基板を収納する容器を支持する支持部に、前記容器の排気口より前記容器内の気体を外部に排出させる状態で、前記容器の給気口より不活性ガスを前記容器の内部に注入する注入手段が装備され、前記注入手段の作動を制御する制御手段が設けられた不活性ガス注入装置であって、前記注入手段が、前記不活性ガスの供給流量を変更自在に構成され、前記制御手段が、前記支持部に支持された前記容器に前記不活性ガスを供給する際には、前記供給流量を目標流量に向けて漸増させるべく、前記注入手段の作動を制御するように構成されている不活性ガス注入装置。前記制御手段が、前記支持部に前記容器が支持された直後において前記不活性ガスを最初に供給する際に、前記供給流量をゼロから前記目標流量に向けて漸増させるように構成されている請求項1記載の不活性ガスの注入装置。前記支持部が、前記容器を保管する保管棚の収納部であり、前記目標流量として、初期目標流量とその初期目標流量よりも少ない定常目標流量とが設定され、前記制御手段が、前記支持部に支持された前記容器に前記不活性ガスを供給する際には、前記供給流量を前記初期目標流量に調整し、その後、前記供給流量を前記定常目標流量に調整すべく、前記注入手段の作動を制御し、かつ、前記供給流量を前記初期目標流量に調整する際に、前記供給流量を前記初期目標流量に向けて漸増させるべく、前記注入手段の作動を制御するように構成されている請求項1記載の不活性ガス注入装置。前記制御手段が、前記供給流量を前記初期目標流量から前記定常目標流量に変更する際には、前記供給流量を前記初期目標流量に向けて漸増させる場合における前記供給流量の単位時間当たりの変化量よりも大きな変化量にて、前記供給流量を減少させるべく、前記注入手段の作動を制御するように構成されている請求項3記載の不活性ガス注入装置。前記制御手段が、前記供給流量を前記初期目標流量から前記定常目標流量に変更した後は、設定供給時間が経過すると、設定休止時間の間は不活性ガスの供給を停止することを繰り返すべく、前記注入手段の作動を制御し、かつ、前記設定休止時間の後で前記供給流量を前記定常目標流量に調整する際に、前記供給流量を前記定常目標流量に向けて漸増させるべく、前記注入手段の作動を制御するように構成されている請求項3記載の不活性ガス注入装置。前記制御手段が、前記供給流量を漸増させる際に、設定待ち時間が経過するごとに前記供給流量を設定量増加させる形態で前記供給流量を漸増させるべく、前記注入手段の作動を制御するように構成されている請求項1~5のいずれか1項に記載の不活性ガス注入装置。前記設定量を変更設定する人為操作式の設定手段が設けられている請求項6記載の不活性ガス注入装置。従来の不活性ガス注入装置は、容器に不活性ガスを注入する際に、目標流量の不活性ガスが一挙に注入されることになるため、注入の開始時に、容器内の基板が振動して、基板の裏面に存在する溶剤が落下し、落下した溶剤が下方に位置する別の基板の表面に付着することに起因して、基板が適正状態から悪化する虞や、容器の底部に堆積しているパーティクルが浮上して、基板に付着する虞があり、改善が望まれるものであった。尚、溶剤としては、例えば、レジスト処理の現像液等がある。ちなみに、容器内の基板の振動やパーティクルの浮上は、主として、容器内の気体の圧力が急激に大きく増加した後急激に低下する現象が発生することによって生じるものであると考えることができる。すなわち、容器に目標流量の不活性ガスを注入すると、容器内の気体が静止状態から流動状態に変化することになるが、容器内の気体は静止状態から流動状態には急激には変化することができないため、目標流量の不活性ガスが一挙に注入されると、容器内の気体の圧力が急激に大きく増加した後急激に低下する現象が発生することになる。そして、容器内の気体の圧力が急激に大きく増加した後低下する際に、容器内の気体の流れに一時的に急速な流れや乱流が発生することになる。そして、容器内の気体の圧力が急激に大きく増加した後低下する現象が発生すると、容器に振動が発生して、基板が振動を起こす虞があり、また、容器内の気体の流れに一時的に急速な流れや乱流が発生すると、容器内の気体の流れによって基板が振動する虞や、容器の底部に堆積しているパーティクルが浮上する虞がある。ちなみに、基板の振動発生やパーティクルの浮上の発生は、不活性ガスの注入開始後、短時間にて容器内が不活性ガスにて充満された状態となるようにすべく、目標流量を十分に大きな流量に設定すると、顕著になるものである。本発明は、上記実状に鑑みて為されたものであって、その目的は、容器に不活性ガスを注入する際に、基板が適正状態から悪化することやパーティクルが基板に付着することを回避できる不活性ガス注入装置を提供する点にある。本発明の不活性ガス注入装置は、基板を収納する容器を支持する支持部に、前記容器の排気口より前記容器内の気体を外部に排出させる状態で、前記容器の給気口より不活性ガスを前記容器の内部に注入する注入手段が装備され、前記注入手段の作動を制御する制御手段が設けられたものであって、その第1特徴構成は、前記注入手段が、前記不活性ガスの供給流量を変更自在に構成され、前記制御手段が、前記支持部に支持された前記容器に前記不活性ガスを供給する際には、前記供給流量を目標流量に向けて漸増させるべく、前記注入手段の作動を制御するように構成されている点を特徴とする。すなわち、支持部に支持された容器に不活性ガスを供給する際に、注入手段にて容器に供給される不活性ガスの供給流量が、目標流量に向けて漸増されることになるから、容器に不活性ガスを供給する際に、容器内の気体の圧力が急激に大きく変化することがない。つまり、注入手段にて容器に供給される不活性ガスの供給流量が漸増されると、容器内の気体が、注入される不活性ガスの供給流量に応じた流量状態に円滑に変化することになり、容器内の気体の圧力が急激に大きく変化することを抑制できるのである。このように、容器に不活性ガスを注入する際に、容器内の気体の圧力が急激に大きく変化することのない状態で、容器内の気体の流動状態を注入される不活性ガスの供給流量に応じた流量状態に円滑に変化させることができるから、容器が振動して、基板が振動することを抑制でき、また、容器内の気体の急速な流れや乱流のために、基板の振動やパーティクルの浮上が発生することを抑制できるため、基板が適正状態から悪化する虞や、容器の底部に堆積しているパーティクルが浮上して、基板に付着する虞を回避できることになる。要するに、本願発明の第1特徴構成によれば、容器に不活性ガスを注入する際に、基板が適正状態から悪化することやパーティクルが基板に付着することを回避できる不活性ガス注入装置を提供できる。本発明の不活性ガス注入装置の第2特徴構成は、上記第1特徴構成に加えて、前記制御手段が、前記支持部に前記容器が支持された直後において前記不活性ガスを最初に供給する際に、前記供給流量をゼロから前記目標流量に向けて漸増させるように構成されている点を特徴とする。すなわち、支持部に容器が支持された直後において不活性ガスを最初に供給する際に、不活性ガスの供給量がゼロから目標流量に向けて漸増されることになる。従って、支持部に容器が支持された直後において、短時間にて容器内が不活性ガスにて充満された状態となるようにすべく、目標流量を十分に大きな流量に設定しても、基板が適正状態から悪化する虞や、容器の底部に堆積しているパーティクルが浮上して、基板に付着する虞を回避できることになる。要するに、本願発明の第2特徴構成によれば、上記第1特徴構成による作用効果に加えて、支持部に容器が支持された直後において、短時間にて容器内が不活性ガスにて充満された状態となるようにすべく、目標流量を十分に大きな流量に設定しても、基板が適正状態から悪化することやパーティクルが基板に付着することを回避できる不活性ガス注入装置を提供できる。本発明の不活性ガス注入装置の第3特徴構成は、上記第1特徴構成に加えて、前記支持部が、前記容器を保管する保管棚の収納部であり、前記目標流量として、初期目標流量とその初期目標流量よりも少ない定常目標流量とが設定され、前記制御手段が、前記支持部に支持された前記容器に不活性ガスを供給する際には、前記供給流量を前記初期目標流量に調整し、その後、前記供給流量を前記定常目標流量に調整すべく、前記注入手段の作動を制御し、かつ、前記供給流量を前記初期目標流量に調整する際に、前記供給流量を前記初期目標流量に向けて漸増させるべく、前記注入手段の作動を制御するように構成されている点を特徴とする。すなわち、容器が、支持部としての保管棚の収納部に収納され、そして、保管されている容器に不活性ガスを供給する際には、供給流量が初期目標流量に調整され、その後、供給流量が初期目標流量よりも少ない定常目標流量に調整されることになる。また、供給流量を初期目標流量に調整する際には、供給流量が初期目標流量に向けて漸増されることになる。つまり、保管されている容器に不活性ガスを供給する際には、供給流量が初期目標流量に調整され、その後、供給流量が初期目標流量よりも少ない定常目標流量に調整されるものであるから、初期目標流量を大きな流量に設定して、不活性ガスの注入開始後、短時間にて容器内が不活性ガスにて充満された状態となるようにしながらも、定常目標流量を小さな流量に設定して、容器内が不活性ガスにて充満された状態に維持することにより、不活性ガスの消費量を抑制できることになる。しかも、供給流量を初期目標流量に調整する際には、供給流量が初期目標流量に向けて漸増されることになるから、上記第1特徴構成の欄にて記載の如く、容器に不活性ガスを注入する際に、容器内の気体の圧力が急激に大きく変化することのない状態で、容器内の気体の流動状態を注入される不活性ガスの供給流量に応じた流量状態に円滑に変化させるようにして、基板が適正状態から悪化することやパーティクルが基板に付着することを回避できるのである。要するに、本発明の第3特徴構成によれば、上記第1特徴構成による作用効果に加えて、容器内が不活性ガスにて充満された状態を維持しながらも、不活性ガスの消費量を抑制できる不活性ガス注入装置を提供できる。本発明の不活性ガス注入装置の第4特徴構成は、上記第3特徴構成に加えて、前記制御手段が、前記供給流量を前記初期目標流量から前記定常目標流量に変更する際には、前記供給流量を前記初期目標流量に向けて漸増させる場合における前記供給流量の単位時間当たりの変化量よりも大きな変化量にて、前記供給流量を減少させるべく、前記注入手段の作動を制御するように構成されている点を特徴とする。すなわち、供給流量を初期目標流量から定常目標流量に変更する際には、供給流量を初期目標流量に向けて漸増させる場合における供給流量の単位時間当たりの変化量よりも大きな変化量にて、供給流量が減少されることになる。つまり、供給流量を初期目標流量から定常目標流量に変更する際には、供給流量を急激に減少させても、容器に振動が発生して、基板が振動を起こす虞がなく、また、容器内の気体の流れに一時的に急速な流れが発生して、容器内の気体の流れによって基板が振動する虞や、容器の底部に堆積しているパーティクルが浮上する虞がないため、供給流量を初期目標流量から定常目標流量に変更する際には、供給流量を初期目標流量に向けて漸増させる場合における供給流量の単位時間当たりの変化量よりも大きな変化量にて、供給流量を減少させることになる。そして、供給流量を初期目標流量から定常目標流量に変更する際に、供給流量を急激に減少させるようにすることにより、供給流量を定常目標流量に向けて漸減させるようにする場合に較べて、不活性ガスの消費量を抑制できることになり、ランニングコストの低下を図ることができるものとなる。要するに、本発明の第4特徴構成によれば、上記第3特徴構成による作用効果に加えて、ランニングコストの低下を図ることができる不活性ガス注入装置を提供できる。本発明の不活性ガス注入装置の第5特徴構成は、上記第3特徴構成に加えて、前記制御手段が、前記供給流量を前記初期目標流量から前記定常目標流量に変更した後は、設定供給時間が経過すると、設定休止時間の間は不活性ガスの供給を停止することを繰り返すべく、前記注入手段の作動を制御し、かつ、前記設定休止時間の後で前記供給流量を前記定常目標流量に調整する際に、前記供給流量を前記定常目標流量に向けて漸増させるべく、前記注入手段の作動を制御するように構成されている点を特徴とする。すなわち、供給流量を初期目標流量から定常目標流量に変更した後は、設定供給時間が経過すると、設定休止時間の間は不活性ガスの供給を停止することを繰り返す形態で、不活性ガスが容器に供給されることになる。そして、設定休止時間の後で供給流量を定常目標流量に調整する際には、供給流量が定常目標流量に向けて漸増されることになる。つまり、不活性ガスを定常目標流量にて設定供給時間に亘って容器に供給した状態において、不活性ガスの供給を停止すると、容器に存在する隙間より、容器内の不活性ガスが徐々に漏れることになるものの、その後のある程度の時間は、不活性ガスが容器に充満する状態が維持されて、基板が適正状態から悪化することを抑制できる。したがって、供給流量を初期目標流量から定常目標流量に変更した後は、設定供給時間が経過すると、設定休止時間の間は不活性ガスの供給を停止することを繰り返す形態で、不活性ガスを容器に供給することにより、不活性ガスの消費量を一層抑制できることになる。しかも、設定休止時間の後で供給流量を定常目標流量に調整する際には、供給流量が定常目標流量に向けて漸増されることになるから、上記第1特徴構成の欄にて記載の如く、容器に不活性ガスを注入する際に、容器内の気体の圧力が急激に大きく変化することのない状態で、容器内の気体の流動状態を注入される不活性ガスの供給流量に応じた流量状態に円滑に変化させるようにして、基板が適正状態から悪化することやパーティクルが基板に付着することを回避できるのである。要するに、本発明の第5特徴構成によれば、上記第3特徴構成による作用効果に加えて、不活性ガスの消費量を一層抑制し、しかも、基板が適正状態から悪化することやパーティクルが基板に付着することを回避できる不活性ガス注入装置を提供できる。本発明の不活性ガス注入装置の第6特徴構成は、上記第1~第5特徴構成のいずれかに加えて、前記制御手段が、前記供給流量を漸増させる際に、設定待ち時間が経過するごとに前記供給流量を設定量増加させる形態で前記供給流量を漸増させるべく、前記注入手段の作動を制御するように構成されている点を特徴とする。すなわち、供給流量を漸増させる際に、設定待ち時間が経過するごとに供給流量を設定量増加させる形態で供給流量が漸増されることになるから、簡素な制御構成にて、供給流量を漸増させることができる。つまり、供給流量を漸増させる際に、時間経過に伴って供給流量を連続的に増加させる形態で供給流量を漸増させることが考えられるが、この場合には、例えば、時間経過に伴って供給流量を連続的に増加させるための指令値を生成する関数発生器を備えさせて、注入手段を作動させる必要がある等、制御手段の構成が複雑になる虞がある。これに対して、供給流量を漸増させる際に、設定待ち時間が経過するごとに供給流量を設定量増加させる形態で供給流量を漸増させることは、マイクロコンピュータにて構成される制御手段のプログラムにて対応することができるため、簡素な制御構成にて、供給流量を漸増させることができるのである。要するに、本発明の第6特徴構成によれば、上記第1~第5特徴構成のいずれかによる作用効果に加えて、制御構成の簡素化を図ることができる不活性ガス注入装置を提供できる。本発明の不活性ガス注入装置の第7特徴構成は、上記第6特徴構成に加えて、前記設定量を変更設定する人為操作式の設定手段が設けられている点を特徴とする。すなわち、供給流量を漸増させる際には、設定待ち時間が経過するごとに供給流量を設定量増加させる形態で供給流量が漸増されるが、設定待ち時間が経過するごとに増加させる設定量を、人為操作式の設定手段にて変更設定できる。したがって、例えば、容器や基板に応じて、基板が適正状態から悪化することやパーティクルが基板に付着することを回避しながらも、設定量を極力大きな量に設定する等、設定量を任意の量に設定できるため、供給流量の漸増を一層良好に行うことが可能となる。要するに、本発明の第7特徴構成によれば、上記第6特徴構成による作用効果に加えて、供給流量の漸増を一層良好に行うことが可能となる不活性ガス注入装置を提供できる。本発明を物品保管設備に適用した場合の実施形態を図面に基づいて説明する。全体構成物品保管設備は、図1及び図2に示すように、基板を密閉状態で収容する搬送容器50以下、容器50と略称するを保管する保管棚10、搬送手段としてのスタッカークレーン20、及び、容器50の入出庫部としての入出庫コンベヤCVを備えている。保管棚10及びスタッカークレーン20が、壁体Kにて外周部が覆われた設置空間内に配設され、入出庫コンベヤCVが、壁体Kを貫通する状態で配設されている。保管棚10は、容器50を支持する支持部としての収納部10Sを、上下方向及び左右方向に並べる状態で複数備えて、複数の収納部10Sの夫々に、容器50を収納するように構成されており、その詳細は後述する。そして、本実施形態においては、図1に示すように、物品保管設備が設置されたクリーンルームの天井部に敷設のガイドレールGに沿って走行するホイスト式の搬送車Dが装備されて、このホイスト式の搬送車Dによって、入出庫コンベヤCVに対して容器50が搬入及び搬出されるように構成されている。容器50の構成容器50は、SEMISemiconductorEquipmentandMaterialsInstitute規格に準拠した合成樹脂製の気密容器であり、基板としての半導体ウェハーW図4参照を収納するために用いられ、FOUPFrontOpeningUnifiedPodと呼称されている。そして、詳細な説明は省略するが、容器50の前面には、着脱自在な蓋体にて開閉される基板出入用の開口が形成され、容器50の上面には、ホイスト式の搬送車Dにより把持されるトップフランジ52図4参照が形成され、そして、容器50の底面には、位置決めピン10b図3参照が係合する3つの係合溝図示せずが形成されている。すなわち、容器50は、図4に示すように、内部に上下方向に複数の半導体ウェハーWを載置自在な基板支持体53を備えたケーシング51と、図示しない蓋体とから構成されて、ケーシング51に蓋体を装着した状態においては、内部空間が気密状態に密閉されるように構成され、そして、収納部10Sに収納された状態においては、位置決めピン10bによって位置決めされるように構成されている。また、図4に示すように、容器50の底部には、後述の如く、不活性ガスとしての窒素ガスを注入するために、給気口50i、及び、排気口50oが設けられ、そして、図示は省略するが、給気口50iには、注入側開閉弁が設けられ、また、排気口50oには、排出側開閉弁が設けられている。注入側開閉弁は、スプリング等の付勢手段によって閉方向に付勢されて、給気口50iに供給される窒素ガスの吐出圧力が大気圧よりも設定値高い設定開弁圧力以上となると、その圧力によって開き操作されるように構成されている。また、排出側開閉弁は、スプリング等の付勢手段によって閉方向に付勢されて、容器50内部の圧力が大気圧よりも設定値高い設定開弁圧力以上となったときに開き操作されるように構成されている。スタッカークレーン20の構成スタッカークレーン20は、図1に示すように、保管棚10の前面側の床部に設置された走行レールEに沿って走行移動自在な走行台車21と、その走行台車21に立設されたマスト22と、そのマスト22に案内される状態で昇降移動自在な昇降台24とを備えている。尚、図示はしないが、マスト22の上端に設けられた上部枠23が、壁体Kにて外周部が覆われた設置空間の天井側に設けた上部ガイドレールに係合して移動するように構成されている。昇降台24には、収納部10Sに対して容器50を移載する移載装置25が装備されている。移載装置25は、容器50を載置支持する板状の載置支持体25Aを、収納部10Sの内部に突出する突出位置と昇降台24側に引退した引退位置とに出退自在に備えて、載置支持体25Aの出退作動及び昇降台24の昇降作動により、載置支持体25Aに載置した容器50を収納部10Sに降ろす降し処理、及び、収納部10Sに収納されている容器50を取出す掬い処理を行うように構成されている。尚、移載装置25は、入出庫コンベヤCVに対しても、降ろし処理及び掬い処理を行って、入出庫コンベヤCVに対する移載作業を行うことになる。スタッカークレーン20には、図示はしないが、走行経路上の走行位置を検出する走行位置検出手段、及び、昇降台24の昇降位置を検出する昇降位置検出手段が装備されており、スタッカークレーン20の運転を制御するクレーンコントローラ図示せずが、走行位置検出手段及び昇降位置検出手段の検出情報に基づいて、スタッカークレーン20の運転を制御するように構成されている。すなわち、クレーンコントローラが、入出庫コンベヤCVに搬入された容器50を収納部10Sに収納する入庫作業、及び、収納部10Sに収納されている容器50を入出庫コンベヤCVに取出す出庫作業を行うように、走行台車21の走行作動及び昇降台24の昇降作動、並びに、移載装置25における載置支持体25Aの出退作動を制御するように構成されている。収納部10Sの構成図3及び図4に示すように、複数の収納部10Sの夫々は、容器50を載置支持する板状の載置支持部10aを備えている図1参照。この載置支持部10aは、移載装置25の載置支持体25Aが上下に通過する空間を形成すべく、平面視形状がU字状となるように形成され、そして、その上面には、上述の位置決めピン10bが起立状態で装備されている。また、載置支持部10aには、容器50が載置されているか否かつまり、容器50が収納部10Sに収納されているか否かを検出する一対の在荷センサ10zが設けられ、それらの検出情報は、後述するマスフローコントローラ40の運転を管理する制御手段H図4参照に入力されるように構成されている。載置支持部10aには、不活性気体としての窒素ガスを容器50の内部に供給する吐出ノズル10iと、容器50の内部から排出される気体を通流する排出用通気体10oが設けられ、また、各収納部10Sには、窒素ガスの供給を制御するマスフローコントローラ40が装備されている図2参照。そして、吐出ノズル10iには、マスフローコントローラ40からの窒素ガスを流動させる供給配管Liが接続され、排出用通気体10oには、端部が開口された排出管Loが接続されている。つまり、容器50が載置支持部10aに載置支持されると、吐出ノズル10iが容器50の給気口50iに嵌合状態に接続され、かつ、排出用通気体10oが容器50の排気口50oに嵌合状態に接続されるように構成されている。そして、容器50が載置支持部10aに載置支持された状態において、吐出ノズル10iから大気圧よりも設定値以上高い圧力の窒素ガスを吐出させることにより、容器50の排気口50oより容器内の気体を外部に排出させる状態で、容器50の給気口50iより窒素ガスを容器50の内部に注入できるように構成されている。尚、図3に示すように、供給配管Liには、手動操作式の開閉弁Viが装備されており、マスフローコントローラ40が故障した緊急時等においては、窒素ガスの供給を停止する状態に切り替えることができるように構成されている。マスフローコントローラ40の構成図3及び図4に示すように、マスフローコントローラ40は、流入側ポート40iと吐出側ポート40oとを備えており、吐出側ポート40oには、上述した供給配管Liが接続され、流入側ポート40iには、窒素ボンベ等の窒素ガス供給源図示せずからの窒素ガスを導く流入配管Lsが接続されている。尚、窒素ガス供給源には、窒素ガスの供給圧力を大気圧よりも設定値以上高い設定圧力に調整するガバナや、窒素ガスの供給を断続する手動操作式の開閉弁等が装備される。マスフローコントローラ40には、流入側ポート40iから吐出側ポート40oに向かう内部流路を流動する窒素ガスの流量容器50への供給流量を変更調節する流量調節弁、内部流路を流動する窒素ガスの流量容器50への供給流量を計測する流量センサ、及び、流量調節弁の作動を制御する内部制御部が装備されている。そして、内部制御部が、流量センサの検出情報に基づいて、容器50への供給流量を上述した制御手段Hから指令される目標流量に調整すべく、流量調節弁を制御するように構成されている。本実施形態においては、マスフローコントローラ40は、内部流路を流動する窒素ガスの流量容器50への供給流量を、ゼロから50リットル/分の間で調節することになり、そして、本実施形態において用いるマスフローコントローラ40は、全流量調節範囲において、制御手段Hから指令される目標流量に高速例えば、1秒以内で調節するように構成されている。ちなみに、本実施形態においては、容器50の排気口50oより容器内の気体を外部に排出させる状態で、容器50の給気口50iより不活性ガスとしての窒素ガスを容器50の内部に注入する注入手段Nが、マスフローコントローラ40及び吐出ノズル10iを主要部として構成され、上記制御手段Hが、注入手段Nの作動を制御する制御手段として機能することになる。制御手段Hの目標流量制御手段Hは、図4に示すように、プログラマブルロジックコントローラPを経由して、複数の収納部10Sの夫々に対応して設置されたマスフローコントローラ40に対して目標流量を指令することになる。尚、制御手段Hには、各種の情報を入力するための操作卓HSが装備されている。制御手段Hが指令する目標流量としては、容器50が収納部10Sに収納されている状態において、容器50の内部に窒素ガスを注入すべく、マスフローコントローラ40に対して指令される保管用の目標流量、容器50が収納部10Sに収納される直前において、吐出ノズル10iを清浄化するために指令されるノズル浄化用の目標流量、及び、保管棚10の設置時等において、吐出ノズル10iや供給配管Li等を清浄化するために指令されるクリーニング用の目標流量がある。すなわち、制御手段Hが、図5に示すように、目標流量と供給時間とを定めた複数のパージパターンとして、ノズルパージパターンP1、クリーニングパターンP2、及び、4つの保管用パージパターンP3~P6を記憶している。そして、制御手段Hが、保管棚10の設置時等において、操作卓HSにてクリーニング開始指令が指令されると、クリーニングパターンP2に応じてクリーニング用の目標流量供給流量を指令するように構成されている。また、制御手段Hが、容器50が入出庫コンベヤCVに搬入されると、ノズルパージパターンP1に応じてノズル浄化用の目標流量を指令するように構成されている。本実施形態においては、制御手段Hは、容器50が入出庫コンベヤCVに搬入された時点を、ホイスト式の搬送車Dの運転を制御する台車コントローラ図示せずから収納指令が通信されることによって判別するように構成されている。つまり、台車コントローラが、容器50を入出庫コンベヤCVに搬入したときに、収納指令を制御手段Hに指令するように構成されている。さらに、制御手段Hが、2個の在荷センサ10zが容器50を検出しているときには、4つの保管用パージパターンP3~P6のうちの操作卓HSにて選択された一つのパターンに応じて保管用の目標流量を指令するように構成されている。ちなみに、ノズルパージパターンP1及びクリーニングパターンP2における目標流量と供給時間とは、予め基準状態に設定されているが、4つの保管用パージパターンP3~P6の夫々の目標流量と供給時間とは、設備の設置時に、使用者が設定することになる。つまり、使用者は、4つの保管用パージパターンP3~P6の夫々の目標流量と供給時間とを操作卓HSにて変更設定しながら、4つの保管用パージパターンP3~P6の夫々を試験的に使用して、4つの保管用パージパターンP3~P6のうちの好適なパターンについての目標流量と供給時間とを設定し、かつ、その好適なパターンを選択することになる。パージパターン次に、ノズルパージパターンP1、クリーニングパターンP2、及び、4つの保管用パージパターンP3~P6の夫々について、図5に基づいて説明を加える。ノズルパージパターンP1は、上述の収納指令が指令された時点から収納前供給時間として設定された供給時間t1の間、ノズル浄化用の目標流量として設定された目標流量L1にて窒素ガスを供給するパターンとして定められている。供給時間t1は、例えば、5秒に設定され、そして、目標流量L1は、例えば、30リットル/分に設定されている。クリーニングパターンP2は、操作卓HSにてクリーニング開始指令が指令されてから設置初期供給時間として設定された供給時間t2の間、クリーニング用の目標流量として設定された目標流量L2にて窒素ガスを供給するパターンとして定められている。供給時間t2は、例えば、1800秒に設定され、そして、目標流量L2は、例えば、20リットル/分に設定されている。4つの保管用パージパターンP3~P6の夫々については、保管用の目標流量として、初期目標流量と、その初期目標流量よりも少ない定常目標流量とが設定されている。初期目標流量は、例えば、50リットル/分に設定され、そして、定常目標流量は、例えば、5リットル/分に設定されることになるが、上述の如く、使用者によって変更設定されることになる。そして、4つの保管用パージパターンP3~P6の夫々は、容器50に窒素ガスを供給する際には、先ず、保管用の目標流量を初期目標流量とし、その後、保管用の目標流量を定常目標流量に変更する点が共通するが、互いに異なるパターンに定められている。以下、4つの保管用パージパターンP3~P6を、第1の保管用パージパターンP3、第2の保管用パージパターンP4、第3の保管用パージパターンP5、及び、第4の保管用パージパターンP6と記載して、各パターンについて説明を加える。第1の保管用パージパターンP3は、容器50を収納部10Sに収納することが完了した容器収納完了時点から設定供給時間t31の間、初期目標流量としての供給流量L31にて窒素ガスを供給し、その後、定常目標流量としての供給流量L32にて窒素ガスを供給することを、一対の在荷センサ10zが容器50の存在を検出している間は継続するパターンとして定められている。尚、本実施形態においては、容器収納完了時点は、一対の在荷センサ10zが容器50の存在を検出した後、設定時間例えば、2秒が経過した時点に定められている。第2の保管用パージパターンP4は、容器収納完了時点から設定供給時間t41の間、初期目標流量としての供給流量L41にて窒素ガスを供給し、その後は、定常目標流量としての供給流量L42にて窒素ガスを間欠的供給することを、一対の在荷センサ10zが容器50の存在を検出している間は継続するパターンに定められている。すなわち、第2の保管用パージパターンP4は、初期目標流量としての供給流量L41から定常目標流量としての供給流量L42に変更した後は、設定供給時間t43が経過すると、設定休止時間の間は窒素ガスの供給を停止することを繰り返すパターンに定められている。つまり、初期目標流量としての供給流量L41から定常目標流量としての供給流量L42に変更した後は、インターバル時間t42のうちの、設定供給時間t43の間は、供給流量L42にて窒素ガスを供給し、設定休止時間t42-t43の間は、窒素ガスの供給を停止することが、一対の在荷センサ10zにて容器50を検出している間は繰り返されることになる。ちなみに、この第2の保管用パージパターンP4においては、インターバル時間t42も、使用者によって変更設定されることになる。第3の保管用パージパターンP5は、容器収納完了時点から設定供給時間t51の間、初期目標流量としての供給流量L51にて窒素ガスを供給し、続いて、設定供給時間t52の間、定常目標流量としての供給流量L52にて窒素ガスを供給することを基本パターンとして、この基本パターンを、一対の在荷センサ10zが容器50の存在を検出している間は繰り返すパターンに定められている。第4の保管用パージパターンP6は、容器収納完了時点から設定供給時間t61の間、初期目標流量としての供給流量L61にて窒素ガスを供給し、続いて、設定供給時間t63の間、定常目標流量としての供給流量L62にて窒素ガスを間欠的に供給することを基本パターンとして、この基本パターンを、一対の在荷センサ10zが容器50の存在を検出している間は継続するパターンに定められている。すなわち、第4の保管用パージパターンP6には、初期目標流量としての供給流量L61にて窒素ガスを供給することを繰り返すための大インターバル時間t64、及び、定常目標流量としての供給流量L62にて窒素ガスを間欠的に供給することを繰り返すための小インターバル時間t62が設定されている。そして、容器収納完了時点及び大インターバル時間t64が経過した時点においては、設定供給時間t61の間、初期目標流量としての供給流量L61にて窒素ガスが供給されることになり、また、初期目標流量としての供給流量L61での窒素ガスの供給が終了した後は、設定供給時間t63の間、定常目標流量としての供給流量L42にて窒素ガスを供給することと、設定休止時間t62-t63の間、窒素ガスの供給を停止することが繰り返されることになる。ちなみに、この第4の保管用パージパターンP6においては、大インターバル時間t64、及び、小インターバル時間t62も、使用者によって変更設定されることになる。本実施形態においては、制御手段Hは、収納部10Sに容器50が収納された直後において不活性ガスを最初に供給する際を含めて、容器50の供給流量をゼロ供給停止状態から初期目標流量に変更する際には、容器50の供給流量を初期目標流量に向けて漸増させるべく、目標流量を指令するように構成され、同様に、容器50の供給流量をゼロ供給停止状態から定常目標流量に変更する際には、容器50の供給流量を初期目標流量に向けて漸増させるべく、目標流量をマスフローコントローラ40に対して指令するように構成されている。また、制御手段Hは、容器50への供給流量を初期目標流量から定常目標流量に変更する際には、容器50への供給流量を初期目標流量に向けて漸増させる場合における供給流量の単位時間当たりの変化量よりも大きな変化量にて、供給流量を減少させるべく、目標流量をマスフローコントローラ40に対して指令するように構成されている。同様に、制御手段Hは、容器50への供給流量を定常目標流量からゼロ供給停止状態に変更する際には、容器50への供給流量を初期目標流量に向けて漸増させる場合における供給流量の単位時間当たりの変化量よりも大きな変化量にて、供給流量を減少させるべく、目標流量をマスフローコントローラ40に対して指令するように構成されている。以下、図6及び図7に基づいて、第4の保管用パージパターンP6を代表にして説明を加える。図7に示すように、容器50の供給流量を供給停止状態から初期目標流量に変更する際の目標流量が、設定単位時間Tx例えば、1秒経過するごとに、設定量としての設定単位量Lxを増加する形態で、制御手段Hからマスフローコントローラ40に対して指令されるように構成されている。ちなみに、設定単位量Lxは、例えば、3リットル/分に設定される。同様に、容器50の供給流量を供給停止状態から定常目標流量に変更する際の目標流量が、設定単位時間Tx例えば、1秒経過するごとに、設定単位量Lxを増加する形態で、制御手段Hからマスフローコントローラ40に対して指令されるように構成されている。すなわち、制御手段Hが、容器50への供給流量を漸増させる際に、設定待ち時間としての設定単位時間Txが経過するごとに、供給流量を設定単位量Lx増加させる形態で供給流量を漸増させるべく、マスフローコントローラ40の作動を制御するように構成されており、その結果、図6に示すように、容器50への供給流量を増加する最に、その供給量が漸増されることになる。ちなみに、供給流量を設定単位量Lxずつ増加させる際に、最終の段階では、設定単位量Lxよりも小さな端数量となる場合があるが、その場合には、その端数量を増加させることになる。また、容器50への供給流量を初期目標流量から定常目標流量に変更する際の目標流量が、直ちに、定常目標流量を指令する形態で、制御手段Hからマスフローコントローラ40に対して指令されるように構成されている。同様に、容器50への供給流量を定常目標流量からゼロ供給停止状態に変更する際の目標流量が、直ちに、ゼロを指令する形態で、制御手段Hからマスフローコントローラ40に対して指令されるように構成されている。すなわち、制御手段Hが、容器50への供給流量を減少させる際には、迅速に、減少させる目標流量となるように、マスフローコントローラ40の作動を制御するように構成されており、その結果、図6に示すように、容器50への供給流量を減少させる際には、供給量が急速に減少されることになる。尚、第3の保管用パージパターンP5の如く、容器50の供給流量を定常目標流量から初期目標流量に変更する際においても、容器50の供給流量をゼロ供給停止状態から初期目標流量に変更する際と同様に、制御手段Hが、容器50への供給流量を漸増させるべく、マスフローコントローラ40の作動を制御するように構成されている。以上の通り、本実施形態によれば、容器50が収納部10Sに収納される際には、窒素ガスが容器50の内部に注入されるので、容器内に収納された半導体ウェハーWを適正状態に維持できるものとなる。しかも、図6に示すように、窒素ガスを容器50の内部に注入する際には、容器50への供給流量を漸増させることにより、半導体ウェハーWの振動により、半導体ウェハーWの裏面に存在する溶剤が落下して、落下した溶剤が下方に位置する別の半導体ウェハーWの表面に付着することに起因して、半導体ウェハーWが適正状態から悪化する不都合や、容器50の底部に堆積しているパーティクルが浮上して、半導体ウェハーWに付着する不都合を抑制できる。尚、本実施形態においては、設定単位量Lx及び設定単位時間Txは一定値であるが、これら設定単位量Lx及び設定単位時間Txを、使用者によって、増減設定できるようにしてもよい。具体的には、例えば、操作卓HSを、設定量としての設定単位量Lxを変更設定する人為操作式の設定手段として用いて、設定単位量Lxを変更設定するようにしてもよく、同様に、操作卓HSを、設定単位時間Txを変更設定する設定手段として用いて、設定単位時間Txを変更設定するようにしてもよい。さらに、本実施形態においては、容器50への供給流量を漸増させる間、設定単位量Lxが一定値であるが、漸次大きくする形態、漸次小さくする形態、又は、中間点までは漸次大きくしたのち漸次小さくする形態で、設定単位量Lxを設定するようにしてもよく、それらの場合において、その設定単位量Lxを、使用者によって、変更設定できるようにしてもよい。具体的には、例えば、操作卓HSを、設定量としての設定単位量Lxを変更設定する人為操作式の設定手段として用いて、設定単位量Lxを変更設定するようにしてもよい。別の実施形態1上記実施形態においては、容器50を支持する支持部として、保管棚10の収納部10Sを例示したが、支持部としては、例えば、基板処理装置に装備される不活性ガス注入用の支持部や、ホイスト式の搬送車DのガイドレールGの横側脇に設けた保管用の支持部等、種々の支持部に対して、本発明を適用できるものである。2上記実施形態においては、窒素ガスの供給量を供給停止状態から定常目標流量に増加させる際にも、供給流量を漸増させる場合を例示したが、定常目標流量が十分小さな値の場合等においては、窒素ガスの供給量を供給停止状態から定常目標流量に増加させる際には、供給流量を漸増させることなく、一挙に増加させるようにしてもよい。3上記実施形態では、容器50への供給流量を初期目標流量から定常目標流量に変更する際に、定常目標流量に一挙に変更する場合を例示したが、漸減させる形態で実施してもよい。同様に、容器50への供給流量を定常目標流量からゼロ供給停止状態に変更する際に、ゼロ供給停止状態に一挙に変更する場合を例示したが、漸減させる形態で実施してもよい。4上記実施形態では、不活性ガスとして、窒素ガスを用いる場合を例示したが、不活性ガスとしては、アルゴン等の種々のガスを使用できるものである。ちなみに、本発明における不活性ガスとは、酸素含有量が低く、絶対湿度が低いガスである必要がある。5上記実施形態では、容器50への供給流量を漸増させる際に、設定待ち時間としての設定単位時間Txが経過するごとに、設定量としての設定単位量Lxずつ、供給流量を増加させる場合を例示したが、供給流量を連続的に増加させる形態で実施してもよい。6上記実施形態では、吐出ノズル10i及び内部制御部を備えるマスフローコントローラ40を主要部として、注入手段Nを構成する場合を例示したが、例えば、容器50への供給流量を変更調節する流量調節弁、及び、容器50への供給流量を計測する流量センサを、窒素ガスの供給路中に設けて、制御手段Hが、流量センサの検出情報に基づいて、流量調節弁の作動を制御する形態で実施してもよい。この場合、吐出ノズル10i及び流量調節弁を主要部として、注入手段Nが構成されることになる。7上記実施形態では、4つの保管用パージパターンP3~P6を例示したが、保管用パージパターンとしては、例えば、初期目標流量にて不活性ガスを供給することを間欠的に行うパターン等、種々のパターンを用いるようにしてもよい。