制造光刻机有多难?

美国的工程师说过:仅仅是光刻机其中的一个小零件我都调了整整十年!
荷兰ASML表示:我就算公开图纸,别人也造不出光刻机。
荷兰ASML制造的光刻机,光源技术是美国的、光学设备是日本的、轴承是瑞典的、阀件是法国的、机械工艺和蔡司镜头是德国的、制造技术则是来自台积电和三星。
我国目前在光刻机研发已经花了相当长的时间,也必须花上更长的时间,目前我国上海微电子研发的光刻机精度达到了28纳米,除了手机芯片对芯片工艺要求比较高以外,其它终端只需要28nm就可以满足。但高端光刻机的光刻机的精度却是5纳米,所以还有很大的差距。手机的高端7nm芯片,基本上都是台积电和三星在做代工,中芯国际也很想分一杯羹。

任重而道远

美国一直奉行霸权主义,在国际社会上横行霸道,但是,随着中国的日益强盛,中国在国际社会上的地位也显著提升。在各种行业中,科技是美国的强项。美国政府为了打压中国的通讯产业,开始对中国进行“芯片封锁”。最近根据美国媒体的报道,拜登政府已经对荷兰的企业进行了接触,试图阻止荷兰卖给中国光刻机。
作为光刻机行业的领导者,阿斯麦公司直接垄断了全球7nm及以下工艺的EUV光刻机技术。现在,英特尔,三星电子等知名公司都引进了EUV技术,在智能手机、计算机和其他设备中制造芯片。虽然阿斯麦公司的DUV光刻机不少的中国企业已经拥有了,但是中国目前还没有引进7nmDUV光刻机技术,这使得很多中企都想要引进EUV光刻机技术,降低中国对外来供应商的依赖。然而由于荷兰在拜登的压力下暂扣了对华出口许可证,所以阿斯麦公司并未将其出售给中国。