光源と、前記光源からの光を第1の光と第2の光に分割する分割光学系と、分割された前記第1の光を観察物体へ集光する集光光学系と、前記観察物体からの反射光あるいは透過光の検出光を検出する検出光学系と、前記検出光の偏光状態と前記第2の光の偏光状態を異なる偏光状態にする偏光光学素子と、前記検出光と前記第2の光を重ね合わせる光学系と、重ね合わせた合成応答光を分割する光学素子と、前記合成応答光の光路に設置された偏光フィルタと、分割された合成応答光をそれぞれ検出する検出器と、前記検出光、前記第1の光、前記第2の光の光路のうち、少なくとも何れかに設置された遮光領域を有する光学フィルタと、それぞれの検出器からの信号を処理する電子回路と電子回路からの出力を表示する表示装置とを有することを特徴とする光学装置。光源と、前記光源からの光を第1の光と第2の光に分割する分割光学系と、分割された前記第1の光を光ディスクへ集光する集光光学系と、前記光ディスクからの検出光を検出する検出光学系と、前記検出光の偏光状態と前記第2の光の偏光状態を異なる偏光状態にする偏光光学素子と、前記検出光と前記第2の光を重ね合わせる光学系と、重ね合わせた合成応答光を分割する光学素子と、前記合成応答光の光路に設置された偏光フィルタと、分割された合成応答光をそれぞれ検出する検出器と、前記検出光、前記第1の光、前記第2の光の光路のうち、少なくとも何れかに設置された遮光領域を有する光学フィルタと、それぞれの検出器からの信号を処理することで振幅情報を算出する電子回路と、電子回路からの出力を信号処理する信号処理回路と、制御信号生成光学系と、前記制御信号生成光学系から出力されるトラッキングエラー信号とフォーカスエラー信号で前記光ディスクへの集光照射光位置を制御する制御機構とを有することを特徴とする光学装置。請求項1又は2に記載の光学装置において、前記検出光の偏光状態と前記第2の光の偏光状態は、s偏光とp偏光であることを特徴とする光学装置。請求項1又は2に記載の光学装置において、前記検出光の偏光状態と前記第2の光の偏光状態は、右円偏光と左円偏光であることを特徴とする光学装置。請求項1又は2に記載の光学装置において、前記光学フィルタは、中心部分を遮光することを特徴とする光学装置。請求項1又は2に記載の光学装置において、レーザ光源のコヒーレンス長が略5mm以上であることを特徴とする光学装置。請求項1又は2に記載の光学装置において、前記第1の光と前記第2の光の光量比を変える光学素子を有することを特徴とする光学装置。請求項7記載の光学装置において、前記光学素子は、前記第2の光の光量を前記第1の光の光量以上とするものであることを特徴とする光学装置。図8に示した共焦点走査型光学顕微鏡ではピンホールを小さくすることで分解能の向上が可能であるが、ピンホールの透過光量が減少するので、信号雑音比の悪化が避けられない。更なる分解能の向上のために設置する図10の遮蔽板229も光量の減少につながる。すなわち、顕微鏡光学系で高分解能化を図ると、検出光量が減少することになる。これらに対処するために、一般的には光源の出力パワーを大きくすることが行われる。しかし、入射光による観察物体の損傷が問題になる場合には、光源の出力パワーを大きくすることができない。本発明の課題は、観察物体への入射光量が小さい場合でも、高分解能化と高い信号雑音比を同時に実現することにある。上述の課題を解決するために、観察物体からのビームと偏光状態の異なる参照光とを干渉させ、振幅の分離ができる光学系を採用する。更に少なくとも一個所に高分解能化のための遮光領域を含む光学フィルタを配置する。本発明は、光源からの光を観察物体への照射光第1の光と参照光第2の光とに分離する分離光学系と、観察物体へ照射光を集光する集光光学系と、観察物体からの反射光あるいは透過光などの応答光を検出する検出光学系と、応答光と参照光とを異なる偏光状態にする偏光光学素子と、照射光あるいは応答光、参照光の光路の少なくとも1か所以上に設置された光学フィルタと、応答光と参照光とを重ね合わせる素子と、重ね合わせた合成応答光を分割する光学素子と、それぞれ分割された合成応答光の光路に設置された異なる偏光フィルタと、分割された合成応答光をそれぞれ検出する検出器と、それぞれの検出器からの信号を処理する電子回路とから実現される。本発明によると、参照光の強度を大きくすることにより、光学フィルタの入った応答光の強度を増幅することができ、信号雑音比の改善を図ることができる。あるいは、光学フィルタを参照光の光路に入れた場合は、応答光の光量を減ずることがないので、光学調整が容易であると同時に、分解能の向上を図ることが可能である。この場合も参照光の増強により更なる信号雑音比の向上が可能となる。以下、本発明の光学装置を実施するための最良の形態を、図を用いて説明する。図1に、本発明に基づく光学装置を示す。図1は、参照光の光束中に光学フィルタ220を設けた例である。101はレーザ光源であり、s偏光の出射光をコリメータレンズ206で平行光に変換する。レーザ光源の出射光はコヒーレンス長が略5mm以上のものを使用しており、光路長差があっても干渉が起こりやすいものとなっている。これにより光路長の調整機構が不要になる。207は偏光ビームスプリッタであり、s偏光を反射し、p偏光を透過するものとする。途中に設置したλ/2板209は回転可能としてあり、偏光ビームスプリッタ207での反射光量と透過光量の割合を調整し、光量比変更手段としての機能も有する。λ/2板209の透過光のうちのs偏光は207のビームスプリッタで反射され、λ/4板225で円偏光に変換される。その後、対物レンズ201により202の観察物体上に絞り込まれる。観察物体は走査機構102で走査できるようになっている。本実施例では、光学系の複雑さを避けるために、観察物体そのものを走査する方式を採用しているが、これに限定されるものではなく、集光スポット自体を走査する光学系を搭載した方式でもよい。また、ここでの説明においては観察物体からの反射光を検出する光学系で説明するが、観察物体を透過する方式でもよい。観察物体からの反射光は、対物レンズ201に戻り、225のλ/4板を透過することでp偏光になる。このp偏光の光はビームスプリッタ207を透過し、反射鏡211で反射され、ハーフビームスプリッタ213に入射する。λ/2板209の透過光のなかのp偏光成分は偏光ビームスプリッタ207を透過し、光学軸が45度傾いたλ/2板212でs偏光の光になる。その後、光学フィルタ220で部分的に遮光あるは減光され、反射鏡216によりハーフビームスプリッタ213に入射する。光学フィルタ220の形状の1例を図2に示す。251は参照光のビーム形状であり、ビームの中心部を遮光するように遮光領域252が配置されている。遮光板は、使用する光が透過するガラス基板上に円形状のクロムの金属薄膜を蒸着することにより作製可能である。この光学フィルタ220によりビームの周辺領域のみの光が干渉に関与することになり、分解能がさらに向上する。十分な分解能の向上のためには、遮光領域の大きさはビームの有効径に対してその半径が中心より70以上が望ましい。なお、遮光率を大きくして光量が減少しても、参照光の強度を大きくすることでSN比の向上を図ることができるため、遮光率を大きくしても問題はない。従って、参照光の強度を、検出光の強度以上となるように調整すると好ましい。ハーフビームスプリッタ213には偏光方向の異なる光が両方向から入射することになり、それぞれの光は2方向に分割され、2方向に干渉光が出射する。紙面上でハーフビームスプリッタ213の右方向に出射してくる干渉光には光学軸が22.5度傾いた221のλ/2板が設置されており、集光レンズ215で焦点位置に置かれた検出器上に集光される。本実施例では集光レンズ215の前に221のλ/2板を配置したが、集光レンズ215の直後に配置しても問題ない。検出器前の光路中には偏光ビームスプリッタ223が設置されており、s方向とp方向の成分に干渉光を分解し、それぞれを検出器106と検出器108で検出する。ここで、観察物体を光軸上にある点物体とする。観察物体からの反射光の複素振幅、参照光の複素振幅をそれぞれA、Rとし、検出器106と検出器108の差動信号をIcとしたとき、Ic=α|A||R|cosθと表わされる。αは信号増幅や検出器効率等を含む係数であり、θは観察物体からの反射光と参照光との位相差である。また、紙面上でハーフビームスプリッタ213の上方向に出射する干渉光には光学軸が45度傾いたλ/4板222が挿入されている。集光レンズ214で集光された干渉光は検出器105および107で検出される。この場合も、λ/4板222を集光レンズ214の直後に配置することも可能である。途中に設置されている偏光ビームスプリッタ224によりs偏光とp偏光に分離した後に、それぞれの検出器で検出される。ここで検出器105と107の差動信号をIsとしたとき、Is=α|A||R|sinθのように表わされる。IcおよびIsには干渉成分のみが検出されている。演算装置109では、I=Ic2Is2=α2|A|2|R|2数式1で示す計算を行う。Iは観察物体の反射光と参照光の振幅の2乗に比例した変数となり、ビーム間の位相差には影響されなくなる。110は表示装置であり、観察物体202の走査位置と表示位置の対応をつけた表示がなされる。本実施例では4つの検出器からの信号を使用するタイプを示したが、4個の検出器のうち3個を使用して干渉成分を算出することは可能であるが、この場合はマイクロコンピュータ等の計算機を使用した方がよい。光学系の倍率をMとし、観察物体として点物体が光軸から距離a離れたところにあるとしたとき、それぞれの4つの検出器上では光軸からMa離れた位置を中心とした点像分布が形成される。また、同時に参照光は光軸を中心とした点像分布となる。中心位置がMxにある通常光学系の振幅点像分布をhMaとし、参照光の振幅点像分布をg0としたとき、出力信号IaはIa=α2|∫∫hMag0dxdy|2のように表わされる。面積分は検出器上で行われ、この積分の効果により、分解能が向上する。図11に計算した点像分布関数を示す。対物レンズのNAは0.85とし、直径0.05μmの点物体を光軸に対して垂直にフォーカス面で移動させた。遮光板は参照光中に設置され、有効径の内側80を遮光するものとした。観察物体への照射光量と参照光の光量は同量とした。図11には同様の条件のもとでの共焦点走査顕微鏡と従来の顕微鏡の点像分布関数を比較のために記載する。共焦点走査顕微鏡と通常の顕微鏡には遮光板は入れていない。本特許の光学系では132の破線のように点像分布が狭くなり、共焦点走査型顕微鏡133の実線×印および通常の光学系の点像分布関数134よりも分解能が優れていることが分かる。また、本実施例では参照光に遮光フィルタを入れることで分解能が向上しており、観察物体からの反射光に対しては遮光を行っていない。したがって、参照光を遮断すれば通常光学系にすることができるので、両者の光学系の共存が容易に図ることができる。観察物体からの反射光が小さい場合は、数式1で示したように、参照光の強度|R|2を大きくすることで、信号強度を大きくでき信号雑音比の向上を図ることが可能である。参照光に設置した遮光領域を小さくしていった場合は、図12に示すように132の本特許の点像分布関数は共焦点走査顕微鏡のもの133と同じになり、分解能が悪化する。しかし、悪化したとはいえ、共焦点走査顕微鏡の分解能と同じであり、通常の顕微鏡の分解能よりは優れている。しかも、本特許の光学系では共焦点走査顕微鏡のように検出器前にピンホールを使用しないので、光量の大幅な減少は避けられ、参照光の強度を大きくすることで更に信号雑音比の向上を図ることが可能である。図3から図6までの実施例では光学フィルタの設置場所が異なっている。図3では光学フィルタとしての遮光板220は観察物体からの反射光の光路に設置されている。図1の実施例と同じ遮光板を使用するならば、分解能の向上は同等となる。但し、図1のように、参照光の光束中に光学フィルタ220を入れた方が、応答光の光量を減ずることがないので、より、好ましい。図4では参照光と観察物体からの反射光の両者の光路にそれぞれ220および227の遮光板が設置されている。有効径に対して中心の遮光板の大きさがすべて図1の遮光板と同じ大きさならば、図1の場合の分解能と同じになる。検出器に入射する光量を飽和しない程度に抑えたい場合は本実施例のような2枚の遮光板の使用が有効である。また、2枚の遮光板が設置される図4の光学系においては、遮光板の形状が異なった場合は、二つの遮光領域で決まる和領域の大きさが分解能に影響する。図5および図6では、観察物体への照射光に遮光板が入っている。図5では偏光ビームスプリッタ207の直前に遮光板220が挿入されている。光源からの光が偏光ビームスプリッタ207を透過した後に参照光となるビームにも遮光板の効果は及んでいるが、観察物体からの反射光には遮光板は入っていない。観察物体への照射光に遮蔽板を入れることで焦点深度を長くすることができ、かつ分解能の向上を図ることができる。図6での遮光板220は偏光ビームスプリッタ207と観察物体202の間に設置されているので、観察物体への照射光と観察物体からの反射光の両者に入ることになる。この場合も観察物体への照射光に遮蔽板がはいっており、焦点深度を長くすることができ、観察物体に焦点ずれが発生しても鮮明な画像を得ることができる。210は減光フィルタであり、参照光の強度の調整を行う。本実施例では光学フィルタとして中心部を遮光するものを使用した。この場合は、中心部の光の透過率は0、周辺は100となっており、透過率は遮光部の境界で急激に変化する。他の光学フィルタとしては中心から周辺に向かって徐々に透過率が変化するようなものも使用可能である。図7に本特許の光学系を使用した光ディスク装置のピックアップ光学系を示す。本実施例の図面中の番号で図1と同じものは同じ機能を有する。レーザ光源101からのレーザ光はコリメータされた後、s偏光の光は偏光ビームスプリッタ207で反射され、ハーフビームスプリッタ208を透過する。ハーフビームスプリッタの透過光は対物レンズ201で光ディスク226上に集光される。光ディスクは回転体に固定されており、回転可能となっている。光ディスクからの反射光はハーフビームスプリッタ208に戻り、二つに分割される。ビームスプリッタ207に向かう透過光はデータ信号生成のために使用される。ビームスプリッタ207以降の干渉光学系は図1のものと同じであり、高分解能の信号が演算装置109で生成される。この信号は112の電子回路で処理され、データ信号となる。図13において電子回路112での信号処理の概略を説明する。711から714までの回路はデータを光ディスク226に記録するためのものである。図7に示した112の電子回路以外の光学系は60で示した。711は誤り訂正用符号化回路であり、データに誤り訂正符号が付加される。712は記録符号化回路であり、1-7PP方式でデータを変調する。713は記録補償回路であり、マーク長に適した書込みのためのパルスを発生する。発生したパルス列に基づき、半導体レーザ駆動回路714により、図7のレーザ光源101を駆動し、対物レンズから出射したレーザ光80を変調する。モータ502によって回転駆動される光ディスク501上にはレーザ光により反射率が異なるマーク形成される。721から726の回路はデータの読み出しのためのものである。高分解能のデータ信号がイコライザー721に入力され、最短マーク長付近の信号雑音比が改善される。この信号は722のPLL回路に入力され、クロックが抽出される。また、イコライザーで処理されたデータ信号は抽出されたクロックのタイミングで723のA-D変換器でデジタル化される。724はPRMLPartialResponseMaximumLikelihood信号処理回路であり、ビタビ復号を行う。記録復号化回路725では1-7PP方式の変調規則に基づき復号化し、誤り訂正回路726でデータを復元する。図7のハーフビームスプリッタ208で反射された光は制御信号生成光学系228で処理され、トラッキングエラー信号とフォーカスエラー信号が生成される。これらの信号は対物レンズの位置制御を行うアクチュエータ111にフィードバックされ、照射レーザ光のディスク上での位置制御が行われる。図20に光ディスク上に書き込まれたマークを読みだしたときの信号変化を示す。計算された信号は演算装置109からのものである。長さ0.13μm、幅0.22μmの4個のマークがディスクの回転方向にスペースの長さ0.13μmで並んでいる。マークおよびスペース部分の反射率はそれぞれ90、1であり、レーザ光はマークの中心を通過する。光学系のパラメータは図11の計算に使用したものと同じである。136は参照光を中心から80遮光した場合の出力変化を示す。137は参照光の強度を2倍にした時の出力変化である。参照光の強度を2倍にすると出力も2倍になるので信号雑音比の向上が向上することになる。比較のために通常光学系での出力変化を135の破線で示す。通常光学系では、マークがある部分の平均出力に対して、マークによる強度変調が本特許より小さいことが分かる。図14に実施例1と異なる偏光を使用する実施例を示す。レーザ光源101から偏光ビームスプリッタ207までの光学系は同じである。偏光ビームスプリッタ207を光源から直接透過した参照光はλ/4板230により右円偏光に変換され、遮蔽板220を通過する。この参照光は反射鏡216で反射され、円偏光ビームスプリッタ232に入射する。他方、偏光ビームスプリッタ207で反射され、観察物体に絞り込まれた光は、偏光ビームスプリッタ207に戻る際にp偏光になっている。このため、偏光ビームスプリッタ207を透過する。この光は反射鏡211で反射され、λ/4板231で左円偏光に変換される。左円偏光状態の光は円偏光ビームスプリッタ232を透過し、右円偏光状態の光と干渉することになる。重ね合わされた右偏光と左偏光状態の光は無偏光回折格子233と234を透過する。図15及び図16では無偏光回折格子233と234の溝の方向を示す。両者は溝の方向が直交しているので、±1次以上の高次の回折光の回折面は直交している。溝の形状は、±1次光が同強度で大きくなり、0次と±2次以上の回折光は小さくなるように設計されている。また、溝のピッチは後述の検出器に入射するように設計されている。無偏光回折格子を透過した光は図14の集光レンズ215で4分割検出器113上に4分割されて集光される。ビームが4本形成されるのは、1本のビームを±1次光の2本に分ける作用がある無偏光回折格子を回折面の方向が異なるように2枚重ねた効果によるものである。検出器の前には4分割直線偏光子235が設置されている。それぞれの直線偏光子245、241、243、245の光学軸方向は図17に示すように0度、45度、90度、-45度である。4本に分割されたビームがそれぞれの直線偏光子を通過し、検出器113の4分割検出器で検出される。図18に4分割検出器113の検出器の面形状を示す。検出器124には直線偏光子245を透過した光が入射し、検出器121には直線偏光子241、検出器123には直線偏光子243、検出器122には直線偏光子242を透過した光がそれぞれ入射する。検出器の中央に示した黒丸は光の集光状態を示している。検出器124と123の出力の差動信号をIcとしたとき、Ic=α|A||R|cosθとなり、また検出器121と122の差動信号をIsとしたとき、Is=α|A||R|sinθのように表わされる。したがって、実施例1と同様に、109の電子回路においてI=Ic2Is2=α2|A|2|R|2の計算を行うことにより高分解能の強度信号を得ることが可能となる。この高分解の強度信号を表示装置110に画像として表示する。図19に示す実施例では参照光を反射鏡で戻すタイプの方式を採用した。参照光と観察物体からの反射光との共通光路を長くとることができるので、空気の揺らぎ等の外乱による干渉光学系への影響を少なくすることができる。レーザ光源101からのレーザ光がコリメートされた後、偏光ビームスプリッタ207で偏光方向に従って2分割される。s偏光は反射され、観察物体202に向かう。観察物体からの反射光はλ/4板225を2回透過するので、p偏光となっており、偏光ビームスプリッタ207を透過する。光源方向から偏光ビームスプリッタ207に入射するp偏光の光は本素子を透過し、λ/4板236で円偏光に変換される。次に、対物レンズ201と同じ有効径とNAを有する凸レンズ237により焦点位置に置かれた反射鏡238上に絞り込まれる。反射鏡238で反射された光は凸レンズ237に戻り、λ/4板を通過することでs偏光の光となり、偏光ビームスプリッタ207で反射される。結局、偏光ビームスプリッタ207から遮光板220に向かう光は、観察物体から来たp偏光と反射鏡238で反射されたs偏光で構成され、これらが干渉することになる。両ビームは反射鏡211で反射され、ビームスプリッタ213に向かう。ビームスプリッタ213で二つに分けられ、それぞれ波長板と集光レンズを透過後、偏光ビームスプリッタで二つに分けられる。これらの4つの検出器の信号を使用して、高分解能な観察画像を表示装置110に表示するのは実施例1と同様である。なお、実施例1、2、4では、参照光と検出光とを重ね合わせた合成光を、4つに分割する例を説明したが、3つに分割して干渉成分を算出することも、計算は複雑になるが、可能である。また、何れの実施例も、被照射体からの反射光を利用した干渉光学系について説明したが、被照射体からの透過光を利用しても、光学系の構成は異なるものの、同様の効果が得られる。