基板上に、フォトリソグラフィ法により複数色の着色画素を隣接して順次に設けるカラーフィルタの製造方法において、フォトレジストの塗布膜へのフォトマスクを介した露光後の、現像の初期の段階で、前記順次内での前色の着色画素の順テーパー側面に、隣接する後色の着色画素の側面端が接しないように後色の着色画素を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。請求項1記載のカラーフィルタの製造方法において、現像の終了の段階で、前記順次内での前色の着色画素の下辺端に、隣接する後色の着色画素の少なくとも一方の下辺端が接するように後色の着色画素を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。請求項1または2に記載のカラーフィルタの製造方法を用いて製造したことを特徴とするカラーフィルタ。本発明は、上記問題を解決するためになされたものあり、複数色の着色画素を隣接して順次に設け、この順次内での前色の着色画素と後色の着色画素を突き合わせて設けたカラーフィルタであっても、前色の着色画素と後色の着色画素の側面間に、逆テーパー側面のない着色画素を形成することのできるカラーフィルタの製造方法を提供することを課題とするものである。また、上記カラーフィルタの製造方法を用いて製造したカラーフィルタを提供することを課題とする。これにより、着色画素上の全面に均一な膜厚の透明導電膜が形成され、断線などの発生や着色画素の成分の溶出は回避される。すなわち、表示画面に支障をきたすことはなくなる。本発明は、基板上に、フォトリソグラフィ法により複数色の着色画素を隣接して順次に設けるカラーフィルタの製造方法において、フォトレジストの塗布膜へのフォトマスクを介した露光後の、現像の初期の段階で、前記順次内での前色の着色画素の順テーパー側面に、隣接する後色の着色画素の側面端が接しないように後色の着色画素を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。また、本発明は、請求項1記載のカラーフィルタの製造方法において、現像の終了の段階で、前記順次内での前色の着色画素の下辺端に、隣接する後色の着色画素の少なくとも一方の下辺端が接するように後色の着色画素を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。また、本発明は、請求項1または2のいずれか1項に記載のカラーフィルタの製造方法を用いて製造したことを特徴とするカラーフィルタである。本発明は、フォトレジストの塗布膜へのフォトマスクを介した露光後の、現像の初期の段階で、前記順次内での前色の着色画素の順テーパー側面に、隣接する後色の着色画素の側面端が接しないように後色の着色画素を形成するカラーフィルタの製造方法であるので、前色の着色画素と後色の着色画素を突き合わせて設けたカラーフィルタであっても、逆テーパー側面のない着色画素を形成することのできるカラーフィルタの製造方法となる。また、本発明は、前色の着色画素の上辺端上に、隣接する後色の着色画素の少なくとも一方の上辺端が重なるように後色の着色画素を形成する、或いは、現像の終了の段階で、前色の着色画素の下辺端に、隣接する後色の着色画素の少なくとも一方の下辺端が接するように後色の着色画素を形成するカラーフィルタの製造方法であるので、前色の着色画素と後色の着色画素を突き合わせて設けたカラーフィルタであっても、前色の着色画素と後色の着色画素の側面間に隙間のない、或いは、逆テーパー側面のない着色画素を形成することのできるカラーフィルタの製造方法となる。以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。本発明者は、隣接した着色画素の互いに対向する側面を突き合わせた状態で着色画素を形成すると、前色の着色画素の側面と、後色の着色画素の側面の両側面を突き合わせた部分に、現像処理に起因した隙間が発生する状態を精査した結果、その原因をつきとめ本発明をするに至った。図5a~eは、現像処理に起因した隙間が発生する過程を精査した内容の説明図である。図5a~eは、1色目の着色画素2-1と2色目の着色画素2-2における隙間の発生を模式的に示した説明図である。また、図5ではブラックマトリックス1及び透明導電膜3を省略してある。図5aは、ガラス基板10上に、1色目の着色画素2-1が形成された段階の断面図である。図5aに示すように、1色目の着色画素2-1の断面形状は台形であり、側面は順テーパーAとなっている。図5bは、続いて、着色フォトレジストの塗布膜12が形成された段階の断面図である。例えば、スピンナーを用いて着色フォトレジストを塗布すると、1色目の着色画素2-1上の塗布膜の膜厚T2は、ガラス基板10上の塗布膜の膜厚T1より薄く形成される。図5cは、続いて、着色フォトレジストの塗布膜12への第一フォトマスクPM1を介した露光が行われる段階の断面図である。着色フォトレジストとして、ネガ型の着色フォトレジストを用いた例であり、第一フォトマスクPM1の光透過部を透過した照射光Lにより、2色目の着色画素2-2を形成する露光が行われる。図5dは、露光された塗布膜12へ現像が行われている状態の断面図であり、現像の初期の段階の状態である。図5dに示すように、1色目の着色画素2-1上に設けられた塗布膜12は、現像により溶解、除去されているが、ガラス基板10上の塗布膜12は、現像によりその上部から溶解、除去されつつある。尚、現像の初期の段階とは、1色目の着色画素2-1上のフォトレジストの未露光の塗布膜が溶解、除去され、1色目の着色画素2-1の上面が露出した段階を指している。1色目の着色画素2-1上に設けられた塗布膜12が溶解、除去された段階で、1色目の着色画素2-1の上辺端Dに、2色目の着色画素2-2の上辺端Eが接した状態になっている。これは、1色目の着色画素2-1上に設けられた塗布膜12が溶解、除去された段階で、上記上辺端Dに上記上辺端Eが接するように、予め、光透過部を調節した第一フォトマスクPM1を用いたためであり、隙間が発生する原因をつきとめるために行ったものである。この状態から、現像を継続して進行させると、現像液20は、上辺端Dと上辺端Eが接した位置から、1色目の着色画素2-1の側面と2色目の着色画素2-2の側面の界面に浸透し、1色目の着色画素2-1の順テーパーAの側面に沿って2色目の着色画素2-2の下方に進み、この間の塗布膜12を溶解し、図5eに示すように、現像の終了の段階では1色目の着色画素2-1の側面と2色目の着色画素2-2の側面の間に隙間Cが形成される。そして、2色目の着色画素2-2の、1色目の着色画素2-1に対向する側面は逆テーパーBとなる。一方、1色目の着色画素2-1は、既にポストベーク処理が施された画素であり、現像液20によって溶解されることはない。従って、図5aに示すように、1色目の着色画素2-1の断面形状は台形であり、側面は順テーパーAのままである。尚、現像の終了の段階とは、ガラス基板10上のフォトレジストの未露光の塗布膜12が溶解、除去され、ガラス基板10の表面が露出した段階を指している。このようにして、1色目と2色目の着色画素間と同様に、2色目と3色目の着色画素間、及び3色目と1色目の着色画素間、すなわち、着色画素を形成する順次内での前色の着色画素と、隣接する後色の着色画素の間には、現像処理に起因した隙間Cが発生する。また、2色目以降の着色画素の少なくとも片側面は、逆テーパーBの断面形状となる図4c参照。また、図6a~bは、1色目の着色画素2-1上のフォトレジストの未露光の塗布膜12が溶解、除去された段階、すなわち、現像の初期の段階で、1色目の着色画素2-1の順テーパーAの側面に、2色目の着色画素2-2の側面端Hが接するように、予め、光透過部を調節した第二フォトマスクPM2を用いた場合の説明図である。図6aは、フォトレジストの塗布膜12への第二フォトマスクPM2を介した露光が行われる段階の断面図である。また、図6bは、現像の初期の段階の状態である。すなわち、1色目の着色画素2-1上に設けられた塗布膜12は、現像により溶解、除去されているが、ガラス基板10上の塗布膜12は、現像によりその上部からいて溶解、除去されつつある。1色目の着色画素2-1の順テーパーAの側面に、2色目の着色画素2-2の側面端Hが接した状態になっている。この状態から、現像を継続して進行させると、現像液20は、順テーパーAの側面に側面端Hが接した位置から、1色目の着色画素2-1の側面と2色目の着色画素2-2の側面の界面に浸透し、1色目の着色画素2-1の順テーパーAの側面に沿って2色目の着色画素2-2の下方に進み、この間の塗布膜12を溶解する。そして、図5d、eに示す挙動と同様に、現像の終了の段階では1色目の着色画素2-1の側面と2色目の着色画素2-2の側面の間に隙間Cが形成される。そして、2色目の着色画素2-2の、1色目の着色画素2-1に対向する側面は、逆順テーパーBとなる。また、一方、1色目の着色画素2-1は、既にポストベーク処理が施された画素であり、現像液20によって溶解されることはない。すなわち、1色目の着色画素2-1の断面形状は台形であり、側面は順テーパーAのままである。本発明は、上述した精査の結果に基づきなされたものである。図7a~cは、請求項1、2に係わる発明によるカラーフィルタの製造方法の一例の説明図である。この製造方法は、図7bに示すように、1色目の着色画素2-1上のフォトレジストの未露光の塗布膜12が溶解、除去された段階、すなわち、現像の初期の段階で、1色目の着色画素2-1の順テーパーAの側面に、2色目の着色画素2-2の側面端Hが接しないように2色目の着色画素2-2を形成し、且つ、図7cに示すように、現像の終了の段階で、1色目の着色画素2-1の下辺端Fに、2色目の着色画素2-2の下辺端Gが接するように、2色目の着色画素2-2を形成する製造方法である。また、図7aは、フォトレジストの塗布膜12への第四フォトマスクPM4を介した露光が行われる段階の断面図である。この第四フォトマスクPM4は、現像の初期の段階で、1色目の着色画素2-1の順テーパーAの側面に、2色目の着色画素2-2の側面端Hは接しないで2色目の着色画素2-2を形成するように、また、現像の終了の段階で、1色目の着色画素2-1の下辺端Fに、2色目の着色画素2-2の下辺端Gが接するように、予め、光透過部を調節した第四フォトマスクPM4を用いた。また、図7bは、現像の初期の段階の状態である。すなわち、1色目の着色画素2-1上に設けられた未露光の塗布膜12は、現像により溶解、除去されているが、ガラス基板10上の塗布膜12は、現像によりその上部から溶解、除去されつつある。1色目の着色画素2-1の順テーパーAの側面に、2色目の着色画素2-2の側面端Hが接しない状態になっている。この状態から、現像を継続して進行させると、現像液20は、塗布膜12の未露光部分を溶解、除去しつづけ、図7cに示すように、現像の終了の段階で、1色目の着色画素2-1の下辺端Fに、2色目の着色画素2-2の下辺端Gが接するように、2色目の着色画素2-2は形成される。従って、1色目の着色画素2-1と2色目の着色画素2-2の間には、前記隙間Cとは異なったV字状の隙間C’は発生するが、2色目の着色画素2-2の、1色目の着色画素2-1の面する側面は、順テーパーAとなっている。すなわち、1色目の着色画素2-1の側面、及び2色目の着色画素2-2の側面は、共に順テーパーAの側面であるので、前記隙間Cにおけるような透明導電膜の断線などが発生することはない。