标题：谢常青
简介：
谢常青，男，1971年出生，广西浦北县人，中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成实验室研究员，硕士生导师。 
兼职情况：

《微细加工技术》编委。
学习和工作经历：

1993年毕业于中国科学技术大学，大学毕  谢常青研究员业后在中国科学院微电子研究所工作，历任工程师、高级工程师、副研究员、研究员。 
1993年起即从事深亚微米光学光刻和下一代光刻技术的研究开发工作，具有多年丰富的深亚微米、纳米光刻经验和坚实的理论研究基础。
研究方向：

(1)先进的纳米光刻技术研究（包括深紫外激光直写、电子束光刻、X射线光刻、193nm光学光刻等）； 
(2)纳米尺度深紫外光学元件的设计、制造、检测及应用研究。 
纳米加工与新器件集成实验室是国内最早开展亚微米微细加工技术的研究室，在深亚微米微细加工技术方面一直保持着国内领先的地位和自主创新的特色，同时在科研成果的应用开发与转化方面也进行了卓有成效的工作。 
近年来主持研究成功十多种5000线/mm、7000线/mm衍射光学元件并获得成功应用。
主要业绩：

承担过包括“863”、“973”、国家科技攻关在内的10多项科研项目，曾为国内50多家科研单位、公司提供过微纳加工技术服务。 
以第一作者发表论文32篇，在国内学术会议上发表论文9篇，合作发表论文50多篇，
正在进行的研究项目：

(1) 纳米尺度X射线光学元件设计、制作及应用，2007-2012，973项目子课题； 
(2)低应力自支撑SiC薄膜生长的10000C高真空等离子体沉积设备，2007-2009，中国科学院重大科研装备研制项目； 
(3)所长基金等其它项目3项。
著作：

合作完成论著《微细加工技术》一本（化学工业出版社，2004年），
专利：

以第一申请人申请国家发明专利8项，合作申请专利5项。
培养研究生情况：

已经指导毕业硕士研究生多名，博士研究生多名，目前指导在读博士研究生6名。
获奖情况：

在2003年和2006年分别获得北京市科学技术进步一等奖。
主要论文：

光子筛的超分辨聚焦特性研究，《光电工程》2009年 第3期 
电子束光刻在纳米加工及器件制备中的应用，《微纳电子技术》2008年 第12期 
电子束光刻制备5000 line/mm光栅掩模关键技术研究，《微细加工技术》2008年 第4期 
HSQ用于电子束曝光的性能分析，《微细加工技术》2008年 第4期 
基于角谱法的振幅型光子筛的设计和分析，《光子学报》2008年 第9期 
偏栅Al_xGa_(1-x)N/GaN HEMT的二维模拟与特性分析，《固体电子学研究与进展》2007年 第2期 
高线密度X射线透射光栅的制作工艺，《半导体学报》2007年 第12期 
纳米电子器件及其集成，《半导体学报》2006年 第z1期 
侧墙铬衰减型新结构移相掩模的应用，《半导体学报》2006年 第z1期 
Micro Zone Plates with High Aspect Ratio Fabricated by E-Beam and X-ray Lithography,Journal of Microlithography, Microfabrication, and Microsystem. Vol. 5, 013002 (2006) 
单电子晶体管的数值模拟及特性分析，《固体电子学研究与进展》2006年 第3期 
电子束和X射线光刻制作高分辨率微波带片，《半导体学报》2006年 第6期 
DBRTD直流特性的水动力学模拟，《电子器件》2006年 第2期 
AlGaN/GaN HEMT二维静态模型与模拟，《半导体学报》2006年 第2期 
微纳加工技术在微纳电子器件领域的应用，《物理》2006年 第1期 
热压印光刻技术复制波带片图形研究，《微细加工技术》2005年 第3期 
室温下高峰谷电流比、高峰电流密度的双势垒共振隧穿二极管，《半导体学报》2005年 第10期 
纳米加工和纳米电子器件，《微纳电子技术》2005年 第9期 
193nm光刻散射条技术研究，《微电子学》2005年 第4期 
金属结单电子晶体管的模型建立及实验验证，半导体学报》2005年 第7期 
电子束制作高分辨率波带片图形数据研究，《微细加工技术》2005年 第2期 
纳米压印光刻模版制作技术，《电子工业专用设备》2005年 第2期 
X射线光刻对准系统图像增强技术和对准标记研究，《电子工业专用设备》2005年 第2期 
一种提取电子束光刻中电子散射参数的新方法， 《半导体学报》2005年 第3期 
50nm X射线光刻掩模制备关键技术，《核技术》2004年 第2期 
Analysis of nanometer isolated trench diffract aerial image of both conventional and second generation synchrotron-based proximity x-ray lithography，Proceeding of SPIE ,2004, Vol 5645 , 299-306 
基于薄膜结构的MEMS技术研究，《电子工业专用设备》2004年 第1期 
深亚微米X射线光刻模拟软件XLSS1．0，《微细加工技术》2004年 第4期 
X射线光刻技术应用现状与前景，《核技术》2004年 第12期 
用于X射线光刻对准的图像边缘增强技术，《光学精密工程》2004年 第4期 
X射线光刻对准边缘增强技术及性能研究，《微细加工技术》2004年 第2期 
50nm及50nm以下同步辐射X射线光刻光束线设计，《核技术》2004年 第5期 
用三层胶工艺X射线光刻制作T型栅，《半导体学报》2004年 第3期 
应用于PHEMT器件的深亚微米T形栅光刻技术，《微纳电子技术》2002年 第7期 
同步辐射X射线光刻制作深亚微米T形栅，《微纳电子技术》2002年 第6期 
全新深亚微米X射线T型栅工艺，《北京同步辐射装置年报》2001年 第1期 
深亚微米同步辐射x射线光刻模拟，《半导体情报》2001年 第6期 
极端远紫外光刻技术，《半导体情报》2001年 第5期 
下一代光学掩模制造技术，《微电子技术》2000年 第6期 
深亚微米同步辐射x射线光刻技术，《半导体情报》2000年 第6期 
深亚微米光学光刻工艺技术，《电子工业专用设备》2000年 第3期 
深亚微米光学光刻设备制造技术，《电子工业专用设备》2000年 第2期 
上海第三代同步辐射装置及其在光刻和LIGA中的应用，《半导体技术》2000年 第1期 
0.5μm分辨率同步辐射X射线光刻技术，《微细加工技术》1999年 第3期 
X射线光刻技术研究的现状，《微细加工技术》1999年 第3期 
上海第三代同步辐射装置及其在微电子,微机械中的应用，《科技导报（北京）》1999年 第6期 
193nm光学掩模与x射线掩模技术比较，《半导体情报》1999年 第2期 
面向21世纪的世界集成电路工业，《引进与咨询》1998年 第1期 
193nm与x射线光刻技术比较，《半导体技术》1998年 第4期 
面向21世纪的世界集成电路工业，《科技导报（北京）》1997年 第5期 
同步辐射X射线光刻计算机模拟研究，《微细加工技术》1997年 第3期 
同步辐射X射线光刻实验研究，《微细加工技术》1997年 第3期9
五邑大学副教授
谢常青 男，五邑大学副教授。1931年出生，1952年毕业于华南文艺学院文学系。以后一直从事中学教育工作，1978年调入高等学校任教，先在天津师专中文系执教1985年调至五邑大学中文系执教，1992年退休后从事研究著述。主要著作：《香港新文学简史》，1990暨南大学出版社：《日出东方永向前》，1993暨南大学出版社：《马万祺诗词选一集笺释》文学评论，1994暨南大学出版社：《马万祺传》，1998中国文史出版社；《马万祺诗词选二集笺释》，1999中国文史出版社。参加主编的词典有：《新编文学知识词典》，1997年百花出版社。参加撰写的著作有：《中国古代文论概述》，19B8重庆出版社；《历代文论选释》，1989江苏教育出版社。