室分割ルーメンを介して、柔軟性を有する真空室と流体的に連通する、柔軟性を有する接触室を備える真空固定カテーテル先端部であって、前記接触室、前記真空室、および前記室分割ルーメンは、ワイヤまたは専用の閉塞貫通デバイスが自在に挿通可能な大きさであり、前記接触室は、オブジェクトの表面の形状に合わせて相対的に変形可能であり、前記真空室は、真空引きされた時に変形に抗し、これにより、前記接触室と前記オブジェクトとの間の真空吸着力のレベルが安定する程度に硬性である、真空固定カテーテル先端部。前記室分割ルーメンは、前記接触室と前記真空室との間の柔軟性を向上させ、これにより、使用中の前記接触室と前記オブジェクトとの間に働く前記真空吸着力への引っ張りストレスを低減する外部室分割凹部を更に備える、請求項1に記載の真空固定カテーテル先端部。前記室分割ルーメンは、内部室分割膜を更に備える、請求項2に記載の真空固定カテーテル先端部。前記接触室と前記真空室は、厚さの異なる同一の材質から形成される、請求項1に記載の真空固定カテーテル先端部。前記接触室と前記真空室は、異なる材質から形成され、前記接触室の材質は、前記真空室の材質に対して、相対的に低い硬度を有している、請求項1に記載の真空固定カテーテル先端部。前記接触室は、柔軟性を有する封止リングを更に備える、請求項1に記載の真空固定カテーテル先端部。前記接触室は、柔軟性を有する第2の封止リングを更に備える、請求項6に記載の真空固定カテーテル先端部。前記ワイヤまたは専用の閉塞貫通デバイスを、前記接触室、前記真空室、および前記室分割ルーメンに通すように誘導するための誘導コーンを更に備える、請求項1に記載の真空固定カテーテル先端部。前記真空室、前記室分割ルーメン、および前記接触室を通るように伸びて、前記ワイヤまたは専用の閉塞貫通デバイスを、前記真空固定カテーテル先端部内に挿通するためにガイドする第2の内部ガイドルーメンを更に備える、請求項1に記載の真空固定カテーテル先端部。カテーテルシャフトに前記真空固定カテーテル先端部を接続するための尾部を更に備える、請求項1に記載の真空固定カテーテル先端部。前記真空室と前記尾部との間の柔軟性を向上させる外部真空室凹部を更に備える、請求項10に記載の真空固定カテーテル先端部。カテーテルシャフトと請求項1から請求項11のいずれか1項に記載の真空固定カテーテル先端部を備える、真空固定カテーテル。前記室分割ルーメン内に組み込まれた、弾性を有する径方向バネを更に備え、前記弾性を有する径方向バネは、前記カテーテルシャフト内に組み込まれた複数の弾性支柱と動作可能に接続されている、請求項12に記載の真空固定カテーテル。従来のガイディングカテーテル内に挿入する間、前記真空固定カテーテル先端部を軸方向に圧縮するためのスライド可能なスリーブを更に備える、請求項12に記載の真空固定カテーテル先端部。請求項1乃至10のいずれか1項に記載の真空固定カテーテル先端部を用いて、手術中に、処置部位にマイクロガイディングカテーテルの先端を一時的に吸着させることによって、前記マイクロガイディングカテーテルを固定する、血管閉塞の処置方法。図1から図5は、背景技術で述べた従来のマイクロガイディングカテーテルを用いた、CTOなどの血管閉塞を処置する従来技術を示している。図1は、閉塞内に自然に形成されたマイクロチャネル内へのワイヤまたは専用の閉塞貫通デバイスの挿通を示している。図2は、サポートなしで、サポートが無いワイヤに軸方向前方へ力を加えた場合の影響と、サポートありで、マイクロガイディングカテーテルによってサポートされているワイヤに軸方向前方へ力を加えた場合の影響を示している。図3と4は、作用-反作用の法則に従って、マイクロガイディングカテーテルが処置箇所から外れる様子を示しており、図5は、その結果、外れた箇所の近辺でのワイヤの座屈を示している。図6と7には、カテーテルの先端を閉塞部位に一時的に吸着させるための真空固定先端部の一般的な形態が示されている。真空は、外的にまたは真空固定先端部自身によって発生し、機械的にまたは電気信号を用いた方法により制御される。図8と9は、真空固定カテーテル先端部の断面図を示しており、先端部内の真空は、外的に発生させた真空によって生成および制御される。カテーテルは、血管閉塞にしっかりと固定された先端部に、従来のガイドワイヤや硬性を有するワイヤ、専用の閉塞貫通デバイスを通すように構成されており、血管閉塞部位に先端部を固定するために真空引きしつつ、ワイヤを自在に挿通可能となっている。先端部100は、単一の柔軟性を有する材質から形成されており、射出成形や2つのモールドを用いた成形、機械成型などによって作製される。望ましい実施形態においては、先端部100の外側表面は、次の7つの異なる領域に分けられる:封止リング1、封止リング凹部2、接触室壁3、真空室壁4、室分割凹部5、真空室凹部6、尾部壁7。また、望ましい実施形態においては、先端部100の内側表面も、次の7つの異なる領域に分けられる:第2封止リング8、室分割膜9、誘導コーン10、尾部11、真空室12、室分割ルーメンlumen13、接触室14。封止リング1は、閉塞部位に先端部を吸着させるために、最初に封止を行う主要な接触領域として働き、これによって先端部100内の真空引きが可能となる。封止リング凹部2は、閉塞部位に対する柔軟性を向上させることで、封止リング1による封止を行いやすくする。先端部100内が真空引きされるにつれて、先端部100と閉塞部位の対象表面との間の接触は、主に接触室14を介して行われる。第2封止リング8はオプションで、これが含まれる複数の実施形態においては、この追加的な補強により、接触室14の接触の封止能力が更に向上する。図12に最も良く示されるように、接触室14は、使用中に選択した真空度合いを維持し、対象となる表面が荒かろうが、凹凸があろうが、または滑らかであろうが、表面の形状に合わせて密着するように伸張可能である。これを補助するため、接触室14の接触室壁3は先端部100の他の領域に比べて薄く形成されていて、これにより、伸張し、展延して、どのような対象表面にも、ほぼ適合できるようになっている。接触室14の接触室壁3は、また、これらの特性の実現を更に補助するために、硬度の低い材質で作られていても良い。図13を参照すると、先端部100の真空室12は、使用中に真空を維持して、接触室14のための真空溜めを提供している。真空室12の壁4の厚さは、潰れることなく、真空状態に抗する能力を向上させるために、接触室14の壁3よりも厚く形成されていることが望ましい。真空室12の壁4は、また、この特性の実現を更に補助するために、硬度の高い材質で作られていても良い。室分割ルーメン13は真空室12と接触室14とを連通させており、使用時には、ワイヤまたは専用の閉塞貫通デバイスを挿通自在とするのに適した構造および大きさを有している図14を参照。いくつかの実施形態においては、ワイヤまたは専用の閉塞貫通デバイス19を更にサポートするために、カテーテルの全長に渡って、カテーテルの先端部の位置まで伸びた、追加ルーメン18が提供されていてもよい。室分割凹部5は真空室12と接触室14との間の柔軟性を補助し、これにより、傾きに関し更なる自由度を接触室14に与える。これにより、接触室14は真空状態を損なわず、対象となる表面の形状により良く適合し、またカテーテルのシャフト16の傾きによる影響を最小化する。真空室凹部6は第2の柔軟性を有する領域を提供し、また、手術に先立って、先端部100を案内スリーブ内に誘導する図21を参照。尾部11は、柔軟性を有する先端部100とカテーテルシャフト16との間の接続部を提供し、尾部11の厚さと、尾部壁7の形は、尾部壁7が従来のカテーテルシャフト16を構成する層内に配置されるようなラミネート加工を含む、様々な既知の接着または結合技術によって最適化されている。誘導コーン10は、ワイヤまたは専用の閉塞貫通デバイスを、先端部100の中心に案内するようなサイズで構成されており、硬性を有するワイヤまたは専用の閉塞貫通デバイスが使用される実施形態において、先端部100の内部構造に損傷を受けるリスクを低減する図15を参照。図16を参照すると、先端部100の二連室構造は、既知の従来技術と比較して、より効率的に一定の真空レベルを維持することを可能にする。接触室14が強力な封止領域を生成し、一方、真空室12は、吸着するための力Fを維持するための一定の負圧ΔPのバッファとなり、さらにこれを伝達する。加えて、図17に最も良く示されるように、先端部100の二連室構造と室分割凹部5のヒンジのような動きによって、カテーテルのシャフト16の傾きの変化に拘わらず、先端部100の接触室14が対象となる表面に対してほぼ平行な状態をより良く維持することができる。これにより、カテーテルのシャフト16が傾いても先端部100が安定した真空レベルを維持する能力を更に向上させ、カテーテルのシャフト16の基端部のぶれから、接触室14を隔離する。比較対象として、図18は、一室構造の真空維持における、傾きの悪影響を説明する図である。このような一室構造では、もし、一室構造の真空室15が真空引きされた後に、傾かせる力Mがカテーテルのシャフトに働くと、一室構造15の接触領域に圧縮力Tと引張力-Tが働く。圧縮力は接触領域への吸着を補助することから、接触領域の封止が壊れるのを防ぐために最小化する必要があるのは引張力の方である。図19は、一室構造15とここに開示する主題である二室構造の両方に対するこれらの影響を、詳細に説明する図である。二室構造では、ストレスが伝わるのを防ぐストレス隔離点17上述した通り、ストレス隔離点17は、開示された主題である先端部100の二連室構造と分割凹部5のヒンジのような動きを含むによって、シャフトの傾き量が増加するに従いM1、M2、比較的小さい引張力t1、t2が接触表面本願発明の封止リング1と追加の第2の封止リング8に伝達される。一室構造では、二室構造に比べて、このような力M1、M2の増加は、引張力T1、T2の大きさに、より大きく影響する。M1:t1<T1;M2:t2<<T2力に対する反応の違いは、隔離点を介して異なる方向の力ベクトルd1、d2に変換され、これは室の内部変形を引き起こすが、引張力t1、t2には影響を与えない。M1:t1d1=T1;M2:t2d2=T2ここで図20を参照すると、先端部100は、一定の真空を維持しつつ、ワイヤまたは専用の閉塞貫通デバイスをルーメン内に対し挿通自在としている。加えて、先端部100は、真空度合いに拘わらず、ワイヤやデバイスに対して、挿通の際に大きな抗力を与えない。これは、真空室12と室分割膜9の協働によって達成されている。すなわち、真空引きが行われる際に、軸方向の変形によって、径方向の変形が最小化され打ち消される。この協働が、周りの負圧に依らず、室分割ルーメン13の直径をほぼ一定に保ち、これによってワイヤまたはデバイスを対象領域まで自在に挿通可能としている。図21から24は、真空固定カテーテルの使用方法における各ステップを示している。真空固定カテーテルは経皮的なデバイスであり、通常、ガイディングカテーテルを通して誘導されるため、広がった先端部100は、ガイディングカテーテルルーメンに引き込みが可能になるよう、圧縮されるべきである。引き込みのための一つの態様は、ハブにおいて、作動ノブに接続されたスライド式のスリーブである。スリーブは、広がった先端部を収容するように前方に押し出され、小さい径のスリーブ内に先端部を収容することにより、ガイディングカテーテル内に真空固定カテーテルを誘導することを可能にする図23を参照。一旦、真空固定カテーテルが対象となる閉塞に到達すると、閉塞貫通の手術の準備のために、ノブを用いてスリーブが引き戻されて先端部100が露出される。先端部100が閉塞の対象領域に接触すると、カテーテルの先端のピストンが引かれ、一時的に固定されて、カテーテルを通して真空状態となる。閉塞貫通の手術が終わると、真空状態が解除され、ガイディングカテーテルが引き抜かれる図24を参照。図25から27は、カテーテルの傾きの動きによって自身で連続的に真空を発生させる他の実施形態を示している。これらの実施形態において、先端部100は、室分割ルーメン13を囲むように、カテーテルシャフト16内に設けられたスプリングフレーム20を更に備えている。シャフト16が傾くと、スプリングフレーム20は、シャフト16の傾きの動きを、真空室壁4の径方向の膨張/収縮へ変換し、これによって真空室12の体積が拡大/縮小して真空状態が発生する。好ましい実施形態においては、フレーム20は径方向のスプリング21と、2対以上の対になった非対称な接続支柱22を備え、接続支柱22は、シャフト16内に組み込まれた操作ワイヤまたは支柱23と連結している。シャフト16内に組み込まれた操作ワイヤまたは支柱23は、専用のルーメン24内に配置されていることが好ましい。別の実施形態においては、フレームは奇数個の接続支柱22と操作ワイヤまたは支柱23を備えている。本記載は、ここで開示及び請求されている主題を実行する現時点でのベストモードを含んでいる。本記載は本主題の一般的な原理を説明することを目的に記載されているものであり、限定的な意味に解すべきではない。本主題に内在する原理を理解した当業者にとって明らかなように、本開示の範囲を逸脱することなく、本主題を様々な形で実行することができる。