脱硝触媒の表面に、アルカリ金属の炭酸塩、及びアルカリ土類金属の炭酸塩から成るグループから選ばれた少なくとも一種を含む被覆層を設けてなる排ガス処理触媒。上記被覆層がアルカリ土類金属として炭酸カルシウムを含む請求項1の排ガス処理触媒。アルカリ金属の炭酸塩、及びアルカリ土類金属の炭酸塩から成るグループから選ばれた少なくとも一種を含むウォッシュコート用スラリーに脱硝触媒を浸漬し、浸漬した脱硝触媒を乾燥し、脱硝触媒の表面にアルカリ金属の炭酸塩、及びアルカリ土類金属の炭酸塩から成るグループから選ばれた少なくとも一種を含む被覆層を設けることを含む排ガス処理触媒の製造方法。ウォッシュコート用スラリーがアルカリ土類金属として炭酸カルシウムを含む請求項3の排ガス処理触媒の製造方法。脱硝触媒の表面に、アルカリ金属の炭酸塩、及びアルカリ土類金属の炭酸塩から成るグループから選ばれた少なくとも一種を含む被覆層にVOSO4が堆積した脱硝触媒の上記被覆層のみ、酸を用いて除去することを含む排ガス処理触媒の再生方法。上記被覆層を、酸を用いて除去し、上記被覆層の除去後に、アルカリ金属の炭酸塩、及びアルカリ土類金属の炭酸塩から成るグループから選ばれた少なくとも一種を含む被覆層を再度設けるようにしてなる請求項5の排ガス処理触媒の再生方法。再度設ける被覆層が炭酸カルシウムを含む請求項6の排ガス処理触媒の再生方法上記酸として、塩酸を用いる請求項5~7のいずれかの排ガス処理触媒の再生方法。本発明は、上記事情に関してなされたもので、VOSO4が脱硝触媒の内部に浸透することを効果的に抑制しつつ、堆積したVOSO4を容易に除去して脱硝性能を回復させることができるようにした排ガス処理触媒、排ガス処理触媒の製造方法、及びこのような排ガス処理触媒の再生方法を提供することを目的とする。上記目的を達成するため、本発明に係る排ガス処理触媒は、脱硝触媒の表面に、アルカリ金属の炭酸塩、及びアルカリ土類金属の炭酸塩から成るグループから選ばれた少なくとも一種を含む被覆層を設けている。また、本発明は、別の側面で、排ガス処理触媒の製造方法であり、該製造方法は、アルカリ金属の炭酸塩、及びアルカリ土類金属の炭酸塩から成るグループから選ばれた少なくとも一種を含むウォッシュコート用スラリーに脱硝触媒を浸漬し、浸漬した脱硝触媒を乾燥し、脱硝触媒の表面にアルカリ金属の炭酸塩、及びアルカリ土類金属の炭酸塩から成るグループから選ばれた少なくとも一種を含む被覆層を設けることを含む。また、本発明は、さらに別の側面で、排ガス処理触媒の再生方法であり、該再生方法では、脱硝触媒の表面に、アルカリ金属の炭酸塩、及びアルカリ土類金属の炭酸塩から成るグループから選ばれた少なくとも一種を含む被覆層にVOSO4が堆積した脱硝触媒の上記被覆層のみ、酸を用いて除去することを含む。この再生方法は、その一実施の形態で、上記被覆層を、酸を用いて除去し、上記被覆層の除去後に、アルカリ金属の炭酸塩、及びアルカリ土類金属の炭酸塩から成るグループから選ばれた少なくとも一種を含む被覆層を再度設けるようにしている。被覆層に採用することができるアルカリ土類金属の炭酸塩としては、炭酸カルシウムが好適である。再度設ける被覆層も同様に、採用することができるアルカリ土類金属の炭酸塩としては、炭酸カルシウムが好適である。また、酸としては、塩酸、硝酸、硫酸を用いることができ、塩酸が最も好適である。本発明によれば、VOSO4が脱硝触媒の内部に浸透することを効果的に抑制しつつ、堆積したVOSO4を容易に除去して脱硝性能を回復させることができるようにした排ガス処理触媒、排ガス処理触媒の製造方法、及び排ガス処理触媒の再生方法が提供される。以下に、本発明に係る排ガス処理触媒、排ガス処理触媒の製造方法、及び排ガス処理触媒の再生方法を、好適な実施の形態について説明する。本発明に係る排ガス処理触媒では、脱硝触媒の表面に、アルカリ金属の炭酸塩、及びアルカリ土類金属の炭酸塩から成るグループから選ばれた少なくとも一種を含む被覆層を設けている。本発明の対象となる排ガス脱硝触媒は、特に限定されることはなく、例えば、シリカ、及び/又はチタニアが含まれる担体に、バナジウム-タングステン成分を担持させたものを始めとして、タングステン成分だけを担持させたもの、バナジウム-モリブデン成分を担持させたもの、これら以外の活性成分を担持させたもの等、種々挙げることができる。脱硝触媒の形状としては、ハニカム状のものを採用することが好適である。本発明に係る排ガス脱処理触媒は、以上のような脱硝触媒の表面に、アルカリ金属の炭酸塩、及びアルカリ土類金属の炭酸塩から成るグループから選ばれた少なくとも一種を含む被覆層を設けることによって製造される。被覆層には、VOSO4が脱硝触媒の内部に浸透することを効果的に抑制する性能が要求される。そして、堆積したVOSO4を容易に除去できる性能も併せて備えることが必要である。被覆層を設けるためには、まず、アルカリ金属の炭酸塩、及びアルカリ土類金属の炭酸塩から成るグループから選ばれた少なくとも一種を含むウォッシュコート用スラリーを調製する。次いで、脱硝触媒を調製したウォッシュコート用スラリーに浸漬する。脱硝触媒を取り出した後、余分なスラリーを除去し、80°C~150°Cで乾燥後、300°C~600°Cで焼成することによって、所望の被覆層を設けた排ガス脱処理触媒を得ることができる。被覆層のコート量は、一般的には、ハニカム基材脱硝触媒の場合、その表面積で1m2当たり20g~100gが好適である。本発明に係る排ガス処理触媒は、オリマルジョン、アスファルト、減圧残渣油vacuumresidualoil:VOR等の超重質油または高濃度の硫黄を含む石炭等を対象としている。このような高濃度硫黄分含有燃料を燃焼させるボイラ等の燃焼装置から排出される排ガスに対する処理触媒に適用される。このような、排ガスに対する処理環境のもと、脱硝触媒の被覆層には、VOSO4が堆積する。このことを図1の模式図で示す。図1は、本発明に係る排ガス処理触媒の一実施の形態をその断面で示したものである。排ガス処理触媒1は、粒子層で示した脱硝触媒層2を備え、その表面に被覆層3を備える。VOSO4の分子4は、被覆層3でブロックされ、脱硝触媒層2への浸透が抑制される。他方で、NO、NH3、SO2といった処理対象の分子は、脱硝触媒層2の内部まで拡散可能である。VOSO4の分子4は、被覆層3でブロックされるものの、長時間の使用により被覆層3には、VOSO4が堆積する。本発明に係る排ガス処理触媒の再生方法では、VOSO4が堆積した被覆層のみを、酸を用いて除去してしまうこととしている。除去する方法としては、酸を用いた洗浄が好適である。用いる酸としては、塩酸、硫酸、硝酸を挙げることができる。塩酸を用いた場合、0.01規定~5規定の濃度範囲が好適である。硫酸の場合、0.01規定~5規定の濃度範囲が好適である。そして、本発明に係る排ガス処理触媒の再生方法では、被覆層を除去した脱硝触媒に対し、アルカリ金属の炭酸塩、及びアルカリ土類金属の炭酸塩から成るグループから選ばれた少なくとも一種を含む被覆層を再度設けこととしている。被覆層を設ける方法は、除去した被覆層と同様の方法でよい。以下、実施例につき、本発明をさらに具体的に説明する。[実施例1:ハニカム触媒の製造]試薬1級林純薬製炭酸カルシウムを用いて、この粉末1500gを4884gの水に加え、ボールミルにて十分に攪拌、粉砕及びスラリー調整して13wt炭酸カルシウムのウォッシュコート用スラリーを調製した。次に、96wtTiO2-SiO2-1wtV2O5-3wtWO3の組成を有するハニカム基材格子間隔:7.0mm、壁厚:1.0mmを上記のウォッシュコート用スラリーに浸漬し、取り出した後、余分なスラリーを除去し150°Cで乾燥させた。コート量は基材1m2あたり25gとし、このコート物を試作ハニカム触媒Bとした。[比較例1:ハニカム触媒の製造]水ガラス1号SiO2:30:5616gを水:5429gに溶解し、この溶液を溶液Dとした。一方、水:4175gに硫酸アルミニウム:718.9g、塩化第二鉄:110g、酢酸カルシウム:47.2g、塩化ナトリウム:262g及び濃塩酸:2020gを混合して溶解し、この溶液を溶液Eとした。溶液Dと溶液Eを一定割合で供給し、沈殿を生成させ、十分攪拌してpH8.0のスラリーを得た。このスラリーを20リットルのオートクレーブに仕込み、さらにテトラプロピルアンモニウムブロマイドを500g添加し、160°Cにて72時間水熱合成を行い、合成後水洗して乾燥させ、さらに500°C、3時間焼成させ結晶性シリケートFを得た。この結晶性シリケートFは酸化物のモル比で結晶水を省く下記の組成式で表され、結晶構造はX線回折で表1にて表示されるものであった。0.5Na2O0.5H2O0.8Al2O30.2Fe2O30.25CaO25SiO2上記結晶性シリケートFを4NのNH4Cl水溶液40°Cに3時間攪拌してNH4イオン交換を実施した。イオン交換後洗浄して100°C、24時間乾燥させた後、400°C、3時間焼成してH型の結晶性シリケートFを得た。得られた結晶性シリケートFを用いて、この粉末1500gを4884gの水に加え、ボールミルにて十分に攪拌、粉砕及びスラリー調整して13wt触媒粉末のウォッシュコート用スラリーを調製した。次に、96wtTiO2-SiO2-1wtV2O5-3wtWO3の組成を有するハニカム基材格子間隔:7.0mm、壁厚:1.0mmを上記のウォッシュコート用スラリーに浸漬し、取り出した後、余分なスラリーを除去し150°Cで乾燥させた。コート量は基材1m2あたり25gとし、このコート物を試作ハニカム触媒Cとした。実施例2実施例1及び比較例1で製造したハニカム触媒B及びCについて、高硫黄油焚発電プラントAに約6000時間実ガス暴露させた後、これらの試作触媒B及び試作触媒Cを5穴×5穴×70mm長さに切り出し、水、1N-HCl1規定-塩酸を洗浄液として触媒の洗浄試験を実施した。図1に触媒の洗浄フローを示す。図2の洗浄フローに示すように、切り出し工程101の後、洗浄液/触媒体積比3.0、温度40°C水使用時、60°C酸溶液使用時で4時間洗浄した工程102。その後、100°Cの温度で8時間以上乾燥させた工程103。その後、触媒表面を目視、又はX線により回折分析を行った工程104。[洗浄試験の結果]試作触媒B及びCの洗浄前のX線回折分析結果を図3、4に示す。洗浄液に水、1N-HCl1規定-塩酸を用い再生試験を実施した結果を表2に示す。洗浄効果は目視と触媒表面のX線回折分析結果で判定した。先ず、再生試験後の目視観察を実施した結果、試作触媒Cは目視でコート物が残存していることを確認し、X線回折結果は実施しなかった。試作触媒Cは、いわゆるメタロシリケート被覆層であり、洗浄しても、VOSO4が残存してしまう結果となった。一方、試作触媒Bは目視で判定できなかったため、X線回折分析にて再生状況を確認した図5、6。図6に示すように、1N-HCl1規定-塩酸で洗浄することにより、炭酸カルシウムのコート層を完全に溶解させ、酸に溶解困難なVOSO4の大部分を除去できることが分かった。図5に示すように、水洗いのみではVOSO4が残存してしまった。なお、図3、図5、図6で、○は、TiO2のピーク、△は、VOSO4のピーク、●は、CaSO4のピーク、▲は、CaCO3のピークをそれぞれ示す。図4で、○は、TiO2のピーク、△は、VOSO4のピーク、◆は、酸化バナジウムV2O5のピーク、▼は、結晶シリケートのピークをそれぞれ示す。評価結果:×は効果なし、○は効果あり