Spektra: Jurnal Fisika dan Aplikasinya http://doi.org/10.21009/SPEKTRA

## POTENSI PEMBENTUKAN LAPISAN SUPER DAN ULTRA KERAS SENYAWA KOMPOSIT NITRIDA MENGGUNAKAN KAIDAH ELEKTRODEPOSISI

## Esmar Budi 1, a)
1 Program Studi Fisika dan Pendidikan Fisika FMIPA, Universitas Negeri Jakarta Jl. Pemuda No 10, Jakarta 13220
Email: a) esmarbudi@unj.ac.id

## Abstrak
Komposit  senyawa  nitrida  super  dan  ultra  keras  memiliki  potensi  untuk  menggantikan  material  intan dalam berbagai aplikasi  mekanik. Tingkat  kekerasan  super  dan ultra  lapisan komposit senyawa nitrida diperoleh  melalui  pembentukan  struktur  nano  yang  mampu  mempertahankan  tingkat  kekerasan  tinggi hingga  suhu  aplikasi  mencapai  1100 0 C.  Pembentukan  struktur  nano  terjadi  melalui  segregrasi  fase spontan secara termodinamika antara butir fase kristal nitrida dan matrik fase amorf nitrida. Salah satu komposit senyawa nitrida super dan ultra keras adalah TiAlN/Si 3 N 4 dengan TiAlN sebagai fase kristal dan  Si 3 N 4 sebagai  amorf.  Senyawa  TiAlN  memiliki  keunggulan  dibandingkan  dengan  senyawa  nitrida lain  terutama  tingkat  kekerasan  yang  tinggi  serta  ketahana  aus  dan  korosi  suhu  tinggi  hingga  700 0 C. Aplikasi  senyawa  nitrida  dilakukan  melalui  pembentukan  lapisan  tipis  komposit  menggunakan  kaidah deposisi. Namun demikian kaidah ini relatif mahal dan rumit karena memerlukan kondisi ruang hampa. Kaidah lain yang relatif lebih murah, mudah dan cepat dalam pembentukan lapisan komposit senyawa nitrida  adalah  kaidah  elektrodeposisi  yang  bekerja  berdasarkan  prinsip  elektrokimia.  Telah  dilakukan kajian awal pembentukan lapisan tipis komposit Ni-TiAlN menggunakan kaidah elektrodeposisi. Logam nikel (Ni) digunakan sebagai matrik karena sifat ketahanan korosi yang baik. Komposisi, morfologi dan struktur  kristal  serta  ketahanan  korosi  lapisan  komposit  dipengaruhi  oleh  parameter  elektrodeposisi seperti  arus  elektrodeposisi  dan  konsentrasi  partikel  TiN  dan  AlN.  Pembentukan  lapisan  komposit  Ni- TiAlN/  Si 3 N 4 mennggunakan  kaidah  elektrodeposisi  berpotensi  menghasilkan  lapisan  komposit  nitrida super dan ultra keras.
Kata-kata kunci : Senyawa nitrida super dan ultra keras, lapisan komposit nikel-nitrida, elektrodeposisi.

## Abstract
Super  and  ultra  hard  nitride  compound  composite  has  potency  to  replace  the  diamond  material  in various  mechanical  applications.  The  violence  level  of  super  and  ultra  composite  layer  of  nitride compound  is  obtained  through  nanostructures  formation  were  able  to  maintain  high  levels  of  violence until  the  temperature  reached  1100 0 C.  The  formation  of  nanostructures  occur  through  spontaneous phase segregation thermodynamically between nitride crystal phase grains and amorphous nitride phase matrix.  One  of  super  and  ultra  hard  nitride  compound  compisite  is  TiAlN/Si 3 N 4 by  TiAlN  as  crystal phase  and  Si 3 N 4 as  amorf.  TiAlN  compound  has  exellence  compared  to  other  nitride  compound expecially  high  degree  of  violence  and  wear  resistance  and  high  temperature  corrosion  untill  700 0 C. Applications  nitride  compound  through  forming  a  thin  layer  of  composite  use  deposition  methode. However  this  methode  relatively  expensive  and  complicated  because  it  requires  a  vacuum  condition. Another  methode  that  relatively  cheaper,  easier  and  faster  in  the  formation  of  the  composite  layer  of nitride  compound  is  electrodeposition  methode  that  works  on  the  principle  of  electrochemistry.  Initial study  of  formation  Ni-TiAlN  thin  layer  composite  that  use    electrodeposition  has  been  done.  nickel
DOI: doi.org/10.21009/SPEKTRA.012.14
Spektra: Jurnal Fisika dan Aplikasinya http://doi.org/10.21009/SPEKTRA
metal  (Ni)  is  used  as  a  matrix  because  good  corrosion  resistance  properties.  The  composition, morphology,    crystal  structure,  and  the  corrosion  resistance  of  composite  layer  are  affected  by electrodeposition  parameters  such  as  electrodeposition  current  and  the  concentration  of  particles  TiN and  AlN.  The  formation  of  the  composite  layer  Ni-TiAlN/Si 3 N 4 using  electrodeposition  methode potentially resulting super and ultra hard nitride composite layer.
Keywords: Super and hard nitride compound, nickel-nitride composite layer, electrodepisition.

## 1. PENDAHULUAN
Material keras hingga super keras dan ultra keras banyak dimanfaatkan sebagai perkakas maupun senjata  dalam  setiap  peradaban  manusia  mulai  dari jaman  batu,  kayu,  tulang,  gading  hingga  logam [1].  Di  awal  jaman  logam,  perunggu  memainkan  peran  penting  sebagai  material  perkakas  sebelum kemudian  digantikan  oleh  baja  hingga  kemudian  ditemukannya  material  paling  keras  intan  yang pemanfaatnya  dilakukan  secara  industri.  Bahkan  intan  dipercaya  merupakan  material  abad  21 dikarenakan keunggulan sifat-sifatnya [2]. Seperti yang telah diketahui bahwa intan sebagai material alotropik dari karbon kubus dikenal sebagai material paling keras yang banyak dimanfaatkan dalam keperluan  operasi  industri  sebagai  perkakas  potong  bubut  (turning  dan  milling)  maupun  mata  bor. Akan  tetapi,  intan  memiliki  keterbatasan  suhu  pemakaian  dimana  intan  mengalami  reaksi  oksidasi pada  suhu  600 0 C,  dapat  berubah  menjadi  heksagonal  karbon  pada  suhu  900 0 C  serta  mengalami reaksi  degradasi  dengan  paduan  logam  seperti  baja  dan  nikel  melalui  pembentukan  pembentukan karbida.  Sehingga  penggunaan  intan  menjadi  terbatas  hanya  pada  suhu  sedang  dan  hanya  untuk material  bukan  logam  saja.  Untuk  itu  dilakukan  sintesis  senyawa  intan  sintetis  guna  mengatasi  hal tersebut dengan salah satunya adalah senyawa nitrida.

## 2. MATERIAL

## 2.1. Senyawa Nitrida
Salah  satu  senyawa  nitrida  yang  banyak  dimanfaatan  dalam  operasi  industri  adalah  senyawa TiAlN.  Senyawa  TiAlN  sebagai  salah  satu  logam  transisi  nitrida  memiliki  kekerasan  yang  tinggi serta  kestabilan  termal  dan  ketahanan  korosi  yang  tinggi  [3].  Secara  umum  struktur  kristal  TiAlN adalah kristal kubus pusat muka (fase (Ti,Al)N) dan heksagonal (fase AlN) [4]. Pencapaian tertinggi sifat kekerasan lapisan logam transisi nitrida diperoleh melalui pembentukan lapisan super dan ultra keras  (TiAl)N/Si 3 N 4 dengan  nilai  kekerasan  mendekati  kekerasan  intan  dengan  kestabilan  termal hingga  suhu  1200 0 C  [5,6].  Nilai  kekerasan  lapisan  TiAlN  secara  umum  bersumber  dari  tegangan kompresif  sisa  yang  akan  berkurang  saat  lapisan  diaplikasikan  pada  suhu  tinggi.  Namun pembentukan lapisan TiAlN yang dikombinasikan dengan Si 3 N 4 mampu mempertahankan kekerasan meskipun  pada  aplikasi  suhu  tinggi.  Hal  ini  disebabkan  oleh  pengaturan  sendiri  (self-organization) struktur nano lapisan sebagai hasil dari segregasi fase secara termodinamika [7].  Selain itu lapisan TiAlN memiliki kestabilan terhadap oksidasi hingga suhu 800 0 C melalui pembentukan lapisan pasif oksida (AlTiO) [8].
Gambar 1. Morfologi permukaan lapisan TiAlN pada baja HSS [9].
Spektra: Jurnal Fisika dan Aplikasinya http://doi.org/10.21009/SPEKTRA
Senyawa nitrida keras lain adalah senyawa Si 3 N 4 yang merupakan senyawa keramik dengan sifat mekanik,  kestabilan kimia, dan konduktivitas termal yang  baik khususnya pada suhu tinggi. Secara umum senyawa Si 3 N 4 merupakan senyawa kovalen bersifat polimorf heksagonal α-Si 3 N 4 dan β-Si 3 N 4 dengan  β-Si 3 N 4 merupakan  fase  yang  lebih  stabil.  Secara  umum  serbuk  senyawa  Si 3 N 4 dipadatkan melalui mekanisme sintering dengan menambahkan beberapa oksida pada permukaan partikel Si 3 N 4 untuk  membentuk  fase  cair  yang  kemudian  memadat  melalui  mekanisme  penyusunan  kembali partikel-partikel dan presipitasi larutan selama proses sintering. Setelah proses sintering selesai fase cair berubah menjadi fase glass atau kristalin sebagian (oksinitrida) pada material tersinter sehingga hadir sebagai fase kedua yang terisolasi. Fase kedua ini hadir sebagai cacat pada butir Si 3 N 4. Hantaran kalor  pada  partikel  Si 3 N 4 terjadi  melalui  mekanisme  fonon,  maka  cacat  kristal  pada  senyawa  Si 3 N 4 mengimbas  hamburan  fonon  sehingga  menurunkan  konduktivitas  termal.  Kehadiran  oksigen  pada kristal  Si 3 N 4 menghasilkan  kekosongan  posisi  Si  pada  kisi  kristal  sehingga  dapat  menghamburkan fonon. Partikel Si 3 N 4 merupakan partikel lebam dikarenakan titik lelehnya yang tinggi [10]. Tingkat kekerasan Si 3 N 4 mampu mencapai nilai 35 GPa, kerapatan 3.44 gr/cm 3 dan koefisien termal 1.4-3.7 x 10 -6 / 0 K.  Dengan  sifat-sifat  tersebut,  senyawa  ini  banyak  dijadikan  sebagai  partikel  penguat  pada sistem komposit.
Pembentukan  senyawa  lapisan  super  keras  TiAlN/Si 3 N 4 mengunakan  kaidah  deposisi menghasilkan  tingkat  kekerasan  intan  dengan  kestabilan  termal  pada  suhu  tinggi.  Hal  ini  terjadi melalui mekanisme segregasi fase secara termodinamika yang membawa pembentukan struktur nano secara spontan [6,  11].  Struktur  nano  yang  terbentuk adalah  butir  kristal  nitrida (TiAlN)  dikelilingi oleh matrik nitrida amorf (Si 3 N 4 ) [12]. Segregasi fase spontan tanpa melibatkan pengintian fase lain mengakibatkan  terbentuknya  komposit  nano  melalui  pengaturan  sendiri  dengan  ukuran  kristal ditentukan  kesetimbangan  antara  penurunan  energi  bebas  akibat  segreasi  fase,  penurunan  sifat kimiawi  serta  regangan  tak  koheren  antarmuka.  Komposit  nano  yang  terbentuk,  stabil  terhadap pertumbuhan butir pada suhu tinggi [6].
Konsep peningkatan kekerasan lapisan komposit melalui pembentukan struktur nano dari sistem kombinasi butir kristal dan amorf adalah mengingat bahwa dislokasi tidak ada dalam kristal nano dan jika ada maka dislokasi tidak dapat bergerak pada matrik amorf [12]. Sistem material yang memiliki kemampuan  kuat  untuk  terjadinya  segregasi  secara  termodinamika  adalah  sistem  tersier  ataupun quarter seperti  sistem  nitrida  logam  transisi.  Secara  umum  sistem  nitrida  logam  transisi  merupakan padatan  kuat  dan  mudah mengkristal  meskipun  pada  suhu  yang  relatif  rendah.  Sedangkan  senyawa amorf  Si 3 N 4 banyak  digunakan  mengingat  senyawa  ini  terbilang  kuat  dan  mampu  membentuk jaringan amorf pada sistem komposit.

## 2.2. Logam matriks Nikel
Logam  nikel  (Ni)  dengan  paduannya  banyak  digunakan  sebagai  logam  matriks  pada  lapisan komposit  karena  sifat  keuletan  dan  ketahanan  korosi  yang  baik.  Struktur  kristal  nikel  adalah  FCC dengan  titik  leleh  1455 0 C  [26].  Ketahanan  korosi  nikel  terjadi  karena  pembentukan  lapisan  pasif oksida  pada  permukaannya  yang  berperan  sebagai  pelindung  terhadap  lingkungan  korosif.  Logam nikel  murni,  tidak  terlindung  korosi  melalui  pembentukan  kristal  nano  melainkan  melalui pembentukan  lapisan  oksida  NiO  [13].  Pembentukan  lapisan  NiO  meningkat  seiring  dengan peningkatan pembentukan kristal nano.

## 3. KAIDAH PELAPISAN
Kaidah  pelapisan  senyawa  nitrida  dapat  dilakukan  dengan  menggunakan  kaidah  Deposisi  Uap Fisik ( Physical Vapor Deposition ) [9]. Namun demikian proses deposisi kaidah ini terbilang cukup rumit dan mahal karena dilakukan dalam suatu ruang hampa. Kaidah lain yang relatif mudah, murah dan cepat adalah elektrodeposisi menggunakan konsep elektrokimia. Kaidah ini memerlukan larutan elektrolit  (sebagai  penghantar  listrik)  dan  elektroda  yang  keduanya  membentuk  sistem  sel elektrokimia.  Jumlah  elektroda  yang  digunakan  dapat  berjumlah  dua  atau  tiga.  Untuk  dua  buah elektroda,  satu  elektroda  berfungsi  sebagai  substrat  (katoda/elektroda  kerja)  yaitu  elektroda    yang
Spektra: Jurnal Fisika dan Aplikasinya http://doi.org/10.21009/SPEKTRA
akan  dilapisi  dan  elektroda  lain  berfungsi  sebagai  elektroda  kounter.  Kedua  elektroda  dihubungkan dengan sebuah sumber catu daya.
Secara  umum  proses  elektrodeposisi  terbagi  menjadi  dua  yaitu  proses electroplating dan electroless .  Proses elektroplating menggunakan  batang  elektroda  sebagai  sumber  bahan  pelapis sedangkan  proses electroless menggunakan  elektrolit  sebagai  sumber  bahan  pelapis  [14].  Proses electroless memiliki  beberapa  keunggulan  dibandingkan  proses elektroplating meliputi  keunggulan sifat fisik dan mekanik.
Proses  elektrodeposisi  melibatkan  pengendapan  partikel  penguat  pada  lapisan  logam  matrik. Pengendapan melibatkan proses konveksi partikel  pada permukaan substrat (katoda), penangkapan partikel  secara  mekanik  maupun  migrasi  elektroforetik  partikel  kedalam  logam  matrik  seperti  yang ditunjukan  pada  Gambar  3  [15].  Secara  umum  tahapan  proses  pembentukan  lapisan  tipis  komposit dengan  kaidah  elektrodeposisi  adalah  sebagai  berikut:  pertama  adalah  pembentukan  partikel bermuatan  melalui  penyerapan  ion  dan  surfaktan  pada  permukaan  partikel.  Selanjutnya  partikel bergerak  secara  fisik  menuju  substrat  melalui  lapisan  konveksi  (proses  transport)  dan  lapisan  batas (proses  difusi)  dimana  kedua  proses  dikendalikan  oleh  beda  potensial  antara  kedua  elektroda. Kemudian  tahap  akhir  dari  proses  ini  mengendapnya  partikel  pada  logam  matrik  yang  sedang tumbuh.
Kaidah  elektrodeposisi  biasa  digunakan  dalam  pembentukan  lapisan  komposit  nikel-senyawa nitrida seperti Ni-TiN. Kaidah ini mampu memberikan nilai kekerasan mikro hingga 150 HV (pada beban 150 gramgaya) [16] ataupun 501 kg.gaya/mm 2 [17], 1000 HV [18], 902.8 HV [16].

## 4. PEMBAHASAN
Hasil  kajian  menunjukan  bahwa  kekerasan  lapisan  Ni  meningkat  setelah  dikompositkan  dengan partikel  keras  TiN,  AlN,  SiC  dsb  [16,19,20]  dimana  peningkatan  kekerasan  terjadi  seiring  dengan peningkatan konsentrasi partikel keras. Namun demikian peningkatan kekerasan optimal terjadi pada kadar  konsentrasi  tertentu  dari  partikel  penguat.  Peningkatan  kekerasan  lapisan  terjadi  melalui kombinasi penguatan dispersi (Orowan) yang tersebar merata pada logam matriks maupun penguatan partikel yang membentuk butir halus pada batas butir logam matriks (Hall-Petch).
Secara  umum  uuran  kristal  logam  matriks  nikel  lebih  kecil  ibandingkan  dengan  partikel  nitrida [21]  sehingga  pada  dasarnya  partikel  nitrida  tidak  mengendap  didalam  butir-butir  logam  matriks namun mengendap dikelilingi oleh beberapa butir logam matriks sehingga batas butir logam matriks akan digantikan oleh antar muka partikel-matriks. Pada kondisi ini partikel nitrida dapat memperkuat batas butir dan mencegah terjadinya deformasi plastis. Karena itu ukuran partikel nitrida dalam orde nano perlu dan penting diperhatikan untuk menjamin terbentuknya struktur nano.
Spektra: Jurnal Fisika dan Aplikasinya http://doi.org/10.21009/SPEKTRA
TiAlN Ni-Si 3 N 4
Gambar 2. Model skematik proses elektrodeposi pada sel elektrokimia [15]
Kekerasan  lapisan  komposit  nikel-senyawa  nitrida  hasil  deposisi  secara  umum  terjadi  akibat tegangan  kompresif  biaksial  dengan  kestabilan  termal  yang  rendah  sehingga  nilai  kekerasan  turun drastis  seiring  dengan  peningkatan  suhu  penggunaan  hingga  650 0 C  [22].  Proses  elektrodeposisi dapat  dilakukan  pada  suhu  dan  energi  yang  relatif  rendah  sehingga  memungkinkan  tidak  ada tegangan  kompresif  yang  dihasilkan  pada  lapisan  komposit  yang  dibentuk.  Konsep  umum  dalam pembentukan  lapisan  komposit  nitrida  super  keras  dengan  kestabilan  termal  yang  tinggi  adalah berdasarkan  segregasi  yang  digerakan  secara  termodinamika  dengan  pengendapan  stabil.  Fluktuasi lokal komposisi fase campuran dari lapisan komposit mampu  menurunkan nilai energi bebas Gibbs sehingga menghasilkan segregasi spontan tanpa perlu terjadinya pengintian fase lain [25].
Pembentukan  lapisan  komposit  Ni-TiAlN/Si 3 N 4 menggunakan  kaidah  elektrodeposisi  berpotensi memberikan nilai kekerasan yang tinggi melalui pembentukan struktur nano. Sistem lapisan keras nc- TiAlN/a-Si 3 N 4 memberikan  Partikel  Si 3 N 4 merupakan  partikel  lembam  (inert)  yang  tidak  bereaksi dengan komponen lain [10] membentuk fase amorf yang mengelilingi fase kristal nano TiAlN yang sehingga berperan sebagai penghalang gerakan dislokasi ataupun retakan [12].
Pembentukan lapisan tipis multi fase nitrida juga telah dilakukan melalui sistem nc-TiN/a-
Gambar 3. Struktur nano lapisan komposit nikel-nitrida
Katoda (substrat e) partikel
Katoda (substrat e) Lapisan konveks
i Lapisan difusi Lapisan listrik ganda Bulk elektroli t Partikel nano V Substrat (elektrod a kerja)
Elektrod a kounter elektrolit Catu daya
Spektra: Jurnal Fisika dan Aplikasinya http://doi.org/10.21009/SPEKTRA
Si 3 N 4 /a-TiSi 2 dan nc-TiN/a- Si 3 N 4 /nc-TiSi 2 [23]. Kekerasan maksimum tercapai mana kala kristal nano TiN dilingkupi oleh lapisan mono Si 3 N 4 dan hal ini bergantung pada jumlah fraksi kristal nano TiSi 2 yang terbentuk pada batas butir kristal TiN.
Namun  demikian  untuk  kebutuhan  beragam  aplikasi,  pencapaian  nilai  kekerasan  yang  sangat tinggi pada hakekatnya bukanlah satu-satunya tujuan. Sifat alamiah suatu material yang terlalu keras cenderung bersifat rapuh atau getas. Karena itu sifat tangguh material juga menjadi perhatian dalam rekayasa  lapisan  komposit  superkeras  [24].  Pembentukan  lapisan  komposit  berbasis  nikel-nitrida diharapkan  selain  mampu  menghasilkan  tingkat  kekerasan  yang  tinggi  namun  juga  diharapkan mampu memiliki ketangguhan.

## 5. KESIMPULAN
Sifat lapisan komposit nikel nitrida yang dibentuk melalui proses elektrodeposisi dipengaruhi oleh parameter  prosesnya.  Sifat  lapisan  komposit  nikel-nitrida  super  keras  dapat  tercapai  melalui pembentukan struktur nano melalui pengecilan ukuran butir kristal yang direkatkan oleh lapisan tipis amorf.

## REFERENSI
[1] Sergio Neves Monteiro, Ana Lúcia Diegues Skury, Márcia Giardinieri de Azevedo, Guerold Sergueevitch  Bobrovnitchii.    Cubic  boron  nitride  competing  with  diamond  as  a  superhard engineering material – an overview J. MATER. RES. TECHNOL. 2013;2(1):68-74.
[2] Paul  W.  May.  Diamond  thin  films:  a  21st-century  material  Phil.  Trans.  R.  Soc.  Lond.  A (2000) 358, 473–495.
[3] C.-H.  Ma,  J.-H.  Huang1,  Haydn  Chen.  Texture  evolution  of  transition-metal  nitride  thin films by ion beam assisted deposition. Thin Solid Films 446 (2004) 184–193.
[4] S.  Menzel,  Th.  Gobel,  K.  Bartsch,  K.  Wetzig.  Phase  transitions  in  PACVD-(Ti,Al  )N coatings after annealing. Surface and Coatings Technology 124 (2000) 190–195.
[5] Shiqiang Hao, Bernard Delley, Stan Veprek, and Catherine Stampfl. PHYSICAL REVIEW LETTERSPRL 97, 086102 (2006).
[6] S.  Veprek  and  M.  Jilek.  Superhard  nanocomposite  coatings.  From  basic  science  toward industrialization. Pure Appl. Chem., Vol. 74, No. 3, pp. 475–481, 2002.
[7] Stan  Vepreka.  The  search  for  novel,  superhard  materials  J.  Vac.  Sci.  Technol.  A  17.5., Sep/Oct 1999.
[8] Chung  Wan  Kim,  Kwang  Ho  Kim.  Anti-oxidation  properties  of  TiA1N  film  prepared  by plasma-assisted chemical vapor deposition and roles of A1Thin SoLid Fihns 307 (1997) 113- 119.
[9] E.  Budi  dkk.  Pembentukan  lapisan  tipis  keras  nanokomposit  menggunakan  teknik elektrodeposisi untuk perlindungan bahan terhadap aus dan korosi. Laporan Penelitian AUPT 2014. Jurusan Fisika FMIPA Universitas Negeri Jakarta. 2015.
[10] Xiaopeng  Lu,  Carsten  Blawert,  Nico  Scharnagl,  Karl  Ulrich  Kainer.  Influence  of incorporating Si3N4 particles into the oxide layer produced by plasma electrolytic oxidation on  AM50  Mg  alloy  on  coating  morphology  and  corrosion properties. Jurnal  of Magnesium and Alloys 1 (2013) 267e274.
[11] P. Holubar, M. Jilek, M. Sima. Present and possible future applications of superhard nanocomposite coatings. Surface and Coatings Technology 133-134 (2000) 145-151.
[12] S. Veprek. Conventional and new approaches towards the design of novel superhard materials. Surface and Coating Technology 97 (1997) 12-22
Spektra: Jurnal Fisika dan Aplikasinya http://doi.org/10.21009/SPEKTRA
[13] Shujiang Geng, Fuhui Wang, Sam Zhang. High temperature oxidation behavior of a sputtered  pure  Ninanocrystalline  coating  at  700–900  C.  Surface  and  Coatings  Technology 167 (2003) 212–216.
[14] Jothi Sudagar, Jianshe Lian, Wei Sha. Electroless nickel, alloy, composite and nano coatings – A critical review. Journal of Alloys and Compounds 571 (2013) 183–204.
[15] F. C. Walsh and C. Ponce de Leon. REVIEW A review of the electrodeposition of metal matrix composite coatings by inclusion of particles in a metal layer: an established and diversifying technologyTransactions of the IMF 2014 VOL 92 NO 2.
[16] Fafeng Xia, WeixianYue, Jindong Wang, Chao Liu, Famei Wan, YangLi. Synthesis of Ni–TiN composite nanocoatings by magnetic pulse current depositionCeramicsInternational41 (2015)11445–11448.
[17] Magdy  A.M.  Ibrahim,  F.  Kooli1  and  Saleh  N.  Alamri. Electrodeposition  and Characterization of Nickel–TiN Microcomposite Coatings Int. J. Electrochem. Sci., 8 (2013) 12308 – 12320.
[18] Minzheng  Jiang,  Chunyang  Ma,  Fafeng  Xia,  Yue  Zhang.  Application  of  artificial neural  networks  to  predict  the  hardness  of  Ni–TiN  nanocoatings  fabricated  by  pulse electrodeposition. Surface & Coatings Technology 286 (2016) 191–196.
[19] A.Abdel  Aal, M.  Bahgat, M.  Radwan.  Nanostructured  Ni–AlN  composite coatings. Surface & Coatings Technology 201 (2006) 2910–2918.
[20] Pradeep Devaneyan. S, T. Senthilvelan. Electro Co-deposition and Characterization of  SiC  in  Nickel  Metal  Matrix  Composite  Coatings  on  Aluminium  7075.  Procedia Engineering 97 ( 2014 ) 1496 – 1505.
[21] Manoj  Kumar  Tripathi,  V.B.  Singh.  Properties  of  electrodeposited  functional  Ni– Fe/AlN nanocomposite coatings Arabian Journal of Chemistry (2015).
[22] P.  Karvankova,  H.-D.  Mannling,  C.  Eggs,  S.  Veprek.  Thermal  stability  of  ZrN–Ni and CrN–Ni superhard nanocomposite coatings. Surface and Coatings Technology, 146 –147 (2001) 280–285.
[23] S.  Veprek,  A.  Niederhofer,  K.  Moto,  T.  Bolom,  H.-D.  Mannling,  P.  Nesladek,  G. Dollinger,  A.  Bergmaier. Composition,  nanostructure  and  origin  of the  ultrahardness  in  nc- TiNra-Si  N  ra-  and  nc-TiSi  nanocomposites  with  3  4  2 H s80  to  G105  Gpa.  Surface  and Coatings Technology. 133-134 (2000) 152-159.
[24] Sam  Zhang,  Deen  Sun,  Yongqing  Fu,  Hejun  Du.  Recent  advances  of  superhard nanocomposite coatings: a review. Surface and Coatings Technology 167 (2003) 113–119.
[25] Stan  Vepreka.  Towards  the  understanding  of  mechanical  properties  of  super-  and ultrahard nanocomposites. J. Vac. Sci. Technol. B 20.2., Mar-Apr 2002.
[26] F.F.  Xi,  C.  Liu,  F.  Wang,  M.H.  Wu, J.D.  Wang,  H.L.  Fua, J.X. Wang.  Preparation and  characterization  of  Nano  Ni–TiN  coatings  deposited  by  ultrasonic  electrodeposition. Journal of Alloys and Compounds 490 (2010) 431–435.
Spektra: Jurnal Fisika dan Aplikasinya http://doi.org/10.21009/SPEKTRA