"ポリアクリル酸塩、酸エステル、消泡剤、および任意選択の液体媒体を含む、添加剤混合物。前記添加剤混合物の0~80重量の液体媒体をさらに含む、請求項1に記載の添加剤混合物。前記ポリアクリル酸塩が、12,000未満の重量平均分子量を有する、請求項1または2に記載の添加剤混合物。前記ポリアクリル酸塩が、3000~5000の範囲の重量平均分子量を有する、請求項1または2に記載の添加剤混合物。前記ポリアクリル酸塩が、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリアクリル酸カリウム、ポリアクリル酸アンモニウム、およびポリアクリル酸カルシウムからなる群から選択される、請求項1または2に記載の添加剤混合物。前記ポリアクリル酸塩の量が、前記ポリアクリル酸塩、前記酸エステルおよび前記消泡剤の合計質量の10~70質量、好ましくは30~50質量である、請求項1または2に記載の添加剤混合物。前記酸エステルが、リン酸エステル、硫酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステルおよびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項1または2に記載の添加剤混合物。前記酸エステルの量が、前記ポリアクリル酸塩、前記酸エステルおよび前記消泡剤の合計質量の3~25質量、好ましくは5~10質量である、請求項1または2に記載の添加剤混合物。前記消泡剤が、シロキシル化ポリエーテル、鉱油、ポリシロキサン、変性ポリシロキサンコポリマーおよびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項1または2に記載の添加剤混合物。前記消泡剤の量が、前記ポリアクリル酸塩、前記酸エステルおよび前記消泡剤の合計質量の20~85質量、好ましくは40~60質量である、請求項1~9のいずれか一項に記載の添加剤混合物。請求項1~10のいずれか一項に記載の添加剤混合物、および研磨剤を含む、ガラス基板を研磨するための研磨組成物。前記研磨剤の量が、前記研磨組成物の合計質量に対して1~30質量である、請求項11に記載の研磨組成物。前記研磨剤が、セリウム含有研磨剤である、請求項11に記載の研磨組成物。前記セリウム含有研磨剤が、酸化セリウム、酸化ランタン-酸化セリウム、酸化ランタン-酸化セリウム-酸化プラセオジム、または酸化ランタン-酸化セリウム-酸化プラセオジム-酸化ネオジムからなる群から選択される、請求項13に記載の研磨組成物。前記ポリアクリル酸塩の量が、前記研磨組成物の合計質量に対して0.01~1.4質量、好ましくは0.25~1質量である、請求項11に記載の研磨組成物。前記酸エステルの量が、前記研磨組成物の合計質量に対して0.003~0.5質量、好ましくは0.01~0.1質量である、請求項11に記載の研磨組成物。前記消泡剤の量が、前記研磨組成物の合計質量に対して0.02~1.7質量、好ましくは0.4~1質量である、請求項11に記載の研磨組成物。pH調整剤をさらに含む、請求項11~17のいずれか一項に記載の研磨組成物。前記pH調整剤が、有機酸、無機酸、有機アルカリおよび無機アルカリからなる群から選択される、請求項18に記載の研磨組成物。前記研磨組成物のpHが、6~12、好ましくは7~9である、請求項11に記載の研磨組成物。少なくとも1種の液体媒体をさらに含む研磨スラリーである、請求項11に記載の研磨組成物。前記液体媒体が、水および有機溶媒からなる群から選択される、請求項21に記載の研磨組成物。前記有機溶媒が、アルコール、アセトンおよびテトラヒドロフランからなる群から選択される、請求項22に記載の研磨組成物。前記液体媒体が、水、好ましくは脱イオン水である、請求項22に記載の研磨組成物。請求項11~24のいずれか一項に記載の研磨組成物を使用してガラス基板の表面を研磨する工程を含む、ガラス基板を研磨する方法。前記ガラス基板が、薄膜トランジスタ、超捩れネマティックガラス基板、光学ガラス基板、ガラスハードディスク基板、および石英ガラスからなる群から選択される、請求項25に記載の方法。したがって、改善された研磨性能を有する研磨組成物を開発する必要性が依然としてある。上述の問題を解決するために、本発明者らは、広範かつ集中的な調査を行い、驚くべきことに、研磨速度を高め、表面平滑度を改善し得る研磨組成物を見出した。ある態様として、本発明は、ポリアクリル酸塩、酸エステル、および消泡剤を含む添加剤混合物に関する。別の態様として、本発明は、本発明による添加剤混合物および研磨剤を含む、ガラス基板を研磨するための研磨組成物に関する。さらに別の態様として、本発明は、この研磨組成物を使用してガラス基板の表面を研磨する工程を含む、ガラス基板を研磨する方法に関する。特に断りのない限り、本発明におけるポリアクリル酸塩polyacrylatesaltという用語は、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリアクリル酸カリウム、ポリアクリル酸アンモニウム、およびポリアクリル酸カルシウムを含むがこれらに限定されない、ポリアクリル酸の塩saltofpolyacrylateを意味する。一般に、研磨組成物は、表面平滑度と研磨速度の両方について満足するレベルを満たさない。したがって、高い研磨速度で優れた表面品質を有する基板を製造することができる手段、言い換えれば、経済的利点と表面平滑度の両方について満足するレベルを満たし得る手段を提供することは非常に意義がある。本発明は、高い研磨速度で優れた品質を有する基板を製造することができるガラス基板のための研磨組成物を製造するために使用され得る添加剤混合物、研磨組成物およびガラス基板を研磨する方法に関する。本発明によれば、高い研磨速度で優れた表面品質を有する基板を製造することができるガラス基板のための研磨組成物、言い換えれば、経済的利点と表面平滑度の両方について満足するレベルを満たし得るガラス基板のための研磨組成物、およびガラス基板を研磨する方法が提供され得る。本発明のこれらのおよび他の利点は、以下の説明から明らかである。添加剤混合物本発明は、ポリアクリル酸塩、酸エステル、消泡剤および任意選択の液体媒体を含む、添加剤混合物を提供する。一部の特定の実施形態によれば、ポリアクリル酸塩は、12,000未満、好ましくは10,000未満、より好ましくは3000~5000の範囲の重量平均分子量を有する。一部の特定の実施形態によれば、ポリアクリル酸塩は、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリアクリル酸カリウム、ポリアクリル酸アンモニウム、およびポリアクリル酸カルシウムからなる群から選択される。一部の特定の実施形態によれば、ポリアクリル酸塩の量は、ポリアクリル酸塩、酸エステルおよび消泡剤の合計質量の10~70質量、好ましくは30~50質量である。一部の特定の実施形態によれば、酸エステルは、リン酸エステル、硫酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステルおよびそれらの混合物からなる群から選択される。一部の特定の実施形態によれば、酸エステルの量は、ポリアクリル酸塩、酸エステルおよび消泡剤の合計質量の3~25質量、好ましくは5~10質量である。本発明の添加剤混合物が液体媒体を含む場合、ポリアクリル酸塩、酸エステルおよび消泡剤の合計質量は、添加剤混合物の合計質量に基づいて20~100であってもよい。一部の特定の実施形態によれば、消泡剤は、シロキシル化ポリエーテル、鉱油、ポリシロキサン、変性ポリシロキサンコポリマーおよびそれらの組合せからなる群から選択される。一部の特定の実施形態によれば、消泡剤の量は、ポリアクリル酸塩、酸エステルおよび消泡剤の合計質量の20~85質量、好ましくは40~60質量である。本発明の添加剤混合物は、ポリアクリル酸塩、酸エステルおよび消泡剤からなり得るが、それは、例えば、溶媒としての液体媒体、界面活性剤または他の機能性成分などを含む、他の成分をさらに含み得る。一部の特定の実施形態によれば、添加剤混合物は、液体媒体をさらに含む。好ましくは、水が、液体媒体として用いられる。本発明で用いられる水としては、イオン交換水、蒸留水、超純水などが有利には用いられ得る。本発明の添加剤混合物が液体媒体を含む場合、液体媒体の量は、添加剤混合物の合計質量に基づいて、0~80であってもよい。本発明の添加剤混合物は、上述の成分のそれぞれを公知の方法により混合することによって調製され得る。ここで、上述の成分のそれぞれの濃度は、調製中の濃度、および使用時の濃度のいずれであってもよい。添加剤混合物および研磨組成物の使用方法本発明は、本発明による添加剤混合物および研磨剤を含む、ガラス基板を研磨するための研磨組成物を提供する。一部の特定の実施形態によれば、研磨剤の量は、研磨組成物の合計質量に対して1~30質量である。一部の特定の実施形態によれば、研磨剤は、セリウム含有研磨剤である。好ましくは、セリウム含有研磨剤は、酸化セリウム、酸化ランタン-酸化セリウム、酸化ランタン-酸化セリウム-酸化プラセオジム、酸化ランタン-酸化セリウム-酸化プラセオジム-酸化ネオジムまたは他のドープ酸化セリウムからなる群から選択される。一部の特定の実施形態によれば、ポリアクリル酸塩の量は、研磨組成物の合計質量に対して0.01~1.4質量、好ましくは0.25~1質量である。一部の特定の実施形態によれば、酸エステルの量は、研磨組成物の合計質量に対して0.003~0.5質量、好ましくは0.01~0.1質量である。一部の特定の実施形態によれば、消泡剤の量は、研磨組成物の合計質量に対して0.02~1.7質量、好ましくは0.4~1質量である。一部の特定の実施形態によれば、研磨組成物は、pH調整剤をさらに含む。好ましくは、pH調製剤は、有機酸、無機酸、有機アルカリおよび無機アルカリからなる群から選択される。本発明の研磨組成物は、研磨速度の増加の観点から、6~12、好ましくは7~9のpHを有する。pHは、酸またはアルカリの含有量に依存して調整され得る。好ましくは、酸が、pH値を調整するために用いられた。酸としては、無機酸および有機酸が挙げられる。無機酸としては、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、ポリリン酸、アミド硫酸などが挙げられる。また、有機酸としては、カルボン酸、有機ホスホン酸、アミノ酸などが挙げられる。カルボン酸としては、例えば、酢酸、グリコール酸、およびアスコルビン酸などのモノカルボン酸;シュウ酸および酒石酸などのジカルボン酸;クエン酸などのトリカルボン酸が挙げられる。有機リン酸としては、2-アミノエチルホスホン酸、1-ヒドロキシエチリデン-1,1-ジホスホン酸HEDP、アミノトリメチレンホスホン酸、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸、ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸などが挙げられる。さらに、アミノ酸としては、グリシン、アラニンなどが挙げられる。それらのうちで、無機酸、カルボン酸、および有機ホスホン酸が、スクラッチの減少の観点から好ましい。例えば、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、ポリリン酸、グリコール酸、シュウ酸、クエン酸、HEDP、アミノトリメチレンホスホン酸、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸、またはジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸が、好適に用いられる。pHを調整するためのこれらの酸は、単独でまたは2種以上の混合で用いられてもよい。一部の特定の実施形態によれば、組成物は、液体媒体をさらに含む。本発明の添加剤混合物は、撹拌下で研磨スラリーにすることができる。生成した研磨スラリーにおいて、研磨性研磨剤は、液体媒体中に分散している。液体媒体の量は、目的とする用途に依存する。しかしながら、添加剤混合物は、経済的利点の観点から、多くの場合に液体媒体で部分的に希釈され、使用前に液体媒体でさらに希釈され得る。一部の特定の実施形態によれば、液体媒体は、水および有機溶媒からなる群から選択されてもよい。好ましくは、液体媒体は、アルコール、アセトンおよびテトラヒドロフランTHFからなる群から選択される有機溶媒である。液体媒体は、市販用研磨液体組成物であってもよい。一部の特定の実施形態によれば、水が、液体媒体として用いられる。本発明で用いられる水としては、イオン交換水、蒸留水、超純水などが、有利には用いられ得る。液体媒体は、研磨組成物の流動性の維持および研磨速度の増加の観点から、好ましくは70~99重量、より好ましくは80~95重量の量で含有されてもよい。本発明の研磨組成物は、上述の成分のそれぞれを公知の方法により混合することによって調製され得る。ここで、上述の成分のそれぞれの濃度は、調製中の濃度、および使用時の濃度のいずれであってもよい。研磨組成物は、通常、経済的利点の観点から、多くの場合に濃縮物として調製され、使用時に希釈される。研磨プロセス本発明は、本発明による研磨組成物を使用してガラス基板の表面を研磨する工程を含む、ガラス基板を研磨する方法を提供する。本発明の研磨組成物はガラス基板を研磨する工程で使用されるので、経済的に有利な研磨速度を実現することができ、研磨表面は、優れた表面平滑度を付与され、それにより、優れた表面特性を有する高品質のガラス基板が、経済的に製造され得る。本発明の研磨組成物を使用することによって基板上の表面粗さを減少させる機構は、解明されていないが、恐らくは以下のとおりである。砥粒および/または研磨破片の表面への研磨組成物中に含有されるポリアクリル酸塩、酸エステル、および消泡剤の吸着により生じた立体効果が、吸収された物質の分散により表面粗さの減少をもたらす。本発明のガラス基板を研磨する方法の特徴の一つは、この方法が、上述の研磨組成物を研磨パッドと研磨される基板との間に存在させながら、研磨される基板を2.5~15kPaの研磨荷重で研磨する工程以後、研磨工程Aとも称されるを含むことにある。この特徴を有する、ガラス基板を研磨する方法を使用することによって、優れた表面平滑度を有するガラス基板を経済的に有利な研磨速度で得ることができる。研磨工程Aにおける研磨プロセスは、研磨機を用いる研磨プロセスを含む。具体的には、研磨プロセスは、キャリアで保持された研磨される基板を研磨パッドが取り付けられている研磨プラテン間に置く工程と、本発明の研磨組成物を研磨パッドと研磨される基板との間に供給する工程と、所定の圧力を加えながら、研磨プラテンおよび/または研磨される基板を動かし、それにより、本発明の研磨組成物と接触させながら、研磨される基板を研磨する工程とを含む。本発明の研磨組成物を使用する、ガラス基板用の研磨機は、特に限定されず、研磨される基板および研磨布研磨パッドを保持するための治具アラミドなどで作られているキャリアを備える研磨機を用いることができる。研磨工程Aにおける研磨荷重は、研磨速度の増加および表面品質の向上の観点から、2.5~15kPa、好ましくは2.5~15kPaである。ガラス基板ガラス基板は、例えば、液晶ディスプレイ用薄膜トランジスタTFTまたは超捩れネマティックSTNガラス基板、光学ガラス基板、ガラスハードディスク基板、石英などであることができる。基板の形状は、特に限定されない。例えば、ディスク、プレート、スラブおよびプリズムなどの平面部分を含む形状、またはレンズなどの湾曲部分を含む形状を有するものも用いることができる。それらのうちで、本発明の研磨組成物は、研磨されるディスク形状またはプレート様の対象を有するものの研磨に優れる。本発明による研磨組成物は、研磨効率で高い向上を示し、ガラス基板の研磨において高い研磨速度を得ることを可能にする。以下の実施例および比較例は、本発明の理解に助けとなるために提供したが、その範囲を限定するものと解釈されるべきでない。特に断りのない限り、部数およびパーセントのすべては、重量によっており、分子量は重量平均分子量Mwである。以下の実施例で用いる材料は、以下の表1に要約した。研磨速度評価の方法:研磨組成物の調製:研磨剤を水中に分散させ、30分間撹拌し、添加剤混合物をさらに30分間撹拌下で添加して、研磨スラリーを形成する。必要に応じて、pH値を調整するためにpH調整剤を添加した。研磨条件:研磨試験機:Baikowski,Co.Ltd.から市販されている、LM-15研磨パッド:UniversalPhotonicsIncorporatedから市販されている、LP66プラテンの回転速度:90回転/分流量:1L/分研磨時間:60分研磨荷重:10~15kPa基板:平坦、寸法:100mm100mm研磨基板の評価1研磨速度研磨速度μm/分は、研磨前後に測定してガラス基板の減量から計算した。2表面品質a.表面粗さRaガラス基板表面の表面粗さRaは、原子間力顕微鏡AFM型:MultimodeNanoscopeIIIaにより測定した。b.表面欠陥ガラス基板表面を、200,000ルックスのハロゲンランプ下で目視検査反射透過により観察した。表面欠陥の評価は、以下の3つの段階基準によって表した。品質評価:A:粗さ:10μm10μm面積においてRa<1nmであるか、または穴の出現が感知され得るほどに観察されず、かつ表面状態が良好であった。B:粗さ:10μm10μmにおいて1nm<Ra<3nmであるか、または穴がある程度観察され、かつ研磨基板が実用的に許容できた。C:粗さ:10μm10μmにおいてRa>3nmであるか、または穴が観察され、かつ表面状態が不良であり、研磨基板が許容できなかった。実施例1100gの研磨剤を396gの水に分散させ、次いで、30分間撹拌を維持しながら添加剤混合物を添加した。添加物混合物は、1.00gのSN-5027、0.98gのRhodafac226/40および2.0gのFB-50からなった。10の硝酸を用いて、pH値を10から7.2に調整した。研磨結果は、上記の方法に従って評価した。研磨剤は、RhodiaCo.LTD.製のCerox登録商標2822である。比較例1添加剤混合物を添加することがない以外は、上記実施例1と同じ研磨条件。実施例275gの研磨剤を420gの水に分散させ、次いで、30分間撹拌を維持しながら添加剤混合物を添加した。添加物混合物は、1.88gのRhodoline226/40、0.15gのRhodafacRE610および2.5gのBYK1660からなった。研磨結果は、上記の方法に従って評価した。研磨剤は、ShowaDenkoK.K.製のSHOROX商標A10である。比較例2比較例2は、添加剤混合物をまったく添加しなかったこと以外は、上記実施例2と同じであった。実施例350gの研磨剤を447gの水に分散させ、次いで、30分間撹拌を維持しながら添加剤混合物を添加した。添加物混合物は、1.70gのRhodoline226/40、0.24gのRhodafacRE610および0.49gのRhodolineDF691からなった。研磨結果は、上記の方法に従って評価した。研磨剤は、ShowaDenkoK.K.製のSHOROX商標V3106である。SHOROX商標V3106は、市販用研磨スラリーDI水で10の研磨剤濃度に希釈されたである。比較例3比較例3は、添加剤混合物をまったく添加しなかったこと以外は、上記実施例3と同じであった。実施例4125gの研磨剤を371gの水に分散させ、次いで、30分間撹拌を維持しながら添加剤混合物を添加した。添加物混合物は、0.39gのRhodoline111、0.20gのRhodafacRS610および3.16gのBYK1660からなった。研磨結果は、上記の方法に従って評価した。研磨剤は、RhodiaCo.LTD.製のCerox登録商標2815であった。比較例4比較例4は、添加剤混合物をまったく添加しなかったこと以外は、上記実施例4と同じであった。実施例525gの研磨剤を474gの水中に分散させ、次いで、30分間撹拌を維持しながら、0.25gのRhodoline226/35、0.03のRhodafacRS410およびRhodolineDF691からなる添加剤混合物を添加した。研磨結果は、上記方法に従って評価した。研磨剤は、RhodiaCo.LTD.からのCerox登録商標1650であった。比較例5比較例5は、添加剤混合物をまったく添加しなかったこと以外は、上記実施例5と同じであった。比較例6比較例6は、添加剤混合物中のポリアクリル酸ナトリウムを置き換えるためにドデシル硫酸ナトリウムを用いたこと以外は、上記実施例5と同じであった。比較例7比較例7は、ポリアクリル酸ナトリウムを添加剤混合物にまったく添加しなかったこと以外は、上記実施例5と同じであった。実施例1~実施例5および比較例1~比較例7の研磨組成物およびそれらの特性は、以下の表2にまとめた。表2からわかるように、実施例1~実施例5の本研磨組成物は、研磨性能を実質的に向上させ得る。"