设备名称:光致发光扫描系统(PL mapping)
设备型号:M-200
设备厂商:韩国ECOPIA
设备介绍:
基本原理:通过对样品不同位置区域荧光光谱的采集和分析,获得材料发光的区域分布图,从而对材料发光均匀性和膜厚均匀性进行有效分析。
光致发光(PL)是一种辐射复合效应。在一定波长光源的激发下,电子吸收激发光子的能量,向高能级跃迁而处于激发态,激发态是不稳定的状态,会以辐射复合的形式发射光子向低能级跃迁,产生荧光。
主要特点:
适用于2、4、6英寸样品;
可进行PL测试、膜厚及反射率的测试
激发光源:405nm激光器,最大输出功率100mW,功率连续可调