"光重合性の炭素炭素不飽和結合を有する有機基を少なくとも1つ有するβジケトン化合物Aとタンタルアルコキシド化合物Bとを、該タンタルアルコキシド化合物Bの量bに対する該β-ジケトン化合物Aの量aがモル比a/bで1.0~1.5となる割合で反応させて反応生成物を得て、該反応生成物とジシロキサンジオール化合物Cとを、タンタルアルコキシド化合物Bの量bに対する該ジシロキサンジオール化合物Cの量cがモル比c/bで2以上となる量の該ジシロキサンジオール化合物Cを用いて反応させて得られる、有機タンタル錯体化合物。前記βジケトン化合物Aが、下記一般式1で表される請求項1に記載の有機タンタル錯体化合物。式中、R1は光重合性の炭素炭素不飽和結合を有する有機基を表す。前記一般式1における有機基R1が、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基である請求項2に記載の有機タンタル錯体化合物。前記タンタルアルコキシド化合物Bが一般式TaOR45式中、R4は炭素数1~5のアルキル基またはフェニル基を示す。で表される化合物である請求項1~3のいずれか一項に記載の有機タンタル錯体化合物。前記ジシロキサンジオール化合物Cが、下記一般式2で表される請求項1~4のいずれか一項に記載の有機タンタル錯体化合物。式中、R2およびR3はそれぞれ独立にメチル基、エチル基、フェニル基またはメトキシ基のいずれかを表す。光重合性の炭素炭素不飽和結合を有する有機基を少なくとも1つ有するβジケトン化合物Aとタンタルアルコキシド化合物Bとを、該タンタルアルコキシド化合物Bの量bに対する該β-ジケトン化合物Aの量aがモル比a/bで1.0~1.5となる割合で反応させて反応生成物を得る第一の工程と、該反応生成物とジシロキサンジオール化合物Cとを、タンタルアルコキシド化合物Bの量bに対する該ジシロキサンジオール化合物Cの量cがモル比c/bで2以上となる量の該ジシロキサンジオール化合物Cを用いて反応させる第二の工程とを含む有機タンタル錯体化合物の製造方法。前記βジケトン化合物Aが、下記一般式1で表される請求項6に記載の有機タンタル錯体化合物の製造方法。式中、R1は光重合性の炭素炭素不飽和結合を有する有機基を表す。前記一般式1における有機基R1が、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基である請求項7に記載の有機タンタル錯体化合物の製造方法。前記ジシロキサンジオール化合物Cが、下記一般式2で表される請求項6~8のいずれか一項に記載の有機タンタル錯体化合物の製造方法。式中、R2およびR3は、それぞれ独立に、メチル基、エチル基、フェニル基またはメトキシ基のいずれかを表す。請求項1~5のいずれか1項に記載の有機タンタル錯体化合物および重合開始剤を含む光硬化性組成物。請求項10に記載の有機タンタル錯体化合物および反応性希釈剤を含む光硬化性組成物。請求項1~5のいずれか1項に記載の有機タンタル錯体化合物または請求項10もしくは請求項11に記載の光硬化性組成物からなるナノインプリント用パターン形成材料。本発明は、紫外線UVにより容易に硬化し、パターニングが可能であり、塗膜とした時に塗膜の均一性に優れ、窒素ガスなどのエッチングガスを用いたエッチングに高い耐性を有する硬化物となる有機タンタル錯体化合物、該有機タンタル錯体化合物の製造方法および該有機タンタル錯体化合物を含む光硬化性組成物を提供することを課題とする。本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、次のことを見出した:ジシロキサンジオール化合物とタンタルのアルコキシ化合物とを混合することで生じる脱アルコール反応により形成されるTa-O-SiTaはタンタル原子を表し、Siは珪素原子を表す結合は加水分解に強い;得られた有機タンタル錯体化合物を、スピンコートなどの塗布方法に適用しても金属酸化物の粉体が析出しないペンタエトキシタンタルのようなタンタルアルコキシド化合物のように加水分解しない。光重合性の炭素炭素不飽和結合を有する有機基を少なくとも1つ有するβジケトン化合物以下、単にβ-ジケトン化合物ともいう、タンタルアルコキシド化合物およびジシロキサンジオール化合物を反応させることにより、上記タンタル原子にキレート配位した、βジケトン化合物に由来する配位子を有し、かつTa-O-Si結合を有する有機タンタル錯体化合物が得られる;この有機タンタル錯体化合物は、紫外線UV照射により強固な3次元の分子間結合を容易に形成し、かつタンタル酸化物由来のパーティクルを発生させずに硬化物を形成できる;上記有機タンタル錯体化合物は、製膜後モールド型を押し付けて紫外線UVを照射する方法によるパターニングに適用することが可能である;上記有機タンタル錯体化合物から得られる硬化物は、窒素ガスに対して金属タンタル並みのエッチング耐性を有する;上記方法によれば、タンタル原子を含有する化合物を、光重合性の炭素-炭素不飽和結合を有するケイ素化合物に添加する方法いわゆるゾル-ゲル法とは異なり、タンタル原子を含有する化合物と炭素-炭素不飽和結合を有する化合物の反応時に、酸や塩基による該炭素-炭素不飽和結合の分解が生じない;液体のタンタル化合物を光重合性の炭素-炭素不飽和結合を有するケイ素化合物に添加する方法と異なり、上記方法により得られた有機タンタル錯体化合物は、加水分解に対する安定性が高い。そして、本発明者らは、上記有機タンタル錯体化合物、該有機タンタル錯体化合物の製造方法および該有機タンタル錯体化合物を含む光硬化性組成物が、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明は以下の事項を含む。1光重合性の炭素炭素不飽和結合を有する有機基を少なくとも1つ有するβジケトン化合物Aとタンタルアルコキシド化合物Bとを、該タンタルアルコキシド化合物Bの量bに対する該β-ジケトン化合物Aの量aがモル比a/bで1.0~1.5となる割合で反応させて反応生成物を得て、該反応生成物とジシロキサンジオール化合物Cとを、タンタルアルコキシド化合物Bの量bに対する該ジシロキサンジオール化合物Cの量cがモル比c/bで2以上となる量の該ジシロキサンジオール化合物Cを用いて反応させて得られる、有機タンタル錯体化合物。2前記βジケトン化合物Aが下記一般式1で表される1に記載の有機タンタル錯体化合物。式中、R1は光重合性の炭素炭素不飽和結合を有する有機基を表す。3前記一般式1における有機基R1が、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基である2に記載の有機タンタル錯体化合物。4前記タンタルアルコキシド化合物Bが一般式TaOR45式中、R4は炭素数1~5のアルキル基またはフェニル基を示す。で表される化合物である1~3のいずれか一項に記載の有機タンタル錯体化合物。5前記ジシロキサンジオール化合物Cが、下記一般式2で表される1~4のいずれか一項に記載の有機タンタル錯体化合物。式中、R2およびR3は、それぞれ独立に、メチル基、エチル基、フェニル基またはメトキシ基のいずれかを表す。6光重合性の炭素炭素不飽和結合を有する有機基を少なくとも1つ有するβジケトン化合物Aとタンタルアルコキシド化合物Bとを、該タンタルアルコキシド化合物Bの量bに対する該β-ジケトン化合物Aの量aがモル比a/bで1.0~1.5となる割合で反応させて反応生成物を得る第一の工程と、該反応生成物とジシロキサンジオール化合物Cとを、タンタルアルコキシド化合物Bの量bに対する該ジシロキサンジオール化合物Cの量cがモル比c/bで2以上となる量の該ジシロキサンジオール化合物Cを用いて反応させる第二の工程とを含む有機タンタル錯体化合物の製造方法。7前記βジケトン化合物Aが、下記一般式1で表される6に記載の有機タンタル錯体化合物の製造方法。式中、R1は光重合性の炭素炭素不飽和結合を有する有機基を表す。8前記一般式1における有機基R1が、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基である7に記載の有機タンタル錯体化合物の製造方法。9前記ジシロキサンジオール化合物Cが、下記一般式2で表される6~8のいずれか一項に記載の有機タンタル錯体化合物の製造方法。式中、R2およびR3は、それぞれ独立に、メチル基、エチル基、フェニル基またはメトキシ基のいずれかを表す。10[1]~[5]のいずれか1項に記載の有機タンタル錯体化合物および重合開始剤を含む光硬化性組成物。11[10]に記載の有機タンタル錯体化合物および反応性希釈剤を含む光硬化性組成物。121~5のいずれか1項に記載の有機タンタル錯体化合物または[10]もしくは[11]に記載の光硬化性組成物からなるナノインプリント用パターン形成材料。本発明の有機タンタル錯体化合物および該有機タンタル錯体化合物を含む光硬化性組成物は、光重合性の炭素炭素不飽和結合を有する有機基を有しているので光により容易に硬化する。また本発明の有機タンタル錯体化合物は特定の遷移金属の原子タンタル原子を含み、本発明の光硬化性組成物は該有機タンタル錯体化合物を含むので、いずれもエッチングガス特に窒素ガスに対して高いエッチング耐性を有している。よって、本発明の有機タンタル錯体化合物および該有機タンタル錯体化合物を含む光硬化性組成物は、モールドのパターンを転写可能なUVナノインプリント用のパターン形成材料として有用である。本発明の製造方法は、上記のような利点を有する有機タンタル錯体化合物や該有機タンタル錯体化合物を含む光硬化性組成物を提供する上で有用である。以下、本発明の有機タンタル錯体化合物の製造方法、該製造方法によって得られる有機タンタル錯体化合物、有機タンタル錯体化合物を含む光硬化性組成物ならびに有機タンタル錯体化合物および光硬化性組成物の用途について順次詳細に説明する。1有機タンタル錯体化合物およびその製造方法本発明の製造方法は、光重合性の炭素炭素不飽和結合を有する有機基を少なくとも1つ有するβジケトン化合物A以下、単にβ-ジケトン化合物Aともいうとタンタルアルコキシド化合物Bとを反応させる第一の工程と、第一の工程で得られた反応生成物にジシロキサンジオール化合物Cを反応させる第二の工程とを含む。ここで、本明細書において光重合性の炭素-炭素不飽和結合とは、直接光を吸収し活性化され重合を開始、あるいは光を吸収することで容易に分解し成長活性種を与える光増感剤重合開始剤の共存下で重合する炭素-炭素不飽和結合を意味する。また、βジケトン化合物とは、二つのカルボニル基がその間に存在する1個の炭素原子にそれぞれ結合している構造一方のカルボニル基に対して他方のカルボニル基が炭素結合を介してβ位にある構造を有するジケトン化合物である。1-1第一の工程<βジケトン化合物A>βジケトン化合物Aとしては、光重合性の炭素炭素不飽和結合を少なくとも1つ有する有機基を少なくとも1つ有するβジケトン化合物であれば特に制限されないが、例えば、下記一般式1で表されるアセトアセトキシ化合物を挙げることができる。一般式1中、R1は光重合性の炭素炭素不飽和結合を少なくとも1つ有する有機基を表す。本発明の有機タンタル錯体化合物は、タンタルアルコキシド化合物BとR1が光重合性の炭素炭素不飽和結合を有する有機基であるβ-ジケトン化合物Aを反応させる第一の工程で得られた反応生成物を、第二の工程に供して得られるものであるので、光硬化性を発現することができる。光重合性の炭素炭素不飽和結合を有する有機基については、特に制限されないが、アクリロイル基、メタアクロイル基およびビニル基などが挙げられる。これらの中でも、紫外線による硬化の速度が速い点でアクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基が好ましい。これらβジケトン化合物Aは、1種単独で用いてもよく、2種以上を組合わせて用いてもよく、R1がアクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基であるβジケトン化合物Aが、UV照射による硬化の速度が速い有機タンタル錯体化合物を提供できる観点から好ましい。なお、β-ジケトン化合物Aは、ケト-エノール互変性を有し、ケト体、エノール体の両方が存在する。本明細書においてはβ-ジケトン化合物Aをケト体で表記するが、エノール体を排除するものではない。<タンタルアルコキシド化合物B>タンタルアルコキシド化合物Bとしては、一般式TaOR45式中、R4は炭素数1~5のアルキル基またはフェニル基を示す。で表される化合物を使用することができる。このようなタンタルアルコキシド化合物Bは、入手のしやすさ、及び、タンタルアルコキシド化合物Bとβジケトン化合物Aの反応後に遊離するアルコールの除去のしやすさの点で好ましい。また、このようなタンタルアルコキシド化合物Bは、比重が4以上であるタンタルの原子を有しているため、エッチングガス特に窒素ガスに対する高いエッチング耐性を有する点で好ましく、またそのような性質を有する有機タンタル錯体化合物およびそれを含む光硬化性組成物を提供できる点で好ましい。炭素数1~5のアルキル基であるR4の具体例としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、n-プロピル基、イソブチル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、イソペンチル基、およびtert-ペンチル基などが挙げられる。複数個あるR4は、互いに同一であっても異なってもよい。タンタルアルコキシド化合物Bの具体例としては、ペンタメトキシタンタル、ペンタエトキシタンタル、ペンタイソプロポキシタンタル、ペンタn-プロポキシタンタル、ペンタイソブトキシタンタル、ペンタ-n-ブトキシタンタル、ペンタ-sec-ブトキシタンタル、ペンタ-tert-ブトキシタンタル、ペンタイソペントキシタンタル、ペンタ-tert-ペントキシタンタルを挙げることができる。これらの中でも、常温で液体であるタンタルアルコキシド化合物、すなわち、ペンタエトキシタンタル、ペンタイソプロポキシタンタル、ペンタn-プロポキシタンタル、ペンタイソブトキシタンタル、ペンタ-n-ブトキシタンタル、ペンタ-sec-ブトキシタンタル、ペンタ-tert-ブトキシタンタルが、上記第一の工程における反応生成物の製造時に取り扱いやすい点で好ましく、さらに、ペンタエトキシタンタル、ペンタイソプロポキシタンタル、ペンタ-n-プロポキシタンタルが、上記第一の工程の反応後に得られた反応生成物から遊離アルコール除去をしやすい点で特に好ましい。これらタンタルアルコキシド化合物Bは、1種単独で用いてもよく、2種以上を組合わせて用いてもよい。上記第一の工程では、光重合性の炭素炭素不飽和結合を有する有機基を少なくとも1つ有するβジケトン化合物Aとタンタルアルコキシド化合物Bとを、該タンタルアルコキシド化合物Bの量bに対する該β-ジケトン化合物Aの量aが、モル比a/bで、通常1.0~1.5、好ましくは1.0~1.3、より好ましくは1.0~1.2となる割合で反応させて反応生成物を得るaはβ-ジケトン化合物Aのモル数を表し、bはタンタルアルコキシド化合物Bのモル数を表す。本発明の有機タンタル錯体化合物あるいは該有機タンタル錯体化合物を含む光硬化性組成物を硬化させた硬化物のエッチングガス特に窒素ガスに対するエッチング耐性は、有機タンタル錯体化合物あるいは光硬化性組成物中の有機成分が少ない方が良好である。第一の工程において、上記モル比a/bが上記範囲にあると、光硬化性を有しかつ有機成分の少ない有機タンタル錯体化合物を得る上で有用な反応生成物が得られる。第一の工程では、上記タンタルアルコキシド化合物Bと上記βジケトン化合物Aとを、通常、常圧下、露点-80°C以下の雰囲気下で、3時間以上好ましくは3~72時間攪拌して反応させることで上記反応生成物を製造する。第一の工程で得られた反応生成物からは、必要に応じて、減圧処理などにより遊離アルコールを留去する。被加工材料に塗布する用途に用いる有機タンタル錯体化合物を製造する目的で、該反応粗組成物を第二の工程に供する場合には、遊離アルコールを留去することが好ましい。このような条件で上記反応を行って得られた反応生成物を第二の工程に供すると、耐加水分解性がよく、ナノインプリントによるモールドパターンの転写性に優れる有機タンタル錯体化合物を製造できる。上記反応は、タンタルアルコキシド化合物Bの加水分解を防ぐために、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で実施することが好ましい。また、上記反応は、上記雰囲気の露点を、通常露点-80°C以下に制御して行う。上記雰囲気の露点は低いほど好ましいが、一般的には装置性能による制限などを考慮すると、上記反応は通常-100~-80°Cで実施することが多い。上記反応をこのような雰囲気下で行なう場合は、上記反応は、例えば、アルゴンガスなどの不活性ガスで置換したグローブボックスなどの中で行なう。上記反応は、必要に応じて、トルエン等の炭化水素系溶媒、タンタルアルコキシド化合物Bのアルコキシ基に対応するアルコール例えばエトキシ基に対応するアルコールはエタノールなどを反応系内に添加して行なってもよい。また、UVナノインプリント用パターン形成材料に好適に用いることのできる有機タンタル錯体化合物あるいはそれを含有する光硬化性組成物を提供する観点からは、第一の工程では触媒等の成分は用いないことが望ましい。第一の工程で得られた反応生成物を赤外吸収分光法IRで測定することで、次のことを確認することができる。原料であるタンタルアルコキシ化合物やβ-ジケトン化合物Aでは、C=Oの伸縮振動に基づく吸収が通常約1700cm1付近に観測される。これに対して、反応生成物では、この吸収の他にも通常約1500cm1~1700cm1に分裂した吸収が観測される。これにより、β-ジケトン化合物Aのジケトン構造とタンタルアルコキシ化合物Bのタンタル原子との間でキレート配位が生じたことを確認できる。<第一の工程で得られる反応生成物>第一の工程では、タンタル原子にβジケトン化合物Aが1つキレート配位した構造を有する化合物が主として得られ、その他に、タンタル原子にβジケトン化合物Aが2以上キレート配位した構造を有する化合物も得られると推定される。そのため、得られる反応生成物はこれら化合物から構成されると推定される。第一の工程で得られる反応生成物は、β-ジケトン化合物Aが前記一般式1で表される化合物である場合を例に挙げると、下記一般式3で表される構造を有する、1種または2種以上の化合物から構成されていると推定される。式中R4はタンタルアルコキシド化合物Bのアルコキシ基に由来する炭素数1~5のアルキル基またはフェニル基を表し、R1は一般式1の有機基R1と同じである。また、mは1~4の整数であり、nは1~4の整数である。但し、mn=5である。反応生成物は、単離処理に供してもよい。1-2第二の工程<ジシロキサンジオール化合物C>ジシロキサンジオール化合物Cは、第一の工程で得られた反応生成物と反応して、ジシロキサンジオール化合物Cのジオールに由来する構造以下、単にジオールに由来する構造ともいうとタンタル原子との結合の形成を誘導する成分であり、下記一般式2で表される。該結合は、ジシロキサンジオール化合物Cの有するOH基と第一の工程で得られた反応生成物の有するアルコキシ基との反応脱アルコール反応により生成する。式中、R2およびR3はそれぞれ独立にメチル基、エチル基、フェニル基またはメトキシ基のいずれかを表す。ジシロキサンジオール化合物Cの具体例としては、1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン-1,3ジオール、1,1,3,3-テトラエチルジシロキサン1,3-ジオール、1,1,3,3-テトラフェニルジシロキサン-1,3-ジオール、1,1,3,3-テトラメトキシジシロキサン-1,3-ジオールを挙げることができる。上記第二の工程では、第一の工程で得られた反応生成物とジシロキサンジオール化合物Cとを、タンタルアルコキシド化合物Bの量bに対する該ジシロキサンジオール化合物Cの量cがモル比c/bで2以上、好ましくは2.0~3.0、より好ましくは2.0~2.5、さらに好ましくは2.0~2.2となる量の該ジシロキサンジオール化合物Cを用いて反応させるbは前述の通りタンタルアルコキシド化合物Bのモル数を表し、cはジシロキサンジオール化合物Cのモル数を表す。第二の工程においては、上記第一の工程で得られた反応生成物とジシロキサンジオール化合物Cとを、通常、常圧下、露点-80°C以下の雰囲気下で、3時間以上好ましくは3~72時間攪拌して反応させる。第二の工程では、上記反応終了後、必要に応じて、遊離アルコールを留去するため、減圧処理などを行なってもよい。第二の工程で得られる有機タンタル錯体化合物を被加工材料に塗布する用途に用いる場合には、第二の工程で遊離アルコールを留去するための減圧処理などを行うことが好ましい。このような条件で上記反応を行なうと、耐加水分解性がよく、ナノインプリントによるモールドパターンの転写性に優れる有機タンタル錯体化合物を製造できる。上記第二の工程の反応は、タンタルアルコキシド化合物Bの加水分解を防ぐために、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で実施することが好ましい。また、上記反応は、上記雰囲気の露点を、通常露点-80°C以下に制御して行う。上記雰囲気の露点は低いほど好ましいが、一般的には装置性能による制限などを考慮すると、上記反応は通常-100~-80°Cで実施することが多い。上記反応をこのような雰囲気下で行なう場合は、上記反応は、例えば、アルゴンガスなどの不活性ガスで置換したグローブボックスなどの中で行なう。上記反応は、必要に応じて、トルエン等の炭化水素系溶媒、タンタルアルコキシド化合物Bのアルコキシ基に対応するアルコール例えばエトキシ基に対応するアルコールはエタノールなどを反応系内に添加して行なってもよい。また、UVナノインプリント用パターン形成材料に好適に用いることのできる有機タンタル錯体化合物またはそれを含有する光硬化性組成物を提供する観点からは、第二の工程においては触媒等の成分は用いないことが望ましい。ジシロキササンジオール化合物Cに由来する構造が第一の工程で得られた反応生成物のタンタル原子に結合したことは、第二の工程で得られた有機タンタル錯体化合物を赤外吸収分光法IRで測定することにより確認することができる。具体的には次の通りである。第二の工程で得られた有機タンタル錯体化合物のIRチャートでは、930cm1付近にピークが観測される。これに対して、ジシロキサンジオール化合物Cや第一の工程で得られた反応生成物やIRチャートでは、930cm1付近にピークは観測されない。従って、930cm1のピークの存在により、ジシロキサンジオール化合物CのジオールのOH基に由来する構造と第一の工程で得られた反応生成物のタンタル原子との間でTa-O-Si結合が生じたことを確認できる。有機タンタル錯体化合物は、単離処理に供してもよい。また、第2の工程の反応については、β-ジケトン化合物Aが一般式1で表される構造を有するβ-ジケトン化合物であり、ジシロキサンジオール化合物Cが一般式2で表される構造を有するジシロキサンジオール化合物である態様を例にとれば、以下の通り推定される。上記第一の工程において得られた反応生成物中の主成分は、β-ジケトン化合物Aに由来する配位子の数が1であり、アルコキシ基を4つ有する。第二の工程において、これらのアルコキシ基は、ジシロキサンジオール化合物Cの有するOH基と反応脱アルコール反応し、Ta-O-Si結合を形成する。ここで、第一の工程で、タンタル原子にβ-ジケトン化合物Aが1つ配位し、アルコキシ基が4つ結合してなる化合物がbモル得られたと仮定する。また、第二の工程で用いるジシロキサンジオール化合物Cの量をcモルとする。このように仮定すると、4つのアルコキシ基をジシロキサンジオール化合物Cと反応させて、アルコキシ基を全てTa-O-Si結合に変えるために必要なジシロキサンジオール化合物Cの量は、理論値でc=2bモル以上である。以上を鑑みて、本発明では、ジシロキサンジオール化合物Cを、タンタルアルコキシド化合物Bの量bに対する該ジシロキサンジオール化合物Cの量cがモル比c/bで2以上となる割合で用いる。ジシロキサンジオール化合物Cをこのような量で用いると、未反応のアルコキシ基が残存しない有機タンタル錯体化合物が得られるので、未反応のアルコキシ基を有する有機タンタル錯体化合物が生成し、これが加水分解によりタンタル酸化物を生成するという不具合を抑制できる。また、第二の工程で用いるジシロキサンジオール化合物Cは、タンタルアルコキシド化合物Bの量bに対する該ジシロキサンジオール化合物Cの量cがモル比c/bで3未満となる割合で用いることが、光硬化性の官能基を有していないジシロキサンジオール化合物Cを過剰に含み、光硬化性に支障をきたすことを抑制できる観点から好ましい。<有機タンタル錯体化合物>本発明の有機タンタル錯体化合物およびそれを含む光硬化性組成物は、次のような利点を有し、モールドのパターンを転写可能なUVナノインプリント用のパターン形成材料として有用である:光重合性の炭素炭素不飽和結合を有する有機基を有しているので光により容易に硬化する;特定の遷移金属の原子タンタル原子を含むので、エッチングガス特に窒素ガスに対して高いエッチング耐性を有している。本発明の有機タンタル錯体化合物は、βジケトン化合物Aとタンタルアルコキシド化合物Bとを反応させて得られた反応生成物と、ジシロキサンジオール化合物Cとを反応させて得られたものであるので、タンタル原子、該タンタル原子に配位したβ-ジケトン化合物Aに由来する配位子、タンタル原子に結合したジシロキサン化合物Cに由来する構造から構成される。本発明の有機タンタル錯体化合物は、例えば、以下の一般式4で表される化合物および一般式5または6で表される構造を有する化合物などから構成されていると考えられる。一般式4は2分子のジシロキサンジオール化合物の各々の両末端のOH基に由来する酸素原子が同一のタンタル原子と化学結合をして形成された2つの環状部を有する構造を表す。一般式5は第一のジシロキサンジオール化合物の両末端のOH基に由来する酸素原子が同一のタンタル原子と化学結合をして形成された1つの環状部を有し、第二および第三のジシロキサンジオール化合物の各々の一方のOH基に由来する酸素原子が隣接するタンタル原子と化学結合した鎖状部を有する構造を表す。一般式6は第一から第四のジシロキサンジオール化合物の各々の一方のOH基に由来する酸素原子が同一のタンタル原子と化学結合をして形成された鎖状部を有する構造を表す。第一から第四のジシロキサンジオール化合物の各々の他方のOH基に由来する酸素原子は隣接する他のタンタル原子と化学結合している鎖状部を有する。なお、一般式5および一般式6における太線と点線は、結合を表す。以下、便宜的に、太線で表される結合を結合a、点線で表される結合を結合bともいう。一般式5で表される第一の構造は、一般式5で表される第二の構造と共に、Ta-O-Si結合を形成してもよい。この場合、一般式5で表される第一の構造における結合aが該Ta-O-Si結合のTa-O結合に相当するのであれば、一般式5で表される第二の構造における結合bが該Ta-O-Si結合のTa-O結合に相当する。また、一般式5で表される構造は、一般式6で表される構造と共に、Ta-O-Si結合を形成してもよい。この場合、一般式5で表される第一の構造における結合aが該Ta-O-Si結合のTa-O結合に相当するのであれば、一般式6で表される構造における結合bが該Ta-O-Si結合のTa-O結合に相当する。同様に、一般式6で表される第一の構造は、一般式6で表される第二の構造と共に、Ta-O-Si結合を形成してもよい。この場合、一般式6で表される第一の構造における結合aが該Ta-O-Si結合のTa-O結合に相当するのであれば、一般式6で表される第二の構造における結合bが該Ta-O-Si結合のTa-O結合に相当する。また、一般式6で表される構造は、一般式5で表される構造と共に、Ta-O-Si結合を形成していてもよい。この場合、一般式6で表される構造における結合aが該Ta-O-Si結合のTa-O結合に相当するのであれば、一般式5で表される構造における結合bが該Ta-O-Si結合のTa-O結合に相当する。以上のとおり第二の工程で得られた有機タンタル錯体化合物には、一般式4で表される化合物、一般式5で表される構造および/または一般式6で表される構造を含む化合物が含まれると考えられる。2光硬化性組成物本発明の光硬化性組成物は、上記有機タンタル錯体化合物と、重合開始剤および/または反応性希釈剤を含む。以下、本発明の光硬化性組成物に配合される成分について説明する。<重合開始剤、反応性希釈剤>本発明の光硬化性組成物には、上記有機タンタル錯体化合物の他に、重合開始剤および/または反応性希釈剤を含む。重合開始剤としては、2-ヒドロキシ-2-シクロヘキシルアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-フェニル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-4-ドデシルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、1-4-イソプロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、4-2-ヒドロキシエトキシ-フェニル-2-ヒドロキシ-2-プロピルケトン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-メチル-1-[4-メチルチオフェニル]-2-モルホリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルホリノフェニル-1-ブタノンなどの、アセトフェノン系光ラジカル重合開始剤;2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドなどのアシルホスフィンオキサイド系光ラジカル重合開始剤;カルバゾール系光ラジカル重合開始剤や、トリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、p-フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-クロルフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、2,4-シクロペンタジエン-1-イル[1-メチルエチルベンゼン]-鉄-ヘキサフルオロホスフェートなどの、ルイス酸のオニウム塩などの光ラジカル重合開始剤;ビス―ビス-フェニルチタニウムなどのチタノセン型の重合開始剤があげられる。これらの重合開始剤の中でも、400nm付近の波長でも機能するアシルホスフィンオキサイド系光ラジカル重合開始剤や可視光領域の波長で機能するチタノセン型の重合開始剤が好ましく、組成物の紫外線吸収領域を避けることのできる可視光領域の波長で機能するチタノセン型の重合開始剤が特に好ましい。これらの重合開始剤は1種単独で用いてもよく、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。また、上記重合開始剤は、上記有機タンタル錯体化合物100質量部に対して、通常0.2~10質量部であり、更に好ましくは0.5~7質量部であり、特に好ましくは1~5質量部となる量で配合する。上記重合開始剤がこのような範囲にあると、得られる光硬化性組成物の硬化性や該光硬化性組成物から得られる塗膜の物性が優れる。<反応性希釈剤>本発明の光硬化性組成物には、上記有機タンタル錯体化合物と共重合できる、上記有機タンタル錯体化合物以外の化合物を反応性希釈剤反応性モノマーともいう。として配合してもよい。上記有機タンタル錯体化合物をこのような反応性希釈剤の存在下にラジカル重合すれば、硬化性組成物が硬化する際の硬化速度を調整することが可能となる。このような反応性希釈剤としては、メタアクリロイル基、スチリル基、ビニル基、アリル基、マレイル基、フマル基等を有する化合物等が挙げられ、これらの中でも特にメタアクリロイル基を有する化合物が好ましく、アクリル酸エステルの構造を1つ以上有するモノマーまたはオリゴマーが好適に用いられる。前記アクリル酸エステルの構造を1つ以上有するモノマーまたはオリゴマーとしては、単官能もしくは多官能のアクリレートが使用でき、その例として、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸-n-プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸-n-ブチル、メタアクリル酸イソブチルなどが挙げられる。またメタアクリロイル基と共重合できる官能基を持つ化合物として、さらには、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、N-グリシジル型エポキシ樹脂、ビスフェノールAのノボラック型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂にアクリル酸を付加させたいわゆるエポキシアクリレートも用いることができる。なお、本明細書においてメタアクリロイル基とはアクリロイル基および/またはメタクリロイル基を、アクリレートとはアクリレートおよび/またはメタクリレート、メタアクリル酸とはアクリル酸および/またはメタクリル酸を各々意味する。このような反応性希釈剤は、1種単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。上記反応性希釈剤を用いる場合であれば、その量は、上記有機タンタル錯体化合物100質量部に対して、好ましくは30質量部以下である。<溶媒など>本発明の光硬化性組成物には、塗布性向上のため必要に応じて溶媒等を配合することができる。溶媒は、β-ジケトン化合物Aとタンタルアルコキシド化合物Bとを反応させる際に用いた反応溶媒と同じであっても異なっていてもよい。溶媒としては、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒;トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのエステル系溶媒;2-プロパノール、ブタノールおよびヘキサノール、プロピレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のアルコール系溶媒;ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、n-メチルピロリドン等のアミド系溶媒などを挙げることができる。このような溶媒は、1種単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよく、上記有機タンタル錯体化合物100質量部に対して、通常500~20000質量部の量で配合する。上記溶媒をこのような量で含む光硬化性組成物は、被塗物に、より効率的に塗布できる。<その他>本発明の光硬化性組成物は、有機タンタル錯体化合物、重合開始剤、反応性希釈剤の他に、さらに粘度調整剤、分散剤、表面調整剤などの添加剤を、光硬化性組成物の硬化性およびその硬化物としてのエッチング特性等を阻害しない範囲で含んでいてもよい。添加剤の量は、前記有機タンタル錯体化合物、前記重合開始剤および反応性希釈剤の合計量100質量部に対して30質量部以下であることが好ましい。3有機タンタル錯体化合物およびそれを含む光硬化性組成物の用途本発明の有機タンタル錯体化合物およびそれを含む光硬化性組成物は、ナノインプリント用のパターン形成材料、層間絶縁膜などの用途に好適に用いることができる。エッチング耐性をより高める観点からは、本発明の有機タンタル錯体化合物を、他成分を配合せずに、UVナノインプリントなどのためのパターン形成材料に供することが好ましい。<UVナノインプリント用のパターン形成材料とパターニングされた媒体>上記用途の中でも、ナノインプリント用のパターン形成材料がより好適である。なお、本発明の有機タンタル錯体化合物およびそれを含む光硬化性組成物は、熱ナノインプリント用のパターン形成材料にも用いることができるが、硬化の速度の観点から、特に、光特にUVナノインプリント用のパターン形成材料に好適に用いることができる。光特にUVナノインプリント用のパターン形成材料として本発明の有機タンタル錯体化合物あるいはそれを含む光硬化性組成物を用いることで、均一性に優れた塗膜が得られ、エッチングガス特に窒素ガスを用いたエッチングに高い耐性を有するパターン形成材料を提供できるため、十分にパターニングされた媒体を提供することができる。<パターン形成方法>パターン形成は、例えば、次のように行われる。<スタンパーを用いたパターンニングによる方法>上記有機タンタル錯体化合物と、必要に応じてさらに前記重合開始剤、反応性希釈剤、粘度調整剤、分散剤、表面調整剤などの添加剤とを、必要に応じてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどの溶剤に溶解させて上記有機タンタル錯体化合物を含む光硬化性組成物を調製する。得られた光硬化性組成物を、必要に応じてろ紙でろ過し、次いで、例えば、スピンコーターを用いて、ガラスやダイヤモンドライクカーボンなどの媒体に該光硬化性組成物をスピンコートして薄膜を形成する。この薄膜の上に、スタンパー例えば、日本ゼオン製ゼオノアを搭載し、スタンパーの上部から紫外線を照射し、次いで、スタンパーを剥離して、パターン形成された媒体を得る。紫外線照射は、通常、波長365~400nmにおいて、照度35~60mWcmの紫外線を3~25秒間照射する。得られた媒体のパターンの様子は、断面走査型電子顕微鏡SEM画像測定などにより観測することができる。<エッチングによる方法>上記パターン形成方法の項目において、スタンパーを用いないことを除いて、パターン形成方法の項目と同様の方法で、スピンコートした媒体上の薄膜に紫外線照射して、硬化膜を得る。この硬化膜に、ガラス小片を貼り付けてエッチング処理を実施する。次いで、ガラス小片を取り外し、エッチングされた媒体を得る。以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明は以下の実施例にのみ制限されるものではない。合成例1<2―アセトアセトキシエチルアクリレートの合成>上述の非特許文献3に記載の合成方法に従い、2アセトアセトキシエチルアクリレートを合成した。具体的には、次の通りである。2-ヒドロキシエチルアクリレート59g、0.5molをフラスコに仕込み、フラスコを55~60°Cに加熱した。次いで、フラスコの中身を攪拌しながら、無水酢酸ナトリウム0.2g、2.4mmolを加え、次いで、50.7g0.6molの下記式IVで表されるジケテンを2.5時間かけて滴下した。次いで、さらに2時間、反応溶液の温度を60°Cに維持した。なお、反応中に、ラジカル重合禁止剤として0.005gの4-メトキシフェノールをフラスコに2度添加した。得られた反応粗生成物を塩化メチレンと水を用いて3回抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧濃縮した後、冷蔵により反応生成物を溶液中から結晶化させた。次いで、得られた反応生成物をNMRで測定した。図1に測定により得られた1H-NMRスペクトルを示した。1H-NMR測定の結果より、得られた反応生成物は、2アセトアセトキシエチルアクリレート以下、化合物1ともいうであった。合成例2<ジシロキサンジオールの合成>ジシロキサンジオールは非特許文献6に記載の合成方法を参照して合成した。具体的には、次の通りである。炭酸アンモニウム関東化学株式会社製6.6g、4-ジメチルアミノピリジン関東化学株式会社製12mg、純水80ml、テトラヒドロフラン純正化学株式会社製40mlを容量が200mlの三口フラスコにいれ氷冷しながら攪拌子で攪拌した。この三口フラスコ内に、1,3-ジクロロテトラメチルジシロキサンGelest社製10gを、大気中でゆっくり滴下した。滴下完了後、そのまま氷冷しながら一時間攪拌した。次いで、塩化ナトリウム純正化学株式会社製10gを添加し、さらに氷冷したまま攪拌を一時間した。得られた反応液を分液漏斗に移液し、静置して水層と有機層に分液し、次いで、有機層を回収した。この有機層に、硫酸ナトリウム純正化学株式会社製10gを添加し、一晩乾燥させた。乾燥後、5Cろ紙を用いてろ過により固形分をろ別し、ろ液をエバポレーターで濃縮した。得られた濃縮液にn-ヘキサンを40ml添加し、50°Cに加熱して、n-ヘキサン添加により生じた析出物などを全て溶解させた。この溶液を室温で放置して自然冷却すると白色結晶が析出した。この白色結晶をろ過により回収して、白色結晶6.8gを得た。得られた白色結晶は、1HNMRおよび29Si-NMRで分析したところ、1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン-13-ジオールであった。なお、上記1HNMR測定は、溶媒として重トルエンAcrosOrganics社製を用い、シングルパルス法にて室温約25°Cで実施した。上記29Si-NMR測定は、溶媒として重トルエン重クロロホルム0.05vol/volのテトラメチルシラン含有、和光純薬工業株式会社製を用い、デカップリング法にて室温約25°Cで実施した。上記1HNMR測定の結果を図2に示し、上記29Si-NMR測定の結果を図3に示した。実施例1<第一の工程>アルゴン置換したグローブボックス内で、2.0g10.0mmolの化合物1と4.0g9.8mmolのペンタエトキシタンタル昭和電工株式会社製とを室温下で混合した。これらは混合直後は2層に分離していたが、グローブボックス内で一晩攪拌することで、単層となった反応粗生成物を得た。この反応粗生成物をグローブボックスから取り出し、臭化カリウム板に該反応粗生成物を塗布しIRスペクトルの測定を実施した。その結果を図4に示した。なお、図4において、実線は第一の工程で得られた反応粗生成物のIRスペクトルであり、点線は化合物1のIRスペクトルである。図4からは、次のことが分かる。化合物1では、そのカルボニル基が金属タンタルに配位しておらず、IRチャートでは化合物1のC=Oの伸縮振動に基づく吸収が1703cm1付近にまとまって観測される。これに対して、第一の工程で得られた反応粗生成物のIRチャートでは、C=Oの伸縮振動に基づく吸収1703cm1付近の他にも、1520cm1と1610cm1付近に分裂した吸収が観測されている。これは、タンタルに対して2アセトアセトキシエチルアクリレートがキレート配位していることを示している。<第二の工程>第一の工程で得られた反応粗生成物全量をトルエン10g純正化学株式会社製に溶解し、攪拌しながら55°Cまで加熱した。次いで、この溶液に、合成例2で得られた1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン-13-ジオール3.6g21.7mmolをテトラヒドロフラン純正化学株式会社製10gに溶解した溶液を滴下した。滴下終了後、55°Cで6時間加熱攪拌し、得られた反応液を室温まで放冷した。次いで、この反応液の溶媒および上記反応により遊離したエタノールを留去し、黄色い高粘度の液体以下、化合物2ともいうを6.8g得た。この化合物2を臭化カリウム板に塗布し、IRスペクトルの測定を実施した。その結果を図5に示した。図5からは、次のことが分かる。化合物1は、そのカルボニル基が金属タンタルに配位しておらず、IRチャートでは化合物1のC=Oの伸縮振動に基づく吸収が1703cm1付近にまとまって観測される。これに対して、化合物2のIRチャートでは、該C=Oの伸縮振動に基づく吸収1703cm1付近の他にも、1529cm1と1616cm1付近に分裂した吸収が観測されている。これは、タンタルに対して2アセトアセトキシエチルアクリレートがキレート配位していることを示している。また、この化合物2のIRチャートでは、930cm1付近に吸収がみられ、これはTa-O-Si結合の生成を示している。上記IR測定とは別に、以下のようにNMR測定も行なった。化合物2をNMRチューブにいれ、重クロロホルム0.05vol/volのテトラメチルシラン含有、和光純薬工業株式会社製に溶解させた。このNMRチューブを封管して、1HNMR測定をシングルパルス法にて室温約25°Cで実施した。その結果を図6に示した。図6からは、次のことが分かる。原料であるペンタエトキシタンタルのTa-OCH2CH3では、メチル基のピークがδ=1.2付近に観測されるが、化合物2では該ピークの領域付近にシグナルは観測されなかった。これより、上記第二の工程では、ジシロキサンジオールと第一の工程で得られた反応粗生成物との反応により、該反応粗生成物の全てのエトキシ基がジシロキサンジオール化合物に由来する配位子で置換されたと考えられる。<パターニング>実施例23.0gの化合物2及び90mgの2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルホリノフェニル-1-ブタノンIRGACURE369:チバジャパン株式会社製を、72gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートダイセル化学工業株式会社製に溶解させた。この溶液を口径0.03μmのろ紙でろ過し、次いで、媒体にスピンコートした。スピンコートは、次の通り実施した。コーター内にセットした媒体に調製した溶液を約1ml滴下した後媒体を500rpmで5秒間回転させ、次いで3000rpmで2秒間回転させ、さらに5000rpmで25秒間回転させることにより媒体上に薄膜を形成した。このスピンコートした薄膜の上に、無色透明な樹脂スタンパー日本ゼオン製ゼオノア、ライン/スペース=56nm/28nm、凹部深さ40nmを搭載し、スタンパーの上部から紫外線波長365nmに於いて照度35mW/cm2を25秒照射した後スタンパーを剥離した。この媒体を破断した断面SEM画像測定を実施したところ、パターンが転写されていることが確認できた図7。比較例130gの化合物1及び90mgの2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルホリノフェニル-1-ブタノンIRGACURE369:チバジャパン株式会社製を、72gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートダイセル化学工業株式会社製に溶解させた。この溶液を口径0.03μmのろ紙でろ過し、次いで、媒体にスピンコートした。スピンコートは、次の通り実施した。コーター内にセットした媒体に調製した溶液を約1ml滴下した後、媒体を500rpmで5秒間回転させ、次いで3000rpmで2秒間回転させ、さらに5000rpmで25秒間回転させることにより媒体上に薄膜を形成した。このスピンコートした薄膜の上に、無色透明な樹脂スタンパー日本ゼオン製ゼオノア、ライン/スペース=56nm/28nm、凹部深さ40nmを搭載し、スタンパーの上部から紫外線波長365nmに於いて照度35mW/cm2を25秒照射した後スタンパーを剥離した。この媒体を破断した断面SEM画像測定を実施したところ、パターンが転写されていないことが確認できた図8。パターンニングの結果を、下記表1にまとめた。<エッチングレートの測定>実施例32.0gの化合物2及び60mgの2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルホリノフェニル-1-ブタノンIRGACURE369:チバジャパン株式会社製を、48gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートダイセル化学工業株式会社製に溶解させて溶液を得た。これらの溶液を各々口径0.03μmのろ紙でろ過し、次いで、媒体にスピンコートした。スピンコートは、次の通り実施した。コーター内にセットした媒体に、調製した溶液を約1ml滴下した後、媒体を500rpmで5秒間回転させ、次いで3000rpmで2秒間、さらに5000rpmで25秒間回転させることにより媒体上に薄膜を形成した。薄膜の形成された媒体を窒素気流下、紫外線波長365nmに於いて照度35mW/cm2を25秒間照射し、硬化膜を得た。以下に示す方法で、上記硬化膜のエッチングレートの測定を実施した。エッチングレート測定方法作成した硬化膜上にガラス小片を貼り付け、以下の条件のエッチング装置を用いて、以下の条件で上記硬化膜のエッチング処理を実施した。次いで、ガラス小片を取り外し、ガラス小片に保護された硬化膜部分とエッチングされた硬化膜部分との段差を、AFM原子間力顕微鏡日本ビーコ社製、型番ステージ:D-3100、コントロールステーション:nanoscopeIIIaを用いて測定した。エッチングレートnm/sec=段差nm÷処理時間secエッチングの条件エッチングガス:窒素圧力:0.17Paガス流量:32sccmプラズマ電圧:300W加速電圧:500V処理時間:30secsccm=standardcenticubicmeter硬化膜の窒素ガスによるエッチングレートの測定結果を表2に示した。比較例2実施例3において、化合物2に替えて化合物1を用いた以外は、実施例3と同様の方法で、硬化膜を得て、該硬化膜のエッチングレートの測定を実施した。硬化膜の窒素ガスによるエッチングレートの測定結果を表2に示した。上記表2から分かるように、化合物2の硬化膜の窒素ガスによるエッチングレート実施例3は、化合物1の硬化膜の窒素ガスによるエッチングレート比較例2に比べて小さく、窒素ガスに対するエッチング耐性が高い。<製膜性評価>実施例42.0gの化合物2及び60mgの2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルホリノフェニル-1-ブタノンIRGACURE369:チバジャパン株式会社製を、48gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートダイセル化学工業株式会社製に溶解させた。この溶液を口径0.03μmのろ紙でろ過し、次いで、媒体にスピンコートした。スピンコートは、次の通り実施した。コーター内にセットした媒体に、調製した溶液を約1ml滴下した後媒体を500rpmで5秒間回転させ、次いで3000rpmで2秒間、さらに5000rpmで25秒間回転させることにより、媒体上に薄膜を形成した。薄膜の形成された媒体を窒素気流下、紫外線波長365nmに於いて照度35mW/cm2を25秒間照射し、硬化膜を得た。以下に示す方法で、上記硬化膜の製膜性評価を実施した。製膜性評価方法媒体表面に形成された硬化膜に向かって、斜め上方向からハロゲンランプの光を照射し、硬化膜の真上方向から硬化膜表面写真を撮影した。実施例4で得られた硬化膜を撮影した画像を図9に示した。なお、上記撮影により得られた写真では、媒体上にパーティクルが存在する場合は、パーティクルによる光乱反射により画像に白い光が観測される。これに対してパーティクルが存在しない場合は画像が真黒に映る。比較例3アルゴン置換されたグローブボックス内で、H末端ポリジメチルシロキサンDMS-H03:Gelest社製を1.0g秤量し、これにペンタエトキシタンタルを1.1g添加し、17.9gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートダイセル化学工業株式会社製に溶解させた。この溶液を口径0.03μmのろ紙でろ過し、次いで、媒体にスピンコートした。スピンコートは、次の通り実施した。コーター内にセットした媒体に、調製した溶液を約1ml滴下した後、媒体を500rpmで5秒間回転させ、次いで3000rpmで2秒間回転させ、さらに5000rpmで25秒間回転させることにより、媒体上に薄膜を形成した。形成された薄膜を実施例4と同様の方法で写真撮影した。得られた画像を図10に示した。上記製膜性評価の結果について、下記表3にまとめた。実施例4の場合、画像は概ね真黒であったことから、媒体表面にパーティクルの発生が無いことがわかった図9。実施例4では、有機タンタル錯体化合物が加水分解に対して安定であり、パーティクルが発生していないことが示された。これに対して比較例3では、媒体中央から外側に向けて白い筋状の跡が観測されたことから、パーティクルが存在することがわかった図10。これは、反応点のないポリジメチルシロキサンとペンタエトキシタンタルとを混合しても両者は反応せず、スピンコート時にペンタエトキシタンタルが加水分解を受け、酸化タンタルのパーティクルが析出したことを示している。"