美国升级打压华为的手段,致使整个世界半导体行业遭受到影响,国内受到的影响尤为严重!尤其是在美国升级打压华为手段的背景下,台积电宣布赴美建厂,让国人们更为关注中芯国际什么时候能真正的成长起来,扛起中国芯片制造的大梁!
我们在关注中芯国际能否购买到荷兰ASML公司最高端的光刻机的时候,国内一家企业突然宣布一重大消息,芯片制造产业链中另一关键部件--光刻胶被成功研制!
光刻胶在芯片制造过程中,它的地位与光刻机一样,非常重要!
我国光刻胶与光刻机一样,都被外企卡脖子,尤其是在高端光刻胶方面,落后外企很多很多,但是,这种光刻胶被“卡脖子”的现象已不复存在,被中国一家名为“南大光电”的企业打破了!
世界最先进的光刻胶技术在日本,以JSR、东京应化等为代表的四家日企,垄断了世界75%的光刻胶市场,美企在光刻胶市场占据13%的份额,而中国企业所占的市场份额不足10%,而且还是中低端市场!
在此之前,我国在高端光刻胶领域是空白的,而日企生产的可用于
28nm到7nm工艺光刻机的光刻胶占据了93%,可见我国发展高端光刻胶的紧迫性。
为了打破日美的垄断,寻求新的突破,国内众多光刻胶研发企业开始全力技术攻关!近日,南大光电终于取得重大突破!
据悉,南大光电研发的可用于7nm光刻机身上的光刻胶已按计划进行客户测试阶段,这意味着我国在高端光刻胶技术上已经“破冰”,不日就可打破日美的垄断!
其实,南大光电在2017年的时候就开始着手研发高端光刻胶,并且获得了国家的项目支持。当时,南大光电的负责人对外表示,将用三年的时间完成该技术的攻关,实现量产,达到年产量25吨的产业规模!
如今,南大光电已经兑现了他当初的承诺,用时不到三年实现了技术上的突破,已经进入产品客户测试阶段,下一步就是光刻胶的量产及销售!