"使用時の配置においてグレージングユニットの面1を構成することを意図する、面のうちの1つに、薄いフィルムの多層構造体を備えたガラス基材1を含むグレージングユニットであって、その多層構造体は、当該基材1の方から、透明導電性酸化物のフィルム2、屈折率が1.40~1.55の範囲であり光学的厚さYを有する中間フィルム3、及び光学的厚さXが最大で50nmの光触媒フィルム4を含み、ナノメートルで表した当該光学的厚さXとYが、110e0025X≦Y≦135e0018Xであるようなものである、グレージングユニット。複合グレージングユニット、特に二重又は三重グレージングユニットである、請求項1記載のグレージングユニット。透明導電性酸化物のフィルム2がフッ素をドープした酸化スズのフィルム又はインジウムとスズの混合酸化物のフィルムである、請求項1又は2記載のグレージングユニット。透明導電性酸化物のフィルム2の屈折率が1.7~2.5の範囲にある、請求項1~3の1つに記載のグレージングユニット。透明導電性酸化物のフィルム2の放射率が0.4以下、とりわけ0.3以下である、請求項1~4の1つに記載のグレージングユニット。中間フィルム3がシリカを基礎材料としている、請求項1~5の1つに記載のグレージングユニット。光触媒フィルム4が酸化チタンを基礎材料としている、請求項1~6の1つに記載のグレージングユニット。光触媒フィルム4が、屈折率が2.0~2.5の範囲にある酸化チタンのフィルムである、請求項1~7に記載のグレージングユニット。光学的厚さXが最大で40nm、とりわけ30nmである、請求項1~8の1つに記載のグレージングユニット。透明導電性酸化物、特にインジウムとスズの混合酸化物、のフィルム2と中間フィルム3との間に、保護フィルム5が配置されている、請求項1~9の1つに記載のグレージングユニット。基材1と透明導電性酸化物のフィルム2との間に、中和用フィルム又は複数フィルムの中和用多層構造体6が配置されている、請求項1~10の1つに記載のグレージングユニット。透明導電性酸化物のフィルム2がインジウムとスズの混合酸化物のフィルムであり、そして基材1と中和用フィルム又は多層構造体6との間に接着性フィルム7が配置されている、請求項1~11に記載のグレージングユニット。面1に配置された多層構造体が、次の多層構造体、すなわち、ガラス/SiOC/SnO2F/SiO2/TiO2ガラス/SiSnOx/SnO2F/SiO2/TiO2ガラス/SiO2/SiOxNy/ITO/Si3N4/SiO2/TiO2ガラス/SiO2/Si3N4/SiO2/ITO/Si3N4/SiO2/TiO2ガラス/Si3N4/SiO2/ITO/Si3N4/SiO2/TiO2から選ばれている、請求項1~12の1つに記載のグレージングユニット。面2~5から選ばれる少なくとも1つのほかの面、特に面2と5が、低E特性を有する多層構造体で被覆された三重グレージングユニットである、請求項1~13の1つに記載のグレージングユニット。前記フィルムをスパッタリングにより被着させ、次いで前記TCOフィルムと前記光触媒フィルムの結晶化の増進を目的とする熱処理にかけ、その熱処理が熱強化、徐冷又は急速徐冷処理から選ばれる、請求項1~14の1つに記載のグレージングユニットを得るための方法。前記急速徐冷処理を火炎、プラズマトーチ又はレーザーを使って行う、請求項15記載の方法。グレージングユニットの表面に凝縮水が現れるのを減らすことへの、請求項1~14の1つに記載のグレージングユニットの利用。本発明の目的は、外表面への凝縮曇りや霜の発生を制限又は防止する一方で、G値の低下を、従って居住施設内への熱移動の減少を、できるだけわずかにするグレージングユニットを提供することによって、これらの欠点を克服することである。具体的に言うと、本発明の1つの対象は、使用時の配置においてグレージングユニットの面1を構成することを意図する、面のうちの1つに、薄いフィルムの多層構造体を備えたガラス基材を含むグレージングユニットであって、その多層構造体は、当該基材の方から、透明導電性酸化物のフィルム、屈折率が1.40~1.55の範囲であり光学的厚さYを有する中間フィルム、及び光学的厚さXが最大で50nmの光触媒フィルムを含み、ナノメートルで表した当該光学的厚さXとYが、110e0025X≦Y≦135e0018Xであるようなものである、グレージングユニットである。グレージングの面1という表現は、当該技術分野において一般的であるように、グレージングユニットの居住施設の外部と接して配置しようとする外表面を指すものと理解される。グレージングユニットの面は外側から番号をつけられ、従って面2は面1の反対側の面であり、言い換えれば同じ窓ガラスの他方の面である。2枚以上の窓ガラスを含む複合グレージングユニットでは、面3はグレージングユニットの第2の窓ガラスの面2に面する面であり、面4は面3の反対側の面である、などとなる。屈折率は、例えば偏光解析法を使って、550nmの波長で測定される。フィルムの光学的厚さは、フィルムの物理的厚さ幾何学的厚さとも呼ばれるとその屈折率との積に相当する。本発明によるグレージングユニットは、好ましくは複合グレージングユニットであり、特に二重又は三重グレージングユニットであり、あるいは更に多重の多層構造体、例えば四重グレージングユニットである。これは、これらのグレージングユニットは熱透過率が小さくて、凝縮作用の影響をより多く受けるからである。二重グレージングユニットは一般に、互いに向き合ってガスを充填された空間、例えば空気、アルゴンもしくはキセノンあるいはクリプトンを充填された空隙を有している。通常は、金属ストリップ、例えばアルミニウムストリップの形をしたスペーサーバーが、グレージングユニットの外周部の窓ガラスの間に配置されて、接着剤で窓ガラスにしっかりと固定される。グレージングユニットの周辺部は、ガスを充填した空隙に湿分が入り込むのを防ぐために、マスチック、例えばシリコーン、ポリサルファイド又はポリウレタンマスチックを使ってシールされる。湿分が入り込むのを制限するために、スペーサーバーにモレキュラーシーブを配置することが多い。三重グレージングユニットは同じようにして形成されるが、この場合は窓ガラスの数が3枚になる。本発明によるグレージングユニットが三重グレージングユニットである場合、面2~5から選ばれる少なくとも1つの他の面は、低Eの多層構造体で被覆されるのが好ましい。詳しく言えば、これは銀フィルムを少なくとも1つ含む薄いフィルムの多層構造体でよく、各銀フィルムは誘電性フィルムの間に配置される。低Eという用語は、一般に最大で0.1の、とりわけ0.05の、放射率を提供することを意味するものと理解される。好ましくは、2つの他面、特に面2と5は、そのような多層構造体で被覆される。このほかの構成も、すなわち面2と3、2と4、3と4、4と5、面2と3と4、面2と3と5、面2と4と5、あるいは面2と3と4と5、というのも可能であるが、それほど好ましくはない。ほかのタイプの多層構造体をグレージングの面に配置してもよく、例えば面2、3、4、5又は6に反射防止の多層構造体を配置してもよい。本発明によるグレージングユニットが二重グレージングユニットである場合、面2を低Eの多層構造体、とりわけ上述のタイプの多層構造体で被覆するのが有利である。あるいはまた、面2を日照調整多層構造体で被覆してもよいが、そのような多層構造体はG値を低下させるので、これは好ましくはない。本発明によるグレージングユニットは、任意のタイプのグレージングユニットとして使用することができる。それはカーテンウォール、屋根、あるいはベランダに取り入れてもよい。それは垂直に配置してもよく、あるいは傾けて配置してもよい。ガラス基材は、好ましくは透明で無色であるこの場合それは透明ガラスでも超透明ガラスでもよい。それはまた着色されていてもよく、例えば青色、緑色、灰色あるいはブロンズ色でもよいが、G値を低下させるこの実施形態は好ましくはない。ガラスは、好ましくはソーダ-石灰-シリカガラスであるが、ホウケイ酸ガラス又はアルミノホウケイ酸ガラスであってもよい。基材の厚さは、一般には0.5mm~19mmの範囲にあり、好ましくは0.7~9mm、とりわけ2~8mm、あるいは4~6mmの範囲にある。必要に応じ、同じことが複合グレージングユニットのそのほかの窓ガラスについても言える。ガラス基材は、好ましくはフロートガラスであり、すなわち溶融したスズの浴フロート浴上に溶融ガラスを流し込む方法により得られたであろうものである。この場合、多層構造体は、基材の空気側と同じようにスズ側にも同じようにうまく配置することができる。空気側、スズ側という表現は、それぞれ、フロート浴の上方の空気と接触した基材の面及び溶融スズと接触した基材の面を指すものと理解される。スズ側は、ごく微量のスズを含有しており、このスズはガラスの構造中に拡散したものである。本発明の核心を構成する多層構造体を備えたものを含めて、少なくとも1枚の窓ガラスは、強度を増すように、強化あるいは強靱化されてもよい。下記で説明するように、熱強化を使用してフィルムの放射率又は光触媒特性を向上させてもよい。本発明によるグレージングユニットの音響特性あるいは侵入防止特性を向上させるために、グレージングの少なくとも1枚の窓ガラスは、場合により、ポリビニルブチラールPVB又はポリウレタンPUなどのポリマー製の中間シートを用いてもう1枚の窓ガラスに積層される。透明導電性酸化物のフィルムは、好ましくは、フッ素をドープした酸化スズSnO2:Fのフィルムあるいはインジウムとスズの混合酸化物ITOのフィルムである。このほかのフィルムも可能であり、それらの中にはインジウムと亜鉛の混合酸化物IZOと呼ばれるを基にした、ガリウムをドープした又はアルミニウムをドープした酸化亜鉛を基にした、ニオブをドープした酸化チタンを基にした、スズ酸亜鉛又はカドミウムを基にした、あるいはアンチモンをドープした酸化スズを基にした、薄いフィルムがある。アルミニウムをドープした酸化亜鉛の場合には、ドープレベルすなわち総重量に対する酸化アルミニウムの重量は好ましくは3未満である。ガリウムの場合は、ドープレベルはそれより高く、一般に5~6の範囲にあることができる。ITOの場合は、Snの原子百分率は5~70、特に10~60の範囲にあるのが好ましい。フッ素ドープの酸化スズを基にしたフィルムについて言えば、フッ素の原子百分率は最大で5が好ましく、一般には1~2である。これらのフィルムは、多層構造体がグレージングの面1に配置される場合に必要な、良好な耐候性を有するが、これは銀フィルムなどのその他の低Eフィルムには当てはまらない。後者は必然的に、複合グレージングユニットの内側面に位置しなければならない。ITOは、とりわけSnO2:Fと比べて、特に好ましい。ITOは導電率がより高いので、同じ放射率レベルについてその厚さはより小さくてよく、それによりG値の低下を最小限にすることができる。スパッタリング、特にマグネトロンスパッタリングにより容易に被着されるので、これらのフィルムは粗さが小さく、従って汚れがつきにくい。具体的に言えば、グレージングユニットの製造、ハンドリング及びメンテナンスの際に、より粗いフィルムは除去するのが特に困難な種々の残留物を捕捉する傾向がある。その一方、フッ素ドープの酸化スズの利点の1つは、スパッタリングと対比してその後の熱処理を必要とせず、フロート法を利用して板ガラスを製造するラインで実施することができる化学気相成長CVDで容易に被着することができることである。TCOフィルムの厚さは、求められる凝縮防止性能に依存する所望の放射率を得るように、フィルムの特性に応じて調整される。TCOフィルムの放射率は、0.4以下、とりわけ0.3以下であるのが好ましい。ITOフィルムの場合は、幾何学的厚さが一般に少なくとも40nmであり、あるいは50nm以下、更には70nm以下であり、そして多くの場合は最大で150nm又は200nmである。フッ素ドープの酸化スズの場合は、幾何学的厚さは一般に少なくとも120nm、更には200nmであり、多くの場合最大で500nmである。グレージングを垂直の位置に配置しようとする場合には、放射率は好ましくは最大で0.4、更には0.3である。フッ素ドープの酸化スズの場合は、これは一般に少なくとも120nm、実際には200nmの幾何学的厚さを必要とする。ITOの場合は、幾何学的厚さは一般に少なくとも40nm、更には50nmであり、多くの場合最大で150nmである。グレージングを、例えば屋根の用途で、傾けて配置しようとする場合には、放射率は好ましくは最大で0.3であり、実際のところ0.2、更には0,18である。フッ素ドープの酸化スズの幾何学的厚さは少なくとも300nmであるのが好ましく、ITOのそれは少なくとも60nm、実際のところ70nm又は100nm、そして多くの場合最大で200nmである。放射率という用語は、標準規格EN12898の意味において283Kでの垂直放射率を指すものと理解される。透明導電性酸化物フィルムの屈折率は、1.7~2.5の範囲にあるのが好ましい。本発明の効果を最大にするためには、中間フィルムの屈折率は最大で1.50、実際のところ1.48であるのが好ましい。中間フィルムは、シリカを基礎材料とするのが有利であり、更にはシリカ製であるのが有利である。シリカはドープされていてもよく、あるいは非化学量論組成であってもよい。一例として、スパッタリングするのをより容易にするよう、シリカにはアルミニウム又はホウ素原子をドープしてもよい。化学気相成長CVDの場合には、シリカにリン又はホウ素原子をドープし、それにより被着を促進してもよい。シリカにはまた、フィルムの屈折率が前述の範囲内にとどまるのに十分なだけ少量の窒素又は炭素原子をドープしてもよい。このような中間フィルムには、TCOフィルムを保護してより良好な耐候性を付与し且つ強化処理に対する耐性を向上させるという利点もある。フッ素ドープの酸化スズに基づくTCOの場合には、中間フィルムには更に、表面を滑らかにしてフィルムの摩損性を低下させるという利点がある。光触媒フィルムは、酸化チタンを基礎材料とし、とりわけ酸化チタンのフィルムであって、その屈折率は特に2.0~2.5の範囲にあるのが好ましい。酸化チタンは、少なくとも一部分は、光触媒作用の観点から最も活性の相であるアナタース型に結晶化しているのが好ましい。アナタース相とルチル相との混合物も、非常に活性であることが観測されている。酸化チタンには、任意選択的に金属イオン、例えば遷移金属イオンをドープしてもよく、あるいは窒素、炭素又はフッ素の原子をドープしてもよい。酸化チタンはまた、化学量論量に満たない組成でも化学量論量を超える組成でもよい。酸化チタンが明らかに好ましいとは言うものの、このほかの光触媒性酸化物も使用することができ、それにはSrTiO3、ZnO、SiC、GaP、CdS、CdSe、MoS3、SnO2、ZnO、WO3、Fe2O3、Bi2O3、Nb2O5、KTaO3、BiVO4、Bi2WO6が含まれる。本発明によるグレージングユニットでは、自己クリーニング機能を十分発揮するように、光触媒フィルム、とりわけ酸化チタンを基にしたフィルムの全表面を、屋外と接触させるのが好ましい。とは言え、光触媒フィルム、とりわけ二酸化チタンのフィルムの表面を、薄い親水性フィルム、とりわけシリカを基にしたフィルムで覆って、親水性の耐久性を向上させるようにするのが有利であろう。光触媒フィルム、とりわけ酸化チタンを基にしたフィルムの光学的厚さXは、最大で40nm、とりわけ30nmであるのが好ましい。その幾何学的厚さは、最大で20nm、実際のところ15nm、さもなければ10nmであるのが有利であり、そして5nm以上であるのが好ましい。しかし、光触媒作用について言えばそれほど活性ではないものの、非常に薄いフィルムには良好な自己クリーニング、汚れ防止及び曇り防止の特性がある。非常に薄いフィルムでさえ、光触媒性の酸化チタンには、太陽光を受けた場合に、極めて親水性になり、水との接触角が5°、更には1°より小さくなって、それにより水がより容易に流れ去るのを可能にし、フィルムの表面に被着した汚れを除去するという特異性がある。更に、より厚いフィルムはより多くの光を反射し、G値を低下させる。1つの有力な実施形態によれば、透明導電性フィルムと中間フィルムとの間、及び/又は中間フィルムと光触媒フィルムとの間にはフィルムを配置しない。あるいはまた、TCOフィルムとりわけそれがITO製である場合と中間フィルムとの間に保護フィルムを配置してもよい。厚さが有利には最大で10nm、とりわけ5nm、実際のところ2nmでさえあるこのフィルムは、中間フィルムを被着させる間に、とりわけフィルムをスパッタリングで被着させる場合に、そして任意選択的なその後の熱処理の間に、TCO、特にITOを保護するのを可能にする。保護フィルムの屈折率は、TCOフィルムのそれより高いかそれに等しいことが好ましい。窒化ケイ素が特に好ましい。基材と透明導電性酸化物のフィルムとの間に、中和用フィルム、あるいは中和用のフィルムの多層構造体を配置することも可能である。単一フィルムの場合、その屈折率は、基材の屈折率と上述の透明導電性酸化物のフィルムの屈折率との間にあることが好ましい。そのようなフィルムあるいはフィルムの多層構造体は、グレージングユニットの反射の見かけ、とりわけ反射の色に影響を及ぼすのを可能にする。負のb色座標を特徴とする青みがかった色が好ましい。限定されない例として、ケイ素とスズの混合酸化物SiSnOx、酸炭化ケイ素もしくは酸窒化ケイ素、酸化アルミニウム、あるいはチタンとケイ素の混合酸化物のフィルムを用いることが可能である。高い屈折率と低い屈折率の2つのフィルムを含むフィルムの多層構造体、例えばTiO2/SiO2、Si3N4/SiO2、又はTCO/SiO2の多層構造体も使用することができる後者の場合、TCOは多層構造体で先に用いられているものと同じでもよく、あるいは別のTCOでもよい。このフィルム又はこれらのフィルムの幾何学的厚さは、15~70nmの範囲にあるのが好まし。透明導電性酸化物のフィルムがフッ素をドープした酸化スズである場合には、中和用の下層は酸炭化ケイ素、又はケイ素とスズの混合酸化物で作製される。透明導電性酸化物のフィルムがITOで作製される場合には、このフィルムの下に酸窒化ケイ素製の又はSi3N4/SiO2の多層構造体製の中和用フィルムを配置するのが好ましい。特に、透明導電性酸化物のフィルムがITOのフィルムである場合は、基材と中和用フィルム又は中和用多層構造体との間に接着性のフィルムを配置することが好ましい。有利には屈折率がガラス基材の屈折率に近い、この接着性フィルムは、中和用フィルムの結合形成を促進するので、強化条件下での保持力の向上を可能にする。接着性フィルムはシリカで製作するのが好ましい。その幾何学的厚さは20~200nm、とりわけ30~150nmの範囲にあるのが好ましい。言うまでもなく、上述の種々の好ましい実施形態を互いに組み合わせてもよい。もちろんながら、全ての可能な組み合わせがここに明記されているわけではない。特に好ましい多層構造体のいくつかの例を次に示す。1.ガラス/SiOC/SnO2F/SiO2/TiO22.ガラス/SiSnOx/SnO2F/SiO2/TiO23.ガラス//SiOxNy/ITO/Si3N4/SiO2/TiO24.ガラス/SiO2/Si3N4/SiO2/ITO/Si3N4/SiO2/TiO25.ガラス/Si3N4/SiO2/ITO/Si3N4/SiO2/TiO2これらの多層構造体において、TiO2フィルムの幾何学的厚さは最大で15nm、更には10nmであるのが有利である。TCOフィルムの厚さは、先に説明したように、必要とされる放射率に応じて、自由に選ばれる。多層構造体1と2は、フッ素ドープの酸化スズで作製したTCOフィルムを使用する。これらの多層構造体は、フロートガラスラインにおいて、好ましくは直接、化学気相成長により得るのが好ましい。ITOを使用する多層構造体3~5は、マグネトロンスパッタリングにより得るのが好ましい。例3と4は、ガラス上に、シリカ製の接着性フィルム例3の場合、任意選択的を有し、次に酸窒化ケイ素製の中和用フィルムあるいはシリカフィルムが載っている窒化ケイ素のフィルムからなる中和用の多層構造体、TCOフィルム、窒化ケイ素製の保護フィルム、シリカの中間フィルム、そして最後に二酸化チタン製の光触媒フィルムを有する。例5は例4に対応しているが、接着性のシリカフィルムがない。示した化学式は、フィルムの実際の化学量論組成あるいは最終的なドープ量を示してはいない。本発明によるグレージングユニットは、複数の工程を含む方法により得るのが好ましい。多層構造体のフィルムがガラス基材上に被着され、そのガラス基材は一般に、3.2×6m2の大きな板ガラスの形をしており、あるいはフロートプロセスでの処理中又は処理直後のガラスリボンであって、その後グレージングユニットの最終の大きさに切断される。端部を仕上げてから、基材を、機能性の被覆物、例えば低Eの被覆物を任意選択的に前もって装備した他のガラス板と結合させて、多層グレージングユニットが製造される。多層構造体の種々のフィルムは、任意の薄膜被着プロセスによりガラス基材上に被着させることができる。それは、例えば、ゾル-ゲル法、液体又は固体熱分解、化学気相成長CVD、特にプラズマ化学気相成長PECVD、任意選択的に大気圧でのプラズマ化学気相成長AP-PECVD、あるいは蒸着、であることができる。1つの好ましい実施形態によれば、多層構造体のフィルムは、フロートガラス板の製造ラインで直接、化学気相成長により得られる。これは、ITOのフィルムがフッ素ドープの酸化スズのフィルムである場合に好ましい。フィルムは、高温のガラスリボン上へ、ノズルを通して前駆物質からスパッタリングされる。製造ラインの様々な箇所で様々なフィルムを被着させることができ、フロート室において、フロート室と徐冷炉との間で、あるいは徐冷炉で、被着させることができる。前駆物質は一般には、有機金属分子又はハロゲン化物タイプの分子である。一例として、フッ素ドープの酸化物、四塩化スズ、三塩化モノブチルスズMBTCL、トリフルオロ酢酸、又はフッ酸を挙げることができる。酸化ケイ素は、シラン、テトラエトキシシランTEOS、あるいはヘキサメチルジシロキサンHMDSOを使用し、任意選択的にリン酸トリエチルなどの促進剤を使用して、得ることができる。酸化チタンは、四塩化チタンから、あるいはチタンイソプロポキシドから得ることができる。高温ガラス上への被着を含む、CVD法には、十分結晶化したTCOフィルム及び十分結晶化した光触媒フィルムを直接製造するという利点がある。別の好ましい実施形態によると、多層構造体のフィルムは、スパッタリング、特にマグネトロンスパッタリングにより得られる。これは、TCOフィルムがITOフィルムである場合に好ましい。このプロセスでは、被着させようとする化学元素を含むターゲット近くの高真空下でプラズマが作られる。プラズマの活性種がターゲットに衝突し、当該元素をはぎ取って、それらが基材上に被着して所望の薄いフィルムを形成する。このプロセスは、フィルムがターゲットからはぎ取られた元素とプラズマ中に含まれているガスとの化学反応の結果得られた物質からなる場合に、反応性であると言われる。このプロセスの主な利点は、基材を種々のターゲット下を次々に走行させることにより所定のラインでフィルムの非常に複雑な多層構造体を被着させることが可能であり、これが一般に1つの同じ装置において行われるということである。しかし、マグネトロンプロセスには、被着中に基材が加熱されない場合に、得られるTCOフィルムと酸化チタンフィルムは放射率と光触媒活性がそれぞれ最適化されないというように、結晶化が不十分になるという欠点がある。その結果、熱処理が必要である。TCOフィルムと光触媒フィルムの結晶化を増進させることを意図するこの熱処理は、熱強化、徐冷又は急速徐冷処理から選ぶのが好ましい。結晶化の向上は、結晶化度すなわち重量による又は容積による結晶性物質の割合及び/又は結晶粒子の大きさあるいはX線回折法又はラマン分光法により測定したコヒーレント回折ドメインの大きさの増大によって定量化することができる。この結晶化の増進は、フィルムの特性の向上によって、間接的に確認することもできる。TCOフィルムの場合、放射率は相対的な大きさで少なくとも5、更には少なくとも10又は15減少するのが好ましく、その光及びエネルギー吸収についても同様である。二酸化チタンフィルムの場合、結晶化の増進は光触媒活性の上昇を招く。この活性は一般に、ステアリン酸又はメチレンブルーなどのモデル汚染物質の分解を追跡調査することにより測定される。熱強化又は徐冷処理は、一般に炉でもって、すなわちそれぞれ強化炉又は徐冷炉でもって行われる。基材全体を高温に、徐冷の場合で少なくとも300°Cまで昇温させ、強化の場合で少なくとも500°Cまで昇温させ、更には600°Cまで昇温させることもある。急速徐冷は、火炎、プラズマトーチ又はレーザーを使って実施されるのが好ましい。この種の処理においては、基材と装置火炎、レーザー、プラズマトーチとの相対的な運動を生じさせる。一般には、装置は可動性であり、被覆される基材がその表面が処理を受けることができるように装置を通り抜けて走行する。これらのプロセスは、処理される被覆物に非常に短い時間のうちに高いエネルギー密度を供給して、熱が基材中へ拡散してそのため基材を加熱するのを制限する。処理中の基材の温度は、一般に最高で100°Cであり、実際のところ50°C、更には30°Cのこともある。薄いフィルムの各箇所は、一般に1秒以下、実際のところ0.5秒以下の時間、急速徐冷処理を受ける。急速徐冷熱処理は、赤外又は可視光を放射するレーザーを使って実施するのが好ましい。レーザー放射の波長は、530~1200nm、又は600~1000nm、とりわけ700~1000nm、実際のところ800~1000nmの範囲にあることが好ましい。好ましくは、レーザーダイオード、例えば約808nm、880nm、915nm、あるいは940nm又は980nmの波長のレーザーダイオードを使用する。ダイオードのシステムは、非常に高い出力を得るのを可能にし、処理される被覆物において20kW/cm2より高く、更には30kW/cm2よりも高い表面出力密度が得られるのを可能にする。レーザー放射線は、基材の幅の全て又は一部に同時に照射するライン以下においてレーザーラインと称するを形成する少なくとも1つのレーザービームでもって放射される。この実施形態は、一般に大型であって保守がしにくい高価な機構システムを用いるのを回避するので、好ましいものである。とりわけ、収束光学装置と組み合わせた高出力レーザーダイオードを使用してインラインレーザービームを得ることができる。ラインの太さは0.01mmと1mmの間にあるのが好ましい。ラインの長さは一般に5mmと1mの間にあり、ラインのプロファイルは特に、ガウス分布又はトップハット型分布であることができる。基材の幅の全て又は一部に同時に照射するレーザーラインは、単一のラインこの場合、基材の幅全体に照射する、又は随意に別個の複数のラインからなることができる。複数のラインを使用する場合、多層構造体の面積全体を処理するようにそれらを配置するのが好ましい。単一ラインあるいは各ラインは、基材の走行方向に対して直角に配置すること、あるいは斜めに配置することが好ましい。各種のラインで基材を同時に、あるいは遅延式に処理することができる。重要な点は、処理すべき面積全体を処理することである。従って、とりわけ固定されたレーザーラインを並進的に越えて、一般にはレーザーラインの下方を、とは言え任意選択的には上方を走行するように、基材を移動させることができる。この実施形態は連続の処理に特に有利である。あるいはまた、基材を固定にして、レーザーを移動させてもよい。好ましくは、高い処理速度を確保するように、基材とレーザーのそれぞれの速度の差を1m/min、あるいは4m/min、更には6、8、10又は15m/min以上にする。移動するのが、とりわけ並進移動するのが、基材である場合、それを任意の機械的搬送手段、例えば並進走行するベルト、ローラー又はトレイ、を使って移動させることができる。搬送システムを利用して走行速度を管理し調節する。基材からの距離を調整するようにレーザーを移動させることもでき、これは基材が湾曲している場合に特に有効であるが、このような場合にのみ有効なわけではない。実際のところ、レーザービームは、処理すべき被覆物が焦点面から1mm以下の距離に位置するように、被覆物上に焦点を合わせるのが好ましい。基材を移動させるための又はレーザーを移動させるための装置が基材と焦点面との距離に関し十分正確でない場合は、レーザーと基材との間隔を調整できることが好ましい。この調整は自動であることができ、特に処理の上流での距離測定を利用して調節することができる。レーザー放射装置は、フィルム被着ラインに、例えばマグネトロンスパッタリングライン、又は化学気相成長CVDライン、特に、真空下のものであれ大気圧でのものAP-PECVDであれ、プラズマ化学気相成長PECVDラインに統合することができる。本発明のもう1つの対象は、本発明によるグレージングユニットを利用してそのグレージングユニットの表面に凝縮水特に曇りや霜が現れるのを軽減することである。図1は、本発明によるグレージングユニットの一部分の断面を模式的に説明するものである。グレージングユニットの面1に配置した多層構造体とガラス基材の一部のみを示している。示しているのは、基材1一般にガラス製の上に被着させた、透明導電性酸化物一般にITOのフィルム2、中間フィルム3一般にSiO2製、及び光触媒フィルム4一般にTiO2製である。任意選択的なフィルムは、保護フィルム5一般にSi3N4、中和用フィルム又は中和用多層構造体6一般にSi3N4/SiO2、及び接着性フィルム7例えばSiO2製である。以下の例は本発明を説明するものであるが、それを限定するものではない。例1この例は、各フィルムをCVD化学気相成長により被着させ、TCOがフッ素をドープした酸化スズSnO2:Fであった実施形態を説明する。多層構造体をガラス基材上に周知の方法で被着させ、これらの多層構造体は、基材から始めて、屈折率1.65の酸炭化ケイ素の一般式SiOCの中和用フィルム、フッ素ドープの酸化スズ製であって屈折率1.8のTCOフィルム、屈折率1.48の中間シリカフィルム、そして最後にTiO2製であって屈折率2.0の光触媒フィルムからなるものであった。本明細書の全てにおいて、屈折率は波長550nmについて示される。この例で使用した基材は、出願人がSGCPlanilux商標の商品名で市販している厚さ4mmの透明な板ガラスであった。下記の表1は、本発明による試料であれ比較例であれ、各試料について次のものを示している。多層構造体の各フィルムの幾何学的厚さnm。TEで表される、標準規格EN410:1998の意味においての多層構造体被覆基材のエネルギー透過率あるいは直接太陽エネルギー透過率。CIE1931参照オブザーバーを使用しD65光源下で計算した、多層構造体側からの反射光における色座標a、b。比較例C1、C2は、本発明による例1、2と違って、中間フィルムの厚さが最適化されていなかった。このことから、本発明による例では、エネルギー透過率が0.5より大きく、実際のところ1大きくなった。例1と例2との比較からは、中和用SiOCフィルムのない例2の多層構造体は反射光の無彩色の外観が少なくなって黄緑色の色合いが見られるという、このフィルムの効果が示された。基材C1、C2、及び1を使って、三重グレージングユニットを製作した。光触媒多層構造体をグレージングユニットの面1に配置し、それに対し銀を基礎材料とする2つの低E多層構造体をそれぞれ面2と5に配置した。下記の表2は、各事例において次のものを示している。TEで表される、グレージングのエネルギー透過率あるいは直接太陽エネルギー透過率。gで表される、グレージングのG値。これらの2つの量は、標準規格EN410:1998により計算した。このように、中間フィルムの厚さの選定はG値の非常に有意の増大を可能にする。例2この例は、各フィルムをマグネトロンスパッタリングにより被着させ、TCOがITOスズとインジウムの混合酸化物であった実施形態を説明する。多層構造体をガラス基材上に周知の方法で被着させ、これらの多層構造体は、基材から始めて、屈折率2.0の窒化ケイ素S3N4のフィルムから形成される中和用多層構造体、次に屈折率1.48のシリカフィルム、屈折率1.8のスズとインジウムの混合酸化物ITO製のTCOフィルム、屈折率1.48のシリカSiO2製の中間フィルム、そして最後に屈折率2.5のTiO2の光触媒フィルムからなるものであった。フィルムを被着後に、多層構造体で被覆した基材を徐冷工程にかけた。基材は先の例で使用したのと同じであった。下記の表3は、本発明によるあるいは比較のための各試料について、次のものを示している。多層構造体の各フィルムの幾何学的厚さnm。TEで表される、標準規格EN410:1998の意味においての多層構造体被覆基材のエネルギー透過率あるいは直接太陽エネルギー透過率。CIE1931参照オブザーバーを使用しD65光源下で計算した、多層構造体側からの反射光における色座標a、b。比較例C3、C4は、本発明による例3、4と違って、中間フィルムの厚さが最適化されていなかった。このことから、本発明による例では、エネルギー透過率が少なくとも1増加した。例3と例4との比較からは、中和用Si3N4/SiO2多層構造体のない例4の多層構造体は反射光の無彩色の外観が少なくなって紫色の色合いが見られるという、この多層構造体の効果が示された。基材C3、C4、及び3を使って、三重グレージングユニットを製作した。光触媒多層構造体をグレージングユニットの面1に配置し、それに対し銀を基礎材料とする2つの低E多層構造体をそれぞれ面2と5に配置した。下記の表4は、各事例において次のものを示している。TEで表される、グレージングのエネルギー透過率あるいは直接太陽エネルギー透過率。gで表される、グレージングのG値。これらの2つの量は、標準規格EN410:1998により計算した。このように、本発明による中間フィルムの厚さの選定は、絶対的に少なくとも1の、G値の非常に有意の増大を可能にする。更に、ITOの使用は、フッ素をドープした酸化スズと比べて、比較できる放射率レベルについてG値の増加従って凝縮防止効果を可能にする。窒化ケイ素で製作した非常に薄い保護フィルムを、グレージングユニットの光学的特性とエネルギー特性とに実質的な変更を加えなければ、TCOフィルムと中間フィルムとの間に配置してもよい。実施例に示した各種のグレージングユニットは、曇りや霜などの水の凝縮物が現れるのを大きく減少させる。"