基盤を処理するための基盤処理装置であって、室壁1によって画成される装置室並びに、装置室の内部に少なくとも一つの基盤処理装置および、搬送方向において相前後して設けられる、基盤の縦置きまたは横置きの搬送のための搬送ローラー3の配置を備える搬送装置を有している基盤処理装置において、直接相前後して設けられる搬送ローラー3の、少なくとも第一のグループにおいて、各搬送ローラー3が、独自の駆動装置6を備えていることを特徴とする基盤処理装置。搬送ローラー3の第一のグループの駆動装置6が、搬送ローラーの第二のグループの一または複数の駆動装置から独立して駆動可能であることを特徴とする請求項1に記載の基盤処理装置。搬送ローラー3の第一のグループの駆動装置6が、独自に駆動可能であることを特徴とする請求項1または2に記載の基盤処理装置。搬送ローラー3の第一のグループの駆動装置6が、装置室の内部に設けられることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の基盤処理装置。搬送ローラー3の第一のグループの駆動装置6が、装置室の外部に設けられており、そしてトルクが回転実施部を通して各搬送ローラー3に伝達されることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の基盤処理装置。駆動装置6のローター7が、装置室内を支配している圧力状況の中に置かれ、ステータ10が、装置室を支配している圧力状況の外に置かれることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の基盤処理装置。駆動装置6が、駆動装置6のローター8とステータ1を気密に互いに分離する分離要素9を備え、この分離要素が、装置室の室壁1とガス密に接続されていることを特徴とする請求項6に記載の基盤処理装置。分離要素9が、室壁1から外に向かって延在していることを特徴とする請求項7に記載の基盤処理装置。分離要素9が、室壁1から内に向かって延在していることを特徴とする請求項7に記載の基盤処理装置。分離要素9が、くぼみ部14を備えており、このくぼみ部の中に、ローター8が少なくとも部分的に入り込むことを特徴とする請求項9に記載の基盤処理装置。この先行技術から出発して、本発明の課題は、公知の連続基盤処理装置を改良することである。この課題は、請求項1に記載の特徴を有する基盤処理装置によって解決される。実施の形態および改良形は、従属請求項および以下の説明から明らかになる。例えば連続処理による基盤の処理のための基盤処理装置であって、室壁によって画成され、かつ入口ゲートおよび出口ゲートを有することがある装置室、並びに装置室内に少なくとも一つの基盤処理装置および搬送装置を有し、かつ、搬送方向で相前後して設けられる、基盤の起立したまたは横たえられた搬送のための搬送ローラーを備える基盤処理装置においては、少なくとも、直接相前後して設けられた搬送ローラーの第一のグループにおいて、このグループの各搬送ローラーが、一つの独自の駆動装置を備えていることが提案される。搬送装置の全ての搬送ローラーがそれぞれ一つの独自の駆動装置を備えていることも、当然意図され得る。一つの実施形に従い、搬送ローラーの第一のグループの駆動装置が、搬送ローラーの第二のグループの一または複数の駆動装置から独立して駆動可能である。第一のグループの全ての駆動装置が、共通して駆動可能であるとき、十分である。代替としてまたは追加的に、搬送ローラーの第一のグループの駆動装置が独自に駆動可能であることが意図され得る。これによって、各個々の搬送ローラーの速度を決定することが可能である。このようにして、搬送すべき基盤と結び付けられる各ローラーが、一つの共通した速度プロフィールでもって駆動されることができ、一方、同じフィールドの他のローラーは、異なる速度プロフィールでもって駆動され、これによって例えば基盤の搬送方向における間隔が変更されることが可能である。その際、搬送過程の間、一つの基盤により接続されるローラーの部分集合は、連続的に変化する。第一の改良形では、搬送ローラーの第一のグループの駆動装置は、装置室の内部に設けられている。この為、例えば、耐真空性の電動モーターがギア付またはギア無しで使用される。このようにして、トルクを外から装置室の中に搬送ローラーに対して伝達するために、回転実施部Drehdurchfuehrungenが必要でなくなる。第二の改良形は、搬送ローラーの第一のグループの駆動装置が、装置室の外に設けられ、そしてトルクが、回転実施部Drehdurchfuehrungenを通して各搬送ローラーに伝達されることが意図する。これは、特に、真空下または高温下または劣悪なaggressiv環境下での基盤処理装置に対して特に有利である。第三の改良形に従い、駆動装置のローラーは、装置室内を支配する圧力状況の中に置かれ、そしてステーターは、装置室内を支配する圧力状況の外に置かれる。最も簡単な場合、ローターは、装置室内に置かれ、ステーターは装置室外に置かれ、そしてローターは室壁を通しての誘導Induktionによって駆動される。一つの実施形に従い、例えば、駆動装置が、駆動装置のローターとステーターを互いに気密に分離する分離要素を備えており、この分離要素が、ガス密に、装置室の室壁と接続されていることが意図され得る。これによって、シャフトシールが必要でなくなり、リークの危険性が無い。分離要素は、その際、材料結合的stoffschluessig、例えば溶接によって室壁と接続されているか、または摩擦結合的kraftschluessigに、例えばねじ接続によって室壁にフランジマウントされており、かつ透き間をふさがれているか、またはそれ以外の方法でもたらされていることが可能である。その際、分離要素は、実施形に応じて、室壁から外へまたは内へ向かって延びており、つまり、分離要素は室壁の隆起部または沈降部を形成する。分離要素は、一つの平面内、例えば室壁に対して平行に実施されることもまた可能である。隆起部である場合、ローターは、少なくとも部分的に隆起部の内側に配置され、そしてステーターは他の外側に配置される。分離要素は、磁性でない材料で製造されると有利である。隆起部の外側に配置されるステーターは、交流電磁界elektromagnetischesWechselfeldを発生し、これが、隆起部内に配置されるローターを駆動する。ローターはその際、例えば、釣鐘状glockenfoermigに実施されることができる。沈降部の場合、ステーターは少なくとも部分的に沈降部の内側に配置され、そしてローターは外側に配置される。その際、沈降部は追加的に、くぼみ部を有し、このくぼみ部の中にローターが少なくとも部分的に入り込むように実施されることが可能である。例えば、ローターは、搬送ローラーにもたらされた一つのディスクとして実施されることが可能である。そのようなディスク状のローターは、その上、周囲部において歯付であるか、または/および開口部を有していることが可能である。沈降部が、ローターが入り込むくぼみ部を有する場合、ローターはこの領域でステーターに取囲まれている。以下に、基盤処理装置を実施例と添付の図面に基づき詳細に説明する。全ての実施例は、連続処理によって基盤を処理するための基盤処理装置に関し、この基盤処理装置は、入口ゲートと出口ゲートを有し、室壁1によって画成される装置室、並びに、装置室内に少なくとも一つの基盤処理装置と搬送装置を有し、この搬送装置は、搬送装置内に相前後して設けられる、起立したまたは横たえられた基盤の搬送のための搬送ローラー3を備え、ここで複数の、直接相前後して設けられる搬送ローラー3が、それぞれ一つの独自の駆動装置5を備えている。図は極めて簡略化され、かつ、駆動装置5がひとつの搬送ローラー3とその都度いかように作用結合するかを単に強調して表わしている。図1には、搬送装置が表されている。この搬送装置においては、ロール状の搬送ローラー3が、それぞれ、搬送ローラー支承部4内に回転可能に支承されている。搬送ローラー3の端部では、一つのクラッチ5によってローターシャフト7が固定され、このローターシャフトが室壁1の開口部2を通って外側に延びている。室壁1の外側には駆動装置6が固定されている。図2には、駆動装置6の第一の実施例が表わされている。支承部ハウジング11内には、二つのローター支承部12が設けられ、これらローター支承部内にローターシャフト7が回転可能に支承されており、このローターシャフトが室壁1の開口部2を通って突き出ている。ローターシャフト7の端部には、本来のローター8があり、このローターは釣鐘状に実施されている。ローター8は、同様に釣鐘状に実施される分離要素9によって覆われている。支承部ハウジング11、ローター8および分離要素9は、円環断面を有している。分離要素9の外側には、ステーター、より正確に言うと、駆動装置が運転するときに電磁界を発するステータコイル10が配置されている。分離要素9は、ステータコイル9と共にステーターを形成する、というのは、分離要素9は反動モーメントReaktionsmomentを受容し、そして室壁2へと導くからである。ステータコイル10が外側ハウジング13に堅固に接続し、その結果ステータコイル10が外側ハウジング13とステーターを形成するということも、当然同様に可能である。分離要素9は、室壁1から外に向かって延びている、つまり、室壁1の隆起部を形成している。分離要素9は、支承部ハウジング11を介してガス密に室壁1と接続され、そしてローター8をステーター10から気密に分離しているので、駆動装置6のローター8は、装置室内を支配する圧力状況の中に置かれ、そしてステーター10は、装置室内を支配する圧力状況の外に置かれる。図3は、駆動装置6の第二の実施例を表わしている。分離要素9の中には、二つのローター支承部12が設けられており、このローター支承部内でローターシャフト7が回転可能に支承されている。ローターシャフトは、室壁1の開口部2から突き出ている。ローターシャフト7の端部には、本来のローター8があり、これは釣鐘状に形成されている。ローター8は、同様に釣鐘状に形成された分離要素9により覆われている。支承部ハウジング11、ローター8および分離要素9は、それぞれ円環断面を有している。分離要素9の外側には、ステーター、より正確に言うとステータコイル10が配置され、このステータコイルは、駆動装置が運転する際に電磁界を発生する。分離要素9は、ステータコイル10と共にステーターを形成する、というのは、分離要素9は反動モーメントを受容し、そして室壁2へと導くからである。分離要素9は、室壁1から外へと延びている、つまり室壁1の隆起部を形成している。分離要素9は、室壁1とガス密に接続され、そして、ローター8をステーター10から気密に分離しているので、駆動装置6のローター8は、装置室内を支配している圧力状況の中に置かれ、そしてステーター10は、装置室内を支配している圧力状況の外に置かれている。図4には、搬送装置が表されている。この装置においては、ロール上の搬送ローラー3が、それぞれ搬送ローラー支承部4に回転可能に支承されている。搬送ローラー3の端部には、ローターシャフト7が固定されており、その端部にディスク状のローター8が設けられている。室壁1の内側には、分離要素9が固定されており、この分離要素が沈降部を形成している、つまり装置室の中に入り込んでいる。分離要素9の中には、ステータコイル10が配置されている。分離要素9とステータコイル10は、くぼみ部14を備えており、このくびみ部内にローター8の下側の部分が入り込んでいるので、この部分は、ステータコイル10によって取囲まれている。図5は、駆動装置6の第四の実施例を表わしている。この実施例において、分離要素9は、同様に沈降部を形成している。しかしながらこの場合、分離要素9は、図1から3の実施例においてのように再び、搬送ローラー3の軸方向延長部に設けられている。分離要素9は、釣鐘状に形成されている。室壁1の外側にガス密にもたらされ、そして室壁1の開口部2を通して装置室内に突き入り込んでいる。ローターシャフト7の端部には、再び釣鐘状のローター8が設けられ、このローターが分離要素9を取囲んでいる。分離要素9の内側には、ステータコイル10が設けられているので、駆動装置6のローター8は、装置室内を支配する圧力状況の中に置かれ、ステーター10は、装置室内を支配する圧力状況の外に置かれている。