"シリカ坩堝であって、内面と外面とを有するガラス質シリカ本体を備え、前記ガラス質シリカ本体の内面は溶融材料または粉末材料の収容に適したキャビティを定め、前記ガラス質シリカ本体の内面上に形成された第1のコーティング層を備え、前記第1のコーティング層は、予め定められた温度で、アルミニウム、マグネシウム、カルシウム、チタン、ジルコニウム、ラジウム、クロム、セレン、バリウム、イットリウム、セリウム、ハフニウム、タンタル、スズ、またはシリコンの複合材料を熱分解することによって形成され、前記第1のコーティング層は実質的に不均質材料からなり、界面が、前記ガラス質シリカ本体と前記コーティング層との間の均質材料と不均質材料とによって定められる、シリカ坩堝。前記第1のコーティング層を形成するときの、前記ガラス質シリカ本体の予め定められた温度は、650°Cと1600°Cとの間に保たれる、請求項1に記載のシリカ坩堝。前記第1のコーティング層を形成するときの、前記ガラス質シリカ本体の予め定められた温度は、750°Cと1300°Cとの間に保たれる、請求項1に記載のシリカ坩堝。前記ガラス質シリカ本体は、粒径分布が1μm~600μmの石英結晶、石英砂、またはガラス質シリカ砂からなる、請求項1に記載のシリカ坩堝。前記第1のコーティング層はクリストバライト結晶成分を含み、前記第1のコーティング層は、溶融材料または粉末材料を前記シリカ坩堝のキャビティに収容する前に形成される、請求項1に記載のシリカ坩堝。前記第1のコーティング層のクリストバライト結晶成分は、前記第1のコーティング層の0.5重量~80重量である、請求項5に記載のシリカ坩堝。前記第1のコーティング層のクリストバライト結晶成分は、前記第1のコーティング層の1重量~50重量である、請求項5に記載のシリカ坩堝。前記第1のコーティング層は連続したコーティング層であり、前記連続したコーティング層は前記ガラス質シリカ本体の内面全体を実質的に覆う、請求項1に記載のシリカ坩堝。前記第1のコーティング層は、不連続コーティング層であり、前記ガラス質シリカ本体の内面を露出させる複数の空隙を含む、請求項1に記載のシリカ坩堝。前記第1のコーティング層は単一層である、請求項1に記載のシリカ坩堝。前記第1のコーティング層は複数の副層の積層体を含み、前記副層は前記ガラス質シリカ本体の内面上に連続して形成されている、請求項1に記載のシリカ坩堝。前記第1のコーティング層は、クリストバライト結晶成分を有する複数のスポット状島部分を含み、前記スポット状島部分は、前記第1のコーティング層全体にわたって実質的にランダムに分布する、請求項1に記載のシリカ坩堝。前記第1のコーティング層は、クリストバライト結晶成分を有する複数の星状島部分を含み、前記星状島部分は、前記第1のコーティング層全体にわたって実質的にランダムに分布する、請求項1に記載のシリカ坩堝。前記外面上に形成された第2のコーティング層をさらに備える、請求項1に記載のシリカ坩堝。前記第2のコーティング層はスリップコーティングである、請求項14に記載のシリカ坩堝。前記第2のコーティング層はクリストバライト結晶成分を含み、前記第2のコーティング層は、溶融材料または粉末材料を前記シリカ坩堝のキャビティに収容する前に形成される、請求項14に記載のシリカ坩堝。前記第2のコーティング層のクリストバライト結晶成分は、前記第2のコーティング層の0.5重量~80重量である、請求項14に記載のシリカ坩堝。前記第2のコーティング層のクリストバライト結晶成分は、前記第2のコーティング層の1重量~50重量である、請求項14に記載のシリカ坩堝。前記第2のコーティング層を形成するときの、前記ガラス質シリカ本体の予め定められた温度は、650°Cと1600°Cの間に保たれる、請求項14に記載のシリカ坩堝。前記第2のコーティング層を形成するときの、前記ガラス質シリカ本体の予め定められた温度は、750°Cと1300°Cの間に保たれる、請求項14に記載のシリカ坩堝。前記シリカ坩堝の直径は3インチ以上である、請求項1に記載のシリカ坩堝。前記第1のコーティング層の厚みは0.05μm~10μmの範囲にある、請求項1に記載のシリカ坩堝。前記第2のコーティング層の厚みは0.05μm~10μmの範囲にある、請求項14に記載のシリカ坩堝前記シリカ坩堝は、チョクラルスキー法によって成長させる結晶の調製に適する、請求項1に記載のシリカ坩堝。前記シリカ坩堝は、成長させる多結晶の調製に適する、請求項1に記載のシリカ坩堝。前記シリカ坩堝は、超合金の溶融に適する、請求項1に記載のシリカ坩堝。前記シリカ坩堝は、エレクトロルミネセンス物質、シュウ酸塩、ミョウバン、窒化シリコン、アルミナ、またはジルコニアの粉末の焼結および/または分解に適する、請求項1に記載のシリカ坩堝。前記シリカ坩堝は、貴金属または合金の調製に適する、請求項1に記載のシリカ坩堝。前記シリカ坩堝は、特殊ガラスの調製に適する、請求項1に記載のシリカ坩堝。シリカ坩堝の製造方法であって、内面と外面とを有するガラス質シリカ本体を調製するステップを含み、前記ガラス質シリカ本体の内面は溶融材料または粉末材料の収容に適したキャビティを定め、前記ガラス質シリカ本体を、650°C~1600°Cの範囲の温度に加熱するステップと、第1の前駆物質を前記内面上に塗布するステップとを含み、第1のコーティング層が、前記第1の前駆物質と加熱された前記ガラス質シリカ本体との化学反応により、前記内面上に形成される、シリカ坩堝の製造方法。前記ガラス質シリカ本体を加熱するステップの間、前記ガラス質シリカ本体は、750°C~1300°Cの範囲の温度に加熱される、請求項30に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記第1の前駆物質を前記内面上に塗布するステップの間、加熱された前記ガラス質シリカ本体は断熱穴の中に置かれる、請求項30に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記第1の前駆物質は、前記キャビティの内側に位置する塗布器によって塗布され、前記ガラス質シリカ本体は前記塗布器に対して相対的に回転する、請求項30に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記断熱穴は容器を含み、加熱された前記ガラス質シリカ本体は前記容器の中に置かれる、請求項32に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記容器は塗布器に対して相対的に回転するように駆動される、請求項34に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記塗布器は前記キャビティの内側で回転するように駆動される、請求項33に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記第1の前駆物質を前記内面上に塗布するステップの間、前記第1の前駆物質を運ぶ圧縮ガスが、塗布器に導かれ、前記塗布器から加熱された前記ガラス質シリカ本体の内面に向かって噴射される、請求項30に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記圧縮ガスの圧力は、1バール~20バールの範囲の圧力であることを特徴とする、請求項37に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記圧縮ガスは、流量が5m3/h~1000m3/hの範囲であることを特徴とする、請求項37に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記容器は、50rpm以上の回転速度で前記塗布器に対して相対的に回転する、請求項35に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記ガラス質シリカ本体の内面上に形成された前記第1のコーティング層は、クリストバライト結晶成分を含み、前記第1のコーティング層の前記クリストバライト結晶成分は、前記第1のコーティング層の0.5重量~80重量である、請求項30に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記ガラス質シリカ本体の内面上に形成された前記第1のコーティング層は、クリストバライト結晶成分を含み、前記第1のコーティング層の前記クリストバライト結晶成分は、前記第1のコーティング層の1重量~50重量である、請求項30に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記第1のコーティング層は連続したコーティング層であり、前記連続したコーティング層は前記ガラス質シリカ本体の内面全体を実質的に覆う、請求項30に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記第1のコーティング層は、不連続コーティング層であり、前記ガラス質シリカ本体の内面を露出させる複数の空隙を含む、請求項30に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記第1のコーティング層は単一層である、請求項30に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記第1のコーティング層は複数の副層の積層体であり、前記副層は前記ガラス質シリカ本体の内面上に連続して形成されている、請求項30に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記第1のコーティング層は、クリストバライト結晶成分を有する複数のスポット状島部分を含み、前記スポット状島部分は、前記第1のコーティング層全体にわたって実質的にランダムに分布する、請求項30に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記第1のコーティング層は、クリストバライト結晶成分を有する複数の星状島部分を含み、前記星状島部分は、前記第1のコーティング層全体にわたって実質的にランダムに分布する、請求項30に記載のシリカ坩堝の製造方法。第2のコーティング層を前記ガラス質シリカ本体の外面上に形成するために、第2の前駆物質を前記外面上に塗布するステップをさらに含む、請求項30に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記ガラス質シリカ本体と前記第2の前駆物質との化学反応が前記外面で生じ、前記外面上に形成された前記第2のコーティング層はクリストバライト結晶成分を含む、請求項49に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記第2のコーティング層のクリストバライト結晶成分は、前記第2のコーティング層の0.5重量~80重量である、請求項50に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記第2のコーティング層のクリストバライト結晶成分は、前記第2のコーティング層の1重量~50重量である、請求項50に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記シリカ坩堝の直径は3インチ以上である、請求項30に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記第1の前駆物質は、アルミニウム、マグネシウム、カルシウム、チタン、ジルコニウム、ラジウム、クロム、セレン、バリウム、イットリウム、セリウム、ハフニウム、タンタル、スズ、およびシリコンからなる群より選択された1つまたは複数の金属を含む、請求項30に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記第1の前駆物質は、キレート、アルコラート、アセテート、アセチルアセトナート、およびイソプロピレートからなる群より選択された有機金属系物質を含む、請求項30に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記第2の前駆物質は、アルミニウム、マグネシウム、カルシウム、チタン、ジルコニウム、ラジウム、クロム、セレン、バリウム、イットリウム、セリウム、ハフニウム、タンタル、スズ、およびシリコンからなる群より選択された1つまたは複数の金属を含む、請求項49に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記第2の前駆物質は、キレート、アルコラート、アセテート、アセチルアセトナート、およびイソプロピレートからなる群より選択された有機金属系物質を含む、請求項49に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記第2の前駆物質は前記第1の前駆物質と同じである、請求項49に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記第2の前駆物質は前記第1の前駆物質と異なる、請求項49に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記第1のコーティング層の厚みは、0.05μm~10μmの範囲にある、請求項30に記載のシリカ坩堝の製造方法。前記第2のコーティング層の厚みは0.05μm~10μmの範囲にある、請求項49に記載のシリカ坩堝の製造方法。シリカ坩堝であって、内面と外面とを有するガラス質シリカ本体を備え、前記ガラス質シリカ本体の内面は溶融材料または粉末材料の収容に適したキャビティを定め、前記ガラス質シリカ本体の内面上に形成された第1のコーティング層を備え、前記第1のコーティング層は、アルミニウム、マグネシウム、カルシウム、チタン、ジルコニウム、ラジウム、クロム、セレン、バリウム、イットリウム、セリウム、ハフニウム、タンタル、スズ、およびシリコンからなる群より選択された1つまたは複数の金属を含み、アルカリ土類金属の水酸化物を実質的に含まない、シリカ坩堝。前記第1のコーティング層はシリカをさらに含む、請求項62に記載のシリカ坩堝。前記第1のコーティング層は、酸化物、炭化物、窒化物、ケイ酸塩、および炭酸塩からなる群より選択された少なくとも2つの化合物を含む、請求項62に記載のシリカ坩堝。シリカ坩堝であって、内面と外面とを有するガラス質シリカ本体を備え、前記ガラス質シリカ本体の内面は溶融材料または粉末材料の収容に適したキャビティを定め、前記ガラス質シリカ本体は実質的に均質材料からなり、前記ガラス質シリカ本体の内面上に形成されたコーティング層を備え、前記コーティング層は実質的に不均質材料からなり、界面が、前記ガラス質シリカ本体と前記コーティング層との間の前記均質材料と前記不均質材料とによって定められ、前記不均質材料の化学組成は、前記コーティング層の法線方向に沿って実質的に徐々に変化している、シリカ坩堝。前記不均質材料はクリストバライト結晶成分を含む、請求項65に記載のシリカ坩堝。前記コーティング層の法線方向に沿った前記コーティング層の化学組成を解析するとき、前記界面に相対的に隣接する位置におけるクリストバライト結晶成分の強度は、前記界面から相対的に離れた別の位置におけるクリストバライト結晶成分の強度よりも大きい、請求項65に記載のシリカ坩堝。しかしながら、米国特許第5,980,629号に開示されているような水酸化バリウムまたは炭酸バリウムコーティング層の密着性は非常に悪い。これは、勢いよく搬送された場合の衝撃のような外力を受けると容易に剥離する可能性があり、加えて、指によって、または、たとえばチョクラルスキー法による引上げの前にポリシリコン原料を坩堝の中に投入している間に他の接触材料によって、容易に掻き落とされる可能性がある。この現象は、上記特許のコーティング方法を利用する現在の水酸化バリウムまたは炭酸バリウムでコーティングされた坩堝において広く注目されている。このように、より密着性の高いコーティング層を有し、収容されている溶融材料または粉末材料に放出される粒状汚染物質が減少したシリカ坩堝に対する需要がある。上記問題を解決するために、本発明は以下のシリカ坩堝を提供する。このシリカ坩堝は、内面と外面とを有するガラス質シリカ本体を備え、ガラス質シリカ本体の内面は溶融材料または粉末材料の収容に適したキャビティを定める。シリカ坩堝はさらに、ガラス質シリカ本体の内面上に形成された第1のコーティング層を備える。第1のコーティング層は、予め定められた温度で、アルミニウム、マグネシウム、カルシウム、チタン、ジルコニウム、ラジウム、クロム、セレン、バリウム、イットリウム、セリウム、ハフニウム、タンタル、スズ、およびシリコンの複合材料を熱分解することによって形成される。第1のコーティング層は実質的に不均質材料からなり、界面が、ガラス質シリカ本体とコーティング層との間の均質材料と不均質材料とによって定められる。任意で、第1のコーティング層を形成するときの、ガラス質シリカ本体の予め定められた温度は、650°Cと1600°Cとの間に保たれる。任意で、第1のコーティング層を形成するときの、ガラス質シリカ本体の予め定められた温度は、750°Cと1300°Cとの間に保たれる。任意で、ガラス質シリカ本体は、粒径分布PSDが1μm~600μmの石英結晶、石英砂、またはガラス質シリカ砂からなる。任意で、第1のコーティング層はクリストバライト結晶成分を含み、第1のコーティング層は、溶融材料または粉末材料をシリカ坩堝のキャビティに収容する前に形成される。任意で、第1のコーティング層のクリストバライト結晶成分は、第1のコーティング層の0.5重量~80重量である。任意で、第1のコーティング層のクリストバライト結晶成分は、第1のコーティング層の1重量~50重量である。任意で、第1のコーティング層は連続したコーティング層であり、この連続したコーティング層はガラス質シリカ本体の内面全体を実質的に覆う。任意で、第1のコーティング層は、不連続コーティング層であり、ガラス質シリカ本体の内面を露出させる複数の空隙を含む。任意で、第1のコーティング層は単一層である。任意で、第1のコーティング層は複数の副層の積層体であり、これら副層はガラス質シリカ本体の内面上に連続して形成されている。任意で、第1のコーティング層は、クリストバライト結晶成分を有する複数のスポット状島部分を含み、スポット状島部分は、第1のコーティング層全体にわたって実質的にランダムに分布する。任意で、第1のコーティング層は、クリストバライト結晶成分を有する複数の星状島部分を含み、星状島部分は、第1のコーティング層全体にわたって実質的にランダムに分布する。任意で、シリカ坩堝は、外面上に形成された第2のコーティング層をさらに備える。任意で、第2のコーティング層はスリップコーティングである。任意で、第2のコーティング層はクリストバライト結晶成分を含み、第2のコーティング層は、溶融材料または粉末材料をシリカ坩堝のキャビティに収容する前に形成される。任意で、第2のコーティング層のクリストバライト結晶成分は、第2のコーティング層の0.5重量~80重量である。任意で、第2のコーティング層のクリストバライト結晶成分は、第2のコーティング層の1重量~50重量である。任意で、第2のコーティング層を形成するときの、ガラス質シリカ本体の予め定められた温度は、650°Cと1600°Cの間に保たれる。任意で、第2のコーティング層を形成するときの、ガラス質シリカ本体の予め定められた温度は、750°Cと1300°Cの間に保たれる。任意で、シリカ坩堝の直径は3インチ以上である。任意で、第1のコーティング層の厚みは0.05μm~10μmの範囲にある。任意で、第2のコーティング層の厚みは0.05μm~10μmの範囲にある。任意で、シリカ坩堝は、チョクラルスキー法によって成長させる結晶の調製のためのものである。任意で、シリカ坩堝は、成長させる多結晶の調製のためのものである。任意で、シリカ坩堝は、超合金を溶融するためのものである。任意で、シリカ坩堝は、エレクトロルミネセンス物質、シュウ酸塩、ミョウバン、窒化シリコン、アルミナ、またはジルコニアの粉末を焼結および/または分解するためのものである。任意で、シリカ坩堝は、貴金属または合金の調製のためのものである。任意で、シリカ坩堝は、特殊ガラスの調製のためのものである。本発明はさらに、シリカ坩堝の製造方法を提供する。この方法は、内面と外面とを有するガラス質シリカ本体を調製するステップを含み、ガラス質シリカ本体の内面は溶融材料または粉末材料の収容に適したキャビティを定め、この方法はさらに、ガラス質シリカ本体を、650°C~1600°Cの範囲の温度に加熱するステップと、第1の前駆物質を内面上に塗布するステップとを含み、第1のコーティング層が、第1の前駆物質とガラス質シリカ本体との化学反応により、内面上に形成される。任意で、ガラス質シリカ本体は、750°C~1300°Cの範囲の温度に加熱される。任意で、第1の前駆物質を内面上に塗布するステップの間、加熱されたガラス質シリカ本体は断熱穴の中に置かれる。任意で、第1の前駆物質は、キャビティの内側に位置する塗布器によって塗布され、ガラス質シリカ本体は塗布器に対して相対的に回転する。任意で、断熱穴は容器を含み、加熱されたガラス質シリカ本体はこの容器の中に置かれる。任意で、この容器は塗布器に対して相対的に回転するように駆動される。任意で、塗布器はキャビティの内側で回転するように駆動される。任意で、第1の前駆物質を内面上に塗布するステップの間、第1の前駆物質を運ぶ圧縮ガスが、塗布器に導かれ、塗布器から加熱されたガラス質シリカ本体の内面に向かって噴射される。任意で、圧縮ガスの圧力は、1バール~20バールの範囲の圧力であることを特徴とする。任意で、圧縮ガスは、流量が5m3/h~1000m3/hの範囲であることを特徴とする。任意で、上記容器は、50rpm以上の回転速度で塗布器に対して相対的に回転する。任意で、ガラス質シリカ本体の内面上に形成された第1のコーティング層は、クリストバライト結晶成分を含み、第1のコーティング層のクリストバライト結晶成分は、第1のコーティング層の0.5重量~80重量である。任意で、ガラス質シリカ本体の内面上に形成された第1のコーティング層は、クリストバライト結晶成分を含み、第1のコーティング層のクリストバライト結晶成分は、第1のコーティング層の1重量~50重量である。任意で、第1のコーティング層は連続したコーティング層であり、この連続したコーティング層はガラス質シリカ本体の内面全体を実質的に覆う。任意で、第1のコーティング層は、不連続コーティング層であり、ガラス質シリカ本体の内面を露出させる複数の空隙を含む。任意で、第1のコーティング層は単一層である。任意で、第1のコーティング層は複数の副層の積層体であり、これら副層はガラス質シリカ本体の内面上に連続して形成されている。任意で、第1のコーティング層は、クリストバライト結晶成分を有する複数のスポット状島部分を含み、スポット状島部分は、第1のコーティング層全体にわたって実質的にランダムに分布する。任意で、第1のコーティング層は、クリストバライト結晶成分を有する複数の星状島部分を含み、星状島部分は、第1のコーティング層全体にわたって実質的にランダムに分布する。任意で、シリカ坩堝の製造方法は、第2のコーティング層をガラス質シリカ本体の外面上に形成するために、第2の前駆物質を外面上に塗布するステップをさらに含む。任意で、ガラス質シリカ本体と第2の前駆物質との化学反応が外面で生じ、外面上に形成された第2のコーティング層はクリストバライト結晶成分を含む。任意で、第2のコーティング層のクリストバライト結晶成分は、第2のコーティング層の0.5重量~80重量である。任意で、第2のコーティング層のクリストバライト結晶成分は、第2のコーティング層の1重量~50重量である。任意で、シリカ坩堝の直径は3インチ以上である。任意で、第1の前駆物質は、アルミニウム、マグネシウム、カルシウム、チタン、ジルコニウム、ラジウム、クロム、セレン、バリウム、イットリウム、セリウム、ハフニウム、タンタル、スズ、およびシリコンからなる群より選択された1つまたは複数の金属を含む。任意で、第1の前駆物質は、キレート、アルコラート、アセテート、アセチルアセトナート、およびイソプロピレートからなる群より選択された有機金属系物質を含む。任意で、第2の前駆物質は、アルミニウム、マグネシウム、カルシウム、チタン、ジルコニウム、ラジウム、クロム、セレン、バリウム、イットリウム、セリウム、ハフニウム、タンタル、スズ、およびシリコンからなる群より選択された1つまたは複数の金属を含む。任意で、第2の前駆物質は、キレート、アルコラート、アセテート、アセチルアセトナート、およびイソプロピレートからなる群より選択された有機金属系物質を含む。任意で、第2の前駆物質は第1の前駆物質と同じである。任意で、第2の前駆物質は第1の前駆物質と異なる。任意で、第1のコーティング層の厚みは0.05μm~10μmの範囲にある。任意で、第2のコーティング層の厚みは0.05μm~10μmの範囲にある。さらに、本発明はシリカ坩堝を提供する。このシリカ坩堝は、内面と外面とを有するガラス質シリカ本体を備え、ガラス質シリカ本体の内面は溶融材料または粉末材料の収容に適したキャビティを定める。シリカ坩堝はさらに、ガラス質シリカ本体の内面上に形成された第1のコーティング層を備える。第1のコーティング層は、アルミニウム、マグネシウム、カルシウム、チタン、ジルコニウム、ラジウム、クロム、セレン、バリウム、イットリウム、セリウム、ハフニウム、タンタル、スズ、およびシリコンからなる群より選択された1つまたは複数の金属を含み、アルカリ土類金属の水酸化物を実質的に含まない。任意で、第1のコーティング層はシリカをさらに含む。任意で、第1のコーティング層は、酸化物、炭化物、窒化物、ケイ酸塩、および炭酸塩からなる群より選択された少なくとも2つの化合物を含む。さらに、本発明はシリカ坩堝を提供する。このシリカ坩堝は、内面と外面とを有するガラス質シリカ本体を備え、ガラス質シリカ本体の内面は溶融材料または粉末材料の収容に適したキャビティを定める。ガラス質シリカ本体は実質的に均質材料からなる。シリカ坩堝はさらに、ガラス質シリカ本体の内面上に形成されたコーティング層を備え、コーティング層は実質的に不均質材料からなり、界面が、ガラス質シリカ本体とコーティング層との間の均質材料と不均質材料とによって定められる。不均質材料の化学組成は、コーティング層の法線方向に沿って実質的に徐々に変化している。任意で、不均質材料はクリストバライト結晶成分を含む。任意で、コーティング層の法線方向に沿ったコーティング層の化学組成を解析するとき、界面に相対的に隣接する位置におけるクリストバライト結晶成分の強度は、界面から相対的に離れた別の位置におけるクリストバライト結晶成分の強度よりも大きい。先行技術と比較して、本発明は以下の利点を有する。ガラス質シリカ本体の内面または外面上に形成されたコーティング層は、内面に対して物理的に密着しているだけでなく化学結合しているので、強い密着力があり、かつ、手で触れられても、原料がシリカ坩堝に投入されても、勢いよく搬送されても容易に剥離したり外れたりしないことを保証する。上記問題を解決するために、本発明はシリカ坩堝およびこのシリカ坩堝の製造方法を提供する。このシリカ坩堝は、内面と外面とを有するガラス質シリカ本体を備え、ガラス質シリカ本体の内面は溶融材料または粉末材料の収容に適したキャビティを定める。シリカ坩堝はさらに、ガラス質シリカ本体の内面上に形成された第1のコーティング層を備える。ガラス質シリカ本体は、粒径が1μm~600μmの石英結晶、石英砂、またはガラス質シリカ砂からなる。ガラス質シリカ本体は、火炎溶融されたものでも、電気溶融されたものでも、またはアークプラズマ溶融されたものであってもよい。ガラス質シリカ本体は、石英結晶、石英砂、またはガラス質シリカ砂の品質という観点から、異なる複数の層で製造することもできる。第1のコーティング層は、予め定められた温度で、アルミニウム、マグネシウム、カルシウム、チタン、ジルコニウム、ラジウム、クロム、セレン、バリウム、イットリウム、セリウム、ハフニウム、タンタル、スズ、およびシリコンの複合材料を熱分解することによって形成される。第1のコーティング層はクリストバライト結晶成分を含み、第1のコーティング層は、溶融材料または粉末材料をシリカ坩堝のキャビティに収容する前に形成される。シリカ坩堝はさらに第2のコーティング層を含み、第2のコーティング層は、予め定められた温度で第2の前駆物質をシリカ坩堝の外面に塗布することによって形成されてもよい。任意で、第2のコーティング層は外面上のスリップコーティングである。第2のコーティング層は第1のコーティング層と同時に形成されてもよい。これに代えて、第1のコーティング層および第2のコーティング層を、それぞれ独立したステップで別々に形成することも可能である。第2の前駆物質は、第1の前駆物質と同じであっても異なっていてもよい。以下、本発明について、添付の図面と関連付けて実施の形態を参照しながら詳細に説明する。以下では本発明を上記のように好ましい実施の形態を詳しく参照しながら開示しているが、本発明は異なる他の実施の形態でも実現することができる。したがって、本発明は本明細書に開示されている実施の形態に限定されるべきではない。図1は、本発明の第1の実施の形態に従うシリカ坩堝を示す概略断面図である。図1を参照して、シリカ坩堝10は、内面14と外面16とを有するガラス質シリカ本体12を備え、ガラス質シリカ本体の内面14は、溶融材料または粉末材料の収容に適したキャビティを定める。シリカ坩堝はさらに、ガラス質シリカ本体12の内面14上に形成された第1のコーティング層18を備える。ガラス質シリカ本体12は、粒径分布PSDが1μm~600μmの石英結晶、石英砂、またはガラス質シリカ砂からなる。第1のコーティング層18縮尺は正確でないは、内面14を覆い、強い外力が加えられても擦られても決して外れない、内面14に強く密着した層を形成している。第1のコーティング層18は、微細で不均質の多成分からなる層である。第1のコーティング層18はクリストバライト結晶成分を含み得る。第1のコーティング層18のクリストバライト結晶成分は、第1のコーティング層18の0.5重量~80重量である。任意で、第1のコーティング層18のクリストバライト結晶成分は、第1のコーティング層18の1重量~50重量である。任意で、シリカ坩堝の直径は3インチ以上である。第1のコーティング層18は、溶融材料または粉末材料をシリカ坩堝のキャビティに収容する前に形成される。具体的に、第1のコーティング層18は、予め定められた温度で第1の前駆物質をガラス質シリカ本体12の内面14上に塗布することによって形成される。第1のコーティング層を形成するときの、ガラス質シリカ本体の予め定められた温度は、650°Cと1600°Cの間に保たれる。第1の前駆物質は、アルミニウム、マグネシウム、カルシウム、チタン、ジルコニウム、ラジウム、クロム、セレン、バリウム、イットリウム、セリウム、ハフニウム、タンタル、スズ、およびシリコンからなる群より選択された1つまたは複数の金属を含む。第1の前駆物質は、キレート、アルコラート、アセテート、アセチルアセトナート、およびイソプロピレートからなる群より選択された有機金属系物質を含む。第1の前駆物質は圧縮ガスを噴射することによって運ばれる。熱いシリカ坩堝が特定の回転速度で回転することにより、第1の前駆物質がシリカ坩堝の内面14上に均一に吹付けられる。第1の前駆物質は、予め定められた温度で分解し、一部がガラス質シリカ本体12のシリカと反応して内面14上に強く密着するコーティング層を形成する。これは、酸化物、炭化物、窒化物、ケイ酸塩、および炭酸塩からなる群より選択された少なくとも2つの化合物を生じさせる。第1のコーティング層は実質的に不均質材料からなり、界面が、ガラス質シリカ本体とコーティング層との間の均質材料と不均質材料とによって定められる。このように、第1のコーティング層18は、内面14に対して物理的に密着しているだけでなく化学結合しているので、強い密着力があり、かつ、手で触れられても、原料がシリカ坩堝に投入されても、勢いよく搬送されても第1のコーティング層18が容易に剥離したり外れたりしないことを保証する。加えて、シリカ坩堝が溶融材料を収容している間に第1のコーティング層18から放出される粒状汚染物質が少ない。任意で、第1のコーティング層を形成するときの、ガラス質シリカ本体の予め定められた温度は、750°Cと1300°Cの間に保たれる。任意で、第1のコーティング層18は、連続したコーティング層であり、坩堝本体の内面全体を実質的に覆う。任意で、第1のコーティング層18は不連続コーティング層であり、第1のコーティング層は坩堝本体の内面を露出させる複数の空隙を含む。任意で、第1のコーティング層18は複数の副層の積層体であり、これら副層は坩堝本体の内面上に連続して形成されている。任意で、第1のコーティング層18は、クリストバライト結晶成分を有する複数のスポット状島部分を含み、スポット状島部分は、第1のコーティング層全体にわたって実質的にランダムに分布する。任意で、第1のコーティング層18は、クリストバライト結晶成分を有する複数の星状島部分を含み、星状島部分は、第1のコーティング層全体にわたって実質的にランダムに分布する。任意で、第1のコーティング層18の厚みは、0.05μm~10μmの範囲にある。任意で、シリカ坩堝10は、チョクラルスキー法によって成長させる結晶の調製のためのものである。任意で、シリカ坩堝10は、成長させる多結晶の調製のためのものである。任意で、シリカ坩堝10は、超合金を溶融するためのものである。任意で、シリカ坩堝10は、エレクトロルミネセンス物質、シュウ酸塩、ミョウバン、窒化シリコン、アルミナ、またはジルコニアの粉末を焼結および/または分解するためのものである。任意で、シリカ坩堝10は、貴金属または合金の調製のためのものである。任意で、シリカ坩堝10は、レーザシステム用のガラス等の特殊ガラスの調製のためのものである。図2および図3に示される他に取り得る実施の形態において、内部コーティング層と外部コーティング層とを有するシリカ坩堝が提供される。図2および図3を参照して、シリカ坩堝10は、内面14と外面16とを有するガラス質シリカ本体12を備え、ガラス質シリカ本体の内面14は、溶融材料または粉末材料の収容に適したキャビティを定める。シリカ坩堝はさらに、ガラス質シリカ本体12の内面14上に形成された第1のコーティング層18と、ガラス質シリカ本体12の外面16上に形成された第2のコーティング層20とを備える。第1のコーティング層18縮尺は正確でないは、内面14を覆い、強い外力が加えられても擦られても決して外れない、内面14に強く密着した層を形成している。第2のコーティング層20縮尺は正確でないは、外面16を覆い、強い外力が加えられても擦られても決して外れない、外面16に強く密着した層を形成している。第2のコーティング層20は、第2のコーティング層20の0.5重量~80重量のクリストバライト結晶成分を含む。任意で、第2のコーティング層20のクリストバライト結晶成分は、第2のコーティング層の1重量~50重量である。任意で、シリカ坩堝の直径は3インチ以上である。第1のコーティング層18と同様、第2のコーティング層20は、溶融材料または粉末材料をシリカ坩堝のキャビティに収容する前に形成される。具体的に、第2のコーティング層20は、ガラス質シリカ本体12の温度を650°Cと1600°Cの間に保ちながら、第2の前駆物質をガラス質シリカ本体12の外面16上に塗布することによって、形成される。第2の前駆物質は、圧縮ガスを噴射することによって運ばれる。熱いシリカ坩堝が特定の回転速度で回転することにより、第2の前駆物質がシリカ坩堝の外面16上に均一に吹付けられる。一方、第2の前駆物質は、高温で分解し、一部がガラス質シリカ本体12のシリカと反応して外面16上に強いコーティング層を形成する。これは、酸化物、炭化物、窒化物、ケイ酸塩、および炭酸塩からなる群より選択された少なくとも2つの化合物を生じさせる。したがって、第2のコーティング層20は、外面14に対して物理的に密着しているだけでなく化学結合しているので、強い密着力があり、かつ、手で触れられても、原料がシリカ坩堝に投入されても、勢いよく搬送されても第2のコーティング層20が容易に剥離したり外れたりしないことを保証する。加えて、第2のコーティング層20は、機械的強度を高め、シリカ坩堝の寿命を延ばす。ある特定の実施の形態において、第2のコーティング層はスリップコーティングである。任意で、第2のコーティング層20を形成するときの、ガラス質シリカ本体の温度は、750°Cと1300°Cの間に保たれる。任意で、第2のコーティング層20は、連続したコーティング層であり、坩堝本体の外面全体を実質的に覆う。任意で、第2のコーティング層20は不連続コーティング層であり、第2のコーティング層は坩堝本体の内面を露出させる複数の空隙を含む。任意で、第2のコーティング層20は複数の副層の積層体であり、これら副層は坩堝本体の外面上に連続して形成されている。任意で、第2のコーティング層20は、クリストバライト結晶成分を有する複数のスポット状島部分を含み、スポット状島部分は、第2のコーティング層全体にわたって実質的にランダムに分布する。任意で、第2のコーティング層20は、クリストバライト結晶成分を有する複数の星状島部分を含み、星状島部分は、第2のコーティング層全体にわたって実質的にランダムに分布する。任意で、第2のコーティング層20の厚みは0.05μm~10μmの範囲にある。任意で、第2の前駆物質は、アルミニウム、マグネシウム、カルシウム、チタン、ジルコニウム、ラジウム、クロム、セレン、バリウム、イットリウム、セリウム、ハフニウム、タンタル、スズ、およびシリコンからなる群より選択された1つまたは複数の金属を含む。任意で、第2の前駆物質は、キレート、アルコラート、アセテート、アセチルアセトナート、およびイソプロピレートからなる群より選択された有機金属系物質を含む。任意で、第2の前駆物質は第1の前駆物質と同じである。任意で、第2の前駆物質は第1の前駆物質と異なる。別の実施の形態において、本発明はシリカ坩堝を提供し、このシリカ坩堝は、内面と外面とを有するガラス質シリカ本体を備え、ガラス質シリカ本体の内面は、溶融材料または粉末材料の収容に適したキャビティを定める。シリカ坩堝はさらに、ガラス質シリカ本体の内面上に形成された第1のコーティング層を備え、第1のコーティング層は、アルミニウム、マグネシウム、カルシウム、チタン、ジルコニウム、ラジウム、クロム、セレン、バリウム、イットリウム、セリウム、ハフニウム、タンタル、スズ、およびシリコンからなる群より選択された1つまたは複数の金属を含み、アルカリ土類金属の水酸化物を実質的に含まない。さらに、第1のコーティング層はシリカを含む。任意で、第1のコーティング層は、酸化物、炭化物、窒化物、ケイ酸塩、および炭酸塩からなる群より選択された少なくとも2つの化合物を含む。ある実施の形態において、本発明はシリカ坩堝を提供し、このシリカ坩堝は、内面と外面とを有するガラス質シリカ本体を備え、ガラス質シリカ本体の内面は溶融材料または粉末材料の収容に適したキャビティを定める。坩堝本体は実質的に均質材料からなる。シリカ坩堝はさらに、坩堝本体の内面上に形成されたコーティング層を備え、第1のコーティング層は実質的に不均質材料からなり、界面が、坩堝本体とコーティング層との間の均質材料と不均質材料とによって定められる。特に、不均質材料の化学組成は、コーティング層の法線方向に沿って実質的に徐々に変化している。コーティング層の法線方向に沿ったコーティング層の化学組成を解析するとき、界面に相対的に隣接する位置におけるクリストバライト結晶成分の強度は、界面から相対的に離れた別の位置におけるクリストバライト結晶成分の強度よりも大きい。特に、不均質材料はクリストバライト結晶成分を含む。本発明はさらに、シリカ坩堝の製造方法を提供する。このシリカ坩堝10は、内面14と外面16とを有するガラス質シリカ本体12を備え、ガラス質シリカ本体の内面14は溶融材料または粉末材料の収容に適したキャビティを定める。シリカ坩堝はさらに、ガラス質シリカ本体12の内面14上に形成された第1のコーティング層18を備える。図4は、第1の実施の形態における強いコーティングを有するシリカ坩堝の製造方法を示すフローチャートである。この方法は、ステップS11:内面と外面とを有するガラス質シリカ本体を調製するステップを含み、ガラス質シリカ本体の内面は溶融材料または粉末材料の収容に適したキャビティを定め、ステップS12:ガラス質シリカ本体を、650°C~1600°Cの範囲の温度に加熱するステップと、ステップS13:第1の前駆物質を内面上に塗布するステップとを含み、第1のコーティング層は、第1の前駆物質とガラス質シリカ本体との化学反応により、内面上に形成される。任意で、ガラス質シリカ本体は、750°C~1300°Cの範囲の温度に加熱される。任意で、本実施の形態で使用されるシリカ坩堝の直径は3インチ以上である。任意で、ガラス質シリカ本体は、PSDが1μm~600μmの石英結晶、石英砂、またはガラス質シリカ砂からなる。図5は、本発明のある実施の形態に従うシリカ坩堝をコーティングするためのシステムを説明する概略図を示す。ある実施の形態において、ガラス質シリカ本体12が提供される。加熱されたガラス質シリカ本体12は、第1の前駆物質を内面上に塗布するプロセスの間、断熱穴の中に置かれる。この断熱穴は容器101を含む。加熱されたガラス質シリカ本体12は容器101の中に置かれ、塗布器が駆動されてキャビティ内で回転する。別の実施の形態において、第1の前駆物質は、キャビティの内側に位置する塗布器102によって塗布され、ガラス質シリカ本体12は塗布器102に対して相対的に回転する。任意で、容器101は50rpmを上回る速度で回転する。第1の前駆物質を内面上に塗布するプロセスの間、第1の前駆物質を運ぶ圧縮ガス109が、塗布器に導かれ、塗布器102から加熱されたガラス質シリカ本体12の内面に向かって噴射される。本実施の形態に従い、自動供給器108が提供される。自動供給器は、圧縮ガスパイプ103と、タンディッシュ104と、ベンチュリ管105とを含む。タンディッシュ104およびベンチュリ管105は、圧縮ガスパイプ103と接続され、前駆物質を圧縮ガスパイプ103に追加するために用いられる。自動供給器108は、前駆物質を連続して供給することができ、かつ供給速度を正確に制御できる。この実施の形態において、複数の金属アーム107が回転容器101に固定され、複数の塗布器102が金属アーム107に固定される。塗布器102は、圧縮ガス109を用いて前駆物質を熱いシリカ坩堝内面14上に均一的に吹付けるように設計される。金属アーム107は塗布器102を保持してこれを上下に移動させ、水平に回転させる。金属アーム107は、スプレー塗布器が高速で移動することによって熱いシリカ坩堝12の冷却を防止することを保証するために、駆動システム106によって駆動される。駆動システム106は、モータまたは空気システムである。堆積させるプロセスにおいて、ガラス質シリカ本体12の温度は650°Cと1600°Cの間に保たれる。加えて、前駆物質を搬送し吹付けるための自動供給器108および塗布器102に接続された圧縮ガスシステムがある。任意で、圧縮ガス109の圧力は1バール~20バールの範囲にあり、圧縮ガス109の流量は5m3/h~1000m3/hの範囲にある。第1の前駆物質は高温で分解し、一部がガラス質シリカ本体12のシリカと反応して第1のコーティング層18を内面14上に形成する。これは、酸化物、炭化物、窒化物、ケイ酸塩、および炭酸塩からなる群より選択された少なくとも2つの化合物を含む複合材料の混合物を生じさせる。したがって、第1のコーティング層18は、内面14に対して物理的に密着しているだけでなく化学結合しているので、強い密着力があり、かつ、手で触れられても、原料がシリカ坩堝に投入されても、勢いよく搬送されても第1のコーティング層18が容易に剥離したり外れたりしないことを保証する。加えて、シリカ坩堝が溶融材料を収容している間に第1のコーティング層18から放出される粒状汚染物質が少ない。任意で、堆積させるプロセスの間、ガラス質シリカ本体12の温度は750°Cと1300°Cの間に保たれる。任意で、ガラス質シリカ本体の内面上に形成された第1のコーティング層は、第1のコーティング層の0.5重量~80重量であるクリストバライト結晶成分を含む。任意で、第1のコーティング層のクリストバライト結晶成分は、第1のコーティング層の1重量~50重量である。第1の前駆物質は、アルミニウム、マグネシウム、カルシウム、チタン、ジルコニウム、ラジウム、クロム、セレン、バリウム、イットリウム、セリウム、ハフニウム、タンタル、スズ、およびシリコンからなる群より選択された1つまたは複数の金属を含む。第1の前駆物質は、キレート、アルコラート、アセテート、アセチルアセトナート、およびイソプロピレートからなる群より選択された有機金属系物質を含む。ある実施の形態では、酢酸カルシウムが使用される。酢酸カルシウムは、高温で分解して、酸化カルシウム、炭酸カルシウム、ならびに水および二酸化炭素といった副生物になる。分解した酸化カルシウムと炭酸カルシウムは、シリカと反応し、ガラス質シリカ本体12の内面14上に丈夫で均一的なコーティング層を形成する。任意で、第1のコーティング層の厚みは、0.05μm~10μmの範囲にある。別の実施の形態では、バリウムイソプロピレートが第1の前駆物質として使用される。バリウムイソプロピレートは、高温で分解して、酸化バリウムと炭酸バリウムになる。分解した酸化バリウムと炭酸バリウムは、シリカと反応し、ガラス質シリカ本体12の内面14上に丈夫で均一的なコーティング層を形成する。別の実施の形態では、アルミニウムアセチルアセトナートが第1の前駆物質として使用される。アルミニウムアセチルアセトナートは、高温で分解して酸化アルミニウムになる。分解した酸化アルミニウムは、シリカと反応し、ガラス質シリカ本体12の内面14上に丈夫で均一的なコーティング層を形成する。別の実施の形態では、イットリウムアセチルアセトナートが第1の前駆物質として使用される。イットリウムアセチルアセトナートは、高温で分解して酸化イットリウムになる。分解した酸化イットリウムは、シリカと反応し、ガラス質シリカ本体12の内面14上に丈夫で均一的なコーティング層を形成する。別の実施の形態において、ハフニウムアセチルアセトナートが第1の前駆物質として使用される。ハフニウムアセチルアセトナートは、アンモニアとともに圧縮ガスによって運ばれる。ハフニウムは高温で分解しアンモニアと反応して窒化ハフニウムを生成する。窒化ハフニウムはガラス質シリカ本体12の内面14上に丈夫で均一的なコーティング層を形成する。さらに、本発明は、ガラス質シリカ本体の内面上の第1のコーティング層とその外面上の第2のコーティング層とを有するシリカ坩堝の製造方法を提供する。図2を参照して、本発明の内面および外面が処理されたシリカ坩堝を示す概略断面図が示されている。特に、この実施の形態で製造されるシリカ坩堝10は、内面14と外面16とを有するガラス質シリカ本体12を備え、ガラス質シリカ本体の内面14は、溶融材料または粉末材料の収容に適したキャビティを定める。シリカ坩堝はさらに、ガラス質シリカ本体12の内面14上に形成された第1のコーティング層18と、ガラス質シリカ本体12の外面16上に形成された第2のコーティング層20とを備える。第1のコーティング層18縮尺は正確でないは、内面14を覆い、強い外力が加えられても擦られても決して外れない、内面14に強く密着した層を形成している。第2のコーティング層20縮尺は正確でないは、外面16を覆い、強い外力が加えられても擦られても決して外れない、外面16に強く密着した層を形成している。任意で、本実施の形態で使用されるシリカ坩堝の直径は、3インチ以上である。特に、第2の前駆物質を、その温度が650°Cと1600°Cの間に保たれる熱いガラス質シリカ本体12の外面16上に堆積させる。第2の前駆物質は、圧縮ガスを回転ベンチ容器の断熱穴の中に注入することによって、断熱穴の中に運ばれる。第2の前駆物質は、高温で分解し、その一部がガラス質シリカ本体12のシリカと反応して第2のコーティング層20を外面16の上に形成する。これは、酸化物、炭化物、窒化物、ケイ酸塩、および炭酸塩からなる群より選択された少なくとも2つの化合物を生じさせる。外面上に形成された第2のコーティング層は、第2のコーティング層18の0.5重量~80重量のクリストバライト結晶成分を含む。したがって、第2のコーティング層20は、内面14に対して物理的に密着しているだけでなく化学結合しているので、強い密着力があり、かつ、手で触れられても、原料がシリカ坩堝に投入されても、勢いよく搬送されても第2のコーティング層20が容易に剥離したり外れたりしないことを保証する。加えて、第2のコーティング層20は、機械的強度を高め、シリカ坩堝の寿命を延ばす。任意で、第2のコーティング層20を形成するときの、ガラス質シリカ本体12の温度は、750°Cと1300°Cの間に保たれる。任意で、第2のコーティング層20のクリストバライト結晶成分は、第2のコーティング層18の1重量~50重量である。任意で、第2の前駆物質は第1の前駆物質と同じである。任意で、第2の前駆物質は第1の前駆物質と異なる。任意で、第2のコーティング層20は第1のコーティング層18と同時に形成される。任意で、第1のコーティング層18および第2のコーティング層20は、それぞれ独立したステップで別々に形成される。任意で、第2のコーティング層はクリストバライト結晶成分を含み、第2のコーティング層は、溶融材料または粉末材料をシリカ坩堝のキャビティに収容する前に形成される。任意で、第2の前駆物質は、アルミニウム、マグネシウム、カルシウム、チタン、ジルコニウム、ラジウム、クロム、セレン、バリウム、イットリウム、セリウム、ハフニウム、タンタル、スズ、およびシリコンからなる群より選択された1つまたは複数の金属を含む。任意で、第2の前駆物質は、キレート、アルコラート、アセテート、アセチルアセトナート、およびイソプロピレートからなる群より選択された有機金属系物質を含む。任意で、第2のコーティング層20の厚みは、0.05μm~10μmの範囲にある。ある特定の実施の形態において、第2のコーティング層はスリップコーティングである。スリップコーティングは以下のステップによって形成される。酸化バリウムの水性スラリーを調製する。金属不純物が1重量未満の高純度酸化バリウム粉末を、脱イオン水と混合する。酸化バリウムの水性スラリーの濃度は、5重量~60重量の範囲にある。任意で、メタクリル酸またはメチルセルロース等の分散剤を酸化バリウムの水性スラリーの中に加えることによって沈降を減じてもよい。酸化バリウムの水性スラリーを十分に混合してエージングする。次に、酸化バリウムの水性スラリーをシリカ坩堝の外面上に吹付ける。具体的には、酸化バリウムの水性スラリーをスプレー容器の中に入れる。スプレーはポンプに接続されて圧縮ガスを発生させる。酸化バリウムの水性スラリーを圧縮ガスを用いてシリカ坩堝の外面上に吹付ける。酸化バリウムの水性スラリーは、清潔なブラシでシリカ坩堝の外面上にブラシ塗りしてもよい。任意で、この吹付プロセスの間、シリカ坩堝の温度は20°C~300°Cの範囲にある。吹付けまたはブラシ塗りの後、シリカ坩堝を温度が80°C~300°Cの乾燥炉の中に入れて水分を蒸発させコーティングを乾燥させる。図6は、本発明の第1の実施の形態に従うコーティング層の倍率5倍の顕微鏡写真を示す。図7は、本発明の第1の実施の形態に従うコーティング層の倍率2000倍の顕微鏡写真を示す。このコーティング層は連続したコーティング層であり、シリカ坩堝の内面全体を覆う。このコーティング層は、ガラス質シリカ本体と反応し、酸化物、炭化物、窒化物、ケイ酸塩、および炭酸塩からなる群より選択された少なくとも2つの化合物を含む複合材料の混合体を生成する。コーティング層を有するガラス質シリカ本体を冷却した後、微小な割れ図7に示されるが発生する可能性がある。しかしながら、このコーティング層は、内面に物理的に密着しているだけでなく化学結合しているので、強い密着力があり、かつ、手で触れられても、原料がシリカ坩堝に投入されても、勢いよく搬送されてもこのコーティング層が容易に剥離したり外れたりしないことを保証する。図8は、本発明の第2の実施の形態に従うコーティング層の倍率5000倍の顕微鏡写真を示す。このコーティング層は、不連続コーティング層であり、シリカ坩堝の内面全体を覆っていない。このコーティング層は、ガラス質シリカ本体のシリカと反応し、界面の端に樹脂突起状の結晶構造を発生させる。結論として、本発明に従うと、ガラス質シリカ本体の内面または外面上に形成されたコーティング層は、内面に物理的に密着しているだけでなく化学結合しているので、強い密着力があり、かつ、手で触れられても、原料がシリカ坩堝に投入されても、勢いよく搬送されてもコーティング層が容易に剥離したり外れたりしないことを保証する。加えて、外部コーティング層は機械的強度を高めシリカ坩堝の寿命を延ばす。本発明を上記のようにその好ましい実施の形態を参照しながら開示してきたが、本発明はこれら実施の形態に限定されない。当業者は、本発明の精神および範囲から逸脱することなく実施の形態を変形および変更することができる。したがって、本発明の範囲は添付の特許請求の範囲によって定めるものとする。"