Task: Translation
Input (Czech): Elektroda pro rozprašování v magnetickém poli je opatrená první elementární fází prvního materiálu,pricemž tento první materiál je bud kobalt nebo wolfram, první intermetalickou fází obsahující první materiál a druhý materiál, pricemž druhý materiál je bud wolfram nebo kobalt a je odlišný od prvního materiálu a první materiál je ve vetším atomovém procentuálním obsahu než druhý materiál, a druhou intermetalickou fází obsahující druhý materiál aprvní materiál, kde druhý materiál je ve vetším atomovém procentuálním obsahu než první materiál. Rozprašovací elektroda obsahuje 20-80 at.% kobaltu a má hustotu vetší než 99 % své maximální teoretické hustoty. Tato rozprašovací elektroda se vyrábí výberem kobaltového prášku a wolframového prášku, které mají totéž rozložení velikosti cástic, smícháním kobaltového prášku a wolframového prášku do formy smíseného prášku, uložením smíseného prášku do krabice, slisováním smíseného prášku za tepla pro vytvorení tuhého telesa a strojní obrábení tohoto tuhého telesa do tvaru rozprašovací elektrody.
Output (English): The magnetic field sputtering electrode is provided with a first elemental phase of the first material, the first material being either cobalt or tungsten, the first intermetallic phase comprising the first material and the second material, wherein the second material is either tungsten or cobalt and is different from the first material and the first the material is in a larger atomic percentage than the second material, and the second intermetallic phase comprises the second material and the first material, where the second material is in greater atomic percentage than the first material. The sputter target contains 20-80 at.% Cobalt and has a density greater than 99% of its maximum theoretical density. This sputter target is made by selecting cobalt powder and tungsten powder having the same particle size distribution, mixing cobalt powder and tungsten powder into a mixed powder, depositing the mixed powder in a box, compressing the mixed powder while forming a rigid body, and machining the solid. body to form a sputter target.