ANALISIS TINGKAT AKURASI PROSES DEPOSISI PADA PENUMBUHAN LOGAM TIPIS DENGAN METODE ELEKTROKIMIA (STUDI: DENSITAS ARUS DAN WAKTU PENUMBUHAN)
Rahmi Putri Wirman 1* , Alfian 1 , Halida Sophia 2 , Adia Putra Wirman 3
1 Program Studi Fisika, Sains dan Teknologi, UIN Sulthan Thaha Saifuddin, Telanaipura, Kota Jambi, 36361, Indonesia
2 Program Studi Kimia, Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam, Universitas Riau, Tampan, Kota Pekanbaru, 28293, Indonesia
3 Program Studi Kimia, Farmasi dan Sains,Universitas Muhammadiyah Prof. Dr. Hamka, Duren Sawit, KotaJakarta, 13460, Indonesia * e-mail: rahmi@uinjambi.ac.id

## ABSTRAK
Telah dilakukan analisis tingkat akurasi proses penumbuhan logam tipis menggunakan metode deposisi elektrokimia. Instrumen penumbuhan logam  tipis  yang  digunakan  adalah  sel  elektrokimia,  larutan  elektrolit,  dan  sumber  arus  listrik  Direct  Current  (DC).  Variabel  yang dianalisis adalah variasi densitas arus dan waktu yang diberikan pada sel elektrokimia dalam proses penumbuhan. Sampel logam tipis yang ditumbuhkan pada eksperimen ini adalah logam tipis Nikel Kobalt (NiCo). Sampel NiCo ditumbuhkan dengan 13 variasi densitas arus dan waktu penumbuhan. Hasil analisis menunjukkan bahwa penumbuhan logam tipis NiCo memiliki tingkat akurasi yang baik pada pemberian densitas  arus  sebesar  20  sampai  450  A/m 2 ,  dengan  nilai  persen  akurasinya  sebesar  97,04%.  Sampel  NiCo  yang  ditumbuhkan  dengan densitas arus di atas 500 A/m 2 menghasilkan produk yang tidak baik, pada sampel terbentuk pengotor karbon dan terjadi proses oksidasi.
Kata kunci : Logam tipis; Elektrokimia; Tingkat akurasi; Densitas arus; Waktu penumbuhan

## ABSTRACT
[Title: Accuracy Level Analysis of Deposition Process on The Growth of Thin Metals with Electrochemical Methods (Study: Current Density And Growth Time)] Accuracy analysis of the thin metal forming process using electrochemical deposition methods  has  been  carried  out.  Thin  metal  growth  instruments  were  electrochemical  cells,  electrolyte  solutions,  and  Direct  Current  (DC) electric current sources. The variables were the variations in current density and time given to electrochemical cells in the growth process. The thin  metal  sample  grown  in  this  experiment  was  the  thin  metal  of  Nickel  Cobalt  (NiCo).  NiCo  samples  were  grown  with  13  kinds  of variations in current density and growth time. The results showed that the growth of NiCo thin metal has a good level of accuracy at a current density of 20 to 450 A/m 2 , with the percentage value of the accuracy of 97.04%. NiCo samples grown with current densities above 500 A/m 2 resulted in a deformed product, carbon impurities were formed and an oxidation process occurs.
Keywords : Thin metal; Electrochemical; Accuracy level; Current density; Time of growth

## PENDAHULUAN
Logam  tipis  adalah  salah  satu  teknologi  bahan yang  dikembangkan  untuk  berbagai  aplikasi  pada kehidupan  manusia.  Sifat  logam  tipis  yang  memiliki lapisan-lapisan  ( single  layer atau multi  layer )  dengan variasi ketebalan dan variasi jenis bahan penyusun dapat dimanfaatkan  untuk  berbagai  komponen-komponen penunjang perkembangan teknologi. Logam tipis telah banyak  dikembangkansebagai  bahan  dasar  dalam pembuatan sel surya untuk energi terbarukan (Moulin et  al.,  2015),  pembuatan  komponen  elektronika (Wagner et al., 2004), pembuatan media penyimpanan berbasis plat tipis (Scheunert et al., 2016), dan masih banyak lagi pemanfaatan dari produk ini.
Di  dalam  riset  nanomaterial  khususnya  dalam fabrikasi  atau  penumbuhan  logam  tipis  dibutuhkan tingkat akurasi  yang tinggi dan instrumen pendukung dengan  tingkat  sensitivitas  yang  tinggi.  Dengan mengetahui  tingkat  akurasi  akan  memudahkan  untuk perancangan  dan  persiapan  suatu  eksperimen.    Acuan ini  juga  akan  memberikan  variabel  mana  yang  akan menghasilkan  produk  nanomaterial  sesuai  dengan spesifikasi  yang  dibutuhkan.  Banyak  sekali  metode penumbuhan  logam  tipis  yang  sudah  dikembangkan saat ini, salah satunya adalah metoda deposisielektrokimia  atau  elektrodeposisi.  Contohnya dalam  penelitian  Mochizuki,  C.,  et  al  dalam penumbuhan  Pd-Ni-P metallic  glass membutuhkan  nilai densitas  arus  yang  tepat  untuk  menghasilkan  lapisan
deposisi  logam  tipis  yang  homogen  dan  komposisi penyusun metallic  glass yang  sesuai,  yaitu  sebesar  2,5 A/dm 2 (Mochizuki,  Chihiro;  Senga,  Takashi;  Shibata, 2011).Analisis eksperimen deposisi secara elektrokimiajuga  dilakukan  oleh  Deng,  M.  et  al.  pada tahun  2009,  pada  analisis  ini  yang  menjadi  variabel pengaruh  deposisi  adalah  temperatur  dan  konsentrasi larutan  elektrolit(Deng,  Ming-Jay;  Lin,  Pei-Chiung; Sun,  I-Wen;  Chen,  Po-Yu;  Chang,  2009).  Beberapa keuntungan  dari  teknik  penumbuhan  elektrodeposisi adalah:  dapat  membuat  sampel  tipis  yang  homogen dengan  ukuran  besar,  dapat  melapisi  atau menumbuhkan lapisan pada bahan non equilibrium alloy , sangat  mudah  dilakukan  diberbagai  jenis  industri,  dan merupakan  sebuah  proses  yang  sangat  murah  serta efisien (Pandey, R. K. Sahu, S. N. Chandra, 2017).
Proses  perpindahan  elektron  pada  sebuah  media penghantar  listrik  (elektroda)  yang  terdiri  dari  kutub positif  dan  negatif  merupakan  proses  dari  metode elektrokimia.  Terjadinya  pertukaran  elektron  selama elekroda  dialiri  arus  listrik  melalui  proses  reaksi reduksi-oksidasi  (redoks)secara  bersamaanpada larutan elektrolit.  Penangkapan  elektron  terjadi  pada  reaksi reduksi    yang  berlangsung  pada  katoda,  katoda  akan menarik  kation  dan  menyerap  elektron  sehingga terjadinya  reaksi  reduksi  pada  katoda  yang menyebabkan  elektronnya  berkurang,  sehingga bilangan  oksidasinya  berkurang.  Sedangkan  pelepasan elektron  pada  peristiwa  oksidasi    di  anoda  akan menarik  anion  dan  melepaskan  elektron,  sehingga bilangan  oksidasinya  bertambah(Bard,  Allen  J; Faulkner,  2004).    Hal  ini  menyebabkan  terjadinya perubahan  kimia  dalam  larutan  akibat  aliran  arus listrik.  Pada  eksperimen Michael  Faraday mengalirnya arus listrik 1 F akanterjadioksidasi 1 massa ekivalen zat di  elektroda  (anoda)  dan  terjadi  reduksi  1  massa ekivalen  zat  pada  elektroda  yang  lainnya(Paunovic  & Schlesinger, 2006). Dan perpindahan muatan terhadap 1  mol  unit  area  dapat  dirumuskan  pada  persamaan  di bawah ini.
𝑞 (#$%) = 𝑧𝐹 (1)
dimana, q adalah  muatan, z adalah  perpindahan elektron dan F adalah konstanta Faraday. Apabila fungsi ini  dilihat  dari  arus  yang  mengalir  pada  proses elektrokimia, maka berlaku :
𝐼 = 𝑧𝐹 +# +, (2)
dimana, I adalah  arus  yang  mengalir, m adalah massa  deposisi  elektrolisis  dan t adalah  fungsi  waktu. Secara  kimia  proses  deposisi  logam  secara  elektrolisis dapat digambarkan kedalam skema berikut :
𝑀 ./01,2/3 45 + 𝑧𝑒 → 𝑀 09,,2:; (3)
Pada  skema  ini  dapat  dilihat  bahwa  proses deposisi  logam  dengan  metode  elektrokimia dipengaruhi  oleh z elektron  dan  energi  yang  berasal dari  luar,  yaitu  sumber  arus  atau  tegangan  listrik (Paunovic  &  Schlesinger,  2006).Distribusi  arus  yang homogen  akan  menghasilkan  distribusi  ketebalan deposisi  yang  merata  di  atas  substrat.  Maka homogenitas  dari  distribusi  arus  merupakan  faktor penting  dalam  mendapatkan  hasil  deposisi  dengan ketebalan yang rata (Rose, Ian; Whittington, 2014).
Pada eksperimen Faraday menunjukkan kuantitas dari arus listrik yang dibutuhkan untuk mendeposisikan 1  gram  logam  memiliki  konstanta  sebesar  96500 coulomb  (ampere-second).  Yang  kemudian  nilai  ini dikenal  dengan  Konstanta  Faraday.  Contohnya  untuk mendeposisi nikel maka berlaku persamaan berikut.
𝑊 = 1,095𝐼𝑡 (4)
dimana, W adalah jumlah nikel yang terdeposisi, I adalah  arus  yang  mengalir  di  sel  elektrokimia  dan t waktu proses deposisi (Rose, Ian; Whittington, 2014).
Pada penelitian ini, variabel yang di analisis adalah penentuan  nilai  densitas  arus  ( J )  dan  waktu penumbuhan  ( t )  yang  diterapkan    pada  sistem    sel elektrokimia dalam proses deposisi logam tipis.Sehingga  penelitian  ini  menambah  referensi tentang  faktor  pengaruh  dan  tingkat  akurasi  pada eksperimen  penumbuhan  logam  tipis  dengan menggunakan metode deposisi elektrokimia. Penentuan  densitas  arus  dan  waktu  penumbuhan  pada logam  tipis  merupakan  salah  satu  faktor  berpengaruh pada  tingkat  keberhasilan  mendapatkan  sampel  yang baik,dari  segi  tingkat  kekerasan,  ketahanan  terhadap korosi, dan struktur penyusun sampel yang padat serta homogen (Li et al., 2019).

## METODE
Penelitian  ini  adalah  berbasis  eksperimen  di laboratorium  yang  meliputi  persiapan  instrumen, pembuatan  sampel,  dan  karakterisasi  ukuran  sampel. Hasil pengukuran karakterisasi sampel merupakan data utama  yang  digunakan  dalam  analisis  dengan dibandingkan  dengan  perhitungan  teori.  Hasil  analisis dapat  memberikan  gambaran  seberapa  besar  tingkat akurasi  penumbuhan  dengan  menggunakan  metode elektrokimia.
Tahapan  pertama  adalah  persiapan  atau pembuatan  instrumen  penumbuhan  logam  tipis.  Pada tahap  ini  meliputi  pembuatan  kolam  sel  elektrokimia, pembuatan  elektroda  (Katoda  dan  Anoda)  dan pembuatan  larutan  elektrolit.  Instrumen  penumbuhan
logam  tipis  dengan  metode  elektrokimia  disusun seperti Gambar 1.
Gambar  1. Instrumen  penumbuhan  logam  tipis dengan menggunakan metode elektrokimia.
Sel  elektrokimia  terbuat  dari  bahan  dasar plexiglass setebal  5  mm.  Bahan  ini  tidak  berwarna  dan memiliki  transparasi  hampir  sama  dengan  kaca. Plexiglass dipotong dan  dibentuk  menjadi  kolam segi empat  dengan  ukuran  panjang  4  cm,  lebar  2  cm,  dan tinggi  6  cm.  Bagian  dasar  kolam  dibuat  lobang  segi empat  dengan  ukuran  panjang  3  cm  dan  lebar  1  cm, yang merupakan area penumbuhan logam tipis.
Substrat  (media  tumbuhnya  sampel  logam  tipis) yang  digunakan  adalah  plat  tembaga  murni  dengan ketebalan  0,2  mm.  Tembaga  murni  dipilih  karena sifatnya  yang  non  magnetik  dan  memudahkan  proses pemisahan antara substrat dengan produk logam tipis. Untuk  menentukan  seberapa  banyak  logam  tipis  yang tumbuh  pada  substrat,  subtrat  ditimbang  terlebih dahulu  sebelum  dilakukan  eksperimen  penumbuhan. Kemudian  setelah  logam  tipis  ditumbuhkan,  substrat beserta logam tipis yang tumbuh di atasnya ditimbang lagi. Selisih nilai hasil pengukuran beratnya adalah nilai berat logam tipis yang terbentuk.
Tahap  selanjutnya  adalah  pembuatan  larutan elektrolit  yang  digunakan  sebagai  penghantar  listrik antara  anoda  dengan  katoda.  Sampel  logam  tipis  yang ditumbuhkan  adalah  logam  tipis  Nikel  Kobalt  (NiCo) dengan  variasi  densitas  arus  ( J )  dan  waktu  ( t )  pada proses penumbuhan. Bahan dasar kimia yang dilarutkan pada  larutan  elektrolit  adalah  Nikel  (II)  Sulfat  dan Kobalt  (II)  Sulfat.  Logam  tipis  Nikel  Kobalt  adalah salah  satu  material  yang  bisa  dibuat  dengan elektrodeposisi  melalui  larutan  ion  (Endress  et  al., 2017).
Logam tipis Nikel Kobalt dibuat sebanyak 13 buah dengan  ketebalan  yang  sama  yaitu  0,01  mm  dengan variasi densitas arus 20, 35, 45, 60, 80, 100, 125, 160, 200, 250, 350, 450, dan 500 A/m 2 .  Sehingga untuk menumbuhkan  logam  tipis  dengan  ketebalan  yang sama,  maka  waktu  penumbuhan  memiliki  variasi
sebanyak  13  data.  Sumber  arus  listrik  yang  digunakan adalah  listrik direct  current (DC)  dengan  menggunakan variable  power  supply yang  bisa  diatur  tegangan  dan arusnya.  Penumbuhan  sampel  logam  tipis  dengan densitas arus di bawah 20 A/m 2 tidak dilakukan karena waktu penumbuhan yang lama. Contohnya penumbuhan  logam  tipis  dengan  densitas  arus  sebesar 10  A/m2  membutuhkan  waktu  selama  enam  jam untuk  penumbuhan  logam  tipis  setebal  0,01  mm. Eksperimen  ini  tidak  dilakukan  untuk  menghindari ketidakstabilan  kerja  dari power  supply ,  dimana  akan mempengaruhi  homogenitas  dan  ketebalan  sampel. Efek  perubahan  densitas  arus  dan  ketidakstabilan  dari arus  listrik  yang  diberikan  pada  penumbuhan  logam tipis  dapat  dilihat  pada  penelitian  Liu,  Y.  et  al  pada sampel logam lithium yang menghasilkan struktur yang tidak beraturan (Liu et al., 2021).

## HASIL DAN PEMBAHASAN
Setelah  proses  penumbuhan  logam  tipis dilakukan,  dihasilkan  13  buah  produk  logam  tipis dengan  variasi  pemberian  densitas  arus  yang  berbeda- beda. Logam tipis yang dibuat dengan densitas arus 20- 450 A/m 2 menghasilkan produk logam tipis yang baik. Namun logam tipis  yang ditumbuhkan dengan densitas arus 500 A/m 2 tidak menghasilkan produk yang baik, karena  terdapat  hasil  sampingan  berupa  karbon  dan korosif. Hal ini sesuai dengan eksperimen Huang, H. et al yang mengatakan bahwa korosi yang terbentuk pada lempeng  katoda  dipengaruhi  oleh  arus  dan  medan listrik  ( Direct  Current  Electric  Field /DCEF).  Faktor  ini akan mempengaruhi migrasi ion dan sifat korosif pada logam  (Huang  et  al.,  2014).  Sehingga  pemberian waktu penumbuhan yang cepat pada proses pembuatan sampel akan memberikan hasil yang tidak bagus.
Berdasarkanpengamatan  disaat  penumbuhan logam  tipis  dengan  densitas  arus  500  A/m 2 ,pada  sel larutan  elektrolit  terdapat  gelembung-gelembung udara,  sehingga  fenomena  ini  mengakibatkan terbentuknya  proses  oksidasi  pada  penumbuhan partikel  logam  tipis.  Produk  logam  tipis  yang terganggu dengan fenomena oksidasi dapat dilihat pada Gambar 2 untuk logam tipis yang ditumbuhkan dengan densitas arus 500 A/m 2 . Jadi, dengan nilai densitas arus yang  besar  (>500  A/m 2 )  pada  proses  penumbuhan logam  tipis  akan  mempersingkat  waktu  penumbuhan tetapi tidak memberikan produk logam tipis yang baik.
Untuk melihat tingkat akurasi penumbuhan logam tipis  dengan  menggunakan  metoda  elektrokimia, diperlukan analisis data perbandingan antara spesifikasi produk  hasil  eksperimen  dengan  hasil  perhitungan teori.  Dari  hasil  analisis,  logam  tipis  dengan  densitas arus  penumbuhan  20-450  A/m 2 memberikan penumbuhan  partikel  yang  baik,  atau  jumlah  partikel yang  terbentuk  mendekati  nilai  perhitungan  teori
(deviasi  perbandingan  kedua  data  bernilai  kecil). Sedangkan  logam  tipis  dengan  densitas  arus  500 A/m 2 memberikan  jumlah  partikel  yang  terbentuk masih  jauh  dari  target  perhitungan  teori,  dibuktikan dengan hasil eksperimen yang nilainya memiliki deviasi yang cukup lebar dengan perhitungan teori. Dari hasil perhitungan, pada logam tipis dengan densitas arus 500 A/m 2 hanya terbentuk lapisan nikel sebanyak 12% dari target penumbuhan secara teori.
Gambar  2. Hasil  penumbuhan  logam  tipis  dengan densitas  arus  350,  450,  dan  500  A/m 2
(dari kiri ke kanan).
Hasil  perbandingan  nilai  penumbuhan  sampel secara  eksperimen  dengan  teori  dapat  dilihat padaGambar  3.Berdasarkan  temuan  pada  eksperimen, instrumen  penumbuhan  logam  tipis  dengan  metode elektrokimia  pada  penelitian  ini  dapat  menghasilkan produk logam tipis yang baik pada pemberian densitas arus  maksimum  sebesar  450  A/m 2 .  Sehingga  dalam penentuan  tingkat  akurasi  dari  instrumen  ini,  logam tipis dengan densitas arus 500 A/m 2 dapat dieliminasi, karena  logam  tipis  ini  terbentuk  pada  saat  di  luar kemampuan  kerja  instrumen  penumbuhan  dengan baik.
Pada  rentang  penumbuhan  dengan  densitas  arus antara  20  sampai  450  A/m 2 didapatkan  hasil penumbuhan  logam  tipis  yang  baik,  bersih  dari oksidasi,  dan  memiliki  tingkat  akurasi  penumbuhan yang akurat (dengan nilai akurasi> 0,88). Secara total proses eksperimen didapatkan nilai akurasi penumbuhan sebesar 0,97 atau nilai persen efisiensinya sebesar 97,04% dari target penumbuhan secara teori.
Jika  dilihat  dengan  analisis  korelasi  Pearson, kedua  datamemberikan  nilai  korelasi  sebesar  0,28. Artinya  penumbuhan  logam  tipis    melalui  eksperimen elektrokimia  memiliki  pola  korelasi  yang  lemah terhadap pola penumbuhan yang dihitung secara teori. Dari  Gambar  3,  memperlihatkan  masing-masing  data memiliki  pola  tersendiri  sehingga  korelasinya  lemah, namun hasil penumbuhan sampel logam tipis ini cukup baik, dengan deviasi data yang kecil, dan memiliki nilai akurasi  dan  efisiensi  yang  bagus.  Tidak  hanya  temuan pada penelitian ini, pengaruh densitas arus pada proses
pembuatan  sampel  tipis  dengan  elektrokimia (elektrodeposisi)  juga  mempengaruhi  morfologi permukaan,  struktur  mikro,  ukuran  partikel, kekuatan,  dan  ketahanan  terhadap  korosi  dari  sampel (Wang et al., 2019). Densitas arus juga mempengaruhi tingkat  porositas  dan  ukuran  crystallite,  hal  ini  dapat dilihat  pada  penelitian  penumbuhan  film  Cadnium telluride  memberikan  hasil  sampel  yang  optimal  pada densitas arus 18 mA/cm 2 dengan tingkat porositas yang rendah serta ukuran crystallite yang besar (Razmjoo et al., 2017).
Gambar  3. Perbandingan  pengukuran  jumlah  partikel logam  tipis  hasil  eksperimen  dan perhitungan teori.

## KESIMPULAN DAN SARAN
Penumbuhan  sampel  logam  tipis  telah  berhasil dilakukan  dengan  proses  deposisi  dengan  cara elektrokimia.  Dengan  metode  ini  proses  pembuatan logam  tipis  dilakukan  dengan  hantaran  listrik  antara anoda  dan  katoda  melalui  larutan  yang  bersifat elektrolit.  Pada  eksperimen  ini,  variabel  penentu  dari ketebalan  atau  banyaknya  partikel  logam  tipis  yang tumbuh  pada  substrat  adalah  densitas  arus  yang diberikan  pada  sel  elektrokimia  dan  waktu  proses penumbuhan.  Penumbuhan  logam  tipis  pada  metode elektrokimia  akan  menghasilkan  produk  yang  bagus apabila  diberikan  densitas  arus  yang  tepat.  Pada eksperimen ini densitas arus yang menghasilkan produk logam  tipis  yang  baik  adalah  pada  rentang  20-450 A/m 2 . Pemberian densitas arus pada  rentang ini adalah yang  cukup  aman  bagi  produk,  karena  tidak terjadiproses  oksidasi  pada  penumbuhan  sampel  jika diberikan  arus  yang  besar.  Hasil  perbandingan  antara data  eksperimen  dengan  perhitungan  secara  teori menunjukkan  bahwa  eksperimen  ini  memiliki  akurasi atau nilai efisiensi yang sangat baik. Tetapi sebaran data hasil  eksperimen  dengan  variasi  densitas  arus  belum membentuk korelasi atau  pola yang sama dengan  data teori (korelasinya lemah).

## UCAPAN TERIMA KASIH
Penelitian  ini  terlaksana  dengan  dukungan  Pusat Penelitian  UIN  Sulthan  Thaha  Saifuddin  Jambi danmenggunakan  dana  bantuan  (Hibah)  penelitian Kementerian Agama Republik Indonesia Tahun 2019.

## DAFTAR PUSTAKA
Bard,  Allen  J;  Faulkner,  L.  R.  (2004). Electrochemical Methods Fundamentals and Application . John Wiley & Sons, Inc.
Deng, Ming-Jay; Lin, Pei-Chiung; Sun, I-Wen; Chen, Po-Yu;  Chang,  J.-K.  (2009).  Electrodeposition of  Ni-Cu  Alloys  in  an  Air  and  Water Temperature  Ionic  Liquid. Electrochemistry ,
77 (8), 582–584.
Endress,  F.,  Abbott,  A.,  &  Douglas,  M.  (2017). Electrodeposition  from  Ionic  Liquids (2nd  ed.). Wiley-VCH Verlag GmbH & Co.
Huang, H. L., Pan, Z. Q., Guo, X. P., & Qiu, Y. B. (2014). Effects of direct current electric field on corrosion behaviour of copper, Cl- ion migration behaviour  and  dendrites  growth  under  thin electrolyte layer. Transactions of Nonferrous Metals Society of China (English Edition) , 24 (1), 285–291. https://doi.org/10.1016/S1003- 6326(14)63059-4
Li, B., Li, D., Chen, W., Liu, Y., Zhang, J., Wei, Y., Zhang, W., & Jia, W. (2019). Effect of current density  and  deposition  time  on  microstructure and  corrosion  resistance  of  Ni-W/TiN nanocomposite  coating. Ceramics  International , 45 (4),
4870–4879. https://doi.org/10.1016/j.ceramint.2018.11.1 84 Liu,  Y.,  Xu,  X.,  Sadd,  M.,  Kapitanova,  O.  O.,
Krivchenko, V. A., Ban, J., Wang, J., Jiao, X., Song,  Z.,  Song,  J.,  Xiong,  S.,  &  Matic,  A. (2021).  Insight  into  the  Critical  Role  of Exchange Current Density on Electrodeposition Behavior  of  Lithium  Metal. Advanced  Science ,
8 (5). https://doi.org/10.1002/advs.202003301 Mochizuki,  Chihiro;  Senga,  Takashi;  Shibata,  M. (2011).  Electrodeposition  of  Pd-Ni-P  Metallic Glass Films. Electrochemistry , 79 (4), 249–251.
Moulin,  E.,  Mathias  Müller,  T.  C.,  Warzecha,  M., Hoffmann,  A.,  Paetzold,  U.  W.,  &  Aeberhard, U.  (2015).  Highly  transparent  front  electrodes with metal fingers for p-i-n thin-film silicon solar cells. EPJ Photovoltaics , 6 ,
6–11.
https://doi.org/10.1051/epjpv/2015001
Pandey,  R.  K.  Sahu,  S.  N.  Chandra,  S.  (2017).
Handbook  of  Semiconductor  Electrodeposition .  CRC
Press. Paunovic,  M.,  &  Schlesinger,  M.  (2006). Fundamentals  of  Electrochemical  Deposition: Second  Edition. Fundamentals  of  Electrochemical Deposition: Second Edition . https://doi.org/10.1002/0470009403 Razmjoo,  O.,  Bahrololoom,  M.  E.,  &  Najafisayar,  P.
(2017).  The  effect  of  current  density  on  the composition, structure, morphology and optical properties  of  galvanostatically  electrodeposited nanostructured cadmium telluride films. Ceramics
International , 43 (1), 121–127. https://doi.org/10.1016/j.ceramint.2016.09.1 20
Rose,  Ian;  Whittington,  C.  (2014). Nickel  Plating Handbook . Nickel Institute. Scheunert, G., Heinonen, O., Hardeman, R., Lapicki, A., Gubbins, M., & Bowman, R. M. (2016). A review  of  high  magnetic  moment  thin  films  for microscale  and  nanotechnology  applications.
Applied Physics Reviews , 3 (1).
https://doi.org/10.1063/1.4941311 Wagner,  S.,  Lacour,  S.  P.,  Jones,  J.,  Hsu,  P.  H.  I., Sturm,  J.  C.,  Li,  T.,  &  Suo,  Z.  (2004). Electronic  skin:  Architecture  and  components. Physica E: Low-Dimensional Systems and Nanostructures , 25 (2-3 SPEC.ISS.). https://doi.org/10.1016/j.physe.2004.06.032
Wang, J., Lei, W., Deng, Y., Xue, Z., Qian, H., Liu,
W.,  &  Li,  X.  (2019).  Effect  of  current  density on  microstructure  and  corrosion  resistance  of Ni-graphene oxide composite coating electrodeposited  under  supercritical  carbon dioxide. Surface  and  Coatings  Technology , 358 ,
765–774.
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2018.09.06
1