Task: Translation
Input (Czech): Řešení se týká lázně pro leptání vrstev  platiny z povrchu křemíkových desek.  Podstatou řešení je lázeň sestávající  z 400 až 600 objemových dílů koncentrované  kyseliny chlorovodíkové, 350 až 450 objemových  dílů vody a 20 až 50 objemových dílů  peroxidu vodíku 30 %.  Lázeň je používána při teplotách 70 až  95 °C po dobu několika minut.
Output (English): The invention relates to a bath for etching layers  platinum from the surface of the silicon wafers.  The essence of the solution is a bath consisting of  400 to 600 parts by volume concentrated  hydrochloric acid, 350 to 450 vol  parts of water and 20 to 50 parts by volume  hydrogen peroxide 30%.  The bath is used at temperatures of 70 to  95 ° C for several minutes.