"導電層、多孔質半導体層、電解質層、および対極を備え、上記多孔質半導体層は、金属酸化物半導体微粒子、分散剤および溶媒を含有する多孔質半導体形成用組成物を上記導電層上に塗布または印刷して焼成することにより得られ、上記分散剤は、アセチレン系炭化水素骨格からなり、上記金属酸化物半導体微粒子に吸着する官能基を1つ以上有する色素増感型光電変換素子。上記分散剤は、上記アセチレン系炭化水素骨格として、少なくともアセチレンアルコール構造またはアセチレンジオール構造を有する請求項1記載の色素増感型光電変換素子。上記分散剤は、金属酸化物に吸着する官能基として、少なくとも、アミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、チオール基、ホスホノ基、シアノ基、ニトロ基、スルホニル基およびスルフィニル基からなる群から選ばれた少なくとも1種以上を有する請求項1記載の色素増感型光電変換素子。上記金属酸化物半導体微粒子の平均一次粒子径は、5nm以上500nm以下である請求項1記載の色素増感型光電変換素子。上記金属酸化物半導体微粒子は、チタン、亜鉛、スズおよびニオブの少なくとも1種を含む金属酸化物を含む請求項1記載の色素増感型光電変換素子。上記金属酸化物半導体微粒子は、アナターゼ型またはブリュッカイト型の結晶構造を有する酸化チタンを含む請求項1記載の色素増感型光電変換素子。可撓性を有する樹脂基材をさらに備え、上記導電層は、上記樹脂基材上に形成される請求項1記載の色素増感型光電変換素子。金属酸化物半導体微粒子、分散剤および溶媒を含有する多孔質半導体形成用組成物を導電層上に塗布または印刷する工程と、上記塗布された多孔質半導体形成用組成物を焼成し、上記導電層上に多孔質半導体層を形成する工程と、上記多孔質半導体層に増感色素を担持させる工程と、上記増感色素が担持された上記多孔質半導体層に対向して対極を設ける工程と、上記多孔質半導体層と、上記対極との間に電解質層を設ける工程とを備え、上記分散剤は、アセチレン系炭化水素骨格からなり、上記金属酸化物半導体微粒子に吸着する官能基を1つ以上有する色素増感型光電変換素子の製造方法。上記塗布または印刷された多孔質半導体形成用組成物の焼成は、40°C以上175°C以下の温度範囲で行われる請求項8記載の色素増感型光電変換素子の製造方法。金属酸化物半導体微粒子、分散剤および溶媒を含有する多孔質半導体形成用組成物を導電層上に塗布または印刷し、焼成する工程を備え、上記分散剤は、アセチレン系炭化水素骨格からなり、上記金属酸化物半導体微粒子に吸着する官能基を1つ以上有する金属酸化物半導体層の形成方法。高分子フィルムなどの高分子樹脂基材が使用可能な低温度領域において、簡便な方法により、多孔質半導体層を製造する技術が望まれている。したがって、本技術の目的は、製造工程を複雑化させずに、高分子樹脂基材が使用可能な低温度領域において製造することができる色素増感型光電変換素子およびその製造方法ならびに金属酸化物半導体層の形成方法を提供することを目的とする。上述した課題を解決するために、第1の技術は、導電層、多孔質半導体層、電解質層、および対極を備え、多孔質半導体層は、金属酸化物半導体微粒子、分散剤および溶媒を含有する多孔質半導体形成用組成物を導電層上に塗布または印刷して焼成することにより得られ、分散剤は、アセチレン系炭化水素骨格からなり、金属酸化物半導体微粒子に吸着する官能基を1つ以上有する色素増感型光電変換素子である。第2の技術は、金属酸化物半導体微粒子、分散剤および溶媒を含有する多孔質半導体形成用組成物を導電層上に塗布または印刷する工程と、塗布された多孔質半導体形成用組成物を焼成し、導電層上に多孔質半導体層を形成する工程と、多孔質半導体層に増感色素を担持させる工程と、増感色素が担持された多孔質半導体層に対向して対極を設ける工程と、多孔質半導体層と、対極との間に電解質層を設ける工程とを備え、分散剤は、アセチレン系炭化水素骨格からなり、金属酸化物半導体微粒子に吸着する官能基を1つ以上有する色素増感型光電変換素子の製造方法である。第3の技術は、金属酸化物半導体微粒子、分散剤および溶媒を含有する多孔質半導体形成用組成物を導電層上に塗布または印刷し、焼成する工程を備え、分散剤は、アセチレン系炭化水素骨格からなり、金属酸化物半導体微粒子に吸着する官能基を1つ以上有する金属酸化物半導体層の形成方法である。分散剤は、アセチレン系炭化水素骨格として、少なくともアセチレンアルコール構造またはアセチレンジオール構造を有することが好ましい。また、金属酸化物半導体微粒子に吸着する官能基として、少なくとも、アミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、チオール基、ホスホノ基、シアノ基、ニトロ基、スルホニル基およびスルフィニル基からなる群から選ばれた少なくとも1種以上を有することが好ましい。金属酸化物半導体微粒子の平均一次粒子径は、5nm以上500nm以下であることが好ましい。金属酸化物半導体微粒子の平均一次粒子径が、5nm以上500nm以下であると、結晶性の劣化を抑制でき、また、多孔質半導体層に吸着させる色素の総量の減少を抑制できるからである。金属酸化物半導体微粒子は、チタン、亜鉛、スズおよびニオブの少なくとも1種を含む金属酸化物を含むことが好ましい。金属酸化物半導体微粒子は、アナターゼ型またはブリュッカイト型の結晶構造を有する酸化チタンを含むことがより好ましい。吸着させる色素と金属酸化物間にて適切なエネルギーバンドを形成し、その後、光照射により色素にて発生した電子が金属酸化物に円滑に伝達し、その後のヨウ素の酸化還元による発電に寄与することができるからである。色素増感型光電変換素子が、可撓性を有する樹脂基材をさらに備え、導電層が、樹脂基材上に形成されることが好ましい。色素増感型光電変換素子を、可撓性を有する色素増感型光電変換素子とできるからである。塗布された多孔質半導体形成用組成物の焼成は、40°C以上175°C以下の温度範囲で行われることが好ましい。基材に樹脂フィルムを用いる場合であっても、基材の変形などを引き起こしにくいからである。本技術では、多孔質半導体層が、金属酸化物半導体微粒子、分散剤および溶媒を含有する多孔質半導体形成用組成物を導電層上に塗布または印刷して焼成することにより得られる。分散剤が、アセチレン系炭化水素骨格からなり、金属酸化物半導体微粒子に吸着する官能基を1つ以上有することから、金属酸化物微粒子表面に官能基が吸着した際には、分散剤の分子が直線状の分子形態をとる。そのため、アセチレン系炭化水素骨格が立体反発効果を発現し、良好な分散性が得られる。分散液多孔質半導体形成用組成物を加熱することにより、分散剤および溶媒が除去され、多孔質半導体層における、発電特性を劣化させる不純物の含有が低減される。本技術では、高分子フィルムなどの高分子樹脂基材の変形などが起こりにくい温度領域で揮発する特徴を有する分散剤と水または有機溶媒を分散液に用いることが好ましい。高分子フィルムなどの高分子樹脂基材の変形などが起こりにくい温度領域で揮発する特徴を有する分散剤と水または有機溶媒を分散液に用いた場合には、比較的低い温度で、分散液中の金属酸化物半導体微粒子以外の物質が効果的に除去される。また、分散剤が存在していた領域が空隙になることから、色素の吸着や電解液の浸透が促進される。本技術によれば、高分子フィルムなどの高分子樹脂基材が使用可能な低温度領域において、簡便な方法により、色素増感型光電変換素子およびその製造方法ならびに金属酸化物半導体層の形成方法を提供することができる。本技術の実施形態について図面を参照しながら以下の順序で説明する。なお、以下の実施形態の全図においては、同一または対応する部分には同一の符号を付す。1第1の実施形態金属酸化物半導体層を備える色素増感型光電変換素子の例2第2の実施形態折りたたみ可能に構成された色素増感型光電変換素子の例<1.第1の実施形態>[色素増感太陽電池の構成]図1は、本技術の第1の実施形態に係る色素増感型光電変換素子の構成の一例を示す模式的断面図である。図1に示すように、この色素増感型光電変換素子1は、導電性基材3と、導電性基材13と、色素が担持された多孔質半導体層5と、電解質層7と、対極15aとを備える。色素増感型光電変換素子1は、いわゆる色素増感型太陽電池を構成する。導電性基材3と導電性基材13とが対向配置されている。導電性基材3は、導電性基材13と対向する一主面を有し、この一主面に多孔質半導体層5が形成されている。導電性基材13は、導電性基材3と対向する一主面を有し、この一主面に対極15aが形成されている。対向する多孔質半導体層5と対極15aとの間に電解質層7が介在されている。導電性基材3および導電性基材13の少なくとも一方は、透明とされ、例えば、導電性基材3は、多孔質半導体層5が形成された一主面とは反対側の他主面を有し、この他主面が太陽光などの光の照射Lを受光する受光面となる。導電性基材3と導電性基材13との対向面の周縁部には、電解質層の漏れや揮発を防ぐために、封止材が設けられる。多孔質半導体層5と対極15aとの間隔は、好ましくは1~100μm、より好ましくは1~40μmである。電解質層7は、多孔質半導体層5が形成された導電性基材3と、対極15aが形成された導電性基材13と、封止材とによって囲まれた空間に封入されている。図1においては図示を省略するが、導電性基材3、13の少なくとも一方には、電解質の注入に用いられ、最終的には塞がれる注入口が設けられる。封止材の材料としては、例えば、熱可塑性樹脂、光硬化性樹脂、ガラスフリットなどを用いることができるが、これに限定されるものではない。導電性基材3、13は、例えば、互いに同一の正方形または長方形の平面形状を有する。導電性基材3、13を面内方向に互いにずらして配置し、図1に示す導電層3a、13aの周縁部のうちの一部を封止材の外側に露出させ、この露出した導電層3a、13a上に集電層などを形成するようにしてもよい。この集電層は、外部リードとの接続や色素増感型光電変換素子1同士を接続する場合に用いることができる。必要に応じて小面積の色素増感型光電変換素子1を連結することにより、色素増感型光電変換装置が構成される。例えば、色素増感型光電変換素子1を直列に組み合わせることにより、色素増感型光電変換装置の起電圧を高くすることができる。以下、この色素増感型光電変換素子1を構成する導電性基材3、13、多孔質半導体層5、増感色素、対極15a、および電解質層7について順次説明する。導電性基材導電性基材3は、基材3bと、この基材3bの一主面上に形成された導電層3aとを備え、この導電層3a上に多孔質半導体層5が形成される。導電性基材13は、基材13bと、この基材13bの一主面上に形成された導電層13aとを備え、この導電層13a上に対極15aが形成される。基材3b、13bとしては、透明性を有するものが好ましく、種々の基材を用いることができる。透明性を有する基材としては、太陽光の可視から近赤外領域に対して光吸収が少ないものが好ましく、例えば、ガラス基材、樹脂基材などを用いることができるが、これに限定されるものではない。ガラス基材の材料としては、例えば、石英、青板、BK7、鉛ガラスなどを用いることができるが、これらに限定されるものではない。樹脂基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリエチレンナフタレートPEN、ポリイミドPI、ポリエステル、ポリエチレンPE、ポリカーボネートPC、ポリビニルブチラート、ポリプロピレンPP、テトラアセチルセルロース、シンジオクタチックポリスチレン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルフォン、ポリエステルスルフォン、ポリエーテルイミド、環状ポリオレフィン、ブロム化フェノキシ、塩化ビニルなどを用いることができるが、これらに限定されるものではない。基材3b、13bとしては、例えば、フィルム、シート、基板などを用いることができるが、これに限定されるものではない。導電層3a、13aは、透明であることが好ましく、太陽光の可視から近赤外領域に対して光吸収が少ないことが好ましい。導電層3a、13aの材料としては、例えば、導電性の良好な金属酸化物、炭素を用いることが好ましい。金属酸化物としては、例えば、インジウム-スズ複合酸化物ITO、フッ素ドープSnO2FTO、アンチモンドープSnO2ATO、酸化スズSnO2、酸化亜鉛ZnO、インジウム-亜鉛複合酸化物IZO、アルミニウム-亜鉛複合酸化物AZO、およびガリウム-亜鉛複合酸化物GZOからなる群より選択される1種以上を用いることができる。導電層3aと多孔質半導体層5との間に、結着の促進、電子伝達の改善、または逆電子過程の防止などを目的とした層をさらに設けるようにしてもよい。多孔質半導体層多孔質半導体層5は、金属酸化物半導体微粒子を含む多孔質層であることが好ましい。金属酸化物半導体微粒子は、チタン、亜鉛、スズおよびニオブの少なくとも1種を含む金属酸化物を含むことが好ましい。このような金属酸化物を含むことで、吸着させる色素と金属酸化物間にて適切なエネルギーバンドを形成し、その後、光照射により色素にて発生した電子が金属酸化物に円滑に伝達し、その後のヨウ素の酸化還元による発電に寄与することができるからである。具体的には、金属酸化物半導体微粒子の材料としては、酸化チタン、酸化スズ、酸化タングステン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化ニオブ、酸化鉄、酸化ニッケル、酸化コバルト、酸化ストロンチウム、酸化タンタル、酸化アンチモン、酸化ランタノイド、酸化イットリウム、および酸化バナジウムなどからなる群より選ばれる1種以上を用いることができるが、これらの限定されるものではない。多孔質半導体層表面が増感色素によって増感されるためには、多孔質半導体層5の伝導帯が増感色素の光励起準位から電子を受け取りやすい位置に存在することが好ましい。この観点からすると、上述した金属酸化物半導体微粒子の材料の中でも、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、および酸化ニオブからなる群より選ばれる1種以上が特に好ましい。さらに、価格や環境衛生性などの観点から、酸化チタンが最も好ましい。金属酸化物半導体微粒子は、アナターゼ型またはブリュッカイト型の結晶構造を有する酸化チタンを含むことが特に好ましい。このような酸化チタンを含むことで、吸着させる色素と金属酸化物間にて適切なエネルギーバンドを形成し、その後、光照射により色素にて発生した電子が金属酸化物に円滑に伝達し、その後のヨウ素の酸化還元による発電に寄与することができるからである。金属酸化物半導体微粒子の平均一次粒子径は、5nm以上500nm以下であることが好ましく、20nm以上100nm以下であることがより好ましく、40nm以上60nm以下であることが特に好ましい。粒度分布の異なる金属酸化物半導体微粒子を混合するようにしてもよい。平均一次粒子径を20nm以上100nm以下の範囲内とすることで、多孔質半導体層5の緻密性が劣化することなく、かつ過度に緻密となることによる色素の吸着の阻害や電解液の浸透の阻害を防止できるからである。なお、平均一次粒子径が5nm未満であると、結晶性が極端に劣化し、アナターゼ構造を維持できなくアモルファス構造となる傾向がある。一方、平均一次粒子径が500nmを超えると、比表面積が著しく低下し、多孔質半導体層5に吸着させる発電に寄与する色素の総量が減少する傾向がある。ここで、平均一次粒子径は、一次粒子が分散できる溶媒系を用いて、所望な分散剤を添加して一次粒子まで分散処理した希薄溶液を用いて、光散乱法により測定する方法より求めたものである。増感色素光電変換用の増感色素としては、増感作用を示すものであれば特に限定はないが、通常、可視光領域付近の光を吸収できる物質、例えば、ビピリジン錯体、テルピリジン錯体、メロシアニン色素、ポルフィリン、およびフタロシアニンなどが用いられる。単独で用いる増感色素としては、例えば、ビピリジン錯体の1種であるシス-ビスイソチオシアナトビス2,2’-ビピリジル-4,4’-ジカルボン酸ルテニウムII二テトラブチルアンモニウム錯体通称N719が、増感色素としての性能に優れており、一般的に用いられている。その他、ビピリジン錯体の1種であるシス-ビスイソチオシアナトビス2,2’-ビピリジル-4,4’-ジカルボン酸ルテニウムII通称:N3や、テルピリジン錯体の1種であるトリスイソチオシアナト2,2’6’,2-テルピリジル-4,4’,4-トリカルボン酸ルテニウムII三テトラブチルアンモニウム錯体通称ブラックダイが一般的に用いられる。特にN3やブラックダイを用いる場合には、共吸着剤もよく用いられる。共吸着剤は多孔質半導体層3上で色素分子が会合するのを防止するために添加される分子であり、代表的な共吸着剤としては、例えば、ケノデオキシコール酸、タウロデオキシコール酸塩、および1-デクリルホスホン酸などが挙げられる。これらの分子の構造的特徴としては、多孔質半導体層5を構成する酸化チタンに吸着されやすい官能基として、カルボキシル基やホスホノ基などをもつこと、および、色素分子間に介在して色素分子間の干渉を防止するために、σ結合で形成されていることなどが挙げられる。その他の増感色素としては、例えば、アゾ系色素、キナクリドン系色素、ジケトピロロピロール系色素、スクワリリウム系色素、シアニン系色素、メロシアニン系色素、トリフェニルメタン系色素、キサンテン系色素、ポルフィン系色素、クロロフィル系色素、ルテニウム錯体系色素、インジゴ系色素、ペリレン系色素、オキサジン系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素など、およびその誘導体が挙げられるが光を吸収し多孔質半導体層5の伝導帯に励起電子を注入できる増感色素であればこれらに限定されない。これらの増感色素はその構造中に連結基を1個以上有する場合は、多孔質半導体層表面に連結することができ、光励起された増感色素の励起電子を多孔質半導体層5の電導帯に迅速に伝えることができるので望ましい。導電層3a上に形成される多孔質半導体層5の厚さは、0.5μm以上200μm以下であることが望ましい。多孔質半導体層5の厚さを上記の範囲内とすることにより、多孔質半導体層5の形成時に割れや剥がれが生じにくくなり、多孔質半導体層5の形成を安定させることができる。また、多孔質半導体層5の表層と導電面との距離を適正な範囲とでき、発生電荷が導電面に有効に伝えられ、良好な変換効率が得られる。対極対極15aは、導電層13a上に形成され、対極15aおよび導電層13aにより、対向電極15が構成される。対向電極15は、色素増感太陽電池色素増感型光電変換素子の正極として機能する。対極15aに用いる導電性の材料としては、例えば、金属、金属酸化物、または炭素などが挙げられるが、これに限定されるものではない。金属としては、例えば、白金、金、銀、銅、アルミニウム、ロジウム、インジウムなどを用いることができるが、これに限定されるものではない。金属酸化物としては、例えば、ITOインジウム-スズ酸化物、酸化スズフッ素などがドープされた物を含む、酸化亜鉛などを用いることができるが、これに限定されるものではない。対極15aの膜厚は、特に制限はないが、5nm以上100μm以下であることが好ましい。電解質層電解質層7は、電解質、媒体、および添加物から構成されることが好ましい。電解質は、I2とヨウ化物例としてLiI、NaI、KI、CsI、MgI2、CaI2、CuI、テトラアルキルアンモニウムヨーダイド、ピリジニウムヨーダイド、イミダゾリウムヨーダイドなどの混合物、Br2と臭化物例としてLiBrなどの混合物、この中でもI2とヨウ化物の組み合わせとしてLiI、ピリジニウムヨーダイド、イミダゾリウムヨーダイドなどを混合した電解質が好ましいがこの組み合わせに限定されるものではない。媒体に対する電解質の濃度は、I2が0.01M以上0.5M以下であることが好ましく、ヨウ化物の混合物が0.1M以上15M以下であることが好ましい。また、色素増感太陽電池の開放電圧を向上させる目的で、4-tert-ブチルピリジンやベンズイミダゾリウム類などの各種添加剤を加えることもできる。電解質層7に用いられる媒体は、良好なイオン電導性を発現できる化合物であることが好ましい。溶液状の媒体としては、例えば、ジオキサン、ジエチルエーテルなどのエーテル化合物、エチレングリコールジアルキルエーテル、プロピレングリコールジアルキルエーテル、ポリエチレングリコールジアルキルエーテル、ポリプロピレングリコールジアルキルエーテルなどの鎖状エーテル類、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリプロピレングリコールモノアルキルエーテルなどのアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、グリセリンなどの多価アルコール類、アセトニトリル、グルタロジニトリル、メトキシアセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル化合物、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなどのカーボネート化合物、3-メチル-2-オキサゾリジノンなどの複素環化合物、ジメチルスルホキシド、スルホランなど非プロトン極性物質などを用いることができる。また、固体状ゲル状を含むの媒体を用いる目的で、ポリマーを含ませることもできる。この場合、ポリアクリロニトリル、ポリフッ化ビニリデンなどのポリマーを前記溶液状媒体中に添加することで、エチレン性不飽和基を有した多官能性モノマーを前記溶液状媒体中で重合させて媒体を固体状にする。電解質層7としてはこの他、CuI、CuSCN媒体を必要としない電解質および、2,2’,7,7’-テトラキスN,N-ジ-p-メトキシフェニルアミン9,9’-スピロビフルオレンのような正孔輸送材料を用いることができる。[色素増感太陽電池の製造方法]次に、本技術の第1の実施形態に係る色素増感太陽電池の製造方法の一例について説明する。多孔質半導体層側の透明導電性基材の形成まず、図2Aに示すように、板状やフィルム状の基材3bを成形する。成形方法としては、例えば溶融押出法、射出成形法などを用いることができるが、これに限定されるものではない。次に、図2Bに示すように、スパッタリング法などの薄膜作製技術により、導電層3aを基材3b上に形成する。これにより、導電性基材3が得られる。多孔質半導体層の形成次に、図2Cに示すように、導電性基材3の導電層3a上に多孔質半導体層5を形成する。本技術では、金属酸化物半導体微粒子、分散剤および溶媒を含有する分散液多孔質半導体形成用組成物を用いて多孔質半導体層5を形成することを特徴とする。後述するように、分散剤は、アセチレン系炭化水素骨格を有し、具体的には、アセチレン系炭化水素骨格として、少なくともアセチレンアルコール構造またはアセチレンジオール構造を有する。また、分散剤は、金属酸化物半導体粒子に吸着する官能基として、少なくとも、アミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基水酸基、チオール基、ホスホノ基、シアノ基、ニトロ基、スルホニル基およびスルフィニル基からなる群から選ばれた少なくとも1種以上を有する。溶媒としては、水または有機溶媒を使用することができる。以下、多孔質半導体層5の形成工程の詳細について説明する。まず、金属酸化物半導体微粒子および分散剤を溶媒中に分散させて、多孔質半導体層形成用組成物である分散液ペーストを調製する。必要に応じて、結着剤バインダーを溶媒中にさらに分散させるようにしてもよい。ペースト作製の際には、必要に応じて、水熱合成から得られた単分散コロイド粒子を利用してもよい。金属酸化物半導体微粒子としては、例えば、上述した酸化チタン、酸化スズ、酸化タングステン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化ニオブ、酸化鉄、酸化ニッケル、酸化コバルト、酸化ストロンチウム、酸化タンタル、酸化アンチモン、酸化ランタノイド、酸化イットリウム、および酸化バナジウムなどからなる群より選ばれる1種以上を好適に用いることができる。分散剤としては、アセチレン系炭化水素骨格を有する分散剤を用いることができる。アセチレン系炭化水素骨格を有する分散剤としては、下記式化1で示される構造を有するものが好ましい。R1-CCH3OR2-C≡C-CCH3OR3-R4化1式中、R1は、H、CH3、C2H5、isoC3H7、C4H9から選ばれる。R2は、H、CH3、C2H5、isoC3H7,C4H9から選ばれる。R3は、-CH2-CH2m-OHを表す。R4は、-CH2-CH2n-OHを表す。なお、mおよびnは、それぞれ1≦m≦10、1≦n≦10の範囲内の値である。式化1で示される構造を有する分散剤は、mが10を超えると固体化傾向がある。また、nが10を超えると固体化傾向がある。そのため、mおよびnは、それぞれ1≦m≦10、1≦n≦10の範囲内の値であることが好ましい。すなわち、分散剤は、アセチレン系炭化水素骨格として、少なくともアセチレンアルコール構造またはアセチレンジオール構造を有することが好ましい。アセチレンアルコール構造を有するとは、例えば、炭素間三重結合を1つ有し、かつ該炭素間三重結合に隣接する炭素のうちの一方にヒドロキシ基を有する構造が好ましい。アセチレンジオール構造を有するとは、例えば、炭素間三重結合を1つ有し、かつ該炭素間三重結合に隣接する2つの炭素にヒドロキシ基を有する構造が好ましい。また、分散剤は、金属酸化物半導体粒子に吸着する官能基を少なくとも1つ以上有していることが好ましい。金属酸化物半導体粒子に吸着する官能基としては、アミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、チオール基、ホスホノ基、シアノ基、ニトロ基、スルホニル基およびスルフィニル基からなる群から少なくとも1種以上が選ばれることが好ましい。カルボキシル基含有物質としては、例えば、3,5-ジメチル-3-カルボキシル-1-ヘキシンなどを挙げることができる。チオール基含有物質としては、例えば、3,5-ジメチル-3-チオニル-1-ヘキシンなどを挙げることができる。分散剤がアセチレン系炭化水素骨格を有し、金属酸化物半導体粒子に吸着する官能基を少なくとも1つ以上有していることから、金属酸化物微粒子表面に官能基が吸着した際には、分散剤の分子が直線状の分子形態をとる。そのため、アセチレン系炭化水素骨格が、理想的な立体反発効果を発現し、良好な分散性が得られる。さらに、このような分散液を用いた場合には、溶媒中の金属酸化物半導体粒子の分散および分散安定性を確保することが可能であることに加え、分散液を加熱することにより、分散剤および溶媒を除去することが可能である。したがって、多孔質半導体層5における、発電特性を劣化させる不純物の含有を低減することができる。また、このような分散剤の添加により、後述する焼成工程において、分散剤が存在していた領域が空隙になることから、色素の吸着や電解液の浸透の促進が達成される。本技術では、エチルセルロースなどの高分子材料を含有する分散液を用い、高温で焼成して得られる多孔質半導体層と比較して、緻密な多孔質半導体層を得ることができる。多孔質半導体層の緻密性は、分散液中の固形分の割合に依存する。このことから、分散液中の固形分の割合を調整することにより、多孔質半導体層の緻密性を制御することも可能である。良好な光電変換効率が得られるという観点からは、分散液中の固形分の割合が、8以上12以下の範囲内であることが好ましい。なお、多孔質半導体層の緻密性は、例えば、SEM走査型電子顕微鏡:ScanningElectronMicroscopeによる断面観察などにより、確認することが可能である。溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n-ブタノール、sec-ブタノール、t-ブタノールなどの炭素数が4以下の低級アルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール1,3-プロパンジオール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、1,2-ブタンジオール、1,3-ブタンジオール、2-メチル-1,3-プロパンジオールなどの脂肪族グリコール、メチルエチルケトンなどのケトン類、ジメチルエチルアミンなどのアミン類などが単独または2種以上混合して用いることができるが、特にこれに限定されるものではない。分散方法としては、例えば、公知の方法を用いることができ、具体的には例えば、攪拌処理、超音波分散処理、ビーズ分散処理、混錬処理、ホモジナイザー処理などを用いることができるが、特にこれに限定されるものではない。次に、調製された分散液を導電層3a上に塗布または印刷した後、乾燥させることにより、溶媒を揮発させる。これにより、多孔質半導体層5が導電層3a上に形成される。乾燥条件は特に限定されるものではなく、自然乾燥であっても、乾燥温度や乾燥時間などを調整する人工的乾燥であってもよい。人工的に乾燥させる場合には、乾燥温度や乾燥時間は、基材3bの耐熱性を配慮し、基材3bを変質させない範囲で設定することが好ましい。塗布または印刷の方法としては、簡便で量産性に適した方法を用いることが好ましい。塗布方法としては、例えば、スプレーコート法、マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイレクトグラビアコート法、ダイコート法、ディップ法、リバースロールコート法、カーテンコート法、コンマコート法、ナイフコート法、スピンコート法などを用いることができるが、特にこれに限定されるものではない。また、印刷方法としては、例えば、凸版印刷法、オフセット印刷法、グラビア印刷法、凹版印刷法、ゴム版印刷法、スクリーン印刷法などを用いることができるが、特にこれに限定されるものではない。焼成次に、上述のようにして作製した多孔質半導体層5を焼成し、多孔質半導体層5における金属酸化物半導体微粒子間の電子的な接続を向上させる。焼成温度は、基材が変質しない範囲であることが好ましい。焼成温度は、具体的には、好ましくは40~175°C、より好ましくは40~150°C程度である。アセチレン系炭化水素骨格を有する分散剤として、上述の式化1示される構造を有するものを用いると、上記温度範囲で分散剤を揮発させることができ、好ましい。樹脂基材を用いて金属酸化物半導体層を製造する際、例えば、PETを基材に使用した場合は100°C程度まで、PENを基材に使用した場合は、150°C程度までの加温であることが好ましい。上記温度範囲内であれば、基材の変形など引き起こさず、製造に支障をきたすことがないため好ましい。焼成時間は、好ましくは30秒間~2時間程度であるが、特にこの時間範囲に制限されるものではない。色素担持次に、増感色素を溶媒に溶解させて、溶液を調製する。増感色素を溶解させるために必要に応じて、加熱、溶解助剤の添加および不溶分のろ過を行ってもよい。溶媒としては、増感色素を溶解可能であり、かつ、多孔質半導体層5に色素吸着の仲立ちを行えるものであることが好ましく、例えば、エタノール、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコールなどのアルコール系溶剤、アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル系溶剤、クロロホルム、ジクロロメタン、クロロベンゼンなどのハロゲン系溶剤、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶剤、炭酸ジエチル、炭酸プロピレンなどの炭酸エステル系溶剤、ヘキサン、オクタン、トルエン、キシレンなどの炭水化物系溶剤、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、1,3-ジメチルイミダゾリノン、Nメチルピロリドン、水などを単独または2種以上混合して用いることができるが、これに限定されるものではない。次に、例えば、多孔質半導体層5を、増感色素を含む溶液中に浸すことにより、金属酸化物微粒子に増感色素を担持させる。多孔質半導体層5を、増感色素を含む溶液中に導電性基材3ごと浸すことにより、増感色素の連結置換基の親和性を利用して、多孔質半導体の多孔質表面に増感色素を接触させて結合させることができる。もちろん、増感色素を担持させる方法は、この方法に限定されない。対極側の透明導電性基材の形成次に、多孔質半導体層側の透明導電性基材と同様にして、対極側の透明導電性基材を形成する。図3Aに示すように、板状やフィルム状の基材13bを成形する。成形方法としては、基材3bと同様の成形方法を用いることができる。次に、図3Bに示すように、スパッタリング法などの薄膜作製技術により、導電層13aを基材13b上に形成する。これにより、導電性基材13が得られる。対極の形成次に、図3Cに示すように、スパッタリング法などの薄膜作製技術により、導電性基材13の導電層13a上に対極15aを形成する。電解質の充填次に、導電性基材13の導電層13aの周縁部に、封止剤としての紫外線硬化型接着剤をスクリーン印刷により形成した後、この紫外線硬化型接着剤を介して、導電性基材3を貼り合わせる。この際、多孔質半導体層5および対極15aが、所定間隔、例えば1~100μm、好ましくは1~50μmの間隔をおいて対向するように配置する。これにより、導電性基材3と導電性基材13と封止剤とにより、電解質層7が充填される空間が形成される。次に、この空間に例えば導電性基材3に予め形成された注入口から電解質を注入し、空間内に電解質を充填して電解質層7とする。その後、この注入口を塞ぐ。これにより、図3Dに示す、目的とする色素増感太陽電池が製造される。従来の金属酸化物半導体層の形成方法では、金属酸化物半導体微粒子に分散剤や増粘剤などを添加し、スクリーン印刷などに適した粘度挙動を有するインクを調整して用いていた。そうすると、高分子フィルムを基材として用いた場合などには、焼成温度がフィルムの耐熱性から制限されることとなるが、例えば、150°C以下程度の比較的低い温度では、添加した分散剤や増粘剤が燃焼や揮発をせずに、金属酸化物半導体層中に残留してしまう。添加した分散剤や増粘剤が金属酸化物半導体層中に残留していると、金属酸化物半導体微粒子相互の焼結反応が抑制される。また、酸化チタン表面への増感色素の吸着が阻害される。したがって、増感色素が太陽光を吸収励起する過程で発生した電子の移動が妨げられ、金属酸化物半導体層の抵抗値が高くなり、発電効率の低下を招いてしまう。本技術では、高分子フィルムなどの高分子樹脂基材の変形などが起こりにくい温度領域で揮発する特徴を有する分散剤と水または有機溶媒を分散液に用いる。そのため、比較的低い温度で、分散液中の金属酸化物半導体微粒子以外の物質を効果的に除去し、金属酸化物半導体微粒子相互を固着させることができる。また、上述したように、焼成工程において、分散剤が存在していた領域が空隙になることから、色素の吸着や電解液の浸透が促進される。そのため、増感色素が太陽光を吸収励起する過程で発生した電子の移動は妨げられず、金属酸化物半導体層の抵抗値が高くなることを防止できる。[色素増感太陽電池の動作]次に、本技術の第1の実施形態に係る色素増感型光電変換素子1の動作について説明する。色素増感型光電変換素子1は、導電性基材3の受光面に光の照射Lがされると、対向電極15を正極、導電層3aを負極とする電池として動作する。その原理は次の通りである。基材3bおよび導電層3aを透過してきた光子を増感色素が吸収すると、増感色素中の電子が基底状態HOMOから励起状態LUMOへ励起される。励起状態の電子は、増感色素と多孔質半導体層5との間の電気的結合を介して、多孔質半導体層5の伝導帯に引き出され、多孔質半導体層5を通って導電層3aに到達する。一方、電子を失った増感色素は、電解質層4中の還元剤、例えばIから下記の反応によって電子を受け取り、電解質層7中に酸化剤、例えばI3I2とIとの結合体を生成させる。2I→I22eI2I→I3生成した酸化剤、例えばI3は拡散によって対極15aに到達し、例えば下記の反応上記の反応の逆反応によって対極15aから電子を受け取り、もとの還元剤、例えばIに還元される。I3→I2II22e→2I導電層3aから外部回路へ送り出された電子は、外部回路で電気的仕事をした後、対極15aに戻る。このようにして、増感色素にも電解質層7にも何の変化も残さず、光エネルギーが電気エネルギーに変換される。なお、上記説明では、導電層3aの材料としてFTOを用い、光増感色素としてN719を用い、多孔質半導体層5の材料として酸化チタンTiO2を用い、レドックス対としてI/I3の酸化還元種を用いることを想定した。[色素増感型光電変換素子の構成例]図4Aは、色素増感型光電変換素子をロール状に巻き取り可能に構成した例を示す斜視図である。本技術によれば、基材として、フィルム状の樹脂基材を使用することができる。したがって、色素増感型光電変換素子を、可撓性を有するフレキシブル色素増感型光電変換素子として構成することができる。図4Aに示す色素増感型光電変換素子21は、例えば、使用しないときには、小さく丸められ、色素増感型光電変換素子21の可搬性を向上させることができる。また、色素増感型光電変換素子21を広げることにより、使用時には大きな受光面を得ることができ、大きな起電力を得ることができる。図4Bは、図4Aに示す色素増感型光電変換素子と衣服とを組み合わせた例を示す図である。図4Bに示すように、例えば、上着31の肩部や袖部などに色素増感型光電変換素子21を配置することができる。屋外では太陽光の照射により、屋内では蛍光灯などからの光の照射により、色素増感型光電変換素子21から電力を得ることができる。色素増感型光電変換素子21は、例えば、携帯用オーディオプレイヤーなどの電源として使用することが可能である。本技術によれば、基材として、フィルム状の樹脂基材を使用することができるため、図4Bに示すように、色素増感型光電変換素子21を上着31に組み込み、色素増感型光電変換素子21を携帯用電源として使用することができる。上着31には、色素増感型光電変換素子21のほかに、電気回路または電子回路が形成されたフレキシブル基板や電池、通信機器などを組み込むようにしてもよい。<2.第2の実施形態>色素増感型光電変換素子は、折りたたみ可能に構成されてもよい。例えば、一枚の板状やフィルム状の基材上を複数の区画に区分して電解質などを封止し、色素増感太陽電池セルを複数備えるようにして色素増感型光電変換素子を構成してもよい。複数の色素増感太陽電池セルは、電気的に直列接続または並列接続される。このとき、隣接する色素増感太陽電池セルの間に薄肉部を設け、該薄肉部で色素増感型光電変換素子が屈曲しやすいようにしておくと便宜である。該薄肉部は、色素増感型光電変換素子において、折り線に対応する部分となる。このようにすることで、色素増感型光電変換素子を折りたたみやすくすることができる。色素増感型光電変換素子は、使用しないときには、小さく折りたたまれ、使用時には、例えば、縦方向、横方向と順に広げられる。色素増感型光電変換素子を折りたたみ可能に構成することにより、色素増感型光電変換素子の可搬性を向上させるとともに、使用時には大きな受光面を得ることができ、大きな起電力を得ることができる。したがって、第2の実施形態に係る色素増感型光電変換素子は、アウトドアの用途に特に適した電源として利用することができる。このように、本技術によれば、基材として、フィルム状の樹脂基材を使用することができ、フレキシブル基板などと組み合わせた場合にも、色素増感型光電変換素子が可撓性を有し、建築物の屋根や壁面、窓部など、立体的な構造物への設置が可能である。さらに、色素増感型光電変換素子が丸めたり、折りたためたりできるようにすることで、色素増感型光電変換素子を、アウトドアや災害時の携帯用発電機とすることもできる。なお、本技術は、以下のような構成をとることもできる。1導電層、多孔質半導体層、電解質層、および対極を備え、上記多孔質半導体層は、金属酸化物半導体微粒子、分散剤および溶媒を含有する多孔質半導体形成用組成物を上記導電層上に塗布または印刷して焼成することにより得られ、上記分散剤は、アセチレン系炭化水素骨格からなり、上記金属酸化物半導体微粒子に吸着する官能基を1つ以上有する色素増感型光電変換素子。2上記分散剤は、上記アセチレン系炭化水素骨格として、少なくともアセチレンアルコール構造またはアセチレンジオール構造を有する1記載の色素増感型光電変換素子。3上記分散剤は、金属酸化物に吸着する官能基として、少なくとも、アミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、チオール基、ホスホノ基、シアノ基、ニトロ基、スルホニル基およびスルフィニル基からなる群から選ばれた少なくとも1種以上を有する1または2記載の色素増感型光電変換素子。4上記金属酸化物半導体微粒子の平均一次粒子径は、5nm以上500nm以下である1~3のいずれかに記載の色素増感型光電変換素子。5上記金属酸化物半導体微粒子は、チタン、亜鉛、スズおよびニオブの少なくとも1種を含む金属酸化物を含む1~4のいずれかに記載の色素増感型光電変換素子。6上記金属酸化物半導体微粒子は、アナターゼ型またはブリュッカイト型の結晶構造を有する酸化チタンを含む1~5のいずれかに記載の色素増感型光電変換素子。7可撓性を有する樹脂基材をさらに備え、上記導電層は、上記樹脂基材上に形成される1~6のいずれかに記載の色素増感型光電変換素子。81~7のいずれかに記載の色素増感型光電変換素子を1以上備える衣服。9金属酸化物半導体微粒子、分散剤および溶媒を含有する多孔質半導体形成用組成物を導電層上に塗布または印刷し、焼成することにより得られ、上記分散剤は、アセチレン系炭化水素骨格からなり、上記金属酸化物半導体微粒子に吸着する官能基を1つ以上有する色素増感型光電変換素子用光電極。10金属酸化物半導体微粒子、分散剤および溶媒を含有する多孔質半導体形成用組成物を導電層上に塗布または印刷する工程と、上記塗布された多孔質半導体形成用組成物を焼成し、上記導電層上に多孔質半導体層を形成する工程と、上記多孔質半導体層に増感色素を担持させる工程と、上記増感色素が担持された上記多孔質半導体層に対向して対極を設ける工程と、上記多孔質半導体層と、上記対極との間に電解質層を設ける工程とを備え、上記分散剤は、アセチレン系炭化水素骨格からなり、上記金属酸化物半導体微粒子に吸着する官能基を1つ以上有する色素増感型光電変換素子の製造方法。11上記塗布または印刷された多孔質半導体形成用組成物の焼成は、40°C以上175°C以下の温度範囲で行われる10記載の色素増感型光電変換素子の製造方法。12金属酸化物半導体微粒子、分散剤および溶媒を含有する多孔質半導体形成用組成物を導電層上に塗布または印刷し、焼成する工程を備え、上記分散剤は、アセチレン系炭化水素骨格からなり、上記金属酸化物半導体微粒子に吸着する官能基を1つ以上有する金属酸化物半導体層の形成方法。以下、実施例により本技術を具体的に説明するが、本技術はこれらの実施例のみに限定されるものではない。<サンプル1-1>以下、サンプル1-1の金属酸化物半導体層の製造工程について説明する。サンプル1-1は、アセチレンアルコール構造を有する分散剤を分散液に用いた実施例である。まず、可視領域に吸収のない基板として、ソーダライムガラス基板を準備し、ソーダライムガラス基板上に、電流-電圧を印加する可視領域に吸収のない導電層として透明導電層を形成した。透明導電層として、厚さ100nmのITO膜をスパッタリング法により形成し、透明導電性基材を得た。なお、透明導電層は、フォトリソグラフィー法により形成されたマスクを用いて、必要に応じて塩化水素などに代表される無機酸によりパターン加工することが可能であるが、本実施例では、パターン化は行わないこととした。次に、透明導電性基材上に、増感色素を保持した多孔質半導体層を以下のようにして形成した。まず、以下の材料を、ビーズ分散機を用いて16時間分散処理を行うことで、酸化チタン分散溶液を調製した。酸化チタン微粒子:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン5g溶媒:エタノール45g分散剤:3,5-ジメチル-1-ヘキシン-3-オール0.5g次に、調製した酸化チタン分散溶液を透明導電層上にスプレー塗布し、塗膜を形成した後、オーブン中、150°Cの温度環境下、1時間焼成することにより、多孔質半導体層を形成し、目的とする金属酸化物半導体層が得られた。<サンプル2-1>以下、サンプル2-1の色素増感型光電変換素子の製造工程について説明する。サンプル2-1は、アセチレンジオール構造を有する分散剤を分散液に用いた実施例である。まず、可視領域に吸収のない基板として、ソーダライムガラス基板を準備し、ソーダライムガラス基板上に、電流-電圧を印加する可視領域に吸収のない導電層として透明導電層を形成した。透明導電層として、厚さ100nmのITO膜をスパッタリング法により形成し、透明導電性基材を得た。なお、透明導電層は、フォトリソグラフィー法により形成されたマスクを用いて、必要に応じて塩化水素などに代表される無機酸によりパターン加工することが可能であるが、本実施例では、パターン化は行わないこととした。次に、透明導電性基材上に、増感色素を保持した多孔質半導体層を以下のようにして形成した。まず、以下の材料を、ビーズ分散機を用いて16時間分散処理を行うことで、酸化チタン分散溶液を調製した。酸化チタン微粒子:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン5g溶媒:エタノール45g分散剤:3,6-ジメチル-4-オクチル-3,6-ジオール0.5g次に、調製した酸化チタン分散溶液を透明導電層上にスプレー塗布し、塗膜を形成した後、オーブン中、150°Cの温度環境下、1時間焼成することにより、多孔質半導体層を形成した。次に、多孔質半導体層を以下の組成の色素溶液に浸漬して増感色素を吸着させた。その後、余剰の増感色素をエタノールにて洗浄して乾燥させ、光増感色素を保持した多孔質半導体層を形成した。増感色素:シス-ビスイソチオシアナトビス2,2’-ビピリジル-4,4’-ジカルボン酸ルテニウムII二テトラブチルアンモニウム錯体通称N71925mg溶媒:エタノール50ml次に、多孔質半導体層を形成した透明導電性基材と、対極を形成した透明導電性基材とを対向配置させて樹脂フィルム製スペーサーおよびアクリル系紫外線硬化樹脂を用いて封止した。樹脂フィルム製スペーサーとしては、厚さ25μmのフィルム三井デュポンポリケミカル社製、商品名:ハイミラン登録商標を用いた。次に、注液口から送液ポンプを用いて以下の組成の電解液を注入し、電解質層を形成した。以上により、目的とする色素増感型光電変換素子を得た。メトキシプロピオニトリル1.5gヨウ化ナトリウム0.02g1-プロピル-2,3-ジメチルイミダソリウムヨーダイド0.8gヨウ素0.1g4-tert-ブチルピリジンTBP0.05g次に、上述のようにして得られた色素増感型光電変換素子について、疑似太陽光AM1.5、100mw/cm2照射時における電流-電圧曲線における短絡電流、開放電圧、フィルファクタ、および光電変換効率を測定した。その結果、光電変換効率5の良好な変換効率を有する色素増感型光電変換素子が得られた。<サンプル2-2>以下、サンプル2-2の色素増感型光電変換素子の製造工程について説明する。サンプル2-2は、アセチレンアルコール構造を有するとともに、金属酸化物微粒子に吸着する官能基としてアミノ基を含有する分散剤を分散液に用いた実施例である。まず、可視領域に吸収のない基板として、ソーダライムガラス基板を準備し、ソーダライムガラス基板上に、電流-電圧を印加する可視領域に吸収のない導電層として透明導電層を形成した。透明導電層として、厚さ100nmのITO膜をスパッタリング法により形成し、透明導電性基材を得た。なお、透明導電層は、フォトリソグラフィー法により形成されたマスクを用いて、必要に応じて塩化水素などに代表される無機酸によりパターン加工することが可能であるが、本実施例では、パターン化は行わないこととした。次に、透明導電性基材上に、増感色素を保持した多孔質半導体層を以下のようにして形成した。まず、以下の材料を、ビーズ分散機を用いて16時間分散処理を行うことで、酸化チタン分散溶液を調製した。酸化チタン微粒子:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン5g溶媒:エタノール45g分散剤:3,5-ジメチル-3-アミノ-1-ヘキシン0.5g次に、調製した酸化チタン分散溶液を透明導電層上にスプレー塗布し、塗膜を形成した後、3.0×107torrの超高真空中、150°Cの温度環境下、1時間焼成することにより、多孔質半導体層を形成した。次に、多孔質半導体層を以下の組成の色素溶液に浸漬して増感色素を吸着させた。その後、余剰の増感色素をエタノールにて洗浄して乾燥させ、光増感色素を保持した多孔質半導体層を形成した。増感色素:シス-ビスイソチオシアナトビス2,2’-ビピリジル-4,4’-ジカルボン酸ルテニウムII二テトラブチルアンモニウム錯体通称N71925mg溶媒:エタノール50ml次に、多孔質半導体層を形成した透明導電性基材と、対極を形成した透明導電性基材とを対向配置させて樹脂フィルム製スペーサーおよびアクリル系紫外線硬化樹脂を用いて封止した。樹脂フィルム製スペーサーとしては、厚さ25μmのフィルム三井デュポンポリケミカル社製、商品名:ハイミラン登録商標を用いた。次に、注液口から送液ポンプを用いて以下の組成の電解液を注入し、電解質層を形成した。以上により、目的とする色素増感型光電変換素子を得た。メトキシプロピオニトリル1.5gヨウ化ナトリウム0.02g1-プロピル-2,3-ジメチルイミダソリウムヨーダイド0.8gヨウ素0.1g4-tert-ブチルピリジンTBP0.05g次に、上述のようにして得られた色素増感型光電変換素子について、疑似太陽光AM1.5、100mw/cm2照射時における電流-電圧曲線における短絡電流、開放電圧、フィルファクタ、および光電変換効率を測定した。その結果、光電変換効率5.7の良好な変換効率を有する色素増感型光電変換素子が得られた。<サンプル3-1>サンプル3-1~サンプル3-6の色素増感型光電変換素子を作製し、光散乱法を用いて、金属酸化物半導体微粒子の粒度分布と光電変換効率との相関を評価した。まず、可視領域に吸収のない基板として、ソーダライムガラス基板を準備し、ソーダライムガラス基板上に、電流-電圧を印加する可視領域に吸収のない導電層として透明導電層を形成した。透明導電層として、厚さ100nmのITO膜をスパッタリング法により形成し、透明導電性基材を得た。なお、透明導電層は、フォトリソグラフィー法により形成されたマスクを用いて、必要に応じて塩化水素などに代表される無機酸によりパターン加工することが可能であるが、本実施例では、パターン化は行わないこととした。次に、透明導電性基材上に、増感色素を保持した多孔質半導体層を以下のようにして形成した。まず、以下の材料を、ビーズ分散機を用いて16時間分散処理を行うことで、酸化チタン分散溶液を調製した。なお、酸化チタンに対する分散剤の添加量は酸化チタン重量比で5であった。また、酸化チタン分散溶液の固形分は8であった。酸化チタン微粒子:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン4g酸化チタン微粒子平均粒径:90nm溶媒:2プロパノール46g分散剤:3,5-ジメチル-3-アミノ-1-ヘキシン0.2g次に、調製した酸化チタン分散溶液を透明導電層上にスプレー塗布し、塗膜を形成した後、オーブン中、150°Cの温度環境下、30分間焼成することにより、多孔質半導体層を形成した。次に、多孔質半導体層を以下の組成の色素溶液に浸漬して増感色素を吸着させた。その後、余剰の増感色素をエタノールにて洗浄して乾燥させ、光増感色素を保持した多孔質半導体層を形成した。増感色素:シス-ビスイソチオシアナトビス2,2’-ビピリジル-4,4’-ジカルボン酸ルテニウムII二テトラブチルアンモニウム錯体通称N71925mg溶媒:エタノール50ml次に、多孔質半導体層を形成した透明導電性基材と、対極を形成した透明導電性基材とを対向配置させて樹脂フィルム製スペーサーおよびアクリル系紫外線硬化樹脂を用いて封止した。樹脂フィルム製スペーサーとしては、厚さ25μmのフィルム三井デュポンポリケミカル社製、商品名:ハイミラン登録商標を用いた。次に、注液口から送液ポンプを用いて以下の組成の電解液を注入し、電解質層を形成した。以上により、目的とする色素増感型光電変換素子を得た。メトキシプロピオニトリル1.5gヨウ化ナトリウム0.02g1-プロピル-2,3-ジメチルイミダソリウムヨーダイド0.8gヨウ素0.1g4-tert-ブチルピリジンTBP0.05g次に、上述のようにして得られた色素増感型光電変換素子について、疑似太陽光AM1.5、100mw/cm2照射時における電流-電圧曲線における短絡電流、開放電圧、フィルファクタ、および光電変換効率を測定した。その結果、光電変換効率3.5の変換効率を有する色素増感型光電変換素子が得られた。<サンプル3-2>酸化チタン分散溶液を構成する材料を以下に示すものとしたこと以外は、サンプル3-1の場合と同様にして、サンプル3-2の色素増感型光電変換素子を作製した。酸化チタン微粒子:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン4g酸化チタン微粒子平均粒径:60nm溶媒:2プロパノール46g分散剤:3,5-ジメチル-3-アミノ-1-ヘキシン0.2g次に、上述のようにして得られた色素増感型光電変換素子について、疑似太陽光AM1.5、100mw/cm2照射時における電流-電圧曲線における短絡電流、開放電圧、フィルファクタ、および光電変換効率を測定した。その結果、光電変換効率4.5の変換効率を有する色素増感型光電変換素子が得られた。<サンプル3-3>酸化チタン分散溶液を構成する材料を以下に示すものとしたこと以外は、サンプル3-1の場合と同様にして、サンプル3-3の色素増感型光電変換素子を作製した。酸化チタン微粒子:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン4g酸化チタン微粒子平均粒径:50nm溶媒:2プロパノール46g分散剤:3,5-ジメチル-3-アミノ-1-ヘキシン0.2g次に、上述のようにして得られた色素増感型光電変換素子について、疑似太陽光AM1.5、100mw/cm2照射時における電流-電圧曲線における短絡電流、開放電圧、フィルファクタ、および光電変換効率を測定した。その結果、光電変換効率5.5の変換効率を有する色素増感型光電変換素子が得られた。<サンプル3-4>酸化チタン分散溶液を構成する材料を以下に示すものとしたこと以外は、サンプル3-1の場合と同様にして、サンプル3-4の色素増感型光電変換素子を作製した。酸化チタン微粒子:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン4g酸化チタン微粒子平均粒径:30nm溶媒:2プロパノール46g分散剤:3,5-ジメチル-3-アミノ-1-ヘキシン0.2g次に、上述のようにして得られた色素増感型光電変換素子について、疑似太陽光AM1.5、100mw/cm2照射時における電流-電圧曲線における短絡電流、開放電圧、フィルファクタ、および光電変換効率を測定した。その結果、光電変換効率3.5の変換効率を有する色素増感型光電変換素子が得られた。<サンプル3-5>酸化チタン分散溶液を構成する材料を以下に示すものとしたこと以外は、サンプル3-1の場合と同様にして、サンプル3-5の色素増感型光電変換素子を作製した。酸化チタン微粒子:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン4g酸化チタン微粒子平均粒径:20nm溶媒:2プロパノール46g分散剤:3,5-ジメチル-3-アミノ-1-ヘキシン0.2g次に、上述のようにして得られた色素増感型光電変換素子について、疑似太陽光AM1.5、100mw/cm2照射時における電流-電圧曲線における短絡電流、開放電圧、フィルファクタ、および光電変換効率を測定した。その結果、光電変換効率2.5の変換効率を有する色素増感型光電変換素子が得られた。<サンプル3-6>酸化チタン分散溶液を構成する材料を以下に示すものとしたこと以外は、サンプル3-1の場合と同様にして、サンプル3-6の色素増感型光電変換素子を作製した。酸化チタン微粒子:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン4g酸化チタン微粒子平均粒径:15nm溶媒:2プロパノール46g分散剤:3,5-ジメチル-3-アミノ-1-ヘキシン0.2g次に、上述のようにして得られた色素増感型光電変換素子について、疑似太陽光AM1.5、100mw/cm2照射時における電流-電圧曲線における短絡電流、開放電圧、フィルファクタ、および光電変換効率を測定した。その結果、光電変換効率1.5の変換効率を有する色素増感型光電変換素子が得られた。下記の表1に、サンプル3-1~サンプル3-6に関する、金属酸化物半導体微粒子の粒度分布と光電変換効率の測定結果とを示す。表1より以下のことがわかった。金属酸化物半導体微粒子の平均粒径を20nm~100nmの範囲内とすることで、色素増感型光電変換素子の光電変換効率を良好なものとする効果が得られることがわかった。特に、金属酸化物半導体微粒子の平均粒径を40nm~60nmの範囲内とすると、効果が高いことがわかった。<サンプル4-1>サンプル4-1~サンプル4-5の色素増感型光電変換素子を作製し、酸化チタン分散溶液の固形分の割合と光電変換効率との相関を評価した。まず、可視領域に吸収のない基板として、ソーダライムガラス基板を準備し、ソーダライムガラス基板上に、電流-電圧を印加する可視領域に吸収のない導電層として透明導電層を形成した。透明導電層として、厚さ100nmのITO膜をスパッタリング法により形成し、透明導電性基材を得た。なお、透明導電層は、フォトリソグラフィー法により形成されたマスクを用いて、必要に応じて塩化水素などに代表される無機酸によりパターン加工することが可能であるが、本実施例では、パターン化は行わないこととした。次に、透明導電性基材上に、増感色素を保持した多孔質半導体層を以下のようにして形成した。まず、以下の材料を、ビーズ分散機を用いて16時間分散処理を行うことで、酸化チタン分散溶液を調製した。なお、酸化チタンに対する分散剤の添加量は酸化チタン重量比で5であった。また、酸化チタン分散溶液の固形分は4であった。酸化チタン微粒子:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン2g酸化チタン微粒子平均粒径:60nm溶媒:2プロパノール48g分散剤:3,5-ジメチル-3-アミノ-1-ヘキシン0.1g次に、調製した酸化チタン分散溶液を透明導電層上にスプレー塗布し、塗膜を形成した後、オーブン中、150°Cの温度環境下、30分間焼成することにより、多孔質半導体層を形成した。次に、多孔質半導体層を以下の組成の色素溶液に浸漬して増感色素を吸着させた。その後、余剰の増感色素をエタノールにて洗浄して乾燥させ、光増感色素を保持した多孔質半導体層を形成した。増感色素:シス-ビスイソチオシアナトビス2,2’-ビピリジル-4,4’-ジカルボン酸ルテニウムII二テトラブチルアンモニウム錯体通称N71925mg溶媒:エタノール50ml次に、多孔質半導体層を形成した透明導電性基材と、対極を形成した透明導電性基材とを対向配置させて樹脂フィルム製スペーサーおよびアクリル系紫外線硬化樹脂を用いて封止した。樹脂フィルム製スペーサーとしては、厚さ25μmのフィルム三井デュポンポリケミカル社製、商品名:ハイミラン登録商標を用いた。次に、注液口から送液ポンプを用いて以下の組成の電解液を注入し、電解質層を形成した。以上により、目的とする色素増感型光電変換素子を得た。メトキシプロピオニトリル1.5gヨウ化ナトリウム0.02g1-プロピル-2,3-ジメチルイミダソリウムヨーダイド0.8gヨウ素0.1g4-tert-ブチルピリジンTBP0.05g次に、上述のようにして得られた色素増感型光電変換素子について、疑似太陽光AM1.5、100mw/cm2照射時における電流-電圧曲線における短絡電流、開放電圧、フィルファクタ、および光電変換効率を測定した。その結果、光電変換効率3.0の変換効率を有する色素増感型光電変換素子が得られた。<サンプル4-2>酸化チタン分散溶液を構成する材料を以下に示すものとし、酸化チタン分散溶液の固形分が8となるようにしたこと以外は、サンプル4-1の場合と同様にして、サンプル4-2の色素増感型光電変換素子を作製した。酸化チタン微粒子:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン4g酸化チタン微粒子平均粒径:60nm溶媒:2プロパノール46g分散剤:3,5-ジメチル-3-アミノ-1-ヘキシン0.2g次に、上述のようにして得られた色素増感型光電変換素子について、疑似太陽光AM1.5、100mw/cm2照射時における電流-電圧曲線における短絡電流、開放電圧、フィルファクタ、および光電変換効率を測定した。その結果、光電変換効率4.5の変換効率を有する色素増感型光電変換素子が得られた。<サンプル4-3>酸化チタン分散溶液を構成する材料を以下に示すものとし、酸化チタン分散溶液の固形分が10となるようにしたこと以外は、サンプル4-1の場合と同様にして、サンプル4-3の色素増感型光電変換素子を作製した。酸化チタン微粒子:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン5g酸化チタン微粒子平均粒径:60nm溶媒:2プロパノール45g分散剤:3,5-ジメチル-3-アミノ-1-ヘキシン0.25g次に、上述のようにして得られた色素増感型光電変換素子について、疑似太陽光AM1.5、100mw/cm2照射時における電流-電圧曲線における短絡電流、開放電圧、フィルファクタ、および光電変換効率を測定した。その結果、光電変換効率5.5の変換効率を有する色素増感型光電変換素子が得られた。<サンプル4-4>酸化チタン分散溶液を構成する材料を以下に示すものとし、酸化チタン分散溶液の固形分が12となるようにしたこと以外は、サンプル4-1の場合と同様にして、サンプル4-4の色素増感型光電変換素子を作製した。酸化チタン微粒子:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン6g酸化チタン微粒子平均粒径:60nm溶媒:2プロパノール44g分散剤:3,5-ジメチル-3-アミノ-1-ヘキシン0.3g次に、上述のようにして得られた色素増感型光電変換素子について、疑似太陽光AM1.5、100mw/cm2照射時における電流-電圧曲線における短絡電流、開放電圧、フィルファクタ、および光電変換効率を測定した。その結果、光電変換効率6.0の変換効率を有する色素増感型光電変換素子が得られた。<サンプル4-5>酸化チタン分散溶液を構成する材料を以下に示すものとし、酸化チタン分散溶液の固形分が15となるようにしたこと以外は、サンプル4-1の場合と同様にして、サンプル4-5の色素増感型光電変換素子の作製を試みた。酸化チタン微粒子:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン7.5g酸化チタン微粒子平均粒径:60nm溶媒:2プロパノール42.5g分散剤:3,5-ジメチル-3-アミノ-1-ヘキシン0.375g酸化チタン分散溶液の固形分が15としたところ、良好な分散性が得られず、透明導電層上に多孔質半導体層を形成できなかった。下記の表2に、サンプル4-1~サンプル4-5に関する、酸化チタン分散溶液の固形分の割合と光電変換効率の測定結果とを示す。表2より以下のことがわかった。酸化チタン分散溶液の固形分の割合が12のときにもっとも良好な光電変換効率が得られ、酸化チタン分散溶液の固形分の割合を15とすると、多孔質半導体層の形成が困難であることがわかった。<サンプル5-1>サンプル5-1~サンプル5-5の色素増感型光電変換素子を作製し、焼成温度と光電変換効率との相関を評価した。まず、可視領域に吸収のない基板として、ソーダライムガラス基板を準備し、ソーダライムガラス基板上に、電流-電圧を印加する可視領域に吸収のない導電層として透明導電層を形成した。透明導電層として、厚さ100nmのITO膜をスパッタリング法により形成し、透明導電性基材を得た。なお、透明導電層は、フォトリソグラフィー法により形成されたマスクを用いて、必要に応じて塩化水素などに代表される無機酸によりパターン加工することが可能であるが、本実施例では、パターン化は行わないこととした。次に、透明導電性基材上に、増感色素を保持した多孔質半導体層を以下のようにして形成した。まず、以下の材料を、ビーズ分散機を用いて16時間分散処理を行うことで、酸化チタン分散溶液を調製した。なお、酸化チタンに対する分散剤の添加量は酸化チタン重量比で5であった。また、酸化チタン分散溶液の固形分は8であった。酸化チタン微粒子:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン4g酸化チタン微粒子平均粒径:60nm溶媒:2プロパノール46g分散剤:3,5-ジメチル-3-アミノ-1-ヘキシン0.2g次に、調製した酸化チタン分散溶液を透明導電層上にスプレー塗布し、塗膜を形成した後、オーブン中、100°Cの温度環境下、30分間焼成することにより、多孔質半導体層を形成した。次に、多孔質半導体層を以下の組成の色素溶液に浸漬して増感色素を吸着させた。その後、余剰の増感色素をエタノールにて洗浄して乾燥させ、光増感色素を保持した多孔質半導体層を形成した。増感色素:シス-ビスイソチオシアナトビス2,2’-ビピリジル-4,4’-ジカルボン酸ルテニウムII二テトラブチルアンモニウム錯体通称N71925mg溶媒:エタノール50ml次に、多孔質半導体層を形成した透明導電性基材と、対極を形成した透明導電性基材とを対向配置させて樹脂フィルム製スペーサーおよびアクリル系紫外線硬化樹脂を用いて封止した。樹脂フィルム製スペーサーとしては、厚さ25μmのフィルム三井デュポンポリケミカル社製、商品名:ハイミラン登録商標を用いた。次に、注液口から送液ポンプを用いて以下の組成の電解液を注入し、電解質層を形成した。以上により、目的とする色素増感型光電変換素子を得た。メトキシプロピオニトリル1.5gヨウ化ナトリウム0.02g1-プロピル-2,3-ジメチルイミダソリウムヨーダイド0.8gヨウ素0.1g4-tert-ブチルピリジンTBP0.05g次に、上述のようにして得られた色素増感型光電変換素子について、疑似太陽光AM1.5、100mw/cm2照射時における電流-電圧曲線における短絡電流、開放電圧、フィルファクタ、および光電変換効率を測定した。その結果、光電変換効率1.0の変換効率を有する色素増感型光電変換素子が得られた。<サンプル5-2>焼成温度を125°Cにしたこと以外は、サンプル5-1の場合と同様にして、サンプル5-2の色素増感型光電変換素子を作製した。次に、上述のようにして得られた色素増感型光電変換素子について、疑似太陽光AM1.5、100mw/cm2照射時における電流-電圧曲線における短絡電流、開放電圧、フィルファクタ、および光電変換効率を測定した。その結果、光電変換効率2.0の変換効率を有する色素増感型光電変換素子が得られた。<サンプル5-3>焼成温度を150°Cにしたこと以外は、サンプル5-1の場合と同様にして、サンプル5-3の色素増感型光電変換素子を作製した。次に、上述のようにして得られた色素増感型光電変換素子について、疑似太陽光AM1.5、100mw/cm2照射時における電流-電圧曲線における短絡電流、開放電圧、フィルファクタ、および光電変換効率を測定した。その結果、光電変換効率4.5の変換効率を有する色素増感型光電変換素子が得られた。<サンプル5-4>焼成温度を175°Cにしたこと以外は、サンプル5-1の場合と同様にして、サンプル5-4の色素増感型光電変換素子を作製した。次に、上述のようにして得られた色素増感型光電変換素子について、疑似太陽光AM1.5、100mw/cm2照射時における電流-電圧曲線における短絡電流、開放電圧、フィルファクタ、および光電変換効率を測定した。その結果、光電変換効率5.0の変換効率を有する色素増感型光電変換素子が得られた。<サンプル5-5>焼成温度を200°Cにしたこと以外は、サンプル5-1の場合と同様にして、サンプル5-5の色素増感型光電変換素子を作製した。次に、上述のようにして得られた色素増感型光電変換素子について、疑似太陽光AM1.5、100mw/cm2照射時における電流-電圧曲線における短絡電流、開放電圧、フィルファクタ、および光電変換効率を測定した。その結果、光電変換効率5.5の変換効率を有する色素増感型光電変換素子が得られた。下記の表3に、サンプル5-1~サンプル5-5に関する、焼成温度と光電変換効率の測定結果とを示す。表3より、焼成温度が高くなるにつれ、光電変換効率が向上する傾向があることがわかった。焼成温度が高くなるにつれ、光電変換効率が向上する傾向はあるが、基材に例えばPENを使用する場合には、基材の変形を防止する観点から、150°C程度30分間までの加温であることが好ましい。<サンプル6-1>多孔質半導体層の形成に際しては、多孔質半導体層の緻密性を向上させる目的から、酸化チタン分散溶液の調製時に、粒度分布の異なる金属酸化物半導体微粒子を混合することがある。そこで、サンプル6-1~サンプル6-4の色素増感型光電変換素子を作製し、粒度分布の異なる金属酸化物半導体微粒子の混合の割合と光電変換効率との相関を評価した。まず、可視領域に吸収のない基板として、ソーダライムガラス基板を準備し、ソーダライムガラス基板上に、電流-電圧を印加する可視領域に吸収のない導電層として透明導電層を形成した。透明導電層として、厚さ100nmのITO膜をスパッタリング法により形成し、透明導電性基材を得た。なお、透明導電層は、フォトリソグラフィー法により形成されたマスクを用いて、必要に応じて塩化水素などに代表される無機酸によりパターン加工することが可能であるが、本実施例では、パターン化は行わないこととした。次に、透明導電性基材上に、増感色素を保持した多孔質半導体層を以下のようにして形成した。まず、以下の材料を、ビーズ分散機を用いて16時間分散処理を行うことで、酸化チタン分散溶液を調製した。酸化チタン分散溶液中、平均粒径が50nmの酸化チタン微粒子を基本とし、平均粒径が20nmの酸化チタン微粒子を混合した。酸化チタン微粒子平均粒径:50nm:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン4g酸化チタン微粒子平均粒径:20nm:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン0g溶媒:2プロパノール46g分散剤:3,5-ジメチル-3-アミノ-1-ヘキシン0.2g次に、調製した酸化チタン分散溶液を透明導電層上にスプレー塗布し、塗膜を形成した後、オーブン中、150°Cの温度環境下、30分間焼成することにより、多孔質半導体層を形成した。次に、多孔質半導体層を以下の組成の色素溶液に浸漬して増感色素を吸着させた。その後、余剰の増感色素をエタノールにて洗浄して乾燥させ、光増感色素を保持した多孔質半導体層を形成した。増感色素:シス-ビスイソチオシアナトビス2,2’-ビピリジル-4,4’-ジカルボン酸ルテニウムII二テトラブチルアンモニウム錯体通称N71925mg溶媒:エタノール50ml次に、多孔質半導体層を形成した透明導電性基材と、対極を形成した透明導電性基材とを対向配置させて樹脂フィルム製スペーサーおよびアクリル系紫外線硬化樹脂を用いて封止した。樹脂フィルム製スペーサーとしては、厚さ25μmのフィルム三井デュポンポリケミカル社製、商品名:ハイミラン登録商標を用いた。次に、注液口から送液ポンプを用いて以下の組成の電解液を注入し、電解質層を形成した。以上により、目的とする色素増感型光電変換素子を得た。メトキシプロピオニトリル1.5gヨウ化ナトリウム0.02g1-プロピル-2,3-ジメチルイミダソリウムヨーダイド0.8gヨウ素0.1g4-tert-ブチルピリジンTBP0.05g次に、上述のようにして得られた色素増感型光電変換素子について、疑似太陽光AM1.5、100mw/cm2照射時における電流-電圧曲線における短絡電流、開放電圧、フィルファクタ、および光電変換効率を測定した。その結果、光電変換効率5.5の変換効率を有する色素増感型光電変換素子が得られた。<サンプル6-2>酸化チタン分散溶液を構成する材料を以下に示すものとし、酸化チタン分散溶液中、平均粒径が20nmの酸化チタン微粒子の割合を酸化チタン重量比で5としたこと以外は、サンプル6-1の場合と同様にして、サンプル6-2の色素増感型光電変換素子を作製した。酸化チタン微粒子平均粒径:50nm:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン3.8g酸化チタン微粒子平均粒径:20nm:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン0.2g溶媒:2プロパノール46g分散剤:3,5-ジメチル-3-アミノ-1-ヘキシン0.2g次に、上述のようにして得られた色素増感型光電変換素子について、疑似太陽光AM1.5、100mw/cm2照射時における電流-電圧曲線における短絡電流、開放電圧、フィルファクタ、および光電変換効率を測定した。その結果、光電変換効率5.5の変換効率を有する色素増感型光電変換素子が得られた。<サンプル6-3>酸化チタン分散溶液を構成する材料を以下に示すものとし、酸化チタン分散溶液中、平均粒径が20nmの酸化チタン微粒子の割合を酸化チタン重量比で10としたこと以外は、サンプル6-1の場合と同様にして、サンプル6-3の色素増感型光電変換素子を作製した。酸化チタン微粒子平均粒径:50nm:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン3.6g酸化チタン微粒子平均粒径:20nm:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン0.4g溶媒:2プロパノール46g分散剤:3,5-ジメチル-3-アミノ-1-ヘキシン0.2g次に、上述のようにして得られた色素増感型光電変換素子について、疑似太陽光AM1.5、100mw/cm2照射時における電流-電圧曲線における短絡電流、開放電圧、フィルファクタ、および光電変換効率を測定した。その結果、光電変換効率6.0の変換効率を有する色素増感型光電変換素子が得られた。<サンプル6-4>酸化チタン分散溶液を構成する材料を以下に示すものとし、酸化チタン分散溶液中、平均粒径が20nmの酸化チタン微粒子の割合を酸化チタン重量比で20としたこと以外は、サンプル6-1の場合と同様にして、サンプル6-4の色素増感型光電変換素子を作製した。酸化チタン微粒子平均粒径:50nm:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン3.2g酸化チタン微粒子平均粒径:20nm:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン0.8g溶媒:2プロパノール46g分散剤:3,5-ジメチル-3-アミノ-1-ヘキシン0.2g次に、上述のようにして得られた色素増感型光電変換素子について、疑似太陽光AM1.5、100mw/cm2照射時における電流-電圧曲線における短絡電流、開放電圧、フィルファクタ、および光電変換効率を測定した。その結果、光電変換効率4.0の変換効率を有する色素増感型光電変換素子が得られた。下記の表4に、サンプル6-1~サンプル6-4に関する、粒度分布の異なる金属酸化物半導体微粒子の混合の割合と光電変換効率の測定結果とを示す。表4より以下のことがわかった。平均粒径20nmの酸化チタン微粒子の割合が10程度のときに光電変換効率が最も良好となることがわかった。また、平均粒径20nmの酸化チタン微粒子を、10を超えて混合すると、平均粒径20nmの酸化チタン微粒子の特性が支配的になり、かえって光電変換効率が低下することがわかった。<サンプル7-1>多孔質半導体層の形成に際しては、酸化チタン分散溶液の調製時に、散乱粒子として、大粒径の金属酸化物半導体微粒子を混合することがある。そこで、サンプル7-1~サンプル7-4の色素増感型光電変換素子を作製し、粒度分布の異なる金属酸化物半導体微粒子の混合の割合と光電変換効率との相関を評価した。まず、可視領域に吸収のない基板として、ソーダライムガラス基板を準備し、ソーダライムガラス基板上に、電流-電圧を印加する可視領域に吸収のない導電層として透明導電層を形成した。透明導電層として、厚さ100nmのITO膜をスパッタリング法により形成し、透明導電性基材を得た。なお、透明導電層は、フォトリソグラフィー法により形成されたマスクを用いて、必要に応じて塩化水素などに代表される無機酸によりパターン加工することが可能であるが、本実施例では、パターン化は行わないこととした。次に、透明導電性基材上に、増感色素を保持した多孔質半導体層を以下のようにして形成した。まず、以下の材料を、ビーズ分散機を用いて16時間分散処理を行うことで、酸化チタン分散溶液を調製した。酸化チタン分散溶液中、平均粒径が50nmの酸化チタン微粒子を基本とし、散乱粒子として、平均粒径が200nmの酸化チタン微粒子を混合した。酸化チタン微粒子平均粒径:50nm:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン4.0g酸化チタン微粒子平均粒径:200nm:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン0g溶媒:2プロパノール46g分散剤:3,5-ジメチル-3-アミノ-1-ヘキシン0.2g次に、調製した酸化チタン分散溶液を透明導電層上にスプレー塗布し、塗膜を形成した後、オーブン中、150°Cの温度環境下、30分間焼成することにより、多孔質半導体層を形成した。次に、多孔質半導体層を以下の組成の色素溶液に浸漬して増感色素を吸着させた。その後、余剰の増感色素をエタノールにて洗浄して乾燥させ、光増感色素を保持した多孔質半導体層を形成した。増感色素:シス-ビスイソチオシアナトビス2,2’-ビピリジル-4,4’-ジカルボン酸ルテニウムII二テトラブチルアンモニウム錯体通称N71925mg溶媒:エタノール50ml次に、多孔質半導体層を形成した透明導電性基材と、対極を形成した透明導電性基材とを対向配置させて樹脂フィルム製スペーサーおよびアクリル系紫外線硬化樹脂を用いて封止した。樹脂フィルム製スペーサーとしては、厚さ25μmのフィルム三井デュポンポリケミカル社製、商品名:ハイミラン登録商標を用いた。次に、注液口から送液ポンプを用いて以下の組成の電解液を注入し、電解質層を形成した。以上により、目的とする色素増感型光電変換素子を得た。メトキシプロピオニトリル1.5gヨウ化ナトリウム0.02g1-プロピル-2,3-ジメチルイミダソリウムヨーダイド0.8gヨウ素0.1g4-tert-ブチルピリジンTBP0.05g次に、上述のようにして得られた色素増感型光電変換素子について、疑似太陽光AM1.5、100mw/cm2照射時における電流-電圧曲線における短絡電流、開放電圧、フィルファクタ、および光電変換効率を測定した。その結果、光電変換効率5.5の変換効率を有する色素増感型光電変換素子が得られた。<サンプル7-2>酸化チタン分散溶液を構成する材料を以下に示すものとし、酸化チタン分散溶液中、平均粒径が200nmの酸化チタン微粒子の割合を酸化チタン重量比で5としたこと以外は、サンプル7-1の場合と同様にして、サンプル7-2の色素増感型光電変換素子を作製した。酸化チタン微粒子平均粒径:50nm:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン3.8g酸化チタン微粒子平均粒径:200nm:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン0.2g溶媒:2プロパノール46g分散剤:3,5-ジメチル-3-アミノ-1-ヘキシン0.2g次に、上述のようにして得られた色素増感型光電変換素子について、疑似太陽光AM1.5、100mw/cm2照射時における電流-電圧曲線における短絡電流、開放電圧、フィルファクタ、および光電変換効率を測定した。その結果、光電変換効率5.5の変換効率を有する色素増感型光電変換素子が得られた。<サンプル7-3>酸化チタン分散溶液を構成する材料を以下に示すものとし、酸化チタン分散溶液中、平均粒径が200nmの酸化チタン微粒子の割合を酸化チタン重量比で10としたこと以外は、サンプル7-1の場合と同様にして、サンプル7-3の色素増感型光電変換素子を作製した。酸化チタン微粒子平均粒径:50nm:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン3.5g酸化チタン微粒子平均粒径:200nm:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン0.5g溶媒:2プロパノール46g分散剤:3,5-ジメチル-3-アミノ-1-ヘキシン0.2g次に、上述のようにして得られた色素増感型光電変換素子について、疑似太陽光AM1.5、100mw/cm2照射時における電流-電圧曲線における短絡電流、開放電圧、フィルファクタ、および光電変換効率を測定した。その結果、光電変換効率6.0の変換効率を有する色素増感型光電変換素子が得られた。<サンプル7-4>酸化チタン分散溶液を構成する材料を以下に示すものとし、酸化チタン分散溶液中、平均粒径が200nmの酸化チタン微粒子の割合を酸化チタン重量比で20としたこと以外は、サンプル7-1の場合と同様にして、サンプル7-4の色素増感型光電変換素子を作製した。酸化チタン微粒子平均粒径:50nm:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン3.2g酸化チタン微粒子平均粒径:200nm:昭和タイタニウム株式会社製酸化チタン0.8g溶媒:2プロパノール46g分散剤:3,5-ジメチル-3-アミノ-1-ヘキシン0.2g次に、上述のようにして得られた色素増感型光電変換素子について、疑似太陽光AM1.5、100mw/cm2照射時における電流-電圧曲線における短絡電流、開放電圧、フィルファクタ、および光電変換効率を測定した。その結果、光電変換効率6.0の変換効率を有する色素増感型光電変換素子が得られた。下記の表5に、サンプル7-1~サンプル7-4に関する、粒度分布の異なる金属酸化物半導体微粒子の混合の割合と光電変換効率の測定結果とを示す。表5より以下のことがわかった。平均粒径200nmの酸化チタン微粒子の割合が10程度のときに光電変換効率が最も良好となり、それ以上では散乱の効果が飽和することがわかった。以上説明したように、本技術によれば、色素増感型光電変換素子に備えられる多孔質半導体層が、金属酸化物半導体微粒子、分散剤および溶媒を含有する多孔質半導体形成用組成物を、透明導電層上に塗布または印刷して焼成することにより得られる。また、分散剤が、アセチレン系炭化水素骨格からなり、金属酸化物に吸着する官能基を1つ以上有する。分散剤が、基材の変形などを引き起こしにくい、比較的低い温度で揮発する特徴を有するため、分散液中の金属酸化物半導体微粒子以外の物質が効果的に除去されるとともに、基材の選択の幅が広がり、樹脂材料を基材として好適に使用することができる。本技術によれば、樹脂材料が使用可能な低温度領域において、簡便な方法により、金属酸化物半導体層を形成することができ、発電効率に優れた色素増感型光電変換素子を製造することができる。本技術は、上述した本技術の実施形態に限定されるものでは無く、本技術の要旨を逸脱しない範囲内で様々な変形や応用が可能である。例えば、上述の実施形態および実施例において挙げた構成、方法、工程、形状、材料および数値などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、工程、形状、材料および数値などを用いてもよい。また、上述の実施形態の構成、方法、工程、形状、材料および数値などは、本技術の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。また、上述の実施形態に係る色素増感太陽電池セルを複数組み合わせてモジュールを形成するようにしてもよい。複数の色素増感太陽電池は、電気的に直列および/または並列に接続され、例えば直列に組み合わせた場合には高い起電圧を得ることができる。"