"次の式IIIaの化合物の製造方法であって、式中、Rは1~5の炭素原子を有するアルキル基を表し、Xはアルコールに対する保護基を表し、Yはアミンに対する保護基を表す。i前記式IIIaの化合物を含む粗反応生成物を得る段階、ii段階iの粗反応生成物に酢酸エチルを添加して懸濁液を調製する段階、iii段階iiの懸濁液に水を添加して、水層及び有機層を含む二層系を形成し、水層を廃棄する段階、iv段階iiiの有機層に酸を添加して、酸性水層及び有機層を含む二層系を形成し、酸性水層を廃棄する段階、並びにv段階ivの有機層を水で洗浄する段階を含む処理プロセスを含んでなる方法。Xがベンジルである、請求項1記載の方法。Rがエチルである、請求項1又は請求項2記載の方法。Yがtert-ブチルカルバメートBocである、請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の方法。段階iiで添加される酢酸エチルの量が、次の式IIaの化合物を含む出発原料の量に比べて、容量/重量で15:1~25:1の範囲内にある、請求項1乃至請求項4のいずれか1項記載の方法。式中、X及びRは請求項1で定義した通りである。段階iiiで添加される水の量が段階iiで添加される酢酸エチルの量の約半分である、請求項1乃至請求項5のいずれか1項記載の方法。段階ivで添加される酸がHClである、請求項1乃至請求項6のいずれか1項記載の方法。段階ivでの洗浄が、純水、炭酸水素ナトリウムの水溶液、及びブラインで洗浄することを含む、請求項1乃至請求項7のいずれか1項記載の方法。さらに、段階ivからの組成物を減圧下で濃縮し、乾燥し、精製する段階を含む、請求項1乃至請求項8のいずれか1項記載の方法。粗反応生成物が式IIIaの化合物のsyn-及びanti-鏡像異性体の混合物を含む、請求項1乃至請求項9のいずれか1項記載の方法。次の式Vの化合物の製造方法であって、式中、Yは請求項1又は請求項4で定義した通りであり、Rは請求項1又は請求項3で定義した通りであり、LGは脱離基である。請求項1乃至請求項10のいずれか1項記載の方法に従って式IIIaの化合物を製造することを含んでなる方法。前記脱離基がハロゲン置換基又は-OR2式中、R2はフルオロスルホン酸置換基又は芳香族スルホン酸置換基である。で表される基である、請求項11記載の方法。前記脱離基が、トルエンスルホン酸置換基、ニトロベンゼンスルホン酸置換基、ベンゼンスルホン酸置換基、トリフルオロメタンスルホン酸置換基、フルオロスルホン酸置換基及びペルフルオロアルキルスルホン酸置換基から選択される、請求項12記載の方法。前記式Vaの化合物が次の式Vの化合物である、請求項11又は請求項12記載の方法。次の式VIの化合物の製造方法であって、請求項1乃至請求項10のいずれか1項記載の方法に従って式IIIaの化合物を製造することを含んでなる方法。したがって第1の態様では、本発明は、次の式IIIaの化合物の製造方法であって、式中、Rは1~5の炭素原子を有するアルキル基を表し、Xはアルコールに対する保護基を表し、Yはアミンに対する保護基を表す。i前記式IIIaの化合物を含む粗反応生成物を得る段階、ii段階iの粗反応生成物に酢酸エチルを添加して懸濁液を調製する段階、iii段階iiの懸濁液に水を添加して、水層及び有機層を含む二層系を形成し、水層を廃棄する段階、iv段階iiiの有機層に酸を添加して、酸性水層及び有機層を含む二層系を形成し、酸性水層を廃棄する段階、並びにv段階ivの有機層を水で洗浄する段階を含む処理プロセスを含んでなる方法を提供する。これらの段階は、好ましくは上記に記載した順序で実施される。処理プロセスという用語は、当技術分野におけるその通常の意味を有し、化学反応の生成物を単離しかつ精製するために必要な一連の操作をいう。本発明の場合、化学反応の生成物は本明細書中で定義される式IIIaの化合物である。単独で又は組み合わせて使用されるアルキルという用語は、一般式CnH2n1を有す直鎖又は枝分れアルキル基を意味する。かかる基の例には、メチル、エチル及びイソプロピルがある。保護基という用語は、当業者にとって公知である。保護基は、後続の化学反応における化学選択性を得るため、官能基の化学的修飾によって分子中に導入される。保護基の使用は、‘ProtectiveGroupsinOrganicSynthesis’,TheorodoraW.GreeneandPeterG.M.WutsFoourthEdition,JohnWileySons,2007に記載されている。本明細書中でアルコールという用語は、-OH基を含む置換基をいう。本明細書中でアミンという用語は、-NR’R基式中、R’及びRは独立に水素又はアルキルであり、好ましくは共に水素である。をいう。本明細書中で粗反応生成物という用語は、処理プロセスのいずれかの段階が実施される前における化学反応の生成物をいう。ここで、処理プロセスという用語は上記に定義した通りである。具体的には、本発明の文脈中では、粗反応生成物は、式Iaの化合物にY及びRを付加するために実施される上記スキーム1の段階1及び2に類似した化学反応の生成物をいう。これらの段階は、段階1a及び2aとして下記に示される。式中の各々の場合において、X、R及びYは式IIIaに関して本明細書中に定義した通りである。前記粗反応生成物を得る段階iは上記に示した段階2aを含み、この段階は式IIIの特定化合物に関して実施例1に記載されている。この段階は、式IIaの化合物をアミンに対する保護剤と反応させることを含んでいる。式IIIaの化合物を含む粗反応生成物は塩を含んでいる。塩という用語は当業者にとって公知であり、酸と塩基との中和から生じるイオン性化合物をいう。式IIIaの化合物例えば、式IIIの化合物を製造する場合、塩は本方法の反応剤及び中間体から生成される。かかる塩は様々な塩化物イオン含有塩例えば、塩化チオニルを含む可能性があるが、これは使用される特定の反応剤及び保護剤に依存する。懸濁液という用語は化学分野におけるその通常の意味を有し、これは沈降するのに十分な大きい固体粒子を含む不均質流体である。本発明の懸濁液中の固体粒子は、段階iiにおいて、塩を析出させるように作用する酢酸エチルを添加することで生み出される。段階iii及びivで使用される二相系という用語は、水相及び有機相を含む二相系をいう。段階iiiで使用される水相という用語は、溶媒としての水及び二相系の水溶性成分を含む相をいう。段階iii及びivで使用される有機相とは、酢酸エチル及びその中に可溶である二相系の成分を含む相をいう。段階ivで使用される酸性水相という用語は、酸及びその中に可溶である段階ivの二相系の成分を含む相をいう。段階ivの酸は無機酸であり、保護基X及びYに影響を及ぼさないように選択すべきである。かかる酸は、好ましくは塩酸HCl又は同じpKaを与える他の無機酸である。R部分は線状又は枝分れアルキル鎖であり、好ましくはメチル、エチル、1-プロピル及びイソプロピルから選択されるアルキル基であり、最も好ましくはエチルである。X部分はアルコールに対する保護基であり、この保護基は保護基がその関連エーテルを形成するように選択される。かかる保護基には、例えば、ベンジルBn、メトキシメチルMOM、2-メトキシエトキシメチルMEM、メチルチオメチルMTM、テトラヒドロピラニルTHP、ベンジルオキシメチルBOM、p-メトキシフェニル、p-メトキシベンジルMPM、p-メトキシベンジルオキシメチルPMBM、トリイソプロピルシリルTIPS、tert-ブチルジメチルシリルTBDMS、2-トリメチルシリルエトキシメチルSEM及びフェニルジメチルシリルメトキシメチルSMOMがある。水素化によって除去できる基が好ましく、好ましい実施形態ではXはベンジルである。Y部分は、アミンに対する保護基、例えばカルバメートである。好ましくは、Yはtert-ブチルカルバメートBoc、9-フルオレニルメチルカルバメートFmoc、メチルカルバメート、エチルカルバメート、2-クロロ-3-インデニルメチルカルバメートClimoc、ベンズ[f]インデン-3-イルメチルカルバメートBimoc、2,2,2-トリクロロエチルカルバメートTroc、2-クロロエチルカルバメート、1,1-ジメチル-2,2-ジブロモエチルカルバメートDB-t-BOC、1,1-ジメチル-2,2,2-トリクロロエチルカルバメートTCBOC、ベンジルカルバメートCbz及びジフェニルメチルカルバメートから選択される。最も好ましくは、Yはtert-ブチルカルバメートであって、N-tert-ブトキシカルボニルを与える。特に好ましい実施形態では、Rはエチル基であり、Xはベンジルであり、YはBocである結果、式IIIaの化合物は式IIIの化合物である。本方法の段階iiでは、式IIIaの粗化合物を含む組成物に酢酸エチルが添加される。酢酸エチルの添加量は、式IIIaの粗化合物を製造する反応のための出発原料の量に比べて、例えば、容量/重量で15:1~25:1の範囲内にあり、さらに好ましくは18:1~21:1の範囲内にある。好ましい実施形態では、出発原料は式IIaの化合物を含む組成物として定義される。かかる組成物はまた、塩も含んでいる。酢酸エチルを添加した場合には懸濁液が形成される。この段階では酸は添加されない。欧州特許出願公開第1978015号に記載されているようにこの段階で酸を添加すると、大規模で実施する場合にはエマルジョンが生じるであろう。段階iiiでは、段階iiの懸濁液に水を添加することで塩が除去される。式IIIaの粗化合物に水を添加することで、大部分の無機塩を水相に溶解すると共に、塩を水相中に移してそれを廃棄すれば、塩生成に関連する問題は回避される。式IIIaの化合物は塩の存在なしに有機相中に留まり、この相は処理プロセス中に存続する。段階iiiにおける水の添加量は、式IIIaの粗化合物を製造する反応のための出発原料の量に比べて、例えば、容量/重量で5:1~15:1の範囲内にあり、さらに好ましくは9:1~10:1の範囲内にある。最も好ましくは、段階iiiにおける水の添加量は、段階iiで添加される酢酸エチルの量の約半分である。段階ivでは、段階iiiの有機相に酸が添加される。酸を添加した場合、別の相分離が起こり、有機相及び酸性水相を含む二相系が形成される。水相は廃棄される一方、有機相は処理プロセス中に存続する。酸の機能は、式IIIaの標的化合物をプロトン化することである。これは、この化合物が陰イオン型の化合物として存在し、水相中に抽出されるのを回避するためである。酸の量は、好ましくは段階iiで添加される酢酸エチルの量とほぼ同じであり、強度は例えば0.2~0.8モルであり、最も好ましくは0.5モルである。段階vでは、式IIIaの化合物を含む段階ivからの有機相が水で好ましくは数回洗浄される。この洗浄段階は、純水、炭酸水素ナトリウムの水溶液、及びブラインでの洗浄を含み得る。好ましくは、この段階は、水で2回洗浄し、続いて炭酸水素ナトリウムの水溶液で洗浄し、続いて再び水で洗浄し、その後にブラインで洗浄する段階を含んでいる。各々の水洗は、好ましくは2回行われる。好ましい実施形態では、この洗浄段階vは、各回ごとに所定の水量を使用しながら、好ましくは水で2回洗浄し、炭酸水素ナトリウムの水溶液で洗浄し、再び水で洗浄し、次いでブラインで洗浄する複数の段階を含んでいる。所定の水量は好ましくはこれらの段階のすべてについて同じであり、その水量は好ましくは段階iiiで添加される水の量と同じである。本発明の処理プロセスでは、有機相と水相との各分離は抽出によって行われる。段階v後、任意の追加段階として、段階vからの組成物を例えば減圧下で濃縮し、例えば適当な乾燥剤を用いてそれを乾燥し、例えばシリカゲルカラム上でのフラッシュクロマトグラフィーによって精製することが含まれる。好ましい実施形態では、式IIIの化合物はこの方法に従って製造される。本発明の方法は、式IIIaの化合物を大規模で即ち、100グラム以上、例えば300グラム又は最大500グラム以上の量で製造する場合に特に有用である。それより小規模では、生成した塩は濾過によって除去できるが、スケールアップした場合には、フィルターの目詰まりのために塩を濾過によって除去するのは不可能であることが経験された。塩の洗浄除去を含む本発明の方法は、はるかに簡単であり、一層効率的であり、かつコスト効率が良いことが判明した。さらに、スケールアップした場合、本方法は生成した塩の濾去を含む方法より消費時間がはるかに少ないことも判明した。本発明の方法を大規模で使用した場合には、塩の濾去を含む方法を使用する場合に比べ、仮に可能とすれば2~4日が節約されると予想される。塩の濾去を含む方法を大規模で使用しようとすれば、大規模濾過のための高価な設備が必要となるであろう。好ましい実施形態では、本発明の処理プロセス用の出発組成物即ち、粗化合物IIIaを組成物は、化合物IIIaさらに詳しくは式IIIの化合物のsyn-及びanti-鏡像異性体の混合物を含んでいる。したがって、好ましい実施形態では、スキーム1のプロセス用の出発反応剤は次の式0のヒダントインのsyn-及びanti-鏡像異性体の混合物である。この化合物は5-3-ベンジルオキシシクロブタンヒダントインである。本発明の方法を使用する場合には、18F-FACBCの前駆体即ち、スキーム1中の化合物Vを製造するプロセスのいかなる段階でも鏡像異性体を積極的に分離する必要がないことが判明した。さらに別の態様では、本発明は、次の式Vanti-の化合物の製造方法であって、式中、Y及びRは式IIaに関して本明細書中に好適なもの及び好ましいものとして定義した通りであり、LGは脱離基である。本明細書中に好適なもの及び好ましいものとして記載した方法に従って式IIIaの化合物を製造することを含んでなる方法を提供する。脱離基LGは、好ましくはハロゲン置換基又は-OR2式中、R2はフルオロスルホン酸置換基又は芳香族スルホン酸置換基である。で表される基である。最も好ましくは、脱離基は、トルエンスルホン酸置換基、ニトロベンゼンスルホン酸置換基、ベンゼンスルホン酸置換基、トリフルオロメタンスルホン酸置換基、フルオロスルホン酸置換基及びペルフルオロアルキルスルホン酸置換基から選択される。式Vaの化合物は、好ましくは次の式Vの化合物である。これは18F-FACBCの直接標識前駆体化合物である。OTfはトリフルオロメタンスルホネートを表す。この場合、式IIa中のYはBocであり、Rはエチルである。さらに別の態様では、本発明は、次の式VIの化合物の製造方法であって、本明細書中に好適なもの及び好ましいものとして記載した方法に従って式IIIaの化合物を製造することを含んでなる方法を提供する。本発明を下記の実施例によって例証する。実施例1:1-N-t-ブトキシカルボニルアミノ-3-ベンジルオキシ-シクロブタン-1-カルボン酸エチルエステル式IIIの化合物の合成及び精製合成:1-アミノ-3-ベンジルオキシシクロブタン-1-カルボン酸エチルエステル式IIの化合物630g、前段階からの塩残留物を含むをN2雰囲気下においてエタノール18500ml及びトリエチルアミン2000ml中で撹拌し、<5°Cに冷却した。冷却溶液をtert-ブチルジカルボネート602gに添加し、得られた混合物を周囲温度に戻し、反応の進行をTLC分析によってモニターしながら20時間撹拌した。反応の完了後、混合物を真空中において35°Cで蒸発乾固した。精製:式IIIの化合物及び塩を含む、上記合成からの粗生成物を酢酸エチル12000mlに添加して懸濁液を得、水6000mlを懸濁液に添加して二相系を形成した。相を分離し、水相を廃棄した。有機相をHCl12000ml、0.5Mで洗浄し、酸性水相を廃棄した。有機相を水6000ml、×2で洗浄し、続いて炭酸水素ナトリウム溶液6000ml水6000ml及びブライン6000ml、×2で洗浄し、有機相を無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、真空中で蒸発させて表題化合物を得た。"