). (IEEE Std 528-2001).

"Binnenbekleding" (9): de hechtlaag tussen de vaste stuwstof en de omhulling of isolerende bekleding. Doorgaans een op vloeibare polymeren gebaseerde dispersie van hittebestendige of isolerende materialen, bijvoorbeeld polybutadieen met hydroxy-eindgroep (HTPB) met koolstof als vulmateriaal of een andere polymeer waaraan hardingsmiddelen zijn toegevoegd, waarmee het inwendige van een omhulling wordt gespoten of bestreken.

"Brandstofcel" (8): een elektrochemische inrichting die chemische energie rechtstreeks in gelijkstroom (DC) omzet door van een externe bron afkomstige brandstof te verbruiken.

"Broncode" (of brontaal) (6 7 9): een geschikte expressie van één of meer processen, die door een programmeersysteem kan worden omgezet in een door apparatuur uitvoerbare vorm ("objectcode" (of doeltaal)).

"CEP" (circle of equal probability - 50 %-trefkanscirkel) (7): een maat voor de nauwkeurigheid; de straal van de cirkel met het doel in het middelpunt bij een bepaald bereik waarbinnen 50 % van de nuttige ladingen terechtkomen.

"Chemische laser" (6): een "laser" waarin de geëxciteerde stof wordt geproduceerd door de door een chemische reactie voortgebrachte energie.

"Chemisch mengsel" (1): een vast, vloeibaar of gasvormig product dat bestaat uit twee of meer bestanddelen die niet samen reageren onder de omstandigheden waarin het mengsel is opgeslagen.

"Civiele vliegtuigen" (1 3 4 7): die types "vliegtuigen" die als zodanig zijn aangeduid in gepubliceerde overzichten van luchtwaardigheidsbewijzen van de civiele luchtvaartautoriteiten voor het vliegen van commerciële binnenlandse en buitenlandse lijnen of voor wettig civiel, privé of zakelijk gebruik.

| : | Zie ook "vliegtuigen". |
| --- | --- |

:

"Communicatiekanaalbesturingseenheid" (4): de fysieke verbinding die de stroom synchrone of asynchrone digitale informatie bestuurt. Deze bestaat uit een samenstelling die in de computer- of telecommunicatieapparatuur kan worden geïntegreerd ten einde toegang tot de communicatie te verschaffen.

"Compensatiesystemen" (6): bestaan uit de primaire scalaire sensor, een of meer referentiesensoren (bv. vectormagnetometers), alsmede programmatuur, waardoor het reduceren van starlichaamrotatieruis van het platform mogelijk wordt.

"Composiet" (1 2 6 8 9): een "matrix" en één of meer toegevoegde fasen bestaande uit deeltjes, whiskers, vezels of iedere combinatie daarvan, aanwezig voor een specifiek doel of voor specifieke doelen.

"Contourbesturen" (2): twee of meer "numeriek bestuurde" bewegingen volgens instructies die de eerstvolgende vereiste positie en de vereiste voedingssnelheden naar die positie specificeren. Deze snelheden worden in afhankelijkheid van elkaar gevarieerd, zodat een gewenste contour wordt verkregen (Referentie: ISO/DIS 2806 - 1980).

"Cryptografische activatie" (5): een techniek om cryptografisch vermogen te activeren of mogelijk te maken, via een beveiligd mechanisme dat door de fabrikant van het product wordt toegepast en uniek is voor het product waarvoor, of de klant voor wie het cryptografisch vermogen geactiveerd of mogelijk gemaakt wordt (bv. een vergunningssleutel op basis van een serienummer of een authentificatie-instrument zoals een digitaal ondertekend certificaat)

| : | Technieken en mechanismen voor "cryptografische activatie" kunnen de vorm aannemen van apparatuur, "programmatuur" of "technologie" |
| --- | --- |

:

"Cryptografie" (5): de tak van wetenschap die zich bezighoudt met de grondbeginselen, instrumenten en methoden voor het omzetten van gegevens teneinde de inhoud daarvan te verbergen, te voorkomen dat deze inhoud ongemerkt wordt gewijzigd of zonder toestemming wordt gebruikt. "Cryptografie" is beperkt tot het omzetten van gegevens met gebruikmaking van één of meer ‧geheime parameters‧ (b.v. cryptovariabelen) of aanverwante sleutels.

| : | Een ‧geheime parameter‧ is een constante of sleutel die voor anderen geheim wordt gehouden of slechts binnen een groep bekend wordt gemaakt. |
| --- | --- |

:

"CW-laser" (6): een "laser" die langer dan 0,25 seconden een nominaal constante energie voortbrengt.

"DBRN" staat voor "navigatie met als referentie een gegevensbestand" ("Data-Based Referenced Navigation") (zie aldaar).

"Deelnemende staat" (7 9): een staat die deelneemt aan het "Wassenaar Arrangement".

"Diffusielassen" (1 2 9): het in de vaste fase (‹solid-state›) moleculair met elkaar verbinden van tenminste twee aparte metalen tot één stuk met een bindingssterkte tenminste gelijk aan die van het zwakste materiaal.

"Digitale computer" (4 5): een apparaat dat, in de vorm van één of meer discrete variabelen, alle volgende functies kan verrichten:

| a. | gegevens opnemen; |
| --- | --- |

a.

gegevens opnemen;

| b. | gegevens of opdrachten in onuitwisbare of wijzigbare (beschrijfbare) geheugens opslaan; |
| --- | --- |

b.

gegevens of opdrachten in onuitwisbare of wijzigbare (beschrijfbare) geheugens opslaan;

| c. | gegevens met behulp van een opgeslagen veranderbare reeks opdrachten kan verwerken; |
| --- | --- |

c.

gegevens met behulp van een opgeslagen veranderbare reeks opdrachten kan verwerken;

| d. | gegevens afgeven. |
| --- | --- |

d.

gegevens afgeven.

| : | Onder veranderen van een opgeslagen reeks opdrachten wordt mede verstaan het vervangen van onuitwisbare geheugenelementen, doch hieronder valt niet het in fysieke zin wijzigen van bedrading of onderlinge verbindingen. |
| --- | --- |

:

"Digitale elektronische motorregelsystemen welke volledig zelfstandig in de motorregeling kunnen ingrijpen" ("FADEC-systemen") (7 9) (‹full authority digital engine control systems›): digitale elektronische regelsystemen voor gasturbinemotoren die autonoom kunnen ingrijpen in de motorregeling over het hele werkbereik van de motor vanaf de gevraagde motorstart tot het gevraagde stilleggen van de motor, zowel in normale omstandigheden als in het geval van storingen.

"Digitale overbrengsnelheid" (def): de totale bitsnelheid van de informatie die direct wordt overgebracht op ieder type medium.

| : | Zie ook "totale digitale overbrengsnelheid" |
| --- | --- |

:

"Direct hydraulisch persen" (2): een vervormingsproces, waarbij gebruik wordt gemaakt van een flexibele, met vloeistof gevulde blaas die in direct contact staat met het werkstuk.

"Door de ITU toegewezen" (3 5): toewijzing van de frequentiebanden overeenkomstig de huidige uitgave van het Radioreglement van de ITU voor primaire, toegelaten en secundaire diensten.

| : | Extra en alternatieve toewijzingen vallen hier niet onder. |
| --- | --- |

:

"Door opwerking verkregen" (0 1): het toepassen van ieder procedé dat tot doel heeft het gehalte van het betrokken isotoop te doen toenemen.

"Drukomzetters" (2): inrichtingen die de gemeten druk omzetten in een elektrisch signaal.

"Dynamische signaalanalysatoren" (3): "Signaalanalysatoren" waarbij gebruik wordt gemaakt van digitale bemonsterings— en omzettingstechnieken ter verkrijging van een Fourier-spectrumafbeelding van een gegeven golfvorm met inbegrip van gegevens betreffende amplitude en fase.

| : | Zie ook "signaalanalysatoren" |
| --- | --- |

:

"Eénkanaalsignalering" (‹common channel signalling›) (5): een methode van signalering, waarbij met behulp van berichten met label via een enkel kanaal signaleringsinformatie die betrekking heeft op een veelheid van lijnen of oproepen alsmede andere informatie, b.v. informatie gebruikt bij het beheer van netwerken, tussen schakelcentrales wordt overgebracht.

"Effectieve gram" (0 1). "Onder een "effectieve gram" (0 1) van "speciale splijtstoffen" wordt verstaan:

| a. | voor plutoniumisotopen en uraan—233: het gewicht van de isotoop in gram; |
| --- | --- |

a.

voor plutoniumisotopen en uraan—233: het gewicht van de isotoop in gram;

| b. | voor uraan dat 1 % of meer verrijkt is in de isotoop uraan—235: het gewicht van het element in gram, vermenigvuldigd met het kwadraat van de verrijking, uitgedrukt in decimalen als gewichtsverhouding; |
| --- | --- |

b.

voor uraan dat 1 % of meer verrijkt is in de isotoop uraan—235: het gewicht van het element in gram, vermenigvuldigd met het kwadraat van de verrijking, uitgedrukt in decimalen als gewichtsverhouding;

| c. | voor uraan dat minder dan 1 % verrijkt is in de isotoop uraan—235: het gewicht van het element in gram, vermenigvuldigd met 0,0001. |
| --- | --- |

c.

voor uraan dat minder dan 1 % verrijkt is in de isotoop uraan—235: het gewicht van het element in gram, vermenigvuldigd met 0,0001.

"Eindeffectors" (2): grijpers, ‧actieve gereedschapseenheden‧ en alle andere gereedschappen die zijn verbonden met de grondplaat aan het uiteinde van de manipulatiearmen van een "robot".

| : | Een ‧actieve gereedschapseenheid‧ is een voorziening die beweegkracht of procesenergie op het werkstuk overbrengt of waarnemingen daarvan verzorgt. |
| --- | --- |

:

"Elektronisch bestuurbare fase-gestuurde antennesystemen, opgebouwd uit een groot aantal identieke antennes" (‹phased array antenna›) (5 6)

Een antenne waarbij de bundel wordt gevormd door middel van fase-koppeling, d.w.z. de bundelrichting wordt gestuurd door de complexe opwekkingscoëfficiënten van de uitstralende elementen en de richting van die bundel kan in azimut of hellingshoek worden gewijzigd door toepassing van een elektrisch signaal bij zowel uitzending als ontvangst.

"Energetische materialen" (1): stoffen of mengsels die chemisch reageren waarbij energie vrijkomt die noodzakelijk is voor de beoogde toepassing ervan. "Springstoffen", "pyrotechnische middelen" en "stuwstoffen" zijn subklassen van energetische materialen.

"Equivalente dichtheid" (6): de massa van een optisch element per optische oppervlakte-eenheid, geprojecteerd op het optisch oppervlak.

"Expert systemen" (7): systemen die hun resultaten verkrijgen door het toepassen van regels op onafhankelijk van het "programma" opgeslagen gegevens en die één of meer van de volgende functies kunnen vervullen:

| a. | automatisch wijzigen van de door de gebruiker ingevoerde "broncode"; |
| --- | --- |

a.

automatisch wijzigen van de door de gebruiker ingevoerde "broncode";

| b. | verschaffen van kennis betreffende een categorie problemen in een quasi-natuurlijke taal, of |
| --- | --- |

b.

verschaffen van kennis betreffende een categorie problemen in een quasi-natuurlijke taal, of

| c. | verwerven van de kennis die noodzakelijk is voor de ontwikkeling van het systeem (symbolische training). |
| --- | --- |

c.

verwerven van de kennis die noodzakelijk is voor de ontwikkeling van het systeem (symbolische training).

"‹Focal plane array›" (6 8): een lineaire of tweedimensionale vlakke laag of combinatie van vlakke lagen met afzonderlijke detectorelementen, met of zonder uitlees-elektronica, die in het brandvlak worden geplaatst.

| : | Stapels afzonderlijke detectorelementen of detectoren met twee, drie of vier elementen vallen hier niet onder, op voorwaarde dat in het element geen tijdvertraging en integratie plaatsvindt. |
| --- | --- |

:

"Fractionele bandbreedte" (3 5): de momentele bandbreedte gedeeld door de centrale frequentie, uitgedrukt in procenten.

"‹Frequency hopping›" (5): een vorm van "spread spectrum" waarbij de zendfrequentie van één enkel communicatiekanaal wordt verschoven in een willekeurige of pseudo-willekeurige reeks discrete stappen.

"Frequentiesynthesizer" (3): elke soort frequentiebron, ongeacht de feitelijk daarin toegepaste techniek, die een veelheid aan uitgangsfrequenties afgeeft, gelijktijdig of naar keuze, aan één of meer uitgangen, en die worden bepaald door, afgeleid van of beheerst door een geringer aantal standaard- (of basis—)frequenties.

"Frequentiewisseltijd" (3 5): de tijd (d.w.z. vertraging) welke benodigd is om van de oorspronkelijke gespecificeerde uitgangsfrequentie over te schakelen naar of te komen binnen ± 0,05 % van de uiteindelijke gespecificeerde uitgangsfrequentie. Producten met een gespecificeerd frequentiebereik van minder dan ± 0,05 % ten opzichte van hun centrumfrequentie worden aangemerkt als producten waarmee geen frequentiewissel mogelijk is.

"Fundamenteel wetenschappelijk onderzoek" (ATN NTN). Experimenteel of theoretisch werk dat hoofdzakelijk wordt gedaan om nieuwe kennis te verkrijgen over de fundamentele beginselen van verschijnselen of waarneembare feiten, en dat in eerste instantie niet is gericht op een bepaald praktisch doel of oogmerk.

"Garen" (1): een bundel getwijnde "strengen"

| : | "streng": een bundel "monofilamenten" (normaal meer dan 200) die ongeveer parallel lopen. |
| --- | --- |

:

"Gebruik" (ATN NTN Alle). Bediening, installatie (met inbegrip van installatie ter plaatse), onderhoud (controle), reparatie, revisie en opknappen.

"Geïnstrumenteerd bereik" (6): het gespecificeerde ondubbelzinnige beeldbereik van een radar.

"Geïntegreerde schakeling van het filmtype" (3): een reeks ‧schakelelementen‧ en metallieke doorverbindingen, die gevormd zijn door afzetting van een dikke of dunne laag op een isolerend "substraat".

| : | Een ‧schakelelement‧ is een enkelvoudig actief of passief functioneel deel van een elektronische schakeling, bijvoorbeeld één diode, één transistor, één weerstand, één condensator, enz. |
| --- | --- |

:

"Geïsoleerde levende culturen" (1): hieronder vallen levende culturen waarvan de organismen zich in een ruststadium bevinden en levende culturen in gedroogde preparaten.

"Gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte" (3 6 8): producten die zijn ontworpen, vervaardigd en getest volgens speciale elektrische, mechanische en omgevingseisen voor gebruik bij het lanceren en opstellen van satellieten of vluchtsystemen die opereren op hoogten van 100 km of meer.

"Geleidingssysteem" (7): systemen waarin de meting en berekening van de positie en snelheid van een voertuig (navigatie) worden gecombineerd met de berekening en verzending van opdrachten naar de vluchtregelsystemen van het voertuig om de baan te corrigeren.

"Gemiddeld uitgangsvermogen" (6): de totale uitgangsenergie van een "laser" in joules, gedeeld door de "laserduur" in seconden.

"Geografisch gespreid" (6): sensoren worden geacht "geografisch gespreid" te zijn wanneer elke sensor zich in alle richtingen op een afstand van meer dan 1 500 m van iedere andere sensor bevindt. Mobiele sensoren worden altijd beschouwd als "geografisch gespreid".

"Gepulseerde laser" (6): een "laser" met een "pulsduur" korter dan of gelijk aan 0,25 seconden.

"Halffabricaten (‹preforms›) voor koolstofvezels" (1): een geordende verzameling vezels, met of zonder deklaag, bestemd om een raamwerk van een deel te vormen alvorens de "matrix" wordt ingebracht, teneinde een "composiet" te vormen;

"Heet isostatisch verdichten" (2): een proces waarbij op een gietstuk bij een temperatuur van meer dan 375 K (102 °C) in een gesloten holte door middel van een bepaalde stof (een gas, een vloeistof, vaste deeltjes, enz.) in alle richtingen gelijke druk wordt uitgeoefend, waardoor holten in het gietstuk worden verminderd of geëlimineerd.

"Herhaalbaarheid" (7): de nauwkeurigheid van overeenstemming tussen herhaalde metingen van dezelfde variabele onder dezelfde gebruiksomstandigheden wanneer zich tussen metingen veranderingen in de omstandigheden of perioden zonder gebruik voordoen. (Referentie: IEEE STD 528-2001 (standaardafwijking van 1 sigma))

"Hoekafwijking" (2): het maximale verschil tussen de aangegeven hoekpositie en de feitelijke, zeer nauwkeurig gemeten hoekpositie nadat de houder van het werkstuk op de tafel uit zijn oorspronkelijke positie is weggedraaid. (Referentie: VDI/VDE 2617, concept "Draaitafels op coördinaten-meetmachines".)

"Hybride geïntegreerde schakeling" (3): elke willekeurige combinatie van geïntegreerde schakelingen, ‧schakelelementen‧ of ‧discrete onderdelen‧ die onderling verbonden zijn om één of meer specifieke functies te vervullen en met alle volgende kenmerken:

| a. | met tenminste één niet-omhuld element; |
| --- | --- |

a.

met tenminste één niet-omhuld element;

| b. | onderling verbonden met gebruikmaking van kenmerkende productiemethoden voor geïntegreerde schakelingen; |
| --- | --- |

b.

onderling verbonden met gebruikmaking van kenmerkende productiemethoden voor geïntegreerde schakelingen;

| c. | als eenheid vervangbaar; en |
| --- | --- |

c.

als eenheid vervangbaar; en

| d. | gewoonlijk niet demonteerbaar. |
| --- | --- |

d.

gewoonlijk niet demonteerbaar.

| | Een ‧schakelelement‧ is een enkelvoudig actief of passief functioneel deel van een elektronische schakeling, bijvoorbeeld één diode, één transistor, één weerstand, één condensator, enz. |
| --- | --- |

| | Een ‧discreet onderdeel‧ is een afzonderlijk omhuld ‧schakelelement‧ met eigen uitwendige aansluitingen. |
| --- | --- |

"Immunotoxine" (1): een samenvoeging van een celspecifieke monoklonale antistof en een "toxine" of een "sub-eenheid van een toxine" die zieke cellen selectief aantast.

"Impulscompressie" (6): codering en verwerking van een radarsignaalimpuls met een lange duur tot een kortstondige impuls, met behoud van de voordelen van een hoge impulsenergie.

"Inclusief alle compensaties" (2): nadat alle uitvoerbare maatregelen waarover de fabrikant beschikt om alle systematische instelfouten voor het betrokken werktuigmachinemodel of alle meetfouten voor de betrokken coördinaten-meetmachine tot een minimum te beperken, bekeken zijn.

"Informatiebeveiliging" (4 5): alle middelen en functies ter verzekering van de toegankelijkheid, geheimhouding of integriteit van gegevens of communicaties, zonder inbegrip van de middelen en functies die zijn bedoeld als beveiliging tegen storingen. Het begrip omvat o.a. "cryptografie", "cryptografische activatie", ‧cryptanalyse‧, bescherming tegen confidentiële uitstralingen en computerbeveiliging.

| : | ‧Cryptanalyse‧: de analyse van een cryptografisch systeem of de in- en uitvoer daarvan om daaraan vertrouwelijke variabelen of gevoelige gegevens te ontlenen, met inbegrip van niet-gecodeerde tekst. |
| --- | --- |

:

"Intrinsieke magnetische gradiëntmeter" (6): één enkel waarnemingselement voor de gradiënt van magnetische velden en bijbehorende elektronica waarvan de afleeswaarde een maat is van de gradiënt van het magnetisch veld.

| : | Zie ook "magnetische gradiëntmeter". |
| --- | --- |

:

"Isolatie" (9): de isolatie van de onderdelen van een raketmotor, d.w.z. omhulling, straalpijp, inlaten en afdichtingen van de omhulling, waaronder gevulkaniseerd of half-gevulkaniseerd samengesteld rubber plaatmateriaal dat een isolerend of hittebestendig materiaal omvat. Isolatie kan ook zijn aangebracht in de vorm van moffen of flappen om spanningen te ontlasten.

"Isostatische persen" (2): apparatuur, geschikt voor het onder druk brengen van een gesloten holte door middel van een bepaalde stof (een gas, een vloeistof, vaste deeltjes, enz.) teneinde te bereiken dat binnen de holte op een werkstuk of materiaal gelijke druk in alle richtingen wordt uitgeoefend.

"Kantelspil" (2): een spil met gereedschap die gedurende het bewerkingsproces de hoek van zijn hartlijn ten opzichte van een andere as kan wijzigen.

"Kernreactor" (0): een volledige reactor die in staat is om een beheerste zichzelf onderhoudende kettingreactie van kernsplijting te handhaven. Een "kernreactor" omvat de delen in of rechtstreeks bevestigd aan het reactorvat, de uitrusting die het vermogensniveau in de kern regelt, alsmede de onderdelen die gewoonlijk het primaire koelmiddel van de reactorkern bevatten, daarmee in rechtstreeks contact komen of dit reguleren.

"Kritische temperatuur" (1 3 5): de "kritische temperatuur" (ook wel overgangstemperatuur genoemd) van een bepaald "supergeleidend" materiaal is de temperatuur waarbij de gelijkstroomweerstand van het materiaal nul wordt.

"Kwantumcryptografie": (5) een groep technieken voor het opstellen van een gemeenschappelijke encryptiesleutel door meting van de kwantummechanische eigenschappen van een fysisch systeem (met inbegrip van de fysische eigenschappen die expliciet beheerst worden door kwantumoptica, de kwantumveldtheorie en de kwantumelektrodyamica)

"Laser" (0 2 3 5 6 9): een samenstelling van componenten welke zowel in de ruimte als in de tijd coherent licht produceert dat is versterkt door de gestimuleerde emissie van straling.

| : | zie ook:

  "chemische laser",


  "Super High Power Laser",


  "Transfer laser". |
| --- | --- |

:

"chemische laser",

"Super High Power Laser",

"Transfer laser".

"Laserduur" (def): de tijd gedurende welke een "laser""laser"-straling afgeeft, die voor "gepulseerde lasers" overeenstemt met de tijd gedurende welke één enkele puls of een reeks opeenvolgende pulsen wordt uitgezonden.

"Lichter dan luchttoestellen" (9): ballons of luchtschepen die voor het creëren van lift gebruik maken van hete lucht of andere gassen die lichter zijn dan lucht, bijvoorbeeld helium of waterstof.

"Lineariteit" (2) (gewoonlijk gemeten als niet-lineariteit): dit is de maximale positieve of negatieve afwijking van het feitelijke kenmerk (gemiddelde van naar boven en naar beneden gemeten waarden) van een rechte lijn die zo is geplaatst dat de maximale afwijkingen gelijk worden gemaakt en geminimaliseerd.

"Lint" (1): een bundel "monofilamenten", die gewoonlijk ongeveer parallel lopen.

"Lokaal netwerk" (4 5): een datacommunicatiesysteem dat alle onderstaande kenmerken combineert:

| a. | het stelt een willekeurig aantal onafhankelijke ‧datatoestellen‧ in staat, rechtstreeks met elkaar in verbinding te staan; en |
| --- | --- |

a.

het stelt een willekeurig aantal onafhankelijke ‧datatoestellen‧ in staat, rechtstreeks met elkaar in verbinding te staan; en

| b. | het is beperkt tot een geografisch betrekkelijk klein gebied (bijvoorbeeld een kantoorgebouw, een fabriek, een universiteitscomplex of een magazijn). |
| --- | --- |

b.

het is beperkt tot een geografisch betrekkelijk klein gebied (bijvoorbeeld een kantoorgebouw, een fabriek, een universiteitscomplex of een magazijn).

| : | Een ‧datatoestel‧ is een apparaat voor het zenden of ontvangen van reeksen digitale informatie. |
| --- | --- |

:

"Luchtstroom-beheerste antitorsie of richtingsregelsystemen" (7): systemen die gebruik maken van lucht die over aërodynamische vlakken wordt geblazen om de door deze oppervlakken gegenereerde krachten te verhogen en te beheersen.

"Magnetische gradiëntmeters" (6): deze zijn ontworpen voor het opsporen van de ruimtelijke variaties van magnetische velden van bronnen buiten het instrument. Zij bestaan uit verscheidene "magnetometers" en bijbehorende elektronica waarvan de afleeswaarde een maat is van de gradiënt van het magnetisch veld.

| : | Zie ook "intrinsieke magnetische gradiëntmeter". |
| --- | --- |

:

"Magnetometers" (6): deze zijn ontworpen voor het opsporen van magnetische velden van bronnen buiten het instrument. Zij bestaan uit één enkel sensorelement voor het waarnemen van magnetische velden en bijbehorende elektronica waarvan de afleeswaarde een maat is van het magnetisch veld.

"Materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6" (O): koper, roestvrij staal, aluminium, aluminiumoxide, aluminiumlegeringen, nikkel of een legering met 60 of meer gewichtspercenten nikkel en UF6-bestendige gefluoreerde koolwaterstofpolymeren, naar gelang van het soort scheidingsproces.

"Matrix" (1 2 8 9): een in hoofdzaak continue fase die de ruimte tussen deeltjes, whiskers of vezels vult.

"Mechanisch legeren" (1): een legeringsproces door middel van het binden, breken en opnieuw binden van elementaire of moederlegeringspoeders met behulp van mechanische krachten. Niet-metaaldeeltjes kunnen in de legering worden opgenomen door toevoeging van de geschikte poeders.

"Meetonzekerheid" (2): de kenmerkende parameter die specificeert binnen welk bereik rond de uitvoerwaarde de juiste waarde van de te meten variabele ligt met een betrouwbaarheidsniveau van 95 procent. Deze omvat de ongecorrigeerde systematische afwijkingen, de ongecorrigeerde speling en de willekeurige afwijkingen. (Referentie: ISO 10360-2, of VDI/VDE 2617)

"Microcomputer-microschakeling" (3): een "monolithische geïntegreerde schakeling" of "multichip geïntegreerde schakeling" met een logische rekeneenheid (ALU), die in staat is om vanuit een intern geheugen algemene opdrachten uit te voeren op basis van gegevens opgeslagen in het interne geheugen.

| : | Het interne geheugen kan worden uitgebreid met een extra geheugen. |
| --- | --- |

:

"Micro-organismen" (1 2): bacteriën, virussen, mycoplasma's, rickettsiae, chlamydiae of schimmels, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet.

"Microprocessor-microschakeling" (3): een "monolithische geïntegreerde schakeling" of "multichip geïntegreerde schakeling" met een logische rekeneenheid (ALU), die in staat is om vanuit een extern geheugen een reeks algemene opdrachten uit te voeren.

| : | De "microprocessor-microschakeling" bevat gewoonlijk geen toegankelijkheid van het interne geheugen voor de gebruiker, hoewel op de "chip" aanwezig geheugen kan worden gebruikt voor uitvoering van de logische functie. |
| --- | --- |

:

| : | Hieronder vallen tevens "chip sets" die zijn ontworpen om samen de functie van een "microprocessor microschakeling" te leveren. |
| --- | --- |

:

"Momentele bandbreedte" (3 5 7): de bandbreedte waarover het uitgangsvermogen binnen 3 dB constant blijft zonder bijstelling van andere werkparameters.

"Monofilament" (1) of filament: de kleinste maat vezel, gewoonlijk enkele μms in diameter.

"Monolithische geïntegreerde schakeling" (3): een combinatie van passieve en/of actieve ‧schakelelementen‧ welke:

| a. | wordt gevormd door middel van diffusie, implanteren of opdampen in of op één enkel halfgeleidend stukje materiaal, een zogenaamde ‹chip›; |
| --- | --- |

a.

wordt gevormd door middel van diffusie, implanteren of opdampen in of op één enkel halfgeleidend stukje materiaal, een zogenaamde ‹chip›;

| b. | wordt beschouwd als een ondeelbaar iets; en |
| --- | --- |

b.

wordt beschouwd als een ondeelbaar iets; en

| c. | de functie(s) uitvoer(t)(en) van een schakeling. |
| --- | --- |

c.

de functie(s) uitvoer(t)(en) van een schakeling.

| : | Een ‧schakelelement‧ is een enkelvoudig actief of passief functioneel deel van een elektronische schakeling, bijvoorbeeld één diode, één transistor, één weerstand, één condensator, enz. |
| --- | --- |

:

"Monospectrale beeldsensoren" (6): deze zijn geschikt voor het vergaren van beeldgegevens van één afzonderlijke spectrumband.

"Multichip geïntegreerde schakeling" (3): twee of meer "monolithische geïntegreerde schakelingen", verbonden op een gemeenschappelijk "substraat".

"Multispectrale beeldsensoren" (6): deze zijn geschikt voor het gelijktijdig of serieel vergaren van beeldgegevens van twee of meer afzonderlijke spectrumbanden. Sensoren met meer dan twintig afzonderlijke spectrumbanden worden ook wel hyperspectrale beeldsensoren genoemd.

"Natuurlijk uraan" (0): uraan met dezelfde isotopensamenstelling als in de natuur voorkomt.

"Navigatiesystemen met als referentie een gegevensbestand" ("DBRN-systemen"): systemen die gebruik maken van verschillende bronnen van eerder gemeten gegevens die aan een geografische referentie zijn toegewezen, welke zijn geïntegreerd om onder dynamische omstandigheden accurate navigatie-informatie te verstrekken. De gegevensbronnen omvatten bathymetrische kaarten, sterrenkaarten, zwaartekrachtkaarten, magnetische kaarten of 3-D digitale terreinkaarten.

"Nauwkeurigheid" (6) (gewoonlijk uitgedrukt in mate van onnauwkeurigheid): de maximale positieve of negatieve afwijking van een aangegeven waarde ten opzichte van een erkende norm of zuivere waarde.

"Netwerktoegangsbesturingseenheid" (4): een fysieke verbinding met een gedistribueerd schakelnetwerk. Deze verbinding maakt gebruik van een gemeenschappelijk medium dat steeds met dezelfde "digitale overbrengsnelheid" werkt en voor de transmissie gebruikt maakt van ‹arbitration› (bijvoorbeeld ‹token› of ‹carrier sense›). (Dit houdt in dat het systeem zelf zorg draagt voor de toegang tot het medium, zodanig dat de apparaten elkaar niet hinderen, bv. door onderlinge toewijzing van toegang of door aftasten of het kanaal vrij is). Geheel onafhankelijk selecteert de eenheid aan haar geadresseerde gegevenspakketten of gegevensgroepen (bv. IEEE 802). Het is een samenstelling die in computer- of telecommunicatieapparatuur kan worden geïntegreerd om toegang tot de communicatie te verschaffen.

"Neurale computer" (4): een rekentoestel dat is ontworpen of aangepast voor nabootsing van het gedrag van een neuron of een verzameling neuronen, d.w.z. een rekentoestel dat zich onderscheidt door het vermogen van zijn apparatuur om aan de hand van eerdere gegevens het gewicht en aantal van de onderlinge verbindingen van een grote hoeveelheid rekencomponenten te wijzigen.

"Noodzakelijk" (ATN 1-9): met betrekking tot "technologie" wordt hieronder verstaan uitsluitend dat deel van de "technologie" dat in het bijzonder verantwoordelijk is voor het bereiken of te boven gaan van de onder embargo vallende prestatieniveaus, kenmerken of functies. Verschillende producten kunnen dergelijke "noodzakelijke""technologie" gemeen hebben.

"Numerieke besturing" (2): de automatische besturing van een proces, uitgevoerd door een apparaat dat gebruik maakt van numerieke gegevens die gewoonlijk worden ingevoerd tijdens de voortgang van het proces. (Referentie ISO 2382)

"Objectcode" (4 5 9): een door apparatuur uitvoerbare vorm van een geschikte expressie van één of meer processen ("broncode" (brontaal) die door een programmeersysteem is gecompileerd).

"Onafgewerkte substraten" (6): monolithische verbindingen met afmetingen die geschikt zijn voor de productie van optische elementen zoals spiegels of optische vensters.

"Onbemande luchtvaartuigen" ("UAV") (9): luchtvaartuigen zonder menselijke aanwezigheid aan boord die kunnen opstijgen en zonder onderbreking gecontroleerde vluchten kunnen uitvoeren en navigatie kunnen aanhouden.

"Ontwikkeling" (ATN NTN Alle). Dit bestrijkt alle fasen voorafgaand aan serieproductie, zoals ontwerp, ontwerponderzoek, ontwerpanalyse, ontwerpideeën, assemblage en testen van prototypen, proefproductieplannen, ontwerpgegevens, het vertalen van ontwerpgegevens in een product, ontwerp van configuraties, integratieontwerp, opmaak.

"Onvertraagde verwerking" (‹real time processing›) (2 6 7): het verwerken van gegevens door een computersysteem dat afhankelijk van de beschikbare middelen een bepaalde prestatie levert binnen een gewaarborgde responsietijd als reactie op een externe gebeurtenis, ongeacht de belasting van het systeem.

"Optimalisering van de vliegroute" (7): een procedure waarmee afwijkingen van een vierdimensionale gewenste vliegroute (tijd en ruimte), gebaseerd op de maximalisering van de prestaties of doeltreffendheid van de taken van een missie, zo klein mogelijk worden gehouden.

"Optisch sensor-array voor vluchtregeling" (7): met elkaar verbonden optische sensoren waarbij "laser"-bundels worden gebruikt om real-time vluchtregelingsgegevens te verkrijgen, die aan boord worden verwerkt.

"Optische computer" (4): een computer, ontworpen of aangepast voor het gebruik van licht voor de weergave van gegevens en waarvan de logische rekenelementen zijn gebaseerd op direct gekoppelde optische elementen.

"Optische geïntegreerde schakeling" (3): een "monolithische geïntegreerde schakeling" of "hybride geïntegreerde schakeling" die één of meer delen bevat die zijn ontworpen om als een fotosensor of foto-emitter te werken of om één of meer optische of elektro-optische functies te vervullen.

"Optische versterking" (5): een bij optische communicatie gebruikte versterkingstechniek die een versterking bewerkstelligt van optische signalen die zijn voortgebracht door een afzonderlijke optische bron, zonder omzetting in elektrische signalen, bijvoorbeeld door gebruik te maken van optische halfgeleiderversterkers, of luminescerende versterkers van glasvezels.

"Optisch schakelen" (5): bepaling van de route of schakelen van optische signalen zonder omzetting in elektrische signalen.

"Persoonlijk lokaal netwerk" (5): een datacommunicatiesysteem dat alle onderstaande kenmerken combineert:

| a. | het stelt een willekeurig aantal onafhankelijke ‧datatoestellen‧ in staat, rechtstreeks met elkaar in verbinding te staan; |
| --- | --- |

a.

het stelt een willekeurig aantal onafhankelijke ‧datatoestellen‧ in staat, rechtstreeks met elkaar in verbinding te staan;

| b. | het is beperkt tot communicatie tussen toestellen in de onmiddellijke nabijheid van een persoon of toestelbeheerder (één kamer, een kantoor of voertuig). |
| --- | --- |

b.

het is beperkt tot communicatie tussen toestellen in de onmiddellijke nabijheid van een persoon of toestelbeheerder (één kamer, een kantoor of voertuig).

| : | Een ‧datatoestel‧ is een apparaat voor het zenden of ontvangen van reeksen digitale informatie. |
| --- | --- |

:

"Piekvermogen" (6): het hoogste vermogensniveau dat tijdens de "laserduur" wordt bereikt.

"Primaire vluchtregeling" (7): een voorziening voor het regelen van de stabiliteit of de besturing van een vliegtuig waarbij gebruik wordt gemaakt van kracht-/moment-generatoren, d.w.z. aërodynamische stuurvlakken of koersbepaling door middel van stuwkrachtregeling.

"Productie" (ATN NTN Alle): hieronder vallen alle productiestadia, zoals bouw, productie, ‹engineering›, fabricage, integratie, assemblage (monteren), inspectie, testen, kwaliteitsborging.

"Productieapparatuur" (1 7 9): gereedschap, mallen, kalibers, mandrellen, matrijzen, bevestigingsmiddelen, uitlijnmiddelen, testapparatuur, andere apparatuur en componenten daarvoor, beperkt tot datgene dat speciaal is ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling" of voor een of meer fasen van de "productie".

"Productiefaciliteiten" (7 9): "productieapparatuur" en speciaal ontworpen "programmatuur", samengesteld tot installaties voor de "ontwikkeling" of voor een of meer fasen van de "productie".

"Programma" (2 6): een reeks opdrachten voor het volbrengen van een handeling in een vorm, of om om te zetten in een vorm, die voor de uitvoering door een elektronische computer geschikt is.

"Programmatuur" (APN Alle): een verzameling van één of meer "programma's" of ‧microprogramma's‧, vastgelegd op enig tastbaar medium.

| : | ‧Microprogramma‧: een reeks elementaire instructies die in een speciaal geheugen wordt bewaard en waarvan de uitvoering wordt gestart door de invoer van de bijbehorende verwijsopdracht in het instructieregister. |
| --- | --- |

:

"Pulsduur" (6): duur van een "laser" impuls, gemeten over volle breedte bij halve intensiteit (‹Full Width Half Intensity› — FWHI).

"Radar ‹frequency agility›" (6): iedere techniek waarbij de draaggolffrequentie van een gepulseerde radarzender in een pseudo-willekeurige volgorde van impuls tot impuls of van de ene groep impulsen tot de volgende groep kan veranderen met een hoeveelheid gelijk aan of groter dan de bandbreedte van de impuls.

"Radar ‹spread spectrum›" (6): iedere modulatietechniek voor het spreiden van energie afkomstig van een signaal met een relatief smalle frequentieband over een veel bredere frequentieband, met gebruikmaking van willekeurige of pseudo-willekeurige codering.

"Raketten" (1 3 6 7 9): complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen die een nuttige last van tenminste 500 kg kunnen vervoeren over een afstand van ten minste 300 km.

"Reactietijdconstante" (6): de tijd vanaf het toepassen van een lichtprikkel totdat de stroomtoename een waarde heeft bereikt van 1-1/e maal de eindwaarde (d.w.z. 63 % van de eindwaarde).

"Resolutie" (2): de kleinste stap van een meettoestel; op digitale instrumenten het minst significante bit. (Referentie: ANSI B-89.1.12).

"Robot" (2 8): een manipulatiemechanisme, dat kan zijn van een type dat een continu pad aflegt of van een type dat van punt naar punt gaat, eventueel voorzien van "sensoren", en dat alle volgende kenmerken heeft:

| a. | multifunctioneel; |
| --- | --- |

a.

multifunctioneel;

| b. | geschikt voor het positioneren of oriënteren van materialen, onderdelen, gereedschappen of speciale elementen door middel van regelbare bewegingen in de driedimensionale ruimte; |
| --- | --- |

b.

geschikt voor het positioneren of oriënteren van materialen, onderdelen, gereedschappen of speciale elementen door middel van regelbare bewegingen in de driedimensionale ruimte;

| c. | met drie of meer servomechanismen met open of gesloten lus waarbij inbegrepen kunnen zijn stappenmotoren; en |
| --- | --- |

c.

met drie of meer servomechanismen met open of gesloten lus waarbij inbegrepen kunnen zijn stappenmotoren; en

| d. | met "toegankelijkheid van het programma voor de gebruiker" door middel van de leer-en-terugspeelmethode (teach/playback) of door middel van een elektronische computer die een programmeerbare logische regeleenheid kan zijn (PLC), d.w.z. zonder mechanische interventie. |
| --- | --- |

d.

met "toegankelijkheid van het programma voor de gebruiker" door middel van de leer-en-terugspeelmethode (teach/playback) of door middel van een elektronische computer die een programmeerbare logische regeleenheid kan zijn (PLC), d.w.z. zonder mechanische interventie.

| : | Bovenstaande definitie slaat niet op de volgende toestellen:







  1. | manipulatiemechanismen die alleen met de hand of met een mechanisme voor afstandbediening te regelen zijn; |
| --- | --- | --- |

:

1.

manipulatiemechanismen die alleen met de hand of met een mechanisme voor afstandbediening te regelen zijn;

| 2. | manipulatiemechanismen die in een vaste volgorde werken en geautomatiseerde bewegende toestellen zijn, die mechanisch vastgelegde, geprogrammeerde bewegingen uitvoeren. Het programma is mechanisch beperkt door vaste aanslagen, zoals pennen of nokken. De volgorde van de bewegingen en de keuze van trajecten of hoeken mag niet op mechanische, elektronische of elektrische wijze beïnvloedbaar zijn; |
| --- | --- |

2.

manipulatiemechanismen die in een vaste volgorde werken en geautomatiseerde bewegende toestellen zijn, die mechanisch vastgelegde, geprogrammeerde bewegingen uitvoeren. Het programma is mechanisch beperkt door vaste aanslagen, zoals pennen of nokken. De volgorde van de bewegingen en de keuze van trajecten of hoeken mag niet op mechanische, elektronische of elektrische wijze beïnvloedbaar zijn;

| 3. | mechanisch geregelde manipulatiemechanismen met een variabele volgorde van bewegingen, die geautomatiseerde bewegende toestellen zijn welke mechanisch vastgelegde, geprogrammeerde bewegingen uitvoeren. Het programma is mechanisch beperkt door vaste, maar verplaatsbare aanslagen, zoals pennen en nokken. De volgorde van de bewegingen en de keuze van de trajecten of hoeken kan binnen het vaste programmapatroon worden gevarieerd. Variaties of wijzigingen in het programmapatroon (bv. verwisselen van pennen of uitwisselen van nokschijven) in één of meer bewegingsassen mogen alleen langs mechanische weg bewerkstelligd worden; |
| --- | --- |

3.

mechanisch geregelde manipulatiemechanismen met een variabele volgorde van bewegingen, die geautomatiseerde bewegende toestellen zijn welke mechanisch vastgelegde, geprogrammeerde bewegingen uitvoeren. Het programma is mechanisch beperkt door vaste, maar verplaatsbare aanslagen, zoals pennen en nokken. De volgorde van de bewegingen en de keuze van de trajecten of hoeken kan binnen het vaste programmapatroon worden gevarieerd. Variaties of wijzigingen in het programmapatroon (bv. verwisselen van pennen of uitwisselen van nokschijven) in één of meer bewegingsassen mogen alleen langs mechanische weg bewerkstelligd worden;

| 4. | niet van een servomechanisme voorziene manipulatiemechanismen met een variabele volgorde van bewegingen, die geautomatiseerde bewegende toestellen zijn welke mechanisch vastgelegde, geprogrammeerde bewegingen uitvoeren. Het programma mag variabel zijn maar de volgorde mag slechts op grond van het binaire signaal van mechanisch vaste elektrische binaire voorzieningen of verplaatsbare aanslagen verlopen; |
| --- | --- |

4.

niet van een servomechanisme voorziene manipulatiemechanismen met een variabele volgorde van bewegingen, die geautomatiseerde bewegende toestellen zijn welke mechanisch vastgelegde, geprogrammeerde bewegingen uitvoeren. Het programma mag variabel zijn maar de volgorde mag slechts op grond van het binaire signaal van mechanisch vaste elektrische binaire voorzieningen of verplaatsbare aanslagen verlopen;

| 5. | stapelkranen, waaronder te verstaan met Cartesische coördinaten werkende manipulatiesystemen, vervaardigd als integraal onderdeel van een verticale opstelling van opslagbakken en ontworpen voor het bereiken van de inhoud van deze bakken voor opslag of leeghalen. |
| --- | --- |

5.

stapelkranen, waaronder te verstaan met Cartesische coördinaten werkende manipulatiesystemen, vervaardigd als integraal onderdeel van een verticale opstelling van opslagbakken en ontworpen voor het bereiken van de inhoud van deze bakken voor opslag of leeghalen.

"Rondloopnauwkeurigheid" (‹run-out›) (2): radiale verplaatsing tijdens één omwenteling van de hoofdspil gemeten in een vlak loodrecht op de hartlijn van de spil aan een punt op het te testen uitwendige of inwendige omwentelingsoppervlak. (Referentie ISO 230, deel 1-1986, paragraaf 5.61)

"Roterend verstuiven" (1): een proces voor het verdelen van een stroom of een plas gesmolten metaal tot druppeltjes met een diameter van 500 μm of minder door middel van centrifugale kracht.

"Roving" (1): een bundel (normaal 12-120) van ongeveer evenwijdige ‧strengen‧.

| : | ‧Streng‧: een bundel monofilamenten (normaal meer dan 200) die ongeveer parallel lopen. |
| --- | --- |

:

"Ruimtevaartuig" (7 9): actieve en passieve satellieten en ruimtesondes.

"Samengestelde draaitafel" (2): een tafel waarop het werkstuk kan draaien en kantelen rond twee niet parallelle assen, die tegelijkertijd kunnen samenwerken voor "contourbesturen".

"Samenstelling" (2 3 4 5): een aantal elektronische componenten (bijvoorbeeld ‧schakelelementen‧, ‧discrete onderdelen‧, geïntegreerde schakelingen, enz.) die onderling verbonden zijn om één of meer specifieke functies te vervullen en die als een eenheid vervangbaar en gewoonlijk demonteerbaar is.

| | Een ‧schakelelement‧ is een enkelvoudig actief of passief functioneel deel van een elektronische schakeling, bv. één diode, één transistor, één weerstand, één condensator, enz. |
| --- | --- |

| | een ‧discreet onderdeel‧ is een afzonderlijk omhuld ‧schakelelement‧ met eigen uitwendige aansluitingen. |
| --- | --- |

"Schaalfactor" (gyroscoop of versnellingsmeter) (7): de verhouding tussen de uitvoerverandering en de te meten invoerverandering. De schaalfactor wordt gewoonlijk gegeven als de hellingshoek van de rechte lijn die volgens de kleinstekwadraten-methode past bij de invoer-uitvoergegevens, verkregen door cyclische variatie van de invoer over het ingangstraject.

"Schoepuiteindeversterking" (9): een stationaire ring (vast of gesegmenteerd) aan de binnenkant van het turbinehuis van een motor of een onderdeel aan het buitenste schoepuiteinde van het turbineblad dat in hoofdzaak dient als gasafdichting tussen stationaire en roterende onderdelen.

"SHPL" staat voor "Super High Power Laser".

"Signaalanalysatoren" (3): instrumenten, geschikt voor het meten en afbeelden van de basiseigenschappen van de individuele frequentiecomponenten van meervoudige-frequentiesignalen.

"Signaalverwerking" (3 4 5 6): het verwerken van elders verkregen informatiedragende signalen met behulp van algoritmen, zoals tijdcompressie, filteren, extractie, selectie, correlatie, convolutie of transformatie tussen domeinen (bv. de snelle Fourier—transformatie (‹fast Fourier transform›) of de Walsh—transformatie (‹Walsh transform›)).

"Smeltbaar" (1): in staat zijn om door verhitting, straling, catalyse, enz., te vernetten of verder te polymeriseren, dan wel zonder pyrolyse te smelten (verkolen).

"Smeltextractie" (1): een proces voor het ‧snel stollen‧ en extraheren van een lintvormig legeringsproduct door een kort segment van een ronddraaiend gekoeld blok in een bad met een gesmolten metaallegering te brengen.

| : | ‧Snel stollen‧ is het stollen van gesmolten materiaal bij een koelsnelheid van meer dan 1 000 K/sec. |
| --- | --- |

:

"Speciale splijtstoffen" (0): plutonium-239, uraan-233, "uraan verrijkt in de isotopen 235 of 233", en elk materiaal dat het voorgaande bevat.

"Specifieke modulus" (0 1 9): Youngs modulus in pascal, gelijk aan N/m2 gedeeld door het soortgelijke gewicht in N/m3, gemeten bij een temperatuur van 296 ± 2 K (23 ± 2 °C) en een relatieve vochtigheid van 50 ± 5 %.

"Specifieke treksterkte" (0 1 9): de breeksterkte in pascal, gelijk aan N/m2 gedeeld door het soortgelijk gewicht in N/m3, gemeten bij een temperatuur van 296 ± 2 K (23 ± 2 °C) en een relatieve vochtigheid van 50 ± 5 %.

"Spinnen uit de smelt" (1): een proces voor het ‧snel stollen‧ van een stroom gesmolten metaal die botst op een ronddraaiend gekoeld blok, waardoor een schilfer-, lint— of staafvormig product ontstaat.

| : | ‧snel stollen‧ is het stollen van gesmolten materiaal bij een koelsnelheid van meer dan 1 000 K/seconde. |
| --- | --- |

:

"Spread spectrum" (5): de techniek waarbij de energie in een communicatiekanaal met een relatief smalle band wordt gespreid over een veel breder energiespectrum.

"Spread spectrum" radar (6): zie "Radar ‹spread-spectrum›".

"Springstoffen" (1): stoffen in vaste, vloeibare of gasvorm of mengsels van stoffen die moeten detoneren als primaire, aanjaag- of hoofdlading in koppen, bij sloopwerkzaamheden of bij andere toepassingen.

"Stabilisatietijd" (‹settling time›) (3): de tijd die nodig is om binnen een halve bit van de uitgangseindwaarde te komen bij het schakelen tussen twee willekeurige niveaus van de omzetter.

"Stabiliteit" (7): standaardafwijking (1 sigma) van de miswijzing van een bepaalde parameter van de ijkwaarde, gemeten bij stabiele temperatuuromstandigheden. Deze kan worden uitgedrukt als een functie van de tijd.

"Stapel- en continuvezelmateriaal" (0 1 8).

Dit omvat:

| a. | continue "monofilamenten"; |
| --- | --- |

a.

continue "monofilamenten";

| b. | continugarens en "‹rovings›"; |
| --- | --- |

b.

continugarens en "‹rovings›";

| c. | banden, weefsels en onregelmatig gelaagde matten en gevlochten banden; |
| --- | --- |

c.

banden, weefsels en onregelmatig gelaagde matten en gevlochten banden;

| d. | op lengte gesneden vezels, stapelvezels en samenhangende vezeldekens; |
| --- | --- |

d.

op lengte gesneden vezels, stapelvezels en samenhangende vezeldekens;

| e. | whiskers, hetzij monokristallijn hetzij polykristallijn, ongeacht hun lengte; |
| --- | --- |

e.

whiskers, hetzij monokristallijn hetzij polykristallijn, ongeacht hun lengte;

| f. | aromatische polyamidepulp. |
| --- | --- |

f.

aromatische polyamidepulp.

"Staten die (geen) partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens": staten waarvoor het Verdrag tot verbod van de ontwikkeling, de productie, de aanleg van voorraden en het gebruik van chemische wapens (niet) in werking is getreden.

"Stoffen voor oproerbeheersing": stoffen die, onder de verwachte gebruiksomstandigheden van het gebruik voor oproerbeheersing, bij mensen snel sensoriële irritatie of fysiek onvermogen veroorzaken, welke effecten echter korte tijd na beëindiging van de blootstelling verdwijnen.

| : | Traangas is een subklasse van "stoffen voor oproerbeheersing". |
| --- | --- |

:

"Storingstolerantie" (4): het vermogen van een computersysteem om, na een storing in een onderdeel van zijn apparatuur of "programmatuur", zonder ingrijpen van de mens te blijven functioneren op een bepaald niveau waardoor de ononderbroken werking, gegevensintegriteit en herstel van alle functies binnen een bepaalde tijd worden gegarandeerd.

"Stralingsgevoeligheid" (6): stralingsgevoeligheid (mA/W) = 0,807 × (golflengte in nm) × quantumefficiëntie (QE)

| : | QE wordt meestal in procenten uitgedrukt; voor deze formule wordt de QE uitgedrukt als een decimaal cijfer kleiner dan één, bijv. 78 % is 0,78. |
| --- | --- |

:

"Substraat" (3): een laag basismateriaal met of zonder een onderlinge verbindingsstructuur waarop of waarin ‧discrete onderdelen‧ of geïntegreerde schakelingen of beide aanwezig kunnen zijn.

| | Een ‧discreet onderdeel‧ is een afzonderlijk omhuld ‧schakelelement‧ met eigen uitwendige aansluitingen. |
| --- | --- |

| | Een ‧schakelelement‧ is een enkelvoudig actief of passief functioneel deel van een elektronisch circuit, bv. één diode, één transistor, één weerstand, één condensator, enz. |
| --- | --- |

"Sub-eenheid van toxine" (1): een structureel en functioneel losstaand bestanddeel van een hele "toxine".

"Supergeleidend" (1 3 5 6 8): materialen, d.w.z. metalen, legeringen of verbindingen waarvan de elektrische weerstand nul kan worden, d.w.z. dat zij een oneindige elektrische geleidbaarheid kunnen bereiken en zeer grote stromen kunnen geleiden zonder joule-opwarming.

| : | De "supergeleidende" toestand van elk afzonderlijk materiaal wordt gekenmerkt door een "kritische temperatuur", een kritisch magnetisch veld, dat een functie is van de temperatuur, en een kritische stroomdichtheid, die echter een functie is van zowel het magnetisch veld als de temperatuur. |
| --- | --- |

:

"Super High Power Laser" (SHPL) (6): een "laser" die geschikt is voor het afgeven van (het totaal of een gedeelte van) de uitgangsenergie van meer dan 1 kJ binnen 50 ms of met een gemiddeld of CW—(continugolf—)vermogen van meer dan 20 kW.

"Superlegeringen" (2 9): legeringen op basis van nikkel, kobalt of ijzer, met sterkten hoger dan de standaardwaarden volgens de AISI 300 bij temperaturen boven 922 K (649 °C) onder zware omgevings- en gebruiksomstandigheden.

"Superplastisch vormen" (1 2): een vervormingsproces waarbij warmte wordt gebruikt om voor metalen die gewoonlijk weinig rek (minder dan 20 %) hebben bij de breeksterktegrens als bepaald bij kamertemperatuur door middel van een conventionele trekproef, tijdens het verwerken minstens tweemaal hogere rekwaarden te bereiken dan genoemde waarden.

"Symmetrisch algoritme" (5): cryptografisch algoritme waarin voor encryptie dezelfde sleutel gebruikt wordt als voor decryptie.

| : | "Symmetrische algoritmen" worden vaak voor vertrouwelijke gegevens gebruikt. |
| --- | --- |

:

"Systeemsporen" (6): verwerkt, gecorreleerd (samenvoeging van radardoelgegevens en vliegplanpositie) en met de laatste informatie bijgewerkt rapport dat ter beschikking staat van de verkeersleiders van het Luchtverkeersleidingscentrum.

"‹Systolic array›-computer" (4): een computer waarbij de gegevensstroom en wijziging van de gegevens dynamisch kan worden bestuurd door de gebruiker op het niveau van de logische poort.

"Technologie" (ATN NTN Alle): specifieke informatie die nodig is voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van een product. De informatie is in de vorm van ‧technische gegevens‧ of ‧technische bijstand‧.

| | ‧Technische bijstand‧ kan zijn in de vorm van instructie, vaardigheden, opleiding, praktijkkennis, advies e.d. en kan gepaard gaan met de overdracht van ‧technische gegevens‧. |
| --- | --- |

| | ‧Technische gegevens‧ kunnen o.m. bestaan uit blauwdrukken, tekeningen, schema's, modellen, formules, tabellen, technische ontwerpen en specificaties, handboeken en instructies, in geschreven vorm of vastgelegd op andere media of apparaten zoals schijf, magneetband, leesgeheugens (ROM's). |
| --- | --- |

"Tijdgebonden bandbreedte" (real time bandwidth) (3): voor "dynamische signaalanalysatoren" is dit het grootste frequentiebereik dat de analysator kan uitvoeren naar beeldscherm of massageheugen zonder dat daardoor de analyse van de invoergegevens wordt onderbroken. Bij analysatoren met meer dan één kanaal dient bij de berekening die kanaalconfiguratie te worden gehanteerd die de breedste "tijdgebonden bandbreedte" oplevert.

"Toegankelijkheid van het programma voor de gebruiker" (6): de mogelijkheid voor de gebruiker om "programma's" in te voegen, te veranderen of te vervangen anders dan door middel van:

| a. | een fysieke wijziging in de bedrading of andere onderlinge verbindingen; of |
| --- | --- |

a.

een fysieke wijziging in de bedrading of andere onderlinge verbindingen; of

| b. | het instellen van functiekeuzen, het inbrengen van parameters daarbij inbegrepen. |
| --- | --- |

b.

het instellen van functiekeuzen, het inbrengen van parameters daarbij inbegrepen.

"Totale digitale overbrengsnelheid" (5): het aantal bits, met inbegrip van regelcodering, organisatorische bits enz., dat per tijdseenheid wordt overgebracht tussen overeenkomstige apparatuur in een digitaal transmissiesysteem.

| : | Zie ook "digitale overbrengsnelheid" |
| --- | --- |

:

"Totale stroomdichtheid" (3): het totale aantal ampèrewikkelingen in de spoel (d.w.z. de som van het aantal wikkelingen vermenigvuldigd met de maximale stroom die door elke wikkeling wordt gevoerd), gedeeld door de totale doorsnede van de spoel (met inbegrip van de supergeleidende draden, de metalen matrix waarin de supergeleidende draden zijn ingebed, het omgevende materiaal, eventuele koelkanalen, enz.).

"Totale vluchtregeling" (7): een geautomatiseerde regeling van de toestandsvariabelen en de vliegbaan van een "vliegtuig" om te voldoen aan de doelstellingen van een missie, waarbij wordt gereageerd op real-time veranderingen in de gegevens betreffende doelstellingen, gevaren en andere "vliegtuigen".

"Toxinen" (1 2): toxinen in de vorm van opzettelijk geïsoleerde preparaten of mengsels, ongeacht de wijze van bereiding, anders dan toxinen die als contaminant aanwezig zijn in andere materialen zoals pathologische monsters, gewassen, levensmiddelen of culturen van "micro-organismen".

"Transfer laser" (6): een "laser" waarbij het lasermedium wordt geëxciteerd door de overdracht van energie door middel van botsing van een niet-stralend atoom of molecuul op een atoom of molecuul dat laserstraling uitzendt.

"Uraan verrijkt in de isotopen 235 of 233" (0): uraan dat de isotopen 235 of 233 of beide bevat in een zodanige hoeveelheid, dat de verhouding tussen de som van de hoeveelheden van deze isotopen en de hoeveelheid van de isotoop 238 groter is dan de verhouding tussen de hoeveelheden van de isotoop 235 en de isotoop 238 in natuurlijk uraan (isotoopverhouding: 0,71 %).

"Vaccin" (1): een medisch preparaat volgens een chemische formule waarvoor een vergunning is afgegeven of waarvoor een vergunning voor het in de handel brengen of voor klinische proeven is afgegeven door de regelgevende instanties van hetzij het land waar het wordt gefabriceerd, hetzij het land waar het wordt gebruikt, en dat strekt tot stimulering van een beschermende immunorespons ter voorkoming van ziekten in de mens of het dier aan wie of waaraan het wordt toegediend.

"Vast" (5): het coderings- of comprimeringsalgoritme kan geen parameters van buitenaf ontvangen (bv. cryptografische of sleutelvariabelen) noch gewijzigd worden door de gebruiker.

"Verarmd uraan" (0): uraan met een gehalte aan het uraan-235-isotoop dat lager is dan in de natuur voorkomt.

"III/V verbindingen": polykristallijne, binaire of complexe monokristallijne producten bestaande uit elementen uit de groepen IIIA en VA van het periodieke systeem van Mendelejev (galliumarsenide, gallium aluminiumarsenide, indiumfosfide, enz.).

"Vergruizing" (1): een procedé voor het tot deeltjes verdelen van materiaal door stampen of malen.

"Verloopsnelheid" (gyroscopen) (7): de component van de gyroscoopuitvoer die functioneel onafhankelijk is van de invoerrotatie. Wordt uitgedrukt als snelheid van hoekbeweging (IEEE STD 528-2001).

"Vermengd" (commingled) (1): het mengen van filamenten van thermoplastische vezels en versterkingsvezels voor de productie van een vezelversterking/-"matrix" mengsel in totaalvezelvorm.

"Vermogensaanpassing" (7): een zodanige aanpassing van het uitgezonden vermogen van het hoogtemetersignaal dat het ontvangen signaal op "vliegtuig" hoogte altijd het minimale vermogen heeft dat nodig is om de hoogte te bepalen.

"Versplintering door snelle afkoeling" (‹splat quenching›) (1): een proces voor het ‧snel stollen‧ van een gesmolten stroom metaal die botst op een gekoeld blok, waardoor ‧flakes‧ worden gevormd.

| : | ‧Snel stollen‧ is het stollen van gesmolten materiaal bij een koelsnelheid van meer dan 1 000 K/seconde. |
| --- | --- |

:

"Verstuiving in gas" (1): een proces voor het verdelen van een stroom gesmolten metaallegering tot druppeltjes met een diameter van 500 μm of minder door middel van een onder hoge druk staande gasstroom.

"Verstuiving in vacuüm" (1): een proces voor het verdelen van een stroom gesmolten metaal tot druppeltjes met een diameter van 500 μm of minder door middel van de snelle uiteenzetting van een opgelost gas bij blootstelling aan een vacuüm.

"Vervormbare spiegels" (6): (ook bekend als adaptieve optische spiegels).

Spiegels met:

| a. | één enkel continu optisch reflecterend oppervlak dat dynamisch wordt vervormd door afzonderlijke momenten of krachten uit te oefenen om de vervormingen van de op de spiegel invallende optische golfvorm te compenseren; of |
| --- | --- |

a.

één enkel continu optisch reflecterend oppervlak dat dynamisch wordt vervormd door afzonderlijke momenten of krachten uit te oefenen om de vervormingen van de op de spiegel invallende optische golfvorm te compenseren; of

| b. | verscheidene optische reflecterende elementen die afzonderlijk dynamisch kunnen worden verplaatst door momenten of krachten uit te oefenen om vervormingen van de op de spiegel invallende optische golfvorm te compenseren. |
| --- | --- |

b.

verscheidene optische reflecterende elementen die afzonderlijk dynamisch kunnen worden verplaatst door momenten of krachten uit te oefenen om vervormingen van de op de spiegel invallende optische golfvorm te compenseren.

"Vliegtuigen" (1 7 9): luchtvaartuigen met vaste, draaibare of roterende (hefschroefvliegtuig) vleugel en verticaal opstijgende luchtvaartuigen (met kantelende rotor of vleugel).

| : | Zie ook "civiele vliegtuigen". |
| --- | --- |

:

"Voortplantingsvertragingstijd van de basispoort" (3): de waarde van de voortplantingsvertragingstijd die overeenkomt met die van de basispoort binnen een "monolitische geïntegreerde schakeling". Deze kan voor een bepaalde ‧familie‧ van "monolithische geïntegreerde schakelingen" gespecificeerd zijn als de voortplantingsvertragingstijd per typerende poort binnen die ‧familie‧ of als de typerende voortplantingsvertragingstijd per poort binnen die ‧familie‧.

| : | De "voortplantingsvertragingstijd van de basispoort" moet niet worden verward met de in/uitgangsvertragingstijd van een complexe "monolithische geïntegreerde schakeling". |
| --- | --- |

:

| : | Een ‧familie‧ bestaat uit alle geïntegreerde schakelingen waarop alle onderstaande elementen zijn toegepast als fabricagemethoden en -specificaties, met uitzondering van hun respectieve functies: |
| --- | --- |

:

| a. | de gebruikelijke hardware- en programmatuurarchitectuur; |
| --- | --- |

a.

de gebruikelijke hardware- en programmatuurarchitectuur;

| b. | de gebruikelijke ontwerp- en verwerkingstechnologie; en |
| --- | --- |

b.

de gebruikelijke ontwerp- en verwerkingstechnologie; en

| c. | de gebruikelijke basiskenmerken. |
| --- | --- |

c.

de gebruikelijke basiskenmerken.

"Voor iedereen beschikbaar" (ATN NTN APN). "Technologie" of "programmatuur" die zonder beperkingen aan de verdere verspreiding daarvan beschikbaar zijn gesteld. (Auteursrechtelijke beperkingen hebben niet tot gevolg dat "technologie" of "programmatuur" niet langer "voor iedereen beschikbaar" is.)

"Voornaamste deel" (4): een deel is een "voornaamste deel" wanneer de vervangingswaarde hoger is dan 35 % van de totale waarde van het systeem waarvan het deel uitmaakt. De waarde van een deel is de prijs die door de fabrikant of door degene die het systeem heeft geïntroduceerd voor het deel is betaald. De totale waarde is de normale internationale verkoopprijs bij verkoop aan een niet-gelieerde partij af fabriek of bij bevestiging van de verzending.

"Werkgeheugen" (4): het primaire geheugen voor gegevens of opdrachten, dat voor de centrale verwerkingseenheid snel toegankelijk is. Het bestaat uit het interne geheugen van een "digitale computer" en elke hiërarchische uitbreiding daarvan, zoals ‹cache›-geheugens of niet-sequentieel toegankelijke geheugenuitbreidingen.

CATEGORIE 0

NUCLEAIRE GOEDEREN

0ASystemen, apparatuur en onderdelen

0A001"Kernreactoren" en speciaal ontworpen en gebouwde uitrusting en onderdelen ervan, als hieronder:

| a. | "kernreactoren"; |
| --- | --- |

a.

"kernreactoren";

| b. | metalen vaten, of belangrijke speciaal vervaardigde onderdelen ervan, met inbegrip van het deksel van een reactordrukvat, die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd als omhulsel van de kern van een "kernreactor"; |
| --- | --- |

b.

metalen vaten, of belangrijke speciaal vervaardigde onderdelen ervan, met inbegrip van het deksel van een reactordrukvat, die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd als omhulsel van de kern van een "kernreactor";

| c. | bedieningsapparatuur, speciaal ontworpen of vervaardigd om splijtstof in een "kernreactor" aan- of af te voeren; |
| --- | --- |

c.

bedieningsapparatuur, speciaal ontworpen of vervaardigd om splijtstof in een "kernreactor" aan- of af te voeren;

| d. | regelstaven, d.w.z. staven die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd voor de beheersing van het splijtingsproces in een "kernreactor", de draag- of ophangconstructies daarvoor, mechanismen voor het besturen van de regelstaven en buizen voor het geleiden van de regelstaven; |
| --- | --- |

d.

regelstaven, d.w.z. staven die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd voor de beheersing van het splijtingsproces in een "kernreactor", de draag- of ophangconstructies daarvoor, mechanismen voor het besturen van de regelstaven en buizen voor het geleiden van de regelstaven;

| e. | drukpijpen, d.w.z. buizen die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd om dienst te doen als houder van de splijtstofelementen en het primaire koelmiddel in een "kernreactor" bij een werkdruk van meer dan 5,1 MPa; |
| --- | --- |

e.

drukpijpen, d.w.z. buizen die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd om dienst te doen als houder van de splijtstofelementen en het primaire koelmiddel in een "kernreactor" bij een werkdruk van meer dan 5,1 MPa;

| f. | zirkoniummetaal en legeringen in de vorm van buizen of samenstellen van buizen waarin de gewichtsverhouding tussen hafnium en zirkonium minder is dan 1:500, speciaal ontworpen of vervaardigd voor gebruik in een "kernreactor"; |
| --- | --- |

f.

zirkoniummetaal en legeringen in de vorm van buizen of samenstellen van buizen waarin de gewichtsverhouding tussen hafnium en zirkonium minder is dan 1:500, speciaal ontworpen of vervaardigd voor gebruik in een "kernreactor";

| g. | koelpompen, d.w.z. pompen die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd voor het doen circuleren van het primaire koelmiddel van "kernreactoren"; |
| --- | --- |

g.

koelpompen, d.w.z. pompen die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd voor het doen circuleren van het primaire koelmiddel van "kernreactoren";

| h. | ‧inwendige delen van kernreactoren‧ die speciaal ontworpen of vervaardigd zijn voor gebruik in een "kernreactor", met inbegrip van draagconstructies voor de reactorkern, brandstofkanalen, hitteschilden, keerschotten, roosterplaten van de reactorkern en diffusorplaten;







  : | In 0A001.h wordt onder ‧inwendige delen van kernreactoren‧ verstaan iedere grote structuur binnen een reactorvat die één of meer functies heeft, zoals ondersteuning van de kern, handhaving van de splijtstofafstelling, sturing van het primaire koelmiddel, het verschaffen van stralingsschermen voor het reactorvat, en de besturing van instrumentatie in de kern. |
| --- | --- | --- |

h.

‧inwendige delen van kernreactoren‧ die speciaal ontworpen of vervaardigd zijn voor gebruik in een "kernreactor", met inbegrip van draagconstructies voor de reactorkern, brandstofkanalen, hitteschilden, keerschotten, roosterplaten van de reactorkern en diffusorplaten;

:

| i. | warmtewisselaars (stoomgeneratoren), speciaal ontworpen of vervaardigd voor gebruik in het primaire koelmiddelcircuit van een "kernreactor"; |
| --- | --- |

i.

warmtewisselaars (stoomgeneratoren), speciaal ontworpen of vervaardigd voor gebruik in het primaire koelmiddelcircuit van een "kernreactor";

| j. | instrumenten voor neutronenwaarneming en -meting, speciaal ontworpen of vervaardigd voor het bepalen van de niveaus van de neutronenflux in de kern van een "kernreactor". |
| --- | --- |

j.

instrumenten voor neutronenwaarneming en -meting, speciaal ontworpen of vervaardigd voor het bepalen van de niveaus van de neutronenflux in de kern van een "kernreactor".

0BTest-, Iinspectie- en Productieapparatuur

0B001Fabrieken voor de scheiding van isotopen van "natuurlijk uraan", "verarmd uraan", en "speciale splijtstoffen" en speciaal daarvoor ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

| a. | installaties, speciaal ontworpen voor de scheiding van isotopen van "natuurlijk uraan", "verarmd uraan" en "speciale splijtstoffen" als hieronder:






  1. | gascentrifuges; |
| --- | --- | --- |

a.

installaties, speciaal ontworpen voor de scheiding van isotopen van "natuurlijk uraan", "verarmd uraan" en "speciale splijtstoffen" als hieronder:

1.

gascentrifuges;

| 2. | gasdiffusiescheidingsinstallaties; |
| --- | --- |

2.

gasdiffusiescheidingsinstallaties;

| 3. | aërodynamische scheidingsinstallaties; |
| --- | --- |

3.

aërodynamische scheidingsinstallaties;

| 4. | scheidingsinstallaties met behulp van chemische uitwisselaars; |
| --- | --- |

4.

scheidingsinstallaties met behulp van chemische uitwisselaars;

| 5. | scheidingsinstallaties met behulp van ionenuitwisselaars; |
| --- | --- |

5.

scheidingsinstallaties met behulp van ionenuitwisselaars;

| 6. | isotopenscheidingsinstallaties werkend met atomaire-damp-"lasers" (AVLIS); |
| --- | --- |

6.

isotopenscheidingsinstallaties werkend met atomaire-damp-"lasers" (AVLIS);

| 7. | isotopenscheidingsinstallaties werkend met moleculaire "lasers" (MLIS); |
| --- | --- |

7.

isotopenscheidingsinstallaties werkend met moleculaire "lasers" (MLIS);

| 8. | plasmascheidingsinstallaties; |
| --- | --- |

8.

plasmascheidingsinstallaties;

| 9. | elektromagnetische scheidingsinstallaties; |
| --- | --- |

9.

elektromagnetische scheidingsinstallaties;

| b. | Gascentrifuges en samenstellingen en onderdelen, speciaal ontworpen voor gebruik in gascentrifuges, als hieronder: | In 0B001.b betekent ‧materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding‧:






  a. | maraging - staal met een maximale treksterkte van 2 050 MPa of meer; of |
| --- | --- | --- | --- |

b.

Gascentrifuges en samenstellingen en onderdelen, speciaal ontworpen voor gebruik in gascentrifuges, als hieronder:

a.

maraging - staal met een maximale treksterkte van 2 050 MPa of meer; of

| b. | aluminiumlegeringen met een maximale treksterkte van 460 MPa of meer; of |
| --- | --- |

b.

aluminiumlegeringen met een maximale treksterkte van 460 MPa of meer; of

| c. | "stapel- en continuvezelmateriaal" met een "specifieke modulus" van meer dan 3,18 × 106 m en een "specifieke treksterkte" van meer dan 76,2 × 103 m; |
| --- | --- |

c.

"stapel- en continuvezelmateriaal" met een "specifieke modulus" van meer dan 3,18 × 106 m en een "specifieke treksterkte" van meer dan 76,2 × 103 m;

| 1. | gascentrifuges; |
| --- | --- |

1.

gascentrifuges;

| 2. | complete rotoren; |
| --- | --- |

2.

complete rotoren;

| 3. | rotorbuiscilinders met een wanddikte van 12 mm of minder, een diameter tussen 75 en 400 mm en vervaardigd van ‧materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding‧; |
| --- | --- |

3.

rotorbuiscilinders met een wanddikte van 12 mm of minder, een diameter tussen 75 en 400 mm en vervaardigd van ‧materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding‧;

| 4. | ringen of balgen met een wanddikte van 3 mm of minder en een diameter tussen 75 mm en 400 mm, speciaal ontworpen om een rotorbuis op bepaalde plaatsen te verstevigen of om een aantal rotorbuizen samen te voegen, vervaardigd van ‧materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding‧; |
| --- | --- |

4.

ringen of balgen met een wanddikte van 3 mm of minder en een diameter tussen 75 mm en 400 mm, speciaal ontworpen om een rotorbuis op bepaalde plaatsen te verstevigen of om een aantal rotorbuizen samen te voegen, vervaardigd van ‧materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding‧;

| 5. | keerschotten met een diameter tussen 75 mm en 400 mm, ontworpen om in een rotorbuis gemonteerd te worden en vervaardigd van ‧materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding‧; |
| --- | --- |

5.

keerschotten met een diameter tussen 75 mm en 400 mm, ontworpen om in een rotorbuis gemonteerd te worden en vervaardigd van ‧materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding‧;

| 6. | onder- en bovendeksels met een diameter tussen 75 mm en 400 mm, speciaal ontworpen om op de uiteinden van een rotorbuis te passen en vervaardigd van ‧materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding‧; |
| --- | --- |

6.

onder- en bovendeksels met een diameter tussen 75 mm en 400 mm, speciaal ontworpen om op de uiteinden van een rotorbuis te passen en vervaardigd van ‧materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding‧;

| 7. | magnetische lagers bestaande uit een ringvormige magneet in een behuizing, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", bevattende een dempend medium en waarvan de magneet is gekoppeld aan een poolschoen of een tweede magneet die aan het bovendeksel van de rotor is bevestigd; |
| --- | --- |

7.

magnetische lagers bestaande uit een ringvormige magneet in een behuizing, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", bevattende een dempend medium en waarvan de magneet is gekoppeld aan een poolschoen of een tweede magneet die aan het bovendeksel van de rotor is bevestigd;

| 8. | speciaal ontworpen lagers, bestaande uit een taats/lagerkom-samenstel, gemonteerd op een demper; |
| --- | --- |

8.

speciaal ontworpen lagers, bestaande uit een taats/lagerkom-samenstel, gemonteerd op een demper;

| 9. | turbomoleculaire pompen bestaande uit cilinders met inwendige, machinaal vervaardigde of geëxtrudeerde langwerpige spiraalvormige groeven en inwendige, machinaal vervaardigde boorgaten; |
| --- | --- |

9.

turbomoleculaire pompen bestaande uit cilinders met inwendige, machinaal vervaardigde of geëxtrudeerde langwerpige spiraalvormige groeven en inwendige, machinaal vervaardigde boorgaten;

| 10. | ringvormige stators voor meerfasige wisselstroom-hysteresis-motoren (magnetische-weerstandsmotoren) voor synchrone werking in vacuüm, met een frequentiebereik van 600 Hz tot 2 000 Hz en een vermogensbereik van 50 VA tot 1 000 VA; |
| --- | --- |

10.

ringvormige stators voor meerfasige wisselstroom-hysteresis-motoren (magnetische-weerstandsmotoren) voor synchrone werking in vacuüm, met een frequentiebereik van 600 Hz tot 2 000 Hz en een vermogensbereik van 50 VA tot 1 000 VA;

| 11. | centrifugebehuizingen/houders, speciaal ontworpen om de rotorbuis van een gascentrifuge te bevatten, bestaande uit een starre cilinder met een wanddikte tot 30 mm met nauwkeurig afgewerkte uiteinden en vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6"; |
| --- | --- |

11.

centrifugebehuizingen/houders, speciaal ontworpen om de rotorbuis van een gascentrifuge te bevatten, bestaande uit een starre cilinder met een wanddikte tot 30 mm met nauwkeurig afgewerkte uiteinden en vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6";

| 12. | inlaatstukken bestaande uit buizen met een binnendiameter tot 12 mm voor de extractie van UF6-gas uit de rotorbuis van een gascentrifuge volgens het principe van een Pitot-buis, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6"; |
| --- | --- |

12.

inlaatstukken bestaande uit buizen met een binnendiameter tot 12 mm voor de extractie van UF6-gas uit de rotorbuis van een gascentrifuge volgens het principe van een Pitot-buis, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6";

| 13. | frequentieomzetters (convertors of invertors), speciaal ontworpen of vervaardigd voor de voeding van motorstators van gascentrifugeverrijkers en speciaal ontworpen onderdelen hiervoor, die aan alle hieronderstaande specificaties voldoen:






  a. | een meerfasige elektrische spanning van 600 Hz tot 2 000 Hz, |
| --- | --- | --- |

13.

frequentieomzetters (convertors of invertors), speciaal ontworpen of vervaardigd voor de voeding van motorstators van gascentrifugeverrijkers en speciaal ontworpen onderdelen hiervoor, die aan alle hieronderstaande specificaties voldoen:

a.

een meerfasige elektrische spanning van 600 Hz tot 2 000 Hz,

| b. | frequentieafwijkingen van minder dan 0,1 %, |
| --- | --- |

b.

frequentieafwijkingen van minder dan 0,1 %,

| c. | een harmonische vervorming van minder dan 2 %, en |
| --- | --- |

c.

een harmonische vervorming van minder dan 2 %, en

| d. | een rendement, hoger dan 80 %; |
| --- | --- |

d.

een rendement, hoger dan 80 %;

| 14. | balgafsluiters met een diameter van 10 mm tot 160 mm, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6"; |
| --- | --- |

14.

balgafsluiters met een diameter van 10 mm tot 160 mm, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6";

| c. | speciaal voor gasdiffusiescheidingsinstallaties ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:






  1. | membranen voor gasdiffusie vervaardigd van poreus metallisch, polymeer of keramisch "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", met een poriegrootte van 10 tot 100 nm, een dikte van 5 mm of minder en, voor buisvormige membranen, met een diameter van 25 mm of minder; |
| --- | --- | --- |

c.

speciaal voor gasdiffusiescheidingsinstallaties ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1.

membranen voor gasdiffusie vervaardigd van poreus metallisch, polymeer of keramisch "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", met een poriegrootte van 10 tot 100 nm, een dikte van 5 mm of minder en, voor buisvormige membranen, met een diameter van 25 mm of minder;

| 2. | gasdiffusorvaten, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6"; |
| --- | --- |

2.

gasdiffusorvaten, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6";

| 3. | compressoren (verdringer, centrifugale en axiale typen) of aanjagers met een aanzuigcapaciteit van 1 m3/min. of meer UF6 en een werkdruk van maximaal 666,7 kPa, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6"; |
| --- | --- |

3.

compressoren (verdringer, centrifugale en axiale typen) of aanjagers met een aanzuigcapaciteit van 1 m3/min. of meer UF6 en een werkdruk van maximaal 666,7 kPa, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6";

| 4. | asafdichtingen voor compressoren of aanjagers bedoeld in 0B001.c.3., ontworpen op een inleksnelheid van het buffergas van minder dan 1 000 cm3/min; |
| --- | --- |

4.

asafdichtingen voor compressoren of aanjagers bedoeld in 0B001.c.3., ontworpen op een inleksnelheid van het buffergas van minder dan 1 000 cm3/min;

| 5. | warmtewisselaars, vervaardigd van aluminium, koper, nikkel of legeringen die meer dan 60 percent nikkel bevatten of combinaties van deze metalen, in de vorm van beklede buizen, ontworpen voor gebruik bij drukken lager dan de atmosferische druk, met een leksnelheid die een drukstijging van minder dan 10 Pa/uur veroorzaakt bij een drukverschil van 100 kPa; |
| --- | --- |

5.

warmtewisselaars, vervaardigd van aluminium, koper, nikkel of legeringen die meer dan 60 percent nikkel bevatten of combinaties van deze metalen, in de vorm van beklede buizen, ontworpen voor gebruik bij drukken lager dan de atmosferische druk, met een leksnelheid die een drukstijging van minder dan 10 Pa/uur veroorzaakt bij een drukverschil van 100 kPa;

| 6. | balgafsluiters met een diameter van 40 mm tot 1 500 mm, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6"; |
| --- | --- |

6.

balgafsluiters met een diameter van 40 mm tot 1 500 mm, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6";

| d. | speciaal voor aërodynamische scheidingsprocessen ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:






  1. | scheidingsstraalpijpen, bestaande uit spleetvormige, gebogen kanalen met een kromtestraal van minder dan 1 mm, bestand tegen corrosie door UF6, met in de straalpijp een scherpe scheidingsrand die de gasstroom in tweeën deelt; |
| --- | --- | --- |

d.

speciaal voor aërodynamische scheidingsprocessen ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1.

scheidingsstraalpijpen, bestaande uit spleetvormige, gebogen kanalen met een kromtestraal van minder dan 1 mm, bestand tegen corrosie door UF6, met in de straalpijp een scherpe scheidingsrand die de gasstroom in tweeën deelt;

| 2. | tangentiële instroombuizen (cilindrisch of conisch) (vortexbuizen), vervaardigd van of beschermd met "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", met een diameter tussen 0,5 cm en 4 cm en een lengte/diameterverhouding, gelijk aan of kleiner dan 20:1 en met een of meer tangentiële inlaten; |
| --- | --- |

2.

tangentiële instroombuizen (cilindrisch of conisch) (vortexbuizen), vervaardigd van of beschermd met "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", met een diameter tussen 0,5 cm en 4 cm en een lengte/diameterverhouding, gelijk aan of kleiner dan 20:1 en met een of meer tangentiële inlaten;

| 3. | compressoren (verdringer-, centrifugale en axiale typen) of aanjagers met een aanzuigcapaciteit van 2 m3/min of meer, vervaardigd van of beschermd met "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6" en asafdichtingen daarvoor; |
| --- | --- |

3.

compressoren (verdringer-, centrifugale en axiale typen) of aanjagers met een aanzuigcapaciteit van 2 m3/min of meer, vervaardigd van of beschermd met "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6" en asafdichtingen daarvoor;

| 4. | warmtewisselaars, vervaardigd van of beschermd met "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6"; |
| --- | --- |

4.

warmtewisselaars, vervaardigd van of beschermd met "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6";

| 5. | behuizingen van aërodynamische scheidingselementen, vervaardigd van of beschermd met "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", speciaal ontworpen om vortexbuizen of scheidingsstraalpijpen te bevatten; |
| --- | --- |

5.

behuizingen van aërodynamische scheidingselementen, vervaardigd van of beschermd met "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", speciaal ontworpen om vortexbuizen of scheidingsstraalpijpen te bevatten;

| 6. | balgafsluiters, vervaardigd van of beschermd met "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", met een diameter van 40 tot 1 500 mm; |
| --- | --- |

6.

balgafsluiters, vervaardigd van of beschermd met "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", met een diameter van 40 tot 1 500 mm;

| 7. | processystemen om UF6 van het dragergas (waterstof of helium) te scheiden tot een gehalte van 1 ppm UF6 of minder, met inbegrip van:






  a. | cryogene warmtewisselaars en cryogene scheiders die geschikt zijn voor temperaturen van 153 K (– 120 °C) of lager; |
| --- | --- | --- |

7.

processystemen om UF6 van het dragergas (waterstof of helium) te scheiden tot een gehalte van 1 ppm UF6 of minder, met inbegrip van:

a.

cryogene warmtewisselaars en cryogene scheiders die geschikt zijn voor temperaturen van 153 K (– 120 °C) of lager;

| b. | cryogene koeleenheden die geschikt zijn voor temperaturen van 153 K (– 120 °C) of lager; |
| --- | --- |

b.

cryogene koeleenheden die geschikt zijn voor temperaturen van 153 K (– 120 °C) of lager;

| c. | scheidingsstraalpijpen of vortexbuizen voor de scheiding van UF6 van het dragergas; |
| --- | --- |

c.

scheidingsstraalpijpen of vortexbuizen voor de scheiding van UF6 van het dragergas;

| d. | koudevallen voor UF6 die geschikt zijn voor temperaturen van 253 K (– 20 °C) of lager; |
| --- | --- |

d.

koudevallen voor UF6 die geschikt zijn voor temperaturen van 253 K (– 20 °C) of lager;

| e. | speciaal voor scheidingsprocessen met behulp van chemische uitwisselaars ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:






  1. | pulskolomcontactors voor snelle vloeistof-vloeistofuitwisseling met een verblijftijd per trap van 30 seconden of minder en bestand tegen geconcentreerd zoutzuur (bv. vervaardigd van of beschermd met geschikte kunststoffen zoals fluorkoolwaterstofpolymeren of glas); |
| --- | --- | --- |

e.

speciaal voor scheidingsprocessen met behulp van chemische uitwisselaars ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1.

pulskolomcontactors voor snelle vloeistof-vloeistofuitwisseling met een verblijftijd per trap van 30 seconden of minder en bestand tegen geconcentreerd zoutzuur (bv. vervaardigd van of beschermd met geschikte kunststoffen zoals fluorkoolwaterstofpolymeren of glas);

| 2. | centrifugale contactors voor snelle vloeistof-vloeistofuitwisseling met een verblijftijd per trap van 30 seconden of minder en bestand tegen geconcentreerd zoutzuur (bv. vervaardigd van of beschermd met geschikte kunststoffen zoals fluorkoolwaterstofpolymeren of glas); |
| --- | --- |

2.

centrifugale contactors voor snelle vloeistof-vloeistofuitwisseling met een verblijftijd per trap van 30 seconden of minder en bestand tegen geconcentreerd zoutzuur (bv. vervaardigd van of beschermd met geschikte kunststoffen zoals fluorkoolwaterstofpolymeren of glas);

| 3. | elektrochemische reductiecellen, bestand tegen oplossingen van geconcentreerd zoutzuur, ontworpen om uraan in valentie te veranderen; |
| --- | --- |

3.

elektrochemische reductiecellen, bestand tegen oplossingen van geconcentreerd zoutzuur, ontworpen om uraan in valentie te veranderen;

| 4. | voedingsuitrusting voor elektrochemische reductiecellen, ontworpen om U+4 uit de organische stroom te verwijderen en, voor die onderdelen die met de processtroom in contact komen, vervaardigd van of beschermd met geschikte materialen (bv. glas, fluorkoolwaterstofpolymeren, polyfenylsulfaat, polyethersulfon en met hars geïmpregneerd grafiet); |
| --- | --- |

4.

voedingsuitrusting voor elektrochemische reductiecellen, ontworpen om U+4 uit de organische stroom te verwijderen en, voor die onderdelen die met de processtroom in contact komen, vervaardigd van of beschermd met geschikte materialen (bv. glas, fluorkoolwaterstofpolymeren, polyfenylsulfaat, polyethersulfon en met hars geïmpregneerd grafiet);

| 5. | systemen voor de behandeling van het voedingsmateriaal, ontworpen om een zeer zuivere uraanchlorideoplossing te produceren, bestaande uit voorzieningen voor het in oplossing brengen, voor vloeistofextractie en/of voor ionenwisseling voor de zuivering en elektrolytische cellen voor de reductie van U+6 of U+4 tot U+3; |
| --- | --- |

5.

systemen voor de behandeling van het voedingsmateriaal, ontworpen om een zeer zuivere uraanchlorideoplossing te produceren, bestaande uit voorzieningen voor het in oplossing brengen, voor vloeistofextractie en/of voor ionenwisseling voor de zuivering en elektrolytische cellen voor de reductie van U+6 of U+4 tot U+3;

| 6. | oxidatiesystemen voor uraan, ontworpen om U+3 te oxideren tot U+4; |
| --- | --- |

6.

oxidatiesystemen voor uraan, ontworpen om U+3 te oxideren tot U+4;

| f. | speciaal voor scheidingsprocessen met behulp van ionenwisselaars ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:






  1. | ionenwisselharsen met een snelle reactietijd, vliezige of poreuze harsen met een macroscopische vernetting, waarin de actieve chemische uitwisselgroepen alleen voorkomen in een oppervlaktelaag op een inactieve poreuze ondersteunende structuur en andere composiete structuren met een geschikte vorm, waaronder deeltjes of vezels met diameters van 0,2 mm of minder, die bestand zijn tegen geconcentreerd zoutzuur en zijn ontworpen op een uitwisselingshalveringstijd van minder dan 10 seconden en die geschikt zijn voor werktemperaturen in het gebied van 373 K (100 °C) tot 473 K (200 °C); |
| --- | --- | --- |

f.

speciaal voor scheidingsprocessen met behulp van ionenwisselaars ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1.

ionenwisselharsen met een snelle reactietijd, vliezige of poreuze harsen met een macroscopische vernetting, waarin de actieve chemische uitwisselgroepen alleen voorkomen in een oppervlaktelaag op een inactieve poreuze ondersteunende structuur en andere composiete structuren met een geschikte vorm, waaronder deeltjes of vezels met diameters van 0,2 mm of minder, die bestand zijn tegen geconcentreerd zoutzuur en zijn ontworpen op een uitwisselingshalveringstijd van minder dan 10 seconden en die geschikt zijn voor werktemperaturen in het gebied van 373 K (100 °C) tot 473 K (200 °C);

| 2. | ionenwisselkolommen (cilindrisch) met een diameter groter dan 1 000 mm, vervaardigd van of beschermd met materiaal dat bestand is tegen geconcentreerd zoutzuur (bv. titaan of kunststoffen op basis van fluorkoolwaterstof), die geschikt zijn voor werktemperaturen in het gebied van 373 K (100 °C) tot 473 K (200 °C) en werkdrukken boven 0,7 MPa; |
| --- | --- |

2.

ionenwisselkolommen (cilindrisch) met een diameter groter dan 1 000 mm, vervaardigd van of beschermd met materiaal dat bestand is tegen geconcentreerd zoutzuur (bv. titaan of kunststoffen op basis van fluorkoolwaterstof), die geschikt zijn voor werktemperaturen in het gebied van 373 K (100 °C) tot 473 K (200 °C) en werkdrukken boven 0,7 MPa;

| 3. | ionenwisselrefluxsystemen (chemische of elektrochemische oxidatie- of reductiesystemen) voor het regenereren van de chemische reductie- of oxidatiemiddelen die in ionenwisselverrijkingscascades worden gebruikt; |
| --- | --- |

3.

ionenwisselrefluxsystemen (chemische of elektrochemische oxidatie- of reductiesystemen) voor het regenereren van de chemische reductie- of oxidatiemiddelen die in ionenwisselverrijkingscascades worden gebruikt;

| g. | speciaal voor isotopenscheidingsprocessen met atomaire-damp-"lasers" (AVLIS) ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:






  1. | krachtige ioniserings- of scanning-elektronenkanonnen met een afgegeven vermogen van meer dan 2,5 kW/cm, die worden gebruikt in een systeem om uraan te verdampen; |
| --- | --- | --- |

g.

speciaal voor isotopenscheidingsprocessen met atomaire-damp-"lasers" (AVLIS) ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1.

krachtige ioniserings- of scanning-elektronenkanonnen met een afgegeven vermogen van meer dan 2,5 kW/cm, die worden gebruikt in een systeem om uraan te verdampen;

| 2. | systemen voor het hanteren van vloeibaar uraanmetaal voor gesmolten uraan of uraanlegeringen, bestaande uit smeltkroezen, vervaardigd van of beschermd met geschikte corrosie- en hittebestendige materialen (bv. tantaal, met yttriumoxide bedekt grafiet, grafiet bedekt met andere oxiden van zeldzame aarden of mengsels daarvan) en koelapparatuur voor de smeltkroezen;







  NB: | ZIE OOK 2A225 |
| --- | --- | --- |

2.

systemen voor het hanteren van vloeibaar uraanmetaal voor gesmolten uraan of uraanlegeringen, bestaande uit smeltkroezen, vervaardigd van of beschermd met geschikte corrosie- en hittebestendige materialen (bv. tantaal, met yttriumoxide bedekt grafiet, grafiet bedekt met andere oxiden van zeldzame aarden of mengsels daarvan) en koelapparatuur voor de smeltkroezen;

NB:

| 3. | opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan, vervaardigd van of bekleed met materialen die bestand zijn tegen de hitte en de corrosie van uraanmetaaldamp of vloeistof zoals bijvoorbeeld met yttriumoxide bedekt grafiet of tantaal; |
| --- | --- |

3.

opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan, vervaardigd van of bekleed met materialen die bestand zijn tegen de hitte en de corrosie van uraanmetaaldamp of vloeistof zoals bijvoorbeeld met yttriumoxide bedekt grafiet of tantaal;

| 4. | behuizingen voor scheidingsmodules (cilindrische of rechthoekige vaten) die zijn ontworpen om de uraanmetaaldampbron, het elektronenkanon en de opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan te bevatten; |
| --- | --- |

4.

behuizingen voor scheidingsmodules (cilindrische of rechthoekige vaten) die zijn ontworpen om de uraanmetaaldampbron, het elektronenkanon en de opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan te bevatten;

| 5. | "lasers" of "laser"-systemen voor de scheiding van uraanisotopen met een stabilisator voor het frequentiespectrum, bestemd om gedurende langere perioden in bedrijf te zijn;







  NB: | ZIE OOK 6A005 EN 6A205 |
| --- | --- | --- |

5.

"lasers" of "laser"-systemen voor de scheiding van uraanisotopen met een stabilisator voor het frequentiespectrum, bestemd om gedurende langere perioden in bedrijf te zijn;

NB:

| h. | speciaal voor isotopenscheidingsprocessen met moleculaire lasers (MLIS) of met chemische reacties door selectieve laseractivering van een of meer isotopen (CRISLA) ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:






  1. | supersone uitstroomstraalpijpen voor het koelen van mengsels van UF6 en transportgas tot 150 K (– 123 °C) of minder en vervaardigd van "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6"; |
| --- | --- | --- |

h.

speciaal voor isotopenscheidingsprocessen met moleculaire lasers (MLIS) of met chemische reacties door selectieve laseractivering van een of meer isotopen (CRISLA) ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1.

supersone uitstroomstraalpijpen voor het koelen van mengsels van UF6 en transportgas tot 150 K (– 123 °C) of minder en vervaardigd van "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6";

| 2. | productopvangsystemen voor uraanpentafluoride (UF5), bestaande uit collectoren van het filter-, impact- of cycloontype of combinaties daarvan en vervaardigd van "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF5/UF6"; |
| --- | --- |

2.

productopvangsystemen voor uraanpentafluoride (UF5), bestaande uit collectoren van het filter-, impact- of cycloontype of combinaties daarvan en vervaardigd van "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF5/UF6";

| 3. | compressoren, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", en asafdichtingen daarvoor; |
| --- | --- |

3.

compressoren, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", en asafdichtingen daarvoor;

| 4. | uitrusting om UF5 (vaste stof) te fluoreren tot UF6 (gas); |
| --- | --- |

4.

uitrusting om UF5 (vaste stof) te fluoreren tot UF6 (gas);

| 5. | processystemen voor het scheiden van UF6 van het transportgas (bv. stikstof of argon) met inbegrip van:






  a. | cryogene warmtewisselaars en cryogene scheiders die geschikt zijn voor temperaturen van 153 K (– 120 °C) of lager; |
| --- | --- | --- |

5.

processystemen voor het scheiden van UF6 van het transportgas (bv. stikstof of argon) met inbegrip van:

a.

cryogene warmtewisselaars en cryogene scheiders die geschikt zijn voor temperaturen van 153 K (– 120 °C) of lager;

| b. | cryogene koeleenheden die geschikt zijn voor temperaturen van 153 K (– 120 °C) of lager; |
| --- | --- |

b.

cryogene koeleenheden die geschikt zijn voor temperaturen van 153 K (– 120 °C) of lager;

| c. | koelvallen voor UF6 die geschikt zijn voor temperaturen van 253 K (– 20 °C) of lager; |
| --- | --- |

c.

koelvallen voor UF6 die geschikt zijn voor temperaturen van 253 K (– 20 °C) of lager;

| 6. | "lasers" of "laser" systemen voor de scheiding van uraanisotopen met een stabilisator voor het frequentiespectrum, bestemd om gedurende langere perioden in bedrijf te zijn;







  NB: | ZIE OOK 6A005 EN 6A205 |
| --- | --- | --- |

6.

"lasers" of "laser" systemen voor de scheiding van uraanisotopen met een stabilisator voor het frequentiespectrum, bestemd om gedurende langere perioden in bedrijf te zijn;

NB:

| i. | speciaal voor plasmascheidingsprocessen ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:






  1. | microgolfbronnen en antennes voor het produceren of versnellen van ionen, met een uitgangsfrequentie hoger dan 30 GHz en een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 50 kW; |
| --- | --- | --- |

i.

speciaal voor plasmascheidingsprocessen ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1.

microgolfbronnen en antennes voor het produceren of versnellen van ionen, met een uitgangsfrequentie hoger dan 30 GHz en een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 50 kW;

| 2. | RF-ionisatieaanslagspoelen voor frequenties boven 100 kHz en met een gemiddeld vermogen van meer dan 40 kW; |
| --- | --- |

2.

RF-ionisatieaanslagspoelen voor frequenties boven 100 kHz en met een gemiddeld vermogen van meer dan 40 kW;

| 3. | systemen voor het genereren van een uraanplasma; |
| --- | --- |

3.

systemen voor het genereren van een uraanplasma;

| 4. | systemen voor het hanteren van vloeibaar metaal, voor gesmolten uraan of uraanlegeringen, bestaande uit smeltkroezen, vervaardigd van of beschermd met geschikte corrosie- en hittebestendige materialen (bv. tantaal, met yttriumoxide bedekt grafiet, grafiet, bedekt met andere oxiden van zeldzame aarden of mengsels daarvan) en koelapparatuur voor de smeltkroezen;







  NB: | ZIE OOK 2A225 |
| --- | --- | --- |

4.

systemen voor het hanteren van vloeibaar metaal, voor gesmolten uraan of uraanlegeringen, bestaande uit smeltkroezen, vervaardigd van of beschermd met geschikte corrosie- en hittebestendige materialen (bv. tantaal, met yttriumoxide bedekt grafiet, grafiet, bedekt met andere oxiden van zeldzame aarden of mengsels daarvan) en koelapparatuur voor de smeltkroezen;

NB:

| 5. | opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan, vervaardigd van of beschermd met materiaal dat bestand is tegen de hitte en de corrosie van uraandamp, zoals bijvoorbeeld met yttriumoxide bedekt grafiet of tantaal; |
| --- | --- |

5.

opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan, vervaardigd van of beschermd met materiaal dat bestand is tegen de hitte en de corrosie van uraandamp, zoals bijvoorbeeld met yttriumoxide bedekt grafiet of tantaal;

| 6. | behuizingen voor scheidingsmodules (cilindrisch), ontworpen om de uraanplasmabron, de radiofrequente spoel en de opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan te bevatten en vervaardigd van een geschikt niet-magnetisch materiaal (bv. roestvrij staal); |
| --- | --- |

6.

behuizingen voor scheidingsmodules (cilindrisch), ontworpen om de uraanplasmabron, de radiofrequente spoel en de opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan te bevatten en vervaardigd van een geschikt niet-magnetisch materiaal (bv. roestvrij staal);

| j. | speciaal voor elektromagnetische scheidingsprocessen ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:






  1. | enkel- of meervoudige ionenbronnen, bestaande uit een dampbron, ionisator en bundelversneller, vervaardigd van geschikte niet-magnetische materialen (bv. grafiet, roestvrij staal of koper) en geschikt om een totale ionenbundelstroom te leveren van 50 mA of meer; |
| --- | --- | --- |

j.

speciaal voor elektromagnetische scheidingsprocessen ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1.

enkel- of meervoudige ionenbronnen, bestaande uit een dampbron, ionisator en bundelversneller, vervaardigd van geschikte niet-magnetische materialen (bv. grafiet, roestvrij staal of koper) en geschikt om een totale ionenbundelstroom te leveren van 50 mA of meer;

| 2. | ionencollectorplaten voor het opvangen van ionenbundels met verrijkt of verarmd uraan, bestaande uit twee of meer spleten en opvangkamers en vervaardigd van geschikte niet-magnetische materialen (bv. grafiet of roestvrij staal); |
| --- | --- |

2.

ionencollectorplaten voor het opvangen van ionenbundels met verrijkt of verarmd uraan, bestaande uit twee of meer spleten en opvangkamers en vervaardigd van geschikte niet-magnetische materialen (bv. grafiet of roestvrij staal);

| 3. | vacuümbehuizingen voor elektromagnetische uraanscheiders, vervaardigd van niet-magnetische materialen (bv. roestvrij staal) en ontworpen op een werkdruk van 0,1 Pa of lager; |
| --- | --- |

3.

vacuümbehuizingen voor elektromagnetische uraanscheiders, vervaardigd van niet-magnetische materialen (bv. roestvrij staal) en ontworpen op een werkdruk van 0,1 Pa of lager;

| 4. | magnetische poolschoenen met een diameter van meer dan 2 m; |
| --- | --- |

4.

magnetische poolschoenen met een diameter van meer dan 2 m;

| 5. | hoogspanningsvoedingen voor ionenbronnen, die alle onderstaande eigenschappen hebben:






  a. | geschikt voor continubedrijf; |
| --- | --- | --- |

5.

hoogspanningsvoedingen voor ionenbronnen, die alle onderstaande eigenschappen hebben:

a.

geschikt voor continubedrijf;

| b. | uitgangsspanning 20 000 V of meer; |
| --- | --- |

b.

uitgangsspanning 20 000 V of meer;

| c. | uitgangsstroom 1 A of meer; en |
| --- | --- |

c.

uitgangsstroom 1 A of meer; en

| d. | spanningsregeling beter dan 0,01 % over een periode van 8 uur;







  NB: | ZIE OOK 3A227 |
| --- | --- | --- |

d.

spanningsregeling beter dan 0,01 % over een periode van 8 uur;

NB:

| 6. | voedingen voor magneten (hoog vermogen, gelijkstroom), die alle onderstaande eigenschappen hebben:






  a. | geschikt voor continubedrijf met een uitgangsstroom van 500 A of meer en een spanning van 100 V of meer; en |
| --- | --- | --- |

6.

voedingen voor magneten (hoog vermogen, gelijkstroom), die alle onderstaande eigenschappen hebben:

a.

geschikt voor continubedrijf met een uitgangsstroom van 500 A of meer en een spanning van 100 V of meer; en

| b. | stroom- of spanningsregeling beter dan 0,01 % over een periode van 8 uur.







  NB: | ZIE OOK 3A226 |
| --- | --- | --- |

b.

stroom- of spanningsregeling beter dan 0,01 % over een periode van 8 uur.

NB:

0B002Speciaal voor isotoopscheidingsinstallaties als bedoeld in 0B001 ontworpen of vervaardigde hulpsystemen, uitrusting en onderdelen, als hieronder, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6":

| a. | voedingsautoclaven, ovens of systemen voor het doorvoeren van UF6 naar het verrijkingsproces; |
| --- | --- |

a.

voedingsautoclaven, ovens of systemen voor het doorvoeren van UF6 naar het verrijkingsproces;

| b. | desublimatoren of koelvallen die gebruikt worden om het UF6 uit het verrijkingsproces te verwijderen voor verder transport na verhitting; |
| --- | --- |

b.

desublimatoren of koelvallen die gebruikt worden om het UF6 uit het verrijkingsproces te verwijderen voor verder transport na verhitting;

| c. | opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan om UF6 in containers op te slaan; |
| --- | --- |

c.

opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan om UF6 in containers op te slaan;

| d. | liquefactors of stollingsstations die worden gebruikt om UF6 uit het verrijkingsproces te verwijderen door UF6 samen te persen, af te koelen en om te zetten in vloeibare of vaste vorm; |
| --- | --- |

d.

liquefactors of stollingsstations die worden gebruikt om UF6 uit het verrijkingsproces te verwijderen door UF6 samen te persen, af te koelen en om te zetten in vloeibare of vaste vorm;

| e. | speciaal ontworpen stelsels van pijpen en ‹headers› om het UF6 te hanteren binnen de gasdiffusie-, centrifuge- of aërodynamische cascades; |
| --- | --- |

e.

speciaal ontworpen stelsels van pijpen en ‹headers› om het UF6 te hanteren binnen de gasdiffusie-, centrifuge- of aërodynamische cascades;

| f. | 1. | speciaal ontworpen vacuümspruitstukken en ‹headers› met een afzuigcapaciteit van 5 m3/min. of meer, of |
| --- | --- | --- |

f.

1.

speciaal ontworpen vacuümspruitstukken en ‹headers› met een afzuigcapaciteit van 5 m3/min. of meer, of

| 2. | vacuümpompen, speciaal ontworpen voor gebruik in een atmosfeer die UF6 bevat; |
| --- | --- |

2.

vacuümpompen, speciaal ontworpen voor gebruik in een atmosfeer die UF6 bevat;

| g. | UF6-massaspectrometers/ionenbronnen, speciaal ontworpen of vervaardigd om ‹on line› monsters te kunnen nemen van de UF6-voedingsstroom, van verarmde en van verrijkte UF6-gasstromen en die alle onderstaande eigenschappen hebben:






  1. | oplossend vermogen 1 a.m.e. voor massa's groter dan 320 a.m.e.; |
| --- | --- | --- |

g.

UF6-massaspectrometers/ionenbronnen, speciaal ontworpen of vervaardigd om ‹on line› monsters te kunnen nemen van de UF6-voedingsstroom, van verarmde en van verrijkte UF6-gasstromen en die alle onderstaande eigenschappen hebben:

1.

oplossend vermogen 1 a.m.e. voor massa's groter dan 320 a.m.e.;

| 2. | ionenbronnen, vervaardigd van of bekleed met nichroom of monel of vervaardigd van vernikkelde onderdelen; |
| --- | --- |

2.

ionenbronnen, vervaardigd van of bekleed met nichroom of monel of vervaardigd van vernikkelde onderdelen;

| 3. | ionisatiebronnen die werken met elektronenbeschieting, en |
| --- | --- |

3.

ionisatiebronnen die werken met elektronenbeschieting, en

| 4. | collectorsysteem, geschikt voor isotoopanalyse. |
| --- | --- |

4.

collectorsysteem, geschikt voor isotoopanalyse.

0B003Fabrieken voor de omzetting van uraan en speciaal daarvoor ontworpen of vervaardigde uitrusting, als hieronder:

| a. | systemen voor de omzetting van uraanertsconcentraten in UO3; |
| --- | --- |

a.

systemen voor de omzetting van uraanertsconcentraten in UO3;

| b. | systemen voor de omzetting van UO3 in UF6; |
| --- | --- |

b.

systemen voor de omzetting van UO3 in UF6;

| c. | systemen voor de omzetting van UO3 in UO2; |
| --- | --- |

c.

systemen voor de omzetting van UO3 in UO2;

| d. | systemen voor de omzetting van UO2 in UF4; |
| --- | --- |

d.

systemen voor de omzetting van UO2 in UF4;

| e. | systemen voor de omzetting van UF4 in UF6; |
| --- | --- |

e.

systemen voor de omzetting van UF4 in UF6;

| f. | systemen voor de omzetting van UF4 in uraanmetaal; |
| --- | --- |

f.

systemen voor de omzetting van UF4 in uraanmetaal;

| g. | systemen voor de omzetting van UF6 in UO2; |
| --- | --- |

g.

systemen voor de omzetting van UF6 in UO2;

| h. | systemen voor de omzetting van UF6 in UF4; |
| --- | --- |

h.

systemen voor de omzetting van UF6 in UF4;

| i. | systemen voor de omzetting van UO2 in UCl4. |
| --- | --- |

i.

systemen voor de omzetting van UO2 in UCl4.

0B004Fabrieken voor de productie of concentratie van zwaar water, deuterium en deuteriumverbindingen en speciaal daarvoor ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

| a. | Installaties voor de productie van zwaar water, deuterium of deuteriumverbindingen, als hieronder:






  1. | water-zwavelwaterstof-wisselinstallaties; |
| --- | --- | --- |

a.

Installaties voor de productie van zwaar water, deuterium of deuteriumverbindingen, als hieronder:

1.

water-zwavelwaterstof-wisselinstallaties;

| 2. | ammoniak-waterstof-wisselinstallaties; |
| --- | --- |

2.

ammoniak-waterstof-wisselinstallaties;

| b. | Uitrusting en onderdelen, als hieronder:






  1. | water-zwavelwaterstof-wisseltorens, vervaardigd van gezuiverd koolstofstaal (bijvoorbeeld ASTM A516) met een diameter van 6 tot 9 meter, geschikt voor werking bij een druk van 2 MPa of meer en met een corrosietoeslag van 6 mm of meer; |
| --- | --- | --- |

b.

Uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1.

water-zwavelwaterstof-wisseltorens, vervaardigd van gezuiverd koolstofstaal (bijvoorbeeld ASTM A516) met een diameter van 6 tot 9 meter, geschikt voor werking bij een druk van 2 MPa of meer en met een corrosietoeslag van 6 mm of meer;

| 2. | eentraps, centrifugale aanjagers of compressoren met lage opvoerdruk (d.w.z. 0,2 MPa), voor de circulatie van zwavelwaterstofgas (d.w.z. gas dat meer dan 70 % H2S bevat) met een verwerkingscapaciteit van ten minste 56 m3/seconde wanneer er gewerkt wordt bij drukniveaus van ten minste 1,8 MPa aan de zuigzijde, en met afdichtingen, ontworpen voor natte H2S-gassen; |
| --- | --- |

2.

eentraps, centrifugale aanjagers of compressoren met lage opvoerdruk (d.w.z. 0,2 MPa), voor de circulatie van zwavelwaterstofgas (d.w.z. gas dat meer dan 70 % H2S bevat) met een verwerkingscapaciteit van ten minste 56 m3/seconde wanneer er gewerkt wordt bij drukniveaus van ten minste 1,8 MPa aan de zuigzijde, en met afdichtingen, ontworpen voor natte H2S-gassen;

| 3. | ammoniak-waterstof-wisseltorens van 35 meter of hoger met een diameter tussen 1,5 en 2,5 meter die kunnen werken bij een druk van meer dan 15 MPa; |
| --- | --- |

3.

ammoniak-waterstof-wisseltorens van 35 meter of hoger met een diameter tussen 1,5 en 2,5 meter die kunnen werken bij een druk van meer dan 15 MPa;

| 4. | inwendige delen van torens, met inbegrip van getrapte contactgroepen, en getrapte pompen met inbegrip van dompelpompen voor de productie van zwaar water met het ammoniak-waterstof-wisselprocedé; |
| --- | --- |

4.

inwendige delen van torens, met inbegrip van getrapte contactgroepen, en getrapte pompen met inbegrip van dompelpompen voor de productie van zwaar water met het ammoniak-waterstof-wisselprocedé;

| 5. | ammoniak-kraakinstallaties die werken bij een druk van 3 MPa of meer voor de productie van zwaar water met het ammoniak-waterstof-wisselprocedé; |
| --- | --- |

5.

ammoniak-kraakinstallaties die werken bij een druk van 3 MPa of meer voor de productie van zwaar water met het ammoniak-waterstof-wisselprocedé;

| 6. | infraroodabsorptieanalyseapparatuur die "on-line" waterstof-deuterium-verhoudingen kan meten waarbij de deuteriumconcentratie 90 % of meer is; |
| --- | --- |

6.

infraroodabsorptieanalyseapparatuur die "on-line" waterstof-deuterium-verhoudingen kan meten waarbij de deuteriumconcentratie 90 % of meer is;

| 7. | katalytische branders voor de omzetting van verrijkt deuteriumgas in zwaar water met het ammoniak-waterstof-wisselprocedé; |
| --- | --- |

7.

katalytische branders voor de omzetting van verrijkt deuteriumgas in zwaar water met het ammoniak-waterstof-wisselprocedé;

| 8. | complete systemen voor het veredelen van zwaar water, of kolommen daarvoor, voor het veredelen van zwaar water tot een deuteriumconcentratie die in een kernreactor bruikbaar is. |
| --- | --- |

8.

complete systemen voor het veredelen van zwaar water, of kolommen daarvoor, voor het veredelen van zwaar water tot een deuteriumconcentratie die in een kernreactor bruikbaar is.

0B005Fabrieken, speciaal ontworpen voor de vervaardiging van splijtstofelementen voor "kernreactoren" en speciaal ontworpen of vervaardigde uitrusting daarvoor.

| | Een fabriek voor de vervaardiging van splijtstofelementen voor "kernreactoren" omvat uitrusting die:







  a. | in de regel in rechtstreeks contact komt met de productiestroom van nucleair materiaal of deze rechtstreeks verwerkt of reguleert; |
| --- | --- | --- |

a.

in de regel in rechtstreeks contact komt met de productiestroom van nucleair materiaal of deze rechtstreeks verwerkt of reguleert;

| b. | zorgt voor de afdichting van het nucleaire materiaal in de splijtstofstaaf; |
| --- | --- |

b.

zorgt voor de afdichting van het nucleaire materiaal in de splijtstofstaaf;

| c. | de goede staat van de bekleding of van de afdichting van de splijtstofstaaf controleert; of |
| --- | --- |

c.

de goede staat van de bekleding of van de afdichting van de splijtstofstaaf controleert; of

| d. | de eindbehandeling van de afgesloten splijtstof controleert. |
| --- | --- |

d.

de eindbehandeling van de afgesloten splijtstof controleert.

0B006Fabrieken voor het opwerken van bestraalde splijtstofelementen en speciaal daarvoor ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen.

| | a. | fabrieken voor het opwerken van bestraalde splijtstofelementen voor "kernreactoren", met inbegrip van uitrusting en onderdelen die in de regel rechtstreeks in aanraking komen met de bestraalde splijtstof en de voornaamste processtromen van nucleair materiaal en splijtingsproducten, en die rechtstreeks regelen; |
| --- | --- | --- |

a.

fabrieken voor het opwerken van bestraalde splijtstofelementen voor "kernreactoren", met inbegrip van uitrusting en onderdelen die in de regel rechtstreeks in aanraking komen met de bestraalde splijtstof en de voornaamste processtromen van nucleair materiaal en splijtingsproducten, en die rechtstreeks regelen;

| b. | hak- en versnipperingsmachines voor splijtstofelementen, d.w.z. op afstand bediende uitrusting voor het snijden, hakken of knippen van bestraalde splijtstofpakketten, -bundels of -staven voor "kernreactoren"; |
| --- | --- |

b.

hak- en versnipperingsmachines voor splijtstofelementen, d.w.z. op afstand bediende uitrusting voor het snijden, hakken of knippen van bestraalde splijtstofpakketten, -bundels of -staven voor "kernreactoren";

| c. | oplostanks, d.w.z. kritisch veilige tanks (bv. ring- of plaattanks met een kleine diameter), speciaal ontworpen of vervaardigd voor het oplossen van bestraalde splijtstof van "kernreactoren", die bestand zijn tegen hete, sterk corrosieve vloeistoffen en die op afstand gevuld en onderhouden kunnen worden; |
| --- | --- |

c.

oplostanks, d.w.z. kritisch veilige tanks (bv. ring- of plaattanks met een kleine diameter), speciaal ontworpen of vervaardigd voor het oplossen van bestraalde splijtstof van "kernreactoren", die bestand zijn tegen hete, sterk corrosieve vloeistoffen en die op afstand gevuld en onderhouden kunnen worden;

| d. | tegenstroom-vloeistofextractors en ionenwisselapparatuur, speciaal ontworpen of vervaardigd voor gebruik in een fabriek voor het opwerken van bestraald "natuurlijk uraan", "verarmd uraan" of "speciale splijtstoffen"; |
| --- | --- |

d.

tegenstroom-vloeistofextractors en ionenwisselapparatuur, speciaal ontworpen of vervaardigd voor gebruik in een fabriek voor het opwerken van bestraald "natuurlijk uraan", "verarmd uraan" of "speciale splijtstoffen";

| e. | voorraad- of opslagvaten, speciaal ontworpen om kritisch veilig te zijn en bestand tegen de corrosieve werking van salpeterzuur; | Voorraad- of opslagvaten kunnen de volgende kenmerken bezitten:







  1. | wanden of inwendige structuren met een boorequivalent (berekend voor alle samenstellende delen als gedefinieerd in de noot bij 0C004) van ten minste twee procent; |
| --- | --- | --- | --- |

e.

voorraad- of opslagvaten, speciaal ontworpen om kritisch veilig te zijn en bestand tegen de corrosieve werking van salpeterzuur;

1.

wanden of inwendige structuren met een boorequivalent (berekend voor alle samenstellende delen als gedefinieerd in de noot bij 0C004) van ten minste twee procent;

| 2. | een maximale diameter van 175 mm voor cilindrische vaten; of |
| --- | --- |

2.

een maximale diameter van 175 mm voor cilindrische vaten; of

| 3. | een maximale breedte van 75 mm voor rechthoekige of ringvormige vaten. |
| --- | --- |

3.

een maximale breedte van 75 mm voor rechthoekige of ringvormige vaten.

| f. | instrumenten voor de regeling van processen, speciaal ontworpen of vervaardigd voor het bewaken of het regelen van de opwerking van bestraald "natuurlijk uraan", "verarmd uraan" of "speciale splijtstoffen". |
| --- | --- |

f.

instrumenten voor de regeling van processen, speciaal ontworpen of vervaardigd voor het bewaken of het regelen van de opwerking van bestraald "natuurlijk uraan", "verarmd uraan" of "speciale splijtstoffen".

0B007Fabrieken voor de omzetting van plutonium en speciaal daarvoor ontworpen of vervaardigde uitrusting, als hieronder:

| a. | systemen voor de omzetting van plutoniumnitraat in plutoniumoxide; |
| --- | --- |

a.

systemen voor de omzetting van plutoniumnitraat in plutoniumoxide;

| b. | systemen voor de productie van plutoniummetaal. |
| --- | --- |

b.

systemen voor de productie van plutoniummetaal.

0CMaterialen

0C001"Natuurlijk uraan" of "verarmd uraan" of thorium in de vorm van metaal, legering, chemische verbinding of concentraat en elk materiaal dat het voorgaande bevat;

| | In 0C001 zijn niet bedoeld:







  a. | Vier gram of minder "natuurlijk uraan" of "verarmd uraan", indien in een afgesloten gedeelte van een meetelement in instrumenten; |
| --- | --- | --- |

a.

Vier gram of minder "natuurlijk uraan" of "verarmd uraan", indien in een afgesloten gedeelte van een meetelement in instrumenten;

| b. | "verarmd uraan", speciaal vervaardigd voor de volgende civiele en niet-nucleaire toepassingen:








  1. | afschermingsmateriaal; |
| --- | --- | --- |

b.

"verarmd uraan", speciaal vervaardigd voor de volgende civiele en niet-nucleaire toepassingen:

1.

afschermingsmateriaal;

| 2. | verpakkingsmateriaal; |
| --- | --- |

2.

verpakkingsmateriaal;

| 3. | ballast met een massa van ten hoogste 100 kg; |
| --- | --- |

3.

ballast met een massa van ten hoogste 100 kg;

| 4. | contragewichten met een massa van ten hoogste 100 kg; |
| --- | --- |

4.

contragewichten met een massa van ten hoogste 100 kg;

| c. | Legeringen met minder dan 5 % thorium; |
| --- | --- |

c.

Legeringen met minder dan 5 % thorium;

| d. | Keramische, thorium bevattende producten die zijn vervaardigd voor niet-nucleair gebruik. |
| --- | --- |

d.

Keramische, thorium bevattende producten die zijn vervaardigd voor niet-nucleair gebruik.

0C002"Speciale splijtstoffen".

| : | In 0C002 is niet bedoeld vier "effectieve gram" of minder, indien in een afgesloten gedeelte van een meetelement in instrumenten. |
| --- | --- |

:

0C003Deuterium, zwaar water (deuteriumoxide) en andere deuteriumverbindingen, en mengsels en oplossingen die deuterium bevatten, waarin de isotoopverhouding van deuterium tot waterstof groter is dan 1:5 000.

0C004Grafiet, geschikt voor toepassing in kernreactoren, d.w.z. met een zuiverheidsgraad beter dan 5 delen per miljoen (ppm) ‧boorequivalent‧, en met een dichtheid groter dan 1,5 g/cm3.

| NB: | ZIE OOK 1C107 |
| --- | --- |

NB:

| | 0C004 is niet van toepassing op:







  a. | producten, vervaardigd van grafiet met een massa van minder dan 1 kg en niet speciaal ontworpen of vervaardigd voor gebruik in een kernreactor; |
| --- | --- | --- |

a.

producten, vervaardigd van grafiet met een massa van minder dan 1 kg en niet speciaal ontworpen of vervaardigd voor gebruik in een kernreactor;

| b. | grafietpoeder. |
| --- | --- |

b.

grafietpoeder.

| | In 0C004 wordt ‧boorequivalent‧ (BE) gedefinieerd als de som van BEZ voor onzuiverheden (met uitzondering van BEkoolstof aangezien koolstof niet wordt beschouwd als een onzuiverheid), met inbegrip van boor, waarbij geldt:
  0C004

  BEz(ppm) = CF × concentratie van element Z in ppm;





  en zijn σB en σZ de doorsneden voor de vangst van thermische neutronen (in barn) voor respectievelijk natuurlijk voorkomend boor en element Z; en zijn AB en AZ de atoommassa's van respectievelijk natuurlijk voorkomend boor en element Z. |
| --- | --- |

0C004

BEz(ppm) = CF × concentratie van element Z in ppm;

Formula

en zijn σB en σZ de doorsneden voor de vangst van thermische neutronen (in barn) voor respectievelijk natuurlijk voorkomend boor en element Z; en zijn AB en AZ de atoommassa's van respectievelijk natuurlijk voorkomend boor en element Z.

0C005Speciaal vervaardigde verbindingen of poeders voor de fabricage van membranen voor gasdiffusie die bestand zijn tegen corrosie door UF6 (b.v. nikkel of een legering met 60 gewichtspercent of meer aan nikkel, aluminiumoxide en volledig gefluoreerde koolwaterstofpolymeren), met een zuiverheidsgraad van 99,9 gewichtspercent of meer, met een gemiddelde korrelgrootte, kleiner dan 10 μm, gemeten volgens de ASTM B-330-standaard (American Society for Testing and Materials) en met een zeer uniforme deeltjesgrootte.

0DProgrammatuur

0D001Programmatuur, speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van goederen, bedoeld in deze categorie.

0ETechnologie

0E001"Technologie" overeenkomstig de nucleaire technologienoot voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van goederen, bedoeld in deze categorie.

CATEGORIE 1

SPECIALE MATERIALEN EN AANVERWANTE APPARATUUR

1ASystemen, Apparatuur en Onderdelen

1A001Onderdelen vervaardigd van gefluoreerde verbindingen, als hieronder:

| a. | afdichtingen, pakkingen, afdichtingsmiddelen of flexibele brandstoftanks (‹fuel bladders›), welke voor meer dan 50 gewichtspercenten bestaan uit enig materiaal als bedoeld in 1C009.b of 1C009.c, speciaal ontworpen voor gebruik in de ruimte of in vliegtuigen; |
| --- | --- |

a.

afdichtingen, pakkingen, afdichtingsmiddelen of flexibele brandstoftanks (‹fuel bladders›), welke voor meer dan 50 gewichtspercenten bestaan uit enig materiaal als bedoeld in 1C009.b of 1C009.c, speciaal ontworpen voor gebruik in de ruimte of in vliegtuigen;

| b. | piëzo-elektrische polymeren en copolymeren, gemaakt van vinylideenfluoride (CAS 75-38-7), als bedoeld in 1C009.a, met de volgende eigenschappen:






  1. | in plaat- of folievorm, en |
| --- | --- | --- |

b.

piëzo-elektrische polymeren en copolymeren, gemaakt van vinylideenfluoride (CAS 75-38-7), als bedoeld in 1C009.a, met de volgende eigenschappen:

1.

in plaat- of folievorm, en

| 2. | met een dikte van meer dan 200 μm; |
| --- | --- |

2.

met een dikte van meer dan 200 μm;

| c. | afdichtingen, pakkingen, klepzittingen, flexibele brandstoftanks (‹fuel bladders›) of membranen, met elk van de onderstaande eigenschappen:






  1. | gemaakt van fluorelastomeren welke ten minste één vinylethergroep als structuurelement bevatten, en |
| --- | --- | --- |

c.

afdichtingen, pakkingen, klepzittingen, flexibele brandstoftanks (‹fuel bladders›) of membranen, met elk van de onderstaande eigenschappen:

1.

gemaakt van fluorelastomeren welke ten minste één vinylethergroep als structuurelement bevatten, en

| 2. | speciaal ontworpen voor gebruik in de ruimte, in "raketten" of in "vliegtuigen". |
| --- | --- |

2.

speciaal ontworpen voor gebruik in de ruimte, in "raketten" of in "vliegtuigen".

| : | In 1A001.c worden onder "raketten" complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen verstaan. |
| --- | --- |

:

1A002"Composieten" of laminaten, met één of meer van de volgende eigenschappen:

| NB: | ZIE OOK 1A202, 9A010 EN 9A110 |
| --- | --- |

NB:

| a. | bestaande uit een organische "matrix" en materialen als bedoeld in 1C010.c, 1C010.d of 1C010.e; of |
| --- | --- |

a.

bestaande uit een organische "matrix" en materialen als bedoeld in 1C010.c, 1C010.d of 1C010.e; of

| b. | bestaande uit een metaal-"matrix" of koolstof-"matrix" en een of meer van de volgende materialen:






  1. | koolstof-"stapel- en continuvezelmateriaal" met elk van de onderstaande eigenschappen:






  a. | een "specifieke modulus" groter dan 10,15 × 106 m; en |
| --- | --- | --- | --- |

b.

bestaande uit een metaal-"matrix" of koolstof-"matrix" en een of meer van de volgende materialen:

1.

koolstof-"stapel- en continuvezelmateriaal" met elk van de onderstaande eigenschappen:

a.

een "specifieke modulus" groter dan 10,15 × 106 m; en

| b. | een "specifieke treksterkte" groter dan 17,7 × 104 m; of |
| --- | --- |

b.

een "specifieke treksterkte" groter dan 17,7 × 104 m; of

| 2. | materialen als bedoeld in 1C010.c. |
| --- | --- |

2.

materialen als bedoeld in 1C010.c.

| : | 1A002 is niet van toepassing op composieten of laminaten gemaakt van met epoxyhars geïmpregneerd koolstof-"stapel- of continuvezelmateriaal" voor de reparatie van casco's of laminaten van "civiele vliegtuigen" met de volgende eigenschappen:







  a. | een maximale oppervlakte van 1 m2; |
| --- | --- | --- |

:

a.

een maximale oppervlakte van 1 m2;

| b. | een maximale lengte van 2,5 m; en |
| --- | --- |

b.

een maximale lengte van 2,5 m; en

| c. | een breedte van meer dan 15 mm. |
| --- | --- |

c.

een breedte van meer dan 15 mm.

| : | 1A002 is niet van toepassing op halffabricaten die speciaal zijn ontworpen voor zuiver civiele toepassingen, als hieronder:







  a. | sportartikelen; |
| --- | --- | --- |

:

a.

sportartikelen;

| b. | auto-industrie; |
| --- | --- |

b.

auto-industrie;

| c. | werktuigmachine-industrie; |
| --- | --- |

c.

werktuigmachine-industrie;

| d. | medische toepassingen. |
| --- | --- |

d.

medische toepassingen.

| : | 1A002.b.1 is niet van toepassing op halffabricaten die maximaal tweedimensionaal geweven filament bevatten en speciaal ontworpen zijn voor de volgende toepassingen:







  a. | metalen warmtebehandelingsovens voor het temperen van metalen; |
| --- | --- | --- |

:

a.

metalen warmtebehandelingsovens voor het temperen van metalen;

| b. | apparatuur voor de productie van silicium monokristallen. |
| --- | --- |

b.

apparatuur voor de productie van silicium monokristallen.

| : | 1A002 is niet van toepassing op eindproducten die speciaal ontworpen zijn voor een specifieke toepassing. |
| --- | --- |

:

1A003Producten vervaardigd van onsmeltbare aromatische polyimiden in de vorm van film, vellen, band of lint, met één of meer van de onderstaande eigenschappen:

| a. | een dikte groter dan 0,254 mm; of |
| --- | --- |

a.

een dikte groter dan 0,254 mm; of

| b. | bekleed of gelamineerd met koolstof, grafiet, metalen of magnetische substanties. |
| --- | --- |

b.

bekleed of gelamineerd met koolstof, grafiet, metalen of magnetische substanties.

| : | 1A003 is niet van toepassing op producten bekleed of gelamineerd met koper die zijn ontworpen voor de productie van elektronische gedrukte schakelingen. |
| --- | --- |

:

| : | Voor "smeltbare" aromatische polyimiden in eender welk vorm: zie 1C008.a.3. |
| --- | --- |

:

1A004Beschermings- en detectie-apparatuur en onderdelen daarvan die niet onder de lijst militaire goederen vallen, als hieronder:

| NB: | ZIE OOK 2B351 EN 2B352 |
| --- | --- |

NB:

| a. | Gasmaskers, filterbussen en decontaminatie-apparatuur daarvoor die zijn ontworpen of aangepast met het oog op bescherming tegen één of meer van de onderstaande stoffen, alsmede speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:






  1. | biologische stoffen "aangepast voor gebruik in oorlogssituaties"; |
| --- | --- | --- |

a.

Gasmaskers, filterbussen en decontaminatie-apparatuur daarvoor die zijn ontworpen of aangepast met het oog op bescherming tegen één of meer van de onderstaande stoffen, alsmede speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

1.

biologische stoffen "aangepast voor gebruik in oorlogssituaties";

| 2. | radioactief materiaal "aangepast voor gebruik in oorlogssituaties"; |
| --- | --- |

2.

radioactief materiaal "aangepast voor gebruik in oorlogssituaties";

| 3. | stoffen voor chemische oorlogvoering; of |
| --- | --- |

3.

stoffen voor chemische oorlogvoering; of

| 4. | "stoffen voor oproerbeheersing", met inbegrip van:






  a. | α-broombenzeenacetonitril, (broombenzylcyanide) (CA) (CAS 5798-79-8); |
| --- | --- | --- |

4.

"stoffen voor oproerbeheersing", met inbegrip van:

a.

α-broombenzeenacetonitril, (broombenzylcyanide) (CA) (CAS 5798-79-8);

| b. | [(2-chloorfenyl)methyleen]propaandinitril, (o-chloorbenzylideenmalononitril) (CS) (CAS 2698-41-1); |
| --- | --- |

b.

[(2-chloorfenyl)methyleen]propaandinitril, (o-chloorbenzylideenmalononitril) (CS) (CAS 2698-41-1);

| c. | 2-chloor-1-fenylethanon, fenylacylchloride (ω-chlooracetofenon) (CN) (CAS 532-27-4); |
| --- | --- |

c.

2-chloor-1-fenylethanon, fenylacylchloride (ω-chlooracetofenon) (CN) (CAS 532-27-4);

| d. | dibenz-(b,f)-1,4-oxazefine (CR) (CAS 257-07-8); |
| --- | --- |

d.

dibenz-(b,f)-1,4-oxazefine (CR) (CAS 257-07-8);

| e. | 10-chloor-5, 10-dihydrofenarsazine, (fenarsazinechloride), (adamsiet), (DM) (CAS 578-94-9); |
| --- | --- |

e.

10-chloor-5, 10-dihydrofenarsazine, (fenarsazinechloride), (adamsiet), (DM) (CAS 578-94-9);

| f. | N-nonanoylmorfoline, (MPA) (CAS 5299-64-9); |
| --- | --- |

f.

N-nonanoylmorfoline, (MPA) (CAS 5299-64-9);

| b. | Beschermingspakken, -handschoenen en -schoenen die speciaal zijn ontworpen of aangepast met het oog op bescherming tegen één of meer van de onderstaande stoffen:






  1. | biologische stoffen "aangepast voor gebruik in oorlogssituaties"; |
| --- | --- | --- |

b.

Beschermingspakken, -handschoenen en -schoenen die speciaal zijn ontworpen of aangepast met het oog op bescherming tegen één of meer van de onderstaande stoffen:

1.

biologische stoffen "aangepast voor gebruik in oorlogssituaties";

| 2. | radioactief materiaal "aangepast voor gebruik in oorlogssituaties"; of |
| --- | --- |

2.

radioactief materiaal "aangepast voor gebruik in oorlogssituaties"; of

| 3. | stoffen voor chemische oorlogvoering; |
| --- | --- |

3.

stoffen voor chemische oorlogvoering;

| c. | Detectie-apparatuur die speciaal is ontworpen of aangepast voor de detectie of identificatie van één of meer van de onderstaande stoffen, alsmede speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:






  1. | biologische stoffen "aangepast voor gebruik in oorlogssituaties"; |
| --- | --- | --- |

c.

Detectie-apparatuur die speciaal is ontworpen of aangepast voor de detectie of identificatie van één of meer van de onderstaande stoffen, alsmede speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

1.

biologische stoffen "aangepast voor gebruik in oorlogssituaties";

| 2. | radioactief materiaal "aangepast voor gebruik in oorlogssituaties"; of |
| --- | --- |

2.

radioactief materiaal "aangepast voor gebruik in oorlogssituaties"; of

| 3. | stoffen voor chemische oorlogvoering. |
| --- | --- |

3.

stoffen voor chemische oorlogvoering.

| d. | Elektronische apparatuur die ontworpen is voor de automatische opsporing van springstoffenresten dan wel het vaststellen van hun aanwezigheid, waarbij ‧sporendetectie‧ technieken worden gebruikt (bv. akoestische oppervlaktegolven, ionenmobiliteitspectrometrie, <differential mobility spectrometry> massaspectrometrie). |
| --- | --- |

d.

Elektronische apparatuur die ontworpen is voor de automatische opsporing van springstoffenresten dan wel het vaststellen van hun aanwezigheid, waarbij ‧sporendetectie‧ technieken worden gebruikt (bv. akoestische oppervlaktegolven, ionenmobiliteitspectrometrie, <differential mobility spectrometry> massaspectrometrie).

:

onder ‧sporendetectie‧ wordt verstaan het vermogen om minder dan 1 ppm gas of 1 mg vaste of vloeibare stof te detecteren.

| : | 1A004.d. is niet van toepassing op speciaal voor laboratoria ontworpen controleapparatuur. |
| --- | --- |

:

| : | 1A004.d. is niet van toepassing op doorloopveiligheidspoorten zonder lichamelijk contact. |
| --- | --- |

:

| : | 1A004 is niet van toepassing op:







  a. | Individuele dosismeters voor stralingscontrole; |
| --- | --- | --- |

:

a.

Individuele dosismeters voor stralingscontrole;

| b. | Uitrusting die door haar ontwerp of functie beperkt is tot bescherming tegen risico's die eigen zijn aan woonwijken of industriesectoren, waaronder:








  1. | de mijnbouw |
| --- | --- | --- |

b.

Uitrusting die door haar ontwerp of functie beperkt is tot bescherming tegen risico's die eigen zijn aan woonwijken of industriesectoren, waaronder:

1.

de mijnbouw

| 2. | de steengroeven |
| --- | --- |

2.

de steengroeven

| 3. | de landbouwsector |
| --- | --- |

3.

de landbouwsector

| 4. | de farmaceutische sector |
| --- | --- |

4.

de farmaceutische sector

| 5. | de medische sector |
| --- | --- |

5.

de medische sector

| 6. | de diergeneeskundige sector |
| --- | --- |

6.

de diergeneeskundige sector

| 7. | de milieusector |
| --- | --- |

7.

de milieusector

| 8. | de afvalbeheersector |
| --- | --- |

8.

de afvalbeheersector

| 9. | de voedingsindustrie. |
| --- | --- |

9.

de voedingsindustrie.

:

| 1. | 1A004 omvat uitrusting en bestanddelen die zijn geïdentificeerd, met succes zijn getoetst aan nationale normen of waarvan op een andere manier de doeltreffendheid is bewezen, wat betreft de detectie van of de bescherming tegen radioactief materiaal "aangepast voor gebruik in oorlogssituaties", biologische stoffen "aangepast voor gebruik in oorlogssituaties", stoffen voor chemische oorlogvoering, ‧simulanten‧ of "stoffen voor oproerbeheersing", zelfs wanneer die uitrusting of bestanddelen gebruikt worden in civiele industriesectoren, zoals mijnbouw, steengroeven, landbouw, de farmaceutische, medische, diergeneeskundige, milieu, afvalbeheer- en voedingsindustrie. |
| --- | --- |

1.

1A004 omvat uitrusting en bestanddelen die zijn geïdentificeerd, met succes zijn getoetst aan nationale normen of waarvan op een andere manier de doeltreffendheid is bewezen, wat betreft de detectie van of de bescherming tegen radioactief materiaal "aangepast voor gebruik in oorlogssituaties", biologische stoffen "aangepast voor gebruik in oorlogssituaties", stoffen voor chemische oorlogvoering, ‧simulanten‧ of "stoffen voor oproerbeheersing", zelfs wanneer die uitrusting of bestanddelen gebruikt worden in civiele industriesectoren, zoals mijnbouw, steengroeven, landbouw, de farmaceutische, medische, diergeneeskundige, milieu, afvalbeheer- en voedingsindustrie.

| 2. | ‧Simulanten‧ zijn stoffen of materialen die bij opleiding, onderzoek, tests of evaluaties worden gebruikt in de plaats van toxische (chemische of biologische) stoffen. |
| --- | --- |

2.

‧Simulanten‧ zijn stoffen of materialen die bij opleiding, onderzoek, tests of evaluaties worden gebruikt in de plaats van toxische (chemische of biologische) stoffen.

1A005Kogelvrije kleding, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, anders dan vervaardigd volgens militaire normen of specificaties of gelijkwaardige prestatienormen.

| NB: | ZIE OOK LIJST MILITAIRE GOEDEREN |
| --- | --- |

NB:

:

Voor "stapel- en continuvezelmateriaal" dat gebruikt wordt voor de vervaardiging van kogelvrije kleding, zie 1C010.

| : | In 1A005 zijn niet bedoeld kogelvrije kleding en beschermende kleding die de gebruiker bij zich heeft voor zijn eigen bescherming |
| --- | --- |

:

| : | In 1A005 is niet bedoeld kogelvrije kleding die bestemd is om uitsluitend frontale bescherming te bieden tegen door niet-militaire explosieven veroorzaakte luchtverplaatsingen of scherven. |
| --- | --- |

:

1A006Apparatuur als hieronder, die speciaal is ontworpen of aangepast voor het demonteren van geïmproviseerde explosiemiddelen, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen en toebehoren:

| NB: | ZIE OOK LIJST MILITAIRE GOEDEREN |
| --- | --- |

NB:

| a. | op afstand bediende voertuigen; |
| --- | --- |

a.

op afstand bediende voertuigen;

| b. | ‧disruptoren‧ |
| --- | --- |

b.

‧disruptoren‧

:

‧Disruptoren‧ zijn toestellen die speciaal zijn ontworpen om de ontploffing van een explosiemiddel te voorkomen door het afschieten van een vloeibaar, vast of versplinterend projectiel.

| : | In 1A006 is niet bedoeld apparatuur die door de operator wordt meegevoerd. |
| --- | --- |

:

1A007Apparatuur en toestellen als hieronder, die speciaal zijn ontworpen om explosieve ladingen en middelen die "energetische materialen" bevatten, op elektrische wijze tot ontploffing te brengen:

| NB: | ZIE OOK LIJST MILITAIRE GOEDEREN, 3A229 EN 3A232. |
| --- | --- |

NB:

| a. | Ontstekingsmechanismen met explosieve detonator die zijn ontworpen voor het starten van explosieve detonatoren als bedoeld in 1A007.b.; |
| --- | --- |

a.

Ontstekingsmechanismen met explosieve detonator die zijn ontworpen voor het starten van explosieve detonatoren als bedoeld in 1A007.b.;

| b. | Elektrisch gestarte explosieve detonatoren, als hieronder:






  1. | "exploding bridge" (EB); |
| --- | --- | --- |

b.

Elektrisch gestarte explosieve detonatoren, als hieronder:

1.

"exploding bridge" (EB);

| 2. | "exploding bridge wire" (EBW); |
| --- | --- |

2.

"exploding bridge wire" (EBW);

| 3. | slapper; |
| --- | --- |

3.

slapper;

| 4. | "exploding foil"-ontstekingen (EFI). |
| --- | --- |

4.

"exploding foil"-ontstekingen (EFI).

:

| 1. | De woorden "initiator" en "ontsteker" worden soms gebruikt in de plaats van het woord "detonator". |
| --- | --- |

1.

| 2. | Voor de toepassing van 1A007.b. maken alle bedoelde detonatoren gebruik van een kleine elektrische geleider (‹bridge›, ‹bridge wire› of ‹foil›) die explosief verdampt wanneer er een snelle, elektrische hogestroomstoot doorheen wordt geleid. Bij het "non-slapper"-type brengt de exploderende geleider een chemische ontploffing op gang in een daarmee in aanraking zijnd brisant materiaal, bijvoorbeeld PETN (pentaerytritoltetranitraat). Bij ‹slapper›-detonatoren wordt een ‹flyer› of ‹slapper› door de explosieve verdamping van de elektrische geleider over een spleet gedreven en de schok van de ‹slapper› op een springstof brengt een chemische ontploffing op gang. Bij sommige constructies wordt de ‹slapper› door een magnetisch veld gestart. Met de uitdrukking ‹exploding foil›-detonator worden zowel EB-detonatoren als ‹slapper›-detonatoren bedoeld. |
| --- | --- |

2.

1A008Explosieve ladingen, middelen en componenten, waaronder:

| a. | ‧Gevormde ladingen‧ met alle hiernavolgende kenmerken:






  1. | netto equivalente hoeveelheid (NEH) van meer dan 90 g; en |
| --- | --- | --- |

a.

‧Gevormde ladingen‧ met alle hiernavolgende kenmerken:

1.

netto equivalente hoeveelheid (NEH) van meer dan 90 g; en

| 2. | buitendiameter van het omhulsel gelijk of groter dan 75 mm; |
| --- | --- |

2.

buitendiameter van het omhulsel gelijk of groter dan 75 mm;

| b. | Ladingen voor directionele explosies met alle hiernavolgende kenmerken, alsmede speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:






  1. | een springlading van meer dan 40 g/m, en |
| --- | --- | --- |

b.

Ladingen voor directionele explosies met alle hiernavolgende kenmerken, alsmede speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

1.

een springlading van meer dan 40 g/m, en

| 2. | een breedte van 10 mm of meer; |
| --- | --- |

2.

een breedte van 10 mm of meer;

| c. | Slagsnoer met sprinstoflading van meer dan 64 g/m; |
| --- | --- |

c.

Slagsnoer met sprinstoflading van meer dan 64 g/m;

| d. | Cutters, en andere ladingen voor directionele explosies dan die bedoeld 1A008.b., alsmede snij-explosieven met een netto equivalente hoeveelheid (NEH) van meer dan 3,5 kg; |
| --- | --- |

d.

Cutters, en andere ladingen voor directionele explosies dan die bedoeld 1A008.b., alsmede snij-explosieven met een netto equivalente hoeveelheid (NEH) van meer dan 3,5 kg;

:

Onder ‧gevormde ladingen‧ wordt verstaan explosieve ladingen die zodanig zijn gevormd dat zij het effect van een explosie kunnen sturen.

1A102Opnieuw verzadigde, door pyrolyse verkregen koolstof-koolstof-componenten bestemd voor ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104.

1A202Composieten, met uitzondering van de in 1A002 bedoelde composieten, in buisvorm, met beide volgende kenmerken:

| NB: | ZIE OOK 9A010 EN 9A110 |
| --- | --- |

NB:

| a. | een binnendiameter van 75-400 mm; en |
| --- | --- |

a.

een binnendiameter van 75-400 mm; en

| b. | vervaardigd van "stapel- en continuvezelmateriaal" als bedoeld in 1C010.a of b of 1C210.a of met koolstof-‹prepreg›-materiaal als bedoeld in 1C210.c. |
| --- | --- |

b.

vervaardigd van "stapel- en continuvezelmateriaal" als bedoeld in 1C010.a of b of 1C210.a of met koolstof-‹prepreg›-materiaal als bedoeld in 1C210.c.

1A225Geplatineerde katalysatoren, speciaal ontworpen of vervaardigd voor het bevorderen van de waterstofisotoop-uitwisseling tussen waterstof en water voor het terugwinnen van tritium uit zwaar water of voor de productie van zwaar water.

1A226Specifieke pakkingen die kunnen worden gebruikt voor de scheiding van zwaar water van gewoon water, met beide volgende kenmerken:

| a. | vervaardigd van plaatgaas van fosforbrons (chemisch behandeld ter verbetering van de bevochtigingsraad); en |
| --- | --- |

a.

vervaardigd van plaatgaas van fosforbrons (chemisch behandeld ter verbetering van de bevochtigingsraad); en

| b. | ontworpen voor gebruik in vacuüm-distillatietorens. |
| --- | --- |

b.

ontworpen voor gebruik in vacuüm-distillatietorens.

1A227Stralingafschermende ramen (van loodglas of ander materiaal) met alle hiernavolgende kenmerken en speciaal ontworpen kozijnen daarvoor:

| a. | een ‧koude zone‧ groter dan 0,09 m2; |
| --- | --- |

a.

een ‧koude zone‧ groter dan 0,09 m2;

| b. | een dichtheid groter dan 3 g/cm3; en |
| --- | --- |

b.

een dichtheid groter dan 3 g/cm3; en

| c. | een dikte van 100 mm of meer. |
| --- | --- |

c.

een dikte van 100 mm of meer.

:

In 1A227 wordt onder ‧koude zone‧ verstaan de kijkzone van het raam die is blootgesteld aan het laagste stralingsniveau in de constructietoepassing.

1BTest-, inspectie- en productieapparatuur

1B001Apparatuur voor de vervaardiging of de inspectie van "composieten" of laminaten als bedoeld in 1A002 of "stapel- of continuvezelmateriaal" als bedoeld in 1C010, als hieronder, en speciaal ontworpen onderdelen en toebehoren daarvoor:

| NB: | ZIE OOK 1B101 EN 1B201 |
| --- | --- |

NB:

| a. | draadwindmachines waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen, wikkelen en winden van vezelmateriaal ‧in het primaire vlak‧ in drie of meer ‧servogestuurde‧ richtingen zijn gecoördineerd en geprogrammeerd, speciaal ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" of laminaten uit "stapel- of continuvezelmateriaal"; |
| --- | --- |

a.

draadwindmachines waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen, wikkelen en winden van vezelmateriaal ‧in het primaire vlak‧ in drie of meer ‧servogestuurde‧ richtingen zijn gecoördineerd en geprogrammeerd, speciaal ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" of laminaten uit "stapel- of continuvezelmateriaal";

| b. | bandlegmachines waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen en leggen van banden of vellen ‧in het primaire vlak‧ in vijf of meer ‧servogestuurde‧ richtingen zijn gecoördineerd en geprogrammeerd, speciaal ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" voor vliegtuigen en ‧raketten‧;







  : | In 1B001.b worden onder ‧raketten‧ complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen verstaan. |
| --- | --- | --- |

b.

bandlegmachines waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen en leggen van banden of vellen ‧in het primaire vlak‧ in vijf of meer ‧servogestuurde‧ richtingen zijn gecoördineerd en geprogrammeerd, speciaal ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" voor vliegtuigen en ‧raketten‧;

:

| c. | weef- en vlechtmachines welke in verscheidene richtingen en dimensies kunnen werken met inbegrip van aanpassings- of wijzigingsuitrustingen, speciaal ontworpen of aangepast voor het weven, dooreenvlechten of omvlechten van vezelmateriaal voor "composieten";

  :


  Voor de toepassing van punt 1B001.c houdt de techniek van het dooreenvlechten tevens breien in. |
| --- | --- |

c.

weef- en vlechtmachines welke in verscheidene richtingen en dimensies kunnen werken met inbegrip van aanpassings- of wijzigingsuitrustingen, speciaal ontworpen of aangepast voor het weven, dooreenvlechten of omvlechten van vezelmateriaal voor "composieten";

:

Voor de toepassing van punt 1B001.c houdt de techniek van het dooreenvlechten tevens breien in.

| d. | apparatuur speciaal ontworpen of aangepast voor de vervaardiging van versterkingsvezels, als hieronder:






  1. | apparatuur voor het omzetten van polymere vezels (zoals polyacrylonitryl, rayon, asfaltbitumen of polycarbosilaan) in koolstofvezels of vezels bestaande uit siliciumcarbide, met inbegrip van speciale voorzieningen voor het strekken van de vezels tijdens verhitting; |
| --- | --- | --- |

d.

apparatuur speciaal ontworpen of aangepast voor de vervaardiging van versterkingsvezels, als hieronder:

1.

apparatuur voor het omzetten van polymere vezels (zoals polyacrylonitryl, rayon, asfaltbitumen of polycarbosilaan) in koolstofvezels of vezels bestaande uit siliciumcarbide, met inbegrip van speciale voorzieningen voor het strekken van de vezels tijdens verhitting;

| 2. | apparatuur voor het neerslaan van elementen of verbindingen uit de dampfase op verwarmde continuvezelsubstraten voor de vervaardiging van vezels bestaande uit siliciumcarbide; |
| --- | --- |

2.

apparatuur voor het neerslaan van elementen of verbindingen uit de dampfase op verwarmde continuvezelsubstraten voor de vervaardiging van vezels bestaande uit siliciumcarbide;

| 3. | apparatuur voor het natspinnen van vuurvaste keramische materialen (b.v. aluminiumoxide); |
| --- | --- |

3.

apparatuur voor het natspinnen van vuurvaste keramische materialen (b.v. aluminiumoxide);

| 4. | apparatuur voor het omzetten van aluminium dat voorlopervezelmaterialen bevat, in aluminiumoxidevezels door middel van warmtebehandeling; |
| --- | --- |

4.

apparatuur voor het omzetten van aluminium dat voorlopervezelmaterialen bevat, in aluminiumoxidevezels door middel van warmtebehandeling;

| e. | apparatuur voor het door middel van de heetsmeltmethode vervaardigen van de ‹prepregs› bedoeld in 1C010.e; |
| --- | --- |

e.

apparatuur voor het door middel van de heetsmeltmethode vervaardigen van de ‹prepregs› bedoeld in 1C010.e;

| f. | inspectieapparatuur welke gebruik maakt van niet destructieve technieken (NDT), welke speciaal is ontworpen voor "composieten", als hieronder:






  1. | röntgentomografiesystemen voor het driedimensionaal opsporen van gebreken; |
| --- | --- | --- |

f.

inspectieapparatuur welke gebruik maakt van niet destructieve technieken (NDT), welke speciaal is ontworpen voor "composieten", als hieronder:

1.

röntgentomografiesystemen voor het driedimensionaal opsporen van gebreken;

| 2. | ultrasone inspectieapparatuur met "numerieke besturing", waarvan de bewegingen voor het positioneren van zenders of ontvangers gelijktijdig in vier of meer richtingen zijn gecoördineerd en geprogrammeerd, om de driedimensionale contouren van het te inspecteren onderdeel te volgen; |
| --- | --- |

2.

ultrasone inspectieapparatuur met "numerieke besturing", waarvan de bewegingen voor het positioneren van zenders of ontvangers gelijktijdig in vier of meer richtingen zijn gecoördineerd en geprogrammeerd, om de driedimensionale contouren van het te inspecteren onderdeel te volgen;

| g. | lintlegmachines waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen en leggen van linten ‧in het primaire vlak‧ in twee of meer ‧servogestuurde‧ richtingen zijn gecoördineerd en geprogrammeerd, speciaal ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" voor vliegtuigen en ‧raketten‧. |
| --- | --- |

g.

lintlegmachines waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen en leggen van linten ‧in het primaire vlak‧ in twee of meer ‧servogestuurde‧ richtingen zijn gecoördineerd en geprogrammeerd, speciaal ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" voor vliegtuigen en ‧raketten‧.

:

Voor de toepassing van 1B001 moet onder ‧in het primiare vlak servogestuurde‧ richting worden verstaan, de computergestuurde ruimtelijke positie van de eindeffector (d.w.z. het uiteinde) ten opzichte van het werkstuk, nodig om bij een correcte oriëntatie en richting de beoogde werking te verkrijgen.

1B002Apparatuur voor het vervaardigen van metaallegeringen, metaallegeringspoeder of gelegeerde materialen, speciaal ontworpen om contaminatie te voorkomen en speciaal ontworpen voor gebruik in één van de in 1C002.c.2 bedoelde procedés.

| NB: | ZIE OOK 1B102 |
| --- | --- |

NB:

1B003Gereedschap, matrijzen, stempels of klemmen voor het "superplastisch vormen" of "diffusielassen" van titaan of aluminium of legeringen daarvan, speciaal ontworpen voor het vervaardigen van één of meer:

| a. | constructies voor lucht- of ruimtevaart, |
| --- | --- |

a.

constructies voor lucht- of ruimtevaart,

| b. | motoren voor "vliegtuigen" of ruimtevaartuigen, of |
| --- | --- |

b.

motoren voor "vliegtuigen" of ruimtevaartuigen, of

| c. | speciaal ontworpen onderdelen voor de in 1B003.a. bedoelde constructies of de in 1B003.b. bedoelde motoren. |
| --- | --- |

c.

speciaal ontworpen onderdelen voor de in 1B003.a. bedoelde constructies of de in 1B003.b. bedoelde motoren.

1B101Apparatuur, met uitzondering van de onder 1B001 bedoelde apparatuur voor de vervaardiging van composieten, als hieronder, en speciaal ontworpen onderdelen en toebehoren daarvoor:

| NB: | ZIE OOK 1B201 |
| --- | --- |

NB:

| : | De in 1B101 bedoelde onderdelen en toebehoren omvatten onder meer matrijzen, doornen, stempels, klemmen en gereedschappen voor het persen van voorvormstukken, of het harden, gieten, sinteren of binden van composieten, laminaten en producten daarvan. |
| --- | --- |

:

| a. | draadwindmachines of vezelpositioneringsmachines (fibre placement machines), waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen, wikkelen en winden van vezelmateriaal in drie of meer richtingen kunnen worden gecoördineerd en geprogrammeerd, ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" of laminaten uit "stapel- of continuvezelmateriaal", alsmede besturingseenheden voor het coördineren en het programmeren daarvan; |
| --- | --- |

a.

draadwindmachines of vezelpositioneringsmachines (fibre placement machines), waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen, wikkelen en winden van vezelmateriaal in drie of meer richtingen kunnen worden gecoördineerd en geprogrammeerd, ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" of laminaten uit "stapel- of continuvezelmateriaal", alsmede besturingseenheden voor het coördineren en het programmeren daarvan;

| b. | bandlegmachines, waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen en leggen van banden en vellen in twee of meer richtingen kunnen worden gecoördineerd en geprogrammeerd, ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" voor casco's en andere delen van vliegtuigen en "raketten"; |
| --- | --- |

b.

bandlegmachines, waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen en leggen van banden en vellen in twee of meer richtingen kunnen worden gecoördineerd en geprogrammeerd, ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" voor casco's en andere delen van vliegtuigen en "raketten";

| c. | apparatuur, als hieronder, ontworpen of aangepast voor de "productie" van "stapel- of continuvezelmateriaal":






  1. | apparatuur voor het omzetten van polymere vezels (zoals polyacrylonitryl, rayon of polycarbosilaan) met inbegrip van speciale voorzieningen voor het strekken van de vezels tijdens verhitting, |
| --- | --- | --- |

c.

apparatuur, als hieronder, ontworpen of aangepast voor de "productie" van "stapel- of continuvezelmateriaal":

1.

apparatuur voor het omzetten van polymere vezels (zoals polyacrylonitryl, rayon of polycarbosilaan) met inbegrip van speciale voorzieningen voor het strekken van de vezels tijdens verhitting,

| 2. | apparatuur voor het neerslaan van elementen of verbindingen uit de dampfase op verhitte continuvezelsubstraten, |
| --- | --- |

2.

apparatuur voor het neerslaan van elementen of verbindingen uit de dampfase op verhitte continuvezelsubstraten,

| 3. | apparatuur voor het natspinnen van vuurbestendige keramische materialen (b.v. aluminiumoxide); |
| --- | --- |

3.

apparatuur voor het natspinnen van vuurbestendige keramische materialen (b.v. aluminiumoxide);

| d. | apparatuur, ontworpen of aangepast voor speciale oppervlaktebehandeling van vezels of voor het vervaardigen van de ‹prepregs› en ‹preforms›, bedoeld in 9C110.







  : | 1B101.d omvat onder meer rollen, strektoestellen, apparatuur voor het aanbrengen van deklagen, snijapparatuur en stansvormen. |
| --- | --- | --- |

d.

apparatuur, ontworpen of aangepast voor speciale oppervlaktebehandeling van vezels of voor het vervaardigen van de ‹prepregs› en ‹preforms›, bedoeld in 9C110.

:

1B102Andere metaalpoeder-"productieapparatuur" dan die, bedoeld in 1B002 en onderdelen, als hieronder:

| NB: | ZIE OOK 1B115.b. |
| --- | --- |

NB:

| a. | metaalpoeder-"productieapparatuur", bruikbaar voor de "productie" in een gecontroleerde omgeving van sferische of vernevelde materialen als bedoeld in 1CO11.a, 1CO11.b, 1C111.a.1, 1C111.a.2 of in de Lijst van militaire goederen; |
| --- | --- |

a.

metaalpoeder-"productieapparatuur", bruikbaar voor de "productie" in een gecontroleerde omgeving van sferische of vernevelde materialen als bedoeld in 1CO11.a, 1CO11.b, 1C111.a.1, 1C111.a.2 of in de Lijst van militaire goederen;

| b. | speciaal ontworpen onderdelen van "productieapparatuur" als bedoeld in 1B002 of 1B102.a. |
| --- | --- |

b.

speciaal ontworpen onderdelen van "productieapparatuur" als bedoeld in 1B002 of 1B102.a.

| : | 1B102 omvat:







  a. | Plasmageneratoren (hogefrequentieboogstraal), bruikbaar voor het verkrijgen van gesputterde of sferische metaalpoeders in een argon-waterig milieu; |
| --- | --- | --- |

:

a.

Plasmageneratoren (hogefrequentieboogstraal), bruikbaar voor het verkrijgen van gesputterde of sferische metaalpoeders in een argon-waterig milieu;

| b. | ‹Electroburst› apparatuur, bruikbaar voor het verkrijgen van gesputterde of sferische metaalpoeders in een argon-waterig milieu; |
| --- | --- |

b.

‹Electroburst› apparatuur, bruikbaar voor het verkrijgen van gesputterde of sferische metaalpoeders in een argon-waterig milieu;

| c. | Apparatuur, bruikbaar voor de "productie" van sferisch aluminiumpoeder door verpulvering van een smelt in een inert medium (bijv. stikstof). |
| --- | --- |

c.

Apparatuur, bruikbaar voor de "productie" van sferisch aluminiumpoeder door verpulvering van een smelt in een inert medium (bijv. stikstof).

1B115Andere apparatuur dan die, bedoeld in 1B002 en 1B102, voor de productie van stuwstoffen en bestanddelen daarvan, als hieronder, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

| a. | "productieapparatuur" voor de "productie", het hanteren of het keuren van vloeibare stuwstoffen of bestanddelen daarvan, als bedoeld in 1C011.a, 1C011.b, 1C111 of in de Lijst van militaire goederen; |
| --- | --- |

a.

"productieapparatuur" voor de "productie", het hanteren of het keuren van vloeibare stuwstoffen of bestanddelen daarvan, als bedoeld in 1C011.a, 1C011.b, 1C111 of in de Lijst van militaire goederen;

| b. | "productieapparatuur" voor de "productie", het hanteren, mengen, harden, gieten, persen, machinaal bewerken, spuitgieten of keuren van vaste stuwstoffen of bestanddelen daarvan, als bedoeld in 1C011.a, 1C011.b, 1C111 of in de Lijst militaire goederen.







  : | In 1B115.b zijn niet bedoeld niet-continumengers, continumengers en luchtstraalmolens. Voor de controle daarop zie 1B117, 1B118 en 1B119. |
| --- | --- | --- |

b.

"productieapparatuur" voor de "productie", het hanteren, mengen, harden, gieten, persen, machinaal bewerken, spuitgieten of keuren van vaste stuwstoffen of bestanddelen daarvan, als bedoeld in 1C011.a, 1C011.b, 1C111 of in de Lijst militaire goederen.

:

| : | Zie de lijst van militaire goederen voor apparatuur speciaal ontworpen voor de "productie" van militaire goederen. |
| --- | --- |

:

| : | In 1B115 is niet bedoeld apparatuur voor de "productie", het hanteren en keuren van boorcarbide. |
| --- | --- |

:

1B116Speciaal ontworpen spuitmonden voor de "productie" van pyrolytisch gevormde materialen op een as, mal of ander substraat van voorlopergassen die ontleden bij temperaturen van 1 573 K (1 300 °C) tot 3 173 K (2 900 °C) en een druk van 130 Pa tot 20 kPa.

1B117Niet-continumengers welke geschikt zijn voor het mengen onder vacuüm bij een druk van nul tot 13,326 kPa, met de mogelijkheid om de temperatuur van de mengkamer te regelen en met alle navolgende kenmerken, en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor:

| a. | een totale inhoud van 110 l of meer; en |
| --- | --- |

a.

een totale inhoud van 110 l of meer; en

| b. | ten minste één excentrisch geplaatste meng- of kneedas. |
| --- | --- |

b.

ten minste één excentrisch geplaatste meng- of kneedas.

1B118Continumengers welke geschikt zijn voor het mengen onder vacuüm bij een druk van nul tot 13,326 kPa, met de mogelijkheid om de temperatuur van de mengkamer te regelen en met een van de volgende kenmerken, en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor:

| a. | twee of meer meng- of kneedassen; of |
| --- | --- |

a.

twee of meer meng- of kneedassen; of

| b. | één roterende en oscillerende as met mengtanden/-pennen op de as en de mengkamerwand. |
| --- | --- |

b.

één roterende en oscillerende as met mengtanden/-pennen op de as en de mengkamerwand.

1B119Luchtstraalmolens die gebruikt kunnen worden om de stoffen, genoemd in 1C011.a, 1C011.b, 1.C.111 of in de lijst van militaire goederen, te malen of te stampen, en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor.

1B201Draadwindmachines, uitgezonderd machines als bedoeld in 1B001 of 1B101, en bijbehorende apparatuur, als hieronder:

| a. | draadwindmachines met alle volgende kenmerken:






  1. | de bewegingen voor het gericht opbrengen, wikkelen en winden van vezelmateriaal zijn in twee of meer richtingen gecoördineerd en geprogrammeerd, |
| --- | --- | --- |

a.

draadwindmachines met alle volgende kenmerken:

1.

de bewegingen voor het gericht opbrengen, wikkelen en winden van vezelmateriaal zijn in twee of meer richtingen gecoördineerd en geprogrammeerd,

| 2. | de machines zijn speciaal ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" of laminaten uit "stapel- of continuvezelmateriaal"; en |
| --- | --- |

2.

de machines zijn speciaal ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" of laminaten uit "stapel- of continuvezelmateriaal"; en

| 3. | geschikt voor het winden van cilindrische rotoren met een diameter van 75 mm tot 400 mm en een lengte van 600 mm of meer; |
| --- | --- |

3.

geschikt voor het winden van cilindrische rotoren met een diameter van 75 mm tot 400 mm en een lengte van 600 mm of meer;

| b. | besturingseenheden voor het coördineren en programmeren van de in 1B201.a bedoelde draadwindmachines; |
| --- | --- |

b.

besturingseenheden voor het coördineren en programmeren van de in 1B201.a bedoelde draadwindmachines;

| c. | zeer nauwkeurige spillen voor de in 1B201.a bedoelde draadwindmachines. |
| --- | --- |

c.

zeer nauwkeurige spillen voor de in 1B201.a bedoelde draadwindmachines.

1B225Elektrolytische cellen voor de productie van fluor met een capaciteit van meer dan 250 g fluor per uur.

1B226Elektromagnetische isotopenscheiders, ontworpen voor of uitgerust met enkelvoudige of meervoudige ionenbronnen die een totale ionenbundelstroom van 50 mA of meer kunnen leveren.

| : | 1B226 omvat tevens scheiders:







  a. | geschikt voor het verrijken van stabiele isotopen; |
| --- | --- | --- |

:

a.

geschikt voor het verrijken van stabiele isotopen;

| b. | waarbij de ionenbronnen en collectors zich in het magneetveld bevinden en configuraties waarbij deze zich buiten het veld bevinden. |
| --- | --- |

b.

waarbij de ionenbronnen en collectors zich in het magneetveld bevinden en configuraties waarbij deze zich buiten het veld bevinden.

1B227Converters voor ammoniaksynthese of ammoniaksynthese-eenheden waarin het synthesegas (stikstof en waterstof) wordt onttrokken uit een hoge-drukkolom voor de uitwisseling van ammoniak en waterstof en de gevormde ammoniak naar deze kolom wordt teruggevoerd.

1B228Kolommen voor de cryogene distillatie van waterstof met alle volgende kenmerken:

| a. | ontworpen om te werken bij een interne temperatuur van 35 K (– 238 °C) of lager; |
| --- | --- |

a.

ontworpen om te werken bij een interne temperatuur van 35 K (– 238 °C) of lager;

| b. | ontworpen om te werken bij een interne druk van 0,5-5 MPa; |
| --- | --- |

b.

ontworpen om te werken bij een interne druk van 0,5-5 MPa;

| c. | vervaardigd van






  1. | roestvrij staal van de 300-serie met een laag zwavelgehalte en een korrelgroottegetal van 5 of hoger volgens de ASTM-standaard (of een gelijkwaardige standaard), voor austenitisch staal; of |
| --- | --- | --- |

c.

vervaardigd van

1.

roestvrij staal van de 300-serie met een laag zwavelgehalte en een korrelgroottegetal van 5 of hoger volgens de ASTM-standaard (of een gelijkwaardige standaard), voor austenitisch staal; of

| 2. | gelijkwaardige cryogene materialen die tevens H2 verdragen; |
| --- | --- |

2.

gelijkwaardige cryogene materialen die tevens H2 verdragen;

| d. | met een binnendiameter van 1 m of meer en een nuttige lengte van 5 m of meer. |
| --- | --- |

d.

met een binnendiameter van 1 m of meer en een nuttige lengte van 5 m of meer.

1B229Schotelkolommen voor de water-zwavelwaterstof-uitwisseling en de interne contactorganen daarvoor, als hieronder:

| : | Voor kolommen die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd voor de productie van zwaar water zie 0B004. |
| --- | --- |

:

| a. | schotelkolommen voor de water-zwavelwaterstof-uitwisseling, met alle volgende kenmerken:






  1. | geschikt voor werking bij een nominale druk van 2 MPa of groter; |
| --- | --- | --- |

a.

schotelkolommen voor de water-zwavelwaterstof-uitwisseling, met alle volgende kenmerken:

1.

geschikt voor werking bij een nominale druk van 2 MPa of groter;

| 2. | vervaardigd van koolstofstaal met een korrelgroottegetal van 5 of hoger volgens de ASTM-standaard (of een gelijkwaardige standaard), voor austenitisch staal; en |
| --- | --- |

2.

vervaardigd van koolstofstaal met een korrelgroottegetal van 5 of hoger volgens de ASTM-standaard (of een gelijkwaardige standaard), voor austenitisch staal; en

| 3. | met een diameter van 1,8 m of meer; |
| --- | --- |

3.

met een diameter van 1,8 m of meer;

| b. | de in 1B229.a bedoelde ‧interne contactgroepen‧ voor de schotelkolommen voor de water-zwavelwaterstof-uitwisseling.

  :


  De ‧interne contactgroepen‧ van de kolommen bestaan uit gesegmenteerde schotels met een effectieve gezamenlijke diameter van 1,8 m of meer, zijn ontworpen voor het in tegenstroom met elkaar in contact brengen, en vervaardigd van roestvrij staal met een koolstofgehalte van 0,03 % of minder. Zij kunnen de vorm hebben van zeefschotels, klepschotels, borrelklokjesschotels en turboroosterschotels. |
| --- | --- |

b.

de in 1B229.a bedoelde ‧interne contactgroepen‧ voor de schotelkolommen voor de water-zwavelwaterstof-uitwisseling.

:

De ‧interne contactgroepen‧ van de kolommen bestaan uit gesegmenteerde schotels met een effectieve gezamenlijke diameter van 1,8 m of meer, zijn ontworpen voor het in tegenstroom met elkaar in contact brengen, en vervaardigd van roestvrij staal met een koolstofgehalte van 0,03 % of minder. Zij kunnen de vorm hebben van zeefschotels, klepschotels, borrelklokjesschotels en turboroosterschotels.

1B230Pompen, geschikt voor de circulatie van geconcentreerde of verdunde oplossingen van de katalysator kaliumamide in vloeibare ammoniak (KNH2/NH3), met alle volgende kenmerken:

| a. | luchtdicht (d.w.z. hermetisch afgesloten); |
| --- | --- |

a.

luchtdicht (d.w.z. hermetisch afgesloten);

| b. | met een capaciteit van meer dan 8,5 m3/uur; en |
| --- | --- |

b.

met een capaciteit van meer dan 8,5 m3/uur; en

| c. | een van de volgende kenmerken:






  1. | voor geconcentreerde oplossingen van kaliumamide (1 % of meer), een werkdruk van 1,5-60 MPa; of |
| --- | --- | --- |

c.

een van de volgende kenmerken:

1.

voor geconcentreerde oplossingen van kaliumamide (1 % of meer), een werkdruk van 1,5-60 MPa; of

| 2. | voor verdunde oplossingen van kaliumamide (minder dan 1 %), een werkdruk van 20-60 MPa. |
| --- | --- |

2.

voor verdunde oplossingen van kaliumamide (minder dan 1 %), een werkdruk van 20-60 MPa.

1B231Tritiuminstallaties of -fabrieken, en apparatuur daarvoor, als hieronder:

| a. | installaties of fabrieken voor het produceren, terugwinnen, extraheren, concentreren of behandelen van tritium; |
| --- | --- |

a.

installaties of fabrieken voor het produceren, terugwinnen, extraheren, concentreren of behandelen van tritium;

| b. | apparatuur voor titriuminstallaties of -fabrieken, als hieronder:






  1. | waterstof- of heliumkoeleenheden die kunnen koelen tot 23 K (– 250 °C) of lager, met een warmteafvoercapaciteit van meer dan 150 W; of |
| --- | --- | --- |

b.

apparatuur voor titriuminstallaties of -fabrieken, als hieronder:

1.

waterstof- of heliumkoeleenheden die kunnen koelen tot 23 K (– 250 °C) of lager, met een warmteafvoercapaciteit van meer dan 150 W; of

| 2. | opslag- of zuiveringssystemen voor waterstofisotopen die gebruik maken van metaalhydriden als opslag- of zuiveringsmedium. |
| --- | --- |

2.

opslag- of zuiveringssystemen voor waterstofisotopen die gebruik maken van metaalhydriden als opslag- of zuiveringsmedium.

1B232‹Turbo expanders› of turbo-expansie/compressiesets met beide volgende kenmerken:

| a. | ontworpen om te werken met een uitstroomtemperatuur van 35 K (– 238 °C) of lager; en |
| --- | --- |

a.

ontworpen om te werken met een uitstroomtemperatuur van 35 K (– 238 °C) of lager; en

| b. | ontworpen voor een doorvoer van waterstofgas van 1 000 kg/h of meer. |
| --- | --- |

b.

ontworpen voor een doorvoer van waterstofgas van 1 000 kg/h of meer.

1B233Installaties of fabrieken voor het scheiden van lithiumisotopen en apparatuur daarvoor, als hieronder:

| a. | installaties of fabrieken voor het scheiden van lithiumisotopen; |
| --- | --- |

a.

installaties of fabrieken voor het scheiden van lithiumisotopen;

| b. | apparatuur voor de scheiding van lithiumisotopen, als hieronder:






  1. | gestapelde kolommen voor vloeistof-vloeistofwisselkolommen, speciaal ontworpen voor lithiumamalgamen; |
| --- | --- | --- |

b.

apparatuur voor de scheiding van lithiumisotopen, als hieronder:

1.

gestapelde kolommen voor vloeistof-vloeistofwisselkolommen, speciaal ontworpen voor lithiumamalgamen;

| 2. | kwik- en/of lithiumamalgaampompen; |
| --- | --- |

2.

kwik- en/of lithiumamalgaampompen;

| 3. | lithiumamalgaam-elektrolysecellen; |
| --- | --- |

3.

lithiumamalgaam-elektrolysecellen;

| 4. | verdampers voor geconcentreerde lithiumhydroxideoplossingen. |
| --- | --- |

4.

verdampers voor geconcentreerde lithiumhydroxideoplossingen.

1CMaterialen

Metalen en legeringen:

Behoudens andersluidende bepalingen wordt in 1C001 tot en met 1C012 onder ‧metalen‧ en ‧legeringen‧ verstaan, ruwe of onbewerkte vormen en halffabricaten, als hieronder:

Ruwe of onbewerkte vormen:

Anoden, kogels, staven (met inbegrip van gekerfde proefstaven en draadmetaal), knuppels, blokken, blooms, briketten, uitgangsblokken, kathoden, kristallen, kubussen, blokjes, korrels, granules, walsblokken, bobbels, pastilles, gietelingen, poeder, rondellen, schroot, plakken, brokken, sponsen, stiften;

Halffabricaten (al dan niet bekleed, beplaat, geboord of gestanst):

| a. | gesmede of bewerkte materialen die zijn vervaardigd door middel van walsen, doortrekken, spuitgieten, smeden, slagextrusie, persen, korrelen, verstuiven en slijpen, namelijk:

  hoekstaven, gootmetaal, ronde voorprofielen, schijven, stof, vlokken, foelies en bladmetaal, smeedstukken, platen, poeder, geperste stukken allerhande, linten, ringen, staven (met inbegrip van ruwe lasstaven, walsdraad en diverse gewalste draden), profielen, gietvormen, dunne platen, banden en buizen allerhande (met inbegrip van ronde, vierkante en holle pijpen), getrokken of geëxtrudeerde draad; |
| --- | --- |

a.

gesmede of bewerkte materialen die zijn vervaardigd door middel van walsen, doortrekken, spuitgieten, smeden, slagextrusie, persen, korrelen, verstuiven en slijpen, namelijk:

| b. | gegoten metaal vervaardigd door gieten in zand, metaal, gips of andere types gietvormen, met inbegrip van onder hoge druk gegoten producten, gesinterde vormen en door middel van poedermetallurgie vervaardigde producten. |
| --- | --- |

b.

gegoten metaal vervaardigd door gieten in zand, metaal, gips of andere types gietvormen, met inbegrip van onder hoge druk gegoten producten, gesinterde vormen en door middel van poedermetallurgie vervaardigde producten.

De doelstellingen van de controle mogen niet worden omzeild door de uitvoer van niet gespecificeerde vormen waarvan wordt beweerd dat het om afgewerkte producten gaat, maar die in feite onbewerkte vormen of halffabricaten zijn.

1C001Materialen, speciaal ontworpen om te worden gebruikt voor het absorberen van elektromagnetische golven, of intrinsiek geleidende polymeren, als hieronder:

| NB: | ZIE OOK 1C101. |
| --- | --- |

NB:

| a. | materialen voor het absorberen van frequenties hoger dan 2 × 108 Hz doch lager dan 3 × 1012 Hz;







  : | 1C001.a is niet van toepassing op:






  a. | absorberende materialen van het haartype, ongeacht of deze zijn gemaakt van natuurlijke of synthetische vezels, welke niet-magnetische stoffen bevatten voor de absorptie; |
| --- | --- | --- | --- |

a.

materialen voor het absorberen van frequenties hoger dan 2 × 108 Hz doch lager dan 3 × 1012 Hz;

:

a.

absorberende materialen van het haartype, ongeacht of deze zijn gemaakt van natuurlijke of synthetische vezels, welke niet-magnetische stoffen bevatten voor de absorptie;

| b. | absorberende materialen waarin geen magnetisch verlies optreedt en waarvan het invallend oppervlak niet vlak is, zoals piramiden, kegels, wiggen en gedraaide oppervlakken; |
| --- | --- |

b.

absorberende materialen waarin geen magnetisch verlies optreedt en waarvan het invallend oppervlak niet vlak is, zoals piramiden, kegels, wiggen en gedraaide oppervlakken;

| c. | vlakke absorberende materialen die al de onderstaande kenmerken vertonen:






  1. | gemaakt van één van de volgende materialen:






  a. | kunststof schuimmaterialen (al dan niet buigzaam) welke koolstof bevatten, of organische materialen, met inbegrip van binders, met meer dan 5 % echo vergeleken met metaal over een bandbreedte groter dan ± 15 % van de centrale frequentie van de binnenkomende energie, en niet bestand tegen temperaturen hoger dan 450 K (177 °C) of |
| --- | --- | --- | --- |

c.

vlakke absorberende materialen die al de onderstaande kenmerken vertonen:

1.

gemaakt van één van de volgende materialen:

a.

kunststof schuimmaterialen (al dan niet buigzaam) welke koolstof bevatten, of organische materialen, met inbegrip van binders, met meer dan 5 % echo vergeleken met metaal over een bandbreedte groter dan ± 15 % van de centrale frequentie van de binnenkomende energie, en niet bestand tegen temperaturen hoger dan 450 K (177 °C) of

| b. | keramische materialen met meer dan 20 % echo vergeleken met metaal over een bandbreedte groter dan ± 15 % van de centrale frequentie van de binnenkomende energie, en niet bestand tegen temperaturen hoger dan 800 K (527 °C); |
| --- | --- |

b.

keramische materialen met meer dan 20 % echo vergeleken met metaal over een bandbreedte groter dan ± 15 % van de centrale frequentie van de binnenkomende energie, en niet bestand tegen temperaturen hoger dan 800 K (527 °C);

:

Monsters voor het testen van de absorptie ten behoeve van 1C001.a. Noot 1.c.l dienen een vierkant te zijn van ten minste vijf golflengten (van de middenfrequentie) aan één zijde en geplaatst in het verre veld van het stralingselement.

| 2. | een treksterkte van minder dan 7 × 106 N/m2, en |
| --- | --- |

2.

een treksterkte van minder dan 7 × 106 N/m2, en

| 3. | een druksterkte van minder dan 14 × 106 N/m2; |
| --- | --- |

3.

een druksterkte van minder dan 14 × 106 N/m2;

| d. | vlakke absorberende materialen, gemaakt van gesinterd ferriet, met de volgende kenmerken:






  1. | een relatieve dichtheid groter dan 4,4; en |
| --- | --- | --- |

d.

vlakke absorberende materialen, gemaakt van gesinterd ferriet, met de volgende kenmerken:

1.

een relatieve dichtheid groter dan 4,4; en

| 2. | een maximale werktemperatuur van 548 K (275 °C); |
| --- | --- |

2.

een maximale werktemperatuur van 548 K (275 °C);

| : | Magnetische materialen voor absorptiedoeleinden in verf vallen wel onder 1C001.a. |
| --- | --- |

:

| b. | materialen voor het absorberen van frequenties hoger dan 1,5 × 1014 Hz doch lager dan 3,7 × 1014 Hz welke geen zichtbaar licht doorlaten; |
| --- | --- |

b.

materialen voor het absorberen van frequenties hoger dan 1,5 × 1014 Hz doch lager dan 3,7 × 1014 Hz welke geen zichtbaar licht doorlaten;

| c. | intrinsiek geleidende polymere materialen met een ‧specifieke elektrische volumegeleidbaarheid‧ groter dan 10 000 S/m (siemens per meter) of een ‧specifieke oppervlakteweerstand‧ kleiner dan 100 ohm/vierkant, op basis van één of meer van de volgende polymeren:






  1. | polyaniline; |
| --- | --- | --- |

c.

intrinsiek geleidende polymere materialen met een ‧specifieke elektrische volumegeleidbaarheid‧ groter dan 10 000 S/m (siemens per meter) of een ‧specifieke oppervlakteweerstand‧ kleiner dan 100 ohm/vierkant, op basis van één of meer van de volgende polymeren:

1.

polyaniline;

| 2. | polypyrrool; |
| --- | --- |

2.

polypyrrool;

| 3. | polythiofeen; |
| --- | --- |

3.

polythiofeen;

| 4. | polyfenyleen-vinyleen; of |
| --- | --- |

4.

polyfenyleen-vinyleen; of

| 5. | polythienyleen-vinyleen. |
| --- | --- |

5.

polythienyleen-vinyleen.

De ‧specifieke elektrische volumegeleidbaarheid‧ en de ‧specifieke oppervlakteweerstand‧ dienen te worden bepaald met behulp van ASTM D-257 of nationale gelijkwaardige methoden.

1C002Metaallegeringen, metaallegeringspoeder of gelegeerde materialen, als hieronder:

| NB: | ZIE OOK 1C202 |
| --- | --- |

NB:

| : | In 1C002 worden niet bedoeld: metaallegeringen, metaallegeringspoeder of gelegeerde materialen, voor het bekleden van substraten. |
| --- | --- |

:

| 1. | De metaallegeringen, bedoeld in 1C002, zijn legeringen waarin het genoemde metaal een hoger gewichtspercentage heeft dan enig ander element. |
| --- | --- |

1.

| 2. | De ‧levensduur voordat spanningsbreuk optreedt‧, dient te worden gemeten volgens ASTM Standard E-139 of gelijkwaardige nationale methoden. |
| --- | --- |

2.

| 3. | De ‧levensduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting‧ dient te worden gemeten volgens ASTM Standard E-606 ‧Recommended practice for constant-amplitude low-cycle fatigue testing‧ of gelijkwaardige nationale equivalenten. Het testen dient axiaal te geschieden met een gemiddelde belastingsverhouding gelijk aan 1 en een krachten-concentratiefactor (Kt) gelijk aan 1. De gemiddelde belastingsverhouding wordt gedefinieerd als de maximale belasting min de minimale belasting gedeeld door de maximale belasting. |
| --- | --- |

3.

| a. | aluminiden, als hieronder:






  1. | nikkelaluminiden met minstens 15 gewichtspercenten aluminium, hoogstens 38 gewichtsprocenten aluminium en minstens één extra legeringselement; |
| --- | --- | --- |

a.

aluminiden, als hieronder:

1.

nikkelaluminiden met minstens 15 gewichtspercenten aluminium, hoogstens 38 gewichtsprocenten aluminium en minstens één extra legeringselement;

| 2. | titaanaluminiden met 10 of meer gewichtspercenten aluminium en minstens één extra legeringselement; |
| --- | --- |

2.

titaanaluminiden met 10 of meer gewichtspercenten aluminium en minstens één extra legeringselement;

| b. | metaallegeringen, als hieronder, gemaakt van poeder of uit deeltjes bestaand materiaal als bedoeld in 1C002.c:






  1. | nikkellegeringen met minstens één van de onderstaande eigenschappen:






  a. | een ‧levensduur voordat spanningsbreuk optreedt‧ van 10 000 uur of meer bij 923 K (650 °C) en een spanning van 676 MPa, of |
| --- | --- | --- | --- |

b.

metaallegeringen, als hieronder, gemaakt van poeder of uit deeltjes bestaand materiaal als bedoeld in 1C002.c:

1.

nikkellegeringen met minstens één van de onderstaande eigenschappen:

a.

een ‧levensduur voordat spanningsbreuk optreedt‧ van 10 000 uur of meer bij 923 K (650 °C) en een spanning van 676 MPa, of

| b. | een ‧levensduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting‧ van 10 000 of meer belastingscycli met een maximale spanning van 1 095 MPa bij 823 K (550 °C); |
| --- | --- |

b.

een ‧levensduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting‧ van 10 000 of meer belastingscycli met een maximale spanning van 1 095 MPa bij 823 K (550 °C);

| 2. | niobiumlegeringen met minstens één van de onderstaande eigenschappen:






  a. | een ‧levensduur voordat spanningsbreuk optreedt‧ van 10 000 uur of meer bij 1 073 K (800 °C) en een spanning van 400 Mpa, of |
| --- | --- | --- |

2.

niobiumlegeringen met minstens één van de onderstaande eigenschappen:

a.

een ‧levensduur voordat spanningsbreuk optreedt‧ van 10 000 uur of meer bij 1 073 K (800 °C) en een spanning van 400 Mpa, of

| b. | een ‧levensduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting‧ van 10 000 of meer belastingscycli met een maximale spanning van 700 MPa bij 973 K (700 °C); |
| --- | --- |

b.

een ‧levensduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting‧ van 10 000 of meer belastingscycli met een maximale spanning van 700 MPa bij 973 K (700 °C);

| 3. | titaanlegeringen met minstens één van de onderstaande eigenschappen:






  a. | een ‧levensduur voordat spanningsbreuk optreedt‧ van 10 000 uur of meer bij 723 K (450 °C) en een spanning van 200 MPa; of |
| --- | --- | --- |

3.

titaanlegeringen met minstens één van de onderstaande eigenschappen:

a.

een ‧levensduur voordat spanningsbreuk optreedt‧ van 10 000 uur of meer bij 723 K (450 °C) en een spanning van 200 MPa; of

| b. | een ‧levensduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting‧ van 10 000 of meer belastingscycli met een maximale spanning van 400 MPa bij 723 K (450 °C); |
| --- | --- |

b.

een ‧levensduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting‧ van 10 000 of meer belastingscycli met een maximale spanning van 400 MPa bij 723 K (450 °C);

| 4. | aluminiumlegeringen met minstens één van de onderstaande eigenschappen:






  a. | een treksterkte van 240 MPa of meer bij 473 K (200 °C), of |
| --- | --- | --- |

4.

aluminiumlegeringen met minstens één van de onderstaande eigenschappen:

a.

een treksterkte van 240 MPa of meer bij 473 K (200 °C), of

| b. | een treksterkte van 415 MPa of meer bij 298 K (25 °C); |
| --- | --- |

b.

een treksterkte van 415 MPa of meer bij 298 K (25 °C);

| 5. | magnesiumlegeringen met minstens één van de onderstaande eigenschappen:






  a. | een treksterkte van 345 MPa of meer; en |
| --- | --- | --- |

5.

magnesiumlegeringen met minstens één van de onderstaande eigenschappen:

a.

een treksterkte van 345 MPa of meer; en

| b. | een corrosiesnelheid lager dan 1 mm/jaar in een 3 %-natriumchlorideoplossing in water, gemeten volgens ASTM Standard G-31 of gelijkwaardige nationale equivalenten; |
| --- | --- |

b.

een corrosiesnelheid lager dan 1 mm/jaar in een 3 %-natriumchlorideoplossing in water, gemeten volgens ASTM Standard G-31 of gelijkwaardige nationale equivalenten;

| c. | metaallegeringspoeder of uit deeltjes bestaand materiaal, met alle volgende kenmerken:






  1. | gemaakt van een van onderstaande samenstellingssystemen:

  :


  X staat voor één of meer legeringselementen.







  a. | nikkellegeringen (Ni-Al-X, Ni-X-Al) gespecificeerd voor onderdelen of elementen voor turbinemotoren, d. w. z. met minder dan drie niet-metallieke deeltjes (verontreinigingen van het fabricageproces) groter dan 100 μm op 109 legeringsdeeltjes; |
| --- | --- | --- | --- |

c.

metaallegeringspoeder of uit deeltjes bestaand materiaal, met alle volgende kenmerken:

1.

gemaakt van een van onderstaande samenstellingssystemen:

:

X staat voor één of meer legeringselementen.

a.

nikkellegeringen (Ni-Al-X, Ni-X-Al) gespecificeerd voor onderdelen of elementen voor turbinemotoren, d. w. z. met minder dan drie niet-metallieke deeltjes (verontreinigingen van het fabricageproces) groter dan 100 μm op 109 legeringsdeeltjes;

| b. | niobiumlegeringen (Nb-Al-X of Nb-X-Al, Nb-Si-X of Nb-X-Si, Nb-Ti-X of Nb-X-Ti); |
| --- | --- |

b.

niobiumlegeringen (Nb-Al-X of Nb-X-Al, Nb-Si-X of Nb-X-Si, Nb-Ti-X of Nb-X-Ti);

| c. | titaanlegeringen (Ti-Al-X of Ti-X-Al); |
| --- | --- |

c.

titaanlegeringen (Ti-Al-X of Ti-X-Al);

| d. | aluminiumlegeringen (Al-Mg-X of Al-X-Mg, Al-Zn-X of Al-X-Zn, Al-Fe-X of Al-X-Fe), of |
| --- | --- |

d.

aluminiumlegeringen (Al-Mg-X of Al-X-Mg, Al-Zn-X of Al-X-Zn, Al-Fe-X of Al-X-Fe), of

| e. | magnesiumlegeringen (Mg-Al-X of Mg-X-Al); |
| --- | --- |

e.

magnesiumlegeringen (Mg-Al-X of Mg-X-Al);

| 2. | vervaardigd in een beheerst milieu door middel van één van onderstaande procedés:






  a. | "verstuiving in vacuüm"; |
| --- | --- | --- |

2.

vervaardigd in een beheerst milieu door middel van één van onderstaande procedés:

a.

"verstuiving in vacuüm";

| b. | "verstuiving in gas"; |
| --- | --- |

b.

"verstuiving in gas";

| c. | "roterend verstuiven"; |
| --- | --- |

c.

"roterend verstuiven";

| d. | "versplintering door snelle afkoeling" (‹splat quenching›); |
| --- | --- |

d.

"versplintering door snelle afkoeling" (‹splat quenching›);

| e. | "spinnen uit de smelt" en "vergruizing"; |
| --- | --- |

e.

"spinnen uit de smelt" en "vergruizing";

| f. | "smeltextractie" en "vergruizing", of |
| --- | --- |

f.

"smeltextractie" en "vergruizing", of

| g. | "mechanisch legeren"; en |
| --- | --- |

g.

"mechanisch legeren"; en

| 3. | in staat in 1C002.a of 1C002.b bedoelde materialen te vormen; |
| --- | --- |

3.

in staat in 1C002.a of 1C002.b bedoelde materialen te vormen;

| d. | gelegeerde materialen met alle volgende kenmerken:






  1. | gemaakt van een van de in 1C002.c.1. bedoelde samenstellingssystemen; |
| --- | --- | --- |

d.

gelegeerde materialen met alle volgende kenmerken:

1.

gemaakt van een van de in 1C002.c.1. bedoelde samenstellingssystemen;

| 2. | in de vorm van niet-vergruisde schilfers, stroken of dunne staven, en |
| --- | --- |

2.

in de vorm van niet-vergruisde schilfers, stroken of dunne staven, en

| 3. | vervaardigd in een beheerst milieu door middel van een van de volgende procedés:






  a. | "versplintering door snelle afkoeling"; |
| --- | --- | --- |

3.

vervaardigd in een beheerst milieu door middel van een van de volgende procedés:

a.

"versplintering door snelle afkoeling";

| b. | "spinnen uit de smelt", of |
| --- | --- |

b.

"spinnen uit de smelt", of

| c. | "smeltextractie". |
| --- | --- |

c.

"smeltextractie".

1C003Magnetische metalen van alle soorten, ongeacht de vorm, met een of meer van de volgende kenmerken:

| a. | een relatieve beginpermeabiliteit van 120 000 of meer en een dikte van 0,05 mm of minder;




  De relatieve beginpermeabiliteit wordt gemeten aan het gespecificeerde materiaal dat volledig ontlaten is. |
| --- | --- |

a.

een relatieve beginpermeabiliteit van 120 000 of meer en een dikte van 0,05 mm of minder;

De relatieve beginpermeabiliteit wordt gemeten aan het gespecificeerde materiaal dat volledig ontlaten is.

| b. | magnetostrictieve legeringen met:






  1. | een verzadigingsmagnetostrictie van meer dan 5 × 10-4, of |
| --- | --- | --- |

b.

magnetostrictieve legeringen met:

1.

een verzadigingsmagnetostrictie van meer dan 5 × 10-4, of

| 2. | een magnetomechanische koppelingsfactor (k) van meer dan 0,8; of |
| --- | --- |

2.

een magnetomechanische koppelingsfactor (k) van meer dan 0,8; of

| c. | strips van amorfe of ‧nanokristallijne‧ legeringen met de volgende eigenschappen:






  1. | een samenstelling met minimaal 75 gewichtspercenten ijzer, kobalt of nikkel, en |
| --- | --- | --- |

c.

strips van amorfe of ‧nanokristallijne‧ legeringen met de volgende eigenschappen:

1.

een samenstelling met minimaal 75 gewichtspercenten ijzer, kobalt of nikkel, en

| 2. | een magnetische verzadigingsinductie (Bs) van 1,6 T of meer, en |
| --- | --- |

2.

een magnetische verzadigingsinductie (Bs) van 1,6 T of meer, en

| 3. | een of meer van de volgende eigenschappen






  a. | een stripdikte van 0,02 mm of minder, of |
| --- | --- | --- |

3.

een of meer van de volgende eigenschappen

a.

een stripdikte van 0,02 mm of minder, of

| b. | een elektrische soortelijke weerstand van 2 × 10-4 ohm cm of meer. |
| --- | --- |

b.

een elektrische soortelijke weerstand van 2 × 10-4 ohm cm of meer.

‧Nanokristallijne‧ materialen in 1C003.c zijn materialen met een kristalkorrelgrootte van hoogstens 50 nm, bepaald door middel van röntgendiffractie.

1C004Uraan-titaanlegeringen of wolfraamlegeringen met een "matrix" op basis van ijzer, nikkel of koper, met de volgende eigenschappen:

| a. | een dichtheid groter dan 17,5 g/cm3; |
| --- | --- |

a.

een dichtheid groter dan 17,5 g/cm3;

| b. | een elastische rekgrens groter dan 880 MPa; |
| --- | --- |

b.

een elastische rekgrens groter dan 880 MPa;

| c. | een breukspanning groter dan 1 270 MPa, en |
| --- | --- |

c.

een breukspanning groter dan 1 270 MPa, en

| d. | een rek groter dan 8 %. |
| --- | --- |

d.

een rek groter dan 8 %.

1C005"Supergeleidende""composiet"-geleiders in lengten groter dan 100 m of met een massa groter dan 100 g, als hieronder:

| a. | "supergeleidende""composiet"-geleiders welke een of meer niobium-titaan-‧filamenten‧ bevatten, met beide volgende eigenschappen:






  1. | ingebed in een "matrix" anders dan een koper-"matrix" of in een op koper gebaseerd "matrix"-mengsel, en |
| --- | --- | --- |

a.

"supergeleidende""composiet"-geleiders welke een of meer niobium-titaan-‧filamenten‧ bevatten, met beide volgende eigenschappen:

1.

ingebed in een "matrix" anders dan een koper-"matrix" of in een op koper gebaseerd "matrix"-mengsel, en

| 2. | met een doorsnedeoppervlak kleiner dan 0,28 × 10-4 mm2 (6 μm diameter voor ronde ‧filamenten‧); |
| --- | --- |

2.

met een doorsnedeoppervlak kleiner dan 0,28 × 10-4 mm2 (6 μm diameter voor ronde ‧filamenten‧);

| b. | "supergeleidende""composiet"-geleiders, bestaande uit één of meer "supergeleidende"‧filamenten‧, anders dan van niobium-titaan, met de volgende eigenschappen:






  1. | een "kritische temperatuur" bij afwezigheid van magnetische inductie hoger dan 9,85 K (– 263,31 °C); en |
| --- | --- | --- |

b.

"supergeleidende""composiet"-geleiders, bestaande uit één of meer "supergeleidende"‧filamenten‧, anders dan van niobium-titaan, met de volgende eigenschappen:

1.

een "kritische temperatuur" bij afwezigheid van magnetische inductie hoger dan 9,85 K (– 263,31 °C); en

| 2. | in een "supergeleidende" toestand blijvend bij een temperatuur van 4,2 K (– 268,96 °C) bij blootstelling aan een magnetisch veld dat loodrecht op de lengteas van de geleider is georiënteerd en overeenstemt met een magnetische inductie van 12 T, met een kritische stroomdichtheid van meer dan 1 750 A/mm2 over de totale doorsnede van de geleider; |
| --- | --- |

2.

in een "supergeleidende" toestand blijvend bij een temperatuur van 4,2 K (– 268,96 °C) bij blootstelling aan een magnetisch veld dat loodrecht op de lengteas van de geleider is georiënteerd en overeenstemt met een magnetische inductie van 12 T, met een kritische stroomdichtheid van meer dan 1 750 A/mm2 over de totale doorsnede van de geleider;

| c. | "supergeleidende""composiet"-geleiders, bestaande uit één of meer "supergeleidende"‧filamenten‧, die "supergeleidend" blijven boven 115 K (– 158,16 °C).




  Voor de toepassing van 1C005 kunnen de ‧filamenten‧ de vorm van een draad, cilinder, film, band of lint hebben. |
| --- | --- |

c.

"supergeleidende""composiet"-geleiders, bestaande uit één of meer "supergeleidende"‧filamenten‧, die "supergeleidend" blijven boven 115 K (– 158,16 °C).

Voor de toepassing van 1C005 kunnen de ‧filamenten‧ de vorm van een draad, cilinder, film, band of lint hebben.

1C006Vloeistoffen en smeermiddelen, als hieronder:

| a. | hydraulische vloeistoffen met als voornaamste bestanddeel één of meer van de onderstaande stoffen:






  1. | ‧oliën van synthetische silakoolwaterstoffen‧ met:




  Voor de toepassing van 1C006.a.1 bevatten ‧oliën van silakoolwaterstoffen‧ uitsluitend silicium, waterstof en koolstof.







  a. | een ‧vlampunt‧ hoger dan 477 K (204 °C); |
| --- | --- | --- | --- |

a.

hydraulische vloeistoffen met als voornaamste bestanddeel één of meer van de onderstaande stoffen:

1.

‧oliën van synthetische silakoolwaterstoffen‧ met:

Voor de toepassing van 1C006.a.1 bevatten ‧oliën van silakoolwaterstoffen‧ uitsluitend silicium, waterstof en koolstof.

a.

een ‧vlampunt‧ hoger dan 477 K (204 °C);

| b. | een ‧vloeipunt‧ bij 239 K (– 34 °C) of lager; |
| --- | --- |

b.

een ‧vloeipunt‧ bij 239 K (– 34 °C) of lager;

| c. | een ‧viscositeitsindex‧ van 75 of hoger, en |
| --- | --- |

c.

een ‧viscositeitsindex‧ van 75 of hoger, en

| d. | een ‧thermische stabiliteit‧ bij 616 K (343 °C) of hoger, of |
| --- | --- |

d.

een ‧thermische stabiliteit‧ bij 616 K (343 °C) of hoger, of

| 2. | ‧chloorfluorkoolstoffen‧ met:




  Voor de toepassing van 1C006.a.2 bevatten ‧chloorfluorkoolstoffen‧ uitsluitend koolstof, fluor en chloor.







  a. | geen ‧vlampunt‧; |
| --- | --- | --- |

2.

‧chloorfluorkoolstoffen‧ met:

Voor de toepassing van 1C006.a.2 bevatten ‧chloorfluorkoolstoffen‧ uitsluitend koolstof, fluor en chloor.

a.

geen ‧vlampunt‧;

| b. | een ‧autogene ontbrandingstemperatuur‧ hoger dan 977 K (704 °C); |
| --- | --- |

b.

een ‧autogene ontbrandingstemperatuur‧ hoger dan 977 K (704 °C);

| c. | een ‧vloeipunt‧ bij 219 K (– 54 °C) of lager; |
| --- | --- |

c.

een ‧vloeipunt‧ bij 219 K (– 54 °C) of lager;

| d. | een ‧viscositeitsindex‧ van 80 of hoger; en |
| --- | --- |

d.

een ‧viscositeitsindex‧ van 80 of hoger; en

| e. | een kookpunt bij 473 K (200 °C) of hoger; |
| --- | --- |

e.

een kookpunt bij 473 K (200 °C) of hoger;

| b. | smeermiddelen met als voornaamste bestanddeel een of meer van de volgende stoffen:






  1. | fenyleen- of alkylfenyleenethers of thio-ethers, of mengsels daarvan, welke meer dan twee ether- of thio-ethergroepen bevatten of combinaties daarvan; of |
| --- | --- | --- |

b.

smeermiddelen met als voornaamste bestanddeel een of meer van de volgende stoffen:

1.

fenyleen- of alkylfenyleenethers of thio-ethers, of mengsels daarvan, welke meer dan twee ether- of thio-ethergroepen bevatten of combinaties daarvan; of

| 2. | gefluoreerde siliconevloeistoffen die een kinematische viscositeit hebben van minder dan 5 000 mm2/s (5 000 centistokes), gemeten bij 298 K (25 °C); |
| --- | --- |

2.

gefluoreerde siliconevloeistoffen die een kinematische viscositeit hebben van minder dan 5 000 mm2/s (5 000 centistokes), gemeten bij 298 K (25 °C);

| c. | dempingsvloeistoffen en flotatievloeistoffen met alle volgende kenmerken:






  1. | met een zuiverheid groter dan 99,8 % |
| --- | --- | --- |

c.

dempingsvloeistoffen en flotatievloeistoffen met alle volgende kenmerken:

1.

met een zuiverheid groter dan 99,8 %

| 2. | met minder dan 25 deeltjes van 200 μm of groter per 100 ml, en |
| --- | --- |

2.

met minder dan 25 deeltjes van 200 μm of groter per 100 ml, en

| 3. | gemaakt van ten minste 85 % van één of meer van onderstaande stoffen:






  a. | dibroomtetrafluorethaan (CAS 25497-30-7, 124-73-2, 27336-23-8); |
| --- | --- | --- |

3.

gemaakt van ten minste 85 % van één of meer van onderstaande stoffen:

a.

dibroomtetrafluorethaan (CAS 25497-30-7, 124-73-2, 27336-23-8);

| b. | polychloortrifluoretheen (uitsluitend olie- en wasmodificaties); of |
| --- | --- |

b.

polychloortrifluoretheen (uitsluitend olie- en wasmodificaties); of

| c. | polybroomtrifluoretheen; |
| --- | --- |

c.

polybroomtrifluoretheen;

| d. | fluorkoolstoffen in koelvloeistoffen voor elektronische systemen met de volgende eigenschappen:






  1. | minstens 85 gewichtspercenten van de volgende stoffen of mengsels daarvan:






  a. | monomeren van perfluorpolyalkylether-triazinen of perfluoralifatische ethers; |
| --- | --- | --- | --- |

d.

fluorkoolstoffen in koelvloeistoffen voor elektronische systemen met de volgende eigenschappen:

1.

minstens 85 gewichtspercenten van de volgende stoffen of mengsels daarvan:

a.

monomeren van perfluorpolyalkylether-triazinen of perfluoralifatische ethers;

| b. | perfluoralkylaminen; |
| --- | --- |

b.

perfluoralkylaminen;

| c. | perfluorcycloalkanen, of |
| --- | --- |

c.

perfluorcycloalkanen, of

| d. | perfluoralkanen; |
| --- | --- |

d.

perfluoralkanen;

| 2. | een dichtheid van 1,5 g/ml of meer bij 298 K (25 °C); |
| --- | --- |

2.

een dichtheid van 1,5 g/ml of meer bij 298 K (25 °C);

| 3. | vloeibaar bij 273 K (0 °C); en |
| --- | --- |

3.

vloeibaar bij 273 K (0 °C); en

| 4. | minstens 60 gewichtspercenten fluor. |
| --- | --- |

4.

minstens 60 gewichtspercenten fluor.

:

Voor de toepassing van 1C006:

| 1. | wordt het ‧vlampunt‧ bepaald door gebruik te maken van de Cleveland Open Cup Methode volgens ASTM D-92 of nationale equivalenten; |
| --- | --- |

1.

wordt het ‧vlampunt‧ bepaald door gebruik te maken van de Cleveland Open Cup Methode volgens ASTM D-92 of nationale equivalenten;

| 2. | wordt het ‧vloeipunt‧ bepaald volgens de methode, beschreven in ASTM D-97, of nationale equivalenten; |
| --- | --- |

2.

wordt het ‧vloeipunt‧ bepaald volgens de methode, beschreven in ASTM D-97, of nationale equivalenten;

| 3. | wordt de ‧viscositeitsindex‧ bepaald volgens de methode, beschreven in ASTM D-2270, of nationale equivalenten; |
| --- | --- |

3.

wordt de ‧viscositeitsindex‧ bepaald volgens de methode, beschreven in ASTM D-2270, of nationale equivalenten;

| 4. | wordt de ‧thermische stabiliteit‧ bepaald volgens onderstaande testprocedure of nationale equivalenten:

  20 ml van de te testen vloeistof wordt gebracht in een roestvrij stalen kamer (type 317) van 46 ml, die de volgende kogels met een (nominale) diameter van 12,5 mm bevat: één van M-10 gereedschapsstaal, één van 52100-staal en één van bronstobin (60 % Cu, 39 % Zn, 0,75 % Sn).
  De kamer wordt gespoeld met stikstofgas, bij atmosferische druk luchtdicht afgesloten en verhit tot 644 ± 6 K (371 ± 6 °C) en gedurende zes uur op deze temperatuur gehouden.
  Het monster wordt geacht thermisch stabiel te zijn indien bij het beëindigen van bovengenoemde procedure aan alle volgende voorwaarden wordt voldaan:







  a. | het gewichtsverlies van elk der kogels is minder dan 10 mg/mm2 van het oppervlak van de kogel; |
| --- | --- | --- |

4.

wordt de ‧thermische stabiliteit‧ bepaald volgens onderstaande testprocedure of nationale equivalenten:

a.

het gewichtsverlies van elk der kogels is minder dan 10 mg/mm2 van het oppervlak van de kogel;

| b. | de verandering in de oorspronkelijke viscositeit zoals vastgesteld bij 311 K (38 °C) is minder dan 25 %; en |
| --- | --- |

b.

de verandering in de oorspronkelijke viscositeit zoals vastgesteld bij 311 K (38 °C) is minder dan 25 %; en

| c. | het totale zuur- of basegetal is kleiner dan 0,40; |
| --- | --- |

c.

het totale zuur- of basegetal is kleiner dan 0,40;

| 5. | wordt de ‧autogene ontbrandingstemperatuur‧ bepaald volgens de methode, beschreven in ASTM E-659, of nationale equivalenten daarvan. |
| --- | --- |

5.

wordt de ‧autogene ontbrandingstemperatuur‧ bepaald volgens de methode, beschreven in ASTM E-659, of nationale equivalenten daarvan.

1C007Keramische basismaterialen, keramische materialen die geen "composieten" zijn, "composieten" met een keramische "matrix", en voorlopermaterialen, als hieronder:

| NB: | ZIE OOK 1C107 |
| --- | --- |

NB:

| a. | basismaterialen bestaande uit enkelvoudige of meervoudige boriden van titaan met een totale hoeveelheid aan metallische verontreiniging, exclusief opzettelijke toevoegingen, van minder dan 5 000 ppm, met een gemiddelde deeltjesgrootte minder dan of gelijk aan 5 μm, terwijl niet meer dan 10 % van de deeltjes groter is dan 10 μm; |
| --- | --- |

a.

basismaterialen bestaande uit enkelvoudige of meervoudige boriden van titaan met een totale hoeveelheid aan metallische verontreiniging, exclusief opzettelijke toevoegingen, van minder dan 5 000 ppm, met een gemiddelde deeltjesgrootte minder dan of gelijk aan 5 μm, terwijl niet meer dan 10 % van de deeltjes groter is dan 10 μm;

| b. | keramische materialen die geen "composieten" zijn in ruwe vorm of als halffabricaat samengesteld uit boriden van titaan met een dichtheid van 98 % van de theoretische dichtheid of hoger;







  : | In 1C007.b zijn niet bedoeld slijpmiddelen. |
| --- | --- | --- |

b.

keramische materialen die geen "composieten" zijn in ruwe vorm of als halffabricaat samengesteld uit boriden van titaan met een dichtheid van 98 % van de theoretische dichtheid of hoger;

:

| c. | keramisch-keramische "composieten" met een glas- of oxide-"matrix" en versterkt met vezels, met alle volgende kenmerken:






  1. | gemaakt van een van de volgende materialen






  a. | Si-N; |
| --- | --- | --- | --- |

c.

keramisch-keramische "composieten" met een glas- of oxide-"matrix" en versterkt met vezels, met alle volgende kenmerken:

1.

gemaakt van een van de volgende materialen

a.

Si-N;

| b. | Si-C; |
| --- | --- |

b.

Si-C;

| c. | Si-Al-O-N; of |
| --- | --- |

c.

Si-Al-O-N; of

| d. | Si-O-N; en |
| --- | --- |

d.

Si-O-N; en

| 2. | met een "specifieke treksterkte" van meer dan 12,7 × 103m; |
| --- | --- |

2.

met een "specifieke treksterkte" van meer dan 12,7 × 103m;

| d. | keramisch-keramische "composieten", met of zonder continue metallische fase, die fijn verdeelde deeltjes of fasen bevatten van enig materiaal met vezel- of whiskerstructuur, en waarbij carbiden of nitriden van silicium, zirkoon of boor de "matrix" vormen; |
| --- | --- |

d.

keramisch-keramische "composieten", met of zonder continue metallische fase, die fijn verdeelde deeltjes of fasen bevatten van enig materiaal met vezel- of whiskerstructuur, en waarbij carbiden of nitriden van silicium, zirkoon of boor de "matrix" vormen;

| e. | voorlopermaterialen (d.w.z. voor speciale doeleinden bestemde polymere of organometaalverbindingen) voor het vervaardigen van welke fase of fasen dan ook van de materialen, bedoeld in 1C007.c, als hieronder:






  1. | polydiorganosilanen (voor het vervaardigen van siliciumcarbide); |
| --- | --- | --- |

e.

voorlopermaterialen (d.w.z. voor speciale doeleinden bestemde polymere of organometaalverbindingen) voor het vervaardigen van welke fase of fasen dan ook van de materialen, bedoeld in 1C007.c, als hieronder:

1.

polydiorganosilanen (voor het vervaardigen van siliciumcarbide);

| 2. | polysilazanen (voor het vervaardigen van siliciumnitride); of |
| --- | --- |

2.

polysilazanen (voor het vervaardigen van siliciumnitride); of

| 3. | polycarbosilazanen (voor het vervaardigen van keramische materialen met silicium-, koolstof- en stikstofcomponenten); |
| --- | --- |

3.

polycarbosilazanen (voor het vervaardigen van keramische materialen met silicium-, koolstof- en stikstofcomponenten);

| f. | keramisch-keramische "composieten" met een oxide- of glas-"matrix", versterkt met continuvezels van één van de volgende systemen:






  1. | Al203 (CAS 1344-28-1); of |
| --- | --- | --- |

f.

keramisch-keramische "composieten" met een oxide- of glas-"matrix", versterkt met continuvezels van één van de volgende systemen:

1.

Al203 (CAS 1344-28-1); of

| 2. | Si-C-N. |
| --- | --- |

2.

Si-C-N.

| : | 1C007.f is niet van toepassing op "composieten" die vezels bevatten van deze systemen met een vezeltreksterkte van minder dan 700 MPa bij 1 273 K (1 000 °C) of een trek-krimpweerstand van meer dan 1 % krimp bij een belasting van 100 MPa bij 1 273 K (1 000 °C) gedurende 100 uren. |
| --- | --- |

:

1C008Niet-gefluoreerde polymeren, als hieronder:

| a. | Imiden, als hieronder:






  1. | bismaleimiden; |
| --- | --- | --- |

a.

Imiden, als hieronder:

1.

bismaleimiden;

| 2. | aromatische polyamide-imiden (PAI) met een glastemperatuur (Tg) van meer dan 563 K (290 °C); |
| --- | --- |

2.

aromatische polyamide-imiden (PAI) met een glastemperatuur (Tg) van meer dan 563 K (290 °C);

| 3. | aromatische polyimiden; |
| --- | --- |

3.

aromatische polyimiden;

| 4. | aromatische polyetherimiden met een glastemperatuur (Tg) van meer dan 513 K (240 °C); |
| --- | --- |

4.

aromatische polyetherimiden met een glastemperatuur (Tg) van meer dan 513 K (240 °C);

| : | 1C008.a. is van toepassing op de stoffen in vloeibare of vaste "smeltbare" vorm, waaronder hars, poeder, pellets, film, vellen, band of lint; |
| --- | --- |

:

:

voor onsmeltbare aromatische polyimiden in film, vellen, band of lint, zie 1A003.

| b. | thermoplastische vloeibare kristalcopolymeren met een warmtevervormingstemperatuur hoger dan 523 K (250 °C), gemeten volgens ISO 75-2 (2004), methode A, of nationale equivalenten, bij een belasting van 1,80 N/mm2 en samengesteld uit:






  1. | één van beide volgende verbindingen:






  a. | fenyleen, bifenyleen of naftaleen, |
| --- | --- | --- | --- |

b.

thermoplastische vloeibare kristalcopolymeren met een warmtevervormingstemperatuur hoger dan 523 K (250 °C), gemeten volgens ISO 75-2 (2004), methode A, of nationale equivalenten, bij een belasting van 1,80 N/mm2 en samengesteld uit:

1.

één van beide volgende verbindingen:

a.

fenyleen, bifenyleen of naftaleen,

| b. | fenyleen, bifenyleen of naftaleen met methyl-, tertiair butyl- of fenylsubstitutie, en |
| --- | --- |

b.

fenyleen, bifenyleen of naftaleen met methyl-, tertiair butyl- of fenylsubstitutie, en

| 2. | één van de volgende zuren:






  a. | tereftaalzuur (CAS 100-21-0); |
| --- | --- | --- |

2.

één van de volgende zuren:

a.

tereftaalzuur (CAS 100-21-0);

| b. | 6-hydroxy-2-naftoëzuur (CAS 16712-64-4); of |
| --- | --- |

b.

6-hydroxy-2-naftoëzuur (CAS 16712-64-4); of

| c. | 4-hydroxybenzoëzuur (CAS 99-96-7); |
| --- | --- |

c.

4-hydroxybenzoëzuur (CAS 99-96-7);

| c. | niet gebruikt, |
| --- | --- |

c.

niet gebruikt,

| d. | polyaryleenketonen; |
| --- | --- |

d.

polyaryleenketonen;

| e. | polyaryleensulfiden, waarbij de arylgroep bestaat uit bifenyleen, trifenyleen of combinaties daarvan; |
| --- | --- |

e.

polyaryleensulfiden, waarbij de arylgroep bestaat uit bifenyleen, trifenyleen of combinaties daarvan;

| f. | polybifenyleenethersulfonen met een ‧glastemperatuur (Tg)‧ van meer dan 513 K (240 °C). |
| --- | --- |

f.

polybifenyleenethersulfonen met een ‧glastemperatuur (Tg)‧ van meer dan 513 K (240 °C).

De ‧glastemperatuur (Tg)‧ voor de in 1C008 bedoelde materialen wordt bepaald volgens de methode, beschreven in ISO 11357-2 (1999) of nationale equivalenten. Wat de in 1C008.a.2 materialen betreft, wordt de glastermperatuur (Tg) bepaald aan de hand van een PAI-staal dat eerst gedurende ten minste 15 minuten is gevulkaniseerd op een minimumtemperatuur van 310 °C.

1C009Onbewerkte fluorverbindingen, als hieronder:

| a. | co-polymeren van vinylideenfluoride met 75 % of meer bèta kristallijnstructuur zonder strekken; |
| --- | --- |

a.

co-polymeren van vinylideenfluoride met 75 % of meer bèta kristallijnstructuur zonder strekken;

| b. | gefluoreerde polyimiden die 10 of meer gewichtspercenten gebonden fluor bevatten; |
| --- | --- |

b.

gefluoreerde polyimiden die 10 of meer gewichtspercenten gebonden fluor bevatten;

| c. | gefluoreerde fosfazeen elastomeren die 30 of meer gewichtspercenten gebonden fluor bevatten. |
| --- | --- |

c.

gefluoreerde fosfazeen elastomeren die 30 of meer gewichtspercenten gebonden fluor bevatten.

1C010"Stapel- en continuvezelmateriaal", als hieronder:

| NB: | ZIE OOK 1C210 EN 9C110 |
| --- | --- |

NB:

| a. | organisch "stapel- en continuvezelmateriaal" met beide volgende eigenschappen:






  1. | "specifieke modulus" groter dan 12,7 × 106 m, en |
| --- | --- | --- |

a.

organisch "stapel- en continuvezelmateriaal" met beide volgende eigenschappen:

1.

"specifieke modulus" groter dan 12,7 × 106 m, en

| 2. | "specifieke treksterkte" groter dan 23,5 × 104 m; |
| --- | --- |

2.

"specifieke treksterkte" groter dan 23,5 × 104 m;

| : | 1C010.a is niet van toepassing op polyethyleen. |
| --- | --- |

:

| b. | "stapel- en continuvezelmateriaal" van koolstof met beide volgende eigenschappen:






  1. | "specifieke modulus" groter dan 14,65 × 106 m, en |
| --- | --- | --- |

b.

"stapel- en continuvezelmateriaal" van koolstof met beide volgende eigenschappen:

1.

"specifieke modulus" groter dan 14,65 × 106 m, en

| 2. | "specifieke treksterkte" groter dan 26,82 × 104 m; |
| --- | --- |

2.

"specifieke treksterkte" groter dan 26,82 × 104 m;

| : | 1C010.b is niet van toepassing op:







  a. | weefsels, gemaakt van "stapel- of continuvezelmateriaal" voor de reparatie van casco's of laminaten van "civiele vliegtuigen", met de volgende eigenschappen:








  1. | een oppervlakte van maximaal 1 m2; |
| --- | --- | --- | --- |

:

a.

weefsels, gemaakt van "stapel- of continuvezelmateriaal" voor de reparatie van casco's of laminaten van "civiele vliegtuigen", met de volgende eigenschappen:

1.

een oppervlakte van maximaal 1 m2;

| 2. | een lengte van maximaal 2,5 m; en |
| --- | --- |

2.

een lengte van maximaal 2,5 m; en

| 3. | een breedte van meer dan 15 mm. |
| --- | --- |

3.

een breedte van meer dan 15 mm.

| b. | mechanisch verhakseld, vermalen of gesneden "stapel- en continuvezelmateriaal" van koolstof met een lengte van 25,0 mm of minder. |
| --- | --- |

b.

mechanisch verhakseld, vermalen of gesneden "stapel- en continuvezelmateriaal" van koolstof met een lengte van 25,0 mm of minder.

:

De eigenschappen van materialen als bedoeld in 1C010.b dienen te worden bepaald met gebruik van aanbevolen methoden SRM 12 t/m 17 van Suppliers of Advanced Composite Materials Association (SACMA), ISO 10618 (2004) 10.2.1 methode A, of gelijkwaardige nationale trektests, en dienen te zijn gebaseerd op de gemiddelde waarden van een partij.

| c. | anorganisch "stapel- en continuvezelmateriaal" met beide volgende eigenschappen:






  1. | "specifieke modulus" groter dan 2,5 × 106 m; en |
| --- | --- | --- |

c.

anorganisch "stapel- en continuvezelmateriaal" met beide volgende eigenschappen:

1.

"specifieke modulus" groter dan 2,5 × 106 m; en

| 2. | smelt-, verwekings-, en ontledings- of sublimatiepunt hoger dan 1 922 K (1 649 °C) in een inerte atmosfeer; |
| --- | --- |

2.

smelt-, verwekings-, en ontledings- of sublimatiepunt hoger dan 1 922 K (1 649 °C) in een inerte atmosfeer;

| : | in 1C010.c zijn niet bedoeld:







  a. | discontinue, meerfasige, polykristallijne aluminiumoxide-vezels als stapelvezels of als onregelmatig gelaagde matten, welke 3 of meer gewichtspercenten siliciumdioxide bevatten, met een "specifieke modulus" kleiner dan 10 × 106 m; |
| --- | --- | --- |

:

a.

discontinue, meerfasige, polykristallijne aluminiumoxide-vezels als stapelvezels of als onregelmatig gelaagde matten, welke 3 of meer gewichtspercenten siliciumdioxide bevatten, met een "specifieke modulus" kleiner dan 10 × 106 m;

| b. | vezels van molybdeen en molybdeenlegeringen; |
| --- | --- |

b.

vezels van molybdeen en molybdeenlegeringen;

| c. | boorvezels; |
| --- | --- |

c.

boorvezels;

| d. | discontinue keramische vezels met een smelt-, verwekings-, ontledings- of sublimatiepunt lager dan 2 043 K (1 770 °C) in een inerte atmosfeer; |
| --- | --- |

d.

discontinue keramische vezels met een smelt-, verwekings-, ontledings- of sublimatiepunt lager dan 2 043 K (1 770 °C) in een inerte atmosfeer;

| d. | "stapel- of continuvezelmateriaal" met één of meer van de onderstaande eigenschappen:






  1. | samengesteld uit een of meer van de volgende materialen:






  a. | polyetherimiden, als bedoeld in 1C008.a, of |
| --- | --- | --- | --- |

d.

"stapel- of continuvezelmateriaal" met één of meer van de onderstaande eigenschappen:

1.

samengesteld uit een of meer van de volgende materialen:

a.

polyetherimiden, als bedoeld in 1C008.a, of

| b. | materialen, als bedoeld in 1C008.b t.em. f, |
| --- | --- |

b.

materialen, als bedoeld in 1C008.b t.em. f,

| 2. | samengesteld uit andere materialen als bedoeld in 1C010.d.1.a, of 1C010d.1.b, en "vermengd" (‹commingled›) met andere vezels als bedoeld in 1C010.a, 1C010.b of 1C010.c; |
| --- | --- |

2.

samengesteld uit andere materialen als bedoeld in 1C010.d.1.a, of 1C010d.1.b, en "vermengd" (‹commingled›) met andere vezels als bedoeld in 1C010.a, 1C010.b of 1C010.c;

| e. | geheel of gedeeltelijk met hars of asfaltbitumen geïmpregneerd "stapel- en continuvezelmateriaal" (‹prepregs›), met metaal of koolstof bekleed "stapel- en continuvezelmateriaal" (‹preforms›) of "halffabricaten (‹preforms›) voor koolstofvezels", met de volgende eigenschappen:






  1. | met één of meer van de onderstaande eigenschappen:






  a. | anorganisch "stapel- of continuvezelmateriaal" als bedoeld in 1C010.c; of |
| --- | --- | --- | --- |

e.

geheel of gedeeltelijk met hars of asfaltbitumen geïmpregneerd "stapel- en continuvezelmateriaal" (‹prepregs›), met metaal of koolstof bekleed "stapel- en continuvezelmateriaal" (‹preforms›) of "halffabricaten (‹preforms›) voor koolstofvezels", met de volgende eigenschappen:

1.

met één of meer van de onderstaande eigenschappen:

a.

anorganisch "stapel- of continuvezelmateriaal" als bedoeld in 1C010.c; of

| b. | organisch "stapel- of continuvezelmateriaal" of "stapel- of continuvezelmateriaal" van koolstof met alle onderstaande eigenschappen:






  1. | "specifieke modulus" groter dan 10,15 × 106 m; en |
| --- | --- | --- |

b.

organisch "stapel- of continuvezelmateriaal" of "stapel- of continuvezelmateriaal" van koolstof met alle onderstaande eigenschappen:

1.

"specifieke modulus" groter dan 10,15 × 106 m; en

| 2. | "specifieke treksterkte" groter dan 17,7 × 104 m; en |
| --- | --- |

2.

"specifieke treksterkte" groter dan 17,7 × 104 m; en

| 2. | met één of meer van de onderstaande eigenschappen:






  a. | hars of asfaltbitumen, als bedoeld in 1C008 of 1C009.b.; |
| --- | --- | --- |

2.

met één of meer van de onderstaande eigenschappen:

a.

hars of asfaltbitumen, als bedoeld in 1C008 of 1C009.b.;

| b. | ‧middels dynamisch-mechanische analyse bepaalde glasovergangstemperatuur (DMA Tg)‧ gelijk aan of hoger dan 453 K (180 °C) en met fenolhars; of |
| --- | --- |

b.

‧middels dynamisch-mechanische analyse bepaalde glasovergangstemperatuur (DMA Tg)‧ gelijk aan of hoger dan 453 K (180 °C) en met fenolhars; of

| c. | ‧middels dynamisch-mechanische analyse bepaalde glasovergangstemperatuur (DMA Tg)‧ gelijk aan of hoger dan 505 K (232 °C) en met hars of asfaltbitumen, niet nader omschreven in 1C008 of 1C009.b., en niet zijnde een fenolhars; |
| --- | --- |

c.

‧middels dynamisch-mechanische analyse bepaalde glasovergangstemperatuur (DMA Tg)‧ gelijk aan of hoger dan 505 K (232 °C) en met hars of asfaltbitumen, niet nader omschreven in 1C008 of 1C009.b., en niet zijnde een fenolhars;

| : | met metaal of koolstof bekleed "stapel- of continuvezelmateriaal" (‹preforms›) of niet met hars of asfaltbitumen geïmpregneerde "halffabricaten (‹preforms›) voor koolstofvezels" worden omschreven onder "stapel- en continuvezelmateriaal" in 1C010.a., 1C010.b. of 1C010.c. |
| --- | --- |

:

| : | 1C010.e is niet van toepassing op







  a. | met epoxyhars geïmpregneerd koolstof-"stapel- of continuvezelmateriaal" (‹prepregs›) voor de reparatie van casco's of laminaten van "civiele vliegtuigen" met de volgende eigenschappen:








  1. | een oppervlakte van maximaal 1 m2; |
| --- | --- | --- | --- |

:

a.

met epoxyhars geïmpregneerd koolstof-"stapel- of continuvezelmateriaal" (‹prepregs›) voor de reparatie van casco's of laminaten van "civiele vliegtuigen" met de volgende eigenschappen:

1.

een oppervlakte van maximaal 1 m2;

| 2. | een lengte van maximaal 2,5 m; |
| --- | --- |

2.

een lengte van maximaal 2,5 m;

| 3. | een breedte van meer dan 15 mm. |
| --- | --- |

3.

een breedte van meer dan 15 mm.

| b. | geheel of gedeeltelijk met hars of asfaltbitumen geïmpregneerd en mechanisch verhakseld, vermalen of gesneden "stapel- en continuvezelmateriaal" van koolstof met een lengte van 25,0 mm of minder wanneer ander dan onder 1C008 of 1C009.b. vermeld hars of asfaltbitumen wordt gebruikt |
| --- | --- |

b.

geheel of gedeeltelijk met hars of asfaltbitumen geïmpregneerd en mechanisch verhakseld, vermalen of gesneden "stapel- en continuvezelmateriaal" van koolstof met een lengte van 25,0 mm of minder wanneer ander dan onder 1C008 of 1C009.b. vermeld hars of asfaltbitumen wordt gebruikt

:

De ‧middels dynamisch-mechanische analyse bepaalde glasovergangstemperatuur (DMA Tg)‧ voor de materialen bedoeld in 1C010.e. wordt bepaald volgens de in ASTM D 7028-07 beschreven methode, of een vergelijkbare nationale norm. Voor thermogeharde materialen bedraagt het vulkaniseringsgehalte van een droog staal minimaal 90 %, als omschreven in ASTM E 2160-04 of een vergelijkbare nationale norm.

1C011Metalen en verbindingen, als hieronder:

| NB: | ZIE OOK LIJST MILITAIRE GOEDEREN en 1C111 |
| --- | --- |

NB:

| a. | Metalen met een deeltjesgrootte van minder dan 60 μm, hetzij bolvormig, verstoven, sferoïdisch, in vlokkenvorm of gemalen, vervaardigd uit materiaal dat voor 99 % of meer bestaat uit zirkonium, magnesium en legeringen daarvan;

  :


  Het natuurlijke hafniumgehalte van het zirkonium (normaal 2 % tot 7 %) wordt bij het zirkonium gerekend.








  : | De metalen of legeringen in 1C011.a vallen onder de regeling, ongeacht of zij al dan niet zijn ingekapseld in aluminium, magnesium, zirkonium of beryllium. |
| --- | --- | --- |

a.

Metalen met een deeltjesgrootte van minder dan 60 μm, hetzij bolvormig, verstoven, sferoïdisch, in vlokkenvorm of gemalen, vervaardigd uit materiaal dat voor 99 % of meer bestaat uit zirkonium, magnesium en legeringen daarvan;

:

Het natuurlijke hafniumgehalte van het zirkonium (normaal 2 % tot 7 %) wordt bij het zirkonium gerekend.

:

| b. | Boor of boorlegeringen met een deeltjesgrootte van hoogstens 60 μm, als hieronder:






  1. | boor met een zuiverheid van minstens 85 gewichtspercenten; |
| --- | --- | --- |

b.

Boor of boorlegeringen met een deeltjesgrootte van hoogstens 60 μm, als hieronder:

1.

boor met een zuiverheid van minstens 85 gewichtspercenten;

| 2. | boorlegeringen die minstens 85 gewichtspercenten boor bevatten;







  : | De metalen of legeringen in 1C011.b vallen onder de regeling, ongeacht of zij al dan niet zijn ingekapseld in aluminium, magnesium, zirkonium of beryllium. |
| --- | --- | --- |

2.

boorlegeringen die minstens 85 gewichtspercenten boor bevatten;

:

| c. | Guanidinenitraat (CAS 506-93-4); |
| --- | --- |

c.

Guanidinenitraat (CAS 506-93-4);

| d. | Nitroguanidine (NQ) (CAS 556-88-7).

  :


  Zie tevens de lijst militaire goederen voor metaalpoeders die met andere stoffen worden gemengd tot mengsels voor militair gebruik |
| --- | --- |

d.

Nitroguanidine (NQ) (CAS 556-88-7).

:

Zie tevens de lijst militaire goederen voor metaalpoeders die met andere stoffen worden gemengd tot mengsels voor militair gebruik

1C012Materialen, als hieronder:

:

Deze materialen worden doorgaans voor nucleaire warmtebronnen gebruikt.

| a. | plutonium in iedere vorm met een plutonium-isotoopgehalte aan plutonium-238 van meer dan 50 gewichtsprocent;








  : | 1C012.a is niet van toepassing op:







  a. | zendingen die hoogstens 1 % plutonium bevatten; |
| --- | --- | --- | --- |

a.

plutonium in iedere vorm met een plutonium-isotoopgehalte aan plutonium-238 van meer dan 50 gewichtsprocent;

:

a.

zendingen die hoogstens 1 % plutonium bevatten;

| b. | zendingen van hoogstens 3 "effectieve grammen" in een afgesloten gedeelte van een meetelement in instrumenten. |
| --- | --- |

b.

zendingen van hoogstens 3 "effectieve grammen" in een afgesloten gedeelte van een meetelement in instrumenten.

| b. | "door opwerking verkregen" neptunium-237 in iedere vorm.








  : | 1C012.b. is niet van toepassing op zendingen die hoogstens 1 gram neptunium-237 bevatten. |
| --- | --- | --- |

b.

"door opwerking verkregen" neptunium-237 in iedere vorm.

:

1C101Materialen voor het beperken van de zichtbaarheid zoals de radarreflectie, het ultraviolet/infrarood of akoestische beeld, anders dan de materialen bedoeld in 1C001, geschikt voor gebruik in "raketten", subsystemen van raketten of onbemande luchtvaartuigen, bedoeld in 9A012.

| : | 1C101 omvat:







  a. | constructiematerialen en deklagen, speciaal ontworpen om de radarreflectie te beperken; |
| --- | --- | --- |

:

a.

constructiematerialen en deklagen, speciaal ontworpen om de radarreflectie te beperken;

| b. | deklagen, inclusief verven, speciaal ontworpen om de reflectie of de uitstraling in het microgolf-, infrarood- of ultravioletgebied te beperken of aan te passen. |
| --- | --- |

b.

deklagen, inclusief verven, speciaal ontworpen om de reflectie of de uitstraling in het microgolf-, infrarood- of ultravioletgebied te beperken of aan te passen.

| : | 1C101 omvat niet deklagen die speciaal bedoeld zijn om de thermische stabiliteit van satellieten te regelen. |
| --- | --- |

:

In 1C101 worden onder ‧raketten‧ complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen verstaan die een last kunnen vervoeren over een afstand van ten minste 300 km.

1C102Opnieuw verzadigde, door pyrolyse verkregen koolstof-koolstof-materialen bestemd voor ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104.

1C107Niet in 1C007 beschreven grafiet en keramische materialen, als hieronder:

| a. | grafiet met een kleine korrelgrootte en met een volumedichtheid van ten minste 1,72 g/cm3 gemeten bij 288 K (15 °C), met een korrelgrootte van 100 μm of minder, geschikt voor raketstraalpijpen of neuskegels van terugkeervoertuigen, dat gebruikt kan worden bij de productie van:






  1. | Cilinders met een diameter van ten minste 120 mm en een lengte van ten minste 50 mm; |
| --- | --- | --- |

a.

grafiet met een kleine korrelgrootte en met een volumedichtheid van ten minste 1,72 g/cm3 gemeten bij 288 K (15 °C), met een korrelgrootte van 100 μm of minder, geschikt voor raketstraalpijpen of neuskegels van terugkeervoertuigen, dat gebruikt kan worden bij de productie van:

1.

Cilinders met een diameter van ten minste 120 mm en een lengte van ten minste 50 mm;

| 2. | Buizen met een binnendiameter van ten minste 65 mm, een wanddikte van ten minste 25 mm en een lengte van ten minste 50 mm; of |
| --- | --- |

2.

Buizen met een binnendiameter van ten minste 65 mm, een wanddikte van ten minste 25 mm en een lengte van ten minste 50 mm; of

| 3. | Blokken met een minimumomvang van 120 × 120 × 50 mm. |
| --- | --- |

3.

Blokken met een minimumomvang van 120 × 120 × 50 mm.

| : | Zie ook 0C004 |
| --- | --- |

:

| b. | pyrolytisch of vezelversterkt grafiet, geschikt voor "raket" straalpijpen of neuskegels van terugkeervoertuigen voor gebruik in "raketten", ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004 of sonderingsraketten bedoeld in 9A104;







  : | Zie ook 0C004 |
| --- | --- | --- |

b.

pyrolytisch of vezelversterkt grafiet, geschikt voor "raket" straalpijpen of neuskegels van terugkeervoertuigen voor gebruik in "raketten", ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004 of sonderingsraketten bedoeld in 9A104;

:

| c. | keramische composieten (diëlektrische constante kleiner dan 6 bij een frequentie van 100 MHz tot 100 GHz), geschikt voor radarkoepels voor gebruik in "raketten", ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004 of sonderingsraketten bedoeld in 9A104; |
| --- | --- |

c.

keramische composieten (diëlektrische constante kleiner dan 6 bij een frequentie van 100 MHz tot 100 GHz), geschikt voor radarkoepels voor gebruik in "raketten", ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004 of sonderingsraketten bedoeld in 9A104;

| d. | zgn. groene, bewerkbare, met siliciumcarbide versterkte keramiek, geschikt voor neuskegels voor gebruik in "raketten", ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004 of sonderingsraketten bedoeld in 9A104; |
| --- | --- |

d.

zgn. groene, bewerkbare, met siliciumcarbide versterkte keramiek, geschikt voor neuskegels voor gebruik in "raketten", ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004 of sonderingsraketten bedoeld in 9A104;

| e. | composieten van met siliciumcarbide versterkte keramiek, geschikt voor neuskegels, terugkeervoertuigen en straalpijpen, bruikbaar voor "raketten", ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004 of sonderingsraketten bedoeld in 9A104. |
| --- | --- |

e.

composieten van met siliciumcarbide versterkte keramiek, geschikt voor neuskegels, terugkeervoertuigen en straalpijpen, bruikbaar voor "raketten", ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004 of sonderingsraketten bedoeld in 9A104.

1C111Niet in 1C011 beschreven stuwstoffen en chemicaliën voor de vervaardiging van stuwstoffen, als hieronder:

| a. | stoffen die stuwkracht leveren:






  1. | bolvormig aluminiumpoeder, anders dan bedoeld in de Lijst militaire goederen, met deeltjes met een uniforme diameter kleiner dan 200 μm en een aluminiumgehalte van 97 gewichtspercenten of meer, indien ten minste 10 % van het totaalgewicht bestaat uit deeltjes van minder dan 63 μm overeenkomstig ISO 2591:1988 of nationale equivalenten;




  Een deeltjesgrootte van 63 μm (ISO R-565) stemt overeen met maasgetal 250 (Tyler) of 230 (ASTM Standard E-11). |
| --- | --- | --- |

a.

stoffen die stuwkracht leveren:

1.

bolvormig aluminiumpoeder, anders dan bedoeld in de Lijst militaire goederen, met deeltjes met een uniforme diameter kleiner dan 200 μm en een aluminiumgehalte van 97 gewichtspercenten of meer, indien ten minste 10 % van het totaalgewicht bestaat uit deeltjes van minder dan 63 μm overeenkomstig ISO 2591:1988 of nationale equivalenten;

Een deeltjesgrootte van 63 μm (ISO R-565) stemt overeen met maasgetal 250 (Tyler) of 230 (ASTM Standard E-11).

| 2. | metaalbrandstoffen, anders dan bedoeld in de Lijst van militaire goederen, met een deeltjesgrootte kleiner dan 60 μm, hetzij bolvormig, verstoven, sferoïdisch, in vlokkenvorm of gemalen, welke 97 gewichtspercenten of meer van één van onderstaande stoffen bevatten:






  a. | zirkonium; |
| --- | --- | --- |

2.

metaalbrandstoffen, anders dan bedoeld in de Lijst van militaire goederen, met een deeltjesgrootte kleiner dan 60 μm, hetzij bolvormig, verstoven, sferoïdisch, in vlokkenvorm of gemalen, welke 97 gewichtspercenten of meer van één van onderstaande stoffen bevatten:

a.

zirkonium;

| b. | beryllium; |
| --- | --- |

b.

beryllium;

| c. | magnesium, |
| --- | --- |

c.

magnesium,

| d. | legeringen van de onder a tot en met c genoemde metalen; |
| --- | --- |

d.

legeringen van de onder a tot en met c genoemde metalen;

Het natuurlijke hafniumgehalte van het zirkonium (normaal 2 % tot 7 %) wordt bij het zirkonium gerekend.

| 3. | oxidatoren geschikt voor raketmotoren voor vloeibare stuwstof, als hieronder:






  a. | distikstoftrioxide (CAS 10544-73-7); |
| --- | --- | --- |

3.

oxidatoren geschikt voor raketmotoren voor vloeibare stuwstof, als hieronder:

a.

distikstoftrioxide (CAS 10544-73-7);

| b. | stikstofdioxide (CAS 10102-44-0)/distikstoftetraoxide (CAS 10544-72-6); |
| --- | --- |

b.

stikstofdioxide (CAS 10102-44-0)/distikstoftetraoxide (CAS 10544-72-6);

| c. | distikstofpentoxide (CAS 10102-03-1); |
| --- | --- |

c.

distikstofpentoxide (CAS 10102-03-1);

| d. | mengsels van stikstofoxiden (mixed oxides of nitrogen, MON);




  Mengsels van stikstofoxiden (MON) zijn oplossingen van stikstofoxide (NO) in distikstoftetraoxide/stikstofdioxide (N2O4 /NO2) die in raketsystemen kunnen worden gebruikt. Er bestaan diverse verbindingen die als MONi of MONij kunnen worden aangeduid, waarbij i en j hele getallen zijn die het percentage stikstofoxide in het mengsel weergeven (zo bevat MON3 3 % stikstofoxide en MON25 25 %. Een bovengrens is MON40, d.w.z. 40 gewichtsprocent). |
| --- | --- |

d.

mengsels van stikstofoxiden (mixed oxides of nitrogen, MON);

Mengsels van stikstofoxiden (MON) zijn oplossingen van stikstofoxide (NO) in distikstoftetraoxide/stikstofdioxide (N2O4 /NO2) die in raketsystemen kunnen worden gebruikt. Er bestaan diverse verbindingen die als MONi of MONij kunnen worden aangeduid, waarbij i en j hele getallen zijn die het percentage stikstofoxide in het mengsel weergeven (zo bevat MON3 3 % stikstofoxide en MON25 25 %. Een bovengrens is MON40, d.w.z. 40 gewichtsprocent).

| e. | ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR geïnhibeerd roodrokend salpeterzuur (Inhibited Red Fuming Nitric Acid, IRFNA); |
| --- | --- |

e.

ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR geïnhibeerd roodrokend salpeterzuur (Inhibited Red Fuming Nitric Acid, IRFNA);

| f. | ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN EN 1C238 VOOR verbindingen bestaande uit fluor en een of meer andere halogenen, zuurstof of stikstof; |
| --- | --- |

f.

ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN EN 1C238 VOOR verbindingen bestaande uit fluor en een of meer andere halogenen, zuurstof of stikstof;

| 4. | Hydrazinederivaten, als hieronder:







  NB: | ZIE OOK LIJST MILITAIRE GOEDEREN |
| --- | --- | --- |

4.

Hydrazinederivaten, als hieronder:

NB:

| a. | trimethylhydrazine (CAS 1741-01-1); |
| --- | --- |

a.

trimethylhydrazine (CAS 1741-01-1);

| b. | tetramethylhydrazine (CAS 6415-12-9); |
| --- | --- |

b.

tetramethylhydrazine (CAS 6415-12-9);

| c. | N,N diallylhydrazine; |
| --- | --- |

c.

N,N diallylhydrazine;

| d. | allylhydrazine (CAS 7422-78-8); |
| --- | --- |

d.

allylhydrazine (CAS 7422-78-8);

| e. | ethyleendihydrazine; |
| --- | --- |

e.

ethyleendihydrazine;

| f. | monomethylhydrazinedinitraat; |
| --- | --- |

f.

monomethylhydrazinedinitraat;

| g. | asymmetrisch dimethylhydrazinenitraat; |
| --- | --- |

g.

asymmetrisch dimethylhydrazinenitraat;

| h. | hydraziniumazide (CAS 14546-44-2); |
| --- | --- |

h.

hydraziniumazide (CAS 14546-44-2);

| i. | dimethylhydraziniumazide; |
| --- | --- |

i.

dimethylhydraziniumazide;

| j. | hydraziniumdinitraat; |
| --- | --- |

j.

hydraziniumdinitraat;

| k. | diimide oxaalzuurdihydrazine (CAS 3457-37-2); |
| --- | --- |

k.

diimide oxaalzuurdihydrazine (CAS 3457-37-2);

| l. | 2-hydroxyethylhydrazinenitraat (HEHN); |
| --- | --- |

l.

2-hydroxyethylhydrazinenitraat (HEHN);

| m. | Zie lijst militaire goederen voor hydraziniumperchloraat; |
| --- | --- |

m.

Zie lijst militaire goederen voor hydraziniumperchloraat;

| n. | hydraziniumdiperchloraat (CAS 13812-39-0); |
| --- | --- |

n.

hydraziniumdiperchloraat (CAS 13812-39-0);

| o. | methylhydrazinenitraat (MHN); |
| --- | --- |

o.

methylhydrazinenitraat (MHN);

| p. | diethylhydrazinenitraat (DEHN); |
| --- | --- |

p.

diethylhydrazinenitraat (DEHN);

| q. | 3,6-dihydrazinetetrazinenitraat (1,4-dihydrazinenitraat) (DHTN); |
| --- | --- |

q.

3,6-dihydrazinetetrazinenitraat (1,4-dihydrazinenitraat) (DHTN);

| 5. | materialen met hoge energiedichtheid, anders dan bedoeld in de Lijst militaire goederen, die kunnen worden gebruikt in ‧raketten‧ of onbemande luchtvaartuigen, bedoeld in 9A012;






  a. | gemengde brandstof die zowel vaste als vloeibare brandstof bevat, zoals boriumspecie, met een energiedichtheid op massabasis van minimaal 40 × 106 J/kg; |
| --- | --- | --- |

5.

materialen met hoge energiedichtheid, anders dan bedoeld in de Lijst militaire goederen, die kunnen worden gebruikt in ‧raketten‧ of onbemande luchtvaartuigen, bedoeld in 9A012;

a.

gemengde brandstof die zowel vaste als vloeibare brandstof bevat, zoals boriumspecie, met een energiedichtheid op massabasis van minimaal 40 × 106 J/kg;

| b. | andere brandstoffen met hoge energiedichtheid en brandstofadditieven (bv. cubaan, ionische oplossingen, JP-10), met een energiedichtheid op massabasis van minimaal 37,5 × 109 J/m3, gemeten bij 20 oC en een atmosferische druk van één (101,325 kPa);







  : | 1C111.a.5.b. is niet van toepassing op fossiele geraffineerde brandstoffen en uit groenten gewonnen biobrandstoffen, daaronder begrepen brandstoffen voor motoren die gecertificeerd zijn voor gebruik in de civiele luchtvaart, tenzij deze speciaal zijn bestemd voor ‧raketten‧ of onbemande luchtvaartuigen als bedoeld in 9A012. |
| --- | --- | --- |

b.

andere brandstoffen met hoge energiedichtheid en brandstofadditieven (bv. cubaan, ionische oplossingen, JP-10), met een energiedichtheid op massabasis van minimaal 37,5 × 109 J/m3, gemeten bij 20 oC en een atmosferische druk van één (101,325 kPa);

:

:

In 1C111.a.5. worden onder ‧raketten‧ verstaan, complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen die een afstand van méér dan 300 km kunnen overbruggen.

| b. | polymeren:






  1. | polybutadieen met carboxy-eindgroep (met inbegrip van polybutadieen met carboxyl-eindgroep) (CTPB); |
| --- | --- | --- |

b.

polymeren:

1.

polybutadieen met carboxy-eindgroep (met inbegrip van polybutadieen met carboxyl-eindgroep) (CTPB);

| 2. | polybutadieen met hydroxy-eindgroep (met inbegrip van polybutadieen met hydroxyl-eindgroep) (HTPB), anders dan bedoeld in de Lijst militaire goederen; |
| --- | --- |

2.

polybutadieen met hydroxy-eindgroep (met inbegrip van polybutadieen met hydroxyl-eindgroep) (HTPB), anders dan bedoeld in de Lijst militaire goederen;

| 3. | polybutadieen-acrylzuur (PBAA); |
| --- | --- |

3.

polybutadieen-acrylzuur (PBAA);

| 4. | polybutadieen-acrylzuur-acrylonitril (PBAN); |
| --- | --- |

4.

polybutadieen-acrylzuur-acrylonitril (PBAN);

| 5. | polytetrahydrofuraan polyethyleenglycol (TPEG);




  polytetrahydrofuraan polyethyleenglycol (TPEG) is een blokcopolymeer van poly 1,4-butaandiol en polyethyleenglycol (PEG). |
| --- | --- |

5.

polytetrahydrofuraan polyethyleenglycol (TPEG);

polytetrahydrofuraan polyethyleenglycol (TPEG) is een blokcopolymeer van poly 1,4-butaandiol en polyethyleenglycol (PEG).

| c. | andere additieven en hulpstoffen voor stuwstoffen:







  1. | ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR carboranen; decaboranen; pentaboranen en derivaten; |
| --- | --- | --- |

c.

andere additieven en hulpstoffen voor stuwstoffen:

1.

ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR carboranen; decaboranen; pentaboranen en derivaten;

| 2. | triethyleenglycoldinitraat (TEGDN) (CAS 111-22-8); |
| --- | --- |

2.

triethyleenglycoldinitraat (TEGDN) (CAS 111-22-8);

| 3. | 2-nitrodifenylamine (CAS 119-75-5); |
| --- | --- |

3.

2-nitrodifenylamine (CAS 119-75-5);

| 4. | trimethylethaantrinitraat (TMETN) (CAS 3032-55-1); |
| --- | --- |

4.

trimethylethaantrinitraat (TMETN) (CAS 3032-55-1);

| 5. | diethyleenglycoldinitraat (DEGDN) (CAS 693-21-0); |
| --- | --- |

5.

diethyleenglycoldinitraat (DEGDN) (CAS 693-21-0);

| 6. | ferroceenderivaten, als hieronder:







  a. | zie lijst militaire goederen voor catoceen |
| --- | --- | --- |

6.

ferroceenderivaten, als hieronder:

a.

zie lijst militaire goederen voor catoceen

| b. | ethylferroceen (CAS 1273-89-8) |
| --- | --- |

b.

ethylferroceen (CAS 1273-89-8)

| c. | propylferroceen |
| --- | --- |

c.

propylferroceen

| d. | zie lijst militaire goederen voor n-butylferroceen |
| --- | --- |

d.

zie lijst militaire goederen voor n-butylferroceen

| e. | pentylferroceenferroceen (CAS 1274-00-6) |
| --- | --- |

e.

pentylferroceenferroceen (CAS 1274-00-6)

| f. | dicyclopentylferroceen |
| --- | --- |

f.

dicyclopentylferroceen

| g. | dicyclohexylferroceen |
| --- | --- |

g.

dicyclohexylferroceen

| h. | diethylferroceen (CAS 1273-97-8); |
| --- | --- |

h.

diethylferroceen (CAS 1273-97-8);

| i. | dipropylferroceen |
| --- | --- |

i.

dipropylferroceen

| j. | dibutylferroceen (CAS 1274-08-4) |
| --- | --- |

j.

dibutylferroceen (CAS 1274-08-4)

| k. | dihexylferroceen (CAS 93894-59-8) |
| --- | --- |

k.

dihexylferroceen (CAS 93894-59-8)

| l. | acetylferroceen (CAS 1271-55-2) / 1,1′- diacetylferroceen (CAS 1273 94-5); |
| --- | --- |

l.

acetylferroceen (CAS 1271-55-2) / 1,1′- diacetylferroceen (CAS 1273 94-5);

| m. | zie lijst militaire goederen voor ferroceencarboxylzuren |
| --- | --- |

m.

zie lijst militaire goederen voor ferroceencarboxylzuren

| n. | zie lijst militaire goederen voor butaceen |
| --- | --- |

n.

zie lijst militaire goederen voor butaceen

| o. | andere ferroceenderivaten die kunnen worden gebruikt als verbrandingssnelheidsmodificatoren voor raketstuwstoffen, die niet onder de lijst militaire goederen vallen. |
| --- | --- |

o.

andere ferroceenderivaten die kunnen worden gebruikt als verbrandingssnelheidsmodificatoren voor raketstuwstoffen, die niet onder de lijst militaire goederen vallen.

| : | 1C111.c.6.o. is niet van toepassing op ferroceenderivaten met een aan de ferroceenmolecule vastgehechte aromatische functionele groep van zes koolstofatomen |
| --- | --- |

:

| 7. | andere 4,5 diazidomethyl-2-methyl-1,2,3-triazolo (iso-DAMTR) die niet onder de lijst militaire goederen valt. |
| --- | --- |

7.

andere 4,5 diazidomethyl-2-methyl-1,2,3-triazolo (iso-DAMTR) die niet onder de lijst militaire goederen valt.

| : | Zie voor andere niet in 1C111 vermelde stuwstoffen en chemicaliën voor de vervaardiging van stuwstoffen de lijst militaire goederen. |
| --- | --- |

:

1C116Maragingstaal met een eindtreksterkte (UTS) van 1 500 MPa of meer bij 293 K (20 °C) in de vorm van plaat of buis met een wand- of plaatdikte van 5 mm of minder.

| NB: | ZIE OOK 1C216 |
| --- | --- |

NB:

:

Maragingstaal is een ijzerlegering die gewoonlijk door een hoog nikkelgehalte, een zeer laag koolstofgehalte en het gebruik van vervangende elementen of precipitaten voor het versterken en tijdharden van de legering wordt gekenmerkt.

1C117Materiaal voor de productie van onderdelen van ‧raketten‧, als volgt:

| a. | Wolfraam en legeringen in deeltjesvorm bevattende 97 of meer gewichtspercenten wolfraam en waarvan de grootte van de deeltjes 50 × 10-6 m (50 μm) is of minder; |
| --- | --- |

a.

Wolfraam en legeringen in deeltjesvorm bevattende 97 of meer gewichtspercenten wolfraam en waarvan de grootte van de deeltjes 50 × 10-6 m (50 μm) is of minder;

| b. | Molybdeen en legeringen in deeltjesvorm bevattende 97 of meer gewichtspercenten molybdeen en waarvan de grootte van de deeltjes 50 × 10-6 m (50 μm) is of minder; |
| --- | --- |

b.

Molybdeen en legeringen in deeltjesvorm bevattende 97 of meer gewichtspercenten molybdeen en waarvan de grootte van de deeltjes 50 × 10-6 m (50 μm) is of minder;

| c. | Wolfraammateriaal in vaste vorm, met de volgende eigenschappen:






  1. | één of meer van de volgende eigenschappen:






  a. | wolfraam en legeringen bevattende 97 of meer gewichtspercenten wolfraam; |
| --- | --- | --- | --- |

c.

Wolfraammateriaal in vaste vorm, met de volgende eigenschappen:

1.

één of meer van de volgende eigenschappen:

a.

wolfraam en legeringen bevattende 97 of meer gewichtspercenten wolfraam;

| b. | met koper geïnfiltreerd wolfraam bevattende 80 of meer gewichtspercenten wolfraam; of |
| --- | --- |

b.

met koper geïnfiltreerd wolfraam bevattende 80 of meer gewichtspercenten wolfraam; of

| c. | met zilver geïnfiltreerd wolfraam bevattende 80 of meer gewichtspercenten wolfraam; en |
| --- | --- |

c.

met zilver geïnfiltreerd wolfraam bevattende 80 of meer gewichtspercenten wolfraam; en

| 2. | kan worden gebruikt bij de productie van:






  a. | cylinders met een diameter van ten minste 120 mm en een lengte van ten minste 50 mm; |
| --- | --- | --- |

2.

kan worden gebruikt bij de productie van:

a.

cylinders met een diameter van ten minste 120 mm en een lengte van ten minste 50 mm;

| b. | buizen met een binnendiameter van ten minste 65 mm, een wanddikte van ten minste 25 mm en een lengte van ten minste 50 mm; of |
| --- | --- |

b.

buizen met een binnendiameter van ten minste 65 mm, een wanddikte van ten minste 25 mm en een lengte van ten minste 50 mm; of

| c. | blokken met een minimumomvang van 120 × 120 × 50 mm. |
| --- | --- |

c.

blokken met een minimumomvang van 120 × 120 × 50 mm.

In 1C117 wordt onder ‧raketten‧ verstaan, complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen die een afstand van méér dan 300 km kunnen overbruggen.

1C118Duplex roestvast staal met titaanstabilisatie (Ti-DSS), met de volgende eigenschappen:

| a. | met alle navolgende kenmerken:






  1. | het bevat 17,0-23,0 gewichtspercenten chroom en 4,5-7,0 gewichtspercenten nikkel; |
| --- | --- | --- |

a.

met alle navolgende kenmerken:

1.

het bevat 17,0-23,0 gewichtspercenten chroom en 4,5-7,0 gewichtspercenten nikkel;

| 2. | het titaangehalte bedraagt meer dan 0,10 gewichtspercenten; en |
| --- | --- |

2.

het titaangehalte bedraagt meer dan 0,10 gewichtspercenten; en

| 3. | een ferritisch-austenitische microstructuur (ook twee-fasenmicrostructuur genoemd) waarvan ten minste 10 volumepercenten austeniet (volgens ASTM E-1181-87 of nationale equivalenten); en |
| --- | --- |

3.

een ferritisch-austenitische microstructuur (ook twee-fasenmicrostructuur genoemd) waarvan ten minste 10 volumepercenten austeniet (volgens ASTM E-1181-87 of nationale equivalenten); en

| b. | in een van de volgende vormen:






  1. | walsblokken of staven die ten minste 100 mm groot zijn in elke richting; |
| --- | --- | --- |

b.

in een van de volgende vormen:

1.

walsblokken of staven die ten minste 100 mm groot zijn in elke richting;

| 2. | platen met een breedte van ten minste 600 mm en een dikte van 3 mm of minder; of |
| --- | --- |

2.

platen met een breedte van ten minste 600 mm en een dikte van 3 mm of minder; of

| 3. | buizen met een buitendiameter van ten minste 600 mm en een wanddikte van 3 mm of minder. |
| --- | --- |

3.

buizen met een buitendiameter van ten minste 600 mm en een wanddikte van 3 mm of minder.

1C202Legeringen, anders dan bedoeld in 1C002.b.3 of 1C002.b.4, als hieronder:

| a. | aluminiumlegeringen met beide volgende kenmerken:






  1. | ‧geschikt voor‧ een treksterkte van 460 MPa of meer bij 293 K (20 °C); en |
| --- | --- | --- |

a.

aluminiumlegeringen met beide volgende kenmerken:

1.

‧geschikt voor‧ een treksterkte van 460 MPa of meer bij 293 K (20 °C); en

| 2. | buisvormig of massief cilindervormig (met inbegrip van smeedstukken) met een buitendiameter van meer dan 75 mm; |
| --- | --- |

2.

buisvormig of massief cilindervormig (met inbegrip van smeedstukken) met een buitendiameter van meer dan 75 mm;

| b. | titaanlegeringen met beide volgende kenmerken:






  1. | ‧geschikt voor‧ een treksterkte van 900 MPa of meer bij 293 K (20 °C); en |
| --- | --- | --- |

b.

titaanlegeringen met beide volgende kenmerken:

1.

‧geschikt voor‧ een treksterkte van 900 MPa of meer bij 293 K (20 °C); en

| 2. | buisvormig of massief cilindervormig (met inbegrip van smeedstukken) met een buitendiameter van meer dan 75 mm. |
| --- | --- |

2.

buisvormig of massief cilindervormig (met inbegrip van smeedstukken) met een buitendiameter van meer dan 75 mm.

:

De zinsnede legeringen ‧geschikt voor‧ omvat legeringen zowel voor als na warmtebehandeling.

1C210‧Stapel- en continuvezelmateriaal‧ of ‹prepregs›, anders dan bedoeld in 1C010.a, 1C010.b of 1C010.e, als hieronder:

| a. | "stapel- en continuvezelmateriaal" van koolstof of aramide met een van de volgende kenmerken:






  1. | een "specifieke modulus" van 12,7 × 106 m of groter: of |
| --- | --- | --- |

a.

"stapel- en continuvezelmateriaal" van koolstof of aramide met een van de volgende kenmerken:

1.

een "specifieke modulus" van 12,7 × 106 m of groter: of

| 2. | een "specifieke treksterkte" van 235 × 103 m of meer; |
| --- | --- |

2.

een "specifieke treksterkte" van 235 × 103 m of meer;

| : | 1C210.a. is niet van toepassing op "stapel- en continuvezelmateriaal" van aramide dat ten minste 0,25 gewichtspercent bevat van een op een ester gebaseerde vezeloppervlakmodificator. |
| --- | --- |

:

| b. | "stapel- en continuvezelmateriaal" van glas met beide volgende kenmerken:






  1. | een "specifieke modulus" van 3,18 × 106 m of meer: en |
| --- | --- | --- |

b.

"stapel- en continuvezelmateriaal" van glas met beide volgende kenmerken:

1.

een "specifieke modulus" van 3,18 × 106 m of meer: en

| 2. | een "specifieke treksterkte" van 76,2 × 103 m of meer; |
| --- | --- |

2.

een "specifieke treksterkte" van 76,2 × 103 m of meer;

| c. | thermogeharde met hars geïmpregneerde continu-"garens", -"‹rovings›", -"linten" of -"banden" met een breedte van 15 mm of minder (‹prepregs›), vervaardigd uit "stapel- en continuvezelmateriaal" van koolstof of glas als bedoeld in 1C210.a of 1C210.b.

  :


  Het hars vormt de matrix van de composiet. |
| --- | --- |

c.

thermogeharde met hars geïmpregneerde continu-"garens", -"‹rovings›", -"linten" of -"banden" met een breedte van 15 mm of minder (‹prepregs›), vervaardigd uit "stapel- en continuvezelmateriaal" van koolstof of glas als bedoeld in 1C210.a of 1C210.b.

:

Het hars vormt de matrix van de composiet.

| : | In 1C210 is ‧stapel- en continuvezelmateriaal‧ beperkt tot continue "monofilamenten""garens", "‹rovings›", "linten" of "banden". |
| --- | --- |

:

1C216Maragingstaal, anders dan bedoeld in 1C116, ‧geschikt voor‧ een treksterkte van 2 050 MPa of meer bij 293 K (20 °C).

| : | 1C216 is niet van toepassing op maragingstaal in een vorm waarin geen enkele lineaire maat groter is dan 75 mm. |
| --- | --- |

:

De zinsnede maragingstaal ‧geschikt voor‧ omvat maragingstaal zowel voor als na warmtebehandeling.

1C225Boor, verrijkt in de boor-10-isotoop (10B) tot meer dan de natuurlijke abundantie, in de hiernavolgende vormen: elementair boor, boorverbindingen, boorhoudende mengsels, fabricaten daarvan, afval en schroot van deze stoffen.

| : | De in 1C225 bedoelde boorhoudende mengsels omvatten met boor beladen materialen. |
| --- | --- |

:

De natuurlijke abundantie van boor-10 is ongeveer 18,5 gewichtspercenten (20 percent op atomaire basis).

1C226Wolfraam, wolfraamcarbide en legeringen die meer dan 90 gewichtspercenten wolfraam bevatten, anders dan bedoeld in 1C117, met beide volgende kenmerken:

| a. | in vormen met holle cilindersymmetrie (daaronder mede begrepen cilindersegmenten) met een binnendiameter tussen 100 mm en 300 mm; en |
| --- | --- |

a.

in vormen met holle cilindersymmetrie (daaronder mede begrepen cilindersegmenten) met een binnendiameter tussen 100 mm en 300 mm; en

| b. | met een massa groter dan 20 kg. |
| --- | --- |

b.

met een massa groter dan 20 kg.

| : | 1C226 is niet van toepassing op fabricaten die speciaal ontworpen zijn als gewicht of collimator voor gammastralen. |
| --- | --- |

:

1C227Calcium met beide volgende kenmerken:

| a. | bevat minder dan 1 000 gewichtsdelen per miljoen aan metallische verontreiniging anders dan magnesium; en |
| --- | --- |

a.

bevat minder dan 1 000 gewichtsdelen per miljoen aan metallische verontreiniging anders dan magnesium; en

| b. | bevat minder dan 10 gewichtsdelen per miljoen boor. |
| --- | --- |

b.

bevat minder dan 10 gewichtsdelen per miljoen boor.

1C228Magnesium met beide volgende kenmerken:

| a. | bevat minder dan 200 gewichtsdelen per miljoen aan metallische verontreiniging anders dan calcium; en |
| --- | --- |

a.

bevat minder dan 200 gewichtsdelen per miljoen aan metallische verontreiniging anders dan calcium; en

| b. | bevat minder dan 10 gewichtsdelen per miljoen boor. |
| --- | --- |

b.

bevat minder dan 10 gewichtsdelen per miljoen boor.

1C229Bismut met beide volgende kenmerken:

| a. | een zuiverheid van 99,99 gewichtspercenten of meer; en |
| --- | --- |

a.

een zuiverheid van 99,99 gewichtspercenten of meer; en

| b. | bevat minder dan 10 gewichtsdelen per miljoen zilver. |
| --- | --- |

b.

bevat minder dan 10 gewichtsdelen per miljoen zilver.

1C230Beryllium, als hierna: metaal, legeringen die meer dan 50 gewichtspercenten beryllium bevatten, berylliumverbindingen, fabricaten daarvan en afval of schroot van deze stoffen, anders dan vermeld in de lijst militaire goederen

| NB: | ZIE TEVENS DE LIJST MILITAIRE GOEDEREN |
| --- | --- |

NB:

| : | 1C230 is niet van toepassing op:






  a. | vensters voor röntgentoestellen of voor apparatuur voor metingen in boorgaten, van berylliummetaal; |
| --- | --- | --- |

:

a.

vensters voor röntgentoestellen of voor apparatuur voor metingen in boorgaten, van berylliummetaal;

| b. | vormstukken van berylliumoxide als eindproduct of halffabricaat, speciaal ontworpen voor elektronische onderdelen of als substraat voor elektronische schakelingen; |
| --- | --- |

b.

vormstukken van berylliumoxide als eindproduct of halffabricaat, speciaal ontworpen voor elektronische onderdelen of als substraat voor elektronische schakelingen;

| c. | beril (beryllium-aluminiumsilicaat) in de vorm van smaragden of aquamarijnen. |
| --- | --- |

c.

beril (beryllium-aluminiumsilicaat) in de vorm van smaragden of aquamarijnen.

1C231Hafnium, als hierna: metaal, legeringen die meer dan 60 gewichtspercenten hafnium bevatten, verbindingen van hafnium die meer dan 60 gewichtspercenten hafnium bevatten, fabricaten daarvan en afval of schroot van deze stoffen.

1C232Helium-3 (3He), mengsels die helium-3 bevatten, en producten of toestellen die een van deze stoffen bevatten.

| : | 1C232 is niet van toepassing op een product of apparaat dat minder dan 1 g helium-3 bevat. |
| --- | --- |

:

1C233Lithium, verrijkt in de lithium-6-isotoop (6Li) tot meer dan de natuurlijke abundantie, of producten of toestellen die verrijkt lithium bevatten, als hierna: elementair lithium, legeringen, lithiumverbindingen, mengsels die lithium bevatten, fabricaten daarvan en afval of schroot van deze stoffen.

| : | 1C233 is niet van toepassing op thermoluminescentie-stralingsmeters. |
| --- | --- |

:

De natuurlijke abundantie van de lithium-6-isotoop is ongeveer 6,5 gewichtspercenten (7,5 % op atomaire basis).

1C234Zirkonium met een hafniumgehalte van minder dan 1 gewichtsdeel hafnium op 500 gewichtsdelen zirkonium, als hierna: metaal, legeringen die meer dan 50 gewichtspercenten zirkonium bevatten, verbindingen, fabricaten daarvan, afval of schroot van deze stoffen.

| : | 1C234 is niet van toepassing op zirkonium in de vorm van folie met een dikte van 0,10 mm of minder. |
| --- | --- |

:

1C235Tritium, tritiumverbindingen en mengsels welke tritium bevatten, waarin de verhouding van het aantal tritiumatomen tot het aantal waterstofatomen groter is dan 1: 1 000, en producten of toestellen die een van voorgaande stoffen bevatten,

| : | 1C235 is niet van toepassing op een product of toestel dat minder dan 1,48 × 103 GBq (40 Ci) tritium in welke vorm dan ook bevat. |
| --- | --- |

:

1C236Alfastralers met een alfahalveringstijd van tien dagen of langer doch korter dan 200 jaar, in de volgende vormen:

| a. | de elementaire vorm; |
| --- | --- |

a.

de elementaire vorm;

| b. | verbindingen met een totale alfa-activiteit van 37 GBq/kg (1 Ci/kg) of hoger; |
| --- | --- |

b.

verbindingen met een totale alfa-activiteit van 37 GBq/kg (1 Ci/kg) of hoger;

| c. | mengsels met een totale alfa-activiteit van 37 GBq/kg (1 Ci/kg) of hoger; |
| --- | --- |

c.

mengsels met een totale alfa-activiteit van 37 GBq/kg (1 Ci/kg) of hoger;

| d. | producten of toestellen die een van voorgaande stoffen bevatten. |
| --- | --- |

d.

producten of toestellen die een van voorgaande stoffen bevatten.

| : | 1C236 is niet van toepassing op een product of toestel dat minder dan 3,7 GBq (100 millicurie) alfa-activiteit bevat. |
| --- | --- |

:

1C237Radium-226 (226Ra), radium-226-legeringen, radium-226-verbindingen, mengsels die radium-226 bevatten, fabricaten daarvan, en producten of toestellen die een van deze stoffen bevatten.

| : | 1C237 is niet van toepassing op:







  a. | medische middelen; |
| --- | --- | --- |

:

a.

medische middelen;

| b. | een product of toestel dat minder dan 0,37 GBq (10 millicurie) radium-226 bevat. |
| --- | --- |

b.

een product of toestel dat minder dan 0,37 GBq (10 millicurie) radium-226 bevat.

1C238Chloortrifluoride (ClF3)

1C239Brisante springstoffen, anders dan bedoeld in de Lijst militaire goederen, of stoffen of mengsels met een gehalte van meer dan 2 gewichtspercenten aan deze springstoffen, met een kristaldichtheid groter dan 1,8 g/cm3 en een detonatiesnelheid groter dan 8 000 m/s.

1C240Nikkelpoeder en poreus nikkelmetaal, anders dan bedoeld in OC005, als hieronder:

| a. | nikkelpoeder met beide volgende kenmerken:






  1. | een nikkelgehalte van 99,0 gewichtspercenten of meer; en |
| --- | --- | --- |

a.

nikkelpoeder met beide volgende kenmerken:

1.

een nikkelgehalte van 99,0 gewichtspercenten of meer; en

| 2. | een gemiddelde korrelgrootte kleiner dan 10 μm, gemeten volgens ASTM Standaard B330; |
| --- | --- |

2.

een gemiddelde korrelgrootte kleiner dan 10 μm, gemeten volgens ASTM Standaard B330;

| b. | poreus nikkelmetaal, gemaakt van materiaal, bedoeld in 1C240.a. |
| --- | --- |

b.

poreus nikkelmetaal, gemaakt van materiaal, bedoeld in 1C240.a.

| : | 1C240 is niet van toepassing op:







  a. | vezelvormige nikkelpoeders; |
| --- | --- | --- |

:

a.

vezelvormige nikkelpoeders;

| b. | enkelvoudige platen van poreus nikkel, met een oppervlakte per plaat van 1 000 cm2 of minder. |
| --- | --- |

b.

enkelvoudige platen van poreus nikkel, met een oppervlakte per plaat van 1 000 cm2 of minder.

:

1C240.b heeft betrekking op poreus metaal dat gevormd is door samenpersing en sintering van de materialen in 1C240.a, om een materiaal van metaal te vormen met fijne poriën die door de gehele structuur heen onderling verbonden zijn.

1C350Chemische stoffen, geschikt voor het vervaardigen van toxische stoffen, als hieronder, en "chemische mengsels" die een of meer van deze stoffen bevatten:

| NB: | ZIE OOK DE LIJST MILITAIRE GOEDEREN EN 1C450. |
| --- | --- |

NB:

| 1. | Thiodiglycol (111-48-8); |
| --- | --- |

1.

Thiodiglycol (111-48-8);

| 2. | Fosforoxychloride (10025-87-3); |
| --- | --- |

2.

Fosforoxychloride (10025-87-3);

| 3. | Dimethylmethylfosfonaat (756-79-6); |
| --- | --- |

3.

Dimethylmethylfosfonaat (756-79-6);

| 4. | ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR Methylfosfonyldifluoride (676-99-3); |
| --- | --- |

4.

ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR Methylfosfonyldifluoride (676-99-3);

| 5. | Methylfosfonyldichloride (676-97-1); |
| --- | --- |

5.

Methylfosfonyldichloride (676-97-1);

| 6. | Dimethylfosfiet (DMP) (868-85-9); |
| --- | --- |

6.

Dimethylfosfiet (DMP) (868-85-9);

| 7. | Fosfortrichloride (7719-12-2); |
| --- | --- |

7.

Fosfortrichloride (7719-12-2);

| 8. | Trimethylfosfiet (TMP) (121-45-9); |
| --- | --- |

8.

Trimethylfosfiet (TMP) (121-45-9);

| 9. | Thionylchloride (7719-09-7); |
| --- | --- |

9.

Thionylchloride (7719-09-7);

| 10. | 3-Hydroxy-1-methylpiperidine (3554-74-3); |
| --- | --- |

10.

3-Hydroxy-1-methylpiperidine (3554-74-3);

| 11. | 2-Diisopropylaminoethylchloride (96-79-7); |
| --- | --- |

11.

2-Diisopropylaminoethylchloride (96-79-7);

| 12. | 2-Diisopropylaminoethaanthiol (5842-07-9); |
| --- | --- |

12.

2-Diisopropylaminoethaanthiol (5842-07-9);

| 13. | Chinuclidine-3-ol (1619-34-7); |
| --- | --- |

13.

Chinuclidine-3-ol (1619-34-7);

| 14. | Kaliumfluoride (7789-23-3); |
| --- | --- |

14.

Kaliumfluoride (7789-23-3);

| 15. | 2-Chloorethanol (107-07-3); |
| --- | --- |

15.

2-Chloorethanol (107-07-3);

| 16. | Dimethylamine (124-40-3); |
| --- | --- |

16.

Dimethylamine (124-40-3);

| 17. | Diethylethylfosfonaat (78-38-6); |
| --- | --- |

17.

Diethylethylfosfonaat (78-38-6);

| 18. | Diethyl-N, N-dimethylfosforamidaat (2404-03-07); |
| --- | --- |

18.

Diethyl-N, N-dimethylfosforamidaat (2404-03-07);

| 19. | Diethylfosfiet (762-04-9); |
| --- | --- |

19.

Diethylfosfiet (762-04-9);

| 20. | Dimethylamine hydrochloride (506-59-2); |
| --- | --- |

20.

Dimethylamine hydrochloride (506-59-2);

| 21. | Dichloorethylfosfine (1498-40-4); |
| --- | --- |

21.

Dichloorethylfosfine (1498-40-4);

| 22. | Ethylfosfonyldichloride (1066-50-8); |
| --- | --- |

22.

Ethylfosfonyldichloride (1066-50-8);

| 23. | ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR Ethylfosfonyldifluoride (753-98-0); |
| --- | --- |

23.

ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR Ethylfosfonyldifluoride (753-98-0);

| 24. | Waterstoffluoride (7664-39-3); |
| --- | --- |

24.

Waterstoffluoride (7664-39-3);

| 25. | Methylbenzilaat (76-89-1); |
| --- | --- |

25.

Methylbenzilaat (76-89-1);

| 26. | Dichloormethylfosfine (676-83-5); |
| --- | --- |

26.

Dichloormethylfosfine (676-83-5);

| 27. | 2-Diisopropylaminoethanol (96-80-0); |
| --- | --- |

27.

2-Diisopropylaminoethanol (96-80-0);

| 28. | Pinacolylalcohol (464-07-3); |
| --- | --- |

28.

Pinacolylalcohol (464-07-3);

| 29. | ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR O-Ethyl-2-diisopropylaminoethyl-methylfosfoniet (QL) (57856-11-8); |
| --- | --- |

29.

ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR O-Ethyl-2-diisopropylaminoethyl-methylfosfoniet (QL) (57856-11-8);

| 30. | Triethylfosfiet (122-52-1); |
| --- | --- |

30.

Triethylfosfiet (122-52-1);

| 31. | Arseentrichloride (7784-34-1); |
| --- | --- |

31.

Arseentrichloride (7784-34-1);

| 32. | Benzilzuur (76-93-7); |
| --- | --- |

32.

Benzilzuur (76-93-7);

| 33. | Diethylmethylfosfoniet (15715-41-0); |
| --- | --- |

33.

Diethylmethylfosfoniet (15715-41-0);

| 34. | Dimethylethylfosfonaat (6163-75-3); |
| --- | --- |

34.

Dimethylethylfosfonaat (6163-75-3);

| 35. | Difluorethylfosfine (430-78-4); |
| --- | --- |

35.

Difluorethylfosfine (430-78-4);

| 36. | Difluormethylfosfine (753-59-3); |
| --- | --- |

36.

Difluormethylfosfine (753-59-3);

| 37. | Chinuclidine-3-on (3731-38-2); |
| --- | --- |

37.

Chinuclidine-3-on (3731-38-2);

| 38. | Fosforpentachloride (10026-13-8); |
| --- | --- |

38.

Fosforpentachloride (10026-13-8);

| 39. | Pinacolon (75-97-8); |
| --- | --- |

39.

Pinacolon (75-97-8);

| 40. | Kaliumcyanide (151-50-8); |
| --- | --- |

40.

Kaliumcyanide (151-50-8);

| 41. | Kaliumbifluoride (7789-29-9); |
| --- | --- |

41.

Kaliumbifluoride (7789-29-9);

| 42. | Ammoniumbifluoride (1341-49-7); |
| --- | --- |

42.

Ammoniumbifluoride (1341-49-7);

| 43. | Natriumfluoride (7681-49-4); |
| --- | --- |

43.

Natriumfluoride (7681-49-4);

| 44. | Natriumbifluoride (1333-83-1); |
| --- | --- |

44.

Natriumbifluoride (1333-83-1);

| 45. | Natriumcyanide (143-33-9); |
| --- | --- |

45.

Natriumcyanide (143-33-9);

| 46. | Triethanolamine (102-71-6); |
| --- | --- |

46.

Triethanolamine (102-71-6);

| 47. | Fosforpentasulfide (1314-80-3); |
| --- | --- |

47.

Fosforpentasulfide (1314-80-3);

| 48. | Diisopropylamine (108-18-9); |
| --- | --- |

48.

Diisopropylamine (108-18-9);

| 49. | 2-Diethylaminoethanol (100-37-8); |
| --- | --- |

49.

2-Diethylaminoethanol (100-37-8);

| 50. | Natriumsulfide (1313-82-2); |
| --- | --- |

50.

Natriumsulfide (1313-82-2);

| 51. | Zwavelmonochloride (10025-67-9); |
| --- | --- |

51.

Zwavelmonochloride (10025-67-9);

| 52. | Zwaveldichloride (10545-99-0); |
| --- | --- |

52.

Zwaveldichloride (10545-99-0);

| 53. | Triethanolamine hydrochloride (637-39-8); |
| --- | --- |

53.

Triethanolamine hydrochloride (637-39-8);

| 54. | 2-Chloorethyldiisopropyl-ammoniumchloride (4261-68-1); |
| --- | --- |

54.

2-Chloorethyldiisopropyl-ammoniumchloride (4261-68-1);

| 55. | Methylfosfonzuur (993-13-5); |
| --- | --- |

55.

Methylfosfonzuur (993-13-5);

| 56. | Diethylethylfosfonaat (683-08-9); |
| --- | --- |

56.

Diethylethylfosfonaat (683-08-9);

| 57. | N,N-dymethylaminofosforyldichloride (677-43-0); |
| --- | --- |

57.

N,N-dymethylaminofosforyldichloride (677-43-0);

| 58. | Tri-isopropylfosfiet (116-17-6); |
| --- | --- |

58.

Tri-isopropylfosfiet (116-17-6);

| 59. | Ethyldiethanolamine (139-87-7); |
| --- | --- |

59.

Ethyldiethanolamine (139-87-7);

| 60. | O,O-diethylfosforothioaat (2465-65-8); |
| --- | --- |

60.

O,O-diethylfosforothioaat (2465-65-8);

| 61. | O,O-diethylfosforodithioaat (298-06-6); |
| --- | --- |

61.

O,O-diethylfosforodithioaat (298-06-6);

| 62. | Natriumhexafluorosilicaat (16893-85-9); |
| --- | --- |

62.

Natriumhexafluorosilicaat (16893-85-9);

| 63. | Methylfosfonthiodichloride (676-98-2). |
| --- | --- |

63.

Methylfosfonthiodichloride (676-98-2).

| : | Voor uitvoer naar "Staten die geen partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens" worden in 1C350 niet bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van de in de punten 1C350.1,.3,.5,.11,.12,.13,.17,.18,.21,.22,.26,.27,.28,.31,.32,.33,.34,.35,.36,.54,.55,.56,.57 en.63 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 10 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt. |
| --- | --- |

:

| : | Voor uitvoer naar "Staten die partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens" worden in 1C350 niet bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van de in de punten 1C350.1,.3,.5,.11,.12,.13,.17,.18,.21,.22,.26,.27,.28,.31,.32,.33,.34,.35,.36,.54,.55,.56,.57 en.63 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 30 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt. |
| --- | --- |

:

| : | In 1C350 worden niet bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van de in de punten 1C350.2,.6,.7,.8,.9,.10,.14,.15,.16,.19,.20,.24,.25,.30,.37,.38,.39,.40,.41,.42,.43,.44,.45,.46,.47,.48,.49,.50,.51,.52,.53,.58,.59,.60,.61 en.62 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 30 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt. |
| --- | --- |

:

| : | In 1C350 worden niet bedoeld producten waarvan is vastgesteld dat het gaat om verpakte consumptiegoederen voor de detailhandelsverkoop voor persoonlijk gebruik of verpakte consumptiegoederen voor individueel gebruik. |
| --- | --- |

:

1C351Humane pathogenen, zoönosen en "toxinen", als hieronder:

| a. | virussen, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:






  1. | Andesvirus |
| --- | --- | --- |

a.

virussen, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:

1.

Andesvirus

| 2. | Chaparevirus |
| --- | --- |

2.

Chaparevirus

| 3. | Chikungunyavirus; |
| --- | --- |

3.

Chikungunyavirus;

| 4. | Choclovirus |
| --- | --- |

4.

Choclovirus

| 5. | Haemorragische-Krim-Kongokoortsvirus (CCHF-virus); |
| --- | --- |

5.

Haemorragische-Krim-Kongokoortsvirus (CCHF-virus);

| 6. | Denguevirus; |
| --- | --- |

6.

Denguevirus;

| 7. | Dobrava-Belgradevirus |
| --- | --- |

7.

Dobrava-Belgradevirus

| 8. | Eastern equine encefalitisvirus; |
| --- | --- |

8.

Eastern equine encefalitisvirus;

| 9. | Ebolavirus; |
| --- | --- |

9.

Ebolavirus;

| 10. | Guanaritovirus |
| --- | --- |

10.

Guanaritovirus

| 11. | Hantaanvirus; |
| --- | --- |

11.

Hantaanvirus;

| 12. | Hendra-virus (Equine-morbillivirus); |
| --- | --- |

12.

Hendra-virus (Equine-morbillivirus);

| 13. | Japanse-encefalitisvirus; |
| --- | --- |

13.

Japanse-encefalitisvirus;

| 14. | Juninvirus; |
| --- | --- |

14.

Juninvirus;

| 15. | Kyasanur Forest-virus; |
| --- | --- |

15.

Kyasanur Forest-virus;

| 16. | Laguna-Negravirus |
| --- | --- |

16.

Laguna-Negravirus

| 17. | Lassavirus; |
| --- | --- |

17.

Lassavirus;

| 18. | Louping ill-virus; |
| --- | --- |

18.

Louping ill-virus;

| 19. | Lujo-virus |
| --- | --- |

19.

Lujo-virus

| 20. | Lymfocytaire-choriomeningitisvirus; |
| --- | --- |

20.

Lymfocytaire-choriomeningitisvirus;

| 21. | Machupovirus; |
| --- | --- |

21.

Machupovirus;

| 22. | Marburgvirus; |
| --- | --- |

22.

Marburgvirus;

| 23. | Apenpokkenvirus; |
| --- | --- |

23.

Apenpokkenvirus;

| 24. | Murray Valley-encefalitisvirus; |
| --- | --- |

24.

Murray Valley-encefalitisvirus;

| 25. | Nipah |
| --- | --- |

25.

Nipah

| 26. | Omsk hemorragische-koortsvirus; |
| --- | --- |

26.

Omsk hemorragische-koortsvirus;

| 27. | Oropouche-virus; |
| --- | --- |

27.

Oropouche-virus;

| 28. | Powassan-virus; |
| --- | --- |

28.

Powassan-virus;

| 29. | Rift Valleyvirus; |
| --- | --- |

29.

Rift Valleyvirus;

| 30. | Rocio-virus; |
| --- | --- |

30.

Rocio-virus;

| 31. | Sabia-virus; |
| --- | --- |

31.

Sabia-virus;

| 32. | Seoulvirus |
| --- | --- |

32.

Seoulvirus

| 33. | Sin nombre-virus |
| --- | --- |

33.

Sin nombre-virus

| 34. | Saint-Louis-encefalitisvirus; |
| --- | --- |

34.

Saint-Louis-encefalitisvirus;

| 35. | Tekenencephalitisvirus (RSSE-virus); |
| --- | --- |

35.

Tekenencephalitisvirus (RSSE-virus);

| 36. | Variolavirus; |
| --- | --- |

36.

Variolavirus;

| 37. | Venezuelan equine encefalitisvirus; |
| --- | --- |

37.

Venezuelan equine encefalitisvirus;

| 38. | Western equine encefalitisvirus; |
| --- | --- |

38.

Western equine encefalitisvirus;

| 39. | Gele-koortsvirus; |
| --- | --- |

39.

Gele-koortsvirus;

| b. | rickettsiën, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:






  1. | Coxiella burnetii; |
| --- | --- | --- |

b.

rickettsiën, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:

1.

Coxiella burnetii;

| 2. | Bartonella quintana (Rochalimaea quintana, Rickettsia quintana); |
| --- | --- |

2.

Bartonella quintana (Rochalimaea quintana, Rickettsia quintana);

| 3. | Rickettsia prowasecki; |
| --- | --- |

3.

Rickettsia prowasecki;

| 4. | Rickettsia rickettsii; |
| --- | --- |

4.

Rickettsia rickettsii;

| c. | bacteriën, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van geïsoleerde levende culturen of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:






  1. | Bacillus anthracis; |
| --- | --- | --- |

c.

bacteriën, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van geïsoleerde levende culturen of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:

1.

Bacillus anthracis;

| 2. | Brucella abortus; |
| --- | --- |

2.

Brucella abortus;

| 3. | Brucella melitensis; |
| --- | --- |

3.

Brucella melitensis;

| 4. | Brucella suis; |
| --- | --- |

4.

Brucella suis;

| 5. | Chlamydia psittaci; |
| --- | --- |

5.

Chlamydia psittaci;

| 6. | Chlostridium botulinum; |
| --- | --- |

6.

Chlostridium botulinum;

| 7. | Francisella tularensis; |
| --- | --- |

7.

Francisella tularensis;

| 8. | Burkholderia mallei (Pseudomonas mallei); |
| --- | --- |

8.

Burkholderia mallei (Pseudomonas mallei);

| 9. | Burkholderia pseudomallei (Pseudomonas pseudomallei); |
| --- | --- |

9.

Burkholderia pseudomallei (Pseudomonas pseudomallei);

| 10. | Salmonella typhi; |
| --- | --- |

10.

Salmonella typhi;

| 11. | Shigella dysenteriae; |
| --- | --- |

11.

Shigella dysenteriae;

| 12. | Vibrio cholerae; |
| --- | --- |

12.

Vibrio cholerae;

| 13. | Yersinia pestis; |
| --- | --- |

13.

Yersinia pestis;

| 14. | Clostridium perfringens epsilontoxine-producerende types; |
| --- | --- |

14.

Clostridium perfringens epsilontoxine-producerende types;

| 15. | Enterohemorragische Escherichia coli serotype O157 en andere verotoxine-producerende serotypes. |
| --- | --- |

15.

Enterohemorragische Escherichia coli serotype O157 en andere verotoxine-producerende serotypes.

| d. | "toxinen", als hieronder, alsmede "sub-eenheden van toxinen" daarvan:






  1. | Botulinum toxinen; |
| --- | --- | --- |

d.

"toxinen", als hieronder, alsmede "sub-eenheden van toxinen" daarvan:

1.

Botulinum toxinen;

| 2. | Clostridium perfringens toxinen; |
| --- | --- |

2.

Clostridium perfringens toxinen;

| 3. | Conotoxine; |
| --- | --- |

3.

Conotoxine;

| 4. | Ricine; |
| --- | --- |

4.

Ricine;

| 5. | Saxitoxine; |
| --- | --- |

5.

Saxitoxine;

| 6. | Shigatoxine; |
| --- | --- |

6.

Shigatoxine;

| 7. | Staphylococcus aureus toxinen; |
| --- | --- |

7.

Staphylococcus aureus toxinen;

| 8. | Tetrodotoxine; |
| --- | --- |

8.

Tetrodotoxine;

| 9. | Verotoxine en shiga-achtige ribosoominactiverende proteïnen; |
| --- | --- |

9.

Verotoxine en shiga-achtige ribosoominactiverende proteïnen;

| 10. | Microcystine (Cyanginosine); |
| --- | --- |

10.

Microcystine (Cyanginosine);

| 11. | Aflatoxinen; |
| --- | --- |

11.

Aflatoxinen;

| 12. | Abrine; |
| --- | --- |

12.

Abrine;

| 13. | Choleratoxine; |
| --- | --- |

13.

Choleratoxine;

| 14. | Diacetoxyscirpenol; |
| --- | --- |

14.

Diacetoxyscirpenol;

| 15. | T-2-toxine; |
| --- | --- |

15.

T-2-toxine;

| 16. | HT-2-toxine; |
| --- | --- |

16.

HT-2-toxine;

| 17. | Modeccine; |
| --- | --- |

17.

Modeccine;

| 18. | Volkensine; |
| --- | --- |

18.

Volkensine;

| 19. | Viscum album lectine 1 (Viscumine); |
| --- | --- |

19.

Viscum album lectine 1 (Viscumine);

| : | 1C351.d. is niet van toepassing op botulinum toxinen of conotoxinen als product dat aan alle navolgende criteria voldoet:







  1. | het gaat om farmaceutische formules, ontwikkeld om aan de mens te worden toegediend bij de behandeling van een aandoening; |
| --- | --- | --- |

:

1.

het gaat om farmaceutische formules, ontwikkeld om aan de mens te worden toegediend bij de behandeling van een aandoening;

| 2. | zij zijn voorverpakt om als geneesmiddelen te worden verhandeld; |
| --- | --- |

2.

zij zijn voorverpakt om als geneesmiddelen te worden verhandeld;

| 3. | een overheidsinstantie heeft een vergunning afgegeven om ze als geneesmiddel in de handel te brengen. |
| --- | --- |

3.

een overheidsinstantie heeft een vergunning afgegeven om ze als geneesmiddel in de handel te brengen.

| e. | schimmels, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:






  1. | Coccidioides immitis; |
| --- | --- | --- |

e.

schimmels, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:

1.

Coccidioides immitis;

| 2. | Coccidioides posadasii. |
| --- | --- |

2.

Coccidioides posadasii.

| : | 1C351 is niet van toepassing op “vaccins” of “immunotoxinen”. |
| --- | --- |

:

1C352Dierpathogenen, als hieronder:

| a. | virussen, natuurlijk versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:






  1. | Afrikaanse varkenspestvirus; |
| --- | --- | --- |

a.

virussen, natuurlijk versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:

1.

Afrikaanse varkenspestvirus;

| 2. | Aviaire-influenzavirus, hetzij:






  a. | niet-gekarakteriseerd, hetzij |
| --- | --- | --- |

2.

Aviaire-influenzavirus, hetzij:

a.

niet-gekarakteriseerd, hetzij

| b. | zoals omschreven in bijlage I(2) bij Richtlijn 2005/94/EG van de Raad van 20 december 2005 betrefffende communautaire maatregelen ter bestrijding van aviaire influenza (PB L 10 van 14.1.2006, blz. 16) met een hoge pathogeniteitsindex, als hieronder:






  1. | type A-virussen met een IVPI (intraveneuze pathogeniteitsindex) bij zes weken oude kuikens van meer dan 1,2, of |
| --- | --- | --- |

b.

zoals omschreven in bijlage I(2) bij Richtlijn 2005/94/EG van de Raad van 20 december 2005 betrefffende communautaire maatregelen ter bestrijding van aviaire influenza (PB L 10 van 14.1.2006, blz. 16) met een hoge pathogeniteitsindex, als hieronder:

1.

type A-virussen met een IVPI (intraveneuze pathogeniteitsindex) bij zes weken oude kuikens van meer dan 1,2, of

| 2. | type A-virussen van het subtype H5 of H7, met een genoomsequentie die codeert voor meerdere basische aminozuren aan de breukzijde van de hemaglutininemolecule en die overeenkomt met de sequentie die ook bij andere HPAI-virussen is vastgesteld, waaruit kan worden afgeleid dat de hemaglutininemolecule kan worden gesplitst door een algemene protease van de gastheer; |
| --- | --- |

2.

type A-virussen van het subtype H5 of H7, met een genoomsequentie die codeert voor meerdere basische aminozuren aan de breukzijde van de hemaglutininemolecule en die overeenkomt met de sequentie die ook bij andere HPAI-virussen is vastgesteld, waaruit kan worden afgeleid dat de hemaglutininemolecule kan worden gesplitst door een algemene protease van de gastheer;

| 3. | Bluetonguevirus; |
| --- | --- |

3.

Bluetonguevirus;

| 4. | Mond- en klauwzeervirus; |
| --- | --- |

4.

Mond- en klauwzeervirus;

| 5. | Geitepokkenvirus; |
| --- | --- |

5.

Geitepokkenvirus;

| 6. | Virus van de ziekte van Aujeszky; |
| --- | --- |

6.

Virus van de ziekte van Aujeszky;

| 7. | Klassieke-varkenspestvirus; |
| --- | --- |

7.

Klassieke-varkenspestvirus;

| 8. | Lyssavirus; |
| --- | --- |

8.

Lyssavirus;

| 9. | Virus van de ziekte van Newcastle (pseudovogelpestvirus); |
| --- | --- |

9.

Virus van de ziekte van Newcastle (pseudovogelpestvirus);

| 10. | Virus van de kleine-herkauwerspest; |
| --- | --- |

10.

Virus van de kleine-herkauwerspest;

| 11. | Porcien enterovirus type 9 (vesiculaire-varkensziektevirus); |
| --- | --- |

11.

Porcien enterovirus type 9 (vesiculaire-varkensziektevirus);

| 12. | Runderpestvirus; |
| --- | --- |

12.

Runderpestvirus;

| 13. | Schapepokkenvirus; |
| --- | --- |

13.

Schapepokkenvirus;

| 14. | Virus van de ziekte van Teschen; |
| --- | --- |

14.

Virus van de ziekte van Teschen;

| 15. | Vesiculaire-stomatitisvirus; |
| --- | --- |

15.

Vesiculaire-stomatitisvirus;

| 16. | Virus van de nodulaire dermatose bij runderen; |
| --- | --- |

16.

Virus van de nodulaire dermatose bij runderen;

| 17. | Afrikaanse-paardenpestvirus. |
| --- | --- |

17.

Afrikaanse-paardenpestvirus.

| b. | Mycoplasma's, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:






  1. | Mycoplasma mycoides subtype mycoides SC (kleine kolonie); |
| --- | --- | --- |

b.

Mycoplasma's, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:

1.

Mycoplasma mycoides subtype mycoides SC (kleine kolonie);

| 2. | Mycoplasma capricolum subtype capripneumoniae. |
| --- | --- |

2.

Mycoplasma capricolum subtype capripneumoniae.

| : | 1C352 is niet van toepassing op “vaccins”. |
| --- | --- |

:

1C353Genetische elementen en genetisch gemodificeerde organismen, als hieronder:

| a. | genetisch gemodificeerde organismen, of genetische elementen die de nucleïnezuursequenties bevatten die de pathogeniteit bepalen van de organismen, bedoeld in 1C351.a, 1C351.b, 1C351.c, 1C351.e, 1C352 of 1C354; |
| --- | --- |

a.

genetisch gemodificeerde organismen, of genetische elementen die de nucleïnezuursequenties bevatten die de pathogeniteit bepalen van de organismen, bedoeld in 1C351.a, 1C351.b, 1C351.c, 1C351.e, 1C352 of 1C354;

| b. | genetisch gemodificeerde organismen, of genetische elementen die nucleïnezuursequenties bevatten die coderen voor een van de "toxinen" bedoeld in 1C351.d of "sub-eenheden van toxinen" daarvan. |
| --- | --- |

b.

genetisch gemodificeerde organismen, of genetische elementen die nucleïnezuursequenties bevatten die coderen voor een van de "toxinen" bedoeld in 1C351.d of "sub-eenheden van toxinen" daarvan.

| 1. | Genetische elementen omvatten, onder andere, chromosomen, genomen, plasmiden, transposons en vectoren, al dan niet genetisch gemodificeerd. |
| --- | --- |

1.

Genetische elementen omvatten, onder andere, chromosomen, genomen, plasmiden, transposons en vectoren, al dan niet genetisch gemodificeerd.

| 2. | Onder nucleïnezuursequenties die de pathogeniteit bepalen van de micro-organismen bedoeld in 1C351.a, 1C351.b, 1C351.c, 1C351.e, 1 C352 of 1C354 wordt verstaan een voor het gespecificeerd micro-organisme specifieke sequentie








  a. | die op zichzelf of via de door transcriptie of translatie ontstane producten een aanzienlijk gevaar voor de gezondheid van mensen, dieren of planten oplevert; of |
| --- | --- | --- |

2.

Onder nucleïnezuursequenties die de pathogeniteit bepalen van de micro-organismen bedoeld in 1C351.a, 1C351.b, 1C351.c, 1C351.e, 1 C352 of 1C354 wordt verstaan een voor het gespecificeerd micro-organisme specifieke sequentie

a.

die op zichzelf of via de door transcriptie of translatie ontstane producten een aanzienlijk gevaar voor de gezondheid van mensen, dieren of planten oplevert; of

| b. | waarvan bekend is dat zij het vermogen versterkt van een specifiek micro-organisme, of enig organisme waarin dat micro-organisme kan worden ingebracht of anderszins geïntegreerd, om ernstige schade te berokkenen aan de gezondheid van mensen, dieren of planten. |
| --- | --- |

b.

waarvan bekend is dat zij het vermogen versterkt van een specifiek micro-organisme, of enig organisme waarin dat micro-organisme kan worden ingebracht of anderszins geïntegreerd, om ernstige schade te berokkenen aan de gezondheid van mensen, dieren of planten.

| : | 1C353 is niet van toepassing op nucleïnezuursequenties die de pathogeniteit bepalen van enterohemorragische Escherichia coli serotype O157 en andere verotoxine-producerende stammen dan die welke coderen voor verotoxine of subeenheden daarvan. |
| --- | --- |

:

1C354Plantpathogenen, als hieronder:

| a. | virussen, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van geïsoleerde levende culturen of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:






  1. | Potato Andean latent tymovirus; |
| --- | --- | --- |

a.

virussen, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van geïsoleerde levende culturen of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:

1.

Potato Andean latent tymovirus;

| 2. | Potato spindle tuber viroid; |
| --- | --- |

2.

Potato spindle tuber viroid;

| b. | bacteriën, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:






  1. | Xanthomonas albilineans; |
| --- | --- | --- |

b.

bacteriën, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:

1.

Xanthomonas albilineans;

| 2. | Xanthomonas campestris pv. citri., met inbegrip van stammen, aangeduid als Xanthomonas campestris pv. citri types A, B, C, D, E of anderszins ingedeeld als Xanthomonas citri, Xanthomonas campestris pv. aurantifolia of Xanthomonas campestris pv. citrumelo; |
| --- | --- |

2.

Xanthomonas campestris pv. citri., met inbegrip van stammen, aangeduid als Xanthomonas campestris pv. citri types A, B, C, D, E of anderszins ingedeeld als Xanthomonas citri, Xanthomonas campestris pv. aurantifolia of Xanthomonas campestris pv. citrumelo;

| 3. | Xanthomonas oryzae pv. Oryzae (Pseudomonas campestris pv. Oryzae); |
| --- | --- |

3.

Xanthomonas oryzae pv. Oryzae (Pseudomonas campestris pv. Oryzae);

| 4. | Clavibacter michiganensis subsp. Sepedonicus (Corynebacterium michiganensis subsp. Sepedonicum of Corynebacterium Sepedonicum); |
| --- | --- |

4.

Clavibacter michiganensis subsp. Sepedonicus (Corynebacterium michiganensis subsp. Sepedonicum of Corynebacterium Sepedonicum);

| 5. | Ralstonia solanacearum Rassen 2 en 3 (Pseudomonas solanacearum Rassen 2 en 3 of Burkholderia solanacearum Rassen 2 en 3); |
| --- | --- |

5.

Ralstonia solanacearum Rassen 2 en 3 (Pseudomonas solanacearum Rassen 2 en 3 of Burkholderia solanacearum Rassen 2 en 3);

| c. | schimmels, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:






  1. | Colletotrichum coffeanum var. virulans (colletotrichum kahawae); |
| --- | --- | --- |

c.

schimmels, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:

1.

Colletotrichum coffeanum var. virulans (colletotrichum kahawae);

| 2. | Cochliobolus miyabeanus (Helminthosporium oryzae); |
| --- | --- |

2.

Cochliobolus miyabeanus (Helminthosporium oryzae);

| 3. | Microcyclus ulei (syn. Dothidella ulei); |
| --- | --- |

3.

Microcyclus ulei (syn. Dothidella ulei);

| 4. | Puccinia graminis (syn. Puccinia graminis f. sp. tritici); |
| --- | --- |

4.

Puccinia graminis (syn. Puccinia graminis f. sp. tritici);

| 5. | Puccinia striiformis (syn. Puccinia glumarum); |
| --- | --- |

5.

Puccinia striiformis (syn. Puccinia glumarum);

| 6. | Magnaporthe grisea (Pyricularia grisea/Pyricularia oryzae). |
| --- | --- |

6.

Magnaporthe grisea (Pyricularia grisea/Pyricularia oryzae).

1C450Giftige chemische stoffen en voorlopers van giftige chemische stoffen, als hieronder, en "chemische mengsels" die een of meer van deze stoffen bevatten:

| NB: | ZIE OOK 1C350, 1C351.d EN DE LIJST MILITAIRE GOEDEREN. |
| --- | --- |

NB:

| a. | Giftige chemische stoffen, als hieronder:






  1. | amiton: O,O-diethyl-S-[2-(diëthylamino)ethyl]fosforothioaat (78-53-5) en de overeenkomstige gealkyleerde of geprotoneerde zouten; |
| --- | --- | --- |

a.

Giftige chemische stoffen, als hieronder:

1.

amiton: O,O-diethyl-S-[2-(diëthylamino)ethyl]fosforothioaat (78-53-5) en de overeenkomstige gealkyleerde of geprotoneerde zouten;

| 2. | PFIB: 1,1,3,3,3-pentafluor-2-(trifluormethyl)-1-propeen (382-21-8); |
| --- | --- |

2.

PFIB: 1,1,3,3,3-pentafluor-2-(trifluormethyl)-1-propeen (382-21-8);

| 3. | ZIE LIJST VAN MILITAIRE GOEDEREN VOOR BZ: 3-quinuclidinylbenzilaat (6581-06-2); |
| --- | --- |

3.

ZIE LIJST VAN MILITAIRE GOEDEREN VOOR BZ: 3-quinuclidinylbenzilaat (6581-06-2);

| 4. | fosgeen: carbonyldichloride (75-44-5); |
| --- | --- |

4.

fosgeen: carbonyldichloride (75-44-5);

| 5. | chloorcyaan (506-77-4); |
| --- | --- |

5.

chloorcyaan (506-77-4);

| 6. | cyaanwaterstof (74-90-8); |
| --- | --- |

6.

cyaanwaterstof (74-90-8);

| 7. | chloorpicrine: trichloornitromethaan (76-06-2); |
| --- | --- |

7.

chloorpicrine: trichloornitromethaan (76-06-2);

| : | Voor uitvoer naar "Staten die geen partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens" worden in 1C450 niet bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van de in de punten 1C450.a.1 en.a.2 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 1 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt. |
| --- | --- |

:

| : | Voor uitvoer naar "Staten die partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens" worden in 1C450 niet bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van de in de punten 1C450.a.1 en.a.2 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 30 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt. |
| --- | --- |

:

| : | In 1C450 worden niet bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van de in de punten 1C450.a.4,.a.5,. a.6 en.a.7 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 30 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt. |
| --- | --- |

:

| | In 1C450 worden niet bedoeld producten waarvan is vastgesteld dat het gaat om verpakte consumptiegoederen voor de detailhandelsverkoop voor persoonlijk gebruik of verpakte consumptiegoederen voor individueel gebruik. |
| --- | --- |

| b. | Voorlopers van giftige chemische stoffen, als hieronder:






  1. | chemische stoffen, andere dan die welke zijn opgenomen in de Lijst van militaire goederen of in 1C350, die een fosforatoom bevatten met daaraan gebonden een methyl-, ethyl-of (normale of iso-)propylgroep maar geen andere koolstofatomen;







  : | 1C450.b.1. is niet van toepassing op Fonofos: O-ethyl-S-fenylethyl-fosfonthiolthionaat (944-22-9); |
| --- | --- | --- | --- |

b.

Voorlopers van giftige chemische stoffen, als hieronder:

1.

chemische stoffen, andere dan die welke zijn opgenomen in de Lijst van militaire goederen of in 1C350, die een fosforatoom bevatten met daaraan gebonden een methyl-, ethyl-of (normale of iso-)propylgroep maar geen andere koolstofatomen;

:

| 2. | andere N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso) propyl]fosforamidodihalogeniden dan N,N-dimethylaminofosforyldichloride

  :


  Zie 1C350.57 voor N,N-dimethylaminofosforyldichloride. |
| --- | --- |

2.

andere N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso) propyl]fosforamidodihalogeniden dan N,N-dimethylaminofosforyldichloride

:

Zie 1C350.57 voor N,N-dimethylaminofosforyldichloride.

| 3. | andere dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso) propyl]-N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso) propyl]fosforamidaten dan diethyl-N,N-dimethylfosforamidaat, dat genoemd wordt in 1C350; |
| --- | --- |

3.

andere dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso) propyl]-N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso) propyl]fosforamidaten dan diethyl-N,N-dimethylfosforamidaat, dat genoemd wordt in 1C350;

| 4. | andere N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso) propyl]aminoethyl-2-chloriden en overeenkomstige geprotoneerde zouten dan N,N-diisopropyl-(beta)-aminoethylchloride of N,N-diisopropyl-(beta)-amionoethylchloride - hydrochloride, die genoemd worden in 1C350; |
| --- | --- |

4.

andere N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso) propyl]aminoethyl-2-chloriden en overeenkomstige geprotoneerde zouten dan N,N-diisopropyl-(beta)-aminoethylchloride of N,N-diisopropyl-(beta)-amionoethylchloride - hydrochloride, die genoemd worden in 1C350;

| 5. | andere N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso) propyl]aminoethaan-2-olen en overeenkomstige geprotoneerde zouten dan N,N-diisopropyl-(beta)-aminoethanol (96-800), en N,N-diethylaminoethanol (100-37-8) die genoemd worden in 1C350;







  : | 1C450.b.5. is niet van toepassing op:






  a. | N,N-dimethylaminoethanol (108-01-0) en overeenkomstige geprotoneerde zouten; |
| --- | --- | --- | --- |

5.

andere N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso) propyl]aminoethaan-2-olen en overeenkomstige geprotoneerde zouten dan N,N-diisopropyl-(beta)-aminoethanol (96-800), en N,N-diethylaminoethanol (100-37-8) die genoemd worden in 1C350;

:

a.

N,N-dimethylaminoethanol (108-01-0) en overeenkomstige geprotoneerde zouten;

| b. | geprotoneerde zouten van N,N-diethylaminoethanol (100-37-8); |
| --- | --- |

b.

geprotoneerde zouten van N,N-diethylaminoethanol (100-37-8);

| 6. | andere N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso) propyl]aminoethaan-2-thiolen en overeenkomstige geprotoneerde zouten dan N,N-diisopropyl-(beta)-aminoethaanthiol, dat genoemd wordt in 1C350; |
| --- | --- |

6.

andere N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso) propyl]aminoethaan-2-thiolen en overeenkomstige geprotoneerde zouten dan N,N-diisopropyl-(beta)-aminoethaanthiol, dat genoemd wordt in 1C350;

| 7. | Zie 1C350 voor ethyldiethanolamine (139-87-7); |
| --- | --- |

7.

Zie 1C350 voor ethyldiethanolamine (139-87-7);

| 8. | methyldiethanolamine (105-59-9). |
| --- | --- |

8.

methyldiethanolamine (105-59-9).

| : | Voor uitvoer naar "Staten die geen partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens" worden in 1C450 niet bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van de in de punten 1C450.b.1,.b.2,.b.3,.b.4,.b.5 en.b.6 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 10 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt. |
| --- | --- |

:

| : | Voor uitvoer naar "Staten die partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens" worden in 1C450 niet bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van de in de 1C450.b.1,.b.2,.b.3,.b.4,.b.5 en.b.6 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 30 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt. |
| --- | --- |

:

| : | In 1C450 worden niet bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van de in punt 1C450.b.8. vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 30 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt. |
| --- | --- |

:

| : | In 1C450 worden niet bedoeld producten waarvan is vastgesteld dat het gaat om verpakte consumptiegoederen voor de detailhandelsverkoop voor persoonlijk gebruik of verpakte consumptiegoederen voor individueel gebruik. |
| --- | --- |

:

1DProgrammatuur

1D001"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van goederen, bedoeld in 1B001, 1B002 en 1B003.

1D002"Programmatuur" voor de "ontwikkeling" van laminaten of "composieten" met een organische "matrix", een metaal-"matrix" of een koolstof-"matrix".

1D003"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast om apparatuur de mogelijkheid te bieden de functies uit te oefenen van apparatuur bedoeld in 1A004.c. of 1A004.d.

1D101"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor het "gebruik" van de in 1B101, 1B102, 1B115, 1B117, 1B118 of 1B119 bedoelde goederen.

1D103"Programmatuur", speciaal ontwikkeld voor de analyse van de beperking van de zichtbaarheid zoals de radarreflectie, het ultraviolet/infrarood of akoestisch beeld.

1D201"Programmatuur", speciaal ontwikkeld voor het "gebruik" van de in 1B201 bedoelde goederen.

1ETechnologie

1E001"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" of "productie" van apparatuur of materialen, bedoeld in 1A001.b, 1A001.c, 1A002 tot en met 1A005, 1A006.b., 1A007, 1B en 1C.

1E002Andere "technologie", als hieronder:

| a. | "technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van polybenzothiazolen of polybenzoxazolen; |
| --- | --- |

a.

"technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van polybenzothiazolen of polybenzoxazolen;

| b. | "technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van fluorelastomeerverbindingen die ten minste één vinylethermonomeer bevatten; |
| --- | --- |

b.

"technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van fluorelastomeerverbindingen die ten minste één vinylethermonomeer bevatten;

| c. | "technologie" voor het ontwerpen of de "productie" van de volgende basismaterialen of keramische materialen, niet zijnde "composieten":






  1. | basismaterialen met alle volgende kenmerken:






  a. | met een van de onderstaande samenstellingen:






  1. | enkelvoudige of meervoudige oxiden van zirkonium en meervoudige oxiden van silicium of aluminium; |
| --- | --- | --- | --- | --- |

c.

"technologie" voor het ontwerpen of de "productie" van de volgende basismaterialen of keramische materialen, niet zijnde "composieten":

1.

basismaterialen met alle volgende kenmerken:

a.

met een van de onderstaande samenstellingen:

1.

enkelvoudige of meervoudige oxiden van zirkonium en meervoudige oxiden van silicium of aluminium;

| 2. | enkelvoudige nitriden van boor (de kubusvormige kristalvormen); |
| --- | --- |

2.

enkelvoudige nitriden van boor (de kubusvormige kristalvormen);

| 3. | enkelvoudige of meervoudige carbiden van silicium of boor; of |
| --- | --- |

3.

enkelvoudige of meervoudige carbiden van silicium of boor; of

| 4. | enkelvoudige of meervoudige nitriden van silicium; |
| --- | --- |

4.

enkelvoudige of meervoudige nitriden van silicium;

| b. | met een van de onderstaande totale hoeveelheden metallische verontreiniging (exclusief opzettelijke toevoegingen):






  1. | minder dan 1 000 ppm voor enkelvoudige oxiden of carbiden; of |
| --- | --- | --- |

b.

met een van de onderstaande totale hoeveelheden metallische verontreiniging (exclusief opzettelijke toevoegingen):

1.

minder dan 1 000 ppm voor enkelvoudige oxiden of carbiden; of

| 2. | minder dan 5 000 ppm voor meervoudige verbindingen of enkelvoudige nitriden; en |
| --- | --- |

2.

minder dan 5 000 ppm voor meervoudige verbindingen of enkelvoudige nitriden; en

| c. | zijnde een van de navolgende materialen:






  1. | zirkoonoxide (CAS 1314-23-4) met een gemiddelde deeltjesgrootte kleiner dan of gelijk aan 1 μm terwijl niet meer dan 10 % van de deeltjes groter is dan 5 μm; |
| --- | --- | --- |

c.

zijnde een van de navolgende materialen:

1.

zirkoonoxide (CAS 1314-23-4) met een gemiddelde deeltjesgrootte kleiner dan of gelijk aan 1 μm terwijl niet meer dan 10 % van de deeltjes groter is dan 5 μm;

| 2. | andere basismaterialen met een gemiddelde deeltjesgrootte kleiner dan of gelijk aan 5 μm terwijl niet meer dan 10 % van de deeltjes groter is dan 10 μm; of |
| --- | --- |

2.

andere basismaterialen met een gemiddelde deeltjesgrootte kleiner dan of gelijk aan 5 μm terwijl niet meer dan 10 % van de deeltjes groter is dan 10 μm; of

| 3. | met alle navolgende eigenschappen:






  a. | plaatjes waarvan de verhouding tussen lengte en dikte groter is dan 5; |
| --- | --- | --- |

3.

met alle navolgende eigenschappen:

a.

plaatjes waarvan de verhouding tussen lengte en dikte groter is dan 5;

| b. | whiskers waarvan de verhouding tussen lengte en diameter groter is dan 10, bij een diameter kleiner dan 2 μm, en |
| --- | --- |

b.

whiskers waarvan de verhouding tussen lengte en diameter groter is dan 10, bij een diameter kleiner dan 2 μm, en

| c. | continu- of stapelvezels met een diameter kleiner dan 10 μm; |
| --- | --- |

c.

continu- of stapelvezels met een diameter kleiner dan 10 μm;

| 2. | keramische materialen, niet zijnde "composieten", samengesteld uit de materialen bedoeld in 1E002.c.1;







  : | 1E002.c.2 is niet van toepassing op de "technologie" voor het ontwerpen of vervaardigen van slijpmiddelen. |
| --- | --- | --- |

2.

keramische materialen, niet zijnde "composieten", samengesteld uit de materialen bedoeld in 1E002.c.1;

:

| d. | "technologie" voor de "productie" van aromatische polyamidevezels; |
| --- | --- |

d.

"technologie" voor de "productie" van aromatische polyamidevezels;

| e. | "technologie" voor het installeren, onderhouden en repareren van materialen, bedoeld in 1C001; |
| --- | --- |

e.

"technologie" voor het installeren, onderhouden en repareren van materialen, bedoeld in 1C001;

| f. | "technologie" voor het repareren van "composieten", laminaten of materialen, bedoeld in 1A002, 1C007.c of d.







  : | 1E002.f is niet van toepassing op technologie voor de reparatie van casco's van "civiele vliegtuigen" met koolstof- "stapel- of continuvezelmateriaal" en epoxyharsen, die is vermeld in de handleidingen van de vliegtuigfabrikant. |
| --- | --- | --- |

f.

"technologie" voor het repareren van "composieten", laminaten of materialen, bedoeld in 1A002, 1C007.c of d.

:

| g. | ‧bibliotheekprogramma's (parametrische technische gegevensbestanden)‧, speciaal ontworpen of aangepast om apparatuur de mogelijkheid te bieden de functies uit te oefenen van apparatuur bedoeld in 1A004.c. of 1A004.d.

  :


  Voor de toepassing van 1E002.g. wordt onder ‧bibliotheekprogramma's (parametrische technische gegevensbestanden)‧ verstaan een verzameling technische gegevens, welker raadpleging de prestaties van relevante apparatuur of systemen kan verhogen. |
| --- | --- |

g.

‧bibliotheekprogramma's (parametrische technische gegevensbestanden)‧, speciaal ontworpen of aangepast om apparatuur de mogelijkheid te bieden de functies uit te oefenen van apparatuur bedoeld in 1A004.c. of 1A004.d.

:

Voor de toepassing van 1E002.g. wordt onder ‧bibliotheekprogramma's (parametrische technische gegevensbestanden)‧ verstaan een verzameling technische gegevens, welker raadpleging de prestaties van relevante apparatuur of systemen kan verhogen.

1E101"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot betreffende het "gebruik" van goederen, bedoeld in 1A102, 1B001, 1B101, 1B102, 1B115 tot en met 1B119, 1C001, 1C101, 1C107, 1C111 tot en met 1C118, 1D101 of 1D103.

1E102"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot betreffende de "ontwikkeling" van "programmatuur", bedoeld in 1D001, 1D101 of 1D103.

1E103"Technologie" voor het regelen van de temperatuur, druk of atmosfeer in autoclaven of hydroclaven indien gebruikt voor de "productie" van composieten of halffabricaten van composieten.

1E104"Technologie" voor de "productie" van pyrolytisch gevormde materialen op een mal, doorn of ander substraat van gassen die ontleden bij temperaturen van 1 573 K (1 300 °C) tot 3 173 K (2 900 °C) en drukken van 130 Pa tot 20 kPa.

| : | 1E104 omvat tevens "technologie" voor het samenstellen van voorlopergassen, schema's en gegevens in verband met stroomsnelheden en procesregeling. |
| --- | --- |

:

1E201"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot betreffende het "gebruik" van goederen, bedoeld in 1A002, 1A007, 1A202, 1A225, 1A226, 1A227, 1B201, 1B225 t/m 1B233, 1C002.b.3. of.b.4., 1C010.b, 1C202, 1C210, 1C216, 1C225 t/m 1C240 of 1D201.

1E202"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot betreffende de "ontwikkeling" of "productie" van goederen, bedoeld in 1A007, 1A202, 1A225 tot en met 1A227.

1E203"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot betreffende de "ontwikkeling" van "programmatuur", bedoeld in 1D201.

CATEGORIE 2

MATERIAALBEWERKING

2ASystemen, apparatuur en onderdelen

| : | voor stillopende rollagers, zie Lijst militaire goederen. |
| --- | --- |

:

2A001Wrijvingsloze rollagers of rollagersystemen, als hieronder, en onderdelen daarvan:

| NB: | ZIE TEVENS 2A101. |
| --- | --- |

NB:

| : | 2A001 is niet van toepassing op kogels met toleranties volgens opgave van de fabrikant volgens klasse 5 ISO-norm 3290 of slechter. |
| --- | --- |

:

| a. | kogellagers of lagers met rollers uit één stuk, met alle toleranties volgens opgave van de fabrikant volgens ISO 492 tolerantieklasse 4 (of nationale equivalenten), of beter, en met zowel ringen als rolelementen (ISO 5593), gemaakt van monel of beryllium;







  Noot: | 2A001.a is niet van toepassing op kegelvormige rollagers. |
| --- | --- | --- |

a.

kogellagers of lagers met rollers uit één stuk, met alle toleranties volgens opgave van de fabrikant volgens ISO 492 tolerantieklasse 4 (of nationale equivalenten), of beter, en met zowel ringen als rolelementen (ISO 5593), gemaakt van monel of beryllium;

Noot:

| b. | Niet gebruikt; |
| --- | --- |

b.

Niet gebruikt;

| c. | actieve magnetische lagersystemen waarbij gebruik wordt gemaakt van:






  1. | materialen met fluxdichtheden van 2.0 T of groter en een vloeigrens van meer dan 414 MPa; of |
| --- | --- | --- |

c.

actieve magnetische lagersystemen waarbij gebruik wordt gemaakt van:

1.

materialen met fluxdichtheden van 2.0 T of groter en een vloeigrens van meer dan 414 MPa; of

| 2. | volledig elektromagnetische 3D-homopolaire instelstroom - ontwerpen voor aandrijvers; of |
| --- | --- |

2.

volledig elektromagnetische 3D-homopolaire instelstroom - ontwerpen voor aandrijvers; of

| 3. | positiesensoren voor gebruik bij hoge temperaturen (450 K (177 °C) en hoger). |
| --- | --- |

3.

positiesensoren voor gebruik bij hoge temperaturen (450 K (177 °C) en hoger).

2A101Andere dan onder 2A001 vermelde radiale kogellagers, met alle toleranties volgens ISO 492 tolerantieklasse 2 (of ANSI/ABMA Std 20 tolerantieklasse ABEC-9 of RBEC-9, of andere nationale equivalenten), of beter en met alle hierna volgende kenmerken:

| a. | een diameter boorgat binnenring tussen 12 en 50 mm; |
| --- | --- |

a.

een diameter boorgat binnenring tussen 12 en 50 mm;

| b. | een diameter boorgat buitenring tussen 25 en 100 mm; en |
| --- | --- |

b.

een diameter boorgat buitenring tussen 25 en 100 mm; en

| c. | een dikte tussen 10 en 20 mm. |
| --- | --- |

c.

een dikte tussen 10 en 20 mm.

2A225Kroezen vervaardigd van metalen die bestand zijn tegen vloeibare actinidemetalen, als hieronder:

| a. | kroezen met beide hiernavolgende kenmerken:






  1. | een inhoud van 150 cm3 tot 8 000 cm3; en |
| --- | --- | --- |

a.

kroezen met beide hiernavolgende kenmerken:

1.

een inhoud van 150 cm3 tot 8 000 cm3; en

| 2. | vervaardigd van of bekleed met een van onderstaande materialen, met een zuiverheid van 98 gewichtspercenten of hoger:






  a. | calciumfluoride (CaF2); |
| --- | --- | --- |

2.

vervaardigd van of bekleed met een van onderstaande materialen, met een zuiverheid van 98 gewichtspercenten of hoger:

a.

calciumfluoride (CaF2);

| b. | calciumzirkonaat (metazirkonaat) (CaZrO3); |
| --- | --- |

b.

calciumzirkonaat (metazirkonaat) (CaZrO3);

| c. | ceriumsulfide (Ce2S3); |
| --- | --- |

c.

ceriumsulfide (Ce2S3);

| d. | erbiumoxide (Er2O3); |
| --- | --- |

d.

erbiumoxide (Er2O3);

| e. | hafniumoxide (HFO2); |
| --- | --- |

e.

hafniumoxide (HFO2);

| f. | magnesiumoxide (MgO); |
| --- | --- |

f.

magnesiumoxide (MgO);

| g. | legering van genitrideerd niobium-titaan-wolfraam (ca. 50 % Nb, 30 % Ti, 20 % W); |
| --- | --- |

g.

legering van genitrideerd niobium-titaan-wolfraam (ca. 50 % Nb, 30 % Ti, 20 % W);

| h. | ytttriumoxide (Y2O3); of |
| --- | --- |

h.

ytttriumoxide (Y2O3); of

| i. | zirkoniumoxide (ZrO2); |
| --- | --- |

i.

zirkoniumoxide (ZrO2);

| b. | kroezen met beide hiernavolgende kenmerken:






  1. | een inhoud van 50 cm3 tot 2 000 cm3; en |
| --- | --- | --- |

b.

kroezen met beide hiernavolgende kenmerken:

1.

een inhoud van 50 cm3 tot 2 000 cm3; en

| 2. | vervaardigd van of gevoerd met tantaal, met een zuiverheid van 99,9 gewichtspercenten of hoger; |
| --- | --- |

2.

vervaardigd van of gevoerd met tantaal, met een zuiverheid van 99,9 gewichtspercenten of hoger;

| c. | kroezen met alle hiernavolgende kenmerken:






  1. | een inhoud van 50 cm3 tot 2 000 cm3; |
| --- | --- | --- |

c.

kroezen met alle hiernavolgende kenmerken:

1.

een inhoud van 50 cm3 tot 2 000 cm3;

| 2. | vervaardigd van of gevoerd met tantaal, met een zuiverheid van 98 gewichtspercenten of hoger; en |
| --- | --- |

2.

vervaardigd van of gevoerd met tantaal, met een zuiverheid van 98 gewichtspercenten of hoger; en

| 3. | bekleed met tantaalcarbide, -nitride of -boride of ongeacht welke combinatie hiervan. |
| --- | --- |

3.

bekleed met tantaalcarbide, -nitride of -boride of ongeacht welke combinatie hiervan.

2A226Afsluiters met alle volgende kenmerken:

| a. | een ‧nominale afmeting‧ van 5 mm of groter; |
| --- | --- |

a.

een ‧nominale afmeting‧ van 5 mm of groter;

| b. | met balgafdichting; en |
| --- | --- |

b.

met balgafdichting; en

| c. | geheel vervaardigd van of gevoerd met aluminium, aluminiumlegering, nikkel of een nikkellegering die 60 gewichtspercenten of meer nikkel bevat. |
| --- | --- |

c.

geheel vervaardigd van of gevoerd met aluminium, aluminiumlegering, nikkel of een nikkellegering die 60 gewichtspercenten of meer nikkel bevat.

:

Voor afsluiters met verschillende inlaat- en uitlaatopeningen heeft de in 2A226 bedoelde ‧nominale afmeting‧ betrekking op de kleinste diameter.

2BTest-, inspectie- en productieapparatuur

| 1. | Parallelle hulpcontourassen, bijvoorbeeld de w-as op horizontale kotterbanken of een tweede roterende hulpas waarvan de hartlijn parallel loopt met de roterende hoofdas, worden niet bij het totale aantal contourassen gerekend. Roterende assen hoeven niet over 360° draaibaar te zijn. Een roterende as kan worden aangedreven door een lineair mechanisme (bijvoorbeeld een draadspil of een tandheugel met rondsel). |
| --- | --- |

1.

| 2. | Voor de toepassing van 2 B is het aantal assen dat gelijktijdig kan samenwerken voor "contourbesturen" het aantal assen waarlangs of waarrond tijdens de bewerking van het werkstuk gelijktijdige en samenhangende bewegingen worden verricht tussen het werkstuk en een gereedschap. Dit omvat niet eventuele extra assen waarlangs of waarrond andere relatieve bewegingen in de machine worden verricht zoals:







  a. | steenrechtsystemen in slijpmachines; |
| --- | --- | --- |

2.

a.

steenrechtsystemen in slijpmachines;

| b. | evenwijdige roterende assen om afzonderlijke werkstukken te bevestigen; |
| --- | --- |

b.

evenwijdige roterende assen om afzonderlijke werkstukken te bevestigen;

| c. | collineaire roterende assen om hetzelfde werkstuk te bewerken door het aan verschillende kanten in een klauwplaat te klemmen. |
| --- | --- |

c.

collineaire roterende assen om hetzelfde werkstuk te bewerken door het aan verschillende kanten in een klauwplaat te klemmen.

| 3. | De benaming van de assen dient in overeenstemming te zijn met de internationale norm ISO 841 - Machines met numerieke besturing - benamingen van assen en bewegingen. |
| --- | --- |

3.

| 4. | Voor de toepassing van 2B001 tot en met 2B009 wordt een "kantelspil" beschouwd als een roterende as. |
| --- | --- |

4.

| 5. | Een ‧aangegeven instelnauwkeurigheid‧ op grond van metingen overeenkomstig norm ISO 230/2 (1988) (2) of nationale equivalenten mag voor elk model werktuigmachine worden gebruikt als alternatief voor individuele machinetests. ‧Aangegeven instelnauwkeurigheid‧ betekent de nauwkeurigheidswaarde die wordt meegedeeld aan de bevoegde autoriteiten van de lidstaat waarin de exporteur is gevestigd als representatieve waarde voor de nauwkeurigheid van een specifiek machinemodel.

  Bepaling van de ‧aangegeven instelnauwkeurigheid‧








  a. | Selecteer vijf machines van een bepaald model voor beoordeling; |
| --- | --- | --- |

5.

Bepaling van de ‧aangegeven instelnauwkeurigheid‧

a.

Selecteer vijf machines van een bepaald model voor beoordeling;

| b. | Meet de nauwkeurigheid van de lineaire assen overeenkomstig ISO 230/2 (1988)
   (2)
  ; |
| --- | --- |

b.

Meet de nauwkeurigheid van de lineaire assen overeenkomstig ISO 230/2 (1988)
   (2)
  ;

| c. | Bepaal de A-waarden voor elke as van elke machine. De methode voor de berekening van de A-waarde is beschreven in de ISO-norm; |
| --- | --- |

c.

Bepaal de A-waarden voor elke as van elke machine. De methode voor de berekening van de A-waarde is beschreven in de ISO-norm;

| d. | Bepaal de gemiddelde waarde van de A-waarde van elke as. Deze gemiddelde waarde Â wordt de aangegeven waarde van elke as van het model (Âx, Ây,...); |
| --- | --- |

d.

Bepaal de gemiddelde waarde van de A-waarde van elke as. Deze gemiddelde waarde Â wordt de aangegeven waarde van elke as van het model (Âx, Ây,...);

| e. | Aangezien de lijst in categorie 2 verwijst naar elke lineaire as, zullen er evenveel aangegeven waarden als lineaire assen zijn; |
| --- | --- |

e.

Aangezien de lijst in categorie 2 verwijst naar elke lineaire as, zullen er evenveel aangegeven waarden als lineaire assen zijn;

| f. | Indien een as van een niet in 2B001.a tot en met 2B001.c of 2B201 bedoeld machinemodel, een aangegeven nauwkeurigheid Â van 6 μm of nauwkeuriger bij machines voor slijpen en 8 μm of nauwkeuriger bij machines voor frezen of draaien heeft, moet de fabrikant het nauwkeurigheidsniveau om de achttien maanden opnieuw bevestigen. |
| --- | --- |

f.

Indien een as van een niet in 2B001.a tot en met 2B001.c of 2B201 bedoeld machinemodel, een aangegeven nauwkeurigheid Â van 6 μm of nauwkeuriger bij machines voor slijpen en 8 μm of nauwkeuriger bij machines voor frezen of draaien heeft, moet de fabrikant het nauwkeurigheidsniveau om de achttien maanden opnieuw bevestigen.

2B001Werktuigmachines en combinaties daarvan, voor het verspanen (of snijden) van metalen, keramische materialen of "composieten", die, volgens de technische specificaties van de fabrikant kunnen worden uitgerust met elektronische toestellen voor "numerieke besturing" en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor, als hieronder:

| NB: | ZIE OOK 2B201. |
| --- | --- |

NB:

| : | In 2B001 zijn niet bedoeld werktuigmachines voor speciale toepassingen die alleen dienen voor het vervaardigen van tandwielen. Zie voor dergelijke machines 2B003. |
| --- | --- |

:

| : | In 2B001 zijn niet bedoeld werktuigmachines voor speciale toepassingen die alleen dienen voor het vervaardigen van een van de volgende onderdelen:







  a. | krukassen of nokkenassen; |
| --- | --- | --- |

:

a.

krukassen of nokkenassen;

| b. | gereedschappen of frezen; |
| --- | --- |

b.

gereedschappen of frezen;

| c. | extrusiewormen; |
| --- | --- |

c.

extrusiewormen;

| d. | gegraveerde of geslepen delen van juwelen. |
| --- | --- |

d.

gegraveerde of geslepen delen van juwelen.

| : | Werktuigmachines met ten minste twee van de drie volgende gebruiksmogelijkheden: draaien, frezen of slijpen (bv. een machine voor draaien waarmee ook kan worden gefreesd) moeten op basis van iedere toepasselijke rubriek 2B001 a.,b., of c worden beoordeeld. |
| --- | --- |

:

| : | Voor werktuigmachines voor optische afwerking, zie 2B002. |
| --- | --- |

:

| a. | werktuigmachines voor draaien met de volgende eigenschappen:






  1. | een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 6 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (3) of nationale equivalenten langs elke lineaire as; en |
| --- | --- | --- |

a.

werktuigmachines voor draaien met de volgende eigenschappen:

1.

een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 6 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (3) of nationale equivalenten langs elke lineaire as; en

| 2. | twee of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen";







  : | 2B001.a is niet van toepassing op machines voor draaien die speciaal zijn ontworpen voor de productie van contactlenzen, met de volgende eigenschappen:







  a. | de besturing van de machine is beperkt tot het gebruik van "programmatuur" op het gebied van oogheelkunde voor de gegevensinvoer van de werkstukprogramma's; en |
| --- | --- | --- | --- |

2.

twee of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen";

:

a.

de besturing van de machine is beperkt tot het gebruik van "programmatuur" op het gebied van oogheelkunde voor de gegevensinvoer van de werkstukprogramma's; en

| b. | er is geen vacuümspaninrichting. |
| --- | --- |

b.

er is geen vacuümspaninrichting.

| b. | werktuigmachines voor frezen met een of meer van de volgende eigenschappen:






  1. | met alle volgende eigenschappen:






  a. | een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 6 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988)4 of nationale equivalenten langs elke lineaire as; en |
| --- | --- | --- | --- |

b.

werktuigmachines voor frezen met een of meer van de volgende eigenschappen:

1.

met alle volgende eigenschappen:

a.

een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 6 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988)4 of nationale equivalenten langs elke lineaire as; en

| b. | drie lineaire assen plus één roterende as die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen"; |
| --- | --- |

b.

drie lineaire assen plus één roterende as die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen";

| 2. | vijf of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen"; |
| --- | --- |

2.

vijf of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen";

| 3. | een instelnauwkeurigheid voor pasmal-boormachines, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (3) of nationale equivalenten langs elke lineaire as; of |
| --- | --- |

3.

een instelnauwkeurigheid voor pasmal-boormachines, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (3) of nationale equivalenten langs elke lineaire as; of

| 4. | gebruik maken van een slagmes (‹fly cutters›) met alle volgende kenmerken:






  a. | een "rondloopnauwkeurigheid" (‹run out›) en "axiale slag" van de spil kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,0004 mm totale meetklokuitslag (TIR); en |
| --- | --- | --- |

4.

gebruik maken van een slagmes (‹fly cutters›) met alle volgende kenmerken:

a.

een "rondloopnauwkeurigheid" (‹run out›) en "axiale slag" van de spil kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,0004 mm totale meetklokuitslag (TIR); en

| b. | een hoekafwijking van de sledebeweging langs een asslag van 300 mm (gieren, stampen of slingeren) kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 2 boogseconden totale meetklokuitslag (TIR); |
| --- | --- |

b.

een hoekafwijking van de sledebeweging langs een asslag van 300 mm (gieren, stampen of slingeren) kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 2 boogseconden totale meetklokuitslag (TIR);

| c. | werktuigmachines voor slijpen met een of meer van de volgende eigenschappen:






  1. | met alle volgende eigenschappen:






  a. | een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (4) of nationale equivalenten langs elke lineaire as; en |
| --- | --- | --- | --- |

c.

werktuigmachines voor slijpen met een of meer van de volgende eigenschappen:

1.

met alle volgende eigenschappen:

a.

een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (4) of nationale equivalenten langs elke lineaire as; en

| b. | drie of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen"; of |
| --- | --- |

b.

drie of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen"; of

| 2. | vijf of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen";







  : | In 2B001.c zijn niet bedoeld slijpmachines als hieronder:







  a. | Uitwendige, inwendige en uitwendig-inwendige rondslijpmachines met de volgende kenmerken:








  1. | beperkt tot rondslijpen; en |
| --- | --- | --- | --- | --- |

2.

vijf of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen";

:

a.

Uitwendige, inwendige en uitwendig-inwendige rondslijpmachines met de volgende kenmerken:

1.

beperkt tot rondslijpen; en

| 2. | een maximale buitendiameter of lengte van het werkstuk van 150 mm. |
| --- | --- |

2.

een maximale buitendiameter of lengte van het werkstuk van 150 mm.

| b. | Machines die speciaal zijn ontworpen als pasmal-slijpmachines zonder z-as of w-as, met een instelnauwkeurigheid "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988)
   (4)
  of nationale equivalenten. |
| --- | --- |

b.

Machines die speciaal zijn ontworpen als pasmal-slijpmachines zonder z-as of w-as, met een instelnauwkeurigheid "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988)
   (4)
  of nationale equivalenten.

| c. | Vlakslijpers. |
| --- | --- |

c.

Vlakslijpers.

| d. | vonkmachines (EDM) met twee of meer roterende assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen", waarbij de electrode niet bestaat uit een bewegende draad; |
| --- | --- |

d.

vonkmachines (EDM) met twee of meer roterende assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen", waarbij de electrode niet bestaat uit een bewegende draad;

| e. | werktuigmachines voor het verspanen van metalen, keramische materialen of "composieten", met de volgende eigenschappen:






  1. | verspanen van materiaal met een of meer van de volgende middelen:






  a. | waterstraal of andere vloeistofstraal, met inbegrip van die met slijpmiddeltoevoegingen; |
| --- | --- | --- | --- |

e.

werktuigmachines voor het verspanen van metalen, keramische materialen of "composieten", met de volgende eigenschappen:

1.

verspanen van materiaal met een of meer van de volgende middelen:

a.

waterstraal of andere vloeistofstraal, met inbegrip van die met slijpmiddeltoevoegingen;

| b. | een elektronenbundel; of |
| --- | --- |

b.

een elektronenbundel; of

| c. | een "laser" straal; en |
| --- | --- |

c.

een "laser" straal; en

| 2. | ten minste twee roterende assen met alle volgende eigenschappen:






  a. | gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturing", en |
| --- | --- | --- |

2.

ten minste twee roterende assen met alle volgende eigenschappen:

a.

gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturing", en

| b. | een instelnauwkeurigheid kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,003°; |
| --- | --- |

b.

een instelnauwkeurigheid kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,003°;

| f. | langgatboormachines of machines voor draaien die zijn aangepast voor langgatboren, met een maximum boordiepte van meer dan 5 m, alsmede speciaal daarvoor ontworpen onderdelen. |
| --- | --- |

f.

langgatboormachines of machines voor draaien die zijn aangepast voor langgatboren, met een maximum boordiepte van meer dan 5 m, alsmede speciaal daarvoor ontworpen onderdelen.

2B002Numeriek bestuurde werktuigmachines voor optische afwerking, die zijn uitgerust voor selectieve materiaalverwijdering met het oog op de productie van niet-sferische optische oppervlakken, met alle volgende eigenschappen:

| a. | afwerking van de vorm tot op minder (d.w.z. beter) dan 1,0 μm nauwkeurig; |
| --- | --- |

a.

afwerking van de vorm tot op minder (d.w.z. beter) dan 1,0 μm nauwkeurig;

| b. | afwerking tot een ruwheid van minder (d.w.z. beter) dan 100 nm rms. |
| --- | --- |

b.

afwerking tot een ruwheid van minder (d.w.z. beter) dan 100 nm rms.

| c. | vier of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen"; en die |
| --- | --- |

c.

vier of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen"; en die

| d. | een of meer van de navolgende procedés gebruiken:






  1. | magnetorheologisch afwerkingsprocedé (‧MRF‧); |
| --- | --- | --- |

d.

een of meer van de navolgende procedés gebruiken:

1.

magnetorheologisch afwerkingsprocedé (‧MRF‧);

| 2. | elektrorheologisch afwerkingsprocedé (‧ERF‧); |
| --- | --- |

2.

elektrorheologisch afwerkingsprocedé (‧ERF‧);

| 3. | ‧afwerking met behulp van een energetische deeltjesbundel‧; |
| --- | --- |

3.

‧afwerking met behulp van een energetische deeltjesbundel‧;

| 4. | ‧afwerking met behulp van een opblaasbaar membraan‧; of |
| --- | --- |

4.

‧afwerking met behulp van een opblaasbaar membraan‧; of

| 5. | ‧afwerking met behulp van een vloeistofstraal‧. |
| --- | --- |

5.

‧afwerking met behulp van een vloeistofstraal‧.

:

Voor de toepassing van 2B002 is:

| 1. | ‧MRF‧ een materiaalverwijderingsprocedé waarbij gebruik wordt gemaakt van een abrasieve magnetische vloeistof waarvan de viscositeit via een magnetisch veld wordt gecontroleerd. |
| --- | --- |

1.

‧MRF‧ een materiaalverwijderingsprocedé waarbij gebruik wordt gemaakt van een abrasieve magnetische vloeistof waarvan de viscositeit via een magnetisch veld wordt gecontroleerd.

| 2. | ‧ERF‧ is een verwijderingsprocedé waarbij gebruik wordt gemaakt van een abrasieve vloeistof waarvan de viscositeit via een elektrisch veld wordt gecontroleerd. |
| --- | --- |

2.

‧ERF‧ is een verwijderingsprocedé waarbij gebruik wordt gemaakt van een abrasieve vloeistof waarvan de viscositeit via een elektrisch veld wordt gecontroleerd.

| 3. | Bij ‧afwerking met behulp van een energetische deeltjesbundel‧ wordt gebruik gemaakt van Reactive Atom Plasma-technologie (RAP)(reactief atomair plasma) of ionenbundels om op selectieve manier materiaal te verwijderen. |
| --- | --- |

3.

Bij ‧afwerking met behulp van een energetische deeltjesbundel‧ wordt gebruik gemaakt van Reactive Atom Plasma-technologie (RAP)(reactief atomair plasma) of ionenbundels om op selectieve manier materiaal te verwijderen.

| 4. | ‧Afwerking met behulp van een opblaasbaar membraan‧ is een procedé waarbij gebruik wordt gemaakt van een onder druk gezet membraan dat aldus wordt vervormd zodat het in contact komt met een klein oppervlak van het werkstuk. |
| --- | --- |

4.

‧Afwerking met behulp van een opblaasbaar membraan‧ is een procedé waarbij gebruik wordt gemaakt van een onder druk gezet membraan dat aldus wordt vervormd zodat het in contact komt met een klein oppervlak van het werkstuk.

| 5. | Bij ‧afwerking met behulp van een vloeistofstraal‧ wordt voor de materiaalverwijdering gebruik gemaakt van een vloeistofstroom. |
| --- | --- |

5.

Bij ‧afwerking met behulp van een vloeistofstraal‧ wordt voor de materiaalverwijdering gebruik gemaakt van een vloeistofstroom.

2B003"Numeriek bestuurde" en handgestuurde werktuigmachines en speciaal ontworpen onderdelen, regelapparatuur en toebehoren daarvoor, speciaal ontworpen voor het snijden, afwerken, slijpen of wetten van geharde (Rc = 40 of meer) rechte, schroef- en dubbelgeschroefde tandwielen met een steekdiameter groter dan 1 250 mm en een kopbreedte gelijk aan of groter dan 15 % van de steekdiameter, afgewerkt tot een kwaliteit gelijk aan of beter dan AGMA 14 (gelijkwaardig aan ISO-norm 1328, klasse 3).

2B004Hete "isostatische persen", met alle hieronder vermelde kenmerken, en speciaal ontworpen onderdelen en toebehoren daarvoor:

| NB: | ZIE OOK 2B104 EN 2B204 |
| --- | --- |

NB:

| a. | met de mogelijkheid de temperatuur in de afgesloten ruimte te beheersen, terwijl de drukkamerholte een binnendiameter heeft van 406 mm of meer, en |
| --- | --- |

a.

met de mogelijkheid de temperatuur in de afgesloten ruimte te beheersen, terwijl de drukkamerholte een binnendiameter heeft van 406 mm of meer, en

| b. | met een van de onderstaande eigenschappen:






  1. | een maximaal mogelijke werkdruk groter dan 207 MPa; |
| --- | --- | --- |

b.

met een van de onderstaande eigenschappen:

1.

een maximaal mogelijke werkdruk groter dan 207 MPa;

| 2. | een gecontroleerde thermische omgeving van meer dan 1 773 K (1 500 °C); of |
| --- | --- |

2.

een gecontroleerde thermische omgeving van meer dan 1 773 K (1 500 °C); of

| 3. | de mogelijkheid van impregnering met koolwaterstoffen en verwijdering van de overblijvende gasvormige afvalproducten. |
| --- | --- |

3.

de mogelijkheid van impregnering met koolwaterstoffen en verwijdering van de overblijvende gasvormige afvalproducten.

De binnenmaat betreft de kamer waarin zowel de werktemperatuur als de werkdruk tot stand komt en omvat geen spanstukken. Deze maat is gelijk aan de kleinste van ofwel de binnendiameter van de drukkamer ofwel de binnendiameter van de geïsoleerde ovenkamer, afhankelijk van het feit welke van de twee kamers zich in de andere bevindt.

| : | Voor speciaal ontworpen matrijzen, mallen en gereedschappen, zie 1B003, 9B009 en de Lijst militaire goederen. |
| --- | --- |

:

2B005Speciaal ontworpen apparatuur voor de afzetting, verwerking en procesbesturing van anorganische deklagen, bekledingen en oppervlakmodificaties, als hieronder, voor niet-elektronische substraten door middel van de in de tabel en bijbehorende noten na 2E003.f omschreven procedés en speciaal daarvoor ontworpen geautomatiseerde onderdelen voor de hantering, positionering, manipulatie en besturing:

| a. | Productieapparatuur voor chemische afzetting uit de dampfase (CVD) met alle onderstaande mogelijkheden:







  NB: | ZIE OOK 2B105 |
| --- | --- | --- |

a.

Productieapparatuur voor chemische afzetting uit de dampfase (CVD) met alle onderstaande mogelijkheden:

NB:

| 1. | een aangepast procedé voor een van onderstaande technieken:






  a. | pulserende CVD; |
| --- | --- | --- |

1.

een aangepast procedé voor een van onderstaande technieken:

a.

pulserende CVD;

| b. | thermische afzetting met beheerste nucleatie (CNTD), of |
| --- | --- |

b.

thermische afzetting met beheerste nucleatie (CNTD), of

| c. | met plasma versterkte of met plasma ondersteunde CVD, en |
| --- | --- |

c.

met plasma versterkte of met plasma ondersteunde CVD, en

| 2. | met een van onderstaande eigenschappen:






  a. | omvat roterende afdichtingen voor hoog-vacuüm (minder dan of gelijk aan 0,01Pa), of |
| --- | --- | --- |

2.

met een van onderstaande eigenschappen:

a.

omvat roterende afdichtingen voor hoog-vacuüm (minder dan of gelijk aan 0,01Pa), of

| b. | omvat in situ regulering van de dikte van de bekledingslaag; |
| --- | --- |

b.

omvat in situ regulering van de dikte van de bekledingslaag;

| b. | Productieapparatuur voor ionenimplantatie met een bundelstroomsterkte van 5 mA of hoger; |
| --- | --- |

b.

Productieapparatuur voor ionenimplantatie met een bundelstroomsterkte van 5 mA of hoger;

| c. | Productieapparatuur voor elektronenstraalverdampen (EB-PVD) welke een voedingssysteem gespecificeerd voor meer dan 80 kW omvat, met een van de volgende kenmerken:






  1. | een laserbesturingssysteem dat door middel van het vloeistofniveau de toevoersnelheid van de ingot nauwkeurig reguleert, of |
| --- | --- | --- |

c.

Productieapparatuur voor elektronenstraalverdampen (EB-PVD) welke een voedingssysteem gespecificeerd voor meer dan 80 kW omvat, met een van de volgende kenmerken:

1.

een laserbesturingssysteem dat door middel van het vloeistofniveau de toevoersnelheid van de ingot nauwkeurig reguleert, of

| 2. | een computergestuurde, volgens het principe van de fotoluminescentie van de geïoniseerde atomen in de dampstroom werkende monitor die de mate van afzetting van een uit twee of meer elementen bestaande bekledingslaag reguleert; |
| --- | --- |

2.

een computergestuurde, volgens het principe van de fotoluminescentie van de geïoniseerde atomen in de dampstroom werkende monitor die de mate van afzetting van een uit twee of meer elementen bestaande bekledingslaag reguleert;

| d. | Productieapparatuur voor plasmaspuiten met een van de volgende kenmerken:






  1. | werkend bij een beheerste verlaagde druk (minder dan of gelijk aan 10 kPa, gemeten binnen een afstand van 300 mm boven de opening van het spuitpistool) in een vacuümkamer geschikt voor het bereiken van een druk van 0,01 Pa voorafgaande aan het spuitproces; of |
| --- | --- | --- |

d.

Productieapparatuur voor plasmaspuiten met een van de volgende kenmerken:

1.

werkend bij een beheerste verlaagde druk (minder dan of gelijk aan 10 kPa, gemeten binnen een afstand van 300 mm boven de opening van het spuitpistool) in een vacuümkamer geschikt voor het bereiken van een druk van 0,01 Pa voorafgaande aan het spuitproces; of

| 2. | omvat in situ regulering van de dikte van de bekledingslaag; |
| --- | --- |

2.

omvat in situ regulering van de dikte van de bekledingslaag;

| e. | Productieapparatuur voor sputteren, geschikt voor een stroomdichtheid van 0,1 mA/mm2 of hoger bij een afzettingssnelheid van 15 μm/uur of meer; |
| --- | --- |

e.

Productieapparatuur voor sputteren, geschikt voor een stroomdichtheid van 0,1 mA/mm2 of hoger bij een afzettingssnelheid van 15 μm/uur of meer;

| f. | Productieapparatuur voor boogverdampen welke een net van gekoppelde elektromagneten omvat voor de besturing van de punt van de boogontlading op de kathode; |
| --- | --- |

f.

Productieapparatuur voor boogverdampen welke een net van gekoppelde elektromagneten omvat voor de besturing van de punt van de boogontlading op de kathode;

| g. | Productieapparatuur voor ‹ion-plating› voor het in situ meten van ofwel:






  1. | de dikte van de bekledingslaag op het substraat en beheersing van de snelheid van afzetting, of |
| --- | --- | --- |

g.

Productieapparatuur voor ‹ion-plating› voor het in situ meten van ofwel:

1.

de dikte van de bekledingslaag op het substraat en beheersing van de snelheid van afzetting, of

| 2. | optische kenmerken. |
| --- | --- |

2.

optische kenmerken.

| : | 2B005 is niet van toepassing op apparatuur voor chemische afzetting uit de dampfase, voor boogverdamping, sputteren, ‹ion-plating›, of ionenimplantatie die speciaal is ontworpen voor snij- of werktuigmachines. |
| --- | --- |

:

2B006Maatinspectie-, meetsystemen, meetapparatuur en samenstellingen, als hieronder:

| a. | computergestuurde of "numeriek bestuurde" coördinatenmeetmachines (CMM), met een driedimensionale (volumetrische) maximaal toelaatbare lengtemeetfout (E0, MPE) op enig punt in het werkbereik van de machine (d.w.z. binnen de aslengte) gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan (1,7 + L/1 000) μm (L is de gemeten lengte in mm), overeenkomstig ISO 10360-2 (2009);




  De E0, MPE van de door de fabrikant opgegeven meest accurate configuratie van de CMM (bv. beste van de volgende: tastkop, lengte tastnaald, bewegingsparameters, omgeving) en "inclusief alle compensaties" moet worden vergeleken met de drempel van 1,7+L/1 000 μm.








  NB: | ZIE OOK 2B206 |
| --- | --- | --- |

a.

computergestuurde of "numeriek bestuurde" coördinatenmeetmachines (CMM), met een driedimensionale (volumetrische) maximaal toelaatbare lengtemeetfout (E0, MPE) op enig punt in het werkbereik van de machine (d.w.z. binnen de aslengte) gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan (1,7 + L/1 000) μm (L is de gemeten lengte in mm), overeenkomstig ISO 10360-2 (2009);

De E0, MPE van de door de fabrikant opgegeven meest accurate configuratie van de CMM (bv. beste van de volgende: tastkop, lengte tastnaald, bewegingsparameters, omgeving) en "inclusief alle compensaties" moet worden vergeleken met de drempel van 1,7+L/1 000 μm.

NB:

| b. | meetinstrumenten voor lineaire en hoekverplaatsingen, als hieronder:






  1. | meetinstrumenten voor ‧lineaire verplaatsingen‧ met een of meer van de volgende kenmerken:




  In punt 2B006.b.1 moet onder ‧lineaire verplaatsing‧ worden verstaan de verandering van de afstand tussen de meetpen en het gemeten voorwerp.







  a. | meetsystemen van het contactloze type met een "resolutie" gelijk aan of kleiner (beter) dan 0,2 μm binnen een meetgebied tot en met 0,2 mm; |
| --- | --- | --- | --- |

b.

meetinstrumenten voor lineaire en hoekverplaatsingen, als hieronder:

1.

meetinstrumenten voor ‧lineaire verplaatsingen‧ met een of meer van de volgende kenmerken:

In punt 2B006.b.1 moet onder ‧lineaire verplaatsing‧ worden verstaan de verandering van de afstand tussen de meetpen en het gemeten voorwerp.

a.

meetsystemen van het contactloze type met een "resolutie" gelijk aan of kleiner (beter) dan 0,2 μm binnen een meetgebied tot en met 0,2 mm;

| b. | lineaire spanningsverschilomzetters met beide volgende kenmerken:






  1. | "lineariteit" gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,1 % binnen een meetgebied tot en met 5 mm; en |
| --- | --- | --- |

b.

lineaire spanningsverschilomzetters met beide volgende kenmerken:

1.

"lineariteit" gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,1 % binnen een meetgebied tot en met 5 mm; en

| 2. | verloop gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,1 % per dag bij een standaardomgevingstemperatuur in de testruimte ± 1 K; |
| --- | --- |

2.

verloop gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,1 % per dag bij een standaardomgevingstemperatuur in de testruimte ± 1 K;

| c. | meetsystemen met alle volgende kenmerken:






  1. | zij bevatten een "laser", en |
| --- | --- | --- |

c.

meetsystemen met alle volgende kenmerken:

1.

zij bevatten een "laser", en

| 2. | zij handhaven, bij een temperatuur van 20±1 °C, gedurende ten minste 12 uur:






  a. | een "resolutie" over hun volledige schaal van 0,1 μm of kleiner (beter), en |
| --- | --- | --- |

2.

zij handhaven, bij een temperatuur van 20±1 °C, gedurende ten minste 12 uur:

a.

een "resolutie" over hun volledige schaal van 0,1 μm of kleiner (beter), en

| b. | het vermogen om een "meetonzekerheid" te bereiken die, gecompenseerd voor de refractieve luchtindex, gelijk is aan of minder bedraagt (d.w.z. nauwkeuriger is) dan (0,2 + L/2 000) μm (L is de gemeten lengte in mm); of |
| --- | --- |

b.

het vermogen om een "meetonzekerheid" te bereiken die, gecompenseerd voor de refractieve luchtindex, gelijk is aan of minder bedraagt (d.w.z. nauwkeuriger is) dan (0,2 + L/2 000) μm (L is de gemeten lengte in mm); of

| d. | "samenstellingen" speciaal ontworpen om in systemen als bedoeld in 2B006.b.1.c terugkoppelcapaciteit te leveren; |
| --- | --- |

d.

"samenstellingen" speciaal ontworpen om in systemen als bedoeld in 2B006.b.1.c terugkoppelcapaciteit te leveren;

| : | 2B006.b.1 is niet van toepassing op interferometermeetsystemen met een automatisch controlesysteem dat ontworpen is om geen terugkoppeltechnieken te gebruiken, die een "laser" bevatten voor het meten van fouten in de sledebeweging van machinewerktuigen, meetmachines of dergelijke apparatuur. |
| --- | --- |

:

| 2. | meetinstrumenten voor hoekverplaatsingen met een "hoekafwijking" gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,00025°;







  : | In 2B006.b.2 zijn niet bedoeld optische instrumenten, zoals autocollimatoren, die gebruik maken van gecollimeerd licht (bv. laserlicht) voor de bepaling van hoekverplaatsingen van een spiegel. |
| --- | --- | --- |

2.

meetinstrumenten voor hoekverplaatsingen met een "hoekafwijking" gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,00025°;

:

| c. | apparatuur voor het meten van ongelijkmatigheden in oppervlakken met een gevoeligheid van 0,5 nm of minder (d.w.z. nauwkeuriger), door het meten van optische verstrooiing als een functie van de hoek. |
| --- | --- |

c.

apparatuur voor het meten van ongelijkmatigheden in oppervlakken met een gevoeligheid van 0,5 nm of minder (d.w.z. nauwkeuriger), door het meten van optische verstrooiing als een functie van de hoek.

| : | 2B006 omvat andere dan onder 2B001 omschreven werktuigmachines die als meettoestel kunnen worden gebruikt indien hun prestaties gelijk zijn aan of beter dan de criteria neergelegd voor de meettoestelfunctie. |
| --- | --- |

:

2B007"Robots", met een of meer van de hieronder vermelde kenmerken, en speciaal ontworpen besturingsapparatuur en "eindeffectoren" daarvoor:

| NB: | ZIE OOK 2B207 |
| --- | --- |

NB:

| a. | geschikt voor tijdgebonden (‹in real-time›), volledig driedimensionale beeldverwerking of volledig driedimensionale ‧beeldanalyse‧ voor het maken of wijzigen van "programma's" of voor het maken of wijzigen van numerieke programmagegevens;

  :


  Deze beperking van de ‧beeldanalyse‧ sluit een bepaling van de derde dimensie door middel van beschouwing vanuit een vaste hoek niet uit, noch een beperkte interpretatie van grijstinten voor de waarneming van diepte of structuur voor de toegestane taken (2 1⁄2 D). |
| --- | --- |

a.

geschikt voor tijdgebonden (‹in real-time›), volledig driedimensionale beeldverwerking of volledig driedimensionale ‧beeldanalyse‧ voor het maken of wijzigen van "programma's" of voor het maken of wijzigen van numerieke programmagegevens;

:

Deze beperking van de ‧beeldanalyse‧ sluit een bepaling van de derde dimensie door middel van beschouwing vanuit een vaste hoek niet uit, noch een beperkte interpretatie van grijstinten voor de waarneming van diepte of structuur voor de toegestane taken (2 1⁄2 D).

| b. | speciaal ontworpen volgens nationale veiligheidsnormen voor gebruik in ruimten met mogelijk explosieve munitie;







  : | 2B007.b. is niet van toepassing op "robots", die speciaal zijn ontworpen voor verfspuitcabines. |
| --- | --- | --- |

b.

speciaal ontworpen volgens nationale veiligheidsnormen voor gebruik in ruimten met mogelijk explosieve munitie;

:

| c. | speciaal ontworpen of gekwalificeerd als bestand zijnde tegen een totale stralingsdosis van een stralingsniveau hoger dan 5 × 103 Gray (silicium) zonder verslechtering van de werking; of

  :


  De term Gray (silicium) verwijst naar de energie in Joules per kilogram die wordt geabsorbeerd door een onbeschermd siliciummonster dat aan ioniserende straling wordt blootgesteld. |
| --- | --- |

c.

speciaal ontworpen of gekwalificeerd als bestand zijnde tegen een totale stralingsdosis van een stralingsniveau hoger dan 5 × 103 Gray (silicium) zonder verslechtering van de werking; of

:

De term Gray (silicium) verwijst naar de energie in Joules per kilogram die wordt geabsorbeerd door een onbeschermd siliciummonster dat aan ioniserende straling wordt blootgesteld.

| d. | speciaal ontworpen voor gebruik op een hoogte van meer dan 30 000 meter. |
| --- | --- |

d.

speciaal ontworpen voor gebruik op een hoogte van meer dan 30 000 meter.

2B008Samenstellingen of eenheden, speciaal ontworpen voor werktuigmachines, maatinspectie-,meetsystemen of -apparatuur, als hieronder:

| a. | lineaire plaatsbepalers, bijvoorbeeld plaatsbepalers van het inductieve type, gekalibreerde schalen, infraroodsystemen of "laser"-systemen, voor terugkoppeling van een lineaire verplaatsing die een totale "nauwkeurigheid" hebben kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan (800 + (600 × L × 10-3)) nm (waarbij L de effectieve lengte is in mm);







  : | Voor "laser"-systemen, zie ook noot bij 2B006.b.1.c. en d. |
| --- | --- | --- |

a.

lineaire plaatsbepalers, bijvoorbeeld plaatsbepalers van het inductieve type, gekalibreerde schalen, infraroodsystemen of "laser"-systemen, voor terugkoppeling van een lineaire verplaatsing die een totale "nauwkeurigheid" hebben kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan (800 + (600 × L × 10-3)) nm (waarbij L de effectieve lengte is in mm);

:

| b. | roterende plaatsbepalers, bijvoorbeeld van het inductieve type, gekalibreerde schalen, infraroodsystemen, of "laser"-systemen, voor terugkoppeling van een hoekverdraaiing die een "nauwkeurigheid" hebben kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,00025°;







  : | Voor "laser"-systemen, zie ook noot bij 2B006.b.2. |
| --- | --- | --- |

b.

roterende plaatsbepalers, bijvoorbeeld van het inductieve type, gekalibreerde schalen, infraroodsystemen, of "laser"-systemen, voor terugkoppeling van een hoekverdraaiing die een "nauwkeurigheid" hebben kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,00025°;

:

| c. | "samengestelde draaitafels" of "kantelspillen" die volgens de technische specificaties van de fabrikant de mogelijkheden van werktuigmachines kunnen vergroten tot aan of boven de niveaus bedoeld in 2B. |
| --- | --- |

c.

"samengestelde draaitafels" of "kantelspillen" die volgens de technische specificaties van de fabrikant de mogelijkheden van werktuigmachines kunnen vergroten tot aan of boven de niveaus bedoeld in 2B.

2B009Forceer-(‹spin-forming›) of vloei-(‹flow-forming›) draaibanken die, volgens de technische specificaties van de fabrikant, kunnen worden uitgerust met "numerieke besturings"-eenheden of computerbesturing, en die beide volgende eigenschappen bezitten:

| NB: | ZIE OOK 2B109 EN 2B209 |
| --- | --- |

NB:

| a. | twee of meer bestuurde assen waarvan er minstens twee gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen"; en |
| --- | --- |

a.

twee of meer bestuurde assen waarvan er minstens twee gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen"; en

| b. | een walskracht van meer dan 60 kN. |
| --- | --- |

b.

een walskracht van meer dan 60 kN.

Voor de toepassing van 2B009 worden machines die de functies van forceren en vloeidraaien combineren, beschouwd als vloeidraaibanken.

2B104"Isostatische persen", anders dan bedoeld in 2B004, met alle volgende eigenschappen:

| NB: | ZIE OOK 2B204 |
| --- | --- |

NB:

| a. | een maximale werkdruk van 69 MPa of meer; |
| --- | --- |

a.

een maximale werkdruk van 69 MPa of meer;

| b. | ontworpen om een beheerste temperatuur van 873 K (600 °C) of meer te handhaven; en |
| --- | --- |

b.

ontworpen om een beheerste temperatuur van 873 K (600 °C) of meer te handhaven; en

| c. | met een binnenkamerdiameter van 254 mm of meer. |
| --- | --- |

c.

met een binnenkamerdiameter van 254 mm of meer.

2B105Ovens voor chemische afzetting uit de dampfase (CVD), anders dan bedoeld in 2B005.a, ontworpen of aangepast voor het verdichten van koolstof-koolstofcomposieten.

2B109Vloeidraaibanken (‹flow-forming machines›) die niet onder 2B009 vallen, en speciaal ontworpen onderdelen, als hieronder:

| NB: | ZIE OOK 2B209 |
| --- | --- |

NB:

| a. | vloeidraaibanken die beide volgende eigenschappen bezitten:






  1. | volgens de technische specificatie van de fabrikant kunnen zij worden uitgerust met "numerieke besturings"-eenheden of met een computerbesturing, ook indien zij bij aflevering niet met dergelijke eenheden zijn uitgerust, en |
| --- | --- | --- |

a.

vloeidraaibanken die beide volgende eigenschappen bezitten:

1.

volgens de technische specificatie van de fabrikant kunnen zij worden uitgerust met "numerieke besturings"-eenheden of met een computerbesturing, ook indien zij bij aflevering niet met dergelijke eenheden zijn uitgerust, en

| 2. | meer dan twee assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen". |
| --- | --- |

2.

meer dan twee assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen".

| b. | speciaal ontworpen onderdelen van in 2B009 of 2B109.a bedoelde vloeidraaibanken. |
| --- | --- |

b.

speciaal ontworpen onderdelen van in 2B009 of 2B109.a bedoelde vloeidraaibanken.

| : | In 2B109 worden niet bedoeld machines die niet kunnen worden gebruikt voor de productie van onderdelen en uitrusting (b.v. motorhuizen) voor voortstuwingssystemen als bedoeld in 9A005, 9A007.a of 9A105.a. |
| --- | --- |

:

Voor de toepassing van 2B109 worden machines die de functies van forceren en vloeidraaien combineren, beschouwd als vloeidraaibanken.

2B116Systemen en apparatuur voor het beproeven door middel van trillingen en componenten daarvoor, als hieronder:

| a. | systemen voor het beproeven door middel van trillingen, waarbij gebruik wordt gemaakt van terugkoppel- of gesloten-kringtechnieken en welke een digitale besturing bevatten, die geschikt zijn om een systeem te laten trillen met een versnelling gelijk aan of groter dan 10 g RMS tussen 20 Hz en 2 kHz en die krachten gelijk aan of groter dan 50 kNr, met ‧onbelaste tafel‧ gemeten, kunnen overbrengen; |
| --- | --- |

a.

systemen voor het beproeven door middel van trillingen, waarbij gebruik wordt gemaakt van terugkoppel- of gesloten-kringtechnieken en welke een digitale besturing bevatten, die geschikt zijn om een systeem te laten trillen met een versnelling gelijk aan of groter dan 10 g RMS tussen 20 Hz en 2 kHz en die krachten gelijk aan of groter dan 50 kNr, met ‧onbelaste tafel‧ gemeten, kunnen overbrengen;

| b. | digitale besturingseenheden, in combinatie met speciaal ontworpen programmatuur voor het testen door middel van trillingen, met een ‧real-time-regelbandbreedte‧ van meer dan 5 kHz en ontworpen voor gebruik met de systemen, bedoeld in 2B116.a;




  In 2B116.b. wordt onder ‧real-time-regelbandbreedte‧ verstaan de maximumsnelheid waarmee een besturingseenheid een volledige cyclus van bemonstering, gegevensverwerking en verzending van controlesignalen kan uitvoeren. |
| --- | --- |

b.

digitale besturingseenheden, in combinatie met speciaal ontworpen programmatuur voor het testen door middel van trillingen, met een ‧real-time-regelbandbreedte‧ van meer dan 5 kHz en ontworpen voor gebruik met de systemen, bedoeld in 2B116.a;

In 2B116.b. wordt onder ‧real-time-regelbandbreedte‧ verstaan de maximumsnelheid waarmee een besturingseenheid een volledige cyclus van bemonstering, gegevensverwerking en verzending van controlesignalen kan uitvoeren.

| c. | trillingsopwekkers, met of zonder bijbehorende versterkers, geschikt om een kracht gelijk aan of groter dan 50 kN uit te oefenen, met ‧onbelaste tafel‧ gemeten, en geschikt voor de systemen, bedoeld in 2B116.a; |
| --- | --- |

c.

trillingsopwekkers, met of zonder bijbehorende versterkers, geschikt om een kracht gelijk aan of groter dan 50 kN uit te oefenen, met ‧onbelaste tafel‧ gemeten, en geschikt voor de systemen, bedoeld in 2B116.a;

| d. | beproevingsopstellingen en elektronische eenheden ontworpen om verscheidene trillingsopwekkers in een geheel trillingssysteem te combineren, geschikt om een totale effectieve kracht gelijk aan of groter dan 50 kN uit te oefenen, met een ‧onbelaste tafel‧ gemeten, en geschikt voor de systemen, bedoeld in 2B116.a. |
| --- | --- |

d.

beproevingsopstellingen en elektronische eenheden ontworpen om verscheidene trillingsopwekkers in een geheel trillingssysteem te combineren, geschikt om een totale effectieve kracht gelijk aan of groter dan 50 kN uit te oefenen, met een ‧onbelaste tafel‧ gemeten, en geschikt voor de systemen, bedoeld in 2B116.a.

In 2B116 betekent ‧onbelaste tafel‧ een vlakke tafel, of een vlak oppervlak, zonder klemmen of hulpstukken.

2B117Apparatuur en procesregeleenheden, met uitzondering van die bedoeld in 2B004, 2B005.a, 2B104 of 2B105, ontworpen of aangepast voor de verdichting en pyrolyse van composiet raketstraalpijpen en neuskegels voor terugkeervoertuigen (‹reentry›).

2B119Balanceermachines en aanverwante uitrusting, als hieronder:

| NB: | ZIE OOK 2B219 |
| --- | --- |

NB:

| a. | balanceermachines die alle navolgende eigenschappen bezitten:






  1. | niet geschikt voor het uitbalanceren van rotors/samenstellingen met een gewicht van meer dan 3 kg; |
| --- | --- | --- |

a.

balanceermachines die alle navolgende eigenschappen bezitten:

1.

niet geschikt voor het uitbalanceren van rotors/samenstellingen met een gewicht van meer dan 3 kg;

| 2. | geschikt voor het uitbalanceren van rotors/samenstellingen bij een omwentelingssnelheid hoger dan 12 500 t.p.m.; |
| --- | --- |

2.

geschikt voor het uitbalanceren van rotors/samenstellingen bij een omwentelingssnelheid hoger dan 12 500 t.p.m.;

| 3. | geschikt voor het corrigeren van onbalans in twee of meer vlakken; en |
| --- | --- |

3.

geschikt voor het corrigeren van onbalans in twee of meer vlakken; en

| 4. | geschikt voor het uitbalanceren tot op een resterende specifieke onbalans van 0,2 g mm per kg rotorgewicht;







  : | 2B119.a is niet van toepassing op balanceermachines die ontworpen of aangepast zijn voor tandheelkundige of andere medische uitrusting. |
| --- | --- | --- |

4.

geschikt voor het uitbalanceren tot op een resterende specifieke onbalans van 0,2 g mm per kg rotorgewicht;

:

| b. | indicatorkoppen die zijn ontworpen of aangepast voor gebruik met de in 2B119.a aangegeven machines.




  Indicatorkoppen worden soms ook balanceerinstrumenten genoemd. |
| --- | --- |

b.

indicatorkoppen die zijn ontworpen of aangepast voor gebruik met de in 2B119.a aangegeven machines.

Indicatorkoppen worden soms ook balanceerinstrumenten genoemd.

2B120Bewegingssimulatoren of kwalificatietafels die alle navolgende kenmerken hebben:

| a. | twee of meer assen; |
| --- | --- |

a.

twee of meer assen;

| b. | ontworpen of aangepast om sleepringen of geïntegreerde onderbrekingsvoorzieningen te bevatten die geschikt zijn om elektrisch vermogen, signaalinformatie dan wel beiden, over te brengen; en |
| --- | --- |

b.

ontworpen of aangepast om sleepringen of geïntegreerde onderbrekingsvoorzieningen te bevatten die geschikt zijn om elektrisch vermogen, signaalinformatie dan wel beiden, over te brengen; en

| c. | een of meer van de navolgende kenmerken hebben:






  1. | voor elke aparte as alle navolgende kenmerken hebben:






  a. | geschikt voor kwalificaties van 400 graden/s of meer, of 30 graden/s of minder; en |
| --- | --- | --- | --- |

c.

een of meer van de navolgende kenmerken hebben:

1.

voor elke aparte as alle navolgende kenmerken hebben:

a.

geschikt voor kwalificaties van 400 graden/s of meer, of 30 graden/s of minder; en

| b. | een kwalificatieresolutie gelijk aan of minder dan 6 graden/s en een nauwkeurigheid gelijk aan of minder dan 0,6 graden/s; |
| --- | --- |

b.

een kwalificatieresolutie gelijk aan of minder dan 6 graden/s en een nauwkeurigheid gelijk aan of minder dan 0,6 graden/s;

| 2. | met een kwalificatiestabiliteit in het slechtste geval gelijk aan of beter (minder) dan een gemiddelde afwijking van 0,05 % over ten minste 10 graden; of |
| --- | --- |

2.

met een kwalificatiestabiliteit in het slechtste geval gelijk aan of beter (minder) dan een gemiddelde afwijking van 0,05 % over ten minste 10 graden; of

| 3. | een instel "nauwkeurigheid" gelijk aan of minder (beter) dan 5 boogseconden.







  : | 2B120 is niet van toepassing op draaitafels die zijn ontworpen of aangepast voor werktuigmachines of voor medische uitrusting. Voor de controle op draaitafels voor werktuigmachines, zie 2B008. |
| --- | --- | --- |

3.

een instel "nauwkeurigheid" gelijk aan of minder (beter) dan 5 boogseconden.

:

| : | Bewegingssimulatoren of kwalificatietafels als bedoeld in 2B120 blijven onder de regeling vallen, ongeacht of de sleepringen dan wel de geïntegreerde onderbrekingsvoorzieningen worden aangebracht op het ogenblik van uitvoer. |
| --- | --- |

:

2B121Andere dan de in 2B120 aangegeven insteltafels (apparatuur, geschikt voor precieze roterende instelling in elke as), die alle navolgende kenmerken hebben:

| a. | twee of meer assen; en |
| --- | --- |

a.

twee of meer assen; en

| b. | een instel "nauwkeurigheid" gelijk aan of minder (beter) dan 5 boogseconden. |
| --- | --- |

b.

een instel "nauwkeurigheid" gelijk aan of minder (beter) dan 5 boogseconden.

| : | 2B121 is niet van toepassing op draaitafels die zijn ontworpen of aangepast voor werktuigmachines of medische uitrusting. Voor de controle op draaitafels voor werktuigmachines, zie 2B008. |
| --- | --- |

:

2B122Centrifuges die versnellingen van meer dan 100 g kunnen overbrengen en die ontworpen of aangepast zijn om sleepringen of geïntegreerde onderbrekingsvoorzieningen te bevatten die geschikt zijn om elektrisch vermogen, signaalinformatie dan wel beiden, over te brengen.

| | Centrifuges als bedoeld in 2B122 blijven onder de regeling vallen, ongeacht of de sleepringen dan wel de geïntegreerde onderbrekingsvoorzieningen worden aangebracht op het ogenblik van uitvoer. |
| --- | --- |

2B201Werktuigmachines en iedere andere combinatie daarvan, anders dan bedoeld in 2B001, voor het verspanen of snijden van metalen, keramische materialen of "composieten", die volgens de technische specificaties van de fabrikant kunnen worden uitgerust met elektronische toestellen voor gelijktijdig "contourbesturen" in twee of meer assen, als hieronder:

| a. | werktuigmachines voor frezen met een of meer van de volgende eigenschappen:






  1. | een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 6 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (5) of nationale equivalenten langs elke lineaire as; of |
| --- | --- | --- |

a.

werktuigmachines voor frezen met een of meer van de volgende eigenschappen:

1.

een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 6 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (5) of nationale equivalenten langs elke lineaire as; of

| 2. | twee of meer roterende contourassen;







  : | 2B201.a is niet van toepassing op werktuigmachines voor frezen met de volgende kenmerken:







  a. | axiale verplaatsing langs de x-as groter dan 2 meter; en |
| --- | --- | --- | --- |

2.

twee of meer roterende contourassen;

:

a.

axiale verplaatsing langs de x-as groter dan 2 meter; en

| b. | totale instelnauwkeurigheid langs de x-as groter (slechter) dan 30 μm; |
| --- | --- |

b.

totale instelnauwkeurigheid langs de x-as groter (slechter) dan 30 μm;

| b. | werktuigmachines voor slijpen, met een van de volgende kenmerken:






  1. | een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988)7 of nationale equivalenten langs elke lineaire as; of |
| --- | --- | --- |

b.

werktuigmachines voor slijpen, met een van de volgende kenmerken:

1.

een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988)7 of nationale equivalenten langs elke lineaire as; of

| 2. | twee of meer roterende contourassen; |
| --- | --- |

2.

twee of meer roterende contourassen;

| : | 2B201.b is niet van toepassing op de volgende werktuigmachines voor slijpen:






  a. | uitwendige, inwendige en uitwendig-inwendige rondslijpmachines met beide volgende kenmerken:






  1. | beperkt tot een maximale buitendiameter of lengte van het werkstuk van 150 mm; en |
| --- | --- | --- | --- |

:

a.

uitwendige, inwendige en uitwendig-inwendige rondslijpmachines met beide volgende kenmerken:

1.

beperkt tot een maximale buitendiameter of lengte van het werkstuk van 150 mm; en

| 2. | assen beperkt tot x, z en c; |
| --- | --- |

2.

assen beperkt tot x, z en c;

| b. | Pasmal-slijpmachines zonder z-as of w-as, met een totale instelnauwkeurigheid die kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (5) of nationale equivalenten. |
| --- | --- |

b.

Pasmal-slijpmachines zonder z-as of w-as, met een totale instelnauwkeurigheid die kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (5) of nationale equivalenten.

| : | In 2B201 zijn niet bedoeld werktuigmachines voor speciale toepassingen die alleen dienen voor het vervaardigen van een van de volgende onderdelen:







  a. | tandwielen; |
| --- | --- | --- |

:

a.

tandwielen;

| b. | krukassen of nokkenassen; |
| --- | --- |

b.

krukassen of nokkenassen;

| c. | gereedschappen of frezen; |
| --- | --- |

c.

gereedschappen of frezen;

| d. | extrusiewormen. |
| --- | --- |

d.

extrusiewormen.

| : | Werktuigmachines met ten minste twee van de drie volgende gebruiksmogelijkheden: draaien, frezen of slijpen (bv. een machine voor draaien waarmee ook kan worden gefreesd) moeten op basis van iedere toepasselijke rubriek 2B001.a of 2B201.a. of b. worden beoordeeld." |
| --- | --- |

:

2B204"Isostatische persen", anders dan bedoeld in 2B004 of 2B104 en bijbehorende apparatuur, als hieronder:

| a. | "isostatische persen" met beide volgende kenmerken:






  1. | geschikt voor een maximale werkdruk van 69 MPa of meer; en |
| --- | --- | --- |

a.

"isostatische persen" met beide volgende kenmerken:

1.

geschikt voor een maximale werkdruk van 69 MPa of meer; en

| 2. | met een drukkamerholte met een binnendiameter van meer dan 152 mm; |
| --- | --- |

2.

met een drukkamerholte met een binnendiameter van meer dan 152 mm;

| b. | matrijzen, mallen en regelapparatuur, speciaal ontworpen voor "isostatische persen", bedoeld in 2B204.a. |
| --- | --- |

b.

matrijzen, mallen en regelapparatuur, speciaal ontworpen voor "isostatische persen", bedoeld in 2B204.a.

In 2B204 betreft de binnenmaat de kamer waarin zowel de werktemperatuur als de werkdruk tot stand komen en zij omvat geen spanstukken. Deze maat is gelijk aan de kleinste van ofwel de binnendiameter van de drukkamer ofwel de binnendiameter van de geïsoleerde ovenkamer, afhankelijk van het feit welke van de twee kamers zich in de andere bevindt.

2B206Niet onder 2B006 opgenomen meetmachines, -instrumenten of -systemen, als hieronder:

| a. | computergestuurde of numeriek bestuurde coördinatenmeetmachines met beide volgende kenmerken:






  1. | twee of meer assen; en |
| --- | --- | --- |

a.

computergestuurde of numeriek bestuurde coördinatenmeetmachines met beide volgende kenmerken:

1.

twee of meer assen; en

| 2. | een maximaal toelaatbare lengtemeetfout (E0, MPE) langs een van de assen (eendimensionaal), beschreven als E0X, E0Y, of E0Z, gelijk aan of kleiner (nauwkeuriger) dan (1,25 + L/1 000) μm (waarbij L de gemeten lengte is in mm) op enig punt in het werkbereik van de machine (d.w.z. binnen de aslengte), getest overeenkomstig ISO 10360-2(2009); |
| --- | --- |

2.

een maximaal toelaatbare lengtemeetfout (E0, MPE) langs een van de assen (eendimensionaal), beschreven als E0X, E0Y, of E0Z, gelijk aan of kleiner (nauwkeuriger) dan (1,25 + L/1 000) μm (waarbij L de gemeten lengte is in mm) op enig punt in het werkbereik van de machine (d.w.z. binnen de aslengte), getest overeenkomstig ISO 10360-2(2009);

| b. | systemen voor het gelijktijdig testen van lineaire en hoekverplaatsingen van halve bolmantels, met beide volgende kenmerken:






  1. | "meetonzekerheid" langs elke lineaire as gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 3,5 μm per 5 mm; en |
| --- | --- | --- |

b.

systemen voor het gelijktijdig testen van lineaire en hoekverplaatsingen van halve bolmantels, met beide volgende kenmerken:

1.

"meetonzekerheid" langs elke lineaire as gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 3,5 μm per 5 mm; en

| 2. | "hoekafwijking" gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,02°. |
| --- | --- |

2.

"hoekafwijking" gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,02°.

| : | Werktuigmachines, geschikt voor gebruik als meettoestel, worden bedoeld indien hun prestaties gelijk zijn aan of beter zijn dan de criteria neergelegd voor de werktuigmachinefunctie of de meettoestelfunctie. |
| --- | --- |

:

| : | Indien een machine als omschreven in 2B206 op enig punt in haar werkbereik de limieten overschrijdt, wordt de machine bedoeld. |
| --- | --- |

:

:

Alle parameters van meetwaarden in 2B206 vertegenwoordigen plus/minus-waarden, niet het totale meetbereik.

2B207"Robots", "eindeffectoren" en besturingseenheden, anders dan bedoeld in 2B007, als hierna vermeld:

| a. | "robots" of "eindeffectoren", speciaal ontworpen volgens nationale veiligheidsnormen die gelden voor het hanteren van brisante springstoffen (bijvoorbeeld volgens elektrische normen voor brisante springstoffen); |
| --- | --- |

a.

"robots" of "eindeffectoren", speciaal ontworpen volgens nationale veiligheidsnormen die gelden voor het hanteren van brisante springstoffen (bijvoorbeeld volgens elektrische normen voor brisante springstoffen);

| b. | besturingseenheden, speciaal ontworpen voor de in 2B207.a vermelde "robots" of "eindeffectoren". |
| --- | --- |

b.

besturingseenheden, speciaal ontworpen voor de in 2B207.a vermelde "robots" of "eindeffectoren".

2B209Vloei- (‹flow-forming›)draaibanken, forceer- (‹spin-forming›) draaibanken die vloeidraaifuncties kunnen verrichten, anders dan bedoeld in 2B009 of 2B109, en spillen, als hieronder:

| a. | machines met beide volgende kenmerken:






  1. | drie of meer rollen (actieve of leirollen); |
| --- | --- | --- |

a.

machines met beide volgende kenmerken:

1.

drie of meer rollen (actieve of leirollen);

| 2. | volgens de technische specificatie van de fabrikant uitgerust kunnen worden met "numerieke besturings"-eenheden of computerbesturing; |
| --- | --- |

2.

volgens de technische specificatie van de fabrikant uitgerust kunnen worden met "numerieke besturings"-eenheden of computerbesturing;

| b. | spillen voor het precisievormgeven van rotoren, ontworpen voor het vormen van cilindrische rotoren met een binnendiameter van 75 mm - 400 mm. |
| --- | --- |

b.

spillen voor het precisievormgeven van rotoren, ontworpen voor het vormen van cilindrische rotoren met een binnendiameter van 75 mm - 400 mm.

| : | 2B209.a omvat machines die slechts één enkele rol hebben die ontworpen is om metaal te vervormen, plus twee hulprollen ter ondersteuning van de spil, die echter niet rechtstreeks deelnemen aan het vervormingsproces. |
| --- | --- |

:

2B219Centrifugale balanceermachines voor het uitbalanceren in verscheidene vlakken, vast of draagbaar, horizontaal of verticaal, als hieronder:

| a. | centrifugale balanceermachines ontworpen voor het uitbalanceren van flexibele rotors met een lengte van 600 mm of meer en met alle volgende kenmerken:






  1. | een nuttige of tapdiameter groter dan 75 mm; |
| --- | --- | --- |

a.

centrifugale balanceermachines ontworpen voor het uitbalanceren van flexibele rotors met een lengte van 600 mm of meer en met alle volgende kenmerken:

1.

een nuttige of tapdiameter groter dan 75 mm;

| 2. | geschikt voor een massa van 0,9 tot 23 kg; en |
| --- | --- |

2.

geschikt voor een massa van 0,9 tot 23 kg; en

| 3. | geschikt voor het uitbalanceren bij een omwentelingssnelheid hoger dan 5 000 t.p.m.; |
| --- | --- |

3.

geschikt voor het uitbalanceren bij een omwentelingssnelheid hoger dan 5 000 t.p.m.;

| b. | centrifugale balanceermachines ontworpen voor het uitbalanceren van holle cilindrische rotoronderdelen en met alle volgende kenmerken:






  1. | een tapdiameter groter dan 75 mm; |
| --- | --- | --- |

b.

centrifugale balanceermachines ontworpen voor het uitbalanceren van holle cilindrische rotoronderdelen en met alle volgende kenmerken:

1.

een tapdiameter groter dan 75 mm;

| 2. | geschikt voor een massa van 0,9 tot 23 kg; |
| --- | --- |

2.

geschikt voor een massa van 0,9 tot 23 kg;

| 3. | geschikt voor het uitbalanceren tot op een resterende onbalans van 0,01 kg × mm/kg per vlak of nauwkeuriger; en |
| --- | --- |

3.

geschikt voor het uitbalanceren tot op een resterende onbalans van 0,01 kg × mm/kg per vlak of nauwkeuriger; en

| 4. | van het type met riemaandrijving. |
| --- | --- |

4.

van het type met riemaandrijving.

2B225Op afstand bediende manipulatoren die kunnen worden aangewend voor het doen verrichten van handelingen op afstand bij radiochemische scheidingswerkingen of in hete cellen, met een van de volgende kenmerken:

| a. | geschikt om te werken bij een hete-celwand met een dikte van 0,6 m of meer (opereren door de wand heen); of |
| --- | --- |

a.

geschikt om te werken bij een hete-celwand met een dikte van 0,6 m of meer (opereren door de wand heen); of

| b. | geschikt om de afstand over de bovenkant van een hete-celwand met een dikte van 0,6 m of meer te overbruggen (opereren over de wand heen). |
| --- | --- |

b.

geschikt om de afstand over de bovenkant van een hete-celwand met een dikte van 0,6 m of meer te overbruggen (opereren over de wand heen).

Op afstand bediende manipulatoren zorgen voor het mechanisch overbrengen van handelingen van een bediener naar een bedieningsarm en eindklem. Deze kunnen van het zgn. meester/slaaf-type zijn of worden bediend via een joystick of een toetsenbord.

2B226Inductieovens, werkend met beheerste atmosfeer (vacuüm of inert gas) en stroombronnen daarvoor, als hieronder:

| NB: | ZIE OOK 3B |
| --- | --- |

NB:

| a. | ovens met alle volgende kenmerken:






  1. | geschikt voor werktemperaturen hoger dan 1 123 K (850 °C); |
| --- | --- | --- |

a.

ovens met alle volgende kenmerken:

1.

geschikt voor werktemperaturen hoger dan 1 123 K (850 °C);

| 2. | met inductiespoelen met een diameter van 600 mm of minder; en |
| --- | --- |

2.

met inductiespoelen met een diameter van 600 mm of minder; en

| 3. | ontworpen voor een ingaand vermogen van 5 kW of meer; |
| --- | --- |

3.

ontworpen voor een ingaand vermogen van 5 kW of meer;

| b. | speciaal voor in 2B226.a omschreven inductieovens ontworpen stroombronnen met een opgegeven vermogen van 5 kW of meer. |
| --- | --- |

b.

speciaal voor in 2B226.a omschreven inductieovens ontworpen stroombronnen met een opgegeven vermogen van 5 kW of meer.

| | Ovens, ontworpen voor het bewerken van halfgeleiderplakken (‹wafers›) zijn niet bedoeld in 2B226.a. |
| --- | --- |

Ovens, ontworpen voor het bewerken van halfgeleiderplakken (‹wafers›) zijn niet bedoeld in 2B226.a.

2B227Metallurgische smelt- en gietovens met vacuüm of op een andere wijze beheerste atmosfeer en bijbehorende apparatuur, als hieronder:

| a. | vlamboogovens voor hersmelten en gieten met beide volgende kenmerken:






  1. | met een verbruikscapaciteit van de elektrode tussen 1 000 cm3 en 20 000 cm3; en |
| --- | --- | --- |

a.

vlamboogovens voor hersmelten en gieten met beide volgende kenmerken:

1.

met een verbruikscapaciteit van de elektrode tussen 1 000 cm3 en 20 000 cm3; en

| 2. | geschikt om te werken bij een smelttemperatuur hoger dan 1 973 K (1 700 °C); |
| --- | --- |

2.

geschikt om te werken bij een smelttemperatuur hoger dan 1 973 K (1 700 °C);

| b. | ovens voor het smelten met elektronenstralen en ovens voor het verstuiven en smelten met een plasma met beide volgende kenmerken:






  1. | een vermogen van 50 kW of meer; en |
| --- | --- | --- |

b.

ovens voor het smelten met elektronenstralen en ovens voor het verstuiven en smelten met een plasma met beide volgende kenmerken:

1.

een vermogen van 50 kW of meer; en

| 2. | geschikt om te werken bij een smelttemperatuur hoger dan 1 473 K (1 200 °C); |
| --- | --- |

2.

geschikt om te werken bij een smelttemperatuur hoger dan 1 473 K (1 200 °C);

| c. | computersystemen voor besturing en controle, speciaal geconfigureerd voor de in 2B227.a en 2B227.b bedoelde ovens. |
| --- | --- |

c.

computersystemen voor besturing en controle, speciaal geconfigureerd voor de in 2B227.a en 2B227.b bedoelde ovens.

2B228Apparatuur voor de vervaardiging of assemblage van rotoren, rotorrichtapparatuur, spillen en matrijzen voor het vormen van balgen, als hieronder:

| a. | rotorassemblageapparatuur voor de assemblage van rotorbuisdelen, schijven en deksels van gascentrifuges;







  : | 2B228.a omvat zeer nauwkeurige spillen, klemmen en machines voor krimppassen; |
| --- | --- | --- |

a.

rotorassemblageapparatuur voor de assemblage van rotorbuisdelen, schijven en deksels van gascentrifuges;

:

| b. | rotorrichtapparatuur voor het richten van de rotorbuisdelen van een gascentrifuge ten opzichte van een gemeenschappelijke as;




  Gewoonlijk bestaat de apparatuur in 2B228.b uit zeer nauwkeurige meetsondes gekoppeld aan een computer die vervolgens de werking van bijvoorbeeld de voor het richten van de rotorbuisdelen gebruikte pneumatische plunjers bestuurt. |
| --- | --- |

b.

rotorrichtapparatuur voor het richten van de rotorbuisdelen van een gascentrifuge ten opzichte van een gemeenschappelijke as;

Gewoonlijk bestaat de apparatuur in 2B228.b uit zeer nauwkeurige meetsondes gekoppeld aan een computer die vervolgens de werking van bijvoorbeeld de voor het richten van de rotorbuisdelen gebruikte pneumatische plunjers bestuurt.

| c. | balgvormende spillen en matrijzen voor de productie van balgen met een enkele winding.




  De in 2B228.c bedoelde balgen hebben alle volgende kenmerken:








  1. | binnendiameter van 75 mm tot 400 mm, |
| --- | --- | --- |

c.

balgvormende spillen en matrijzen voor de productie van balgen met een enkele winding.

De in 2B228.c bedoelde balgen hebben alle volgende kenmerken:

1.

binnendiameter van 75 mm tot 400 mm,

| 2. | lengte van 12,7 mm of meer, |
| --- | --- |

2.

lengte van 12,7 mm of meer,

| 3. | dikte van de enkele winding groter dan 2 mm; en |
| --- | --- |

3.

dikte van de enkele winding groter dan 2 mm; en

| 4. | vervaardigd van aluminiumlegeringen met een hoge sterkte, maragingstaal of "stapel- en continuvezelmateriaal" met een hoge sterkte. |
| --- | --- |

4.

vervaardigd van aluminiumlegeringen met een hoge sterkte, maragingstaal of "stapel- en continuvezelmateriaal" met een hoge sterkte.

2B230"Drukomzetters", geschikt voor het meten van de absolute druk op elk punt in het traject van 0 tot en met 13 kPa, met beide hiernavolgende kenmerken:

| a. | drukopneemelementen vervaardigd van of beschermd door aluminium, aluminiumlegeringen, nikkel of nikkellegeringen met meer dan 60 gewichtspercenten nikkel, en |
| --- | --- |

a.

drukopneemelementen vervaardigd van of beschermd door aluminium, aluminiumlegeringen, nikkel of nikkellegeringen met meer dan 60 gewichtspercenten nikkel, en

| b. | een van de twee hiernavolgende kenmerken:






  1. | een volledig bereik van minder dan 13 kPa en een ‧nauwkeurigheid‧ beter dan ± 1 % over het gehele bereik; of |
| --- | --- | --- |

b.

een van de twee hiernavolgende kenmerken:

1.

een volledig bereik van minder dan 13 kPa en een ‧nauwkeurigheid‧ beter dan ± 1 % over het gehele bereik; of

| 2. | een volledig bereik van 13 kPa of groter en een ‧nauwkeurigheid‧ beter dan ± 130 Pa. |
| --- | --- |

2.

een volledig bereik van 13 kPa of groter en een ‧nauwkeurigheid‧ beter dan ± 130 Pa.

Voor de toepassing van 2B230 houdt ‧nauwkeurigheid‧ in non-lineariteit, hysteresis en herhaalbaarheid bij omgevingstemperatuur.

2B231Vacuümpompen met alle volgende kenmerken:

| a. | een toevoerhals van 380 mm of groter; |
| --- | --- |

a.

een toevoerhals van 380 mm of groter;

| b. | een pompsnelheid van 15000 m3/s of meer; en |
| --- | --- |

b.

een pompsnelheid van 15000 m3/s of meer; en

| c. | geschikt voor het bereiken van een maximale onderdruk beter dan 13 mPa. |
| --- | --- |

c.

geschikt voor het bereiken van een maximale onderdruk beter dan 13 mPa.

| 1. | De pompsnelheid wordt bepaald op het meetpunt met stikstofgas of lucht. |
| --- | --- |

1.

| 2. | De maximale onderdruk wordt berekend aan de invoerzijde van de pomp terwijl de invoer van de pomp is afgesloten. |
| --- | --- |

2.

2B232Meertrapskanonnen voor lichte gassen of andere kanonsystemen voor hoge snelheden (spoel-, elektromagnetische en thermo-elektrische types en andere geavanceerde systemen) die projectielen kunnen versnellen tot een snelheid van 2 km per seconde of meer.

2B350Chemische productieapparatuur en onderdelen daarvan, als hieronder:

| a. | reactorvaten of reactors, met of zonder roerwerk, met een totaal inwendig (geometrisch) volume van meer dan 0,1 m3 (100 liter) en minder dan 20 m3 (20 000 liter), waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:






  1. | ‧legeringen‧ met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; |
| --- | --- | --- |

a.

reactorvaten of reactors, met of zonder roerwerk, met een totaal inwendig (geometrisch) volume van meer dan 0,1 m3 (100 liter) en minder dan 20 m3 (20 000 liter), waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1.

‧legeringen‧ met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

| 2. | fluorpolymeren (polymere of elastomere materialen die meer dan 35 gewichtspercenten fluor bevatten); |
| --- | --- |

2.

fluorpolymeren (polymere of elastomere materialen die meer dan 35 gewichtspercenten fluor bevatten);

| 3. | glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding (‹lining›); |
| --- | --- |

3.

glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding (‹lining›);

| 4. | nikkel of ‧legeringen‧ die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten; |
| --- | --- |

4.

nikkel of ‧legeringen‧ die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

| 5. | tantaal of ‧legeringen‧ ervan; |
| --- | --- |

5.

tantaal of ‧legeringen‧ ervan;

| 6. | titaan of ‧legeringen‧ ervan; |
| --- | --- |

6.

titaan of ‧legeringen‧ ervan;

| 7. | zirkonium of ‧legeringen‧ ervan; of |
| --- | --- |

7.

zirkonium of ‧legeringen‧ ervan; of

| 8. | niobium (columbium) of ‧legeringen‧ ervan; |
| --- | --- |

8.

niobium (columbium) of ‧legeringen‧ ervan;

| b. | roerwerken voor gebruik in reactorvaten of reactors als aangegeven in 2B350.a, en voor gebruik in dergelijke roerwerken ontworpen schoepen, bladen en assen, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:






  1. | ‧legeringen‧ met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; |
| --- | --- | --- |

b.

roerwerken voor gebruik in reactorvaten of reactors als aangegeven in 2B350.a, en voor gebruik in dergelijke roerwerken ontworpen schoepen, bladen en assen, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1.

‧legeringen‧ met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

| 2. | fluorpolymeren (polymere of elastomere materialen die meer dan 35 gewichtspercenten fluor bevatten); |
| --- | --- |

2.

fluorpolymeren (polymere of elastomere materialen die meer dan 35 gewichtspercenten fluor bevatten);

| 3. | glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding (‹lining›); |
| --- | --- |

3.

glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding (‹lining›);

| 4. | nikkel of ‧legeringen‧ die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten; |
| --- | --- |

4.

nikkel of ‧legeringen‧ die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

| 5. | tantaal of ‧legeringen‧ ervan; |
| --- | --- |

5.

tantaal of ‧legeringen‧ ervan;

| 6. | titaan of ‧legeringen‧ ervan; |
| --- | --- |

6.

titaan of ‧legeringen‧ ervan;

| 7. | zirkonium of ‧legeringen‧ ervan; of |
| --- | --- |

7.

zirkonium of ‧legeringen‧ ervan; of

| 8. | niobium (columbium) of ‧legeringen‧ ervan; |
| --- | --- |

8.

niobium (columbium) of ‧legeringen‧ ervan;

| c. | opslagtanks en vaten met een totaal inwendig (geometrisch) volume van meer dan 0,1 m3 (100 l), waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:






  1. | ‧legeringen‧ met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; |
| --- | --- | --- |

c.

opslagtanks en vaten met een totaal inwendig (geometrisch) volume van meer dan 0,1 m3 (100 l), waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1.

‧legeringen‧ met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

| 2. | fluorpolymeren (polymere of elastomere materialen die meer dan 35 gewichtspercenten fluor bevatten); |
| --- | --- |

2.

fluorpolymeren (polymere of elastomere materialen die meer dan 35 gewichtspercenten fluor bevatten);

| 3. | glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding (‹lining›); |
| --- | --- |

3.

glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding (‹lining›);

| 4. | nikkel of ‧legeringen‧ die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten; |
| --- | --- |

4.

nikkel of ‧legeringen‧ die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

| 5. | tantaal of ‧legeringen‧ ervan; |
| --- | --- |

5.

tantaal of ‧legeringen‧ ervan;

| 6. | titaan of ‧legeringen‧ ervan; |
| --- | --- |

6.

titaan of ‧legeringen‧ ervan;

| 7. | zirkonium of ‧legeringen‧ ervan; of |
| --- | --- |

7.

zirkonium of ‧legeringen‧ ervan; of

| 8. | niobium (columbium) of ‧legeringen‧ ervan; |
| --- | --- |

8.

niobium (columbium) of ‧legeringen‧ ervan;

| d. | warmtewisselaars of condensors met een warmte-uitwisseloppervlak van meer dan 0,15 m2 en minder dan 20 m2, en voor gebruik in dergelijke warmtewisselaars of condensors ontworpen buizen, platen, spoelen of blokken (kernen), waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:






  1. | ‧legeringen‧ met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; |
| --- | --- | --- |

d.

warmtewisselaars of condensors met een warmte-uitwisseloppervlak van meer dan 0,15 m2 en minder dan 20 m2, en voor gebruik in dergelijke warmtewisselaars of condensors ontworpen buizen, platen, spoelen of blokken (kernen), waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1.

‧legeringen‧ met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

| 2. | fluorpolymeren (polymere of elastomere materialen die meer dan 35 gewichtspercenten fluor bevatten); |
| --- | --- |

2.

fluorpolymeren (polymere of elastomere materialen die meer dan 35 gewichtspercenten fluor bevatten);

| 3. | glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding (‹lining›); |
| --- | --- |

3.

glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding (‹lining›);

| 4. | grafiet of ‧koolstofgrafiet‧; |
| --- | --- |

4.

grafiet of ‧koolstofgrafiet‧;

| 5. | nikkel of ‧legeringen‧ die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten; |
| --- | --- |

5.

nikkel of ‧legeringen‧ die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

| 6. | tantaal of ‧legeringen‧ ervan; |
| --- | --- |

6.

tantaal of ‧legeringen‧ ervan;

| 7. | titaan of ‧legeringen‧ ervan; |
| --- | --- |

7.

titaan of ‧legeringen‧ ervan;

| 8. | zirkonium of ‧legeringen‧ ervan; |
| --- | --- |

8.

zirkonium of ‧legeringen‧ ervan;

| 9. | siliciumcarbide; |
| --- | --- |

9.

siliciumcarbide;

| 10. | titaancarbide; of |
| --- | --- |

10.

titaancarbide; of

| 11. | niobium (columbium) of ‧legeringen‧ ervan; |
| --- | --- |

11.

niobium (columbium) of ‧legeringen‧ ervan;

| e. | distillatiekolommen of absorptiekolommen met een inwendige diameter van meer dan 0,1 m, en voor gebruik in dergelijke distillatiekolommen of absorptiekolommen ontworpen vloeistofverdelers, dampverdelers of vloeistofcollectoren, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:






  1. | ‧legeringen‧ met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; |
| --- | --- | --- |

e.

distillatiekolommen of absorptiekolommen met een inwendige diameter van meer dan 0,1 m, en voor gebruik in dergelijke distillatiekolommen of absorptiekolommen ontworpen vloeistofverdelers, dampverdelers of vloeistofcollectoren, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1.

‧legeringen‧ met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

| 2. | fluorpolymeren (polymere of elastomere materialen die meer dan 35 gewichtspercenten fluor bevatten); |
| --- | --- |

2.

fluorpolymeren (polymere of elastomere materialen die meer dan 35 gewichtspercenten fluor bevatten);

| 3. | glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding (‹lining›); |
| --- | --- |

3.

glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding (‹lining›);

| 4. | grafiet of ‧koolstofgrafiet‧; |
| --- | --- |

4.

grafiet of ‧koolstofgrafiet‧;

| 5. | nikkel of ‧legeringen‧ die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten; |
| --- | --- |

5.

nikkel of ‧legeringen‧ die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

| 6. | tantaal of ‧legeringen‧ ervan; |
| --- | --- |

6.

tantaal of ‧legeringen‧ ervan;

| 7. | titaan of ‧legeringen‧ ervan; |
| --- | --- |

7.

titaan of ‧legeringen‧ ervan;

| 8. | zirkonium of ‧legeringen‧ ervan; of |
| --- | --- |

8.

zirkonium of ‧legeringen‧ ervan; of

| 9. | niobium (columbium) of ‧legeringen‧ ervan; |
| --- | --- |

9.

niobium (columbium) of ‧legeringen‧ ervan;

| f. | op afstand bedienbare vulapparatuur waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:






  1. | ‧legeringen‧ met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; of |
| --- | --- | --- |

f.

op afstand bedienbare vulapparatuur waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1.

‧legeringen‧ met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; of

| 2. | nikkel of ‧legeringen‧ die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten; |
| --- | --- |

2.

nikkel of ‧legeringen‧ die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

| g. | kleppen met een ‧nominale afmeting‧ van meer dan 10 mm en de voor die kleppen ontworpen omhulsels (klephuizen) of voorgevormde binnenbekledingen, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:






  1. | ‧legeringen‧ met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; |
| --- | --- | --- |

g.

kleppen met een ‧nominale afmeting‧ van meer dan 10 mm en de voor die kleppen ontworpen omhulsels (klephuizen) of voorgevormde binnenbekledingen, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1.

‧legeringen‧ met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

| 2. | fluorpolymeren (polymere of elastomere materialen die meer dan 35 gewichtspercenten fluor bevatten); |
| --- | --- |

2.

fluorpolymeren (polymere of elastomere materialen die meer dan 35 gewichtspercenten fluor bevatten);

| 3. | glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding (‹lining›); |
| --- | --- |

3.

glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding (‹lining›);

| 4. | nikkel of ‧legeringen‧ die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten; |
| --- | --- |

4.

nikkel of ‧legeringen‧ die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

| 5. | tantaal of ‧legeringen‧ ervan; |
| --- | --- |

5.

tantaal of ‧legeringen‧ ervan;

| 6. | titaan of ‧legeringen‧ ervan; |
| --- | --- |

6.

titaan of ‧legeringen‧ ervan;

| 7. | zirkonium of ‧legeringen‧ ervan; of |
| --- | --- |

7.

zirkonium of ‧legeringen‧ ervan; of

| 8. | niobium (columbium) of ‧legeringen‧ ervan; |
| --- | --- |

8.

niobium (columbium) of ‧legeringen‧ ervan;

| 9. | onderstaand ceramisch materiaal:






  a. | siliciumcarbide met een zuiverheidsgraad van 80 gewichtspercenten of meer; |
| --- | --- | --- |

9.

onderstaand ceramisch materiaal:

a.

siliciumcarbide met een zuiverheidsgraad van 80 gewichtspercenten of meer;

| b. | aluminiumoxide (alumina) met een zuiverheidsgraad van 99 gewichtspercenten of meer; |
| --- | --- |

b.

aluminiumoxide (alumina) met een zuiverheidsgraad van 99 gewichtspercenten of meer;

| c. | zirkoniumoxide (zirconia); |
| --- | --- |

c.

zirkoniumoxide (zirconia);

Onder ‧nominale afmeting‧ wordt verstaan de kleinste diameter van de inlaat- en uitlaatopeningen.

| h. | meerwandige buizen met een lektestaansluiting, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:






  1. | ‧legeringen‧ met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; |
| --- | --- | --- |

h.

meerwandige buizen met een lektestaansluiting, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1.

‧legeringen‧ met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

| 2. | fluorpolymeren (polymere of elastomere materialen die meer dan 35 gewichtspercenten fluor bevatten); |
| --- | --- |

2.

fluorpolymeren (polymere of elastomere materialen die meer dan 35 gewichtspercenten fluor bevatten);

| 3. | glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding (‹lining›); |
| --- | --- |

3.

glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding (‹lining›);

| 4. | grafiet of ‧koolstofgrafiet‧; |
| --- | --- |

4.

grafiet of ‧koolstofgrafiet‧;

| 5. | nikkel of ‧legeringen‧ die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten; |
| --- | --- |

5.

nikkel of ‧legeringen‧ die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

| 6. | tantaal of ‧legeringen‧ ervan; |
| --- | --- |

6.

tantaal of ‧legeringen‧ ervan;

| 7. | titaan of ‧legeringen‧ ervan; |
| --- | --- |

7.

titaan of ‧legeringen‧ ervan;

| 8. | zirkonium of ‧legeringen‧ ervan; of |
| --- | --- |

8.

zirkonium of ‧legeringen‧ ervan; of

| 9. | niobium (columbium) of ‧legeringen‧ ervan; |
| --- | --- |

9.

niobium (columbium) of ‧legeringen‧ ervan;

| i. | pompen met meervoudige afdichting en pompen zonder afdichting, met door de fabrikant opgegeven maximale pompsnelheid van meer dan 0,6 m3 per uur, of vacuümpompen met door de fabrikant opgegeven maximale pompsnelheid van meer dan 5 m3 per uur bij standaardtemperatuur (273 K (0 °C)) en druk (101,3 kPa), en voor gebruik in dergelijke pompen ontworpen omhulsels (pomphuizen), voorgevormde binnenbekledingen, schoepen, vleugelraderen of straalpompverdeelstukken, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:






  1. | ‧legeringen‧ met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; |
| --- | --- | --- |

i.

pompen met meervoudige afdichting en pompen zonder afdichting, met door de fabrikant opgegeven maximale pompsnelheid van meer dan 0,6 m3 per uur, of vacuümpompen met door de fabrikant opgegeven maximale pompsnelheid van meer dan 5 m3 per uur bij standaardtemperatuur (273 K (0 °C)) en druk (101,3 kPa), en voor gebruik in dergelijke pompen ontworpen omhulsels (pomphuizen), voorgevormde binnenbekledingen, schoepen, vleugelraderen of straalpompverdeelstukken, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1.

‧legeringen‧ met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

| 2. | keramiek; |
| --- | --- |

2.

keramiek;

| 3. | ferrosilicium (ijzerlegeringen met een hoog siliciumgehalte); |
| --- | --- |

3.

ferrosilicium (ijzerlegeringen met een hoog siliciumgehalte);

| 4. | fluorpolymeren (polymere of elastomere materialen die meer dan 35 gewichtspercenten fluor bevatten); |
| --- | --- |

4.

fluorpolymeren (polymere of elastomere materialen die meer dan 35 gewichtspercenten fluor bevatten);

| 5. | glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding (‹lining›); |
| --- | --- |

5.

glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding (‹lining›);

| 6. | grafiet of ‧koolstofgrafiet‧; |
| --- | --- |

6.

grafiet of ‧koolstofgrafiet‧;

| 7. | nikkel of ‧legeringen‧ die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten; |
| --- | --- |

7.

nikkel of ‧legeringen‧ die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

| 8. | tantaal of ‧legeringen‧ ervan; |
| --- | --- |

8.

tantaal of ‧legeringen‧ ervan;

| 9. | titaan of ‧legeringen‧ ervan; |
| --- | --- |

9.

titaan of ‧legeringen‧ ervan;

| 10. | zirkonium of ‧legeringen‧ ervan; of |
| --- | --- |

10.

zirkonium of ‧legeringen‧ ervan; of

| 11. | niobium (columbium) of ‧legeringen‧ ervan; |
| --- | --- |

11.

niobium (columbium) of ‧legeringen‧ ervan;

| j. | verbrandingsovens ontworpen om chemicaliën bedoeld in 1C350 te vernietigen, met speciaal ontworpen afvaltoevoersystemen en speciale transportfaciliteiten en een gemiddelde verbrandingskamertemperatuur van meer dan 1 273 K (1 000 °C), waarvan alle oppervlakken van het afvaltoevoersysteem die in direct contact komen met de afvalproducten, gemaakt zijn van of bekleed zijn met een of meer van de volgende materialen:






  1. | ‧legeringen‧ met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; |
| --- | --- | --- |

j.

verbrandingsovens ontworpen om chemicaliën bedoeld in 1C350 te vernietigen, met speciaal ontworpen afvaltoevoersystemen en speciale transportfaciliteiten en een gemiddelde verbrandingskamertemperatuur van meer dan 1 273 K (1 000 °C), waarvan alle oppervlakken van het afvaltoevoersysteem die in direct contact komen met de afvalproducten, gemaakt zijn van of bekleed zijn met een of meer van de volgende materialen:

1.

‧legeringen‧ met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

| 2. | keramiek; of |
| --- | --- |

2.

keramiek; of

| 3. | nikkel of ‧legeringen‧ die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten. |
| --- | --- |

3.

nikkel of ‧legeringen‧ die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten.

| 1. | ‧Koolstofgrafiet‧ is een composiet bestaande uit amorf koolstof en grafiet, met 8 of meer gewichtspercenten grafiet. |
| --- | --- |

1.

| 2. | Voor de hierboven opgesomde materialen wordt onder ‧legeringen‧ - voor zover de term niet vergezeld gaat van een specifieke concentratie van een chemisch element - verstaan, legeringen waarin het geïdentificeerde metaal in een hoger gewichtspercent dan enig ander element aanwezig is. |
| --- | --- |

2.

2B351Andere dan in 1A004 bedoelde controleapparatuur voor giftige gassen en de speciaal daarvoor ontworpen detectieonderdelen ervan, als hieronder, en detectoren; sensoren; en vervangbare sensorpatronen daarvoor:

| a. | geschikt om in continubedrijf chemische strijdgassen of chemische stoffen als bedoeld in 1C350 waar te nemen bij concentraties van minder dan 0,3 milligram per m3 lucht, of |
| --- | --- |

a.

geschikt om in continubedrijf chemische strijdgassen of chemische stoffen als bedoeld in 1C350 waar te nemen bij concentraties van minder dan 0,3 milligram per m3 lucht, of

| b. | geschikt om cholinesteraseremmende werking waar te nemen. |
| --- | --- |

b.

geschikt om cholinesteraseremmende werking waar te nemen.

2B352Uitrusting, geschikt voor het manipuleren van biologische stoffen, als hieronder:

| a. | complete installaties met fysische inperking van de klassen P3 en P4;




  P3- en P4- (BL3, BL4, L3, L4) inperkingsniveaus zijn gespecificeerd in de WHO Laboratory Biosafety Manual (3e editie, Genève 2004). |
| --- | --- |

a.

complete installaties met fysische inperking van de klassen P3 en P4;

P3- en P4- (BL3, BL4, L3, L4) inperkingsniveaus zijn gespecificeerd in de WHO Laboratory Biosafety Manual (3e editie, Genève 2004).

| b. | fermentoren, geschikt voor het kweken van pathogene "micro-organismen" of virussen of de productie van "toxinen", zonder aërosolvorming, met een totale capaciteit van 20 liter of meer;




  Fermentoren omvatten bioreactoren, chemostaten en continustroomsystemen. |
| --- | --- |

b.

fermentoren, geschikt voor het kweken van pathogene "micro-organismen" of virussen of de productie van "toxinen", zonder aërosolvorming, met een totale capaciteit van 20 liter of meer;

Fermentoren omvatten bioreactoren, chemostaten en continustroomsystemen.

| c. | centrifuges, geschikt voor continu scheiden zonder aërosolvorming, met alle volgende kenmerken:






  1. | een doorstroomsnelheid van meer dan 100 liter per uur; |
| --- | --- | --- |

c.

centrifuges, geschikt voor continu scheiden zonder aërosolvorming, met alle volgende kenmerken:

1.

een doorstroomsnelheid van meer dan 100 liter per uur;

| 2. | met componenten gemaakt van gepolijst roestvrij staal of titaan; |
| --- | --- |

2.

met componenten gemaakt van gepolijst roestvrij staal of titaan;

| 3. | met een of meer koppelingen binnen het met stoom steriliseerbare compartiment; en |
| --- | --- |

3.

met een of meer koppelingen binnen het met stoom steriliseerbare compartiment; en

| 4. | geschikt voor in-situ-stoomsterilisatie in afgesloten toestand; |
| --- | --- |

4.

geschikt voor in-situ-stoomsterilisatie in afgesloten toestand;

Met centrifuges zijn ook bedoeld decanteerflessen.

| d. | dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur en onderdelen, als hieronder:






  1. | dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur geschikt voor het scheiden van pathogene micro-organismen, virussen, toxines of celculturen zonder aërosolvorming, met alle volgende kenmerken:






  a. | een totaal filteroppervlak van 1 m2 of meer; |
| --- | --- | --- | --- |

d.

dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur en onderdelen, als hieronder:

1.

dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur geschikt voor het scheiden van pathogene micro-organismen, virussen, toxines of celculturen zonder aërosolvorming, met alle volgende kenmerken:

a.

een totaal filteroppervlak van 1 m2 of meer;

| b. | een van de volgende kenmerken:






  1. | in-situ gesteriliseerd of gedesinfecteerd kunnen worden; of |
| --- | --- | --- |

b.

een van de volgende kenmerken:

1.

in-situ gesteriliseerd of gedesinfecteerd kunnen worden; of

| 2. | filteronderdelen zijn wegwerpbaar of slechts voor eenmalig gebruik. |
| --- | --- |

2.

filteronderdelen zijn wegwerpbaar of slechts voor eenmalig gebruik.

:

In 2B352.d.1.b. slaat gesteriliseerd op het verwijderen van alle levensvatbare bacteriën uit de apparatuur door middel van fysieke (bv. stoom) of chemische agentia. Gedesinfecteerd betekent dat iedere mogelijke bacteriële infectiviteit in de apparatuur door middel van chemische agentia met een kiemdodende werking volledig is uitgeschakeld. Desinfectie en sterilisatie zijn te onderscheiden van reiniging, waarmee schoonmaakprocedés worden bedoeld die het bacteriële gehalte van de apparatuur verminderen zonder de bacteriële infectiviteit of levensvatbaarheid noodzakelijkerwijze volledig uit te schakelen.

| 2. | Onderdelen van dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur (bv. modules, elementen, cassettes, patronen, eenheden of platen) met een filteroppervlak van 0,2 m2 of meer voor ieder onderdeel en bedoeld voor gebruik in de in 2B352 vermelde dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur. |
| --- | --- |

2.

Onderdelen van dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur (bv. modules, elementen, cassettes, patronen, eenheden of platen) met een filteroppervlak van 0,2 m2 of meer voor ieder onderdeel en bedoeld voor gebruik in de in 2B352 vermelde dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur.

| : | In 2B352.d wordt niet bedoeld apparatuur voor omgekeerde osmose, zoals gespecificeerd door de fabrikant. |
| --- | --- |

:

| e. | vriesdroogapparatuur, geschikt voor stoomsterilisatie en met een condensorcapaciteit van meer dan 10 kg ijs per 24 uur en minder dan 1 000 kg ijs per 24 uur; |
| --- | --- |

e.

vriesdroogapparatuur, geschikt voor stoomsterilisatie en met een condensorcapaciteit van meer dan 10 kg ijs per 24 uur en minder dan 1 000 kg ijs per 24 uur;

| f. | beschermings- of insluitingsmiddelen, als hieronder:






  1. | pakken van het type waarbij het lichaam geheel of half wordt omsloten, of van een externe luchttoevoer afhankelijke getuide, onder positieve druk werkende afzuigkappen







  : | Pakken die zijn ontworpen om met onafhankelijke ademhalingsapparatuur te worden gedragen, vallen niet onder 2B352.f.1. |
| --- | --- | --- | --- |

f.

beschermings- of insluitingsmiddelen, als hieronder:

1.

pakken van het type waarbij het lichaam geheel of half wordt omsloten, of van een externe luchttoevoer afhankelijke getuide, onder positieve druk werkende afzuigkappen

:

| 2. | biologische veiligheidskasten van klasse III of isolerende systemen met soortgelijke werkingsnormen;







  : | De isolerende systemen in 2B352.f.2 omvatten flexibele isolatoren, droge kasten, anaërobe kamers, handschoenkasten en afzuigkappen met laminaire stroming.(gesloten met verticale stroming). |
| --- | --- | --- |

2.

biologische veiligheidskasten van klasse III of isolerende systemen met soortgelijke werkingsnormen;

:

| g. | aërosol-inhalatiekamers ontworpen voor immuniteitsonderzoek met "micro-organismen", virussen of "toxinen" met een capaciteit van 1 m3 of meer. |
| --- | --- |

g.

aërosol-inhalatiekamers ontworpen voor immuniteitsonderzoek met "micro-organismen", virussen of "toxinen" met een capaciteit van 1 m3 of meer.

2CMaterialen

Geen.

2DProgrammatuur

2D001"Programmatuur" die verschilt van de in 2D002 bedoelde programmatuur, speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur, bedoeld in 2A001 of 2B001 t/m 2B009.

2D002"Programmatuur" voor elektronische toestellen, ook wanneer geïntegreerd in een elektronisch toestel of systeem, waardoor dergelijke toestellen of systemen kunnen functioneren als "numerieke besturings"-eenheid, en geschikt om meer dan vier assen gelijktijdig te laten samenwerken voor "contourbesturen".

| : | 2D002 is niet van toepassing op "programmatuur" die speciaal is ontworpen of aangepast voor de bediening van werktuigmachines die niet zijn vermeld in categorie 2. |
| --- | --- |

:

| : | 2D002 is niet van toepassing op "programmatuur" voor goederen die zijn vermeld in 2B002. Zie 2D001 voor "programmatuur" voor goederen vermeld in 2B002. |
| --- | --- |

:

2D101"Programmatuur" speciaal ontworpen of aangepast voor het "gebruik" van apparatuur, bedoeld in 2B104, 2B105, 2B109, 2B116, 2B117 of 2B119 tot en met 2B122.

| NB: | ZIE OOK 9D004 |
| --- | --- |

NB:

2D201"Programmatuur" speciaal ontworpen voor het "gebruik" van apparatuur, bedoeld in 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B219 of 2B227.

2D202"Programmatuur" speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur, bedoeld in 2B201.

2D351Andere "programmatuur" dan die als bedoeld in 1D003, speciaal ontworpen voor het "gebruik" van apparatuur, bedoeld in 2B351.

2ETechnologie

2E001"Technologie" volgens de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" van apparatuur of "programmatuur", bedoeld in 2A, 2B of 2D.

2E002"Technologie" volgens de algemene technologienoot voor de "productie" van apparatuur, bedoeld in 2A of 2B.

2E003Andere "technologie", als hieronder:

| a. | "technologie" voor de "ontwikkeling" van interactieve grafische modellen als geïntegreerd onderdeel in "numerieke besturings"-eenheden voor het maken of wijzigen van werkstukprogramma's; |
| --- | --- |

a.

"technologie" voor de "ontwikkeling" van interactieve grafische modellen als geïntegreerd onderdeel in "numerieke besturings"-eenheden voor het maken of wijzigen van werkstukprogramma's;

| b. | "technologie" voor fabricageprocessen door middel van metaalbewerking, als hieronder:






  1. | technologie voor het ontwerpen van gereedschappen, matrijzen en klemmen, speciaal ontworpen voor de volgende processen:






  a. | "superplastisch vormen"; |
| --- | --- | --- | --- |

b.

"technologie" voor fabricageprocessen door middel van metaalbewerking, als hieronder:

1.

technologie voor het ontwerpen van gereedschappen, matrijzen en klemmen, speciaal ontworpen voor de volgende processen:

a.

"superplastisch vormen";

| b. | "diffusielassen"; |
| --- | --- |

b.

"diffusielassen";

| c. | "direct hydraulisch persen"; |
| --- | --- |

c.

"direct hydraulisch persen";

| 2. | technische gegevens bestaande uit procesmethoden of procesparameters als hieronder opgesomd, welke worden gebruikt voor het regelen van:






  a. | "superplastisch vormen" van aluminium-, titaan- en "superlegeringen":






  1. | oppervlaktevoorbehandeling; |
| --- | --- | --- | --- |

2.

technische gegevens bestaande uit procesmethoden of procesparameters als hieronder opgesomd, welke worden gebruikt voor het regelen van:

a.

"superplastisch vormen" van aluminium-, titaan- en "superlegeringen":

1.

oppervlaktevoorbehandeling;

| 2. | reksnelheid; |
| --- | --- |

2.

reksnelheid;

| 3. | temperatuur; |
| --- | --- |

3.

temperatuur;

| 4. | druk; |
| --- | --- |

4.

druk;

| b. | "diffusielassen" van "superlegeringen" en titaanlegeringen:






  1. | oppervlaktevoorbehandeling; |
| --- | --- | --- |

b.

"diffusielassen" van "superlegeringen" en titaanlegeringen:

1.

oppervlaktevoorbehandeling;

| 2. | temperatuur; |
| --- | --- |

2.

temperatuur;

| 3. | druk; |
| --- | --- |

3.

druk;

| c. | "direct hydraulisch persen" van aluminium- en titaanlegeringen:






  1. | druk; |
| --- | --- | --- |

c.

"direct hydraulisch persen" van aluminium- en titaanlegeringen:

1.

druk;

| 2. | cyclustijd; |
| --- | --- |

2.

cyclustijd;

| d. | "heet isostatisch verdichten" van titaan-, aluminium- en "superlegeringen":






  1. | temperatuur; |
| --- | --- | --- |

d.

"heet isostatisch verdichten" van titaan-, aluminium- en "superlegeringen":

1.

temperatuur;

| 2. | druk; |
| --- | --- |

2.

druk;

| 3. | cyclustijd; |
| --- | --- |

3.

cyclustijd;

| c. | "technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van machines voor hydraulisch strekvormen en matrijzen daarvoor, voor de fabricage van vliegtuigconstructies; |
| --- | --- |

c.

"technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van machines voor hydraulisch strekvormen en matrijzen daarvoor, voor de fabricage van vliegtuigconstructies;

| d. | "technologie" voor de "ontwikkeling" van generatoren van instructies voor werktuigmachines (bv. werkstukprogramma's) op basis van ontwerpgegevens welke aanwezig zijn in "numerieke besturings"-eenheden; |
| --- | --- |

d.

"technologie" voor de "ontwikkeling" van generatoren van instructies voor werktuigmachines (bv. werkstukprogramma's) op basis van ontwerpgegevens welke aanwezig zijn in "numerieke besturings"-eenheden;

| e. | "technologie" voor de "ontwikkeling" van integratie-"programmatuur" voor het inbouwen van expertsystemen in "numerieke besturings"-eenheden ten behoeve van geavanceerde beslissingsondersteuning voor verrichtingen op de werkvloer; |
| --- | --- |

e.

"technologie" voor de "ontwikkeling" van integratie-"programmatuur" voor het inbouwen van expertsystemen in "numerieke besturings"-eenheden ten behoeve van geavanceerde beslissingsondersteuning voor verrichtingen op de werkvloer;

| f. | "technologie" voor het aanbrengen van anorganische deklagen of deklagen door anorganische modificatie van het oppervlak, omschreven in kolom 3 van onderstaande tabel, op niet elektronische substraten, gespecificeerd in kolom 2 van onderstaande tabel, door middel van procedés als omschreven in kolom 1 van onderstaande tabel en als gedefinieerd in de technische noten.







  : | De tabel en de technische noot zijn opgenomen na punt 2E301. |
| --- | --- | --- |

f.

"technologie" voor het aanbrengen van anorganische deklagen of deklagen door anorganische modificatie van het oppervlak, omschreven in kolom 3 van onderstaande tabel, op niet elektronische substraten, gespecificeerd in kolom 2 van onderstaande tabel, door middel van procedés als omschreven in kolom 1 van onderstaande tabel en als gedefinieerd in de technische noten.

:

Deze tabel moet als volgt worden gelezen: voor een specifiek bekledingsprocedé (kolom 1) zijn de resulterende deklaag in kolom 3 en het substraat in kolom 2 alleen te combineren wanneer zij op gelijke hoogte, in dezelfde alinea, naast elkaar staan. Voorbeeld: voor het bekledingsprocedé "chemische afzetting uit de damplaag (CVD)" geldt dat siliciden wel geschikt zijn voor substraten van "composieten" met een koolstof-koolstof-, keramische of metaal-"matrix", maar niet voor de substraten "gecementeerde wolfraamcarbide" (16) of "siliciumcarbide" (18). Deze laatste twee substraten staan namelijk niet recht naast de alinea in kolom 3 met de resulterende deklagen.

2E101"Technologie" volgens de algemene technologienoot voor het "gebruik" van apparatuur of "programmatuur", bedoeld in 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116 2B119 tot en met 2B122 of 2D101.

2E201"Technologie" volgens de algemene technologienoot voor het "gebruik" van apparatuur of "programmatuur", bedoeld in 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b, 2B007.c, 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225 t/m 2B232, 2D201 of 2D202.

2E301"Technologie" volgens de algemene technologienoot voor het "gebruik" van goederen bedoeld, in 2B350 t/m 2B352.

Tabel

Afzettingstechnieken

| 1. | Bekledingsprocedé (1) (6) |
| --- | --- |

1.

Bekledingsprocedé (1) (6)

| 2. | Substraat |
| --- | --- |

2.

Substraat

| 3. | Resulterende deklaag |
| --- | --- |

3.

Resulterende deklaag

| A. | Chemische afzetting uit de dampfase (CVD) |
| --- | --- |

A.

Chemische afzetting uit de dampfase (CVD)

"superlegeringen"

aluminiden voor inwendige kanalen

keramischematerialen (19) en glazen met een lage uitzettingscoëfficiënt (14)

siliciden

carbiden

diëlektrische lagen (15)

diamant

diamantachtige koolstof (17)

"composieten" met een koolstof-koolstof-, keramische of metaal-"matrix"

siliciden

carbiden

vuurvaste metalen

mengsels daarvan (4)

diëlektrische lagen (15)

aluminiden

gelegeerde aluminiden (2)

boriumnitride

gecementeerde wolfraamcarbide (16) siliciumcarbide (18)

carbiden

wolfraam

mengsels daarvan (4)

diëlektrische lagen (15)

molybdeen enmolybdeenlegeringen

diëlektrische lagen (15)

beryllium en berylliumlegeringen

diëlektrische lagen (15)

diamant

diamantachtige koolstof (17)

sensorvenstermaterialen (9)

diëlektrische lagen (15)

diamant

diamantachtige koolstof (17)

| B. | Thermische verdampingsafzetting (TE-PVD) (opdampen) |
| --- | --- |

B.

Thermische verdampingsafzetting (TE-PVD) (opdampen)

| B.1. | Elektronenstraalverdampen (EB-PVD) |
| --- | --- |

B.1.

Elektronenstraalverdampen (EB-PVD)

"superlegeringen"

gelegeerde siliciden

gelegeerde aluminiden (2)

McrAlX (5)

Gemodificeerd zirkoniumoxide (12)

siliciden

aluminiden

mengsels daarvan (4)

keramische materialen (19) en glazen met een lage uitzettingscoëfficiënt (14)

diëlektrische lagen (15)

roestwerend staal (7)

McrAlX (5)

gemodificeerd zirkoniumoxide (12)

mengsels daarvan (4)

"composieten" met een koolstof-koolstof-, keramische of metaal "matrix"

siliciden

carbiden

vuurvaste metalen

mengsels daarvan (4)

diëlektrische lagen (15)

boriumnitride

gecementeerde wolfraamcarbide (16) siliciumcarbide (18)

carbiden

wolfraam

mengsels daarvan (4)

diëlektrische lagen (15)

molybdeen enmolybdeenlegeringen

diëlektrische lagen (15)

beryllium en berylliumlegeringen

diëlektrische lagen (15)

boriden

beryllium

sensorvenstermaterialen (9)

diëlektrische lagen (15)

titaanlegeringen (13)

boriden

nitriden

| B.2. | Afzetting uit de dampfase: ion-plating |
| --- | --- |

B.2.

Afzetting uit de dampfase: ion-plating

keramische materialen (19) en glazen met een lage uitzettingscoëfficiënt (14)

diëlektrische lagen (15)

diamantachtige koolstof (17)

"composieten" met een koolstof-koolstof-, keramische of metaal "matrix"

diëlektrische lagen (15)

gecementeerde wolfraamcarbide (16) siliciumcarbide

diëlektrische lagen (15)

molybdeen en molybdeenlegeringen

diëlektrische lagen (15)

beryllium en berylliumlegeringen

diëlektrische lagen (15)

sensorvenstermaterialen (9)

diëlektrische lagen (15)

diamantachtige koolstof (17)

| B.3. | Afzetting uit de dampfase: "laser"-verdamping |
| --- | --- |

B.3.

Afzetting uit de dampfase: "laser"-verdamping

keramische materialen (19) en glazen met een lage uitzettingscoëfficiënt (14)

siliciden

diëlektrische lagen (15)

diamantachtige koolstof (17)

"composieten" met een koolstof-koolstof-, keramische of metaal "matrix"

diëlektrische lagen (15)

gecementeerde wolfraamcarbide (16) siliciumcarbide

diëlektrische lagen (15)

molybdeen en molybdeenlegeringen

diëlektrische lagen (15)

beryllium en berylliumlegeringen

diëlektrische lagen (15)

sensorvenstermaterialen (9)

diëlektrische lagen (15)

diamantachtige koolstof

| B.4. | Afzetting uit de dampfase: boogverdampen |
| --- | --- |

B.4.

Afzetting uit de dampfase: boogverdampen

"superlegeringen"

gelegeerde siliciden

gelegeerde aluminiden (2)

McrAlX (5)

polymeren (11) en "composieten" met een organische "matrix"

boriden

carbiden

nitriden

diamantachtige koolstof (17)

| C. | (Pack) cementering (zie A hierboven voor ‹out-of-pack› cementering (10) |
| --- | --- |

C.

(Pack) cementering (zie A hierboven voor ‹out-of-pack› cementering (10)

"composieten" met een koolstof-koolstof-, keramische of metaal "matrix"

siliciden

carbiden

mengsels daarvan (4)

titaanlegeringen (13)

siliciden

aluminiden

gelegeerde aluminiden (2)

vuurvaste metalen en legeringen (8)

siliciden

oxiden

| D. | Plasmaspuiten |
| --- | --- |

D.

Plasmaspuiten

"superlegeringen"

McrAlX (5)

gemodificeerd zirkoniumoxide (12)

mengsels daarvan (4)

slijtbaar nikkelgrafiet

slijtbare materialen met Ni-Cr-Al

slijtbaar Al-Si-polyester

gelegeerde aluminiden (2)

aluminiumlegeringen (6)

McrAlX (5)

gemodificeerd zirkoniumoxide (12)

siliciden

mengsels daarvan (4)

vuurvaste metalen en legeringen (8)

aluminiden

siliciden

carbiden

roestwerend staal (7)

MCrAIX (5)

gemodificeerd zirkoniumoxide (12)

mengsels daarvan (4)

titaanlegeringen (13)

carbiden

aluminiden

siliciden

gelegeerde aluminiden (2)

slijtbaar nikkelgrafiet

slijtbare materialen met Ni-Cr-A1

slijtbaar A1-Si-polyester

| E. | Afzetting uit suspensie |
| --- | --- |

E.

Afzetting uit suspensie

vuurvaste metalen en legeringen (8)

ineengesmolten siliciden ineengesmolten aluminiden met uitzondering van weerstandsverhittingselementen

"composieten" met een koolstof-koolstof-, keramische of metaal "matrix"

siliciden

carbiden

mengsels daarvan (4)

| F. | Afzetting door middel van sputteren |
| --- | --- |

F.

Afzetting door middel van sputteren

"superlegeringen"

gelegeerde siliciden

gelegeerde aluminiden (2)

aluminiden gemodificeerd met edele metalen (3)

MCrAlX (5)

gemodificeerd zirkoniumoxide (12)

platina

mengsels daarvan (4)

keramische materialen en glazen met een lage uitzettingscoëfficiënt (14)

siliciden

platina

mengsels daarvan (4)

diëlektrische lagen (15)

diamantachtige koolstof (17)

F. (vervolg)

titaanlegeringen (13)

boriden

nitriden

oxiden

siliciden

aluminiden

gelegeerde aluminiden (2)

carbiden

"composieten" met een koolstof-koolstof-, "matrix" keramische of metaal "matrix"

siliciden

carbiden

vuurvaste metalen

mengsels daarvan (4)

diëlektrische lagen (15)

boriumnitride

gecementeerde wolfraamcarbide (16) siliciumcarbide (18)

carbiden

wolfraam

diëlektrische lagen (15)

boriumnitride

mengsels daarvan (4)

molybdeen en molybdeen- legeringen

diëlektrische lagen (15)

beryllium en beryllium- legeringen

boriden

beryllium

diëlektrische lagen (15)

materialen (9) sensorvenster-

diëlektrische lagen (15)

diamantachtige koolstof (17)

legeringen (8) vuurvaste metalen en

aluminiden

siliciden

carbiden

oxiden

| G. | Ionenimplantatie |
| --- | --- |

G.

Ionenimplantatie

hoge temperatuur lager- staalsoorten

toevoeging van chroom, (columbium)

tantaal of niobium (columbium)

titaanlegeringen (13)

boriden

nitriden

beryllium en beryllium- legeringen

boriden

carbide (16) ecementeerde wolfraam

nitriden

carbiden

Tabel - Afzettingstechnieken - Noten

| 1. | ‧Bekledingsprocedé‧ behelst zowel het herstel en opknappen van de deklaag als het aanbrengen van een oorspronkelijke deklaag. |
| --- | --- |

1.

‧Bekledingsprocedé‧ behelst zowel het herstel en opknappen van de deklaag als het aanbrengen van een oorspronkelijke deklaag.

| 2. | Eénfasige of meerfase-bekledingen waarbij één of meer elementen worden afgezet vóór of tijdens het aanbrengen van de aluminidebekleding, worden, zelfs wanneer deze elementen door middel van een ander bekledingsprocedé worden afgezet, mede begrepen onder de term ‧bekleding met gelegeerde aluminide‧; daaronder wordt echter niet begrepen het meerdere malen toepassen van éénfasige ‹pack› cementeringsprocedés om gelegeerde aluminiden te verkrijgen. |
| --- | --- |

2.

Eénfasige of meerfase-bekledingen waarbij één of meer elementen worden afgezet vóór of tijdens het aanbrengen van de aluminidebekleding, worden, zelfs wanneer deze elementen door middel van een ander bekledingsprocedé worden afgezet, mede begrepen onder de term ‧bekleding met gelegeerde aluminide‧; daaronder wordt echter niet begrepen het meerdere malen toepassen van éénfasige ‹pack› cementeringsprocedés om gelegeerde aluminiden te verkrijgen.

| 3. | Meerfase-bekleding waarbij het edele metaal of de edele metalen worden opgebracht door middel van een ander bekledingsprocedé voordat de aluminidebekleding wordt aangebracht, wordt mede begrepen onder de term ‧met edelmetaal gemodificeerde aluminide‧-bekleding. |
| --- | --- |

3.

Meerfase-bekleding waarbij het edele metaal of de edele metalen worden opgebracht door middel van een ander bekledingsprocedé voordat de aluminidebekleding wordt aangebracht, wordt mede begrepen onder de term ‧met edelmetaal gemodificeerde aluminide‧-bekleding.

| 4. | Het begrip ‧mengsels daarvan‧ omvat geïnfiltreerd materiaal, samenstellingen met een verlopend gehalte, gelijktijdig afgezette materialen en afzettingen bestaande uit meerdere lagen en zij worden verkregen door middel van één of meer van de in de tabel vermelde bekledingsprocedés. |
| --- | --- |

4.

Het begrip ‧mengsels daarvan‧ omvat geïnfiltreerd materiaal, samenstellingen met een verlopend gehalte, gelijktijdig afgezette materialen en afzettingen bestaande uit meerdere lagen en zij worden verkregen door middel van één of meer van de in de tabel vermelde bekledingsprocedés.

| 5. | Met MCrAlX wordt bedoeld een bekledingslegering waarbij M staat voor kobalt, ijzer, nikkel of combinaties daarvan en X staat voor hafnium, yttrium, silicium, tantaal in iedere hoeveelheid of voor andere opzettelijke toevoegingen van meer dan 0,01 gewichtspercent in verschillende verhoudingen en combinaties, met uitzondering van:






  a. | CoCrAlY-bekledingen die minder dan 22 gewichtspercenten chroom bevatten, minder dan 7 gewichtspercenten aluminium en minder dan 2 gewichtspercenten yttrium; |
| --- | --- | --- |

5.

Met MCrAlX wordt bedoeld een bekledingslegering waarbij M staat voor kobalt, ijzer, nikkel of combinaties daarvan en X staat voor hafnium, yttrium, silicium, tantaal in iedere hoeveelheid of voor andere opzettelijke toevoegingen van meer dan 0,01 gewichtspercent in verschillende verhoudingen en combinaties, met uitzondering van:

a.

CoCrAlY-bekledingen die minder dan 22 gewichtspercenten chroom bevatten, minder dan 7 gewichtspercenten aluminium en minder dan 2 gewichtspercenten yttrium;

| b. | CoCrAlY-bekledingen die 22 tot 24 gewichtspercenten chroom bevatten, 10 tot 12 gewichtspercenten aluminium en 0,5 tot 0,7 gewichtspercent yttrium; of |
| --- | --- |

b.

CoCrAlY-bekledingen die 22 tot 24 gewichtspercenten chroom bevatten, 10 tot 12 gewichtspercenten aluminium en 0,5 tot 0,7 gewichtspercent yttrium; of

| c. | NiCrAlY-bekledingen die 21 tot 23 gewichtspercenten chroom bevatten, 10 tot 12 gewichtspercenten aluminium en 0,9 tot 1,1 gewichtspercent yttrium. |
| --- | --- |

c.

NiCrAlY-bekledingen die 21 tot 23 gewichtspercenten chroom bevatten, 10 tot 12 gewichtspercenten aluminium en 0,9 tot 1,1 gewichtspercent yttrium.

| 6. | Met ‧aluminiumlegeringen‧ worden bedoeld legeringen met een treksterkte van 190 MPa of meer gemeten bij 293 K (20 °C). |
| --- | --- |

6.

Met ‧aluminiumlegeringen‧ worden bedoeld legeringen met een treksterkte van 190 MPa of meer gemeten bij 293 K (20 °C).

| 7. | Met ‧roestwerend staal‧ wordt bedoeld AISI (American Iron and Steel Institute) serie 300 of naar gelijkwaardige nationale normen geclassificeerde staalsoorten. |
| --- | --- |

7.

Met ‧roestwerend staal‧ wordt bedoeld AISI (American Iron and Steel Institute) serie 300 of naar gelijkwaardige nationale normen geclassificeerde staalsoorten.

| 8. | ‧Vuurvaste metalen en legeringen‧ omvatten de volgende metalen en hun legeringen: niobium (columbium), molybdeen, wolfraam en tantaal. |
| --- | --- |

8.

‧Vuurvaste metalen en legeringen‧ omvatten de volgende metalen en hun legeringen: niobium (columbium), molybdeen, wolfraam en tantaal.

| 9. | ‧Sensorvenstermaterialen‧, als hierna: aluminiumoxide, silicium, germanium, zinksulfide, zinkselenide, galliumarsenide, diamant, galliumfosfide, saffier en de volgende metaalhaliden: sensorvenstermaterialen met een diameter groter dan 40 mm indien gemaakt van zirconiumfluoride en hafniumfluoride. |
| --- | --- |

9.

‧Sensorvenstermaterialen‧, als hierna: aluminiumoxide, silicium, germanium, zinksulfide, zinkselenide, galliumarsenide, diamant, galliumfosfide, saffier en de volgende metaalhaliden: sensorvenstermaterialen met een diameter groter dan 40 mm indien gemaakt van zirconiumfluoride en hafniumfluoride.

| 10. | Technologie voor het in één fase ‹pack› cementeren van massieve aërodynamische vlakken wordt niet bedoeld in deze categorie. |
| --- | --- |

10.

Technologie voor het in één fase ‹pack› cementeren van massieve aërodynamische vlakken wordt niet bedoeld in deze categorie.

| 11. | ‧Polymeren‧, als hierna: polyimide, polyester, polysulfide, polycarbonaten en polyurethanen. |
| --- | --- |

11.

‧Polymeren‧, als hierna: polyimide, polyester, polysulfide, polycarbonaten en polyurethanen.

| 12. | ‧Gemodificeerd zirkoniumoxide‧ verwijst naar toevoegingen van andere metaaloxiden, bv. calciumoxide, magnesiumoxide, yttriumoxide, hafniumoxide, zeldzame aardoxiden, enz. aan zirkoniumoxide teneinde bepaalde kristallografische fasen en fasesamenstellingen te stabiliseren. Warmtebarrièrebekledingen gemaakt van zirkoniumoxide, gemodificeerd met calciumoxide of magnesiumoxide door middel van mengen of versmelting worden niet bedoeld. |
| --- | --- |

12.

‧Gemodificeerd zirkoniumoxide‧ verwijst naar toevoegingen van andere metaaloxiden, bv. calciumoxide, magnesiumoxide, yttriumoxide, hafniumoxide, zeldzame aardoxiden, enz. aan zirkoniumoxide teneinde bepaalde kristallografische fasen en fasesamenstellingen te stabiliseren. Warmtebarrièrebekledingen gemaakt van zirkoniumoxide, gemodificeerd met calciumoxide of magnesiumoxide door middel van mengen of versmelting worden niet bedoeld.

| 13. | Met ‧titaanlegeringen‧ worden uitsluitend bedoeld ruimtevaartlegeringen met een treksterkte van 900 MPa of meer gemeten bij 293 K (20 °C). |
| --- | --- |

13.

Met ‧titaanlegeringen‧ worden uitsluitend bedoeld ruimtevaartlegeringen met een treksterkte van 900 MPa of meer gemeten bij 293 K (20 °C).

| 14. | Met ‧glazen met een lage thermische uitzettingscoëfficiënt‧ worden bedoeld glazen met een uitzettingscoëfficiënt van 1 × 10-7 K-1 of minder gemeten bij 293 K (20 °C). |
| --- | --- |

14.

Met ‧glazen met een lage thermische uitzettingscoëfficiënt‧ worden bedoeld glazen met een uitzettingscoëfficiënt van 1 × 10-7 K-1 of minder gemeten bij 293 K (20 °C).

| 15. | ‧Diëlektrische lagen‧ zijn bekledingen die zijn opgebouwd uit uit meerdere lagen bestaande isolatiematerialen waarbij gebruik wordt gemaakt van de interferentie-eigenschappen van een ontwerp dat is samengesteld uit materialen met uiteenlopende brekingsindexen voor de reflectie, transmissie of absorptie van verschillende golflengtebanden. Met diëlektrische lagen worden bedoeld meer dan vier diëlektrische lagen of "composiete" diëlektrische/metaallagen. |
| --- | --- |

15.

‧Diëlektrische lagen‧ zijn bekledingen die zijn opgebouwd uit uit meerdere lagen bestaande isolatiematerialen waarbij gebruik wordt gemaakt van de interferentie-eigenschappen van een ontwerp dat is samengesteld uit materialen met uiteenlopende brekingsindexen voor de reflectie, transmissie of absorptie van verschillende golflengtebanden. Met diëlektrische lagen worden bedoeld meer dan vier diëlektrische lagen of "composiete" diëlektrische/metaallagen.

| 16. | Materialen voor snij- en vormwerktuigen bestaande uit wolfraamcarbide/(met kobalt, nikkel), titaancarbide/(met kobalt, nikkel), chroomcarbide/(met nikkel, chroom) en chroomcarbide/(met nikkel) zijn niet mede begrepen onder de ‧gecementeerde wolfraamcarbide‧ in de tabel. |
| --- | --- |

16.

Materialen voor snij- en vormwerktuigen bestaande uit wolfraamcarbide/(met kobalt, nikkel), titaancarbide/(met kobalt, nikkel), chroomcarbide/(met nikkel, chroom) en chroomcarbide/(met nikkel) zijn niet mede begrepen onder de ‧gecementeerde wolfraamcarbide‧ in de tabel.

| 17. | Niet bedoeld wordt "technologie" die speciaal is ontwikkeld voor het aanbrengen van diamantachtige koolstof op een van de volgende artikelen:
  magnetische diskdrives en koppen, apparatuur voor de vervaardiging van wegwerpartikelen, kleppen of tapkraantjes, akoestische membranen voor luidsprekers, automotoronderdelen, snijmachines, pons- en persmatrijzen, kantoorautomatiseringsapparatuur, microfoons of medische apparatuur of uit legeringen met minder dan 5 % beryllium gemaakte matrijzen voor het gieten of vormen van plastic. |
| --- | --- |

17.

Niet bedoeld wordt "technologie" die speciaal is ontwikkeld voor het aanbrengen van diamantachtige koolstof op een van de volgende artikelen:

magnetische diskdrives en koppen, apparatuur voor de vervaardiging van wegwerpartikelen, kleppen of tapkraantjes, akoestische membranen voor luidsprekers, automotoronderdelen, snijmachines, pons- en persmatrijzen, kantoorautomatiseringsapparatuur, microfoons of medische apparatuur of uit legeringen met minder dan 5 % beryllium gemaakte matrijzen voor het gieten of vormen van plastic.

| 18. | ‧Siliciumcarbide‧ omvat geen materiaal voor snij- of vormwerktuigen. |
| --- | --- |

18.

‧Siliciumcarbide‧ omvat geen materiaal voor snij- of vormwerktuigen.

| 19. | Keramische substraten, zoals onder dit nummer gebruikt, omvatten geen keramische materialen met 5 % of meer gewichtspercent klei- of cementinhoud, als afzonderlijke bestanddelen dan wel in combinatie. |
| --- | --- |

19.

Keramische substraten, zoals onder dit nummer gebruikt, omvatten geen keramische materialen met 5 % of meer gewichtspercent klei- of cementinhoud, als afzonderlijke bestanddelen dan wel in combinatie.

Tabel - Afzettingstechnieken - Technische Noot

De definities van de in kolom 1 van de tabel vermelde procedés luiden als volgt:

| a. | Chemische afzetting uit de dampfase (CVD) is een procedé voor deklaagbekleding of voor bekleding door modificatie van het oppervlak waarbij een metaal, legering, "composiet", diëlektrisch of keramisch materiaal op een verhit substraat wordt afgezet. In de nabijheid van een substraat worden gasvormige reagentia ontleed of gecombineerd, wat leidt tot de afzetting van het gewenste materiaal, zijnde een element, legering of samengesteld materiaal, op het substraat. De energie voor dit proces van ontleding of chemische reactie kan worden geleverd door de hitte van het substraat, door een gloeiontladingsplasma of door "laser"-bestraling. | CVD omvat de volgende procedés: ‹out-of-pack›-afzetting met gerichte gasstroom, pulserende CVD, thermische afzetting met beheerste kernenvorming (CNTD), met plasma versterkte of met plasma ondersteunde CVD-procedés. |
| --- | --- | --- |

a.

Chemische afzetting uit de dampfase (CVD) is een procedé voor deklaagbekleding of voor bekleding door modificatie van het oppervlak waarbij een metaal, legering, "composiet", diëlektrisch of keramisch materiaal op een verhit substraat wordt afgezet. In de nabijheid van een substraat worden gasvormige reagentia ontleed of gecombineerd, wat leidt tot de afzetting van het gewenste materiaal, zijnde een element, legering of samengesteld materiaal, op het substraat. De energie voor dit proces van ontleding of chemische reactie kan worden geleverd door de hitte van het substraat, door een gloeiontladingsplasma of door "laser"-bestraling.

CVD omvat de volgende procedés: ‹out-of-pack›-afzetting met gerichte gasstroom, pulserende CVD, thermische afzetting met beheerste kernenvorming (CNTD), met plasma versterkte of met plasma ondersteunde CVD-procedés.













  ‹Pack› geeft aan dat een substraat is ingebed in een poedermengsel.













  Het bij het ‹out-of-pack›-procedé gebruikte gasvormige materiaal wordt verkregen door toepassing van dezelfde basisreacties en parameters als bij het ‹pack› cementeringsprocedé, behalve dat het te bekleden substraat niet in contact komt met het poedermengsel.














  b.

| | ‹Pack› geeft aan dat een substraat is ingebed in een poedermengsel. |
| --- | --- |

| | Het bij het ‹out-of-pack›-procedé gebruikte gasvormige materiaal wordt verkregen door toepassing van dezelfde basisreacties en parameters als bij het ‹pack› cementeringsprocedé, behalve dat het te bekleden substraat niet in contact komt met het poedermengsel. |
| --- | --- |

| b. | Thermische verdampingsafzetting (TE-PVD) (opdampen) is een procedé voor deklaagbekleding in een vacuümkamer bij een druk van minder dan 0,1 Pa waarin gebruik wordt gemaakt van een thermische energiebron voor het verdampen van het bekledingsmateriaal. Dit leidt tot de neerslag, of afzetting, van de verdampte stoffen op een in een geschikte positie geplaatst substraat.
  De toevoeging van gassen aan de vacuümkamer tijdens het bekledingsprocedé voor het opbouwen van een samengestelde bekleding is een gebruikelijke aanpassing van het procedé.
  Het gebruik van een ionen- of elektronenstraal, of plasma, teneinde de afzetting van de bekleding te activeren of te ondersteunen is eveneens een gebruikelijke aanpassing in deze techniek. Ook kunnen tijdens deze procedés monitoren worden gebruikt voor het tijdens het proces meten van de optische kenmerken en de dikte van de bekledingslaag.
  Specifieke TE-PVD-procedés verlopen als volgt:






  1. | bij elektronenstraalverdampen (EB-PVD) wordt gebruik gemaakt van een elektronenstraal voor het verhitten en verdampen van het materiaal waaruit de deklaag wordt gevormd; |
| --- | --- | --- |

Thermische verdampingsafzetting (TE-PVD) (opdampen) is een procedé voor deklaagbekleding in een vacuümkamer bij een druk van minder dan 0,1 Pa waarin gebruik wordt gemaakt van een thermische energiebron voor het verdampen van het bekledingsmateriaal. Dit leidt tot de neerslag, of afzetting, van de verdampte stoffen op een in een geschikte positie geplaatst substraat.

De toevoeging van gassen aan de vacuümkamer tijdens het bekledingsprocedé voor het opbouwen van een samengestelde bekleding is een gebruikelijke aanpassing van het procedé.

Het gebruik van een ionen- of elektronenstraal, of plasma, teneinde de afzetting van de bekleding te activeren of te ondersteunen is eveneens een gebruikelijke aanpassing in deze techniek. Ook kunnen tijdens deze procedés monitoren worden gebruikt voor het tijdens het proces meten van de optische kenmerken en de dikte van de bekledingslaag.

Specifieke TE-PVD-procedés verlopen als volgt:

1.

bij elektronenstraalverdampen (EB-PVD) wordt gebruik gemaakt van een elektronenstraal voor het verhitten en verdampen van het materiaal waaruit de deklaag wordt gevormd;

| 2. | bij weerstandsverhittingsverdampen met ionen wordt gebruik gemaakt van elektrische weerstandsverwarmingsbronnen in combinatie met een of meer botsende ionenstralen die een beheerste en gelijkmatige stroom verdampt bekledingsmateriaal leveren; |
| --- | --- |

2.

bij weerstandsverhittingsverdampen met ionen wordt gebruik gemaakt van elektrische weerstandsverwarmingsbronnen in combinatie met een of meer botsende ionenstralen die een beheerste en gelijkmatige stroom verdampt bekledingsmateriaal leveren;

| 3. | bij "laser"-verdamping wordt gebruik gemaakt van ofwel een pulserende ofwel een continue "laser"-straal voor het verdampen van het materiaal waaruit de deklaag wordt gevormd; |
| --- | --- |

3.

bij "laser"-verdamping wordt gebruik gemaakt van ofwel een pulserende ofwel een continue "laser"-straal voor het verdampen van het materiaal waaruit de deklaag wordt gevormd;

| 4. | Boogverdampen maakt gebruik van een uit het materiaal van de te vormen deklaag bestaande kathode welke opgebruikt wordt en waarbij een vonkoverslag op het oppervlak wordt gecreëerd door een kort aardcontact. De beheerste vlamboogbeweging erodeert het kathodeoppervlak waardoor een sterk geïoniseerd plasma ontstaat. De anode kan een kegel zijn die via een isolatie aan de rand van de kathode is bevestigd of de kamer wordt als anode gebruikt. Het aanleggen van een voorspanning op het substraat wordt gebruikt bij het uit de gezichtslijn opbrengen van deklagen. | Het aanbrengen van deklagen door middel van een niet beheerste vlamboog zonder een voorspanning op het substraat is niet mede begrepen in deze definitie. |
| --- | --- | --- |

4.

Boogverdampen maakt gebruik van een uit het materiaal van de te vormen deklaag bestaande kathode welke opgebruikt wordt en waarbij een vonkoverslag op het oppervlak wordt gecreëerd door een kort aardcontact. De beheerste vlamboogbeweging erodeert het kathodeoppervlak waardoor een sterk geïoniseerd plasma ontstaat. De anode kan een kegel zijn die via een isolatie aan de rand van de kathode is bevestigd of de kamer wordt als anode gebruikt. Het aanleggen van een voorspanning op het substraat wordt gebruikt bij het uit de gezichtslijn opbrengen van deklagen.

Het aanbrengen van deklagen door middel van een niet beheerste vlamboog zonder een voorspanning op het substraat is niet mede begrepen in deze definitie.

| 5. | ‹Ion-plating› is een speciale aanpassing van een algemeen TE-PVD-procedé waarbij een plasma of een ionenbron wordt gebruikt voor het ioniseren van de af te zetten stoffen, en waarbij een negatieve voorspanning wordt aangelegd op het substraat teneinde de stoffen gemakkelijker aan het plasma te kunnen onttrekken. Het toevoegen van reactieve stoffen, de verdamping van vaste stoffen in de proceskamer en het gebruik van monitoren voor het tijdens het proces meten van de optische kenmerken en de dikte van de bekledingslaag zijn gebruikelijke aanpassingen van het procedé. |
| --- | --- |

5.

‹Ion-plating› is een speciale aanpassing van een algemeen TE-PVD-procedé waarbij een plasma of een ionenbron wordt gebruikt voor het ioniseren van de af te zetten stoffen, en waarbij een negatieve voorspanning wordt aangelegd op het substraat teneinde de stoffen gemakkelijker aan het plasma te kunnen onttrekken. Het toevoegen van reactieve stoffen, de verdamping van vaste stoffen in de proceskamer en het gebruik van monitoren voor het tijdens het proces meten van de optische kenmerken en de dikte van de bekledingslaag zijn gebruikelijke aanpassingen van het procedé.

| c. | ‹Pack› cementering is een procedé voor bekleding door modificatie van het oppervlak of voor deklaagbekleding waarbij een substraat wordt ingebed in een poedermengsel, een zgn. ‹pack›, dat bestaat uit:






  1. | de metaalhoudende poeders die moeten worden afgezet (gewoonlijk aluminium, chroom, silicium of combinaties daarvan); |
| --- | --- | --- |

c.

‹Pack› cementering is een procedé voor bekleding door modificatie van het oppervlak of voor deklaagbekleding waarbij een substraat wordt ingebed in een poedermengsel, een zgn. ‹pack›, dat bestaat uit:

1.

de metaalhoudende poeders die moeten worden afgezet (gewoonlijk aluminium, chroom, silicium of combinaties daarvan);

| 2. | een activerende stof (gewoonlijk een halogenide zout), en |
| --- | --- |

2.

een activerende stof (gewoonlijk een halogenide zout), en

| 3. | een inerte stof, meestal aluminiumoxide. |
| --- | --- |

3.

een inerte stof, meestal aluminiumoxide.

Het substraat en het poedermengsel bevinden zich in een retort die wordt verhit tot 1 030 K (757 °C) à 1 375 K (1 102 °C) gedurende een tijd lang genoeg voor afzetting van de laag.

| d. | Plasmaspuiten is een deklaagbekledingsprocedé waarbij een spuitpistool, dat een plasma produceert en reguleert, bekledingsmaterialen in poeder- of draadvorm krijgt toegevoerd, deze smelt en naar een substraat drijft, waarop zich een integraal gehechte laag vormt. Plasmaspuiten zoals hier bedoeld is ofwel plasmaspuiten bij lage druk ofwel plasmaspuiten met hoge snelheid. | Lage druk wil zeggen minder dan de atmosferische omgevingsdruk. |
| --- | --- | --- |

d.

Plasmaspuiten is een deklaagbekledingsprocedé waarbij een spuitpistool, dat een plasma produceert en reguleert, bekledingsmaterialen in poeder- of draadvorm krijgt toegevoerd, deze smelt en naar een substraat drijft, waarop zich een integraal gehechte laag vormt. Plasmaspuiten zoals hier bedoeld is ofwel plasmaspuiten bij lage druk ofwel plasmaspuiten met hoge snelheid.

Lage druk wil zeggen minder dan de atmosferische omgevingsdruk.













  Met hoge snelheid wordt bedoeld een uitstroomsnelheid van het gas uit het mondstuk hoger dan 750 m/s bij 293 K (20 °C) en 0,1 MPa.














  e.

| | Met hoge snelheid wordt bedoeld een uitstroomsnelheid van het gas uit het mondstuk hoger dan 750 m/s bij 293 K (20 °C) en 0,1 MPa. |
| --- | --- |

| e. | Afzetting uit suspensie is een procedé voor bekleding door modificatie van het oppervlak of voor deklaagbekleding waarbij een metaalhoudend of keramisch poeder met een organische bindstof in suspensie wordt gebracht in een vloeistof en op een substraat wordt aangebracht door spuiten, dompelen of penselen; vervolgens droging aan de lucht of in een oven; en warmtebehandeling om de gewenste laag te verkrijgen. |
| --- | --- |

Afzetting uit suspensie is een procedé voor bekleding door modificatie van het oppervlak of voor deklaagbekleding waarbij een metaalhoudend of keramisch poeder met een organische bindstof in suspensie wordt gebracht in een vloeistof en op een substraat wordt aangebracht door spuiten, dompelen of penselen; vervolgens droging aan de lucht of in een oven; en warmtebehandeling om de gewenste laag te verkrijgen.

| f. | Afzetting door middel van sputteren is een deklaagbekledingsprocedé dat is gebaseerd op een verschijnsel van impulsoverdracht, waarbij positief geladen ionen worden versneld door een elektrisch veld naar het oppervlak van een trefplaat (deklaagmateriaal). De kinetische energie van de botsende ionen is voldoende om ervoor te zorgen dat atomen aan het oppervlak van de trefplaat vrijkomen en worden afgezet op een in een geschikte positie geplaatst substraat. | De tabel verwijst uitsluitend naar afzetting door sputteren met een triode, magnetron of naar reactief sputteren, welke methoden worden toegepast om de hechting van de bekleding en de afzetsnelheid te vergroten, en naar hoogfrequent (RF) versterkte afzetting door sputteren, wat wordt toegepast om de verdamping van niet-metaalhoudende bekledingsmaterialen mogelijk te maken. |
| --- | --- | --- |

f.

Afzetting door middel van sputteren is een deklaagbekledingsprocedé dat is gebaseerd op een verschijnsel van impulsoverdracht, waarbij positief geladen ionen worden versneld door een elektrisch veld naar het oppervlak van een trefplaat (deklaagmateriaal). De kinetische energie van de botsende ionen is voldoende om ervoor te zorgen dat atomen aan het oppervlak van de trefplaat vrijkomen en worden afgezet op een in een geschikte positie geplaatst substraat.

De tabel verwijst uitsluitend naar afzetting door sputteren met een triode, magnetron of naar reactief sputteren, welke methoden worden toegepast om de hechting van de bekleding en de afzetsnelheid te vergroten, en naar hoogfrequent (RF) versterkte afzetting door sputteren, wat wordt toegepast om de verdamping van niet-metaalhoudende bekledingsmaterialen mogelijk te maken.













  Ionenstralen met lage energie (minder dan 5 keV) kunnen worden toegepast om de afzetting in gang te zetten.














  g.

| | Ionenstralen met lage energie (minder dan 5 keV) kunnen worden toegepast om de afzetting in gang te zetten. |
| --- | --- |

| g. | Ionenimplantatie is een procedé voor bekleding door modificatie van het oppervlak waarbij het te legeren element wordt geïoniseerd, wordt versneld door een potentiaalgradiënt en in het substraatoppervlak wordt geïmplanteerd. De definitie omvat mede procedés waarbij tegelijk met de ionenimplantatie elektronenstraalverdamping of afzetting door middel van sputtering plaatsvindt. |
| --- | --- |

Ionenimplantatie is een procedé voor bekleding door modificatie van het oppervlak waarbij het te legeren element wordt geïoniseerd, wordt versneld door een potentiaalgradiënt en in het substraatoppervlak wordt geïmplanteerd. De definitie omvat mede procedés waarbij tegelijk met de ionenimplantatie elektronenstraalverdamping of afzetting door middel van sputtering plaatsvindt.

CATEGORIE 3

ELEKTRONICA

3ASystemen, apparatuur en onderdelen

| : | De embargostatus van in 3A001 of 3A002 omschreven apparatuur en onderdelen, anders dan die welke zijn omschreven in 3A001.a.3 t/m 3A001.a.10 of 3A001.a.12, die speciaal zijn ontworpen voor apparatuur waarvoor een uitvoervergunning vereist is, of die dezelfde functionele eigenschappen hebben, wordt bepaald door de embargostatus van die andere apparatuur. |
| --- | --- |

:

| : | De embargostatus van geïntegreerde schakelingen als omschreven in 3A001.a.3 t/m 3A001.a.9 of 3A001.a.12 die onveranderbaar zijn geprogrammeerd of ontworpen voor een specifieke functie, wordt eveneens bepaald door de embargostatus van die andere apparatuur.

  :


  Wanneer de fabrikant of de aanvrager de embargostatus van de andere apparatuur niet kan bepalen, wordt de embargostatus bepaald op grond van 3A001.a.3 t/m 3A001.a.9 of 3A001.a.12. |
| --- | --- |

:

:

Wanneer de fabrikant of de aanvrager de embargostatus van de andere apparatuur niet kan bepalen, wordt de embargostatus bepaald op grond van 3A001.a.3 t/m 3A001.a.9 of 3A001.a.12.

3A001Elektronische onderdelen en de speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:

| a. | Universele geïntegreerde schakelingen, als hieronder:







  : | De vraag of een uitvoervergunning is vereist voor (al dan niet afgewerkte) plakken (‹wafers›) waarin de functie reeds is vastgelegd, dient te worden beoordeeld aan de hand van de parameters in 3A001.a. |
| --- | --- | --- |

a.

Universele geïntegreerde schakelingen, als hieronder:

:

| : | Geïntegreerde schakelingen omvatten de volgende typen:






  — | "monolithische geïntegreerde schakelingen"; |
| --- | --- | --- |

:

—

"monolithische geïntegreerde schakelingen";

| — | "hybride geïntegreerde schakelingen"; |
| --- | --- |

—

"hybride geïntegreerde schakelingen";

| — | "multichip geïntegreerde schakelingen"; |
| --- | --- |

—

"multichip geïntegreerde schakelingen";

| — | "geïntegreerde schakelingen van het filmtype" met inbegrip van geïntegreerde schakelingen van silicium op saffier; |
| --- | --- |

—

"geïntegreerde schakelingen van het filmtype" met inbegrip van geïntegreerde schakelingen van silicium op saffier;

| — | "optische geïntegreerde schakelingen". |
| --- | --- |

—

"optische geïntegreerde schakelingen".

| 1. | geïntegreerde schakelingen, ontworpen of gespecificeerd als bestand tegen:






  a. | een totale dosis ioniserende straling van 5 × 103 Gray (silicium) of meer, of |
| --- | --- | --- |

1.

geïntegreerde schakelingen, ontworpen of gespecificeerd als bestand tegen:

a.

een totale dosis ioniserende straling van 5 × 103 Gray (silicium) of meer, of

| b. | storing bij een dosistempo van 5 × 106 Gray (silicium)/s of meer; |
| --- | --- |

b.

storing bij een dosistempo van 5 × 106 Gray (silicium)/s of meer;

| c. | een fluentie (geïntegreerde flux) van neutronen (gelijk aan 1 MeV) van 5 × 1013 n/cm2 of meer op silicium, of het equivalent daarvan voor andere materialen;







  : | Punt 3A001.a.1.c is niet van toepassing op MIS-condensatoren (Metal Insulator Semiconductors). |
| --- | --- | --- |

c.

een fluentie (geïntegreerde flux) van neutronen (gelijk aan 1 MeV) van 5 × 1013 n/cm2 of meer op silicium, of het equivalent daarvan voor andere materialen;

:

| 2. | "microprocessor-microschakelingen", "microcomputer-microschakelingen", microbesturing-microschakelingen, geïntegreerde geheugenschakelingen vervaardigd van samengesteld halfgeleidermateriaal, analoog/digitaal-omzetters, digitaal/analoog-omzetters, elektro-optische of "optisch geïntegreerde schakelingen" voor "signaalverwerking", door de gebruiker te programmeren logische bouwstenen, op bestelling geïntegreerde schakelingen waarbij ofwel de functie ofwel de embargostatus van de apparatuur waarin de geïntegreerde schakelingen zullen worden toegepast, niet bekend is, of FFT ("Fast Fourier Transform")-processoren, elektrisch wisbare PROM's (EEPROM's), flash-geheugens of statische RAM's (SRAM's):






  a. | gespecificeerd om te werken bij een omgevingstemperatuur hoger dan 398 K (125 °C); |
| --- | --- | --- |

2.

"microprocessor-microschakelingen", "microcomputer-microschakelingen", microbesturing-microschakelingen, geïntegreerde geheugenschakelingen vervaardigd van samengesteld halfgeleidermateriaal, analoog/digitaal-omzetters, digitaal/analoog-omzetters, elektro-optische of "optisch geïntegreerde schakelingen" voor "signaalverwerking", door de gebruiker te programmeren logische bouwstenen, op bestelling geïntegreerde schakelingen waarbij ofwel de functie ofwel de embargostatus van de apparatuur waarin de geïntegreerde schakelingen zullen worden toegepast, niet bekend is, of FFT ("Fast Fourier Transform")-processoren, elektrisch wisbare PROM's (EEPROM's), flash-geheugens of statische RAM's (SRAM's):

a.

gespecificeerd om te werken bij een omgevingstemperatuur hoger dan 398 K (125 °C);

| b. | gespecificeerd om te werken bij een omgevingstemperatuur lager dan 218 K (– 55 °C); of |
| --- | --- |

b.

gespecificeerd om te werken bij een omgevingstemperatuur lager dan 218 K (– 55 °C); of

| c. | gespecificeerd om te werken over het gehele omgevingstemperatuurbereik van 218 K (– 55 °C) tot 398 K (125 °C); |
| --- | --- |

c.

gespecificeerd om te werken over het gehele omgevingstemperatuurbereik van 218 K (– 55 °C) tot 398 K (125 °C);

| : | 3A001.a.2 is niet van toepassing op geïntegreerde schakelingen voor toepassingen in civiele automobielen of treinen. |
| --- | --- |

:

| 3. | "microprocessor-microschakelingen", "microcomputer-microschakelingen" en microbesturingmicroschakelingen, gefabriceerd van een samengestelde halfgeleider en werkend met een klokfrequentie hoger dan 40 MHz;







  : | In 3A001.a.3 worden mede bedoeld digitale signaalprocessoren, digitale ‹array›-processoren en digitale co-processoren. |
| --- | --- | --- |

3.

"microprocessor-microschakelingen", "microcomputer-microschakelingen" en microbesturingmicroschakelingen, gefabriceerd van een samengestelde halfgeleider en werkend met een klokfrequentie hoger dan 40 MHz;

:

| 4. | niet gebruikt; |
| --- | --- |

4.

niet gebruikt;

| 5. | geïntegreerde schakelingen voor analoog/digitaal-omzetters (ADC's) en digitaal/analoog-omzetters (DAC's), als hieronder:






  a. | ADC's met één of meer van de volgende kenmerken:







  NB | ZIE OOK 3A101 |
| --- | --- | --- | --- |

5.

geïntegreerde schakelingen voor analoog/digitaal-omzetters (ADC's) en digitaal/analoog-omzetters (DAC's), als hieronder:

a.

ADC's met één of meer van de volgende kenmerken:

NB

| 1. | een scheidend vermogen van 8 bit of meer maar minder dan 10 bit, met een outputsnelheid van meer dan 500 miljoen woorden per seconde; |
| --- | --- |

1.

een scheidend vermogen van 8 bit of meer maar minder dan 10 bit, met een outputsnelheid van meer dan 500 miljoen woorden per seconde;

| 2. | een scheidend vermogen van 10 bit of meer maar minder dan 12 bit en een outputsnelheid van meer dan 300 miljoen woorden per seconde; |
| --- | --- |

2.

een scheidend vermogen van 10 bit of meer maar minder dan 12 bit en een outputsnelheid van meer dan 300 miljoen woorden per seconde;

| 3. | een scheidend vermogen van 12 bit en een outputsnelheid van meer dan 200 miljoen woorden per seconde, |
| --- | --- |

3.

een scheidend vermogen van 12 bit en een outputsnelheid van meer dan 200 miljoen woorden per seconde,

| 4. | een scheidend vermogen van meer dan 12 bit maar niet meer dan 14 bits en een outputsnelheid van meer dan 125 miljoen woorden per seconde;of |
| --- | --- |

4.

een scheidend vermogen van meer dan 12 bit maar niet meer dan 14 bits en een outputsnelheid van meer dan 125 miljoen woorden per seconde;of

| 5. | een scheidend vermogen van meer dan 14 bit en een outputsnelheid van meer dan 20 miljoen woorden per seconde |
| --- | --- |

5.

een scheidend vermogen van meer dan 14 bit en een outputsnelheid van meer dan 20 miljoen woorden per seconde

| 1. | Een scheidend vermogen van n bits komt overeen met een kwantisering van 2n niveaus. |
| --- | --- |

1.

| 2. | Het aantal bits in het outputwoord komt overeen met het scheidend vermogen van de ADC; |
| --- | --- |

2.

| 3. | De outputsnelheid is de maximale outputsnelheid van de omzetter, ongeacht de architectuur of de overbemonstering. |
| --- | --- |

3.

| 4. | Voor ‧meerkanalen-ADC's‧ worden de outputs niet samengevoegd en is de outputsnelheid de maximale outputsnelheid van één kanaal. |
| --- | --- |

4.

| 5. | Voor ‧interleaved-ADC’s‧ en ‧meerkanalen-ADC’s‧ met interleaved-modus worden de outputs samengevoegd en is de outputsnelheid de maximale gecombineerde outputsnelheid van alle outputs samen. |
| --- | --- |

5.

| 6. | Verkopers kunnen de outputsnelheid ook omschrijven als de bemonsteringssnelheid, de conversiesnelheid of de verwerkingssnelheid. Deze wordt vaak uitgedrukt in megahertz (MHz) of megasamples per seconde (MSPS). |
| --- | --- |

6.

| 7. | Voor de meting van de outputsnelheid komt één outputwoord per seconde overeen met één Hertz of één sample per seconde. |
| --- | --- |

7.

| 8. | ‧Meerkanalen-ADC’s‧ zijn toestellen waarin meer dan één ADC is geïntegreerd en die zo zijn ontworpen dat elke ADC een aparte analoge input heeft. |
| --- | --- |

8.

| 9. | ‧Interleaved-ADC’s‧ zijn toestellen met meerdere ADC-eenheden die dezelfde analoge input op verschillende tijdstippen bemonsteren, zodat bij het samenvoegen van de outputs de analooginput doeltreffend is bemonsterd en op een hogere bemonsteringsnelheid is omgezet. |
| --- | --- |

9.

| b. | digitaal/analoog-omzetters (DAC’s) met een of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een scheidend vermogen van 10 bit of meer met een ‧<adjusted update rate>‧ van 3 500 miljoen samples per seconde (MSPS) of meer; |
| --- | --- | --- |

b.

digitaal/analoog-omzetters (DAC’s) met een of meer van de volgende kenmerken:

1.

een scheidend vermogen van 10 bit of meer met een ‧<adjusted update rate>‧ van 3 500 miljoen samples per seconde (MSPS) of meer;

| 2. | een scheidend vermogen van 12 bit of meer met een ‧<adjusted update rate>‧ van 1 250 MSPS of meer en met een of meer van de volgende kenmerken:






  a | een stabilisatietijd (<settling time>) van minder dan 9 ns tot 0,024 % van <full scale> bij een <full scale>-stap; |
| --- | --- | --- |

2.

een scheidend vermogen van 12 bit of meer met een ‧<adjusted update rate>‧ van 1 250 MSPS of meer en met een of meer van de volgende kenmerken:

a

een stabilisatietijd (<settling time>) van minder dan 9 ns tot 0,024 % van <full scale> bij een <full scale>-stap;

| b. | een storingsvrij dynamisch bereik (‧Spurious Free Dynamic Range‧ (SFDR)) van meer dan 68 dBc (draaggolf) bij de synthese van een <full scale> analoog signaal van 100 MHz of de hoogst aangegeven <full scale> analoge signaalfrequentie van minder dan 100 MHz. |
| --- | --- |

b.

een storingsvrij dynamisch bereik (‧Spurious Free Dynamic Range‧ (SFDR)) van meer dan 68 dBc (draaggolf) bij de synthese van een <full scale> analoog signaal van 100 MHz of de hoogst aangegeven <full scale> analoge signaalfrequentie van minder dan 100 MHz.

| 1. | het storingsvrij dynamisch bereik (‧Spurious Free Dynamic Range‧ (SFDR)) wordt gedefinieerd als de verhouding van de RMS-waarde van de draaggolffrequentie (maximale signaalcomponent) aan de ingang van de DAC tot de RMS-waarde van de volgende grootste ruis- of harmonische distorsiecomponent aan de uitgang. |
| --- | --- |

1.

| 2. | Het SFDR wordt rechtstreeks bepaald aan de hand van de specificatietabel of van de grafiek waarin het SFDR tegen de frequentie wordt uitgezet. |
| --- | --- |

2.

| 3. | Een signaal wordt gedefinieerd als zijnde <full scale> wanneer de amplitude groter is dan -3 dBfs (<full scale>). |
| --- | --- |

3.

| 4. | ‧<Adjusted update rate>‧ voor DAC’s:







  a. | In conventionele DAC’s (zonder interpolatie) geeft de ‧<adjusted update rate>‧ het tempo weer waarin het digitale signaal in een analoog signaal wordt geconverteerd en de analoge uitgangswaarden door de DAC worden aangepast. DAC’s waarbij zonder interpolatiefunctie kan worden gewerkt (interpolatiefactor één) worden beschouwd als conventionele DAC’s (zonder interpolatie). |
| --- | --- | --- |

4.

a.

In conventionele DAC’s (zonder interpolatie) geeft de ‧<adjusted update rate>‧ het tempo weer waarin het digitale signaal in een analoog signaal wordt geconverteerd en de analoge uitgangswaarden door de DAC worden aangepast. DAC’s waarbij zonder interpolatiefunctie kan worden gewerkt (interpolatiefactor één) worden beschouwd als conventionele DAC’s (zonder interpolatie).

| b. | In interpolerende DAC’s (overbemonsterende DAC’s) is de ‧<adjusted update rate>‧ de <update rate> van de DAC gedeeld door de kleinste interpolatiefactor. De ‧<adjusted update rate>‧ van interpolerende DAC’s kan met verschillende termen worden aangegeven, waaronder:







  — | snelheid van gegevensinvoer (input data rate) |
| --- | --- | --- |

b.

In interpolerende DAC’s (overbemonsterende DAC’s) is de ‧<adjusted update rate>‧ de <update rate> van de DAC gedeeld door de kleinste interpolatiefactor. De ‧<adjusted update rate>‧ van interpolerende DAC’s kan met verschillende termen worden aangegeven, waaronder:

—

snelheid van gegevensinvoer (input data rate)

| — | snelheid van woordinvoer (input word rate) |
| --- | --- |

—

snelheid van woordinvoer (input word rate)

| — | bemonsteringssnelheid (input sample rate) |
| --- | --- |

—

bemonsteringssnelheid (input sample rate)

| — | maximale totale snelheid van de invoerbus (maximum total input bus rate) |
| --- | --- |

—

maximale totale snelheid van de invoerbus (maximum total input bus rate)

| — | maximale snelheid van de DAC-klok voor DAC-klokinvoer (<clock input>). |
| --- | --- |

—

maximale snelheid van de DAC-klok voor DAC-klokinvoer (<clock input>).

| 6. | elektro-optische of "optische geïntegreerde schakelingen" voor "signaalverwerking" met alle volgende kenmerken:






  a. | een of meer inwendige "laser"-dioden, |
| --- | --- | --- |

6.

elektro-optische of "optische geïntegreerde schakelingen" voor "signaalverwerking" met alle volgende kenmerken:

a.

een of meer inwendige "laser"-dioden,

| b. | een of meer inwendige lichtdetectie-elementen, en |
| --- | --- |

b.

een of meer inwendige lichtdetectie-elementen, en

| c. | optische golfgeleiders; |
| --- | --- |

c.

optische golfgeleiders;

| 7. | ‧door de gebruiker te programmeren logische bouwstenen‧ met één van de volgende kenmerken:






  a. | een maximaal aantal digitale inputs/outputs van meer dan 200; of |
| --- | --- | --- |

7.

‧door de gebruiker te programmeren logische bouwstenen‧ met één van de volgende kenmerken:

a.

een maximaal aantal digitale inputs/outputs van meer dan 200; of

| b. | een ‹system gate count› van meer dan 230 000. |
| --- | --- |

b.

een ‹system gate count› van meer dan 230 000.

| : | 3A001.a.7. omvat:






  — | Simple Programmable Logic Devices - eenvoudige programmeerbare logische bouwstenen (SPLD’s) |
| --- | --- | --- |

:

—

Simple Programmable Logic Devices - eenvoudige programmeerbare logische bouwstenen (SPLD’s)

| — | Complex Programmable Logic Devices - complexe programmeerbare logische bouwstenen (CPLD’s) |
| --- | --- |

—

Complex Programmable Logic Devices - complexe programmeerbare logische bouwstenen (CPLD’s)

| — | Field Programmable Gate Arrays – door de gebruiker te programmeren ‹gate arrays› (FPGA’s) |
| --- | --- |

—

Field Programmable Gate Arrays – door de gebruiker te programmeren ‹gate arrays› (FPGA’s)

| — | Field Programmable Logic Arrays – door de gebruiker te programmeren ‹logic arrays› (FPLA’s) |
| --- | --- |

—

Field Programmable Logic Arrays – door de gebruiker te programmeren ‹logic arrays› (FPLA’s)

| — | Field Programmable Interconnects – door de gebruiker te programmeren ‹interconnects› (FPIC’s) |
| --- | --- |

—

Field Programmable Interconnects – door de gebruiker te programmeren ‹interconnects› (FPIC’s)

| 1. | ‧Door de gebruiker te programmeren logische bouwstenen‧ worden ook door de gebruiker te programmeren ‹gate arrays› of door de gebruiker te programmeren ‹logic arrays› genoemd. |
| --- | --- |

1.

‧Door de gebruiker te programmeren logische bouwstenen‧ worden ook door de gebruiker te programmeren ‹gate arrays› of door de gebruiker te programmeren ‹logic arrays› genoemd.

| 2. | Het in 3A001.a.7.a. bedoelde maximaal aantal digitale inputs/outputs wordt ook maximaal aantal user-inputs/outputs of maximaal beschikbaar aantal inputs/outputs genoemd, afhankelijk van het feit of de geïntegreerde schakeling al dan niet verpakt is. |
| --- | --- |

2.

Het in 3A001.a.7.a. bedoelde maximaal aantal digitale inputs/outputs wordt ook maximaal aantal user-inputs/outputs of maximaal beschikbaar aantal inputs/outputs genoemd, afhankelijk van het feit of de geïntegreerde schakeling al dan niet verpakt is.

| 8. | niet gebruikt; |
| --- | --- |

8.

niet gebruikt;

| 9. | geïntegreerde schakelingen voor neurale netwerken; |
| --- | --- |

9.

geïntegreerde schakelingen voor neurale netwerken;

| 10. | op bestelling geïntegreerde schakelingen waarbij ofwel de functie ofwel de embargostatus van de apparatuur waarin de geïntegreerde schakelingen zullen worden toegepast, niet aan de fabrikant bekend is, met een of meer van de volgende kenmerken:






  a. | meer dan 1 500 in/uitgangspunten; |
| --- | --- | --- |

10.

op bestelling geïntegreerde schakelingen waarbij ofwel de functie ofwel de embargostatus van de apparatuur waarin de geïntegreerde schakelingen zullen worden toegepast, niet aan de fabrikant bekend is, met een of meer van de volgende kenmerken:

a.

meer dan 1 500 in/uitgangspunten;

| b. | een typische "voortplantingsvertragingstijd van de basispoort" van minder dan 0,02 ns, of |
| --- | --- |

b.

een typische "voortplantingsvertragingstijd van de basispoort" van minder dan 0,02 ns, of

| c. | een werkfrequentie hoger dan 3,0 GHz; |
| --- | --- |

c.

een werkfrequentie hoger dan 3,0 GHz;

| 11. | digitale geïntegreerde schakelingen, anders dan als omschreven in 3A001.a.3 t/m 3A001.a.10 of 3A001.a.12, die zijn gebaseerd op een samengestelde halfgeleider en met een van de volgende kenmerken:






  a. | een ‹gate count› equivalent van meer dan 3 000 (twee ingangspoorten), of |
| --- | --- | --- |

11.

digitale geïntegreerde schakelingen, anders dan als omschreven in 3A001.a.3 t/m 3A001.a.10 of 3A001.a.12, die zijn gebaseerd op een samengestelde halfgeleider en met een van de volgende kenmerken:

a.

een ‹gate count› equivalent van meer dan 3 000 (twee ingangspoorten), of

| b. | een ‹toggle› frequentie hoger dan 1,2 GHz; |
| --- | --- |

b.

een ‹toggle› frequentie hoger dan 1,2 GHz;

| 12. | FFT (‧Fast Fourier Transform‧)-processoren met een nominale uitvoeringstijd, voor een N-punt complexe FFT van minder dan (N log2 N)/20,480 ms, waarbij N het aantal punten is;




  Wanneer N gelijk is aan 1 024 punten, geeft de formule in 3A001.a.12 een uitvoeringstijd van 500 μs. |
| --- | --- |

12.

FFT (‧Fast Fourier Transform‧)-processoren met een nominale uitvoeringstijd, voor een N-punt complexe FFT van minder dan (N log2 N)/20,480 ms, waarbij N het aantal punten is;

Wanneer N gelijk is aan 1 024 punten, geeft de formule in 3A001.a.12 een uitvoeringstijd van 500 μs.

| b. | Microgolf- of millimetergolfelementen:






  1. | elektronische vacuümbuizen en kathoden, als hieronder:







  : | In 3A001.b.1 worden niet bedoeld buizen die zijn ontworpen of gespecificeerd om te werken binnen een frequentieband en die alle volgende kenmerken hebben:







  a. | niet meer dan 31,8 GHz; en |
| --- | --- | --- | --- | --- |

b.

Microgolf- of millimetergolfelementen:

1.

elektronische vacuümbuizen en kathoden, als hieronder:

:

a.

niet meer dan 31,8 GHz; en

| b. | "door de ITU toegewezen" voor radiocommunicatiediensten, maar niet voor radiodeterminatie. |
| --- | --- |

b.

"door de ITU toegewezen" voor radiocommunicatiediensten, maar niet voor radiodeterminatie.

| : | 3A001.b.1. is niet van toepassing op niet "voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" buizen met alle volgende kenmerken:







  a. | een gemiddelde vermogensdichtheid aan de uitgang van 50 W of minder, en |
| --- | --- | --- |

:

a.

een gemiddelde vermogensdichtheid aan de uitgang van 50 W of minder, en

| b. | buizen die zijn ontworpen of gespecificeerd om te werken binnen een frequentieband en die alle volgende kenmerken hebben:








  1. | meer dan 31,8 GHz doch niet meer dan 43,5 GHz; en |
| --- | --- | --- |

b.

buizen die zijn ontworpen of gespecificeerd om te werken binnen een frequentieband en die alle volgende kenmerken hebben:

1.

meer dan 31,8 GHz doch niet meer dan 43,5 GHz; en

| 2. | "door de ITU toegewezen" voor radiocommunicatiediensten, maar niet voor radiodeterminatie. |
| --- | --- |

2.

"door de ITU toegewezen" voor radiocommunicatiediensten, maar niet voor radiodeterminatie.

| a. | lopende golfbuizen voor puls- of ongedempte golven, als hieronder:






  1. | buizen die werken bij frequenties hoger dan 31,8 GHz; |
| --- | --- | --- |

a.

lopende golfbuizen voor puls- of ongedempte golven, als hieronder:

1.

buizen die werken bij frequenties hoger dan 31,8 GHz;

| 2. | buizen met een kathodeverhittingselement dat in minder dan drie seconden het gespecificeerde RF-vermogen bereikt; |
| --- | --- |

2.

buizen met een kathodeverhittingselement dat in minder dan drie seconden het gespecificeerde RF-vermogen bereikt;

| 3. | gekoppelde trilholtebuizen of afgeleiden daarvan, met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 7 % of een piekvermogen van meer dan 2,5 kW; |
| --- | --- |

3.

gekoppelde trilholtebuizen of afgeleiden daarvan, met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 7 % of een piekvermogen van meer dan 2,5 kW;

| 4. | spiraalbuizen of afgeleiden daarvan, met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een "momentele bandbreedte" van meer dan één octaaf, en een product van gemiddeld vermogen (in kW) en frequentie (in GHz) van meer dan 0,5; |
| --- | --- | --- |

4.

spiraalbuizen of afgeleiden daarvan, met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een "momentele bandbreedte" van meer dan één octaaf, en een product van gemiddeld vermogen (in kW) en frequentie (in GHz) van meer dan 0,5;

| b. | een "momentele bandbreedte" van een octaaf of minder, en een product van gemiddeld vermogen (in kW) en frequentie (in GHz) van meer dan 1, of |
| --- | --- |

b.

een "momentele bandbreedte" van een octaaf of minder, en een product van gemiddeld vermogen (in kW) en frequentie (in GHz) van meer dan 1, of

| c. | "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte". |
| --- | --- |

c.

"gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte".

| b. | dwarsveld (‹Crossed Field›)-versterkerbuizen met meer dan 17 dB versterking; |
| --- | --- |

b.

dwarsveld (‹Crossed Field›)-versterkerbuizen met meer dan 17 dB versterking;

| c. | geïmpregneerde kathoden, ontworpen voor elektronische buizen geschikt voor het voortbrengen van een continue emissiestroomdichtheid groter dan 5 A/cm2 bij gespecificeerde werkomstandigheden; |
| --- | --- |

c.

geïmpregneerde kathoden, ontworpen voor elektronische buizen geschikt voor het voortbrengen van een continue emissiestroomdichtheid groter dan 5 A/cm2 bij gespecificeerde werkomstandigheden;

| 2. | "monolithisch geïntegreerde" microgolf-"schakelingen"- (MMIC-) vermogensversterkers met een van de volgende kenmerken:






  a. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 3,2 GHz en tot en met 6,8 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 4 W (36 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 15 %; |
| --- | --- | --- |

2.

"monolithisch geïntegreerde" microgolf-"schakelingen"- (MMIC-) vermogensversterkers met een van de volgende kenmerken:

a.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 3,2 GHz en tot en met 6,8 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 4 W (36 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 15 %;

| b. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 6,8 GHz en tot en met 16 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 1 W (30 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 10 %; |
| --- | --- |

b.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 6,8 GHz en tot en met 16 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 1 W (30 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 10 %;

| c. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 16 GHz en tot en met 31,8 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 0,8 W (29 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 10 %; |
| --- | --- |

c.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 16 GHz en tot en met 31,8 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 0,8 W (29 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 10 %;

| d. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 31,8 GHz en tot en met 37,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 0,1 nW; |
| --- | --- |

d.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 31,8 GHz en tot en met 37,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 0,1 nW;

| e. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 37,5 GHz en tot en met 43,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 0,25 W (24 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 10 %; of |
| --- | --- |

e.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 37,5 GHz en tot en met 43,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 0,25 W (24 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 10 %; of

| f. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 43,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 0,1 nW; |
| --- | --- |

f.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 43,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 0,1 nW;

| : | niet gebruikt |
| --- | --- |

:

| : | De embargostatus van MMIC’s waarvan de gespecificeerde werkfrequentie frequenties in meer dan één frequentiegebied omvat, als omschreven in 3A001.b.2.a tot 3A001.b.2.f, wordt bepaald door het laagste gemiddelde uitgangsvermogen waarvoor een embargo geldt. |
| --- | --- |

:

| : | De noten 1 en 2 onder 3A houden in dat in 3A001.b.2. niet worden bedoeld MMIC’s die speciaal zijn ontworpen voor andere toepassingen zoals telecommunicatie, radars en motorvoertuigen. |
| --- | --- |

:

| 3. | discrete microgolftransistors, met een van de volgende eigenschappen:






  a. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 3,2 GHz en tot en met 6,8 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 60 W (47,8 dBm); |
| --- | --- | --- |

3.

discrete microgolftransistors, met een van de volgende eigenschappen:

a.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 3,2 GHz en tot en met 6,8 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 60 W (47,8 dBm);

| b. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 6,8 GHz en tot en met 31,8 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 20 W (43 dBm); |
| --- | --- |

b.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 6,8 GHz en tot en met 31,8 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 20 W (43 dBm);

| c. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 31,8 GHz en tot en met 37,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 0,5 W (27 dBm); |
| --- | --- |

c.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 31,8 GHz en tot en met 37,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 0,5 W (27 dBm);

| d. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 37,5 GHz en tot en met 43,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 1 W (30 dBm); of |
| --- | --- |

d.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 37,5 GHz en tot en met 43,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 1 W (30 dBm); of

| e. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 43,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van minder dan 0,1 nW; |
| --- | --- |

e.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 43,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van minder dan 0,1 nW;

| : | De embargostatus van een transistor waarvan de gespecificeerde werkfrequentie frequenties in meer dan één frequentiegebied omvat, als omschreven in 3A001.b.3.a tot 3A001.b.3.e, wordt bepaald door het laagste gemiddelde uitgangsvermogen waarvoor een embargo geldt. |
| --- | --- |

:

| 4. | microgolf-halfgeleiderversterkers en microgolfassemblages/-modules die microgolf-halfgeleiderversterkers bevatten met één van de volgende kenmerken;






  a. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 3,2 GHz en tot en met 6,8 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 60 W (47,8 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 15 %; |
| --- | --- | --- |

4.

microgolf-halfgeleiderversterkers en microgolfassemblages/-modules die microgolf-halfgeleiderversterkers bevatten met één van de volgende kenmerken;

a.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 3,2 GHz en tot en met 6,8 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 60 W (47,8 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 15 %;

| b. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 6,8 GHz en tot en met 31,8 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 15 W (42 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 10 %; |
| --- | --- |

b.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 6,8 GHz en tot en met 31,8 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 15 W (42 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 10 %;

| c. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 31,8 GHz en tot en met 37,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 0,1 nW; |
| --- | --- |

c.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 31,8 GHz en tot en met 37,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 0,1 nW;

| d. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 37,5 GHz en tot en met 43,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 1 W (30 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 10 %; |
| --- | --- |

d.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 37,5 GHz en tot en met 43,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 1 W (30 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 10 %;

| e. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 43,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 0,1 nW; of |
| --- | --- |

e.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 43,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 0,1 nW; of

| f. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 3,2 GHz en met al de volgende kenmerken:






  1. | een gemiddeld uitgangsvermogen (in watt), P, groter dan 150 gedeeld door het kwadraat van de maximumwerkfrequentie (in GHz) [P > 150 W * GHz2/fGHz
  2]; |
| --- | --- | --- |

f.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 3,2 GHz en met al de volgende kenmerken:

1.

een gemiddeld uitgangsvermogen (in watt), P, groter dan 150 gedeeld door het kwadraat van de maximumwerkfrequentie (in GHz) [P > 150 W * GHz2/fGHz
  2];

| 2. | een "fractionele bandbreedte" van 5 % of meer; en |
| --- | --- |

2.

een "fractionele bandbreedte" van 5 % of meer; en

| 3. | twee loodrecht op elkaar staande zijden met een lengte d (in cm) die kleiner is dan of gelijk is aan 15 gedeeld door de laagste werkfrequentie in GHz [d ≤ 15 cm*GHz/ fGHz] |
| --- | --- |

3.

twee loodrecht op elkaar staande zijden met een lengte d (in cm) die kleiner is dan of gelijk is aan 15 gedeeld door de laagste werkfrequentie in GHz [d ≤ 15 cm*GHz/ fGHz]

3,2 GHz moet gebruikt worden als de laagste werkfrequentie (fGHz) in de formule in 3A001.b.4.f.3. voor versterkers die een gespecificeerde werkfrequentie hebben van 3,2 GHz en lager [d ≤ 15 cm*GHz/3,2 GHz].

:

MMIC-vermogenversterkers moeten worden beoordeeld aan de hand van de criteria in 3A001.b.2.

| : | Niet gebruikt. |
| --- | --- |

:

| : | De embargostatus van een object waarvan de gespecificeerde werkfrequentie frequenties in meer dan één frequentiegebied omvat, als omschreven in 3A001.b.4.a tot 3A001.b.4.e, wordt bepaald door het laagste gemiddelde uitgangsvermogen waarvoor een embargo geldt. |
| --- | --- |

:

| 5. | elektronisch of magnetisch afstembare banddoorlaat- of bandsperfilters met meer dan vijf afstembare resonatoren, geschikt om af te stemmen over een frequentieband van 1,5:1 (fmax/fmin) in minder dan tien μs bij:






  a. | een banddoorlaatbandbreedte van meer dan 0,5 % van de centrale frequentie, of |
| --- | --- | --- |

5.

elektronisch of magnetisch afstembare banddoorlaat- of bandsperfilters met meer dan vijf afstembare resonatoren, geschikt om af te stemmen over een frequentieband van 1,5:1 (fmax/fmin) in minder dan tien μs bij:

a.

een banddoorlaatbandbreedte van meer dan 0,5 % van de centrale frequentie, of

| b. | een bandsperbandbreedte van minder dan 0,5 % van de centrale frequentie; |
| --- | --- |

b.

een bandsperbandbreedte van minder dan 0,5 % van de centrale frequentie;

| 6. | Niet gebruikt; |
| --- | --- |

6.

Niet gebruikt;

| 7. | Converters en harmonische mixers, ontworpen voor het vergroten van het frequentiebereik van apparatuur als beschreven in 3A002.c, 3A002.d, 3A002.e of 3A002.f boven de daarin aangegeven grenzen; |
| --- | --- |

7.

Converters en harmonische mixers, ontworpen voor het vergroten van het frequentiebereik van apparatuur als beschreven in 3A002.c, 3A002.d, 3A002.e of 3A002.f boven de daarin aangegeven grenzen;

| 8. | microgolfvermogensversterkers die buizen als omschreven in 3A001.b.1 bevatten en alle volgende eigenschappen bezitten:






  a. | werkfrequenties hoger dan 3 GHz; |
| --- | --- | --- |

8.

microgolfvermogensversterkers die buizen als omschreven in 3A001.b.1 bevatten en alle volgende eigenschappen bezitten:

a.

werkfrequenties hoger dan 3 GHz;

| b. | een gemiddeld vermogen per massaeenheid aan de uitgang van meer dan 80 W/kg; en |
| --- | --- |

b.

een gemiddeld vermogen per massaeenheid aan de uitgang van meer dan 80 W/kg; en

| c. | een volume van minder dan 400 cm3. |
| --- | --- |

c.

een volume van minder dan 400 cm3.

| : | In 3A001.b.8 wordt niet bedoeld apparatuur die is ontworpen of gespecificeerd voor een frequentieband die "door de ITU toegewezen" is voor radiocommunicatiediensten, maar niet voor radiodeterminatie. |
| --- | --- |

:

| 9. | Microgolfvermogensmodules (MPM) bestaande uit ten minste een lopende-golfbuis, een "monolithisch geïntegreerde" microgolf-"schakeling" en een geïntegreerde elektronische vermogensregelaar, met alle volgende kenmerken:






  a. | een ‧opstarttijd‧, van uitgeschakeld naar volledig operationeel, van minder dan 10 seconden; |
| --- | --- | --- |

9.

Microgolfvermogensmodules (MPM) bestaande uit ten minste een lopende-golfbuis, een "monolithisch geïntegreerde" microgolf-"schakeling" en een geïntegreerde elektronische vermogensregelaar, met alle volgende kenmerken:

a.

een ‧opstarttijd‧, van uitgeschakeld naar volledig operationeel, van minder dan 10 seconden;

| b. | een volume van minder dan het nominale maximumvermogen in watt, vermenigvuldigd met 10 cm 3/W; en |
| --- | --- |

b.

een volume van minder dan het nominale maximumvermogen in watt, vermenigvuldigd met 10 cm 3/W; en

| c. | een "momentele brandbreedte" groter dan 1 octaaf (fmax > 2fmin.) en een of meer van de volgende eigenschappen:






  1. | voor frequenties gelijk aan of kleiner dan 18 GHz, een RF-uitgangsvermogen van meer dan 100 W; of |
| --- | --- | --- |

c.

een "momentele brandbreedte" groter dan 1 octaaf (fmax > 2fmin.) en een of meer van de volgende eigenschappen:

1.

voor frequenties gelijk aan of kleiner dan 18 GHz, een RF-uitgangsvermogen van meer dan 100 W; of

| 2. | een frequentie hoger dan 18 GHz; |
| --- | --- |

2.

een frequentie hoger dan 18 GHz;

| 1. | De berekening van het volume in 3A001.b.9.b. wordt aan de hand van het volgende voorbeeld toegelicht: voor een nominaal maximumvermogen van 20 W bedraagt het volume 20 W × 10 cm3/W = 200 cm3. |
| --- | --- |

1.

| 2. | De ‧opstarttijd‧ in 3A001.b.9.a. is de tijd die verloopt tussen volledig uitgeschakeld en volledig operationeel; hieronder is dus ook de opwarmtijd van de MPM begrepen. |
| --- | --- |

2.

| 10. | Oscillatoren en een samenbouw van oscillatoren die van alle onderstaande functionaliteiten zijn voorzien:






  a. | enkelzijband (SSB) faseruis, in dBc/Hz, beter dan –(126 + 20log10F-20log10f) bij 10 Hz < F < 10 kHz; en |
| --- | --- | --- |

10.

Oscillatoren en een samenbouw van oscillatoren die van alle onderstaande functionaliteiten zijn voorzien:

a.

enkelzijband (SSB) faseruis, in dBc/Hz, beter dan –(126 + 20log10F-20log10f) bij 10 Hz < F < 10 kHz; en

| b. | enkelzijband (SSB) faseruis, in dBc/Hz, beter dan –(114 + 20log10F-20log10f) bij 10 kHz < F < 500 kHz; |
| --- | --- |

b.

enkelzijband (SSB) faseruis, in dBc/Hz, beter dan –(114 + 20log10F-20log10f) bij 10 kHz < F < 500 kHz;

:

In 3A001.b.10. staat F voor de verschuiving van de werkfrequentie in Hz en f voor de werkfrequentie in MHz.

| 11. | "Frequentiesynthesizer", "samenstellingen" met een "frequentiewisseltijd", overeenkomstig een van de volgende kenmerken:






  a. | minder dan 312 ps; |
| --- | --- | --- |

11.

"Frequentiesynthesizer", "samenstellingen" met een "frequentiewisseltijd", overeenkomstig een van de volgende kenmerken:

a.

minder dan 312 ps;

| b. | minder dan 100 μs voor elke frequentiewisseling van meer dan 1,6 GHz binnen het ‹synthesized› frequentiebereik van hoger dan 3,2 GHz tot ten hoogste 10,6 GHz; |
| --- | --- |

b.

minder dan 100 μs voor elke frequentiewisseling van meer dan 1,6 GHz binnen het ‹synthesized› frequentiebereik van hoger dan 3,2 GHz tot ten hoogste 10,6 GHz;

| c. | minder dan 250 μs voor elke frequentiewisseling van meer dan 550 MHz binnen het ‹synthesized› frequentiebereik van hoger dan 10,6 GHz tot ten hoogste 31,8 GHz; |
| --- | --- |

c.

minder dan 250 μs voor elke frequentiewisseling van meer dan 550 MHz binnen het ‹synthesized› frequentiebereik van hoger dan 10,6 GHz tot ten hoogste 31,8 GHz;

| d. | minder dan 500 μs voor elke frequentiewisseling van meer dan 550 MHz binnen het ‹synthesized› frequentiebereik van hoger dan 31,8 GHz tot ten hoogste 43,5 GHz; of |
| --- | --- |

d.

minder dan 500 μs voor elke frequentiewisseling van meer dan 550 MHz binnen het ‹synthesized› frequentiebereik van hoger dan 31,8 GHz tot ten hoogste 43,5 GHz; of

| e. | minder dan 1 ms binnen het ‹synthesized› frequentiebereik van meer dan 43,5 GHz. |
| --- | --- |

e.

minder dan 1 ms binnen het ‹synthesized› frequentiebereik van meer dan 43,5 GHz.

:

Voor "signaalanalysatoren", signaalgeneratoren, netwerkanalysatoren en microgolftestontvangers voor algemeen gebruik, zie respectievelijk 3A002.c., 3A002.d., 3A002.e. en 3A002.f.

| c. | Elementen waarbij gebruik wordt gemaakt van akoestische golven, als hieronder, en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor:






  1. | elementen waarbij gebruik wordt gemaakt van akoestische oppervlaktegolven en van akoestische golven die langs de oppervlakte scheren (‹surface wave›), met een of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een draaggolffrequentie groter dan 6 GHz; |
| --- | --- | --- | --- |

c.

Elementen waarbij gebruik wordt gemaakt van akoestische golven, als hieronder, en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor:

1.

elementen waarbij gebruik wordt gemaakt van akoestische oppervlaktegolven en van akoestische golven die langs de oppervlakte scheren (‹surface wave›), met een of meer van de volgende kenmerken:

a.

een draaggolffrequentie groter dan 6 GHz;

| b. | een draaggolffrequentie groter dan 1 GHz, doch kleiner dan 6 GHz, en






  1. | een ‧onderdrukking van de zijlobben groter‧ dan 65 dB; |
| --- | --- | --- |

b.

een draaggolffrequentie groter dan 1 GHz, doch kleiner dan 6 GHz, en

1.

een ‧onderdrukking van de zijlobben groter‧ dan 65 dB;

| 2. | een product van de maximale vertragingstijd (in μs) en de bandbreedte (in MHz) groter dan 100; of |
| --- | --- |

2.

een product van de maximale vertragingstijd (in μs) en de bandbreedte (in MHz) groter dan 100; of

| 3. | een bandbreedte van meer dan 250 MHz; of |
| --- | --- |

3.

een bandbreedte van meer dan 250 MHz; of

| 4. | een dispersieve vertraging groter dan 10 μs; of |
| --- | --- |

4.

een dispersieve vertraging groter dan 10 μs; of

| c. | een draaggolffrequentie van 1 GHz of lager, en met een of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een product van de maximale vertragingstijd (in micro-seconden) en de bandbreedte (in MHz) groter dan 100; |
| --- | --- | --- |

c.

een draaggolffrequentie van 1 GHz of lager, en met een of meer van de volgende kenmerken:

1.

een product van de maximale vertragingstijd (in micro-seconden) en de bandbreedte (in MHz) groter dan 100;

| 2. | een dispersieve vertraging groter dan 10 μs; of |
| --- | --- |

2.

een dispersieve vertraging groter dan 10 μs; of

| 3. | een ‧onderdrukking van de zijlobben‧ groter dan 65 dB en een bandbreedte van meer dan 100 MHz; |
| --- | --- |

3.

een ‧onderdrukking van de zijlobben‧ groter dan 65 dB en een bandbreedte van meer dan 100 MHz;

‧Onderdrukking van de zijlobben‧: is de maximale waarde van de onderdrukking zoals gespecificeerd in de technische toelichting.

| 2. | elementen waarbij gebruik wordt gemaakt van akoestische golven in de gehele massa van het materiaal (‹bulk wave›) en die geschikt zijn voor directe verwerking van signalen met frequenties hoger dan 6 GHz; |
| --- | --- |

2.

elementen waarbij gebruik wordt gemaakt van akoestische golven in de gehele massa van het materiaal (‹bulk wave›) en die geschikt zijn voor directe verwerking van signalen met frequenties hoger dan 6 GHz;

| 3. | akoestisch-optische "signaalverwerkende" elementen die gebruikmaken van een wisselwerking tussen akoestische golven (‹bulk wave› of ‹surface wave›) en lichtgolven en die geschikt zijn voor directe verwerking van signalen of beelden, met inbegrip van, doch niet beperkt tot, spectrale analyse, correlatie of convolutie. |
| --- | --- |

3.

akoestisch-optische "signaalverwerkende" elementen die gebruikmaken van een wisselwerking tussen akoestische golven (‹bulk wave› of ‹surface wave›) en lichtgolven en die geschikt zijn voor directe verwerking van signalen of beelden, met inbegrip van, doch niet beperkt tot, spectrale analyse, correlatie of convolutie.

| : | 3A001.c. is niet van toepassing op elementen waarbij gebruik wordt gemaakt van akoestische golven, die van een specifieke band-, laag- of hoogdoorlaatfilter, bandsperfilter dan wel van specifieke resonantiefunctie voorzien zijn. |
| --- | --- |

:

| d. | Elektronische elementen of schakelingen die onderdelen bevatten vervaardigd van "supergeleidende" materialen die speciaal zijn ontworpen om te werken bij temperaturen beneden de "kritische temperatuur" van ten minste een van de "supergeleidende" bestanddelen en met een of meer van de volgende functies:






  1. | stroomschakelen voor digitale schakelingen die gebruikmaken van "supergeleidende" poorten waarbij het product van de vertragingstijd per poort (in seconden) en het energieverlies per poort (in watt) kleiner is dan 10-14 J, of |
| --- | --- | --- |

d.

Elektronische elementen of schakelingen die onderdelen bevatten vervaardigd van "supergeleidende" materialen die speciaal zijn ontworpen om te werken bij temperaturen beneden de "kritische temperatuur" van ten minste een van de "supergeleidende" bestanddelen en met een of meer van de volgende functies:

1.

stroomschakelen voor digitale schakelingen die gebruikmaken van "supergeleidende" poorten waarbij het product van de vertragingstijd per poort (in seconden) en het energieverlies per poort (in watt) kleiner is dan 10-14 J, of

| 2. | frequentieselectie bij alle frequenties met toepassing van afstemkringen met een Q-waarde hoger dan 10 000. |
| --- | --- |

2.

frequentieselectie bij alle frequenties met toepassing van afstemkringen met een Q-waarde hoger dan 10 000.

| e. | Hoge-energiecomponenten, als hieronder:






  1. | ‧Cellen‧, als hieronder:






  a. | ‧primaire cellen‧ met een ‧energiedichtheid‧ groter dan 550 Wh/kg bij 20 °C; |
| --- | --- | --- | --- |

e.

Hoge-energiecomponenten, als hieronder:

1.

‧Cellen‧, als hieronder:

a.

‧primaire cellen‧ met een ‧energiedichtheid‧ groter dan 550 Wh/kg bij 20 °C;

| b. | ‧secundaire cellen‧ met een ‧energiedichtheid‧ groter dan 250 Wh/kg bij 20 C; |
| --- | --- |

b.

‧secundaire cellen‧ met een ‧energiedichtheid‧ groter dan 250 Wh/kg bij 20 C;

| 1. | Voor de toepassing van 3A001.e.1. wordt de ‧energiedichtheid‧ (Wh/kg) berekend uit de nominale spanning vermenigvuldigd met de nominale capaciteit in ampère-uur (Ah) gedeeld door de massa (in kg). Indien de nominale capaciteit niet is opgegeven, wordt de energiedichtheid berekend uit de nominale spanning in het kwadraat vermenigvuldigd met de ontladingstijd (in uur), gedeeld door de ontladingsbelasting (in ohm) en de massa(in kg). |
| --- | --- |

1.

| 2. | Voor de toepassing van 3A001.e.1. wordt een ‧cel‧ gedefinieerd als een elektrochemisch element dat voorzien is van positieve en negatieve elektroden, alsook een elektrolyt, en dat een bron van elektrische energie is. Het is de basisbouwsteen van een batterij. |
| --- | --- |

2.

| 3. | Voor de toepassing van 3A001.e.1.a. is een ‧primaire cel‧ een cel die niet ontworpen is om door enige andere bron te worden opgeladen. |
| --- | --- |

3.

| 4. | Voor de toepassing van 3A001.e.1.b. is een ‧secundaire cel‧ een cel die ontworpen is om door een externe elektrische bron te worden opgeladen. |
| --- | --- |

4.

| : | 3A001.e.1. is niet van toepassing op batterijen, met inbegrip van ééncellige batterijen. |
| --- | --- |

:

| 2. | condensatoren geschikt voor hoge-energieopslag, als hieronder:







  NB: | ZIE OOK 3A201.a |
| --- | --- | --- |

2.

condensatoren geschikt voor hoge-energieopslag, als hieronder:

NB:

| a. | condensatoren met een herhalingssnelheid van minder dan 10 Hz (‹single shot›-condensatoren) met alle volgende kenmerken:






  1. | een toelaatbare spanning gelijk aan of hoger dan 5 kV; |
| --- | --- | --- |

a.

condensatoren met een herhalingssnelheid van minder dan 10 Hz (‹single shot›-condensatoren) met alle volgende kenmerken:

1.

een toelaatbare spanning gelijk aan of hoger dan 5 kV;

| 2. | een energiedichtheid gelijk aan of hoger dan 250 J/kg, en |
| --- | --- |

2.

een energiedichtheid gelijk aan of hoger dan 250 J/kg, en

| 3. | een totale energie gelijk aan of groter dan 25 kJ; |
| --- | --- |

3.

een totale energie gelijk aan of groter dan 25 kJ;

| b. | condensatoren met een herhalingssnelheid van 10 Hz of meer (‹repetition-rated›-condensatoren) met alle volgende kenmerken:






  1. | een toelaatbare spanning gelijk aan of hoger dan 5 kV; |
| --- | --- | --- |

b.

condensatoren met een herhalingssnelheid van 10 Hz of meer (‹repetition-rated›-condensatoren) met alle volgende kenmerken:

1.

een toelaatbare spanning gelijk aan of hoger dan 5 kV;

| 2. | een energiedichtheid gelijk aan of groter dan 50 J/kg; |
| --- | --- |

2.

een energiedichtheid gelijk aan of groter dan 50 J/kg;

| 3. | een totale energie gelijk aan of meer dan 100 J, en |
| --- | --- |

3.

een totale energie gelijk aan of meer dan 100 J, en

| 4. | een levensduur gelijk aan of langer dan 10 000 cyclussen van laden en ontladen; |
| --- | --- |

4.

een levensduur gelijk aan of langer dan 10 000 cyclussen van laden en ontladen;

| 3. | "supergeleidende" elektromagneten en solenoïden die speciaal zijn ontworpen voor volledig opladen of ontladen in minder dan een seconde, met alle volgende kenmerken:







  NB: | ZIE OOK 3A201.b |
| --- | --- | --- |

3.

"supergeleidende" elektromagneten en solenoïden die speciaal zijn ontworpen voor volledig opladen of ontladen in minder dan een seconde, met alle volgende kenmerken:

NB:

| : | In 3A001.e.3 zijn niet bedoeld "supergeleidende" elektromagneten of solenoïden die speciaal zijn ontworpen voor medische apparatuur voor beeldvorming door middel van magnetische resonantie (Magnetic Resonance Imaging - MRI). |
| --- | --- |

:

| a. | de in de eerste seconde tijdens de ontlading geleverde energie is meer dan 10 kJ; |
| --- | --- |

a.

de in de eerste seconde tijdens de ontlading geleverde energie is meer dan 10 kJ;

| b. | de binnendiameter van de stroomvoerende wikkelingen is groter dan 250 mm, en |
| --- | --- |

b.

de binnendiameter van de stroomvoerende wikkelingen is groter dan 250 mm, en

| c. | de apparatuur heeft een nominale magnetische inductie van meer dan 8 T of een nominale "totale stroomdichtheid" in de wikkeling hoger dan 300 A/mm2. |
| --- | --- |

c.

de apparatuur heeft een nominale magnetische inductie van meer dan 8 T of een nominale "totale stroomdichtheid" in de wikkeling hoger dan 300 A/mm2.

| 4. | zonnecellen, CIC (cell-interconnect-coverglass)-samenstellingen, zonnepanelen en zonne-arrays die zijn ‧gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte‧, met een gemiddeld minimumrendement van meer dan 20 % bij een werktemperatuur van 301 K (28 °C) onder gesimuleerde ‧AM0‧- belichting van 1 367 watt per vierkante meter (W/m2);




  ‧AMO‧ (Air Mass Zero) slaat op de spectrale bestralingssterkte van zonlicht in de buitenste atmosfeer van de aarde bij een afstand tussen zon en aarde van één astronomische eenheid (AE). |
| --- | --- |

4.

zonnecellen, CIC (cell-interconnect-coverglass)-samenstellingen, zonnepanelen en zonne-arrays die zijn ‧gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte‧, met een gemiddeld minimumrendement van meer dan 20 % bij een werktemperatuur van 301 K (28 °C) onder gesimuleerde ‧AM0‧- belichting van 1 367 watt per vierkante meter (W/m2);

‧AMO‧ (Air Mass Zero) slaat op de spectrale bestralingssterkte van zonlicht in de buitenste atmosfeer van de aarde bij een afstand tussen zon en aarde van één astronomische eenheid (AE).

| f. | Roterende absolute positiecodeerapparaten met een nauwkeurigheid die gelijk is aan of lager is dan ± 1,0 boogseconde. |
| --- | --- |

f.

Roterende absolute positiecodeerapparaten met een nauwkeurigheid die gelijk is aan of lager is dan ± 1,0 boogseconde.

| g. | Vastestof-thyristoren en ‧-thyristormodules‧ met impulswerking die elektrisch, optisch of door elektronenstraling geschakeld worden, met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | maximale inschakel-stroomsteilheid (di/dt) van meer dan 30 000 A/μs en een sperspanning van meer dan 1 100 V; of |
| --- | --- | --- |

g.

Vastestof-thyristoren en ‧-thyristormodules‧ met impulswerking die elektrisch, optisch of door elektronenstraling geschakeld worden, met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

maximale inschakel-stroomsteilheid (di/dt) van meer dan 30 000 A/μs en een sperspanning van meer dan 1 100 V; of

| 2. | een maximale inschakel-stroomsteilheid (di/dt) van meer dan 2 000 A/μs en alle volgende eigenschappen:






  a. | een pieksperspanning gelijk aan of groter dan 3 000 V; en |
| --- | --- | --- |

2.

een maximale inschakel-stroomsteilheid (di/dt) van meer dan 2 000 A/μs en alle volgende eigenschappen:

a.

een pieksperspanning gelijk aan of groter dan 3 000 V; en

| b. | een piekstroom (stootstroom) gelijk aan of groter dan 3 000 A |
| --- | --- |

b.

een piekstroom (stootstroom) gelijk aan of groter dan 3 000 A

| : | 3A001.g. omvat:






  — | SCRs (gestuurde halfgeleidergelijkrichters) |
| --- | --- | --- |

:

—

SCRs (gestuurde halfgeleidergelijkrichters)

| — | ETTs (Electrical Triggering Thyristor) |
| --- | --- |

—

ETTs (Electrical Triggering Thyristor)

| — | LTTs (Light Triggering Thyristors) |
| --- | --- |

—

LTTs (Light Triggering Thyristors)

| — | IGCTs (Integrated Gate Commutated Thyristors) |
| --- | --- |

—

IGCTs (Integrated Gate Commutated Thyristors)

| — | GTOs (uitschakelbare thyristors) |
| --- | --- |

—

GTOs (uitschakelbare thyristors)

| — | MCTs (MOS Controlled Thyristors) |
| --- | --- |

—

MCTs (MOS Controlled Thyristors)

| — | Solidtrons |
| --- | --- |

—

Solidtrons

| : | 3A001.g. is niet van toepassing op thyristoren en ‧thyristormodules‧ die zijn ingebouwd in apparatuur voor toepassingen in civiele treinen of "civiele vliegtuigen". |
| --- | --- |

:

Voor de toepassing van 3A001.g. bevat een ‧thyristormodule‧ één of meer thyristoren.

| h. | Vermogenshalfgeleiderschakelaars, vermogendiodes of ‧modules‧ met alle onderstaande kenmerken:






  1. | geschikt voor een maximale operationele junctietemperatuur van meer dan 488 K (215 °C); |
| --- | --- | --- |

h.

Vermogenshalfgeleiderschakelaars, vermogendiodes of ‧modules‧ met alle onderstaande kenmerken:

1.

geschikt voor een maximale operationele junctietemperatuur van meer dan 488 K (215 °C);

| 2 | periodieke piekblokkeerspanning van meer dan 300 V; en |
| --- | --- |

2

periodieke piekblokkeerspanning van meer dan 300 V; en

| 3. | continue stroom van meer dan 1 A. |
| --- | --- |

3.

continue stroom van meer dan 1 A.

| : | de in 3A001.h. bedoelde periodieke piekblokkeerspanning omvat de afvoer-bron-spanning, de collector-emittor-spanning, de periodieke pieksperspanning en de periodieke piekblokkeerspanning. |
| --- | --- |

:

| : | 3A001.h. omvat:






  — | junctie-veldeffecttransistors (JFET’s) |
| --- | --- | --- |

:

—

junctie-veldeffecttransistors (JFET’s)

| — | vertical junctie-veldeffecttransistors (VJFET’s) |
| --- | --- |

—

vertical junctie-veldeffecttransistors (VJFET’s)

| — | metaaloxide-halfgeleider-veldeffecttransistors (MOSFET’s) |
| --- | --- |

—

metaaloxide-halfgeleider-veldeffecttransistors (MOSFET’s)

| — | dubbel gediffundeerde metaaloxide-halfgeleider-– eldeffecttransistors (DMOSFET’s) |
| --- | --- |

—

dubbel gediffundeerde metaaloxide-halfgeleider-– eldeffecttransistors (DMOSFET’s)

| — | bipolaire transistors met geïsoleerde poort (IGTB’s) |
| --- | --- |

—

bipolaire transistors met geïsoleerde poort (IGTB’s)

| — | hoge-elektronenmobiliteittransistors (HEMT’s) |
| --- | --- |

—

hoge-elektronenmobiliteittransistors (HEMT’s)

| — | bipolaire junctietransistors (BJT’s) |
| --- | --- |

—

bipolaire junctietransistors (BJT’s)

| — | thyristors en gestuurde halfgeleidergelijkrichters (SCR’s) |
| --- | --- |

—

thyristors en gestuurde halfgeleidergelijkrichters (SCR’s)

| — | uitschakelbare thyristors (GTO’s) |
| --- | --- |

—

uitschakelbare thyristors (GTO’s)

| — | Emitter Turn-Off thyristors (ETO’s) |
| --- | --- |

—

Emitter Turn-Off thyristors (ETO’s)

| — | PiN-diodes |
| --- | --- |

—

PiN-diodes

| — | schottkydiodes |
| --- | --- |

—

schottkydiodes

| : | in 3A001.h.. worden niet bedoeld controleschakelaars, diodes of ‧modules‧ die verwerkt zijn in apparatuur die is ontworpen voor toepassingen in civiele voertuigen, civiele spoorvoertuigen of civiele vliegtuigen. |
| --- | --- |

:

:

Voor de toepassing van 3A001.h. bevatten ‧modules‧ een of meer vermogenshalfgeleiderschakelaars of vermogendiodes.

3A002Universele elektronische apparatuur en onderdelen daarvoor, als hieronder:

| a. | Opnameapparatuur, als hieronder, en speciaal daarvoor ontworpen testband:






  1. | analoge magneetbandinstrumentatierecorders, met inbegrip van recorders waarmee digitale signalen kunnen worden geregistreerd (b. v. met gebruik van een HDDR-moduul (digitaal registratiemoduul met hoge dichtheid) met een of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een bandbreedte per elektronisch kanaal of spoor groter dan 4 MHz; |
| --- | --- | --- | --- |

a.

Opnameapparatuur, als hieronder, en speciaal daarvoor ontworpen testband:

1.

analoge magneetbandinstrumentatierecorders, met inbegrip van recorders waarmee digitale signalen kunnen worden geregistreerd (b. v. met gebruik van een HDDR-moduul (digitaal registratiemoduul met hoge dichtheid) met een of meer van de volgende kenmerken:

a.

een bandbreedte per elektronisch kanaal of spoor groter dan 4 MHz;

| b. | een bandbreedte per elektronisch kanaal of spoor groter dan 2 MHz en met meer dan 42 sporen, of |
| --- | --- |

b.

een bandbreedte per elektronisch kanaal of spoor groter dan 2 MHz en met meer dan 42 sporen, of

| c. | met een tijdverschuivingsfout van minder dan ± 0,1 μs gemeten in overeenstemming met de van toepassing zijnde IRIG (Inter Range Instrumentation Group)- of EIA (Electronic Industries Association) documenten; |
| --- | --- |

c.

met een tijdverschuivingsfout van minder dan ± 0,1 μs gemeten in overeenstemming met de van toepassing zijnde IRIG (Inter Range Instrumentation Group)- of EIA (Electronic Industries Association) documenten;

| : | Analoge magneetbandrecorders die speciaal zijn ontworpen voor civiele videotoepassingen worden niet beschouwd als instrumentatierecorders. |
| --- | --- |

:

| 2. | digitale magneetbandvideorecorders met een maximale digitale overbrengsnelheid van de interface groter dan 360 Mbit/s;







  : | In 3A002.a.2.worden niet bedoeld digitale magneetband-videorecorders die speciaal zijn ontworpen voor televisieopnamen in een (al dan niet gecomprimeerd) signaalformaat in overeenstemming met de standaarden of aanbevelingen van de ITU, de IEC, de SMPTE, de ERU, het ETSI of het IEEE voor civiele televisietoepassingen; |
| --- | --- | --- |

2.

digitale magneetbandvideorecorders met een maximale digitale overbrengsnelheid van de interface groter dan 360 Mbit/s;

:

| 3. | digitale magneetbandinstrumentatierecorders voor het vastleggen van gegevens gebruikmakend van helical scan of vaste kop techniek, met een of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een maximale digitale overbrengsnelheid van de interface groter dan 175 Mbit/s; of |
| --- | --- | --- |

3.

digitale magneetbandinstrumentatierecorders voor het vastleggen van gegevens gebruikmakend van helical scan of vaste kop techniek, met een of meer van de volgende kenmerken:

a.

een maximale digitale overbrengsnelheid van de interface groter dan 175 Mbit/s; of

| b. | "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte"; |
| --- | --- |

b.

"gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte";

| : | In 3A002.a.3 worden niet bedoeld analoge magneetbandrecorders uitgerust met HDDR conversie-elektronica en geconfigureerd voor registratie van uitsluitend digitale gegevens. |
| --- | --- |

:

| 4. | apparatuur met een maximale digitale overbrengsnelheid van de interface groter dan 175 Mbit/s, ontworpen voor het ombouwen van digitale magneetbandvideorecorders voor gebruik als digitale instrumentatiegegevensrecorders; |
| --- | --- |

4.

apparatuur met een maximale digitale overbrengsnelheid van de interface groter dan 175 Mbit/s, ontworpen voor het ombouwen van digitale magneetbandvideorecorders voor gebruik als digitale instrumentatiegegevensrecorders;

| 5. | waveform digitisers en recorders voor registratie van kortstondige verschijnselen (‧transient recorders‧) met beide volgende kenmerken:






  a. | digitaliseringssnelheid van 200 miljoen monsters per seconde en een scheidend vermogen van 10 bit of meer, en |
| --- | --- | --- |

5.

waveform digitisers en recorders voor registratie van kortstondige verschijnselen (‧transient recorders‧) met beide volgende kenmerken:

a.

digitaliseringssnelheid van 200 miljoen monsters per seconde en een scheidend vermogen van 10 bit of meer, en

| b. | een ‧continue verwerkingscapaciteit‧ van 2 Gbit/s of meer. |
| --- | --- |

b.

een ‧continue verwerkingscapaciteit‧ van 2 Gbit/s of meer.

| 1. | Bij instrumenten met een parallelle busarchitectuur is de ‧continue verwerkingscapaciteit‧ het product van de hoogste ‧word rate‧ en het aantal bit in een woord. |
| --- | --- |

1.

Bij instrumenten met een parallelle busarchitectuur is de ‧continue verwerkingscapaciteit‧ het product van de hoogste ‧word rate‧ en het aantal bit in een woord.

| 2. | ‧Continue verwerkingscapaciteit‧ betekent de grootste snelheid waarmee het instrument gegevens kan uitsturen naar het massageheugen zonder verlies van informatie terwijl de bemonsteringssnelheid en analoog/digitaal-omzetting niet worden onderbroken. |
| --- | --- |

2.

‧Continue verwerkingscapaciteit‧ betekent de grootste snelheid waarmee het instrument gegevens kan uitsturen naar het massageheugen zonder verlies van informatie terwijl de bemonsteringssnelheid en analoog/digitaal-omzetting niet worden onderbroken.

| 6. | digitale instrumentatierecorders, gebruikmakend van magneetschijfgeheugentechniek, met beide volgende kenmerken:






  a. | een digitaliseringssnelheid van 100 miljoen monsters per seconde en een scheidend vermogen van 8 bit of meer, en |
| --- | --- | --- |

6.

digitale instrumentatierecorders, gebruikmakend van magneetschijfgeheugentechniek, met beide volgende kenmerken:

a.

een digitaliseringssnelheid van 100 miljoen monsters per seconde en een scheidend vermogen van 8 bit of meer, en

| b. | een ‧continue verwerkingscapaciteit‧ van 1 Gbit/s of meer. |
| --- | --- |

b.

een ‧continue verwerkingscapaciteit‧ van 1 Gbit/s of meer.

| b. | niet gebruikt |
| --- | --- |

b.

niet gebruikt

| c. | Radiofrequentie-"signaalanalysatoren", als hieronder:






  1. | "signaalanalysatoren" met een 3dB resolutiebandbreedte hoger dan 10 MHz binnen een frequentiebereik hoger dan 31,8 GHz, maar niet hoger dan 37,5 GHz, en |
| --- | --- | --- |

c.

Radiofrequentie-"signaalanalysatoren", als hieronder:

1.

"signaalanalysatoren" met een 3dB resolutiebandbreedte hoger dan 10 MHz binnen een frequentiebereik hoger dan 31,8 GHz, maar niet hoger dan 37,5 GHz, en

| 2. | "signaalanalysatoren" met een Displayed Average Noise Level (DANL - gemiddeld ruisniveau) van minder (beter) dan -150 dBm/Hz binnen een frequentiebereik hoger dan 43,5 GHz, maar niet hoger dan 70 GHz; |
| --- | --- |

2.

"signaalanalysatoren" met een Displayed Average Noise Level (DANL - gemiddeld ruisniveau) van minder (beter) dan -150 dBm/Hz binnen een frequentiebereik hoger dan 43,5 GHz, maar niet hoger dan 70 GHz;

| 3. | "signaalanalysatoren" met een frequentie van meer dan 70 GHz; |
| --- | --- |

3.

"signaalanalysatoren" met een frequentie van meer dan 70 GHz;

| 4. | "dynamische signaalanalysatoren" met een real-time bandbreedte hoger dan 40 MHz.







  : | In 3A002.c.4 worden niet bedoeld dynamische signaalanalysatoren die uitsluitend gebruikmaken van bandbreedtefilters met constant percentage (ook wel octaaf- of deeloctaaffilters genoemd). |
| --- | --- | --- |

4.

"dynamische signaalanalysatoren" met een real-time bandbreedte hoger dan 40 MHz.

:

| d. | ‹Synthesized› signaalgeneratoren die uitgangsfrequenties afgeven waarvan de nauwkeurigheid en stabiliteit op korte of lange termijn wordt bepaald door, afgeleid van, of beheerst door de inwendige hoofdreferentie-oscillator met een of meer van de volgende kenmerken:






  1. | gespecificeerd voor een ‧pulsduur‧ van minder dan 100 ns binnen een <synthesized> frequentiebereik hoger dan 31,8 GHz maar niet hoger dan 70 GHz en; |
| --- | --- | --- |

d.

‹Synthesized› signaalgeneratoren die uitgangsfrequenties afgeven waarvan de nauwkeurigheid en stabiliteit op korte of lange termijn wordt bepaald door, afgeleid van, of beheerst door de inwendige hoofdreferentie-oscillator met een of meer van de volgende kenmerken:

1.

gespecificeerd voor een ‧pulsduur‧ van minder dan 100 ns binnen een <synthesized> frequentiebereik hoger dan 31,8 GHz maar niet hoger dan 70 GHz en;

| 2. | een uitgangsvermogen van meer dan 100 mW (20 dBm) binnen een ‧synthesized‧ frequentiebereik hoger dan 43,5 GHz maar niet hoger dan 70 GHz; |
| --- | --- |

2.

een uitgangsvermogen van meer dan 100 mW (20 dBm) binnen een ‧synthesized‧ frequentiebereik hoger dan 43,5 GHz maar niet hoger dan 70 GHz;

| 3. | een "frequentiewisseltijd" overeenkomstig één van de volgende kenmerken:






  a. | minder dan 312 ps; |
| --- | --- | --- |

3.

een "frequentiewisseltijd" overeenkomstig één van de volgende kenmerken:

a.

minder dan 312 ps;

| b. | minder dan 100 μs voor elke frequentiewisseling van meer dan 1,6 GHz binnen het <synthesized> frequentiebereik van hoger dan 3,2 GHz maar niet hoger dan 10,6 GHz; |
| --- | --- |

b.

minder dan 100 μs voor elke frequentiewisseling van meer dan 1,6 GHz binnen het <synthesized> frequentiebereik van hoger dan 3,2 GHz maar niet hoger dan 10,6 GHz;

| c. | minder dan 250 μs voor elke frequentiewisseling van meer dan 550 MHz binnen het <synthesized> frequentiebereik van hoger dan 10,6 GHz maar niet hoger dan 31,8 GHz; |
| --- | --- |

c.

minder dan 250 μs voor elke frequentiewisseling van meer dan 550 MHz binnen het <synthesized> frequentiebereik van hoger dan 10,6 GHz maar niet hoger dan 31,8 GHz;

| d. | minder dan 500 μs voor elke frequentiewisseling van meer dan 550 MHz binnen het <synthesized> frequentiebereik van hoger dan 31,8 GHz maar niet hoger dan 43,5 GHz; |
| --- | --- |

d.

minder dan 500 μs voor elke frequentiewisseling van meer dan 550 MHz binnen het <synthesized> frequentiebereik van hoger dan 31,8 GHz maar niet hoger dan 43,5 GHz;

| e. | minder dan 1 ms voor elke frequentiewisseling van meer dan 550 MHz binnen het <synthesized> frequentiebereik van meer dan 43,5 GHz maar niet hoger dan 56 GHz; |
| --- | --- |

e.

minder dan 1 ms voor elke frequentiewisseling van meer dan 550 MHz binnen het <synthesized> frequentiebereik van meer dan 43,5 GHz maar niet hoger dan 56 GHz;

| f. | minder dan 1 ms voor elke frequentiewisseling van meer dan 2,2 GHz binnen het <synthesized> frequentiebereik van meer dan 56 GHz maar niet hoger dan 70 GHz. |
| --- | --- |

f.

minder dan 1 ms voor elke frequentiewisseling van meer dan 2,2 GHz binnen het <synthesized> frequentiebereik van meer dan 56 GHz maar niet hoger dan 70 GHz.

| 4. | Bij ‹synthesized› frequenties hoger dan 3,2 GHz maar niet hoger dan 70 GHz, met alle volgende kenmerken:






  a. | een enkel zijband (SSB)-faseruis, in dBc/Hz, beter dan -(126 + 20 log10F - 20log10f) bij 10 Hz < F < 10 kHz; en |
| --- | --- | --- |

4.

Bij ‹synthesized› frequenties hoger dan 3,2 GHz maar niet hoger dan 70 GHz, met alle volgende kenmerken:

a.

een enkel zijband (SSB)-faseruis, in dBc/Hz, beter dan -(126 + 20 log10F - 20log10f) bij 10 Hz < F < 10 kHz; en

| b. | een enkel zijband (SSB)-faseruis, in dBc/Hz, beter dan -(114 + 20 log10F - 20log10f) bij 10 kHz < F < 500 kHz; of |
| --- | --- |

b.

een enkel zijband (SSB)-faseruis, in dBc/Hz, beter dan -(114 + 20 log10F - 20log10f) bij 10 kHz < F < 500 kHz; of

In 3A002.d.4. staat F voor de verschuiving van de werkfrequentie in Hz en f voor de werkfrequentie in MHz.

| 5. | een maximale ‹synthesized› frequentie hoger dan 70 GHz; |
| --- | --- |

5.

een maximale ‹synthesized› frequentie hoger dan 70 GHz;

| : | Voor de toepassing van 3A002.d. omvat de term ‹synthesized› signaalgeneratoren ook willekeurige-golfvormgeneratoren en functiegeneratoren. |
| --- | --- |

:

| : | In 3A002.d wordt niet bedoeld apparatuur waarbij de uitgangsfrequentie wordt verkregen door het optellen of aftrekken van twee of meer kristaloscillatorfrequenties, waarna de uitkomst eventueel wordt vermenigvuldigd. |
| --- | --- |

:

| 1. | Willekeurige-golfvormgeneratoren en functiegeneratoren worden normaliter gespecificeerd door de bemonsteringssnelheid (GSample/s), die door de Nyquist factor 2 naar het RF-domein is omgezet. Dat betekent dus dat een willekeurige golfvorm van 1 GSample/s een rechtstreekse uitgangsfrequentie (‧direct output capability‧) van 500 MHz heeft, of dat bij overbemonstering de maximale rechtstreekse uitgangsfrequentie verhoudingsgewijs lager is. |
| --- | --- |

1.

| 2. | In 3A002.d.1. wordt onder ‧pulsduur‧ verstaan het tijdsinterval tussen het moment waarop het pulsfront 90 % van de piekwaarde bereikt en het moment waarop het pulsdal 10 % van de piekwaarde bereikt. |
| --- | --- |

2.

| e. | Netwerkanalysatoren met een of meer van de volgende kenmerken:






  1. | maximale werkfrequentie hoger dan 43,5 GHz. en een uitgangsvermogen hoger dan 31,62 mW (15 dBm); |
| --- | --- | --- |

e.

Netwerkanalysatoren met een of meer van de volgende kenmerken:

1.

maximale werkfrequentie hoger dan 43,5 GHz. en een uitgangsvermogen hoger dan 31,62 mW (15 dBm);

| 2. | maximale werkfrequentie hoger dan 70 GHz. |
| --- | --- |

2.

maximale werkfrequentie hoger dan 70 GHz.

| f. | Microgolftestontvangers met beide volgende kenmerken:






  1. | een maximale werkfrequentie hoger dan 43,5 GHz; en |
| --- | --- | --- |

f.

Microgolftestontvangers met beide volgende kenmerken:

1.

een maximale werkfrequentie hoger dan 43,5 GHz; en

| 2. | geschikt voor het gelijktijdig meten van amplitude en fase. |
| --- | --- |

2.

geschikt voor het gelijktijdig meten van amplitude en fase.

| g. | Atomaire frequentiestandaarden met een van de volgende kenmerken:






  1. | "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte"; |
| --- | --- | --- |

g.

Atomaire frequentiestandaarden met een van de volgende kenmerken:

1.

"gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte";

| 2. | niet rubidium en een langetermijnstabiliteit van minder (beter) dan 1 × 10-11/maand; of |
| --- | --- |

2.

niet rubidium en een langetermijnstabiliteit van minder (beter) dan 1 × 10-11/maand; of

| 3. | niet-"gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte" met alle volgende kenmerken:






  a. | rubidiumstandaard; |
| --- | --- | --- |

3.

niet-"gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte" met alle volgende kenmerken:

a.

rubidiumstandaard;

| b. | langetermijnstabiliteit van minder (beter) dan 1 × 10-11/maand; en |
| --- | --- |

b.

langetermijnstabiliteit van minder (beter) dan 1 × 10-11/maand; en

| c. | totaal energieverbruik van minder dan 1 W. |
| --- | --- |

c.

totaal energieverbruik van minder dan 1 W.

3A003Temperatuurregelingssystemen met nevelkoeling die gebruik maken van apparatuur met een gesloten vloeistofcirculatie en -reconditioneringscircuit in een lucht- en waterdicht omhulsel waarin met speciaal daartoe ontworpen spuitmonden een diëlektrische vloeistof op elektronische componenten wordt verneveld om deze binnen de gebruikstemperatuur te houden, en speciaal hiervoor ontworpen onderdelen.

3A101Elektronische uitrusting, elementen en onderdelen, anders dan vermeld in 3A001, als hieronder:

| a. | analoog/digitaalomzetters, geschikt voor gebruik in "raketten" en gespecificeerd om te voldoen aan de militaire specificaties voor ruw gebruik voor apparatuur; |
| --- | --- |

a.

analoog/digitaalomzetters, geschikt voor gebruik in "raketten" en gespecificeerd om te voldoen aan de militaire specificaties voor ruw gebruik voor apparatuur;

| b. | versnellers waarmee elektromagnetische straling kan worden geproduceerd in de vorm van remstraling afkomstig van versnelde elektronen met een energie van 2 MeV of meer en systemen die deze versnellers bevatten. |
| --- | --- |

b.

versnellers waarmee elektromagnetische straling kan worden geproduceerd in de vorm van remstraling afkomstig van versnelde elektronen met een energie van 2 MeV of meer en systemen die deze versnellers bevatten.

| : | In 3A101.b wordt niet bedoeld apparatuur speciaal bestemd voor medische doeleinden. |
| --- | --- |

:

3A102‧Thermische batterijen‧ ontworpen of aangepast voor ‧raketten‧.

| 1. | In de zin van 3A102 zijn ‧thermische batterijen‧ batterijen voor eenmalig gebruik die een vast, niet-geleidend anorganisch zout als elektrolyt bevatten. Deze batterijen bevatten een pyrolytisch materiaal dat bij ontbranding het elektrolyt doet smelten en de batterij activeert. |
| --- | --- |

1.

| 2. | In 3A102 wordt onder ‧raketten‧ verstaan complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen die een afstand van ten minste 300 km kunnen overbruggen; |
| --- | --- |

2.

3A201Elektronische onderdelen, anders dan vermeld in 3A001, als hieronder:

| a. | condensators met een van de volgende groepen kenmerken:






  1. | a. | een toelaatbare spanning hoger dan 1,4 kV, |
| --- | --- | --- | --- |

a.

condensators met een van de volgende groepen kenmerken:

1.

a.

een toelaatbare spanning hoger dan 1,4 kV,

| b. | energieopslag groter dan 10 J, |
| --- | --- |

b.

energieopslag groter dan 10 J,

| c. | capaciteit groter dan 0,5 μF, en |
| --- | --- |

c.

capaciteit groter dan 0,5 μF, en

| d. | serie-inductantie minder dan 50 nH, of |
| --- | --- |

d.

serie-inductantie minder dan 50 nH, of

| 2. | a. | een toelaatbare spanning hoger dan 750 V, |
| --- | --- | --- |

2.

a.

een toelaatbare spanning hoger dan 750 V,

| b. | capaciteit groter dan 0,25 μF, en |
| --- | --- |

b.

capaciteit groter dan 0,25 μF, en

| c. | serie-inductantie minder dan 10 nH; |
| --- | --- |

c.

serie-inductantie minder dan 10 nH;

| b. | supergeleidende solenoïde elektromagneten met alle volgende kenmerken:






  1. | geschikt voor het opwekken van een magnetisch veld van meer dan 2 T; |
| --- | --- | --- |

b.

supergeleidende solenoïde elektromagneten met alle volgende kenmerken:

1.

geschikt voor het opwekken van een magnetisch veld van meer dan 2 T;

| 2. | L/D (lengte gedeeld door binnendiameter) groter dan 2; |
| --- | --- |

2.

L/D (lengte gedeeld door binnendiameter) groter dan 2;

| 3. | de binnendiameter is groter dan 300 mm; en |
| --- | --- |

3.

de binnendiameter is groter dan 300 mm; en

| 4. | een magneetveld dat over 50 % van het interne veld uniform is tot beter dan 1 %; |
| --- | --- |

4.

een magneetveld dat over 50 % van het interne veld uniform is tot beter dan 1 %;

| : | In 3A201.b worden niet bedoeld magneten die speciaal zijn ontworpen voor en worden uitgevoerd ‧als onderdeel van‧ medische apparatuur voor beeldvorming door middel van kernmagnetische resonantie (Nuclear Magnetic Resonance - NMR). De zinsnede ‧als onderdeel van‧ betekent niet noodzakelijkerwijs werkelijk als onderdeel van dezelfde zending. Afzonderlijke zendingen vanuit verschillende bronnen zijn toegestaan, mits in de bijbehorende exportdocumenten duidelijk wordt vermeld dat de zendingen ‧als onderdeel van‧ de beeldvormende systemen worden verzonden. |
| --- | --- |

:

| c. | röntgen-generatoren met flitsontlading of gepulseerde elektronenversnellers met een van de volgende groepen kenmerken:






  1. | a. | een elektronpiekenergie van 500 keV of meer doch minder dan 25 MeV, en |
| --- | --- | --- | --- |

c.

röntgen-generatoren met flitsontlading of gepulseerde elektronenversnellers met een van de volgende groepen kenmerken:

1.

a.

een elektronpiekenergie van 500 keV of meer doch minder dan 25 MeV, en

| b. | een ‧prestatiegetal‧ (K) van 0,25 of hoger, |
| --- | --- |

b.

een ‧prestatiegetal‧ (K) van 0,25 of hoger,

| 2. | a. | een elektronpiekenergie van 25 MeV of meer, en |
| --- | --- | --- |

2.

a.

een elektronpiekenergie van 25 MeV of meer, en

| b. | een ‧piekvermogen‧ groter dan 50 MW. |
| --- | --- |

b.

een ‧piekvermogen‧ groter dan 50 MW.

| : | In 3A201.c. worden niet bedoeld versnellers die een bestanddeel zijn van toestellen ontworpen voor andere toepassingen dan elektronenbundels of röntgenstraling (b.v. elektronenmicroscopie) en versnellers ontworpen voor medische toepassingen |
| --- | --- |

:

| 1. | Het ‧prestatiegetal‧ wordt als volgt gedefinieerd:

  K = 1,7 × 103 × V2.65 × Q,


  waarin V de elektronpiekenergie is in miljoen elektronvolt.


  Bij een bundelpulsduur korter dan of gelijk aan 1 μs is Q de totale versnelde lading in coulomb. Bij een bundelpulsduur langer dan 1 μs is Q de maximale versnelde lading in 1 μs.


  Q is gelijk aan de integraal van i over de tijd t, zijnde ofwel 1 μs ofwel de tijdsduur van de bundelpuls, welk van de twee het kortste is, (Q = ∫ idt), waarbij i de bundelstroom in ampère is en t de tijd in seconden. |
| --- | --- |

1.

K = 1,7 × 103 × V2.65 × Q,

waarin V de elektronpiekenergie is in miljoen elektronvolt.

Bij een bundelpulsduur korter dan of gelijk aan 1 μs is Q de totale versnelde lading in coulomb. Bij een bundelpulsduur langer dan 1 μs is Q de maximale versnelde lading in 1 μs.

Q is gelijk aan de integraal van i over de tijd t, zijnde ofwel 1 μs ofwel de tijdsduur van de bundelpuls, welk van de twee het kortste is, (Q = ∫ idt), waarbij i de bundelstroom in ampère is en t de tijd in seconden.

| 2. | ‧Piekvermogen‧ = (piekspanning in volt) × (maximale bundelstroom in ampère). |
| --- | --- |

2.

| 3. | In machines die werken op basis van versnellende microgolftrilholtes is de tijdsduur van de bundelpuls ofwel 1 μs ofwel de duur van de door een microgolfmodulatorpuls voortgebrachte deeltjesbundel, welk van de twee het kortste is. |
| --- | --- |

3.

| 4. | In machines die werken op basis van versnellende microgolftrilholtes is de maximale bundelstroom de gemiddelde stroom voor de duur van een bundelpuls. |
| --- | --- |

4.

3A225Frequentieomzetters of frequentiegeneratoren, anders dan vermeld in 0B001.b.13, met alle volgende kenmerken:

| a. | een meerfasige uitgang geschikt voor het leveren van een vermogen van 40 W of groter; |
| --- | --- |

a.

een meerfasige uitgang geschikt voor het leveren van een vermogen van 40 W of groter;

| b. | geschikt om te werken in het frequentiegebied van 600 tot 2 000 Hz; |
| --- | --- |

b.

geschikt om te werken in het frequentiegebied van 600 tot 2 000 Hz;

| c. | totale harmonische vervorming beter (minder) dan 10 %, en |
| --- | --- |

c.

totale harmonische vervorming beter (minder) dan 10 %, en

| d. | frequentieafwijking kleiner dan 0,1 %. |
| --- | --- |

d.

frequentieafwijking kleiner dan 0,1 %.

:

De in 3A225 bedoelde frequentieomzetters zijn ook bekend als ‹converters› of ‹inverters›.

3A226Gelijkstroombronnen met hoog vermogen, anders dan bedoeld in 0B001.j.6, met beide volgende kenmerken:

| a. | over een periode van acht uur ononderbroken 100 V of meer kunnen produceren bij een stroom van 500 A of meer, |
| --- | --- |

a.

over een periode van acht uur ononderbroken 100 V of meer kunnen produceren bij een stroom van 500 A of meer,

| b. | met een stroom- of spanningsstabiliteit beter dan 0,1 % over een periode van acht uur. |
| --- | --- |

b.

met een stroom- of spanningsstabiliteit beter dan 0,1 % over een periode van acht uur.

3A227Hoogspanningsgelijkstroombronnen, anders dan vermeld in 0B001.j.5, met beide volgende kenmerken:

| a. | over een periode van acht uur ononderbroken 20 kV of meer kunnen produceren bij een stroom van 1 A of meer, en |
| --- | --- |

a.

over een periode van acht uur ononderbroken 20 kV of meer kunnen produceren bij een stroom van 1 A of meer, en

| b. | met een stroom- of spanningsstabiliteit beter dan 0,1 % over een periode van acht uur. |
| --- | --- |

b.

met een stroom- of spanningsstabiliteit beter dan 0,1 % over een periode van acht uur.

3A228Schakelelementen, als hieronder:

| a. | buizen met koude kathode, al dan niet met gas gevuld, die op dezelfde wijze als een vonkbrug werken, en alle volgende kenmerken hebben:






  1. | drie of meer elektroden; |
| --- | --- | --- |

a.

buizen met koude kathode, al dan niet met gas gevuld, die op dezelfde wijze als een vonkbrug werken, en alle volgende kenmerken hebben:

1.

drie of meer elektroden;

| 2. | een maximale anodespanning van 2500 V of meer, |
| --- | --- |

2.

een maximale anodespanning van 2500 V of meer,

| 3. | een maximale anodestroomsterkte van 100 A of meer, en |
| --- | --- |

3.

een maximale anodestroomsterkte van 100 A of meer, en

| 4. | een anodevertragingstijd van 10 μs of minder; |
| --- | --- |

4.

een anodevertragingstijd van 10 μs of minder;

| : | Onder 3A228 vallen met gas gevulde krytronbuizen en vacuümsprytronbuizen. |
| --- | --- |

:

| b. | gestuurde vonkbruggen met beide volgende kenmerken:






  1. | een anodevertragingstijd van 15 μs of minder, |
| --- | --- | --- |

b.

gestuurde vonkbruggen met beide volgende kenmerken:

1.

een anodevertragingstijd van 15 μs of minder,

| 2. | een toelaatbare maximale stroomsterkte van 500 A of meer; |
| --- | --- |

2.

een toelaatbare maximale stroomsterkte van 500 A of meer;

| c. | andere dan de in 3A001.g. of in 3A001.h. gespecificeerde modules of samenstellingen met een snelle schakelfunctie met alle volgende kenmerken:






  1. | een maximale anodespanning hoger dan 2 kV; |
| --- | --- | --- |

c.

andere dan de in 3A001.g. of in 3A001.h. gespecificeerde modules of samenstellingen met een snelle schakelfunctie met alle volgende kenmerken:

1.

een maximale anodespanning hoger dan 2 kV;

| 2. | een maximale anodestroomsterkte van 500 A of meer, en |
| --- | --- |

2.

een maximale anodestroomsterkte van 500 A of meer, en

| 3. | een inschakeltijd van 1 μs of minder. |
| --- | --- |

3.

een inschakeltijd van 1 μs of minder.

3A229Pulsgeneratoren met hoge stroomsterkte, als hieronder:

| NB: | ZIE OOK LIJST MILITAIRE GOEDEREN. |
| --- | --- |

NB:

:

Zie 1A007.a. voor ontstekingsmechanismen met explosieve detonator.

| a. | niet gebruikt; |
| --- | --- |

a.

niet gebruikt;

| b. | modulaire elektrische pulsgeneratoren (pulseerders) met alle volgende kenmerken:






  1. | ontworpen voor draagbaar, mobiel of ruw gebruik; |
| --- | --- | --- |

b.

modulaire elektrische pulsgeneratoren (pulseerders) met alle volgende kenmerken:

1.

ontworpen voor draagbaar, mobiel of ruw gebruik;

| 2. | gevat in een stofdicht huis; |
| --- | --- |

2.

gevat in een stofdicht huis;

| 3. | geschikt voor afgifte van hun energie in minder dan 15 μs; |
| --- | --- |

3.

geschikt voor afgifte van hun energie in minder dan 15 μs;

| 4. | met een uitgangsstroomsterkte hoger dan 100 A; |
| --- | --- |

4.

met een uitgangsstroomsterkte hoger dan 100 A;

| 5. | met een ‧stijgtijd‧ korter dan 10 μs in een belasting van minder dan 40 ohm; |
| --- | --- |

5.

met een ‧stijgtijd‧ korter dan 10 μs in een belasting van minder dan 40 ohm;

| 6. | geen enkele afmeting groter dan 25,4 cm; |
| --- | --- |

6.

geen enkele afmeting groter dan 25,4 cm;

| 7. | gewicht minder dan 25 kg, en |
| --- | --- |

7.

gewicht minder dan 25 kg, en

| 8. | gespecificeerd voor gebruik in een breed temperatuurgebied 223 K (– 50 °C) tot 373 K (100 °C) of gespecificeerd als geschikt voor ruimtevaarttoepassingen. |
| --- | --- |

8.

gespecificeerd voor gebruik in een breed temperatuurgebied 223 K (– 50 °C) tot 373 K (100 °C) of gespecificeerd als geschikt voor ruimtevaarttoepassingen.

| : | 3A229.b. omvat starters voor xenonflitslampen. |
| --- | --- |

:

:

In 3A229.b.5. is de ‧stijgtijd‧ gedefinieerd als het tijdsinterval dat verstrijkt tussen het bereiken van 10 % van de piekstroom en 90 % van de piekstroom als de generator op een ohmse weerstand wordt aangesloten.

3A230Hoogfrequente pulsgeneratoren met alle volgende kenmerken:

| a. | een uitgangsspanning van meer dan 6 V in een weerstandsbelasting van minder dan 55 ohm, en |
| --- | --- |

a.

een uitgangsspanning van meer dan 6 V in een weerstandsbelasting van minder dan 55 ohm, en

| b. | met een ‧pulsstijgtijd‧ van minder dan 500 picoseconden. |
| --- | --- |

b.

met een ‧pulsstijgtijd‧ van minder dan 500 picoseconden.

In 3A230 is de ‧pulsstijgtijd‧ gedefinieerd als het tijdsinterval dat verstrijkt tussen het bereiken van 10 % van de piekspanning en 90 % van de piekspanning.

3A231Neutronengeneratorsystemen, met inbegrip van buizen, met beide volgende kenmerken:

| a. | ontworpen om te werken zonder uitwendig vacuümsysteem, en |
| --- | --- |

a.

ontworpen om te werken zonder uitwendig vacuümsysteem, en

| b. | gebruik maken van elektrostatische versnelling voor het opwekken van een tritium-deuterium-kernreactie. |
| --- | --- |

b.

gebruik maken van elektrostatische versnelling voor het opwekken van een tritium-deuterium-kernreactie.

3A232Andere dan de in 1A007 bedoelde meervoudige ontstekingssystemen, als hieronder:

| NB: | ZIE OOK LIJST MILITAIRE GOEDEREN. |
| --- | --- |

NB:

:

Zie 1A007.b. voor detonatoren.

| a. | niet gebruikt; |
| --- | --- |

a.

niet gebruikt;

| b. | opstellingen waarbij gebruik wordt gemaakt van enkel- of meervoudige detonatoren en die zijn ontworpen om door middel van een enkel ontstekingssignaal een explosief oppervlak van meer dan 5 000 mm2 bijna gelijktijdig tot ontploffing te brengen met een ontstekingstijdmarge over het oppervlak van minder dan 2,5 μs. |
| --- | --- |

b.

opstellingen waarbij gebruik wordt gemaakt van enkel- of meervoudige detonatoren en die zijn ontworpen om door middel van een enkel ontstekingssignaal een explosief oppervlak van meer dan 5 000 mm2 bijna gelijktijdig tot ontploffing te brengen met een ontstekingstijdmarge over het oppervlak van minder dan 2,5 μs.

| : | In 3A232 worden niet bedoeld detonatoren die uitsluitend gebruik maken van primaire springstoffen, zoals loodazide. |
| --- | --- |

:

3A233Massaspectrometers, anders dan vermeld in 0B002.g, die ionen met een massa van 230 atomaire massa eenheden (a.m.e.) of meer kunnen meten en die een oplossend vermogen hebben dat beter is dan 2 a.m.e. op 230 a.m.e., en ionenbronnen hiervoor, als hieronder:

| a. | inductief gekoppelde plasma-massaspectrometers (ICP/MS); |
| --- | --- |

a.

inductief gekoppelde plasma-massaspectrometers (ICP/MS);

| b. | massaspectrometers werkend door middel van een gloeiontlading (GDMS); |
| --- | --- |

b.

massaspectrometers werkend door middel van een gloeiontlading (GDMS);

| c. | massaspectrometers werkend door middel van thermische ionisatie (TIMS); |
| --- | --- |

c.

massaspectrometers werkend door middel van thermische ionisatie (TIMS);

| d. | massaspectrometers werkend door middel van elektronenbeschieting, met een bronkamer vervaardigd van of bedekt met een materiaal dat bestand is tegen UF6; |
| --- | --- |

d.

massaspectrometers werkend door middel van elektronenbeschieting, met een bronkamer vervaardigd van of bedekt met een materiaal dat bestand is tegen UF6;

| e. | massaspectrometers werkend met een molecuulbundel, met één van de volgende kenmerken:






  1. | een bronkamer vervaardigd van of bedekt met roestvrij staal of molybdeen en uitgerust met een koelval die tot 193 K (– 80 °C) of lager kan worden afgekoeld, |
| --- | --- | --- |

e.

massaspectrometers werkend met een molecuulbundel, met één van de volgende kenmerken:

1.

een bronkamer vervaardigd van of bedekt met roestvrij staal of molybdeen en uitgerust met een koelval die tot 193 K (– 80 °C) of lager kan worden afgekoeld,

| 2. | een bronkamer vervaardigd van of bedekt met materiaal dat bestand is tegen UF6, of |
| --- | --- |

2.

een bronkamer vervaardigd van of bedekt met materiaal dat bestand is tegen UF6, of

| f. | massaspectrometers werkend met een microfluoreer-ionenbron ontworpen voor actiniden of actinidefluoriden. |
| --- | --- |

f.

massaspectrometers werkend met een microfluoreer-ionenbron ontworpen voor actiniden of actinidefluoriden.

3BTest-, inspectie- en productieapparatuur

3B001Productie-apparatuur voor halfgeleiderelementen of -materialen, als hieronder, en speciaal ontworpen onderdelen en toebehoren daarvoor:

| a. | Apparatuur voor epitaxiale groei, als hieronder:






  1. | geschikt om een laag van een ander materiaal dan silicium met een laagdikte-uniformiteit beter dan ± 2,5 % over een afstand van 75 mm of meer te produceren;







  : | 3B001.a.1. omvat apparatuur voor atomaire-lagenepitaxie (ALE). |
| --- | --- | --- | --- |

a.

Apparatuur voor epitaxiale groei, als hieronder:

1.

geschikt om een laag van een ander materiaal dan silicium met een laagdikte-uniformiteit beter dan ± 2,5 % over een afstand van 75 mm of meer te produceren;

:

| 2. | reactoren voor het chemisch neerslaan van organometaaldamp (MOCVD), speciaal ontworpen voor kristalgroei van samengestelde halfgeleiderverbindingen door de chemische reactie tussen materialen bedoeld in 3C003 of 3C004; |
| --- | --- |

2.

reactoren voor het chemisch neerslaan van organometaaldamp (MOCVD), speciaal ontworpen voor kristalgroei van samengestelde halfgeleiderverbindingen door de chemische reactie tussen materialen bedoeld in 3C003 of 3C004;

| 3. | apparatuur voor het opbrengen van epitaxiale lagen door middel van moleculaire bundels met gebruik van gasvormige of vaste bronnen; |
| --- | --- |

3.

apparatuur voor het opbrengen van epitaxiale lagen door middel van moleculaire bundels met gebruik van gasvormige of vaste bronnen;

| b. | Apparatuur ontworpen voor ionenimplantatie, met een of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een stralingsenergie (versnellingsspanning) van meer dan 1MeV; |
| --- | --- | --- |

b.

Apparatuur ontworpen voor ionenimplantatie, met een of meer van de volgende kenmerken:

1.

een stralingsenergie (versnellingsspanning) van meer dan 1MeV;

| 2. | speciaal ontworpen voor optimale werking met een stralingsenergie(versnellingsspanning) van minder dan 2 keV; |
| --- | --- |

2.

speciaal ontworpen voor optimale werking met een stralingsenergie(versnellingsspanning) van minder dan 2 keV;

| 3. | geschikt voor direct schrijven; of |
| --- | --- |

3.

geschikt voor direct schrijven; of

| 4. | een stralingsenergie van 65 keV of meer en een bundelstroomsterkte van 45mA of meer om met hoge energie zuurstof te implanteren in een verwarmd "substraat" bestaande uit halfgeleidermateriaal; |
| --- | --- |

4.

een stralingsenergie van 65 keV of meer en een bundelstroomsterkte van 45mA of meer om met hoge energie zuurstof te implanteren in een verwarmd "substraat" bestaande uit halfgeleidermateriaal;

| c. | Apparatuur voor het etsen door middel van anisotrope droge methoden (met plasma), met de volgende eigenschappen:






  1. | ontworpen of geoptimaliseerd om kritische afmetingen te produceren van 65 nm of minder; en |
| --- | --- | --- |

c.

Apparatuur voor het etsen door middel van anisotrope droge methoden (met plasma), met de volgende eigenschappen:

1.

ontworpen of geoptimaliseerd om kritische afmetingen te produceren van 65 nm of minder; en

| 2. | niet-uniformiteit binnen de ‹wafer› van maximaal 10 % 3σ, gemeten tot op 2 mm of minder van de rand; |
| --- | --- |

2.

niet-uniformiteit binnen de ‹wafer› van maximaal 10 % 3σ, gemeten tot op 2 mm of minder van de rand;

| d. | Apparatuur voor het met plasma versterkt chemisch neerslaan uit de dampfase (PECVD), als hieronder:






  1. | met een ‹cassette-to-cassette› en ‹load-lock›-‹wafer› transportsysteem ontworpen volgens de specificaties van de fabrikant of geoptimaliseerd om te worden gebruikt voor het produceren van halfgeleiderelementen met kritische afmetingen van 65 nm of minder; |
| --- | --- | --- |

d.

Apparatuur voor het met plasma versterkt chemisch neerslaan uit de dampfase (PECVD), als hieronder:

1.

met een ‹cassette-to-cassette› en ‹load-lock›-‹wafer› transportsysteem ontworpen volgens de specificaties van de fabrikant of geoptimaliseerd om te worden gebruikt voor het produceren van halfgeleiderelementen met kritische afmetingen van 65 nm of minder;

| 2. | speciaal ontworpen voor apparatuur bedoeld in 3B001.e en ontworpen volgens de specificaties van de fabrikant of geoptimaliseerd om te worden gebruikt voor het produceren van halfgeleiderelementen met kritische afmetingen van 65 nm of minder |
| --- | --- |

2.

speciaal ontworpen voor apparatuur bedoeld in 3B001.e en ontworpen volgens de specificaties van de fabrikant of geoptimaliseerd om te worden gebruikt voor het produceren van halfgeleiderelementen met kritische afmetingen van 65 nm of minder

| e. | Centrale ‹wafer› transportsystemen met meerdere kamers, voor het automatisch laden van de wafers en met:






  1. | interfaces voor de in- en uitvoer van de ‹wafers›, waaraan meer dan twee functioneel verschillende ‧halfgeleiderbewerkingstools‧ als bedoeld in 3B001.a., 3B001.b., 3B001.c. of 3B001.d. kunnen worden aangesloten, en |
| --- | --- | --- |

e.

Centrale ‹wafer› transportsystemen met meerdere kamers, voor het automatisch laden van de wafers en met:

1.

interfaces voor de in- en uitvoer van de ‹wafers›, waaraan meer dan twee functioneel verschillende ‧halfgeleiderbewerkingstools‧ als bedoeld in 3B001.a., 3B001.b., 3B001.c. of 3B001.d. kunnen worden aangesloten, en

| 2. | ontworpen ter vorming van een geïntegreerd systeem in een vacuümomgeving voor ‧stapsgewijze bewerking van verscheidene ‹wafers› tegelijk‧; |
| --- | --- |

2.

ontworpen ter vorming van een geïntegreerd systeem in een vacuümomgeving voor ‧stapsgewijze bewerking van verscheidene ‹wafers› tegelijk‧;

| : | In 3B001.e worden niet bedoeld robotachtige automatische wafertransportsystemen die speciaal zijn ontworpen voor gelijktijdige bewerking van ‹wafers›. |
| --- | --- |

:

| 1. | In 3B001.e. wordt onder ‧halfgeleiderbewerkingstools‧ verstaan, modulaire tools die fysische processen voor het produceren van functioneel verschillende halfgeleiders opleveren, zoals afzetting, ets, implantatie, thermische verwerking. |
| --- | --- |

1.

| 2. | In 3B001.e. wordt onder ‧stapsgewijze bewerking van verscheidene ‹wafers› tegelijk‧ verstaan, het vermogen om elke ‹wafer› met verschillende ‧halfgeleiderbewerkingstools‧ te bewerken, bijvoorbeeld door elke ‹wafer› van de ene naar de andere tool en vervolgens naar nog een derde tool over te brengen door middel van de centrale ‹wafer› transportsystemen met meerdere kamers, voor het automatisch laden van de ‹wafers›. |
| --- | --- |

2.

| f. | Lithografische apparatuur, als hieronder:






  1. | repeteerapparatuur (‹step and repeat› (‹direct step on wafer›) apparatuur of ‹step and scan› (scanner) apparatuur) voor uitrichten en belichten ten behoeve van het bewerken van wafers, waarbij gebruik wordt gemaakt van foto-optische of röntgenmethoden, met één of beide van de volgende kenmerken:






  a. | golflengte van de lichtbron korter dan 245 nm, |
| --- | --- | --- | --- |

f.

Lithografische apparatuur, als hieronder:

1.

repeteerapparatuur (‹step and repeat› (‹direct step on wafer›) apparatuur of ‹step and scan› (scanner) apparatuur) voor uitrichten en belichten ten behoeve van het bewerken van wafers, waarbij gebruik wordt gemaakt van foto-optische of röntgenmethoden, met één of beide van de volgende kenmerken:

a.

golflengte van de lichtbron korter dan 245 nm,

| b. | in staat om patronen te produceren met een ‧minimum resolvable feature size‧ (MRF) van 95 nm of minder;

  :


  De ‧minimum resolvable feature size‧ (MRF) wordt berekend volgens de volgende formule:





  waarbij de K factor = 0,35 |
| --- | --- |

b.

in staat om patronen te produceren met een ‧minimum resolvable feature size‧ (MRF) van 95 nm of minder;

:

De ‧minimum resolvable feature size‧ (MRF) wordt berekend volgens de volgende formule:

Formula

waarbij de K factor = 0,35

| 2. | apparatuur voor imprintlithografie die structuren van 95 nm of minder kan produceren;







  : | 3B001.f.2. omvat:






  — | apparatuur voor microcontactdruk |
| --- | --- | --- | --- |

2.

apparatuur voor imprintlithografie die structuren van 95 nm of minder kan produceren;

:

—

apparatuur voor microcontactdruk

| — | apparatuur voor warm pregen (hot embossing) |
| --- | --- |

—

apparatuur voor warm pregen (hot embossing)

| — | apparatuur voor nano-imprintlithografie |
| --- | --- |

—

apparatuur voor nano-imprintlithografie

| — | apparatuur voor S-FIL (Step and flash imprint lithography) |
| --- | --- |

—

apparatuur voor S-FIL (Step and flash imprint lithography)

| 3. | apparatuur die speciaal is ontworpen voor het vervaardigen van maskers of het bewerken van halfgeleiderelementen met gebruikmaking van directe schrijfmethoden, met alle volgende kenmerken:






  a. | gebruik maken van afgebogen en gefocusseerde elektronen-, ionen- of ‧laser‧-bundels, : |
| --- | --- | --- |

3.

apparatuur die speciaal is ontworpen voor het vervaardigen van maskers of het bewerken van halfgeleiderelementen met gebruikmaking van directe schrijfmethoden, met alle volgende kenmerken:

a.

gebruik maken van afgebogen en gefocusseerde elektronen-, ionen- of ‧laser‧-bundels, :

| b. | met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een brandpuntsvlak kleiner dan 0,2 μm; |
| --- | --- | --- |

b.

met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een brandpuntsvlak kleiner dan 0,2 μm;

| 2. | geschikt voor het maken van patroonelementen kleiner dan 1 μm; of |
| --- | --- |

2.

geschikt voor het maken van patroonelementen kleiner dan 1 μm; of

| 3. | overlay-nauwkeurigheid beter dan ± 0,20 μm (3 sigma); |
| --- | --- |

3.

overlay-nauwkeurigheid beter dan ± 0,20 μm (3 sigma);

| g. | maskers of fijne optische netwerken (‹reticles›) voor geïntegreerde schakelingen, vermeld in 3A001; |
| --- | --- |

g.

maskers of fijne optische netwerken (‹reticles›) voor geïntegreerde schakelingen, vermeld in 3A001;

| h. | maskers bestaande uit verscheidene lagen met een faseverschuivingslaag.







  : | In 3B001.h zijn niet bedoeld maskers bestaande uit verscheidene lagen met een faseverschuivingslaag die ontworpen zijn voor de fabricage van geheugenmedia die niet onder 3AB001 vallen. |
| --- | --- | --- |

h.

maskers bestaande uit verscheidene lagen met een faseverschuivingslaag.

:

| i. | imprintlithografie-templates ontworpen voor de in 3A001 gespecificeerde geïntegreerde schakelingen. |
| --- | --- |

i.

imprintlithografie-templates ontworpen voor de in 3A001 gespecificeerde geïntegreerde schakelingen.

3B002Testapparatuur, speciaal ontworpen voor het testen van afgewerkte of half-afgewerkte halfgeleiderelementen, als hieronder, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen en toebehoren:

| a. | voor het testen van S-parameters van transistorelementen bij frequenties hoger dan 31,8 GHz; |
| --- | --- |

a.

voor het testen van S-parameters van transistorelementen bij frequenties hoger dan 31,8 GHz;

| b. | niet gebruikt; |
| --- | --- |

b.

niet gebruikt;

| c. | voor het testen van in 3A001.b.2 vermelde geïntegreerde schakelingen voor microgolven; |
| --- | --- |

c.

voor het testen van in 3A001.b.2 vermelde geïntegreerde schakelingen voor microgolven;

3CMaterialen

3C001Hetero-epitaxiale materialen bestaande uit een "substraat" met verscheidene gestapelde epitaxiaal gegroeide lagen van:

| a. | silicium (Si); |
| --- | --- |

a.

silicium (Si);

| b. | germanium (Ge); |
| --- | --- |

b.

germanium (Ge);

| c. | siliciumcarbide (SiC); of |
| --- | --- |

c.

siliciumcarbide (SiC); of

| d. | "III/V" gallium- of indium-"verbindingen". |
| --- | --- |

d.

"III/V" gallium- of indium-"verbindingen".

3C002‹Resists› (gevoelige lagen), als hieronder, en "substraten" bekleed met de volgende ‹resists›:

| a. | positieve ‹resists› ontworpen voor halfgeleiderlithografie, die optimaal geschikt zijn gemaakt voor gebruik bij golflengten van minder dan 245 nm; |
| --- | --- |

a.

positieve ‹resists› ontworpen voor halfgeleiderlithografie, die optimaal geschikt zijn gemaakt voor gebruik bij golflengten van minder dan 245 nm;

| b. | alle ‹resists› ontworpen voor gebruik met elektronen- of ionenbundels met een gevoeligheid van 0,01 μcoulomb/mm2 of beter; |
| --- | --- |

b.

alle ‹resists› ontworpen voor gebruik met elektronen- of ionenbundels met een gevoeligheid van 0,01 μcoulomb/mm2 of beter;

| c. | alle ‹resists› ontworpen voor gebruik met röntgenstralen met een gevoeligheid van 2,5 mJ/mm2 of beter; |
| --- | --- |

c.

alle ‹resists› ontworpen voor gebruik met röntgenstralen met een gevoeligheid van 2,5 mJ/mm2 of beter;

| d. | alle ‹resists› die optimaal geschikt zijn gemaakt voor beeldvorming aan het oppervlak, met inbegrip van ‧gesilyleerde‧ resists.

  :


  ‧Silyleer‧ technieken zijn procedés waarbij het oppervlak van de ‹resists› wordt geoxideerd ter verhoging van de kwaliteit bij zowel natte als droge ontwikkeling. |
| --- | --- |

d.

alle ‹resists› die optimaal geschikt zijn gemaakt voor beeldvorming aan het oppervlak, met inbegrip van ‧gesilyleerde‧ resists.

:

‧Silyleer‧ technieken zijn procedés waarbij het oppervlak van de ‹resists› wordt geoxideerd ter verhoging van de kwaliteit bij zowel natte als droge ontwikkeling.

| e. | alle ‹resists› die ontworpen zijn of optimaal geschikt zijn gemaakt voor gebruik met de in 3B001.f.2. bedoelde imprintlithografieapparatuur, waarbij gebruik wordt gemaakt van een thermisch procedé of van een uithardingsproces onder invloed van licht. |
| --- | --- |

e.

alle ‹resists› die ontworpen zijn of optimaal geschikt zijn gemaakt voor gebruik met de in 3B001.f.2. bedoelde imprintlithografieapparatuur, waarbij gebruik wordt gemaakt van een thermisch procedé of van een uithardingsproces onder invloed van licht.

3C003Organisch-anorganische verbindingen, als hieronder:

| a. | organische metaalverbindingen van aluminium, gallium of indium met een zuiverheidsgraad (op metaalbasis) hoger dan 99,999 %; |
| --- | --- |

a.

organische metaalverbindingen van aluminium, gallium of indium met een zuiverheidsgraad (op metaalbasis) hoger dan 99,999 %;

| b. | organische arseen-, antimoon- en fosforverbindingen met een zuiverheidsgraad (op basis van de anorganische elementen) hoger dan 99,999 %. |
| --- | --- |

b.

organische arseen-, antimoon- en fosforverbindingen met een zuiverheidsgraad (op basis van de anorganische elementen) hoger dan 99,999 %.

| : | In 3C003 worden alleen bedoeld verbindingen waarvan het metallische, deels metallische of niet metallische element direct gekoppeld is aan koolstof in het organische deel van het molecuul. |
| --- | --- |

:

3C004Hydriden van fosfor, arseen of antimoon, met een zuiverheid hoger dan 99,999 %, zelfs bij verdunning in edelgassen of waterstof.

| : | In 3C004 zijn niet bedoeld hydriden die 20 mol % of meer edelgassen of waterstof bevatten. |
| --- | --- |

:

3C005Siliciumcarbide (SiC), galliumnitride (GaN), aluminiumnitride (AlN) of aluminiumgalliumnitride (AlGaN) "substraten", of walsblokken, eenkristallen of andere voorvormstukken (preforms) van deze materialen, met een weerstand van meer dan 10,000 ohm-cm bij een temperatuur van 20C.

3C006De in 3C005 bedoelde "substraten" met ten minste één epitaxiale laag siliciumcarbide, galliumnitride, aluminiumnitride of aluminiumgalliumnitride.

3DProgrammatuur

3D001"Programmatuur" ("software"), speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" of de "productie" van de apparatuur die is vermeld in 3A001.b t/m 3A002.g of in 3B.

3D002"Programmatuur", speciaal ontworpen voor het "gebruik" van de apparatuur die is vermeld in 3B001.a. tot en met f. of in 3B002.

3D003‧Op fysische elementen gebaseerde‧ simulatieprogrammatuur, speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" van lithografische, ets- of opdampingsprocedés voor het omzetten van maskerpatronen in specifieke topografische patronen in geleiders en diëlektrische of halfgeleidermaterialen.

In 3D003 betekent ‧op fysische elementen gebaseerde‧ het gebruik maken van berekeningen om een fysische oorzaak-en-gevolg-keten te berekenen op basis van fysische grootheden (bv. temperatuur, druk, diffusieconstanten en eigenschappen van halfgeleidermaterialen).

| : | Bibliotheken, ontwerpmodellen of daarmee samenhangende gegevens voor het ontwerpen van halfgeleiderelementen of geïntegreerde schakelingen worden beschouwd als "technologie". |
| --- | --- |

:

3D004"Programmatuur", speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" van apparatuur als vermeld in 3A003.

3D101"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor het "gebruik" van apparatuur als vermeld in 3A101.b.

3ETechnologie

3E001"Technologie" volgens de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" of "productie" van apparatuur of materialen, vermeld in 3A, 3B of 3C;

| : | In 3E001 wordt niet bedoeld "technologie" voor de "productie" van apparatuur of onderdelen die onder 3A003 vallen. |
| --- | --- |

:

| 2: | In 3E001 wordt niet bedoeld "technologie" voor de "ontwikkeling" of de "productie" van geïntegreerde schakelingen bedoeld in 3A001.a.3 t/m 3A001.a.12, met beide volgende kenmerken:







  a. | er wordt gebruik gemaakt van technologie van 0,130 μm of meer, |
| --- | --- | --- |

2:

a.

er wordt gebruik gemaakt van technologie van 0,130 μm of meer,

| b. | bevat een ‧meerlagenstructuur‧ met drie of minder metaallagen. |
| --- | --- |

b.

bevat een ‧meerlagenstructuur‧ met drie of minder metaallagen.

3E002"Technologie" volgens de algemene technologienoot, anders dan vermeld in 3E001, voor de "ontwikkeling" of de "productie" van een "microprocessor-microschakelings-", een "microcomputer-microschakelings-" of een microbesturings-microschakelingskern met een logische rekeneenheid (ALU) met een toegangsbereik van 32 bit of meer en met een of meer van de volgende eigenschappen:

| a. | een ‧vectorprocessor‧ ontworpen om meer dan twee berekeningen op drijvende-kommavectoren (eendimensionale arrays van getallen van 32 bit of meer) gelijktijdig uit te voeren;




  Een ‧vectorprocessor‧ is een processor met ingebouwde instructies waarbij gelijktijdig verscheidene berekeningen worden uitgevoerd op drijvende-kommavectoren (eendimensionale ‧arrays‧ van getallen van 32 bit of meer), met ten minste één vector-ALU. |
| --- | --- |

a.

een ‧vectorprocessor‧ ontworpen om meer dan twee berekeningen op drijvende-kommavectoren (eendimensionale arrays van getallen van 32 bit of meer) gelijktijdig uit te voeren;

Een ‧vectorprocessor‧ is een processor met ingebouwde instructies waarbij gelijktijdig verscheidene berekeningen worden uitgevoerd op drijvende-kommavectoren (eendimensionale ‧arrays‧ van getallen van 32 bit of meer), met ten minste één vector-ALU.

| b. | ontworpen om meer dan twee drijvende-kommabewerkingen van 64 bit of hoger per cyclus uit te voeren; of |
| --- | --- |

b.

ontworpen om meer dan twee drijvende-kommabewerkingen van 64 bit of hoger per cyclus uit te voeren; of

| c. | ontworpen om meer dan vier vastekomma-MAC(multiply-accumulate)-resultaten van 16 bit per cyclus te realiseren (bijvoorbeeld de digitale bewerking van analoge informatie die in digitale vorm is omgezet, ook bekend als digitale "signaalbewerking").







  : | 3E002.c. is niet van toepassing op "technologie" voor multimedia-uitbreidingen. |
| --- | --- | --- |

c.

ontworpen om meer dan vier vastekomma-MAC(multiply-accumulate)-resultaten van 16 bit per cyclus te realiseren (bijvoorbeeld de digitale bewerking van analoge informatie die in digitale vorm is omgezet, ook bekend als digitale "signaalbewerking").

:

| : | 3E002 is niet van toepassing op "technologie" voor de "ontwikkeling" of de "productie" van microprocessorkernen met alle volgende kenmerken:







  a. | gebruik van "technologie" groter dan of gelijk aan 0,130 μm; en |
| --- | --- | --- |

:

a.

gebruik van "technologie" groter dan of gelijk aan 0,130 μm; en

| b. | meerlagenstructuren van vijf of minder metaallagen. |
| --- | --- |

b.

meerlagenstructuren van vijf of minder metaallagen.

| : | 3E002 omvat ook "technologie" voor digitale signaalprocessoren en digitale arrayprocessoren. |
| --- | --- |

:

3E003Andere "technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van:

| a. | micro-elektronische vacuümelementen; |
| --- | --- |

a.

micro-elektronische vacuümelementen;

| b. | halfgeleiderelementen met een heterostructuur, zoals transistors met hoge elektronenmobiliteit (HEMT), hetero bipolaire transistors (HBT), elementen met een kwantumval of superrooster;







  : | In 3E003.b is niet bedoeld "technologie" voor hoge-elektronenmobiliteit-transistoren (HEMT) werkende bij frequenties van minder dan 31,8 GHz en hetero-junction bipolaire transistoren (HBT) werkende bij frequenties van minder dan 31,8 GHz., |
| --- | --- | --- |

b.

halfgeleiderelementen met een heterostructuur, zoals transistors met hoge elektronenmobiliteit (HEMT), hetero bipolaire transistors (HBT), elementen met een kwantumval of superrooster;

:

| c. | "supergeleidende" elektronische elementen; |
| --- | --- |

c.

"supergeleidende" elektronische elementen;

| d. | substraten van diamantfilm voor elektronische componenten; |
| --- | --- |

d.

substraten van diamantfilm voor elektronische componenten;

| e. | SOI (silicon-on-insulator)-substraten voor geïntegreerde schakelingen met siliciumdioxide als isolator; |
| --- | --- |

e.

SOI (silicon-on-insulator)-substraten voor geïntegreerde schakelingen met siliciumdioxide als isolator;

| f. | substraten van siliciumcarbide voor elektronische onderdelen; |
| --- | --- |

f.

substraten van siliciumcarbide voor elektronische onderdelen;

| g. | elektronische vacuümbuizen werkende bij frequenties van 31,8 GHz of hoger. |
| --- | --- |

g.

elektronische vacuümbuizen werkende bij frequenties van 31,8 GHz of hoger.

3E101"Technologie" volgens de algemene technologienoot voor het "gebruik" van apparatuur of "programmatuur", vermeld in 3A001.a.1 of 2, 3A101, 3A102 of 3D101.

3E102"Technologie" volgens de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" van "programmatuur", vermeld in 3D101.

3E201"Technologie" volgens de algemene technologienoot voor het "gebruik" van apparatuur, vermeld in 3A001.e.2, 3A001.e.3, 3A001.g., 3A201, 3A225 t/m 3A233

CATEGORIE 4

COMPUTERS

| : | Computers, aanverwante apparatuur of "programmatuur" die telecommunicatie- of "lokaal netwerk-" functies verrichten, dienen tevens te worden getoetst aan de criteria van categorie 5, deel 1 (Telecommunicatie). |
| --- | --- |

:

| : | Besturingseenheden die zorgen voor de directe onderlinge verbinding van de hoofdlijnen of kanalen van de centrale verwerkingseenheden, het "werkgeheugen" en de schijvenbesturingseenheden worden niet beschouwd als telecommunicatieapparatuur als omschreven in categorie 5, deel 1 (Telecommunicatie).

  :


  Zie 5D001 voor de embargostatus van "programmatuur" die speciaal is ontworpen voor pakketschakelen. |
| --- | --- |

:

:

Zie 5D001 voor de embargostatus van "programmatuur" die speciaal is ontworpen voor pakketschakelen.

| : | Computers, aanverwante apparatuur of "programmatuur" die cryptografische of cryptoanalytische functies verrichten of certificeerbare veiligheid op verscheidene niveaus of certificeerbare gebruikersisolatie verschaffen, of die de elektromagnetische compatibiliteit (EMC) beperken, dienen tevens te worden getoetst aan de criteria van categorie 5, deel 2 (Informatiebeveiliging). |
| --- | --- |

:

4ASystemen, apparatuur en onderdelen

4A001Elektronische computers en aanverwante apparatuur, met één of meer van de onderstaande kenmerken, en "samenstellingen" en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

| NB: | ZIE OOK 4A101. |
| --- | --- |

NB:

| a. | speciaal ontworpen voor één van beide volgende kenmerken:






  1. | gespecificeerd voor werktemperaturen lager dan 228 K (– 45 °C) of hoger dan 358 K (85 °C);







  : | 4A001.a.1 is niet van toepassing op computers die speciaal zijn ontworpen voor toepassingen in civiele automobielen, treinen of burgerluchtvaartuigen. |
| --- | --- | --- | --- |

a.

speciaal ontworpen voor één van beide volgende kenmerken:

1.

gespecificeerd voor werktemperaturen lager dan 228 K (– 45 °C) of hoger dan 358 K (85 °C);

:

| 2. | de stralingsbestendigheid overschrijdt één of meer van de volgende specificaties:







  a. | totale dosis | 5 × 103 Gy (silicium); |
| --- | --- | --- | --- |
| b. | storing bij dosistempo | 5 × 106 Gy (silicium)/sec; |
| c. | storing éénmalige gebeurtenis | 1 × 10-8 fout/bit/dag; |

2.

de stralingsbestendigheid overschrijdt één of meer van de volgende specificaties:

a.

totale dosis

5 × 103 Gy (silicium);

b.

storing bij dosistempo

5 × 106 Gy (silicium)/sec;

c.

storing éénmalige gebeurtenis

1 × 10-8 fout/bit/dag;

| : | 4A001.a.2 is niet van toepassing op computers die speciaal zijn ontworpen voor toepassingen in burgerluchtvaartuigen. |
| --- | --- |

:

| b. | niet gebruikt. |
| --- | --- |

b.

niet gebruikt.

4A003"Digitale computers", "samenstellingen" en aanverwante apparatuur daarvoor, zoals hieronder vermeld, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

| : | In 4A003 zijn mede bedoeld:






  — | ‧vectorprocessoren‧, |
| --- | --- | --- |

:

—

‧vectorprocessoren‧,

| — | ‹array› processoren, |
| --- | --- |

—

‹array› processoren,

| — | digitale signaalprocessoren, |
| --- | --- |

—

digitale signaalprocessoren,

| — | logische processoren, |
| --- | --- |

—

logische processoren,

| — | apparatuur voor "beeldverbetering", |
| --- | --- |

—

apparatuur voor "beeldverbetering",

| — | apparatuur voor "signaalverwerking". |
| --- | --- |

—

apparatuur voor "signaalverwerking".

| : | De embargostatus van de in 4A003 omschreven "digitale computers" of aanverwante apparatuur wordt bepaald door de embargostatus van andere apparatuur of systemen, mits:







  a. | de "digitale computers" of aanverwante apparatuur essentieel zijn voor de werking van de andere apparatuur of systemen; |
| --- | --- | --- |

:

a.

de "digitale computers" of aanverwante apparatuur essentieel zijn voor de werking van de andere apparatuur of systemen;

| b. | de "digitale computers" of de aanverwante apparatuur niet een "voornaamste deel" van de andere apparatuur of systemen vormen; en





  De embargostatus van apparatuur voor "signaalverwerking" of "beeldverbetering" speciaal ontworpen voor andere apparatuur, waarvan de functies beperkt zijn tot die welke noodzakelijk zijn voor die andere apparatuur, wordt bepaald door de embargostatus van die andere apparatuur, ook indien het criterium betreffende het "voornaamste deel" wordt overschreden.


  :


  Zie categorie 5 (Deel 1 - Telecommunicatie) voor de embargostatus van "digitale computers" of aanverwante apparatuur voor telecommunicatieuitrusting. |
| --- | --- |

b.

de "digitale computers" of de aanverwante apparatuur niet een "voornaamste deel" van de andere apparatuur of systemen vormen; en

De embargostatus van apparatuur voor "signaalverwerking" of "beeldverbetering" speciaal ontworpen voor andere apparatuur, waarvan de functies beperkt zijn tot die welke noodzakelijk zijn voor die andere apparatuur, wordt bepaald door de embargostatus van die andere apparatuur, ook indien het criterium betreffende het "voornaamste deel" wordt overschreden.

:

Zie categorie 5 (Deel 1 - Telecommunicatie) voor de embargostatus van "digitale computers" of aanverwante apparatuur voor telecommunicatieuitrusting.

| c. | de "technologie" voor de "digitale computers" en aanverwante apparatuur wordt bepaald door 4E. |
| --- | --- |

c.

de "technologie" voor de "digitale computers" en aanverwante apparatuur wordt bepaald door 4E.

| a. | ontworpen of aangepast voor "storingstolerantie";







  : | "Digitale computers" en aanverwante apparatuur als bedoeld in 4A003.a zijn niet ontworpen of aangepast voor "storingstolerantie" als zij gebruik maken van één of meer van de volgende voorzieningen:







  1. | in het "werkgeheugen" opgeslagen algoritmen voor het opsporen of corrigeren van storingen; |
| --- | --- | --- | --- |

a.

ontworpen of aangepast voor "storingstolerantie";

:

1.

in het "werkgeheugen" opgeslagen algoritmen voor het opsporen of corrigeren van storingen;

| 2. | de koppeling van twee "digitale computers", zodanig dat, als de actieve centrale verwerkingseenheid uitvalt, een niet actieve maar identieke centrale verwerkingseenheid het functioneren van het systeem kan voortzetten; |
| --- | --- |

2.

de koppeling van twee "digitale computers", zodanig dat, als de actieve centrale verwerkingseenheid uitvalt, een niet actieve maar identieke centrale verwerkingseenheid het functioneren van het systeem kan voortzetten;

| 3. | de koppeling van twee centrale verwerkingseenheden met behulp van gegevenskanalen of door middel van een gemeenschappelijk geheugen, zodanig dat één centrale verwerkingseenheid ander werk kan verrichten totdat de tweede centrale verwerkingseenheid uitvalt, op welk moment de eerste centrale verwerkingseenheid het werk overneemt teneinde het functioneren van het systeem voort te zetten; of |
| --- | --- |

3.

de koppeling van twee centrale verwerkingseenheden met behulp van gegevenskanalen of door middel van een gemeenschappelijk geheugen, zodanig dat één centrale verwerkingseenheid ander werk kan verrichten totdat de tweede centrale verwerkingseenheid uitvalt, op welk moment de eerste centrale verwerkingseenheid het werk overneemt teneinde het functioneren van het systeem voort te zetten; of

| 4. | de synchronisatie van twee centrale verwerkingseenheden met behulp van "programmatuur", zodanig dat de ene centrale verwerkingseenheid merkt wanneer de andere uitvalt en meteen taken van de uitgevallen eenheid overneemt. |
| --- | --- |

4.

de synchronisatie van twee centrale verwerkingseenheden met behulp van "programmatuur", zodanig dat de ene centrale verwerkingseenheid merkt wanneer de andere uitvalt en meteen taken van de uitgevallen eenheid overneemt.

| b. | "digitale computers" met een aangepast piekvermogen ("APP: Adjusted Peak Performance") van meer dan 1,5 gewogen TeraFLOPS (WT); |
| --- | --- |

b.

"digitale computers" met een aangepast piekvermogen ("APP: Adjusted Peak Performance") van meer dan 1,5 gewogen TeraFLOPS (WT);

| c. | "samenstellingen", speciaal ontworpen of aangepast voor verhoging van de prestaties door samenvoeging van processoren, zodat de "APP" van de samengevoegde processoren de in 4A003.b bedoelde limiet overschrijdt;







  : | 4A003.c is uitsluitend van toepassing op "samenstellingen" en programmeerbare onderlinge verbindingen die de in 4A003.b bedoelde limiet niet te boven gaan, wanneer deze als niet geïntegreerde "samenstellingen" worden geëxporteerd. 4A003.c is niet van toepassing op "samenstellingen" die van zichzelf door de aard van hun ontwerp beperkt zijn tot gebruik als aanverwante apparatuur, vermeld in 4A003.e. |
| --- | --- | --- |

c.

"samenstellingen", speciaal ontworpen of aangepast voor verhoging van de prestaties door samenvoeging van processoren, zodat de "APP" van de samengevoegde processoren de in 4A003.b bedoelde limiet overschrijdt;

:

| : | Niet bedoeld in 4A003.c zijn "samenstellingen", speciaal ontworpen voor een product of groep van producten waarvan de maximale configuratie de in 4A003.b bedoelde limiet niet te boven gaat. |
| --- | --- |

:

| d. | niet gebruikt; |
| --- | --- |

d.

niet gebruikt;

| e. | apparatuur die analoog-naar-digitaal-omzettingen kan uitvoeren en de in 3A001.a.5 bedoelde limiet te boven gaat; |
| --- | --- |

e.

apparatuur die analoog-naar-digitaal-omzettingen kan uitvoeren en de in 3A001.a.5 bedoelde limiet te boven gaat;

| f. | niet gebruikt; |
| --- | --- |

f.

niet gebruikt;

| g. | apparatuur, speciaal ontworpen voor het samenvoegen van de prestaties van "digitale computers" door het beschikbaar stellen van onderlinge externe verbindingen, welke communicatie met een éénrichtingsgegevenssnelheid groter dan 2,0 Gbyte/s per verbinding mogelijk maakt.







  : | In 4A003.g worden niet bedoeld interne onderlinge verbindingen (zoals ‹backplanes›, ‹buses›), passieve onderlinge verbindingen, "netwerktoegangsbesturingseenheden" of "communicatiekanaalbesturingseenheden". |
| --- | --- | --- |

g.

apparatuur, speciaal ontworpen voor het samenvoegen van de prestaties van "digitale computers" door het beschikbaar stellen van onderlinge externe verbindingen, welke communicatie met een éénrichtingsgegevenssnelheid groter dan 2,0 Gbyte/s per verbinding mogelijk maakt.

:

4A004Computers, als hieronder, en speciaal daarvoor ontworpen aanverwante apparatuur, "samenstellingen" en onderdelen:

| a. | "‹systolic array›-computers"; |
| --- | --- |

a.

"‹systolic array›-computers";

| b. | "neurale computers"; |
| --- | --- |

b.

"neurale computers";

| c. | "optische computers". |
| --- | --- |

c.

"optische computers".

4A101Analoge computers, "digitale computers" of digitale differentiaalanalysators, anders dan bedoeld in 4A001.a.1, geschikt voor ruw gebruik en ontworpen of aangepast voor gebruik in ruimtelanceervoertuigen, vermeld in 9A004, of sonderingsraketten, vermeld in 9A104.

4A102"Hybride computers", speciaal ontworpen voor het modelleren, simuleren of integreren van het ontwerp van ruimtelanceervoertuigen, vermeld in 9A004, of sonderingsraketten, vermeld in 9A104.

| : | Deze post is alleen van toepassing als de apparatuur wordt geleverd met programmatuur, vermeld in 7D103 of 9D103. |
| --- | --- |

:

4BTest-, inspectie- en productieapparatuur

Geen.

4CMaterialen

Geen.

4DProgrammatuur

| : | De embargostatus van "programmatuur" voor de "ontwikkeling", de "productie", of het "gebruik" van apparatuur omschreven in andere categorieën, wordt in de desbetreffende categorie behandeld. |
| --- | --- |

:

4D001"Programmatuur", als hieronder:

| a. | "Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur, materialen of "programmatuur", vermeld in 4A001 t/m 4A004 of 4D. |
| --- | --- |

a.

"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur, materialen of "programmatuur", vermeld in 4A001 t/m 4A004 of 4D.

| b. | Andere dan de onder 4D001a genoemde "programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling" of de "productie" van de onderstaande apparatuur:






  1. | "digitale computers" met een aangepast piekvermogen ("APP") van meer dan 0,25 gewogen TeraFLOPS (WT); |
| --- | --- | --- |

b.

Andere dan de onder 4D001a genoemde "programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling" of de "productie" van de onderstaande apparatuur:

1.

"digitale computers" met een aangepast piekvermogen ("APP") van meer dan 0,25 gewogen TeraFLOPS (WT);

| 2. | "samenstellingen", speciaal ontworpen of aangepast voor verhoging van de prestaties door samenvoeging van processoren zodat de "APP" van de samengevoegde processoren de limiet van 4D001.b.1 overschrijdt; |
| --- | --- |

2.

"samenstellingen", speciaal ontworpen of aangepast voor verhoging van de prestaties door samenvoeging van processoren zodat de "APP" van de samengevoegde processoren de limiet van 4D001.b.1 overschrijdt;

4D002"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor ondersteuning van "technologie", vermeld in 4E.

4D003niet gebruikt.

4ETechnologie

4E001

| a. | "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur, materialen of "programmatuur", vermeld in 4A of 4D. |
| --- | --- |

a.

"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur, materialen of "programmatuur", vermeld in 4A of 4D.

| b. | Andere dan de onder 4E001a genoemde "technologie", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling" of de "productie" van de onderstaande apparatuur:






  1. | "digitale computers" met een aangepast piekvermogen ("APP") van meer dan 0,25 TeraFLOPS (WT), |
| --- | --- | --- |

b.

Andere dan de onder 4E001a genoemde "technologie", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling" of de "productie" van de onderstaande apparatuur:

1.

"digitale computers" met een aangepast piekvermogen ("APP") van meer dan 0,25 TeraFLOPS (WT),

| 2. | "samenstellingen", speciaal ontworpen of aangepast voor verhoging van de prestaties door samenvoeging van processoren zodat de "APP" van de samengevoegde processoren de limiet van 4E001.b.1 overschrijdt. |
| --- | --- |

2.

"samenstellingen", speciaal ontworpen of aangepast voor verhoging van de prestaties door samenvoeging van processoren zodat de "APP" van de samengevoegde processoren de limiet van 4E001.b.1 overschrijdt.

TECHNISCHE NOOT BETREFFENDE "AANGEPAST PIEKVERMOGEN" (ADJUSTED PEAK PERFORMANCE) ("APP")

"APP" is een aangepaste pieksnelheid waarbij "digitale computers" drijvende-kommaoptellingen en -vermenigvuldigingen van 64 bit of meer uitvoeren.

"APP" wordt uitgedrukt in gewogen teraFLOPS (<Weighted TeraFLOPS (WT)>), in eenheden van 1012 aangepaste drijvende-kommabewerkingen per seconde.

| n | aantal processoren in "digitale computer" |
| --- | --- |
| i | processornummer (i=1,...,n) |
| ti | cyclustijd processor (ti = 1/Fi) |
| Fi | processorfrequentie |
| Ri | piekrekensnelheid drijvende-kommaberekeningen |
| Wi | aanpassingsfactor architectuur |

n

aantal processoren in "digitale computer"

i

processornummer (i=1,...,n)

ti

cyclustijd processor (ti = 1/Fi)

Fi

processorfrequentie

Ri

piekrekensnelheid drijvende-kommaberekeningen

Wi

aanpassingsfactor architectuur

| 1. | Bepaal voor elke processor i het piekaantal drijvende-kommabewerkingen van 64-bit of meer (FPOi) per cyclus voor elke processor in de "digitale computer".






  : | Bij de bepaling van FPO mag alleen rekening worden gehouden met drijvende-kommaoptellingen en/of -vermenigvuldigingen van 64 bit of meer. Alle drijvende-kommabewerkingen moeten worden uitgedrukt in bewerkingen per processorcyclus; bewerkingen die verscheidene cycli vereisen, kunnen worden uitgedrukt in fractionele resultaten per cyclus. Bij processoren die geen berekeningen met drijvende-kommaoperanden van 64 bits of meer kunnen uitvoeren, is de effectieve rekensnelheid R gelijk aan nul. |
| --- | --- | --- |

1.

Bepaal voor elke processor i het piekaantal drijvende-kommabewerkingen van 64-bit of meer (FPOi) per cyclus voor elke processor in de "digitale computer".

:

Bij de bepaling van FPO mag alleen rekening worden gehouden met drijvende-kommaoptellingen en/of -vermenigvuldigingen van 64 bit of meer. Alle drijvende-kommabewerkingen moeten worden uitgedrukt in bewerkingen per processorcyclus; bewerkingen die verscheidene cycli vereisen, kunnen worden uitgedrukt in fractionele resultaten per cyclus. Bij processoren die geen berekeningen met drijvende-kommaoperanden van 64 bits of meer kunnen uitvoeren, is de effectieve rekensnelheid R gelijk aan nul.

| 2. | Bereken de drijvende-kommarekensnelheid R voor elke processor Ri = FPOi/ti. |
| --- | --- |

2.

Bereken de drijvende-kommarekensnelheid R voor elke processor Ri = FPOi/ti.

| 3. | Bereken het "APP" als "APP" = W1 × R1 + W2 × R2 + ... + Wn × Rn. |
| --- | --- |

3.

Bereken het "APP" als "APP" = W1 × R1 + W2 × R2 + ... + Wn × Rn.

| 4. | Voor ‧vectorprocessoren‧ is Wi = 0,9. Voor non-‧vectorprocessoren‧ is Wi = 0,3.






  : | Voor processoren die in één cyclus samengestelde bewerkingen uitvoeren, zoals optellen en vermenigvuldigen, wordt elke bewerking geteld. |
| --- | --- | --- |

4.

Voor ‧vectorprocessoren‧ is Wi = 0,9. Voor non-‧vectorprocessoren‧ is Wi = 0,3.

:

Voor processoren die in één cyclus samengestelde bewerkingen uitvoeren, zoals optellen en vermenigvuldigen, wordt elke bewerking geteld.

| : | Voor een pijplijnprocessor is de effectieve rekensnelheid R de hoogste pijplijnsnelheid, nadat de pijplijn vol is, of de snelheid zonder pijplijn. |
| --- | --- |

:

Voor een pijplijnprocessor is de effectieve rekensnelheid R de hoogste pijplijnsnelheid, nadat de pijplijn vol is, of de snelheid zonder pijplijn.

| : | De rekensnelheid R van elke processor die een bijdrage levert, moet worden berekend als de maximumwaarde die theoretisch mogelijk is vooraleer het "APP" van de combinatie wordt afgeleid. Gelijktijdige bewerkingen worden geacht te bestaan wanneer de computerfabrikant in een handleiding of folder in verband met de computer stelt dat er zich samenlopende, parallelle of gelijktijdige bewerkingen of uitvoeringen voordoen. |
| --- | --- |

:

De rekensnelheid R van elke processor die een bijdrage levert, moet worden berekend als de maximumwaarde die theoretisch mogelijk is vooraleer het "APP" van de combinatie wordt afgeleid. Gelijktijdige bewerkingen worden geacht te bestaan wanneer de computerfabrikant in een handleiding of folder in verband met de computer stelt dat er zich samenlopende, parallelle of gelijktijdige bewerkingen of uitvoeringen voordoen.

| : | Processoren die zijn beperkt tot ‹input/output› en randapparatuurfuncties (bijvoorbeeld ‹disk drive›, communicatie en ‹video display›) worden bij de berekening van het "APP" niet in aanmerking genomen. |
| --- | --- |

:

Processoren die zijn beperkt tot ‹input/output› en randapparatuurfuncties (bijvoorbeeld ‹disk drive›, communicatie en ‹video display›) worden bij de berekening van het "APP" niet in aanmerking genomen.

| : | Er worden geen "APP"-waarden berekend voor processorcombinaties die (onderling) zijn verbonden via "lokale netwerken", ‹wide area networks›, gemeenschappelijke aansluitingen/apparatuur voor ‹input/output›, ‹input/output controllers› en eventuele via "programmatuur" geïmplementeerde communicatieverbindingen. |
| --- | --- |

:

Er worden geen "APP"-waarden berekend voor processorcombinaties die (onderling) zijn verbonden via "lokale netwerken", ‹wide area networks›, gemeenschappelijke aansluitingen/apparatuur voor ‹input/output›, ‹input/output controllers› en eventuele via "programmatuur" geïmplementeerde communicatieverbindingen.

:

| : | Er worden "APP"-waarden berekend voor:






  1. | processorcombinaties die processoren omvatten welke speciaal zijn ontworpen om hogere prestaties te leveren doordat zij worden gecombineerd, gelijktijdig werken en een geheugen delen; |
| --- | --- | --- |

Er worden "APP"-waarden berekend voor:

1.

processorcombinaties die processoren omvatten welke speciaal zijn ontworpen om hogere prestaties te leveren doordat zij worden gecombineerd, gelijktijdig werken en een geheugen delen;

| 2. | combinaties van verscheidene geheugens/processoren die gelijktijdig werken met behulp van speciaal daarvoor ontworpen apparatuur. |
| --- | --- |

2.

combinaties van verscheidene geheugens/processoren die gelijktijdig werken met behulp van speciaal daarvoor ontworpen apparatuur.

| | Een ‧vectorprocessor‧ is een processor met ingebouwde instructies waarbij gelijktijdig verscheidene berekeningen worden uitgevoerd op drijvende-kommavectoren (eendimensionale <arrays> van getallen van 64 bit of meer), met ten minste 2 vectoriële functionele eenheden en ten minste 8 vectorregisters van ten minsten 64 elementen elk. |
| --- | --- |

Een ‧vectorprocessor‧ is een processor met ingebouwde instructies waarbij gelijktijdig verscheidene berekeningen worden uitgevoerd op drijvende-kommavectoren (eendimensionale <arrays> van getallen van 64 bit of meer), met ten minste 2 vectoriële functionele eenheden en ten minste 8 vectorregisters van ten minsten 64 elementen elk.

CATEGORIE 5

TELECOMMUNICATIE EN "INFORMATIEBEVEILIGING"

DEEL 1

TELECOMMUNICATIE

| : | In categorie 5, deel 1, wordt de embargostatus omschreven van onderdelen, "lasers", test- en "productie"-apparatuur en "programmatuur" daarvoor, die speciaal zijn ontworpen voor telecommunicatieapparatuur of -systemen.




  Voor "lasers" speciaal ontworpen voor telecommunicatieapparatuur of -systemen, zie 6A005.


  :


  Zie ook categorie 5, deel 2, voor apparatuur, onderdelen en programmatuur die functies inzake "informatiebeveiliging" uitvoert of bevat. |
| --- | --- |

:

Voor "lasers" speciaal ontworpen voor telecommunicatieapparatuur of -systemen, zie 6A005.

:

Zie ook categorie 5, deel 2, voor apparatuur, onderdelen en programmatuur die functies inzake "informatiebeveiliging" uitvoert of bevat.

| : | Wanneer "digitale computers", aanverwante apparatuur of "programmatuur" essentieel zijn voor de werking en ondersteuning van in deze categorie omschreven telecommunicatieapparatuur, worden deze beschouwd als speciaal ontworpen onderdelen, mits het de standaarduitvoering betreft die gewoonlijk wordt geleverd door de fabrikant. Hieronder zijn mede begrepen computersystemen voor bediening, beheer, onderhoud, technische wijzigingen en facturering. |
| --- | --- |

:

5A1Systemen, apparatuur en onderdelen

5A001Telecommunicatiesystemen en -apparatuur, en onderdelen en toebehoren daarvoor, als hieronder:

| a. | Alle soorten telecommunicatieapparatuur met een van de volgende kenmerken, functies of eigenschappen:






  1. | speciaal ontworpen om bestand te zijn tegen kortstondige elektronische gevolgen of elektromagnetische impulsie ten gevolge van een kernexplosie; |
| --- | --- | --- |

a.

Alle soorten telecommunicatieapparatuur met een van de volgende kenmerken, functies of eigenschappen:

1.

speciaal ontworpen om bestand te zijn tegen kortstondige elektronische gevolgen of elektromagnetische impulsie ten gevolge van een kernexplosie;

| 2. | speciaal versterkt om bestand te zijn tegen gamma-, neutronen- of ionenstraling; |
| --- | --- |

2.

speciaal versterkt om bestand te zijn tegen gamma-, neutronen- of ionenstraling;

| 3. | speciaal ontworpen voor werktemperaturen buiten het gebied van 218 K (– 55 °C) tot 397 K (124 °C);







  : | 5A001.a.3 is uitsluitend van toepassing op elektronische apparatuur. |
| --- | --- | --- |

3.

speciaal ontworpen voor werktemperaturen buiten het gebied van 218 K (– 55 °C) tot 397 K (124 °C);

:

| : | 5A001.a.2 en 3 zijn niet van toepassing op apparatuur, ontworpen of aangepast voor gebruik aan boord van satellieten. |
| --- | --- |

:

| b. | Telecommunicatiesystemen en -apparatuur, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen en toebehoren, met een van de volgende kenmerken, functies of eigenschappen:






  1. | systemen voor vrije communicatie onder water met een of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een akoestische draagfrequentie buiten het gebied tussen de 20 en 60 kHz; |
| --- | --- | --- | --- |

b.

Telecommunicatiesystemen en -apparatuur, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen en toebehoren, met een van de volgende kenmerken, functies of eigenschappen:

1.

systemen voor vrije communicatie onder water met een of meer van de volgende kenmerken:

a.

een akoestische draagfrequentie buiten het gebied tussen de 20 en 60 kHz;

| b. | gebruik makend van een elektromagnetische draagfrequentie lager dan 30 kHz; |
| --- | --- |

b.

gebruik makend van een elektromagnetische draagfrequentie lager dan 30 kHz;

| c. | gebruik makend van elektronenbundelbesturingstechnieken; |
| --- | --- |

c.

gebruik makend van elektronenbundelbesturingstechnieken;

| d. | gebruik makend van "lasers" of licht emitterende diodes (LED’s) met een golflengte aan de uitgang van meer dan 400 nm en minder dan 700 nm, in een "lokaal netwerk"; |
| --- | --- |

d.

gebruik makend van "lasers" of licht emitterende diodes (LED’s) met een golflengte aan de uitgang van meer dan 400 nm en minder dan 700 nm, in een "lokaal netwerk";

| 2. | radiotransmissieapparatuur met werkfrequentie in de 1,5 - 87,5 MHz band en met alle volgende kenmerken:






  a. | automatisch aangeven en kiezen van frequenties en "totale digitale overbrengsnelheid" per kanaal voor een optimale transmissie; en |
| --- | --- | --- |

2.

radiotransmissieapparatuur met werkfrequentie in de 1,5 - 87,5 MHz band en met alle volgende kenmerken:

a.

automatisch aangeven en kiezen van frequenties en "totale digitale overbrengsnelheid" per kanaal voor een optimale transmissie; en

| b. | met een lineaire vermogensversterkerconfiguratie die verscheidene signalen tegelijk kan onderhouden bij een uitgangsvermogen van 1 kW of meer in het frequentiegebied van 1,5 MHz of hoger, doch lager dan 30 MHz, of van 250 W of meer in het frequentiegebied van 30 MHz of hoger, doch niet hoger dan 87,5 MHz, over een "momentele bandbreedte" van één octaaf of meer en met een harmonisch/vervormingsuitgangsniveau beter dan -80 dB; |
| --- | --- |

b.

met een lineaire vermogensversterkerconfiguratie die verscheidene signalen tegelijk kan onderhouden bij een uitgangsvermogen van 1 kW of meer in het frequentiegebied van 1,5 MHz of hoger, doch lager dan 30 MHz, of van 250 W of meer in het frequentiegebied van 30 MHz of hoger, doch niet hoger dan 87,5 MHz, over een "momentele bandbreedte" van één octaaf of meer en met een harmonisch/vervormingsuitgangsniveau beter dan -80 dB;

| 3. | radioapparatuur die gebruik maakt van "spread spectrum"-technieken, met inbegrip van "frequency hopping"-technieken, met uitzondering van de apparatuur als bedoeld in 5A001.b.4, met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | voor de gebruiker programmeerbare ‧spreading‧-codes, of |
| --- | --- | --- |

3.

radioapparatuur die gebruik maakt van "spread spectrum"-technieken, met inbegrip van "frequency hopping"-technieken, met uitzondering van de apparatuur als bedoeld in 5A001.b.4, met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

voor de gebruiker programmeerbare ‧spreading‧-codes, of

| b. | een totaal uitgezonden bandbreedte die 100-maal of meer zo groot is als de bandbreedte van enig informatiekanaal en groter dan 50 kHz;







  : | 5A001.b.3.b is niet van toepassing op radioapparatuur, speciaal ontworpen voor gebruik met civiele cellulaire radiocommunicatiesystemen. |
| --- | --- | --- |

b.

een totaal uitgezonden bandbreedte die 100-maal of meer zo groot is als de bandbreedte van enig informatiekanaal en groter dan 50 kHz;

:

| : | 5A001.b.3 is niet van toepassing op apparatuur, ontworpen voor een uitgangsvermogen van maximaal 1 W. |
| --- | --- |

:

| 4. | radioapparatuur die gebruik maakt van ultrabreedband-modulatietechnieken, met door de gebruiker programmeerbare kanaliseringscodes, versleutelingscodes of netwerkidentificatiecodes, met een van de volgende kenmerken:






  a. | een bandbreedte van meer dan 500 MHz; of |
| --- | --- | --- |

4.

radioapparatuur die gebruik maakt van ultrabreedband-modulatietechnieken, met door de gebruiker programmeerbare kanaliseringscodes, versleutelingscodes of netwerkidentificatiecodes, met een van de volgende kenmerken:

a.

een bandbreedte van meer dan 500 MHz; of

| b. | een "fractionele bandbreedte" van 20 % of meer; |
| --- | --- |

b.

een "fractionele bandbreedte" van 20 % of meer;

| 5. | digitaal bestuurde radio-ontvangers






  a. | met meer dan 1 000 kanalen; |
| --- | --- | --- |

5.

digitaal bestuurde radio-ontvangers

a.

met meer dan 1 000 kanalen;

| b. | die een "frequentiewisseltijd" hebben korter dan 1 ms; |
| --- | --- |

b.

die een "frequentiewisseltijd" hebben korter dan 1 ms;

| c. | die automatisch een deel van het elektromagnetische spectrum afzoeken of aftasten; en |
| --- | --- |

c.

die automatisch een deel van het elektromagnetische spectrum afzoeken of aftasten; en

| d. | die de ontvangen signaalfrequentie of het zendertype identificeren; | 5A001.b.5 is niet van toepassing op radioapparatuur, speciaal ontworpen voor gebruik met civiele cellulaire radiocommunicatiesystemen. |
| --- | --- | --- |

d.

die de ontvangen signaalfrequentie of het zendertype identificeren;

| 6. | die gebruik maken van digitale "signaalverwerkings"-functies met het oog op ‧spraakcodering‧ met een snelheid van minder dan 2 400 bit/s;










  1. | Voor ‧spraakcodering‧ met variabele snelheid is 5A001.b.6 van toepassing op de ‧spraakcodering‧ van continue spraak. |
| --- | --- | --- |

6.

die gebruik maken van digitale "signaalverwerkings"-functies met het oog op ‧spraakcodering‧ met een snelheid van minder dan 2 400 bit/s;

1.

| 2. | Voor de toepassing van 5A001.b.6. wordt ‧spraakcodering‧ gedefinieerd als de techniek om samples van de menselijke stem te nemen en deze om te zetten in een digitaal signaal, rekening houdend met de specifieke kenmerken van de menselijke spraak. |
| --- | --- |

2.

| c. | glasvezels met een lengte van meer dan 500 m die volgens de specificaties van de fabrikant een tijdens de ‧normtest‧ uitgeoefende trekspanning weerstaan van 2 × 109 N/m2 of meer;







  : | zie 8A002.a.3 voor voedingsleidingen voor gebruik onder water |
| --- | --- | --- |

c.

glasvezels met een lengte van meer dan 500 m die volgens de specificaties van de fabrikant een tijdens de ‧normtest‧ uitgeoefende trekspanning weerstaan van 2 × 109 N/m2 of meer;

:

:

‧Normtest‧ houdt in het steekproefsgewijs testen tijdens of buiten de productie waarbij dynamisch een voorgeschreven trekspanning wordt uitgeoefend op vezel met een lengte tussen de 0,5 en 3 m, terwijl deze met een snelheid van 2 à 5 m/s tussen rollen met een diameter van ongeveer 150 mm doorloopt.

De omgevingstemperatuur is hierbij nominaal 293 K (20 °C) en de relatieve vochtigheidsgraad 40 %. Voor het uitvoeren van de ‧normtest‧ mogen gelijkwaardige nationale normen worden gehanteerd.

| d. | Elektronisch fasegestuurde antennesystemen opgebouwd uit een aantal identieke antennes (‹phased array antennae›) met een werkfrequentie hoger dan 31.8 GHz;







  : | In 5A001.d. worden niet bedoeld elektronisch fasegestuurde antennesystemen opgebouwd uit een aantal identieke antennes voor landingssystemen met instrumenten die voldoen aan de ICAO-normen (International Civil Aviation Organisation) (microgolf landingssystemen (MLS)). |
| --- | --- | --- |

d.

Elektronisch fasegestuurde antennesystemen opgebouwd uit een aantal identieke antennes (‹phased array antennae›) met een werkfrequentie hoger dan 31.8 GHz;

:

| e. | Radiorichtingzoekende apparatuur met een werkfrequentie van meer dan 30 MHz en met alle volgende kenmerken, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:






  1. | een "momentele bandbreedte" van 10 MHz of meer; en |
| --- | --- | --- |

e.

Radiorichtingzoekende apparatuur met een werkfrequentie van meer dan 30 MHz en met alle volgende kenmerken, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

1.

een "momentele bandbreedte" van 10 MHz of meer; en

| 2. | een peillijn (<line of bearing> (LOB)) kunnen vinden naar niet-meewerkende radiozenders met een signaalduur van minder dan 1 ms. |
| --- | --- |

2.

een peillijn (<line of bearing> (LOB)) kunnen vinden naar niet-meewerkende radiozenders met een signaalduur van minder dan 1 ms.

| f. | Stoorapparatuur die speciaal is ontworpen of aangepast om opzettelijk en selectief mobiele telecommunicatiediensten te storen, onmogelijk te maken, te hinderen, de kwaliteit van die diensten te verslechteren of deze te deviëren, met een of meer van de volgende kenmerken, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:






  1. | simuleren van de functies van apparatuur van radiotoegangsnetwerken (RAN); |
| --- | --- | --- |

f.

Stoorapparatuur die speciaal is ontworpen of aangepast om opzettelijk en selectief mobiele telecommunicatiediensten te storen, onmogelijk te maken, te hinderen, de kwaliteit van die diensten te verslechteren of deze te deviëren, met een of meer van de volgende kenmerken, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

1.

simuleren van de functies van apparatuur van radiotoegangsnetwerken (RAN);

| 2. | opsporen en gebruikmaken van specifieke kenmerken van het gebruikte protocol voor mobiele telecommunicatie (bijvoorbeeld GSM); of |
| --- | --- |

2.

opsporen en gebruikmaken van specifieke kenmerken van het gebruikte protocol voor mobiele telecommunicatie (bijvoorbeeld GSM); of

| 3. | gebruikmaken van specifieke kenmerken van het gebruikte protocol voor mobiele telecommunicatie (bijvoorbeeld GSM);







  : | Voor GNSS-stoorapparatuur zie de lijst militaire goederen. |
| --- | --- | --- |

3.

gebruikmaken van specifieke kenmerken van het gebruikte protocol voor mobiele telecommunicatie (bijvoorbeeld GSM);

:

| g. | Passieve lokaliseringssystemen of -apparatuur (PCL) speciaal ontworpen voor het opsporen en volgen van bewegende voorwerpen door het meten van weerkaatsingen van radiofrequentie-emissies in de omgeving, afkomstig van niet-radarzenders;




  Het begrip niet-radarzenders kan betrekking hebben op commerciële radiozenders, tv-zenders of basisstations voor cellulaire telecommunicatie








  : | 5A001.g. is niet van toepassing op:







  a. | radioastronomische apparatuur; |
| --- | --- | --- | --- |

g.

Passieve lokaliseringssystemen of -apparatuur (PCL) speciaal ontworpen voor het opsporen en volgen van bewegende voorwerpen door het meten van weerkaatsingen van radiofrequentie-emissies in de omgeving, afkomstig van niet-radarzenders;

Het begrip niet-radarzenders kan betrekking hebben op commerciële radiozenders, tv-zenders of basisstations voor cellulaire telecommunicatie

:

a.

radioastronomische apparatuur;

| b. | systemen en toestellen waarvoor radiotransmissie vanuit het doel nodig is. |
| --- | --- |

b.

systemen en toestellen waarvoor radiotransmissie vanuit het doel nodig is.

| h. | Op radiofrequentie wekende zendapparatuur die ontworpen of aangepast is om geïmproviseerde explosieven (IED’s) voortijdig te activeren of het initiëren daarvan te voorkomen.







  NB: | ZIE OOK 5A001.f EN DE LIJST MILITAIRE GOEDEREN. |
| --- | --- | --- |

h.

Op radiofrequentie wekende zendapparatuur die ontworpen of aangepast is om geïmproviseerde explosieven (IED’s) voortijdig te activeren of het initiëren daarvan te voorkomen.

NB:

5A101Apparatuur voor telemetrie en afstandsbesturing, inclusief grondapparatuur die is ontworpen of aangepast voor "raketten".

:

In 5A101 wordt onder ‧raket‧ verstaan: complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen met een bereik van meer dan 300 km.

| : | In 5A101 wordt niet bedoeld:







  a. | apparatuur, speciaal ontworpen of aangepast voor bemande luchtvaartuigen of satellieten; |
| --- | --- | --- |

:

a.

apparatuur, speciaal ontworpen of aangepast voor bemande luchtvaartuigen of satellieten;

| b. | grondapparatuur ontworpen of aangepast voor toepassingen te land of op zee; |
| --- | --- |

b.

grondapparatuur ontworpen of aangepast voor toepassingen te land of op zee;

| c. | apparatuur ontworpen voor commerciële, civiele of ‧Safety of Life‧-GNSS-diensten (bv. gegevensintegriteit, vliegveiligheid); |
| --- | --- |

c.

apparatuur ontworpen voor commerciële, civiele of ‧Safety of Life‧-GNSS-diensten (bv. gegevensintegriteit, vliegveiligheid);

5B1Test-, inspectie- en productieapparatuur

5B001Test-, inspectie- en productieapparatuur voor telecommunicatiesystemen, en onderdelen en toebehoren daarvoor, als hieronder:

| a. | Apparatuur, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen en toebehoren, speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur, functies of eigenschappen, bedoeld in 5A001;







  : | In 5B001.a is niet bedoeld apparatuur voor het karakteriseren van glasvezels. |
| --- | --- | --- |

a.

Apparatuur, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen en toebehoren, speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur, functies of eigenschappen, bedoeld in 5A001;

:

| b. | Apparatuur, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen en toebehoren, speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" van een of meer van de volgende soorten telecommunicatietransmissie of schakelapparatuur:






  1. | niet gebruikt; |
| --- | --- | --- |

b.

Apparatuur, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen en toebehoren, speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" van een of meer van de volgende soorten telecommunicatietransmissie of schakelapparatuur:

1.

niet gebruikt;

| 2. | apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van een "laser", en die een van de volgende kenmerken heeft:






  a. | een transmissiegolflengte groter dan 1 750 nm; |
| --- | --- | --- |

2.

apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van een "laser", en die een van de volgende kenmerken heeft:

a.

een transmissiegolflengte groter dan 1 750 nm;

| b. | de functie "optische versterking" door middel van praseodymium-gedoteerde fluorvezelversterker (PDFFA); |
| --- | --- |

b.

de functie "optische versterking" door middel van praseodymium-gedoteerde fluorvezelversterker (PDFFA);

| c. | gebruik makend van coherente optische transmissietechnieken of coherente optische detectietechnieken (ook wel optische heterodyne of homodyne technieken genoemd); of |
| --- | --- |

c.

gebruik makend van coherente optische transmissietechnieken of coherente optische detectietechnieken (ook wel optische heterodyne of homodyne technieken genoemd); of

| d. | gebruik makend van analoge technieken en met een bandbreedte groter dan 2,5 GHz;







  : | 5B001.b.2.d. is niet van toepassing op apparatuur, speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" van commerciële TV-systemen. |
| --- | --- | --- |

d.

gebruik makend van analoge technieken en met een bandbreedte groter dan 2,5 GHz;

:

| 3. | niet gebruikt; |
| --- | --- |

3.

niet gebruikt;

| 4. | radioapparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van kwadratuur-amplitudemodulatie (QAM)-technieken boven niveau 256; of |
| --- | --- |

4.

radioapparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van kwadratuur-amplitudemodulatie (QAM)-technieken boven niveau 256; of

| 5. | Apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van "eenkanaalsignalering" (‹common channel signalling›) in niet-verbonden bedrijfswijze; |
| --- | --- |

5.

Apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van "eenkanaalsignalering" (‹common channel signalling›) in niet-verbonden bedrijfswijze;

5C1Materialen

Geen

5D1Programmatuur

5D001"Programmatuur" als hieronder

| a. | "Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur, functies of eigenschappen bedoeld in 5A001; |
| --- | --- |

a.

"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur, functies of eigenschappen bedoeld in 5A001;

| b. | "Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor ondersteuning van "technologie", bedoeld in 5E001; |
| --- | --- |

b.

"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor ondersteuning van "technologie", bedoeld in 5E001;

| c. | Specifieke "programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor het verschaffen van kenmerken, functies of eigenschappen van apparatuur bedoeld in 5A001 of 5B001; |
| --- | --- |

c.

Specifieke "programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor het verschaffen van kenmerken, functies of eigenschappen van apparatuur bedoeld in 5A001 of 5B001;

| d. | Programmatuur speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling" van een van de volgende soorten telecommunicatietransmissie of schakelapparatuur:






  1. | niet gebruikt; |
| --- | --- | --- |

d.

Programmatuur speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling" van een van de volgende soorten telecommunicatietransmissie of schakelapparatuur:

1.

niet gebruikt;

| 2. | apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van een "laser", en die een van de volgende kenmerken heeft:






  a. | een transmissiegolflengte groter dan 1 750 nm; of |
| --- | --- | --- |

2.

apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van een "laser", en die een van de volgende kenmerken heeft:

a.

een transmissiegolflengte groter dan 1 750 nm; of

| b. | gebruik makend van analoge technieken en met een bandbreedte groter dan 2,5 GHz;







  : | 5D001.d.2.b is niet van toepassing op “programmatuur”, speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling" van commerciële TV-systemen. |
| --- | --- | --- |

b.

gebruik makend van analoge technieken en met een bandbreedte groter dan 2,5 GHz;

:

| 3. | niet gebruikt; |
| --- | --- |

3.

niet gebruikt;

| 4. | radioapparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van kwadratuur-amplitudemodulatie (QAM)-technieken boven niveau 256; |
| --- | --- |

4.

radioapparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van kwadratuur-amplitudemodulatie (QAM)-technieken boven niveau 256;

5D101"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor het “gebruik” van in 5A101 bedoelde apparatuur.

5E1Technologie

5E001"Technologie" als hieronder:

| a. | "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" (de bediening niet inbegrepen) van apparatuur, functies of eigenschappen bedoeld in 5A001, of van de "programmatuur" bedoeld in 5D001.a.; |
| --- | --- |

a.

"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" (de bediening niet inbegrepen) van apparatuur, functies of eigenschappen bedoeld in 5A001, of van de "programmatuur" bedoeld in 5D001.a.;

| b. | Specifieke "technologie", als hieronder:






  1. | "noodzakelijke""technologie" voor de "ontwikkeling" of de "productie" van telecommunicatieapparatuur, speciaal ontworpen voor gebruik aan boord van satellieten; |
| --- | --- | --- |

b.

Specifieke "technologie", als hieronder:

1.

"noodzakelijke""technologie" voor de "ontwikkeling" of de "productie" van telecommunicatieapparatuur, speciaal ontworpen voor gebruik aan boord van satellieten;

| 2. | "technologie" voor de "ontwikkeling" of het "gebruik" van "laser"-communicatietechnieken die geschikt zijn voor het automatisch verzamelen en volgen van signalen en die communicatie onderhouden via de exosfeer, onder de grond of onder water; |
| --- | --- |

2.

"technologie" voor de "ontwikkeling" of het "gebruik" van "laser"-communicatietechnieken die geschikt zijn voor het automatisch verzamelen en volgen van signalen en die communicatie onderhouden via de exosfeer, onder de grond of onder water;

| 3. | "technologie" voor de "ontwikkeling" van digitale ontvangstapparatuur voor cellulaire radiobasisstations waarvan de ontvangstmogelijkheden, die werking via meerdere banden, kanalen, modi, algoritmecodes of protocols mogelijk maken, door veranderingen in de programmatuur kunnen worden gewijzigd; |
| --- | --- |

3.

"technologie" voor de "ontwikkeling" van digitale ontvangstapparatuur voor cellulaire radiobasisstations waarvan de ontvangstmogelijkheden, die werking via meerdere banden, kanalen, modi, algoritmecodes of protocols mogelijk maken, door veranderingen in de programmatuur kunnen worden gewijzigd;

| 4. | "technologie" voor de "ontwikkeling" van "spread spectrum"-technieken, met inbegrip van "frequency hopping"-technieken;







  : | 5E001.b.4. is niet van toepassing op "technologie" voor de "ontwikkeling" van cellulaire civiele radiocommunicatiesystemen |
| --- | --- | --- |

4.

"technologie" voor de "ontwikkeling" van "spread spectrum"-technieken, met inbegrip van "frequency hopping"-technieken;

:

| c. | "Technologie" overeenkomstig de Algemene Technologienoot voor de "ontwikkeling" of de "productie" van een van de volgende soorten apparatuur:






  1. | apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van digitale technieken, ontworpen voor het werken bij een "totale digitale overbrengsnelheid" hoger dan 50 Gbit/s;

  :


  Voor telecommunicatieschakelapparatuur is de "totale digitale overbrengingssnelheid" de snelheid in één richting van één enkele interface, gemeten bij de snelste poort of lijn. |
| --- | --- | --- |

c.

"Technologie" overeenkomstig de Algemene Technologienoot voor de "ontwikkeling" of de "productie" van een van de volgende soorten apparatuur:

1.

apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van digitale technieken, ontworpen voor het werken bij een "totale digitale overbrengsnelheid" hoger dan 50 Gbit/s;

:

Voor telecommunicatieschakelapparatuur is de "totale digitale overbrengingssnelheid" de snelheid in één richting van één enkele interface, gemeten bij de snelste poort of lijn.

| 2. | apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van een "laser", en die een van de volgende kenmerken heeft:






  a. | een transmissiegolflengte groter dan 1 750 nm; |
| --- | --- | --- |

2.

apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van een "laser", en die een van de volgende kenmerken heeft:

a.

een transmissiegolflengte groter dan 1 750 nm;

| b. | de functie "optische versterking", waarbij gebruik wordt gemaakt van versterkers van praseodymium-gedoteerde fluorvezel (PDFFA); |
| --- | --- |

b.

de functie "optische versterking", waarbij gebruik wordt gemaakt van versterkers van praseodymium-gedoteerde fluorvezel (PDFFA);

| c. | gebruik makend van coherente optische transmissietechnieken of coherente optische detectietechnieken (ook wel optische heterodyne of homodyne technieken genoemd); |
| --- | --- |

c.

gebruik makend van coherente optische transmissietechnieken of coherente optische detectietechnieken (ook wel optische heterodyne of homodyne technieken genoemd);

| d. | gebruik makend van golflengteverdeling-multiplexing (‹wave length division multiplexing›)-technieken van optische dragers met intervallen van minder dan 100 GHz; of |
| --- | --- |

d.

gebruik makend van golflengteverdeling-multiplexing (‹wave length division multiplexing›)-technieken van optische dragers met intervallen van minder dan 100 GHz; of

| e. | gebruik makend van analoge technieken en met een bandbreedte groter dan 2,5 GHz;







  : | 5E001.c.2.e is niet van toepassing op "technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van commerciële TV-systemen. |
| --- | --- | --- |

e.

gebruik makend van analoge technieken en met een bandbreedte groter dan 2,5 GHz;

:

:

Voor "technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van niet voor telecommunicatie bestemde apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van een laser, zie 6E.

| 3. | apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van "optisch schakelen" en met een schakeltijd van minder dan 1 ms; |
| --- | --- |

3.

apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van "optisch schakelen" en met een schakeltijd van minder dan 1 ms;

| 4. | radioapparatuur:






  a. | waarin gebruik wordt gemaakt van kwadratuur-amplitudemodulatie (QAM)-technieken boven niveau 256; |
| --- | --- | --- |

4.

radioapparatuur:

a.

waarin gebruik wordt gemaakt van kwadratuur-amplitudemodulatie (QAM)-technieken boven niveau 256;

| b. | met een in- of uitvoerwerkfrequentie hoger dan 31,8 GHz; of







  : | Niet bedoeld wordt in 5E001.c.4.b "technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van apparatuur ontworpen of aangepast voor werking in een frequentieband die is "toegewezen door de ITU" voor radiocommunicatiediensten, maar niet voor radiodeterminatie. |
| --- | --- | --- |

b.

met een in- of uitvoerwerkfrequentie hoger dan 31,8 GHz; of

:

| c. | met werkfrequentie in de 1,5 - 87,5 MHz band en met adaptieve technieken die meer dan 15 dB onderdrukking van storende signalen verschaffen; |
| --- | --- |

c.

met werkfrequentie in de 1,5 - 87,5 MHz band en met adaptieve technieken die meer dan 15 dB onderdrukking van storende signalen verschaffen;

| 5. | apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van "eenkanaalsignalering" (‹common channel signalling›) in niet-verbonden bedrijfswijze; of |
| --- | --- |

5.

apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van "eenkanaalsignalering" (‹common channel signalling›) in niet-verbonden bedrijfswijze; of

| 6. | Mobiele apparatuur, met alle volgende kenmerken:






  a. | met een optische golflengte groter dan of gelijk aan 200 nm en kleinder dan of gelijk aan 400 nm; en |
| --- | --- | --- |

6.

Mobiele apparatuur, met alle volgende kenmerken:

a.

met een optische golflengte groter dan of gelijk aan 200 nm en kleinder dan of gelijk aan 400 nm; en

| b. | gebruikt als een "lokaal netwerk"; |
| --- | --- |

b.

gebruikt als een "lokaal netwerk";

| d. | "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" of de "productie" van speciaal voor telecommunicatie ontwikkelde monolithisch geïntegreerde" microgolf-schakelingen- (MMIC-)vermogensversterkers met een van de volgende kenmerken:






  1. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 3,2 GHz en tot en met 6,8 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 4 W (36 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 15 %; |
| --- | --- | --- |

d.

"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" of de "productie" van speciaal voor telecommunicatie ontwikkelde monolithisch geïntegreerde" microgolf-schakelingen- (MMIC-)vermogensversterkers met een van de volgende kenmerken:

1.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 3,2 GHz en tot en met 6,8 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 4 W (36 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 15 %;

| 2. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 6,8 GHz en tot en met 16 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 1 W (30 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 10 %; |
| --- | --- |

2.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 6,8 GHz en tot en met 16 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 1 W (30 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 10 %;

| 3. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 16 GHz en tot en met 31,8 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 0,8 W (29 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 10 %; |
| --- | --- |

3.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 16 GHz en tot en met 31,8 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 0,8 W (29 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 10 %;

| 4. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 31,8 GHz en tot en met 37,5 GHz;. |
| --- | --- |

4.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 31,8 GHz en tot en met 37,5 GHz;.

| 5. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 37,5 GHz en tot en met 43,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 0,25 W (24 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 10 %; of |
| --- | --- |

5.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 37,5 GHz en tot en met 43,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 0,25 W (24 dBm) met een "fractionele bandbreedte" van meer dan 10 %; of

| 6. | gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 43,5 GHz; |
| --- | --- |

6.

gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 43,5 GHz;

| e. | "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" of de "productie" van elektronische apparaten of schakelingen die speciaal ontworpen zijn voor telecommunicatie en die onderdelen bevatten vervaardigd van "supergeleidende" materialen die speciaal zijn ontworpen om te werken bij temperaturen beneden de "kritische temperatuur" van ten minste een van de "supergeleidende" bestanddelen en met een of meer van de volgende functies:






  1. | stroomschakelen voor digitale schakelingen die gebruikmaken van "supergeleidende" poorten waarbij het product van de vertragingstijd per poort (in seconden) en het energieverlies per poort (in watt) kleiner is dan 10-14 J, of |
| --- | --- | --- |

e.

"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" of de "productie" van elektronische apparaten of schakelingen die speciaal ontworpen zijn voor telecommunicatie en die onderdelen bevatten vervaardigd van "supergeleidende" materialen die speciaal zijn ontworpen om te werken bij temperaturen beneden de "kritische temperatuur" van ten minste een van de "supergeleidende" bestanddelen en met een of meer van de volgende functies:

1.

stroomschakelen voor digitale schakelingen die gebruikmaken van "supergeleidende" poorten waarbij het product van de vertragingstijd per poort (in seconden) en het energieverlies per poort (in watt) kleiner is dan 10-14 J, of

| 2. | frequentieselectie bij alle frequenties met toepassing van afstemkringen met een Q-waarde hoger dan 10 000. |
| --- | --- |

2.

frequentieselectie bij alle frequenties met toepassing van afstemkringen met een Q-waarde hoger dan 10 000.

5E101"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur, bedoeld in 5A101

DEEL 2

"INFORMATIEBEVEILIGING"

| : | In categorie 5, deel 2, wordt de embargostatus omschreven van apparatuur, "programmatuur", systemen, voor specifieke toepassingen bestemde "samenstellingen", modulen, geïntegreerde schakelingen, onderdelen of functies ten behoeve van "informatiebeveiliging", ook indien het onderdelen of "samenstellingen" van andere apparatuur betreft. |
| --- | --- |

:

| : | Categorie 5, deel 2, is niet van toepassing op producten wanneer deze door de gebruiker voor persoonlijk gebruik worden meegevoerd. |
| --- | --- |

:

| : | 5A002 en 5D002 gelden niet voor goederen die aan alle onderstaande criteria voldoen:








  a. | De goederen zijn algemeen voor het publiek verkrijgbaar doordat ze zonder beperkingen via de detailhandel uit voorraad wordt verkocht via:








  1. | winkelverkoop; |
| --- | --- | --- | --- |

:

5A002 en 5D002 gelden niet voor goederen die aan alle onderstaande criteria voldoen:

a.

De goederen zijn algemeen voor het publiek verkrijgbaar doordat ze zonder beperkingen via de detailhandel uit voorraad wordt verkocht via:

1.

winkelverkoop;

| 2. | postorderverkoop; |
| --- | --- |

2.

postorderverkoop;

| 3. | elektronische verkoop; of |
| --- | --- |

3.

elektronische verkoop; of

| 4. | telefonische verkoop; |
| --- | --- |

4.

telefonische verkoop;

| b. | De cryptografische werking kan niet eenvoudig door de gebruiker worden veranderd; |
| --- | --- |

b.

De cryptografische werking kan niet eenvoudig door de gebruiker worden veranderd;

| c. | De goederen zijn ontworpen voor installatie door de gebruiker zonder wezenlijke ondersteuning van de leverancier; |
| --- | --- |

c.

De goederen zijn ontworpen voor installatie door de gebruiker zonder wezenlijke ondersteuning van de leverancier;

| d. | Zo nodig zijn er over deze goederen nadere gegevens beschikbaar, die op verzoek worden verstrekt aan de bevoegde autoriteiten van de lidstaat waarin de exporteur gevestigd is, zodat kan worden vastgesteld of aan de onder a. tot en met c. beschreven voorwaarden wordt voldaan. |
| --- | --- |

d.

Zo nodig zijn er over deze goederen nadere gegevens beschikbaar, die op verzoek worden verstrekt aan de bevoegde autoriteiten van de lidstaat waarin de exporteur gevestigd is, zodat kan worden vastgesteld of aan de onder a. tot en met c. beschreven voorwaarden wordt voldaan.

| : | Categorie 5, deel 2, is niet van toepassing op producten die "cryptografie" bevatten of gebruiken en aan alle onderstaande criteria voldoen:







  a. | de primaire functie of functiereeks is niet een van de volgende:








  1. | "informatiebeveiliging"; |
| --- | --- | --- | --- |

:

a.

de primaire functie of functiereeks is niet een van de volgende:

1.

"informatiebeveiliging";

| 2. | een computer, inclusief besturingssystemen, delen of onderdelen ervan; |
| --- | --- |

2.

een computer, inclusief besturingssystemen, delen of onderdelen ervan;

| 3. | het versturen, ontvangen of opslaan van informatie (tenzij ten behoeve van entertainment, reclamespots, beheer van digitale rechten of beheer van medische dossiers); of |
| --- | --- |

3.

het versturen, ontvangen of opslaan van informatie (tenzij ten behoeve van entertainment, reclamespots, beheer van digitale rechten of beheer van medische dossiers); of

| 4. | netwerkverbinding (hieronder valt de werking, het aansturen, het beheer en de toelevering); |
| --- | --- |

4.

netwerkverbinding (hieronder valt de werking, het aansturen, het beheer en de toelevering);

| b. | de cryptografiefunctie is beperkt tot het ondersteunen van de primaire functie of functiereeks van de betrokken producten; en |
| --- | --- |

b.

de cryptografiefunctie is beperkt tot het ondersteunen van de primaire functie of functiereeks van de betrokken producten; en

| c. | indien nodig zijn nadere bijzonderheden over de producten beschikbaar en worden deze desgevraagd aan de bevoegde autoriteit in het land van de exporteur verstrekt, zodat kan worden nagegaan of aan de voorwaarden van de punten a. en b. is voldaan. |
| --- | --- |

c.

indien nodig zijn nadere bijzonderheden over de producten beschikbaar en worden deze desgevraagd aan de bevoegde autoriteit in het land van de exporteur verstrekt, zodat kan worden nagegaan of aan de voorwaarden van de punten a. en b. is voldaan.

:

In categorie 5, deel 2, worden pariteitsbits niet meegerekend voor de sleutellengte.

5A2Systemen, apparatuur en onderdelen

5A002"Informatiebeveiligings"-systemen en -apparatuur, en onderdelen daarvoor, als hieronder:

| a. | Systemen, apparatuur, voor specifieke toepassingen bestemde "samenstellingen", modulen of geïntegreerde schakelingen ten behoeve van "informatiebeveiliging", als hieronder, en onderdelen daarvoor, speciaal ontworpen voor "informatiebeveiliging":

  :


  Zie 7A005 voor de embargostatus van satellietontvangers voor wereldwijde navigatiesystemen (Global Navigation Satellite Systems - GNSS) met of gebruikmakend van ontcijfering.







  1. | ontworpen of aangepast voor het hanteren van "cryptografie" met gebruikmaking van digitale technieken ter uitvoering van cryptografische functies, met uitzondering van authentificatie en digitale handtekening, met behulp van:










  1. | Onder authentificatie- en digitalehandtekeningfuncties valt ook de daarmee samenhangende sleutelbeheersfunctie. |
| --- | --- | --- | --- |

a.

Systemen, apparatuur, voor specifieke toepassingen bestemde "samenstellingen", modulen of geïntegreerde schakelingen ten behoeve van "informatiebeveiliging", als hieronder, en onderdelen daarvoor, speciaal ontworpen voor "informatiebeveiliging":

:

Zie 7A005 voor de embargostatus van satellietontvangers voor wereldwijde navigatiesystemen (Global Navigation Satellite Systems - GNSS) met of gebruikmakend van ontcijfering.

1.

ontworpen of aangepast voor het hanteren van "cryptografie" met gebruikmaking van digitale technieken ter uitvoering van cryptografische functies, met uitzondering van authentificatie en digitale handtekening, met behulp van:

1.

| 2. | Onder authentificatie vallen alle aspecten van toegangscontrole waarbij geen encryptie van bestanden of tekst betrokken is, behalve wanneer deze rechtstreeks verband houdt met de bescherming van wachtwoorden, persoonlijke identificatienummers (PIN-codes) of vergelijkbare informatie ter voorkoming van toegang zonder toestemming. |
| --- | --- |

2.

| 3. | Tot "cryptografie" worden niet gerekend: technieken van "vaste" gegevenscomprimering of -codering.







  : | 5A002.a.1. is ook van toepassing op apparatuur die is ontworpen of aangepast voor het gebruik van "cryptografie" op grond van analoge principes, wanneer deze met behulp van digitale technieken worden toegepast.






  a. | Een "symmetrisch algoritme" met een sleutellengte van meer dan 56 bits; of |
| --- | --- | --- | --- |

3.

:

a.

Een "symmetrisch algoritme" met een sleutellengte van meer dan 56 bits; of

| b. | Een "asymmetrisch algoritme" waarvan de beveiliging wordt gewaarborgd door:






  1. | Ontbinding van gehele getallen van meer dan 512 bits (bv. RSA) |
| --- | --- | --- |

b.

Een "asymmetrisch algoritme" waarvan de beveiliging wordt gewaarborgd door:

1.

Ontbinding van gehele getallen van meer dan 512 bits (bv. RSA)

| 2. | Berekening van discrete logaritmen in een groep van een eindig veld met een grootte van meer dan 512 bits (bv. Diffie-Hellman over Z/pZ); of |
| --- | --- |

2.

Berekening van discrete logaritmen in een groep van een eindig veld met een grootte van meer dan 512 bits (bv. Diffie-Hellman over Z/pZ); of

| 3. | Discrete logaritmen in een andere dan de in 5A002.a.1.b.2 genoemde groepen van meer dan 112 bits (bv. Diffie-Hellman over een elliptische curve); |
| --- | --- |

3.

Discrete logaritmen in een andere dan de in 5A002.a.1.b.2 genoemde groepen van meer dan 112 bits (bv. Diffie-Hellman over een elliptische curve);

| 2. | ontworpen of aangepast voor het uitvoeren van cryptanalytische functies; |
| --- | --- |

2.

ontworpen of aangepast voor het uitvoeren van cryptanalytische functies;

| 3. | niet gebruikt; |
| --- | --- |

3.

niet gebruikt;

| 4. | speciaal ontworpen of aangepast voor het reduceren van ongewenste lekken van informatiedragende signalen, afgezien van hetgeen noodzakelijk is om aan de normen voor gezondheid, veiligheid en elektromagnetische interferentie te voldoen; |
| --- | --- |

4.

speciaal ontworpen of aangepast voor het reduceren van ongewenste lekken van informatiedragende signalen, afgezien van hetgeen noodzakelijk is om aan de normen voor gezondheid, veiligheid en elektromagnetische interferentie te voldoen;

| 5. | ontworpen of aangepast voor het hanteren van cryptografische technieken voor het genereren van de spreidcode voor "spread spectrum"-systemen, met uitzondering van de technieken vermeld in 5A002.a.6., met inbegrip van de ‹hopping›-code voor "frequency hopping"-systemen; |
| --- | --- |

5.

ontworpen of aangepast voor het hanteren van cryptografische technieken voor het genereren van de spreidcode voor "spread spectrum"-systemen, met uitzondering van de technieken vermeld in 5A002.a.6., met inbegrip van de ‹hopping›-code voor "frequency hopping"-systemen;

| 6. | ontworpen of aangepast voor het gebruik van cryptografische technieken om kanaliseringscodes versleutelingscodes of netwerkidentificatiecodes te genereren voor systemen die gebruik maken van ultrabreedband-modulatietechnieken, met een van de volgende kenmerken:






  a. | een bandbreedte van meer dan 500 MHz; of |
| --- | --- | --- |

6.

ontworpen of aangepast voor het gebruik van cryptografische technieken om kanaliseringscodes versleutelingscodes of netwerkidentificatiecodes te genereren voor systemen die gebruik maken van ultrabreedband-modulatietechnieken, met een van de volgende kenmerken:

a.

een bandbreedte van meer dan 500 MHz; of

| b. | een "fractionele bandbreedte" van 20 % of meer; |
| --- | --- |

b.

een "fractionele bandbreedte" van 20 % of meer;

| 7. | niet-cryptografische beveiligingssystemen en -voorzieningen voor informatie- en communicatietechnologie (ICT), met een beveiligingsniveau hoger dan of gelijkwaardig aan klasse EAL-6 (evaluation assurance level) van de Common Criteria; |
| --- | --- |

7.

niet-cryptografische beveiligingssystemen en -voorzieningen voor informatie- en communicatietechnologie (ICT), met een beveiligingsniveau hoger dan of gelijkwaardig aan klasse EAL-6 (evaluation assurance level) van de Common Criteria;

| 8. | communicatiekabelsystemen die met mechanische, elektrische of elektronische middelen zijn ontworpen of aangepast, voor het opstoren van clandestiene binnendringing; |
| --- | --- |

8.

communicatiekabelsystemen die met mechanische, elektrische of elektronische middelen zijn ontworpen of aangepast, voor het opstoren van clandestiene binnendringing;

| 9. | ontworpen of aangepast om "kwantumcryptografie" te gebruiken.




  "Kwantumcryptografie" wordt ook aangeduid als <quantum key distribution (QKD)>. |
| --- | --- |

9.

ontworpen of aangepast om "kwantumcryptografie" te gebruiken.

"Kwantumcryptografie" wordt ook aangeduid als <quantum key distribution (QKD)>.

| b. | Systemen, apparatuur, toepassingsspecifieke "elektronische samenstellingen", modules en geïntegreerde schakelingen die ontworpen of aangepast zijn om de onder embargo vallende prestatieniveaus die in punt 5A002.a.met betrekking tot de functies van een product zijn bepaald, te bereiken of te overschrijden, terwijl dit niet anderszins mogelijk was geweest.







  : | In 5A002 zijn niet bedoeld:






  a. | slimme kaarten en ‧lees-/schrijfapparatuur‧ voor slimme kaarten, als volgt:







  1. | een slimme kaart of een elektronisch leesbaar persoonsgebonden document (bv. een <token> in de vorm van een munt, of een elektronisch paspoort) die/dat aan een van de volgende voorwaarden voldoet:








  a. | de cryptografische functie is beperkt tot het gebruik in apparatuur of systemen die krachtens noot 4 in categorie 5, deel 2, of de punten b. tot en met i. van deze noot uitgesloten zijn van 5A002, en kan niet opnieuw worden geprogrammeerd voor andere gebruiksdoeleinden; of |
| --- | --- | --- | --- | --- | --- |

b.

Systemen, apparatuur, toepassingsspecifieke "elektronische samenstellingen", modules en geïntegreerde schakelingen die ontworpen of aangepast zijn om de onder embargo vallende prestatieniveaus die in punt 5A002.a.met betrekking tot de functies van een product zijn bepaald, te bereiken of te overschrijden, terwijl dit niet anderszins mogelijk was geweest.

:

a.

slimme kaarten en ‧lees-/schrijfapparatuur‧ voor slimme kaarten, als volgt:

1.

een slimme kaart of een elektronisch leesbaar persoonsgebonden document (bv. een <token> in de vorm van een munt, of een elektronisch paspoort) die/dat aan een van de volgende voorwaarden voldoet:

a.

de cryptografische functie is beperkt tot het gebruik in apparatuur of systemen die krachtens noot 4 in categorie 5, deel 2, of de punten b. tot en met i. van deze noot uitgesloten zijn van 5A002, en kan niet opnieuw worden geprogrammeerd voor andere gebruiksdoeleinden; of

| b. | met de volgende eigenschappen:








  1. | speciaal ontworpen voor uitsluitend de bescherming van op de kaart of het document opgeslagen ‧persoonsgegevens‧; |
| --- | --- | --- |

b.

met de volgende eigenschappen:

1.

speciaal ontworpen voor uitsluitend de bescherming van op de kaart of het document opgeslagen ‧persoonsgegevens‧;

| 2. | is, of kan alleen worden gepersonaliseerd voor openbare of commerciële transacties of individuele identificatie; en |
| --- | --- |

2.

is, of kan alleen worden gepersonaliseerd voor openbare of commerciële transacties of individuele identificatie; en

| 3. | met een cryptografische functie die niet toegankelijk is voor de gebruiker;





  ‧Persoonsgegevens‧ zijn alle gegevens die specifiek zijn voor een bepaalde persoon of entiteit, zoals het opgeslagen bedrag en de voor authenticatie benodigde gegevens. |
| --- | --- |

3.

met een cryptografische functie die niet toegankelijk is voor de gebruiker;

‧Persoonsgegevens‧ zijn alle gegevens die specifiek zijn voor een bepaalde persoon of entiteit, zoals het opgeslagen bedrag en de voor authenticatie benodigde gegevens.

| 2. | ‧lees-/schrijfapparatuur‧ speciaal ontworpen of aangepast voor, en beperkt tot, de in punt a.1. van deze noot bedoelde producten.


  :


  Onder ‧lees-/schrijfapparatuur‧ valt ook apparatuur die via een netwerk met slimme kaarten of elektronisch leesbare documenten communiceert. |
| --- | --- |

2.

‧lees-/schrijfapparatuur‧ speciaal ontworpen of aangepast voor, en beperkt tot, de in punt a.1. van deze noot bedoelde producten.

:

Onder ‧lees-/schrijfapparatuur‧ valt ook apparatuur die via een netwerk met slimme kaarten of elektronisch leesbare documenten communiceert.

| b. | niet gebruikt; |
| --- | --- |

b.

niet gebruikt;

| c | niet gebruikt |
| --- | --- |

c

niet gebruikt

| d. | cryptografie-apparatuur die speciaal is ontworpen voor uitsluitend gebruik voor bank- of ‧geldtransacties‧;





  Onder ‧geldtransacties‧ in 5A002, noot d, valt ook het betalen van vervoerbewijzen, alsmede het uitvoeren van crediteringsfuncties. |
| --- | --- |

d.

cryptografie-apparatuur die speciaal is ontworpen voor uitsluitend gebruik voor bank- of ‧geldtransacties‧;

Onder ‧geldtransacties‧ in 5A002, noot d, valt ook het betalen van vervoerbewijzen, alsmede het uitvoeren van crediteringsfuncties.

| e. | draagbare of mobiele radiotelefoons voor civiel gebruik (bijvoorbeeld voor toepassing in cellulaire commerciële civiele radiocommunicatiesystemen) die niet geschikt zijn voor het rechtstreeks zenden van gecodeerde gegevens naar een andere radiotelefoon of apparatuur (andere dan apparatuur voor radiotoegangsnetwerken (RAN)), noch voor het doorsturen van gecodeerde gegevens via RAN-apparatuur (bijv. Radio Network Controller (RNC) of Base Station Controller (BSC)); |
| --- | --- |

e.

draagbare of mobiele radiotelefoons voor civiel gebruik (bijvoorbeeld voor toepassing in cellulaire commerciële civiele radiocommunicatiesystemen) die niet geschikt zijn voor het rechtstreeks zenden van gecodeerde gegevens naar een andere radiotelefoon of apparatuur (andere dan apparatuur voor radiotoegangsnetwerken (RAN)), noch voor het doorsturen van gecodeerde gegevens via RAN-apparatuur (bijv. Radio Network Controller (RNC) of Base Station Controller (BSC));

| f. | draadloze telefoonapparatuur die niet geschikt is voor eind-tot-eindversleuteling, waarvan het maximale bereik zonder versterking (d.w.z. één enkele afstand tussen het eindstation en het thuisbasisstation, die niet met elkaar in verbinding staan) volgens de gegevens van de fabrikant minder dan 400 meter is; |
| --- | --- |

f.

draadloze telefoonapparatuur die niet geschikt is voor eind-tot-eindversleuteling, waarvan het maximale bereik zonder versterking (d.w.z. één enkele afstand tussen het eindstation en het thuisbasisstation, die niet met elkaar in verbinding staan) volgens de gegevens van de fabrikant minder dan 400 meter is;

| g. | draagbare of mobiele radiotelefoons en gelijkaardige draadlozecliënttoestellen voor civiel gebruik, die enkel bekendgemaakte of commerciële cryptografische normen toepassen (met uitzondering van antipiraterijfuncties, die mogelijk niet zijn bekendgemaakt), die voldoen aan de bepalingen van de punten b. tot en met d. van de cryptografienoot (Noot 3 van Categorie 5 - Deel 2), en die zijn aangepast voor een specifieke toepassing in de civiele industrie met kenmerken die niet van invloed zijn op de cryptografische functionaliteit van deze oorspronkelijk niet-aangepaste toestellen; |
| --- | --- |

g.

draagbare of mobiele radiotelefoons en gelijkaardige draadlozecliënttoestellen voor civiel gebruik, die enkel bekendgemaakte of commerciële cryptografische normen toepassen (met uitzondering van antipiraterijfuncties, die mogelijk niet zijn bekendgemaakt), die voldoen aan de bepalingen van de punten b. tot en met d. van de cryptografienoot (Noot 3 van Categorie 5 - Deel 2), en die zijn aangepast voor een specifieke toepassing in de civiele industrie met kenmerken die niet van invloed zijn op de cryptografische functionaliteit van deze oorspronkelijk niet-aangepaste toestellen;

| h. | niet gebruikt; |
| --- | --- |

h.

niet gebruikt;

| i. | apparatuur voor een draadloos "persoonlijk netwerk", waarvoor uitsluitend bekendgemaakte of commerciële cryptografische normen worden gebruikt en waarvan het cryptografisch vermogen volgens de specificaties van de producent beperkt is tot een nominale rijkweidte van niet meer dan 30 meter; of |
| --- | --- |

i.

apparatuur voor een draadloos "persoonlijk netwerk", waarvoor uitsluitend bekendgemaakte of commerciële cryptografische normen worden gebruikt en waarvan het cryptografisch vermogen volgens de specificaties van de producent beperkt is tot een nominale rijkweidte van niet meer dan 30 meter; of

| j. | apparatuur die niet een van de in de punten 5A002.a.2.,5A002.a.4., 5A002.a7 of 5A002.a.8.bedoelde functies vervult, mits alle cryptografisch vermogen bedoeld in punt 5A002.a. aan een van de volgende criteria voldoet:








  1. | Het kan niet worden gebruikt, of |
| --- | --- | --- |

j.

apparatuur die niet een van de in de punten 5A002.a.2.,5A002.a.4., 5A002.a7 of 5A002.a.8.bedoelde functies vervult, mits alle cryptografisch vermogen bedoeld in punt 5A002.a. aan een van de volgende criteria voldoet:

1.

Het kan niet worden gebruikt, of

| 2. | Het kan alleen bruikbaar worden gemaakt door middel van "cryptografische activering".


  :


  Zie punt 5A002.a. voor "cryptografisch geactiveerde" apparatuur. |
| --- | --- |

2.

Het kan alleen bruikbaar worden gemaakt door middel van "cryptografische activering".

:

Zie punt 5A002.a. voor "cryptografisch geactiveerde" apparatuur.

5B2Test-, inspectie- en productieapparatuur

5B002Test-, inspectie- en "productie"-apparatuur inzake "informatiebeveiliging", als hieronder:

| a. | apparatuur speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" of de "productie" van apparatuur bedoeld in 5A002 of 5B002.b.; |
| --- | --- |

a.

apparatuur speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" of de "productie" van apparatuur bedoeld in 5A002 of 5B002.b.;

| b. | meetapparatuur, speciaal ontworpen voor het evalueren en valideren van de "informatiebeveiligings"-functies van de apparatuur, bedoeld in 5A002 of van de "programmatuur" bedoeld in 5D002.a. of 5D002.c. |
| --- | --- |

b.

meetapparatuur, speciaal ontworpen voor het evalueren en valideren van de "informatiebeveiligings"-functies van de apparatuur, bedoeld in 5A002 of van de "programmatuur" bedoeld in 5D002.a. of 5D002.c.

5C2Materialen

Geen.

5D2Programmatuur

5D002"Programmatuur" als hieronder:

| a. | "Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur bedoeld in 5A002 of van "programmatuur" bedoeld in 5D002.c. |
| --- | --- |

a.

"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur bedoeld in 5A002 of van "programmatuur" bedoeld in 5D002.c.

| b. | "Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor het ondersteunen van technologie, bedoeld in 5E002. |
| --- | --- |

b.

"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor het ondersteunen van technologie, bedoeld in 5E002.

| c. | Specifieke "programmatuur", als hieronder:






  1. | "programmatuur" die de kenmerken heeft of de functies uitoefent of simuleert van de apparatuur, bedoeld in 5A002; |
| --- | --- | --- |

c.

Specifieke "programmatuur", als hieronder:

1.

"programmatuur" die de kenmerken heeft of de functies uitoefent of simuleert van de apparatuur, bedoeld in 5A002;

| 2. | "programmatuur" voor het certificeren van "programmatuur", bedoeld in 5D002.c.1. |
| --- | --- |

2.

"programmatuur" voor het certificeren van "programmatuur", bedoeld in 5D002.c.1.

| d. | "programmatuur" die ontworpen of aangepast is om de onder embargo vallende prestatieniveaus die in punt 5A002.a.met betrekking tot de functies van een product zijn bepaald, te bereiken of te overschrijden, terwijl dit niet anderszins mogelijk was geweest. |
| --- | --- |

d.

"programmatuur" die ontworpen of aangepast is om de onder embargo vallende prestatieniveaus die in punt 5A002.a.met betrekking tot de functies van een product zijn bepaald, te bereiken of te overschrijden, terwijl dit niet anderszins mogelijk was geweest.

| : | De onderstaande "programmatuur" is niet bedoeld in 5D002:






  a. | "programmatuur""noodzakelijk" voor het "gebruik" van apparatuur die krachtens de noot bij 5A002 niet onder embargo valt; |
| --- | --- | --- |

:

a.

"programmatuur""noodzakelijk" voor het "gebruik" van apparatuur die krachtens de noot bij 5A002 niet onder embargo valt;

| b. | "programmatuur" die een of meer van de functies verschaft van apparatuur die krachtens de noot bij 5A002 niet onder embargo valt. |
| --- | --- |

b.

"programmatuur" die een of meer van de functies verschaft van apparatuur die krachtens de noot bij 5A002 niet onder embargo valt.

5E2Technologie

5E002"Technologie" als hieronder:

| a. | Technologie overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur bedoeld in 5A002 en 5B002 of van "programmatuur" bedoeld in 5D002.a. of 5D002.c. |
| --- | --- |

a.

Technologie overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur bedoeld in 5A002 en 5B002 of van "programmatuur" bedoeld in 5D002.a. of 5D002.c.

| b. | "Technologie" waardoor een product de onder embargo vallende prestatieniveaus die in punt 5A002.a.met betrekking tot de functies daarvan zijn bepaald, kan bereiken of overschrijden, terwijl dit niet anderszins mogelijk was geweest. |
| --- | --- |

b.

"Technologie" waardoor een product de onder embargo vallende prestatieniveaus die in punt 5A002.a.met betrekking tot de functies daarvan zijn bepaald, kan bereiken of overschrijden, terwijl dit niet anderszins mogelijk was geweest.

CATEGORIE 6

SENSOREN EN LASERS

6ASystemen, apparatuur en onderdelen

6A001Akoestische systemen, apparatuur en onderdelen, als hieronder:

| a. | Akoestische systemen voor gebruik ter zee, apparatuur of speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:






  1. | actieve (zend- of zend/ontvang-)systemen, of apparatuur of speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:







  : | De onderstaande apparatuur is niet bedoeld in 6A001.a.1:







  a. | echoloden die verticaal onder de apparatuur werken en die geen aftastfunctie van meer dan ± 20° hebben, en die uitsluitend worden gebruikt voor het meten van de waterdiepte of de afstand tot zich onder water of ondergronds bevindende objecten of voor het lokaliseren van vis; |
| --- | --- | --- | --- | --- |

a.

Akoestische systemen voor gebruik ter zee, apparatuur of speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:

1.

actieve (zend- of zend/ontvang-)systemen, of apparatuur of speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:

:

a.

echoloden die verticaal onder de apparatuur werken en die geen aftastfunctie van meer dan ± 20° hebben, en die uitsluitend worden gebruikt voor het meten van de waterdiepte of de afstand tot zich onder water of ondergronds bevindende objecten of voor het lokaliseren van vis;

| b. | akoestische bakens, als hieronder:








  1. | akoestische bakens voor noodsignalen; |
| --- | --- | --- |

b.

akoestische bakens, als hieronder:

1.

akoestische bakens voor noodsignalen;

| 2. | ‹pingers› speciaal ontworpen voor het verplaatsen of het terugkeren naar een positie onder water. |
| --- | --- |

2.

‹pingers› speciaal ontworpen voor het verplaatsen of het terugkeren naar een positie onder water.

| a. | Akoestische apparatuur voor zeebodemonderzoek, als hieronder:






  1. | Onderzoeksapparatuur voor gebruik op oppervlakteschepen voor het topografisch verkennen van de zeebodem, met alle volgende kenmerken:






  a. | ontworpen voor het verrichten van metingen bij een hoek groter dan 20° van de normaal; en |
| --- | --- | --- | --- |

a.

Akoestische apparatuur voor zeebodemonderzoek, als hieronder:

1.

Onderzoeksapparatuur voor gebruik op oppervlakteschepen voor het topografisch verkennen van de zeebodem, met alle volgende kenmerken:

a.

ontworpen voor het verrichten van metingen bij een hoek groter dan 20° van de normaal; en

| b. | ontworpen voor het meten van de topografie van de zeebodem op zeebodemdiepten groter dan 600 m |
| --- | --- |

b.

ontworpen voor het meten van de topografie van de zeebodem op zeebodemdiepten groter dan 600 m

| c. | "Akoestische resolutie" minder dan 2; en: |
| --- | --- |

c.

"Akoestische resolutie" minder dan 2; en:

| d. | "Versterking" van de dieptenauwkeurigheid middels compensatie voor de volgende aspecten:






  1. | Beweging van de akoestische sensor; |
| --- | --- | --- |

d.

"Versterking" van de dieptenauwkeurigheid middels compensatie voor de volgende aspecten:

1.

Beweging van de akoestische sensor;

| 2. | Voortplanting door het water van de sensor naar de zeebodem en terug; |
| --- | --- |

2.

Voortplanting door het water van de sensor naar de zeebodem en terug;

| 3. | Geluidssnelheid ter hoogte van de sensor |
| --- | --- |

3.

Geluidssnelheid ter hoogte van de sensor

| 1. | "Akoestische resolutie" is de aftaststrookbreedte (in graden) gedeeld door het maximumaantal peilingen per aftaststrook. |
| --- | --- |

1.

| 2. | "Versterking" omvat de mogelijkheid van compensatie door externe middelen. |
| --- | --- |

2.

| 2. | Onderzoeksapparatuur voor gebruik onder water voor het topografisch verkennen van de zeebodem, met beide volgende kenmerken:






  a. | Ontworpen of aangepast om op een diepte van meer dan 300 meter te kunnen werken; en |
| --- | --- | --- |

2.

Onderzoeksapparatuur voor gebruik onder water voor het topografisch verkennen van de zeebodem, met beide volgende kenmerken:

a.

Ontworpen of aangepast om op een diepte van meer dan 300 meter te kunnen werken; en

| b. | Beschikkend over een "sondeerherhalingssnelheid" van meer dan 3 800; |
| --- | --- |

b.

Beschikkend over een "sondeerherhalingssnelheid" van meer dan 3 800;

De "sondeerherhalingssnelheid" is het product van de maximumsnelheid (m/s) van de werking van de sensor en het maximumaantal peilingen per aftaststrook.

| 3. | Side Scan Sonar (SSS) of Synthetic Aperture Sonar (SAS), die ontworpen zijn voor beeldvorming van de zeebodem en met beide volgende kenmerken:






  a. | Ontworpen of aangepast om te werken op een diepte van meer dan 500 meter; en |
| --- | --- | --- |

3.

Side Scan Sonar (SSS) of Synthetic Aperture Sonar (SAS), die ontworpen zijn voor beeldvorming van de zeebodem en met beide volgende kenmerken:

a.

Ontworpen of aangepast om te werken op een diepte van meer dan 500 meter; en

| b. | In staat om meer dan 570 vierkante meter per seconde te bestrijken met een resolutiescherpte van, zowel in de lengte als in de dwarsrichting, minder dan 15 centimeter. |
| --- | --- |

b.

In staat om meer dan 570 vierkante meter per seconde te bestrijken met een resolutiescherpte van, zowel in de lengte als in de dwarsrichting, minder dan 15 centimeter.

| 1. | "Bestrijkingscapaciteit"(Coverage Rate) (m2/s) is twee maal het product van het maximale sonarbereik (m) en de maximumsnelheid waarmee de sonar kan werken. |
| --- | --- |

1.

| 2. | Resolutie in de vaarrichting (cm), alleen voor SSS, is het product van de horizontale loodrechte breedte van de straal (in graden) en het maximale sonarbereik (m) en 0,873. |
| --- | --- |

2.

| 3. | Resolutie dwars op de vaarrichting (cm) is 75 gedeeld door de bandbreedte van het signaal (in kHz). |
| --- | --- |

3.

| b. | Systemen voor de opsporing of plaatsbepaling van objecten, met één of meer van de volgende kenmerken:







  1. | een zendfrequentie lager dan 10 kHz; |
| --- | --- | --- |

b.

Systemen voor de opsporing of plaatsbepaling van objecten, met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een zendfrequentie lager dan 10 kHz;

| 2. | een geluidsdrukniveau hoger dan 224 dB (referentie: 1 micropascal op 1 m) voor apparatuur met een werkfrequentie in het gebied van 10 t/m 24 kHz; |
| --- | --- |

2.

een geluidsdrukniveau hoger dan 224 dB (referentie: 1 micropascal op 1 m) voor apparatuur met een werkfrequentie in het gebied van 10 t/m 24 kHz;

| 3. | een geluidsdrukniveau hoger dan 235 dB (referentie: 1 micropascal op 1 m) voor apparatuur met een werkfrequentie in het gebied van 24 t/m 30 kHz; |
| --- | --- |

3.

een geluidsdrukniveau hoger dan 235 dB (referentie: 1 micropascal op 1 m) voor apparatuur met een werkfrequentie in het gebied van 24 t/m 30 kHz;

| 4. | vorming van bundels kleiner dan 1° op enige as en met een werkfrequentie lager dan 100 kHz; |
| --- | --- |

4.

vorming van bundels kleiner dan 1° op enige as en met een werkfrequentie lager dan 100 kHz;

| 5. | ontworpen voor een ondubbelzinnig schaalbereik groter dan 5 120 m; of |
| --- | --- |

5.

ontworpen voor een ondubbelzinnig schaalbereik groter dan 5 120 m; of

| 6. | ontworpen om een druk te weerstaan tijdens normaal bedrijf op een diepte van meer dan 1 000 m en met omzetters:







  a. | met dynamische drukcompensatie; |
| --- | --- | --- |

6.

ontworpen om een druk te weerstaan tijdens normaal bedrijf op een diepte van meer dan 1 000 m en met omzetters:

a.

met dynamische drukcompensatie;

| b. | met een transductie-element anders dan loodzirkonaat-titanaat; |
| --- | --- |

b.

met een transductie-element anders dan loodzirkonaat-titanaat;

| c. | Akoestische projectors, met inbegrip van omzetters, die piëzo-elektrische, magnetotrictieve, elektrostrictieve, elektrodynamische of hydraulische elementen bevatten die afzonderlijk werken of in een ontworpen combinatie, met één of meer van de volgende kenmerken: | De embargostatus van akoestische projectors, met inbegrip van omzetters die speciaal zijn ontworpen voor andere apparatuur, wordt bepaald door de embargostatus van die andere apparatuur. |
| --- | --- | --- |

c.

Akoestische projectors, met inbegrip van omzetters, die piëzo-elektrische, magnetotrictieve, elektrostrictieve, elektrodynamische of hydraulische elementen bevatten die afzonderlijk werken of in een ontworpen combinatie, met één of meer van de volgende kenmerken:

| | In 6A001.a.1.c worden niet bedoeld bronnen die het geluid uitsluitend verticaal uitzenden, of mechanische bronnen (b.v. door middel van luchtdruk of stoomstoten) of chemische bronnen (b.v. door middel van explosieven). |
| --- | --- |

| 1. | een momentele uitgestraalde ‧akoestische vermogensdichtheid‧ groter dan 0,01 mW/mm2/Hz voor toestellen die werken bij een frequentie lager dan 10 kHz; |
| --- | --- |

1.

een momentele uitgestraalde ‧akoestische vermogensdichtheid‧ groter dan 0,01 mW/mm2/Hz voor toestellen die werken bij een frequentie lager dan 10 kHz;

| 2. | een continu uitgestraalde ‧akoestische vermogensdichtheid‧ groter dan 0,001 mW/mm2/Hz voor toestellen die werken bij een frequentie lager dan 10 kHz; of

  :


  De ‧akoestische vermogensdichtheid‧ wordt verkregen door het akoestische uitgangsvermogen te delen door het product van uitstralend oppervlak en de werkfrequentie. |
| --- | --- |

2.

een continu uitgestraalde ‧akoestische vermogensdichtheid‧ groter dan 0,001 mW/mm2/Hz voor toestellen die werken bij een frequentie lager dan 10 kHz; of

:

De ‧akoestische vermogensdichtheid‧ wordt verkregen door het akoestische uitgangsvermogen te delen door het product van uitstralend oppervlak en de werkfrequentie.

| 3. | met onderdrukking van de zijlobben van meer dan 22 dB; |
| --- | --- |

3.

met onderdrukking van de zijlobben van meer dan 22 dB;

| d. | Akoestische systemen en apparatuur en speciaal ontworpen onderdelen voor het lokaliseren van oppervlaktevaartuigen of onderwatervaartuigen, met de volgende, speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:






  1. | detectiebereik van meer dan 1 000 m; |
| --- | --- | --- |

d.

Akoestische systemen en apparatuur en speciaal ontworpen onderdelen voor het lokaliseren van oppervlaktevaartuigen of onderwatervaartuigen, met de volgende, speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

1.

detectiebereik van meer dan 1 000 m;

| 2. | positionele nauwkeurigheid kleiner dan 10 m rms wanneer wordt gemeten op een afstand van 1 000 m; |
| --- | --- |

2.

positionele nauwkeurigheid kleiner dan 10 m rms wanneer wordt gemeten op een afstand van 1 000 m;

| : | In 6A001.a.1.d wordt mede bedoeld:







  a. | apparatuur die gebruik maakt van coherente "signaal-verwerking" tussen twee of meer bakens en de door het oppervlakte- of onderwatervaartuig meegevoerde hydrofooneenheid; |
| --- | --- | --- |

:

a.

apparatuur die gebruik maakt van coherente "signaal-verwerking" tussen twee of meer bakens en de door het oppervlakte- of onderwatervaartuig meegevoerde hydrofooneenheid;

| b. | apparatuur die geschikt is voor het automatisch corrigeren van voortplantingssnelheidsfouten voor de berekening van een plaats. |
| --- | --- |

b.

apparatuur die geschikt is voor het automatisch corrigeren van voortplantingssnelheidsfouten voor de berekening van een plaats.

| e. | actieve individuele sonars, speciaal ontworpen of aangepast om zwemmers of duikers te detecteren, te lokaliseren en automatisch te onderscheiden, met de volgende eigenschappen:






  1. | detectiebereik van meer dan 530 m; |
| --- | --- | --- |

e.

actieve individuele sonars, speciaal ontworpen of aangepast om zwemmers of duikers te detecteren, te lokaliseren en automatisch te onderscheiden, met de volgende eigenschappen:

1.

detectiebereik van meer dan 530 m;

| 2. | effectieve (rms) positionele nauwkeurigheid kleiner dan 15 m wanneer wordt gemeten op een afstand van 530 m; |
| --- | --- |

2.

effectieve (rms) positionele nauwkeurigheid kleiner dan 15 m wanneer wordt gemeten op een afstand van 530 m;

| 3. | bandbreedte van het uitgezonden pulssignaal groter dan 3kHz; |
| --- | --- |

3.

bandbreedte van het uitgezonden pulssignaal groter dan 3kHz;

:

voor duikerdetectiesystemen speciaal ontworpen of aangepast voor militair gebruik, zie de Lijst militaire goederen.

| : | Wanneer in 6A001.a.1.e. meer dan één detectiebereik voor verschillende omgevingen wordt gespecificeerd, wordt het grootste detectiebereik gebruikt |
| --- | --- |

:

| 2. | passieve systemen, apparatuur of speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:






  a. | hydrofoons met één of meer van de volgende kenmerken: | De embargostatus van hydrofoons die speciaal zijn ontworpen voor andere apparatuur, wordt bepaald door de embargostatus van die andere apparatuur. |
| --- | --- | --- | --- |

2.

passieve systemen, apparatuur of speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:

a.

hydrofoons met één of meer van de volgende kenmerken:

| 1. | met doorlopende flexibele sensorelementen; |
| --- | --- |

1.

met doorlopende flexibele sensorelementen;

| 2. | met flexibele samenstellingen van afzonderlijke sensorelementen waarvan ofwel de diameter ofwel de lengte kleiner is dan 20 mm en waarbij de scheiding tussen de elementen kleiner is dan 20 mm; |
| --- | --- |

2.

met flexibele samenstellingen van afzonderlijke sensorelementen waarvan ofwel de diameter ofwel de lengte kleiner is dan 20 mm en waarbij de scheiding tussen de elementen kleiner is dan 20 mm;

| 3. | met één of meer van de volgende sensorelementen:






  a. | glasvezels, |
| --- | --- | --- |

3.

met één of meer van de volgende sensorelementen:

a.

glasvezels,

| b. | ‧piëzo-elektrische polymeerfolies‧ niet gemaakt van polyvinylideenfluoride (PVDF) en zijn copolymeren {P(VDF-TrFE) en P(VDF-TFE)}; of |
| --- | --- |

b.

‧piëzo-elektrische polymeerfolies‧ niet gemaakt van polyvinylideenfluoride (PVDF) en zijn copolymeren {P(VDF-TrFE) en P(VDF-TFE)}; of

| c. | ‧flexibele piëzo-elektrische composieten‧; |
| --- | --- |

c.

‧flexibele piëzo-elektrische composieten‧;

| 4. | met een ‧gevoeligheid van de hydrofoon‧ beter dan -180 dB op iedere diepte zonder versnellingsompensatie; |
| --- | --- |

4.

met een ‧gevoeligheid van de hydrofoon‧ beter dan -180 dB op iedere diepte zonder versnellingsompensatie;

| 5. | ontworpen voor werkdiepten groter dan 35 m met versnellingscompensatie; of |
| --- | --- |

5.

ontworpen voor werkdiepten groter dan 35 m met versnellingscompensatie; of

| 6. | ontworpen om te werken bij een diepte groter dan 1 000 m; |
| --- | --- |

6.

ontworpen om te werken bij een diepte groter dan 1 000 m;

| 1. | De sensorelementen van de ‧piëzo-elektrische polymeerfolie‧ bestaan in een gepolariseerde polymeerfolie die over een dragend frame of dragende spoel (as) wordt gespannen en daaraan wordt bevestigd. |
| --- | --- |

1.

| 2. | ‧Flexibele piëzo-elektrische composieten‧ zijn piëzo-elektrische ceramischedeeltjes of vezels, gecombineerd met een elektrisch geïsoleerde en akoestisch transparant rubber-, polymeer- of epoxy-mengsel waarbij het mengsel integrerend deel uitmaakt van de sensorelementen. |
| --- | --- |

2.

| 3. | Onder de ‧gevoeligheid van een hydrofoon‧ wordt verstaan: 20-maal de logaritme bij het grondgetal 10 van de verhouding tussen de effectieve (rms) uitgangsspanning en een effectieve (rms) referentiespanning van 1 V, als de hydrofoonsensor zonder voorversterker wordt geplaatst in een akoestisch veld met vlakke golffronten met een effectieve (rms) druk van 1 micropascal. Bijvoorbeeld: een hydrofoon met een gevoeligheid van - 160 dB (referentie: 1 V per micropascal) zal in een dergelijk veld een uitgangsspanning afgeven van 10-8 V, terwijl een hydrofoon met een gevoeligheid van - 180 dB een uitgangsspanning zal afgeven van slechts 10-9 V. Dientengevolge is - 160 dB beter dan - 180 dB. |
| --- | --- |

3.

| b. | gesleepte samenstellen van regelmatig gerangschikte akoestische hydrofoons (‹towed acoustic hydrophone arrays›) met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een onderlinge afstand tussen de hydrofoongroepen van minder dan 12,5 m of ‧aanpasbaar‧ zodat de onderlinge afstand tussen de hydrofoongroepen minder dan 12,5 m bedraagt; |
| --- | --- | --- |

b.

gesleepte samenstellen van regelmatig gerangschikte akoestische hydrofoons (‹towed acoustic hydrophone arrays›) met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een onderlinge afstand tussen de hydrofoongroepen van minder dan 12,5 m of ‧aanpasbaar‧ zodat de onderlinge afstand tussen de hydrofoongroepen minder dan 12,5 m bedraagt;

| 2. | ontworpen voor of ‧aanpasbaar‧ voor werkdiepten groter dan 35 m;

  :


  Onder ‧aanpasbaar‧ wordt in 6A001.a.2.b.1. en 2 verstaan dat er voorzieningen zijn getroffen waardoor het mogelijk is de onderlinge afstand tussen de hydrofoongroepen of de limiet van de werkdiepte te wijzigen door een wijziging in de elektrische bedrading of onderlinge verbindingen. Deze voorzieningen bestaan uit: reservebedrading uitgaande boven 10 % van het aantal draden, blokken voor aanpassing van de onderlinge afstand van de hydrofoongroepen of inwendige dieptebegrenzingselementen die verstelbaar zijn of meer dan één hydrofoongroep regelen. |
| --- | --- |

2.

ontworpen voor of ‧aanpasbaar‧ voor werkdiepten groter dan 35 m;

:

Onder ‧aanpasbaar‧ wordt in 6A001.a.2.b.1. en 2 verstaan dat er voorzieningen zijn getroffen waardoor het mogelijk is de onderlinge afstand tussen de hydrofoongroepen of de limiet van de werkdiepte te wijzigen door een wijziging in de elektrische bedrading of onderlinge verbindingen. Deze voorzieningen bestaan uit: reservebedrading uitgaande boven 10 % van het aantal draden, blokken voor aanpassing van de onderlinge afstand van de hydrofoongroepen of inwendige dieptebegrenzingselementen die verstelbaar zijn of meer dan één hydrofoongroep regelen.

| 3. | richtingssensoren als bedoeld in 6A001.a.2.d; |
| --- | --- |

3.

richtingssensoren als bedoeld in 6A001.a.2.d;

| 4. | overlangs versterkte ‹array›-omhulsels; |
| --- | --- |

4.

overlangs versterkte ‹array›-omhulsels;

| 5. | een samengestelde ‹array› waarvan de diameter kleiner is dan 40 mm; of |
| --- | --- |

5.

een samengestelde ‹array› waarvan de diameter kleiner is dan 40 mm; of

| 6. | niet gebruikt; |
| --- | --- |

6.

niet gebruikt;

| 7. | met kenmerken van de hydrofoon als omschreven in 6A001.a.2.a; |
| --- | --- |

7.

met kenmerken van de hydrofoon als omschreven in 6A001.a.2.a;

| c. | verwerkingsapparatuur, speciaal ontworpen voor gesleepte samenstellen van regelmatig gerangschikte hydrofoons (‹towed hydrophone arrays›), met "toegankelijkheid van het programma voor de gebruiker" en verwerking en correlatie van tijd- of frequentiedomeinen, met inbegrip van spectrumanalyse, digitale filtering en bundelvorming met toepassing van snelle Fourier-transformatie (‹Fast Fourier transform›) of andere herleidingen of processen; |
| --- | --- |

c.

verwerkingsapparatuur, speciaal ontworpen voor gesleepte samenstellen van regelmatig gerangschikte hydrofoons (‹towed hydrophone arrays›), met "toegankelijkheid van het programma voor de gebruiker" en verwerking en correlatie van tijd- of frequentiedomeinen, met inbegrip van spectrumanalyse, digitale filtering en bundelvorming met toepassing van snelle Fourier-transformatie (‹Fast Fourier transform›) of andere herleidingen of processen;

| d. | richtingsensoren






  1. | met een nauwkeurigheid beter dan ±0,5°, |
| --- | --- | --- |

d.

richtingsensoren

1.

met een nauwkeurigheid beter dan ±0,5°,

| 2. | ontworpen om te kunnen werken bij een diepte groter dan 35 m of met een regelbaar of te verwijderen dieptesensorelement om te kunnen werken op diepten groter dan 35 m; |
| --- | --- |

2.

ontworpen om te kunnen werken bij een diepte groter dan 35 m of met een regelbaar of te verwijderen dieptesensorelement om te kunnen werken op diepten groter dan 35 m;

| e. | bodemkabelsystemen met een van de volgende kenmerken:






  1. | met ingebouwde hydrofoons als vermeld in 6A001.a.2.a; of |
| --- | --- | --- |

e.

bodemkabelsystemen met een van de volgende kenmerken:

1.

met ingebouwde hydrofoons als vermeld in 6A001.a.2.a; of

| 2. | met ingebouwde multiplex-verzendingsmodules voor de signalen van de hydrofoongroep, met alle volgende kenmerken:






  a. | ontworpen om te kunnen werken op een diepte van meer dan 35 m of met een verstelbare of afneembare dieptesensor om te kunnen werken op diepten van meer dan 35 m; |
| --- | --- | --- |

2.

met ingebouwde multiplex-verzendingsmodules voor de signalen van de hydrofoongroep, met alle volgende kenmerken:

a.

ontworpen om te kunnen werken op een diepte van meer dan 35 m of met een verstelbare of afneembare dieptesensor om te kunnen werken op diepten van meer dan 35 m;

| b. | ontworpen om operationeel te kunnen worden uitgewisseld met gesleepte samenstellen van regelmatig gerangschikte akoestische hydrofoons (‹towed acoustic hydrophone array›-modules); |
| --- | --- |

b.

ontworpen om operationeel te kunnen worden uitgewisseld met gesleepte samenstellen van regelmatig gerangschikte akoestische hydrofoons (‹towed acoustic hydrophone array›-modules);

| f. | verwerkingsapparatuur, speciaal ontworpen voor bodemkabelsystemen, met "toegankelijkheid van het programma voor de gebruiker" en verwerking en correlatie van tijd- of frequentiedomeinen, met inbegrip van spectrumanalyse, digitale filtering en bundelvorming met toepassing van snelle Fourier-transformatie of andere herleidingen of processen. |
| --- | --- |

f.

verwerkingsapparatuur, speciaal ontworpen voor bodemkabelsystemen, met "toegankelijkheid van het programma voor de gebruiker" en verwerking en correlatie van tijd- of frequentiedomeinen, met inbegrip van spectrumanalyse, digitale filtering en bundelvorming met toepassing van snelle Fourier-transformatie of andere herleidingen of processen.

| : | 6A0001.a.2. is ook van toepassing op ontvangstapparatuur, al dan niet gewoonlijk toegepast tezamen met afzonderlijke actieve apparatuur) en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen. |
| --- | --- |

:

| b. | Sonar-logapparatuur voor correlatie- en Dopplersnelheidsbepaling, ontworpen voor het meten van de horizontale snelheid van de drager van de apparatuur ten opzichte van de zeebodem, als hieronder:






  1. | Sonar-logapparatuur voor correlatiesnelheidsbepaling, met een of meer van de volgende eigenschappen:






  a. | ontworpen om te werken bij een afstand tussen de drager en de zeebodem groter dan 500 m; of |
| --- | --- | --- | --- |

b.

Sonar-logapparatuur voor correlatie- en Dopplersnelheidsbepaling, ontworpen voor het meten van de horizontale snelheid van de drager van de apparatuur ten opzichte van de zeebodem, als hieronder:

1.

Sonar-logapparatuur voor correlatiesnelheidsbepaling, met een of meer van de volgende eigenschappen:

a.

ontworpen om te werken bij een afstand tussen de drager en de zeebodem groter dan 500 m; of

| b. | een snelheidsnauwkeurigheid van minder dan 1 % van de snelheid; |
| --- | --- |

b.

een snelheidsnauwkeurigheid van minder dan 1 % van de snelheid;

| 2. | Sonar-logapparatuur voor Dopplersnelheidsbepaling met een snelheidsnauwkeurigheid van minder dan 1 % van de snelheid. |
| --- | --- |

2.

Sonar-logapparatuur voor Dopplersnelheidsbepaling met een snelheidsnauwkeurigheid van minder dan 1 % van de snelheid.

| : | 6A001.b. is niet van toepassing op echoloden die uitsluitend worden gebruikt voor:







  a. | het meten van de waterdiepte; |
| --- | --- | --- |

:

a.

het meten van de waterdiepte;

| b. | het meten van de afstand tot zich onder water of ondergronds bevindende objecten; of |
| --- | --- |

b.

het meten van de afstand tot zich onder water of ondergronds bevindende objecten; of

| c. | het lokaliseren van vis. |
| --- | --- |

c.

het lokaliseren van vis.

| : | 6A001.b. is niet van toepassing op apparatuur die speciaal ontworpen is voor installatie op oppervlaktevaartuigen. |
| --- | --- |

:

| c. | Niet in gebruik |
| --- | --- |

c.

Niet in gebruik

6A002Optische sensoren en apparatuur, en onderdelen daarvoor, als hieronder:

| NB: | ZIE OOK 6A102. |
| --- | --- |

NB:

| a. | Optische detectoren, als hieronder:






  1. | "voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" vaste-stofdetectoren, als hieronder: | Voor de toepassing van 6A002.a.1. wordt onder vaste-stofdetectoren ook "‹focal plane arrays›" verstaan. |
| --- | --- | --- | --- |

a.

Optische detectoren, als hieronder:

1.

"voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" vaste-stofdetectoren, als hieronder:

| a. | "voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" vaste-stofdetectoren met de volgende kenmerken:






  1. | een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 10 nm maar niet meer dan 300 nm; en |
| --- | --- | --- |

a.

"voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" vaste-stofdetectoren met de volgende kenmerken:

1.

een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 10 nm maar niet meer dan 300 nm; en

| 2. | een reactie van minder dan 0,1 % ten opzichte van de grootste gevoeligheid bij een golflengte groter dan 400 nm; |
| --- | --- |

2.

een reactie van minder dan 0,1 % ten opzichte van de grootste gevoeligheid bij een golflengte groter dan 400 nm;

| b. | "voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" vaste-stofdetectoren met de volgende kenmerken:






  1. | een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 900 nm doch niet meer dan 1 200 nm; |
| --- | --- | --- |

b.

"voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" vaste-stofdetectoren met de volgende kenmerken:

1.

een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 900 nm doch niet meer dan 1 200 nm;

| 2. | een "reactietijdconstante" van 95 ns of minder; |
| --- | --- |

2.

een "reactietijdconstante" van 95 ns of minder;

| c. | "voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" vaste-stofdetectoren met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 1 200 nm doch niet meer dan 30 000 nm; |
| --- | --- |

c.

"voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" vaste-stofdetectoren met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 1 200 nm doch niet meer dan 30 000 nm;

| d. | "voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde""‹focal plane arrays›" met meer dan 2 048 elementen per array en een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 300 nm doch niet meer dan 900 nm. |
| --- | --- |

d.

"voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde""‹focal plane arrays›" met meer dan 2 048 elementen per array en een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 300 nm doch niet meer dan 900 nm.

| 2. | beeldversterkerbuizen en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor, als hieronder: | 6A002.a.2. is niet van toepassing op niet-beeldvormende fotomultiplicatorbuizen met een elektronensensor in een vacuümruimte, uitsluitend beperkt tot:







  a. | één enkele metalen anode; of |
| --- | --- | --- | --- |

2.

beeldversterkerbuizen en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor, als hieronder:

a.

één enkele metalen anode; of

| b. | metalen anoden met een afstand, hart op hart gemeten, van meer dan 500 μm. |
| --- | --- |

b.

metalen anoden met een afstand, hart op hart gemeten, van meer dan 500 μm.

‧Ladingsvermenigvuldiging‧ is een vorm van elektronische beeldversterking die wordt gedefinieerd als het genereren van ladingsdragers als gevolg van een versterkingsproces door impactionisatie. ‧Ladingsvermenigvuldigings‧-sensoren kunnen de vorm aannemen van een beeldversterkerbuis, een vaste-stofdetector of een "<focal plane array>".

| a. | beeldversterkerbuizen met alle volgende kenmerken:






  1. | een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 400 nm doch niet meer dan 1 050 nm; |
| --- | --- | --- |

a.

beeldversterkerbuizen met alle volgende kenmerken:

1.

een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 400 nm doch niet meer dan 1 050 nm;

| 2. | elektronische beeldversterking waarbij gebruik wordt gemaakt van:






  a. | een microkanaalplaat met een afstand tussen de gaten (hart op hart gemeten) van 12 μm of minder; of |
| --- | --- | --- |

2.

elektronische beeldversterking waarbij gebruik wordt gemaakt van:

a.

een microkanaalplaat met een afstand tussen de gaten (hart op hart gemeten) van 12 μm of minder; of

| b. | een elektronische sensor met een afstand tussen de niet-gebinde pixels van ten hoogste 500 μm, die speciaal is ontworpen of aangepast om ‧ladingsvermenigvuldiging‧ op een andere manier tot stand te brengen dan door een microkanaalplaat; en |
| --- | --- |

b.

een elektronische sensor met een afstand tussen de niet-gebinde pixels van ten hoogste 500 μm, die speciaal is ontworpen of aangepast om ‧ladingsvermenigvuldiging‧ op een andere manier tot stand te brengen dan door een microkanaalplaat; en

| 3. | één of meer van de volgende fotokathoden:






  a. | een multi-alkalifotokathode (bv. S-20 en S-25) met een lichtgevoeligheid van meer dan 350 μA/lm; of |
| --- | --- | --- |

3.

één of meer van de volgende fotokathoden:

a.

een multi-alkalifotokathode (bv. S-20 en S-25) met een lichtgevoeligheid van meer dan 350 μA/lm; of

| b. | een GaAs- of GaInAs-fotokathode; of |
| --- | --- |

b.

een GaAs- of GaInAs-fotokathode; of

| c. | andere "op III-V-verbindingen gebaseerde" halfgeleiderfotokathoden met een maximale "stralingsgevoeligheid" van meer dan 10 mA/W. |
| --- | --- |

c.

andere "op III-V-verbindingen gebaseerde" halfgeleiderfotokathoden met een maximale "stralingsgevoeligheid" van meer dan 10 mA/W.

| b. | beeldversterkerbuizen met alle volgende kenmerken:






  1. | een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 1 050 nm doch niet meer dan 1 800 nm; |
| --- | --- | --- |

b.

beeldversterkerbuizen met alle volgende kenmerken:

1.

een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 1 050 nm doch niet meer dan 1 800 nm;

| 2. | elektronische beeldversterking waarbij gebruik wordt gemaakt van:






  a. | een microkanaalplaat met een afstand tussen de gaten (hart op hart gemeten) van 12 μm of minder; of |
| --- | --- | --- |

2.

elektronische beeldversterking waarbij gebruik wordt gemaakt van:

a.

een microkanaalplaat met een afstand tussen de gaten (hart op hart gemeten) van 12 μm of minder; of

| b. | een elektronische sensor met een afstand tussen de niet-gebinde pixels van ten hoogste 500 μm, die speciaal is ontworpen of aangepast om ‧ladingsvermenigvuldiging‧ op een andere manier tot stand te brengen dan door een microkanaalplaat; en |
| --- | --- |

b.

een elektronische sensor met een afstand tussen de niet-gebinde pixels van ten hoogste 500 μm, die speciaal is ontworpen of aangepast om ‧ladingsvermenigvuldiging‧ op een andere manier tot stand te brengen dan door een microkanaalplaat; en

| 3. | "op III-V-verbindingen gebaseerde" halfgeleiderfotokathoden (bijv., GaAs of GaInAs) en fotokathoden op basis van elektronenoverdracht, met een maximale "stralingsgevoeligheid" van meer dan 15 mA/W. |
| --- | --- |

3.

"op III-V-verbindingen gebaseerde" halfgeleiderfotokathoden (bijv., GaAs of GaInAs) en fotokathoden op basis van elektronenoverdracht, met een maximale "stralingsgevoeligheid" van meer dan 15 mA/W.

| c. | speciaal ontworpen onderdelen, als hieronder:






  1. | microkanaalplaten met een afstand tussen de gaten (hart op hart gemeten) van 12 μm of minder; |
| --- | --- | --- |

c.

speciaal ontworpen onderdelen, als hieronder:

1.

microkanaalplaten met een afstand tussen de gaten (hart op hart gemeten) van 12 μm of minder;

| 2. | een elektronische sensor met een afstand tussen de niet-gebinde pixels van ten hoogste 500 μm, die speciaal is ontworpen of aangepast om ‧ladingsvermenigvuldiging‧ op een andere manier tot stand te brengen dan door een microkanaalplaat; |
| --- | --- |

2.

een elektronische sensor met een afstand tussen de niet-gebinde pixels van ten hoogste 500 μm, die speciaal is ontworpen of aangepast om ‧ladingsvermenigvuldiging‧ op een andere manier tot stand te brengen dan door een microkanaalplaat;

| 3. | "op III-V-verbindingen gebaseerde" halfgeleiderfotokathoden (bijv., GaAs of GaInAs) en fotokathoden op basis van elektronenoverdracht; |
| --- | --- |

3.

"op III-V-verbindingen gebaseerde" halfgeleiderfotokathoden (bijv., GaAs of GaInAs) en fotokathoden op basis van elektronenoverdracht;

| | In 6A002.a.2.c.3 zijn niet bedoeld op verbindingen gebaseerde halfgeleiderathoden die zijn ontworpen om een van de onderstaande maximale "stralingsgevoeligheden" te bereiken:







  a. | een maximale gevoeligheid van 10 mA/W bij een golflengte van meer dan 400 nm doch niet meer dan 1 050 nm; of |
| --- | --- | --- |

a.

een maximale gevoeligheid van 10 mA/W bij een golflengte van meer dan 400 nm doch niet meer dan 1 050 nm; of

| b. | een maximale gevoeligheid van 15 mA/W bij een golflengte van meer dan 1 050 nm doch niet meer dan 1 800 nm. |
| --- | --- |

b.

een maximale gevoeligheid van 15 mA/W bij een golflengte van meer dan 1 050 nm doch niet meer dan 1 800 nm.

| 3. | "‹focal plane arrays›", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", als hieronder:

  :


  microbolometer "‹focal plane arrays›", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", worden uitsluitend vermeld in 6A002.a.3.f.


  :


  Lineaire of tweedimensionale uit verscheidene elementen bestaande detector arrays worden "‹focal plane arrays›" genoemd. | In 6A002.a.3 zijn mede bedoeld fotogeleidende en fotovoltaïsche ‹arrays›. |
| --- | --- | --- |

3.

"‹focal plane arrays›", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", als hieronder:

:

microbolometer "‹focal plane arrays›", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", worden uitsluitend vermeld in 6A002.a.3.f.

:

Lineaire of tweedimensionale uit verscheidene elementen bestaande detector arrays worden "‹focal plane arrays›" genoemd.

| | Niet bedoeld in 6A002.a.3 zijn







  a. | omhulde, uit meerdere elementen (maximaal 16 elementen) bestaande fotoeleidende cellen waarbij gebruik wordt gemaakt van loodsulfide of loodselenide; |
| --- | --- | --- |

a.

omhulde, uit meerdere elementen (maximaal 16 elementen) bestaande fotoeleidende cellen waarbij gebruik wordt gemaakt van loodsulfide of loodselenide;

| b. | pyro-elektrische detectoren waarbij één of meer van de volgende materialen zijn gebruikt:








  1. | triglycinesulfaat en varianten daarvan; |
| --- | --- | --- |

b.

pyro-elektrische detectoren waarbij één of meer van de volgende materialen zijn gebruikt:

1.

triglycinesulfaat en varianten daarvan;

| 2. | lood-lanthaan-zirkoniumtitanaat en varianten daarvan; |
| --- | --- |

2.

lood-lanthaan-zirkoniumtitanaat en varianten daarvan;

| 3. | lithiumtantalaat; |
| --- | --- |

3.

lithiumtantalaat;

| 4. | polyvinylideenfluoride en varianten daarvan; of |
| --- | --- |

4.

polyvinylideenfluoride en varianten daarvan; of

| 5. | strontium-bariumniobaat en varianten daarvan. |
| --- | --- |

5.

strontium-bariumniobaat en varianten daarvan.

| c. | "‹Focal plane arrays›", die speciaal zijn ontworpen of aangepast om ‧ladingsvermenigvuldiging‧ tot stand te brengen en die door hun ontwerp beperkt zijn tot een maximale "stralingsgevoeligheid" van 10 mA/W bij een golflengte van meer dan 760 nm, met alle volgende kenmerken:








  1. | een reactiebeperkend mechanisme dat is ontworpen om niet te worden verwijderd of aangepast; en |
| --- | --- | --- |

c.

"‹Focal plane arrays›", die speciaal zijn ontworpen of aangepast om ‧ladingsvermenigvuldiging‧ tot stand te brengen en die door hun ontwerp beperkt zijn tot een maximale "stralingsgevoeligheid" van 10 mA/W bij een golflengte van meer dan 760 nm, met alle volgende kenmerken:

1.

een reactiebeperkend mechanisme dat is ontworpen om niet te worden verwijderd of aangepast; en

| 2. | een van de volgende kenmerken:








  a. | het reactiebeperkende mechanisme is geïntegreerd in of wordt gecombineerd met het detectorelement; of |
| --- | --- | --- |

2.

een van de volgende kenmerken:

a.

het reactiebeperkende mechanisme is geïntegreerd in of wordt gecombineerd met het detectorelement; of

| b. | de "focal plane array" werkt alleen met het geïnstalleerde reactieeperkende mechanisme. |
| --- | --- |

b.

de "focal plane array" werkt alleen met het geïnstalleerde reactieeperkende mechanisme.

Een in het detectorelement geïntegreerd reactiebeperkend mechanisme is zodanig ontworpen dat het niet kan worden verwijderd of aangepast zonder de detector buiten werking te stellen.

‧Ladingsvermenigvuldiging‧ is een vorm van elektronische beeldversterking die wordt gedefinieerd als het genereren van ladingsdragers als gevolg van een versterkingsproces door impactionisatie. ‧Ladingsvermenigvuldigings‧-sensoren kunnen de vorm aannemen van een beeldversterkerbuis, een vaste-stofdetector of een "<focal plane array>".

| a. | "‹focal plane arrays›", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", met alle volgende kenmerken:






  1. | afzonderlijke elementen met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 900 nm doch niet meer dan 1 050 nm; |
| --- | --- | --- |

a.

"‹focal plane arrays›", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", met alle volgende kenmerken:

1.

afzonderlijke elementen met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 900 nm doch niet meer dan 1 050 nm;

| 2. | een van de volgende kenmerken:






  a. | een "reactietijdconstante" van minder dan 0,5 ns; of |
| --- | --- | --- |

2.

een van de volgende kenmerken:

a.

een "reactietijdconstante" van minder dan 0,5 ns; of

| b. | speciaal ontworpen of aangepast om een ‧ladingsvermenigvuldiging‧ tot stand te brengen en met een maximale "stralingsgevoeligheid" van meer dan 10 mA/W; |
| --- | --- |

b.

speciaal ontworpen of aangepast om een ‧ladingsvermenigvuldiging‧ tot stand te brengen en met een maximale "stralingsgevoeligheid" van meer dan 10 mA/W;

| b. | "focal plane arrays", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", met de volgende kenmerken:






  1. | afzonderlijke elementen met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 1 050 nm doch niet meer dan 1 200 nm; |
| --- | --- | --- |

b.

"focal plane arrays", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", met de volgende kenmerken:

1.

afzonderlijke elementen met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 1 050 nm doch niet meer dan 1 200 nm;

| 2. | een van de volgende kenmerken:






  a. | een "reactietijdconstante" van 95 ns of minder; of |
| --- | --- | --- |

2.

een van de volgende kenmerken:

a.

een "reactietijdconstante" van 95 ns of minder; of

| b. | speciaal ontworpen of aangepast om een ‧ladingsvermenigvuldiging‧ tot stand te brengen en met een maximale "stralingsgevoeligheid" van meer dan 10 mA/W; |
| --- | --- |

b.

speciaal ontworpen of aangepast om een ‧ladingsvermenigvuldiging‧ tot stand te brengen en met een maximale "stralingsgevoeligheid" van meer dan 10 mA/W;

| c. | "‹focal plane arrays›", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", niet-lineair (tweedimensionaal), met afzonderlijke elementen met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 1 200 nm doch niet meer dan 30 000 nm;




  ‧microbolometer‧"‹focal plane arrays›", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", op basis van silicium en ander materiaal, worden uitsluitend vermeld in 6A002.a.3.f. |
| --- | --- |

c.

"‹focal plane arrays›", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", niet-lineair (tweedimensionaal), met afzonderlijke elementen met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 1 200 nm doch niet meer dan 30 000 nm;

‧microbolometer‧"‹focal plane arrays›", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", op basis van silicium en ander materiaal, worden uitsluitend vermeld in 6A002.a.3.f.

| d. | "‹focal plane arrays›", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", lineair (eendimensionaal), met alle volgende kenmerken:






  1. | afzonderlijke elementen met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 1 200 nm, doch niet meer dan 3 000 nm; |
| --- | --- | --- |

d.

"‹focal plane arrays›", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", lineair (eendimensionaal), met alle volgende kenmerken:

1.

afzonderlijke elementen met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 1 200 nm, doch niet meer dan 3 000 nm;

| 2. | één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een verhouding van de ‧scanrichting‧-dimensie van het detectorelement tot de ‧scanbreedterichting‧-dimensie van het detectorelement van minder dan 3,8; of |
| --- | --- | --- |

2.

één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een verhouding van de ‧scanrichting‧-dimensie van het detectorelement tot de ‧scanbreedterichting‧-dimensie van het detectorelement van minder dan 3,8; of

| b. | signaalverwerking in het element (SPRITE); |
| --- | --- |

b.

signaalverwerking in het element (SPRITE);

| | 6A002.a.3.d. is niet van toepassing op "‹focal plane arrays›" (van ten hoogste 32 elementen) met detectorelementen die uitsluitend bestaan uit germanium. |
| --- | --- |

:

Voor de toepassing van 6A002.a.3.d. wordt onder ‧scanbreedterichting‧ ("‹cross scan direction›") verstaan de as die parallel loopt aan de lineaire array van detectorelementen, en wordt onder de ‧scanrichting‧ ("‹scan direction›") verstaan de as die loodrecht staat op de lineaire array van detectorelementen.

| e. | "‹focal plane arrays›", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", lineair (eendimensionaal), met afzonderlijke elementen met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 3 000 nm, doch niet meer dan 30 000 nm. |
| --- | --- |

e.

"‹focal plane arrays›", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", lineair (eendimensionaal), met afzonderlijke elementen met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 3 000 nm, doch niet meer dan 30 000 nm.

| f. | infrarode "‹focal plane arrays›", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", niet-lineair (tweedimensionaal), gebaseerd op ‧microbolometer‧-materiaal, met afzonderlijke elementen, reactie zonder filter bij een golflengte van 8 000 nm of meer, doch niet meer dan 14 000 nm.

  :


  Voor de toepassing van 6A002.a.3.f. wordt onder ‧microbolometer‧ verstaan een thermische beelddetector die, als gevolg van een wijziging van de temperatuur in de detector door de absorptie van infrarode straling, een bruikbaar signaal genereert. |
| --- | --- |

f.

infrarode "‹focal plane arrays›", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", niet-lineair (tweedimensionaal), gebaseerd op ‧microbolometer‧-materiaal, met afzonderlijke elementen, reactie zonder filter bij een golflengte van 8 000 nm of meer, doch niet meer dan 14 000 nm.

:

Voor de toepassing van 6A002.a.3.f. wordt onder ‧microbolometer‧ verstaan een thermische beelddetector die, als gevolg van een wijziging van de temperatuur in de detector door de absorptie van infrarode straling, een bruikbaar signaal genereert.

| g. | "‹focal plane arrays›", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", met alle volgende kenmerken:






  1. | afzonderlijke detectorelementen met een maximumreactie in het golflengtegebied tussen 400 en 900 nm; |
| --- | --- | --- |

g.

"‹focal plane arrays›", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", met alle volgende kenmerken:

1.

afzonderlijke detectorelementen met een maximumreactie in het golflengtegebied tussen 400 en 900 nm;

| 2. | speciaal ontworpen of aangepast om een ‧ladingsvermenigvuldiging‧ tot stand te brengen en met een maximale "stralingsgevoeligheid" van meer dan 10 mA/W bij een golflengte van meer dan 760 nm; |
| --- | --- |

2.

speciaal ontworpen of aangepast om een ‧ladingsvermenigvuldiging‧ tot stand te brengen en met een maximale "stralingsgevoeligheid" van meer dan 10 mA/W bij een golflengte van meer dan 760 nm;

| 3. | meer dan 32 elementen. |
| --- | --- |

3.

meer dan 32 elementen.

| b. | "Monospectrale beeldsensoren" en "multispectrale beeldsensoren", ontworpen voor toepassing bij het aftasten op afstand, met één van beide volgende kenmerken:






  1. | een momenteel gezichtsveld (‹Instantaneous-Field-of-View›, IFOV) kleiner dan 200 microradiaal; of |
| --- | --- | --- |

b.

"Monospectrale beeldsensoren" en "multispectrale beeldsensoren", ontworpen voor toepassing bij het aftasten op afstand, met één van beide volgende kenmerken:

1.

een momenteel gezichtsveld (‹Instantaneous-Field-of-View›, IFOV) kleiner dan 200 microradiaal; of

| 2. | gespecificeerd om te werken bij golflengten van meer dan 400 nm doch niet meer dan 30 000 nm;






  a. | de uitgevoerde beeldgegevens zijn digitaal opgemaakt; |
| --- | --- | --- |

2.

gespecificeerd om te werken bij golflengten van meer dan 400 nm doch niet meer dan 30 000 nm;

a.

de uitgevoerde beeldgegevens zijn digitaal opgemaakt;

| b. | met een van de volgende kenmerken:






  1. | de sensoren zijn "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", of |
| --- | --- | --- |

b.

met een van de volgende kenmerken:

1.

de sensoren zijn "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", of

| 2. | ontworpen voor gebruik in de lucht, gebruik makend van andere dan siliciumdetectoren, en met een momenteel gezichtsveld (IFOV)) van minder dan 2,5 milliradiaal. |
| --- | --- |

2.

ontworpen voor gebruik in de lucht, gebruik makend van andere dan siliciumdetectoren, en met een momenteel gezichtsveld (IFOV)) van minder dan 2,5 milliradiaal.

| : | Niet bedoeld worden in 6A002.b.1. "monospectrale beeldsensoren" met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 300 nm, doch niet meer dan 900 nm, waarin slechts één van de volgende niet "voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" detectoren of niet voor "voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde""‹focal plane arrays›" zijn verwerkt:







  1. | ladinggekoppelde componenten (CCD) die niet ontworpen of aangepast zijn voor ‧ladingsvermenigvuldiging‧; of |
| --- | --- | --- |

:

Niet bedoeld worden in 6A002.b.1. "monospectrale beeldsensoren" met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 300 nm, doch niet meer dan 900 nm, waarin slechts één van de volgende niet "voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" detectoren of niet voor "voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde""‹focal plane arrays›" zijn verwerkt:

1.

ladinggekoppelde componenten (CCD) die niet ontworpen of aangepast zijn voor ‧ladingsvermenigvuldiging‧; of

| 2. | componenten met metaal-oxide veldeffecttransistoren (CMOS) die niet ontworpen of aangepast zijn voor ‧ladingsvermenigvuldiging‧. |
| --- | --- |

2.

componenten met metaal-oxide veldeffecttransistoren (CMOS) die niet ontworpen of aangepast zijn voor ‧ladingsvermenigvuldiging‧.

| c. | Apparatuur voor ‧directe beeldvorming‧, met één van beide volgende artikelen:






  1. | beeldversterkingsbuizen, als bedoeld in 6A002.a.2.a en 6A002.a.2.b; |
| --- | --- | --- |

c.

Apparatuur voor ‧directe beeldvorming‧, met één van beide volgende artikelen:

1.

beeldversterkingsbuizen, als bedoeld in 6A002.a.2.a en 6A002.a.2.b;

| 2. | "‹focal plane arrays›", als bedoeld in 6A002.a.3; of |
| --- | --- |

2.

"‹focal plane arrays›", als bedoeld in 6A002.a.3; of

| 3. | vaste-stofdetectoren als bedoeld in 6A002.a.1; |
| --- | --- |

3.

vaste-stofdetectoren als bedoeld in 6A002.a.1;

:

Met ‧directe beeldvorming‧ wordt bedoeld beeldapparatuur die de menselijke waarnemer een visueel beeld geeft zonder omzetting van het beeld in een elektronisch signaal voor televisieweergave en die het beeld noch fotografisch, noch elektronisch noch op enige andere wijze kan registreren of opslaan.

| : | Niet bedoeld wordt in 6A002.c onderstaande apparatuur met fotokathoden anders dan van GaAs of GaInAs:







  a. | inbraakalarmsystemen voor industriële of civiele toepassing of systemen voor het regelen en tellen van bewegingen in het verkeer of in de industrie; |
| --- | --- | --- |

:

a.

inbraakalarmsystemen voor industriële of civiele toepassing of systemen voor het regelen en tellen van bewegingen in het verkeer of in de industrie;

| b. | medische apparatuur; |
| --- | --- |

b.

medische apparatuur;

| c. | industriële apparatuur die wordt gebruikt voor inspectie, selectie of analyse van de eigenschappen van materialen; |
| --- | --- |

c.

industriële apparatuur die wordt gebruikt voor inspectie, selectie of analyse van de eigenschappen van materialen;

| d. | vlamdetectoren voor industriële ovens; |
| --- | --- |

d.

vlamdetectoren voor industriële ovens;

| e. | apparatuur die speciaal is ontworpen voor gebruik in het laboratorium. |
| --- | --- |

e.

apparatuur die speciaal is ontworpen voor gebruik in het laboratorium.

| d. | Speciale ondersteunende onderdelen voor optische sensoren, als hieronder:






  1. | "voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" cryogene koelers; |
| --- | --- | --- |

d.

Speciale ondersteunende onderdelen voor optische sensoren, als hieronder:

1.

"voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" cryogene koelers;

| 2. | niet "voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" cryogene koelers met een koelbrontemperatuur lager dan 218 K (– 55 °C), als hieronder:






  a. | met een gesloten kringloop met een gespecificeerd gemiddeld interval vóór storing (MTTF) of gemiddeld storingsvrij interval (MTBF) groter dan 2 500 uur; |
| --- | --- | --- |

2.

niet "voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" cryogene koelers met een koelbrontemperatuur lager dan 218 K (– 55 °C), als hieronder:

a.

met een gesloten kringloop met een gespecificeerd gemiddeld interval vóór storing (MTTF) of gemiddeld storingsvrij interval (MTBF) groter dan 2 500 uur;

| b. | zelfregulerende Joule-Thomson (JT)-minikoelers voor een boorgat met een middellijn kleiner dan 8 mm; |
| --- | --- |

b.

zelfregulerende Joule-Thomson (JT)-minikoelers voor een boorgat met een middellijn kleiner dan 8 mm;

| 3. | glasvezels voor aftasten die qua samenstelling of structuur speciaal zo zijn geconstrueerd of door bekleding zodanig aangepast dat zij akoestische, thermische, traagheids- of elektromagnetische gevoeligheid bezitten of gevoeligheid voor nucleaire straling.







  : | 6A002.d.3. is niet van toepassing op ingekapselde glasvezels voor aftasten die speciaal ontworpen zijn voor het aftasten van boorgaten |
| --- | --- | --- |

3.

glasvezels voor aftasten die qua samenstelling of structuur speciaal zo zijn geconstrueerd of door bekleding zodanig aangepast dat zij akoestische, thermische, traagheids- of elektromagnetische gevoeligheid bezitten of gevoeligheid voor nucleaire straling.

:

| e. | Niet gebruikt. |
| --- | --- |

e.

Niet gebruikt.

6A003Camerasystemen en -apparatuur, en onderdelen daarvoor, als hieronder

| NB: | ZIE OOK 6A203. |
| --- | --- |

NB:

:

Zie 8A002.d.1. en 8A002.e voor televisiecamera's en fotografische filmcamera's die speciaal zijn ontworpen of aangepast voor gebruik onder water.

| a. | Instrumentatiecamera's en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:







  : | De in 6A003.a.3. tot en met 6A003.a.5. bedoelde instrumentatiecamera's met modulaire structuren moeten worden beoordeeld op hun maximumcapaciteit door gebruik te maken van ‹plug-ins› die overeenkomstig de specificaties van de fabrikant van de camera beschikbaar zijn. |
| --- | --- | --- |

a.

Instrumentatiecamera's en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:

:

| 1. | filmcamera's voor hoge opnamesnelheden waarbij gebruik wordt gemaakt van elk filmformaat van 8 tot en met 16 mm, waarin de film gedurende de registratietijd ononderbroken wordt voortbewogen en geschikt voor opnamesnelheden van meer dan 13 150 beelden per seconde;







  : | Niet bedoeld worden in 6A003.a.1 filmcamera's die voor civiele doeleinden ontworpen zijn. |
| --- | --- | --- |

1.

filmcamera's voor hoge opnamesnelheden waarbij gebruik wordt gemaakt van elk filmformaat van 8 tot en met 16 mm, waarin de film gedurende de registratietijd ononderbroken wordt voortbewogen en geschikt voor opnamesnelheden van meer dan 13 150 beelden per seconde;

:

| 2. | mechanische camera's voor hoge opnamesnelheden waarin de film niet wordt voortbewogen, en geschikt voor opnamesnelheden van meer dan 1 000 000 beelden per seconde bij volle beeldhoogte van standaard 35 mm-film of naar verhouding hogere snelheden bij een kleinere beeldhoogte, of lagere snelheden bij een grotere beeldhoogte; |
| --- | --- |

2.

mechanische camera's voor hoge opnamesnelheden waarin de film niet wordt voortbewogen, en geschikt voor opnamesnelheden van meer dan 1 000 000 beelden per seconde bij volle beeldhoogte van standaard 35 mm-film of naar verhouding hogere snelheden bij een kleinere beeldhoogte, of lagere snelheden bij een grotere beeldhoogte;

| 3. | mechanische of elektronische ‹streak›-camera's met opnamesnelheden groter dan 10 μm per μs; |
| --- | --- |

3.

mechanische of elektronische ‹streak›-camera's met opnamesnelheden groter dan 10 μm per μs;

| 4. | elektronische beeld-(‹framing›-)camera's met een snelheid groter dan 1 000 000 beelden per seconde |
| --- | --- |

4.

elektronische beeld-(‹framing›-)camera's met een snelheid groter dan 1 000 000 beelden per seconde

| 5. | elektronische camera's met:






  a. | een elektronische sluitertijd (venstervermogen) van minder dan 1 μs per volledig beeld; |
| --- | --- | --- |

5.

elektronische camera's met:

a.

een elektronische sluitertijd (venstervermogen) van minder dan 1 μs per volledig beeld;

| b. | een uitleestijd die een opnamesnelheid van meer dan 125 volledige beelden per seconde mogelijk maakt; |
| --- | --- |

b.

een uitleestijd die een opnamesnelheid van meer dan 125 volledige beelden per seconde mogelijk maakt;

| 6. | ‹Plug-ins›, met alle volgende kenmerken:






  a. | speciaal ontworpen voor instrumentatiecamera's met modulaire structuren en als vermeld in 6A003.a; |
| --- | --- | --- |

6.

‹Plug-ins›, met alle volgende kenmerken:

a.

speciaal ontworpen voor instrumentatiecamera's met modulaire structuren en als vermeld in 6A003.a;

| b. | waarmee die camera's beantwoorden aan de kenmerken, vermeld in 6A003.a.3., 6A003.a.4. of 6A003.a.5., overeenkomstig de specificaties van de fabrikant. |
| --- | --- |

b.

waarmee die camera's beantwoorden aan de kenmerken, vermeld in 6A003.a.3., 6A003.a.4. of 6A003.a.5., overeenkomstig de specificaties van de fabrikant.

| b. | Beeldcamera's, als hieronder: | Niet bedoeld worden in 6A003.b televisie- of videocamera's die speciaal zijn ontworpen voor televisie-uitzendingen. |
| --- | --- | --- |

b.

Beeldcamera's, als hieronder:

| 1. | videocamera's die halfgeleidersensoren bevatten, met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 10 nm, doch niet meer dan 30 000 nm en al de volgende kenmerken:






  a. | met een of meer van de volgende kenmerken:






  1. | meer dan 4 × 106"actieve pixels" per halfgeleider-‹array› voor monochroom- (zwart/wit) camera's; |
| --- | --- | --- | --- |

1.

videocamera's die halfgeleidersensoren bevatten, met een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 10 nm, doch niet meer dan 30 000 nm en al de volgende kenmerken:

a.

met een of meer van de volgende kenmerken:

1.

meer dan 4 × 106"actieve pixels" per halfgeleider-‹array› voor monochroom- (zwart/wit) camera's;

| 2. | meer dan 4 × 106"actieve pixels" per halfgeleider-‹array› voor kleurencamera's met drie halfgeleider-"arrays", of |
| --- | --- |

2.

meer dan 4 × 106"actieve pixels" per halfgeleider-‹array› voor kleurencamera's met drie halfgeleider-"arrays", of

| 3. | meer dan 12 × 106"actieve pixels" voor halfgeleider-‹array› kleurencamera's met één halfgeleider-‹array›; |
| --- | --- |

3.

meer dan 12 × 106"actieve pixels" voor halfgeleider-‹array› kleurencamera's met één halfgeleider-‹array›;

| b. | met een of meer van de volgende kenmerken:






  1. | optische spiegels als bedoeld in 6A004.a; |
| --- | --- | --- |

b.

met een of meer van de volgende kenmerken:

1.

optische spiegels als bedoeld in 6A004.a;

| 2. | optische regelapparatuur als bedoeld in 6A004.d of |
| --- | --- |

2.

optische regelapparatuur als bedoeld in 6A004.d of

| 3. | de mogelijkheid om intern gegenereerde ‧cameratrackinggegevens‧ te annoteren. |
| --- | --- |

3.

de mogelijkheid om intern gegenereerde ‧cameratrackinggegevens‧ te annoteren.

| 1. | Voor de toepassing van dit punt moeten digitale videocamera's worden beoordeeld volgens het maximumaantal "actieve pixels" die gebruikt worden om bewegende beelden op te nemen. |
| --- | --- |

1.

| 2. | Voor de toepassing van dit punt wordt onder ‧cameratrackinggegevens‧ verstaan: de nodige informatie om de kijkrichting van de camera ten opzichte van de aarde aan te geven. Deze omvat 1) de horizontale hoek van de kijkrichting van de camera ten opzichte van de richting van het magnetische veld van de aarde en 2) de verticale hoek tussen de kijkrichting van de camera en de horizon van de aarde. |
| --- | --- |

2.

| 2. | aftastcamera's en aftastcamerasystemen met de volgende kenmerken:






  a. | een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 10 nm, doch niet meer dan 30 000 nm; |
| --- | --- | --- |

2.

aftastcamera's en aftastcamerasystemen met de volgende kenmerken:

a.

een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 10 nm, doch niet meer dan 30 000 nm;

| b. | lineaire detectie-‹arrays› met meer dan 8 192 elementen per ‹array›, |
| --- | --- |

b.

lineaire detectie-‹arrays› met meer dan 8 192 elementen per ‹array›,

| c. | mechanische aftasting in één richting; |
| --- | --- |

c.

mechanische aftasting in één richting;

| : | 6A003.b.2. is niet van toepassing op aftastcamera's en aftastcamerasystemen speciaal ontworpen voor een of meer van de volgende doelen:







  a. | industriële fotokopieerapparaten of fotokopieerapparaten voor privégebruik; |
| --- | --- | --- |

:

a.

industriële fotokopieerapparaten of fotokopieerapparaten voor privégebruik;

| b. | beeldaftasters speciaal ontworpen voor civiele stationaire applicaties voor aftasting op korte afstand (bv. reproductie van afbeeldingen of gedrukte tekst in documenten, kunstwerken of foto's); of |
| --- | --- |

b.

beeldaftasters speciaal ontworpen voor civiele stationaire applicaties voor aftasting op korte afstand (bv. reproductie van afbeeldingen of gedrukte tekst in documenten, kunstwerken of foto's); of

| c. | medische apparatuur. |
| --- | --- |

c.

medische apparatuur.

| 3. | beeldcamera's met versterkerbuizen, als bedoeld in 6A002.a.2.a en 6A002.a.2.b.; |
| --- | --- |

3.

beeldcamera's met versterkerbuizen, als bedoeld in 6A002.a.2.a en 6A002.a.2.b.;

| 4. | beeldcamera's met "‹focal plane arrays›" met een of meer van de volgende kenmerken:






  a. | met "‹focal plane arrays›" als bedoeld in 6A002.a.3.a. t/m 6A002.a.3.e; |
| --- | --- | --- |

4.

beeldcamera's met "‹focal plane arrays›" met een of meer van de volgende kenmerken:

a.

met "‹focal plane arrays›" als bedoeld in 6A002.a.3.a. t/m 6A002.a.3.e;

| b. | met "‹focal plane arrays›" als bedoeld in 6A002.a.3.f; of |
| --- | --- |

b.

met "‹focal plane arrays›" als bedoeld in 6A002.a.3.f; of

| c. | met "‹focal plane arrays›" als bedoeld in 6A002.a.3.g. |
| --- | --- |

c.

met "‹focal plane arrays›" als bedoeld in 6A002.a.3.g.

| | Beeldcamera's als bedoeld in 6A003.b.4. omvatten onder meer "‹focal plane arrays›" gecombineerd met voldoende electronica voor "signaalverwerking", naast de geïntegreerde schakeling voor het uitlezen, om ten minste de output van een analoog of digitaal signaal mogelijk te maken zodra er stroom wordt geleverd. |
| --- | --- |

| | Niet bedoeld worden in 6A003.b.4.a beeldcamera's met lineaire "‹focal plane arrays›" met 12 elementen of minder, zonder tijdvertraging en integratie in het element, die zijn ontworpen voor een of meer van de volgende doelen:







  a. | inbraakalarmsystemen voor industriële of civiele toepassing, of systemen voor het regelen en tellen van bewegingen in het verkeer of de industrie; |
| --- | --- | --- |

a.

inbraakalarmsystemen voor industriële of civiele toepassing, of systemen voor het regelen en tellen van bewegingen in het verkeer of de industrie;

| b. | industriële apparatuur die wordt gebruikt voor inspectie van of toezicht op hittestromen in gebouwen, apparatuur of industriële processen; |
| --- | --- |

b.

industriële apparatuur die wordt gebruikt voor inspectie van of toezicht op hittestromen in gebouwen, apparatuur of industriële processen;

| c. | industriële apparatuur die wordt gebruikt voor inspectie, selectie of analyse van de eigenschappen van materialen; |
| --- | --- |

c.

industriële apparatuur die wordt gebruikt voor inspectie, selectie of analyse van de eigenschappen van materialen;

| d. | apparatuur die speciaal is ontworpen voor gebruik in het laboratorium; of |
| --- | --- |

d.

apparatuur die speciaal is ontworpen voor gebruik in het laboratorium; of

| e. | medische apparatuur. |
| --- | --- |

e.

medische apparatuur.

| | Niet bedoeld worden in 6A003.b.4.b. beeldcamera's met een of meer van de volgende kenmerken:







  a. | een maximale beeldsnelheid gelijk aan of kleiner dan 9 Hz; |
| --- | --- | --- |

a.

een maximale beeldsnelheid gelijk aan of kleiner dan 9 Hz;

| b. | met alle volgende eigenschappen:







  1. | een minimaal horizontaal of verticaal ‧momenteel gezichtsveld‧ (‹Instantaneous-Field-of-View›, IFOV) van ten minste 10 mrad/pixel (milliradiaal per pixel); |
| --- | --- | --- |

b.

met alle volgende eigenschappen:

1.

een minimaal horizontaal of verticaal ‧momenteel gezichtsveld‧ (‹Instantaneous-Field-of-View›, IFOV) van ten minste 10 mrad/pixel (milliradiaal per pixel);

| 2. | een ingebouwde lens met vaste brandpuntsafstand die niet is ontworpen om te worden verwijderd; |
| --- | --- |

2.

een ingebouwde lens met vaste brandpuntsafstand die niet is ontworpen om te worden verwijderd;

| 3. | geen ingebouwd beeldscherm voor ‧directe beeldvorming‧; en |
| --- | --- |

3.

geen ingebouwd beeldscherm voor ‧directe beeldvorming‧; en

| 4. | met een of meer van de volgende kenmerken:






  a. | geen mogelijkheid om een bekijkbaar beeld van het gedetecteerde gezichtsveld te verkrijgen, of |
| --- | --- | --- |

4.

met een of meer van de volgende kenmerken:

a.

geen mogelijkheid om een bekijkbaar beeld van het gedetecteerde gezichtsveld te verkrijgen, of

| b. | de camera is ontworpen voor één toepassing en is zodanig ontworpen dat de gebruiker haar niet kan aanpassen; of |
| --- | --- |

b.

de camera is ontworpen voor één toepassing en is zodanig ontworpen dat de gebruiker haar niet kan aanpassen; of

| c. | de camera is speciaal ontworpen voor installatie in een civiel voertuig voor passagiersvervoer te land van minder dan 3 ton (maximaal toegestaan gewicht van het voertuig) en alle volgende kenmerken heeft:







  1. | de camera werkt uitsluitend wanneer zij is geïnstalleerd in:






  a. | het civiel voertuig voor passagiersvervoer te land waarvoor zij is bestemd; of |
| --- | --- | --- | --- |

c.

de camera is speciaal ontworpen voor installatie in een civiel voertuig voor passagiersvervoer te land van minder dan 3 ton (maximaal toegestaan gewicht van het voertuig) en alle volgende kenmerken heeft:

1.

de camera werkt uitsluitend wanneer zij is geïnstalleerd in:

a.

het civiel voertuig voor passagiersvervoer te land waarvoor zij is bestemd; of

| b. | een speciaal ontworpen, erkende onderhouds- en testvoorziening; en |
| --- | --- |

b.

een speciaal ontworpen, erkende onderhouds- en testvoorziening; en

| 2. | in de camera is een actief mechanisme ingebouwd waardoor de camera niet werkt wanneer zij wordt verwijderd uit het voertuig waarvoor zij is bestemd. |
| --- | --- |

2.

in de camera is een actief mechanisme ingebouwd waardoor de camera niet werkt wanneer zij wordt verwijderd uit het voertuig waarvoor zij is bestemd.

:

| 1. | Het ‧momenteel gezichtsveld‧ (‹Instantaneous-Field-of-View›, IFOV) als bedoeld in 6A003.b.4., Noot 3.b., is het kleinste getal van respectievelijk de ‧horizontale IFOV‧ of de ‧verticale IFOV‧.

  ‧Horizontale IFOV‧ = horizontaal gezichtsveld (FOV)/aantal horizontale detectorelementen


  ‧Verticale IFOV‧ = verticaal gezichtsveld (FOV)/aantal verticale detectorelementen. |
| --- | --- |

1.

‧Horizontale IFOV‧ = horizontaal gezichtsveld (FOV)/aantal horizontale detectorelementen

‧Verticale IFOV‧ = verticaal gezichtsveld (FOV)/aantal verticale detectorelementen.

| 2. | Met ‧directe beeldvorming‧ in 6A003.b.4., Noot 3.b., wordt bedoeld een beeldcamera werkend in het infrarode spectrum, die de menselijke waarnemer een visueel beeld geeft door gebruik te maken van een ‹near-to-eye›-microbeeldscherm met een ingebouwd lichtweringsmechanisme. |
| --- | --- |

2.

| : | 6A003.b.4.c. is niet van toepassing op beeldcamera's met een of meer van de volgende kenmerken:






  a. | met alle volgende kenmerken:






  1. | de camera is speciaal ontworpen voor installatie als integrerend bestanddeel van een systeem of apparatuur, dat of die binnenshuis is geïnstalleerd en door middel van wandcontactdozen wordt bediend, en dat of die door het ontwerp ervan beperkt is tot één enkel gebruik, als hieronder;







  a. | monitoring van industriële processen, kwaliteitscontrole of analyse van de eigenschappen van materialen; |
| --- | --- | --- | --- | --- |

:

a.

met alle volgende kenmerken:

1.

de camera is speciaal ontworpen voor installatie als integrerend bestanddeel van een systeem of apparatuur, dat of die binnenshuis is geïnstalleerd en door middel van wandcontactdozen wordt bediend, en dat of die door het ontwerp ervan beperkt is tot één enkel gebruik, als hieronder;

a.

monitoring van industriële processen, kwaliteitscontrole of analyse van de eigenschappen van materialen;

| b. | speciaal voor wetenschappelijk onderzoek ontworpen laboratoriumapparatuur; |
| --- | --- |

b.

speciaal voor wetenschappelijk onderzoek ontworpen laboratoriumapparatuur;

| c. | medische apparatuur; |
| --- | --- |

c.

medische apparatuur;

| d. | apparatuur voor het opsporen van financiële fraude; |
| --- | --- |

d.

apparatuur voor het opsporen van financiële fraude;

| 2. | de camera werkt enkel wanneer hij geïnstalleerd is in:







  a. | het systeem, de systemen of de apparatuur waarvoor hij bestemd was; of |
| --- | --- | --- |

2.

de camera werkt enkel wanneer hij geïnstalleerd is in:

a.

het systeem, de systemen of de apparatuur waarvoor hij bestemd was; of

| b. | een speciaal ontworpen, erkende onderhoudsvoorziening; |
| --- | --- |

b.

een speciaal ontworpen, erkende onderhoudsvoorziening;

| 3. | bevat een actief mechanisme waarmee de camera buiten werking wordt gesteld wanneer zij verwijderd wordt uit het systeem, de systemen of de apparatuur waarvoor zij bestemd was; |
| --- | --- |

3.

bevat een actief mechanisme waarmee de camera buiten werking wordt gesteld wanneer zij verwijderd wordt uit het systeem, de systemen of de apparatuur waarvoor zij bestemd was;

| b. | de camera is speciaal ontworpen voor installatie in een civiel voertuig voor passagiersvervoer te land van minder dan 3 ton (maximaal toegestaan gewicht van het voertuig) of een veerboot voor passagiers en voertuigen met een totale lengte van ten minste 65 m, en heeft alle volgende kenmerken:








  1. | de camera werkt enkel wanneer zij geïnstalleerd is in:








  a. | het civiel voertuig voor passagiersvervoer te land of de veerboot voor passagiers en voertuigen waarvoor zij bestemd was; of |
| --- | --- | --- | --- |

b.

de camera is speciaal ontworpen voor installatie in een civiel voertuig voor passagiersvervoer te land van minder dan 3 ton (maximaal toegestaan gewicht van het voertuig) of een veerboot voor passagiers en voertuigen met een totale lengte van ten minste 65 m, en heeft alle volgende kenmerken:

1.

de camera werkt enkel wanneer zij geïnstalleerd is in:

a.

het civiel voertuig voor passagiersvervoer te land of de veerboot voor passagiers en voertuigen waarvoor zij bestemd was; of

| b. | een speciaal ontworpen, erkende onderhoudsvoorziening; en |
| --- | --- |

b.

een speciaal ontworpen, erkende onderhoudsvoorziening; en

| 2. | bevat een actief mechanisme waarmee de camera buiten werking wordt gesteld wanneer zij verwijderd wordt uit het voertuig waarvoor zij bestemd was; |
| --- | --- |

2.

bevat een actief mechanisme waarmee de camera buiten werking wordt gesteld wanneer zij verwijderd wordt uit het voertuig waarvoor zij bestemd was;

| c. | de camera is door haar ontwerp beperkt tot een maximale "stralingsgevoeligheid" van 10 mA/W bij een golflengte van meer dan 760 nm, met alle volgende kenmerken:








  1. | een reactiebeperkend mechanisme dat is ontworpen om niet te worden verwijderd of aangepast; |
| --- | --- | --- |

c.

de camera is door haar ontwerp beperkt tot een maximale "stralingsgevoeligheid" van 10 mA/W bij een golflengte van meer dan 760 nm, met alle volgende kenmerken:

1.

een reactiebeperkend mechanisme dat is ontworpen om niet te worden verwijderd of aangepast;

| 2. | een actief mechanisme waardoor de camera buiten werking wordt gesteld wanneer het reactiebeperkend mechanisme wordt verwijderd; en |
| --- | --- |

2.

een actief mechanisme waardoor de camera buiten werking wordt gesteld wanneer het reactiebeperkend mechanisme wordt verwijderd; en

| 3. | niet speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik onder water; of |
| --- | --- |

3.

niet speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik onder water; of

| d. | met alle volgende kenmerken:








  1. | geen ‧directe beeldvorming‧ of elektronische beeldweergave; |
| --- | --- | --- |

d.

met alle volgende kenmerken:

1.

geen ‧directe beeldvorming‧ of elektronische beeldweergave;

| 2. | geen voorziening voor de productie van een zichtbaar beeld van het gedetecteerde gezichtsveld; |
| --- | --- |

2.

geen voorziening voor de productie van een zichtbaar beeld van het gedetecteerde gezichtsveld;

| 3. | de "<focal plane array>" werkt alleen wanneer hij is geïnstalleerd in de camera waarvoor hij is bestemd; |
| --- | --- |

3.

de "<focal plane array>" werkt alleen wanneer hij is geïnstalleerd in de camera waarvoor hij is bestemd;

| 4. | de "<focal plane array>" bevat een actief mechanisme waardoor deze permanent buiten werking wordt gesteld wanneer hij wordt verwijderd uit de camera waarvoor hij bestemd was. |
| --- | --- |

4.

de "<focal plane array>" bevat een actief mechanisme waardoor deze permanent buiten werking wordt gesteld wanneer hij wordt verwijderd uit de camera waarvoor hij bestemd was.

| 5. | Beeldcamera's met vastestofdetectoren als bedoeld in 6A002.a.1. |
| --- | --- |

5.

Beeldcamera's met vastestofdetectoren als bedoeld in 6A002.a.1.

6A004Optische apparatuur en onderdelen daarvoor, als hieronder:

| a. | Optische spiegels (reflectoren), als hieronder:




  Voor optische spiegels die speciaal zijn ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3B001







  1. | "vervormbare spiegels" met een ongesegmenteerd of gesegmenteerd oppervlak en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, geschikt voor dynamische herinstelling van gedeelten van het oppervlak van de spiegel met snelheden groter dan 100 Hz; |
| --- | --- | --- |

a.

Optische spiegels (reflectoren), als hieronder:

Voor optische spiegels die speciaal zijn ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3B001

1.

"vervormbare spiegels" met een ongesegmenteerd of gesegmenteerd oppervlak en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, geschikt voor dynamische herinstelling van gedeelten van het oppervlak van de spiegel met snelheden groter dan 100 Hz;

| 2. | lichtgewicht monolithische spiegels met een gemiddelde "equivalente dichtheid" van minder dan 30 kg/m2 en een totale massa van meer dan 10 kg; |
| --- | --- |

2.

lichtgewicht monolithische spiegels met een gemiddelde "equivalente dichtheid" van minder dan 30 kg/m2 en een totale massa van meer dan 10 kg;

| 3. | lichtgewicht "composiete" of schuimspiegelstructuren met een gemiddelde "equivalente dichtheid" van minder dan 30 kg/m2 en een totale massa van meer dan 2 kg; |
| --- | --- |

3.

lichtgewicht "composiete" of schuimspiegelstructuren met een gemiddelde "equivalente dichtheid" van minder dan 30 kg/m2 en een totale massa van meer dan 2 kg;

| 4. | spiegels met bundelsturing met een diameter of lengte van de hoofdas groter dan 100 mm die een vlakheid handhaven van λ/2 of beter (λ = 633 nm) en met een regelbandbreedte groter dan 100 Hz; |
| --- | --- |

4.

spiegels met bundelsturing met een diameter of lengte van de hoofdas groter dan 100 mm die een vlakheid handhaven van λ/2 of beter (λ = 633 nm) en met een regelbandbreedte groter dan 100 Hz;

| b. | Optische onderdelen vervaardigd van zinkselenide (ZnSe) of zinksulfide (ZnS) met voortplanting in het golflengtegebied van 3 000 nm tot 25 000 nm en met één van de volgende kenmerken:






  1. | een volume groter dan 100 cm3; of |
| --- | --- | --- |

b.

Optische onderdelen vervaardigd van zinkselenide (ZnSe) of zinksulfide (ZnS) met voortplanting in het golflengtegebied van 3 000 nm tot 25 000 nm en met één van de volgende kenmerken:

1.

een volume groter dan 100 cm3; of

| 2. | een diameter of lengte van de hoofdas groter dan 80 mm en een dikte (diepte) groter dan 20 mm. |
| --- | --- |

2.

een diameter of lengte van de hoofdas groter dan 80 mm en een dikte (diepte) groter dan 20 mm.

| c. | "Voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" onderdelen voor optische systemen, als hieronder:






  1. | componenten, lichtgewicht gemaakt tot minder dan 20 % "equivalente dichtheid" in vergelijking met een massief onafgewerkt model met dezelfde opening en van dezelfde dikte; |
| --- | --- | --- |

c.

"Voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" onderdelen voor optische systemen, als hieronder:

1.

componenten, lichtgewicht gemaakt tot minder dan 20 % "equivalente dichtheid" in vergelijking met een massief onafgewerkt model met dezelfde opening en van dezelfde dikte;

| 2. | ruwe substraten, bewerkte substraten met oppervlaktebekleding (met één of met meerdere lagen, metalliek of diëlektrisch, geleidend, halfgeleidend of isolerend) of met een beschermlaag; |
| --- | --- |

2.

ruwe substraten, bewerkte substraten met oppervlaktebekleding (met één of met meerdere lagen, metalliek of diëlektrisch, geleidend, halfgeleidend of isolerend) of met een beschermlaag;

| 3. | segmenten of samenstellingen van spiegels die zijn ontworpen om in de ruimte te worden samengevoegd tot een optisch systeem met een opvangopening gelijk aan of groter dan één enkel optisch onderdeel met een diameter van 1 meter; |
| --- | --- |

3.

segmenten of samenstellingen van spiegels die zijn ontworpen om in de ruimte te worden samengevoegd tot een optisch systeem met een opvangopening gelijk aan of groter dan één enkel optisch onderdeel met een diameter van 1 meter;

| 4. | componenten vervaardigd van "composiet"-materiaal met een lineaire thermische uitzettingscoëfficiënt gelijk aan of kleiner dan 5 × 10-6 in elk der coördinaatrichtingen; |
| --- | --- |

4.

componenten vervaardigd van "composiet"-materiaal met een lineaire thermische uitzettingscoëfficiënt gelijk aan of kleiner dan 5 × 10-6 in elk der coördinaatrichtingen;

| d. | Optische regelapparatuur, als hieronder:






  1. | apparatuur speciaal ontworpen voor handhaving van het oppervlaktepatroon of de richting van de "voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" onderdelen bedoeld in 6A004.c.1 of 6A004.c.3; |
| --- | --- | --- |

d.

Optische regelapparatuur, als hieronder:

1.

apparatuur speciaal ontworpen voor handhaving van het oppervlaktepatroon of de richting van de "voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" onderdelen bedoeld in 6A004.c.1 of 6A004.c.3;

| 2. | apparatuur met bandbreedten voor sturen, volgen, stabiliseren of resonatorrichten gelijk aan of groter dan 100 Hz en een nauwkeurigheid van 10 microradiaal of minder; |
| --- | --- |

2.

apparatuur met bandbreedten voor sturen, volgen, stabiliseren of resonatorrichten gelijk aan of groter dan 100 Hz en een nauwkeurigheid van 10 microradiaal of minder;

| 3. | cardanusringen (‹gimbals›) met:






  a. | een maximale zwenking groter dan 5°; |
| --- | --- | --- |

3.

cardanusringen (‹gimbals›) met:

a.

een maximale zwenking groter dan 5°;

| b. | een bandbreedte gelijk aan of groter dan 100 Hz; |
| --- | --- |

b.

een bandbreedte gelijk aan of groter dan 100 Hz;

| c. | met een hoekaanwijsfout gelijk aan of minder dan 200 microradiaal; en |
| --- | --- |

c.

met een hoekaanwijsfout gelijk aan of minder dan 200 microradiaal; en

| d. | met een of meer van de volgende kenmerken:






  1. | met een diameter of lengte van de hoofdas groter dan 0,15 m doch niet groter dan 1 m en geschikt voor hoekversnellingen groter dan 2 radiaal/s2; of |
| --- | --- | --- |

d.

met een of meer van de volgende kenmerken:

1.

met een diameter of lengte van de hoofdas groter dan 0,15 m doch niet groter dan 1 m en geschikt voor hoekversnellingen groter dan 2 radiaal/s2; of

| 2. | met een diameter of lengte van de hoofdas groter dan 1 m en geschikt voor hoekversnellingen groter dan 0,5 radiaal/s2; |
| --- | --- |

2.

met een diameter of lengte van de hoofdas groter dan 1 m en geschikt voor hoekversnellingen groter dan 0,5 radiaal/s2;

| 4. | speciaal ontworpen voor handhaving van de richting (‹alignment› van ‹phased array›- of ‹phased segment›-spiegelsystemen, bestaande uit spiegels met een diameter of lengte van de hoofdas per segment van 1 m of meer; |
| --- | --- |

4.

speciaal ontworpen voor handhaving van de richting (‹alignment› van ‹phased array›- of ‹phased segment›-spiegelsystemen, bestaande uit spiegels met een diameter of lengte van de hoofdas per segment van 1 m of meer;

| e. | ‧Asferische optische elementen‧ met alle volgende kenmerken:






  1. | een grootste afmeting van de optische apertuur van meer dan 400 mm; |
| --- | --- | --- |

e.

‧Asferische optische elementen‧ met alle volgende kenmerken:

1.

een grootste afmeting van de optische apertuur van meer dan 400 mm;

| 2. | een oppervlakteruwheid van minder dan 1 nm (rms) voor het bemonsteren van lengten van 1 mm of meer; en |
| --- | --- |

2.

een oppervlakteruwheid van minder dan 1 nm (rms) voor het bemonsteren van lengten van 1 mm of meer; en

| 3. | een absolute orde van grootte van de lineaire thermische uitzettingscoëfficiënt kleiner dan 3 × 10-6/K bij 25 °C. |
| --- | --- |

3.

een absolute orde van grootte van de lineaire thermische uitzettingscoëfficiënt kleiner dan 3 × 10-6/K bij 25 °C.

:

| 1. | Een ‧asferisch optisch element‧ is een in een optisch systeem gebruikt element waarvan het beeldvormingsoppervlak of de beeldvormingsoppervlakken dusdanig ontworpen zijn dat zij afwijken van de ideale bolvorm. |
| --- | --- |

1.

| 2. | De fabrikanten hoeven de in 6A004.e.2. vermelde oppervlakteruwheid niet te meten, tenzij het optisch element is ontworpen of vervaardigd om aan de controleparameter te voldoen of die parameter te overtreffen. |
| --- | --- |

2.

| | Niet bedoeld worden in 6A004.e.‧asferische optische elementen‧ met een of meer van de volgende kenmerken:







  a. | een grootste afmeting van de optische apertuur kleiner dan 1 m en een verhouding brandpuntsafstand/apertuur gelijk aan of groter dan 4,5:1; |
| --- | --- | --- |

a.

een grootste afmeting van de optische apertuur kleiner dan 1 m en een verhouding brandpuntsafstand/apertuur gelijk aan of groter dan 4,5:1;

| b. | een grootste afmeting van de optische apertuur gelijk aan of groter dan 1 m en een verhouding brandpuntsafstand/apertuur gelijk aan of groter dan 7:1; |
| --- | --- |

b.

een grootste afmeting van de optische apertuur gelijk aan of groter dan 1 m en een verhouding brandpuntsafstand/apertuur gelijk aan of groter dan 7:1;

| c. | ontworpen als een optisch element van het Fresnel-, fly-eye-, lijn- (‹stripe›), prisma- of diffractieve type; |
| --- | --- |

c.

ontworpen als een optisch element van het Fresnel-, fly-eye-, lijn- (‹stripe›), prisma- of diffractieve type;

| d. | gefabriceerd van borosilicaatglas met een lineaire thermische uitzettingscoëfficiënt groter dan 2,5 × 10-6/K bij 25 °C; of |
| --- | --- |

d.

gefabriceerd van borosilicaatglas met een lineaire thermische uitzettingscoëfficiënt groter dan 2,5 × 10-6/K bij 25 °C; of

| e. | optisch element voor röntgenstraling met interne spiegeling (bv. buisvormige spiegels). |
| --- | --- |

e.

optisch element voor röntgenstraling met interne spiegeling (bv. buisvormige spiegels).

Voor ‧asferische optische elementen‧, speciaal ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3B001.

6A005"Lasers", onderdelen en optische apparatuur, anders dan bedoeld in 0B001.g.5 of 0B001.h.6, als hieronder:

| NB | ZIE OOK 6A205. |
| --- | --- |

NB

| | Onder gepulseerde "lasers" worden mede begrepen "lasers" die werken in continugolf (CW)-modus met gesuperponeerde impulsen. |
| --- | --- |

| | Excimeer-"lasers", halfgeleider "lasers", chemische "lasers", CO-, CO2-"lasers" en niet-repititieve gepulseerde Nd-glas-lasers staan alleen vermeld in 6A005.d |
| --- | --- |

| | 6.A005 omvat vezel-"lasers". |
| --- | --- |

| | De embargostatus voor "lasers" met frequentieomzetting (dzw verandering van golflengte) anders dan door één "laser" die een andere "laser" pompt, wordt bepaald door toepassing van de controleparameters voor de output van de bron "laser" en de optische output met omgezette frequentie. |
| --- | --- |

| | 6.A005. is niet van toepassing op onderstaande "lasers":







  a. | Robijn met uitgangsenergie van minder dan 20 J; |
| --- | --- | --- |

a.

Robijn met uitgangsenergie van minder dan 20 J;

| b. | Stikstof; |
| --- | --- |

b.

Stikstof;

| c. | Krypton. |
| --- | --- |

c.

Krypton.

In 6A005 wordt ‧wall-plug‧ efficiency gedefinieerd als de verhouding tussen het "laser"- uitgangsvermogen (of "gemiddeld uitgangsvermogen") en het elektrische ingangsvermogen dat nodig is om met de "laser" te werken, inclusief conditionering van de stroombron en thermische conditionering/warmtewisselaar

| a. | Niet-"afstembare""lasers" met continugolf (CW) met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een golflengte aan de uitgang van minder dan 150 nm en een uitgangsvermogen van meer dan 1 W; |
| --- | --- | --- |

a.

Niet-"afstembare""lasers" met continugolf (CW) met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een golflengte aan de uitgang van minder dan 150 nm en een uitgangsvermogen van meer dan 1 W;

| 2. | een golflengte aan de uitgang van 150 nm of langer doch niet langer dan 520 nm, en een uitgangsvermogen van meer dan 30 W; | 6.A005.a.2. omvat geen argon-"lasers" met een uitgangsvermogen van ten hoogste 50 W. |
| --- | --- | --- |

2.

een golflengte aan de uitgang van 150 nm of langer doch niet langer dan 520 nm, en een uitgangsvermogen van meer dan 30 W;

| 3. | een golflengte aan de uitgang van meer dan 520 nm doch niet meer dan 540 nm en met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een uitvoer met enkelvoudige transversale modus en een uitgangsvermogen van meer dan 50 W, of |
| --- | --- | --- |

3.

een golflengte aan de uitgang van meer dan 520 nm doch niet meer dan 540 nm en met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een uitvoer met enkelvoudige transversale modus en een uitgangsvermogen van meer dan 50 W, of

| b. | een uitvoer met verschillende transversale modi en een uitgangsvermogen van meer dan 150 W. |
| --- | --- |

b.

een uitvoer met verschillende transversale modi en een uitgangsvermogen van meer dan 150 W.

| 4. | een golflengte aan de uitgang van meer dan 540 nm doch niet meer dan 800 nm, en een uitgangsvermogen van meer dan 30 W; |
| --- | --- |

4.

een golflengte aan de uitgang van meer dan 540 nm doch niet meer dan 800 nm, en een uitgangsvermogen van meer dan 30 W;

| 5. | een golflengte aan de uitgang van meer dan 800 nm doch niet meer dan 975 nm, en één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een uitvoer met enkelvoudige transversale modus en een uitgangsvermogen van meer dan 50 W. of |
| --- | --- | --- |

5.

een golflengte aan de uitgang van meer dan 800 nm doch niet meer dan 975 nm, en één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een uitvoer met enkelvoudige transversale modus en een uitgangsvermogen van meer dan 50 W. of

| b. | een uitvoer met verschillende transversale modi en een uitgangsvermogen van meer dan 80 W. |
| --- | --- |

b.

een uitvoer met verschillende transversale modi en een uitgangsvermogen van meer dan 80 W.

| 6. | een golflengte aan de uitgang van meer dan 975 nm doch niet meer dan 1 150 nm en met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | enkelvoudige transversale modus, met een van de volgende kenmerken:






  1. | een ‧wall-plug efficiency‧ van meer dan 12 % en een uitgangsvermogen van meer dan 100 W; of |
| --- | --- | --- | --- |

6.

een golflengte aan de uitgang van meer dan 975 nm doch niet meer dan 1 150 nm en met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

enkelvoudige transversale modus, met een van de volgende kenmerken:

1.

een ‧wall-plug efficiency‧ van meer dan 12 % en een uitgangsvermogen van meer dan 100 W; of

| 2. | een uitgangsvermogen van meer dan 150 W; of |
| --- | --- |

2.

een uitgangsvermogen van meer dan 150 W; of

| b. | verschillende transversale modi, met een van de volgende kenmerken:






  1. | een ‧wall-plug efficiency‧ van meer dan 18 % en een uitgangsvermogen van meer dan 500 W; of. |
| --- | --- | --- |

b.

verschillende transversale modi, met een van de volgende kenmerken:

1.

een ‧wall-plug efficiency‧ van meer dan 18 % en een uitgangsvermogen van meer dan 500 W; of.

| 2. | een uitgangsvermogen van meer dan 2 kW; |
| --- | --- |

2.

een uitgangsvermogen van meer dan 2 kW;

| | 6.A005.a.6.b omvat geen industriële "lasers" met verschillende transversale modi met een uitgangsvermogen tussen 2 en 6 kW en een totale massa van meer dan 1 200 kg. In deze noot omvat de totale massa alle componenten die nodig zijn om de "laser" te laten werken, bijv. "laser" stroombron, warmtewisselaar, maar geen externe optische apparatuur voor conditionering en/of transmissie van de straal. |
| --- | --- |

| 7. | een golflengte aan de uitgang van meer dan 1 150 nm doch niet meer dan 1 555 nm en met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een uitvoer met enkelvoudige transversale modus en een uitgangsvermogen van meer dan 50 W, of |
| --- | --- | --- |

7.

een golflengte aan de uitgang van meer dan 1 150 nm doch niet meer dan 1 555 nm en met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een uitvoer met enkelvoudige transversale modus en een uitgangsvermogen van meer dan 50 W, of

| b. | een uitvoer met verschillende transversale modi en een uitgangsvermogen van meer dan 80 W, of |
| --- | --- |

b.

een uitvoer met verschillende transversale modi en een uitgangsvermogen van meer dan 80 W, of

| 8. | een golflengte aan de uitgang van meer dan 1 555 nm en een uitgangsvermogen van meer dan 1 W; |
| --- | --- |

8.

een golflengte aan de uitgang van meer dan 1 555 nm en een uitgangsvermogen van meer dan 1 W;

| b. | niet-"afstembare""lasers" met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een golflengte aan de uitgang van minder dan 150 nm, en met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een uitgangsenergie per impuls van meer dan 50 mJ en een "piekvermogen" groter dan 1 W; of |
| --- | --- | --- | --- |

b.

niet-"afstembare""lasers" met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een golflengte aan de uitgang van minder dan 150 nm, en met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een uitgangsenergie per impuls van meer dan 50 mJ en een "piekvermogen" groter dan 1 W; of

| b. | een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 1 W; |
| --- | --- |

b.

een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 1 W;

| 2. | een golflengte aan de uitgang van meer dan 150 nm doch niet meer dan 520 nm, en met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een uitgangsenergie per impuls van meer dan 1,5 J en een "piekvermogen" van meer dan 30 W; of |
| --- | --- | --- |

2.

een golflengte aan de uitgang van meer dan 150 nm doch niet meer dan 520 nm, en met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een uitgangsenergie per impuls van meer dan 1,5 J en een "piekvermogen" van meer dan 30 W; of

| b. | een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 30 W; | 6.A005ba.2b. omvat geen argon-"lasers" met een "gemiddeld uitgangsvermogen" van ten hoogste 50 W. |
| --- | --- | --- |

b.

een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 30 W;

| 3. | een golflengte aan de uitgang van meer dan 520 nm doch niet meer dan 540 nm en met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | enkelvoudige transversale modus, met een van de volgende kenmerken:






  1. | een uitgangsenergie per impuls van meer dan 1,5 J en een "piekvermogen" van meer dan 50 W; of |
| --- | --- | --- | --- |

3.

een golflengte aan de uitgang van meer dan 520 nm doch niet meer dan 540 nm en met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

enkelvoudige transversale modus, met een van de volgende kenmerken:

1.

een uitgangsenergie per impuls van meer dan 1,5 J en een "piekvermogen" van meer dan 50 W; of

| 2. | een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 50 W; of |
| --- | --- |

2.

een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 50 W; of

| b. | verschillende transversale modi, met een van de volgende kenmerken:






  1. | een uitgangsenergie per impuls van meer dan 1,5 J en een "piekvermogen" van meer dan 150 W; of |
| --- | --- | --- |

b.

verschillende transversale modi, met een van de volgende kenmerken:

1.

een uitgangsenergie per impuls van meer dan 1,5 J en een "piekvermogen" van meer dan 150 W; of

| 2. | een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 150 W; |
| --- | --- |

2.

een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 150 W;

| 4. | een golflengte aan de uitgang van meer dan 540 nm doch niet meer dan 800 nm, en één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een uitgangsenergie per impuls van meer dan 1,5 J en een "piekvermogen" van meer dan 30 W; of |
| --- | --- | --- |

4.

een golflengte aan de uitgang van meer dan 540 nm doch niet meer dan 800 nm, en één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een uitgangsenergie per impuls van meer dan 1,5 J en een "piekvermogen" van meer dan 30 W; of

| b. | een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 30 W; |
| --- | --- |

b.

een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 30 W;

| 5. | een golflengte aan de uitgang van meer dan 800 nm doch niet meer dan 975 nm, en één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een "pulsduur" van niet meer dan 1 μs en met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een uitgangsenergie per impuls van meer dan 0,5 J en een "piekvermogen" van meer dan 50 W; |
| --- | --- | --- | --- |

5.

een golflengte aan de uitgang van meer dan 800 nm doch niet meer dan 975 nm, en één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een "pulsduur" van niet meer dan 1 μs en met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een uitgangsenergie per impuls van meer dan 0,5 J en een "piekvermogen" van meer dan 50 W;

| 2. | een uitvoer met enkelvoudige transversale modus en een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 20 W, of |
| --- | --- |

2.

een uitvoer met enkelvoudige transversale modus en een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 20 W, of

| 3. | een uitvoer met verschillende transversale modi en een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 50 W, of |
| --- | --- |

3.

een uitvoer met verschillende transversale modi en een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 50 W, of

| b. | een "pulsduur" van meer dan 1 μs en met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een uitgangsenergie per impuls van meer dan 2 J en een "piekvermogen" van meer dan 50 W; |
| --- | --- | --- |

b.

een "pulsduur" van meer dan 1 μs en met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een uitgangsenergie per impuls van meer dan 2 J en een "piekvermogen" van meer dan 50 W;

| 2. | een uitvoer met enkelvoudige transversale modus met een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 50 W, of |
| --- | --- |

2.

een uitvoer met enkelvoudige transversale modus met een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 50 W, of

| 3. | een uitvoer met verschillende transversale modi met een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 80 W. |
| --- | --- |

3.

een uitvoer met verschillende transversale modi met een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 80 W.

| 6. | een golflengte aan de uitgang van meer dan 975 nm doch niet meer dan 1 150 nm en met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een "pulsduur" van minder dan 1 μs en met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een "piekvermogen" aan de uitgang van meer dan 5 GW per impuls; |
| --- | --- | --- | --- |

6.

een golflengte aan de uitgang van meer dan 975 nm doch niet meer dan 1 150 nm en met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een "pulsduur" van minder dan 1 μs en met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een "piekvermogen" aan de uitgang van meer dan 5 GW per impuls;

| 2. | een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 10 W; of |
| --- | --- |

2.

een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 10 W; of

| 3. | een uitgangsenergie van meer dan 0,1 J per impuls; |
| --- | --- |

3.

een uitgangsenergie van meer dan 0,1 J per impuls;

| b. | een "pulsduur" van 1 ns of meer doch niet meer dan 1 μs en met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een uitvoer met enkelvoudige transversale modus, met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een "piekvermogen" van meer dan 100 MW; |
| --- | --- | --- | --- |

b.

een "pulsduur" van 1 ns of meer doch niet meer dan 1 μs en met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een uitvoer met enkelvoudige transversale modus, met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een "piekvermogen" van meer dan 100 MW;

| b. | een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 20 W, door het ontwerp beperkt tot een maximale pulsherhaling van ten hoogste 1 kHz; |
| --- | --- |

b.

een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 20 W, door het ontwerp beperkt tot een maximale pulsherhaling van ten hoogste 1 kHz;

| c. | een ‧wall-plug efficiency‧ van meer dan 12 % en een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 100 W, geschikt om te werken met een pulsherhalingsfrequentie van meer dan 1 kHz; |
| --- | --- |

c.

een ‧wall-plug efficiency‧ van meer dan 12 % en een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 100 W, geschikt om te werken met een pulsherhalingsfrequentie van meer dan 1 kHz;

| d. | een "gemiddeld uitgangsvermogen" van 150 W, geschikt om te werken met een pulsherhalingsfrequentie van meer dan 1 kHz; of |
| --- | --- |

d.

een "gemiddeld uitgangsvermogen" van 150 W, geschikt om te werken met een pulsherhalingsfrequentie van meer dan 1 kHz; of

| e. | een uitgangsenergie van meer dan 2 J per impuls; of |
| --- | --- |

e.

een uitgangsenergie van meer dan 2 J per impuls; of

| 2. | een uitvoer met verschillende transversale modi, met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een "piekvermogen" van meer dan 400 MW; |
| --- | --- | --- |

2.

een uitvoer met verschillende transversale modi, met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een "piekvermogen" van meer dan 400 MW;

| b. | een ‧wall-plug efficiency‧ van meer dan 18 % en een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 500 W; |
| --- | --- |

b.

een ‧wall-plug efficiency‧ van meer dan 18 % en een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 500 W;

| c. | een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 2 kW; of |
| --- | --- |

c.

een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 2 kW; of

| d. | een uitgangsenergie van meer dan 4 J per impuls; of |
| --- | --- |

d.

een uitgangsenergie van meer dan 4 J per impuls; of

| c. | een pulsduur van meer dan 1 μs en met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een uitvoer met een enkelvoudige transversale modus, met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een "piekvermogen" van meer dan 500 kW; |
| --- | --- | --- | --- |

c.

een pulsduur van meer dan 1 μs en met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een uitvoer met een enkelvoudige transversale modus, met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een "piekvermogen" van meer dan 500 kW;

| b. | een ‧wall-plug efficiency‧ van meer dan 12 % en een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 100 W; of |
| --- | --- |

b.

een ‧wall-plug efficiency‧ van meer dan 12 % en een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 100 W; of

| c. | een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 150 W; of |
| --- | --- |

c.

een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 150 W; of

| 2. | een uitvoer met verschillende transversale modi, met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een "piekvermogen" van meer dan 1 MW; |
| --- | --- | --- |

2.

een uitvoer met verschillende transversale modi, met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een "piekvermogen" van meer dan 1 MW;

| b. | ‧Wall-plug efficiency‧ van meer dan 18 % en een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 500 W; of |
| --- | --- |

b.

‧Wall-plug efficiency‧ van meer dan 18 % en een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 500 W; of

| c. | een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 2 kW; |
| --- | --- |

c.

een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 2 kW;

| 7. | een golflengte aan de uitgang van meer dan 1 150 nm doch niet meer dan 1 555 nm en met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een "pulsduur" van niet meer dan 1 μs en met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een uitgangsenergie per impuls van meer dan 0,5 J en een "piekvermogen" van meer dan 50 W; |
| --- | --- | --- | --- |

7.

een golflengte aan de uitgang van meer dan 1 150 nm doch niet meer dan 1 555 nm en met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een "pulsduur" van niet meer dan 1 μs en met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een uitgangsenergie per impuls van meer dan 0,5 J en een "piekvermogen" van meer dan 50 W;

| 2. | een uitvoer met enkelvoudige transversale modus en een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 20 W, of |
| --- | --- |

2.

een uitvoer met enkelvoudige transversale modus en een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 20 W, of

| 3. | een uitvoer met verschillende transversale modi en een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 50 W, of |
| --- | --- |

3.

een uitvoer met verschillende transversale modi en een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 50 W, of

| b. | een "pulsduur" van meer dan 1 μs en met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een uitgangsenergie per impuls van meer dan 2 J en een "piekvermogen" van meer dan 50 W; |
| --- | --- | --- |

b.

een "pulsduur" van meer dan 1 μs en met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een uitgangsenergie per impuls van meer dan 2 J en een "piekvermogen" van meer dan 50 W;

| 2. | een uitvoer met enkelvoudige transversale modus en een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 50 W, of |
| --- | --- |

2.

een uitvoer met enkelvoudige transversale modus en een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 50 W, of

| 3. | een uitvoer met verschillende transversale modi en een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 80 W, of |
| --- | --- |

3.

een uitvoer met verschillende transversale modi en een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 80 W, of

| 8. | een golflengte aan de uitgang van meer dan 1 555 nm, en met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een uitgangsenergie per impuls van meer dan 100 mJ en een "piekvermogen" van meer dan 1 W; of |
| --- | --- | --- |

8.

een golflengte aan de uitgang van meer dan 1 555 nm, en met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een uitgangsenergie per impuls van meer dan 100 mJ en een "piekvermogen" van meer dan 1 W; of

| b. | een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 1 W; |
| --- | --- |

b.

een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 1 W;

| c. | "afstembare""lasers" met één of meer van de volgende kenmerken: | In 6A005.c. worden tevens bedoeld titaan-saffier (Ti: Al2O3)-, thulium-YAG (Tm: YAG)-, thulium-YSGG (Tm: YSGG)-, alexandriet (Cr: BeAl2O4)- en kleurcentrum-"lasers", kleurstof- en vloeistof-"lasers". |
| --- | --- | --- |

c.

"afstembare""lasers" met één of meer van de volgende kenmerken:

| 1. | een golflengte aan de uitgang van minder dan 600 nm, en met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een uitgangsenergie per impuls van meer dan 50 mJ en een "piekvermogen" van meer dan 1 W; of |
| --- | --- | --- |

1.

een golflengte aan de uitgang van minder dan 600 nm, en met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een uitgangsenergie per impuls van meer dan 50 mJ en een "piekvermogen" van meer dan 1 W; of

| b. | een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen groter dan 1 W;







  : | 6A005.c.1. is niet van toepassing op kleurstof- en andere typen vloeibare lasers met een multimodale output en een golflengte van 150 nm of meer, maar ten hoogste 600 nm en met alle volgende kenmerken:







  1. | Uitgangsenergie minder dan 1,5 J per impuls of een "piekvermogen" van minder dan 20 W, en |
| --- | --- | --- | --- |

b.

een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen groter dan 1 W;

:

1.

Uitgangsenergie minder dan 1,5 J per impuls of een "piekvermogen" van minder dan 20 W, en

| 2. | Een gemiddeld of CW- (continugolf) uitgangsvermogen van minder dan 20 W. |
| --- | --- |

2.

Een gemiddeld of CW- (continugolf) uitgangsvermogen van minder dan 20 W.

| 2. | een golflengte aan de uitgang van minstens 600 nm doch niet meer dan 1 400 nm, en met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een uitgangsenergie per impuls van meer dan 1 J en een "piekvermogen" van meer dan 20 W; of |
| --- | --- | --- |

2.

een golflengte aan de uitgang van minstens 600 nm doch niet meer dan 1 400 nm, en met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een uitgangsenergie per impuls van meer dan 1 J en een "piekvermogen" van meer dan 20 W; of

| b. | een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen groter dan 20 W; of |
| --- | --- |

b.

een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen groter dan 20 W; of

| 3. | een golflengte aan de uitgang van meer dan 1 400 nm, en met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een uitgangsenergie per impuls van meer dan 50 mJ en een "piekvermogen" van meer dan 1 W; of |
| --- | --- | --- |

3.

een golflengte aan de uitgang van meer dan 1 400 nm, en met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een uitgangsenergie per impuls van meer dan 50 mJ en een "piekvermogen" van meer dan 1 W; of

| b. | een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen groter dan 1 W; |
| --- | --- |

b.

een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen groter dan 1 W;

| d. | Overige "lasers", niet bedoeld in 6A005.a., 6A005.b. of 6A005.c. als hieronder:






  1. | halfgeleider-"lasers", als hieronder:







  : | Onder 6A005.d.1 vallen ook halfgeleider-"lasers" met optische uitgangsconnectoren (bijvoorbeeld aanstralingsvezel). |
| --- | --- | --- | --- |

d.

Overige "lasers", niet bedoeld in 6A005.a., 6A005.b. of 6A005.c. als hieronder:

1.

halfgeleider-"lasers", als hieronder:

:

| : | De embargostatus van halfgeleider-"lasers" die speciaal zijn ontworpen voor andere apparatuur wordt bepaald door de embargostatus van die andere apparatuur. |
| --- | --- |

:

| a. | afzonderlijke halfgeleider-"lasers" met enkelvoudige transversale modus, met een van de volgende kenmerken:






  1. | een golflengte van 1 510 nm of minder, en een gemiddeld of CW (continugolf-) uitgangsvermogen meer dan 1,5 W, of |
| --- | --- | --- |

a.

afzonderlijke halfgeleider-"lasers" met enkelvoudige transversale modus, met een van de volgende kenmerken:

1.

een golflengte van 1 510 nm of minder, en een gemiddeld of CW (continugolf-) uitgangsvermogen meer dan 1,5 W, of

| 2. | een golflengte van meer dan 1 510 nm, en een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 500 mW. |
| --- | --- |

2.

een golflengte van meer dan 1 510 nm, en een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 500 mW.

| b. | afzonderlijke halfgeleider-"lasers" met verschillende transversale modi, met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een golflengte korter dan 1 400 nm en een gemiddeld CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 15 W; |
| --- | --- | --- |

b.

afzonderlijke halfgeleider-"lasers" met verschillende transversale modi, met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een golflengte korter dan 1 400 nm en een gemiddeld CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 15 W;

| 2. | een golflengte van 1 400 nm of langer, maar minder dan 1 900 nm en een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 2,5 W; of |
| --- | --- |

2.

een golflengte van 1 400 nm of langer, maar minder dan 1 900 nm en een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 2,5 W; of

| 3. | een golflengte van 1 900 nm of langer en een gemiddeld CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 1 W. |
| --- | --- |

3.

een golflengte van 1 900 nm of langer en een gemiddeld CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 1 W.

| c. | afzonderlijke halfgeleider-"laser" -‧staven‧, met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een golflengte korter dan 1 400 nm en een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 100 W; |
| --- | --- | --- |

c.

afzonderlijke halfgeleider-"laser" -‧staven‧, met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een golflengte korter dan 1 400 nm en een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 100 W;

| 2. | een golflengte van 1 400 nm of langer, maar minder dan 1 900 nm en een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 25 W; of |
| --- | --- |

2.

een golflengte van 1 400 nm of langer, maar minder dan 1 900 nm en een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 25 W; of

| 3. | een golflengte van 1 900 nm of langer en een gemiddeld CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 10 W. |
| --- | --- |

3.

een golflengte van 1 900 nm of langer en een gemiddeld CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 10 W.

| d. | halfgeleider "laser"‧<stacked arrays>‧ (tweedimensionele ‧<arrays>‧), met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een golflengte korter dan 1 400 nm en één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een gemiddeld of CW (continugolf) totaal uitgangsvermogen van minder dan 3 kW en met een gemiddelde of CW uitgangs-‧vermogensdensiteit‧ van meer dan 500 W/cm2; |
| --- | --- | --- | --- |

d.

halfgeleider "laser"‧<stacked arrays>‧ (tweedimensionele ‧<arrays>‧), met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een golflengte korter dan 1 400 nm en één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een gemiddeld of CW (continugolf) totaal uitgangsvermogen van minder dan 3 kW en met een gemiddelde of CW uitgangs-‧vermogensdensiteit‧ van meer dan 500 W/cm2;

| b. | een gemiddeld of CW (continugolf) totaal uitgangsvermogen gelijk aan of groter dan 3 kW, maar minder dan of gelijk aan 5 kW, en met een gemiddelde of CW uitgangs-‧vermogensdensiteit‧ van meer dan 350 W/cm2; |
| --- | --- |

b.

een gemiddeld of CW (continugolf) totaal uitgangsvermogen gelijk aan of groter dan 3 kW, maar minder dan of gelijk aan 5 kW, en met een gemiddelde of CW uitgangs-‧vermogensdensiteit‧ van meer dan 350 W/cm2;

| c. | een gemiddeld of CW (continugolf) totaal uitgangsvermogen van meer dan 5 kW; |
| --- | --- |

c.

een gemiddeld of CW (continugolf) totaal uitgangsvermogen van meer dan 5 kW;

| d. | een piek puls-‧vermogensdensiteit‧ van meer dan 2 500 W/cm2; of |
| --- | --- |

d.

een piek puls-‧vermogensdensiteit‧ van meer dan 2 500 W/cm2; of

| e. | een in de ruimte coherent gemiddeld of CW totaal uitgangsvermogen van meer dan 150 W; |
| --- | --- |

e.

een in de ruimte coherent gemiddeld of CW totaal uitgangsvermogen van meer dan 150 W;

| 2. | een golflengte langer dan of gelijk aan 1 400 nm, maar korter dan 1 900 nm, en met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een gemiddeld of CW (continugolf) totaal uitgangsvermogen van minder dan 250 W en een gemiddelde of CW uitgangs-‧vermogensdensiteit‧ van meer dan 150 W/cm2; |
| --- | --- | --- |

2.

een golflengte langer dan of gelijk aan 1 400 nm, maar korter dan 1 900 nm, en met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een gemiddeld of CW (continugolf) totaal uitgangsvermogen van minder dan 250 W en een gemiddelde of CW uitgangs-‧vermogensdensiteit‧ van meer dan 150 W/cm2;

| b. | een gemiddeld of CW (continugolf) totaal uitgangsvermogen gelijk aan of groter dan 250 W, maar minder dan of gelijk aan 500 W, en met een gemiddelde of CW uitgangs-‧vermogensdensiteit‧ van meer dan 50 W/cm2; |
| --- | --- |

b.

een gemiddeld of CW (continugolf) totaal uitgangsvermogen gelijk aan of groter dan 250 W, maar minder dan of gelijk aan 500 W, en met een gemiddelde of CW uitgangs-‧vermogensdensiteit‧ van meer dan 50 W/cm2;

| c. | een gemiddeld of CW (continugolf) totaal uitgangsvermogen van meer dan 500 W; |
| --- | --- |

c.

een gemiddeld of CW (continugolf) totaal uitgangsvermogen van meer dan 500 W;

| d. | een piek puls-‧vermogensdensiteit‧ van meer dan 500 W/cm2; of |
| --- | --- |

d.

een piek puls-‧vermogensdensiteit‧ van meer dan 500 W/cm2; of

| e. | een in de ruimte coherent gemiddeld of CW totaal uitgangsvermogen van meer dan 15 W; |
| --- | --- |

e.

een in de ruimte coherent gemiddeld of CW totaal uitgangsvermogen van meer dan 15 W;

| 3. | een golflengte langer dan of gelijk aan 1 900 nm en met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een gemiddelde of CW uitgangs-‧vermogensdensiteit‧ van meer dan 50 W/cm2; |
| --- | --- | --- |

3.

een golflengte langer dan of gelijk aan 1 900 nm en met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een gemiddelde of CW uitgangs-‧vermogensdensiteit‧ van meer dan 50 W/cm2;

| b. | een gemiddeld of CW uitgangsvermogen van meer dan 10 W; of |
| --- | --- |

b.

een gemiddeld of CW uitgangsvermogen van meer dan 10 W; of

| c. | een ruimtelijk coherent gemiddeld of CW totaal uitgangsvermogen van meer dan 1,5 W; of |
| --- | --- |

c.

een ruimtelijk coherent gemiddeld of CW totaal uitgangsvermogen van meer dan 1,5 W; of

| 4. | ten minste één "laser"‧staaf‧ als bedoeld in 6A005.d.1.c.; |
| --- | --- |

4.

ten minste één "laser"‧staaf‧ als bedoeld in 6A005.d.1.c.;

In 6A005.d.1.d. wordt onder ‧vermogensdensiteit‧ verstaan, het totale "laser"- uitgangsvermogen, gedeeld door het emittoroppervlak van de ‧<stacked array>‧.

| e. | halfgeleider "laser"‧<stacked arrays>‧, anders dan bedoeld in 6A005.d.1.d., met de volgende kenmerken:






  1. | speciaal ontworpen of aangepast om met andere ‧stacked arrays‧ te worden gecombineerd en op die manier een grotere ‧<stacked array>‧ te vormen; |
| --- | --- | --- |

e.

halfgeleider "laser"‧<stacked arrays>‧, anders dan bedoeld in 6A005.d.1.d., met de volgende kenmerken:

1.

speciaal ontworpen of aangepast om met andere ‧stacked arrays‧ te worden gecombineerd en op die manier een grotere ‧<stacked array>‧ te vormen;

| 2. | geïntegreerde verbindingen, die zowel voor elektronica als voor koeling worden gebruikt; | Zie 6A005.d.1.d. voor ‧<stacked arrays>‧, gevormd door het combineren van halfgeleider "laser"‧<stacked arrays>‧ als bedoeld in 6A005.d.1.e. die niet ontworpen zijn om verder te worden gecombineerd of aangepast |
| --- | --- | --- |

2.

geïntegreerde verbindingen, die zowel voor elektronica als voor koeling worden gebruikt;

| | Zie 6A005.d.1.e. voor ‧<stacked arrays>‧, gevormd door het combineren van halfgeleider "laser"‧<stacked arrays>‧ als bedoeld in 6A005.d.1.e., die ontworpen zijn om verder te worden gecombineerd of aangepast. |
| --- | --- |

| : | 6A005.d.1.e. is niet van toepassing op modulaire samenvoegingen van afzonderlijke ‧staven‧ die zijn ontworpen om <end-to-end> lineaire ‧<stacked arrays>‧ te produceren. |
| --- | --- |

:

:

| 1. | Halfgeleider-"lasers" worden gewoonlijk "laser"-dioden genoemd. |
| --- | --- |

1.

| 2. | Een ‧staaf‧ (ook halfgeleider-"laser"-‧staaf‧, "laser"-diode-‧staaf‧ of diode-‧staaf‧ genoemd) bestaat uit verschillende halfgeleider-"lasers" in een ééndimensionele ‧<array>‧. |
| --- | --- |

2.

| 3. | Een ‧stacked array‧ bestaat uit verschillende ‧staven‧ die een tweedimensionele ‧array>‧ van halfgeleider-"lasers" vormen. |
| --- | --- |

3.

| 2. | koolstofmonoxide (CO)-"lasers" met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een uitgangsenergie van meer dan 2 J per impuls en een "piekvermogen" van meer dan 5 kW; of |
| --- | --- | --- |

2.

koolstofmonoxide (CO)-"lasers" met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een uitgangsenergie van meer dan 2 J per impuls en een "piekvermogen" van meer dan 5 kW; of

| b. | een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 5 kW; |
| --- | --- |

b.

een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 5 kW;

| 3. | koolstofdioxide (CO2)-"lasers" met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 15 kW; |
| --- | --- | --- |

3.

koolstofdioxide (CO2)-"lasers" met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 15 kW;

| b. | een gepulseerd vermogen met een "pulsduur" van meer dan 10 μs, en:






  1. | een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 10 kW; of |
| --- | --- | --- |

b.

een gepulseerd vermogen met een "pulsduur" van meer dan 10 μs, en:

1.

een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 10 kW; of

| 2. | een "piekvermogen" van meer dan 100 kW; of |
| --- | --- |

2.

een "piekvermogen" van meer dan 100 kW; of

| c. | een gepulseerd vermogen met een "pulsduur" gelijk aan of minder dan 10 μs, en:






  1. | een pulsenergie van meer dan 5 J per impuls, of |
| --- | --- | --- |

c.

een gepulseerd vermogen met een "pulsduur" gelijk aan of minder dan 10 μs, en:

1.

een pulsenergie van meer dan 5 J per impuls, of

| 2. | een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 2,5 kW; |
| --- | --- |

2.

een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 2,5 kW;

| 4. | excimeer-"lasers" met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een golflengte aan de uitgang niet langer dan 150 nm, en één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een uitgangsenergie van meer dan 50 mJ per impuls; of |
| --- | --- | --- | --- |

4.

excimeer-"lasers" met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een golflengte aan de uitgang niet langer dan 150 nm, en één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een uitgangsenergie van meer dan 50 mJ per impuls; of

| 2. | een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 1 W; |
| --- | --- |

2.

een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 1 W;

| b. | een golflengte aan de uitgang langer dan 150 nm maar niet langer dan 190 nm, en één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een uitgangsenergie van meer dan 1,5 J per impuls; of |
| --- | --- | --- |

b.

een golflengte aan de uitgang langer dan 150 nm maar niet langer dan 190 nm, en één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een uitgangsenergie van meer dan 1,5 J per impuls; of

| 2. | een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 120 W; |
| --- | --- |

2.

een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 120 W;

| c. | een golflengte aan de uitgang langer dan 190 nm maar niet langer dan 360 nm, en één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een uitgangsenergie van meer dan 10 J per impuls; of |
| --- | --- | --- |

c.

een golflengte aan de uitgang langer dan 190 nm maar niet langer dan 360 nm, en één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een uitgangsenergie van meer dan 10 J per impuls; of

| 2. | een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 500 W; of |
| --- | --- |

2.

een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 500 W; of

| d. | een golflengte aan de uitgang langer dan 360 nm, en met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een uitgangsenergie van meer dan 1,5 J per impuls; of |
| --- | --- | --- |

d.

een golflengte aan de uitgang langer dan 360 nm, en met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een uitgangsenergie van meer dan 1,5 J per impuls; of

| 2. | een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 30 W; |
| --- | --- |

2.

een "gemiddeld uitgangsvermogen" van meer dan 30 W;

Voor excimeer-“lasers” die speciaal zijn ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3B001.

| 5. | "chemische lasers", als hieronder:






  a. | waterstoffluoride (HF)-"lasers"; |
| --- | --- | --- |

5.

"chemische lasers", als hieronder:

a.

waterstoffluoride (HF)-"lasers";

| b. | deuteriumfluoride (DF)-"lasers"; |
| --- | --- |

b.

deuteriumfluoride (DF)-"lasers";

| c. | "transfer lasers" als hieronder:






  1. | zuurstofjood (O2-I)-"lasers"; |
| --- | --- | --- |

c.

"transfer lasers" als hieronder:

1.

zuurstofjood (O2-I)-"lasers";

| 2. | deuteriumfluoride-koolstofdioxide (DF-CO2)-"lasers"; |
| --- | --- |

2.

deuteriumfluoride-koolstofdioxide (DF-CO2)-"lasers";

| 6. | ‧niet-repititieve gepulseerde‧ Nd-glas-"lasers" met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een "pulsduur" van ten hoogste 10 μs en een uitgangsvermogen van meer dan 50 J per impuls; of |
| --- | --- | --- |

6.

‧niet-repititieve gepulseerde‧ Nd-glas-"lasers" met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een "pulsduur" van ten hoogste 10 μs en een uitgangsvermogen van meer dan 50 J per impuls; of

| b. | een "pulsduur" van meer dan 10 μs en een uitgangsvermogen van meer dan 100 J per impuls; |
| --- | --- |

b.

een "pulsduur" van meer dan 10 μs en een uitgangsvermogen van meer dan 100 J per impuls;

| | ‧Niet-repititief gepulseerde‧ betekent lasers met een enkelvoudige uitgangspuls of met een interval tussen impulsen van meer dan een minuut. |
| --- | --- |

| e. | Onderdelen, als hieronder:






  1. | spiegels met ‧actieve koeling‧ of buiskoeling;




  ‧Actieve koeling‧ is een koeltechniek voor optische onderdelen waarbij gebruik wordt gemaakt van stromende vloeistoffen onder het oppervlak (nominaal minder dan 1 mm onder het optische oppervlak) van het optische onderdeel voor de afvoer van warmte van het optische element. |
| --- | --- | --- |

e.

Onderdelen, als hieronder:

1.

spiegels met ‧actieve koeling‧ of buiskoeling;

‧Actieve koeling‧ is een koeltechniek voor optische onderdelen waarbij gebruik wordt gemaakt van stromende vloeistoffen onder het oppervlak (nominaal minder dan 1 mm onder het optische oppervlak) van het optische onderdeel voor de afvoer van warmte van het optische element.

| 2. | optische spiegels of doorlatende of deels doorlatende optische of elektro-optische onderdelen die speciaal zijn ontworpen voor toepassing met gespecificeerde "lasers"; |
| --- | --- |

2.

optische spiegels of doorlatende of deels doorlatende optische of elektro-optische onderdelen die speciaal zijn ontworpen voor toepassing met gespecificeerde "lasers";

| f. | Optische apparatuur, als hieronder: | zie de Lijst militaire goederen voor optische elementen met gezamenlijke opening, geschikt om te werken in "SHPL"-toepassingen ("Super-High Power Laser"). |
| --- | --- | --- |

f.

Optische apparatuur, als hieronder:

| 1. | dynamische golffront (fase)-meetapparatuur, geschikt voor het in kaart brengen van ten minste 50 punten op een bundelgolffront, met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een beeldsnelheid gelijk aan of groter dan 100 Hz en een faseverschil van ten minste 5 % van de golflengte van de bundel; of |
| --- | --- | --- |

1.

dynamische golffront (fase)-meetapparatuur, geschikt voor het in kaart brengen van ten minste 50 punten op een bundelgolffront, met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een beeldsnelheid gelijk aan of groter dan 100 Hz en een faseverschil van ten minste 5 % van de golflengte van de bundel; of

| b. | een beeldsnelheid gelijk aan of groter dan 1 000 Hz en een faseverschil van ten minste 20 % van de golflengte van de bundel; |
| --- | --- |

b.

een beeldsnelheid gelijk aan of groter dan 1 000 Hz en een faseverschil van ten minste 20 % van de golflengte van de bundel;

| 2. | diagnostische "laser"-apparatuur geschikt voor het meten van bundelhoekbesturingsfouten in "Super-High Power Laser" (SHPL)-systemen gelijk aan of kleiner dan 100 micro-radiaal; |
| --- | --- |

2.

diagnostische "laser"-apparatuur geschikt voor het meten van bundelhoekbesturingsfouten in "Super-High Power Laser" (SHPL)-systemen gelijk aan of kleiner dan 100 micro-radiaal;

| 3. | optische apparatuur en onderdelen, speciaal ontworpen voor een ‹phased array›-"SHPL"-systeem voor coherente samenvoeging van bundels met een nauwkeurigheid van het kleinste van λ/10 bij de aangewezen golflengte, of van 0,1 μm; |
| --- | --- |

3.

optische apparatuur en onderdelen, speciaal ontworpen voor een ‹phased array›-"SHPL"-systeem voor coherente samenvoeging van bundels met een nauwkeurigheid van het kleinste van λ/10 bij de aangewezen golflengte, of van 0,1 μm;

| 4. | projectietelescopen, speciaal ontworpen voor gebruik met "SHPL"-systemen. |
| --- | --- |

4.

projectietelescopen, speciaal ontworpen voor gebruik met "SHPL"-systemen.

| g. | ‧Laser-akoestische detectieapparatuur‧ met alle volgende kenmerken:






  1. | CW-laser met een uitgangsvermogen gelijk aan of groter dan 20 mW; |
| --- | --- | --- |

g.

‧Laser-akoestische detectieapparatuur‧ met alle volgende kenmerken:

1.

CW-laser met een uitgangsvermogen gelijk aan of groter dan 20 mW;

| 2. | laserfrequentiestabiliteit gelijk aan of beter (kleiner) dan 10 MHz; |
| --- | --- |

2.

laserfrequentiestabiliteit gelijk aan of beter (kleiner) dan 10 MHz;

| 3. | lasergolflengten gelijk aan of groter dan 1 000 nm maar niet groter dan 2 000 nm; |
| --- | --- |

3.

lasergolflengten gelijk aan of groter dan 1 000 nm maar niet groter dan 2 000 nm;

| 4. | resolutie van het optische systeem van beter (kleiner) dan 1 nm; en |
| --- | --- |

4.

resolutie van het optische systeem van beter (kleiner) dan 1 nm; en

| 5. | verhouding tussen optisch signaal en ruis gelijk aan of groter dan 103. |
| --- | --- |

5.

verhouding tussen optisch signaal en ruis gelijk aan of groter dan 103.

‧Laser-akoestische detectieapparatuur‧ wordt soms ook lasermicrofoon of deeltjesstroomdetectiemicrofoon (‧Particle Flow Detection Microphone‧) genoemd.

6A006"Magnetometers", "magnetische gradiëntmeters", "intrinsieke magnetische gradiëntmeters", sensoren voor het meten van elektrische velden onder water en "compensatiesystemen", en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:

| | Niet bedoeld worden in 6A006 instrumenten die speciaal zijn ontworpen voor visserij-toepassingen of biomagnetische metingen ten behoeve van de medische diagnostiek. |
| --- | --- |

| a. | "magnetometers" en subsystemen






  1. | "magnetometers" die gebruik maken van "supergeleidende" (SQUID) "technologie", met een van de volgende kenmerken:






  a. | voor stationair bedrijf ontworpen SQUID-systemen zonder speciaal ontworpen subsystemen om ruis bij beweging te beperken en met een ‧gevoeligheid‧ gelijk aan of lager (beter) dan 50 fT effectieve waarde bij een frequentie van 1 Hz; |
| --- | --- | --- | --- |

a.

"magnetometers" en subsystemen

1.

"magnetometers" die gebruik maken van "supergeleidende" (SQUID) "technologie", met een van de volgende kenmerken:

a.

voor stationair bedrijf ontworpen SQUID-systemen zonder speciaal ontworpen subsystemen om ruis bij beweging te beperken en met een ‧gevoeligheid‧ gelijk aan of lager (beter) dan 50 fT effectieve waarde bij een frequentie van 1 Hz;

| b. | SQUID-systemen met een magnetometer-‧gevoeligheid‧ bij beweging lager (beter) dan 20 pT effectieve waarde bij een frequentie van 1 Hz en speciaal ontworpen om ruis bij beweging te beperken; |
| --- | --- |

b.

SQUID-systemen met een magnetometer-‧gevoeligheid‧ bij beweging lager (beter) dan 20 pT effectieve waarde bij een frequentie van 1 Hz en speciaal ontworpen om ruis bij beweging te beperken;

| 2. | "magnetometers" die gebruik maken van optisch gepompte of kernprecessie (proton/Overhauser) "technologie" met een ‧gevoeligheid‧ lager (beter) dan 20 pT effectieve waarde bij een frequentie van 1 Hz; |
| --- | --- |

2.

"magnetometers" die gebruik maken van optisch gepompte of kernprecessie (proton/Overhauser) "technologie" met een ‧gevoeligheid‧ lager (beter) dan 20 pT effectieve waarde bij een frequentie van 1 Hz;

| 3. | "magnetometers" die gebruik maken van aardinductie-"technologie" met een ‧gevoeligheid‧ gelijk aan of lager (beter) dan 10 pT effectieve waarde bij een frequentie van 1 Hz; |
| --- | --- |

3.

"magnetometers" die gebruik maken van aardinductie-"technologie" met een ‧gevoeligheid‧ gelijk aan of lager (beter) dan 10 pT effectieve waarde bij een frequentie van 1 Hz;

| 4. | inductor-"magnetometers" met een ‧gevoeligheid‧ lager (beter) dan:






  a. | 0,05 nT effectieve waarde bij frequenties lager dan 1 Hz; |
| --- | --- | --- |

4.

inductor-"magnetometers" met een ‧gevoeligheid‧ lager (beter) dan:

a.

0,05 nT effectieve waarde bij frequenties lager dan 1 Hz;

| b. | 1 × 10-3 nT effectieve waarde bij frequenties van 1 Hz of meer doch niet hoger dan 10 Hz; of |
| --- | --- |

b.

1 × 10-3 nT effectieve waarde bij frequenties van 1 Hz of meer doch niet hoger dan 10 Hz; of

| c. | 1 × 10-4 nT effectieve waarde bij frequenties hoger dan 10 Hz; |
| --- | --- |

c.

1 × 10-4 nT effectieve waarde bij frequenties hoger dan 10 Hz;

| 5. | glasvezel-"magnetometers" met een ‧gevoeligheid‧ lager (beter) dan 1 nT effectieve waarde; |
| --- | --- |

5.

glasvezel-"magnetometers" met een ‧gevoeligheid‧ lager (beter) dan 1 nT effectieve waarde;

| b. | sensoren voor het meten van elektrische velden onder water met een ‧gevoeligheid‧ van minder (d.w.z. beter) dan 8 nanovolt per meter Hz bij meting bij 1 Hz; |
| --- | --- |

b.

sensoren voor het meten van elektrische velden onder water met een ‧gevoeligheid‧ van minder (d.w.z. beter) dan 8 nanovolt per meter Hz bij meting bij 1 Hz;

| c. | "magnetische gradiëntmeters"






  1. | "magnetische gradiëntmeters" waarbij gebruik wordt gemaakt van meervoudige "magnetometers" bedoeld in 6A006.a; |
| --- | --- | --- |

c.

"magnetische gradiëntmeters"

1.

"magnetische gradiëntmeters" waarbij gebruik wordt gemaakt van meervoudige "magnetometers" bedoeld in 6A006.a;

| 2. | "intrinsieke magnetische gradiëntmeters" van glasvezels met een ‧gevoeligheid‧ van de gradiënt van het magnetische veld lager (beter) dan 0,3 nT/m effectieve waarde; |
| --- | --- |

2.

"intrinsieke magnetische gradiëntmeters" van glasvezels met een ‧gevoeligheid‧ van de gradiënt van het magnetische veld lager (beter) dan 0,3 nT/m effectieve waarde;

| 3. | "intrinsieke magnetische gradiëntmeters", waarbij gebruik wordt gemaakt van andere technologie dan glasvezeltechnologie, met een ‧gevoeligheid‧ van de gradiënt van het magnetische veld lager (beter) dan 0,015 nT/m effectieve waarde; |
| --- | --- |

3.

"intrinsieke magnetische gradiëntmeters", waarbij gebruik wordt gemaakt van andere technologie dan glasvezeltechnologie, met een ‧gevoeligheid‧ van de gradiënt van het magnetische veld lager (beter) dan 0,015 nT/m effectieve waarde;

| d. | "compensatiesystemen" voor magnetische sensoren of voor sensoren voor het meten van elektrische velden onder water, die leiden tot een prestatie welke gelijk is aan of beter is dan de onder 6A006.a, 6A006.b, of 6A006.c vermelde parameters; |
| --- | --- |

d.

"compensatiesystemen" voor magnetische sensoren of voor sensoren voor het meten van elektrische velden onder water, die leiden tot een prestatie welke gelijk is aan of beter is dan de onder 6A006.a, 6A006.b, of 6A006.c vermelde parameters;

| e. | Elektromagnetische onderwaterontvangers die sensoren voor het meten van magnetische velden, bedoeld in 6A006.a., of sensoren voor het meten van elektrische velden onder water, bedoeld in 6A006.b., bevatten. |
| --- | --- |

e.

Elektromagnetische onderwaterontvangers die sensoren voor het meten van magnetische velden, bedoeld in 6A006.a., of sensoren voor het meten van elektrische velden onder water, bedoeld in 6A006.b., bevatten.

:

Voor de toepassing van 6A006 wordt onder ‧gevoeligheid‧ (ruisniveau) verstaan de effectieve waarde van het componentspecifieke laagst meetbare achtergrondgeluid.

6A007Zwaartekrachtmeters (gravimeters) en zwaartekrachtgradiëntmeters, als hieronder:

| NB: | ZIE OOK 6A107 |
| --- | --- |

NB:

| a. | zwaartekrachtmeters ontworpen of aangepast voor gebruik te land met een statische nauwkeurigheid kleiner (beter) dan 10 microgal;







  : | Niet bedoeld worden in 6A007.a landzwaartekrachtmeters van het type met kwartselement (Worden-type). |
| --- | --- | --- |

a.

zwaartekrachtmeters ontworpen of aangepast voor gebruik te land met een statische nauwkeurigheid kleiner (beter) dan 10 microgal;

:

| b. | zwaartekrachtmeters ontworpen voor mobiele tafels met alle volgende kenmerken:






  1. | een statische nauwkeurigheid kleiner (beter) dan 0,7 milligal; |
| --- | --- | --- |

b.

zwaartekrachtmeters ontworpen voor mobiele tafels met alle volgende kenmerken:

1.

een statische nauwkeurigheid kleiner (beter) dan 0,7 milligal;

| 2. | een nauwkeurigheid tijdens gebruik (operationele nauwkeurigheid) kleiner (beter) dan 0,7 milligal waarbij het minder dan twee minuten duurt voordat een stationair werkende toestand is bereikt onder willekeurig welke combinatie van bijkomende corrigerende compensaties en bewegingsbeïnvloeding; |
| --- | --- |

2.

een nauwkeurigheid tijdens gebruik (operationele nauwkeurigheid) kleiner (beter) dan 0,7 milligal waarbij het minder dan twee minuten duurt voordat een stationair werkende toestand is bereikt onder willekeurig welke combinatie van bijkomende corrigerende compensaties en bewegingsbeïnvloeding;

| c. | zwaartekrachtgradiëntmeters. |
| --- | --- |

c.

zwaartekrachtgradiëntmeters.

6A008Radarsystemen, -apparatuur en -samenstellingen met één of meer van de volgende eigenschappen, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

| NB: | ZIE OOK 6A108 |
| --- | --- |

NB:

| | in 6A008 worden niet bedoeld:






  — | secundaire loodsradar (‹secondary surveillance radar› (SSR)); |
| --- | --- | --- |

—

secundaire loodsradar (‹secondary surveillance radar› (SSR));

| — | Civiele radar voor motorvoertuigen; |
| --- | --- |

—

Civiele radar voor motorvoertuigen;

| — | beeldschermen of monitors, gebruikt ten behoeve van luchtverkeersleiding (‹air traffic control›, ATC); |
| --- | --- |

—

beeldschermen of monitors, gebruikt ten behoeve van luchtverkeersleiding (‹air traffic control›, ATC);

| — | meteorologische (weer)radar; |
| --- | --- |

—

meteorologische (weer)radar;

| — | precisienaderingsradarapparatuur (PAR) conform de ICAO-standaarden waarbij gebruik wordt gemaakt van elektronisch bestuurbare lineaire (ééndimensionele) ‧<arrays>‧ of mechanisch gepositioneerde passieve antennes. |
| --- | --- |

—

precisienaderingsradarapparatuur (PAR) conform de ICAO-standaarden waarbij gebruik wordt gemaakt van elektronisch bestuurbare lineaire (ééndimensionele) ‧<arrays>‧ of mechanisch gepositioneerde passieve antennes.

| a. | werkend in het frequentiegebied van 40 GHz tot 230 GHz en met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 100 W; |
| --- | --- | --- |

a.

werkend in het frequentiegebied van 40 GHz tot 230 GHz en met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 100 W;

| 2. | lokaliseringsnauwkeurigheid van 1 m of minder (beter) in het meetgebied en 0,2 graad of minder (beter) in azimut; |
| --- | --- |

2.

lokaliseringsnauwkeurigheid van 1 m of minder (beter) in het meetgebied en 0,2 graad of minder (beter) in azimut;

| b. | met een afstembare bandbreedte groter dan ± 6,25 % van de ‧centrale werkfrequentie‧;




  De ‧centrale werkfrequentie‧ is gelijk aan de helft van de som van de hoogste en de laagste gespecificeerde werkfrequentie. |
| --- | --- |

b.

met een afstembare bandbreedte groter dan ± 6,25 % van de ‧centrale werkfrequentie‧;

De ‧centrale werkfrequentie‧ is gelijk aan de helft van de som van de hoogste en de laagste gespecificeerde werkfrequentie.

| c. | geschikt om gelijktijdig te werken op meer dan twee draagfrequenties; |
| --- | --- |

c.

geschikt om gelijktijdig te werken op meer dan twee draagfrequenties;

| d. | geschikt om te werken in de radarmodus met kunstmatig ingestelde apertuur (‹synthetic aperture radar› (SAR)), met omgekeerde kunstmatig ingestelde apertuur (‹inverse synthetic aperture› (ISAR)) of in vliegtuigen in de zijwaarts stralende (‹sidelooking airborne› (SLAR)) radarmodus; |
| --- | --- |

d.

geschikt om te werken in de radarmodus met kunstmatig ingestelde apertuur (‹synthetic aperture radar› (SAR)), met omgekeerde kunstmatig ingestelde apertuur (‹inverse synthetic aperture› (ISAR)) of in vliegtuigen in de zijwaarts stralende (‹sidelooking airborne› (SLAR)) radarmodus;

| e. | met elektronisch bestuurbare antennesystemen, opgebouwd uit een groot aantal identieke antennes (‹array antennae›); |
| --- | --- |

e.

met elektronisch bestuurbare antennesystemen, opgebouwd uit een groot aantal identieke antennes (‹array antennae›);

| f. | geschikt voor het peilen van de hoogte van niet meewerkende doelen; |
| --- | --- |

f.

geschikt voor het peilen van de hoogte van niet meewerkende doelen;

| g. | speciaal ontworpen om te werken in de lucht (gemonteerd in een ballon of vliegtuigstructuur) en met Doppler-"signaalverwerking" voor het opsporen van bewegende doelen; |
| --- | --- |

g.

speciaal ontworpen om te werken in de lucht (gemonteerd in een ballon of vliegtuigstructuur) en met Doppler-"signaalverwerking" voor het opsporen van bewegende doelen;

| h. | met toepassing van radarsignaalverwerking en gebruikmaking van:






  1. | "radar ‹spread spectrum›"-technieken; |
| --- | --- | --- |

h.

met toepassing van radarsignaalverwerking en gebruikmaking van:

1.

"radar ‹spread spectrum›"-technieken;

| 2. | "radar ‹frequency agility›"-technieken; |
| --- | --- |

2.

"radar ‹frequency agility›"-technieken;

| i. | met bediening vanaf de grond met een maximaal "geïnstrumenteerd bereik" groter dan 185 km; | In 6A008.i. worden niet bedoeld:







  a. | loodsradar voor visgronden; |
| --- | --- | --- | --- |

i.

met bediening vanaf de grond met een maximaal "geïnstrumenteerd bereik" groter dan 185 km;

a.

loodsradar voor visgronden;

| b. | grondradarapparatuur, speciaal ontworpen voor luchtverkeersleiding (ATC), met alle volgende kenmerken:








  1. | een maximaal "geïnstrumenteerd bereik" van 500 km of minder; |
| --- | --- | --- |

b.

grondradarapparatuur, speciaal ontworpen voor luchtverkeersleiding (ATC), met alle volgende kenmerken:

1.

een maximaal "geïnstrumenteerd bereik" van 500 km of minder;

| 2. | zodanig geconfigureerd dat de radardoelgegevens uitsluitend in één richting kunnen worden doorgegeven van de radarlocatie naar één of meer civiele ATC-centra; |
| --- | --- |

2.

zodanig geconfigureerd dat de radardoelgegevens uitsluitend in één richting kunnen worden doorgegeven van de radarlocatie naar één of meer civiele ATC-centra;

| 3. | zonder voorzieningen voor besturing op afstand van de radaraftastsnelheid vanuit het vluchtbegeleidings-ATC-centrum; en |
| --- | --- |

3.

zonder voorzieningen voor besturing op afstand van de radaraftastsnelheid vanuit het vluchtbegeleidings-ATC-centrum; en

| 4. | bestemd voor een vaste installatie. |
| --- | --- |

4.

bestemd voor een vaste installatie.

| c. | radars voor het volgen van weerballonnen. |
| --- | --- |

c.

radars voor het volgen van weerballonnen.

| j. | "laser"-radar of lichtdetectie- en afstandsbepalings (LIDAR)-apparatuur, met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte"; |
| --- | --- | --- |

j.

"laser"-radar of lichtdetectie- en afstandsbepalings (LIDAR)-apparatuur, met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

"gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte";

| 2. | gebruikmakend van coherente heterodyne of homodyne detectietechnieken en met een hoekresolutie kleiner (beter) dan 20 microradiaal; |
| --- | --- |

2.

gebruikmakend van coherente heterodyne of homodyne detectietechnieken en met een hoekresolutie kleiner (beter) dan 20 microradiaal;

| 3. | ontworpen voor het uitvoeren vanuit de lucht van bathymetrische landmetingen langs de kust conform Order 1a Standard (5e editie, februari 2008) van de Internationale Hydrografische Organisatie (IHO) of hoger, waarbij gebruik wordt gemaakt van lasers met een golflengte van meer dan 400 nm maar niet meer dan 600 nm; |
| --- | --- |

3.

ontworpen voor het uitvoeren vanuit de lucht van bathymetrische landmetingen langs de kust conform Order 1a Standard (5e editie, februari 2008) van de Internationale Hydrografische Organisatie (IHO) of hoger, waarbij gebruik wordt gemaakt van lasers met een golflengte van meer dan 400 nm maar niet meer dan 600 nm;

| : | Speciaal voor landmetingen ontworpen LIDAR-apparatuur is alleen in 6A008.j.3 gespecificeerd. |
| --- | --- |

:

| : | Niet bedoeld wordt in 6A008.j. LIDAR-apparatuur, speciaal ontworpen voor meteorologische waarnemingen. |
| --- | --- |

:

| : | De parameters van de IHO-Order 1a Standard, 5e editie, februari 2008, luiden als volgt:






  — | Horizontale nauwkeurigheid (95 % betrouwbaarheidsniveau) = 5 m + 5 % van de diepte. |
| --- | --- | --- |

:

—

Horizontale nauwkeurigheid (95 % betrouwbaarheidsniveau) = 5 m + 5 % van de diepte.

| — | Dieptenauwkeurigheid op geringe diepte (95 % betrouwbaarheidsniveau)
  waarbij:

  a=
  0,5 m = dieptefoutconstante m.a.w. de som van alle dieptefoutconstantes
  b=
  0.013 = factor inzake diepteafhankelijke fout
  b*d=
  diepteafhankelijke fout, m.a.w. de som van alle diepteafhankelijke fouten
  d=
  diepte |
| --- | --- |

—

Dieptenauwkeurigheid op geringe diepte (95 % betrouwbaarheidsniveau) Formula
  waarbij:

a=

b=

b*d=

d=

| — | Voorwerpdetectie= kubusvormig > 2 m tot diepte van 40 m; 10 % van de diepte indien meer dan 40 m. |
| --- | --- |

—

Voorwerpdetectie= kubusvormig > 2 m tot diepte van 40 m; 10 % van de diepte indien meer dan 40 m.

| k. | met subsystemen voor "signaalverwerking" die gebruik maken van "impulscompressie", met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een "impulscompressie"-verhouding groter dan 150; of |
| --- | --- | --- |

k.

met subsystemen voor "signaalverwerking" die gebruik maken van "impulscompressie", met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een "impulscompressie"-verhouding groter dan 150; of

| 2. | een "pulsduur" korter dan 200 ns; of |
| --- | --- |

2.

een "pulsduur" korter dan 200 ns; of

| l. | met subsystemen voor gegevensverwerking met een of meer van de volgende kenmerken:






  1. | "automatisch volgen van het doel" waarbij bij iedere omwenteling van de antenne de positie van het doel kan worden voorspeld voor een tijdstip later dan de volgende bestraling met de bundel; | Niet bedoeld wordt in 6A008.l.1 de mogelijkheid van waarschuwing voor botsingen in ATC-systemen, of zee- of havenradar. |
| --- | --- | --- | --- |

l.

met subsystemen voor gegevensverwerking met een of meer van de volgende kenmerken:

1.

"automatisch volgen van het doel" waarbij bij iedere omwenteling van de antenne de positie van het doel kan worden voorspeld voor een tijdstip later dan de volgende bestraling met de bundel;

| 2. | niet gebruikt; |
| --- | --- |

2.

niet gebruikt;

| 3. | niet gebruikt; |
| --- | --- |

3.

niet gebruikt;

| 4. | geconfigureerd voor het bieden van superpositie en correlatie, of samenvoeging, van gegevens binnen zes seconden over een doel van twee of meer "geografisch gespreide" radarsensoren, zodat het geheel betere prestaties oplevert dan één enkele sensor, bedoeld in 6A008.f. of in 6A008.i.




  Zie ook de "Lijst militaire goederen". | Niet bedoeld worden in 6A008.l.4 systemen, apparatuur en samenstellingen, gebruikt voor de regeling van het verkeer op zee. |
| --- | --- | --- |

4.

geconfigureerd voor het bieden van superpositie en correlatie, of samenvoeging, van gegevens binnen zes seconden over een doel van twee of meer "geografisch gespreide" radarsensoren, zodat het geheel betere prestaties oplevert dan één enkele sensor, bedoeld in 6A008.f. of in 6A008.i.

Zie ook de "Lijst militaire goederen".

6A102Stralingbestendige ‧detectoren‧, anders dan vermeld in 6A002, speciaal ontworpen of aangepast ter bescherming tegen nucleaire effecten (bij voorbeeld elektromagnetische puls (EMP), röntgenstraling, combinatie van drukgolf en hitte) en geschikt voor gebruik in "raketten", ontworpen of gespecificeerd als zijnde bestand tegen stralingsniveaus die overeenkomen met een totale stralingsdosis van 5 × 105 rad silicium of meer.

In 6A102 is een ‧detector‧ gedefinieerd als een mechanisch, elektrisch, optisch of chemisch element dat een prikkel, bij voorbeeld een verandering van de omgevingsdruk of -temperatuur, een elektrisch of elektromagnetisch signaal of straling van radioactief materiaal automatisch herkent en vastlegt of registreert. Dit omvat elementen die een werking of storing per keer waarnemen.

6A107Zwaartekrachtmeters (gravimeters) en onderdelen voor zwaartekrachtmeters, en zwaartekracht-gradiëntmeters, als hieronder:

| a. | zwaartekrachtmeters, anders dan vermeld in 6A007.b, ontworpen of gewijzigd voor gebruik in luchtvaartuigen of op zee, met een statische of operationele nauwkeurigheid van 7 × 10-6 m/s2 (0,7 mgal) of minder (beter) waarbij het twee minuten of minder duurt voordat een stationair werkende toestand is bereikt; |
| --- | --- |

a.

zwaartekrachtmeters, anders dan vermeld in 6A007.b, ontworpen of gewijzigd voor gebruik in luchtvaartuigen of op zee, met een statische of operationele nauwkeurigheid van 7 × 10-6 m/s2 (0,7 mgal) of minder (beter) waarbij het twee minuten of minder duurt voordat een stationair werkende toestand is bereikt;

| b. | speciaal ontworpen onderdelen voor zwaartekrachtmeters, vermeld in 6A007.b of 6A107.a. en zwaartekrachtgradiëntmeters, vermeld in 6A007.c. |
| --- | --- |

b.

speciaal ontworpen onderdelen voor zwaartekrachtmeters, vermeld in 6A007.b of 6A107.a. en zwaartekrachtgradiëntmeters, vermeld in 6A007.c.

6A108Radarsystemen en volgsystemen, anders dan vermeld in 6A008, als hieronder:

| a. | radar- en laserradarsystemen ontworpen of aangepast voor gebruik in ruimtelanceervoertuigen, vermeld in 9A004, of sonderingsraketten, vermeld in 9A104; | In 6A108.a wordt mede bedoeld:







  a. | apparatuur voor het bepalen van het profiel van het aardoppervlak; |
| --- | --- | --- | --- |

a.

radar- en laserradarsystemen ontworpen of aangepast voor gebruik in ruimtelanceervoertuigen, vermeld in 9A004, of sonderingsraketten, vermeld in 9A104;

a.

apparatuur voor het bepalen van het profiel van het aardoppervlak;

| b. | beeldapparatuur; |
| --- | --- |

b.

beeldapparatuur;

| c. | apparatuur voor situationele afbeelding en correlatie (numeriek of analoog) |
| --- | --- |

c.

apparatuur voor situationele afbeelding en correlatie (numeriek of analoog)

| d. | apparatuur voor navigatie met behulp van Doppler-radar |
| --- | --- |

d.

apparatuur voor navigatie met behulp van Doppler-radar

| b. | precisievolgsystemen, geschikt voor ‧raketten‧, als hieronder:






  1. | volgsystemen die gebruik maken van een vertaalsysteem voor codes gecombineerd met referentiepunten op aarde of in vliegtuigen of navigatiesatellietsystemen om onvertraagde (‹real time›)-metingen van vluchtpositie en -snelheid te verrichten; |
| --- | --- | --- |

b.

precisievolgsystemen, geschikt voor ‧raketten‧, als hieronder:

1.

volgsystemen die gebruik maken van een vertaalsysteem voor codes gecombineerd met referentiepunten op aarde of in vliegtuigen of navigatiesatellietsystemen om onvertraagde (‹real time›)-metingen van vluchtpositie en -snelheid te verrichten;

| 2. | radar voor afstandsmeting, met inbegrip van de bijbehorende optische/infrarood volgsystemen met alle onderstaande kenmerken:






  a. | hoekresolutie beter dan 1,5 milliradiaal; |
| --- | --- | --- |

2.

radar voor afstandsmeting, met inbegrip van de bijbehorende optische/infrarood volgsystemen met alle onderstaande kenmerken:

a.

hoekresolutie beter dan 1,5 milliradiaal;

| b. | bereik van 30 km of meer met een effectieve (rms) afstandsresolutie beter dan 10 m; |
| --- | --- |

b.

bereik van 30 km of meer met een effectieve (rms) afstandsresolutie beter dan 10 m;

| c. | snelheidsresolutievermogen beter dan 3 m/s. |
| --- | --- |

c.

snelheidsresolutievermogen beter dan 3 m/s.

In 6A108.b. wordt onder ‧raketten‧ verstaan complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen die een afstand van meer dan 300 km kunnen overbruggen;

6A202Fotomultiplicatorbuizen met de volgende twee kenmerken:

| a. | oppervlak van de fotokathode groter dan 20 cm2; en |
| --- | --- |

a.

oppervlak van de fotokathode groter dan 20 cm2; en

| b. | stijgtijd van de anodepuls korter dan 1 ns. |
| --- | --- |

b.

stijgtijd van de anodepuls korter dan 1 ns.

6A203Camera's en onderdelen, anders dan bedoeld in 6A003, als hieronder:

| a. | mechanisch roterende spiegelcamera's, als hieronder, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:






  1. | beeld(‹framing›)-camera's met een registratiesnelheid groter dan 225 000 beelden per seconde; |
| --- | --- | --- |

a.

mechanisch roterende spiegelcamera's, als hieronder, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

1.

beeld(‹framing›)-camera's met een registratiesnelheid groter dan 225 000 beelden per seconde;

| 2. | ‹streak›-camera's met een opnamesnelheid groter dan 0,5 mm per μs; |
| --- | --- |

2.

‹streak›-camera's met een opnamesnelheid groter dan 0,5 mm per μs;

| | De in 6A203.a. bedoelde onderdelen van zulke camera's zijn onder meer synchroniserende elektronische eenheden en rotorsamenstellen bestaande uit turbines, spiegels en lagers. |
| --- | --- |

| b. | elektronische ‹streak›-camera's, elektronische beeld (‹framing›)-camera's, elementen en buizen, als hieronder:






  1. | elektronische ‹streak›-camera's met een tijdresolutie van 50 ns of minder; |
| --- | --- | --- |

b.

elektronische ‹streak›-camera's, elektronische beeld (‹framing›)-camera's, elementen en buizen, als hieronder:

1.

elektronische ‹streak›-camera's met een tijdresolutie van 50 ns of minder;

| 2. | ‹Streak›-buizen voor camera's bedoeld in 6A203.b.1.; |
| --- | --- |

2.

‹Streak›-buizen voor camera's bedoeld in 6A203.b.1.;

| 3. | elektronische (of met een elektronische sluiter uitgeruste) beeld(‹framing›)- camera's met een belichtingstijd van 50 ns of minder per beeld; |
| --- | --- |

3.

elektronische (of met een elektronische sluiter uitgeruste) beeld(‹framing›)- camera's met een belichtingstijd van 50 ns of minder per beeld;

| 4. | beeld(‹framing›)-buizen en halfgeleiderelementen voor beeldvorming, voor gebruik met camera's bedoeld in 6A203.b.3, als hieronder:






  a. | beeldversterkerbuizen met zeer korte brandpuntsafstand waarbij de fotokathode wordt afgezet op een transparante geleidende bekledingslaag ter vermindering van de weerstand van de fotokathodelaag; |
| --- | --- | --- |

4.

beeld(‹framing›)-buizen en halfgeleiderelementen voor beeldvorming, voor gebruik met camera's bedoeld in 6A203.b.3, als hieronder:

a.

beeldversterkerbuizen met zeer korte brandpuntsafstand waarbij de fotokathode wordt afgezet op een transparante geleidende bekledingslaag ter vermindering van de weerstand van de fotokathodelaag;

| b. | vidiconbuizen met siliciumversterkerbeeldplaat (‹silicon intensifier target› (SIT)) van het poorttype, waarbij door middel van een snelschakelsysteem het doorlaten van de van de fotokathode afkomstige foto-elektronen wordt geregeld alvorens deze op de SIT-plaat botsen; |
| --- | --- |

b.

vidiconbuizen met siliciumversterkerbeeldplaat (‹silicon intensifier target› (SIT)) van het poorttype, waarbij door middel van een snelschakelsysteem het doorlaten van de van de fotokathode afkomstige foto-elektronen wordt geregeld alvorens deze op de SIT-plaat botsen;

| c. | elektro-optische sluiters welke gebruik maken van een Kerr- of ‹pockel›-cel; |
| --- | --- |

c.

elektro-optische sluiters welke gebruik maken van een Kerr- of ‹pockel›-cel;

| d. | andere beeld (‹framing›)-buizen en halfgeleiderelementen voor beeldvorming met een venstertijd van minder dan 50 ns, speciaal ontworpen voor camera's bedoeld in 6A203.b.3; |
| --- | --- |

d.

andere beeld (‹framing›)-buizen en halfgeleiderelementen voor beeldvorming met een venstertijd van minder dan 50 ns, speciaal ontworpen voor camera's bedoeld in 6A203.b.3;

| c. | stralingbestendige televisiecamera's of lenzen daarvoor, speciaal ontworpen of gekwalificeerd als bestand zijnde tegen een stralingsniveau hoger dan 50 × 103 Gy (silicium) (5 × 106 rad(silicium)) zonder verslechtering van de werking.




  De term Gy(silicium) verwijst naar de energie in Joule per kilogram die wordt geabsorbeerd door een onbeschermde hoeveelheid silicium bij blootstelling aan ioniserende straling. |
| --- | --- |

c.

stralingbestendige televisiecamera's of lenzen daarvoor, speciaal ontworpen of gekwalificeerd als bestand zijnde tegen een stralingsniveau hoger dan 50 × 103 Gy (silicium) (5 × 106 rad(silicium)) zonder verslechtering van de werking.

De term Gy(silicium) verwijst naar de energie in Joule per kilogram die wordt geabsorbeerd door een onbeschermde hoeveelheid silicium bij blootstelling aan ioniserende straling.

6A205"Lasers", "laser" versterkers en oscillatoren, anders dan bedoeld in 0B001.g.5., 0B001.h.6. en 6A005; als hieronder:

| NB: | Voor koperdamplasers, zie 6A005.b. |
| --- | --- |

NB:

| a. | argon-ionen-"lasers" met de volgende twee kenmerken:






  1. | een golflengte van 400 nm tot 515 nm; |
| --- | --- | --- |

a.

argon-ionen-"lasers" met de volgende twee kenmerken:

1.

een golflengte van 400 nm tot 515 nm;

| 2. | een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 40 W; |
| --- | --- |

2.

een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 40 W;

| b. | afstembare gepulseerde monomodus kleurstoflaseroscillatoren met alle volgende kenmerken:






  1. | een golflengte van 300 nm tot 800 nm; |
| --- | --- | --- |

b.

afstembare gepulseerde monomodus kleurstoflaseroscillatoren met alle volgende kenmerken:

1.

een golflengte van 300 nm tot 800 nm;

| 2. | een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 1 W; |
| --- | --- |

2.

een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 1 W;

| 3. | een herhalingssnelheid groter dan 1 kHz; |
| --- | --- |

3.

een herhalingssnelheid groter dan 1 kHz;

| 4. | een pulsduur korter dan 100 ns; |
| --- | --- |

4.

een pulsduur korter dan 100 ns;

| c. | afstembare gepulseerde kleurstof-"laser"-versterkers en oscillatoren met alle volgende kenmerken:






  1. | een golflengte van 300 nm tot 800 nm; |
| --- | --- | --- |

c.

afstembare gepulseerde kleurstof-"laser"-versterkers en oscillatoren met alle volgende kenmerken:

1.

een golflengte van 300 nm tot 800 nm;

| 2. | een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 30 W; |
| --- | --- |

2.

een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 30 W;

| 3. | een herhalingssnelheid groter dan 1 kHz; |
| --- | --- |

3.

een herhalingssnelheid groter dan 1 kHz;

| 4. | een pulsduur korter dan 100 ns; |
| --- | --- |

4.

een pulsduur korter dan 100 ns;

| | Niet bedoeld in 6A205.c.zijn monomodus oscillatoren; |
| --- | --- |

| d. | gepulseerde koolstofdioxide "lasers" met alle volgende kenmerken:






  1. | een golflengte van 9 000 nm tot 11 000 nm; |
| --- | --- | --- |

d.

gepulseerde koolstofdioxide "lasers" met alle volgende kenmerken:

1.

een golflengte van 9 000 nm tot 11 000 nm;

| 2. | een herhalingssnelheid groter dan 250 Hz; |
| --- | --- |

2.

een herhalingssnelheid groter dan 250 Hz;

| 3. | een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 500 W; |
| --- | --- |

3.

een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 500 W;

| 4. | een pulsduur korter dan 200 ns; |
| --- | --- |

4.

een pulsduur korter dan 200 ns;

| e. | para-waterstof-Ramanfrequentieverschuivers, ontworpen om te werken bij een golflengte aan de uitgang van 16 μm en een herhalingssnelheid groter dan 250 Hz; |
| --- | --- |

e.

para-waterstof-Ramanfrequentieverschuivers, ontworpen om te werken bij een golflengte aan de uitgang van 16 μm en een herhalingssnelheid groter dan 250 Hz;

| f. | neodymium-gedoopte (anders dan glas) "lasers", als hieronder, met een golflengte aan de uitgang langer dan 1 000 nm doch niet langer dan 1 100 nm met een of meer van de volgende kenmerken:






  1. | "Q-switched lasers" met pulsexcitatie met een "pulsduur" gelijk aan of langer dan 1 ns, en met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een uitvoer met enkelvoudige transversale modus met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 40 W. of |
| --- | --- | --- | --- |

f.

neodymium-gedoopte (anders dan glas) "lasers", als hieronder, met een golflengte aan de uitgang langer dan 1 000 nm doch niet langer dan 1 100 nm met een of meer van de volgende kenmerken:

1.

"Q-switched lasers" met pulsexcitatie met een "pulsduur" gelijk aan of langer dan 1 ns, en met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een uitvoer met enkelvoudige transversale modus met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 40 W. of

| b. | een uitvoer met verschillende transversale modi met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 50 W. of |
| --- | --- |

b.

een uitvoer met verschillende transversale modi met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 50 W. of

| 2. | een frequentieverdubbeling voor een golflengte aan de uitgang van 500 tot 550 nm met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 40 W. |
| --- | --- |

2.

een frequentieverdubbeling voor een golflengte aan de uitgang van 500 tot 550 nm met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 40 W.

6A225Snelheidsinterferometers voor het meten van snelheden van meer dan 1 km per seconde over een tijdsinterval van minder dan 10 μs.

| | In 6A225 zijn bedoeld snelheidsinterferometers zoals VISARs (Velocity interferometer systems for any reflector) en DLI's (Doppler laser interferometers) enz.). |
| --- | --- |

6A226Druksensoren, als hieronder:

| a. | manganinedrukmeters voor druk hoger dan 10 GPa; |
| --- | --- |

a.

manganinedrukmeters voor druk hoger dan 10 GPa;

| b. | kwartsdrukopnemers voor drukken hoger dan 10 GPa. |
| --- | --- |

b.

kwartsdrukopnemers voor drukken hoger dan 10 GPa.

6B.Test-, inspectie- en productieapparatuur

6B004Optische apparatuur, als hieronder:

| a. | optische apparatuur voor het meten van absolute reflectiecoëfficiënten met een nauwkeurigheid van ± 0,1 % van de reflectiecoëfficiëntswaarde; |
| --- | --- |

a.

optische apparatuur voor het meten van absolute reflectiecoëfficiënten met een nauwkeurigheid van ± 0,1 % van de reflectiecoëfficiëntswaarde;

| b. | andere apparatuur dan optische meetapparatuur voor de verstrooiing aan oppervlakken, met een vrije apertuur van meer dan 10 cm, speciaal ontworpen voor contactloze optische meting van een niet vlak zijnd optisch oppervlak (profiel) met een "nauwkeurigheid" van 2 nm of minder (beter) ten opzichte van het gewenste profiel. | Microscopen worden niet bedoeld in 6B004. |
| --- | --- | --- |

b.

andere apparatuur dan optische meetapparatuur voor de verstrooiing aan oppervlakken, met een vrije apertuur van meer dan 10 cm, speciaal ontworpen voor contactloze optische meting van een niet vlak zijnd optisch oppervlak (profiel) met een "nauwkeurigheid" van 2 nm of minder (beter) ten opzichte van het gewenste profiel.

6B007Apparatuur voor de productie, het richten en het ijken van op de grond gestationeerde zwaartekrachtmeters met een statische nauwkeurigheid beter dan 0,1 milligal;

6B008Gepulseerde radarsystemen voor het meten van de dwarsdoorsnede met een zendimpulsduur van 100 ns of minder en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen.

| NB | ZIE OOK 6B108. |
| --- | --- |

NB

6B108Systemen, anders dan vermeld in 6B008, speciaal ontworpen voor het meten van radardwarsdoorsnedes geschikt voor gebruik in ‧raketten‧, alsmede subsystemen daarvan.

In 6B108 wordt onder ‧raket‧ verstaan: complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen met een bereik van meer dan 300 km.

6CMaterialen

6C002Materialen voor optische sensoren, als hieronder:

| a. | elementair telluur (Te) met een zuiverheidsgraad gelijk aan of hoger dan 99,9995 %; |
| --- | --- |

a.

elementair telluur (Te) met een zuiverheidsgraad gelijk aan of hoger dan 99,9995 %;

| b. | eenkristallen (met inbegrip van epitaxiale wafers daarvan) van een van de volgende stoffen:






  1. | cadmiumzinktelluride (CdZnTe) met een zinkgehalte van minder dan 6 % per ‧molfractie‧; |
| --- | --- | --- |

b.

eenkristallen (met inbegrip van epitaxiale wafers daarvan) van een van de volgende stoffen:

1.

cadmiumzinktelluride (CdZnTe) met een zinkgehalte van minder dan 6 % per ‧molfractie‧;

| 2. | cadmiumtelluride (CdTe), met iedere zuiverheidsgraad; |
| --- | --- |

2.

cadmiumtelluride (CdTe), met iedere zuiverheidsgraad;

| 3. | cadmiumkwiktelluride (CdHgTe) met iedere zuiverheidsgraad.




  Onder ‧molfractie‧ wordt verstaan de verhouding tussen het aantal mol van ZnTe en de som van de aantallen mol van CdTe en ZnTe in het kristal. |
| --- | --- |

3.

cadmiumkwiktelluride (CdHgTe) met iedere zuiverheidsgraad.

Onder ‧molfractie‧ wordt verstaan de verhouding tussen het aantal mol van ZnTe en de som van de aantallen mol van CdTe en ZnTe in het kristal.

6C004Optische materialen, als hieronder:

| a. | "onafgewerkte substraten" van zinkselenide (ZnSe) en zinksulfide (ZnS) vervaardigd door middel van chemische afzetting uit de dampfase met een of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een volume groter dan 100 cm3; |
| --- | --- | --- |

a.

"onafgewerkte substraten" van zinkselenide (ZnSe) en zinksulfide (ZnS) vervaardigd door middel van chemische afzetting uit de dampfase met een of meer van de volgende kenmerken:

1.

een volume groter dan 100 cm3;

| 2. | een diameter groter dan 80 mm en een dikte gelijk aan of groter dan 20 mm; |
| --- | --- |

2.

een diameter groter dan 80 mm en een dikte gelijk aan of groter dan 20 mm;

| b. | eenkristallen van een van de onderstaande elektro-optische materialen:






  1. | kaliumtitanylarsenaat (KTA) (CAS 59400-80-5); |
| --- | --- | --- |

b.

eenkristallen van een van de onderstaande elektro-optische materialen:

1.

kaliumtitanylarsenaat (KTA) (CAS 59400-80-5);

| 2. | zilvergalliumselenide (AgGaSe2) (CAS 12002-67-4); of |
| --- | --- |

2.

zilvergalliumselenide (AgGaSe2) (CAS 12002-67-4); of

| 3. | thalliumarsenicumselenide (Tl3AsSe3, ook bekend als TAS) (CAS 16142-89-5); |
| --- | --- |

3.

thalliumarsenicumselenide (Tl3AsSe3, ook bekend als TAS) (CAS 16142-89-5);

| c. | niet-lineaire optische materialen met:






  1. | een gevoeligheid van de derde orde (chi 3) gelijk aan 10-6m2/V2 of meer; |
| --- | --- | --- |

c.

niet-lineaire optische materialen met:

1.

een gevoeligheid van de derde orde (chi 3) gelijk aan 10-6m2/V2 of meer;

| 2. | een reactietijd van minder dan 1 ms; |
| --- | --- |

2.

een reactietijd van minder dan 1 ms;

| d. | "onafgewerkte substraten" bekleed met siliciumcarbide of beryllium beryllium (Be/Be), met een diameter of lengte van de hoofdas groter dan 300 mm; |
| --- | --- |

d.

"onafgewerkte substraten" bekleed met siliciumcarbide of beryllium beryllium (Be/Be), met een diameter of lengte van de hoofdas groter dan 300 mm;

| e. | glas, met inbegrip van gesmolten siliciumoxide, fosfaatglas, fluorfosfaatglas, zirkoniumfluoride (ZrF4) (CAS 7783-64-4) en hafniumfluoride (HfF4) (CAS 13709-52-9), met alle volgende kenmerken:






  1. | een hydroxylion (OH)-concentratie van minder dan 5 ppm; |
| --- | --- | --- |

e.

glas, met inbegrip van gesmolten siliciumoxide, fosfaatglas, fluorfosfaatglas, zirkoniumfluoride (ZrF4) (CAS 7783-64-4) en hafniumfluoride (HfF4) (CAS 13709-52-9), met alle volgende kenmerken:

1.

een hydroxylion (OH)-concentratie van minder dan 5 ppm;

| 2. | geïntegreerd metaalzuiverheidsniveau van minder dan 1 ppm; en |
| --- | --- |

2.

geïntegreerd metaalzuiverheidsniveau van minder dan 1 ppm; en

| 3. | sterke homogeniteit (variantie van de brekingsindex) minder dan 5 × 10-6; |
| --- | --- |

3.

sterke homogeniteit (variantie van de brekingsindex) minder dan 5 × 10-6;

| f. | kunstmatig geproduceerd diamantmateriaal met een absorptie van minder dan 10-5 cm-1 bij een golflengte groter dan 200 nm doch niet groter dan 14 000 nm; |
| --- | --- |

f.

kunstmatig geproduceerd diamantmateriaal met een absorptie van minder dan 10-5 cm-1 bij een golflengte groter dan 200 nm doch niet groter dan 14 000 nm;

6C005Synthetisch kristallijn "laser"-materiaal in onafgewerkte vorm, als hieronder:

| a. | titaan-gedoopt saffier; |
| --- | --- |

a.

titaan-gedoopt saffier;

| b. | alexandriet. |
| --- | --- |

b.

alexandriet.

6DProgrammatuur

6D001"Programmatuur", speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" of "productie" van apparatuur, vermeld in 6A004, 6A005, 6A008 of 6B008;

6D002"Programmatuur", speciaal ontworpen voor het "gebruik" van apparatuur, vermeld in 6A002.b, 6A008 of 6B008;

6D003Overige "programmatuur", als hieronder:

| a. | "Programmatuur" als hieronder:






  1. | "programmatuur", speciaal ontworpen voor akoestische bundelvorming voor de "tijdgebonden verwerking" van akoestische gegevens voor passieve ontvangst met gebruikmaking van gesleepte samenstellen van regelmatig gerangschikte hydrofoons (‹towed hydrophone arrays›); |
| --- | --- | --- |

a.

"Programmatuur" als hieronder:

1.

"programmatuur", speciaal ontworpen voor akoestische bundelvorming voor de "tijdgebonden verwerking" van akoestische gegevens voor passieve ontvangst met gebruikmaking van gesleepte samenstellen van regelmatig gerangschikte hydrofoons (‹towed hydrophone arrays›);

| 2. | "broncode" voor de "tijdgebonden verwerking" van akoestische gegevens voor passieve ontvangst met gebruikmaking van ‹towed hydrophone arrays›; |
| --- | --- |

2.

"broncode" voor de "tijdgebonden verwerking" van akoestische gegevens voor passieve ontvangst met gebruikmaking van ‹towed hydrophone arrays›;

| 3. | "programmatuur", speciaal ontworpen voor akoestische bundelvorming voor "tijdgebonden verwerking" van akoestische gegevens voor passieve ontvangst met gebruikmaking van bodem- of baaikabelsystemen met bundelvorming; |
| --- | --- |

3.

"programmatuur", speciaal ontworpen voor akoestische bundelvorming voor "tijdgebonden verwerking" van akoestische gegevens voor passieve ontvangst met gebruikmaking van bodem- of baaikabelsystemen met bundelvorming;

| 4. | "broncode" voor de "tijdgebonden verwerking" van akoestische gegevens voor passieve ontvangst met gebruikmaking van bodem- of baaikabelsystemen; |
| --- | --- |

4.

"broncode" voor de "tijdgebonden verwerking" van akoestische gegevens voor passieve ontvangst met gebruikmaking van bodem- of baaikabelsystemen;

| 5. | "programmatuur" of "broncode", speciaal ontworpen voor de volgende doelen:






  a. | "onvertraagde verwerking" (‹real time processing›) van akoestische gegevens van sonarsystemen als bedoeld in 6A001.a.1.e.; en |
| --- | --- | --- |

5.

"programmatuur" of "broncode", speciaal ontworpen voor de volgende doelen:

a.

"onvertraagde verwerking" (‹real time processing›) van akoestische gegevens van sonarsystemen als bedoeld in 6A001.a.1.e.; en

| b. | automatische detectie, indeling en bepaling van de locatie van duikers of zwemmers; |
| --- | --- |

b.

automatische detectie, indeling en bepaling van de locatie van duikers of zwemmers;

| : | Voor "programmatuur" of "broncode" voor het detecteren van duikers, speciaal ontworpen of aangepast voor militair gebruik, zie de Lijst militaire goederen. |
| --- | --- |

:

| b. | Niet gebruikt; |
| --- | --- |

b.

Niet gebruikt;

| c. | "Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor camera's met "focal plane arrays" als bedoeld in 6A002.a.3.f. en ontworpen of aangepast om een beeldsnelheidsbeperking weg te nemen en de camera in staat te stellen de beeldsnelheid als bedoeld in 6A003.b.4. Noot 3a te overschrijden; |
| --- | --- |

c.

"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor camera's met "focal plane arrays" als bedoeld in 6A002.a.3.f. en ontworpen of aangepast om een beeldsnelheidsbeperking weg te nemen en de camera in staat te stellen de beeldsnelheid als bedoeld in 6A003.b.4. Noot 3a te overschrijden;

| d. | Niet gebruikt; |
| --- | --- |

d.

Niet gebruikt;

| e. | Niet gebruikt; |
| --- | --- |

e.

Niet gebruikt;

| f. | "Programmatuur" als hieronder:






  1. | "programmatuur", speciaal ontworpen voor "compensatiesystemen" voor magnetische en elektrische velden voor magnetische sensoren ontworpen voor bedrijf op mobiele tafels; |
| --- | --- | --- |

f.

"Programmatuur" als hieronder:

1.

"programmatuur", speciaal ontworpen voor "compensatiesystemen" voor magnetische en elektrische velden voor magnetische sensoren ontworpen voor bedrijf op mobiele tafels;

| 2. | "programmatuur", speciaal ontworpen voor afwijkingsdetectie bij magnetische en elektrische velden op mobiele tafels; |
| --- | --- |

2.

"programmatuur", speciaal ontworpen voor afwijkingsdetectie bij magnetische en elektrische velden op mobiele tafels;

| 3. | "programmatuur" speciaal ontworpen voor verwerking in "real time" van elektromagnetische gegevens met behulp van elektromagnetische onderwaterontvangers, bedoeld in 6A006.e.; |
| --- | --- |

3.

"programmatuur" speciaal ontworpen voor verwerking in "real time" van elektromagnetische gegevens met behulp van elektromagnetische onderwaterontvangers, bedoeld in 6A006.e.;

| 4. | "broncode" voor verwerking in "real time" van elektromagnetische gegevens met behulp van elektromagnetische onderwaterontvangers, bedoeld in 6A006.e; |
| --- | --- |

4.

"broncode" voor verwerking in "real time" van elektromagnetische gegevens met behulp van elektromagnetische onderwaterontvangers, bedoeld in 6A006.e;

| g. | "Programmatuur", speciaal ontworpen voor het corrigeren van bewegingsbeïnvloeding van zwaartekrachtmeters of zwaartekrachtgradiëntmeters; |
| --- | --- |

g.

"Programmatuur", speciaal ontworpen voor het corrigeren van bewegingsbeïnvloeding van zwaartekrachtmeters of zwaartekrachtgradiëntmeters;

| h. | "Programmatuur" als hieronder:






  1. | toepassings-"programma's" van luchtverkeersleidings(ATC)-"programmatuur", ontworpen om te worden geïnstalleerd op universele computers geplaatst in een luchtverkeersleidingscentrum en geschikt voor ontvangst van radargegevens over een doel afkomstig van meer dan vier primaire radars; |
| --- | --- | --- |

h.

"Programmatuur" als hieronder:

1.

toepassings-"programma's" van luchtverkeersleidings(ATC)-"programmatuur", ontworpen om te worden geïnstalleerd op universele computers geplaatst in een luchtverkeersleidingscentrum en geschikt voor ontvangst van radargegevens over een doel afkomstig van meer dan vier primaire radars;

| 2. | "programmatuur" voor het ontwerpen of de "productie" van radarkoepels met alle volgende kenmerken:






  a. | speciaal ontworpen voor het beschermen van de "elektronisch bestuurbare fasegestuurde antennesystemen, opgebouwd uit een groot aantal identieke antennes" (‹phased array antennae›) bedoeld in 6A008.e, |
| --- | --- | --- |

2.

"programmatuur" voor het ontwerpen of de "productie" van radarkoepels met alle volgende kenmerken:

a.

speciaal ontworpen voor het beschermen van de "elektronisch bestuurbare fasegestuurde antennesystemen, opgebouwd uit een groot aantal identieke antennes" (‹phased array antennae›) bedoeld in 6A008.e,

| b. | resulterend in een antennepatroon met een ‧gemiddeld zijlobbenniveau‧ dat meer dan 40 dB onder de piek van het voornaamste bundelniveau ligt.




  Het ‧gemiddelde zijlobbenniveau‧ in 6D003.d.2.b wordt gemeten over de gehele ‹array›, met uitzondering van de hoek, bestreken door de hoofdbundel en de eerste twee zijlobben aan beide zijden van de hoofdbundel. |
| --- | --- |

b.

resulterend in een antennepatroon met een ‧gemiddeld zijlobbenniveau‧ dat meer dan 40 dB onder de piek van het voornaamste bundelniveau ligt.

Het ‧gemiddelde zijlobbenniveau‧ in 6D003.d.2.b wordt gemeten over de gehele ‹array›, met uitzondering van de hoek, bestreken door de hoofdbundel en de eerste twee zijlobben aan beide zijden van de hoofdbundel.

6D102"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor het "gebruik" van in 6A108 bedoelde goederen.

6D103"Programmatuur" voor het na de vlucht verwerken van geregistreerde gegevens, waarmee de positie tijdens het gehele vluchttraject kan worden bepaald, speciaal ontworpen of aangepast voor ‧raketten‧.

In 6D103 wordt onder ‧raket‧ verstaan: complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen met een bereik van meer dan 300 km.

6ETechnologie

6E001Technologie overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" van apparatuur, materialen of "programmatuur", vermeld in 6A, 6B, 6C of 6D.

6E002Technologie overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "productie" van apparatuur of materialen, vermeld in 6A, 6B of 6C.

6E003Overige "technologie", als hieronder:

| a. | "Technologie", als hieronder:






  1. | "technologie" voor de optische bekleding en behandeling van het oppervlak, benodigd voor het verkrijgen van een uniformiteit qua optische dikte van 99,5 % of beter voor optische bekledingslagen met een diameter of lengte van de hoofdas van 500 mm of meer en met een totaal verlies (absorptie en verstrooiing) van minder dan 5 × 10-3; | zie ook 2E003.f. |
| --- | --- | --- | --- |

a.

"Technologie", als hieronder:

1.

"technologie" voor de optische bekleding en behandeling van het oppervlak, benodigd voor het verkrijgen van een uniformiteit qua optische dikte van 99,5 % of beter voor optische bekledingslagen met een diameter of lengte van de hoofdas van 500 mm of meer en met een totaal verlies (absorptie en verstrooiing) van minder dan 5 × 10-3;

‧Optische dikte‧ is het wiskundig product van de brekingsindex en de fysieke dikte van de bekledingslaag.

| 2. | optische fabricagetechnologieën met éénpuntsdiamant-draaitechnieken die afgewerkte oppervlakken leveren met een nauwkeurigheid beter dan 10 nm effectief (rms) op niet vlakke oppervlakken groter dan 0,5 m2; |
| --- | --- |

2.

optische fabricagetechnologieën met éénpuntsdiamant-draaitechnieken die afgewerkte oppervlakken leveren met een nauwkeurigheid beter dan 10 nm effectief (rms) op niet vlakke oppervlakken groter dan 0,5 m2;

| b. | "Technologie""noodzakelijk" voor de "ontwikkeling", "productie" of het "gebruik" van speciaal ontworpen diagnostische instrumenten of trefplaten in testvoorzieningen voor SHPL-systemen ("super high power laser") of voor het testen of onderzoek van door SHPL-bundels bestraalde materialen; |
| --- | --- |

b.

"Technologie""noodzakelijk" voor de "ontwikkeling", "productie" of het "gebruik" van speciaal ontworpen diagnostische instrumenten of trefplaten in testvoorzieningen voor SHPL-systemen ("super high power laser") of voor het testen of onderzoek van door SHPL-bundels bestraalde materialen;

6E101"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor het "gebruik" van apparatuur en "programmatuur", vermeld in 6A002, 6A007.b en c, 6A008, 6A102, 6A107, 6A108, 6B108, 6D102 of 6D103.

| | In 6E101 wordt alleen "technologie" vermeld voor apparatuur, vermeld in 6A008, wanneer deze is ontworpen voor gebruik in vliegtuigen en geschikt is voor gebruik in ‧raketten‧. |
| --- | --- |

6E201"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor het gebruik van apparatuur, vermeld in 6A003, 6A005.a.2., 6A005.b.2., 6A005.b.3., 6A005.b.4., 6A005.b.6., 6A005.c.2., 6A005.d.3.c., 6A005.d.4.c., 6A202, 6A203, 6A205, 6A225 en 6A226.

CATEGORIE 7

NAVIGATIE EN VLIEGTUIGELEKTRONICA

7A.Systemen, Apparatuur en Onderdelen

| | Voor automatische piloten voor onderwatervoertuigen, zie categorie 8. Voor radar: zie categorie 6. |
| --- | --- |

Voor automatische piloten voor onderwatervoertuigen, zie categorie 8. Voor radar: zie categorie 6.

7A001Versnellingsmeters en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:

| NB | ZIE OOK 7A101. |
| --- | --- |

NB

| : | Voor hoek- of rotatieversnellingsmeters, zie 7A001.b. |
| --- | --- |

:

| a. | Lineaire versnellingsmeters met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | gespecificeerd voor gebruik bij lineaire versnellingsniveaus van 15 g of minder, en met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een "stabiliteit" van de "bias" kleiner (beter) dan 130 micro g ten opzichte van een vaste ijkwaarde over een periode van één jaar; of |
| --- | --- | --- | --- |

a.

Lineaire versnellingsmeters met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

gespecificeerd voor gebruik bij lineaire versnellingsniveaus van 15 g of minder, en met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een "stabiliteit" van de "bias" kleiner (beter) dan 130 micro g ten opzichte van een vaste ijkwaarde over een periode van één jaar; of

| b. | een "stabiliteit" van de "schaalfactor" kleiner (beter) dan 130 ppm ten opzichte van een vaste ijkwaarde over een periode van één jaar; |
| --- | --- |

b.

een "stabiliteit" van de "schaalfactor" kleiner (beter) dan 130 ppm ten opzichte van een vaste ijkwaarde over een periode van één jaar;

| 2. | gespecificeerd voor gebruik bij lineaire versnellingsniveaus van meer dan 15 g, maar minder dan of gelijk aan 100 g, en met alle volgende kenmerken:






  a. | een "bias"-"herhaalbaarheid" van minder (beter) dan 5 000 micro g gemeten over één jaar; en |
| --- | --- | --- |

2.

gespecificeerd voor gebruik bij lineaire versnellingsniveaus van meer dan 15 g, maar minder dan of gelijk aan 100 g, en met alle volgende kenmerken:

a.

een "bias"-"herhaalbaarheid" van minder (beter) dan 5 000 micro g gemeten over één jaar; en

| b. | een "herhaalbaarheid" van de "schaalfactor" van minder (beter) dan 2 500 ppm g gemeten over één jaar; of |
| --- | --- |

b.

een "herhaalbaarheid" van de "schaalfactor" van minder (beter) dan 2 500 ppm g gemeten over één jaar; of

| 3. | ontworpen voor gebruik in traagheidsnavigatie- of geleidingssystemen en gespecificeerd voor gebruik bij lineaire versnellingsniveaus van meer dan 100 g; | 7A001.a.1. en 7A001.a.2. hebben geen betrekking op versnellingsmeters die uitsluitend worden gebruikt voor het meten van trillingen of schokken. |
| --- | --- | --- |

3.

ontworpen voor gebruik in traagheidsnavigatie- of geleidingssystemen en gespecificeerd voor gebruik bij lineaire versnellingsniveaus van meer dan 100 g;

| b. | hoek- of rotatieversnellingsmeters, gespecificeerd voor gebruik bij lineaire versnellingsniveaus van meer dan 100 g. |
| --- | --- |

b.

hoek- of rotatieversnellingsmeters, gespecificeerd voor gebruik bij lineaire versnellingsniveaus van meer dan 100 g.

7A002Gyroscopen of hoekbewegingsensoren, met één of meer van de volgende kenmerken en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

| NB: | ZIE OOK 7A102. |
| --- | --- |

NB:

| : | Voor hoek- of rotatieversnellingsmeters, zie 7A001.b. |
| --- | --- |

:

| a. | gespecificeerd voor gebruik bij lineaire versnellingsniveaus van minder dan of gelijk aan 100 g, en met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | Een bereik van minder dan 500 graden per seconde, en één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een "stabiliteit" van de "bias" van minder (beter) dan 0,5 graad per uur, indien gemeten bij een versnellingsniveau van 1 g over een periode van een maand en ten opzichte van een vaste ijkwaarde; of |
| --- | --- | --- | --- |

a.

gespecificeerd voor gebruik bij lineaire versnellingsniveaus van minder dan of gelijk aan 100 g, en met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

Een bereik van minder dan 500 graden per seconde, en één of meer van de volgende kenmerken:

a.

een "stabiliteit" van de "bias" van minder (beter) dan 0,5 graad per uur, indien gemeten bij een versnellingsniveau van 1 g over een periode van een maand en ten opzichte van een vaste ijkwaarde; of

| b. | een "<angle random walk>" van minder (beter) dan of gelijk aan 0,0035 graden per √uur; of | 7A002.a.1.b. heeft geen betrekking op gyroscopen met draaimassa. |
| --- | --- | --- |

b.

een "<angle random walk>" van minder (beter) dan of gelijk aan 0,0035 graden per √uur; of

‧gyroscopen met draaimassa‧ zijn gyroscopen die gebruik maken van een continu roterende massa voor het waarnemen van de hoekbeweging.

| 2. | een bereik groter dan of gelijk aan 500 graden per seconde en met een van de volgende kenmerken:






  a. | een "stabiliteit" van de "bias" van minder (beter) dan 40 graden per uur, indien gemeten bij een versnellingsniveau van 1 g over een periode van drie minuten en ten opzichte van een vaste ijkwaarde; |
| --- | --- | --- |

2.

een bereik groter dan of gelijk aan 500 graden per seconde en met een van de volgende kenmerken:

a.

een "stabiliteit" van de "bias" van minder (beter) dan 40 graden per uur, indien gemeten bij een versnellingsniveau van 1 g over een periode van drie minuten en ten opzichte van een vaste ijkwaarde;

| b. | Een "<angle random walk>" van minder (beter) dan of gelijk aan 0,2 graden per √uur; of | 7A002.a.2.b. heeft geen betrekking op ‧gyroscopen met draaimassa‧. |
| --- | --- | --- |

b.

Een "<angle random walk>" van minder (beter) dan of gelijk aan 0,2 graden per √uur; of

‧gyroscopen met draaimassa‧ zijn gyroscopen die gebruik maken van een continu roterende massa voor het waarnemen van de hoekbeweging.

| b. | gespecificeerd voor gebruik bij lineaire versnellingsniveaus van meer dan 100 g. |
| --- | --- |

b.

gespecificeerd voor gebruik bij lineaire versnellingsniveaus van meer dan 100 g.

7A003Traagheidsystemen en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:

| NB: | ZIE OOK 7A103. |
| --- | --- |

NB:

| a. | Traagheidsnavigatiesystemen (INS) (zowel met cardanische ophanging als vast) en traagheidsapparatuur ontworpen voor "vliegtuigen", voor voertuigen voor gebruik aan land, voor vaartuigen (zowel oppervlakteschepen als onderzeeboten) of voor "ruimtevaartuigen", voor navigatie, standregeling, geleiding of besturing met één of meer van de volgende kenmerken, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:






  1. | (vrije-traagheids)navigatiefout van 0,8 zeemijl per uur (nm/hr) ‧Circular Error Probable‧ (‧CEP‧) of minder (beter) na normale uitrichting; of |
| --- | --- | --- |

a.

Traagheidsnavigatiesystemen (INS) (zowel met cardanische ophanging als vast) en traagheidsapparatuur ontworpen voor "vliegtuigen", voor voertuigen voor gebruik aan land, voor vaartuigen (zowel oppervlakteschepen als onderzeeboten) of voor "ruimtevaartuigen", voor navigatie, standregeling, geleiding of besturing met één of meer van de volgende kenmerken, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

1.

(vrije-traagheids)navigatiefout van 0,8 zeemijl per uur (nm/hr) ‧Circular Error Probable‧ (‧CEP‧) of minder (beter) na normale uitrichting; of

| 2. | gespecificeerd om te werken bij liniaire versnellingsniveaus van meer dan 10 g; |
| --- | --- |

2.

gespecificeerd om te werken bij liniaire versnellingsniveaus van meer dan 10 g;

| b. | hybride traagheidsnavigatiesystemen met ingebouwd wereldwijd satellietnavigatiesysteem (GNSS) of navigatiesysteem met als referentie een gegevensbestand (DBRN) voor navigatie, standregeling, geleiding of besturing, na normale uitrichting, met na uitval van GNSS of DBRN gedurende een periode tot 4 minuten een INS-precisie van minder (beter) dan tien meter ‧Circular Error Probability‧ (CEP) (50 %-trefkanscirkel); |
| --- | --- |

b.

hybride traagheidsnavigatiesystemen met ingebouwd wereldwijd satellietnavigatiesysteem (GNSS) of navigatiesysteem met als referentie een gegevensbestand (DBRN) voor navigatie, standregeling, geleiding of besturing, na normale uitrichting, met na uitval van GNSS of DBRN gedurende een periode tot 4 minuten een INS-precisie van minder (beter) dan tien meter ‧Circular Error Probability‧ (CEP) (50 %-trefkanscirkel);

| c. | traagheidsmeetapparatuur voor koersbepaling en bepaling van het echte noorden met één of meer van de volgende kenmerken, en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor:







  1. | ontworpen voor koersbepaling of bepaling van het echte noorden met een nauwkeurigheid die gelijk is aan of minder (beter) dan 0,07 graden per seconde (Lat), overeenstemmend met 6 boogminuten RMS op een geografische breedte van 45 graden; |
| --- | --- | --- |

c.

traagheidsmeetapparatuur voor koersbepaling en bepaling van het echte noorden met één of meer van de volgende kenmerken, en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor:

1.

ontworpen voor koersbepaling of bepaling van het echte noorden met een nauwkeurigheid die gelijk is aan of minder (beter) dan 0,07 graden per seconde (Lat), overeenstemmend met 6 boogminuten RMS op een geografische breedte van 45 graden;

| 2. | ontworpen om niet-operationeel bestand te zijn tegen schokken van 900 g of meer met een duur van 1 msec of meer; |
| --- | --- |

2.

ontworpen om niet-operationeel bestand te zijn tegen schokken van 900 g of meer met een duur van 1 msec of meer;

| d. | traagheidsmeetapparatuur waaronder traagsheidsmetingseenheden (IMU), traagheidsreferentiesystemen (IRS), met versnellingsmeters en of gyroscopen, bedoeld in 7A001 of 7A002. | De parameters van 7A003.a en 7A003.b zijn van toepassing onder alle hierna vermelde omgevingsomstandigheden:







  a. | Invoer van willekeurige trillingen met een totale magnitude van 7.7 g rms tijdens het eerste half uur en een totale testduur van anderhalf uur per as voor elk van de drie loodrechte assen, wanneer de willekeurige trillingen aan alle volgende voorwaarden voldoen:








  1. | een constante spectrale vermogensdichtheid (PSD) van 0,04 g2/Hz bij een frequentie-interval van 15 tot 1 000 Hz; en |
| --- | --- | --- | --- | --- |

d.

traagheidsmeetapparatuur waaronder traagsheidsmetingseenheden (IMU), traagheidsreferentiesystemen (IRS), met versnellingsmeters en of gyroscopen, bedoeld in 7A001 of 7A002.

a.

Invoer van willekeurige trillingen met een totale magnitude van 7.7 g rms tijdens het eerste half uur en een totale testduur van anderhalf uur per as voor elk van de drie loodrechte assen, wanneer de willekeurige trillingen aan alle volgende voorwaarden voldoen:

1.

een constante spectrale vermogensdichtheid (PSD) van 0,04 g2/Hz bij een frequentie-interval van 15 tot 1 000 Hz; en

| 2. | de PSD verkleint naar gelang van de frequentie van 0,04 g2/Hz tot 0,01 g2/Hz bij een frequentie-interval van 1 000 tot 2 000 Hz; |
| --- | --- |

2.

de PSD verkleint naar gelang van de frequentie van 0,04 g2/Hz tot 0,01 g2/Hz bij een frequentie-interval van 1 000 tot 2 000 Hz;

| b. | een potentiële snelheid van hoekbeweging rond één of meer assen van + 2,62 radiant/s (150 graden/s) of meer; |
| --- | --- |

b.

een potentiële snelheid van hoekbeweging rond één of meer assen van + 2,62 radiant/s (150 graden/s) of meer;

| c. | overeenkomstig nationale normen die gelijkwaardig zijn aan bovenstaande punten a. en b. |
| --- | --- |

c.

overeenkomstig nationale normen die gelijkwaardig zijn aan bovenstaande punten a. en b.

| | 7A003 is niet van toepassing op traagheidsnavigatiesystemen die gecertificeerd zijn voor gebruik in "civiele vliegtuigen" door de civiele autoriteiten van een "deelnemende staat". |
| --- | --- |

| | 7A003.c.1 is niet van toepassing op met traagheidsnavigatie werkende theodolietsystemen die speciaal ontworpen zijn voor civiele opmetingen. |
| --- | --- |

:

| 1. | 7A003.b betreft systemen waarin INS of andere onafhankelijke navigatiehulpmiddelen in een afzonderlijke entiteit zijn ingebouwd met het oog op betere prestaties. |
| --- | --- |

1.

| 2. | ‧<Circular Error Probable>‧ (‧CEP‧) - bij normale cirkelvormige spreiding de straal van de cirkel die 50 % bestrijkt van de afzonderlijke metingen die worden verricht, of de straal van de cirkel waarbinnen er 50 % kans is om te worden gelokaliseerd. |
| --- | --- |

2.

7A004Astrogyrokompassen en andere apparaten voor het bepalen van plaats en richting door het automatisch volgen van hemellichamen of satellieten, met een azimutnauwkeurigheid gelijk aan of kleiner (beter) dan 5 boogseconden.

| NB: | ZIE OOK 7A104. |
| --- | --- |

NB:

7A005Ontvangstapparatuur voor wereldwijde satellietnavigatiesystemen (GNSS) met één van beide volgende kenmerken, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

| NB: | ZIE OOK 7A105. |
| --- | --- |

NB:

| : | Voor apparatuur speciaal ontworpen voor militair gebruik, zie de Lijst militaire goederen. |
| --- | --- |

:

| a. | maakt gebruik van een ontcijferingsalgoritme speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik door de overheid om toegang te krijgen tot de afstandsbepalingscode voor positie en tijd; |
| --- | --- |

a.

maakt gebruik van een ontcijferingsalgoritme speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik door de overheid om toegang te krijgen tot de afstandsbepalingscode voor positie en tijd;

| b. | maakt gebruik van ‧aanpasbare antennesystemen‧. | 7A005.b. is niet van toepassing op GNSS-ontvangstapparatuur die enkel gebruik maakt van onderdelen ontworpen voor het filteren, omschakelen of combineren van signalen van meervoudige omnidirectionele antennes waarin geen aanpasbare-antennetechnieken worden toegepast. |
| --- | --- | --- |

b.

maakt gebruik van ‧aanpasbare antennesystemen‧.

:

De in 7A005.b. bedoelde ‧aanpasbare antennesystemen‧ genereren op een dynamische manier één of meer ruimtelijke nullen in een antennematrixpatroon, door signaalverwerking in het tijdstip-domein of in het frequentie-domein.

7A006Hoogtemeters voor gebruik in luchtvaartuigen met werkfrequenties buiten het gebied van 4,2 t/m 4,4 GHz, met één van beide volgende kenmerken:

| NB: | ZIE OOK 7A106. |
| --- | --- |

NB:

| a. | "vermogensaanpassing"; |
| --- | --- |

a.

"vermogensaanpassing";

| b. | maakt gebruik van fasemodulatie (‹phase shift key modulation›). |
| --- | --- |

b.

maakt gebruik van fasemodulatie (‹phase shift key modulation›).

7A008Onderwatersonarnavigatiesystemen met Doppler- of correlatiesnelheidsappartuur met een richtingsbron, met een positioneringsnauwkeurigheid gelijk aan of minder (beter) dan 3 % van de ‧Circular Error Probable‧ (‧CEP‧) van de afgelegde afstand en met speciaal daarvoor ontworpen onderdelen.

| | 7A008 geldt niet voor systemen die speciaal zijn ontworpen voor installatie op oppervlakteschepen of systemen die voor positioneringsgegevens akoestische bakens of boeien nodig hebben. |
| --- | --- |

| | Zie 6A001.a. voor akoestische systemen en 6A001.b. voor sonar-logapparatuur voor correlatie- en Dopplersnelheidsbepaling. Zie 8A002 voor andere mariene systemen. |
| --- | --- |

7A101Lineaire versnellingsmeters, anders dan bedoeld in 7A001, die ontworpen zijn voor gebruik in traagheidsnavigatiesystemen of in geleidingssystemen van alle soorten, geschikt voor gebruik in ‧raketten‧, met de volgende kenmerken, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen;

| a. | Een "bias"-"herhaalbaarheid" van minder (beter) dan 1 250 micro g; en |
| --- | --- |

a.

Een "bias"-"herhaalbaarheid" van minder (beter) dan 1 250 micro g; en

| b. | Een "schaalfactor"-"herhaalbaarheid" van minder (beter) dan 1 250 ppm; |
| --- | --- |

b.

Een "schaalfactor"-"herhaalbaarheid" van minder (beter) dan 1 250 ppm;

| | 7A101.a. is niet van toepassing op versnellingsmeters speciaal ontworpen en ontwikkeld als sensoren voor gebruik in boorputten als sensoren voor gebruik tijdens het boren (‹Measurement While Drilling› (MWD-sensoren)). |
| --- | --- |

:

| 1. | In 7A10. worden onder ‧raketten‧ verstaan complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen die een afstand van meer dan 300 km kunnen overbruggen; |
| --- | --- |

1.

| 2. | In 7A10. wordt met de meting van de "bias" en de "schaalfactor" bedoeld een standaardafwijking van 1 sigma ten opzichte van een vaste ijkwaarde over een periode van één jaar; |
| --- | --- |

2.

7A102Alle types gyroscopen, anders dan bedoeld in 7A002, geschikt voor gebruik in ‧raketten‧ met een gespecificeerde "stabiliteit" van de "verloopsnelheid" (een gespecificeerde vrije precessie) van minder dan 0,5° (1 sigma of effectief (rms)) per uur bij een versnellingsniveau van 1 g, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen.

:

| 1. | In 7A102 wordt onder ‧raketten‧ verstaan complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen die een afstand van meer dan 300 km kunnen overbruggen; |
| --- | --- |

1.

| 2. | In 7A102 is stabiliteit de mate waarin een specifiek mechanisme of een specifieke prestatiecoëfficiënt onveranderlijk kan blijven bij voortdurende blootstelling aan een vaste gebruiksomgeving (IEEE STD 528-2001 punt 2.247). |
| --- | --- |

2.

7A103Instrumentatie, navigatieapparatuur en systemen, anders dan bedoeld in 7A003, als hieronder, en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor:

| a. | apparatuur voor traagheidsnavigatie of andere apparatuur, die gebruik maakt van versnellingsmeters of gyroscopen als hieronder, en systemen die dergelijke apparatuur bevatten;






  1. | versnellingsmeters als bedoeld in 7A001.a.3., 7A001.b. en 7A101 of gyroscopen als bedoeld in 7A002 en 7A102; of |
| --- | --- | --- |

a.

apparatuur voor traagheidsnavigatie of andere apparatuur, die gebruik maakt van versnellingsmeters of gyroscopen als hieronder, en systemen die dergelijke apparatuur bevatten;

1.

versnellingsmeters als bedoeld in 7A001.a.3., 7A001.b. en 7A101 of gyroscopen als bedoeld in 7A002 en 7A102; of

| 2. | versnellingsmeters als bedoeld in 7A001.a.1. en 7A001.a.2. met alle volgende kenmerken:






  a. | ontworpen om te worden gebruikt in traagheidsnavigatiesystemen en in alle types van geleidingssystemen en geschikt voor gebruik in 'raketten; |
| --- | --- | --- |

2.

versnellingsmeters als bedoeld in 7A001.a.1. en 7A001.a.2. met alle volgende kenmerken:

a.

ontworpen om te worden gebruikt in traagheidsnavigatiesystemen en in alle types van geleidingssystemen en geschikt voor gebruik in 'raketten;

| b. | een "bias"-"herhaalbaarheid" van minder (beter) dan 1 250 micro g; en |
| --- | --- |

b.

een "bias"-"herhaalbaarheid" van minder (beter) dan 1 250 micro g; en

| c. | een "schaalfactor"-"herhaalbaarheid" van minder (beter) dan 1 250 ppm; |
| --- | --- |

c.

een "schaalfactor"-"herhaalbaarheid" van minder (beter) dan 1 250 ppm;

| | 7A103.a. heeft geen betrekking op apparatuur die versnellingsmeters als bedoeld in 7A001 bevat indien die versnellingsmeters speciaal ontworpen en ontwikkeld zijn voor gebruik in boorputten als sensoren voor gebruik tijdens het boren (‹Measurement While Drilling›-sensoren). |
| --- | --- |

| b. | geïntegreerde besturingssystemen voor vliegtuigen, bevattende gyrostabilisatoren of automatische piloten, ontworpen of aangepast voor gebruik in ‧raketten‧; |
| --- | --- |

b.

geïntegreerde besturingssystemen voor vliegtuigen, bevattende gyrostabilisatoren of automatische piloten, ontworpen of aangepast voor gebruik in ‧raketten‧;

| c. | ‧geïntegreerde navigatiesystemen‧, ontworpen of aangepast voor ‧raketten‧, die een navigatienauwkeurigheid kunnen bieden van een 50 %-trefkanscirkel (‧Circle of Equal probability‧, ‧CEP‧) van 200 m of minder.




  Een ‧geïntegreerd navigatiesysteem‧ bestaat doorgaans uit de volgende onderdelen:








  1. | een traagheidsmeetapparaat (bijv. een standkoersreferentiesysteem, traagheidsreferentieplatform of traagheidsnavigatiesysteem); |
| --- | --- | --- |

c.

‧geïntegreerde navigatiesystemen‧, ontworpen of aangepast voor ‧raketten‧, die een navigatienauwkeurigheid kunnen bieden van een 50 %-trefkanscirkel (‧Circle of Equal probability‧, ‧CEP‧) van 200 m of minder.

Een ‧geïntegreerd navigatiesysteem‧ bestaat doorgaans uit de volgende onderdelen:

1.

een traagheidsmeetapparaat (bijv. een standkoersreferentiesysteem, traagheidsreferentieplatform of traagheidsnavigatiesysteem);

| 2. | één of meer externe sensoren die worden gebruikt om periodiek of continu tijdens de vlucht de actuele positie en/of snelheid te bepalen (bijv. satellietnavigatieontvanger, radarhoogtemeter en/of dopplerradar), en |
| --- | --- |

2.

één of meer externe sensoren die worden gebruikt om periodiek of continu tijdens de vlucht de actuele positie en/of snelheid te bepalen (bijv. satellietnavigatieontvanger, radarhoogtemeter en/of dopplerradar), en

| 3. | integratieapparatuur en -programmatuur; |
| --- | --- |

3.

integratieapparatuur en -programmatuur;

| d. | Drie-assige magnetische richtingssensoren, ontworpen of aangepast voor integratie in vluchtcontrole- en navigatiesystemen, met de volgende kenmerken, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:






  1. | interne kantelcompensatie voor stampen (± 90 graden) en slingeren (± 180 graden) |
| --- | --- | --- |

d.

Drie-assige magnetische richtingssensoren, ontworpen of aangepast voor integratie in vluchtcontrole- en navigatiesystemen, met de volgende kenmerken, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

1.

interne kantelcompensatie voor stampen (± 90 graden) en slingeren (± 180 graden)

| 2. | biedt azimutnauwkeurigheid van beter (minder) dan 0,5 graden rms op geografische breedte ± 80 graden, verwijzing naar plaatselijk magnetisch veld. |
| --- | --- |

2.

biedt azimutnauwkeurigheid van beter (minder) dan 0,5 graden rms op geografische breedte ± 80 graden, verwijzing naar plaatselijk magnetisch veld.

| | De vluchtcontrole- en navigatiesystemen in 7A103.d. omvatten gyrostabilisatoren, automatische piloten en traagheidsnavigatiesystemen |
| --- | --- |

In 7A103 wordt onder ‧raketten‧ verstaan complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen die een afstand van meer dan 300 km kunnen overbruggen;

7A104Astrogyrokompassen en andere apparaten, anders dan bedoeld in 7A004, voor het bepalen van plaats en richting door het automatisch volgen van hemellichamen of satellieten, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen.

7A105Ontvangstapparatuur voor wereldwijde satellietnavigatiesystemen (GNSS; bijv. GPS, GLONASS of Galileo) met één of meer van de volgende kenmerken en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

| a. | ontworpen of aangepast voor gebruik in ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, onbemande luchtvaartuigen, bedoeld in 9A012, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104; of |
| --- | --- |

a.

ontworpen of aangepast voor gebruik in ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, onbemande luchtvaartuigen, bedoeld in 9A012, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104; of

| b. | ontworpen of aangepast voor gebruik in vliegtuigen, met een of meer van de volgende kenmerken:






  1. | geschikt om navigatiegegevens te leveren bij snelheden boven 600 m/s; |
| --- | --- | --- |

b.

ontworpen of aangepast voor gebruik in vliegtuigen, met een of meer van de volgende kenmerken:

1.

geschikt om navigatiegegevens te leveren bij snelheden boven 600 m/s;

| 2. | gebruikmakend van ontcijfering van gegevens in geheime codering, ontworpen of aangepast voor leger- of regeringsdiensten, teneinde toegang te verkrijgen tot middels GNSS beveiligde signalen/gegevens, |
| --- | --- |

2.

gebruikmakend van ontcijfering van gegevens in geheime codering, ontworpen of aangepast voor leger- of regeringsdiensten, teneinde toegang te verkrijgen tot middels GNSS beveiligde signalen/gegevens,

| 3. | speciaal ontworpen voor de toepassing van anti-jamkenmerken (bijv. een null steering-antenne of een elektronisch stuurbare antenne) in een context van actieve of passieve tegenmaatregelen. |
| --- | --- |

3.

speciaal ontworpen voor de toepassing van anti-jamkenmerken (bijv. een null steering-antenne of een elektronisch stuurbare antenne) in een context van actieve of passieve tegenmaatregelen.

| | 7A105b2 en 7A105b3 zijn niet van toepassing op apparatuur die is ontworpen voor GNSS-diensten van commerciële of civiele aard dan wel in het kader van Safety of Life (bijv. gegevensintegriteit, vliegveiligheid). |
| --- | --- |

7A106Hoogtemeters, anders dan bedoeld in 7A006, van het radar- of laserradartype, ontworpen of aangepast voor gebruik in ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104.

7A115Passieve sensoren voor het bepalen van de positie ten opzichte van bepaalde elektromagnetische bronnen (richtingsbepalingsapparatuur) of van karakteristieken van het terrein, ontworpen of aangepast voor gebruik in ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104.

| | 7A115 bevat onder meer sensoren voor:







  a. | apparatuur voor het bepalen van het profiel van het aardoppervlak; |
| --- | --- | --- |

a.

apparatuur voor het bepalen van het profiel van het aardoppervlak;

| b. | beeldapparatuur (zowel actieve als passieve); |
| --- | --- |

b.

beeldapparatuur (zowel actieve als passieve);

| c. | passieve interferometerapparatuur. |
| --- | --- |

c.

passieve interferometerapparatuur.

7A116Vluchtregelsystemen en servokleppen, als hieronder, ontworpen of aangepast voor gebruik in ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104:

| a. | hydraulische, mechanische, elektro-optische, elektromechanische vluchtregelsystemen, met inbegrip van ‹fly-by-wire›-vluchtregelsystemen; |
| --- | --- |

a.

hydraulische, mechanische, elektro-optische, elektromechanische vluchtregelsystemen, met inbegrip van ‹fly-by-wire›-vluchtregelsystemen;

| b. | standregelapparatuur. |
| --- | --- |

b.

standregelapparatuur.

| c. | vluchtregelservokleppen, ontworpen of aangepast voor de systemen, bedoeld in 7A116a of 7A116b, en ontworpen of aangepast om te kunnen werken in trillingsomstandigheden van meer dan 10 g rms tussen 20 Hz en 2000 Hz.: |
| --- | --- |

c.

vluchtregelservokleppen, ontworpen of aangepast voor de systemen, bedoeld in 7A116a of 7A116b, en ontworpen of aangepast om te kunnen werken in trillingsomstandigheden van meer dan 10 g rms tussen 20 Hz en 2000 Hz.:

7A117"Geleidingssystemen" geschikt voor gebruik in ‧raketten‧ met een systeemnauwkeurigheid van 3,33 % of minder van het bereik (een "CEP" van 10 km of minder bij een bereik van 300 km).

7B.Test-, inspectie- en productieapparatuur

7B001Test-, ijk- of uitrichtapparatuur, speciaal ontworpen voor apparatuur, bedoeld in 7A.

| | 7B001 is niet van toepassing op test-, ijk- of uitrichtapparatuur voor ‧onderhoudsniveau I‧ of ‧onderhoudsniveau II‧. |
| --- | --- |

:

| 1. | De storing van een traagheidsnavigatie-eenheid wordt aan boord van het vliegtuig ontdekt via aanwijzingen van de besturings- en beeldeenheid (‹control and display unit› (CDU)) of via de toestandinformatie van het overeenkomstige subsysteem. Aan de hand van het handboek van de fabrikant kan de storing worden gelokaliseerd op het niveau van de niet goed functionerende ‹line replaceable unit› (LRU). De operateur verwijdert vervolgens de LRU en vervangt deze door een reserve-eenheid. |
| --- | --- |

1.

De storing van een traagheidsnavigatie-eenheid wordt aan boord van het vliegtuig ontdekt via aanwijzingen van de besturings- en beeldeenheid (‹control and display unit› (CDU)) of via de toestandinformatie van het overeenkomstige subsysteem. Aan de hand van het handboek van de fabrikant kan de storing worden gelokaliseerd op het niveau van de niet goed functionerende ‹line replaceable unit› (LRU). De operateur verwijdert vervolgens de LRU en vervangt deze door een reserve-eenheid.

| 2. | De defecte LRU wordt naar de onderhoudswerkplaats gestuurd (van de fabrikant of van de voor onderhoudsniveau II verantwoordelijke operateur). In de werkplaats wordt de defecte LRU getest met de daarvoor geëigende middelen teneinde de defecte, in de werkplaats vervangbare (‹shop replaceable assembly› (SRA)) module dat voor de storing verantwoordelijk is, te controleren en te lokaliseren. Deze SRA-module wordt verwijderd en vervangen door een goedwerkende reservemodule. De defecte SRA (of eventueel de complete LRU) wordt vervolgens naar de fabrikant gezonden. ‧Onderhoudsniveau II‧ omvat niet het ontmantelen of herstellen van onder embargo vallende versnellingsmeters of gyrosensoren. |
| --- | --- |

2.

De defecte LRU wordt naar de onderhoudswerkplaats gestuurd (van de fabrikant of van de voor onderhoudsniveau II verantwoordelijke operateur). In de werkplaats wordt de defecte LRU getest met de daarvoor geëigende middelen teneinde de defecte, in de werkplaats vervangbare (‹shop replaceable assembly› (SRA)) module dat voor de storing verantwoordelijk is, te controleren en te lokaliseren. Deze SRA-module wordt verwijderd en vervangen door een goedwerkende reservemodule. De defecte SRA (of eventueel de complete LRU) wordt vervolgens naar de fabrikant gezonden. ‧Onderhoudsniveau II‧ omvat niet het ontmantelen of herstellen van onder embargo vallende versnellingsmeters of gyrosensoren.

7B002Apparatuur, speciaal ontworpen voor het bepalen van de karakteristieken van spiegels voor ring-"laser"-gyroscopen, als hieronder:

| NB: | ZIE OOK 7B102. |
| --- | --- |

NB:

| a. | verstrooiingsmeters met een meetnauwkeurigheid van 10 ppm of minder (beter); |
| --- | --- |

a.

verstrooiingsmeters met een meetnauwkeurigheid van 10 ppm of minder (beter);

| b. | profielmeters met een meetnauwkeurigheid van 0,5 nm (5 ångström) of minder (beter). |
| --- | --- |

b.

profielmeters met een meetnauwkeurigheid van 0,5 nm (5 ångström) of minder (beter).

7B003Apparatuur, speciaal ontworpen voor de productie van apparatuur, bedoeld in 7A:

| | 7B003 omvat:






  — | proefbanken voor het afstemmen van gyroscopen; |
| --- | --- | --- |

—

proefbanken voor het afstemmen van gyroscopen;

| — | dynamische uitbalanceerbanken voor gyroscopen; |
| --- | --- |

—

dynamische uitbalanceerbanken voor gyroscopen;

| — | proefbanken voor het inlopen/testen van de gyromotor; |
| --- | --- |

—

proefbanken voor het inlopen/testen van de gyromotor;

| — | apparatuur voor het leegmaken en vullen van gyroscopen; |
| --- | --- |

—

apparatuur voor het leegmaken en vullen van gyroscopen;

| — | centrifugale bevestigingen voor gyroscooplagers; |
| --- | --- |

—

centrifugale bevestigingen voor gyroscooplagers;

| — | uitlijnbanken voor versnellingsmeters; |
| --- | --- |

—

uitlijnbanken voor versnellingsmeters;

| — | Gyrospoelwikkelmachines voor glasvezel. |
| --- | --- |

—

Gyrospoelwikkelmachines voor glasvezel.

7B102Reflectometers, speciaal ontworpen voor het karakteriseren van spiegels voor "laser"-gyroscopen met een meetnauwkeurigheid van minder (of beter) dan 50 ppm.

7B103"Productiefaciliteiten" en "productieapparatuur", als hieronder:

| a. | speciaal ontworpen "productiefaciliteiten" voor apparatuur, bedoeld in 7A117. |
| --- | --- |

a.

speciaal ontworpen "productiefaciliteiten" voor apparatuur, bedoeld in 7A117.

| b. | "productieapparatuur" en andere test-, ijk- of uitrichtapparatuur, anders dan bedoeld in 7B001 t/m 7B003, ontworpen of aangepast om te worden gebruikt met apparatuur, bedoeld in 7A. |
| --- | --- |

b.

"productieapparatuur" en andere test-, ijk- of uitrichtapparatuur, anders dan bedoeld in 7B001 t/m 7B003, ontworpen of aangepast om te worden gebruikt met apparatuur, bedoeld in 7A.

7CMaterialen

Geen.

7DProgrammatuur

7D001"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling" of "productie" van apparatuur, bedoeld in 7A of 7B.

7D002"Broncode" voor het "gebruik" van iedere traagheidsnavigatieapparatuur met inbegrip van traagheidspparatuur die niet is bedoeld in 7A003 of 7A004, of stand- en koersreferentiesystemen ("Attitude and Heading Reference Systems" (AHRS)).

| | 7D002 is niet van toepassing op "broncode" voor het "gebruik" van AHRS met cardanische ophanging. |
| --- | --- |

Het verschil tussen AHRS en traagheidsnavigatiesystemen (INS) is dat in het algemeen AHRS standkoersgegevens verschaft en gewoonlijk niet de gegevens omtrent versnelling, snelheid en positie verschaft die een INS wel levert.

7D003Overige "programmatuur", als hieronder:

| a. | "programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor verbetering van de operationele prestaties of vermindering van de navigatiefout van systemen tot de niveaus, vermeld in 7A003, 7A004 of 7A008; |
| --- | --- |

a.

"programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor verbetering van de operationele prestaties of vermindering van de navigatiefout van systemen tot de niveaus, vermeld in 7A003, 7A004 of 7A008;

| b. | "broncode" voor hybride geïntegreerde systemen waardoor de operationele prestaties van het systeem worden verbeterd of de navigatiefout wordt verkleind tot het niveau, vermeld in 7A003 of 7A008, door middel van continue combinatie van richtingsgegevens met één of meer van de volgende elementen:






  1. | Doppler-radar- of sonarsnelheidsgegevens; |
| --- | --- | --- |

b.

"broncode" voor hybride geïntegreerde systemen waardoor de operationele prestaties van het systeem worden verbeterd of de navigatiefout wordt verkleind tot het niveau, vermeld in 7A003 of 7A008, door middel van continue combinatie van richtingsgegevens met één of meer van de volgende elementen:

1.

Doppler-radar- of sonarsnelheidsgegevens;

| 2. | referentiegegevens van wereldwijde satellietnavigatiesystemen (GNSS); of |
| --- | --- |

2.

referentiegegevens van wereldwijde satellietnavigatiesystemen (GNSS); of

| 3. | gegevens van "navigatiesystemen met als referentie een gegevensbestand" ("DBRN"-systemen); |
| --- | --- |

3.

gegevens van "navigatiesystemen met als referentie een gegevensbestand" ("DBRN"-systemen);

| c. | "broncode" voor geïntegreerde vliegtuigelektronica- of vluchtprofielsystemen die gegevens van sensoren combineren en gebruik maken van "expert-systemen"; |
| --- | --- |

c.

"broncode" voor geïntegreerde vliegtuigelektronica- of vluchtprofielsystemen die gegevens van sensoren combineren en gebruik maken van "expert-systemen";

| d. | "broncode" voor de "ontwikkeling" van:






  1. | digitale systemen voor een "totale vluchtregeling"; |
| --- | --- | --- |

d.

"broncode" voor de "ontwikkeling" van:

1.

digitale systemen voor een "totale vluchtregeling";

| 2. | geïntegreerde voorstuwings- en vluchtregelsystemen; |
| --- | --- |

2.

geïntegreerde voorstuwings- en vluchtregelsystemen;

| 3. | elektrische of opto-elektronische vluchtregelsystemen (‹fly by wire›/‹fly by light›); |
| --- | --- |

3.

elektrische of opto-elektronische vluchtregelsystemen (‹fly by wire›/‹fly by light›);

| 4. | foutbestendige of zichzelf herconfigurerende "actieve vluchtregelsystemen"; |
| --- | --- |

4.

foutbestendige of zichzelf herconfigurerende "actieve vluchtregelsystemen";

| 5. | automatische richtingzoekende apparatuur voor gebruik in vliegtuigen; |
| --- | --- |

5.

automatische richtingzoekende apparatuur voor gebruik in vliegtuigen;

| 6. | vluchtgegevenssystemen gebaseerd op statische gegevens van het grondoppervlak; of |
| --- | --- |

6.

vluchtgegevenssystemen gebaseerd op statische gegevens van het grondoppervlak; of

| 7. | voorruitpresentatie (‹head up›) van het rastertype of met driedimensionale presentatie; |
| --- | --- |

7.

voorruitpresentatie (‹head up›) van het rastertype of met driedimensionale presentatie;

| e. | "programmatuur" voor het computerondersteund ontwerpen (CAD), speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" van "actieve vluchtregelsystemen", elektrische of opto-elektronische besturingen (‹fly-by-wire›/‹fly-by-light›) of luchtstroombeheerste anti-torsie of richtingregelsystemen voor meerassige hefschroefvliegtuigsystemen, waarvoor de "technologie" is gespecificeerd in 7E004.b, 7E004.c.1 of 7E004.c.2. |
| --- | --- |

e.

"programmatuur" voor het computerondersteund ontwerpen (CAD), speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" van "actieve vluchtregelsystemen", elektrische of opto-elektronische besturingen (‹fly-by-wire›/‹fly-by-light›) of luchtstroombeheerste anti-torsie of richtingregelsystemen voor meerassige hefschroefvliegtuigsystemen, waarvoor de "technologie" is gespecificeerd in 7E004.b, 7E004.c.1 of 7E004.c.2.

7D101Speciaal ontworpen of aangepaste "programmatuur" voor het "gebruik" van apparatuur als bedoeld in 7A001 t/m 7A006, 7A101 t/m 7A106, 7A115, 7A116.a., 7A116.b., 7B001, 7B002, 7B003, 7B102 of 7B103.

7D102Integratie-"programmatuur", als hieronder:

| a. | integratie-"programmatuur" voor apparatuur als bedoeld in 7A103.b.; |
| --- | --- |

a.

integratie-"programmatuur" voor apparatuur als bedoeld in 7A103.b.;

| b. | integratie-"programmatuur", speciaal ontworpen voor apparatuur als bedoeld in 7A003 of 7A103.a. |
| --- | --- |

b.

integratie-"programmatuur", speciaal ontworpen voor apparatuur als bedoeld in 7A003 of 7A103.a.

| c. | integratie-"programmatuur", ontworpen of aangepast voor apparatuur als bedoeld in 7A103c. | Een veel voorkomende vorm van integratie-"programmatuur" maakt gebruik van kalmanfiltering. |
| --- | --- | --- |

c.

integratie-"programmatuur", ontworpen of aangepast voor apparatuur als bedoeld in 7A103c.

7D103"Programmatuur", speciaal ontworpen voor het modelleren of simuleren van de "geleidingssystemen", bedoeld in 7A117, of voor de ontwerpintegratie met de ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104.

| | "Programmatuur" bedoeld in 7D103 blijft bedoeld, ook wanneer deze wordt gecombineerd met de speciaal ontworpen apparatuur bedoeld in 4A102. |
| --- | --- |

7ETechnologie

7E001"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" van apparatuur of "programmatuur", bedoeld in 7A, 7B of 7D.

7E002"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "productie" van apparatuur, bedoeld in 7A of 7B.

7E003"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor reparatie, opknappen of revisie van apparatuur, bedoeld in 7A001 t/m 7A004.

| | 7E003 is niet van toepassing op onderhouds "technologie" die direct verband houdt met de ijking, verwijdering of vervanging van beschadigde of onbruikbare LRU's en SRA's van "civiele vliegtuigen" als omschreven in ‧onderhoudsniveau I' en' onderhoudsniveau II‧. |
| --- | --- |

| | Zie de technische noten bij 7B001. |
| --- | --- |

7E004Overige "technologie", als hieronder:

| a. | "technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van:






  1. | automatische richtingzoekende apparatuur voor gebruik in vliegtuigen met een werkfrequentie hoger dan 5 MHz; |
| --- | --- | --- |

a.

"technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van:

1.

automatische richtingzoekende apparatuur voor gebruik in vliegtuigen met een werkfrequentie hoger dan 5 MHz;

| 2. | vluchtgegevenssystemen die uitsluitend zijn gebaseerd op statische gegevens van het grondoppervlak, d.w.z. die geen conventionele richtantennes nodig hebben; |
| --- | --- |

2.

vluchtgegevenssystemen die uitsluitend zijn gebaseerd op statische gegevens van het grondoppervlak, d.w.z. die geen conventionele richtantennes nodig hebben;

| 3. | driedimensionale presentatie voor "vliegtuigen"; |
| --- | --- |

3.

driedimensionale presentatie voor "vliegtuigen";

| 4. | niet gebruikt; |
| --- | --- |

4.

niet gebruikt;

| 5. | elektrische aandrijvers (d.w.z. elektromechanische, elektrohydrostatische en geïntegreerde aandrijverpakketten) die speciaal zijn ontworpen voor "primaire vluchtregeling"); |
| --- | --- |

5.

elektrische aandrijvers (d.w.z. elektromechanische, elektrohydrostatische en geïntegreerde aandrijverpakketten) die speciaal zijn ontworpen voor "primaire vluchtregeling");

| 6. | optische sensor-‹arrays› voor vluchtregeling die speciaal zijn ontworpen voor de implementatie van actieve vluchtregelsystemen); of |
| --- | --- |

6.

optische sensor-‹arrays› voor vluchtregeling die speciaal zijn ontworpen voor de implementatie van actieve vluchtregelsystemen); of

| 7. | "DBRN"-systemen voor onderwaternavigatie met sonar- of zwaartekrachtgegevenbanken met een postioneringsnauwkeurigheid gelijk aan of minder (beter) dan 0,4 zeemijl. |
| --- | --- |

7.

"DBRN"-systemen voor onderwaternavigatie met sonar- of zwaartekrachtgegevenbanken met een postioneringsnauwkeurigheid gelijk aan of minder (beter) dan 0,4 zeemijl.

| b. | "ontwikkelings"-"technologie", als hieronder, voor "actieve vluchtregelsystemen" met inbegrip van elektrische of opto-elektronische besturing (‹fly by wire›/‹fly by light›):






  1. | "technologie" voor het ontwerpen van de configuratie voor het koppelen van meervoudig samengestelde micro-elektronische verwerkingselementen (boordcomputers) voor het verkrijgen van "tijdgebonden (‹real time›) gegevensverwerking" ter uitvoering van de besturingswet (‹control law›); |
| --- | --- | --- |

b.

"ontwikkelings"-"technologie", als hieronder, voor "actieve vluchtregelsystemen" met inbegrip van elektrische of opto-elektronische besturing (‹fly by wire›/‹fly by light›):

1.

"technologie" voor het ontwerpen van de configuratie voor het koppelen van meervoudig samengestelde micro-elektronische verwerkingselementen (boordcomputers) voor het verkrijgen van "tijdgebonden (‹real time›) gegevensverwerking" ter uitvoering van de besturingswet (‹control law›);

| 2. | "technologie" voor ‹control law›-compensatie voor de plaatsing van de sensoren en voor dynamische belastingen op de romp, d.w.z. compensatie voor het trillen van de sensoren en voor variatie in de plaats van de sensoren ten opzichte van het zwaartepunt; |
| --- | --- |

2.

"technologie" voor ‹control law›-compensatie voor de plaatsing van de sensoren en voor dynamische belastingen op de romp, d.w.z. compensatie voor het trillen van de sensoren en voor variatie in de plaats van de sensoren ten opzichte van het zwaartepunt;

| 3. | "technologie" voor elektronische manipulatie van gegevens- of systeemredundantie voor het opsporen van storingen, storingsbestendigheid, de isolatie van storingen of herconfiguratie; | Niet bedoeld wordt in 7E004.b.3 "technologie" voor het ontwerpen van fysieke redundantie. |
| --- | --- | --- |

3.

"technologie" voor elektronische manipulatie van gegevens- of systeemredundantie voor het opsporen van storingen, storingsbestendigheid, de isolatie van storingen of herconfiguratie;

| 4. | "technologie" voor het ontwerpen van vluchtregelapparatuur die tijdens de vlucht herindeling van kracht- en momentregeleenheden mogelijk maakt ten behoeve van autonome tijdgebonden (‹real time›) besturing van het luchtvaartuig; |
| --- | --- |

4.

"technologie" voor het ontwerpen van vluchtregelapparatuur die tijdens de vlucht herindeling van kracht- en momentregeleenheden mogelijk maakt ten behoeve van autonome tijdgebonden (‹real time›) besturing van het luchtvaartuig;

| 5. | "technologie" voor het integreren van digitale vluchtregel-, navigatie- en voortstuwingsregelgegevens in een digitaal systeem voor "totale vluchtregeling"; | 7E004.b.5 is niet van toepassing op:






  a. | "Ontwikkelings" "technologie" voor de integratie van digitale vluchtregel-, navigatie- en voortstuwingsregelgegevens in een digitaal vluchtbeheerssysteem voor "optimalisering van de vliegroute"; |
| --- | --- | --- | --- |

5.

"technologie" voor het integreren van digitale vluchtregel-, navigatie- en voortstuwingsregelgegevens in een digitaal systeem voor "totale vluchtregeling";

a.

"Ontwikkelings" "technologie" voor de integratie van digitale vluchtregel-, navigatie- en voortstuwingsregelgegevens in een digitaal vluchtbeheerssysteem voor "optimalisering van de vliegroute";

| b. | "Ontwikkelings""technologie" voor vlucht-instrumentsystemen welke uitsluitend worden geïntegreerd voor navigatie of aanvliegen met behulp van VOR, DME, ILS of MLS; |
| --- | --- |

b.

"Ontwikkelings""technologie" voor vlucht-instrumentsystemen welke uitsluitend worden geïntegreerd voor navigatie of aanvliegen met behulp van VOR, DME, ILS of MLS;

| 6. | volledig zelfstandige digitale systemen voor vluchtbeheersing of systemen voor vluchtprofielbeheersing met behulp van meerdere sensoren die gebruik maken van "expert-systemen"; | Zie 9E003.h. voor technologie voor "digitale elektronische motorregelsystemen welke volledig zelfstandig in de motorregeling kunnen ingrijpen" ("FADEC-systemen"); |
| --- | --- | --- |

6.

volledig zelfstandige digitale systemen voor vluchtbeheersing of systemen voor vluchtprofielbeheersing met behulp van meerdere sensoren die gebruik maken van "expert-systemen";

| c. | "technologie" voor de "ontwikkeling" van hefschroefvliegtuigsystemen, als hieronder:






  1. | meerassige elektrische of opto-elektronische besturingen (‹fly by wire›/‹fly by light›) die ten minste twee van de volgende functies in één regelelement verenigen:






  a. | collectieve bladverstelling (‹collective control›); |
| --- | --- | --- | --- |

c.

"technologie" voor de "ontwikkeling" van hefschroefvliegtuigsystemen, als hieronder:

1.

meerassige elektrische of opto-elektronische besturingen (‹fly by wire›/‹fly by light›) die ten minste twee van de volgende functies in één regelelement verenigen:

a.

collectieve bladverstelling (‹collective control›);

| b. | cyclische bladverstelling (‹cyclic control›); |
| --- | --- |

b.

cyclische bladverstelling (‹cyclic control›);

| c. | gierbesturing (‹yaw control›); |
| --- | --- |

c.

gierbesturing (‹yaw control›);

| 2. | "luchtstroom-beheerste antitorsie of richtingsregelsystemen"; |
| --- | --- |

2.

"luchtstroom-beheerste antitorsie of richtingsregelsystemen";

| 3. | rotorbladen met "aërodynamische vlakken met variabel profiel" voor toepassing in systemen die gebruik maken van afzonderlijke besturing van de rotorbladen. |
| --- | --- |

3.

rotorbladen met "aërodynamische vlakken met variabel profiel" voor toepassing in systemen die gebruik maken van afzonderlijke besturing van de rotorbladen.

7E101"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor het "gebruik" van apparatuur, bedoeld in 7A001 t/m 7A006, 7A101 t/m 7A106, 7A115 t/m 7A117, 7B001, 7B002, 7B003, 7B102, 7B103, 7D101 t/m 7D103.

7E102"Technologie" voor bescherming van elektronische vliegtuigsystemen en elektrische subsystemen tegen elektromagnetische impulsen (EMP) en elektromagnetische storingen (EMI) door buiten het systeem gelegen bronnen, als hieronder:

| a. | ontwerp-"technologie" voor afschermsystemen; |
| --- | --- |

a.

ontwerp-"technologie" voor afschermsystemen;

| b. | ontwerp-"technologie" voor de configuratie van stralingbestendige elektrische schakelingen en subsystemen; |
| --- | --- |

b.

ontwerp-"technologie" voor de configuratie van stralingbestendige elektrische schakelingen en subsystemen;

| c. | ontwerp-"technologie" voor de bepaling van criteria voor het stralingbestendig maken van de onder 7E102.a en 7E102.b bedoelde systemen. |
| --- | --- |

c.

ontwerp-"technologie" voor de bepaling van criteria voor het stralingbestendig maken van de onder 7E102.a en 7E102.b bedoelde systemen.

7E104"Technologie" voor het integreren van vluchtregel-, navigatie- en voortstuwingsregelgegevens in een vluchtbeheerssysteem om de baan van raketten te optimaliseren.

CATEGORIE 8

ZEEWEZEN EN SCHEPEN

8A.Systemen, apparatuur en onderdelen

8A001Onderwatervoertuigen en oppervlaktevaartuigen, als hieronder:

| | Voor de embargostatus van apparatuur voor onderwatervoertuigen zie:






  — | categorie 5, deel 2, "Informatiebeveiliging" voor communicatieapparatuur met cryptografie; |
| --- | --- | --- |

—

categorie 5, deel 2, "Informatiebeveiliging" voor communicatieapparatuur met cryptografie;

| — | categorie 6 voor sensoren; |
| --- | --- |

—

categorie 6 voor sensoren;

| — | categorieën 7 en 8 voor navigatieapparatuur; |
| --- | --- |

—

categorieën 7 en 8 voor navigatieapparatuur;

| — | categorie 8A voor onderwaterapparatuur. |
| --- | --- |

—

categorie 8A voor onderwaterapparatuur.

| a. | getuide onderwatervoertuigen voor bemand gebruik, ontworpen voor een werkdiepte van meer dan 1 000 m; |
| --- | --- |

a.

getuide onderwatervoertuigen voor bemand gebruik, ontworpen voor een werkdiepte van meer dan 1 000 m;

| b. | ongetuide onderwatervoertuigen voor bemand gebruik met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | ontworpen om ‧autonoom te opereren‧ en met een hijsvermogen van:






  a. | 10 % of meer van het eigen gewicht in de lucht, b. |
| --- | --- | --- | --- |

b.

ongetuide onderwatervoertuigen voor bemand gebruik met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

ontworpen om ‧autonoom te opereren‧ en met een hijsvermogen van:

a.

10 % of meer van het eigen gewicht in de lucht, b.

| b. | 15 kN of meer; |
| --- | --- |

b.

15 kN of meer;

| 2. | ontworpen om te werken bij een diepte groter dan 1 000 m; of |
| --- | --- |

2.

ontworpen om te werken bij een diepte groter dan 1 000 m; of

| 3. | met alle volgende kenmerken:






  a. | ontworpen om gedurende tien uur of meer ‧autonoom te opereren‧; en |
| --- | --- | --- |

3.

met alle volgende kenmerken:

a.

ontworpen om gedurende tien uur of meer ‧autonoom te opereren‧; en

| b. | een ‧bereik‧ van 25 zeemijlen of meer. |
| --- | --- |

b.

een ‧bereik‧ van 25 zeemijlen of meer.

:

| 1. | Voor de toepassing van 8A001.b moet onder ‧autonoom opereren‧ het volgende worden verstaan: geheel onder water, zonder ventilatiepijp, met alle systemen in werking en zich voortbewegend met de minimumsnelheid waarbij het onderwatervoertuig uitsluitend door middel van zijn diepteroeren zijn diepgang veilig en dynamisch kan regelen, zonder dat er een ondersteuningsvaartuig of een ondersteunende basis aan de oppervlakte, op de zeebodem of aan wal nodig is, en met een voortstuwingssysteem voor gebruik onder water of aan de oppervlakte. |
| --- | --- |

1.

| 2. | Voor de toepassing van 8A001.b moet onder ‧bereik‧ worden verstaan de helft van de maximumafstand waarover het onderwatervoertuig ‧autonoom kan opereren‧. |
| --- | --- |

2.

| c. | getuide onderwatervoertuigen voor onbemand gebruik, ontworpen voor een werkdiepte van meer dan 1 000 m, met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | ontworpen voor zelfaangedreven manoeuvreren met gebruik van druk- of stuwmotoren bedoeld in 8A002.a.2, of |
| --- | --- | --- |

c.

getuide onderwatervoertuigen voor onbemand gebruik, ontworpen voor een werkdiepte van meer dan 1 000 m, met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

ontworpen voor zelfaangedreven manoeuvreren met gebruik van druk- of stuwmotoren bedoeld in 8A002.a.2, of

| 2. | een gegevensverbindingskabel van glasvezels; |
| --- | --- |

2.

een gegevensverbindingskabel van glasvezels;

| d. | ongetuide onderwatervoertuigen voor onbemand gebruik met een of meer van de volgende kenmerken:






  1. | ontworpen voor het bepalen van een koers ten opzichte van een geografisch referentiepunt zonder tijdgebonden (‹real time›) ingrijpen van de mens; |
| --- | --- | --- |

d.

ongetuide onderwatervoertuigen voor onbemand gebruik met een of meer van de volgende kenmerken:

1.

ontworpen voor het bepalen van een koers ten opzichte van een geografisch referentiepunt zonder tijdgebonden (‹real time›) ingrijpen van de mens;

| 2. | een akoestische gegevens- of besturingsverbinding, of |
| --- | --- |

2.

een akoestische gegevens- of besturingsverbinding, of

| 3. | een optische gegevens- of besturingsverbinding die langer is dan 1 000 m; |
| --- | --- |

3.

een optische gegevens- of besturingsverbinding die langer is dan 1 000 m;

| e. | systemen voor berging op zee met een hijscapaciteit groter dan 5 MN voor berging van voorwerpen die zich op een diepte van meer dan 250 m bevinden en met één of meer van de volgende systemen:






  1. | dynamische positioneersystemen geschikt voor het handhaven van een positie binnen 20 m van een door het navigatiesysteem opgegeven punt, of |
| --- | --- | --- |

e.

systemen voor berging op zee met een hijscapaciteit groter dan 5 MN voor berging van voorwerpen die zich op een diepte van meer dan 250 m bevinden en met één of meer van de volgende systemen:

1.

dynamische positioneersystemen geschikt voor het handhaven van een positie binnen 20 m van een door het navigatiesysteem opgegeven punt, of

| 2. | systemen voor navigatie op de zeebodem en voor navigatie-integratie voor een diepte groter dan 1 000 m met een positioneernauwkeurigheid tot op 10 m nauwkeurig van een vooraf vastgesteld punt; |
| --- | --- |

2.

systemen voor navigatie op de zeebodem en voor navigatie-integratie voor een diepte groter dan 1 000 m met een positioneernauwkeurigheid tot op 10 m nauwkeurig van een vooraf vastgesteld punt;

| f. | vaartuigen met grondeffect (volledig met schorten (‹fully skirted variety›)) met alle volgende kenmerken:






  1. | een maximale ontwerpsnelheid bij volle lading van meer dan 30 knopen in golven van 1,25 m (toestand van het zeeoppervlak (‹sea state›): 3) of hoger; |
| --- | --- | --- |

f.

vaartuigen met grondeffect (volledig met schorten (‹fully skirted variety›)) met alle volgende kenmerken:

1.

een maximale ontwerpsnelheid bij volle lading van meer dan 30 knopen in golven van 1,25 m (toestand van het zeeoppervlak (‹sea state›): 3) of hoger;

| 2. | een luchtkussendruk van meer dan 3 830 Pa; |
| --- | --- |

2.

een luchtkussendruk van meer dan 3 830 Pa;

| 3. | een ongeladen-volgeladen waterverplaatsingsverhouding van minder dan 0,70; |
| --- | --- |

3.

een ongeladen-volgeladen waterverplaatsingsverhouding van minder dan 0,70;

| g. | vaartuigen met grondeffect (met vaste zijwand (‹rigid sidewall›)) met een maximale ontwerpsnelheid bij volle lading van meer dan 40 knopen in golven van 3,25 m (toestand van het zeeoppervlak (‹sea state›): 5) of hoger; |
| --- | --- |

g.

vaartuigen met grondeffect (met vaste zijwand (‹rigid sidewall›)) met een maximale ontwerpsnelheid bij volle lading van meer dan 40 knopen in golven van 3,25 m (toestand van het zeeoppervlak (‹sea state›): 5) of hoger;

| h. | draagvleugelboten met actieve systemen voor automatische besturing van de vleugelsystemen, met een maximale ontwerpsnelheid bij volle lading van 40 knopen of meer in golven van 3,25 m (toestand van het zeeoppervlak (‹sea state›): 5) of hoger; |
| --- | --- |

h.

draagvleugelboten met actieve systemen voor automatische besturing van de vleugelsystemen, met een maximale ontwerpsnelheid bij volle lading van 40 knopen of meer in golven van 3,25 m (toestand van het zeeoppervlak (‹sea state›): 5) of hoger;

| i. | ‧vaartuigen met geringe rompdoorsnede‧ met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een waterverplaatsing bij volle lading van meer dan 500 ton met een maximale ontwerpsnelheid bij volle lading van meer dan 35 knopen in golven van 3,25 m (toestand van het zeeoppervlak (‹sea state›): 5) of hoger; of |
| --- | --- | --- |

i.

‧vaartuigen met geringe rompdoorsnede‧ met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

een waterverplaatsing bij volle lading van meer dan 500 ton met een maximale ontwerpsnelheid bij volle lading van meer dan 35 knopen in golven van 3,25 m (toestand van het zeeoppervlak (‹sea state›): 5) of hoger; of

| 2. | een waterverplaatsing bij volle lading van meer dan 1 500 ton met een maximale ontwerpsnelheid bij volle lading van meer dan 25 knopen in golven van 4 m (toestand van het zeeoppervlak (‹sea state›): 6) of hoger. |
| --- | --- |

2.

een waterverplaatsing bij volle lading van meer dan 1 500 ton met een maximale ontwerpsnelheid bij volle lading van meer dan 25 knopen in golven van 4 m (toestand van het zeeoppervlak (‹sea state›): 6) of hoger.

Voor ‧vaartuigen met geringe rompdoorsnede‧ geldt de volgende formule als definitie: rompoorsnede bij een operationele ontwerpdiepgang kleiner dan 2 × (waterverplaatsing bij de operationele ontwerpdiepgang) 2/3.

8A002Mariene systemen, apparatuur en onderdelen, als hieronder:

| | Zie categorie 5, deel 1 (Telecommunicatie) voor communicatiesystemen voor gebruik onder water. |
| --- | --- |

| a. | Systemen,apparatuur en onderdelen, speciaal ontworpen of aangepast voor onderwatervoertuigen, ontworpen voor een werkdiepte van meer dan 1 000 m, als hieronder:






  1. | drukvaste omhullingen of rompen met een maximale inwendige diameter groter dan 1,5 m; |
| --- | --- | --- |

a.

Systemen,apparatuur en onderdelen, speciaal ontworpen of aangepast voor onderwatervoertuigen, ontworpen voor een werkdiepte van meer dan 1 000 m, als hieronder:

1.

drukvaste omhullingen of rompen met een maximale inwendige diameter groter dan 1,5 m;

| 2. | gelijkstroom-druk- of -stuwmotoren; |
| --- | --- |

2.

gelijkstroom-druk- of -stuwmotoren;

| 3. | voedingsleidingen en koppelingen daarvoor waarin glasvezels zijn gebruikt en met synthetische versterkingen; |
| --- | --- |

3.

voedingsleidingen en koppelingen daarvoor waarin glasvezels zijn gebruikt en met synthetische versterkingen;

| 4. | onderdelen, vervaardigd van in 8C001 genoemd materiaal; |
| --- | --- |

4.

onderdelen, vervaardigd van in 8C001 genoemd materiaal;

De doelstelling van 8A002.a.4 mag niet worden omzeild door de uitvoer van in 8C001 genoemd ‧syntactisch schuim‧ nadat er een tussenstadium van productie heeft plaatsgevonden en het schuim nog niet zijn definitieve vorm heeft bereikt.

| b. | systemen, speciaal ontworpen of aangepast voor het automatisch besturen van de bewegingen van onderwatervoertuigen, bedoeld in 8A001, waarbij gebruik wordt gemaakt van navigatiegegevens en teruggekoppelde servobesturingen, met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | het voertuig kan binnen 10 m van een van tevoren bepaald punt in de waterkolom gebracht worden; |
| --- | --- | --- |

b.

systemen, speciaal ontworpen of aangepast voor het automatisch besturen van de bewegingen van onderwatervoertuigen, bedoeld in 8A001, waarbij gebruik wordt gemaakt van navigatiegegevens en teruggekoppelde servobesturingen, met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

het voertuig kan binnen 10 m van een van tevoren bepaald punt in de waterkolom gebracht worden;

| 2. | het voertuig kan binnen 10 m van een van tevoren bepaald punt in de waterkolom gehouden worden, of |
| --- | --- |

2.

het voertuig kan binnen 10 m van een van tevoren bepaald punt in de waterkolom gehouden worden, of

| 3. | het voertuig kan binnen 10 m van een te volgen kabel op of onder de zeebodem gehouden worden; |
| --- | --- |

3.

het voertuig kan binnen 10 m van een te volgen kabel op of onder de zeebodem gehouden worden;

| c. | glasvezeldoorvoeren of -doorvoerkoppelingen voor rompen; |
| --- | --- |

c.

glasvezeldoorvoeren of -doorvoerkoppelingen voor rompen;

| d. | systemen voor onderwaterzien, als hieronder:






  1. | televisiesystemen en televisiecamera's, als hieronder:






  a. | televisiesystemen (bestaande uit camera, lampen, controleapparatuur en apparatuur voor de overdracht van signalen) met een ‧systeemoplossend vermogen‧, gemeten in de lucht, van meer dan 800 lijnen, die speciaal ontworpen of aangepast zijn om op afstand bediend te worden in een onderwatervoertuig; |
| --- | --- | --- | --- |

d.

systemen voor onderwaterzien, als hieronder:

1.

televisiesystemen en televisiecamera's, als hieronder:

a.

televisiesystemen (bestaande uit camera, lampen, controleapparatuur en apparatuur voor de overdracht van signalen) met een ‧systeemoplossend vermogen‧, gemeten in de lucht, van meer dan 800 lijnen, die speciaal ontworpen of aangepast zijn om op afstand bediend te worden in een onderwatervoertuig;

| b. | onderwatertelevisiecamera's met een ‧systeemoplossend vermogen‧, gemeten in de lucht, van meer dan 1 100 lijnen; |
| --- | --- |

b.

onderwatertelevisiecamera's met een ‧systeemoplossend vermogen‧, gemeten in de lucht, van meer dan 1 100 lijnen;

| c. | televisiecamera's voor gebruik bij gering lichtniveau, speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik onder water, welke omvatten:






  1. | beeldversterkingsbuizen, vermeld in 6A002.a.2; en |
| --- | --- | --- |

c.

televisiecamera's voor gebruik bij gering lichtniveau, speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik onder water, welke omvatten:

1.

beeldversterkingsbuizen, vermeld in 6A002.a.2; en

| 2. | meer dan 150 000"actieve pixels" per halfgeleider-‹array›; |
| --- | --- |

2.

meer dan 150 000"actieve pixels" per halfgeleider-‹array›;

Het ‧systeemoplossende vermogen‧ is een maat voor het horizontale oplossende vermogen dat gewoonlijk wordt uitgedrukt als het maximale aantal lijnen per beeldschermhoogte dat op een testkaart onderscheiden kan worden, met toepassing van IEEE Standard 208/1960 of een equivalente norm.

| 2. | systemen, speciaal ontworpen of aangepast voor de bediening op afstand in een onderwatervoertuig, waarbij gebruik wordt gemaakt van technieken, zoals speciaal gerichte verlichting (‹range-gated illuminators›) en "laser"-systemen, om de weerkaatsing van het licht zo laag mogelijk te houden; |
| --- | --- |

2.

systemen, speciaal ontworpen of aangepast voor de bediening op afstand in een onderwatervoertuig, waarbij gebruik wordt gemaakt van technieken, zoals speciaal gerichte verlichting (‹range-gated illuminators›) en "laser"-systemen, om de weerkaatsing van het licht zo laag mogelijk te houden;

| e. | fotografische camera's speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik onder water, met een filmformaat van 35 mm of groter, en met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | de film kan worden voorzien van gegevens vanuit een bron van buiten de camera; |
| --- | --- | --- |

e.

fotografische camera's speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik onder water, met een filmformaat van 35 mm of groter, en met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

de film kan worden voorzien van gegevens vanuit een bron van buiten de camera;

| 2. | automatische nacorrectie van de brandpuntsafstand, of |
| --- | --- |

2.

automatische nacorrectie van de brandpuntsafstand, of

| 3. | automatische compensatieregeling, speciaal ontworpen om het gebruik van onderwatercamerahuizen op een diepte van meer dan 1 000 m mogelijk te maken; |
| --- | --- |

3.

automatische compensatieregeling, speciaal ontworpen om het gebruik van onderwatercamerahuizen op een diepte van meer dan 1 000 m mogelijk te maken;

| f. | niet gebruikt |
| --- | --- |

f.

niet gebruikt

| g. | lichtbronnen, speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik onder water, als hieronder:






  1. | stroboscopische lichtbronnen met een lichtopbrengst van meer dan 300 J per flits en een flitssnelheid van meer dan 5 flitsen per seconde; |
| --- | --- | --- |

g.

lichtbronnen, speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik onder water, als hieronder:

1.

stroboscopische lichtbronnen met een lichtopbrengst van meer dan 300 J per flits en een flitssnelheid van meer dan 5 flitsen per seconde;

| 2. | argonbooglichtbronnen, speciaal ontworpen voor gebruik op een diepte van meer dan 1 000 m; |
| --- | --- |

2.

argonbooglichtbronnen, speciaal ontworpen voor gebruik op een diepte van meer dan 1 000 m;

| h. | "robots" speciaal ontworpen voor gebruik onder water, bestuurd door middel van een toepassinggerichte computer, en met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | systemen die voor de besturing van de "robot" gebruik maken van gegevens van sensoren die krachten of koppels uitgeoefend op een extern voorwerp, de afstand tot een extern voorwerp of de aanraking tussen de "robot" en een extern voorwerp meten, of |
| --- | --- | --- |

h.

"robots" speciaal ontworpen voor gebruik onder water, bestuurd door middel van een toepassinggerichte computer, en met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

systemen die voor de besturing van de "robot" gebruik maken van gegevens van sensoren die krachten of koppels uitgeoefend op een extern voorwerp, de afstand tot een extern voorwerp of de aanraking tussen de "robot" en een extern voorwerp meten, of

| 2. | geschikt voor het uitoefenen van een kracht van 250 N of meer of een koppel van 250 Nm of meer en gebruik makend van op titaan gebaseerde legeringen of "composiete" "stapel- of continuvezel"-materialen in hun constructie-elementen; |
| --- | --- |

2.

geschikt voor het uitoefenen van een kracht van 250 N of meer of een koppel van 250 Nm of meer en gebruik makend van op titaan gebaseerde legeringen of "composiete" "stapel- of continuvezel"-materialen in hun constructie-elementen;

| i. | op afstand bediende, scharnierende manipulators, speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik met onderwatervoertuigen en met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | systemen die voor de besturing van de manipulator gebruik maken van gegevens van sensoren die één of meer van de volgende waarden meten:






  a. | krachten of koppels uitgeoefend op een extern voorwerp; of |
| --- | --- | --- | --- |

i.

op afstand bediende, scharnierende manipulators, speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik met onderwatervoertuigen en met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

systemen die voor de besturing van de manipulator gebruik maken van gegevens van sensoren die één of meer van de volgende waarden meten:

a.

krachten of koppels uitgeoefend op een extern voorwerp; of

| b. | de aanraking tussen de manipulator en een extern voorwerp; of |
| --- | --- |

b.

de aanraking tussen de manipulator en een extern voorwerp; of

| 2. | bestuurd met behulp van evenredige meester-slaaf-technieken of door gebruik te maken van een toepassinggerichte computer, en met een aantal ‧vrijheids‧-graden ‧van beweging‧ van 5 of meer; |
| --- | --- |

2.

bestuurd met behulp van evenredige meester-slaaf-technieken of door gebruik te maken van een toepassinggerichte computer, en met een aantal ‧vrijheids‧-graden ‧van beweging‧ van 5 of meer;

| | Bij de bepaling van het aantal ‧vrijheids‧-graden ‧van beweging‧ worden uitsluitend meegeteld de functies met evenredige besturing die gebruik maken van positieterugkoppeling of van een toepassinggerichte computer. |
| --- | --- |

| j. | geen lucht vereisende aandrijfsystemen, speciaal ontworpen voor gebruik onder water, als hieronder:






  1. | geen lucht vereisende aandrijfsystemen met motoren van het type Brayton of Rankinecyclus, met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | chemische reinigings- of absorptiesystemen, speciaal ontworpen voor het verwijderen van kooldioxide, koolmonoxide en deeltjes uit de teruggevoerde uitlaatgassen van de motor; |
| --- | --- | --- | --- |

j.

geen lucht vereisende aandrijfsystemen, speciaal ontworpen voor gebruik onder water, als hieronder:

1.

geen lucht vereisende aandrijfsystemen met motoren van het type Brayton of Rankinecyclus, met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

chemische reinigings- of absorptiesystemen, speciaal ontworpen voor het verwijderen van kooldioxide, koolmonoxide en deeltjes uit de teruggevoerde uitlaatgassen van de motor;

| b. | speciaal ontworpen systemen voor het gebruik van eenatomige gassen; |
| --- | --- |

b.

speciaal ontworpen systemen voor het gebruik van eenatomige gassen;

| c. | toestellen of omhullingen speciaal ontworpen voor geluiddemping onder water voor frequenties lager dan 10 kHz, of speciale schokdempende ophanginrichtingen; of |
| --- | --- |

c.

toestellen of omhullingen speciaal ontworpen voor geluiddemping onder water voor frequenties lager dan 10 kHz, of speciale schokdempende ophanginrichtingen; of

| d. | systemen met alle volgende kenmerken:






  1. | speciaal ontworpen voor het onder druk brengen van verbrandingsproducten of voor het opnieuw vormen van brandstof; |
| --- | --- | --- |

d.

systemen met alle volgende kenmerken:

1.

speciaal ontworpen voor het onder druk brengen van verbrandingsproducten of voor het opnieuw vormen van brandstof;

| 2. | speciaal ontworpen voor de opslag van verbrandingsproducten, en |
| --- | --- |

2.

speciaal ontworpen voor de opslag van verbrandingsproducten, en

| 3. | speciaal ontworpen voor de lozing van verbrandingsproducten tegen een druk in van 100 kPa of meer; |
| --- | --- |

3.

speciaal ontworpen voor de lozing van verbrandingsproducten tegen een druk in van 100 kPa of meer;

| 2. | geen lucht vereisende systemen met een dieselmotor met alle volgende kenmerken:






  a. | chemische reinigings- of absorptiesystemen, speciaal ontworpen voor het verwijderen van kooldioxide, koolmonoxide en deeltjes uit de teruggevoerde uitlaatgassen van de motor; |
| --- | --- | --- |

2.

geen lucht vereisende systemen met een dieselmotor met alle volgende kenmerken:

a.

chemische reinigings- of absorptiesystemen, speciaal ontworpen voor het verwijderen van kooldioxide, koolmonoxide en deeltjes uit de teruggevoerde uitlaatgassen van de motor;

| b. | speciaal ontworpen systemen voor het gebruik van eenatomige gassen; |
| --- | --- |

b.

speciaal ontworpen systemen voor het gebruik van eenatomige gassen;

| c. | toestellen of omhullingen, speciaal ontworpen voor geluiddemping onder water voor frequenties lager dan 10 kHz, of speciale schokdempende ophanginrichtingen; |
| --- | --- |

c.

toestellen of omhullingen, speciaal ontworpen voor geluiddemping onder water voor frequenties lager dan 10 kHz, of speciale schokdempende ophanginrichtingen;

| d. | speciaal ontworpen uitlaatsystemen die niet zonder onderbreking verbrandingsproducten uitstoten; |
| --- | --- |

d.

speciaal ontworpen uitlaatsystemen die niet zonder onderbreking verbrandingsproducten uitstoten;

| 3. | geen lucht vereisende "brandstofcel"-systemen met een uitgangsvermogen van meer dan 2 kW, met één of meer van de volgende kenmerken:






  a. | toestellen of omhullingen speciaal ontworpen voor geluiddemping onder water voor frequenties lager dan 10 kHz, of speciale schokdempende ophanginrichtingen; of |
| --- | --- | --- |

3.

geen lucht vereisende "brandstofcel"-systemen met een uitgangsvermogen van meer dan 2 kW, met één of meer van de volgende kenmerken:

a.

toestellen of omhullingen speciaal ontworpen voor geluiddemping onder water voor frequenties lager dan 10 kHz, of speciale schokdempende ophanginrichtingen; of

| b. | systemen met alle volgende kenmerken:






  1. | speciaal ontworpen voor het onder druk brengen van verbrandingsproducten of voor het opnieuw vormen van brandstof; |
| --- | --- | --- |

b.

systemen met alle volgende kenmerken:

1.

speciaal ontworpen voor het onder druk brengen van verbrandingsproducten of voor het opnieuw vormen van brandstof;

| 2. | speciaal ontworpen voor de opslag van verbrandingsproducten, en |
| --- | --- |

2.

speciaal ontworpen voor de opslag van verbrandingsproducten, en

| 3. | speciaal ontworpen voor de lozing van verbrandingsproducten tegen een druk in van 100 kPa of meer; |
| --- | --- |

3.

speciaal ontworpen voor de lozing van verbrandingsproducten tegen een druk in van 100 kPa of meer;

| 4. | geen lucht vereisende aandrijfsystemen met motoren van het type Stirling-cyclus, met alle volgende kenmerken:






  a. | toestellen of omhullingen, speciaal ontworpen voor geluiddemping onder water voor frequenties lager dan 10 kHz, of speciale schokdempende ophanginrichtingen; en |
| --- | --- | --- |

4.

geen lucht vereisende aandrijfsystemen met motoren van het type Stirling-cyclus, met alle volgende kenmerken:

a.

toestellen of omhullingen, speciaal ontworpen voor geluiddemping onder water voor frequenties lager dan 10 kHz, of speciale schokdempende ophanginrichtingen; en

| b. | speciaal ontworpen uitlaatsystemen voor de lozing van verbrandingsproducten tegen een druk in van 100 kPa of meer; |
| --- | --- |

b.

speciaal ontworpen uitlaatsystemen voor de lozing van verbrandingsproducten tegen een druk in van 100 kPa of meer;

| k. | schorten, afdichtingen en zgn. vingers, als hieronder:






  1. | ontworpen voor een luchtkussendruk van 3 830 Pa of meer, werkend in golven van 1,25 m of hoger (toestand van het zeeoppervlak (‹sea state›): 3) en speciaal ontworpen voor vaartuigen met grondeffect (type volledig met schorten (‹fully skirted variety›)) bedoeld in 8A001.f; of |
| --- | --- | --- |

k.

schorten, afdichtingen en zgn. vingers, als hieronder:

1.

ontworpen voor een luchtkussendruk van 3 830 Pa of meer, werkend in golven van 1,25 m of hoger (toestand van het zeeoppervlak (‹sea state›): 3) en speciaal ontworpen voor vaartuigen met grondeffect (type volledig met schorten (‹fully skirted variety›)) bedoeld in 8A001.f; of

| 2. | ontworpen voor een luchtkussendruk van 6 224 Pa of meer, werkend in golven van 3,25 m of hoger (toestand van het zeeoppervlak (‹sea state›): 5) en speciaal ontworpen voor vaartuigen met grondeffect (type met vaste zijwand (‹rigid sidewalls›)), bedoeld in 8A001.g; |
| --- | --- |

2.

ontworpen voor een luchtkussendruk van 6 224 Pa of meer, werkend in golven van 3,25 m of hoger (toestand van het zeeoppervlak (‹sea state›): 5) en speciaal ontworpen voor vaartuigen met grondeffect (type met vaste zijwand (‹rigid sidewalls›)), bedoeld in 8A001.g;

| l. | stuwventilatoren gespecificeerd voor meer dan 400 kW, speciaal ontworpen voor vaartuigen met grondeffect bedoeld in 8A001.f of 8A001.g; |
| --- | --- |

l.

stuwventilatoren gespecificeerd voor meer dan 400 kW, speciaal ontworpen voor vaartuigen met grondeffect bedoeld in 8A001.f of 8A001.g;

| m. | geheel onder water werkende sub- of supercaviterende draagvleugels, speciaal ontworpen voor vaartuigen bedoeld in 8A001.h; |
| --- | --- |

m.

geheel onder water werkende sub- of supercaviterende draagvleugels, speciaal ontworpen voor vaartuigen bedoeld in 8A001.h;

| n. | actieve systemen, speciaal ontworpen of aangepast voor de automatische beheersing van door de zee veroorzaakte bewegingen van voertuigen of vaartuigen, bedoeld in 8A001.f, 8A001.g, 8A001.h of 8A001.i; |
| --- | --- |

n.

actieve systemen, speciaal ontworpen of aangepast voor de automatische beheersing van door de zee veroorzaakte bewegingen van voertuigen of vaartuigen, bedoeld in 8A001.f, 8A001.g, 8A001.h of 8A001.i;

| o. | schroefsystemen, krachtoverbrengingssystemen, krachtopwekkingssystemen en geluiddempingssystemen, als hieronder:






  1. | scheepsschroefsystemen of krachtoverbrengingssystemen, als hieronder, speciaal ontworpen voor vaartuigen met grondeffect (volledig met schorten (‹fully skirted variety›) of met vaste zijwand (‹rigid sidewall variety›)), draagvleugelboten of ‧vaartuigen met geringe rompdoorsnede‧ bedoeld in 8A001.f, 8A001.g, 8A001.h of 8A001.i, als hieronder:






  a. | supercaviterende, supergeventileerde, gedeeltelijk onder water werkende (‹partially submerged›) of door het wateroppervlak heen brekende schroeven voor een vermogen van meer dan 7,5 MW; |
| --- | --- | --- | --- |

o.

schroefsystemen, krachtoverbrengingssystemen, krachtopwekkingssystemen en geluiddempingssystemen, als hieronder:

1.

scheepsschroefsystemen of krachtoverbrengingssystemen, als hieronder, speciaal ontworpen voor vaartuigen met grondeffect (volledig met schorten (‹fully skirted variety›) of met vaste zijwand (‹rigid sidewall variety›)), draagvleugelboten of ‧vaartuigen met geringe rompdoorsnede‧ bedoeld in 8A001.f, 8A001.g, 8A001.h of 8A001.i, als hieronder:

a.

supercaviterende, supergeventileerde, gedeeltelijk onder water werkende (‹partially submerged›) of door het wateroppervlak heen brekende schroeven voor een vermogen van meer dan 7,5 MW;

| b. | systemen met tegengesteld draaiende schroeven voor een vermogen van meer dan 15 MW; |
| --- | --- |

b.

systemen met tegengesteld draaiende schroeven voor een vermogen van meer dan 15 MW;

| c. | systemen waarin draaikolktechnieken (‹pre-swirl› of ‹post-swirl›) worden toegepast voor het effenen van de waterstroom naar de schroef; |
| --- | --- |

c.

systemen waarin draaikolktechnieken (‹pre-swirl› of ‹post-swirl›) worden toegepast voor het effenen van de waterstroom naar de schroef;

| d. | lichtgewicht tandwieloverbrengingen voor hoge vermogens (K-factor groter dan 300); |
| --- | --- |

d.

lichtgewicht tandwieloverbrengingen voor hoge vermogens (K-factor groter dan 300);

| e. | assystemen voor krachtoverbrenging die onderdelen uit "composiete" materialen bevatten, geschikt voor het overbrengen van een vermogen van meer dan 1 MW; |
| --- | --- |

e.

assystemen voor krachtoverbrenging die onderdelen uit "composiete" materialen bevatten, geschikt voor het overbrengen van een vermogen van meer dan 1 MW;

| 2. | scheepsschroef-, krachtopwekkings- of krachtoverbrengingssystemen voor gebruik in schepen, als hieronder:






  a. | schroeven met regelbare spoed en naafsamenstellingen voor een vermogen van meer dan 30 MW; |
| --- | --- | --- |

2.

scheepsschroef-, krachtopwekkings- of krachtoverbrengingssystemen voor gebruik in schepen, als hieronder:

a.

schroeven met regelbare spoed en naafsamenstellingen voor een vermogen van meer dan 30 MW;

| b. | met interne vloeistofkoeling en elektrische voortstuwingsmotoren met een vermogen groter dan 2,5 MW; |
| --- | --- |

b.

met interne vloeistofkoeling en elektrische voortstuwingsmotoren met een vermogen groter dan 2,5 MW;

| c. | "supergeleidende" voortstuwingsmotoren, of elektrische voortstuwingsmotoren met permanente magneet, met een vermogen van meer dan 0,1 MW; |
| --- | --- |

c.

"supergeleidende" voortstuwingsmotoren, of elektrische voortstuwingsmotoren met permanente magneet, met een vermogen van meer dan 0,1 MW;

| d. | assystemen voor krachtoverbrenging die onderdelen uit "composiete" materialen bevatten, geschikt voor het overbrengen van een vermogen van meer dan 2 MW; |
| --- | --- |

d.

assystemen voor krachtoverbrenging die onderdelen uit "composiete" materialen bevatten, geschikt voor het overbrengen van een vermogen van meer dan 2 MW;

| e. | geventileerde of basisgeventileerde schroefsystemen voor een vermogen van meer dan 2,5 MW; |
| --- | --- |

e.

geventileerde of basisgeventileerde schroefsystemen voor een vermogen van meer dan 2,5 MW;

| 3. | geluiddempingssystemen voor gebruik in schepen met een waterverplaatsing van 1 000 ton of meer, als hieronder:






  a. | geluiddempingssystemen die dempen bij frequenties lager dan 500 Hz en bestaan uit samengestelde akoestische ophanginrichtingen voor het akoestisch isoleren van dieselmotoren, dieselaggregaten, gasturbines, gasturbineaggregaten, voortstuwingsmotoren of tandwieloverbrengen voor voortstuwing, speciaal ontworpen voor geluids- of trillingsisolatie, met een dempende massa van meer dan 30 % van de te monteren apparatuur; |
| --- | --- | --- |

3.

geluiddempingssystemen voor gebruik in schepen met een waterverplaatsing van 1 000 ton of meer, als hieronder:

a.

geluiddempingssystemen die dempen bij frequenties lager dan 500 Hz en bestaan uit samengestelde akoestische ophanginrichtingen voor het akoestisch isoleren van dieselmotoren, dieselaggregaten, gasturbines, gasturbineaggregaten, voortstuwingsmotoren of tandwieloverbrengen voor voortstuwing, speciaal ontworpen voor geluids- of trillingsisolatie, met een dempende massa van meer dan 30 % van de te monteren apparatuur;

| b. | actieve geluiddempings- of uitdovingssystemen of magnetische lagers, speciaal ontworpen voor krachtoverbrengingssystemen; |
| --- | --- |

b.

actieve geluiddempings- of uitdovingssystemen of magnetische lagers, speciaal ontworpen voor krachtoverbrengingssystemen;

‧actieve geluiddempings- of uitdovingssystemen‧ bevatten elektronische regelsystemen die geschikt zijn voor actieve demping van de trillingen van de apparatuur door het voortbrengen van geluid of trilling onderdrukkende signalen die direct naar de bron worden teruggekoppeld.

| p. | waterstraal (‹pumpjet›)-voortstuwingssystemen met alle volgende kenmerken:






  1. | een vermogen van meer dan 2,5 MW; |
| --- | --- | --- |

p.

waterstraal (‹pumpjet›)-voortstuwingssystemen met alle volgende kenmerken:

1.

een vermogen van meer dan 2,5 MW;

| 2. | gebruikmaking van uitlopende straalbuizen en geleide-schoepentechnieken om de voortstuwingsefficiëntie te verbeteren en het onderwatergeluid, veroorzaakt door de voortstuwing, te verminderen; |
| --- | --- |

2.

gebruikmaking van uitlopende straalbuizen en geleide-schoepentechnieken om de voortstuwingsefficiëntie te verbeteren en het onderwatergeluid, veroorzaakt door de voortstuwing, te verminderen;

| q. | duikapparatuur of apparatuur voor onderwaterzwemmen, als hieronder:






  1. | volledig gesloten rebreathers; |
| --- | --- | --- |

q.

duikapparatuur of apparatuur voor onderwaterzwemmen, als hieronder:

1.

volledig gesloten rebreathers;

| 2. | halfgesloten rebreathers; |
| --- | --- |

2.

halfgesloten rebreathers;

8A002.q. is niet van toepassing op individuele rebreathers voor persoonlijk gebruik die door de gebruikers worden meegevoerd.

| r. | Akoestische systemen die duikers afschrikken, en die speciaal ontworpen of aangepast zijn om duikers te verstoren, met een geluidsdrukniveau dat gelijk is aan of hoger dan 190 dB (referentie 1 μPa op 1 m) bij frequenties van 200 Hz en lager. |
| --- | --- |

r.

Akoestische systemen die duikers afschrikken, en die speciaal ontworpen of aangepast zijn om duikers te verstoren, met een geluidsdrukniveau dat gelijk is aan of hoger dan 190 dB (referentie 1 μPa op 1 m) bij frequenties van 200 Hz en lager.

| : | 8A002.r. is niet van toepassing op systemen die duikers afschrikken op basis van onderwaterexplosieven, luchtdrukkamers of brandbaar materiaal. |
| --- | --- |

:

| : | 8A002.r. is van toepassing op akoestische systemen die duikers afschrikken waarbij gebruik wordt gemaakt van vonkbruggen, ook bekend als ‧plasma sound sources‧. |
| --- | --- |

:

8B.Test-, inspectie- en productieapparatuur

8B001Watertunnels, met een achtergrondruis van minder dan 100 dB (referentie: 1 micropascal, 1 Hz) in het frequentiegebied van 0 tot 500 Hz, ontworpen voor het meten van akoestische velden voortgebracht door een waterstroming rond modellen van voortstuwingssystemen.

8CMaterialen

8C001‧Syntactisch schuim‧ voor gebruik onder water, met de volgende kenmerken:

zie ook 8A002.a.4.

| a. | ontworpen voor toepassing onder water bij een diepte groter dan 1 000 m, |
| --- | --- |

a.

ontworpen voor toepassing onder water bij een diepte groter dan 1 000 m,

| b. | een dichtheid lager dan 561 kg/m3. |
| --- | --- |

b.

een dichtheid lager dan 561 kg/m3.

‧Syntactisch schuim‧ bestaat uit holle bolletjes van kunststof of glas die zijn ingebed in een harsmatrix.

8DProgrammatuur

8D001"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", "productie" of het "gebruik" van apparatuur of materialen, bedoeld in 8A, 8B of 8C.

8D002Specifieke "programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de "productie", het herstel, de revisie of het opknappen (opnieuw machinaal bewerken) van schroeven die speciaal zijn ontworpen om onderwatergeluid te beperken.

8ETechnologie

8E001"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" of "productie" van apparatuur of materialen, bedoeld in 8A, 8B of 8C.

8E002Overige "technologie", als hieronder:

| a. | "technologie" voor de "ontwikkeling", de "productie", het herstel, de revisie of het opknappen (opnieuw machinaal bewerken) van schroeven die speciaal zijn ontworpen om onderwatergeluid te beperken; |
| --- | --- |

a.

"technologie" voor de "ontwikkeling", de "productie", het herstel, de revisie of het opknappen (opnieuw machinaal bewerken) van schroeven die speciaal zijn ontworpen om onderwatergeluid te beperken;

| b. | "technologie" voor de revisie of het opknappen van apparatuur, bedoeld in 8A001, 8A002.b, 8A002.j, 8A002.o of 8A002.p. |
| --- | --- |

b.

"technologie" voor de revisie of het opknappen van apparatuur, bedoeld in 8A001, 8A002.b, 8A002.j, 8A002.o of 8A002.p.

CATEGORIE 9

RUIMTEVAART EN VOORTSTUWING

9A.Systemen, apparatuur en onderdelen

| | Zie lijst militaire goederen voor voortstuwingssystemen die zijn ontworpen of gespecificeerd tegen neutronenstraling of kortstondige ioniserende straling. |
| --- | --- |

9A001Gasturbinemotoren voor luchtvaartuigen met één of meer van de volgende eigenschappen:

| NB: | ZIE OOK 9A101 |
| --- | --- |

NB:

| a. | zij bevatten een van de in 9E003.a, in 9E003.h. of in 9E003.i. bedoelde technologieën; of | In 9A001.a. zijn niet bedoeld: gasturbinemotoren voor luchtvaartuigen met alle volgende kenmerken:







  a. | gecertificeerd door de civiele luchtvaartautoriteiten van een "deelnemende staat"; en |
| --- | --- | --- | --- |

a.

zij bevatten een van de in 9E003.a, in 9E003.h. of in 9E003.i. bedoelde technologieën; of

a.

gecertificeerd door de civiele luchtvaartautoriteiten van een "deelnemende staat"; en

| b. | bedoeld voor het aandrijven van niet-militaire bemande luchtvaartuigen waarvoor door een "deelnemende staat" een van de volgende documenten voor het luchtaartuig met dit specifieke motortype is afgegeven:








  1. | een civiel typecertificaat; of |
| --- | --- | --- |

b.

bedoeld voor het aandrijven van niet-militaire bemande luchtvaartuigen waarvoor door een "deelnemende staat" een van de volgende documenten voor het luchtaartuig met dit specifieke motortype is afgegeven:

1.

een civiel typecertificaat; of

| 2. | een gelijkwaardig document dat door de Internationale Burgerluchtvaartorganisatie (ICAO) wordt erkend. |
| --- | --- |

2.

een gelijkwaardig document dat door de Internationale Burgerluchtvaartorganisatie (ICAO) wordt erkend.

| b. | zij zijn ontworpen om een luchtvaartuig in staat te stellen om zich gedurende meer dan 30 minuten voort te bewegen met een snelheid gelijk aan of groter dan Mach 1. |
| --- | --- |

b.

zij zijn ontworpen om een luchtvaartuig in staat te stellen om zich gedurende meer dan 30 minuten voort te bewegen met een snelheid gelijk aan of groter dan Mach 1.

9A002‧Gasturbinemotoren voor schepen‧ met een volgens ISO-normen continu vermogen van 24 245 kW of meer en een specifiek brandstofverbruik van minder dan 0,219 kg/kWh op elk punt binnen het vermogensbereik van 35 tot 100 %, en speciaal daarvoor ontworpen samenstellingen en onderdelen.

| | De term ‧gasturbinemotoren voor schepen‧ omvat tevens industriële of oorspronkelijk voor vliegtuigen bestemde gasturbinemotoren die zijn aangepast voor de voortstuwing van schepen of de opwekking van elektriciteit aan boord van schepen. |
| --- | --- |

9A003Speciaal ontworpen samenstellingen en onderdelen, die technologieën bevatten die bedoeld zijn in 9E003.a., in 9E003.h. of in 9E003.i., voor één of meer van de volgende gasturbinemotorvoortstuwingssystemen:

| a. | bedoeld in 9A001; |
| --- | --- |

a.

bedoeld in 9A001;

| b. | oorspronkelijk ontworpen of vervaardigd in hetzij een niet "deelnemende Staat", hetzij een aan de fabrikant onbekend land. |
| --- | --- |

b.

oorspronkelijk ontworpen of vervaardigd in hetzij een niet "deelnemende Staat", hetzij een aan de fabrikant onbekend land.

9A004Ruimtelanceervoertuigen of "ruimtevaartuigen".

| NB: | ZIE OOK 9A104 |
| --- | --- |

NB:

| | 9A004 is niet van toepassing op de nuttige lading.




  Zie voor de embargostatus van producten die zich in de nuttige lading van "ruimtevaartuigen" bevinden, de desbetreffende categorieën. |
| --- | --- |

Zie voor de embargostatus van producten die zich in de nuttige lading van "ruimtevaartuigen" bevinden, de desbetreffende categorieën.

9A005Raketvoortstuwingssystemen met vloeibare stuwstof die systemen of onderdelen bevatten die zijn bedoeld in 9A006.

| NB: | ZIE OOK 9A105 EN 9A119. |
| --- | --- |

NB:

9A006Systemen of onderdelen, speciaal ontworpen voor raketvoortstuwingssystemen met vloeibare stuwstof, als hieronder:

| NB: | ZIE OOK 9A106, 9A108 EN 9A120. |
| --- | --- |

NB:

| a. | cryogene koelinrichtingen, uiterst lichte dewarvaten, cryogene warmtebuizen of cryogene systemen, speciaal ontworpen voor gebruik in ruimtevoertuigen en in staat om het verlies aan cryogene vloeistof te beperken tot minder dan 30 % per jaar; |
| --- | --- |

a.

cryogene koelinrichtingen, uiterst lichte dewarvaten, cryogene warmtebuizen of cryogene systemen, speciaal ontworpen voor gebruik in ruimtevoertuigen en in staat om het verlies aan cryogene vloeistof te beperken tot minder dan 30 % per jaar;

| b. | cryogene vaten of koelsystemen met gesloten kringloop, geschikt voor het bereiken van temperaturen van 100 K (- 173 C) of lager, voor "vliegtuigen" die ononderbroken kunnen vliegen met een snelheid van meer dan Mach 3, voor lanceervoertuigen of voor "ruimtevaartuigen"; |
| --- | --- |

b.

cryogene vaten of koelsystemen met gesloten kringloop, geschikt voor het bereiken van temperaturen van 100 K (- 173 C) of lager, voor "vliegtuigen" die ononderbroken kunnen vliegen met een snelheid van meer dan Mach 3, voor lanceervoertuigen of voor "ruimtevaartuigen";

| c. | systemen voor opslag of transport van waterstof bij het smeltpunt (‹slush hydrogen›); |
| --- | --- |

c.

systemen voor opslag of transport van waterstof bij het smeltpunt (‹slush hydrogen›);

| d. | hogedrukturbopompen (meer dan 17,5 MPa), pomponderdelen of de aangesloten gasgenerator- of expansiecyclusturbineaandrijfsystemen; |
| --- | --- |

d.

hogedrukturbopompen (meer dan 17,5 MPa), pomponderdelen of de aangesloten gasgenerator- of expansiecyclusturbineaandrijfsystemen;

| e. | hogedrukverbrandingskamers (meer dan 10,6 MPa) en straalpijpen daarvoor; |
| --- | --- |

e.

hogedrukverbrandingskamers (meer dan 10,6 MPa) en straalpijpen daarvoor;

| f. | stuwstofopslagsystemen waarbij gebruik wordt gemaakt van het principe van capillaire insluiting of positieve uitstoting (d.w.z. met flexibele brandstoftanks); |
| --- | --- |

f.

stuwstofopslagsystemen waarbij gebruik wordt gemaakt van het principe van capillaire insluiting of positieve uitstoting (d.w.z. met flexibele brandstoftanks);

| g. | injectoren voor vloeibare stuwstof, met individuele openingen met een diameter van 0,381 mm of kleiner (een oppervlak van 1,14 × 10-3 cm2 of kleiner voor niet-cirkelvormige openingen) die speciaal zijn ontworpen voor raketmotoren voor vloeibare stuwstof; |
| --- | --- |

g.

injectoren voor vloeibare stuwstof, met individuele openingen met een diameter van 0,381 mm of kleiner (een oppervlak van 1,14 × 10-3 cm2 of kleiner voor niet-cirkelvormige openingen) die speciaal zijn ontworpen voor raketmotoren voor vloeibare stuwstof;

| h. | uit één stuk vervaardigde koolstof-koolstof verbrandingskamers of uit één stuk vervaardigde koolstof-koolstof uitlaatkegels met een dichtheid van meer dan 1,4 g/cm3 en een treksterkte van meer dan 48 MPa. |
| --- | --- |

h.

uit één stuk vervaardigde koolstof-koolstof verbrandingskamers of uit één stuk vervaardigde koolstof-koolstof uitlaatkegels met een dichtheid van meer dan 1,4 g/cm3 en een treksterkte van meer dan 48 MPa.

9A007Raketvoortstuwingssystemen met vaste stuwstof met één of meer van de volgende kenmerken:

| NB: | ZIE OOK 9A107 EN 9A119. |
| --- | --- |

NB:

| a. | totaal impulsvermogen groter dan 1,1 MNs; |
| --- | --- |

a.

totaal impulsvermogen groter dan 1,1 MNs;

| b. | specifieke impuls van 2,4 kNs/kg of meer wanneer men de straalpijpstroom laat uitzetten tot omgevingsomstandigheden op zeeniveau bij een aangepaste druk in de verbrandingskamer van 7 MPa; |
| --- | --- |

b.

specifieke impuls van 2,4 kNs/kg of meer wanneer men de straalpijpstroom laat uitzetten tot omgevingsomstandigheden op zeeniveau bij een aangepaste druk in de verbrandingskamer van 7 MPa;

| c. | massabeladingstrap hoger dan 88 % en vaste brandstofbelading groter dan 86 %; |
| --- | --- |

c.

massabeladingstrap hoger dan 88 % en vaste brandstofbelading groter dan 86 %;

| d. | de onderdelen bedoeld in 9A008, of |
| --- | --- |

d.

de onderdelen bedoeld in 9A008, of

| e. | isolatiesystemen en systemen voor het binden van de stuwstof, die direct met de motor zijn verbonden, ter verkrijging van een ‧sterke mechanische verbinding‧ of een grenslaag die migratie van chemische stoffen tussen de vaste stuwstof en het isolatiemateriaal van de motoromhulling voorkomt.




  Onder ‧sterke mechanische verbinding‧ wordt verstaan een verbindingssterkte gelijk aan of groter dan de sterkte van de stuwstof. |
| --- | --- |

e.

isolatiesystemen en systemen voor het binden van de stuwstof, die direct met de motor zijn verbonden, ter verkrijging van een ‧sterke mechanische verbinding‧ of een grenslaag die migratie van chemische stoffen tussen de vaste stuwstof en het isolatiemateriaal van de motoromhulling voorkomt.

Onder ‧sterke mechanische verbinding‧ wordt verstaan een verbindingssterkte gelijk aan of groter dan de sterkte van de stuwstof.

9A008Onderdelen, speciaal ontworpen voor raketvoortstuwingssystemen met vaste stuwstof, als hieronder:

| NB: | ZIE OOK 9A108 |
| --- | --- |

NB:

| a. | isolatiesystemen en systemen voor het binden van de stuwstof, die gebruik maken van een huls (‹liner›), ter verkrijging van een ‧sterke mechanische verbinding‧ of een grenslaag die migratie van chemische stoffen tussen de vaste stuwstof en het isolatiemateriaal van de motoromhulling voorkomt;




  Onder ‧sterke mechanische verbinding‧ wordt verstaan een verbindingssterkte gelijk aan of groter dan de sterkte van de stuwstof. |
| --- | --- |

a.

isolatiesystemen en systemen voor het binden van de stuwstof, die gebruik maken van een huls (‹liner›), ter verkrijging van een ‧sterke mechanische verbinding‧ of een grenslaag die migratie van chemische stoffen tussen de vaste stuwstof en het isolatiemateriaal van de motoromhulling voorkomt;

Onder ‧sterke mechanische verbinding‧ wordt verstaan een verbindingssterkte gelijk aan of groter dan de sterkte van de stuwstof.

| b. | met vezels omwikkelde "composiete" motoromhullingen met een diameter groter dan 0,61 m of met een ‧structurele rendementsverhouding (PV/W)‧ groter dan 25 km;




  De ‧structurele rendementsverhouding (PV/W)‧ is de explosiedruk (P) maal het vatvolume (V) gedeeld door het totale gewicht van het drukvat (W). |
| --- | --- |

b.

met vezels omwikkelde "composiete" motoromhullingen met een diameter groter dan 0,61 m of met een ‧structurele rendementsverhouding (PV/W)‧ groter dan 25 km;

De ‧structurele rendementsverhouding (PV/W)‧ is de explosiedruk (P) maal het vatvolume (V) gedeeld door het totale gewicht van het drukvat (W).

| c. | straalpijpen met een stuwdruk groter dan 45 kN of met een erosiesnelheid van de straalpijphals van minder dan 0,075 mm/s; |
| --- | --- |

c.

straalpijpen met een stuwdruk groter dan 45 kN of met een erosiesnelheid van de straalpijphals van minder dan 0,075 mm/s;

| d. | regelsystemen voor het richten van de stuwkrachtvector van het inspuitstuk of de secundaire vloeistofinjectie, geschikt voor:






  1. | bewegingen langs alle assen over een hoek groter dan ± 5 C; |
| --- | --- | --- |

d.

regelsystemen voor het richten van de stuwkrachtvector van het inspuitstuk of de secundaire vloeistofinjectie, geschikt voor:

1.

bewegingen langs alle assen over een hoek groter dan ± 5 C;

| 2. | vectorhoekrotaties van 20/s of meer, |
| --- | --- |

2.

vectorhoekrotaties van 20/s of meer,

| 3. | vectorhoekversnellingen van 40/s2 of meer. |
| --- | --- |

3.

vectorhoekversnellingen van 40/s2 of meer.

9A009Hybride raketvoortstuwingssystemen met:

| NB: | ZIE OOK 9A109 EN 9A119 |
| --- | --- |

NB:

| a. | een totaal impulsvermogen groter dan 1,1 MNs; |
| --- | --- |

a.

een totaal impulsvermogen groter dan 1,1 MNs;

| b. | een stuwkracht groter dan 220 kN bij vacuümcondities aan de uitlaat. |
| --- | --- |

b.

een stuwkracht groter dan 220 kN bij vacuümcondities aan de uitlaat.

9A010Speciaal ontworpen onderdelen, systemen en structuren, voor lanceervoertuigen of voortstuwingssystemen voor lanceervoertuigen, of "ruimtevaartuigen", als hieronder:

| NB: | ZIE OOK 1A002 EN 9A110 |
| --- | --- |

NB:

| a. | speciaal voor lanceervoertuigen ontworpen onderdelen en structuren met een gewicht van meer dan 10 kg elk, vervaardigd met gebruikmaking van metaal-"matrix" composieten, organische "composieten", keramische "matrix" materialen of met legeringen versterkte materialen bedoeld in 1C007 of 1C010; | de gewichtsbeperking is niet relevant voor neuskegels. |
| --- | --- | --- |

a.

speciaal voor lanceervoertuigen ontworpen onderdelen en structuren met een gewicht van meer dan 10 kg elk, vervaardigd met gebruikmaking van metaal-"matrix" composieten, organische "composieten", keramische "matrix" materialen of met legeringen versterkte materialen bedoeld in 1C007 of 1C010;

| b. | speciaal voor in 9A005 tot en met 9A009 gespecificeerde voortstuwingssystemen voor lanceervoertuigen ontworpen onderdelen en structuren vervaardigd met gebruikmaking van metaal-"matrix", "composieten", organische "composieten", keramische "matrix" materialen of met legeringen versterkte materialen, bedoeld in 1C007 of 1C010; |
| --- | --- |

b.

speciaal voor in 9A005 tot en met 9A009 gespecificeerde voortstuwingssystemen voor lanceervoertuigen ontworpen onderdelen en structuren vervaardigd met gebruikmaking van metaal-"matrix", "composieten", organische "composieten", keramische "matrix" materialen of met legeringen versterkte materialen, bedoeld in 1C007 of 1C010;

| c. | structurele onderdelen en isolatiesystemen die speciaal zijn ontworpen met het oog op de actieve regeling van de dynamische respons of distortie van "ruimtevaartuig"-structuren; |
| --- | --- |

c.

structurele onderdelen en isolatiesystemen die speciaal zijn ontworpen met het oog op de actieve regeling van de dynamische respons of distortie van "ruimtevaartuig"-structuren;

| d. | pulserende raketmotoren voor vloeibare stuwstof met een verhouding stuwkracht/ gewicht van 1 kN/kg of meer en een responstijd (de tijd die vereist is om 90 % van de totale opgegeven stuwkracht te bereiken na de start van de motor) van minder dan 30 ms. |
| --- | --- |

d.

pulserende raketmotoren voor vloeibare stuwstof met een verhouding stuwkracht/ gewicht van 1 kN/kg of meer en een responstijd (de tijd die vereist is om 90 % van de totale opgegeven stuwkracht te bereiken na de start van de motor) van minder dan 30 ms.

9A011Stuwstraalmotoren (‹ramjet› en ‹scramjet›) of motoren met een gecombineerde thermodynamische cyclus, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen.

| NB: | ZIE OOK 9A111 en 9A118 |
| --- | --- |

NB:

9A012"Onbemande luchtvaartuigen", aanverwante systemen, apparatuur en onderdelen, als hieronder:

| a. | Onbemande luchtvaartuigen met een of meer van de volgende kenmerken:






  1. | een autonoom vluchtcontrole- en navigatievermogen (b.v. een automatische piloot met een traagheidsnavigatiesysteem); |
| --- | --- | --- |

a.

Onbemande luchtvaartuigen met een of meer van de volgende kenmerken:

1.

een autonoom vluchtcontrole- en navigatievermogen (b.v. een automatische piloot met een traagheidsnavigatiesysteem);

| 2. | vermogen tot vluchtcontrole buiten het directe-zichtbereik met gebruikmaking van een menselijke operator (b.v. controle op afstand via televisie); |
| --- | --- |

2.

vermogen tot vluchtcontrole buiten het directe-zichtbereik met gebruikmaking van een menselijke operator (b.v. controle op afstand via televisie);

| b. | Aanverwante systemen, apparatuur en onderdelen, als hieronder:






  1. | apparatuur die speciaal is ontworpen voor controle op afstand van de onder 9A012.a vermelde onbemande luchtvaartuigen; |
| --- | --- | --- |

b.

Aanverwante systemen, apparatuur en onderdelen, als hieronder:

1.

apparatuur die speciaal is ontworpen voor controle op afstand van de onder 9A012.a vermelde onbemande luchtvaartuigen;

| 2. | andere dan onder 7A vermelde systemen voor navigatie, standregeling, geleiding of besturing, die speciaal zijn ontworpen om de onder 9A012.a vermelde onbemande luchtvaartuigen uit te rusten met een autonoom vluchtcontrole- of navigatievermogen; |
| --- | --- |

2.

andere dan onder 7A vermelde systemen voor navigatie, standregeling, geleiding of besturing, die speciaal zijn ontworpen om de onder 9A012.a vermelde onbemande luchtvaartuigen uit te rusten met een autonoom vluchtcontrole- of navigatievermogen;

| 3. | apparatuur en onderdelen die speciaal zijn ontworpen om een bemand luchtvaartuig te converteren in een onbemand luchtvaartuig als vermeld onder 9A012.a; |
| --- | --- |

3.

apparatuur en onderdelen die speciaal zijn ontworpen om een bemand luchtvaartuig te converteren in een onbemand luchtvaartuig als vermeld onder 9A012.a;

| 4. | atmosferische zuiger- of rotatiemotoren met interne verbranding, speciaal ontworpen of aangepast voor de voortstuwing van "onbemande luchtvaartuigen" op een hoogte van meer dan 50 000 voet (15 240 meter). |
| --- | --- |

4.

atmosferische zuiger- of rotatiemotoren met interne verbranding, speciaal ontworpen of aangepast voor de voortstuwing van "onbemande luchtvaartuigen" op een hoogte van meer dan 50 000 voet (15 240 meter).

9A101Turbinestraal- en turbofanmotoren, anders dan bedoeld in 9A001, als hieronder:

| a. | motoren met beide onderstaande kenmerken:






  1. | maximale stuwkracht groter dan 400 N (in niet-geïnstalleerde toestand) met uitzondering van voor civiele toepassingen gecertificeerde motoren met een maximale stuwkracht groter dan 8 890 N (in niet geïnstalleerde toestand), en |
| --- | --- | --- |

a.

motoren met beide onderstaande kenmerken:

1.

maximale stuwkracht groter dan 400 N (in niet-geïnstalleerde toestand) met uitzondering van voor civiele toepassingen gecertificeerde motoren met een maximale stuwkracht groter dan 8 890 N (in niet geïnstalleerde toestand), en

| 2. | specifiek brandstofverbruik 0,15 kg/N/hr of minder (bij maximaal continu vermogen onder statische standaardomstandigheden op zeeniveau), |
| --- | --- |

2.

specifiek brandstofverbruik 0,15 kg/N/hr of minder (bij maximaal continu vermogen onder statische standaardomstandigheden op zeeniveau),

| b. | motoren die zijn ontworpen of aangepast voor gebruik in ‧raketten‧ of onbemande luchtvaartuigen als bedoeld in 9A012. |
| --- | --- |

b.

motoren die zijn ontworpen of aangepast voor gebruik in ‧raketten‧ of onbemande luchtvaartuigen als bedoeld in 9A012.

9A102‧Motorsystemen met turbopropeller‧, speciaal ontworpen voor onbemande luchtvaartuigen als bedoeld in 9A012, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, met een ‧maximaal vermogen‧ van meer dan 10 kW.

| | 9A102 is niet van toepassing op voor civiele toepassingen gecertificeerde motoren. |
| --- | --- |

:

| 1. | Voor de toepassing van 9A102 bevat een ‧motorsysteem met turbopropeller‧ alle volgende kenmerken:







  a. | een turboshaftmotor; |
| --- | --- | --- |

1.

a.

een turboshaftmotor;

| b. | een krachtoverbrengingssysteem om het vermogen op een propeller over te brengen. |
| --- | --- |

b.

een krachtoverbrengingssysteem om het vermogen op een propeller over te brengen.

| 2. | Voor de toepassing van 9A102 wordt het ‧maximaal vermogen‧ bereikt niet-ingebouwd, onder standaardomstandigheden op zeeniveau. |
| --- | --- |

2.

9A104Sonderingsraketten met een bereik van minstens 300 km.

| NB: | ZIE OOK 9A004. |
| --- | --- |

NB:

9A105Raketmotoren voor vloeibare stuwstof, als hieronder:

| NB: | ZIE OOK 9A119. |
| --- | --- |

NB:

| a. | raketmotoren voor vloeibare stuwstof, geschikt voor gebruik in ‧raketten‧, anders dan bedoeld in 9A005, met een totaal impulsvermogen gelijk aan of groter dan 1.1 MNs; |
| --- | --- |

a.

raketmotoren voor vloeibare stuwstof, geschikt voor gebruik in ‧raketten‧, anders dan bedoeld in 9A005, met een totaal impulsvermogen gelijk aan of groter dan 1.1 MNs;

| b. | raketmotoren voor vloeibare stuwstof, geschikt voor gebruik in complete raketsystemen of onbemande luchtvaartuigen met een bereik van minstens 300 km, anders dan bedoeld in 9A005 of 9A105.a, met een totaal impulsvermogen gelijk aan of groter dan 0,841 MNs. |
| --- | --- |

b.

raketmotoren voor vloeibare stuwstof, geschikt voor gebruik in complete raketsystemen of onbemande luchtvaartuigen met een bereik van minstens 300 km, anders dan bedoeld in 9A005 of 9A105.a, met een totaal impulsvermogen gelijk aan of groter dan 0,841 MNs.

9A106Systemen of onderdelen, andere dan bedoeld in 9A006, als hieronder, speciaal ontworpen voor raketvoortstuwingssystemen met vloeibare stuwstof:

| a. | ablatieve bekledingen voor voortstuwings- of verbrandingskamers, geschikt voor gebruik in "raketten", ruimtelanceervoertuigen als bedoeld in 9A004 en sonderingsraketten als bedoeld in 9A104; |
| --- | --- |

a.

ablatieve bekledingen voor voortstuwings- of verbrandingskamers, geschikt voor gebruik in "raketten", ruimtelanceervoertuigen als bedoeld in 9A004 en sonderingsraketten als bedoeld in 9A104;

| b. | straalpijpen voor raketten, geschikt voor gebruik in "raketten", ruimtelanceervoertuigen als bedoeld in 9A004 en sonderingsraketten als bedoeld in 9A104; |
| --- | --- |

b.

straalpijpen voor raketten, geschikt voor gebruik in "raketten", ruimtelanceervoertuigen als bedoeld in 9A004 en sonderingsraketten als bedoeld in 9A104;

| c. | subsystemen voor het regelen van de stuwstraalrichting, geschikt voor gebruik in "raketten";




  Voorbeelden van methoden om de stuwstraalrichting te regelen zoals bedoeld in 9A106.c, zijn:







  1. | buigzame straalpijp; |
| --- | --- | --- |

c.

subsystemen voor het regelen van de stuwstraalrichting, geschikt voor gebruik in "raketten";

Voorbeelden van methoden om de stuwstraalrichting te regelen zoals bedoeld in 9A106.c, zijn:

1.

buigzame straalpijp;

| 2. | vloeistof- of secundaire gasinjectie; |
| --- | --- |

2.

vloeistof- of secundaire gasinjectie;

| 3. | beweegbare motoren of straalpijpen; |
| --- | --- |

3.

beweegbare motoren of straalpijpen;

| 4. | afbuiging van de uitlaatgasstroom door vinnen of kleppen, |
| --- | --- |

4.

afbuiging van de uitlaatgasstroom door vinnen of kleppen,

| 5. | het gebruik van stuwstelvlakken. |
| --- | --- |

5.

het gebruik van stuwstelvlakken.

| d. | Regelsystemen voor vloeibare en ‹slurry›-stuwstof (met inbegrip van oxidatiemiddelen), en speciaal daarvoor ontwikkelde onderdelen, geschikt voor gebruik in "raketten", die ontworpen of aangepast zijn om te kunnen werken in trillingsomstandigheden van meer dan 10 g rms tussen 20 Hz en 2k Hz. | De enige servokleppen en pompen bedoeld in 9A106.d zijn:







  a. | servokleppen, ontworpen voor doorstroomsnelheden gelijk aan of groter dan 24 liter per minuut, bij een absolute druk gelijk aan of groter dan 7 MPa, en met een responstijd van minder dan 100 ms; |
| --- | --- | --- | --- |

d.

Regelsystemen voor vloeibare en ‹slurry›-stuwstof (met inbegrip van oxidatiemiddelen), en speciaal daarvoor ontwikkelde onderdelen, geschikt voor gebruik in "raketten", die ontworpen of aangepast zijn om te kunnen werken in trillingsomstandigheden van meer dan 10 g rms tussen 20 Hz en 2k Hz.

a.

servokleppen, ontworpen voor doorstroomsnelheden gelijk aan of groter dan 24 liter per minuut, bij een absolute druk gelijk aan of groter dan 7 MPa, en met een responstijd van minder dan 100 ms;

| b. | pompen, voor vloeibare stuwstoffen, met assnelheden van 8 000 toeren per minuut of meer, of met uitgangsdrukken gelijk aan of groter dan 7 MPa. |
| --- | --- |

b.

pompen, voor vloeibare stuwstoffen, met assnelheden van 8 000 toeren per minuut of meer, of met uitgangsdrukken gelijk aan of groter dan 7 MPa.

9A107Raketmotoren voor vaste stuwstof, geschikt voor gebruik in complete raketsystemen of onbemande luchtvaartuigen met een bereik van 300 km, anders dan bedoeld in 9A007, met een totaal impulsvermogen gelijk aan of groter dan 0,841 MNs.

| NB: | ZIE OOK 9A119. |
| --- | --- |

NB:

9A108Onderdelen, andere dan bedoeld in 9A008, als hieronder, speciaal ontworpen voor raketvoortstuwingssystemen met vaste brandstof:

| a. | raketmotoromhullingen en "isolatie"-onderdelen daarvoor, geschikt voor het gebruik in ‧raketten‧, ruimtelanceervoertuigen als bedoeld in 9A004 of sonderingsraketten als bedoeld in 9A104; |
| --- | --- |

a.

raketmotoromhullingen en "isolatie"-onderdelen daarvoor, geschikt voor het gebruik in ‧raketten‧, ruimtelanceervoertuigen als bedoeld in 9A004 of sonderingsraketten als bedoeld in 9A104;

| b. | straalpijpen voor raketten, geschikt voor het gebruik in "raketten", ruimtelanceervoertuigen als bedoeld in 9A004 of sonderingsraketten als bedoeld in 9A104; |
| --- | --- |

b.

straalpijpen voor raketten, geschikt voor het gebruik in "raketten", ruimtelanceervoertuigen als bedoeld in 9A004 of sonderingsraketten als bedoeld in 9A104;

| c. | subsystemen voor het regelen van de stuwstraalrichting, geschikt voor het gebruik in ‧raketten‧.




  Voorbeelden van methoden om de stuwstraalrichting te regelen zoals bedoeld in 9A108.c, zijn:







  1. | buigzame straalpijp; |
| --- | --- | --- |

c.

subsystemen voor het regelen van de stuwstraalrichting, geschikt voor het gebruik in ‧raketten‧.

Voorbeelden van methoden om de stuwstraalrichting te regelen zoals bedoeld in 9A108.c, zijn:

1.

buigzame straalpijp;

| 2. | vloeistof- of secundaire gasinjectie; |
| --- | --- |

2.

vloeistof- of secundaire gasinjectie;

| 3. | beweegbare motoren of straalpijpen; |
| --- | --- |

3.

beweegbare motoren of straalpijpen;

| 4. | afbuiging van de uitlaatgasstroom door vinnen of kleppen, |
| --- | --- |

4.

afbuiging van de uitlaatgasstroom door vinnen of kleppen,

| 5. | het gebruik van stuwstelvlakken. |
| --- | --- |

5.

het gebruik van stuwstelvlakken.

9A109Hybride raketmotoren en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:

| a. | Hybride raketmotoren geschikt voor gebruik in complete raketsystemen of onbemande luchtvaartuigen met een bereik van 300 km, anders dan bedoeld in 9A009, met een totaal impulsvermogen gelijk aan of groter dan 1,1 MNs, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen; |
| --- | --- |

a.

Hybride raketmotoren geschikt voor gebruik in complete raketsystemen of onbemande luchtvaartuigen met een bereik van 300 km, anders dan bedoeld in 9A009, met een totaal impulsvermogen gelijk aan of groter dan 1,1 MNs, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen;

| b. | Speciaal ontworpen onderdelen voor hybride raketmotoren als bedoeld in 9A009 die geschikt zijn voor gebruik in ‧raketten‧. |
| --- | --- |

b.

Speciaal ontworpen onderdelen voor hybride raketmotoren als bedoeld in 9A009 die geschikt zijn voor gebruik in ‧raketten‧.

| NB: | ZIE OOK 9A009 en 9A119. |
| --- | --- |

NB:

9A110Composiete structuren, laminaten en daarvan vervaardigde producten, anders dan bedoeld in 9A010, speciaal bestemd voor gebruik in subsystemen, bedoeld in 9A005, 9A007, 9A105, 9A106.c., 9A107, 9A108.c., 9A116 of 9A119.

| NB: | ZIE OOK 1A002. |
| --- | --- |

NB:

In 9A109 wordt onder ‧raketten‧ verstaan complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen met een bereik van meer dan 300 km;

9A111Pulserende straalmotoren, geschikt voor gebruik in ‧raketten‧ of onbemande luchtvaartuigen, genoemd in 9A012, en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor.

| NB: | ZIE OOK 9A011 EN 9A118 |
| --- | --- |

NB:

9A115Lanceerinrichtingen, als hieronder:

| a. | apparatuur en toestellen voor het hanteren, regelen, ontsteken of lanceren, ontworpen of aangepast voor ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004, onbemande luchtvaartuigen bedoeld in 9A012 of sonderingsraketten bedoeld in 9A104, |
| --- | --- |

a.

apparatuur en toestellen voor het hanteren, regelen, ontsteken of lanceren, ontworpen of aangepast voor ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004, onbemande luchtvaartuigen bedoeld in 9A012 of sonderingsraketten bedoeld in 9A104,

| b. | voertuigen voor het transporteren, hanteren, regelen, ontsteken of lanceren, ontworpen of aangepast voor ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten bedoeld in 9A104. |
| --- | --- |

b.

voertuigen voor het transporteren, hanteren, regelen, ontsteken of lanceren, ontworpen of aangepast voor ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten bedoeld in 9A104.

9A116Terugkeervoertuigen, geschikt voor gebruik in ‧raketten‧, en apparatuur, speciaal ontworpen of aangepast daarvoor, als hieronder:

| a. | terugkeervoertuigen; |
| --- | --- |

a.

terugkeervoertuigen;

| b. | hitteschilden en onderdelen daarvan, gemaakt van keramische of ablatieve materialen; |
| --- | --- |

b.

hitteschilden en onderdelen daarvan, gemaakt van keramische of ablatieve materialen;

| c. | koelelementen en onderdelen daarvan, gemaakt van lichtgewichtmaterialen met een hoge warmtecapaciteit; |
| --- | --- |

c.

koelelementen en onderdelen daarvan, gemaakt van lichtgewichtmaterialen met een hoge warmtecapaciteit;

| d. | elektronische apparatuur, speciaal ontworpen voor terugkeervoertuigen. |
| --- | --- |

d.

elektronische apparatuur, speciaal ontworpen voor terugkeervoertuigen.

9A117Systemen voor het scheiden of afwerpen van rakettrappen en verbindingsstukken tussen rakettrappen, geschikt voor gebruik in ‧raketten‧.

9A118Apparaten voor het regelen van de verbranding van stuwstof voor motoren, geschikt voor gebruik in ‧raketten‧ of onbemande luchtvaartuigen, genoemd in 9A012, zoals bedoeld in 9A011 of 9A111.

9A119Afzonderlijke rakettrappen, geschikt voor gebruik in volledige raketsystemen of onbemande luchtvaartuigen, anders dan bedoeld in 9A005, 9A007, 9A009, 9A105, 9A107 en 9A109.

9A120Tanks voor vloeibare stuwstof, anders dan vermeld onder 9A006, speciaal ontworpen voor de onder 1C111 vermelde stuwstoffen of ‧andere vloeibare stuwstoffen‧ die worden gebruikt in raketsystemen die een nuttige last van ten minste 500 kg kunnen vervoeren over een afstand van ten minste 300 km.

| | Onder ‧andere vloeibare stuwstoffen‧ in 9A120 zijn onder meer de stuwstoffen begrepen die zijn vermeld in de Lijst Militaire Goederen. |
| --- | --- |

9A350Spuit- of vernevelsystemen, speciaal ontworpen of aangepast voor bevestiging aan vliegtuigen, "lichter-dan-luchttoestellen" of onbemande luchtvaartuigen, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:

| a. | complete spuit- of vernevelsystemen die, vertrekkend van een vloeibare suspensie, initiële druppels met een ‧VMD‧ van minder dan 50 μm bij een doorstroomsnelheid van meer dan twee liter per minuut kunnen voortbrengen; |
| --- | --- |

a.

complete spuit- of vernevelsystemen die, vertrekkend van een vloeibare suspensie, initiële druppels met een ‧VMD‧ van minder dan 50 μm bij een doorstroomsnelheid van meer dan twee liter per minuut kunnen voortbrengen;

| b. | spuitbomen of reeksen aërosolproducerende eenheden die, vertrekkend van een vloeibare suspensie, initiële druppels met een ‧VMD‧ van minder dan 50 μm bij een doorstroomsnelheid van meer dan twee liter per minuut kunnen voortbrengen; |
| --- | --- |

b.

spuitbomen of reeksen aërosolproducerende eenheden die, vertrekkend van een vloeibare suspensie, initiële druppels met een ‧VMD‧ van minder dan 50 μm bij een doorstroomsnelheid van meer dan twee liter per minuut kunnen voortbrengen;

| c. | aërosolproducerende eenheden speciaal ontworpen om te worden bevestigd aan systemen bedoeld in 9A350.a. en 9A350.b. | Aërosolproducerende eenheden zijn voorzieningen die speciaal zijn ontworpen of aangepast om aan vliegtuigen te worden bevestigd, zoals spuitdoppen, verstuivers met roterende trommel en soortgelijke voorzieningen. |
| --- | --- | --- |

c.

aërosolproducerende eenheden speciaal ontworpen om te worden bevestigd aan systemen bedoeld in 9A350.a. en 9A350.b.

| | 9A350 is niet van toepassing op spuit- of vernevelsystemen en onderdelen daarvan waarvan is aangetoond dat ze geen biologische agentia in de vorm van infectieuze aërosolen kunnen voortbrengen. |
| --- | --- |

| 1. | De druppelgrootte voor spuitsystemen of spuitdoppen speciaal ontworpen voor gebruik op vliegtuigen, "lichter-dan-luchttoestellen" of onbemande luchtvaartuigen moet worden gemeten met een van de volgende methoden:







  a. | Doppler-lasermethode; |
| --- | --- | --- |

1.

a.

Doppler-lasermethode;

| b. | voorwaartse-laserdiffractiemethode. |
| --- | --- |

b.

voorwaartse-laserdiffractiemethode.

| 2. | In 9A350 wordt onder ‧VMD‧ verstaan ‹Volume Median Diameter› (volume mediane diameter); voor op water gebaseerde systemen is deze gelijk aan de ‹Mass Median Diameter› (MMD) (massa mediane diameter). |
| --- | --- |

2.

9B.Test-, inspectie- en productieapparatuur

9B001Apparatuur, gereedschappen en klemmen, speciaal ontworpen voor het vervaardigen van gasturbinebladen of -schoepen of gegoten schoepuiteindeversterkingen, als hieronder:

| a. | apparatuur voor het gieten met gericht stollen of het gieten in eenkristalvorm; |
| --- | --- |

a.

apparatuur voor het gieten met gericht stollen of het gieten in eenkristalvorm;

| b. | keramische kernen en mantels. |
| --- | --- |

b.

keramische kernen en mantels.

9B002Gekoppelde (onvertraagde (‧real time‧)) regelsystemen, instrumentatie (met inbegrip van sensoren) of geautomatiseerde apparatuur voor het verzamelen en verwerken van gegevens, met alle volgende kenmerken:

| a. | zij zijn speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" van gasturbinemotoren, samenstellingen of onderdelen; |
| --- | --- |

a.

zij zijn speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" van gasturbinemotoren, samenstellingen of onderdelen;

| b. | zij bevatten "technologieën" die zijn bedoeld in 9E003.h. of in 9E003.i. |
| --- | --- |

b.

zij bevatten "technologieën" die zijn bedoeld in 9E003.h. of in 9E003.i.

9B003Apparatuur speciaal ontworpen voor de "productie" of het testen van gasturbineborstelafsluitingen ontworpen om te werken bij een vleugeltipsnelheid groter dan 335 m/s en temperaturen boven 773 K (500 C), en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen of toebehoren.

9B004Gereedschappen, stempels of klemmen voor het maken van vaste-fase-verbindingen van bladen waarbij het aërodynamische vlak doorloopt tot aan de schijf voor gasturbines, uit "superlegeringen", titaan of intermetallieke materialen, als omschreven in 9E003.a.3. of 9E003.a.6.

9B005Gekoppelde (onvertraagde (‹real time›)) regelsystemen, instrumentatie (met inbegrip van sensoren) en geautomatiseerde apparatuur voor het verzamelen en verwerken van gegevens, speciaal ontworpen voor gebruik met:

| NB: | ZIE OOK 9B105 |
| --- | --- |

NB:

| a. | windtunnels, ontworpen voor snelheden van Mach 1,2 of meer; | 9B005.a is niet van toepassing op windtunnels die speciaal zijn ontworpen voor onderwijsdoeleinden, met een ‧grootte van het meetgedeelte‧ (dwarsgemeten) kleiner dan 250 mm;




  Onder ‧grootte van het meetgedeelte‧ wordt verstaan de diameter van een cirkel, de zijde van een vierkant of de langste zijde van een rechthoek, gemeten waar het meetgedeelte het breedst is. |
| --- | --- | --- |

a.

windtunnels, ontworpen voor snelheden van Mach 1,2 of meer;

Onder ‧grootte van het meetgedeelte‧ wordt verstaan de diameter van een cirkel, de zijde van een vierkant of de langste zijde van een rechthoek, gemeten waar het meetgedeelte het breedst is.

| b. | toestellen voor het nabootsen van omstandigheden welke optreden bij stromingssnelheden van meer dan Mach 5, met inbegrip van ‹hot shot-tunnels›, plasmaboogtunnels, schokbuizen, schoktunnels, gastunnels en gaskanonnen; of |
| --- | --- |

b.

toestellen voor het nabootsen van omstandigheden welke optreden bij stromingssnelheden van meer dan Mach 5, met inbegrip van ‹hot shot-tunnels›, plasmaboogtunnels, schokbuizen, schoktunnels, gastunnels en gaskanonnen; of

| c. | windtunnels en inrichtingen, niet zijnde tweedimensionale secties, die stromingen kunnen nabootsen met een Reynolds-getal hoger dan 25 × 106. |
| --- | --- |

c.

windtunnels en inrichtingen, niet zijnde tweedimensionale secties, die stromingen kunnen nabootsen met een Reynolds-getal hoger dan 25 × 106.

9B006Apparatuur voor het testen door middel van akoestische trillingen, geschikt voor het voortbrengen van een geluidsdrukniveau van 160 dB of meer (referentiestandaard: 20 μPa) met een gespecificeerd uitgangsvermogen van 4 kW of meer bij een temperatuur van de testruimte hoger dan 1 273 K (1 000 °C), en speciaal daarvoor ontworpen kwartsverwarmingselementen.

| NB: | ZIE OOK 9B106 |
| --- | --- |

NB:

9B007Apparatuur, speciaal ontworpen voor het inspecteren van raketmotoren op de afwezigheid van defecten met gebruikmaking van technieken die het materiaal niet beschadigen (NDT-technieken), anders dan analyse door middel van röntgenstraling in een vlak of elementaire fysische of chemische analyse.

9B008Omzetters voor het direct meten van de oppervlaktewrijving, speciaal ontworpen voor gebruik bij een teststroming op een totale (stagnatie-)temperatuur van meer dan 833 K (560 °C).

9B009Gereedschappen, speciaal ontworpen voor de "productie", door middel van poedermetallurgie, van rotoronderdelen voor turbinemotoren, geschikt om te werken bij een druk gelijk aan of hoger dan 60 % van de breukspanning en bij een metaaltemperatuur van 873 K (600 °C) of hoger.

9B010Apparatuur, speciaal ontworpen voor de productie van "onbemande luchtvaartuigen" en aanverwante systemen, apparatuur en onderdelen vermeld onder 9A012.

9B105Windtunnels voor snelheden van Mach 0,9 of meer, geschikt voor ‧raketten‧ en subsystemen daarvan.

| NB: | ZIE OOK 9B005 |
| --- | --- |

NB:

In 9B105 wordt onder ‧raketten‧ verstaan complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen die een afstand van meer dan 300 km kunnen overbruggen.

9B106Klimaatkamers en echovrije kamers, als hieronder:

| a. | klimaatkamers, geschikt om de volgende vliegomstandigheden te simuleren:






  1. | met een of meer van de volgende kenmerken:






  a. | een vlieghoogte gelijk aan of groter dan 15 km; |
| --- | --- | --- | --- |

a.

klimaatkamers, geschikt om de volgende vliegomstandigheden te simuleren:

1.

met een of meer van de volgende kenmerken:

a.

een vlieghoogte gelijk aan of groter dan 15 km;

| b. | een temperatuurbereik van minder dan 223 K (- 50 C) tot boven 398 K (125 °C); |
| --- | --- |

b.

een temperatuurbereik van minder dan 223 K (- 50 C) tot boven 398 K (125 °C);

| 2. | met een trillingsopwekker of andere beproevingsapparatuur op basis van trillingen voor het tot stand brengen van trillingsomstandigheden, gelijk aan of groter dan 10 g rms, met ‧onbelaste tafel‧ gemeten, bij frequenties tussen 20 Hz en 2kHz en bij een stootkracht gelijk aan of groter dan 5 kN, of die zijn ‧ontworpen of aangepast‧ om deze te bevatten; |
| --- | --- |

2.

met een trillingsopwekker of andere beproevingsapparatuur op basis van trillingen voor het tot stand brengen van trillingsomstandigheden, gelijk aan of groter dan 10 g rms, met ‧onbelaste tafel‧ gemeten, bij frequenties tussen 20 Hz en 2kHz en bij een stootkracht gelijk aan of groter dan 5 kN, of die zijn ‧ontworpen of aangepast‧ om deze te bevatten;

| 1. | 9B106.a.2 beschrijft systemen die trillingsomstandigheden met één enkele golf (bv. een sinusgolf) kunnen genereren en systemen die een breedbandtoevalstrilling (bv. een vermogensspectrum) kunnen genereren); |
| --- | --- |

1.

| 2. | In 9B106.a.2. wordt onder ‧ontworpen of aangepast‧ verstaan dat de klimaatkamer passende verbindingen (bijv. sluitingen) bevat om een trillingsopwekker of andere beproevingsapparatuur op basis van trillingen als bedoeld in 2B116 in te bouwen; |
| --- | --- |

2.

| 3. | In 9B106.a.2. betekent ‧onbelaste tafel‧ een vlakke tafel, of een vlak oppervlak, zonder klemmen of hulpstukken. |
| --- | --- |

3.

| b. | klimaatkamers, geschikt om de volgende vliegomstandigheden te simuleren:






  1. | een akoestische test met een algeheel geluidsdrukniveau van 140 dB of meer (referentie: 20 μPa), of die een totaal opgegeven akoestisch vermogen van 4 kW of meer bezit; en |
| --- | --- | --- |

b.

klimaatkamers, geschikt om de volgende vliegomstandigheden te simuleren:

1.

een akoestische test met een algeheel geluidsdrukniveau van 140 dB of meer (referentie: 20 μPa), of die een totaal opgegeven akoestisch vermogen van 4 kW of meer bezit; en

| 2. | een vlieghoogte gelijk aan of groter dan 15 km; of |
| --- | --- |

2.

een vlieghoogte gelijk aan of groter dan 15 km; of

| 3. | een temperatuurbereik van minder dan 223 K (- 50 C) tot boven 398 K (125 C). |
| --- | --- |

3.

een temperatuurbereik van minder dan 223 K (- 50 C) tot boven 398 K (125 C).

9B115Speciaal ontworpen "productieapparatuur" voor de systemen, subsystemen en onderdelen in 9A005 t/m 9A009, 9A011, 9A101, 9A102, 9A105 t/m 9A109, 9A111 of 9A116 t/m 9A120.

9B116Speciaal ontworpen "productiefaciliteiten" voor de ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of systemen, subsystemen en onderdelen, bedoeld in 9A005 t/m 9A009, 9A011, 9A101, 9A102, 9A104 t/m 9A109, 9A111, 9A116 t/m 9A120 of ‧raketten‧.

:

In 9B116 wordt onder ‧raketten‧ verstaan complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen die een afstand van meer dan 300 km kunnen overbruggen.

9B117Testbanken en testopstellingen voor het testen van raketten of raketmotoren met vaste of vloeibare stuwstof met een van de kenmerken:

| a. | meer dan 68 kN stuwvermogen; of |
| --- | --- |

a.

meer dan 68 kN stuwvermogen; of

| b. | de mogelijkheid gelijktijdig de drie axiale stuwstraalvectoren te meten. |
| --- | --- |

b.

de mogelijkheid gelijktijdig de drie axiale stuwstraalvectoren te meten.

9CMaterialen

9C108Los "isolatie"-materiaal en "binnenbekleding", anders dan vermeld onder 9A008, voor raketmotoromhullingen die geschikt zijn voor gebruik in ‧raketten‧ of speciaal zijn ontworpen voor ‧raketten‧.

In 9A108 wordt onder ‧raketten‧ verstaan complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen die een afstand van meer dan 300 km kunnen overbruggen.

9C110Met hars geïmpregneerde vezels (‹prepregs›) en met metaal beklede vezels (‹preforms›) daarvoor, voor composiete structuren, laminaten en daarvan vervaardigde producten als bedoeld in 9A110, met een organische of metaalmatrix versterkt met stapel- of continuvezels met een "specifieke treksterkte" van meer dan 7,62 × 104 m en een "specifieke modulus" van meer dan 3,18 × 106 m.

| NB | ZIE OOK 1C010 EN 1C210. |
| --- | --- |

NB

| | De enige met hars geïmpregneerde vezels (‹prepregs›) bedoeld in 9C110 zijn die welke harsen gebruiken met een glastemperatuur (Tg), na uitharden, van meer dan 418 K (145 C) zoals bepaald met ASTM D 4065 of een gelijkwaardige methode. |
| --- | --- |

9DProgrammatuur

9D001"Programmatuur" die speciaal ontworpen of gewijzigd is voor de "ontwikkeling" van apparatuur of "technologie", bedoeld in 9A001 t/m 9A119, 9B of 9E003.

9D002"Programmatuur" die speciaal ontworpen of gewijzigd is voor de "productie" van apparatuur, bedoeld in 9A001 t/m 9A119 of 9B.

9D003"Programmatuur" met "technologie", bedoeld in 9E003.h., en die wordt gebruikt in "FADEC-systemen" voor voortstuwingssystemen, bedoeld in 9A, of apparatuur, bedoeld in 9B.

9D004Overige "programmatuur", als hieronder:

| a. | twee- of driedimensionale viskeuze (‹viscous›) "programmatuur" die is gevalideerd met windtunnel- of vluchttestgegevens die noodzakelijk zijn voor het nauwkeurig modelleren van de gasstroming in de motor; |
| --- | --- |

a.

twee- of driedimensionale viskeuze (‹viscous›) "programmatuur" die is gevalideerd met windtunnel- of vluchttestgegevens die noodzakelijk zijn voor het nauwkeurig modelleren van de gasstroming in de motor;

| b. | "programmatuur" voor het testen van gasturbinemotoren voor vliegtuigen en samenstellingen of onderdelen daarvan, speciaal ontworpen voor het onvertraagd (‹real time›) vergaren, bewerken en analyseren van gegevens en geschikt voor een teruggekoppelde regeling, met inbegrip van het dynamisch aanpassen van te testen producten of de testomstandigheden tijdens het testen; |
| --- | --- |

b.

"programmatuur" voor het testen van gasturbinemotoren voor vliegtuigen en samenstellingen of onderdelen daarvan, speciaal ontworpen voor het onvertraagd (‹real time›) vergaren, bewerken en analyseren van gegevens en geschikt voor een teruggekoppelde regeling, met inbegrip van het dynamisch aanpassen van te testen producten of de testomstandigheden tijdens het testen;

| c. | "programmatuur", speciaal ontworpen voor de besturing van het gieten met gericht stollen of éénkristalgieten; |
| --- | --- |

c.

"programmatuur", speciaal ontworpen voor de besturing van het gieten met gericht stollen of éénkristalgieten;

| d. | "programmatuur" in "broncode", "objectcode" of machinetaal die noodzakelijk is voor het "gebruik" van actieve compensatiesystemen voor de regeling van de rotorbladtipspeling; | Niet bedoeld wordt in 9D004.d "programmatuur" die is ingebouwd in apparatuur die niet is bedoeld in bijlage I of die noodzakelijk is voor onderhoudswerkzaamheden in verband met ijking, reparatie of modernisering van het actief compenserende spelingsregelsysteem. |
| --- | --- | --- |

d.

"programmatuur" in "broncode", "objectcode" of machinetaal die noodzakelijk is voor het "gebruik" van actieve compensatiesystemen voor de regeling van de rotorbladtipspeling;

| e. | "programmatuur", speciaal ontworpen of gewijzigd voor het "gebruik" van "onbemande luchtvaartuigen" en aanverwante systemen, apparatuur en onderdelen vermeld onder 9A012. |
| --- | --- |

e.

"programmatuur", speciaal ontworpen of gewijzigd voor het "gebruik" van "onbemande luchtvaartuigen" en aanverwante systemen, apparatuur en onderdelen vermeld onder 9A012.

| f. | "programmatuur", speciaal ontworpen voor het ontwerpen van de interne koelingskanalen voor gasturbinebladen of schoepen of "schoepuiteindeversterkingen" voor luchtvaartuigen; |
| --- | --- |

f.

"programmatuur", speciaal ontworpen voor het ontwerpen van de interne koelingskanalen voor gasturbinebladen of schoepen of "schoepuiteindeversterkingen" voor luchtvaartuigen;

| g. | "programmatuuur" met alle volgende kenmerken:






  1. | speciaal ontworpen voor het voorspellen van thermische, aeromechanische en verbrandingsomstandigheden in gasturbinemotoren voor vliegtuigen; en |
| --- | --- | --- |

g.

"programmatuuur" met alle volgende kenmerken:

1.

speciaal ontworpen voor het voorspellen van thermische, aeromechanische en verbrandingsomstandigheden in gasturbinemotoren voor vliegtuigen; en

| 2. | met theoretische modelleringsvoorspellingen van de thermische, aeromechanische en verbrandingsomstandigheden in gasturbinemotoren voor vliegtuigen, gevalideerd met feitelijke gegevens van prestaties van (experimentele of productie-) gasturbinemotoren voor vliegtuigen. |
| --- | --- |

2.

met theoretische modelleringsvoorspellingen van de thermische, aeromechanische en verbrandingsomstandigheden in gasturbinemotoren voor vliegtuigen, gevalideerd met feitelijke gegevens van prestaties van (experimentele of productie-) gasturbinemotoren voor vliegtuigen.

9D101Speciaal ontworpen of aangepaste "programmatuur" voor het "gebruik" van goederen, bedoeld in 9B105, 9B106, 9B116 of 9B117.

9D103Speciaal ontworpen "programmatuur" voor het modelleren, het simuleren of de ontwerpintegratie van de ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104, of de subsystemen, bedoeld in 9A005, 9A007, 9A105, 9A106.c., 9A107, 9A108.c., 9A116 of 9A119.

| | "Programmatuur", bedoeld in 9D103, blijft bedoeld, ook wanneer deze wordt gecombineerd met speciaal ontworpen apparatuur, bedoeld in 4A102. |
| --- | --- |

9D104Speciaal ontworpen of aangepaste "programmatuur" voor het "gebruik" van goederen, bedoeld in 9A001, 9A005, 9A006.d., 9A006.g., 9A007.a., 9A008.d., 9A009.a., 9A010.d., 9A011, 9A101, 9A102, 9A105, 9A106.c., 9A106.d., 9A107, 9A108.c., 9A109, 9A111, 9A115.a., 9A116.d., 9A117 en 9A118.

9D105"Programmatuur" die de functies van meer dan één subsysteem coördineert en die speciaal is ontworpen of aangepast voor het "gebruik" in ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104.

9ETechnologie

| | "Technologie" voor "ontwikkeling" of "productie" als bedoeld in 9E001 t/m 9E003 voor gasturbinemotoren blijft bedoeld ook wanneer deze wordt gebruikt als "gebruiks"-"technologie" ten behoeve van reparatie, aanbrengen van nieuwe onderdelen en revisie. Niet bedoeld zijn technische gegevens, tekeningen of documentatie voor onderhoudswerkzaamheden die direct verband houden met ijking, het verwijderen of vervangen van beschadigde of onbruikbare, uit het assortiment vervangbare, eenheden, de vervanging van gehele motoren of motorelementen daaronder begrepen. |
| --- | --- |

9E001"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" van apparatuur of "programmatuur", bedoeld in 9A001.b, 9A004 t/m 9A012, 9A350, 9B of 9D.

9E002"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "productie" van apparatuur bedoeld in 9A001.b, 9A004 t/m 9A011, 9A350 of 9B.

| | Zie 1E002.f voor "technologie" voor de reparatie van in de lijst bedoelde constructies, laminaten of materialen. |
| --- | --- |

9E003Overige "technologie", als hieronder:

| a. | "technologie" die "noodzakelijk" is voor de "ontwikkeling" of "productie" van de volgende gasturbinemotoronderdelen of -systemen:






  1. | gasturbinebladen of schoepen of "schoepuiteindeversterkingen", gemaakt van door middel van gerichte stolling vervaardigde of monokristallijne legeringen met (in de 001 Miller Index Direction) een levensduur tot spanningsbreuk optreedt van meer dan 400 uur bij 1 273 K (1 000 C) bij een spanning van 200 MPa, gebaseerd op de gemiddelde waarden van de eigenschap; |
| --- | --- | --- |

a.

"technologie" die "noodzakelijk" is voor de "ontwikkeling" of "productie" van de volgende gasturbinemotoronderdelen of -systemen:

1.

gasturbinebladen of schoepen of "schoepuiteindeversterkingen", gemaakt van door middel van gerichte stolling vervaardigde of monokristallijne legeringen met (in de 001 Miller Index Direction) een levensduur tot spanningsbreuk optreedt van meer dan 400 uur bij 1 273 K (1 000 C) bij een spanning van 200 MPa, gebaseerd op de gemiddelde waarden van de eigenschap;

| 2. | branders met meerdere koppen die werken bij een gemiddelde uitlaattemperatuur hoger dan 1 813 K (1 540 C), of branders die thermisch ontkoppelde bekleding van de verbrandingskamer, niet metallieke bekleding of niet metallieke omhulsels bevatten; |
| --- | --- |

2.

branders met meerdere koppen die werken bij een gemiddelde uitlaattemperatuur hoger dan 1 813 K (1 540 C), of branders die thermisch ontkoppelde bekleding van de verbrandingskamer, niet metallieke bekleding of niet metallieke omhulsels bevatten;

| 3. | onderdelen, vervaardigd van een of meer van de volgende materialen:






  a. | organische "composiete" materialen, ontworpen voor werktemperaturen hoger dan 588 K (315 C); |
| --- | --- | --- |

3.

onderdelen, vervaardigd van een of meer van de volgende materialen:

a.

organische "composiete" materialen, ontworpen voor werktemperaturen hoger dan 588 K (315 C);

| b. | metaal-"matrix""composiete" materialen, keramische-"matrix"-materialen of intermetallische of met legeringen versterkte materialen, vermeld in 1C007; |
| --- | --- |

b.

metaal-"matrix""composiete" materialen, keramische-"matrix"-materialen of intermetallische of met legeringen versterkte materialen, vermeld in 1C007;

| c. | "composiet" materiaal, bedoeld in 1C010 en vervaardigd met harsen, bedoeld in 1C008. |
| --- | --- |

c.

"composiet" materiaal, bedoeld in 1C010 en vervaardigd met harsen, bedoeld in 1C008.

| 4. | ongekoelde turbinebladen, -schoepen, "schoepuiteindeversterkingen" of andere onderdelen, ontworpen om te werken bij een totale temperatuur (stagnatietemperatuur) van het gastraject van 1 323 K (1 050 C) of hoger, bij een statische start op zeeniveau (ISA) en ‧stationair‧ draaien van de motor; |
| --- | --- |

4.

ongekoelde turbinebladen, -schoepen, "schoepuiteindeversterkingen" of andere onderdelen, ontworpen om te werken bij een totale temperatuur (stagnatietemperatuur) van het gastraject van 1 323 K (1 050 C) of hoger, bij een statische start op zeeniveau (ISA) en ‧stationair‧ draaien van de motor;

| 5. | gekoelde turbinebladen, -schoepen, "schoepuiteindeversterkingen", anders dan bedoeld in 9E003.a.1, blootgesteld aan een totale temperatuur (stagnatietemperatuur) van het gastraject van 1 643 K (1 370 C) of hoger, bij een statische start op zeeniveau (ISA) en ‧stationair‧ draaien van de motor;

  :


  De term ‧stationair‧ wijst op werkingsomstandigheden van de motor, waarbij de parameters ervan, zoals stuwkracht/vermogen, t.p.m. en andere niet betekenisvol schommelen, wanneer de omgevingstemperatuur van de lucht en de luchtdruk aan de motor inlaat constant zijn. |
| --- | --- |

5.

gekoelde turbinebladen, -schoepen, "schoepuiteindeversterkingen", anders dan bedoeld in 9E003.a.1, blootgesteld aan een totale temperatuur (stagnatietemperatuur) van het gastraject van 1 643 K (1 370 C) of hoger, bij een statische start op zeeniveau (ISA) en ‧stationair‧ draaien van de motor;

:

De term ‧stationair‧ wijst op werkingsomstandigheden van de motor, waarbij de parameters ervan, zoals stuwkracht/vermogen, t.p.m. en andere niet betekenisvol schommelen, wanneer de omgevingstemperatuur van de lucht en de luchtdruk aan de motor inlaat constant zijn.

| 6. | bladen waarbij het aërodynamische vlak doorloopt tot aan de schijf, gemaakt door middel van vaste-faseverbinding; |
| --- | --- |

6.

bladen waarbij het aërodynamische vlak doorloopt tot aan de schijf, gemaakt door middel van vaste-faseverbinding;

| 7. | gasturbinemotoronderdelen waarbij gebruik wordt gemaakt van "technologie" voor "diffusielassen", vermeld in 2E003.b.; |
| --- | --- |

7.

gasturbinemotoronderdelen waarbij gebruik wordt gemaakt van "technologie" voor "diffusielassen", vermeld in 2E003.b.;

| 8. | ‧schadebestendige‧ rotoronderdelen van gasturbinemotoren waarbij gebruik wordt gemaakt van poedermetallurgiemetalen, vermeld in 1C002.b.; of

  :


  ‧Schadebestendige‧ onderdelen zijn ontworpen met behulp van methodologie en onderbouwing voor het voorspellen en beperken van scheurgroei. |
| --- | --- |

8.

‧schadebestendige‧ rotoronderdelen van gasturbinemotoren waarbij gebruik wordt gemaakt van poedermetallurgiemetalen, vermeld in 1C002.b.; of

:

‧Schadebestendige‧ onderdelen zijn ontworpen met behulp van methodologie en onderbouwing voor het voorspellen en beperken van scheurgroei.

| 9. | niet gebruikt; |
| --- | --- |

9.

niet gebruikt;

| 10. | niet gebruikt; |
| --- | --- |

10.

niet gebruikt;

| 11. | holle ventilatorbladen; |
| --- | --- |

11.

holle ventilatorbladen;

| b. | "technologie""noodzakelijk" voor de "ontwikkeling" of "productie" van:






  1. | vliegtuigmodellen voor windtunnels die zijn uitgerust met niet naar buiten uitstekende sensoren, die gegevens van de sensoren kunnen overbrengen naar het gegevensverzamelsysteem; of |
| --- | --- | --- |

b.

"technologie""noodzakelijk" voor de "ontwikkeling" of "productie" van:

1.

vliegtuigmodellen voor windtunnels die zijn uitgerust met niet naar buiten uitstekende sensoren, die gegevens van de sensoren kunnen overbrengen naar het gegevensverzamelsysteem; of

| 2. | "composiete" schroefbladen of propellers, geschikt voor het absorberen van meer dan 2 000 kW bij vluchtsnelheden hoger dan Mach 0,55; |
| --- | --- |

2.

"composiete" schroefbladen of propellers, geschikt voor het absorberen van meer dan 2 000 kW bij vluchtsnelheden hoger dan Mach 0,55;

| c. | "technologie""noodzakelijk" voor de "ontwikkeling" of "productie" van gasturbinemotoronderdelen met gebruikmaking van "laser"-, waterstraal- of ECM/EDM (Electro-Chemical Machining - Electrical Discharge Machines)-procédés voor het boren van gaten met één of meer van de volgende kenmerken:






  1. | Alle volgende kenmerken:






  a. | een diepte van meer dan viermaal de gatdiameter; |
| --- | --- | --- | --- |

c.

"technologie""noodzakelijk" voor de "ontwikkeling" of "productie" van gasturbinemotoronderdelen met gebruikmaking van "laser"-, waterstraal- of ECM/EDM (Electro-Chemical Machining - Electrical Discharge Machines)-procédés voor het boren van gaten met één of meer van de volgende kenmerken:

1.

Alle volgende kenmerken:

a.

een diepte van meer dan viermaal de gatdiameter;

| b. | een diameter van minder dan 0,76 mm; en |
| --- | --- |

b.

een diameter van minder dan 0,76 mm; en

| c. | een ‧invalshoek‧ gelijk aan of kleiner dan 25, of |
| --- | --- |

c.

een ‧invalshoek‧ gelijk aan of kleiner dan 25, of

| 2. | Alle volgende kenmerken:






  a. | een diepte van meer dan vijfmaal de gatdiameter; |
| --- | --- | --- |

2.

Alle volgende kenmerken:

a.

een diepte van meer dan vijfmaal de gatdiameter;

| b. | een diameter van minder dan 0,4 mm; en |
| --- | --- |

b.

een diameter van minder dan 0,4 mm; en

| c. | een ‧invalshoek‧ groter dan 25; |
| --- | --- |

c.

een ‧invalshoek‧ groter dan 25;

Voor de toepassing van 9E003.c wordt de ‧invalshoek‧ gemeten aan een vlak dat het aërodynamische oppervlak raakt op het punt waar de gatas het aërodynamische oppervlak binnengaat.

| d. | "technologie""noodzakelijk" voor de "ontwikkeling" of de "productie" van krachtoverbrengingssystemen voor hefschroefvliegtuigen of krachtoverbrengingssystemen voor verticaal opstijgende "vliegtuigen" (met gekantelde rotor of vleugel); |
| --- | --- |

d.

"technologie""noodzakelijk" voor de "ontwikkeling" of de "productie" van krachtoverbrengingssystemen voor hefschroefvliegtuigen of krachtoverbrengingssystemen voor verticaal opstijgende "vliegtuigen" (met gekantelde rotor of vleugel);

| e. | "technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van voortstuwingssystemen voor grondvoertuigen op basis van dieselzuigermotoren met alle volgende kenmerken:






  1. | een ‧inwendige ruimte‧ van 1,2 m3 of minder; |
| --- | --- | --- |

e.

"technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van voortstuwingssystemen voor grondvoertuigen op basis van dieselzuigermotoren met alle volgende kenmerken:

1.

een ‧inwendige ruimte‧ van 1,2 m3 of minder;

| 2. | een totaal uitgaand vermogen van meer dan 750 kW gebaseerd op Richtlijn 80/1269/EEG, ISO 2534 of een nationaal equivalent daarvan; en |
| --- | --- |

2.

een totaal uitgaand vermogen van meer dan 750 kW gebaseerd op Richtlijn 80/1269/EEG, ISO 2534 of een nationaal equivalent daarvan; en

| 3. | een vermogensdichtheid van meer dan 700 kW/m3‧inwendige ruimte‧; |
| --- | --- |

3.

een vermogensdichtheid van meer dan 700 kW/m3‧inwendige ruimte‧;

:

‧Inwendige ruimte‧ in 9E003.e. is het product van drie loodrecht op elkaar staande afmetingen, als volgt gemeten:

:

: de grootste van één van de volgende drie afmetingen:

: de grootste van één van de volgende twee maten:

| f. | "technologie""noodzakelijk" voor de "productie" van speciaal voor dieselmotoren met hoog vermogen ontworpen onderdelen, als hieronder:






  1. | "technologie""noodzakelijk" voor de "productie" van motorsystemen met alle volgende onderdelen, met gebruikmaking van in 1C007 vermelde keramische materialen:






  a. | cilinderwanden; |
| --- | --- | --- | --- |

f.

"technologie""noodzakelijk" voor de "productie" van speciaal voor dieselmotoren met hoog vermogen ontworpen onderdelen, als hieronder:

1.

"technologie""noodzakelijk" voor de "productie" van motorsystemen met alle volgende onderdelen, met gebruikmaking van in 1C007 vermelde keramische materialen:

a.

cilinderwanden;

| b. | zuigers; |
| --- | --- |

b.

zuigers;

| c. | cilinderkoppen; en |
| --- | --- |

c.

cilinderkoppen; en

| d. | één of meer andere onderdelen (met inbegrip van uitlaatpoorten, turbocompressors, klepgeleiding, klepsamenstellingen of geïsoleerde brandstofinjectiesystemen); |
| --- | --- |

d.

één of meer andere onderdelen (met inbegrip van uitlaatpoorten, turbocompressors, klepgeleiding, klepsamenstellingen of geïsoleerde brandstofinjectiesystemen);

| 2. | "technologie""noodzakelijk" voor de "productie" van turbocompressorsystemen, met eentrapscompressors met alle volgende kenmerken:






  a. | een werkdrukverhouding van 4:1 of hoger; |
| --- | --- | --- |

2.

"technologie""noodzakelijk" voor de "productie" van turbocompressorsystemen, met eentrapscompressors met alle volgende kenmerken:

a.

een werkdrukverhouding van 4:1 of hoger;

| b. | een massastroom van 30 tot 130 kg per minuut; en |
| --- | --- |

b.

een massastroom van 30 tot 130 kg per minuut; en

| c. | uitgerust met variabele doorstroomoppervlakte in de compressor- of turbinesecties; |
| --- | --- |

c.

uitgerust met variabele doorstroomoppervlakte in de compressor- of turbinesecties;

| 3. | "technologie""noodzakelijk" voor de "productie" van brandstofinjectiesystemen met speciaal ontworpen mogelijkheid om met verschillende brandstoffen te werken (b.v. dieselolie of straalvliegtuigbrandstof) over een viscositeitsgebied van dieselolie (2,5 cSt bij 310,8 K (37,8 C)) tot benzine (0,5 cSt bij 310,8 K (37,8 C)), met alle volgende kenmerken:






  a. | inspuithoeveelheid meer dan 230 mm3 per inspuiting per cilinder; en |
| --- | --- | --- |

3.

"technologie""noodzakelijk" voor de "productie" van brandstofinjectiesystemen met speciaal ontworpen mogelijkheid om met verschillende brandstoffen te werken (b.v. dieselolie of straalvliegtuigbrandstof) over een viscositeitsgebied van dieselolie (2,5 cSt bij 310,8 K (37,8 C)) tot benzine (0,5 cSt bij 310,8 K (37,8 C)), met alle volgende kenmerken:

a.

inspuithoeveelheid meer dan 230 mm3 per inspuiting per cilinder; en

| b. | een elektronische besturing, speciaal ontworpen voor het automatisch omschakelen van de regulateurspecificaties afhankelijk van de brandstofeigenschappen ter verkrijging van gelijke draaimomenteigenschappen, door middel van geschikte sensoren; |
| --- | --- |

b.

een elektronische besturing, speciaal ontworpen voor het automatisch omschakelen van de regulateurspecificaties afhankelijk van de brandstofeigenschappen ter verkrijging van gelijke draaimomenteigenschappen, door middel van geschikte sensoren;

| g. | "technologie""noodzakelijk" voor de "ontwikkeling" of "productie" van ‧dieselmotoren met hoog vermogen‧ voor vaste, gas- of vloeistoffilm-cilinderwandsmering (of combinaties daarvan), welke een werktemperatuur toelaat van meer dan 723 K (450 C), gemeten op de cilinderwand aan het eind van de slag van de bovenste zuigerveer;

  :


  Onder ‧dieselmotoren met hoog vermogen‧ worden verstaan dieselmotoren met een gemiddelde effectieve remdruk van 1,8 MPa of meer bij een snelheid van 2 300 omwentelingen per minuut, mits de gespecificeerde snelheid 2 300 omwentelingen per minuut is of meer. |
| --- | --- |

g.

"technologie""noodzakelijk" voor de "ontwikkeling" of "productie" van ‧dieselmotoren met hoog vermogen‧ voor vaste, gas- of vloeistoffilm-cilinderwandsmering (of combinaties daarvan), welke een werktemperatuur toelaat van meer dan 723 K (450 C), gemeten op de cilinderwand aan het eind van de slag van de bovenste zuigerveer;

:

Onder ‧dieselmotoren met hoog vermogen‧ worden verstaan dieselmotoren met een gemiddelde effectieve remdruk van 1,8 MPa of meer bij een snelheid van 2 300 omwentelingen per minuut, mits de gespecificeerde snelheid 2 300 omwentelingen per minuut is of meer.

| h. | "technologie" voor "FADEC-systemen" met gasturbinemotoren, als volgt:






  1. | "ontwikkeling" s "technologie" voor het bepalen van de aan de onderdelen gestelde functionele eisen nodig voor het regelen van de motorstuwkracht of de drijfaskracht door het "FADEC-systeem" (bv. constanten en accuratesse in verband met responssensortijd, draaisnelheid van de brandstofklep); |
| --- | --- | --- |

h.

"technologie" voor "FADEC-systemen" met gasturbinemotoren, als volgt:

1.

"ontwikkeling" s "technologie" voor het bepalen van de aan de onderdelen gestelde functionele eisen nodig voor het regelen van de motorstuwkracht of de drijfaskracht door het "FADEC-systeem" (bv. constanten en accuratesse in verband met responssensortijd, draaisnelheid van de brandstofklep);

| 2. | "ontwikkeling" s- of "productie"-"technologie" voor controle- en diagnoseonderdelen die uniek zijn voor het "FADEC-systeem" en gebruikt worden om de motorstuwkracht of de drijfaskracht te regelen; |
| --- | --- |

2.

"ontwikkeling" s- of "productie"-"technologie" voor controle- en diagnoseonderdelen die uniek zijn voor het "FADEC-systeem" en gebruikt worden om de motorstuwkracht of de drijfaskracht te regelen;

| 3. | "ontwikkeling" s "technologie" voor besturingswet (‹control law›)-algoritmen, inclusief "broncode", die uniek zijn voor het "FADEC-systeem" en gebruikt worden om de motorstuwkracht of de drijfaskracht te regelen. | 9E003.h. is niet van toepassing op technische gegevens met betrekking tot de motor in het geheel van het vliegtuig zoals voorgeschreven door de certificerende burgerluchtvaartautoriteiten, die voor algemeen gebruik door luchtvaartmaat-schappijen moeten worden gepubliceerd (bv. installatiehandleidingen, gebruiksinstructies, instructies voor permanente luchtwaardigheid) of interfacefuncties (bv. input-/output-verwerking, stuwkracht van het casco of vermogen van de drijfas). |
| --- | --- | --- |

3.

"ontwikkeling" s "technologie" voor besturingswet (‹control law›)-algoritmen, inclusief "broncode", die uniek zijn voor het "FADEC-systeem" en gebruikt worden om de motorstuwkracht of de drijfaskracht te regelen.

| i. | "Technologie" voor instelbare stromingstrajectsystemen, ontworpen voor het handhaven van de motorstabiliteit voor gasgeneratorturbines, ventilator/ vermogensturbines of straalpijpmondstukken, als hieronder:






  1. | "ontwikkeling" s "technologie" voor het bepalen van de aan de onderdelen gestelde functionele eisen voor het handhaven van de motorstabiliteit; |
| --- | --- | --- |

i.

"Technologie" voor instelbare stromingstrajectsystemen, ontworpen voor het handhaven van de motorstabiliteit voor gasgeneratorturbines, ventilator/ vermogensturbines of straalpijpmondstukken, als hieronder:

1.

"ontwikkeling" s "technologie" voor het bepalen van de aan de onderdelen gestelde functionele eisen voor het handhaven van de motorstabiliteit;

| 2. | "ontwikkeling" s- of "productie"- "technologie" voor onderdelen die uniek zijn voor het instelbare stromingstrajectsysteem en die de motorstabiliteit handhaven; |
| --- | --- |

2.

"ontwikkeling" s- of "productie"- "technologie" voor onderdelen die uniek zijn voor het instelbare stromingstrajectsysteem en die de motorstabiliteit handhaven;

| 3. | "ontwikkeling" s "technologie" voor besturingswet (‹control law›)-algoritmen, inclusief "broncode", die uniek zijn voor het instelbare stromingstrajectsysteem en die de motorstabiliteit handhaven. |
| --- | --- |

3.

"ontwikkeling" s "technologie" voor besturingswet (‹control law›)-algoritmen, inclusief "broncode", die uniek zijn voor het instelbare stromingstrajectsysteem en die de motorstabiliteit handhaven.

| | 9E003.i. is niet van toepassing op "ontwikkeling" of "productie""technologie" voor een of meer van de volgende doelen:







  a. | inlaatribben; |
| --- | --- | --- |

a.

inlaatribben;

| b. | verstelbare ventilatorbladen of propellers; |
| --- | --- |

b.

verstelbare ventilatorbladen of propellers;

| c. | verstelbare compressorschoepen; |
| --- | --- |

c.

verstelbare compressorschoepen;

| d. | aftapkleppen voor compressors; of |
| --- | --- |

d.

aftapkleppen voor compressors; of

| e. | instelbare stromingstrajectgeometrie voor tegengestelde stuwkracht. |
| --- | --- |

e.

instelbare stromingstrajectgeometrie voor tegengestelde stuwkracht.

9E101

| a. | "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" van goederen bedoeld in 9A101, 9A102, 9A104 t/m 9A111 of 9A115 t/m 9A119; |
| --- | --- |

a.

"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" van goederen bedoeld in 9A101, 9A102, 9A104 t/m 9A111 of 9A115 t/m 9A119;

| b. | "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "productie" van ‧onbemande luchtvaartuigen‧ als bedoeld in 9A012 of goederen als bedoeld in 9A101, 9A102, 9A104 t/m 9A111 of 9A115 t/m 9A119.

  :


  In 9E101.b. wordt onder ‧onbemande luchtvaartuigen‧ verstaan onbemande luchtvaartuigen met een actieradius van meer dan 300 km. |
| --- | --- |

b.

"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "productie" van ‧onbemande luchtvaartuigen‧ als bedoeld in 9A012 of goederen als bedoeld in 9A101, 9A102, 9A104 t/m 9A111 of 9A115 t/m 9A119.

:

In 9E101.b. wordt onder ‧onbemande luchtvaartuigen‧ verstaan onbemande luchtvaartuigen met een actieradius van meer dan 300 km.

9E102"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor het "gebruik" van ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of goederen, bedoeld in 9A005 t/m 9A011, ‧onbemande luchtvaartuigen‧ als bedoeld in 9A012 of goederen als bedoeld in 9A101, in 9A102, 9A104 t/m 9A111, 9A115 t/m 9A119, 9B105, 9B106, 9B115, 9B116, 9B117, 9D101 of 9D103.

:

In 9E102 wordt onder ‧onbemande luchtvaartuigen‧ verstaan onbemande luchtvaartuigen met een actieradius van meer dan 300 km."

---

(1)  Niet in het Nederlands ingeburgerde Engelse termen staan tussen ‹enkele guillemets›.

1

(2)  Fabrikanten die instelnauwkeurigheden berekenen overeenkomstig ISO 230/2 (1997) dienen overleg te plegen met de bevoegde autoriteiten van de lidstaat waarin ze gevestigd zijn.

2

(3)  Fabrikanten die instelnauwkeurigheden berekenen overeenkomstig ISO 230/2 (1997) dienen overleg te plegen met de bevoegde autoriteiten van de lidstaat waarin ze gevestigd zijn.

3

(4)  Fabrikanten die instelnauwkeurigheden berekenen overeenkomstig ISO 230/2 (1997) dienen overleg te plegen met de bevoegde autoriteiten van de lidstaat waarin ze gevestigd zijn.

4

(5)  Fabrikanten die instelnauwkeurigheden berekenen overeenkomstig ISO 230/2 (1997) dienen overleg te plegen met de bevoegde autoriteiten van de lidstaat waarin ze gevestigd zijn.

5

(6)  De nummers tussen haakjes verwijzen naar de noten na deze tabel.

6

---

MOTIVERING VAN DE RAAD

I.   INLEIDING

| 1. | De Commissie heeft haar voorstel op 27 september 2010 aangenomen (1). |
| --- | --- |

1.

De Commissie heeft haar voorstel op 27 september 2010 aangenomen (1).

| 2. | Het Europees Parlement heeft in zijn plenaire vergadering van 13 september 2011 zijn standpunt in eerste lezing aangenomen en daarbij het Commissievoorstel zonder amendementen goedgekeurd (2). |
| --- | --- |

2.

Het Europees Parlement heeft in zijn plenaire vergadering van 13 september 2011 zijn standpunt in eerste lezing aangenomen en daarbij het Commissievoorstel zonder amendementen goedgekeurd (2).

| 3. | De Raad heeft op 5 december 2011 een politiek akkoord over het voorstel bereikt (3). |
| --- | --- |

3.

De Raad heeft op 5 december 2011 een politiek akkoord over het voorstel bereikt (3).

| 4. | Op 21 februari 2012 heeft de Raad zijn standpunt in eerste lezing vastgesteld overeenkomstig artikel 294 van het Verdrag. |
| --- | --- |

4.

Op 21 februari 2012 heeft de Raad zijn standpunt in eerste lezing vastgesteld overeenkomstig artikel 294 van het Verdrag.

II.   DOEL

Het voorstel is erop gericht Verordening (EG) nr. 428/2009 (4) in overeenstemming te brengen met de meest recente ontwikkelingen in de betrokken internationale uitvoercontroleregelingen (5), teneinde het risico dat gevoelige producten voor tweeërlei gebruik worden gebruikt voor militaire doeleinden en/of in proliferatieprogramma's, verder te beperken en er tegelijkertijd voor te zorgen dat de legale handel niet wordt gehinderd.

III.   ANALYSE VAN HET STANDPUNT VAN DE RAAD IN EERSTE LEZING

Het standpunt van de Raad in eerste lezing is het resultaat van informele contacten tussen het Europees Parlement, de Commissie en de Raad, overeenkomstig de punten 16, 17 en 18 van de gemeenschappelijke verklaring over de wijze van uitvoering van de medebeslissingsprocedure (6).

De door de Commissie voorgestelde aanpak en de belangrijkste elementen van haar voorstel zijn in het standpunt van de Raad in eerste lezing overgenomen. Daarnaast bevat het een aantal wijzigingen van meer technische aard met betrekking tot de controlelijsten voor goederen en technologieën voor tweeërlei gebruik. Voorts zijn sommige definities geactualiseerd. Om de verordening zo actueel mogelijk te maken, weerspiegelen de wijzigingen de meest recente veranderingen die in verband met de internationale exportcontroleregelingen zijn overeengekomen maar nog niet in het Commissievoorstel waren verwerkt.

---

(1)  Doc. 14933/10.

(2)  Doc. 13964/11.

(3)  Doc. 17331/11.

(4)  PB L 134 van 29.5.2009, blz. 1.

(5)  De Australiëgroep (AG) voor biologische en chemische producten, de Groep van Nucleaire Exportlanden (NSG) voor civiele nucleaire producten, het Missile Technology Control Regime (MTCR) en het Wassenaar Arrangement (WA) voor conventionele wapens en goederen en technologieën voor tweeërlei gebruik.

(6)  PB C 145 van 30.6.2007, blz. 5.

---