"チャンバ内にマイクロ波プラズマを形成するためのマイクロ波プラズマ源のマイクロ波出力部から出力されたマイクロ波を伝送するマイクロ波伝送路に設けられ、マイクロ波をチャンバ内に導入するマイクロ波導入機構であって、前記マイクロ波伝送路を介してマイクロ波を前記チャンバ内に放射する平面アンテナを有するアンテナ部と、前記マイクロ波伝送路に設けられ、前記マイクロ波伝送路のインピーダンスを調整するチューナと、前記アンテナ部の熱を放熱するための放熱機構とを具備し、前記チューナは、筒状をなす外側導体とその中に同軸的に設けられた筒状をなす内側導体とを有し、マイクロ波伝送路の一部となる本体と、前記外側導体と前記内側導体の間に設けられ、内側導体の長手方向に沿って移動可能な、環状をなし、誘電体からなるスラグと、前記スラグを移動させる駆動機構とを有し、前記放熱機構は、入熱端と放熱端とを有し、前記入熱端が前記アンテナ部に位置し、前記アンテナ部の熱を前記入熱端から前記放熱端へ輸送するヒートパイプと、前記ヒートパイプの前記放熱端に設けられ、前記放熱端の熱を放熱する放熱部とを有するマイクロ波導入機構。前記ヒートパイプは、前記内側導体内に設けられている、請求項1に記載のマイクロ波導入機構。前記放熱部は、ヒートシンクまたは冷却部材からなる、請求項1に記載のマイクロ波導入機構。前記駆動機構は、駆動力を与える駆動部と、駆動部からの駆動力を前記スラグに伝達する駆動伝達部と、前記スラグの移動をガイドする駆動ガイド部と、前記スラグを前記駆動伝達部に保持する保持部とを有し、前記駆動伝達部と、前記駆動ガイド部と、前記保持部が前記内側導体の内部に収容されている、請求項1に記載のマイクロ波導入機構。前記駆動機構は、前記スラグの内部に嵌め込まれ、前記内側導体の内周に接触した状態で前記内側導体の内部を滑り移動し、ねじ穴を有する滑り部材と、前記内側導体の内部に長手方向に沿って設けられ、前記スラグの前記滑り部材のねじ穴に螺合される螺棒からなるスラグ移動軸とを有し、前記スラグ移動軸と前記滑り部材とによりねじ機構からなる駆動伝達部が構成され、前記滑り部材と前記内側導体の内周面とにより滑りガイド機構からなる駆動ガイド部が構成され、前記滑り部材が前記保持部を構成し、前記駆動部は前記スラグ移動軸を回転させるモータを有し、前記モータにより前記スラグ移動軸を回転させることにより、前記滑り部材に保持された前記スラグが、前記滑り部材が前記内側導体の内周に滑りガイドされた状態で駆動される、請求項4に記載のマイクロ波導入機構。前記滑り部材は、滑り性を有する樹脂からなる、請求項5に記載のマイクロ波導入機構。前記滑り部材は、前記スラグに対し、固定用ねじにより固定されている、請求項5に記載のマイクロ波導入機構。前記滑り部材のねじ穴は、前記固定用ねじにより固定されている部位に対応する部分にねじが形成されていない、請求項7に記載のマイクロ波導入機構。前記滑り部材は、その両端部の外周に圧入用突起を有し、圧入により前記スラグに固定され、前記滑り部材のねじ穴は、前記圧入用突起に対応する部分にねじが形成されていない、請求項5に記載のマイクロ波導入機構。前記ヒートパイプは、前記内側導体の内部に前記滑り部材を挿通するように設けられている、請求項5に記載のマイクロ波導入機構。前記アンテナ部は前記チューナと一体的に構成されている、請求項10に記載のマイクロ波導入機構。マイクロ波を出力するマイクロ波出力部、出力されたマイクロ波を伝送するマイクロ波伝送路、および前記マイクロ波伝送路に設けられ伝送されたマイクロ波をチャンバ内に導入するマイクロ波導入機構を有し、前記チャンバ内にマイクロ波を導入して前記チャンバ内に供給されたガスをプラズマ化するマイクロ波プラズマ源であって、前記マイクロ波導入機構は、前記マイクロ波伝送路を介してマイクロ波を前記チャンバ内に放射する平面アンテナを有するアンテナ部と、前記マイクロ波伝送路に設けられ、前記マイクロ波伝送路のインピーダンスを調整するチューナと、前記アンテナ部の熱を放熱するための放熱機構とを具備し、前記チューナは、筒状をなす外側導体とその中に同軸的に設けられた筒状をなす内側導体とを有し、マイクロ波伝送路の一部となる本体と、前記外側導体と前記内側導体の間に設けられ、内側導体の長手方向に沿って移動可能な、環状をなし、誘電体からなるスラグと、前記スラグを移動させる駆動機構とを有し、前記放熱機構は、入熱端と放熱端とを有し、前記入熱端が前記アンテナ部に位置し、前記アンテナ部の熱を前記入熱端から前記放熱端へ輸送するヒートパイプと、前記ヒートパイプの前記放熱端に設けられ、前記放熱端の熱を放熱する放熱部とを有する、マイクロ波プラズマ源。被処理基板を収容するチャンバと、前記チャンバ内にガスを供給するガス供給機構と、マイクロ波を生成するマイクロ波生成機構、出力されたマイクロ波を伝送するマイクロ波伝送路、および前記マイクロ波伝送路に設けられ伝送されたマイクロ波をチャンバ内に導入するマイクロ波導入機構を有し、前記チャンバ内にマイクロ波を導入して前記チャンバ内に供給されたガスをプラズマ化するマイクロ波プラズマ源とを具備し、前記チャンバ内の被処理基板に対してプラズマにより処理を施すマイクロ波プラズマ処理装置であって、前記マイクロ波導入機構は、前記マイクロ波伝送路を介してマイクロ波を前記チャンバ内に放射する平面アンテナを有するアンテナ部と、前記マイクロ波伝送路に設けられ、前記マイクロ波伝送路のインピーダンスを調整するチューナと、前記アンテナ部の熱を放熱するための放熱機構とを具備し、前記チューナは、筒状をなす外側導体とその中に同軸的に設けられた筒状をなす内側導体とを有し、マイクロ波伝送路の一部となる本体と、前記外側導体と前記内側導体の間に設けられ、内側導体の長手方向に沿って移動可能な、環状をなし、誘電体からなるスラグと、前記スラグを移動させる駆動機構とを有し、前記放熱機構は、入熱端と放熱端とを有し、前記入熱端が前記アンテナ部に位置し、前記アンテナ部の熱を前記入熱端から前記放熱端へ輸送するヒートパイプと、前記ヒートパイプの前記放熱端に設けられ、前記放熱端の熱を放熱する放熱部とを有する、マイクロ波プラズマ処理装置。以下、添付図面を参照して本発明の実施の形態について詳細に説明する。図1は、本発明の一実施形態に係るマイクロ波導入機構を有するマイクロ波プラズマ源が搭載されたプラズマ処理装置の概略構成を示す断面図であり、図2は図1のマイクロ波プラズマ源の構成を示す構成図である。プラズマ処理装置100は、ウエハに対してプラズマ処理として例えばエッチング処理を施すプラズマエッチング装置として構成されており、気密に構成されたアルミニウムまたはステンレス鋼等の金属材料からなる略円筒状の接地されたチャンバ1と、チャンバ1内にマイクロ波プラズマを形成するためのマイクロ波プラズマ源2とを有している。チャンバ1の上部には開口部1aが形成されており、マイクロ波プラズマ源2はこの開口部1aからチャンバ1の内部に臨むように設けられている。チャンバ1内には被処理体であるウエハWを水平に支持するためのサセプタ11が、チャンバ1の底部中央に絶縁部材12aを介して立設された筒状の支持部材12により支持された状態で設けられている。サセプタ11および支持部材12を構成する材料としては、表面をアルマイト処理陽極酸化処理したアルミニウム等が例示される。また、図示はしていないが、サセプタ11には、ウエハWを静電吸着するための静電チャック、温度制御機構、ウエハWの裏面に熱伝達用のガスを供給するガス流路、およびウエハWを搬送するために昇降する昇降ピン等が設けられている。さらに、サセプタ11には、整合器13を介して高周波バイアス電源14が電気的に接続されている。この高周波バイアス電源14からサセプタ11に高周波電力が供給されることにより、ウエハW側にプラズマ中のイオンが引き込まれる。チャンバ1の底部には排気管15が接続されており、この排気管15には真空ポンプを含む排気装置16が接続されている。そしてこの排気装置16を作動させることによりチャンバ1内が排気され、チャンバ1内が所定の真空度まで高速に減圧することが可能となっている。また、チャンバ1の側壁には、ウエハWの搬入出を行うための搬入出口17と、この搬入出口17を開閉するゲートバルブ18とが設けられている。チャンバ1内のサセプタ11の上方位置には、プラズマエッチングのための処理ガスをウエハWに向けて吐出するシャワープレート20が水平に設けられている。このシャワープレート20は、格子状に形成されたガス流路21と、このガス流路21に形成された多数のガス吐出孔22とを有しており、格子状のガス流路21の間は空間部23となっている。このシャワープレート20のガス流路21にはチャンバ1の外側に延びる配管24が接続されており、この配管24には処理ガス供給源25が接続されている。一方、チャンバ1のシャワープレート20の上方位置には、リング状のプラズマ生成ガス導入部材26がチャンバ壁に沿って設けられており、このプラズマ生成ガス導入部材26には内周に多数のガス吐出孔が設けられている。このプラズマ生成ガス導入部材26には、プラズマ生成ガスを供給するプラズマ生成ガス供給源27が配管28を介して接続されている。プラズマ生成ガスとしてはArガスなどが好適に用いられる。プラズマ生成ガス導入部材26からチャンバ1内に導入されたプラズマ生成ガスは、マイクロ波プラズマ源2からチャンバ1内に導入されたマイクロ波によりプラズマ化され、このようにして生成されたプラズマ、例えばArプラズマがシャワープレート20の空間部23を通過しシャワープレート20のガス吐出孔22から吐出された処理ガスを励起し、処理ガスのプラズマを生成する。マイクロ波プラズマ源2は、チャンバ1の上部に設けられた支持リング29により支持されており、これらの間は気密にシールされている。図2に示すように、マイクロ波プラズマ源2は、複数経路に分配してマイクロ波を出力するマイクロ波出力部30と、マイクロ波をチャンバ1に導くためのマイクロ波導入部40と、マイクロ波出力部30から出力したマイクロ波をマイクロ波導入部40へ供給するマイクロ波供給部50とを有している。マイクロ波出力部30から出力されたマイクロ波はマイクロ波伝送路を伝送されてマイクロ波供給部50およびマイクロ波導入部40を経てチャンバ1内に導入される。マイクロ波出力部30は、電源部31と、マイクロ波発振器32と、発振されたマイクロ波を増幅するアンプ33と、増幅されたマイクロ波を複数に分配する分配器34とを有している。マイクロ波発振器32は、所定周波数例えば、2.45GHzのマイクロ波を例えばPLL発振させる。分配器34では、マイクロ波の損失ができるだけ起こらないように、入力側と出力側のインピーダンス整合を取りながらアンプ33で増幅されたマイクロ波を分配する。なお、マイクロ波の周波数としては、2.45GHzの他に、8.35GHz、5.8GHz、1.98GHz等を用いることができる。マイクロ波供給部50は、分配器34で分配されたマイクロ波を主に増幅する複数のアンプ部42を有する。アンプ部42は、位相器45と、可変ゲインアンプ46と、ソリッドステートアンプを構成するメインアンプ47と、アイソレータ48とを有している。位相器45は、スラグチューナによりマイクロ波の位相を変化させることができるように構成されており、これを調整することにより放射特性を変調させることができる。例えば、各アンテナモジュール毎に位相を調整することにより指向性を制御してプラズマ分布を変化させることや、後述するように隣り合うアンテナモジュールにおいて90°ずつ位相をずらすようにして円偏波を得ることができる。また、位相器45は、アンプ内の部品間の遅延特性を調整し、チューナ内での空間合成を目的として使用することができる。ただし、このような放射特性の変調やアンプ内の部品間の遅延特性の調整が不要な場合には位相器45は設ける必要はない。可変ゲインアンプ46は、メインアンプ47へ入力するマイクロ波の電力レベルを調整し、個々のアンテナモジュールのばらつきを調整またはプラズマ強度を調整するためのアンプである。可変ゲインアンプ46を各アンテナモジュール毎に変化させることによって、発生するプラズマに分布を生じさせることもできる。ソリッドステートアンプを構成するメインアンプ47は、例えば、入力整合回路と、半導体増幅素子と、出力整合回路と、高Q共振回路とを有する構成とすることができる。アイソレータ48は、マイクロ波導入部40で反射してメインアンプ47に向かう反射マイクロ波を分離するものであり、サーキュレータとダミーロード同軸終端器とを有している。サーキュレータは、後述するアンテナ部80で反射したマイクロ波をダミーロードへ導き、ダミーロードはサーキュレータによって導かれた反射マイクロ波を熱に変換する。マイクロ波導入部40は、図2に示すように、複数のマイクロ波導入機構41を有している。そして、各マイクロ波導入機構41には、それぞれ2つのアンプ部42からマイクロ波電力が供給され、各マイクロ波導入機構41は、これらを合成してチャンバ1内に放射する。図3は、マイクロ波導入機構41を示す断面図である。図3に示すように、マイクロ波導入機構41は、チューナ60とアンテナ部80とを有しており、これらが一体的に構成されている。また、マイクロ波導入機構41は、さらにアンテナ部80の熱を放熱するための放熱機構90を有している。チューナ60は、マイクロ波伝送路のインピーダンスを調整して、チャンバ1内の負荷プラズマのインピーダンスをマイクロ波出力部30におけるマイクロ波電源の特性インピーダンスに整合させるものであり、筒状をなす外側導体52と外側導体52の中に同軸的に設けられた筒状をなす内側導体53とを有するとともに、マイクロ波伝送路の一部となる本体51を有している。そして、本体51の基端側が給電電力合成部54となっている。また、チューナ60は、給電電力合成部54の上に設けられたスラグ駆動部70を有している。給電電力合成部54は、外側導体52の側面に設けられたマイクロ波電力を導入するための2つのマイクロ波電力導入ポート55を有している。マイクロ波電力導入ポート55には、アンプ部42から増幅されたマイクロ波を供給するための同軸線路56が接続されている。そして、同軸線路56の内側導体57の先端には、本体51の外側導体52の内部に向けて水平に伸びる給電アンテナ58が接続されている。給電アンテナ58は、その上下を石英等の誘電体からなる誘電体部材59a,59bによって挟まれている。そして2つの給電アンテナ58からマイクロ波電磁波を放射することにより、外側導体52と内側導体53との間の空間に給電されるとともに、2つの給電アンテナ58から放射されたマイクロ波電力が合成される。そして、給電電力合成部54で空間合成されたマイクロ波電力がアンテナ部80に向かって伝播する。本体51の給電電力合成部54のアンテナ部80側下方側には、誘電体からなり、円環状をなす2つのスラグ61a,61bが外側導体52と内側導体53との間を上下に移動可能に設けられている。これらスラグのうち、スラグ61aはスラグ駆動部70側に設けられ、スラグ61bはアンテナ部80側に設けられている。また、内側導体53の内部空間には、その長手方向鉛直方向に沿って例えば台形ネジが形成された螺棒からなるスラグ移動用の2本のスラグ移動軸64a,64bが設けられている。スラグ61a,61bの内側には、滑り性を有する樹脂からなる滑り部材63が嵌め込まれ、固定されている。図4に示すように、スラグ61aに嵌め込まれた滑り部材63にはスラグ移動軸64aが螺合するねじ穴65aとスラグ移動軸64bが挿通される通し穴65bが設けられている。一方、スラグ61bに嵌め込まれた滑り部材63にも同様に、ねじ穴65aと通し穴65bとが設けられている。ただし、スラグ61bに嵌め込まれた滑り部材63は、スラグ61aに嵌め込まれた滑り部材63とは逆に、ねじ穴65aはスラグ移動軸64bに螺合され、通し穴65bにはスラグ移動軸64aが挿通されるようになっている。これによりスラグ移動軸64aを回転させることによりスラグ61aが昇降移動し、スラグ移動軸64bを回転させることによりスラグ61bが昇降移動する。すなわち、スラグ移動軸64a,64bと滑り部材63とからなるねじ機構によりスラグ61a,61bが昇降移動される。図4および図5に示すように、内側導体53には長手方向に沿って等間隔に3つのスリット53aが形成されている。滑り部材63は、これらスリット53aに対応するように3つの突出部63aが等間隔に設けられている。そして、これら突出部63aがスラグ61a,61bの内周に当接した状態で滑り部材63がスラグ61a,61bの内部に嵌め込まれ、固定される。滑り部材63の外周面は、内側導体53の内周面と遊びなく接触するようになっており、スラグ移動軸64a,64bが回転されることにより、滑り部材63が内側導体53を滑って昇降するようになっている。すなわち内側導体53の内周面がスラグ61a,61bの滑りガイドとして機能する。なお、スリット53aの幅は5mm以下とすることが好ましい。これにより、後述するように内側導体53の内部へ漏洩するマイクロ波電力を実質的になくすことができ、マイクロ波電力の放射効率を高く維持することができる。滑り部材63を構成する樹脂材料としては、良好な滑り性を有し、加工が比較的容易な樹脂、例えばポリフェニレンサルファイドPPS樹脂商品名:ベアリーAS5000NTN株式会社製を好適なものとして挙げることができる。図3に示すように、本体51の上部には、上部開口を遮蔽するように遮蔽板66が設けられている。そして、スラグ移動軸64a,64bは、この遮蔽板66および後述する放熱機構90の放熱部92を貫通してスラグ駆動部70に延びている。スラグ移動軸64a,64bと遮蔽板66との間にはベアリング図示せずが設けられている。また、内側導体53の下端には、導体からなる底板67が設けられている。スラグ移動軸64a,64bの下端は、駆動時の振動を吸収するために、通常は開放端となっており、これらスラグ移動軸64a,64bの下端から2~5mm程度離隔して底板67が設けられている。なお、底板67をスラグ移動軸64a,64bを軸支する軸受け部材として機能させてもよい。スラグ駆動部70は筐体71を有し、スラグ移動軸64aおよび64bは筐体71内に延びており、スラグ移動軸64aおよび64bの上端には、それぞれ歯車72aおよび72bが取り付けられている。また、スラグ駆動部70には、スラグ移動軸64aを回転させるモータ73aと、スラグ移動軸64bを回転させるモータ73bが設けられている。モータ73aの軸には歯車74aが取り付けられ、モータ73bの軸には歯車74bが取り付けられており、歯車74aが歯車72aに噛合し、歯車74bが歯車72bに噛合するようになっている。したがって、モータ73aにより歯車74aおよび72aを介してスラグ移動軸64aが回転され、モータ73bにより歯車74bおよび72bを介してスラグ移動軸64bが回転される。なお、モータ73a,73bは例えばステッピングモータである。なお、スラグ移動軸64bはスラグ移動軸64aよりも長く、より上方に達しており、したがって、歯車72aおよび72bの位置が上下にオフセットしており、モータ73aおよび73bも上下にオフセットしている。これにより、モータおよび歯車等の動力伝達機構のスペースを小さくすることができ、これらを収容する筐体71を外側導体52と同じ径にすることが可能となる。モータ73aおよび73bの上には、これらの出力軸に直結するように、それぞれスラグ61aおよび61bの位置を検出するためのインクリメント型のエンコーダ75aおよび75bが設けられている。インクリメント型のエンコーダは、通常、移動方向と相対的な位置関係のみしか検知できないが、本実施形態ではこれにより、絶対的な位置を把握する。その手順は以下のようなものである。まず、スラグ移動軸64aをゆっくり回転させてスラグ61aを一定速度でエンコーダ75aのカウンターを見ながら移動させる。スラグ61aがメカニカルストップ図示せずに到達すると、モータ73aは脱調し、停止する。停止したことは、エンコーダ75aのカウントが変化しないことで検知することができ、そのときのスラグ61aの位置、またはそこから所定パルス分オフセットした位置を原点とする。この原点位置を基準として原点からのパルス数をカウントすることによりスラグ61aの絶対的な位置を検知することができる。スラグ61bも同様に原点を把握することにより絶対的な位置を検知することができる。これにより位置検出のためのセンサが不要となる。スラグ61aおよび61bの位置は、スラグコントローラ68により制御される。具体的には、図示しないインピーダンス検出器により検出された入力端のインピーダンス値と、エンコーダ75aおよび75bにより検知されたスラグ61aおよび61bの位置情報に基づいて、スラグコントローラ68がモータ73aおよび73bに制御信号を送り、スラグ61aおよび61bの位置を制御することにより、インピーダンスを調整するようになっている。スラグコントローラ68は、終端が例えば50Ωになるようにインピーダンス整合を実行させる。2つのスラグのうち一方のみを動かすと、スミスチャートの原点を通る軌跡を描き、両方同時に動かすと位相のみが回転する。なお、スラグ移動軸64a,64bが台形ねじを有している場合にはバックラッシュによりスラグ61aおよび61bの位置精度が低いおそれがあるが、そのような場合には、スラグ61aおよび61bに例えばコイルスプリングにより付勢力を与えておけばバックラッシュの影響を解消することができる。アンテナ部80は、マイクロ波放射アンテナとして機能する、平面状をなしスロット81aを有する平面アンテナ81を有している。また、アンテナ部80は、平面アンテナ81の上面に設けられた遅波材82と、平面アンテナ81のさらに先端側に設けられた、真空シールのための誘電体部材、例えば石英やセラミックス等からなる天板83とを有している。遅波材82の中心には導体からなる円柱部材82aが貫通して底板67と平面アンテナ81とを接続している。したがって、内側導体53が底板67および円柱部材82aを介して平面アンテナ81に接続されている。なお、チューナ60の本体51を構成する外側導体52の下端は平面アンテナ81まで延びており、遅波材82の周囲は外側導体52で覆われている。また、平面アンテナ81および天板83の周囲は被覆導体84で覆われている。遅波材82は、真空よりも大きい誘電率を有しており、例えば、石英、セラミックス、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂やポリイミド系樹脂により構成されており、真空中ではマイクロ波の波長が長くなることから、マイクロ波の波長を短くしてアンテナを小さくする機能を有している。遅波材82は、その厚さによりマイクロ波の位相を調整することができ、平面アンテナ81が定在波のはらになるようにその厚さを調整する。これにより、反射が最小で、平面アンテナ81の放射エネルギーが最大となるようにすることができる。そして、メインアンプ47で増幅されたマイクロ波が内側導体53と外側導体52の周壁の間を通って平面アンテナ81のスロット81aから天板83を透過してチャンバ1内の空間に放射される。スロット81aは、図6に示すように扇形のものが好ましく、図示している2個、または4個設けることが好ましい。これにより、マイクロ波をTEMモードで効率的に伝達させることができる。本実施形態において、メインアンプ47と、チューナ60と、平面アンテナ81とは近接配置している。そして、チューナ60と平面アンテナ81とは1/2波長内に存在する集中定数回路を構成しており、かつ平面アンテナ81、遅波材82、天板83は合成抵抗が50Ωに設定されているので、チューナ60はプラズマ負荷に対して直接チューニングしていることになり、効率良くプラズマへエネルギーを伝達することができる。放熱機構90は、アンテナ部80の熱を放熱する機能を有し、図3、4に示すように、チューナ60の内側導体53の内部に、その長手方向に沿って直線状に設けられた2本のヒートパイプ91と、ヒートパイプ91がアンテナ部80から奪った熱を放熱する放熱部92とを有する。放熱部92は、遮蔽板66の上側に設けられており、例えばヒートシンクからなる。ヒートシンクはファンが内蔵されていてもよい。また、放熱部92は、冷却水等の冷却媒体が循環するように構成された冷却部材で構成されていてもよい。ヒートパイプ91は、一端がアンテナ部80に位置し、他端が遮蔽板66を貫通して放熱部92の内部に達しており、アンテナ部80の熱を放熱部92へ輸送する機能を有している。本実施形態では、ヒートパイプ91の一端は底板67を貫通して遅波材82の中心に設けられた円柱部材82aの内部に達している。そして、ヒートパイプ91のアンテナ部80側の一端が入熱端、放熱部92側の他端が放熱端となっている。ヒートパイプ91は、図7に示すように、両端を閉塞した筒状の金属、例えば銅または銅合金からなる外殻部材としてのコンテナ94と、その内周壁に設けられた多孔質部材または網状部材からなるウィック95とを有し、その中に水などの作動液が充填された密閉構造を有している。ウィック95は毛細管現象を利用して作動液を移動させる機能を有している。ヒートパイプ91は、内部に充填した作動液の蒸発現象と凝縮現象を利用して、一端から他端に大量の熱を容易に輸送する機能を有する。具体的には、プラズマからの入熱およびマイクロ波の損失により高温になったアンテナ部80に配置されている入熱端では、アンテナ部80からの入熱により作動液が蒸発し、蒸気流となって放熱部92に配置されている放熱端へ高速移動し、蒸気流の熱が放熱端において放熱部92と熱交換され、蒸気流が冷却されて凝縮液となる。凝縮液はウィック95の毛細管現象により入熱端へ戻る。図4に示すように、上記滑り部材63には、ヒートパイプ91が挿通される2つの挿通孔93が形成されている。挿通孔93はヒートパイプ91が接触しない程度の大きさの直径を有している。ただし、ヒートパイプ91と挿通孔93の内周とが遊びなく接触するようになっていていてもよく、この場合には、ヒートパイプ91を滑り部材63のガイド部材として機能させることができる。滑り部材63は、図8~10に示すように、固定用ねじ120によりスラグ61aに固定されている。スラグ61bに対しても同様に固定用ねじ120により固定されている。固定用ねじ120は、セラミックスや樹脂などの誘電体であり、好ましくはスラグ61a61bと同じ組成の材料で構成されており、図8に示すように、3つの突出部63aに対応する位置に3本設けられている。この固定用ねじ120は、図9に示すように、スラグ61aの突出部63aに対応する位置に外側から内側へ貫通するように設けられたねじ穴121に螺合されており、3つの固定用ねじ120を締め付けることにより、それらの先端が滑り部材63に当接し、滑り部材63が均等に固定される。これにより、スラグ61aが熱の影響を受けても確実に滑り部材63を保持することができる。固定用ねじ120は、外側導体52に接触しないように、その頭部がスラグ61a61bの外周面よりも奥まった位置になるように設けられる。なお、図8では便宜上、滑り部材63内部の構造は省略している。この場合に、ねじ穴65aに全てねじねじ山およびねじ溝が形成されていると、熱の影響を受けた場合に、固定用ねじ120による締め付け部分にかかる圧力によりスラグ移動軸64aの回転が阻止されてスラグ61aが動かなくなるおそれがある。このようなことを防止するには、図9に示すように、ねじ穴65aの固定用ねじ120で固定されている部位に対応する部分1323本の固定用ねじ120の軸を含む平面とねじ穴65aが交差する部分を含む、固定用ねじ120の締め付けの影響を受ける部分にねじを形成せず、他の部分131にねじを形成するようにすることが好ましい。また、このように固定用ねじ120により滑り部材63を固定することにより、熱変形等により、図10に示すように、滑り部材63とスラグ61aとの間に隙間122が形成されたとしても、ねじにより滑り部材63とスラグ61aとを確実に固定することができる。また、滑り部材63は圧入によりスラグ61a61bに固定することもできる。この場合には、図11に示すように、滑り部材63の突出部63aの軸方向両端部に、圧入用突起63bを設け、滑り部材63に押し込み圧力を加えてスラグ61a内に圧入する。これにより、圧入用突起63bからスラグ61aの内面にかかる圧力により滑り部材63が固定される。この場合に、ねじ穴65aに全てねじねじ山およびねじ溝が形成されていると、熱の影響を受けた場合に、圧入された滑り部材63の圧入用突起63bに及ぼされる圧力により、ねじ穴65aが変形してスラグ移動軸64aの回転が阻止されてスラグ61aが動かなくなるおそれがある。このようなことを防止するには、図11に示すように、ねじ穴65aの圧入用突起63bに対応する両端部142にねじを形成せず、他の部分141にねじを形成するようにすることが好ましい。プラズマ処理装置100における各構成部は、マイクロプロセッサを備えた制御部110により制御されるようになっている。制御部110はプラズマ処理装置100のプロセスシーケンスおよび制御パラメータであるプロセスレシピを記憶した記憶部や、入力手段およびディスプレイ等を備えており、選択されたプロセスレシピに従ってプラズマ処理装置を制御するようになっている。次に、以上のように構成されるプラズマ処理装置100における動作について説明する。まず、ウエハWをチャンバ1内に搬入し、サセプタ11上に載置する。そして、プラズマ生成ガス供給源27から配管28およびプラズマ生成ガス導入部材26を介してチャンバ1内にプラズマ生成ガス、例えばArガスを導入しつつ、マイクロ波プラズマ源2からマイクロ波をチャンバ1内に導入してプラズマを生成する。このようにしてプラズマを生成した後、処理ガス、例えばCl2ガス等のエッチングガスが処理ガス供給源25から配管24およびシャワープレート20を介してチャンバ1内に吐出される。吐出された処理ガスは、シャワープレート20の空間部23を通過してきたプラズマにより励起されてプラズマ化またはラジカル化し、この処理ガスのプラズマまたはラジカルによりウエハWにプラズマ処理、例えばエッチング処理が施される。上記マイクロ波プラズマを生成するに際し、マイクロ波プラズマ源2では、マイクロ波出力部30のマイクロ波発振器32から発振されたマイクロ波はアンプ33で増幅された後、分配器34により複数に分配され、分配されたマイクロ波はマイクロ波供給部50を経てマイクロ波導入部40へ導かれる。マイクロ波導入部40を構成する各マイクロ波導入機構41が十分な出力を得るために、2つのアンプ部42から同軸線路56を介して給電電力合成部54に設けられた2つのマイクロ波電力導入ポート55および給電アンテナ58を経て本体51内にマイクロ波電力が給電され、合成される。これにより、発熱を抑制しつつ、極めて簡易に電力合成を行うことができる。なお、一つのアンプ部42からの電力で十分な場合は、上記の電力合成を省略することができる。また、同様のマイクロ波電力導入ポート55を3つ以上設け、3つ以上のアンプ部42からの電力を合成するようにしてもよい。そして、マイクロ波導入機構41のチューナ60でインピーダンスが自動整合され、電力反射が実質的にない状態で、アンテナ部80の平面アンテナ81および天板83を介してマイクロ波電力がチャンバ1内に放射される。このように、複数に分配されたマイクロ波を、ソリッドステートアンプを構成するメインアンプ47で個別に増幅し、平面アンテナ81を用いて個別に放射した後にチャンバ1内で合成するので、大型のアイソレータや合成器が不要となる。また、マイクロ波導入機構41は、アンテナ部80とチューナ60とが本体51内に設けられた構造となっているので、極めてコンパクトである。このため、マイクロ波プラズマ源2自体をコンパクト化することができる。さらに、メインアンプ47、チューナ60および平面アンテナ81が近接して設けられ、特にチューナ60と平面アンテナ81とは集中定数回路として構成することができる。このため、平面アンテナ81、遅波材82、天板83の合成抵抗を50Ωに設計することにより、チューナ60により高精度でプラズマ負荷をチューニングすることができる。また、チューナ60は2つのスラグ61a,61bを移動するだけでインピーダンス整合を行うことができるスラグチューナを構成しているのでコンパクトで低損失である。さらに、このようにチューナ60と平面アンテナ81とが近接し、集中定数回路を構成してかつ共振器として機能することにより、平面アンテナ81に至るまでのインピーダンス不整合を高精度で解消することができ、実質的に不整合部分をプラズマ空間とすることができるので、チューナ60により高精度のプラズマ制御が可能となる。さらにまた、位相器45により、各アンテナモジュールの位相を変化させることにより、マイクロ波の指向性制御を行うことができ、プラズマ等の分布の調整を容易に行うことができる。また、チューナ60において、インピーダンス整合するスラグ61a,61bを駆動するための駆動機構は、従来、チューナ60の本体部分の外側に設けられ、モータ等の駆動部、ボールネジ等の駆動伝達部、LMガイド等の駆動ガイド部、ブラケット等の保持部が必要であり、それ自体が大型であるとともに、保持部が移動するためのスリットを外側導体に設ける必要があり、このスリットから電磁波が漏れることを防止するために非常に大きなシールド機構が必要とされ、モータも大きなものが必要となって駆動機構やシールド機構を含めると大型なものとなっていた。これに対し、本実施形態では、駆動伝達部、駆動ガイド部、保持部に相当するものを内側導体53の内部に設けたので、機械要素の重量およびモーメントを小さくすることができ、また外側導体52に保持機構が移動するためのスリットを設ける必要がなく、電磁波漏洩を防止するためのシールド機構が不要となる。このため、スラグ61a,61bの駆動機構を従来よりも小型化することができ、ひいてはチューナ60全体を小型化することができる。また、スラグ61a,61b自体に滑り性を有する樹脂からなる滑り部材63が取り付けられ、この滑り部材63のねじ穴65aにスラグ移動軸64aあるいは64bを螺合させてねじ機構を構成し、モータ73a,73bによりスラグ移動軸64a,64bを回転させることにより、滑り部材63の外周が内側導体53の内周を滑るようにガイドされてスラグ61a,61bが移動するので、滑り部材63およびスラグ移動軸64a,64bが駆動伝達機構、駆動ガイド機構、保持機構の3つの機能を兼ね備えることとなるので、駆動機構を著しくコンパクトにすることができ、チューナ60を一層小型化することができる。ところで、このようなプラズマ処理の際に、マイクロ波出力部30から大電力密度のマイクロ波が投入されると、プラズマからの入熱およびマイクロ波の損失による熱により、アンテナ部80、特に平面アンテナ81および誘電体部材からなる天板83の温度が非常に高くなる。放熱機構90が存在しない構造では、アンテナ部80の熱は内側導体53にしか伝熱されないため、内側導体53の温度が高くならざるを得ない。内側導体53の温度が高くなると、内側導体53の熱変形や、内側導体53からの伝熱によるスラグ61a,61bの熱膨張などにより、内側導体53に沿って移動するスラグ61a、61bの移動性を低下させてしまう。特に、本実施形態の場合には、滑り部材63の外周面が内側導体53の内周面と遊びなく接触するようになっているため、このような内側導体53の熱変形等による影響が大きい。本実施形態では、放熱機構90を設け、ヒートパイプ91によりアンテナ部80の熱を放熱部92に放熱するようにしたので、このような不都合が解消される。すなわち、ヒートパイプ91は高温のアンテナ部80に入熱端が配置され、遮蔽板66の上面に設けられた放熱部92に放熱端が配置されるように設けられているので、入熱端ではアンテナ部80からの熱が入熱して作動液が蒸発し、蒸気流となって放熱部92に配置されている放熱端へ高速移動し、蒸気流の熱が放熱端において放熱部92と熱交換され、これにより冷却された蒸気流が凝縮液となる。したがって、大量の熱をアンテナ部80から放熱部へ輸送することができる。このため、アンテナ部80の熱が内側導体53に伝熱することが抑制されて、内側導体53の熱変形やスラグの熱膨張が抑制されるので、スラグ61a,61bの移動性に対する熱の影響を抑制してこれらの移動性を良好にすることができる。また、内側導体53内部にヒートパイプ91を設けることで、マイクロ波伝送路を伝送されるマイクロ波に影響を与えることなくアンテナ部80の熱を放熱部92へ伝達することができる。また、滑り部材63は、固定用ねじ120によりスラグ61a61bに均等に固定されるので、スラグ61aが熱の影響を受け、例えば滑り部材63の突出部63aとスラグ61aとの間に隙間ができるような場合でも確実に滑り部材63を保持することができる。このとき、固定用ねじ120をスラグ61a61bと組成の同じ材料を用いることにより熱膨張差を小さくすることができ、熱による影響を少なくすることができる。また、固定用ねじ120をスラグ61a61bと組成の同じ材料を用いることにより、固定用ねじ120による誘電率の変動をほぼ無くすることができる。また、スラグ移動軸64aが螺合されるねじ穴65aにおいて、固定用ねじ120に対応する部分132にねじを形成しないようにすることにより、熱の影響を受けた場合に、固定用ねじ120による締め付け部分にかかる圧力によりスラグ移動軸64aの回転が阻止されてスラグ61aが動かなくなる事態を防止することができる。このように、固定用ねじ120により滑り部材63を固定することにより、熱による影響を緩和することができるため、放熱機構90を設けなくても熱によるスラグの移動性への影響を回避できる可能性がある。滑り部材63を圧入によりスラグ61a61bに固定する場合には、ねじ穴65aの圧入用突起63bに対応する両端部142にねじを形成しないことにより、熱の影響を受けた場合に、圧入された滑り部材63の圧入用突起63bに及ぼされる圧力によりスラグ移動軸64aの回転が阻止されてスラグ61aが動かなくなる事態を防止することができる。この場合にも、熱による影響を緩和することができるため、放熱機構90を設けなくても熱によるスラグの移動性への影響を回避できる可能性がある。さらに上記構成では、滑り部材63に通し穴65bを設け、ねじ穴65aに螺合されない方のスラグ移動軸をこの通し穴65bに通すようにしたので、内側導体53内にスラグ61aおよび61bをそれぞれ駆動するための2つのスラグ移動軸64aおよび64bを設けることができ、ねじ機構により2つのスラグ61aおよび61bを独立して移動させることが可能となる。さらにまた、スラグ駆動部70において、モータ73aおよび73b、ならびに動力伝達機構である歯車72aおよび72bが上下にオフセットしているので、モータおよび歯車等の動力伝達機構のスペースを小さくすることができ、これらを収容する筐体71を外側導体52と同じ径にすることが可能となる。したがって、チューナ60をより一層コンパクトにすることができる。また、スラグ61a,61bは、滑り部材63が内側導体53を滑って移動することから移動の負荷が小さいため、スラグ移動軸64a,64bのねじは台形ねじでよく、安価なものとすることができる。この際に懸念されるねじのバックラッシュによる位置精度の低下の問題もコイルスプリング等の付勢手段を設けることにより解消される。さらにまた、モータ73a,73bの出力軸に直結するようにインクリメント型のエンコーダ75a,75bを設けて、スラグ61a,61bの位置検出を行うので、従来用いていた位置検出のためのセンサが不要となり、システムが複雑になったり、センサ設置のスペース分大型化することを回避することができる。また、インクリメント型のエンコーダはアブソリュート型のエンコーダと比較して安価である。このため、コストを上げることなく小型で高精度のチューナを実現することができる。さらにまた、内側導体53には滑り部材63の突出部63aが移動するためのスリット53aが設けられており、このスリット53aから内側導体53の内部へマイクロ波電力が漏洩して電力ロスになる懸念があるが、スリット53aの幅を5mm以下とすることにより、内側導体53の内部へ漏洩するマイクロ波電力を実質的になくすことができ、マイクロ波電力の放射効率を高く維持することができる。次に、マイクロ波導入機構41の他の実施形態について説明する。上記実施形態では、マイクロ波導入機構41に2つのマイクロ波電力導入ポート55から導入されたマイクロ波を空間合成してアンテナ部80へマイクロ波を伝播させた例を示したが、本実施形態では1箇所からマイクロ波を導入する例を示す。図12は本発明の他の実施形態に係るマイクロ波導入機構を有するマイクロ波プラズマ源を示す構成図、図13は本発明の他の実施形態に係るマイクロ波導入機構を示す縦断面図、図14は図13のAA′線による横断面図である。なお、本実施形態において、従前の実施形態と同じものには同じ符号を付して説明を省略する。本実施形態では、図12に示すように、マイクロ波プラズマ源2は、マイクロ波供給部50の一つのアンプ部42で増幅されたマイクロ波が一つのマイクロ波導入機構41に給電される。図13に示すように、マイクロ波導入機構41におけるチューナ60の外側導体52の基端側にマイクロ波を給電する給電機構154が設けられている。給電機構154は、外側導体52の側面に設けられたマイクロ波電力を導入するためのマイクロ波電力導入ポート155を有している。マイクロ波電力導入ポート155には、アンプ部42から増幅されたマイクロ波を供給するための給電線として、内側導体156aおよび外側導体156bからなる同軸線路156が接続されている。そして、同軸線路156の内側導体156aの先端には、外側導体52の内部に向けて水平に伸びる給電アンテナ160が接続されている。給電アンテナ160は、例えば、アルミニウム等の金属板を削り出し加工した後、テフロン登録商標等の誘電体部材の型にはめて形成される。反射板158から給電アンテナ160までの間には、反射波の実効波長を短くするためのテフロン登録商標等の誘電体からなる遅波材159が設けられている。なお、2.45G等の周波数の高いマイクロ波を用いた場合には、遅波材159は設けなくてもよい。このとき、給電アンテナ160から放射される電磁波を反射板158で反射させることで、最大の電磁波を同軸構造の本体51内に伝送させる。その場合、給電アンテナ160から反射板158までの距離を約λg/4の半波長倍に設定する。ただし、周波数の低いマイクロ波では、径方向の制約のため、これに当てはまらない場合もある。その場合には、給電アンテナ160より発生させる電磁波の腹を給電アンテナ160ではなく、給電アンテナ160の下方に誘起させるように、給電アンテナの形状を最適化することが好ましい。給電アンテナ160は、図14に示すように、マイクロ波電力導入ポート155において同軸線路156の内側導体156aに接続され、電磁波が供給される第1の極162および供給された電磁波を放射する第2の極163を有するアンテナ本体161と、アンテナ本体161の両側から、内側導体53の外側に沿って延び、リング状をなす反射部164とを有し、アンテナ本体161に入射された電磁波と反射部164で反射された電磁波とで定在波を形成するように構成されている。アンテナ本体161の第2の極163は内側導体53に接触している。給電アンテナ160がマイクロ波を放射することにより、外側導体52と内側導体53との間の空間にマイクロ波電力が給電される。そして、給電機構154に供給されたマイクロ波電力がアンテナ部80に向かって伝播する。なお、本発明は上記実施形態に限定されることなく、本発明の思想の範囲内において種々変形可能である。例えば、マイクロ波出力部30の回路構成やマイクロ波導入部40、メインアンプ47の回路構成等は、上記実施形態に限定されるものではない。具体的には、平面アンテナから放射されるマイクロ波の指向性制御を行ったり円偏波にしたりする必要がない場合には、位相器は不要である。また、マイクロ波導入部40は、必ずしも複数のマイクロ波導入機構41で構成する必要はなく、マイクロ波導入機構41は1個であってもよい。さらに、平面アンテナ81のスロット81aとして扇形のもの2個または4個設けた場合について示したが、これに限らず、条件に応じて種々のスロットパターンを採用することが可能である。さらにまた、上記実施形態では、スラグを2つ設けた例を示したが、スラグの数は2つより多くてもよく、予めチューニング範囲が限定されている場合には1つでもよい。さらに、上記実施形態ではスラグの駆動機構を、駆動部からの駆動力をスラグ61a、61bに伝達する駆動伝達部と、スラグの移動をガイドする駆動ガイド部と、スラグ61a、61bを前記駆動伝達部に保持する保持部とが内側導体53の内部に収容された構成を有するものとした例について示したが、これに限らず、これらがチューナ60の本体部分の外側に設けられた駆動機構を有するものであってもよい。また、上記実施形態では、スラグの駆動機構として、台形ネジを有するスラグ移動軸とこれに螺合する滑り部材とを組み合わせたねじ機構を有するものを用いたが、これに限るものではなく、ねじとして三角ねじ、角ねじ、鋸歯ねじ等を用いることもできる。また、スラグ移動軸と滑り部材が直接螺合するのではなくボールねじを用いてもよいし、駆動伝達機構として歯車機構やベルト機構等の他の機構を用いることもできる。また、駆動ガイド機構としては、滑り機構に限らず、LMガイド等の他のガイドを用いることもできる。また、モータとスラグ移動軸との間の動力伝達を歯車機構で行ったが、これに限らず、ベルト機構等、他の機構で行ってもよい。さらにまた、上記実施形態においては、放熱機構にヒートパイプを2本用いた例を示したが、これに限らず、ヒートパイプの本数はアンテナ部で発生する熱に応じて適宜選択すればよい。また、ヒートパイプの入熱端の位置は、アンテナ部の熱を有効に放熱することができれば、上記実施形態の位置に限るものではない。また、ヒートパイプは必ずしも内側導体に配置する必要はなく、また、放熱部の位置も上記実施形態に記載した位置に限るものではない。さらにまた、上記実施形態においては、プラズマ処理装置としてエッチング処理装置を例示したが、これに限らず、成膜処理、酸窒化膜処理、アッシング処理等の他のプラズマ処理にも用いることができる。また、被処理基板は半導体ウエハに限定されず、LCD液晶ディスプレイ用基板に代表されるFPDフラットパネルディスプレイ基板や、セラミックス基板等の他の基板であってもよい。"