"少なくとも下記スキン層の一方の面にハードコート層を有するλ/4板であって、該λ/4板が、下記式1を満たすセルロースアセテートと下記一般式Iで表される総平均置換度が3.0~6.0の範囲内であるエステル化合物とを含むコア層と、下記式2を満たすセルロースアセテートを含み、前記コア層よりも膜厚が薄いスキン層を該コア層の両面に有するλ/4板であることを特徴とするλ/4板。式12.0≦Z1≦2.5式1中、Z1はコア層のセルロースアセテートのアセチル基置換度を表す。式22.7<Z2<3.0式2中、Z2はスキン層のセルロースアセテートのアセチル基置換度を表す。R1~R8は、置換又は無置換のアルキルカルボニル基、或いは、置換又は無置換のアリルカルボニル基を表し、R1~R8は、同じであっても、異なっていてもよい。前記λ/4板が長尺フィルム状であり、該λ/4板の長手方向と当該λ/4板の面内の遅相軸のなす角度が40~50°の範囲内となるように斜め延伸処理された長尺フィルムであることを特徴とする請求項1に記載のλ/4板。前記コア層に、下記一般式IIで表されるエステル系化合物を含有することを特徴とする請求項1または2に記載のλ/4板。一般式IIB-G-An-G-B式中、Bはアリールカルボン酸残基、ヒドロキシ基またはカルボン酸残基、Gは炭素数2~12のアルキレングリコール残基または炭素数6~12のアリールグリコール残基または炭素数が4~12のオキシアルキレングリコール残基、Aは炭素数4~12のアルキレンジカルボン酸残基または炭素数6~12のアリールジカルボン酸残基を表す。nは1以上の整数を表す。前記ハードコート層が親水性活性線硬化型樹脂を含有することを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載のλ/4板。請求項1~4のいずれか1項に記載のλ/4板の製造方法であって、前記コア層と前記スキン層を下記式3を満たすドープを用いて製造することを特徴とするλ/4板の製造方法。式3NDs/NDc<0.96式中NDs、NDcは、前記スキン層とコア層を構成する材料を同一の溶媒に対して固形分として20質量のドープとした場合における各ドープ粘度を表す請求項1~4のいずれか1項に記載のλ/4板を偏光子と貼合したことを特徴とする円偏光板。請求項1~4のいずれか1項に記載のλ/4板、または請求項6に記載の円偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置。請求項6に記載の円偏光板を表示装置の最表面に設けたことを特徴とする立体映像表示装置。本発明の目的は、内部ヘイズが低く、視認性に影響する微少スジ、むらのないハードコート層を有するλ/4板を提供することにあり、該λ/4板を用いた、首を傾けた時のクロストークの発生がなくコントラスト等の視認性に優れる立体映像表示装置を提供することにある。本発明の上記目的は以下の構成により達成される。1.少なくとも下記スキン層の一方の面にハードコート層を有するλ/4板であって、該λ/4板が、下記式1を満たすセルロースアセテートと下記一般式Iで表される総平均置換度が3.0~6.0の範囲内であるエステル化合物とを含むコア層と、下記式2を満たすセルロースアセテートを含み、前記コア層よりも膜厚が薄いスキン層を該コア層の両面に有するλ/4板であることを特徴とするλ/4板。式12.0≦Z1≦2.5式1中、Z1はコア層のセルロースアセテートのアセチル基置換度を表す。式22.7<Z2<3.0式2中、Z2はスキン層のセルロースアセテートのアセチル基置換度を表す。R1~R8は、置換又は無置換のアルキルカルボニル基、或いは、置換又は無置換のアリルカルボニル基を表し、R1~R8は、同じであっても、異なっていてもよい。2.前記λ/4板が長尺フィルム状であり、該λ/4板の長手方向と当該λ/4板の面内の遅相軸のなす角度が40~50°の範囲内となるように斜め延伸処理された長尺フィルムであることを特徴とする前記1に記載のλ/4板。3.前記コア層に、下記一般式IIで表されるエステル系化合物を含有することを特徴とする前記1または2に記載のλ/4板。一般式IIB-G-An-G-B式中、Bはアリールカルボン酸残基、ヒドロキシ基またはカルボン酸残基、Gは炭素数2~12のアルキレングリコール残基または炭素数6~12のアリールグリコール残基または炭素数が4~12のオキシアルキレングリコール残基、Aは炭素数4~12のアルキレンジカルボン酸残基または炭素数6~12のアリールジカルボン酸残基を表す。nは1以上の整数を表す。4.前記ハードコート層が親水性活性線硬化型樹脂を含有することを特徴とする前記1~3のいずれか1項に記載のλ/4板。5.前記1~4のいずれか1項に記載のλ/4板の製造方法であって、前記コア層と前記スキン層が下記式3を満たすドープを用いて製造することを特徴とするλ/4板の製造方法。式3NDs/NDc<0.96式中NDs、NDcは、前記スキン層とコア層を構成する材料を同一の溶媒に対して固形分として20質量のドープとした場合における各ドープ粘度を表す6.前記1~4のいずれか1項に記載のλ/4板を偏光子と貼合したことを特徴とする円偏光板。7.前記1~4のいずれか1項に記載のλ/4板、または前記6に記載の円偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置。8.前記6に記載の円偏光板を表示装置の最表面に設けたことを特徴とする立体映像表示装置。本発明によれば、内部ヘイズが低く、視認性に影響する微少スジ、むらのないハードコート層を有するλ/4板を提供することにあり、該λ/4板を用いた、首を傾けた時のクロストークの発生がなくコントラスト等の視認性に優れる立体映像表示装置を提供することにある。以下本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。本発明のλ/4板は、少なくとも下記スキン層の一方の面にハードコート層を有するλ/4板であって、該λ/4板が、下記式1を満たすセルロースアセテートと前記一般式Iで表される総平均置換度が3.0~6.0の範囲内であるエステル化合物とを含むコア層と、下記式2を満たすセルロースアセテートを含み、前記コア層よりも膜厚が薄いスキン層を該コア層の両面に有するものであり、かかる構成により、内部ヘイズが低く、視認性に影響する微少スジ、むらのないλ/4板を提供するものである。特にハードコート層を塗設しても微少スジ、むらの発生がなく、該λ/4板を用いることで、首を傾けた時のクロストークの発生がなく、コントラスト等の視認性の改善された立体映像表示装置を提供するものである。式12.0≦Z1≦2.5式1中、Z1はコア層のセルロースアセテートのアセチル基置換度を表す。式22.7<Z2<3.0式2中、Z2はスキン層のセルロースアセテートのアセチル基置換度を表す。前述したように、アセチル基置換度が2.0~2.5のセルロースアセテートを含有するλ/4板は、延伸処理によって複屈折発現性の高いことが特徴であるが、該延伸処理によって微少スジ、むらの発生が見られ、特に立体3D映像表示装置では従来の表示装置では問題とならなかった首を傾けた時のクロストークの原因の一つになることが判明した。特に、該微少スジ、むらは該λ/4板にハードコート層を塗設した際に、該ハードコート層の硬化収縮に伴いハードコート層自体に残ることから、該ハードコート層表面近傍の屈折率にムラを生じ、上記クロストークの原因の一つになることが判った。また、上記微少スジ、むらは、λ/4板を幅手方向に対して斜め45°方向に延伸処理を行う場合に発生が顕著になることも判った。本発明者らの検討によれば、親水性基の多い上記式1で表される低アセチル基置換度のセルロースアセテートに特開2010-32655号明細書段落0060~0070に記載されているような一般的に糖エステルと呼ばれる可塑剤を含有させることによって改善される方向であることを見出したが、その効果は十分ではなく、かつ斜め45°方向の延伸処理やハードコート層を設けた際の微少スジ、むらについては解決できるものではなかった。本発明者らは更に検討を重ねた結果、前記一般式Iで表される総平均置換度が3.0~6.0の範囲内であるエステル化合物は、アセチル基置換度2.0~2.5であるセルロースアセテートとの相溶性に著しく優れ、その為λ/4板を幅手方向に対して斜め45°方向に延伸処理を行った場合においても微少スジ、むらの発生を効果的に抑制し、更に、λ/4板がコア層とその両面に該コア層よりも膜厚の薄いスキン層を有する積層型であって、かつスキン層が式2を満たす高アセチル基置換度であるセルロースアセテートを含有する構成によりコア層にかかる延伸時の応力を効果的に分散すること、及びハードコート層の硬化収縮による応力も分散できることによって、斜め45°方向の延伸処理やハードコート層を設けた際の微少スジ、むら発生の問題を解決できることを見出し、本発明を成すに至った次第である。以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態態様について詳細な説明をする。λ/4板本発明のλ/4板とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光にまたは、円偏光を直線偏光に変換する機能を有するものをいう。λ/4板は、所定の光の波長通常、可視光領域に対して、層の面内の位相差値Roが約1/4となるように設計されている。本発明のλ/4板は、波長590nmで測定したRo590が110~170nmの範囲であることが好ましい。本発明のλ/4板は、可視光の波長の範囲においてほぼ完全な円偏光を得るため、可視光の波長の範囲において概ね波長の1/4のレターデーションを有する位相差板樹脂フィルムであることが好ましい。可視光の波長の範囲において概ね1/4のリターデーションとは、波長400から700nmにおいて長波長ほどリターデーションが大きく、波長450nmで測定した下記式iで表されるリターデーション値であるRo450と波長590nmで測定したリターデーション値であるRo590が、1<Ro590/Ro450≦1.6を満たすことが好ましい。さらにλ/4板として有効に機能するためには、Ro450が100~125nmの範囲内であり、波長550nmで測定したリターデーション値であるRo550が125~142nmの範囲内であり、Ro590が130~152nmの範囲内の位相差フィルムであることがより好ましい。式i:Ro=nx-ny×d式ii:Rt={nxny/2-nz}×d式中、nx、nyは、23°C55RH、450nm、550nm、590nmの各々における屈折率nxフィルムの面内の最大の屈折率、遅相軸方向の屈折率ともいう。、nyフィルム面内で遅相軸に直交する方向の屈折率であり、dはフィルムの厚さnmである。Ro、Rtは自動複屈折率計を用いて測定することができる。自動複屈折率計KOBRA-21ADH王子計測機器株製を用いて、23°C、55RHの環境下で、各波長での複屈折率測定によりRoを算出する。λ/4板の遅相軸と後述する偏光子の透過軸との角度が実質的に45°になるように積層すると円偏光板が得られる。実質的に45°とは、40~50°であることを意味する。λ/4板の面内の遅相軸と偏光子の透過軸との角度は、41~49°であることが好ましく、42~48°であることがより好ましく、43~47°であることが更に好ましく、44~46°であることが最も好ましい。<セルロースアセテート>本発明の位相差フィルムは、下記式1を満たすセルロースアセテートを含むコア層と、下記式2を満たすセルロースアセテートを含み、前記コア層よりも膜厚が薄いスキン層を該コア層の両面に有する延伸処理された位相差フィルムである。式12.0≦Z1≦2.5式1中、Z1はコア層のセルロースアセテートのアセチル基置換度を表す。式22.7<Z2<3.0式2中、Z2はスキン層のセルロースアセテートのアセチル基置換度を表す。セルロースを構成するβ-1,4結合しているグルコース単位は、2位、3位および6位に遊離の水酸基を有している。本発明に係るセルロースアセテートは、これらの水酸基の一部または全部をアセチル化した重合体ポリマーである。アセチル基置換度は、2位、3位および6位に位置するセルロースの水酸基がアセチル化している割合100のアセチル化は置換度1を意味する。なお、アセチル基の置換度は、ASTM-D817-96に規定の方法により求めたものである。コア層に用いられるセルロースアセテートは、安価で製造可能であり、位相差発現性が高く、高い位相差を有しても薄膜化可能であること、高い位相差を発現させても延伸倍率を低く抑えることができ破断等の故障を回避できる等の観点から、アセチル基置換度Z1が、2.0≦Z1≦2.5であるセルロースアセテートであることが好ましく、2.14≦Z1≦2.46であるセルロースジアセテートであることがより好ましい。上記セルロースアセテートのアセチル基置換度が2.00以下の場合には、ドープ粘度の上昇によるフィルム面品質の劣化、延伸張力の上昇によるヘイズアップなどが発生することがある。また、アセチル基置換度が2.5を越える場合は、必要な位相差が得られ難い。一方、スキン層のセルロースアセテートのアセチル基置換度Z2は、2.7<Z2<3.0であり、外側の層スキン層に高アセチル基置換度のセルロースアセテートを配することにより、コア層にかかる延伸時の応力を効果的に分散でき、更にハードコート層の硬化収縮による応力も分散できるため、斜め45°方向の延伸処理やハードコート層を設けた際の微少スジ、むら発生を顕著に抑制できる。より好ましいアセチル基置換度Z2は、2.74<Z2<2.96のトリアセチルセルロースである。セルロースアセテートの数平均分子量Mnは、30000~300000の範囲が得られるフィルムの機械的強度が強く好ましい。更に50000~200000のものが好ましく用いられる。セルロースアセテートの重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnの比Mw/Mnの値は、1.4~3.0であることが好ましい。セルロースアセテートの数平均分子量Mn、重量平均分子量Mwは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCを用いて測定した。測定条件は以下の通りである。溶媒:メチレンクロライドカラム:ShodexK806、K805、K803G昭和電工株製を3本接続して使用したカラム温度:25°C試料濃度:0.1質量検出器:RIModel504GLサイエンス社製ポンプ:L6000日立製作所株製流量:1.0ml/min校正曲線:標準ポリスチレンSTKstandardポリスチレン東ソー株製Mw=1000000~500の13サンプルによる校正曲線を使用した。13サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。セルロースアセテートの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ針葉樹由来、広葉樹由来、ケナフ等を挙げることが出来る。またそれらから得られたセルロースアセテートはそれぞれ任意の割合で混合使用することが出来る。セルロースのアセチル化において、アセチル化剤としては、酸無水物や酸クロライドを用いた場合、反応溶媒である有機溶媒としては、有機酸、例えば、酢酸、メチレンクロライド等が使用される。触媒としては、アセチル化剤が酸無水物である場合には、硫酸のようなプロトン性触媒が好ましく用いられ、アセチル化剤が酸クロライド例えば、CH3CH2COClである場合には、塩基性化合物が用いられる。本発明に係るセルロースアセテートは、公知の方法により製造することができる。具体的には特開平10-45804、特開2009-161701号などに記載の方法を参考にして合成することができる。市販品としては、ダイセル社L20、L30、L40、L50、イーストマンケミカル社のCa398-3、Ca398-6、Ca398-10、Ca398-30、Ca394-60S等が挙げられる。糖エステル化合物本発明のλ/4板はそのコア層に、下記一般式Iで表されるエステル化合物本発明では糖エステル化合物と呼称を含有すること必要であるが、含有することによって延伸によるヘイズを防ぎ、安定な位相差発現を促す上で好ましい。本発明に用いられる一般式Iで表される化合物の平均置換度は3.0~6.0であることが、延伸処理においてヘイズ上昇を抑制し安定な位相差を発現する上でも有効である。平均置換度はより好ましくは4.5~6.0の範囲である。本発明において、一般式Iで表される化合物の置換度とは、一般式Iに含まれる8つの水酸基のうち、水素以外の置換基で置換されている数を表し、すなわち、一般式IのR1~R8のうち、水素以外の基を含む数を表す。したがって、R1~R8がすべて水素以外の置換基により置換された場合に、置換度は最大値の8.0となり、R1~R8がすべて水素原子である場合には、0.0となる。一般式Iで表される構造を有する化合物は、水酸基の数、OR基の数が固定された単一種の化合物を合成することは困難であり、式中の水酸基の数、OR基の異なる成分が数種類混合された化合物となることが知られているため、本発明における一般式Iの置換度としては、平均置換度を用いることが適当であり、常法により高速液体クロマトグラフィーによって置換度分布を示すチャートの面積比から平均置換度を測定することができる。一般式Iにおいて、R1~R8は、置換又は無置換のアルキルカルボニル基、或いは、置換又は無置換のアリルカルボニル基を表し、R1~R8は、同じであっても、異なっていてもよい。本発明に用いられる糖エステル化合物の合成原料の糖の例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロース、あるいはアラビノース、ラクトース、スクロース、ニストース、1F-フラクトシルニストース、スタキオース、マルチトール、ラクチトール、ラクチュロース、セロビオース、マルトース、セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノースあるいはケストース挙げられる。この他、ゲンチオビオース、ゲンチオトリオース、ゲンチオテトラオース、キシロトリオース、ガラクトシルスクロースなども挙げられる。本発明に用いられる糖エステル化合物の合成時に用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。用いられるカルボン酸は1種類でもよいし2種以上の混合であってもよい。好ましい脂肪族モノカルボン酸の例としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2-エチル-ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、オクテン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環に1~5個のアルキル基もしくはアルコキシ基を導入した芳香族モノカルボン酸、ケイ皮酸、ベンジル酸、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を2個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができるが、特に安息香酸が好ましい。具体例の一部を以下に示すが、これらは、R1~R8をすべて同じ置換基Rとした場合であって、本発明はこれらに限定されない。本発明に用いられる糖エステル化合物は、糖エステルに、アシル化剤エステル化剤ともいう、例えば、アセチルクロライドの酸ハロゲン化物、無水酢酸等の無水物を反応させることによって製造することが可能であり、置換度の分布は、アシル化剤の量、添加タイミング、エステル化反応時間の調節によって成されるが、置換度違いの糖エステル化合物の混合、あるいは純粋に単離した置換度違いの化合物を混合することにより、目的の平均置換度、置換度4以下の成分を調整することができる。合成例:本発明に係る化合物の合成撹拌装置、還流冷却器、温度計及び窒素ガス導入管を備えた四頭コルベンに、ショ糖34.2g0.1モル、無水安息香酸135.6g0.6モル、ピリジン284.8g3.6モルを仕込み、撹拌下に窒素ガス導入管から窒素ガスをバブリングさせながら昇温し、70°Cで5時間エステル化反応を行った。次に、コルベン内を4×102Pa以下に減圧し、60°Cで過剰のピリジンを留去した後に、コルベン内を1.3×10Pa以下に減圧し、120°Cまで昇温させ、無水安息香酸、生成した安息香酸の大部分を留去した。そして、次にトルエン1L、0.5質量の炭酸ナトリウム水溶液300gを添加し、50°Cで30分間撹拌後、静置して、トルエン層を分取した。最後に、分取したトルエン層に水100gを添加し、常温で30分間水洗後、トルエン層を分取し、減圧下4×102Pa以下、60°Cでトルエンを留去させ、化合物A-1、A-2、A-3、A-4及びA-5等の混合物である糖エステル化合物1を得た。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィー-質量分析HPLC-MSで解析したところ、A-1が1.2質量、A-2が13.2質量、A-3が14.2質量、A-4が35.4質量、A-5等が40.0質量であった。平均置換度は5.2であった。同様に、無水安息香酸158.2g0.7モル、146.9g0.65モル、135.6g0.6モル、124.3g0.55モルと当モルのピリジンとを反応させて、表1記載のような成分の糖エステルを得た。ついで、得られた混合物の一部を、シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーにより精製することで、それぞれ純度100のA-1、A-2、A-3、A-4及びA-5等を得た。なお、A-5等とは、置換度4以下のすべての成分、つまり置換度4、3、2、1の化合物の混合物であることを意味する。また、平均置換度は、A-5等を置換度4として計算した。本発明においては、ここで作製した方法により所望の平均置換度に近い糖エステルおよび単離したA-1~A-5等を組み合わせ添加することにより、平均置換度を調整した。<HPLC-MSの測定条件>1LC部装置:日本分光株製カラムオーブンJASCOCO-965、ディテクターJASCOUV-970-240nm、ポンプJASCOPU-980、デガッサ-JASCODG-980-50カラム:InertsilODS-3粒子径5μm4.6×250mmジーエルサイエンス株製カラム温度:40°C流速:1ml/min移動相:THF1酢酸:H2O50:50注入量:3μl2MS部装置:LCQDECAThermoQuest株製イオン化法:エレクトロスプレーイオン化ESI法SprayVoltage:5kVCapillary温度:180°CVaporizer温度:450°C本発明のλ/4板は、上記糖エステル化合物を、λ/4板中に1~20質量、特に3~15質量含むことが好ましい。この範囲内であれば、本発明の優れた効果を呈すると共に、原反保管中におけるブリードアウトなどもなく好ましい。可塑剤本発明のλ/4板の製造方法は、前記コア層と前記スキン層が下記式3を満たすドープを用いて製造することが、内部ヘイズを低下し、微少スジ、むらの発生を抑制する上で好ましい。式3NDs/NDc<0.96式中NDs、NDcは、前記スキン層とコア層を構成する材料を同一の溶媒に対して固形分として20質量のドープとした場合における各ドープ粘度を表す上記式3は、0.6<NDs/NDc<0.96であることが好ましく、0.6以下であるとフィルムの機械的強度が低下し、0.96以上であると内部ヘイズが上昇し、微少スジ、むらの発生が大きくなる。上記NDs、NDcの測定は、以下の方法で行うことができる。粘度測定法コア層、及びスキン層に用いられるセルロースアセテートと添加剤を、実際の各層の構成比率になるように混合物とし、該混合物を溶剤混合比率は、メチレンクロライド85、エタノール15に固形分として20質量になるように溶解させてドープを調製する。次いで、35°C恒温水槽中に2時間静置後、回転式粘度計を用いて正確に1分後の粘度を測定して求める。回転式粘度計:芝浦システム株式会社ビスメトロン粘度計VSAローター:No.4回転数:3rpm測定温度:35°C本発明では芝浦システム株式会社のビスメトロン粘度計VSAにより35°Cにて測定した。粘度の単位はパスカル秒Pasであるが、通常はミリパスカル秒mPasを用いる。本発明では上記式3を満たすには、セルロースアセテートの種類アセチル基置換度、分子量、セルロースアセテートに対する糖エステル化合物や可塑剤の含有量を調整することで達成できる。本発明のλ/4板は、本発明の効果を得る上で適量の可塑剤を含有することが好ましい。可塑剤は特に限定されないが、好ましくは、多価カルボン酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤及び多価アルコールエステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、アクリル系可塑剤等から選択される。そのうち、多価アルコールエステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤が好ましい。多価アルコールエステルは2価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなり、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。用いられる多価アルコールは次の一般式1で表される。一般式1R1-OHn式中、R1はn価の有機基、nは2以上の正の整数を表す好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,2-プロパンジオール、1,3-プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2-ブタンジオール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、ジブチレングリコール、1,2,4-ブタントリオール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、3-メチルペンタン-1,3,5-トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどを挙げることができる。中でも、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールが好ましい。多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸などを用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると、透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。好ましいモノカルボン酸の例としては、以下のようなものを挙げることができるが、これに限定されるものではない。脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数1~32の直鎖または側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数1~20であることが更に好ましく、炭素数1~10であることが特に好ましい。酢酸を用いるとセルロースアセテートとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2-エチル-ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などを挙げることができる。好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を2個以上持つ芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。特に、安息香酸が好ましい。多価アルコールエステルの分子量300~1500の範囲であることが好ましく、350~750の範囲であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースアセテートとの相溶性の点では小さい方が好ましい。多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は一種類でもよいし、二種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のOH基は全てエステル化してもよいし、一部をOH基のままで残してもよい。以下に、多価アルコールエステルの具体的化合物を示す。この他、トリメチロールプロパントリアセテート、ペンタエリスリトールテトラアセテートなども好ましく用いられる。グリコレート系可塑剤は特に限定されないが、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が好ましく用いることができる。アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例えばメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられる。フタル酸エステル系可塑剤としては、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ-2-エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が挙げられる。クエン酸エステル系可塑剤としては、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等が挙げられる。脂肪酸エステル系可塑剤として、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル等が挙げられる。リン酸エステル系可塑剤としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が挙げられる。多価カルボン酸エステル化合物としては、2価以上、好ましくは2価~20価の多価カルボン酸とアルコールのエステルよりなる。また、脂肪族多価カルボン酸は2~20価であることが好ましく、芳香族多価カルボン酸、脂環式多価カルボン酸の場合は3価~20価であることが好ましい。多価カルボン酸は次の一般式2で表される。一般式2R2COOHmOHn但し、R2はmn価の有機基、mは2以上の正の整数、nは0以上の整数、COOH基はカルボキシル基、OH基はアルコール性またはフェノール性水酸基を表す好ましい多価カルボン酸の例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸のような3価以上の芳香族多価カルボン酸またはその誘導体、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、テトラヒドロフタル酸のような脂肪族多価カルボン酸、酒石酸、タルトロン酸、リンゴ酸、クエン酸のようなオキシ多価カルボン酸などを好ましく用いることができる。特にオキシ多価カルボン酸を用いることが、保留性向上などの点で好ましい。本発明に用いることのできる多価カルボン酸エステル化合物に用いられるアルコールとしては特に制限はなく公知のアルコール、フェノール類を用いることができる。例えば炭素数1~32の直鎖または側鎖を持った脂肪族飽和アルコールまたは脂肪族不飽和アルコールを好ましく用いることができる。炭素数1~20であることが更に好ましく、炭素数1~10であることが特に好ましい。また、シクロペンタノール、シクロヘキサノールなどの脂環式アルコールまたはその誘導体、ベンジルアルコール、シンナミルアルコールなどの芳香族アルコールまたはその誘導体なども好ましく用いることができる。多価カルボン酸としてオキシ多価カルボン酸を用いる場合は、オキシ多価カルボン酸のアルコール性またはフェノール性の水酸基をモノカルボン酸を用いてエステル化しても良い。好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。脂肪族モノカルボン酸としては炭素数1~32の直鎖または側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数1~20であることが更に好ましく、炭素数1~10であることが特に好ましい。好ましい脂肪族モノカルボン酸としては酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2-エチル-ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などを挙げることができる。好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を2個以上もつ芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。特に酢酸、プロピオン酸、安息香酸であることが好ましい。多価カルボン酸エステル化合物の分子量は特に制限はないが、分子量300~1000の範囲であることが好ましく、350~750の範囲であることが更に好ましい。保留性向上の点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロースアセテートとの相溶性の点では小さい方が好ましい。多価カルボン酸エステルに用いられるアルコール類は一種類でも良いし、二種以上の混合であっても良い。多価カルボン酸エステル化合物の酸価は1mgKOH/g以下であることが好ましく、0.2mgKOH/g以下であることが更に好ましい。酸価を上記範囲にすることによって、リターデーションの環境変動も抑制されるため好ましい。酸価酸価とは、試料1g中に含まれる酸試料中に存在するカルボキシル基を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数をいう。酸価はJISK0070に準拠して測定したものである。特に好ましい多価カルボン酸エステル化合物の例を以下に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、トリエチルシトレート、トリブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレートATEC、アセチルトリブチルシトレートATBC、ベンゾイルトリブチルシトレート、アセチルトリフェニルシトレート、アセチルトリベンジルシトレート、酒石酸ジブチル、酒石酸ジアセチルジブチル、トリメリット酸トリブチル、ピロメリット酸テトラブチル等が挙げられる。一般式IIで表されるエステル系化合物本発明のλ/4板は、可塑剤の中で、特に下記一般式IIで表されるエステル系化合物を含有することが、延伸によるヘイズを防ぎ、破断等を抑制する上で好ましい。エステル系化合物は、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有するエステル系化合物を用いることが好ましい。エステル系化合物としては、下記一般式IIで表せる芳香族末端エステル系可塑剤を用いることが好ましい。一般式IIB-G-An-G-B式中、Bはベンゼンモノカルボン酸残基、Gは炭素数2~12のアルキレングリコール残基または炭素数6~12のアリールグリコール残基または炭素数が4~12のオキシアルキレングリコール残基、Aは炭素数4~12のアルキレンジカルボン酸残基または炭素数6~12のアリールジカルボン酸残基を表し、またnは1以上の整数を表す。一般式II中、Bで示されるベンゼンモノカルボン酸残基とGで示されるアルキレングリコール残基またはオキシアルキレングリコール残基またはアリールグリコール残基、Aで示されるアルキレンジカルボン酸残基またはアリールジカルボン酸残基とから構成されるものであり、通常のポリエステル系可塑剤と同様の反応により得られる。ポリエステル系可塑剤のベンゼンモノカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、これらはそれぞれ1種または2種以上の混合物として使用することができる。エステル系可塑剤の炭素数2~12のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、1,2-プロピレングリコール、1,3-プロピレングリコール、1,2-ブタンジオール、1,3-ブタンジオール、1,2-プロパンジオール、2-メチル1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、2,2-ジメチル-1,3-プロパンジオールネオペンチルグリコール、2,2-ジエチル-1,3-プロパンジオール3,3-ジメチロールペンタン、2-n-ブチル-2-エチル-1,3プロパンジオール3,3-ジメチロールヘプタン、3-メチル-1,5-ペンタンジオール1,6-ヘキサンジオール、2,2,4-トリメチル1,3-ペンタンジオール、2-エチル1,3-ヘキサンジオール、2-メチル1,8-オクタンジオール、1,9-ノナンジオール、1,10-デカンジオール、1,12-オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、1種または2種以上の混合物として使用される。特に炭素数2~12のアルキレングリコールがセルロースアセテートとの相溶性に優れているため、特に好ましい。また、上記芳香族末端エステルの炭素数4~12のオキシアルキレングリコール成分としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等があり、これらのグリコールは、1種または2種以上の混合物として使用できる。芳香族末端エステルの炭素数4~12のアルキレンジカルボン酸成分としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、フマール酸、グルタール酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等があり、これらは、それぞれ1種または2種以上の混合物として使用される。炭素数6~12のアリーレンジカルボン酸成分としては、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、1,5ナフタレンジカルボン酸、1,4ナフタレンジカルボン酸等がある。一般式IIで表されるエステル系可塑剤は、数平均分子量が、好ましくは300~1500、より好ましくは400~1000の範囲が好適である。また、その酸価は、0.5mgKOH/g以下、水酸基価は25mgKOH/g以下、より好ましくは酸価0.3mgKOH/g以下、水酸基価は15mgKOH/g以下のものである。以下、芳香族末端エステル系可塑剤の合成例を示す。サンプルNo.1芳香族末端エステルサンプル反応容器にフタル酸410部、安息香酸610部、ジプロピレングリコール737部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート0.40部を一括して仕込み窒素気流中で攪拌下、還流凝縮器を付して過剰の1価アルコールを還流させながら、酸価が2以下になるまで130~250°Cで加熱を続け生成する水を連続的に除去した。次いで200~230°Cで1.33×104Pa~最終的に4×102Pa以下の減圧下、留出分を除去し、この後濾過して次の性状を有する芳香族末端エステル系可塑剤を得た。粘度25°C、mPas;43400酸価;0.2サンプルNo.2芳香族末端エステルサンプル反応容器に、フタル酸410部、安息香酸610部、エチレングリコール341部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート0.35部を用いる以外はサンプルNo.1と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。粘度25°C、mPas;31000酸価;0.1サンプルNo.3芳香族末端エステルサンプル反応容器に、フタル酸410部、安息香酸610部、1,2-プロパンジオール418部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート0.35部を用いる以外はサンプルNo.1と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。粘度25°C、mPas;38000酸価;0.05サンプルNo.4芳香族末端エステルサンプル反応容器に、フタル酸410部、安息香酸610部、1,3-プロパンジオール418部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート0.35部を用いる以外はサンプルNo.1と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。粘度25°C、mPas;37000酸価;0.05以下に、芳香族末端エステル系可塑剤の具体的化合物を示すが、本発明はこれに限定されない。本発明のλ/4板は、上記エステル系化合物を、λ/4板中に1~20質量、特に3~11質量含むことが好ましい。この範囲内であれば、本発明の優れた効果を呈すると共に、破断等の故障を抑制することができる。紫外線吸収剤本発明のλ/4板は、紫外線吸収剤を含有することもできる。紫外線吸収剤は400nm以下の紫外線を吸収することで、耐久性を向上させることを目的としており、特に波長370nmでの透過率が10以下であることが好ましく、より好ましくは5以下、更に好ましくは2以下である。本発明に用いられる紫外線吸収剤は特に限定されないが、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。例えば、5-クロロ-2-3,5-ジ-sec-ブチル-2-ヒドロキシルフェニル-2H-ベンゾトリアゾール、2-2H-ベンゾトリアゾール-2-イル-6-直鎖及び側鎖ドデシル-4-メチルフェノール、2-ヒドロキシ-4-ベンジルオキシベンゾフェノン、2,4-ベンジルオキシベンゾフェノン等があり、また、チヌビン109、チヌビン171、チヌビン234、チヌビン326、チヌビン327、チヌビン328等のチヌビン類があり、これらは何れもBASFジャパン社製の市販品であり好ましく使用できる。本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤であり、特に好ましくはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、である。以下に本発明に用いられるベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。UV-1:2-2′-ヒドロキシ-5′-メチルフェニルベンゾトリアゾールUV-2:2-2′-ヒドロキシ-3′,5′-ジ-tert-ブチルフェニルベンゾトリアゾールUV-3:2-2′-ヒドロキシ-3′-tert-ブチル-5′-メチルフェニルベンゾトリアゾールUV-4:2-2′-ヒドロキシ-3′,5′-ジ-tert-ブチルフェニル-5-クロロベンゾトリアゾールUV-5:2-2′-ヒドロキシ-3′-3′′,4′′,5′′,6′′-テトラヒドロフタルイミドメチル-5′-メチルフェニルベンゾトリアゾールUV-6:2,2-メチレンビス4-1,1,3,3-テトラメチルブチル-6-2H-ベンゾトリアゾール-2-イルフェノールUV-7:2-2′-ヒドロキシ-3′-tert-ブチル-5′-メチルフェニル-5-クロロベンゾトリアゾールUV-8:2-2H-ベンゾトリアゾール-2-イル-6-直鎖及び側鎖ドデシル-4-メチルフェノールTINUVIN171UV-9:オクチル-3-3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-クロロ-2H-ベンゾトリアゾール-2-イルフェニルプロピオネートと2-エチルヘキシル-3-3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-5-クロロ-2H-ベンゾトリアゾール-2-イルフェニルプロピオネートの混合物TINUVIN109以下にベンゾフェノン系紫外線吸収剤の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。UV-10:2,4-ジヒドロキシベンゾフェノンUV-11:2,2′-ジヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノンUV-12:2-ヒドロキシ-4-メトキシ-5-スルホベンゾフェノンUV-13:ビス2-メトキシ-4-ヒドロキシ-5-ベンゾイルフェニルメタンこの他、1,3,5-トリアジン環を有する化合物等の円盤状化合物も紫外線吸収剤として好ましく用いられる。本発明のλ/4板は紫外線吸収剤を2種以上を含有することが好ましい。また、紫外線吸収剤としては高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることができ、特に特開平6-148430号記載のポリマータイプの紫外線吸収剤が好ましく用いられる。紫外線吸収剤の添加方法は、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコールやメチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等の有機溶媒或いはこれらの混合溶媒に紫外線吸収剤を溶解してからドープに添加するか、または直接ドープ組成中に添加してもよい。無機粉体のように有機溶剤に溶解しないものは、有機溶剤とセルロースアセテート中にディゾルバーやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。紫外線吸収剤の使用量は、紫外線吸収剤の種類、使用条件等により一様ではないが、λ/4板の乾燥膜厚が30~200μmの場合は、λ/4板に対して0.5~10質量が好ましく、0.6~4質量が更に好ましい。微粒子本発明のλ/4板は、微粒子を含有することが滑り性を向上してツレ等の搬送不良を解消する観点で好ましい。微粒子としては、無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等を挙げることができる。微粒子は珪素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。微粒子の一次粒子の平均粒径は5~400nmが好ましく、更に好ましいのは10~300nmである。これらは主に粒径0.05~0.3μmの2次凝集体として含有されていてもよく、平均粒径100~400nmの粒子であれば凝集せずに一次粒子として含まれていることも好ましい。λ/4板中のこれらの微粒子の含有量は0.01~1質量であることが好ましく、特に0.05~0.5質量が好ましい。共流延法による多層構成のλ/4板の場合は、表面にこの添加量の微粒子を含有することが好ましい。二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600以上日本アエロジル株製の商品名で市販されており、使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルR976及びR811以上日本アエロジル株製の商品名で市販されており、使用することができる。ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール103、同105、同108、同120、同145、同3120及び同240以上東芝シリコーン株製の商品名で市販されており、使用することができる。これらの中でもアエロジル200V、アエロジルR972Vがλ/4板のヘイズを低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましく用いられる。本発明のλ/4板においては、少なくとも一方の面の動摩擦係数が0.2~1.0であることが好ましい。染料本発明のλ/4板には、色味調整のため染料を添加することもできる。例えば、フィルムの黄色味を抑えるために青色染料を添加してもよい。好ましい染料としてはアンスラキノン系染料が挙げられる。アンスラキノン系染料は、アンスラキノンの1位から8位迄の任意の位置に任意の置換基を有することができる。好ましい置換基としてはアニリノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、または水素原子が挙げられる。特に特開2001-154017号記載の青色染料、特にアントラキノン系染料を含有することが好ましい。各種添加剤は製膜前のセルロースアセテート含有溶液であるドープにバッチ添加してもよいし、添加剤溶解液を別途用意してインライン添加してもよい。特に微粒子は濾過材への負荷を減らすために、一部または全量をインライン添加することが好ましい。添加剤溶解液をインライン添加する場合は、ドープとの混合性をよくするため、少量のセルロースアセテートに溶解するのが好ましい。好ましいセルロースアセテートの量は、溶剤100質量部に対して1~10質量部で、より好ましくは、3~5質量部である。本発明においてインライン添加、混合を行うためには、例えば、スタチックミキサー東レエンジニアリング製、SWJ東レ静止型管内混合器Hi-Mixer等のインラインミキサー等が好ましく用いられる。<λ/4板の製造方法>次に、本発明のλ/4板の製造方法について説明する。本発明のλ/4板は溶液流延法で製造されたフィルムであっても、溶融流延法で製造されたフィルムであっても好ましく用いることができる。本発明のλ/4板の溶液流延法での製造は、セルロースアセテートおよび添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープを無限に移行する無端の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸または幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻取る工程により行われる。ドープ調製ドープを調製する工程について述べる。ドープ中のセルロースアセテートの濃度は、濃度が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減出来て好ましいが、セルロースアセテートの濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、10~35質量が好ましく、更に好ましくは、15~25質量である。本発明に係るドープで用いられる溶剤は、単独で用いても二種以上を併用してもよいが、セルロースアセテートの良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶剤が多い方がセルロースアセテートの溶解性の点で好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範囲は、良溶剤が70~98質量であり、貧溶剤が2~30質量である。良溶剤、貧溶剤とは、使用するセルロースアセテートを単独で溶解するものを良溶剤、単独で膨潤するか又は溶解しないものを貧溶剤と定義している。そのため、セルロースアセテートのアセチル基置換度によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばアセトンを溶剤として用いる時には、セルロースの酢酸エステルアセチル基置換度2.4では良溶剤になり、セルロースの酢酸エステルアセチル基置換度2.8では貧溶剤となる。本発明に用いられる良溶剤は特に限定されないが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル、アセト酢酸メチル等が挙げられる。特に好ましくはメチレンクロライド又は酢酸メチルが挙げられる。また、本発明に用いられる貧溶剤は特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、n-ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が好ましく用いられる。また、ドープ中には水が0.01~2質量含有していることが好ましい。上記記載のドープを調製する時の、セルロースアセテートの溶解方法としては、一般的な方法を用いることができる。加熱と加圧を組み合わせると常圧における沸点以上に加熱できる。溶剤の常圧での沸点以上でかつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため好ましい。また、セルロースアセテートを貧溶剤と混合して湿潤或いは膨潤させた後、更に良溶剤を添加して溶解する方法も好ましく用いられる。加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱によって溶剤の蒸気圧を上昇させる方法によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。溶剤を添加しての加熱温度は、高い方がセルロースアセテートの溶解性の観点から好ましいが、加熱温度が高過ぎると必要とされる圧力が大きくなり生産性が悪くなる。好ましい加熱温度は45~120°Cであり、60~110°Cがより好ましく、70°C~105°Cが更に好ましい。また、圧力は設定温度で溶剤が沸騰しないように調整される。若しくは冷却溶解法も好ましく用いられ、これによって酢酸メチルなどの溶媒にセルロースアセテートを溶解させることができる。次に、このセルロースアセテート溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生しやすいという問題がある。このため絶対濾過精度0.008mm以下の濾材が好ましく、0.001~0.008mmの濾材がより好ましく、0.003~0.006mmの濾材が更に好ましい。濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン登録商標等のプラスチック製の濾材や、ステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過により、原料のセルロースアセテートに含まれていた不純物、特に輝点異物を除去、低減することが好ましい。輝点異物とは、二枚の偏光板をクロスニコル状態にして配置し、その間にセルロースアセテートフィルムを置き、一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察した時に反対側からの光が漏れて見える点異物のことであり、径が0.01mm以上である輝点数が200個/cm2以下であることが好ましい。より好ましくは100個/cm2以下であり、更に好ましくは50個/m2以下であり、更に好ましくは0~10個/cm2以下である。また、0.01mm以下の輝点も少ない方が好ましい。ドープの濾過は通常の方法で行うことができるが、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差差圧というの上昇が小さく、好ましい。好ましい温度は45~120°Cであり、45~70°Cがより好ましく、45~55°Cであることが更に好ましい。濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は1.6MPa以下であることが好ましく、1.2MPa以下であることがより好ましく、1.0MPa以下であることが更に好ましい。ここで、ドープの流延について説明する。積層λ/4板本発明のλ/4板は、コア層と前記コア層よりも膜厚が薄いスキン層を該コア層の両面に有するλ/4板であり、コア層及びスキン層に調製したセルロースアセテート溶液ドープから、ソルベントキャスト法により多層構造を有する積層λ/4板を製造することができる。共流延本発明では調製されたセルロースアセテート溶液ドープは、支持体としての平滑なバンド上或いはドラム上に前記2種以上の複数のセルロースアセテート溶液を流延して製膜することが好ましい。上記2種以上のドープを同時に支持体上に流延してもよいし、別々に支持体上に流延してもよい。別々に流延する逐次流延法の場合は、支持体側のドープを先に流延して支持体上である程度乾燥させた後に、その上に重ねて流延することが出来る。また、3種以上のドープを使用する場合、同時流延共流延ともいうと逐次流延を適宜組み合せて流延し、積層構造のフィルムを作製することも出来る。共流延若しくは逐次流延によって製膜されるこれらの方法は、乾燥されたフィルム上に塗布する方法とは異なり、積層構造の各層の境界が不明確になり、断面の観察で積層構造が明確には分かれないことがあるという特徴があり、各層間の密着性を向上させる効果がある。本発明のλ/4板の製造方法は、生産性の観点からは共流延で行うことが好ましく、公知の共流延方法を用いることができる。例えば、金属支持体の進行方向に間隔を置いて設けた複数の流延口からセルロースアセテートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製してもよく、例えば特開昭61-158414号、特開平1-122419号、特開平11-198285号の各公報などに記載の方法が適応できる。また、2つの流延口からセルロースアセテート溶液を流延することによってもフィルム化することでもよく、例えば特公昭60-27562号、特開昭61-94724号、特開昭61-947245号、特開昭61-104813号、特開昭61-158413号、特開平6-134933号の各公報に記載の方法で実施できる。また、特開昭56-162617号公報に記載の高粘度セルロースエステル溶液の流れを低粘度のセルロースエステル溶液で包み込み、その高,低粘度のセルロースエステル溶液を同時に押出すセルロースエステルフィルム流延方法でもよい。更に又、特開昭61-94724号、特開昭61-94725号の各公報に記載の外側の溶液が内側の溶液よりも貧溶媒であるアルコール成分を多く含有させることも好ましい態様である。あるいは、また、2個の流延口を用いて、第一の流延口により金属支持体に成型したフィルムを剥離し、金属支持体面に接していた側に第二の流延を行うことでより、フィルムを作製することでもよく、例えば特公昭44-20235号公報に記載されている方法である。図1は共流延ダイ及び流延して多層構造ウェブ流延直後はウェブをドープ膜ともいうことがあるを形成したところを表した模式図である。共流延は図1に示すように、共流延ダイ10の口金部分11に複数図2では三つのスキン層用スリット13と15、コア層用スリット14を有しており、金属支持体16の上に同時にそれぞれのスリットからスキン層用ドープ17、コア層用ドープ18、及びスキン層用ドープ19を流延することにより、スキン層21/コア層22/スキン層23の多層構造のウェブ20を形成する。流延するセルロースアセテート溶液は同一の溶液でもよいし、異なるセルロースアセテート溶液でもよいが、前記密着改良剤に分布を持たせるには異なるセルロースアセテート溶液が好ましい。複数のセルロースアセテート層に機能を持たせるために、その機能に応じたセルロースアセテート溶液を、それぞれの流延口から押出せばよい。さらに本発明に係るセルロースアセテート溶液は、他の機能層例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、UV吸収層、偏光層などを同時に流延することも実施しうる。本発明のフィルムを製造する方法としては、製膜が同時または逐次での多層流延製膜であることが好ましい。以上から、共流延の場合、前述の可塑剤、紫外線吸収剤、マット剤、その他添加剤等の添加物濃度、添加物種類が異なるセルロースアセテート溶液ドープを共流延して、所望の積層構造のセルロースアセテートフィルムを作製することもできる。本発明では、多層流延したドープを乾燥させて支持体から剥離する。ドープは、ドラムまたは金属支持体上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が18~35質量となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたは金属支持体の表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法については、米国特許2336310号、同2367603号、同2492078号、同2492977号、同2492978号、同2607704号、同2739069号、同2739070号、英国特許640731号、同736892号の各明細書、特公昭45-4554号、同49-5614号、特開昭60-176834号、同60-203430号、同62-115035号の各公報に記載がある。ドープは、表面温度が10°C以下のドラムまたは金属支持体上に流延することが好ましい。流延してから2秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフィルムをドラムまたは金属支持体から剥ぎ取り、さらに100°Cから160°Cまで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶媒を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平5-17844号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたは金属支持体の表面温度においてドープがゲル化することが必要である。流延キャスト工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は1~4mとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は-50°C~溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高過ぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度としては0~100°Cで適宜決定され、5~30°Cが更に好ましい。或いは、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。本発明に用いられるセルロースアセテートフィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は10~150質量が好ましく、更に好ましくは20~40質量又は60~130質量であり、特に好ましくは、20~30質量又は70~120質量である。また、該金属支持体上の剥離位置における温度を-50~40°Cとするのが好ましく、10~40°Cがより好ましく、15~30°Cとするのが最も好ましい。本発明においては、残留溶媒量は下記式で定義される。残留溶媒量質量={M-N/N}×100なお、Mはウェブ又はフィルムを製造中又は製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、NはMを115°Cで1時間の加熱後の質量である。また、セルロースアセテートフィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量が0.5質量以下となるまで乾燥される。フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式上下に配置した多数のロールをウェブを交互に通し乾燥させる方式やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。前記金属支持体から剥離する際に、剥離張力及びその後の搬送張力によってウェブは縦方向に延伸する為、本発明においては流延支持体からウェブを剥離する際は剥離及び搬送張力をできるだけ下げた状態で行うことが好ましい。具体的には、例えば50~170N/m以下にすることが効果的である。その際、20°C以下の冷風を当て、ウェブを急速に固定化することが好ましい。セルロースアセテートフィルムは、更に延伸処理により屈折率面内の遅相軸方向の屈折率nx、面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率ny及び厚さ方向の屈折率nzを調整することができる。延伸工程本発明のλ/4板は、波長590nmで測定した面内方向のレターデーションRo590が110~170nmの範囲であることが好ましいが、該レターデーションはフィルム延伸によって付与することが好ましい。延伸する方法には特に限定はない。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げて縦方向に延伸する方法、同様に横方向に広げて横方向に延伸する方法、あるいは縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法などが挙げられる。もちろんこれ等の方法は、組み合わせて用いてもよい。すなわち、製膜方向に対して横方向に延伸しても、縦方向に延伸しても、両方向に延伸してもよく、さらに両方向に延伸する場合は同時延伸であっても、逐次延伸であってもよい。なお、いわゆるテンター法の場合、リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動すると滑らかな延伸が行うことができ、破断等の危険性が減少できるので好ましい。本発明においては特に、延伸はフィルム搬送ロールの周速差を利用して搬送方向に行うか、若しくは搬送方向と直交方向幅手方向又はTD方向ともいうにウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で行うことが好ましく、更に左右把持手段によってウェブの把持長把持開始から把持終了までの距離を左右で独立に制御できるテンターを用いることも好ましい。また、本発明のλ/4板が長尺フィルム状であり、該λ/4板の長手方向と当該λ/4板の面内の遅相軸のなす角度が40~50°の範囲内となるように斜め延伸処理された長尺フィルムであることも好ましく、延伸工程でフィルム長手方向に対して45°方向に延伸することも好ましい。これは、VA型やIPS型液晶表示装置などに用いられる偏光板のように、偏光軸が偏光板の長辺方向あるいは短辺方向に平行である表示装置の表面に設けるλ/4板では、ロール状のポリマーフィルムからなるλ/4板の長手方向と面内の遅相軸との角度が実質的に45°であると、長尺ロール状λ/4板の長手方向もしくは幅手方向にカットしたλ/4板を用いることができるので、フィルムのカットロスが少なく生産上有利であるからである。長手方向と面内の遅相軸との角度が実質的に45°であるλ/4板は、長尺フィルムを長手方向に対して実質的に45°の方向に延伸処理することにより製造することができる。以下、45°の方向に延伸する方法を説明する。長尺フィルムを長手方向に対して実質的に45°の方向に斜め延伸するためには、図2で示されるテンターを用いることが好ましい。図2は、テンターによる斜め延伸を示す模式図である。延伸フィルムの製造は、テンターを用いて行う。このテンターは、フィルムロール繰出しロールから繰り出されるフィルムを、オーブンによる加熱環境下で、その進行方向フィルム幅方向の中点の移動方向に対して斜め方向に拡幅する装置である。このテンターは、オーブンと、フィルムを搬送するための把持具が走行する左右で一対のレールと、該レール上を走行する多数の把持具とを備えている。フィルムロールから繰り出され、テンターの入口部に順次供給されるフィルムの両端を、把持具で把持し、オーブン内にフィルムを導き、テンターの出口部で把持具からフィルムを開放する。把持具から開放されたフィルムは巻芯に巻き取られる。一対のレールは、それぞれ無端状の連続軌道を有し、テンターの出口部でフィルムの把持を開放した把持具は、外側を走行して順次入口部に戻されるようになっている。なお、テンターのレール形状は、製造すべき延伸フィルムに与える配向角、延伸倍率等に応じて、左右で非対称な形状となっており、手動で又は自動で微調整できるようになっている。本発明においては、長尺の熱可塑性樹脂フィルムを延伸し、配向角θが延伸後の巻取り方向に対して、40°~80°の範囲内で、任意の角度に設定できるようになっている。本発明において、テンターの把持具は、前後の把持具と一定間隔を保って、一定速度で走行するようになっている。図2は、斜め延伸するために用いるテンターのレールの軌道レールパターンを示している。セルロースアセテートフィルムの繰出し方向DR1は、延伸後のフィルムの巻取り方向MD方向DR2と異なっており、これにより、比較的大きな配向角をもつ延伸フィルムにおいても広幅で均一な光学特性を得ることが可能となっている。繰出し角度θiは、延伸前のフィルムの繰出し方向DR1と延伸後のフィルムの巻取り方向DR2とのなす角度である。本発明においては、上述のように40°~80°の配向角を持つフィルムを製造するため、繰出し角度θiは、10°<θi<60°、好ましくは15°<θi<50°で設定される。繰出し角度θiを前記範囲とすることにより、得られるフィルムの幅方向の光学特性のバラツキが良好となる小さくなる。。フィルムロール繰出しロールから繰出されたセルロースアセテートフィルムは、テンター入口符号aの位置において、その両端両側を左右の把持具によって順次把持されて、把持具の走行に伴い走行される。テンター入口符号aの位置で、フィルム進行方向繰り出し方向DR1に対して略垂直な方向に相対している左右の把持具CL,CRは、左右非対称なレール上を走行し、予熱ゾーン、延伸ゾーン、熱固定ゾーンを有するオーブンを通過する。ここで、略垂直とは、前述の向かい合う把持具CL,CR同士を結んだ直線とフィルム繰出し方向DR1とがなす角度が、90±1°以内にあることを示す。予熱ゾーンとは、オーブン入口部において、両端を把持した把持具の間隔が一定の間隔を保ったまま走行する区間をさす。延伸ゾーンとは、両端を把持した把持具の間隔が開きだし、再び一定となるまでの区間をさす。また、冷却ゾーンとは、延伸ゾーンより後の把持具の間隔が再び一定となる期間において、ゾーン内の温度がフィルムを構成する熱可塑性樹脂のガラス転移温度Tg°C以下に設定される区間をさす。各ゾーンの温度は、熱可塑性樹脂のガラス転移温度Tgに対し、予熱ゾーンの温度はTg5~Tg20°C、延伸ゾーンの温度はTg~Tg20°C、冷却ゾーンの温度はTg-30~Tg°Cに設定することが好ましい。延伸工程における延伸倍率RW/Woは、好ましくは1.3~3.0倍、より好ましくは1.5~2.8倍である。延伸倍率がこの範囲にあると幅方向厚さムラが小さくなるので好ましい。テンター延伸機の延伸ゾーンにおいて、幅方向で延伸温度に差を付けると幅方向厚さムラをさらに良好なレベルにすることが可能になる。なお、Woは延伸前のフィルムの幅、Wは延伸後のフィルムの幅を表す。上記斜め方向に延伸する工程は、製膜工程内オンラインで行ってもよく、また一度フィルムを巻き取った後に繰り出して上記テンターにて行ってもよいオフライン。ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で、熱風で行うことが好ましい。ウェブの乾燥工程における乾燥温度は好ましくはフィルムのガラス転移点-5°C以下、100°C以上で10分以上60分以下の熱処理を行うことが効果的である。乾燥温度は100~200°C、更に好ましくは110~160°Cで乾燥が行われる。所定の熱処理の後、巻き取り前にスリッターを設けて端部を切り落とすことが良好な巻姿を得るため好ましい。更に、幅手両端部にはナーリング加工をすることが好ましい。ナーリング加工は、加熱されたエンボスロールを押し当てることにより形成することができる。エンボスロールには細かな凹凸が形成されており、これを押し当てることでフィルムに凹凸を形成し、端部を嵩高くすることができる。本発明に係るセルロースアセテートフィルムの幅手両端部のナーリングの高さは4~20μm、幅5~20mmが好ましい。また、本発明においては、上記のナーリング加工は、フィルムの製膜工程において乾燥終了後、巻き取りの前に設けることが好ましい。λ/4板の物性本発明のλ/4板の透湿度は、40°C、90RHで300~1800g/m224hが好ましく、更に400~1500g/m224hが好ましく、40~1300g/m224hが特に好ましい。透湿度はJISZ0208に記載の方法に従い測定することができる。本発明のλ/4板の破断伸度は10~80であることが好ましく20~50であることが更に好ましい。本発明のλ/4板の可視光透過率は90以上であることが好ましく、93以上であることが更に好ましい。本発明のλ/4板は、25°C、相対湿度60における平衡含水率が4以下であることが好ましく、3以下であることがより好ましい。平均含水率を4以下とすることにより、湿度変化に対応しやすく、光学特性や寸法がより変化しにくく好ましい。膜厚本発明のλ/4板は、前記コア層の平均膜厚が10~80μmであることが好ましく、30~60μmであることがより好ましい。10μm以上とすることにより、ウェブ状のフィルムを作成する際のハンドリング性が向上し、好ましい。また、前記スキン層の膜厚は、前記コア層の膜厚の25より大きく50以内であることが好ましい。スキン層の膜厚が、コア層の膜厚の25より大きいと、コア層に含まれる添加剤のブリードアウトをスキン層で十分に防ぐことができ好ましい。フィルム長、幅本発明のλ/4板は、長尺であることが好ましく、具体的には、100~10000m程度の長さであることが好ましく、ロール状に巻き取られる。また、本発明のλ/4板の幅は1m以上であることが好ましく、更に好ましくは1.4m以上であり、特に1.4~4mであることが好ましい。<ハードコート層>本発明のλ/4板上には、ハードコート層が設けられており、当該ハードコート層はクリアハードコート層又は防眩性ハードコート層のいずれかであることが好ましい。本発明においては、前記ハードコート層上に、少なくとも低屈折率層を含む反射防止層を視認性を向上させる為に設けることがより好ましい。本発明に係るハードコート層がクリアハードコート層の場合は、JISB0601で規定される中心線平均粗さRaが0.001~0.1μmのクリアハードコート層であり、Raが0.002~0.05μmであることが好ましい。中心線平均粗さRaは光干渉式の表面粗さ測定器で測定することが好ましく、例えばWYKO社製非接触表面微細形状計測装置WYKONT-2000を用いて測定することができる。本発明に係るハードコート層が防眩性である場合は、表面に微細な凹凸形状を有するが、該微細凹凸形状は、ハードコート層に微粒子を含有させることで形成し、下記のような平均粒径0.01μm~4μmの微粒子をハードコート層中に含有させることで形成できる。また、後述するように、該防眩性ハードコート層上に設けられた反射防止層の最表面の表面粗さとして、JISB0601で規定される中心線平均粗さRaが0.08μm~0.5μmの範囲に調整されることが好ましい。本発明に係るハードコート層中に含有される粒子としては、例えば、無機又は有機の微粒子が用いられる。無機微粒子としては酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム等を挙げることができる。また、有機微粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂微粒子、アクリルスチレン系樹脂微粒子、ポリメチルメタクリレート樹脂微粒子、シリコーン系樹脂微粒子、ポリスチレン系樹脂微粒子、ポリカーボネート樹脂微粒子、ベンゾグアナミン系樹脂微粒子、メラミン系樹脂微粒子、ポリオレフィン系樹脂微粒子、ポリエステル系樹脂微粒子、ポリアミド系樹脂微粒子、ポリイミド系樹脂微粒子、又はポリ弗化エチレン系樹脂微粒子等を挙げることができる。本発明では特に、酸化ケイ素微粒子又はポリスチレン系樹脂微粒子であることが好ましい。上記記載の無機又は有機の微粒子は、防眩性ハードコート層の作製に用いられる樹脂等を含む塗布組成物に加えて用いることが好ましい。本発明に係るハードコート層に防眩性を付与するためには、無機又は有機微粒子の含有量は、防眩性ハードコート層作製用の樹脂100質量部に対して、0.1質量部~30質量部が好ましく、更に好ましくは、0.1質量部~20質量部となるように配合することである。より好ましい防眩効果を付与するには、平均粒径0.1μm~1μmの微粒子を防眩性ハードコート層作製用の樹脂100質量部に対して1質量部~15質量部を用いるのが好ましい。又、異なる平均粒径の微粒子を二種以上用いることも好ましい。また、本発明に係るハードコート層には帯電防止剤を含有させることも好ましく、帯電防止剤としては、Sn、Ti、In、Al、Zn、Si、Mg、Ba、Mo、W及びVからなる群から選択される少なくとも一つの元素を主成分として含有し、かつ、体積抵抗率が107Ωcm以下であるような導電性材料が好ましい。前記帯電防止剤としては、上記の元素を有する金属酸化物、複合酸化物等が挙げられる。金属酸化物の例としては、ZnO、TiO2、SnO2、Al2O3、In2O3、SiO2、MgO、BaO、MoO2、V2O5等、或いはこれらの複合酸化物が好ましく、特にZnO、In2O3、TiO2及びSnO2が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばZnOに対してはAl、In等の添加、TiO2に対してはNb、Ta等の添加、またSnO2に対しては、Sb、Nb、ハロゲン元素等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は0.01~25molの範囲が好ましいが、0.1~15molの範囲が特に好ましい。また、これらの導電性を有するこれら金属酸化物粉体の体積抵抗率は107Ωcm以下、特に105Ωcm以下である。十分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、クリアハードコート層又は防眩性ハードコート層の膜厚は0.5μm~15μmの範囲が好ましく、更に好ましくは、1.0μm~7μmである。活性線硬化型樹脂本発明に係るハードコート層は、紫外線等活性線照射により硬化する活性線硬化型樹脂をバインダーとして含有することが好ましい。活性線硬化型樹脂とは紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂である。活性線硬化型樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性線照射によって硬化する樹脂でもよい。本発明に用いられる活性線硬化型樹脂は、親水性活性線硬化型樹脂であることがハードコート層塗設、硬化工程において微少スジ、むらを防ぐ観点から好ましい。本発明でいう親水性とは、活性線硬化型樹脂を塗設し硬化した表面の水滴接触角が40°以下である表面を有する場合に、当該活性線硬化型樹脂を親水性と判断するものである。水滴接触角は好ましくは、30°以下であり、さらに好ましくは20°以下の活性線硬化型樹脂であることが好ましい。接触角試験接触角は、JIS-R3257に基づいて、接触角計DM300協和界面化学を用いて、試料に水を3μl滴下して表面の接触角を測定する。好ましい親水性活性線硬化型樹脂は、その例として紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることができる。紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、又はプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する、2-ヒドロキシプロピルアクリレート等のヒドロキシル基水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭59-151110号に記載の、ユニディック17-806DIC株製100部とコロネートL日本ポリウレタン株製1部との混合物等が好ましく用いられる。紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステル末端のヒドロキシル基水酸基やカルボキシル基に2-ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、アクリル酸のようなモノマーを反応させることによって容易に得ることができる例えば、特開昭59-151112号。例えば、IRR338ダイセルユーシービー株製等が好ましく用いられる。紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂としては、エチレングリコールメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、グリセリントリメタアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。例えば、EB11ダイセルユーシービー株製等が好ましく用いられる。紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂は、エポキシ樹脂の末端のヒドロキシル基水酸基にアクリル酸、アクリル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノマーを反応させて得られる。例えば、IRR337ダイセルユーシービー株製等が好ましく用いられる。紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシ樹脂の例として、有用に用いられるエポキシ系活性線反応性化合物を示す。aビスフェノールAのグリシジルエーテルこの化合物はエピクロルヒドリンとビスフェノールAとの反応により、重合度の異なる混合物として得られるbビスフェノールA等のフェノール性OHを2個有する化合物に、エピクロルヒドリン、エチレンオキサイド及び/又はプロピレンオキサイドを反応させ末端にグリシジルエーテル基を有する化合物c4,4′-メチレンビスフェノールのグリシジルエーテルdノボラック樹脂又はレゾール樹脂のフェノールフォルムアルデヒド樹脂のエポキシ化合物e脂環式エポキシドを有する化合物、例えば、ビス3,4-エポキシシクロヘキシルメチルオキザレート、ビス3,4-エポキシシクロヘキシルメチルアジペート、ビス3,4-エポキシ-6-シクロヘキシルメチルアジペート、ビス3,4-エポキシシクロヘキシルメチルピメレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4-エポキシ-1-メチルシクロヘキシルメチル-3′,4′-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4-エポキシ-1-メチル-シクロヘキシルメチル-3′,4′-エポキシ-1′-メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4-エポキシ-6-メチル-シクロヘキシルメチル-3′,4′-エポキシ-6′-メチル-1′-シクロヘキサンカルボキシレート、2-3,4-エポキシシクロヘキシル-5′,5′-スピロ-3′′,4′′-エポキシシクロヘキサン-メタ-ジオキサンf2塩基酸のジグリシジルエーテル、例えば、ジグリシジルオキザレート、ジグリシジルアジペート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルフタレートgグリコールのジグリシジルエーテル、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、コポリエチレングリコール-プロピレングリコールジグリシジルエーテル、1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテルhポリマー酸のグリシジルエステル、例えば、ポリアクリル酸ポリグリシジルエステル、ポリエステルジグリシジルエステルi多価アルコールのグリシジルエーテル、例えば、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、グルコーストリグリシジルエーテルj2-フルオロアルキル-1,2-ジオールのジグリシジルエーテルとしては、前記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物に挙げた化合物例と同様のものk含フッ素アルカン末端ジオールグリシジルエーテルとしては、上記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物等を挙げることができる。上記エポキシ化合物の分子量は、平均分子量として2000以下で、好ましくは1000以下である。上記のエポキシ化合物を活性線により硬化する場合、より硬度を上げるためには、h又はiの多官能のエポキシ基を有する化合物を混合して用いると効果的である。エポキシ系活性線反応性化合物をカチオン重合させる光重合開始剤又は光増感剤は、活性線照射によりカチオン重合開始物質を放出することが可能な化合物であり、特に好ましくは、照射によりカチオン重合開始能のあるルイス酸を放出するオニウム塩の一群の複塩である。活性線反応性化合物エポキシ樹脂は、ラジカル重合によるのではなく、カチオン重合により重合、架橋構造又は網目構造を形成する。ラジカル重合と異なり反応系中の酸素に影響を受けないため好ましい活性線反応性樹脂である。本発明に有用な活性線反応性エポキシ樹脂は、活性線照射によりカチオン重合を開始させる物質を放出する光重合開始剤又は光増感剤により重合する。光重合開始剤としては、光照射によりカチオン重合を開始させるルイス酸を放出するオニウム塩の複塩の一群が特に好ましい。かかる代表的なものは下記一般式aで表される化合物である。一般式a:R1aR2bR3cR4dZwMeXvw-式中、カチオンはオニウムであり、ZはS、Se、Te、P、As、Sb、Bi、O、ハロゲン例えばI、Br、Cl、又はN=Nジアゾであり、R1、R2、R3、R4は同一であっても異なっていてもよい有機の基である。a、b、c、dはそれぞれ0~3の整数であって、abcdはZの価数に等しい。Meはハロゲン化物錯体の中心原子である金属又は半金属metalloidであり、B、P、As、Sb、Fe、Sn、Bi、Al、Ca、In、Ti、Zn、Sc、V、Cr、Mn、Co等である。Xはハロゲンであり、wはハロゲン化錯体イオンの正味の電荷であり、vはハロゲン化錯体イオン中のハロゲン原子の数である。上記一般式aの陰イオンMeXvw-の具体例としては、テトラフルオロボレートBF4-、テトラフルオロホスフェートPF4-、テトラフルオロアンチモネートSbF4-、テトラフルオロアルセネートAsF4-、テトラクロロアンチモネートSbCl4-等を挙げることができる。また、その他の陰イオンとしては過塩素酸イオンClO4-、トリフルオロメチル亜硫酸イオンCF3SO3-、フルオロスルホン酸イオンFSO3-、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼン酸陰イオン等を挙げることができる。このようなオニウム塩の中でも特に芳香族オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが有効であり、中でも特開昭50-151996号、同50-158680号等に記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭50-151997号、同52-30899号、同59-55420号、同55-125105号等に記載のVIA族芳香族オニウム塩、特開昭56-8428号、同56-149402号、同57-192429号等に記載のオキソスルホキソニウム塩、特公昭49-17040号等に記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第4,139,655号等に記載のチオピリリューム塩等が好ましい。また、アルミニウム錯体や光分解性けい素化合物系重合開始剤等を挙げることができる。上記カチオン重合開始剤と、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロピルエーテル、チオキサントン等の光増感剤を併用することができる。また、エポキシアクリレート基を有する活性線反応性化合物の場合は、n-ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ-n-ブチルホスフィン等の光増感剤を用いることができる。この活性線反応性化合物に用いられる光増感剤や光開始剤は、紫外線反応性化合物100質量部に対して0.1質量部~15質量部で光反応を開始するには十分であり、好ましくは1質量部~10質量部である。この増感剤は近紫外線領域から可視光線領域に吸収極大のあるものが好ましい。本発明に有用な活性線硬化樹脂組成物において、重合開始剤は、一般的には、活性線硬化性エポキシ樹脂プレポリマー100質量部に対して0.1質量部~15質量部の使用が好ましく、更に好ましくは、1質量部~10質量部の範囲の添加が好ましい。また、エポキシ樹脂を上記ウレタンアクリレート型樹脂、ポリエーテルアクリレート型樹脂等と併用することもでき、この場合、活性線ラジカル重合開始剤と活性線カチオン重合開始剤を併用することが好ましい。また、本発明に係るハードコート層には、オキセタン化合物を用いることもできる。用いられるオキセタン化合物は、酸素又は硫黄を含む3員環のオキセタン環を有する化合物である。中でも酸素を含むオキセタン環を有する化合物が好ましい。オキセタン環は、ハロゲン原子、ハロアルキル基、アリールアルキル基、アルコキシル基、アリルオキシ基、アセトキシ基で置換されていてもよい。具体的には、3,3-ビスクロルメチルオキセタン、3,3-ビスヨードメチルオキセタン、3,3-ビスメトキシメチルオキセタン、3,3-ビスフェノキシメチルオキセタン、3-メチル-3クロルメチルオキセタン、3,3-ビスアセトキシメチルオキセタン、3,3-ビスフルオロメチルオキセタン、3,3-ビスブロモメチルオキセタン、3,3-ジメチルオキセタン等が挙げられる。なお、本発明ではモノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれであってもよい。本発明に係るハードコート層には、公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂又はゼラチン等の親水性樹脂等のバインダーを上記記載の活性線硬化樹脂に混合して使用することができる。これらの樹脂は、その分子中に極性基を持っていることが好ましい。極性基としては、-COOM、-OH、-NR2、-NR3X、-SO3M、-OSO3M、-PO3M2、-OPO3Mここで、Mは水素原子、アルカリ金属又はアンモニウム基を、Xはアミン塩を形成する酸を、Rは水素原子、アルキル基を表す等を挙げることができる。本発明に係るハードコート層が活性線硬化型樹脂を含む場合、活性線の照射方法としては、支持体上に、ハードコート層、反射防止層中~高屈折率層及び低屈折率層等の塗設後に活性線を照射してもよいが、ハードコート層塗設時に活性線を照射することが好ましい。本発明に使用する活性線は、紫外線、電子線、γ線等で、化合物を活性化させるエネルギー源であれば制限なく使用できるが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ArFエキシマレーザ、KrFエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることができる。波長250nm~420nmの紫外領域に発光スペクトルを持つ光源を使用するのが好ましい。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は20mJ/cm2以上が好ましく、更に好ましくは、50mJ/cm2~2000mJ/cm2であり、特に好ましくは、50mJ/cm2~1000mJ/cm2である。紫外線照射は、ハードコート層と後述する反射防止層を構成する複数の層中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層それぞれに対して1層設ける毎に照射してもよいし、積層後照射してもよい。或いはこれらを組み合わせて照射してもよい。生産性の点から、多層を積層後、紫外線を照射することが好ましい。また、電子線も同様に使用できる。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される50~1000keV、好ましくは100~300keVのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。本発明に使用する上記活性線反応性化合物を光重合又は光架橋反応を開始させるには、上記活性線反応性化合物のみでも開始するが、重合の誘導期が長かったり、重合開始が遅かったりするため、光増感剤や光開始剤を用いることが好ましく、それにより重合を早めることができる。本発明に係るハードコート層が活性線硬化樹脂を含有する場合、活性線の照射時においては、光反応開始剤、光増感剤を用いることができる。具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α-アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。また、エポキシアクリレート系樹脂の合成に光反応剤を使用する際に、n-ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ-n-ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。塗布乾燥後に揮発する溶媒成分を除いた紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる光反応開始剤及び/又は光増感剤の使用量は、組成物の1質量~10質量が好ましく、特に好ましくは2.5質量~6質量である。また、活性線硬化樹脂として、紫外線硬化性樹脂を用いる場合、前記紫外線硬化性樹脂の光硬化を妨げない程度に、後述する紫外線吸収剤を紫外線硬化性樹脂組成物に含ませてもよい。ハードコート層の耐熱性を高めるために、光硬化反応を抑制しないような酸化防止剤を選んで用いることができる。例えば、ヒンダードフェノール誘導体、チオプロピオン酸誘導体、ホスファイト誘導体等を挙げることができる。具体的には、例えば、4,4′-チオビス6-tert-3-メチルフェノール、4,4′-ブチリデンビス6-tert-ブチル-3-メチルフェノール、1,3,5-トリス3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシベンジルイソシアヌレート、2,4,6-トリス3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシベンジルメシチレン、ジ-オクタデシル-4-ヒドロキシ-3,5-ジ-tert-ブチルベンジルホスフェート等を挙げることができる。本発明においては、その他適宜、種々の紫外線硬化樹脂を選択して使用することができる。例えば市販品としては、アデカオプトマーKR、BYシリーズのKR-400、KR-410、KR-550、KR-566、KR-567、BY-320B以上、株ADEKA製、コーエイハードのA-101-KK、A-101-WS、C-302、C-401-N、C-501、M-101、M-102、T-102、D-102、NS-101、FT-102Q8、MAG-1-P20、AG-106、M-101-C以上、広栄化学工業株製、セイカビームのPHC2210S、PHCX-9K-3、PHC2213、DP-10、DP-20、DP-30、P1000、P1100、P1200、P1300、P1400、P1500、P1600、SCR900以上、大日精化工業株製、KRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVECRYL29201、UVECRYL29202以上、ダイセルユーシービー株、RC-5015、RC-5016、RC-5020、RC-5031、RC-5100、RC-5102、RC-5120、RC-5122、RC-5152、RC-5171、RC-5180、RC-5181以上、DIC株製、オーレックスNo.340クリヤ中国塗料株製、サンラッドH-601三洋化成工業株製、SP-1509、SP-1507以上、昭和高分子株製、RCC-15Cグレースジャパン株製、アロニックスM-6100、M-8030、M-8060以上、東亞合成株製、又はその他の市販のものから適宜選択して利用することができる。活性線硬化樹脂を含む塗布組成物は、固形分濃度は10質量~95質量であることが好ましく、塗布方法により適当な濃度が選ばれる。本発明に係るハードコート層は界面活性剤を含有することも好ましく、界面活性剤としては、シリコーン系又はフッ素系界面活性剤が好ましい。シリコーン系界面活性剤としては、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤が好ましい。非イオン面活性剤は、水溶液中でイオンに解離する基を有しない系面活性剤を総称していうが、疎水基のほか親水性基として多価アルコール類のヒドロキシル基水酸基、また、ポリオキシアルキレン鎖ポリオキシエチレン等を親水基として有するものである。親水性はアルコール性ヒドロキシル基水酸基の数が多くなるに従って、またポリオキシアルキレン鎖ポリオキシエチレン鎖が長くなるに従って強くなる。本発明に係わる非イオン界面活性剤は疎水基としてジメチルポリシロキサンを有することに特徴がある。疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤を用いると、防眩性ハードコート層や低屈折率層のムラや膜表面の防汚性が向上する。ポリメチルシロキサンからなる疎水基が表面に配向し汚れにくい膜表面を形成するものと考えられる。他の界面活性剤を用いることでは得られない効果である。これらの非イオン活性剤の具体例としては、例えば、日本ユニカー株製、シリコーン界面活性剤SILWETL-77、L-720、L-7001、L-7002、L-7604、Y-7006、FZ-2101、FZ-2104、FZ-2105、FZ-2110、FZ-2118、FZ-2120、FZ-2122、FZ-2123、FZ-2130、FZ-2154、FZ-2161、FZ-2162、FZ-2163、FZ-2164、FZ-2166、FZ-2191等が挙げられる。また、SUPERSILWETSS-2801、SS-2802、SS-2803、SS-2804、SS-2805等が挙げられる。また、これら、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤の好ましい構造としては、ジメチルポリシロキサン構造部分とポリオキシアルキレン鎖が交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマーであることが好ましい。主鎖骨格の鎖長が長く、直鎖状の構造であることから、優れている。親水基と疎水基が交互に繰り返したブロックコポリマーであることにより、シリカ微粒子の表面を1つの活性剤分子が、複数の箇所で、これを覆うように吸着することができるためと考えられる。これらの具体例としては、例えば、日本ユニカー株製、シリコーン界面活性剤ABNSILWETFZ-2203、FZ-2207、FZ-2208等が挙げられる。フッ素系界面活性剤としては、疎水基がパーフルオロカーボンチェインをもつ界面活性剤を用いることができる。種類としては、フルオロアルキルカルボン酸、N-パーフルオロオクタンスルホニルグルタミン酸ジナトリウム、3-フルオロアルキルオキシ-1-アルキルスルホン酸ナトリウム、3-ω-フルオロアルカノイル-N-エチルアミノ-1-プロパンスルホン酸ナトリウム、N-3-パーフルオロオクタンスルホンアミドプロピル-N,N-ジメチル-N-カルボキシメチレンアンモニウムベタイン、パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロオクタンスルホン酸ジエタノールアミド、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、N-プロピル-N-2-ヒドロキシエチルパーフルオロオクタンスルホンアミド、パーフルオロアルキルスルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル-N-エチルスルホニルグリシン塩、リン酸ビスN-パーフルオロオクチルスルホニル-N-エチルアミノエチル等が挙げられる。本発明では非イオン界面活性剤が好ましい。これらのフッ素系界面活性剤はメガファック、エフトップ、サーフロン、フタージェント、ユニダイン、フローラード、ゾニール等の商品名で市販されている。好ましい添加量はハードコート層の塗布液に含まれる固形分当たり0.01~3.0であり、より好ましくは0.02~1.0である。他の界面活性剤を併用して用いることもでき、適宜、例えばスルホン酸塩系、硫酸エステル塩系、リン酸エステル塩系等のアニオン界面活性剤、また、ポリオキシエチレン鎖親水基として有するエーテル型、エーテルエステル型等の非イオン界面活性剤等を併用してもよい。本発明にハードコート層を塗設する際の溶媒は、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の溶媒の中から適宜選択し、又は混合して使用できる。好ましくは、プロピレングリコールモノC1~C4アルキルエーテル又はプロピレングリコールモノC1~C4アルキルエーテルエステルを5質量以上、更に好ましくは5質量~80質量以上含有する溶媒が用いられる。ハードコート層組成物塗布液の塗布方法としては、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコーター、押出コーター、エアードクターコーター、スプレーコート、インクジェット法等公知の方法を用いることができる。塗布量はウエット膜厚で5μm~30μmが適当で、好ましくは10μm~20μmである。塗布速度は10m/分~200m/分が好ましい。ハードコート層組成物は塗布乾燥された後、紫外線や電子線等の活性線を照射され硬化処理されることが好ましいが、前記活性線の照射時間は0.5秒~5分が好ましく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率、作業効率等から更に好ましくは、3秒~2分である。<反射防止層>本発明のハードコート層を有するλ/4板のハードコート層上には、反射防止層を設けることは視認性向上のため好ましい。用いられる反射防止層は低屈折率層のみの単層構成でもよいが、多層の屈折率層を設けることも好ましい。λ/4板上にハードコート層を有し、その表面上に光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層できる。反射防止層は、支持体よりも屈折率の高い高屈折率層と、支持体よりも屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて構成したり、特に好ましくは、3層以上の屈折率層から構成される反射防止層であり、支持体側から屈折率の異なる3層を、中屈折率層支持体又は防眩性ハードコート層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層/高屈折率層/低屈折率層の順に積層されているものが好ましい。又は、2層以上の高屈折率層と2層以上の低屈折率層とを交互に積層した4層以上の層構成の反射防止層も好ましく用いられる。本発明に係る反射防止層の好ましい層構成の例を下記に示す。ここで/は積層配置されていることを示している。λ/4板/クリアハードコート層/低屈折率層λ/4板/クリアハードコート層/高屈折率層/低屈折率層λ/4板/クリアハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層λ/4板/防眩性ハードコート層/低屈折率層λ/4板/防眩性ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層λ/4板/防眩性ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層汚れや指紋のふき取りが容易となるように、最表面の低屈折率層の上に、更に防汚層を設けることもできる。防汚層としては、含フッ素有機化合物が好ましく用いられる。光学干渉により反射率を低減できるものであれば、特にこれらの層構成のみに限定されるものではない。また、上記層構成では、適宜中間層を設けてもよく、例えば導電性ポリマー微粒子例えば架橋カチオン微粒子又は金属酸化物微粒子例えば、SnO2、ITO等を含む帯電防止層等は好ましい。低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層は公知の構成で形成することができるが、特に低屈折率層は中空球状シリカ系微粒子が好適に用いられることが好ましく、I多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層とからなる複合粒子、又はII内部に空洞を有し、かつ内容物が溶媒、気体又は多孔質物質で充填された空洞粒子が用いられる。上記、低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層に関しては、特開2005-266051号公報に詳述されている。反射防止層を構成する各屈折率層の膜厚としては、各々1nm~200nmの範囲が好ましく、更に好ましくは、5nm~150nmであるが、各層の屈折率に応じて、各々適切な膜厚を選択することが好ましい。本発明に用いられる反射防止層は、450nm~650nmにおける平均反射率が1以下であることが好ましく、特に好ましくは0.5以下である。また、この範囲における最低反射率は0.00~0.3にあることが特に好ましい。反射防止層の屈折率と膜厚は、分光反射率の測定より計算して算出することができる。また、作製した低反射フィルムの反射光学特性は、分光光度計を用い、5度正反射の条件にて反射率を測定することができる。<偏光板>本発明のハードコート層を有するλ/4板を利用した偏光板は、ハードコート層を有するλ/4板のλ/4板側が偏光子に貼合されており、かつ偏光子の吸収軸と該ハードコート層を有するλ/4板の遅相軸が実質的に45°の傾きをもって貼合されて円偏光板とすることが好ましい。本発明に係る偏光板は、偏光子としてヨウ素、又は二色性染料をドープしたポリビニルアルコールを延伸したものを使用し、ハードコート層/λ/4板/偏光子、またはハードコート層/λ/4板/偏光子/光学フィルムの構成で貼合して製造することができる。上記光学フィルムは、特に限定されるものではないが、ポリマーフィルムであることが好ましく、製造が容易であること、光学的に均一性であること、光学的に透明性であることが好ましい。これらの性質を有していれば何れでもよく、例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホンポリエーテルスルホンも含む系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム,ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリビニルアセタール系樹脂フィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム又はアクリルフィルム等を挙げることができるが、これらに限定されるわけではない。これらのフィルムは溶液流延法或いは溶融法で製膜されたフィルムが好ましく用いられる。これらのうちセルロースエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンポリエーテルスルホンを含む、シクロオレフィンポリマーフィルムが好ましく、本発明においては、特にセルロースエステルフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルムが、製造上、コスト面、透明性、均一性、接着性等の面から好ましい。例えば、市販のセルロースエステルフィルムとしては、コニカミノルタタックKC8UX、KC4UX、KC5UX、KC8UCR3、KC8UCR4、KC8UCR5、KC8UY、KC4UY、KC12UR、KC16UR、KC4UE、KC8UE、KC4FR-1、KC4FR-2以上コニカミノルタオプト株製などが好ましく用いられる。本発明に係る偏光板に好ましく用いられる偏光子としては、ポリビニルアルコール系偏光フィルムが挙げられ、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。ポリビニルアルコール系フィルムとしては、エチレンで変性された変性ポリビニルアルコール系フィルムが好ましく用いられる。偏光子は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。延伸は、フィルム製膜方向に一軸延伸を行うか、またはフィルム製膜方向に対して前述の斜め延伸装置を用いて斜め45°方向に延伸することが好ましい。偏光子の膜厚は5~40μm、好ましくは5~30μmであり、特に好ましくは5~20μmである。偏光板は一般的な方法で作製することができる。アルカリ鹸化処理した本発明のλ/4板は、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には、前記光学フィルムを同様に鹸化処理して貼合することが好ましい。本発明のλ/4板の作製において、長手方向から45°の方向に延伸して作製されたλ/4フィルムの場合には、偏光膜の吸収軸が長手方向に位置している偏光子と、偏光子の長手方向とλ/4板の遅相軸が10°以上90°未満、より好ましくは20°以上70°未満、更に好ましくは40°以上50°未満、特に好ましくは44°以上46°未満になるように、ロールツーロールで連続的に貼り合わせることができる。また、本発明のλ/4板の作製において、長手方向に延伸して作製されたλ/4板と、長手方向に吸収軸を有する偏光子とを貼合する場合には、貼合する前に本発明のλ/4板と偏光子を各々打ち抜き、偏光膜の吸収軸とλ/4板の遅相軸が10°以上90°未満、より好ましくは20°以上70°未満、更に好ましくは40°以上50°未満、特に好ましくは44°以上46°未満になるように、枚葉で貼り合わせることができる。偏光板は、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成することができる。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。<液晶表示装置>本発明に係る液晶表示装置は、偏光板が液晶セルよりも視認側に配置され、液晶セル、偏光子、λ/4板、ハードコート層がこの順になるように設けられていることが好ましい。または、液晶セル、光学フィルム、偏光子、λ/4板、ハードコート層がこの順になるように設けられていることが好ましい。本発明に係る偏光板を液晶セルの視認側の面に貼合した液晶表示装置とすることによって、偏光サングラス等偏光作用のある光学部材を通して観察した場合でも表示画像が偏光軸の方向によって見え難くなるのを低減でき、使用環境に対してより耐久性が高い本発明に係る液晶表示装置を作製することができる。本発明に係る偏光板は反射型、透過型、半透過型LCD或いはTN型、STN型、OCB型、HAN型、VA型PVA型、MVA型、IPS型等の各種駆動方式のLCDで好ましく用いられる。立体画像表示装置本発明のハードコート層を有するλ/4板は、立体画像表示装置において種々の態様において用いることができる。例えば、液晶表示装置と液晶シャッタメガネとからなる立体画像表示装置であって、当該液晶シャッタメガネが、1ハードコート付きλ/4板、液晶セル、及び偏光子がこの順に設けられている、又は2ハードコート付きλ/4板、偏光子、液晶セル、及び偏光子がこの順に設けられている液晶シャッタメガネであることを特徴とする態様の立体画像表示装置において用いることができる。上記1の態様メガネの偏光板が一枚の方式の立体画像表示装置の模式図を図3に示す。また、上記2の態様メガネの偏光板が二枚の方式の模式図を図4に示す。なお、いずれの態様の場合も、液晶表示装置の前側偏光板は、λ/4板、偏光子、及び光学フィルムセル、及び偏光子がこの順に設けられている構成になっている。本発明においては、上記の態様構成により、立体3D画像観賞時に首を傾けた際のクロストーク若しくは輝度低下及び色味変化を低減でき、使用環境に対して優れた視認性を保つことが可能で、使用環境に対してより耐久性が高い立体画像表示装置とすることができる。以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。実施例1<ハードコート層を有するλ/4板101の作製>λ/4板の作製微粒子分散液1微粒子アエロジルR972V日本アエロジル株製11質量部エタノール89質量部以上をディゾルバーで50分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。微粒子添加液1メチレンクロライドを入れた溶解タンクに十分攪拌しながら、微粒子分散液1をゆっくりと添加した。さらに、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線株製のファインメットNFで濾過し、微粒子添加液1を調製した。メチレンクロライド99質量部微粒子分散液15質量部下記組成の2種のドープ液を調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。溶剤の入った加圧溶解タンクにセルロースアセテートを攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解した。この2種のドープを用いて、共流延によってコア、スキン部分を有する積層セルロースアセテートフィルムであるλ/4板を作製した。コア層用セルロースアセテートドープの調製メチレンクロライド340質量部エタノール64質量部アセチル基置換度が2.4のジアセチルセルロースMw=200000100質量部一般式Iで表される糖エステル化合物1-710質量部位相差発現剤円盤状化合物A2質量部紫外線吸収剤チヌビン928BASFジャパン株製2質量部スキン層用セルロースアセテートドープの調製メチレンクロライド340質量部エタノール64質量部セルローストリアセテートアセチル基置換度2.78、Mw=250000100質量部可塑剤c:トリフェニルホスフェートTPP10質量部ビフェニルジフェニルホスフェートBDP5質量部微粒子添加液11質量部上記の組成物を各々ミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解した後、平均孔径34μmのろ紙及び平均孔径10μmの焼結金属フィルターでろ過し、各セルロースアセテートドープを調製した。ドープを図1で示すダイスを用い、バンド流延機にてスキン層/コア層/スキン層の3層構成になるように共流延した。ここで、各ドープの流延量を調整することによりコア層を最も厚くし、結果的に延伸後のフィルムの膜厚が各々5μm/50μm/5μmとなるように同時多層流延を行った。残留溶剤量が約30質量でバンドから剥ぎ取ったフィルムをテンターにより140°Cの熱風を当てて、延伸率32まで拡幅した後、延伸率が30となるように140°Cで60秒間緩和させた。その後テンター搬送からロール搬送に移行し、更に120°Cから150°Cで乾燥し巻き取った。さらに、特開2009-214441号公報の実施例1に記載の装置延伸機A:図11を用い、温度170°C、倍率1.5倍で遅相軸がフィルム長手方向と45°をなす様に斜め方向に延伸を行った。次いで、乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させた。乾燥温度は130°Cで、搬送張力は100N/mとした。以上のようにして、乾燥膜厚60μm、長さ3000mのλ/4板を得た。次いで上記作製したλ/4板の一方のスキン層表面に下記ハードコート層塗布液をダイコートし、80°Cで乾燥した後、120mJ/cm2の紫外線を高圧水銀灯で照射して硬化後の膜厚が6μmになるようにクリアハードコート層を設け、ハードコート層を有するλ/4板101を作製した。ハードコート層用塗布液アセトン45質量部酢酸エチル45質量部プロピレングリコールモノメチルエーテル10質量部ウレタンアクリレートDICユニディックRS27-921100質量部1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトンイルガキュア184、BASFジャパン社製5質量部2-メチル-1-[4-メチルチオフェニル]-2-モノフォリノ-1-オンイルガキュア907、BASFジャパン社製3質量部BYK-331シリコーン界面活性剤、ビックケミージャパン株製0.5質量部尚、ウレタンアクリレートDICユニディックRS27-921は塗布硬化した表面の水滴接触角が40°以下であり、親水性活性線硬化型樹脂であることを確認した。接触角試験接触角は、JIS-R3257に基づいて、接触角計DM300協和界面化学を用いて、試料に水を3μl滴下して表面の接触角を測定する。<ハードコート層を有するλ/4板102の作製>λ/4板101の作製において、コア層及びスキン層に用いるセルロースエステルを表2記載のアセチル基置換度を有するセルロースアセテートに変更し、コア層に位相差発現剤円盤状化合物Aを添加しなかった以外は同様にして、ハードコート層を有するλ/4板102を作製した。<ハードコート層を有するλ/4板103、104の作製>λ/4板1021の作製において、コア層及びスキン層に用いるセルロースアセテートを表2記載のアセチル基置換度を有するセルロースアセテート及び膜厚を変更した以外は同様にして、ハードコート層を有するλ/4板103、104を作製した。<ハードコート層を有するλ/4板105の作製>λ/4板101の作製において、コア層のドープ液を下記組成に変更し、かつスキン層に用いるセルロースアセテートを表2記載のアセチル基置換度を有するセルロースアセテートに変更した以外は同様にして、ハードコート層を有するλ/4板105を作製した。コア層用セルロースアセテートドープの調製メチレンクロライド340質量部エタノール64質量部アセチル基置換度が2.4のジアセチルセルロースMw=200000100質量部一般式Iで表される糖エステル化合物1-710質量部一般式IIで表されるエステル化合物ポリエステルb2.5質量部位相差発現剤円盤状化合物A2質量部紫外線吸収剤チヌビン928BASFジャパン株製2質量部また、ポリエステルbとは、以下の化合物を表す。ポリエステルbの合成窒素雰囲気下、テレフタル酸ジメチル4.85g、1,2-プロピレングリコール4.4g、p-トルイル酸6.8g、テトライソプロピルチタネート10mgを混合し、140°Cで2時間攪拌を行った後、更に210°Cで16時間攪拌を行った。次に、170°Cまで降温し、未反応物の1,2-プロピレングリコールを減圧留去することにより、ポリエステルbを得た。酸価:0.1数平均分子量:490分散度:1.4分子量300~1800の成分含有率:90ヒドロキシル水酸基価:0.1水酸基含有量:0.04ポリエステルbはジカルボン酸に対してモノカルボン酸が2倍モル使用されているため末端がトルイル酸エステルになっている。<ハードコート層を有するλ/4板106~108の作製>λ/4板101の作製において、コア層のセルロースアセテート種、一般式Iで表される糖エステル化合物、一般式IIで表されるエステル化合物の種類、スキン層の可塑剤種、添加量を表2のように変更した以外は同様にして、ハードコート層を有するλ/4板106~108を作製した。表2中、ポリエステルaとは、以下の化合物を表し、2-15とは一般式IIで表される化合物の例示化合物2-15を表す。ポリエステルaの合成窒素雰囲気下、2,6-ナフタレンジカルボン酸ジメチル19.2g、1,2-プロピレングリコール14.9g、テトライソプロピルチタネート20mgを混合し、生成するメタノールを留去しながら165°Cで1時間攪拌を行った。更に185°Cで1時間攪拌を行った後、195°Cに昇温して18時間攪拌を行った。次に、170°Cまで降温し、未反応物の1,2-プロピレングリコールを減圧留去することにより、ポリエステルポリオールaを得た。酸価:0.2数平均分子量:1020分散度:1.6分子量300~1800の成分含有率:48ヒドロキシル水酸基価:110水酸基含有量:1001H-NMRにより、末端にメチルエステル残基がないことを確認した。また、スキン層に添加する可塑剤dはメチルメタクリレート重量平均分子量1200、可塑剤eとはコハク酸/アジピン酸/エチレングリコール3/2/5の共重合体を表す。<ハードコート層を有するλ/4板109、110の作製比較例>λ/4板105の作製において、コア層及びスキン層に用いるセルロースアセテートを表2記載のアセチル基置換度を有するセルロースアセテートに変更し、更に可塑剤の添加量、膜厚を調整した以外は同様にして、ハードコート層を有するλ/4板109、110を作製した。<ハードコート層を有するλ/4板111の作製比較例>λ/4板101の作製において、コア層のドープ液を下記組成に変更し、かつスキン層に用いるセルロースアセテートを表2記載のアセチル基置換度を有するセルロースアセテートに変更し、膜厚を変更した以外は同様にして、ハードコート層を有するλ/4板111を作製した。コア層用セルロースアセテートドープの調製メチレンクロライド340質量部エタノール64質量部アセチル基置換度が2.4のジアセチルセルロースMw=200000100質量部位相差発現剤円盤状化合物A2質量部可塑剤eコハク酸/アジピン酸/エチレングリコール3/2/5の共重合体5.5質量部可塑剤fトリメチロールプロパントリベンゾエート5.5質量部紫外線吸収剤チヌビン928BASFジャパン株製2質量部ハードコート層を有するλ/4板101~111の構成について、下記表2に示す。評価《NDs、NDcの測定》NDs、NDcの測定は、以下の方法で行うことができる。粘度測定法コア層、及びスキン層に用いられるセルロースアセテートと添加剤を、実際の各層の構成比率になるように混合物とし、該混合物を溶剤混合比率は、メチレンクロライド85、エタノール15に固形分として20質量になるように溶解させてドープを調製する。次いで、35°C恒温水槽中に2時間静置後、回転式粘度計を用いて正確に1分後の粘度を測定して求める。回転式粘度計:芝浦システム株式会社ビスメトロン粘度計VSAローター:No.4回転数:3rpm測定温度:35°C本発明では芝浦システム株式会社のビスメトロン粘度計VSAにより35°Cにて測定した。粘度の単位はミリパスカル秒mPasである。《リターデーションRo、Rtの測定》得られたフィルムから試料35mm×35mmを切り出し、23°C,55RH環境下で2時間調湿し、自動複屈折計KOBRA21DH、王子計測株で、550nmにおける測定した値から下記式によってRo、Rtを求めた。式I:Ro=nx-ny×dnm式II:Rt={nxny/2-nz}×dnm上式中、Roは測定波長550nmにおけるフィルム内の面内リターデーション値を表し、Rtは測定波長550nmにおけるフィルム内の厚さ方向のリターデーション値を表す。また、dは光学フィルムの厚さnmを表し、nxは測定波長550nmにおけるフィルムの面内の最大の屈折率を表す。nyは測定波長550nmにおけるフィルム面内で遅相軸に直角な方向の屈折率を表し、nzは測定波長550nmにおける厚さ方向におけるフィルムの屈折率を表す。《内部ヘイズ》作製したλ/4板を、23°C55RHの環境にて5時間以上調湿した後、下記方法により内部ヘイズ値を評価した。内部ヘイズ測定装置ヘイズメーター濁度計型式:NDH2000、日本電色株製光源は、5V9Wハロゲン球、受光部は、シリコンフォトセル比視感度フィルター付きを用いた。本発明のλ/4板は、この装置にてフィルム屈折率±0.05の屈折率の溶剤をフィルム上に滴下した場合のフィルムのヘイズ測定において、その値が0.05以下であることが好ましい。測定はJISK-7136に準じて測定した。内部ヘイズ測定は以下のように行う。図5~8を持って説明する。まず、フィルム以外の測定器具のブランクヘイズ1を測定する。1.きれいにしたスライドガラスの上にグリセリンを一滴0.05mlたらす。このとき液滴に気泡が入らないように注意する。ガラスは見た目がきれいでも汚れていることがあるので必ず洗剤で洗浄したものを使用する。図5参照2.その上にカバーガラスを乗せる。カバーガラスは押さえなくてもグリセリンは広がる。3.ヘイズメーターにセットしブランクヘイズ1を測定する。次いで以下の手順で、試料を含めたヘイズ2を測定する。4.スライドガラス上にグリセリンを滴下する。0.05ml図5参照5.その上に測定する試料フィルムを気泡が入らないように乗せる。図6参照6.試料フィルム上にグリセリンを滴下する。0.05ml図7参照7.その上にカバーガラスを載せる。図8参照8.上記のように作製した積層体上から、カバーガラス/グリセリン/試料フィルム/グリセリン/スライドガラスをヘイズメーターにセットしヘイズ2を測定する。9.ヘイズ2-ヘイズ1=本発明のλ/4板の内部ヘイズを算出する。上記ヘイズの測定はすべて23°C55RHにて行われた。また、上記測定にて使用したガラス、グリセリンを以下の通りである。ガラス:MICROSLIDEGLASSS9213MATSUNAMIグリセリン:関東化学製鹿特級純度>99.0屈折率1.47《微少スジ、むらの評価》作製したλ/4板について、微少スジ、むらを下記の基準に従い目視でランク評価した。微少スジ、むら○:微少スジ、むらが全くない実用可△:弱い微少スジ、むらが有り程度の弱いものは実用可×:強いスジ、むら有り実用不可以上の評価結果を表3に示す。表3から、本発明に係るハードコート層を有するλ/4板103~116は比較例に対して、λ/4板としての適切なリターデーションを有し、かつ内部ヘイズ、ハードコート層塗布後の微少スジ、むらに優れることが明かである。また、コア層、スキン層の組成物粘度NDs、NDcが0.6<NDs/NDc<0.96の関係にあることが内部ヘイズ、ハードコート層塗布後の微少スジ、むらの発生の防止にとって好ましいことが判った。実施例2実施例1で作製したハードコート層を有するλ/4板のハードコート層の上に更に下記反射防止層を設け、反射防止層付きλ/4板101ar~111arを作製した。<反射防止層の塗布>中屈折率層の塗布ハードコート層表面上に、下記中屈折率層塗布液をダイコートし、80°Cで乾燥した後、120mJ/cm2の紫外線を高圧水銀灯で照射して、硬化後の膜厚が110nmとなるように中屈折率層を設けた。屈折率は1.60であった。中屈折率層塗布液粒子分散液Aの作製メタノール分散アンチモン複酸化物コロイド固形分60、日産化学工業株製アンチモン酸亜鉛ゾル、商品名:セルナックスCX-Z610M-F26.0kgにイソプロピルアルコール12.0kgを攪拌しながら徐々に添加し、粒子分散液Aを調製した。PGMEプロピレングリコールモノメチルエーテル40質量部イソプロピルアルコール25質量部メチルエチルケトン25質量部ペンタエリスリトールトリアクリレート0.9質量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート1.0質量部ウレタンアクリレート商品名:U-4HA新中村化学工業社製0.6質量部粒子分散液A20質量部1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトンイルガキュア184、BASFジャパン社製0.4質量部2-メチル-1-[4-メチルチオフェニル]-2-モノフォリノプロパン-1-オンイルガキュア907、BASFジャパン社製0.2質量部10FZ-2207、プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液日本ユニカー社製0.4質量部低屈折率層の塗布上記中屈折率層上に、下記の低屈折率層塗布液をダイコートし、80°Cで乾燥した後、120mJ/cm2の紫外線を高圧水銀灯で照射して膜厚が92nmになるように低屈折率層を設け、反射防止層を作製した。屈折率は1.38であった。低屈折率層塗布液テトラエトキシシラン加水分解物Aの調製テトラエトキシシラン230g商品名:KBE04、信越化学工業社製とエタノール440gを混合し、これに2酢酸水溶液120gを添加した後に、室温25°Cにて26時間攪拌することでテトラエトキシシラン加水分解物Aを調製した。プロピレングリコールモノメチルエーテル430質量部イソプロピルアルコール430質量部テトラエトキシシラン加水分解物A120質量部γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン商品名:KBM503、信越化学工業社製3.0質量部イソプロピルアルコール分散中空シリカゾル固形分20、触媒化成工業社製シリカゾル、商品名:ELCOMV-820940質量部アルミニウムエチルアセトアセテートジイソプロピレート川研ファインケミカル社製3.0質量部10FZ-2207、プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液日本ユニカー社製3.0質量部<偏光子保護用光学フィルムの作製>光学フィルム150の作製微粒子分散液1微粒子アエロジルR972V日本アエロジル株製11質量部エタノール89質量部以上をディゾルバーで50分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。微粒子添加液1メチレンクロライドを入れた溶解タンクに十分攪拌しながら、微粒子分散液1をゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線株製のファインメットNFで濾過し、微粒子添加液1を調製した。メチレンクロライド99質量部微粒子分散液15質量部下記組成の主ドープ液を調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。溶剤の入った加圧溶解タンクにセルロースアセテートを攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し。これを安積濾紙株製の安積濾紙No.244を使用して濾過し、主ドープ液を調製した。主ドープ液の組成メチレンクロライド340質量部エタノール64質量部セルロースエステルセルロースアセテートプロピオネートアシル基総置換度2.75、アセチル基置換度0.19、プロピオニル基置換度2.56、Mw=200000100質量部一般式Iで表される化合物1-710質量部一般式IIで表されるエステル化合物ポリエステルb2.5質量部紫外線吸収剤チヌビン928BASFジャパン株製2.3質量部微粒子添加液11質量部上記組成物を密閉容器に投入し、攪拌しながら溶解してドープ液を調製した。次いで、無端ベルト流延装置を用い、ドープ液を温度33°C、2000mm幅でステンレスベルト支持体上に均一に流延した。ステンレスベルトの温度は30°Cに制御した。ステンレスベルト支持体上で、流延キャストしたフィルム中の残留溶媒量が75になるまで溶媒を蒸発させ、次いで剥離張力130N/mで、ステンレスベルト支持体上から剥離した。その後170°Cに設定されたテンターにより幅手方向に1.4倍の延伸を行い、次いで130°Cに設定された乾燥ゾーンで30分間搬送させて乾燥を行い、幅2m、かつ端部に幅1cm、高さ8μmのナーリングを有する膜厚40μmの光学フィルム150を作製し、3000mで巻き取った。光学フィルム150のリターデーション値Ro590、Rt590は、各々50nm、130nmであった。<偏光板201~211の作製>厚さ、120μmのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸温度110°C、延伸倍率5倍した。これをヨウ素0.075g、ヨウ化カリウム5g、水100gからなる水溶液に60秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム6g、ホウ酸7.5g、水100gからなる68°Cの水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し、長尺状の偏光子を得た。次いで、下記工程1~5に従って偏光子と前記反射防止層付きλ/4板101ar~111arと、裏面側には光学フィルム150をロールtoロールで貼り合わせて偏光子の吸収軸とλ/4板の遅相軸が45°傾いている長尺状の偏光板201~211を作製した。工程1:60°Cの2モル/Lの水酸化ナトリウム溶液に90秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、偏光子と貼合する側を鹸化したλ/4板101ar~111arを得た。工程2:前記偏光子を固形分2質量のポリビニルアルコール接着剤槽中に1~2秒浸漬した。工程3:工程2で偏光子に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、これを工程1で処理したλ/4板101ar~111arの上にのせて配置した。工程4:工程3で積層したλ/4板101ar~111arと偏光子と光学フィルム150を圧力20~30N/cm2、搬送スピードは約2m/分で貼合した。工程5:80°Cの乾燥機中に工程4で作製した偏光子とλ/4板101ar~111arと光学フィルム150とを貼り合わせた試料を2分間乾燥し、それぞれ、λ/4板101ar~111arに対応する偏光板201~211を作製した。<液晶表示装置の作製>視野角測定を行う液晶パネルを以下のようにして作製し、液晶表示装置としての特性を評価した。SONY製60型ディスプレイBRAVIALX900の予め貼合されていた前面板を剥がして、パネル前面の偏光板と前面板の間にあった充填剤を除去し、予め貼合されていたパネル前側の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板201~211をそれぞれ液晶セルのガラス面の前面に貼合した。その際、その偏光板の貼合の向きは、λ/4板の面が、視認側となるように、かつ、予め貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように行い、それぞれ、偏光板201~211に対応する液晶表示装置301~311を各々作製した。3DメガネSONY製3DメガネTDG-BR100のパネル側に実施例1で作製したハードコート付きλ/4板105を貼合した。作製した液晶表示装置について3D映像視聴時の首を傾けた際のクロストークについて評価した。《3D映像視聴時の首を傾けた際のクロストークの評価》23°C55RHの環境で、各々の液晶表示装置のバックライトを点灯させた直後、3Dメガネをかけて、メガネが25°傾いた状態になるよう首を傾けた状態で3D映像を視聴し、クロストークを下記基準で評価した。◎:クロストークがまったくない○:非常に弱いクロストークが見えるが実用上問題はない△:弱いクロストークが見える×:クロストークがはっきり見える。《コントラストムラ》23°C55RHの環境で、各々の液晶表示装置のバックライトを1時間連続点灯した後、測定を行った。測定にはELDIM社製EZ-Contrast160Dを用いて、液晶表示装置で白表示と黒表示の表示画面の法線方向からの輝度を測定し、その比を正面コントラストとした。正面コントラスト=表示装置の法線方向から測定した白表示の輝度/表示装置の法線方向から測定した黒表示の輝度液晶表示装置の任意の10点の正面コントラストを測定し、以下の基準にて評価した。コントラストムラはハードコートフィルムに発生するしわやゆがみによって発生する。◎:正面コントラストのばらつきがなく、ムラもない○:正面コントラストのばらつきが1~5未満のばらつきであり、ムラが小さい△:正面コントラストが5~10未満のばらつきであり、ムラがややある×:正面コントラストが10以上のばらつきであり、ムラが大きい以上の評価結果を表4に示す。表4に示した結果から、斜め延伸により製造されるλ/4板に発生する微小スジ、むらを解消した本発明のλ/4板を装着した偏光板、及びそれを用いた液晶表示装置は、立体映像表示時の首を傾けた際のクロストーク、及び正面コントラストのばらつきを低減でき、視認性に優れた立体映像表示装置が得られることが明らかとなった。実施例3実施例1のハードコート層を有するλ/4板106の作製において、ハードコート層に用いる活性線硬化型樹脂の種類を表5に示した化合物を各々100質量部用いた以外は同様にして、ハードコート層を有するλ/4板112~120を作製した。用いた活性線硬化型樹脂の親水性について実施例1と同様に水滴接触角を測定した結果、40°以下であり親水性を有する化合物を○、親水性が無い化合物を×とした。また、作製したハードコート層を有するλ/4板112~120の微少スジ、むらについて、実施例1と同様にして評価して表5に示した。表5より親水性活性線硬化型樹脂をハードコート層に用いることで、本発明のλ/4板は微少スジ、むらの発生が効果的に改善されることが分かった。"