标题：非氧化物陶瓷及其应用
版权信息
作　　者：刘阳，曾令可，刘明泉　编著
出 版 社：化学工业出版社
出版时间：2011-1-1
版　　次：1  页　　数：403
字　　数：537000 
印刷时间：2011-1-1
开　　本：16开
纸　　张：胶版纸 
印　　次：1
I S B N：9787122096128
包　　装：平装
内容简介
本书以碳化物陶瓷、氮化物陶瓷等为对象，从陶瓷结构基础出发，对原料、工艺、特性及应用作了全面阐述，尤其着重于非氧化物陶瓷的制备技术。烧结工艺、加工技术。 
本书还对非氧化物陶瓷的特殊性能及新应用做了详细论述，如力学、电学、光学、生物化学等，从而使广大读者对非氧化物陶瓷材料有系统而全新的认识。 
本书是作者在完成省市科技攻关项目、国防科技预研项目及在长期教学与科研实践中，对非氧化物陶瓷材料知识的积累和综合，内容丰富、层次分明，不但可以作为专业类研究生、本科生、专科生的教材，而且可以作为广大科研工作者及生产技术人员的参考书。
目录
绪论
1.1 概述
1.2 非氧化物的分类及特点
1.3 研究方向
参考文献
第1篇 碳化物陶瓷
第1章 碳化硅陶瓷
1.1 SiC的晶体结构及性能
1.1.1 SiC的晶体结构
1.1.2 SiC的性能
1.2 SiC粉体的制备
1.3 SiC晶须的制备
1.3.1 晶须的功能
1.3.2 SiC晶须生长机理
1.3.3 SiC晶须的制备方法
1.3.3.1 固相法
1.3.3.2 气相法
1.3.3.3 研究现状
1.3.4 哑铃形碳化硅晶须的制备
1.3.4.1 实验方法
1.3.4.2 仿生碳化硅晶须的形貌
1.3.4.3 仿生哑铃形碳化硅晶须的生长机理
1.4 SiC纳米粉体及SiC晶须的微波合成
1.4.1 实验原料
1.4.2 实验过程
1.4.3 实验结果
1.5 SiC陶瓷的烧结
1.5.1 烧结工艺
1.5.2 SiC陶瓷的烧结
1.6 SiC的应用
1.6.1 SiC用途
1.6.2 SiC晶须的应用
参考文献
第2章 碳化钛陶瓷
2.1 碳化钛的性能
2.1.1 绪论
2.1.2 碳化钛的基本特性
2.1.3 碳化钛的结构、物理及热力学性质
2.1.4 碳化钛结构、性能与化学键
2.2 碳化钛粉体的制备
2.3 微波合成纳米碳化钛粉体
2.3.1 实验过程与方法
2.3.1.1 原料与配方
2.3.1.2 制备工艺
2.3.1.3 试样的测试与表征
2.3.2 制备工艺对微波合成纳米碳化钛的影响
2.3.2.1 合成温度及保温时间的影响
2.3.2.2 原料的影响
2.3.2.3 微波合成碳化钛的纯度分析
2.3.2.4 微波合成的均匀性分析
2.3.2.5 气氛对微波合成的影响
2.3.2.6 常规合成碳化钛
2.3.2.7 小结
2.3.3 微波合成纳米碳化钛的热力学研究
2.3.3.1 热力学基本原理
2.3.3.2 热力学研究
2.3.3.3 小结
2.3.4 微波合成纳米碳化钛的动力学研究
2.3.4.1 基本原理
2.3.4.2 实验方法
2.3.4.3 结果分析
2.3.4.4 小结
2.3.5 微波合成纳米碳化钛反应机理分析
2.3.5.1 机理分析
2.3.5.2 小结
2.3.6 碳化钛粉体的热分析
2.3.6.1 试样准备
2.3.6.2 结果分析
2.3.6.3 小结
2.4 碳化钛陶瓷的烧结
2.4.1 热压烧结
2.4.1.1 热压烧结的优点
2.4.1.2 热压烧结参数的选择
2.4.1.3 热压烧结的发展
2.4.2 真空烧结
2.4.3 热等静压烧结
2.4.4 自蔓延高温烧结
2.4.5 微波烧结
2.4.6 放电等离子烧结
2.4.7 等离子体烧结
2.5 碳化钛陶瓷的应用
2.5.1 碳化钛刀具材料
2.5.2 碳化钛宇航材料
2.5.3 碳化钛用于堆焊焊条
2.5.4 碳化钛用于涂层材料
2.5.5 碳化钛用于制备泡沫陶瓷
2.5.6 在红外辐射陶瓷材料方面的应用
2.5.7 碳化钛基金属陶瓷
参考文献
第3章 碳化硼陶瓷
3.1 碳化硼的晶体结构
3.2 碳化硼粉末的制备
3.3 碳化硼的烧结
3.3.1 常压烧结
3.3.2 热压烧结
3.3.3 热等静压烧结
3.3.4 活化烧结
3.3.4.1 细化粉末颗粒
3.3.4.2 添加烧结助剂
3.3.5 放电等离子烧结
3.3.6 碳化硼陶瓷致密化
3.3.6.1 纯碳化硼的烧结致密化
3.3.6.2 含有添加剂的碳化硼陶瓷的致密化
3.3.6.3 粉末特性对材料致密化的影响
3.3.6.4 热处理可提高陶瓷材料的致密度
3.3.6.5 制备工艺对碳化硼陶瓷性能的影响
3.4 碳化硼的应用
参考文献
第4章 碳化钨陶瓷
4.1 WC的相图
4.2 WC粉末的制备技术
4.2.1 化学法
4.2.2 气相合成法
4.2.3 液相法
4.2.4 高频等离子化学气相沉积法(RF?PCVD)
4.2.5 超临界CO2热处理法
4.2.6 燃烧法
4.2.7 喷雾热转化法
4.2.8 催化法
4.2.9 微波合成法
4.2.1 0低温碳化法
4.3 一维纳米碳化钨的制备
4.3.1 一维纳米结构碳化钨的生长机理
4.3.2 一维纳米结构碳化钨的制备
4.4 WC陶瓷及其复合材料的制备技术
4.4.1 WC陶瓷的制备技术
4.4.2 WC增强的复合材料的制备技术
4.4.3 碳化钨复合涂层制备技术
4.5 WC及其复合材料的应用
参考文献
第5章 碳化锆陶瓷
5.1 碳化锆的结构和性能
5.2 碳化锆粉体的制备
5.3 ZrC陶瓷的制备
5.3.1 ZrC陶瓷的制备
5.3.2 ZrC陶瓷涂层的制备
5.3.3 ZrC增强复合材料的制备
5.4 ZrC陶瓷的应用
参考文献
第6章 碳化钒陶瓷
6.1 碳化钒的物理特性
6.1.1 非化学计量化合物与晶体缺陷
6.1.2 碳化钒的晶体结构
6.1.3 一级和二级相变
6.1.4 碳化钒有序?无序相转变
6.1.5 有序?无序碳化钒性质的比较
6.2 碳化钒粉体的制备方法
6.2.1 超细碳化钒粉末的制备方法
6.2.2 纳米级碳化钒粉末的制备方法
6.2.3 纳米V8C7粉末的制备
6.2.3.1 原料
6.2.3.2 工艺过程
6.2.3.3 试验结果与分析
6.3 碳化钒的应用
6.3.1 钢铁添加剂
6.3.2 硬质合金的晶粒长大抑制剂
6.3.2.1 超细硬质合金
6.3.2.2 硬质合金的晶粒长大抑制剂
6.3.3 在电子领域中的应用
6.3.4 热喷涂材料
6.3.5 合成金刚石
6.3.6 催化材料
6.3.7 制备无磁硬质合金
参考文献
第7章 碳化铬陶瓷
7.1 碳化铬的性能
7.2 碳化铬粉体的制备
7.2.1 喷雾干燥?还原分解?气相碳化法
7.2.2 CH4?H2气相还原/碳化亚稳态铬氧化物法
7.2.3 固相法
7.3 碳化铬涂层的制备
7.3.1 等离子喷涂
7.3.2 爆炸喷涂
7.3.3 SHS熔覆涂层
7.3.4 真空熔烧法
7.4 碳化铬复合材料
7.4.1 Al2O3/Cr3C2复合材料
7.4.2 Cr3C2/Ni3Al复合材料
7.4.3 Cr3C2基金属陶瓷
7.5 碳化铬陶瓷的应用
7.5.1 润滑材料
7.5.2 复合材料
7.5.3 耐磨涂层
7.5.4 梯度材料
参考文献
第8章 其他碳化物陶瓷
8.1 碳化铪陶瓷
8.1.1 碳化铪的性能
8.1.2 碳化铪粉体的制备
8.1.3 碳化铪的应用
8.2 碳化钽、碳化铌陶瓷
8.2.1 碳化钽、碳化铌的性能
8.2.2 碳化钽、碳化铌粉体的制备
8.2.2.1 钽、铌碳化物的基本生产方法
8.2.2.2 超细钽、铌碳化物的制备技术
8.2.3 碳化钽、碳化铌的应用
8.3 碳化钼
8.3.1 碳化钼的性能
8.3.2 碳化钼粉体的制备
8.3.3 碳化钼涂层的制备
8.3.4 碳化钼的应用
8.3.4.1 材料改性
8.3.4.2 催化材料
8.3.4.3 电化学容器
8.4 碳化铀
8.4.1 碳化铀的性能
8.4.2 碳化铀粉体的制备
8.4.3 碳化铀的烧结
8.4.4 碳化铀的应用
参考文献
第2篇 氮化物陶瓷
第9章 氮化硼陶瓷
9.1 氮化硼的晶体结构
9.2 六方BN粉体的制备
9.3 HBN纤维制备方法
9.4 HBN薄膜制备方法
9.5 立方氮化硼的合成
9.6 立方氮化硼薄膜的制备
9.7 BN纳米管的制备
9.7.1 BN?NTs的结构
9.7.2 BN?NTs的制备
9.8 聚晶立方氮化硼的制备
9.8.1 PCBN的性能特点
9.8.2 PCBN的制备
9.9 BN陶瓷的烧结
9.1 0BN陶瓷的应用
9.10.1 六方BN的应用
9.10.2 立方BN的应用
9.10.3 BN纳米管(BN?NTs)的应用
9.10.4 聚晶立方氮化硼(PCBN)
工具材料的应用
参考文献
第10章 氮化铝陶瓷
10.1 氮化铝的结构与特性
10.2 AlN粉末的制备
10.3 纳米氮化铝粉体的制备
10.3.1 气相合成法
10.3.2 液相合成法
10.3.3 固相合成法
10.4 一维纳米结构氮化铝的制备
10.5 一堆纳米结构氮化铝的物理性能
10.6 氮化铝薄膜的制备
10.6.1 薄膜发光原理
10.6.1.1 器件结构
10.6.1.2 发光层
10.6.2 AlN薄膜发光性能
10.6.3 AlN发光薄膜发展趋势
10.7 AlN薄膜的制备方法
10.8 氮化铝陶瓷的烧结
10.8.1 AlN陶瓷的烧结
10.8.2 半透明AlN陶瓷的制备
10.8.3 AlN陶瓷的性能改进
10.9 氮化铝陶瓷的应用
参考文献
第11章 氮化硅陶瓷
11.1 晶体结构
11.2 Si3N4陶瓷的性能
11.3 Si3N4粉末的制备
11.3.1 直接氮化法
11.3.2 气相合成法
11.3.3 自蔓延法
11.3.4 立方氮化硅的制备
11.3.5 纳米氮化硅粉体的改性
11.3.6 氮化硅晶须的制备
11.4 氮化硅薄膜的制备
11.4.1 氮化硅薄膜特性及生长机理
11.4.2 氮化硅薄膜的制备方法
11.4.2.1 化学气相沉积(CVD)法
11.4.2.2 物理气相沉积(PVD)法
11.5 氮化硅陶瓷的制备
11.6 氮化硅的应用
参考文献
第12章 氮化钛陶瓷
12.1 TiN的结构与性质
12.1.1 Ti?N二元系相图
12.1.2 TiN的晶体结构
12.1.3 TiN的物理性质
12.1.4 TiN的化学性质
12.2 氮化钛粉末的制备
12.2.1 以金属Ti粉或TiH2粉为原料制备氮化钛粉末
12.2.2 以Ti的氧化物为原料制备氮化钛粉末
12.2.3 化学气相沉积法(CVD)
12.2.3.1 传统条件下TiN的CVD制备
12.2.3.2 在不同源物质下TiN的CVD制备
12.2.4 熔盐法制备氮化钛粉末
12.2.5 溶剂热合成法
12.3 纳米氮化钛粉末的微波合成
12.3.1 实验原料
12.3.2 实验方法
12.3.3 TiN生成率的计算
12.3.4 配方设计
12.3.5 实验结果
12.3.6 结果分析
12.3.6.1 合成反应的热力学分析及机理
12.3.6.2 合成TiN的颗粒大小
12.3.6.3 微波合成反应机理
12.3.6.4 微波合成TiN的元素分析
12.3.6.5 微波合成TiN的氧化分析
12.4 碳氮化钛的微波合成
12.4.1 制备方法
12.4.2 实验过程
12.4.3 实验结果
12.4.4 结果分析
12.4.5 结论
12.5 晶须的制备
12.6 超硬TiN薄膜的制备
12.6.1 超硬TiN薄膜存在的问题
12.6.2 Ti?Si?N纳米薄膜的制备
12.6.3 Ti?Si?N纳米薄膜的性能分析
12.7 氮化钛陶瓷的应用
12.7.1 Ti(C，N)基金属陶瓷
12.7.2 复相陶瓷材料
12.7.3 耐火材料
12.7.4 生物材料
12.7.5 节能涂层材料
12.7.6 生物形态多孔陶瓷
12.7.7 透明陶瓷保护膜
参考文献