"液晶化合物を含み、面内における遅相軸方向の屈折率と進相軸方向の屈折率の差が0.05~0.2であり、厚さが0.5μm~2.0μmである液晶層を有する位相遅延層と;上記位相遅延層に第1粘着剤層で付着されており、偏光子を含む偏光板と;上記偏光板の第1粘着剤層が付着されていない側に存在し、25°Cで貯蔵弾性率が0.08MPaを超過する第2粘着剤層と;を含む光学素子。上記液晶化合物は、多官能性重合性液晶化合物と単官能性重合性液晶化合物を含む、請求項1に記載の光学素子。上記液晶層は、互いに位相遅延特性が異なる第1領域及び第2領域を含む、請求項1又は2に記載の光学素子。上記第1及び上記第2領域は、互いに異なる方向に形成された光軸を有し、上記第1領域の光軸と上記第2領域の光軸が成す角度を二等分する線は、偏光子の吸収軸と垂直または水平を成している、請求項3に記載の光学素子。上記第1粘着剤層は、25°Cでの貯蔵弾性率が0.02MPa以上である、請求項1から4の何れか1項に記載の光学素子。上記第1粘着剤層及び上記第2粘着剤層は、厚さが25μm以下である、請求項1から5の何れか1項に記載の光学素子。上記第2粘着剤層は、多官能性架橋剤で架橋されたアクリル重合体を含む架橋構造及び重合された活性エネルギー線重合性化合物を含む架橋構造を含む、請求項1から6の何れか1項に記載の光学素子。上記活性エネルギー線重合性化合物は、多官能性アクリレートである、請求項7に記載の光学素子。上記液晶層の第1粘着剤層側とは反対側に形成されている基材層及び第3粘着剤層により上記基材層に付着されている保護基材層をさらに含む、請求項1から8の何れか1項に記載の光学素子。上記第1粘着剤層は、25°Cでの貯蔵弾性率が0.02MPa~0.08MPaであり、多官能性架橋剤で架橋されたアクリル重合体を含む架橋構造を含む、請求項9に記載の光学素子。上記第1粘着剤層は、25°Cでの貯蔵弾性率が0.08MPaを超過し、多官能性架橋剤で架橋されたアクリル重合体を含む架橋構造及び重合された活性エネルギー線重合性化合物を含む架橋構造を含む、請求項9又は10に記載の光学素子。上記第3粘着剤層は、25°Cでの貯蔵弾性率が0.08MPaを超過し、多官能性架橋剤で架橋されたアクリル重合体を含む架橋構造及び重合された活性エネルギー線重合性化合物を含む架橋構造を含む、請求項9から11の何れか1項に記載の光学素子。上記保護基材層の表面に形成されている表面処理層をさらに含む、請求項9から12の何れか1項に記載の光学素子。上記表面処理層は、高硬度層、眩しさ防止層または低反射層である、請求項13に記載の光学素子。上記液晶層の第1粘着剤層側とは反対側に形成されている基材層及び上記基材層の表面に形成されている表面処理層をさらに含む、請求項1から14の何れか1項に記載の光学素子。上記第1粘着剤層は、25°Cでの貯蔵弾性率が0.02MPa~0.08MPaであり、多官能性架橋剤で架橋されたアクリル重合体を含む架橋構造を含む、請求項15に記載の光学素子。上記表面処理層は、高硬度層、眩しさ防止層または低反射層である、請求項15又は16に記載の光学素子。下記一般式1の条件を満たす、請求項1から17の何れか1項に記載の光学素子:[一般式1]X≦200nm上記一般式1でXは、上記光学素子を上記第2粘着剤層を媒介でガラス基板に付着し、60°C及び10の相対湿度で150時間維持した後に測定した上記光学素子の横または縦長さの変化量である。請求項1から18の何れか1項に記載の光学素子を含む立体映像表示装置。左眼用映像信号と右眼用映像信号を生成することができる映像表示素子をさらに含む、請求項19に記載の立体映像表示装置。上記光学素子は、互いに位相遅延特性が異なる第1領域及び第2領域を含み、液晶層の第1領域及び第2領域のうちいずれか一方の領域は、左眼用映像信号が透過されることができ、他方の領域は、右眼用映像信号が透過されることができるように配置された状態で第2粘着剤層で映像表示素子に付着されている、請求項19に記載の立体映像表示装置。本発明は、光学素子及び立体映像表示装置を提供することを目的にする。本発明は、光学素子に関する。例示的な光学素子は、位相遅延層、上記位相遅延層に第1粘着剤層で付着されている偏光板及び上記偏光板の上記位相遅延層とは反対側に形成されている第2粘着剤層を含むことができる。図1は、上記光学素子1を例示的に示す図であり、位相遅延層11、第1粘着剤層121、偏光板13及び第2粘着剤層13が順に形成されている構造を示す。1つの例示で用語光学素子は、光学的に意図された1つ以上の機能を示すすべての種類の光学機器、光学部品または光学装置などを意味することができる。また、1つの例示で上記光学素子は、シートまたはフィルムの形態を有するものを意味することができる。上記光学素子は、例えば、入射される光を互いに偏光状態が異なる2種類以上の光に分割する素子であることができる。このような素子は、例えば、立体映像を具現するために使用することができる。上記位相遅延層は、液晶層を含み、上記液晶層は、液晶化合物を含むことができる。上記液晶化合物は、重合性液晶化合物であることができ、上記は、重合された形態で液晶層に含まれていてもよい。本明細書で用語重合性液晶化合物は、液晶性を示すことができる部位、例えば、メソゲンmesogen骨格などを含み、また、重合性官能基を1つ以上含む化合物を意味することができる。また、本明細書で重合性液晶化合物が重合された形態で含まれているということは、上記液晶化合物が重合され、液晶層内で液晶高分子の主鎖または側鎖のような骨格を形成している状態を意味することができる。1つの例示で液晶層に含まれる重合性液晶化合物は、多官能性重合性液晶化合物と単官能性重合性液晶化合物を含むことができる。本明細書で用語多官能性重合性液晶化合物は、上記液晶化合物のうち重合性官能基を2個以上含む化合物を意味することができる。1つの例示で多官能性重合性液晶化合物は、重合性官能基を2個~10個、2個~8個、2個~6個、2個~5個、2個~4個、2個~3個または2個含むことができる。また、用語単官能性重合性液晶化合物は、上記液晶化合物のうち1つの重合性官能基を含む化合物を意味することができる。多官能性及び単官能性重合性化合物を使用すれば、液晶層の位相遅延特性を効果的に調節することができ、また、具現された位相遅延特性、例えば、位相遅延層の光軸や、位相遅延値を安定的に維持することができる。本明細書で用語光軸は、光が当該領域を透過するときの遅相軸または進相軸を意味することができる。上記多官能性または単官能性重合性液晶化合物としては、例えば、下記化学式1で表示される化合物が例示されることができる。[化学式1]上記化学式1でAは、単一結合、-COO-または-OCO-であり、R1~R10は、それぞれ独立的に水素、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、-O-Q-Pまたは下記化学式2の置換基であり、且つ、R1~R10のうち少なくとも1つは、-O-Q-Pまたは下記化学式2の置換基であるか、R1~R5のうち隣接する2個の置換基またはR6~R10のうち隣接する2個の置換基は、互いに連結され、-O-Q-Pで置換されたベンゼンを形成し、上記でQは、アルキレン基またはアルキリデン基であり、Pは、アルケニル基、エポキシ基、シアノ基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基などの重合性官能基である。[化学式2]上記化学式2でBは、単一結合、-COO-または-OCO-であり、R11~R15は、それぞれ独立的に水素、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基または-O-Q-Pであり、且つ、R11~R15のうち少なくとも1つは、-O-Q-Pであるか、R11~R15のうち隣接する2個の置換基は、互いに連結され、-O-Q-Pで置換されたベンゼンを形成し、上記でQは、アルキレン基またはアルキリデン基であり、Pは、アルケニル基、エポキシ基、シアノ基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基などの重合性官能基である。上記化学式1及び2で隣接する2個の置換基は、互いに連結され、-O-Q-Pで置換されたベンゼンを形成するということは、隣接する2個の置換基が互いに連結され、全体的に-O-Q-Pで置換されたナフタレン骨格を形成することを意味することができる。上記化学式2でBの左側の-は、Bが化学式1のベンゼンに直接連結されていることを意味することができる。上記化学式1及び2で用語単一結合は、AまたはBで表示される部分に別途の原子が存在しない場合を意味する。例えば、化学式1でAが単一結合の場合、Aの両側のベンゼンが直接連結され、ビフェニルbiphenyl構造を形成することができる。上記化学式1及び2でハロゲンとしては、塩素、ブロムまたはヨードなどが例示されることができる。本明細書で用語アルキル基は、特に別途規定しない限り、炭素数1~20、炭素数1~16、炭素数1~12、炭素数1~8または炭素数1~4の直鎖または分岐鎖アルキル基または炭素数3~20、炭素数3~16または炭素数4~12のシクロアルキル基を意味することができる。上記アルキル基は、任意的に1つ以上の置換基により置換されることができる。本明細書で用語アルコキシ基は、特に別途規定しない限り、炭素数1~20、炭素数1~16、炭素数1~12、炭素数1~8または炭素数1~4のアルコキシ基を意味することができる。上記アルコキシ基は、直鎖、分岐鎖または環状であることができる。また、上記アルコキシ基は、任意的に1つ以上の置換基により置換されることができる。また、本明細書で用語アルキレン基またはアルキリデン基は、特に別途規定しない限り、炭素数1~12、炭素数4~10または炭素数6~9のアルキレン基またはアルキリデン基を意味することができる。上記アルキレン基またはアルキリデン基は、直鎖、分岐鎖または環状であることができる。また、上記アルキレン基またはアルキリデン基は、任意的に1つ以上の置換基により置換されることができる。また、本明細書でアルケニル基は、特に別途規定しない限り、炭素数2~20、炭素数2~16、炭素数2~12、炭素数2~8または炭素数2~4のアルケニル基を意味することができる。上記アルケニル基は、直鎖、分岐鎖または環状であることができる。また、上記アルケニル基は、任意的に1つ以上の置換基により置換されることができる。また、上記化学式1及び2でPは、好ましくは、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基であり、より好ましくは、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基であり、さらに好ましくは、アクリロイルオキシ基であることができる。本明細書で特定官能基に置換されていてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、エポキシ基、オキソ基、オキセタニル基、チオール基、シアノ基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基またはアリール基などが例示されることができるが、これに限定されるものではない。上記化学式1及び2で少なくとも1つ以上存在することができる-O-Q-Pまたは化学式2の残基は、例えば、R3、R8またはR13の位置に存在することができる。また、互いに連結され、-O-Q-Pで置換されたベンゼンを構成するものは、好ましくは、R3及びR4であるか、またはR12及びR13であることができる。また、上記化学式1の化合物または化学式2の残基で-O-Q-Pまたは化学式2の残基以外の置換基または互いに連結されてベンゼンを形成しているもの以外の置換基は、例えば、水素、ハロゲン、炭素数1~4の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数1~4の直鎖または分岐鎖アルコキシ基を含むアルコキシカルボニル基、炭素数4~12のシクロアルキル基、シアノ基、炭素数1~4のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基であることができ、好ましくは、塩素、炭素数1~4の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数4~12のシクロアルキル基、炭素数1~4のアルコキシ基、炭素数1~4の直鎖または分岐鎖アルコキシ基を含むアルコキシカルボニル基またはシアノ基であることができる。液晶層は、単官能性重合性液晶化合物を多官能性重合性液晶化合物を100重量部に対して0重量部超過100重量部以下、1重量部~90重量部、1重量部~80重量部、1重量部~70重量部、1重量部~60重量部、1重量部~50重量部、1重量部~30重量部または1重量部~20重量部で含むことができる。上記範囲内で多官能性及び単官能性重合性液晶化合物の混合効果を極大化することができる。本明細書で特に別途規定しない限り、単位重量部は、重量比率を意味することができる。液晶層で上記重合性液晶化合物は、水平配向されていてもよい。用語水平配向は、重合または非重合された液晶化合物を含む液晶層の光軸が液晶層の平面に対して約0度~約25度、約0度~約15度、約0度~約10度、約0度~約5度または約0度の傾斜角度を有する場合を意味することができる。上記液晶層は、面内における遅相軸方向の屈折率と面内における進相軸方向の屈折率の差が0.05~0.2、0.07~0.2、0.09~0.2または0.1~0.2の範囲であることができる。上記で面内における遅相軸方向の屈折率は、液晶層の平面で最も高い屈折率を示す方向の屈折率を意味し、進相軸方向の屈折率は、液晶層の平面上で最も低い屈折率を示す方向の屈折率の差を意味することができる。通常的に光学異方性の液晶層で進相軸と遅相軸は、互いに垂直する方向に形成されている。上記それぞれの屈折率は、550nmまたは589nmの波長の光に対して測定した屈折率であることができる。上記液晶層は、また、厚さが約0.5μm~2.0μmまたは約0.5μm~1.5μmであることができる。上記屈折率関系と厚さを有する液晶層は、適用される用途に適した位相遅延特性を具現することができる。例えば、上記屈折率の関系と厚さを有する液晶層は、光分割用光学素子に適合することができ、上記素子が立体映像表示に適用される場合に不適切な光分割によって誘導されるいわゆるクロストークcrosstalkなどを防止することができる。上記液晶層は、入射光、例えば上記偏光板を経て入射される光を互いに異なる偏光状態を有する2種以上の光に分割することができるように形成されていてもよい。これにより、例えば、上記液晶層は、互いに異なる位相遅延特性を有する第1及び第2領域を少なくとも含むことができる。本明細書で第1領域と第2領域の位相遅延特性が互いに異なるということは、第1及び第2領域がいずれも位相遅延特性を有する領域の状態で第1及び第2領域が互いに同一であるかまたは異なる方向に形成されている光軸をそれぞれ有し、また、位相遅延値も互いに異なる領域である場合及び互いに同一の位相遅延値を有しながら異なる方向に形成されている光軸を有する場合が含まれることができる。他の例示では、第1及び第2領域の位相遅延特性が異なるというのは、第1及び第2領域のうちいずれか一方の領域は、位相遅延特性を有する領域であり、他方の領域は、位相遅延特性がない光学的に等方性の領域である場合も含まれることができる。このような場合の例としては、上記液晶層の一部領域にのみ液晶物質の層が形成されていて、他の領域には、液晶物質の層が形成されていない場合が例示されることができる。第1または第2領域の位相遅延特性は、例えば、液晶化合物の配向状態、液晶層の上記屈折率関系または液晶層の厚さを調節して制御することができる。1つの例示で上記第1領域Aと第2領域Bは、図2に示されたように、互いに共通する方向に延長するストライプ形状を有しながら互いに隣接して交互に配置されているか、または図3に示されたように格子パターンで互いに隣接して交互に配置されていてもよい。光学素子が立体映像の表示に使用される場合、上記第1及び第2領域のうちいずれか一方の領域は、左眼用映像信号偏光調節領域以下、LC領域と称することができる。であり、他方の領域は、右眼用映像信号偏光調節領域以下、RC領域と称することができる。であることができる。また、1つの例示で第1及び第2領域を含む液晶層により分割される、互いに異なる偏光状態を有する2種以上の光は、実質的に互いに垂直な方向を有する直線偏光された2種の光を含むか、または左円偏光された光及び右円偏光された光を含むことができる。これにより、1つの例示で上記第1及び第2領域のうちいずれか一方の領域は、入射光の偏光軸を回転させることなく、そのまま透過させる領域であり、他方の領域は、入射光の偏光軸を他の領域を透過した光の偏光軸に対して直交する方向に回転させて透過させることができる領域であることができる。上記場合では、液晶層で重合性液晶化合物を含む領域は、第1及び第2領域のうちいずれか一方の領域にのみ形成されていてもよい。上記で液晶層が形成されていない領域は、空きの空間であるか、ガラスまたは光学的等方性の樹脂層、樹脂フィルムまたはシートなどが存在する領域であることができる。他の例示で第1及び第2領域のうちいずれか一方の領域は、入射光を左円偏光された光に変換して透過させることができる領域であり、他方の領域は、入射光を右円偏光された光に変換して透過させることができる領域であることができる。上記の場合、第1及び第2領域は、互いに同一の位相遅延値を有しながら互いに異なる方向に形成された光軸を有する領域であるか、一方の領域は、入射される光を当該波長の1/4波長だけ遅延させることができる領域であり、他方の領域は、入射される光を当該波長の3/4波長だけ位相遅延させることができる領域であることができる。1つの例示で上記第1及び第2領域は、互いに同一の位相遅延値、例えば入射される光を当該波長の1/4波長だけ位相遅延させることができる値を有し、また、互いに異なる方向に形成されている光軸を有する領域であることができる。上記で互いに異なる方向に形成されている光軸の成す角度は、例えば垂直であることができる。上記第1及び第2領域が互いに異なる方向に形成されている光軸を有する領域である場合、第1及び第2領域の光軸が成す角度を二等分する線は、上記偏光板に含まれる偏光子の吸収軸と垂直または水平を成すように形成されていることが好ましい。図4は、図2または図3の例示の第1及び第2領域A、Bが互いに異なる方向に形成された光軸を有する領域である場合の光軸の配置を説明するための例示的な図である。図4を参照すれば、第1及び第2領域A、Bの光軸が成す角度を二等分する線は、θ1θ2の角度を二等分する線を意味することができる。例えば、θ1及びθ2が同一の角度なら、上記二等分線は、第1及び第2領域A、Bの境界線Lと水平を成す方向に形成されることができる。また、上記で第1及び第2領域の光軸が成す角度、すなわちθ1θ2は、例えば、90度であることができる。本明細書において角度を定義するに際して、垂直、水平、直交または平行などの用語を使用する場合、特に別途規定しない限り、上記それぞれは、実質的な垂直、水平、直交、または平行を意味するもので、例えば、製造誤差errorまたは偏差variationなどを勘案した誤差を含むものである。したがって、例えば、上記それぞれの場合、約±15度以内の誤差、好ましくは、約±10度以内の誤差、より好ましくは、約±5度以内の誤差を含むことができる。位相遅延層は、液晶層が上部に形成される基材層をさらに含むことができる。図5は、光学素子4が液晶層11が上部に形成される基材層41を含む場合の構造を例示的に示す。基材層としては、例えば、ガラス基材層またはプラスチック基材層を使用することができる。プラスチック基材層としては、TACtriacetylcelluloseまたはDACdiacetylcelluloseなどのようなセルロース樹脂;ノルボルネン誘導体などのCOPcycloolefinpolymer;PMMApolymethylmethacrylateなどのアクリル樹脂;PCpolycarbonate;PEpolyethyleneまたはPPpolypropyleneなどのポリオレフィン;PVApolyvinylalcohol;PESpolyethersulfone;PEEKpolyetheretherketon;PEIpolyetherimide;PENpolyethylenemaphthatlate;PETpolyethyleneterephtalateなどのポリエステル;PIpolyimide;PSFpolysulfone;またはフッ素樹脂などを含むシートまたはフィルムが例示されることができる。上記基材層、例えば、プラスチック基材層は、上記液晶層に比べて低い屈折率を有することができる。例示的な基材層の屈折率は、約1.33~約1.53の範囲である。基材層が液晶層に比べて低い屈折率を有するようにすれば、例えば、輝度向上、反射防止及びコントラスト特性向上などに有利である。上記プラスチック基材層は、光学的に等方性であるか、あるいは、異方性であることができる。上記で基材層が光学的に異方性である場合、上記基材層の光軸は、前述した第1及び第2領域の光軸が成す角度を二等分する線と垂直または水平になるように配置されることが好ましい。1つの例示で上記基材層は、紫外線遮断剤または紫外線吸収剤を含むことができる。紫外線遮断剤または吸収剤を基材層に含ませれば、紫外線による液晶層の劣化などを防止することができる。紫外線遮断剤または吸収剤としては、サリチル酸エステルsalicylicacidester化合物、ベンゾフェノンbenzophenone化合物、オキシベンゾフェノンoxybenzophenone化合物、ベンゾトリアゾールbenzotriazol化合物、シアノアクリレートcyanoacrylate化合物またはベンゾアートbenzoate化合物などのような有機物または酸化亜鉛zincoxideまたはニッケル錯塩nickelcomplexsaltなどのような無機物が例示されることができる。基材層内の紫外線遮断剤または吸収剤の含量は、特に限定されず、目的効果を考慮して適切に選択することができる。例えば、プラスチック基材層の製造過程で上記紫外線遮断剤または吸収剤を、基材層の主材料に対する重量の比率で約0.1重量~25重量程度で含ませることができる。基材層の厚さは、特に限定されず、目的する用途によって適切に調節されることができる。基材層は、単層または多層構造であることができる。例示的な光学素子は、上記基材層と液晶層との間に存在する配向層をさらに含むことができる。配向層は、光学素子の形成過程で液晶化合物を配向させる役目をする層であることができる。配向層としては、この分野で公知されている通常の配向層、例えば、光配向層、ナノインプリント方式の配向層またはラビング配向層などが使用されることができる。上記配向層は、任意的な構成であり、場合によって、基材層を直接ラビングするか、延伸する方式で配向層なしに配向性を付与することもできる。光学素子に含まれる偏光板は、偏光子を含むことができる。偏光子は、様々な方向に振動しながら入射光から一方の方向に振動する光を抽出することができる機能性素子である。1つの例示で上記偏光子は、所定方向に形成されている光吸収軸と上記光吸収軸に垂直な光透過軸を含むことができる。偏光子としては、例えば、PVApolyvinylalcohol偏光子のような通常の偏光子を使用することができる。上記偏光子の一面または両面には、保護層が形成されていてもよい。保護層としては、TACまたはDACなどのセルロース樹脂フィルム、非結晶性ポリオレフィンフィルム、ポリエステルフィルム、アクリル樹脂フィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、脂環式ポリイミドフィルムまたは環状オレフィンポリマーCOPフィルムなどは、樹脂フィルムや、紫外線などの電磁気波によって硬化されている樹脂層などが例示されることができる。上記光学素子は、位相遅延層と偏光板を付着している第1粘着剤層と、偏光板に形成されている第2粘着剤層とを含む。上記で第2粘着剤層は、上記光学素子を光学機器に付着するための粘着剤層であることができる。上記で光学機器としては、例えば、液晶表示装置の液晶パネルや立体映像表示装置の映像表示素子が例示されることができる。上記第1及び第2粘着剤層のうち少なくとも1つは、25°Cで貯蔵弾性率が0.02MPa以上、0.03MPa以上、0.04MPa以上、0.05MPa以上、0.06MPa以上、0.07MPa以上、0.08MPa、0.08MPa超過または0.09MPa以上であることができる。上記第1及び第2粘着剤のうち少なくとも1つが上記範囲の貯蔵弾性率を有するとき、該貯蔵弾性率の上限は、特に限定されるものではない。例えば、上記貯蔵弾性率は、0.25MPa以下、0.2MPa以下、0.16MPa以下、0.1MPa以下または0.08MPa以下であることができる。上記光学素子で少なくとも第2粘着剤層は、上記範囲の貯蔵弾性率を有することができ、好ましくは、0.08MPaを超過する貯蔵弾性率を示すことができる。第1または第2粘着剤層が上記貯蔵弾性率を示す場合、光学素子が優れた耐久性を示し、したがって、例えば、上記位相遅延層の位相遅延特性が長期間そして苛酷な条件下でも安定的に維持され、安定的な光分割特性を示すことができ、光学素子が適用された光学機器で光漏れなどのような副作用をも防止されることができる。また、光学素子の硬度特性が向上し、外部の圧力やスクラックなどに対して優れた抵抗性を示し、再作業性も適切に維持されることができる。上記第1または第2粘着剤層は、厚さが25μm以下、20μm以下または18μm以下であることができる。粘着剤層が上記厚さを有する場合、上記耐久性、硬度特性及び再作業性などがさらに向上することができる。粘着剤層は、厚さが薄いほど優れた物性を示すものであって、その厚さの下限は、特に限定されないが、工程性などを考慮して、例えば、約1μm以上または約5μm以上の範囲に調節することができる。粘着剤層は、アクリル粘着剤、シリコーン粘着剤、エポキシ粘着剤またはゴム系粘着剤などを含むことができる。粘着剤層がアクリル粘着剤を含む場合に、上記粘着剤は、例えば、熱硬化性成分、活性エネルギー線硬化性成分または熱硬化性成分と活性エネルギー線硬化性成分をすべて含む粘着剤組成物を硬化させて形成することができる。上記で用語硬化は、粘着物性が発現され得るようにする粘着剤組成物の化学的または物理的状態の変化を意味することができる。また、上記で熱硬化性成分及び活性エネルギー線硬化性成分は、上記のような硬化がそれぞれ適切な熱の付加または活性エネルギー線の照射によって誘導される成分を意味することができる。上記で活性エネルギー線の範疇には、マイクロ波microwaves、赤外線IR、紫外線UV、X線及びガンマ線はもちろん、アルファ-粒子線alpha-particlebeam、プロトンビームprotonbeam、中性子ビームneutronbeamまたは電子線electronbeamのような粒子ビームが含まれることができ、通常的には、紫外線または電子線などが使用されることができる。熱硬化性成分を含む粘着剤組成物で形成された粘着剤層は、多官能性架橋剤により架橋された状態のアクリル重合体を含むことができる。多官能性架橋剤により架橋されるアクリル重合体としては、例えば、重量平均分子量WeightAverageMolecularWeightが50万以上のアクリル重合体を使用することができる。本明細書において重量平均分子量は、GPCGelPermeationChromatographで測定された標準ポリスチレンに対する換算数値である。また、本明細書においては、特に別途規定しない限り、用語分子量は、重量平均分子量を意味する。重合体の分子量を50万以上にして、苛酷条件下で優れた耐久性を有する粘着剤層を形成することができる。上記分子量の上限は、特に限定されず、例えば、耐久性や、組成物のコーティング性を考慮して、250万以下の範囲で調節することができる。1つの例示で上記アクリル重合体は、メタアクリル酸エステル単量体及び架橋性単量体を重合単位で含む重合体であることができる。メタアクリル酸エステル系単量体としては、例えばアルキルメタアクリレートを使用することができ、粘着剤の凝集力、ガラス転移温度または粘着性を考慮して、炭素数が1~20のアルキル基を有するアルキルメタアクリレートを使用することができる。このような単量体としては、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、n-プロピルメタアクリレート、イソプロピルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、t-ブチルメタアクリレート、sec-ブチルメタアクリレート、ペンチルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、2-エチルブチルメタアクリレート、n-オクチルメタアクリレート、イソオクチルメタアクリレート、イソノニルメタアクリレート、ラウリルメタアクリレート及びテトラデシルメタアクリレートなどが例示されることができ、上記のうち一種または二種以上が使用されることができる。上記重合体は、また、架橋性単量体を重合単位でさらに含むことができる。上記重合体は、例えば、メタアクリル酸エステル単量体80重量部~99.9重量部及び架橋性単量体0.1重量部~20重量部を重合単位で含むことができる。上記で架橋性単量体は、アクリル重合体を形成する他の単量体と共重合されることができ、共重合後に重合体に架橋性官能基を提供することができる単量体を意味する。上記架橋性官能基は、後述する多官能性架橋剤と反応して架橋構造を形成することができる。架橋性官能基としては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、エポキシ基、イソシアネート基またはアミノ基のような窒素含有官能基などが例示されることができる。粘着樹脂の製造時に上記のような架橋性官能基を付与することができる共重合性単量体は、多様に公知されている。架橋性単量体としては、例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート、6-ヒドロキシヘキシルメタアクリレート、8-ヒドロキシオクチルメタアクリレート、2-ヒドロキシエチレングリコールメタアクリレートまたは2-ヒドロキシプロピレングリコールメタアクリレートなどのようなヒドロキシ基含有単量体;メタアクリル酸、2-メタアクリロイルオキシ酢酸、3-メタアクリロイルオキシプロピオン酸、4-メタアクリロイルオキシ酪酸、アクリル酸二量体、イタコン酸、マレイン酸及びマレイン酸無水物などのカルボキシル基含有単量体またはメタアクリルアミド、N-ビニルピロリドンまたはN-ビニルカプロラクタムなどの窒素含有単量体などが例示されることができ、上記のうち1種または2種以上の混合を使用することができるが、これに限定されるものではない。上記アクリル重合体には、必要に応じて他の多様な単量体が重合単位で含まれてもよい。例えば、アクリル重合体は、下記化学式3で表示される化合物を重合単位でさらに含むことができる。[化学式3]上記化学式3でRは、水素またはアルキル基を示し、Aは、アルキレン基またはアルキリデン基を示し、R16は、アルキル基またはアリール基を示し、nは、1~6の数を示す。上記化学式3の化合物は、例えば、粘着剤層が後述する活性エネルギー線成分の架橋構造を含むとき、上記架橋構造と熱硬化性成分の架橋構造の相溶性を高め、粘着剤層の物性が適正範囲に維持されるようにするのに有用であることができる。本明細書で用語アリール基は、特に別途規定しない限り、ベンゼンを含むかまたは2個以上のベンゼンが縮合されるか結合されている構造を含む化合物またはその誘導体から由来する1価残基を意味することができる。上記アリール基は、例えば、炭素数6~22、好ましくは、炭素数6~16、より好ましくは、炭素数6~13のアリール基であることができ、例えば、フェニル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、ベンジル基、トリル基、キシリル基xylylgroupまたはナフチル基などであることができる。上記化学式3でnは、より好ましくは、1~25、さらに好ましくは、1~15、より好ましくは、1~6であることができる。上記化学式3の単量体としては、アルコキシアルキレングリコールメタアクリル酸エステル、アルコキシジアルキレングリコールメタアクリル酸エステル、アルコキシトリアルキレングリコールメタアクリル酸エステル、アルコキシテトラアルキレングリコールメタアクリル酸エステル、アルコキシポリエチレングリコールメタアクリル酸エステル、フェノキシアルキレングリコールメタアクリル酸エステル、フェノキシジアルキレングリコールメタアクリル酸エステル、フェノキシトリアルキレングリコールメタアクリル酸エステル、フェノキシテトラアルキレングリコールメタアクリル酸エステルまたはフェノキシポリアルキレングリコールメタアクリル酸エステルなどが例示されることができる。化学式3の化合物が含まれる場合、その比率は、目的によって適切に調節されることができ、例えば、他の単量体の重量に対して10重量部~50重量部で含まれることができる。上記重合体は、上記以外にも、例えば、メタアクリロニトリル、メタアクリルアミド、N-メチルメタアクリルアミドまたはN-ブトキシメチルメタアクリルアミドのような窒素含有単量体;スチレンまたはメチルスチレンのようなスチレン系単量体;グリシジルメタアクリレート;またはビニルアセテートのようなカルボキシル酸ビニルエステルなどのような任意の単量体を重合単位でさらに含むこともできる。このような追加的な単量体ドルは、全体重量比率が他の単量体に対して20重量部以下の範囲で調節されることができる。アクリル重合体は、前述の各成分を必要に応じて選択及び配合した単量体の混合物を溶液重合、光重合、塊状bulk重合、懸濁suspension重合または乳化emulsion重合のような重合方式に適用して製造することができる。粘着剤層内で上記のようなアクリル重合体を架橋させている多官能性架橋剤としては、イソシアネート架橋剤、エポキシ架橋剤、アジリジン架橋剤及び金属キレート架橋剤のような一般的な熱硬化性架橋剤が例示されることができる。上記でイソシアネート架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソボロンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネートまたはナフタレンジイソシアネートなどの多官能性イソシアネート化合物であるか、または上記多官能性イソシアネート化合物をトリメチロールプロパンなどのようなポリオール化合物と反応させた化合物などが例示されることができる。エポキシ架橋剤としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、トリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、N、N、N、N-テトラグリシジルエチレンジアミン及びグリセリンジグリシジルエーテルよりなる群から選択された1つ以上が例示されることができ、アジリジン架橋剤としては、N、N-トルエン-2、4-ビス1-アジリジンカルボキサミド、N、N-ジフェニルメタン-4、4-ビス1-アジリジンカルボキサミド、トリエチレンメラミン、ビスイソフタロイル-1-2-メチルアジリジン及びトリ-1-アジリジニルホスフィンオキシドよりなる群から選択された1つ以上が例示されることができ、金属キレート架橋剤としては、アルミニウム、鉄、亜鉛、錫、チタン、アンチモン、マグネシウムまたはバナジウムのような多価金属がアセチルアセトンまたはアセト酢酸エチルなどに配位している化合物なとが例示されることができるが、これに限定されるものではない。熱硬化性成分を含む粘着剤組成物または該組成物で形成された粘着剤層内に、上記多官能性架橋剤は、例えば、上記アクリル重合体100重量部に対して0.01重量部~10重量部または0.01重量部~5重量部で含まれてもよい。架橋剤の比率を0.01重量部以上に調節し、粘着剤の凝集力を効果的に維持し、また、10重量部以下に調節すれば、粘着界面で層間剥離や浮き上り現象が発生する現象を防止し、耐久性を優秀に維持することができる。しかし、上記比率は、目的する弾性率などの物性や、粘着剤層などに他の架橋構造の包含有無などによって変更されることができる。活性エネルギー線硬化性成分を含む粘着剤組成物で形成された粘着剤層は、重合された活性エネルギー線重合性化合物の架橋構造を含むことができる。上記粘着剤層は、例えば、活性エネルギー線の照射によって重合反応に参加することができる官能基、例えば、アルケニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基などを1つ以上含む化合物を配合して粘着剤組成物を製造した後、該組成物に活性エネルギー線を照射し、上記成分を架橋及び重合させることによって形成することができる。上記で活性エネルギー線の照射によって重合反応に参加することができる官能基を有する化合物の例としては、上記アクリル重合体の側鎖にアクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基などの官能基を導入した重合体;ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレートまたはポリエーテルアクリレートなどのように当業界においていわゆる活性エネルギー線硬化型オリゴマーとして知られている化合物または後述する多官能性アクリレートなどが例示されることができる。熱硬化性成分及び活性エネルギー線硬化性成分を含む粘着剤組成物で形成された粘着剤層は、上記多官能性架橋剤で架橋されたアクリル重合体を含む架橋構造及び上記重合された活性エネルギー線重合性化合物の架橋構造を同時に含むことができる。このような粘着剤層は、いわゆる相互浸透高分子ネットワークInterpenetratingPolymerNetwork;以下、IPNを含む粘着剤である。用語IPNは、粘着剤層内に少なくとも2個以上の架橋構造が存在する状態を意味することができ、1つの例示において、上記架橋構造は、互いに絡んでいる状態entanglement、または連結linkingまたは浸透penetratingしている状態で存在することができる。粘着剤層がIPNを含む場合、苛酷条件で耐久性に優れていて、また、作業性や、光漏れまたはクロストークの抑制能に優れた光学素子が具現されることができる。IPNを含む粘着剤層には、上記多官能性架橋剤により架橋されたアクリル重合体によって具現される架橋構造の多官能性架橋剤及びアクリル重合体としては、例えば上記熱硬化性成分を含む粘着剤組成物の項目で記述した成分が使用されることができる。また、重合された活性エネルギー線重合性化合物の架橋構造の上記活性エネルギー線重合性化合物としては、やはり上記記述した化合物が使用されることができる。1つの例示において、上記活性エネルギー線重合性化合物は、多官能性アクリレートであることができる。多官能性アクリレートとしては、2個以上のメタアクリロイル基を有する化合物なら、限定なしに使用することができる。例えば、1、4-ブタンジオールジメタアクリレート、1、6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートneopentylglycoladipateジメタアクリレート、ヒドロキシピバル酸hydroxylpuivalicacidネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ジシクロペンタニルdicyclopentanylジメタアクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジメタアクリレート、エチレンオキシド変性ジメタアクリレート、ジメタアクリロキシエチルイソシアヌレート、アリルallyl化シクロヘキシルジメタアクリレート、トリシクロデカンジメタノールメタアクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジメタアクリレート、エチレンオキシド変性ヘキサヒドロフタル酸ジメタアクリレート、トリシクロデカンジメタノールメタアクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチルプロパンジメタアクリレート、アダマンタンadamantaneジメタアクリレートまたは9、9-ビス[4-2-アクリロイルオキシエトキシフェニルフルオレンfluorineなどのような2官能型アクリレート;トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタアクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、3官能型ウレタンメタアクリレートまたはトリスメタアクリロキシエチルイソシアヌレートなどの3官能型アクリレート;ジグリセリンテトラメタアクリレートまたはペンタエリスリトールテトラメタアクリレートなどの4官能型アクリレート;プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレートなどの5官能型アクリレート;及びジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレートまたはウレタンメタアクリレート例えば、イソシアネート単量体及びトリメチロールプロパントリメタアクリレートの反応物などの6官能型アクリレートなどが使用されることができる。多官能性アクリレートとしては、分子内に環状構造を含むものを使用することができる。多官能性アクリレートに含まれる環状構造は、炭素環式構造または複素環式構造;または単環式または多環式構造のいずれを使用してもよい。環状構造を含む多官能性アクリレートとしては、トリスメタアクリロキシエチルイソシアヌレートなどのイソシアヌレート構造を有する単量体及びイソシアネート変性ウレタンメタアクリレート例えば、イソシアネート単量体及びトリメチルロールプロパントリメタアクリレートの反応物などなどの6官能型アクリレートなどが例示されることができるが、これに限定されるものではない。IPNを含む粘着剤層内で上記架橋構造を形成している活性エネルギー線重合性化合物は、例えば、上記アクリル重合体100重量部に対して、5重量部~40重量部で含まれることができるが、これは、必要に応じて変更されることができる。上記粘着剤層には、前述した成分にさらにこの分野において公知されている多様な添加剤が含まれてもよい。例えば、活性エネルギー線硬化性成分を含む組成物の場合、上記成分の重合反応などを促進するための光開始剤などをさらに含むことができる。また、上記粘着剤層は、シランカップリング剤、粘着性付与樹脂、エポキシ樹脂、硬化剤、紫外線安定剤、酸化防止剤、調色剤、補強剤、充填剤、消泡剤、界面活性剤及び可塑剤よりなる群から選択された1つ以上の添加剤をさらに含むことができる。上記粘着剤層は、例えば、上記記述した各成分を配合して製造された粘着剤組成物をバーコーターまたはコンマコーターなどの手段で塗布し、硬化させる方式を使用することができる。また、粘着剤組成物を硬化させる方法は、特に限定されるものではなく、例えば、アクリル重合体及び多官能性架橋剤の架橋反応が進行され得るように適正温度で組成物を維持する方式と活性エネルギー線硬化性化合物の重合が可能となるように活性エネルギー線を照射する工程により硬化させることができる。適正温度での維持及び活性エネルギー線の照射が同時に要求される場合、上記工程は、順次または同時に進行されることができる。上記で活性エネルギー線の照射は、例えば、高圧水銀ランプ、無電極ランプまたはキセノンランプxenonlampなどを使用して行うことができ、照射される活性エネルギー線の波長や光量などの条件は、上記活性エネルギー線硬化型化合物の重合が適切に行われることができる範囲で選択されることができる。上記光学素子で上記第1または第2粘着剤層は、上記記述した類型の粘着剤のうち適切な種類を選択して形成することができる。1つの例示で上記第2粘着剤層は、少なくとも上記IPNを含む粘着剤層であることができ、上記第1粘着剤層は、熱硬化型成分の架橋構造、すなわち多官能性架橋剤により架橋されたアクリル重合体を含む架橋構造を有する粘着剤層であるか、または上記IPNを含む粘着剤層であることができる。第1または第2粘着剤層の貯蔵弾性率及び種類は、光学素子の具体的な構造によってさらに適切な種類が選択されることができる。1つの例示で上記光学素子は、位相遅延層が上記液晶層が上部に形成される基材層をさらに含み、また、上記基材層に第3粘着剤層で付着されている保護基材層をさらに含むことができる。図6は、上記構造の光学素子5の例示的な模式図であり、液晶層11が上部に形成される基材層41に第3粘着剤層123で保護基材層51が付着されている構造を示す。このような構造の光学素子6は、例えば、図7のように、上記保護基材層51の表面に形成される、後述するような表面処理層61をさらに含むことができる。上記で液晶層11が形成される基材層41としては、既に記述したような基材層が使用されることができ、保護基材層51として、上記基材層41と同一の範疇内で選択される基材層が使用されることができる。上記構造で第2粘着剤層122は、25°Cでの貯蔵弾性率が0.02MPa以上、0.05MPa以上または0.08MPa超過であるか、0.08MPaを超過し0.25MPa以下の範囲、0.09MPa~0.2MPaまたは0.09MPa~0.16MPaである粘着剤層であることができる。上記第2粘着剤層は、上記IPNを含む粘着剤層であることができる。また、上記構造で第1粘着剤層は、上記熱硬化性成分の架橋構造を含む粘着剤層またはIPNを含む粘着剤層であることができる。上記第1粘着剤層は、25°Cでの貯蔵弾性率が0.02MPa以上、0.05MPa以上または0.08MPa超過であることができる。また、第1粘着剤層が熱硬化性成分の架橋構造を含む粘着剤層なら、25°Cでの貯蔵弾性率が0.02MPa~0.08MPaまたは0.04MPa~0.08MPaの範囲で調節され、IPNを含む粘着剤層なら、25°Cでの貯蔵弾性率が0.08MPaを超過し0.25MPa以下の範囲、0.09MPa~0.2MPaまたは0.09MPa~0.16MPaである範囲で調節されることができる。上記で第3粘着剤層123は、上記第1または第2粘着剤層121、122と同一の範疇の貯蔵弾性率及び架橋成分を有する粘着剤が使用されることができる。1つの例示で上記第3粘着剤層123としては、25°Cでの貯蔵弾性率が0.02MPa以上、0.05MPa以上または0.08MPa超過であるか、0.08MPaを超過し0.25MPa以下の範囲、0.09MPa~0.2MPaまたは0.09MPa~0.16MPaである粘着剤層であり、IPNを含む粘着剤層が使用されることができる。他の例示で上記光学素子は、上記液晶層が上部に形成される基材層をさらに含み、また、上記基材層の表面に形成された表面処理層を含む構造であることができる。図8は、上記構造の光学素子7の例示的な模式図であり、液晶層11が上部に形成される基材層41と、基材層41の表面に形成された表面処理層61を含む構造を示す。このような構造で上記第2粘着剤層は、25°Cでの貯蔵弾性率が0.02MPa以上、0.05MPa以上または0.08MPa超過であるか、0.08MPaを超過し0.25MPa以下の範囲、0.09MPa~0.2MPaまたは0.09MPa~0.16MPaである粘着剤層であることができ、上記第1粘着剤層は、25°Cでの貯蔵弾性率が0.02MPa~0.08MPaまたは0.04MPa~0.08MPaである粘着剤層であることができる。上記で第2粘着剤層は、上記IPNを含む粘着剤層であり、第1粘着剤層は、上記熱硬化性成分の架橋構造を含む粘着剤層であることができる。上記光学素子で上記保護基材層または液晶層が形成される基材層の表面には、前述したように表面処理層が形成されていてもよい。表面処理層としては、高硬度層、AGAnti-glare層またはSGSemi-glare層のような眩しさ防止層またはARAntireflection層またはLRLowreflection層のような低反射層などが例示されることができる。上記表面処理層は、基材層の1つの主表面または両方の主表面に形成されているか、必要な場合には、基材層の側面を含んだ全体表面に行われていてもよい。上記高硬度層は、500gの荷重下での鉛筆硬度が1H以上または2H以上の層であることができる。上記鉛筆硬度は、例えば、KSG2603で規定された鉛筆心を使用してASTMD3363規格によって測定することができる。上記高硬度層は、例えば、高硬度の樹脂層であることができる。上記樹脂層は、例えば、常温硬化型、湿気硬化型、熱硬化型または活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を硬化された状態で含むことができ、1つの例示では、熱硬化型または活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、または活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を硬化された状態で含むことができる。高硬度層の説明で硬化された状態というのは、上記各樹脂組成物に含まれる成分が架橋反応または重合反応などを経て樹脂組成物がハードhard状態に転換された場合を意味することができる。また、上記で常温硬化型、湿気硬化型、熱硬化型または活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、上記硬化状態が常温下で誘導されるか、あるいは、適切な湿気の存在下、熱の印加または活性エネルギー線の照射によって誘導されることができる組成物を意味することができる。この分野では、硬化された状態で前述した範囲の鉛筆硬度を満たすことができる多様な樹脂組成物が知られていて、平均的技術者は、適合な樹脂組成物を容易に選択することができる。1つの例示で、上記樹脂組成物は、主材としてアクリル化合物、エポキシ化合物、ウレタン系化合物、フェノール化合物またはポリエステル化合物などを含むことができる。上記で化合物は、単量体性、オリゴマー性または重合体性化合物であることができる。1つの例示では、上記樹脂組成物として、透明性などの光学的特性に優れていて、黄変などに対する抵抗性が優れたアクリル樹脂組成物、好ましくは、活性エネルギー線硬化型アクリル樹脂組成物を使用することができる。活性エネルギー線硬化型アクリル組成物は、例えば、活性エネルギー線重合性の重合体成分と反応性希釈用単量体を含むことができる。上記で重合体成分としては、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、エーテルアクリレートまたはエステルアクリレートなどのように当業界でいわゆる活性エネルギー線重合性オリゴマーとして知られた成分であるか、またはメタアクリル酸エステル単量体などのような単量体を含む混合物の重合物が例示されることができる。上記でメタアクリル酸エステル単量体としては、アルキルメタアクリレート、芳香族基を有するメタアクリレート、ヘテロシクリックメタアクリレートまたはアルコキシメタアクリレートなどが例示されることができる。この分野では、活性エネルギー線硬化型組成物を製造するための多様な重合体成分が知られていて、上記のような化合物が必要に応じて選択されることができる。活性エネルギー線硬化型アクリル組成物に含まれることができる、反応性希釈用単量体としては、活性エネルギー線硬化型官能基、例えば、アクリロイル基またはメタクリロイル基などを1つまたは2つ以上有する単量体が例示されることができ、例えば、上記メタアクリル酸エステル単量体や多官能性アクリレートなどが使用されることができる。上記で多官能性アクリレートとしては、上記粘着剤項目で記述した化合物のうち適切な種類が選択されることができる。活性エネルギー線硬化型アクリル組成物を製造するための上記成分の選択や選択された成分の配合比率などは、特に限定されず、目的する樹脂層の硬度及びその他物性を考慮して調節されることができる。上記AGAnti-glare層またはSGSemi-glare層としては、例えば、凹凸面が形成されている樹脂層または粒子を含む樹脂層であって、上記粒子が上記樹脂層とは異なる屈折率を有する粒子である樹脂層を使用することができる。上記樹脂層としては、例えば、上記高硬度層の形成に使用する樹脂層を使用することができる。眩しさ防止層を形成する場合には、樹脂層が必ず高硬度を示すことができるように樹脂組成物の成分を調節する必要はないが、高硬度を示すことができるように樹脂層を形成してもよい。上記で樹脂層に凹凸面を形成する方式は、特に限定されない。例えば、上記樹脂組成物のコーティング層を目的する凹凸構造を有する金型と接触させた状態で上記樹脂組成物を硬化させるか、あるいは、樹脂組成物に適切な粒径の粒子を配合し、コーティング及び硬化させて凹凸構造を具現することができる。上記眩しさ防止層は、また、樹脂層とは屈折率が異なる粒子を使用して具現することもできる。1つの例示で上記粒子は、例えば、樹脂層との屈折率の差が0.03以下または0.02~0.2であることができる。屈折率の差が過度に小さければ、ヘイズを誘発しにくいし、反対に過度に大きくなれば、樹脂層内で光の散乱が多く発生し、ヘイズを増加させるが、光透過度またはコントラスト特性などの低下が誘導されることができるので、これを考慮して適切な粒子を選択することができる。樹脂層に含まれる粒子の形状は、特に限定されず、例えば、球形、卵円形、多面体形、無定形またはそのほか他の形状を有することができる。上記粒子は、平均直径が50nm~5,000nmであることができる。1つの例示では、上記粒子として、表面に凹凸が形成されている粒子を使用することができる。このような粒子は、例えば、平均表面粗さRzが10nm~50nmまたは20nm~40nmであるか、及び/または表面に形成された凹凸の最大高さが約100nm~500nmまたは200nm~400nmであり、凹凸間の幅が400nm~1,200nmまたは600nm~1,000nmであることができる。このような粒子は、樹脂層との相溶性やその内部での分散性に優れている。上記粒子としては、多様な無機または有機粒子が例示されることができる。無機粒子としては、シリカ、非結晶質チタニア、非結晶質ジルコニア、インジウムオキシド、アルミナ、非結晶質亜鉛オキシド、非結晶質セリウムオキシド、バリウムオキシド、カルシウムカーボネート、非結晶質バリウムチタネートまたはバリウムスルフェートなどが例示されることができ、有機粒子としては、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、エポキシ樹脂またはシリコーン樹脂などの有機系素材の架橋物または非架橋物を含む粒子が例示されることができるが、これに限定されるものではない。樹脂層に形成される上記凹凸構造または上記粒子の含量は、特に限定されない。上記凹凸構造の形状または上記粒子の含量は、例えば、AG層の場合、上記樹脂層のヘイズhazeが約5~15、7~13または約10などになるように調節され、SG層の場合、ヘイズが約1~3程度になるように調節されることができる。上記ヘイズは、例えば、UNG社のHR-100またはHM-150などのようなヘーズメータhazemeterを使用して製造社のマニュアルによって測定することができる。ARantireflection層やLRlowreflection層のような低反射層は、低屈折物質をコーティングして形成することができる。低反射層を形成することができる低屈折物質は、多様に知られていて、これは、いずれも上記光学素子に適切に選択されて使用されることができる。低反射層は、低屈折物質のコーティングを通じて反射率が約1以下になるように形成することができる。上記表面処理層の形成には、また、韓国公開特許第2007-0101001号、第2011-0095464号、第2011-0095004号、第2011-0095820号、第2000-0019116号、第2000-0009647号、第2000-0018983号、第2003-0068335号、第2002-0066505号、第2002-0008267号、第2001-0111362号、第2004-0083916号、第2004-0085484号、第2008-0005722号、第2008-0063107号、第2008-0101801号または第2009-0049557号などで公知された素材も使用されることができる。上記表面処理層は、単独で形成されるか、あるいは、2個以上が組合されて形成されることもできる。組合の例としては、基材層の表面にまず高硬度層を形成し、該表面にさらに低反射層を形成する場合が例示されることができる。上記光学素子は、また、下記一般式1の条件を満たすことができる。[一般式1]X=200nm上記一般式1でXは、上記光学素子を上記第2粘着剤層を媒介でガラス基板に付着し、60°C及び10の相対湿度で150時間、300時間または500時間維持した後に測定した上記光学素子の横または縦長さの変化量である。上記Xは、また、170nm以下、150nm以下、130nm以下、110nm以下、90nm以下、70nm以下、50nm以下または40nm以下であることができる。上記Xは、その数値が低いほど光学素子が優れた耐久性及び寸法安定性を有することを意味するので、下限は、特に限定されない。本発明は、また、立体映像表示装置に関する。例示的な立体映像表示装置は、上記記述した光学素子を含むことができる。1つの例示で上記立体映像表示装置は、左眼用映像信号以下、L信号と右眼用映像信号以下、R信号を生成することができる映像表示素子をさらに含み、上記光学素子は、上記液晶層の第1及び第2領域のうちいずれか一方の領域は、上記L信号が透過されることができ、他方の領域は、上記R信号が透過されることができるように配置された状態で上記第2粘着剤層で上記表示素子に付着していてもよい。上記で光学素子は、R及びL信号が表示素子から出射され、上記光学素子の偏光板を先に透過した後、さらに上記液晶層の各領域に入射されるように配置されていてもよい。立体映像表示装置は、上記光学素子を光分割素子として含む限り、この分野で公知された多様な方式がすべて適用されて製造されることができる。図9は、1つの例示的な上記装置として、観察者が偏光メガネを着用し立体映像を観察することができる装置を例示的に表示する。図9に示されたように、上記装置8は、例えば、光源81、偏光板82及び上記映像表示素子83を含み、第2粘着剤層122、偏光板13、第1粘着剤層121及び液晶層を含む位相差層11を順に含む光学素子が上記第2粘着剤層122で上記表示素子83に付着されている構造であることができる。上記で光源81としては、例えば、LCDLiquidCrystalDisplayなどで一般的に使用される直下型またはエッジ型バックライトを使用することができる。上記表示素子83は、行、列または行列方向に配列されている複数の単位画素を含む透過型液晶表示パネルであることができる。上記画素は、1つまたは2個以上で組合されてR信号を生成する右眼用映像信号生成領域以下、RG領域とL信号を生成する左眼用映像信号生成領域以下、LG領域を形成することができる。上記RG及びLG領域は、図10のようにそれぞれ共通方向に延長されるストライプ状を有しながら互いに隣接して交互に配置されているか、図11のように格子パターンを成しながら互いに隣接して交互に配置されていてもよい。上記光学素子の液晶層11で上記第1及び第2領域は、それぞれLCまたはRC領域として上記RG及びLG領域の配置形態を考慮してRG領域で伝達されるR信号は、偏光板13を経てRC領域に入射され、L信号は、偏光板13を経てLC領域に入射されることができるように配置されていてもよい。映像表示素子83は、例えば光源81側方向から順に配置された第1透明基板、画素電極、第1配向膜、液晶層、第2配向膜、共通電極、カラーフィルタ及び第2透明基板などを含む液晶パネルであることができる。上記パネルの光入射側、すなわち光源81側には、偏光板82が付着されていて、その反対側には、上記光学素子が付着されていてもよい。偏光板82に含まれる偏光子と上記光学素子の偏光板13に含まれる偏光子は、例えば両方の吸収軸が互いに所定の角度、例えば90度を成すように配置されていてもよい。これにより、光源81から射出される表示素子83を経て透過するか、あるいは、遮断されるようにすることができる。駆動状態で表示装置8の光源81から無偏光された光が偏光板82側に出射されることができる。偏光板82に入射された光のうち、上記偏光板82の偏光子の光透過軸と平行な方向に偏光軸を有する光は、偏光板82を透過し、表示素子83に入射されることができる。表示素子83に入射され、RG領域を透過した光は、R信号となり、LG領域を透過した光は、L信号となり、光学素子の偏光板13に入射される。偏光板13を経て液晶層11に入射された光のうちLC領域を透過した光とRC領域を透過した光は、互いに異なる偏光状態を有する状態でそれぞれ排出される。このように互いに異なる偏光状態を有するようになったR信号とL信号は、偏光メガネを着用している観察者の右眼及び左眼にそれぞれ入射されることができ、これにより、観察者は、立体映像を観察することができる。本発明の例示的な光学素子は、優れた耐久性、硬度特性及び再作業性を示す。したがって、上記光学素子に含まれる位相遅延層の位相遅延特性は、長期間そして苛酷な条件下でも安定的に維持され、安定的な光分割特性を示すことができる。また、光学素子が適用された光学機器で光漏れなどのような副作用も防止されることができる。また、光学素子は、外部の圧力やスクラックなどに対して優れた抵抗性を示すことができる。以下、実施例及び比較例を通じて上記光学素子をさらに詳しく説明するが、上記光学素子の範囲が下記提示された実施例によって限定されるものではない。本実施例及び比較例で粘着剤層などの物性は、下記方式で評価した。1.貯蔵弾性率の評価粘着剤層を15cm×25cm×25μm横×縦×厚さのサイズに切断し、切断された粘着剤層を5層で積層させる。次いで、積層された粘着剤層を直径が8mmである円形に切断した後、ガラスglassを利用して、圧縮した状態で、一晩放置し、各層間の界面でのwettingを向上させることによって、積層時に生じた気泡を除去し、試料を製造する。次いで、試料をパラレルプレートparallelplate上に載置し、ギャップgapを調整した後、NormalTorqueの零点を合わせ、Normalforceの安定化を確認した後、下記条件で貯蔵弾性率を測定する。[測定機器及び測定条件]測定機器ARESRDA、TAInstrumentsIncwithforcedconvectionoven測定条件geometry8mmparallelplategaparound1mmtesttypedynamicstrainfrequencysweepstrain100、temperature30°Cinitialfrequency04rads、finalfrequency100rads2.位相差及び屈折率の評価光学素子または液晶層の位相差及び屈折率の評価は、Axomatrix社のAxoscanを利用して製造社のマニュアルによって測定した。3.厚さ及び光学素子の横または縦長さの評価光学素子の横または縦長さの測定は、3次元測定器であるインテックIMS社のPremium600C及びIViewProプログラムを使用して測定した。また、厚さの測定は、薄膜表面で反射光と下部の界面で反射される光間の干渉現象または光の位相差を利用して薄膜の特性を評価することができる装備であるspectralreflectometerを利用して測定した。4.クロストーク評価立体映像の観察時にクロストーク率は、暗状態Darkstateと明状態Brightstatでの輝度の比率として定義されることができる。実施例及び比較例では、上記光学素子が偏光メガネ方式の立体映像表示装置に適用された場合を想定して、クロストーク率は、下記方式で測定する。光学素子を使用して図9に示されたような立体映像表示装置を構成する。その後、立体映像表示装置の通常の観測地点に立体映像観察用偏光メガネを位置させる。上記で通常の観測地点は、観察者が立体映像を観察する場合、立体映像表示装置の中央から上記立体映像表示装置の水平方向の長さの3/2倍に該当する距離だけ離れた地点であり、このような位置で偏光メガネは、観察者が表示装置の中央を観察することを仮定して、位置させる。上記で、立体映像表示装置の水平方向の長さは、観察者が立体映像を観察する状態を仮定するとき、上記観察者を基準にした水平方向の長さ、例えば、映像表示装置の横の長さであることができる。上記のような配置で、立体映像表示装置がL信号を出力するようにした状態で偏光メガネの左眼用及び右眼用レンズの背面に輝度計装備名:SR-UL2Spectrometerを配置し、それぞれの場合の輝度を測定する。上記で左眼用レンズの背面で測定される輝度は、明状態の輝度であり、右眼用レンズの背面で測定される輝度は、暗状態の輝度である。各輝度を測定した後、明状態の輝度に対する暗状態の輝度の比率[暗状態の輝度]/[明状態の輝度]を百分率で求め、これをクロストーク率Yとして規定することができる。また、クロストーク率は、上記と同一の方式で測定するが、立体映像表示装置がR信号を出力している状態で明及び暗状態での輝度を求めて測定することができる。この場合、左眼用レンズの背面で測定される輝度は、暗状態の輝度であり、右眼用レンズの背面で測定される輝度は、明状態の輝度であり、同一にその比率を百分率で求め、クロストーク率として規定することができる。[製造例1.アクリル重合体Aの製造]窒素ガスが還流され、温度調節が容易になるように冷却装置を設置した1L反応器にn-ブチルアクリレートn-BA99重量部及び2-ヒドロキシエチルアクリレート2-HEA1重量部を投入した。次いで、反応器に溶剤としてEAcethylaceate120重量部を投入し、酸素除去のために窒素ガスを60分間パージングpurgingした。その後、温度を60°Cに維持し、AIBNazobisisobutyronitrile0.03重量部を投入し、重合反応を進行させて、分子量が170万であり、分子量分布が3.9であるアクリル重合体Aを製造した。[製造例2.アクリル重合体Bの製造]窒素ガスが還流され、温度調節が容易になるように冷却装置を設置した1L反応器にn-ブチルアクリレートn-BA79重量部、メトキシエチレングリコールアクリレートMEA20重量部及びヒドロキシエチルアクリレートHEA1.0重量部を投入し、反応を進行したことを除いて、製造例1に準じる方式で反応を進行し、分子量が180万であり、分子量分布が4.5であるアクリル重合体Bを製造した。[製造例3.粘着剤層Aの製造]アクリル重合体A100重量部に対して多官能性架橋剤XylyleneDiisocyanate、XDI系イソシアネート1.0重量部を配合し、粘着剤組成物を製造した。製造された粘着剤組成物を離型処理されたPETフィルム厚さ:38μm、MRF-38、三菱社製の離型処理面に乾燥後の厚さが25μmになるようにコーティングし、硬化が適切に起きることができるように適正温度で乾燥及び熟成させて、貯蔵弾性率が25°Cで約0.04~0.06MPaである粘着剤層Aを製造した。[製造例4.粘着剤層Bの製造]アクリル重合体B100重量部、多官能性架橋剤XylyleneDiisocyanate、XDI系イソシアネート3重量部、多官能性アクリレート3官能性ウレタンアクリレート、AronixM-315、DongWoo通商製20重量部、光開始剤であるヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンIrg184、スイスシバスペシャルティケミカル社製2重量部及びβシアノアセチル基を有するシランカップリング剤M812、韓国LG化学社製0.2重量部を固形分濃度が30重量になるように溶剤に配合し、粘着剤組成物を製造した。その後、製造された粘着剤組成物を離型処理されたPETフィルム厚さ:38μm、MRF-38、三菱社製の離型処理面に乾燥後の厚さが25μmになるようにコーティングし、110°Cのオーブンで3分間乾燥させた。その後、上記乾燥したコーティング層上に離型処理されたPETフィルム厚さ:38μm、MRF-38、三菱社製の離型処理面を追加にラミネートし、上記コーティング層に紫外線を照射照度:600mW/cm2、光量:150mJ/cm2し、貯蔵弾性率が25°Cで約0.10~0.15MPaである粘着剤層Bを形成した。[製造例5.位相遅延層Aの製造]TAC基材屈折率:1.49、厚さ:80,000nmの一面に光配向膜形成用組成物を乾燥後の厚さが約1,000Åになるようにコーティングし、80°Cのオーブンで2分間乾燥させた。上記で光配向膜形成用組成物としては、下記化学式4のシンナメート基を有するポリノルボルネン分子量Mw=150,000及びアクリル単量体の混合物を光開始剤Igacure907と混合し、さらにその混合物をトルエン溶媒にポリノルボルネンの固形分濃度が2wtになるように溶解させて製造した組成物を使用したポリノルボルネン:アクリル単量体:光開始剤=2:1:0.25重量比。[化学式4]次いで、上記乾燥した光配向膜形成用組成物を韓国特許出願第2010-0009723号に開示された方法によって配向処理し、異なる方向に配向された第1及び第2配向領域を含む光配向膜を形成した。具体的には、上記乾燥した組成物の上部に幅が約450μmであるストライプ形状の光透過部及び光遮断部が上下及び左右に交互に形成されているパターンマスクを位置させ、また、上記パターンマスクの上部には、それぞれ異なる偏光を透過させる2つの領域が形成された偏光板を位置させた。その後、上記光配向膜が形成されているTAC基材30を約3m/minの速度に移動させながら、上記偏光板及びパターンマスクを介して光配向膜形成用組成物に紫外線300mW/cm2を約30秒間照射し、配向処理を行った。次いで、配向処理された配向層上に液晶層を形成した。具体的には、上記光配向膜11上に液晶化合物LC242TM、BASF製を約1μmの乾燥厚さとなるように塗布し、下部の配向層に配向によって配向させた後、紫外線300mW/cm2を約10秒間照射し、液晶を架橋及び重合させて、下部光配向膜の配向によって互いに直交する光軸を有する第1及び第2領域が形成されている液晶層を形成した。上記液晶層において遅相軸方向の屈折率と進相軸方向の屈折率の差は、約0.125であった。[製造例6.位相遅延層Bの製造]ウレタンアクリレート10g、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートDPHA20g、平均粒径が3,500nmであり、平均表面粗さRzが30nmである有機粒子Sekisui製1g、平均粒径が4,000nmであり、表面に最大高さが300nmであり、凹凸の幅が約800nmである有機粒子Sekisui製1g、メチルエチルケトン30g、トルエン38g及びラジカル光開始剤2gを均一に混合し、樹脂組成物コーティング液を製造した。次いで、製造されたコーティング液を製造例5で使用したものと同一のTAC基材の一面にロールコーティング方式で乾燥後の厚さが約4,500nmになるようにコーティングし、乾燥させた。次いで、乾燥したコーティング液に紫外線を照射280mJ/cm2し、硬化させて表面処理層SG層を形成した。その後、上記TAC基材のSG層が形成された面の反対面に製造例5と同一の方式で配向膜及び液晶層を順に形成し、位相遅延層Bを製造した。[製造例7.表面処理層を有する保護基材の製造]ウレタンアクリレート10g、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートDPHA20g、平均粒径が3,500nmであり、平均表面粗さRzが30nmである有機粒子Sekisui製1g、平均粒径が4,000nmであり、表面に最大高さが300nmであり、凹凸の幅が約800nmである有機粒子Sekisui製1g、メチルエチルケトン30g、トルエン38g及びラジカル光開始剤2gを均一に混合し、樹脂組成物コーティング液を製造した。次いで、製造されたコーティング液を製造例5で使用したものと同一のTAC基材の一面にロールコーティング方式で乾燥後の厚さが約4,500nmになるようにコーティングし、乾燥させた。次いで、乾燥したコーティング液に紫外線を照射280mJ/cm2し、硬化させて表面処理層SG層を形成した。[実施例1.光学素子A]ポリビニルアルコール系偏光子の両面にTAC保護フィルムが付着されている偏光板を使用して光学素子を製造した。具体的には、上記偏光板の一面には、粘着剤層Bをラミネートし、その反対面には、製造例5で製造された位相遅延層の液晶層面を粘着剤層Bでラミネートした。その後、粘着剤層Bを使用して製造例7で製造された表面処理層が形成されているTAC基材の表面処理層が形成されていない面を付着し、光学素子を製造した。[実施例2.光学素子B]ポリビニルアルコール系偏光子の両面にTAC保護フィルムが付着されている偏光板を使用して光学素子を製造した。具体的には、上記偏光板の一面には、粘着剤層Bをラミネートし、その反対面には、製造例5で製造された位相遅延層の液晶層面を粘着剤層Aでラミネートした。その後、粘着剤層Bを使用して製造例7で製造された表面処理層が形成されているTAC基材の表面処理層が形成されていない面を付着し、光学素子を製造した。[実施例3.光学素子C]ポリビニルアルコール系偏光子の両面にTAC保護フィルムが付着されている偏光板を使用して光学素子を製造した。具体的には、上記偏光板の一面には、粘着剤層Bをラミネートし、その反対面には、製造例6で製造された位相遅延層の液晶層面を粘着剤層Aで付着し、光学素子を製造した。[比較例1.光学素子D]ポリビニルアルコール系偏光子の両面にTAC保護フィルムが付着されている偏光板を使用して光学素子を製造した。具体的には、上記偏光板の一面には、粘着剤層Bをラミネートし、その反対面には、製造例5で製造された位相遅延層の液晶層面を粘着剤層Aでラミネートした。その後、粘着剤層Bを使用して製造例7で製造された表面処理層が形成されているTAC基材の表面処理層が形成されていない面を付着し、光学素子を製造した。[試験例1.寸法変化率の測定]実施例及び比較例で製造された光学素子に対して耐久性をそれぞれ評価した。具体的には、それぞれの光学素子を偏光板で位相遅延層の反対側に形成された粘着剤層を媒介でガラス基板に付着した後、60°C及び10の相対湿度で150時間、300時間及び500時間放置した後、横方向の長さの変化量を測定し、下記表1に整理した。下記表1は、同一に製造された3個の光学素子をそれぞれ150時間、300時間または500時間上記条件で放置した後に測定した変化量の平均値であり、符号-は、横方向の長さが放置後に減少したことを意味する。[試験例2.液晶層の屈折率関系及び厚さによる光分割特性の評価]液晶層の屈折率関系及び厚さによる光分割特性の評価のために、次のようなサンプルをそれぞれ製造した。具体的には、製造例5の場合と同一の方式で位相遅延層を形成し、且つ、液晶層を形成した後、遅相軸方向と進相軸方向で屈折率の差が0.03となるように液晶混合物の組成を調節し、厚さが約0.3μm、1μm及び2.5μmの液晶層をそれぞれ形成し、位相遅延層を製造した。また、製造例5と同一の液晶化合物を使用して同一の方式で位相遅延層を製造し、且つ厚さが約0.3μm及び2.5μmの液晶層をそれぞれ形成し、位相遅延層を製造した。また、製造例5と同一の方式で位相遅延層を形成し、且つ液晶層を形成した後、遅相軸方向と進相軸方向で屈折率の差が0.22となるように、液晶混合物の組成を調節し、厚さが約0.3μm、1μm及び2.5μmの液晶層をそれぞれ形成し、位相遅延層を製造した。その後、上記製造された位相遅延層を使用して実施例1と同一の方式で光学素子を製造し、その光学素子及び実施例1の光学素子を使用して立体映像を観察する場合のクロストーク率を評価し、下記表2に記載した。"