光導波路を有するスライダ上に、前記光導波路と略直交する方向に光を出力する光源と、前記光源からの光の照射領域において所定方向にのみ曲率を有し、前記光源からの光を反射する反射面が形成された光学素子とを有する磁気記録ヘッドにおける前記光学素子の位置調整方法であって、前記光源に対して前記光学素子を一方向に移動させ、前記光源からの光が前記反射面により前記光導波路の入射端に結合されるよう前記光源に対して前記光学素子の位置決めを行う位置決め工程と、前記位置決めされた状態で前記光源に対して前記光学素子を固定する固定工程と、を有することを特徴とする光学素子の位置調整方法。光導波路を有するスライダ上に、前記光導波路と略直交する方向に光を出力する光源と、前記光源からの光の照射領域において所定方向にのみ曲率を有し、前記光源からの光を反射する反射面が形成された光学素子とを有する磁気記録ヘッドにおける前記光学素子の位置調整方法であって、前記スライダに対して前記光学素子を一方向に移動させ、前記光源からの光が前記反射面により前記光導波路の入射端に結合されるよう前記スライダに対して前記光学素子の位置決めを行う位置決め工程と、前記位置決めされた状態で前記スライダに対して前記光学素子を固定する固定工程と、を有することを特徴とする光学素子の位置調整方法。前記一方向は、前記光導波路に沿う方向又は前記光導波路に直交する方向のいずれかであることを特徴とする請求項1又は2記載の光学素子の位置調整方法。前記所定方向の曲率は一定であることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の光学素子の位置調整方法。前記反射面は前記光学素子の表面に形成されていることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の光学素子の位置調整方法。前記光源からの光のファーフィールドでの形状は、楕円形状を成しており、前記楕円形状の長軸方向と、前記所定方向とが略一致されていることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の光学素子の位置調整方法。特許文献1では、レーザダイオード40は縦に配置されているつまり、レーザダイオード40の光出射端が光入射面354と対向するように配置されている。このように配置することで、レーザダイオード40の光出射端を光入射面354に近付けることができる。ここで、磁気記録ヘッドにはサイズの制約があるため、レーザダイオード40を縦に配置する場合には、レーザの共振器長が短いものでなければならない。しかし、共振器長を短くすると磁気記録に必要なレーザ出力を得ることが困難となる。また、一般的な磁気記録ヘッドにおいては、光源からの光を光導波路の入射端に高い結合効率で入射させるために各部材間たとえば、特許文献2の光導波路5、非球面ミラー8及び光ファイバ9に厳密な位置関係が求められる。しかし、特許文献2の磁気記録ヘッドは光ファイバ9の出力光7dを2次元的に集光させる構成であるため、光導波路5、非球面ミラー8及び光ファイバ9の間で位置関係が少しでも崩れた場合には、結合効率が大きく低下することになる。更に、特許文献3では、XYZ方向特許文献3の図4参照全てのアライメント調整を行わなければならず多大な工数が掛かる。また、アライメントマーク部材M1の精度が十分でない場合には、十分な結合効率を得ることができない。この発明は上記の問題点を解決するものであり、磁気記録ヘッドのサイズの制約を考慮しつつ、簡易な調整で結合効率を向上させることができる光学素子の位置調整方法を提供することを目的とする。上記課題を解決するために、請求項1記載の光学素子の位置調整方法は、光導波路を有するスライダ上に、光導波路と略直交する方向に光を出力する光源と、光源からの光の照射領域において所定方向にのみ曲率を有し、光源からの光を反射する反射面が形成された光学素子とを有する磁気記録ヘッドにおける位置調整に用いられる。光学素子の位置調整方法は、位置決め工程と、固定工程とを有する。位置決め工程は、光源に対して光学素子を一方向に移動させ、光源からの光が反射面により光導波路の入射端に結合されるよう光源に対して光学素子の位置決めを行う。固定工程は、位置決めされた状態で光源に対して光学素子を固定する。また、上記課題を解決するために、請求項2記載の光学素子の位置調整方法は、光導波路を有するスライダ上に、光導波路と略直交する方向に光を出力する光源と、光源からの光の照射領域において所定方向にのみ曲率を有し、光源からの光を反射する反射面が形成された光学素子とを有する磁気記録ヘッドにおける位置調整に用いられる。光学素子の位置調整方法は、位置決め工程と、固定工程とを有する。位置決め工程は、スライダに対して光学素子を一方向に移動させ、光源からの光が反射面により光導波路の入射端に結合されるようスライダに対して光学素子の位置決めを行う。固定工程は、位置決めされた状態でスライダに対して光学素子を固定する。また、上記課題を解決するために、請求項3記載の光学素子の位置調整方法は、請求項1又は2記載の光学素子の位置調整方法であって、一方向は、光導波路に沿う方向又は光導波路に直交する方向のいずれかである。また、上記課題を解決するために、請求項4記載の光学素子の位置調整方法は、請求項1から3のいずれかに記載の光学素子の位置調整方法であって、所定方向の曲率は一定である。また、上記課題を解決するために、請求項5記載の光学素子の位置調整方法は、請求項1から4のいずれかに記載の光学素子の位置調整方法であって、反射面は光学素子の表面に形成されている。また、上記課題を解決するために、請求項6記載の光学素子の位置調整方法は、請求項1から5のいずれかに記載の光学素子の位置調整方法であって、光源からの光のファーフィールドでの形状は楕円形状を成しており、楕円形状の長軸方向と、所定方向とが略一致されている。光導波路と略直交する方向に光を照射するよう光源を配置することにより、磁気記録ヘッドの高さを抑えることができる。更に、光源に対して光学素子を一方向のみに移動させるだけで光源に対して光学素子の位置決めが可能となるため、簡易な調整で結合効率を向上させることができる。また、光導波路と略直交する方向に光を照射するよう光源を配置することにより、磁気記録ヘッドの高さを抑えることができる。更に、スライダに対して光学素子を一方向のみに移動させるだけでスライダに対して光学素子の位置決めが可能となるため、簡易な調整で結合効率を向上させることができる。[情報記録装置の構成]図1に示すように、光アシスト磁気記録ヘッドを搭載した光アシスト磁気記録装置たとえばハードディスク装置、以下情報記録装置1という場合があるは、たとえば、記録用の複数枚の回転可能なディスク磁気記録媒体3と、ヘッド支持部5と、トラッキング用アクチュエータ7と、光アシスト磁気記録ヘッド4以下、光ヘッド4という場合があると、図示しない駆動装置と、を筐体2内に備えている。なお、ディスク3は1枚であってもよい。ヘッド支持部5は、支軸6を支点として矢印Aの方向トラッキング方向に回動可能に設けられている。トラッキング用アクチュエータ7は、ヘッド支持部5に取り付けられている。光ヘッド4は、ヘッド支持部5の先端に取り付けられている。図示しない駆動装置は、ディスク3を矢印Bの方向に回転させる。情報記録装置1は、光ヘッド4がディスク3の上で浮上しながら相対的に移動しうるように構成されている。[光アシスト磁気記録ヘッド]次に、図2から図4を参照して、光ヘッド4の概略構成例を説明する。図2は光ヘッド4の断面図である。図3は、光学素子30の斜視図である。図4は、光ヘッド4を上から見た場合の拡大図である。光ヘッド4は、ディスク3に対する情報記録に光を利用する微小光記録ヘッドである。光ヘッド4は、スライダ10と、光源部20と、光学素子30とを有する。情報記録装置1は、ディスク3を矢印C方向に移動させ、光ヘッド4がディスク3上で浮上しながら相対的に移動しうるように構成されている。なお、本実施形態では、ディスク3の回転方向矢印C方向をy方向、光ヘッド4の厚み方向をz方向、y方向及びz方向の双方に直交する方向をx方向として説明する。スライダスライダ10は、たとえば、AlTiC等の材料で形成される方形状の基板である。スライダ10は、ディスク3と対向する下面10aと、下面10aに対してz方向の反対側に位置する上面10bと、側面10cとを有する。スライダ10には、磁気ヘッド部13が形成される。磁気ヘッド部13は、光導波路14と、図示しない磁気記録部と、図示しない磁気情報再生部と、図示しない電極とを有する。なお、本実施形態において、磁気ヘッド部13はスライダ10と一体に形成されているが、別体で形成されたものをスライダ10の側面10cに取り付けることでもよい。光導波路14は、光学素子30によって導かれた光源部20からの光を導光し、ディスク3に向けて出射するための経路を形成している。光導波路14は、入射端14aと、出射端14bとを有する。入射端14aには、光源部20からの光が入射する。入射端14aは、スライダ10の上面10bと略同一面上にある磁気ヘッド部13の上面に設けられる。出射端14bからは、光導波路14内を通過した光が出射する。出射端14bは、スライダ10の下面10aと略同一面上にある磁気ヘッド部13の下面に設けられる。光導波路14は、下部クラッド層、コア層、上部クラッド層いずれも図示しないを、光が伝播する方向とは直交する厚み方向に沿って、この順番に積層させたものである。コア層は、各クラッド層例えば、SiO2で形成よりも屈折率の高い素材例えば、Ta2O5で形成されている。これにより、光導波路14に導かれた光は、コア層と、各クラッド層との間で全反射しながらディスク3に向かって伝播する。光導波路14の出射端14b近傍には、近接場光発生素子としてのプラズモンプローブ15が配置される。光学素子30により導かれた光源部20からの光は、入射端14aから光導波路14に入射し、出射端14bに向かって光導波路14内を進む。出射端14bに設けられているプラズモンプローブ15は、光学素子30により導かれた光を近接場光に変換し、ディスク3に向けて出射する。なお、図示しない磁気記録部は、ディスク3の被記録部分に対して磁気情報の書き込みを行う。図示しない磁気情報再生部は、ディスク3に記録されている磁気情報の読み取りを行う。図示しない電極は、スライダ10の上面10bに形成される。電極は、所定のパターン形状を有し、光源部20と接続されることにより、光源部20に駆動電力を供給する。また、スライダ10は、浮上しながら磁気記録媒体であるディスク3に対して相対的に移動するが、ディスク3に付着したごみやディスク3に欠陥がある場合には、ディスク3と接触する可能性がある。その場合に発生する摩擦を低減するために、スライダ10の材質には耐摩擦性の高い硬質の材料を用いることが好ましい。例えば、Al2O3を含むセラミック材料、AlTiCやジリコニア、又はTiNなどを用いればよい。また、摩擦防止のために、スライダ10のディスク3側の面に、耐摩擦性を増すための表面処理を行ってもよい。例えば、DLCDiamondLikeCarbon被膜を用いることにより、高い硬度が得られる。光源部光源部20は、たとえば半導体レーザLaserDiode:LDを含んで構成されている。光源部20は、光導波路14と略直交する方向に光を出力する。略直交する方向とは、光源部20からの光が光学素子30の反射面31後述に入射することができる方向をいう。半導体レーザから出力される光の波長は、可視光から近赤外の波長波長帯としては、0.6μm~2μm程度である。また、具体的な波長としては、650nm、780nm、830nm、1310nm、1550nmなどが挙げられる。半導体レーザを構成する材料としては、たとえば、GaAs、AlGaAs、InGaAs、AlGaInP、InAlGaN、InGaN、GaN、GaInNA、GaNAsP、及びAlGaNAsなどの材料のうちのいずれかを用いればよい。そして、発光に必要な層をウェハ上に積層することにより、半導体レーザを作製することができる。光源部20は、スライダ10の上面10bに配置される。光源部20は、出射面20aと、底面20bとを有している。出射面20aには、半導体レーザからの光が光源部20外に出射するための出射端20cが形成されている。光源部20は、出射端20cから光学素子30に向けて光を出力する。光学素子光学素子30は、光源部20からの光を反射集光させて光導波路14の入射面14aに導くための素子である。図3に示すように、光学素子30は、たとえば、方形状の部材からなり、その一部に反射面31が形成されている。反射面31自体は微小であるが、方形状の部材に形成されることにより光学素子30自体のサイズを比較的大きくすることができる。従って、光学素子30を容易に作製することができる。また、光学素子30のハンドリング性も確保でき、光ヘッド4の組立も容易となる。光学素子30は、たとえば光学的に透明な樹脂又はガラスで構成されている。光学素子30は、たとえば、射出成形やガラスモールド法やインプリント法によって作製される。射出成型用の樹脂としては、熱可塑性樹脂であるポリカーボネイト例えばAD5503、帝人化学株式会社やZEONEX480R日本ゼオン株式会社。なお、ZEONEXは登録商標などが一例として挙げられる。また、インプリント製法用の樹脂としては、光硬化性樹脂であるPAK-02東洋合成工業株式会社などが一例として挙げられる。本実施形態において、反射面31は外部に露出している。従って、反射面31は表面反射ミラーとして機能する。反射面31は、金、アルミなどの金属膜、誘電体多層膜の反射膜等で形成することができる。反射面31が表面反射ミラーであるため、光学素子30内部に光源部20からの光が入射することが無い。よって、光が光学素子30内部を透過することによる光量損失を低減する事ができる。なお、内部に反射面31を有する光学素子30を用いることも可能である。反射面31は、円筒面状円筒面の一部に形成されている。反射面31は、光源部20からの光が照射される領域照射領域において所定方向にのみ曲率を有している。照射された光は、反射面31の曲率を持った方向所定方向では集光される。一方、照射された光は、所定方向以外の方向曲率を持たない方向では発散される。なお、反射面31の曲率は所定方向に一定であることが望ましい。曲率を一定にすることで光を均一に集光させることができる。本実施形態では、反射面31はy方向のみに曲率を有している。従って、図4に示すように、反射面31で反射された光はx方向のみに広がった状態で光導波路14の入射面14aに入射される図4のPが入射面14aに入射する光のスポットに該当する。なお、反射面31の形状は円円筒に限るものではなく、楕円など非球面の断面の一部から成るシリンドリカル面でもよい。また、光学素子30は、光源側接合面30a及び磁気ヘッド部側接合面30bを有する。光源側接合面30aは、接着剤等を介して光源部20の出射面20aと接合される。磁気ヘッド部側接合面30bは、接着剤等を介して磁気ヘッド部13の上面スライダ10の上面10bと接合される。なお、光学素子30を光ヘッド4に接合する際には、光源側接合面30a及び磁気ヘッド部側接合面30bの少なくとも一方が接着剤等により接合されていればよい。光源側接合面30a及び磁気ヘッド部側接合面30bの面積は等しくてもよいし、異なっていてもよい図3等は面積の異なる例を示している。[光ヘッド4の組立方法]次に、図4から図10を参照して、光ヘッド4の組立方法について説明する。図5は、光ヘッド4の組み立て手順を示すフローチャートである。図7及び図9は、光ヘッド4を上から-z方向から見た拡大図である。図7及び図9では、光学素子30の記載を省略している。図6、図8及び図10は、光ヘッド4の断面図である。まず、図6に示すように、スライダ10の上面10bに光源部20を載置するS10。この際、光導波路14の入射面14aに対して高い結合効率で光を導くためには、図7に示すように、出射端20cの延長線O上に入射面14aの中心Cが位置するよう光源部20を配置すると共に、スライダ10の側面10cと光源部20の出射面20aとが平行になるように位置合わせを行うことが望ましい。続いて、光源部20をスライダ10に固定するS11。光源部20の固定は、たとえば、はんだ付けにより行われる。この場合、スライダ10の上面10bに形成された電極に予めはんだペーストを塗布しておく。そして、スライダ10に対して光源部20の位置合わせを行ったのち、赤外線や熱風リフロー等により光源部20をスライダ10に対して固定する。次に、図8に示すように、スライダ10の上面10bに光学素子30を載置するS12。本実施形態では、予め光学素子30の光源側接合面30aに接着剤40を塗布しておき、光源部20の出射面20aに当接させることにより、仮止めを行う。接着剤40としては、たとえば紫外線硬化特性や熱硬化特性を有するものを使用することが望ましい。なお、接着剤40を用いなくとも、エアピンセット等の保持装置により光学素子30を保持した状態で光源部20の出射面20aに光学素子30を突き当てることにより、仮止めと同様の効果を得ることも可能である。S12で仮止めされた状態で、光源部20に対して光学素子30を一方向図10の矢印D方向に移動させることにより、光源部20に対して光学素子30の位置決めを行うS13。位置決め工程。位置決めは、たとえば、光源部20からの光が光学素子30の反射面31により光導波路14の入射端14aに結合されるように行う所謂、アクティブアライメント法。S13における位置決め工程について具体的に説明する。図9に示すように、位置決めを行わない状態では、光源部20からの光スポットPは光導波路14の入射端14aからy方向にずれた状態となる可能性が高い。そこで、図10の矢印D方向z方向に光学素子30を移動させることにより、光源部20からの光スポットPをy方向に移動させることができる。そのようにして、スポットPの位置を微調整することにより、光源部20からの光スポットPを光導波路14の入射端14aに結合させることができる図4参照。ここで、光学素子30を図10の矢印D方向に移動させる場合には、光源部20の出射面20aに沿って光学素子30の光源側接合面30aを移動させることが望ましい。出射面20aが形成されている光源部20はスライダ10に固定されている。よって、出射面20aは、光学素子30を移動させる際のガイドとして機能することから位置決めを正確に行うことができる。一方、光学素子30をy方向に移動させることでも光源部20に対して光学素子30の位置決めを行うことは可能である。このように、本実施形態では、光学素子30をy方向或いはz方向に移動させることにより、光源部20からの光スポットPと光導波路14との位置決めを行うことができる。つまり、本実施形態における一方向とは、y方向或いはz方向を指す。なお、一方向は、光導波路14入射端14aに沿う方向又は光導波路14入射端14aに直交する方向のいずれかの方向とも言い換えることができる。また、光源部20からの光のファーフィールドでの形状が楕円形状を成している場合、当該楕円形状の長軸方向と、反射面31の所定方向とが略一致するよう位置決めされることが望ましい。楕円形状の長軸方向と反射面31の所定方向曲率を有する方向を一致させることにより、光がより広がる方向楕円形状の長軸方向の光を反射面31で集光させることができる。従って、光の損失を減らすことができる。S13で位置決めされた状態で、光源部20に対して光学素子30を固定するS14。固定工程。たとえば、紫外線硬化特性を有する接着剤40で仮止めしている場合、S13で位置決めされた状態を維持しつつ紫外線を照射することにより、光源部20に対して光学素子30を接着固定する。このようにして、光学素子30の位置調整がなされた光ヘッド4を製造することができる図2参照。なお、光源部20に対して光学素子30を接着固定する際、合わせてスライダ10上面10aに対して光学素子30磁気ヘッド部側接合面30bを固定することも可能である。[作用効果]本実施形態の作用及び効果について説明する。本実施形態に係る光学素子の位置調整方法は、光導波路14を有するスライダ10上に、光導波路14と略直交する方向に光を照射する光源部20と、光源部20からの光の照射領域において所定方向にのみ曲率を有し、光源部20からの光を反射する反射面31が形成された光学素子30とを有する磁気記録ヘッド光ヘッド4に対して行われる。位置調整方法は、位置決め工程と、固定工程とを有する。位置決め工程は、光源部20に対して光学素子30を一方向光導波路14に沿う方向又は光導波路14に直交する方向のいずれかに移動させ、光源部20からの光が反射面31により光導波路14の入射端14aに結合されるよう光源部20に対して光学素子30の位置決めを行う。固定工程は、位置決めされた状態で光源部20に対して光学素子30を固定する。光導波路14と略直交する方向に光を照射するよう光源部20を配置することにより、磁気記録ヘッドの高さを抑えることができる。また、たとえば、光源部20が半導体レーザを含む構成の場合、共振器長を十分な長さに保つことができる。つまり、磁気記録ヘッドのサイズの制約を考慮しつつ、光アシストに必要な出力を確保することができる。更に、光源部20に対して光学素子30を一方向のみに移動させるだけで光源部20に対して光学素子30の位置決めが可能となるため、簡易な調整で結合効率を向上させることができる。また、本実施形態に係る光学素子の位置調整方法において、反射面31の所定方向の曲率は一定に形成されている。このように、反射面31の所定方向の曲率を一定にすることで当該方向に光を均一に集光させることができる。よって、光源部20に対して光学素子30を一方向のみに移動させて位置決めを行う際、簡易な調整で結合効率を向上させることができる。[変形例1]次に、図11及び図12を用いて変形例1について説明する。上記実施形態では、結合効率を向上させるために光源部20に対して光学素子30の位置決めを行った。本変形例では、スライダ10に対して光学素子30の位置決めを行うことにより、結合効率を向上させる例について述べる。図11は、本変形例における光ヘッド4の組み立て手順を示すフローチャートである。図12は、光ヘッド4の断面図である。まず、実施形態と同様、スライダ10の上面10bに光源部20を載置しS20、はんだ付けにより、光源部20をスライダ10に固定するS21。次に、スライダ10の上面10bに光学素子30を載置するS22。本変形例では、予め光学素子30の磁気ヘッド部側接合面30bに接着剤を塗布しておき、スライダ10の上面10bに当接させることにより、仮止めを行う。S22で仮止めされた状態で、スライダ10に対して光学素子30を一方向図12の矢印E方向に移動させることにより、スライダ10に対して光学素子30の位置決めを行うS23。位置決め工程。光学素子30を図12の矢印E方向に移動させる場合には、スライダ10の上面10bに沿って光学素子30の磁気ヘッド部側接合面30bを移動させることができる。この場合、上面10bは光学素子30を移動させる際のガイドとして機能することから位置決めを正確に行うことができる。S23で位置決めされた状態で、スライダ10に対して光学素子30を固定するS24。固定工程。このような方法でも、光学素子30の位置調整がなされた光ヘッド4を製造することができる図2参照。本変形例に係る光学素子の位置調整方法は、光導波路14を有するスライダ10上に、光導波路14と略直交する方向に光を照射する光源部20と、光源部20からの光の照射領域において所定方向にのみ曲率を有し、光源部20からの光を反射する反射面31が形成された光学素子30とを有する磁気記録ヘッド光ヘッド4に対して行われる。位置調整方法は、位置決め工程と、固定工程とを有する。位置決め工程は、スライダ10に対して光学素子30を一方向光導波路14に沿う方向又は光導波路14に直交する方向のいずれかに移動させ、光源部20からの光が反射面31により光導波路14の入射端14aに結合されるようスライダ10に対して光学素子30の位置決めを行う。固定工程は、位置決めされた状態でスライダ10に対して光学素子30を固定する。光導波路14と略直交する方向に光を照射するよう光源部20を配置することにより、磁気記録ヘッドの高さを抑えることができる。また、たとえば、光源部20が半導体レーザを含む構成の場合、共振器長を十分な長さに保つことができる。つまり、磁気記録ヘッドのサイズの制約を考慮しつつ、光アシストに必要な出力を確保することができる。更に、スライダ10に対して光学素子30を一方向のみに移動させることで位置決めができるため、簡易な調整で結合効率を向上させることができる。[変形例2]次に、図13及び図14を用いて変形例2について説明する。上記実施形態及び変形例1では、光学素子30に予め接着剤40を塗布した上で、光源部20スライダ10に対して光学素子30を固定する例について述べた。本変形例では、予め接着剤40を塗布することなく、固定工程において、接着剤40を塗布する場合について説明する。図13は、光ヘッド4の側面図である。図14は、光ヘッド4の上面図である。この場合、図13に示すように、インクジェット法により微小なインク滴を吐出するインクジェットヘッド60を用いる。インクジェットヘッド60により、インクの代わりに接着剤40を吐出することで光源部20の側面20dと光学素子30の光源部側接合面30aを接着剤40で連結させる図14参照。なお、図14では、インクジェットヘッド60の記載は省略している。一般によく用いられるエアパルス式のディスペンサーで接着剤を塗布する場合、ニードルを塗布対象に近接させる必要があり、ニードルが微小物体である光源部20や光学素子30と接触した場合には、光源部20や光学素子30の位置が大きくずれてしまう危険性や、光源部20や光学素子30を損傷してしまう可能性がある。一方、インクジェット法の場合、粒径数十μmの接着剤61を数mm程度正確に飛ばすことが可能であり、微小物体への塗布には好適である。さらに、インクジェットヘッド60のノズルを複数設け、同時に複数の接着剤40の粒子を一定間隔を保って塗布することが可能であり、図13に示すように縦方向に複数箇所塗布することにより、より強固な固着が可能となる。接着剤40を塗布後、図示しない紫外線照射装置を用いて紫外線を照射して接着剤40を硬化させることにより、光源部20と光学素子3との固定が完了する。[実施例]次に、上述した実施形態の具体的な実施例実施例1から実施例4及び比較例比較例1、比較例2について図15から図25Bを参照して説明する。<実施例1、実施例2、比較例1、比較例2>図15は、実施例1、実施例2、比較例1及び比較例2の各光ヘッドの条件を示す一覧表である。図17は、比較例1の光ヘッド4 ́の断面図である。図20は、比較例2の光学素子30 ́ ́の斜視図である。図21は、比較例2の光ヘッド4 ́ ́の上面図である。図16A、図16B、図18A、図18B、図19Aから図19C、図22Aから図22Cは、実施例或いは比較例のシミュレーション結果を示すグラフである。各グラフの縦軸はいずれも結合効率CouplingEfficiency。単位:を示している。また、図16A、図18A、図19A及び図22Aの横軸は、x方向への移動量シフト量を示しているxshift。単位:mm。図16B、図18B、図19B及び図22Bの横軸は、y方向への移動量シフト量を示しているyshift。単位:mm。図19C及び図22Cの横軸は、z方向へのシフト量移動量を示しているzshift。単位:mm。実施例1実施例1では、上述の実施形態に記載された方法で作成された光ヘッド4図2参照を使用した。図15に示す通り、用いた光の波長は830nm、光導波路14のx方向のモードフィールド径以下、MFDxという場合があるは4μm、光導波路14のy方向のモードフィールド径以下、MFDyという場合があるは2μm、光源部20の出射面20aから光導波路14の入射端14aまでの距離Lは37μm、反射面31のx方向の曲率半径以下、rxという場合があるは無限大、反射面31のy方向の曲率半径以下、ryという場合があるは25μmであった。なお、本実施例における距離Lは、光源部20の出射面20aから光学素子30の反射面31までの距離と、反射面31から光導波路14の入射端14aまでの距離とを足した値である。このような光ヘッド4において、光学素子30を固定したまま、光導波路14をx方向及びy方向のいずれかに移動させた場合のシミュレーション結果が図16A及び図16Bに示すグラフである。図16Aから分かるように、光導波路14をx方向に移動させた場合には、結合効率が大きく変化しないとの結果が得られた。これは、x方向の光は光学素子30の反射面31により発散しているため、光導波路14の移動に対する影響が少ないものと考えられる。一方、図16Bから分かるように、光導波路14をy方向に移動させた場合、y方向へのシフト量が大きくなると結合効率が大きく減少するという結果が得られた。以上より、実施例1の構成光ヘッド4において、結合効率を大きくするためにはy方向へのシフト量を小さくすべきであることがわかった。比較例1一方、実施例1に対する比較例1では、図17に示すような光ヘッド4 ́を使用した。光ヘッド4 ́は、光源部20 ́からの光出射面20a ́に形成された出射端20c ́からの光を直接、スライダ10 ́に設けられた光導波路14 ́の入射端14a ́に入射させる構成である。図15に示すように、比較例1において、用いた光の波長、MFDx、MFDy、距離Lは、実施例1と同じ値である。但し、本比較例における光ヘッド4 ́は、光学素子30を有しない。よって、本比較例における距離Lは、光源部20の出射面20aから光導波路14の入射端14aまでの距離である。また、光学素子30を有さないため、rx及びryはいずれも無限大であるとして扱うこととした。このような光ヘッド4 ́において、光学素子30を固定したまま、光導波路14 ́をx方向及びy方向のいずれかに移動させた場合のシミュレーション結果が図18A及び図18Bに示すグラフである。図18A及び図18Bから分かるように、光ヘッド4 ́の構成では結合効率が非常に低くなるとの結果が得られた。このような光ヘッド4 ́を実際に情報記録装置1に搭載しても、光アシストによる磁気記録を行うことは困難である。これは、光源部20 ́からの光が入射端14a ́に入射するまでに発散するため、結合効率が低くなっていることに起因すると考えられる。なお、実施例1の結果からは、光ヘッド4は、比較例1の構成光ヘッド4 ́と比べ、総じて高い結合効率を確保することができることがわかる。実施例2次に、光ヘッド4において、光学素子30をxyz方向のいずれかに移動させた場合の結合効率の変化を求めた。光学ヘッド4の構成等は、実施例1と同様である。その結果、図19Aに示すように、x方向では、結合効率の変化がほとんど生じないという結果が得られた。これは、光源部20からの光の照射領域において、光学素子30はx方向に曲率を有さないためである。つまり、光ヘッド4の構成においては、結合効率を上げるためにx方向について位置調整を行うことはほぼ不要であるといえる。また、図19B及び図19Cに示すように、y方向及びz方向に移動させた場合、シフト量が大きくなると結合効率が大きく減少するという結果が得られた。以上より、実施例2によれば、光ヘッド4の構成において大きな結合効率を確保するためには、y方向及びz方向へのシフト量を小さくすべきであることがわかった。比較例2実施例2に対する比較例2では、図20に示すような光学素子30 ́ ́を有する光ヘッド4 ́ ́を使用した。光学素子30 ́ ́は、x方向及びy方向にそれぞれ曲率を有する反射面31 ́ ́を有している。このような反射面31 ́ ́で反射集光された光は、光導波路14 ́ ́の入射端14a ́ ́に対してx方向及びy方向に集光されたスポットP ́ ́の光として照射される図21参照。なお、光ヘッド4 ́ ́は、光ヘッド4と同様、スライダ10 ́ ́、光源部20 ́ ́等を含んで構成されている図21参照。比較例2において、用いた光の波長、MFDx、MFDy、距離L、ryは、実施例2と同じ値である。一方、光学素子30 ́ ́反射面31 ́ ́のrxは、12.5μmである。その結果、図22Aから図22Cに示すように、xyz方向の全てにおいて、シフト量が小さい場合には、大きな結合効率を確保することができるとの結果が得られた。しかし、比較例2の構成では、図21に示すような光の形状P ́ ́で照射される。つまり、xyz方向全てのシフト量を小さくするためには、xyz方向全てに対する位置決めが必要となる。従って、比較例2の構成では、光学素子の調整に手間がかかるという問題が生じる。一方、実施例2の構成において結合効率を上げるためには、少なくともx方向について位置調整を行うことはほぼ不要である。従って、比較例2の構成と比べ、簡易に光学素子の調整を行うことができる。<実施例3>実施例3は、光学素子30をz方向に移動させて位置決めを行った場合の効果について検証したものである。ここでは、上述の実施形態に記載された方法で作成された光ヘッド4を使用した。図23は、光ヘッド4の組み立てに際し、誤差が生じる可能性のある部分図23の誤差部位、誤差の内容図23の誤差項目及び誤差が生じる場合の公差図23の公差を示したものである。誤差の発生確率は公差の範囲内で一定であるものとする。図23のαチルトとは、x軸周りの回転をいう。βチルトとはy軸周りの回転をいう。γチルトとはz軸周りの回転をいう。たとえば、光源部20のαチルトが0.2°とは、光源部20がx軸周りに0.2°回転している傾いていることを意味する。なお、本実施例では、光学素子30をz方向に移動させるため、図23のNo.12における公差は0となる。本実施例では、光学素子30のシフト幅移動幅を±2μmとし、シフト移動の止まり精度を0.2μmとした。つまり、-2μmから2μmまでの範囲で0.2μm刻みで光学素子30の移動を行った。更に、基準状態設計値に基づく理想状態の結合効率を54.8とし、100個の光ヘッド4のサンプルを用いてシミュレーションをおこなった。図24Aは位置決め前のサンプルのヒストグラム、図24Bは位置決め後のサンプルのヒストグラムである。縦軸は、サンプルの数Numberofsample。単位:個であり、横軸は結合効率CouplingEfficiency。単位:である。図24Aに示すように、位置決め前は結合効率が低い光ヘッド4が多く製造された。平均の結合効率は22.8、標準偏差は17.9、規格値を15とした場合の工程能力Cpは0.14であった。なお、工程能力とは、定められた規格値内で良品を生産できる能力のことであり、1.33以上であることが望ましいとされている。一方、図24Bに示すように、位置決めを行うことで結合効率が高い光ヘッド4を多く製造することができた。平均の結合効率は44.8、標準偏差は6.2、規格値を15とした場合の工程能力Cpは1.61であった。この結果から、光学素子30をz方向に移動させて位置決めを行うだけで、要求される結合効率を充足する光学ヘッド4を効率よく生産できることが分かった。<実施例4>実施例4は、光学素子30をy方向に移動させて位置決めを行った場合の効果について検証した結果である。ここでは、上述の実施形態に記載された方法で作成された光ヘッド4を使用した。誤差部位、誤差項目、公差、光学素子30のシフト幅移動幅、シフト移動の止まり精度、基準状態の結合効率及びサンプル数は、実施例3と同様である。なお、本実施例では、光学素子30をy方向に移動させるため、図23のNo.11における公差は0となる。図25Aは位置決め前のサンプルのヒストグラム、図25Bは位置決め後のサンプルのヒストグラムである。実施例3と同様、縦軸はサンプルの数であり、横軸は結合効率である。図25Aに示すように、位置決め前は結合効率が低い光ヘッド4が多く製造された。平均の結合効率は23.8、標準偏差は17.2、規格値を15とした場合の工程能力Cpは0.43であった。一方、図25Bに示すように、位置決めを行うことで結合効率が高い光ヘッド4を多く製造することができた。平均の結合効率は42.0、標準偏差は9.7、規格値を15とした場合の工程能力Cpは1.38であった。この結果から、光学素子30をy方向に移動させて位置決めを行うだけで、要求される結合効率を充足する光学ヘッド4を効率よく生産できることが分かった。