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现在主流的光刻机用的还是KrF和ArF excimer laser作为光源。但是这种高能光都被严格限制在光路里,除非设备出现问题,否则没有机会对人体造成伤害。出于alignment的需要,在对wafer notch的时候,有用到红外光。在wafer上不同的光刻层之间,对alignment mark的时候,还有可能需要Hg Arc Lamp。但同样的道理,光都是有光路的。除非光路破坏,或者人为的盯着光源看,因为光的作用对人体的伤害,可以忽略不计。
光刻之后,光刻胶的化学特性发生变化,之后显影。除了光刻胶本身是一种chemical,显影液也是。光刻胶内最重要成分是对光敏感的有机物(polymer),另外就是能溶解光刻胶的溶剂。带苯环的polymer多是强致癌物,如果被人体吸收,肯定有害。但是通常闻到的味道并不是有机物本身,而是有机溶剂 (易挥发)。闻多了对人体不好,但是危害相对polymer,还是要小得多。至于显影液,多是碱性溶剂,如果溅到皮肤会有灼伤。但显影液本身不会有太强烈的味道,也不易挥发。
另外,清洗光刻胶要用到的有机溶剂丙酮(Acetone)和异丙醇 (IPA),都要尽量避免直接呼吸到。最后的最后,重点不得不提的是,为了增强光刻胶的黏附性,wafer表面用HMDS蒸汽改变亲水/疏水特性,基本上成了涂胶的一道标准流程了。HMDS是强致癌物,一定要避免接触。无论是表面皮肤接触还是呼吸系统接触。