"基板を一方向に搬送する搬送装置と、この基板の搬送方向に離隔して、2個設けられた露光ユニットと、を有するスキャン露光装置において、前記各露光ユニットは、前記基板の搬送方向に垂直の方向に配列された複数個のマスクと、前記マスクに対して、垂直方向に傾斜する方向に露光光を照射する光源と、を有し、一方の露光ユニットのマスクと、他方の露光ユニットのマスクとは、スキャン方向に直角な方向に関して、互い違いに配置されており、前記一方の露光ユニットは、更に、前記露光光を対応するマスクに向けて反射する反射部材を有し、この反射部材で反射した露光光が、前記他方の露光ユニットの前記光源から出射した露光光と、平行になって、それらの対応するマスクに入射するものであり、前記一方の露光ユニットの露光光の出射方向と、前記他方の露光ユニットの露光光の出射方向とは相対するものであることを特徴とするスキャン露光装置。前記一方の露光ユニットは、前記基板の搬送方向における上流側に配置され、その光源は露光光を、前記基板の搬送方向の後方側に向けて垂直から傾斜するように出射し、前記反射部材により、反射した露光光は、前記基板の搬送方向の前方側に向けて垂直から傾斜する方向に向かうことを特徴とする請求項1に記載のスキャン露光装置。前記一方の露光ユニットは、前記基板の搬送方向における下流側に配置され、その光源は露光光を、前記基板の搬送方向の前方側に向けて垂直から傾斜するように出射し、前記反射部材により、反射した露光光は、前記基板の搬送方向の後方側に向けて垂直から傾斜する方向に向かうことを特徴とする請求項1に記載のスキャン露光装置。しかしながら、この従来のスキャン露光装置においては、基板搬送方向に、複数列、例えば2列に複数個のマスクを配置して、第1露光領域2及び第2露光領域3の2段に分けて基板を露光しており、各マスクに対して露光光を照射するための光源7,8を、相互に干渉しないように、設ける必要があることから、第1搬送領域11及び第2搬送領域12の長さが長くなり、装置全体として、大きなスペースが必要になるという問題点がある。特に、図5に示すように、光源7,8から垂直方向に対して傾斜した方向に露光光を出射して、マスク又は基板に対して光軸を傾斜させて露光光を照射する露光装置においては、マスク2a~2c、3a、3b及びそのホルダ6のスペースと、光源7,8のスペースとが必要であり、第1搬送領域11及び第2搬送領域12の長さが夫々例えば4mと、著しく長くなる。このため、平面視で見て、第1露光領域2及び第2露光領域3の他に、光源7及び光源8を配置するスペースが必要となり、第1露光領域2と第2露光領域3とを、大きく離隔させる必要があり、装置全体が大型化してしまうという問題点がある。また、第1搬送領域11と第2搬送領域12の長さが長いために、第1搬送領域11用の搬送装置と、第2搬送領域12用の搬送装置とを、別個に設けて、搬送系をつなぐ必要が生じ、装置構成が煩雑である。本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、装置全体の大きさを小さくすることができ、基板搬送系の長さを短くすることができ、これにより、搬送系を単独の装置で組み立てることができるスキャン露光装置を提供することを目的とする。本発明に係るスキャン露光装置は、基板を一方向に搬送する搬送装置と、この基板の搬送方向に離隔して、2個設けられた露光ユニットと、を有するスキャン露光装置において、前記各露光ユニットは、前記基板の搬送方向に直角の方向に配列された複数個のマスクと、前記マスクに対して、垂直方向に傾斜する方向に露光光を照射する光源と、を有し、一方の露光ユニットのマスクと、他方の露光ユニットのマスクとは、スキャン方向に直角な方向に関して、互い違いに配置されており、前記一方の露光ユニットは、更に、前記露光光を対応するマスクに向けて反射する反射部材を有し、この反射部材で反射した露光光が、前記他方の露光ユニットの前記光源から出射した露光光と、平行になって、それらの対応するマスクに入射するものであり、前記一方の露光ユニットの露光光の出射方向と、前記他方の露光ユニットの露光光の出射方向とは相対するものであることを特徴とする。このスキャン露光装置において、例えば、前記一方の露光ユニットが、前記基板の搬送方向における上流側に配置された場合、その光源は露光光を、前記基板の搬送方向の後方側に向けて垂直から傾斜するように出射し、前記反射部材により、反射した露光光は、前記基板の搬送方向の前方側に向けて垂直から傾斜する方向に向かうように構成することができる。また、例えば、前記一方の露光ユニットが、前記基板の搬送方向における下流側に配置された場合は、その光源は露光光を、前記基板の搬送方向の前方側に向けて垂直から傾斜するように出射し、前記反射部材により、反射した露光光は、前記基板の搬送方向の後方側に向けて垂直から傾斜する方向に向かうように構成することができる。本発明によれば、基板搬送方向に離隔する2個の露光ユニットは、その光源から露光光を相対する方向に出射し、一方の露光装置の露光光を反射部材で反射させて、他方の露光装置の露光光と平行にした後、各対応するマスクに入射させ、基板に照射するので、従来同様に、垂直方向から同一方向に傾斜した露光光をマスク及び基板に照射できると共に、搬送領域の長さを短縮することができる。これにより、装置全体の小型化が可能である。以下、本発明の実施形態について、添付の図面を参照して具体的に説明する。図1は本発明の第1実施形態に係るスキャン露光装置を示す正面模式図、図3は同じくその平面模式図である。基板1の搬送方向白抜き矢印にて示すに、第1露光領域22と第2露光領域23とがこの順に配置されており、第1露光領域22においては、露光光の光源37と、反射部材33と、マスク31とが配置されている。また、第2露光領域23においては、露光光の光源38と、マスク32とが配置されている。マスク31及び32は、ホルダ36に支持されており、マスク31及び32の近傍には、マスクの位置及び姿勢を制御する制御ユニット35が設置されている。第1露光領域22の光源37は、露光光25を、垂直方向から、基板搬送方向の順方向側に向けて傾斜させて、出射する。そして、この露光光の光軸の途中に、反射部材33として、例えば、平面鏡が配置されており、この反射部材33で反射した露光光は、この反射部材33よりも、基板搬送方向の上流側に配置されたマスク31に、垂直方向に対し、基板搬送方向の上流側に向けて傾斜した光として、照射される。なお、露光光は、通常、紫外光であるが、反射部材33で反射した後の紫外光の偏光特性は維持される。即ち、反射部材33で反射した後のP波とS波の消光比は維持される。一方、第2露光領域23の光源38は、露光光26を、垂直方向から、基板搬送方向の逆方向に向けて傾斜させて、出射する。そして、露光光25は反射部材33により反射してマスク31に対して基板搬送方向の逆方向に向けて傾斜して入射するので、光源37から出射したときの露光光の光軸の垂直方向となす角度を、光源38から出射した露光光の光軸の垂直方向となす角度に一致させ、反射部材33をその面が垂直の平面鏡とすると、マスク31に入射する露光光の垂直方向から傾斜する角度と、マスク32に入射する露光光の垂直方向から傾斜する角度とを一致させることができ、マスク31に対する露光光とマスク32に対する露光光を平行光とすることができる。上述の構成とすることにより、露光工程で、基板を搬送する搬送領域24の長さは、従来よりも著しく短くすることができる。このマスク31、光源37及び反射部材33は、1個の露光ヘッドA1又はA2,AA3,A4を構成し、マスク32及び光源38は、1個の露光ヘッドB1又はB2,B3,B4を構成する。そして、全ての露光ヘッドA1~A4により、基板搬送方向上流側の露光ユニット43が構成され、全ての露光ヘッドB1~B4により、基板搬送方向下流側の露光ユニット44が構成される。そして、各露光ヘッドには、1個のマスクが設けられており、露光ヘッドA1~A4のマスク31と、露光ヘッドB1~B4のマスク32とは、基板搬送方向に直角の方向について、互い違いになるように配置されている。これらの露光ヘッドA1~A4及びB1~B4は、基板1の幅寸法に応じて適宜選択されて、露光に使用される。そして、露光ヘッドA1~A4と、露光ヘッドB1~B4との間に、マスク交換用の軸40が配置されており、この軸40の一方の端部に、交換用の第1露光領域用マスク31aと、交換用の第2露光領域用マスク32aとが設置されている。そして、第1露光領域用マスク31aは、経路41と軸40を介して、露光ヘッドA1~A4に送出されて、その露光ヘッドに装着されていたマスクと交換され、第2露光領域用マスク32aは、経路42と軸40を介して、露光ヘッドB1~B4に送出されて、その露光ヘッドに装着されていたマスクと交換される。次に、上述のごとく構成されたスキャン露光装置の動作について説明する。図1に示すように、基板1は、白抜き矢印方向に搬送され、第1露光領域22において、光源37から出射した露光光が反射部材33で反射してマスク31に入射し、マスク31を透過した露光光が基板1に照射される。また、第2露光領域23において、光源38から出射した露光光が直接マスク32に入射して、マスク32を透過した露光光が基板1に照射される。これにより、図5に示す従来技術と同様に、基板1に対して、基板搬送方向に向かう方向に垂直方向から傾斜する露光光が、相互に平行光となって、照射される。本実施形態においては、光源37と光源38とを対向させて配置し、相互に近づく方向に露光光を出射するので、第1露光領域22と第2露光領域23との間隔を近接したものとすることができる。このため、露光時の基板の搬送領域24の長さを、従来の搬送領域11,12の長さよりも著しく短縮することができ、この搬送領域24において、基板1を単独の搬送装置で搬送することができる。従って、本実施形態においては、装置全体の大きさを小さくすることができ、設置スペースの削減が可能である。また、本実施形態においては、単独の搬送装置で、露光領域を基板搬送することができるので、装置の設置コストも低減することができる。また、図3に示すように、各露光ヘッドにおけるマスクの交換を、1本の軸40で行うことができ、このマスク交換用の装置も削減することができる。次に、本発明の第2実施形態について、図2を参照して説明する。図2に示すように、本実施形態は、基板1の搬送方向の下流側に設けられた光源38からの露光光26を、反射部材33により反射して、反射後の露光光26をマスク32を介して、基板1に照射するものである。光源37からの露光光25は、そのまま、マスク31を介して基板1に照射する。この場合に、露光光25、26は、マスク31,32及び基板1に対して、垂直方向から傾斜して照射されるが、その傾斜する方向は、図1に示す第1実施形態と異なり、垂直方向から、基板1の搬送方向の下流側に向かう方向に傾斜するものである。本実施形態においても、光源38は、露光光26を、基板1の搬送方向の前方側に向けて垂直から傾斜するように出射する。この露光光26は、反射部材33により反射して、基板1の搬送方向の後方側に向けて垂直から傾斜する方向に進行する。光源37からの露光光25は、基板1の搬送方向の後方側に向けて垂直から傾斜する方向に出射する。そして、露光光25,26は相互に平行になってマスク31,32及び基板1に入射する。従って、本実施形態も第1実施形態と同様に、装置全体が小型化し、設置スペースが小さくて済むと共に、露光領域における基板搬送系も単独の搬送装置で足りる。"