"下記一般式I式I中、下記式αで表されるアザスピロ環構造は、同一に若しくは異なってC14アルキル及びフッ素原子からなる群より選ばれる1~4個の基で置換されてもよく、C3-4シクロアルカンがスピロ結合してもよく、又はC13アルカンジイル若しくはC23アルケンジイルによる架橋を有してもよく、m1は、0~3の整数を示し、m2は、1~3の整数を示し、n1は、0~2の整数を示し、n2は、0~2の整数を示し、n1とn2の和は、1~2の整数を示し、Aで表される環は、ベンゼン環又は6員のヘテロ芳香環を示し、R11、R12及びR13は、同一に又は異なって置換基群Z1から選ばれる基を示し、置換基群Z1は、水素原子、ハロゲン原子、カルバモイル、スルファモイル、シアノ、C16アルキル該C16アルキルは、置換されていないか、ヒドロキシ、カルバモイル、スルファモイル、C38シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、飽和のヘテロシクリル、C16アルコキシ、C16アルコキシカルボニル、モノC16アルキルアミノカルボニル、モノC38シクロアルキルアミノカルボニル、ジC16アルキルアミノカルボニル、飽和のヘテロシクリルカルボニル、C16アルキルカルボニルアミノ、C16アルキルスルホニル及びC16アルキルスルホニルアミノからなる群より同一に又は異なって選ばれる1~3個の基で置換されている。、ハロC1-6アルキル、C38シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール該アリール及びヘテロアリールは、置換されていないか、1~3個のハロゲン原子で置換されている。、飽和のヘテロシクリル、C16アルコキシ該C16アルコキシは、置換されていないか、ヒドロキシ、C16アルコキシ及びジC16アルキルアミノからなる群より同一に又は異なって選ばれる1~3個の基で置換されている。、ハロC1-6アルコキシ、モノC16アルキルアミノカルボニル、モノC38シクロアルキルアミノカルボニル、ジC16アルキルアミノカルボニル、C16アルキルC38シクロアルキルアミノカルボニル[該モノC16アルキルアミノカルボニル、モノC38シクロアルキルアミノカルボニル、ジC16アルキルアミノカルボニル及びC16アルキルC38シクロアルキルアミノカルボニルは、置換されていないか、ヒドロキシ、カルバモイル、シアノ、C16アルコキシ該C16アルコキシは、置換されていないか、1個のヒドロキシで置換されている。及びジC16アルキルアミノからなる群より同一に又は異なって選ばれる1~2個の基で置換されている。]、飽和のヘテロシクリルカルボニル、モノ飽和のヘテロシクリルアミノカルボニル該飽和のヘテロシクリルカルボニル及びモノ飽和のヘテロシクリルアミノカルボニルは、置換されていないか、ヒドロキシ、C16アルキル、モノC16アルキルアミノ、ジC16アルキルアミノ及びC16アルキルスルホニルからなる群より選ばれる1個の基で置換されている。、C16アルキルスルホニル、C16アルキルスルホニルアミノ又はモノC16アルキルアミノスルホニル該C16アルキルスルホニル、C16アルキルスルホニルアミノ及びモノC16アルキルアミノスルホニルは、置換されていないか、ヒドロキシ、C16アルコキシ及びジC16アルキルアミノからなる群より選ばれる1個の基で置換されている。の基からなる群を示し、Xは、O、S又はNRXを示し、RXは、水素原子又はC14アルキルを示し、Yは、C16アルカンジイルを示し、R2は、aC16アルキル[該C16アルキルは、置換されていないか、1個のC38シクロアルキル該C38シクロアルキルは、置換されていないか、トリフルオロメチル及びC16アルキルからなる群より選ばれる1個の基で置換されている。で置換されている。]、ハロC1-6アルキル若しくはC38シクロアルキル、b-COOR21{R21は、C16アルキル[該C16アルキルは、置換されていないか、1個のC38シクロアルキル該C38シクロアルキルは、置換されていないか、1個のC16アルキルで置換されている。で置換されている。]、ハロC1-6アルキル又はC38シクロアルキル該C38シクロアルキルは、置換されていないか、ハロゲン原子及びC16アルキルからなる群より同一に又は異なって選ばれる1~3個の基で置換されている。を示す。}、c下記式βで表される5又は6員のヘテロアリール該式βで表される5又は6員のヘテロアリールは、置換されていないか、ハロゲン原子、C16アルキル、ハロC1-6アルキル、C38シクロアルキル及びC16アルコキシからなる群より同一に又は異なって選ばれる1~3個の基で置換されている。又はdC16アルキルスルホニル若しくはC38シクロアルキルスルホニルを示す。で表される化合物又はその製薬学的に許容される塩。前記一般式Iにおいて、前記式αで表されるアザスピロ環構造が、無置換であり、m1が、0~2の整数であり、m2が、1~2の整数であり、n1が、1であり、n2が、1であり、R11、R12及びR13は、同一に又は異なって置換基群Z2から選ばれる基を示し、置換基群Z2は、水素原子、ハロゲン原子、カルバモイル、シアノ、C16アルキル、ハロC1-6アルキル、アリール、ヘテロアリール、モノC16アルキルアミノカルボニル、モノC38シクロアルキルアミノカルボニル、ジC16アルキルアミノカルボニル、C16アルキルC38シクロアルキルアミノカルボニル[該モノC16アルキルアミノカルボニル、モノC38シクロアルキルアミノカルボニル、ジC16アルキルアミノカルボニル及びC16アルキルC38シクロアルキルアミノカルボニルは、置換されていないか、ヒドロキシ、カルバモイル、シアノ、C16アルコキシ該C16アルコキシは、置換されていないか、1個のヒドロキシで置換されている。及びジC16アルキルアミノからなる群より同一に又は異なって選ばれる1~2個の基で置換されている。]、飽和のヘテロシクリルカルボニル該飽和のヘテロシクリルカルボニルは、置換されていないか、1個のヒドロキシで置換されている。、モノ飽和のヘテロシクリルアミノカルボニル又はC16アルキルスルホニルの基からなる群を示し、R2が、aC16アルキル[該C16アルキルは、置換されていないか、1個のC38シクロアルキル該C38シクロアルキルは、置換されていないか、トリフルオロメチル及びC16アルキルからなる群より選ばれる1個の基で置換されている。で置換されている。]、ハロC1-6アルキル又はC38シクロアルキル、b-COOR21{R21は、C16アルキル[該C16アルキルは、置換されていないか、1個のC38シクロアルキル該C38シクロアルキルは、置換されていないか、1個のC16アルキルで置換されている。で置換されている。]、ハロC1-6アルキル又はC38シクロアルキル該C38シクロアルキルは、置換されていないか、ハロゲン原子及びC16アルキルからなる群より同一に又は異なって選ばれる1~3個の基で置換されている。を示す。}又はc下記式βで表される5又は6員のヘテロアリール該式βで表される5又は6員のヘテロアリールは、置換されていないか、ハロゲン原子、C16アルキル、ハロC1-6アルキル、C38シクロアルキル及びC16アルコキシからなる群より同一に又は異なって選ばれる1~3個の基で置換されている。である請求項1に記載の化合物又はその製薬学的に許容される塩。R2が、b-COOR21{R21は、C16アルキル[該C16アルキルは、置換されていないか、1個のC38シクロアルキル該C38シクロアルキルは、置換されていないか、1個のC16アルキルで置換されている。で置換されている。]、ハロC1-6アルキル又はC38シクロアルキル該C38シクロアルキルは、置換されていないか、ハロゲン原子及びC16アルキルからなる群より同一に又は異なって選ばれる1~3個の基で置換されている。を示す。}である請求項1~2のいずれか1項に記載の化合物又はその製薬学的に許容される塩。R2が、c下記式βで表される5又は6員のヘテロアリール該式βで表される5又は6員のヘテロアリールは、置換されていないか、ハロゲン原子、C16アルキル、ハロC1-6アルキル、C38シクロアルキル及びC16アルコキシからなる群より同一に又は異なって選ばれる1~3個の基で置換されている。である請求項1~2のいずれか1項に記載の化合物又はその製薬学的に許容される塩。請求項1~4のいずれか1項に記載の化合物又はその製薬学的に許容される塩を有効成分として含有する医薬。請求項1~4のいずれか1項に記載の化合物又はその製薬学的に許容される塩を有効成分として含有するGPR119アゴニスト。請求項1~4のいずれか1項に記載の化合物又はその製薬学的に許容される塩を有効成分として含有する血糖低下作用薬。請求項1~4のいずれか1項に記載の化合物又はその製薬学的に許容される塩を有効成分として含有する糖尿病の予防薬又は治療薬。本発明の目的は、優れたGPR119アゴニストを提供することである。本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討を重ねた結果、下記一般式Iで表される化合物が、優れたGPR119アゴニスト作用を有することを見出した。すなわち、本発明は、1下記一般式I式I中、下記式αで表されるアザスピロ環構造は、同一に若しくは異なってC14アルキル及びフッ素原子からなる群より選ばれる1~4個の基で置換されてもよく、C3-4シクロアルカンがスピロ結合してもよく、又はC13アルカンジイル若しくはC23アルケンジイルによる架橋を有してもよく、m1は、0~3の整数を示し、m2は、1~3の整数を示し、n1は、0~2の整数を示し、n2は、0~2の整数を示し、n1とn2の和は、1~2の整数を示し、Aで表される環は、ベンゼン環又は6員のヘテロ芳香環を示し、R11、R12及びR13は、同一に又は異なって置換基群Z1から選ばれる基を示し、置換基群Z1は、水素原子、ハロゲン原子、カルバモイル、スルファモイル、シアノ、C16アルキル該C16アルキルは、置換されていないか、ヒドロキシ、カルバモイル、スルファモイル、C38シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、飽和のヘテロシクリル、C16アルコキシ、C16アルコキシカルボニル、モノC16アルキルアミノカルボニル、モノC38シクロアルキルアミノカルボニル、ジC16アルキルアミノカルボニル、飽和のヘテロシクリルカルボニル、C16アルキルカルボニルアミノ、C16アルキルスルホニル及びC16アルキルスルホニルアミノからなる群より同一に又は異なって選ばれる1~3個の基で置換されている。、ハロC1-6アルキル、C38シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール該アリール及びヘテロアリールは、置換されていないか、1~3個のハロゲン原子で置換されている。、飽和のヘテロシクリル、C16アルコキシ該C16アルコキシは、置換されていないか、ヒドロキシ、C16アルコキシ、及びジC16アルキルアミノからなる群より同一に又は異なって選ばれる1~3個の基で置換されている。、ハロC1-6アルコキシ、モノC16アルキルアミノカルボニル、モノC38シクロアルキルアミノカルボニル、ジC16アルキルアミノカルボニル、C16アルキルC38シクロアルキルアミノカルボニル[該モノC16アルキルアミノカルボニル、モノC38シクロアルキルアミノカルボニル、ジC16アルキルアミノカルボニル及びC16アルキルC38シクロアルキルアミノカルボニルは、置換されていないか、ヒドロキシ、カルバモイル、シアノ、C16アルコキシ該C16アルコキシは、置換されていないか、1個のヒドロキシで置換されている。及びジC16アルキルアミノからなる群より同一に又は異なって選ばれる1~2個の基で置換されている。]、飽和のヘテロシクリルカルボニル、モノ飽和のヘテロシクリルアミノカルボニル該飽和のヘテロシクリルカルボニル及びモノ飽和のヘテロシクリルアミノカルボニルは、置換されていないか、ヒドロキシ、C16アルキル、モノC16アルキルアミノ、ジC16アルキルアミノ及びC16アルキルスルホニルからなる群より選ばれる1個の基で置換されている。、C16アルキルスルホニル、C16アルキルスルホニルアミノ又はモノC16アルキルアミノスルホニル該、C16アルキルスルホニル、C16アルキルスルホニルアミノ及びモノC16アルキルアミノスルホニルは、置換されていないか、ヒドロキシ、C16アルコキシ及びジC16アルキルアミノからなる群より選ばれる1個の基で置換されている。の基からなる群を示し、Xは、O、S又はNRXを示し、RXは、水素原子又はC14アルキルを示し、Yは、C16アルカンジイルを示し、R2は、aC16アルキル[該C16アルキルは、置換されていないか、1個のC38シクロアルキル該C38シクロアルキルは、置換されていないか、トリフルオロメチル及びC16アルキルからなる群より選ばれる1個の基で置換されている。で置換されている。]、ハロC1-6アルキル若しくはC38シクロアルキル、b-COOR21{R21は、C16アルキル[該C16アルキルは、置換されていないか、1個のC38シクロアルキル該C38シクロアルキルは、置換されていないか、1個のC16アルキルで置換されている。で置換されている。]、ハロC1-6アルキル又はC38シクロアルキル該C38シクロアルキルは、置換されていないか、ハロゲン原子及びC16アルキルからなる群より同一に又は異なって選ばれる1~3個の基で置換されている。を示す。}、c下記式βで表される5又は6員のヘテロアリール該式βで表される5又は6員のヘテロアリールは、置換されていないか、ハロゲン原子、C16アルキル、ハロC1-6アルキル、C38シクロアルキル及びC16アルコキシからなる群より同一に又は異なって選ばれる1~3個の基で置換されている。又はdC16アルキルスルホニル若しくはC38シクロアルキルスルホニルを示す。で表される化合物又はその製薬学的に許容される塩を提供することである。2本発明の他の態様としては、前記一般式Iにおいて、前記式αで表されるアザスピロ環構造が、無置換であり、m1が、0~2の整数であり、m2が、1~2の整数であり、n1が、1であり、n2が、1であり、R11、R12及びR13は、同一に又は異なって置換基群Z2から選ばれる基を示し、置換基群Z2は、水素原子、ハロゲン原子、カルバモイル、シアノ、C16アルキル、ハロC1-6アルキル、アリール、ヘテロアリール、モノC16アルキルアミノカルボニル、モノC38シクロアルキルアミノカルボニル、ジC16アルキルアミノカルボニル、C16アルキルC38シクロアルキルアミノカルボニル[該モノC16アルキルアミノカルボニル、モノC38シクロアルキルアミノカルボニル、ジC16アルキルアミノカルボニル及びC16アルキルC38シクロアルキルアミノカルボニルは、置換されていないか、ヒドロキシ、カルバモイル、シアノ、C16アルコキシ該C16アルコキシは、置換されていないか、1個のヒドロキシで置換されている。及びジC16アルキルアミノからなる群より同一に又は異なって選ばれる1~2個の基で置換されている。]、飽和のヘテロシクリルカルボニル該飽和のヘテロシクリルカルボニルは、置換されていないか、1個のヒドロキシで置換されている。、モノ飽和のヘテロシクリルアミノカルボニル又はC16アルキルスルホニルの基からなる群を示し、R2が、aC16アルキル[該C16アルキルは、置換されていないか、1個のC38シクロアルキル該C38シクロアルキルは、置換されていないか、トリフルオロメチル及びC16アルキルからなる群より選ばれる1個の基で置換されている。で置換されている。]、ハロC1-6アルキル若しくはC38シクロアルキル、b-COOR21{R21は、C16アルキル[該C16アルキルは、置換されていないか、1個のC38シクロアルキル該C38シクロアルキルは、置換されていないか、1個のC16アルキルで置換されている。で置換されている。]、ハロC1-6アルキル又はC38シクロアルキル該C38シクロアルキルは、置換されていないか、ハロゲン原子及びC16アルキルからなる群より同一に又は異なって選ばれる1~3個の基で置換されている。を示す。}又はc下記式βで表される5又は6員のヘテロアリール該式βで表される5又は6員のヘテロアリールは、置換されていないか、ハロゲン原子、C16アルキル、ハロC1-6アルキル、C38シクロアルキル及びC16アルコキシからなる群より同一に又は異なって選ばれる1~3個の基で置換されている。である、1に記載の化合物又はその製薬学的に許容される塩を提供することである。3本発明の他の態様としては、R2が、b-COOR21{R21は、C16アルキル[該C16アルキルは、置換されていないか、1個のC38シクロアルキル該C38シクロアルキルは、置換されていないか、1個のC16アルキルで置換されている。で置換されている。]、ハロC1-6アルキル又はC38シクロアルキル該C38シクロアルキルは、置換されていないか、ハロゲン原子及びC16アルキルからなる群より同一に又は異なって選ばれる1~3個の基で置換されている。を示す。}である、1~2のいずれか1項に記載の化合物又はその製薬学的に許容される塩を提供することである。4本発明の他の態様としては、R2が、c下記式βで表される5又は6員のヘテロアリール該式βで表される5又は6員のヘテロアリールは、置換されていないか、ハロゲン原子、C16アルキル、ハロC1-6アルキル、C38シクロアルキル及びC16アルコキシからなる群より同一に又は異なって選ばれる1~3個の基で置換されている。である、1~2のいずれか1項に記載の化合物又はその製薬学的に許容される塩を提供することである。5本発明の他の態様としては、1~4のいずれか1項に記載の化合物又はその製薬学的に許容される塩を有効成分として含有する医薬を提供することである。6本発明の他の態様としては、1~4のいずれか1項に記載の化合物又はその製薬学的に許容される塩を有効成分として含有するGPR119アゴニストを提供することである。7本発明の他の態様としては、1~4のいずれか1項に記載の化合物又はその製薬学的に許容される塩を有効成分として含有する血糖低下作用薬を提供することである。8本発明の他の態様としては、1~4のいずれか1項に記載の化合物又はその製薬学的に許容される塩を有効成分として含有する糖尿病の予防薬又は治療薬を提供することである。本発明により、優れたGPR119アゴニスト作用を有する化合物を提供することが可能となった。本発明は、優れたGPR119アゴニスト作用を有する一般式Iの化合物又はその製薬学的に許容される塩を提供する。以下に、本発明の化合物についてさらに詳細に説明するが、例示されたものに特に限定されない。本発明において、nはノルマルを、s及びsecはセカンダリーを、t及びtertはターシャリーを、cはシクロを、oはオルトを、mはメタを、pはパラを示す。ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を示す。C14アルキルとは、炭素原子を1~4個有する直鎖状又は分岐状のアルキルを示す。メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、s-ブチル、t-ブチルを示す。C16アルキルとは、炭素原子を1~6個有する直鎖状又は分岐状のアルキルを示す。例えばメチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、s-ブチル、t-ブチル、n-ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、2-メチルブチル、n-ヘキシル、イソヘキシル等が挙げられる。ハロC16アルキルとは、ハロゲン原子で置換された炭素原子を1~6個有する直鎖状又は分岐状のアルキルを示す。ハロゲン原子の好ましい置換数は1~3個である。例えばモノフルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、1-フルオロエチル、1,1-ジフルオロエチル、2-フルオロエチル、2-フルオロ-2-メチルプロピル、2,2-ジフルオロプロピル、1-フルオロ-2-メチルプロパン-2-イル、1,1-ジフルオロ-2-メチルプロパン-2-イル等が挙げられる。C34シクロアルカンとは、炭素原子を3~4個有する環状のアルカンを示す。シクロプロパン、シクロブタンが挙げられる。C38シクロアルキルとは、炭素原子を3~8個有する環状のアルキルを示す。シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチルが挙げられる。アリールとは、炭素原子を6~14個有する単環式芳香族炭化水素基又は縮合多環式芳香族炭化水素基を示す。例えばフェニル、ナフチル、アントリル等が挙げられる。ヘテロアリールとは、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より同一に若しくは異なって選ばれる1個以上の原子と1~6個の炭素原子からなる5~7員の単環式芳香族複素環基又は酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より同一に若しくは異なって選ばれる1個以上の原子と1~13個の炭素原子からなる9~14個の原子から構成される縮合多環式芳香族複素環基を示す。例えばイミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル、ピロリル、トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、ピリダジニル、トリアジニル、インドリル、ベンゾピラゾリル、ベンゾトリアゾリル、キノリル等が挙げられる。また、ヘテロアリールにおいて部分的に飽和された基もヘテロアリールに含まれる。ヘテロアリールにおける部分的に飽和された基とは、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より同一に若しくは異なって選ばれる1個以上の原子と1~6個の炭素原子からなる5~7員の部分的に飽和された単環式複素環基又は酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より同一に若しくは異なって選ばれる1個以上の原子と1~13個の炭素原子からなる9~14個の原子から構成される部分的に飽和された縮合多環式複素環基を示す。例えばオキサゾリジニル、チアゾリニル等が挙げられる。6員のヘテロ芳香環とは、1個以上の窒素原子と1~5個の炭素原子からなる6員の単環式芳香族複素環を示す。例えばピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、トリアジン等が挙げられる。飽和のヘテロシクリルとは、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より同一に又は異なって選ばれる1個以上の原子と1~7個の炭素原子からなる3~8員の単環式飽和複素環基を示す。例えばアゼチジニル、ピロリジニル、ピペリジニル、ヘキサメチレンイミニル、ピペラジニル、ピラゾリジニル、キヌクリジニル、モルホリニル、オキセタニル、オキソラニル、オキサニル等が挙げられる。C16アルコキシとは、炭素原子を1~6個有する直鎖状又は分岐状のアルコキシを示す。例えばメトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブトキシ、イソブトキシ、s-ブトキシ、t-ブトキシ、n-ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、2-メチルブトキシ、n-ヘキシルオキシ、イソヘキシルオキシ等が挙げられる。ハロC16アルコキシとは、ハロゲン原子で置換された炭素原子を1~6個有する直鎖状又は分岐状のアルコキシを示す。ハロゲン原子の好ましい置換数は1~3個である。例えばモノフルオロメトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、1-フルオロエトキシ、1,1-ジフルオロエトキシ、2-フルオロエトキシ、2-フルオロ-2-メチルプロポキシ、2,2-ジフルオロプロポキシ、1-フルオロ-2-メチルプロパン-2-イルオキシ、1,1-ジフルオロ-2-メチルプロパン-2-イルオキシ等が挙げられる。モノC16アルキルアミノとは、前記のC16アルキルを置換基として1個有するアミノを示す。例えばメチルアミノ、エチルアミノ、n-プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、n-ブチルアミノ、イソブチルアミノ、s-ブチルアミノ、t-ブチルアミノ、n-ペンチルアミノ、イソペンチルアミノ、ネオペンチルアミノ、n-ヘキシルアミノ、イソヘキシルアミノ等が挙げられる。ジC16アルキルアミノとは、前記のC16アルキルを置換基として同一に又は異なって2個有するアミノを示す。例えばジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジn-プロピルアミノ、ジイソプロピルアミノ、エチルメチルアミノ、メチルn-プロピルアミノ、イソプロピルメチルアミノ等が挙げられる。C16アルコキシカルボニルとは、前記のC16アルコキシとカルボニルが結合した基を示す。例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n-プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、n-ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、s-ブトキシカルボニル、t-ブトキシカルボニル、n-ペンチルオキシカルボニル、イソペンチルオキシカルボニル、ネオペンチルオキシカルボニル、2-メチルブトキシカルボニル、n-ヘキシルオキシカルボニル、イソヘキシルオキシカルボニル等が挙げられる。C16アルキルカルボニルアミノとは、前記のC16アルキルとカルボニルが結合した基にアミノが結合した基を示す。例えばアセチルアミノ、プロピオニルアミノ、n-プロピルカルボニルアミノ、イソプロピルカルボニルアミノ、n-ブチルカルボニルアミノ、イソブチルカルボニルアミノ、s-ブチルカルボニルアミノ、t-ブチルカルボニルアミノ、n-ペンチルカルボニルアミノ、イソペンチルカルボニルアミノ、ネオペンチルカルボニルアミノ、2-メチルブチルカルボニルアミノ、n-ヘキシルカルボニルアミノ、イソヘキシルカルボニルアミノ等が挙げられる。モノC16アルキルアミノカルボニルとは、前記のモノC16アルキルアミノとカルボニルが結合した基を示す。例えばメチルアミノカルボニル、エチルアミノカルボニル、n-プロピルアミノカルボニル、イソプロピルアミノカルボニル、n-ブチルアミノカルボニル、イソブチルアミノカルボニル、s-ブチルアミノカルボニル、t-ブチルアミノカルボニル、n-ペンチルアミノカルボニル、イソペンチルアミノカルボニル、ネオペンチルアミノカルボニル、n-ヘキシルアミノカルボニル、イソヘキシルアミノカルボニル等が挙げられる。モノC38シクロアルキルアミノカルボニルとは、前記のC38シクロアルキルを置換基として1個有するアミノとカルボニルが結合した基を示す。シクロプロピルアミノカルボニル、シクロブチルアミノカルボニル、シクロペンチルアミノカルボニル、シクロヘキシルアミノカルボニル、シクロヘプチルアミノカルボニル、シクロオクチルアミノカルボニルが挙げられる。ジC16アルキルアミノカルボニルとは、前記のジC16アルキルアミノとカルボニルが結合した基を示す。例えばジメチルアミノカルボニル、ジエチルアミノカルボニル、ジn-プロピルアミノカルボニル、ジイソプロピルアミノカルボニル、エチルメチルアミノカルボニル、メチルn-プロピルアミノカルボニル、メチルイソプロピルアミノカルボニル等が挙げられる。C16アルキルC38シクロアルキルアミノカルボニルとは、前記のC16アルキル及びC38シクロアルキルを置換基として1個ずつ有するアミノとカルボニルが結合した基を示す。例えばシクロプロピルメチルアミノカルボニル、シクロプロピルエチルアミノカルボニル、シクロブチルメチルアミノカルボニル、シクロブチルエチルアミノカルボニル、シクロペンチルメチルアミノカルボニル、シクロヘキシルメチルアミノカルボニル、シクロヘプチルメチルアミノカルボニル、シクロオクチルメチルアミノカルボニル等が挙げられる。飽和のヘテロシクリルカルボニルとは、前記の飽和のヘテロシクリルとカルボニルが結合した基を示す。例えば1-アゼチジニルカルボニル、1-ピロリジニルカルボニル、1-ピペリジニルカルボニル、1-ヘキサメチレンイミニルカルボニル、1-ピペラジニルカルボニル等が挙げられる。モノ飽和のヘテロシクリルアミノカルボニルとは、前記の飽和のヘテロシクリルを置換基として1個有するアミノとカルボニルが結合した基を示す。オキセタニルアミノカルボニル、オキソラニルアミノカルボニル、オキサニルアミノカルボニル、テトラヒドロチオピラニルアミノカルボニル、ピロリジニルアミノカルボニル、ピペリジニルアミノカルボニル等が挙げられる。C16アルキルスルホニルとは、前記のC16アルキルとスルホニルが結合した基を示す。例えばメチルスルホニル、エチルスルホニル、n-プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、イソブチルスルホニル、n-ヘキシルスルホニル等が挙げられる。C38シクロアルキルスルホニルとは、前記のC38シクロアルキルとスルホニルが結合した基を示す。例えばシクロプロピルスルホニル、シクロブチルスルホニル、シクロペンチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル、シクロヘプチルスルホニル、シクロオクチルスルホニルが挙げられる。C16アルキルスルホニルアミノとは、前記のC16アルキルスルホニルとアミノが結合した基を示す。例えばメチルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノ、n-プロピルスルホニルアミノ、イソプロピルスルホニルアミノ、n-ブチルスルホニルアミノ、イソブチルスルホニルアミノ、s-ブチルスルホニルアミノ、t-ブチルスルホニルアミノ、n-ペンチルスルホニルアミノ、イソペンチルスルホニルアミノ、ネオペンチルスルホニルアミノ、n-ヘキシルスルホニルアミノ、イソヘキシルスルホニルアミノ等が挙げられる。モノC16アルキルアミノスルホニルとは、前記のモノC16アルキルアミノとスルホニルが結合した基を示す。例えばメチルアミノスルホニル、エチルアミノスルホニル、n-プロピルアミノスルホニル、イソプロピルアミノスルホニル、n-ブチルアミノスルホニル、イソブチルアミノスルホニル、s-ブチルアミノスルホニル、t-ブチルアミノスルホニル、n-ペンチルアミノスルホニル、イソペンチルアミノスルホニル、ネオペンチルアミノスルホニル、n-ヘキシルアミノスルホニル、イソヘキシルアミノスルホニル等が挙げられる。C13アルカンジイルとは、炭素原子を1~3個有する2価の飽和炭化水素基を示す。例えば、メタンジイル、エタン-1,2-ジイル、プロパン-1,3-ジイル等が挙げられる。C23アルケンジイルとは、炭素原子を2~3個有する2価の不飽和炭化水素基を示す。例えば、Z―エテンジイル、Z-プロペン-13-ジイル等が挙げられる。C16アルカンジイルとは、炭素原子を1~6個有する2価の炭化水素基を示す。例えば、メタンジイル、エタン-1,2-ジイル、プロパン-1,3-ジイル、ブタン-1,4-ジイル、ペンタン-1,5-ジイル、ヘキサン-1,6-ジイル等が挙げられる。式αで表されるアザスピロ環構造とは、置換されてもよい、炭素原子を3~8個有する飽和の環状炭化水素と1個の窒素原子を含有する5~6員の飽和のヘテロ環が1個の炭素原子を共有しているアザスピロ環構造を示す。例えば、以下に示す構造が挙げられる。このとき、前記式αで表されるアザスピロ環構造は、同一に又は異なってC14アルキル及びフッ素原子からなる群より選ばれる1~4個の基で置換されてもよい。例えば、以下に示す構造が挙げられる。また、前記式αで表されるアザスピロ環構造は、C3-4シクロアルカンがスピロ結合してもよい。ここでスピロ結合とは、2個の環が炭素原子を1個共有して結合することを指す。例えば、以下に示す構造が挙げられる。また、前記式αで表されるアザスピロ環構造は、C13アルカンジイル若しくはC23アルケンジイルによる架橋を有してもよい。例えば以下の構造が挙げられる。式βで表される5又は6員のヘテロアリールとは、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より同一に又は異なって選ばれる1個以上の原子と1~5個の炭素原子からなる5又は6員の単環式芳香族複素環基を示す。例えば、オキサジアゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、ピリダジニル等が挙げられる。本発明化合物の好ましい態様は以下の通りである。すなわち、下記式α1で表されるアザスピロ環構造のうち、好ましいアザスピロ環構造は、以下の構造であり、さらに好ましいアザスピロ環構造は、以下の構造であり;Aで表される好ましい環は、ベンゼン環又は6員のヘテロ芳香環であり、Aで表されるさらに好ましい環は、ベンゼン環、ピリジン環又はピリミジン環であり;好ましいR11、R12及びR13は、水素原子、ハロゲン原子、カルバモイル、シアノ、C1-6アルキル、ヘテロアリール、モノC16アルキルアミノカルボニル、モノC38シクロアルキルアミノカルボニル、ジC16アルキルアミノカルボニル、C16アルキルC38シクロアルキルアミノカルボニル該モノC16アルキルアミノカルボニル、モノC38シクロアルキルアミノカルボニル、ジC16アルキルアミノカルボニル及びC16アルキルC38シクロアルキルアミノカルボニルは、置換されていないか、ヒドロキシ、カルバモイル、シアノ、C16アルコキシ該C16アルコキシは、置換されていないか、1個のヒドロキシで置換されている。及びジC16アルキルアミノからなる群より同一に又は異なって選ばれる1~2個の基で置換されている。、飽和のヘテロシクリルカルボニル該飽和のヘテロシクリルカルボニルは、置換されていないか、1個のヒドロキシで置換されている。、C16アルキルスルホニルであり;好ましいXは、Oであり;好ましいYは、エタン-12-ジイル、プロパン-13-ジイル又はブタン-14-ジイルであり、さらに好ましいYは、プロパン-13-ジイルであり;ひとつの好ましいR2は、-COOR21であり、このとき好ましいR21はC16アルキル該C16アルキルは、置換されていないか、1個のC38シクロアルキル該C38シクロアルキルは、置換されていないか、1個のC16アルキルで置換されている。で置換されている。、ハロC1-6アルキル又はC38シクロアルキル該C38シクロアルキルは、置換されていないか、ハロゲン原子及びC16アルキルからなる群より同一に又は異なって選ばれる1~3個の基で置換されている。であり;他の好ましいR2は、下記式βで表される5又は6員のヘテロアリール該式βで表される5又は6員のヘテロアリールは、置換されていないか、ハロゲン原子、C16アルキル及びC38シクロアルキルからなる群より選ばれる1個の基で置換されている。であり、このときさらに好ましいR2は、5-オキサジアゾリル該5-オキサジアゾリルは、置換されていないか、1個のC16アルキルで置換されている。、2-ピリジル又は2-ピリミジニル該2-ピリジル及び2-ピリミジニルは、置換されていないか、ハロゲン原子、C16アルキル及びC38シクロアルキルからなる群より選ばれる1個の基で置換されている。である。本発明のひとつの好ましい態様は下記式IIで示される化合物又はその製薬学的に許容される塩である。ここで、Aで表される好ましい環は、ベンゼン環又は6員のヘテロ芳香環であり、Aで表されるさらに好ましい環は、ベンゼン環、ピリジン環又はピリミジン環であり;好ましいR11、R12及びR13は、水素原子、ハロゲン原子、カルバモイル、シアノ、C1-6アルキル、ヘテロアリール、モノC16アルキルアミノカルボニル、モノC38シクロアルキルアミノカルボニル、ジC16アルキルアミノカルボニル、C16アルキルC38シクロアルキルアミノカルボニル該モノC16アルキルアミノカルボニル、モノC38シクロアルキルアミノカルボニル、ジC16アルキルアミノカルボニル及びC16アルキルC38シクロアルキルアミノカルボニルは、置換されていないか、ヒドロキシ、カルバモイル、シアノ、C16アルコキシ該C16アルコキシは、置換されていないか、1個のヒドロキシで置換されている。及びジC16アルキルアミノからなる群より同一に又は異なって選ばれる1~2個の基で置換されている。、飽和のヘテロシクリルカルボニル該飽和のヘテロシクリルカルボニルは、置換されていないか、1個のヒドロキシで置換されている。、C16アルキルスルホニルであり、好ましいYは、エタン-12-ジイル、プロパン-13-ジイル又はブタン-14-ジイルであり、さらに好ましいYは、プロパン-13-ジイルであり;ひとつの好ましいR2は、-COOR21であり、このとき好ましいR21はC16アルキル該C16アルキルは、置換されていないか、1個のC38シクロアルキル該C38シクロアルキルは、置換されていないか、1個のC16アルキルで置換されている。で置換されている。、ハロC1-6アルキル又はC38シクロアルキル該C38シクロアルキルは、置換されていないか、ハロゲン原子及びC16アルキルからなる群より同一に又は異なって選ばれる1~3個の基で置換されている。であり;他の好ましいR2は、下記式βで表される5又は6員のヘテロアリール該式βで表される5又は6員のヘテロアリールは、置換されていないか、ハロゲン原子、C16アルキル及びC38シクロアルキルからなる群より選ばれる1個の基で置換されている。であり、このときさらに好ましいR2は、5-オキサジアゾリル該5-オキサジアゾリルは、置換されていないか、1個のC16アルキルで置換されている。、2-ピリジル又は2-ピリミジニル該2-ピリジル及び2-ピリミジニルは、置換されていないか、ハロゲン原子、C16アルキル及びC38シクロアルキルからなる群より選ばれる1個の基で置換されている。である。本発明の他の好ましい態様は下記式IIIで示される化合物又はその製薬学的に許容される塩である。ここで、Aで表される好ましい環は、ベンゼン環又は6員のヘテロ芳香環であり、Aで表されるさらに好ましい環は、ベンゼン環、ピリジン環又はピリミジン環であり;好ましいR11、R12及びR13は、水素原子、ハロゲン原子、カルバモイル、シアノ、C1-6アルキル、ヘテロアリール、モノC16アルキルアミノカルボニル、モノC38シクロアルキルアミノカルボニル、ジC16アルキルアミノカルボニル、C16アルキルC38シクロアルキルアミノカルボニル該モノC16アルキルアミノカルボニル、モノC38シクロアルキルアミノカルボニル、ジC16アルキルアミノカルボニル及びC16アルキルC38シクロアルキルアミノカルボニルは、置換されていないか、ヒドロキシ、カルバモイル、シアノ、C16アルコキシ該C16アルコキシは、置換されていないか、1個のヒドロキシで置換されている。及びジC16アルキルアミノからなる群より選ばれる同一に又は異なって1~2個の基で置換されている。、飽和のヘテロシクリルカルボニル該飽和のヘテロシクリルカルボニルは、置換されていないか、1個のヒドロキシで置換されている。、C16アルキルスルホニルであり;好ましいYは、エタン-12-ジイル、プロパン-13-ジイル又はブタン-14-ジイルであり、さらに好ましいYは、プロパン-13-ジイルであり;ひとつの好ましいR2は、-COOR21であり、このとき好ましいR21はC16アルキル該C16アルキルは、置換されていないか、1個のC38シクロアルキル該C38シクロアルキルは、置換されていないか、1個のC16アルキルで置換されている。で置換されている。、ハロC1-6アルキル又はC38シクロアルキル該C38シクロアルキルは、置換されていないか、ハロゲン原子及びC16アルキルからなる群より同一に又は異なって選ばれる1~3個の基で置換されている。であり;他の好ましいR2は、下記式βで表される5又は6員のヘテロアリール該式βで表される5又は6員のヘテロアリールは、置換されていないか、ハロゲン原子、C16アルキル及びC38シクロアルキルからなる群より選ばれる1個の基で置換されている。であり、このときさらに好ましいR2は、5-オキサジアゾリル該5-オキサジアゾリルは、置換されていないか、1個のC16アルキルで置換されている。、2-ピリジル又は2-ピリミジニル該2-ピリジル及び2-ピリミジニルは、置換されていないか、ハロゲン原子、C16アルキル及びC38シクロアルキルからなる群より選ばれる1個の基で置換されている。である。本発明の化合物は、アザスピロアルカン化合物であり、その製薬学的に許容される塩でも良い以下、適宜本発明の化合物という。。製薬学的に許容される塩としては、例えば、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、リン酸塩、硫酸塩、硝酸塩のような鉱酸塩、メタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p-トルエンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩のようなスルホン酸塩、シュウ酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩、マレイン酸塩、コハク酸塩、酢酸塩、安息香酸塩、マンデル酸塩、アスコルビン酸塩、乳酸塩、グルコン酸塩、リンゴ酸塩のような有機酸塩等の酸付加塩、グリシン塩、リジン塩、アルギニン塩、オルニチン塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩のようなアミノ酸塩、又は、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩のような無機塩若しくはアンモニウム塩、トリエチルアミン塩、ジイソプロピルアミン塩、シクロヘキシルアミン塩のような有機塩基との塩が挙げられる。なお、塩には、含水塩が含まれる。本発明の化合物は、不斉中心を持つことがあり、その場合種々の光学異性体が存在する。したがって、本発明の化合物は、RおよびSの別々の光学活性体として、およびラセミ体又はRS混合物として存在し得る。また、不斉中心を2個以上持つ化合物の場合には、さらにそれぞれの光学異性によるジアステレオマーも存在する。本発明の化合物は、これらすべての型を、任意の割合で含むものも含む。たとえば、ジアステレオマーは当業者によく知られた方法、たとえば分別結晶法等によって分離することができ、また、光学活性体はこの目的のためによく知られた有機化学的手法によって得ることができる。また、本発明の化合物には、シス体、トランス体などの幾何異性体が存在することがある。本発明の化合物は、それらの異性体、及びそれらの異性体を任意の割合で含んだものも含む。本発明化合物は、GPR119アゴニスト活性を有する。よって、本発明化合物は膵β細胞GPR119の直接活性化あるいは小腸GLP-1分泌を介した膵β細胞GLP-1受容体活性化を引き起こし、高血糖依存的に膵β細胞からのインスリン分泌を増大させることで高血糖を是正することができる。また、膵β細胞GPR119活性化を介する膵β細胞保護作用により、膵β細胞の機能不全、疲弊を緩和あるいは改善する。従って、既存の糖尿病治療薬とは作用機序の異なる新たな薬物療法として利用できる。糖尿病とは、I型糖尿病、II型糖尿病、特定の原因によるその他の糖尿病を包含する。本発明化合物は肥満症、高脂血症、高血圧症、メタボリックシンドローム、浮腫、高尿酸血症、痛風などの糖尿病関連疾患の治療或いは予防薬にも利用可能である。本発明化合物は膵β細胞保護作用を有することから、膵島移植時の予後改善に使用可能である。さらに、本発明化合物は、ケトアシドーシス、細小血管症網膜症、腎症、動脈硬化症アテローム性動脈硬化症、心筋梗塞、脳梗塞、抹消動脈閉塞など、神経障害感覚神経、運動神経、自律神経など、足壊疽、感染症などの糖尿病性合併症の治療薬或いは予防薬として利用できる。また、本発明化合物はGPR119アゴニスト作用以外の異なる作用機序の糖尿病治療薬、糖尿病合併症治療薬、高脂血症治療薬、高血圧治療薬などと併用して使用することもできる。本発明の化合物とその他の薬剤を組み合わせることによって、上記疾患においてそれぞれ単剤で得られる効果よりも併用した場合に相加的な効果が期待できる。併用可能な糖尿病治療薬、糖尿病合併症治療薬としては、例えば、インスリン製剤、インスリンのフラグメントまたは誘導体INS-1、経口インスリン製剤、インスリン抵抗性改善薬PPARγアゴニスト、PPARα/γアゴニスト、PPARδアゴニスト、PPARα/γ/δアゴニスト等例、ピオグリタゾン、ロシグリタゾン、GW-501516、GW-590735、ABT-335、AZD-6610、AVE-8133、αグルコシダーゼ阻害薬例、ボグリボース、アカルボース、ミグリトール、ビグアナイド薬例、メトホルミン、ブホルミン、フェンホルミン、インスリン分泌促進薬例、グリベンクラミド、グリメピリド、レパグリニド、ナテグリニド、ミチグリニド、グルカゴン受容体アンタゴニスト、インスリン受容体キナーゼ促進薬、ジペプチジルペプチダーゼIV阻害薬例、ビルダグリプチン、アログリプチン、シタグリプチン、リナグリプチン、サクサグリプチン、SGLT阻害薬例、サーグリフロジン、カナグリフロジン、ダパグリフロジン、TS-071、ASP-1941、PTP1b阻害薬例、バナジン酸ナトリウム、グルコース6ホスファターゼ阻害薬、グリコーゲンホスホリラーゼ阻害薬例、PSN-357、FR-258900、FBPase阻害薬例、MB-07803、PEPCK阻害薬、ピルビン酸デヒドロゲナーゼキナーゼ阻害薬、D-カイロイノシトール、GSK3阻害薬、GLP-1アゴニスト例、リラグルチド、エクセナチド、GIPアゴニスト、アミリンアゴニスト例、プラムリンチド、ソマトスタチン受容体アゴニスト、グルココルチコイド受容体アンタゴニスト、11ベータHSD1阻害薬例、AMG-221、INCB-13739、プロテインキナーゼC阻害薬例、ルボキシスタウリン、IKKβ阻害薬、ベータ3アドレナリン受容体アゴニスト例、AJ-9677、フォスファチジルイノシトールキナーゼ阻害薬、フォスファチジルイノシトールホスファターゼ阻害薬、ACC阻害薬、GPR40受容体アゴニスト、GPR120受容体アゴニスト、TGR5受容体アゴニスト、AMPK活性化薬例、DRL-16536、グルコキナーゼ活性化薬、FGF21、FGFアナログ、アルドース還元酵素阻害薬、AGE阻害薬などが挙げられる。また併用可能な糖尿病関連疾患の薬剤としては、例えば、HMG-CoA還元酵素阻害薬、スクアレン合成酵素阻害薬、胆汁酸吸着剤、IBAT阻害薬、CETP阻害薬、CPT阻害薬、フィブラート系薬剤、ACAT阻害薬、MGAT阻害薬、DGAT阻害薬、コレステロール吸収阻害薬、膵リパーゼ阻害薬、MTP阻害薬、ニコチン酸誘導体、LXRアゴニスト、LDL受容体促進薬、アンジオテンシン変換酵素阻害薬、アンジオテンシンIIアンタゴニスト、利尿薬、カルシウム拮抗薬、エンドセリン変換酵素阻害薬、エンドセリン受容体アンタゴニスト、食欲抑制薬、尿酸生成阻害薬、尿酸排泄促進薬などが挙げられる。本発明化合物は、単独又は薬学的あるいは薬剤学的に許容される担体又は希釈剤と共に投与することができる。本発明化合物をGPR119アゴニストなどとして使用する場合は、本発明化合物をそのまま経口投与、又は非経口投与してもよい。また、本発明化合物を有効成分として含む剤として経口投与、又は非経口投与してもよい。非経口投与としては、静脈内投与、経鼻投与、経皮投与、皮下投与、筋肉内投与、舌下投与があげられる。本発明化合物の投与量は、投与対象、投与ルート、対象疾患、症状などによっても異なるが、例えば、成人の糖尿病患者に経口投与する場合、通常1回量として0.1mg~1000mg、好ましくは1mg~200mgであり、この量を1日1回~3回投与するのが望ましい。本発明の化合物のGPR119のアゴニスト作用を評価するには、例えば、試験方法に記載した方法など、公知の手法に従って行うことができる。本化合物に係る化合物の製造方法を詳細に説明するが、例示されたものに特に限定されない。また、反応に使用する溶媒においても、各反応を阻害しないものであればよく、特に下記の記載に限定されない。以下、化合物Iの製造法について説明する。化合物は、自体公知の方法、例えば、以下に示す製造法1~16又はこれらに準ずる方法により製造することができる。なお、以下の各製造方法において、原料化合物は塩として用いてもよく、例えば、前記の製薬学的に許容される塩が挙げられる。本発明の化合物のうち、Xが-O-である化合物は、例えば、下記製造法1又はこれらに準ずる方法により製造することができる。製造法1:式中、m1、m2、n1、n2、A、R11、R12、R13、Y及びR2は前記と同意義を示す。工程1-1本工程は、化合物I-1を用いて化合物I-2を製造する方法である。本方法は、公知の方法、いわゆる光延反応Synthesis,1981,1-28を用いて行うことができる。本工程において用いられる化合物I-3の量は、化合物I-11当量に対して0.5から5当量であり、好ましくは1から3当量である。用いられるアゾ化合物としては、通常例えばアゾジカルボン酸ジエチル、アゾジカルボン酸ジイソプロピル、1,1’-アゾビスN,N-ジメチルホルムアミド等が挙げられる。用いられるアゾ化合物の量は、化合物I-11当量に対して0.5から5当量であり、好ましくは1から3当量である。用いられるホスフィン化合物としては、通常例えばトリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン等が挙げられる。用いられるホスフィン化合物の量は、化合物I-11当量に対して0.5から5当量であり、好ましくは1から3当量である。反応に用いられる溶媒としては、テトラヒドロフラン、1,4‐ジオキサン、ジエチルエーテル、クロロホルム、ジクロロメタン、トルエン、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の反応に関与しない溶媒が挙げられ、これらの溶媒は適宜の割合で混合して用いてもよい。これらの反応は、通常室温から還流温度で、1から4時間で行うことができる。また、本工程は、文献記載の方法TetrahedronLetters,1995,36,2531-2534、TetrahedronLetters,1996,37,2463-2466を用いて行うことができる。本工程に用いられる試薬としては、例えば、シアノメチレントリメチルホスホラン、又はシアノメチレントリブチルホスホラン等が挙げられる。用いられる試薬の量は、化合物1-11当量に対して、1から5当量であり、好ましくは1から3当量である。反応に用いられる溶媒としては、前記と同様なものが挙げられる。これらの反応は、通常室温から還流温度で、1から24時間で行うことができる。このようにして得られる化合物I-2は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、再沈殿、溶媒抽出、結晶化、クロマトグラフィー等により単離精製することができる。本発明の化合物のうち、Aで表される環が6員のヘテロ芳香環である化合物は、例えば、下記製造法2又はこれらに準ずる方法により製造することができる。製造法2:式中、Uaは脱離基を、A’は6員のヘテロ芳香環を、m1、m2、n1、n2、R11、R12、R13、X、Y及びR2は前記と同意義を示す。Uaで示される脱離基としては、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ、p-トルエンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ等が挙げられる。A’で表される6員のヘテロ芳香環は、前記と同意義を示す。工程2-1本工程は、塩基の存在下、化合物II-1を化合物II-3と反応させることにより化合物II-2を製造する方法である。用いられる塩基としては、水素化ナトリウム、炭酸セシウム、カリウムtert-ブトキシド、ナトリウムtert-ブトキシド等が挙げられ、化合物II-11当量に対して1から5当量であり、好ましくは1から3当量である。用いられる溶媒としては、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、N-メチル-2-ピロリドン等が挙げられる。これらの反応は、通常室温から還流温度で、1から24時間で行うことができる。このようにして得られる化合物II-2は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、再沈殿、溶媒抽出、結晶化、クロマトグラフィー等により単離精製することができる。本発明の化合物のうち、R11がR14R15NCO-である化合物III-3は、例えば、下記製造法3又はこれらに準ずる方法により製造することができる。なお、R11がカルボン酸前駆体例えば、エトキシカルボニル、メトキシカルボニル、シアノ等が挙げられるである、出発物質である化合物は、例えば、前記製造法1又はこれらに準ずる方法により製造することができる。製造法3:式中、R14及びR15は、同一に若しくは異なって水素原子、C1-6アルキル、C3-8シクロアルキル若しくは飽和のヘテロシクリルを示し又はR14及びR15は結合している窒素原子と一緒になって飽和のヘテロシクリル形成し、m1、m2、n1、n2、A、R12、R13、X、Y及びR2は前記と同意義を示す。[工程3-1]本工程は、塩基により加水分解を行い、化合物III-1より化合物III-2を製造する方法である。反応に用いられる塩基としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。用いられる塩基の量は、化合物III-11当量に対して、1から20当量であり、好ましくは1から5当量である。反応に用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、水等の反応に関与しない溶媒が挙げられ、これらの溶媒は適宜の割合で混合して用いてもよい。これらの反応は、通常室温から還流温度で行うことができる。[工程3-2]本工程は、化合物III-2と化合物III-4を縮合し、化合物III-3を製造する方法である。本反応は、公知の方法、例えば縮合剤を用いて、塩基及び活性化剤の存在下又は非存在下、反応に関与しない溶媒中で行うことができる。本反応に用いられる化合物III-4の量は、化合物III-21当量に対して1から5当量であり、好ましくは1から3当量である。反応に用いられる縮合剤としては、例えば1-エチル-3-3-ジメチルアミノプロピルカルボジイミド塩酸塩、N,N’-ジシクロヘキシルカルボジイミド、シアノホスホン酸ジエチル等が挙げられる。用いられる縮合剤の量は、化合物III-21当量に対して、1から5当量であり、好ましくは1から3当量である。反応に用いられる活性化剤としては、例えば、1-ヒドロキシベンゾトリアゾール一水和物、N-ヒドロキシスクシンイミド等が挙げられる。用いられる活性化剤の量は、化合物III-21当量に対して、1から5当量であり、好ましくは1から2当量である。反応に用いられる塩基としては、例えば、N,N-ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン等の第3級脂肪族アミン、ピリジン等が挙げられる。用いられる塩基の量は、化合物III-21当量に対して、1から5当量であり、好ましくは1から2当量である。反応に用いられる溶媒としては、N,N-ジメチルホルムアミド、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2-ジクロロエタン、トルエン、テトラヒドロフラン、1,4‐ジオキサン、水等の反応に関与しない溶媒が挙げられ、これらの溶媒は適宜の割合で混合して用いてもよい。これらの反応は、通常0°Cから100°Cで行うことができる。このようにして得られる化合物III-3は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、再沈殿、溶媒抽出、結晶化、クロマトグラフィー等により単離精製することができる。本発明の化合物のうち、R2がc下記式βで表される5若しくは6員のヘテロアリールである化合物IV-3又は置換オキサジアゾリルである化合物IV-5は、例えば、下記製造法4又はこれらに準ずる方法により製造することができる。該式βで表される5又は6員のヘテロアリールは、置換されていないか、ハロゲン原子、C16アルキル、ハロC1-6アルキル、C38シクロアルキル及びC16アルコキシからなる群より同一に又は異なって選ばれる1~3個の基で置換されている。製造法4:式中、Ubは脱離基を、化合物IV-6は脱離基Ubを置換基として有する前記式βで表される5又は6員のヘテロアリールを、R22はC1-6アルキル又はC3-8シクロアルキルを、m1、m2、n1、n2、A、R11、R12、R13、X及びYは前記と同意義を示す。Ubで示される脱離基としては、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ、p-トルエンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ等が挙げられる。R22で示されるC1-6アルキルは、前記と同意義を示す。R22で示されるC3-8シクロアルキルは、前記と同意義を示す。[工程4-1]本工程は、化合物IV-1を酸性条件下で処理することにより、化合物IV-2を製造する方法である。反応に用いられる酸としては、通常例えば、4M塩化水素酢酸エチル溶液、4M塩化水素1,4-ジオキサン溶液、トリフルオロ酢酸等が挙げられる。用いられる酸の量は、化合物IV-11当量に対して5から50当量であり、好ましくは10から30当量である反応に用いられる溶媒としては、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、メタノール、エタノール、水、クロロホルム、ジクロロメタン等の反応に関与しない溶媒が挙げられ、これらの溶媒は適宜の割合で混合して用いてもよい。これらの反応は、通常0°Cから室温で、1から24時間で行うことができる。[工程4-2]本工程は、化合物IV-2と化合物IV-6より化合物IV-3を製造する方法である。A法塩基の存在下又は非存在下で、化合物IV-2と化合物IV-6を反応させることにより化合物IV-3を製造することができる。本反応で用いられる化合物IV-6としては、2-クロロ-5-イソプロピルピリジン、2-クロロ-5-メチルピリジン、25-ジクロロピリジン等が挙げられる。本反応に用いられる化合物IV-6の量は、化合物IV-21当量に対して1から5当量で好ましくは1から3当量である。反応に用いられる塩基としては、N,N-ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン等の第3級脂肪族アミン、炭酸セシウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、ピリジン等が挙げられる。用いられる塩基の量は、1から5当量で好ましくは1から3当量である。反応に用いられる溶媒としては、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、トルエン、1,4-ジオキサン、テトラヒドロフラン、2-プロパノール等の反応に関与しない溶媒が挙げられ、これらの溶媒は適宜の割合で混合して用いてもよい。これらの反応は、通常室温から180°Cで、1から24時間で行うことができ、またマイクロ波照射下でも行うことができる。B法金属触媒及び塩基の存在下で、化合物IV-2と化合物IV-6を反応させることにより化合物IV-3を製造することができる。本反応は、アルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲気において、パラジウム触媒、塩基の存在下及びホスフィン化合物の存在下または非存在下で反応に関与しない溶媒中で行うことができる。本反応で用いられる化合物IV-6の量は、化合物IV-21当量に対して1から5当量で好ましくは1から3当量である。反応に用いられるパラジウム触媒としては、例えば、1,3-ジイソプロピルイミダゾール-2-イリデン3-クロロピリジルパラジウムIIジクロリド、[1,1’-ビスジフェニルホスフィノフェロセン]パラジウムIIジクロリドジクロロメタン錯体、酢酸パラジウムII、トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウムII、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム0等が挙げられる。用いられるパラジウム触媒の量は、化合物IV-21当量に対して、通常0.01から1当量で好ましくは0.1から0.5当量である。反応に用いられるホスフィン化合物としては、例えば2,2’-ビス-1,1’-ビナフチル、1,1’-ビスジフェニルホスフィノフェロセン、4,5’-ビス-9,9’-ジメチルキサンテン等が挙げられる。用いられるホスフィン化合物の量は、通常0.02から2等量で好ましくは0.2から1当量である。反応に用いられる塩基としては、例えばカリウムtert-ブトキシド、ナトリウムtert-ブトキシド、ナトリウムフェノキシド等のアルカリ金属アルコキシド、炭酸セシウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩、リン酸カリウム等のアルカリ金属リン酸塩等が挙げられる。用いられる塩基の量は、化合物IV-21当量に対して1から5当量であり、好ましくは1から3当量である。反応に用いられる溶媒としてはN,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、トルエン、1,4-ジオキサン、1,2-ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン等の反応に関与しない溶媒が挙げられ、これらの溶媒は適宜の割合で混合して用いてもよい。これらの反応は、通常室温から180度で、1から24時間で行うことができ、またマイクロ波照射下でも行うことができる。このようにして得られる化合物IV-3は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、再沈殿、溶媒抽出、結晶化、クロマトグラフィー等により単離精製することができる。工程4-3本工程は、化合物IV-2と臭化シアンを塩基の存在下反応させることにより、化合物IV-4を製造する方法である。本反応で用いられる臭化シアンの量は、化合物IV-21当量に対して通常1から3当量であり、好ましくは1から1.5当量である。反応に用いられる塩基としては、通常例えば、酢酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、トリエチルアミン等が挙げられる。用いられる塩基の量は、化合物IV-21当量に対して、通常1から3当量であり、好ましくは1から2当量である。反応に用いられる溶媒としては、クロロホルム、ジクロロメタン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、水、エタノール、メタノール等の反応に関与しない溶媒が挙げられ、これらの溶媒は適宜の割合で混合して用いてもよい。これらの反応は通常0°Cから還流温度であり、1から24時間で行うことができる。工程4-4本工程は、化合物IV-4と化合物IV-7を塩化亜鉛存在下で反応させた後に塩酸で処理することにより、化合物IV-5を製造する方法である。本工程は、公知の方法、例えば、WO2008081204に記載の方法又はそれに準じた方法により行うことができる。本反応で用いられる化合物IV-7としては、例えばN’-ヒドロキシ-2-メチルプロパンイミドアミド等が挙げられる。用いられる化合物IV-7の量は、化合物IV-41当量に対して、通常1から3当量であり、好ましくは1から2当量である。用いられる塩化亜鉛の量は、化合物IV-41当量に対して、通常1から3当量であり、好ましくは1から2当量である。反応に用いられる溶媒としては、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、ジエチルエーテル、酢酸エチル等の反応に関与しない溶媒が挙げられ、これらの溶媒は適宜の割合で混合して用いてもよい。この反応は通常0°Cから50°Cで、15分間から24時間で行うことができる。塩酸で処理する際に用いられる溶媒は、エタノール、メタノール、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等の反応に関与しない溶媒が挙げられ、これらの溶媒は適宜の割合で混合して用いても良い。この反応は通常室温から還流温度で、1から24時間で行うことができる。このようにして得られる化合物IV-5は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、再沈殿、溶媒抽出、結晶化、クロマトグラフィー等により単離精製することができる。本発明の化合物のうち、R2がb-COOR21{R21は、C16アルキル[該C16アルキルは、置換されていないか、1個のC38シクロアルキル該C38シクロアルキルは、置換されていないか、1個のC16アルキルで置換されている。で置換されている。]、ハロC1-6アルキル又はC38シクロアルキル該C38シクロアルキルは、置換されていないか、ハロゲン原子及びC16アルキルからなる群より同一に又は異なって選ばれる1~3個の基で置換されている。を示す。}である化合物は、例えば、下記製造法5又はこれらに準ずる方法により製造することができる。製造法5:式中、Ucは脱離基を、m1、m2、n1、n2、A、R11、R12、R13、X、Y及びR21は前記と同意義を示す。Ucで示される脱離基としては、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチルイミダゾリウム及び4-ニトロフェノキシ等の脱離基が挙げられる。工程5-1本工程は、化合物IV-1を酸性条件下で処理することにより、化合物IV-2を製造する方法である。本反応は製造法4の工程4-1に記載した方法を用いて行うことができる。工程5-2本工程は、化合物IV-2より化合物V-1を製造する方法である。A法塩基の存在下、化合物IV-2と化合物V-2を反応させることにより、化合物V-1を製造することができる。本反応に用いられる化合物V-2の量は、化合物IV-21当量に対して1から5当量であり、好ましくは1から3当量である。反応に用いられる化合物V-2としては、例えばクロロギ酸イソプロピル、クロロギ酸イソブチル、クロロギ酸1-メチルシクロプロピル、1-{[1-フルオロ-2-メチルプロパン-2-イルオキシ]カルボニル}-3-メチル-4,5-ジヒドロ-1H-イミダゾル-3-イウムヨージド、1-{[1,1-ジフルオロ-2-メチルプロパン-2-イルオキシ]カルボニル}-3-メチル-4,5-ジヒドロ-1H-イミダゾル-3-イウムヨージド、1-メチルシクロプロピル4-ニトロフェニルカーボネート、N-メチルシクロプロピルオキシカルボニルオキシスクシンイミド等が挙げられる。反応に用いられる塩基としては、例えばN,N-ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン等の第3級脂肪族アミン、炭酸セシウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩、水酸化ナトリウム、ピリジン、N,N-ジメチル-4-アミノピリジン等が挙げられる。用いられる塩基の量は、1から5当量であり、好ましくは1から3当量である。反応に用いられる溶媒としてはクロロホルム、ジクロロメタン、1,4-ジオキサン、1,2-ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール、水、酢酸エチル、アセトニトリル、アセトン、トルエン等の反応に関与しない溶媒が挙げられ、これらの溶媒は適宜の割合で混合して用いてもよい。これらの反応は、通常0°Cから還流温度で、1から24時間で行うことができる。B法トリホスゲン存在下、化合物IV-2と化合物V-3を反応させることにより、化合物V-1を製造することができる。本反応に用いられる化合物V-3の量は、化合物IV-21当量に対して1から5当量であり、好ましくは1から3当量である。反応に用いられる化合物V-3としては、例えばシクロプロパンメタノール、1-メチルシクロプロパンメタノール、シクロペンタノール、ネオペンチルアルコール等が挙げられる。反応に用いられる塩基としては、トリエチルアミン等の第3級脂肪族アミン、ピリジン等の芳香族ヘテロ環アミン等が挙げられる。反応に用いられる溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン等の反応に関与しない溶媒が挙げられ、これらの溶媒は適宜の割合で混合して用いてもよい。これらの反応は、通常0°Cから室温で、5分間から24時間で行うことができる。このようにして得られる化合物V-1は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、再沈殿、溶媒抽出、結晶化、クロマトグラフィー等により単離精製することができる。本発明の化合物のうち、R2がaC16アルキル[該C16アルキルは、置換されていないか、1個のC38シクロアルキル該C38シクロアルキルは、置換されていないか、トリフルオロメチル及びC16アルキルからなる群より選ばれる1個の基で置換されている。で置換されている。]、ハロC1-6アルキル又はC38シクロアルキルである化合物、、及びは、例えば、下記製造法6又はこれらに準ずる方法により製造することができる。製造法6:式中、Udは脱離基を、Ueはヒドロキシ又はハロゲン原子を示し、R23及びR24は同一に若しくは異なって水素原子、C1-4アルキル若しくはC3-8シクロアルキルを示し又はR23及びR24は結合している炭素原子と一緒になってC3-8シクロアルキルを形成し、R25は水素原子、C1-5アルキル若しくはC3-8シクロアルキルを示し、R26及びR27は同一に若しくは異なって水素原子、C1-5アルキル若しくはC3-8シクロアルキルを示し又はR26及びR27は結合している炭素原子と一緒になってC3-8シクロアルキルを形成し、m1、m2、n1、n2、A、R11、R12、R13、X、Y及びR2は前記と同意義を示す。Udで示される脱離基としては、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ、p-トルエンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ等が挙げられる。Ueで示されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。R23、R24及びR25で示されるC1-5アルキルとは、炭素原子を1~5個有する直鎖状又は分岐状のアルキルを示し、例えばメチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、s-ブチル、t-ブチル、n-ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、2-メチルブチル等が挙げられる。R26及びR27で示されるC1-4アルキルとは、炭素原子を1~4個有する直鎖状又は分岐状のアルキルを示し、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、s-ブチル、t-ブチルが挙げられる。工程6-1本工程は、化合物IV-1を酸性条件下で処理することにより、化合物IV-2を製造する方法である。本反応は製造法4の工程4-1に記載した方法を用いて行うことができる。[工程6-2]本反応は、塩基の存在下又は非存在下で、化合物IV-2と化合物VI-7を反応させることにより、化合物を製造する方法である。本反応に用いられる化合物VI-7としては、例えば2,2-ジフルオロプロピル4-メチルベンゼンスルホナート等が挙げられる。用いられる化合物VI-7の量は、化合物IV-21当量に対して1から5当量であり、好ましくは1から3当量である。反応に用いられる塩基としては、例えばN,N-ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン等の第3級脂肪族アミン、炭酸セシウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩、水酸化ナトリウム、ピリジン、N,N-ジメチル-4-アミノピリジン等が挙げられる。用いられる塩基の量は、化合物IV-21当量に対して、1から5当量であり、好ましくは1から3当量である。反応に用いられる溶媒としては、アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、1,4-ジオキサン、テトラヒドロフラン、エタノール等の反応に関与しない溶媒が挙げられ、これらの溶媒は適宜の割合で混合して用いてもよい。これらの反応は、通常室温から180°Cで、1から24時間で行うことができ、またマイクロ波照射下でも行うことができる。このようにして得られる化合物は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、再沈殿、溶媒抽出、結晶化、クロマトグラフィー等により単離精製することができる。[工程6-3]本反応は、化合物IV-2と化合物VI-8から還元的アミノ化反応を行うことにより、化合物を製造する方法である。反応に用いられる還元剤としては、ナトリウムトリアセトキシボロヒドリド、ナトリウムシアノボロヒドリド、ボラン-2-ピコリン錯体等が挙げられる。用いられる還元剤の量は、化合物IV-21当量に対して、1から3当量であり、好ましくは1から2当量である。反応に用いられる溶媒は、N,N-ジメチルホルムアミド、クロロホルム、ジクロロメタン、メタノール等が挙げられる。これらの反応は、通常0°Cから還流温度で行うことができる。このようにして得られる化合物は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、再沈殿、溶媒抽出、結晶化、クロマトグラフィー等により単離精製することができる。[工程6-4]本工程は、化合物IV-2と化合物VI-9を反応させることにより、化合物を製造する方法である。A法化合物VI-9のUeがヒドロキシである場合、化合物IV-2と化合物VI-9を縮合し、化合物を製造することができる。本反応は、公知の方法、例えば縮合剤を用いて、塩基及び活性化剤の存在下又は非存在下、反応に関与しない溶媒中で行うことができる。本反応は、製造法3の工程3-2に記載した方法に準じて行うことができる。B法化合物VI-9のUeがハロゲン原子である場合、塩基の存在下又は非存在下、化合物IV-2と化合物VI-9を反応させることにより、化合物を製造することができる。本工程は、公知の方法、例えば、文献ChemicalPharmaceuticalBulletin,2001,49,988-998.に記載の方法又はそれに準じた方法で行うことができる。[工程6-5]本工程は、化合物VI-3を還元することにより、化合物を製造する方法である。本反応に用いられる還元剤は、水素化アルミニウムリチウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、ボラン-テトラヒドロフラン錯体、ボラン-ジメチルスルフィド錯体等が挙げられる。用いられる還元剤の量は、化合物VI-31当量に対して、1から3当量であり、好ましくは1から2当量である。反応に用いられる溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、1,4-ジオキサン等の反応に関与しない溶媒が挙げられ、これらの溶媒は適宜の割合で混合して用いてもよい。これらの反応は、通常0°Cから還流温度で行うことができる。このようにして得られる化合物は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、再沈殿、溶媒抽出、結晶化、クロマトグラフィー等により単離精製することができる。[工程6-6]本反応は、塩基の存在下又は非存在下、化合物IV-2と化合物VI-10を反応させて化合物を製造する方法である。本反応に用いられる化合物VI-10としては、例えばイソブチレンオキシド等が挙げられる。用いられる化合物VI-10の量は、化合物IV-21当量に対して1から3当量であり、好ましくは1から2当量である。反応に用いられる塩基としては、例えばN,N-ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン等の第3級脂肪族アミン、炭酸セシウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩、水酸化ナトリウム、ピリジン、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等が挙げられる。用いられる塩基の量は、化合物IV-21当量に対して、1から5当量であり、好ましくは1から3当量である。反応に用いられる溶媒としては、N,N-ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、エタノール、メタノール、2-プロパノール、水等の反応に関与しない溶媒が挙げられ、これらの溶媒は適宜の割合で混合して用いてもよい。これらの反応は、通常0°Cから100°Cで行うことができる。[工程6-7]本反応は、化合物とフッ素化剤を反応させることにより、化合物を製造する方法である。反応に用いられるフッ素化剤としては、ビスアミノサルファートリフルオリド、サルファートリフルオリド、石川試薬等が挙げられる。用いられるフッ素化剤の量は、化合物1当量に対して、1から3当量であり、好ましくは1から2当量である。反応に用いられる溶媒としては、ジクロロエタン、クロロホルム、ジクロロメタン、1,4-ジオキサン、1,2-ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン等の反応に関与しない溶媒が挙げられ、これらの溶媒は適宜の割合で混合して用いてもよい。これらの反応は、通常-78°Cから100°Cで行うことができる。このようにして得られる化合物は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、再沈殿、溶媒抽出、結晶化、クロマトグラフィー等により単離精製することができる。本発明の化合物のうち、R2がdC16アルキルスルホニル又はC38シクロアルキルスルホニルである化合物は、例えば、下記製造法7又はこれらに準ずる方法により製造することができる。製造法7:式中、Ufはハロゲン原子を、R28はC1-6アルキル又はC3-8シクロアルキルを、m1、m2、n1、n2、A、R11、R12、R13、X及びYは前記と同意義を示す。Ufで示されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。工程7-1本工程は、化合物IV-1を酸性条件下で処理することにより、化合物IV-2を製造する方法である。本反応は製造法4の工程4-1に記載した方法を用いて行うことができる。工程7-2本工程は、塩基の存在下又は非存在下、化合物と化合物VII2を反応させ、化合物VII1を製造する方法である。本工程は、公知の方法、例えば、文献JournalofMedicinalChemistry,2008,51,2170-2177に記載の方法又はそれに準じた方法行うことができる。反応で用いられる化合物VII2としては、例えば、シクロプロパンスルホニルクロリド等が挙げられる。用いられる化合物VII2の量は、化合物1当量に対して通常1から5当量であり、好ましくは1から2当量である。用いられる塩基としては、通常例えば、N,N-ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン、炭酸カリウム等が挙げられる。用いられる塩基の量は、化合物1当量に対して、通常1から5当量であり、好ましくは1から3当量である。反応に用いられる溶媒としては、クロロホルム、ジクロロメタン、1,4-ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、水等の反応に関与しない溶媒が挙げられ、これらの溶媒は適宜の割合で混合して用いてもよい。これらの反応は、通常0°Cから室温で、1から24時間で行うことができる。このようにして得られる化合物VII1は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、再沈殿、溶媒抽出、結晶化、クロマトグラフィー等により単離精製することができる。製造法1における出発物質である化合物I-1、製造法2における出発物質である化合物II-1ここで、Xが-O-である化合物II-1は化合物I-1であり、Xが-S-又は-NRX-である化合物II-1は化合物VIII-3である。及び製造法4~7における出発物質である化合物は、例えば、下記製造法8又はこれらに準ずる方法により製造することができる。製造法8:式中、Ugはヒドロキシ又は脱離基を、Wは-S-又は-NRX-を、Ua、A’、m1、m2、n1、n2、A、R11、R12、R13、X、Y及びR2は前記と同意義を示す。Ugで示される脱離基としては、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ、p-トルエンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ等が挙げられる。Wで示される-NRX-におけるRXは、前記と同意義を示す。工程8-1本工程は、化合物VIII-1を酸性条件下で処理することにより、化合物VIII-2を製造する方法である。本反応は製造法4の工程4-1に記載した方法に準じて行うことができる。工程8-2本工程は、化合物VIII-2より化合物I-1を製造する方法である。本反応は、製造法4~7に記載した方法に準じて行うことができる。このようにして得られる化合物I-1は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、再沈殿、溶媒抽出、結晶化、クロマトグラフィー等により単離精製することができる。工程8-3本工程は、化合物I-1より化合物VIII-3を製造する方法である。本方法は、公知の方法、例えばWO2011/019538に記載されている方法を用いて行うことができる。このようにして得られる化合物VIII-3は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、再沈殿、溶媒抽出、結晶化、クロマトグラフィー等により単離精製することができる。工程8-4本工程は、化合物VIII-1より化合物IV-1を製造する方法である。A法化合物VIII-4のUgがヒドロキシである場合、本反応は、いわゆる光延反応を用いて、化合物VIII-1と化合物VIII-4を反応させることにより、化合物IV-1を製造することができる。本反応は、製造法1に記載した方法に準じて行うことができる。B法化合物VIII-4のUgが脱離基でありAで表される環が6員のヘテロアリールである場合、本反応は、塩基の存在下、化合物VIII-1を化合物VIII-4と反応させることにより化合物IV-1を製造することができる。本反応は、製造法2に記載した方法に準じて行うことができる。このようにして得られる化合物IV-1は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、再沈殿、溶媒抽出、結晶化、クロマトグラフィー等により単離精製することができる。工程8-5本工程は、化合物VIII-1より化合物VIII-5を製造する方法である。製造法8の工程8-3に記載した方法に準じて行うことができる。工程8-6本工程は、化合物VIII-5より化合物IV-1を製造する方法である。本工程は、塩基の存在下、化合物VIII-5を化合物II-3と反応させることにより化合物IV-1を製造する方法である。本反応は、製造法2に記載した方法に準じて行うことができる。このようにして得られる化合物IV-1は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、再沈殿、溶媒抽出、結晶化、クロマトグラフィー等により単離精製することができる。製造法8における出発物質である化合物VIII-1において、Yがプロパン-13-ジイルである化合物IX-6は、例えば、化合物IX-1より、下記製造法9又はこれらに準ずる方法により製造することができる。製造法9:式中、m1、m2、n1及びn2は前記と同意義を示す。工程9-1本工程は、化合物IX-1とトリフェニルホスホニウムクロリドを塩基の存在下反応させることにより、化合物IX-2を製造する方法である。本反応で用いられるトリフェニルホスホニウムクロリドの量は、化合物IX-11当量に対して通常1から3当量であり、好ましくは1から1.5当量である。反応に用いられる塩基としては、通常例えば、n-ブチルリチウム、水素化ナトリウム、カリウムtert-ブトキシド、ナトリウムビスアミド等が挙げられる。用いられる塩基の量は、化合物IX-11当量に対して、通常1から3当量であり、好ましくは1から1.5当量である。反応に用いられる溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,2-ジメトキシエタン、メチルtert-ブチルエーテル、トルエン、ベンゼン等の反応に関与しない溶媒が挙げられ、これらの溶媒は適宜の割合で混合して用いてもよい。これらの反応は通常0°Cから還流温度で、1から24時間で行うことができる。工程9-2本工程は、化合物IX-2を酸性条件下で処理することにより、化合物IX-3を製造する方法である。反応に用いられる酸としては、通常例えば、p-トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、塩酸等が挙げられる。用いられる酸の量は、化合物IX-21当量に対して1から10当量である。反応に用いられる溶媒としては、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、ジエチルエーテル、水、クロロホルム、ジクロロメタン等の反応に関与しない溶媒が挙げられ、これらの溶媒は適宜の割合で混合して用いてもよい。これらの反応は、通常0°Cから室温で、1から24時間で行うことができる。工程9-3本工程は、塩基の存在下、化合物IX-3とホスホノ酢酸トリエチルを反応させることにより、化合物IX-4を製造する方法である。本反応で用いられるホスホノ酢酸トリエチルの量は、化合物IX-31当量に対して通常1から3当量であり、好ましくは1から1.5当量である。用いられる塩基としては、通常例えば、n-ブチルリチウム、水素化ナトリウム、カリウムtert-ブトキシド、ナトリウムビスアミド等が挙げられる。用いられる塩基の量は、化合物IX-31当量に対して、通常1から3当量であり、好ましくは1から1.5当量である。反応に用いられる溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,2-ジメトキシエタン、メチルtert-ブチルエーテル、トルエン、ベンゼン等の反応に関与しない溶媒が挙げられ、これらの溶媒は適宜の割合で混合して用いてもよい。これらの反応は、通常0°Cから還流温度で、1から24時間で行うことができる。工程9-4本工程は、化合物IX-4を還元することにより、化合物IX-5を製造する方法である。本反応は、金属及び水素ガスの存在下、反応に関与しない溶媒中で行う方法を用いることができる。用いられる金属としては、パラジウム、ニッケル、白金などが挙げられる。用いられる金属の量は化合物IX-41当量に対して0.1から1当量で好ましくは0.1から0.5当量である。反応に用いられる水素圧は、常圧から10気圧で好ましくは常圧から4気圧である。反応に用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、水、テトラヒドロフラン、クロロホルム、ジクロロメタン、酢酸エチル等の反応に関与しない溶媒が挙げられ、これらの溶媒は適宜の割合で混合して用いてもよい。これらの反応は、通常室温から還流温度で行うことができる。工程9-5本工程は、化合物IX-5を還元することにより、化合物IX-6を製造する方法である。本反応に用いられる還元剤としては、例えば水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、ボラン-テトラヒドロフラン錯体、ボラン-ジメチルスルフィド錯体、水素化アルミニウムリチウム、水素化ジイソブチルアルミニウム等が挙げられる。用いられる還元剤の量は、化合物IX-51当量に対して0.5から5当量であり好ましくは1から3当量である。本反応に用いられる溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、1,4-ジオキサン、エタノール、メタノール等の反応に関与しない溶媒が挙げられ、これらの溶媒は適宜の割合で混合して用いてもよい。これらの反応は通常0°Cから還流温度で、30分間から24時間で行うことができる。このようにして得られる化合物IX-6は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、再沈殿、溶媒抽出、結晶化、クロマトグラフィー等により単離精製することができる。製造法9における出発物質である化合物IX-1において、m1が1でありm2が1である化合物X-4は、例えば、化合物X-1より、下記製造法10又はこれらに準ずる方法により製造することができる。なお、出発物質である化合物X-1は、自体公知の方法で製造することができる。製造法10:式中、n1及びn2は前記と同意義を示す。工程10-1~10-3本工程は、化合物X-1より化合物X-4を製造する方法である。本方法は、公知の方法、例えばChemicalPharmaceuticalBulletin,2004,675-687に記載されている方法を用いて行うことができる。このようにして得られる化合物X-4は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、再沈殿、溶媒抽出、結晶化、クロマトグラフィー等により単離精製することができる。製造法9における出発物質である化合物IX-1において、m1が1でありm2が2である化合物XI-4は、例えば、化合物XI-1より、下記製造法11又はこれらに準ずる方法により製造することができる。なお、出発物質である化合物XI-1は、自体公知の方法で製造することができる。製造法11:式中、n1及びn2は前記と同意義を示す。工程11-1~11-3本工程は、化合物XI-1より化合物XI-4を製造する方法である。本工程は、公知の方法、例えば、Chemistry-aEuropeanJournal,2009,9773-9784に記載の方法又はそれに準じた方法行うことができる。このようにして得られる化合物XI-4は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、再沈殿、溶媒抽出、結晶化、クロマトグラフィー等により単離精製することができる。製造法9における出発物質である化合物IX-1において、m1が2でありm2が2である化合物XII-3は、例えば、化合物XII-1より、下記製造法12又はこれらに準ずる方法により製造することができる。なお、出発物質である化合物XII-1は、自体公知の方法で製造することができる。製造法12:式中、n1及びn2は前記と同意義を示す。工程12-1~12-2本工程は、化合物XII-1より化合物XII-3を製造する方法である。本方法は、公知の方法、例えばWO2010/049146に記載されている方法を用いて行うことができる。このようにして得られる化合物XII-3は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、再沈殿、溶媒抽出、結晶化、クロマトグラフィー等により単離精製することができる。製造法8における出発物質である化合物VIII-1において、Yがプロパン-13-ジイルでありm1が0でありm2が1である化合物XIII-7は、例えば、化合物XIII-1より、下記製造法13又はこれらに準ずる方法により製造することができる。なお、出発物質である化合物XIII-1は、自体公知の方法で製造することができる。製造法13:式中、n1及びn2は前記と同意義を示す。[工程13-1]本工程は、化合物XIII-1とホスホノ酢酸トリエチルを塩基の存在下反応させることにより、化合物XIII-2を製造する方法である。本反応は、製造法9の工程9-3に記載した方法に準じて行うことができる。[工程13-2]本工程は、化合物XIII-2とトリメチルスルホキソニウム塩を、塩基の存在下反応させることにより、化合物XIII-3を製造する方法である。反応に用いるトリメチルスルホキソニウム塩としては、トリメチルスルホキソニウムヨージド、トリメチルスルホキソニウムブロミド、トリメチルスルホキソニウムクロリド等が挙げられる。用いられるトリメチルスルホキソニウム塩の量は、化合物XIII-21当量に対して通常1から5当量であり、好ましくは1.5から3当量である。反応に用いる塩基としては、水素化ナトリウム、カリウムtertブトキシド等が挙げられる。用いられる塩基の量は、化合物XIII-21当量に対して通常1から5当量であり、好ましくは1.5から3当量である。反応に用いる溶媒としては、ジメチルスルホキシド等の反応に関与しない溶媒が挙げられ、これらの溶媒は適宜の割合で混合して用いてもよい。これらの反応は通常室温から100°Cで、5から72時間で行うことができる。[工程13-3]本工程は、化合物XIII-3を還元することにより、化合物XIII-4を製造する方法である。本反応は、製造法9の工程9-5に記載した方法に準じて行うことができる。[工程13-4]本工程は、イミダゾールの存在下、化合物XIII-4にトリフェニルホスフィン及びヨウ素を反応させることにより、化合物XIII-5を製造する方法である。本反応で用いられるイミダゾールの量は、化合物XIII-51当量に対して通常1から3当量であり、好ましくは1から2当量である。本反応で用いられるトリフェニルホスフィンの量は、化合物XIII-51当量に対して通常1から3当量であり、好ましくは1から1.5当量である。本反応で用いられるヨウ素の量は、化合物XIII-51当量に対して通常1から3当量であり、好ましくは1から1.5当量である。反応に用いる溶媒としては、クロロホルム、ジクロロメタン、アセトニトリル、1,4-ジオキサン、ジエチルエーテル等の反応に関与しない溶媒が挙げられ、これらの溶媒は適宜の割合で混合して用いてもよい。これらの反応は通常0°Cから還流温度で、30分間から24時間で行うことができる。[工程13-5]本工程は、N,N’-ジメチルプロピレン尿素の存在下、化合物XIII-5に酢酸tert-ブチル及びリチウムジイソプロピルアミドを反応させることにより、化合物XIII-6を製造する方法である。本反応で用いられる酢酸tert-ブチルの量は、化合物XIII-51当量に対して通常1から5当量であり、好ましくは1.5から4当量である。本反応で用いられるリチウムジイソプロピルアミドの量は、化合物XIII-51当量に対して通常1から5当量であり、好ましくは1.5から4当量である。反応に用いるN,N’-ジメチルプロピレン尿素の代替化合物としては、ヘキサメチルリン酸トリアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、テトラメチル尿素等が挙げられる。反応に用いる溶媒としては、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、ジエチルエーテル等の反応に関与しない溶媒が挙げられ、これらの溶媒は適宜の割合で混合して用いてもよい。これらの反応は通常-78°Cから室温で、1から24時間で行うことができる。[工程13-6]本工程は、化合物XIII-6を還元することにより、化合物XIII-7を製造する方法である。本反応は、製造法9の工程9-5に記載した方法に準じて行うことができる。このようにして得られる化合物VIII-7は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、再沈殿、溶媒抽出、結晶化、クロマトグラフィー等により単離精製することができる。製造法8における出発物質である化合物VIII-1において、Yがエタン-12-ジイルである化合物XIV-3は、例えば、化合物IX-1より、下記製造法14又はこれらに準ずる方法により製造することができる。なお、出発物質である化合物IX-1は、製造法10~12に記載の方法又はこれに準ずる方法により製造することができる。製造法14:式中、m1、m2、n1及びn2は前記と同意義を示す。[工程14-1]本工程は、塩基の存在下、化合物IX-1にホスホノ酢酸トリエチルを反応させることにより、化合物XIV-1を製造する方法である。本反応は、製造法9の工程9-3に記載した方法に準じて行うことができる。[工程14-2]本工程は、化合物XIV-1を還元することにより、化合物XIV-2を製造する方法である。製造法9の工程9-4に記載した方法に準じて行うことができる。[工程14-3]本工程は、化合物XIV-2より化合物XIV-3を製造する方法である。本反応は、製造法9の工程9-5に記載した方法に準じて行うことができる。このようにして得られる化合物XIV-3は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、再沈殿、溶媒抽出、結晶化、クロマトグラフィー等により単離精製することができる。製造法8における出発物質である化合物VIII-1において、Yがエタン-12-ジイルでありm1が0でありm2が1である化合物XV-4は、例えば、化合物XIII-4より、下記製造法15又はこれらに準ずる方法により製造することができる。なお、出発物質である化合物XIII-4は、製造法13に記載の方法又はこれに準ずる方法により製造することができる。製造法15:式中、n1及びn2は前記と同意義を示す。[工程15-1]本工程は、化合物XIII-4を酸化することにより、化合物XV-1を製造する方法である。本反応は、デスマーチン酸化等を用いて行うことができる。反応で用いられる酸化剤は、化合物XIII-41当量に対して通常1から3当量であり、好ましくは1から2当量である。反応に用いられる溶媒としては、クロロホルム、ジクロロメタン等の反応に関与しない溶媒が挙げられ、これらの溶媒は適宜の割合で混合して用いてもよい。これらの反応は、通常0°Cから室温で、1から24時間で行うことができる。また本反応は、いわゆるスワン酸化反応J.Org.Chem.1976,41,3329.、2-ヨードキシ安息香酸IBX酸化等を用いて行うことができる。[工程15-2]本工程は、塩基の存在下、化合物XV-1とトリフェニルホスホニウムクロリドを反応させることにより、化合物XV-2を製造する方法である。製造法9の工程9-1に記載した方法に準じて行うことができる。[工程15-3]本工程は、化合物XV-2を酸性条件下で処理することにより、化合物XV-3を製造する方法である。製造法9の工程9-2に記載した方法に準じて行うことができる。[工程15-4]本工程は、化合物XV-3を還元することにより、化合物XV-4を製造する方法である。製造法9の工程9-5に記載した方法に準じて行うことができる。このようにして得られる化合物XV-4は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、再沈殿、溶媒抽出、結晶化、クロマトグラフィー等により単離精製することができる。製造法8における出発物質である化合物VIII-1において、Yがブタン-14-ジイルである化合物XVI-5は、例えば、化合物XVI-1より、下記製造法16又はこれらに準ずる方法により製造することができる。なお、出発物質である化合物XVI-1は、製造法14~15に記載の方法又はこれに準ずる方法により製造することができる。製造法16:式中、m1、m2、n1及びn2は前記と同意義を示す。[工程16-1]本工程は、化合物XVI-1を酸化することにより、化合物XVI-2を製造する方法である。製造法15の工程15-1に記載した方法に準じて行うことができる。[工程16-2]本工程は、塩基の存在下、化合物XVI-2とホスホノ酢酸トリエチルを反応させることにより、化合物XVI-3を製造する方法である。本反応は、製造法9の工程9-3に記載した方法に準じて行うことができる。[工程16-3]本工程は、化合物XVI-3を還元することにより、化合物XVI-4を製造する方法である。製造法9の工程9-4に記載した方法に準じて行うことができる。[工程16-4]本工程は、化合物XVI-4を還元することにより、化合物XVI-5を製造する方法である。製造法9の工程9-5に記載した方法に準じて行うことができる。このようにして得られる化合物XVI-5は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、再沈殿、溶媒抽出、結晶化、クロマトグラフィー等により単離精製することができる。本発明は、以下の参考例、実施例、試験例および製剤例によってさらに詳しく説明されるが、これらは本発明を限定するものではなく、また、本発明の範囲を逸脱しない範囲で変化させてもよい。以下の参考例および実施例において、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィーとは、NH2タイプシリカゲルクロマトレックスNH2タイプ、富士シリシア化学株式会社を用いたカラムクロマトグラフィー分離精製を示す。溶出溶媒の比は特に断らない限り容量比を示す。本明細書中で用いられている略語は下記の意味を示す。s:シングレットsingletd:ダブレットdoublett:トリプレットtripletq:クァルテットquartetdd:ダブルダブレットdoubledoubletdt:ダブルトリプレットdoubletripletm:マルチプレットmultipletbr:ブロードbroadJ:カップリング定数couplingconstantHz:ヘルツHertzCDCl3、CHLOROFORMd重クロロホルムDMSO-d6:重ジメチルスルホキシド1H-NMRプロトン核磁気共鳴スペクトルは下記のフーリエ変換型NMRで測定した。200MHz:Gemini2000AgilentTechnologies300MHz:Inova300AgilentTechnologies600MHz:JNM-ECA600JEOL解析にはACD/SpecManagerver.12.01商品名などを用いた。水酸基やアミノ基などのプロトンが非常に緩やかなピークについては記載していない。MSマススペクトルは以下の装置にて測定した。PlatformLCWatersLCMS-2010EVShimadzuLCMS-IT-TOFShimadzuイオン化法としては、ESIElectrosprayIonization、エレクトロスプレーイオン化法または、ESIとAPCIAtmosphericPressureChemicalIonization、大気圧化学イオン化法とのデュアルイオン化法を用いた。データは実測値foundを記載した。通常、分子イオンピークが観測されるが、tert-ブトキシカルボニル基-Bocを有する化合物の場合、フラグメントイオンとして、tert-ブトキシカルボニル基あるいはtert-ブチル基が脱離したピークが観測されることもある。また、水酸基-OHを有する化合物の場合、フラグメントピークとしてH2Oが脱離したピークが観測されることもある。塩の場合は、通常、フリー体の分子イオンピークもしくはフラグメントイオンピークが観測される。化合物名はACD/Namever.12.01商品名などを用いて命名した。参考例1tert‐ブチル2‐オキソ‐7‐アザスピロ[3.5]ノナン‐7‐カルボキシラートtert‐ブチル4‐オキソピペリジン‐1‐カルボキシラート50gを用い、文献ChemicalPharmaceuticalBulletin,2004,675-687に従って実験を行い、表題化合物17.2gを得た。1HNMRδppm147164176282335346.MSESIAPCIDualposi262MNa参考例2‐1tert‐ブチル2‐‐7‐アザスピロ[3.5]ノナン‐7‐カルボキシラートアルゴン雰囲気下、メトキシメチルトリフェニルホスホニウムクロリド32gをトルエン200mlに懸濁し、カリウムtert‐ブトキシド10.5gを加え、室温にて20分撹拌した。ここへ参考例1で得られた化合物17.2gのトルエン160ml溶液を滴下した後、70°Cで4時間撹拌した。氷冷下、反応液に飽和塩化アンモニウム水を加えて酢酸エチルにて抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤を濾別し、濾液を減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=95:5~80:20にて精製し、表題化合物12.8gを得た。1HNMRδppm145152159229247326337353357580587MSESIAPCIDualposi290MNa参考例2‐2tert‐ブチル2‐3‐エトキシ‐3‐オキソプロパ‐1‐エン‐1‐イル‐7‐アザスピロ3.5ノナン‐7‐カルボキシラート参考例2‐1で得られた化合物12.8gをアセトニトリル460mlに溶解し、水114mL、次いでトリフルオロ酢酸4.0mlを加え、室温で1時間撹拌した。反応液を氷冷し、飽和重曹水を加えて減圧下濃縮した。得られた水層を酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮し、tert‐ブチル2‐ホルミル‐7‐アザスピロ3.5ノナン‐7‐カルボキシラートを得た。ホスホノ酢酸トリエチル11mlのN,N‐ジメチルホルムアミド60mlとテトラヒドロフラン60mlの溶液に、氷冷下、水素化ナトリウム60オイル懸濁、2.3gを加えて20分撹拌後、得られたtert‐ブチル2‐ホルミル‐7‐アザスピロ3.5ノナン‐7‐カルボキシラートのN,N‐ジメチルホルムアミド60mlとテトラヒドロフラン60mlの溶液を滴下した。反応液を室温まで昇温しながら3時間撹拌した。氷冷下、反応液に飽和塩化アンモニウム水を加え、水層を酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄後、水層をノルマルヘキサンと酢酸エチルの混合溶液で抽出し、有機層を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤を濾別し、濾液を減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=95:5~80:20にて精製し、表題化合物13.6gを得た。1HNMRδppm129145153178201216298314323340419574705MSESIAPCIDualposi346MNa参考例2‐3tert‐ブチル2‐‐7‐アザスピロ3.5ノナン‐7‐カルボキシラート参考例2‐2で得られた化合物13.6gをエタノール420mlに溶解し、20水酸化パラジウム/炭素2.7gを加え、水素雰囲気下、室温で一晩撹拌した。反応液をセライト登録商標濾過し、濾液を減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=95:5~70:30にて精製し、表題化合物13.3gを得た。1HNMRδppm125132161167178188200213228319338412MSESIAPCIDualposi348MNa参考例2‐4tert‐ブチル2‐‐7‐アザスピロ3.5ノナン‐7‐カルボキシラート参考例2‐3で得られた化合物10.4gのテトラヒドロフラン160ml溶液に、氷冷下、水素化ジイソブチルアルミニウムδppm131160189200210231319339356368MSESIAPCIDualposi306MNa参考例3-1tert‐ブチル2‐‐7‐アザスピロ3.5ノナン‐7‐カルボキシラートホスホノ酢酸トリエチル822μlのN,N‐ジメチルホルムアミド10ml溶液に、氷冷下、水素化ナトリウム60オイル懸濁、164mgを加えて30分撹拌し、次いで参考例1で得られた化合物655mgのN,N‐ジメチルホルムアミド4ml溶液を滴下した。反応液を室温まで昇温しながら3時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水を加えて酢酸エチルにて抽出し、有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=91:9~85:15にて精製し、表題化合物800mgを得た。1HNMRδppm127146152162255261285292325344415567573MSESIAPCIDualposi332MNa参考例3-2tert‐ブチル2‐‐7‐アザスピロ3.5ノナン‐7‐カルボキシラート参考例3‐1で得られた化合物797mgを用い、参考例2‐3と同様にして反応及び精製を行い、表題化合物730mgを得た。1HNMRδppm125137168198209241257272319339411MSESIAPCIDualposi334MNa参考例3-3tert‐ブチル2‐‐7‐アザスピロ3.5ノナン‐7‐カルボキシラート参考例3‐2で得られた化合物732mgをテトラヒドロフラン12mlに溶解し、水素化ホウ素リチウム174mgを加え、加熱還流下で5時間撹拌した。反応液を氷冷し、氷水を加えて酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮し、表題化合物580mgを得た。1HNMRδppm135149151162163174194203225243320338352364MSESIAPCIDualposi292MNa参考例4‐1tert‐ブチル2‐‐4‐エトキシ‐4‐オキソブタ‐2‐エン‐1‐イル‐7‐アザスピロ3.5ノナン‐7‐カルボキシラート参考例3‐3で得られた化合物526mgのクロロホルム10ml溶液に、氷冷下、デスマーチンペルヨージナン1.1gを加え、室温まで昇温しながら2時間撹拌した。反応液をクロロホルムで希釈し、飽和亜硫酸ナトリウム水溶液及び飽和重曹水の混合溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮し、tert‐ブチル2‐‐7‐アザスピロ3.5ノナン‐7‐カルボキシラートを得た。得られたtert‐ブチル2‐‐7‐アザスピロ3.5ノナン‐7‐カルボキシラートを用い、参考例3‐1と同様にして反応及び精製を行い、表題化合物360mgを得た。1HNMRδppm129136149150160193206223246321337418573583678694MSESIAPCIDualposi360MNa参考例4‐2tert‐ブチル2‐‐7‐アザスピロ3.5ノナン‐7‐カルボキシラート参考例4‐1で得られた化合物361mgを用い、参考例2‐3と同様にして反応及び精製を行い、表題化合物350mgを得た。1HNMRδppm125130161189200212231319339412MSESIAPCIDualposi362MNa参考例4‐3tert‐ブチル2‐‐7‐アザスピロ3.5ノナン‐7‐カルボキシレート参考例4‐2で得られた化合物345mgをテトラヒドロフラン10mlに溶解し、水素化ホウ素リチウム74mgを加え、60°Cで8時間撹拌した。反応液を氷冷し、氷水を加えて酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=60:40~30:70にて精製し、表題化合物277mgを得た。1HNMRδppm116161187199210230320338358370MSESIAPCIDualposi320MNa参考例5‐1tert‐ブチル4‐ピペリジン‐1‐カルボキシラートホスホノ酢酸トリエチル12mlのN,N‐ジメチルホルムアミド60ml及びテトラヒドロフラン60ml溶液に、氷冷下、水素化ナトリウム60オイル懸濁、2.4gを加えて30分撹拌後、tert‐ブチル4‐オキソピペリジン‐1‐カルボキシラート10gのN,N‐ジメチルホルムアミド60ml/テトラヒドロフラン60ml溶液を滴下した。反応液を室温まで昇温しながら3時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥して濾過した。濾液を減圧下濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=95:5~85:15にて精製し、表題化合物13gを得た。1HNMRδppm128148223233289298343355416571MSESIAPCIDualposi292MNa参考例5‐26‐tert‐ブチル1‐エチル6‐アザスピロ2.5オクタン‐1,6‐ジカルボキシラートトリメチルスルホキソニウムヨージド20gのジメチルスルホキシド190ml溶液に、カリウムtert‐ブトキシド10gを加えて、室温で1時間撹拌した後、参考例5‐1で得られた化合物13gのジメチルスルホキシド60ml溶液を滴下し、室温で3日間撹拌した。反応液に飽和食塩水、飽和塩化アンモニウム水を加え、ジエチルエーテルにて抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=92:8~85:15にて精製し、表題化合物8.9gを得た。1HNMRδppm085097113121121132134175146320357405421MSESIAPCIDualposi306MNa参考例5‐3tert‐ブチル1‐‐6‐アザスピロ2.5オクタン‐6‐カルボキシラート参考例5‐2で得られた化合物8.9gを用い、参考例4‐3と同様にして反応及び精製を行い、表題化合物750mgを得た。1HNMRδppm025058092105112173321337349380MSESIAPCIDualposi264MNa参考例5‐4tert‐ブチル1‐‐6‐アザスピロ2.5オクタン‐6‐カルボキシラートアルゴン雰囲気下、トリフェニルホスフィン936mgのクロロホルム27ml溶液に、イミダゾール423mgを加え、氷冷下、ヨウ素867mgを加えて20分撹拌した。反応液に参考例5‐3で得られた化合物749mgのクロロホルム9ml溶液を滴下し、反応液を室温まで昇温しながら3時間撹拌した。反応液をクロロホルムで希釈し、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=95:5~90:10にて精製し、表題化合物950mgを得た。1HNMRδppm023074112141143159164179307343351381MSESIAPCIDualposi374MNa参考例5‐5tert‐ブチル1‐‐6‐アザスピロ2.5オクタン‐6‐カルボキシラートアルゴン雰囲気下、ジイソプロピルアミン1.5mlのテトラヒドロフラン27ml溶液に、氷冷下、n‐ブチルリチウム2.76Mヘキサン溶液、3.9mLを滴下して30分撹拌した。反応液を-78°Cにて冷却し、酢酸tert‐ブチル1.5mlを加え、30分撹拌した。ここへ、参考例5‐4で得られた化合物950mgのテトラヒドロフラン14ml溶液を滴下し、次いでN,N’‐ジメチルプロピレン尿素1.3mlを加えて1時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水を加え、反応液を室温まで昇温させた後、酢酸エチルにて抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=96:4~90:10にて精製し、表題化合物770mgを得た。1HNMRδppm001007044051053067105185223237318330349370MSESIAPCIDualposi340MH362MNa参考例5‐6tert‐ブチル1‐‐6‐アザスピロ2.5オクタン‐6‐カルボキシラート参考例5‐5で得られた化合物770mgを用い、参考例4‐3と同様にして反応及び精製を行い、表題化合物203mgを得た。1HNMRδppm002004043052053064104117118136139177314331348376MSESIAPCIDualposi292MNa参考例6‐1tert‐ブチル1‐2‐メトキシエテニル‐6‐アザスピロ2.5オクタン‐6‐カルボキシラート参考例5‐3で得られた化合物600mgのクロロホルム溶液に、氷冷下、デスマーチンペルヨージナン1.3gを加え、室温まで昇温しながら2時間撹拌した。反応液をクロロホルムで希釈し、飽和亜硫酸ナトリウム水溶液及び飽和重曹水の混合溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮し、tert‐ブチル1‐ホルミル‐6‐アザスピロ2.5オクタン‐6‐カルボキシラートを得た。得られたtert‐ブチル1‐ホルミル‐6‐アザスピロ2.5オクタン‐6‐カルボキシラートを用い、参考例2‐1と同様にして反応及び精製を行い、表題化合物150mg、E/Z体混合物を得た。1HNMRδppm028036059068071078115162331348350362403411458468595600631639MSESIAPCIDualposi290MNa参考例6‐2tert‐ブチル1‐‐6‐アザスピロ2.5オクタン‐6‐カルボキシラート参考例6‐1で得られた化合物150mgをアセトニトリル5.6mlに溶解し、水1.3ml、次いでトリフルオロ酢酸50μlを加え、室温で2時間撹拌した。トリフルオロ酢酸50μlを加え、さらに2時間撹拌した。さらにトリフルオロ酢酸50μlを加え、室温で一晩撹拌した。反応液を氷冷し、飽和重曹水を加えた後、減圧下濃縮した。得られた水層を酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮し、tert‐ブチル1‐‐6‐アザスピロ2.5オクタン‐6‐カルボキシラートを得た。得られたtert‐ブチル1‐‐6‐アザスピロ2.5オクタン‐6‐カルボキシラートをメタノール5mlに溶解した。反応液を氷冷し、水素化ホウ素ナトリウム38mgを加え、室温まで昇温しながら2時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=60:40~40:60にて精製し、表題化合物80mgを得た。1HNMRδppm004012047056057071106118120166170187316330351379MSESIAPCIDualposi278MNa参考例7tert‐ブチル9‐オキソ‐3‐アザスピロ5.5ウンデカン‐3‐カルボキシラートtert‐ブチル4‐ホルミルピペリジン‐1‐カルボキシラート1.8gを用い、WO2010/049146に従って実験を行い、表題化合物88mgを得た。1HNMRδppm147152161171182230239340347参考例8‐1tert‐ブチル9‐メトキシメチリデン‐3‐アザスピロ[5.5]ウンデカン‐3‐カルボキシラート参考例7で得られた化合物1.1gを用いて参考例2‐1と同様にして反応及び精製を行い、表題化合物536mgを得た。1HNMRδppm136144145190199212223334342353577MSESIAPCIDualposi318MNa参考例8-2tert‐ブチル9‐ホルミル‐3‐アザスピロ[5.5]ウンデカン‐3‐カルボキシラート参考例8‐1で得られた化合物530mgをアセトニトリル18mlに溶解し、水14ml、次いでトリフルオロ酢酸452μlを加え、室温で9時間撹拌した。反応溶液に飽和重曹水を加えた後、水層をクロロホルムにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮し、表題化合物463mgを得た。1HNMRδppm116185218231331343965MSESIAPCIDualposi304MNa参考例8‐3tert-ブチル9‐3‐エトキシ‐3‐オキソプロパ‐1‐エン‐1‐イル‐3‐アザスピロ[5.5]ウンデカン‐3‐カルボキシラート水素化ナトリウム60オイル懸濁、98mgのテトラヒドロフラン/N,N‐ジメチルホルムアミド1:1,6ml懸濁液にホスホノ酢酸トリエチル550mg、次いで参考例8‐2で得られた化合物460mgを加え、室温で2時間攪拌した。反応溶液に水を加えた後、水層を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=100:0~50:50にて精製し、表題化合物521mg、E/Z体混合物を得た。1HNMRδppm106180206223328344419574582686698MSESIAPCIDualposi374MNa参考例8-4tert‐ブチル9‐3‐エトキシ‐3‐オキソプロピル‐3‐アザスピロ[5.5]ウンデカン‐3‐カルボキシラート参考例8‐3で得られた化合物515mgを用いて参考例2‐3と同様にして反応及び精製を行い、表題化合物471mgを得た。1HNMRδppm099182223238327342412MSESIAPCIDualposi376MNa参考例8-5tert‐ブチル9‐3‐ヒドロキシプロピル‐3‐アザスピロ[5.5]ウンデカン‐3‐カルボキシラート参考例8‐4で得られた化合物470mgのトルエン‐テトラヒドロフラン1:1,14ml溶液に水素化ホウ素リチウム87mgを加え、60°Cで16時間攪拌した。反応溶液を室温に戻した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、水層を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=100:0~80:20にて精製し、表題化合物370mgを得た。1HNMRδppm098173328340357367MSESIAPCIDualposi334MNa参考例9‐1tert‐ブチル9‐‐3‐アザスピロ5.5ウンデカン‐3‐カルボキシラート参考例7で得られた化合物85mgを用い、参考例3‐1と同様にして反応及び精製を行い、表題化合物80mgを得た。1HNMRδppm127141159217227279290334345414563MSESIAPCIDualposi360MNa参考例9‐2tert‐ブチル9‐‐3‐アザスピロ5.5ウンデカン‐3‐カルボキシラート参考例9‐1で得られた化合物76mgをエタノール2.2mlに溶解し、20水酸化パラジウム/炭素15mgを加え、水素雰囲気下、室温で一晩撹拌した。反応液をセライト登録商標濾過し、濾液を減圧下濃縮し、表題化合物70mgを得た。1HNMRδppm106174220330341412MSESIAPCIDualposi362MNa参考例9‐3tert‐ブチル9‐‐3‐アザスピロ5.5ウンデカン‐3‐カルボキシラート参考例9‐2で得られた化合物70mgを用い、参考例3‐3と同様にして反応及び精製を行い、表題化合物60mgを得た。1HNMRδppm077172329339369MSESIAPCIDualposi320MNa参考例10‐1tert‐ブチル2‐[3‐4‐シアノ‐3‐フルオロフェノキシプロピル]‐7‐アザスピロ[3.5]ノナン‐7‐カルボキシラート参考例2で得られた化合物210mgのテトラヒドロフラン3.0ml溶液に4‐シアノ‐3‐フルオロフェノール154mg、N,N,N’,N’‐テトラメチルアゾジカルバミド194mg、トリブチルホスフィン228mgを加え、60°Cで1.5時間攪拌した。反応溶液を室温まで冷却し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=100:0~50:50にて精製し、表題化合物290mgを得た。1HNMRδppm131149151162163179190204216237318342396661679739757MSESIAPCIDualposi425MNa参考例10‐24‐{3‐[7‐tert‐ブトキシカルボニル‐7‐アザスピロ[3.5]ノナ‐2‐イル]プロポキシ}‐2‐フルオロ安息香酸参考例10‐1で得られた化合物270mgの2M水酸化ナトリウム水溶液1.0ml/エタノール2.0ml溶液を、加熱還流下にて5日間攪拌した。反応溶液を室温へ冷却後、1M塩酸を加え、水層をクロロホルムにて抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィークロロホルム:メタノール=100:0~90:10にて精製し、表題化合物138mgを得た。1HNMRδppm123150152163166179192203215235320340398658678790801MSESIAPCIDualposi444MNa参考例11‐1プロパン‐2‐イル2‐‐7‐アザスピロ3.5ノナン‐7‐カルボキシラート参考例2‐4で得られた化合物5.7gの酢酸エチル88ml溶液に、4M塩化水素酢酸エチル溶液88mlを加え、室温で1.5時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣に飽和重曹水を加え、酢酸エチル、クロロホルムにて順次抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して濾過した。濾液を減圧下濃縮して、エチル3‐プロパノアートを得た。得られたエチル3‐プロパノアートのクロロホルム90ml溶液に、トリエチルアミン4.9mlを加え、氷冷下、クロロぎ酸イソプロピル2.4mlのクロロホルム24ml溶液を滴下した。反応液を室温まで昇温しながら4時間撹拌した。反応液に水を加えてクロロホルムにて抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=85:15~75:25にて精製し、表題化合物5.5gを得た。1HNMRδppm115130131161166178189201216228323341412482496MSESIAPCIDualposi312MH334MNa参考例11‐2プロパン‐2‐イル2‐‐7‐アザスピロ3.5ノナン‐7‐カルボキシラート参考例11‐1で得られた化合物5.46gを用い、参考例2‐4と同様にして反応及び精製を行い、表題化合物4.26gを得た。1HNMRδppm123131162188202212231315343355368480497MSESIAPCIDualposi270MH292MNa参考例11-3プロパン‐2‐イル2‐3‐[3‐フルオロ‐4‐メトキシカルボニルフェノキシ]プロピル‐7‐アザスピロ[3.5]ノナン‐7‐カルボキシラート参考例11-2で得られた化合物2.00gのテトラヒドロフラン37.1ml溶液にメチル2-フルオロ-4-ヒドロキシベンゾエート1.89g、N,N,N,N-テトラメチルアゾジカルバミド1.91g、トリブチルホスフィン2.25gを加え、60°Cで2時間攪拌した。反応溶液を減圧下濃縮し、得られた残渣に飽和食塩水を加え、クロロホルムにて抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤を濾別し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン:酢酸エチル=4:1、続いてNHシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン:酢酸エチル=4:1にて精製し、表題化合物3.10gを得た。1HNMRδppm123131151151163163181190204212236323344389396479500655675788MSESIAPCIDualposi422MH444MNa参考例11-42‐フルオロ‐4‐3‐{7‐[プロパン‐2‐イルオキシカルボニル]‐7‐アザスピロ3.5ノナ‐2‐イル}プロポキシ安息香酸参考例11-3で得られた化合物3.10gのメタノール36.8ml溶液に2M水酸化ナトリウム水溶液36.8mlを加え、60°Cで3時間攪拌した。反応溶液のメタノールを減圧留去し、残渣の水層をジエチルエーテルで洗浄した。水層に1M塩酸を加え、クロロホルムにて抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤を濾別し、溶媒を減圧留去し、表題化合物2.96gを得た。1HNMRδppm123131151152164164184190207211242324344392405482499658678796MSESIAPCIDualposi408MHMSESIAPCIDualnega406MH参考例12‐1tert‐ブチル2‐{3‐[6‐シアノピリジン‐3‐イルオキシ]プロピル}‐7‐アザスピロ[3.5]ノナン‐7‐カルボキシラート参考例2‐4で得られた化合物70mgと5‐ヒドロキシピコリンニトリル45mgを用いて参考例10‐1と同様にして反応及び精製を行い、表題化合物70mgを得た。1HNMRδppm130182190204218234322339404717724759766832838MSESIAPCIDualposi408MNa参考例12‐25‐[3‐7‐アザスピロ[3.5]ノナ‐2‐イル]プロポキシ]ピリジン‐2‐カルボニトリル参考例12‐1で得られた化合物70mgの酢酸エチル1.0mlに4M塩化水素酢酸エチル溶液1.0mlを加え、室温で一晩攪拌した。反応溶液に2M水酸化ナトリウム水溶液を加えた後、水層をクロロホルムにて抽出した。有機層を減圧下濃縮し、表題化合物50mgを得た。1HNMRδppm122164167182189203209232258285393410570716725755768830840MSESIAPCIDualposi286MH参考例12‐31-メチルシクロプロピル2‐{3‐[6‐シアノピジジン‐3‐イルオキシ]プロピル}‐7‐アザスピロ[3.5]ノナン‐7‐カルボキシラート参考例12‐2で得られた化合物50mgのクロロホルム1.0ml溶液に1‐メチルシクロプロピル4‐ニトロフェニルカルボナート50mg、トリエチルアミン49μlを加え、室温で5時間攪拌した。反応溶液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン:酢酸エチル=100:0~50:50にて精製し、表題化合物54mgを得た。1HNMRδppm055066082089131149151167169180192203215236312343403716724760768828840MSESIAPCIDualposi384MH406MNa参考例12‐45‐[3‐7{[1‐メチルシクロプロピルオキシ]カルボニル}‐7‐アザスピロ[3.5]ノナ‐2‐イルプロポキシ]ピリジン‐2‐カルボン酸参考例12‐3で得られた化合物50mgを用いて参考例10‐2と同様にして反応及び精製を行い、表題化合物36mgを得た。1HNMRδppm057066082089134165170184193205215235318347407695703734740816822MSESIAPCIDualposi403MH425MNaMSESIAPCIDualnega401MH参考例13‐1プロパン‐2‐イル2‐{3‐[5‐シアノピリジン‐2‐イルオキシ]プロピル}‐7‐アザスピロ[3.5]ノナン‐7‐カルボキシラート参考例11‐2で得られた化合物200mgと6‐ヒドロキシニコチンニトリル107mgを用いて参考例10‐1と同様にして反応及び精製を行い、表題化合物150mgを得た。1HNMRδppm123133161163176191202218233325343432484495676682773779845848MSESIAPCIDualposi372MH394MNa参考例13‐26‐3‐{7‐[プロパン‐2‐イルオキシカルボニル]‐7‐アザスピロ[35]ノナ‐2‐イル}プロポキシピリジン‐3‐カルボン酸参考例13‐1で得られた化合物150mgを用いて参考例10‐2と同様にして反応及び精製を行い、表題化合物149mgを得た。1HNMRδppm117127132161164179188205216237324345435485496671680813824886892参考例14‐1プロパン‐2‐イル2‐{3‐[6‐シアノピリジン‐3‐イルオキシ]プロピル}‐7‐アザスピロ[3.5]ノナン‐7‐カルボキシラート参考例11‐2で得られた化合物200mgと5‐ヒドロキシピコリンニトリル107mgを用いて参考例10‐1と同様にして反応及び精製を行い、表題化合物203mgを得た。1HNMRδppm123133164167182193205217235324344404483497717723759766832837MSESIAPCIDualposi372MH394MNa参考例14‐25‐3‐{7‐[プロパン‐2‐イルオキシカルボニル]‐7‐アザスピロ[3.5]ノナ‐2‐イル}プロポキシピリジン‐2‐カルボン酸参考例14‐1で得られた化合物200mgを用いて参考例10‐2と同様の操作にて反応及び精製を行い、表題化合物169mgを得た。1HNMRδppm123134166167184193206219238326342406484496730736814819823825参考例15‐1プロパン‐2‐イル2‐3[4‐メトキシカルボニル‐2‐メチルフェノキシプロピル‐7‐アザスピロ[3.5]ノナン‐7‐カルボキシラート参考例11‐2で得られた化合物100mgと4‐ヒドロキシ‐3‐メチル安息香酸メチル74mgを用いて参考例10‐1と同様にして反応及び精製を行い、表題化合物139mgを得た。1HNMRδppm118125133165167181192203219231325343388394404484497676683773791MSESIAPCIDualposi418MH440MNa参考例15‐23‐メチル‐4‐3‐{7‐[プロパン‐2‐イルオキシカルボニル]‐7‐アザスピロ[3.5]ノナ‐2‐イル}プロポキシ安息香酸参考例15‐1で得られた化合物139mgを用いて参考例11‐3と同様の操作にて反応及び精製を行い、表題化合物134mgを得た。1HNMRδppm123131164166183189206217235324345400482500677685786799MSESIAPCIDualposi404MH426MNaMSESIAPCIDualnega402MH参考例16‐1プロパン‐2‐イル2‐3[2‐フルオロ‐4‐メトキシカルボニルフェノキシプロピル‐7‐アザスピロ[3.5]ノナン‐7‐カルボキシラート参考例11‐2で得られた化合物100mgと3‐フルオロ‐4‐ヒドロキシ安息香酸メチル76mgを用いて参考例10‐1と同様にして反応及び精製を行い、表題化合物159mgを得た。1HNMRδppm123132164170183192202220234323345389406484495690699769782MSESIAPCIDualposi422MH444MNa参考例16‐23‐フルオロ‐4‐3‐{7‐[プロパン‐2‐イルオキシカルボニル]‐7‐アザスピロ[3.5]ノナ‐2‐イル}プロポキシ安息香酸参考例16‐1で得られた化合物150mgを用いて参考例11‐4と同様にして反応及び精製を行い、表題化合物137mgを得た。1HNMRδppm122131163167183187206217237322343393410480498679697763785MSESIAPCIDualposi408MH430MNaMSESIAPCIDualnega406MH参考例17アゼチジン‐1‐イルメタノン2‐フルオロ‐4‐ヒドロキシ安息香酸1.0gをN,N‐ジメチルホルムアミド32mlに溶解し、アゼチジン560μl、1‐エチル‐3‐カルボジイミド塩酸塩1.6g、1‐ヒドロキシベンゾトリアゾール一水和物1.28gを加え、室温で一晩攪拌した。反応溶液に水を加え、水層を酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=55:45~30:70にて精製し、表題化合物887mgを得た。1HNMRδppm221244404431642663726733918MSESIAPCIDualposi196MH実施例1‐1tert‐ブチル2‐{3‐[2‐フルオロ‐4‐メチルスルホニルフェノキシ]プロピル}‐7‐アザスピロ[3.5]ノナン‐7‐カルボキシラート参考例2‐4で得られた化合物70mg及び2‐フルオロ‐4‐メチルスルホニルフェノ-ル71mgを用いて参考例10‐1と同様にして、表題化合物58mgを得た。1HNMRδppm124167169186190207214238304320341408698713757774MSESIAPCIDualposi478MNa以下の実施例1‐2~1‐12も、参考例2‐4、3‐3、4‐3、5‐6、6‐2、8‐5、9‐3で得られた化合物と、参考例17で得られた化合物又は対応するフェノール化合物を用いて、実施例1‐1に記載されている方法に準拠して合成した。それらの化合物の構造、NMRデータ、MSデータを表1-1~1-2に示す。実施例2‐1tert‐ブチル2‐3‐{[5‐メチルスルホニルピリジン‐2‐イル]オキシ}プロピル‐7‐アザスピロ[3.5]ノナン‐7‐カルボキシラート水素化ナトリウム60オイル懸濁、15mgのテトラヒドロフラン懸濁液に、参考例2-4で得られた化合物70mg、2‐ブロモ‐5‐メタンスルホニルピリジン88mgを加え、80°Cで10時間攪拌した。反応溶液に水を加え、水層を酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=100:0~80:20にて精製し、表題化合物61mgを得た。1HNMRδppm124162162181189203215238307320338436679688798807869873MSESIAPCIDualposi461MNa以下の実施例2‐2も、参考例2‐4で得られた化合物と2-ブロモ-5-1H-1,2,3-トリアゾー1-イルピリジンを用いて、実施例2‐1に記載されている方法に準拠して合成した。実施例2‐2の構造、NMRデータ、MSデータを表2-1に示す。実施例3‐1tert‐ブチル2‐3‐{3‐フルオロ‐4‐[2‐ヒドロキシエチルカルボニル]フェノキシ}プロピル‐7‐アザスピロ[3.5]ノナン‐7‐カルボキシラート参考例10‐2で得られた化合物100mg、2‐アミノエタノール17mg、1‐エチル‐3‐3‐ジメチルアミノプロピルカルボジイミド塩酸塩55mg、1ヒドロキシベンゾトリアゾール一水和物44mgのN,N‐ジメチルホルムアミド1.0ml溶液を室温で一晩攪拌した。反応溶液に水を加え、水層を酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=100:0~50:50で精製し、表題化合物82mgを得た。1HNMRδppm131149150162164179190203216233321338360369380387392400656665673680708799809MSESIAPCIDualposi456MH487MNa以下の実施例3‐2~3‐28も、参考例10‐2、11‐4、12‐4、13‐2、14‐2、15‐2、16‐2で得られた化合物と、対応するアミン化合物を用いて、実施例3‐1に記載されている方法に準拠して合成した。それらの化合物の構造、NMRデータ、MSデータを表3-1~3-5に示す。実施例4‐1N‐シクロプロピル‐4‐{3‐[7‐5‐エチルピリミジン‐2‐イル‐7‐アザスピロ[3.5]ノナ‐2‐イル]プロポキシ}‐2‐フルオロベンズアミド実施例3‐2で得られた化合物20mgの酢酸エチル1.0ml懸濁液へ、4M塩化水素酢酸エチル溶液1.0mlを加え、室温で一晩攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣に1M水酸化ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムにて抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮して4‐{3‐7‐アザスピロ[3.5]ノナ2‐イルプロピルオキシ]‐N‐シクロプロピル‐2‐フルオロベンズアミド14mgを得た。得られた4‐[3‐7‐アザスピロ[3.5]ノナ2‐イルプロピルオキシ]‐N‐シクロプロピル‐2‐フルオロベンズアミド14mg、2‐クロロ‐5‐エチルピリミジン6mg及び炭酸セシウム18mgのジメチルスルホキシド1.0ml懸濁液を封管中、マイクロ波照射下、180°Cで20分攪拌した。不溶物を濾別した後、濾液を減圧下濃縮して、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=100:0~50:50にて精製し、表題化合物4mgを得た。1HNMRδppm055067080092118137149150179195208220237239252284298359379396652663666680799810815MSESIAPCIDualposi467MH489MNa以下の実施例4‐2~4‐19も、実施例1‐1、1‐2、1‐3、1‐4、1‐5、1‐6、1‐7、1‐8、1‐9、1‐11、2‐1、2‐2で得られた化合物と、対応するクロロピリミジン化合物を用いて、実施例4‐1に記載されている方法に準拠して合成した。それらの化合物の構造、NMRデータ、MSデータを表4-1~4-3に示す。実施例5‐17‐‐2‐3‐フェノキシプロピル‐7‐アザスピロ3.5ノナン2.0gを得た。得られた2‐3‐4‐フェノキシプロピル‐7‐アザスピロ3.5ノナン80mg、2,5‐ジクロロピリジン42mg、トリスジパラジウム11mg、±‐2,2’‐ビスジフェニルホスフィノ‐1,1’‐ビナフチル15mg、ナトリウムtert‐ブトキシド68mgを1,2‐ジメトキシエタン3mlに懸濁し、80°Cにて2時間攪拌後、室温にて14時間撹拌した。反応液を濾過し、濾液を減圧下濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=9:1~3:2にて精製し、表題化合物21mgを得た。1HNMRδppm139146148161165169170177197205223232302335341343349400655659695702733739781787804810MSESIposi449MH以下の実施例5‐2~5‐3も、実施例1‐3で得られた化合物と、対応するピリジン化合物を用いて、実施例5‐1に記載されている方法に準拠して合成した。それらの化合物の構造、NMRデータ、MSデータを表5-1に示す。実施例6‐11‐メチルシクロプロピル2‐{3‐[4‐メチルスルホニルフェノキシ]プロピル}‐7‐アザスピロ[3.5]ノナン‐7‐カルボキシラート実施例1‐3で得られた化合物2.7gの酢酸エチル31ml懸濁液へ、4M塩化水素酢酸エチル溶液31mlを加え、室温にて一晩攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣に1M水酸化ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムにて抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤を濾別し、濾液を減圧下濃縮して2‐3‐4‐フェノキシプロピル‐7‐アザスピロ3.5ノナン2.0gを得た。得られた2‐3‐4‐フェノキシプロピル‐7‐アザスピロ3.5ノナン60mg、トリエチルアミン50μlをクロロホルム2.0mlに溶解し、氷冷下にて1‐メチルシクロプロピル4‐ニトロフェニルカルボナート51mgを加え、反応液を室温まで昇温しながら6時間撹拌した。反応液に水を加えてクロロホルムにて抽出を行い、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧留去して得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=7:3~2:3にて精製し、ノルマルヘキサン/酢酸エチルから再結晶することにより表題化合物53mgを得た。1HNMRδppm058063083087135147150160169176194201221230303318345400698701784787MSESIAPCIDualposi436MH458MNa以下の実施例6‐2~6‐15も、実施例11、13、19、111、112で得られた化合物と、対応するカルボナート、もしくはスルホニルクロリドを用いて、実施例6‐1に記載されている方法に準拠して合成した。それらの化合物の構造、NMRデータ、MSデータを表6-1~6-2に示す。実施例7-1シクロプロピルメチル2‐{3‐[4‐メチルスルホニル]フェノキシ}プロピル}‐7‐アザスピロ[3.5]ノナン‐7‐カルボキシラート実施例1‐3で得られた化合物2.7gの酢酸エチル31ml懸濁液へ、4M塩化水素酢酸エチル溶液31mlを加え、室温にて一晩攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣に1M水酸化ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムにて抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤を濾別し、濾液を減圧下濃縮して2‐3‐4‐フェノキシプロピル‐7‐アザスピロ3.5ノナン2.0gを得た。シクロプロパンメタノール50μlをテトラヒドロフラン2.1mlに溶解し、トリホスゲン62mgを加えた。反応液を氷冷し、トリエチルアミン175μlを加えて10分撹拌した。反応液に上記で得た2‐3‐4‐フェノキシプロピル‐7‐アザスピロ3.5ノナン70mgを加え、反応液を室温へ昇温しながら30分撹拌した。反応液に水を加え、クロロホルムにて抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=3:1~3:2にて精製し、ノルマルヘキサン/酢酸エチルから再結晶することにより表題化合物18mgを得た。1HNMRδppm024028051056108116138143146149155161171177196202221231303329346389400697702783787MSESIAPCIDualposi436MH458MNa以下の実施例7‐2~7‐14も、実施例1‐1、1‐3、1‐9で得られた化合物と、対応するアルコール化合物を用いて、実施例7‐1に記載されている方法に準拠して合成した。それらの化合物の構造、NMRデータ、MSデータを表7-1~7-2に示す。実施例8-12‐{3‐[4‐メチルスルホニルフェノキシ]プロピル}‐7‐[3‐プロパン‐2‐イル‐1,2,4‐オキサゾール‐5‐イル]‐7‐アザスピロ[3.5]ノナン実施例1‐3で得られた化合物2.7gの酢酸エチル31ml懸濁液へ、4M塩化水素酢酸エチル溶液31mlを加え、室温にて一晩攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣に1M水酸化ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムにて抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮して2‐3‐4‐フェノキシプロピル‐7‐アザスピロ3.5ノナン2.0gを得た。得られた2‐3‐4‐フェノキシプロピル‐7‐アザスピロ3.5ノナン100mgをクロロホルム3mlに溶解し、水1ml及び重曹50mgを加えた。反応液を氷冷し、臭化シアン36mgを加え、反応液を室温へ昇温させながら一晩撹拌した。反応液に水を加え、クロロホルムにて抽出した。有機層を飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=3:2~3:7にて精製し、2‐3‐4‐メチルスルホニルフェノキシプロピル‐7‐アザスピロ3.5ノナン‐7‐カルボニトリル111mgを得た。得られた2‐3‐4‐メチルスルホニルフェノキシプロピル‐7‐アザスピロ3.5ノナン‐7‐カルボニトリル107mg、N’‐ヒドロキシ‐2‐メチルプロパンイミドアミド39mgのテトラヒドロフラン1.0mL溶液へ、塩化亜鉛1.0Mジエチルエーテル溶液、380μlを加え、室温にて30分撹拌した。反応液を濾過し、得られた固体を濃塩酸2ml及びエタノール2mlに溶解させ、加熱還流下3時間撹拌した。反応液を氷冷し、飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=13:7~1:1にて精製後、ノルマルヘキサン/酢酸エチルで再結晶することにより、表題化合物53mgを得た。1HNMRδppm128141148154163168178200206223236283292303344348351357401697702783788MSESIAPCIDualposi448MH470MNa実施例9-17‐2,2‐ジフルオロプロピル‐2‐{3‐[4‐メチルスルホニルフェノキシ]プロピル}‐7‐アザスピロ[3.5]ノナン実施例1‐3で得られた化合物2.7gの酢酸エチル31ml懸濁液へ、4M塩化水素酢酸エチル溶液31mlを加え、室温にて一晩攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣に1M水酸化ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムにて抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮して2‐3‐4‐フェノキシプロピル‐7‐アザスピロ3.5ノナン2.0gを得た。得られた2‐3‐4‐フェノキシプロピル‐7‐アザスピロ3.5ノナン100mg、WO2011/008663に記載の2,2‐ジフルオロプロピル4‐メチルベンゼンスルホナート74mgをジメチルスルホキシド3.0mlに溶解し、マイクロ波照射下、180°Cにて1時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=4:1~13:7にて精製し、ノルマルヘキサン/酢酸エチルで再結晶することにより、表題化合物6mgを得た。1HNMRδppm132137148166169176190199218226237252256264303400698701783788MSESIAPCIDualposi416MH438MNa実施例10-17‐‐2‐3‐プロピル‐7‐アザスピロ3.5ノナン実施例1‐3で得られた化合物2.7gの酢酸エチル31ml懸濁液へ、4M塩化水素酢酸エチル溶液31mlを加え、室温にて一晩攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣に1M水酸化ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムにて抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮して2‐3‐4‐フェノキシプロピル‐7‐アザスピロ3.5ノナン2.0gを得た。得られた2‐3‐4‐フェノキシプロピル‐7‐アザスピロ3.5ノナン100mgをメタノール1.0mlに溶解し、イソブチレンオキシド40μlを加え、室温で一晩撹拌した。反応液に水を加えて酢酸エチルにて抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮して得られた残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=7:3~1:1で精製し、2‐メチル‐1‐フェノキシプロピル‐7‐アザスピロ3.5ノナ‐7‐イルプロパン‐2‐オール95mgを得た。得られた2‐メチル‐1‐フェノキシプロピル‐7‐アザスピロ3.5ノナ‐7‐イルプロパン‐2‐オール95mgをクロロホルム1.2mlに溶解し、ビスアミノサルファートリフルオリド50μlを加え、室温で一晩撹拌した。反応液に飽和重曹水を加え、クロロホルムにて抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=4:1~13:7にて精製し、表題化合物47mgを得た。1HNMRδppm129138146164168177188197215226232248303400698702783787MSESIAPCIDualposi412MH実施例11‐12‐{3‐[4‐メチルスルホニルフェノキシ]プロピル}‐7‐{[1‐トリフルオロメチルシクロプロピル]メチル}‐7‐アザスピロ[3.5]ノナン実施例1‐3で得られた化合物2.7gの酢酸エチル31ml懸濁液へ、4M塩化水素酢酸エチル溶液31mlを加え、室温にて一晩攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣に1M水酸化ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムにて抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮して2‐3‐4‐フェノキシプロピル‐7‐アザスピロ3.5ノナン2.0gを得た。1‐トリフルオロメチルシクロプロパン‐1‐カルボン酸68mgのテトラヒドロフラン1.5ml溶液に、1,1’‐カルボニルジイミダゾール72mg、上記で得られた2‐3‐4‐フェノキシプロピル‐7‐アザスピロ3.5ノナン100mgを順次加え、室温で一晩撹拌した。反応液に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧下濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=1:1~1:3にて精製し、フェノキシプロピル‐7‐アザスピロ[3.5]ノナ‐7‐イル1‐シクロプロピルメタノン98mgを得た。得られたフェノキシプロピル‐7‐アザスピロ[3.5]ノナ‐7‐イル1‐シクロプロピルメタノン98mgをテトラヒドロフラン2.0mlに溶解し、氷冷下で水素化リチウムアルミニウム10mgを加え、反応液を室温まで昇温しながら3時間撹拌した。氷冷下にて反応液に水10μl、2.5M水酸化ナトリウム水溶液10μl及び水30μlを順次加え室温で8時間撹拌した。反応液をセライト登録商標濾過し、濾液を減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=4:1~13:7にて精製し、表題化合物22mgを得た。1HNMRδppm059066091097129138144164167177187196214240247299306399696702781788MSESIAPCIDualposi460MH482MNa実施例12tert‐ブチル2‐3‐4‐[シクロプロピルメチルカルバモイル]‐3‐フルオロフェノキシプロピル‐7‐アザスピロ[3.5]ノナン‐7‐カルボキシラート実施例3‐2で得られた化合物26mgのテトラヒドロフラン1.0ml溶液に水素化ナトリウム60オイル懸濁、3mgを加えて30分攪拌後、ヨウ化メチル5μlを加え室温で一晩攪拌した。反応溶液に水を加えた後、水層を酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーノルマルヘキサン:酢酸エチル=100:0~50:50にて精製し、表題化合物5mgを得た。1HNMRδppm033063133149151162165179188203216234274290310320342393648662666674723735MSESIAPCIDualposi475MH497MNa試験例1本発明化合物をヒトGPR119発現細胞に添加し、同細胞のcAMP産生量を指標としてGPR119アゴニスト活性の評価を行った。1ヒトGPR119発現細胞の構築ヒトGPR119NM178471はヒトMTC多組織cDNAパネルClontechを鋳型とし、KOD-pluspolymeraseを用いたポリメラーゼ連鎖反応PCRにより増幅した。ヒトGPR119増幅産物をインサートとしてpcDNA5/FRT/TOInvitrogenに組込み、Flp-InT-Rexシステムを用いてテトラサイクリン用量依存的にヒトGPR119遺伝子を発現誘導可能な細胞株を作製した。2細胞内cAMP産生亢進の測定法当該細胞株に最終濃度10ng/mlのテトラサイクリンを添加し、ヒトGPR119を発現誘導した。発現誘導刺激24時間後に細胞を回収し、アッセイ用緩衝液D-MEMInvitrogen、1mM3-Isobutyl-1-MethylxantineSigma、0.01ウシ血清アルブミンSigmaに懸濁した後に5000cells/15μlで96穴ハーフエリアプレートコーニングに播種した。アッセイバッファーに溶解した被検化合物溶液15μlを各ウェルに添加し、37°Cで30分間インキュベートした後にcAMPHiRangeキットCisbioのプロトコールに従いEnVisionにて時間分解蛍光Ex:320nm、Em:665nm、620nmを測定した。測定された蛍光強度からanti-cAMP-CryptateとcAMP-d2のRatio値を算出した。Ratio値の解析にはXLfitを使用し、cAMP標準曲線を作成した後に被検化合物存在下における各ウェルのcAMP濃度を算出した。被検化合物高用量下の最大cAMP濃度からDMSO存在下のcAMP濃度を差し引いた値より、最大に活性化されたGPR119活性を100として、50活性化する化合物濃度EC50を算出した。また、被検化合物の最大活性化率Emaxは、DMSO存在下のcAMP濃度を100として算出した。3結果本発明の化合物について上記試験を行った測定結果をもとに算出したGPR119アゴニスト活性を表8-1に示す。本発明化合物の製剤例を以下に示す。製剤例1以下の成分を含有する顆粒剤を製造する。成分式Iで表される化合物10mg乳糖700mgコーンスターチ274mgHPC-L16mg1000mg式Iで表される化合物と乳糖を60メッシュのふるいに通す。コーンスターチを120メッシュのふるいに通す。これらをV型混合機にて混合する。混合末に低粘度ヒドロキシプロピルセルロースHPC-L水溶液を添加し、練合、造粒押し出し造粒孔径0.5~1mmした後、乾燥する。得られた乾燥顆粒を振動ふるい12/60メッシュで篩過し顆粒剤を得る。製剤例2以下の成分を含有するカプセル充填用散剤を製造する。成分式Iで表される化合物10mg乳糖79mgコーンスターチ10mgステアリン酸マグネシウム1mg100mg式Iで表される化合物と乳糖を60メッシュのふるいに通す。コーンスターチを120メッシュのふるいに通す。これらとステアリン酸マグネシウムをV型混合機にて混合する。10倍散100mgを5号硬ゼラチンカプセルに充填する。製剤例3以下の成分を含有するカプセル充填用顆粒剤を製造する。成分式Iで表される化合物15mg乳糖90mgコーンスターチ42mgHPC-L3mg150mg式Iで表される化合物と乳糖を60メッシュのふるいに通す。コーンスターチを120メッシュのふるいに通す。これらをV型混合機にて混合する。混合末に低粘度ヒドロキシプロピルセルロースHPC-L水溶液を添加し、練合、造粒した後、乾燥する。得られた乾燥顆粒を振動ふるい12/60メッシュで篩過し整粒し、その150mgを4号硬ゼラチンカプセルに充填する。製剤例4以下の成分を含有する錠剤を製造する。成分式Iで表される化合物10mg乳糖90mg微結晶セルロース30mgステアリン酸マグネシウム5mgCMCNa15mg150mg式Iで表される化合物と乳糖と微結晶セルロース、CMC-Naカルボキシメチルセルロースナトリウム塩を60メッシュのふるいに通し、混合する。混合末にステアリン酸マグネシウムを添加し、製剤用混合末を得る。本混合末を直打し150mgの錠剤を得る。製剤例5静脈用製剤は次のように製造する。式Iで表される化合物100mg飽和脂肪酸グリセリド1000ml上記成分の溶液は通常、1分間に1mlの速度で患者に静脈内投与される。"