"基板に、青色の第1有機EL素子およびその他の色の第2有機EL素子の各々ごとに設けられた第1電極と、前記第1電極上の全面に設けられた正孔注入または正孔輸送の少なくとも一方の特性を有する正孔注入輸送層と、前記正孔注入輸送層上の、前記青色の第1有機EL素子に対向する領域を除く領域に設けられたその他の色の第2有機発光層と、前記正孔注入輸送層および前記第2有機発光層上の全面に設けられた青色の第1有機発光層と、前記第1有機発光層上の全面に設けられた電子注入または電子輸送の少なくとも一方の特性を有する電子注入輸送層と、前記電子注入輸送層上に設けられた第2電極と、前記第2電極上に設けられると共に、前記第2有機EL素子上の少なくとも一部に単色あるいは複数色を有するカラーフィルタとを備えた有機EL表示装置。前記正孔注入輸送層および前記第2有機発光層と前記第1有機発光層との間に接続層を有する、請求項1に記載の有機EL表示装置。前記接続層は低分子材料を含む、請求項2に記載の有機EL表示装置。前記第2有機発光層は500nm以上750nm以下のいずれかの領域に少なくとも1つのピーク波長を有する、請求項1に記載の有機EL表示装置。前記カラーフィルタを設けることにより前記第2有機発光層の発光色から2色以上の光を取り出す、請求項1に記載の有機EL表示装置。前記第2有機EL素子の発光色を前記カラーフィルタにより2分割することにより形成された2つのサブピクセルと、前記第1有機EL素子よりなる青色のサブピクセルとから1画素が構成されている、請求項1に記載の有機EL表示装置。前記第2有機EL素子の発光色を前記カラーフィルタにより3分割することにより形成された3つのサブピクセルと、前記第1有機EL素子よりなる青色のサブピクセルとから1画素が構成されている、請求項1に記載の有機EL表示装置。前記正孔注入輸送層は、前記第1有機EL素子および第2有機EL素子の下部電極上に共通層として全面に設けられている、請求項1に記載の有機EL表示装置。基板に複数の第1電極を青色の第1有機EL素子およびその他の色の第2有機EL素子の各々ごとに形成する工程と、前記第1電極の全面に設けられた正孔注入または正孔輸送の少なくとも一方の特性を有する複数の正孔注入輸送層を塗付または蒸着により形成する工程と、前記正孔注入輸送層上の、前記青色の第1有機EL素子に対向する領域を除く領域上にその他の色の第2有機発光層を塗布または蒸着により形成する工程と、前記正孔注入輸送層および前記第2有機発光層上に青色の第1有機発光層を蒸着法により形成する工程と、前記第1有機発光層の全面に電子注入または電子輸送の少なくとも一方の特性を有する電子注入輸送層を蒸着法により形成する工程と、前記電子注入輸送層の全面に第2電極を形成する工程と前記第2電極上に設けられると共に、前記その他の色の第2有機EL素子上の少なくとも一部に単色あるいは複数色を有するカラーフィルタを形成する工程とを含む有機EL表示装置の製造方法。前記正孔注入輸送層および前記第2有機発光層と前記第1有機発光層との間に、蒸着により接続層を形成する、請求項9に記載の有機EL表示装置の製造方法。前記塗布は、吐出方式によって直接描画するスピンコート法、インクジェット法またはノズルコート法、スリットコート法、マイクロシリンジのいずれかである、請求項9に記載の有機EL表示装置の製造方法。前記塗布は、版を用いる凸版印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、グラビア印刷のいずれかである、請求項9に記載の有機EL表示装置の製造方法。前記塗布は、有機EL材料を噴霧したのち、高精細のマスクで塗分けを行う噴霧方式である、請求項9に記載の有機EL表示装置の製造方法。前記第2有機発光層を、メタルマスク法またはレーザ転写法により形成する、請求項9に記載の有機EL表示装置の製造方法。しかしながら、フィルタ方式では、広い色域を再現するためには濃いカラーフィルタによって色を分割する必要があり、3原色や中間色を表現する場合には光の利用効率が低下し、また、消費電力が大幅に増大するという問題があった。また、3色独立発光方式では赤色発光層,緑色発光層および青色発光層をそれぞれ塗り分ける必要があり、特許文献3のように4色駆動する場合には、上記3色に加え黄色発光層の塗り分け工程が追加される。従って材料費および製造コストが増加すると共に、工程数の増加による生産性の低下という問題があった。本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、コストを抑えつつ低消費電力化が可能な有機EL表示装置およびその製造方法を提供することにある。本発明による有機EL表示装置は、以下のA~Fの構成要素を備えたものである。A基板に、青色の第1有機EL素子およびその他の色の第2有機EL素子の各々ごとに設けられた第1電極B第1電極上の全面に設けられた正孔注入または正孔輸送の少なくとも一方の特性を有する正孔注入輸送層C正孔注入輸送層上の、前記青色の第1有機EL素子に対向する領域を除く領域に設けられたその他の色の第2有機発光層D正孔注入輸送層および第2有機発光層上の全面に設けられた青色の第1有機発光層E第1有機発光層上の全面に設けられた電子注入または電子輸送の少なくとも一方の特性を有する電子注入輸送層F電子注入輸送層上に設けられた第2電極G第2電極上に設けられると共に、第2有機EL素子上の少なくとも一部に単色あるいは複数色を有するカラーフィルタ本発明による有機EL表示装置の製造方法は、以下のA~Gの工程を含むものである。A基板に複数の第1電極を青色の第1有機EL素子およびその他の色の第2有機EL素子の各々ごとに形成する工程B第1電極の全面に設けられた正孔注入または正孔輸送の少なくとも一方の特性を有する複数の正孔注入輸送層を塗付または蒸着により形成する工程C正孔注入輸送層上の、青色の第1有機EL素子に対向する領域を除く領域上にその他の色の第2有機発光層を塗布または蒸着により形成する工程D正孔注入輸送層および第2有機発光層上に青色の第1有機発光層を蒸着法により形成する工程E第1有機発光層の全面に電子注入または電子輸送の少なくとも一方の特性を有する電子注入輸送層を蒸着法により形成する工程F電子注入輸送層の全面に第2電極を形成する工程G第2電極上に設けられると共に、その他の色の第2有機EL素子上の少なくとも一部に単色あるいは複数色を有するカラーフィルタを形成する工程本発明の有機EL表示装置およびその製造方法では、正孔注入輸送層上の、青色の第1有機EL素子に対向する領域を除く領域上に、その他の色の第2有機発光層を設け、正孔注入輸送層およびその他の色の第2有機発光層上の全面に青色の第1有機発光層を設け、単色あるいは複数色を有するカラーフィルタを設けることにより、有機EL表示装置の製造工程が簡略化される。本発明の有機EL表示装置およびその製造方法によれば、正孔注入輸送層上の、青色の第1有機EL素子に対向する領域を除く領域上に、その他の色の第2有機発光層を設け、正孔注入輸送層およびその他の色の第2有機発光層上の全面に青色の第1有機発光層を設け、この第1有機発光層の上方に単色あるいは複数色を有するカラーフィルタを設けるようにしたので、色ごとの発光層の塗りわけ工程が削減され、有機EL表示装置の製造工程が簡略化される。これにより、消費電力を抑えつつ、生産性を向上することが可能となる。以下、本発明の実施の形態について図面を参照して以下の順に詳細に説明する。1.第1の実施の形態3サブピクセルからなる有機EL表示装置2.第2の実施の形態第1有機発光層と第2有機発光層との間に接続層を有する有機EL表示装置3.第3の実施の形態4サブピクセルからなる有機EL表示装置4.第4の実施の形態第1有機発光層と第2有機発光層との間に接続層を有する有機EL表示装置第1の実施の形態図1は、本発明の第1の実施の形態に係る有機EL表示装置1の構成を表したものである。この有機EL表示装置1は、有機ELテレビジョン装置などとして用いられるものであり、例えば、基板11の上に、表示領域110として、後述する複数の赤色有機EL素子10R,緑色有機EL素子10Gおよび青色有機EL素子10Bがマトリクス状に配置されたものである。表示領域110の周辺には、映像表示用のドライバである信号線駆動回路120および走査線駆動回路130が設けられている。表示領域110内には画素駆動回路140が設けられている。図2は、画素駆動回路140の一例を表したものである。画素駆動回路140は、後述する下部電極12の下層に形成されたアクティブ型の駆動回路である。すなわち、この画素駆動回路140は、駆動トランジスタTr1および書き込みトランジスタTr2と、これらトランジスタTr1,Tr2の間のキャパシタ保持容量Csと、第1の電源ラインVccおよび第2の電源ラインGNDの間において駆動トランジスタTr1に直列に接続された赤色有機EL素子10Rまたは緑色有機EL素子10G,青色有機EL素子10Bとを有する。駆動トランジスタTr1および書き込みトランジスタTr2は、一般的な薄膜トランジスタTFT;ThinFilmTransistorにより構成され、その構成は例えば逆スタガ構造いわゆるボトムゲート型でもよいしスタガ構造トップゲート型でもよく特に限定されない。画素駆動回路140において、列方向には信号線120Aが複数配置され、行方向には走査線130Aが複数配置されている。各信号線120Aと各走査線130Aとの交差点が、赤色有機EL素子10R,緑色有機EL素子10G,青色有機EL素子10Bのいずれか一つサブピクセルに対応している。各信号線120Aは、信号線駆動回路120に接続され、この信号線駆動回路120から信号線120Aを介して書き込みトランジスタTr2のソース電極に画像信号が供給されるようになっている。各走査線130Aは走査線駆動回路130に接続され、この走査線駆動回路130から走査線130Aを介して書き込みトランジスタTr2のゲート電極に走査信号が順次供給されるようになっている。また、表示領域110には、上述したように、赤色の光を発生する赤色有機EL素子10Rと、緑色の光を発生する緑色有機EL素子10Gと、青色の光を発生する青色有機EL素子10Bとが、順に全体としてマトリクス状に配置されている。なお、隣り合う赤色有機EL素子10R,緑色有機EL素子10G,青色有機EL素子10Bの組み合わせが一つの画素ピクセルを構成している。ここで赤色の光を発生する赤色有機EL素子10Rと、緑色の光を発生する緑色有機EL素子10Gは、黄色を発生する発光層からの光がカラーフィルタ18赤色フィルタおよび緑色フィルタを通過することにより、赤および緑の発光色を示す。図3は図1に示した表示領域110の断面構成を表したものである。赤色有機EL素子10R,緑色有機EL素子10Gおよび青色有機EL素子10Bは、それぞれ、基板11の側から、上述した画素駆動回路140の駆動トランジスタTr1および平坦化絶縁膜図示せずを間にして、陽極としての下部電極12第1電極、隔壁13、後述する発光層14C黄色発光層14CY,青色発光層14CBを含む有機層14および陰極としての上部電極15上部電極がこの順に積層された構成を有している。このような赤色有機EL素子10R,緑色有機EL素子10Gおよび青色有機EL素子10Bは、保護層16により被覆され、更にこの保護層16上に熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂などの接着層図示せずを間にしてガラスなどよりなる封止用基板17が全面にわたって貼り合わされることにより封止されている。基板11は、その一主面側に赤色有機EL素子10R,緑色有機EL素子10Gおよび青色有機EL素子10Bが配列形成される支持体であって、公知のものであって良く、例えば、石英、ガラス、金属箔、もしくは樹脂製のフィルムやシートなどが用いられる。この中でも石英やガラスが好ましく、樹脂製の場合には、その材質としてポリメチルメタクリレートPMMAに代表されるメタクリル樹脂類、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリエチレンナフタレートPEN、ポリブチレンナフタレートPBNなどのポリエステル類、もしくはポリカーボネート樹脂などが挙げられるが、透水性や透ガス性を抑える積層構造、表面処理を行うことが必要である。下部電極12は、基板11上に、赤色有機EL素子10R,緑色有機EL素子10Gおよび青色有機EL素子10Bの各々ごとに設けられている。下部電極12は、例えば、積層方向の厚み以下、単に厚みと言うが10nm以上1000nm以下であり、モリブデンMo,クロムCr,金Au,白金Pt,ニッケルNi,銅Cu,タングステンWあるいは銀Agなどの金属元素の単体または合金が挙げられる。また、下部電極12は、これらの金属元素の単体または合金よりなる金属膜と、インジウムとスズの酸化物ITO、InZnOインジウム亜鉛オキシド、酸化亜鉛ZnOとアルミニウムAlとの合金などの透明導電膜との積層構造を有していてもよい。なお、下部電極12が陽極として使われる場合には、下部電極12は正孔注入性の高い材料により構成されていることが望ましい。但し、アルミニウムAl合金のように、表面の酸化皮膜の存在や、仕事関数が大きくないことによる正孔注入障壁が問題となる材料においても、適切な正孔注入層14Aを設けることによって下部電極12として使用することが可能である。隔壁13は、下部電極12と上部電極15との絶縁性を確保すると共に発光領域を所望の形状にするためのものである。隔壁13の材料としては、例えば、SiO2等の無機絶縁材料の他、ポジ型感光性ポリベンゾオキサゾール,ポジ型感光性ポリイミドなどの感光性樹脂が挙げられる。隔壁13には、発光領域に対応して開口が設けられている。なお、有機層14ないし上部電極15は、開口だけでなく隔壁13の上にも設けられていてもよいが、発光が生じるのは隔壁13の開口だけである。また、本実施の形態では、隔壁13は1種類の材料からなる単層構造としたが、隔壁13を複数の材料をからなる積層構造としてもよい。また、隔壁13を形成することなく下部電極12のみをパターニングし、正孔注入層14A以降の有機層14を共通層として設けてもよい。有機EL素子10R,10G,10Bの有機層14は、例えば、下部電極12の側から順に、正孔注入層14A,正孔輸送層14B,黄色発光層14C,青色発光層14D、電子輸送層14Eおよび電子注入層14Fを積層した構成を有する。この有機層14のうち、黄色発光層14Cを除く層14A,14Bおよび14D~14Fは各有機EL素子10R,10G,10Bの共通層として設けられており、黄色発光層14Cは青色有機EL素子10Bを除く赤色有機EL素子10Rおよび緑色有機EL素子10G上に設けられている。正孔注入層14Aは、黄色発光層14Cおよび青色発光層14Dへの正孔の注入効率を高めるためのものであると共に、リークを防止するためのバッファ層である。正孔注入層14Aの厚みは、例えば5nm~100nmであることが好ましく、より好ましくは8nm~50nmである。正孔注入層14Aの構成材料は、電極や隣接する層の材料との関係で適宜選択すればよく、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンビニレン、ポリチエニレンビニレン、ポリキノリン、ポリキノキサリンおよびそれらの誘導体、芳香族アミン構造を主鎖又は側鎖に含む重合体などの導電性高分子、金属フタロシアニン銅フタロシアニン等、カーボンなどが挙げられる。正孔注入層14Aに用いられる材料が高分子材料である場合には、その高分子材料の重量平均分子量Mwは5000~30万の範囲であればよく、特に1万~20万程度が好ましい。また、2000~5000程度のオリゴマーを用いてもよいが、Mwが5000未満では正孔輸送層以後の層を形成する際に、正孔注入層が溶解してしまう虞がある。また30万を超えると材料がゲル化し、成膜が困難になる虞がある。正孔注入層14Aの構成材料として用いられる典型的な導電性高分子としては、例えばポリアニリン、オリゴアニリンおよびポリ3,4-エチレンジオキシチオフェンPEDOTなどのポリジオキシチオフェンが挙げられる。この他、エイチシースタルク製Nafionで市販されているポリマー、または商品名Liquionで溶解形態で市販されているポリマーや、日産化学製エルソース商標や、綜研化学製導電性ポリマーベラゾール商標などがある。赤色有機EL素子10R,緑色有機EL素子10Gおよび青色有機EL素子10Bの正孔輸送層14Bは、黄色発光層14Cおよび青色発光層14Dへの正孔輸送効率を高めるためのものである。正孔輸送層14Bの厚みは、素子の全体構成にもよるが、例えば10nm~200nmであることが好ましく、さらに好ましくは15nm~150nmである。正孔輸送層14Bを構成する高分子材料としては、有機溶媒に可溶な材料、例えば、ポリビニルカルバゾール、ポリフルオレン、ポリアニリン、ポリシランまたはそれらの誘導体、側鎖または主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ポリチオフェンおよびその誘導体、ポリピロールなどを用いることができる。更に好ましくは、それぞれ上下に接する正孔注入層14Aおよび黄色発光層14Cとの密着性が良好であり、有機溶媒に可溶な性質を有する式1で表わされる高分子材料が挙げられる。A1~A4は、芳香族炭化水素基またはその誘導体が1~10個結合した基、あるいは複素環基またはその誘導体が1~15個結合した基である。nおよびmは0~10000の整数であり、nmは10~20000の整数である。また、n部およびm部の配列順序は任意であり、例えばランダム重合体、交互共重合体、周期的共重合体、ブロック共重合体のいずれであってもよい。更に、nおよびmは5~5000の整数であることが好ましく、より好ましくは10~3000の整数である。また、nmは10~10000の整数であることが好ましく、より好ましくは20~6000の整数である。更に、式1で表わされる化合物におけるA1~A4が示す芳香族炭化水素基の具体例としては、例えばベンゼン、フルオレン、ナフタレン、アントラセン、あるいはこれらの誘導体、またはフェニレンビニレン誘導体、スチリル誘導体等が挙げられる。複素環基の具体例としては、例えばチオフェン、ピリジン、ピロール、カルバゾール、あるいはこれらの誘導体が挙げられる。また、式1で表わされる化合物におけるA1~A4が置換基を有する場合、この置換基は、例えば炭素数1~12の直鎖あるいは分岐のアルキル基、アルケニル基である。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、ビニル基、アリル基等であることが好ましい。式1に示した化合物の具体例としては、例えば以下の式1-1~式1-3に示した化合物、ポリ[9,9-ジオクチルフルオレニル-2,7-ジイル-co-4,4-N-4-sec-ブチルフェニルジフェニルアミン]TFB,式1-1、ポリ[9,9-ジオクチルフルオレニル-2,7-ジイル-alt-co-N,N-ビス{4-ブチルフェニル}-ベンジジンN,N-{1,4-ジフェニレン}]式1-2、ポリ[9,9-ジオクチルフルオレニル-2,7-ジイル]PFO,式1-3が好ましいが、この限りではない。また、正孔注入層14Aおよび正孔輸送層14Bを抵抗加熱に代表される蒸着法により形成する際には、例えば、α-ナフチルフェニルフェニレンジアミン、ポルフィリン、金属テトラフェニルポルフィリン、金属ナフタロシアニン、ヘキサシアノアザトリフェニレン、7788-テトラシアノキノジメタンTCNQ、7788-テトラシアノ-2,3,5,6-テトラフルオロキノジメタンF4-TCNQ、テトラシアノ4、4、4-トリス3-メチルフェニルフェニルアミノトリフェニルアミン、N、N、N’、N’-テトラキスp-トリルp-フェニレンジアミン、N、N、N’、N’-テトラフェニル-4、4’-ジアミノビフェニル、N-フェニルカルバゾール、4-ジ-p-トリルアミノスチルベン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリチオフェンビニレン、ポリ2、2’-チエニルピロール等を用いることが好ましいが、この限りではない。黄色発光層14Cでは、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり発光する。黄色発光層14Cの厚みは、素子の全体構成にもよるが、例えば10nm~200nmであることが好ましく、さらに好ましくは15nm~100nmである。黄色発光層14Cは、500nm以上750nm以下のいずれかの領域に少なくとも1つのピーク波長を有する少なくとも1種類の発光材料により構成されている。黄色発光層14Cは、詳細は後述するが、例えばインクジェット等の塗付法により形成する。その際、高分子材料および低分子材料を例えばトルエン、キシレン、アニソール、シクロヘキサノン、メシチレン1,3,5-トリメチルベンゼン、ブサイドクメン、ジハイドロベンゾフラン、1,2,3,4-テトラメチルベンゼン、テトラリン、シクロヘキシルベンゼン、1-メチルナフタレン、p-アニシルアルコール、ジメチルナフタレン、3メチルビフェニル、4-メチルビフェニル、3-イソプロピルビフェニル、モノイソプロピルナフタレンなどの有機溶媒に少なくとも1種類以上使って溶解し、この混合溶液を用いて形成する。黄色発光層14Cを構成する発光材料としては、例えば下記式2~式4に示したりん光性ホスト材料および蛍光性ホスト材料が挙げられる。Z1は含窒素炭化水素基あるいはその誘導体である。L1は2価の芳香族環基が1ないし4個結合した基、具体的には1~4個の芳香族環が連結した2価の基、またはその誘導体である。A5およびA6は、芳香族炭化水素基あるいは芳香族複素環基、またはその誘導体である。但し、A5およびA6は互いに結合して環状構造を形成してもよい。R1~R3は、各々独立に水素原子、1~3個の芳香族環が縮合した芳香族炭化水素基あるいはそれらの誘導体、炭素数1~6個の炭化水素基を有する1~3個の芳香族環が縮合した芳香族炭化水素基あるいはそれらの誘導体、炭素数6~12個の芳香族炭化水素基を有する1~3個の芳香族環が縮合した芳香族炭化水素基あるいはそれらの誘導体である。R4~R9は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、または炭素数20以下のアルキル基、アルケニル基、カルボニル基を有する基、カルボニルエステル基を有する基、アルコキシル基を有する基、シアノ基を有する基、ニトロ基を有する基、あるいはそれらの誘導体、炭素数30以下のシリル基を有する基、アリール基を有する基、複素環基を有する基、アミノ基を有する基あるいはそれらの誘導体である。式2に示した化合物の具体例としては、以下の式2-1~式2-96などの化合物が挙げられる。式3に示した化合物の具体例としては、以下の式3-1~式3-5などの化合物が挙げられる。式4で表わされる化合物におけるR4~R9が示すアリール基を有する基としては、例えば、フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基、フルオレニル基、1-アントリル基、2-アントリル基、9-アントリル基、1-フェナントリル基、2-フェナントリル基、3-フェナントリル基、4-フェナントリル基、9-フェナントリル基、1-ナフタセニル基、2-ナフタセニル基、9-ナフタセニル基、1-ピレニル基、2-ピレニル基、4-ピレニル基、1-クリセニル基、6-クリセニル基、2-フルオランテニル基、3-フルオランテニル基、2-ビフェニルイル基、3-ビフェニルイル基、4-ビフェニルイル基、o-トリル基、m-トリル基、p-トリル基、p-t-ブチルフェニル基等が挙げられる。また、R4~R9が示す複素環基を有する基としては、ヘテロ原子として酸素原子O、窒素原子N、硫黄原子Sを含有する5員環または6員環の芳香環基であり、炭素数2~20の縮合多環芳香環基が挙げられる。このような複素環基としては、例えばチエニル基、フリル基、ピロリル基、ピリジル基、キノリル基、キノキサリル基、イミダゾピリジル基、ベンゾチアゾール基が挙げられる。代表的なものとしては,1-ピロリル基、2-ピロリル基、3-ピロリル基、ピラジニル基、2-ピリジニル基、3-ピリジニル基、4-ピリジニル基、1-インドリル基、2-インドリル基、3-インドリル基、4-インドリル基、5-インドリル基、6-インドリル基、7-インドリル基、1-イソインドリル基、2-イソインドリル基、3-イソインドリル基、4-イソインドリル基、5-イソインドリル基、6-イソインドリル基、7-イソインドリル基、2-フリル基、3-フリル基、2-ベンゾフラニル基、3-ベンゾフラニル基、4-ベンゾフラニル基、5-ベンゾフラニル基、6-ベンゾフラニル基、7-ベンゾフラニル基、1-イソベンゾフラニル基、3-イソベンゾフラニル基、4-イソベンゾフラニル基、5-イソベンゾフラニル基、6-イソベンゾフラニル基、7-イソベンゾフラニル基、キノリル基、3-キノリル基、4-キノリル基、5-キノリル基、6-キノリル基、7-キノリル基、8-キノリル基、1-イソキノリル基、3-イソキノリル基、4-イソキノリル基、5-イソキノリル基、6-イソキノリル基、7-イソキノリル基、8-イソキノリル基、2-キノキサリニル基、5-キノキサリニル基、6-キノキサリニル基、1-カルバゾリル基、2-カルバゾリル基、3-カルバゾリル基、4-カルバゾリル基、9-カルバゾリル基、1-フェナンスリジニル基、2-フェナンスリジニル基、3-フェナンスリジニル基、4-フェナンスリジニル基、6-フェナンスリジニル基、7-フェナンスリジニル基、8-フェナンスリジニル基、9-フェナンスリジニル基、10-フェナンスリジニル基、1-アクリジニル基、2-アクリジニル基、3-アクリジニル基、4-アクリジニル基、9-アクリジニル基、などが挙げられる。R4~R9が示すアミノ基を有する基としては、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基などのいずれでもよい。これらは、炭素数1~6個の脂肪族炭化水素基および/または1~4個の芳香環基を有することが好ましい。このような基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基、ビスビフェニリルアミノ基、ジナフチルアミノ基が挙げられる。なお、上記置換基は2以上の置換基からなる縮合環を形成していてもよく、さらにその誘導体でもよい。式4に示した化合物の具体例としては、以下の式4-1~式4-51などの化合物が挙げられる。また、ドーパントとしてりん光性金属錯体化合物、具体的には、中心金属には周期表7~11族から選ばれる金属、例えばベリリウムBe,ホウ素B,亜鉛Zn,カドミウムCd,マグネシウムMg,金Au,銀Ag,パラジウムPd,白金Pt,アルミニウムAl,ガドリニウムGa,イットリウムY,スカンジウムSc,ルテニウムRu,ロジウムRh,オスミウムOs,イリジウムIr等を用いることが好ましい。更に具体的には、式5-1~式5-29に表わされる化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。なお、上記ドーパントは1種あるいは2種以上用いてもよい。また、中心金属が異なるドーパントを組み合わせてもよい。また、上記低分子材料の他、特に黄色光を発する材料としては、三重項状態を経てりん光を発するBispyridinatoNC3Iridium式6-1、以下btp2Iracacと略記するおよびがBiszinc式6-2挙げられる。また、緑色発光で代表的なTrisiridium式6-3、以下Irppy3と略記するに黄色の発光材を添加し黄色光を合成する等の発光方法も挙げられるが、この限りではない。なお、黄色発光層14Cを構成する材料としては上記式2-1~式2-96,式3-1~式3-5,式4-1~式4-51,式5-1~式5-29および式6-1~式6-3に示したりん光性および蛍光性の低分子材料に限らない。例えば、高分子材料にりん光発光性の低分子材料が添加された混合材料により構成されていてもよい。この他、例えば下記の式8に示したポリビニルカルバゾールnは10以上5000以下の整数および式6-1~式6-3に示したりん光性低分子材料を混合して用いてもよい。また、りん光発光性の発光ユニットを含有したりん光発光性の高分子材料を用いて構成されていてもよい。具体的には、例えばポリフルオレン系高分子誘導体や、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリチオフェン誘導体等の発光性高分子が挙げられる。なお、ここで用いられる高分子材料は共役系高分子だけに限らず、ペンダント形の非共役系高分子および色素混合型の非共役系高分子を含み、近年開発が進められている、コアと呼ばれる中心分子と、コアを覆うように配されたデンドロンと呼ばれる側鎖とから構成されるデンドリマー型の高分子発光材料であってもよい。また、発光部位に関しては、一重項励起子から発光するもの、三重項励起子から発光するもの、あるいはその両者から発光するものがあるが、本実施の形態の黄色発光層14Cでは、三重項励起子から発光するものを用いることが望ましい。また、黄色発光層14Cは塗付法に限らず、蒸着法やレーザ転写等に代表される熱転写法を用いて形成してもよい。蒸着法や熱転写法によって形成する際の黄色発光層14Cの材料としては、例えば式2-1~式2-96,式3-1~式3-5,式4-1~式4-51,式5-1~式5-29および式6-1~式6-3に示したりん光性および蛍光性の低分子材料のうち、分子量2000以下のものを選択して用いることが好ましい。分子量2000以上の低分子材料では、蒸着および転写時に、より高エネルギーの加熱が必要となるため材料が変性する虞がある。具体的には、黄色発光層14Cに対応する領域に開口部を有する、例えばストライプ状のマスクを形成したのち、黄色発光層14Cを蒸着により成膜する。なお、熱転写法を用いて形成する場合には、従来用いられている熱転写法を用いることができる。具体的には、例えば転写材料層が形成された転写用基板と、あらかじめ黄色発光層14Cおよび青色有機EL素子14Dの正孔輸送層14Bまでが形成された被転写基板とを対向配置し、光照射する。これにより、転写パターンに応じた黄色発光層14Cが形成される。青色発光層14Dでは、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり発光する。青色発光層14Dの厚みは、素子の全体構成にもよるが、例えば2nm~50nmであることが好ましく、さらに好ましくは5nm~30nmである。青色発光層14Dは低分子材料から形成され、少なくともホスト材料とゲスト材料の2種類の材料から構成されている。ホスト材料としては、具体的には、例えば上記式4-1~式4-51に記載の化合物が挙げられる。ゲスト材料としては、発光効率が高い材料、例えば低分子蛍光材料またはりん光色素あるいは金属錯体などの有機発光材料が挙げられる。より具体的には、ピーク波長が約400nm~490nmの範囲内に有する化合物である。このような化合物としては、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、ナフタセン誘導体、スチリルアミン誘導体、ビスアジニルメテンホウ素錯体などの有機物質が用いられる。なかでも、アミノナフタレン誘導体、アミノアントラセン誘導体、アミノクリセン誘導体、アミノピレン誘導体、スチリルアミン誘導体、ビスアジニルメテンホウ素錯体から選択されることが好ましい。電子輸送層14Eは、黄色発光層14Cおよび青色発光層14Dへの電子輸送効率を高めるためのものであり、青色発光層14Dの全面に共通層として設けられている。電子輸送層14Eの厚みは素子の全体構成にもよるが、例えば5nm~300nmであることが好ましく、さらに好ましくは10nm~170nmである。電子輸送層14Eの材料としては、例えば、キノリン、ペリレン、フェナントロリン、ビススチリル、ピラジン、トリアゾール、オキサゾール、フラーレン、オキサジアゾール、フルオレノン、またはこれらの誘導体や金属錯体が挙げられる。具体的には、トリス8-ヒドロキシキノリンアルミニウム略称Alq3、アントラセン、ナフタレン、フェナントレン、ピレン、アントラセン、ペリレン、ブタジエン、クマリン、C60、アクリジン、スチルベン、1,10-フェナントロリンまたはそれらの誘導体や金属錯体が挙げられる。また、電子輸送層14Eに用いる有機材料は1種類だけでなく、複数種類を混合または積層して用いてもよい。更にまた、上記化合物は後述する電子注入層14Fに用いてもよい。電子注入層14Fは、電子注入効率を高めるためのものであり、電子輸送層14Eの全面に共通層として設けられている。電子注入層14Fの材料としては、例えばリチウムLiの酸化物である酸化リチウムLiO2や、セシウムCsの複合酸化物である炭酸セシウムCs2CO3、さらにはこれらの酸化物及び複合酸化物の混合物を用いることができる。また、電子注入層14Fは、このような材料に限定されることはなく、例えば、カルシウムCa、バリウムBa等のアルカリ土類金属、リチウム、セシウム等のアルカリ金属、さらにはインジウムIn、マグネシウムMg等の仕事関数の小さい金属、さらにはこれらの金属の酸化物及び複合酸化物、フッ化物等を、単体でまたはこれらの金属および酸化物及び複合酸化物、フッ化の混合物や合金として安定性を高めて使用してもよい。更に、上記電子輸送層14Eの材料として挙げた有機材料を用いてもよい。上部電極15は、例えば、厚みが2nm以上15nm以下であり、金属導電膜により構成されている。具体的には、Al,Mg,CaまたはNaの合金が挙げられる。中でも、マグネシウムと銀との合金Mg-Ag合金は、薄膜での導電性と吸収の小ささとを兼ね備えているので好ましい。Mg-Ag合金におけるマグネシウムと銀との比率は特に限定されないが、膜厚比でMg:Ag=20:1~1:1の範囲であることが望ましい。また、上部電極15の材料は、AlとLiとの合金Al-Li合金でもよい。更に、上部電極15は、アルミキノリン錯体、スチリルアミン誘導体、フタロシアニン誘導体等の有機発光材料を含有した混合層でもよい。この場合には、さらに第3層としてMgAgのような光透過性を有する層を別途有していてもよい。なお、上部電極15は、アクティブマトリックス駆動方式の場合、有機層14と隔壁13とによって、下部電極12と絶縁された状態で基板11上にベタ膜状に形成され、赤色有機EL素子10R,緑色有機EL素子10G,青色有機EL素子10Bおよび黄色有機EL素子10Yの共通電極として用いられる。保護層16は、例えば厚みが2~3μmであり、絶縁性材料または導電性材料のいずれにより構成されていてもよい。絶縁性材料としては、無機アモルファス性の絶縁性材料、例えばアモルファスシリコンα-Siアモルファス炭化シリコンα-SiCアモルファス窒化シリコンα-Si1xNx、アモルファスカーボンα-Cなどが好ましい。このような無機アモルファス性の絶縁性材料は、グレインを構成しないため透水性が低く、良好な保護膜となる。封止用基板17は、赤色有機EL素子10R,緑色有機EL素子10G,青色有機EL素子10Bおよび黄色有機EL素子10Yの上部電極15の側に位置しており、接着層図示せずと共に赤色有機EL素子10R,緑色有機EL素子10Gおよび青色有機EL素子10Bを封止するものである。光を封止基板の上方から取り出すトップエミッション方式では、封止用基板17は、赤色有機EL素子10R,緑色有機EL素子10G,青色有機EL素子10Bで発生した光に対して透明なガラスなどの材料により構成されている。封止用基板17には、例えば、カラーフィルタ18およびブラックマトリクスとしての遮光膜図示せずが設けられており、赤色有機EL素子10R,緑色有機EL素子10G,青色有機EL素子10Bで発生した光を取り出すと共に、赤色有機EL素子10R,緑色有機EL素子10G,青色有機EL素子10B並びにその間の配線において反射された外光を吸収し、コントラストを改善するようになっている。なお、光を下部電極から取り出すボトムエミッション方式では、封止基板40の下に同様にカラーフィルタ18を形成する。カラーフィルタ18は赤色フィルタ18R,緑色フィルタ18Gおよび青色フィルタ18Bを有しており、それぞれ赤色有機EL素子10R,緑色有機EL素子10Gおよび青色有機EL素子10Bに対応して順に配置されている。赤色フィルタ40R,緑色フィルタ40Gおよび青色フィルタ40Bは、例えばそれぞれ矩形形状で隙間なく形成されている。これら赤色フィルタ40R,緑色フィルタ40Gおよび青色フィルタ40Bは、顔料を混入した樹脂によりそれぞれ構成されており、顔料を選択することにより、目的とする赤,緑あるいは青の波長域における光透過率が高く、他の波長域における光透過率が低くなるように調整されている。更に、カラーフィルタ18における透過率の高い波長範囲と、共振器構造MC1から取り出したい光のスペクトルのピーク波長λとは一致している。これにより、封止用基板17から入射する外光のうち、取り出したい光のスペクトルのピーク波長λに等しい波長を有するもののみがカラーフィルタ18を透過し、その他の波長の外光が各色の有機EL素子10R,10G,10Bに侵入することが防止される。なお、カラーフィルタ18はここでは赤色フィルタ18R,緑色フィルタ18Gおよび青色フィルタ18Bを有するようにしたが、青色フィルタ18Bを形成せず青色発光層16CBからの発光光をそのまま用いてもよい。遮光膜図示せずは、例えば黒色の着色剤を混入した光学濃度が1以上の黒色の樹脂膜、または薄膜の干渉を利用した薄膜フィルタにより構成されている。このうち黒色の樹脂膜により構成するようにすれば、安価で容易に形成することができるので好ましい。薄膜フィルタは、例えば、金属,金属窒化物あるいは金属酸化物よりなる薄膜を1層以上積層し、薄膜の干渉を利用して光を減衰させるものである。薄膜フィルタとしては、具体的には、Crと酸化クロムIIICr2O3とを交互に積層したものが挙げられる。この有機EL表示装置1は、例えば次のようにして製造することができる。図4は、この有機EL表示装置1の製造方法の流れを表したものであり、図5および図6は図4に示した製造方法を工程順に表したものである。まず、上述した材料よりなる基板11の上に駆動トランジスタTr1を含む画素駆動回路140を形成し、例えば感光性樹脂よりなる平坦化絶縁膜図示せずを設ける。下部電極12を形成する工程次いで、基板11の全面に例えばITOよりなる透明導電膜を形成し、この透明導電膜をパターニングすることにより、図5Aに示したように、下部電極12を赤色有機EL素子10R,緑色有機EL素子10Gおよび青色有機EL素子10Bの各々ごとに形成するステップS101。その際、下部電極12を、平坦化絶縁膜図示せずのコンタクトホール図示せずを介して駆動トランジスタTr1のドレイン電極と導通させる。隔壁13を形成する工程続いて、同じく図5Aに示したように、下部電極12上および平坦化絶縁膜図示せず上に、例えばCVDChemicalVaporDeposition;化学気相成長法により、SiO2等の無機絶縁材料を成膜し、隔壁13を形成する。隔壁13を形成したのち、基板11の下部電極12および隔壁13を形成した側の表面を酸素プラズマ処理し、その表面に付着した有機物等の汚染物を除去して濡れ性を向上させる。具体的には、基板11を所定温度、例えば70~80°C程度に加熱し、続いて大気圧下で酸素を反応ガスとするプラズマ処理O2プラズマ処理を行うステップS103。正孔注入層14Aを形成する工程プラズマ処理を行ったのち、図5Bに示したように、上部隔壁13Bに囲まれた領域内に、上述した材料よりなる正孔注入層14Aを形成するステップS104。この正孔注入層14Aは、スピンコート法やスリット印刷および液滴吐出法などの塗布法により形成する。特に、上部隔壁13Bに囲まれた領域に正孔注入層14Aの形成材料を選択的に配してもよく、その場合は液滴吐出法であるインクジェット方式や、ノズルコート方式や、グラビア印刷フレキソ印刷等で選択的に印刷する方法を用いることが好ましい。具体的には、正孔注入層14Aの形成材料であるポリアニリンやポリチオフェン等の溶液または分散液を下部電極12の露出面上に配する。その後、熱処理乾燥処理を行うことにより、正孔注入層14Aを形成する。熱処理においては、溶媒または分散媒を乾燥後、高温で加熱する。ポリアニリンやポリチオフェン等の導電性高分子を用いる場合、大気雰囲気、もしくは酸素雰囲気が好ましい。酸素による導電性高分子の酸化により、導電性が発現しやすくなるためである。加熱温度は、150°C~300°Cが好ましく、さらに好ましくは180°C~250°Cである。時間は、温度、雰囲気にもよるが、5分~300分程度が好ましく、さらに好ましくは、10分~240分である。この乾燥後の膜厚みは、5nm~100nmが好ましい。さらに好ましくは、8nm~50nmである。正孔輸送層14Bを形成する工程正孔注入層14Aを形成したのち、図5Cに示したように、正孔注入層14Aの上に、上述した高分子材料を含む正孔輸送層14Bを形成するステップS105。この正孔輸送層14Bは、スピンコート法やスリット印刷および液滴吐出法などの塗布法により形成する。特に、上部隔壁13Bに囲まれた領域に正孔輸送層14BR,16BGの形成材料を選択的に配してもよく、その場合は液滴吐出法であるインクジェット方式や、ノズルコート方式や、グラビア印刷,フレキソ印刷等で選択的に印刷する方法を用いることが好ましい。具体的には、例えばスリット印刷方式により、正孔輸送層14Bの形成材料である高分子ポリマーおよび低分子材料の混合溶液または分散液を正孔注入層14Aの露出面上に配する。その後、熱処理乾燥処理を行うことにより、正孔輸送層14Bを形成する。熱処理においては、溶媒または分散媒を乾燥後、高温で加熱する。塗布する雰囲気や溶媒を乾燥、加熱する雰囲気としては、窒素N2を主成分とする雰囲気中が好ましい。酸素や水分があると、作成された有機EL表示装置の発光効率や寿命が低下する虞がある。特に、加熱工程においては、酸素や水分の影響が大きいため、注意が必要である。酸素濃度は、0.1ppm以上100ppm以下が好ましく、50ppm以下であればより好ましい。100ppmより多い酸素があると、形成した薄膜の界面が汚染され、得られた有機EL表示装置の発行効率や寿命が低下する虞がある。また、0.1ppm未満の酸素濃度の場合、素子の特性は問題ないが、現状の量産のプロセスとして、雰囲気を0.1ppm未満に保持するための装置コストが多大になる可能性がある。また、水分については、露点が例えば-80°C以上-40°C以下であることが好ましい。更に、-50°C以下であればより好ましく、-60°C以下であれば更に好ましい。-40°Cより高い水分があると、形成した薄膜の界面が汚染され、得られた有機EL表示装置の発光効率や寿命が低下する虞がある。また、-80°C未満の水分の場合、素子の特性は問題ないが、現状の量産のプロセスとして、雰囲気を-80°C未満に保持するための装置コストが多大になる可能性がある。加熱温度は、100°C~230°Cが好ましく、さらに好ましくは150°C~200°Cである。少なくとも、正孔注入層14A形成時の温度よりも低いことが好ましい。時間は、温度、雰囲気にもよるが、5分~300分程度が好ましく、さらに好ましくは、10分~240分である。乾燥後の膜厚みは、素子の全体構成にもよるが、10nm~200nmが好ましい。さらに、15nm~150nmであればより好ましい。黄色発光層14Cを形成する工程正孔輸送層14Bを形成したのち、図5Dに示したように、黄色発光層14Cを形成するステップS106。黄色発光層14Cの形成方法としては、例えばスピンコート法や液滴吐出法などの塗布法により形成する。特に、隔壁13に囲まれた領域に黄色発光層14Cの形成材料を選択的に配する場合には、液滴吐出法であるインクジェット方式や、ノズルコート方式を用いることが好ましい。具体的には、例えばインクジェット方式により、赤黄色発光層14Cの形成材料であるりん光性ホスト材料にりん光性ドーパントを、例えば1重量になるように、キシレンとシクロヘキシルベンゼンを2:8に混合した溶媒に溶解した混合溶液または分散液を正孔輸送層14Bの露出面上に配する。その後、上記黄色発光層14Cの正孔輸送層14Bを形成する工程で説明した熱処理乾燥処理と同様の方法および条件の熱処理を行うことにより、黄色発光層14Cを形成する。また、有版の印刷方式として、グラビア印刷フレキソ印刷等で選択的に印刷する方法を用いて形成してもよい。なお、黄色発光層14Cは蒸着法によって形成してもよく、その際には、真空蒸着装置内に移動したのち、例えば蒸着速度0.1~2Å/sで成膜する。青色発光層14D,電子輸送層14E,電子注入層14Fおよび上部電極15を形成する工程黄色発光層14Cを形成したのち、図6Aに示したように、正孔輸送層14Bおよび黄色発光層14Cの全面に、蒸着法により、上述した材料よりなる青色発光層14Dを形成するステップS107。続いて、図6Bに示したように、青色発光層14Dの全面に蒸着法により電子輸送層14E,電子注入層14Fおよび上部電極15を形成するステップS108,S109,S110。上部電極15を形成したのち、図6Cに示したように、保護層16、封止用基板17およびカラーフィルタ18を形成する。具体的には、まず保護層16を下地に対して影響を及ぼすことのない程度に、成膜粒子のエネルギーが小さい成膜方法、例えば蒸着法やCVD法により形成する。例えば、アモルファス窒化シリコンからなる保護層16を形成する場合には、CVD法によって2~3μmの膜厚に形成する。この際、有機層14の劣化による輝度の低下を防止するため、成膜温度を常温に設定すると共に、保護層16の剥がれを防止するために膜のストレスが最小になる条件で成膜することが望ましい。青色発光層14D,電子輸送層14E,電子注入層14F,上部電極15および保護層16は、マスクを用いることなく全面にベタ膜として形成される。また、青色発光層14D,電子輸送層14E,電子注入層14F,上部電極15および保護層16の形成は、望ましくは、大気に暴露されることなく同一の成膜装置内において連続して行われる。これにより大気中の水分による有機層14の劣化が防止される。なお、下部電極12と同一工程で補助電極図示せずを形成した場合、補助電極の上部にベタ膜で形成された有機層14を、上部電極15を形成する前にレーザアブレーションなどの手法によって除去してもよい。これにより上部電極15を補助電極に直接接続させることが可能となり、接触性が向上する。保護層16を形成したのち、例えば、上述した材料よりなる封止用基板17に、上述した材料よりなる遮光膜を形成する。続いて、封止用基板17に赤色フィルタ18Rの材料をスピンコートなどにより塗布し、フォトリソグラフィ技術によりパターニングして焼成することにより赤色フィルタ18Rを形成する。続いて、赤色フィルタ18Rと同様にして、緑色フィルタ18Gおよび青色フィルタ18Bを順次形成する。そののち、保護層16の上に、接着層図示せずを形成し、この接着層を間にして封止用基板17を貼り合わせる。以上により図1ないし図3に示した有機EL表示装置1が完成する。この有機EL表示装置1では、各画素に対して走査線駆動回路130から書き込みトランジスタTr2のゲート電極を介して走査信号が供給されると共に、信号線駆動回路120から画像信号が書き込みトランジスタTr2を介して保持容量Csに保持される。すなわち、この保持容量Csに保持された信号に応じて駆動トランジスタTr1がオンオフ制御され、これにより、赤色有機EL素子10R,緑色有機EL素子10G,青色有機EL素子10Bに駆動電流Idが注入され、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。この光は、下面発光ボトムエミッションの場合には下部電極12および基板11を透過して、上面発光トップエミッションの場合には上部電極15,カラーフィルタ18および封止用基板17を透過して取り出される。従来の有機EL表示装置では、前述のように、白色光を用いたフィルタ方式や3色あるいは4色独立発光方式等によってフルカラー化がなされていた。しかしながら、フィルタ方式ではカラーフィルタを介することによる光の利用効率が低下し、消費電力が増大するという問題があった。また、発光層を有する有機層を複数積層し白色光を合成するスタック構造タンデム構造を有する有機EL表示装置では、発光効率が向上し、必要電流が低減される。しかしながら、タンデム構造では、複数の有機層は電荷発生層を介して積層されことにより、駆動電圧が上昇し、消費電力を十分低減することが難しいという問題があった。加えて、前述のように表示装置における出現頻度の高い色は白色および黒体輻射のラインに近い部分であるため、白色光を用いることは有用であると考えられるが、実際には色度点調整のために赤色発光素子,緑色発光素子および青色発光素子を駆動する必要があるため、消費電力は更に高くなるという問題があった。また、3色あるいは4色独立発光方式では、色再現性と発光効率とがトレードオフの関係にあるという問題があった。これに対して、視感度が高く発光効率の高い黄色を用いることによって色域の保持と発光効率とを両立する方法が報告されている。しかし、3色独立方式では少なくとも各色の発光層の塗り分けが必要であるためフィルタ方式に比べて工程数が多い。また、色再現性を向上するために黄色発光層を追加する場合には、更に工程数が増加し、設備費および材料費が増大し生産性が大きく低下するという問題があった。これに対して、本実施の形態の有機EL表示装置1では、正孔輸送層14B上の、青色有機EL素子10Bの領域を除く領域上に黄色発光層14Cを設け、赤色,緑色および青色を有するカラーフィルタによって発光色を色分割する。これにより、発光層の塗り分け工程が削減される。このように本実施の形態の有機EL表示装置1では、青色有機EL素子10Bの領域を除く正孔輸送層14B上に黄色発光層14Cを、正孔輸送層14Bおよび黄色発光層14C上の全面に青色発光層16Dを設け、赤色,緑色および青色を有するカラーフィルタによって発光色を色分割するようにしたので、発光層の塗り分け工程が削減され、有機EL表示装置の製造工程が簡略化される。即ち、コストが抑えられ生産性が向上した省電力な有機ELディスプレイを作製することが可能となる。以下、第2~第4の実施の形態について説明する。なお、第1の実施の形態と同一の構成要素については同一符号を付してその説明は省略する。第2の実施の形態図7は第2の実施の形態における有機EL表示装置2の表示領域の断面構成を表したものである。赤色有機EL素子20R,緑色有機EL素子20Gおよび青色有機EL素子20Bは、それぞれ、基板11の側から、上述した画素駆動回路140の駆動トランジスタTr1および平坦化絶縁膜図示せずを間にして、陽極としての下部電極12第1電極、隔壁13、後述する発光層黄色発光層24C,青色発光層24Dを含む有機層24および陰極としての上部電極15第2電極がこの順に積層された構成を有している。本実施の形態の有機EL表示装置2は、黄色発光層24Cと青色発光層24Dとの間に接続層24Gを有することが上記第1の実施の形態と異なる。接続層24Gは、正孔輸送層24Bおよび黄色発光層24Cと、青色発光層24Dとの界面を改善し、正孔の注入効率を高めると共に、黄色発光層24Cで生じる励起子を閉じ込め、発光効率を高めるためのものである。接続層16Dの厚みは、素子の全体構成にもよるが、例えば2nm~30nmであることが好ましく、さらに好ましくは5nm~15nmである。接続層24Gを構成する材料としては、例えば、例えば、ベンジン、スチリルアミン、トリフェニルアミン、ポルフィリン、トリフェニレン、アザトリフェニレン、テトラシアノキノジメタン、トリアゾール、イミダゾール、オキサジアゾール、ポリアリールアルカン、フェニレンジアミン、アリールアミン、オキザゾール、アントラセン、フルオレノン、ヒドラゾン、スチルベンあるいはこれらの誘導体、または、ビニルカルバゾール系化合物、チオフェン系化合物あるいはアニリン系化合物等の複素環式共役系のモノマーまたはオリゴマーが挙げられる。このような材料を用いることにより、正孔輸送層24Bと、青色発光層26Dとの界面の汚染および注入障壁が改善され、下部電極12側から青色発光層24Dへ供給される正孔の注入効率が向上する。具体的には、接続層24Gの基底状態S0Gと正孔輸送層24Bの基底状態S0Bとのエネルギー差を0.4eV以下とすることにより青色発光層24Dへの正孔注入効率を保つことができる。接続層24Gを構成する具体的な材料としては、好ましくは、下記の式8,9に示した低分子材料が挙げられる。A7~A9は芳香族炭化水素基、複素環基またはそれらの誘導体である。L2は2価の芳香族環基が2ないし6個結合した基である。具体的には2~6個の芳香族環が連結した2価の基、またはその誘導体である。A10~A13は、芳香族炭化水素基あるいは複素環基、またはその誘導体が1~10個結合した基である。式8に示した化合物の具体例としては、以下の式8-1~式8-48などの化合物が挙げられる。また、式8に示した化合物の中でも、ジベンゾフラン構造を有するアリール基およびカルバゾール構造を有するアリール基を含むアミン化合物を用いることが好ましい。これらアミン化合物は、一重項励起準位および三重項励起準位が大きく、青色発光層24Dの電子を効果的にブロックすることが可能である。このため、発光効率が向上すると共に、正孔輸送層24Bへの電子の注入が抑制されるため、寿命特性が向上する。更に、黄色発光層24Cの三重励起子を高い三重励起子準位を閉じ込めて発光効率を向上することがすることができる。ジベンゾフラン構造を有するアリール基およびカルバゾール構造を有するアリール基を含むアミン化合物の具体例としては、以下の式8-49~式8-323等の化合物が挙げられる。式9に示した化合物の具体例としては、以下の式9-1~式9-45などの化合物が挙げられる。また、式2-1~式2-96に示したりん光ホスト材料の他に、上記式2の一般式で表わされる下記の式2-97~式2-166などの化合物も用いることができる。なお、ここでL1に結合する含窒素炭化水素基として、例えばカルバゾール基やインドール基を有する化合物を挙げたがこれに限らない。例えばイミダゾール基を用いてもよい。図8は有機EL表示装置2の製造方法の流れを表したものであり、具体的には以下のように製造することができる。接続層24Gを形成する工程黄色発光層24Cを形成したのち、正孔輸送層24Bおよび黄色発光層24C上の全面に、例えば蒸着速度0.1~2Å/sにて、上述した材料よりなる接続層24Gを形成するステップS201。本実施の形態の有機EL表示装置2では、正孔輸送層24Bと青色発光層24Dとの間に接続層24Gを設けることにより、青色発光層24Dへの下部電極12側から供給される正孔の注入効率が向上する。また、黄色発光層24Cと青色発光層24Dとの間に接続層24Gを設けることにより、黄色発光層24Cをりん光材料により構成した場合における三重項励起子の青色発光層24Dへの拡散を防ぐことができ、高効率なりん光発光が得られる。これにより、第1の実施の形態の効果に加えて、更に発光効率が向上するという効果を奏する。第3の実施の形態図9は第3の実施の形態における有機EL表示装置3の構成を表すものである。図10は有機EL表示装置3の表示領域の断面構成を表したものである。本実施の形態の有機EL表示装置3は、赤色有機EL素子30R,緑色有機EL素子30G,青色有機EL素子30Bに加え黄色発光素子30Yを追加し、4サブピクセルとした点が上記第1の実施の形態と異なる。赤色有機EL素子30R,緑色有機EL素子30G,青色有機EL素子30B、黄色有機EL素子30Yは、それぞれ、基板11の側から、上述した画素駆動回路140の駆動トランジスタTr1および平坦化絶縁膜図示せずを間にして、陽極としての下部電極12第1電極、隔壁13、発光層黄色発光層34C,青色発光層34Eを含む有機層34および陰極としての上部電極15第2電極がこの順に積層された構成を有している。また、上部電極15上には上記第1および第2の実施の形態と同様に保護層16、封止用基板17およびカラーフィルタ38が設けられている。このカラーフィルタ38は、赤色フィルタ38R,緑色フィルタ38G,青色フィルタ38Bおよび黄色フィルタ38Yを有し、それぞれ赤色有機EL素子30R,緑色有機EL素子30G,青色有機EL素子30Bおよび黄色有機EL素子30Yに対応して順に配置されている。本実施の形態の有機EL表示装置3では、赤色有機EL素子30R,緑色有機EL素子30G,青色有機EL素子30Bに加え黄色発光素子30Yを加えるようにした。前述の白色について出現頻度が高い青色と黄色を結ぶ黒体輻射のラインに近い部分具体的には肌色付近のほとんどは青色と黄色の2色で表現することができる。即ち、上記第1の実施の形態の効果に加えて、前述の赤色,緑色,青色および白色の4色を用いた有機EL表示装置のように、黒体輻射のラインに近い部分の表現のために4色の有機EL素子を用いる必要がないため、より消費電力が低減するという効果を奏する。また、青色および黄色の発光効率は高いため、更に低消費電力化が可能となる。即ち、コストの低減と消費電力の大幅な低減とを両立することが可能となる。第4の実施の形態図11は、第4の実施の形態における有機EL表示装置4の表示領域の断面構成を表したものである。本実施の形態の有機EL表示装置4は、赤色有機EL素子40R,緑色有機EL素子40G,青色有機EL素子40Bおよび黄色発光素子40Yは、それぞれ、基板11の側から、上述した画素駆動回路140の駆動トランジスタTr1および平坦化絶縁膜図示せずを間にして、陽極としての下部電極12第1電極、隔壁13、発光層黄色発光層44C,青色発光層44Dを含む有機層44および陰極としての上部電極15第2電極がこの順に積層された構成を有している。本実施の形態の有機EL表示装置4は、黄色発光層44Cと青色発光層44Dとの間に接続層44Gを有することが上記第3の実施の形態と異なる。本実施の形態の接続層44Gは、第2の実施の形態において記載した接続層24Gと同様に、青色発光層44Dへの正孔の注入効率を高めるためのものである。接続層44Gの厚みは、素子の全体構成にもよるが、例えば2nm~30nmであることが好ましく、さらに好ましくは5nm~15nmである。また、接続層44Gを構成する材料も、接続層24Gと同様の材料を用いることができる。本実施の形態の有機EL表示装置4では、正孔輸送層44Bと青色発光層44Dとの間に接続層44Gを設けることにより、青色発光層46Dへの下部電極12側から供給される正孔の注入効率が向上する。また、黄色発光層44Cと青色発光層44Dとの間に接続層44Gを設けることにより、黄色発光層44Cをりん光材料により構成した場合における三重項励起子の青色発光層44Dへの拡散を防ぐことができ、高効率なりん光発光が得られる。これにより、第3の実施の形態の効果に加えて、発光効率が更に向上するという効果を奏する。モジュールおよび適用例以下、上記第1~第4の実施の形態で説明した有機EL表示装置1~4の適用例について説明する。上記実施の形態の有機EL表示装置1~4は、テレビジョン装置,デジタルカメラ,ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなど、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。モジュール上記実施の形態の有機EL表示装置1~4は、例えば、図12に示したようなモジュールとして、後述する適用例1~5などの種々の電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、基板11の一辺に、保護層16および封止用基板17から露出した領域210を設け、この露出した領域210に、信号線駆動回路120および走査線駆動回路130の配線を延長して外部接続端子図示せずを形成したものである。外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板FPC;FlexiblePrintedCircuit220が設けられていてもよい。適用例1図13は、上記実施の形態の有機EL表示装置1~4が適用されるテレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル310およびフィルターガラス320を含む映像表示画面部300を有しており、この映像表示画面部300は、上記実施の形態に係る有機EL表示装置1~4により構成されている。適用例2図14は、上記実施の形態の有機EL表示装置1~4が適用されるデジタルカメラの外観を表したものである。このデジタルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部410、表示部420、メニュースイッチ430およびシャッターボタン440を有しており、その表示部420は、上記実施の形態に係る有機EL表示装置1~4により構成されている。適用例3図15は、上記実施の形態の有機EL表示装置1~4が適用されるノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体510,文字等の入力操作のためのキーボード520および画像を表示する表示部530を有しており、その表示部530は、上記実施の形態に係る有機EL表示装置1~4により構成されている。適用例4図16は、上記実施の形態の有機EL表示装置1~4が適用されるビデオカメラの外観を表したものである。このビデオカメラは、例えば、本体部610,この本体部610の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ620,撮影時のスタート/ストップスイッチ630および表示部640を有しており、その表示部640は、上記実施の形態に係る有機EL表示装置1~4により構成されている。適用例5図17は、上記実施の形態の有機EL表示装置1~4が適用される携帯電話機の外観を表したものである。この携帯電話機は、例えば、上側筐体710と下側筐体720とを連結部ヒンジ部730で連結したものであり、ディスプレイ740,サブディスプレイ750,ピクチャーライト760およびカメラ770を有している。そのディスプレイ740またはサブディスプレイ750は、上記実施の形態に係る有機EL表示装置1~4により構成されている。以上、上記第1~第4の実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態等に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、上記実施の形態において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件などは限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。また、上記実施の形態では、例えば、有機EL素子10R,10G,10B,10Y等の構成を具体的に挙げて説明したが、全ての層を備える必要はなく、また、他の層を更に備えていてもよい。例えば、正孔注入層14A上に正孔輸送層14Bを形成せず、直接発光層16Cを塗布方式により形成してもよい。更に、上記実施の形態では、例えば、電子輸送層16Gを1種類の材料からなる単層として形成したが、これに限らず、例えば2種類以上の材料からなる混合層、または異なる材料からなる層を積層した多層構造としてもよい。また、上記第2の実施の形態では赤色フィルタ28R,緑色フィルタ28Gおよび青色フィルタ28Bの3色を有するカラーフィルタ18を用いていたが、実施の形態1において記載したように、青色発光素子20B用の青色フィルタ28Bは設けなくてもよい。同様に、上記第3および第4の実施の形態では、赤色フィルタ38R48R,緑色フィルタ38G48G,青色フィルタ38B48Bおよび黄色フィルタ38Y48Yのうち、青色フィルタ38B48Bおよび黄色フィルタ38Y48Yを設けず、黄色発光層34C44Cおよび青色発光層34D44Dの発光光をそのまま用いてもよい。更に、基板11上における赤色有機EL素子10R20R,30R,40R,緑色有機EL素子10G20G,30G,40G,青色有機EL素子10B20B,30B,40Bおよび黄色有機EL素子30Y,40Yの配置は特に問わない。例えば上記実施の形態のように青,赤,緑および黄色有機EL素子を並列に配置したが、赤,緑,黄色有機EL素子を並列に形成した下方あるいは上方に、赤,緑,黄色有機EL素子の長軸方向と直交するように青色有機EL素子を配置するようにしてもよい。更にまた、上記実施の形態では、アクティブマトリックス型の表示装置の場合について説明したが、本発明はパッシブマトリックス型の表示装置への適用も可能である。更にまた、アクティブマトリックス駆動のための画素駆動回路の構成は、上記実施の形態で説明したものに限られず、必要に応じて容量素子やトランジスタを追加してもよい。その場合、画素駆動回路の変更に応じて、上述した信号線駆動回路120や走査線駆動回路130のほかに、必要な駆動回路を追加してもよい。"