目前全球最牛的光刻机厂商非荷兰ASML公司莫属,荷兰ASML公司也是目前全球唯一一家具备生产高端EUV光刻机设备的厂商,所以荷兰ASML公司无疑也是直接卡住了全球高端芯片制造业的“脖子”,只要荷兰ASML公司不售卖EUV光刻机,那么别人就无法生产制造出7nmEUV、5nm以及3nm等高端芯片产品,对此也有很多网友们关心,我们的国产光刻机设备到底与荷兰ASML公司相比,有多大的技术差距呢?
针对国产光刻机和荷兰ASML公司的差距,很多网友们也纷纷开始表态:“5年、10甚至是20年....”;但就在近日, 中芯国际联席CEO赵海军对外表示:“荷兰光刻机企业ASML首席技术官Martin van Der Brink此前来上海参观时,曾对自己说,“荷兰ASML公司所生产的光刻机和中国光刻机设备,有着大概20年左右的技术差距。”
但我们从最新媒体报道来看,国内实力最雄厚的上海微电子将会在今年交付首台28nm国产浸润式光刻机,这意味着我们的国产光刻机技术差距将会被进一步缩小,但想要在短时间内追赶上荷兰ASML公司,显然也是一件不可能的事情,毕竟荷兰ASML公司也是一家大整合商,几乎整合了全球最先进的技术,才能够制造出最先进的EUV光刻机设备,而我们国内厂商只能够依靠国内产业链,所以国产光刻机设备想要取得更大技术突破,还需需要国内整个芯片产业链配合才行,毕竟在目前中美“技术战”背景下,国内科技企业都同属一个“利益共同体”,只有自己拥有核心技术,才能够避免在后续遭到“卡脖子”尴尬局面。
最后:针对荷兰ASML公司高管所言“我国的光刻机和荷兰ASML公司的光刻机,有着长达近20年技术差距”一事,各位小伙伴们,你们对此都有什么样的看法和意见呢?