"高湿度環境下で絶縁材料の静電気による帯電を抑制してAFM測定を行うことを特徴とする原子間力顕微鏡による絶縁材料の表面分析方法。前記高湿度環境下としては、65RH~80RHであることを特徴とする請求項1に記載の原子間力顕微鏡による絶縁材料の表面分析方法。前記高湿度環境を生成する手段としては、高湿度に調湿された部屋にAFM装置を置くことにより、高湿度環境状態を生成することを特徴とする請求項2に記載の原子間力顕微鏡による絶縁材料の表面分析方法。前記高湿度環境を生成する手段としては、絶縁材料の湿潤状態を測定する湿度センサーを有する試料台セルを用いることにより、高湿度環境状態とすることを特徴とする請求項2に記載の原子間力顕微鏡による絶縁材料の表面分析方法。請求項1又は請求項2に記載の原子間力顕微鏡による絶縁材料の表面分析方法において、室温下でAFM測定を行うことを特徴とする原子間力顕微鏡による絶縁材料の表面分析方法。請求項1又は請求項2に記載の原子間力顕微鏡による絶縁材料の表面分析方法において、高温下でAFM測定を行うことを特徴とする原子間力顕微鏡による絶縁材料の表面分析方法。しかしながら、試料としての高分子などの絶縁材料をAFMで測定する場合、元々試料自体が有している吸着特性以外に2次的に発生する試料面の静電気による帯電が、位相像はもとより、形状像にも大きく影響することが本発明者等による実験及び検討の中でも大きな課題として取り上げられた。AFMの探針は試料面から離れた位置では分子間引力や双極子モーメントによる引力が働き、試料面に接すると探針がたわみ斥力が生ずる。従って、AFMでは、通常,斥力モードで測定する。しかし、高分子などの絶縁材料は、静電気により帯電し易く、例えばPETポリエチレンテレフタレートは帯電列からマイナス-に帯電し、グラウンドの取れているAFMの探針通常は半導体のシリコンが近づくと、静電誘導により探針がプラスに帯電して静電引力が働いてしまい、的確にAFM測定が出来なくなってしまう。また、帯電電荷が逆でも同様であり、例えばナイロンが帯電すると帯電列からプラスであるが、静電誘導によりAFMの探針はマイナス-に帯電して同じく静電引力が働いてしまい、同様に的確にAFM測定が出来なくなってしまう。従来、このような問題を取り上げた論文や改善策を提示した出願等は無い。そのため、一般的には試料台からグラウンドを取る程度であり、当然ながら測定面に発生する帯電の制御は不十分である。その他、専ら前処理としてコロナ放電式イオナイザーや軟X線照射などによる除電に頼るケースが多いが、AMF測定では必然的に探針と試料面との接触があるので、測定後直ぐに接触帯電が発生したり、大気中で行う測定であるため冬場の乾燥の影響により前処理をしても測定開始までに大きな帯電が発生し、試料の本来の形状像や位相像が得られないことが多い。本発明は上記のような問題を解決するためになされたものであって、絶縁材料に生ずる静電気による帯電を抑制維持し、絶縁材料の形状像や吸着特性による位相像を高分解能で分析する原子間力顕微鏡による絶縁材料の表面分析方法を提供することを目的とする。上記課題を解決するために、請求項1に対応する発明は、高湿度環境下で絶縁材料の静電気による帯電を抑制してAFM測定を行うことを特徴とする原子間力顕微鏡による絶縁材料の表面分析方法である。請求項2に対応する発明は、請求項1に対応する発明で規定する高湿度環境下としては、65RH~80RHであることを特徴とする原子間力顕微鏡による絶縁材料の表面分析方法である。請求項3に対応する発明は、請求項2に対応する発明で記載の高湿度環境を生成する手段としては、高湿度に調湿された部屋にAFM装置を置くことにより、高湿度環境状態を生成することを特徴とする原子間力顕微鏡による絶縁材料の表面分析方法である。また、請求項4に対応する発明は、請求項2に対応する発明で記載の高湿度環境を生成する手段としては、絶縁材料の湿潤状態を測定する湿度センサーを有する試料台セルを用いることにより、高湿度環境状態とすることを特徴とする原子間力顕微鏡による絶縁材料の表面分析方法である。さらに、請求項5に対応する発明は、請求項1または請求項2の高湿度環境下、かつ室温下でAFM測定を行うことを特徴とする原子間力顕微鏡による絶縁材料の表面分析方法である。さらに、請求項6に対応する発明は、請求項1または請求項2の高湿度環境下、かつ高温下でAFM測定を行うことを特徴とする原子間力顕微鏡による絶縁材料の表面分析方法である。本発明によれば、高分子等の絶縁材料に生ずる静電気による帯電を抑制維持し、試料の形状像や材料本来の吸着特性による位相像を高分解能で分析することができる。以下、本発明の好ましい実施形態について説明する。先ず、静電気による帯電は、湿度と密接な関係があることは既に知られている例えば、静電気学会編、新版静電気ハンドブック、オーム社、1998年発行。絶縁物の場合には、湿度が低い環境では静電気が滞留しやすく、湿度が高くなると静電気が滞留し難くなる。その要因としては、湿度が高いと表面の吸着水分量が増えるため、表面の電気伝導性が向上し、帯電される電荷の漏洩の速度が早まるためと考えられる。また、材料によっては、体積的な吸湿により材料全体の電気伝導性が向上するものもあり、その他に大気中への放電もあって高湿度環境下では電荷は急速に大気中に放出される。さらに、材料によっても差があるが、相対湿度55RH~65RH以上になれば放電量が帯電量を上回ることから、静電気の帯電が抑制されることになる。よって、以上のような理論的な根拠に基づき、帯電を抑制するには高湿度環境を生み出す方法が重要になってくる。そこで、本発明者等は、高湿度環境を生み出す方法としては特に限定されないが、エアコン加湿器等により高湿度に調湿された部屋にAFM装置自体を置く方法と、市販の湿度センサーを有する試料台セルを利用する方法とが有効であることを見出すに至った、ここで、高湿度に調湿された部屋としては、室温は20度~25度の恒温状態で、相対湿度は65RH~80RH範囲において一定湿度に保たれている部屋が好ましい。但し、70RH以上になると、結露、錆、カビの発生も予想されるので、AFM装置の管理には細心の注意が必要となる。一方、湿度センサーを有する試料台セルとしては、試料の湿潤状態を測定する目的で市販されたものを利用すれば良い。この湿度センサーを有するセルは、試料台周辺の溝に所望の相対湿度をその飽和水蒸気圧から生成可能である各種無機塩の飽和水溶液蒸留水や純水で希釈を充填させ、通常のセルに付いているカバーにより閉鎖された系内において1時間程度経つと所望湿度の平衡状態になる。但し、本方法は、高温状態と並行して行うことは不可能なので室温大気下で行うことになるが、相対湿度65RH~80RHを生み出す無機塩としては安価な塩化ナトリウムを使用することが出来る。塩化ナトリウムの飽和水溶液の大気圧中20度~40度の室温レベルの相対湿度の理論値は約75RHであるが、絶縁材料によっては80RHまで高湿度にした方が好適な場合があり、その時はセル内の飽和水溶液へチューブを通して蒸留水或いは純水を僅かに追加希釈する事により調整することができる。また、高温状態と高湿状態とを並行して行う場合、前記高湿度に調湿された部屋の中でAFM装置を置き、試料が高温状態になる市販の加熱ステージを使用すれば良い。通常、専用加熱ステージにはカバーがあるが、実験結果から、探針や探針ホルダーと試料面の間にある隙間は非常に狭いので、カバーが無くても高温状態を平衡維持可能であることが判明した。そこで、そのカバーを外すことにより、試料を高温状態と高湿状態とを並行した環境下に置くことができた。すなわち、大気中の相対湿度のまま閉鎖された空間で高温状態にすれば、相対湿度は著じるしく低下して乾燥状態になってしまい、静電気が発生し易くなってしまうが、本方法によれば、静電気による帯電が発生し難い高湿度環境下で高温状態の絶縁性試料のAFM測定が可能となった例えば、25度65RHの空間でそのまま70度まで温度を上げると、飽和水蒸気量が増加して相対湿度は約76RHまで低下してしまう。本発明に関わる高温高湿環境下でのAFM測定では、絶縁性の高分子材料の高温状態における相転移や結晶構造の変化等を静電気による帯電の影響を受けずに高い分解能で安定して測定することが出来る。次に、本発明に係る絶縁材料の表面分析について、具体的に幾つかの実施例を挙げて説明するが、これらの実施例に限定されるものではない。なお、各実施例において、絶縁材料の表面分析を行ったAFM装置、使用した帯電量測定器及び除電器について、以下に列記する。AFM装置:MFP3DSAアサイラムテクノロジー社製測定条件...スキャン範囲;500×1μm、スキャン速度;10Hz、測定方法;ACモード。帯電量測定器:検出器;SK200、センサー;SK030キーエンス社製測定条件...試料面から約15cm高さから測定。除電器:軟X線照射器;IRSYSSXISX223高砂熱工学工業社製先ず、室温下で行った実施例1-4について説明する。<実施例1>市販のPETフィルムについて、そのまま大気中の室温下25度、50RHでAFM分析を行った。なお、AFM分析前にPET表面について帯電量を測定した所、約-500Vであった。<実施例2>前記実施例1で使用したPETフィルムについて約15cm高さから軟X線を約30秒間照射して除電処理を行い、大気中室温下25度、50RHでAFM分析を行った。但し、軟X線照射直後のPET表面の帯電量はほぼゼロであったが、数十分後のAFM分析前にPET表面の帯電量を測定した所、約-150Vまで増加していた。<実施例3>前記実施例1で使用したPETフィルムを、25度65RHに恒温調湿された部屋に置いたAFM装置を用いてAFM分析を行った。AFM分析前にPET表面について帯電量を測定した所、約-10Vであった。<実施例4>前記実施例1で使用したPETフィルムを、AFM装置付属の湿度センサーセルに固定させ、周囲に塩化ナトリウム飽和水溶液を充填し、約1時間後、75RHの相対湿度状態下でAFM分析を行った。次に、室温下でAFM測定を行った各実施例のAFM分析結果を表1及び図1-図4に示す。すなわち、表1は室温下でAFM測定を行った実施例1~4の形状像及び位相像の解析結果を示す。また、図1a-図4aは室温下でAFM測定を行った実施例1~4のPET表面の形状像であって、横軸はμm,左右縦軸はnmを表す。図1b-図4bは同じく室温下でAFM測定を行った実施例1~4の位相像であって、横軸はμm,左縦軸はnm,右縦軸はDeg.を表す。前述した表1の形状像の解析結果を検討すると、本発明に関わる実施例3と実施例4は、そのまま分析した実施例1や軟X線照射後に分析した実施例2に比べて、RMS値が高く、表面粗さ値の最大最小値の絶対値が高かった。また、各実施例の形状像を見ると、実施例3と実施例4ではPET表面がポーラス状になっていることが確認できたのに対して、実施例1は凹凸が殆ど観察できず、実施例2は凹凸が観察できるものの、ポーラスな微細構造までは確認できなかった。すなわち、本発明のごとく、高湿環境下でAFM分析する方法によれば、PET表面上の帯電が殆ど無いため、PET本来の表面状態を高分解能で観察することが出来ることが確認された。一方、表1の位相像の解析結果について検討すると、本発明に関わる実施例3と実施例4は、そのまま分析した実施例1や軟X線照射後に分析した実施例2に比べて、位相ピーク値が小さく、位相レンジも非常に狭かった。また、各実施例の位相像図1b~図4bを見ても、その結果が反映された画像が得られていた。すなわち、実施例1や実施例2では、PET表面上に発生した帯電の影響で位相遅れが大きくなり、位相レンジも広くなっているが、本発明のごとく、高湿環境下でAFM分析する方法によれば、PET表面上の帯電が殆ど無いため、静電引力の影響が無いPET自体の吸着特性との相関性が強い位相像が得られたと思われる。次に、190度の高温下で行った実施例5,6について説明する。<実施例5>前述した実施例1で使用したPETフィルムを、そのまま大気中室温下25度、50RHでAFM装置付属の温度制御ステージ品名;ポリヒーターに固定し、カバーを付けた状態で加熱し190度高温環境下でAFM分析を行った190度の時のカバー内の相対湿度は密閉性が高い場合、理論値として約0.2RHまで低下。なお、試料は測定前に前記実施例2と同様の軟X線照射による除電処理を行った。<実施例6>実施例1で使用したPETフィルムを25度65RHに恒温調湿された部屋に置いたAMF装置の付属温度制御ステージ品名;ポリヒーターに固定し、カバーを外した状態で加熱し190度高温環境下でAFM分析を行った。次に、高温下でAFM測定を行った実施例5と実施例6の形状像及び位相像の解析結果を表2に示す。また、同じく高温下でAFM測定を行った実施例5と実施例6の形状像については図5a、図6a、位相像については図5b、図6bで示している。前述した表2の形状像の解析結果を検討すると、本発明に関わる実施例6は、通常通りに分析した実施例5とに比べて、RMS値が低く、表面粗さ値の最大最小値の絶対値が小さかった。また、各実施例の形状像を見ると、実施例6はPET表面の球晶状態が確認できたのに対して、実施例5はドリフトによると思われる画像の歪みが見られた。すなわち、本発明のごとく、高湿環境下でAFM分析する方法によれば、高温状態でもPET表面上の帯電が殆ど無いため、測定の条件設定も比較的容易に設定可能であり、安定してPET本来の表面状態を測定出来たが、実施例5では熱と帯電によるドリフトが大きく、測定条件の設定が難しい上に安定した測定が出来なかった。次に、表2の位相像の解析結果から、本発明に関わる実施例6は、通常どおり分析した実施例5に比べて、位相ピーク値が小さく位相レンジも狭かった。また、各実施例の位相像を見ても、その結果が反映された画像が得られていた。すなわち、実施例5はPET表面上に発生した帯電の影響で位相遅れが大きくなり位相レンジも広くなってしまったが、本発明に関わる高温高湿環境下でAFM分析する方法によれば、PET表面上の帯電が殆ど無いため、PET自体の吸着特性と相関性の強い位相像が得られたと考えられる。従って、加熱によりPETが全体的に軟化すると共に硬軟な部位恐らく、結晶部分と非晶部分の差が大きくなったと推察できた。従って、以上のような実施形態により高分子等の絶縁材料について高湿度環境下でAFM分析すれば、従来の除電器による試料表面の一時的な帯電の除去では無く帯電を抑制維持することができ、帯電の影響を受けずに容易、かつ安定してAFMによる表面分析を行うことができる。また、高温状態のAFM分析でも高湿度環境下で行うことにより、同様の効果を確認した。なお、上記実施形態は、一例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。"