周期的フィーチャの所望のパターンを感光層に印刷する方法であって、a感光層を有する基板を提供するステップと、b周期的フィーチャのマスクパターンを有するマスクを提供するステップと、c基板に直交する第1の平面において前記基板に対してマスクが傾斜角を有するように、該マスクの近くに前記基板を配置するステップと、dタルボ距離によって分離されたタルボ平面の間に所定の範囲の横方向強度分布を含む伝達される光照射野を発生するために、該伝達される光照射野が第1の平面において強度包絡線を有するように、前記マスクパターンを照明するための実質的に視準された光を提供するステップと、e前記第1の平面および前記基板の両方に対して実質的に平行な方向に前記基板を前記マスクに対して移動させながら前記光で前記マスクを照明し、これにより、前記感光層に所望のパターンが印刷される、ステップとを含み、前記傾斜角および前記強度包絡線は、前記感光層が実質的に前記横方向強度分布の範囲の平均に曝されるように、前記タルボ距離に関して配置されることを特徴とする、周期的フィーチャの所望のパターンを感光層に印刷する方法。前記マスクパターンは、平行な線およびスペースの一次元のパターンを含み、前記基板は、前記第1の平面が前記線に対して平行であるように付加的に配置されている、請求項1記載の方法。前記マスクパターンは、所定の周期を備えた平行な線およびスペースの一次元のパターンを含み、前記基板は、前記第1の平面が前記線に直交するように付加的に配置されており、前記方法は、付加的に、前記マスクを照明する光が、所定の時間周期を有するパルスで供給されるようにすることを含み、前記時間周期は、前記周期の半分または前記周期の半分の整数倍に等しい距離だけ、前記時間周期の間に基板が移動するように選択されている、請求項1記載の方法。前記マスクパターンは、所定の周期を備えた平行な線およびスペースの一次元のパターンを含み、前記基板は、付加的に、前記第1の平面が前記線に対して傾斜角を成すように配置されており、前記方法は、付加的に、前記マスクを照明する光が、所定の時間周期を有するパルスで供給されるようにすることを含み、前記時間周期は、連続するパルスによって基板上に印刷される所望のパターンの線が重ね合わされるように、前記時間周期の間に所定の距離だけ基板が移動するように選択されている、請求項1記載の方法。前記マスクパターンは、一方向で周期を有するフィーチャの二次元のパターンを有し、前記基板は、第1の平面が前記方向に対して平行であるように配置されており、前記方法は、付加的に、マスクを照明する光が、所定の時間周期を有するパルスで供給されるようにすることを含み、前記時間周期は、前記周期または該周期の整数倍に相当する距離だけ前記時間周期の間に基板が移動するように選択されている、請求項1記載の方法。強度包絡線は、ビーム幅を横切って実質的に均一となるように配置されており、傾斜角は、タルボ距離またはタルボ距離の整数倍に相当するビーム幅を横切ってマスクと基板との間の分離の実質的に線形の変化を生じるように配置されている、請求項1記載の方法。強度包絡線は、ビーム幅を横切って実質的に均一となるように配置されており、傾斜角は、タルボ距離よりも著しく大きなビーム幅を横切ってマスクと基板との間の分離の実質的に線形の変化を生じるように配置されている、請求項1記載の方法。強度包絡線は、実質的に、全幅半最大ビーム幅を備えたガウスとなるように配置されており、傾斜角は、実質的に少なくともタルボ距離に相当するビーム幅を横切ってマスクと基板との間の分離の変化を生じるように配置されている、請求項1記載の方法。強度包絡線は、全幅半最大値を有し、傾斜角は、実質的に少なくともタルボ距離に相当するビーム幅を横切るマスクと基板との間の分離の変化を生じるように配置されている、請求項1記載の方法。前記マスクに対する前記基板の移動は、基板が静止したまま、マスクおよび照明光の実際の移動によって生ぜしめられる、請求項1記載の方法。前記基板は、付加的に、第1の平面および基板に直交する第2の平面において前記マスクに対して実質的に平行に配置されている、請求項1記載の方法。所望のパターンおよびマスクパターンの両方の周期的フィーチャは、正確に周期的であるかまたは準周期的である、請求項1記載の方法。周期的特徴の所望のパターンは、それぞれ異なる周期を有する複数のサブパターンを含み、マスクパターンは、それぞれ異なる周期を有する複数のサブパターンを含み、それぞれのサブパターンは、タルボ距離によって分離されたタルボ平面から成る光照射野を発生し、傾斜角および強度包絡線は、最大周期を備えたサブパターンからの光照射野のタルボ距離に関して配置されている、請求項1記載の方法。付加的に、マスクと基板との間に流体を導入することを含む、請求項1記載の方法。周期的特徴の所望のパターンを感光層に印刷するための装置であって、a感光層を有する基板と、b周期的特徴のマスクパターンを有するマスクと、c基板をマスクの近くに配置するための手段であって、基板に直交する第1の平面においてマスクが基板に対して傾斜角を有するように配置する手段と、dタルボ距離によって分離されたタルボ平面の間の横方向強度分布の範囲を有する伝送される光照射野を発生するために、実質的に視準された光で前記マスクパターンを照明するための手段であって、前記伝送される光照射野が、前記第1の平面において強度包絡線を有するように照明する手段と、e前記第1の平面および前記基板に対して実質的に平行な方向に前記基板を前記マスクに対して移動させる手段であって、これにより、前記所望のパターンが前記感光層に印刷される、手段とを備え、前記傾斜角および前記強度包絡線は、前記感光層が、実質的に前記横方向強度分布の範囲の平均に曝されるように、タルボ距離に関して配置されていることを特徴とする、周期的特徴の所望のパターンを感光層に印刷するための装置。付加的に、前記基板の移動の方向を前記第1の平面と角度方向で整合させるための手段を有する、請求項15記載の装置。前記照明する手段は、付加的に、時間周期を有するパルスでマスクを照明する光を供給するための手段を有する、請求項15記載の装置。前記マスクパターンのフィーチャは、透明基板上における、不透明材料の層および移相材料の層のうちの少なくとも一方に形成されている、請求項15記載の装置。前記基板は、フレキシブルなフィルムであり、前記移動手段は、ロールトゥロール機構である、請求項15記載の装置。前記基板を配置する前記手段は、第1の平面において湾曲させられた支持体を有し、照明する間に前記支持体上を前記基板が移動する、請求項15記載の装置。