画素電極とTFTを有する画素が形成されたTFT基板と、カラーフィルタが形成された対向基板との間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、前記TFT基板には、赤画素R、緑画素G、青画素Bに対応する画素がデルタ配置され、前記デルタ配置された画素が第1の方向に配列し、前記TFT基板には、第1走査線と第2走査線の組が第1の方向に延在し、第2の方向に配列し、映像信号線が第2の方向に延在し、第1の方向に前記画素に対してひとつおきに配列し、前記青画素Bに対応する画素は、第1の方向に隣り合って配置され、前記青画素Bと前記青画素Bの間には前記映像信号線は存在せず、前記対向基板には、前記TFT基板の赤画素R、緑画素G、青画素Bに対応して赤カラーフィルタ、緑カラーフィルタ、青カラーフィルタが形成され、前記カラーフィルタが存在しない部分にはブラックマトリクスが形成され、前記青カラーフィルタは前記第1の方向に隣り合った2個の青カラーフィルタが連続して形成され、前記青カラーフィルタと前記青カラーフィルタの間にはブラックマトリクスが形成されていないことを特徴とする液晶表示装置。前記TFT基板における前記赤画素Rは、前記第1の方向に2個の赤画素Rが隣り合って連続して形成され、前記赤カラーフィルタと前記赤カラーフィルタの間にはブラックマトリクスが形成されていないことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。前記TFT基板には、赤画素Rを頂点とする3角形、青画素Bを頂点とする逆3角形、青画素Bを頂点とする3角形、赤画素Rを頂点とする逆3角形の4種類の3角形が画素の組みとなっており、前記画素の組が前記第1の方向に配列していることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。DSC等においては、解像度を向上させることが要求されている。水平方向の解像度は、画素の大きさが同じであれば、同一色が縦方向に並んでいる画素構造よりも、画素がデルタ配置されている構造のほうが優れている。したがって、DSC等では、画素がデルタ配置されている構成が用いられている。デルタ配置の場合であっても、ブラックマトリクスは必要であり、また、ブラックマトリクスの面積が小さいほうが、画面輝度には有利であることは、従来の画素構造と同一である。また、画面を高精細とすることによって、映像信号線の数が増加し、かつ、映像信号線によって透過率が減少する。これを防止するために、映像信号線の数を半分にし、これに対応して、画素配置、走査方法、映像信号の入力方法を変化させる方法がある。このような構成におけるカラーフィルタの構成は、特許文献1に記載のような、単純な構成ではなく、特許文献1に記載のような画素配置を適用することは出来ない。本発明の目的は、デルタ配置の画素構造を持ち、かつ映像信号線の数を半分に減少させた画面構成をもつ液晶表示装置において、特定の色を隣同士に配置し、該色間ではブラックマトリクスを省略することによって、画面輝度を向上させることである。本発明は上記問題を克服するものであり、具体的な手段は次のとおりである。すなわち、画素電極とTFTを有する画素が形成されたTFT基板と、カラーフィルタが形成された対向基板との間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、前記TFT基板には、赤画素R、緑画素G、青画素Bに対応する画素がデルタ配置され、前記デルタ配置された画素が第1の方向に配列し、前記TFT基板には、第1走査線と第2走査線の組が第1の方向に延在し、第2の方向に配列し、映像信号線が第2の方向に延在し、第1の方向に前記画素に対してひとつおきに配列し、前記青画素Bに対応する画素は、第1の方向に隣り合って配置され、前記青画素Bと前記青画素Bの間には前記映像信号線は存在せず、前記対向基板には、前記TFT基板の赤画素R、緑画素G、青画素Bに対応して赤カラーフィルタ、緑カラーフィルタ、青カラーフィルタが形成され、前記カラーフィルタが存在しない部分にはブラックマトリクスが形成され、2個の前記青カラーフィルタは前記第1の方向に隣り合って連続して形成され、前記青カラーフィルタと前記青カラーフィルタの間にはブラックマトリクスが形成されていないことを特徴とする液晶表示装置、である。本発明によれば、デルタ配置の画素構造を持つ液晶表示装置において、特定の色を隣同士に配置し、該色間ではブラックマトリクスを省略することによって、バックライトからの光の透過率を向上させ、画面輝度を向上させることが出来る。したがって、同じ画面輝度であれば、画素の面積を小さくすることが出来、高精細画面を実現することが出来る。液晶表示装置には、TNTwistedNematic方式、VAVerticalAlignment、IPSInPlaneSwitching等の種々存在しているが、本発明は、いずれの液晶表示装置についても適用することが出来る。種々の液晶表示装置のなかでもIPS方式は、いわゆる視野角特性がすぐれており、需要が拡大している。IPS方式の例をとって、液晶表示装置の断面構成を簡単に説明する。図4はIPS方式の液晶表示装置の表示領域における構造を示す断面図である。IPS方式の液晶表示装置の電極構造は種々のものが提案され、実用化されている。図4の構造は、現在広く使用されている構造であって、簡単に言えば、平面ベタで形成された対向電極108の上に絶縁膜を挟んで櫛歯状の画素電極110が形成されている。そして、画素電極110と対向電極108の間の電圧によって液晶分子301を回転させることによって画素毎に液晶層300の光の透過率を制御することにより画像を形成するものである。以下に図4の構造を説明する。図4において、ガラスで形成されるTFT基板100の上に、ゲート電極101が形成されている。ゲート電極101は走査線と同層で形成されている。ゲート電極101を覆ってゲート絶縁膜102がSiNによって形成され、ゲート絶縁膜102の上に、ゲート電極101と対向する位置に半導体層103が形成されている。ソース電極104は映像信号線が兼用し、ドレイン電極105は画素電極110と接続される。ソース電極104もドレイン電極105も同層で同時に形成される。TFTを覆って無機パッシベーション膜106がSiNによって形成される。無機パッシベーション膜106はTFTの、特にチャネル部を不純物401から保護する。無機パッシベーション膜106の上には有機パッシベーション膜107が形成される。有機パッシベーション膜107はTFTの保護と同時に表面を平坦化する役割も有するので、厚く形成される。厚さは1μmから4μmである。有機パッシベーション膜107の上には対向電極108が形成される。対向電極108は透明導電膜であるITOIndiumTinOxideを表示領域全体にスパッタリングすることによって形成される。対向電極108を覆って上部絶縁膜109がSiNによって形成される。上部絶縁膜109が形成された後、エッチングによってスルーホール111を形成する。その後、上部絶縁膜109およびスルーホール111を覆って画素電極110となるITOをスパッタリングによって形成する。スパッタリングしたITOをパターニングして櫛歯状の画素電極110を形成する。図4に示すように、画素電極110に電圧が印加されると、電気力線が発生して液晶分子301を電気力線の方向に回転させてバックライトからの光の透過を制御する。画素毎にバックライトからの透過が制御されるので、画像が形成されることになる。画素電極110の上には液晶分子301を配向させるための配向膜113が形成されている。配向膜113は光配向処理が施されている。図4において、液晶層300を挟んで対向基板200が設置されている。対向基板200の内側には、カラーフィルタ201が形成されている。カラーフィルタ201は画素毎に、赤、緑、青のカラーフィルタ201が形成されており、カラー画像が形成される。カラーフィルタ201とカラーフィルタ201の間にはブラックマトリクス202が形成され、各色間の干渉を防止するとともに、画像のコントラストを向上させている。なお、ブラックマトリクス202はTFTの遮光膜としての役割も有し、TFTに光電流が流れることを防止している。カラーフィルタ201およびブラックマトリクス202を覆ってオーバーコート膜203が形成されている。カラーフィルタ201およびブラックマトリクス202の表面は凹凸となっているために、オーバーコート膜203によって表面を平らにしている。オーバーコート膜203の上には、液晶の初期配向を決めるための配向膜113が形成されている。この配向膜113にも光配向処理が施されている。なお、対向基板200の外側には、外部からのノイズを遮断するための表面導電膜210が形成されている。図5は本発明が適用されるTFT基板100における画素構造を示す平面図である。画面が高精細になるにしたがって、特に映像信号線30の数が多くなる。映像信号線30の数が多くなると、端子数も多くなり、映像信号線30の断線の確率、端子部の接続の信頼性等が問題となる。一方、走査線の数も多くなるが、走査線の数は、もともと映像信号線の数に比べると少ない。図5はTFT基板100における画素配置を示している。R画素、G画素、B画素はいわゆるデルタ配置となっている。図5において、R画素を頂点とした三角形と、R画素を頂点とした逆三角形とが横方向に並び、この2つのパターンが横方向に繰り返されることによって画面が形成されている。図5において、縦方向に延在する映像信号線30は、画素に対して、ひとつおきに存在している。すなわち、映像信号線30の数は、横方向の画素の数の半分である。一方、走査線は第1走査線10、第2走査線20の2本が組みで存在している。すなわち、図5の画素構成は、倍の周波数で映像信号を書き込む。つまり、1フレームにおいて、まず、第1走査線10にゲート信号を与えて画面を走査することによって、ひとつおきの画素に映像信号を書き込む。その後、第2走査線20にゲート信号を与えて画面を走査することによって、残りの画素に映像信号を与える。この画素構成は、映像信号の書き込み時間は半分になるが、映像信号線30の数が12になることによる利益を優先させている。この場合、走査線の数は通常の駆動方法の倍になるが、映像信号線の数を半分としたほうが、全体としての配線数を減少させることが出来る。図6は、図5に対応する対向基板100における画素構成を示すものである。図5における画素電極110と対応する位置にカラーフィルタ201が存在している。対向基板200には映像信号線30は存在していないが、図5と対応を取りやすくするために、図6にも映像信号線30の位置を記載している。図6において、カラーフィルタ201とカラーフィルタ201の間は全てブラックマトリクス202によって覆われている。ブラックマトリクス202の面積は小さいほど、バックライトからの光の透過率を上げることが出来るので、画面の輝度は向上する。しかし、ブラックマトリクス202は、画像形成に寄与しない部分を覆ってコントラストを向上させる、あるいは、各色間での干渉を防止するという役割を持つので、図6のような画素構成では、ブラックマトリクス202の面積を小さくすることは困難である。以下に示す本発明の実施例では、カラーフィルタ201の配置を変えることによって、ブラックマトリクス202の面積を縮小させることが出来る。図1は実施例1のTFT基板100における画素配置を示す平面図である。図1において、映像信号線30は縦方向に画素のひとつ置きに配置されている。すなわち、映像信号線30の数は横方向の画素の数の半分である。走査線は、第1走査線10と第2走査線20の組から構成されている。この画素構成の動作は、図5において説明したのと同様であるので、繰り返しの説明は省略する。図1において、図5とは、各色の配置が異なっている。すなわち、図5においては、横方向は、2組のデルタの繰り返しによって画面が構成されている。これに対して、図1においては、横方向は、4組のデルタの繰り返しによって画面が構成されている。図1におけるPは4組のデルタを表している。図1におけるPは、左から、赤画素Rを頂点とする3角形、青画素Bを頂点とする逆3角形、青画素Bを頂点とする3角形、赤画素Rを頂点とする逆3角形の4種類の3角形から構成されている。このような画素構成とすることによって、青画素Bが隣りあう配置とすることが出来る。青画素Bと青画素Bの間には、映像信号線も存在しない。同じ色の画素であれば、相互に色の干渉はないので、この間におけるブラックマトリクスは省略することが出来る。図2は図1に対応する対向基板200における画素配置を示す平面図である。対向基板200には映像信号線30は存在しないが、図1のTFT基板との対応を取りやすくするために、図2においても映像信号線30の位置を記載している。図2において、赤画素R、緑画素Gには独立してカラーフィルタ201が形成されている。すなわち、カラーフィルタ201とカラーフィルタ201の間にはブラックマトリクス202が充填されている。一方、青画素Bは隣り合って配置されているので、相互に色の干渉はないために、カラーフィルタ201は連続して形成されている。また、青画素Bと青画素Bの間には映像信号線30も存在していないので、金属で形成されている映像信号線30からの反射も存在しない。したがって、青画素Bと青画素Bの間にはブラックマトリクス201を省略することが出来、青フィルタを連続して形成することが出来る。このため、青画素Bにおいて、バックライトからの光の透過率を向上させることが出来、画面輝度を向上させることが出来る。青のカラーフィルタ201は他の色に比べて透過率が小さいので、青画素Bのカラーフィルタ201を大きくして透過率を上げることは、色バランスの取りやすさからも好都合である。実施例2のTFT基板100における画素配置は、実施例1における図1と同じである。図3は実施例2の対向基板200における画素配置を示す平面図である。図3のカラーフィルタ201の配置は実施例1における図2と同様である。すなわち、図3におけるPは、左から、赤画素Rを頂点とする3角形、青画素Bを頂点とする逆3角形、青画素Bを頂点とする3角形、赤画素Rを頂点とする逆3角形の4種類の3角形から構成されている。したがって、実施例2においても、青画素Bと青画素Bの間のブラックマトリクス202を省略して透過率を上げることが出来る。実施例2が実施例1と異なる点は、赤画素Rと赤画素Rも連続してカラーフィルタ201を形成し、その間には、ブラックマトリクス202を形成していない点である。したがって、赤画素Rと赤画素Rとの間にブラックマトリクス202が存在していない分、赤画素Rにおいてバックライトからの光の透過率を向上させることが出来、画面の輝度を向上させることが出来る。青画素Bと青画素Bの場合と異なり、赤画素Rと赤画素Rの間には、TFT基板100において、映像信号線30が存在している。映像信号線30は金属で形成されているので、外部からの光によって、金属が反射すると、コントラストの低下をきたす場合がある。しかし、外部からの光は、カラーフィルタ201を通して映像信号線30に入射するので、コントラストを大きく低下させることは無い。したがって、赤画素Rと赤画素Rにブラックマトリクス202を形成せずに、2つの赤画素Rに対して連続してカラーフィルタ201を形成することによって、画面輝度を向上させることが出来る。本実施例のように、映像信号線30を挟んだ2つの赤画素Rに対して連続してカラーフィルタ201を形成するか否かは、画面輝度とコントラストの双方のトレードオフによって決めればよい。