高膨張層と当該高膨張層よりも薄く熱膨張係数が小さい低膨張層とが積層された積層構成を有し、前記低膨張層が表面層であるガラス基板であって、前記積層構成によって前記高膨張層に引張応力が発生して形成された引張応力層と、前記積層構成によって前記低膨張層に圧縮応力が発生して形成された積層強化層と、表面層である前記低膨張層の最表面付近に化学強化処理によって圧縮応力が発生して形成された化学強化層と、を備え、前記化学強化層の厚さが、前記積層強化層の厚さ以下である、ガラス基板。前記高膨張層と前記低膨張層との熱膨張係数差が、5×10-7~60×10-7/Kである、請求項1に記載のガラス基板。表面層である2層の前記低膨張層と内部層である1層の前記高膨張層とで構成され、前記低膨張層の厚さTlの合計2Tlと前記高膨張層の厚さThとの比2Tl/Thが、0.05~1.5である、請求項1または2に記載のガラス基板。前記化学強化層の厚さ方向に対する応力値の変化率は、前記化学強化層を除く前記積層強化層の厚さ方向に対する応力値の変化率よりも大きい、請求項1~3のいずれか1項に記載のガラス基板。表面層である前記低膨張層において、前記化学強化層における圧縮応力の最大値が600MPa以上である、請求項1~4のいずれか1項に記載のガラス基板。表面層である前記低膨張層において、前記化学強化層を除く前記積層強化層における圧縮応力の最大値が350MPa以下である、請求項1~5のいずれか1項に記載のガラス基板。前記引張応力層における引張応力の最大値が100MPa以下である、請求項1~6のいずれか1項に記載のガラス基板。前記低膨張層がアルカリアルミノシリケートガラス層である、請求項1~7のいずれか1項に記載のガラス基板。前記高膨張層と前記低膨張層との屈折率差が0.1以下である、請求項1~8のいずれか1項に記載のガラス基板。請求項1~9のいずれか1項に記載のガラス基板を得る、ガラス基板の製造方法であって、前記高膨張層と前記低膨張層とを積層させる積層工程と、表面層である前記低膨張層に対して前記化学強化処理を行う化学強化工程と、を備えるガラス基板の製造方法。前記化学強化処理が予熱処理を含み、当該化学強化処理の温度が、前記高膨張層および前記低膨張層が有するガラス転移温度のうち高い方の温度未満である、請求項10に記載のガラス基板の製造方法。前記化学強化処理の温度が、前記高膨張層および前記低膨張層が有するガラス転移温度のうち低い方の温度未満である、請求項11に記載のガラス基板の製造方法。請求項1~9のいずれか1項に記載のガラス基板を用いたカバーガラス。近年、スマートフォンやタブレット型PC等の携帯機器の普及がめざましく、このような携帯機器に搭載されるカバーガラスとしても、機械的強度を高めた強化ガラスの使用が期待されている。スマートフォン等の携帯機器は、ズボン等の衣服のポケットに入れて携帯される場合がある。このような携帯機器に搭載されるカバーガラスには、衝撃等により付く傷に対する耐性加傷強度のほか、曲げに対する耐性曲げ強度も要求される。ところで、特許文献1に開示されたような積層ガラスにおいて、その表面層に形成される圧縮応力層は、一般的に厚い深い。そのため、積層ガラスは、加傷強度に優れるとされる。例えば、積層ガラスの表面に深さX1μmの傷が付いた場合でも、圧縮応力層の厚さX2μmが傷よりも厚ければX2>X1、傷は引張応力層に到達しない。こうして、傷が引張応力層の引張応力によって伸展して積層ガラスが割れてしまうことが抑制される。しかし、積層ガラスの圧縮応力層は、厚さ方向に一定の応力値を示すが、その絶対値は比較的低く、最表層付近においてもその値は高くない。そのため、積層ガラスは、曲げ強度が不十分であるとされる。例えば、積層ガラスが曲げられると、一面側の圧縮応力層には引張応力が加わるが、この引張応力の値Y1MPaが、圧縮応力層の応力値Y2MPaよりも大きい場合にはY1>Y2、積層ガラスは割れてしまう。本発明は、以上の点を鑑みてなされたものであり、加傷強度と曲げ強度とがともに優れたガラス基板を提供することを目的とする。本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を行なった。その結果、積層ガラスの最表面付近に、応力値の最大値が高い別の圧縮応力層を形成することにより、曲げ強度が優れることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明は、以下の1~13を提供する。1高膨張層と当該高膨張層よりも薄く熱膨張係数が小さい低膨張層とが積層された積層構成を有し、上記低膨張層が表面層であるガラス基板であって、上記積層構成によって上記高膨張層に引張応力が発生して形成された引張応力層と、上記積層構成によって上記低膨張層に圧縮応力が発生して形成された積層強化層と、表面層である上記低膨張層の最表面付近に化学強化処理によって圧縮応力が発生して形成された化学強化層と、を備え、上記化学強化層の厚さが、上記積層強化層の厚さ以下である、ガラス基板。2上記高膨張層と上記低膨張層との熱膨張係数差が、5×10-7~60×10-7/Kである、上記1に記載のガラス基板。3表面層である2層の上記低膨張層と内部層である1層の上記高膨張層とで構成され、上記低膨張層の厚さTlの合計2Tlと上記高膨張層の厚さThとの比2Tl/Thが、0.05~1.5である、上記1または2に記載のガラス基板。4上記化学強化層の厚さ方向に対する応力値の変化率は、上記化学強化層を除く上記積層強化層の厚さ方向に対する応力値の変化率よりも大きい、上記1~3のいずれか1つに記載のガラス基板。5表面層である上記低膨張層において、上記化学強化層における圧縮応力の最大値が600MPa以上である、上記1~4のいずれか1つに記載のガラス基板。6表面層である上記低膨張層において、上記化学強化層を除く上記積層強化層における圧縮応力の最大値が350MPa以下である、上記1~5のいずれか1つに記載のガラス基板。7上記引張応力層における引張応力の最大値が100MPa以下である、上記1~6のいずれか1つに記載のガラス基板。8上記低膨張層がアルカリアルミノシリケートガラス層である、上記1~7のいずれか1つに記載のガラス基板。9上記高膨張層と上記低膨張層との屈折率差が0.1以下である、上記1~8のいずれか1つに記載のガラス基板。10上記1~9のいずれか1つに記載のガラス基板を得る、ガラス基板の製造方法であって、上記高膨張層と上記低膨張層とを積層させる積層工程と、表面層である上記低膨張層に対して上記化学強化処理を行う化学強化工程と、を備えるガラス基板の製造方法。11上記化学強化処理が予熱処理を含み、当該化学強化処理の温度が、上記高膨張層および上記低膨張層が有するガラス転移温度のうち高い方の温度未満である、上記10に記載のガラス基板の製造方法。12上記化学強化処理の温度が、上記高膨張層および上記低膨張層が有するガラス転移温度のうち低い方の温度未満である、上記11に記載のガラス基板の製造方法。13上記1~9のいずれか1つに記載のガラス基板を用いたカバーガラス。本発明によれば、加傷強度と曲げ強度とがともに優れたガラス基板を提供することができる。[ガラス基板]まず、本発明のガラス基板の一態様について説明する。もっとも、本発明のガラス基板は、以下に説明するガラス基板1に限定されないことは言うまでもない。図1は、ガラス基板1を示す側面図である。図1に示すように、ガラス基板1は、3層構造であり、一対の表面層3の間に内部層2が配置されている。表面層3の熱膨張係数は内部層2よりも小さい。すなわち、表面層3は熱膨張係数が相対的に低い低膨張層であり、内部層2は熱膨張係数が相対的に高い高膨張層である。また、低膨張層である表面層3の厚さTlは、高膨張層である内部層2の厚さThよりも薄い。内部層2と表面層3とは、融着や接着等によって互いに接合し、積層されている。この積層構成のため、内部層2には図1中白抜き矢印で示すような引張応力が発生し、表面層3には図1中黒矢印で示すような圧縮応力以下、積層強化圧縮応力ともいうが発生している。このように、上記積層構成によって引張応力が発生した領域を引張応力層と呼び、圧縮応力積層強化圧縮応力が発生した領域を積層強化層と呼ぶ。実質的に、内部層2と引張応力層とはほぼ同義であり、表面層3と積層強化層とはほぼ同義である。また、表面層3に対しては化学強化処理が施されており、この化学強化処理によっても表面層3の最表面付近には圧縮応力以下、化学強化圧縮応力ともいうが発生している。以下、表面層3において、化学強化圧縮応力が発生した領域を化学強化層と呼ぶ。化学強化層は、積層強化層と一部重複しているが、少なくとも、化学強化層の厚さは、積層強化層の厚さ以下である。表面層3に対して施される化学強化処理は、概略的には、表面層3に存在するアルカリ成分例えば、Liイオン、Naイオン等のアルカリ金属イオンであり、以下小径アルカリ成分ともいうをイオン半径がより大きいアルカリ成分例えば、Kイオン等のアルカリ金属イオンであり、以下大径アルカリ成分ともいうで置換する、いわゆるイオン交換処理である。そのため、表面層3において、化学強化層における大径アルカリ成分の濃度は、この化学強化層を除く積層強化層のそれよりも高い。すなわち、大径アルカリ成分の濃度の違いによって、化学強化層と、化学強化層を除く積層強化層とを、明確に区別することができる。より詳細には、化学強化処理が施される前の積層強化層表面層3における大径アルカリ成分量例えば、K元素量単位:cpsの平均値をμとし、標準偏差をσとした場合に、化学強化層を大径アルカリ成分量がμ2σ以上の層と規定し、化学強化層を除く積層強化層を大径アルカリ成分量がμ2σ未満の層と規定する。アルカリ成分量は電子線マイクロアナライザEPMAによって測定することができる。なお、誤差が全くない理想状態であれば、化学強化層を、単純に大径アルカリ成分量がμ以上の層と規定することができる。しかし、実際は、化学強化処理前のガラス層の元素量や測定精度により誤差が生じる。そのため、化学強化処理後における大径アルカリ成分量の増分を、誤差領域を含まない程度の有意差以上の値として規定する必要がある。そこで、本発明においては、この有意差を2σとし、化学強化層を上記のように大径アルカリ成分量がμ2σ以上の層と規定するものである。また、より簡便な手法として、例えば、有限会社折原製作所社製の表面応力計FSM-6000LEを用いて化学強化層の厚さを測定することができる。図2は、ガラス基板1の応力プロファイルを概略的に示すグラフである。図2のグラフにおいて、横軸は厚さ単位:μmを表し、縦軸は応力値単位:MPaを表す。縦軸がゼロの直線よりも上側が引張応力のプロファイルであり、下側が圧縮応力のプロファイルである。なお、応力プロファイルは、ガラス基板1の断面の複屈折を測定することにより算出したものである。複屈折の測定には、例えば、株式会社東京インスツルメンツ社製の複屈折イメージングシステムAbrio-IMが用いられる。内部層2においては、上述したように引張応力層が形成されている。引張応力層の応力プロファイルは、厚さ方向にほぼ一定である。引張応力層における引張応力の最大値図2中CTで示すは、高すぎると傷が自走してしまい割れが発生しやすいという理由から、200MPa以下が好ましく、100MPa以下がより好ましい。一方、表面層3においては、上述したように、積層強化層と化学強化層とが形成されている。化学強化層の厚さ図2中DOL2で示すは、積層強化層の厚さ図2中DOL1で示す以下である。化学強化層の応力プロファイルは、化学強化層を除く積層強化層の応力プロファイルよりも、厚さ方向に対する傾きが大きくなっている。つまり、化学強化層の厚さ方向に対する応力値の変化率は、化学強化層を除く積層強化層の厚さ方向に対する応力値の変化率よりも大きい。より詳細には、応力プロファイルは、化学強化層を除く積層強化層では厚さ方向にほぼ一定であるが、化学強化層では厚さ方向に対して傾斜しており、最表面に向けて応力値が上昇している。このように、ガラス基板1の表面層3においては、応力値は高くはないが厚い圧縮応力層化学強化層を除く積層強化層が形成され、さらに、その最表面付近には、厚さはないが応力値の高い圧縮応力層化学強化層が形成されている。そのため、ガラス基板1は、衝撃等により深い傷が付いても割れが発生しにくく加傷強度、また、曲げによって一方の表面に高い引張応力が加わっても割れが生じにくい曲げ強度。化学強化層を除く積層強化層における圧縮応力すなわち、積層強化圧縮応力の最大値図2中CS1で示すは、400MPa以下が好ましく、350MPa以下がより好ましい。積層強化圧縮応力が高すぎると化学強化処理詳細は後述するにおいてイオン交換が阻害される場合があるが、この範囲内であればイオン交換が適切に行われ、化学強化層の化学強化圧縮応力も優れる。また、積層強化圧縮応力が高すぎると、バランスをとって引張応力CTも高くなり割れが発生しやすくなるおそれがあるが、この範囲内であれば引張応力も高くなりすぎない。なお、CS1は、5MPa以上であるのが好ましく、20MPa以上であるのがより好ましい。また、表面層3においては、曲げ強度により優れるという理由から、化学強化層における化学強化圧縮応力の最大値図2中CS2で示すは、600MPa以上が好ましく、700MPa以上がより好ましい。なお、CS2が高くなりすぎるとバランスをとって引張応力CTも高くなり割れが発生しやすくなるという理由から、1200MPa以下が好ましく、1000MPa以下がより好ましい。本明細書において、上述したCT、CS1、および、CS2の数値は、いずれも絶対値を示す。内部層2および表面層3の厚さとしては、上述したように、表面層3が内部層2よりも薄ければ特に限定されないが、表面層3の合計厚さ2Tlと内部層2の厚さThとの比2Tl/Thが0.05~1.5となるのが好ましく、0.1~1.0となるのがより好ましい。上記の厚さ比2Tl/Thがこの範囲内であれば、ガラス基板1における引張応力と積層強化圧縮応力とのバランスに優れる。なお、内部層2および表面層3の具体的な厚さとしては、例えば、内部層2の厚さThは、0.05~2mmが好ましく、0.1~2mmがより好ましい。また、表面層3の厚さTlは、0.05~0.5mmが好ましく、0.05~0.4mmがより好ましい。内部層2および表面層3は、いずれもガラス層であるが、表面層3は、化学強化処理が施されることから、アルカリ成分を含有するガラス層であり、アルカリアルミノシリケートガラス層であるのが好ましい。なお、内部層2は、化学強化処理が施されるものではないため、アルカリ成分を含有するガラス層であっても、アルカリ成分を含有しないガラス層あってもよい。内部層2と表面層3との熱膨張係数差ΔCTEは、CS1およびCTを上記範囲にする観点から、5×10-7~70×10-7/Kが好ましく、5×10-7~60×10-7/Kがより好ましい。なお、本発明において熱膨張係数は、50~350°Cでの線膨張係数であり、熱膨張計を用いて5°C/分の昇温速度で測定したものである。内部層2および表面層3のガラス転移温度は、後述するように、化学強化工程の温度と関係性を持つが、具体的には、高膨張層である内部層2および低膨張層である表面層3のガラス転移温度は、それぞれ450°C以上が好ましく、500°C以上がより好ましい。内部層2と表面層3との屈折率差Δnは、0.1以下が好ましく、0.05以下がより好ましい。Δnがこの範囲であれば、ガラス基板1は、透過性が優れ、カバーガラス用途に好適となる。なお、本発明において屈折率は、d線に対する屈折率であり、株式会社島津デバイス製造社製の精密屈折計KPR-2000により測定したものである。[ガラス基板の製造方法]次に、ガラス基板1を例に挙げて、本発明のガラス基板を得るためのガラス基板の製造方法以下、本発明の製造方法ともいうについて説明する。ガラス基板1を得る本発明の製造方法は、概略的には、内部層2と一対の表面層3とを積層させる積層工程と、表面層である表面層3に対して化学強化処理を行う化学強化工程と、を備える。積層工程積層工程としては、内部層2と表面層3とを、融着や接着等によって互いに接合させて積層させ、内部層2と表面層3との積層体以下、単に積層体ともいうを得る工程であれば特に限定されない。上記積層体を得る方法としては、従来公知の方法を用いることができ、例えば、内部層2の溶融ガラスと表面層3の溶融ガラスとをそれぞれ耐熱性の桶状構造物の両側から溢れさせ、溢れさせた溶融ガラスを桶状構造物の下端で合流させながら下方に延伸成形する方法;内部層2を一対の表面層3の間に配置し、両者の軟化点以上の温度に加熱して、内部層2と表面層3とを融着させる方法;等が挙げられる。このような積層工程の後、得られた上記積層体は、必要に応じて、徐冷され徐々に冷却され、適当な大きさ形状に加工された後、化学強化工程に移行される。化学強化工程化学強化工程は、表面層3に対して化学強化処理を行う工程である。化学強化処理としては、表面層3に存在するアルカリ成分例えば、Liイオン、Naイオン等のアルカリ金属イオンをイオン半径がより大きいアルカリ成分例えば、Kイオン等のアルカリ金属イオンで置換する処理であれば特に限定されないが、例えば、上記積層体を硝酸カリウムKNO3溶融塩に浸漬させる方法が挙げられる。浸漬の条件は、表面層3の厚さ等によっても異なるが、例えば、浸漬時間としては0.25~5時間が挙げられる。ところで、積層ガラスではない単層のガラス基板に対して、このような浸漬に代表される化学強化処理を長時間例えば2日間行えば、化学強化層を厚く形成することができるとも考えられる。しかし、化学強化処理を長時間行うことで製造コストが極めて高くなってしまい実用的ではないし、また、応力値の高い化学強化層を厚く形成されることで、バランスをとって引張応力も高くなってしまい、割れが発生しやすくなるおそれがある。その点、本発明のガラス基板ガラス基板1においては、厚い積層強化層がすでに形成されているため、化学強化層を厚く形成する必要がなく、化学強化処理における浸漬時間等を短くでき、製造コストを低減できる。そして、本発明のガラス基板ガラス基板1においては、応力値の高い化学強化層が必要以上に厚くならないため、引張応力が高くなることも抑制され、割れの発生も抑制できる。また、化学強化処理は、上記浸漬等の前処理として、上記積層体を予熱する予熱処理を含んでいてもよい。予熱処理の方法としては特に限定されず、例えば、ヒータを用いて上記積層体を加熱する方法等が挙げられる。このとき、化学強化処理予熱処理を含むの温度は、内部層2および表面層3が有するガラス転移温度のうち高い方の温度未満であるのが好ましく、内部層2および表面層3が有するガラス転移温度のうち低い方の温度未満であるのがより好ましい。なお、ここでいう、化学強化処理の温度とは、例えば、予熱処理におけるヒータによる加熱温度、KNO3溶融塩の温度等である。ところで、化学強化処理の温度としては、一般的には高い方がより効率的であるとも考えられるが、本発明者らが検討を行なったところ、本発明においては、化学強化処理の温度が高いと、置換後のアルカリ成分が拡散し、その結果、化学強化層の化学強化圧縮応力が弱くなる場合があることを見出した。すなわち、化学強化処理予熱処理を含むの温度が上記条件を満たす場合には、化学強化層の化学強化圧縮応力の最大値が上述した範囲となる。なお、上述したように内部層2および表面層3のガラス転移温度にもよるが、化学強化処理予熱処理を含むの温度としては、具体的には、例えば、550°C以下が好ましく、500°C以下がより好ましい。このような本発明の製造方法によって得られる本発明のガラス基板は、加傷強度および曲げ強度がともに優れるから、例えば、スマートフォンやタブレット型PC等の携帯機器に搭載されるカバーガラスとして好適に用いられる。なお、本発明のガラス基板が上述したガラス基板1に限定されないことは前述のとおりであり、例えば、低膨張層/高膨張層/低膨張層/高膨張層/低膨張層という5層構造のガラス基板であってもよい。以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。<ガラス種類>下記実施例等において使用されたガラス層の詳細は下記のとおりである。ガラス1組成:SiO264.5モル、Al2O36モル、MgO11モル、CaO0.1モル、SrO0.1モル、Na2O12モル、K2O4モル、ZrO22.5モル熱膨張係数:91×10-7/Kガラス転移温度:620°C軟化点:842°C屈折率:1.52ヤング率:78GPaポアソン比:0.22ガラス2組成:SiO273モル、Al2O37モル、MgO6モル、Na2O14モル熱膨張係数:79×10-7/Kガラス転移温度:617°C軟化点:850°C屈折率:1.5ヤング率:71GPaポアソン比:0.2<実施例1~3>まず、厚さ以外が同じサイズのガラス1内部層1枚とガラス2表面層2枚とを準備し、2枚のガラス2の間に1枚のガラス1を配置し、ガラス1およびガラス2がともに軟化点以上となる温度まで加熱した後、徐冷することにより、各ガラスが融着した3層構造の積層体を得た。なお、内部層および表面層に用いたガラス種類および厚さTh、Tlは、下記第1表に示す。次に、得られた積層体に対して化学強化処理を施し、ガラス基板を得た。具体的には、得られた積層体を、ヒータを用いて予熱処理した後、KNO3溶融塩に浸漬浸漬時間および浸漬温度は下記第1表に示すさせ、純水洗浄後に乾燥させ、ガラス基板を得た。なお、予熱処理の温度は、浸漬温度と同温度とした。実施例1~3のガラス基板は、いずれも、図1のグラフと同様の応力プロファイルを示した。応力プロファイルに基づく、CT単位:MPa、DOL1単位:μm、DOL2単位:μm、CS1単位:MPa、および、CS2単位:MPaを下記第1表に示す。なお、CT、CS1、および、CS2の数値は、いずれも絶対値である。CTは株式会社東京インスツルメンツ社製の複屈折イメージングシステムAbrio-IMを用いて測定し、DOL1は電子顕微鏡により測定し、DOL2、CS1およびCS2は、有限会社折原製作所社製の表面応力計FSM-6000LEを用いて測定した以下、同様。また、表面層と内部層との厚さ比2Tl/Th、熱膨張係数差ΔCTE、および、屈折率差Δnについても、下記第1表に示す。なお、実施例1~3のガラス基板において、EPMAを用いて、化学強化処理を施す前の表面層のK元素量を測定したところ、実施例1~3では平均値μが1437cpsであり、標準偏差σが38であった。その後、表面層における化学強化層のK元素量を測定したところ、実施例1では最大で4955cps、実施例2および3では最大で6352cpsであり、いずれもμ2σ以上、つまり、14372×38=1513以上であった。<比較例1および2>化学強化処理を施さなかった以外は、比較例1は実施例1と同様にして、比較例2は実施例3と同様にして、ガラス基板を得た。図3は、比較例1および2のガラス基板の応力プロファイルを概略的に示すグラフである。図3に示すように、比較例1および2においては、表面層に化学強化層は形成されず、一定の応力値を示す積層強化層のみが形成されている。<比較例3および4>比較例3および4においては、単層ガラスに対して化学強化処理を施してガラス基板を得た。具体的には、比較例3は実施例1と同様の処理を施し、比較例4は実施例2または3と同様の処理を施した。図4は、比較例3および4のガラス基板の応力プロファイルを概略的に示すグラフである。図4に示すように、比較例3および4においては、表面層に積層強化層は形成されず、表面層の最表面付近に化学強化層のみが形成されている。<評価>加傷強度得られたガラス基板の表面に、対面角136°のダイヤモンド正四角錐圧子ビッカース圧子を打ち込み15秒間保持した後、荷重を除荷し破砕の有無を確認した。圧子に加える荷重を段階的に増加させ、ガラス基板が破砕した際の荷重値を測定した。ガラス基板が破砕した際の荷重値が10kgf超であった場合には加傷強度が優れるものとしてAと評価し、10kgf以下であった場合には加傷強度が劣るものとしてBと評価した。曲げ強度直径30mmおよび直径10mmの2つのリングでガラス基板を挟み、直径10mmのリングに荷重を加え、ガラス基板に割れが発生した際の荷重値を測定し、同試験を15回繰り返した。ガラス基板に割れが発生した際の平均荷重値が150kgf以上であった場合には曲げ強度が優れるものとしてAと評価し、150kgf未満であった場合には曲げ強度が劣るものとしてBと評価した。上記第1表に示す結果から明らかなように、実施例1~3のガラス基板は、いずれも、加傷強度および曲げ強度がともに優れることが分かった。これに対して、化学強化を行わなかった比較例1および2のガラス基板は曲げ強度に劣り、また、積層構成を有さない比較例3および4のガラス基板は加傷強度に劣ることが分かった。