透明基板を用い、前記透明基板上に、下記構造式Iで表わされる棒状化合物、前記棒状化合物に旋回性を与える第1カイラル剤、および第1レベリング剤を含有する第1選択反射層形成用塗工液を塗工して第1選択反射層形成用層を形成し、前記第1選択反射層形成用層に25mJ/cm2~800mJ/cm2の範囲の紫外線を照射することにより第1選択反射層を形成する第1選択反射層形成工程と、下記構造式Iで表わされる棒状化合物、前記棒状化合物に旋回性を与える第2カイラル剤、および第2レベリング剤を含有する第2選択反射層形成用塗工液を用い、前記第1選択反射層上に直接的に接するように前記第2選択反射層形成用塗工液を塗工して第2選択反射層形成用層を形成し、前記第2選択反射層形成用層に紫外線を照射することにより第2選択反射層を形成する第2選択反射層形成工程と、を有することを特徴とする、電磁波反射フィルムの製造方法。前記第1選択反射層の表面の純水に対する接触角が65~85度の範囲内であることを特徴とする、請求の範囲第1項に記載の電磁波反射フィルムの製造方法。前記第1選択反射層の表面のビッカース硬度が5~25の範囲内であることを特徴とする、請求の範囲第1項または第2項に記載の電磁波反射フィルムの製造方法。透明基板と、前記透明基板上に形成され、コレステリック構造を形成した下記構造式Iで表わされる棒状化合物を含有する第1選択反射層と、前記第1選択反射層上に形成され、コレステリック構造を形成した下記構造式Iで表わされる棒状化合物を含有する第2選択反射層と、を有する電磁波反射フィルムであって、前記第2選択反射層が前記第1選択反射層上に直接的に接するように形成されており、かつ前記第2選択反射層において選択反射される光のうち正反射される光の割合が80以上であることを特徴とする、電磁波反射フィルム。ところで、コレステリック液晶化合物が用いられた電磁波反射フィルムは、通常、透明基板上に積層された選択反射層にコレステリック液晶化合物が含有され、そのコレステリック構造に依存して所定の波長領域の光を選択的に反射する機能を発現するものである。すなわち、選択反射層が電磁波反射フィルムに光の選択反射機能を付与するものである。そして、選択反射層が反射する光の波長領域および円偏光の旋回方向はコレステリック構造に起因するものであることから、複数の選択反射層を用いることにより電磁波反射フィルムの選択反射特性を自在に制御することができるものである。例えば、複数の波長領域の光を選択反射することや、同一の波長領域であっても右旋回の円偏光および左旋回の円偏光の双方を反射することが可能になる。このように、コレステリック液晶化合物が用いられる電磁波反射フィルムは、選択反射性が異なる複数の選択反射層を組み合わせて用いることにより、あらゆる用途に使用可能なものを設計することができるという特徴を有するものである。複数の選択反射層を組み合わせて使用する場合、通常は、透明基板上に当該複数の選択反射層を所定の順序で積層して用いることになる。この場合において選択反射層を積層する方法としては、複数の選択反射層の間に何らかの層を介在させて積層する方法と、他の層を介在させることなく複数の選択反射層が互いに直接的に接するように積層する方法とが考えられる。これらの方法は必要に応じて使い分けることができるものであるが、製造工程を簡略化し、製造適性に優れた電磁波反射フィルムを提供するという観点からは後者の方法が用いられることが好ましいといえる。しかしながら、複数の選択反射層が直接的に接するように積層する方法においては、第1の選択反射層を形成した後、当該第1の選択反射層上に第2の選択反射層を形成する際に、第2の選択反射層が第1の選択反射層から何らかの影響を受けてしまい、第2の選択反射層において所望の選択反射性能を実現することが困難であることが想定される。このため、従来、複数の選択反射層が直接的に接するように積層する方法はほとんど用いられていないのが現状である。また、この方法を用いた場合に生じる問題点についても、その詳細についてはほとんど明らかにされていない。本発明者らは、複数の選択反射層が直接的に接するように積層する方法の有用性を重視し、これを生産性に優れた電磁波反射フィルムの製造方法へと発展させるために鋭意検討した結果、確かに、第1の選択反射層を形成した後、当該第1の選択反射層上に第2の選択反射層を形成する際に、第2の選択反射層が第1の選択反射層の影響を受けてしまい、第2の選択反射層において、あらかじめ設計した通りの選択反射特性を実現することに困難性が伴うこと確認した。そして、具体的な問題点の一つとして、第1の選択反射層上に直接的に第2の選択反射層を積層すると、第2の選択反射層において次のような現象が生じることを見出した。すなわち、第2の選択反射層はコレステリック構造に依存して所定の波長領域の光を反射するように設計されるものであるが、第1の選択反射層上に直接的に接するように第2の選択反射層が積層されると、選択反射される波長領域は当初の設計通りになり、また反射される光の総量すなわち、選択反射される波長領域の光に対する透過率もほぼ設計通りになるが、反射される光のうち正反射される光の割合が減少し、拡散反射される光の割合が増加することを見出した。なお、一般的に拡散反射される光の割合が増加することは電磁波反射フィルムにとっては望ましくないことである。これは、拡散反射は主にコレステリック構造の不均一配列によって生じるが、この不均一配列によって光の散乱が発生して、透明性が損なわれる場合があるからである。本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、コレステリック構造を形成した棒状化合物を含有する複数の選択反射層が、直接的に接するように積層された構成を有し、選択反射される光のうち拡散反射の割合が少ない電磁波反射フィルムを製造することができる、電磁波反射フィルムの製造方法を提供することを主目的とするものである。本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、第1の選択反射層に直接的に接するように第2の選択反射層を形成する方法において、第1の選択反射層を形成する際の工程条件を所定の条件に制御することにより、第2の選択反射層において拡散反射の割合が増加することを防止できることを見出すことにより本発明を完成するに至った。すなわち、上記課題を解決するために本発明は、透明基板を用い、上記透明基板上に、下記構造式Iで表わされる棒状化合物、上記棒状化合物に旋回性を与える第1カイラル剤、および第1レベリング剤を含有する第1選択反射層形成用塗工液を塗工して第1選択反射層形成用層を形成し、上記第1選択反射層形成用層に25mJ/cm2~800mJ/cm2の範囲内の紫外線を照射することにより第1選択反射層を形成する第1選択反射層形成工程と、下記構造式Iで表わされる棒状化合物、上記棒状化合物に旋回性を与える第2カイラル剤、および第2レベリング剤を含有する第2選択反射層形成用塗工液を用い、上記第1選択反射層上に直接的に接するように上記第2選択反射層形成用塗工液を塗工して第2選択反射層形成用層を形成し、上記第2選択反射層形成用層に紫外線を照射することにより第2選択反射層を形成する第2選択反射層形成工程と、を有することを特徴とする電磁波反射フィルムの製造方法を提供する。本発明によれば、上記第1選択反射層形成工程において上記第1選択反射層形成用層に照射される紫外線照射量が上記範囲内であることにより、本発明により製造される電磁波反射フィルムにおいて第2選択反射層で選択反射される光のうち、拡散反射される光の割合を低下させることができる。このため、本発明によれば選択反射される光のうち拡散反射の割合が少ない電磁波反射フィルムを製造することができる。本発明においては、上記第1選択反射層の表面の純水に対する接触角が65~85度の範囲内であることが好ましい。これにより本発明により製造される電磁波反射フィルムにおいて第2選択反射層で選択反射される光のうち、拡散反射される光の割合をより低下することができるからである。また本発明においては、上記第1選択反射層の表面のビッカース硬度が5~25の範囲内であることが好ましい。これにより本発明により製造される電磁波反射フィルムにおいて第2選択反射層で選択反射される光のうち、拡散反射される光の割合をさらに低下することができるからである。さらに本発明は、透明基板と、上記透明基板上に形成され、コレステリック構造を形成した下記構造式Iで表わされる棒状化合物を含有する第1選択反射層と、上記第1選択反射層上に形成され、コレステリック構造を形成した下記構造式Iで表わされる棒状化合物を含有する第2選択反射層とを有する電磁波反射フィルムであって、上記第2選択反射層が上記第1選択反射層上に直接的に接するように形成されており、かつ上記第2選択反射層において選択反射される光のうち正反射される光の割合が80以上であることを特徴とする電磁波反射フィルムを提供する。本発明によれば、上記第2選択反射層において選択反射される光のうち正反射される光の割合が上記範囲内であることにより、電磁波反射フィルム全体として拡散反射性の少ないものにすることができる。本発明は、選択反射される光のうち拡散反射の割合が少ない電磁波反射フィルムを製造することができるという効果を奏する。本発明は、電磁波反射フィルムの製造方法、および電磁波反射フィルムに関するものである。以下、各発明について詳細に説明する。A.電磁波反射フィルムの製造方法まず、本発明の電磁波反射フィルムの製造方法について説明する。上述したように本発明の電磁波反射フィルムの製造方法は、透明基板を用い、上記透明基板上に下記構造式Iで表わされる棒状化合物、上記棒状化合物に旋回性を与える第1カイラル剤、および第1レベリング剤を含有する第1選択反射層形成用塗工液を塗工して第1選択反射層形成用層を形成し、上記第1選択反射層形成用層に25mJ/cm2~800mJ/cm2の範囲内の紫外線を照射することにより第1選択反射層を形成する第1選択反射層形成工程と、下記構造式Iで表わされる棒状化合物、上記棒状化合物に旋回性を与える第2カイラル剤、および第2レベリング剤を含有する第2選択反射層形成用塗工液を用い、上記第1選択反射層上に直接的に接するように上記第2選択反射層形成用塗工液を塗工して第2選択反射層形成用層を形成し、上記第2選択反射層形成用層に紫外線を照射することにより第2選択反射層を形成する第2選択反射層形成工程と、を有することを特徴とするものである。このような本発明の電磁波反射フィルムの製造方法について図を参照しながら説明する。図1は本発明の電磁波反射フィルムの製造方法について、その一例を示す工程図である。図1に例示するように本発明の電磁波反射フィルムの製造方法は、透明基板11を用い図1a、上記透明基板11上に上記構造式Iで表わされる棒状化合物、上記棒状化合物に旋回性を与える第1カイラル剤、および第1レベリング剤を含有する第1選択反射層形成用塗工液を塗工して第1選択反射層形成用層12’を形成し図1b、上記第1選択反射層形成用層12’に紫外線を照射することにより図1c、透明基板11上に第1選択反射層12を形成する図1d、第1選択反射層形成工程と図1a~d、上記構造式Iで表わされる棒状化合物、上記棒状化合物に旋回性を与える第2カイラル剤、および第2レベリング剤を含有する第2選択反射層形成用塗工液を用い、上記第1選択反射層12上に直接的に接するように上記第2選択反射層形成用塗工液を塗工して第2選択反射層形成用層13’を形成し図1e、上記第2選択反射層形成用層13’に紫外線を照射することにより図1f、第2選択反射層13を形成する図1g、第2選択反射層形成工程図1e~gと、を有するものである。そして、これらの工程を有することにより、本発明の電磁波反射フィルムの製造方法は透明基板11上に形成され、コレステリック構造を形成した上記棒状化合物を含有する第1選択反射層12と、第1選択反射層12上に直接的に接するように形成され、同じくコレステリック構造を形成した上記棒状化合物を含有する第2選択反射層13とを有する電磁波反射フィルム10を製造するものである。このような例において、本発明の電磁波反射フィルムの製造方法は上記第1選択反射層形成工程において第1選択反射層形成用層12’に照射される紫外線照射量が25mJ/cm2~800mJ/cm2の範囲内であることを特徴とするものである。本発明によれば、上記第1選択反射層形成工程において上記第1選択反射層形成用層に照射される紫外線照射量が上記範囲内であることにより、本発明により製造される電磁波反射フィルムにおいて第2選択反射層で選択反射される光のうち、拡散反射される光の割合を低下することができる。また、第1選択反射層は透明基板上に形成されていることから、拡散反射性をほとんど示さない。このため、本発明によれば選択反射される光のうち拡散反射の割合が少ない電磁波反射フィルムを製造することができる。本発明の電磁波反射フィルムの製造方法は、少なくとも第1選択反射層形成工程と、第2選択反射層形成工程とを有し、必要に応じて他の工程を有してもよいものである。以下、本発明に用いられる各工程について順に説明する。1.第1選択反射層形成工程まず、本発明における第1選択反射層形成工程について説明する。本工程は、透明基板上に、上記構造式Iで表わされる棒状化合物、上記棒状化合物に旋回性を与える第1カイラル剤、および第1レベリング剤を含有する第1選択反射層形成用塗工液を塗工して第1選択反射層形成用層を形成し、当該第1選択反射層形成用層に紫外線を照射することにより第1選択反射層を形成する工程である。そして、本工程は上記第1選択反射層形成用層に照射される紫外線照射量が25mJ/cm2~800mJ/cm2の範囲内であることを特徴とするものである。1透明基板本工程に用いられる透明基板について説明する。本工程に用いられる透明基板は、少なくとも本工程で形成される第1選択反射層、および後述する第2選択反射層形成工程で形成される第2選択反射層を支持できるものであれば特に限定されるものではない。中でも本工程に用いられる透明基板は、可視光領域における透過率が80以上であることが好ましく、90以上であることがより好ましい。ここで、透明基板の透過率は、JISK7361-1プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法により測定することができる。本工程に用いられる透明基板は、所望の透明性を具備するものであれば、可撓性を有するフレキシブル材でも、可撓性のないリジッド材でも用いることができる。このような透明基板としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、メタアクロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等の樹脂からなるものを挙げることができる。なかでも本工程においてはポリエチレンテレフタレートからなる透明基板が用いられることが好ましい。ポリエチレンテレフタレートは汎用性が高く、入手が容易であるからである。透明基板の厚みについては、本発明によって製造される電磁波反射フィルムの用途および透明基板を構成する材料等に応じて適宜決定することができるものであり、特に限定されるものではない。2第1選択反射層形成用塗工液次に、本工程に用いられる第1選択反射層形成用塗工液について説明する。本工程に用いられる第1選択反射層形成用塗工液は少なくとも棒状化合物、上記棒状化合物に旋回性を与える第1カイラル剤、および第1レベリング剤を含有するものである。i棒状化合物本工程に用いられる棒状化合物としては、上記構造式Iで表わされるものが用いられる。ii第1カイラル剤本工程に用いられる第1カイラル剤は、上記棒状化合物に旋回性を与えることができるものであれば特に限定されるものではない。また、本工程に用いられる第1カイラル剤は上記棒状化合物に右旋回性を与えるものであってもよく、または左旋回性を与えるものであってもよい。右旋回性を与える第1カイラル剤は、上記棒状化合物に右旋回性を与えてコレステリック構造を形成するものである。このような第1カイラル剤としては、例えば、下記の一般式A、B又はCで表されるような、分子内に軸不斉を有する低分子化合物を用いることが好ましい。上記一般式Aにおいて、R1は水素又はメチル基を示す。Yは上記に示す式i~xxivの任意の一つであるが、中でも、式i、ii、iii、v及びviiのいずれか一つであることが好ましい。また、アルキレン基の鎖長を示すc及びdは、それぞれ個別に2~12の範囲で任意の整数をとり得るが、4~10の範囲であることが好ましく、6~9の範囲であることがさらに好ましい。また、第1カイラル剤として、以下のような化学式で表わされるものも用いることができる。左旋回性を与える第1カイラル剤は、上記棒状化合物に左旋回性を与えてコレステリック構造を形成するものである。このような第1カイラル剤は特に限定されるものではないが、例えば、ADEKA社製CNL-716等を挙げることができる。なお、第1選択反射層形成用塗工液中の第1カイラル剤の含有量によって、本工程において形成される第1選択反射層が反射する光の波長を調整することができる。棒状化合物および上記第1カイラル剤の合計に対する第1カイラル剤の割合は、第1カイラル剤の旋回性によって異なるが、例えば、右旋回性を与える第1カイラル剤が用いられる場合は1.0質量~5.0質量の範囲内、中でも1.5質量~3.5質量の範囲内であることが好ましい。一方、左旋回性を与える第1カイラル剤が用いられる場合は、1.0質量~7.0質量の範囲内、中でも2.0質量~5.0質量の範囲内であることが好ましい。iii第1レベリング剤次に、本工程に用いられる第1レベリング剤について説明する。本工程に用いられる第1レベリング剤は、本工程で形成される第1選択反射層において上記棒状化合物のコレステリック構造の形成を促すものである。本工程に用いられる第1レベリング剤としては、本工程において形成される第1選択反射層において上記棒状化合物のコレステリック配列を促進できるものであれば特に限定されるものではない。このような第1レベリング剤としては、例えば、シリコン系化合物、フッ素系化合物、またはアクリル系化合物等を挙げることができる。本工程においてはこれらのいずれの化合物であっても第1レベリング剤として使用可能な場合がある。本工程に用いられる第1レベリング剤の具体例としては、例えばビックケミージャパン社製BYK-361N、AGCセイケミカル社製S-241等を挙げることができる。本工程においてはこれらのいずれの第1レベリング剤であっても好適に用いることができるが、なかでもアクリル系化合物であるBYK-361Nを用いることがより好ましい。また、本工程に用いられる第1レベリング剤は1種類であってもよく、または2種類以上であってもよい。第1選択反射層形成用塗工液における第1レベリング剤の含有量としては、上記棒状化合物のコレステリック構造を所望の規則性で形成できる範囲内であれば特に限定されるものではない。具体的な含有量は、第1レベリング剤の種類等に応じて適宜決定される。なかでも、本工程においては、上記第1選択反射層形成用塗工液中の第1レベリング剤の含有量は0.01質量~5.0質量の範囲内であることが好ましく、0.03質量~1.0質量の範囲内であることがより好ましい。ivその他の成分本工程に用いられる第1選択反射層形成用塗工液は、さらに重合開始剤を含有することが好ましい。本工程においては第1選択反射層を形成する際に、上記棒状化合物を重合させることを目的として紫外線を照射するが、第1選択反射層形成用塗工液に重合開始剤が含有されることにより、本工程において上記棒状化合物の重合反応が生じやすくなるからである。重合開始剤の種類は上記構造式Iで表わされる棒状化合物の重合反応を促進できるものであれば特に限定されるものではなく、照射するエネルギーの種類に応じて適宜選択することが好ましい。このような重合開始剤の具体的例としては光重合開始剤および熱重合開始剤等を挙げることができる。また、重合開始剤を含有させる場合、その含有量は所望の重合反応が生じる程度であれば特に限定されるものではなく、適宜決定すればよい。また、本工程に用いられる第1選択反射層形成用塗工液は、通常、溶媒を含有するものが用いられる。上記溶媒としては、少なくとも上記棒状化合物、第1カイラル剤、および第1レベリング剤を分散させることができるものであれば特に限定されるものではない。このような溶媒としては、例えばシクロヘキサノン等を挙げることができる。3第1選択反射層の形成方法次に、本工程において透明基板上に第1選択反射層を形成する方法について説明する。本工程においては、透明基板上に第1選択反射層形成用塗工液を塗工して第1選択反射層形成用層を形成し、上記第1選択反射層形成用層に紫外線を照射することにより第1選択反射層が形成される。ここで、上記第1選択反射層形成用層は、第1選択反射層形成用塗工液が塗工された後、紫外線が照射される前の段階にあるものを指し、紫外線が照射されることによって第1選択反射層となるものである。透明基板上に第1選択反射層形成用塗工液を塗布する方法としては、所望の厚みで第1選択反射層形成用塗工液を塗布し、第1選択反射層形成用層を形成できる方法であれば特に限定されるものではない。このような方法としては、一般的な塗布法を用いることができ、具体的にはバーコート法、スピンコート法、ブレードコート法等を挙げることができる。また、通常は、透明基板上に塗布した第1選択反射層形成用塗工液を乾燥し、溶媒を除去することによって第1選択反射層形成用層を得る。上記第1選択反射層形成用層は紫外線が照射されることによって第1選択反射層となる。本工程において第1選択反射層形成用層に紫外線を照射するのは、第1カイラル剤および第1レベリング剤の作用によりコレステリック構造を形成した棒状化合物を、当該コレステリック構造を維持したまま架橋し、コレステリック構造が乱されにくくするためである。本工程においては第1選択反射層形成用層に照射される紫外線の照射量が25mJ/cm2~800mJ/cm2の範囲内であることを特徴とするものである。本発明の電磁波反射フィルムの製造方法は、本工程において第1選択反射層形成用層に照射される紫外線量が上記範囲内であることにより、後述する第2選択反射層形成工程で形成される第2選択反射層を拡散反射性の低いものとすることができるものである。ここで、本工程における第1選択反射層形成用層への紫外線照射量を上記範囲内とするのは、紫外線照射量が上記範囲よりも少ないと、第1選択反射層形成用層に含まれる棒状化合物の重合が不十分になり、結果として本工程で形成される第1選択反射層において棒状化合物のコレステリック構造が乱されやすくなってしまうからである。また、紫外線照射量が上記範囲よりも多いと、第1レベリング剤が第1選択反射層形成用層表面に出現してしまう場合があるからである。本工程における第1選択反射層形成用層への紫外線照射量は上記範囲内であれば特に限定されるものではないが、なかでも25mJ/cm2~400mJ/cm2の範囲内であることがより好ましく、50mJ/cm2~200mJ/cm2の範囲内であることがさらに好ましい。4第1選択反射層次に、本工程で形成される第1選択反射層について説明する。本工程で形成される第1選択反射層は、上記棒状化合物のコレステリック構造に依存して、所定の波長範囲の光のうち、右旋回円偏光または左旋回円偏光の一方を選択的に反射する機能を有するものである。第1選択反射層におけるコレステリック構造が右旋回構造であれば右旋回円偏光を選択反射し、左旋回構造であれば左旋回円偏光を選択反射することになる。また、コレステリック構造のピッチに依存して、選択反射される光の波長領域が決定されることになる。本工程で形成される第1選択反射層の厚みは、第1選択反射層に所望の選択反射機能を付与できる範囲内であれば特に限定されるものではない。このため、第1選択反射層の厚みは、本発明によって製造される電磁波反射フィルムの用途等に応じて適宜決定されるものであるが、通常は0.1μm~100μmの範囲内であることが好ましく、0.5μm~20μmの範囲内であることがより好ましく、1μm~10μmの範囲内であることがさらに好ましい。また、本工程において形成される第1選択反射層は、表面の純水に対する接触角が65~85度の範囲内であることが好ましく、70~85度の範囲内であることがより好ましく、75~80度の範囲内であることがさらに好ましい。第1選択反射層の表面の純水に対する接触角がこのような範囲内であることにより、本発明により製造される電磁波反射フィルムにおいて第2選択反射層で選択反射される光のうち、拡散反射される光の割合をより低下することができるからである。ここで、上記純水に対する接触角は、第1選択反射層の表面のうち後述する第2選択反射層形成工程において第2選択反射層が形成される側の表面に対するものをいう。上記接触角は23°C環境下で5.0マイクロリットルの純水を手動滴下して5回実施した平均値を意味するものであり、接触角は、例えば、測定装置として協和界面科学製DM-301を用いることにより測定することができる。また、上記接触角は第1選択反射層形成用層への紫外線照射量を上述した範囲内で適宜調整することにより、所望の値を実現することができる。また本工程において形成される第1選択反射層は、表面のビッカース硬度が5~25の範囲内であることが好ましく、10~25の範囲内であることがより好ましく、10~20の範囲内であることがさらに好ましい。第1選択反射層の表面のビッカース硬度がこのような範囲内であることにより、本発明により製造される電磁波反射フィルムにおいて第2選択反射層で選択反射される光のうち、拡散反射される光の割合をさらに低下することができるからである。ここで、上記ビッカース硬度は、第1選択反射層の表面のうち後述する第2選択反射層形成工程において第2選択反射層が形成される側の表面に対するものをいう。上記ビッカース硬度は、サンプルに対し荷重0.5mN/10s、測定環境は25°Cで5回測定した平均値を意味するものであり、ビッカース硬度は、例えば測定装置としてフィッシャーインストルメンツ製HM500を用いることにより測定することができる。また、上記ビッカース硬度は第1選択反射層形成用層への紫外線照射量を上述した範囲内で適宜調整することにより、所望の値を実現することができる。2.第2選択反射層形成工程次に、本発明に用いられる第2選択反射層形成工程について説明する。本工程は、上記構造式Iで表わされる棒状化合物、上記棒状化合物に旋回性を与える第2カイラル剤、および第2レベリング剤を含有する第2選択反射層形成用塗工液を用い、上記第1選択反射層上に直接的に接するように上記第2選択反射層形成用塗工液を塗工して第2選択反射層形成用層を形成し、上記第2選択反射層形成用層に紫外線を照射することによって第2選択反射層を形成する工程である。本工程においては第2選択反射層形成用塗工液を上記第1選択反射層に直接的に接するように塗布することによって第2選択反射層を形成するが、直接的に接するようにとは、本工程において形成される第2選択反射層と第1選択反射層との間に他の層が介在しないことを意味するものである。1第2選択反射層形成用塗工液本工程に用いられる第2選択反射層形成用塗工液は上記構造式Iで表わされる棒状化合物、第2カイラル剤、および第2レベリング剤を含有するものである。ここで、本工程に用いられる第2カイラル剤、および第2レベリング剤としては、それぞれ上述した第1選択反射層形成用塗工液に用いられる第1カイラル剤、および第1レベリング剤として用いられるものとして例示したものと同様のものを用いることができる。なお、本工程に用いられる第2カイラル剤、および第2レベリング剤は、それぞれ上記第1選択反射層形成用塗工液に用いられる第1カイラル剤、および第1レベリング剤と同一のものであってもよく、または異なるものであってもよい。第2選択反射層形成用塗工液中における第2カイラル剤、および第2レベリング剤の含有量については、それぞれ上記第1選択反射層形成用塗工液中の第1カイラル剤、および第1レベリング剤の含有量と同程度とすることができる。2第2選択反射層の形成方法次に、本工程において第2選択反射層を形成する方法について説明する。本工程においては、第1選択反射層形成工程で形成された第1選択反射層上に直接的に接するように第2選択反射層形成用塗工液を塗工して第2選択反射層形成用層を形成し、上記第2選択反射層形成用層に紫外線を照射することによって第2選択反射層を形成する。ここで、上記第2選択反射層形成用層は、第2選択反射層形成用塗工液が塗工された後、紫外線が照射される前の段階にあるものを指し、紫外線が照射されることによって第2選択反射層となるものである。第1選択反射層上に第2選択反射層形成用塗工液を塗布する方法としては、所望の厚みで第2選択反射層形成用塗工液を塗布し、第2選択反射層形成用層を形成できる方法であれば特に限定されるものではない。このような方法としては、一般的な塗布法を用いることができ、具体的にはバーコート法、スピンコート法、ブレードコート法等を挙げることができる。また、通常は、第1選択反射層上に塗布した第2選択反射層形成用塗工液を乾燥し、溶媒を除去することによって第2選択反射層形成用層を得る。上記第2選択反射層形成用層は紫外線が照射されることによって第2選択反射層となる。本工程において第2選択反射層形成用層に紫外線を照射するのは、第1選択反射層形成工程の場合と同様に、第2カイラル剤および第2レベリング剤の作用によりコレステリック構造を形成した棒状化合物を、当該コレステリック構造を維持したまま架橋し、コレステリック構造が乱されにくくするためである。本工程における第2選択反射層形成用層への紫外線照射量は、本発明によって製造される電磁波反射フィルムの構成に応じて適宜決定される。具体的には、本発明によって製造される電磁波反射フィルムが選択反射層として第1選択反射層、および第2選択反射層のみを有する場合、第2選択反射層形成用層への紫外線照射量は棒状化合物を十分に重合できる範囲内であれば特に限定されるものではない。したがって、具体的にどの程度の紫外線を照射するかは本発明によって製造される電磁波反射フィルムの用途等に応じて適宜決定される。例えば、本発明によって製造される電磁波反射フィルムの用途が、第2選択反射層に80°C以上の熱や大気圧以上の荷重が掛からないようなものである場合は、通常、第2選択反射層形成用層への紫外線照射量は200mJ/cm2以上であれば、特段の事情がない限り、特に問題はないといえる。一方、例えば、本発明によって製造される電磁波反射フィルムが自動車用の合わせガラス用に用いられる場合、この場合には第2選択反射層が高温高圧の状況下に置かれることになるので、第2選択反射層形成用層への紫外線照射量は通常800mJ/cm2程度とされる。また、本発明によって製造される電磁波反射フィルムが、第1選択反射層、第2選択反射層以外に、さらに第2選択反射層上に第3選択反射層、第4選択反射層、...等の補充選択反射層が積層された構成を有する場合は、本工程において第2選択反射層形成用層に照射される紫外線量は、上記第1選択反射層形成用層への紫外線照射量と同様に、25mJ/cm2~800mJ/cm2の範囲内であることが好ましく、25mJ/cm2~400mJ/cm2の範囲内であることがより好ましく、50mJ/cm2~200mJ/cm2の範囲内であることがさらに好ましい。例えば、第2選択反射層上に第3選択反射層が形成される場合には、第1選択反射層形成用層への紫外線照射量を上述した範囲内とすることによって第2選択反射層の拡散反射性を低減することができるのと同様に、第2選択反射層形成用層への紫外線照射量を上記範囲内とすることによって第3選択反射層の拡散反射性を低減することができるからである。なお、このことは第3選択反射層上に第4選択反射層を形成する場合における第3選択反射層形成用層に対する紫外線照射量についても同様である。3第2選択反射層次に、本工程で形成される第2選択反射層について説明する。本工程で形成される第2選択反射層は、上記棒状化合物のコレステリック構造に依存して、所定の波長範囲の光のうち、右旋回円偏光または左旋回円偏光の一方を選択的に反射する機能を有するものである。第2選択反射層におけるコレステリック構造が右旋回構造であれば右旋回円偏光を選択反射し、左旋回構造であれば左旋回円偏光を選択反射することになる。また、コレステリック構造のピッチに依存して、選択反射される光の波長領域が決定されることになる。本工程で形成される第2選択反射層の厚みは、第2選択反射層に所望の選択反射機能を付与できる範囲内であれば特に限定されるものではない。このため、第2選択反射層の厚みは、本発明によって製造される電磁波反射フィルムの用途等に応じて適宜決定されるものであるが、通常は0.1μm~100μmの範囲内であることが好ましく、0.5μm~20μmの範囲内であることがより好ましく、1μm~10μmの範囲内であることがさらに好ましい。3.その他の工程本発明の電磁波反射フィルムの製造方法は、少なくとも上述した第1選択反射層形成工程と、第2選択反射層形成工程とを有するものであるが、必要に応じて他の任意の工程が用いられてもよいものである。任意の工程は、本発明によって製造される電磁波反射フィルムの用途等に応じて、所望の構成または機能を有する電磁波反射フィルムを製造できるものであれば特に限定されるものではない。このような任意の工程としては、例えば、上記第2選択反射層上に第3選択反射層を形成する第3選択反射層形成工程、当該第3選択反射層上に第4選択反射層を形成する第4選択反射層形成工程等、第2選択反射層上に補充選択反射層を形成する補充選択反射層形成工程を挙げることができる。このような補充選択反射層形成工程は、複数工程が用いられてもよい。上記補充選択反射層形成工程において、第3選択反射層、第4選択反射層等の補充選択反射層を形成する方法としては、上記第2選択反射層形成工程において第2選択反射層を形成する方法と同様に、棒状化合物、カイラル剤、およびレベリング剤を含有する補充選択反射層形成用塗工液を塗布することにより補充選択反射層形成用層を形成し、当該補充選択反射層形成用層に紫外線を照射することによって形成することができる。ここで、補充選択反射層形成用層への紫外線照射量としては、形成する補充選択反射層が電磁波反射フィルムにおいて最表層に位置するものとなる場合には200mJ/cm2以上とされ、具体的にどの程度の紫外線を照射するかは、本発明によって製造される電磁波反射フィルムの用途等に応じて適宜決定される。一方、形成される補充選択反射層上に、さらなる補充選択反射層を形成することが予定されている場合は、0.06重量を添加した固形分30重量。これを第1選択反射層形成用塗工液とした。次に両末端に重合可能なアクリレートを有するとともに中央部のメソゲンと上記アクリレートとの間にスペーサを有する、液晶性モノマー分子OPT01DNPファインケミカル福島製上記構造式I97.9部と、両側の末端に重合可能なアクリレートを有するカイラル剤右旋回性、Paliocolor登録商標LC756BASF社製2.1部とを溶解させたシクロヘキサノン溶液を準備した。なお、上記シクロヘキサノン溶液には、上記液晶性モノマー分子に対して5.0重量の光重合開始剤イルガキュア184とレベリング剤0.06重量を添加した固形分30重量。これを第2選択反射層形成用塗工液とした。その次に、上記の二軸延伸フィルムに、配向膜を介さずにバーコーターにて、上記第1選択反射層形成用塗工液を塗布した。次いで、100°Cで2分間保持し、第1選択反射層形成用塗工液中のシクロヘキサノンを蒸発させて、液晶性モノマー分子を配向させ、右旋回性塗膜第1選択反射層形成用層を得た。そして、得られた第1選択反射層形成用層に、紫外線照射装置フュージョン社製、Hバルブ、以下同じを用いて紫外線を50mJ/cm2照射量測定はオーク製作所社製、UV-351にて測定、以下同じ照射し、第1選択反射層形成用層中の光重合開始剤から発生するラジカルによって配向した液晶性モノマー分子のアクリレートおよびカイラル剤のアクリレートを3次元架橋してポリマー化し、二軸延伸フィルム上にコレステリック構造を固定化することにより、第1選択反射層膜厚5μmを形成した。このとき、第1選択反射層表面の純水に対する接触角は77.1°、ビッカース硬度は12.7であった。更に上記第1選択反射層の上にバーコーターにて、上記第2選択反射層形成用塗工液を塗布した。次いで、100°Cで2分間保持し、第2選択反射層形成用塗工液中のシクロヘキサノンを蒸発させて、液晶性モノマー分子を配向させ、右旋回性塗膜第2選択反射層形成用層を得た。そして、得られた第2選択反射層形成用層に、紫外線照射装置を用いて紫外線を800mJ/cm2照射し、第2選択反射層形成用層中の光重合開始剤から発生するラジカルによって配向した液晶性モノマー分子のアクリレートおよびカイラル剤のアクリレートを3次元架橋してポリマー化し、コレステリック構造を固定化することにより、第2選択反射層膜厚5μmを形成した。これにより、電磁波反射フィルム1を得た。[実施例2]両末端に重合可能なアクリレートを有するとともに中央部のメソゲンと上記アクリレートとの間にスペーサを有する、液晶性モノマー分子OPT01DNPファインケミカル福島製上記構造式I96.0部と、両側の末端に重合可能なアクリレートを有するカイラル剤左旋回性、CNL-716ADEKA社製4.0部とを溶解させたシクロヘキサノン溶液を準備した。なお、上記シクロヘキサノン溶液には、上記液晶性モノマー分子に対して5.0重量の光重合開始剤イルガキュア184とレベリング剤0.06重量を添加した固形分30重量。これを第2選択反射層形成用塗工液とした。そして、このような第2選択反射層形成用塗工液を用いたこと以外は、実施例1と同様の方法により電磁波反射フィルム2を得た。なお、第1選択反射層表面の純水に対する接触角は78.7°、ビッカース硬度は13.1であった。[比較例1]第1選択反射層形成用層に対する紫外線照射量を1600mJ/cm2としたこと以外は、実施例1と同様の方法により電磁波反射フィルム3を得た。[比較例2]第1選択反射層形成用層に対する紫外線照射量を1600mJ/cm2としたこと以外は、実施例2と同様の方法により電磁波反射フィルム4を得た。[評価]実施例1、2および比較例1、2において作製した電磁波反射フィルム1~4について第2選択反射層の正反射率を測定した。その結果を図6に示す。図6aは実施例1および比較例1に関する測定結果を示すグラフであり、図6bは実施例2および比較例2に関する測定結果を示すグラフである。また、実施例1、2および比較例1、2において作製した電磁波反射フィルム1~4についてヘイズを測定した結果、電磁波反射フィルム1実施例1が0.8、電磁波反射フィルム2実施例2が0.9、電磁波反射フィルム3比較例1が1.7、および電磁波反射フィルム4比較例2が2.0であった。なお、ヘイズはJISK7136に準拠し、村上色彩研究所製HM150を測定装置として用いて測定した。