Task: Translation
Input (Czech): Řešení  opadá  do  oblasti  mikroelek  ­  troniky  a  řeší  problém  zvýšení  produk  ­  tivity  elektronového  litografii  a  sníže  ­  ní  defektnosti  expozičních  ma3ek  a  in  ­  tegrovaných  obvodů  vyrobených  metodou  elektronové  litografie.  Tohoto  účelu  je  dosaženo  vývojkou  pozitivního  elektrono  ­  vého  rezistu  na  bázi  polymethylmetha-  krylu,  vyznačenou  tím,  že  sestává  ze  směsi  1,2-,  1,3-  a  1,4-dimethylbenzenu  s  libovolným  obsahem  jednotlivých  kom  ­  ponent,  přičemž  její  parametr  rozpust  ­  nosti  je  nižší  než  parametr  rozpustnos  ­  ti  rezistu  a  teplota  tání  je  v  oboru  -  48  až  13,3  °C,  podle  zastoupení  jed  ­  notlivých  komponent  ve  směsi.
Output (English): Solution  opadě  to  areas  mikroelek  #  troniky  and  it solves  problem  increase  product  #  tivity  electron  lithography  and  will decrease  #  it  defect  exposure  ma3ek  and  in  #  tegrované  circuits  made  method  electron  lithography.  This  purpose  Yippee  achieved  developer  positive  elektrono  #  tive  resist  on  basis  polymethylmetha-  covering  marked  by  that  consists  that  mixtures  1,2-,  1,3-  and  1,4-dimethylbenzene  with  arbitrary  content  individual  kom  #  ponent,  taking  her  parameter  soluble  #  company  Yippee  lower  than  parameter  solubility  #  ti  resist  and  temperature  thaw  Yippee  in  field  -  48  to  13.3  ° C,  according to  representation  poison  #  individual  component  ve  mixtures.