Task: Translation
Input (Czech): ﻿Vynález představuje způsob unášení substrátů při depozici tenké povrchové vrstvy a rotační stolek (1) pro provádění tohoto způsobu, který zahrnuje alespoň jedno otočné patro (3), na kterém jsou uspořádány planetové unášeče (5) substrátů (2). Osy (6) otáčení planetových unášečů (5) svírají s osou (4) otáčení rotačního stolku (1) úhel (.alfa.) v rozpětí od 15.degree. do 75.degree.. Počet otočných pater (3) lze na kleci rotačního stolku (1) jednoduše měnit, tak aby rotační stolek (1) pojal co nejvíce substrátů (2), přičemž kvalita nanesených povrchových vrstev je zachována. Velká úložná kapacita rotačního stolku (1) je zajištěna prostorovým uspořádáním substrátů (2).
Output (English): The present invention provides a method of entraining substrates in the deposition of a thin surface layer and a rotary table (1) for performing the method comprising at least one rotatable tray (3) on which the planet carrier (5) of substrates (2) are arranged. The axes (6) of rotation of the planet carriers (5) form an angle (.alpha.) With the axis (4) of rotation of the rotary table (1) in the range from 15 deg. The number of rotatable trays (3) can be easily varied on the cage of the rotary table (1) so that the rotary table (1) holds as many substrates (2) as possible, while maintaining the quality of the applied layers. The large storage capacity of the rotary table (1) is ensured by the spatial arrangement of the substrates (2).