TFT 生产技术最为核心的部分是光刻工艺,它既是决定产品品质的重要环节,也是影响产品成本的关键部分。而在光刻工艺中,最受人们关注的就是掩模版,其质量在很大程度上决定了TFT- LCD 的品质,而其使用数量的减少可有效削减设备投资、缩短生产周期。随着 TFT 结构的变化和生产工艺的改进,其制造过程中使用掩模版的数量也在相应地减少。由此可见,TFT 生产工艺从早期的 8掩模版或 7掩模版光刻工艺发展到目前普遍采用的5掩模版或 4掩模版光刻工艺,大大地缩减了 TFT- LCD 生产周期和生产成本。4掩模版光刻工艺已成为业界主流。为了不断降低生产成本,人们一直在努力探索如何进一步减少光刻工艺流程中掩模版的使用数量。近年来,一些韩国企业在 3掩模版光刻工艺的开发上取得了突破性进展,并已宣告实现量产,但由于 3掩模版工艺技术难度大、良品率也较低,目前还在进一步的发展和完善中。从长远的发展来看,如果 Inkjet(喷墨)打印技术取得突破,实现无掩模制造才是人们追求的终极目标。为实现大面积高解析度的液晶显示,通常需要采用低阻抗金属材料、高性能开关元件以及高精细加工技术等手段。