"水不溶性ポリマーセグメントと温度応答性ポリマーセグメントが結合した構造をとるブロックコポリマーが、基材表面に温度応答性ポリマー分として0.8~3.0μg/cm2の割合で被覆されている、細胞培養用温度応答性基材。基材表面に水不溶性ポリマー分として0.09~7.0μg/cm2の割合で被覆されている、請求項1記載の細胞培養用温度応答性基材。基材表面が相分離構造を有する、請求項1または2記載の細胞培養用温度応答性基材。ブロックコポリマー内の温度応答性ポリマーの含量が30~90wtである、請求項1~3のいずれか1項記載の細胞培養用温度応答性基材。ブロックコポリマー内の温度応答性ポリマーの平均分子量が3000以上である、請求項1~4のいずれか1項記載の細胞培養用温度応答性基材。温度応答性ポリマーが、ポリ-N-置換アクリルアミド誘導体、ポリ-N-置換メタクリルアミド誘導体、これらの共重合体、ポリビニルメチルエーテルのいずれか一つ、もしくは二つ以上からなる、請求項1~5のいずれか1項記載の細胞培養用温度応答性基材。温度応答性ポリマーがポリ-N-イソプロピルアクリルアミドである、請求項1~6のいずれか1項記載の細胞培養用温度応答性基材。基材が板状の単独、もしくは2種以上を組み合わせたものであることを特徴とする請求項1~7いずれか1項記載の温度応答性基材。水不溶性ポリマーセグメントと温度応答性ポリマーセグメントが結合した構造をとるブロックコポリマーを有機溶媒に溶解、もしくは分散させ、当該ブロックコポリマー溶液を基材表面へスピンコートすることで均一に塗布し、乾燥させることを特徴とする細胞培養用温度応答性基材の製造方法。ブロックコポリマーが可逆的付加開裂連鎖移動RAFT重合によって得られるものである、請求項9記載の細胞培養用温度応答性基材の製造方法。ブロックコポリマーを溶解する溶媒が、アセトニトリルとN,N-ジメチルホルムアミドの混合液である、請求項9または10記載の細胞培養用温度応答性基材の製造方法。アセトニトリルとN,N-ジメチルホルムアミドの混合溶媒の混合比率が、体積比で5:1である、請求項11記載の細胞培養用温度応答性基材の製造方法。本発明は、上記のような従来技術の問題点を解決することを意図してなされたものである。すなわち、本発明は、従来技術と全く異なった発想に基づいて創作した新規な細胞培養用温度応答性基材およびその製造方法を提供することを目的とする。本発明者らは上記課題を解決するために、種々の角度から検討を加えて、研究開発を行った。その結果、驚くべくことに、本発明者らは、水不溶性ポリマーセグメントと温度応答性ポリマーセグメントが結合した構造をとるブロックコポリマーを基材表面に温度応答性ポリマー分として0.8~3.0μg/cm2の割合で被覆すると、効率良く細胞を培養でき、しかも基材面の温度を変えるだけで効率良く培養細胞または細胞シートを剥離できることを見出した。これらの知見は、本発明者らが、水不溶性ポリマーセグメントと温度応答性ポリマーセグメントが結合した構造をとるブロックコポリマーの持つ立体規則性、並びに基材表面上での形態に着目し、鋭意研究した結果に基づくものである。さらに、このような細胞培養用基材は、従来技術の温度応答性細胞培養用基材よりも高性能であることが分かった。本発明はかかる知見に基づいて完成されたものである。本発明によれば、水不溶性ポリマーセグメントと温度応答性ポリマーセグメントが結合した構造をとるブロックコポリマーが、基材表面に温度応答性ポリマー分として0.8~3.0μg/cm2の割合で被覆されている細胞培養用温度応答性基材が提供される。なお、本発明の細胞培養用応答性基材は、限定されないが、好ましい態様として下記の態様を含む。本発明の一態様では、基材表面に水不溶性ポリマー分として0.09~7.0μg/cm2の割合で被覆されている。本発明の一態様では、基材表面が相分離構造を有する。本発明の一態様では、ブロックコポリマー内の温度応答性ポリマーの含量が30~90wtである。本発明の一態様では、ブロックコポリマー内の温度応答性ポリマーの平均分子量が3000以上である。なお、図2で示したように、重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnとの比が1に近いことから、本発明の効果を得るためには、いずれの平均分子量を採用してもよい。本発明の一態様では、温度応答性ポリマーが、ポリ-N-置換アクリルアミド誘導体、ポリ-N-置換メタクリルアミド誘導体、これらの共重合体、ポリビニルメチルエーテルのいずれか一つ、もしくは二つ以上からなる。本発明の一態様では、温度応答性ポリマーがポリ-N-イソプロピルアクリルアミドである。本発明の一態様では、基材が板状の単独、もしくは2種以上を組み合わせたものであることを特徴とする。また、本発明によれば、水不溶性ポリマーセグメントと温度応答性ポリマーセグメントが結合した構造をとるブロックコポリマーを有機溶媒に溶解、もしくは分散させ、当該ブロックコポリマー溶液を基材表面へスピンコートすることで均一に塗布し、乾燥させることを特徴とする細胞培養用温度応答性基材の製造方法が提供される。なお、本発明の細胞培養用応答性基材の製造方法は、限定されないが、好ましい態様として下記の態様を含む。本発明の一態様では、ブロックコポリマーが可逆的付加開裂連鎖移動RAFT重合によって得られるものである。本発明の一態様では、ブロックコポリマーを溶解する溶媒が、アセトニトリルとN,N-ジメチルホルムアミドの混合液である。本発明の一態様では、アセトニトリルとN,N-ジメチルホルムアミドの混合溶媒の混合比率が、体積比で5:1である。本発明に係る細胞培養用温度応答性基材を使用することにより、効率良く細胞を培養することができ、しかも基材面の温度を変えるだけで効率良く培養細胞または細胞シートを剥離することができる。また、本発明によれば、このような機能性表面を簡便に作製することができる。本発明は、水不溶性ポリマーセグメントと温度応答性ポリマーセグメントが結合した構造をとるブロックコポリマーが、基材表面に0.8~3.0μg/cm2の割合で被覆されている細胞培養用温度応答性基材である。基材表面に被覆されたブロックコポリマーの水不溶性ポリマー部分は、細胞培養中、並びに温度変化に基づいて培養細胞または細胞シートを剥離させるときにおいても基材表面から遊離されないという効果を有する。一般に、ブロックコポリマーとは、少なくとも2種の組成的に別個のセグメントを有するポリマーを意味し、当業者に理解されているように、例えば、ジブロックコポリマー、トリブロックコポリマー、ランダムブロックコポリマー、星状枝分れブロックコポリマーまたはハイパーブランチブロックコポリマーが挙げられる。本発明で使用されるブロックコポリマーは、典型的には、水不溶性ポリマーセグメントAと温度応答性ポリマーセグメントBを有するが、以下の構造:2つのブロックセグメントを含むA-B構造;3つのブロックセグメントを含むA-B-A又はB-A-B;および複数のブロックを含む-A-Bn-ここで、nは2以上の整数であるのいずれであってもよい。なお、本発明の細胞培養用温度応答性基材に使用され得るブロックコポリマーは、上記の構造に照らせば、A-B構造が好ましい。本明細書においては、A-B構造を有するブロックコポリマーが、例えば、水不溶性ポリマーセグメントAとしてポリ-n-ブチルメタクリレートPBMAのセグメントと温度応答性ポリマーセグメントBとしてポリ-N-イソプロピルアクリルアミドPIPAAmのセグメントからなる場合、ブロックコポリマーは、各ポリマーのモノマー単位の数例えば、BMAが79個、IPAAmが120個を用いて、B79-IP120等と表記する場合がある実施例1参照。本明細書で用いられる水不溶性ポリマーには、水に不溶なものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ポリ-n-ブチルアクリレート、ポリ-t-ブチルアクリレート等のポリアルキルアクリレート、ポリ-n-ブチルメタクリレート、ポリ-t-ブチルメタクリレート、ポリメチルメタクリレート等のポリアルキルメタクリレート、ポリスチレン等が挙げられる。本明細書で用いられる温度応答性ポリマーとは、下限臨界溶解温度LCSTを有するポリマーおよび/または上限臨界溶解温度UCSTを有するポリマーを意味するが、それらのホモポリマー、コポリマー、或いは混合物のいずれであってもよい。このようなポリマーとしては、例えば、特公平06-104061号公報に記載されているポリマーが挙げられる。具体的には、例えば、以下のモノマーの単独重合または共重合によって得られる。使用し得るモノマーとしては、例えば、メタアクリルアミド化合物、N-若しくはN,N-ジアルキル置換メタアクリルアミド誘導体、またはビニルエーテル誘導体、ポリビニルアルコール部分酢化物が挙げられる。コポリマーの場合は、これらモノマーの中で任意の2種以上を使用することができる。更には、上記モノマー以外のモノマー類との共重合体、ポリマー同士のグラフトまたは共重合体、あるいはポリマーおよび/またはコポリマーの混合物を用いてもよい。また、必要に応じて、ポリマー本来の性質を損なわない範囲で架橋することも可能である。通常、分離される物質が生体物質であることから、5°C~50°Cの範囲で対象とする生体物質を分離するのに適した温度応答性ポリマーを選択する必要がある。本発明に使用され得る温度応答性ポリマーは、ポリ-N-置換アクリルアミド誘導体、ポリ-N-置換メタクリルアミド誘導体、これらの共重合体、ポリビニルメチルエーテルのいずれか1つ、または2以上の組み合わせであってもよい。より具体的には、温度応答性ポリマーとしては、ポリ-N-n-プロピルアクリルアミド単独重合体の下限臨界溶解温度21°C、ポリ-N-n-プロピルメタクリルアミド同27°C、ポリ-N-イソプロピルアクリルアミド同32°C、ポリ-N-イソプロピルメタクリルアミド同43°C、ポリ-N-シクロプロピルアクリルアミド同45°C、ポリ-N-エトキシエチルアクリルアミド同約35°C、ポリ-N-エトキシエチルメタクリルアミド同約45°C、ポリ-N-テトラヒドロフルフリルアクリルアミド同約28°C、ポリ-N-テトラヒドロフルフリルメタクリルアミド同約35°C、ポリ-N,N-エチルメチルアクリルアミド同56°C、ポリ-N,N-ジエチルアクリルアミド同32°Cなどが挙げられる。好ましくは、ポリ-N-イソプロピルアクリルアミドである。本発明で使用される温度応答性ポリマーは、上記ブロックコポリマー内の含量として30~90wtの範囲が良く、好ましくは40~85wtの範囲が良く、さらに好ましくは45~60wtの範囲が良い。30wtより少ない場合、温度を変えても当該ポリマー上の培養細胞は剥離し難く、作業効率が著しく悪くなり好ましくない。逆に90wtより多いと、その領域に細胞が付着し難く、細胞を十分に付着させることが困難となり、本発明の細胞培養基材として好ましくなく、また、本ブロックコポリマーの水不溶性ポリマー部分が少なくなり基材表面から遊離し易くなり好ましくない。本発明で使用される温度応答性ポリマーは、平均分子量として3000以上のものが良く、好ましくは5000以上のものが良く、さらに好ましくは10000以上のものが良く、最も好ましくは12000以上が良い。分子量が3000より少ない場合、温度を変えても当該ポリマー上の培養細胞は剥離し難く、作業効率が著しく悪くなり好ましくない。また、本発明によれば、本発明で使用される温度応答性ポリマーの分子量は、上記下限値であれば、分子量の上限値に制限されずに培養細胞の剥離を効率良く行うことができる。一態様として、温度応答性ポリマーの平均分子量の上限値は、35000であってもよく、好ましくは30000であり、より好ましくは25000である。本発明に係る細胞培養用温度応答性基材は、上記ブロックコポリマーにおける温度応答性ポリマー分として0.8~3.0μg/cm2の範囲で被覆されたものであり、好ましくは0.9~2.0μg/cm2であり、さらに好ましくは1.3~1.8μg/cm2である。0.8μg/cm2より少ない被覆量のとき、温度を変えても当該ブロックコポリマー上の培養細胞は剥離し難く、作業効率が著しく悪くなり好ましくない。逆に3.0μg/cm2より多いと、その領域に細胞が付着し難く、細胞を十分に付着させることが困難となり、本発明の細胞培養基材として好ましくない。なお、被覆量の測定は常法に従えばよく、例えばFTIRATR法、元素分析法、ESCA等を利用すればよく、いずれの方法を用いてもよい。本発明に係る細胞培養用温度応答性基材は、水不溶性ポリマーセグメントと温度応答性ポリマーセグメントがそれぞれ所定の割合で結合した構造をとるブロックコポリマーが基材表面に被覆されていることを特徴とする。ここで、水不溶性ポリマーの割合は、上記の通り、温度応答性ポリマーが90wtを超える場合、すなわち、水不溶性ポリマーが10wtより少ない場合には、ブロックコポリマーが基材表面から遊離し易くなるため、ブロックコポリマーにおける水不溶性ポリマーの割合は10wt以上であればよい。また、本発明に係る細胞シートを製造する場合、主にブロックコポリマーを構成する温度応答性ポリマーの被覆量が重要となるため、ブロックコポリマーにおける水不溶性ポリマー含量は、培養基材に上記の所望の範囲量の温度応答性ポリマーが被覆できるように適宜調整しさえすればよい。より具体的には、本発明に係る細胞培養用温度応答性基材は、上記ブロックコポリマーにおける水不溶性ポリマー分として0.09~7.0μg/cm2の範囲で被覆されたものであってもよく、好ましくは0.14~4.5μg/cm2であり、さらに好ましくは0.2~3.0μg/cm2である。上記の通り、本発明のブロックコポリマーは、水不溶性ポリマーセグメントと水に親和性を有する温度応答性ポリマーセグメントが結合したものである。従って、本ブロックコポリマーを基材表面に被覆、乾燥させると、基材表面に微細なラメラ構造、海島構造、シリンダー構造、共連続構造などの相分離構造を形成することが期待される。相分離構造の形態、サイズ等は特に限定されるものではないが、細胞が基材表面に付着する際に、基材表面に相分離構造があると細胞の変性を抑えることが可能となり好都合である。一般に、ブロックコポリマーの製造では、可逆的付加開裂連鎖移動RAFT重合法、原子移動ラジカル重合ATRP法、アニオン重合法またはリビングラジカル重合法が使用されることが多い。本発明において、ブロックコポリマーの製造法は、上記重合法およびその他の重合法に限定されないが、RAFT重合法を用いることが好ましい。RAFT重合法を用いてブロックコポリマーを製造した場合、RAFT剤の構造の一部であるジチオエステル系官能基が、生成したブロックコポリマーの末端に残存することになる。これはRAFT重合法に特徴的な現象であり、重合反応が終了した後、さらにその末端から重合反応を開始させることが可能となる。その際、温度応答性ポリマーの末端に存在するジチオエステル系官能基は、2-エタノールアミンなどを添加することにより、容易にチオール基に置換される。この反応は特別な条件下で行われる必要はなく、簡便でありまた短時間で進行する。その結果、反応性の高いチオール基を有するポリマー鎖を得ることができるため、マレイミド基、チオール基などの官能基を有する機能性分子を選択的かつ効率的にポリマー鎖末端に修飾できる。従って、本発明の細胞培養用温度応答性基材表面に新たな機能性を付与することが可能となる。なお、官能基の種類については特に限定されるものではないが、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、カルボニル基、アルデヒド基、スルホン酸基等が挙げられる。また、上記で製造されたポリマー鎖末端には細胞接着を促進させるようなペプチドや蛋白質が固定化されていてもよい。これに関連して、例えば、ポリ-N-イソプロピルアクリルアミドの下限臨界溶解温度LCSTが末端官能基の親水性疎水性に依存して変化することから、本発明のようなポリマー鎖末端への官能基導入は、基材表面の温度応答性を別の観点から制御する新たな手法としても期待される。上記の通り、本発明のブロックコポリマーは、RAFT重合法、すなわち、RAFT剤共存下でラジカル重合させ、温度応答性ポリマーを成長させる方法で得られる。その際に使用する開始剤は特に限定されるものではないが、例えば、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビス4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリルV-70、2,2’-アゾビス[2-カルボキシエチル-2-メチルプロピオンアミジン]V-057などが挙げられる。本発明では、この開始剤よりポリマー鎖を成長させることができる。また、使用されるRAFT剤としては特に限定されるものでないが、ベンジルジチオベンゾエート、ジチオ安息香酸クミル、2-シアノプロピルジチオベンゾエート、1-フェニルエチルフェニルジチオアセテート、クミルフェニルジチオアセテート、ベンジル1-ピロールカルボジチオエート、クミル1-ピロールカルボジチオエート等が挙げられる。本発明で重合時に使用する溶媒については特に限定されないが、ベンゼン、1,4-ジオキサン、ジメチルホルムアルデヒドDMF等が好適である。この溶媒についても何ら限定されるものではないが、重合反応に使用するモノマー、RAFT剤および重合開始剤の種類によって、適宜、選択できる。本発明は、1,4-ジオキサンなどの溶媒を使用して、RAFT剤共存下で、開始剤を用いた表面開始型ラジカル重合法により、モノマーから0~80°Cの温度範囲内で水和力が変化するポリマーを成長させる方法である。その他の重合時の開始剤濃度、RAFT剤濃度、反応温度、反応時間等は特に限定されるものではなく、目的に応じて変更してよい。さらに反応液の状態は静置させても攪拌してもよい。本発明で使用されるRAFT法は、金属イオン等を使わずに反応を進行させることができるため、反応後の生成物の精製が容易であり、反応工程そのものも簡便な操作で済み好都合である。本発明の細胞培養用温度応答性基材は、典型的には、こうして得られたブロックコポリマーを溶媒に溶解もしくは分散させ、当該コポリマーを基材表面へ均一に被覆することによって得られる。その際、使われる溶媒は、当該ブロックコポリマーを溶解もしくは分散させることができ、基材表面を極力溶解させないものを適宜選択すればよく、特に限定されるものではない。例えば、N,N-ジメチルアクリルアミド、イソプロピルアルコール、アセトン、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、ジメチルスルホキシド、メチルエチルケトン、N,N-ジメチルアセトアミド、クロロホルム、ジクロロメタン、或いはアセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド等が挙げられる。複数の溶媒を併用する場合はその混合比は特に限定されるものではなく、例えば、アセトニトリルとN,N-ジメチルホルムアミドの混合液の場合、体積比で、アセトニトリルが5でN,N-ジメチルホルムアミドが1の割合、アセトニトリルが4でN,N-ジメチルホルムアミドが1の割合、またはアセトニトリルが6でN,N-ジメチルホルムアミドが1の割合が好ましい。溶媒として水を利用し、必要に応じて乳化剤を添加してブロックコポリマーを溶解、乳化、分散させる方法もあるが、該方法では、ブロックコポリマーの組成によっては水中で均一になることができない場合がある。その結果、均一、かつ平滑にブロックコポリマーを基材表面に被覆させることができず、細胞を培養する過程で細胞が基材表面に均一に付着せず、均一に増殖できなくなり、基材を被覆する方法としては好ましくない。また、水を溶媒として利用しブロックコポリマーを基材表面へ被覆した場合、塗布後、乾燥までに時間がかかる点においても好ましくない。本発明では、上記ブロックコポリマー溶液を基材表面へ均一に塗布する必要がある。その方法は特に限定されるものではないが、スピンコーターを利用する方法、基材を水平な台の上に静置させる方法等が挙げられる。塗布後、溶媒を除去することにより、本発明である細胞培養用温度応答性基材が得られる。なお、溶媒の除去方法は特に限定されるものではないが、室温/大気中で時間をかけてゆっくり蒸発させる方法、室温/溶媒飽和環境下で時間をかけてゆっくり蒸発させる方法、加熱して蒸発させる方法、減圧して蒸発させる方法等が挙げられるが、最終的な細胞培養用温度応答性基材の表面をきれいに作製する上で、前二者の方法が良く、特に室温/溶媒飽和環境下で時間をかけてゆっくり蒸発させる方法が好ましい。被覆が施される細胞培養基材としては、通常細胞培養に用いられるガラス、改質ガラス、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート等のみならず、一般に形態付与が可能である材料、限定されないが、例えば、上記以外の高分子化合物、セラミックス、金属類などを用いることができる。細胞培養基材の形状は、ペトリ皿等の細胞培養皿に限定されることはなく、プレート板状、ファイバー糸状、多孔質粒子粒状、チューブ状、フィルム状の基材、またはそれらを2種以上を組み合わせた基材であってもよい。また、一般に細胞培養等に用いられる容器の形状フラスコ等を有したものであっても差し支えない。好ましくは、本発明で使用される細胞培養基材の形状は、板状の単独、または2種以上を組み合わせたものである。また、上記の一般に使用される細胞培養基材にブロックコポリマーを被覆する場合、細胞培養基材の表面は疎水性であることが好ましい。したがって、ガラス基板などのその表面が親水性である細胞培養基材を用いる場合、予め疎水化処理をすることが好ましい。疎水化処理は、特に限定されないが、シランカップリング剤例えば、ヘキシルトリエトキシシランを用いた処理であってもよい。本発明で得られる細胞培養用温度応答性基材表面に対して使用され得る細胞は、その由来に限定されることはなく、さらにその入手先、作製方法も特に限定されるものではない。本発明で使用される細胞には、例えば、動物、昆虫、植物等の細胞、細菌類が挙げられる。典型的には、動物細胞の由来として、ヒト、サル、イヌ、ネコ、ウサギ、ラット、ヌードマウス、マウス、モルモット、ブタ、ヒツジ、チャイニーズハムスター、ウシ、マーモセット、アフリカミドリザル等が好ましい。また、本発明で用いる培地は、動物細胞用の培地であれば特に限定されないが、例えば、無血清培地、血清含有培地等が挙げられる。そのような培地は、さらにレチノイン酸、アスコルビン酸等の分化誘導物質を添加してもよい。基材表面への細胞の播種密度は適宜変更可能であり、その播種密度は常法に従って決定することができる。また、本発明の細胞培養用温度応答性基材を用いれば、培養基材の温度を、単に培養基材上の被覆ポリマーの上限臨界溶解温度以上もしくは下限臨界溶解温度以下にすることによって培養細胞または細胞シートを酵素処理なく剥離することができる。上記の剥離は、培養液中において行うことも、その他の等張液中において行うことも可能であり、目的に合わせて行うことができる。細胞をより早く、より高効率に剥離し、さらに回収する目的で、基材を軽くたたいたり、ゆらしたりする方法、またはピペットを用いて培地を撹拌する方法等を単独で、あるいは併用して用いてもよい。本発明の細胞培養用温度応答性基材を利用することで、各組織から得られた細胞を効率良く培養できるようになる。この培養方法を利用すれば、温度を変えるだけで損傷なく、効率良く培養細胞または細胞シートを剥離することができるようになる。従来、こうした作業には手間と作業者の技術を必要としていたが、本発明であればその必要がなくなり、細胞の大量処理ができるようになる。本発明によれば、このような培養基材表面は、リビングラジカル重合法を利用することで作製され得ることを示す。特にRAFT重合法リビングラジカル重合法の1つによって、培養基材表面を簡便に精密に設計でき、さらに分子鎖末端に簡便に官能基を導入することができるため、本発明の細胞培養用温度応答性基材およびそれを製造する方法は、極めて有利な細胞培養技術である。以下に、本発明を実施例に基づいて更に詳しく説明するが、これらは本発明を何ら限定するものではない。実施例1:温度応答性表面の調製と特性本実施例においては、温度応答性ポリマーであるポリ-N-イソプロピルアクリルアミドPIPAAmのセグメントと水不溶性ポリマーであるポリ-n-ブチルメタクリレートPBMAのセグメントからなる温度応答性ブロックコポリマーを調製し、基材表面にスピンコーティングした。作製した温度応答性ブロックコポリマー被覆表面について、ポリマーの表面導入量や表面ぬれ性などの物性評価、並びに、温度変化による基材表面への細胞接着性の違いについても検討した。1温度応答性ブロックコポリマーの調製具体的には、RAFT重合により合成した水不溶性ポリマーであるPBMAをマクロRAFT剤として、PBMA-b-PIPAAmブロックコポリマーを調製した図1。また、RAFT重合により分子量を制御して合成されたPBMAおよびPBMA-b-PIPAAmの分析値を図2に示す。なお、本明細書において、例えば、BMAとIPAAmのモノマー単位の比が70:24であるPBMA-b-PIPAAmブロックコポリマーをB79-IP24として表した。2温度応答性ブロックコポリマーの特性得られたポリマーを核磁気共鳴分光法1H-NMRやゲル浸透クロマトグラフィー法GPCにより評価した。PBMA-b-PIPAAmを0.1w/v、0.3w/v、または0.5w/vの各濃度でアセトニトリル/N,N-ジメチルホルムアミド混合溶媒5/1inv/vに溶解した。またコントロールとして、PBMA溶液0.5w/vおよびPIPPAm0.5w/vを同様に調製した。次に、ポリマー溶液を細胞培養用ポリスチレンTCPS基材表面にスピンコートし3000rpm,30sec、一晩室温で乾燥した後、水で基材表面を洗浄し、6時間室温で減圧乾燥させることによって、温度応答性表面を調製した。また、ポリマー溶液で被覆していないTCPS、およびUpCell登録商標セルシード社製、日本もコントロールとして用いた。水中におけるポリマー被覆の安定性を検討するため、水中に37°Cで24時間静置後、4°Cの水中にて6時間振とうし、減圧乾燥した。最初に、この基材の表面ポリマー量を全反射型フーリエ変換型赤外分光ATR/FT-IR法により決定し、処理前後におけるポリマー量の違いを比較検討した図3参照。次に、水中気泡法による静的接触角測定法により、20°Cおよび37°Cにおけるぬれ性について評価した。PBMA-b-PIPAAm被覆基材の表面安定性についてATR/FT-IRを用いて検討した結果、処理水中における37°Cで24時間静置、続く4°Cの水中にて6時間の振とう前後でPIPAAm修飾量に変化はほとんど観察されなかった。このことから、水中におけるLCSTPIPAAmの場合は32°Cを境とした温度変化でブロックコポリマーは基材上に安定に被覆された状態にあることが分かった図3。この結果は、水不溶性ポリマー鎖であるPBMAが、細胞培養基材として使用したポリスチレン基材と疎水性相互作用により安定的に物理吸着しているためであると考えられる。またポリマー被覆基材についてPIPAAm鎖のLCSTを挟んだ温度における表面ぬれ性の違いについて評価したところ、PBMA被覆基材と同様に、PBMA-b-PIPAAm被覆基材においても変化が見られなかった図4。このことは従来の温度応答性細胞培養基材表面のような基材表面全体が温度応答性鎖であるPIPAAmに覆われている状態と異なり、PBMA-b-PIPAAm被覆基材では、PBMA鎖とPIPAAm鎖が相分離してそれぞれのドメインを基材表面上に形成するため、マクロな環境変化を追跡する表面ぬれ性測定では顕著な変化は観察されないのではないかと考えられる。また、PBMA鎖とPIPAAm鎖からなるブロックコポリマーに占めるPIPAAm鎖の比率図2参照に応じて相分離構造を形成していると推測される。実施例2:グラフト量と細胞挙動の検討実施例1の記載に従って、TCPSに各種濃度のB79-IP120を被覆した基材を調製し、該作製した基材上にウシ頸動脈由来血管内皮細胞BAECを1.0×104cell/cm2濃度で播種し、ポリマー被覆基材表面上への37°Cにおける細胞の接着性および20°Cでの低温処理による細胞の脱着挙動について評価した。図5中の黒丸はポリマーを被覆していないTCPS基材を示し、黒菱形および白菱形はTCPSにB79-IP120をそれぞれ0.3および0.5w/vで被覆した基材上における細胞挙動の変化を表す。図5は、BAEC細胞を各基材に播種し、72時間培養後に、培養温度を37°Cから20°Cに変化させた場合の細胞接着率の変化を示す。より具体的には、37°Cでの培養により細胞接着率が上昇するが、細胞培養用のTCPSでは接着率が高く、次いで、0.3w/vでB79-IP120を被覆した基材が高かった。一方、0.5w/vでB79-IP120を被覆した基材では細胞接着率が低かった。実際にTCPSに被覆されたPIPAAmの量を測定すると、濃度が0.3w/vの場合では1.44μg/cm2であり、0.5w/vの場合では1.81μg/cm2であり、PIPAAmの被覆量が多くなると細胞接着率が減少する傾向にあると言える。次に、37°Cから20°Cに温度変化させた場合の細胞接着率の変化は、PIPAAmの被覆量が1.44μg/cm2である基材を用いた場合に顕著に現れた。TCPSでは、温度変化に伴う細胞接着率にほとんど変化が見られなかった。一方、PIPAAmの被覆量が1.81μg/cm2である基材では、37°Cから20°Cへ温度変化させた場合、速やかに細胞が剥離する現象が見られたが、37°Cにおける細胞接着率が低く、細胞を培養するには好ましくない条件であると考えられる。さらに、上記各種基材上で培養したBAEC細胞の温度変化による脱着を観察した結果を写真に示す。0.3w/v濃度のB79-IP120で被覆した基材上において37°C、3日間培養したところ、細胞の接着および伸展を確認した図6。次に、細胞接着した基材を20°Cで2時間低温処理した結果、細胞は基材表面から自発的に脱着することが明らかとなった。一方、PBMA被覆基材において同様の操作を行ったが、細胞の接着および伸展は観察されたが、低温処理による細胞の脱着は観察されなかったデータ示さず。以上の結果から、基材表面に導入されたPIPAAm鎖がLCST以下の低温処理により水和することで、基材表面の特性が変化し、接着した細胞が自発的に剥離したと考えられる。実施例3:ブロックコポリマーによる細胞挙動変化の詳細な分析1PIPAAm分子鎖長と細胞挙動の関係ブロックコポリマー中のBMAのモノマー単位数量体数を一定にし、IPAAmのモノマー単位を変化させたブロックコポリマーを実施例1の製造法に従って調製した。実施例1と同様に、TCPSにブロックコポリマーを被覆させ、温度変化に伴うBAEC細胞の接着率の変化を調べた図7。上記実施例2と同様に、PIPAAmの被覆量の減少に伴って、細胞接着率が増加した。また、温度変化により細胞の脱着については、PIPAAmの被覆量が低い基材1.18μg/cm2においては、より被覆量の高い基材1.44,1.60,1.63μg/cm2に比べて緩やかに脱着し、被覆量が高い基材1.44,1.60,1.63μg/cm2などでは、温度変化後、速やかに脱着することが分かった。2ブロックコポリマー鎖長と細胞挙動の関係鎖長が異なる3種のブロックコポリマーB36-IP52、B79-IP120、およびB142-IP231を調製した。実施例2と同様に、これらのブロックコポリマーをTCPSに被覆した基材を調製し、その後、各基材に播種したBAEC細胞の接着、続く温度変化による細胞の脱着挙動の変化を細胞接着率によって評価した図8。使用した3種のブロックコポリマーは、それらの鎖長は著しく異なるが、TCPSに被覆されたPIPAAmの量にほとんど差がなかった。また、各基材に播種された細胞の接着および脱着についても、各基材のブロックコポリマーの鎖長による顕著な違いは見られなかった。このことから、温度変化による細胞の接着および脱着の制御には、基材表面へのPIPAAmの修飾量が重要な要因の1つであると言える。3ブロックコポリマーによる細胞シートの形成図9には、PBMA-b-PIPAAmブロックコポリマー0.3w/v濃度のB79-IP120で被覆した基材上で形成させた細胞シートと、温度変化による細胞シートの剥離後の写真を示す。PBMA-b-PIPAAmブロックコポリマー0.3w/v濃度のB79-IP120を被覆した基材上でBAEC細胞を37°Cにて培養し、コンフルエントになるまで培養した後、20°Cで保温すると、隣接した細胞同士の細胞間結合は維持したまま、細胞シートを形成した。図10では、鎖長、モノマー単位、およびグラフト量の異なる各種ブロックコポリマーを調製し、各ブロックコポリマーで被覆した基材上での細胞がコンフルエントになるまでに要する時間Periodforconfluent、および20°Cへ変化させた後に細胞シートとして剥離するまでに要する時間Cellsheetharvestat20°Cを検討した。その結果、PIPAAmの被覆量が高いもの例えば、1.45μg/cm2以上になると、細胞がコンフルエントになるまでに7日以上の時間を要するようになることが分かった。一方で、PIPAAmの被覆量が0.8μg/cm2より低くなると、細胞がうまく剥離できず、細胞シートが形成されないことが分かった。以上の結果から、PBMA-b-PIPAAmを被覆した基材表面の使用により、細胞培養、並びに温度変化に応じた培養細胞または細胞シートの剥離を効率良く実現できることを確信した。比較例1:水系溶媒を利用した温度応答性表面の作製実施例2で用いたB79-IP120を0.1w/vの濃度で水中に分散させることを試みた。その結果、本ポリマーは水中で分散、乳化させられず均一な溶液を得ることはできなかった。得られた溶液をTCPS基材表面へ被覆したが、目視できる程度に器材表面が不均一となり、本発明として好ましいものではなかった。"