非晶質フルオロポリマーを含有するリソグラフィ用ペリクル膜であって、5~800質量ppmのフッ素系溶剤を含有するペリクル膜。前記非晶質フルオロポリマーが、主鎖に環状構造を有するパーフルオロ脂環式ポリマーである、請求項1に記載のペリクル膜。前記フッ素系溶剤が、前記非晶質ポリマーを可溶である、請求項1に記載のペリクル膜。前記フッ素系溶剤は、パーフルオロアルキルアミンである、請求項3に記載のペリクル膜。前記リソグラフィ用ペリクル膜のリソグラフィ露光光の波長は、200nm以下である、請求項1に記載のペリクル膜。請求項1に記載のペリクル膜と、前記ペリクル膜を貼り付けられたペリクル枠と、を含むペリクル。非晶質フルオロポリマーとフッ素系溶剤とを含む溶液の塗布膜を成膜する工程Aと、前記塗布膜中のフッ素系溶剤を除去する工程Bとを含む、ペリクル膜の製造方法であって、前記工程Bにおいて、前記塗布膜中に5~800質量ppmのフッ素系溶剤を残留させる、ペリクル膜の製造方法。前記の通り、ペリクル膜は、リソグラフィにおける露光光により光劣化または光分解を受けることがある。これに対して、膜表面にフッ素化層を形成したり、ポリマー末端をフッ素化したりして、光劣化または光分解を抑制することが提案されているものの;これらはフッ素ガスによる特別な処理工程を必要とし、ペリクル膜の製造プロセスを煩雑にするだけでなく、フッ素ガスによる処理中にペリクル膜に異物が付着することもあった。そこで本発明は、露光光による光劣化または光分解が抑制されたペリクル膜を、より簡便に製造することを目的とする。本発明者は、一定量のフッ素系溶剤が含有しているペリクル膜は、露光による光劣化または光分解が抑制されるという知見を見出した。また、一般的にペリクル膜は、ペリクル膜を構成する材料例えば、非晶質フルオロポリマーなどのフッ素化樹脂をフッ素系溶剤に溶解して得た溶液を、スピンコート法によって塗布膜とし、それを乾燥させることで製造されうる。そこで、この塗布膜の乾燥条件を調整することで、光劣化または光分解が抑制されたペリクル膜を容易に製造することができることを見出した。すなわち本発明の第1は、以下に示すペリクル膜およびペリクルに関する。1]非晶質フルオロポリマーを含有するリソグラフィ用ペリクル膜であって、5~800質量ppmのフッ素系溶剤を含有するペリクル膜。2前記非晶質フルオロポリマーが、主鎖に環状構造を有するパーフルオロ脂環式ポリマーである、1に記載のペリクル膜。3前記フッ素系溶剤が、前記非晶質ポリマーを可溶である、1に記載のペリクル膜。4前記フッ素系溶剤は、パーフルオロトリアルキルアミンである、[3]に記載のペリクル膜。5前記リソグラフィ用ペリクル膜のリソグラフィ露光光の波長は、200nm以下である、[1]に記載のペリクル膜。6前記[1]に記載のペリクル膜と、前記ペリクル膜を貼り付けられたペリクル枠と、を含むペリクル。本発明の第2は、以下に示すペリクル膜の製造方法に関する。7非晶質フルオロポリマーとフッ素系溶剤とを含む溶液の塗布膜を成膜する工程Aと、前記塗布膜中のフッ素系溶剤を除去する工程Bとを含む、ペリクル膜の製造方法であって、前記工程Bにおいて、前記塗布膜中に5~800質量ppmのフッ素系溶剤を残留させる、ペリクル膜の製造方法。本発明のペリクル膜は、露光光による光劣化または光分解が抑制されている。したがって本発明のペリクル膜は、短波長の露光光例えば、ArF真空紫外光ArFエキシマレーザー193nmなどによるリソグラフィ用ペリクルに用いても、長期的にパターニング精度を維持することができる。しかも本発明のペリクル膜は、通常の製造プロセスに特別な処理工程を加えることなく、簡便に製造することができる。ペリクル膜について本発明のペリクル膜は、非晶質フルオロポリマーを主成分として含む。本願でいう非晶質とは、X線回折法で明確な回折現象が示されないことを言う。非晶質フルオロポリマーは、エキシマレーザー光に対する透過性が高く、溶剤可溶性を有するからである。非晶質フルオロポリマーは、波長193nmの光に対して透過率が99以上になる膜厚設計が可能である樹脂であることが求められる。また、非晶質フルオロポリマーは、厚さ1μm以下のフィルムとしたときに、自立膜として存在可能であることが求められる。自立膜として存在可能とは、ペリクル枠に貼り付けたときに、皺や弛みが発生しない膜を意味する。非晶質フルオロポリマーは、主鎖に環状構造を有するパーフルオロ脂環式ポリマー、または主鎖に環状構造を有さない鎖状パーフルオロポリマーでありうる。主鎖に環状構造を有するパーフルオロ脂環式ポリマーは、例えば以下の化学式に示される環状パーフルオロエーテル基を繰り返し単位とする重合体でありうる。このパーフルオロ脂環式ポリマーは、特開2000-275817などに具体的に示されており、それらを参照してもよい。mは0または1であり;nは10~1×104の範囲である。パーフルオロ脂環式ポリマーの例には、サイトップCYTOP、旭硝子株製などが含まれる。主鎖に環状構造を有さない鎖状パーフルオロポリマーは、例えば以下の化学式に示される繰り返し単位を有する重合体でありうる。この鎖状パーフルオロポリマーは、特開2003-57803などに具体的に示されており、それらを参照してもよい。X1およびX2はそれぞれ独立に、HまたはF;X3はH、F、CH3またはCF3;X4およびX5はそれぞれ独立に、H、F、またはCF3;a、bおよびcはそれぞれ独立に、0または1である。aが0の場合、Rfは炭素数4~100の直鎖または分岐鎖状で水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換されているフルオロアルキル基または炭素数4~100の直鎖または分岐鎖状で水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換されているエーテル結合を含むフルオロアルキル基から選ばれる少なくとも1種;aが1の場合、Rfは炭素数3~99の直鎖または分岐鎖状で水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換されているフルオロアルキル基または炭素数3~99の直鎖または分岐鎖状で水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換されているエーテル結合を含むフルオロアルキル基から選ばれる少なくとも1つである。本発明のペリクルは、非晶質フルオロポリマーとともにフッ素系溶剤を含むことを特徴とする。フッ素系溶剤としては、非晶質フルオロポリマーを溶解させることができる溶剤であればよく、特に限定されない。フッ素系溶剤は、脂肪族系化合物であってもよく、芳香族系化合物であってもよい。脂肪族系のフッ素系溶剤の例には、CH3CCl2F、CF3CF2CHCl2、CClF2CF2CHClF、パーフルオロヘキサン、パーフルオロトリブチルアミン等のパーフルオロアルキルアミン、パーフルオロ2ブチルテトラヒドロフラン、メトキシノナフルオロブタン、フッ素系アルコール類、ClCF2CFClCF2CFCl2、トリデカフルオロオクタン、デカフルオロ-3-メトキシ-4トリフルオロメチルペンタン、およびこれらの混合溶剤が含まれる。フッ素系溶剤として用いられる芳香族化合物の例には、13ビストリフルオロメチルベンゼン、ベンゾトリフルオライド、パーフルオロベンゼン、およびこれらの混合溶剤が含まれる。フッ素系溶剤の沸点は100°C以上であることが好ましく、約180°Cであることが特に好ましい。100°C未満の沸点のフッ素系溶剤では、非晶質フルオロポリマー溶液をスピンコート法により均一な厚みの塗布膜を成膜しにくい。スピン操作中に溶剤が揮発するからである。さらに、乾燥膜に曇りが発生したり、ゆず肌表面に凹凸がある状態になったりする。一方、沸点が高すぎるフッ素系溶剤では、非晶質フルオロポリマー溶液の塗布膜の乾燥に長時間がかかり、不均一な膜厚になることがある。好ましいフッ素系溶剤の例にはパーフルオロアルキルアミンが含まれ、パーフルオロトリアルキルアミンがより好ましく、パーフルオロトリブチルアミンが特に好ましい。本発明のペリクル膜におけるフッ素系溶剤の含有量は、5~800質量ppmであることが好ましく、15~800質量ppmであることがより好ましい。フッ素系溶剤の含有量が少なすぎると、ペリクル膜の露光による光分解または光劣化が十分に抑制できず、例えば透過率が低下しやすい。フッ素系溶剤の含有量が多すぎると、不均一な膜厚になりやすく、ペリクル膜に色ムラが発生し、リソグラフィに悪影響がある。ペリクル膜におけるフッ素系溶剤の含有量は、ヘッドスペースガスクロマトグラフ質量分析GCMS法によって測定されうる。より具体的には、ペリクル膜の材料をガラスチューブに収容し、それを加熱してフッ素系溶剤をガス化し、ガス化したフッ素系溶剤をGCMSで定量すればよい。本発明のペリクル膜の厚みは1μm以下に設定されることが好ましい。また、ペリクル膜の厚みは、露光光の波長と露光光の入射角度とに応じて、光学的干渉効果による光透過率が大きくなるように精密に設定されることが好ましい。ペリクル膜の厚みは極めて精密に、例えばnm単位で精密に設定される必要がある。ペリクル膜の光透過率は、膜厚のnm単位のわずかな違いによって、大きく異なるからである。したがって、ペリクル膜の使用中に膜厚が変化することは、極力抑制しなければならない。ところが、従来のペリクル膜は、長期間に亘って露光光を照射されると、その膜厚を変化させる、すなわち減少させる。特に露光光が短波長であると、その減少速度が高くなる傾向がある。そのために、ペリクル膜の寿命が短くなるという問題があった。本発明のペリクル膜は、短波長の露光光を照射されても膜厚を減少させにくく、長寿命のペリクル膜となる。本発明のペリクル膜の光劣化または光分解が抑制されるメカニズムは、特に限定されないが、例えば以下の2通りが考えられる。1露光光の照射によりポリマー中のC-C結合またはC-F結合が切断されて発生したラジカルを、フッ素系溶剤が安定化させることで、ペリクル膜の劣化を抑制する。特に、フッ素系溶剤がパーフルオロトリアルキルアミンである場合には、N原子の非共有電子対の密度が、パーフルオロアルキル基によって低下していると考えられるので、ラジカルを安定化させることができる。2フッ素系溶剤が光吸収剤として作用する。ペリクルに照射された露光光の大部分はペリクル膜を透過するが、その一部はペリクル膜に吸収される。ペリクル膜に吸収された露光光が、ペリクル膜のポリマーを劣化させると考えられるが、それをフッ素系溶剤が吸収していると考えられる。本発明のペリクル膜は、従来のペリクル膜と同様にペリクル枠に貼り付けられて、ペリクルとして用いられる。図3は、ペリクルを模式的に示す図である。ペリクル枠14は、従来のペリクル枠を採用することができ、アルミニウム、ステンレス、ポリエチレン製でありうる。本発明のペリクル膜を具備するペリクルは、従来のペリクルと同様にリソグラフィ工程において、露光基板を保護するために用いられうる。特に、本発明のペリクルは、短波長の露光光を用いるリソグラフィ工程で用いられうる。短波長の露光光とは、例えば波長200nm以下の真空紫外光である。真空紫外光の例には、ArFエキシマレーザー光波長193nmが含まれる。短波長の露光光は、長期的に使用されるペリクル膜を光劣化または光分解させやすい。短波長の光は、光子エネルギーが高いからである。ペリクル膜が光劣化または光分解するとは、例えば膜厚が減少することをいう。ArFエキシマレーザー光を照射密度1mJ/cm2/pulseパルス周波数500Hzで合計20KJcm2照射したときの、本発明のペリクル膜の膜厚減少量は、通常4nm以下であり、好ましくは2.5nm以下である。また、ペリクル膜が光劣化または光分解するとは、例えばペリクル膜の光透過率が減少することをいう。本発明のペリクル膜のArFエキシマレーザー光に対する透過率の低下99.7T→98.0Tに必要なArFエキシマレーザー光の照射量照射強度1mJ/cm2/pulseパルス周波数400Hzは、通常40KJcm2以上であり、好ましくは60KJcm2以上である。ペリクル膜の製造方法について本発明のペリクル膜は、1非晶質フルオロポリマーとフッ素系溶剤とを含む溶液の塗布膜を成膜する工程Aと、2前記塗布膜中のフッ素系溶剤を除去する工程Bとを含む。工程Aでは、まず、ペリクル膜の主成分となる非晶質フルオロポリマーを、フッ素系溶剤に溶解させて溶液を得る。このフッ素系溶剤の一部は、ペリクルに残留する溶剤であってもよい。溶液における非晶質フルオロポリマーの濃度は、特に限定されず、均一の塗布膜を成膜できる粘度になるように設定すればよいが;一般的には、1~20質量、好ましくは5~15質量である。得られた溶液は、フィルターを通してろ過することで、異物を除去することが好ましい。非晶質フルオロポリマーとフッ素系溶剤とを含む溶液の塗布膜を成膜する。成膜は、例えばスピンコート法によって行えばよい。塗布する基板は、例えばシリコン基板や石英ガラス基板である。塗布量は、所望のペリクル膜の厚みに応じて適宜設定すればよい。成膜した塗布膜からフッ素系溶剤を除去する。溶剤を除去するには、塗布膜を加熱乾燥すればよい。加熱温度は特に限定されないが、100°C~200°Cの範囲に設定されうる。塗布膜からフッ素系溶剤を除去するときに、一部のフッ素系溶剤を塗布膜に残留させることが好ましい。具体的には、塗布膜中にフッ素系溶剤を5~800質量ppm、好ましくは15~800質量ppm残留させる。フッ素系溶剤の残留量は、乾燥工程における加熱温度、加熱時間を調整することで制御されうる。所望量のフッ素系溶剤を残留する塗布膜を基板から剥離することで、本発明のペリクル膜を得ることができる。一方で、塗布膜からフッ素系溶剤を除去することで、所望量以下の残留量とした場合には、フッ素系溶剤雰囲気下に塗布膜を設置し、塗布膜に溶剤を吸収させて、本発明のペリクルを得ることもできる。ただし、ペリクルの製造プロセスの工程が増加するという面で好ましくない場合がある。以下において、実施例を参照して本発明をより具体的に説明する。本発明の範囲は、これら実施例の記載によって限定して解釈されない。実施例1~7、比較例1~4非晶質フルオロポリマーであるサイトップ型番:CHX809SP2、旭硝子株式会社を、フッ素系溶剤であるパーフルオロトリブチルアミンEFL-174S、トーケムプロダクツに溶解して、ポリマー含量が6重量の溶液を得た。得られた溶液を、ポリテトラフルオロエチレン製メンブランフィルターポアサイズ:500nmでろ過して、異物を除去したろ液を得た。得られたろ液を、石英ガラス基板25cm角表面に、スピンコーティング回転速度:700rpm、回転時間:60秒によって塗布し、塗布膜を成膜した。基板表面に成膜した塗布膜を、クリーンオーブンに入れて165°Cに加熱した。加熱時間を下記表1に示すように調整して80秒~400秒の範囲乾燥膜を得た。乾燥後、基板表面の乾燥膜に樹脂製の剥離リングを貼り付けて、基板から乾燥膜を剥離してペリクル膜を得た。得られたペリクル膜の厚みは829nmであった。得られたペリクル膜に含まれるフッ素系溶剤の含有量を、ヘッドスペースGCMS法によって測定した。具体的には、膜材料100mgをガラスチューブに収容し、180°Cにて3分間加熱して、ペリクル膜に含まれるフッ素系溶剤をガス化させ、ガス化したフッ素系溶剤の量を求めた。測定結果を表1に示す。測定条件1フッ素系溶剤含有量測定GCMS装置:AGILENT製68905973GCMSカラム:HT1温度プログラム40°C~320°Cに、15°C/分の速度で昇温して5分間保持した。2膜厚測定大塚電子製発光測定システムMCPD7000波長180~400nmの光の透過率を測定し、物質の屈折率との関係から多重干渉による透過率ピークのフィッティングシミュレーションにより膜厚を求めた。3光線透過率測定大塚電子製発光測定システムMCPD7000波長193nmの光の透過率を測定した。実施例1~7及び比較例1~4で得られた各ペリクル膜に、ArFエキシマレーザー光を照射した。照射密度を1mJcm2pulseとして、レーザー発振周波数を500Hzとした。図1のグラフは、ArFエキシマレーザー光の照射エネルギー量X軸と、ペリクル膜の膜厚減少量Y軸との関係を示すグラフである。比較例1溶剤量:0.5質量ppmのデータを◇で示し;比較例2溶剤量:1.8質量ppmのデータを■で示し;実施例1溶剤量:7質量ppmのデータを△で示し;実施例2溶剤量:17質量ppmのデータを◆で示し;実施例3溶剤量:25質量ppmのデータを▲で示し実施例4溶剤量:64質量ppmのデータを○で示し;実施例6溶剤量:480質量ppmのデータを□で示し;実施例7溶剤量:800質量ppmのデータを●で示し、比較例3溶剤量:1013質量ppmのデータを×で示し、比較例4溶剤量:2300質量ppmのデータをで示す。溶剤量が増えるほど、膜厚減少量が減少することがわかる。しかしながら、フッ素系溶剤量が800質量ppmを超えると、ペリクル膜の膜表面に色ムラが生じた。膜厚減少量は、上述の通り波長180~400nmの光の透過率を測定し、物質の屈折率との関係からペリクル膜厚を求め、ArFエキシマレーザー光照射前後の膜厚の差異から膜厚減少量を計算した。図2のグラフは、ペリクル膜中のフッ素系溶剤量質量ppmと、ArFレーザー光に対する透過率を99.7Tから98.0Tに低下させるために必要なArFレーザー光の照射量との関係を示すグラフである。ペリクル膜中のフッ素系溶剤量が多いほど、必要な照射量が多いこと、つまり、透過率が低下しにくいことがわかる。しかしながら、前述の通り、フッ素系溶剤量が800質量ppmを超えると、ペリクル膜の膜表面に色ムラが生じた。ペリクル膜の膜表面に色ムラが生じた比較例4について、ペリクル膜の膜厚の分布を測定した。測定点は、ペリクル枠より5mm以上内側の領域112×139mmにおける均等な49点とした。測定の結果、膜厚の最大値835.3nm、最小値824.8であり、膜厚のばらつきが大きかった。膜厚がばらつくことによって、色ムラが発生したと推測される。比較例5乾燥温度を150°C、乾燥時間を20分とした以外は、実施例1と同様にペリクル膜を得た。実施例1と同様に、ペリクル膜に含まれるフッ素系溶剤をガス化させ、ガス化したフッ素系溶剤の量を求めた。フッ素系溶剤の含有量は0.7質量ppmであった。比較例6乾燥温度を180°C、乾燥時間を5分とした以外は、実施例1と同様にペリクル膜を得た。実施例1と同様に、ペリクル膜に含まれるフッ素系溶剤をガス化させ、ガス化したフッ素系溶剤の量を求めた。フッ素系溶剤の含有量は0.7質量ppmであった。比較例5及び6の条件は、ペリクル膜の一般的な製造条件である。ペリクル膜の一般的な製造条件では、ペリクル膜中のフッ素系溶剤の含有量が、5質量ppmより少なくなった。実施例8~11、比較例7スピンコート条件を変更し、さらに表2に記載の乾燥温度、乾燥時間とした以外は、実施例1と同様にペリクル膜を得た。得られたペリクル膜の膜厚は281nmであった。実施例1と同様に、ペリクル膜に含まれるフッ素系溶剤をガス化させ、ガス化したフッ素系溶剤の量を求めた。フッ素系溶剤の含有量を表2に示す。実施例11及び比較例7で得られたペリクル膜に、実施例1と同様にArFエキシマレーザー光を照射した。照射密度を1mJcm2pulseとして、レーザー発振周波数を500Hzとした。図4のグラフは、ArFエキシマレーザー光の照射エネルギー量X軸と、ペリクル膜の膜厚減少量Y軸との関係を示すグラフである。比較例7溶剤量:3質量ppmのデータを◆で示し;実施例11溶剤量:27質量ppmのデータを■で示す。ペリクル膜の膜厚が薄くなっても、残存している溶剤量が増えると、膜厚減少量が減少することがわかった。実施例12~15比較例2で得られたペリクル膜に、以下の方法でフッ素系溶剤を吸収させた。方法6800mlのガラス製の密閉容器に比較例2で得られたペリクル膜を入れ、それぞれ表3に示す溶剤を、表3に示す量滴下し、溶剤雰囲気を調整後、24時間放置した。ペリクル膜に吸収された溶剤量をGC/MS装置にて実施例1と同様の方法で測定した。フッ素系溶剤の種類及び溶剤の滴下量、ペリクル膜に吸収されたフッ素系溶剤量を表3に示す。フッ素系溶剤溶剤1:1112233445566トリデカフルオロオクタン旭硝子社製AC-6000、沸点:114°C溶剤2:1112234555デカフルオロ3メトキシ-4トリフルオロメチル-ペンタン旭硝子社製CT-solv.100E、沸点:97°C実施例13及び実施例15で得られたペリクル膜に、実施例1と同様に、ArFエキシマレーザー光を照射した。照射密度を1mJcm2pulseとして、レーザー発振周波数を500Hzとした。図5のグラフは、ArFエキシマレーザー光の照射エネルギー量X軸と、ペリクル膜の膜厚減少量Y軸との関係を示すグラフである。比較例2溶剤量:1.8質量ppmのデータを◆で示し;実施例13溶剤量:32質量ppmのデータを■で示し;実施例15溶剤量:23質量ppmのデータを▲で示す。非晶質フルオロポリマーを溶解させることができるフッ素系溶剤であれば、溶剤の種類に関係なく、溶剤含有量が増えると、膜厚減少量が少なくなり、耐光性が改善することがわかる。