标题：电子水处理
产品概述
电子水处理器是当今世界水工业领域的一项最新技术，该产品制造工艺先进，设计合理占地小，安装操作简便，无污染，性能稳定，运行费用低，使用寿命长，一次投资，多年受益。是目前给排水及暖通空调冷却系统，防垢除垢、杀菌灭藻、活化水质，缓蚀的新一代产品。
纯水在电子工业尤其是电子元器件生产中的重要作用日益突出，纯水水质已成为影响电子元器件产品质量、生产成品合格率及生产成本的重要因素之一，水质要求也越来越高。在电子元器件生产中，高纯水主要用作清洗用水及用来配制各种溶液、浆料，不同的电子元器件生产中纯水的用途不同，因此对水质的要求也不同。[1]
在电解电容器生产中，铝箔及工作件的清洗需用纯水，如水中含有氯离子，电容器就会漏电。在电子管生产中，电子管阴极涂敷碳酸盐，如其中混入杂质，就会影响电子的发射，进而影响电子管的放大性能及寿命，因此其配液要使用纯水。在显像管和阴极射线管生产中，其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质，是锌或其他金属的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成，其配制需用纯水，如纯水中含铜在8ppb以上，就会引起发光变色;含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪光跳跃;含有机物胶体、微粒、细菌等，就会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力，并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在黑白显像管荧光屏生产的12个工序中，玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水，每生产一个显像管需用纯水80kg。液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液，如纯水中存在着金属离子、微生物、微粒等杂质，就会使液晶显示电路发生故障，影响液晶屏质量，导致废、次品。
在晶体管、集成电路生产中，纯水主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制，硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配制电镀液等。集成电路生产过程中的80%的工序需要使用高纯水清洗硅片，水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，重金属(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低，Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，Ⅴ族元素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化，水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的20-50%)会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏，水中的颗粒(包括细菌)如吸附在硅片表面，就会引起电路短路或特性变差。
二、膜技术在纯水制造中的应用
纯水制造中应用的膜技术主要有电渗析(ED)、反渗透(RO)、纳滤(NF)、超滤(UF)、微滤(MF)。
纯水制造中常用的膜技术
与传统的水处理技术相比，膜技术具有工艺简单、操作方便、易于自动控制、能耗小、无污染、去除杂质效率高、运行成本低等优点，特别是几种膜技术的配合使用，再辅之以其他水处理工艺，如石英砂过滤、活性炭吸附、脱气、离子交换、UV杀菌等，为去除水中的各种杂质，满足日益发展的电子工业对高纯水的需要，提供了有效而可靠的手段，而且也只有应用了多种膜技术，才能生产出合格、稳定的高纯水，才能生产出大规模、超大规模、甚大规模集成电路(LSI、VLSI、ULSI)，从而使计算机、雷达、通讯、自动控制等现代电子工业的发展和应用得以实现。值得一提的是：当原水的含盐量大于400mg/L时，纯水制造的除盐工序采用RO-离子交换工艺后，比早先单用离子交换可节约酸、碱约90%左右，使离子交换柱的周期产水量提高10倍左右，事实证明，可以降低纯水制造的运行费用和制水成本，可以减少工人的劳动强度，可以减少对环境的污染，并可使纯水水质得到提高并长期稳定。据统计，在我国电子工业引进的纯水制造系统中，有RO的约占系统总数的90%，有UF的约占20%，有MF的几乎为100%，而ED在我国国产的纯水系统特别是早期投产的纯水系统，以及为数众多的对纯水水质要求不高的一般电子元器件(如电阻、电容、黑白显像管、电子管等)制造厂的纯水系统中占有相当的比例。
三、微电子工厂纯水站使用膜技术实况
现以某微电子工厂中的某一纯水站使用膜技术的实况，说明膜技术在电子工业纯水制造中的应用。
1.前级UF
前级UF是用于去除水中的悬浊物、胶体及有机物，降低水的SDI值，确保RO的安全运行。前级UF有5组，每组45根组件，共225根组件，进水280m3 /h，透过水250 m 3 /h，浓缩水排放，回收率约90%。UF前采用5μm保安过滤器。
2.一级RO
水中加入还原剂Na 2 SO 3 (加药量为水中余氯值的1.8倍)以防止余氯氧化腐蚀RO膜，加入防垢剂(NaPO 3 ) 6 (加药量为5ppm)以防止CaCO3 、CaSO 4 等在RO膜上结垢，再经5μm 保安过滤器后由高压泵打进一级RO。一级RO有4组，均为二段。其中三组为每组8根膜容器，呈(5+3)排列，第4组为11根膜容器，呈(8+3)排列，膜容器由FRP(玻璃钢)制成，每根内装6个RO膜元件，总共为210个RO膜元件，进水250m 3 /h，透过水188m3 /h，浓缩水排放，回收率为75%，脱盐率>90%(初始脱盐率>99%)，操作压力1.55Mpa。RO膜元件采用芳香聚酰胺复合反渗透膜，膜元件平均脱盐率99.5%。
3.二级RO
一级RO水箱出水中一部分进入A系统，先加NaOH(CP级)调节pH为8.2-8.6，使水中CO 2 生成HCO 3 - ，被二级RO除去，以减轻混床离子交换的负担，采用二级RO可以使混床再生周期延长一倍，减少再生酸碱耗量，并可进一步去除TOC和胶体物质。二级RO前采用3μm保安过滤器，二级RO为一组三段，共10根膜容器，按(6+3+1)排列，每根容器内装6只RO膜元件，共60只RO膜元件，进水70m 3 /h，出水62m 3 /h，浓水排至超滤水箱，回收率为90%，脱盐率>70%(初始脱盐率>80%)，RO膜元件型号与一级RO膜元件相同。
4.后级UF
后级UF是用于去除水中的微粒、微生物、胶体、有机物等的终端过滤设备。
A系统后级UF为3组，每组18支，共54支组件，进水92 m 3 /h，出水90 m 3 /h，浓水排至一级RO水箱，回收率约98%。
B系统后级UF为8组，每组9支，共72支组件，进水168 m 3 /h，出水164 m 3 /h，回收率约98%。
C系统后级UF有3支组件，进水4 m 3 /h，出水3.9 m 3 /h，回收率约98%。
5.微滤
本系统的微滤可分为三类，第一类为前级UF、RO前的保安过滤器，用于去除水中的悬浊物微粒，降低水的SDI值，滤芯为PP(聚丙烯)膜摺迭式滤芯，孔径为5μm或3μm。第二类在离子交换后，用于滤除离子交换树脂碎片，滤芯为PP膜摺迭式滤芯，孔径为1μm。第三类在UV杀菌器后，用于滤除微生物尸体，滤芯为N-6(尼龙6)膜摺迭式滤芯，孔径为0.45μm或0.2μm。
应用范围
应用冷却塔、热交换器、电锅炉、燃油锅炉、热水锅炉、蒸气锅炉、饮用水系统、游泳池、喷泉、桑那池、中央空调、循环水处理、电厂粉煤灰冲洗系统等。
功能特征
一、防垢除垢
二、杀菌灭藻
三、防腐蚀
技术参数
1、处理效果
①.  电子水处理缓蚀率：≤0.125mm/a；
②.阻垢、除垢率：≥90%；
③.杀菌、灭藻率：≥80%。
2、进水要求
①.总硬度（以CaCO3计）：≤800mg/L；
②.水温：≤50℃（特殊情况可定制）；
③.流速：>1米/秒，≤2.8米/秒。
3、工作环境参数
①.工作压力：≤1.6MPa；
②.系统压力：≥0.3MPa；
③.工作电压：220v±10%/50Hz；
④.工作温度：-25℃—+95℃；
⑤.工作环境温度：-25℃—+50℃；
⑥.相对湿度：<95%（温度25℃时）。
工作原理
电子水处理器工作时，水流由进水口进入仪器内部，在高频电磁场作用下，形成电磁极化水。这种水流经受热体时，形成针状结晶，成为松软、沙状软垢，便于沉淀，不易板结于受热面，可随水流动，通过排污渠道排出，防止新垢产生，电磁极化水渗透性和偶极距增大可浸润老垢，使之龟裂，脱落。此外，电磁极化水还可以杀灭水中的菌藻，抑制微生物的繁殖。因器壁金属离解受到抑制，对无垢系统有防腐作用
设备选型表
型 号
进出水
管径
（mm）
处理流量
（m3/h）
功率
（w）
外型尺寸（mm）
长(mm)
重量（Kg）
罐体直径
φ
QC-DZ/1.0-50
50
10-20
40
80
480
7
QC-DZ/1.0-65
65
20-30
45
95
500
12
QC-DZ/1.0-80
80
30-50
50
100
530
19
QC-DZ/1.0-100
100
50-80
60
108
550
23
QC-DZ/1.0-125
125
80-120
80
133
600
29
QC-DZ/1.0-150
150
120-180
100
159
650
35
QC-DZ/1.0-200
200
180-320
120
219
750
46
QC-DZ/1.0-250
250
320-500
140
273
750
58
QC-DZ/1.0-300
300
500-700
160
325
800
85
QC-DZ/1.0-350
350
700-1000
180
377
850
131
QC-DZ/1.0-400
400
1000-1200
200
426
900
162
QC-DZ/1.0-450
450
1200-1600
220
478
950
186
QC-DZ/1.0-500
500
1600-2000
250
529
1000
227
QC-DZ/1.0-600
600
2000-2800
300
630
1050
308
备 注
其它规格的设备，在订货时单独提供有关外型尺寸参数。

安装与使用
DC变频电子除垢器采用国家标准管道和标准法兰盘,水流速度<2.8m/s,以管道尺寸作为入口尺寸选用变频电子除垢器,水流速度大于2.8m/s,或水质总硬度大于700CaCO3选用大一规格变频电子除垢器。
DC变频电子除垢器的设置，要求靠近用水设备，当几台用水设备并联时，可在供水干管上设一台电变频电子除垢器；当几台用水设备串联时，则须在每台用水主设备的进入管上分别设一台。