艾司摩爾

艾司摩爾 （ASML Holding N.V. ，Advanced Semiconductor Materials Lithography）是一間位於荷蘭恩荷芬的半導體裝置製造商，同時在歐洲和美國 NASDAQ 上市。全球員工有 40,000 多名，在世界 16 個國家提供服務。

艾司摩爾的主力產品是用於生產大規模積體電路的核心裝置曝光機，在世界同類產品中有 90％的市佔率，在 14 奈米製程以下則有極紫外光刻 100% 的市佔率，是現代積體電路不可或缺的重要供應商。

概要

1984 年從荷蘭著名電子製造商飛利浦獨立，當時辦公室尙在母公司的空地一旁的木屋內，僅有百餘人陸續加入，此後致力於當時正在發展的大規模積體電路裝置的研究和製造市場。阿斯麥公司為半導體生產商提供曝光機及相關服務，根據摩爾定律不斷為提高單位面積整合度作貢獻。2007 年已經能夠提供製造 37nm 線寬積體電路的曝光機。

製造大規模積體電路時要對半導體晶圓曝光三四十次。為在不降低品質的情況下減少曝光次數，艾司摩爾公司在曝光機上使用德國蔡司公司的光路系統，鏡頭使用螢石和石英製造，其反射鏡更是人類史上最平滑的光學鏡面。曝光機是高附加值產品，一臺當時龍頭尼康的新的曝光機動輒上億美元。而研發週期長，投入資金也相當巨大，使得單一家公司獨立研發開始出現困難。

艾司摩爾的成功轉變在於整合，當年眼前有這樣級別的業界對手，因此沒有走上完全自主研發的傳統路線，面對這樣的條件，選擇了做專業裝置不如以外包採購代替、用先進製造不如委託廠商協助代理的方法突破，同時在 DUV 節點上除了投資乾式顯影法，運用自己規模較小的優勢，轉向了林本堅在 2002 年提出，還在業界推廣的浸潤式顯影技術，並與臺積電形成同盟，漸漸擊敗 Nikon 自家的技術，以全球多元分工的模式取得一席之地，其中比如極紫外光刻（EUV），也是透過產業聯盟進行合作，EUV 技術由美國科技公司率先倡導，然而此時美國自己的曝光機產業已被日商光刻技術擊垮，艾司摩爾此時出現搶市，夥同多家美國研究機構、供應商聯合近 20 年潛心研發未知的新技術，才終於讓實用級別的 EUV 裝置誕生，使得雖然總部和生產都在歐洲，但艾司摩爾卻像研究單位，只負責專業整合、設計和機臺操作等自有強項，大部分極紫外光的技術和供應皆為美國。

現在市場上提供量產商用的曝光機廠商依照排名，首位艾司摩爾、第二名尼康（Nikon）、以及佳能（Canon）共三家，根據 2007 年的統計資料，在中高階曝光機市場，艾司摩爾公司約有 60% 的市場佔有率。而最高階市場（immersion），艾司摩爾公司目前約有 90% 的市場佔有率，在 14 奈米節點以下更取得 100% 市佔率，同業競爭對手已無力追趕。

2010 年代以後，艾司摩爾公司繼續堅持製造與生產方共同來研製的思路，甚至讓三星、臺積電、英特爾等競爭對手紛紛放下敵意和成見，出現死對頭們聯手研發並聯合資注 EUV 專案的景象，並已經向客戶遞交若干臺 EUV 原型機型，用於研發和實驗。同時，基於傳統 TWINSCAN 平臺研發的雙重曝光技術也對光刻技術做出了大量的貢獻。早在 07 年末，三星宣佈成功生產的 36nm NAND Flash，基於的便是雙重圖形技術（double patten）。

TWINSCAN 系列是目前世界上精度最高，生產效率最高，應用最為廣泛的高階曝光機型。目前全球絕大多數半導體生產廠商，都向 ASML 採購 TWINSCAN 機型，例如英特爾、三星、海力士、臺積電、聯電、格羅方德及其它臺灣十二吋半導體廠。除了目前致力於開發的 TWINSCAN 平臺外，艾司摩爾公司還在積極與 IBM 等半導體公司合作，繼續研發光刻技術，用於關鍵尺度在 22 奈米甚至更低的積體電路製造。

目前已經商用的最先進機型是 Twinscan NXE:3400C 及 NXE:3600D，每小時單位產出為 136/160 片（WPH）12 英寸晶片，屬於極紫外線曝光（EUV）機型，用來生產關鍵尺度低於 7 奈米的積體電路。

後 3 奈米製程時代，ASML 與合作夥伴正在開發全新 EUV 微影曝光裝置 Twinscan EXE:5000 系列。

據 Bloomberg 資料，2018 年全球五大半導體裝置製造商分別為應用材料（AMAT）、艾司摩爾（ASML）、東京威力科創（TEL）、科林研發（Lam Research）、科磊（KLA），這五大半導體制造商在 2018 年以其領先的技術、強大的資金支援佔據著全球半導體裝置製造業超過 70% 的份額。

歷史發展

2008 年，艾司摩爾公司已超過日商東京威力科創成為世界第二大半導體裝置商。

2010 年，以銷售額計算艾司摩爾公司高階曝光機市佔率已達到將近 90%。

2011 年，艾司摩爾公司已超過美商應用材料公司（Applied Materials, Inc）成為世界第一大半導體裝置商。

2012 年 7 月 10 日英特爾斥資 41 億美元收購荷蘭晶片裝置製造商阿斯麥公司的 15% 股權，另出資 10 億美元，支援阿斯麥公司加快開發成本高昂的晶片製造科技。先以 21 億美元，收購阿斯麥公司 10% 股權，待股東批准後，再以 10 億美元收購 5% 股權，投注金額將以發展 450mm 機臺以及 EUV 研發製造 10nm 技術為兩大主軸。

2012 年 8 月 5 日臺積電宣佈加入荷蘭艾司摩爾公司所提出的「客戶聯合投資專案」（Customer Co-Investment Program），根據協議，臺積電將投資 ASML 達 8.38 億歐元，取得阿斯麥公司約 5% 股權，未來 5 年並將投入 2.76 億歐元，支援阿斯麥公司的研發計畫。

2012 年 8 月 27 日三星宣佈斥資 5.03 億歐元入股以荷蘭為基地的晶片商阿斯麥公司 3% 股權，並額外注資 2.75 億歐元合作研發新技術。

2012 年 10 月 17 日 ASML Holding NV（ASML）與 Cymer（CYMI）宣佈簽訂合併協議，阿斯麥公司將以 19.5 億歐元收購 Cymer 所有在外流通股票，收購 Cymer 目的在於加速開發 Extreme Ultraviolet 半導體蝕微影技術，兩家公司董事會一致透過這件交易，Cymer 股東將以每股收取 20 萬美元現金和 1.1502 股 ASML 普通股，收購價比 Cymer 過去 30 日均價高出 61%。

2016 年 6 月 16 日 ASML 宣佈將以每股 1410 元新臺幣現金，斥資約 27.5 億歐元（1 千億元新臺幣）收購臺灣上櫃公司電子束檢測裝置商漢民微測科技股份有限公司（漢微科）（-TW）全部流通在外股份，將以其在臺灣 100% 持股子公司艾普思隆進行股份轉換，此作業在 2016 年第四季完成。

2016 年 11 月 4 日 ASML 以 10 億歐元現金收購德國蔡司公司（ZEISS）子公司蔡司半導體（Carl Zeiss SMT）24.9% 股份

業績

2005 年銷售額 25 億 2900 萬歐元，利潤 3 億 1100 萬歐元。
2006 年銷售額 35 億 9700 萬歐元，利潤 6 億 2500 萬歐元。生產臺數 266，簽約機臺數 334，待生產機臺數 163。
2007 年銷售額 38 億 900 萬歐元，利潤 6 億 8800 萬歐元。生產臺數 196，簽約機臺數 160，待生產機臺數 95。
2008 年銷售額 29 億 5000 萬歐元，利潤 3 億 2000 萬歐元。
2009 年銷售額 15 億 9600 萬歐元，利潤 1 億 5000 萬歐元。
2010 年銷售額 45 億 700 萬歐元，利潤 10 億 200 萬歐元。
2011 年銷售額 56 億 5000 萬歐元，利潤 14 億 6700 萬歐元。
2012 年銷售額 47 億 3200 萬歐元，利潤 11 億 4600 萬歐元。
2013 年銷售額 52 億 4500 萬歐元，利潤 10 億 1500 萬歐元。
2014 年銷售額 58 億 5600 萬歐元，利潤 11 億 9600 萬歐元。
2015 年銷售額 62 億 8700 萬歐元，利潤 13 億 8700 萬歐元。
2016 年銷售額 67 億 9500 萬歐元，利潤 14 億 7200 萬歐元。
2017 年銷售額 90 億 5300 萬歐元，利潤 22 億 2500 萬歐元。
2018 年銷售額 100 億 9400 萬歐元，利潤 25 億 2600 萬歐元。
2019 年銷售額 118 億 2000 萬歐元，利潤 25 億 8100 萬歐元。
2020 年銷售額 139 億 7800 萬歐元，利潤 36 億 9700 萬歐元。
2021 年銷售額 186 億 1100 萬歐元，利潤 58 億 8300 萬歐元。
2022 年銷售額 211 億 7300 萬歐元，利潤 56 億 2400 萬歐元。