摘要库摘要对于半导体材料而言,光致发光(Photoluminescence,PL)是一种有力又无破　坏性的技术,在半导体工业及研究领域得到广泛应用,为国内外研究第三代半导　体材料的光学性质提供了重要的实验依据。　通过分析光致发光谱可以得知各种半　导体材料的带隙、掺杂杂质种类,可以估算化合物半导体材料的组成成分,也可　以研究一般物理或电学测量方法很难得到的异质结的内层结构。　根据不同测试需　求,光致发光谱也演化成为多种手段,如发射谱、激发谱和瞬态谱等。但是在一　般的　PL　谱测量中,只能反映出整个半导体外延片中单点的材料特性,如通过峰　位、半高宽,发光强度对比估算出半导体材料的带边峰峰位、质量好坏、内量子　效率等。然而由于生长过程中反应腔内环境的差异,外延片在不同位置的晶体质　量会有一定的差异,在发光二极管已经产业化生产的今天,需要对外延片整体生　长质量有更为快捷的宏观判定,并进一步探究原因以改进生长工艺,在这方面,　光致发光扫描技术(PL-Mapping)将起到重要作用。　LabVIEW　图像化编程语言的出现,极大的减轻了工程师和科学家们在编程　工作中面临的考验,编程者可以像搭积木一样搭建自己的程序界面,而程序本身　的内容也是靠一个个图标与连线构成,方便记忆。这使得编程者无需记忆复杂的　语法知识和函数原型,也无需花费一般文字编程那样冗长的学习时间。对于非软　件类行业的研究人员,无论是快速搭建小型自动化测试测量系统,还是开发大型　的分布式数据采集控制系统,LabVIEW　都是完全能够胜任的。目前,已在诸多　相关科研论文与测试系统应用实例中得到了广泛的关注。　本文概述了一套基于　LabVIEW　平台而搭建的半导体光致发光扫描系统。充　分考虑扫描过程中由于外延片荧光信号过于微弱、　不均匀背景光噪声可能产生的　光谱采集失真以及随后分析谱图所存在的物理参数读取误差等因素,　通过扣除背　光源、隔离样品、高斯拟合等方式对测量过程进行优化,同时依托　LabVIEW　自　身强大的仪器控制能力,　如调用动态链接库与　ActiveX　控件实现了对光谱仪和平　移台的通信与控制,结合其良好的数据分析及显示能力,实现了对外延片测量、　读取、分析处理以及实时显示等过程的自动化整合,准确高效的提取出样品空间　分辨的光致发光特性如峰位、光强等。最后初步分析了文章所用外延片的发光均　厦门大学博硕士论文摘要库匀性,得出波长分布与生长温度分布基本一致,为分析生长腔内温度的均匀性提　供了可靠的研究数据。该系统不仅界面友好,简单易操作,实时性强,智能化高　且搭建简单易行,极大的降低了成本,方便研究人员进行快捷准确的测试。　关键词:　LabVIEW;均匀性;光致发光　厦门大学博硕士论文摘要库