"数平均分子量が500以上のポリオールA-1、数平均分子量が500未満のポリオールA-2、無黄変型有機ポリイソシアネートB及びヒドロキシル基含有メタアクリレートCの反応物であって、全ポリオールのモル数を100としたときのA-1とA-2モル比:A-1/A-2が1/99~30/70であるウレタンメタアクリレートを含む光学フィルム又はシート形成用活性エネルギー線硬化型組成物。前記A-1が、数平均分子量600以上2,500以下のポリオールで、前記A-2が、数平均分子量60以上400以下のポリオールである請求項1に記載の光学フィルム又はシート形成用活性エネルギー線硬化型組成物。前記A-1が、ポリカーボネートポリオール及び/又はポリエステルポリオールを含む請求項1又は請求項2に記載の光学フィルム又はシート形成用活性エネルギー線硬化型組成物。ウレタンメタアクリレートの数平均分子量が、600~3,000である請求項1~請求項3のいずれか1項に記載の光学フィルム又はシート形成用活性エネルギー線硬化型組成物。有機溶剤をさらに含む請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の光学フィルム又はシート形成用活性エネルギー線硬化型組成物。請求項1~請求項5のいずれか1項に記載の組成物を含む光学フィルム又はシート形成用電子線硬化組成物。請求項1~請求項6のいずれか1項に記載の組成物の硬化物が、フィルム状又はシート状に形成されてなる光学フィルム又はシート。シート状基材に、請求項1~請求項6のいずれか1項に記載の組成物を塗布した後、塗工面側又はシート状基材側から活性エネルギー線を照射する光学フィルム又はシートの製造方法。シート状基材が剥離可能な基材である請求項8記載の光学フィルム又はシートの製造方法。シート状基材に、請求項1~請求項6のいずれか1項に記載の組成物を塗布し、組成物の塗工面に他のシート状基材を貼合した後、前記シート状基材のいずれかの側から活性エネルギー線を照射する光学フィルム又はシートの製造方法。シート状基材のいずれか一方又は両方が剥離可能な基材である請求項10記載の光学フィルム又はシートの製造方法。本発明の目的は、柔軟性があり取り扱い易く、破断強度及び引張弾性率が優れた光学フィルム用活性エネルギー線硬化型組成物、該組成物から得られた光学フィルムを提供することである。本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討を重ねた結果、原料ポリオールとして数平均分子量の高いポリオールと低いポリオールを併用し、さらにそれらの割合を特定のモル比としたウレタンメタアクリレートを含む活性エネルギー線硬化型組成物が有効であることを見出した。即ち、本発明は、数平均分子量が500以上のポリオール以下、A-1という、数平均分子量が500未満のポリオールA-2以下、A-2という、無黄変型有機ポリイソシアネートB及びヒドロキシル基含有メタアクリレートCの反応物であって、全ポリオールのモル数を100としたときのA-1とA-2モル比:A-1/A-2が、1/99~30/70であるウレタンメタアクリレートを含むことを特徴とする光学フィルム又はシート形成用活性エネルギー線硬化型組成物である。本発明の組成物によれば、柔軟性、破断強度及び引張弾性率が優れた光学フィルム、偏光子保護フィルムを提供することができる。本発明は、特定のウレタンメタアクリレートを含む光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物、及び光学フィルムに関するものである。以下、本発明の詳細について説明する。尚、本明細書では、組成物に活性エネルギー線照射して得られる架橋物及び硬化物を、まとめて硬化物と表す。1.ウレタンメタアクリレート本発明で使用するウレタンメタアクリレートは、A-1、A-2、無黄変型有機ポリイソシアネートB及びヒドロキシル基含有メタアクリレートCの反応物であって、全ポリオールのモル数を100としたときのA-1とA-2モル比:A-1/A-2が1/99~30/70であるウレタンメタアクリレートである。以下、原料成分及び製造方法について説明する。1-1.A-1A-1は、数平均分子量以下、P-Mnというが500以上のポリオールである。尚、本発明においてポリオールの数平均分子量P-Mnとは、下記1に従って求めた値をいう。A-1としては、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、ポリブタジエンポリオール及び水添ポリブタジエンポリオール等が挙げられる。これらの中でも、組成物の硬化物が機械物性及び耐熱性に優れたものとなる点から、ポリカーボネートジオール及びポリエステルポリオールが好ましく、さらに好ましくは、ポリカーボネートポリオールである。いずれもポリオールにおいても、1分子中の平均水酸基数は、2でもよいし、あるいは2より大きくてもよい。又、これらのポリオールを混合して用いてもよい。ポリエステルポリオールは、ジカルボン酸化合物とポリオール化合物をエステル化することにより得られる。ジカルボン酸化合物の具体例としては、アジピン酸、コハク酸、グルタル酸、セバシン酸、アゼライン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ドデカン二酸、ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、マレイン酸、フマル酸等が挙げられる。ポリオール化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、1,2-ブタンジオール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、ポリテトラメチレングリコール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、2-エチル-1,3-ヘキサングリコール、2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオール、3,3-ジメチロールヘプタン、1,9-ノナンジオール、2-メチル-1,8-オクタンジオール等の脂肪族ジオール、シクロヘキサンジメタノール、水添ビスフェノール-A、トリシクロ[5.2.1.026]デカンジメタノール通称;トリシクロデカンジメタノール、1,4-デカヒドロナフタレンジオール、1,5-デカヒドロナフタレンジオール、1,6-デカヒドロナフタレンジオール、2,6-デカヒドロナフタレンジオール、2,7-デカヒドロナフタレンジオール、デカヒドロナフタレンジメタノール、ノルボルナンジオール、ノルボルナンジメタノール、デカリンジメタノール、アダマンタンジオール、3,9-ビス1,1-ジメチル-2-ヒドロキシエチル-2,4,8,10-テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン通称;スピログリコール、イソソルビド、イソマンニド、2,2-ビス4-ヒドロキシシクロヘキシルプロパン通称;水添ビスフェノールA、4,4′-ジヒドロキシジシクロヘキシルメタン通称;水添ビスフェノールF、1,1-ビス4-ヒドロキシシクロヘキシル-1,1-ジシクロヘキシルメタン通称;水添ビスフェノールZ、4,4-ビシクロヘキサノール等の脂環族ジオール、1,2,6-ヘキサントリオール、1,2,3-ヘプタントリオール、1,2,4-ブタントリオール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、カシリトール、ピロガロール、グリセリン、トリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレート等のトリオール化合物が挙げられる。ポリカーボネートポリオールは、低分子量ジオール、ポリエーテルジオール又は/及びビスフェノールA等のビスフェノールと、エチレンカーボネート、炭酸ジブチルエステル等の炭酸ジアルキルエステル、あるいはホスゲン等の化合物との反応物が挙げられる。ここで、低分子量ジオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、シクロヘキサンジメタノール及び3-メチル-1,5-ペンタンジオール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール等が挙げられる。これらは、2種類以上の低分子量ジオールを併用してもよい。より好ましくは、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、あるいはこれらの混合物が、機械物性の点から好ましい。特に、混合物の場合は、結晶性が崩れ、硬化物の透明性が高くなりやすいことから特に好ましい。ポリエーテルポリオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等のポリアルキレングリコールが挙げられる。A-1のP-Mnは、500以上であることが必須である。P-Mnが500以上のポリオールを含むことにより、硬化物であるフィルムに柔軟性を付与することができる。A-1のP-Mnの好ましい上限は2,500であり、より好ましくは600~2,500である。2,500以下にすることにより、フィルムに強靭さを付与することができる。A-1のP-Mnとしては、さらに好ましくは、700~1800である。1-2.A-2A-2は、P-Mnが500未満のポリオールである。A-2としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、1,2-ブタンジオール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、2-エチル-1,3-ヘキサングリコール、2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオール、3,3-ジメチロールヘプタン、1,9-ノナンジオール及び2-メチル-1,8-オクタンジオール等の脂肪族ジオール;シクロヘキサンジメタノール、水添ビスフェノール-A、トリシクロ[5.2.1.026]デカンジメタノール通称;トリシクロデカンジメタノール、1,4-デカヒドロナフタレンジオール、1,5-デカヒドロナフタレンジオール、1,6-デカヒドロナフタレンジオール、2,6-デカヒドロナフタレンジオール、2,7-デカヒドロナフタレンジオール、デカヒドロナフタレンジメタノール、ノルボルナンジオール、ノルボルナンジメタノール、デカリンジメタノール、アダマンタンジオール、3,9-ビス1,1-ジメチル-2-ヒドロキシエチル-2,4,8,10-テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン通称;スピログリコール、イソソルビド、イソマンニド、2,2-ビス4-ヒドロキシシクロヘキシルプロパン通称;水添ビスフェノールA、4,4′-ジヒドロキシジシクロヘキシルメタン通称;水添ビスフェノールF、1,1-ビス4-ヒドロキシシクロヘキシル-1,1-ジシクロヘキシルメタン通称;水添ビスフェノールZ及び4,4-ビシクロヘキサノール等の脂環族ジオール;1,2,6-ヘキサントリオール、1,2,3-ヘプタントリオール、1,2,4-ブタントリオール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、カシリトール、ピロガロール、グリセリン及びトリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレート等のトリオール化合物;並びにこれらトリオール化合物のε-カプロラクトン変性物等が挙げられる。これら化合物の中でも、P-Mnが60以上400以下のポリオールが好ましい。当該化合物の具体例としては、1,4-ブタンジオール等の炭素数2~6の脂肪族ジオール、トリシクロ[5.2.1.026]デカンジメタノール及び3,9-ビス1,1-ジメチル-2-ヒドロキシエチル-2,4,8,10-テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン等の複数の環を有する脂環族ジオールが好ましく、硬化物の強度に優れる点で、3,9-ビス1,1-ジメチル-2-ヒドロキシエチル-2,4,8,10-テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン通称;スピログリコールが特に好ましい。1-3.無黄変型有機ポリイソシアネートB無黄変型有機ポリイソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンメチルエステルジイソシアネート、2,4,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート以下、IPDIという、4,4′-メチレンビスシクロヘキシルイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート及びω,ω′-ジイソシアネートジメチルシクロヘキサン等の脂環族ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、IPDIのイソシアヌレート体等のポリイソシアネート等が挙げられる。これらの有機ポリイソシアネート化合物は、1種のみを使用しても、2種以上を併用しても良い。前記した化合物の中でも、硬化物の機械強度と光学特性に優れるという点で、IPDIが好ましい。1-4.ヒドロキシル基含有メタメタアクリレートCヒドロキシル基含有メタアクリレートとしては、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート、ポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシペンチルメタアクリレート、ヒドロキシヘキシルメタアクリレート、ヒドロキシオクチルメタアクリレート、シクロヘキサンジメタノールモノメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルメタアクリレート、トリヒドロキシエチルイソシアヌレートジ又はモノアクリレート、ペンタエリスリトールトリ、ジ又はモノメタアクリレート、及びトリメチロールプロパンジ又はモノメタアクリレート等のヒドロキシアルキルメタアクリレート等が挙げられる。これらのヒドロキシル基含有メタアクリレートは、1種のみを使用しても、2種以上を併用しても良い。前記した化合物の中でも、組成物の硬化性と硬化物の柔軟性に優れるという点で、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート及びポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチルアクリレートが好ましい。さらに好ましくは、ポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチルアクリレートである。1-5.製造方法本発明のウレタンメタアクリレートは、特に製造方法は限定されない。例えば、A-1及びA-2を、無黄変型有機ポリイソシアネートBと反応させ、イソシアネート基含有化合物を製造したのちに、これとヒドロキシル基含有メタアクリレートCを反応させる方法、A-1、A-2、無黄変型有機ポリイソシアネートB及びヒドロキシル基含有メタアクリレートCを同時に反応させる方法等が挙げられる。これらの反応には、ウレタン化のための触媒を添加することができる。具体的には、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジオクテート、ジブチルスズジアセチルアセトナート等のスズ化合物、ビスマスジオクテート等のビスマス化合物、カルシウムジオクテート等のカルシウム化合物が挙げられる。これらの反応は、無溶剤で行うことも、溶剤存在下で行うこともできる。溶剤の具体例としては、n-ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン及びシクロヘキサン等の炭化水素系溶剤;テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ビスエーテル、ビスエーテル及びビスエーテル等のエーテル系溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、メチル-n-プロピルケトン、ジエチルケトン、ブチルメチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルペンチルケトン、ジ-n-プロピルケトン、ジイソブチルケトン、ホロン、イソホロン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノン等のケトン系溶剤;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のアルキレングリコールモノエーテルアセテート;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル;並びにN-メチルピロリドン等が挙げられる。これらのうちで、ウレタンメタアクリレートの溶解性、蒸発のしやすさの観点から、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが特に好ましい。又、溶剤の代わりに、ウレタンメタアクリレートの粘度を低減するために、反応性希釈剤を用いることができる。具体的には、イソボルニルメタアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、トリメチルシクロヘキシルメタアクリレート、1-アダマンチルメタアクリレート、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、プロピルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、i-ブチルメタアクリレート、t-ブチルメタアクリレート、ヘキシルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、ラウリルメタアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、グリシジルメタアクリレート、ジメチルアミノエチルメタアクリレート、ジエチルアミノエチルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、アリルアクリレート以外のメタアクリレート以下、その他メタアクリレートというやN-ビニル-2-ピロリドン等が挙げられる。その他メタアクリレートとしては、1個のメタアクリロイル基を有する化合物以下、単官能メタアクリレートというや2個以上のメタアクリロイル基を有する化合物以下、多官能メタアクリレートという等が挙げられる。単官能メタアクリレートの具体例としては、イソボルニルメタアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、トリメチルシクロヘキシルメタアクリレート、1-アダマンチルメタアクリレート、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、プロピルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、i-ブチルメタアクリレート、t-ブチルメタアクリレート、ヘキシルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、ラウリルメタアクリレート、ステアリルメタアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、グリシジルメタアクリレート、ジメチルアミノエチルメタアクリレート、ジエチルアミノエチルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、アリルADEKA製、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、エチルアントラキノン、フェナントレンキノン等の芳香族ケトン化合物;ベンゾフェノン、2-メチルベンゾフェノン、3-メチルベンゾフェノン、4-メチルベンゾフェノン、2,4,6-トリメチルベンゾフェノン、4-フェニルベンゾフェノン、4-メチルフェニルチオフェニルフェニルメタン、メチル-2-ベンゾフェノン、1-[4-4-ベンゾイルフェニルスルファニルフェニル]-2-メチル-2-4-メチルフェニルスルフォニルプロパン-1-オン、4,4‘-ビスジメチルアミノベンゾフェノン、4,4‘-ビスジエチルアミノベンゾフェノン、N,N′-テトラメチル-4,4′-ジアミノベンゾフェノン、N,N′-テトラエチル-4,4′-ジアミノベンゾフェノン及び4-メトキシ-4′-ジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物;ビス2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニルホスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、エチル-2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルフォスフィネート及びビス2,6-ジメトキシベンゾイル-2,4,4-トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド化合物;チオキサントン、2-クロロチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、1-クロロ-4-プロピルチオキサントン、3-[3,4-ジメチル-9-オキソ-9H-チオキサントン-2-イル]オキシ]-2-ヒドロキシプロピル-N,N,N―トリメチルアンモニウムクロライド及びフロロチオキサントン等のチオキサントン系化合物;アクリドン、10-ブチル-2-クロロアクリドン等のアクリドン系化合物;1,2-オクタンジオン1-[4-フェニルチオ-2-O―ベンゾイルオキシム]及びエタノン1-[9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル]-1-O―アセチルオキシム等のオキシムエステル類;2-o-クロロフェニル-4,5-ジフェニルイミダゾール二量体、2-o-クロロフェニル-4,5-ジm-メトキシフェニルイミダゾール二量体、2-o-フルオロフェニル-4,5-フェニルイミダゾール二量体、2-o-メトキシフェニル-4,5-ジフェニルイミダゾール二量体、2-p-メトキシフェニル-4,5-ジフェニルイミダゾール二量体、2,4-ジp-メトキシフェニル-5-フェニルイミダゾール二量体及び2-2,4-ジメトキシフェニル-4,5-ジフェニルイミダゾール二量体等の2,4,5-トリアリールイミダゾール二量体;並びに9-フェニルアクリジン及び1,7-ビス9,9′-アクリジニルヘプタン等のアクリジン誘導体等が挙げられる。これらの化合物は、1種又は2種以上を併用することもできる。光重合開始剤の配合割合としては、ウレタンメタアクリレートの100重量部に対して、前記エチレン性不飽和化合物を配合する場合は、ウレタンメタアクリレートとエチレン性不飽和化合物の合計100重量部に対して0.01~10重量が好ましく、より好ましくは0.1~5重量である。光重合開始剤の配合割合を0.01重量以上とすることにより、適量な紫外線又は可視光線量で組成物を硬化させることができ生産性を向上させることができ、一方10重量以下とすることで、硬化物を耐侯性や透明性に優れたものとすることができる。2-5.有機溶剤本発明の組成物は、基材への塗工性を改善する等の目的で、有機溶剤を含むものが好ましい。有機溶剤の具体例としては、n-ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン及びシクロヘキサン等の炭化水素系溶剤;メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール、イソブチルアルコール、2-メトキシエタノール、2-エトキシエタノール、2-メトキシメトキシエタノール、2-イソプロポキシエタノール、2-ブトキシエタノール、2-イソペンチルオキシエタノール、2-ヘキシルオキシエタノール、2-フェノキシエタノール、2-ベンジルオキシエタノール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、1-メトキシ-2-プロパノール、1-エトキシ-2-プロパノール及びプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤;テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ビスエーテル、ビスエーテル及びビスエーテル等のエーテル系溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、メチル-n-プロピルケトン、ジエチルケトン、ブチルメチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルペンチルケトン、ジ-n-プロピルケトン、ジイソブチルケトン、ホロン、イソホロン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノン等のケトン系溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、メチルグリコールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸セロソルブ等のエステル系溶剤;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチル-2-ピロリドン、γ-ブチロラクトン等の非プロトン性極性溶剤が挙げられる。有機溶剤としては、前記した化合物の1種又は2種以上用いることができる。有機溶剤としては、別途添加しても良く、又、ウレタンメタアクリレート製造で使用する有機溶剤を分離することなくそのまま使用しても良い。有機溶剤の割合としては、組成物の粘度や使用目的等を考慮し、適宜設定すれば良いが、好ましくは組成物中に10~90重量が好ましく、より好ましくは20~80重量である。2-6.重合禁止剤又は/及び酸化防止剤本発明の組成物には、重合禁止剤又は/及び酸化防止剤を添加することが、本発明の組成物の保存安定性を向上させることができ、好ましい。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノール、並びに種々のフェノール系酸化防止剤が好ましいが、イオウ系二次酸化防止剤、リン系二次酸化防止剤等を添加することもできる。これら重合禁止剤又は/及び酸化防止剤の総配合割合は、組成物100重量部に対して、0.001~3重量であることが好ましく、より好ましくは0.01~0.5重量である。2-7.耐候性向上剤本発明の組成物には、紫外線吸収剤や光安定剤等の耐光性向上剤を添加しても良い。紫外線吸収剤としては、2-2-ヒドロキシ-5-メチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2-ヒドロキシ-3,5-ジ-t-ブチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2-ヒドロキシ-3-t-ブチル-5-メチルフェニルベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール化合物;2,4-ビス2,4-ジメチルフェニル-6-2-ヒドロキシ-4-イソ-オクチルオキシフェニル-s-トリアジン等のトリアジン化合物;2,4-ジヒドロキシ-ベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシ-ベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシ-4-メチルベンゾフェノン、22-ジヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2、4、4-トリヒドロキシベンゾフェノン、2244-テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4,4-テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4,4-テトラヒドロキシベンゾフェノン、又は2、2-ジヒドロキシ-4,4-ジメトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物等を挙げることができる。光安定性剤としては、N,N′-ビス2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル-N,N′-ジホルミルヘキサメチレンジアミン、ビス1,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル-2-3,5-ジターシャリーブチル-4-ヒドロキシベンジル-2-n-ブチルマロネート、ビス1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジニルセバケート、等の低分子量ヒンダードアミン化合物;N,N′-ビス2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル-N,N′-ジホルミルヘキサメチレンジアミン、ビス1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジニルセバケート等の高分子量ヒンダードアミン化合物等のヒンダードアミン系光安定剤を挙げることができる。耐光性向上剤の配合割合は、組成物の合計量100重量部に対して、0~5重量であることが好ましく、より好ましくは0~1重量である。3.使用方法本発明の組成物は、光学フィルム形成の目的に応じて種々の使用方法を採用することができる。具体的には、基材に組成物を塗工し活性エネルギー線を照射して硬化させる方法、基材に組成物を塗工し別の基材と貼り合せた後さらに活性エネルギー線を照射して硬化させる方法、凹部を有する型枠に組成物を流し込み、活性エネルギー線を照射して硬化させる方法等が挙げられる。基材としては、剥離可能な基材及び離型性を有しない基材以下、非離型性基材というのいずれも使用することができる。剥離可能な基材としては、離型処理されたフィルム及び剥離性を有する表面未処理フィルム以下、まとめて離型材という等が挙げられる。離型材としては、シリコーン処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、表面未処理シクロオレフィンポリマーフィルム及び表面未処理OPPフィルムポリプロピレン等が挙げられる。本発明の組成物の硬化物のヘイズを1.0以下に抑えるためには、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルムや表面未処理OPPフィルムポリプロピレンを使用することが好ましい。本願発明の組成物から得られる光学フィルムに対して、低いヘイズにしたり表面平滑性を付与するためには、剥離可能な基材として表面粗さRaが150nm以下の基材を使用することが好ましい。当該基材の具体例としては、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルムや表面未処理OPPフィルムポリプロピレン等が挙げられる。尚、本発明において表面粗さRaとは、フィルムの表面の凹凸を測定し、平均の粗さを計算したものを意味する。非離型性基材としては、前記以外の各種プラスチックが挙げられ、ポリビニルアルコール、トリアセチルセルロース及びジアセチルセルロース等のセルロースアセテート樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルサルホン、ノルボルネン等の環状オレフィンをモノマーとする環状ポリオレフィン樹脂等が挙げられる。塗工方法としては、目的に応じて適宜設定すれば良く、従来公知のバーコート、アプリケーター、ドクターブレード、ナイフコーター、コンマコーター、リバースロールコーター、ダイコーター、リップコーター、グラビアコーター及びマイクログラビアコーター等で塗工する方法が挙げられる。活性エネルギー線としては、電子線、紫外線及び可視光線等が挙げられる。これらの中でも、光重合開始剤を必ずしも配合する必要がなく硬化物の耐熱性や耐光性に優れるという点で、電子線がより好ましい。活性エネルギー線照射における、線量や照射強度等の照射条件は、使用する組成物、基材及び目的等に応じて適宜設定すれば良い。4.光学フィルム本発明の組成物は、光学フィルムの製造に好ましく使用できる。以下、光学フィルムについて説明する。尚、以下においては、図1~図2に基づき一部説明する。4-1.光学フィルムの製造方法光学フィルムの製造方法としては常法に従えば良く、例えば、組成物を基材に塗布した後、活性エネルギー線を照射して製造することができる。図1は、離型材/硬化物から構成される光学フィルムの好ましい製造方法の一例を示す。図1において、は離型材を意味する。組成物が無溶剤型の場合図1:F1は、組成物を離型材図1:に塗工する。組成物が有機溶剤等を含む場合図1:F2は、組成物を離型材図1:に塗工した後に、乾燥させて有機溶剤等を蒸発させる図1:1-1。離型材に組成物層が形成されてなるシートに対して活性エネルギー線を照射することで、離型材/硬化物から構成される光学フィルムが得られる。活性エネルギー線の照射は、通常、組成物層側から照射するが、離型材側からも照射できる。上記において、基材として離型材を使用すれば、離型材/硬化物から構成される光学フィルムを製造することができる。本発明の組成物の塗工量としては、使用する用途に応じて適宜選択すればよいが、有機溶剤等を乾燥した後の膜厚が5~200μmとなるよう塗工するのが好ましく、より好ましくは10~100μmである。組成物が有機溶剤等を含む場合は、塗布後に乾燥させ、有機溶剤等を蒸発させる。乾燥条件は、使用する有機溶剤等に応じて適宜設定すれば良く、40~150°Cの温度に加熱する方法等が挙げられる。活性エネルギー線照射における、線量や照射強度等の照射条件は、使用する組成物、基材及び目的等に応じて適宜設定すれば良い。図2は、離型材/硬化物/離型材から構成される光学フィルムの好ましい製造方法の一例を示す。図2において、、、は離型材を意味する。組成物が無溶剤型の場合図2:F1は、組成物を離型材図2:に塗工する。組成物が有機溶剤等を含む場合図2:F2は、組成物を離型材図2:に塗工した後に、乾燥させて有機溶剤等を蒸発させる図2:2-1。組成物層には離型材をラミネートした後活性エネルギー線照射したり、活性エネルギー線照射した後に離型材をラミネートすることで、離型材、硬化物及び離型材が、この順に形成されてなる光学フィルムが得られる。上記図1及び2では基材として離型材を使用した例を記載したが、非離型性基材を使用して、光学フィルムを製造することもできる。例えば、図1において、の離型材に代え非離型性基材を使用し、前記と同様に活性エネルギー線照射して硬化させ、非離型性基材/硬化物から構成される光学フィルムを製造することもできる。又、図2において、、及びのいずれかの離型材として、非離型性基材を使用し、前記と同様の方法で活性エネルギー線照射して硬化させ、離型材/硬化物/非離型性基材から構成される光学フィルムや、非離型性基材/硬化物/非離型性基材から構成される光学フィルムを製造することもできる。当該実施態様の具体例としては、非離型性基材として偏光子を使用し、組成物を塗工して活性エネルギー線を照射し、偏光子に保護膜を直接形成させる方法等が挙げられる。又、前記の例では、組成物を基材に塗工して光学フィルムを製造する例を挙げたが、膜厚が大きい光学フィルムを製造する場合は、特定の凹部を有する型枠等に組成物を流し込み、前記と同様にして活性エネルギー線を照射して組成物を硬化させ光学フィルムを製造することもできる。4-2.光学フィルムの用途本発明の組成物から形成される光学フィルムは、種々の光学用途に使用できるものである。より具体的には、液晶表示装置等に使用される偏光板の偏光子保護フィルム、プリズムシート用支持フィルム及び導光フィルム等が挙げられ、偏光子保護フィルムに好ましく使用できる。以下に、実施例及び比較例を挙げ、本発明をより具体的に説明する。尚、下記において部とは、重量部を意味し、特に断りのない限りとは、重量を意味する。○製造例A1[A-1の製造]攪拌機、温度計及びリービッヒ冷却器を備えた1L反応容器に、室温で、アジピン酸:400g、1,4-ブタンジオール以下、BDという:494.4gを仕込み、窒素雰囲気下で、180°Cまで昇温を行い、アジピン酸の溶融が始まった時点で撹拌を開始し、生成する水をリービッヒ冷却器を通じて留出させた。テトラブチルチタネートを1重量含むトルエン溶液:0.89gを反応容器に加え、さらに220°Cまで昇温した。水が98g留出し、ほとんど留出がなくなった時点で、反応容器を1kPaまで減圧し、BDを留出させた。BDの留出量が、164gになった時点で、窒素により、常圧に戻し、反応終了とし、ポリエステルポリオール以下、Ad/BD-680というを得た。Ad/BD-680の水酸基価を測定した結果、165mgKOH/gであり、P-Mnは680であった。○製造例A2[A-1の製造]A-1製造例1において、BDの留出量が193gになった時点で反応を終了とした以外は、前記のA-1製造例1と同じ方法でポリエステルポリオール以下、Ad/BD-1000というを製造した。Ad/BD-1000の水酸基価を測定した結果、113mgKOH/gであり、P-Mnは1,000であった。○製造例A3[A-1の製造]A-1製造例1において、BDの留出量が215gになった時点で反応を終了とした以外は、前記のA-1製造例1と同じ方法でポリエステルポリオール以下、Ad/BD-1600というを製造した。Ad/BD-1600の水酸基価を測定した結果、70mgKOH/gであり、P-Mnは1,600であった。○製造例A4[A-1の製造]A-1製造例1において、BDの留出量が232gになった時点で反応を終了とした以外は、前記のA-1製造例1と同じ方法でポリエステルポリオール以下、Ad/BD-3200というを製造した。Ad/BD-1600の水酸基価を測定した結果、35mgKOH/gであり、P-Mnは3,200であった。○製造例1[ウレタンメタアクリレートの製造]攪拌機、温度計、冷却器を備えた500mL反応容器に、室温でイソシアネートとしてIPDI:145.9g、触媒としてジブチルスズジラウレート:0.07gを仕込み、5容量の酸素を含む窒素の雰囲気下、これらを攪拌しながら液温が70°Cになるまで加温した。アルコール溶液としてポリカーボネートジオール旭化成ケミカルズ株製デュラノールT-5651、P-Mn:1,000。以下、T5651という:43.0g、BD:33.5g及びメチルエチルケトン以下、MEKという:65.0gの混合溶液を内温が75°C以下となるように滴下した後、内温80°Cで2時間反応させた。その後、2-ヒドロキシエチルアクリレート以下、HEAという:57.6g、重合禁止剤として2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノール:0.28g、MEK:5.0g及びジブチルスズジラウレート:0.07gの混合溶液を内温が75°C以下となるように滴下した後3時間反応させ、赤外線吸収スペクトル装置PerkinElmer製FT-IRSpectrum100によりスペクトルを測定し、イソシアネート基が完全に消費されたことを確認し、ウレタンアクリレート以下、UA-1というを含むMEK溶液固形分80を得た。UA-1のMnポリスチレン換算数平均分子量を、GPC溶媒:テトラヒドロフラン、カラム:Waters製HSPgelHRMB-Lにより測定した結果、1,100であった。○製造例2~17使用した原料を表1~同3に変更した以外は、製造例1と同様の方法により、ウレタンアクリレートUA-2~17を含むMEK溶液固形分80を製造した。表1~同3において、表中の数字は、重量gを示し、括弧内の数字は、全ポリオールのモル数を100とした場合のA-1とA-2のモル比率を表す。表1~同3における略号は、前記で定義したもの以外は下記を意味する。◆A-1T5651:ポリカーボネートジオール水酸基価:108mgKOH/g、P-Mn:1040旭化成ケミカルズ株製、商品名:デュラノールT5651T5652:ポリカーボネートジオール水酸基価:56mgKOH/g、P-Mn:2000旭化成ケミカルズ株製、商品名:デュラノールT5652PTG-L1000:ポリテトラメチレングリコール水酸基価:114mgKOH/g、P-Mn:1000保土谷化学工業株製、商品名:PTG-L1000◆A-2PCL303:ポリカプロラクトントリオール水酸基価:544mgKOH/g、P-Mn:309株ダイセル製TCDDM:トリシクロデカンジメタノール水酸基価:572mgKOH/g、P-Mn:196オクセア社製SPG:スピログリコール水酸基価:369mgKOH/g、P-Mn:304三菱ガス化学株製◆化合物BDM-W:ジシクロヘキシルメタン-4,4‘-ジイソシアネート住友バイエルウレタン株製、商品名:デスモジュールWHDI:ヘキサメチレンジイソシアネート◆化合物CFA1DDM:2-ヒドロキシエチルアクリレートのε-カプロラクトン1モル付加物株ダイセル製M-215:トリヒドロキシエチルイソシアヌレートジアクリレート東亞合成株製、商品名:アロニックスM-215○比較製造例1~4使用した原料を表4のように変更した以外は、製造例1と同様の方法により、ウレタンアクリレートUA-18~21を含むMEK溶液固形分80を製造した。表4において、表中の数字は、重量gを示し、括弧内の数字は、全ポリオールのモル数を100とした場合の各ポリオール成分のモル比率を表す。○実施例1~同19及び比較例1~同5組成物の製造製造例1~同17及び比較製造例1~同4で得られたウレタンアクリレート溶液100部とMEK10部をステンレス製容器に投入し、加温しながらマグネチックスターラーで均一になるまで撹拌し、組成物を得た。尚、実施例18及び同19並びに比較例5では、さらに光重合開始剤2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、BASFジャパン株製DAROCUR-1173。以下、Dc1173という。1部をさらに加え、同様に製造した。得られた組成物の割合を表5に示す。尚、表5におけるMEKの部数は、原料ウレタンアクリレート溶液に含まれるMEKと別途配合するMEKの合計量を示す。○実施例1~同17及び比較例1~同4電子線硬化による光学フィルムの製造幅300mm×長さ300mmの東レ株製フィルムルミラー50-T60表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ50μm、以下ルミラーというに、実施例1~10及び比較例1~6で得られた組成物を、80°Cで10分乾燥した後の膜厚が40μmになるようアプリケーターで塗工した。その後、組成物層に、幅300mm×長さ300mmのルミラーをラミネートした後、株NHVコーポレーション製の電子線照射装置により、加速電圧200kV、線量50kGyビーム電流及び搬送速度により調整、酸素濃度300ppm以下の条件下で電子線照射を行い、光学フィルムを得た。硬化後、ルミラーから剥離し、下記の引張試験の評価を行った。その結果を表5に示す。引張試験作成したフィルムから、15×150mmのサンプルを切り出し、引張試験機インストロンジャパンカンパニーリミテッド製インストロン5564を用いて、以下の条件で引張試験を実施した。チャック間距離:100mm引張速度:50mm/分実施例1~同17の組成物の硬化物は、破断強度及び破断伸びのいずれも大きいものであった。一方、比較例1は、A-1/A-2のモル比が本発明の上限30/70を超える割合で製造されたウレタンアクリレートUA’-1を含む組成物であり、その硬化物は、破断伸びに優れるものの、破断強度が不十分なものであった。比較例2及び同4は、A-1を使用せずA-2のみから製造されたウレタンアクリレートUA’-2、UA’-4を含む組成物であり、その硬化物は、比較例2では、破断強度は若干低いものの、破断伸びが非常に低いものあり、比較例4では、硬化物が脆すぎたため、破断強度及び破断伸びが測定できなかった。比較例3は、A-2を使用せずA-1のみから製造されたウレタンアクリレートUA’-3を含む組成物であり、その硬化物は、比較例2では、破断強度が低いうえ、破断伸びが高すぎ、光学用途には適さないものであった。○実施例18及び同19及び比較例5紫外線硬化による光学フィルムの製造幅300mm×長さ300mmのルミラーに、実施例11~12及び比較例7で得られた紫外線硬化型組成物を、80°Cで10分乾燥した後の膜厚が40μmになるようアプリケーターで塗工した。その後、組成物層に、幅300mm×長さ300mmのルミラーをラミネートした後、アイグラフィックス株製のコンベア式紫外線照射装置高圧水銀灯、ランプ高さ12cm、365nmの照射強度400mW/cm2フュージョンUVシステムズジャパン株社製UVPOWERPUCKの測定値によりコンベア速度を調整して、積算光量1,000mJ/cm2の紫外線照射を行い、紫外線硬化型光学フィルムを得た。硬化後、ルミラーから剥離し、前記した引張試験の評価を行った。その結果を表5に示す。実施例18及び同19の組成物の硬化物は、破断強度及び破断伸びのいずれも大きいものであった。一方、比較例1は、A-1/A-2のモル比が本発明の上限30/70を超える割合で製造されたウレタンアクリレートUA’-1を含む組成物であり、その硬化物は、破断伸びに優れるものの、破断強度が不十分なものであった。"