被処理物を収納する一つの処理室と、前記処理室において少なくともマイクロ波により対象とする被処理物を加熱するマイクロ波加熱機能とを有するマイクロ波加熱装置において、前記処理室内にマイクロ波加熱機能を実行するための第一処理空間とこの第一処理空間よりもマイクロ波が少ない第二処理空間を配置し、前記第二処理空間へのマイクロ波の伝搬を抑制するためのマイクロ波伝搬抑制手段を前記処理室の壁面に設けたマイクロ波加熱装置。被処理物を載置する収納容器を備え、前記収納容器は処理室に対して引出し様式によって出し入れされる構成とした請求項1に記載のマイクロ波加熱装置。収納容器は、マイクロ波加熱される被処理物の収納領域を区分けした構造とした請求項2に記載のマイクロ波加熱装置。第一処理空間は、マイクロ波放射手段を有し、収納容器が処理室に収納された状態において、マイクロ波加熱される被処理物の収納領域がマイクロ波放射手段に対面する構造とした請求項1乃至3の少なくとも1項に記載のマイクロ波加熱装置。マイクロ波伝搬抑制手段は、第二処理空間を形成する処理室壁面に設けた開孔と、前記開孔を処理室の外側から覆う所定形状の溝部とで構成した請求項1に記載のマイクロ波加熱装置。マイクロ波伝搬抑制手段は、第二処理空間を形成する処理室壁面に複数配置した請求項5に記載のマイクロ波加熱装置。マイクロ波伝搬抑制手段は、第一処理空間のマイクロ波放射手段に近接する第二処理空間に少なくとも配置した請求項4、5および6の少なくとも1項に記載のマイクロ波加熱装置。処理室に供給するマイクロ波を発生させるマイクロ波発生手段を有し、前記マイクロ波発生手段は、処理室に供給するマイクロ波供給電力と前記処理室から反射するマイクロ波反射電力とにおいて少なくともマイクロ波反射電力を検出する電力検出部を備え、マイクロ波反射電力の信号に基づいて前記マイクロ波発生手段の動作周波数を規定制御する制御部を有する請求項1に記載のマイクロ波加熱装置。しかしながら、前記従来の特許文献1や特許文献2のマイクロ波加熱装置は処理室内に収納した被処理物を均一に加熱させるためのマイクロ波給電口の配置とか、マイクロ波を反射攪拌する手段を設け処理室内全体にマイクロ波を伝搬させるものであり、処理室内にはマイクロ波加熱処理を行うものだけが収納されることを前提としたものであった。また、特許文献3は、シートがアタッチメントであり、処理都度、それを最適な場所に配設するわずらわしさがあった。これに対しこの種の装置の構造である引き出し様式は、処理室の奥側に収納したものを引き出して容易に取り出すことが可能な構造であり、処理室内に多数の処理物を混在収納貯蔵することができる。たとえば、この種の装置を冷蔵庫に組み込む形態においては、処理室を冷凍空間として利用することで複数の冷凍食材を混在収納貯蔵させることになる。このような状況下で、特定の被処理物を解凍処理する場合は、混在収納していた他の食材を取り出さなければ対象の被処理物の解凍処理がうまくできないし、また混在させたままで被処理物の食材を解凍処理しようとすると処理対象外の食材がマイクロ波により解凍処理が進行してしまう課題を有していた。本発明は、前記従来の課題を解決するもので、被処理物を収納する一つの処理室においてマイクロ波加熱機能を実行するための第一処理空間と第一処理空間よりマイクロ波の少ない第二処理空間を形成させて、一つの処理室に処理対象物と処理非対象物との複数の処理物を混在させたままで、所望の処理対象物をマイクロ波加熱処理するマイクロ波加熱装置を提供することを目的とする。前記従来の課題を解決するために、本発明のマイクロ波加熱装置は、被処理物を収納する一つの処理室と、前記処理室において少なくともマイクロ波により対象とする被処理物を加熱するマイクロ波加熱機能とを有するマイクロ波加熱装置において、前記処理室内にマイクロ波加熱機能を実行するためにマイクロ波放射手段を有する第一処理空間と、この第一処理空間からのマイクロ波の伝搬を抑制するために第二処理室壁面に設けた開孔と、前記開孔を処理室の外側から覆う所定形状の溝部とで構成したマイクロ波伝搬抑制手段を設け、第一処理空間よりもマイクロ波を少なくした第二処理空間を形成する構成している。この構成において処理室壁面に設けた開孔は開孔を覆う溝部の奥行き方向の形状に基くマイクロ波作用により開孔のインピーダンスが規定され、この開孔のインピーダンスを大きく理想的には無限大することができる。この大きなインピーダンスを有する開孔の存在によって処理室壁面に流れる高周波電流が遮断されるため、処理室空間を伝搬するマイクロ波は開孔の近傍に伝搬されにくくなる。この結果、第一処理空間から伝搬するマイクロ波は、開孔の存在により第二処理空間への伝搬が抑制され、第一処理空間よりもマイクロ波が少ない第二処理空間を形成させることができる。この第二処理空間の存在により、第一処理空間において対象の被処理物をマイクロ波加熱処理しているときに第二処理空間に処理非対象の処理物を収納貯蔵させることができる。これは、たとえば冷蔵庫に本装置を組み込んだ場合、第二処理空間に冷凍食材を収納貯蔵したままで、処理対象の食材をマイクロ波加熱処理でき、貯蔵食材を取り出す必要がない多大な利便性を提供することができる。本発明のマイクロ波加熱装置は、被処理物を収納する一つの処理室においてマイクロ波加熱機能を実行するための第一処理空間と第一処理空間よりマイクロ波の少ない第二処理空間を形成させたマイクロ波加熱装置としたものであり、第二処理空間に複数の処理物を貯蔵させたままで、第一処理空間において所望の被処理物をマイクロ波加熱処理でき、第二処理空間に貯蔵した食材を取り出す必要がない利便性を提供することができる。第1の発明は、被処理物を収納する一つの処理室と、前記処理室において少なくともマイクロ波により対象とする被処理物を加熱するマイクロ波加熱機能とを有するマイクロ波加熱装置において、前記処理室内にマイクロ波加熱機能を実行するための第一処理空間と、この第一処理空間よりもマイクロ波が少ない第二処理空間を配置し、前記第二処理空間へのマイクロ波の伝搬を抑制するためのマイクロ波伝搬抑制手段を前記処理室の壁面に設けたものであり、これにより第二処理空間の存在により、第一処理空間において対象の被処理物をマイクロ波加熱処理しているときに第二処理空間に処理非対象の処理物を収納貯蔵させることができる。これは、たとえば冷蔵庫に本装置を組み込んだ場合、第二処理空間に冷凍食材を収納貯蔵したままで、処理対象の食材をマイクロ波加熱処理でき、貯蔵食材を取り出す必要がない多大な利便性を提供することができる。第2の発明は、特に第1の発明のマイクロ波加熱装置において、被処理物を載置する収納容器を備え、前記収納容器は処理室に対して引出し様式によって出し入れされる構成としたものであり、引出し様式とすることで処理室の奥行きが大きい形状の処理室にたくさんの処理物を収納することができるとともに、その収納した処理物を容易に取り出すことができる。第3の発明は、特に第2の発明の収納容器は、マイクロ波加熱される被処理物の収納領域を区分けした構造としたものであり、区分け構造の存在によりマイクロ波加熱処理する収納領域が明確になり、処理非対象の処理物の収納場所および収納許容量も明確にできる。したがってマイクロ波加熱処理を行う必要がないタイミングであれば、収納量をオーバーして収納することも許容される利便性を提供できる。第4の発明は、特に第1乃至第3の少なくとも一つの発明の第一処理空間は、マイクロ波放射手段を有し、収納容器が処理室に収納された状態において、マイクロ波加熱される被処理物の収納領域がマイクロ波放射手段に対面する構造としたものであり、第一処理空間に収納された被処理物に対面させた位置からマイクロ波を放射させるので、被処理物にマイクロ波エネルギを効率よく吸収させることで、マイクロ波発生手段の発生電力を最も効率よく被加熱物に供給させることができる。また被処理物に直接入射するマイクロ波を多くでき、被処理物での損失量を大きくし、処理室全体を伝搬するマイクロ波のエネルギ量を減少させることができ、マイクロ波伝搬抑制手段との相乗作用で、第二処理空間のマイクロ波を第一処理空間のマイクロ波に対してさらに少なくさせることができる。またこの機能により、発生電力を小さくしたマイクロ波発生手段が利用でき、加熱装置全体のコンパクト化構成を促進できる。第5の発明は、特に第1の発明のマイクロ波伝搬抑制手段は、第二処理空間を形成する処理室壁面に設けた開孔と、前記開孔を処理室の外側から覆う所定形状の溝部とで構成したものであり、この構成において処理室壁面に設けた開孔は開孔を覆う溝部の奥行き方向の形状に基くマイクロ波作用により開孔のインピーダンスが規定され、この開孔のインピーダンスを大きく理想的には無限大することができる。この大きなインピーダンスを有する開孔の存在によって処理室壁面に流れる高周波電流が遮断されるため、処理室空間を伝搬するマイクロ波は開孔の近傍に伝搬されにくくなる。この結果、第一処理空間から伝搬するマイクロ波は、開孔の存在により第二処理空間への伝搬が抑制され、第一処理空間よりもマイクロ波が少ない第二処理空間を形成させることができる。この第二処理空間の存在により、第一処理空間において対象の被処理物をマイクロ波加熱処理しているときに第二処理空間に処理非対象の処理物を収納貯蔵させることができる。第6の発明は、特に第5の発明のマイクロ波伝搬抑制手段は、第二処理空間を形成する処理室壁面に複数配置したものであり、マイクロ波伝搬抑制手段の配設場所を増すことで、第一処理空間のマイクロ波に対して第二処理空間のマイクロ波をさらに少なくさせることができる。第7の発明は、特に第4、5および6の少なくとも一つの発明のマイクロ波伝搬抑制手段は、第一処理空間のマイクロ波放射手段に近接する第二処理空間に少なくとも配置したものであり、マイクロ波伝搬抑制手段をマイクロ波放射手段の近くに配置させることで、マイクロ波放射手段の放射範囲を限定させて、被処理物へのマイクロ波の集中を促進させることができる。第8の発明は、特に第1の発明のマイクロ波加熱装置は、処理室に供給するマイクロ波を発生させるマイクロ波発生手段を有し、前記マイクロ波発生手段は、処理室に供給するマイクロ波供給電力と前記処理室から反射するマイクロ波反射電力とにおいて少なくともマイクロ波反射電力を検出する電力検出部を備え、マイクロ波反射電力の信号に基づいて前記マイクロ波発生手段の動作周波数を規定制御する制御部を有するものであり、加熱開始初期に規定の帯域で周波数をスイープさせて得られるマイクロ波反射電力が最小の周波数を加熱時の動作周波数に選定し被処理物をマイクロ波加熱することで、第一処理空間に置かれた被処理物にマイクロ波発生手段の発生電力を最も効率よく吸収供給させることができる。この機能により、発生電力を小さくしたマイクロ波発生手段が利用でき、加熱装置全体のコンパクト化構成を促進できる。以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。尚、本実施の形態によって本発明が限定されるものではない。実施の形態1図1は、本発明の実施の形態1に関わるマイクロ波加熱装置を示す斜視図、図2は、本発明の実施の形態1に関わるマイクロ波加熱装置を示す主要断面図、図3は、本発明の実施の形態1に関わるマイクロ波加熱装置に使用可能な収納容器を示す斜視図、図4は、本発明の実施の形態1に関わるマイクロ波加熱装置に適用可能なマイクロ波伝搬抑制手段を示す構成図、図5は、本発明の実施の形態1に関わるマイクロ波加熱装置のマイクロ波作用に係る概略構成図である。図1~図5において、本実施の形態のマイクロ波加熱装置は、被処理物を収納する一つの空間から構成した処理室10、処理室10に対して引出し様式によって開閉する開閉扉11、その引出し操作をする開閉扉取っ手11a、処理室10に供給するマイクロ波を発生するマイクロ波発生手段12、マイクロ波発生手段12が発生したマイクロ波を処理室10内に放射するマイクロ波放射手段13、マイクロ波発生手段12が発生したマイクロ波をマイクロ波放射手段入力部13aを介してマイクロ波放射手段13に伝送する同軸伝送線路14、マイクロ波発生手段12の駆動電源15、マイクロ波発生手段12の出力側に配設した電力検出部16、マイクロ波発生手段12およびその駆動電源15の動作を制御する制御部17を備える。開閉扉11の内面処理室10側は金属材料で構成し、閉成時に処理室10の内壁面に対向する内面周縁に電波漏洩防止部図示していないを設けている。開閉扉11の内面周縁が内接する処理室10の壁面は、楕円形状の断面構成とし、電波漏洩防止部と処理室10の内壁面との隙間は全周にわたってほぼ等間隙となるように構成している。また、電波漏洩防止部の外周縁は、低誘電損失誘電材料からなるカバーを配設し、電波漏洩防止へ異物が入らないようにしている。また開閉扉11の内面には被処理物を収納載置する収納容器18の底面の左右と奥側を下方から支持する金属材料からなる収納容器支持部19図1には左右2本のうち右側を示すの一端を連接固定している。この収納容器支持部19は電波漏洩防止部とともに樹脂材料で構成した開閉扉11の本体に固定される。収納容器18は、内底に区分部18aを設け、2つの収納領域18b、18cに区分している。収納領域18bにはこの領域に置かれた処理物をマイクロ波加熱処理することを明示した図柄あるいは文言からなるマイクロ波処理物収納領域の明示18dを設けている。この収納容器18を収納容器支持部19に載置し、開閉扉11を閉成した状態において、収納容器18のマイクロ波処理物収納領域の明示18dを設けた収納領域18bが置かれた処理室10内の空間を第一処理空間10aとし、第一処理空間10a以外の処理室10の空間を第二処理空間10bとする。そして、第一処理空間10aにおいてマイクロ波処理物収納領域18bに対面する処理室10の壁面図2における処理室10の上壁面にマイクロ波放射手段13を設けている。またマイクロ波放射手段13が配設された処理室10壁面と同一壁面の第二処理空間10bには、マイクロ波放射手段13に対する最短の位置にマイクロ波伝搬抑制手段20を設けている。このマイクロ波伝搬抑制手段20は、処理室10の壁面に設けた開孔20aとこの開孔20aを処理室10の外側から覆う溝部20bとで構成し、溝部20bの形状を所定形状に構成することで開孔20aのインピーダンスが極めて大きい値理想的には無限大を採るように作用させている。このマイクロ波伝搬抑制手段20の詳細について、図4を参照して以下に説明する。図4は、マイクロ波伝搬抑制手段20の構成と作用を説明する図である。処理室10の壁面に設けた開孔20aは、矩形形状とし、短い方の寸法Laは5mmから15mm、長い方の寸法Lbは80mmから120mmの中から選択された寸法とする。また溝部20bは略直方体形状とし、3辺の寸法はそれぞれ開孔20aの長い方の寸法Lb、使用するマイクロ波の周波数に依存し、そのマイクロ波が溝部20b内を伝送する際の伝送波長の略1/4の波長相当の寸法Lc、および10mmから20mmの値より選択される寸法とする。このような各寸法の作用について以下に説明する。処理室10の壁面に設けた開孔20aの寸法Laは、処理室10内を伝搬するマイクロ波が処理室10内に形成したマイクロ波電界分布によって処理室10の壁面を流れる高周波電流の流れを遮断させるように作用するもので、最低寸法として5mm以上が望ましく、10mm程度が構成寸法として有効である。開孔20aの寸法Lbは、開孔20aから溝部20b内に入射したマイクロ波の伝搬波長を決定するものであり、マイクロ波発生手段12の発振周波数帯として2450MHz帯を採用した場合は、80mmから1波長未満の120mmから選択する。この寸法を選択することで、溝部20bの伝搬モードをTE10モードに規定させる。溝部20bの終端20cから開孔20aに至る寸法Lcは、90度の電気長とする。これにより、終端20cの短絡インピーダンスZ=0を起点して開孔20aのインピーダンスを極めて大きい値に設定させることができる。溝部20b内のマイクロ波の伝送波長はマイクロ波工学において周知の関係式によって算出し、図4に図示したように溝部20b内空間の中央部を包絡した寸法Lcが使用するマイクロ波の周波数に対して90度電気長になるように構成する。たとえば、周波数が2450MHz、Lbを80mmとした場合、Lcは約47.5mmとする。次にマイクロ波発生手段12について図5を用いて説明する。マイクロ波発生手段12は、周波数が可変制御されるマイクロ波発振器30、マイクロ波発振器30の出力を増幅する2段の増幅器31、32から構成し、その出力側に電力検出部16を配した構成からなる。そして、マイクロ波発生手段12の出力は同軸伝送線路14を介してマイクロ波放射手段13に伝送され、処理室10内に収納された被加熱物33に供給される。マイクロ波放射手段13は、空気層を利用したいわゆるパッチアンテナ構成とし、処理室10の左右方向の中央であって、収納容器18に指定したマイクロ波処理物収納領域18bの中心に対向する処理室10の上壁面側に配設している。またマイクロ波放射手段13は、低誘電損失材料から構成したアンテナカバー図示していないで覆っている。また、開閉扉11を閉成することで接点が導通するドアスイッチ図示していないを設けている。次に以上の構成からなる本実施の形態のマイクロ波加熱装置の動作と作用について説明する。処理室10には、マイクロ波処理対象の被処理物のほかにマイクロ波処理非対象の処理物が第二処理空間10bに位置づけされる収納容器18のマイクロ波非処理物収納領域18cに収納されていてもよい。このような状態において、被処理物をマイクロ波加熱処理を実行するときには、その被処理物を収納容器18のマイクロ波処理物収納領域18bに載置した後、開閉扉11を閉成する。この閉成状態において被処理物はマイクロ波放射手段13のほぼ直下に収納される。また閉成状態において、ドアスイッチ図示していないの接点が閉じられ制御部17に電力供給が行われる。そしてマイクロ波処理内容40を入力すると制御部17は、駆動電源15を動作させてマイクロ波発生手段12を動作スタンバイ状態にする。その後、制御部17は、マイクロ波発生手段12の発振部30に制御信号を送り、予め決めた周波数帯域の下限から上限に亘って所定の周波数ステップでもって発振周波数を変化させる。発振周波数をセットすることでマイクロ波発生手段12は所定のマイクロ波信号を出力し、処理室10内にそのマイクロ波が供給される。このとき発振周波数のそれぞれの周波数に対して処理室10からマイクロ波発生手段12側に戻ってくるマイクロ波の反射電力を電力検出部16が検出し、その検出信号が制御部17に送られる。予め決めた周波数帯域の上限まで周波数を変化した後、制御部17は、反射電力が最小となる発振周波数を選択し、その周波数を被処理物の処理周波数に設定し、発振部30に制御信号を送る。この後、マイクロ波発生手段12は、この処理周波数のマイクロ波を所定の時間の間、連続的あるいは間欠的に出力させて被処理物をマイクロ波加熱する。処理室10に供給されるマイクロ波は、マイクロ波放射手段13から処理室10内に放射され、処理室10全体を伝搬しようとするが、マイクロ波伝搬抑制手段20の構成要素である開孔20aの存在によって、マイクロ波は開孔20aから遠ざかる。これは、開孔20aのインピーダンスを極めて大きく構成したことにより、開孔20aを横切って流れようとする高周波電流の流れが阻止されるので、マイクロ波の伝搬の連続性が阻止されるためである。この結果、処理室10は、マイクロ波放射手段13から放射されたマイクロ波を多く滞在させる第一処理空間10aと第一処理空間10aのマイクロ波よりも少ない第二処理空間10bが形成され、第一処理空間10aに収納したマイクロ波加熱処理すべき被処理物には効率よくマイクロ波が吸収されてその被処理物の加熱が進む。また、第二処理空間10bに収納貯蔵されたマイクロ波処理の非対象処理物には、ほとんどマイクロ波が吸収できず、処理室10にマイクロ波を供給前の貯蔵状態とほぼ同様の貯蔵状態となる。すなわち、第二処理空間10bの存在により、第一処理空間10aにおいて対象の被処理物をマイクロ波加熱処理しているときに第二処理空間10bに処理非対象の処理物を収納貯蔵させることができる。これは、たとえば冷蔵庫に本装置を組み込んだ場合、第二処理空間に冷凍食材を収納貯蔵したままで、処理対象の食材をマイクロ波加熱処理でき、貯蔵食材を取り出す必要がない多大な利便性を提供することができる。なお、マイクロ波発生手段12の動作制御は、入力した条件あるいは規定した条件温度、被処理物の重量に基く加熱時間などが満たされることにより動作を停止して加熱を終了させてもよい。また、マイクロ波発生手段12が動作中に、処理周波数の選択を適宜実行して、そのタイミングでの最適な処理周波数に周波数を再設定する制御を行ってもよい。またマイクロ波放射手段13は、空気層を用いたパッチアンテナとしている。これにより、処理室10内でマイクロ波放射手段13が占める空間を極力小さくできる。また、マイクロ波発生手段12の出力側に設けた電力検出部16とマイクロ波放射手段入力部13aとの間を接続する同軸伝送線路14は、その伝送損失量を利用することで、処理室10に供給するマイクロ波供給電力が100反射した場合でもマイクロ波発生手段12側に戻ってくるマイクロ波電力量を規定以下にすることができる。たとえば、伝送損失が1.5dBの同軸伝送線路14を用いることで、マイクロ波発生手段12の出力電力に対して、マイクロ波発生手段12が受け取るマイクロ波反射電力は出力電力の約50となる。この作用を利用することで、マイクロ波発生手段12には反射電力から保護するアイソレータなどの保護部品を削除でき、マイクロ波発生手段12をコンパクトに構成できる。処理室10内へマイクロ波を放射するマイクロ波放射手段13は、被処理物の収納位置を規定したマイクロ波処理物収納領域の明示18dの中央に対向する位置としたことにより、被処理物に直接入射するマイクロ波を多くでき、被処理物での損失量を大きくし、処理室10全体を伝搬するマイクロ波のエネルギ量を減少させることができ、マイクロ波伝搬抑制手段20との相乗作用で、第二処理空間10bのマイクロ波を第一処理空間10aのマイクロ波に対してさらに少なくさせることができる。また収納容器18は処理室に対して引出し様式によって出し入れされる構成を採用することにより、引出し様式とすることで処理室10の奥行きが大きい形状の処理室10に対しても処理物の収納と取り出しを容易に行うことができる。実施の形態2次に図6を用いて本発明の他の実施の形態のマイクロ波加熱装置について説明する。図6が実施の形態1と相違する構成は、マイクロ波伝搬抑制手段を複数個設けた構成にある。すなわち、図6において処理室10の開閉扉11に形成した第一処理空間にはマイクロ波放射手段入力部13aを介してマイクロ波放射手段図示していないを配し、開閉扉11と反対側の処理室10の奥側に形成した第二処理空間のマイクロ波放射手段が設けられた処理室壁面と同一壁面に二つのマイクロ波伝搬抑制手段50、51を設けている。このマイクロ波伝搬抑制手段50、51は実施の形態1の説明中にて記述した作用を呈するものであり、それぞれの構成要素である開孔図示していないのインピーダンスが極めて大きくなるように構成している。そしてそれぞれの開孔は、マイクロ波放射手段入力部13aからほぼ等しい距離に直線状に配置している。またそれぞれの開孔の間隔Ldは、使用するマイクロ波の波長の略1/4の間隔で設けている。すなわち、周波数帯域として2450MHz帯を用いると間隔Ldは約30mmで構成している。この構成により、処理室10内を伝搬するマイクロ波は、それぞれの開孔間の隙間の伝搬も抑制させているので、処理室10のマイクロ波放射手段が設けられる壁面では第二処理空間側で流れようとする高周波電流をほぼ完全に遮断するので、第二処理空間へのマイクロ波の伝搬がさらに抑制され、第一処理空間のマイクロ波に対し第二処理空間のマイクロ波は実施の形態1よりもさらに少なくさせることができる。実施の形態3次に図7を用いて本発明のさらに他の実施の形態のマイクロ波加熱装置について説明する。図7が実施の形態1および実施の形態2と相違する構成は、マイクロ波伝搬抑制手段60、61を対向させて第二処理空間に設けた構成にある。すなわち、図7において処理室10の開閉扉11に形成した第一処理空間10aにはマイクロ波放射手段13を配し、開閉扉11と反対側の処理室10の奥側に形成した第二処理空間10bのマイクロ波放射手段が設けられた処理室壁面と同一壁面に設けたマイクロ波伝搬手段60を設けている。そしてこのマイクロ波伝搬手段60の開孔60aに対向する位置の第二処理空間10bの壁面に開孔61aを配しその開孔61aを第二処理空間10bの外側から覆う溝部61bを配する。このマイクロ波伝搬抑制手段60、61は実施の形態1の説明中にて記述した作用を呈するものであり、それぞれの構成要素である開孔図示していないのインピーダンスが極めて大きくなるように構成している。この構成により、マイクロ波放射手段13から放射され処理室10内を伝搬するマイクロ波は、第二処理空間10bの対向する壁面に設けたそれぞれの開孔により第二処理空間10bを形成する対向した処理室壁面を流れようとする高周波電流を遮断するので、第二処理空間へのマイクロ波の伝搬がさらに抑制され、第一処理空間のマイクロ波に対し第二処理空間のマイクロ波は実施の形態1よりもさらに少なくさせることができる。なお、上記の各実施の形態で説明したマイクロ波伝搬抑制手段は組合せで実施させてもよい。たとえば、対向する壁面にそれぞれ複数配設してもよい。また実施例では図示してない処理室壁面に設けてもよい。また、マイクロ波放射手段は、第一処理空間10aの上壁面配置に限るものでなく、さらには複数のマイクロ波放射手段を配置させてもよい。また、同軸伝送線路は導波管構造としてもよい。この場合、パッチアンテナとしたマイクロ波放射手段は、導波管の壁面に開口を設けて構成するスロットアンテナ構成としてもよい。また、本発明の装置を冷蔵庫に組み込む場合は、マイクロ波発生手段、その駆動電源及び電力検出部は、冷凍空間に配置せず、たとえば、冷蔵庫の背面に実装させてもよい。