"樹脂基材と、その上に銀反射層、及び該銀反射層よりも光源側の最外側にメタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層を有するフィルムミラーにおいて、該メタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層の水の接触角が80°以上170°未満であり、かつ動摩擦係数が0.10以上0.35以下であることを特徴とするフィルムミラー。前記最表層の鉛筆硬度がH以上7H以下であることを特徴とする請求項1に記載のフィルムミラー。前記動摩擦係数が0.15以上0.25以下であることを特徴とする請求項1または2に記載のフィルムミラー。前記銀反射層よりも光源側にガスバリア層を有することを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載のフィルムミラー。前記樹脂基材が銀反射層よりも光源側に位置することを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載のフィルムミラー。前記樹脂基材または樹脂基材上の少なくともいずれか一層が紫外線吸収剤を含有することを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載のフィルムミラー。前記銀反射層と隣接する層が銀の腐食防止剤を含有することを特徴とする請求項1~6のいずれか1項に記載のフィルムミラー。請求項1~7のいずれか1項に記載のフィルムミラーを製造するフィルムミラーの製造方法であって、前記銀反射層を銀蒸着プロセスによって形成することを特徴とするフィルムミラーの製造方法。請求項1~7のいずれか1項に記載のフィルムミラー、または請求項8に記載のフィルムミラーの製造方法により得られたフィルムミラーを用いた太陽光反射用ミラーであって、前記樹脂基材に対し前記銀反射層側の面に塗設された粘着層を介して、金属基材上に前記フィルムミラーを貼り付けて形成されたことを特徴とする太陽光反射用ミラー。本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、高い耐傷性及び耐候性を有し、かつ高い生産性を有するフィルムミラー、その製造方法及びそのフィルムミラーを用いた太陽光反射用ミラーを提供することにある。本発明の上記課題は、以下の構成により達成される。1.樹脂基材と、その上に銀反射層、及び該銀反射層よりも光源側の最外側にメタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層を有するフィルムミラーにおいて、該メタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層の水の接触角が80°以上170°未満であり、かつ動摩擦係数が0.10以上0.35以下であることを特徴とするフィルムミラー。2.前記最表層の鉛筆硬度がH以上7H以下であることを特徴とする前記1に記載のフィルムミラー。3.前記動摩擦係数が0.15以上0.25以下であることを特徴とする前記1または2に記載のフィルムミラー。4.前記銀反射層よりも光源側にガスバリア層を有することを特徴とする前記1~3のいずれか1項に記載のフィルムミラー。5.前記樹脂基材が銀反射層よりも光源側に位置することを特徴とする前記1~4のいずれか1項に記載のフィルムミラー。6.前記樹脂基材または樹脂基材上の少なくともいずれか一層が紫外線吸収剤を含有することを特徴とする前記1~5のいずれか1項に記載のフィルムミラー。7.前記銀反射層と隣接する層が銀の腐食防止剤を含有することを特徴とする前記1~6のいずれか1項に記載のフィルムミラー。8.前記1~7のいずれか1項に記載のフィルムミラーを製造するフィルムミラーの製造方法であって、前記銀反射層を銀蒸着プロセスによって形成することを特徴とするフィルムミラーの製造方法。9.前記1~7のいずれか1項に記載のフィルムミラー、または前記8に記載のフィルムミラーの製造方法により得られたフィルムミラーを用いた太陽光反射用ミラーであって、前記樹脂基材に対し前記銀反射層側の面に塗設された粘着層を介して、金属基材上に前記フィルムミラーを貼り付けて形成されたことを特徴とする太陽光反射用ミラー。本発明により、高い耐傷性及び耐候性を有し、かつ高い生産性を有するフィルムミラー、その製造方法及びそのフィルムミラーを用いた太陽光反射用ミラーを提供することができた。本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を行った結果、樹脂基材と、その上に銀反射層、及び該銀反射層よりも光源側の最外側にメタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層を有するフィルムミラーにおいて、該メタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層の水の接触角が80°以上170°未満であり、かつ動摩擦係数が0.10以上0.35以下であることを特徴とするフィルムミラーにより、高い耐傷性及び耐候性を有し、かつ高い生産性を有するフィルムミラーが得られることを見出し、本発明に至った次第である。以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態態様について詳細に説明する。メタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層本発明のフィルムミラーは、銀反射層よりも光源側の最外側にメタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層を有することが特徴である。メタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層は、珪素、チタン、ジルコニウム、アルミ等のポリメトキサン、またはポリシラザン、パーヒドロポリシラザン、アルコキシシラン、アルキルアルコキシシラン、下記一般式1で表されるポリシロキサン等を塗布乾燥して形成することができる。式中、R11、R12は同一であっても異なっていてもよく、水素もしくはアルキル基またはアリール基等の有機基を表す。本発明のフィルムミラーは、銀反射層よりも光源側の最外側にメタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層の水の接触角が80°以上170°未満であり、かつ動摩擦係数が0.10以上0.35以下であることが特徴である。メタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層塗布液に、メタロキサン骨格を有する材料の0.1~10質量の撥水化剤、レベリング剤等の表面処理剤を添加して表面エネルギーを低くし、塗布、乾燥して最表層の水の接触角を80°以上170°未満にすることができる。また、メタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層に表面処理剤を塗布または表面処理剤溶液に浸漬して、最表層の水の接触角を80°以上170°未満にすることもできる。表面処理剤としては、ポリアルキルアクリレート等のポリアクリレート系ポリマー;ポリアルキルビニルエーテル等のポリビニルエーテル系ポリマー;ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、さらにはポリエーテル、ポリエステル、アラルキル等が導入された有機変性ポリシロキサン等のシリコーン系ポリマー等が例示されるが、本発明で使用できるレベリング剤はこれらのポリマーにフッ素原子を含有するものである。フッ素原子を有するレベリング剤は、例えばフッ素含有基を有するモノマーを共重合させることにより得ることができる。具体的商品としては、例えばサーフロンS-381、S-382、SC-101、SC-102、SC-103、SC-104何れも旭硝子株式会社製、フロラードFC-430、FC-431、FC-173何れもフロロケミカル-住友スリーエム製、エフトップEF352、EF301、EF303何れも新秋田化成株式会社製、シュベゴーフルアー8035、8036何れもシュベグマン社製、BM1000、BM1100いずれもビーエムヒミー社製、メガファックF-171、F-470、RS-75、RS-72-KいずれもDIC株式会社製、BYK340ビックケミージャパン社製、ZX-049、ZX-001、ZX-017何れも富士化成工業社製等を挙げることができる。また、メタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層に、フッ素化合物及び珪素化合物の混合ガス、またフッ素及び珪素を有する化合物を用いた蒸着により、表面エネルギーを低くし、最表層の水の接触角を80°以上170°未満にすることができる。蒸着法で表面処理してメタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層上に薄膜形成するには、大気圧プラズマ放電処理が好ましい。薄膜形成性ガスは気体の場合は、そのまま放電空間に導入できるが、液体、固体の場合は、加熱、減圧、超音波照射等の手段により気化させて使用される。或いは溶媒によって希釈して使用されてもよく、この場合、希ガス中へ気化器等により気化して混合ガスに使用すればよい。溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、n-ヘキサン、アセトン等の有機溶媒及びこれらの混合溶媒が使用できる。特に、これらのみに限定されない。薄膜形成性ガスについて、放電プラズマ処理により基材上に均一な薄膜を形成する観点から、混合ガス中の含有率は、0.01~10体積で有することが好ましいが、さらに好ましくは、0.01~1体積である。これらは予め調製されたガスとして放電空間に供給してもよいし、放電空間近傍で2種以上のガスを混合してもよい。水素、酸素等の添加ガスは予め窒素もしくは希ガス等によって希釈されたものを放電空間に導入することが、連続製膜の際に薄膜の物性が安定するため好ましい。また、ガスは室温~200°Cに加温して放電空間に供給されることが好ましく、さらに好ましくは50~150°Cであり、さらに好ましくは70~120°Cであり、特に90~110°Cであることが好ましい。温度が高いほど得られる薄膜が緻密で、硬度に優れた膜が得られるが高すぎると基材が変形することがある。大気圧プラズマ放電処理の処理強度を調整することで、最表層の水の接触角を70°以上170°未満の範囲にすることができる。最表層の水の接触角は70°以上170°未満であることが必要であり、好ましくは90°~150°である。70°未満では撥水性が不十分であり、170°以上は困難である。また、最表層は耐傷性を向上するために、動摩擦係数が0.10以上0.35以下であることが必要であり、好ましくは0.15~0.25の範囲である。動摩擦係数が0.35を超えると実質的に耐傷性に対する効果を得ることができず、0.10未満では表面の滑り性が高過ぎて、生産工程においてフィルムの巻きずれを引き起こす等するため、好ましくない。上記珪素、チタン、ジルコニウム、アルミ等のポリメトキサン、ポリシラザン、パーヒドロポリシラザン、アルコキシシラン、アルキルアルコキシシラン、ポリシロキサン等を用いることで、フィルム表面同士の動摩擦係数を0.10以上0.35以下にすることができる。本発明の水の接触角は、協和界面科学製接触角CA-Wを用いて23°C、55RHの環境の下で、3μlの水滴をフィルムミラーに滴下して測定できる。本発明の動摩擦係数は、新東科学社製表面性測定機HEIDON-14Dを用い、試料台に最表層を上にして1枚のフィルムミラーを貼り付け、圧子に他の1枚の同じフィルムミラーを取り付け、2枚のフィルムミラーの最表面同士が接触するように重ね合わせ、その上に約160g/cm2の荷重を加えて3m/minの速度で10回往復摺動させ、10往復の平均動摩擦係数として算出する。本発明において、メタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層とは、該最表層を上記、撥水化剤、レベリング剤等の表面処理剤で処理した最表層、フッ素及び珪素を有する化合物等を用いて蒸着処理した最表層も含む。フィルムミラーの構成本発明のフィルムミラーは、樹脂基材と、その上に銀反射層、及び該銀反射層よりも光源側の最外側にメタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層より構成され、最表層の接触角が70°以上150°未満であり、かつ動摩擦係数が0.10以上0.35以下のフィルムミラーであることを特徴とする。構成層として、樹脂基材、銀反射層、及びメタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層の他に、ガスバリア層、腐食防止剤層、紫外線吸収層、上部隣接層等の特別な機能層を設けることも好ましい態様である。ここで上部隣接層とは、銀反射層の樹脂基材から遠い側に隣接し、銀の腐食劣化を防ぐとともに、銀反射層の傷防止、及び上部隣接層の外側に形成されるバリア層や傷防止層との接着力向上に寄与する層である。樹脂基材本発明に係る樹脂基材としては、従来公地の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホンポリエーテルスルホンも含む系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。特にポリエステル系フィルム、セルロースエステル系フィルムを用いることが好ましく、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。樹脂基材の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、10~300μmの範囲内である。好ましくは20~200μm、さらに好ましくは30~100μmである。銀反射層本発明に係る銀反射層の形成法としては、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。湿式法とは、めっき法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例をあげるとすれば、銀鏡反応等がある。一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法等がある。とりわけ、本発明には連続的に成膜するロールツーロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。すなわち、本発明のフィルムミラーを製造するフィルムミラーの製造方法としては、当該銀反射層を銀蒸着によって形成する工程を有する態様の製造方法であることが好ましい。銀反射層の厚さは、反射率等の観点から、10~200nmが好ましく、より好ましくは30~150nmである。本発明において、銀反射層は支持体に対して光線入射側にあっても、その反対側にあってもよいが、支持体が樹脂であることから、光線による樹脂劣化を防止する目的から、光線入射側に位置する方が好ましい。腐食防止剤本発明のフィルムミラーに用いられる銀反射層の腐食防止剤には、大別して、銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤と酸化防止剤が好ましく用いられる。ここで、腐食とは、金属銀がそれをとり囲む環境物質によって、化学的または電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいうJISZ0103-2004参照。本発明のフィルムミラーは、前記接着層が酸化防止剤を含有し、かつ前記上部隣接層が銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤を含有している態様であることが好ましい。なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には、0.1~1.0g/m2の範囲内であることが好ましい。銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、アミン類及びその誘導体、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系の少なくとも一種またはこれらの混合物から選ばれることが望ましい。アミン類及びその誘導体としては、エチルアミン、ラウリルアミン、トリ-n-ブチルアミン、O-トルイジン、ジフェニルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、2N-ジメチルエタノールアミン、2-アミノ-2-メチル-1,3-プロパンジオール、アセトアミド、アクリルアミド、ベンズアミド、p-エトキシクリソイジン、ジシクロヘキシルアンモニウムナイトライト、ジシクロヘキシルアンモニウムサリシレート、モノエタノールアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンカーバメイト、ニトロナフタレンアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムシクロヘキサンカルボキシレート、シクロヘキシルアミンシクロヘキサンカルボキシレート、ジシクロヘキシルアンモニウムアクリレート、シクロヘキシルアミンアクリレート等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。ピロール環を有する物としては、N-ブチル-2,5-ジメチルピロール、N-フェニル-2,5-ジメチルピロール、N-フェニル-3-ホルミル-2,5-ジメチルピロール、N-フェニル-3,4-ジホルミル-2,5-ジメチルピロール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。トリアゾール環を有する化合物としては、1,2,3-トリアゾール、1,2,4-トリアゾール、3-メルカプト-1,2,4-トリアゾール、3-ヒドロキシ-1,2,4-トリアゾール、3-メチル-1,2,4-トリアゾール、1-メチル-1,2,4-トリアゾール、1-メチル-3-メルカプト-1,2,4-トリアゾール、4-メチル-1,2,3-トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、1-ヒドロキシベンゾトリアゾール、4,5,6,7-テトラハイドロトリアゾール、3-アミノ-1,2,4-トリアゾール、3-アミノ-5-メチル-1,2,4-トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、2-2′-ヒドロキシ-5′-メチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2′-ヒドロキシ-5′-tert-ブチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2′-ヒドロキシ-3′,5′-ジ-tert-ブチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2′-ヒドロキシ-4-オクトキシフェニルベンゾトリアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。ピラゾール環を有する化合物としては、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、3,5-ジメチルピラゾール、3-メチル-5-ヒドロキシピラゾール、4-アミノピラゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。チアゾール環を有する化合物としては、チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、2-N,N-ジエチルチオベンゾチアゾール、P-ジメチルアミノベンザルロダニン、2-メルカプトベンゾチアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。イミダゾール環を有する化合物としては、イミダゾール、ヒスチジン、2-ヘプタデシルイミダゾール、2-メチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-ウンデシルイミダゾール、1-ベンジル-2-メチルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-フェニルイミダゾール、1-シアノエチル-2-エチル-4-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-ウンデシルイミダゾール、2-フェニル-4-メチル-5-ヒドロメチルイミダゾール、2-フェニル-4,5-ジヒドロキシメチルイミダゾール、4-フォルミルイミダゾール、2-メチル-4-フォルミルイミダゾール、2-フェニル-4-フォルミルイミダゾール、4-メチル-5-フォルミルイミダゾール、2-エチル-4-メチル-5-フォルミルイミダゾール、2-フェニル-4-メチル-4-フォルミルイミダゾール、2-メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。インダゾール環を有する化合物としては、4-クロロインダゾール、4-ニトロインダゾール、5-ニトロインダゾール、4-クロロ-5-ニトロインダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。銅キレート化合物類としては、アセチルアセトン銅、エチレンジアミン銅、フタロシアニン銅、エチレンジアミンテトラアセテート銅、ヒドロキシキノリン銅等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。チオ尿素類としては、チオ尿素、グアニルチオ尿素等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。メルカプト基を有する化合物としては、すでに上記に記載した材料も加えれば、メルカプト酢酸、チオフェノール、1,2-エタンジオール、3-メルカプト-1,2,4-トリアゾール、1-メチル-3-メルカプト-1,2,4-トリアゾール、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-メルカプトベンゾイミダゾール、グリコールジメルカプトアセテート、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。ナフタレン系としては、チオナリド等が挙げられる。酸化防止剤本発明のフィルムミラーに用いられる銀反射層の腐食防止剤としては、酸化防止剤を用いることもできる。酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤及びホスファイト系酸化防止剤を使用することが好ましい。フェノール系酸化防止剤としては、例えば、1,1,3-トリス2-メチル-4-ヒドロキシ-5-t-ブチルフェニルブタン、2,2′-メチレンビス4-エチル-6-t-ブチルフェノール、テトラキス-メチレン-3-3′,5′-ジ-t-ブチル-4′-ヒドロキシフェニルプロピオネートメタン、2,6-ジ-t-ブチル-p-クレゾール、4,4′-チオビス3-メチル-6-t-ブチルフェノール、4,4′-ブチリデンビス3-メチル-6-t-ブチルフェノール、1,3,5-トリス3′,5′-ジ-t-ブチル-4′-ヒドロキシベンジル-S-トリアジン-2,4,6-1H,3H,5Hトリオン、ステアリル-β-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート、トリエチレングリコールビス3-3-t-ブチル-5-メチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート、3,9-ビス[1,1-ジ-メチル-2-β-3-t-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニルプロピオニルオキシエチル]-2,4,8,10-テトラオキオキサスピロ5,5ウンデカン、1,3,5-トリメチル-2,4,6-トリス3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルベンゼン等が挙げられる。特に、フェノール系酸化防止剤としては、分子量が550以上のものが好ましい。チオール系酸化防止剤としては、例えば、ジステアリル-3,3′-チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール-テトラキス-β-ラウリル-チオプロピオネート等を挙げられる。ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリス2,4-ジ-t-ブチルフェニルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ2,6-ジ-t-ブチルフェニルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス-2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェニル-ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス2,4-ジ-t-ブチルフェニル4,4′-ビフェニレン-ジホスホナイト、2,2′-メチレンビス4,6-ジ-t-ブチルフェニルオクチルホスファイト等が挙げられる。なお、本発明においては、上記酸化防止剤と下記の光安定剤を併用することもできる。ヒンダードアミン系の光安定剤としては、例えば、ビス2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジルセバケート、ビス1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジルセバケート、ビス1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル-2-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル-2-n-ブチルマロネート、1-メチル-8-1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル-セバケート、1-[2-3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオニルオキシエチル]-4-3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオニルオキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、4-ベンゾイルオキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、テトラキス2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル-1,2,3,4-ブタン-テトラカルボキシレート、トリエチレンジアミン、8-アセチル-3-ドデシル-7,7,9,9-テトラメチル-1,3,8-トリアザスピロ[4,5]デカン-2,4-ジオン等が挙げられる。その他ニッケル系紫外線安定剤として、2,2′-チオビス4-t-オクチルフェノレート-2-エチルヘキシルアミンニッケルII、ニッケルコンプレックス-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルリン酸モノエチレート、ニッケルジブチル-ジチオカーバメート等も使用することが可能である。特にヒンダードアミン系の光安定剤としては、3級のアミンのみを含有するヒンダードアミン系の光安定剤が好ましく、具体的には、ビス1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル-セバケート、ビス1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル-2-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル-2-n-ブチルマロネート、または1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジノール/トリデシルアルコールと1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸との縮合物が好ましい。ガスバリア層本発明のフィルムミラーは、ガスバリア層を有することが好ましい。本発明に係るガスバリア層は、湿度の変動、特に高湿度による樹脂基材及び樹脂基材で保護される各種機能素子等の劣化を防止するためのものであるが、特別の機能用途を持たせたものであっても良く、上記特徴を維持する限りにおいて、種々の態様のガスバリア層を設けることができる。本発明においては、前記銀反射層の上側に、ガスバリア層を設けることが好ましい。ガスバリア層の防湿性としては、40°C、90RHにおける水蒸気透過度が、100g/m2day/μm以下、好ましくは50g/m2day/μm以下、さらに好ましくは20g/m2day/μm以下となるように当該ガスバリア層の防湿性を調整することが好ましい。また。酸素透過度としては、測定温度23°C、湿度90RHの条件下で、0.6cm3/m2/day/atm以下であることが好ましい。本発明に係るガスバリア層に関しては、その形成方法において特に制約はないが、無機酸化物膜のセラミック前駆体を塗布した後に、塗布膜を加熱及び/または紫外線照射により、無機酸化物膜を形成する方法が好ましく用いられる。セラミック前駆体本発明に係るガスバリア層は、加熱により無機酸化物膜を形成するセラミック前駆体を塗布した後に、一般的な加熱方法が適用して形成することできるが、局所的加熱により形成することが好ましい。当該セラミック前駆体は、ゾル状の有機金属化合物またはポリシラザンが好ましい。有機金属化合物本発明に係る有機金属化合物は、ケイ素Si、アルミニウムAl、リチウムLi、ジルコニウムZr、チタンTi、タンタルTa、亜鉛Zn、バリウムBa、インジウムIn、スズSn、ランタンLa、イットリウムY、及びニオブNbのうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。特に、当該有機金属化合物が、ケイ素Si、アルミニウムAl、リチウムLi、ジルコニウムZr、チタンTi、亜鉛Zn、及びバリウムBaのうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。さらに、ケイ素Si、アルミニウムAl、及びリチウムLiのうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。有機金属化合物としては、加水分解が可能なものであればよく、特に限定されるものではないが、好ましい有機金属化合物としては、金属アルコキシドが挙げられる。前記金属アルコキシドは、下記一般式Iで表される。一般式I:MR2mOR1n-m前記一般式Iにおいて、Mは、酸化数nの金属を表す。R1及びR2は、各々独立に、アルキル基を表す。mは、0~n-1の整数を表す。R1及びR2は、同一でもよく、異なっていてもよい。R1及びR2としては、炭素原子4個以下のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基CH3以下、Meで表す。、エチル基C2H5以下、Etで表す、プロピル基C3H7以下、Prで表す。、イソプロピル基i-C3H7以下、i-Prで表す。、ブチル基C4H9以下、Buで表す、イソブチル基i-C4H9以下、i-Buで表す等の低級アルキル基がより好ましい。前記一般式Iで表される金属アルコキシドとしては、例えば、リチウムエトキシドLiOEt、ニオブエトキシドNbOEt5、マグネシウムイソプロポキシドMgOPr-i2、アルミニウムイソプロポキシドAlOPr-i3、亜鉛プロポキシドZnOPr2、テトラエトキシシランSiOEt4、チタンイソプロポキシドTiOPr-i4、バリウムエトキシドBaOEt2、バリウムイソプロポキシドBaOPr-i2、トリエトキシボランBOEt3、ジルコニウムプロポキシドZnOPr4、ランタンプロポキシドLaOPr3、イットリウムプロポキシドYOPr3、鉛イソプロポキシドPbOPr-i2等が好適に挙げられる。これらの金属アルコキシドは何れも市販品があり、容易に入手することができる。また、金属アルコキシドは、部分的に加水分解して得られる低縮合物も市販されており、これを原料として使用することも可能である。無機酸化物本発明に係る無機酸化物は、上記有機金属化合物を原料とするゾルから局所的加熱により形成されたものであることを特徴とする。従って、有機金属化合物に含有されているケイ素Si、アルミニウムAl、ジルコニウムZr、チタンTi、タンタルTa、亜鉛Zn、バリウムBa、インジウムIn、スズSn、ニオブNb等の元素の酸化物であることを特徴とする。例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等である。これらのうち、好ましくは、酸化ケイ素である。本発明において、有機金属化合物から無機酸化物を形成する方法としては、いわゆるゾル-ゲル法及びポリシラザンを塗布する方法を用いることが好ましい。ゾル-ゲル法ここで、ゾル-ゲル法とは、有機金属化合物を加水分解すること等により、水酸化物のゾルを得て、脱水処理してゲルとし、さらにこのゲルを加熱処理することで、ある一定の形状フィルム状、粒子状、繊維状等の金属酸化物ガラスを調製する方法をいう。異なる複数のゾル溶液を混合する方法、他の金属イオンを添加する方法等により、多成分系の金属酸化物ガラスを得ることも可能である。具体的には、下記工程を有するゾル-ゲル法で、無機酸化物を製造することが好ましい。すなわち、少なくとも水及び有機溶媒を含有する反応液中で、ホウ素イオン存在下にてハロゲンイオンを触媒として、pHを4.5~5.0に調整しながら、有機金属化合物を加水分解及び脱水縮合して反応生成物を得る工程、及び該反応生成物を200°C以下の温度で加熱してガラス化する工程、を有するゾル-ゲル法により製造されてなることが、高温熱処理による微細孔の発生や膜の劣化等が発生しないという観点から、特に好ましい。前記ゾル-ゲル法において、原料として用いられる有機金属化合物としては、加水分解が可能なものであればよく、特に限定されるものではないが、好ましい有機金属化合物としては、前記金属アルコキシドが挙げられる。上記ゾル-ゲル法において、前記有機金属化合物は、そのまま反応に用いてもよいが、反応の制御を容易にするため溶媒で希釈して用いることが好ましい。希釈用溶媒は、前記有機金属化合物を溶解することができ、かつ水と均一に混合することができるものであればよい。そのような希釈用溶媒としては、脂肪族の低級アルコール、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、及びそれらの混合物が好適に挙げられる。また、ブタノールとセロソルブとブチルセロソルブの混合溶媒、あるいはキシロールとセロソルブアセテートとメチルイソブチルケトンとシクロヘキサンの混合溶媒等を使用することもできる。前記有機金属化合物において、金属がCa、Mg、Al等である場合には、反応液中の水と反応して水酸化物を生成したり、炭酸イオンCO32-が存在すると炭酸塩を生成して沈殿を生ずるため、反応液に隠蔽剤としてトリエタノールアミンのアルコール溶液を添加することが好ましい。溶媒に混合溶解するときの前記有機金属化合物の濃度としては、70質量以下が好ましく、5~70質量の範囲に希釈して使用することがより好ましい。前記ゾル-ゲル法において用いられる反応液は、少なくとも水及び有機溶媒を含有する。前記有機溶媒としては、水及び酸、アルカリと均一な溶液をつくるものであればよく、通常、前記有機金属化合物の希釈に用いる脂肪族の低級アルコール類と同様のものが好適に挙げられる。前記脂肪族の低級アルコール類の中でも、メタノール、エタノールより、炭素数の多いプロパノール、イソプロパノール、ブタノール、及びイソブタノールが好ましい。これは、生成する金属酸化物ガラスの膜の成長が安定であるためである。前記反応液において、水の割合としては、水の濃度として0.2~50mol/Lの範囲が好ましい。前記ゾル-ゲル法においては、前記反応液中において、ホウ素イオンの存在下にて、ハロゲンイオンを触媒として、有機金属化合物を加水分解する。前記ホウ素イオンB3を与える化合物としては、トリアルコキシボランBOR3が好適に挙げられる。その中でも、トリエトキシボランBOEt3がより好ましい。また、前記反応液中のB3イオン濃度としては、1.0~10.0mol/Lの範囲が好ましい。前記ハロゲンイオンとしては、フッ素イオン及び/または塩素イオンが好適に挙げられる。即ち、フッ素イオン単独、塩素イオン単独でもよく、これらの混合物でもよい。用いる化合物としては、上記反応液中でフッ素イオン及び/または塩素イオンを生ずるものであればよく、例えば、フッ素イオン源として、フッ化水素アンモニウムNH4HFHF、フッ化ナトリウムNaF等が好適に挙げられ、塩素イオン源として、塩化アンモニウムNH4Cl等が好適に挙げられる。前記反応液中の前記ハロゲンイオンの濃度としては、製造しようとする無機マトリックスを有する無機組成物からなるフィルムの膜厚や、その他の条件によって異なるが、一般的には、触媒を含む前記反応液の合計質量に対して、0.001~2mol/kg、特に0.002~0.3mol/kgの範囲が好ましい。ハロゲンイオンの濃度が0.001mol/kgより低いと、有機金属化合物の加水分解が十分に進行し難くなり、膜の形成が困難となる。またハロゲンイオンの濃度が2mol/kgを超えると、生成する無機マトリックス金属酸化物ガラスが不均一になり易いため、いずれも好ましくない。なお、反応時に使用したホウ素に関しては、得られる無機マトリックスの設計組成中にB2O3成分として含有させる場合は、その含有量に応じた有機ホウ素化合物の計算量を添加したまま生成物とすればよく、またホウ素を除去したいときは、成膜後、溶媒としてのメタノールの存在下、またはメタノールに浸漬して加熱すればホウ素はホウ素メチルエステルとして蒸発させて除去することができる。前記有機金属化合物を、加水分解及び脱水縮合して反応生成物を得る工程においては、通常所定量の前記有機金属化合物を所定量の水及び有機溶媒を含有する混合溶媒に混合溶解した主剤溶液、ならびに所定量の前記ハロゲンイオンを含有する所定量の反応液を、所定の比で混合し十分に攪拌して均一な反応溶液とした後、酸またはアルカリで反応溶液のpHを希望の値に調整し、数時間熟成することにより進行させて反応生成物を得る。前記ホウ素化合物は、主剤溶液または反応液に予め所定量を混合溶解しておく。また、アルコキシボランを用いる場合は、他の有機金属化合物と共に主剤溶液に溶解するのが有利である。前記反応溶液のpHは、目的によって選択され、無機マトリックス金属酸化物ガラスを有する無機組成物からなる膜フィルムの形成を目的とするときは、例えば、塩酸等の酸を用いてpHを4.5~5の範囲に調整して熟成するのが好ましい。この場合は、例えば、指示薬としてメチルレッドとブロモクレゾールグリーンとを混合したもの等を用いると便利である。なお、前記ゾル-ゲル法においては、同一成分の同一濃度の主剤溶液、及び反応液B3及びハロゲンイオンを含む。を所定のpHに調整しながら、逐次同一割合で追加添加することにより簡単に継続して、反応生成物を製造することもできる。なお、前記反応溶液の濃度は±50質量の範囲で、水酸またはアルカリを含む。の濃度は、±30質量の範囲で、及びハロゲンイオンの濃度は±30質量の範囲で変化させることができる。次に、前工程で得られた反応生成物熟成後の反応溶液を、200°C以下の温度に加熱して乾燥しガラス化させる。加熱にあたって、特に50~70°Cの温度区間を注意して徐々に昇温して、予備乾燥溶媒揮散工程を経た後さらに昇温することが好ましい。この乾燥は、膜形成の場合、無孔化膜とするために重要である。予備乾燥工程後、加熱し乾燥する温度としては、70~150°Cが好ましく、80~130°Cがより好ましい。ポリシラザンを塗布する方法本発明に係るガスバリア層は、加熱により無機酸化物膜を形成するセラミック前駆体を塗布した後に、塗布膜の局所的加熱により形成された無機酸化物を含有することも好ましい。セラミック前駆体が、ポリシラザンを含有する場合は、下記式Iで表されるポリシラザン及び有機溶剤中に必要に応じて触媒を含む溶液で樹脂基材を被覆し、そして、この溶剤を蒸発させて除去し、それによって樹脂基材上に0.05~3.0μmの層厚を有するポリシラザン層を残し、そして、水蒸気を含む雰囲気中で酸素、活性酸素、場合によっては、及び窒素の存在下に、上記のポリシラザン層を、局所的加熱することによって、当該樹脂基材上にガラス様の透明な被膜を形成する方法を採用することが好ましい。式I:-SiR1R2-NR3n-式中、R1、R2、及びR3は、同一または異なり、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基またはトリアルコキシシリルアルキル基、好ましくは水素、メチル、エチル、プロピル、iso-プロピル、ブチル、iso-ブチル、tert-ブチル、フェニル、ビニルまたは3-トリエトキシシリルプロピル、3-トリメトキシシリルプロピルからなる群から選択される基を表し、この際、nは整数であり、そしてnは、当該ポリシラザンが150~150,000g/モルの数平均分子量を有するように定められる。触媒としては、好ましくは、塩基性触媒、特にN,N-ジエチルエタノールアミン、N,N-ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチルアミン、3-モルホリノプロピルアミンまたはN-複素環式化合物が使用される。触媒濃度は、ポリシラザンを基準にして通常0.1~10モル、好ましくは0.5~7モルの範囲である。好ましい態様の一つでは、R1、R2及びR3のすべてが水素原子であるパーヒドロポリシラザンを含む溶液が使用される。さらに別の好ましい態様の一つでは、本発明によるコーティングは、次式IIIの少なくとも一種のポリシラザンを含む。式III:-SiR1R2-NR3n-SiR4R5-NR6p-式中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基またはトリアルコキシシリルアルキル基を表し、この際、n及びpは整数であり、そしてnは、当該ポリシラザンが150~150,000g/モルの数平均分子量を有するように定められる。特に好ましいものは、R1、R3及びR6が水素を表し、そしてR2、R4及びR5がメチルを表す化合物、R1、R3及びR6が水素を表し、そしてR2、R4がメチルを表し、そしてR5がビニルを表す化合物、R1、R3、R4及びR6が水素を表し、そしてR2及びR5がメチルを表す化合物である。また、次式IVの少なくとも一種のポリシラザンを含む溶液も同様に好ましい。式IV:-SiR1R2-NR3n-SiR4R5-NR6p-SiR7R8-NR9q-式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8及びR9は、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基またはトリアルコキシシリルアルキル基を表し、この際、n、p及びqは整数であり、そしてnは、当該ポリシラザンが150~150,000g/モルの数平均分子量を有するように定められる。特に好ましいものは、R1、R3及びR6が水素を表し、そしてR2、R4、R5及びR8がメチルを表し、R9がトリエトキシシリルプロピルを表し、そしてR7がアルキルまたは水素を表す化合物である。溶剤中のポリシラザンの割合は、一般的には、ポリシラザン1~80質量、好ましくは5~50質量、特に好ましくは10~40質量である。溶剤としては、特に、水及び反応性基例えばヒドロキシル基またはアミン基を含まずそしてポリシラザンに対して不活性の有機系で好ましくは非プロトン性の溶剤が好適である。これは、例えば、脂肪族または芳香族炭化水素、ハロゲン炭化水素、エステル、例えば酢酸エチルまたは酢酸ブチル、ケトン、例えばアセトンまたはメチルエチルケトン、エーテル、例えばテトラヒドロフランまたはジブチルエーテル、並びにモノ-及びポリアルキレングリコールジアルキルエーテルジグライム類またはこれらの溶剤からなる混合物である。上記ポリシラザン溶液の追加の成分は、塗料の製造に慣用されているもののようなさらに別のバインダーであることができる。これは、例えば、セルロースエーテル及びセルロースエステル、例えばエチルセルロース、ニトロセルロース、セルロースアセテートまたはセルロースアセトブチレート、天然樹脂、例えばゴムもしくはロジン樹脂、または合成樹脂、例えば重合樹脂もしくは縮合樹脂、例えばアミノプラスト、特に尿素樹脂及びメラミンホルムアルデヒド樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステルもしくは変性ポリエステル、エポキシド、ポリイソシアネートもしくはブロック化ポリイソシアネート、またはポリシロキサンである。ポリシラザン調合物のさらに別の成分は、例えば、調合物の粘度、下地の濡れ、成膜性、潤滑作用または排気性に影響を与える添加剤、あるいは無機ナノ粒子、例えばSiO2、TiO2、ZnO、ZrO2またはAl2O3であることができる。本発明の方法を用いることによって、亀裂及び孔が無いためにガスに対する高いバリア作用に優れる緻密なガラス様の層を製造することができる。形成される被膜の厚さは、100nm~2μmの範囲内にすることが好ましい。紫外線吸収剤本発明においては、太陽光や紫外線による劣化防止の目的で、紫外線吸収剤を添加することができる。前記樹脂基材上に設けられた構成層のうちいずれか一層に、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系等が挙げられる。ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、2,4-ジヒドロキシ-ベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシ-ベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-n-オクトキシ-ベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-ドデシロキシ-ベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-オクタデシロキシ-ベンゾフェノン、2,2′-ジヒドロキシ-4-メトキシ-ベンゾフェノン、2,2′-ジヒドロキシ-4,4′-ジメトキシ-ベンゾフェノン、2,2′,4,4′-テトラヒドロキシ-ベンゾフェノン等が挙げられる。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、2-2′-ヒドロキシ-5-メチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2′-ヒドロキシ-3′,5′-ジ-t-ブチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2′-ヒドロキシ-3′-t-ブチル-5′-メチルフェニルベンゾトリアゾール等が挙げられる。サリチル酸フェニル系紫外線吸収剤としては、フェニルサルチレート、2-4-ジ-t-ブチルフェニル-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。ヒンダードアミン系紫外線吸収剤としては、ビス2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-4-イルセバケート等が挙げられる。トリアジン系紫外線吸収剤としては、2,4-ジフェニル-6-2-ヒドロキシ-4-メトキシフェニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ジフェニル-6-2-ヒドロキシ-4-エトキシフェニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ジフェニル-2-ヒドロキシ-4-プロポキシフェニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ジフェニル-2-ヒドロキシ-4-ブトキシフェニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ジフェニル-6-2-ヒドロキシ-4-ブトキシフェニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ジフェニル-6-2-ヒドロキシ-4-ヘキシルオキシフェニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ジフェニル-6-2-ヒドロキシ-4-オクチルオキシフェニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ジフェニル-6-2-ヒドロキシ-4-ドデシルオキシフェニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ジフェニル-6-2-ヒドロキシ-4-ベンジルオキシフェニル-1,3,5-トリアジン等が挙げられる。紫外線吸収剤としては、上記以外に紫外線の保有するエネルギーを、分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを、熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物が含まれる。さらに、酸化防止剤あるいは着色剤等との併用で効果を発現するもの、あるいはクエンチャーと呼ばれる、光エネルギー変換剤的に作用する光安定剤等も併用することができる。但し、上記の紫外線吸収剤を使用する場合は、紫外線吸収剤の光吸収波長が、光重合開始剤の有効波長と重ならないものを選択する必要がある。通常の紫外線防止剤を使用する場合は、可視光でラジカルを発生する光重合開始剤を使用することが有効である。紫外線吸収剤の使用量は、0.1~20質量、好ましくは1~15質量、さらに好ましくは3~10質量である。20質量よりも多いと密着性が悪くなり、0.1質量より少ないと耐候性改良効果が小さい。フィルムミラー全体の厚さ本発明に係るフィルムミラー全体の厚さは、ミラーがたわみ防止、正反射率、取り扱い性等の観点から、75~250μmが好ましく、さらに好ましくは90~230μm、さらに好ましくは100~220μmである。太陽光反射用ミラー本発明のフィルムミラーは、太陽光を集光する目的において好ましく使用できる。フィルムミラー単体で太陽光反射用ミラーとして用いることもできるが、より好ましくは、フィルムミラーの光源側から見て最下層に塗設された粘着層を介して、他基材上に、特に金属基材上に、フィルムミラーを貼り付けて太陽光反射用ミラーとして用いることである。太陽熱発電用反射装置として用いる場合、反射装置の形状を樋状半円筒状として、半円の中心部分に内部に流体を有する筒状部材を設け、筒状部材に太陽光を集光させることで内部の流体を加熱し、その熱エネルギーを変換して発電する形態が一形態として挙げられる。また、平板状の反射装置を複数個所に設置し、それぞれの反射装置で反射された太陽光を一枚の反射鏡中央反射鏡に集光させて、反射鏡により反射して得られた熱エネルギーを発電部で変換することで発電する形態も一形態として挙げられる。特に後者の形態においては、用いられる反射装置に高い正反射率が求められるため、本発明のフィルムミラーが特に好適に用いられる。粘着層粘着層としては、特に制限されず、例えばドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤等のいずれもが用いられる。例えばポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴム等が用いられる。ラミネート方法は特に制限されず、例えばロール式で連続的に行うのが経済性及び生産性の点から好ましい。粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常1~50μm程度の範囲であることが好ましい。本発明に適宜採用される本発明のフィルムミラーと貼り合せられる他基材としては、銀反射層層の保護性を付与できるものであればよく、例えば、アクリルフィルムまたはシート、ポリカーボネートフィルムまたはシート、ポリアリレートフィルムまたはシート、ポリエチレンナフタレートフィルムまたはシート、ポリエチレンテレフタレートフィルムまたはシート、フッ素フィルム等のプラスチックフィルムまたはシート、または酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉等を練り込んだ樹脂フィルムまたはシート、これらを練り込んだ樹脂をコーティングしたり金属蒸着等の表面加工を施した樹脂フィルムまたはシートが用いられる。貼り合わせフィルムまたはシートの厚さは、特に制限はないが通常12~250μmの範囲であることが好ましい。また、これらの他基材は本発明のフィルムミラーと貼り合わせる前に凹部や凸部を設けてから貼り合せてもよく、貼り合せた後で凹部や凸部を有するように成形してもよく、貼り合わせと凹部や凸部を有するように成形することを同時にしてもよいものである。金属基材本発明に係る太陽光集光ミラーの金属基材としては、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板等熱伝導率の高い金属材料を用いることができる。本発明においては、特に耐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板等にすることが好ましい。以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。フィルムミラーの作製フィルムミラー1の作製樹脂基材として、2軸延伸ポリエステルフィルムポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ100μmを用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル樹脂ポリエスターSP-181日本合成化学製、メラミン樹脂スーパーベッカミンJ-820DIC社製、TDI系イソシアネート2,4-トリレンジイソシアネート、HDMI系イソシアネート1,6-ヘキサメチレンジイソシアネートを樹脂固形分比率で20:1:1:2に、固形分濃度10となるようにトルエン中に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ0.1μmの接着層を形成し、接着層上に、銀反射層として、真空蒸着法により厚さ80nmの銀反射層を形成し、銀反射層上に、ポリエステル系樹脂とTDIトリレンジイソシアネート系イソシアネートを樹脂固形分比率で10:2に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ0.1μmの上部隣接層を形成し、比較例のフィルムミラー1を得た。フィルムミラー2の作製フィルムミラー1の作製において、ポリエスエルフィルムの銀反射層に対する反対面上に下記ハードコート層を設けた以外は同様にして、比較例のフィルムミラー2を得た。ハードコート層塗布液として下記組成のハードコート層用塗布液を調製し、前記ポリエステルフィルムの上に、硬化後の膜厚が3μmとなるようにマイクログラビアコーターを用いて塗布し、溶剤を蒸発乾燥後、高圧水銀灯を用いて0.2J/cm2の紫外線照射により硬化させハード層を形成した。ハードコート層用塗布液ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート70質量部トリメチロールプロパントリアクリレート30質量部光反応開始剤イルガキュア184BASFジャパン社製4質量部酢酸エチル150質量部プロピレングリコールモノメチルエーテル150質量部シリコン化合物BYK-307ビックケミージャパン社製0.4質量部フィルムミラー3の作製フィルムミラー1の作製において、真空蒸着装置を用い、チャンバーの到達真空度が3.0×10-5torr4.0×10-3Paになるまで排気した後、酸素ガスをコーティングドラムの近傍に、チャンバー内の圧力を3.0×10-4torr4.0×10-2Paに保って導入し、蒸発源の一酸化ケイ素をピアス型電子銃により、約10kWの電力で加熱して蒸着させ、コーティングドラム上を120m/minの速度で走行するポリエステルフィルムの銀反射層に対する反対面上に、厚さ1μmの酸化ケイ素層を形成した以外は同様にして、比較例のフィルムミラー3を得た。フィルムミラー4の作製樹脂基材として、2軸延伸ポリエステルフィルムポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ100μmを用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、上記ポリエステル系樹脂、上記メラミン系樹脂、上記TDIトリレンジイソシアネート系イソシアネート、上記HMDI系イソシアネートを樹脂固形分比率で20:1:1:2に混合した樹脂をグラビアコート法によりコーティングして、厚さ0.1μmの接着層を形成した。さらに接着層上に、銀反射層として真空蒸着法により厚さ80nmの銀反射層を形成し、銀反射層上に、ポリエステル系樹脂とTDI系イソシアネートを樹脂固形分比率で10:2に混合し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ0.1μmの上部隣接層を形成した。さらに上記ポリエステルフィルムの銀反射層に対して反対面側に、ジブチルエーテル中の3パーヒドロポリシラザン液AZエレクトリックマテリアル社製NL120を用いて、乾燥後の膜の厚さが500nmとなるようにバーコーティングし、3分間自然乾燥した後、90°Cのオーブンで30分間アニールし、ハードコート層を設け、比較例のフィルムミラー4を得た。フィルムミラー5の作製フィルムミラー4の作製において、パーヒドロポリシラザン液を有機ポリシラザンMHPS-20DBに替えた以外は同様にして、比較例のフィルムミラー5を得た。フィルムミラー6の作製樹脂基材として、2軸延伸ポリエステルフィルムポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ100μmを用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、上記ポリエステル系樹脂、上記メラミン系樹脂、上記TDIトリレンジイソシアネート系イソシアネート、上記HMDI系イソシアネートを樹脂固形分比率で20:1:1:2に混合した樹脂をグラビアコート法によりコーティングして、厚さ0.1μmの接着層を形成した。さらに接着層上に、銀反射層として真空蒸着法により厚さ80nmの銀反射層を形成し、銀反射層上に、ポリエステル系樹脂とTDI系イソシアネートを樹脂固形分比率で10:2に混合し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ0.1μmの上部隣接層を形成した。さらに上記ポリエステルフィルムの銀反射層に対して反対面側に、ジブチルエーテル中の3パーヒドロポリシラザン液AZエレクトリックマテリアル社製NL120を用いて、乾燥後の膜の厚さが500nmとなるようにバーコーティングし、3分間自然乾燥した後、90°Cのオーブンで30分間アニールし、ハードコート層最表層を設けた。さらにハードコート層表面に撥水化剤AZエレクトリックマテリアル社製アクアノランをバーコーティングすることにより、最表層を改質し、本発明のフィルムミラー6を得た。フィルムミラー7の作製フィルムミラー6の作製において、ハードコート層を有機ポリシラザンMHPS-20DBに替えた以外は同様にして、本発明のフィルムミラー7を得た。フィルムミラー8の作製フィルムミラー6の作製において、ハードコート層を下記ゾルゲル法により形成した以外は同様にして、本発明のフィルムミラー8を得た。ゾルゲル法によるハードコート層の形成:シリカ層の形成有機金属化合物を原料とするゾル溶液を調製するため、テトラエトキシシラン和光純薬製0.04molをポリプロピレンビーカーに秤量し、撹拌しながらエチルアルコール0.25molを添加し、マグネチックスターラーにより10分間撹拌した。さらに、純水0.24molを添加し10分間撹拌した後、1mol/lのHCl1mlを添加し、ゾル溶液-1を調製した。フィルムミラー6のポリエステルフィルムの銀反射層に対して反対面側に、前述のゾル溶液-1を、乾燥後の膜の厚さが500nmとなるようにバーコーティングし、ドライオーブンにて80°C、30分加熱乾燥した後、近赤外線乾燥機日本電熱株製ペイントドライヤーPDH1000を用いて、1kWの出力にて、塗布面から50cmの距離において、0.5秒間の赤外線照射を10回繰り返し、ポリエステル基材上にハードコート層を形成した。フィルムミラー9の作製フィルムミラー6の作製において、ハードコート層を下記ゾルゲル法により形成したこと以外は同様にして、本発明のフィルムミラー9を得た。ゾルゲル法によるハードコート層の形成:アルミナ層の形成有機金属化合物を原料とするゾル溶液を調製するため、アルミニウムイソプロポキシド和光純薬製0.04molをポリプロピレンビーカーに秤量し、撹拌しながらイソプロピルアルコール0.25molを添加し、マグネチックスターラーにより10分間撹拌した。さらに、純水0.24molを添加し10分間撹拌した後、1mol/lのHCl1mlを添加し、ゾル溶液-2を調製した。フィルムミラー6のポリエステルフィルムの銀反射層に対して反対面側に、前述のゾル溶液-2を、乾燥後の膜の厚さが500nmとなるようにバーコーティングし、ドライオーブンにて80°C、30分加熱乾燥した後、近赤外線乾燥機日本電熱株製ペイントドライヤーPDH1000を用いて、1kWの出力にて、塗布面から50cmの距離において、0.5秒間の赤外線照射を10回繰り返し、フィルムミラー9を作製した。フィルムミラー10の作製フィルムミラー6の作製において、撥水化剤をソフト99製BeautifulG’ZOXリアルガラスコートに替えた以外は同様にして、本発明のフィルムミラー10を得た。フィルムミラー11の作製フィルムミラー10の作製において、ポリエステルフィルム上に接着層を塗布する前に、ポリエステルフィルムと接着層の間に、下記真空蒸着プロセスにより、酸化ケイ素のガスバリア層を形成した以外は同様にして、本発明のフィルムミラー11を得た。真空蒸着法によるガスバリア層の形成真空蒸着装置を用い、チャンバーの到達真空度が3.0×10-5torr4.0×10-3Paになるまで排気した後、酸素ガスをコーティングドラムの近傍に、チャンバー内の圧力を3.0×10-4torr4.0×10-2Paに保って導入し、蒸発源の一酸化ケイ素をピアス型電子銃により、約10kWの電力で加熱して蒸着させ、コーティングドラム上を120m/minの速度で走行するポリエステルフィルム上に、厚さ100nmの酸化ケイ素のガスバリア層を形成した。フィルムミラー12の作製フィルムミラー11の作製において、ポリエステルフィルム中に紫外線吸収剤として、Tinuvin928をポリエステル樹脂に対して質量比で1含有させた後にポリエステルフィルムを樹脂基材として用いたこと以外は同様にして、本発明のフィルムミラー12を得た。フィルムミラー13の作製フィルムミラー12の作製において、接着層と上部隣接層にそれぞれ腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテートを塗布後に0.2g/m2となるよう調整した量を添加したこと以外は同様にして、本発明のフィルムミラー13を得た。フィルムミラー1~13の測定上記作製したフィルムミラー1~13のポリエスエルフィルムに対し、銀反射層の反対側の最表層の水の接触角及び動摩擦係数を測定した。フィルムミラーの内容と、最表層の水の接触角及び動摩擦係数を表1に示す。太陽光反射用ミラーの作製太陽光反射用ミラー1~13の作製上記作製したフィルムミラー1~13を縦4cm×横4cmに切り出し、ポリエステルフィルムに対し銀反射層側の面を、厚さ3μmの粘着層を介して、厚さ0.1mmで縦4cm×横5cmのアルミ板に貼り付け、それぞれ太陽光反射用ミラー1~13を作製した。太陽光反射用ミラーの評価上記作製した太陽光反射用ミラーについて、下記の方法により正反射率及び耐候性、耐光性、鉛筆硬度、スチールウール試験及び黄色試験の評価を行った。正反射率の測定島津製作所社製の分光光度計UV265に、積分球反射付属装置を取り付けたものを改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を5°となるように調整し、反射角5°の正反射率を測定した。評価は、350nmから700nmまでの平均反射率として測定した。正反射率の耐候性試験85°C、85RHの条件で30日間放置後の正反射率を、上記光線反射率測定と同様の方法により測定し、強制劣化前の正反射率と強制劣化後の正反射率から、強制劣化による正反射率の低下率を算出し、下記基準で評価した。5:正反射率の低下率が5未満4:正反射率の低下率が5以上10未満3:正反射率の低下率が10以上15未満2:正反射率の低下率が15以上20未満1:正反射率の低下率が20以上正反射率の耐光性試験岩崎電気製アイスーパーUVテスターを用いて、65°Cの環境下で7日間紫外線照射を行った後、上記方法により正反射率を測定し、紫外線照射前後における正反射率の低下率を算出し、下記基準で評価した。5:正反射率の低下率が5未満4:正反射率の低下率が5以上10未満3:正反射率の低下率が10以上15未満2:正反射率の低下率が15以上20未満1:正反射率の低下率が20以上鉛筆硬度試験JIS-K5400に基づいて、各サンプルの45°傾斜、1kg荷重における鉛筆硬度を測定した。スチールウール試験表面に純水10mlを、霧吹きを用いて噴霧した後に、0000番のスチールウールを用いて、1000g/cm2の摩擦荷重で10回往復摩擦し、その後の表面の傷跡の有無を目視観察し、下記基準で評価した。5:全く傷が認められない4:わずかに傷が認められる3:傷は認められるが、実用に耐えうるレベルである2:傷が多く、実用に耐えない1:傷が著しい黄色変化岩崎電気製アイスーパーUVテスターを用いて、65°Cの環境下で7日間紫外線照射を行った後、目視により黄色変化を観察し、下記基準で評価した。5:目視で色味の差が全く見えない4:目視で色味の差がわずかに見える3:目視で色味の差が見えるが、実用上問題ないレベルにある2:目視で色味の差がはっきり見え、実用上問題のレベルにある1:色味の差が著しい評価の結果を表2に示す。表2から明らかなように、本発明のフィルムミラーを用いた太陽光反射用ミラーの各種特性は、比較例に対して優れていることが分かる。すなわち、本発明の上記手段により、高い耐傷性及び耐候性を有するフィルムミラー、その製造方法、及びそれを用いた太陽光反射用ミラーを提供できることが分かる。"