第19卷第8期2011年8月光学精密工程O pti cs and Preci si on Engi neeri ngV01.19N o.8Aug.2011文章编号1004—924X( 2011) 08- 1810- 06球面旋涂光刻胶工艺刘小涵1’ 孙,冯晓国1,赵晶丽1,高劲松1,张红胜1,程志峰1(1.中国科学院长春光学精密机械与物理研究所中国科学院光学系统先进制造技术重点实验室,吉林长春130033;2.中国科学院研究生院,北京100039)摘要:研究了离心式涂胶工艺理论以实现在凹球面内表面涂布厚度均匀的光刻胶。首先,讨论了影响膜厚均匀性的主要因素;接着。用流体力学理论分析了离心式开口向下球面涂胶过程中胶液的受力流动状态,建立了出胶膜厚度与离心机转速、胶液粘度,旋涂时间等参数关系的数学模型;最后,为了验证理论的正确性,在口径9120 m rn,凹球面半径300 m m ,矢高12.5 m m 的K9玻璃试验件内表面开展涂胶工艺实验。测试分析结果表明,该理论分析模型与实际情况相符,根据理论分析采用主轴与工件旋转轴偏心的装夹方法,在整个球面内表面可以得到厚度均匀的胶膜。当光刻胶黏度为1.1~1.9 Pa,主轴转速为3 000~6 000r/m i n时,可在凹球面上涂布厚度为0.5~1 pm 的均匀胶膜。关键词:光刘肢;离心式涂肢;流体力学;胶膜厚度;胶液粘度{转速;中图分类号:TN 305.7文献标识码:Adoi :10.3788/O PE.201i 1908.1810