"処理対象のガス成分を含むガスに対して電圧を与えて大気圧中でプラズマ発生させるプラズマ発生装置であって、プラズマ発生のために電力が給電される棒状電極と、一方向に長い内部空間を備え、前記棒状電極が前記内部空間内に前記内部空間の長手方向に沿って設けられる金属製の筒状筐体と、前記棒状電極の第1の端部に、前記第1の端部を保護するように設けられる電極側誘電体バリア層と、前記電極側誘電体バリア層と対向する前記筒状筐体における第1の端面に設けられる前記ガスを供給する供給口と、前記第1の端面に前記供給口の周りを囲むように設けられる筐体側誘電体バリア層と、を有し、前記棒状電極の前記第1の端部の断面形状における電極側周上エッジ部分を、前記筒状筐体の前記第1の端面上に前記長手方向に平行に投影したとき、前記電極側周上エッジ部分は前記筐体側誘電体バリア層上あるいは前記供給口上の領域に投影される、ことを特徴とするプラズマ発生装置。前記供給口の筐体側周上エッジ部分を前記棒状電極に対する対向電極としてプラズマが発生し、前記電極側周上エッジ部分から前記筐体側周上エッジ部分に至る最短距離が、前記電極側周上エッジ部分の各位置において同じである、請求項1に記載のプラズマ発生装置。前記筐体側周上エッジ部分及び前記電極側周上エッジ部分はいずれも円弧形状を成し、前記円弧形状の中心位置がいずれも前記長手方向に平行な同一の直線上に位置する、請求項1または2に記載のプラズマ発生装置。前記棒状電極の長手方向の中間部分には給電点が設けられ、前記棒状電極には、前記棒状電極の前記長手方向の少なくとも一部分における周囲を誘電体が覆う、請求項1~3のいずれか1項に記載のプラズマ発生装置。前記筒状筐体の前記第1の端面と反対側の第2の端面には、ガスを排出する排出口が設けられ、前記誘電体は、前記誘電体と前記筒状筐体の側面との間に前記内部空間の一部が形成されるように設けられ、前記誘電体と前記筒状筐体との間の空間が、前記供給口から供給されたガスを前記排出口へ導くガス流路を形成する、請求項4に記載のプラズマ発生装置。前記誘電体の比誘電率は10以上であり、前記誘電体の誘電正接は5×104以下である、請求項4または5に記載のプラズマ発生装置。前記棒状電極に一定周波数の高周波電力が断続的に繰り返し給電されることにより、プラズマが前記内部空間内で断続的に発生する、請求項1~6のいずれか1項に記載のプラズマ発生装置。前記電極側周上エッジ部分及び前記筐体側周上エッジ部分を電極として、前記供給口の周りを取り囲むようにプラズマが断続的に発生する、請求項1~7のいずれか1項に記載のプラズマ発生装置。しかし、上記非特許文献1に開示されるプラズマリアクター10では、球形ペレット22を、ガスを流す流路に配置するので、流路抵抗等によって十分な流量を確保することが難しい。また、ナノ秒オーダーの短い周期のマイクロ放電を用いるので、NOの酸化処理の効率が低い。このため、プラズマの生成領域を広くして、多くのNOを効率よく酸化処理することが望まれている。また、放電のために数kVの電圧を印加するので、電源が大型化し、コンパクトな装置の構成は難しい。一方、特許文献1に開示される高電圧プラズマ発生装置では、第2の電極としてガスの供給口を覆うように網状電極が設けられることにより、供給口上の網状電極と長尺状の電極との間の広い範囲で、プラズマの生成を行うことができる。しかし、この高電圧プラズマ発生装置では、プラズマが広い範囲に均一にかつ安定的に生成されない場合があり、ガスを効率よく処理できない場合がある。そこで、本発明は、処理対象のガス成分を含むガスに対して電圧を与えて大気圧中でプラズマ発生させるとき、ガスを効率よく処理することができるプラズマ発生装置を提供することを目的とする。本発明の一態様は、処理対象のガス成分を含むガスに対して電圧を与えて大気圧中でプラズマ発生させるプラズマ発生装置である。当該装置は、プラズマ発生のために電力が給電される棒状電極と、一方向に長い内部空間を備え、前記棒状電極が前記内部空間内に前記内部空間の長手方向に沿って設けられる金属製の筒状筐体と、前記棒状電極の第1の端部に、前記第1の端部を保護するように設けられる電極側誘電体バリア層と、前記電極側誘電体バリア層と対向する前記筒状筐体における第1の端面に設けられる前記ガスを供給する供給口と、前記第1の端面に前記供給口の周りを囲むように設けられる筐体側誘電体バリア層と、を有する。その際、前記棒状電極の前記第1の端部の断面形状における電極側周上エッジ部分を、前記筒状筐体の前記第1の端面上に前記長手方向に平行に投影したとき、前記電極側周上エッジ部分は前記筐体側誘電体バリア層上あるいは前記供給口上の領域に投影される。前記装置では、前記供給口の筐体側周上エッジ部分を前記棒状電極に対する対向電極としてプラズマが発生し、例えば、前記電極側周上エッジ部分から前記筐体側周上エッジ部分に至る最短距離が、前記電極側周上エッジ部分の各位置において同じである、ことが好ましい。さらに、前記筐体側周上エッジ部分及び前記電極側周上エッジ部分はいずれも円弧形状を成し、前記円弧形状の中心位置がいずれも前記長手方向に平行な同一の直線上に位置する、ことが好ましい。また、前記棒状電極の長手方向の中間部分には給電点が設けられ、前記棒状電極には、前記棒状電極の前記長手方向の少なくとも一部分における周囲を誘電体が覆う、ことが好ましい。前記筒状筐体の前記第1の端面と反対側の第2の端面には、ガスを排出する排出口が設けられ、前記誘電体は、前記誘電体と前記筒状筐体の側面との間に前記内部空間の一部が形成されるように設けられ、前記誘電体と前記筒状筐体との間の空間が、前記供給口から供給されたガスを前記排出口へ導くガス流路を形成する、ことが好ましい。前記誘電体の比誘電率は10以上であり、前記誘電体の誘電正接は5×104以下である、ことが好ましい。また、前記棒状電極に一定周波数の高周波電力が断続的に繰り返し給電されることにより、プラズマが前記内部空間内で断続的に発生する、ことが好ましい。前記電極側周上エッジ部分及び前記筐体側周上エッジ部分を電極として、前記供給口の周りを取り囲むようにプラズマが断続的に発生する、ことが好ましい。上記プラズマ発生装置によれば、処理対象のガス成分を含むガスに対して電圧を与えて大気圧中でプラズマ発生させるとき、ガスを効率よく処理することができる。以下、本発明のプラズマ発生装置を、本実施形態に基づいて詳細に説明する。図1は、本実施形態のプラズマ発生装置であるプラズマリアクターの概略構成図である。プラズマリアクターは、窒素酸化ガスNOxをプラズマリアクター内に供給し、プラズマリアクター内のガスの供給口近傍で断続的にプラズマを生成し、このプラズマを用いてNOxを処理し、排出する。具体的には、プラズマ発生装置は、棒状電極100と、筐体110と、電力供給ユニット140と、を主に備える。棒状電極100は、断面が円形状である長尺状の棒形状の電極である。棒状電極100は、筐体110の一方向に長い内部空間内に、筐体110の内部空間の内壁面と離間するように、この内部空間の長手方向図1中のX方向に沿って設けられる。棒状電極100は、高周波信号の電力の給電を受け、棒状電極100内での共振が発生することにより高電圧を発生させる。本実施形態の棒状電極100は、銅で形成されるが、銀、アルミニウムなども好適に用いられる。棒状電極100の長手方向の中間部分には、高周波信号の給電点102が設けられている。給電点102には、給電線118から高周波信号が電力として印加される。棒状電極100の長手方向の長さを2lとすると、棒状電極100の長手方向の中心位置からわずかにずれた位置に給電点102は位置する。棒状電極100の長手方向の中心位置から給電点102が設けられる位置までの距離をx0とすると、x0は下記式1で表される関係式を満たす。ここで、Z00は給電点102に給電する給電線の特性インピーダンスであり、ZCは棒状電極100を伝送線路としたときの特性インピーダンスである。また、プラズマ発生装置におけるプラズマ発生時の等価キャパシタンスCのエネルギー損失を示す係数をχとすると、Q=1/χである。給電点102が、棒状電極100の長手方向の中心位置からわずかにずれた位置に設けられるのは、プラズマリアクターへ給電する時のインピーダンス整合を取るためである。交流ダイポールアンテナと同様、棒状電極100中を伝送する電磁波の波長λの半分の長さが棒状電極100の長さ2lとなるとき、棒状電極100には最低次モードの共振が生じ、効率よく高電圧が生成される。そのため、棒状電極100の長さ2lは、プラズマリアクターにおいて共振周波数を定める重要な要素となる。なお、棒状電極100は後述するように、棒状電極100の周囲に誘電体105を設けているので、誘電体105の誘電率に応じて電磁波の波長λは変化しており、誘電体105がない場合の波長と異なっている。本実施形態では、100MHz~10GHzの周波数帯域における所定の周波数において高電圧を発生するように、棒状電極100の長さ2lは誘電体105の誘電率に応じて設定されている。棒状電極100の一方の端部図1では左端部には、内部空間を挟んで筐体110の一方の端面図1では左端部の端面に対向して、棒状電極100の端部を保護するように電極側誘電体バリア層104が設けられている。電極側誘電体バリア層104は、例えば酸化アルミニウム等の誘電体が用いられる。棒状電極100の長手方向に沿って、棒状電極100の周囲に誘電体105が設けられている。誘電体105は、誘電体105と筐体110の側面の間に内部空間の一部が形成されるように設けられた中実円筒形状を成し、図2に示すように、誘電体105と筐体110との間の空間は、後述する供給口114から供給されたガスを後述する排出口116へ導くガス流路106として形成される。誘電体105の比誘電率は10以上であることが好ましい。また、誘電体105の誘電正接は5×104以下であることが好ましい。このような誘電体105として、例えば酸化アルミニウムあるいは酸化チタニウムの焼結体が好適に用いられる。なお、給電点102では、接続端子120を介して電力供給ユニット140と接続された給電線118が誘電体105にあけられた孔を通して電力が給電される。筐体110は、一方向に長い内部空間を有し、内部空間の長手方向X方向に沿って棒状電極100が設けられた金属製の円筒状の筐体であり、アースされて電位が0に維持されている。筐体110は、例えばアルミニウムで形成されるが、銀、銅等の金属で形成されてもよい。棒状電極100において電極側誘電体バリア層104が設けられた端部に対向する筐体110の一方の端面図1中の左端部の端面にはNOxを含む処理対象のガスを供給する供給口114が設けられる。供給口114の設けられた端面には、供給口114の周りを覆うように筐体側誘電体バリア層115が設けられている。供給口114は、NOxを含む処理対象のガスを供給する供給管130に接続されている。例えば、供給管130は、ディーゼルエンジン等の排気口と接続されている。供給口114には、従来の高電圧プラズマ発生装置のように棒状電極の対向電極となる網状電極が設けられていない。その代わり、筐体側誘電体バリア層115が供給口114の周囲を囲むように壁面に設けられている。供給口114の周りを囲むように筐体側誘電体バリア層115を筐体110の端面に設け、筐体側誘電体バリア層115を設けた端面に対向するように棒状電極100に電極側誘電体バリア層104を設けるのは、供給口114の筐体側周上エッジ部分と棒状電極100の電極側周上エッジ部分との間の空間で誘電体バリア放電を発生させてプラズマを安定的に発生させるためである。このため、電極側誘電体バリア層104の設けられた棒状電極100の端部における電極側周上エッジ部分を、供給口114が設けられた筐体110の端面上に長手方向図1中のX方向に平行に投影したとき、棒状電極100の上記電極側周上エッジ部分は筐体側誘電体バリア層115上あるいは供給口114の領域上に投影される。すなわち、棒状電極100の上記電極側周上エッジ部分は、筐体110における供給口114の周囲を囲む筐体側誘電体バリア層115あるいは供給口114の領域と、X方向長手方向において対向する。なお、筐体側周上エッジ部分とは、供給口114が筐体110の端面と供給口114に繋がる孔の壁面によって形成される角をいう。同様に、電極側周上エッジ部分とは、棒状電極100の端部の面と棒状部分の側面とによって作られる角をいう。また、供給口114の筐体側周上エッジ部分を棒状電極100に対する接地した対向電極とし、棒状電極100の電極側周上エッジ部分から供給口114の筐体側周上エッジ部分に至る最短距離は、電極側周上エッジ部分の各位置において同じであることが、バリア放電によってプラズマを安定的に発生させる点で好ましい。このときのプラズマは供給口114の周りを取り囲むように円筒状に発生する。なお、供給口114の筐体側周上エッジ部分及び棒状電極100の電極側周上エッジ部分はいずれも円弧形状を成し、円弧形状の中心位置がいずれも図1中のX方向に沿った同じ直線上に位置することが、バリア放電によって円筒状のプラズマを供給口114の周りを取り囲むように発生させる点で好ましい。筐体側周上エッジ部分及び電極側周上エッジ部分が鋭角な屈曲部を有する場合、この屈曲部の周りにプラズマが集中して発生し、円筒状のプラズマを発生することが難しくなる。筒状筐体110における、電極側誘電体バリア層104が設けられている端面と反対側の端面には、供給されたガスを排出する排出口116が設けられる。排出口116には、ガスを排出する排出管132が接続されている。排出管132には不図示のブロワーが接続されており、筐体110の内部のガスは大気中に排出される。電力供給ユニット140は、棒状電極100の共振周波数と同じ周波数の交流信号を間欠的断続的にに給電点102に給電する。電力供給ユニット140が給電する信号の概略の周波数の範囲は、棒状電極100中を伝送する伝送信号の波長λの半分の長さが棒状電極100の長さ2lとなり、最低次モードの共振が生じるように定められている。図3は、電力供給ユニット140の概略構成を説明する図である。図3に示されるように、電力供給ユニット140は、RF発振器142と、可変アッテネータ143と、バースト制御信号発生器144と、振幅変調器146と、増幅器148と、を備える。RF発振器142は、100MHz~10GHzの周波数の連続波ContinuousWaveを発振し、RF信号を生成する。以下の説明では、RF発振器142が発振する周波数をf1[Hz]とする。RF発振器142が発振する周波数f1は、電界プローブ122の計測結果に基づいて調整される。RF発振器142により生成されたRF信号は、可変アッテネータ143を介して振幅変調器146へ出力される。なお、電力供給ユニット140は、接続端子120で反射された信号の強度に基づいて、共振周波数に対応する周波数の信号を給電することもできる。可変アッテネータ143は、RF発振器142の信号のレベルを可変に調整する。バースト制御信号発生器144は、矩形パルス信号を所定の周波数で生成する。以下の説明では、バースト制御信号発生器144が生成する矩形パルス信号のパルス幅をW[秒]、矩形パルス信号を生成する周波数をf2[Hz]とする。ここで、1/f1<W<1/f2である。バースト制御信号発生器144が生成する矩形パルス信号のパルス幅Wは、棒状電極100の共振周波数と同じ周波数の高周波信号を給電点102に給電した場合に、給電により増大する棒状電極100の電圧が絶縁電圧を超えてバリア放電によりプラズマが発生するまでの期間よりも長くなるように設定される。一般に、パルス幅Wが長すぎると熱プラズマが発生することがある。熱プラズマが発生すると、棒状電極100に熱が発生し、これに起因してNOやNO2が発生することがある。そのため、パルス幅Wは、熱プラズマが発生しない程度の長さとすることが好ましい。バースト制御信号発生器144により生成された矩形パルス信号は、振幅変調器146へ出力される。振幅変調器146は、RF発振器142により生成されたRF信号の入力を受ける。また、振幅変調器146は、バースト制御信号発振器144により生成された矩形パルス信号の入力を受ける。振幅変調器146は、矩形パルス信号の入力を受けているW[s]の期間だけ、RF発振器142が生成したRF信号を出力する。すなわち、振幅変調器146は、1/f2[s]周期でW[s]の間、周波数f1[Hz]の交流信号を間欠的に繰り返し出力する。増幅器148は、振幅変調器146から出力された信号を増幅する。増幅器148により増幅された信号は、接続端子120へ出力される。図4は、電力供給ユニット140で生成される信号の一例を説明する図である。図4aは、RF発振器142が生成するRF信号の一例を示す図である。図4bは、バースト制御信号発生器144が生成する矩形パルス信号の一例を示す図である。図4cは、振幅変調器146が出力する信号の一例を示す図である。本実施形態の電力供給ユニット140は、棒状電極100が電磁波を放射する際の共振周波数と同じ周波数の交流信号を間欠的に、給電点102に繰り返し給電する。これにより、プラズマを断続的に発生させる。図5は、給電点102に棒状電極100の共振周波数と同じ周波数の高周波信号が給電された場合の共振状態について説明する図である。図5に示されるように、給電点102に共振周波数と同じ周波数の高周波信号が給電されると、棒状電極100の両端で電圧が最大となる共振が発生する。棒状電極100の両端には、数kVの電圧Voutが生成される。また、上述したように、給電点102は、棒状電極100の中心位置に対して式1で示される距離x0だけずれている。給電点102における電圧Vinに対する棒状電極100の両端の電圧Voutの比は、式1で定まるx0/2lを用いて、1/sin{x0/2l}と表される。図6は、電界プローブ122で計測される棒状電極100の電界強度の変化を示す図である。図6に示す波形は、電力が供給されることで電界が上昇する状態Aと、バリア放電が開始される状態Bと、図4cに示すように、矩形パルス信号がOFFとなって生成された電界が減衰する状態Cと、が示されている。状態Bにおいて、バリア放電が発生してプラズマが発生する。したがって、1/f2[s]周期の電力の給電のたびにプラズマが間欠的に発生する。図7は、プラズマPの発生位置を示す図である。プラズマPは、供給口114の筐体側エッジ部分と、棒状電極100の電極側エッジ部分との間の空間において、供給口114の周りを取り囲むように円筒状のプラズマが発生する。しかも、お互いのエッジ部分に設けられた筐体側誘電体バリア115と電極側誘電体バリア層104との間でバリア放電とプラズマの発生が行われるので、安定したプラズマの発生が実現される。特に、円筒状のプラズマが発生するので、供給口114を通過したNOx等のガスがガス流路106に流れ込む前に発生したプラズマを必ず横切るので、ガスの処理が確実に行われる。したがって、プラズマを用いたガスの処理効率は向上する。図8は、バリア放電によりプラズマが発生するときの電界強度とプラズマのエネルギーとの関係を模式的に説明する図である。図8に示すように、誘電体105を棒状電極100の周囲に設ける場合電界曲線D、誘電体が棒状電極100の周りに設けられない場合電界曲線Eに比べて、誘電体105があるためバリア放電の限界に達するまでの時間は長いが、電界曲線Dの場合に発生するプラズマのエネルギーD’は、電界曲線Eの場合に発生するプラズマのエネルギーE’に比べて大きい。このため、本実施形態のプラズマリアクターは、1回のプラズマの発生によって大きなエネルギーを発生することができる。したがって、本実施形態のプラズマリアクターは、NOx等のガスを効率よく処理することができる。棒状電極100に誘電体105を設けた場合、一定期間に蓄積される電磁波のエネルギー密度の時間平均値は下記式2で表される。このエネルギー密度の平均値を高くするには、比誘電率εrを大きくすることが好ましい。これより、本実施形態では、比誘電率は10以上であることが好ましい。エネルギー密度の平均値=1/2εrε0E022E0は、バリア放電における電界の下限値また、誘電体105内における電磁波の電場がy方向図1中のx方向に直交する方向の成分だけを持つとした場合、電場のy成分であるEyは下記式3で表され、この電場から電磁波のエネルギー密度は下記4式で表される。Ey=E0eiωt-kx3ω=2πf1,kは波数ベクトル、xは位置ベクトル。電磁波のエネルギー密度の平均値∝e2ωnjzc4njはεr12εrは複素比誘電率の虚数部であり、cは光速。したがって、電磁波のエネルギー密度の平均値を上げるには、njを小さくすること、より具体的には、誘電体105の誘電正接=tanδ=ε‘’/ε’:ε’及びε‘’は誘電体105の複素誘電率の実数部及び虚数部。を小さくすることが好ましい。これより、誘電体105の誘電正接は5×104以下であることが好ましい。このような筐体110にNOxを含むガスを流しつつ、棒状電極100の給電点に図4cに示すような高周波信号の電力が断続的に供給される。1回の高周波信号の給電により、棒状導体100は、共振を起こして棒状電極100の電極側周上エッジ部分と、筐体側周上エッジ部分との間でバリア放電を起こし、これにより、供給口114の周囲を取り巻くように円筒状のプラズマが発生する。このとき、ガス流を常時供給することによりプラズマを安定して発生させることができる。ここで安定するとは、円筒状のプラズマが高周波信号の給電を繰り返す毎に確実に発生することをいう。棒状電極100には、誘電体105が設けられるので、図8に示すようにバリア放電に電界が達するまでの時間は長いが、この放電によって生成されるプラズマのエネルギーは高い。このため、円筒状のプラズマが高周波信号の給電を繰り返すたびに確実に発生する。プラズマにより処理されたガスは、ガス流路106を通過して排出口116から排出される。処理されたガスは、プラズマに処理されることにより、有害なNOはNO2あるいはN2に処理されてNOを殆ど含まない。本実施形態では、図1に示すように誘電体105を棒状電極100の長手方向に沿った全ての部分に設けたが、誘電体105を必ずしも棒状電極100全体を覆う必要はない。例えば、図9に示すように棒状電極100の長手方向の一部分の周囲を誘電体105が覆ってもよい。このような形態であっても、発生するプラズマのエネルギーを従来に比べて高めることができ、安定した円筒状のプラズマを発生することができる。図10a~cは、図9に示すような誘電体105の配置を行った形態でNOxを含むガスの処理を種々の条件で行った結果を示す図である。棒状電極100の直径を12mmとし、誘電体105の外径を40mmとし、棒状電極100のX方向の長さを270mmとした。筐体110の供給口114の直径は4mmとした。誘電体105は、酸化アルミニウムを用いた比誘電率略10、誘電正接4×104。電極側誘電体バリア層104及び筐体側誘電体バリア層115は、それぞれ厚さ3mm,1mmの酸化アルミニウムの焼結体を用いた。また、電極側誘電体バリア層104が設けられる棒状電極100の端部から供給口114が設けられる位置までのX方向の距離を0.5mmとした。また、RF発振器142の発振周波数f1を400MHzとし、Wを1μ秒として、高周波電力の給電の周波数を種々変化させた。一方、処理するガスとして、NO略230ppm,N290,O2約10を含んだガスを毎分5~20リットル流したときに排出されたガス中のNOガスの濃度を測定した。ガスの流量は、図10a、b,cから順に、毎分5リットル、15リットル、20リットルである。図10a~cは、横軸に高周波信号を間欠的に給電する繰り返し周波数f2をとり、縦軸に処理後のガス中のNO濃度をとったグラフ図である。比較のために、誘電体105が設けられない従来のプラズマリアクターについての測定結果も示している。図10a~cに示すように、誘電体105を設けることにより、誘電体105が設けられない従来のプラズマリアクターの場合に比べて同じ繰り返し周波数においてNO濃度が低く、NO濃度を略0にする繰り返し周波数を低くすることができる。これより、誘電体105を設けることにより、プラズマを用いたガスの処理を効率よく行うことができることがわかる。本実施形態は、誘電体105の外面と筐体110の側面の間に空間を設け、この空間に流路106を形成したが、誘電体105を筐体110の側面まで一杯に充填し流路106を形成しなくてもよい。この場合、円筒状のプラズマを発生するX方向の位置の、筐体110の側面に排出口を設けるとよい。筐体110の側面と接触するように誘電体105を充填することで、発生するプラズマのエネルギーをより大きくすることができる。また、本実施形態では、棒状電極100は断面が一様に円形であるが、供給口114と対向する側の端部近傍において断面は円形であり、それ以外の部分の断面は矩形、多角形あるいは楕円等であってもよい。以上、本発明のプラズマ発生装置について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。"