Task: Translation
Input (Czech): Na mikronový diamantový prášek se působí leptacími plyny v plazmatu vysokofrekvenčního výboje za sníženého tlaku 50 až 100 Pa, při teplotě 100· až 500 °C. Jako leptacích plynů se používají kyslíky s případnou příměsí argonu a dusíku, směs halogenidu uhličitého s kyslíkem nebo kysličník uhličitý. Zařízení k čištění diamantového mikronového prášku sestává z vnějšího pláště z nerezové oceli s vnitřním válcem a elektroda, která je napojena na zdroj vysokofrekvenční energie. Vnější plášť je spojen se zásobníkem, v němž je umístěn kuželový mlýn mikronového diamantu a který je o- patřen ventily pro přívod leptacích plynů. Pracovní prostor reaktoru je spojen s vývě- vou a zásobníkem na vyčištěný diamant.
Output (English): The micron diamond powder is treated with etching gases in the plasma of the high-frequency discharge under reduced pressure of 50 to 100 Pa, at a temperature of 100 to 500 ° C. Oxygen with optional addition of argon and nitrogen, a mixture of carbon dioxide with oxygen or carbon dioxide are used as etching gases. The diamond micron powder cleaning device consists of an outer stainless steel shell with an inner cylinder and an electrode that is connected to a high frequency energy source. The outer casing is connected to a reservoir in which a micron diamond conical mill is located and is provided with an etching gas supply valve. The reactor workspace is connected to a vacuum pump and a cleaned diamond container.