"一対の基板と、前記一対の基板に挟持され、透明状態と散乱状態とに切替可能に構成された調光層と、光を吸収して蛍光発光する蛍光色素を含有し、前記一対の基板の間隙を規制するスペーサとを備える表示装置。前記スペーサは、フォトスペーサである、請求項1に記載の表示装置。前記スペーサは、スペーサビーズである、請求項1に記載の表示装置。前記蛍光色素は、前記調光層の厚さ方向に配向した二色性蛍光色素である、請求項2に記載の表示装置。波長の異なる光を蛍光発光する蛍光色素を含んだ2種類以上のフォトスペーサを有する、請求項2または4に記載の表示装置。前記調光層は、高分子マトリクスと、前記高分子マトリクス中に分散した液晶滴からなるポリマーネットワーク液晶である、請求項1~5のいずれか1項に記載の表示装置。前記高分子マトリクス中に分散した二色性蛍光色素をさらに備える、請求項6に記載の表示装置。しかしながら、二色性蛍光色素の液晶中への溶解度が低いため、十分な蛍光発光を得るためには、この調光層の厚みを大きくする必要があった。このため、駆動電圧が高くなってしまうという問題があった。また、二色性蛍光色素が高分子マトリクスの特性を低下させるという問題もあった。本発明の目的は、調光層の厚みを大きくすることなく、かつ、調光層の特性に影響を及ぼすことなく、十分な蛍光発光が得られる表示装置の構成を得ることである。以下に開示する表示装置は、一対の基板と、前記一対の基板に挟持され、透明状態と散乱状態とに切替可能に構成された調光層と、前記一対の基板の間隙を規制するスペーサとを備える。前記スペーサは、光を吸収して蛍光発光する蛍光色素を含有している。本発明によれば、調光層の厚みを厚くすることなく、かつ、調光層の特性に影響を及ぼすことなく、十分な蛍光発光が得られる表示装置の構成を得ることができる。本発明の一実施形態にかかる表示装置は、一対の基板と、前記一対の基板に挟持され、透明状態と散乱状態とに切替可能に構成された調光層と、前記一対の基板の間隙を規制するスペーサとを備える。前記スペーサは、光を吸収して蛍光発光する蛍光色素を含有している第1の構成。この構成によれば、スペーサに蛍光色素を含有させる。スペーサは種々の材料が選択可能である。また、スペーサに含有させる蛍光色素は二色性蛍光色素に限られない。したがって、液晶に二色性蛍光色素を溶解させる必要があった従来の構成に比べて、蛍光色素の含有量を増やすことができる。蛍光色素の含有量を増やすことで、調光層の厚み厚くすることなく、十分な蛍光発光を得ることができる。また、スペーサが蛍光色素を含有することにより、蛍光色素は調光層と分離される。したがって、蛍光色素の量を増やしても、調光層の特性に影響を与えることはない。したがって、制限なく蛍光色素の含有量を増やし、十分な蛍光発光を得ることができる。前記第1の構成において、前記スペーサは、フォトスペーサとすることができる第2の構成。ここで、フォトスペーサとは、フォトリソグラフィによって形成位置が制御されたスペーサを意味する。前記第1の構成において、前記スペーサは、スペーサビーズとすることができる第3の構成。ここで、スペーサビーズとは、前記一対の基板の間に散布されて用いられるスペーサを意味し、球状スペーサの他に円柱状短繊維のものも含む。前記第2の構成において、前記蛍光色素は、前記調光層の厚さ方向に配向した二色性蛍光色素とすることができる第4の構成。二色性蛍光色素は、吸収発光に異方性を有する。二色性蛍光色素を調光層の厚さ方向に配向させることで、調光層が透明状態の場合における二色性蛍光色素の吸収発光量を減少できる。一方、調光層が散乱状態の場合、配向した二色性蛍光色素は、調光層内で散乱している光をより効果的に吸収できる。したがって、本構成によれば、よりコントラストの高い表示が可能になる。前記第2または第4の構成において、波長の異なる光を蛍光発光する蛍光色素を含んだ2種類以上のフォトスペーサを有していても良い第5の構成。この構成によれば、多色表示が可能になる。前記第1~第5のいずれかの構成において、前記調光層は、高分子マトリクスと、前記高分子マトリクス中に分散した液晶滴からなるポリマーネットワーク液晶とすることができる第6の構成。前記第6の構成において、前記高分子マトリクス中に分散した二色性蛍光色素をさらに備えても良い第7の構成。この構成によれば、スペーサ内にのみ蛍光色素が存在する場合よりも、色味の濃い表示が可能になる。[実施の形態]以下、図面を参照し、本発明の実施の形態を詳しく説明する。図中同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。なお、説明を分かりやすくするために、以下で参照する図面においては、構成が簡略化または模式化して示されたり、一部の構成部材が省略されたりしている。また、各図に示された構成部材間の寸法比は、必ずしも実際の寸法比を示すものではない。第1の実施形態図1は、本発明の第1の実施形態にかかる表示装置1の概略構成を模式的に示す断面図である。表示装置1は、一対の基板としてアクティブマトリクス基板10および対向基板20と、調光層としてPNLCPolymerNetworkLiquidCrystal:ポリマーネットワーク液晶層30と、フォトスペーサ40とを備えている。アクティブマトリクス基板10と対向基板20とは、PNLC層30を間に挟んで、互いに平行に、対向して配置されている。アクティブマトリクス基板10と対向基板20との間には、フォトスペーサ40が形成されている。フォトスペーサ40は、表示装置1の法線方向から見た面上に、規則的に配置されている。フォトスペーサ40は、アクティブマトリクス基板10と対向基板20との間隙、すなわちPNLC層30の厚みを規制している。アクティブマトリクス基板10は、絶縁性基板11と、アレイ層12とを備えている。アレイ層12は、詳しい構成は図示しないが、信号線、ゲート絶縁膜、薄膜トランジスタTFT:ThinFilmTransistor、画素電極および保護膜等から構成されている。アレイ層12の構成は周知のものを用いることができるため、ここでは詳しい説明を省略する。対向基板20は、絶縁性基板21と、対向電極22とを備えている。PNLC層30は、高分子マトリクス31と、液晶滴32とを備えている。液晶滴32は、液晶分子32aにより形成されている。液晶滴32は、高分子マトリクス31中に分散している。図1は模式的に示した図であって、液晶滴32は、高分子マトリクス31全体に均等に、かつ微小な液滴として分散していることが好ましい。アレイ層12の画素電極と対向電極22との間に電圧が印加されていない場合、液晶滴32中の液晶分子32aはランダムな方向を向いている。これにより、高分子マトリクス31と液晶滴32との間で屈折率が変わる。そのため、高分子マトリクス31と液晶滴32との界面で光が散乱し、PNLC層30は不透明になる散乱状態。一方、アレイ層12の画素電極と対向電極22との間に電圧が印加されている場合、液晶滴32中の液晶分子32aは分子軸を所定の方向に揃えて配向する。これにより、高分子マトリクス31と液晶滴32との間で屈折率が同程度になる。そのため、高分子マトリクス31と液晶滴32との界面での光の散乱が弱まり、PNLC層30は透明になる透明状態。フォトスペーサ40は、レジスト41と、蛍光色素42とを備えている。蛍光色素42は、レジスト41中に分散している。図1は模式的に示した図であって、蛍光色素42は、レジスト41全体に均等に分散していることが好ましい。但し、本実施形態では、蛍光色素42を、レジスト41中に分子レベルで溶解させることは必要ではない。図1では、フォトスペーサ40は図1に示す断面表示装置1の厚み方向と平行な断面において矩形形状である。しかし、フォトスペーサ40のこの断面における形状は、任意である。また、表示装置1の厚み方向と垂直な断面の形状も、任意である。フォトスペーサ40が形成される箇所は特に限定されないが、例えば、アレイ層12のTFTが形成されている箇所に形成することができる。次に、図2Aおよび図2Bを用いて、表示装置1の動作について説明する。図2Aは、PNLC層30が透明状態の場合の、蛍光色素42の吸収発光の様子を模式的に示した図である。図2Bは、PNLC層30が散乱状態の場合の、蛍光色素42の吸収発光の様子を模式的に示した図である。まず、PNLC層30が透明状態である場合を説明する。図2A中の矢印A1および矢印A2のように、表示装置1に入射した光は、PNLC層30を透過する。したがって、図2A中の矢印A3のように、蛍光色素42に直接入射した光のみが、蛍光色素42に吸収される。PNLC層30の屈折率は、アクティブマトリクス基板10および対向基板20の屈折率よりも大きいため、PNLC層30からアクティブマトリクス基板10または対向基板20へ臨界角以上の入射角で入射する光は、その界面で全反射される。これにより、蛍光色素42が発光した光の大部分が、矢印A5のようにPNLC層30内に閉じ込められる。蛍光色素42が発光した光のうち、臨界角よりも浅い角度で対向基板20へ入射した光のみが、矢印A4のように外部に取出される。次に、PNLC層30が散乱状態である場合を説明する。図2B中の矢印A6およびA7のように、表示装置1に入射した光は、一部はPNLC層30を透過し、一部はPNLC層30の内部で散乱する。これにより、矢印A8のように蛍光色素42に直接入射した光に加えて、矢印A7のようにPNLC層30内で散乱する光が蛍光色素42に入射し、蛍光色素42に吸収される。蛍光色素42が発光した光も、PNLC層30によって散乱される。これにより、臨界角よりも浅い角度で対向基板20へ入射した矢印A9のような光に加えて、透明状態においてはPNLC層30に閉じ込められていた矢印A10のような光も、外部に取出される。以上のように、PNLC層30が散乱状態の場合は透明状態の場合と比較して、蛍光色素42に吸収される光の量と、蛍光色素42が発光して外部に取出される光の量が、ともに増加する。これにより、コントラストを表現できる。[表示装置1の製造方法]以下、表示装置1の製造方法を説明する。まず、絶縁性基板11上にアレイ層12を形成して、アクティブマトリクス基板10を作製する。絶縁性基板11として、例えばガラス基板を用いる。アレイ層12は例えば、ゲート電極信号線としてモリブデン系の合金膜を、ゲート絶縁膜として窒化シリコン膜を、半導体膜としてアモルファスシリコン膜を、ソース電極信号線としてアルミニウム系の合金膜を、画素電極としてITOIndiumTinOxide膜を、保護膜として窒化シリコン膜を、この順番で形成して作製する。合金膜およびITO膜はスパッタリングにより成膜する。窒化シリコン膜、アモルファスシリコン膜はCVDChemicalVaporDepositionにより成膜する。成膜と、フォトリソグラフィによるパターン形成とを繰り返して、アレイ層12を作製する。次に、絶縁性基板21上に対向電極22を形成して、対向基板20を作製する。絶縁性基板21として、例えばガラス基板を用いる。対向電極22は、例えばITO膜をマスクスパッタリングにより成膜して作製する。次に、フォトスペーサ40を形成するために、レジスト41と蛍光色素42とを混合する。蛍光色素42はレジスト41に十分に分散させておくことが好ましい。但し、本実施形態では、蛍光色素42を、レジスト41中に分子レベルで溶解させておくことは必要ではない。レジスト41として例えば、紫外線などと反応して特性が変化するフォトレジストを使用することができる。レジスト41は、感光すると現像液に対する溶液性が減少するポジ型、および感光すると現像液に対する溶液性が増大するネガ型の、どちらでも使用することができる。蛍光色素42としては、励起子によって励起されて蛍光を発することのできる種々の色素、例えば、シアニン染料、キサンテン系染料、オキサジン染料、クマリン誘導体、ペリレン誘導体、アクリジン染料、アクリドン染料、キノリン染料を使用できる。レジスト41と蛍光色素42との混合組成物を、スリットコーターまたはスピンコーター等によって、対向基板20の対向電極22上に均一に塗布する。その後、プレベーク仮焼成、露光、現像、ポストベーク後焼成等を行って、フォトスペーサ40を所定の箇所に形成する。フォトスペーサ40の形状および形成個所は任意であるが、例えば、アクティブマトリクス基板10の、アレイ層12のTFTが形成されている箇所に形成することができる。本実施形態では、フォトスペーサ40を、対向基板20の対向電極22の上に作製した。しかし、フォトスペーサ40を、アクティブマトリクス基板10のアレイ層12の上に作製しても良い。次に、対向基板20上に、シール樹脂によりシールパターンを形成する。高分子マトリクス31のモノマーまたはオリゴマー、液晶分子32a、および重合開始剤等の混合組成物を準備して、シールパターン内に滴下する。高分子マトリクス31として、例えば紫外線硬化樹脂を用いることができる。その後、真空中で、アクティブマトリクス基板10と対向基板20とを重ね合わせる。シールパターン内に混合組成物が広がった状態で、紫外線照射を行ってPNLC層30を形成する。以上、本発明の第1の実施形態にかかる表示装置1について説明した。本実施形態によれば、蛍光色素42はフォトスペーサ40に含有される。フォトスペーサ40は、種々のレジスト41を用いて作製できる。本実施形態において、蛍光色素42は、二色性蛍光色素に限定されない。したがって、種々のレジスト41および蛍光色素42の組み合わせが可能である。これにより、液晶に二色性蛍光色素を溶解させる必要があった従来の構成に比べて、蛍光色素42の含有量を増やすことができる。蛍光色素42の含有量を増やすことで、PNLC層30の厚み大きくすることなく、十分な蛍光発光を得ることができる。また、本実施形態によれば、蛍光色素42はフォトスペーサ40に含有され、PNLC層30と分離されている。したがって、蛍光色素42の量を増やしても、PNLC層30の特性に影響を与えることがない。例えば、蛍光色素42によって高分子マトリクス31の形成が阻害されることがない。そのため、制限なく蛍光色素42の含有量を増やし、十分な蛍光発光を得ることができる。なお、本実施形態では、表示装置1がアモルファスシリコンTFTを備えた例を示したが、本発明はこれに限定されない。表示装置1は、例えば多結晶シリコンTFTを備えていても良いし、パッシブマトリクス型の装置であっても良い。[第2の実施形態]図3は、本発明の第2の実施形態にかかる表示装置2の概略構成を模式的に示す断面図である。表示装置2は、フォトスペーサ40にかえて、スペーサビーズ50を備える。スペーサビーズ50は、バインダ51と、蛍光色素52とを備える。スペーサビーズ50は、例えば乳化重合または懸濁重合により作製される。バインダ51としては、例えば乳化重合または懸濁重合が可能な樹脂を用いることができる。バインダ51と相溶性の高い蛍光色素52を用いることにより、蛍光色素52を含有したスペーサビーズ50を作製できる。そして、第1の実施形態でフォトスペーサ40を形成する工程にかえて、スペーサビーズ50を対向基板20上に散布する。なお、スペーサビーズ50は、アクティブマトリクス基板10上に散布しても良い。本実施形態においても、バインダ51および蛍光色素52として種々の組み合わせが可能である。これにより、従来の構成に比べて、蛍光色素52の含有量を増やすことができる。また、蛍光色素52がスペーサビーズ50に含有され、PNLC層30と分離される。したがって、蛍光色素42の量を増やしても、PNLC層30の特性に影響を与えることがない。[第3の実施形態]図4は、本発明の第3の実施形態にかかる表示装置3の概略構成を模式的に示す断面図である。表示装置3は、第1の実施形態にかかる表示装置1と比較すると、フォトスペーサ40の構成が異なる。表示装置3においてフォトスペーサ40は、レジスト41と、二色性蛍光色素43とを備えている。二色性蛍光色素43は、PNLC層30の厚さ方向に配向して、フォトスペーサ40中に分散している。図4は、図1と同様に模式的に示した図であって、二色性蛍光色素43は、レジスト41全体に均等に分散していることが好ましい。図5は、二色性蛍光色素43のa吸収特性と、b発光特性とを、模式的に示した図である。二色性蛍光色素43は、分子長軸方向と吸収の遷移モーメントとがほぼ同じ方向図5中の矢印tm_Aを向いている。したがって、二色性蛍光色素43では、分子長軸と交差する方向に振幅する光分子長軸に対して平行な方向に進行する光の吸収係数に比べて、分子長軸と平行な方向に振幅する光分子長軸に対して交差する方向に進行する光の吸収係数の方が大きい。同様に、二色性蛍光色素43は、分子長軸方向と発光の遷移モーメントとがほぼ同じ方向図5中の矢印tm_Fを向いている。したがって、二色性蛍光色素43では、分子長軸と交差する方向に振幅する光分子長軸に対して平行な方向に進行する光の蛍光発光係数に比べて、分子長軸と平行な方向に振幅する光分子長軸に対して交差する方向に進行する光の蛍光発光係数の方が大きい。次に、図6Aおよび図6Bを用いて、表示装置3の動作について、表示装置1と異なる点を主に説明する。図6Aは、PNLC層30が透明状態の場合の、二色性蛍光色素43の吸収発光の様子を模式的に示した図である。図6Bは、PNLC層30が散乱状態の場合の、蛍光色素43の吸収発光の様子を模式的に示した図である。まず、PNLC層30が透明状態である場合を説明する。表示装置3においても、表示装置1と同様に、二色性蛍光色素43に直接入射した光のみが、二色性蛍光色素43に吸収される例えば、図6A中の矢印A3。一方、二色性蛍光色素43は、PNLC層30の厚み方向に配向している。これにより、二色性蛍光色素43の吸収の遷移モーメントはPNLC層30の厚み方向とほぼ等しい。したがって、二色性蛍光色素43に直接入射する光、すなわち、PNLC層30の厚み方向に近い角度で入手する光は、二色性蛍光色素43に比較的吸収されにくい。また、表示装置3においても、表示装置1と同様に、二色性蛍光色素43が発光した光のうち、臨界角よりも浅い角度で対向基板20へ入射した光のみが、矢印A4のように外部に取出される。一方、二色性蛍光色素43は、PNLC層30の厚み方向に配向している。これにより、二色性蛍光色素43の発光の遷移モーメントはPNLC層30の厚み方向とほぼ等しい。したがって、対向基板20に臨界角よりも浅い角度で入射する方向、すなわち、PNLC層30の厚み方向に近い方向へは、二色性蛍光色素43は比較的弱い光しか発光しない。次に、PNLC層30が散乱状態である場合を説明する。表示装置3においても、表示装置1と同様に、PNLC層30の内部で散乱された光が、二色性蛍光色素43に入射する例えば、図6B中の矢印A7。このような光は、二色性蛍光色素43の吸収の遷移モーメントと交差する方向に進行する成分が大きいため、二色性蛍光色素43に比較的多く吸収される。また、表示装置3においても、表示装置1と同様に、透明状態においてはPNLC層30に閉じ込められていた矢印A10のような光が、外部に取出される。二色性蛍光色素43からPNLC層30へ向かう方向は、二色性蛍光色素43の発光の遷移モーメントと交差する方向であるため、この方向へは、二色性蛍光色素43は比較的強い光を発光する。以上のように、本実施形態にかかる表示装置3によれば、PNLC層30が透明状態の場合に、吸収される光の量、および表示層装置3の外部へ取出される光の量が、表示装置1と比較して少なくなる。また、PNLC層30が散乱状態の場合に、吸収される光の量、および表示装置3の外部へ取出される光の量が、表示装置1と比較して多くなる。したがって、コントラストを高くできる。[表示装置3の製造方法]二色性蛍光色素43を、PNLC層30の厚さ方向に配向させるため、レジスト41として液晶高分子を用いることができる。液晶高分子は、分子配向状態を保持したまま硬化できるものが好ましく、例えば、紫外線硬化型液晶を用いることができる。二色性蛍光色素43としては、高い二色性比を有し、かつ、高い蛍光発光効率を有しているものが望ましい。例えば、XuelongZhanget.al.,JournalofMaterialsChemistry,2004,14,p.1901-1904に紹介されているベンゾ-2,1,3-チアジアゾール化合物およびその誘導体を用いることができる。また、クマリン系、シアニン系、ピリジン系、ローダミン系、スチリル系、アントラキノン系化合物を用いることができる。このような化合物は、分子構造を変えることで任意の発光波長が得られる。二色性蛍光色素43と、液晶高分子とを十分に混合して、混合組成物を作製する。この混合組成物を、スリットコーターまたはスピンコーター等によって、対向基板20の対向電極22上に均一に塗布する。その後、プレベーク仮焼成、露光、現像、ポストベーク後焼成等を行って、フォトスペーサ40を所定の箇所に形成する。なお、フォトスペーサ40は、アクティブマトリクス基板10の上に形成しても良い。液晶高分子中に溶解した二色性色素43は、液晶高分子の配向に従って配向する。液晶高分子をPNLC層30の厚み方向に配向させるためには、例えば、アクティブマトリクス基板10または対向基板20上に配向膜を形成して、配向膜の上に混合組成物を塗布すればよい。この状態で液晶高分子を硬化させることにより、PNLC層30の厚み方向に配向した二色性蛍光色素43が得られる。なお、電圧を印加しながら液晶高分子を硬化させることによっても、二色性色素43をPNLC層30の厚み方向に配向させることができる。[第4の実施形態図7は、本発明の第4の実施形態にかかる表示装置4の概略構成を模式的に示す断面図である。表示装置4は、第1の実施形態にかかる表示装置1と、PNLC層30の構成が異なる。表示装置4においてPNLC層30は、高分子マトリクス31と、液晶滴32とに加えて、二色性蛍光色素33をさらに備える。本実施形態では、液晶滴32を構成する液晶分子32aと相溶性の高い二色性蛍光色素33を用いている。これにより、二色性蛍光色素33は、高分子マトリクス31の中にはあまり存在せず、主に液晶滴32の中に存在している。本実施形態の二色性蛍光色素33は、第3の実施形態において説明した二色性蛍光色素43と同様のものを用いることができる。二色性蛍光色素33は、液晶分子32aと平行になるように振る舞う。したがって、液晶分子32aを電気的に制御することで、二色性蛍光色素33を制御することができる。具体的には、PNLC層30が透明状態の場合、すなわち、液晶分子32aの分子長軸がPNLC層30の厚さ方向に配向している場合は、二色性蛍光色素33もこの方向に配向する。二色性蛍光色素33の吸収の遷移モーメントもほぼ同じ方向を向くため、二色性蛍光色素33は、この方向に入射する光をほとんど吸収しない。一方、PNLC層30が散乱状態の場合、すなわち、液晶分子32aのランダムな方向を向いている場合は、二色性蛍光色素33もランダムな方向を向いている。これにより、二色性蛍光色素33による吸収や発光が起こる。本実施形態によれば、フォトスペーサ40内にのみ蛍光色素42が存在する場合第1の実施形態の場合と比較して、より濃い色味が得られる。[第5の実施形態図8は、本発明の第5の実施形態にかかる表示装置5の概略構成を模式的に示す断面図である。表示装置5は、第4の実施形態にかかる表示装置4と、フォトスペーサ40の構成が異なる。表示装置4においてフォトスペーサ40は、レジスト41と、PNLC層30の厚さ方向に配向した二色性蛍光色素43とを備えている。なお、フォトスペーサ40に含有されている二色性蛍光色素43と、PNLC層30に含有されている二色性蛍光色素33とは、同じ化合物であっても良いし、異なる化合物であっても良い。本実施形態によれば、フォトスペーサ40内にのみ二色性蛍光色素43が存在する場合第3の実施形態の場合と比較して、より濃い色味が得られる。[第6の実施形態図9は、本発明の第6の実施形態にかかる表示装置6の概略構成を模式的に示す断面図である。表示装置6は、表示装置1と、アクティブマトリクス基板10および対向基板20の構成が異なる。表示装置6は、対向基板20の絶縁性基板21上に、対向電極が存在しない。一方、表示装置6におけるアレイ層12は、画素電極12aと、共通電極12bとを備える。画素電極12aと共通電極12bとは、互いに並行して交互に配置されている。画素電極12aと共通電極12bとは、平面視で櫛歯状に形成されている。表示装置6は、画素電極12aと共通電極12bとの間に電圧を印加することにより、アクティブマトリクス基板10および対向基板20と平行な方向に電界をかけて液晶分子32aを制御する。本実施形態によれば、対向基板20側に対向電極が存在しない。これにより、対向電極による光の反射や吸収がなくなるため、PNLC層30に入射する光の量が増える。したがって、表示装置6は、より明るい表示を行うことができる。[第7の実施形態]図10は、本発明の第7の実施形態にかかる表示装置7の概略構成を模式的に示す断面図である。表示装置7は、アクティブマトリクス基板10と、対向基板20と、PNLC層30と、フォトスペーサ40a,40b,40cとを備えている。フォトスペーサ40aは、レジスト41と、蛍光色素42aとを備えている。フォトスペーサ40bは、レジスト41と、蛍光色素42aとは異なる波長の光を発光する蛍光色素42bとを備えている。同様に、フォトスペーサ40cは、レジスト41と、蛍光色素42aおよび蛍光色素42bとは異なる波長の光を発光する蛍光色素42cとを備えている。蛍光色素42a,42b,42cとしては例えば、それぞれ赤、緑、青の光を発光する蛍光色素を用いることができる。ただし、このような3原色に限定されるわけではない。本実施形態によれば、互いに異なる波長を発光する蛍光色素42a,42b,42cにより、多色表示が可能になる。また、フォトスペーサ40a,40b,40cを、所定のパターンで規則的に配置することで、加法混色によってより多くの色を表現できる。フォトスペーサ40a,40b,40cを形成するには、例えばフォトリソグラフィによるパターン形成を、繰り返し行えばよい。具体的には、まず、レジスト41と蛍光色素40aとの混合組成物を、スリットコーターまたはスピンコーター等によって、対向基板20上に均一に塗布する。その後、プレベーク仮焼成、露光、現像、ポストベーク後焼成等を行って、フォトスペーサ40aを形成する。以下、この工程を繰り返してフォトスペーサ40b、40cを形成する。また、フォトスペーサ40a,40b,40cはインクジェット法によっても形成できる。具体的には、まず、レジスト41と蛍光色素40aとの混合組成物を、インクジェットにより対向基板10上の所定の箇所に塗布する。その後、溶媒の乾燥、硬化、ポストベーク等を行って、フォトスペーサ40aを形成する。以下、この工程を繰り返してフォトスペーサ40b、40cを形成する。なお、フォトスペーサ40a,40b,40cはアクティブマトリクス基板10の上に形成しても良い。本実施形態では3種類の蛍光色素42a,42b,42cを使用する例を示したが、使用する蛍光色素の種類は2種類であっても、4種類以上であっても良い。また、蛍光色素42a,42b,42cとして、PNLC層30の厚み方向に配向した二色性蛍光色素を用いても良い。[第8の実施形態]図11は、本発明の第8の実施形態にかかる表示装置8の概略構成を模式的に示す断面図である。表示装置8は、第7の実施形態にかかる表示装置7と、フォトスペーサ40a,40b,40cおよびPNLC層30の構成が異なる。表示装置8においてフォトスペーサ40a~40cは、蛍光色素42a~42cにかえて、互いに異なる波長の光を発光する二色性蛍光色素43a~43cを含有している。二色性蛍光色素43a~43cは、PNLC層30の厚さ方向に配向している。二色性蛍光色素43a~43cとしては例えば、それぞれ赤、緑、青の光を発光する二色性蛍光色素を用いることができる。ただし、このような3原色に限定されるわけではない。また、表示装置8においてPNLC層30は、高分子マトリクス31と、液晶滴32とに加えて、二色性蛍光色素33とをさらに備える。二色性蛍光色素33は、高分子マトリクス31の中にはあまり存在せず、主に液晶滴32の中に存在している。なお、二色性蛍光色素33として、多種類の化合物を用いても良い。この場合、近傍にあるフォトスペーサ40a~40cに含有された二色性蛍光色素43a~43cと近い色を発光するように、二色性蛍光色素33を分布させることが望ましい。また、フォトスペーサ40a~40cに含有されている二色性蛍光色素43a~43cと、PNLC層30に含有されている二色性蛍光色素33とは、同じ化合物であっても良いし、異なる化合物であっても良い。本実施形態によれば、フォトスペーサ40a~40cに、蛍光色素42a~42cにかえて二色性蛍光色素43a~43cを含有させたことにより、第7の実施形態と比較してコントラストを高くできる。また、PNLC層30に二色性蛍光色素33を含有させたことにより、第7の実施形態と比較して、より濃い色味が得られる。本実施形態では3種類の二色性蛍光色素43a,43b,43cを使用する例を示したが、使用する二色性蛍光色素の種類は2種類であっても、4種類以上であっても良い。[その他の実施形態]以上、本発明についての実施形態を説明したが、本発明は上述の各実施形態にのみ限定されず、発明の範囲内で種々の変更が可能である。また、上述した各実施形態は、適宜組み合わせて実施が可能である。例えば、櫛歯電極を用いた第6の実施形態において、フォトスペーサ40に、蛍光色素42に変えて、PNLC層30の厚さ方向に配向させた二色性蛍光色素43を含有させても良い。また、フォトスペーサ40にかえてスペーサビーズ50を用いても良い。さらに、PNLC層30に、二色性蛍光色素33を含有させても良い。また、多種類の蛍光色素42a~42cまたは二色性蛍光色素43a~43cを用いた第7または第8の実施形態において、櫛歯電極を用いた駆動法方法を採用しても良い。"