"直線偏光しているレーザー光束を射出する複数の光源手段と、前記複数の光源手段のそれぞれから発せられた光束を偏向走査する単一の偏向器と、前記偏向器により偏向された光束をそれぞれの光源手段に対応する複数の被走査面上に結像させる走査光学素子と、前記偏向器と前記複数の被走査面との間のそれぞれの光路上に設けられ、前記偏向器により偏向された光束を副走査方向に折り返す反射部材と、を備えたレーザー走査光学装置において、少なくとも一つの光路では前記反射部材は複数設置されており、前記それぞれの光路における最も被走査面に近い位置に配置された反射部材は同じ膜構成からなり、前記複数の光源手段の直線偏光振動方向は、光束の進行方向に対して時計回りを正として、偏向平面に対してA°と-A°の2種類が存在し、前記それぞれの光路における最も被走査面に近い位置に配置された反射部材は、直線偏光の異なる振動方向に対しても偏向角変化に伴う前記偏向器での反射率の傾斜を打ち消す反射率傾斜を持つように、前記偏向器による走査方向をY軸としたとき、複数の反射部材からなる光路において、各反射部材の長手方向がY軸に平行であり、前記光路の複数の反射部材のうち、間に反射部材を挟まない連続する二つの反射部材において、光路上において前記偏向器に近い反射部材を前反射部材、被走査面に近い反射部材を後反射部材としたとき、Y軸に垂直な平面上での前反射部材と後反射部材との法線がなす角度が、Y軸に垂直な平面上での前反射部材への入射角をαとしたとき、それぞれの光源手段の配置角に合わせて、90-α°~180-α°の間、又は、180-α°~270-α°の間、に前記反射部材が配置されていること、を特徴とするレーザー走査光学装置。複数の光源手段の直線偏光の振動方向は、偏向平面に対して20°~70°であること、を特徴とする請求項1に記載のレーザー走査光学装置。各光路に配置された反射部材の数は同一ではないこと、を特徴とする請求項1又は請求項2に記載のレーザー走査光学装置。少なくとも一つの光路には第1反射部材、第2反射部材及び第3反射部材が配置されており、第1反射部材と第2反射部材とがコ字型に配置され、第2反射部材と第3反射部材とがZ型に配置され、第1反射部材の法線と第2反射部材の法線とがなす角度が45°以上であり、第2反射部材の法線と第3反射部材の法線とがなす角度が170°以上であること、を特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれかに記載のレーザー走査光学装置。本発明の目的は、各光路における反射部材を共通の膜構成として複数の被走査面上での光量むらを低減できるレーザー走査光学装置を提供することにある。本発明の一形態であるレーザー走査光学装置は、直線偏光しているレーザー光束を射出する複数の光源手段と、前記複数の光源手段のそれぞれから発せられた光束を偏向走査する単一の偏向器と、前記偏向器により偏向された光束をそれぞれの光源手段に対応する複数の被走査面上に結像させる走査光学素子と、前記偏向器と前記複数の被走査面との間のそれぞれの光路上に設けられ、前記偏向器により偏向された光束を副走査方向に折り返す反射部材と、を備えたレーザー走査光学装置において、少なくとも一つの光路では前記反射部材は複数設置されており、前記それぞれの光路における最も被走査面に近い位置に配置された反射部材は同じ膜構成からなり、前記複数の光源手段の直線偏光振動方向は、光束の進行方向に対して時計回りを正として、偏向平面に対してA°と-A°の2種類が存在し、前記それぞれの光路における最も被走査面に近い位置に配置された反射部材は、直線偏光の異なる振動方向に対しても偏向角変化に伴う前記偏向器での反射率の傾斜を打ち消す反射率傾斜を持つように、前記偏向器による走査方向をY軸としたとき、複数の反射部材からなる光路において、各反射部材の長手方向がY軸に平行であり、前記光路の複数の反射部材のうち、間に反射部材を挟まない連続する二つの反射部材において、光路上において前記偏向器に近い反射部材を前反射部材、被走査面に近い反射部材を後反射部材としたとき、Y軸に垂直な平面上での前反射部材と後反射部材との法線がなす角度が、Y軸に垂直な平面上での前反射部材への入射角をαとしたとき、それぞれの光源手段の配置角に合わせて、90-α°~180-α°の間、又は、180-α°~270-α°の間に、前記反射部材が配置されていること、を特徴とする。前記レーザー走査光学装置においては、配置角の異なる複数の光源手段に対して、反射部材をコ字型配置又はZ型配置とすることで、反射部材における反射率傾斜によって偏向器における反射率傾斜を打ち消す又は緩和させ、各被走査面での光量分布傾斜を低減させている。コ字型配置とは、Y軸に垂直な平面上での前反射部材と後反射部材との法線がなす角度が、Y軸に垂直な平面上での前反射部材への入射角をαとしたとき、それぞれの光源手段の配置角に合わせて、90-α°~180-α°の間、に反射部材を配置したことをいう。Z型配置とは、180-α°~270-α°の間に反射部材を配置したことをいう。換言すれば、異なる光源手段の配置角に対して、反射部材の二つの配置態様コ字型配置及びZ型配置を組み合わせることで、最終反射部材に入射する光束のP偏光比率に分布を持たせ、偏向器で偏向された光束の強度分布を打ち消すような強度分布を持たせている。それゆえ、各光路における最も被走査面に近い位置に配置された反射部材は同じ膜構成とすることができる。本発明によれば、各光路における反射部材を共通の膜構成として複数の被走査面上での光量むらを低減でき、コストダウンが達成される。以下、本発明に係るレーザー走査光学装置の実施例について、添付図面を参照して説明する。なお、各図において同じ部材には共通する符号を付し、重複する説明は省略する。レーザー走査光学装置、図1及び図2参照一実施例であるレーザー走査光学装置1は、図1及び図2に示すように、タンデム方式のカラー画像形成装置に用いられるものであり、図1及び図2において、y、m、c、kはイエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの各色の光路に配置された部材であることを意味し、説明の文章においていずれの色にも該当する場合には添字としての記載は省略する。レーザー走査光学装置1は、四つの感光体ドラム40y,40m,40c,40k上にそれぞれイエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの画像を形成するように構成されている。感光体ドラム40上に形成された4色の画像静電潜像はトナーにて現像された後、図示しない中間転写ベルト上に1次転写/合成され、記録材上に2次転写される。この種の画像形成プロセスは周知であり、その説明は省略する。光源光学系10は、主として、レーザダイオードアレイからなる四つの発光素子11y,11m,11c,11kと、コリメータレンズ12y,12m,12c,12kと、開口部絞り13y,13m,13c,13kと、シリンダレンズ16とで構成されている。各発光素子11から放射されたレーザー光束拡散光は各コリメータレンズ12により平行光とされ、各開口部13を通過する。発光素子11yから放射された光束Byは、光路合成ミラー14yで反射されてミラー15へ向かう。発光素子11mから放射された光束Bmは、光路合成ミラー14mで反射されてミラー15へ向かう。発光素子11cから放射された光束Bcは、光路合成ミラー14cで反射されてミラー15へ向かう。発光素子11kから放射された光束Bkは、光路合成ミラー14kで反射されてミラー15へ向かう。ここで、光路合成ミラー14とは各光束の光路を同一方向x方向にするように配置された反射部材である。前記ミラー15で反射されたそれぞれの光束は、シリンダレンズ16を透過してポリゴンミラー17の偏向面の近傍で副走査方向zに集光される。ポリゴンミラー17は所定の速度で回転駆動され、それぞれの光束は主走査方向yに偏向走査される。各光束はポリゴンミラー17の回転軸に垂直な面に対して所定の互いに異なる角度で偏向面に入射する。ポリゴンミラー17から各光束の進行方向xに関しては、走査光学系20として、第1走査レンズ21、第2走査レンズ22、第3走査レンズ23y,23m,23c,23k、反射部材ミラー24y,24m,24c,24k,25y,25m,25c,26c、平行平板防塵用ウインドウガラス28y,28m,28c,28kが配置されている。ポリゴンミラー17の偏向面反射面で同時に偏向されたそれぞれの光束は、第1走査レンズ21及び第2走査レンズ22を透過する。光束Byは、反射部材24yで反射され、第3走査レンズ23yを透過し、さらに、反射部材25yで反射され、平行平板28yを透過して感光体ドラム40y上で結像し、主走査方向yに走査する。光束Bmは、反射部材24mで反射され、第3走査レンズ23mを透過し、さらに、反射部材25mで反射され、平行平板28mを透過して感光体ドラム40m上で結像し、主走査方向yに走査する。光束Bcは、反射部材24cで反射され、第3走査レンズ23cを透過し、さらに、反射部材25c,26cで反射され、平行平板28cを透過して感光体ドラム40c上で結像し、主走査方向yに走査する。光束Bkは、第3走査レンズ23kを透過し、反射部材24kで反射され、平行平板28kを透過して感光体ドラム40k上で結像し、主走査方向yに走査する。前記走査光学系20において、走査レンズ21,22は全ての光路y,m,c,kに共通に配置されており、走査レンズ23は各光路y,m,c,kに個別に配置されている。また、光路折返し用の反射部材24,25は光路yには2枚、光路mには2枚、光路cには3枚、光路kには1枚配置されている。図2に示されているように、光路y,mでは反射部材24y,25y,24m,25mがZ型の光路を形成するように配置され、光路cでは反射部材24c,25c,26cがコ字型の光路を形成するように配置されている。光路kでは反射部材24kがZ型の光路を形成するように配置されている。光源光学系10において、各発光素子レーザダイオードアレイ11の配置角偏向平面を基準として光束の進行方向の時計回りを正とするは、以下の表1に示すように、素子11yが-45°、素子11mが-45°、素子11cが45°、素子11kが-45°とされている。ポリゴンミラー17への入射角の偏向角による変化は図3Aに示すとおりであり、偏向角による反射率の変化は図3Bに示すとおりである。反射部材24,25のコ字型配置とZ型配置の副走査方向の断面構成は図4A,Bに示すとおりである。Z型配置では図4A参照、第2反射部材25の出射光線が、複数の任意の第2反射部材25への入射光線を含む平面を基準として、第1反射部材24への入射光線と反対側にある。コ字型配置では図4B参照、第2反射部材25の出射光線が、複数の任意の第2反射部材25への入射光線を含む平面を基準として、第1反射部材24への入射光線と同じ側にあるように第2反射部材25を配置している。図5では、反射部材に入射するときの入射面に対する偏光の振動方向の角度及びそのときのP偏光成分とS偏光成分を示している。光軸に垂直な平面に投影しており、紙面奥方が光束の進行方向である。縦軸は入射面、横軸は入射面に垂直な平面であり、光軸を原点としている。二重線矢印で表わす反射部材への入射時の偏光振動方向を入射面及び入射面に垂直な平面に投影すると、P偏光比率、S偏光比率が求められる。ところで、ポリゴンミラー17による主走査の画像走査開始点をSOI、画像走査終了点をEOIと称する。図6A,Bには、本実施例において、SOI及びEOIにおけるZ型配置の第1反射部材24と第2反射部材25に入射する光線及び入射面のずれを立体的に示している。各反射部材24,25の入射面が交差する平面を考えたときの入射面のずれである。入射面のずれは、第1反射部材24の入射面から第2反射部材25の入射面に対する傾きの角度で表わされる。SOI側とEOI側とで入射面のずれ方向は逆になる。図7A,Bには、本実施例において、SOI及びEOIにおけるコ字型配置の第1反射部材24と第2反射部材25に入射する光線及び入射面のずれを立体的に示している。各反射部材24,25の入射面が交差する平面を考えたときの入射面のずれである。入射面のずれは、第1反射部材24の入射面から第2反射部材25の入射面に対する傾きの角度で表わされる。SOI側とEOI側とで入射面のずれ方向は逆になる。図8は、反射部材24,25間で入射面がずれた場合の、入射面に対する偏光の振動方向の角度変化を示している。光軸に垂直な平面に投影しており、紙面奥方が光束の進行方向である。縦軸は入射面、横軸は入射面に垂直な平面であり、光軸を原点としている。空間的に偏光の振動方向は変わらないが、入射面のずれによって軸が30°回転し、入射面に対する偏光の振動方向の角度が45°から75°へ変化する。図9は、発光素子11の配置角が-45°であり、反射部材24,25がZ型配置の光路において組合せ例1、第2反射部材25に入射する際の入射面に対する偏光の振動方向の角度及びS偏光比率を示している。入射面のずれがSOI側は負方向、EOI側は正方向なので、入射面に対する偏光の振動方向の角度変化はSOI側は正、EOI側は負となる。よって、SOI側はP偏光比率が高く、EOI側はP偏光比率が低くなる。図10は、発光素子11の配置角が-45°であり、反射部材24,25がコ字型配置の光路において組合せ例2、第2反射部材25に入射する際の入射面に対する偏光の振動方向の角度及びS偏光比率を示している。入射面のずれがSOI側は正方向、EOI側は負方向なので、入射面に対する偏光の振動方向の角度変化はSOI側は負、EOI側は正となる。よって、SOI側はP偏光比率が低く、EOI側はP偏光比率が高くなる。図11は、発光素子11の配置角が45°であり、反射部材24,25がコ字型配置の光路において組合せ例3、第2反射部材25に入射する際の入射面に対する偏光の振動方向の角度及びS偏光比率を示している。入射面のずれがSOI側は正方向、EOI側は負方向なので、入射面に対する偏光の振動方向の角度変化はSOI側は負、EOI側は正となる。よって、SOI側はP偏光比率が高く、EOI側はP偏光比率が低くなる。図12は、発光素子11の配置角が45°であり、反射部材24,25がZ型配置の光路において組合せ例4、第2反射部材25に入射する際の入射面に対する偏光の振動方向の角度及びS偏光比率を示している。入射面のずれがSOI側は負方向、EOI側は正方向なので、入射面に対する偏光の振動方向の角度変化はSOI側は正、EOI側は負となる。よって、SOI側はP偏光比率が低く、EOI側はP偏光比率が高くなる。図13は、本実施例における最終反射部材のP偏光反射率及びS偏光反射率を示している。ここで、最終とは、各光路において最も被走査面に近い位置に配置されていることを意味する。図14Aは、本実施例におけるポリゴンミラー17、第2反射部材25の反射率傾斜を示し、図14Bは、被走査面における光量分布傾斜を示している。全ての光路において、最も被走査面に近い反射部材の反射率傾斜は、ポリゴンミラー17での反射率傾斜を打ち消す又は軽減しており、被走査面における光量分布傾斜は十分に小さい。図15は、前反射部材の法線と後反射部材の法線とがなす角に対する、前反射部材の入射面と後反射部材の入射面とがなす角を示している。ここで、各光路に配置した複数の反射部材のうち、間に反射部材を挟まない連続する二つの反射部材において、光路上においてポリゴンミラーに近い反射部材を前反射部材、被走査面に近い反射部材を後反射部材と称する。前反射部材の法線と後反射部材の法線とがなす角が180°までは単調増加であり、前反射部材の法線と後反射部材の法線とがなす角が180°のときに前反射部材の入射面と後反射部材の入射面とがなす角は180°となる。このとき、両反射部材の反射面が平行になり、入射面が一致する。前反射部材の法線と後反射部材の法線とがなす角が180°を超えると、単調減少となる。図16は、3枚の反射部材で、第1及び第2反射部材がコ字型配置、第2及び第3反射部材がZ型配置を混在させたとき、それぞれの反射部材の入射面に対する直線偏光の振動方向の変化を示している。第1反射部材で入射面に対する直線偏光の振動方向が45°のとき、コ字型配置の入射面変化がZ型配置の入射面変化より大きければ、一つの光路において二つの配置を混在させてもよい。図17は、コ字型配置及びZ型配置における前反射部材24及び後反射部材25のなす角度の範囲を示している。図18Aは、Z型配置とコ字型配置における各反射部材の入射面がなす角を示している。図18Bは、発光素子の配置角を45°とした場合の入射面に対する偏光の振動方向の角度を示し、図19A,Bは同じ場合の後反射部材への入射時のP偏光比率及び後反射部材の反射率を示している。図18Cは、発光素子の配置角を-45°とした場合の入射面に対する偏光の振動方向の角度を示し、図19C,Dは同じ場合の後反射部材への入射時のP偏光比率及び後反射部材の反射率を示している。具体的数値は以下の表2に示すとおりである。以上の構成からなるレーザー走査光学装置において、各発光素子11から放射された光束をポリゴンミラー17で偏向する際、偏向角によってポリゴンミラー17への入射角入射角は反射面の法線ベクトルと光軸ベクトルとのなす角と定義するが単調増加又は単調減少する図3A参照。そのため、ポリゴンミラー17の反射面の角度特性入射角に対する反射率特性に従って、ポリゴンミラー17において反射率傾斜反射率傾斜とは、被走査面上に向かう光束ごとの反射率の差が、偏向角によって略単調増加又は略単調減少している状態が発生する図3B参照。また、反射部材に入射する光束は、直線偏光であることが多く、偏光の振動方向を持つ。偏光の振動方向は光軸に対して変化せず、反射する際に入射面反射面の法線及び入射光線と反射光線を含む面が定義されると入射面に対する偏光の振動方向の角度が決まる図5参照。入射面に対する偏光の振動方向の角度は、光束の進行方向の時計回りを正とする。入射面に対する偏光の振動方向によって、入射光束のP偏光とS偏光の比率が決まる。P偏光とS偏光はそれぞれ反射率特性が異なるため図13参照、反射面において、偏向角によって入射光束の偏光比率に傾斜があると、反射率傾斜を生じる。反射部材の長手方向のベクトルが走査線と略平行に配置されていると想定すると、偏向角による入射光束の偏光比率の傾斜は、各反射部材の各偏向角において入射面が異なるために生じる。COIcenterofimageに入射する光路では、各反射部材の法線と入射光線とは常に共通の面内にあるために入射面は同一であり、入射面に対する偏光の振動方向の角度はほぼ変わらず、入射光束の偏光比率もほぼ変わらない。COI以外の偏向角で被走査面に入射する光路では、各反射部材の長手方向ベクトルを軸とした回転角次第で変化するため、反射面の法線と入射光線とで定義される入射面も反射部材間で変化する。また、偏向角に応じた入射面の変化は、COIの入射面を基準として、SOI側とEOI側とで対称となり図6、図7参照、偏向角が大きいほど変化も大きい。ここで、2枚の反射部材におけるZ型配置、コ字型配置について詳述する。Z型配置とは、ポリゴンミラーによる走査方向をY軸としたとき、複数の反射部材からなる光路において、各反射部材の長手方向がY軸に平行であり、該光路の複数の反射部材のうち、間に反射部材を挟まない連続する二つの反射部材において、ポリゴンミラーに近い反射部材を前反射部材、被走査面に近い反射部材を後反射部材としたとき、Y軸に垂直な平面で考えたときの前反射部材の法線と後反射部材の法線とがなす角度が、Y軸に垂直な平面で考えたときの前反射部材への入射角をα°としたとき、発光素子の配置角に合わせて、180-α°~270-α°のときである。このとき、後反射部材の出射光線は、Y軸に垂直な平面で考えたとき、後反射部材の入射光線を基準として、前反射部材の入射光線と反対側にある図17右側図参照。一方、コ字型配置とは、ポリゴンミラーによる走査方向をY軸としたとき、複数の反射部材からなる光路において、各反射部材の長手方向がY軸に平行であり、該光路の複数の反射部材のうち、間に反射部材を挟まない連続する二つの反射部材において、ポリゴンミラーに近い反射部材を前反射部材、被走査面に近い反射部材を後反射部材としたとき、Y軸に垂直な平面で考えたときの前反射部材の法線と後反射部材の法線とがなす角度が、Y軸に垂直な平面で考えたときの前反射部材への入射角をα°としたとき、発光素子の配置角に合わせて、90-α°~180-α°のときである。このとき、後反射部材の出射光線は、Y軸に垂直な平面で考えたとき、後反射部材の入射光線を基準として、前反射部材の入射光線と同じ側にある図17左側図参照。各偏向角において、反射部材間での入射面の変化によって、入射面に対する偏光の振動方向の角度が変化する図8参照。Z型配置の場合、SOI側の角変化は正、EOI側は負となる。一方、コ字型配置の場合は逆転し、SOI側の角変化は負、EOI側は正となる。光源手段において、各光路y,m,c,kに対応する発光素子は光源基板に決まった間隔で配置されている。そして、被走査面上で所望の副走査間隔を得るために、光源基板を回転させて調整を行う。副走査方向zの光学倍率は各光路y,m,c,kにおいて同一なので、光源基板上の複数の発光素子の副走査方向間隔を同一とするため、ある発光素子の配置角をA°とすると、A°以外に可能な発光素子の配置間隔は-A°となる。ここで、発光素子の配置角が-45°前後の場合で、Z型配置を考える図9参照。Z型配置の第1反射部材の入射面に対する偏光の振動方向の角度が全偏向角で同様に-45°前後とすると図9の中央図参照SOIでは10°~40°変化し、入射面に対する偏光の振動方向の角度は-35°~-5°となる図9左図参照。一方、EOIでは入射面の変化が対称となり、入射面に対する偏光の振動方向の角度は-85°~-55°となる図9右図参照。入射面に対する偏光の振動方向の角度の絶対値が45°未満のときはP偏光比率が高く、45°を超えるときはP偏光比率が低くなる。P偏光反射率はS偏光反射率よりも低いため、P偏光比率が高い場合は、P偏光比率が低い場合に比べて、反射率が低くなる。即ち、発光素子の配置角が-45°前後のときは、Z型配置の第2反射部材でのSOIの反射率は低く、EOIの反射率は高くなり、反射率傾斜が生じることになる。SOI側に発光素子が配置されているとき、ポリゴンミラーにおけるSOI光路の入射角は小さく、EOI光路の入射角は大きいため、ポリゴンミラーの反射面の角度特性によって、ポリゴンミラーの反射面におけるSOI光路の反射率は高く、EOI光路の反射率は低くなり、Z型配置の第2反射部材とは逆の反射率傾斜になることで、打ち消し又は軽減される。次に、発光素子の配置角が-45°前後の場合で、コ字型配置を考える図10参照。コ字型配置の第1反射部材の入射面に対する偏光の振動方向の角度が全偏向角で同様に-45°前後とすると図10の中央図参照SOIでは-10°~-40°変化し、入射面に対する偏光の振動方向の角度は-85°~-55°となる図10左図参照。一方、EOIでは入射面の変化が対称となり、入射面に対する偏光の振動方向の角度は-35°~-5°となる図10右図参照。即ち、SOI側のP偏光比率が高いため、第2反射部材でのSOIの反射率は高く、EOIの反射率は低くなり、反射率傾斜が生じることになる。但し、SOI側に発光素子が配置されているとき、第2反射部材の反射率傾斜は、ポリゴンミラーの反射率傾斜と同様の傾向であり、反射率傾斜は増幅される。そこで、発光素子の配置角が45°前後の場合で、コ字型配置を考える図11参照。コ字型配置の第1反射部材の入射面に対する偏光の振動方向の角度が全偏向角で同様に45°前後とすると図11の中央図参照SOIでは-10°~-40°変化し、入射面に対する偏光の振動方向の角度は5°~35°となる図11左図参照。一方、EOIでは入射面の変化が対称となり、入射面に対する偏光の振動方向の角度は55°~85°となる図10右図参照。即ち、SOI側のP偏光比率が高く、EOI側のP偏光比率が低いため、第2反射部材でのSOIの反射率は低く、EOIの反射率は高くなり、反射率傾斜が生じることになる。SOI側に発光素子が配置されているとき、第2反射部材の反射率傾斜は、ポリゴンミラーの反射率傾斜を打ち消す又は軽減される。また、発光素子の配置角が45°前後の場合で、Z型配置を考える図12参照。Z型配置の第1反射部材の入射面に対する偏光の振動方向の角度が全偏向角で同様に45°前後とすると図12の中央図参照SOIでは10°~40°変化し、入射面に対する偏光の振動方向の角度は55°~85°となる図12左図参照。一方、EOIでは入射面の変化が対称となり、入射面に対する偏光の振動方向の角度は5°~35°となる図12右図参照。即ち、SOI側のP偏光比率が低く、EOI側のP偏光比率が高いため、第2反射部材でのSOIの反射率は高く、EOIの反射率は低くなり、反射率傾斜が生じることになる。SOI側に発光素子が配置されているとき、第2反射部材の反射率傾斜は、ポリゴンミラーの反射率傾斜を増幅してしまう。それぞれの発光素子の配置角に対して、Z型配置又はコ字型配置を適切に利用することで、各光路y,m,c,kにおける最も被走査面に近い位置に配置された反射部材を同じ膜構成としても、ポリゴンミラーにおける反射率傾斜を打ち消す又は軽減することができ、被走査面における光量分布傾斜を低減させることができる図14参照。これにて、光量分布傾斜の低減のために偏光特性の異なる複数の反射部材が不要となり、換言すれば、同じ膜構成とすることができ、コストダウンにつながる。ところで、少なくとも一つの光路に三つの反射部材が配置されているとき、第1反射部材と第2反射部材とがコ字型に配置され、第2反射部材と第3反射部材とがZ型に配置され、第1反射部材の法線と第2反射部材の法線とがなす角度が45°以上であり、第2反射部材の法線と第3反射部材の法線とがなす角度が170°以上であることが好ましい。具体的な配置角及び各反射部材の法線、入射面がなす角は以下の表3、表4に示す。入射面に対する偏光の振動方向の角度の変化は、前記コ字型配置と前記Z型配置とで正負が逆なので、コ字型配置とZ型配置とが混在している場合には、角度変化の絶対値が大きい配置の影響が優勢となる図16参照。コ字型配置の場合、前反射部材と後反射部材において、Y軸に垂直な平面で投影したときの前反射部材の法線と後反射部材の法線とがなす角は、前反射部材への入射角をα°とすると、90-α°~180-α°になる図17左図参照。この角度範囲では、前反射部材の入射面と後反射部材の入射面とがなす角は、前反射部材の法線と後反射部材の法線とがなす角に対して必ず右肩上がりとなる図15参照。前反射部材の入射面と後反射部材の入射面とがなす角が180°のときは、それぞれの入射面は一致するため、入射面に対する直線偏光の振動方向を変化させない。また、前反射部材の入射面と後反射部材の入射面とがなす角が90°のときが最も振動方向を変化させる。Z型配置の場合、コ字型配置をなす前反射部材と後反射部材において、Y軸に垂直な平面で投影したときの前反射部材の法線と後反射部材の法線とがなす角は、前反射部材への入射角をα°とすると、180-α°~270-α°になる図17右図参照。この角度範囲では、180°を必ず含むため、そのときは、前反射部材の入射面と後反射部材の入射面とがなす角が180°となり、それぞれの入射面は一致し、入射面に対する直線偏光の振動方向を変化させない。また、Y軸に垂直な平面で投影したときの前反射部材の法線と後反射部材の法線とがなす角が180°前後のとき、前反射部材の入射面と後反射部材の入射面とがなす角は180°に近い値となり、入射面に対する直線偏光の振動方向の変化は小さい。コ字型配置の前反射部材の入射面と後反射部材の入射面とがなす角が、Z型配置の前反射部材の入射面と後反射部材の入射面とがなす角より大きくするために、各配置の前反射部材の法線と後反射部材の法線とがなす角を規定する。まず、コ字型配置の前反射部材の法線と後反射部材の法線とがなす角を45°以上とする。このとき、コ字型配置の前反射部材の入射面と後反射部材の入射面とがなす角は、20°以上となる。さらに、Z型配置の前反射部材の法線と後反射部材の法線とがなす角を170°以上とする。このとき、Z型配置の前反射部材の入射面と後反射部材の入射面とがなす角は20°以下となる。この角度条件では、常に、コ字型配置の前反射部材の入射面と後反射部材の入射面とがなす角が、Z型配置の前反射部材の入射面と後反射部材の入射面とがなす角よりも大きい。本実施例では、光路cにおいて、第1反射部材と第2反射部材がコ字型配置、第2反射部材と第3反射部材がZ型配置である。Y軸に垂直な平面で考えたときの第1反射部材の法線と第2反射部材の法線とがなす角は92.17°であり、第1反射部材の入射面と第2反射部材の入射面がなす角はSOIにおいて45.07°である表4参照。また、Y軸に垂直な平面で考えたときの第2反射部材の法線と第3反射部材の法線とがなす角は203.66°であり、第2反射部材の入射面と第3反射部材の入射面とがなす角はSOIにおいて15.41°である表4参照。各反射部材の入射面がなす角の絶対値は第1反射部材と第2反射部材によるコ字型配置が第2反射部材と第3反射部材によるZ型配置より大きいため、入射面に対する直線偏光の振動方向の変化に対して光路cはコ字型配置の影響が大きく、コ字型配置のみと考えることができる。なお、本発明に係るレーザー走査光学装置は前記実施例に限定するものではなく、その要旨の範囲内で種々に変更できることは勿論である。"