マイクロレンズアレイの製造方法であって、複数の受光部を含む構造体の上にレジスト膜を形成する工程と、複数のマイクロレンズを形成するための複数のレンズパターンが配列されたフォトマスクを用いて前記レジスト膜を露光する工程と、露光された前記レジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターンを熱処理して前記複数のマイクロレンズを形成する工程とを含み、前記複数のレンズパターンは、露光光の光透過率分布が互いに異なるレンズパターンを含む、ことを特徴とするマイクロレンズアレイの製造方法。前記露光光の光透過率分布が互いに異なるレンズパターンは、それぞれ、受光部を含んで構成される画素の色に応じて決定されたレンズパターンを含む、ことを特徴とする請求項1に記載のマイクロレンズアレイの製造方法。前記露光光の光透過率分布が互いに異なるレンズパターンは、フォーカス検出機能を有する画素のレンズパターンと、フォーカス検出機能を有しない通常画素のレンズパターンとを含む、ことを特徴とする請求項1に記載のマイクロレンズアレイの製造方法。前記露光光の光透過率分布が互いに異なるレンズパターンは、それぞれ、受光部を含んで構成される画素の位置に応じて決定されたレンズパターンを含む、ことを特徴とする請求項1に記載のマイクロレンズアレイの製造方法。前記複数のレンズパターンのうち隣接するマイクロレンズの境界において光透過率が連続している、ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のマイクロレンズアレイの製造方法。固体撮像装置の製造方法であって、複数の受光部を含む構造体を形成する工程と、前記構造体の上にレジスト膜を形成する工程と、複数のマイクロレンズを形成するための複数のレンズパターンが配列されたフォトマスクを用いて前記レジスト膜を露光する工程と、露光された前記レジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターンを熱処理して前記複数のマイクロレンズを形成する工程とを含み、前記複数のレンズパターンは、露光光の光透過率分布が互いに異なるレンズパターンを含む、ことを特徴とする固体撮像装置の製造方法。前記複数のレンズパターンのうち隣接するマイクロレンズの境界において光透過率が連続している、ことを特徴とする請求項6に記載の固体撮像装置の製造方法。フォーカス検出機能を有する第1画素と、フォーカス検出機能を有しない、画像信号を得るための第2画素とを含む固体撮像装置であって、前記第1画素は、第1受光部と、第1マイクロレンズと、前記第1受光部と前記第1マイクロレンズとの間に配置された開口を有する遮光膜とを含み、前記第2画素は、第2受光部と、第2マイクロレンズとを含み、前記第1マイクロレンズと前記第2マイクロレンズとは焦点距離が互いに異なり、前記第1マイクロレンズは、合焦時において前記開口に焦点を有する、ことを特徴とする固体撮像装置。特許文献1に開示された方法では、マイクロレンズを形成するためのレジスト膜の厚さを赤色用、緑色用、青色用で異ならせる必要があるので、赤色用、緑色用、青色用のそれぞれについて露光工程および現像工程が必要である。そのため、工程数が増加するとともに、異なる色用のマイクロレンズの間にアライメントずれが発生しうる。更には、レジスト膜の形成工程、露光工程および現像工程を複数回にわたって実行するので、先に形成されたマイクロレンズの形状が他のマイクロレンズを形成するための処理を通して変化しうる。本発明の1つの側面は、マイクロレンズアレイまたは固体撮像装置の製造工程の単純化および/またはマイクロレンズ間のアライメントずれの防止に有利な技術を提供することを目的とする。本発明の他の側面は、新規な構造を有する固体撮像装置を提供することを目的とする。本発明の1つの側面に係るマイクロレンズアレイまたは固体撮像装置の製造方法は、複数の受光部を含む構造体の上にレジスト膜を形成する工程と、複数のマイクロレンズを形成するための複数のレンズパターンが配列されたフォトマスクを用いて前記レジスト膜を露光する工程と、露光された前記レジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターンを熱処理して前記複数のマイクロレンズを形成する工程とを含み、前記複数のレンズパターンは、露光光の光透過率分布が互いに異なるレンズパターンを含む。本発明の他の側面に係る固体撮像装置は、フォーカス検出機能を有する第1画素と、フォーカス検出機能を有しない、画像信号を得るための第2画素とを含む固体撮像装置であって、前記第1画素は、第1受光部と、第1マイクロレンズと、前記第1受光部と前記第1マイクロレンズとの間に配置された開口を有する遮光膜とを含み、前記第2画素は、第2受光部と、第2マイクロレンズとを含み、前記第1マイクロレンズと前記第2マイクロレンズとは焦点距離が互いに異なり、前記第1マイクロレンズは、合焦時において前記開口に焦点を有する。本発明の1つの側面によれば、マイクロレンズアレイまたは固体撮像装置の製造工程の単純化および/またはマイクロレンズ間のアライメントずれの防止に有利な技術が提供される。本発明の他の側面によれば、新規な構造を有する固体撮像装置が提供される。図6を参照しながら複数回のフォトリソグラフィー工程で複数種類のマイクロレンズを形成した場合における該複数種類のマイクロレンズ間のアライメントずれについて説明する。図6に例示される固体撮像装置では、2種類のマイクロレンズ91、92のうち一方のマイクロレンズ91にアライメントずれ15が存在する。アライメントずれ15が存在すると、それに応じてマイクロレンズ91の焦点位置撮像面に沿った方向における位置が設計位置からずれる。これによって、マイクロレンズ91を有する画素とマイクロレンズ92を有する画素との間で感度差が生じうる。本発明の第1実施形態では、赤色用、緑色用および青色用のマイクロレンズを形成するためのレンズパターンが配列されたフォトマスクを使うことによって1回の露光工程で赤色用、緑色用および青色用のマイクロレンズを形成するための潜像パターンを形成する。該潜像パターンを現像することによってレジストパターンが形成され、その後、該レジストパターンを熱処理することによって該レジストパターンの表面が滑らかになり、これによってマイクロレンズの曲面が形成される。図1dは、本発明の第1実施形態で使用されるフォトマスクPMの一部を模式的に示す平面図である。B、G、Rは、それぞれ青色画素用、緑色画素用、赤色画素用のマイクロレンズを形成するためのレンズパターンである。図1a、b、cは、それぞれ青色画素用、緑色画素用、赤色画素用のマイクロレンズを形成するためのレンズパターンにおける露光光の透過率を例示的に示している。露光光の透過率の分布は、例えば、面積階調法によって与えることができる。面積階調法は、ドットパターン密度によって階調を決定する方法である。図1a、b、cに示す例では、青色画素用、緑色画素用、赤色画素用のマイクロレンズを形成するためのレンズパターンにおける露光光の中心位置における透過率は、それぞれ、30、20、10である。なお、透過率分布は、形成すべきマイクロレンズの形状、レジスト材料の感度曲線、露光装置におけるフォトマスクの照明条件などを考慮して決定されうる。フォトマスクPMを使って露光装置によってレジスト膜を露光することによって、該レジスト膜には、図1a、b、cの透過率に対応する露光量分布光強度分布で露光された潜像パターンが形成される。レジストの材料としては、図7感度曲線に例示するように、現像工程の後に残るレジストの膜厚残膜厚を露光量によって制御することができる材料が使用される。これにより、露光量分布に応じた膜厚分布を有するレジストパターンを形成することができる。現像工程の後に熱処理ベーク工程を経て、互いに形状が異なる青色画素用、緑色画素用、赤色画素用のマイクロレンズを得ることができる。図2Aを参照しながら第1実施形態の固体撮像装置およびその製造方法について説明する。本実施形態では、CMOS型の固体撮像装置の場合について説明する。まず、ステップS20では、複数の受光部光電変換素子1が形成された半導体基板SBの上に多層配線構造2を形成し、多層配線構造2を覆うように絶縁膜3を形成する。ステップS20では、更に、絶縁膜3の上に第1平坦化層4を形成し、第1平坦化層4の上にカラーフィルタ層5を形成し、カラーフィルタ層5の上に第2平坦化層6を形成する。ここで、多層配線構造2は、例えば、第1配線層、第1層間絶縁層、第2配線層、第2層層間絶縁層、第3配線層を含みうる。これにより、複数の受光部1を含む構造体が形成される。次に、ステップS22では、ステップS20で作製された構造体の第2平坦化層6の上に、図7に例示されるように現像工程の後に残るレジストの膜厚残膜厚を露光量によって制御可能なレジスト材料を塗布し、これを焼成してレジスト膜7を形成する。次に、ステップS24では、図1を参照して説明したフォトマスクPMを用いてレジスト膜7を露光し、レジスト膜7に潜像パターン8を形成する。次に、ステップS26では、潜像パターン8を現像し熱処理することにより、マイクロレンズ9-A、9-B、9-Cを含むマイクロレンズアレイを形成する。ここで、マイクロレンズ9-A、9-B、9-Cは、青色画素用、緑色画素用、赤色画素用のマイクロレンズを例示している。なお、図2Aでは、図解の便宜のために、青色画素用、緑色画素用、赤色画素用のマイクロレンズを一列に並べて示されているが、実際には、これらは、ベイヤー配列等の配列に従いうる。図2Bは、図2Aに示す製造方法によって得られる固体撮像装置の構成を模式的に示す断面図である。青色画素用のカラーフィルタ5-Aを有する画素、緑色画素用のカラーフィルタ5-Bを有する画素、赤色画素用のカラーフィルタ5-Cを有する画素に対して、それぞれマイクロレンズ9-A、9-B、9-Cが設けられている。10-A、10-B、10-Cは、それぞれ、青色の光線、緑色の光線、赤色の光線を示している。図2Bでは、受光部1の表面受光面に光が結像しているが、必要に応じて、受光面とは異なる位置に光が結像するようにマイクロレンズが構成されてもよい。以上のように、第1実施形態によれば、1回の露光工程によって青色画素用、緑色画素用、赤色画素用のマイクロレンズを形成することができる。これは、工程の単純化、マイクロレンズ間のアライメントずれの低減に寄与しうる。また、第1実施形態によれば、マイクロレンズの形成工程の繰り返しによって先に形成されたマイクロレンズの形状が他のマイクロレンズの形成工程によって変化しうることがない。第1実施形態は、同一色の画素用のマイクロレンズの全てを同一形状にすることに限定されるものではなく、フォトマスクPMの各レンズパターンの透過率分布を調整することによって同一色の画素用のマイクロレンズの間に形状差を与えることもできる。図3を参照しながら本発明の第2実施形態を説明する。第2実施形態の固体撮像装置の製造方法は、マイクロレンズを形成するためのフォトマスクが第1実施形態と異なるが、それ以外の部分では第1実施形態と同様である。図3cは、第2実施形態の固体撮像装置の構成を模式的に示す断面図である。第2実施形態の固体撮像装置は、画像信号を得るための通常画素NP第2画素の他に、フォーカス検出機能を有する画素以下、AF画素FP第1画素を有する。AF画素FPは、通常画素NPの受光部第2受光部1と同じ形状又は異なる形状を有する受光部第1受光部11と、マイクロレンズ第1マイクロレンズ9-Eと、受光部11とマイクロレンズ9-Eとの間に配置された遮光膜SFとを有する。AF画素FPは、受光部11の上に遮光膜SFを有する。遮光膜SFは開口APを有し、開口APの中心は受光部11の中心から偏心している。AF画素FPからの出力値は、焦点状態デフォーカス量に応じて変化するので、該出力値に基づいて焦点状態を検出することができる。ここで、AF画素FPのマイクロレンズ9-Eの焦点距離と通常画素NPのマイクロレンズ第2マイクロレンズ9-Dの焦点距離とは互いに異なる。AF画素FPのマイクロレンズ9-Eは、合焦時において、遮光膜SFの開口APに焦点を有する。通常画素NPのマイクロレンズ9-Dは、合焦時において、例えば受光部1の表面に焦点を有しうるが、該表面からずれた位置に焦点を有してもよい。ここで、合焦とは、カメラが備える撮影用レンズが被写体像を固体撮像装置の撮像面に結像させた状態をいう。第2実施形態では、露光工程において、AF画素FPのマイクロレンズ9-Eを形成するためのレンズパターンと通常画素NPのマイクロレンズ9-Dを形成するためのレンズパターンとで露光光の透過率分布が互いに異なるフォトマスクが使用される。これにより、AF画素FPのマイクロレンズ9-Eと通常画素NPのマイクロレンズ9-Dとで焦点距離を異ならせることができる。例えば、AF画素FPのマイクロレンズ9-Eと通常画素NPのマイクロレンズ9-Dとは、互いに異なる高さおよび曲率を有しうる。図3cにおいて、10-G、10-Hは入射光の軌跡および焦点を示す。図3a、bは、それぞれ通常画素NP、AF画素FPのマイクロレンズを形成するためのレンズパターンにおける露光光の透過率を例示的に示している。図3a、bに示す例では、通常画素NP、AF画素FPのマイクロレンズを形成するためのレンズパターンにおける露光光の中心位置における透過率は、それぞれ、30、10である。第2実施形態において、第1実施形態のように、通常画素NPの青色画素用、緑色画素用、赤色画素用のマイクロレンズの焦点位置を互いに異ならせてもよい。第2実施形態では、1回の露光工程によって通常画素およびAF画素の互いに焦点位置が異なるマイクロレンズを形成することができる。これは、工程の単純化、マイクロレンズ間のアライメントずれの低減に寄与しうる。また、第2実施形態によれば、マイクロレンズの形成工程の繰り返しによって先に形成されたマイクロレンズの形状が他のマイクロレンズの形成工程によって変化しうることがない。図4および図5を参照しながら本発明の第3実施形態を説明する。第4実施形態の固体撮像装置は、図4に例示するように、有効画素領域15とOB領域オプティカルブラック領域12とを有する。有効画素領域15は、例えば、中央領域14とその周囲に配置された周辺領域13とを有しうる。図5は、第3実施形態の固体撮像装置の中央領域14、周辺領域13、OB領域12の構成を示す模式的な断面図である。図5Cの中央領域14、周辺領域13、OB領域12を比較すると、第1平坦化層4の厚さが、中央領域14と周辺領域13との間で異なる。中央領域14における第1平坦化層4の厚さを4-14、周辺領域13における第1平坦化層4の厚さを4-13とすると、4-14<4-13の関係を有する。このようになる理由は、多層配線構造2における最上層の配線層のパターン密度が中央領域14よりOB領域12の方が高いためである。この状態で中央領域14および周辺領域13を含む有効画素領域15に同一形状のマイクロレンズを形成した場合、中央領域14と周辺領域13との間で、マイクロレンズの焦点位置と受光面との位置関係が異なってしまう。このため、中央領域14と周辺領域13でマイクロレンズの焦点位置と受光面の位置関係が両者間で同等となるように、中央領域14の画素のマイクロレンズ9-Gおよび周辺領域13のマイクロレンズ9-Fの形状例えば、高さおよび曲率が調整される。10-I、10-Jは、それぞれマイクロレンズ9-F、9-Gに入射する光線を例示している。第1平坦化層4の厚さが、中央領域14と周辺領域13との間で異なる場合においても、入射光の焦点位置と受光面との関係が同等となることがわかる。また、周辺領域13における第1平坦化層4の厚さはOB領域12に近いほど厚く、OB領域12から遠ざかるにつれて薄くなり、次第に中央領域14の厚さに近づきうる。第1平坦化層4の厚さが変化する領域は、例えば、OB領域12との境界から数十から数百μmの範囲でありうる。これは、使用する平坦化層と、最上層の配線層のパターン密度に依存しうる。周辺領域13の画素のマイクロレンズ9-Fの形状を互いに異ならせてもよい。図5a、bは、それぞれ、周辺領域13のある位置に配置された画素、中央領域14に配置された画素のマイクロレンズを形成するためのパターンの露光光の透過率を例示的に示している。図5a、bに示す例では、周辺領域13のある位置に配置された画素、中央領域14の画素のマイクロレンズを形成するためのパターンにおける露光光の中心位置における透過率は、それぞれ、30、20である。第3実施形態において、第1実施形態のように、青色画素用、緑色画素用、赤色画素用のマイクロレンズの焦点位置が互いに異ならせもよいし、第2実施形態のようなAF画素を組み込んでもよい。第3実施形態では、1回の露光工程によって画素の位置例えば、周辺領域13内の位置であるか、中央領域14内の位置であるかに応じて形状が互いに異なる複数のマイクロレンズを形成することができる。これは、工程の単純化、マイクロレンズ間のアライメントずれの低減に寄与しうる。また、第3実施形態によれば、マイクロレンズの形成工程の繰り返しによって先に形成されたマイクロレンズの形状が他のマイクロレンズの形成工程によって変化しうることがない。第1~第3実施形態は、複数のマイクロレンズを形成するための複数のレンズパターンが配列されたフォトマスクを用いてレジスト膜を露光する工程を含む固体撮像装置の製造方法の具体例である。ここで、該複数のレンズパターンは、露光光の光透過率分布が互いに異なる少なくとも2つのレンズパターンを含む。該2つのレンズパターンは、画素の色に応じて、及び/又は、画素の機能通常画素、AF画素に応じて、及び/又は、位置或いは、属する領域に応じた光透過率分布を有しうる。また、第1~第3の実施形態において得られたマイクロレンズを更にマイクロレンズ形成用のマスクとして使用してもよい。この場合には、第1~第3の実施形態において得られるマイクロレンズ形成用のマスクの下部に、予めマイクロレンズ材を配置しておく。そして、マイクロレンズ形成用のマスクごとマイクロレンズ材をエッチングすることによってマイクロレンズが形成可能である。図8および図9を参照しながら本発明の第4実施形態を説明する。図8dは、本発明の第4実施形態で使用されるフォトマスクの一部を模式的に示す平面図である。B、G、Rは、それぞれ青色画素用、緑色画素用、赤色画素用のマイクロレンズを形成するためのレンズパターンである。図8a、b、cは、それぞれ青色画素用、緑色画素用、赤色画素用のマイクロレンズを形成するためのレンズパターンにおける露光光の透過率を例示的に示している。第1実施形態では、図8dで示すようにマイクロレンズが点線で示す画素領域に内接する円より大きい場合において、図8a、b、cに示すようにマイクロレンズが隣接する境界ではフォトマスクの透過率の連続性が損なわれうる。特に、緑色画素用のマイクロレンズに隣接する青色用および赤色用マイクロレンズの形状が異なるため、緑色画素用のマイクロレンズは、X方向に沿った断面における形状とY方向に沿った断面における形状とが異なりうる。更には、図8dに示す緑色画素用のマイクロレンズG-1とG-2とでは、X方向とY方向に隣接するカラーフィルタの色が異なるため、緑色画素用のマイクロレンズG-1とG-2とは異なる形状になりうる。本発明の第4実施形態は、上記のような課題を解決するために有用である。図9a、b、cは、それぞれ青色画素用、緑色画素用、赤色画素用のマイクロレンズを形成するためのレンズパターンにおける露光光の透過率を例示的に示している。第4実施形態では、マイクロレンズとマイクロレンズとが隣接する境界の透過率が同一である。このことにより、色が異なるカラーフィルタのそれぞれの上に配置されたマイクロレンズが隣接する境界ではフォトマスクの透過率の連続性が保たれる。このフォトマスクを用いて第1実施形態と同様にしてマイクロレンズを形成すると、緑色画素用のマイクロレンズのX方向に沿った断面における形状とY方向に沿った断面における形状とが同一となる。また、図8dで示す緑色画素用のマイクロレンズG-1とG-2とが互いに同一の形状になる。第4実施形態においても、互いに形状が異なる青色画素用、緑色画素用、赤色画素用のマイクロレンズが得られる。図10および図11を参照しながら本発明の第5実施形態を説明する。第5実施形態もまた、第1実施形態における課題を解決するために有用である。図10a、b、cは、それぞれ青色画素用、緑色画素用、赤色画素用のマイクロレンズを形成するためのレンズパターンにおける露光光の透過率を例示的に示している。青色画素用、緑色画素用、赤色画素用のマイクロレンズを形成するためのレンズパターンは、第4実施形態と同様であり、図8dで示すに示されている。図11は、隣接する画素の境界に相当する位置即ち、レンズパターンとレンズパターンとの境界位置にスリットを設けたフォトマスクパターンを示している。上記のようなスリットを設けることにより、隣接する画素境界の透過率が100となっている。ここで、スリットの幅は、露光波長以下であることが望ましく、例えば、0.06μmとすることができる。このことにより、色が異なるカラーフィルタのそれぞれの上に配置されるマイクロレンズが隣接する境界ではフォトマスクの透過率が同一となり透過率の連続性が保たれる。このフォトマスクを用いて第1実施形態と同様にしてマイクロレンズを形成すると、緑色画素用のマイクロレンズのX方向に沿った断面における形状とY方向に沿った形状とが同一となる。また、図8dに示す緑色画素用のマイクロレンズG-1とG-2とが同一の形状になる。第5実施形態においても、互いに形状が異なる青色画素用、緑色画素用、赤色画素用のマイクロレンズが得られる。図12および図13を参照しながら本発明の第6実施形態を説明する。図12cは、本発明の第6実施形態で使用されるフォトマスクの一部を模式的に示す平面図である。9-D、9-Eは、それぞれ通常画素NP用、AF画素FP用のマイクロレンズを形成するためのレンズパターンである。図12a、bは、それぞれ通常画素NP用、AF画素FP用のマイクロレンズを形成するためのレンズパターンにおける露光光の透過率を例示的に示している。第6実施形態では、AF画素FP用のマイクロレンズ9-Eを形成するためのレンズパターンと通常画素NP用のマイクロレンズ9-Dを形成するためのレンズパターンとで露光光の透過率分布が互いに異なるフォトマスクが使用される。ここで、AF画素FP用のマイクロレンズ9-Eと通常画素NP用のマイクロレンズ9-Dとが互いに異なる高さおよび曲率を有し、かつ、マイクロレンズ9-Eがマイクロレンズ9-Dを介して1画素以上離れて配置されている構成を考える。図12cで示すようにマイクロレンズが点線で示す画素領域に内接する円より大きい場合において、図12a、bに示すようにマイクロレンズが隣接する境界ではフォトマスクの透過率の連続性が損なわれうる。これにより、AF画素FP用のマイクロレンズ9-Eに隣接する通常画素NP用のマイクロレンズ9-D-1が通常画素NP用のマイクロレンズに隣接する9-D-2と異なる形状になりうる。本発明の第6実施形態は、上記のような課題を解決するために有用である。図13a、bは、それぞれAF画素FP用、通常画素NP用のマイクロレンズを形成するためのレンズパターンにおける露光光の透過率を例示的に示している。第6実施形態では、マイクロレンズとマイクロレンズとが隣接する境界の透過率が同一である。このことにより、AF画素FP用、通常画素NP用のマイクロレンズが隣接する境界においてフォトマスクの透過率の連続性が保たれる。このフォトマスクを用いて第2実施形態と同様にしてマイクロレンズを形成する。これにより、図12cで示すAF画素FP用のマイクロレンズ9-Eに隣接する通常画素NP用のマイクロレンズ9-D-1と、通常画素NP用のマイクロレンズに隣接する9-D-2とが互いに同一形状になる。第6実施形態においても、互いに形状が異なるAF画素FP用、通常画素NP用のマイクロレンズが得られる。図14を参照しながら本発明の第7実施形態を説明する。第7実施形態もまた、第2実施形態における課題を解決するために有用である。図14a、bは、それぞれAF画素FP用、通常画素NP用のマイクロレンズを形成するためのレンズパターンにおける露光光の透過率を例示的に示している。第7実施形態においても、隣接する画素の境界に相当する位置即ち、レンズパターンとレンズパターンとの境界位置にスリットを設けて、隣接する画素境界の透過率を100とする。スリットの幅は露光波長以下であることが望ましく、例えば、0.06μmとすることができる。このことにより、色が異なるカラーフィルタのそれぞれの上に配置されるマイクロレンズが隣接する境界ではフォトマスクの透過率が同一となり透過率の連続性が保たれる。このフォトマスクを用いて第2実施形態と同様にしてマイクロレンズを形成する。これにより、図12cに示すAF画素FP用のマイクロレンズ9-Eに隣接する通常画素NP用のマイクロレンズ9-D-1と、通常画素NP用のマイクロレンズに隣接する9-D-2とが同一形状になる。第7実施形態においても、互いに形状が異なるAF画素FP用、通常画素NP用のマイクロレンズを得ることができる。以下、上記の各実施形態に係る固体撮像装置の応用例として、該固体撮像装置が組み込まれたカメラについて例示的に説明する。カメラの概念には、撮影を主目的とする装置のみならず、撮影機能を補助的に備える装置例えば、パーソナルコンピュータ、携帯端末も含まれる。カメラは、上記の実施形態として例示された本発明に係る固体撮像装置と、該固体撮像装置から出力される信号を処理する処理部とを含む。該処理部は、例えば、A/D変換器、および、該A/D変換器から出力されるデジタルデータを処理するプロセッサを含みうる。