"I1分子当り少なくとも1個の遊離ラジカル重合可能基を有するアミン反応性化合物をシランと反応させて、反応生成物を形成する工程であって、該シランが下記式:R12NR2aSiR3bOR44-ab[式中、a=1、2、又は3であり;b=0、1、2、又は3であり;ab=1、2、3、又は4であり;R1が、独立して、水素、C1~C12アルキル、ハロゲン置換C1~C12アルキル、C1~C12シクロアルキル、アリール、窒素置換C1~C12アルキル、及び両方のR1単位を架橋し、N置換されてもよい脂肪族環構造から選択され;R2が、独立して、C1~C30アルキルから選択され;R3が、独立して、水素、ハロゲン、C1~C12アルキル、ハロゲン置換C1~C12アルキル、及び-OSiR3’3式中、R3’が、C1~C12アルキル及びハロゲン置換C1~C12アルキルから選択されるから選択され;R4が、独立して、水素、C1~C12アルキル、及びハロゲン置換C1~C12アルキルから選択される]を有し、該シラン上のアミン基の該アミン反応性化合物上のアミン反応性基に対するモル比が、0.5~1.5であり、該反応が、少なくとも1種の任意の溶媒の存在下で任意に起こり、該少なくとも1種の任意の溶媒に可溶性である反応生成物を形成し得る工程と、II酸素の存在下で、Iの該反応生成物を有機ボラン遊離ラジカル開始剤と反応させて、ポリマー調製物を形成する工程であって、IIの該ポリマー調製物が、a固形物、b液体、又は、Iの該反応が少なくとも1種の任意の溶媒の存在下で任意に起こる場合、c分散液から選択される工程と、を具える、シリコン含有材料の調製方法。a少なくとも1つの基材表面をIIのポリマー調製物と接触させること、又はb少なくとも1つの基材表面を、少なくとも1種の溶媒に分散したIIのポリマー調製物と接触させることにより、シリコン含有コーティングを形成する工程を更に具える、請求項1に記載の方法。前記シリコン含有コーティングが、1種以上の刺激に応答する微細構造を具える、請求項2に記載の方法。a前記シリコン含有コーティングを加熱すること、b前記シリコン含有コーティングを少なくとも1種の酸と接触させること、又はcそれらの組み合わせによって、酸化コーティングを形成する工程を更に具える、請求項2に記載の方法。前記酸化コーティングが多孔性である、請求項4に記載の方法。前記酸化コーティングが、実質的に微多孔性である、請求項4に記載の方法。前記シリコン含有コーティングが、400°C~1000°Cの温度に加熱される、請求項4に記載の方法。任意により真空下で、IIのポリマー調製物を加熱することによって、バルク固形物を形成する工程を更に具える、請求項1に記載の方法。前記バルク固形物が、1種以上の刺激に応答する微細構造を具える、請求項8に記載の方法。aIIのポリマー調製物を加熱すること、bIIのポリマー調製物を少なくとも1種の酸と接触させること、又はcそれらの組み合わせによって、酸化固形物を形成する工程を更に具える、請求項1に記載の方法。前記酸化固形物が多孔性である、請求項10に記載の方法。前記酸化固形物が、実質的に微多孔性である、請求項10に記載の方法。aバルク固形物を加熱すること、bバルク固形物を少なくとも1種の酸と接触させること、又はcそれらの組み合わせによって、酸化固形物を形成する工程を更に具える、請求項8に記載の方法。前記酸化固形物が多孔性である、請求項13に記載の方法。前記酸化固形物が、実質的に微多孔性である、請求項13に記載の方法。バルク固形物を粒状化して、粉末を形成することと、a該形成した粉末を加熱すること、b該形成した粉末を少なくとも1種の酸と接触させること、又はcそれらの組み合わせとによって、酸化粉末を形成する工程を更に具える、請求項8に記載の方法。Iの前記反応が、トルエン、キシレン、直鎖状シロキサン、シクロシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、ペンタメチルテトラシロキサン、酢酸エチル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、N-メチルピロリドン、N-メチルホルムアミド、ジメチルスルホキサン、N,N-ジメチルホルムアミド、炭酸プロピレン、及び水から選択される少なくとも1種の溶媒の存在下で起こる、請求項1に記載の方法。前記アミン反応性化合物が、アクリル酸、メタクリル酸、2-カルボキシエチルアクリレート、2-カルボキシエチルメタクリレート、塩化アクリロイル、塩化メタクリロイル、アクリル酸グリシジル、及びメタクリル酸グリシジルから選択される、請求項1に記載の方法。前記シランが、アミノメチルトリエトキシシラン、アミノメチルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、3-アミノプロピルエチルジメトキシシラン、3-アミノプロピルエチルジエトキシシラン、3-アミノプロピルジメチルメトキシシラン、3-アミノプロピルジエチルメトキシシラン、3-アミノプロピルジメチルエトキシシラン、3-アミノプロピルジエチルエトキシシラン、n-ブチルアミノプロピルトリメトキシシラン、4-アミノブチルトリエトキシシラン、4-アミンブチルトリメトキシシラン、アミノフェニルトリメトキシシラン、N,N-ジエチル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-アミノエチル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメチルシラン、m-アミノフェニルトリメトキシシラン、p-アミノフェニルトリメトキシシラン、11-アミノウンデシルトリエトキシシラン、2-4-ピリジルエチルトリエトキシシラン、及び3-アミノプロピルトリストリメチルシロキシシランから選択される、請求項1に記載の方法。前記有機ボラン遊離ラジカル開始剤が、トリエチルボラン-プロパンジアミン、トリエチルボラン-ブチルイミダゾール、トリエチルボラン-メトキシプロピルアミン、トリ-n-ブチルボラン-メトキシプロピルアミン、トリエチルボラン-イソホロンジアミン、トリ-n-ブチルボラン-イソホロンジアミン、トリエチルボラン-アミノシラン、及びトリエチルボラン-アミノシロキサンから選択されるトリアルキルボラン-有機窒素複合体である、請求項1に記載の方法。請求項2に記載の方法により調製される、シリコン含有コーティング。1種以上の刺激に応答する微細構造を具える、請求項21に記載のシリコン含有コーティング。請求項4に記載の方法により調製される、酸化コーティング。1種以上の刺激に応答する微細構造を具える、請求項8に記載の方法により調製されるバルク固形物。少なくとも1つの表面を有する基材と、少なくとも1つの基材表面上に、請求項21に記載のシリコン含有コーティングとを具える、コーティングされた基材。少なくとも1つの表面を有する基材と、少なくとも1つの基材表面上に、請求項23に記載の酸化コーティングとを具える、コーティングされた基材。これらの必要性は、シリコン含有コーティング、固形物、及び粉末、そのような材料を形成する方法、並びに提供されるコーティングを具える基材を提供する、記載される実施形態によって対処される。様々な実施形態では、I1分子当り少なくとも1個の遊離ラジカル重合可能基を有するアミン反応性化合物を、下記式:R12NR2aSiR3bOR44-ab[式中、a=1、2、又は3であり;b=0、1、2、又は3であり;ab=1、2、3、又は4であり;R1が、独立して、水素、C1~C12アルキル、ハロゲン置換C1~C12アルキル、C1~C12シクロアルキル、アリール、窒素置換C1~C12アルキル、及び両方のR1単位を架橋し、N置換されてもよい脂肪族環構造から選択され;R2が、独立して、C1~C30アルキルから選択され;R3が、独立して、水素、ハロゲン、C1~C12アルキル、ハロゲン置換C1~C12アルキル、及び-OSiR3’3式中、R3’が、C1~C12アルキル及びハロゲン置換C1~C12アルキルから選択されるから選択され;R4が、独立して、水素、C1~C12アルキル、及びハロゲン置換C1~C12アルキルから選択され、反応生成物を形成する]を有するシランと反応させる工程であって、反応は、少なくとも1種の任意の溶媒の存在下で任意に起こり、少なくとも1種の任意の溶媒に可溶性である反応生成物を形成し得る工程と、II酸素の存在下で、Iの反応生成物を有機ボラン遊離ラジカル開始剤と反応させて、ポリマー調製物を形成する工程とを具える方法を提供する。IIのポリマー調製物は、固形物、液体、又はIの反応が、少なくとも1種の任意の溶媒の存在下で起こる場合、分散液であってもよい。IIのポリマー調製物は、提供されるコーティング、固形物、及び粉末のうちの1つ以上を調製するために使用され得る。幾つかの実施形態では、IIのポリマー調製物は、熱、酸、又はそれらの組み合わせで処理されて、酸化固形物、酸化粉末、又はその両方を形成する。酸化粉末及び酸化固形物は、多孔性であってもよく、幾つかの実施形態では、微多孔性又は実質的に微多孔性であってもよい。代替の実施形態では、IIのポリマー調製物は、少なくとも1つの基材表面と接触して、表面上に非多孔性又は半多孔性のシリコン含有コーティングを形成する。幾つかの実施形態では、前記シリコン含有コーティングは、1種以上の刺激に応答する微細構造を具える。幾つかの実施形態では、熱、酸、又はそれらの組み合わせを用いて形成したシリコン含有コーティングを処理して、酸化コーティングを形成する工程を更に具える方法を提供する。酸化コーティングは、多孔性であってもよく、幾つかの実施形態では、微多孔性又は実質的に微多孔性であってもよい。本発明のより完全な適用及びその多くの実施形態は、添付の図面と関連して考慮される際、以下の詳細な説明を参照することによってより良く理解されるにつれて、容易に得られるだろう。本発明の特徴及び利益は、特定の実施形態を時折参照して本明細書に記載されるだろう。しかし、本発明が異なる形態で実施されてもよく、本明細書において記載の実施形態に限定されると解釈されるべきではない。むしろ、本開示が徹底され、完全な物であり、当業者に本発明の範囲を十分に伝えるように、これらの実施形態が提供される。別段に定義されていない限り、本明細書において使用されるすべての技術的用語及び科学的用語は、本発明が属する分野の当業者に共通に理解されるものと同じ意味を有している。本明細書において説明に使用される用語は、単に特定の実施形態を記載するためであり、限定されるものではない。本明細書及び添付の特許請求の範囲で使用されるとき、単数形a、an、及びtheは、文脈上明確に指定されない限り、同様に複数形を含むものとする。本明細書及び付属の特許請求の範囲で使用される用語独立して、~から選択されるは、文脈上明確に指定されない限り、言及される基が、同一、異なる、又はそれらの混合物であってもよいことを意味するものとする。よって、本定義により、句X1、X2、及びX3は、独立して、希ガスから選択されるは、X1、X2、及びX3が、すべて同一である、X1、X2、及びX3が、すべて異なる、並びにX1及びX2は同一であるが、X3は異なる、のシナリオを含む。別途記載のない限り、本明細書及び特許請求の範囲で使用される成分の量を表すすべての数、分子量等の性質、反応条件などは、すべての場合において、用語約により修正されるものと理解されたい。加えて、本明細書及び特許請求の範囲におけるいずれの範囲の開示は、範囲自体、またその範囲内に包含されるすべて、並びにエンドポイントを含むものとして理解されたい。別途記載のない限り、本明細書及び特許請求の範囲に記載の数値的性質は、本発明の実施形態において得ることが求められる所望の性質に応じて変化し得る近似値である。本発明の広範囲で示す数値的範囲及びパラメータは近似値であるが、具体例に記載の数値は可能な限り正確に報告する。しかしながら、いずれの数値もそれらの測定値に含まれる誤差から必然的に生じる一定の誤差を本質的に含むものである。本明細書及び付属の特許請求の範囲で使用される用語コーティングは、これに限定されないが、フィルムを含むものとする。本明細書及び付属の特許請求の範囲で使用される用語分散液は、少なくとも1種の好適な溶媒に分散、懸濁、溶解、又は部分的に溶解されたポリマー粒子を指すものとする。分散液は、反応生成物であるか、又は反応生成物を少なくとも1種の溶媒に分散することによって形成されてもよい。本明細書及び付属の特許請求の範囲で使用される用語微細構造及び微細構造化は、1mm未満の平均特性長スケールを有する特徴を有する、組成上及び/又は構造上の不均一性を有する材料を説明するものとする。表面に言及する際、用語は、原子間力顕微鏡法、走査型電子顕微鏡法、透過型電子顕微鏡検査、光学顕微鏡法、形状測定法、エネルギー分散分光法、及びx線光電子分光法等の様々な実験的表面分析技法のいずれかにより、材料の表面上で検出可能な1mm未満の平均特性長スケールを有する特徴を有する、組成上及び/又は構造上の不均一性を指す。表面微細構造又は微細構造化表面を有する材料の特徴は、材料が適用される下層の基材又は表面のいずれの表面粗度又は特徴と異なる。文脈上明確に指定されない限り、本明細書及び付属の特許請求の範囲において、用語多孔性は、微多孔性平均孔径は2nm未満、メソ多孔性平均孔径は約2~50nm、及びマクロ多孔性平均孔径は50nm超のうちの1つ以上を意味するように使用される。本明細書及び付属の特許請求の範囲で使用される用語粉末は、バルク固形物の粒状化粒子を意味するものとする。本明細書及び付属の特許請求の範囲で使用される用語固形物及びバルク固形物は、いずれの大きさ及び形状分布の粒子に更に粒状化され得る固形物を意味するものとする。様々な実施形態では、シリコン含有コーティング、固形物、及び粉末総じて材料を提供する。幾つかの実施形態では、シリコン含有コーティングを提供し、前記コーティングは、非多孔性又は半多孔性であってもよく、幾つかの実施形態では、1種以上の刺激に応答する微細構造を具えてもよい。幾つかの実施形態では、前記シリコン含有コーティングは、提供される多孔性酸化コーティングを形成するように処理され得る。加えて、多孔性酸化固形物及び粉末を提供する。提供されるコーティング、固形物、及び粉末に加え、そのような材料を調製する方法も提供する。加えて、提供されるコーティングを具える基材も提供する。様々な実施形態では、I1分子当り少なくとも1個の遊離ラジカル重合可能基を有するアミン反応性化合物を、下記式:R12NR2aSiR3bOR44-ab[式中、a=1、2、又は3であり;b=0、1、2、又は3であり;ab=1、2、3、又は4であり;R1が、独立して、水素、C1~C12アルキル、ハロゲン置換C1~C12アルキル、C1~C12シクロアルキル、アリール、窒素置換C1~C12アルキル、及び両方のR1単位を架橋し、N置換されてもよい脂肪族環構造から選択され;R2が、独立して、C1~C30アルキルから選択され、R3が、独立して、水素、ハロゲン、C1~C12アルキル、ハロゲン置換C1~C12アルキル、及び-OSiR3’3式中、R3’が、C1~C12アルキル及びハロゲン置換C1~C12アルキルから選択されるから選択され;R4が、独立して、水素、C1~C12アルキル、及びハロゲン置換C1~C12アルキルから選択され、反応生成物を形成する]を有するシランと反応させる工程であって、反応は、少なくとも1種の任意の溶媒の存在下で任意に起こり、少なくとも1種の任意の溶媒に可溶性である反応生成物を形成し得る工程と、II酸素の存在下で、Iの反応生成物を有機ボラン遊離ラジカル開始剤と反応させて、ポリマー調製物を形成する工程とを具える、シラン含有材料の調製方法を提供する。IIのポリマー調製物は、提供されるコーティング、固形物、及び粉末のうちの1種以上を調製するために使用され得る。Iの反応が、任意の溶媒の存在下で起こる場合、IIのポリマー調製物は、形成したポリマーが任意の溶媒中に分散、懸濁、溶解、又は部分的に溶解される分散液であってもよい。Iの反応が、任意の溶媒の存在下で起こらない場合、IIのポリマー調製物は、液体又は固形物であってもよい。幾つかの実施形態では、少なくとも1種の好適な溶媒中の液体又は固形物の分散液は、提供されるコーティングを形成するために調製される必要があり得る。幾つかの実施形態では、IIのポリマー調製物を熱、酸、又はそれらの組み合わせで処理して、酸化固形物、酸化粉末、又はそれらの組み合わせを形成する工程を更に具える方法を提供する。形成した酸化固形物及び粉末は、様々な用途に使用され得る。それらはまた、多孔性であってもよく、幾つかの実施形態では、微多孔性又は実質的に微多孔性である。幾つかの実施形態では、IIのポリマー調製物は、酸、熱、又はその両方で直接処理されて、酸化固形物を形成する。例えば、IIのポリマー調製物は、高熱又は強酸で処理されてもよい。別の例として、IIのポリマー調製物は、強酸及び低熱で処理されてもよい。形成した酸化固形物を粒状化して、酸化粉末を形成してもよい。幾つかの実施形態では、IIのポリマー調製物は、加熱されて、任意により真空の存在下で、バルク固形物を形成するために、分散ポリマー調製物の溶媒を蒸発させるか、ないしは別の方法で液体ポリマー調製物を固化させる。幾つかの実施形態では、バルク固形物は、酸、熱、又はその両方で更に処理されて、酸化固形物を形成し得る。例えば、バルク固形物は、高熱又は強酸で処理され得る。別の例として、バルク固形物は、強酸及び低熱で処理され得る。形成した酸化固形物を粒状化して、酸化粉末を形成してもよい。幾つかの実施形態では、IIのポリマー調製物は、加熱されて、任意により真空の存在下で、分散ポリマー調製物の溶媒を蒸発させるか、ないしは別の方法で液体ポリマー調製物を固化させる。形成したバルク固形物を粒状化して、粉末を形成してもよい。形成した粉末は、酸、熱、又はその両方で更に処理されて、酸化粉末を形成し得る。例えば、粉末は、高熱又は強酸で処理され得る。別の例として、粉末は、強酸及び低熱で処理され得る。代替の実施形態では、少なくとも1つの基材表面をIIのポリマー調製物と接触させ、必要であれば、乾燥させて、非多孔性又は半多孔性のシリコン含有コーティングを形成する工程を具える方法を提供する。乾燥は、風乾、低熱、真空、又はそれらの組み合わせによって達成され得る。IIのポリマー調製物が液体又は固形物である場合、基材上にコーティングを適切に形成するために、ポリマー調製物を少なくとも1種の好適な溶媒に分散、懸濁、溶解、又は部分的に溶解する必要があり得る。好適な溶媒は、Iの少なくとも1種の任意の溶媒から選択され得るが、これらである必要はない。幾つかの実施形態では、形成したコーティングはフィルムである。幾つかの実施形態では、フィルムは、犠牲基材上に調製された単独フィルムである。提供される方法によって形成した非多孔性又は半多孔性のシリコン含有コーティング並びにバルク固形物は、1種以上の刺激に応答する微細構造を具えてもよい。幾つかの実施形態では、微細構造は、コーティング又は固形物表面からの突出部であってもよい。幾つかの実施形態では、微細構造は、相分離ドメインとして表面下に存在し得る。幾つかの実施形態では、提供されるコーティング及びバルク固形物は、表面粗度を増加させること、表面粗度を減少させること、微細構造突出部の大きさ、形状、若しくはその両方を変化させること、突出部の層状微細構造への変化、表面下の微細構造の大きさ、形状、又は若しくはその両方の変化、又はそれらの組み合わせによって、1種以上の刺激に応答し得る。提供されるシリコン含有コーティング及びバルク固形物の応答を引き起こすことができる刺激の例としては、湿度、pH、及び温度が挙げられるが、これらに限定されない。幾つかの実施形態では、提供される方法は、非多孔性又は半多孔性のシリコン含有コーティングを熱、酸、又はその両方で処理して、酸化コーティングを形成する工程を更に具える。そのような酸化コーティングの性質は、少なくとも部分的に、非多孔性又は半多孔性のシリコンコーティングの特質に依存する。提供される方法によって調製された酸化コーティングは、多孔性であり、幾つかの実施形態では、微多孔性又は実質的に微多孔性である。幾つかの実施形態では、形成した酸化コーティングは、フィルムである。幾つかの実施形態では、フィルムは、単独フィルムである。様々な実施形態では、提供される方法により調製されたコーティングされた基材も提供する。よって、幾つかの実施形態では、i少なくとも1つの基材表面上に少なくとも1種のシリコン含有コーティング、iiコーティングが刺激応答微細構造を具える、少なくとも1つの基材表面上に少なくとも1種のシリコン含有コーティング、iii少なくとも1つの基材表面上に少なくとも1種の酸化コーティング、又はivそれらの組み合わせを具えるコーティングされた基材を提供する。<アミン反応性化合物>提供されるシリコン含有材料の調製方法は、1分子当り少なくとも1個の遊離ラジカル重合可能基を有するアミン反応性化合物をアミン官能性シランと反応させる工程を具える。アミン反応性化合物は、小分子、モノマー、オリゴマー、ポリマー、又はそれらの混合物であってもよい。アミン反応性化合物は、有機化合物又はオルガノポリシロキサン化合物であってもよい。1分子当り少なくとも1個の遊離ラジカル重合可能基を有することに加え、提供されるアミン反応性化合物は、1個以上の加水分解性基等の更なる官能基も有することができる。幾つかの実施形態では、アミン反応性化合物は、鉱酸、ルイス酸、カルボン酸、無水物及びコハク酸等のカルボン酸誘導体、カルボン酸金属塩、イソシアネート、アルデヒド、エポキシド、酸塩化物、及び塩化スルホニルから選択され得る。少なくとも1個の遊離ラジカル重合可能基を有するアミン反応性化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、2-カルボキシエチルアクリレート、2-カルボキシエチルメタクリレート、無水メタクリル酸、無水アクリル酸、塩化アクリロイル、塩化メタクリロイル、ウンデシレン酸、メタクリロイルイソシアネート、2-メタクリロイルオキシエチルアセトアセテート、ウンデシレンアルデヒドアルデヒド、ドデシル無水コハク酸、アクリル酸グリシジル、及びメタクリル酸グリシジルが挙げられるが、これらに限定されない。幾つかの実施形態では、アミン反応性化合物は、1個以上のアミン反応性基及び少なくとも1個の遊離ラジカル重合可能基を持つオルガノシラン又はオルガノポリシロキサンオリゴマーであってもよいことが想定される。例としては、メタクリルオキシプロピル等のアクリル官能基、及びカルボキシプロピル、カルボキシデシル、又はグリシドキシプロピル等のアミン反応性基の両方を持つシラン及びオリゴマーのオルガノポリシロキサンが挙げられるが、これらに限定されない。対応する水素化シリコン若しくはシリコンアルコキシド官能性シラン又はオルガノポリシロキサンオリゴマーの官能化によるそのような化合物の合成経路は、当業者に公知である。多くのアミン反応性化合物が、提供される方法に有用であると想定されるが、特定の遊離ラジカル重合可能アミン反応性化合物の選択は、特にアミン官能性シランの特質及び所望の反応生成物に依存することを当業者は認識するであろう。幾つかの実施形態では、アミン反応性化合物は、アクリル酸、メタクリル酸、2-カルボキシエチルアクリレート、2-カルボキシエチルメタクリレート、塩化アクリロイル、塩化メタクリロイル、アクリル酸グリシジル、及びメタクリル酸グリシジルから選択され得る。提供される方法に使用されるアミン反応性化合物が、アクリル酸、メタクリル酸、及び塩化メタクリロイルから選択されるとき、良好な結果が得られた。任意の実施形態では、また、少なくとも1種の更なるアミン反応性化合物をアミン官能性シランと反応させることが望ましい場合もある。例えば、上述のアミン反応性化合物に加え、所望の反応を完了させるのを補助するために、1分子当り少なくとも1個の遊離ラジカル重合可能基を有する第2の反応性化合物を導入することが望ましい場合がある。別の例として、所望の反応を完了させるのを補助するために、遊離ラジカル重合可能基を含まないアミン反応性化合物を導入することが望ましい場合がある。そのような任意の第2のアミン反応性化合物の例としては、酢酸、クエン酸、塩酸、無水マレイン酸、ドデシル無水コハク酸、3-イソシアントプロピルトリエトキシシラン、3-イソシアナトプロピルトリメトキシシラン、及びイソシアナトメチルメチルジメトキシシランが挙げられるが、これらに限定されない。<アミン官能性シラン>提供されるシリコン含有微細構造化材料の調製方法は、アミン反応性化合物を、下記式:R12NR2aSiR3bOR44-ab[式中、a=1、2、又は3であり;b=0、1、2、又は3であり;ab=1、2、3、又は4であり;R1が、独立して、水素、C1~C12アルキル、ハロゲン置換C1~C12アルキル、C1~C12シクロアルキル、アリール、窒素置換C1~C12アルキル、及び両方のR1単位を架橋し、N置換されてもよい脂肪族環構造から選択され;R2が、独立して、C1~C30アルキルから選択され;R3が、独立して、水素、ハロゲン、C1~C12アルキル、ハロゲン置換C1~C12アルキル、及び-OSiR3’3式中、R3’が、C1~C12アルキル及びハロゲン置換C1~C12アルキルから選択されるから選択され;R4が、独立して、水素、C1~C12アルキル、及びハロゲン置換C1~C12アルキルから選択される]を有する1種以上のアミン官能性加水分解性シランと反応させる工程を具える。R1によって表される基の例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、及びシクロヘキシル基、並びにそれらのハロゲン化誘導体が挙げられるが、これらに限定されない。R1はまた、N-2-アミノエチル、N-6-アミノヘキシル、又はN-3-アミノプロピレンオキシであってもよい。加えて、2つのR1基は、Nに含まれるとき、ピリジル、ピロール、又はアゾール置換基を形成することができる環式環により架橋され得る。R2によって表される基の例としては、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、n-ブテニル基、sec-ブテニル基、イソブテニル基、及びt-ブテニル基、並びにそれらのハロゲン化誘導体が挙げられるが、これらに限定されない。R3によって表される基の例としては、水素基、ハロゲン基、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、トリメチルシロキシ、トリエチルシロキシ、及びそれらのハロゲン化誘導体が挙げられるが、これらに限定されない。R4によって表される基の例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、及びそれらのハロゲン化誘導体が挙げられるが、これらに限定されない。提供されるシランは、加水分解反応を受けてもよいシリコンに結合されるいずれかの基である、少なくとも1個の加水分解性基を含む。好適な基は、水素基、ハロゲン基、及びアルコキシ基を含むが、これらに限定されない。提供される方法に使用するための好適なアミン官能性シランの例としては、アミノメチルトリエトキシシラン、アミノメチルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、3-アミノプロピルエチルジメトキシシラン、3-アミノプロピルエチルジエトキシシラン、3-アミノプロピルジメチルメトキシシラン、3-アミノプロピルジエチルメトキシシラン、3-アミノプロピルジメチルエトキシシラン、3-アミノプロピルジエチルエトキシシラン、n-ブチルアミノプロピルトリメトキシシラン、4-アミノブチルトリエトキシシラン、4-アミンブチルトリメトキシシラン、アミノフェニルトリメトキシシラン、N,N-ジエチル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-アミノエチル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメチルシラン、m-アミノフェニルトリメトキシシラン、p-アミノフェニルトリメトキシシラン、11-アミノウンデシルトリエトキシシラン、2-4-ピリジルエチルトリエトキシシラン、及び3-アミノプロピルトリストリメチルシロキシシランが挙げられるが、これらに限定されない。提供される方法に使用するのに好適な他のアミン官能性化合物の更なる例としては、AminoFunctionalSilanesのカテゴリーに掲載される、SilaneCouplingAgents:CouplingAcrossBoundariesVersion2.0と題されるGelest社のカタログの頁28~35に列挙されるものに見出すことができ、モノアミン官能性シラントリアルコキシ、モノアミン官能性シラン;水性、モノアミン官能性シラン;ジアルコキシ、モノアミン官能性シラン;ジアミン官能性シランモノアルコキシ、ジアミン官能性シラン;トリアルコキシ、ジアミン官能性シラン;水性、ジアミン官能性シラン;ジアルコキシ、ジアミン官能性シラン;モノアルコキシ、トリアミン官能性シラン;二級アミン官能性シラン;三級アミン官能性シラン;四級アミン官能性シラン;二脚状アミン官能性シラン;特殊アミン官能性シラン;及び環式アザシランのサブカテゴリーに列挙される化合物が挙げられる。良好な結果は、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、n-ブチルアミノプロピルトリメトキシシラン、N,N-ジエチル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、及び3-アミノプロピルトリストリメチルシロキシシランの使用により得られた。<任意の溶媒>提供されるシリコン含有材料の調製方法は、アミン反応性化合物をアミン官能性シランと反応させて、反応生成物を形成する工程を具える。幾つかの実施形態では、反応は、少なくとも1種の溶媒の存在下で任意に起こり、任意の溶媒に可溶性である反応生成物を形成し得る。幾つかの実施形態では、溶媒は、トルエン、キシレン、直鎖状シロキサン、シクロシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、ペンタメチルテトラシロキサン、酢酸エチル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートPGMEA、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、N-メチルピロリドン、N-メチルホルムアミド、ジメチルスルホキサン、N,N-ジメチルホルムアミド、炭酸プロピレン、水、及びそれらの組み合わせから選択され得る。良好な結果は、トルエン、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、ペンタメチルテトラシロキサン、及びPGMEAの使用により得られた。<有機ボラン遊離ラジカル開始剤>提供されるシリコン含有微細構造化材料の調製方法は、遊離ラジカル重合可能アミン反応性化合物をアミン官能性シランと反応させて、反応生成物を形成する工程と、酸素の存在下で前記反応生成物を有機ボラン遊離ラジカル開始剤と反応させて、微細構造化コーティング、フィルム、固形物、及び粉末を形成するための前駆体として使用され得るポリマー材料を形成する工程とを具える。幾つかの実施形態では、アミン反応性化合物のアミン官能性シランとの反応は、任意の溶媒の存在下で起こり、有機ボランで更に処理された時に形成されるポリマー材料は、任意の溶媒に分散、懸濁、溶解、又は部分的に溶解される。任意の溶媒が提供される方法に使用されない場合、有機ボランで処理された時に形成されるポリマー材料は、液体又は固形物のいずれかである。しかしながら、幾つかの実施形態では、前記液体又は固形物は、提供されるコーティングを適切に形成するために、溶媒に分散、懸濁、溶解、又は部分的に溶解される必要があり得る。有機ボラン遊離ラジカル開始剤は、酸素の存在下で遊離ラジカルを発生させることができ、更なる重合及び/又は架橋を引き起こす。幾つかの実施形態では、遊離ラジカルは、有機ボラン開始剤の加熱時に発生し及び重合が引き起こされ得る。幾つかの実施形態では、有機ボラン開始剤の酸素への単なる曝露が、遊離ラジカルを発生させるのに十分である。幾つかの実施形態では、有機ボランが周囲条件で非自然発火性を付与される安定した有機ボラン化合物が、提供される方法で使用され得る。幾つかの実施形態では、提供される方法で使用される有機ボラン遊離ラジカル開始剤は、式BR3式中、Rは、1~20個の炭素原子を含有する直鎖及び分枝鎖の脂肪族又は芳香族炭化水素基を表すを有するトリアルキルボランを含むトリアルキルボラン-有機窒素複合体を含むが、これに限定されないアルキルボラン-有機窒素複合体から選択され得る。好適なトリアルキルボランの例としては、トリメチルボラン、トリエチルボラン、トリ-n-ブチルボラン、トリ-n-オクチルボラン、トリ-sec-ブチルボラン、トリドデシルボラン、及びフェニルジエチルボランが挙げられるが、これらに限定されない。他の実施形態では、有機ボラン遊離ラジカル開始剤は、国際公開第2006073695A1号に開示されるもの等の、オルガノシリコン-官能性ボラン-有機窒素複合体から選択され得る。幾つかの実施形態では、提供される方法で使用される有機ボラン遊離ラジカル開始剤は、下記式:[式中、Bは、ホウ素を表し、Nは、窒素を表し;R6、R7、及びR8のうちの少なくとも1つは、ホウ素に共有結合されるシリコン含有基複数可を伴う1個以上のケイ素原子を含有し;R6、R7、及びR8は、独立して、水素、シクロアルキル基、主鎖に1~12個の炭素原子を有する直鎖若しくは分枝鎖のアルキル基、アルキルアリール基、アルキルシラン基若しくはアリールシラン基等のオルガノシラン基、オルガノシロキサン基、別のホウ素原子への共有結合的架橋として機能することができるアルケン基、別のホウ素原子への共有結合的架橋として機能することができる二価のオルガノシロキサン基、又はそのハロゲン置換相同体から選択され得る基であり;R9、R10、及びR11は、ホウ素と複合することができるアミン化合物又はポリアミン化合物をもたらす基であり、独立して、水素、1~10個の炭素原子を含有するアルキル基、1~10個の炭素原子を含有するハロゲン置換アルキル基、又はオルガノシリコン官能基から選択され;R6基、R7基、及びR8基のうちの少なくとも2個と、R9基、R10基、及びR11基のうちの少なくとも2個とが組み合わされて、複素環式構造を形成することができるが、但し、2個の組み合わされた基からの原子の数の合計が11を超えないことを条件とする]を有する有機ボラン-有機窒素複合体であってもよいことが想定される。有機ボラン-有機窒素複合体を形成するのに好適な有機窒素の例としては、1,3プロパンジアミン、1,6-ヘキサンジアミン、メトキシプロピルアミン、ピリジン、イソホロンジアミン、並びに3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、2-トリメトキシシリルエチルピリジン、アミノプロピルシラントリオール、3-m-アミノフェノキシプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルジイソプロピルメトキシシラン、アミノフェニルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリスメトキシエトキシエトキシシラン、N-2-アミノエチル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-6-アミノヘキシルアミノメチルトリメトキシシラン、N-2-アミノエチル-hI-アミノウンデシルトリメトキシシラン、アミノエチルアミノメチル-p-ベネチルトリメトキシシラン、N-2-アミノエチル-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-2-アミノエチル-3-アミノイソブチルメチルジメトキシシラン、及び3-トリメトキシシリルプロピルジエチレン-トリアミン等のシリコン含有アミンが挙げられるが、これらに限定されない。幾つかの実施形態では、有機ボロン-有機窒素複合体を形成するのに有用であり得る窒素含有化合物は、少なくとも1個のアミン官能基を有するオルガノポリシロキサンから選択され得る。好適なアミン官能基の例としては、3-アミノプロピル、6-アミノヘキシル、11-アミノウンデシル、3-N-アリルアミノプロピル、N-2-アミノエチル-3-アミノプロピル、N-2-アミノエチル-3-アミノイソブチル、p-アミノフェニル、2-エチルピリジン、及び3-プロピルピロールが挙げられるが、これらに限定されない。提供される方法の有機ボラン遊離ラジカル開始剤として使用するための有機ボラン-有機窒素複合体を形成するのに有用であり得る他の窒素含有化合物は、N-3-トリエチオキシシリルプロピル-4,5-ジヒドロイミダゾール、ウレイドプロピルトリエトキシシラン、及び少なくとも1個の基がイミダゾール、アミジン、又はウレイド官能基であるオルガノポリシロキサン樹脂を含んでもよいが、これらに限定されない。幾つかの実施形態では、提供される方法に使用するための有機ボラン遊離ラジカル開始剤は、トリアルキルボランが、トリエチルボラン、トリ-n-ブチルボラン、トリ-n-オクチルボラン、トリ-sec-ブチルボラン、及びトリドデシルボランから選択されるトリアルキルボラン-有機窒素複合体であってもよい。例えば、開始剤は、トリエチルボラン-プロパンジアミン、トリエチルボラン-ブチルイミダゾール、トリエチルボラン-メトキシプロピルアミン、トリ-n-ブチルボラン-メトキシプロピルアミン、トリエチルボラン-イソホロンジアミン、トリ-n-ブチルボラン-イソホロンジアミン、及びトリエチルボラン-アミノシラン、又はトリエチルボラン-アミノシロキサン複合体から選択され得る。良好な結果は、TnBB-MOPA3-メトキシプロピルアミンと複合されたトリ-n-ブチルボランを使用することにより得られた。有機窒素安定化有機ボラン化合物は、遊離ラジカル開始剤として特に有用であるが、当業者は、他の有機ボラン遊離ラジカル開始剤が使用され得ることを理解するであろう。例としては、環安定化化合物9-BBN等、又は溶媒複合有機ボラントリアルキルボラン-THF溶液等が挙げられてもよいが、これに限定されない。様々な実施形態では、遊離ラジカルは、有機ボラン遊離ラジカル開始剤を空気又は他の酸素源、熱、放射線、又はそれらの組み合わせに曝露することにより発生してもよく、重合及び/又は架橋が引き起こされる。熱活性化の場合において、重合及び/又は架橋反応を引き起こすのに必要とされる温度は、開始剤として選択される有機ボラン化合物の特質によって指定される。例えば、有機ボラン-有機窒素複合体が選択される場合、複合体の結合エネルギーは、複合体の解離及び反応を引き起こすのに必要とされる必要温度を指定する。幾つかの実施形態では、有機ボラン遊離ラジカル開始剤並びにシラン及びアミン反応性化合物の反応生成物は、一緒に加熱される。幾つかの実施形態では、重合及び/又は架橋を引き起こすのに、熱は必要ではない。<方法>提供されるシリコン含有材料の調製方法は、遊離ラジカル重合可能アミン反応性化合物をアミン官能性シランと反応させる工程を具える。任意により、反応は、少なくとも1種の溶媒の存在下で起こり、溶媒に可溶性である反応生成物を形成する。様々な実施形態では、所望の反応生成物は、シラン中のアミン基のアミン反応性化合物中のアミン反応性基に対するモル比が、約0.5~約1.5であるときに形成され得る。したがって、好適なモル比アミン基/アミン反応性基は、0.5~0.6、0.6~0.7、0.7~0.8、0.8~0.9、0.9~1.0、1.0~1.1、1.1~1.2、1.2~1.3、1.3~1.4、1.4~1.5、及びその範囲の全ポイントであってもよい。良好な結果は、モル比が1.0~1.5であるときに得られた。反応生成物は、アミンカルボン酸塩又はアミド架橋複合体であってもよいが、これである必要はない。反応生成物の特質に関わらず、提供される方法は、従来のゾル-ゲル方法とは対照的である、界面活性剤又はブロックコポリマーの不在下でその形成を可能にする。提供される方法は、反応生成物を有機ボラン遊離ラジカル開始剤と反応させて、提供されるコーティング、固形物、粉末のうちの1つ以上を調製するために使用され得るポリマー調製物を形成する工程を更に具える。遊離ラジカル発生には、周囲空気に存在する、前駆体及び/若しくは有機ボラン組成物に溶解される、又は別の酸素源から供給され得る酸素を必要とする。幾つかの実施形態では、窒素掃引又は窒素パージの使用等により、酸素を系から排除しないが酸素の濃度を制限することは、安全性揮発性流体の燃焼性の低減、反応効率性、又はその両方に有利であってもよい。幾つかの実施形態では、有機ボラン開始剤で処理した後に形成したポリマー調製物を、少なくとも1つの基材表面に適用し、乾燥させて、シリコン含有コーティングを形成してもよい。幾つかの実施形態では、形成したコーティングは、1種以上の刺激に応答する微細構造を具える。ポリマー調製物の基材表面への適用は、蒸着法、液体沈積法、ディップコーティング法、流しコーティング法、カーテンコーティング法、スピンオン式適用法、スプレー式適用法、及びロールオン式適用法を含むが、これらに限定されない様々な技法によって達成され得る。幾つかの実施形態では、基材は、犠牲基材であり、提供される方法は、単独フィルムの形成を可能にする。幾つかの実施形態では、形成したシリコン含有コーティングは、熱、酸、又はその両方で更に処理されて、酸化コーティングを形成してもよい。例えば、酸化コーティングは、シリコン含有コーティングを高熱又は少なくとも1種の強酸で処理することにより形成され得る。別の例として、酸化コーティングは、シリコン含有コーティングを少なくとも1種の強酸及び低熱で処理することにより形成され得る。幾つかの実施形態では、酸化コーティングの調製物は、提供されるシリコン含有コーティングを約400°C~約1000°Cの温度に加熱する工程を具える。したがって、好適な温度は、400°C~450°C、450°C~500°C、500°C~550°C、550°C~600°C、600°C~650°C、650°C~700°C、700°C~750°C、750°C~800°C、800°C~850°C、850°C~900°C、900°C~950°C、950°C~1000°C、及びその範囲の全ポイントであってもよい。良好な結果は、約500°C~約700°Cの温度に加熱することにより得られた。良好な結果は、約550°C~約650°Cの温度に加熱することによっても得られた。幾つかの実施形態では、酸化コーティングの調製物は、提供されるシリコン含有コーティングを少なくとも1種の酸に接触させる工程を具える。好適な酸の例としては、塩酸HCl、臭化水素酸HBr、ヨウ化水素酸HI、硝酸HNO3、過塩素酸HClO4、及び硫酸H2SO4等の強酸が挙げられるが、これらに限定されない。良好な結果は、HClを使用することにより得られた。代替の実施形態では、有機ボラン開始剤で処理した後に形成したポリマー調製物は、ポリマー調製物即ち、コーティングを形成しないを熱、酸、又はそれらの組み合わせで直接処理することによって、酸化固形物、粉末、又はそれらの組み合わせを調製するために使用され得る。幾つかの実施形態では、ポリマー調製物は、熱、酸、又はそれらの組み合わせで直接処理されて、酸化固形物を形成してもよい。例えば、IIのポリマー調製物は、高熱又は少なくとも1種の強酸で直接処理され得る。別の例として、IIのポリマー調製物は、少なくとも1種の強酸及び低熱で処理され得る。形成した酸化固形物を粒状化して、酸化粉末を形成してもよい。代替の実施形態では、バルク固形物は、IIのポリマー調製物を熱、真空、又はそれらの組み合わせで処理することにより形成され得る。形成したバルク固形物は、酸、熱、又はそれらの組み合わせで更に処理されて、酸化固形物を形成し得る。例えば、バルク固形物は、真空の存在下でポリマー調製物を加熱することにより形成され、次に、それが形成されてから、高熱又は少なくとも1種の強酸で処理されて、酸化固形物を形成してもよい。別の例として、ポリマー調製物は、加熱されて、バルク固形物を形成し、次に、それが形成されてから、低熱及び少なくとも1種の強酸で処理されて、酸化固形物を形成してもよい。形成した酸化固形物を粒状化して、酸化粉末を形成してもよい。別の方法としては、酸化粉末は、バルク固形物を粒状化し、次に、粒状化固形物を酸、熱、又はそれらの組み合わせで処理することにより調製され得る。<固形物及び粉末>様々な実施形態では、提供される方法により調製されたバルク固形物、酸化固形物、及び酸化粉末が提供される。形成したバルク固形物は、非多孔性又は半多孔性であり、表面微細構造、表面下微細構造、又はその両方を具える。前記微細構造は、先細り、円筒形、円錐形であるか、又はその他の形態若しくは形状を有してもよい。微細構造はまた、1種以上の刺激に応答してもよい。提供されるバルク固形物の応答を引き起こすことができる刺激の例としては、湿度、pH、及び温度が挙げられるが、これらに限定されない。幾つかの実施形態では、刺激応答微細構造は、約5~約8nmの平均高又は平均長表面突出又は表面下構造であるかにより、及び約0.8~約2.3μmの平均直径を有する。したがって、微細構造は、5~5.5nm、5.5~6nm、6~6.5nm、6.5~7nm、7~7.5nm、7.5~8nm、及びその範囲の全ポイントの平均高又は平均長を有してもよい。微細構造はまた、約0.8~1.1μm、1.1~1.4μm、1.4~1.7μm、1.7~2μm、2~2.3μm、及びその範囲の全ポイントの平均直径を有してもよい。提供される酸化固形物及び粉末は、多孔性である。そのような多孔性の固形物及び粉末は、微多孔性2nm未満の平均孔径を有する、メソ多孔性約2nm~50nmの平均孔径を有する、又はマクロ多孔性50nm超の平均孔径を有するのうちの1つ以上であってもよい。酸化固形物及び粉末は、実質的に微多孔性であってもよいか、又は実質的に多数の微多孔性を具えてもよいことが想定される。よって、幾つかの実施形態では、提供される多孔性の固形物及び粉末は、<1nm、1~1.2nm、1.2~1.4nm、1.4~1.6nm、1.6~1.8nm、1.8~2nm、2~5nm、5~10nm、10~15nm、15~20nm、20~25nm、25~30nm、30~35nm、35~40nm、40~45nm、45~50nm、50~70nm、70~90nm、90~110nm、及びその範囲の全ポイントから選択される平均孔径を有してもよい。幾つかの実施形態では、提供される多孔性固形物及び粉末は、110nm超の平均孔径を有してもよい。例えば、平均孔径は、約110~500nm、500~1000nm1μm、1~10μm、10~20μm、20~30μm、30~40μm、及び40~50μmから選択され得ることが想定される。<コーティング>様々な実施形態では、提供される方法により調製されたシリコン含有コーティングが提供される。前記コーティングは、非多孔性又は半多孔性であってもよく、幾つかの実施形態では、刺激応答微細構造を具えてもよい。加えて、様々な大きさの細孔を形成するために、前記シリコン含有コーティングが熱、酸、又はそれらの組み合わせで処理することにより更に処理される、酸化コーティングを提供する。酸化コーティングの多孔性は、それが由来する非多孔性又は半多孔性のシリコン含有コーティングの特質に少なくとも一部基づき選択可能であってもよい。例えば、シリコン含有コーティングの刺激応答微細構造は、酸化前に刺激を提供することにより制御され得、それによって、酸化コーティングの選択可能な多孔性及び細孔構造を可能にする。例えば、酸化コーティングは、微多孔性であるように選択され得る。幾つかの実施形態では、微細構造を具えるシリコン含有コーティングを提供する。幾つかの実施形態では、そのような微細構造は、コーティングの表面から突出する。微細構造は、先細り、円筒形、円錐形、球形、半球形であるか、又はその他の形態若しくは形状を有してもよい。幾つかの実施形態では、微細構造は、1種以上の刺激に応答する。提供されるコーティングの応答を引き起こすことができる刺激の例としては、湿度、pH、及び温度が挙げられるが、これらに限定されない。幾つかの実施形態では、刺激応答微細構造は、表平面から約5~約8nm上の平均高、及び約0.8~約2.3μmの平均直径を有する突出部である。したがって、突出部は、5~5.5nm、5.5~6nm、6~6.5nm、6.5~7nm、7~7.5nm、7.5~8nm、及びその範囲の全ポイントの平均高を有してもよい。突出部はまた、約0.8~1.1μm、1.1~1.4μm、1.4~1.7μm、1.7~2μm、2~2.3μm、及びその範囲の全ポイントの平均直径を有してもよい。幾つかの実施形態では、刺激応答微細構造を具えるシリコン含有コーティングは、表面粗度を増加させること、表面粗度を減少させること、微細構造又は形態を変化させること、及びそれらの組み合わせにより、1種以上の刺激に応答する。例えば、微細構造の形状は、1種以上の刺激に応答して変化してもよい。別の例として、微細構造は、1種以上の刺激に応答して、円筒形の突出から、層状構造に変化してもよい。幾つかの実施形態では、提供される方法により調製された刺激応答コーティングの性質は、所望の特性を提供するように、選択的に修正され得る。例えば、意図される用途に望ましい性質に合うように、粘着力、剥離、反射率、及び摩擦力のうちの1つ以上が選択的に修正され得る。そのような応答微細構造を具えるコーティングは、様々な用途に使用され得ることが想定される。幾つかの実施形態では、提供される方法により調製された多孔性の酸化コーティングも提供する。そのような酸化コーティングは、所望の特性を提供するように選択的に提供され得、そのような特性は、酸化コーティングを形成するために、熱、酸、又はそれらの組み合わせで処理される非多孔性又は半多孔性のシリコン含有コーティングの特質に少なくとも一部依存する。幾つかの実施形態では、提供される多孔性の酸化コーティングは、微多孔性、メソ多孔性、又はマクロ多孔性のうちの1つ以上であってもよい。酸化コーティングは、実質的に微多孔性であるか、又は実質的に多数の微多孔性を含んでもよいことが想定される。例えば、提供される方法により調製された多孔性の酸化コーティングは、5nm未満の平均孔径を有してもよい。したがって、そのようなコーティングは、0~1nm、1~2nm、2~3nm、3~4nm、4~5nm、及びその範囲の全ポイントの平均孔径を有してもよい。提供される方法により調製された多孔性の酸化コーティングは、様々な用途で使用され得ることが想定される。幾つかの実施形態では、提供される非多孔性又は半多孔性コーティングは、フィルムである。そのようなフィルムは、単独フィルムか、又は基材結合フィルムであってもよい。単独フィルム及び基材結合フィルムを形成する多くの方法が公知である。基材結合非多孔性又は半多孔性フィルムは、フィルムを形成するために、基材の少なくとも1つの表面にポリマー調製物又はその分散液を適用することにより形成され得る必要に応じて、ポリマー調製物を乾燥させる。単独の非多孔性又は半多孔性フィルムは、犠牲基材の表面にポリマー調製物を適用し、フィルムの形成後に前記基材を除去することにより形成され得る。幾つかの実施形態では、提供される単独フィルム又は基材結合フィルムは、刺激応答微細構造を具える。幾つかの実施形態では、提供される酸化コーティングは、多孔性フィルムである。そのようなフィルムは、単独フィルムか、又は基材結合フィルムであってもよい。単独フィルム及び基材結合フィルムを形成する多くの方法が公知である。基材結合酸化フィルムは、非多孔性又は半多孔性フィルムを形成するために、基材の少なくとも1つの表面にポリマー調製物又はその分散液を適用し必要に応じて、ポリマー調製物を乾燥させる、次に、熱、酸、又はそれらの組み合わせで前記フィルムを処理して、酸化フィルムを形成することにより形成され得る。単独酸化フィルムは、非多孔性又は半多孔性フィルムを形成するために、犠牲基材の少なくとも1つの表面にポリマー調製物を適用し、熱、酸、又はそれらの組み合わせで前記フィルムを処理して、酸化フィルムを形成し、フィルムの形成後に前記基材を機械的に除去することにより形成され得る。別の方法としては、単独酸化フィルムは、非多孔性又は半多孔性フィルムを形成するために、犠牲基材の少なくとも1つの表面にポリマー調製物を適用し、熱、酸、又はそれらの組み合わせで前記フィルムを処理して、酸化フィルムを形成することにより形成され得、前記基材は、熱、酸、又はそれらの組み合わせによって除去される。別の方法としては、単独多孔性酸化フィルムは、非多孔性又は半多孔性フィルムを形成するために、犠牲基材の少なくとも1つの表面にポリマー調製物を適用し、フィルムの形成後に前記基材を機械的に除去し、熱、酸、又はそれらの組み合わせで前記単独非多孔性又は半多孔性フィルムを処理して、酸化フィルムを形成することにより形成され得る。<基材>様々な実施形態では、提供される方法により調製されたコーティングされた基材を提供し、前記基材は、i少なくとも1つの基材表面上に少なくとも1種のシリコン含有コーティング、iiコーティングが刺激応答微細構造を具える、少なくとも1つの基材表面上に少なくとも1種のシリコン含有コーティング、iii少なくとも1つの基材表面上に少なくとも1種の酸化コーティング、又はivそれらの組み合わせを具える。幾つかの実施形態では、提供された基材上のそのようなコーティングは、フィルムである。幾つかの実施形態では、そのような基材は、単独フィルム形成するために使用される犠牲基材である。幾つかの実施形態では、コーティング表面から突出し、1種以上の刺激に応答する微細構造を具える少なくとも1つの非多孔性又は半多孔性のシリコン含有コーティングを具える、コーティングされた基材を提供する。そのような応答コーティングを具える基材は、様々な用途に使用され得ることが想定される。幾つかの実施形態では、多孔性である少なくとも1つの酸化コーティングを具えるコーティングされた基材を提供し、前記コーティングの性質は、それが由来する非多孔性又は半多孔性のシリコン含有コーティングの特質に少なくとも一部依存する。例えば、孔径は、非多孔性又は半多孔性のシリコン含有コーティングの特質に少なくとも一部依存してもよい。そのような多孔性酸化コーティングを具える基材は、様々な用途に使用され得ることが想定される。本発明は、実例として提供され、限定するものではないことを当業者が認識するであろう以下の実施例を参照することによってより良く理解されるだろう。実施例1ガラスバイアル瓶中で、PGMEAプロピレングリコールメチルエーテルアセテート;Aldrich中の4.01gの3-アミノプロピルトリエトキシシランDowCorningの50溶液を、PGMEA中の1.56gのメタクリル酸Aldrichの50溶液と混合した。ガラスバイアル瓶中で、4.01gの混合物を、0.16gの有機ボラン開始剤である、TnBB-MOPA1.3モル等量の3-メトキシプロピルアミンで複合されたトリ-n-ブチルボランと混合して、遊離ラジカル重合された前駆体材料を形成した。得られた前駆体材料を0.2μmのフィルタを通して濾過し、次に、3300rpmでシリコンウェハ上にスピンコーティングして、幾つかのピンホールの欠陥を除き、連続コーティング又はフィルムを形成した。タッピングモードで原子間力顕微鏡法AFMを使用して検査したとき、図2に描写されるように、意外にも、試料表面は、分子的に平滑な背景0.7nmの二乗平均平方根粗度上で高さがおよそ5~8nm、直径が0.8~2.3μmの範囲の多くの垂直に整合した極めて均一な円筒形の突出部を明らかにした。上記の方法とは対照的に、3-アミノプロピルトリエトキシシラン/メタクリル酸混合物即ち、TnBB-MOPAを含まないのみが、30秒間、3300rpmでシリコンウェハ上にスピンコーティングされたとき0.2μmのシリンジフィルタを通して濾過した後、得られたフィルムは、不安定であり、急速な脱湿潤を受け、連続したフィルムを残さなかった。よって、有機ボラン開始剤は、提供されるコーティング及びフィルムの調製に必要不可欠であると結論付けられた。実施例2実施例1のシリコンウェハ上に支持された薄いコーティング/フィルム試料の一部を、250°Cで2時間、強制空気対流炉に設置した。得られたコーティング/フィルムは、AFMによって特徴付けされ、円筒形の突出が存在する概略位置で細孔を明らかにした図3A。実施例3実施例1のシリコンウェハ上に支持された薄いコーティング/フィルム試料の一部を、500°Cで2時間、高温炉に設置した。得られたコーティング/フィルムは、AFMによって特徴付けされ、実施例1において円筒形微細構造が存在した概略位置で円形の凹又は細孔を明らかにした図3B~C。実施例4ガラスバイアル瓶中で、PGMEA中の2.01gの3-アミノプロピルトリエトキシシランDowCorningの50溶液を、PGMEA中の0.65gのアクリル酸Aldrichの50溶液と混合した。次に、別のガラスバイアル瓶中で、1.64gの混合物を0.099gのTnBB-MOPAと混合して、遊離ラジカル重合された前駆体材料を形成した。得られた前駆体ポリマー材料を0.2μmのフィルタを通して濾過し、次に、30秒間、3300rpmでシリコンウェハ上にスピンコーティングして、図4Aに示されるように、AFMにより1.4nmの二乗平均平方根粗度を有する連続コーティング/フィルムを形成した。実施例5実施例4からのシリコン支持された薄いコーティング/フィルム試料を、強制空気対流炉で、250°Cで2時間供した。AFMによって検査したとき、得られたコーティング/フィルムは、球形表面を伴う垂直に配向された微細構造を有した。3-Dモードで、より大きな幅にわたって検査すると、図4Bに示されるように、垂直な微細構造は、表面に対して垂直な整合されたメソ多孔性アセンブリを示した。実施例6実施例4からのシリコン支持された薄いコーティング/フィルム試料を、高温炉で、500°Cで2時間供した。AFMによって検査したとき、得られたコーティング/フィルムは、球形表面を伴う垂直に配向された微細構造を有した。3-Dモードで、より大きな幅にわたって検査すると、図4Cに示されるように、垂直な微細構造は、表面に対して垂直な整合されたメソ多孔性アセンブリを示す。実施例7実施例4のコーティング/フィルムを、数週間周囲老化させ、次に、約3/4を脱イオン水で満たし、逆さまにしたビーカーを取り付けた6cmの高さの瓶から作製した湿度チャンバに設置した後、試験した。コーティング/フィルム試料を、このチャンバの底に設置し、一定期間、湿度のある環境に曝した。次に、それを取り出し、AFMによって撮像し、更に一定期間、再度設置した。このサイクルを45分の最大合計曝露時間の間繰り返した。この一連の実験において、後続の撮像ステップ中、同じ領域に戻る試みはなされなかった。コーティング/フィルムの微細構造は、湿度への曝露時間と共に拡大し、図5に見られるように、最終的に、45分後に円筒形の微細構造から虫のような層状特徴に変化するのが観察された。コーティング/フィルム粗度及び高さは、原位置実験で測定及びプロットされ、曝露時間と共に微細構造の大きさにおいて制御可能な単調な成長を示す図6。この実験は、提供される方法が湿度に対して強い応答を示し得るシリコン含有コーティング及びフィルムをもたらし、所与のコーティング/フィルムの微細構造が単純に湿度への曝露時間により制御され得ることを示す。実施例8ガラスバイアル瓶中で、乾燥窒素パージしながら、12.06gの3-アミノプロピルトリエトキシシランと4.69gのメタクリル酸とを混合することにより、3-アミノプロピルトリエトキシシランDowCorningとメタクリル酸Aldrichとの等モル混合物を調製した。発熱曲線は、冷却水のビーカーにバイアル瓶を設置し、混合物の過剰な加熱を防止することにより制御された。秤量皿の5.11gのこの混合物に0.20gのTnBB-MOPAを添加し、電磁攪拌器で攪拌した。試料は、数分内に透明なゲルに重合された。材料をN2パージされたドライボックスに移し、重合を完了させた。1.13gの重合された材料をガラス瓶に移し、炉の電源を切る前に2時間、500°Cの炉に設置し、一晩かけて室温に戻した。得られた固形物は、QuantachromAutosorb1表面積分析装置を使用して、窒素吸着研究によって試験し、I型等温線を示し、結果を表1に示す。実施例9水ジャケット付きガラス反応器を使用して作製した72.136gの3-アミノプロピルトリエトキシシランとメタクリル酸Aldrichとの等モル混合物を、2.864gのTnBB-MOPAと混合し、Hauschild遠心混合器を使用して、混合カップで30秒間、その後、2回の断続的な45秒の混合サイクルで混合した。材料をN2パージされたトライボックスに移し、透明なゲルに重合させた。得られた生成物をセラミックのるつぼに移し、炉の電源を切る前に7時間、600°Cの炉に設置し、一晩かけて室温に戻した。得られた粉末は、MicromeriticsASAP2020モデルの表面積分析器を使用して、窒素吸着研究によって試験した。得られたN2吸着結果を図7及び表1に示す。実施例8及び9の窒素吸着等温線は、図7に示されるように、微多孔性固形物の特徴であるI型挙動IUPAC分類を示す。これらの結果は、本発明の方法の熱分解生成物が、従来のゾル-ゲル技法に由来する一般的なシリカ及び材料と非常に異なる非常に微細な内部細孔構造微多孔性又は部分的にメソ多孔性を有する微多孔性を生じることを示す。実施例10ガラスバイアル瓶中で、乾燥窒素バージしながら、2.2gのメタクリル酸を9.2gの3-アミノプロピルトリストリメチルシロキシシランを滴下して添加することにより、3-アミノプロピルトリストリメチルシロキシシランGelestと、メタクリル酸Aldrichとの等モル混合物を調製した。発熱曲線は、氷浴にバイアル瓶を設置し、混合物の過剰な加熱を防止することにより制御された。混合物は、無水トルエン中の20重量溶液にされた、可溶性固形物を形成した。実施例11実施例10の2.0gの20重量トルエン溶液に0.1gのTnBB-MOPAを添加した。軽く蓋をして反応させる前に、容器上部を乾燥窒素で数秒パージした。反応混合物は透明の状態を保ち、これから6時間にわたって粘度を増し続けた。得られた溶液は、5ミル0.13mmのドクタブレードを使用して、ガラススライド上にコーティングされ、ヒートガンを用いて溶媒を蒸発させ、透明な固形物フィルムを残した。フィルム上に置かれた水の液滴は、ガラススライド上より大幅に高い接触角を形成した。実施例12実施例10の2.0gの20重量トルエン溶液に0.023gの氷酢酸を添加し、軽く旋回させて混合した。この溶液に0.1gのTnBB-MOPAを添加した。軽く蓋をして反応させる前に、容器上部を乾燥窒素で数秒パージした。残った反応混合物は直ぐに増粘し、最終的に、半透明の溶液を形成した。溶液は、5ミル0.13mmのドクタブレードを使用して、ガラススライド上にコーティングされ、ヒートガンを用いて溶媒を蒸発させ、固形物フィルムを残した。フィルム上に置かれた水の液滴は、ガラススライド上より大幅に高い接触角を形成した。約2分の接触後、水滴液を表面から除去し、接触領域内に目に見えて膨張し、白化した跡を残し、水に応答することを示した。実施例13ガラスバイアル瓶中で、1.8gの塩化メタクリロイルを3.9gの3-アミノプロピルトリエトキシシランに制御添加することにより、3-アミノプロピルトリエトキシシランと塩化メタクリロイルAlfaAesarとの等モル混合物を調製し、安定した粘稠な琥珀色の液体生成物を形成した。実施例14実施例13の1.0gの反応生成物に、ガラスバイアル瓶中の0.05gのTnBB-MOPAを添加した。混合時、重合の開始を示す熱の上昇がバイアル瓶の壁を通して検知された純反応生成物は、透明な琥珀色の固形物であった。実施例15実施例13の1.4gの反応生成物に1.4gの無水トルエンを添加して、透明な溶液を形成した。2.6gのこの溶液に0.1gのTnBB_MOPAを添加した。得られた溶液を、30秒間、3300rpmでシリコンウェハ上にスピンコーティングして、連続コーティングを形成した。フィルムを窒素パージされたドライボックスに設置した。小面積のフィルムを高湿度の空気流90を超える相対湿度に曝露したとき、曝露された領域は、曝露されなかった周囲領域と異なるかすんだ外観を呈することにより応答した。対照の未処理のシリコンウェハが同じ湿度のある空気流に曝露されたときのかすみは、周囲空気に移されたときに急速に消えた。対照的に、本実施例の曝露されたフィルム領域は、周囲空気に移された後、長い間、そのかすみを維持した。実施例16実施例13の2.0gの反応生成物に5.3gの無水トルエンを添加して、透明な溶液を形成した。2.5gのこの溶液に0.1gのTnBB_MOPAを添加した。得られた溶液を、30秒間、3300rpmでシリコンウェハ上にスピンコーティングして、連続コーティングを形成した。次に、窒素パージされたドライボックスの氷酢酸の容器の表面上に基材を吊るすことにより、得られたフィルムを氷酢酸の蒸気に曝露した。得られたフィルムは、自然にパターンを発達させた。フィルムを窒素パージされたドライボックス中に一晩放置した。得られた表面は、実験用雑巾による払拭に耐性を示し、光学顕微鏡下で、直径が約50~100μmの範囲の多くの固形物半球形微小滴から実質的に構成されることを明らかにした。本発明は、本明細書中に記載する特定の実施例に限定されると考えるべきではなく、むしろ本発明の全態様を包含すると理解されるべきである。本発明が適用される様々な修正及び同等のプロセス並びに多数の構造及び装置が、当業者に容易に明らかになろうであろう。当業者は、本明細書に記載されるものに限定されると考えるべきではない様々な変更が本発明の範囲から逸脱することなく行われ得ることを理解するであろう。"