"ゴム成分と、シリカと、ガラス転移温度-40~-10°Cの、水酸基を有するジエン系ゴムゲルとを含有し、前記ゴム成分100質量のうち、共役ジエンに基づく構成単位と下式Iで表される構成単位とを有し、下式IIで表される基を有する化合物によって重合体の少なくとも一端が変性されてなる共役ジエン系重合体の含有量が5質量以上であり、前記ゴム成分100質量部に対して、前記シリカの含有量が5~150質量部、前記ジエン系ゴムゲルの含有量が10~30質量部であることを特徴とするゴム組成物。[式中、X1、X2及びX3は、それぞれ独立に、下式Iaで表される基、水酸基、ヒドロカルビル基又は置換ヒドロカルビル基を表し、X1、X2及びX3の少なくとも1つが、下式Iaで表される基又は水酸基である。][式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数が1~6のヒドロカルビル基、炭素原子数が1~6の置換ヒドロカルビル基、シリル基又は置換シリル基を表し、R1及びR2は結合して窒素原子と共に環構造を形成していてもよい。][式中、pは0又は1の整数を表し、Tは、炭素原子数が1~20のヒドロカルビレン基又は炭素原子数が1~20の置換ヒドロカルビレン基を表し、Aは窒素原子を有する官能基を表す。]式IaのR1及びR2が炭素原子数1~6のヒドロカルビル基であることを特徴とする請求項1に記載のゴム組成物。式IのX1、X2及びX3の2つが式Iaで表される基又は水酸基であることを特徴とする請求項1又は2に記載のゴム組成物。式IIで表される基が、下式IIaで表される基であることを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載のゴム組成物。式IIで表される基を有する化合物が、下式IIIで表される化合物、下式IVaで表される化合物及び下式IVbで表される化合物からなる化合物群から選ばれる少なくとも1種の化合物であることを特徴とする請求項1~4のいずれかに記載のゴム組成物。[式中、R31は、水素原子、炭素原子数が1~10のヒドロカルビル基、炭素原子数が1~10の置換ヒドロカルビル基、又は、窒素原子及び/若しくは酸素原子をヘテロ原子として有するヘテロ環基を表し、R32及びR33は、それぞれ独立に、窒素原子、酸素原子及びケイ素原子からなる原子群から選ばれる少なくとも1種の原子を有していてもよい炭素原子数が1~10の基を表し、R32及びR33は結合して窒素原子と共に環構造を形成していてもよく、R32及びR33は窒素に二重結合で結合する同一の基であってもよい。][式中、mは0~10の整数を表し、R41及びR42は、それぞれ独立に、炭素原子数が1~20のヒドロカルビル基又は炭素原子数が1~20の置換ヒドロカルビル基を表す。][式中、nは0~10の整数を表し、R43は、炭素原子数が1~20のヒドロカルビル基又は炭素原子数が1~20の置換ヒドロカルビル基を表す。]式IIで表される基を有する化合物が、下式Vで表される化合物であることを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載のゴム組成物。[式中、R51は、水素原子、炭素原子数が1~10のヒドロカルビル基、炭素原子数が1~10の置換ヒドロカルビル基、又は、窒素原子及び/若しくは酸素原子をヘテロ原子として有するヘテロ環基を表し、R52及びR53は、それぞれ独立に、窒素原子、酸素原子及びケイ素原子からなる原子群から選ばれる少なくとも1種の原子を有していてもよい炭素原子数が1~10の基を表し、R52及びR53は結合して窒素原子と共に環構造を形成していてもよく、R52及びR53は窒素に二重結合で結合する同一の基であってもよく、Tは、炭素原子数が1~20のヒドロカルビレン基又は炭素原子数が1~20の置換ヒドロカルビレン基を表す。]式Vで表される化合物が、下式IVcで表される化合物及び下式IVdで表される化合物からなる化合物群から選ばれる少なくとも1種の化合物であることを特徴とする請求項6に記載のゴム組成物。[式中、rは1又は2の整数を表し、Y1はベンゼン環上の置換基であって、窒素原子を有する官能基を表し、Y1が複数ある場合、複数あるY1は、同一でも異なっていてもよい。][式中、sは1又は2の整数を表し、tは0~2の整数を表し、Y2及びY3は、ベンゼン環上の置換基であって、窒素原子を有する官能基を表し、Y2が複数ある場合、複数あるY2は、同一でも異なっていてもよく、Y3が複数ある場合、複数あるY3は、同一でも異なっていてもよい。]共役ジエン系重合体のビニル結合量が、共役ジエンに基づく構成単位の含有量を100モルとして、10モル以上80モル以下であることを特徴とする請求項1~7のいずれかに記載のゴム組成物。天然ゴム及び/又はブタジエンゴムを含有することを特徴とする請求項1~8のいずれかに記載のゴム組成物。シリカの窒素吸着比表面積が40~400m2/gであることを特徴とする請求項1~9のいずれかに記載のゴム組成物。ジエン系ゴムゲルは、平均粒子径が10~100nm、水酸基価が10~60mgKOH/g-gelであることを特徴とする請求項1~10のいずれかに記載のゴム組成物。トレッド用ゴム組成物として用いられることを特徴とする請求項1~11のいずれかに記載のゴム組成物。請求項1~12のいずれかに記載のゴム組成物を用いて作製した空気入りタイヤ。本発明は、前記課題を解決し、低燃費性、ウェットグリップ性能及び耐摩耗性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供することを目的とする。本発明は、ゴム成分と、シリカと、ガラス転移温度-40~-10°Cの、水酸基を有するジエン系ゴムゲルとを含有し、上記ゴム成分100質量のうち、共役ジエンに基づく構成単位と下式Iで表される構成単位とを有し、下式IIで表される基を有する化合物によって重合体の少なくとも一端が変性されてなる共役ジエン系重合体の含有量が5質量以上であり、上記ゴム成分100質量部に対して、上記シリカの含有量が5~150質量部、上記ジエン系ゴムゲルの含有量が10~30質量部であるゴム組成物に関する。[式中、X1、X2及びX3は、それぞれ独立に、下式Iaで表される基、水酸基、ヒドロカルビル基又は置換ヒドロカルビル基を表し、X1、X2及びX3の少なくとも1つが、下式Iaで表される基又は水酸基である。][式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数が1~6のヒドロカルビル基、炭素原子数が1~6の置換ヒドロカルビル基、シリル基又は置換シリル基を表し、R1及びR2は結合して窒素原子と共に環構造を形成していてもよい。][式中、pは0又は1の整数を表し、Tは、炭素原子数が1~20のヒドロカルビレン基又は炭素原子数が1~20の置換ヒドロカルビレン基を表し、Aは窒素原子を有する官能基を表す。]式IaのR1及びR2が炭素原子数1~6のヒドロカルビル基であることが好ましい。式IのX1、X2及びX3の2つが式Iaで表される基又は水酸基であることが好ましい。式IIで表される基が、下式IIaで表される基であることが好ましい。式IIで表される基を有する化合物が、下式IIIで表される化合物、下式IVaで表される化合物及び下式IVbで表される化合物からなる化合物群から選ばれる少なくとも1種の化合物であることが好ましい。[式中、R31は、水素原子、炭素原子数が1~10のヒドロカルビル基、炭素原子数が1~10の置換ヒドロカルビル基、又は、窒素原子及び/若しくは酸素原子をヘテロ原子として有するヘテロ環基を表し、R32及びR33は、それぞれ独立に、窒素原子、酸素原子及びケイ素原子からなる原子群から選ばれる少なくとも1種の原子を有していてもよい炭素原子数が1~10の基を表し、R32及びR33は結合して窒素原子と共に環構造を形成していてもよく、R32及びR33は窒素に二重結合で結合する同一の基であってもよい。][式中、mは0~10の整数を表し、R41及びR42は、それぞれ独立に、炭素原子数が1~20のヒドロカルビル基又は炭素原子数が1~20の置換ヒドロカルビル基を表す。][式中、nは0~10の整数を表し、R43は、炭素原子数が1~20のヒドロカルビル基又は炭素原子数が1~20の置換ヒドロカルビル基を表す。]式IIで表される基を有する化合物が、下式Vで表される化合物であることが好ましい。[式中、R51は、水素原子、炭素原子数が1~10のヒドロカルビル基、炭素原子数が1~10の置換ヒドロカルビル基、又は、窒素原子及び/若しくは酸素原子をヘテロ原子として有するヘテロ環基を表し、R52及びR53は、それぞれ独立に、窒素原子、酸素原子及びケイ素原子からなる原子群から選ばれる少なくとも1種の原子を有していてもよい炭素原子数が1~10の基を表し、R52及びR53は結合して窒素原子と共に環構造を形成していてもよく、R52及びR53は窒素に二重結合で結合する同一の基であってもよく、Tは、炭素原子数が1~20のヒドロカルビレン基又は炭素原子数が1~20の置換ヒドロカルビレン基を表す。]式Vで表される化合物が、下式IVcで表される化合物及び下式IVdで表される化合物からなる化合物群から選ばれる少なくとも1種の化合物であることが好ましい。[式中、rは1又は2の整数を表し、Y1はベンゼン環上の置換基であって、窒素原子を有する官能基を表し、Y1が複数ある場合、複数あるY1は、同一でも異なっていてもよい。][式中、sは1又は2の整数を表し、tは0~2の整数を表し、Y2及びY3は、ベンゼン環上の置換基であって、窒素原子を有する官能基を表し、Y2が複数ある場合、複数あるY2は、同一でも異なっていてもよく、Y3が複数ある場合、複数あるY3は、同一でも異なっていてもよい。]共役ジエン系重合体のビニル結合量が、共役ジエンに基づく構成単位の含有量を100モルとして、10モル以上80モル以下であることが好ましい。上記ゴム組成物は、天然ゴム及び/又はブタジエンゴムを含有することが好ましい。シリカの窒素吸着比表面積が40~400m2/gであることが好ましい。ジエン系ゴムゲルは、平均粒子径が10~100nm、水酸基価が10~60mgKOH/g-gelであることが好ましい。上記ゴム組成物は、トレッド用ゴム組成物として用いられることが好ましい。本発明はまた、上記ゴム組成物を用いて作製した空気入りタイヤに関する。本発明によれば、特定の共役ジエン系重合体と、シリカと、特定のジエン系ゴムゲルとを配合したゴム組成物であるので、低燃費性、ウェットグリップ性能及び耐摩耗性がバランス良く改善された空気入りタイヤを提供できる。本発明のゴム組成物は、共役ジエンに基づく構成単位及び下式Iで表される構成単位を有し、下式IIで表される基で表される基を有するケイ素化合物によって重合体の少なくとも一端が変性されてなる共役ジエン系重合体と、シリカと、ガラス転移温度-40~-10°Cの、水酸基を有するジエン系ゴムゲルとを含む。[式中、X1、X2及びX3は、それぞれ独立に、下式Iaで表される基、水酸基、ヒドロカルビル基又は置換ヒドロカルビル基を表し、X1、X2及びX3の少なくとも1つが、下式Iaで表される基又は水酸基である。][式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数が1~6のヒドロカルビル基、炭素原子数が1~6の置換ヒドロカルビル基、シリル基又は置換シリル基を表し、R1及びR2は結合して窒素原子と共に環構造を形成していてもよい。][式中、pは0又は1の整数を表し、Tは、炭素原子数が1~20のヒドロカルビレン基又は炭素原子数が1~20の置換ヒドロカルビレン基を表し、Aは窒素原子を有する官能基を表す。]共役ジエンに基づく構成単位の共役ジエンとしては、1,3-ブタジエン、イソプレン、1,3-ペンタジエン、2,3-ジメチル-1,3-ブタジエン、1,3-ヘキサジエンなどをあげることができ、これらは1種でもよく、2種以上でもよい。入手容易性の観点から、1,3-ブタジエン、イソプレンが好ましい。式Iで表される構成単位の式IのX1、X2及びX3は、それぞれ独立に、式Iaで表される基、水酸基、ヒドロカルビル基又は置換ヒドロカルビル基を表し、X1、X2及びX3の少なくとも1つは、式Iaで表される基又は水酸基である。式IaのR1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数が1~6のヒドロカルビル基、炭素原子数が1~6の置換ヒドロカルビル基、シリル基又は置換シリル基を表し、R1及びR2は結合して窒素原子と共に環構造を形成していてもよい。本明細書では、ヒドロカルビル基は1価の炭化水素残基を表す。ここで、炭化水素残基とは、炭化水素から水素を除いた基を表す。置換ヒドロカルビル基は、1価の炭化水素残基の1つ以上の水素原子が置換基で置換されている基を表す。ヒドロカルビルオキシ基は、ヒドロキシル基の水素原子がヒドロカルビル基で置換されている基を表し、置換ヒドロカルビルオキシ基は、ヒドロカルビルオキシ基の1つ以上の水素原子が置換基で置換されている基を表す。ヒドロカルビレン基は、2価の炭化水素残基を表す。置換ヒドロカルビレン基は、2価の炭化水素残基の1つ以上の水素原子が置換基で置換されている基を表す。また、置換シリル基は、シリル基の1つ以上の水素原子が置換基で置換されている基を表す。R1及びR2の炭素原子数が1~6のヒドロカルビル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、ネオペンチル基、イソペンチル基、n-ヘキシル基などのアルキル基;シクロヘキシル基などのシクロアルキル基;フェニル基などをあげることができる。R1及びR2の炭素原子数が1~6の置換ヒドロカルビル基としては、窒素原子を有する基、酸素原子を有する基及びケイ素原子を有する基からなる基群から選ばれる少なくとも1種の基を置換基として有する置換ヒドロカルビル基をあげることができる。窒素原子を有する基を置換基として有する基としては、ジメチルアミノエチル基、ジエチルアミノエチル基などのジアルキルアミノアルキル基をあげることができ、酸素原子を有する基を置換基として有する基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基などのアルコキシアルキル基をあげることができ、ケイ素原子を有する基を置換基として有する基としては、トリメチルシリルメチル基などのトリアルキルシリルアルキル基などをあげることができる。R1及びR2の置換シリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、t-ブチルジメチルシリル基などのトリアルキルシリル基などをあげることができる。R1及びR2が結合した基としては、窒素原子、酸素原子及びケイ素原子からなる原子群から選ばれる少なくとも1種の原子を有していてもよい炭素原子数が1~12の2価の基があげられる。例えば、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基などのアルキレン基;オキシジエチレン基、オキシジプロピレン基などのオキシジアルキレン基;-CH2CH2-NH-CH2-で表される基、-CH2CH2-N=CH-で表される基などの含窒素基などをあげることができる。R1及びR2が結合した基としては、含窒素基が好ましく、-CH2CH2-NH-CH2-で表される基、-CH2CH2-N=CH-で表される基がより好ましい。R1及びR2のヒドロカルビル基としては、アルキル基が好ましく、炭素原子数が1~4のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基が更に好ましく、エチル基、n-ブチル基が特に好ましい。R1及びR2の置換ヒドロカルビル基としては、アルコキシアルキル基が好ましく、炭素原子数が1~4のアルコキシアルキル基がより好ましい。R1及びR2の置換シリル基としては、トリアルキルシリル基が好ましく、トリメチルシリル基がより好ましい。R1及びR2としては、好ましくは、アルキル基、アルコキシアルキル基、置換シリル基又はR1及びR2が結合した含窒素基であり、より好ましくは、アルキル基であり、更に好ましくは、炭素原子数が1~4のアルキル基であり、より更に好ましくは、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基である。式Iaで表される基としては、非環状アミノ基、環状アミノ基をあげることができる。該非環状アミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジn-プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジn-ブチルアミノ基、ジsec-ブチルアミノ基、ジtert-ブチルアミノ基、ジネオペンチルアミノ基、エチルメチルアミノ基などのジアルキルアミノ基;ジメトキシメチルアミノ基、ジメトキシエチルアミノ基、ジエトキシメチルアミノ基、ジエトキシエチルアミノ基などのジアルコキシアルキルアミノ基;ジトリメチルシリルアミノ基、ジt-ブチルジメチルシリルアミノ基などのジトリアルキルシリルアミノ基などをあげることができる。該環状アミノ基としては、1-ピロリジニル基、1-ピペリジノ基、1-ヘキサメチレンイミノ基、1-ヘプタメチレンイミノ基、1-オクタメチレンイミノ基、1-デカメチレンイミノ基、1-ドデカメチレンイミノ基などの1-ポリメチレンイミノ基をあげることができる。また、環状アミノ基としては、1-イミダゾリル基、4,5-ジヒドロ-1-イミダゾリル基、1-イミダゾリジニル基、1-ピペラジニル基、モルホリノ基などもあげることができる。式Iaで表される基としては、経済性及び入手容易性から、好ましくは、非環状アミノ基であり、より好ましくは、ジアルキルアミノ基であり、更に好ましくは、炭素原子数が1~4のアルキル基で置換されたジアルキルアミノ基であり、より更に好ましくは、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジn-プロピルアミノ基、ジn-ブチルアミノ基である。式IのX1~X3のヒドロカルビル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基などのアルキル基をあげることができる。また、置換ヒドロカルビル基としては、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基などのアルコキシアルキル基をあげることができる。X1~X3のヒドロカルビル基としては、アルキル基が好ましく、炭素原子数が1~4のアルキル基がより好ましく、メチル基又はエチル基が更に好ましい。また、X1~X3の置換ヒドロカルビル基としては、アルコキシアルキル基が好ましく、炭素原子数が1~4のアルコキシアルキル基がより好ましい。X1~X3のヒドロカルビル基及び置換ヒドロカルビル基としては、好ましくは、アルキル基又はアルコキシアルキル基であり、より好ましくは、炭素原子数が1~4のアルキル基又は炭素原子数が1~4のアルコキシアルキル基であり、更に好ましくは、炭素原子数が1~4のアルキル基であり、より更に好ましくは、メチル基又はエチル基である。式IのX1、X2及びX3の少なくとも1つは、式Iaで表される基又は水酸基である。好ましくは、X1、X2及びX3の2つ以上が、式Iaで表される基又は水酸基であり、より好ましくは、X1、X2及びX3の2つが、式Iaで表される基又は水酸基である。また、低燃費性、ウェットグリップ性能及び耐摩耗性を高次元でバランス良く得られるという点から、X1、X2及びX3の少なくとも1つが水酸基であることが好ましく、X1、X2及びX3の2つ以上が水酸基であることがより好ましく、X1、X2及びX3の2つが水酸基であることが更に好ましい。低燃費性、ウェットグリップ性能及び耐摩耗性をバランス良く高める観点から、式Iで表される構成単位としては、X1、X2及びX3の2つが非環状アミノ基又は水酸基である構成単位が好ましい。X1、X2及びX3の2つが非環状アミノ基である構成単位としては、ビスジアルキルアミノアルキルビニルシラン単位が好ましく、ビスジメチルアミノメチルビニルシラン単位、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン単位、ビスジn-プロピルアミノメチルビニルシラン単位、ビスジn-ブチルアミノメチルビニルシラン単位がより好ましい。X1、X2及びX3の2つが水酸基である構成単位としては、ジヒドロキシアルキルビニルシラン単位が好ましく、ジヒドロキシメチルビニルシラン単位がより好ましい。共役ジエン系重合体中の式Iで表される構成単位の含有量は、低燃費性、ウェットグリップ性能及び耐摩耗性をバランス良く高める観点から、重合体単位質量あたり、好ましくは、0.001mmol/g重合体以上0.1mmol/g重合体以下である。より好ましくは、0.002mmol/g重合体以上0.07mmol/g重合体以下である。更に好ましくは、0.003mmol/g重合体以上0.05mmol/g重合体以下である。上記共役ジエン系重合体は、下式IIで表される基を有する化合物により重合体の少なくとも一端が変性されてなる重合体である。[式中、pは0又は1の整数を表し、Tは、炭素原子数が1~20のヒドロカルビレン基又は炭素原子数が1~20の置換ヒドロカルビレン基を表し、Aは窒素原子を有する官能基を表す。]pは0又は1の整数を表す。Tは、炭素原子数が1~20のヒドロカルビレン基又は炭素原子数が1~20の置換ヒドロカルビレン基を表す。Aは窒素原子を有する官能基を表し、アミノ基、イソシアノ基、シアノ基、ピリジル基、ピペリジル基、ピラジニル基、モルホリノ基などをあげることができる。式IIで表される基を有する化合物としては、式IIのpが0であり、Aがアミノ基である下式IIaで表される基を有する化合物をあげることができる。式IIaで表される基を有する化合物としては、ホルムアミド、アセトアミド、プロピオンアミドなどのカルボン酸アミド化合物をあげることができる。また、イミダゾリジノン及びその誘導体、ラクタム類などの環状化合物をあげることができる。式IIaで表される基を有する化合物としては、下式IIIで表されるカルボン酸アミド化合物をあげることができる。[式中、R31は、水素原子、炭素原子数が1~10のヒドロカルビル基、炭素原子数が1~10の置換ヒドロカルビル基、又は、窒素原子及び/若しくは酸素原子をヘテロ原子として有するヘテロ環基を表し、R32及びR33は、それぞれ独立に、窒素原子、酸素原子及びケイ素原子からなる原子群から選ばれる少なくとも1種の原子を有していてもよい炭素原子数が1~10の基を表し、R32及びR33は結合して窒素原子と共に環構造を形成していてもよく、R32及びR33は窒素に二重結合で結合する同一の基であってもよい。]R31のヒドロカルビル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基などのアルキル基;フェニル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基等のアラルキル基をあげることができる。R31の置換ヒドロカルビル基としては、窒素原子を有する基及び酸素原子を有する基を有する基からなる基群から選ばれる少なくとも1種の基を置換基として有する置換ヒドロカルビル基をあげることができる。窒素原子を有する基を置換基として有する基としては、ジメチルアミノエチル基、ジエチルアミノエチル基などのジアルキルアミノアルキル基をあげることができ、酸素原子を有する基を置換基として有する基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基などのアルコキシアルキル基をあげることができる。R31の窒素原子及び/又は酸素原子をヘテロ原子として有するヘテロ環基とは、窒素原子及び/又は酸素原子を環内に含む複素環式化合物残基を表し、該基としては、2-ピリジル基、3-ピリジル基、4-ピリジル基、2-フリル基などをあげることができる。R31としては、好ましくは、炭素原子数が1~10のヒドロカルビル基、炭素原子数が1~10の置換ヒドロカルビル基であり、より好ましくは、炭素原子数が1~4のアルキル基であり、特に好ましくは、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基である。式IIIのR32及びR33としては、炭素原子数が1~10のヒドロカルビル基、炭素原子数が1~10の置換ヒドロカルビル基などをあげることができる。R32及びR33のヒドロカルビル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基などのアルキル基;フェニル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基等のアラルキル基をあげることができる。R32及びR33の置換ヒドロカルビル基としては、窒素原子を有する基及び酸素原子を有する基を有する基からなる基群から選ばれる少なくとも1種の基を置換基として有する置換ヒドロカルビル基をあげることができる。窒素原子を有する基を置換基として有する基としては、ジメチルアミノエチル基、ジエチルアミノエチル基などのジアルキルアミノアルキル基をあげることができ、酸素原子を有する基を置換基として有する基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基などのアルコキシアルキル基をあげることができる。R32及びR33が結合した基としては、窒素原子、酸素原子及びケイ素原子からなる原子群から選ばれる少なくとも1種の原子を有していてもよい炭素原子数が2~20の2価の基があげられる。例えば、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基などのアルキレン基;オキシジエチレン基、オキシジプロピレン基などのオキシジアルキレン基;-CH2CH2-NH-CH2-で表される基、-CH2CH2-N=CH-で表される基などの含窒素基などをあげることができる。R32及びR33の窒素に二重結合で結合する同一の基としては、窒素原子及び酸素原子からなる原子群から選ばれる少なくとも1種の原子を有していてもよい炭素原子数が2~12の2価の基があげられる。例えば、エチリデン基、1-メチルプロピリデン基、1,3-ジメチルブチリデン基、1-メチルエチリデン基、4-N,N-ジメチルアミノベンジリデン基などをあげることができる。R32及びR33としては、好ましくは、ヒドロカルビル基であり、より好ましくは、アルキル基であり、更に好ましくは、炭素原子数が1~4のアルキル基であり、特に好ましくは、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基である。式IIIで表されるカルボン酸アミド化合物としては、ホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムアミド等のホルムアミド化合物;アセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジエチルアセトアミド、アミノアセトアミド、N,N-ジメチル-N’,N’-ジメチルアミノアセトアミド、N,N-ジメチルアミノアセトアミド、N-エチルアミノアセトアミド、N,N-ジメチル-N’-エチルアミノアセトアミド、N,N-ジメチルアミノアセトアミド、N-フェニルジアセトアミド等のアセトアミド化合物;プロピオンアミド、N,N-ジメチルプロピオンアミド等のプロピオンアミド化合物;4-ピリジルアミド、N,N-ジメチル-4-ピリジルアミド等のピリジルアミド化合物;ベンズアミド、N,N-ジメチルベンズアミド、N’,N’-p-ジメチルアミノベンズアミド、N’,N’-p-ジエチルアミノベンズアミド、N,N-ジメチル-N’,N’-p-ジメチルアミノベンズアミド、N,N-ジメチル-N’,N’-p-ジエチルアミノベンズアミドなどのベンズアミド化合物;N,N-ジメチルアクリルアミド、N,N-ジエチルアクリルアミドなどのアクリルアミド化合物;N,N-ジメチルメタクリルアミド、N,N-ジエチルメタクリルアミドなどのメタクリルアミド化合物;N,N-ジメチルニコチンアミド、N,N-ジエチルニコチンアミドなどのニコチンアミド化合物;N,N,N’,N’-テトラメチルフタルアミド、N,N,N’,N’-テトラエチルフタルアミドなどのフタルアミド化合物;N-メチルフタルイミド、N-エチルフタルイミドなどのフタルイミド化合物などをあげることができる。また、式IIaで表される基を有する環状化合物としては、下式IVa又は下式IVbで表される化合物をあげることができる。[式中、mは0~10の整数を表し、R41及びR42は、それぞれ独立に、炭素原子数が1~20のヒドロカルビル基又は炭素原子数が1~20の置換ヒドロカルビル基を表す。][式中、nは0~10の整数を表し、R43は、炭素原子数が1~20のヒドロカルビル基又は炭素原子数が1~20の置換ヒドロカルビル基を表す。]式IVa及び式IVbのR41、R42及びR43は、それぞれ独立に、炭素原子数が1~20のヒドロカルビル基又は炭素原子数が1~20の置換ヒドロカルビル基を表す。R41、R42及びR43のヒドロカルビル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基などのアルキル基;フェニル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基等のアラルキル基をあげることができる。R41、R42及びR43の置換ヒドロカルビル基としては、窒素原子を有する基、酸素原子を有する基及びケイ素原子を有する基からなる基群から選ばれる少なくとも1種の基を置換基として有する置換ヒドロカルビル基をあげることができる。窒素原子を有する基を置換基として有する基としては、ジメチルアミノエチル基、ジエチルアミノエチル基などのジアルキルアミノアルキル基をあげることができ、酸素原子を有する基を置換基として有する基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基などのアルコキシアルキル基;メトキシフェニル基、エトキシフェニル基などのアルコキシアリール基をあげることができ、ケイ素原子を有する基を置換基として有する基としては、トリメチルシリルメチル基、t-ブチルジメチルシリロキシメチル基、トリメトキシシリルプロピル基などをあげることができる。式IVaのR41及びR42としては、好ましくはヒドロカルビル基であり、より好ましくはアルキル基であり、更に好ましくはメチル基である。式IVbのR43としては、好ましくはヒドロカルビル基であり、より好ましくはアルキル基、アリール基であり、更に好ましくはメチル基、フェニル基である。式IVa及び式IVbのm及びnは、それぞれ0~10の整数を表す。低燃費性、ウェットグリップ性能及び耐摩耗性をバランス良く高める観点から、好ましくは2以上であり、製造時の経済性を高める観点から、好ましくは7以下である。式IVaで表される化合物としては、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、1,3-ジエチル-2-イミダゾリジノン、1,3-ジn-プロピル-2-イミダゾリジノン、1,3-ジt-ブチル-2-イミダゾリジノン、1,3-ジフェニル-2-イミダゾリジノンなどの1,3-ヒドロカルビル置換-2-イミダゾリジノンをあげることができる。好ましくは、1,3-置換-2-イミダゾリジノンであり、より好ましくは、1,3-ヒドロカルビル置換-2-イミダゾリジノンであり、更に好ましくは、1,3-ジアルキル-2-イミダゾリジノンである。1,3-ジアルキル-2-イミダゾリジノンとしては、好ましくは、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、1,3-ジエチル-2-イミダゾリジノン、1,3-ジn-プロピル-2-イミダゾリジノンであり、より好ましくは、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノンである。式IVbで表される化合物としては、N-メチル-β-プロピオラクタム、N-t-ブチル-β-プロピオラクタム、N-フェニル-β-プロピオラクタム等のβ-プロピオラクタム化合物;1-メチル-2-ピロリドン、1-t-ブチル-2-ピロリドン、1-フェニル-2-ピロリドン、1-p-メチルフェニル-2-ピロリドン、1-p-メトキシフェニル-2-ピロリドン、1-ベンジル-2-ピロリドン、1-ナフチル-2-ピロリドン、1-フェニル-5-メチル-2-ピロリドン、1-t-ブチル-5-メチル-2-ピロリドン、1-t-ブチル-1,3-ジメチル-2-ピロリドン等の2-ピロリドン化合物;1-t-ブチル-2-ピペリドン、1-フェニル-2-ピペリドン、1-p-メチルフェニル-2-ピペリドン、1-p-メトキシフェニル-2-ピペリドン、1-ナフチル-2-ピペリドン等の2-ピペリドン化合物;N-メチル-ε-カプロラクタム、N-エチル-ε-カプロラクタム、N-n-プロピル-ε-カプロラクタム、N-フェニル-ε-カプロラクタム、N-p-メトキシフェニル-ε-カプロラクタム、N-ベンジル-ε-カプロラクタム等のε-カプロラクタム化合物;N-フェニル-ω-ラウリロラクタム等のω-ラウリロラクタム化合物をあげることができる。式IVbで表される化合物としては、好ましくは、2-ピロリドン化合物、ε-カプロラクタム化合物であり、より好ましくは、1-ヒドロカルビル置換-2-ピロリドン、N-ヒドロカルビル置換-ε-カプロラクタムであり、更に好ましくは、1-アルキル置換-2-ピロリドン、1-アリール置換-2-ピロリドン、N-アルキル置換-ε-カプロラクタム、N-アリール置換-ε-カプロラクタムであり、特に好ましくは1-フェニル-2-ピロリドン、N-メチル-ε-カプロラクタムである。式IIで表される基を有する化合物としては、式IIのpが1であり、Aがアミノ基である下式IIbで表される基を有する化合物をあげることができる。[式中、Tは、炭素原子数が1~20のヒドロカルビレン基又は炭素原子数が1~20の置換ヒドロカルビレン基を表す。]式IIbで表される基を有する化合物としては、ベンズアルデヒド化合物、アセトフェノン化合物、ベンゾフェノン化合物をあげることができる。式IIbで表される基を有する化合物としては、下式Vで表される化合物をあげることができる。[式中、R51は、水素原子、炭素原子数が1~10のヒドロカルビル基、炭素原子数が1~10の置換ヒドロカルビル基、又は、窒素原子及び/若しくは酸素原子をヘテロ原子として有するヘテロ環基を表し、R52及びR53は、それぞれ独立に、窒素原子、酸素原子及びケイ素原子からなる原子群から選ばれる少なくとも1種の原子を有していてもよい炭素原子数が1~10の基を表し、R52及びR53は結合して窒素原子と共に環構造を形成していてもよく、R52及びR53は窒素に二重結合で結合する同一の基であってもよく、Tは、炭素原子数が1~20のヒドロカルビレン基又は炭素原子数が1~20の置換ヒドロカルビレン基を表す。]R51のヒドロカルビル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基などのアルキル基;フェニル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基等のアラルキル基をあげることができる。R51の置換ヒドロカルビル基としては、窒素原子を有する基及び酸素原子を有する基を有する基からなる基群から選ばれる少なくとも1種の基を置換基として有する置換ヒドロカルビル基をあげることができる。窒素原子を有する基を置換基として有する基としては、ジメチルアミノエチル基、ジエチルアミノエチル基などのジアルキルアミノアルキル基をあげることができ、酸素原子を有する基を置換基として有する基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基などのアルコキシアルキル基をあげることができる。R51の窒素原子及び/又は酸素原子をヘテロ原子として有するヘテロ環基とは、窒素原子及び/又は酸素原子を環内に含む複素環式化合物残基を表し、該基としては、2-ピリジル基、3-ピリジル基、4-ピリジル基、2-フリル基などをあげることができる。R51としては、好ましくは、水素原子、炭素原子数が1~10のヒドロカルビル基、炭素原子数が1~10の置換ヒドロカルビル基である。炭素原子数が1~10のヒドロカルビル基としては、好ましくは、炭素原子数が1~4のアルキル基及びフェニル基であり、特に好ましくは、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、フェニル基である。また、炭素原子数が1~10の置換ヒドロカルビル基としては、好ましくは、窒素原子を有する基を置換基として有するアリール基であり、より好ましくは、ジアルキルアミノフェニル基、4-モルホリノフェニル基である。式VのR52及びR53としては、炭素原子数が1~10のヒドロカルビル基、炭素原子数が1~10の置換ヒドロカルビル基などをあげることができる。R52及びR53のヒドロカルビル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基などのアルキル基;フェニル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基等のアラルキル基をあげることができる。R52及びR53の置換ヒドロカルビル基としては、窒素原子を有する基及び酸素原子を有する基を有する基からなる基群から選ばれる少なくとも1種の基を置換基として有する置換ヒドロカルビル基をあげることができる。窒素原子を有する基を置換基として有する基としては、ジメチルアミノエチル基、ジエチルアミノエチル基などのジアルキルアミノアルキル基をあげることができ、酸素原子を有する基を置換基として有する基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基などのアルコキシアルキル基をあげることができる。R52及びR53が結合した基としては、窒素原子、酸素原子及びケイ素原子からなる原子群から選ばれる少なくとも1種の原子を有していてもよい炭素原子数が2~20の2価の基があげられる。例えば、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基などのアルキレン基;オキシジエチレン基、オキシジプロピレン基などのオキシジアルキレン基;-CH2CH2-NH-CH2-で表される基、-CH2CH2-N=CH-で表される基などの含窒素基などをあげることができる。R52及びR53の窒素に二重結合で結合する同一の基としては、窒素原子及び酸素原子からなる原子群から選ばれる少なくとも1種の原子を有していてもよい炭素原子数が2~12の2価の基があげられる。例えば、エチリデン基、1-メチルプロピリデン基、1,3-ジメチルブチリデン基、1-メチルエチリデン基、4-N,N-ジメチルアミノベンジリデン基などをあげることができる。R52及びR53としては、好ましくは、ヒドロカルビル基であり、より好ましくは、アルキル基であり、更に好ましくは、炭素原子数が1~4のアルキル基であり、特に好ましくは、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基である。Tのヒドロカルビレン基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基などのアルキレン基;フェニレン基、メチルフェニレン基、エチルフェニルレン基、ナフチレン基等のアリレーン基をあげることができる。Tの置換ヒドロカルビレン基としては、窒素原子を有する基及び酸素原子を有する基を有する基からなる基群から選ばれる少なくとも1種の基を置換基として有する置換ヒドロカルビレン基をあげることができる。窒素原子を有する基を置換基として有する基としては、ジメチルアミノエチレン基、ジエチルアミノエチレン基などのジアルキルアミノアルキレン基;ジメチルアミノフェニレン基、ジエチルアミノフェニレン基などのジアルキルアミノアリレーン基をあげることができ、酸素原子を有する基を置換基として有する基としては、メトキシメチレン基、メトキシエチレン基、エトキシメチレン基、エトキシエチレン基などのアルコキシアルキレン基をあげることができる。Tとしては、好ましくは、ヒドロカルビレン基であり、より好ましくは、アリレーン基であり、更に好ましくは、フェニレン基である。式Vで表される化合物としては、4-ジメチルアミノベンズアルデヒド、4-ジエチルアミノベンズアルデヒド、3,5-ビスジヘキシルアミノ-ベンズアルデヒド等のジアルキルアミノ置換ベンズアルデヒド化合物;4-ジメチルアミノアセトフェノン、4-ジエチルアミノアセトフェノン等のジアルキルアミノ置換アセトフェノン化合物;4-モルホリノアセトフェノン、4’-イミダゾール-1-イル-アセトフェノン、4-ピラゾリルアセトフェノン等のヘテロ環基置換アセトフェノン化合物;4,4’-ビスジメチルアミノ-ベンゾフェノン、4,4’-ビスジエチルアミノ-ベンゾフェノン、4-ジメチルアミノベンゾフェノン、4-ジエチルアミノベンゾフェノン、3-ジメチルアミノベンゾフェノン、3-ジエチルアミノベンゾフェノン等のジアルキルアミノ置換ベンゾフェノン化合物;4-モルホリノベンゾフェノン、4’-イミダゾール-1-イル-ベンゾフェノン、4-ピラゾリルベンゾフェノン等のヘテロ環基置換ベンゾフェノン化合物をあげることができる。式Vで表される化合物としては、好ましくは、置換アセトフェノン化合物、置換ベンゾフェノン化合物であり、下式IVc又は下式IVdで表される化合物をあげることができる。[式中、rは1又は2の整数を表し、Y1はベンゼン環上の置換基であって、窒素原子を有する官能基を表し、Y1が複数ある場合、複数あるY1は、同一でも異なっていてもよい。][式中、sは1又は2の整数を表し、tは0~2の整数を表し、Y2及びY3は、ベンゼン環上の置換基であって、窒素原子を有する官能基を表し、Y2が複数ある場合、複数あるY2は、同一でも異なっていてもよく、Y3が複数ある場合、複数あるY3は、同一でも異なっていてもよい。]式IVc及び式IVdのY1、Y2及びY3は、窒素原子を有する官能基を表し、アミノ基、イソシアノ基、シアノ基、ピリジル基、ピペリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、モルホリノ基などをあげることができる。好ましくは、ジアルキルアミノ基、イミダゾリル基、モルホリノ基である。また、ジアルキルアミノ基のアルキル基としては、炭素原子数1~10のアルキル基が好ましい。式Vで表される化合物としては、より好ましくは、ヘテロ環基置換アセトフェノン化合物、ジアルキルアミノ置換ベンゾフェノン化合物、ヘテロ環基置換ベンゾフェノン化合物であり、特に好ましくは、4’-イミダゾール-1-イル-アセトフェノン、4-モルホリノアセトフェノン、4-ジメチルアミノベンゾフェノン、4-ジエチルアミノベンゾフェノン、4,4’-ビスジメチルアミノ-ベンゾフェノン、4,4’-ビスジエチルアミノ-ベンゾフェノン、4-モルホリノベンゾフェノンである。上記共役ジエン系重合体は、共役ジエンに基づく構成単位共役ジエン単位に加え、さらに、他の単量体に基づく構成単位を有していてもよい。該他の単量体としては、芳香族ビニル、ビニルニトリル、不飽和カルボン酸エステルなどがあげられる。芳香族ビニルとしては、スチレン、α-メチルスチレン、ビニルトルエン、ビニルナフタレン、ジビニルベンゼン、トリビニルベンゼン、ジビニルナフタレンを例示することができる。また、ビニルニトリルとしては、アクリロニトリルなどを、不飽和カルボン酸エステルとしては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチルなどを例示することができる。これらの中では、芳香族ビニルが好ましく、スチレンがより好ましい。上記共役ジエン系重合体は、耐摩耗性の観点から、芳香族ビニルに基づく構成単位芳香族ビニル単位を有していることが好ましく、芳香族ビニル単位の含有量としては、共役ジエン単位と芳香族ビニル単位との総量を100質量として、好ましくは10質量以上共役ジエン単位の含有量は90質量以下であり、より好ましくは15質量以上共役ジエン単位の含有量は85質量以下である。また、低燃費性の観点から、芳香族ビニル単位の含有量は、好ましくは50質量以下共役ジエン単位の含有量は50質量以上であり、より好ましくは45質量以下共役ジエン単位の含有量は55質量以上である。上記共役ジエン系重合体のビニル結合量は、共役ジエン単位の含有量を100モルとして、低燃費性の観点から、好ましくは80モル以下であり、より好ましくは70モル以下である。また、ウェットグリップ性能の観点から、好ましくは10モル以上であり、より好ましくは15モル以上であり、更に好ましくは20モル以上であり、特に好ましくは40モル以上である。該ビニル結合量は、赤外分光分析法により、ビニル基の吸収ピークである910cm-1付近の吸収強度より求められる。上記共役ジエン系重合体の分子量分布は、低燃費性の観点から、好ましくは1~5であり、より好ましくは1~2である。分子量分布は、ゲルパーミエイションクロマトグラフGPC法により、数平均分子量Mn及び重量平均分子量Mwを測定し、MwをMnで除すことにより求められる。上記共役ジエン系重合体の好適な製造方法としては、下記工程A及びBを有する製造方法をあげることができる。工程A:炭化水素溶媒中で、アルカリ金属触媒により、共役ジエンと下式VIで表されるビニル化合物とを含む単量体を重合させ、共役ジエンに基づく単量体単位と下式VIで表されるビニル化合物に基づく単量体単位とを有する重合体鎖の少なくとも一端に、該触媒由来のアルカリ金属を有する重合体を得る工程。[式中、X4、X5及びX6は、それぞれ独立に、下式VIaで表される基、ヒドロカルビル基又は置換ヒドロカルビル基を表し、X4、X5及びX6の少なくとも1つが、下式VIaで表される基である。][式中、R3及びR4は、それぞれ独立に、炭素原子数が1~6のヒドロカルビル基、炭素原子数が1~6の置換ヒドロカルビル基、シリル基又は置換シリル基を表し、R3及びR4は結合して窒素原子と共に環構造を形成していてもよい。]工程B:工程Aで得られた重合体と下式IIで表される基を有する化合物とを反応させる工程。[式中、pは0又は1の整数を表し、Tは、炭素原子数が1~20のヒドロカルビレン基又は炭素原子数が1~20の置換ヒドロカルビレン基を表し、Aは窒素原子を有する官能基を表す。]工程Aで用いられるアルカリ金属触媒としては、アルカリ金属、有機アルカリ金属化合物、アルカリ金属と極性化合物との錯体、アルカリ金属を有するオリゴマーなどをあげることができる。該アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウムなどをあげることができる。該有機アルカリ金属化合物としては、エチルリチウム、n-プロピルリチウム、iso-プロピルリチウム、n-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、t-オクチルリチウム、n-デシルリチウム、フェニルリチウム、2-ナフチルリチウム、2-ブチルフェニルリチウム、4-フェニルブチルリチウム、シクロヘキシルリチウム、4-シクロペンチルリチウム、ジメチルアミノプロピルリチウム、ジエチルアミノプロピルリチウム、t-ブチルジメチルシリロキシプロピルリチウム、N-モルホリノプロピルリチウム、リチウムヘキサメチレンイミド、リチウムピロリジド、リチウムピペリジド、リチウムヘプタメチレンイミド、リチウムドデカメチレンイミド、1,4-ジリチオ-2-ブテン、ナトリウムナフタレニド、ナトリウムビフェニリド、カリウムナフタレニドなどをあげることができる。また、アルカリ金属と極性化合物との錯体としては、カリウム-テトラヒドロフラン錯体、カリウム-ジエトキシエタン錯体などをあげることができ、アルカリ金属を有するオリゴマーとしては、α-メチルスチレンテトラマーのナトリウム塩をあげることができる。これらの中でも、有機リチウム化合物又は有機ナトリウム化合物が好ましく、炭素原子数が2~20の有機リチウム化合物又は有機ナトリウム化合物がより好ましい。工程Aで用いられる炭化水素溶媒は、有機アルカリ金属化合物触媒を失活させない溶媒であり、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、脂環族炭化水素などをあげることができる。該脂肪族炭化水素としては、プロパン、n-ブタン、iso-ブタン、n-ペンタン、iso-ペンタン、n-ヘキサン、プロペン、1-ブテン、iso-ブテン、トランス-2-ブテン、シス-2-ブテン、1-ペンテン、2-ペンテン、1-ヘキセン、2-ヘキセンなどをあげることができる。また、芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼンをあげることができ、脂環族炭化水素としては、シクロペンタン、シクロヘキサンなどがあげられる。これらは単独で、あるいは2種以上組み合わせて用いられる。これらの中では、炭素原子数が2~12の炭化水素が好ましい。工程Aでは、共役ジエンと式VIで表されるビニル化合物とを含む単量体を重合させ、上述のアルカリ金属触媒由来のアルカリ金属を重合体鎖末端に有する共役ジエン系重合体を製造する。該共役ジエンとしては、1,3-ブタジエン、イソプレン、1,3-ペンタジエン、2,3-ジメチル-1,3-ブタジエン、1,3-ヘキサジエンをあげることができ、これらは単独で、あるいは2種以上組み合わせて用いられる。中でも、入手容易性の観点から、1,3-ブタジエン、イソプレンが好ましい。式VIのX4、X5及びX6は、それぞれ独立に、式VIaで表される基、ヒドロカルビル基又は置換ヒドロカルビル基を表し、X4、X5及びX6の少なくとも1つは、式VIaで表される基である。式VIaのR3及びR4は、それぞれ独立に、炭素原子数が1~6のヒドロカルビル基、炭素原子数が1~6の置換ヒドロカルビル基、シリル基又は置換シリル基を表し、R3及びR4は結合して窒素原子と共に環構造を形成していてもよい。R3及びR4の炭素原子数が1~6のヒドロカルビル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、ネオペンチル基、イソペンチル基、n-ヘキシル基などのアルキル基;シクロヘキシル基などのシクロアルキル基;フェニル基などをあげることができる。R3及びR4の炭素原子数が1~6の置換ヒドロカルビル基としては、窒素原子を有する基、酸素原子を有する基及びケイ素原子を有する基からなる基群から選ばれる少なくとも1種の基を置換基として有する置換ヒドロカルビル基をあげることができる。窒素原子を有する基を置換基として有する基としては、ジメチルアミノエチル基、ジエチルアミノエチル基などのジアルキルアミノアルキル基をあげることができ、酸素原子を有する基を置換基として有する基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基などのアルコキシアルキル基をあげることができ、ケイ素原子を有する基を置換基として有する基としては、トリメチルシリルメチル基などのトリアルキルシリルアルキル基などをあげることができる。R3及びR4の置換シリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、t-ブチルジメチルシリル基などのトリアルキルシリル基などをあげることができる。R3及びR4が結合した基としては、窒素原子、酸素原子及びケイ素原子からなる原子群から選ばれる少なくとも1種の原子を有していてもよい炭素原子数が1~12の2価の基があげられる。例えば、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基などのアルキレン基;オキシジエチレン基、オキシジプロピレン基などのオキシジアルキレン基;-CH2CH2-NH-CH2-で表される基、-CH2CH2-N=CH-で表される基などの含窒素基などをあげることができる。R3及びR4が結合した基としては、含窒素基が好ましく、-CH2CH2-NH-CH2-で表される基、-CH2CH2-N=CH-で表される基がより好ましい。R3及びR4のヒドロカルビル基としては、アルキル基が好ましく、炭素原子数が1~4のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基が更に好ましく、エチル基、n-ブチル基が特に好ましい。R3及びR4の置換ヒドロカルビル基としては、アルコキシアルキル基が好ましく、炭素原子数が1~4のアルコキシアルキル基がより好ましい。R3及びR4の置換シリル基としては、トリアルキルシリル基が好ましく、トリメチルシリル基がより好ましい。R3及びR4としては、好ましくは、アルキル基、アルコキシアルキル基、置換シリル基又はR3及びR4が結合した含窒素基であり、より好ましくは、アルキル基であり、更に好ましくは、炭素原子数が1~4のアルキル基であり、より更に好ましくは、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基である。式VIaで表される基としては、非環状アミノ基、環状アミノ基をあげることができる。該非環状アミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジn-プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジn-ブチルアミノ基、ジsec-ブチルアミノ基、ジtert-ブチルアミノ基、ジネオペンチルアミノ基、エチルメチルアミノ基などのジアルキルアミノ基;ジメトキシメチルアミノ基、ジメトキシエチルアミノ基、ジエトキシメチルアミノ基、ジエトキシエチルアミノ基などのジアルコキシアルキルアミノ基;ジトリメチルシリルアミノ基、ジt-ブチルジメチルシリルアミノ基などのジトリアルキルシリルアミノ基などをあげることができる。該環状アミノ基としては、1-ピロリジニル基、1-ピペリジノ基、1-ヘキサメチレンイミノ基、1-ヘプタメチレンイミノ基、1-オクタメチレンイミノ基、1-デカメチレンイミノ基、1-ドデカメチレンイミノ基などの1-ポリメチレンイミノ基をあげることができる。また、環状アミノ基としては、1-イミダゾリル基、4,5-ジヒドロ-1-イミダゾリル基、1-イミダゾリジニル基、1-ピペラジニル基、モルホリノ基などもあげることができる。式VIaで表される基としては、経済性及び入手容易性から、好ましくは、非環状アミノ基であり、より好ましくは、ジアルキルアミノ基であり、更に好ましくは、炭素原子数が1~4のアルキル基で置換されたジアルキルアミノ基であり、より更に好ましくは、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジn-プロピルアミノ基、ジn-ブチルアミノ基である。式VIのX4~X6のヒドロカルビル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基などのアルキル基をあげることができる。また、置換ヒドロカルビル基としては、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基などのアルコキシアルキル基をあげることができる。X4~X6のヒドロカルビル基としては、アルキル基が好ましく、炭素原子数が1~4のアルキル基がより好ましく、メチル基又はエチル基が更に好ましい。また、X4~X6の置換ヒドロカルビル基としては、アルコキシアルキル基が好ましく、炭素原子数が1~4のアルコキシアルキル基がより好ましい。X4~X6のヒドロカルビル基及び置換ヒドロカルビル基としては、好ましくは、アルキル基又はアルコキシアルキル基であり、より好ましくは、炭素原子数が1~4のアルキル基又は炭素原子数が1~4のアルコキシアルキル基であり、更に好ましくは、炭素原子数が1~4のアルキル基であり、より更に好ましくは、メチル基又はエチル基である。式VIのX4、X5及びX6の少なくとも1つは、式VIaで表される基である。好ましくは、X4、X5及びX6の2つ以上が、式VIaで表される基であり、より好ましくは、X4、X5及びX6の2つが、式VIaで表される基である。工程Aで用いられる式VIで表されるビニル化合物としては、X4~X6の1つが式VIaで表される非環状アミノ基であり、2つがヒドロカルビル基または置換ヒドロカルビル基である化合物として、ジアルキルアミノジアルキルビニルシラン、{ジトリアルキルシリルアミノ}ジアルキルビニルシラン、ジアルキルアミノジアルコキシアルキルビニルシランなどをあげることができる。ジアルキルアミノジアルキルビニルシランとしては、ジメチルアミノジメチルビニルシラン、エチルメチルアミノジメチルビニルシラン、ジエチルアミノジメチルビニルシラン、エチル-n-プロピルアミノジメチルビニルシラン、エチルイソプロピルアミノジメチルビニルシラン、ジn-プロピルアミノジメチルビニルシラン、ジイソプロピルアミノジメチルビニルシラン、n-ブチル-n-プロピルアミノジメチルビニルシラン、ジn-ブチルアミノジメチルビニルシラン、ジメチルアミノジエチルビニルシラン、エチルメチルアミノジエチルビニルシラン、ジエチルアミノジエチルビニルシラン、エチル-n-プロピルアミノジエチルビニルシラン、エチルイソプロピルアミノジエチルビニルシラン、ジn-プロピルアミノジエチルビニルシラン、ジイソプロピルアミノジエチルビニルシラン、n-ブチル-n-プロピルアミノジエチルビニルシラン、ジn-ブチルアミノジエチルビニルシラン、ジメチルアミノジプロピルビニルシラン、エチルメチルアミノジプロピルビニルシラン、ジエチルアミノジプロピルビニルシラン、エチル-n-プロピルアミノジプロピルビニルシラン、エチルイソプロピルアミノジプロピルビニルシラン、ジn-プロピルアミノジプロピルビニルシラン、ジイソプロピルアミノジプロピルビニルシラン、n-ブチル-n-プロピルアミノジプロピルビニルシラン、ジn-ブチルアミノジプロピルビニルシラン、ジメチルアミノジブチルビニルシラン、エチルメチルアミノジブチルビニルシラン、ジエチルアミノジブチルビニルシラン、エチル-n-プロピルアミノジブチルビニルシラン、エチルイソプロピルアミノジブチルビニルシラン、ジn-プロピルアミノジブチルビニルシラン、ジイソプロピルアミノジブチルビニルシラン、n-ブチル-n-プロピルアミノジブチルビニルシラン、ジn-ブチルアミノジブチルビニルシランなどをあげることができる。{ジトリアルキルシリルアミノ}ジアルキルビニルシランとしては、{ジトリメチルシリルアミノ}ジメチルビニルシラン、{ジt-ブチルジメチルシリルアミノ}ジメチルビニルシラン、{ジトリメチルシリルアミノ}ジエチルビニルシラン、{ジt-ブチルジメチルシリルアミノ}ジエチルビニルシランなどをあげることができる。ジアルキルアミノジアルコキシアルキルビニルシランとしては、ジメチルアミノジメトキシメチルビニルシラン、ジメチルアミノジメトキシエチルビニルシラン、ジメチルアミノジエトキシメチルビニルシラン、ジメチルアミノジエトキシエチルビニルシラン、ジエチルアミノジメトキシメチルビニルシラン、ジエチルアミノジメトキシエチルビニルシラン、ジエチルアミノジエトキシメチルビニルシラン、ジエチルアミノジエトキシエチルビニルシランなどをあげることができる。X4~X6の2つが式VIaで表される非環状アミノ基であり、1つがヒドロカルビル基または置換ヒドロカルビル基である化合物として、ビスジアルキルアミノアルキルビニルシラン、ビス{ジトリアルキルシリルアミノ}アルキルビニルシラン、ビスジアルキルアミノアルコキシアルキルビニルシランなどをあげることができる。ビスジアルキルアミノアルキルビニルシランとしては、ビスジメチルアミノメチルビニルシラン、ビスエチルメチルアミノメチルビニルシラン、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン、ビスエチル-n-プロピルアミノメチルビニルシラン、ビスエチルイソプロピルアミノメチルビニルシラン、ビスジn-プロピルアミノメチルビニルシラン、ビスジイソプロピルアミノメチルビニルシラン、ビスn-ブチル-n-プロピルアミノメチルビニルシラン、ビスジn-ブチルアミノメチルビニルシラン、ビスジメチルアミノエチルビニルシラン、ビスエチルメチルアミノエチルビニルシラン、ビスジエチルアミノエチルビニルシラン、ビスエチル-n-プロピルアミノエチルビニルシラン、ビスエチルイソプロピルアミノエチルビニルシラン、ビスジn-プロピルアミノエチルビニルシラン、ビスジイソプロピルアミノエチルビニルシラン、ビスn-ブチル-n-プロピルアミノエチルビニルシラン、ビスジn-ブチルアミノエチルビニルシラン、ビスジメチルアミノプロピルビニルシラン、ビスエチルメチルアミノプロピルビニルシラン、ビスジエチルアミノプロピルビニルシラン、ビスエチル-n-プロピルアミノプロピルビニルシラン、ビスエチルイソプロピルアミノプロピルビニルシラン、ビスジn-プロピルアミノプロピルビニルシラン、ビスジイソプロピルアミノプロピルビニルシラン、ビスn-ブチル-n-プロピルアミノプロピルビニルシラン、ビスジn-ブチルアミノプロピルビニルシラン、ビスジメチルアミノブチルビニルシラン、ビスエチルメチルアミノブチルビニルシラン、ビスジエチルアミノブチルビニルシラン、ビスエチル-n-プロピルアミノブチルビニルシラン、ビスエチルイソプロピルアミノブチルビニルシラン、ビスジn-プロピルアミノブチルビニルシラン、ビスジイソプロピルアミノブチルビニルシラン、ビスn-ブチル-n-プロピルアミノブチルビニルシラン、ビスジn-ブチルアミノブチルビニルシランなどをあげることができる。ビス{ジトリアルキルシリルアミノ}アルキルビニルシランとしては、ビス{ジトリメチルシリルアミノ}メチルビニルシラン、ビス{ジt-ブチルジメチルシリルアミノ}メチルビニルシラン、ビス{ジトリメチルシリルアミノ}エチルビニルシラン、ビス{ジt-ブチルジメチルシリルアミノ}エチルビニルシランなどをあげることができる。ビスジアルキルアミノアルコキシアルキルビニルシランとしては、ビスジメチルアミノメトキシメチルビニルシラン、ビスジメチルアミノメトキシエチルビニルシラン、ビスジメチルアミノエトキシメチルビニルシラン、ビスジメチルアミノエトキシエチルビニルシラン、ビスジエチルアミノメトキシメチルビニルシラン、ビスジエチルアミノメトキシエチルビニルシラン、ビスジエチルアミノエトキシメチルビニルシラン、ビスジエチルアミノエトキシエチルビニルシランなどをあげることができる。X4~X6の3つが式VIaで表される非環状アミノ基である化合物として、トリジアルキルアミノビニルシランなどをあげることができる。例えば、トリジメチルアミノビニルシラン、トリエチルメチルアミノビニルシラン、トリジエチルアミノビニルシラン、トリエチルプロピルアミノビニルシラン、トリジプロピルアミノビニルシラン、トリブチルプロピルアミノビニルシランなどをあげることができる。X4~X6の2つが式VIaで表される環状アミノ基であり、1つがヒドロカルビル基または置換ヒドロカルビル基である化合物として、ビスモルホリノメチルビニルシラン、ビスピペリジノメチルビニルシラン、ビス4,5-ジヒドロイミダゾリルメチルビニルシラン、ビスヘキサメチレンイミノメチルビニルシランなどをあげることができる。X4、X5及びX6の2つが式VIaで表される基である式VIで表されるビニル化合物として、好ましくは、X4、X5及びX6の2つが非環状アミノ基であるビニル化合物であり、低燃費性、ウェットグリップ性能及び耐摩耗性の観点から、より好ましくは、ビスジアルキルアミノアルキルビニルシランであり、更に好ましくは、ビスジメチルアミノメチルビニルシラン、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン、ビスジn-プロピルアミノメチルビニルシラン、ビスジn-ブチルアミノメチルビニルシランである。中でも、化合物の入手容易性の観点からは、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン、ビスジn-ブチルアミノメチルビニルシランが好ましい。工程Aでは、共役ジエン及び式VIで表されるビニル化合物に、他の単量体を組み合わせて重合を行ってもよい。他の単量体としては、芳香族ビニル、ビニルニトリル、不飽和カルボン酸エステルなどがあげられる。芳香族ビニルとしては、スチレン、α-メチルスチレン、ビニルトルエン、ビニルナフタレン、ジビニルベンゼン、トリビニルベンゼン、ジビニルナフタレンを例示することができる。また、ビニルニトリルとしては、アクリロニトリルなどを、不飽和カルボン酸エステルとしては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチルなどを例示することができる。これらの中では、芳香族ビニルが好ましく、スチレンがより好ましい。工程Aの重合は、共役ジエン単位のビニル結合量を調整する剤、共役ジエン系重合体鎖中での共役ジエン単位と共役ジエン以外の単量体に基づく構成単位の分布を調整する剤以下、総称して調整剤と記す。などの存在下で行ってもよい。このような剤としては、エーテル化合物、第三級アミン、ホスフィン化合物などをあげることができる。該エーテル化合物としては、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1,4-ジオキサンなどの環状エーテル;ジエチルエーテル、ジブチルエーテルなどの脂肪族モノエーテル;エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルなどの脂肪族ジエ-テル;ジフェニルエーテル、アニソールなどの芳香族エーテルなどがあげられる。該第三級アミンとして、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン、N,N-ジエチルアニリン、ピリジン、キノリンなどをあげることができる。また、該ホスフィン化合物として、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリフェニルホスフィンなどをあげることができる。これらは単独で用いても、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。工程Aでの重合温度は、通常25~100°Cであり、好ましくは35~90°Cである。より好ましくは50~80°Cである。重合時間は、通常10分~5時間である。工程Bにおいて、工程Aで調製された重合体に接触させる式IIで表される基を有する化合物の量は、有機アルカリ金属触媒由来のアルカリ金属1モルあたり、通常、0.1~3モルであり、好ましくは、0.5~2モルであり、より好ましくは、1~1.5モルである。工程Bにおいて、工程Aで調製された重合体と式IIで表される基を有する化合物とを接触させる温度は、通常25~100°Cであり、好ましくは35~90°Cである。より好ましくは50~80°Cである。接触させる時間は、通常、60秒~5時間であり、好ましくは5分~1時間であり、より好ましくは15分~1時間である。上記共役ジエン系重合体の製造方法においては、必要に応じて、アルカリ金属触媒による単量体の重合開始から重合停止において、共役ジエン系重合体の炭化水素溶液にカップリング剤を添加してもよい。カップリング剤としては、下式VIIで表される化合物をあげることができる。R5aML4-aVII式中、R5はアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基または芳香族残基を表し、Mはケイ素原子またはスズ原子を表し、Lはハロゲン原子またはヒドロカルビルオキシ基を表し、aは0~2の整数を表す。ここで、芳香族残基は、芳香族炭化水素から芳香環に結合している水素を除いた1価の基を表す。式VIIで表されるカップリング剤としては、四塩化珪素、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、四塩化スズ、メチルトリクロロスズ、ジメチルジクロロスズ、トリメチルクロロスズ、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメトキシジメチルシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ジメトキシジエチルシラン、ジエトキシジメチルシラン、テトラエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ジエトキシジエチルシランなどをあげることができる。カップリング剤の添加量は、アルカリ金属触媒由来のアルカリ金属1モル当たり、共役ジエン系重合体の加工性の観点から、好ましくは0.03モル以上であり、より好ましくは0.05モル以上である。また、低燃費性の観点から、好ましくは0.4モル以下であり、より好ましくは0.3モル以下である。共役ジエン系重合体は、公知の回収方法、例えば、1共役ジエン系重合体の炭化水素溶液に凝固剤を添加する方法、2共役ジエン系重合体の炭化水素溶液にスチームを添加する方法によって、共役ジエン系重合体の炭化水素溶液から回収することができる。回収した共役ジエン系重合体は、バンドドライヤーや押出型ドライヤーなどの公知の乾燥機で乾燥してもよい。また、上記共役ジエン系重合体の製造方法においては、加水分解などにより、重合体の式Iaで表される基を水酸基に置換させる処理を行うことが好ましい。該処理は、重合体単独の状態で行ってもよく、後述のような組成物の状態で行ってもよい。加水分解する方法としては、例えば、スチームストリッピングによる方法等の公知の方法が挙げられる。上記処理により、式IのX1~X3を水酸基とすることができ、低燃費性、ウェットグリップ性能及び耐摩耗性をよりバランスよく向上できる。上記共役ジエン系重合体は、ゴム成分として本発明のゴム組成物に用いることができ、他のゴム成分や添加剤などと併用することが好ましい。他のゴム成分としては一般的なジエン系ゴムを使用することができ、例えば、スチレン-ブタジエン共重合体ゴムSBR、ポリブタジエンゴムBR、ブタジエン-イソプレン共重合体ゴム、ブチルゴムなどをあげることができる。また、天然ゴムNR、エチレン-プロピレン共重合体、エチレン-オクテン共重合体などもあげることができる。これらのゴム成分は、2種以上組み合わせて用いてもよい。中でも、低燃費性、ウェットグリップ性能及び耐摩耗性をバランス良く改善できるという点から、NR及び/又はBRを使用することが好ましく、NR及びBRの両成分を使用することがより好ましい。ゴム成分100質量中の上記共役ジエン系重合体の含有量は、5質量以上が好ましく、10質量以上がより好ましく、30質量以上が更に好ましく、50質量以上が特に好ましい。上記共役ジエン系重合体の含有量が5質量未満であると、低燃費性の改善効果が得られにくい傾向がある。上記共役ジエン系重合体の含有量は、90質量以下が好ましく、80質量以下がより好ましく、70質量以下が更に好ましい。上記共役ジエン系重合体の含有量が90質量を超えると、耐摩耗性が低下するとともに、高コストになる傾向がある。NRとしては特に限定されず、例えば、SIR20、RSS3、TSR20、脱タンパク質天然ゴムDPNR、高純度天然ゴムHPNR等、タイヤ工業において一般的なものを使用できる。ゴム成分100質量中のNRの含有量は、好ましくは5質量以上、より好ましくは10質量以上、更に好ましくは15質量以上である。5質量未満であると、耐摩耗性が低下する傾向がある。上記NRの含有量は、好ましくは70質量以下、より好ましくは60質量以下である。70質量を超えると、ウェットグリップ性能が低下する傾向がある。BRとしては特に限定されず、例えば、日本ゼオン株製のBR1220、宇部興産株製のBR130B、BR150B等の高シス含有量のBR、宇部興産株製のVCR412、VCR617等のシンジオタクチックポリブタジエン結晶を含有するBR等、タイヤ工業において一般的なものを使用できる。ゴム成分100質量中のBRの含有量は、好ましくは5質量以上、より好ましくは10質量以上、更に好ましくは15質量以上である。5質量未満であると、耐摩耗性が低下する傾向がある。上記BRの含有量は、好ましくは60質量以下、より好ましくは50質量以下である。60質量を超えると、ウェットグリップ性能が低下する傾向がある。ゴム成分100質量中のNR及びBRの合計含有量は、好ましくは10質量以上、より好ましくは20質量以上、更に好ましくは30質量以上である。10質量未満であると、耐摩耗性が低下する傾向がある。上記合計含有量は、好ましくは70質量以下、より好ましくは50質量以下である。70質量を超えると、ウェットグリップ性能が低下する傾向がある。本発明のゴム組成物は補強剤としてシリカを配合することを特徴とする。シリカの配合量含有量は、ゴム成分100質量部に対して、5~150質量部、好ましくは10~100質量部である。シリカの配合量が5質量部未満であると耐摩耗性が充分でない傾向があり、一方、シリカの配合量が150質量部をこえると、加工性が悪化する傾向がある。シリカは単独で用いてもよく、2種以上組み合わせて用いてもよい。シリカ及びカーボンブラックの合計100質量中のシリカの含有量は、好ましくは60質量以上、より好ましくは85質量以上であり、好ましくは98質量以下、より好ましくは95質量以下である。上記範囲内であれば、低燃費性、ウェットグリップ性能及び耐摩耗性を高次元でバランス良く改善することかできる。また、シリカの窒素吸着比表面積N2SAは40~400m2/gであることが好ましく、60~360m2/gであることがより好ましい。窒素吸着比表面積が40m2/g未満のシリカでは補強効果が小さく耐摩耗性が低下する傾向があり、400m2/gを超えるシリカでは分散性が悪く、ヒステリシスロスが増大し低燃費性が低下する傾向がある。なお、シリカの窒素吸着比表面積は、ASTMD3037-81に準じてBET法で測定される値である。本発明で使用されるジエン系ゴムゲルは、ジエン系ゴム分散液を架橋することにより製造できる。該ジエン系ゴム分散液としては、乳化重合により製造されるゴムラテックス、溶液重合されたジエン系ゴムを水中に乳化させて得られるジエン系ゴム分散液などが挙げられる。また、架橋剤としては、有機ペルオキシド、有機アゾ化合物、硫黄系架橋剤などが挙げられる。また、ジエン系ゴムの架橋は、ジエン系ゴムの乳化重合中に、架橋作用を持つ多官能化合物との共重合によっても行うことができる。具体的には、特許第3739198号公報、特許第3299343号公報、特表2004-504465号公報、特表2004-506058号公報などに開示の方法を用いることができる。なお、本発明で使用されるジエン系ゴムゲルは、水酸基を有しているが、例えば、水酸基を有し、かつC=C二重結合に反応性を有する化合物によりジエン系ゴムを変性して粒子表面にOH基を組み込むことができる。このような化合物変性剤としては、例えば、特表2004-506058号公報に記載されているように、ヒドロキシブチルアクリレート又はメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート又はメタクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート又はメタクリレートなどのヒドロキシアルキルメタアクリレートなどが挙げられる。ジエン系ゴムゲルを構成するジエン系ゴム成分としては、上記した各種ジエン系ゴムが挙げられる。これらジエン系ゴムは単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。なかでも、Tgを調整しやすいという理由から、SBRを主成分とするものが好ましい。ジエン系ゴムゲルのガラス転移温度Tgは-40°C以上、好ましくは-35°C以上、より好ましくは-30°C以上である。-40°C未満であると、ウェットグリップ性能が悪化するおそれがある。上記ガラス転移温度は-10°C以下、好ましくは-15°C以下、より好ましくは-20°C以下である。-10°Cを超えると、耐摩耗性が悪化するおそれがある。ジエン系ゴムゲルの平均粒子径は、好ましくは10nm以上、より好ましくは20nm以上、更に好ましくは30nm以上である。10nm未満であると、ゲルが凝集するおそれがある。該平均粒子径は、好ましくは100nm以下、より好ましくは90nm以下、更に好ましくは80nm以下である。100nmを超えると、耐摩耗性が悪化するおそれがある。なお、ジエン系ゴムゲルの平均粒子径は、電子顕微鏡を用いて測定した。ジエン系ゴムゲルの水酸基価mgKOH/g-gelは、好ましくは60以下、より好ましくは50以下、更に好ましくは40以下である。60を超えると、ゲル粒子が大きくなってしまい、強度が低下するおそれがある。該水酸基価は、好ましくは10以上、より好ましくは20以上、更に好ましくは30以上である。10未満であると、シリカとポリマーとの間の相互作用が低下し、強度が低下するおそれがある。なお、ジエン系ゴムゲルの水酸基価は、ジエン系ゴムゲル1gをアセチル化するとき、水酸基と結合した酢酸を中和するのに要する水酸化カリウムの量をミリグラム数で表したものであり、電位差滴定法JISK0070:1992により測定した値である。ジエン系ゴムゲルの含有量は、ゴム成分100質量部に対して、10質量部以上、好ましくは15質量部以上、より好ましくは20質量部以上である。10質量部未満では、充分なウェットグリップ性能が得られないおそれがある。該含有量は、30質量部以下、好ましくは27質量部以下である。30質量部を超えると、低燃費性が悪化するおそれがある。なお、ジエン系ゴムゲルは、ゴム成分には含まない。本発明のゴム組成物には、シリカ及びジエン系ゴムゲルとともに、シランカップリング剤を配合することが好ましい。シランカップリング剤を配合することにより、シランカップリング剤を介して、ジエン系ゴムゲルとシリカ、ジエン系ゴムゲルとゴム成分、シリカとゴム成分を結合することができる。更に、ジエン系ゴムゲルが有する水酸基と、シリカ表面のシラノール基との相互作用とも相まって、低燃費性、ウェットグリップ性能及び耐摩耗性を高度に向上できる。シランカップリング剤としては、例えば、ビス3-トリエトキシシリルプロピルテトラスルフィド、ビス3-トリエトキシシリルプロピルトリスルフィド、ビス3-トリエトキシシリルプロピルジスルフィド、ビス2-トリエトキシシリルエチルテトラスルフィド、ビス3-トリメトキシシリルプロピルテトラスルフィド、ビス2-トリメトキシシリルエチルテトラスルフィド、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリエトキシシラン、2-メルカプトエチルトリメトキシシラン、2-メルカプトエチルトリエトキシシラン、3-トリメトキシシリルプロピル-N,N-ジメチルチオカルバモイルテトラスルフィド、3-トリエトキシシリルプロピル-N,N-ジメチルチオカルバモイルテトラスルフィド、2-トリエトキシシリルエチル-N,N-ジメチルチオカルバモイルテトラスルフィド、3-トリメトキシシリルプロピルベンゾチアゾールテトラスルフィド、3-トリエトキシシリルプロピルベンゾチアゾリルテトラスルフィド、3-トリエトキシシリルプロピルメタクリレートモノスルフィド、3-トリメトキシシリルプロピルメタクリレートモノスルフィド、ビス3-ジエトキシメチルシリルプロピルテトラスルフィド、3-メルカプトプロピルジメトキシメチルシラン、ジメトキシメチルシリルプロピル-N,N-ジメチルチオカルバモイルテトラスルフィド、ジメトキシメチルシリルプロピルベンゾチアゾールテトラスルフィドなどがあげられる。なかでも、補強性改善効果などの点から、ビス3-トリエトキシシリルプロピルテトラスルフィド及び3-トリメトキシシリルプロピルベンゾチアゾリルテトラスルフィドが好ましい。これらのシランカップリング剤は単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。シランカップリング剤の含有量は、ジエン系ゴムゲル及びシリカの合計含有量100質量部に対して、好ましくは1質量部以上、より好ましくは2質量部以上、更に好ましくは3質量部以上である。1質量部未満では、充分な低燃費性が得られないおそれがある。また、該シランカップリング剤の含有量は、好ましくは20質量部以下、より好ましくは15質量部以下、更に好ましくは10質量部以下である。20質量部を超えると、破壊強度や耐摩耗性が低下するおそれがある。添加剤としては、公知のものを用いることができ、硫黄などの加硫剤;チアゾール系加硫促進剤、チウラム系加硫促進剤、スルフェンアミド系加硫促進剤、グアニジン系加硫促進剤などの加硫促進剤;ステアリン酸、酸化亜鉛などの加硫活性化剤;有機過酸化物;カーボンブラック、炭酸カルシウム、タルク、アルミナ、クレー、水酸化アルミニウム、マイカなどの充填剤;伸展油、滑剤などの加工助剤;老化防止剤を例示することができる。上記カーボンブラックとしては、SAF、ISAF、HAF、MAF、FEF、SRF、GPF、APF、FF、CF、SCF及びECFのようなファーネスブラックファーネスカーボンブラック;アセチレンブラックアセチレンカーボンブラック;FT及びMTのようなサーマルブラックサーマルカーボンブラック;EPC、MPC及びCCのようなチャンネルブラックチャンネルカーボンブラック;グラファイトなどをあげることができる。これらは1種または2種以上組み合わせて用いることができる。低燃費性、ウェットグリップ性能及び耐摩耗性を高次元でバランス良く改善できるという点から、カーボンブラックの含有量は、ゴム成分100質量部に対して、好ましくは1質量部以上、より好ましくは3質量部以上であり、好ましくは30質量部以下、より好ましくは10質量部以下である。カーボンブラックの窒素吸着比表面積N2SAは、通常、5~200m2/gであり、下限は50m2/g、上限は150m2/gであることが好ましい。また、カーボンブラックのジブチルフタレートDBP吸収量は、通常、5~300ml/100gであり、下限は80ml/100g、上限は180ml/100gであることが好ましい。カーボンブラックのN2SAやDBP吸収量が上記範囲の下限未満では、補強効果が小さく耐摩耗性が低下する傾向があり、上記範囲の上限を超えると、分散性が悪く、ヒステリシスロスが増大し低燃費性が低下する傾向がある。該窒素吸着比表面積は、ASTMD4820-93に従って測定され、該DBP吸収量は、ASTMD2414-93に従って測定される。市販品としては、東海カーボン社製商品名シースト6、シースト7HM、シーストKH、エボニックデグッサ社製商品名CK3、SpecialBlack4A等を用いることができる。上記伸展油としては、アロマチック系鉱物油粘度比重恒数V.G.C.値0.900~1.049、ナフテン系鉱物油V.G.C.値0.850~0.899、パラフィン系鉱物油V.G.C.値0.790~0.849などをあげることができる。伸展油の多環芳香族含有量は、好ましくは3質量未満であり、より好ましくは1質量未満である。該多環芳香族含有量は、英国石油学会346/92法に従って測定される。また、伸展油の芳香族化合物含有量CAは、好ましくは20質量以上である。これらの伸展油は、2種以上組み合わされて用いられてもよい。上記加硫促進剤としては、2-メルカプトベンゾチアゾール、ジベンゾチアジルジサルファイド、N-シクロヘキシル-2-ベンゾチアジルスルフェンアミド等のチアゾール系加硫促進剤;テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等のチウラム系加硫促進剤;N-シクロヘキシル-2-ベンゾチアゾールスルフェンアミド、N-t-ブチル-2-ベンゾチアゾールスルフェンアミド、N-オキシエチレン-2-ベンゾチアゾールスルフェンアミド、N-オキシエチレン-2-ベンゾチアゾールスルフェンアミド、N,N’-ジイソプロピル-2-ベンゾチアゾールスルフェンアミド等のスルフェンアミド系加硫促進剤;ジフェニルグアニジン、ジオルトトリルグアニジン、オルトトリルビグアニジン等のグアニジン系加硫促進剤をあげることができ、その使用量は、ゴム成分100質量部に対して0.1~5質量部が好ましく、さらに好ましくは0.2~3質量部である。上記共役ジエン系重合体に、他のゴム成分や添加剤などを配合してゴム組成物を製造する方法としては、公知の方法、例えば、各成分をロールやバンバリーのような公知の混合機で混練する方法を用いることができる。混練条件としては、加硫剤及び加硫促進剤以外の添加剤を配合する場合、混練温度は、通常50~200°Cであり、好ましくは80~190°Cであり、混練時間は、通常30秒~30分であり、好ましくは1分~30分である。加硫剤、加硫促進剤を配合する場合、混練温度は、通常100°C以下であり、好ましくは室温~80°Cである。また、加硫剤、加硫促進剤を配合した組成物は、通常、プレス加硫などの加硫処理を行って用いられる。加硫温度としては、通常120~200°C、好ましくは140~180°Cである。本発明のゴム組成物は、低燃費性、ウェットグリップ性能及び耐摩耗性のバランスに優れており、これらの性能の顕著な改善効果を得ることができる。本発明のゴム組成物は、タイヤの各部材に好適に用いることができ、特にトレッドに好適に用いることができる。本発明の空気入りタイヤは、上記ゴム組成物を用いて通常の方法によって製造される。すなわち、必要に応じて各種添加剤を配合したゴム組成物を、未加硫の段階でタイヤのトレッドの形状に合わせて押し出し加工し、タイヤ成型機上にて通常の方法にて成形し、他のタイヤ部材とともに貼り合わせ、未加硫タイヤを形成する。この未加硫タイヤを加硫機中で加熱加圧して、本発明の空気入りタイヤを製造できる。本発明の空気入りタイヤは、乗用車用タイヤ、トラックバス用タイヤ重荷重用タイヤとして好適に用いることができる。以下、実施例によって本発明を説明する。物性評価は次の方法で行った。1.ビニル結合量単位:モル赤外分光分析法により、ビニル基の吸収ピークである910cm-1付近の吸収強度より重合体のビニル結合量を求めた。2.スチレン単位の含量単位:質量JISK63831995に従って、屈折率から重合体のスチレン単位の含量を求めた。3.分子量分布Mw/Mn下記の条件1~8でゲルパーミエイションクロマトグラフGPC法により、重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnを測定した。そして、測定したMw、Mnから重合体の分子量分布Mw/Mnを求めた。1装置:東ソー社製HLC-80202分離カラム:東ソー社製GMH-XL2本直列3測定温度:40°C4キャリア:テトラヒドロフラン5流量:0.6mL/分6注入量:5μL7検出器:示差屈折8分子量標準:標準ポリスチレン4.転がり抵抗転がり抵抗試験機を用い、試験用タイヤを、リム15×6JJ、内圧230kPa、荷重3.43kN、速度80km/hで走行させたときの転がり抵抗を測定し、比較例1を100とした時の指数で表示した。数値が大きいほど転がり抵抗が小さく、低燃費性に優れることを示している。5.ウェットグリップ性能各試験用タイヤを車両国産FF2000ccの全輪に装着して、湿潤アスファルト路面にて初速度100km/hからの制動距離を求めた。結果は指数で表し、数値が大きいほどウェットスキッド性能ウェットグリップ性能が良好である。指数は次の式で求めた。ウェットグリップ性能指数=比較例1の制動距離/各実施例又は各比較例の制動距離×1006.LAT摩耗試験LAT試験機LaboratoryAbrationandSkidTesterを用い、荷重50N、速度20km/h、スリップアングル5°の条件にて、各加硫ゴム組成物の容積損失量を測定した。表2の数値耐摩耗性指数は、比較例1の容積損失量を100としたときの相対値である。当該数値が大きいほど耐摩耗性に優れている。製造例1重合体1の合成内容積20リットルのステンレス製重合反応器内を洗浄、乾燥し、乾燥窒素で置換し、ヘキサン比重0.68g/cm310.2kg、1,3-ブタジエン547g、スチレン173g、テトラヒドロフラン6.1ml、エチレングリコールジエチルエーテル5.0mlを重合反応器内に投入した。次に、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン11.0mmol及びn-ブチルリチウム14.3mmolを、それぞれ、シクロヘキサン溶液及びn-ヘキサン溶液として投入し、重合を開始した。撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cとし、単量体を重合反応器内に連続的に供給しながら、1,3-ブタジエンとスチレンの共重合を3時間行った。全重合での1,3-ブタジエンの供給量は821g、スチレンの供給量は259gであった。次に、得られた重合体溶液を130rpmの撹拌速度で撹拌し、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン11.0mmolを添加し、15分間撹拌した。重合体溶液にメタノール0.54mlを含むヘキサン溶液20mlを加えて、更に重合体溶液を5分間撹拌した。重合体溶液に2-tert-ブチル-6-3-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-メチルフェニルアクリレート住友化学株製、商品名:スミライザーGM1.8g、ペンタエリスリチルテトラキス3-ラウリルチオプロピオネート住友化学株製、商品名:スミライザーTP-D0.9gを加え、次に、スチームストリッピングによって重合体溶液から重合体1を回収した。重合体1の評価結果を表1に示す。なお、重合反応器内への原料の投入量及び供給量から計算した重合体中の式Iで表される構成単位の含有量は、重合体単位質量あたり0.006mmol/g重合体であった。製造例2重合体2の合成内容積20リットルのステンレス製重合反応器内を洗浄、乾燥し、乾燥窒素で置換し、ヘキサン比重0.68g/cm310.2kg、1,3-ブタジエン547g、スチレン173g、テトラヒドロフラン6.1ml、エチレングリコールジエチルエーテル5.0mlを重合反応器内に投入した。次に、n-ブチルリチウム12.9mmolをn-ヘキサン溶液として投入し、1,3-ブタジエンとスチレンの共重合を0.83時間行った。重合中、撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cとし、単量体を重合反応器内に連続的に供給した。該0.83時間の重合後、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン11.0mmolをシクロヘキサン溶液として、撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cの条件下で、重合反応器内に投入した。次に、重合反応器内に連続的に単量体を供給し、1,3-ブタジエンとスチレンの共重合を1.67時間行った。全重合での1,3-ブタジエンの供給量は821g、スチレンの供給量は259gであった。次に、得られた重合体溶液を130rpmの撹拌速度で撹拌し、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン11.0mmolを添加し、15分間撹拌した。重合体溶液にメタノール0.54mlを含むヘキサン溶液20mlを加えて、更に重合体溶液を5分間撹拌した。重合体溶液に2-tert-ブチル-6-3-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-メチルフェニルアクリレート住友化学株製、商品名:スミライザーGM1.8g、ペンタエリスリチルテトラキス3-ラウリルチオプロピオネート住友化学株製、商品名:スミライザーTP-D0.9gを加え、次に、スチームストリッピングによって重合体溶液から重合体2を回収した。重合体2の評価結果を表1に示す。なお、重合反応器内への原料の投入量及び供給量から計算した重合体中の式Iで表される構成単位の含有量は、重合体単位質量あたり0.006mmol/g重合体であった。製造例3重合体3の合成内容積20リットルのステンレス製重合反応器内を洗浄、乾燥し、乾燥窒素で置換し、ヘキサン比重0.68g/cm310.2kg、1,3-ブタジエン547g、スチレン173g、テトラヒドロフラン6.1ml、エチレングリコールジエチルエーテル5.0mlを重合反応器内に投入した。次に、n-ブチルリチウム13.7mmolをn-ヘキサン溶液として投入し、1,3-ブタジエンとスチレンの共重合を1時間行った。重合中、撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cとし、単量体を重合反応器内に連続的に供給した。該1時間の重合後、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン11.0mmolをシクロヘキサン溶液として、撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cの条件下で、重合反応器内に投入した。次に、重合反応器内に連続的に単量体を供給し、1,3-ブタジエンとスチレンの共重合を0.5時間行った。重合中、撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cとした。該0.5時間の重合後、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン11.0mmolをシクロヘキサン溶液として、撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cの条件下で、重合反応器内に投入した。次に、重合反応器内に連続的に単量体を供給し、1,3-ブタジエンとスチレンの共重合を0.5時間行った。重合中、撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cとした。該0.5時間の重合後、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン11.0mmolをシクロヘキサン溶液として、撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cの条件下で、重合反応器内に投入した。次に、重合反応器内に連続的に単量体を供給し、1,3-ブタジエンとスチレンの共重合を0.5時間行った。重合中、撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cとした。全重合での1,3-ブタジエンの供給量は821g、スチレンの供給量は259gであった。次に、得られた重合体溶液を130rpmの撹拌速度で撹拌し、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン11.0mmolを添加し、15分間撹拌した。重合体溶液にメタノール0.54mlを含むヘキサン溶液20mlを加えて、更に重合体溶液を5分間撹拌した。重合体溶液に2-tert-ブチル-6-3-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-メチルフェニルアクリレート住友化学株製、商品名:スミライザーGM1.8g、ペンタエリスリチルテトラキス3-ラウリルチオプロピオネート住友化学株製、商品名:スミライザーTP-D0.9gを加え、次に、スチームストリッピングによって重合体溶液から重合体3を回収した。重合体3の評価結果を表1に示す。なお、重合反応器内への原料の投入量及び供給量から計算した重合体中の式Iで表される構成単位の含有量は、重合体単位質量あたり0.018mmol/g重合体であった。製造例4重合体4の合成内容積20リットルのステンレス製重合反応器内を洗浄、乾燥し、乾燥窒素で置換し、ヘキサン比重0.68g/cm310.2kg、1,3-ブタジエン547g、スチレン173g、テトラヒドロフラン6.1ml、エチレングリコールジエチルエーテル5.0mlを重合反応器内に投入した。次に、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン11.0mmol及びn-ブチルリチウム14.3mmolを、それぞれ、シクロヘキサン溶液及びn-ヘキサン溶液として投入し、重合を開始した。撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cとし、単量体を重合反応器内に連続的に供給しながら、1,3-ブタジエンとスチレンの共重合を3時間行った。全重合での1,3-ブタジエンの供給量は821g、スチレンの供給量は259gであった。次に、得られた重合体溶液を130rpmの撹拌速度で撹拌し、1-フェニル-2-ピロリドン11.0mmolを添加し、15分間撹拌した。重合体溶液にメタノール0.54mlを含むヘキサン溶液20mlを加えて、更に重合体溶液を5分間撹拌した。重合体溶液に2-tert-ブチル-6-3-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-メチルフェニルアクリレート住友化学株製、商品名:スミライザーGM1.8g、ペンタエリスリチルテトラキス3-ラウリルチオプロピオネート住友化学株製、商品名:スミライザーTP-D0.9gを加え、次に、スチームストリッピングによって重合体溶液から重合体4を回収した。重合体4の評価結果を表1に示す。なお、重合反応器内への原料の投入量及び供給量から計算した重合体中の式Iで表される構成単位の含有量は、重合体単位質量あたり0.006mmol/g重合体であった。製造例5重合体5の合成内容積20リットルのステンレス製重合反応器内を洗浄、乾燥し、乾燥窒素で置換し、ヘキサン比重0.68g/cm310.2kg、1,3-ブタジエン547g、スチレン173g、テトラヒドロフラン6.1ml、エチレングリコールジエチルエーテル5.0mlを重合反応器内に投入した。次に、n-ブチルリチウム15.1mmolをn-ヘキサン溶液として投入し、1,3-ブタジエンとスチレンの共重合を1時間行った。重合中、撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cとし、単量体を重合反応器内に連続的に供給した。該1時間の重合後、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン11.0mmolをシクロヘキサン溶液として、撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cの条件下で、重合反応器内に投入した。次に、重合反応器内に連続的に単量体を供給し、1,3-ブタジエンとスチレンの共重合を0.5時間行った。重合中、撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cとした。該0.5時間の重合後、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン11.0mmolをシクロヘキサン溶液として、撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cの条件下で、重合反応器内に投入した。次に、重合反応器内に連続的に単量体を供給し、1,3-ブタジエンとスチレンの共重合を0.5時間行った。重合中、撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cとした。該0.5時間の重合後、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン11.0mmolをシクロヘキサン溶液として、撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cの条件下で、重合反応器内に投入した。次に、重合反応器内に連続的に単量体を供給し、1,3-ブタジエンとスチレンの共重合を0.5時間行った。重合中、撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cとした。全重合での1,3-ブタジエンの供給量は821g、スチレンの供給量は259gであった。次に、得られた重合体溶液を130rpmの撹拌速度で撹拌し、1-フェニル-2-ピロリドン11.0mmolを添加し、15分間撹拌した。重合体溶液にメタノール0.54mlを含むヘキサン溶液20mlを加えて、更に重合体溶液を5分間撹拌した。重合体溶液に2-tert-ブチル-6-3-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-メチルフェニルアクリレート住友化学株製、商品名:スミライザーGM1.8g、ペンタエリスリチルテトラキス3-ラウリルチオプロピオネート住友化学株製、商品名:スミライザーTP-D0.9gを加え、次に、スチームストリッピングによって重合体溶液から重合体5を回収した。重合体5の評価結果を表1に示す。なお、重合反応器内への原料の投入量及び供給量から計算した重合体中の式Iで表される構成単位の含有量は、重合体単位質量あたり0.018mmol/g重合体であった。製造例6重合体6の合成内容積20リットルのステンレス製重合反応器内を洗浄、乾燥し、乾燥窒素で置換し、ヘキサン比重0.68g/cm310.2kg、1,3-ブタジエン547g、スチレン173g、テトラヒドロフラン6.1ml、エチレングリコールジエチルエーテル5.0mlを重合反応器内に投入した。次に、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン11.0mmol及びn-ブチルリチウム13.4mmolを、それぞれ、シクロヘキサン溶液及びn-ヘキサン溶液として投入し、重合を開始した。撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cとし、単量体を重合反応器内に連続的に供給しながら、1,3-ブタジエンとスチレンの共重合を3時間行った。全重合での1,3-ブタジエンの供給量は821g、スチレンの供給量は259gであった。次に、得られた重合体溶液を130rpmの撹拌速度で撹拌し、N-メチル-ε-カプロラクタム11.0mmolを添加し、15分間撹拌した。重合体溶液にメタノール0.54mlを含むヘキサン溶液20mlを加えて、更に重合体溶液を5分間撹拌した。重合体溶液に2-tert-ブチル-6-3-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-メチルフェニルアクリレート住友化学株製、商品名:スミライザーGM1.8g、ペンタエリスリチルテトラキス3-ラウリルチオプロピオネート住友化学株製、商品名:スミライザーTP-D0.9gを加え、次に、スチームストリッピングによって重合体溶液から重合体6を回収した。重合体6の評価結果を表1に示す。なお、重合反応器内への原料の投入量及び供給量から計算した重合体中の式Iで表される構成単位の含有量は、重合体単位質量あたり0.006mmol/g重合体であった。製造例7重合体7の合成内容積20リットルのステンレス製重合反応器内を洗浄、乾燥し、乾燥窒素で置換し、ヘキサン比重0.68g/cm310.2kg、1,3-ブタジエン547g、スチレン173g、テトラヒドロフラン6.1ml、エチレングリコールジエチルエーテル5.0mlを重合反応器内に投入した。次に、n-ブチルリチウム13.7mmolをn-ヘキサン溶液として投入し、1,3-ブタジエンとスチレンの共重合を1時間行った。重合中、撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cとし、単量体を重合反応器内に連続的に供給した。該1時間の重合後、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン11.0mmolをシクロヘキサン溶液として、撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cの条件下で、重合反応器内に投入した。次に、重合反応器内に連続的に単量体を供給し、1,3-ブタジエンとスチレンの共重合を0.5時間行った。重合中、撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cとした。該0.5時間の重合後、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン11.0mmolをシクロヘキサン溶液として、撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cの条件下で、重合反応器内に投入した。次に、重合反応器内に連続的に単量体を供給し、1,3-ブタジエンとスチレンの共重合を0.5時間行った。重合中、撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cとした。該0.5時間の重合後、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン11.0mmolをシクロヘキサン溶液として、撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cの条件下で、重合反応器内に投入した。次に、重合反応器内に連続的に単量体を供給し、1,3-ブタジエンとスチレンの共重合を0.5時間行った。重合中、撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cとした。全重合での1,3-ブタジエンの供給量は821g、スチレンの供給量は259gであった。次に、得られた重合体溶液を130rpmの撹拌速度で撹拌し、N-メチル-ε-カプロラクタム11.0mmolを添加し、15分間撹拌した。重合体溶液にメタノール0.54mlを含むヘキサン溶液20mlを加えて、更に重合体溶液を5分間撹拌した。重合体溶液に2-tert-ブチル-6-3-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-メチルフェニルアクリレート住友化学株製、商品名:スミライザーGM1.8g、ペンタエリスリチルテトラキス3-ラウリルチオプロピオネート住友化学株製、商品名:スミライザーTP-D0.9gを加え、次に、スチームストリッピングによって重合体溶液から重合体7を回収した。重合体7の評価結果を表1に示す。なお、重合反応器内への原料の投入量及び供給量から計算した重合体中の式Iで表される構成単位の含有量は、重合体単位質量あたり0.018mmol/g重合体であった。製造例8重合体8の合成内容積20リットルのステンレス製重合反応器内を洗浄、乾燥し、乾燥窒素で置換し、ヘキサン比重0.68g/cm310.2kg、1,3-ブタジエン547g、スチレン173g、テトラヒドロフラン6.1ml、エチレングリコールジエチルエーテル5.0mlを重合反応器内に投入した。次に、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン8.26mmol及びn-ブチルリチウム14.3mmolを、それぞれ、シクロヘキサン溶液及びn-ヘキサン溶液として投入し、重合を開始した。撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cとし、単量体を重合反応器内に連続的に供給しながら、1,3-ブタジエンとスチレンの共重合を3時間行った。全重合での1,3-ブタジエンの供給量は821g、スチレンの供給量は259gであった。次に、得られた重合体溶液を130rpmの撹拌速度で撹拌し、4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン11.8mmolを添加し、15分間撹拌した。重合体溶液にメタノール0.54mlを含むヘキサン溶液20mlを加えて、更に重合体溶液を5分間撹拌した。重合体溶液に2-tert-ブチル-6-3-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-メチルフェニルアクリレート住友化学株製、商品名:スミライザーGM1.8g、ペンタエリスリチルテトラキス3-ラウリルチオプロピオネート住友化学株製、商品名:スミライザーTP-D0.9gを加え、次に、スチームストリッピングによって重合体溶液から重合体8を回収した。重合体8の評価結果を表1に示す。なお、重合反応器内への原料の投入量及び供給量から計算した重合体中の式Iで表される構成単位の含有量は、重合体単位質量あたり0.005mmol/g重合体であった。製造例9重合体9の合成内容積20リットルのステンレス製重合反応器内を洗浄、乾燥し、乾燥窒素で置換し、ヘキサン比重0.68g/cm310.2kg、1,3-ブタジエン547g、スチレン173g、テトラヒドロフラン6.1ml、エチレングリコールジエチルエーテル5.0mlを重合反応器内に投入した。次に、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン12.2mmol及びn-ブチルリチウム15.1mmolを、それぞれ、シクロヘキサン溶液及びn-ヘキサン溶液として投入し、重合を開始した。撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cとし、単量体を重合反応器内に連続的に供給しながら、1,3-ブタジエンとスチレンの共重合を3時間行った。全重合での1,3-ブタジエンの供給量は821g、スチレンの供給量は259gであった。次に、得られた重合体溶液を130rpmの撹拌速度で撹拌し、4’-イミダゾール-1-イル-アセトフェノン12.2mmolを添加し、15分間撹拌した。重合体溶液にメタノール0.54mlを含むヘキサン溶液20mlを加えて、更に重合体溶液を5分間撹拌した。重合体溶液に2-tert-ブチル-6-3-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-メチルフェニルアクリレート住友化学株製、商品名:スミライザーGM1.8g、ペンタエリスリチルテトラキス3-ラウリルチオプロピオネート住友化学株製、商品名:スミライザーTP-D0.9gを加え、次に、スチームストリッピングによって重合体溶液から重合体9を回収した。重合体9の評価結果を表1に示す。なお、重合反応器内への原料の投入量及び供給量から計算した重合体中の式Iで表される構成単位の含有量は、重合体単位質量あたり0.007mmol/g重合体であった。製造例10重合体10の合成内容積5リットルのステンレス製重合反応器内を洗浄、乾燥し、乾燥窒素で置換し、ヘキサン比重0.68g/cm32.55kg、1,3-ブタジエン137g、スチレン43g、テトラヒドロフラン1.5ml、エチレングリコールジエチルエーテル1.2mlを重合反応器内に投入した。次に、n-ブチルリチウム3.6mmolをn-ヘキサン溶液として投入し、1,3-ブタジエンとスチレンの共重合を2.5時間行った。重合中、撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cとし、単量体を重合反応器内に連続的に供給した。1,3-ブタジエンの供給量は205g、スチレンの供給量は65gであった。該2.5時間の重合後、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン2.8mmolをシクロヘキサン溶液として、撹拌速度130rpm、重合反応器内温度65°Cの条件下で、重合反応器内に投入し30分間撹拌した。次に、メタノール0.14mlを含むヘキサン溶液20mlを重合反応器内に投入し、重合体溶液を5分間撹拌した。重合体溶液に2-tert-ブチル-6-3-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-メチルフェニルアクリレート住友化学株製、商品名:スミライザーGM1.8g、ペンタエリスリチルテトラキス3-ラウリルチオプロピオネート住友化学株製、商品名:スミライザーTP-D0.9gを加え、次に、スチームストリッピングによって重合体溶液から重合体10を回収した。重合体10の評価結果を表1に示す。なお、重合反応器内への原料の投入量及び供給量から計算した重合体中の式Iで表される構成単位の含有量は、重合体単位質量あたり0.006mmol/g重合体であった。製造例11重合体11の合成内容積20リットルのステンレス製重合反応器内を洗浄、乾燥し、乾燥窒素で置換し、ヘキサン比重0.68g/cm310.2kg、1,3-ブタジエン547g、スチレン173g、テトラヒドロフラン6.1ml、エチレングリコールジエチルエーテル5.0mlを重合反応器内に投入した。次に、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン11.0mmol及びn-ブチルリチウム14.3mmolを、それぞれ、シクロヘキサン溶液及びn-ヘキサン溶液として投入し、重合を開始した。撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cとし、単量体を重合反応器内に連続的に供給しながら、1,3-ブタジエンとスチレンの共重合を3時間行った。全重合での1,3-ブタジエンの供給量は821g、スチレンの供給量は259gであった。次に、重合体溶液にメタノール0.54mlを含むヘキサン溶液20mlを加えて、更に重合体溶液を5分間撹拌した。重合体溶液に2-tert-ブチル-6-3-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-メチルフェニルアクリレート住友化学株製、商品名:スミライザーGM1.8g、ペンタエリスリチルテトラキス3-ラウリルチオプロピオネート住友化学株製、商品名:スミライザーTP-D0.9gを加え、次にスチームストリッピングによって重合体溶液から重合体11を回収した。重合体11の評価結果を表1に示す。なお、重合反応器内への原料の投入量及び供給量から計算した重合体中の式Iで表される構成単位の含有量は、重合体単位質量あたり0.006mmol/g重合体であった。製造例12重合体12の合成内容積20リットルのステンレス製重合反応器内を洗浄、乾燥し、乾燥窒素で置換し、ヘキサン比重0.68g/cm310.2kg、1,3-ブタジエン547g、スチレン173g、テトラヒドロフラン6.1ml、エチレングリコールジエチルエーテル5.0mlを重合反応器内に投入した。次に、n-ブチルリチウム14.3mmolをn-ヘキサン溶液として投入し、重合を開始した。撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cとし、単量体を重合反応器内に連続的に供給しながら、1,3-ブタジエンとスチレンの共重合を3時間行った。全重合での1,3-ブタジエンの供給量は821g、スチレンの供給量は259gであった。次に、得られた重合体溶液を130rpmの撹拌速度で撹拌し、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン11.0mmolを添加し、15分間撹拌した。重合体溶液にメタノール0.54mlを含むヘキサン溶液20mlを加えて、更に重合体溶液を5分間撹拌した。重合体溶液に2-tert-ブチル-6-3-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-メチルフェニルアクリレート住友化学株製、商品名:スミライザーGM1.8g、ペンタエリスリチルテトラキス3-ラウリルチオプロピオネート住友化学株製、商品名:スミライザーTP-D0.9gを加え、次に、スチームストリッピングによって重合体溶液から重合体12を回収した。重合体12の評価結果を表1に示す。なお、重合体12は合成時に式VIで表される化合物を使用しなかったため、式Iで表される構成単位を含有していなかった。製造例13重合体13の合成内容積20リットルのステンレス製重合反応器内を洗浄、乾燥し、乾燥窒素で置換し、ヘキサン比重0.68g/cm310.2kg、1,3-ブタジエン547g、スチレン173g、テトラヒドロフラン6.1ml、エチレングリコールジエチルエーテル5.0mlを重合反応器内に投入した。次に、n-ブチルリチウム14.3mmolをn-ヘキサン溶液として投入し、重合を開始した。撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cとし、単量体を重合反応器内に連続的に供給しながら、1,3-ブタジエンとスチレンの共重合を3時間行った。全重合での1,3-ブタジエンの供給量は821g、スチレンの供給量は259gであった。次に、重合体溶液にメタノール0.54mlを含むヘキサン溶液20mlを加えて、更に重合体溶液を5分間撹拌した。重合体溶液に2-tert-ブチル-6-3-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-メチルフェニルアクリレート住友化学株製、商品名:スミライザーGM1.8g、ペンタエリスリチルテトラキス3-ラウリルチオプロピオネート住友化学株製、商品名:スミライザーTP-D0.9gを加え、次に、スチームストリッピングによって重合体溶液から重合体13を回収した。重合体13の評価結果を表1に示す。なお、重合体13は合成時に式VIで表される化合物を使用しなかったため、式Iで表される構成単位を含有していなかった。製造例14重合体14の合成内容積20リットルのステンレス製重合反応器内を洗浄、乾燥し、乾燥窒素で置換し、ヘキサン比重0.68g/cm310.2kg、1,3-ブタジエン547g、スチレン173g、テトラヒドロフラン6.1ml、エチレングリコールジエチルエーテル5.0mlを重合反応器内に投入した。次に、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン11.0mmol及びn-ブチルリチウム14.3mmolを、それぞれ、シクロヘキサン溶液及びn-ヘキサン溶液として投入し、重合を開始した。撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cとし、単量体を重合反応器内に連続的に供給しながら、1,3-ブタジエンとスチレンの共重合を3時間行った。全重合での1,3-ブタジエンの供給量は821g、スチレンの供給量は259gであった。次に、得られた重合体溶液を130rpmの撹拌速度で撹拌し、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン11.0mmolを添加し、15分間撹拌した。重合体溶液にメタノール0.54mlを含むヘキサン溶液20mlを加えて、更に重合体溶液を5分間撹拌した。重合体溶液に2-tert-ブチル-6-3-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-メチルフェニルアクリレート住友化学株製、商品名:スミライザーGM1.8g、ペンタエリスリチルテトラキス3-ラウリルチオプロピオネート住友化学株製、商品名:スミライザーTP-D0.9gを加え、次に、重合体溶液を、常温、24時間で蒸発させ、更に55°Cで12時間減圧乾燥し、重合体14を得た。重合体14の評価結果を表1に示す。なお、重合反応器内への原料の投入量及び供給量から計算した重合体中の式Iで表される構成単位の含有量は、重合体単位質量あたり0.006mmol/g重合体であった。以下に、実施例及び比較例で用いた各種薬品について説明する。天然ゴム:RSS3ブタジエンゴム:宇部興産株製のウベポールBR150B重合体1~14:上記製造例1~14シリカ:デグッサ社製のウルトラシルVN3-GN2SA:175m2/gシランカップリング剤:デグッサ社製のSi69ビス3-トリエトキシシリルプロピルテトラスルフィドジエン系ゴムゲル1:ランクセス株製のNanopreneBM15OHジエン系ゴム成分:SBR、Tg:-15°C、水酸基価:35mgKOH/g-gel、平均粒子径:50nmジエン系ゴムゲル2:ランクセス株製のNanopreneBM25OHジエン系ゴム成分:SBR、Tg:-25°C、水酸基価:35mgKOH/g-gel、平均粒子径:50nmジエン系ゴムゲル3:ランクセス株製のNanopreneBM35OHジエン系ゴム成分:SBR、Tg:-35°C、水酸基価:35mgKOH/g-gel、平均粒子径:50nmカーボンブラック:三菱化学株製のダイアブラックN339N2SA:96m2/g、DBP吸収量:124ml/100gオイル:株ジャパンエナジー製のX-140老化防止剤:住友化学株製のアンチゲン3Cステアリン酸:日油株製のビーズステアリン酸つばき酸化亜鉛:三井金属鉱業株製の亜鉛華1号ワックス:大内新興化学工業株製のサンノックN硫黄:鶴見化学工業株製の粉末硫黄加硫促進剤1:住友化学株製のソクシノールCZ加硫促進剤2:住友化学株製のソクシノールD実施例及び比較例表2に示す配合内容に従い、株神戸製鋼所製の1.7Lバンバリーミキサーを用いて、硫黄及び加硫促進剤以外の材料を150°Cの条件下で5分間混練りし、混練り物を得た。次に、得られた混練り物に硫黄及び加硫促進剤を添加し、オープンロールを用いて、80°Cの条件下で5分間練り込み、未加硫ゴム組成物を得た。得られた未加硫ゴム組成物をトレッドの形状に成形し、タイヤ成型機上で他のタイヤ部材とともに貼り合わせて未加硫タイヤを形成し、170°Cで12分間加硫し、試験用タイヤサイズ:195/65R15を製造した。得られた試験用タイヤを使用して、上記試験方法により評価を行った。それぞれの試験結果を表2に示す。表2に示すように、共役ジエンに基づく構成単位及び上記式Iで表される構成単位を有し、かつ上記式IIで表される基を有する化合物によって末端が変性された重合体重合体1~9、14と、シリカと、ガラス転移温度-40~-10°Cの、水酸基を有するジエン系ゴムゲルとを含んだ実施例のゴム組成物は、比較例のゴム組成物に比べて、低燃費性、ウェットグリップ性能及び耐摩耗性がバランス良く改善された。"