"銅箔表面で圧延平行方向に長さ175μmで測定した表面粗さRaと、前記銅箔の厚みtとの比率Ratが0004以上0007以下であり、200°Cで30分間加熱して再結晶組織に調質した状態において、圧延面のX線回折で求めた200回折強度Iが、微粉末銅のX線回折で求めた200回折強度I0に対し、20≦I/I0≦40であり、銅箔表面で圧延平行方向に長さ175μmで、かつ圧延直角方向にそれぞれ50μm以上離間する3本の直線上で、オイルピットの最大深さに相当する各直線の厚み方向の最大高さと最小高さの差の平均値dと、前記銅箔の厚みtとの比率dtが01以下であり、コンフォーカル顕微鏡で測定したときのオイルピットの面積率が6以上15以下である圧延銅箔。前記200°C×30分熱処理後の銅箔表面を電解研磨後にEBSDで観察した場合に、圧延面の結晶方位と100方位との角度差が15度以上の結晶粒の面積率が30~70である、請求項1記載の圧延銅箔。鋳塊を熱間圧延後、冷間圧延と焼鈍とを繰り返し、最後に最終冷間圧延を行って製造され、当該最終冷間圧延工程において、最終パス前の段階で、Ratが0002以上0004以下である請求項1又は2記載の圧延銅箔。Ag、Sn、In、Au、Pd及びMgの群から選ばれる1種又は2種以上を合計で30~300wtppm含有する請求項1~3のいずれかに記載の圧延銅箔。しかしながら、特許文献4記載の技術の場合、不均一な結晶粒が多く、銅箔表面の結晶が100面に配向していないため、屈曲性が低下するという問題がある。一方、特許文献3記載の高光沢の銅箔は、結晶方位が揃いやすく、また、ディッシュダウンの発生も少ない。しかしながら、高光沢の銅箔は、表面が傷つきやすい等、取り扱いが容易でなく、好まれない。それで、本発明は上記の課題を解決するためになされたものであり、銅箔表面を適度に粗い状態により取り扱い性が良好で、屈曲性に優れるとともに、表面エッチング特性が良好な圧延銅箔の提供を目的とする。本発明者らは種々検討した結果、最終冷間圧延の最終パスの手前では銅箔の表面をあまり粗くせず、最終冷間圧延の最終パスで銅箔の表面を粗くすることで、最終的な銅箔の表面を粗くしつつも、オイルピットの形態と頻度表面状態がせん断帯の発生しにくいものになり、屈曲性を維持しつつ、ディッシュダウンも少なく、エッチング液によるエッチング速度差が小さくなるためエッチング性に優れた銅箔となることを見出した。そして、せん断帯が発生しにくいオイルピットの形態と頻度表面状態をコンフォーカル顕微鏡像からのオイルピットの面積率によってマクロ的に評価できることを見出した。上記の目的を達成するために、本発明の圧延銅箔は、銅箔表面で圧延平行方向に長さ175μmで測定した表面粗さRaと、前記銅箔の厚みtとの比率Ratが0004以上0007以下であり、200°Cで30分間加熱して再結晶組織に調質した状態において、圧延面のX線回折で求めた200回折強度Iが、微粉末銅のX線回折で求めた200回折強度I0に対し、20≦I/I0≦40であり、銅箔表面で圧延平行方向に長さ175μmで、かつ圧延直角方向にそれぞれ50μm以上離間する3本の直線上で、オイルピットの最大深さに相当する各直線の厚み方向の最大高さと最小高さの差の平均値dと、前記銅箔の厚みtとの比率dtが01以下であり、コンフォーカル顕微鏡で測定したときのオイルピットの面積率が6以上15以下である。上記した200°C×30分熱処理後の銅箔表面を電解研磨後にEBSDで観察した場合に、圧延面の結晶方位と100方位との角度差が15度以上の結晶粒の面積率が30~70であることが好ましい。鋳塊を熱間圧延後、冷間圧延と焼鈍とを繰り返し、最後に最終冷間圧延を行って製造され、当該最終冷間圧延工程において、最終パス前の段階で、Ratが0002以上0004以下であることが好ましい。Ag、Sn、In、Au、Pd及びMgの群から選ばれる1種又は2種以上を合計で30~300wtppm含有することが好ましい。本発明によれば、銅箔表面を適度に粗くして取り扱い性を向上し、屈曲性に優れるとともに、表面エッチング特性が良好な圧延銅箔が得られる。以下、本発明の実施形態に係る圧延銅箔について説明する。なお、本発明においてとは、特に断らない限り、質量を示すものとする。まず、図1を参照して、本発明の技術思想について説明する。最終冷間圧延でのロール粗度を大きくして銅箔表面を粗くすると、銅箔の取り扱い性は向上するが、ディッシュダウンが生じ易くなりエッチング性が低下する。これは、以下のように考えられる。最終冷間圧延での粗いロールにより、銅箔の表面にオイルピットが形成されるが、加工が進むにつれ、オイルピットの先端部にせん断変形帯が生じやすい。さらに加工が続くとせん断変形帯が深く発達する。このようにして、深いせん断変形帯の発生したオイルピットの部分は、再結晶の際に、他の均一な組織の中で結晶方位の異なる結晶粒となり、エッチングの際のディッシュダウンの起点となると考えられる。一方、銅箔の屈曲性を得るために光沢度表面粗さを高める手法が従来から知られている。これは、粗度の低いロールで最終冷間圧延することで、オイルピットの形成を抑えることで、せん断変形帯が生じ難くなるためと考えられる。しかし、銅箔の光沢度を高くする表面粗さを小さくすると、銅箔の取り扱い性が低下するため、銅箔を利用する側には好まれない。これに対し、本発明者は、最終冷間圧延の最終パスの手前では銅箔の表面をあまり粗くせず例えば、粗度の低いロールで圧延し、最終冷間圧延の最終パスで銅箔の表面を粗くする例えば、粗いロールで圧延することで、オイルピットが形成されて最終的な銅箔の表面は粗い状態になるものの、せん断変形帯があまり発達しないオイルピットの形状と頻度となり、結果として均一な組織中で結晶方位の異なる結晶粒が減少し、屈曲性を向上させつつ、表面エッチング特性が良好となることを見出した。つまり、従来、銅箔の配向性は単に銅箔表面の粗さに依存すると考えられてきたが、実際には、材料内部のせん断変形帯の規模発達度が配向度及びディッシュダウンに影響することが分かった。そして、最終冷間圧延において、最終パス以前のパスでせん断帯の発達を充分に抑制できれば、最終パスで銅箔表面を粗く仕上げても、エッチング性を良好とする配向度を得ることができる。又、本発明は、上記したせん断帯の発達度を、コンフォーカル顕微鏡像からのオイルピットの面積率によってマクロ的に評価し、ディッシュダウンが低減する面積率の範囲を見出したことを特徴としている。これに対し、従来から用いられている表面粗さの値だけではオイルピットの情報を明確に捉えることができない。つまり、圧延銅箔表面を観察すると、圧延直角方向TDに沿ってオイルピットの発生が観察されるが、図1に示すように、オイルピットの断面形状には、TD方向の長さが短い三角形のもの図1の符号P1の他、台形状のもの図1の符号P2も存在することがわかった。また、オイルピットの深さは同じでも、RD方向には、ピットの開き度合いが広いものと狭いものがある。これらのオイルピットの形状の違いは、銅箔の表面のうねりの測定を行う一般的なRa、Ry、Rz、Smといった表面粗さの測定では、十分に反映することができないと考えられる。そこで、コンフォーカル共焦点顕微鏡を用い、オイルピットに相当する画像領域の割合面積率を求めることにより、オイルピットの形状を反映し、ディッシュダウンや屈曲性の良否に対応した差異を得ることができる。なお、オイルピットの面積率は、コンフォーカル顕微鏡で撮像したZ軸の高度差を所定の閾値の前後で2値化し、この閾値より深い部分をオイルピット部分として抽出し、その面積割合を求めたものである。次に、本発明の圧延銅箔の規定及び組成について説明する。1オイルピットの面積率上記したように、最終冷間圧延の最終パスの手前では銅箔の表面をあまり粗くせず、最終冷間圧延の最終パスで銅箔の表面を粗くすることで、最終的な銅箔の表面を粗くしつつ、せん断変形帯の発達しにくいオイルピットの形状が得られ、ディッシュダウンが少なくなる。そして、このようなせん断変形帯の発達しにくいオイルピットを有する表面は、コンフォーカル顕微鏡で測定したときのオイルピットの面積率が6以上15以下となることが本発明者らの実験後述する実施例によって明らかとなった。オイルピットの面積率が15を超えると、せん断変形帯の発達したオイルピットが増加する。材料内部でせん断変形帯が発達すると、再結晶の際、他の均一な組織の中で結晶方位の異なる結晶粒となり、エッチング時のディッシュダウンが生じやすくなる。一方、オイルピットの面積率が6未満となる場合として、2つの条件がある。条件の1つは、最終冷間圧延のすべてのパスを粗度の低いロールを用いる。この条件では、深いオイルピットが少なく、せん断変形帯も発達し難いため、ディッシュダウンが低減するが、銅箔の表面粗さが小さくなり過ぎ後述するRa/tの要件を満たさず、銅箔製品の取り扱いに難があるため、好ましくない。2つ目の条件は、最終冷間圧延の最終パスの手前では銅箔の表面を粗くし、最終冷間圧延の最終パスで粗度の低いロールを用いて銅箔の表面を平滑にする。この条件では、最終パスで粗度の低いロールを用いることで、最終パスの手前で形成されたオイルピットのうち銅箔表面に近い部分が最終パスで広げられて平らに近づき、表面粗さが小さくなる。しかし、オイルピット内部の狭い谷部分はそのまま残る。従って、オイルピットの表面部分の開口は狭くなってオイルピットの面積率自体は小さくなるが、最終パスの手前では粗いロールを用いているため、オイルピットにはせん断変形帯が発達してしまい、最終パス後もせん断変形帯が残って、ディッシュダウンが多数発生する。そして、このようにオイルピットの面積率が小さいもののディッシュダウンが多数発生する状態は、オイルピットの面積率が6未満の場合に顕著となる。なお、オイルピットの面積率を6以上とする方法としては、上記したように最終冷間圧延において、最終パス以前のパスでの浅くて、せん断帯が発達していないようなオイルピットには、オイルピットが形成されるよう、最終冷間圧延の最終パス以前のパスでは粗さ表面粗さRaが例えば005μm以下が比較的小さいロールを用いて圧延し、かつ、最終冷間圧延の最終パスでは、粗さ表面粗さRaが例えば006μm以上が比較的大きいロールを用いて圧延し、最終的に得られる銅箔表面を粗くすればよい。最終パス以前のパスでは形成されるオイルピットが浅く、せん断帯が発達していないので、最終冷間圧延の最終パスで銅箔の表面を粗くしてもせん断帯の発達したオイルピットは増えず、ディッシュダウンは少なくなる。一方、最終冷間圧延の最終パス以前のパスで粗さ表面粗さRaが例えば005μmを超えるが大きいロールを用いて圧延すると、せん断帯の発達しやすいオイルピットが形成され、最終パスにてオイルピットが発達し、その面積が増加し、オイルピットの面積率が15を超え、せん断帯の発達が顕著となり、ディッシュダウンが生じやすくなる。ここで、最終冷間圧延工程において、最終パスより前のパスで粗さ表面粗さRaが例えば005μm以下が比較的小さいロールを用いることで、最終冷間圧延の銅箔表面が比較的平滑となる。具体的には、最終冷間圧延工程の最終パスの1パス前の段階で、表面粗さRaと箔厚みtとの比率が00020以上00040以下であるとよい。Ratがこの範囲であるような表面状態のもとで最終パスの圧延を行えば、最終パスで銅箔の表面を粗くしても、形成されたオイルピットにせん断帯が導入され難くなるので好ましい。なお、後述のように、最終冷間圧延工程の最終パス終了後のを0004以上0007以下とする。2I/I0本発明の銅箔に、高屈曲性を付与するため、200°Cで30分間加熱して再結晶組織に調質した状態において、圧延面のX線回折で求めた200回折強度Iを、微粉末銅のX線回折で求めた200回折強度I0に対し、20≦I/I0≦40に規定する。これにより、200面の配向度が適度な値となり、屈曲性及びエッチング性のバランスに優れた銅箔が得られる。この場合、200面の結晶方位を有する再結晶集合組織が発達し過ぎないため、200面以外の方位の組織がある程度分散して均一にエッチングされるため、ディッシュダウンが生じても問題とならないディッシュダウン自体は必ずしも小さくならないが、銅箔全面が同じ程度にエッチングされるため。I/I0<20になると、200面の配向度が少なくなって屈曲性が低下する。40<I/I0になると、200面の結晶方位を有する組織が増えて屈曲性は良好となるが、100面の再結晶集合組織が発達し過ぎた結果、200面以外の方位の組織が部分的に集中して生じてこの組織が大きくエッチングされてディッシュダウンが発生しやすくなりエッチング性に劣る。又、200面の配向度が高すぎると、それ以外の方位とでエッチング速度が大きく異なるため、エッチング性が低下する。上記200°Cで30分の焼鈍は、CCL製造工程において銅箔に付与される温度履歴を模したものである。なお、銅箔にAg、Sn、In、Au、Pd及びMgの群から選ばれる1種又は2種以上を合計で30~300wtppm含有させると、20≦I/I0≦40に管理しやすいので望ましい。20≦I/I0≦40に管理する方法としては、例えば冷間圧延と焼鈍とを繰り返し、最終焼鈍で平均結晶粒径を10~20μmとし、その後に製品板厚に圧延する際、総加工度90~96とし、最終冷間圧延の最終パス以前のパスでせん断帯の発達を抑制するとよい。この場合、最終冷間圧延の最終パス以前のパスで粗さが比較的小さい表面粗さRaが例えば005μm以下ロールを用いて圧延することができる。3Rat表面粗さを従来のものとは変えずに、ディッシュダウンを少なくするため、最終冷間圧延後のRammtを0004以上0007以下に規定する。このようにすると、表面粗さを従来の銅箔と同等としつつ、ディッシュダウンを低減することができる。なお、表面粗さを厚みで割ることで、銅箔の厚みによらず銅箔表面の粗さの評価が行える。例えば、銅箔の厚みtが薄くなると、同じ表面粗さであっても銅箔厚みに占める表面凹凸の割合が大きくなり、上記したオイルピットの面積率による銅箔表面の評価が十分に行えないことがある。ここで、Ra中心線平均粗さはJISB0601に規定され、本発明においては銅箔表面で圧延平行方向に長さ175μmで、かつ圧延直角方向にそれぞれ50μm以上離間する3本の直線上で測定した値の平均値とする。4dt銅箔表面の粗さがそれほど大きくなく、オイルピットの多くはせん断変形帯があまり発達していないと考えられる場合でも、深いオイルピットが幾つか存在する場合がある。深いオイルピットではせん断変形帯が発達している可能性が高く、その場合には、ディッシュダウンの発生の起点となる。そこで、本発明では、オイルピットの最大深さの平均値dをdt≦01に規定する。オイルピットの最大深さの平均値dを厚みtで割ることで、銅箔の厚みによらず銅箔表面の評価が行える。すなわち、オイルピットの最大深さが同一であっても銅箔の厚みtが薄くなると、その影響が大きくなるためである。ここでオイルピットの最大深さの平均値dは、図2に示すように銅箔表面で圧延平行方向RDに長さ175μmで、かつ圧延直角方向TDにそれぞれ50μm以上離間する3本の直線L1~L3上で、オイルピットの最大深さに相当する各直線L1~L3の厚み方向の最大高さHMと最小高さHSの差diの平均値である。具体的には、接触式粗さで、L1~L3上の厚み方向のプロファイルを測定して最大高さHMと最小高さHSを求め、各直線L1~L3のdiを平均すればよい。銅箔又は銅合金箔の厚みは特に制限されないが、例えば5~50μmのものを好適に用いることができる。5EBSDによる方位差上記したように、ディッシュダウンは、銅箔を樹脂フィルムと接合する際の熱処理により、再結晶した均一な組織の中で結晶方位の異なる結晶粒が単独で存在する割合が多い場合、エッチングの際にこの単独結晶粒が周囲よりも深くエッチングされてできるくぼみである。そこで、上記熱処理として、CCL製造工程において銅箔に付与される温度履歴を模した熱処理条件200°Cで30分間で銅箔を加熱して再結晶組織に調質する。そして、この状態の結晶方位として、銅箔表面を電解研磨後にEBSDで観察した場合に、圧延面の結晶方位と100方位との角度差が15度以上の結晶粒の面積率が30~70であることが好ましい。なお、すでに熱履歴を受けているCCLとなった銅箔についても、200°Cで30分間加熱してよい。一度再結晶するまで熱処理されたものは、それ以上加熱してもほぼ変化しないため、EBSDで観察の観察においては、熱履歴を受けた銅箔、受けない銅箔を区別せず、200°Cで30分間加熱することとする。EBSDで観察した場合に上記面積率が30~70であると、屈曲性とエッチング性に共に優れる銅箔が得られる。上記面積率が30未満であるとエッチング性が劣り、70を超えると屈曲性が低下する場合がある。なお、EBSDで観察した場合に上記面積率を30~70とするには、上記したように最終冷間圧延において、最終パス以前のパスでせん断帯の発達を抑制する、つまり最終冷間圧延の最終パス以前のパスで粗さ表面粗さRaが例えば005μm以下が比較的小さいロールを用いて圧延することが望ましい。又、銅箔にAg、Sn、In、Au、Pd及びMgの群から選ばれる1種又は2種以上を合計で30~300wtppm含有させると、上記面積率を30~70に管理し易いので望ましい。6組成銅箔としては、純度99.9wt以上のタフピッチ銅、無酸素銅、電気銅を用いることができ、さらにAg、Sn、In、Au、Pd及びMgの群から選ばれる1種又は2種以上を合計で30~300wtppm含有することが望ましい。無酸素銅はJISH3510合金番号C1011およびJISH3100合金番号C1020に規格され、タフピッチ銅はJISH3100合金番号C1100に規格されている。次に、本発明の圧延銅箔の製造方法の一例について説明する。まず、銅及び必要な合金元素、さらに不可避不純物からなる鋳塊を熱間圧延後、冷間圧延と焼鈍とを繰り返し、最後に最終冷間圧延で所定厚みに仕上げる。ここで、上記したように、最終冷間圧延の最終パスの手前では銅箔の表面をあまり粗くせず、最終冷間圧延の最終パスで銅箔の表面を粗くすることで、最終的な銅箔の表面を粗いが、せん断変形帯に発達しにくいオイルピットを有する表面状態となり、ディッシュダウンが少なくなる。そして、このようなせん断変形帯が少ない表面は、オイルピットの面積率が6以上15以下となる。従って、最終冷間圧延の最終パスの手前では、銅箔の表面をあまり粗くしないよう、粗さ表面粗さRaが例えば005μm以下が比較的小さいロールを用いて圧延したり、最終冷間圧延における1パス加工度を大きくして圧延すればよい。一方、最終冷間圧延の最終パスでは、粗さ表面粗さRaが例えば006μm以上が比較的大きいロールを用いて圧延したり、粘度の高い圧延油を用いて圧延し、最終的に得られる銅箔表面を粗くする。なお、最終的な銅箔の表面を粗いが、せん断変形帯に発達しにくいオイルピットを有する表面状態を作り込むためには、最終冷間圧延の最終2パス、又は最終パスで、上記したように粗いロールを用いたり粘度の高い圧延油を用いて圧延することが必要であるが、調整し易いことから最終パスでの圧延条件を調整することが好ましい。一方、最終冷間圧延の最終3パス以前からロールの粗さを粗くすると、形成されたオイルピットに更に最終パスの加工によってせん断変形帯が発達する。なお、最終冷間圧延の直前の焼鈍で得られる再結晶粒の平均粒径が10~20μmになるよう、焼鈍条件下を調整するとよい。又、最終冷間圧延での圧延加工度を92~99とするとよい。電気銅に表1に記載の元素を添加し、それぞれ大気中実施例1~3、5及び還元雰囲気中N2とCOの混合ガス実施例4、6、7~14でインゴットを鋳造した。なお、比較例1~6はアルゴン雰囲気中でインゴットを鋳造した。大気中で鋳造したものは150~300ppm酸素を含有し、還元雰囲気中で鋳造したものは無酸素銅C1020と同程度の酸素を含有していた。作製したインゴットを800°C以上で厚さ10mmまで熱間圧延を行い、表面の酸化スケールを面削した後、冷間圧延と焼鈍とを繰り返した後、024mm実施例1~12、012mm実施例13、036mm実施例14、120mm比較例1~3、5、030mm比較例4、008mm比較例6の厚みになった後で焼鈍して平均結晶粒径を13μmとした。さらに最終冷間圧延で厚み0012mm実施例1~12、比較例1~6、0006mm実施例13、0018mm実施例14に仕上げた。なお、最終冷間圧延は5~15パスで行い、表1に示すように、最終パスの手前までのロールの表面粗さ、及び最終パスのロールの表面粗さを変えて圧延を行った。最終パスの1パス目から最終パスの手前までのロールの表面粗さはすべて同じである。なお、最終冷間圧延の加工度は表1に記載した。このようにして得られた各銅箔試料について、諸特性の評価を行った。1表面粗さRa:Ra中心線平均粗さはJISB0601に準じて測定し、試料表面をコンフォーカル顕微鏡レーザーテック社製、型番:HD100Dを用いて、圧延平行方向に長さ175μmで測定した値とした。2立方体集合組織試料を200°Cで30分間加熱した後、圧延面のX線回折で求めた200回折強度の積分値Iを求めた。この値をあらかじめ測定しておいた微粉末銅325mesh,水素気流中で300°Cで1時間加熱してから使用の200回折強度の積分値I0で割り、I/I0値を計算した。3オイルピットの最大深さ平均値dコンフォーカル顕微鏡レーザーテック社製、型番:HD100Dを用い、図2に示すようにして、銅箔表面で圧延平行方向RDに長さ175μmで、かつ圧延直角方向TDにそれぞれ50μm以上離間する3本の直線L1~L3上の最大高さHMと最小高さHSの差diをそれぞれ求めた。各直線L1~L3のdiを平均してdとした。なお、dtとした。4EBSDによる方位差2で200°Cで30分間加熱した後の試料表面を電解研磨後にEBSD後方散乱電子線回析装置、日本電子株式会社JXA8500F、加速電圧20kV、電流2e8A、観察範囲1000μm×1000μm、ステップ幅1μmで観察した。圧延面方位と100方位との角度差が15度以上の結晶粒の面積率を画像解析で求めた。5エッチング性エッチング性は以下のようにして評価した。まず、試料表面をエッチング液それぞれアデカテックCL8株式会社アデカ製液と、DP200荏原ユージライト製液を用いて常温で2分間エッチングを行い、エッチング後の1mm四方の観察範囲の表面を光学顕微鏡で撮影した画像を明暗二値化し、明暗の割合を算出した。100方位を持った組織は銅箔表面に平行な面となるため明るく、その他の方位では表面に細かい凹凸を生じるため乱反射により暗く見える。次に、上記明部と暗部のうち、割合が50未満の方を面積率の少ない方の組織とみなした。面積率の少ない方の組織は、面積率の多い方の組織に囲まれて存在するため、面積率の少ない方の組織を多角形で近似し、この多角形の外接円の最小直径が50μmを超える箇所の個数を数えた。アデカテックCL8、DP200どちらの液を使用しても観察範囲内に当該箇所が10以下であり、かつ最終冷間圧延後で200°Cで30分間加熱前のエッチング量と、最終冷間圧延後で200°Cで30分間加熱後のエッチング量との差が±10以内のものをエッチング性良好○とし、上記個数が10個より多いか、又は上記エッチング量の差が±10を超えたものをエッチング性劣×とした。ここで、エッチング量は、エッチング前の銅箔重量-エッチング後の銅箔重量で算出され、上記エッチング量の差が±10以内であれば、最終冷間圧延後の再結晶の有無によらずエッチング量が変化し難く、エッチング性に優れると考えられる。なお、銅箔表面にて、明るい面及び暗い面が混在しているよりは、明るい面又は暗い面のいずれかが多くなっている方がエッチング性が良好となる傾向にある。なお、最終冷間圧延後で200°Cで30分間加熱前の圧延銅箔のI/I0の値は、いずれの実施例、比較例においても1より十分に小さく、圧延集合組織が十分に発達していた。そのため、同じエッチング液を用いた場合、いずれの実施例、比較例においても最終冷間圧延後で200°Cで30分間加熱前の銅箔のエッチング量はほぼ同じ値となった。このことより、最終冷間圧延後に加熱した再結晶組織における配向状態が、エッチング性に影響を与えることがわかる。6オイルピットの面積率試料表面をコンフォーカル顕微鏡レーザーテック社製、型番:HD100Dで300×300μmの測定視野につき測定した。測定視野内で試料を光軸方向に移動させ、銅箔表面から10nmの深さの画像これをFMS画像というを取り込んだ。そして、銅箔表面から10nmより深い部分をオイルピットとみなして、2値化処理をおこなった。その画像の例が図5及び図6であり、明るい色の部分がオイルピットである。そして測定視野300×300μmに対して、オイルピットの面積明るい色の面積を市販の画像処理ソフトを用いて面積を求め、オイルピットの面積率を算出した。7表面の傷各試料の表面を目視し、圧延方向に10mm以上の長さをもつ傷が、5箇所m2以上ある場合を×とした。8屈曲性試料を200°Cで30分間加熱して再結晶させた後、ポリイミドフィルム商品名:カプトンENの片面銅箔と接着する面に熱可塑性PI接着剤を2μm塗工後乾燥し、27μm厚の樹脂層を形成した。この樹脂層の接着剤面に銅箔に積層して真空熱プレスを行い、銅張積層体を作製した。図7に示す屈曲試験装置により、銅張積層体の屈曲疲労寿命の測定を行った。この装置は、発振駆動体4に振動伝達部材3を結合した構造になっており、被試験銅箔1は、矢印で示したねじ2の部分と3の先端部の計4点で装置に固定される。振動部3が上下に駆動すると、銅箔1の中間部は、所定の曲率半径rでヘアピン状に屈曲される。本試験では、以下の条件下で屈曲を繰り返した時の破断までの回数を求めた。なお、試験条件は次の通りである:試験片幅:12.7mm、試験片長さ:200mm、試験片採取方向:試験片の長さ方向が圧延方向と平行になるように採取、曲率半径r:2.5mm、振動ストローク:25mm、振動速度:1500回/分。なお、屈曲疲労寿命が50万回以上の場合に、優れた屈曲性を有していると判断した。屈曲疲労寿命が50万回以上であれば、折り畳み式携帯電話の折り畳み可動部等の厳しい屈曲にも耐えうる良好な屈曲性を持つ。得られた結果を表1に示す。表1から明らかなように、20≦I/I0≦40であり、dtが01以下かつ、オイルピットの面積率が6以上15以下である各実施例の場合、エッチング性が良好であり、さらに銅箔表面に傷がなく、屈曲性にも優れていた。又、各実施例の場合、最終製品のRatが0004以上0007以下となった。一方、最終冷間圧延のすべてのパス最終パス含むのロールの表面粗さをいずれもRa004μm以下とした比較例4の場合、最終パスのRatが0004未満となり、オイルピットの面積率が6未満になったため銅箔表面に傷が付き、取り扱い性に劣った。なお、比較例4の場合、表面粗さが小さくオイルピットの面積率が6未満であるが、I/I0>40となり、ディッシュダウンが多く発生しエッチング性に劣った。最終冷間圧延で、最終パスの手前までのロールの表面粗さをRa006μm以上に粗くし、最終パスのロールの表面粗さをRa005μm以下とした比較例1の場合、最終製品のRatが0004より小さくなったため、銅箔表面に傷が付いて取り扱い性に劣った。又、最終パスの手前では粗いロールを用いたため、オイルピットにはせん断変形帯が発達してしまい、最終パスで粗さの小さいロールを用いてもせん断変形帯が残ることとなり、オイルピットの面積率が6未満となり、ディッシュダウンが多数発生し、エッチング性が劣化した。最終冷間圧延で、最終パスの手前までのロールの表面粗さ、及び最終パスのロールの表面粗さをいずれもRa006μm以上に粗くした比較例2,3,5の場合、最終パスの1パス前のRatが0004以上となり、最終パスの前でせん断変形帯が発達したオイルピットが多数発生した。そのため、最終パス後にオイルピット面積率が15をこえたため、ディッシュダウンが多数発生し、エッチング性が劣化した。なお、比較例2、3の場合、最終冷間圧延の加工度が高く、さらに最終冷間圧延のすべてのパスのロール表面粗さを粗くしたため、材料内部でせん断変形帯が著しく発達し、オイルピットが多数発生した。このため、オイルピット面積率が15を超えるばかりでなく、銅箔表面の結晶の配向度が40<I/I0となり、ディッシュダウンが発生しやすくエッチング性が劣化した。一方、比較例5の場合、最終冷間圧延の最終パスの手前までのロールの粗さを比較例2,3より平滑としたため、屈曲性は良好であったったが、I/I0が比較例2,3よりも高くなりすぎたために上記したエッチング量の差が±10を超え、ディッシュダウンも10個以上あり、エッチング性が劣化した。最終冷間圧延加工度を他の実施例及び比較例より小さくした比較例6の場合、I/I0が低くなりすぎ、屈曲性が劣化した。"