"キャリアホイールを有する磁気レオロジー仕上げシステムにて使用される一体型流体管理モジュールにおいて、a磁気遮蔽したチャンバを有するハウジングであって、前記チャンバは前記キャリアホイールの表面に対する開口部を有する、前記ハウジングと、b使用済の磁気レオロジー流体を前記チャンバ内に受け入れ且つ補充する装置と、c補充した磁気レオロジー流体のリボンを前記チャンバから前記ホイール表面まで押出し成形するよう前記ハウジングに取り付けられた、リボンの押出し成形装置と、を備える、一体型流体管理モジュール。請求項1に記載のシステムにおいて、前記ハウジングと前記ホイール表面との間のシールを更に備える、システム。請求項2に記載のシステムにおいて、前記シールは、前記開口部を部分的に取り囲む、システム。請求項2に記載のシステムにおいて、前記シールは、複数の棒磁石を備える、システム。請求項1に記載のシステムにおいて、前記チャンバ内に配設されたミキサ羽根を更に備える、システム。請求項5に記載のシステムにおいて、前記ミキサ羽根は、電気モータにより作動される、システム。請求項1に記載のシステムにおいて、使用済の磁気レオロジー流体を前記ホイールの表面から前記チャンバ内に向けるよう前記本体上に配設されたリボンディフレクタ管を更に備える、システム。請求項1に記載のシステムにおいて、流体を前記チャンバに供給する手段を更に備える、システム。請求項1に記載のシステムにおいて、前記チャンバ内にて磁気レオロジー流体中の磁気粒子の濃度を検知する第一のセンサを更に備える、システム。請求項1に記載のシステムにおいて、前記チャンバ内にて磁気レオロジー流体の温度を検知する第二のセンサを更に備える、システム。請求項1に記載のシステムにおいて、前記チャンバ内にて磁気レオロジー流体を冷却し、且つ該流体から熱を発散させるよう前記ハウジング上に配設された装置を更に備える、システム。磁気レオロジー流体により基板を磁気レオロジー仕上げするシステムにおいて、aキャリアホイールと、b前記磁気レオロジー流体が磁気強化される、加工領域内にて磁界を形成するよう前記キャリアホイールの両側部にて互いに対向して配設された一対の実質的に鏡像の磁極片と、c一体型流体管理モジュールであって、磁気遮蔽したチャンバを有するハウジングであって、前記チャンバは前記キャリアホイールの表面に対する開口部を有する、前記ハウジングと、使用済の磁気レオロジー流体を前記チャンバ内に受け入れ且つ補充する装置と、補充した磁気レオロジー流体のリボンを前記チャンバから前記ホイール表面まで押出し成形するよう前記ハウジングに取り付けられた、リボンの押出し成形装置と、を含む、前記一体型流体管理モジュールと、を備える、システム。一例としてのMRポリシングインターフェースにおいて、ポリシングすべき凸型レンズ本明細書にて、加工物とも称するは、移動する壁から何らかの一定の距離に配置され、レンズ表面及び壁が収束するギャップを形成するようにする。典型的に、該レンズは、その軸線の回りにて回転可能に取り付けられる。移動する壁の下方に配置された電磁石は、ギャップの付近にて不均一な磁界を発生させる。該磁界の勾配は壁に対して垂直である。MRポリシング流体は、電磁極片の真上にて移動する壁に分配されて、ポリシングリボンを形成する。該リボンが磁界内を移動すると、該リボンは、塑性的ビンガムBingham特性を獲得し、リボンの頂部層は、磁界の勾配に対応する非磁気研磨粒子の浮上のため、研磨粒子にて飽和される。その後、磁界の勾配により壁に押し付けられたリボンは、ギャップを通して引きずられ、その結果、材料はレンズの接触領域内にてレンズから除去される。この領域は、ポリシングスポット又は加工領域と呼ばれる。このポリシングスポット内での材料の除去率は、磁界の強度、インターフェースの幾何学的パラメータ及び壁の速度を制御することにより制御することができる。ポリシング法は、回転する加工物のポリシングスポットを通るときの速度滞在時間及び位置を変化させるため、CNCマシーンスケジュールを決定すべくコンピータプログラムを採用する。その順応性及びサブアパーチャの性質のため、このポリシングツールは、連続的に変化する局部曲率を有する非球面体のような複雑な表面形状を仕上げることができる。競合する技術に優るMRFの基本的に有利な点は、再循環する流体が常時、監視され且つ維持されるため、ポリシングツールが磨耗しないことである。ポリシング屑及び熱は常に除去される。この技術は、専用の設備又は特別な装置を必要としない。MRF法の一体的な構成要素は、MRFソフトウェア、プログラム化可能な論理制御装置を有するCNCプラットフォーム、MR流体分配及び再循環/調整システム、キャリア面が組み込まれた磁気装置である。キャリア面は、例えば、回転ホイールのリム、回転ディスクの水平面、又は連続的な移動ベルトにより形成することができる。 ́369に開示されたような、典型的な先行技術の磁気レオロジー仕上げシステムにおいて、キャリア面は非磁気ホイール上に形成され、このホイールは、ハブの回りにて対称にアンダーカットした軸方向に幅の広いリムを有し、垂直に向き決めされている。ホイールの回転軸線を保持する垂直面の回りにて対称である、特殊な形状をした磁極片は、アンダーカットしたリムの下方にてホイールの両側部に向けて、好ましくは、ほぼ上死点の位置にて、伸長し,ホイールの表面上に磁気加工物を提供する。ホイールのキャリア面は、平坦とすることができる、すなわち、円筒状の断面とし、又は、凸型とし、すなわち球状の赤道断面とし、又は凹型であるようにすることができる。凸型の形状は、ホイールの半径よりも長い半径を有する凹型面を仕上げることを許容する点にて特に有益である。仕上げるべき加工物を加工領域まで伸長させる、チャックのような、加工物の受け具が加工領域の上方に取り付けられている。このチャックは、複数の運動モード内にてプログラムにより操作可能であり、且つプログラム化可能なコントローラ又はコンピュータによって制御することが好ましい。非磁性研磨粒子及び磁気的に柔らかい磁気粒子の所定の濃度を有する、磁気レオロジーポリシング流体は、典型的に、成形ノズルから非磁化状態にてリボンとしてホイールの加工面に押し出し成形され、該ホイールは、そのリボンを加工領域に運び、該加工領域内にて、リボンは磁化されてペースト状の稠度となる。加工領域内にて、ペースト状のMRポリシング流体は、基板にて研磨加工を行う。MR流体が空気に曝されることにより、キャリア流体の一部が蒸発し、その後、MR流体は濃縮される。加工領域から出ると、その濃縮された流体は再度、非磁化状態となり、再循環及び再使用のため、ホイールの加工面から拭き取られる。ホイールへの流体の供給及びホイールからの流体の回収は、米国特許 ́369に開示されたようなクローズド流体分配システム又は米国特許第6,955,589号に記載されたような改良されたシステムにより管理される。MR流体は、吸引ポンプによりスクレーパから引き出され、且つ分配タンクに送られ、この分配タンクにて、流体の温度が測定され且つ目的に合うように調節される。分配ポンプからノズルへ、従って加工領域を通る所定の流量にての再循環は、磁気弁を使用することにより、分配ポンプの流量を制御することにより実現される。液抵抗は、流量計からのフィードバック信号により制御される。ホイールに排出されたときのMR流体中の固形物の濃度は、加工領域内での材料の除去率を制御する上で1つの重要なファクタである。濃度の制御は、濃度と直接相関する、流体の粘度を測定し且つ監視することにより、実現される。粘度の測定は、インライン毛管粘度計により行われる。一定の流体の流量のとき、毛管を通じての圧力の降下、即ち、2つの圧力センサ間の差圧は、流体の粘度に比例する。圧力降下の増加は、粘度の増大を意味すると解釈され、キャリア流体をテンパリングポンプタンク内のMR流体に補充し、目的に合うように見掛けの粘度を降下させる。米国特許第 ́369号及び米国特許第 ́589号に開示された技術を使用して基板を仕上げるとき、幾つかの問題点に遭遇する。先行技術のMR仕上げシステムを作動させるためには、吐出しポンプと、吸引ポンプと、流量計と、粘度計と、ノズルと、圧力変換器と、パルス減衰器と、磁気弁と、冷却器と、管とを備える分配システムを使用することが必要となる。かかる分配システムのコストは多額であり、MR仕上げシステムの全体のコストの最大、4分の1を占めることになる。分配システムを再充填することは、時間を消費する過程であり、全ての構成要素を完全に分解し、洗浄し且つ再組立て、新たな流体にて充填した後、馴らし運転しなければならず、この時間の掛かる手順は、この技術の生産性及び柔軟性に悪影響を与えることになる。分配システムは、MR流体の寿命の間、機械内でノンストップ状態にて作動しなければならない。固体物の沈積に起因するMR流体の特性の変化を避けるため、ポリシング間の介入期間中でさえ、研磨MR流体を連続的に再循環させる必要がある。かかる連続的な再循環の結果、分配システムの構成要素の磨耗及び損傷が加速され、余分なエネルギを消費することになる。幾つかの理由の何れかに起因する、分配システム内でのMR流体の流量の不安定性拍動の結果、不安定な除去率となり、また、基板の表面にて誤りを生ずる。MR流体を適正に循環させ、且つ分配しシステムのいろいろな構成要素との適合可能性を可能にするため、流体は、特定のレオロジー/粘度特性、及び適正な化学的性質を有しなければならない。このことは、流体の構成要素の選択を制限し、且つ流体の組成を制約し、例えば、除去率を向上させるためには、より高い固形物の濃度が必要とされる。当該技術にて、ポリシング工程が先行技術の従来的なMR流体分配システムを必要としない、改良され、低コスト、低メンテナンスで且つ技術的に柔軟なMR仕上げシステムが必要とされている。本発明の主たる目的は、MR仕上げシステムを簡単にし、システムの構造及び作動コストを軽減し、運転時間の率を増加させ、仕上がった基板の品質を改良し、システムの柔軟性を向上させることである。簡単に説明すれば、本発明に従った基板の改良された磁気レオロジー仕上げシステムは、先行技術のMR流体分配システムの必要性を解消するものである。ポリシング工程は、従来、磁気強化したポリシングリボンによって実施されており、該ポリシングリボンは、キャリアホイールに対して配設された新規な一体的な流体管理モジュールにより形成され、且つMRポリシング流体が装填されており、また、該ポリシングリボンは、IFMM内及び加工領域内のMR流体のレオロジー流体特性を動的に制御するため鉄粒子の濃度及び流体の温度のセンサを有している。好ましくは、装置内のMR流体をテンパリングするための装置が含まれるものとする。IFMMは、MR流体が装填された、磁気遮蔽したキャビティを有する本体を備えている。MR流体は、その関連する開示内容を参考として引用し、本明細書に含めた米国特許第7,156,724号以下に、 ́724と称するに開示されたように、IFMMの動的な磁気密封効果を通じてキャリアホイールと接触している。シールは、ホイールが回転するとき、キャリアホイール上にポリシングリボンを形成する、押出し成形装置を規定する溝が設けられた磁気遮蔽した挿入体を更に有している。該リボンは、磁気流体の影響を受けないホイールの表面に形成される。キャビティ内のMR流体は、移動するホイールの表面により溝を通して吸引され、次に、そのホイールは、形成される連続的なリボンを磁気加工領域に輸送し、先行技術におけるように、磁化したポリシングツールを形成する。流体内の磁気粒子の濃度に感応するセンサは、キャビティ内に設置され、MR流体の特性を制御し、特に、MR流体内の水分量を動的に制御するための信号を提供する。IFMMは、リボンが加工領域から去った後、リボンをホイールから除去し、キャビティ内のMR流体を動揺させるための手段を更に備えている。"