"複数の反射スリットが測定軸に沿って並べられたスリットアレイと、前記スリットアレイの一部に対向しつつ、該スリットアレイに対して前記測定軸上で相対移動可能な光学モジュールと、を備え、前記光学モジュールは、前記スリットアレイの一部に光を照射する点光源と、前記スリットアレイと平行な面内において前記測定軸と垂直な幅方向で前記点光源に対してオフセットした位置に配置され、前記点光源から照射されて前記反射スリットで反射された反射光をそれぞれ受光する複数の受光素子が前記測定軸に沿って並べられた受光アレイと、を有し、前記複数の受光素子は、前記測定軸方向で前記点光源に近い受光素子ほど前記幅方向の長さが短い形状をそれぞれ有し、前記幅方向における前記点光源と反対側の端部が前記測定軸に沿った位置になるように並べられる、エンコーダ。前記スリットアレイは、前記幅方向に少なくとも2つ併設され、前記点光源は、併設された2の前記スリットアレイの間の位置に対向して配置され、前記受光アレイは、前記幅方向で前記点光源を挟み、前記併設された2のスリットアレイそれぞれに対向して少なくとも2つ併設された、請求項1に記載のエンコーダ。前記併設された2のスリットアレイは、前記測定軸方向でアブソリュートパターンを有し、前記併設された2のスリットアレイの間において、前記点光源に対向する位置には、インクリメンタルパターンを有する少なくとも1の前記スリットアレイが併設され、前記測定軸方向における前記点光源の一側及び他側の少なくとも一方には、前記少なくとも1のスリットアレイからの反射光を受光して、インクリメンタル信号を出力する受光アレイが配置される、請求項2に記載のエンコーダ。前記インクリメンタル信号を出力する受光アレイが有する複数の受光素子それぞれは、互に前記幅方向の長さが同一である、請求項3に記載のエンコーダ。前記併設された2の受光アレイのうち一方の受光アレイの受光素子と、他方の受光アレイの受光素子とは、前記測定軸方向の長さが略同一で、前記幅方向の長さが前記測定軸方向で前記点光源に近い受光素子ほど短くなり、かつ、受光光量が略等しくなる長さで形成される、請求項2~4のいずれか1項に記載のエンコーダ。複数の反射スリットが測定軸に沿って並べられたスリットアレイの一部に対向しつつ、該スリットアレイに対して前記測定軸上で相対移動可能に配置された場合にエンコーダを構成する光学モジュールであって、前記スリットアレイの一部に光を照射する点光源と、前記スリットアレイと平行な面内において前記測定軸と垂直な幅方向で前記点光源に対してオフセットした位置に配置され、前記点光源から照射されて前記反射スリットで反射された反射光をそれぞれ受光する複数の受光素子が前記測定軸に沿って並べられた受光アレイと、を有し、前記複数の受光素子は、前記測定軸方向で前記点光源に近い受光素子ほど前記幅方向の長さが短い形状をそれぞれ有し、前記幅方向における前記点光源と反対側の端部が前記測定軸に沿った位置になるように並べられる、光学モジュール。測定軸方向に移動対象を移動させることが可能なモータと、前記モータ及び前記移動対象の少なくとも一方の前記測定軸方向の位置を検出するエンコーダと、前記エンコーダが検出した位置に基づいて、前記モータを制御する制御部と、を備え、前記エンコーダは、複数の反射スリットが測定軸に沿って並べられたスリットアレイと、前記スリットアレイの一部に対向しつつ、前記モータの駆動に伴い前記スリットアレイに対して前記測定軸上で相対移動可能な光学モジュールと、を備え、前記光学モジュールは、前記スリットアレイの一部に光を照射する点光源と、前記スリットアレイと平行な面内において前記測定軸と垂直な幅方向で前記点光源に対してオフセットした位置に配置され、前記点光源から照射されて前記反射スリットで反射された反射光をそれぞれ受光する複数の受光素子が前記測定軸に沿って並べられた受光アレイと、を有し、前記複数の受光素子は、前記測定軸方向で前記点光源に近い受光素子ほど前記幅方向の長さが短い形状をそれぞれ有し、前記幅方向における前記点光源と反対側の端部が前記測定軸に沿った位置になるように並べられる、サーボシステム。しかし、点光源から発せられる拡散光は、受光信号に含めたい反射光としてばかりではなく、散乱光や迷光としても受光素子に受光されて、受光素子におけるノイズを発生させてしまう。ノイズは、エンコーダの位置検出精度を低下させる要因となる。そこで、本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、検出精度を向上させることが可能な、エンコーダ、光学モジュール及びサーボシステムを提供することにある。上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、複数の反射スリットが測定軸に沿って並べられたスリットアレイと、上記スリットアレイの一部に対向しつつ、該スリットアレイに対して上記測定軸上で相対移動可能な光学モジュールと、を備え、上記光学モジュールは、上記スリットアレイの一部に光を照射する点光源と、上記スリットアレイと平行な面内において上記測定軸と垂直な幅方向で上記点光源に対してオフセットした位置に配置され、上記点光源から照射されて上記反射スリットで反射された反射光をそれぞれ受光する複数の受光素子が上記測定軸に沿って並べられた受光アレイと、を有し、上記複数の受光素子は、上記測定軸方向で上記点光源に近い受光素子ほど上記幅方向の長さが短い形状をそれぞれ有し、上記幅方向における上記点光源と反対側の端部が上記測定軸に沿った位置になるように並べられる、エンコーダが提供される。また、上記スリットアレイは、上記幅方向に少なくとも2つ併設され、上記点光源は、併設された2の上記スリットアレイの間の位置に対向して配置され、上記受光アレイは、上記幅方向で上記点光源を挟み、上記併設された2のスリットアレイそれぞれに対向して少なくとも2つ併設されてもよい。また、上記併設された2のスリットアレイは、上記測定軸方向でアブソリュートパターンを有し、上記併設された2のスリットアレイの間において、上記点光源に対向する位置には、インクリメンタルパターンを有する少なくとも1の上記スリットアレイが併設され、上記測定軸方向における上記点光源の一側及び他側の少なくとも一方には、上記少なくとも1のスリットアレイからの反射光を受光して、インクリメンタル信号を出力する受光アレイが配置されてもよい。また、上記インクリメンタル信号を出力する受光アレイが有する複数の受光素子それぞれは、互に上記幅方向の長さが同一であってもよい。また、上記併設された2の受光アレイのうち一方の受光アレイの受光素子と、他方の受光アレイの受光素子とは、上記測定軸方向の長さが略同一で、上記幅方向の長さが上記測定軸方向で上記点光源に近い受光素子ほど短くなり、かつ、受光光量が略等しくなる長さで形成されてもよい。また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、複数の反射スリットが測定軸に沿って並べられたスリットアレイの一部に対向しつつ、該スリットアレイに対して上記測定軸上で相対移動可能に配置された場合にエンコーダを構成する光学モジュールであって、上記スリットアレイの一部に光を照射する点光源と、上記スリットアレイと平行な面内において上記測定軸と垂直な幅方向で上記点光源に対してオフセットした位置に配置され、上記点光源から照射されて上記反射スリットで反射された反射光をそれぞれ受光する複数の受光素子が上記測定軸に沿って並べられた受光アレイと、を有し、上記複数の受光素子は、上記測定軸方向で上記点光源に近い受光素子ほど上記幅方向の長さが短い形状をそれぞれ有し、上記幅方向における上記点光源と反対側の端部が上記測定軸に沿った位置になるように並べられる、光学モジュールが提供される。また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、測定軸方向に移動対象を移動させることが可能なモータと、上記モータ及び上記移動対象の少なくとも一方の上記測定軸方向の位置を検出するエンコーダと、上記エンコーダが検出した位置に基づいて、上記モータを制御する制御部と、を備え、上記エンコーダは、複数の反射スリットが測定軸に沿って並べられたスリットアレイと、上記スリットアレイの一部に対向しつつ、上記モータの駆動に伴い上記スリットアレイに対して上記測定軸上で相対移動可能な光学モジュールと、を備え、上記光学モジュールは、上記スリットアレイの一部に光を照射する点光源と、上記スリットアレイと平行な面内において上記測定軸と垂直な幅方向で上記点光源に対してオフセットした位置に配置され、上記点光源から照射されて上記反射スリットで反射された反射光をそれぞれ受光する複数の受光素子が上記測定軸に沿って並べられた受光アレイと、を有し、上記複数の受光素子は、上記測定軸方向で上記点光源に近い受光素子ほど上記幅方向の長さが短い形状をそれぞれ有し、上記幅方向における上記点光源と反対側の端部が上記測定軸に沿った位置になるように並べられる、サーボシステムが提供される。以上説明したように本発明によれば、検出精度を向上させることができる。以下に添付図面を参照して、本発明の実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面では、実質的に同一の機能を有する構成要素は、原則として同一の符号で表す。そして、これらの構成要素についての重複説明は、適宜省略する。ここで本発明の各実施形態について説明する前に、本願発明者等が鋭意研究した結果、想到したノイズの原因等について説明する。本発明の各実施形態に係るエンコーダのように点光源を使用する場合、その光源から照射される拡散光は、比較的直進性が高い。直進性の高い拡散光が反射スリットで反射した反射光を検出することにより、ノイズを低減することができ、検出精度を向上させることができる。しかしながら、拡散光は、点光源近傍の他の部材、例えば照射対象側に突出した部材で散乱されて、受光素子に到達しえる。特にLEDLightEmittingDiodeによる点光源は、電力供給のためのボンディングワイヤ等が光路中又は光路近傍に突出しており、このワイヤによる散乱光は、ノイズの一因となる。また、他の構成による点光源であっても、その配線や他の部材でノイズの一因となる散乱が生じる。そこで、ワイヤ等の配置位置を工夫して光路から離すことも考えられるが、所望の光路外の照射光などが、ワイヤで散乱されて、やはりノイズが発生する。更に、散乱光による2次反射や反射光の2次反射等もノイズの一因と成りえる。このようなノイズが発生したのでは、比較的直進性の高い点光源を使用したことによるノイズ低減効果が相殺されるばかりか、かえってノイズが増加してしまう。一方、これらのノイズは、主な光の発生源が点光源であるため、その点光源からの距離に応じて減衰する。従って、点光源と受光素子との間の距離を大きくすることにより、ノイズを低減することも考えられるが、エンコーダ自体の構成が大型化してしまうだけでなく、検出すべき反射光も同様に減衰してしまう。従って、装置の小型化とノイズ低減による検出精度向上とを両立することは難しい。これらの事情に想到した本発明の発明者等は、更に鋭意研究を行った結果、本発明の各実施形態に係るエンコーダ等に想到した。以下、この各実施形態について詳細に説明する。なお、ここで説明した課題や効果などは、各実施形態のあくまで一例であって、さらなる作用効果等を各実施形態が奏することは言うまでもない。なお、以下で説明する本発明の各実施形態に係るエンコーダは、回転型ロータリタイプや直線型リニアタイプなど様々なタイプのエンコーダに適用可能である。しかしながら、以下で説明する各実施形態では、各実施形態に係るエンコーダの理解が容易になるように、回転型のエンコーダを例に挙げて説明する。他のタイプのエンコーダに適用される場合については、移動体を回転型から直線型に変更するなど適切な変更を加えることにより可能であるため、以下における詳しい説明は省略する。<一実施形態>1.サーボシステムまず、図1を参照しつつ、本発明の一実施形態に係るサーボシステムの構成について説明する。図1は、本発明の一実施形態に係るサーボシステムについて説明するための説明図である。図1に示すように、本実施形態に係るサーボシステムSは、サーボモータSMと、制御装置CTとを有する。また、サーボモータSMは、エンコーダ100と、モータMとを有する。モータMは、エンコーダ100を含まない動力発生源の一例である。このモータM単体をサーボモータという場合もあるが、本実施形態では、エンコーダ100を含む構成をサーボモータSMということにする。モータMは、移動体の一例であるシャフトSHを有し、このシャフトSHを回転軸AX周りに回転させることにより、回転力を出力する。なお、モータMは、例えば位置データ等のようなエンコーダ100が検出するデータに基づいて制御されるモータであれば特に限定されるものではない。また、モータMは、動力源として電気を使用する電動式モータである場合に限られるものではなく、例えば、油圧式モータ、エア式モータ、蒸気式モータ等の他の動力源を使用したモータであってもよい。ただし、説明の便宜上、以下ではモータMが電動式モータである場合について説明する。本実施形態に係るエンコーダ100は、モータMの回転力出力側とは反対側のシャフトSHに連結される。そして、エンコーダ100は、シャフトSHの位置角度を検出することにより、モータM測定対象の一例の位置x回転角度θともいう。を検出し、その位置xを表す位置データを出力する。エンコーダ100は、モータMの位置xに加えてか又は代えて、モータMの速度v回転速度、角速度等ともいう。及びモータMの加速度a回転加速度、角加速度等ともいう。の少なくとも一方を検出してもよい。この場合、モータMの速度v及び加速度aは、例えば、位置xを時間で1又は2階微分したり検出信号例えば後述するインクレ信号を所定時間の間カウントするなどの処理により検出することが可能である。説明の便宜上、以下ではエンコーダ100が検出する物理量は位置xであるとして説明する。制御装置CTは、エンコーダ100から出力される位置データを取得して、当該位置データに基づいて、モータMの回転を制御する。従って、モータMとして電動式モータが使用される本実施形態では、制御装置CTは、位置データに基づいて、モータMに印加する電流又は電圧等を制御することにより、モータMの回転を制御する。更に、制御装置CTは、上位制御装置図示せずから上位制御信号を取得して、当該上位制御信号に表された位置等を実現可能な回転力がモータMのシャフトSHから出力されるように、モータMを制御することも可能である。なお、モータMが、油圧式、エア式、蒸気式などの他の動力源を使用する場合には、制御装置CTは、それらの動力源の供給を制御することにより、モータMの回転を制御することが可能である。2.エンコーダ次に、図2~図6を参照しつつ、本実施形態に係るエンコーダ100について説明する。図2は、本実施形態に係るエンコーダについて説明するための説明図である。図3は、本実施形態に係るディスクについて説明するための説明図である。図4は、本実施形態に係るスリットアレイについて説明するための説明図である。図5は、本実施形態に係る光学モジュールについて説明するための説明図である。図6は、本実施形態に係るエンコーダによる受光動作について説明するための説明図である。なお、図6は、図4及び図5のA-A線における断面図を模式的に示している。図2に示すように、本実施形態に係るエンコーダ100は、ディスク110と、磁石MGと、磁気検出部120と、光学モジュール130と、位置データ生成部140とを有する。ここで、エンコーダ100の構造の説明の便宜上、本実施形態では、上下等の方向を以下のように定める。つまり、図2において、ディスク110が光学モジュール130と面する方向、つまりZ軸正の方向を上と表し、逆のZ軸負の方向を下と表す。図3において、ディスク110の半径方向を、後述するスリットアレイが形成するトラックの幅の方向であるという意味で幅R方向ともいう。一方、ディスク110の周方向を、エンコーダ100が測定する位置xの方向という意味で測定軸C方向ともいう。ただし、本実施形態に係るエンコーダ100の各構成の位置関係は、上下等の概念に特に限定されるものではない。また、説明の便宜に応じて、ここで定めた方向について他の表現等をしたり、これら以外の方向については適宜説明しつつ使用する場合もあることを付言しておく。2-1.ディスクディスク110は、図3に示すように円板状に形成され、ディスク中心Oが回転軸AXとほぼ一致するように配置される。そして、ディスク110は、モータMのシャフトSHに連結され、モータMの回転、つまりシャフトSHの回転により回転する。本実施形態では、モータMの回転を測定する非測定対象移動体ともいう。の例として、円板状のディスク110を例に挙げて説明するが、例えば、シャフトSHの端面などの他の部材を非測定対象として使用することも可能である。ディスク110は、図3に示すように、磁石MGと、複数のスリットアレイSA1,SA2,SIとを有する。ディスク100は上述のとおりモータMの駆動ともに回転するが、これに対して、磁気検出部120と光学モジュール130とは、ディスク100の一部に対向しつつ固定配置される。従って、磁石MG及びスリットアレイSA1,SA2,SIと、磁気検出部120及び光学モジュール130とは、モータMの駆動に伴い、互いに測定軸C方向で相対移動可能に配置される。磁気検出部120は、ディスク110の上面側において磁石MGの一部に対向して配置されて、磁気検出機構を構成する。光学モジュール130は、ディスク110の上面側においてスリットアレイSA1,SA2,SIの一部に対向して配置されて、光学検出機構を構成する。この磁気検出機構及び光学検出機構について詳細に説明する。2-2.磁気検出機構磁気検出機構は、磁石MGと磁気検出部120とを有する。磁石MGは、図3に示すように、ディスク110の上面Z軸正の方向に、ディスク中心Oを中心としたリング状に形成される。磁石MGの上面における磁界の向きは、ディスク110の180°で反転するように配置される。磁気検出部120は、図2及び図3に示すように、ディスク110の上面側のリング状の磁石MGの一部と対向した位置において、回転する磁石MGに対して相対移動可能なように固定して配置される。そして、磁気検出部120は、磁石MGの上面における磁界の向きを検出する。上述のとおり、磁石110の上面における磁界の向きがディスク110の180°で反転するので、磁気検出部120は、ディスク110が1回転すると1周期変化する磁界の向きを検出する。つまり、磁気検出部120の検出する信号は、1回転内の大まかなディスク110の位置xを表す。この信号を以下では1X信号ともいう。この1X信号は、位置データ生成部140に送られる。なお、1X信号を検出する代わりに、磁気検出部120は、ディスク110が1回転したか否かを表す多回転信号を検出してもよい。このような磁気検出部120による多回転信号の検出は、例えば電源OFF時のバックアップ電源による位置検出に用いられる場合特に有効である。磁気検出部120は、このように磁界の向きを検出可能な構成であれば、特に限定されるものではない。磁気検出部120の一例として、例えばMR磁気抵抗効果:MagnetroResistiveeffect素子やGMR巨大磁気抵抗効果:GiantMagnetroResistiveeffect素子などのような磁気角度センサを使用することが可能である。また、磁気検出部120として、例えばホール素子などの磁界検出素子を使用して、回転軸AXに対して垂直な2軸方向の磁界の強度を検出し、磁界検出素子からの検出信号に基づいて磁石MGの磁界の向きを算出することで、ディスク110の回転を検出することも可能である。なお、回転方向を判別するために、ディスク110の1回転中に90°相異なる位置に、少なくとも2の磁気検出部120が配置されることが望ましい。また、ディスク110の偏心などの製造誤差による影響を低減するために、1の磁気検出部120に対して、ディスク110の1回転中の180°異なる位置に、対を成す他の磁気検出部120が配置されても良い。ただし、磁気検出機構は、必ずしも必要ではない。しかし、本実施形態のように磁気検出機構を備える場合、エンコーダ100は、例えば、磁気検出機構と光学検出機構とを併用することにより信頼性の高いモータMの位置xを算出したり、異なる原理により機能的冗長性リダンダンシー等を付与したり、低消費電力により多回転検出を行うなどが可能である。2-3.光学検出機構光学検出機構は、スリットアレイSA1,SA2,SIと光学モジュール130とを有する。スリットアレイは、ディスク110の上面Z軸正の方向においてディスク中心Oを中心としたリング状に配置されたトラックとして形成される。スリットアレイは、トラックの全周にわたって、測定軸Cつまり周方向に沿って並べられた複数の反射スリット図4における斜線ハッチング部分を有する。1つ1つの反射スリットは、光源131から照射された光を反射する。ディスク110は、本実施形態では例えばガラスにより形成される。そして、スリットアレイが有する反射スリットは、ガラスのディスク110の面に、光を反射する部材が塗布されることにより、形成可能である。なお、ディスク110の材質は、ガラスに限られるものではなく、金属や樹脂等を使用することも可能である。また、反射スリットは、例えば、反射率の高い金属をディスク110として使用し、光を反射させない部分を、スパッタリング等により粗面としたり反射率の低い材質を塗布したりすることで、反射率を低下させて、形成されてもよい。ただし、ディスク110の材質や製造方法等については特に限定されるものではない。スリットアレイは、本実施形態では、ディスク110の上面において幅R方向つまり径方向に3本併設されるスリットアレイSA1,SA2,SI。3本のスリットアレイSA1,SA2,SIのそれぞれについてより詳細に説明するために、図3における領域Area近傍の部分拡大図を図4に示す。図4に示すように、スリットアレイSA1は、3本のスリットアレイ中一番内径側に配置される一方、スリットSA2は、3本のスリットアレイ中一番外径側に配置される。そして、スリットアレイSIは、スリットアレイSA1とスリットアレイSA2との間に配置される。幅R方向両側に配置されたスリットアレイSA1,SA2が有する複数の反射スリットは、測定軸C方向でアブソリュートパターンを有するように、ディスク110の全周に配置される。なお、アブソリュートパターンとは、後述する光学モジュール130が有する受光アレイが対向する角度内における反射スリットの位置や割合等が、ディスク110の1回転内で一義に定まるようなパターンである。つまり、モータMがある位置xとなっている場合に、対向した受光アレイの複数の受光素子それぞれの検出又は未検出による組み合わせ検出によるオン/オフのビットパターンが、その位置xの絶対値絶対位置、アブソリュートポジションを一義に表すことになる。アブソリュートパターンの生成方法は、モータMの絶対位置を、受光アレイの受光素子数のビットにより、一次元的に表すようなパターンを生成できるものであれば、様々なアルゴリズムが使用可能である。このようなアブソリュートパターンにより絶対位置を表させる場合、受光信号の検出又は未検出によるビットパターンの変わり目の領域において、絶対位置の検出精度が低下する。そのために、本実施形態では、同様のアブソリュートパターンを、測定軸C方向で例えば1ビットの1/2の長さだけオフセットさせて、2つのスリットアレイSA1,SA2に形成する。なお、このオフセット量は、例えば後述する受光アレイの複数の受光素子間のピッチの半分に対応する値に相当する。このように構成することにより、本実施形態に係るエンコーダ100は、例えば、スリットSA1による絶対位置がビットパターンの変わり目に相当する場合には、スリットSA2からの検出信号を使用して絶対位置を算出したり、その逆を行うことにより、絶対位置の検出精度を向上させることができる。なお、本実施形態では、スリットアレイSA1,SA2の各アブソリュートパターン同士をオフセットさせている。しかしながら、例えば、アブソリュートパターン同士はオフセットさせずに、スリットアレイSA1,SA2それぞれに対応した受光アレイ同士をオフセットさせることも可能である。一方、スリットアレイSA1,SA2の間に配置されるスリットアレイSIが有する複数の反射スリットは、測定軸C方向でインクリメンタルパターンを有するように、ディスク110の全周に配置される。インクリメンタルパターンは、図4に示すように、所定のピッチで規則的に繰り返されるパターンである。このインクリメンタルパターンは、複数の受光素子による検出の有無それぞれをビットとして絶対位置xを表すアブソリュートパターンと異なり、少なくとも1以上の受光素子による検出信号の和により、1ピッチ毎又は1ピッチ内のモータMの位置を表す。従って、インクリメンタルパターンは、モータMの絶対位置xを表すものではないが、アプソリュートパターンに比べると非常に高精度に位置を表すことが可能である。光学モジュール130は、図2及び図3に示すように、ディスク110と平行な基板BA状に形成され、ディスク110のスリットアレイSA1,SA2,SIの一部に対向しつつ固定される。従って、ディスク110の回転に伴い、光学モジュールは、スリットアレイSA1,SA2,SIに対して測定軸C方向で相対移動することができる。なお、本実施形態では、光学モジュール130がエンコーダ100を薄型化したり製造を容易にすることが可能な基板BAとして形成される場合について説明するが、光学モジュール130は、必ずしも基板BA上に構成される必要はない。一方、光学モジュール130は、図2及び図5に示すように、基板BAのディスク110の対向する面上に、光源131と、配線132と、受光アレイPA1,PA2,PI1,PI2とを有する。光源131は、基板BAの下面Z軸負の方向の面、つまりスリットアレイ対向方向に配置される。そして、光源131は、対向する位置を通過する3つのスリットアレイSA1,SA2,SIの部分例えば領域Area、照射領域ともいう。に光を照射する。この光源131としては、照射領域に光を照射可能な光源であれば特に限定されるものではないが、例えば、LEDLightEmittingDiodeが使用可能である。そして、この光源131は、特に光学レンズ等が配置されない点光源として形成され、発光部から拡散光を照射する。なお、点光源という場合、厳密な点である必要はなく、設計上や動作原理上、略点状の位置から拡散光が発せられるものとみなせる光源であれば、有限な面から光が発せられてもよいことは言うまでもない。このように点光源を使用することにより、光源131は、光軸からのズレによる光量変化や光路長の差による減衰などの影響は多少はあるにせよ、対向した位置を通過する3つのスリットアレイSA1,SA2,SIのそれぞれの部分に拡散光を照射できるため、これらの部分にほぼ均等に光を照射することが可能である。また、光学素子による集光拡散を行わないため、光学素子による誤差等が生じにくく、スリットアレイへの照射光の直進性を高める事が可能である。配線132は、光源131と基板BAとの間を接続し、基板BAを介して提供される電力を光源131に供給する。本実施形態における配線132は、基板BAの下面から、ディスク110の上面に向けて突出している。光源131の光の射出面からは、基板132の面内でオフセットしているものの、この配線132には、光源131から発せられた光が照射され、配線132により散乱されてしまう。このような散乱光は、光学モジュール130の受光アレイにおける受光信号におけるノイズとなる。なお、本実施形態では、説明の便宜上、ノイズの原因が理解し易いように配線132を例示しているが、このように突出した配線132は必ずしもある必要はない。そして、ノイズの発生源も配線132に限定されるものではなく、他の構造部材などのように、基板BAから突出して光を散乱させるようなものや、照射光の多重反射、漏れ光など様々な原因が考えられる。受光アレイは、基板BAのスリットアレイ対向方向の面に配置され、対向するスリットアレイからの反射光を受光する。そのために、受光アレイは、複数の受光素子ドットハッチング部分、受光素子P0~P4等。を有する。受光アレイを形成する複数の受光素子は、図5に示すように、測定軸Cに沿って並べられる。なお、光学モジュール130における測定軸Cは、ディスク110における測定軸Cが光学モジュール130に投影された形状となる。つまり、受光アレイは、光源131から照射されてディスク110のスリットアレイで反射された光を受光し、かつ、光源131から照射される光は拡散光である。従って、ディスク110上に投影されるスリットアレイの像は、図6に示すように、光路長に応じた所定の拡大率εだけ拡大されたものとなる。つまり、図4及び図5に示すように、スリットアレイSA1,SA2,SIそれぞれの幅R方向の長さをWSA1,WSA2,WSIとし、それらの反射光が光学モジュール130に投影された形状の幅R方向の長さをWPA1,WPA2,WPIとすると、WPA1,WPA2,WPIは、WSA1,WSA2,WSIのε倍の長さとなる。同様に、測定軸Cも、光学モジュール130に投影され、拡大率εの影響を受けた形状となる。理解が容易になるように、光源131の位置における測定軸Cを例に挙げて、より具体的に説明する。ディスク110における測定軸Cは、回転軸AXを中心とした円状になる。これに対して、光学モジュールに投影された測定軸Cの中心は、光源131から光が照射されるため、光源131が配置されたディスク110の面内位置である光源中心Opを基準として、見かけ上回転軸AXと光学中心Opとの間の距離Lが拡大率εで拡大された距離εLだけ、上記基準から離隔した位置となる。この位置を図2では、概念的に測定軸中心Osとして示している。従って、ディスク110における測定軸Cは、光学中心Opから当該光学中心Opと回転軸AXとが乗るライン上を、回転軸AX方向に、距離εL離隔した測定軸中心Osを中心とし、距離εLを半径とするライン上となる。図4及び図5では、測定軸Cの対応関係を、円弧状のラインLcd,Lcpで表す。図4に示すラインLcdは、ディスク110上の測定軸Cに沿った線を表す一方、図5に示すラインLcpは、ラインLcdが光学モジュール130上に反映された線を表す。なお、光源モジュール130とディスク110との間のギャップ長をGとし、光源131の基板BAからの突出量をΔdとした場合、拡大率εは、下記式1で示される。ε=2G-Δd/G-Δd...式11つ1つの受光素子としては、例えばPDPhotodiodeフォトダイオードを使用することができる。但し、受光素子としては、PDに限られるものではなく、光源131から発せられた光を受光して電気信号に変換可能なものであれば、特に限定されるものではない。本実施形態における受光アレイは、3本のスリットアレイSA1,SA2,SIに対応して、ほぼ3本配置される受光アレイPA1,PA2,PI1,PI2。スリットアレイSA1には受光アレイPA1が対応し、スリットアレイSA2には受光アレイPA2が対応し、スリットアレイSIには受光アレイPI1,PI2が対応する。なお、受光アレイPI1,PI2は、途中で分割されているが、同一トラックつまり同一周上に配置されるため、ここでは1本と数える。また、1つのスリットアレイに対応した受光アレイは1つに限らず、複数の受光アレイが配置されてもよい。アブソリュートパターンに対応する受光アレイPA1,PA2それぞれは、本実施形態では合計9個の受光素子を有する。この複数の受光素子では、上述のとおり、1つ1つの受光又は非受光がビットとして扱われ、9ビットの絶対位置xを表す。従って、複数の受光素子それぞれが受光する受光信号は、位置データ生成部140において相互に独立して取り扱われて、シリアルなビットパターンに暗号化コード化されていた絶対位置xが、これらの受光信号の組み合わせから復号される。この受光アレイPA1,PA2の受光信号を、アブソ信号又はアブソリュート信号ともいう。インクリメンタルパターンに対応する受光アレイPI1,PI2それぞれは、同一のスリットアレイSIに対応するラインLcp上に配置された複数の受光素子を有する。まず、受光アレイPI1を例に挙げて、この受光アレイについて説明する。本実施形態では、インクリメンタルパターンの1ピッチ投影された像における1ピッチ中に、合計4個の受光素子のセットSETが並べられ、かつ、4個の受光素子のセットが測定軸Cに沿って更に複数並べられる。そして、インクリメンタルパターンは、1ピッチ毎に反射スリットが繰り返し形成されるので、各受光素子は、ディスク110が回転する場合、1ピッチで1周期電気角で360°という。の周期信号を生成する。そして、1ピッチに相当する1セット中に4つの受光素子が配置されるので、1セット内の相隣接する受光素子同士は、相互に90°の位相差を有する周期信号を検出することになる。この各受光信号を、A相信号、B相信号A相信号に対する位相差が90°、Aバー相信号A信号対する位相差が180°、Bバー相信号B信号対する位相差が180°と呼ぶ。インクリメンタルパターンは1ピッチ中の位置を表すため、1セット中の各位相の信号と、それと対応した他のセット中の各位相の信号とは、同様に変化する値となる。従って、同一位相の信号は、複数のセットにわたって加算される。従って、図5に示す受光アレイPI1の多数の受光素子からは、位相が90°ずつズレる4つの信号が検出されることとなる。一方、受光アレイPI2も、受光アレイPI1と同様に構成される。従って、受光アレイPI1,PI2から位相が90°ずつズレる4つの信号が生成される。この4信号を、インクレ信号又はインクリメンタル信号ともいう。なお、本実施形態では、インクリメンタルパターンの1ピッチに相当する1セットには受光素子が4つ含まれ、受光アレイPI1及び受光アレイPI2のそれぞれが同様の複数のセットを有する場合について説明した。しかしながら、1セット中の受光素子数は、特に限定されるものではなく、また、受光アレイPI1及び受光アレイPI2が、異なる位相の受光信号を取得するように構成されてよい。以上、ここでは、受光アレイの概要について説明したが。各受光アレイの詳細な構成等について説明する前に、残りの構成である位置データ生成部140について説明する。2-4.位置データ生成部位置データ生成部140は、磁気検出部120から1X信号を取得し、光学モジュール130から、絶対位置xを表すビットパターンのアブソ信号を2つと、位相が90°ずつズレる4つのインクレ信号とを取得する。そして、位置データ生成部140は、取得した信号に基づいて、これらの信号が表すモータMの絶対位置xを算出して、当該位置xを表す位置データを制御装置CTに出力する。なお、位置データ生成部140による位置データの生成方法は、様々な方法が使用可能であるため、特に限定されるものではない。ここでは、インクレ信号とアブソ信号とから絶対位置xを算出して、位置データを生成する場合の例について説明する。位置データ生成部140は、モータMの位置xを測定するタイミングにおいて、インクレ信号及びアブソ信号を取得する。そして、位置データ生成部140は、まず、アブソ信号のそれぞれを2値化して絶対位置xを表すビットデータに変換する。そして、位置データ生成部140は、予め定められたビットデータと絶対位置xとの対応関係に基づいて、絶対位置xを特定する。なお、位置データ生成部140は、絶対位置xを特定する際に、ビットパターンの変化点を避けるように、当該変化点のズレた受光アレイPA1のビットデータと、受光アレイPA2のビットデータとのいずれか一方を選択的に使用することが可能である。従って、本実施形態に係るエンコーダ100は、より精度よくアブソ信号からの絶対位置xを特定することができる。一方、位置データ生成部140は、4つの位相それぞれのインクレ信号を、180°位相差のもの同士について減算する。このように180°位相差のある信号を減算することで、1ピッチ内の反射スリットの製造誤差や測定誤差などを相殺させることが可能である。上述のように減算された結果の信号を、ここでは第1インクレ信号及び第2インクレ信号という。この第1インクレ信号及び第2インクレ信号は電気角で相互に90°の位相差を有する単にA相信号B相信号などという。。そこで、この2つの信号から、位置データ生成部140は、1ピッチ以内の高精度な位置を特定する。この1ピッチ以内の位置の特定方法は、特に限定されるものではないが、この特定方法の一例として、例えば、周期信号であるインクレ信号が正弦波信号である場合には、A相及びB相の2つの正弦波信号の除算結果をarctan演算することにより電気角φを算出する方法、トラッキング回路を用いて2つの正弦波信号を電気角φに変換する方法、及び、予め作成されたテーブルにおいてA相及びB相の信号の値に対応付けられた電気角φを特定する方法などが挙げられる。なおこの際、位置データ算出部140は、まず、A相及びB相の2つの正弦波信号を各検出信号毎にアナログ-デジタル変換し、その変換後の2のデジタル信号を逓倍処理して分解能を向上させた後に、上記位置データ生成を行うことが望ましい。そして、位置データ生成部140は、アブソ信号による比較的粗い精度の絶対位置xと、インクレ信号による高精度の1ピッチ内位置とを合成することにより、高精度な絶対位置xを表す位置データを生成する。3.受光アレイの詳細構成次に、受光アレイの詳細な構成について説明する。3-1.受光アレイの配置位置本実施形態に係るエンコーダ100では、光源131と、アブソ信号用の受光アレイPA1,PA2と、インクレ信号用の受光アレイPI1,PI2とは、図5に示す位置関係に配置される。アブソ信号用の受光アレイPA1,PA2は、図5及び図6に示すように、スリットアレイSA1,SA2と平行な基板BAの面内において、幅R方向において点光源131に対して相異なる方向にオフセットした位置に配置される。そして、受光アレイPA1,PA2が有する複数の受光素子本実施形態では9個ずつは、それぞれ測定軸Cより正確にはラインLcpに沿って一定のピッチで並べられる。従って、受光アレイPA1,PA2それぞれの受光素子群からは、それぞれスリットアレイSA1,SA2からの反射光が受光されることにより、受光素子数のビットパターンを有するアブソ信号が生成される。一方、インクレ信号用の受光アレイPI1,PI2は、図5及び図6に示すように、スリットアレイSIと平行な基板BAの面内において、測定軸C方向における点光源131の一側及び他側の両方に配置される。換言すれば、光源131は、幅R方向で併設されたアブソ信号用の受光アレイPA1と受光アレイPA2との間に挟まれた位置であり、かつ、測定軸C方向に1トラックとして配置されたインクレ用の受光アレイPI1,PI2中の位置に配置される。本実施形態に係るエンコーダ100は、このような位置関係で光源131と、各受光アレイとを有することにより、ノイズによる影響を非常に効率的に抑えつつ、反射スリットでの反射光の到達面積を有効活用して、小型化と高精度化の両立を実現することができる。より具体的に、上記配置による作用効果等について説明する。アブソ信号は、位置データ生成部140において2値化されて、受光素子1つ1つの信号は、絶対位置xを表すビットデータ中の1つ1つのビットを担う。従って、1の受光素子にノイズが到達して誤検出しだだけで、特定される絶対位置xが大きく異なる結果となる場合がある。インクレ信号は、同一位相の複数の受光素子の検出信号が加算され、加算後のインクレ信号から1ピッチ内位置が生成される。従って、1の受光素子にノイズが発生したとしても、平均化されてしまう。従って、アブソ信号は、ノイズに対して敏感であり、インクレ信号は、ノイズに対して鈍感であるといえる。一方、一般的には光は光路長に応じて減衰する。本実施形態のエンコーダ100におけるノイズの光量も同様であり、ノイズは光源131を中心として光源131から離れれば減衰する分布をとる。上述のように、本実施形態に係るエンコーダ100は、測定軸C方向で分割されたインクレ信号用の受光アレイPI1,PI2の間に光源131を挟むことにより、ノイズに対する耐性が高いインクレ信号用の受光アレイPI1,PI2を光源131に近接させることを可能とし、反射光の到達面積を有効活用することができる。なお、単に光源にインクレ信号用の受光アレイを近接させるだけであれば、幅R方向で併設することも考えられる。しかし、この場合、本実施形態に比べて、光源と同一トラック幅R方向における同一位置のラインLcp上上の面積を有効に活用することが難しくなる。また、本実施形態に係るエンコーダ100は、ノイズに対する耐性が低いアブソ信号用の受光アレイPA1,PA2を幅R方向で併設して、その間に光源131を挟むことにより、光学モジュール130の面積の増加を最大限抑えつつ、ノイズの光量が十分に減少する距離だけ光源131から受光アレイPA1,PA2を離隔させることが可能である。従って、このエンコーダ100によれば、小型化だけでなく、ノイズによる絶対位置xの誤検出をも防ぐことが可能である。なお、光源を間に挟みつつ、インクレ信号用の受光アレイとアブソ信号用の受光アレイを幅R方向で併設することも考えられる。しかしながら、このような構成では、本実施形態と比べると、有限な反射光の受光面積を有効活用することができず、例えば、アブソ信号用の受光アレイを2つ併設して絶対位置x算出精度を向上させようとする場合などでは、光学モジュールだけでなくディスク自体の大型化を伴う。また、アブソ信号用の受光アレイを光源131に対して測定軸C方向で併設すると、受光素子1つ1つの受光光量差が大きくなる一方、ノイズによる影響も光源131からの距離に応じて異なることとなる。従って、この場合には、絶対位置xの算出精度が低下するか、場合によっては、検出することすら不可能になる恐れもある。3-3.受光素子1つ1つの形状及び配置位置一方、本実施形態に係るエンコーダ100は、ノイズに対する耐性の低いアブソ信号用の受光アレイPA1,PA2について、ノイズによる影響を更に抑え、かつ、面積を有効活用するような形状の受光素子を有する。一方、受光アレイPA1,PA2は、上述のとおり、光源131を間に挟んで併設される。そして、受光アレイPA1,PA2は、測定軸中心Osを中心とした湾曲した形状を除けば、基本的には、光源131を通る幅R方向上の線および測定軸C方向上の線を対称軸とする線対称に形成される。そこで、ここでは、受光アレイPA1を例に挙げ、かつ、受光アレイPA1中の図5において右方に配置された受光素子を例に挙げて説明する。受光アレイPA1が有する複数の受光素子は、図5に示すように、測定軸C方向の長さ短冊形状における幅が相互にほぼ同一の長さとなる一方で、測定軸C方向で光源131に近い受光素子ほど幅R方向の長さが短い形状をそれぞれ有する。つまり、光源131に近接している受光素子から順に受光素子P0~P4とすれば、それぞれの幅R方向の長さは、P0<P1<P2<P4となる。また、受光アレイPA1が有する複数の受光素子は、図5に示すように、幅R方向における光源131と反対側の端部Enが測定軸Cに沿った位置つまりラインLcp上の位置になるように並べられる。従って、複数の受光素子の光源側の端部Eoは、各受光素子の長さが上記のように光源131に近いほど短いため、図5に示すように、光源131を取り囲む略円又は楕円形状に位置することとなる。従って、受光アレイPA1,PA2両者の複数の受光素子は、光源131を避けて一定の距離をおくように、光源131を中心とした略円又は楕円形状が切り抜かれたように位置するラインLnの外側。これに対して、受光アレイPI1,PI2が有する複数の受光素子は、相互に同一の幅R方向の長さで形成され、光源131と同じラインLcp上で、かつ、光源131に近接して配置される。従って、受光アレイPI1,PI2の両者の複数の受光素子は、光源131に近接するように配置され、その少なくとも一部の受光素子は、受光アレイPA1,PA2が避けて配置された略円又は楕円形状の中に位置することとなるラインLnの内側。本実施形態に係るエンコーダ100は、このような形状及び配置位置の複数の受光素子を有することにより、ノイズによる誤検出への影響を低減しつつ、装置自体の小型化を可能としている。より具体的に、この作用効果等について説明する。上述のように、光源131から発せられ配線132などで散乱されたノイズの強度は、光源131からの距離に応じて減衰する。このノイズがアブソ信号用の受光アレイPA1,PA2にとって許容可能な強度となる境を、図5では模式的にラインLnで示している。これに対して、本実施形態に係るエンコーダ100によれば、上記のように光源131を避けるような形状で受光アレイPA1,PA2が配置されるため、受光アレイPA1,PA2の全ての受光素子をラインLnの外側に配置させることが可能である。従って、このエンコーダ100は、アブソ信号を受光する受光アレイPA1,PA2のノイズを低減して、このアブソ信号による絶対位置xで誤検出が生じる恐れを低減することができる。一方で、受光アレイPA1,PA2の複数の受光素子において光源131とは反対側の端部Enは、測定軸Cに沿ったラインLcp上に位置する。従って、受光アレイPA1,PA2のぞれぞれは、スリットアレイSA1,SA2からの反射光を最大限受光することができる。更に本実施形態によれば、ノイズに対する耐性の強いインクレ信号用の受光アレイPI1,PI2を、少なくとも一部がラインLn内に位置するように、光源131に近接して配置される。従って、光学モジュール130の面積を最小化して装置自体を小型化することを可能にしている。なお、受光アレイPA1,PA2それぞれの、光源131に近いほど短くなる複数の受光素子それぞれの長さは、より詳細には以下のように設定される。つまり、受光アレイPA1内の複数の受光素子同士、及び、受光アレイPA2内の複数の受光素子同士は、測定軸C方向の長さが略同一で、かつ、受光光量が略等しくなる長さで形成される。一方で、受光アレイPA1の受光素子と、受光アレイPA2の受光素子との間でも、各受光素子は、測定軸C方向の長さが略同一で、かつ、受光光量が略等しくなる長さで形成される。このように本実施形態に係るエンコーダ100は、各受光素子の受光光量を均一にするようにそれぞれの幅R方向の長さを設定することにより、上記のような作用効果と共に、1ビット1ビットの検出精度を均一化して絶対位置xの誤検出を防ぐことが可能である。4.本実施形態による効果の例以上、本発明の一実施形態に係るエンコーダ100等について説明した。ここで、図6を参照して、エンコーダ100の光学検出機構の受光動作について説明しつつ、このエンコーダ100による効果の例について説明する。図6は、本実施形態に係るエンコーダによる受光動作について説明するための説明図である。図6に示すように、本実施形態に係るエンコーダ100では、まず点光源である光源131から照射領域Areaに向けて拡散光が照射される。照射領域Area中を通過するスリットアレイSA1,SA2,SIの複数の反射スリットのそれぞれは、照射光を光学モジュール130に向けて反射する。インクリメンタルパターンを有するスリットアレイSIで反射された反射光は、受光アレイPI1,PI2により検出される。この際、受光アレイPI1,PI2は、測定軸C方向で光源131を挟み、かつ、ノイズが比較的大きなエリアラインLnよりも光源131側において光源131に近接して配置される。従って、ノイズによる影響を抑えつつも光学モジュール130の光源131近傍のエリアを非常に有効に活用することが可能で、装置を小型化することが可能である。一方、アブソリュートパターンを有するスリットアレイPA1,PA2で反射された反射光は、図5及び図6に示すように、光学モジュール130において幅R方向の長さがWPA1,WPA2の範囲に到達する。しかしながら、この反射光の到達エリアは、ノイズが比較的強いエリアラインLnよりも光源131側に重畳される。そこで、本実施形態に係るエンコーダ100では、アブソ信号用の受光アレイPA1,PA2の光源131側の端部Eoは、反射光の到達エリアにおいて光源131から幅R方向で最も近い位置よりも、ノイズの強いエリアNを避けた位置に配置される。一方、これとは逆の受光アレイPA1,PA2の端部Enは、反射光を十分に受光可能なように、反射光の到達エリアにおいて光源131から幅R方向で最も遠い位置か、又はその近傍に位置するように配置される。従って、本実施形態に係るエンコーダ100は、装置を大型化することなく、アブソ信号にノイズが含まれることを十分に抑え、かつ、絶対位置xを検出可能な光量を受光することを可能にしている。なお、各受光素子の幅R方向の光源131とは逆の端部Enは、図5に示すように、反射光の到達エリアの沿うように、測定軸Cに相当するラインLcpに沿って配置される。このように端部EnをラインLcpに沿わせることにより、光量を十分に確保し、光学モジュール130を幅方向で最小化することができる。更に、仮に、端部Enが反射光の到達エリアよりも不用意に長い場合には、ラインLnの外側のノイズラインLnの内側に比べて弱いノイズが、受光素子に検出される結果、ノイズ成分が大きくなる。本実施形態によれば、端部EnをラインLcpに沿わせることにより、このようなノイズの影響をも低減することが可能である。以上、添付図面を参照しながら本発明の実施の形態について詳細に説明した。しかしながら、本発明の技術的思想の範囲は、ここで説明した実施の形態に限定されないことは言うまでもない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された本発明の技術的思想の範囲内において、様々な変更や修正、組み合わせなどを行うことに想到できることは明らかである。従って、これらの変更や修正、組み合わせなどの後の技術も、当然に本発明の技術的思想の範囲に属するものである。例えば、上記実施形態では、アブソ信号用の受光アレイPA1,PA2が光源131を挟んで2本配置される場合について説明したが、本発明はかかる例に限定されるものではない。例えば、アブソ信号用の受光アレイは、受光アレイPA1,PA2のいずれか1本であってもよく、また、受光アレイPA1,PA2を含む3本以上であってもよい。また、上記実施形態では、各受光アレイPA1,PA2は、それぞれ9個の受光素子を有する場合を説明したが、この受光素子の数も特に限定されるものではない。また、上記実施形態では、受光アレイPA1,PA2がアブソ信号用の受光アレイであり、受光アレイPI1,PI2がインクレ信号用の受光アレイである場合について説明したが、受光アレイPA1,PA2の少なくとも一方を単純にインクレ信号用に使用することも可能であることは言うまでもない。また、上記実施形態では、幅R方向で光源131からオフセットした位置に配置される受光アレイPA1,PA2がアブソ信号用の受光アレイである場合について説明したが、本発明はかかる例に限定されるものではない。この受光アレイPA1,PA2は、例えば、各受光素子からの検出信号により原点位置を表す原点用の受光素子群であってもよい。この場合、ディスク110のスリットアレイSA1,SA2は、原点用のパターンを有して形成される。そして、受光アレイPA1,PA2からの受光信号のビットパターンや強度が原点位置を表すことになる。なお、上記実施形態のようなアブソ信号は、原点信号に比べて、各受光素子それぞれの信号強度が絶対位置を表すビットを担うため、ノイズによる影響を受けやすい。従って、上記実施形態のような形状配置の受光アレイPA1,PA2を、アブソ信号用とすると、ノイズによる影響をより効果的に低減する事が可能である。また、上記実施形態では、エンコーダ100がモータMのシャフトSHに直接連結される場合に係るついて説明した。しかしながら、エンコーダ100の配置位置は、本実施形態に示す例に特に限定されるものではない。例えば、エンコーダ100は、シャフトSHの出力側に直接連結されるように配置されてもよく、また、減速機や回転方向変換機などの他の機構を介してシャフトSH等の移動体に連結されてもよい。更に、エンコーダ100は、フルクローズドの位置検出を行うように、サーボシステムSが位置を制御する対象である移動対象測定対象の一例自体に連結されてもよい。なお、このフルクローズドの位置検出を行う場合において、移動対象の位置を検出するとともに、モータMの位置xも検出するために、2以上のエンコーダが配置されることが望ましい。そして、移動対象の位置を検出するエンコーダと、モータMの位置xを検出するエンコーダとの、少なくとも一方が上記実施形態で詳細に説明したエンコーダ100であれば、他方に他の種類のエンコーダを使用したとしても、上記実施形態と同様の作用効果が得られる。"