"ガスを処理するためのシステムであって、処理に先立って、前記ガスを受けるためのガス入口と、前記ガス入口に連結された、2つ以上の放電チャンバを画定する複数の誘電体部と、前記放電チャンバのそれぞれに配置された第1および第2の電極と、前記放電チャンバの隣接チャンバ間に配置された導電性シールド部分と、前記放電チャンバに連結されたガス出口と、前記放電チャンバ内の前記シールド部分ならびに前記第1および前記第2の電極と連通している回路とを備え、前記回路は、前記第1および第2の電極間にパルス状の電界を生成し、かつ前記シールド部分に基準電圧を印加するように構成されており、前記複数の誘電体部ならびに前記第1および第2の電極は、前記放電チャンバ内のコロナ放電の全エネルギー密度の大部分が沿面ストリーマに起因するように構成されるシステム。前記放電チャンバの前記隣接チャンバが、前記複数の誘電体部のうちの1つによって分離され、前記シールド部分が、前記複数の誘電体部のうちの前記1つに埋め込まれる、請求項1に記載のシステム。前記放電チャンバの前記隣接チャンバが、前記複数の誘電体部のうちの2つによって分離され、前記シールド部分が、前記複数の誘電体部のうちの前記2つの間に配置される、請求項1に記載のシステム。前記複数の誘電体部のうちの前記2つが、隣接する誘電体部であり、前記シールド部分が、前記隣接する誘電体部の第1の部分の表面上に配置された少なくとも第1のシールド部分と、前記隣接する誘電体部の第2の部分の表面上に配置された少なくとも第2のシールド部分と、をさらに備え、前記第1および第2のシールド部分が物理的かつ電気的に接触している、請求項3に記載のシステム。前記シールド部分が、前記第2の電極に電気的に結合している、請求項1に記載のシステム。前記シールド部分が、導電性シートおよび導電性メッシュのうちの少なくとも1つを備える、請求項1に記載のシステム。前記第1の電極がワイヤである、請求項1に記載のシステム。前記第2の電極が、導電性シートおよび導電性メッシュのうちの1つを備える、請求項1に記載のシステム。前記第1および前記第2の電極がワイヤ-板またはワイヤ-ワイヤの関係にある、請求項1に記載のシステム。前記放電チャンバの少なくとも一部分が、前記ガス入口および前記ガス出口に対して直列に結合される、請求項1に記載のシステム。前記放電チャンバの少なくとも一部分が、前記ガス入口および前記ガス出口に対して並列に結合される、請求項1に記載のシステム。ガスを処理するためのシステムであって、処理に先立って、前記ガスを受けるためのガス入口と、前記ガス入口に連結された、2つ以上の放電チャンバを画定する複数の誘電体部と、前記放電チャンバのそれぞれに配置された第1および第2の電極の1つまたは複数のセットと、前記放電チャンバに連結されたガス出口と、前記放電チャンバ内の前記第1および前記第2の電極の前記セットと連通している回路とを備え、前記回路は、前記第1および第2の電極の前記セットのそれぞれにおいて、パルス状の電界を生成するように構成され、前記複数の誘電体部、ならびに第1および第2の電極の前記セットは、前記放電チャンバ内のコロナ放電の全エネルギー密度の大部分が沿面ストリーマに起因するように構成され、前記放電チャンバの隣接チャンバに関連する第1および第2の電極の前記セットは、前記放電チャンバの前記隣接チャンバのうち第1のチャンバ内のパルス状電界が放電チャンバの前記隣接チャンバのうち第2のチャンバ内のパルス状電界と実質的に相互作用しないように、千鳥構成で配置されるシステム。前記第1の電極がワイヤである、請求項12に記載のシステム。前記第2の電極が、導電性シートおよび導電性メッシュのうちの1つを備える、請求項13に記載のシステム。前記セットのそれぞれにおける前記第1および第2の電極が、実質上同軸の関係にある、請求項12に記載のシステム。前記放電チャンバの少なくとも一部分が、前記ガス入口および前記ガス出口に対して直列に結合される、請求項12に記載のシステム。前記放電チャンバの少なくとも一部分が、前記ガス入口および前記ガス出口に対して並列に結合される、請求項12に記載のシステム。ガスを処理するための方法であって、前記方法は、複数の誘電体部によって画定された2つ以上の放電チャンバを設けるステップであって、前記放電チャンバのそれぞれが、前記放電チャンバ内で電界を生成するための、第1および第2の電極の1つまたは複数のセットを備え、前記複数の誘電体部ならびに第1および第2の電極の前記セットが、ボリュームストリーマの形成を抑制する空間であって放電チャンバのそれぞれにおける空間を画定するように構成され、かつ前記放電チャンバは、同放電チャンバの隣接チャンバ内で生成されるパルス状の電界が実質的に相互作用することを回避するように構成される、ステップと、前記ガスを前記放電チャンバに導くステップと、前記放電チャンバ内の前記第1および第2の電極の前記セットのそれぞれによって生成されるパルス状の電界によって生成される、同放電チャンバ内のコロナ放電を使用して、前記ガスを処理するステップとを含む方法。前記設けるステップは、前記放電チャンバの前記隣接チャンバ間に導電性シールド部分を挿入するステップをさらに含み、前記処理するステップは、前記シールド部分に基準電圧を印加するステップをさらに含む、請求項18に記載の方法。前記挿入するステップは、導電性シート部分と導電性メッシュ部分から少なくとも1つを備えるよう前記シールド部分を選択するステップをさらに含む、請求項19に記載の方法。前記設けるステップは、前記シールド部分を前記第2の電極に電気的に結合するステップをさらに含む、請求項18に記載の方法。前記設けるステップは、前記放電チャンバの前記隣接チャンバ内の第1および第2の電極の前記セットを千鳥構成に配置するステップをさらに含む、請求項18に記載の方法。ガスを処理するためのシステムであって、処理に先立って、前記ガスを受けるためのガス入口と、前記ガス入口に連結された、2つ以上の隣接放電チャンバを画定する複数の誘電体部と、前記放電チャンバのそれぞれに配置された第1および第2の電極と、前記放電チャンバに連結されたガス出口と、前記放電チャンバ内の前記シールド部分ならびに前記第1および前記第2の電極と連通している回路とを備え、前記回路は、前記第1及び第2の電極間にパルス状の電界を生成するように構成され、前記複数の誘電体部ならびに前記第1および第2の電極は、前記放電チャンバ内のコロナ放電からの全エネルギー密度の大部分が沿面ストリーマに起因するように構成され、前記放電チャンバのうち第1のチャンバ内の前記第1および第2の電極、ならびに、前記放電チャンバのうち前記第1のチャンバに隣接する、前記放電チャンバのうち第2のチャンバ内の前記第1および第2の電極が、千鳥構成で配置される、システム。本発明の目的は、化学処理のための装置および方法を提供することにある。本発明の実施形態は、化学処理についてのシステムおよび方法に関する。第1の実施形態では、ガスを処理するための一システムが提供される。このシステムは、処理に先立ってガスを受けるためのガス入口、およびこのガス入口に連結された2つ以上の放電チャンバを画定する複数の誘電体部を備える。このシステムはさらに、放電チャンバのそれぞれに配置された第1および第2の電極、ならびに放電チャンバのうち隣接するチャンバ間に配置された導電性シールド部分を備える。このシステムはまた、放電チャンバに連結されたガス出口、ならびに、放電チャンバ内のシールド部分と第1および第2の電極とに連通する回路を備える。システムにおいて、この回路は、放電チャンバのそれぞれにおいて、沿面ストリーマおよびボリュームストリーマを有するコロナ放電を放電チャンバ内に生成することができるパルス状の電界を、第1の電極と第2の電極の間に生成するように、またシールド部分に基準電圧を印加するように構成される。さらに、この複数の電極部分、ならびに第1および第2の電極は、放電チャンバ内の全エネルギー密度の大部分が沿面ストリーマに起因するように構成される。本発明の第2の実施形態では、ガスを処理するための一システムが提供される。このシステムは、処理に先立ってガスを受けるためのガス入口、およびこのガス入口に連結された2つ以上の放電チャンバを画定する複数の誘電体部を備える。このシステムはまた、放電チャンバのそれぞれに配置された1組または複数組の、第1および第2の電極、ならびに放電チャンバに連結されたガス出口を備える。システムはさらに、放電チャンバ内の第1および第2の電極のセットと連通している回路を備える。システムにおいて、この回路は、沿面ストリーマおよびボリュームストリーマを有するコロナ放電を放電チャンバのうち対応するチャンバ内で生成することができるパルス状の電界を、第1および第2の電極のセットのうちのそれぞれにおいて生成するように構成される。したがって、この複数の電極部、ならびに第1および第2の電極のセットは、放電チャンバ内の全エネルギー密度の大部分が沿面ストリーマに起因するように構成される。さらに、放電チャンバのうち隣接するチャンバに関連する第1および第2の電極のセットは、放電チャンバの隣接チャンバのうち第1のチャンバ内のパルス状電界が、放電チャンバの隣接チャンバのうち第2のチャンバ内のパルス状電界と実質的に相互作用しないように、千鳥構成staggeredarrangementで配置される。本発明の第3の実施形態では、ガスを処理するための一方法が提供される。この方法は、複数の誘電体部によって画定された2つ以上の放電チャンバを設けるステップを含み、放電チャンバのそれぞれが、放電チャンバ内で電界を生成するための、第1および第2の電極の、1つまたは複数のセットを備え、複数の誘電体部ならびに第1および第2の電極のセットが、ボリュームストリーマの形成を抑制する空間を、放電チャンバのそれぞれにおいて画定するように構成され、放電チャンバが、放電チャンバのうち隣接するチャンバ内で生成されるパルス状の電界が実質的に相互作用しないようにするように構成される。この方法は、放電チャンバにガスを導くステップをも含む。この方法はさらに、放電チャンバ内の第1および第2の電極のセットの各々によって生成されるパルス状の電界によって生成されるコロナ放電を放電チャンバ内で使用してガスを処理するステップを含み、パルス状の電界は、沿面ストリーマおよびボリュームストリーマを有するよう、コロナ放電を生成するように構成される。本発明の第4の実施形態では、ガスを処理するための一システムが提供される。このシステムは、処理に先立ってガスを受けるためのガス入口、およびこのガス入口に連結された2つ以上の隣接する放電チャンバを画定する複数の誘電体部を備える。このシステムはまた、放電チャンバのそれぞれに配置された第1および第2の電極、ならびに放電チャンバに連結されたガス出口を備える。システムはさらに、放電チャンバ内のシールド部分ならびに第1および第2の電極と連通している回路を備える。システムにおいて、この回路は、沿面ストリーマおよびボリュームストリーマを有するコロナ放電を放電チャンバ内に生成することができるパルス状の電界を、放電チャンバのそれぞれにおいて、第1の電極と第2の電極の間に生成するように構成される。さらに、この複数の電極部分、ならびに第1および第2の電極は、放電チャンバ内の全エネルギー密度の大部分が沿面ストリーマに起因するように構成される。最後に、放電チャンバのうち第1のチャンバ内の第1および第2の電極、ならびに、放電チャンバのうち第1のチャンバに隣接する、放電チャンバのうち第2のチャンバ内の第1および第2の電極が、千鳥構成で配置される。添付図を参照して本発明を説明する。同様のまたは均等の要素を指すために、図面全体を通して同じ参照番号を使用する。各図は、正確な拡縮比率で描かれてはおらず、単に本発明を例示するために示したものである。説明するための例示的な用途を参照しながら、本発明のいくつかの態様を以下に説明する。数多くの具体的な詳細、関係、および方法は、本発明を完全に理解するために説明されていることを理解されたい。しかしながら、本発明は、具体的な詳細のうち1つまたは複数がなくても、または他の方法を用いても、実施できることが、当業者には容易に理解されよう。場合によっては、本発明が分かりにくくならないよう、よく知られた構造または動作は詳細に示していない。本発明は、例示された順序の動作または事象に限定されるものではなく、動作によっては、様々な順序で発生してもよく、かつ/または他の動作もしくは事象と同時に発生してもよい。さらに、例示された動作または事象の全てに、本発明による方法を実施する必要があるものでもない。図1Aおよび1Bには、主に沿面ストリーマを促進するように構成された、プラズマ反応器すなわちプラズマシステム100の、上面図および側面図がそれぞれ示してあり、本発明を説明するのに有用である。図1Cには、図1Aの切断線C-Cに沿ったシステム100の断面図が示してある。図1A~1Cに示すように、システム100は、放電空間すなわちチャンバ102を画定する格納装置である。放電チャンバ102は、一群の表面によって画定されている。たとえば、図1A~1Cに示すように、放電チャンバ102は、対向する上部誘電体部および下部誘電体部すなわち面104、対向する誘電体端部106、ならびに横方向の部分すなわち側部108によって画定されている。システム100はまた、放電チャンバ102との間でガスを入れたり出したりするための、それぞれ入口114および出口116を備える。図1A~1Cに示す構成では、システム100は、対向する端部106において単一の入口114および単一の出口116を備えるものとして示してある。しかしながら、様々な実施形態において、入口および出口の数と配置を変更することができる。放電チャンバ102はさらに、高電圧パルスを使用して放電チャンバ102内でプラズマを生成するための電極110および112を備える。パルスを使用すると、アーク放電が防止される。図1Aに示すように、システム100はアノード電極110を備える。図1では、アノード電極110は、放電チャンバ102に挿入され、放電チャンバ102の長さ方向にわたって延在するワイヤとして示してある。しかしながら、この点に関して、様々な実施形態は限定されない。たとえば、電極110はまた、これだけには限らないが、ストリーマを生成することのできるねじ棒、鋭利な縁部、または任意の他の局所的な構成の電極でもよい。システム100はまた、1つまたは複数のカソード電極112を備える。図1A~1Cに示した構成では、第2の電極は、横方向の側部108の内面に配置された固体導電体として示してある。しかしながら、横方向の側部108と電極112は、一体形成することができる。さらに、カソード電極112はまた、ワイヤメッシュ、板、ワイヤ、または当技術分野で知られている他の導電性電極構成とすることができる。さらに、横方向の側部108および電極112は、カソード電極112を通ってガス放電チャンバ102との間でのガスの流れが可能になるよう構成することができる。たとえば、カソード電極112を、横方向の側部108に沿ってガス入口114からシステム100まで配置し、サイズ調整すなわち構成して、カソード電極112を通って放電チャンバ102中にガスが流れるようにすることによってこれが実現する。処理後、ガスは、カソード電極112のうちもう一方および側部108を通って、ガス出口116から出る。図1A~1Cに示すように、システム100は、電極110および112の実質的なワイヤ-板構成を示している。図1Cに示すように、アノード電極110は、この場合にはワイヤであり、2つのカソード電極112に対して等しい距離に配置される。しかしながら、本発明の様々な実施形態は、反応器についてのこの例示的な構成には限定されない。たとえば、アノード電極110の位置を変更することができ、電極112間で正確に等距離である必要はない。さらに、電極110は、誘電体部104のうち第1の誘電体部上、またはその近くに配置されているものとして図1Cに示してある。しかしながら、この点に関して、様々な実施形態は限定されず、誘電体部104に対する電極110の位置を変更することができる。すなわち、システム100内で沿面ストリーマが主として生成されるほどワイヤとシートの距離が十分に短い限り、電極110は、誘電体部104のいずれかの上、もしくはその近くに、2つの表面104の間で等距離に、またはその間の任意の位置に配置することができる。さらに、様々な実施形態は、ワイヤ-板構成に限定はされない。すなわち、いくつかの例を挙げると、アノード電極およびカソード電極は、ワイヤ-ワイヤ構成、ポイント-ワイヤ構成、またはポイント-板構成で配置することができる。さらに、様々な実施形態での電極の役割は、逆にすることができる。すなわち、電極110および電極112を切り替えて、それぞれカソードおよびアノードにすることができる。システム100の例示的な一構成では、誘電体表面104としてガラス、アクリル、もしくは他の誘電体材料からなるシートまたは膜を使用し、アノード電極110として直径が150マイクロメートルのステンレス鋼ワイヤを使用し、カソード電極112として厚さが6mmのアルミニウムストリップを使用し、端部106としてテフロン登録商標またはプレキシガラスまたはシリコンを使用して、システム100を構成することができる。しかしながら、様々な実施形態は、上記の例示的な材料には限定されない。たとえば、いくつか例を挙げると、誘電体表面104は、コーディエライト、炭化ケイ素、アルミナなどのセラミックシートから製造することができる。さらに、電極110および112は、任意の導電性材料または半導電性材料から製造することができる。しかしながら、ステンレス鋼、銅、銀、タングステン、またはそれらの合金などの金属では、優れた性能を実現できる。このような材料を使用する反応器の例示的な寸法、および通常実現可能な1パルス当たりのエネルギーを表1に挙げる。表1において、反応器4は従来の同軸反応器図示せずであり、放電ギャップが円筒の直径によって画定されており、ボリュームストリーマモードで動作する。反応器1、2、および3は、図1Aおよび1Bに従って構成され、沿面ストリーマモードで動作する反応器である。反応器4における各寸法および実現可能な1パルス当たりのエネルギーが、比較のために示してある。上記構成に加えて、放電チャンバ102内の第1の電極110の端部を絶縁して、端部106での沿面ストリーマをなくすことができる。たとえば、電極の各端部での2.5cmの部分を使用して、端部取付け具での沿面ストリーマをなくすために電極110および112を絶縁することができる。したがって、電極の有効な長さは、上記の長さよりも5cm短くなるはずである。放電チャンバ、ガス、および電極の構成によって有効な長さが変化することになり、その長さにおいて、ストリーマの形成が効果的に抑制され、その結果エネルギー密度において沿面ストリーマが主要な役割を演じることが当業者には理解されよう。たとえば、誘電体表面104間の間隔を使用して、放電チャンバ102の寸法を低減させて、上記電極構成の場合のボリュームストリーマの形成を抑制してもよい。図1の実施形態では、誘電体表面104間の10mmの距離は、ボリュームストリーマの形成を著しく低減させるか、またはそれをなくすのに有効であることが示された。対応するエネルギー密度の増大とともに沿面ストリーマの役割を大きくするという点で、より短い距離が好ましい。沿面ストリーマが支配的な、放電チャンバを有するプラズマ反応器の設計が、2007年11月20日発行のマーリクMalikらの米国特許第7,298,092号明細書に記載されており、その内容全体を本明細書に援用する。上記プラズマ反応器は、十分な量の沿面ストリーマを生成して、有効な処理を実現することができるが、これらの反応器をいくつか組み合わせて小さい空間にすることは難しくなり得る。たとえば、図1Aおよび1Bに示した反応器のうち2つが、直接重ねて配置される場合、または誘電体部104のうち共通部分を使用して構成され、共通の電源を使用して並列に動作する場合、プラズマは通常、1つのチャンバのみで観察されることになる。これは、プラズマと接触している誘電体表面上に沿面ストリーマが残す、正の表面電荷によるものと考えられる。誘電体の片側にあるこの電荷は、もう一方の側に逆の電荷を誘起し、これが、隣接する放電チャンバ内での電界分布を変化させ、またはそれと相互作用するように思われる。その結果、相互作用の結果として、プラズマ形成にとって好ましくない電界分布が生じる。さらに、このような構成では、NOからNO2への変換におけるエネルギー効率が著しく低下することになる。すなわち、2つの表面プラズマ反応器は、互いに隣接して動作するとき、互いに電気的に結合できるようになる。通常、反応器のうち1つの反応器の電界が十分に強く、それにより、反対の誘電体表面に電荷が蓄積する場合、これが起きる可能性がある。結果として、1つの反応器のみでプラズマ形成が生じることになり、処理効率が低下する。結果として、自動車の排気処理システムなどにおいて、小さい空間でこのような反応器をいくつか組み合わせることでは、ガス処理の改善にはつながらない。反応器をこのように組み合わせることの限界に鑑みて、本発明の様々な実施形態により、複数の隣接するプラズマ反応器を使用する、ガス処理用のシステムおよび方法が実現する。具体的には、本発明の様々な実施形態により、並列または直列に動作している隣接する表面プラズマ反応器をデカップリングするための方法および構成が実現する。具体的には、本発明の様々な実施形態により、隣接するチャンバでの表面プラズマ放電によって1つの反応器で逆電荷が誘起されることを防止するよう、シールド部分を有する隣接する表面プラズマ反応器を構成するステップが実現する。すなわち、複数の反応器を並列または直列に動作させることにより、表面プラズマ反応器をスケールアップすることによってガス処理装置を形成することができ、基準電圧で保持されたシールド部分で複数の反応器を分離することによって互いに隣接して配置することができる。すなわち、エネルギー効率、流量、または汚染物質の変換に影響を与えることなく、相対的に小さい空間の放電チャンバを使用して、ガス処理装置を形成することができる。図2は、本発明の一実施形態によるガス処理装置200のための、第1の例示的な構成の部分断面図である。具体的には、図2は、システム100反応器100Aおよび100Bの2つの積重ね構成であり、図2で示した断面図は、反応器100Aおよび100Bのそれぞれについての、図1の切断線2-2に沿った断面図の一部分である。すなわち、反応器100Aおよび100Bのそれぞれは、図1のシステム100と実質上同様になるように構成される。装置200の部分断面図により、システム100Aおよび100Bのそれぞれにおける、それぞれ上部および下部の、誘電体部104Aおよび100Bが示してある。装置200では、反応器100Aと100Bの間に導電性のシールド部分202を設けることにより、反応器100Aと100Bの間のデカップリングが実現する。特に、シールド部分202は、誘電体部104Aおよび104Bの接触部分の間に配置される。したがって、このシールド部分202は、隣接する反応器の一部分である誘電体上への電荷の誘起を防止する導電媒体を設けることにより、2つの反応器100Aおよび100Bをデカップリングすることができる。動作にあたっては、シールド部分202は、システム100Aおよび100Bのそれぞれの電極の電圧と同じかそれよりも低い基準電圧に接続することができる。たとえば、シールド部分202は、アースに結合することができる。結果として、放電チャンバ102Aの第1のチャンバで生成される電界は、放電チャンバ102Bの第2のチャンバに入ることが効果的に阻止される。誘電体表面に誘起される電荷は、導電性シールドによって運ばれる。したがって、誘起される電荷がなくなると、結果として、隣接している放電チャンバ102Aおよび102Bの両方においてプラズマを生成できるようになる。本発明の実施形態によっては、反応器100Aおよび100B内のシールド部分202と各電極を、上記の通り別々にバイアスすることができる。しかしながら、構成によっては、反応器100Aおよび100B内のシールド部分202とカソード電極をバイアスすることができ、かつ/または電気的に結合することができる。このような構成により、動作装置200に必要となる回路が簡略になる。すなわち、反応器100Aおよび100B内のシールド部分202およびカソード電極をバイアスするのに、別々の回路は必要としない。さらに、これらの部分は実質上互いに隣接しているので、これらの部分ではより簡略に配線することができる。図2に示した構成では、シールド部分で分離された2つの別々の反応器チャンバが示してある。しかしながら、この点に関して、本発明の様々な実施形態は限定されない。他の実施形態では、反応器は、共通の誘電体部を共用することができ、そこで、誘電体部は、この共通の誘電体部内に埋め込まれた、または他の方法で一体形成されたシールド部分を備える。さらに、シールド部分は、いくつかの方式で形成することができる。たとえば、本発明の実施形態によっては、シールド部分は、導電性材料のシートまたはホイルを使用して形成することができる。たとえば、シートまたはホイルは、金属または金属合金から構成することができる。しかしながら、本発明の様々な実施形態は、金属導体からなるシールド部分に限定されない。むしろ、非金属導体を使用することもできるがこれだけには限らない。さらに、様々な実施形態は、もっぱらシートタイプまたはホイルタイプのシールド部分に限定されない。構成によっては、穿孔されたシートまたはホイルを使用して、シールド部分を設けることもできる。さらに他の構成では、シールド部分の導電性材料は、メッシュまたはスクリーンを形成するよう構成することができる。さらに他の構成では、複数のシールド部分を使用することができ、それぞれが基準電圧に結合される。次に図3Aおよび3Bを参照すると、本発明の一実施形態に従って構成された、ガス処理装置300の例示的な一構成が示してある。図3Aは、装置300の部分分解図である。図3Bは、装置300の組立て図である。図3Aおよび3Bに示すように、装置300は、第1の反応器302および第2の反応器304を備える。反応器302および304のそれぞれは、積み重ねた層によって画定された放電チャンバ306を備える。具体的には、この積み重ねた層は、第1の誘電体層308、第2の誘電体層310、および誘電体層308と310の間に配置されたスペーサ層312を備える。図3Aおよび3Bに示す構成では、図1に関して前述したように、積み重ねた層308~312は、誘電体材料のシートの層を使用して形成することができる。しかしながら、本発明の様々な実施形態は、この点に関しては限定されず、層308~312を形成するのに他の任意の誘電体材料を使用することができる。放電チャンバ306を画定するために、層308~312は、格納装置を設けるように構成される。具体的には、誘電体層308および310は、このような格納装置の上面および下面を提供するため、実質上固体になるように構成される。スペーサ層312によって、格納装置の側面が設けられる。具体的には、スペーサ層312は、層308と312の間に放電チャンバ306を画定するための開口を備える。したがって、スペーサ層312内の開口のサイズ、およびスペーサ層312の厚さを調節することにより、放電チャンバ306の空間を変更することができる。したがって、前述の通り、この開口のサイズおよび厚さを選択して、放電チャンバ用の沿面ストリーマおよびボリュームストリーマの量を調節することができる。入口314および出口316を使用して、放電チャンバ306へのガスフローを実現することができる。図3Aおよび3Bでは、第1の誘電体層308に組み込まれたものとして入口314および出口316が示してある。しかしながら、この点に関して、本発明の様々な実施形態は限定されない。むしろ、層308~312のいずれかにおいて、入口314および出口316を形成することができる。さらに、反応器302および304のそれぞれの入口314および出口316を結合して、反応器302と304の間でガスがそれぞれ直列または並列に通じるようにすることができる。導管または管状部分図示せずを使用して、このように通じるようにすることができる。しかしながら、反応器302と304の間のガス伝達は、導管または管状部分を使用することに限定されない。たとえば、図3Aおよび3Bに示すように、反応器302および304は積み重ねた構成になっており、反応器302の第2の誘電体層310は、反応器304の第2の誘電体層310に向き合っている。したがって、反応器302および304は、誘電体層310のそれぞれの層を介してガス伝達が可能になるよう構成することができる。具体的には、反応器302および304が互いに積み重ねられているとき、反応器302および304の放電チャンバ306がガスを伝達するように、反応器302および304のそれぞれでの誘電体層310は任意の構成の開口を備えることができる。したがって、装置300との間でガスをやり取りするために、導管の使用を制限することができる。反応器302および304においては、対応する放電チャンバ306内のプラズマストリーマが、アノード電極318およびカソード電極320を介して形成される。電極318および320は、それぞれアノード電極およびカソード電極と呼ばれるが、これは説明する目的のためだけである。本発明の様々な実施形態では、図1Aおよび1Bに関して前述したように、これらの役割を逆にすることができる。図3Aに示すように、カソード電極320は、放電チャンバ306の向き合った2つ側面に沿って導電性表面を設けることによって形成される。具体的には、導電性材料をスペーサ層312上に配置し、その結果、向き合う2つの実質上平行な電極が放電チャンバ306内に形成される。次いで、アノード電極318は、図3Aに示すように、スペーサ層312内の開口を横切って延在するワイヤを使用して形成される。具体的には、アノード電極318用のワイヤは、放電チャンバ306内に配置され、その結果、実質上平行に、スペーサ層312上に形成されたカソード電極320間を延在する。さらに、ワイヤは、放電チャンバ306内に配置されて、電極が、カソード電極320のそれぞれから実質上等距離になる。すなわち、実質上ワイヤ-板の関係にある。しかしながら、図1Aおよび1Bに関して前述したように、本発明の様々な実施形態において他の関係を使用することができる。図3には、アノード電極318を形成するためのワイヤが示してあるが、図1に関して前述したように、本発明の様々な実施形態は、この点に関して限定されない。様々な実施形態において、アノード電極318用の構造を変更することができる。むしろ、本発明の様々な実施形態において、カソード電極320と比較して、アノード電極318において、またはその近くで、結果として電界密度が高くなる任意の構成を使用することができる。したがって、1つまたは複数のピンまたはブレードのような構造を設けて、アノード電極318を形成することもできる。さらに、アノード電極318を形成するワイヤは、スペーサ層312内の開口の全幅または全長に沿って延在するものとして示してあるが、様々な実施形態は、この点に関して限定されない。他の構成では、アノード電極318用のワイヤタイプまたはブレードタイプの構造は、開口の一部分に沿ってのみ延在することができる。さらに他の構成では、スペーサ層312内の開口の一部分または全長もしくは全幅にわたって、一連のワイヤ、ピンタイプの構造、またはブレードタイプの構造を使用することができる。動作にあたっては、スペーサ層312を通って延在するアノード電極を形成するワイヤの一部分を介して、アノード電極318に電圧を印加することができる。しかしながら、別法として、またはこのようなワイヤ部分に加えて、反応器302および304の、スペーサ層312または他の部分は、アノード電極318に電圧を供給するための任意のタイプのコネクタ構造を備えるよう構成することができる。したがって、このような構造物は、層308、310、および312のうち任意の層の1つまたは複数の部分に配置することも、それらの部分を通って延在することもできる。同様に、スペーサ層312の外面にまで延在する導電性表面の一部分を介して、カソード電極320に電圧を印加することができる。したがって、別法として、またはこのような部分に加えて、反応器302および304の、スペーサ層312または他の部分は、カソード電極320に電圧を供給するための任意のタイプのコネクタ構造を備えるよう構成することができる。反応器302および304用のアノード電極318間に、絶縁層分離を実現することができることが好ましい。たとえば、図3Aおよび3Bに示すように、誘電体層310の各部分は、放電チャンバ306の外側のアノードの長さ方向に沿って延在することができる。したがって、このような構造物は、層308、310、および312のうち任意の層の1つまたは複数の部分に配置することも、それらの部分を通って延在することもできる。前述の通り、反応器302と304の間でデカップリングを実現するために、内部誘電体層310の間に導電性部分を設け、その後、このシールド部分を基準電圧またはアース電圧に接続することにより、装置300におけるシールド部分を形成することができる。しかしながら、図3Aおよび3Bに示すように、反応器302および304のそれぞれにおいて、各反応器のうち対応する反応器のカソード電極320に電気的に接続されたシールド部分322が設けられる。したがって、装置300内の反応器302および304において、シールド部分322およびカソード電極320に単一の電圧を供給することができる。したがって、装置300に電力を供給する回路についての要求事項および複雑さが低減する。さらに、装置300の配線要求をさらに低減させるために、装置300の組立てにより、反応器302および304におけるこれらの部分を自動的に電気接続するように、反応器302および304のそれぞれにおいてシールド部分322およびカソード電極320を構成することができる。たとえば、図3Aに示すように、シールド部分322は、反応器302および304のそれぞれにおける第2の誘電体層310の外面に配置される。したがって、図3Bに示すように装置310が組み立てられるとき、反応器302のシールド部分322は、反応器304のシールド部分322と物理的かつ電気的に接触して配置される。したがって、シールド部分322、または反応器302もしくは反応器304内のカソード電極320のいずれかに基準アース電圧が印加される場合、反応器302および304の両方におけるこれらの部分の全てが、同じ基準電圧にバイアスされる。本発明の実施形態によっては、基準電圧をアース電位とすることができる。しかしながら、本発明は、この点に関して限定されず、基準電圧は、電極320にとって適切な任意の電圧とすることができる。すなわち、少なくとも電極318と320の間に生じる電圧差は、電極318とシールド部分322との間に生じなければならない。様々な実施形態では、シールド部分322とカソード電極320の間の接続を、様々な方式で実現することができる。構成によっては、導電性ワイヤおよび/または他の任意のタイプの導電性素子もしくは構造を使用して、接続を実現することができる。図3Aおよび3Bに示す構成では、導電性のホイルまたはシートなど連続的な導電性部分を使用してシールド部分322およびカソード電極320を形成することによって、この接続が実現される。このような構成では、ホイルまたはシートを以下のように構成することができる。まず、ホイルまたはシートには、少なくとも放電チャンバ306に対応する第2の誘電体層310の外面に沿って延在する第1および第2の端部を設けることができる。ホイルまたはシートの第1の端部を、スペーサ層312の第1の側部の周りに巻き付けることができ、第2の端部を、第1の側部に向き合うスペーサ層312の第2の側部の周りに巻き付けることができる。結果として、反応器302および304のそれぞれの外面に沿って延在する単一の導電性部分が、シールド部分322およびカソード電極320の両方を画定する。構成によっては、シールド部分322は、任意選択で反応器302および304のぞれぞれの周りに延在することができる。たとえば、構成によっては、外部誘電体層308の外面上に、追加のシールド部分324を形成することができる。動作にあたっては、次いで、追加のシールド部分324を、カソード電極320およびシールド部分322に結合することができる。別の構成では、組み立てられたチャンバの周り、すなわち層308の外側ならびにチャンバの側面の周りに別のホイルまたはシートを巻き付けることにより、反応器302および304用の追加のシールド部分324を形成することができる。このような構成では、追加のシールド部分324を画定するホイルを巻き付けて、チャンバ302および304の側面の電極320と電気的に接触することができ、したがって、シールド部分322をシールド部分324に電気的に結合することができる。このような構成により、具体的には、図1Aおよび1Bに示した反応器システムなど、単一の反応器システムと比較して性能が改善される。具体的には、図3Aおよび3Bに従って試験反応器が構成された場合、かつ反応器302および304用の追加のシールド部分324を用いる場合、本発明者には、このようなシステムにおいてプラズマで消費される電力は0.33Wであったことが分かっている。対照的に、本発明者には、図1Aおよび1Bに示した、同様の寸法を有する単一反応器構成に従って構成された清浄装置の場合、プラズマ内で消費される電力は0.028Wであったことが分かっており、約10倍の増大となる。電力Pは以下の式によって計算された、すなわち、P=∫VIdtf。電圧パルスは2つの場合で同じであり、ピーク電圧値が約30kVであり、パルス周波数が約10Hzで同じであった。したがって、電力の増大は、放電チャンバの周りにシールド部分が延在するときパルス期間中に放電ギャップを通って流れる電流が対応して増大することによる。結果としてプラズマ内で分解される汚染物質の量が増えるので、高出力の方が有利である。上記の例示的な実施形態では、第1の反応器と第2の反応器の間にシールド部分を設けることにより、それらの間の結合が低減するか、またはなくなる。しかしながら、この点に関して、本発明の様々な実施形態は限定されない。前述の通り、2つの隣接チャンバ内でプラズマを生成する際の主な難しさは、内部でプラズマが形成されている別の反応器に隣接する反応器の誘電体表面での電荷の誘起である。したがって、本発明の別の実施形態は、隣接する誘電体層に電荷を誘起することのないシールド部分を間に挟むことなく、隣接するチャンバ内でプラズマを形成することを伴う。したがって、本発明の別の態様では、千鳥構成の放電手法を使用してプラズマ形成を実現する。すなわち、隣接する反応器は、第1の反応器内でプラズマを形成するための放電、および第2の隣接チャンバ内でプラズマを形成するための放電が、オーバラップしない部分で発生するように構成される。図4について、これが概念的に示してある。図4は、本発明の一実施形態によるガス処理装置400のための、別の例示的な構成の部分断面図である。具体的には、図4は、システム100反応器100Aおよび100Bの2つの積重ね構成であり、図4で示した断面図は、反応器100Aおよび100Bのそれぞれについての、図1の切断線2-2に沿った断面図の一部分である。反応器100Aおよび100Bのそれぞれは、図1のシステム100と実質上同様になるように構成される。したがって、装置400の部分断面図には、反応器100Aおよび100Bのそれぞれにおける、上部および下部の誘電体部104Aおよび104Bがそれぞれ示してあり、放電チャンバ102Aおよび102Bのそれぞれのチャンバを画定する。装置400では、放電されることになる装置400内の各放電チャンバの各部分を千鳥構成にすることにより、反応器100の間のデカップリングが実現する。この千鳥構成は、いくつかの方式で実現することができる。たとえば、一構成において、各放電チャンバ102内の電極110および112は、装置200が組み立てられるとき、バイアスされている各電極が同時に実質上オーバラップしないように構成することができる。たとえば、図4に示すように、第1のシステム100内の上側部分402に関連する電極、および第2のシステム100内の下側部分404に関連する電極のみが、装置200内の部分AおよびBにおいてプラズマを生成するように構成される。したがって、隣接放電チャンバ内に誘起される任意の電荷は、プラズマの生成に関連する放電チャンバの一部分には誘起されない。すなわち、第1のシステム100の一部分A内のプラズマによって、第2のシステム100の一部分C内に誘起される電荷は取るに足らないが、それというのも、第2のシステム100内のプラズマが、一部分Bに制限されているからである。同様に、第2のシステム100の一部分B内のプラズマによって、第1のシステム100の一部分D内に誘起される電荷は取るに足らないが、それというのも、第1のシステム100内のプラズマが、一部分Aに制限されているからである。しかしながら、このような構成では、各放電チャンバの空間の一部分のみが使用されるので、清浄効率が低減することがある。構成によっては、装置400内での放電のタイミングを制御することにより、オーバラップする部分を設けることができる。具体的には、これらの部分における電極のバイアスに関連するタイミングは、オーバラップしていない部分のみが同時にバイアスされるよう制御することができる。したがって、いつの時点でも、オーバラップしていない部分に関連する1組の電極のみが、同時にバイアスされる。このような構成が有利であるが、それというのも、オーバラップしていない電極部分の互いに異なるセット間での切替えにより、装置400内の各放電チャンバ102の空間の大部分を使用できるようになるからである。したがって、より高い清浄効率を達成することができる。以下の非限定的な実施例は、本発明の選択された実施形態を説明する働きをする。比率のばらつきおよび図示した各構成部品の要素の選択肢は、当業者には明らかになり、本発明の実施形態の範囲内であることが理解されよう。図2に示す2つのプラズマ反応器の並列動作を、単一反応器に対して評価した。これらの反応器は、図3に示した実施形態と実質上同様に構成された。これらの反応器は以下のように構成された、すなわち、外部誘電体層-アクリルシート21.6cm×12.7cm×0.6cm、内部誘電体層-アクリルシート24.1cm×12.7cm×0.6cm、スペーサ層-開口16.5cm×7.6cm付きのアクリルシート21.6cm×12.7cm、アノード電極-ステンレス鋼ワイヤ直径150μm×長さ12.7cm、カソード電極/シールド部分-アルミニウムホイル幅12.7cm、ピーク電圧-約10Hzで30kV、ガス流量-約1リットル/分。発明者が実行する様々な試験では、スペーサ層の厚さは2mm~14mmの間で変化した。前述の通り構成された反応器の試験に基づいて、本発明者には、図3と同様に2つの反応器構成において、チャンバのそれぞれにおいてプラズマが容易に生成されたので、このような構成によって必要なデカップリングが実現することが分かった。入力パワーはまた、単一反応器と比較して1.5倍~2倍に増大することが分かった。シールディング322がない場合の図3と同様に、2つの反応器構成において、入力パワーは単一反応器動作とほとんど同じであり、入力パワーはシールディング322が存在する場合と比較して約1/10の低さになる。前述の通り、パワーが増大することは、清浄効率が高くなることと相関がある。次に図5を参照すると、図3に従って構成された上記寸法のガス処理装置における、NO変換の関数としてのエネルギーコストeV/分子のx-yグラフ500が示してある。図5のデータには、2つの反応器のうちの1つが動作し、プラズマを閉じ込める2つの誘電体層間のギャップ幅が変化したときの、NOからNO2への変換が示してある。ギャップ幅が2mmのときのデータが曲線502Xで示してあり、ギャップ幅が14mmのときのデータが曲線504Oで示してある。これらの曲線に関連するデータが、以下の表2に示してある。表2および図5のデータを生成するのに使用されるバイアス条件および入力流量について、入力パワーは2つの場合で同じであることが分かった。さらに、同じ流量の処理済みガスが利用された。表2および図5に示すように、NOからNO2への変換におけるエネルギーコストは、ギャップ幅を変化させても、ほぼ同じであった。したがって、これらの結果から、処理済みガス内の汚染物質の流量または変換に影響を及ぼすことなく誘電体層間のギャップ幅を低減させることにより、プラズマ反応器のサイズを低減できることが示してある。プラズマ反応器の商業用途、具体的には、自動車からのNOx排出など、汚染ガスの移動発生源において、プラズマ反応器でのこのようなコンパクトなサイズが望ましい。次に図6を参照すると、図3に従って構成された、ギャップ幅が2mmで上記寸法のガス処理装置における、NO変換の関数としてのエネルギーコストeV/分子のx-yグラフ600が示してある。図6のデータには、1つまたは複数の反応器が動作したときの、NOからNO2への変換が示してある。単一の反応器の動作に関連するデータが曲線602Xで示してあり、2つの反応器の動作に関するデータが曲線604Oで示してある。2つの反応器の構成では、この2つの反応器は直列に動作した。すなわち、第1の反応器からの処理済みガスが、さらに処理するために第2の反応器に供給された。これらの曲線に関連するデータが、以下の表3に示してある。ここでも、その前のデータセットと同様に、同様のバイアス条件および入力流量が利用された。しかしながら、図6および表3には、2つの反応器構成において、NOからNO2への変換での総エネルギーコストが著しく低下したことが示してある。たとえば、約50NOの変換において、エネルギーコストの低減率は約30であった。2つの反応器構成の場合でのエネルギーコストの低減は、第1の反応器で利用できなかった反応種のいくらかが活性化され、第2の反応器で利用された事実によるものであることが分かっている。たとえば、第1の反応器からの余剰のO3が分解し、第2の反応器内にさらに活性酸素ラジカルを生成し得る。したがって、実質上同様のエネルギーコストにおいて、NO変換に40~50の改善が見られる。したがって、2つのチャンバシステムを利用する利点が、明らかに示してある。次に図7を参照すると、ボリュームストリーマモードで動作するように構成された装置と比較された、沿面ストリーマモードで動作するように構成されたガス処理装置における、NO変換の関数としてのエネルギーコストeV/分子のx-yグラフ700が示してある。沿面ストリーマモードで動作した装置は、図3に従って構成され、ギャップ幅が2mmで上記寸法であった。装置ボリュームストリーマモードで動作した装置は、表1の反応器番号4に示した寸法に従って構成された。すなわち、円筒形または同軸のプラズマ反応器である。図7のデータには、5:95の酸素/窒素混合物からの、NOからNO2への変換が示してある。沿面ストリーマモードでの動作に関連するデータが曲線702Xで示してあり、ボリュームストリーマモードでの動作に関するデータが曲線704Oで示してある。沿面ストリーマモードでの動作用に図3Aおよび3Bに従って構成された装置、すなわち2つの反応器は、直列に動作した。すなわち、第1の反応器からの処理済みガスが、さらに処理するために第2の反応器に供給された。これらの曲線に関連するデータが、以下の表4に示してある。ここでも、その前のデータセットと同様に、同様のバイアス条件および入力流量が利用された。表4および図7に示すように、NOからNO2への変換においては、沿面ストリーマ放電を使用する反応器構成は、ボリュームストリーマ放電を使用する反応器構成よりも著しくエネルギー効率が高い。具体的には、実質的に同量のNO変換においては、少なくとも35のエネルギーコストの低減が見られる。本発明はまた、上記の原理を使用して、プラズマ反応器放電チャンバ内でガスを処理する方法を含む。この方法は、放電チャンバにガスを加えるステップを含み、ボリュームストリーマの形成が抑制される場合には、この放電チャンバ内でパルス状のコロナ放電が生成され、その結果、放電チャンバ内でのエネルギー密度において沿面ストリーマの役割が増大する。図8には、本発明の一実施形態によって構成されたガス処理装置802と、支援する電気回路と、を備えるシステムが示してある。動作にあたっては、高電圧パルスを装置802に印加することができる。様々な実施形態では、このパルスは、トリガ発生器851、スパークギャップスイッチ852、キャパシタ856、および高電圧直流電源850とともに、L-C反転回路を使用して形成することができる。このパルスは、高電圧電極ノード857すなわち、アノード電極に印加される一方で、対向電極ノード858すなわち、カソード電極および/またはシールド部分は接地されたすなわち、アースノード853に結合された。制御システム860を設けて、システム800内の様々な要素を監視し、制御することができる。電圧測定用の電圧分割器を設けるための抵抗器854など、他の構成部品を設けることもできる。パルス持続時間は、ストリーマからアークへの移行の発生を防止できるほど十分に短いことが好ましい。様々な回路を使用してもよく、様々な特性を有するパルスを容易に実現してもよいことが、当業者には容易に理解されよう。次に図9を参照すると、制御システム860として実装することができるコンピューティング装置900の詳細ブロック図が示してある。様々な構成部品が図9に示してあるが、コンピューティング装置900には、おおよそ図9に示した構成部品が含まれ得る。しかしながら、図示した構成部品は、本発明の例示的な一実施形態を開示するのに十分である。図9のハードウェアアーキテクチャは、接続された機械装置を制御するための代表的なコンピューティング装置のほんの一実施形態を表すにすぎない。図9に示すように、コンピューティング装置900は、システムインターフェース922、中央処理装置CPU906、システムバス910、システムバス910を介してコンピューティング装置900の他の部分に接続され、そこからアクセス可能なメモリ916、およびシステムバス910に接続されたハードウェア構成要素914を備える。ハードウェア構成要素914のうち少なくともいくつかは、メモリ916へのアクセスとその使用を含む動作を実行する。このメモリは、任意のタイプの揮発性または不揮発性のメモリデバイスでよい。このようなメモリは、たとえば、磁気的、光学的、または半導体をベースにしたメモリ装置を含むことができる。しかしながら、この点に関して、本発明の様々な実施形態は限定されない。実施形態によっては、コンピューティングシステムは、ユーザインターフェース902を備えることができる。ユーザインターフェース902は、コンピューティングシステム900の内部構成部品または外部構成部品とすることができる。ユーザインターフェース902は、入力装置、出力装置、および、ユーザがコンピューティング装置900にインストールされたソフトウェアアプリケーションと対話し、それを制御するように構成されたソフトウェアルーチンを備えることができる。このような入力装置および出力装置は、表示スクリーン904、スピーカ図示せず、キーボード図示せず、十字キー図示せず、十字ノブ図示せず、およびマイクロホン図示せずを備えるがこれだけには限らない。したがって、ユーザインターフェース902は、コンピューティング装置900にインストールされたソフトウェア開発アプリケーションおよび他のタイプのアプリケーションを立ち上げるための、ユーザとソフトウェアの対話を容易にすることができる。システムインターフェース922により、コンピューティング装置900は、外部ユーザインターフェースまたは他のコンピューティング装置など、他の装置と直接または間接に通信することが可能になる。さらに、コンピューティング装置は、マイクロプロセッサ、特定用途向け集積回路ASIC、他のハードウェアなど、ハードウェア構成要素914を備えることができる。図9に示すように、ハードウェア構成要素914はまた、取外し可能なメモリユニット916を備えることができ、このメモリユニットは、コンピュータ読取り可能な記憶媒体918を備え、この媒体上に、本明細書に記載の方法、手順、または機能のうち1つまたは複数を実施するように構成された1組または複数組の命令920たとえば、ソフトウェアコードが記憶される。命令920はまた、コンピューティング装置900によって実行されている間、完全にまたは少なくとも部分的に、メモリ916内および/またはCPU906内に常駐することができる。メモリ916およびCPU906はまた、機械読取り可能な媒体を構成することができる。例示的な一実施形態では、コンピュータ読取り可能な記憶媒体918が単一の記憶媒体として示してあるが、コンピュータ読取り可能な記憶媒体という用語は、1つまたは複数の命令セットを記憶する、単一の媒体または複数の媒体たとえば、集中データベースもしくは分散データベース、ならびに/または関連するキャッシュおよびサーバを含むものと考えるべきである。コンピュータ読取り可能な記憶媒体という用語はまた、この開示の方法のうち1つまたは複数の任意の方法をマシンが実行できるようにする、マシンが実行するための1組の命令を記憶し、符号化し、運ぶことのできる任意の媒体を含むものと考えるべきである。したがって、コンピュータ読取り可能な記憶媒体という用語は、固体メモリメモリカード、または、1つもしくは複数のリードオンリ不揮発性メモリ、ランダムアクセスメモリ、もしくは他の書換え可能な揮発性メモリを収容する他のパッケージ、磁気光媒体もしくは光媒体ディスクもしくはテープを含むものと考えるべきであるが、ただしそれだけに限定されない。したがって、本開示は、本明細書に挙げたコンピュータ読取り可能な記憶媒体または配布媒体の任意の1つ以上を含むものと考えられ、本明細書におけるソフトウェア実装が格納される、認められた均等物および後継媒体を含むものと考えられる。システムインターフェース922は、1つまたは複数の外部装置との通信ネットワーク上での通信を容易にするように構成された、ネットワークインターフェースユニットを備えることができる。したがって、IPプロトコルを含む様々な通信プロトコルとともに使用するための、ネットワークインターフェースユニットを設けることができる。ネットワークインターフェースユニットは、それだけには限定されないが、送受信機、送受信装置、およびネットワークインターフェースカードNICを備えることができる。前述の通り、このようなプラズマ反応器は、従来のガス処理で使用され得るだけでなく、汚染除去、臭気制御などのために使用され得ることが、当業者には理解されよう。上記説明は、本発明の具体的な実施形態に関するが、本発明の範囲から逸脱することなく多くの修正を行ってもよいことが理解されよう。添付の特許請求の範囲は、本発明の真の範囲および精神に収まることになる、このような修正形態を包含するものである。出願人は、正確であると考えられ、本発明の実施形態に関してなされた観察を説明すると考えられる、ある一定の理論的な態様を以下に提示する。しかしながら、本発明の各実施形態は、提示された理論的な態様を用いることなく実施してもよい。さらに、これら理論的な態様は、出願人は提示された理論によって束縛されるつもりはないという理解の下で提示される。本発明の様々な実施形態を以上で説明してきたが、それらは、ほんの一例として提示されたものであって、限定的なものではないことを理解されたい。本発明の趣旨および範囲から逸脱することなく、本明細書における開示に従って、開示された実施形態に数多くの変更を加えることができる。したがって、本発明の幅および範囲は、前述の実施形態のいずれによっても限定されるべきではない。むしろ、本発明の範囲は、以下の特許請求の範囲およびその均等物に従って定義すべきである。本発明を、1つまたは複数の実装形態に関して図示し、説明してきたが、この明細書および添付図面を読み、理解すれば、均等な変更形態および修正形態が、当業者には思いつくことになる。さらに、本発明の特定の特徴が、いくつかの実装形態のうちのほんの1つに関して開示され得てきたが、こうした特徴は、必要に応じて、また任意の所与のまたは特定の用途にとって有利になるよう、1つまたは複数の他の特徴と組み合わせてもよい。本明細書において使用される専門用語は、具体的な実施形態を説明するためだけのものであり、本発明を限定するものではない。本明細書では、単数形a、anおよびtheは、文脈から明らかにそうでない場合を除き、複数形をも含むものである。さらに、用語含んでいるincluding、含むincludes、有しているhaving、有するhas、備えるwith、またはそれらの変化形が、詳細な説明および/または特許請求の範囲のいずれかにおいて使用される限りにおいて、このような用語は、用語含むcomprisingと同様に包含的であることを意図している。特に別の定義のない限り、本明細書において使用されている全ての用語技術用語および科学用語を含むは、本発明が属する当業者によって一般的に理解されているものと同じ意味を有する。一般的に使用される辞書に定義されているものなどの用語は、関連技術との関連におけるその意味と矛盾のない意味を有するものとして解釈すべきであり、本明細書で明示的にそう定義されない限り、理想化されたまたは過度に形式的な判断で解釈されるものではないことがさらに理解されよう。"