"メタンおよび過剰の酸素を含む被処理ガス中のメタンを酸化除去するための触媒であって、酸化ジルコニウム担体に白金、イリジウムおよびレニウムを担持してなる触媒。メタンおよび過剰の酸素を含む被処理ガス中のメタンを酸化除去する方法であって、該被処理ガスを300~450°Cの温度で、請求項1に記載の触媒に接触させる方法。本発明の課題は、メタンおよび過剰の酸素を含む被処理ガス中のメタンの酸化除去において、低い温度でも高いメタン分解能を発揮する触媒、ならびに、この触媒を用いた被処理ガス中のメタンの酸化除去方法を提供することにある。本発明は、下記に示すとおりの被処理ガス中のメタンを酸化除去するための触媒および被処理ガス中のメタンの酸化除去方法を提供するものである。項1.メタンおよび過剰の酸素を含む被処理ガス中のメタンを酸化除去するための触媒であって、酸化ジルコニウム担体に白金、イリジウムおよびレニウムを担持してなる触媒。項2.メタンおよび過剰の酸素を含む被処理ガス中のメタンを酸化除去する方法であって、該被処理ガスを300~450°Cの温度で、前記項1に記載の触媒に接触させる方法。以下、本発明を詳細に説明する。本発明の触媒は、被処理ガス中のメタンの酸化除去用触媒であって、担体としての酸化ジルコニウムに、触媒活性成分としての白金およびイリジウムとともに、レニウムを担持してなることを特徴とする。担体である酸化ジルコニウムの表面積が小さすぎる場合には、触媒活性成分を高分散に保つことができなくなる。一方、表面積が大きすぎる場合には、酸化ジルコニウムの熱安定性が十分でなく、触媒の使用中に酸化ジルコニウム自体の焼結が進行するおそれがある。酸化ジルコニウムの比表面積本明細書においては、BET法による比表面積を言うは、通常2~90m2g程度であり、好ましくは10~30m2g程度である。酸化ジルコニウムの結晶形は単斜晶が好ましいが、質量基準で25以下の正方晶や立方晶を含んでいても良い。なお、結晶相含有比率の測定には、X線回折測定などの公知の方法が適用できる。このような酸化ジルコニウムは、市販の触媒担体用酸化ジルコニウムをそのままでもよいし、あるいは空気などの酸化雰囲気下において500°C~800°Cで焼成するなどの方法により調製することができる。触媒担体には、コージェライトなどの支持体への付着性や焼結性の改善のため、アルミナ、シリカなどの酸化ジルコニウム以外の微量の成分を含んでいても良いが、これらの成分は質量基準で2を超えないことが望ましい。酸化ジルコニウムに対する白金、イリジウムおよびレニウムの担持量は、少なすぎる場合には触媒活性が低くなるのに対し、多すぎる場合には粒径が大きくなって、担持された触媒活性成分が有効に利用されなくなる。白金の担持量は、酸化ジルコニウムに対する質量比で05~20程度であるのが好ましく、05~5程度であるのがより好ましい。イリジウムの担持量は、酸化ジルコニウムに対する質量比で05~20程度であるのが好ましく、05~5程度であるのがより好ましい。白金とイリジウムの担持量の比率は、IrPtの質量比で03~5程度であるのが好ましく、1~2程度であるのがより好ましい。レニウムの担持量は、酸化ジルコニウムに対する質量比で01~10程度であるのが好ましく、02~2程度であるのがより好ましい。白金とレニウムの担持量の比率は、RePtの質量比で01~2程度であるのが好ましく、02~1程度であるのがより好ましい。本発明の触媒は、例えば、白金化合物、イリジウム化合物およびレニウム化合物の混合水溶液を、前記の酸化ジルコニウムに含浸させ、乾燥し、焼成することにより得られる。含浸操作は、クロロ錯体、アンミン錯体、硝酸塩などの水溶性化合物を純水に溶解することにより調製した水溶液を用いて行っても良く、あるいはアセチルアセトナト錯体などの有機金属化合物をアセトンなどの有機溶媒に溶解した有機溶媒溶液を用いて行っても良い。水溶性化合物としては、塩化白金酸ヘキサクロロ白金酸、テトラアンミン白金硝酸塩、ジニトロジアンミン白金、ヘキサヒドロキソ白金酸、塩化イリジウム酸ヘキサクロロイリジウム酸、ヘキサアンミンイリジウム硝酸塩、硝酸イリジウム、塩化レニウムV、過レニウム酸アンモニウムなどが例示される。なお、溶解度が低く、純水に溶解して所望の濃度が得られない場合は、溶解性を高めるために、希硝酸、希塩酸やアンモニア水を添加しても良い。また、有機金属化合物としては、トリスイリジウム、ビス白金などが例示される。白金、イリジウムおよびレニウムの担持は、必要に応じて逐次的に行っても良く、その場合において、それぞれの担持の間に、必要に応じて乾燥や焼成の工程をはさんでも良い。この場合は、まずレニウムを酸化ジルコニウム担体に担持した後に乾燥又は焼成を施し、その後さらに白金およびイリジウムを担持させることが好ましい。含浸時間は、所定の担持量が確保される限り、特に制限されないが、通常1~50時間程度、好ましくは3~20時間程度である。次いで、所定の金属成分を担持させた酸化ジルコニウムを、必要に応じて蒸発乾固または乾燥させた後に、焼成する。焼成は、空気の流通下に行えばよい。あるいは、空気または酸素と窒素などの不活性ガスとを適宜混合したガスなどの酸化性ガスの流通下において行っても良い。焼成温度は、高すぎる場合には、担持された金属の粒成長が進んで高い活性が得られない。逆に、低すぎる場合には、焼成が十分に行われないので、触媒の使用中に担持された金属粒子が粗大化して、安定した活性が得られないおそれがある。従って、安定して高い触媒活性を得るためには、焼成温度は、450~650°C程度とするのが好ましく、500~600°C程度とするのがより好ましい。焼成時間は、特に制限されないが、通常1~50時間程度であり、好ましくは3~20時間程度である。本発明の触媒は、ペレット状やハニカム状などの任意の形状に成形して用いても良く、耐火性ハニカム上にウオッシュコートして用いてもよい。好ましくは、耐火性ハニカム上にウオッシュコートして用いる。耐火性ハニカム上にウオッシュコートする場合には、上記の方法で調製した触媒をスラリー状にしてウオッシュコートしても良く、あるいは、あらかじめ酸化ジルコニウムを耐火性ハニカム上にウオッシュコートした後に、上記の含浸手法に従って活性成分を担持してもよい。いずれの場合にも、必要に応じて、バインダーを添加することができる。好ましい一例として、酸化ジルコニウム担体にバインダー例えば酸化ジルコニウムゾルと適量の水および必要に応じて増粘剤を添加してスラリーを調製し、これを耐火性ハニカム上にコートして、乾燥した後650~750°Cで焼成することで、耐火性ハニカム上に酸化ジルコニウム層を形成し、これに白金、イリジウムおよびレニウムを含浸担持する方法が挙げられる。本発明の触媒の比表面積は、通常2~90m2g程度であり、好ましくは10~30m2g程度である。触媒の比表面積が90m2gを超えると、使用中に担体の焼結が進行することにより触媒の耐久性が低下するおそれがある。一方、2m2g未満では、活性金属の分散が低下して十分な活性が得られないおそれがある。本発明のメタンの酸化除去方法が処理対象とするのは、メタンおよび過剰の酸素を含むガスであり、例えば、燃焼排ガス、炭鉱換気ガスや各種化学プロセスから放出されるガスである。被処理ガス中には、メタンの他に、エタン、プロパンなどの低級炭化水素や一酸化炭素、含酸素化合物などの可燃性成分が含まれていても差し支えない。これらは、メタンに比して易分解性なので、本発明の方法により、メタンと同時に容易に酸化除去できる。被処理ガス中の可燃性成分の濃度は、特に制限されないが、高すぎる場合には触媒層で極端な温度上昇が生じ、触媒の耐久性に悪影響を及ぼす可能性があるので、メタン換算で1体積以下とするのが好ましく、体積比で5000ppm以下であればさらに好ましい。本発明のメタンの酸化除去方法は、上記のようにして得られた触媒を用いることを特徴とする。触媒の使用量が少なすぎる場合には、有効な除去率が得られないので、ガス時間当たり空間速度で500000h1以下となる量を使用するのが好ましい。一方、ガス時間当たり空間速度を低くするほど触媒量が多くなるので、浄化率は向上するが、GHSVが低すぎる場合には、経済的に不利であり、また触媒層での圧力損失が大きくなる。従って、GHSVの下限は、1000h1程度とするのが好ましく、5000h1程度とするのがより好ましい。被処理ガス中の酸素濃度は、酸素を過剰に含む限り特に制限されないが、体積基準として約2以上であって且つ炭化水素などからなる還元性成分の酸化当量の約5倍以上の酸素が存在するのが好ましい。被処理ガス中の酸素濃度が極端に低い場合には、反応速度が低下するおそれがあるので、予め所要の量の空気や酸素過剰の排ガスなどを混ぜてもよい。本発明のメタンの酸化除去用触媒は、高い活性を有するが、処理温度が低すぎる場合には、活性が下がり、所望のメタン除去率が得られない。一方、処理温度が高すぎる場合には、触媒の耐久性が悪化するおそれがある。触媒層の温度は、通常300~600°C程度であり、好ましくは300~450°C程度である。また、被処理ガス中の炭化水素の濃度が著しく高いときには、触媒層で急激な反応が起こって、触媒の耐久性に悪影響を及ぼすので、触媒層での温度上昇が、通常約200°C以下、好ましくは約100°C以下となる条件で用いるのが好ましい。炭鉱換気ガスの場合は1~3体積程度、燃焼排ガス中には5~15体積程度の水蒸気が含まれているが、本発明によれば、このように水蒸気を含む排ガスに対しても、有効なメタン酸化除去が達成される。また、燃焼排ガス中には、触媒活性を著しく低下させる硫黄酸化物が通常含まれるが、本発明の触媒は、硫黄酸化物による活性低下に対して特に高い抵抗性を示すので、体積基準で01~30ppm程度の硫黄酸化物が含まれる場合でも、メタン転化率には実質的に影響がない。本発明によれば、被処理ガス中のメタンの酸化除去を安定して行うことが可能となるので、メタン発酵ガスや天然ガス系都市ガスなどの燃焼排ガスや、炭鉱換気ガス、各種プロセスガスなどのメタンおよび硫黄化合物を含有するガスを本発明の方法で処理することにより、ガス中に含まれるメタンを酸化除去して、その反応熱を回収してエネルギーとして有効利用できるほか、地球環境の改善にも寄与する。本発明の触媒は、水蒸気や硫黄化合物による活性阻害に対して非常に優れた抵抗性を示すので、燃焼排ガスのように水蒸気を大量に含み、かつ硫黄酸化物を含む排ガスにおいても、高いメタン酸化活性を発揮する。また、本発明の触媒は、低温でも高い活性を示すので、高価な貴金属の使用量を低減でき、経済性にも優れている。以下、実施例を示し、本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。実施例12Pt2Ir1Re酸化ジルコニウム触媒の調製酸化ジルコニウム日本電工社製NPC、比表面積28m2gを空気中で700°Cで6時間焼成して、焼成酸化ジルコニウム比表面積17m2gを得た。35塩酸15gを純水10mlで希釈し、これに塩化レニウム10gを溶解して、塩化レニウム酸溶液Re41質量を得た。この塩化レニウム酸溶液54g、Ptとして163質量を含有するヘキサクロロ白金酸H2PtCl6水溶液27gおよびIrとして87質量を含有するヘキサクロロイリジウム酸H2IrCl6の希塩酸溶液51gを混合し、純水8mlで希釈した。この溶液を前記の焼成酸化ジルコニウム22gに含浸させた。蒸発乾固し、120°Cで乾燥した後、空気中で550°Cで6時間焼成して2Pt2Ir1Re酸化ジルコニウム触媒を得た。この触媒の比表面積は17m2gであった。実施例22Pt3Ir1Re酸化ジルコニウム触媒の調製塩化レニウム酸溶液81g、ヘキサクロロ白金酸水溶液41gおよびヘキサクロロイリジウム酸溶液116gを混合し、純水20mlで希釈して、前記の焼成酸化ジルコニウム33gに含浸したほかは、実施例1と同様にして、2Pt3Ir1Re酸化ジルコニウム触媒を得た。この触媒の比表面積は17m2gであった。実施例32Pt3Ir05Re酸化ジルコニウム触媒の調製塩化レニウム酸溶液34g、ヘキサクロロ白金酸水溶液34gおよびヘキサクロロイリジウム酸溶液98gを混合し、純水12mlで希釈して、前記の焼成酸化ジルコニウム28gに含浸したほかは、実施例1と同様にして、2Pt3Ir05Re酸化ジルコニウム触媒を得た。この触媒の比表面積は17m2gであった。比較例12Pt2Ir酸化ジルコニウム触媒の調製ヘキサクロロ白金酸水溶液43gおよびヘキサクロロイリジウム酸溶液81gを混合し、純水20mlで希釈して、前記の焼成酸化ジルコニウム35gに含浸したほかは、実施例1と同様にして、2Pt2Ir酸化ジルコニウム触媒を得た。この触媒の比表面積は17m2gであった。比較例22Pt3Ir酸化ジルコニウム触媒の調製ヘキサクロロ白金酸水溶液43gおよびヘキサクロロイリジウム酸溶液122gを混合し、純水20mlで希釈して、前記の焼成酸化ジルコニウム35gに含浸したほかは、実施例1と同様にして、2Pt3Ir酸化ジルコニウム触媒を得た。この触媒の比表面積は17m2gであった。比較例32Pt4Ir酸化ジルコニウム触媒の調製ヘキサクロロ白金酸水溶液43gおよびヘキサクロロイリジウム酸溶液163gを混合し、純水20mlで希釈して、前記の焼成酸化ジルコニウム35gに含浸したほかは、実施例1と同様にして、2Pt4Ir酸化ジルコニウム触媒を得た。この触媒の比表面積は17m2gであった。比較例42Pt05Re酸化ジルコニウム触媒の調製塩化レニウム酸溶液43gおよびヘキサクロロ白金酸水溶液43gを混合し、純水20mlで希釈して、前記の焼成酸化ジルコニウム35gに含浸したほかは、実施例1と同様にして、2Pt05Re酸化ジルコニウム触媒を得た。この触媒の比表面積は17m2gであった。比較例52Pt3Re酸化ジルコニウム触媒の調製塩化レニウム酸溶液177gおよびヘキサクロロ白金酸水溶液287gを混合し、純水7mlで希釈して、前記の焼成酸化ジルコニウム234gに含浸したほかは、実施例1と同様にして、2Pt3Re酸化ジルコニウム触媒を得た。この触媒の比表面積は17m2gであった。実施例42Pt2Ir05Re酸化ジルコニウム触媒の調製35塩酸5gに塩化レニウム10gを投入して、攪拌しながら純水3mlで希釈し、塩化レニウム酸溶液Re567質量を得た。この塩化レニウム酸溶液22g、Ptとして163質量を含有するヘキサクロロ白金酸H2PtCl6水溶液307gおよびIrとして87質量を含有するヘキサクロロイリジウム酸H2IrCl6の希塩酸溶液58gを混合し、純水10mlで希釈した。この溶液を前記の焼成酸化ジルコニウム25gに含浸させた。蒸発乾固し、120°Cで乾燥した後、空気中で550°Cで6時間焼成して2Pt2Ir05Re酸化ジルコニウム触媒を得た。この触媒の比表面積は17m2gであった。実施例52Pt2Ir2Re酸化ジルコニウム触媒の調製塩化レニウム酸溶液68gおよびヘキサクロロ白金酸水溶液237g、ヘキサクロロイリジウム酸溶液449gを混合し、純水10mlで希釈して、前記の焼成酸化ジルコニウム193gに含浸したほかは、実施例4と同様にして、2Pt2Ir2Re酸化ジルコニウム触媒を得た。この触媒の比表面積は17m2gであった。実施例62Pt3Ir1Re酸化ジルコニウム触媒の調製過レニウム酸アンモニウムNH4ReO4072gを純水45gに溶解した。この溶液を酸化ジルコニウム日本電工社製NPC、比表面積28m2g50gに含浸させた。蒸発乾固し、120°Cで乾燥した後、空気中で700°Cで6時間焼成して1Re酸化ジルコニウムを得た。Ptとして163質量を含有するヘキサクロロ白金酸H2PtCl6水溶液368gおよびIrとして87質量を含有するヘキサクロロイリジウム酸H2IrCl6の希塩酸溶液105gを混合し、純水15mlで希釈した。この溶液を前記の1Re酸化ジルコニウム30gに含浸させた。蒸発乾固し、120°Cで乾燥した後、空気中で550°Cで6時間焼成して2Pt3Ir1Re酸化ジルコニウム触媒を得た。この触媒の比表面積は21m2gであった。実施例72Pt2Ir2Re酸化ジルコニウム触媒の調製過レニウム酸アンモニウムNH4ReO423gを純水80gに溶解した。この溶液を酸化ジルコニウム日本電工社製NPC、比表面積28m2gを空気中で700°Cで6時間焼成して得た焼成酸化ジルコニウム比表面積17m2g80gに含浸させた。蒸発乾固し、120°Cで乾燥した後、空気中で500°Cで6時間焼成して2Re酸化ジルコニウムを得た。Ptとして163質量を含有するヘキサクロロ白金酸H2PtCl6水溶液368gおよびIrとして87質量を含有するヘキサクロロイリジウム酸H2IrCl6の希塩酸溶液70gを混合し、純水18mlで希釈した。この溶液を前記の2Re酸化ジルコニウム30gに含浸させた。蒸発乾固し、120°Cで乾燥した後、空気中で550°Cで6時間焼成して2Pt2Ir2Re酸化ジルコニウム触媒を得た。この触媒の比表面積は17m2gであった。実施例82Pt3Ir2Re酸化ジルコニウム触媒の調製ヘキサクロロ白金酸水溶液368gおよびヘキサクロロイリジウム酸溶液105gを混合し、純水15mlで希釈して、前記の2Re酸化ジルコニウム30gに含浸したほかは、実施例7と同様にして、2Pt3Ir2Re酸化ジルコニウム触媒を得た。この触媒の比表面積は17m2gであった。なお、実施例6~8は、酸化ジルコニウム担体に、まずReを担持し、次いでIrおよびPtを担持する逐次担持法により触媒を調製した例である。比較例62Pt3Pd酸化ジルコニウム触媒の調製Ptとして10質量を含有するヘキサヒドロキソ白金酸H2Pt6の希硝酸溶液60gおよびPdとして231質量を含有する硝酸パラジウムPd2の希硝酸溶液39gを混合し、純水20mlで希釈した。この溶液を焼成酸化ジルコニウム30gに含浸させたほかは、実施例1と同様にして、2Pt3Pd酸化ジルコニウム触媒を得た。この触媒の比表面積は17m2gであった。比較例72Pt3Pd1Re酸化ジルコニウム触媒の調製Ptとして10質量を含有するヘキサヒドロキソ白金酸H2Pt6の希硝酸溶液70gおよびPdとして231質量を含有する硝酸パラジウムPd2の希硝酸溶液46gを混合し、過レニウム酸アンモニウムNH4ReO40504gを溶解した純水15mlで希釈した。この溶液を焼成酸化ジルコニウム35gに含浸させたほかは、実施例1と同様にして、2Pt3Pd1Re酸化ジルコニウム触媒を得た。この触媒の比表面積は17m2gであった。[活性評価試験1]実施例1~8および比較例1~7において調製した触媒をそれぞれ打錠成形した後、破砕して粒径を1~2mmに揃えた。各触媒145g約15mlを石英製反応管内径14mmに充填した。次いで、メタン1000ppm、酸素10、水蒸気10いずれも体積基準および残部窒素からなる組成を有するガスを、2リットル分標準状態における体積の流量で反応管に流通し、触媒層温度350°C400°Cおよび450°Cにおけるメタン転化率を測定した。反応層前後のガス組成は、水素炎イオン化検知器および熱伝導度検出器を有するガスクロマトグラフにより測定した。メタン転化率の測定結果を表1に示す。ここで、メタン転化率とは、以下の式によって求められる値である。CH4転化率=100×1CH4OUTCH4in式中、CH4OUTとは触媒層出口のメタン濃度を示し、CH4inとは触媒層入口のメタン濃度を示す。実施例1~8の触媒は、350°Cにおいて45~56のメタン転化率を示した。これは、比較例1~3の触媒の25~30と比較して遙かに高く、白金およびイリジウムに加えてレニウムを担持することにより低温活性が大きく向上することが明らかである。また、比較例4および5から明らかなように、イリジウムを含まない白金とレニウムのみの組み合わせでは、十分なメタン酸化活性が得られない。この際、比較例6および7のように、イリジウムの代わりにパラジウムを使用した場合、仮に白金およびレニウムを使用しても十分な触媒活性が得られない。特に、レニウムを使用すると触媒活性が低下してしまう。上記の活性評価に引き続いて、触媒層温度を450°Cに保ったまま、反応ガスに二酸化硫黄3ppmを添加して反応を継続し、20、60時間後のそれぞれの時点で、触媒層温度350°C、400°Cおよび450°Cにおけるメタン転化率を同様に測定した。結果を表2に示す。いずれの触媒反応条件でも、メタン濃度の減少に対応する二酸化炭素の生成が確認され、メタンは触媒上で完全酸化されていた。実施例1~8の触媒は、20時間時点では350°Cで34~44、400°Cで81~87のメタン転化率を示した。また、60時間時点では350°Cで34~45、400°Cで82~88のメタン転化率を示した。最初の20時間においては、硫黄分による被毒による活性低下が見られるものの、その後は極めて安定した活性を示すことが判る。これに対して、比較例1~3の触媒は、20時間時点では350°Cで23~38、400°Cで66~84のメタン転化率を示し、60時間時点では350°Cで19~34、400°Cで64~83のメタン転化率を示した。20時間から60時間の間においても若干の活性低下が見られる。20時間および60時間後のメタン転化率を比較すると、実施例1の触媒と比較例3の触媒の活性レベルはかなり近い。これは、Re担持量1wtで、Irの2wtを代替できることを示しており、希少金属の使用量を低減できるという観点でも実用上の意義は大きい。比較例6の触媒は、特許文献3に示されているPdPt酸化ジルコニウム触媒である。この触媒にさらにReを添加したものが比較例7の触媒である。いずれの触媒も、本発明の触媒に比べれば活性は低い。また、Reの添加は、PdPt酸化ジルコニウム触媒では、本発明の場合とは逆に初期活性を大きく抑制しており、20ないし60時間後の時点で比較しても、大きな活性の向上は見られない。この結果は、Reの添加による活性の向上は、どのような触媒でも見られるものではなく、高活性を得るためにはPtIrReの3成分の組み合わせが必須であることを示唆している。[活性評価試験2]実施例1、8および比較例1、3において調製した触媒をそれぞれ打錠成形した後、破砕して粒径を1~2mmに揃えた。各触媒145g約15mlを石英製反応管内径14mmに充填した。次いで、メタン1000ppm、酸素10、水蒸気10、二酸化硫黄3ppmいずれも体積基準および残部窒素からなる組成を有するガスを、2リットル分標準状態における体積の流量で反応管に流通し、触媒層温度400°Cにおけるメタン転化率の経時変化を測定した。反応層前後のガス組成は、水素炎イオン化検知器および熱伝導度検出器を有するガスクロマトグラフにより測定した。図1にメタン転化率の経時変化を示す。実施例の触媒が、比較例の触媒よりも、高く安定したメタン転化率を示すことは明らかである。初期の大きな活性変動が落ち着く試験開始40時間時点後から140時間後までの100時間でのメタン転化率の低下幅は、実施例1、8および比較例1、3について、それぞれ17、33、54、65となり、本発明の触媒の活性がより安定していることがわかる。[活性評価試験3]実施例2および比較例2,3の触媒をそれぞれ打錠成形した後、破砕して粒径を1~2mmに揃えた。各触媒145g15mlを石英製反応管内径14mmに充填した。次いで、炭鉱換気ガスを模擬したメタン1000ppm、酸素20、水蒸気3いずれも体積基準および残部窒素からなる組成を有するガスを、2リットル分標準状態における体積の流量で反応管に流通し、触媒層温度300°C350°Cおよび400°Cにおけるメタン転化率を測定した初期転化率。反応層前後のガス組成は、水素炎イオン化検知器および熱伝導度検出器を有するガスクロマトグラフにより測定した。引き続いて、触媒層温度を550°Cとして、反応ガスに二酸化硫黄3ppmを添加して反応を継続し、20、60時間後のそれぞれの時点で、触媒層温度300°C、350°Cおよび400°Cにおけるメタン転化率を同様に測定した。メタン転化率の測定結果を表3に示す。550°Cという比較的高い温度に曝されても実施例2の触媒の活性は安定しており、レニウムを含まない比較例2および3の触媒と比較しても高活性を維持することが明らかである。"