注意:硅、铝是既能和酸反应,又能和碱反应,放出氢气的单质。相关方程式:Si+O₂=高温= SiO₂Si + 2OH⁻ + H₂O == SiO₃²⁻+ 2H₂↑Si+2F₂== SiF₄Si+4HF== SiF₄↑+2H₂↑SiO₂ + 2OH⁻== SiO₃²⁻+ H₂OSiO₃²⁻+ 2NH₄⁺+ H₂O == H₄SiO₄↓ + 2NH₃↑SiO₃²⁻+ CO₂ + 2H₂O == H₄SiO₃↓+ CO₃²⁻SiO₃²⁻+ 2H⁺== H₂SiO₃↓SiO₃²⁻+2H⁺+H₂O == H₄SiO₄↓H₄SiO₄ == H₂SiO₃ + H₂O3SiO₃²⁻+ 2Fe³⁺== Fe₂(SiO₃)₃↓3SiO₃²⁻+2Al³⁺==Al₂(SiO₃)₃↓Na₂CO₃ + SiO₂ =高温= Na₂SiO₃ + CO₂ ↑相关化合物:二氧化硅、硅胶、硅酸盐、硅酸、原硅酸、硅烷、二氯硅烷、三氯硅烷、四氯硅烷、原子属性:原子量:28.0855u;原子核亏损质量:0.1455u;原子半径:(计算值)110(111)pm;共价半径:111 pm;范德华半径:210 pm;外围电子层排布:3s²3p²;引电子在每个能级的排布:2,8,4;电子层:KLM;氧化性(氧化物):4(两性的)。实验室里可用镁粉在赤热下还原粉状二氧化硅,用稀酸洗去生成的氧化镁和镁粉,再用氢氟酸洗去未作用的二氧化硅,即得单质硅。这种方法制得的都是不够纯净的无定形硅,为棕黑色粉末。工业上生产硅是在电弧炉中还原硅石(SiO2含量大于99%)。使用的还原剂为石油焦和木炭等。使用直流电弧炉时,能全部用石油焦代替木炭。石油焦的灰分低(0.3%~0.8%),采用质量高的硅石(SiO2大于99%),可直接炼出制造硅钢片用的高质量硅。高纯的半导体硅可在1,200℃的热硅棒上用氢气还原高纯的三氯氢硅SiHCl3或SiCl4制得。超纯的单晶硅可通过直拉法或区域熔炼法等制备。用镁还原二氧化硅可得无定形硅。