通过电化学聚合在 NaCl、 NaClO4溶液中分别以 Ni 膜-、 ClO为衬底制备了 Cl-4 掺杂的 聚吡咯膜, 探讨了两种不同阴离子掺杂聚吡咯的电容性能: 在 1mol/LNaCl 溶液中 测试, 得到 Cl-掺杂的 聚吡咯比 ClO-4掺杂比容量要高( 离子半径较小更易于充放电离子的注入与抽取) , 但可逆性能和稳定性较差, 综合考-4 掺杂的 聚吡咯; 对该电极进虑性能较好的 是 ClO一步考察发现, 经过 800 次充放电测试其比容量衰减很小, 可以作为电容器电极材料。