当黏度<1.1 Pa时,胶液流动性过大,易产生“ 针孔” ,黏度>1.9 Pa时,胶液缺乏应有的流动性,导致膜层表面凹凸不平凹] 。尤其是对大口径球面涂胶时,黏度低时胶膜越薄,均匀性越容易保持一致;黏度大时胶膜越厚,均匀性就越难于控制。对于网栅刻划来说,胶膜厚度越万方数据 光学精密工程第19卷大,经激光直写、真空镀膜后网栅膜厚度越大,面电阻越小,网栅的光电性能越好[ 10‘ 。所以在保证要求厚度的前提下应尽量降低胶液的黏度。离心涂布时间对均匀性的影响随黏度的不同而不同,相同离心转速的前提下,黏度小时旋涂时间短,黏度大时旋涂时间长。但时间过短,胶液还没有充分扩散,会导致均匀性急剧变差;当然时间过长也会加速胶膜表面的硬化时间而降低其均匀性。2.3旋涂光刻胶的基本过程开口向下球面光刻胶旋涂由以下三个阶段组成:第一步是上胶。在洁净的恒温室内进行试验,先用微米或亚微米级的滤纸过滤胶液。可以减少由于胶液中的粒子造成的疵点。要保证整个球面上都能够涂布光刻胶,要用滴胶管把稀释好、过滤后的胶液滴到开口向上静止状态的凹球面中心后,立即将工件转为开口向下状态进行水平方向低速均胶( 500~1000 r/m i n) ,直至胶液覆盖住整个表面( 滴人的胶量要大于涂胶量) 。