"a一般式1:-OCOCR1=CH21式中、R1は水素原子又は炭素数1~20の有機基を表わすで表わされる基を1分子あたり平均して1個以上有する、メタアクリル系重合体および/またはオキシアルキレン系重合体を含有する、25°Cの環境下で粘度が1,000~20,000mPasである光硬化性組成物を画像表示部の貼り合わせに用い、製造プロセスに真空工程を含む画像表示装置の製造方法。光硬化性組成物がb一般式2:-[SiR22-bYbO]m-SiR33-aYa式中、R2およびR3は、同一若しくは異なって、炭素数1~20のアルキル基、炭素数6~20のアリール基、炭素数7~20のアラルキル基、またはR′3SiO-で表されるトリオルガノシロキシ基を示す式中、R′は炭素数1~20の1価の炭化水素基を示す。複数のR′は同一であってもよく又は異なっていてもよい。R2またはR3がそれぞれ2個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。Yは水酸基または加水分解性基を示す。Yが2個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。aは0、1、2または3を示す。bは0、1、または2を示す。mは0~19の整数を示す。ただし、amb≧1であることを満足する。で表わされる基を1分子あたり平均して1個以上有する、メタアクリル系重合体および/またはオキシアルキレン系重合体をさらに含有することを特徴とする請求項1に記載の画像表示装置の製造方法。真空工程が、組成物を基材上に塗布する前に、真空脱泡を行ってから基材へ塗布および接着を行うことを特徴とする、請求項1、2にいずれかに記載の画像表示装置の製造方法。真空工程が、組成物を基材の片面または両面に塗布した後、2枚の基材を真空チャンバに入れ、チャンバ内を102Pa以下の真空状態にしてから貼り合わせを行うことを特徴とする、請求項1~3のいずれかに記載の画像表示装置の製造方法。a成分およびb成分の重合体の分子量分布が1.8未満である、請求項1~4のいずれかに記載の画像表示装置の製造方法。光硬化性組成物がc一般式3:-OCOCR4=CH23式中、R4は水素原子又は炭素数1~20の有機基を表わすで表わされる基を1個以上有する、分子量500以下である化合物を1~50重量含有することを特徴とする請求項1~5のいずれかに記載の画像表示装置の製造方法。光硬化性組成物が光重合開始剤を含むことを特徴とする請求項1~6のいずれかに記載の画像表示装置の製造方法。本発明は、25°Cにおける粘度が1000mPas以上の組成物を使用し、その組成物が真空脱泡や真空雰囲気での貼り合わせなど、真空工程で使用される画像表示装置の製造方法の提供を目的とする。上述の現状に鑑み、本発明者らが鋭意検討した結果、メタアクリル系重合体、オキシアルキレン系重合体を主成分として含む化合物を必須成分とする光硬化性組成物を使用することで画像表示装置を効率よく製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち本発明は、a一般式1:-OCOCR1=CH21式中、R1は水素原子又は炭素数1~20の有機基を表わすで表わされる基を1分子あたり平均して1個以上有する、メタアクリル系重合体および/またはオキシアルキレン系重合体を含有する、25°Cの環境下で粘度が1,000~20,000mPas以上である光硬化性組成物を画像表示部の貼り合わせに用い、製造プロセスに真空工程を含む画像表示装置の製造方法に関する。光硬化性組成物がb一般式2:-[SiR22-bYbO]m-SiR33-aYa式中、R2およびR3は、同一若しくは異なって、炭素数1~20のアルキル基、炭素数6~20のアリール基、炭素数7~20のアラルキル基、またはR′3SiO-で表されるトリオルガノシロキシ基を示す式中、R′は炭素数1~20の1価の炭化水素基を示す。複数のR′は同一であってもよく又は異なっていてもよい。R2またはR3がそれぞれ2個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。Yは水酸基または加水分解性基を示す。Yが2個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。aは0、1、2または3を示す。bは0、1、または2を示す。mは0~19の整数を示す。ただし、amb≧1であることを満足する。で表わされる基を1分子あたり平均して1個以上有するメタアクリル系重合体、および/またはオキシアルキレン系重合体をさらに含有することが好ましい。真空工程が、組成物を基材上に塗布する前に、真空脱泡を行ってから基材へ塗布および接着を行うことが好ましい。真空工程が、組成物を基材の片面または両面に塗布した後、2枚の基材を真空チャンバに入れ、チャンバ内を102Pa以下の真空状態にしてから貼り合わせを行うことが好ましい。a成分およびb成分の重合体の分子量分布が1.8未満であることが好ましい。光硬化性組成物がc一般式3:-OCOCR4=CH23式中、R4は水素原子又は炭素数1~20の有機基を表わすで表わされる基を1個以上有する、分子量500以下である化合物を1~50重量含有することが好ましい。光硬化性組成物が光重合開始剤を含むことが好ましい。本発明に用いられる光硬化性組成物は、同程度の粘度である他の重合体を使用した組成物と比較してより速やかに脱泡されるため、画像表示装置の製造効率が向上する。以下、本発明について詳述する。<<a成分およびb成分>>a成分は、一般式1:-OCOCR1=CH21式中、R1は水素原子又は炭素数1~20の有機基を表わすで表わされる基を有する、メタアクリル系重合体および/またはオキシアルキレン系重合体である。b成分は、b一般式2:-[SiR22-bYbO]m-SiR33-aYa式中、R2およびR3は、同一若しくは異なって、炭素数1~20のアルキル基、炭素数6~20のアリール基、炭素数7~20のアラルキル基、またはR′3SiO-で表されるトリオルガノシロキシ基を示す式中、R′は炭素数1~20の1価の炭化水素基を示す。複数のR′は同一であってもよく又は異なっていてもよい。R2またはR3がそれぞれ2個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。Yは水酸基または加水分解性基を示す。Yが2個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。aは0、1、2または3を示す。bは0、1、または2を示す。mは0~19の整数を示す。ただし、amb≧1であることを満足する。で表わされる基を有する、メタアクリル系重合体および/またはオキシアルキレン系重合体である。a成分における1式およびb成分における2式の構造は、架橋点間分子量を均一かつ大きく好ましくは500~100000にすることで良好なゴム弾性が得られるという観点から、各重合体の分子末端に存在することが好ましい。1式中のR1は、水素原子または炭素数1~20の有機基を表わす。前記炭素数1~20の炭化水素基としては、炭素数1~20のアルキル基、炭素数6~20のアリール基、炭素数7~20のアラルキル基、ニトリル基などがあげられ、これらは水酸基などの置換基を有していてもよい。前記炭素数1~20のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基など、炭素数6~20のアリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基など、炭素数7~20のアラルキル基としては、例えばベンジル基、フェニルエチル基などがあげられる。Raの具体例としては、例えば-H、-CH3、-CH2CH3、-CH2nCH3nは2~19の整数を表わす、-C6H5、-CH2OH、-CNなどがあげられ、好ましくは-H、-CH3である。b成分におけるYの加水分解性基としては、たとえば、水素原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、ケトキシメート基、アミノ基、アミド基、アミノオキシ基、メルカプト基、アルケニルオキシ基などの一般に使用されている基があげられる。これらのうちでは、アルコキシ基、アミド基、アミノオキシ基が好ましいが、加水分解性がマイルドで取り扱い易いという点から、アルコキシ基がとくに好ましい。a成分およびb成分の主鎖を構成するための原料に特に限定はなく、各種のものを用いることができる。例示するならばメタアクリル系重合体に関しては、メタアクリル酸、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸n-プロピル、メタアクリル酸イソプロピル、メタアクリル酸n-ブチル、メタアクリル酸イソブチル、メタアクリル酸tert-ブチル、メタアクリル酸n-ペンチル、メタアクリル酸n-ヘキシル、メタアクリル酸シクロヘキシル、メタアクリル酸n-ヘプチル、メタアクリル酸n-オクチル、メタアクリル酸2-エチルヘキシル、メタアクリル酸ノニル、メタアクリル酸デシル、メタアクリル酸ドデシル、メタアクリル酸フェニル、メタアクリル酸トルイル、メタアクリル酸ベンジル、メタアクリル酸-2-メトキシエチル、メタアクリル酸3-メトキシブチル、メタアクリル酸2-ヒドロキシエチル、メタアクリル酸2-ヒドロキシプロピル、メタアクリル酸ステアリル、メタアクリル酸グリシジル、メタアクリル酸2-アミノエチル、γ-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、メタアクリル酸のエチレンオキサイド付加物、メタアクリル酸トリフルオロメチルメチル、メタアクリル酸2-トリフルオロメチルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロエチルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロエチル-2-パーフルオロブチルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロエチル、メタアクリル酸パーフルオロメチル、メタアクリル酸ジパーフルオロメチルメチル、メタアクリル酸2-パーフルオロメチル-2-パーフルオロエチルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロヘキシルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロデシルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロヘキサデシルエチルなどのメタアクリル系モノマーを用いることができる。これらは、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。オキシアルキレン系重合体に関しては、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、ポリブチレンオキサイド、ポリフェニレンオキサイド等を用いることができ、これらについても単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。またこれらの中では特にポリオキシアルキレンであることが好ましい。a成分およびb成分の分子量分布ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCで測定した重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnの比には、特に限定はないが、好ましくは1.8未満、より好ましくは1.7以下、さらに好ましくは1.6以下、特に好ましくは1.5以下、特別に好ましくは1.4以下、最も好ましくは1.3以下である。なお、本発明におけるGPC測定の際には、通常は、クロロホルムまたはテトラヒドロフランを移動相として、ポリスチレンゲルカラムを使用し、分子量の値はポリスチレン換算値で求めている。a成分およびb成分の数平均分子量の下限は、好ましくは500、より好ましくは3,000であり、上限は、好ましくは100,000、より好ましくは40,000である。分子量が500未満であると、重合体の本来の特性が発現されにくくなる傾向があり、100,000をこえると、ハンドリングが困難になりやすい傾向がある。上記重合体の重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnの比Mw/Mnの値が1.8未満であることが好ましい。<<a成分およびb成分の製造方法>><重合方法>a成分およびb成分の製法については特に限定はないが、メタアクリル系重合体は一般にラジカル重合によって製造される。ラジカル重合の中でも、リビングラジカル重合あるいは連鎖移動剤を用いたラジカル重合によって製造されるのが好ましく、特に前者が好ましい。a成分およびb成分のメタアクリル系重合体の製造に用いられるラジカル重合法は、重合開始剤としてアゾ系化合物、過酸化物などを用いて、特定の官能基を有するモノマーとメタアクリル系モノマーとを単に共重合させる一般的なラジカル重合法と、末端などの制御された位置に特定の官能基を導入することが可能な制御ラジカル重合法に分類することができる。一般的なラジカル重合法は簡便な方法であるが、この方法では特定の官能基を有するモノマーは確率的にしか重合体中に導入されないので、官能化率の高い重合体を得ようとした場合には、このモノマーをかなり大量に使う必要があり、逆に少量の使用ではこの特定の官能基が導入されない重合体の割合が大きくなるという問題がある。また、フリーラジカル重合であるため、分子量分布が広く粘度の高い重合体しか得られないという問題もある。制御ラジカル重合法は、さらに、特定の官能基を有する連鎖移動剤を用いて重合を行なうことにより末端に官能基を有する系重合体が得られる連鎖移動剤法と、重合生長末端が停止反応などを起こさずに生長することによりほぼ設計どおりの分子量の重合体が得られるリビングラジカル重合法とに、分類することができる。連鎖移動剤法は、官能化率の高い重合体を得ることが可能であるが、開始剤に対してかなり大量の特定の官能基を有する連鎖移動剤が必要であり、処理も含めて経済面で問題がある。また、前記の一般的なラジカル重合法と同様、フリーラジカル重合であるため分子量分布が広く、粘度の高い重合体しか得られないという問題もある。これらの重合法とは異なり、リビングラジカル重合法は、重合速度が高く、ラジカル同士のカップリングなどによる停止反応が起こりやすいため制御が難しいとされるラジカル重合でありながら、停止反応が起こりにくく、分子量分布の狭いMw/Mnが1.1~1.5程度重合体が得られるとともに、モノマーと開始剤の仕込み比によって分子量を自由にコントロールすることができる。リビングラジカル重合法は、分子量分布が狭く、粘度が低い重合体を得ることができる上に、特定の官能基を有するモノマーを重合体のほぼ任意の位置に導入することができるため、前記特定の官能基を有するビニル系重合体の製造方法としてはより好ましいものである。その例としては、例えばジャーナルオブジアメリカンケミカルソサイエティーJ.Am.Chem.Soc.、1994年、116巻、7943頁に示されるようなコバルトポルフィリン錯体を用いるもの、マクロモレキュルズMacromolecules、1994年、27巻、7228頁に示されるようなニトロキシド化合物などのラジカル捕捉剤を用いるもの、有機ハロゲン化物などを開始剤とし遷移金属錯体を触媒とする原子移動ラジカル重合AtomTransferRadicalPolymerization:ATRPなどがあげられる。リビングラジカル重合法の中でも、有機ハロゲン化物あるいはハロゲン化スルホニル化合物などを開始剤、遷移金属錯体を触媒としてビニル系モノマーを重合するATRPは、前記のリビングラジカル重合法の特徴に加えて、官能基変換反応に比較的有利なハロゲンなどを末端に有し、開始剤や触媒の設計の自由度が大きいことから、特定の官能基を有するビニル系重合体の製造方法としては、さらに好ましい。前記ATRPとしては、例えばMatyjaszewskiら、ジャーナルオブジアメリカンケミカルソサイエティーJ.Am.Chem.Soc.1995年、117巻、5614頁、マクロモレキュルズMacromolecules1995年、28巻、7901頁、サイエンスScience1996年、272巻、866頁、WO96/30421号パンフレット,WO97/18247号パンフレットあるいはSawamotoら、マクロモレキュルズMacromolecules1995年、28巻、1721頁などに記載の方法があげられる。また、オキシアルキレン系重合体についても特に限定はないが、例えばKOHのようなアルカリ触媒による重合法、たとえば特開昭61-215623号公報に示される有機アルミニウム化合物とポルフィリンとを反応させて得られる錯体のような遷移金属化合物-ポルフィリン錯体触媒による重合法、たとえば特公昭46-27250号公報および特公昭59-15336号公報などに示される複合金属シアン化物錯体触媒による重合法、セシウム触媒による重合法、ホスファゼン触媒による重合法等があげられる。中でも、高分子量でかつ着色の少ない重合体が容易に得られる点からは、複合金属シアン化物錯体触媒による重合法が好ましい。この他、オキシアルキレン系重合体の主鎖骨格は、水酸基末端オキシアルキレン重合体を塩基性化合物、例えばKOH、NaOH、KOCH3、NaOCH3等の存在下、2官能以上のハロゲン化アルキル、例えばCH2Cl2、CH2Br2等による鎖延長等によっても得ることができる。さらに、上記オキシアルキレン系重合体の主鎖骨格中にはオキシアルキレン系重合体の特性を大きく損なわない範囲でウレタン結合成分等の他の成分を含んでいてもよい。<炭素-炭素二重結合基の導入方法>1式のような重合性の炭素-炭素二重結合をメタアクリル系重合体へ導入する方法としては、公知の方法を利用することができる。例えば、特開2004-203932号公報段落[0080]~[0091]記載の方法が挙げられる。これらの方法以外としては、水酸基末端を有するメタアクリル系重合体にイソシアネート基および1式のような重合性の炭素-炭素二重結合を有するモノマーを反応させる方法があり、例えば2‐メタアクリロイルオキシエチルイソシアネートなどを用いる方法が挙げられる。オキシアルキレン重合体への重合性の炭素-炭素二重結合を導入する方法としては、特に限定がないが例えば以下の方法がある。1.水酸基末端を有するポリオキシアルキレンに1式を有する酸クロライド化合物を反応させる方法。2.水酸基末端を有するポリオキシアルキレンにイソシアネート基および1式のような重合性の炭素-炭素二重結合を有するモノマー、例えば2‐メタアクリロイルオキシエチルイソシアネートなどを反応させる方法。3.水酸基末端を有するポリオキシアルキレンに多官能性のイソシアナートおよび水酸基を含有するビニルモノマーを反応させる方法。4.ヒドロシリル化可能な二重結合末端例えばアリル基末端ポリオキシアルキレンに多官能タイプのヒドロシリル化合物を反応させ、更にアリルメタアクリレート等のヒドロシリル化可能な化合物を反応させる方法など。これらのうち反応の簡便性の点で2.~4.のいずれかの方法が好ましく、反応の安定性の点で2.もしくは3.の方法がより好ましい。<架橋性シリル基の導入方法b成分の合成方法>メタアクリル系重合体へ架橋性シリル基を導入する方法としては特に限定がないが、例えば特開2004-210858号公報段落102~112記載の方法が挙げられる。これらの方法の中でも制御がより容易である点から、架橋性シリル基を持つヒドロシラン化合物によるヒドロシリル化反応により、末端アルケニル基を有する重合体のアルケニル基を架橋性シリル基に変換する方法により製造されたものであることが好ましい。オキシアルキレン重合体へ架橋性シリル基を導入する方法としては特に限定がないが、例えば以下の方法がある。1.水酸基などの官能基を有するオキシアルキレン系重合体にオレフィン基を導入した後に、一般式4で表されるヒドロシリル化合物を反応させる方法。一般式4:HSiYaR33‐a式中R3、Y、aは一般式2に同じここでオレフィン基を導入する方法としては、不飽和基及び水酸基と反応しうる官能基を併有する化合物をオキシアルキレン系重合体の水酸基に反応させて、エーテル結合、エステル結合、ウレタン結合、カーボネート結合などにより結合させる方法、あるいはアルキレンオキシドを重合する際に、アリルグリシジルエーテルなどのオレフィン基含有エポキシ化合物を添加して共重合させることによりオレフィン基を導入する方法などが挙げられる。2.イソシアネート化合物と反応しうる官能基を有するオキシアルキレン系重合体に一般式5で表される化合物を反応させる方法。一般式5:R32‐aXaSi-R5-NCO式中R3、X、aは前記に同じ。R5は炭素数1~17の2価の炭化水素基を表す。3.イソシアネート化合物と反応しうる官能基を有するオキシアルキレン系重合体にトリレンジイソシアネートなどのポリイソシアネート化合物を反応させてイソシアネート基を導入した後、該イソシアネート基に一般式6で表されるケイ素化合物のW基を反応させる方法。一般式6:R32‐aXaSi-R5-W式中R3、R5、X、aは前記に同じ。Wは水酸基、カルボキシル基、メルカプト基およびアミノ基1級または2級から選ばれた活性水素含有基。4.オレフィン基が導入可能な官能基を有するオキシアルキレン系重合体にオレフィン基を導入し、そのオレフィン基と、Wがメルカプト基である一般式6で表されるケイ素化合物を反応させる方法。これらの中では導入収率と導入方法の簡便さから、1.または2.の方法が好ましく、粘度等の樹脂物性の点で1.の方法がより好ましい。<<粘度>>ストークスの式によると、v=Dp2ρp-ρfg/η式中、v;粒子の沈降上昇速度、Dp;粒子径、ρp;粒子密度、ρf;流体密度、g;重力加速度、η;流体粘度を表す。で、脱泡における気泡を粒子とみなすとvは気泡の上昇速度と考えられる。するとこの速度は流体粘度に反比例するため、粘度が低いほど脱泡は容易であるといえる。しかし、粘度が低すぎると上述のとおり反応性希釈モノマーを大量に必要とする可能性が高いため好ましくなく、またそうでなくともディスペンサーのニードルからの液だれや、組成物を塗布したパターンが流動して崩れる、貼り合わせ後端面から液が流れ出る、などといった現象が起こるので、1000mPas以上であることが好ましい。本発明において粘度の上限に限定はないが、粘度が高すぎるとディスペンス速度が低下する上、貼り合わせ後の樹脂の展開速度も落ちるので20,000mPas以下であることが好ましく、さらには10,000mPas以下であることが好ましい。<<c成分>>c成分は、一般式3:-OCOCR4=CH23式中、R4は水素原子又は炭素数1~20の有機基を表わすで表される基を分子末端に1個以上有する化合物、である。3の構造を1個以上有する化合物であれば、特に限定はないが、例えば、単官能メタアクリレート類、多官能メタアクリレート類などが挙げられる。単官能メタアクリレートとしては、メタアクリル酸、エチルメタアクリレート、1-メトキシエチルメタアクリレート、プロピルメタアクリレート、ブチルメタアクリレート、ペンチルメタアクリレート、ヘキシルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、ヘプチルメタアクリレート、オクチルメタアクリレート、イソオクチルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、ノニルメタアクリレート、デシルメタアクリレート、ドデシルメタアクリレート、ラウリルメタアクリレート、ステアリルメタアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、フェニルメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート、フェノキシジエチレングリコールメタアクリレート、フェノキシテトラエチレングリコールメタアクリレート、ノニルフェノキシエチルメタアクリレート、ノニルフェノキシテトラエチレングリコールメタアクリレート、メトキシジエチレングリコールメタアクリレート、エトキシジエチレングリコールメタアクリレート、ブトキシエチルメタアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールメタアクリレート、2-エチルヘキシルポリエチレングリコールメタアクリレート、ノニルフェニルポリプロピレングリコールメタアクリレート、メトキシジプロピレングリコールメタアクリレート、グリシジルメタアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタアクリレート、グリセロールメタアクリレート、ポリエチレングリコールメタアクリレート、ポリプロピレングリコールメタアクリレート、エピクロロヒドリン変性ブチルメタアクリレート、エピクロロヒドリン変性フェノキシメタアクリレート、エチレンオキサイド変性フタル酸メタアクリレート、エチレンオキサイド変性コハク酸メタアクリレート、カプロラクトン変性2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、N,N-ジメチルアミノエチルメタアクリレート、N,N-ジエチルアミノエチルメタアクリレート、モルホリノメタアクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸メタアクリレート、トリメトキシシリルメタアクリレートなどが挙げられる。多官能アクリレートとしては、1、3-ブチレングリコールジメタアクリレート、1,4-ブチレングリコールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、1,6-ヘキサングリコールジメタアクリレート、エチレングリコールジメタアクリレ-ト、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、プロピレングリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、エチレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、プロピレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ビスフェノールAジメタアクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジメタアクリレート、エピクロロヒドリン変性ビスフェノールAジメタアクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールSジメタアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジメタアクリレート、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジメタアクリレート、ジシクロペンテニルジアクリレート、エチレンオキサイド変性ジシクロペンテニルジメタアクリレート、ジメタアクリロイルイソシアヌレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート等が挙げられる。c成分としては、これらの化合物を単独で用いても良いし、複数を用いることも可能である。c成分は1~50重量用いることが好ましい。1重量未満だと、硬化後の基材に対する接着力が確保できないため好ましくなく、50重量を超えると体積収縮率が大きくなるため好ましくない。さらには、5~40重量であればより好ましい。<<光硬化性組成物>><光重合開始剤>本発明に用いられる光硬化性組成物には、特に限定されないが、速く硬化させたり、充分な性状の硬化物を得たりするために光重合開始剤を使用することが好ましい。光重合開始剤としては、特に限定はないが、光重合開始剤としては、光ラジカル開始剤、光アニオン開始剤、近赤外光重合開始剤等が挙げられ、光ラジカル開始剤、光アニオン開始剤が好ましく、光ラジカル開始剤が特に好ましい。光ラジカル開始剤としては、例えば、アセトフェノン、プロピオフェノン、ベンゾフェノン、キサントール、フルオレイン、ベンズアルデヒド、アンスラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3-メチルアセトフェノン、4-メチルアセトフェノン、3-ペンチルアセトフェノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、4-メトキシアセトフェノン、3-ブロモアセトフェノン、4-アリルアセトフェノン、p-ジアセチルベンゼン、3-メトキシベンゾフェノン、4-メチルベンゾフェノン、4-クロロベンゾフェノン、4,4’-ジメトキシベンゾフェノン、4-クロロ-4’-ベンジルベンゾフェノン、3-クロロキサントーン、3,9-ジクロロキサントーン、3-クロロ-8-ノニルキサントーン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ビス4-ジメチルアミノフェニルケトン、ベンジルメトキシケタール、2-クロロチオキサントーン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン、2-メチル-1-[4-メチルチオフェニル]-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタノン-1、ジベンゾイル等が挙げられる。これらのうち、α-ヒドロキシケトン化合物例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン等、フェニルケトン誘導体例えば、アセトフェノン、プロピオフェノン、ベンゾフェノン、3-メチルアセトフェノン、4-メチルアセトフェノン、3-ペンチルアセトフェノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、4-メトキシアセトフェノン、3-ブロモアセトフェノン、4-アリルアセトフェノン、3-メトキシベンゾフェノン、4-メチルベンゾフェノン、4-クロロベンゾフェノン、4,4’-ジメトキシベンゾフェノン、4-クロロ-4’-ベンジルベンゾフェノン、ビス4-ジメチルアミノフェニルケトン等が好ましい。光アニオン開始剤としては、例えば、1,10-ジアミノデカン、4,4’-トリメチレンジピペラジン、カルバメート類及びその誘導体、コバルト-アミン錯体類、アミノオキシイミノ類、アンモニウムボレート類等が挙げられる。近赤外光重合開始剤としては、近赤外光吸収性陽イオン染料等を使用しても構わない。近赤外光吸収性陽イオン染料としては、650~1500nmの領域の光エネルギーで励起する、例えば特開平3-111402号公報、特開平5-194619号公報等に開示されている近赤外光吸収性陽イオン染料-ボレート陰イオン錯体等を用いるのが好ましく、ホウ素系増感剤を併用することがさらに好ましい。これらの光重合開始剤は、単独、又は2種以上混合して用いても、他の化合物と組み合わせて用いてもよい。他の化合物との組み合わせとしては、具体的には、ジエタノールメチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアミンとの組み合わせ、さらにこれにジフェニルヨードニウムクロリド等のヨードニウム塩を組み合わせたもの、メチレンブルー等の色素及びアミンと組み合わせたもの等が挙げられる。なお、前記光重合開始剤を使用する場合、必要により、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ベンゾキノン、パラターシャリーブチルカテコール等の重合禁止剤類を添加することもできる。光重合開始剤を使用する場合、その添加量は特に制限はないが、硬化性と貯蔵安定性の点から、a成分100重量部に対して、0.001~10重量部が好ましい。より好ましくは0.01~10重量部であり、さらに好ましくは0.1~10重量部である。<硬化触媒>本発明において、硬化触媒を使用することが可能である。本発明のb成分のような加水分解性のアルコキシシリル基を平均して少なくとも一個有する化合物は、従来公知の各種縮合触媒硬化触媒、硬化剤と言うこともあるの存在下、あるいは非存在下にシロキサン結合を形成することにより架橋、硬化する。硬化物の性状としては、重合体の分子量と主鎖骨格に応じて、ゴム状のものから樹脂状のものまで幅広く作製することができる。本発明に用いられる光硬化性組成物には、架橋性アルコキシシリル基を有する重合体に用いる従来公知の各種縮合触媒を用いても構わないが、有機金属、酸触媒、酸塩基触媒が好ましく、有機錫触媒、リン酸、リン酸アミン系触媒がより好ましい。<有機金属系触媒>有機金属触媒としては、例えば、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジエチルヘキサノエート、ジブチル錫ジオクテート、ジブチル錫ジメチルマレート、ジブチル錫ジエチルマレート、ジブチル錫ジブチルマレート、ジブチル錫ジイソオクチルマレート、ジブチル錫ジトリデシルマレート、ジブチル錫ジベンジルマレート、ジブチル錫マレエート、ジオクチル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジステアレート、ジオクチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジエチルマレート、ジオクチル錫ジイソオクチルマレート等のジアルキル錫ジカルボキシレート類、例えば、ジブチル錫ジメトキシド、ジブチル錫ジフェノキシド等のジアルキル錫アルコキサイド類、例えば、ジブチル錫ジアセチルアセトナート、ジブチル錫ジエチルアセトアセテートなどのジアルキル錫の分子内配位性誘導体類、例えば、ジブチル錫オキサイドやジオクチル錫オキサイド等のジアルキル錫オキサイドと例えば、ジオクチルフタレート、ジイソデシルフタレート、メチルマレエート等のエステル化合物との反応物、ジアルキル錫オキサイド、カルボン酸およびアルコール化合物を反応させて得られる錫化合物、例えば、ジブチル錫ビストリエトキシシリケート、ジオクチル錫ビストリエトキシシリケート等のジアルキル錫オキサイドとシリケート化合物との反応物、およびこれらジアルキル錫化合物のオキシ誘導体スタノキサン化合物等の4価の錫化合物類;例えば、オクチル酸錫、ナフテン酸錫、ステアリン酸錫、フェルザチック酸錫等の2価の錫化合物類、あるいはこれらと後述のラウリルアミン等のアミン系化合物との反応物および混合物;例えば、モノブチル錫トリスオクトエートやモノブチル錫トリイソプロポキシド等のモノブチル錫化合物やモノオクチル錫化合物等のモノアルキル錫類;、例えば、テトラブチルチタネート、テトラプロピルチタネート、テトラ2-エチルヘキシルチタネート、イソプロポキシチタンビスエチルアセトアセテート等のチタン酸エステル類;アルミニウムトリスアセチルアセトナート、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート、ジ-イソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート等の有機アルミニウム化合物類;カルボン酸ビスマス、カルボン酸鉄、カルボン酸チタニウム、カルボン酸鉛、カルボン酸バナジウム、カルボン酸ジルコニウム、カルボン酸カルシウム、カルボン酸カリウム、カルボン酸バリウム、カルボン酸マンガン、カルボン酸セリウム、カルボン酸ニッケル、カルボン酸コバルト、カルボン酸亜鉛、カルボン酸アルミニウム等のカルボン酸2-エチルヘキサン酸、ネオデカン酸、バーサチック酸、オレイン酸、ナフテン酸等金属塩、ラウリルアミン等のアミン系化合物との反応物および混合物;ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムトリブトキシアセチルアセトナート、ジブトキシジルコニウムジアセチルアセトナート、ジルコニウムアセチルアセトナートビスエチルアセトアセテート、チタンテトラアセチルアセトナート等のキレート化合物類;メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、アミルアミン、ヘキシルアミン、オクチルアミン、2-エチルヘキシルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ラウリルアミン、ペンタデシルアミン、セチルアミン、ステアリルアミン、シクロヘキシルアミン等の脂肪族第一アミン類;ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジアミルアミン、ジオクチルアミン、ジ2-エチルヘキシルアミン、ジデシルアミン、ジラウリルアミン、ジセチルアミン、ジステアリルアミン、メチルステアリルアミン、エチルステアリルアミン、ブチルステアリルアミン等の脂肪族第二アミン類;トリアミルアミン、トリヘキシルアミン、トリオクチルアミン等の脂肪族第三アミン類;トリアリルアミン、オレイルアミン、などの脂肪族不飽和アミン類;ラウリルアニリン、ステアリルアニリン、トリフェニルアミン等の芳香族アミン類;および、その他のアミン類として、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、オレイルアミン、シクロヘキシルアミン、ベンジルアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、キシリレンジアミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、グアニジン、ジフェニルグアニジン、2,4,6-トリスジメチルアミノメチルフェノール、モルホリン、N-メチルモルホリン、2-エチル-4-メチルイミダゾール、1,8-ジアザビシクロ5,4,0ウンデセン-7DBU等のアミン系化合物、あるいはこれらのアミン系化合物のカルボン酸等との塩;ラウリルアミンとオクチル酸錫の反応物あるいは混合物のようなアミン系化合物と有機錫化合物との反応物および混合物;過剰のポリアミンと多塩基酸とから得られる低分子量ポリアミド樹脂;過剰のポリアミンとエポキシ化合物との反応生成物;γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、N-β-アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、N-β-アミノエチルアミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-β-アミノエチルアミノプロピルトリエトキシシラン、N-β-アミノエチルアミノプロピルメチルジエトキシシラン、N-β-アミノエチルアミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ-ウレイドプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-ベンジル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-ビニルベンジル-γ-アミノプロピルトリエトキシシラン等を挙げることができる。また、これらを変性した誘導体である、アミノ変性シリルポリマー、シリル化アミノポリマー、不飽和アミノシラン錯体、フェニルアミノ長鎖アルキルシラン、アミノシリル化シリコーン等のアミノ基を有するシランカップリング剤;等のシラノール縮合触媒、さらにはフェルザチック酸等の脂肪酸や有機酸性リン酸エステル化合物等他の酸性触媒、塩基性触媒等の公知のシラノール縮合触媒等が例示できる。これらの触媒は、単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。<酸系触媒>酸系触媒としては、スルホン酸系、カルボン酸系、リン酸系、硝酸系、フッ酸系触媒等がある。硬化活性と貯蔵安定性のバランスの点でスルホン酸系、リン酸系、カルボン酸系が好ましい。具体的な例示としては、スルホン酸系としては、硫酸、パラトルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等がある。カルボン酸の具体例としては、アクリル酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、バーサチック酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、琥珀酸、これらの無水物が挙げられる。リン酸系しては、リン酸、有機リン酸エステル等がある。より具体的には酸性触媒の有機酸性リン酸エステル化合物としては、CH3O2-P=O-OH、CH3O-P=O-OH2、C2H5O2-P=O-OH、C2H5O-P=O-OH2、C3H7O2-P=O-OH、C3H7O-P=O-OH2、C4H9O2-P=O-OH、C4H9O-P=O-OH2、C8H17O2-P=O-OH、C8H17O-P=O-OH2、C10H21O2-P=O-OH、C10H21O-P=O-OH2、C13H27O2-P=O-OH、C13H27O-P=O-OH2、C16H33O2-P=O-OH、C16H33O-P=O-OH2、HO-C6H12O2-P=O-OH、HO-C6H12O-P=O-OH2、HO-C8H16O-P=O-OH、HO-C8H16O-P=O-OH2、[CH2OHCHOHO]2-P=O-OH、[CH2OHCHOHO]-P=O-OH2、[CH2OHCHOHC2H4O]2-P=O-OH、[CH2OHCHOHC2H4O]-P=O-OH2などがあげられるが、例示物質に限定されるものではない。<酸塩基触媒>酸塩基触媒としては、前述の酸系触媒と、後述アミン化合物の組み合わせアミン化合物アミン化合物としては、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、アミルアミン、ヘキシルアミン、オクチルアミン、2-エチルヘキシルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ラウリルアミン、ペンタデシルアミン、セチルアミン、ステアリルアミン、シクロヘキシルアミン等の脂肪族第一アミン類;ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジアミルアミン、ジオクチルアミン、ジ2-エチルヘキシルアミン、ジデシルアミン、ジラウリルアミン、ジセチルアミン、ジステアリルアミン、メチルステアリルアミン、エチルステアリルアミン、ブチルステアリルアミン等の脂肪族第二アミン類;トリアミルアミン、トリヘキシルアミン、トリオクチルアミン等の脂肪族第三アミン類;トリアリルアミン、オレイルアミン、などの脂肪族不飽和アミン類;ラウリルアニリン、ステアリルアニリン、トリフェニルアミン等の芳香族アミン類;および、その他のアミン類として、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、オレイルアミン、シクロヘキシルアミン、ベンジルアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、キシリレンジアミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、グアニジン、ジフェニルグアニジン、2,4,6-トリスジメチルアミノメチルフェノール、モルホリン、N-メチルモルホリン、2-エチル-4-メチルイミダゾール、1,8-ジアザビシクロ5,4,0ウンデセン-7DBU等のアミン系化合物、ポリアミン化合物、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、N-β-アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、N-β-アミノエチルアミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-β-アミノエチルアミノプロピルトリエトキシシラン、N-β-アミノエチルアミノプロピルメチルジエトキシシラン、N-β-アミノエチルアミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ-ウレイドプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-ベンジル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-ビニルベンジル-γ-アミノプロピルトリエトキシシラン等を挙げることができる。また、これらを変性した誘導体である、アミノ変性シリルポリマー、シリル化アミノポリマー、不飽和アミノシラン錯体、フェニルアミノ長鎖アルキルシラン、アミノシリル化シリコーン等のアミノ基を有するシランカップリング剤等のアミノ基を有するアミノシラン系化合物;等が挙げられるが、例示物質に限定されるものではない。また、アミノシラン系化合物の中では、メトキシ基、エトキシ基等が加水分解速度の点から好ましい。加水分解性基の個数は、2個以上、特に3個以上が好ましい。これらのアミン化合物は、1種類のみで使用しても良いし、2種類以上混合使用しても良い。上記酸塩基系触媒は、添加する場合、事前に硬化触媒と混合、反応させても構わないし、後から混合しても構わない。事前に混合、反応させておくと、触媒活性がより高くなり、速硬化性を実現できる場合がある。また、酸とアミンの当量比モル比としては、酸/アミンで0.1~50である。硬化性、ポットライフ、貯蔵安定性の点で、0.3~40が好ましく、0.5~30が好ましい。また、本発明に用いられる光硬化性組成物においては、縮合触媒の活性をより高めるために、アミン系化合物と同様に、上記のアミノ基を有するシランカップリング剤を助触媒として使用することも可能である。このアミノ基含有シランカップリング剤は、加水分解性基が結合したケイ素原子を含む基以下加水分解性シリル基という及びアミノ基を有する化合物であり、この加水分解性基として既に例示した基を挙げることができるが、メトキシ基、エトキシ基等が加水分解速度の点から好ましい。加水分解性基の個数は、2個以上、特に3個以上が好ましい。これらの触媒を添加する場合の配合量は、加水分解性シリル基を平均して少なくとも一個有する化合物b100重量部に対して0.01~50重量部程度が好ましく、更に0.1~20重量部がより好ましい。アミン化合物の配合量が0.01重量部未満であると硬化速度が遅くなる場合があり、また硬化反応が充分に進行し難くなる場合がある。一方、アミン化合物の配合量が50重量部を越えると、ポットライフが短くなり過ぎる場合があり、作業性の点から好ましくない。更に、アミノ基やシラノール基をもたないケイ素化合物を助触媒として添加しても構わない。これらのケイ素化合物としては、限定はされないが、フェニルトリメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルジメチルメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、トリフェニルメトキシシラン等が好ましい。特に、ジフェニルジメトキシシランやジフェニルジエトキシシランは、低コストであり、入手が容易であるために最も好ましい。このケイ素化合物の配合量は、加水分解性シリル基を平均して少なくとも一個有する化合物b100部に対して0.01~20部程度が好ましく、0.1~10部が更に好ましい。ケイ素化合物の配合量がこの範囲を下回ると硬化反応を加速する効果が小さくなる場合がある。一方、ケイ素化合物の配合量がこの範囲を上回ると、硬化物の硬度や引張強度が低下することがある。なお、硬化触媒硬化剤の種類や添加量は目的や用途に応じて本発明の硬化性や機械物性等を制御することが可能である。また、架橋性シリル基を有する重合体のシリル基の反応性によっても硬化触媒硬化剤の種類や添加量を変えることが可能であり、反応性が高い場合は0.01~1部の少量の範囲で充分硬化させることが可能である。硬化触媒硬化剤の種類や添加量は、例えば、本発明の加水分解性シリル基を平均して少なくとも一個有する化合物bの加水分解性シリル基、一般式101中のYの種類とaの数によって選択することが可能であり、目的や用途に応じて本発明の硬化性や機械物性等を制御することが可能である。Yがアルコキシ基である場合、炭素数の少ない方が反応性が高く、またaが大きい方が反応性が高いため少量で充分硬化させることが可能である。<<添加剤>>本発明に用いられる光硬化性組成物においては、目的とする物性に応じて、各種の配合剤を添加しても構わない。例えば、金属石鹸、充填材、微小中空粒子、酸化防止剤、可塑剤、光安定剤、接着性付与剤、シランカップリング剤、溶剤、難燃剤、老化防止剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、オゾン劣化防止剤、リン系過酸化物分解剤、滑剤、顔料、発泡剤、などがあげられる。これらの各種添加剤は単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。<<画像表示装置の製造方法>>本発明の画像表示装置は、任意の方法で製造することができる。製造に関しては、大きく分けて、脱泡、塗布、貼り合わせ、硬化の4ステップがある。まず脱泡について説明する。図1の6の容器に4,3を順に取り付けて密閉状態にし、光硬化性組成物を1より6に投入する。3、4、6の素材については特に限定はないが、減圧および加圧への耐久性の観点からステンレス製であることが好ましい。次に光硬化性組成物を脱泡するために、7に真空ポンプなどの減圧装置を接続し、容器内を減圧させる。この際、一気に低真空状態102Pa前後に到達させると激しく発泡し、7,8のライン内に組成物が混入するため、段階を踏んで減圧を行うことが好ましい。したがって真空ラインの中間にニードルバルブやボールバルブ、三方コックなどの真空度を調節できる設備を導入することが好ましい。また、5の攪拌羽根を回転させれば脱泡が促進されるので、必要に応じて使用してもよい。ただし、回転が速すぎると系内の気体が樹脂に噛み込み、むしろ気泡が発生してしまう可能性があるので1~100rpm程度の速度で攪拌するのが好ましい。脱泡を行った後、容器内を常圧に戻し、さらに8より加圧空気を送り容器内を加圧状態にする。このときの圧力は組成物の粘度や吐出量速度に応じて任意に設定可能で、0.1~0.4MPaであることが好ましい。これにより組成物は9によって11のディスペンスバルブに送られる。塗布に関しては、ディスペンス法や印刷法などが考えられ、ディスペンス法を用いる場合は、例えば図1に模式的に示す設備で実施することができる。10にはエアー供給ラインが接続され、ディスペンスシステムにより吐出量をコントロールしながら組成物を12の基板上に塗布することが可能である。このディスペンスシステムは市販のものを使用することが可能で、例えばPerformsシリーズ、UltimsシリーズEFD社製、SuperΣシリーズ、ML-808シリーズ以上、武蔵エンジニアリング社製、ACCURAシリーズ岩下エンジニアリング社製、DPS-800シリーズエース技研社製、TOMシリーズトミタエンジニアリング社製などが挙げられる。そして貼り合わせプロセスおよび展開プロセスにおいて気泡が混入しないよう、塗布するにあたっては任意の塗布パターンを描くことが可能であるが、例えば特開2009‐186959に挙げられている塗布パターンが好ましい。貼り合わせの方法としては、2枚を重ね合わせた後、上方の基材の自重で組成物を基材一面に展開する方法や、重ね合わせた後任意の方法で貼り合わせた基材に荷重を与えて展開速度を上げる方法が好ましい。また、貼り合わせる直前に基材を真空チャンバなどの真空系に投入し、その系で貼り合わせる方法も好ましい。この方法を用いると、貼り合わせ時に気泡が混入してもその気泡の気圧は真空系の気圧と同等であるため、基材が常圧雰囲気に戻されるときに気泡は一気に収縮し、目視では確認できないレベルにまで小さくなるか、組成物中に溶解する。したがって塗布パターンの自由度が向上し、より多様な塗布プロセスを導入することが可能である。この際の真空度は、10-1~102Paであることが好ましい。10-1Pa未満だと減圧に時間を要しタクトタイムが伸びるので好ましくなく、102Paより大きいと減圧が不十分で気泡が完全に見えなくならない場合があるので好ましくない。また、基材にフレキシビリティがある場合はラミネート法を用いて貼り合わせることも可能である。硬化については、まず光源としては高圧水銀ランプやメタルハライドランプなどのUV光源を用いた方法が一般的であるが、基材の種類や使用環境に応じて、近紫外LED光源やキセノンランプ、ハロゲンランプ、紫外線レーザーなど任意の光源を用いることが可能である。照射方法としては、コンベア上に貼り合わせ基材を乗せてランプに照射し連続的に製造したり、照射用チャンバーに基材を入れてバッチ式で製造したりすることができる。またb成分および硬化触媒を使用することで組成物を塗布する際に取り込まれる水分および、貼り合わせ部周囲から取り込まれる水分によって縮合硬化させることが可能である。上記製造方法を用いて、画像表示装置における画像表示部の貼り合わせを行うことができ、具体的には液晶ディスプレイLCD有機エレクトロルミネッセンスELディスプレイプラズマディスプレイ電子ペーパーなど画像表示パネルモジュールとそれを保護するためのカバーボードとの貼り合せ、抵抗膜式タッチパネル用電極基板または静電容量式タッチパネル用電極基板とそれを保護するためのカバーボードとの貼り合せ、もしくは画像表示パネルモジュールと各種タッチパネル用電極基板との貼り合せなどが可能である。カバーボードの素材に特に制限はないが、ある程度の加工性、強度を有し、かつ画像を鮮明に認識する観点から無色透明である素材であることが好ましい。例えば、ガラス、ポリメチルメタクリレートPMMA、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリカーボネートPCなどが挙げられる。これらの中でも、特にガラス、PMMAが透明性の観点から好ましい。<<用途>>本発明の製造方法を用いて製造される画像表示装置の用途に特に限定はないが、例えば、テレビ、カーナビゲーションシステム、PDA、携帯電話、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、デジタルフォトフレーム、電子広告板デジタルサイネージ、携帯ゲーム機、音楽再生装置、パソコン、電子書籍電子ペーパー用端末装置などのディスプレイ部分に使用することができる。以下に、具体的な実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明は、下記実施例に限定されるものではない。また、下記実施例中、数平均分子量及び分子量分布重量平均分子量と数平均分子量の比は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCを用いた標準ポリスチレン換算法により算出した。ただし、GPCカラムとしてポリスチレン架橋ゲルを充填したものshodexGPCK-804およびK8025;昭和電工株製、GPC溶媒としてクロロホルムを用いた。下記実施例中、平均末端メタアクリロイル基数は、重合体1分子当たりに導入されたメタアクリロイル基数であり、1H-NMR分析及びGPCにより求められた数平均分子量より算出した。ただし、1H-NMRはBruker社製ASX-400を使用し、溶媒として重クロロホルムを用いて23°Cにて測定した。なお、下記実施例及び比較例中の部及びは、それぞれ重量部及び重量を表す。製造例1、2:a成分アクリル系重合体の製造各原料の使用量を表1に示す。1重合工程アクリル酸エステル予め混合されたアクリル酸エステルを脱酸素した。攪拌機付ステンレス製反応容器の内部を脱酸素し、臭化第一銅、全アクリル酸エステルの一部表1では初期仕込みモノマーとして記載を仕込み、加熱攪拌した。アセトニトリル表1では重合用アセトニトリルと記載、開始剤としてジエチル2,5-ジブロモアジペートDBAEまたは2-ブロモブチル酸エチルを添加、混合し、混合液の温度を約80°Cに調節した段階でペンタメチルジエチレントリアミン以下、トリアミンと略すを添加し、重合反応を開始した。残りのアクリル酸エステル表1では追加モノマーとして記載を逐次添加し、重合反応を進めた。重合途中、適宜トリアミンを追加し、重合速度を調整した。重合時に使用したトリアミンの総量を重合用トリアミンとして表1に示す。重合が進行すると重合熱により内温が上昇するので内温を約80°C~約90°Cに調整しながら重合を進行させた。2酸素処理工程モノマー転化率重合反応率が約95以上の時点で反応容器気相部に酸素‐窒素混合ガスを導入した。内温を約80°C~約90°Cに保ちながらしながら反応液を数時間加熱攪拌して反応液中の重合触媒と酸素を接触させた。アセトニトリル及び未反応のモノマーを減圧脱揮して除去し、重合体を含有する濃縮物を得た。濃縮物は著しく着色していた。3第一粗精製酢酸ブチルを重合体の希釈溶媒として使用した。重合体100kgに対して100~150kg程度の酢酸ブチルで2の濃縮物を希釈し、ろ過助剤ラジオライトR900、昭和化学工業製および/または吸着剤キョーワード700SEN、キョーワード500SHを添加した。反応容器気相部に酸素‐窒素混合ガスを導入した後、約80°Cで数時間加熱攪拌した。不溶な触媒成分をろ過除去した。ろ液は重合触媒残渣によって着色および若干の濁りを有していた。4第二粗精製ろ液を攪拌機付ステンレス製反応容器に仕込み、吸着剤キョーワード700SEN、キョーワード500SHを添加した。気相部に酸素-窒素混合ガスを導入して約100°Cで数時間加熱攪拌した後、吸着剤等の不溶成分をろ過除去した。ろ液はほとんど無色透明な清澄液であった。ろ液を濃縮し、ほぼ無色透明の重合体を得た。5メタアクリロイル基導入工程重合体100kgをN,N-ジメチルアセトアミドDMAc約100kgに溶解し、アクリル酸カリウム末端Br基に対して約2モル当量、熱安定剤H-TEMPO:4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-n-オキシル、吸着剤キョーワード700SEN、を添加し、約70°Cで数時間加熱攪拌した。DMACを減圧留去し、重合体濃縮物を重合体100kgに対して約100kgのトルエンで希釈し、ろ過助剤を添加して固形分をろ別し、ろ液を濃縮し、末端にアクリロイル基を有する重合体[P1]、[P2]を得た。得られた重合体の1分子あたりに導入されたアクリロイル基数、数平均分子量、分子量分布を併せて表1に示す。製造例3:b成分アクリル系重合体の製造1重合工程製造例1および2の1~4の工程に準ずる。2ジエン反応工程上記濃縮物に1,7-オクタジエン以下ジエン若しくはオクタジエンと略す、アセトニトリル表1ではジエン反応用アセトニトリルと記載を添加し、トリアミン表1ではジエン反応用トリアミンと記載を追加した。内温を約80°C~約90°Cに調節しながら数時間加熱攪拌させて、重合体末端にオクタジエンを反応させた。アセトニトリル及び未反応のオクタジエンを減圧脱揮して除去し、末端にアルケニル基を有する重合体を含有する濃縮物を得た。3粗精製工程上記濃縮物をトルエンで希釈し、ろ過助剤、吸着剤キョーワード700SEN:協和化学工業株製、ハイドロタルサイトキョーワード500SH:協和化学工業株製を添加し、80~100°C程度に加熱攪拌した後、固形成分をろ別した。ろ液を濃縮し、重合体粗精製物を得た。4高温加熱処理吸着精製工程重合体粗精製物、熱安定剤スミライザーGS:住友化学株製、吸着剤キョーワード700SEN、キョーワード500SHを添加し、減圧脱揮、加熱攪拌しながら昇温し、約170°C~約200°Cの高温状態で数時間程度加熱攪拌、減圧脱揮を行った。吸着剤キョーワード700SEN、キョーワード500SH、を追加し、重合体に対して約10重量部のトルエンを添加し、約170°C~約200°Cの高温状態で更に数時間程度加熱攪拌した。処理液を更にトルエンで希釈し、吸着剤をろ別した。ろ液を濃縮し、両末端にアルケニル基を有する重合体を得た。5シリル化工程上記方法により得られた重合体、メチルジメトキシシランDMS、オルト蟻酸メチルMOF、白金触媒[ビス1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン白金錯体触媒のイソプロパノール溶液:以下白金触媒という]を所定量混合し、約100°Cに加熱攪拌した。1時間程度加熱攪拌後、未反応のDMS等の揮発分を減圧留去し、両末端にメトキシシリル基を有する重合体[P3]を得た。得られた重合体の1分子あたりに導入されたシリル基数、分子量、分子量分布を併せて表2に示す。製造例4:b成分オキシアルキレン系重合体の製造ポリプロピレングリコールを開始剤とし亜鉛ヘキサシアノコバルテートグライム錯体触媒にてプロピレンオキシドを重合し、数平均分子量約28,500送液システムとして東ソー製HLC-8120GPCを用い、カラムは東ソー製TSK-GELHタイプを用い、溶媒はTHFを用いて測定したポリスチレン換算分子量のポリプロピレンオキシドP-1を得た。このヒドロキシ基末端ポリプロピレンオキシドP-1のヒドロキシ基に対して1.2倍当量のNaOMeのメタノール溶液を添加してメタノールを留去し、更に塩化アリルを添加して末端の水酸基をアリル基に変換した。得られた未精製のアリル末端ポリプロピレンオキシド100重量部に対し、n-ヘキサン300重量部と、水300重量部を混合攪拌した後、遠心分離により水を除去し、得られたヘキサン溶液に更に水300重量部を混合攪拌し、再度遠心分離により水を除去した後、ヘキサンを減圧脱揮により除去した。以上により、末端がアリル基である数平均分子量約28,500の2官能ポリプロピレンオキシドP-2を得た。得られたアリル基末端ポリプロピレンオキシドP-2100重量部に対し、触媒として白金含量3wtの白金ビニルシロキサン錯体イソプロパノール溶液とトリエトキシシラン1.4重量部を添加し、90°Cで2時間反応させ、トリエトキシシリル基末端ポリプロピレンオキシドP-3を得た。1H-NMR日本電子製JNM-LA400を用いて、CDCl3溶媒中で測定の結果、末端のトリエトキシシリル基は1分子あたり平均して約1.6個であった。次いで、メタノール15部と0.5wtの塩化水素-メタノール溶液を添加し、70°Cで2時間反応させた後、エポキシ化大豆油を添加して70°Cで2時間中和処理を行った。その後、90°Cで1時間減圧脱気を行い、メトキシ交換率約95のトリメトキシシリル基末端ポリプロピレンオキシド[P4]を得た。実施例1表3に示す配合比で原料をポリプロピレン製の容器に入れ、遊星式攪拌脱泡機ARE-310、シンキー製で充分に攪拌脱泡を行い、目的の組成物を得た。その後組成物を25°Cにしてから、10mm×20mm、厚さ2mmのガラス製攪拌翼を2枚有する攪拌棒を用いて攪拌し、意図的に発泡させた。このとき攪拌羽根は、その上端が液面に来る位置に設置した。攪拌速度は700rpm、攪拌時間は1分とした。攪拌が終了したら即座にその発泡した組成物30mLを内径28mmのメスシリンダーに入れて、そのメスシリンダーを真空容器に投入した。攪拌終了から数えて5分後、真空ポンプDS-20II、佐藤真空製の電源を入れ、真空脱泡を行った。TEA-1000:ポリブタジエンアクリレート、日本曹達製EBECRYL8402:ウレタンアクリレート、ダイセルサイテック製IBXA:イソボロニルアクリレート、大阪有機化学製THFA:テトラヒドロフルフリルアクリレート、共栄社化学製Darocur1173:1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニルケトン、BASF製A171:トリメトキシビニルシラン、モメンティブ製A187:3-グリシジルプロピルトリメトキシシラン、モメンティブ製918:ジブチル錫オキサイドとフタル酸ジオクチルの反応物、三共有機合成製実施例2~5、比較例1,2実施例1と同様の方法で配合を実施し、各種評価を行った。<測定方法>粘度BL型粘度計東機産業製を用いて測定した。ローターはNo.4を用い、回転数60rpmで測定した。液比重および硬化収縮率JISK0061より、組成物の液比重および組成物を6000mJcm2の紫外線を照射して硬化させた硬化物の比重を測定した。UV光源にはUV照射装置ライトハンマー6;FusionUVsystemJapan社製を使用した。硬化収縮率は、硬化収縮率=硬化物比重-液比重/硬化物比重×100で計算した。脱泡時間および吹き上がり体積真空ポンプの電源を入れた時間を開始時間とし、30秒ごとにメスシリンダー内の樹脂の様子を観察して、目視でまったく泡が確認されなくなるまでに要する時間を脱泡時間とした。また、真空脱泡を行うと容器内の気圧が下がって、発泡した気泡の体積増加により組成物が気泡を巻き込んでメスシリンダー内にて吹き上げられるが、このときに吹き上がってきた組成物液面の最高到達点の体積の読みを吹き上がり体積とした。実施例に関して、脱泡時間、吹き上がり体積共に比較例に比べて低く、より効率的に脱泡を行えるので、製造時間を短縮することが可能である。実施例6実施例1の要領で脱泡された組成物をディスペンサーによって強化ガラス上に塗布し、フラットパネルディスプレイ表示モジュールに用いるTACフィルム偏光フィルム;セルローストリアセチル製を積層させたガラスとの間で、膜厚200μmになる様に貼り合せた。次に先ほどのUV照射装置を用いて、ガラス側から積算光量3000mJ/cm2の照射をすることにより組成物が硬化し、ガラスとTACフィルムの貼り合わせパネルを得た。この貼り合わせ品は非常に強く接着しており、同様の方法で実際のフラットパネルディスプレイ表示モジュールの貼り合わせに用いて良好な貼り合わせ特性を得ることができる。"