z方向に伸びる対物レンズ100の光軸101に関して実質的に回転対称であり、かつ内側磁極片111および外側磁極片112を含み、内側磁極片と外側磁極片111、112との間に、前記内側磁極片のz方向の最下位置192において、前記内側磁極片が外側磁極片112からz方向に向けられ間隙間隔を有する磁極片間隙119が形成された、集束磁界を発生させるための磁極片装置と、内側磁極片と外側磁極片111、112との間の空間に設けられたコイル体115と、光軸101に関して実質的に回転対称であり、かつ内側磁極片111内を光軸101に沿って伸びる下端を有するビーム管113およびビーム管113の前記下端から離間して設けられた端子電極114を含む、集束静電界を発生させるための電極装置とを具備する、物体面に配置可能な物体の画像を生成するための磁界集束および静電集束を用いた電子顕微鏡システム用対物レンズ100であって、磁極片間隙119の周囲少なくとも3cmの領域において以下を満たすことを特徴とする対物レンズ:内側磁極片111は、少なくとも部分的に下方向にテーパー状になっており、かつz方向に対して内側の円錐角βおよび外側の円錐角χを有し、外側磁極片112は、少なくとも部分的に円錐状に下方向に伸び、かつz方向に対して内側の円錐角Δおよび外側の円錐角αを有し、前記対物レンズは、ビーム管113を約30keVで通過する電子に対する端子電極114と物体面との間の作動距離が2mm未満となるように構成されており、30°<α<35°かつ10°<Δ-χ<14°である。外側磁極片112が、z方向に対して円錐角αを有する円錐面により、その外側において実質的に境界を定められており、端子電極114が、z方向に対して円錐角α’を有する円錐面により、その外側において実質的に境界を定められており、端子電極114と外側磁極片112が、物体面の磁界を減少させる実質的な間隙をこれらの間に残すことなく磁気結合されている請求項1または請求項1の前提部分に記載の対物レンズ100。前記対物レンズが、前記ビーム管を約30keVで通過する電子に対する作動距離が2mm未満となるように設けられている請求項2に記載の対物レンズ100。端子電極114と外側磁極片112との間の間隙が06mm未満、好ましくは、02mm未満である請求項2または3に記載の対物レンズ100。端子電極114の領域面およびの外側磁極片112の領域面が互いに対向している請求項2~4のいずれかに記載の対物レンズ100。内側磁極片111のz方向の最下位置192とビーム管113の下端との間の距離A1が9mmより大きく、特に、10mmより大きい請求項1~5のいずれかまたは請求項1の前提部分に記載の対物レンズ100。静電界と磁界とのオーバーラップが5未満である請求項6に記載の対物レンズ。ビーム管113が、外側磁極片112のz方向の最下領域182により形成された外側磁極片112の開口部を通って伸び、ビーム管113の下端が、外側磁極片112の前記開口部からz方向に離間して設けられている前記先行する請求項のいずれかに記載の対物レンズ。ビーム管113の下端が、前記ビーム管の外径を超えて放射状に伸びる端部フランジ113’を含む請求項8に記載の対物レンズ100。端部フランジ113’が、前面113からシース部113’にかけての移行部分を含み、前記移行部分が、軸方向断面において丸みを帯び、前記丸みの曲率半径が1mmより大きい請求項9に記載の対物レンズ100。ビーム管113の下端と端子電極114の下端との間の距離A2が3mmより大きい請求項8~10のいずれかに記載の対物レンズ100。端子電極114が、実質的に端子電極114の中央の開口部まで円錐形にテーパー状になっている前記先行する請求項のいずれかに記載の対物レンズ100。端子電極114の開口部の内径が、ビーム管113の内径に実質的に相当する請求項12に記載の対物レンズ100。前記外側磁極片が下方向にテーパー状になっている前記先行する請求項のいずれかに記載の対物レンズ100。前記間隙間隔が3mmより大きい前記先行する請求項のいずれかに記載の対物レンズ100。内側磁極片111が円筒シース111’としてその下端192から約1mm~2mm上方に伸び、その後、円錐状に拡張されている前記先行する請求項のいずれかに記載の対物レンズ100。内側磁極片111が、その下端192において6mm~8mmの内径を有している前記先行する請求項のいずれかに記載の対物レンズ100。被検物体400を観察および操作するための検査システムであって、請求項1~17のいずれかに記載の対物レンズを有する電子顕微鏡システム300と、放出されたイオンビームを用いて物体400を操作するためのイオンビーム加工システム200と、電子顕微鏡システム300およびイオンビーム加工システム200の前方において、二次元の物体400がイオンビームが物体面を直交して交差するような方向になることが可能な、イオンビーム加工システム200および電子顕微鏡システム300前方において物体400を支持し、かつその方向付けを行うための物体支持体401とを含む検査システム。電子顕微鏡システム300およびイオンビーム加工システム200の前方において、物体400がイオンビームが物体面を直交から約2°までずれた角度で交差するような方向になることが可能である請求項18に記載の検査システム。したがって、本発明は、電子顕微鏡システム用の改良対物レンズを提供することを目的とする。さらに、本発明は、被検物体の像形成および操作を同時に行うための改良検査システムを提案することを目的とする。第1の局面によると、対物レンズのz方向に伸びる光軸に関して実質的に回転対称であり、かつ内側磁極片および外側磁極片を含み、内側磁極片と外側磁極片との間に、内側磁極片のz方向の最下位置において、内側磁極片が外側磁極片からz方向に向けられた間隙間隔を有する磁極片間隙が形成された、集束磁界を発生させるための磁極片装置と、光軸に関して実質的に回転対称であり、かつ内側磁極片内を光軸に沿って伸びる下端を有するビーム管およびビーム管の下端から離間して設けられた端子電極をさらに含む、集束静電界を発生させるための電極装置とを含む、物体面に配置可能な物体を像形成するための磁界集束および静電集束を用いた電子顕微鏡システム用対物レンズであって、磁極片間隙の周囲少なくとも3cmの領域において以下を満たすことを特徴とする対物レンズが提供される。●内側磁極片は、少なくとも部分的にz方向において下方向にテーパー状になっており、かつz方向に対して内側の円錐角βおよび外側の円錐角χを有する。●外側磁極片は、下方向に伸び、特に、少なくとも部分的にテーパー状になっており、かつz方向に対して内側の円錐角Δおよび外側の円錐角αを底部に有する。●さらに、対物レンズは、ビーム管を約30keVで通過する電子に対する端子電極と物体面との間の作動距離WDが2mm以下となるように構成されている。●30°<α<35°および10°<Δ-χ<14°である。特に好ましい実施形態において、対物レンズは、内側磁極片と外側磁極片との間の空間に配置されたコイル体をさらに含む。基本的に、従来の対物レンズの構成要素の寸法および構成は、第1の局面によると、円錐形の外側磁極片とz軸との間の角度を減少させ、これにより対物レンズに必要とされる空間、ひいては電子顕微鏡システムに必要とされる空間を減少させるために変更された。その結果、実質的に二次元の物体は、電子顕微鏡システムの光軸に対して大幅に傾斜させることが可能になっている。従来の対物レンズの寸法における上記の提案された変更は、電子顕微鏡システムにとって十分な光学的パラメータに関して提起された目的を解決する対物レンズをもたらすものの、当業者にとって自明ではない。むしろ、以下に示す理由により予期できないものである。対物レンズの磁界レンズにおいて、内側磁極片および外側磁極片は、磁極片空隙の短い距離においてのみ磁界が実質的にこれらから出現するように磁束全体を保持するものである。さらに、両磁極片を構成する材料の磁気飽和は回避されなければならない。なぜなら、このような飽和により、再現不可能かつ回転非対称な磁界が生じるとともに、両磁極片から磁束が移動するためである。減衰した磁界による磁極片材料の飽和が起こった場合、エネルギーに富む電子ビームの集束が損なわれるであろう。その結果、磁極片の厚みを減少させること、すなわち、材料を除去することにより磁界レンズに必要な空間を削減し、同時に両磁極片間に配置されたコイルを磁気励起させるために適用されるパラメータを維持することは、材料の早期磁気飽和を起こし、対物レンズの集束性能が不十分となる結果を招くことが予想される。内側磁極片と外側磁極片との間の距離、すなわち角度差を短縮することにより磁界レンズのサイズを減少させようとした場合、このような減少は磁気短絡を引き起こし、不利な磁界干渉、特に、光軸に沿った磁界の移動、歪みおよび減衰につながる。さらに、コイルに使用できる空間が減少する。その結果、十分な励起を起こすのに必要なコイル巻線数を維持するために、コイルに用いる線材は、直径の小さいものを選択しなくてはならないだろう。しかし、直径の小さな線材に伴う高いオーム抵抗により、コイルの線材による発熱量が増加し、空間ずれの現象を防ぐために水冷よりも複雑な冷却を用いることが必要となるであろう。したがって、両磁極片からの材料の除去および/または内側磁極片と外側磁極片との間の距離の短縮は、提起された目的の適切な解決方法であるとは思われない。非常に強力な対物レンズを実現するために、外側磁極片の外側と光軸との間の角度αを減少させ、かつ両磁極片の厚みを減少させることに加えて、両磁極片の相対的配置、特に、z軸に対する内側磁極片の外側の角度χとz軸に対する外側磁極片の内側の角度Δとの角度差および磁極片間隙または間隔の寸法が、先行技術から自明ではない方法で修正された。本発明によると、少なくとも磁極片間隙の周囲約3cmの領域において、αは30°~35°、Δ-χは、10°~14°の範囲内であり、この配置により、ビーム管を約30keVで通過する電子に対して、端子電極と物体面との間に2mm以下の作動距離が達成される。ここで、作動距離とは、端子電極の最下領域もしくは下端と物体面もしくはそこに配置された物体との間の距離として理解されるべきである。このような作動距離では、最適な解像度を有する画像を意図された用途において得ることや、意図された目的において指定された解像度と実質的に異ならない解像度を有する画像を得ることが可能である。しかし、上記対物レンズは、より大きな作動距離においても有利に用いることができる。特に、α=34°かつΔ-χ=13°である配置が好ましい。内側磁極片のz方向の最下位置において、内側磁極片は、外側磁極片との間に、内側磁極片と外側磁極片の間に磁極片間隙が形成されたz方向の間隙間隔を有している。磁極片間隙の領域において、磁界は光軸方向に現れる。磁極片間隙の寸法は、光軸上の磁界の強度および空間拡張度、ひいては対物レンズの焦点距離に影響を及ぼす。磁極片の寸法を最適化するにあたり、球面収差および色収差の特性を、材料の飽和または広すぎる間隙幅による磁界の減衰によって低減される集束性能と比較検討しなければならない。少なくとも3mmの磁極片間隙間隔が選択される。上記間隔の定義に関する限り、これは、いわゆる実効磁極片間隙間隔である。つまり、例えば薄い延長部状、薄膜状または薄箔状のさらなる材料を追加することにより、磁極片間隙または磁極片間隔を寸法面において減少させることは可能であるが、機能面において減少させることはできないということである。このような追加材料は、追加材料における磁気飽和により、磁界レンズによって生じる磁界に大きな影響を与えることはないので、内側磁極片および外側磁極片から放出する磁界線に大きな影響を与えることはない。さもなければ、上記材料は、磁極片において磁束がもはやほとんど存在しない位置に添加される。本発明の有利な実施形態において、内側磁極片の内側および外側は、内側磁極片のz方向の最下点から円錐状に広がっている。別の好ましい実施形態において、内側磁極片は、その最下端からz方向に約1mm~3mm上方に円筒シース状に広がった後、少なくとも外側において円錐状に広がるように設けられている。好ましくは、外側磁極片は、下方向にテーパー状になっている。好ましくは、内側磁極片は、少なくともその下端において、6mm~8mmの内径を有しており、75mmの内径が特に好ましい。上述の角度差を考慮すると、円錐角度は、通常、以下の範囲にあることが好ましい。●z軸に対する内側磁極片の内側の円錐角度β:0°<β<15°●z軸に対する内側磁極片の外側の円錐角度χ12°<χ<Δ-15°●z軸に対する外側磁極片の内側の円錐角度Δα-5°<Δ<α1°軸の周囲に軸方向に配置された外側磁極片の半径方向の最も内側かつ最も下の領域の寸法は、05mm~3mmの範囲にあることが好ましく、軸の周囲に軸方向に配置された内側磁極片の半径方向の最も内側かつ最も下の領域の寸法は、10mm以上であることが好ましい。当業者の予測に反して、両磁極片から材料が除去されるとともに、磁極片間の角度差が減少し、同時に、間隙間隔が大きかったにも関わらず、2mm以下の作動距離が達成された。特に好ましい実施形態において、端子電極のz方向の下端は、外側磁極片のz方向の最下領域からz方向に離間している。ビーム管は、少なくとも外側磁極片の開口部を通って伸びるように設けられ、前記開口部は、外側磁極片のz方向の最下領域によって形成されていることが好ましい。特に好ましい実施形態において、ビーム管は、外側磁極片の開口部を通って伸び、ビーム管の下端は、外側磁極片の開口部からz方向に離間するように、すなわち磁極片装置、特に、光軸に対して平行に伸びる外側磁極片の開口部から現れるように設けられている。したがって、ビーム管の下端は、外側磁極片の開口部と端子電極の下端との間にz方向に設けられていることが特に好ましい。本発明のさらなる局面によると、対物レンズは、磁極片装置によって形成された上述の磁界レンズの特定の幾何学的構成好ましい実施形態を含むに代わるものとして、またはこれに加えて、外側磁極片と端子電極との磁気結合によって特徴づけられる。この磁気結合は、z方向に対して円錐角αを有する円錐面によりその外側において実質的に境界を定められた外側磁極片と、z方向に対して円錐角α’を有する円錐面によりその外側において実質的に境界を定められた端子電極とが、物体面に配置可能な物体の磁界を減少させる実質的な間隙を残すことなく互いに磁気結合されることにより達成される。この磁気結合により、対物レンズの外部領域に対する磁界の遮断が向上する。これは、磁界が物体あるいは試料に破壊的干渉を起こす場合や、検査対象となっている物体が集束イオンビームにより同時に加工される場合において特に有利である。なぜなら、磁界によってイオンが偏向され、加工工程が妨害されるからである。この局面によると、対物レンズは、ビーム管を約30keVで通過する電子に対する作動距離が2mm未満となるように構成されることも特に好ましい。特に好ましい実施形態において、端子電極と外側磁極片との間の磁気結合は、端子電極と外側磁極片との間の間隙を06mm未満、好ましくは、02mm未満とすることにより達成される。端子電極と外側磁極片と間のこのような間隙は、端子電極の領域面およびの外側磁極片の領域面を互いに対向させることにより有利に形成される。端子電極のz方向の最上部領域面およびの外側磁極片のz方向の最下領域面は互いに対向しており、対向面はz方向に対して平行に配置されていることが特に好ましい。端子電極の少なくとも外側磁極片に対向する領域面は、外側磁極片のz方向の最下領域によって形成された開口部内に配置されていることがさらに好ましい。端子電極は、外側磁極片の下部領域から内側磁極片の内側に沿って伸びるプラスチック絶縁体および電気的に絶縁されたクランプにより保持されることが特に好ましい。これにより、特に、間隙によって外側磁極片から電気的に絶縁された端子電極を接地電位以外の電位に設定することが可能となり、これは、各種用途において有利である。さらに、端子電極を外側磁極片と別々に交換することが可能となる。また、外側磁極片および端子電極は、少なくとも部分的に実質的に円錐状に伸びる外側磁極片の外側および端子電極の外側が互いに一直線上に並んだ配置とすることが好ましい。端子電極は、端子電極下端の中央開口部に向かって実質的に円錐形にテーパー状になるように形成され、これにより電界を物体または試料の比較的近くに付与することが有利である。しかし、端子電極は、好ましくは接地電位に設定されているため、電界は試料領域において無視できるほど小さい。電界と試料が近接していると、作動距離WD、すなわち端子電極と試料表面との間の距離が大きい場合に特に有利である。端子電極の中央開口部の内径は、ビーム管の内径に実質的に相当する。しかし、本明細書において示す実施形態において、端子電極下端の中央開口部の内径はビーム管の内径と異なっている。本発明の第3の局面において、対物レンズの電界レンズは、上述した磁界レンズの特定の幾何学的パラメータおよび/または外側磁極片と端子電極との磁気結合に代わるものとして、またはこれに加えてこれに関連して記載された好ましい実施形態を含む、内側磁極片の下端とビーム管のz方向の下端または最下位置との間の距離A1が9mmより大きく、さらに好ましくは、10mmより大きくなるように構成される。この実施形態は、物体面の磁界を減少させるために特に好ましい。この実施形態においては、ビーム管のz方向の下端は、外側磁極片の最下領域と端子電極の下端との間に設けられていることが特に好ましく、かつ特に有利である。特に好ましい構成において、ビーム管の下端と端子電極の下端との間の距離A2は3mmより大きい。約6mmの距離が特に好ましい。この構成は、磁界レンズにより生じる磁界と端子電極およびビーム管を含む静電レンズにより生じる電界との間のオーバーラップを、先行技術から公知である構成よりも減少させるという思想に基づいている。特に、このようなレンズ寸法における電界と磁界との間のオーバーラップは電磁界の積分によると5未満である。したがって、磁界レンズにより生じる磁界と像形成される物体との距離はより大きくなり、その結果、磁界は物体面内および物体上のいずれにおいても最小限となる。このように物体上の磁界が最小限となることが有利である理由については、上記において既に述べた。この構成のさらなる利点は、電界が試料の近くに存在していることであり、これは、作動距離が大きい場合において特に有利である。ビーム管の下端は、ビーム管の外径を超えて放射状に伸びる端部フランジを含むことが特に好ましい。ビーム管を囲む端部フランジは、電気的な弧絡や短絡を防止するのに十分な大きさの間隔で端子電極から離間している。この端部フランジは、好ましくは、その軸方向断面が、物体面に向かって配置された前面から丸みを帯びた形状を有するシース部に変形し、この丸みの曲率半径が1mm以上となるように形成されている。ビーム管のこのような特定の構成の背景にある思想は、端部フランジにより付与されたシールディングによってこの領域への直接的なアクセスがいわば妨げられ、かつ一次電子ビームが同様にファラデーケージに遮蔽されるように、実質的に内側磁極片とビーム管との間の領域に設けられたプラスチック材料製の対物レンズの構成要素が、電子顕微鏡システムを作動する際に必然的に生じる電子雲によって帯電するのを防止するというものである。端部フランジは、内径を規定するビーム管の内壁から前面への移行部分が丸みを帯びるように設けてもよい。上記実施形態の全てにおいて、好ましくは、磁極片には、高い飽和磁化を有する材料が選択される。磁極片には、45~50のニッケル含有率を有する鉄/ニッケル合金が特に好ましい。Permenorm5000H3の商品名でドイツのVacuumschmelzeHanau社から市販されているNiFe合金が特に好ましい。コバルト/鉄/バナジウム49Co-49Fe-2V合金、コバルト/鉄合金例えば30Co、70Feまたは軟鉄を用いることも有利である。好ましくは、コイル体に用いる材料は銅線を含む。コイル体は、磁極片から断熱されている。コイル体を流れる電流によって生じる熱は、コイル体に熱的に結合され、かつ内側磁極片と外側磁極片との間の内部空間に設けられた水冷管によって吸収され、冷却回路から運び出される。好ましくは、端子電極には、いわゆるμ-金属Mumetall登録商標、すなわち72~89のニッケル量を有するニッケル/鉄合金、特に好ましくは、Hyperm766が選択される。好ましくは、対物レンズには、物体表面の定義された領域を電子ビームが走査できるように電子ビームを偏向させるための複数の偏向コイルが設けられている。電子顕微鏡システムは、上述の対物レンズの他に、以下のさらなる構成要素を含んでいる。被検物体が配置される試料室、電子ビームを生成および加速するための電子ビーム源、1つまたはそれ以上の静電レンズおよび/または磁界レンズを有する電子光学装置、電子顕微鏡と試料室の少なくとも電子ビームが横切る空間を真空にするための少なくとも1つの真空系、電子顕微鏡システムの前方において物体を配置しその方向付けを行うための試料室内の物体支持体、および電子、特に、二次電子を検出するための少なくとも1つの検出器。好ましい電子顕微鏡システムにおいて、少なくとも1つの検出器が、対物レンズの上にz方向に配置された電子顕微鏡システムの内部空間に設けられている。その他の局面によると、本発明は、以下の構成要素を含む、被検物体を観察および操作するための検査システムを提供する。●上記に記載された1つまたはそれ以上の特徴を示す対物レンズを含む電子顕微鏡システム●放出されたイオンビームを用いて物体を操作するためのイオンビーム加工システム●電子顕微鏡システムの前方において、イオンビームが物体面を直交して交差するように二次元の物体の方向付けを行うことを可能にする、イオンビーム加工システムおよび電子顕微鏡システム前方において物体を支持し、かつその方向付けを行うための物体支持体上記電子顕微鏡システムをイオンビーム加工システムと組み合わせることにより、多大なメリットがもたらされる。イオンビーム加工システムは、被検物体を、例えば物体表面の定義された領域から材料を除去することにより操作する集束イオンビームを生成および誘導するために設けられている。物体を、例えばそれらの形態について検査することが可能である外、リソグラフィーマスク上で修理作業を行ったり、この構成を用いた直描リソグラフィー法を行うことも可能である。これら以外に、その他の可能な用途が考えられる。イオンビーム加工システムは、イオンビームを生成するためのイオン源多くの場合、これには液体金属イオン源しばしば、ガリウムまたはインジウムが用いられるおよび電界を印加することによりイオン源からイオンを引出すための引出し電極を含む。さらに、イオン加工システムのイオン光学装置は、イオンビームを、それぞれ、加速、集束、誘導および偏向するための、少なくとも1つの加速電極、静電レンズ、可変絞りおよび偏向ユニットを含む。電子顕微鏡システムおよびイオンビーム加工システムは、これらの光軸が、被検物体の表面により規定された面において実質的に交差するように互いに配置されている。物体は、電子顕微鏡システムおよびイオンビーム加工システムの前方において物体が定義された方向になることを可能にする物体支持体により支持されている。その結果、集束イオンビームおよび集束電子ビームが物体表面に衝突する角度を定義された角度範囲内で調整することができる。これにより、例えば、傾斜の異なる側壁を有する穴およびトレンチを形成することが可能となる。特に、イオンビームを物体に対して垂直に配置することができるため、垂直な側壁を有するトレンチを形成することが可能となり、これは、特定の用途において大変重要である。図3、図4および図5に示す対物レンズ100は、電子顕微鏡システムにおいて電子ビームを集束する働きを持つ。対物レンズ100は、磁界レンズおよび静電レンズを具備している。したがって、集束は、静電気および磁気の両方によって行われる。静電レンズは、一次電子ビームの電子を減速させる働きも持つ。磁界レンズは、内側磁極片111および外側磁極片112を有する磁極片装置を含んでいる。両磁極片111および112は、中心の光軸101、すなわち一次電子ビームのビーム路を回転対称に囲むように形成されている。内側磁極片111は、z方向において略円錐形であり、この円錐状領域において、物体面に向かって連続的にテーパー状になっている。内側磁極片111のz方向の最下領域において、内側磁極片111は、z方向に約22mm広がる中空円筒領域111’を含んでいる。内側磁極片111の内側190は、z方向において、最下位置192から、まず光軸101に対して平行に約32mm伸びた後、放射状のフランジ111内に伸びるまで、z軸に対して105°の角度βを有する円錐に沿って伸びている。フランジ111は、その最も外側の領域において外側磁極片112の放射状のフランジ領域112’に対向して設けられている。光軸101から更に離れた内側磁極片111の外側191は、中空円筒領域111’においてのみ光軸に対して平行に約22mm伸び、その後、内側磁極片の放射状のフランジ部111内にさらに伸びるまで、z軸に対して16°の角度χを有する円錐内に伸びている。外側磁極片112は、z方向において上部のフランジ領域112’まで実質的に円錐状に伸びている。外側磁極片112の内側180は、この円錐状領域において、光軸101に体して29°の角度Δを形成しており、外側181は、光軸101に対して34°の角度αで放射状に外側へ伸びている。外側磁極片112の最下位置182において、上記外側磁極片は中央開口部を有しており、その内径は、内側磁極片111のz方向の最下位置192の開口部における内径D1図2を参照に実質的に相当する。内側磁極片111および外側磁極片112の円錐開口部の角度が異なるため、これら2つの磁極片間の距離は、物体面に向かって減少し、その寸法は内側磁極片111の下部111’において最も小さくなる。内側磁極片111の最下位置192と外側磁極片112の最下位置182との間には、磁極片間隔を有する軸方向の磁極片間隙119が形成されており、これはz方向に対して平行に伸びている。本実施の形態において、磁極片間隙119の軸長は約6mmである。磁極片間隙119の位置および構成は、磁界レンズの機能にとって大変重要である。上記磁極片111および112は、磁界を、いわば固定する。磁界線は、上部磁極片と下部磁極片の間を光軸101に向かって膨らんだ形で伸びている。光軸101上の磁界強度は、磁極片間隙119の領域において最大となり、発生した磁界の磁界強度は、z方向において実質的に鐘形である。図3に示す実施の形態において、磁極片間隙119内の内側磁極片111の最下端192には、非磁性材料で構成される平坦な支持リング116が設けられており、上記支持リングの内径は、内側磁極片111の中空円筒領域111’と同一であるが、外径はこれより大きい。磁極片間隙119内には、弾性材料で構成される封止リング130がさらに設けられており、封止リング130は、支持リング116および外側磁極片112の領域ならびに絶縁体118’の下部領域に接触し、上記磁極片111および112によって囲まれた空間を、被検物体の領域における真空空間および電子顕微鏡システム内部から封止している。磁極片装置は、鉄/ニッケル合金であるPermenorm登録商標5000H3を回転し、その後アニールすることにより構成される。図6に、この材料の磁界に依存した磁束密度および磁化のグラフを示す。内側磁極片111と外側磁極片112との間に形成された内部空間には、コイル体115が設けられている。コイル体115は、光軸に対して同軸方向に配置された太さ08mmの銅製ワイヤコイルを含んでいる。巻数は650である。上記コイルは、最大2Aの電流で作動が可能である。コイルに電流が流れた際に生じる熱出力は、約20ワットの範囲内である。コイル巻線間にはエポキシ樹脂が充填されており、この樹脂は、硬化後、熱的および機械的安定性を付与する。コイル体115の形状は、磁極片111および112により形成される内部空間の形状に、この空間を完全に埋めてしまうことなく実質的に適合されている。その結果、コイル体115の上側、内側および外側は、これらが対向している磁極片装置の各面に対して実質的に平行に伸びている。第1シース120は、内側磁極片111の外側191に実質的な間隙を残すことなく、コイル体115の実質的に上側および下側を覆っている。第2シース122は、z軸に対して平行に伸びるコイル体115の外側領域に実質的な間隙を残すことなく、コイル体115を覆っている。上記シース120および122は銅製であり、コイル体115のワイヤコイルに電流が流れる際に生じる熱を受け取り、運び出す働きを持つ。断熱性を付与し、磁極片材料の加熱を実質的に防ぐため、第1シース120と内側磁極片111の外側191との間には、第1シース120と対向して配置された内側磁極片111の全領域に渡って伸びる間隙123が残されている。磁極片111が第1シース120に接触するのを防ぎ、間隙123を設けるため、内側磁極片111のz方向の最上部領域内の第1シース120の短い垂直延長部120’と内側磁極片111の外側191との間には、リング型のスペーサ131が挿入されている。第1シース120の垂直延長部は、上方に伸びるとともに、水平方向において径方向外側に冷却水が流れる水平管121へさらに伸びている。外側磁極片112とコイル体15との間には、断熱用に間隙124が残されている。第2シース122は略逆L字型をしており、光軸101に対して平行に伸びるコイル体115の外部の一部に対して平行に伸びている。また、第2シース122は、第1シース120と連続した水平方向にさらに伸び、接続体135を用いて内側磁極片111およびコイル体115を上記シース120および122に接続するために設けられたねじ153を受けるための穴を有している。ねじ153の頭部と第2シース122との間には、ワッシャ132が設けられている。内側磁極片111のフランジ領域111およびこれと対向する外側磁極片112のフランジ領域112’は、上記2つの磁極片111および112をねじで接続するための互いに一直線上に並んだ穴154および155を有している。さらに、外側磁極片112の外側181は、円錐形状からフランジ部112’に変形する部分において階段状の構成を有しており、上記階段状の構成は、磁極片装置を電子顕微鏡システムの対応する収容部分に嵌合させる働きを持つ。プラスチック材料で構成される絶縁体118は、内側磁極片111の内側190に対して、およびこれに沿って平行に、内側磁極片111の最下端192より下の領域から外側磁極片112の最下位置182付近まで伸びている。上部領域において、絶縁体118は、上記磁極片111の内側に対して平行に伸び、内側磁極片111のフランジ領域111のおよそ中程へ伸びるフランジ領域118としてさらに伸びている。絶縁体118のフランジ領域118の周縁領域には、絶縁体118を内側磁極片111に接続するねじ152を受けるための穴が設けられている。絶縁体118のフランジ部118においては、絶縁体118の内側磁極片111に向かって配置された面にも、同様にリング133を収容するための環状の凹部が設けられている。内側磁極片111の内側の円錐状領域において、絶縁体118は、内側磁極片111から離間しており、これらの間には間隙が残されている。内側磁極片111と全く同様に、絶縁体118は、下部領域において中空円筒形状118’をしている。絶縁体118のこのような中空円筒領域118’において、絶縁体118は、中空円筒領域の高さのほぼ全体に渡って伸びる環状の凹部117を有し、上記凹部は、電子ビームをさらに偏向させるための鞍型偏向コイル図示せずを収容している。静電レンズの第1電極を形成するビーム管113は、絶縁体118の中空円筒領域118’の内周にはめこまれている。ビーム管113は、絶縁体118の中空円筒領域118’の上端および下端の両方を越えてz方向に伸びている。ビーム管113の内径は、約45mmである。ビーム管113の下端または最下端は、外側磁極片112の最下位置または下端182から約5mmの間隔で離間している。特に図5から明らかなように、本実施の形態において、ビーム管113は、軸方向断面が円形で、径方向外側に伸びる最大延長部の直径が約85mmである端部フランジ113’を有している。端部フランジ113’は、物体面に向かって配置された丸みを帯びた前面113から光軸101に対して実質的に平行に配置されたシース部113’に変形し、この丸みの曲率半径Rfは約2mmである。この端部フランジ113’に向かって配置された絶縁体118の最下部およびビーム管113の端部フランジ113’の形状は、これらの表面が実質的に平行となるように互いに適合されており、端部フランジ113’の周囲には、半円形状の間隙136が等間隔で形成されている。端部フランジ113’は、絶縁体118のプラスチック材料を電子および電子による帯電から保護する働きを持つ。絶縁体の最下部領域には、外側磁極片の絶縁体から離れた側の領域と接するリング134を収容するための凹部が設けられている。さらに、対物レンズ100の静電レンズは、第2電極として端子電極114を含んでいる。この端子電極114は略円錐形をしており、端子電極114の外側と光軸101との間の角度は、外側磁極片112の外側181と光軸101との間の角度αに等しく、外側磁極片112および端子電極114は、互いに一直線上に並んでいる。端子電極114は、内径約5mmの中央開口部まで、z方向にテーパー状になっている。端子電極114の上端においては、端子電極114は、環状または中空円筒領域114’に伸びており、この環状領域114’の外面は、外側磁極片112の軸方向内面に対向している。また、これらの間に形成された間隙は幅約150μmと狭く、端子電極114と外側磁極片112との磁気結合を可能にするのに十分である。その結果、対物レンズ100内の磁界は、対物レンズ100の外部の領域から更に良好に遮断される。ビーム管113の下端は、端子電極114の最下位置または下端から、z方向に約5mmの間隔A2で離間している。ビーム管113には、8kVの正の電圧が印加され、端子電極114は、好ましくは、接地電位に設定されている。静電レンズの電極113および114の互いの間隔およびこれらの電極と磁極片装置との間隔を先行技術よりも大きくなるように選択することにより、静電減衰集束電界は、磁極片装置によって生じる磁界から概ね分離される。図7のグラフから明らかなように、2つのレンズの電磁界は、それらの電磁界の積分の5未満の領域においてオーバーラップしている図7の説明文において、端部フランジを有する端子電極は長いキャップ、膨らんだキャップとして示されている。端子電極114は、Mumetall登録商標、すなわちHyperm766の商品名でドイツのVakuumschmelzeHanau社から市販されている材料で構成される。端子電極114は、2つの対向するクランプ150により保持されており、クランプ150の上部領域は、ねじ151により外側磁極片112に固定されている。クランプ150の下部領域は、端子電極114の最上部の円錐形部分に配置されている。端子電極114は、絶縁体118’により保持され、かつ中心に位置決めされている。クランプ150を外側磁極片112から電気的に絶縁するために、外側磁極片112とクランプ150とを接続するねじ151の下にセラミック絶縁材料が用いられている。このような構成または支持物により、端子電極114の交換が容易となる。また、端子電極114を、外側磁極片112から電気的に絶縁し、接地電位以外の電位に設定することが可能である。さらに、図4に、被検物体400、端子電極114の下端と上記物体表面との間の作動距離WD、距離A1およびA2を示す。図8に、物体400を像形成および操作するための検査システムの実施形態を概略的に、かつ単純化した形式で示す。同検査システムは、物体400のある領域を像形成するための電子顕微鏡システム300および物体400を操作するためのイオンビーム加工システム200を含んでいる。図8から明らかなように、電子顕微鏡システム300およびイオン加工システム200の光軸は、物体400の平板表面によって規定される面において実質的に交差しており、イオンビーム加工システム200の光軸は、この面に対してほぼ直交して伸び、イオンビームは、それに対応して物体400の表面に垂直に衝突する。図に示す構成において、電子ビームが物体400に衝突する角度は約35°であり、作動距離、すなわち物体400の表面と端子電極の中央開口部の最も下部、かつ径方向において最も内部の位置との間の距離は、およそ4mmである。電子顕微鏡システム300において、一次電子ビームは、好ましくは、ショットキー電界エミッタであるカソード301およびカソード301に対向して設けられたアノード303を含む電子ビーム源によって生成される。放出された電子は、カソード301とアノード303との間に設けられた抽出器302も通過する。加速された一次電子ビームは、アノード303の底部の穴を通過し、次いでコリメータシステム304によって平行化される。電子ビームは、開口絞り305を通過した後、二次電子または後方散乱電子を検出するための検出器図示せずが設けられた電子顕微鏡システム300の内部空間306を通過する。電子ビームは、内側磁極片309と外側磁極片308とを有する磁極片装置およびこれらの間に設けられたコイル体307で形成される磁界レンズならびに磁界レンズと共に対物レンズを形成する静電レンズ310および311によって集束される。さらに、対物レンズには、電子ビームを偏向させるための鞍型コイルが、ビーム路に関して非対称に設けられている。電子ビームは、対物レンズから現れ、約4mmの作動距離において約35°の角度で物体表面に衝突する。対物レンズについては、上記実施の形態において既に詳細に記載されている。イオン加工システム200は、イオン源201を含み、イオン源201は、引出し電極201によりイオンビームが引出されるその先端にガリウム液滴を含む構成を有している。簡潔に図示されているように、イオンビームは、FIBカラム200のイオン光学装置を通過する際、コリメータ203、可変絞り204およびイオンビームを偏向させ、かつその方向付けを行うための一組の電極205および206を順次通過し、独立したビーム形成レンズ207で構成される装置を最後に通過した後、FIBカラムから出る。図8において、集束イオンビームは、物体表面に対してほぼ直角に物体に衝突するので、垂直壁を有するトレンチまたは穴が物体表面に形成され、この加工は電子顕微鏡システムによって同時に観察される。さらに、図8は、電子顕微鏡システム300およびイオンビーム加工システム200の前方において、物体400を支持し、かつその方向付けを行う物体支持体401を示している。本発明によるシステムの大きな利点は、これが物体の観察と加工を同時に行うことを可能にするという点にある。物体加工の原位置での像形成は、非常に複雑および/または小さな構造体の製造の際の終了点を決定するために特に重要である。特に、物体表面領域およびイオンビームが横切る空間において磁界が非常に小さく、イオンビームに対する破壊的な影響が全く無いかあるいは無視できるほど小さくなるように、電子ビーム顕微鏡システムの対物レンズの磁界レンズの磁界を対物レンズによって遮断することにより、像形成と加工を同時に行うことが可能となる。これは、特に、必要な空間は比較的小さく維持することが可能であるが、物体領域において本質的に大きな磁界を発生させるために集束イオンビームと同時に用いることができない、いわゆる単極対物レンズと比較して非常に有利である。外側磁極片の外側と電子顕微鏡システムの対物レンズの光軸との間の34°以下の角度および少なくとも物体に向かって下部領域において円錐形状を有するFIBカラムの外側とその光軸半角開口部との間の20°の角度に基づき、FIBカラムおよび電子顕微鏡システムを、物体面に対して垂直な面内に、180°をカバーするこの面において集束イオンビームが約21°~180°-2×34°-20°=92°の角度で物体に衝突することができ、同時に電子ビームが約0°2×20°34°=74°~180°-34°=146°の角度で物体に衝突することができるように配置することが可能であり、電子ビームとイオンビームとの間の角度は、常に少なくとも20°34°=54°である。その結果、集束イオンビームを、例えば、全ての方向において直交から約2°ずれた角度で物体面に向けることも可能である。これは、例えば、透過電子顕微鏡法に用いる試料を作成するために重要である。