酸化セリウムIV上レニウムの存在下、少なくとも2つの多面体オリゴマーシルセスキオキサンPOSS化合物を含む混合物の形成方法であって、250°C~600°Cの温度で反応器中、aトリハロシランと、b水素ガスと、c酸化セリウムIV上レニウムと、を組み合わせて、前記混合物を形成する工程を含み、前記aトリハロシランは、式RSiX3[Rは、1~4個の炭素原子を有するアルキル基であるか又はアリール基であり、Xはハロ原子である]を有する、方法。前記少なくとも2つのPOSS化合物の各々が、完全に縮合している、請求項1に記載の方法。前記少なくとも2つのPOSS化合物の各々が、独立して式RSiO1.5n[式中、Rは1~4個の炭素原子を有するアルキル基であり、nは6、8、10又は12である]を有する、請求項1又は2に記載の方法。少なくとも1つのPOSS化合物が、式RSiO1.5n[式中、Rは1~4個の炭素原子を有するアルキル基であり、nは6、8、10又は12である]を有する、請求項1又は2に記載の方法。少なくとも1つのPOSS化合物が、式RSiO1.5n[式中、Rはメチル基であり、nは6、8、10又は12である]を有する、請求項1又は2に記載の方法。前記混合物が、3つのPOSS化合物から実質的になり、各POSS化合物が、独立して式RSiO1.5n[式中、Rは1~4個の炭素原子を有するアルキル基であり、nは第一のPOSS化合物については6であり、第二のPOSS化合物については8であり、第三のPOSS化合物については10である]を有する、請求項1又は2に記載の方法。前記トリハロシランがCH3SiCl3として更に定義される、請求項1~6のいずれか一項に記載の方法。昇華によって前記混合物から前記POSS化合物のうちの1つを分離する工程を更に含む、請求項1~7のいずれか一項に記載の方法。前記混合物が形成された後、前記酸化セリウムIV上レニウムを再活性化させる工程を更に含む、請求項1~8のいずれか一項に記載の方法。前記再活性化工程が、第二反応器中で生ずる、請求項9に記載の方法。前記組み合わせる工程の後、更なる量の前記酸化セリウムIV上レニウムを前記反応器に添加する工程を更に含む、請求項1~10のいずれか一項に記載の方法。プロセスが、連続的なものとして更に定義され、前記反応器が、流動床反応器として更に定義される、請求項1~11のいずれか一項に記載の方法。前記反応器が大気圧を超える圧力で操作される、請求項1~12のいずれか一項に記載の方法。前記反応器から前記POSS化合物を取り出す工程を更に含む、請求項1~13のいずれか一項に記載の方法。請求項1~14のいずれか一項に記載の方法から形成される前記少なくとも2つの多面体オリゴマーシルセスキオキサンPOSS化合物を含む混合物。前記混合物が、少なくとも3つの多面体オリゴマーシルセスキオキサンPOSS化合物を含み、前記aトリハロシランがCH3SiCl3として更に定義され、各POSS化合物が独立して、式CH3SiO1.5n[式中、nが、第一のPOSS化合物については6であり、第二のPOSS化合物については8であり、第三のPOSS化合物については10である]を有する、請求項1に記載の方法。前記混合物が、前記第一、第二及び第三のPOSS化合物から実質的になる、請求項16に記載の方法。昇華によって前記混合物から前記POSS化合物のうちの1つを分離する工程を更に含む、請求項16又は17に記載の方法。前記混合物が形成された後、前記酸化セリウムIV上レニウムを再活性化させる工程を更に含む、請求項16~18のいずれか一項に記載の方法。前記再活性化工程が、第二反応器中で生ずる、請求項19に記載の方法。前記組み合わせる工程の後に、更なる量の前記酸化セリウムIV上レニウムを前記反応器に添加する工程を更に含む、請求項16~20のいずれか一項に記載の方法。プロセスが、連続的なものとして更に定義され、前記反応器が、流動床反応器として更に定義される、請求項16~21のいずれか一項に記載の方法。本発明は、酸化セリウムIV上レニウムの存在下、少なくとも2つの多面体オリゴマーシルセスキオキサンPOSS化合物の混合物を形成する方法を提供する。この方法は、約250°C~600°Cの温度で反応器中、aトリハロシランと、b水素ガスと、c酸化セリウムIV上レニウムと、を組み合わせて、混合物を形成する工程を含む。aトリハロシランは、式RSiX3[式中、Rは、1~4個の炭素原子を有するアルキル基であるか又はアリール基であり、Xはハロ原子である]を有する。この方法は、高価な分離技術を使用する必要を減じ、POSS化合物の効率的で、予測可能でかつ正確な製造を可能にする。おそらくより重要なことに、この方法では、主反応生成物として商業的に有用な量でPOSS化合物が製造されるため、反応を多数利用する必要がなくなる。更に、この方法は、優先的に特定のPOSS化合物を形成することができ、望まれる場合には、これにより、コスト及び製造時間が更に削減される。本発明は、少なくとも2つの多面体オリゴマーシルセスキオキサンPOSS化合物の混合物を形成する方法を提供する。混合物の及び本発明のPOSS化合物は、総じて、特に何らかの化学的又は構造的形状に限定されるものではない。典型的には、POSS化合物は、真空下で昇華性であり、広範囲の融点及び約400°C付近又はそれを超える分解温度を有する、結晶質固体である。しかしながら、POSS化合物中に有機基を包含させる及び/又はこれを変更することで、化合物の物理的特性を変化させることができる。一実施形態では、POSS化合物の1種以上は、構造I~IVとして下記に示されるもののような各ケイ素原子上に有機官能基を有する対称な完全に縮合しているケイ素-酸素骨格を有する:別の実施形態では、POSS化合物の1種以上は、構造V~VIIIとして下記に示されるもののような不完全に縮合している骨格を有する:更に他の実施形態では、POSS化合物の1種以上は完全に縮合している骨格を有し、一方、1種以上の追加のPOSS化合物は不完全に縮合している骨格を有する。展開中のPOSS化合物中のヒドロキシ基の縮合反応では、ほぼ完了にまで持って行って、単離することのできる揮発性POSS化合物を生成することができる。少なくとも2つのPOSS化合物は各々独立して式RSiO1.5nを有することも想到され、式中、Rは、1~4個の炭素原子を有するアルキル基であるか又はアリール基であり、nは6、8、10及び/又は12である。典型的には、式RSiO1.56を有するPOSS化合物は、上記の構造I又はVIにほぼ対応する構造を有する。式RSiO1.58を有するPOSS化合物は、上記の構造II又はVIIIにほぼ対応する構造を有する。式RSiO1.510を有するPOSS化合物は、上記の構造IIIにほぼ対応する構造を有する。式RSiO1.512を有するPOSS化合物は、上記の構造IVにほぼ対応する構造を有する。上記の構造V~VIIIにおおよそ例示されているように、nが代替的に4又は7であり得ることも想到される。最も典型的にはPOSS化合物中の1個以上のR基はメチル基であるとして更に定義される。一実施形態では、少なくとも2つのPOSS化合物の各々は式RSiO1.5n[式中、Rはメチル基であり、nは6、8、10又は12である]を有する。あるいは、少なくとも2つのPOSS化合物の各々は式RSiO1.5nを有してもよく、式中、Rは、1~4個の炭素原子を有するアルキル基であり、nは6、8、10又は12である。更に、少なくとも1種のPOSS化合物は式RSiO1.5nを有してもよく、式中、Rは、1~4個の炭素原子を有するアルキル基であり、nは6、8、10又は12である。混合物が2種又は3種、4種、5種、6種又はそれ以上のPOSS化合物からなる若しくは実質的になるであろうことが想到される。様々な実施形態では、用語から実質的になるは、混合物が未反応トリハロシラン及び/又は不完全に縮合しているPOSS化合物を含まないことを意味する。あるいは、用語から実質的になるは、混合物が含有する未反応トリハロシラン及び/又は不完全に縮合しているPOSS化合物が1、0.5、0.1又は0.01重量部未満であることを意味し得る。更に他の実施形態では、混合物は、完全に縮合しているPOSS化合物を含み得ないか、あるいは、1、0.5、0.1又は0.01重量部未満の完全に縮合POSS化合物しか含まない。1つの具体的実施形態では、混合物は3種のPOSS化合物から実質的になり、各POSS化合物は独立して式RSiO1.5n[式中、nは、第一のPOSS化合物については6であり、第二のPOSS化合物については8であり、第三のPOSS化合物については10である]を有する。混合物の形成方法:方法に戻ってより具体的に参照すると、この方法は典型的には、aトリハロシラン、b水素ガス、及びc酸化セリウムIV上レニウムの各々を用意する工程を含む。これらの要素a~cは、当該技術分野において既知の任意の手段により形成及び/又は供給することができる。典型的には、aトリハロシランは、室温にて液体である。しかしながら、aトリハロシランは典型的には、例えば、aトリハロシランを含むキャリアガス及びバブラーの使用を介するといったように、気体として供給される。b水素ガスH2は任意の純度のものであり得るが、典型的には90、95又は99パーセントを超える純度を有する。典型的には、c酸化セリウムIV上レニウムは、固体であり、粒子としてすなわち、微粒子形状で供給される。a、b及び/又はcの1つ以上は、一回で供給されてもよく、あるいは、連続工程で経時的に少量ずつ供給されてもよい。換言すれば、a、b及びcは、第一分量で供給され得、この方法は補足分量のa、b及び/又はcを追加することも含んでもよい。典型的には、補足分量のa、b及び/又はcは、供給する及び/又は組み合わせる最初の工程後に、添加される。トリハロシラン:aトリハロシランは、式RSiX3を有する当該技術分野において既知の任意のものであってよく、式中、Rは、1~4個の炭素原子を有するアルキル基であるか又はアリール基であり、Xはハロ原子である。典型的には、aトリハロシランは更に、CH3SiCl3、CH3SiBr3又はこれらの組み合わせとして定義される。あるいは、aトリハロシランの混合物は、本発明で形成されるPOSS化合物をカスタマイズするために利用され得る。例えば、CH3SiCl3とCH3SiBr3の組み合わせは、独立して、あるいは、CH3CH2SiCl3及び/又はCH3CH2SiBr3と共に、利用され得る。酸化セリウムIV上レニウム:本発明の方法では、少なくとも2つのPOSS化合物の混合物は、典型的には、Re/CeO2とも表されるc酸化セリウムIV上レニウムの存在下で形成される。換言すれば、少なくとも2つのPOSS化合物自体は、c酸化セリウムIV上レニウムの存在下で形成される。c酸化セリウムIV上レニウムは、POSS化合物を形成するための触媒として作用する。レニウムは典型的には、レニウムのための固体担体として作用する酸化セリウムIV上に配置される。酸化セリウムIVはPOSS化合物の形成中に酸素原子を失い得るが、酸化セリウムIIIを二原子の酸素O2又は大気に曝して酸素原子を取り戻させそして酸化セリウムIVを再形成させ、これにより触媒を再生することにより、再生することができる。加えて、POSS化合物の形成中に作製されるオキシ塩化セリウムCeOClもまた、塩素原子を失って酸化セリウムIVを再形成し得、また触媒を再生し得る。c酸化セリウムIV上レニウムは、当該技術分野において既知の任意の方法により形成され得る。一実施形態では、c酸化セリウムIV上レニウムは、ReCl3をイソプロピルアルコール中に溶解させて溶液を形成することにより、形成される。次に、この溶液をインシピエントウェットネス法によりCeO2粉末に添加する。次に、粉末を真空乾燥させる。更に、酸化セリウムIV上レニウムの具体的な量又は重量パーセントは、特に制限されない。典型的には、レニウムは、酸化セリウムIVに基づいて0.01~10重量パーセント、0.1~5重量パーセント、又は0.5~3重量パーセントの量で存在する。当然ながら、本発明は、酸化セリウムIV上レニウムの重量パーセント又はその範囲に限定されず、酸化セリウムIV上レニウムの重量パーセントは、全体と部分の両方で、前述の範囲及び値の範囲内の任意の値又は値の範囲でよい。また、重量パーセントは、前述の値及び/又は値の範囲から±5、±10、±15、±20、±25、±30などだけ変動してもよい。方法はまた、酸化セリウムIVを再生する工程を含んでもよい。上記の反応スキームに記載のように、方法は、セリウムIIIを二原子の酸素O2及び/又は大気に曝して酸化セリウムIVを再形成する工程を含み得る。あるいは、方法は、オキシ塩化セリウムCeOClを処理し、これにより、これが塩化原子を失って酸化セリウムIVを再生する工程を含み得る。これらの工程は、連続して又は同時に実施してもよく、互いに組み合わせて又は独立して実施してもよい。追加の方法工程:方法はまた、約250°C~600°Cの温度にて、反応器において、aとbとcとを組み合わせて、混合物を形成する工程を含む。換言すれば、この方法は、反応器においてaとbとcとを組み合わせて、少なくとも2つのPOSS化合物の混合物を形成する工程を含む。以下の反応又は同様の類するものが反応器において生じ得る:CH3SiCl3CeO2→POSS化合物CeCl3/CeOCl/Ce2O3H2存在下で上記のように、CeCl3/CeOCl/Ce2O3を、1つ以上の工程で処理又は使用することで、酸化セリウムIVを再生することができる。様々な実施形態では、反応器の温度は、260~590°C、270~580°C、280~570°C、290~560°C、300~550°C、310~540°C、320~530°C、330~520°C、340~510°C、350~500°C、360~490°C、370~480°C、380~470°C、390~460°C、400~450°C、410~440°C又は420~430°Cである。本発明は上述のいずれの温度にも制限されるものではなく、これらの温度のうちのいずれかの1つ以上は、特定の温度又は特定の温度の範囲として更に定義され得、全体と部分の両方で、これらの範囲内にある。上述の温度又は温度範囲のいずれかの1つ以上は、±5、±10、±15、±20、±25、±30などで変動し得ることも想到される。反応器は、連続的に、準連続的に又はバッチモードで又はモードの組み合わせで動作し得る。あるいは、2つ以上の反応器は、それぞれ独立して、連続的に、準連続的に又はバッチモードで又はモード独自の組み合わせで動作させて、使用することができる。一例では、第一反応器はaとbとcを反応させるために使用され、第二反応器は酸化セリウムIVを生じさせ及び/又は再生させるために使用される。この例では、これらの反応器のうちの1つ又は両方は、連続モードで操作することができる。反応器の具体的な種類は制限されておらず、流動床反応器、不均一気相反応器、固定床反応器などとして更に定義され得る。反応器は実験室規模反応器又は工業規模反応器であり得るが、反応器の長さ及びサイズもまた具体的に制限されない。様々な実施形態では、反応器の長さ実験室規模は、3~8cmであり、1~5cm3の体積である。工業規模反応器は同様の長さ及び体積比を有し得、あるいは、これらの比は異なり得る。一実施形態では、c酸化セリウムIV上レニウムは固定されており、aトリハロシラン及びb水素ガスがc酸化セリウムIV上レニウムの中及び/又は上を通過する。実験室規模では、aトリハロシラン及び/又はb水素ガスは典型的には、0.1~10秒、0.5~10秒、0.5~9.5秒、1~8.5秒、1.5~8秒、2~7.5秒、3~7秒、3.5~6.5秒、4~6秒、4.5~5.5秒、又は約5秒間c酸化セリウムIV上レニウムの中及び/又は上を通過する。工業規模反応器又は反応は、上記のものと同様の比の滞留時間を利用し得、あるいは、これらの比は異なってもよい。aトリハロシラン及びb水素ガスは数分~数時間にわたって反応させ得ることが想到される。換言すれば、全体の反応及びいずれかに特定されない滞留時間は、典型的には数分~数時間にわたって生じる。様々な実施形態では、aとbとcは、1~60分、1~40分、1~20分、1~24時間、1~15時間、1~10時間、1~5時間にわたって反応する。加えて、aとbとcは、少なくとも1、2、3、4、5、10、15、20、25、30重量パーセントなどの量で存在するPOSS化合物を有する混合物を形成するように反応する傾向がある。様々な実施形態では、混合物は、50、60、70、80、90又は95重量を超える量で存在するPOSS化合物を有する。a、b及びcの各々は典型的には大気圧以上で反応するが、本発明は任意の特定の圧力に制限されない。様々な実施形態では、圧力は0.5、1、1.5、2、2.5、3、3.5、4、4.5、5又は5気圧として更に定義される。本発明は上述のいずれの値にも制限されるものではなく、これらの値のうちのいずれかの1つ以上は、特定の値又は特定の値の範囲として更に定義され得、全体と部分の両方で、これらの範囲内にある。上述の値又は範囲のいずれかの1つ以上は、±5、±10、±15、±20、±25、±30などで変動し得ることも想到される。混合物の形成後、方法は、反応器から混合物を取り出す工程、反応器から1種以上のPOSS化合物を取り出す工程、及び/又は、混合物から1種以上のPOSS化合物を分離する工程のうちの1つ以上を更に含み得る。典型的には、混合物は、POSS化合物の分離前に反応器から取り出される。しかしながら、1種以上のPOSS化合物は、混合物の残りから独立して反応器から回収され得る。1種以上のPOSS化合物は、クロマトグラフィー、蒸留、昇華などが挙げられる当該技術分野において既知の任意の手段により混合物から分離され得る。追加の実施形態:本発明はまた、少なくとも3種のPOSS化合物を含む混合物を形成する方法を提供する。この実施形態では、各POSS化合物は独立して式RSiO1.5n[式中、Rは上記の通りであり、nは、第一のPOSS化合物については6であり、第二のPOSS化合物については8であり、第三のPOSS化合物については10である]を有する。同様の実施形態では、RはCH3であり得る。混合物は、3種のPOSS化合物から実質的になり得る。本実施形態では、用語から実質的になるは、上記の通りである。本発明はまた、上記のように混合物それ自体も提供する。混合物及び/又はPOSS化合物自体は様々な用途で使用され得る。POSS化合物の混合物は、本発明に従って、一連の比較例と共に、形成された。POSS化合物の混合物は、本発明の予期せぬ優れた結果を例示するために、比較例と比較された。実施例1:本発明のPOSS化合物の混合物の形成:0.1025gのReCl3SigmaAldrich、99を8.8mLのイソプロピルアルコールに溶解させて溶液を形成することにより、c酸化セリウムIV上レニウムを調製した。この溶液を次にインシピエントウェットネス法によりCeO2粉末に添加した。このとき十分な溶液を2.0679gのCeO2SigmaAldrich、99に添加して、それ以上の溶液が粉末により吸収されないように粉末の全量をぴったり濡らした。濡れた粉末を次に80°Cにて4時間にわたって真空乾燥させ、酸化セリウムIV粉末上に2重量のレニウムを含む粉末を生成した。形成後、0.60gのc酸化セリウムIV上レニウムの粉末を次に石英ガラス管の中に充填し、フロー反応器内に配置し、H2でパージした。500°CLindberg/BlueMinimite1管状炉で加熱にて約2時間にわたって100sccmのH2OmegaFMA5500マスフローコントローラーにより制御で、触媒の活性化を行った。次に、23°Cに保持したステンレス鋼MeSiCl3バブラー式中、Meはメチルであるを通して100sccmのH2をバブリングすることにより、反応を開始させた。バブラーから出たガス及び蒸気は反応器の中に入った。バブラーは、MeSiCl3蒸気がバブラーから出るガスと平衡になるのに接触時間が十分であるように、そしてその結果、バブラーから出たMeSiCl3の流量が周知の熱力学関係により判定できるように、設計されていた。反応物は、様々な反応生成物の量をモニターするために、GC/GC-MSにより60分の間に周期的にサンプル採取した。反応器からの流出物を、廃棄前に、100μLの一定量の注入ループを有する6方作動バルブViciを通した。バルブを作動させてサンプルを反応流から採取し、分析に際し、100μLのサンプルを、スプリット比を100:1と設定したAgilentの7890A型GC-MSの注入口に直接通した。GCは2つの30mSPB-オクチルカラムSupelco、内径250um、膜厚0.25umを備え、これらは、サンプルが2つのカラムの間で均等に分かれるように平衡に配置されていた。1つのカラムは反応生成物の計量のためにTCD検出器に連結させ、もう一方のカラムはトレース生成物の高感度検出及び形成された任意生成物の陽性識別のために質量分析器Agilent7895CMSDに連結させた。GC炉での加熱の代わりに、カラムは、AgilentLTMモジュールを使用して加熱した。換言すれば、カラムは、所望の温度に正確かつ迅速に上昇するように、加熱素子及び熱電対で覆った。この低熱質量システムはサンプル注入の間の迅速な分析7~10分を可能にした。本実施例では、生じた反応生成物はほぼ独占的に、Me-T6、Me-T8及びMe-T10で表される6、8又は10個の角を共有したSi原子及び端部を共有したO原子を含むケージ構造のメチルシルセスキオキサンであった。この反応により、触媒が枯渇するまでに約30~40分にわたって少量~中程度の量のこれらのMe-Tn構造が生成された。触媒を500°Cにて1時間にわたって空気に曝し、枯渇したO原子をCeO2担体から補給し、その後、H2で活性化し、上記のようにH2及びMeSiCl3と反応させた場合、触媒は更なるMe-Tn生成物を生成するために再び使用され得る。比較例1:比較例1では、H2とMeSiCl3をCeO2Reは全く存在しないの存在下で、上記と同じ条件下で反応させた。GC-MSにより、POSS化合物すなわち、Me-Tn構造が全く形成されなかったことを確認した。比較例2:比較例2では、H2とMeSiCl3をAl2O3粉末上に2重量のレニウムが存在するCeO2は全く存在しない中で、上記と同じ条件下で反応させた。それでも再び、GC-MSでは、POSS化合物すなわち、Me-Tn構造が全く形成されなかったことを確認した。比較例3:比較例3では、H2とMeSiCl3をTiO2粉末上に2重量のレニウムが存在するCeO2は全く存在しない中で、上記と同じ条件下で反応させた。GC-MSにより、POSS化合物すなわち、Me-Tn構造が全く形成されなかったことを確認した。上記の結果は、本発明が効率的に、予測可能に、及び正確に、POSS化合物を生成することを示している。その上、これらの結果は、酸化セリウムIV上レニウムは、比較例に記載のように、他の同様の触媒と比較したときに、予期せぬ優れた結果を生み出すことを示している。本発明を説明的に述べてきたが、使用した用語が、限定ではなく記述の語句の本質を意味するものであることを理解されたい。以上の教示を鑑みて本発明の多くの修正と変形が可能であり、特に断らない限り本発明を他の方法で実施することができる。添付の請求項が、発明を実施するための形態に記述された、明示かつ任意の特定の化合物、組成物、又は方法に限定されることはなく、それらが添付の請求の範囲内に含まれる特定の実施形態間で変化できることを理解するべきである。種々の実施形態の特定の特色又は特徴を記述するために本明細書で依拠されるマーカッシュグループに関して、別のマーカッシュのメンバー全てから独立している、それぞれのマーカッシュグループの各メンバーから、異なる、特有の、及び/又は予想外の結果が得られることが可能と理解されることになる。マーカッシュ群の各要素は、添付の特許請求の範囲内の特定の実施形態に個別及び/又は個別に依存してもよく、適切な根拠を提供する。また、本発明の種々の実施態様を記載する際に依存する任意の範囲及び部分範囲が、添付の特許請求の範囲内に個別かつ集合的に入ることも理解されるべきであり、またかかる値が明白に記載されていない場合でも、全体及び/又は部分値を含む全ての範囲を記載し、考慮することが理解される。計数範囲及び部分範囲が、本発明の様々な実施態様を十分に記述しかつ可能にし、かかる範囲及び部分範囲が、更に、関連する2分の1、3分の1、4分の1、5分の1などに詳述されてよいことを当業者は容易に理解する。ほんの一例として、範囲0.1~0.9は、下の方の3分の1、即ち、0.1~0.3、中間の3分の1、即ち、0.4~0.6、及び上の方の3分の1、即ち、0.7~0.9に更に詳述でき、これらは、個別かつ集合的に添付の特許請求の範囲内であり、添付の特許請求の範囲内の特定の実施態様に個別及び/又は集合的に依存され、適切な根拠を提供し得る。更に、少なくとも、より大きい、未満、以下等の範囲を定義又は修飾する用語に関して、かかる用語が部分範囲及び/又は上限又は下限を含むことを理解されたい。別の例として、少なくとも10の範囲は、実質的に、少なくとも10~35の部分範囲、少なくとも10~25の部分範囲、25~35の部分範囲等を含み、各部分範囲は、添付の特許請求の範囲内の特定の実施態様に個別及び/又は集合的に依存することがあり、これに適切な根拠を提供する。最終的には、開示された範囲内の個々の数は、添付の特許請求の範囲内の特定の実施態様に依存することができ、これに適切な根拠を提供する。例えば、範囲1~9は、様々な個々の整数、例えば、3、並びに小数点又は分数を含む個別の数、例えば、4.1を含み、これは添付の特許請求の範囲内の特定の実施態様に依存してもよく、これに適切な根拠を提供する。