光学镀膜原理,光学的零件表面在镀膜后,光在膜层的层上多次反射多次透射,形成多样光束干涉,控制膜层折射率以及厚度,可以得到很多不同的强度分布,这是干涉镀膜的基本的原理。
一、光学镀膜应用
光的干涉在薄膜光学广泛被各领域应用。光学薄膜技术的一般方法,是借助真空溅射的方式在玻璃的基板上涂镀薄膜的,通常用来控制基板对入射光束的反射率和透过率,以满足不同的需求。为了除去光学零件表面的反射损耗,提高产品成像质量,涂镀一层或多层透明介质膜,称为增透膜或减反射膜。随着激光技术的发展,对膜层的反射率和透过率有不同的要求,促进了多层高反射膜和宽带增透膜的发展。为各种应用需要,利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉滤光片等。
二、光学镀膜几种材料:
① 氟化镁
材料特点:无色四方晶系粉末,纯度高,用其制备光学镀膜可提高透过率,不出崩点。
② 二氧化硅
材料特点:无色透明晶体,熔点高,硬度大,化学稳定性好。纯度高,用其制备高质量Si02镀膜,蒸发状态好,不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。
③ 氧化锆
材料特点白色重质结晶态,具有高的折射率和耐高温性能,化学性质稳定,纯度高,用其制备高质量氧化锆镀膜,不出崩点。
光学镀膜原理,今天我们通过光学镀膜应用光学镀膜几种材料:包括氟化镁,二氧化硅,氧化锆来介绍了一次,下次我再写文把整个光学镀膜的流程写下来,这样会详细些,上次我也有类似的文章,大家可以找出来看看。