ALD 光学镀膜
稳定的光学性能要求高度均匀性的薄膜材料。根据光学性能要求,典型的膜层厚度均匀性要求在1%左右。与PVD不同,ALD镀膜无论对于纳米结构的微观层面或任意形状光学器件的宏观层面,都是理想的镀膜解决方案。由于ALD通过饱和化学反应形成单一膜层,因此您可以原子级精度调整光学材料特性。这为工业量产化提供了出色的可重复性且能有效地控制膜层厚度。
Beneq P400A: 在均匀性和产能之间实现完美平衡的ALD设备
与PVD相比,ALD的沉积率通常较低。但ALD制备工艺可通过大批量的产能来进行弥补。Beneq P400A 经过优化,可在批量生产中以更快的生长速度沉积高保形厚膜。
基于丰富的经验和专业软件,Beneq可根据您的要求针对性地设计ALD膜层结构,以此获得最佳的光学性能。
硅结构测试
在硅结构测试中沉积完美保形的ALD薄膜堆层
大曲率透镜
ALD是大曲率透镜的理想选择
大直径球型光学透镜的批量镀膜
测试夹具球型透镜的示例
批量生产中,经过全方位角度测量,所有镀膜样品的薄膜不均匀性仅为1.2%
不影响产量的简化选择方案
与PVD不同,ALD技术无需旋转基底材料。这意味着用更简单的方法就能达到更大的产量。Beneq P400A实现了高均匀度、批量生产和高沉积率的独一无二的优化组合。Beneq ALD工艺技术满足了在复杂3D结构表面均匀沉积薄膜的高保形性。这为任意形状的光学器件、球型透镜、光栅等应用提供了成熟可靠的镀膜方案。
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