"透明基材の少なくとも一方の面に偏在層と低屈折率層をこの順で積層した反射防止フィルムであって、前記偏在層は電離放射線硬化型材料と導電性材料とレベリング材料を含み、前記偏在層の前記透明基材側には、前記透明基材成分と前記偏在層の電離放射線硬化型材料成分が混在した中間層が形成され、かつ、前記偏在層の低屈折率層側表面には前記電離放射線硬化型材料とレベリング材料を含み、導電性材料が含まれていないレベリング層が形成され、かつ、前記レベリング層に含まれるレベリング材料が、アミド基を有する化合物、アクリル基を有する化合物、ブタジエン基を有する化合物、オレフィン基を有する化合物から選択され、かつ、前記偏在層に含まれる導電性材料が、四級アンモニウム塩材料を含み、かつ、偏在層表面における鉛筆硬度がH以上であり、かつ、前記反射防止フィルムの低屈折率層表面における表面抵抗値が1×105Ω/cm2以上1×1012Ω/cm2以下の範囲内であることを特徴とする反射防止フィルム。前記反射防止フィルムの平行光線透過率が93以上であり、かつ、前記反射防止フィルムのヘイズが1.0以下の範囲内であり、かつ、前記反射防止フィルムの低屈折率層表面における純水接触角が80°以上130°以下の範囲内であることを特徴とする請求項1に記載の反射防止フィルム。前記レベリング層に含まれるレベリング材料がアミド基を有する化合物を含み、かつ、前記四級アンモニウム塩材料の分子量Qが1000以上100000以下であり、かつ、前記アミド基を有する化合物の分子量Aが100000以下であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の反射防止フィルム。前記レベリング層に含まれるレベリング材料がアクリル基を有する化合物を含み、かつ、前記四級アンモニウム塩材料の分子量Qが1000以上100000以下であり、かつ、前記アクリル基を有する化合物の分子量Bが100000以下であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の反射防止フィルム。前記レベリング層に含まれるレベリング材料がブタジエン基を有する化合物を含み、かつ、前記四級アンモニウム塩材料の分子量Qが1000以上100000以下であり、かつ、前記ブタジエン基を有する化合物の分子量Cが100000以下であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の反射防止フィルム。前記レベリング層に含まれるレベリング材料がオレフィン基を有する化合物を含み、かつ、前記四級アンモニウム塩材料の分子量Qが1000以上100000以下であり、かつ、前記オレフィン基を有する化合物の分子量Dが100000以下であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の反射防止フィルム。反射防止フィルムをディスプレイ表面に設けることにより、その反射防止機能によって、外光の反射を抑制することができ、明所でのコントラストを向上させることができる。また、同時に透過率を向上させることができることから画像をより明るく表示可能にすることができる。また、バックライトの出力などを抑える省エネ効果も期待できる。反射防止フィルムにあっては、製造コストの低い反射防止フィルムが求められている。また、反射防止フィルムにあっては、反射防止性能や干渉ムラのない光学特性に優れた反射防止フィルムが求められている。また、反射防止フィルムにあってはディスプレイ表面に設けられるため高い耐擦傷性が求められている。また、反射防止フィルムにあっては、ほこり付着防止のため帯電防止機能を備える反射防止フィルムが求められている。本発明にあっては、製造コストが低く、また、優れた光学特性及び優れた耐擦傷性及び帯電防止機能を備える反射防止フィルムを提供することを課題とする。上記課題を解決するために請求項1に係る発明としては、透明基材の少なくとも一方の面に偏在層と低屈折率層をこの順で積層した反射防止フィルムであって、前記偏在層は電離放射線硬化型材料と導電性材料とレベリング材料を含み、前記偏在層の前記透明基材側には、前記透明基材成分と前記偏在層の電離放射線硬化型材料成分が混在した中間層が形成され、かつ、前記偏在層の低屈折率層側表面には前記電離放射線硬化型材料とレベリング材料を含み、導電性材料が含まれていないレベリング層が形成され、かつ、前記レベリング層に含まれるレベリング材料が、アミド基を有する化合物、アクリル基を有する化合物、ブタジエン基を有する化合物、オレフィン基を有する化合物から選択され、かつ、前記偏在層に含まれる導電性材料が、四級アンモニウム塩材料を含み、かつ、偏在層表面における鉛筆硬度がH以上であり、かつ、前記反射防止フィルムの低屈折率層表面における表面抵抗値が1×105Ω/cm2以上1×1012Ω/cm2以下の範囲内であることを特徴とする反射防止フィルムとした。また、請求項2に係る発明としては、前記反射防止フィルムの平行光線透過率が93以上であり、かつ、前記反射防止フィルムのヘイズが1.0以下の範囲内であり、かつ、前記反射防止フィルムの低屈折率層表面における純水接触角が80°以上130°以下の範囲内であることを特徴とする請求項1に記載の反射防止フィルムとした。また、請求項3に係る発明としては、前記レベリング層に含まれるレベリング材料がアミド基を有する化合物を含み、かつ、前記四級アンモニウム塩材料の分子量Qが1000以上100000以下であり、かつ、前記アミド基を有する化合物の分子量Aが100000以下であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の反射防止フィルムとした。また、請求項4に係る発明としては、前記レベリング層に含まれるレベリング材料がアクリル基を有する化合物を含み、かつ、前記四級アンモニウム塩材料の分子量Qが1000以上100000以下であり、かつ、前記アクリル基を有する化合物の分子量Bが100000以下であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の反射防止フィルムとした。また、請求項5に係る発明としては、前記レベリング層に含まれるレベリング材料がブタジエン基を有する化合物を含み、かつ、前記四級アンモニウム塩材料の分子量Qが1000以上100000以下であり、かつ、前記ブタジエン基を有する化合物の分子量Cが100000以下であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の反射防止フィルムとした。また、請求項6に係る発明としては、前記レベリング層に含まれるレベリング材料がオレフィン基を有する化合物を含み、かつ、前記四級アンモニウム塩材料の分子量Qが1000以上100000以下であり、かつ、前記オレフィン基を有する化合物の分子量Dが100000以下であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の反射防止フィルムとした。本発明の反射防止フィルム及び反射防止フィルムの製造方法にあっては、低い製造コストと優れた光学特性、高い耐擦傷性、帯電防止性能を備える反射防止フィルムを提供することができた。特に、耐擦傷性に優れた反射防止フィルムとすることができた。本発明の反射防止フィルムについて説明する。図1に本発明の反射防止フィルム1の断面模式図を示した。本発明の反射防止フィルム1にあっては、透明基材11の少なくとも一方の面に透明基材側から順に偏在層12、低屈折率層13を順に備える。偏在層12はバインダマトリックス形成材料である電離放射線硬化型材料と、導電性材料である四級アンモニウム塩材料または金属酸化物粒子または導電性高分子と、レベリング材料を含んでおり、電離放射線材料等を電離放射線で硬化させてバインダマトリックスを形成することにより反射防止フィルムに高い表面硬度を付与することができる。ここで、偏在層は、透明基材側から順に、中間層12a、ハードコート層12b、前記導電性材料を偏在させた帯電防止層12c、レベリング材料を偏在させたレベリング層12dの順に形成されている。透明基材11と偏在層12の界面に中間層12aが形成されている。中間層12aでは、透明基材成分と偏在層の電離放射硬化型材料成分が混在している。中間層12aにあっては、厚さ方向で透明基材11側から低屈折率層13側に向かって透明基材11の屈折率からハードコート層12bの屈折率まで漸次変化する。透明基材11の屈折率からハードコート層12bの屈折率まで漸次変化する中間層12aを設けることにより、偏在層と透明基材の界面で発生する干渉縞の発生を防ぐことができる。また、中間層は透明基材11と偏在層12間の密着性を向上させることができる。なお、中間層にあっては、偏在層を形成する際に偏在層形成用塗液に透明基材を溶解または膨潤させる溶媒を含ませることにより形成することができる。中間層12aは得られる反射防止フィルムについて低屈折率側から5°入射角で分光反射率を求めることによりその存在を確認することができる。得られる分光反射率から低屈折率層の層厚に対応した干渉ピーク分光スペクトルの波形が多数のリップルが見られる確認された場合には中間層12aは形成されていないものと判断され、裏面を黒塗り処理した外観検査において干渉縞ムラが観察される。一方、得られる分光反射率から低屈折率層の層厚に対応した干渉ピークが確認されない場合には中間層12aは形成されているものと判断され、裏面黒塗り処理による外観検査において干渉ムラが全く見られない。なお、干渉縞、干渉ムラとは光学干渉による色ムラの一種であるが主に透明基材とハードコート層の屈折率差に起因するもので、膜厚が厚い場合に複数の光学干渉が同時に発生し虹色状に色ムラが観察される現象である。色ムラとは低屈折率層の膜厚ムラに起因する反射色ムラのことで面内の色バラツキが大きくなる現象である。ハードコート層12bは、主として電離放射線硬化型材料を成分としており、反射防止フィルムの表面硬度を向上させ、耐擦傷性を付与している。ハードコート層は偏在層表面の鉛筆硬度から形成されているか否かを判断することができる。また、帯電防止層12cは、導電性材料を偏在させており、反射防止フィルムに帯電防止性能を付与している。導電性材料を偏在させることにより、導電性材料を分散させるよりも使用量を低下させることができ、製造コストを低減させることができる。帯電防止層にあっては、反射防止フィルムの表面抵抗値から帯電防止層が形成されているか否かを判断することができる。また、レベリング層12dは帯電防止層上にレベリング材料を偏在させている。レベリング層は偏在層と低屈折率層の密着性を向上させ、偏在層から低屈折率層が剥離することを防止し、反射防止フィルムに耐擦傷性を付与している。本発明の反射防止フィルムにおいて偏在層12中でレベリング層12dが形成されていることは、X線光電子分光分析装置XPSによる表面分析によって形成されているか否かを判断することができる。また、X線光電子分光分析装置XPSによる深さ方向分析デプスプロファイルによってレベリング層の下の帯電防止層12cの有無を判断することもできる。XPSは、試料表面の化学状態を分析する装置である。試料にX線エネルギー:hνを照射すると、光電効果により元素内の内殻電子がたたき出され、この時の光電子の運動エネルギーEkは、一般式AEk=hν-Eb-φで表される。ここで、Ebは内殻電子のエネルギーレベル束縛エネルギー、φは装置や試料の仕事関数である。またEbは、元素固有の値であり、その元素の化学状態によって変化する。一方、固体内で電子がエネルギーを保持したまま通過できる距離はせいぜい数十Åである。XPSは、試料表面から放出された光電子のEkとその数を測定することによって、試料表面から数十Åの深さまでに存在する元素の種類、量、および化学状態の分析ができる装置である。また、XPSにあっては、イオンエッチングと組み合わせることにより、深さ方向分析が可能となる。偏在層12の上に設けられる低屈折率層13は、反射防止フィルムに反射防止機能を付与する。このとき低屈折率層13の膜厚dは、その膜厚dに低屈折率層の屈折率nをかけることによって得られる光学膜厚ndが可視光の波長の1/4と等しくなるように設計される。低屈折率層13は、低屈折率層形成材料を含む塗液と偏在層上に塗布することにより形成される。偏在層形成材料に導電性材料を含有偏在させ、偏在層表面に低屈折率層を形成するにあっては、導電性材料を偏在させた帯電防止層と帯電防止層上の低屈折率層の密着性が悪く、その結果、低屈折率層の剥離によって耐擦傷性が低下してしまうことがあった。本発明者らは、電離放射線硬化型材料、導電性材料を含む偏在層形成用塗液に、さらにレベリング材料を加えることにより、導電性材料を偏在させた帯電防止層上にレベリング層を形成し、偏在層と低屈折率層の密着性を向上させ、耐擦傷性が高い反射防止フィルムとすることができることを見出し本発明に至った。偏在層の最表面に導電性材料が偏在している場合、低屈折率層形成材料と導電性材料が電気的反発をし、偏在層と低屈折率層の密着力が落ちるため、反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。また、低屈折層形成材料と導電性材料との電気的反発がより強い場合は、低屈折率層形成塗液を塗布する際にハジキなどが生じるといった不具合が発生する場合もある。また、低屈折率層形成材料に撥水材料を含む場合には、導電性材料と低屈折率層材料中の撥水材料の電気的反発により所望の防汚性能が得られなくなってしまうこともある。また、本発明にあっては、偏在層形成用塗液を塗布することにより、中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層となる偏在層を同時に形成することができる。したがって、透明基材上にハードコート層及び帯電防止層を順次塗布形成した場合と比較して、製造コストを抑えることができる。偏在層12において、導電性材料はバインダマトリックス形成材料である電離放射線硬化型材料と比較して表面へ析出しやすく、且つ、レベリング材料は導電性材料よりも更に表面へ析出しやすい。したがって、偏在層を形成する際に乾燥温度、時間の条件を制御して偏在化させることにより、中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層と分離させることができ、それら層構成を偏在層としている。中間層12aは、偏在層のバインダマトリックス成分とトリアセチルセルロース成分からなる。中間層12aにあっては、厚さ方向で透明基材11側から低屈折率層13側に向かって透明基材11の屈折率から低屈折率層のバインダマトリックスの屈折率であるハードコート層12bの屈折率まで漸次変化する。透明基材11の屈折率からハードコート層12bの屈折率まで漸次変化する中間層12aを設けることにより、偏在層と透明基材の界面で発生する干渉縞の発生を防ぐことができる。また、中間層は透明基材11と偏在層12間の密着性を向上させることができる。ハードコート層12bとは、バインダマトリックス成分である電離放射線硬化型材料と導電性材料およびレベリング材料を含むことができる。主にバインダマトリックス成分である電離放射線硬化型材料から構成され、バインダマトリックス成分が多く偏在して存在するため、反射防止フィルムに表面硬度を持たせることができる帯電防止層12cとは、バインダマトリックス成分である電離放射線硬化型材料と導電性材料およびレベリング材料を含むことができる。導電性材料でが偏在して多く存在するため帯電防止機能を発現し、帯電防止機能を有する反射防止フィルムとすることができる。レベリング層12dとは、バインダマトリックス成分である電離放射線硬化型材料とレベリング材料を含むことができる。おもにレベリング材料から構成され、導電性材料は含まれていない。導電性材料が偏在層の最表面に存在した場合には、偏在層上に低屈折率層を形成する際に偏在層と低屈折率層の密着力が落ちるため、反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。本発明の反射防止フィルムにあっては、最表面へは導電性材料である導電性材料よりもレベリング材料の方が表面張力が低いために、導電性材料である導電性材料を含有しない層を容易に形成することができる。本発明の反射防止フィルムにあっては低屈折率層を形成する際に、導電性材料の影響を受けない。よって、偏在層と低屈折率層の密着力の低下を防ぐことができ、反射防止フィルムに高い表面硬度を付与することができ、耐擦傷性に優れ、防汚性に優れた反射防止フィルムとすることができる。本発明の反射防止フィルムにあっては、反射防止フィルムの平行光線透過率が93以上であり、かつ、反射防止フィルムのヘイズが1.0以下の範囲内であり、かつ、反射防止フィルムの低屈折率層表面における表面抵抗値が1×105Ω/cm2以上1×1012Ω/cm2以下の範囲内であり、かつ、反射防止フィルムの低屈折率層表面における純水接触角が80°以上130°以下の範囲内であることが好ましい。反射防止フィルムの平行光線透過率が93を下回る場合、または、ヘイズが1.0を超える場合には、透明感が無くなり、白濁白らっ茶けしてしまい、ディスプレイのコントラストを低下させてしまうことがある。なお、本発明の反射防止フィルムにあっては、平行光線透過率は高ければ高いほど好ましく、ヘイズは低ければ低いほど好ましい。ただし、反射防止フィルムの平行光線透過率は93以上98以下の範囲内であることが好ましい。現在考えられる使用材料を考慮すると平行光線透過率が98を超える反射防止フィルムを作製することは困難である。また、反射防止フィルムのヘイズは0.05以上0.5以下の範囲内であることが好ましい。現在考えられる使用材料を考慮するとヘイズが0.05を下回る反射防止フィルムを作製することは困難である。また、表面抵抗値が1×105Ω/cm2以上1×1012Ω/cm2以下の範囲内であることが好ましい。なお、反射防止フィルム表面での表面抵抗値が1×105Ω/cm2を下回る反射防止フィルム作成する場合、多量の導電性材料である四級アンモニウム塩材料または金属酸化物粒子または導電性高分子が必要となり、本発明の偏在層の形成ができなくなることがある。さらに、透明性全光線透過率値が低下してしまうことがある。反射防止フィルム表面の表面抵抗値が1×1010Ω/cm2~1×1012Ω/cm2の状態にある場合は、一般的に動的な状態で埃が付着しない領域といわれており、ディスプレイの最表面に用いられる場合は、この条件が必要となる。そのため、本発明では1×1012Ω/cm2以下が好ましいこととした。なお、前記表面抵抗値の測定方法としては、JIS-K69111995に準拠して測定することができる。また、本発明の反射防止フィルムにあっては、純水接触角が80°以上130°以下の範囲内であることが好ましい。純水接触角を80°以上とすることにより、低屈折率層に優れた防汚性を付与することができる。また、130°以下の範囲内とすることにより、低屈折率層を形成する際に偏在層と低屈折率層の密着が良くなるために、高い表面硬度を付与することができ、耐擦傷性に優れ、防汚性に優れた反射防止フィルムとすることができる。なお、純水接触角が130°超える場合にあっては、低屈折率層を形成する際にハジキが発生してしまい、低屈折率層を形成することができなくなってしまう恐れがある。また、純水接触角が80°に満たない場合にあっては、十分な防汚性を得ることができなくなってしまうことがある。なお、純水接触角の測定方法としては、JISR32571999に準拠して測定することができる。具体的には、接触角計を用いて、乾燥状態20°C-65RHで液滴を針先に作り、これを試料固体の表面に接触させて液滴を作り、この接触角を測定することで求めることができる。接触角とは、固体と液体とが接触する点における液体表面に対する接線と固体表面とがなす角であり、液体を含む側の角度で定義される。液体としては、蒸留水が使用される。また、本発明の反射防止フィルムにあっては、レベリング層に含まれるレベリング材料が、アミド基を有する化合物、アクリル基を有する化合物、ブタジエン基を有する化合物、オレフィン基を有する化合物から選択されることが好ましい。なお、アミド基を有する化合物、アクリル基を有する化合物、ブタジエン基を有する化合物、オレフィン基を有する化合物から選択されるレベリング材料の具体例はあとで記述する。また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が、四級アンモニウム塩材料、金属酸化物粒子、導電性高分子から選択されることが好ましい。なお、四級アンモニウム塩材料、金属酸化物粒子、導電性高分子から選択される導電性材料の具体例はあとで記述する。また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が四級アンモニウム塩材料を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がアミド基を有する化合物を含む際に、四級アンモニウム塩材料の分子量Qが1000以上100000以下であり、かつ、アミド基を有する化合物の分子量Aが100000以下であることが好ましい。四級アンモニウム塩材料の分子量Qおよびアミド基を有する化合物の分子量Aを所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。偏在層に用いられる四級アンモニウム塩材料の分子量Qが1000を下回る場合には四級アンモニウム塩材料が偏在層表面へ偏在しやすくなりレベリング層が形成されず、偏在層の表面へ四級アンモニウム塩材料が存在してしまう。このとき、低屈折率層形成材料と四級アンモニウム塩材料が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着力が低下し、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。一方、四級アンモニウム塩材料の分子量Qが100000を超える場合には四級アンモニウム塩材料を偏在させて帯電防止層を形成することができなくなってしまう。また、アミド基を有する化合物の分子量Aが100000を超える場合、導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および/またはレベリング層が形成されなくなってしまう。また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が金属酸化物粒子を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がアミド基を有する化合物を含む際に、金属酸化物粒子の平均粒子径が500nm以下であり、かつ、アミド基を有する化合物の分子量Aが100000以下であることが好ましい。金属酸化物粒子の平均粒子径およびアミド基を有する化合物の分子量Aを所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。金属酸化物粒子の平均粒子径が500nmを上回る場合には金属酸化物粒子が偏在層表面へ偏在しやすくなり、偏在層の表面へ金属酸化物粒子が存在する。このとき、低屈折率層形成材料と四級アンモニウム塩材料が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着力が低下し、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。また、アミド基を有する化合物の分子量Aが100000を超える場合には、導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および/またはレベリング層が形成されなくなってしまう。また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が導電性高分子を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がアミド基を有する化合物を含む際に、導電性高分子の平均粒子径が1000nm以下であり、かつ、アミド基を有する化合物の分子量Aが100000以下であることが好ましい。導電性高分子の平均粒子径およびアミド基を有する化合物の分子量Aを所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。導電性高分子の平均粒子径が500nmを上回る場合には導電性高分子が偏在層表面へ偏在しやすくなり、偏在層の表面へ金属酸化物粒子が存在する。このとき、低屈折率層形成材料と導電性高分子が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着力が低下し、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。また、アミド基を有する化合物の分子量Aが100000を超える場合には、導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および/またはレベリング層が形成されなくなってしまう。また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が四級アンモニウム塩材料を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がアクリル基を有する化合物を含む際に、四級アンモニウム塩材料の分子量Qが1000以上100000以下であり、かつ、前記アクリル基を有する化合物の分子量Bが100000以下であるであることが好ましい。四級アンモニウム塩材料の分子量Qおよびアクリル基を有する化合物の分子量Bを所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。偏在層に用いられる四級アンモニウム塩材料の分子量Qが1000を下回る場合には四級アンモニウム塩材料が偏在層表面へ偏在しやすくなりレベリング層が形成されず、偏在層の表面へ四級アンモニウム塩材料が存在してしまう。このとき、低屈折率層形成材料と四級アンモニウム塩材料が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着力が低下し、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。一方、四級アンモニウム塩材料の分子量Qが100000を超える場合には四級アンモニウム塩材料を偏在させて帯電防止層を形成することができなくなってしまう。また、アクリル基を有する化合物の分子量Bが100000を超える場合、最表層において導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および/またはレベリング層が形成されなくなってしまう。また、本発明の反射防止フィルムにあっては、前記導電層に含まれる導電性材料が金属酸化物粒子を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がアクリル基を有する化合物を含む際に、金属酸化物粒子の平均粒子径が500nm以下であり、かつ、アクリル基を有する化合物の分子量Bが100000以下であることが好ましい。金属酸化物粒子の平均粒子径およびアクリル基を有する化合物の分子量Bを所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。金属酸化物粒子の平均粒子径が500nmを上回る場合には金属酸化物粒子が偏在層表面へ偏在しやすくなり、偏在層の表面へ金属酸化物粒子が存在する。よって、最表層でレベリング層が形成されずに、低屈折率層形成材料と金属酸化物粒子が電気的反発をし、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。さらに得られる反射防止フィルムのヘイズが上昇する。また、アクリル基を有する化合物の分子量Bが100000を超える場合には、導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および/またはレベリング層が形成されなくなってしまう。また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が導電性高分子を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がアクリル基を有する化合物を含む際に、導電性高分子の平均粒子径が1000nm以下であり、かつ、アクリル基を有する化合物の分子量Bが100000以下の範囲内であることが好ましい。導電性高分子の平均粒子径およびアクリル基を有する化合物の分子量Bを所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。導電性高分子の平均粒子径が500nmを上回る場合には導電性高分子が偏在層表面へ偏在しやすくなり、偏在層の表面へ金属酸化物粒子が存在する。このとき、低屈折率層形成材料と導電性高分子が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着力が低下し、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。また、アクリル基を有する化合物の分子量Bが100000を超える場合には、導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および/またはレベリング層が形成されなくなってしまう。また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が四級アンモニウム塩材料を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がブタジエン基を有する化合物を含む際に、四級アンモニウム塩材料の分子量Qが、1000以上100000以下の範囲内であり、かつ、レベリング材料であるブタジエン基を有する化合物の分子量Cが100000以下であることが好ましい。四級アンモニウム塩材料の分子量Qおよびブタジエン基を有する化合物の分子量Cを所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。偏在層に用いられる四級アンモニウム塩材料の分子量Qが1000を下回る場合には四級アンモニウム塩材料が偏在層表面へ偏在しやすくなりレベリング層が形成されず、偏在層の表面へ四級アンモニウム塩材料が存在してしまう。このとき、低屈折率層形成材料と四級アンモニウム塩材料が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着力が低下し、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。一方、四級アンモニウム塩材料の分子量Qが100000を超える場合には四級アンモニウム塩材料を偏在させて帯電防止層を形成することが困難となり、得られる反射防止フィルムが十分な帯電防止性能を得ることができなくなってしまう。また、ブタジエン基を有する化合物の分子量Cが100000を超える場合、四級アンモニウム塩材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および/またはレベリング層が形成されなくなってしまう。また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が金属酸化物粒子を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がブタジエン基を有する化合物を含む際に、金属酸化物粒子の平均粒子径が500nm以下であり、かつ、ブタジエン基を有する化合物の分子量Cが100000以下であることが好ましい。金属酸化物粒子の平均粒子径およびブタジエン基を有する化合物の分子量Cを所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。金属酸化物粒子の平均粒子径が500nmを上回る場合には金属酸化物粒子が偏在層表面へ偏在しやすくなり、偏在層の表面へ金属酸化物粒子が存在する。よって、最表層でレベリング層が形成されずに、低屈折率層形成材料と金属酸化物粒子が電気的反発をし、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。さらに得られる反射防止フィルムのヘイズが上昇する。また、ブタジエン基を有する化合物の分子量Cが100000を超える場合には、導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および/またはレベリング層が形成されないため、十分な帯電防止性を備える反射防止フィルムとすることができなくなってしまう。また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が導電性高分子を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がブタジエン基を有する化合物を含み、かつ、導電性高分子の平均粒子径が1000nm以下であり、かつ、ブタジエン基を有する化合物の分子量Cが100000以下の範囲内であることが好ましい。導電性高分子の平均粒子径およびブタジエン基を有する化合物の分子量Cを所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。導電性高分子の平均粒子径が500nmを上回る場合には導電性高分子が偏在層表面へ偏在しやすくなり、偏在層の表面へ金属酸化物粒子が存在する。このとき、低屈折率層形成材料と導電性高分子が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着力が低下し、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。また、ブタジエン基を有する化合物の分子量Cが100000を超える場合には、導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および/またはレベリング層が形成されなくなってしまう。また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が四級アンモニウム塩材料を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がオレフィン基を有する化合物を含む際に、四級アンモニウム塩材料の分子量Qが、1000以上100000以下であり、かつ、レベリング材料であるオレフィン基を有する化合物の分子量Dを前記四級アンモニウム塩材料の分子量Qで除した値D/Qが、0.5以下であることが好ましい。四級アンモニウム塩材料の分子量Qおよびオレフィン基を有する化合物の分子量Dを所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。偏在層に用いられる四級アンモニウム塩材料の分子量Qが1000を下回る場合には四級アンモニウム塩材料が偏在層表面へ偏在しやすくなりレベリング層が形成されず、偏在層の表面へ四級アンモニウム塩材料が存在してしまう。このとき、低屈折率層形成材料と四級アンモニウム塩材料が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着力が低下し、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。一方、四級アンモニウム塩材料の分子量Qが100000を超える場合には四級アンモニウム塩材料を偏在させて帯電防止層を形成することが困難となり、得られる反射防止フィルムが十分な帯電防止性能を得ることができなくなってしまう。また、オレフィン基を有する化合物の分子量Dが100000を超える場合、四級アンモニウム塩材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および/またはレベリング層が形成されなくなってしまう。また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が金属酸化物粒子を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がオレフィン基を有する化合物を含む際に、金属酸化物粒子の平均粒子径が500nm以下であり、かつ、オレフィン基を有する化合物の分子量Dが100000以下であることが好ましい。金属酸化物粒子の平均粒子径およびオレフィン基を有する化合物の分子量Dを所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。金属酸化物粒子の平均粒子径が500nmを上回る場合には金属酸化物粒子が偏在層表面へ偏在しやすくなり、偏在層の表面へ金属酸化物粒子が存在する。よって、最表層でレベリング層が形成されずに、低屈折率層形成材料と金属酸化物粒子が電気的反発をし、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。さらに得られる反射防止フィルムのヘイズが上昇する。また、オレフィン基を有する化合物の分子量Dが100000を超える場合には、導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および/またはレベリング層が形成されなくなってしまう。また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が導電性高分子を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がオレフィン基を有する化合物を含む際に、導電性高分子の平均粒子径が1000nm以下であり、かつ、オレフィン基を有する化合物の分子量Dが100000以下であることが好ましい。導電性高分子の平均粒子径およびオレフィン基を有する化合物の分子量Dを所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。導電性高分子の平均粒子径が500nmを上回る場合には導電性高分子が偏在層表面へ偏在しやすくなり、偏在層の表面へ金属酸化物粒子が存在する。このとき、低屈折率層形成材料と導電性高分子が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着力が低下し、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。また、ブタジエン基を有する化合物の分子量Dが100000を超える場合には、導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および/またはレベリング層が形成されなくなってしまう。なお、本発明において分子量とは、分子量1000以下の場合は構造式から求められる分子量であり、分子量が1000を超える場合には重量平均分子量を指す。なお、本発明の反射防止フィルムにおいてレベリング材料として用いられるアミド基を有する化合物の分子量Aは100000以下であることが好ましいが、市販されているアミド基を有する化合物の分子量を考慮すると、アミド基を有する化合物の分子量Aは40以上100000以下であることが好ましい。なお、本発明の反射防止フィルムにおいて、レベリング材料として用いられるアクリル基を有する化合物の分子量Bは100000以下であることが好ましいが、市販されているアクリル基を有する化合物の分子量を考慮すると、アクリル基を有する化合物の分子量Bは1000以上100000以下であることが好ましい。なお、本発明の反射防止フィルムにおいて、レベリング材料として用いられるブタジエン基を有する化合物の分子量Cは100000以下であることが好ましいが、市販されているブタジエン基を有する化合物の分子量を考慮すると、ブタジエン基を有する化合物の分子量Cは1000以上100000以下であることが好ましい。なお、本発明の反射防止フィルムにおいて、レベリング材料として用いられるオレフィン基を有する化合物の分子量Dは100000以下であることが好ましいが、市販されているオレフィン基を有する化合物の分子量を考慮すると、オレフィン基を有する化合物の分子量Dは1000以上100000以下であることが好ましい。なお、本発明において、金属酸化物粒子の平均粒子径および導電性高分子の平均粒子径は、光散乱法により求められる。なお、本発明の反射防止フィルムにおいて、導電性材料として用いられる金属酸化物粒子の平均粒子径は500nm以下であることが好ましいが、市販されている金属酸化物粒子の平均粒子径を考慮すると、金属酸化物粒子の平均粒子径は1nm以上500nm以下であることが好ましいなお、本発明の反射防止フィルムにおいて、導電性材料として用いられる導電性高分子の平均粒子径は500nm以下であることが好ましいが、市販されている金属酸化物粒子の平均粒子径を考慮すると、導電性高分子の平均粒子径は1nm以上500nm以下であることが好ましいまた、本発明の反射防止フィルムにあっては、低屈折率層の光学膜厚が80nm以上200nm以下の範囲内であることが好ましい。低屈折率層の光学膜厚を80nm以上200nm以下の範囲内とすることにより、反射防止フィルムの表面A側から求められる分光反射率曲線を500nm近傍で極小値をとる分光反射率曲線とすることができ、反射防止性に優れた反射防止フィルムとすることができる。分光反射率曲線は極小値を基準として短波長方向への上昇カーブが長波長方向への上昇カーブと比較して急峻な傾向を示す。このとき、分光反射率曲線の極小値を基準としたときの短波長方向への急峻な上昇カーブは、形成される反射防止フィルムの反射光の色味の原因となり、また、偏在層の膜厚ムラが発生したときの色ムラの発生原因となる。本発明にあっては、分光反射率曲線の極小値を500nm近傍とすることにより、反射色相が小さく、短波長方向への急峻な上昇カーブによる色ムラの発生を抑制することができる。また、本発明の反射防止フィルムにあっては、反射防止フィルムの低屈折率層形成面表面Aでの視感平均反射率が0.5以上2.0以下の範囲内であることが好ましい。反射防止フィルムの低屈折率層形成面表面Aでの視感平均反射率が2.5を超える場合にあっては、十分な反射防止性能を備える反射防止フィルムとすることができない。一方、反射防止フィルム表面での視感平均反射率が0.2の反射防止フィルムを偏在層の光学干渉により実現することは困難である。なお、さらには偏在層表面での視感平均反射率は0.2以上2.0以下の範囲内であることが好ましい。また、本発明の反射防止フィルムにおいて、偏在層中の導電性材料として四級アンモニウム塩材料を用いた場合には、偏在層中の導電性材料である四級アンモニウム塩材料の含有量は0.5wt以上25wt未満であることが好ましい。偏在層中の導電性材料である四級アンモニウム塩材料の含有量が0.5wt未満の場合にあっては、十分な帯電防止性能を得られなくなってしまうことがある。一方、導電性材料である四級アンモニウム塩材料の含有量が25wtを超える場合にあっては、レベリング層が上手く形成されない。また、導電性材料である四級アンモニウム塩材料はハードコート性を持たないため反射防止フィルムの硬度と耐擦傷性が低下することがある。また、コスト高となる。また、本発明の反射防止フィルムにおいて、偏在層中の導電性材料として金属酸化物粒子を用いた場合には、偏在層中の導電性材料である金属酸化物粒子の含有量は0.5wt以上25wt未満であることが好ましい。偏在層中の導電性材料である金属酸化物粒子の含有量が0.5wt未満の場合にあっては、十分な帯電防止性能を得られなくなってしまうことがある。一方、導電性材料である金属酸化物粒子の含有量が25wtを超える場合にあっては、レベリング層が上手く形成されない。また、本発明の反射防止フィルムにおいて、偏在層中の導電性材料として導電性高分子を用いた場合には、偏在層中の導電性材料である導電性高分子の含有量は0.1wt以上25wt未満であることが好ましい。偏在層中の導電性材料である導電性高分子の含有量が0.1wt未満の場合にあっては、十分な帯電防止性能を得られなくなってしまうことがある。一方、導電性材料である導電性高分子の含有量が25wtを超える場合にあっては、レベリング層が上手く形成されない。また、導電性材料である導電性高分子はハードコート性を持たないため反射防止フィルムの硬度と耐擦傷性が低下することがある。また、コスト高となる。また、レベリング材料としてアミド基を有する化合物を用いる場合、偏在層中のレベリング材料であるアミド基を有する化合物の含有量は0.05wt以上25wt未満の範囲内であることが好ましい。偏在層中のアミド基を有する化合物の含有量が0.05wt未満の場合にあっては、レベリング層の形成ができず、導電性材料が偏在層の最表面に存在することになるため、耐擦傷性が低下し、さらには低屈折率層の形成を阻害する場合がある。一方、アミド基を有する化合物の含有量が25wtを超える場合にあっては、アミド層が厚くなり、帯電防止機能が低下する場合がある。また、レベリング材料としてアクリル基を有する化合物、ブタジエン基を有する化合物、オレフィン基を有する化合物等のアミド基を有する化合物以外を用いる場合、偏在層中のレベリング材料の含有量は0.001wt以上5.00wt未満の範囲内であることが好ましい。偏在層中のレベリング材料の含有量が0.001wt未満の場合にあっては、レベリング層の形成ができず、導電性材料が偏在層の最表面に存在することになるため、耐擦傷性が低下し、さらには低屈折率層の形成を阻害する場合がある。一方、レベリング材料の含有量が5.00wtを超える場合にあっては、アミド層が厚くなり、帯電防止機能が低下する場合がある。本発明の反射防止フィルムの製造方法について説明する。本発明の反射防止フィルムの製造方法にあっては、透明基材の少なくとも一方の面に偏在層と低屈折率層をこの順で積層した反射防止フィルムの製造方法であって、前記透明基材の少なくとも一方の面に、電離放射線硬化型材料と導電性材料とレベリング材料と溶剤を含む偏在層形成塗液を塗布し、偏在層の塗膜を形成する塗布工程と、前記偏在層の塗膜を一次乾燥と、二次乾燥を施す乾燥工程と、前記偏在層の塗膜に電離放射線を照射し、偏在層を形成する硬膜工程と、低屈折率層形成材料と溶剤を含む低屈折率層形成塗液を塗布し、低屈折率層の塗膜を形成する塗布工程と、前記低屈折率層の塗膜を乾燥する乾燥工程と、前記低屈折率層を形成する硬膜工程を順に備え、かつ、前記偏在層が、中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層されることを特徴とする。本発明にあっては、偏在層の塗膜に対して一次乾燥を施す乾燥工程と、一次乾燥の乾燥工程後に偏在層の塗膜に対して一次乾燥を施す乾燥工程を設けることにより、偏在層において中間層、ハードコート層、導電性材料を偏在させた帯電防止層、前記レベリング材料を偏在させたレベリング層の順に偏在させることができる。図2に本発明の反射防止フィルムの製造装置の一例の概略図を示した。本発明の反射防止フィルムの製造装置にあっては、透明基材上に電離放射線硬化型材料を含むバインダマトリックス形成材料と、導電性材料と、レベリング材料と、溶媒を含む偏在層形成用塗液を塗布し塗膜を形成する塗布工程21と、前記偏在層の塗膜を一次乾燥ユニット22aと、二次乾燥を施す二次乾燥ユニット22bの2つの乾燥ユニット22と、前記偏在層の塗膜に電離放射線を照射し、偏在層を硬膜形成する電離放射線照射ユニット23を順に備えている。巻き出し部31から巻き取り部32まで透明基材を連続搬送することにより、透明基材上に偏在層が形成される。次に、低屈折率層形成塗液を偏在層上に塗布し、低屈折率層の塗膜を形成する塗布工程、前記低屈折率層の塗膜を乾燥する乾燥工程と、前記低屈折率層を形成する硬膜工程により低屈折率層が形成される。このとき、低屈折率層を形成する硬膜工程においては、低屈折率層形成材料として電離放射線硬化型材料を用いる場合には電離放射線を照射することによって硬膜され低屈折率層は形成される。一方、低屈折率層形成材料として熱硬化型材料を用いる場合には加熱することによって硬膜され、低屈折率層は形成される。低屈折率層を形成するにあっては、図2に示した製造装置を用いて偏在層上に低屈折率層を形成し反射防止フィルムを製造することもできる。なお、偏在層形成と、低屈折率層形成の前記工程を連続して繋げることにより、反射防止フィルムを製造することも可能である。本発明の反射防止フィルムの製造方法にあっては、偏在層形成用塗液に含まれる全溶媒のうち30wt以上の溶媒が前記透明基材を溶解または膨潤させる溶媒であり、且つ、前記偏在層形成用塗液中に溶媒が25wt以上85wt以下の割合で含まれることが好ましい。透明基材上にバインダマトリックス形成材料と導電性材料、レベリング材料を含む偏在層形成用塗液に含まれる全溶媒のうち30wt以上の範囲内で透明基材を溶解または膨潤させる溶媒を用い、かつ、前記偏在層形成用塗液中に溶媒が25wt以上85wt以下の割合で含ませることにより、導電性材料、レベリング材料が偏在した帯電防止層、レベリング層を備える偏在層を形成することができる。透明基材上に偏在層形成用塗液を塗布し塗膜を形成してから乾燥するまでの工程で塗液に含まれる透明基材を溶解あるいは膨潤させる溶媒が透明基材へと浸透し、それに伴いバインダマトリックス形成材料成分も透明基材へと浸透し基材と混合され中間層が形成される。一方、導電性材、レベリング材料は透明基材には浸透しがたいため、透明基材側とは反対の帯電防止層およびレベリング層側へと偏析し偏在層を形成するものである。偏在層形成用塗液に含まれる全溶媒のうち透明基材を溶解または膨潤させる溶媒が30wt以上の範囲内で透明基材を溶解または膨潤させる溶媒を用いることにより、透明基材と偏在層間に透明基材成分とバインダマトリックス成分からなる中間層を形成することができ、さらには、効率的に偏在層を形成することができる。なお、全溶媒のうち透明基材を溶解または膨潤させる溶媒が30wtを下回る場合にあっては、偏在層を形成することができなくなってしまうことがある。偏在層の塗液中の溶媒量を前記範囲内とすることにより、塗膜中の導電性材料である導電性材料である四級アンモニウム塩材料または金属酸化物粒子または導電性高分子およびレベリング材料が偏在して偏在層を形成するまでの時間を十分とすることができ、偏在層を容易に製造することができる。なお、偏在層形成用塗液中の溶媒量が25wtに満たない場合にあっては、塗膜が急激に乾燥してしまい偏在層を形成することができなくなってしまう恐れがある。一方、偏在層形成用塗液中の溶媒量が85wtを越える場合にあっては、乾燥時間を長くする必要があり大量生産に不向きとなってしまう傾向にある。本発明の反射防止フィルムの製造方法にあっては、偏在層の塗膜を乾燥する乾燥工程が、乾燥温度15°C以上30°C以下の範囲内で行なわれる一次乾燥と、乾燥温度40°C以上150°C以下の範囲内で行われる二次乾燥の二段階の連続する乾燥を含むことが好ましい。乾燥工程が塗布直後に乾燥温度20°C以上30°C以下の範囲内で一次乾燥をおこなうことが好ましい。一次乾燥温度を20°C以上30°C以下の範囲内とすることにより、偏在層の塗膜中の導電性材料である四級アンモニウム塩材料または金属酸化物粒子または導電性高分子およびレベリング材料が偏在して偏在層を形成するまでの時間を十分とすることができる。なお、乾燥温度が30°Cを超える場合にあっては、偏在層の塗膜が急激に乾燥してしまい偏在層を形成することができなくなってしまう恐れがある。一方、乾燥温度が20°Cを下回る場合にあっては、乾燥時間を長くする必要があり連続生産に不向きとなってしまう。また、乾燥温度50°C以上150°C以下の範囲内で二次乾燥をおこなうことが好ましい。二次乾燥温度を50°C以上150°C以下の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。なお、乾燥温度が150°Cを超える場合にあっては、溶剤の蒸発速度が早すぎるために偏在層の表面が荒れてしまい、ヘイズが発生する恐れがある。一方、乾燥温度が50°Cを下回る場合にあっては、溶剤が偏在層に残留してしまい、ハードコート性を持たない偏在層となってしまう。また、前記一次乾燥のみでは乾燥が不十分の場合があり、一次乾燥後、二次乾燥として乾燥温度50°C以上150°C以下の範囲内の加熱乾燥で適度な加熱乾燥をおこなうことも兼ねている。乾燥工程において、一次乾燥及び二次乾燥を前記乾燥温度にておこなうことにより、偏在層12を容易に製造することができる。また、偏在層の各層の分離を行うために一次乾燥を行っており、二次乾燥としてでは50°C以上150°C以下の範囲内の加熱乾燥で適度な加熱乾燥を行うことにより溶剤を除去している。なお、本発明の反射防止フィルムの製造方法にあっては、偏在層の塗膜を乾燥する乾燥工程を、偏在層の塗膜中に含まれる溶媒が10wt以下となるまでの時間が2秒以上60秒以下の範囲内とすることが好ましい。前記偏在層の塗膜を透明基材上に形成してから、透明基材上の偏在層形成用塗液からなる塗膜中に含まれる溶媒が10wt以下となるまでの時間が2秒以上60秒以下の範囲内とすることにより、塗膜中の導電性材料およびレベリング材料が偏在して偏在層を形成するまでの時間を十分とすることができ、帯電防止層およびレベリング層を備える偏在層を容易に形成することができる。また、偏在層の塗膜中に含まれる溶媒が10wt以下となるまでの時間が2秒に満たない場合にあっては、偏在層の塗膜の急激な乾燥により帯電防止層およびレベリング層を形成することができなくなってしまうことがある。なお、偏在層の塗膜中に含まれる溶媒が10wt以下となるまでの時間が60秒を超える場合にあっては、時間がかかりすぎてしまい現実的でない。枚葉方式で偏在層を形成する場合においても、タクトタイムが長くなり生産性が低下するため好ましくない。さらに詳細に、本発明の反射防止フィルム及び反射防止フィルムの製造方法について説明する。本発明の反射防止フィルムに用いられる透明基材としては、種々の有機高分子からなるフィルムまたはシートを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材が挙げられ、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、6-ナイロン、6,6-ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。中でも、トリアセチルセルロースにあっては、複屈折率が小さく、透明性が良好であることから液晶ディスプレイに対し好適に用いることができる。なお、透明基材の厚みは25μm以上200μm以下の範囲内にあることが好ましく、さらには、40μm以上80μm以下の範囲内にあることが好ましい。さらに、これらの有機高分子に公知の添加剤、例えば、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加することにより機能を付加させたものも使用できる。また、透明基材は前記の有機高分子から選ばれる1種または2種以上の混合物、または重合体からなるものでもよく、複数の層を積層させたものであってもよい。次に、偏在層について説明する偏在層を形成するにあっては、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を含む。電離放射線硬化型材料としては、アクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような単官能または多官能のメタアクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタンメタアクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。なお、本発明においてメタアクリレートとはアクリレートとメタクリレートの両方を示している。たとえば、ウレタンメタアクリレートはウレタンアクリレートとウレタンメタアクリレートの両方を示している。単官能のメタアクリレート化合物としては、例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、t-ブチルメタアクリレート、グリシジルメタアクリレート、アクリロイルモルフォリン、N-ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、イソデシルメタアクリレート、ラウリルメタアクリレート、トリデシルメタアクリレート、セチルメタアクリレート、ステアリルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、2-エトキシエチルメタアクリレート、3-メトキシブチルメタアクリレート、エチルカルビトールメタアクリレート、リン酸メタアクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸メタアクリレート、フェノキシメタアクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシメタアクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシメタアクリレート、ノニルフェノールメタアクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノールメタアクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノールメタアクリレート、メトキシジエチレングリコールメタアクリレート、メトキシポリチレングリコールメタアクリレート、メトキシプロピレングリコールメタアクリレート、2-メタアクリロイルオキシエチル-2-ヒドロキシプロピルフタレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルメタアクリレート、2-メタアクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、2-メタアクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、2-メタアクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、2-メタアクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチルメタアクリレート、トリフルオロエチルメタアクリレート、テトラフルオロプロピルメタアクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタアクリレート、オクタフルオロプロピルメタアクリレート、オクタフルオロプロピルメタアクリレート、2-アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される1価のモノメタアクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノメタアクリレート等が挙げられる。前記2官能のメタアクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、ブタンジオールジメタアクリレート、ヘキサンジオールジメタアクリレート、ノナンジオールジメタアクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジメタアクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジメタアクリレートなどのジメタアクリレート等が挙げられる。前記3官能以上のメタアクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリメタアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリメタアクリレート、グリセリントリメタアクリレート等のトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジトリメチロールプロパントリメタアクリレート等の3官能のメタアクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサメタアクリレート等の3官能以上の多官能メタアクリレート化合物や、これらメタアクリレートの一部をアルキル基やε-カプロラクトンで置換した多官能メタアクリレート化合物等が挙げられる。アクリル系材料として多官能ウレタンアクリレートを用いることもできる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。具体的には、共栄社化学社製、UA-306H、UA-306T、UA-306l等、日本合成化学社製、UV-1700B、UV-6300B、UV-7600B、UV-7605B、UV-7640B、UV-7650B等、新中村化学社製、U-4HA、U-6HA、UA-100H、U-6LPA、U-15HA、UA-32P、U-324A等、ダイセルユーシービー社製、Ebecryl-1290、Ebecryl-1290K、Ebecryl-5129等、根上工業社製、UN-3220HA、UN-3220HB、UN-3220HC、UN-3220HS等を挙げることができるがこの限りではない。また、これらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。また、偏在層の膜厚としては光学特性、耐擦傷性、硬度などより、3μm以上20m以下の範囲内にすることが好ましい。また、カールの抑制のなどの加工取り扱い上から4μm以上7μm以下の範囲内にすることがさらに好ましい。偏在層形成用塗液にあっては、溶媒が加えられ、全溶媒のうち30wt以上の範囲内で透明基材を溶解または膨潤させる溶媒が用いられる。また、透明基材上にバインダマトリックス形成材料と四級アンモニウム塩材料、レベリング材料を含む偏在層形成用塗液に含まれる全溶媒のうち30wt以上の範囲内で透明基材を溶解または膨潤させる溶媒を用いることにより、導電性材料およびレベリング材料が偏在した偏在層を形成することができる。偏在層形成用塗液に含まれる全溶媒のうち透明基材を溶解または膨潤させる溶媒が30wt以上の範囲内で透明基材を溶解または膨潤させる溶媒を用いることにより、透明基材と偏在層間に透明基材成分とバインダマトリックス成分からなる中間層を形成することができ、さらには、効率的に偏在層を形成することができる。なお、全溶媒のうち透明基材を溶解または膨潤させる溶媒が30wtを下回る場合にあっては、偏在層を形成することができなくなってしまう。透明基材としてトリアセチルセルロースフィルムを用いた際の透明基材を溶解または膨潤させる溶媒としては、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、またアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等の一部のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸n-ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸n-ペンチル、およびγ-プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、その他としてN-メチル-2-ピロリドン、炭酸ジメチルが挙げられる。これらは1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。トリアセチルセルロースフィルムを溶解または膨潤させない溶媒としては、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、n-ヘキサンなどの炭化水素類、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、ジアセトンアルコールなどの一部のケトン類などが挙げられる。これらは1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。また、偏在層形成用塗液中に溶媒が25wt以上85wt以下の割合で含まれることが好ましい。偏在層の塗液中の溶媒量を前記範囲内とすることにより、塗膜中の導電性材料である四級アンモニウム塩材料または金属酸化物粒子または導電性高分子およびレベリング材料が偏在して偏在層を形成するまでの時間を十分とすることができ、偏在層を容易に製造することができる。なお、偏在層形成用塗液中の溶媒量が25wtに満たない場合にあっては、塗膜が急激に乾燥してしまい偏在層を形成することができなくなってしまう恐れがある。一方、偏在層形成用塗液中の溶媒量が85wtを越える場合にあっては、乾燥時間を長くする必要があり大量生産に不向きとなってしまう。また、偏在層の塗膜を乾燥する工程を溶媒濃度0.2vol以上10vol以下の溶媒雰囲気下でおこなうことが好ましい。偏在層の塗膜を乾燥する工程を0.2vol以上10vol以下の溶媒雰囲気下でおこなうことにより、塗膜中の導電性材料である四級アンモニウム塩材料または金属酸化物粒子または導電性高分子が偏在して偏在層を形成するまでの時間を十分とすることができ、偏在層を容易に製造することができる。なお、このとき乾燥雰囲気に用いられる溶媒としては、偏在層形成用塗液に含まれる溶媒のうち少なくとも1種類が用いられることが好ましい。溶媒雰囲気下が0.2volに満たない場合にあっては、塗膜が急激に乾燥してしまい偏在層を形成することができなくなってしまう場合がある。一方、溶媒雰囲気下が10volを超える場合にあっては、乾燥時間を長くする必要があり大量生産に不向きとなってしまう。偏在層に含まれる導電性材料である四級アンモニウム塩材料としては、四級アンモニウム塩材料を官能基として分子内に含むアクリル系材料を好適に用いることができる。四級アンモニウム塩材料は-NX-の構造を示し、四級アンモニウムカチオン-NとアニオンX-を備えることによりハードコート層に導電性を発現させる。このとき、X-としては、Cl-、Br-、I-、F-、HSO4-、SO42-、NO3-、PO43-、HPO42-、H2PO4-、SO3-、OH-等を挙げることができる。また、四級アンモニウム塩材料として四級アンモニウム塩材料を官能基として分子内に含むアクリル系材料を用いることもできる。四級アンモニウム塩材料を官能基として分子内に含むアクリル系材料としては、四級アンモニウム塩材料-NX-を官能基として分子内に含む多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような多官能または多官能のメタアクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタンメタアクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。本発明の偏在層中に含まれる四級アンモニウム塩材料の分子量が1000以上100000以下の範囲内であることが好ましい。四級アンモニウム塩材料の重量平均分子量が1000以上100000以下の範囲内とすることにより透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。また、四級アンモニウム塩材料の分子量が1000を下回る場合には四級アンモニウム塩材料が偏在層表面へ偏在しやすくなり、偏在層の表面へ四級アンモニウム塩材料が存在する。よって、低屈折率層形成材料と四級アンモニウム塩材料が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着性が低下して耐擦傷性が低下する場合がある。一方、四級アンモニウム塩材料の重量平均分子量が100000を超える場合にハードコート層と帯電防止層が混合してしまい、表面抵抗値が悪くなる。四級アンモニウム塩材料としては、具体的には、NR-121X-9IPAコルコート社製等を用いることができる。導電性材料として用いられる金属酸化物粒子としては、酸化ジルコニウム、アンチモン含有酸化スズATO、リン含有酸化スズPTO、スズ含有酸化インジウム、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化亜鉛、アルミニウム含有酸化亜鉛、酸化スズ、アンチモン含有酸化亜鉛及びインジウム含有酸化亜鉛から選択される1種又は2種以上の金属酸化物を主成とする導電性を有する金属酸化物粒子を用いることができる。導電性材料として用いられる導電性高分子としては、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンサルファイド、ポリ1,6-ヘプタジイン、ポリビフェニレンポリパラフェニレン、ポリパラフィニレンスルフィド、ポリフェニルアセチレン、ポリ2,5-チエニレン及びこれらの誘導体から選ばれる1種または2種以上の混合物を用いることができる。偏在層形成用塗液にはレベリング材料としてアミド基を有する化合物が加えられ、偏在層にレベリング層が形成される。アミド基を有する化合物としては、1分子内に1以上のアミド基を有する化合物を用いることができる。具体的には、アセトアミド、メタアクリルアミド、N-メチロールメタアクリルアミド、N,N-ジメチルメタアクリルアミド、N,N-ジブチルメタアクリルアミド、N,N-ジオクチルメタアクリルアミド、N-モノブチルメタアクリルアミド、N-2-ヒドロキシエチルアクリルアミド、N-2-ヒドロキシエチルメタクリルアミドメタアクリロイルモルホリンなどのアクリル系化合物、N-ビニルホルムアミド、N,N-ジアリルホルムアミド、N-ビニルピロリドン、N-ビニル-ε-カプロラクタム、ポリアミドなどが挙げられる。中でも、レベリング材料としてアミド基を有する化合物にあっては、アミド基のほかに1以上の重合性基を持つ化合物を用いることが好ましい。レベリング材料として用いられるアクリル基を有する化合物とは、アクリル基を分子内に含むアクリル系レベリング剤である。アクリル基を有する化合物は化1に示す構造を有しており、活性度が低くリコート性がよい。このとき、R1としては、H、CH3、CnH2n-1n=自然数などを挙げることができる。また、R2としてはアルキル基、ポリエステル基、ポリエーテル基、塩や反応性基等を導入することができる。レベリング材料として用いられるアクリル基を有する化合物として、具体的にはBYK0-350、BYK-352,BYK-354、BYK-355、BYK-356、BYK-358N、BYK-361N、BYK-380、BYK-392、BYK-394等が挙げられる。レベリング材料として用いられるブタジエン基を有する化合物としては、ブタジエン基を分子内に含むブタジエン系レベリング剤を好適に用いることができる。ブタジエン基を有する化合物は活性度が低くリコート性がよい。このとき、オレフィン基、ポリエステル基、ポリエーテル基、塩や反応性基等を分子内に導入することができる。レベリング材料として用いられるブタジエン基を有する化合物として、具体的にはフローレンAC-1190、フローレンAC-1190HF、フローレンAC-2000、フローレンAC-2000HF等が挙げられる。レベリング材料として用いられるオレフィン基を有する化合物としては、オレフィン基を分子内に含むオレフィン系レベリング剤を好適に用いることができる。オレフィン基を有する化合物は活性度が低くリコート性がよい。このとき、、ポリエステル基、ポリエーテル基、塩や反応性基等を分子内に導入することができる。レベリング材料として用いられるオレフィン基を有する化合物として、具体的にはフローレンAC-2200HF等が挙げられる。また、偏在層形成用塗液を紫外線により硬化させる場合にあっては、偏在層形成用塗液に光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであれば良く、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類を用いることができる。また、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化型材料に対して0.1wt以上10wt以下の範囲内であることが好ましく、さらには1wt以上8.5wt以下であることが好ましい。また、偏在層形成用塗液には添加剤として、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤等を加えることもできる。以上の材料を調整して得られる偏在層形成用塗液を湿式成膜法により透明基材上に塗布し、塗膜を形成し、偏在層を形成することができる。以下に偏在層の形成方法を示す。偏在層形成用塗液は透明基材上に塗布され、塗膜を形成する。偏在層形成用塗液を透明基材上に塗布するための塗工方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。なお、本発明の偏在層12は薄い塗膜であり、均一な膜厚であることが必要であることから、マイクログラビアコーター法、ダイコーター法を用いることが好ましい。次に、透明基材上に形成された偏在層の塗膜は乾燥することにより、塗膜中の溶媒は除去される。このとき乾燥手段としては、加熱、送風、熱風等を用いることができる。なお、乾燥工程が塗布直後に乾燥温度20°C以上30°C以下の範囲内で一次乾燥をおこなうことが好ましい。一次乾燥温度を20°C以上30°C以下の範囲内とすることにより、偏在層の塗膜中の導電性材料およびレベリング材料が偏在して偏在層を形成するまでの時間を十分とすることができる。なお、乾燥温度が30°Cを超える場合にあっては、偏在層の塗膜が急激に乾燥してしまい偏在層を形成することができなくなってしまう恐れがある。一方、乾燥温度が20°Cを下回る場合にあっては、乾燥時間を長くする必要があり連続生産に不向きとなってしまう。また、乾燥温度50°C以上150°C以下の範囲内で二次乾燥をおこなうことが好ましい。二次乾燥温度を50°C以上150°C以下の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。なお、乾燥温度が150°Cを超える場合にあっては、溶剤の蒸発速度が早すぎるために偏在層の表面が荒れてしまい、ヘイズが発生する恐れがある。一方、乾燥温度が50°Cを下回る場合にあっては、溶剤が偏在層に残留してしまい、ハードコート性を持たない偏在層となってしまう。また、前記一次乾燥のみでは乾燥が不十分の場合があり、一次乾燥後、二次乾燥として乾燥温度50°C以上150°C以下の範囲内の加熱乾燥で適度な加熱乾燥をおこなうことも兼ねている。乾燥工程において、一次乾燥及び二次乾燥を前記乾燥温度にておこなうことにより、偏在層12を容易に製造することができる。また、偏在層の各層の分離を行うために一次乾燥を行っており、二次乾燥としてでは50°C以上150°C以下の範囲内の加熱乾燥で適度な加熱乾燥を行うことにより溶剤を除去している。また、透明基材上に形成された偏在層形成用塗液からなる塗膜を透明基材上に形成してから前記透明基材上の偏在層の塗膜中に含まれる溶媒が10wt以下となるまでの時間が2秒以上60秒以下の範囲内であることが好ましく、前記偏在層の塗膜を透明基材上に形成してから、透明基材上の偏在層形成用塗液からなる塗膜中に含まれる溶媒が10wt以下となるまでの時間が2秒以上60秒以下の範囲内とすることにより、塗膜中の導電性材料およびレベリング材料が偏在して偏在層を形成するまでの時間を十分とすることができ、偏在層12を容易に形成することができる。また、偏在層の塗膜中に含まれる溶媒が10wt以下となるまでの時間が2秒に満たない場合にあっては、偏在層の塗膜の急激な乾燥により帯電防止層およびレベリング層を形成することができなくなってしまうことがある。なお、偏在層の塗膜中に含まれる溶媒が10wt以下となるまでの時間が60秒を超える場合にあっては、時間がかかりすぎてしまい現実的でない。枚葉方式で偏在層を形成する場合においても、タクトタイムが長くなり生産性が低下するため好ましくない。次に、偏在層形成用塗液を透明基材上に塗布することにより得られる塗膜に対し、電離放射線を照射することにより、偏在層12が形成される。電離放射線としては、紫外線、電子線を用いることができる。紫外線硬化の場合は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源が利用できる。また、電子線硬化の場合はコックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。電子線は、50~1000KeVのエネルギーを有するのが好ましい。100~300KeVのエネルギーを有する電子線がより好ましい。次に、低屈折率層の形成方法について述べる。低屈折率層は、低屈折率層形成材料を含む低屈折率層形成塗液を偏在層表面に塗布し、湿式成膜法により形成される。このとき低屈折率層膜厚dは、その膜厚dに低屈折率層の屈折率nをかけることによって得られる光学膜厚ndが可視光の波長の1/4と等しくなるように設計される。低屈折率層形成材料としては、低屈折率粒子およびバインダマトリックス形成材料を用いることができる。なお、バインダマトリックス形成材料が低い屈折率を有する場合には低屈折率形成材料中に低屈折率粒子を含まなくてもよい。低屈折率層13におけるバインダマトリックス形成材料としては電離放射線硬化型材料、熱硬化型材料を用いることができる。低屈折率層形成材料用塗液に含ませることのできる低屈折粒子としては、LiF、MgF、3NaFAlFまたはAlFいずれも、屈折率1.40、または、Na3AlF6氷晶石、屈折率1.33等の低屈折材料からなる低屈折率粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有する粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有する粒子にあっては、空隙の部分を空気の屈折率≒1とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすることができる。具体的には、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を用いることができる。粒子内部に空隙を有する粒子にあっては、空隙の部分を空気の屈折率≒1とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすることができる。内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子としては、多孔質シリカ粒子やシェル殻構造のシリカ粒子を用いることができる。また、低屈折率粒子としては、粒径が1nm以上100nm以下であることが好ましい。粒径が100nmを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。一方、粒径が1nm未満の場合、粒子の凝集による低屈折率層における粒子の不均一性等の問題が生じる。なお、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子の一例としては、球状の形状を保持したまま、硝子の屈折率1.45に比べて低い屈折率1.35であり、半径20nm以上25nm以下、密度ρ1の球状の構造が中心部分にあり、周囲を厚み10nm以上15nm以下の異なる密度ρ2の層が覆っており、ρ1/ρ2の値が0.5、0.1、0.0を示し、低屈折率シリカ粒子の中心部分は外部のシリカの1/10程度の密度となるような構造を有するものを用いることができる。また、バインダマトリックス形成材料として用いられる電離放射線硬化型材料としては、アクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような単官能または多官能のメタアクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタンメタアクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。単官能のメタアクリレート化合物としては、例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、t-ブチルメタアクリレート、グリシジルメタアクリレート、アクリロイルモルフォリン、N-ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、イソデシルメタアクリレート、ラウリルメタアクリレート、トリデシルメタアクリレート、セチルメタアクリレート、ステアリルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、2-エトキシエチルメタアクリレート、3-メトキシブチルメタアクリレート、エチルカルビトールメタアクリレート、リン酸メタアクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸メタアクリレート、フェノキシメタアクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシメタアクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシメタアクリレート、ノニルフェノールメタアクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノールメタアクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノールメタアクリレート、メトキシジエチレングリコールメタアクリレート、メトキシポリチレングリコールメタアクリレート、メトキシプロピレングリコールメタアクリレート、2-メタアクリロイルオキシエチル-2-ヒドロキシプロピルフタレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルメタアクリレート、2-メタアクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、2-メタアクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、2-メタアクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、2-メタアクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチルメタアクリレート、トリフルオロエチルメタアクリレート、テトラフルオロプロピルメタアクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタアクリレート、オクタフルオロプロピルメタアクリレート、オクタフルオロプロピルメタアクリレート、2-アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される1価のモノメタアクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノメタアクリレート等が挙げられる。前記2官能のメタアクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、ブタンジオールジメタアクリレート、ヘキサンジオールジメタアクリレート、ノナンジオールジメタアクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジメタアクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジメタアクリレートなどのジメタアクリレート等が挙げられる。前記3官能以上のメタアクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリメタアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリメタアクリレート、グリセリントリメタアクリレート等のトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジトリメチロールプロパントリメタアクリレート等の3官能のメタアクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサメタアクリレート等の3官能以上の多官能メタアクリレート化合物や、これらメタアクリレートの一部をアルキル基やε-カプロラクトンで置換した多官能メタアクリレート化合物等が挙げられる。アクリル系材料の中でも、所望する分子量、分子構造を設計でき、形成されるハードコート層の物性のバランスを容易にとることが可能であるといった理由から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。また、電離放射線硬化型材料の他に熱可塑性樹脂等を加えることもできる。熱可塑性樹脂としては、アセチルセルロース、ニトロセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロース等のセルロース誘導体、酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその共重合体、塩化ビニリデン及びその共重合体等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、アクリル樹脂及びその共重合体、メタクリル樹脂及びその共重合体等のアクリル系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、線状ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂等を使用できる熱可塑性樹脂を加えることにより製造されるフィルムのカールを抑制することができる。また、低屈折率層形成材料には、反射防止フィルム表面に指紋等の汚れが付着しにくくすること、付着した汚れをふき取りやすくすることを目的として撥水材料をさせることができる。撥水材料としてシリコーン系材料、有機珪素化合物、UV硬化型撥水剤を用いることができる。シリコーン系材料としては、アルキルアラルキル変性シリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、アルキルポリエーテル変性シリコーンオイルを用いることもできる。さらには、フッ素を含有せず、メタアクリル基を持たない有機ケイ素化合物を用いることもできる。具体的には、アルキルアルコキシシラン化合物、シランシロキサン化合物、ポリエステル基を含有するシラン化合物、ポリエーテル基を有するシラン化合物、シロキサン化合物を用いることもできる。また、UV硬化型撥水剤として、BYK-350やBYK-3500ビックケミージャパン株式会社製、F470DIC株式会社製などを用いることができる。また、バインダマトリックス形成材料として、熱硬化型材料であるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。具体的には、一般式ARxSiOR4-x但し、式中Rはアルキル基を示し、xは0≦x≦3を満たす整数であるで示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。一般式Aで表されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ-iso-プロポキシシラン、テトラ-n-プロポキシシラン、テトラ-n-ブトキシシラン、テトラ-sec-ブトキシシラン、テトラ-tert-ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ-iso-プロポキシシラン、テトラペンタ-n-プロキシシラン、テトラペンタ-n-ブトキシシラン、テトラペンタ-sec-ブトキシシラン、テトラペンタ-tert-ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等を用いることができる。ケイ素アルコキシドの加水分解物は、一般式Bで示される金属アルコキシドを原料として得られるものであればよく、例えば塩酸にて加水分解することで得られるものである。バインダマトリックス形成材料として、熱硬化型材料であるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いる場合には、撥水材料としてフッ素化合物である一般式BR ́zSiOR4-z但し、式中R ́はアルキル基、フルオロアルキル基又はフルオロアルキレンオキサイド基を有する非反応性官能基を示し、zは1≦z≦3を満たす整数であるで示されるケイ素アルコキシドの加水分解物をさらに含有させることができる。一般式Bで表されるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることにより、反射防止フィルムの低屈折率層表面に防汚性を付与することができる。さらに、低屈折率層の屈折率をさらに低下することができる。一般式Cで示されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、オクタデシルトリメトキシシラン、1H,1H,2H,2H-パーフルオロオクチルトリメトキシシラン等が挙げられる。低屈折率層形成用塗液に含まれる溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、n-ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸n-ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸n-ペンチル、およびγ-プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。また、バインダマトリックス形成材料として用いられる電離放射線硬化型材料を用い、紫外線により硬化させる場合にあっては、低屈折率層形成用塗液に光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであれば良く、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類を用いることができる。また、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化型材料に対して0.1wt以上10wt以下の範囲内であることが好ましく、さらには1wt以上8.5wt以下であることが好ましい。また、低屈折率層形成用塗液には添加剤として、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤等を加えることもできる。以上の材料を調整して得られる低屈折率層形成用塗液を湿式成膜法により偏在層12上に塗布し、低屈折率層の塗膜を形成し、低屈折率層13を形成することができる。以下に低屈折率層の形成方法を示す。低屈折率層形成用塗液は、偏在層12上に塗布され、低屈折率層の塗膜を形成する。低屈折率層形成用塗液を、偏在層上に塗布するための塗工方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。なお、本発明の低屈折率層13は薄い塗膜であり、均一な膜厚であることが必要であることから、マイクログラビアコーター法を用いることが好ましい。次に、偏在層12上に形成された低屈折率層の塗膜は乾燥することにより、塗膜中の溶媒は除去される。このとき乾燥手段としては、加熱、送風、熱風等を用いることができる。なお、乾燥温度としては、50°C以上150°C以下の範囲内の適度な加熱乾燥をおこなうことが好ましい。次に、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用いた場合には、低屈折率層形成用塗液を、偏在層上に塗布することにより得られる低屈折率層の塗膜に対し、電離放射線を照射することにより、低屈折率層13が形成される。電離放射線としては、紫外線、電子線を用いることができる。紫外線硬化の場合は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源が利用できる。また、電子線硬化の場合はコックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。電子線は、50~1000KeVのエネルギーを有するのが好ましい。100~300KeVのエネルギーを有する電子線がより好ましい。本発明の反射防止フィルムはロールツーロール方式により連続形成される。図2に示したように、巻き取られているウェブ状の透明基材を巻き出し部31から巻き取り部32まで連続走行させ、このとき、透明基材を塗布ユニット21、乾燥ユニット22、電離放射線照射ユニット23を通過させることにより、透明基材上に偏在層が連続形成される。その後、低屈折率層を同様にしてユニットを通過させることにより、偏在層上に低屈折率層が形成され、反射防止フィルムを製造することができる。まずは、本実施例で得られる反射防止フィルムについての評価方法について示す。視感平均反射率の測定得られる反射防止フィルムの低屈折率層形成面と反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布した。塗布後、自動分光光度計日立製作所社製、U-4000を用い測定した低屈折率層形成面についてC光源、2度視野の条件下での入射角5°における分光反射率を測定した。得られる分光反射率から平均視感反射率Yを算出した。また、比視感度は明所視標準比視感度を用いた。ヘイズH、平行光線透過率の測定得られる反射防止フィルムについて、写像性測定器日本電色工業社製、NDH-2000を使用してヘイズH、平行光線透過率を測定した。表面抵抗値の測定得られる反射防止フィルムの低屈折率層表面についてJIS-K69111995に準拠して高抵抗抵抗率計ダイアインスツルメンツ社製、ハイレスターMCP-HT260にて測定をおこなった。接触角の測定得られる反射防止フィルムの偏在層表面及び低屈折率層表面について、接触角計協和界面科学社製CA-X型を用いて、乾燥状態20°C-65RHで直径1.8mmの液滴を針先に作り、これらを試料固体の表面に接触させて液滴を作った。接触角とは、固体と液体とが接触する点における液体表面に対する接線と固体表面とがなす角であり、液体を含む側の角度で定義した。液体としては、蒸留水を使用した。また、前記純水接触角の測定方法としては、JIS-R3257に準拠して測定した。鉛筆硬度の測定JISK5600-5-41999に準拠し、500g荷重で各反射防止フィルムの偏在層表面の鉛筆硬度を測定した。色ムラ、干渉縞の評価得られる反射防止フィルムについて、低屈折率層表面に蛍光灯を映りこませて、反射光を確認することにより色ムラの確認、干渉ムラの確認をおこなった。目視にて確認した評価は、以下の規準でおこなった。丸印:色ムラ及び干渉縞が良好である。バツ印:色ムラ及び干渉縞が良好でなかった。耐擦傷性スチールウールSWの評価得られる反射防止フィルムの低屈折率層表面について、学振型摩擦堅牢度試験機テスター産業株式会社製、AB-301を用いて、光学積層体の低屈折率層表面に500g/cm2の荷重をかけたスチールウール日本スチールウール社製、ボンスター0000を用い、10往復擦り、擦り跡やキズなどによる外観の変化を目視で評価した。目視にて確認した評価は、以下の規準でおこなった。丸印:傷を確認することが出来ない。バツ印:傷が確認できる。鉛筆硬度の測定得られる反射防止フィルムの偏在層表面について、JISK5600-5-41999に準拠した鉛筆硬度試験をおこない、鉛筆硬度を求めた。以下の判断基準により偏在層における中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の判定をおこなった。偏在層における中間層の確認視感平均反射率の測定の項で求めた分光反射率から、中間層の有無の確認をおこなった。具体的には、得られる分光反射率曲線において偏在層の膜厚に対応した干渉ピークが確認されない場合を中間層有りと判断し、偏在層の膜厚に対応した干渉ピークが確認される場合を中間層なしと判断した。丸印:中間層有り干渉ピーク無しバツ印:中間層無し干渉ピーク有り偏在層におけるハードコート層の確認鉛筆硬度の測定の項で求めた偏在層表面の鉛筆硬度から、偏在層表面の鉛筆硬度がH以上の場合をハードコート層有り、H未満の場合をハードコート層なしと判断した。丸印:ハードコート層有り鉛筆硬度H以上バツ印:ハードコート層無し鉛筆硬度H未満偏在層における帯電防止層の確認表面抵抗値の測定の項で求めた表面抵抗値から、帯電防止層の有無の確認をおこなった。表面抵抗値が表面抵抗値1×1010Ω/cm2以下の場合を帯電防止層有りと判断し、偏表面抵抗値が表面抵抗値1×1010Ω/cm2より大きい場合を帯電防止層なしと判断した。丸印:帯電防止層有り表面抵抗値1×1010Ω/cm2以下バツ印:帯電防止層無し表面抵抗値1×1010Ω/cm2より大きいなお、偏在層形成用塗液に導電性材料を加えなかった反射防止フィルムについては、偏在層における帯電防止層の確認をおこなっていない。偏在層におけるレベリング層の確認レベリング層の存在は、偏在層表面の接触角及びX線光電子分光分析装置により確認した。偏在層表面の接触角の測定方法は接触角の測定で示したとおりである。X線光電子分光分析装置JPS-90MXVmicro日本電子製を用い、偏在層表面の表面分析をおこなうことにより判断した。接触角が60°以上であり、かつ、XPS測定において導電性材料特有の元素が不検出のものをレベリング層有りと判断し、接触角が60°未満および/またはXPSによる表面分析において塩素が検出されるものをレベリング層無しと判断した。また、原子量比で0.1atomic以下のものは不検出とした。なお、測定の際のX線強度は100W10kV、10mAとした。丸印:レベリング層有り接触角65°以上、かつ、導電性材料特有元素不検出バツ印:レベリング層無し上記以外なお、偏在層形成用塗液にレベリング材料を加えなかった反射防止フィルムについては、偏在層におけるレベリング層の確認をおこなっていない。なお、導電性材料特有の元素は以下のとおりである。四級アンモニウム塩材料:Cl金属酸化物粒子アンチモン含有酸化スズ:Sn金属酸化物粒子リン含有酸化スズ:Sn導電性高分子ポリチオフェン:S導電性高分子ポリアニリン:N次に、本実施例で作製した反射防止フィルムの作製方法について示す。なお、実施例B、C、E、F、H、I、K、Lは参考例である。Aレベリング材料:アミド基を有する化合物×導電性材料:四級アンモニウム塩材料以下に、レベリング材料としてアミド基を有する化合物、導電性材料として四級アンモニウム塩材料を用いた場合の実施例について示す。以下に偏在層形成塗液A1~A13の調整例を示す。合成例1攪拌翼、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた四口フラスコに、オクチルポリエチレングリコールポリプロピレングリコールメタクリレート商品名:ブレンマー50POEP-800B日本油脂社製18.0gメタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド35.0gシクロヘキシルメタクリレート14.0gアゾビスイソブチロニトリル0.3gイソプロピルアルコール100.0gメチルエチルケトン40.0gを仕込み、窒素雰囲気下、65°Cで3時間重合した。重合終了後、反応液をヘキサン中に投入し、生成物を析出させた後乾燥した。得られた四級アンモニウム塩材料の重量平均分子量は18500であった。<調整例A1>偏在層形成塗液A1ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料分子量1850010重量部N-ビニルホルムアミド10重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液A1とした。<調整例A2>偏在層形成塗液A2ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、NR-121X-9IPAコルコート社製/イソプロピロアルコール分散液固形分20重量部N-ビニルホルムアミド10重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液A2とした。<調整例A3>偏在層形成用塗液A3ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料分子量1850010重量部N,N-ジアリルホルミアミド10重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液A3とした。<調整例A4>偏在層形成塗液A4ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、四級アンモニウム塩を含有するライトエステルDQ100共栄社化学社製、分子量20810重量部N-ビニルホルムアミド10重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液A4とした。<調整例A5>偏在層形成塗液A5ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、p-スチレンスルホン酸アンモニウム塩ホモポリマー分子量12万10重量部N-ビニルホルムアミド10重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液A5とした。<調整例A6>偏在層形成塗液A6ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料分子量1850010重量部ポリアミド分子量1000010重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液A6とした。<調整例A7>偏在層形成塗液A7ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料分子量185000.01重量部N-ビニルホルムアミド10重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液A7とした。<調整例A8>偏在層形成塗液A8ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料分子量18500100重量部N-ビニルホルムアミド10重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液A8とした。<調整例A9>偏在層形成塗液A9ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料分子量1850010重量部N-ビニルホルムアミド10重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液A9とした。<調整例A10>偏在層形成塗液A10ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料分子量1850010重量部N-ビニルホルムアミド10重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が20wtとなるように調液し、偏在層形成塗液A10とした。<調整例A11>偏在層形成塗液A11ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料分子量1850010重量部N-ビニルホルムアミド10重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が90wtとなるように調液し、偏在層形成塗液A11とした。<調整例A12>ハードコート層形成塗液A12ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料分子量1850010重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液A12とした。<調整例A13>偏在層形成塗液A13ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液A13とした。以下に低屈折率層形成塗液Aの調整例を示す。低屈折率層形成塗液A多孔質シリカ微粒子の分散液平均粒子径50nm/固形分20wt/メチルイソブチルケトン分散液固形分2.5重量部EO変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート日本化薬社製DPEA-122.5重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア1840.1重量部を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が5wtとなるように調液し、低屈折率層形成塗液Aとした。[実施例A1]偏在層の形成トリアセチルセルロースフィルム富士フィルム社製:膜厚80μmの片面に偏在層形成塗液A1を塗布し、一次乾燥として25°Cで10秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として80°Cで50秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置フュージョンUVシステムジャパン社製、光源Hバルブを用いて照射線量300mJ/m2で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚5μmの透明な偏在層を形成した。低屈折率層の形成形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Aを乾燥後の膜厚が100nmとなるように塗布した。第一乾燥温度25°Cを25秒おこなった後に、第二乾燥温度80°Cを50秒おこなった後に、紫外線照射装置フュージョンUVシステムジャパン社製、光源Hバルブを用いて照射線量192mJ/m2で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、[実施例A1]の反射防止フィルムを作製した。[実施例A2]~[実施例A11][実施例A2]~[実施例A11]においては、偏在層形成用塗液A1の代わりに偏在層形成塗液A2~A11を用いて、その他の製造条件は[実施例A1]と同様にして、[実施例A2]~[実施例11]の反射防止フィルムを作製した。[実施例A12]~[実施例A14][実施例A12]においては、偏在層形成塗液A1を用いて、第一乾燥温度を50°C、第二乾燥温度を60°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例A1]と同様にして、[実施例A12]の反射防止フィルムを作製した。[実施例A13]においては、偏在層形成塗液A1を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに25°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例A1]と同様にして、[実施例A13]の反射防止フィルムを作製した。[実施例A14]においては、偏在層形成塗液A1を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに80°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例A1]と同様にして、[実施例A14]の反射防止フィルムを作製した。[実施例A15]、[実施例A16][実施例A15]、[実施例A16]においては、偏在層形成塗液A1の代わりに偏在層形成塗液A12、A13を用いて、その他の製造条件は[実施例A1]と同様にして、[実施例A15]、[実施例A16]の反射防止フィルムを作製した。表1に、[実施例A1]~[実施例A16]における製造条件をまとめたものを示す。得られた[実施例A1]~[実施例A16]の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。表2に評価結果等をまとめたものを示す。Bレベリング材料:アミド基を有する化合物×導電性材料:金属酸化物粒子以下に、レベリング材料としてアミド基を有する化合物、導電性材料として金属酸化物粒子を用いた場合の実施例について示す。以下に偏在層形成塗液B1~B11の調整例を示す。<調整例B1>偏在層形成塗液B1ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部N-ビニルホルムアミド10重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液B1とした。<調整例B2>偏在層形成塗液B2ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、リン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部N-ビニルホルムアミド10重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液B2とした。<調整例B3>偏在層形成塗液B3ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部N,N-ジアリルホルミアミド10重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液B3とした。<調整例B4>偏在層形成塗液B4ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分0.01重量部N-ビニルホルムアミド10重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液B4とした。<調整例B5>偏在層形成塗液B5ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分100重量部N-ビニルホルムアミド10重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液B5とした。<調整例B6>偏在層形成塗液B6ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径1000nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部N-ビニルホルムアミド10重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液B6とした。<調整例B7>偏在層形成塗液B7ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部N-ビニルホルムアミド10重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液B7とした。<調整例B8>偏在層形成塗液B8ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部N-ビニルホルムアミド10重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が20wtとなるように調液し偏在層形成塗液B8とした。<調整例B9>偏在層形成塗液B9ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部N-ビニルホルムアミド10重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が90wtとなるように偏在層形成塗液B9とした。<調整例B10>偏在層形成塗液B10ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液B10とした。<調整例B11>偏在層形成塗液B11ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液B11とした。以下に低屈折率層形成塗液Bの調整例を示す。低屈折率層形成塗液B多孔質シリカ微粒子の分散液平均粒子径50nm/固形分20wt/メチルイソブチルケトン分散液固形分2.5重量部EO変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート日本化薬社製DPEA-122.5重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア1840.1重量部を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が5wtとなるように調液し、低屈折率層形成塗液Bとした。[実施例B1]偏在層の形成トリアセチルセルロースフィルム富士フィルム社製:膜厚80μmの片面に偏在層形成塗液B1を塗布し、一次乾燥として25°Cで10秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として80°Cで50秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置フュージョンUVシステムジャパン社製、光源Hバルブを用いて照射線量300mJ/m2で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚5μmの透明な偏在層を形成した。低屈折率層の形成形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Bを乾燥後の膜厚が100nmとなるように塗布した。第一乾燥温度25°Cを25秒おこなった後に、第二乾燥温度80°Cを50秒おこなった後に、紫外線照射装置フュージョンUVシステムジャパン社製、光源Hバルブを用いて照射線量192mJ/m2で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、[実施例B1]の反射防止フィルムを作製した。[実施例B2]~[実施例B9][実施例B2]~[実施例B9]においては、偏在層形成用塗液B1の代わりに偏在層形成塗液B2~B9を用いて、その他の製造条件は[実施例B1]と同様にして、[実施例B2]~[実施例B9]の反射防止フィルムを作製した。[実施例B10]~[実施例B12][実施例B10]においては、偏在層形成塗液B1を用いて、第一乾燥温度を50°C、第二乾燥温度を60°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例B1]と同様にして、[実施例B10]の反射防止フィルムを作製した。[実施例B11]においては、偏在層形成塗液B1を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに25°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例B1]と同様にして、[実施例B11]の反射防止フィルムを作製した。[実施例B12]においては、偏在層形成塗液B1を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに80°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例B1]と同様にして、[実施例B12]の反射防止フィルムを作製した。[実施例B13]、[実施例B14][実施例B13]、[実施例B14]においては、偏在層形成塗液B1の代わりに偏在層形成塗液B10、B11を用いて、その他の製造条件は[実施例B1]と同様にして、[実施例B13]、[実施例B14]の反射防止フィルムを作製した。表3に、[実施例B1]~[実施例B14]における製造条件をまとめたものを示す。得られた[実施例B1]~[実施例B14]の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。表4に評価結果等をまとめたものを示す。Cレベリング材料:アミド基を有する化合物×導電性材料:導電性高分子以下に、レベリング材料としてアミド基を有する化合物、導電性材料として導電性高分子を用いた場合の実施例について示す。以下に偏在層形成塗液C1~C9の調整例を示す。<調整例C1>偏在層形成塗液C1ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径100nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部N-ビニルホルムアミド10重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液C1とした。<調整例C2>偏在層形成塗液C2ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径300nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部N-ビニルホルムアミド10重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液C2とした。<調整例C3>偏在層形成塗液C3ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径100nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部N,N-ジアリルホルミアミド10重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し偏在層形成塗液C3とした。<調整例C4>偏在層形成塗液C4ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径100nm/イソプロピルアルコール分散液固形分0.01重量部N-ビニルホルムアミド10重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液C4とした。<調整例C5>偏在層形成塗液C5ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径100nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部N-ビニルホルムアミド10重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が50wtとなるように調液し、調液し、偏在層形成塗液C5とした。<調整例C6>偏在層形成塗液C6ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径100nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部N-ビニルホルムアミド10重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が20wtとなるように調液し、調液し、偏在層形成塗液C6とした。<調整例C7>偏在層形成塗液C7ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径100nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部N-ビニルホルムアミド10重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が90wtとなるように調液し、偏在層形成塗液C7とした。<調整例C9>偏在層形成塗液C8ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径100nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液C8とした。<調整例C9>偏在層形成塗液C9ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液C9とした。以下に低屈折率層形成塗液Cの調整例を示す。低屈折率層形成塗液C多孔質シリカ微粒子の分散液平均粒子径50nm/固形分20wt/メチルイソブチルケトン分散液固形分2.5重量部EO変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート日本化薬社製DPEA-122.5重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア1840.1重量部を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が5wtとなるように調液し、低屈折率層形成塗液Cとした。[実施例C1]偏在層の形成トリアセチルセルロースフィルム富士フィルム社製:膜厚80μmの片面に偏在層形成塗液C1を塗布し、一次乾燥として25°Cで10秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として80°Cで50秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置フュージョンUVシステムジャパン社製、光源Hバルブを用いて照射線量300mJ/m2で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚5μmの透明な偏在層を形成した。低屈折率層の形成形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Cを乾燥後の膜厚が100nmとなるように塗布した。第一乾燥温度25°Cを25秒おこなった後に、第二乾燥温度80°Cを50秒おこなった後に、紫外線照射装置フュージョンUVシステムジャパン社製、光源Hバルブを用いて照射線量192mJ/m2で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、[実施例C1]の反射防止フィルムを作製した。[実施例C2]~[実施例C7][実施例C2]~[実施例C7]においては、偏在層形成用塗液C1の代わりに偏在層形成塗液C2~C7を用いて、その他の製造条件は[実施例C1]と同様にして、[実施例C2]~[実施例C7]の反射防止フィルムを作製した。[実施例C8]~[実施例C10][実施例C8]においては、偏在層形成塗液C1を用いて、第一乾燥温度を50°C、第二乾燥温度を60°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例C1]と同様にして、[実施例C8]の反射防止フィルムを作製した。[実施例C9]においては、偏在層形成塗液C1を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに25°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例C1]と同様にして、[実施例C9]の反射防止フィルムを作製した。[実施例C10]においては、偏在層形成塗液C1を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに80°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例C1]と同様にして、[実施例C10]の反射防止フィルムを作製した。[実施例C11]、[実施例C12][実施例C11]、[実施例C12]においては、偏在層形成塗液C1の代わりに偏在層形成塗液C8、C9を用いて、その他の製造条件は[実施例C1]と同様にして、[実施例C11]、[実施例C12]の反射防止フィルムを作製した。表5に、[実施例C1]~[実施例C12]における製造条件をまとめたものを示す。得られた[実施例C1]~[実施例C12]の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。表6に評価結果等をまとめたものを示す。Dレベリング材料:アクリル基を有する化合物×導電性材料:四級アンモニウム塩材料以下に、レベリング材料としてアクリル基を有する化合物、導電性材料として四級アンモニウム塩材料を用いた場合の実施例について示す。以下に偏在層形成塗液D1~D12の調整例を示す。合成例1攪拌翼、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた四口フラスコに、オクチルポリエチレングリコールポリプロピレングリコールメタクリレート商品名:ブレンマー50POEP-800B日本油脂社製18.0gメタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド35.0gシクロヘキシルメタクリレート14.0gアゾビスイソブチロニトリル0.3gイソプロピルアルコール100.0gメチルエチルケトン40.0gを仕込み、窒素雰囲気下、65°Cで3時間重合した。重合終了後、反応液をヘキサン中に投入し、生成物を析出させた後乾燥した。得られた四級アンモニウム塩材料の重量平均分子量は18500であった。<調整例D1>偏在層形成塗液D1ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料重量平均分子量1850010重量部BYK-350ビックケミージャパン社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液D1とした。<調整例D2>偏在層形成塗液D2ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、NR-121X-9IPAコルコート社製/イソプロピロアルコール分散液固形分20重量部BYK-350ビックケミージャパン社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液D2とした。<調整例D3>偏在層形成塗液D3ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料重量平均分子量1850010重量部BYK-394ビックケミージャパン社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液D3とした。<調整例D4>偏在層形成塗液D4ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、四級アンモニウム塩を含有するライトエステルDQ100共栄社化学社製、重量平均分子量20810重量部BYK-350ビックケミージャパン社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液D4とした。<調整例D5>偏在層形成塗液D5ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、p-スチレンスルホン酸アンモニウム塩ホモポリマー分子量12万10重量部BYK-350ビックケミージャパン社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液D5とした。<調整例D6>偏在層形成塗液D6ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料重量平均分子量185000.01重量部BYK-350ビックケミージャパン社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液D6とした。<調整例D7>偏在層形成塗液D7ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料重量平均分子量18500100重量部BYK-350ビックケミージャパン社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が20wtとなるように調液し、偏在層形成塗液D7とした。<調整例D8>偏在層形成塗液D8ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料重量平均分子量1850010重量部BYK-350ビックケミージャパン社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液D1とした。<調整例D9>偏在層形成塗液D9ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料重量平均分子量1850010重量部BYK-350ビックケミージャパン社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が20wtとなるように調液し、偏在層形成塗液D9とした。<調整例D10>偏在層形成塗液D10ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料重量平均分子量1850010重量部BYK-350ビックケミージャパン社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が90wtとなるように調液し、偏在層形成塗液D10とした。<調整例D11>偏在層形成塗液D11ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料重量平均分子量1850010重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液10とした。<調整例D12>偏在層形成塗液D12ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液D12とした。以下に低屈折率層形成塗液Dの調整例を示す。低屈折率層形成塗液D多孔質シリカ微粒子の分散液平均粒子径50nm/固形分20wt/メチルイソブチルケトン分散液固形分2.5重量部EO変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート日本化薬社製DPEA-122.5重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア1840.1重量部を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が5wtとなるように調液し、低屈折率層形成塗液Dとした。[実施例D1]偏在層の形成トリアセチルセルロースフィルム富士フィルム社製:膜厚80μmの片面に偏在層形成塗液D1を塗布し、一次乾燥として25°Cで10秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として80°Cで50秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置フュージョンUVシステムジャパン社製、光源Hバルブを用いて照射線量300mJ/m2で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚5μmの透明な偏在層を形成した。低屈折率層の形成形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Dを乾燥後の膜厚が100nmとなるように塗布した。第一乾燥温度25°Cを25秒おこなった後に、第二乾燥温度80°Cを50秒おこなった後に、紫外線照射装置フュージョンUVシステムジャパン社製、光源Hバルブを用いて照射線量192mJ/m2で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、[実施例D1]の反射防止フィルムを作製した。[実施例D2]~[実施例D10][実施例D2]~[実施例D10]においては、偏在層形成用塗液D1の代わりに偏在層形成塗液D2~D10を用いて、その他の製造条件は[実施例D1]と同様にして、[実施例D2]~[実施例D10]の反射防止フィルムを作製した。[実施例D11]~[実施例D13][実施例D11]においては、偏在層形成塗液D1を用いて、第一乾燥温度を50°C、第二乾燥温度を60°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例D1]と同様にして、[実施例D11]の反射防止フィルムを作製した。[実施例D12]においては、偏在層形成塗液D1を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに25°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例A1]と同様にして、[実施例D12]の反射防止フィルムを作製した。[実施例D13]においては、偏在層形成塗液D1を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに80°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例D1]と同様にして、[実施例D13]の反射防止フィルムを作製した。[実施例D14]、[実施例D15][実施例D14]、[実施例D15]においては、偏在層形成塗液D1の代わりに偏在層形成塗液D11、D12を用いて、その他の製造条件は[実施例D1]と同様にして、[実施例D14]、[実施例D15]の反射防止フィルムを作製した。表7に、[実施例D1]~[実施例D15]における製造条件をまとめたものを示す。得られた[実施例D1]~[実施例D15]の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。表8に評価結果等をまとめたものを示す。Eレベリング材料:アクリル基を有する化合物×導電性材料:金属酸化物粒子以下に、レベリング材料としてアクリル基を有する化合物、導電性材料として金属酸化物粒子を用いた場合の実施例について示す。以下に偏在層形成塗液E1~E11の調整例を示す。<調整例E1>偏在層形成塗液E1ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部BYK-350ビックケミージャパン社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液E1とした。<調整例E2>偏在層形成塗液E2ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、リン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部BYK-350ビックケミージャパン社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液E2とした。<調整例E3>偏在層形成塗液E3ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部BYK-394ビックケミージャパン社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液E3とした。<調整例E4>偏在層形成塗液E4ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分0.01重量部BYK-350ビックケミージャパン社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液E4とした。<調整例E5>偏在層形成塗液E5ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分100重量部BYK-350ビックケミージャパン社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液E5とした。<調整例E6>偏在層形成塗液E6ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径1000nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部BYK-350ビックケミージャパン社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液E6とした。<調整例E7>偏在層形成塗液E7ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部BYK-350ビックケミージャパン社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液E7とした。<調整例E8>偏在層形成塗液E8ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部BYK-350ビックケミージャパン社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が20wtとなるように調液し、偏在層形成塗液19とした。<調整例E9>偏在層形成塗液E9ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部BYK-350ビックケミージャパン社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が90wtとなるように調液し、偏在層形成塗液20とした。<調整例E10>偏在層形成塗液E10ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液E10とした。<調整例E11>偏在層形成塗液E11ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液E11とした。以下に低屈折率層形成塗液Eの調整例を示す。低屈折率層形成塗液E多孔質シリカ微粒子の分散液平均粒子径50nm/固形分20wt/メチルイソブチルケトン分散液固形分2.5重量部EO変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート日本化薬社製DPEA-122.5重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア1840.1重量部を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が5wtとなるように調液し、低屈折率層形成塗液Eとした。[実施例E1]偏在層の形成トリアセチルセルロースフィルム富士フィルム社製:膜厚80μmの片面に偏在層形成塗液E1を塗布し、一次乾燥として25°Cで10秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として80°Cで50秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置フュージョンUVシステムジャパン社製、光源Hバルブを用いて照射線量300mJ/m2で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚5μmの透明な偏在層を形成した。低屈折率層の形成形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Eを乾燥後の膜厚が100nmとなるように塗布した。第一乾燥温度25°Cを25秒おこなった後に、第二乾燥温度80°Cを50秒おこなった後に、紫外線照射装置フュージョンUVシステムジャパン社製、光源Hバルブを用いて照射線量192mJ/m2で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、[実施例E1]の反射防止フィルムを作製した。[実施例E2]~[実施例E9][実施例E2]~[実施例E9]においては、偏在層形成用塗液E1の代わりに偏在層形成塗液E2~E9を用いて、その他の製造条件は[実施例E1]と同様にして、[実施例E2]~[実施例E9]の反射防止フィルムを作製した。[実施例E10]~[実施例E12][実施例E10]においては、偏在層形成塗液E1を用いて、第一乾燥温度を50°C、第二乾燥温度を60°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例E1]と同様にして、[実施例E10]の反射防止フィルムを作製した。[実施例E11]においては、偏在層形成塗液E1を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに25°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例E1]と同様にして、[実施例E11]の反射防止フィルムを作製した。[実施例E12]においては、偏在層形成塗液E1を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに80°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例E1]と同様にして、[実施例E12]の反射防止フィルムを作製した。[実施例E13]、[実施例E14][実施例E13]、[実施例E14]においては、偏在層形成塗液E1の代わりに偏在層形成塗液E10、E11を用いて、その他の製造条件は[実施例E1]と同様にして、[実施例E13]、[実施例E14]の反射防止フィルムを作製した。表9に、[実施例E1]~[実施例E14]における製造条件をまとめたものを示す。得られた[実施例E1]~[実施例E14]の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。表10に評価結果等をまとめたものを示す。Fレベリング材料:アクリル基を有する化合物×導電性材料:四級アンモニウム塩以下に、レベリング材料としてアクリル基を有する化合物、導電性材料として導電性高分子を用いた場合の実施例について示す。以下に偏在層形成塗液F1~F10の調整例を示す。<調整例F1>偏在層形成塗液F1ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径100nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部BYK-350ビックケミージャパン社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液F1とした。<調整例F2>偏在層形成塗液F2ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリアニリン平均粒子径75nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部BYK-350ビックケミージャパン社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液F2とした。<調整例F3>偏在層形成塗液F3ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径300nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部BYK-350ビックケミージャパン社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液F3とした。<調整例F4>偏在層形成塗液F4ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径100nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部BYK-394ビックケミージャパン社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液F4とした。<調整例F5>偏在層形成塗液F5ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径100nm/イソプロピルアルコール分散液固形分0.01重量部BYK-350ビックケミージャパン社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液F5とした。<調整例F6>偏在層形成塗液F6ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径100nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部BYK-350ビックケミージャパン社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液F6とした。<調整例F7>偏在層形成塗液F7ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径100nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部BYK-350ビックケミージャパン社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が20wtとなるように調液し、偏在層形成塗液F7とした。<調整例F8>偏在層形成塗液F8ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径100nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部BYK-350ビックケミージャパン社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が90wtとなるように調液し、偏在層形成塗液F8とした。<調整例F9>ハードコート層形成塗液F9ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径100nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液F9とした。<調整例F10>偏在層形成塗液F10ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液F10とした。以下に低屈折率層形成塗液Fの調整例を示す。低屈折率層形成塗液F多孔質シリカ微粒子の分散液平均粒子径50nm/固形分20wt/メチルイソブチルケトン分散液固形分2.5重量部EO変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート日本化薬社製DPEA-122.5重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア1840.1重量部を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が5wtとなるように調液し、低屈折率層形成塗液Fとした。[実施例F1]偏在層の形成トリアセチルセルロースフィルム富士フィルム社製:膜厚80μmの片面に偏在層形成塗液F1を塗布し、一次乾燥として25°Cで10秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として80°Cで50秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置フュージョンUVシステムジャパン社製、光源Hバルブを用いて照射線量300mJ/m2で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚5μmの透明な偏在層を形成した。低屈折率層の形成形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Fを乾燥後の膜厚が100nmとなるように塗布した。第一乾燥温度25°Cを25秒おこなった後に、第二乾燥温度80°Cを50秒おこなった後に、紫外線照射装置フュージョンUVシステムジャパン社製、光源Hバルブを用いて照射線量192mJ/m2で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、[実施例F1]の反射防止フィルムを作製した。[実施例F2]~[実施例F8][実施例F2]~[実施例F8]においては、偏在層形成用塗液F1の代わりに偏在層形成塗液F2~F8を用いて、その他の製造条件は[実施例F1]と同様にして、[実施例F2]~[実施例F8]の反射防止フィルムを作製した。[実施例F9]~[実施例F11][実施例F9]においては、偏在層形成塗液F1を用いて、第一乾燥温度を50°C、第二乾燥温度を60°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例F1]と同様にして、[実施例F9]の反射防止フィルムを作製した。[実施例F10]においては、偏在層形成塗液F1を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに25°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例F1]と同様にして、[実施例F10]の反射防止フィルムを作製した。[実施例F11]においては、偏在層形成塗液F1を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに80°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例F1]と同様にして、[実施例F11]の反射防止フィルムを作製した。[実施例F12]、[実施例F13][実施例F12]、[実施例F13]においては、偏在層形成塗液F1の代わりに偏在層形成塗液F9、F10を用いて、その他の製造条件は[実施例F1]と同様にして、[実施例F12]、[実施例F13]の反射防止フィルムを作製した。表11に、[実施例F1]~[実施例F13]における製造条件をまとめたものを示す。得られた[実施例F1]~[実施例F13]の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。表12に評価結果等をまとめたものを示す。Gレベリング材料:ブタジエン基を有する化合物×導電性材料:四級アンモニウム塩材料以下に、レベリング材料としてブタジエン基を有する化合物、導電性材料として四級アンモニウム塩材料を用いた場合の実施例について示す。以下に偏在層形成塗液G1~G11の調整例を示す。合成例1攪拌翼、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた四口フラスコに、オクチルポリエチレングリコールポリプロピレングリコールメタクリレート商品名:ブレンマー50POEP-800B日本油脂社製18.0gメタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド35.0gシクロヘキシルメタクリレート14.0gアゾビスイソブチロニトリル0.3gイソプロピルアルコール100.0gメチルエチルケトン40.0gを仕込み、窒素雰囲気下、65°Cで3時間重合した。重合終了後、反応液をヘキサン中に投入し、生成物を析出させた後乾燥した。得られた四級アンモニウム塩材料の重量平均分子量は18500であった。<調整例G1>偏在層形成塗液G1ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料重量平均分子量1850010重量部フローレンAC2000共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液G1とした。<調整例G2>偏在層形成塗液G2ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、NR-121X-9IPAコルコート社製/イソプロピロアルコール分散液固形分20重量部フローレンAC2000共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液G2とした。<調整例G3>偏在層形成塗液C3ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、四級アンモニウム塩を含有するライトエステルDQ100共栄社化学社製、分子量20810重量部フローレンAC2000共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液C3とした。<調整例G4>偏在層形成塗液G4ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、p-スチレンスルホン酸アンモニウム塩ホモポリマー分子量12万10重量部フローレンAC2000共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液G4とした。<調整例G5>偏在層形成塗液G5ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料重量平均分子量185000.01重量部フローレンAC2000共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液G5とした。<調整例G6>偏在層形成塗液G6ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料重量平均分子量18500100重量部フローレンAC2000共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液G6とした。<調整例G7>偏在層形成塗液G7ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料重量平均分子量1850010重量部フローレンAC2000共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液G7とした。<調整例G8>偏在層形成塗液G8ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料重量平均分子量1850010重量部フローレンAC2000共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が20wtとなるように調液し、偏在層形成塗液G8とした。<調整例G9>偏在層形成塗液G9ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料重量平均分子量1850010重量部フローレンAC2000共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が90wtとなるように調液し、偏在層形成塗液G9とした。<調整例G10>偏在層形成塗液G10ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料重量平均分子量1850010重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液G10とした。<調整例G11>偏在層形成塗液G11ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液G11とした。以下に低屈折率層形成塗液Gの調整例を示す。低屈折率層形成塗液G多孔質シリカ微粒子の分散液平均粒子径50nm/固形分20wt/メチルイソブチルケトン分散液固形分2.5重量部EO変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート日本化薬社製DPEA-122.5重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア1840.1重量部を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が5wtとなるように調液し、低屈折率層形成塗液Gとした。[実施例G1]偏在層の形成トリアセチルセルロースフィルム富士フィルム社製:膜厚80μmの片面に偏在層形成塗液G1を塗布し、一次乾燥として25°Cで10秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として80°Cで50秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置フュージョンUVシステムジャパン社製、光源Hバルブを用いて照射線量300mJ/m2で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚5μmの透明な偏在層を形成した。低屈折率層の形成形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Gを乾燥後の膜厚が100nmとなるように塗布した。第一乾燥温度25°Cを25秒おこなった後に、第二乾燥温度80°Cを50秒おこなった後に、紫外線照射装置フュージョンUVシステムジャパン社製、光源Hバルブを用いて照射線量192mJ/m2で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、[実施例G1]の反射防止フィルムを作製した。[実施例G2]~[実施例G9][実施例G2]~[実施例G9]においては、偏在層形成用塗液G1の代わりに偏在層形成塗液G2~G9を用いて、その他の製造条件は[実施例G1]と同様にして、[実施例G2]~[実施例G9]の反射防止フィルムを作製した。[実施例G10]~[実施例G12][実施例G10]においては、偏在層形成塗液G1を用いて、第一乾燥温度を50°C、第二乾燥温度を60°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例G1]と同様にして、[実施例G10]の反射防止フィルムを作製した。[実施例G11]においては、偏在層形成塗液G1を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに25°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例G1]と同様にして、[実施例G11]の反射防止フィルムを作製した。[実施例G12]においては、偏在層形成塗液G1を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに80°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例G1]と同様にして、[実施例G12]の反射防止フィルムを作製した。[実施例G13]、[実施例G14][実施例G13]、[実施例G14]においては、偏在層形成塗液G1の代わりに偏在層形成塗液G10、G11を用いて、その他の製造条件は[実施例G1]と同様にして、[実施例G13]、[実施例G14]の反射防止フィルムを作製した。表13に、[実施例G1]~[実施例G14]における製造条件をまとめたものを示す。得られた[実施例G1]~[実施例G14]の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。表14に評価結果等をまとめたものを示す。Hレベリング材料:ブタジエン基を有する化合物×導電性材料:金属酸化物粒子以下に、レベリング材料としてブタジエン基を有する化合物、導電性材料として金属酸化物粒子を用いた場合の実施例について示す。以下に偏在層形成塗液H1~H10の調整例を示す。<調整例H1>偏在層形成塗液H1ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部フローレンAC2000共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液H1とした。<調整例H2>偏在層形成塗液H2ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、リン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部フローレンAC2000共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液H2とした。<調整例H3>偏在層形成塗液H3ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分0.01重量部フローレンAC2000共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液H3とした。<調整例H4>偏在層形成塗液H4ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分100重量部フローレンAC2000共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液H4とした。<調整例H5>偏在層形成塗液H5ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径1000nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部フローレンAC2000共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液H5とした。<調整例H6>偏在層形成塗液H6ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部フローレンAC2000共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液H6とした。<調整例H7>偏在層形成塗液H7ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部フローレンAC2000共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が20wtとなるように調液し、偏在層形成塗液H7とした。<調整例H8>偏在層形成塗液H8ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部フローレンAC2000共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が90wtとなるように調液し、偏在層形成塗液H8とした。<調整例H9>偏在層形成塗液H9ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液H9とした。<調整例H10>偏在層形成塗液H10ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液G11とした。以下に低屈折率層形成塗液Hの調整例を示す。低屈折率層形成塗液H多孔質シリカ微粒子の分散液平均粒子径50nm/固形分20wt/メチルイソブチルケトン分散液固形分2.5重量部EO変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート日本化薬社製DPEA-122.5重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア1840.1重量部を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が5wtとなるように調液し、低屈折率層形成塗液Hとした。[実施例H1]偏在層の形成トリアセチルセルロースフィルム富士フィルム社製:膜厚80μmの片面に偏在層形成塗液H1を塗布し、一次乾燥として25°Cで10秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として80°Cで50秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置フュージョンUVシステムジャパン社製、光源Hバルブを用いて照射線量300mJ/m2で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚5μmの透明な偏在層を形成した。低屈折率層の形成形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Hを乾燥後の膜厚が100nmとなるように塗布した。第一乾燥温度25°Cを25秒おこなった後に、第二乾燥温度80°Cを50秒おこなった後に、紫外線照射装置フュージョンUVシステムジャパン社製、光源Hバルブを用いて照射線量192mJ/m2で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、[実施例H1]の反射防止フィルムを作製した。[実施例H2]~[実施例H8][実施例H2]~[実施例H8]においては、偏在層形成用塗液H1の代わりに偏在層形成塗液H2~H8を用いて、その他の製造条件は[実施例H1]と同様にして、[実施例H2]~[実施例H8]の反射防止フィルムを作製した。[実施例H9]~[実施例H11][実施例H9]においては、偏在層形成塗液H1を用いて、第一乾燥温度を50°C、第二乾燥温度を60°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例H1]と同様にして、[実施例H9]の反射防止フィルムを作製した。[実施例H10]においては、偏在層形成塗液H1を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに25°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例H1]と同様にして、[実施例H10]の反射防止フィルムを作製した。[実施例H11]においては、偏在層形成塗液H1を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに80°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例H1]と同様にして、[実施例H11]の反射防止フィルムを作製した。[実施例H12]、[実施例H13][実施例H12]、[実施例H13]においては、偏在層形成塗液H1の代わりに偏在層形成塗液H9、H10を用いて、その他の製造条件は[実施例H1]と同様にして、[実施例H12]、[実施例H13]の反射防止フィルムを作製した。表15に、[実施例H1]~[実施例H13]における製造条件をまとめたものを示す。得られた[実施例H1]~[実施例H13]の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。表16に評価結果等をまとめたものを示す。Iレベリング材料:ブタジエン基を有する化合物×導電性材料:四級アンモニウム塩以下に、レベリング材料としてブタジエン基を有する化合物、導電性材料として導電性高分子を用いた場合の実施例について示す。以下に偏在層形成塗液I1~I9の調整例を示す。<調整例I1>偏在層形成塗液I1ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径100nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部フローレンAC2000共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液I1とした。<調整例I2>偏在層形成塗液I2ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリアニリン平均粒子径75nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部フローレンAC2000共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液I2とした。<調整例I3>偏在層形成塗液I3ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径1500nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部フローレンAC2000共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液I3とした。<調整例I4>偏在層形成塗液I4ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径100nm/イソプロピルアルコール分散液0.01重量部フローレンAC2000共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液I5とした。<調整例I5>偏在層形成塗液I5ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径100nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部フローレンAC2000共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液I5とした。<調整例I6>偏在層形成塗液I6ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径100nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部フローレンAC2000共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が20wtとなるように調液し、偏在層形成塗液I6とした。<調整例I7>偏在層形成塗液I7ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径100nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部フローレンAC2000共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が90wtとなるように調液し、偏在層形成塗液I7とした。<調整例I8>偏在層形成塗液I8ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径100nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液I8とした。<調整例I9>偏在層形成塗液I9ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液I9とした。以下に低屈折率層形成塗液Iの調整例を示す。低屈折率層形成塗液I多孔質シリカ微粒子の分散液平均粒子径50nm/固形分20wt/メチルイソブチルケトン分散液固形分2.5重量部EO変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート日本化薬社製DPEA-122.5重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア1840.1重量部を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が5wtとなるように調液し、低屈折率層形成塗液Iとした。[実施例I1]偏在層の形成トリアセチルセルロースフィルム富士フィルム社製:膜厚80μmの片面に偏在層形成塗液I1を塗布し、一次乾燥として25°Cで10秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として80°Cで50秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置フュージョンUVシステムジャパン社製、光源Hバルブを用いて照射線量300mJ/m2で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚5μmの透明な偏在層を形成した。低屈折率層の形成形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Iを乾燥後の膜厚が100nmとなるように塗布した。第一乾燥温度25°Cを25秒おこなった後に、第二乾燥温度80°Cを50秒おこなった後に、紫外線照射装置フュージョンUVシステムジャパン社製、光源Hバルブを用いて照射線量192mJ/m2で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、[実施例I1]の反射防止フィルムを作製した。[実施例I2]~[実施例I7][実施例I2]~[実施例I7]においては、偏在層形成用塗液I1の代わりに偏在層形成塗液I2~I7を用いて、その他の製造条件は[実施例I1]と同様にして、[実施例I2]~[実施例I7]の反射防止フィルムを作製した。[実施例I8]~[実施例I10][実施例I8]においては、偏在層形成塗液I1を用いて、第一乾燥温度を50°C、第二乾燥温度を60°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例I1]と同様にして、[実施例I8]の反射防止フィルムを作製した。[実施例I9]においては、偏在層形成塗液I1を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに25°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例I1]と同様にして、[実施例I9]の反射防止フィルムを作製した。[実施例I10]においては、偏在層形成塗液I1を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに80°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例I1]と同様にして、[実施例I10]の反射防止フィルムを作製した。[実施例I11]、[実施例I12][実施例I11]、[実施例I12]においては、偏在層形成塗液I1の代わりに偏在層形成塗液I8、I9を用いて、その他の製造条件は[実施例I1]と同様にして、[実施例I11]、[実施例I12]の反射防止フィルムを作製した。表17に、[実施例I1]~[実施例I12]における製造条件をまとめたものを示す。得られた[実施例I1]~[実施例I12]の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。表18に評価結果等をまとめたものを示す。Jレベリング材料:オレフィン基を有する化合物×導電性材料:四級アンモニウム塩材料以下に、レベリング材料としてオレフィン基を有する化合物、導電性材料として四級アンモニウム塩材料を用いた場合の実施例について示す。以下に偏在層形成塗液J1~J11の調整例を示す。合成例1攪拌翼、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた四口フラスコに、オクチルポリエチレングリコールポリプロピレングリコールメタクリレート商品名:ブレンマー50POEP-800B日本油脂社製18.0Iメタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド35.0Iシクロヘキシルメタクリレート14.0Iアゾビスイソブチロニトリル0.3Iイソプロピルアルコール100.0Iメチルエチルケトン40.0Iを仕込み、窒素雰囲気下、65°Cで3時間重合した。重合終了後、反応液をヘキサン中に投入し、生成物を析出させた後乾燥した。得られた四級アンモニウム塩材料の重量平均分子量は18500であった。<調整例J1>偏在層形成塗液J1ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料重量平均分子量1850010重量部フローレンAC2200HF共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液J1とした。<調整例J2>偏在層形成塗液J2ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、NR-121X-9IPAコルコート社製/イソプロピロアルコール分散液固形分20重量部フローレンAC2200HF共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液J2とした。<調整例J3>偏在層形成塗液J3ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、四級アンモニウム塩を含有するライトエステルDQ100共栄社化学社製、分子量20810重量部フローレンAC2200HF共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液J3とした。<調整例J4>偏在層形成塗液J4ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、p-スチレンスルホン酸アンモニウム塩ホモポリマー分子量12万10重量部フローレンAC2200HF共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液J4とした。<調整例J5>偏在層形成塗液J5ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料重量平均分子量185000.01重量部フローレンAC2200HF共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液J5とした。<調整例J6>偏在層形成塗液J6ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料重量平均分子量18500100重量部フローレンAC2200HF共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液J6とした。<調整例J7>偏在層形成塗液J7ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料重量平均分子量1850010重量部フローレンAC2200HF共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液J7とした。<調整例J8>偏在層形成塗液J8ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料重量平均分子量1850010重量部フローレンAC2200HF共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が20wtとなるように調液し、偏在層形成塗液J8とした。<調整例J9>偏在層形成塗液J9ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料重量平均分子量1850010重量部フローレンAC2200HF共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が90wtとなるように調液し、偏在層形成塗液J9とした。<調整例J10>偏在層形成塗液J10ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、合成例1で作製した四級アンモニウム塩材料重量平均分子量1850010重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液J10とした。<調整例J11>偏在層形成塗液J11ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液J10とした。以下に低屈折率層形成塗液Jの調整例を示す。低屈折率層形成塗液J多孔質シリカ微粒子の分散液平均粒子径50nm/固形分20wt/メチルイソブチルケトン分散液固形分2.5重量部EO変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート日本化薬社製DPEA-122.5重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア1840.1重量部を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が5wtとなるように調液し、低屈折率層形成塗液Jとした。[実施例J1]偏在層の形成トリアセチルセルロースフィルム富士フィルム社製:膜厚80μmの片面に偏在層形成塗液J1を塗布し、一次乾燥として25°Cで10秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として80°Cで50秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置フュージョンUVシステムジャパン社製、光源Hバルブを用いて照射線量300mJ/m2で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚5μmの透明な偏在層を形成した。低屈折率層の形成形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Jを乾燥後の膜厚が100nmとなるように塗布した。第一乾燥温度25°Cを25秒おこなった後に、第二乾燥温度80°Cを50秒おこなった後に、紫外線照射装置フュージョンUVシステムジャパン社製、光源Hバルブを用いて照射線量192mJ/m2で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、[実施例J1]の反射防止フィルムを作製した。[実施例J2]~[実施例J9][実施例J2]~[実施例J9]においては、偏在層形成用塗液J1の代わりに偏在層形成塗液J2~J9を用いて、その他の製造条件は[実施例J1]と同様にして、[実施例J2]~[実施例J9]の反射防止フィルムを作製した。[実施例J10]~[実施例J12][実施例J10]においては、偏在層形成塗液J1を用いて、第一乾燥温度を50°C、第二乾燥温度を60°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例J1]と同様にして、[実施例J10]の反射防止フィルムを作製した。[実施例J11]においては、偏在層形成塗液J1を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに25°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例J1]と同様にして、[実施例J11]の反射防止フィルムを作製した。[実施例J12]においては、偏在層形成塗液J1を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに80°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例J1]と同様にして、[実施例J12]の反射防止フィルムを作製した。[実施例J13]、[実施例J14][実施例J13]、[実施例J14]においては、偏在層形成塗液J1の代わりに偏在層形成塗液J10、J11を用いて、その他の製造条件は[実施例J1]と同様にして、[実施例J13]、[実施例J14]の反射防止フィルムを作製した。表19に、[実施例J1]~[実施例J14]における製造条件をまとめたものを示す。得られた[実施例J1]~[実施例J14]の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。表20に評価結果等をまとめたものを示す。Kレベリング材料:オレフィン基を有する化合物×導電性材料:金属酸化物粒子以下に、レベリング材料としてオレフィン基を有する化合物、導電性材料として金属酸化物粒子を用いた場合の実施例について示す。以下に偏在層形成塗液K1~K10の調整例を示す。<調整例K1>偏在層形成塗液K1ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部フローレンAC2200HF共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液K1とした。<調整例K2>偏在層形成塗液K2ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、リン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部フローレンAC2200HF共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液K2とした。<調整例K3>偏在層形成塗液K3ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分0.01重量部フローレンAC2200HF共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液K3とした。<調整例K4>偏在層形成塗液K4ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分100重量部フローレンAC2200HF共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液K4とした。<調整例K5>偏在層形成塗液K5ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径1000nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部フローレンAC2200HF共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液K5とした。<調整例K6>偏在層形成塗液K6ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部フローレンAC2200HF共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液K6とした。<調整例K7>偏在層形成塗液K7ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部フローレンAC2200HF共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が20wtとなるように調液し、偏在層形成塗液K7とした。<調整例K8>偏在層形成塗液K8ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部フローレンAC2200HF共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が90wtとなるように調液し、偏在層形成塗液K8とした。<調整例K9>偏在層形成塗液K9ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液K9とした。<調整例K10>偏在層形成塗液K10ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、アンチモン含有酸化スズ平均粒子径50nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液K10とした。以下に低屈折率層形成塗液Kの調整例を示す。低屈折率層形成塗液K多孔質シリカ微粒子の分散液平均粒子径50nm/固形分20wt/メチルイソブチルケトン分散液固形分2.5重量部EO変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート日本化薬社製DPEA-122.5重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア1840.1重量部を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が5wtとなるように調液し、低屈折率層形成塗液Kとした。[実施例K1]偏在層の形成トリアセチルセルロースフィルム富士フィルム社製:膜厚80μmの片面に偏在層形成塗液K1を塗布し、一次乾燥として25°Cで10秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として80°Cで50秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置フュージョンUVシステムジャパン社製、光源Hバルブを用いて照射線量300mJ/m2で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚5μmの透明な偏在層を形成した。低屈折率層の形成形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Kを乾燥後の膜厚が100nmとなるように塗布した。第一乾燥温度25°Cを25秒おこなった後に、第二乾燥温度80°Cを50秒おこなった後に、紫外線照射装置フュージョンUVシステムジャパン社製、光源Kバルブを用いて照射線量192mJ/m2で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、[実施例K1]の反射防止フィルムを作製した。[実施例K2]~[実施例K8][実施例K2]~[実施例K8]においては、偏在層形成用塗液K1の代わりに偏在層形成塗液K2~K8を用いて、その他の製造条件は[実施例K1]と同様にして、[実施例K2]~[実施例K8]の反射防止フィルムを作製した。[実施例K9]~[実施例K11][実施例K9]においては、偏在層形成塗液K1を用いて、第一乾燥温度を50°C、第二乾燥温度を60°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例K1]と同様にして、[実施例K9]の反射防止フィルムを作製した。[実施例K10]においては、偏在層形成塗液K1を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに25°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例K1]と同様にして、[実施例K10]の反射防止フィルムを作製した。[実施例K11]においては、偏在層形成塗液K1を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに80°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例K1]と同様にして、[実施例K11]の反射防止フィルムを作製した。[実施例K12]、[実施例K13][実施例K12]、[実施例K13]においては、偏在層形成塗液K1の代わりに偏在層形成塗液K9、K10を用いて、その他の製造条件は[実施例K1]と同様にして、[実施例K12]、[実施例K13]の反射防止フィルムを作製した。表21に、[実施例K1]~[実施例K13]における製造条件をまとめたものを示す。得られた[実施例K1]~[実施例K13]の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。表22に評価結果等をまとめたものを示す。Lレベリング材料:オレフィン基を有する化合物×導電性材料:四級アンモニウム塩以下に、レベリング材料としてオレフィン基を有する化合物、導電性材料として導電性高分子を用いた場合の実施例について示す。以下に偏在層形成塗液L1~L9の調整例を示す。<調整例L1>偏在層形成塗液L1ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径100nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部フローレンAC2200HF共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液18とした。<調整例L2>偏在層形成塗液L2ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリアニリン平均粒子径75nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部フローレンAC2200HF共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液L2とした。<調整例L3>偏在層形成塗液L3ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径300nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部フローレンAC2200HF共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液L3とした。<調整例L4>偏在層形成塗液L4ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径100nm/イソプロピルアルコール分散液固形分0.01重量部フローレンAC2200HF共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液L4とした。<調整例L5>偏在層形成塗液L5ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径100nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部フローレンAC2200HF共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液L5とした。<調整例L6>偏在層形成塗液L6ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径100nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部フローレンAC2200HF共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が20wtとなるように調液し、偏在層形成塗液L6とした。<調整例L7>偏在層形成塗液L7ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径100nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部フローレンAC2200HF共栄社化学社製0.1重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が90wtとなるように調液し、偏在層形成塗液L7とした。<調整例L8>偏在層形成塗液L8ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ポリチオフェン平均粒子径100nm/イソプロピルアルコール分散液固形分5重量部ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液L8とした。<調整例L9>偏在層形成塗液L9ウレタンアクリレート共栄社化学社製UA-306T100重量部に対して、ジペンタエリスリトールトリアクリレート50重量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート50重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア18410重量部を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が50wtとなるように調液し、偏在層形成塗液L9とした。以下に低屈折率層形成塗液Lの調整例を示す。低屈折率層形成塗液L多孔質シリカ微粒子の分散液平均粒子径50nm/固形分20wt/メチルイソブチルケトン分散液固形分2.5重量部EO変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート日本化薬社製DPEA-122.5重量部光重合開始剤チバジャパン社製イルガキュア1840.1重量部を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が5wtとなるように調液し、低屈折率層形成塗液Lとした。[実施例L1]偏在層の形成トリアセチルセルロースフィルム富士フィルム社製:膜厚80μmの片面に偏在層形成塗液L1を塗布し、一次乾燥として25°Cで10秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として80°Cで50秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置フュージョンUVシステムジャパン社製、光源Hバルブを用いて照射線量300mJ/m2で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚5μmの透明な偏在層を形成した。低屈折率層の形成形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Lを乾燥後の膜厚が100nmとなるように塗布した。第一乾燥温度25°Cを25秒おこなった後に、第二乾燥温度80°Cを50秒おこなった後に、紫外線照射装置フュージョンUVシステムジャパン社製、光源Hバルブを用いて照射線量192mJ/m2で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、[実施例L1]の反射防止フィルムを作製した。[実施例L2]~[実施例L7][実施例L2]~[実施例L7]においては、偏在層形成用塗液L1の代わりに偏在層形成塗液L2~L7を用いて、その他の製造条件は[実施例L1]と同様にして、[実施例L2]~[実施例L7]の反射防止フィルムを作製した。[実施例L8]~[実施例L10][実施例L8]においては、偏在層形成塗液L1を用いて、第一乾燥温度を50°C、第二乾燥温度を60°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例L1]と同様にして、[実施例L8]の反射防止フィルムを作製した。[実施例L9]においては、偏在層形成塗液L1を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに25°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例L1]と同様にして、[実施例L9]の反射防止フィルムを作製した。[実施例L10]においては、偏在層形成塗液L1を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに80°Cとし偏在層を形成し、その他の製造条件は[実施例L1]と同様にして、[実施例L10]の反射防止フィルムを作製した。[実施例L11]、[実施例L12][実施例L11]、[実施例L12]においては、偏在層形成塗液L1の代わりに偏在層形成塗液L8、L9を用いて、その他の製造条件は[実施例L1]と同様にして、[実施例L11]、[実施例L12]の反射防止フィルムを作製した。表23に、[実施例L1]~[実施例L12]における製造条件をまとめたものを示す。得られた[実施例L1]~[実施例L12]の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。表24に評価結果等をまとめたものを示す。実施例の結果、偏在層を、中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層から構成される反射防止フィルムとすることで、低い製造コストと優れた光学特性、高い耐擦傷性、帯電防止性能を備える反射防止フィルムを提供することができた。"