第1面と、第1面と反対側の第2面とを有する本体であって、複数のガス流路が本体を貫通して形成され、ガス流路は第1面内に形成された第1穴を含み、第1穴は第2面内に形成された第2穴に規制オリフィスによって流体結合される本体と、ガス流路の少なくとも1つの第1穴内に形成されているサスペンション構成を含む真空チャンバ用ガス分散シャワーヘッド。サスペンション構成内に配置されたサスペンションフィッティングを更に含む請求項1記載のガス分散シャワーヘッド。ガス分散シャワーヘッドの本体内に形成された規制オリフィスにガス流を供給する、ガス分散シャワーヘッドの第1面上に配置された、容積と流体連通している代替ガス流路を更に含む請求項2記載のガス分散シャワーヘッド。代替ガス流路は、ガス分配シャワーヘッドの本体内に形成された横向き穴を含む請求項3記載のガス分散シャワーヘッド。穴は、ガス分散シャワーヘッドの表面によって画定された水平面に対してある角度で形成されている請求項4記載のガス分散シャワーヘッド。穴は、1以上の隣接するガス流路を少なくとも部分的に通って延在している請求項4記載のガス分散シャワーヘッド。穴は、規制オリフィスの上流の位置で終了している請求項4記載のガス分散シャワーヘッド。代替ガス流路は、サスペンションフィッティング内に少なくとも部分的に形成された縦穴である請求項3記載のガス分散シャワーヘッド。サスペンションフィッティングは、オスのはめ合いインターフェースを画定する第1端部にネジ部を有する支持体を含む請求項8記載のガス分散シャワーヘッド。サスペンションフィッティングは、メスのインターフェースを画定する支持体の第2端部に溝付きレセプタクルを更に含む請求項9記載のガス分散シャワーヘッド。第1面と、第1面と反対側の第2面とを有する本体であって、複数のガス流路が第1面と第2面の間に形成され、複数のガス流路の各々は第1面内に形成された第1穴を有し、第1穴は第2面内に形成された第2穴に規制オリフィスによって流体結合される本体と、塞がったガス流路を形成する複数のガス流路の少なくとも1つの第1穴内に配置されたサスペンションフィッティングと、バッキングプレートと、塞がったガス流路にガス流を供給するガス分散シャワーヘッドの第1面との間の容積と流体連通している代替ガス流路を含む真空チャンバ用ガス分散シャワーヘッド。代替ガス流路は、サスペンションフィッティング内に少なくとも部分的に形成された縦穴である請求項11記載のガス分散シャワーヘッド。サスペンションフィッティングは、オスのはめ合いインターフェースを画定する第1端部にネジ部を有する支持体と、メスのインターフェースを画定する支持体の第2端部に溝付きレセプタクルを含む請求項12記載のガス分散シャワーヘッド。縦穴は、第1直径よりも小さい第2直径を有するテーパ穴に結合されている第1直径を有する中央開口部を含む請求項12記載のガス分散シャワーヘッド。代替ガス流路は、ガス分散シャワーヘッドの表面によって画定された水平面に対してある角度で本体内に形成された横向き穴を含む請求項11記載のガス分散シャワーヘッド。穴は、1以上の隣接するガス流路を少なくとも部分的に通って延在している請求項15記載のガス分散シャワーヘッド。穴は、規制オリフィスの上流の位置で終了している請求項16記載のガス分散シャワーヘッド。基板上の二酸化シリコンSiO2の膜厚を決定するために試験が実施された。本明細書内に記載のチャンバ100と同様のチャンバを用いて対照試験が行われた。対照試験は、バッキングプレートとガス分散シャワーヘッドの間に支持部材が結合されたガス分散シャワーヘッドを利用し、ガス分散シャワーヘッドのガス流路175は、中央支持部材のために犠牲になった。対照試験には、支点として使用するために犠牲にされたガス流路175の位置の下の基板上の位置での基板上の堆積物の二次元マッピングが含まれていた。支点のために犠牲になったガス流路175の下の基板上の領域における平均膜厚は、中央支持部材の下にはなかった基板上の領域の平均膜厚よりも約2.8低かった。このように、支持部材のパターンが、基板上で認識可能となった。本明細書に記載されるような縦穴355を有するサスペンションフィッティング220を利用した中央支持部材150を有するガス分散シャワーヘッド145を利用したその他の試験も行った。試験には、中央支持部材150の位置の下の位置での基板上のSiO2膜厚の2次元マッピングが含まれていた。中央支持部材150の下の基板の領域は、中央支持部材150の下にはなかった基板の領域上の膜厚と実質的に等しい平均SiO2膜厚を示した。このように、本明細書に記載されたような縦穴355を有するサスペンションフィッティング220を用いた中央支持部材150は、基板表面全域に亘って膜厚均一性が改善された。更に、直径0.10’’、直径0.12’’、直径0.14’’の第1穴を有するネジ装置220の使用は、膜厚の増加を生み出したが、基板上のパターンが検出される場所での膜厚が変化したことを試験は示した。約0.14’’の直径の縦穴355を有するサスペンションフィッティング220の試験は、基板上に認識可能なパターンを示さなかった。基板とガス分散シャワーヘッドの間の処理空間を維持し、ガス分散シャワーヘッドを通るガスの流れを妨げないガス分散シャワーヘッドを支持するための装置及び方法が記載されている。装置は、ガス分散シャワーヘッド145の断面曲率又は水平プロファイルを維持及び/又は操作を提供する1以上の中央支持部材150を含む。ガス分散シャワーヘッド145は、平面、凸面、又は凹面のうちの1つである水平プロファイルを示すように操作することができる。ガス分散シャワーヘッド145の水平プロファイルは、チャンバ内の基板支持体120及び/又はバッキングプレート140に対して調整することができる。本明細書に記載されるような中央支持部材150の実施形態もまた、ガスの流れを妨げず、これによって中央支持部材150に隣接する基板の位置での堆積を促進する。上記は本発明の実施形態を対象としているが、本発明の他の及び更なる実施形態は本発明の基本的範囲を逸脱することなく創作することができ、その範囲は以下の特許請求の範囲に基づいて定められる。