引言:杨振宁曾建议过,中国应该要研制出属于自己的芯片,要能够投入时间和精力,在光刻机的研发上。但是在当时却没有几个人相信,也并没有把他的建议当一回事,如今没想到光刻机居然就成为了中国的痛。

光刻机是什么?

光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
光刻机是生产大规模集成电路的核心设备,制造和维护需要高度的光学和电子工业基础,世界上只有少数厂家掌握。因此光刻机价格昂贵,通常在 3 千万至 5 亿美元。
目前市场上提供量产商用的光刻机厂商有三家:ASML、 尼康和佳能。
ASML,这是一家总部设在荷兰的全球最大的半导体设备制造商之一,向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备,全球市场占有率75%。
其中 TWINSCAN系列是目前世界上精度最高,生产效率最高,应用最为广泛的高端光刻机型。目前全球绝大多数半导体生产厂商,都向ASML采购TWINSCAN机型,比如英特尔、三星、台积电、中芯国际等。
目前ASML已经与浙江大学、大连理工大学、哈尔滨工业大学、上海交通大学等著名高等学府签定奖学金及科研合作协议,为培养本地人才,做出自己的一份贡献。