"複数の画素領域を備える有機EL装置であって、各画素領域は、三原色に対応する第一、第二、及び第三の副画素を有しており、隣接する第一の副画素同士、及び隣接する第二の副画素同士は、それぞれ、一定間隔で配列されており、前記第三の副画素は、前記画素領域から前記第一及び第二の副画素を除いた隙間領域に形成されている、有機EL装置。請求項1に記載の有機EL装置であって、前記第一及び第二の副画素のそれぞれの平面形状は、略円形である、有機EL装置。請求項1又は請求項2に記載の有機EL装置であって、前記第一及び第二の副画素のそれぞれの発光層は液滴吐出法により形成される、有機EL装置。請求項1乃至請求項3のうち何れか1項に記載の有機EL装置あって、前記第三の副画素の発光層は蒸着法により形成される、有機EL装置。しかし、有機EL装置の高精細化に伴い、画素ピッチが狭くなると、液滴吐出法による液滴の着弾精度や画素内の充填精度及び濡れ拡がり性が一層強く求められるようになり、従来の液滴吐出精度では混色や充填不良が生じる可能性が懸念される。そこで、本発明は、上述の問題を解決し、液滴吐出法と蒸着法を組み合わせた画素形成に好適な画素レイアウトを有する有機EL装置を提案することを課題とする。上記の課題を解決するため、本発明に係わる有機EL装置は、複数の画素領域を備えており、各画素領域は、三原色に対応する第一、第二、及び第三の副画素を有しており、隣接する第一の副画素同士、及び隣接する第二の副画素同士は、それぞれ、一定間隔で配列されており、第三の副画素は、画素領域から第一及び第二の副画素を除いた隙間領域に形成されている。隣接する第一の副画素同士、及び隣接する第二の副画素同士は、それぞれ、一定間隔で配列されているため、液滴吐出法による副画素の塗り分けに好適である。また、第三の副画素は、画素領域から第一及び第二の副画素を除いた隙間領域に形成されているため、形状及び段差に関する成膜条件の制約の少ない蒸着法による副画素形成に好適である。第一及び第二の副画素のそれぞれの平面形状は、略円形が好ましい。これにより、第一及び第二の副画素内に発光材料の液滴を十分に充填し、濡れ拡がらせることが可能となる。第一及び第二の副画素のそれぞれの発光層は液滴吐出法により形成するのが好ましい。三原色に対応する三つの副画素のうち液滴吐出法によって形成される副画素の数を二つに制限することで、画素レイアウトの自由度を高めることができ、狭い画素ピッチでも高精細に各副画素を塗り分けることができる。第三の副画素の発光層は蒸着法により形成するのが好ましい。第三の副画素は、画素領域から第一及び第二の副画素を除いた隙間領域に形成されているため、形状及び段差に関する成膜条件の制約の少ない蒸着法による発光層形成に好適である。以下、各図を参照しながら本発明に関わる実施形態について説明する。同一符号の部材は同一の部材を示すものとして重複する説明を省略する。また、本明細書において特に断りがない限り、上下方向は、図2乃至図8の±Z方向を意味するものとする。図1は本実施形態に係るフルカラー表示用の有機EL装置11の回路構成図である。有機EL装置11には走査線駆動回路16に接続する複数の走査線12と、信号線駆動回路15に接続するとともに、各走査線12に交差する方向に延在する複数の信号線13と、各信号線13に並行に延在する複数の電源線14とがそれぞれ配線されている。走査線12と信号線13とが交差する箇所には、走査線12からの走査信号がそのゲート端子に供給されるスイッチングトランジスタ21と、スイッチングトランジスタ21がオン状態のときにスイッチングトランジスタ21を介して信号線13から供給される画素信号を保持する保持容量22と、保持容量22の電位がそのゲート端子に供給される駆動トランジスタ23と、駆動トランジスタ23がオン状態のときに駆動トランジスタ23を介して電源線14に接続する有機EL素子27が配置されている。有機EL素子27は、画素電極陽極24と共通電極陰極25との間に発光層26を備えている。上述の回路構成により走査線12から走査信号がスイッチングトランジスタ21のゲート端子に供給されて、スイッチングトランジスタ21がオン状態になると、信号線13から保持容量22に画素信号が供給される。駆動トランジスタ23のオン/オフ状態は、保持容量22の電位に応じて定まり、駆動トランジスタ23がオン状態になると、電源線14から駆動トランジスタ23のチャネルを介して有機EL素子27に駆動電流が流れる。有機EL素子27は、駆動電流に応じた輝度で発光する。次に、図2乃至図5を参照しながら、有機EL装置11の画素レイアウトについて説明する。ここで、図2は画素領域10の平面図であり、図3は図2の3-3線矢視断面図であり、図4は図2の4-4線矢視断面図であり、図5は複数の画素領域10の配列を示す模式図である。但し、説明の便宜上、図2乃至図4では、発光層26及び共通電極25の図示を省略している。図2では、スイッチングトランジスタ21及び保持容量22の図示を省略している。図5では、画素領域10を構成する赤副画素10R、緑副画素10G、及び青副画素10B以外の部材の図示を省略している。図2に示すように、一つの画素領域10は、赤副画素10R、緑副画素10G及び青副画素10Bによって構成されている。画素領域10は、略方形の平面形状を成しており、その内部には、隔壁30によって区画された赤副画素10Rと緑副画素10Gとが配置されている。青副画素10Bは、画素領域10から赤副画素10R及び緑副画素10Gを除いた隙間領域に形成されている。なお、同図において、符号24R,24G,24Bは、それぞれ、赤副画素10R、緑副画素10G、及び青副画素10Bの画素電極を示す。画素電極24R,24G,24Bを特に区別する必要がないときは、単に、画素電極24と称する。赤色と緑色の有機発光材料は、液滴吐出法による均質な膜形成が可能であるため、赤副画素10Rの画素電極24Rには、赤色の有機発光材料を溶媒に分散又は溶解させた液滴例えば、シアノポリフェニレンビニレン前駆体が液滴吐出法により塗布され、緑副画素10Gの画素電極24Gには、緑色の有機発光材料を溶媒に分散又は溶解させた液滴例えば、ポリフェニレンビニレン前駆体が液滴吐出法により塗布され、これらの有機発光材料は、加熱処理が加えられることにより、それぞれ、赤色及び緑色を発光する発光層26になる。一方、青色の有機発光材料は、蒸着法による均質な膜形成が可能であるため、青副画素10Bの画素電極24Bには、青色を発光する発光層26として、青色有機発光材料例えば、アルミニウムキノリノール錯体が蒸着法により膜形成される。なお、蒸着法による膜形成では、必ずしも画素電極24Bのみに選択的に青色の発光層26を形成する必要はなく、表面に露出している赤色の発光層26と緑色の発光層26との上に青色の発光層26を全面に形成してもよい。また、図2では、各画素領域10を区画する隔壁を設けない例を示しているが、各画素領域10を区画する隔壁を形成してもよい。また、画素電極24と発光層26との間に正孔注入層/正孔輸送層を形成してもよく、共通電極25と発光層26との間に電子輸送層/電子注入層を形成してもよい。赤副画素10R及び緑副画素10Gのそれぞれの発光層26は、液滴吐出法により膜形成されるため、これらの画素電極24R,24Gの表面は、有機材料の液滴が均等に濡れ拡がることができるように、平坦であることが要求される。一方、青副画素10Bの発光層26は、段差被覆性に優れた蒸着法により膜形成されるため、その画素電極24Bの表面は必ずしも平坦である必要はなく、凹凸が存在していても構わない。このような事情に鑑み、各種配線走査線12、信号線13、及び電源線14及び回路素子スイッチングトランジスタ21、保持容量22、及び駆動トランジスタ23は、平坦性が要求される赤副画素10R又は緑副画素10Gの下層ではなく、平坦性が要求されない青副画素10Bの下層に形成するのが好ましい。また、赤副画素10Rと緑副画素10Gの平面形状は、液滴吐出法による液滴の均一な濡れ拡がりを実現するため、略円形であることが好ましい。一方、青副画素10Bの発光層26は、被覆性に優れた蒸着法により形成されるため、その平面形状に特段の制限はなく、如何なる形状でも均質な膜を形成することが可能である。このため、青副画素10Bは、画素領域10から赤副画素10R及び緑副画素10Gを除いた隙間領域に形成することができる。図3に示すように、基板40上には、下地絶縁膜51を介して信号線13及び電源線14が形成されており、その上層には、層間絶縁膜52,53を介して画素電極24B,24Gがそれぞれ所定形状にパターニング形成されている。画素電極24Gの周囲は、隔壁30によって区画されている。隔壁30は、下層側に配置された親液性の隔壁32と、上層側に配置された撥液性の隔壁31とを積層した構造を有する。親液性とは、液滴との接触角が相対的に小さい性質を意味し、撥液性とは、液滴との接触角が相対的に大きい性質を意味する。親液性の隔壁32は、例えば、酸素プラズマ処理が施された絶縁膜によって構成され、液滴の良好な画素内の濡れ拡がりを促進する。一方、撥液性の隔壁31は、例えば、フッ素プラズマ処理が施された絶縁膜によって構成され、液滴の画素外への溢れ出しを抑制する。本実施形態では、基板側から光を取り出すボトムエミッション方式を採用しており、基板40、下地絶縁膜51、層間絶縁膜52,53、及び画素電極24の材質として、光透過性を有する公知の材質を用いることができる。図4に示すように、駆動トランジスタ23は、ドレイン及びソースに不純物がドープされたシリコン層60と、シリコン層60のチャネル上にゲート絶縁膜61を介して形成されたゲート電極62と、シリコン層60のドレイン及びソースにそれぞれ接続するドレイン電極63及びソース電極64とを備える。ドレイン電極63は、層間絶縁膜53に開口するコンタクトホール71を通じて画素電極24Bに導通している。ソース電極64は、層間絶縁膜52に開口するコンタクトホール72を通じて電源線14に導通している。なお、ボトムエミッションでは、駆動トランジスタ23が光を遮蔽してしまうため、駆動トランジスタ23の形成領域に対応して画素電極24B上に絶縁膜図示せずを形成し、発光に寄与しない部分の消費電力を低減するのが好ましい。図5に示すように、有機EL装置11は、互いに直交する二方向X方向及びY方向に配列される複数の画素領域10を備えており、隣接する赤副画素10R同士及び隣接する緑副画素10G同士は、それぞれ、一定間隔Dで配列されている。これにより一定のノズルピッチで配列する液滴吐出装置のノズルから赤副画素10R及び緑副画素10Gへの液滴の着弾精度を高めることができる。液滴吐出装置としては、公知の装置を用いればよく、例えば、電気機械変換方式、帯電制御方式、加圧振動方式、電気熱変換方式、又は静電吸引方式により、微小な液滴を高解像度に吐出する装置が好適に用いられる。なお、上述の説明では、有機EL装置11がボトムエミッション方式の構造を有する場合について説明したが、図6乃至図8に示すように、有機EL装置11は、トップエミッション方式を採用してもよい。ここで、図6は画素領域10の平面図であり、図7は図6の7-7線矢視断面図であり、図8は図6の8-8線矢視断面図である。但し、説明の便宜上、図6乃至図8では、発光層26及び共通電極25の図示を省略している。同様に、図6では、スイッチングトランジスタ21及び保持容量22の図示を省略している。図6に示すように、画素レイアウトは、図2に示すものと同じである。一方、図7及び図8に示すように、有機EL装置11の断面構造は、層間絶縁膜53の中に反射層80が形成されている点で図3及び図4に示す構造と相違し、その余の点の構造は共通している。但し、トップエミッション方式では、基板側から光を取り出す必要がないので、基板40、下地絶縁膜51、層間絶縁膜52,53、及び画素電極24の材質として、必ずしも光透過性を有する材質を用いる必要はない一方、共通電極側から光を取り出すために、光透過性を有する共通電極25を形成する必要がある。本実施形態によれば、隣接する赤副画素10R同士、及び隣接する緑副画素10G同士は、それぞれ、一定間隔Dで規則正しく配列され、且つ、その平面形状は円形であるため、液滴吐出法による副画素10R,10Gの塗り分けに好適である。また、青副画素10Bは、画素領域10から赤副画素10R及び緑副画素10Gを除いた隙間領域に形成されているため、形状及び段差に関する成膜条件の制約の少ない蒸着法による発光層形成に好適である。また、三原色に対応する三つの副画素10R,10G,10Bのうち青副画素10Bを蒸着法で形成することにより、液滴吐出法によって形成される副画素の数を二つに減らすことができるため、画素レイアウトの自由度を高めることができ、狭い画素ピッチでも高精細に各副画素を塗り分けることができる。また、各種配線走査線12、信号線13、及び電源線14及び回路素子スイッチングトランジスタ21、保持容量22、及び駆動トランジスタ23を赤副画素10R又は緑副画素10Gの下層ではなく青副画素10Bの下層に形成することにより、画素電極24R,24Gの表面の平坦性を高めることができ、液滴吐出法による副画素10R,10Gの塗り分けに好適である。なお、上述の説明では、赤副画素10R及び緑副画素10Gを液滴吐出法で形成し、青副画素10Bを蒸着法で形成する実施形態を例示したが、液滴吐出法又は蒸着法の何れの方法によっても、赤発光層、緑発光層、及び青発光層を形成する方法は公知であるため、本発明は、上述の実施形態に限定されるものではない。例えば、三原色に対応する第一、第二、及び第三の副画素のうち、隣接する第一の副画素同士、及び隣接する第二の副画素同士を、それぞれ、一定間隔で配列形成し、画素領域から第一及び第二の副画素を除いた隙間領域に第三の副画素を形成してもよい。第一及び第二の副画素のそれぞれの平面形状は、例えば、略円形が好ましく、これらの発光層は液滴吐出法により形成することができる。また、第三の副画素の発光層は蒸着法により形成することができる。言い換えれば、上述の実施形態は、第一及び第二の副画素として、液滴吐出法により形成される赤副画素及び緑副画素を例示し、第三の副画素として、蒸着法により形成される青副画素を例示したものである。次に、本実施形態に係わる有機EL装置11を表示部500として備える電子機器の具体例を説明する。図9Aに示すように、携帯電話530は、アンテナ部531、音声出力部532、音声入力部533、操作部534、及び表示部500を備える。図9Bに示すように、ビデオカメラ540は、受像部541、操作部542、音声入力部543、及び表示部500を備える。図9Cに示すように、テレビジョン550は、表示部500を備える。図9Dに示すように、ロールアップ式テレビジョン560は、表示部500を備える。なお、本実施形態に係わる有機EL装置11を表示部500として備える電子機器としては、上述の他、例えば、表示機能付きファックス装置、デジタルカメラのファインダ、携帯型TV、電子手帳、電光掲示板、宣伝広告用ディスプレイ等がある。"