目前用于制造先进工艺的光刻机主要分为两种——深紫外光刻(DUV),极紫外光刻(EUV)。
TSMC的N7和N7p采用DUV多次曝光技术。
N7+可以认为是改进工艺,在关键层加入了EUV光刻。
对光刻机需要进一步了解,送传送门——荷兰光刻机巨头ASML: