"下記式1で表される官能基で金属酸化物ゾル1gあたり0.55~5.5mmol修飾されたことを特徴とする修飾金属酸化物ゾル。MOS=O2-R1-SiCH3n-O-3-n1{式中Mは水素イオン、炭素数1~4のアルキル基、金属イオン又はアンモニウムNR24基、R1は炭素数1~10のアルキレン基本アルキレン鎖中に、ウレタン結合又はウレア結合を含有していても良いであり、R2は同一或いは異なってもよい炭素数1~5のアルキル基又は水素原子であり、nは0又は1を表す。さらに、下記式2で表されるケイ素系化合物を少なくとも1種含有する請求項1に記載の修飾金属酸化物ゾル。X-R3m-SiCH3nY3-n2{式中Xは、ビニル基、チオール基、アミノ基、塩素原子、アクリル基、メタクリル基、スチリル基、フェニル基、グリシドキシ基、3,4-エポキシシクロヘキシル基及びブロック化イソシアネート基からなる群から選ばれる官能基であり、R3は炭素数1~5のアルキレン基であり、mは0又は1であり、Yは同一或いは異なってもよい炭素数1~4のアルコキシ基又は水酸基、nは0又は1を表す。さらに、金属アルコキサイド及び/又はそのオリゴマーを含有する請求項1又は2に記載の修飾金属酸化物ゾル。金属酸化物ゾルがオルガノシリカゾルである請求項1~3のいずれかに記載の修飾金属酸化物ゾル。請求項1~4のいずれかに記載の修飾金属酸化物ゾルを含有する親水化剤。請求項1~4のいずれかに記載の修飾金属酸化物ゾルを含有する親水性コーティング組成物。請求項6に記載の親水性コーティング組成物をコーティング後硬化させて得られる構造体。請求項1~4のいずれかに記載の修飾金属酸化物ゾルを乾燥させて得られる固体を含有する帯電防止剤。請求項8に記載の帯電防止剤を含有する構造体。しかし、従来の、スルホン酸基を持つビニル化合物とチオール基を持つ化合物のエン-チオール反応により得られる化合物から調整される表面親水化剤は原料であるビニル化合物のコストが高い為、結果としてコストが高いという問題がある。また、CMP研磨剤用途としてスルホン酸基修飾水性アニオンシリカゾルはスルホン酸基の含有量が少量のため、帯電防止性能は不十分であり、またコーティング膜としての強度が不十分である。本発明の目的は、親水化剤、帯電防止剤、親水性コーティング組成物、抗菌剤、導電性、イオンプロトン伝導性コーティング剤として好適な修飾金属酸化物ゾルを提供することである。本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、本発明に至った。即ち、本発明は、下記式1で表される官能基で金属酸化物ゾル1gあたり0.55mmol以上修飾されたことを特徴とする修飾金属酸化物ゾルである。MOS=O2-R1-SiCH3n-O-3-n1{式中Mは水素イオン、炭素数1~4のアルキル基、金属イオン又はアンモニウムNR24基、R1は炭素数1~10のアルキレン基本アルキレン鎖中に、ウレタン結合又はウレア結合を含有していても良いであり、R2は同一或いは異なってもよい炭素数1~5のアルキル基又は水素原子であり、nは0又は1を表す。また本発明は、前記修飾金属酸化物ゾルを含有する親水化剤である。また本発明は、前記修飾金属酸化物ゾルを含有する親水性コーティング組成物である。また本発明は、前記親水性コーティング組成物をコーティング後硬化させて得られる構造体である。また本発明は、上記修飾金属酸化物ゾルを乾燥させて得られる固体を含有する帯電防止剤である。また本発明は、前記帯電防止剤を含有する構造体である。本発明によれば、親水化効果及び帯電防止効果が大きく、低コストで製造でき、コーティング可能な修飾金属酸化物ゾルを提供することが出来る。本発明において、修飾金属酸化物ゾルは下記式1で表される官能基で修飾される。MOS=O2-R1-SiCH3n-O-3-n1{式中Mは水素イオン、炭素数1~4のアルキル基、金属イオン又はアンモニウムNR24基、R1は炭素数1~10のアルキレン基本アルキレン鎖中に、ウレタン結合又はウレア結合を含有していても良いであり、R2は同一或いは異なってもよい炭素数1~5のアルキル基又は水素原子であり、nは0又は1を表す。上記式1において、R1の炭素数1~10のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基等が挙げられる。これらのうちコスト及び原料入手の点を考慮すると、好ましくはプロピレン基である。Mとしては、水素イオン、炭素数1~4のアルキル基、金属イオンアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、銀イオン、銅イオン及びニッケルイオン等又はアンモニウムNR24イオンが挙げられ、親水性、抗菌性などの点を考慮すると、好ましくは、水素イオン、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、銀イオンおよびアンモニウムイオンである。アンモニウムイオンのR2としては水素原子、炭素数1~5のアルキル基が挙げられ、好ましくは、水素原子および炭素数1~2のアルキル基メチル基及びエチル基である。R2は同一であっても異なっていてもよい。アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオンとしては、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、セシウムイオン、マグネシウムイオン及びカルシウムイオンなどが挙げられる。これらのうち好ましくは、アルカリ金属イオンであり、特に好ましいのはリチウムイオン、ナトリウムイオンである。式1で表される官能基の具体例としては、以下のものが挙げられる。金属酸化物ゾルとしては、シリカゾル、アルミナゾル及びジルコニアゾルが挙げられる。これらのうち、シリカゾルが好ましく、オルガノシリカゾルが特に好ましい。なお、オルガノゾルとは、ナノレベルで表面改質をしたコロイダルシリカを有機溶媒に安定的に分散させたコロイド溶液であり、アルコール、ケトン、エーテル、トルエン等の各種有機溶媒に分散可能である。具体的には日産化学社製のオルガノシリカゾルメタノールシリカゾル、IPA-ST、IPA-ST、IPA-ST-UP、IPA-ST-ZL、EG-ST、NPC-ST-30、DMAC-ST、MEK-ST、MIBK-ST、PMA-ST及びPGM-STや扶桑化学社製の高純度オルガノシリカゾルPL-1-IPA、PL-2L-PGME及びPL-2L-MEK等が挙げられる。これらは単独のみならず、複数で用いても良い。本発明の修飾金属酸化物ゾルは以下の製造方法により得られる。すなわち、金属酸化物ゾルに、化学的にスルホン酸基に変換できる官能基を有する下記式SC1またはSC2で表されるシランカップリング剤を添加して金属酸化物ゾル上のシラノールと上記シランカップリング剤を反応させた後、チオール基をスルホン酸基に変換後、必要により金属塩で中和する方法によって得られる。式中R1は炭素数1~10のアルキレン基本アルキレン鎖中に、ウレタン結合又はウレア結合を含有していても良いであり、Yは同一或いは異なってもよい炭素数1~4のアルコキシ基又は水酸基、nは0又は1を表す。式SC1またはSC2で表されるシランカップリング剤の具体例としては、以下のものが挙げられる。これらのうち、ウレタン結合やウレア結合を持つ化合物はイソシアネート基を有するシランカップリング剤に、2-メルカプトエタノール、2-メルカプトエチルアミン及び4-メルカプトアニリンを反応させることにより得ることが出来る。金属酸化物ゾルにシランカップリング剤を反応させる場合の溶媒としては、アルコール系溶媒:メタノール、エタノール、イソプロパンール、n-ブタノール、t-ブタノール、ペンタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール及び1,4-ブタンジオール等、エーテル系溶媒:ジエチルエーテル、テトラハイドロフラン及びジオキサン等、ケトン系溶媒:アセトン及びメチルエチルケトン等、非プロトン溶媒:ジメチルスルホキサイド、N,N-ジメチルホルムアミド等及びこれらの混合溶媒等が挙げられる。これらのうち好ましいのは、アルコール系溶媒であり、これらの溶媒は1種又は2種以上で使用できる。溶媒に対する原料の金属酸化物ゾルの濃度は1~50重量であり、好ましくは1~30重量である。金属酸化物ゾルに対する化学的にスルホン酸基に変換できる官能基を有するシランカップリング剤の量は金属酸化物ゾル1gに対して0.55~5.5mmolであり、好ましくは2.0~5.0mmolである。0.55未満であるとスルホン酸基の濃度が低すぎ、親水性及び帯電防止性能が低下し、5.5を超えると金属酸化物上のシラノールが不足して前記シランカップリング剤どうしが自己縮合する恐れがあり、また成膜性が低下して好ましくない。化学的にスルホン酸基に変換できる官能基を有するカップリング剤を添加する際の温度は限定されないが、常温約20°Cから沸点が好ましい。反応温度も限定されないが、常温約20°Cから沸点が好ましい。反応時間も限定されないが、10分から48時間が好ましく、6時間から24時間が特に好ましい。過酸化物としては、有機過酸化物過酢酸、m-クロロ過安息香酸、過酸化ベンゾイル等、無機過酸化物オゾン、過酸化水素、過酸化カルシウム等が挙げられる。これらのうち、好ましいのは過酸化水素と過酢酸であり、特に好ましいのは過酸化水素である。過酸化物は前段階の製造工程金属酸化物ゾルに化学的にスルホン酸基に変換できる官能基を有するシランカップリング剤を結合させる工程の中に一度に或は分割して投入することが出来る。用いる過酸化物の量は、スルホン酸基に変換できる官能基を有するシランカップリング剤に対して、200~5000モル、好ましくは300~5000モル、さらに好ましくは500~5000モルである。過酸化物を添加する際の温度は限定されないが、常温約20°Cが好ましい。反応温度も限定されないが、常温約20°Cから沸点が好ましい。反応時間も限定されないが、10分から48時間が好ましく、6時間から24時間が特に好ましい。塩基としては、水酸化物水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等、酢酸塩酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム及び酢酸銀等、金属酸化物酸化銀等、アンモニア、トリメチルアミン、トリエチルアミン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド等が挙げられる。中和するときの温度は特に制限はなく、通常室温で行えばよい。加える塩基はそのまま加えても、溶媒例えば、水等で希釈してから加えても良い。本発明の修飾金属酸化物ゾルは、さらに下記式2で表されるケイ素系化合物を少なくとも1種含有していてもよい。X-R3m-SiCH3nY3-n2{式中Xは、炭素数1~20の直鎖又は分岐アルキル基、ビニル基、チオール基、アミノ基、塩素原子、アクリル基、メタクリル基、アルキルエステル基、スチリル基、フェニル基、イミダゾリル基、グリシドキシ基、3,4-エポキシシクロヘキシル基及びブロック化イソシアネート基からなる群から選ばれる官能基であり、R3は炭素数1~5のアルキレン基であり、mは0又は1であり、Yは同一或いは異なってもよい炭素数1~4のアルコキシ基又は水酸基、nは0又は1を表す。式2で表されるケイ素系化合物を含有させた修飾金属酸化物ゾルは以下の方法により得られる。上記ケイ素系化合物は通常、金属酸化物ゾルのシラノールと縮合反応する。すなわち、上記式1で表される官能基で修飾された修飾金属酸化物ゾル溶液に式2で表されるケイ素系化合物を添加し、金属酸化物ゾルのシラノールと縮合反応させることにより得ることが出来る。式2で表されるケイ素系化合物の例としては以下のものが挙げられる。式2で表されるケイ素系化合物の添加量は、原料の金属酸化物ゾル1gに対して通常0.01~4.95mmolであり、好ましくは、0.1~3.0mmolである。上記範囲であると、ケイ素系化合物が有する特性例えば、分散性、基板に対する密着性及び硬化特性等がより発揮でき、また、式2で表されるケイ素系化合物どうしの自己縮合が起こらず、成膜性も良好となる。式2で表されるケイ素系化合物を添加する際の温度は限定されないが、常温約20°Cから沸点が好ましい。反応温度も限定されないが、常温約20°Cから沸点が好ましい。反応時間も限定されないが、2~48時間が好ましく、8~24時間が特に好ましい。また、式2で表されるケイ素系化合物が酸化に対して安定な場合、化学的にスルホン酸基に変換できる官能基を有するシランカップリング剤と式2で表されるケイ素系化合物を同時に金属酸化物ゾルと反応させた後、過酸化物を作用させてスルホン酸基に変換しても良い。本発明の修飾金属酸化物ゾルは、さらに金属アルコキサイド及び/又はそのオリゴマーを含有していても良い。金属アルコキサイドは下記式3で表される。MORm3式中、Mはケイ素、チタン及びアルミニウムであり、Rはアルキル基であり、好ましくは炭素数1~8の低級アルキル基であり、より好ましくは炭素数1~4の低級アルキル基であり、mは3又は4である。上記Rとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等を例示することができる。Mはケイ素が好ましく、Rがメチル基であるテトラメトキシシラン、Rがエチル基であるテトラエトキシシラン、Rがイソプロピル基であるテトライソプロポキシシランが好ましい。また、金属アルコキサイドのオリゴマーとしては、アルコキシシランを部分的に加水分解して得られる低縮合物を例示することもできる。上記金属アルコキサイド及び/又はそのオリゴマーは通常、金属酸化物ゾルのシラノールと縮合反応する。すなわち、上記式1で表される官能基で修飾された修飾金属酸化物ゾル溶液又はさらに式2で表されるケイ素系化合物を添加した修飾金属酸化物ゾル溶液に、金属アルコキサイド及び/又はそのオリゴマーを添加し、金属酸化物ゾルのシラノールと縮合反応させることにより得ることが出来る。金属アルコキサイド及び/又はそのオリゴマーの添加量は、原料の金属酸化物ゾル1gに対して通常0.01~4.95mmolであり、好ましくは、0.1~3.0mmolである。上記範囲であると、ケイ素系化合物が有する特性例えば、分散性、硬化特性等がより発揮でき、また、式2で表されるケイ素系化合物どうしの自己縮合が起こらず、成膜性も良好となる。金属アルコキサイド及び/又はそのオリゴマーを添加する際の温度は限定されないが、常温約20°Cから沸点が好ましい。反応温度も限定されないが、常温約20°Cから沸点が好ましい。反応時間も限定されないが、2~48時間が好ましく、8~24時間が特に好ましい。本発明の修飾金属酸化物ゾルは、さらに水酸基、アミノ基、エポキシ基、カルボキシ基、チオール基及びブロックドイソシアネート基の群から選ばれる官能基を複数有する化合物を含有していても良い。上記化合物の一例としては、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリエステル系ジオール、ポリカーボネート系ジオール、ポリカプロラクトン系ジオール、ビスフェノールA-エピクロロヒドリン樹脂、エポキシノボラック樹脂、脂環式エポキシ樹脂、臭素化エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂、多官能性エポキシ樹脂、ポリエチレンイミン、ペンタエリスリトールテトラキス3-メルカプトブチレート、1,12-ドデカン二酸、ε-カプロラクタム、メチルエチルケトオキシム及び3,5-ジメチルピラゾール基でブロックされたイソフォロンジイソシアネート、4,4’-ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート並びにトルエンジイソシアネート等が挙げられる。本発明の修飾金属酸化物ゾルは、それを含有させることにより親水化剤として使用できる。本発明の修飾金属酸化物ゾルは、それを含有させることにより、親水性コーティング組成物として使用できる。本発明の親水性コーティング組成物は、さらに、作業性取扱性及びコーティング性等を向上させる為に希釈溶剤を含有させても良い。希釈溶媒としては、本発明の修飾金属酸化物ゾルと反応せず、これらを溶解及び/又は分散させるものであれば制限がなく、例えば、エーテル系溶剤テトラハイドロフラン、ジオキサン等、アルコール系溶剤メチルアルコール、エチルアルコール、n-プロピルアルコール、iso-プロピルアルコール、n-ブチルアルコール等、ケトン系溶剤アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等及び非プロトン性溶媒N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド等及び水等が挙げられる。希釈溶媒を含有する場合、希釈溶媒の含有量は、例えば、全溶媒に対する、本発明の修飾金属酸化物ゾルの重量が、0,01~15重量好ましくは0.05~10重量、特に好ましくは0.1~7.5重量となる量である。本発明の親水性コーティング組成物は、さらに作業性基材との濡れ性等を向上させる為に界面活性剤を含有させても良い。界面活性剤としては、通常の炭化水素系界面活性剤及びフッ素系界面活性剤アニオン型界面活性剤、カチオン型界面活性剤、ノニオン型界面活性剤、両性型界面活性剤が挙げられる。これらのうち少量の添加で効果を発現するフッ素系界面活性剤が好ましい。フッ素系界面活性剤の具体例としては以下に示す、株式会社ネオス社のフタージェント商品名が挙げられる。フタージェント100、フタージェント100C、フタージェント110、フタージェント150、フタージェント150CH、フタージェントA-K、フタージェント501、フタージェント250、フタージェント251、フタージェント222F、フタージェント208G、フタージェント300、フタージェント310及びフタージェント400SW等が挙げられる。本発明のコーティング組成物は、ガラス、プラスチックポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ABS、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ、不飽和ポリエステル、メラミン、ジアリルフタレート、ポリイミド、ウレタン、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂ポリテトラフルオロエチレン樹脂、ポリクロロトリフルオロエチレン樹脂、ポリフッ化ビニリデン樹脂、ポリフッ化ビニル樹脂、ペルフルオロアルコキシフッ素樹脂、四フッ化エチレン六フッ化プロピレン共重合体樹脂、エチレン四フッ化エチレン共重合体樹脂、エチレンクロロトリフルオロエチレン共重合体樹脂等、ポリブタジエン、ポリイソプレン、SBR、ニトリルラバー、EPM、EPDM、エピクロルヒドリンラバー、ネオプレンラバー、ポルサルファイド及びブチルラバー等、金属鉄、アルミニウム、ステンレス、チタン、銅、黄銅及びこれらの合金等、セルロース、セルロース誘導体、セルロース類似体キチン、キトサン及びポルフィラン等あるいは天然繊維シルク及びコットン等等の基板、シート、フィルム及び繊維の表面親水化等に適用出来る。また必要に応じて基板等との接着性を向上させるためプライマーあるいはコロナ放電処理等の表面活性化処理基材表面の表面エネルギーを高くする手法を用いても良い。本発明のコーティング組成物からなるコーティング液の塗布方法としては、ディプコーティング、スピンコーティング、フローコーティング及びスプレーコーティング等が挙げられる。コーティング液を上記塗布方法等で塗布し乾燥させた後、生成したコーティング膜を硬化させる為の脱水縮合を促進させる物質触媒、例えば、塩基性物質:アンモニアガス等等による処理により、コーティング膜の機械物性及び化学物性を向上させても良い。又は熱処理により脱水縮合を進行させて硬化させ、コーティング膜の機械物性及び化学物性を向上させても良い。或いは、上記二つの方法を行っても良い。また式2で表されるケイ素系化合物が、ラジカル重合、カチオン重合及びエンチオール反応等の脱水縮合以外の重合性を有している場合、光又は熱で重合させてから脱水縮合させてもよい。又、重合を脱水縮合と同時におこなってもよい。光としては紫外線、可視光等が挙げられる。脱水縮合触媒としては、塩基及び酸が挙げられる。塩基としては、無機塩基水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸リチウム、酢酸カリウム及びアンモニア等、有機塩基{トリエタノールアミン、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン、N,N-ジメチルピペラジン、ベンジルジメチルアミン、2-フェノール及び2,4,6-トリスフェノール}等が挙げられる。酸としては、無機酸塩酸、硫酸等、有機酸酢酸、トリフルオロ酢酸等等が挙げられる。また、光或いは熱により塩基或いは酸を発生する化合物も使用可能である。式2で表されるケイ素系化合物が重合性を有している場合、光又は熱でラジカルを発生する開始剤も使用可能である。光による開始剤としては、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトンイルガキュア184、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタノン-1イルガキュア369、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトンイルガキュア184とベンゾフェノンとの共融混合物イルガキュア5002,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オンイルガキュア651、ビスη5-2,4-シクロペンタジエン-1-イル-ビス2,6-ジフルオロ-3-1H-ピロール-1-イル-フェニルチタニウムイルガキュア784、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニルフォスフィンオキサイドイルガキュア819、2-メチル-1[4-メチルチオフェニル]-2-モリフォリノプロパン-1-オンイルガキュア907、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オンダロキュア1173、1-[4-2-ヒドロキシエトキシ-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オンイルガキュア2959、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトンイルガキュア184と2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オンダロキュア1173の1:4液状混合物イルガキュア1000、ビス2,6-ジメトキシベンゾイル-2,4,4-トリメチル-ペンチルフォスフィンオキサイドと2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オンダロキュア1173の1:3混合物イルガキュア1700、ビス2,6-ジメトキシベンゾイル-2,4,4-トリメチル-ペンチルフォスフィンオキサイドと1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトンイルガキュア184の1:3混合物イルガキュア1800及びビス2,6-ジメトキシベンゾイル-2,4,4-トリメチル-ペンチルフォスフィンオキサイドと1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトンイルガキュア184の1:1混合物イルガキュア1850等の光ラジカル開始剤、ビス4-tert-ブチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス4-tert-ブチルフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルフォネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルシネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルフォネート、4-イソプロピル-4’-メチルジフェニルヨ-ドニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレ-ト、トリフェニルスルフォニウムテトラフルオロボレ-ト、トリ-p-トリルスルフォニウムヘキサフルオロホスフェ-ト及びトリ-p-トリルスルフォニウムトリフルオロメタンスルホネ-ト等の光カチオン開始剤が挙げられる。熱による開始剤としては、α,α’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビス4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル、2,2’-アゾビス2,4ジメチルバレロニトリル、ジメチル2,2’-アゾビス2-メチルプロピオネート、2,2’-アゾビスメチルブチロニトリル、1,1’-アゾビスシクロヘキサン-1-カーボニトリル、2,2-アゾビスN-2-プロぺニル-2-メチルプロピオンアミド、1-1-シアノ-1-メチルエチルアゾホルムアミド、2,2’-アゾビスN-ブチル-2-メチルプロピオンアミド及び2,2’-アゾビスN-シクロヘキシル-2-メチルプロピオンアミド等のアゾ系開始剤、tert-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、tert-ヘキシルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、1,1,3,3-テトラメチルブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、2,5-ジメチル-2,5-ジ2-エチルヘキサノイルパーオキシヘキサン、tert-ブチルパーオキシピバレート、tert-ヘキシルパーオキシピバレート、tert-ブチルパーオキシネオデカノエート、ベンゾイルパーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイド、ジ3,5,5-トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、tert-ブチルハイドロパーオキサイド、1,1,3,3-テトタメチルブチルハイドロパーオキサイド、tert-ブチルクミルパーオキサイド、ジ-tert-ヘキシルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート及びジ-2-エチルヘキシルパーオキシジカーボネート等の過酸化物系開始剤等が挙げられる。これらの触媒は、コーティング液に添加後コーティングしてもよく又成膜後、触媒を溶解させた溶液をスプレー或いは触媒雰囲気下に晒しても良い。熱処理のみで硬化させる場合、熱処理温度は通常60~250°C、好ましくは80~225°C、特に好ましくは100~200°Cである。熱処理をする時間は通常0.05~48時間、好ましくは0.1~48時間、特に好ましくは0.5~36時間である。脱水縮合触媒を使用する場合、熱処理温度は室温から上記温度であり、熱処理時間も上記時間と同一である。光開始剤を使用する場合、照射する光の強さは通常100~3000mJであり、好ましくは500~2000mJであり、特に好ましくは750~2000mJである。熱開始剤を使用する場合、熱処理温度は通常60~250°C、好ましくは80~225°C、特に好ましくは100~200°Cである。本発明の修飾金属酸化物ゾルの溶媒を除去して得られる固体は、樹脂添加型の帯電防止剤として使用できる。固体としては粉体が好ましい。固体は前記修飾金属酸化物ゾルの揮発成分を除去することにより得ることが出来る。また、前記修飾金属酸化物ゾルの揮発成分を除去する時に他の無機フィラーを添加して溶媒を除去、あるいは無機フィラーにスプレーして溶媒を除去し担持させても良い。無機フィラーとしては、特に限定されないが、シリカ、アルミナ、二酸化チタン粒子、無機ウイスカーやガラス繊維などが挙げられる。これらのうち好ましいのはアスペクト比が大きいウイスカーやガラス繊維が挙げられる。揮発成分を除去する方法として、スプレイドライ法、凍結乾燥法、自然乾燥風乾法等が挙げられる。本発明の帯電防止剤は、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレン、ABS、ポリアミド、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリカーボネート/ABSアロイ等の樹脂の添加型帯電防止剤として使用できる。本発明の帯電防止剤の樹脂への添加量は、通常1~60重量、好ましくは1~30重量、特に好ましくは1~20重量である。樹脂への添加方法としては、粉体を直接添加して混錬するか、或は樹脂を溶かした溶剤の中へ分散させて溶媒を除去又は再沈させても良い。又、本発明の金属酸化物ゾル溶液の溶媒を樹脂が溶解する溶媒に置換後、樹脂を溶解させて金属酸化物ゾルと混合させてから揮発成分を除去して得てもよい。粉体を直接添加して混錬する場合の温度は通常120~300°C、好ましくは150~300°Cである。以下に実施例を示し、本発明を具体的に説明する。実施例は、本発明を説明するものであり、制限を加えるものではない。以下特記しない限り、部は重量部を意味する。実施例13-トリメトキシシリルプロパン-1-チオールチッソ株式会社1.0部5.1モル部をエタノール39部に溶解させた後、オルガノシリカゾル日産化学製、30メタノール溶液3.0部、水50部及び過酸化水素水三徳化学工業株式会社製、30水溶液2.9部25.5モル部を加え24時間加熱還流した。反応終了後室温まで冷却後、水酸化リチウム1水和物0214部5.1モル部を少量の水に溶かして加え中和することにより、本発明の化合物、LiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基で修飾されたメタノールシリカゾルを含むエタノール溶液を得た。実施例23-トリメトキシシリルプロパン-1-チオールチッソ株式会社1.0部5.1モル部をエタノール36部に溶解させた後、オルガノシリカゾル日産化学製、30メタノール溶液3.0部、水100部を加え24時間加熱還流した。冷却後過酸化水素水三徳化学工業株式会社製、30水溶液3.5部30.8モル部を加え24時間加熱還流した。反応終了後室温まで冷却後、水酸化リチウム1水和物0214部5.1モル部を少量の水に溶かして加え中和することにより、本発明の化合物、LiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基で修飾されたメタノールシリカゾルを含むエタノール溶液を得た。実施例3エタノールを36部から34部に、オルガノシリカゾル日産化学製、30メタノール溶液を3.0部から5.0部に変更した以外は、実施例2と同様に行い、本発明の化合物、LiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基で修飾されたメタノールシリカゾルを含むエタノール溶液を得た。実施例4エタノールを36部から32部に、オルガノシリカゾル日産化学製、30メタノール溶液を3.0部から7.0部に変更した以外は、実施例2と同様に行い、本発明の化合物、LiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基で修飾されたメタノールシリカゾルを含むエタノール溶液を得た。実施例5エタノールを36部から32部に、オルガノシリカゾル日産化学製、30メタノール溶液を3.0部から10.0部に変更した以外は、実施例2と同様に行い、本発明の化合物、LiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基で修飾されたメタノールシリカゾルを含むエタノール溶液を得た。実施例6エタノールを36部から34部に、オルガノシリカゾル日産化学製、30メタノール溶液を3.0部から5.0部に変更し、水酸化リチウム1水和物0214部5.1モル部を1N水酸化ナトリウム水ナカライテスク社製5.1容量部5.1モル部に変更した以外は、実施例2と同様に行い、本発明の化合物、NaOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基で修飾されたメタノールシリカゾルを含むエタノール溶液を得た。実施例7エタノールを36部から34部に、オルガノシリカゾル日産化学製、30メタノール溶液を3.0部から5.0部に変更し、水酸化リチウム1水和物0214部5.1モル部を1N水酸化カリウム水ナカライテスク社製51容量部5.1モル部に変更した以外は、実施例2と同様に行い、本発明の化合物、KOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基で修飾されたメタノールシリカゾルを含むエタノール溶液を得た。実施例8エタノールを36部から34部に、オルガノシリカゾル日産化学製、30メタノール溶液を3.0部から5.0部に変更し、水酸化リチウム1水和物0214部5.1モル部をアンモニアナカライテスク社製、30水溶液0289部5.1モル部に変更した以外は、実施例2と同様に行い、本発明の化合物、NH4OSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基で修飾されたメタノールシリカゾルを含むエタノール溶液を得た。実施例9エタノールを36部から34部に、オルガノシリカゾル日産化学製、30メタノール溶液を3.0部から5.0部に変更し、水酸化リチウム1水和物0214部5.1モル部をテトラエチルアンモニウムハイドロオキサイドナカライテスク社製0515部5.1モル部に変更した以外は、実施例2と同様に行い、本発明の化合物、NC2H54OSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基で修飾されたメタノールシリカゾルを含むエタノール溶液を得た。実施例103-トリメトキシシリルプロパン-1-チオールチッソ株式会社1.0部5.1モル部をエタノール34部に溶解させた後、オルガノシリカゾル日産化学製、30メタノール溶液5.0部、水100部を加え24時間加熱還流した。冷却後過酸化水素水三徳化学工業株式会社製、30水溶液3.5部30.8モル部を加え24時間加熱還流することにより、本発明の化合物、HOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基で修飾されたメタノールシリカゾルを含むエタノール溶液を得た。実施例11エタノールを36部から24部に、オルガノシリカゾル日産化学製、30メタノール溶液を3.0部から15.0部に変更した以外は、実施例2と同様に行い、本発明の化合物、LiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基で修飾されたメタノールシリカゾルを含むエタノール溶液を得た。実施例12エタノールをメタノールに変更した以外は、実施例3と同様に行い、本発明の化合物、LiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基で修飾されたメタノールシリカゾルを含むメタノール溶液を得た。実施例13エタノールをメタノールに変更した以外は、実施例11と同様に行い、本発明の化合物、LiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基で修飾されたメタノールシリカゾルを含むメタノール溶液を得た。実施例14エタノールを36部から24部に、オルガノシリカゾル日産化学製、30メタノール溶液3.0部をシリカゾル日産化学製、30イソプロパノールSTゾル5.0部に、水酸化リチウム1水和物0214部5.1モル部を酸化銀0591部25.5モル部に変更した以外は、実施例2と同様に行い、本発明の化合物、AgOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液を得た。実施例1513-トリメトキシシリルプロパン-1-チオールチッソ株式会社15.0部76.5モル部をエタノール375部に溶解させた後、オルガノシリカゾル日産化学製、30イソプロパノール溶液、IPA-ST90.0部、水1000部を加え24時間加熱還流した。冷却後過酸化水素水三徳化学工業株式会社製、30水溶液52.5部463モル部を加え24時間加熱還流した。反応終了後、室温まで冷却後、水酸化リチウム1水和物3.21部76.5モル部を水15部に溶かして加え中和し、さらに水を加えて750部に調整することにより、本発明の化合物、LiOSO2-CH2CH2CH2Si基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液750部を得た。23,5-ジメチルピラゾール4.81部50.0モル部と3-イソシアナートプロピルトリエトキシシラン12.35部50.0モル部を脱水酢酸エチル100mlに溶かし、室温で3日間撹拌した。反応終了後、酢酸エチルを除去することにより3-イソシアナートプロピルトリエトキシシランのイソシアナート基を3,5-ジメチルピラゾールでブロックしたブロックドイソシアナート化合物16.8部を得た。31で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液49部に2で得たブロックドイソシアナート化合物1.0gを加えて室温で3日間撹拌することにより、LiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とブロックドイソシアナート基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液50部を得た。実施例16実施例15の1で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液49.0部にテトラエトキシシラン1.0部を加えて室温で3日間撹拌することにより、テトラエトキシシランの加水分解物とLiOSO2-CH2CH2CH2Si基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルが縮合したゾルを含むエタノール溶液50.0部を得た。実施例17実施例15の3で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とブロックドイソシアナート基で修飾されたイソプロパノールシリカゾル49.0部にテトラエトキシシラン1.0部を加えて室温で3日間撹拌することにより、テトラエトキシシランの加水分解物とLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とブロックドイソシアナート基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルが縮合したゾルを含むエタノール溶液50.0部を得た。実施例18実施例15の1で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液49.0部にテトラエトキシシランオリゴマーコルコート株式会社製、40エタノール溶液、エチルシリケート402.5部を加えて室温で3日間撹拌することにより、テトラエトキシシランの加水分解物とLiOSO2-CH2CH2CH2Si基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルが縮合したゾルを含むエタノール溶液51.5部を得た。実施例19実施例15の3で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とブロックドイソシアナート基で修飾されたイソプロパノールシリカゾル49.0部にテトラエトキシシランオリゴマーコルコート株式会社製、40エタノール溶液、エチルシリケート402.5部を加えて室温で3日間撹拌することにより、テトラエトキシシランのオリゴマーとLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とブロックドイソシアナート基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルが縮合したゾルを含むエタノール溶液51.5部を得た。実施例201実施例15の1で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液49部に3-トリメトキシシリルプロパン-1-チオールチッソ株式会社1.0部を加えて室温で3日間撹拌することによりLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とチオール基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液50部を得た。2実施例15の1で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液49部にγ-グリドキシプロピルトリエトキシシランチッソ株式会社1.0部を加えて室温で3日間撹拌することによりLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とグリドキシ基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液50部を得た。3上記1で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とチオール基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液15部、上記2で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とグリドキシ基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液15部をエタノール30部にて希釈することにより混合溶液50部を得た。実施例21実施例15の3で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とブロックドイソシアナート基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液、実施例20の1で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とチオール基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液及び実施例20の2で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とグリドキシ基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液をそれぞれ15部混合することにより混合溶液45部を得た。実施例22実施例15の3で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とブロックドイソシアナート基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液及び実施例20の2で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とグリドキシ基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液及をそれぞれ12部、エタノールを24部混合することにより混合溶液48部を得た。実施例23実施例15の3で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とブロックドイソシアナート基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液及び実施例20の1で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とチオール基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液をそれぞれ12部、エタノールを24部混合することにより混合溶液48部を得た。実施例24実施例15の1で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液24部に3-トリメトキシシリルプロパン-1-チオールチッソ株式会社0.5部とγ-グリドキシプロピルトリエトキシシランチッソ株式会社0.5部を加えて室温で3日間撹拌した後エタノール25部混合することによりLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基、チオール基及びグリドキシ基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液50部を得た。実施例2513-トリメトキシシリルプロパン-1-チオールチッソ株式会社19.6部、アクリル酸tert-ブチルエステル東京化成株式会社製12.8部を脱水酢酸エチル270部に溶解させ、触媒にアゾビスイソブチロにトリルAIBN0.328部を用いてアルゴン雰囲気下で24時間加熱還流した。反応終了後、酢酸エチルを除去することによりtert-ブチルエステルで修飾されたシランカップリング剤30.1部を得た。2上記1で得たシランカップリング剤1.0部と実施例15の1で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液49部を室温で3日間撹拌することによりLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とtert-ブチルエステルで修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液50部を得た。3上記2で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とtert-ブチルエステルで修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液15部、実施例20の2で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とグリドキシ基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液15部をエタノール30部にて希釈することにより混合溶液50部を得た。親水性評価結果1実施例1~14で得た修飾金属酸化物ゾルをエタノール必要に応じて水との混合液で25倍に希釈して処理液表面親水化剤とし、以下の様に所定の基板の表面を改質し、接触角を測定した。結果を表1に示した。1スライドガラス{76mm、26mm、1.2mm;水酸化ナトリウムの2-プロパノール飽和溶液に24時間浸漬した後、水洗し、乾燥60°C、2時間したもの}を処理液表面親水化剤に浸漬し、スライドガラスを取り出した後、液切りをし、120°C、24間加熱処理したもの、室温で10分間アンモニアガス処理したものの2種類の表面改質スライドガラスを得た。2ポリカーボネート板76mm、26mm、1.0mm;高密着シリカプライマー株式会社ジャパンナノコート社製に浸漬し、ポリカーボネート板を取り出した後、液切りをし、100°C、1時間加熱処理したものを処理液表面親水化剤に浸漬し、ポリカーボネート板を取り出した後、液切りをし、100°C、24間加熱処理した表面改質ポリカーボネート板を得た。接触角測定装置{協和界面化学株式会社、DROPMASTER500、液適量2μL、測定間隔1000ms、測定回数30回}で、表面改質スライドガラスの表面の任意の5箇所について、接触角度を測定し、平均値を算出した。親水性評価結果2実施例15~25で得た修飾金属酸化物ゾルをエタノール必要に応じて水との混合液で所定の倍率に希釈して処理液表面親水化剤とし、以下の様に所定の基板の表面を改質し、接触角を測定した。結果を表2に示した。ポリメチルメタクリレート板76mm×26mm、厚さ1.0mm、ポリカーボネート板76mm×26mm、厚さ1.0mm、ポリエチレンテレフタレートシート76mm×26mm、厚さ100μmm、ポリエステルシート鋼板にコーティングした物、76mm×26mm、厚さ不明、ポリウレタンシート76mm×26mm、厚さ100μmm不飽和ポリエステル樹脂板76mm×26mm、厚さ5.0mm、アルミニウム板76mm×26mm、厚さ1.0mm、ステンレス板76mm×26mm、厚さ1.0mm等をエタノールで洗浄して、乾燥したものを処理液表面親水化剤に浸漬し、それぞれの板あるいはシートを取り出した後、液切りをし、所定の温度時間で加熱処理した表面改質板あるいはシートを得た。表1及び表2から明らかなように、本発明の親水化剤は未処理品に比べ、接触角が顕著に小さく、表面親水化の効果が優れることが判る。実施例261実施例15の1で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液49部にビニルトリメトキシシラン1.0部を加えて室温で3日間撹拌することによりLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とビニル基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液50部を得た。2実施例15の1で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液49部に3-トリメトキシシリルプロパン-1-チオールチッソ株式会社1.0部を加えて室温で3日間撹拌することによりLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とチオール基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液50部を得た。3上記1で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とビニル基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液15部、上記2で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とチオール基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液15部をエタノール25部にて希釈し光開始剤としてイルガキュア184、0.06部及びフタージェント251、0.025部を添加して感光性親水性コーティング液を得た。実施例271実施例15の1で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液49部に3-メタクリロキシプロピルトロメトキシシランチッソ株式会社1.0部を加えて室温で3日間撹拌することによりLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とメタクリル基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液50部を得た。21で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とメタクリル基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液25部をエタノール25部にて希釈し光開始剤としてイルガキュア184、0.05部及びフタージェント251、0.025部を添加して感光性親水性コーティング液を得た。実施例28実施例27の1で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とメタクリル基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液10部と実施例20の1で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とチオール基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液10部をエタノール10部で希釈して光開始剤としてイルガキュア184、0.04部及びフタージェント251、0.015部を添加して感光性親水性コーティング液を得た。実施例29施例15の3で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とブロックドイソシアナート基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液14部、実施例25の1で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とビニル基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液14部及び実施例16の2で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とチオール基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液14部に光開始剤としてイルガキュア184、0.056部を添加して感光性親水性コーティング液を得た。実施例30実施例20の2で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si-O-3基とグリドキシ基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液25部をエタノール25部で希釈して光酸発生剤としてジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスファート0.025部を添加して感光性親水性コーティング液を得た。親水性評価結果3実施例25~30で得た感光性親水性コーティング液をエタノール必要に応じて水との混合液で所定の倍率に希釈して処理液とし、以下の様に所定の基板の表面を改質し、接触角を測定した。結果を表3に示した。ポリメチルメタクリレート板76mm×26mm、厚さ1.0mm、ポリカーボネート板76mm×26mm、厚さ1.0mm、ポリエチレンテレフタレートシート76mm×26mm、厚さ100μmm等をエタノールで洗浄して、乾燥したものを処理液に浸漬し、それぞれの板あるいはシートを取り出した後、液切りをし、紫外線装置、アイグラフィックス株式会社製、紫外線硬化用光源装置、ECS-151U、照射量1000mJを照射後、所定の温度時間で加熱処理した表面改質板を得た。実施例313-トリメトキシシリルプロパン-1-チオールチッソ株式会社7.84部40.0モル部及びフェニルトリメトキシシラン東京化成工業株式会社製7.42部40.0モル部をエタノール250部に溶解させた後、オルガノシリカゾル日産化学製、30イソプロパノール溶液、IPA-ST50.0部、水65.0部を加え24時間加熱還流した。冷却後過酸化水素水三徳化学工業株式会社製、30水溶液28.0部247モル部を加え24時間加熱還流した。反応終了後室温まで冷却後、水酸化リチウム1水和物1.67部40.0モル部を水15gに溶かして加え中和した。得られた溶液を室温にて乾燥させ、乳鉢で粉砕することにより白色粉末帯電防止剤25部を得た。実施例323-トリメトキシシリルプロパン-1-チオールチッソ株式会社10.0部51.0モル部及びフェニルトリメトキシシラン東京化成工業株式会社製5.94部30.0モル部をメタノール150部に溶解させた後、オルガノシリカゾル日産化学製、15イソプロパノール溶液、IPA-ST-UP100.0部、水65.0部を加え24時間加熱還流した。冷却後過酸化水素水三徳化学工業株式会社製、30水溶液35.0部247モル部を加え24時間加熱還流した。反応終了後室温まで冷却後、水酸化リチウム1水和物2.14部51.0モル部を水15gに溶かして加え中和した。得られた溶液200部を室温にて乾燥させ、乳鉢で粉砕することにより白色粉末帯電防止剤17部を得た。実施例33実施例15の1で得たLiOSO2-CH2CH2CH2Si基で修飾されたイソプロパノールシリカゾルを含むエタノール溶液50部中にガラス繊維の粉砕品セントラル硝子株式会社製、ミルドファイバーEFDE90-01100部を加えた後、溶媒を除去し、150°Cで1時間熱処理することにより導電性ガラス繊維を得た。実施例34実施例33で得た溶液50部にガラス繊維の粉砕品セントラル硝子株式会社製、ミルドファイバーEFDE90-01100部を加えた後、溶媒を除去し、150°Cで1時間熱処理することにより導電性ガラス繊維を得た。帯電防止性能評価結果1実施例31~32で得た白色粉末帯電防止剤をポリカーボネート三菱ガス化学製、PCZ-400が10wt溶解したトルエン中へ、所定の濃度になるように添加し、ホモジナイザーエムテック株式会社製、CLM2.2Sで強せん断下、攪拌することにより分散液とした。次に、本分散液をキャスト法によりシート化し、透明なポリカーボネート/帯電防止剤コンポジットシートを得た。得られたシートの表面抵抗を表面抵抗計三菱化学社製、ハイレスターUPMCP-HT450で測定した。得られたシートの表面抵抗値を表4に示した。帯電防止性能評価2実施例33~34で得た導電性ガラス繊維をラボプラストミル東洋精機株式会社製、4M150中、所定濃度となるように260°Cにて5分間、溶融混錬した。また、得られたコンパウンドを真空ホットプレストーシン株式会社製にて260°C、0.5MPaにて1分間プレスし、0.5mm厚みの透明なシートを得た。得られたシートの表面抵抗値を表4に示した。上記結果より、明らかなように本発明の修飾金属酸化物ゾルが未添加の系においては、表面抵抗値は1013以上測定限界と非常に大きいのに対し、本発明の修飾金属酸化物ゾルを添加した系においては、表面抵抗が低下し、帯電防止性能109~1013が付与されていることが分かる。"