Task: Translation
Input (Czech): Způsob nanášení otěruvzdorných vrstev na bázi bóru na substráty metodou PVD, přičemž nanášení probíhá ve vakuové komoře současně z nejméně dvou katod, z nichž jedna pracuje v režimu nefiltrovaného nízkonapěťového oblouku a druhá v režimu magnetronového naprašování. Vrstvy jsou vybrány ze skupiny tvořené multivrstvami TiN/BN, CrN/BN, TiCrN/BN, AlTiN/BN, AlCrN/BN, AlTiCrN/BN a nanášení se provádí v atmosféře s obsahem dusíku, jehož parciální tlak je 0,1 až 10 Pa. Alespoň jedna katoda, pracující v režimu nefiltrovaného nízkonapěťového oblouku, obsahuje přechodový kov ze skupiny IVB až VIB periodické tabulky nebo hliník (Al) a alespoň jedna další katoda, pracující v režimu magnetronového naprašování, obsahuje nejméně 50 % at. bóru (B), kde do tohoto obsahu se nezapočítává dusík (N) obsažený v katodě.
Output (English): A method for applying boron-based abrasion-resistant layers to PVD substrates, wherein the deposition takes place in a vacuum chamber simultaneously from at least two cathodes, one of which operates in the unfiltered low-voltage mode and the other in magnetron sputtering mode. The layers are selected from the group consisting of TiN / BN, CrN / BN, TiCrN / BN, AlTiN / BN, AlCrN / BN, AlTiCrN / BN multilayers and are applied in a nitrogen-containing atmosphere with a partial pressure of 0.1 to 10 Pa . At least one cathode operating in the unfiltered low voltage mode comprises a transition metal of groups IVB to VIB of the periodic table or aluminum (Al) and at least one additional cathode operating in magnetron sputtering mode comprises at least 50% at. boron (B), where nitrogen (N) contained in the cathode is not included in this content.