标题：蒋昌忠
湖北省文化厅厅长题像
蒋昌忠自幼酷爱美术、摄影等，搜长花鸟画，尤喜画竹。自感与清代郑板桥有相同的爱好与秉性，而常以板桥为人、为官、为画之风自勉。几十年来，钟情翰墨，感悟自然，在多彩多姿的人生旅途中辛勤耕耘。在立足传统技法的基础上，对各种技法兼收并蓄，灵活变通，形成自己的风格特色。 
蒋昌忠在中国美术馆美国纽约、日本名古屋等地举办过多次个人画展，其作品入选第十届全国美展等全国和省、市大展，获1999年全国工艺美术、书法大展特别金奖等奖励，并被美国、加拿大、法国、奥地利、巴西、澳大利亚、日本、韩国、新加坡及香港、台湾等多家博物馆、美术馆和个人收藏。 
由于他首创旅游农业理论，并以其工作实践撰写的论文《走特色路，兴旅游农业》评为建国五十周年全国征文大赛优秀一等奖和他在书画领域取得的成绩等，2000年被国家科技部人才中心评为全国十大新闻人物。
他的艺术格言：画竹先学竹，为官先为人。
工作学习履历
蒋昌忠, 男，汉族，湖北省公安县人，1962年5月生，研究生学历，理学博士学位，1983年9月加入中国共产党，1983年7月参加工作。现任武汉大学党委副书记、纪委书记，教授、博士生导师。毕业于法国里昂克洛德贝尔纳一大。[1]　学习简历:华中科技大学物理系应用物理专业79级, 理学学士 (1983年)
武汉大学法语系进修法语，（1983.9-1985.7）
复旦大学物理系进修固体物理，（1985.9-1986.1）  
武汉大学物理系核技术应用专业87级研究生，理学硕士 (1990)
Centre de Spectrométrie Nucléaire et de Spectrométrie de Masse (CSNSM)， Paris，France。
（1994.10-1996.10，进修加速器和透射电镜联机技术及应用）
Université Claude Bernard Lyon-1，(转国家公派博士研究 1996.11－1999.4)，理学博士 Ph.D (1999.4) 工作履历:武汉大学物理系 助教(1983.7-)
武汉大学物理系 讲师(1991.9-)
武汉大学物理与电子信息学院 副教授(1999.9-)
武汉大学物理科学与技术学院 教授(2001.9-) 
祥述:
1979年9月至1983年7月华中工学院（华中科技大学）理化系本科生，获理学学士学位；
1983年7月起任武汉大学物理系教师；
1985年9月至1986年1月复旦大学物理系进修；
1987年9月至1990年7月武汉大学物理系硕士研究生，获理学硕士学位；
1992年9月至1993年8月借调到国家教育委员会(教育部)科技司攻关处工作；
1993年9月至1994年7月北京外国语大学进修法语；
1994年10月至1996年10月国家公派赴法国奥赛(Orsay)核谱质谱中心(CSNSM)进修；
1996年11月至1999年5月法国里昂一大(Université Claude Bernard Lyon-1)材料物理系博士研究生，获理学博士学位；
1999年5月回国并继续在武汉大学物理与电子信息科学学院任教，1999年10月任院长助理；
2000年12月任物理科学与技术学院党委书记、副院长；
2004年1月任武汉大学科学技术部部长；
2004年7月当选武汉大学第七届党委委员；
2007年4月至6月在国家教育行政学院第27期中青班学习，任总班长；
2007年6月任武汉大学校长助理；2009年6月起任武汉大学党委常委、副校长。
2012年6月任武汉大学党委副书记、纪律检查委员会书记。[1-2]
1984年9月任助教，1991年9月任讲师，1999年9月晋升为副教授，2001年9月晋升为教授，2003年7月遴选为博士生导师。社会兼职经历中国仪表功能材料学会理事
中国电镜学会仪器专业委员会委员
湖北省核学会第三届理事会常务理事兼副秘书长
湖北省青年联合会第十届委员会委员
全法中国科技工作者协会常务理事兼副秘书长 (1996-1997)
法国奥赛(Orsay)地区中国留学人员联谊会主席(1995-1996)研究领域研究特长是用离子束方法合成材料，对材料进行离子束表面改性。对加速器和离子注入机原理和实践非常熟悉，对用溅射法（直流、射频）制备薄膜材料非常熟悉。善于使用透射电子显微镜去研究材料，对扫描电子显微学理论和实践有深入的研究。
熟练掌握用蒙特卡罗方法进行计算机模拟计算。
主要研究兴趣为：含纳米晶体材料，光电功能薄膜, 金属薄膜，非晶态薄膜，薄膜材料的光学非线性效应研究，薄膜离子注入改性等。
主持科研项目
1．国家自然科学基金项目（10375044）：
离子注入形成核壳结构纳米颗粒及其性能研究
2. 高灵敏度XXX的研制（国防预研项目）
3．教育部科学技术研究重点项目（104122）
双元素先后注入离子在玻璃相中的成核机制研究
4. 教育部高等学校博士学科点专项科研项目
多层结构纳米颗粒的制备，表征及形成机理研究， 
5．国家自然科学基金项目（10005001）：
金属离子注入玻璃的成核生长机理及光学非线性效应研究
6．国家自然科学基金项目（10045001）：
离子束溅射动态过程的同轴背反射扫描电镜原位研究
7．教育部骨干教师基金：
GaN薄膜的离化团簇法制备、离子掺杂和缺陷研究
8．留学回国人员基金：
一种新型分析扫描电子显微镜的研制
9．武汉大学邵逸周研究基金：
新型分析扫描电子显微镜研究
代表性论文
1) F. Ren, C. Z. Jiang*, J. B. Wang, C. Liu, T. Oku, ″Controlling the morphology of Ag Nanoclusters by Ion Implantation to Different Doses and Subsequent Annealing″, Physical Review Letters 97 (2006) 165501. (Also selected in Virtual J. Nanoscale Science & Technology, October 30, 2006 issue)
2) F. Ren, C. Z. Jiang*, C. Liu, J. B. Wang, ″Fabrication and annihilation of nanovoids in Cu nanoclusters by ion implantation into silica and subsequent annealing″, Applied Physics Letters 88 (2006) 183114.
3) F. Ren, L. P. Guo, Y. Shi, D. L. Chen, Z. Y. Wu, C. Z. Jiang*, ″Formation of Zn-ZnO core-shell nanoclusters by Zn/F sequential ion implantation″, Journal of Physics D: Applied Physics 39 (2006) 488–491. 
4) F. Ren, C. Z. Jiang*, Y. H. Wang, Q. Q. Wang, D. J. Chen, Y. Shi, ″The problem of core/shell nanoclusters formation during ion implantation″, Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B 245 (2006) 427-430. 
5) Xiangheng Xiao, Feng Ren, Changzhong Jiang*, Jianbo Wang, Ying Shi, ″Ion Implantation Inducing Nanovoids Characterized by TEM and STEM″, Solid State Communications, 137 (2006) 362–365. 
6) J. X. Xu, F. Ren, C. Z. Jiang*, D. J. Fu, ″Effect of thermal annealing on the optical properties of low-energy Cu implanted silica glass″, Physica B, 373 (2006) 341–345. 
7) Y. H. Wang, C. Z. Jiang*, F. Ren, Q. Q. Wang, D. J. Chen, D. J. Fu, ″Effect of ingredient concentration on structure and optical properties of Cu nanoclusters″, Physics Letter A 357 (2006) 364-368. 
8) Y. H. Wang, C. Z. Jiang*, F. Ren, Q. Q. Wang, D. J.Chen, D. J. Fu, ″Effect of thermal treatments on third-order nonlinear optical properties of hollow Cu nanoclusters″, Physica E 33 (2006) 244.
9) Feng Ren, Chang-Zhong Jiang*, De-Jun Fu, Qiang Fu, ″Raman scattering studies on Ag nanoclusters composites formed by ion implantation into silica″, Japanese Journal of Applied Physics part 1, Vol. 44, No 12 (2005) 8512-8514. 
10) F. Ren, C. Z. Jiang*, C. Liu, D.J. Fu, Y. Shi, ″Interface influence on the surface plasmon resonance of Ag nanocluster composite″, Solid State Communications 135 (2005) 268-272. 
11) Feng Ren, Chang-Zhong Jiang*, Chang Liu, Yin Shi, Jian-Bo Wang, ″Alloy and core-shell nanoclusters formed by sequential ion implantation and thermal annealing″, Journal of the Korean Physical Society 46 (2005) S43-S47.
12) F. Ren, C. Z. Jiang*, H. B. Chen, Y. Shi, C. liu, J. B. Wang, ″Metal alloy and monoelemental nanoclusters in silica formed by sequential ion implantation and annealing in selected atmosphere″, Physica B 353 (2004) 92–97.
13) F. Ren, C. Z. Jiang*, L. Zhang, Y. Shi, J.B. Wang, R.H. Wang, ″Formation and microstructural investigation of Ag-Cu alloy nanoclusters embedded in SiO2 formed by sequential ion implantation″. Micron 35 (2004) 489–493
14) X. H. Xiao, F. Ren, J. B. Wang, C Liu, C. Z. Jiang*, ″Formation of Aligned Silver Nanoparticles by Ion Implantation″, Materials Letters (Accepted).
15) C. Z. Jiang, P. Morin and N. Rosenberg. ″A New Type of Scanning Electron Microscope Using the Coaxial Backscattered Electrons″, Micron, 33 (2002) 69 -74. 
16) C. Z. Jiang, ″In situ TEM observation of the formation of nickel nanocrystals in Ni-implanted amorphous SiO2 thin films″, Journal Material Science Letters, 20(2001) 1335-1337. 
17) C. Z. Jiang, N. Rosenberg and P. Morin. ″The Spatial Distribution and Resolution of Coaxial Backscattered Electron in SEM Calculated by Monte Carlo Simulations″, J. Micros., 198(2000) 17-23. 
18) C. Z. Jiang, X. J. Fan. ″In-situ TEM observation of silver nanocrystals in an Ag-implanted SiO2 film″, Surf. Coat. Technol., 131 (2000) 330-333. 
19) Jiang Chang Zhong, P. Morin and N. Rosenberg, ″Energy Filtering and Coaxial Detection of the Backscattered Electrons in Scanning Electron Microscope″, Chin. Phys. Lett., 17 (2000) 637-639. 
20) N. Rosenberg, C. Z. Jiang and P. Morin, ″Monte Carlo simulations of coaxial backscattered electrons in SEM″, Ultramicroscopy, 76(1999) 97-10.