要对内存cell进行读写操作,首先要完成上述寻址过程,并且电容的充电状态信号要被感应放大器感应到,并且放大,然后MOSFET打开,电容放电,产生电势变化,把电荷输送到IO线路,导致线路的电势也变化。当然,这只是个简单的描述,以下我们先来了解硅晶体中“电容”的结构和MOSFET的控制原理。硅晶体中的“电容” 这里之所以“电容”两个字被打上引号,是因为硅晶体中并没有真正意义上的电容。硅晶体中的电容是由两个对置的触发器组成的等效电容。例如两个非门(Nor Gate)用如下图的方式对接。它可以通过周期性施加特定的输入信号,以把电荷保留在电路中,充当电容的作用。如下图,两个非门的输入端R和S互相交替做0和1输入,就可以把电荷储存在电路中。整个动态过程就是这样: 而R和S的波形就是如下图所示,刚好互为反相,差半个周期: 要让电容放电,我们只需要把R和S同时输入1或者0即可。因此这种电容的逻辑关系很简单:在同一时刻R和S输入状态不同(即存在电势差)时,电容为充电状态;在同一时刻R和S输入状态相同(即电势差为0)时,电容为放电状态。 MOSFET的控制原理——水库模型 要说明这个MOSFET的控制原理,我们借助一个水库的模型来说明。MOSFET有三个极,分别是源极(Source)、漏极(Drain)和栅极(Gate)。下图左边就是一个MOSFET的电路图,右边是我们画出的一个水库模型。 图中S为源极,D为漏极,G为栅极。S极连接着电容,D级连接列地址线路,并接到数据IO,G则是控制电荷流出的阀门,连接行地址线路。电容在充电后电势会改变,这样S极的电势就会跟着改变,与D极形成电势差,而G极的电势,就决定了S极有多少电荷可以流入D极。由于电子是带负电荷,因此电子越多电势就越低。为了不至于混淆概念,我们把水池顶部电势定为0V,水池底部电势定为5V(仅举例说明,DRAM中的电容实际电压未必是5V)。当电子数量越多时,电势越低,接近0V,电子数量越少时,电势越高,接近5V。 用水库模型说明,就是左边的水池水量升高(电容充电后),当阀门关闭时,左边的水是不会往右边流的。然后阀门打开(降低,电势升高),左边的水就可以往右边流,阀门的高度就决定了有多少水能流去右边的水道(但是在数字电路中,MOSFET只有开和关两种状态,因此下文提到的打开MOSFET就是全开);同样道理如果右边水多,阀门打开之后也可以向左边流。因此在水库模型中,电容就充当了左边的水池,而MOSFET的栅极就充当了阀门,列地址线路和IO则充当了右边的水道。 储存数据 MOSFET栅极电势为0V时,电容的电荷不会流出,因此数据就可以保存我们可以用2.5V为参考分界线,电容电势低于2.5V时,表示数据0,电势高于2.5V时,表示数据1。例如上一楼水库模型的左图,电容中储存的电子数高于一半的高度,电势低于2.5V,因此可以表示数据0。但以上只是理论情况,实际上电容会自然漏电,电子数量会逐渐减少,电势就会逐渐升高,当电势升高到2.5V以上时,数据就会出错,因此每隔一段时间必须打开MOSFET往电容中充电,以保持电势,这就是刷新。因此,数据的储存主要就是对电容中电势的保持操作。