表面に、長手方向の一端から他端に向かって開口面積が連続的にまたは不連続的に大きくなり、かつ厚み方向に貫通しない複数の孔群を有する基板を用意する工程と、試料を、前記複数の孔群のうち開口面積が小さい基板の一端側に塗布する工程と、前記試料を、前記複数の孔群のうち開口面積が小さい基板の一端側から大きい他端側に向かって掃引する工程と、前記複数の孔群に入り込んだ前記試料の粒子の有無から前記試料の粒度を測定する工程と、を有する、粒度測定方法。基板と、当該基板の表面に備えられ、長手方向の一端から他端に向かって開口面積が連続的にまたは不連続的に大きくなり、かつ一面から他面に貫通する複数の孔群を有するシートと、を用意する工程と、試料を、前記複数の孔群のうち開口面積が小さいシートの一端側に塗布する工程と、前記試料を、前記複数の孔群のうち開口面積が小さいシートの一端側から大きい他端側に向かって掃引する工程と、前記複数の孔群に入り込んだ前記試料の粒子の有無から前記試料の粒度を測定する工程と、を有する、粒度測定方法。前記試料を掃引した後に、前記シートを前記基板から離脱する工程をさらに有する請求項2に記載の粒度測定方法。前記複数の孔群の容積が異なる複数のシートを用いて行われる、請求項2又は3に記載の粒度測定方法。掃引工程時に、前記掃引体の掃引速度を変更させる、請求項1~4のいずれかに記載の粒度測定方法。掃引される試料の量を変化させて前記試料の粒度を測定する、請求項1~5のいずれかに記載の粒度測定方法。表面に、長手方向の一端から他端に向かって開口面積が連続的にまたは不連続的に大きくなり、かつ厚み方向に貫通しない複数の孔群を有する基板と、前記複数の孔群のうち開口面積が小さい基板の一端側に塗布された試料を、前記複数の孔群のうち開口面積が小さい基板の一端側から大きい他端側に向かって掃引する掃引体と、を有する、粒度測定装置。基板と、前記基板の表面に備えられ、長手方向の一端から他端に向かって開口面積が連続的にまたは不連続的に大きくなり、かつ一面から他面に貫通する複数の孔群を有するシートと、前記シートの複数の孔群のうち開口面積が小さい一端側に塗布された試料を、前記複数の孔群のうち開口面積が小さいシートの一端側から大きい他端側に向かって掃引する掃引体と、を有する、粒度測定装置。前記シートは、前記基板から離脱可能である、請求項8に記載の粒度測定装置。前記複数の孔群の容積が異なる複数のシートを有する、請求項8又は9に記載の粒度測定装置。前記掃引体の掃引速度が変更可能に構成されている、請求項7~10のいずれかに記載の粒度測定装置。掃引する試料の量が定量的に調整可能に構成されている、請求項7~11のいずれかに記載の粒度測定装置。しかしながら、グラインドゲージを用いた評価法では、凹溝の深い方から浅い方に向かって試料を掃引するので、凹溝の深い場所で、大きな粒子だけでなく小さな粒子も凹溝に入り込んでしまい、その分、大きな粒子のうち凹溝に入ることができないものが生じる。よって、粗大粒子の粒度の測定を精度よく行うことができない。また、模様等の視認により評価するため、その評価にばらつきが生じる。さらに、掃引から時間が経過すると、試料が乾燥し模様が変化することがある。レーザー回折/散乱式粒度分布測定装置を用いた評価法では、高濃度スラリーの場合多重散乱、回折、吸収が生じ、検出光量が少なくなる。このため、高濃度スラリーを測定することが難しく、希釈する必要がある。希釈すると実際のスラリーの分散状態を測定することができなくなり、粒度の測定精度が低下する。フロー式粒子画像解析装置を用いた評価法では、粒子を一つ一つ分離して撮像する必要があるため、スラリーを希釈する必要があり、上述のレーザー回折/散乱式粒度分布測定装置を用いた評価法と同様に、実際のスラリーの分散状態を測定することができなくなり、粒度の測定精度が低下する。本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、高濃度のスラリーなどの試料に対し粗大粒子の粒度測定を高精度に行うことができる粒度測定方法及び粒度測定装置を提供することをその目的とする。上記目的を達成するための本発明は、表面に、長手方向の一端から他端に向かって開口面積が連続的にまたは不連続的に大きくなり、かつ厚み方向に貫通しない複数の孔群を有する基板を用意する工程と、試料を、前記複数の孔群のうち開口面積が小さい基板の一端側に塗布する工程と、前記試料を、前記複数の孔群のうち開口面積が小さい基板の一端側から大きい他端側に向かって掃引する工程と、前記複数の孔群に入り込んだ前記試料の粒子の有無から前記試料の粒度を測定する工程と、を有する、粒度測定方法である。本発明によれば、試料を、開口面積が小さい孔群側から開口面積が大きい孔群側に向かって掃引するので、小さい粒子から先に孔に入り込む。このため、開口面積が大きい孔に大きい粒子がより高い確率で入るので、粒度測定の精度を向上できる。また、希釈することなく高濃度の試料の粒度測定を行うことができるので、高い測定精度を確保できる。別の観点による本発明は、基板と、当該基板の表面に備えられ、長手方向の一端から他端に向かって開口面積が連続的にまたは不連続的に大きくなり、かつ一面から他面に貫通する複数の孔群を有するシートと、を用意する工程と、試料を、前記複数の孔群のうち開口面積が小さいシートの一端側に塗布する工程と、前記試料を、前記複数の孔群のうち開口面積が小さいシートの一端側から大きい他端側に向かって掃引する工程と、前記複数の孔群に入り込んだ前記試料の粒子の有無から前記試料の粒度を測定する工程と、を有する、粒度測定方法である。前記粒度測定方法は、前記試料を掃引した後に前記シートを前記基板から離脱する工程をさらに有するものであってもよい。上記粒度測定方法は、前記複数の孔群の容積が異なる複数のシートを用いて行われてもよい。上記粒度測定方法は、掃引工程時に、前記掃引体の掃引速度を変更させるようにしてもよい。上記粒度測定方法は、掃引される試料の量を変化させて前記試料の粒度を測定するようにしてもよい。別の観点による本発明は、表面に、長手方向の一端から他端に向かって開口面積が連続的にまたは不連続的に大きくなり、かつ厚み方向に貫通しない複数の孔群を有する基板と、前記複数の孔群のうち開口面積が小さい基板の一端側に塗布された試料を、前記複数の孔群のうち開口面積が小さい基板の一端側から大きい他端側に向かって掃引する掃引体と、を有する、粒度測定装置である。また、別の観点による本発明は、基板と、前記基板の表面に備えられ、長手方向の一端から他端に向かって開口面積が連続的にまたは不連続的に大きくなり、かつ一面から他面に貫通する複数の孔群を有するシートと、前記シートの複数の孔群のうち開口面積が小さい一端側に塗布された試料を、前記複数の孔群のうち開口面積が小さいシートの一端側から大きい他端側に向かって掃引する掃引体と、を有する、粒度測定装置である。前記粒度測定装置の前記シートは、前記基板から離脱可能であってもよい。上記粒度測定装置は、前記複数の孔群の容積が異なる複数のシートを有していてもよい。上記粒度測定装置は、前記掃引体の掃引速度が変更可能に構成されていてもよい。上記粒度測定装置は、掃引する試料の量が定量的に調整可能に構成されていてもよい。本発明によれば、高濃度のスラリーなどの試料に対し粗大粒子の粒度測定を高精度に行うことができる。以下、図面を参照して、本発明の好ましい実施の形態について説明する。図1は、本実施の形態に係る粒度測定装置1の概略を示す模式図である。粒度測定装置1は、平板状のガラス基板10と、ガラス基板10上に塗布された試料であるスラリーAを掃引する掃引体11を有している。ガラス基板10は、表面に、長手方向図1の左右方向の一端10aから他端10bに向かって開口面積孔面積が不連続的に大きくなる複数の孔群を有している。例えばガラス基板10は、4つの孔群20、21、22、23を有し、孔群20は、各辺Bが10μm×10μmの方形の孔Cを有し、孔群21は、各辺Bが20μm×20μmの方形の孔Cを有し、孔群22は、各辺Bが50μm×50μmの方形の孔Cを有し、孔群23は、各辺Bが100μm×100μmの方形の孔Cを有している。これらの孔Cは、有底孔であり、ガラス基板10を貫通していない。ガラス基板10には、一端10aから他端10bに向かって孔群20~23がこの順に形成されている。図2に示すように各孔群20~23は、例えば方形の範囲に形成され、隣り合う孔群同士の間には、孔のない平坦部30が形成されている。掃引体11は、薄い方形の板状に形成されて、板の端面をガラス基板10の表面に押しあてて移動させることにより、一端10aに塗布されたスラリーAを他端10bに向かって掃引できる。次に、以上のように構成された粒度測定装置1を用いた粒度測定方法について説明する。先ず、図1に示すようにガラス基板10が用意される。次に、スラリーAが、ガラス基板10の開口面積が最も小さい孔群20側の一端10a付近に塗布される。続いて、掃引体11がガラス基板10の一端10aに押しあてられ、その状態で、他端10b側に移動する。これにより、ガラス基板10の一端10a付近のスラリーAが他端10b側に掃引され、このとき、スラリーA内の粒子が、小さいものから順にその大きさに合った孔群20~23に入り込む。そして、各孔群20~23に粒子が入ったか否かを確認することにより、スラリーAの粒度を測定する。例えば図2に示すように孔群20、21、22への粒子の入り込みが確認でき、孔群23への粒子の入り込みが確認できない場合、10μm~50μmの粒子径Dを有する粒子が含まれることが分かる。また、孔群22に入り込んだ粒子よりも孔群20に入り込んだ粒子が多い場合には、より小さい10μm以下の粒子がより多く含まれていることが分かる。本実施の形態によれば、スラリーAを、ガラス基板10の開口面積が小さい孔群20がある一端10a側から、開口面積が大きい孔群23がある他端10b側に向けて掃引するので、小さい粒子から先に孔に入り込む。このため、開口面積の大きい孔に大きい粒子がより高い確率で入るので、粒度測定の精度を向上できる。また、希釈することなく高濃度のスラリーAの粒度測定を行うことができるので、高い測定精度を確保できる。前記実施の形態において、孔群20~23がガラス基板10に形成されていたが、図3に示すようにガラス基板10の表面に設置可能なシート40に形成されていてもよい。孔群20~23は、上記ガラス基板10と同様にシート40の一端40a側から他端40b側に向けてこの順に形成されている。孔群20~23の孔は、シート40の一面から他面に貫通している。なお、本実施の形態においてガラス基板10には、孔が形成されていない。また、シート40は、スクリーン版や金属メッシュにより形成されていてもよく、金属メッシュの場合エッチング処理により成形されてもよい。本実施の形態では、先ず、スラリーAが、ガラス基板10上のシート40の孔群20側の一端40a付近に塗布される。次に、掃引体11が、シート40の一端40aに押しあてられ、その状態で、他端40b側に移動する。これにより、シート40の一端40a付近のスラリーAが他端40b側に掃引され、このとき、スラリーA内の粒子が、小さいものから順にその大きさに合った孔群20~23に入り込む。そして、シート40の各孔群20~23に粒子が入ったか否かを確認することにより、スラリーAの粒度を測定する。本実施の形態においても、スラリーAを、シート40の開口面積が小さい孔群20がある一端40a側から、開口面積が大きい孔群23がある他端40b側に向けて掃引するので、小さい粒子から先に孔に入り込む。このため、開口面積が大きい孔に大きい粒子がより高い確率で入るので、粒度の測定の精度を向上できる。また、希釈することなく高濃度のスラリーAの粒度測定を行うことができるので、高い測定精度を確保できる。加えて、試料であるスラリーAに応じて開口面積の異なるシート40を容易に取り換えることができる。前記実施の形態において、スラリーAを掃引した後にシート40をガラス基板10から離脱させ、その後粒度を測定してもよい。こうすることにより、より容易かつ精度よく、各孔群20~23における粒子の有無を確認することができる。前記実施の形態において、粒度測定装置1は、複数の孔群の容積孔の深さ×開口面積が異なる複数のシートを有し、それらのシートを用いてスラリーAの粒度測定を行うようにしてもよい。かかる場合、スラリーAに応じてシート40を選択することができ、スラリーAの粒度に合った孔群の容積を有するシート40を用いて、粒度の測定を行うことができる。よって、粒度測定の精度をさらに向上できる。また、粒度測定装置1は、掃引体11の掃引速度が変更可能に構成されていてもよい。具体的には、粒度測定装置1は、掃引体11のモータ等の駆動源を制御して、掃引体11の掃引速度を変更する速度制御部を備えていてもよい。かかる場合、掃引工程時に、掃引体11の掃引速度を変更させることができるので、例えばスラリーAが、各大きさの孔群に入り込む時間を確保することができ、スラリーAが、対応する寸法の孔に入らずに掃引されることが防止される。また、掃引速度を下げて、次に大きい面積の孔にスラリーAが持ちこされていないことを確認することもできる。この結果、粒度測定の精度を向上できる。粒度測定装置1は、掃引するスラリーAの量が定量的に調整可能に構成されていてもよい。かかる場合、掃引されるスラリーAの量を変化させて粒度を測定することができるので、適切な量のスラリーAで粒度を測定でき、粒度測定の精度を向上できる。以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。例えば以上の実施の形態において、孔群20~23は、ガラス基板10の表面若しくはシート40に一端から他端に向けて不連続的に開口面積が大きくなるように形成されていたが、連続的に開口面積が大きくなるように形成されていてもよい。また、孔群の数は、4つであったが、これに限定されるものではない。また、孔群の孔の径や形も任意に選択できる。さらに、以上の実施の形態では、試料がスラリーAであったが、これに限られず他の試料の精度の測定にも本発明は適用できる。