"多孔質体と、該多孔質体上に配設される導電性高分子からなるパターンと、を備えたことを特徴とする、導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体。前記多孔質体はゲルであることを特徴とする、請求項1に記載の導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体。前記ゲルの含水率が70~99であることを特徴とする、請求項2に記載の導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体。前記ゲルは、ハイドロゲルからなることを特徴とする、請求項2又は3に記載の導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体。前記ハイドロゲルは、アガロースゲル、コラーゲン、グルコンマンナン、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリヒドロキシエチルメタアクリレート、ポリビニルピロリドンの何れかであることを特徴とする、請求項4に記載の導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体。前記導電性高分子は、PEDOT、ポリピロール、ポリアセチレンの何れかであることを特徴とする、請求項1に記載の導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体。前記導電性高分子にはドーパントが添加されていることを特徴とする、請求項1又は6に記載の導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体。前記導電性高分子の導電率は、10S/cm以上であることを特徴とする、請求項1、6、7の何れかに記載の導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体。作用電極となる電極パターンを形成し、上記作用電極パターンを導電性高分子の原料を含有した電解質液中に挿入し、多孔質体を上記作用電極パターン上に載置し、所定時間電解重合を行うことによって、上記多孔質体上と上記電極パターンとの間に導電性高分子からなるパターンを析出し、上記電極パターンから上記多孔質体を剥離することによって、導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体を得ることを特徴とする、導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体の製造方法。前記導電性高分子の原料は、該導電性高分子のモノマーであることを特徴とする、請求項9に記載の導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体の製造方法。前記電解重合の後、前記作用電極に負及び正の電圧を交互に少なくとも1回以上印加することを特徴とする、請求項9又は10に記載の導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体の製造方法。前記電解質液に、さらにドーパントを含有させることを特徴とする、請求項9~11の何れかに記載の導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体の製造方法。前記ドーパントとしてKNO3を用いることを特徴とする、請求項12に記載の導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体の製造方法。前記導電性高分子からなるパターンの最小線幅を、前記作用電極となる電極パターンの最小線幅よりも1μm~10μm広く形成することを特徴とする、請求項9~13の何れかに記載の導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体の製造方法。従来の導電性高分子の既存のパターニング法は、ガラス等の乾燥した剛直な基板を対象としており、含水性の高い多孔質材料への電極形成等の機能を付与することができなかった。本発明は、上記課題に鑑み、導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体及びその製造方法を提供することを目的としている。上記第1の目的を達成するため、本発明の導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体は、多孔質体とこの多孔質体上に配設される導電性高分子からなるパターンとを備えたことを特徴とする。上記構成において、多孔質体は好ましくはゲルである。ゲルの含水率は、好ましくは70~99である。このゲルは、ハイドロゲルからなっていてよく、とくに好ましくはアガロースゲル、コラーゲン、グルコンマンナン、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリヒドロキシエチルメタアクリレート、ポリビニルピロリドンの何れかである。導電性高分子は、PEDOT、ポリピロール、ポリアセチレンの何れであってもよく、導電性高分子には、好ましくはドーパントが添加されている。導電性高分子の導電率は、好ましくは10S/cm以上である。上記第2の目的を達成するため、本発明の導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体の製造方法は、作用電極となる電極パターンを形成し、作用電極パターンを導電性高分子の原料を含有した電解質液中に挿入し、多孔質体を上記作用電極パターン上に載置し、所定時間電解重合を行うことによって多孔質体と電極パターンとの間に導電性高分子からなるパターンを析出させ、電極パターンから多孔質体を剥離することによって、導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体を得ることを特徴とする。上記構成において、導電性高分子の原料は、好ましくは導電性高分子のモノマーで成っていて、好ましくは、電解重合の後、作用電極に負及び正の電圧を交互に少なくとも1回以上印加する。電解質液は、さらにドーパントを含有しており、このドーパントはKNO3であってよい。導電性高分子からなるパターンの最小線幅は、作用電極となる電極パターンの最小線幅よりも1μm~10μm広く形成することが好ましい。本発明の導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体によれば、柔らかいゲル等の多孔質体の表面に導電性高分子からなるパターンの形成を可能とする。本発明の導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体の製造方法によれば、電解重合によって柔らかいゲル等の多孔質体の表面に導電性高分子からなるパターンの形成を可能とする。電解重合及び導電性高分子へのドーパントのドープや脱ドープは電気的に制御可能で、基板修飾や特別な装置を必要とせず、ゲル等の表面に柔軟な電極を容易に形成することができる。以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を具体的に説明する。第1の実施形態第1の実施形態として、導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体について説明する。図1は、本発明の第1の実施形態に係る導電性高分子からなるパターン3を備えた多孔質構造体1の構造を示すもので、Aは平面図、BはAのI-I線に沿った断面図である。図1Aに示すように、本発明の導電性高分子からなるパターン3を備えた多孔質構造体1は、多孔質体2とこの多孔質体2上に配置された導電性高分子からなるパターン3とから構成されている。ここで、多孔質体2は多孔質材料からなり、ゲルやハイドロゲル等が挙げられる。ゲル2Aとは、あらゆる溶媒に不溶な三次元網目構造を持つ高分子及びその膨潤体と定義されており、温度やpHの変化により形成される網目が溶媒の流出を抑えることで、内部に多量の溶媒を保持することができる物質形態である非特許文献10参照。この溶媒として水を保持したものをハイドロゲル2Aと呼び、非常に優れた吸水性を示す。現在存在している多くの天然物質や合成されたゲル2、即ち合成ゲルは水を包含していることから、通常、ゲル2といった場合には水媒体であるハイドロゲル2Aを示すことが多い。また、我々人間の体も60以上が水分ということで、広義のハイドロゲル2Aと考えることもできる。このため、ハイドロゲル2Aは生体適合性に優れた材料として認識されている。実際、ハイドロゲル2Aには生物由来のものが多い。例えば、海藻由来の寒天培地は、100年以上の歴史を有している。多孔質体2に用いるハイドロゲルとしては、下記の化学式1で表されるアガロースゲルなどが挙げられる。このような多孔質材料の含水率は例えば70~99とすることができる。このような多孔質材料の含水率が70以下では、導電性高分子の原料やドーパントの拡散が阻害されるため好ましくない。逆に、多孔質材料の含水率は高いほど生体との適合性が高まり望ましいが、99以上では構造の保持が困難になる。アガロースゲル2Aは寒天の主成分をなす非常にゲル化力の強い中性多糖であり、化学式1に示されるように、D-ガラクトースと3,6-アンヒドロ-L-ガラクトースの繰り返し構造からなる。アガロースゲル2Aは、イオン交換水にアガロース粉末を加え、所定濃度のアガロース溶液を作製し、アガロース溶液が沸騰するまで加熱してゾル状態とし、このゾル状溶液を型に流し、静置してゲル化するまで冷却する。例えば室温まで冷却すれば、容易に作製することができる。多孔質体2に用いるゲルとしては、アガロースゲル2A以外の材料として、コラーゲン、グルコンマンナン、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコールやソフトコンタクトレンズ用ゲル等を用いることができる。ソフトコンタクトレンズ用ゲルとしては、ポリヒドロキシエチルメタアクリレートPoly-HEMA、ポリビニルピロリドンが挙げられる。導電性高分子からなるパターン3に用いる導電性高分子としては、下記化学式2で表されるポリアセチレン、下記化学式3で表されるポリピロール、下記化学式4で表されるポリエチレンジオキシチオフェンpolythiophene、以下PEDOTと呼ぶ。等を使用することができる。この他にも導電性高分子として、ポリチオフェン、ポリビチオフェン、ポリイソチオフェン、ポリドデシルチオフェン、ポリイソナフトチオフェン、ポリ-3-ヘキシルチオフェン、ポリアニリン、ポリイソチアナフテン、ポリチアジル、ポリフェニレン、ポリフルオレン、ポリジアセチレン、ポリアセン、ポリパラフェニレン、ポリチエニレンビニレン、ポリフェニレンスルフィドなどを用いることができる。導電性高分子には、導電性高分子の導電率や導電型を制御するためにさらに、不純物以下、ドーパントと呼ぶ。が添加されてもよい。このようなドーパントとしては、下記化学式5で表されるポリスチレンスルホン酸PSS、poly、以下PSSと呼ぶ。や硝酸カリウムを用いることができる。他にもドーパントとしてハロゲン類Br、I、Clなど、ルイス酸BF3、PF5など、プロトン酸HNO3、H2SO4など、遷移金属ハライドFeCl3、MoCl5など、アルカリ金属Li、Naなど、有機物質アミノ酸、核酸、界面活性剤、色素、アルキルアンモニウムイオン、クロラニル、テトラシアノエチレン、7788テトラシアノキノジメタンなどなどがある。導電性高分子からなるパターン3は、線状や二次元あるいは3次元のパターンとすることができる。導電性高分子としては、パターン3の抵抗の所望値に応じて導電率が10Sシーメンス/cm以上の導電性高分子を使用することができる。導電性高分子の導電率が10S/cm以下では、導電性高分子からなるパターン3の抵抗が大きくなるので好ましくない。逆に、導電性高分子の導電率は、パターン3の抵抗が小さくなるので高くても差し支えはない。本発明の導電性高分子からなるパターン3を備えた多孔質構造体1は、有機物のみで構成されたゲルのような多孔質体2上に導電性高分子からなるパターン3が配設されている。導電性高分子からなるパターン3は、電極として機能させることができる。つまり、ゲル2の表面に導電性高分子からなるパターン3を形成した場合には、生体適合性の高いフレキシブルな電極を提供できる。さらに、本発明の導電性高分子からなるパターン3を備えた多孔質構造体1は、バイオ医療分野における各種デバイスの生体インターフェース部にも利用することができる。材料の生体適合性や可逆な生化学ドーピングを生かした応用としては、電極パッド、細胞培養足場、バイオセンサーや高分子アクチュエータ、細胞や組織と同期して伸縮可能な細胞刺激システムへ適用することができる。導電性高分子からなるパターン3は、生体適合性のある電極パッドとして、例えば脳波や心電図測定用の電極等に使用することができる。この電極パッド1は極めて微細なパターンとすることができるので、例えば脳波測定の分解能を向上させることができる。また、導電性高分子の特徴である大きな界面容量や柔軟性を生かしたメタルフリーの有機エレクトロニクスの分野や、各種の電池や燃料電池の作製技術にも転用可能である。第2の実施形態第2の実施形態として、導電性高分子からなるパターン3を備えた多孔質構造体1の製造方法について説明する。図2は、導電性高分子からなるパターン3を備えた多孔質構造体1の製造方法の一例を順次に示す概略図であり、図3は、電解重合法に用いる電解重合装置10の構成を示す模式図、図4は、電解重合装置10の電極構成を示す模式図である。図2Aに示すように、容器12に導電性高分子を含む電解質液11を入れる。電解質液11中の導電性高分子としては、導電性高分子の原料を使用することができる。導電性高分子の原料としては、導電性高分子のモノマーを使用できる。モノマーは単量体とも呼ばれ、導電性高分子の基本構造の構成単位である。電解質液11は、例えば電解質水溶液11Aである。導電性高分子を含む電解質液11には、導電性高分子にドーピングを行うための不純物ドーパントと呼ぶ。を添加してもよい。この電解質液11は、所謂三つの電極を用いたポテンシオスタット17により電解質液11に電圧が印加されるように構成されている。以下の説明では、電解質液11を電解質水溶液11Aとして説明する。図3に示すように、電解重合装置10は、電解質水溶液11を収容する容器12と、電解質水溶液11に挿入される作用電極WE13、対極CE14及び参照電極RE15と、これらの作用電極13、対極14及び参照電極15に電圧を印加するためのポテンシオスタット17とを含んで構成されている。容器12は、作用電極13が形成される基板19上に配置されてもよい。図4に示すように、電解重合装置10において、作用電極13と対極14とは、電流計21を介して直流電源22が接続され、電解質水溶液11Aに電解電圧が印加される。図示の場合、作用電極13には正電圧が印加され、対極14には負電圧が印加される。参照電極15は、電圧計23を介して対極14に接続されている。つまり、参照電極15がポテンシオスタット17に接続され、参照電極15を基準に作用電極13の電位が制御される。このときに作用電極13を流れる電流が電流計21によって測定される。この電流が電解質水溶液11Aを流れる電解電流である。作用電極15の電極パターン25には、ゲル2に形成する所定のパターンが形成されている。図5は、ポテンシオスタットの作用電極13の電極パターン25の例を示す図であり、それぞれ、Aがラインパターンを、Bが格子形状のパターンを示している。次に、図2Aに示す工程に続いて、図2Bに示すように電解質水溶液11Aに多孔質体2としてゲルを挿入する。そして、図2Cに示すように電解質水溶液11Aに電圧を印加して、電解重合を行い、多孔質体2と作用電極13との間に導電性高分子からなるパターン3を形成する。電解重合時間が所定時間経過した後、つまり、導電性高分子からなるパターン3が所定の厚さになったときに電解質水溶液11Aへの電圧印加を停止する。この状態で、ゲル2を作用電極13から剥離することによって、導電性高分子からなるパターン3を備えた多孔質構造体1を製造することができる。つまり、作用電極13の電極パターン25は、導電性高分子からなるパターン3としてゲル2の表面に転写される。本発明の導電性高分子からなるパターン3を備えた多孔質構造体1には、作用電極13の電極パターン25が転写されるので、原理的には作用電極13の電極パターン25の最小線幅最小ライン幅とも呼ぶ。が導電性高分子からなるパターン3の最小線幅となる。作用電極13の電極パターン25の最小線幅は、電子線露光等を用いて作製した場合には10nm程度となる。このため、作用電極13の電極パターン25によってパターニングされる導電性高分子のパターン3のライン幅を制御できることも、電解重合法を用いた特徴の一つである。パターンニングされた導電性高分子3の線幅つまりライン幅は、作用電極13の電極パターン25の最小線幅が10μmの場合には、10μm以上の任意の値とすることができる。作用電極13の電極パターン25がゲル2の表面に転写される場合、この転写パターン即ち導電性高分子からなるパターン3のライン幅は、基板19上に形成された作用電極13の電極パターン25のライン幅よりも1μm~10μm程度大きく、つまり幅の広いパターンとすることができる。導電性高分子からなるパターン3のライン幅が1μm以下では、導電性高分子からなるパターン3の厚さが薄くなるので好ましくない。逆に、導電性高分子からなるパターン3のライン幅が10μm以上では導電性高分子からなるパターン3が厚くなり柔軟性が低下するので好ましくない。電解重合法を用いてゲル2上に形成される導電性高分子からなるパターン3の膜厚は、電流計21を流れる電解電流Iと、この電解電流を流している時間tとの積I×tで求まる電荷量単位クーロンで制御することができる。つまり、電解重合では、導電性高分子からなるパターン3の膜厚は電気的に制御可能という特徴がある。また、作用電極13上にのみ選択的に成膜できるため、特に被覆に有用な方法である。図2Cに示す電解重合の終了後において、電解重合された導電性高分子はゲル2の内部にも析出しているため、ゲル2が電解重合で析出した導電性高分子からなるパターン3を介して作用電極13の基板19と強固に接着している場合がある。この際、ゲル2の内部にまで導電性高分子からなるパターン3が形成され、ゲル2を剥離するとゲル2が部分的に作用電極13に残る場合がある。つまり、ゲル2が完全に作用電極13から剥離できなくなる。なお、電解重合された導電性高分子からなるパターン3は、ゲル2の内部にも析出しているので、図2Cでは、その状態を誇張して図示している。ゲル2を作用電極13から容易に剥離するためには、図2Dに示すように、作用電極13と対極14との間に所定時間で正と負の電圧を交互に発生することができるゲル剥離用電源27を印加して剥離することができる。図6は、ゲル剥離用電源27から作用電極13に印加される電圧波形を示す図である。図6の横軸は時間、縦軸は作用電極13に印加される電圧であり、電圧の正負は参照電極15を基準としている。図6に示すように、正と負の電圧を一回流す時間を1周期として、所定周期数で交流電圧を作用電極13に印加することができる。次に、作用電極13に正と負の電圧を交互に印加することによって、ゲル2を作用電極13から完全に剥離できる機構について説明する。図7は、ゲル剥離用電源27から作用電極13に電圧が印加されたときの作用電極13と導電性高分子からなるパターン3とゲルの断面を示す図であり、それぞれAは正電圧が印加されたとき、Bは負電圧が印加されたときを示す。図7Aに示すように、導電性高分子からなるパターン3は、電解質水溶液11A中の陰イオンがドープされた状態で製膜される。この状態では、導電性高分子からなるパターン3は膨張している。一方、電解重合後に作用電極13に負の電圧を印加すると、図7Bに示すように脱ドープが起こり導電性高分子からなるパターン3は収縮する。逆に、正の電圧を印加すると再び陰イオンがドープされ、導電性高分子からなるパターン3は膨張する図7A参照。さらに、ゲル2は柔軟性を有しているため、作用電極13上の導電性高分子からなるパターン3の収縮運動に伴って収縮することができる。この一連の収縮運動により、導電性高分子からなるパターン3と作用電極13との間に力が生じ、作用電極13の表面からのみ導電性高分子からなるパターン3が完全に剥離される。これにより、ゲル2の表面へ導電性高分子からなるパターン3を転写することができる。図2D及び図7に示したゲル2の剥離方法は、導電性高分子に含有されたドーパントのドープ又は脱ドープ反応による体積変化を用いたものである。上記したゲル2の剥離方法は、ゲル2に形成された導電性高分子からなるパターン3に作用電極13を介して適切な電圧を印加することによって制御可能な可逆反応である。ゲル2の剥離は、電解質液11に用いるドーパントの種類、電解重合時の電解電流、電流の印加時間、電解重合後のゲル剥離用電源27による電圧印加の回数等で制御することができる。本発明の導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体1の製造方法によれば、電解重合法と、電解重合法に用いる作用電極13に形成した電極パターン25とを用いてゲル2上に導電性高分子の薄膜からなるパターン3を形成することができる。電解重合法を用いるので、ゲル2上に作用電極13に形成した電極パターン25から転写された導電性高分子からなるパターン3の厚さの形態制御を電気的に制御することができる。導電性高分子の電解重合とドープや脱ドープという電気的に制御可能な簡便法で、高含水率の柔らかいゲル2の表面などにも、導電性高分子パターン3を形成することができる。この製造法によれば、作用電極13上にのみ導電性高分子からなるパターン3を選択的に成膜することができる。このため、特にゲル2上に導電性高分子を被覆するとしても有用な方法である。以下、本発明を実施例によってさらに詳細に説明する。最初に、図3及び図4に示す電解重合装置10に用いた作用電極13、対極14、参照電極15について説明する。作用電極作用電極13は、スライドガラスを基板19とし、この基板19上に白金Ptからなる電極パターン25を、以下に示す一連の半導体微細加工技術を用いて作製した。図5に示した電極パターン25は、エマルジョンマスクを、レーザー描画装置を用いてマスクを作製した。ここで、電極パターン25は、図形作成ソフトAutoCAD2009、Autodesk製を用いて作成し、レーザー描画装置のデータとした。基板19にポジ型フォトレジストをスピンコートで被覆し、被覆したポジ型フォトレジストをプリベークした。次に、ポジ型フォトレジストで被覆されたスライドガラス19を、上記マスクを使用して紫外線露光装置によって露光した。次に、露光したポジ型フォトレジストを現像液で処理し、蒸留水で洗浄した後、100°Cでポストベークを10分間行い、ポジ型フォトレジストパターンを形成した。ここで、レジストパターン作製後にスライドガラス19上のレジストパターンを形成しない領域にレジストの残渣が生じる場合がある。このような場合には、プラズマアッシャーを用いて酸素プラズマ処理を行い、基板19の表面に残留した余剰のレジストを取り除いた。次に、ポジ型フォトレジストパターンが形成された基板19上にスパッタ蒸着装置を用いて、チタンTiを5nm、Ptを50~300nmの順に蒸着して電極層を形成した。最後に、電極層が蒸着された基板19を、アセトン、86エタノール、イソプロピルアルコール、蒸留水の順で15分間超音波洗浄して、フォトレジストをリフトオフし、ポジ型フォトレジストパターン上に蒸着された金属層を除去した。これにより、基板19の表面にPtからなる電極パターン25が形成された作用電極13を作製した。対極対極14としては、Ptからなる平板電極を用いた。参照電極参照電極15として、電位の再現性が良く、製作も取り扱いも容易でコンパクトな形態で利用できる銀/塩化銀電極を用いた。銀/塩化銀電極は、銀線の表面に塩化銀を析出させて形成した。この参照電極15を、Ag/AgClと表記する。容器及びアガロースゲルの作製最初に、作用電極13の基板19上に厚さ2mmのシリコーンシートで作製した容器12を固定した。この容器12には底がない。次に、イオン交換水に電気泳動用アガロース粉末を加え、2.8重量wtのアガロース溶液を作製した。電子レンジ500Wを用いて、アガロース溶液が沸騰するまで加熱してゾル状態とし、ゾル状態の溶液をシリコーンシートで作製した容器12に注ぎ込み、室温になるまで静置し、ゾル状態の溶液をゲル化した。これにより、所定の形状のアガロースゲル2Aを作製した。電解質水溶液11Aと電解重合電解質水溶液11Aとしては、50mMミリモルの3,4エチレンジオキシチオフェン34ethylenedioxythiophen、EDOTとも呼ぶ。Sigma社製と、ドーパントとして100mMの硝酸カリウムとからなる混合液を用いた。電解重合の電位として、参照電極15を基準として、1.0Vの電圧を電解質水溶液11Aに印加した。参照電極15が上記したようにAg/AgClであって、かつ電解重合の電位が1.0Vの場合を、1.0VAg/AgClと表記する。電解重合時間は、10~60分の範囲で行った。導電性高分子からなるパターン3を備えた多孔質構造体1上記の電解重合の後、下記の剥離を施し、種々の導電性高分子からなるパターン3を備えた多孔質構造体1を製作した。電解重合の後、-0.5VAg/AgClを1分間印加し、次に0.5VAg/AgClを1分間印加した。この操作を数回繰り返し、電解重合溶液を捨てて蒸留水で軽くすすいだ。最後にチャンバーを取り外し、ピンセットを使ってアガロースゲル2Aを作用電極13の基板19から剥がした。図8Aは、電解重合後に正負電圧印加を3周期行って形成した実施例1の導電性高分子からなるラインパターンを備えた多孔質構造体1の光学像を示し、Bはその模式的な説明図である。図8から明らかなように、黒いPEDOTのパターン部分が崩れることなくアガロースゲル2Aへ転写されており、大面積のPEDOTからなるパターン部分が、アガロースゲル2Aに転写されていることが分かる。以下、PEDOTのパターン部分をPEDOT電極3Aと呼ぶ。図9Aは、図8の導電性高分子からなる格子状のラインパターンを拡大した光学像を示し、Bはその模式的な説明図であり、CはAの拡大光学像である。図9から明らかなように、ライン幅25μmの格子状パターンが崩れることなくアガロースゲル2Aへ転写されており、線幅が狭くかつ線密度の高い、つまり高密度のPEDOT電極3Aのパターンが、アガロースゲル2Aに転写されていることが分かる。PEDOTへ添加するドーパント依存性作用電極13の電極パターン25をアガロースゲル2Aに転写する際、電解重合溶液に用いるドーパントの種類、電解重合時間、電解重合後の電圧印加の回数によって転写の成功率に変化が見られた。PSSを添加した電解質水溶液11Aドーパントの比較をするために、PEDOTの分散液のドーパントに用いられているポリスチレンスルホン酸ナトリウムNaPSSを用いて、50mMのEDOTと2mMのNaPSSからなる電解質水溶液11Aを用意した。電解重合電位は1VAg/AgClで、電解重合時間は60分である。電解重合の後に剥離のために、-0.5Vと0.5Vを1分間交互に3回ずつ印加した。PSSは、化学的安定性が高い、PSSが添加されて重合したPEDOT膜の電気伝導性がKNO3をドーパントとした場合と比較して低い、そして分子量が7万と非常に大きい、といった特徴がある。しかしながら、PSSをドーパントとして転写を行った結果は図10に示すように、KNO3と同じ条件で電解重合をしても、PEDOT電極3Aが作用電極13から剥がれずにアガロースゲル2Aが崩れてしまった。これはPSSの分子量が非常に大きいため、重合時にドープされた状態から脱ドープすることができず十分な体積変化が得られなかったことに起因すると考えられる。次に、電解重合時間と、電解重合後の体積変化の回数による比較を行った。この時ドーパントは100mMのKNO3を用い1.0Vで電解重合を行った。このとき、電解重合時間を10、15、20、30、60分間の5つの場合で、電解重合後の電圧印加の回数をそれぞれ1~3回ずつと変化させることで転写の様子を確認した。図11は、導電性高分子からなるパターン3を備えた多孔質構造体1を示す図であり、それぞれ、Aは電解重合時間が10分を、Bは電解重合時間が60分の転写の様子を示す。図11から明らかように、電解重合時間が10分では完全な転写ができず、電解重合時間が60分で完全な転写ができたことが分かる。図12は、電解重合時間と剥離工程の体積変化回数との関係を示す図である。図12の横軸は電解重合時間分である。図12から明らかように、電解重合時間が30分以上の場合は、体積変化の回数に関係なく転写が成功していることが分かる。電解重合時間が長いということは、電解重合されるPEDOT電極3Aの量が多いということであり、その分ドープ時や脱ドープ時の体積変化量が大きいと考えられる。以上のことからPEDOT電極3Aを作用電極13のパターン25から剥離させるためには、伸縮運動の回数よりも、伸縮の大きさが重要であることが分かった。PEDOT電極3Aによる細胞の電気刺激導電性高分子からなるパターン3を備えた多孔質構造体1を使用し、筋管細胞の電気刺激を行った。筋管細胞ゲルシート導電性高分子からなるパターン3を備えた多孔質構造体1と組み合わせるための筋管細胞ゲルシートを作製した。この筋管細胞ゲルシートは、筋管細胞の収縮運動及びパターン構造を長期間維持するために筋管細胞のパターンをフィブリンゲルへ転写したものである。フィブリンゲルは血栓の主成分であり、フィブリノーゲンが重合してできるフィブリンで構成されるハイドロゲル2Aである。フィブリンゲルはフィブリノーゲンに架橋材のトロンビンを混ぜることで容易に作製できる。フィブリンゲルは化学架橋によるハイドロゲル2Aであり、網目構造を有している。図13は、筋管細胞ゲルシートの写真と転写された細胞のパターンを示す図である。図14は、導電性高分子からなるパターン3を備えた多孔質構造体1を用いた筋管細胞の電気刺激を説明する模式図である。図14に示すように、導電性高分子からなるパターン3を備えた多孔質構造体1はアクリル板32上に配置され、アガロースゲル2Aに形成されたPEDOT電極3Aに筋管細胞ゲルシート30が載置されている。PEDOT電極3Aの間隔は400μmである。Pt電極33は、電気刺激装置34とPEDOT電極3Aとの電気的接触つまりコンタクトをとるために使用した。この際、筋管細胞ゲルシート30が直接Pt電極33に触れないように設置した。ここで、PEDOT電極3Aの筋管細胞ゲルシート30と接触しない左右端部上には、アクリル板32が載置されている。つまり、導電性高分子からなるパターン3とPt電極33とは、Pt電極上部のアクリリル板32と導電性高分子からなるパターン3が載置されるアクリル板32とで挟み込まれることによって、電気的接触が保持されている。電気刺激装置34とアイソレータとを用いて、筋管細胞ゲルシート30の電気刺激を行った。印加した電圧は6V、印加時間600msec、インターバル1secの条件でパルスによる電気刺激を行った。比較例アガロースゲル2AにPEDOT電極3Aを介在させずに、直接Pt電極33を接触させたものを比較例とした。図15は、筋管細胞ゲルシート30の電気刺激を光学顕微鏡で観察した様子を示す図であり、それぞれAは筋管細胞ゲルシート30を、Bは筋管細胞ゲルシート30とPEDOT電極3Aとの接触部を示している。図15Aから明らかように、電圧印加に伴って、囲った部分の筋管細胞ゲルシート30が収縮運動していることが観察でき、ゲル2上に形成したPEDOT電極3Aを用いて筋管細胞ゲルシート30を電気刺激出来ることが確認できた。図15BのPEDOT電極3A付近の拡大から明らかなように、筋管細胞ゲルシート30の収縮運動と共にPEDOT電極3A自体も収縮していることが確認できた。これはPEDOT電極3Aが柔軟性の高いアガロースゲル2AとPEDOT3Aのみで構成されているためであり、従来の電極基板では不可能である。さらに比較例として、アガロースゲル2Aのみでの電気刺激の場合には、僅かな収縮運動が観察された。これはコンタクト用のPt電極33によるアガロースゲル2A全体への電場形成が原因と考えられる。しかしこの収縮は非常に小さくPEDOT電極3Aを転写したアガロースゲル2Aの場合とは明らかに異なるものであった。さらに、コンタクト用のPt電極33だけでは界面容量が小さいため、Pt電極33とアガロースゲル2Aとのコンタクト部分で電気分解が起こり、気泡が発生してしまった。観察を続けると、発生した気泡が筋管細胞ゲルシート30を押し上げていることが確認できた。PEDOT電極3Aを転写したアガロースゲル2Aと筋管細胞ゲルシート30を組み合わせることで筋管細胞ゲルシート30の電気刺激ができることがわかる。筋管細胞ゲルシート30は電気刺激に応じて繰り返し収縮運動をしており、その時、PEDOT電極3A自体も筋管細胞ゲルシート30と同期して収縮していることが確認できた。一方、PEDOT電極3Aを転写していないアガロースゲル2Aは電気分解が起こり、気泡が発生した。実施例1のPEDOT電極3Aと筋管細胞ゲルシート30では、このような気泡の発生は見られず、筋管細胞ゲルシート30の電気刺激に優れた電極であることが判明した。アガロースゲル2Aをコラーゲンとした以外は、実施例1と同様に実施例2の導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体1を作製した。導電性高分子からなるパターン3としてPEDOT電極3Aを用い、実施例1と同様に筋管細胞の電気刺激を行うことができた。図16Aは、実施例2の導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体1の光学像を示し、Bはその模式的な説明図である。図16から明らかなように、黒いPEDOTのパターン部分からなるPEDOT電極3Aが崩れることなくコラーゲンへ転写されていることが分かる。アガロースゲル2Aをグルコマンナンとした以外は、実施例1と同様に実施例3の導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体を作製した。導電性高分子からなるパターン3としてPEDOT電極3Aを用い、実施例1と同様に筋管細胞の電気刺激を行うことができた。図17Aは、実施例3の導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体1の光学像を示し、Bはその模式的な説明図である。図17から明らかなように、黒いPEDOTのパターン部分からなるPEDOT電極3Aが崩れることなくグルコマンナンへ転写されていることが分かる。アガロースゲル2Aをポリアクリルアミドとした以外は、実施例1と同様に実施例4の導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体を作製した。導電性高分子からなるパターン3としてPEDOT電極3Aを用い、実施例1と同様に筋管細胞の電気刺激を行うことができた。図18Aは、実施例4の導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体1の光学像を示し、Bはその模式的な説明図である。図18から明らかなように、黒いPEDOTのパターン部分からなるPEDOT電極3Aが崩れることなくポリアクリルアミドへ転写されていることが分かる。本発明は、上記実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々の変形が可能であり、それらも本発明の範囲内に含まれることはいうまでもない。"