"無機酸化物粉末及び触媒微粉を含む成形支持体を形成し、前記触媒微粉は前記成形支持体中に該成形支持体の約50重量までの範囲の量で存在しており、前記成形支持体を乾燥し、焼成し;前記成形支持体に金属含有溶液を配合して、金属配合した支持体を得;前記金属配合した支持体を乾燥して、1~20重量LOIの範囲の揮発分を有する乾燥金属配合した支持体を得;前記乾燥金属配合した支持体に極性添加物を配合して、それによって添加物含浸した組成物を得;前記成形支持体または前記乾燥金属配合した支持体にキレート剤を配合する;ことを含む触媒組成物の製造方法。極性添加物を乾燥金属配合した支持体に配合する前に、または前記極性添加物と一緒にもしくはその成分として、キレート剤を前記乾燥金属配合した支持体に配合する、請求項1に記載の方法。極性添加物を乾燥金属配合した支持体に配合する前にキレート剤を該乾燥金属配合した支持体に配合して、それによってキレート処理金属配合した支持体を得、その後前記キレート処理金属配合した支持体を乾燥して、1~20重量LOIの範囲の揮発分を有する乾燥キレート処理金属配合した支持体を得、これは添加物含浸した組成物を得るために極性添加物が配合される前記乾燥金属配合した支持体である、請求項2に記載の方法。金属配合した支持体を乾燥するステップは400°Cを超えない第1乾燥温度で実施し、キレート処理金属配合した支持体を乾燥するステップは400°Cを超えない第2乾燥温度で実施する、請求項3に記載の方法。金属含有溶液を成形支持体に配合する前に、或いは前記金属含有溶液の成分と一緒にまたはその成分として、キレート剤を前記成形支持体に配合する、請求項1に記載の方法。金属含有溶液を成形支持体に配合する前にキレート剤を該成形支持体に配合し、その後その中に前記キレート剤が配合されている成形支持体を乾燥して、前記キレート剤を含み、1~20重量LOIの範囲の揮発分を有する前記成形支持体を得る請求項5に記載の方法。金属配合した支持体を乾燥するステップを、400°Cを超えない第1乾燥温度で実施し、その中にキレート剤が配合されている成形支持体を乾燥するステップを400°Cを超えない第2乾燥温度で実施する、請求項6に記載の方法。キレート剤はアミノカルボン酸、ポリアミン、アミノアルコール、オキシム及びポリエチレンイミンからなる化合物からなる群から選択される、請求項1~7のいずれか1項に記載の方法。極性添加物は極性及び少なくとも0.45の双極子モーメントを有するヘテロ化合物である、請求項1~7のいずれか1項に記載の方法。添加物含浸した組成物は0.5重量~20重量の範囲の量で存在するコバルト及びニッケルからなる群から選択される第9族または第10族金属成分、及び5重量~50重量の範囲の量で存在するモリブデン及びタングステンからなる群から選択される第6族金属成分を含み、重量はその実際の形態に関係なく金属成分を有している乾燥した成形支持体材料の元素としての重量に基づく、請求項1~7のいずれか1項に記載の方法。成形支持体はシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、シリカ-アルミナ、シリカ-チタニア、シリカ-ジルコニア、チタニア-アルミナ、ジルコニア-アルミナ、シリカ-チタニア及びその2つ以上の組合せからなる耐火性酸化物からなる群から選択される多孔性耐火性酸化物からなり、前記成形支持体はBET法により測定して50m2/g~450m2/gの範囲の表面積、50~200オングストロームÅの範囲の平均細孔径、及び0.55cc/gを超える全細孔容積を有している請求項1~7のいずれか1項に記載の方法。乾燥金属配合した支持体の有効細孔容積の少なくとも75に極性添加物が満たされている、請求項1~7のいずれか1項に記載の方法。無機酸化物粉末及び約50重量までの範囲の量の触媒微粉を含む混合物から形成した成形支持体;前記成形支持体に配合されている少なくとも1つの金属成分;キレート剤;及び極性添加物を含む水素化処理触媒組成物。キレート剤はアミノカルボン酸、ポリアミン、アミノアルコール、オキシム及びポリエチレンイミンからなる化合物からなる群から選択される、請求項13に記載の水素化処理触媒組成物。極性添加物は極性及び少なくとも0.45の双極子モーメントを有するヘテロ化合物である、請求項14に記載の水素化処理触媒組成物。少なくとも1つの金属成分は0.5重量~20重量の範囲の量で存在するコバルト及びニッケルからなる群から選択される第9族または第10族金属成分、及び5重量~50重量の範囲の量で存在するモリブデン及びタングステンからなる群から選択される第6族金属成分からなり、重量はその実際の形態に関係なく金属成分を有している乾燥成形支持体の元素としての重量に基づく請求項15に記載の水素化処理触媒組成物。成形支持体の無機酸化物粉末はシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、シリカ-アルミナ、シリカ-チタニア、シリカ-ジルコニア、チタニア-アルミナ、ジルコニア-アルミナ、シリカ-チタニア及びその2つ以上の組合せからなる耐火性酸化物からなる群から選択される多孔性耐火性酸化物であり;前記成形支持体はBET法により測定して50m2/g~450m2/gの範囲の表面積、50~200オングストロームÅの範囲の平均細孔径、及び0.55cc/gを超える全細孔容積を有している、請求項16に記載の水素化処理触媒組成物。成形支持体の有効細孔容積の少なくとも75に極性添加物が満たされている、請求項17に記載の水素化処理触媒組成物。水素化処理反応条件下で請求項15~18のいずれか1項に記載の組成物を炭化水素原料と接触させることを含む水素化処理方法。請求項1~12のいずれか1項に記載の方法により製造した組成物。上で言及したように、特許技術は新しく製造する触媒の成分として使用済または廃棄水素化処理触媒を再利用することが望ましいことを示唆している。このことは使用済及び廃棄触媒からの金属の再生及び前記触媒の廃棄に関連するある問題を解決するために価値があり、望ましい目的であるが、使用済または廃棄触媒を新しく製造する触媒の成分として再利用すると未使用材料を用いて製造される触媒と同じようにうまく機能しないことがある新鮮触媒が生ずることが認識されている。米国特許6,030,915はこの問題を認識しており、ある重質炭化水素原料の水素化処理における新しく製造される触媒の特性を改善するために前記触媒の平均細孔径MPDを調節するように高温焼成を用いる特定方法を提供している。しかしながら、特別の処理なしで使用済または廃棄触媒を用いて製造した新しい触媒組成物の性能特性は、未使用成分を用いて製造した比較触媒組成物よりもより低い性能特性を有する傾向にある。使用済または廃棄触媒を成分として用いて製造した新しい触媒は、マクロ細孔すなわち、350Åを超える直径を有する細孔内に包含される細孔容積の比率が未使用材料を用いて製造した新しい触媒で典型的に見られるよりも高い細孔構造を有する傾向にあることが判明した。このマクロ細孔容積の増加はある用途で使用したとき余り活性でない触媒となる原因となり得る。しかしながら、新しく製造する触媒製品の成分として使用済または廃棄触媒を再利用することにより各種効果が得られるために、成分として使用済または廃棄触媒を用いて製造されるが、未使用材料を用いて製造される触媒の性能特性とほぼ同等またはそれ以上の性能特性を有する触媒組成物を得ることができることが望ましい。本発明の重要な特徴の1つは、本発明の水素化処理触媒組成物の製造において触媒微粉を使用することである。本発明の水素化処理触媒組成物を製造する際に、使用済または再利用触媒由来の触媒微粉を新しく製造する触媒の重要な成分として使用する。水素化処理触媒組成物を製造する際にキレート剤及び極性添加物を使用すると、未使用材料を用いて製造される水素化処理触媒組成物の触媒特性と同等またはそれ以上の触媒特性を有する最終組成物が得られる。本発明の組成物は、石油由来原料の接触水素化処理を含む用途において、例えば常圧留分、軽油及び残油の水素化処理、及び減圧軽油及び残油の水素化処理において特に有用である。本発明の触媒組成物の1つの実施形態は無機酸化物粉末及び触媒微粉を含む混合物から形成される成形支持体を含む。触媒微粉は混合物中に混合物または成形支持体の約50重量までの範囲の量で存在する場合がある。触媒組成物は更に、成形支持体に配合され、水素化機能を与える少なくとも1つの金属成分、キレート剤及び極性添加物を含んでもよい。本発明の組成物は、他の従来技術の水素化処理触媒組成物と比較したとき及び未使用材料を用いて製造される組成物と比較したとき、非常に優れた水素化脱硫及び水素化脱窒素活性を有し、良好な触媒安定性を示すことが判明した。本発明の組成物の触媒活性の明らかな改善を引き起こすまたはもたらす実際のメカニズムは確信をもって公知でないが、キレート剤と極性添加物の併用が観察された触媒効果を与えると理論上想定される。キレート剤を組成物の金属成分と一緒にまたは成形支持体の処理時に使用したり、或いは他の方法で組成物を製造する際に使用される金属と接触させると、キレート剤は支持体中に含まれている金属と金属キレート複合体を形成し、この反応により金属が引き抜かれたり、または金属が支持体材料の表面に強く結合するのが防止されると考えられる。キーラント処理した組成物に極性添加物が満たされると、金属キーラント複合体が支持体材料の表面上に再分散されると考えられる。このキレート化処理と極性添加物の使用の組合せが高い触媒性能を与えると考えられる。本発明の触媒の製造において使用される触媒微粉をもたらす材料のソースは、石油由来炭化水素原料の水素化処理、例えば水素化脱硫及び水素化脱窒素において使用されるまたは適当に使用され得る触媒に由来し得る。無機酸化物担体または支持体材料に担持されており、通常第VI族水素化金属及び/または第VIII族水素化金属を含む典型的な水素化処理触媒が触媒微粉のソースとして使用され得る。通常、これらの触媒は酸化物として計算して10重量~35重量、好ましくは17~35重量の範囲の第VI族金属、及び酸化物として計算して1重量~10重量、好ましくは2~6重量の範囲の第VIII族金属を含み得る。水素化処理触媒は更に、通常P2O5として計算して10重量までの範囲の量で存在しているリンを含み得る。担体は通常、微量、すなわち20重量までの微量のシリカを含み得るアルミナである。触媒微粉は、使用済水素化処理触媒、好ましくはそこから炭素を除去すべく再生した使用済水素化処理触媒から、または再循環させた未使用水素化処理触媒から作成される。本明細書において使用済水素化処理触媒と考えられるものは、炭化水素原料を処理するために水素化処理条件で使用されたものである。こうした水素化処理触媒を使用する場合、失活効果を有する触媒に対して炭素及び/または硫黄が沈着する傾向がある。本発明の触媒微粉を作成する際に使用される使用済水素化処理触媒を該触媒中に含まれている炭素及び/または硫黄の少なくとも一部を除去するために熱処理することにより再生することが好ましい。この熱処理のための1つの適当なアプローチは、参照により本明細書に組み入れる米国6,030,915に記載されている。前記熱処理は、使用済触媒を酸素または酸素含有ガス例えば、空気の存在下で炭素及び/または硫黄沈着物の燃焼を促進する温度に加熱することを含む。典型的には、再生温度は200°C~600°Cの範囲であり、燃焼時間は0.1~48時間、すなわち触媒中に含まれている炭素及び/または硫黄の大部分を燃焼して再生触媒を得るのに十分な時間である。本発明の重要な態様は、成分の1つとして使用済、再生、または再利用した未使用の水素化処理触媒を使用せず、逆に製造の際に未使用材料のみを使用する他の水素化処理触媒組成物の活性及び安定性に匹敵する活性及び安定性を有し得る水素化処理触媒の製造において触媒微粉が使用され得ることである。本発明において使用される触媒微粉は、使用済水素化処理触媒、再生水素化処理触媒、または再循環されているが未使用の水素化処理触媒のいずれかから作成される。本発明の重要な特徴は、本発明の成形支持体として使用され得る粒子に成形、凝集、或いは他の方法で形成または成形され得る混合物を与えるために触媒微粉を多孔性耐火性酸化物または他の成分と混合することができるように触媒微粉がかなり小さい粒子の微細状態の形態または粉末形態であることである。これは、当業者に公知の適当な手段または方法を用いることにより使用済、再生、または再循環した未使用の水素化処理触媒を通常0.5mm500ミクロン,μm未満の最大寸法を有し得る小さい微粒子、すなわち標準No.35USMesh0.50mm上に保持されない粒子に粉砕することによりなされる。使用済、再生、または再循環した未使用の水素化処理触媒を粉砕して微粒子を形成する適当な手段には、大きな固体材料のサイズをより小さな粒子に減らすために使用されている慣用の粉砕ミルが含まれ得る。粉砕ミルの例には、ボールミル、ハンマーミル、及び当業者に公知の他の適当な粉砕機が含まれる。使用済、再生、または再循環した未使用の水素化処理触媒を摩砕及び/または圧縮力によりより小さい粒子サイズに粉砕して、約300μm未満の平均粒子サイズを有する触媒微粉を得ることが好ましい。本発明の触媒微粉が150μm未満、より好ましくは50μm未満、最も好ましくは20μm未満の平均粒度を有していることが好ましい。本明細書中で触媒微粉の平均粒度を言及するとき、平均粒度は触媒微粉のバッチ由来の代表的サンプルが該代表的サンプルの粒子の50vol.が指定した値を超えるサイズを有し、該代表的サンプルの粒子の50vol.が指定した値を下回るサイズを有しているようなサイズ分布を有する粒子を含有していることを意味する。粒子のサイズの言及は、粒子が当該寸法のメッシュスクリーンを通過するかしないかを意味する。触媒微粉の粒度の最大寸法の実際的下限はほぼ約0.2μmである。より典型的には、触媒微粉の粒度の下限は、1μmであり、最も典型的には2μmである。よって、触媒微粉の粒度の最大寸法は約0.2μm~約500μmの範囲であり得る。本発明の触媒微粉を作成する際に適当に使用され得る各種の考えられる手段及び方法、並びに触媒微粉そのものは上記した米国特許6,030,915、及び同様に参照により本明細書に組み入れる米国特許6,127,299に記載されている。本発明の成形支持体は、多孔性耐火性酸化物の無機酸化物粉末を上記した触媒微粉と混合して混合物を形成することにより作成される。混合物を公知の手段または方法により、例えば押出、造粒、ビーディング、錠剤圧縮、ピル製造、ブラケティング等により凝集または成形して成形支持体を得ることができるように所望の混合物性質及び特性を与えるために混合物に他の成分を添加してもよい。形成された成形支持体は円筒、ビーズ、環、及び対称及び非対称多葉例えば、三葉または四葉のような形状であり得る。円筒が好ましいことがある。本発明の好ましい実施形態では、触媒微粉は、生じた混合物中の触媒微粉の量が混合物または最終成形支持体の約50重量までの範囲であるような比率で無機酸化物粉末と混合される。また、水に加えて、所望または所要により他の化学助剤例えば、解膠剤、凝集剤、結合剤または他の化合物を無機酸化物粉末及び触媒微粉と組合せたり混合して、凝集物または成形粒子に形成され得る混合物またはペーストを形成する。生じた混合物を押出して1/16インチ、1/8インチ、3/16インチ等のような公称サイズを有する各種形状、例えば円筒、三葉、四葉等の1つ以上の押出物を形成することが望ましいことがある。次いで、凝集物または成形粒子を乾燥し、焼成して、本発明の触媒組成物を製造する際に使用される最終成形支持体粒子を得る。混合物または成形支持体が5重量~45重量の範囲の量の触媒微粉を含有していることが好ましく、混合物または成形支持体が10重量~40重量の触媒微粉を含有していることがより好ましい。混合物または成形支持体が15重量~35重量の触媒微粉を含有していることが最も好ましい。これらの重量は混合物または成形支持体の乾燥重量に基づいている。混合物または成形支持体中に含まれている多孔性耐火性酸化物の量は混合物または成形支持体の乾燥重量の約50重量~約100重量までの範囲であり得る。しかしながら、多孔性耐火性酸化物が混合物または成形支持体中に55重量~95重量の範囲の量で存在することが好ましい。より好ましくは、多孔性耐火性酸化物が混合物または成形支持体中に60重量~90重量、最も好ましくは65重量~85重量の範囲の量で存在する。成形支持体を作成する際に使用される無機酸化物粉末の多孔性耐火性酸化物は、水素化処理触媒の金属水素化成分を適当に支持し、更に本発明のキレート剤溶液及び極性添加物を満たし得る多孔性を有している材料であり得る。考えられる適当な多孔性耐火性酸化物の例には、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、シリカ-アルミナ、シリカ-チタニア、シリカ-ジルコニア、チタニア-アルミナ、ジルコニア-アルミナ、シリカ-チタニア及びその2つ以上の組合せが含まれる。本発明の組成物の支持体を作成する際に使用するための好ましい多孔性耐火性酸化物はアルミナ、シリカ及びシリカ-アルミナからなる群から選択されるものである。これらの中で、最も好ましい多孔性耐火性酸化物はアルミナである。多孔性耐火性酸化物は、通常約50オングストローム~約200オングストロームの範囲の平均細孔径を有し得る。標準水銀ポロシメトリー方法により測定した多孔性耐火性酸化物の全細孔容積は約0.2cc/g~約2cc/gの範囲である。B.E.T.法により測定した多孔性耐火性酸化物の表面積は通常約100m2/gを超え、典型的には約100~約400m2/gの範囲である。成形支持体粒子を50°C~200°C、好ましくは75°C~175°C、より好ましくは90°C~150°Cの範囲の乾燥温度を含み得る標準乾燥条件下で乾燥する。乾燥後、成形支持体粒子を250°C~900°C、好ましくは300°C~800°C、最も好ましくは350°C~600°Cの範囲の焼成温度を含む標準焼成条件下で焼成する。焼成した成形支持体は、成形支持体に本発明の金属成分、キレート剤及び極性添加物を含浸できる表面積及び細孔容積を有していなければならない。焼成した成形支持体はN2を用いるBET法,ASTM試験方法D3037により測定して50m2/g~450m2/g、好ましくは75m2/g~400m2/g、最も好ましくは100m2/g~350m2/gの範囲の表面積を有し得る。焼成した成形支持体の平均細孔径は50~200オングストロームÅ、好ましくは70~150オングストロームÅ、最も好ましくは75~125オングストロームÅの範囲である。焼成した成形支持体の細孔容積は0.55cc/gを超えなければならず、典型的には0.5cc/g~1.1cc/gの範囲である。より典型的には、細孔容積は0.6cc/g~1.0cc/g、最も典型的には0.7~0.9cc/gの範囲である。先に述べたように、その上に活性金属を充填するために使用しようとする成形支持体の作成において未使用の無機酸化物担体材料ではなく触媒微粉を使用する欠点の1つは、生じた成形支持体の細孔構造がより高比率のマクロ細孔中に見られる細孔容積を有する傾向にあることである。本明細書中で使用されている用語に関して、マクロ細孔は350Å超の細孔径を有する細孔である。マクロ細孔に包含される成形支持体の全細孔容積の割合は成形支持体を作成する際に使用される触媒微粉の量に応じて異なり得、幾つかの場合にはその割合は全細孔容積の10を超え得、或いは全細孔容積の15または20を超えることさえある。一方、本発明で考えられている触媒用途の場合、マクロ細孔に包含される全細孔容積の割合は10未満、7.5未満または5未満であることが最良である。しかしながら、本発明の効果の1つは、成形支持体中にマクロ細孔が比較的大量に存在することに起因するマイナスの影響がキレート剤及び極性添加物を使用し、これらで処理することにより相殺されることである。本明細書中の焼成した成形粒子の細孔サイズ分布及び細孔容積の言及は水銀圧入ポロシメトリー,ASTM試験方法D4284により測定した前記特性を指す。焼成した成形粒子の細孔サイズ分布は25°Cで140°の接触角及び474ダイン/cmの水銀表面張力を用いて適当な測定器具により測定される。本発明の好ましい実施形態では、好ましくは焼成した成形支持体に1つ以上の含浸ステップで少なくとも1つの金属塩を含有している1つ以上の水溶液を用いて少なくとも1つの金属成分を含浸させ、前記金属塩溶液の金属化合物は活性金属または活性金属前駆体である。金属元素は元素のIUPAC周期表の第6族例えば、クロムCr、モリブデンMo及びタングステンW、及び元素のIUPAC周期表の第9族及び第10族例えば、コバルトCo及びニッケルNiから選択されるものである。リンPも望ましい金属成分であり得る。第9族及び第10族金属の場合、金属塩には第9族または第10族金属の酢酸塩、ギ酸塩、クエン酸塩、酸化物、水酸化物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩及びその2つ以上が含まれる。好ましい金属塩は金属硝酸塩、例えばニッケル及び/またはコバルトの硝酸塩である。第6族金属の場合、金属塩には第6族金属の酸化物または硫化物が含まれる。第6族金属及びアンモニウムイオンを含有する塩、例えばヘプタモリブデン酸アンモニウム及びジモリブデン酸アンモニウムが好ましい。含浸溶液金属含有溶液中の金属化合物の濃度は、水溶液を含浸させようとする支持体材料の細孔容積及び金属成分を充填した支持体材料に配合しようとするキレート剤及び極性添加物の量を考慮して、本発明の最終組成物中に所望の金属含量を与えるように選択される。典型的には、含浸溶液中の金属化合物の濃度は0.01~100モル/リッターの範囲である。金属成分が配合されている成形支持体の金属含量は、本発明の最終の極性添加物含浸した組成物を使用しようとする用途に応じ得るが、通常水素化処理用途の場合第9族及び第10族金属成分、すなわちコバルトまたはニッケル、好ましくはニッケルは金属成分が配合されている支持体材料中に0.5重量~20重量、好ましくは1重量~15重量、最も好ましくは2重量~12重量の範囲の量で存在し得る。第6族金属成分、すなわちモリブデンまたはタングステン、好ましくはモリブデンは成形支持体中に5重量~50重量、好ましくは8重量~40重量、最も好ましくは12重量~30重量の範囲の量で配合され得る。金属成分の上で言及した重量は、乾燥成形支持体、及び金属成分の酸化物形態または硫化物形態のような実際の形態に関係なく元素としての金属成分の重量に基づく。本発明の触媒組成物を製造または作成する本発明の方法では、金属含有含浸溶液は水素化機能を有する上記した少なくとも1つの金属を含む水溶液であり得る。金属含有含浸溶液の少なくとも1つの金属は、例えばニッケル、コバルト、モリブデン、タングステン及びその2つ以上の組合せからなる群から選択される金属を含み得、成形支持体に配合して金属配合した支持体を得る。金属含有含浸溶液の成形支持体への配合は当業者に公知の適当な手段によりなされ得る。前記方法には、初期湿潤による標準含浸、または乾式含浸または初期湿潤含浸において使用されるよりも過剰量の金属含有含浸溶液での成形支持体の浸漬が含まれる。しかしながら、金属含有含浸溶液を成形支持体に配合するために使用される実際の手段または方法に関係なく、生じた金属配合した支持体の細孔は含浸溶液で満たされており、その結果追加容量の液体または他の材料を保持したり、これらで満たすことはできない。よって、金属配合した支持体は、揮発分の少なくとも一部を金属配合した支持体から追い出すが、金属を支持体材料の表面上に後に残す乾燥ステップを受ける。金属配合した支持体から揮発分の少なくとも一部を除去すると、成形支持体に金属含有溶液を配合する前または同時に一緒にキレート剤が成形支持体に既に配合されていないならば、後の製造ステップにおいて極性添加物及びキレート剤を充填し得る細孔容積が広がる。よって、金属配合した支持体を焼成温度未満の乾燥温度を含む乾燥条件下で乾燥する。本発明の重要な特徴は、金属配合した支持体を乾燥するステップを実施する乾燥温度が焼成温度を超えないことである。よって、乾燥温度は400°Cを超えてはならず、金属配合した支持体を乾燥する乾燥温度が300°Cを超えないことが好ましく、乾燥温度が250°Cを超えないことが最も好ましい。この乾燥ステップは通常上記した温度より低い温度で実施され、典型的には乾燥は60°C~150°Cの範囲の温度で実施する。金属配合した支持体の乾燥を特定範囲の揮発分を有する乾燥金属配合した支持体が生ずるようにコントロールすることが好ましい。乾燥金属配合した支持体の揮発分は20重量LOIを超えないようにコントロールされなければならない。乾燥金属配合した支持体のLOIが1重量~20重量LOIの範囲であることが好ましく、3重量~15重量LOIの範囲であることが最も好ましい。LOI、すなわち強熱減量は482°Cの温度の空気に2時間露出した後の材料の重量損失と規定される。LOIは次の式:露出前のサンプル重量-露出後のサンプル重量に100をかけ、露出前のサンプル重量で割るで表される成形支持体に金属含有溶液を配合または含浸すると、金属成分は支持体材料の表面に強く結合されるようになり得る。金属を支持体材料の表面から立ち退かすためには、成形支持体または乾燥金属配合した支持体をキレート剤で処理し得る。1つの適当なキレート化処理方法は参照により本明細書に組み入れる米国特許No.6,291,394に詳細に記載されている。別の適当なキレート化処理方法は参照により本明細書に組み入れる米国特許No.7,696,120に開示されている。本発明の方法の1つの実施形態では、金属含有溶液を成形支持体に配合する前にキレート剤を該成形支持体に配合する。キレート剤で満たされた後の成形支持体の残りの細孔容積は、成形支持体に所要または所望量の金属成分を配合するために細孔容積に金属含有溶液を更に充填できるようでなければならない。或いは、キレート剤の少なくとも一部またはキレート剤溶液の揮発性成分を成形支持体の満たされている細孔から除去してその後残りの細孔容積に金属含有溶液を充填できるようにキレート剤を配合した成形支持体を上記した手順に従って乾燥してもよい。方法の代替実施形態では、成形支持体に含浸させる金属含有溶液をキレート剤に含めてもよい。このアプローチでは、キレート剤を金属含有溶液の含浸と同時または一緒に、好ましくはキレート剤を金属含有含浸溶液に溶解または含有させることにより成形支持体に配合する。これは、キレート剤が成形支持体または金属配合した支持体に触媒組成物の金属成分と一緒に十分に配合されるように実施される。キレート剤を組成物に配合する方法のさらに別の実施形態では、極性添加物を乾燥金属配合した支持体に配合する前に、または乾燥金属配合した支持体を極性添加物と同時に一緒に含浸させて、乾燥金属配合した支持体をキレート剤と接触またはキレート剤で湿らせてもよい。極性添加物を乾燥金属配合した支持体に配合する前にキレート剤を該支持体に配合する場合、細孔容積に極性添加物を更に充填することできるように残りの細孔容積は十分でなければならない。或いは、キレート剤の少なくとも一部またはキレート剤溶液の揮発性成分を乾燥金属配合した成形支持体の満たされている細孔から除去して細孔容積に極性添加物をその後充填することができるようにキレート剤が配合されている乾燥金属配合した支持体を上記した手順に従って乾燥してもよい。乾燥金属配合した支持体に含浸させる極性添加物をキレート剤に含めてもよい。このアプローチでは、キレート剤は極性添加物の含浸と同時または一緒に、好ましくはキレート剤を極性添加物に溶解または含有させることにより乾燥金属配合した支持体に配合する。これは、キレート剤が乾燥金属配合した支持体に極性添加物と一緒に十分に配合されるように実施される。本発明の方法のキレート化処理ステップにおいて使用するのに適したキレート剤、すなわちキーラントには、組成物の金属成分、例えば上記した第6族金属、第9族金属及び第10族金属と複合体を形成し得る化合物が含まれる。先に言及したように、組成物の金属を支持体材料の表面から取り出すために該組成物の金属とキレート複合体を形成する性質を有していることが本発明の方法にとって特に重要である。用語キーラント、キレート剤、キレーターは同じものを指すべく本明細書中で使用されており、中心金属イオンとキレートまたはキレート複合体を形成するようにリガンドとして機能する化合物であると見なされる。キレート剤は成形支持体、金属配合した支持体、または乾燥金属配合した支持体に液体形態で、好ましくは組成物の金属と複合体を形成するキレート剤を含有している溶液を使用することにより添加される。よって、複合体は、支持体材料中に存在している金属間の結合を弱める液相中にある。本明細書中に記載されている本発明の方法が必要とする金属キーラント複合体を適当に形成するキーラント化合物がキレート化処理において使用され得る。これらのキーラント化合物の中には、乾燥金属配合した支持体の金属と複合体を形成するために電子ドナー原子として役立ち得る窒素原子を少なくとも1個含有しているキレート剤がある。考えられる窒素原子含有キレート剤の例には、アミノカルボン酸、ポリアミン、アミノアルコール、オキシム及びポリエチレンイミンとして分類され得る化合物が含まれる。アミノカルボン酸の例には、エチレンジアミン四酢酸EDTA、ヒドロキシエチレンジアミン三酢酸HEDTA、ジエチレントリアミン五酢酸DTPA及びニトリロ三酢酸NTAが含まれる。ポリアミンの例には、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン及びトリアミノトリエチルアミンが含まれる。アミノアルコールの例には、トリエタノールアミンTEA及びN-ヒドロキシエチルエチレンジアミンが含まれる。本発明の方法において使用するための好ましいキレート剤は、次式:で表され得るアミノカルボン酸である。上記式中、R1、R2、R3、R4及びR5は各々、カルボニル、カルボキシル、エステル、エーテル、アミノまたはアミドから選択される1個以上の基で置換されていてもよい最高10個の炭素原子を有するアルキル、アルケニル及びアリルから独立して選択され;R6及びR7は各々最高10個の炭素原子を有するアルキレン基から独立して選択され;nは0または1であり;R1、R2、R3、R4及びR5の1つ以上は式:式中、R8は1~4個の炭素原子を有するアルキレンであり;Xは水素または別のアニオンであるを有する。好ましいキレート剤には、エチレンジアミン四酢酸EDTA、ヒドロキシエチレンジアミン三酢酸HEDTA及びジエチレントリアミン五酢酸DTPAが含まれる。最も好ましいキレート剤はDTPAである。成形支持体、金属配合した支持体、または乾燥金属配合した支持体をキレート剤またはある濃度のキレート剤を有する溶液と接触させるために適当な手段または方法が使用され得、ただし前記手段または方法はキレート剤を支持体材料の細孔内に適当に配合または含浸させなければならない。成形支持体、金属配合した支持体、または乾燥金属配合した支持体にキレート剤またはキレート化溶液を適用する好ましい方法の例には浸漬または噴霧が含まれ得る。成形支持体、金属配合した支持体、または乾燥金属配合した支持体をキレート剤またはキレート化溶液と接触させるための好ましい方法は、当業者に公知の適当な含浸方法、例えば初期湿潤による含浸による。前記初期湿潤によると、成形支持体、金属配合した支持体、または乾燥金属配合した支持体に添加されるキレート化溶液の量または容量は添加したキレート化溶液の全容量がキレート化溶液を含浸させようとする成形支持体、金属配合した支持体、または乾燥金属配合した支持体のほぼ有効細孔容積までの範囲であり得る量であるキレート化溶液は、キレート剤及び該キレート剤を適当に溶解する溶媒を含む溶液であり得る。考えられる溶媒には、水及びアルコール、例えばメタノール及びエタノールが含まれ、水がキレート剤に対する好ましい溶媒である。成形支持体、金属配合した支持体、または乾燥金属配合した支持体に適用されるキレート剤の量は、所望レベルの本明細書中に記載されている金属キレート複合体を形成するような量でなければならない。通常、その量は成形支持体、金属配合した支持体、または乾燥金属配合した支持体中に存在している活性金属、すなわち上記した第6族、第9族及び第10族金属1モルにつき約0.005モルのキーラント~約1モルのキーラントの範囲の量のキレート剤を該成形支持体、金属配合した支持体、または乾燥金属配合した支持体に配合するような量である。成形支持体、金属配合した支持体、または乾燥金属配合した支持体に水素化金属1モルにつき0.01~0.5モルの添加キレート剤の範囲の量のキレート剤を添加することがより好ましい。最も好ましくは、成形支持体、金属配合した支持体、または乾燥金属配合した支持体に添加されるキレート剤の量は水素化金属1モルにつき0.05~0.1モルの添加キーラントの範囲である。本発明の組成物を製造する好ましい方法では、金属配合した支持体を乾燥した後、該支持体にキレート剤を配合する。こうして乾燥金属配合した支持体をキレート剤で処理すると、支持体材料の表面上に再分散され、活性金属前駆体の形態に変換されなければならない金属キレート複合体が存在する。溶媒の少なくとも一部を除去するためにこのキーラント処理金属配合した支持体を乾燥すると、極性添加物を配合し得る乾燥キーラント処理金属配合した支持体が得られる。キーラント処理金属配合した支持体の乾燥は、キーラント処理金属配合した支持体上にキレート剤の少なくとも一部、好ましくは大部分を残しながら、キーラント処理金属配合した支持体からキレート溶液の溶媒の少なくとも一部を除去するためである。本発明の好ましい実施形態では、極性添加物をその後乾燥キーラント処理金属配合した支持体に配合するとき乾燥キーラント処理金属配合した支持体がある量またはある濃度のキーラントを含んでいることが重要である。キーラント処理金属配合した支持体を乾燥する際、該支持体からキーラントを実質上少量除去することが望ましく、よってキーラント処理金属配合した支持体に配合したキーラントの全重量に基づいてキーラント処理金属配合した支持体に配合したキーラントの約50重量以上を生じた乾燥キーラント処理金属配合した支持体に残存させる。好ましくは、乾燥キーラント処理金属配合した支持体上に残存させるキーラントの量は75重量を超え、乾燥金属配合した支持体に元々添加したキーラントの90重量以上がその後極性添加物を添加するとき乾燥キーラント処理金属配合した支持体中に残ることが最も好ましい。よって、乾燥金属配合した支持体のキレート化処理において該支持体に元々添加したキーラントの約50重量未満しか乾燥ステップ中キーラント処理金属配合した支持体から除去されるべきでない。乾燥金属配合した支持体に配合したキーラントの好ましくは25重量未満、最も好ましくは10重量未満しかキーラント処理金属配合した支持体から除去されない。乾燥キーラント処理金属配合した支持体の揮発分は20重量LOIを超えないようにコントロールされるべきである。LOIは上に規定されている。乾燥キーラント処理金属配合した支持体のLOIが1重量~20重量LOIの範囲であることが好ましく、3重量~15重量LOIの範囲であることが最も好ましい。乾燥は当業者に公知の適当な方法により実施され得る。典型的には、キーラント処理金属配合した支持体を乾燥するために、熱風または他の適当なガス例えば、窒素及び二酸化炭素をキーラント処理金属配合した支持体に通す。乾燥温度は200°Cを超えてはならず、通常90°C~180°Cの範囲であり得る。好ましくは、乾燥温度は175°C未満であり、100°C~175°Cの範囲であり得る。乾燥ステップはキーラントまたはキレートの蒸発または変換を避けるために注意深くコントロールされる。キーラント処理金属配合した支持体を乾燥することにより得られる乾燥キーラント処理金属配合した支持体の細孔の有効細孔容積は本発明の極性添加物で満たされ得る。これは、乾燥キーラント処理金属配合した支持体に極性添加物を含浸させるための適当な方法または手段を用いることにより添加物含浸した組成物を得るために極性添加物を乾燥キーラント処理金属配合した支持体に配合することによりなされる。乾燥キーラント処理金属配合した支持体に極性添加物を含浸させる好ましい方法は標準公知の細孔充填方法であり、この方法により乾燥キーラント処理金属配合した支持体の細孔に液体を吸い上げる毛管作用を利用することにより細孔容積が満たされる。乾燥キーラント処理金属配合した支持体の有効細孔容積の少なくとも75が極性添加物で満たされることが望ましく、好ましくは乾燥キーラント処理金属配合した支持体の有効細孔容積の少なくとも80が極性添加物で満たされる。最も好ましくは、乾燥キーラント処理金属配合した支持体の有効細孔容積の少なくとも90が極性添加物で満たされる。金属複合体を極性添加物により分散させることに加えて、触媒サービス中に配置するときまたは触媒サービスにおいて組成物を使用するために活性化するときに添加物含浸した組成物中に極性添加物が存在すると、従来技術よりも非常に高活性な触媒を与えるのを助ける特定の効果が得られる。本発明の組成物の製造において使用され得る極性添加物は、上記効果を与え、特有の分子極性または分子双極子モーメント、及び適用可能ならば本明細書中に記載されており、参照により本明細書に組み入れる2009年3月19日に出願された係属中の米国特許出願No.12/407,479米国公開No.US20100236988に開示されている他の特性を有する適当な分子であり得る。分子極性は、分子を構成する原子の正電荷及び負電荷が均一に分布していない結果であると理解される。分子の双極子モーメントは個々の結合双極子モーメントのベクトル合計として概算され得、計算値であり得る。分子の双極子モーメントについての計算値を得る1つの方法は、通常勾配補正密度汎関数理論を適用し、使用することにより分子の最低エネルギーコンフォメーションの全電子密度を計算することにより求めることを含む。全電子密度から、対応する静電ポテンシャルを誘導し、点電荷を対応する核に当てはめる。公知の原子配置及び静電点電荷を用いて、分子双極子モーメントは個々の原子モーメントの合計から計算され得る。この用語が本明細書及び特許請求の範囲中で使用されているとき、所与の分子の双極子モーメントは認可を受けて公的に利用可能なMaterialsStudio,改訂4.3.1,copyright2008,AccerlysSoftwareInc.の名前のコンピューターソフトウェアプログラムを用いて計算することにより求められるものである。以下は、分子双極子モーメントを計算するためのコンピューター計算方法及びMaterialsStudioコンピューターソフトウェアプログラムの適用の背後の技術原理の幾つかの簡単な考察である。分子の双極子モーメントの計算値をMaterialsStudioソフトウェアを用いて求める第1ステップは、MaterialsStudioのビジュアライザーモジュール内のスケッチングツールを用いて化合物の分子式を構築することを含む。このスケッチングプロセスは、スケッチングウィンドーに化合物を構成する原子を付加し、化合物を構成する認識されている結合連結性を満たすように前記原子間の結合を完成することを含む。MaterialsStudioプログラム内のクリーンなアイコンを用いると、構築された化合物が正しい配向に自動的に配向される。複雑な化合物の場合、分子双極子を計算するために使用される配向は最低のエネルギー配座、すなわちその天然状態であることを確かめるために立体配座検索を実施する。量子力学コードDMol3Delley,B.,J.Chem.Phys.,92,5081990を使用して、密度汎関数理論を適用することにより第1原理から分子双極子モーメントを計算する。密度汎関数理論は、すべての基底特性は電荷密度ρの関数であることを述べているHohenbergandKohnHohenberg,P.;Kohn、W.,Inhomogeneouselectrongas,Phys.Rev.B,136,864-8711964;Levy,M.Universalvariationalfunctionalsofelectrondensities、first-orderdensitymatrices,andnaturalspin-orbitalsandsolutionofthev-representabilityproblem,Proc.Natl.Acad.Sci.U.S.A.,76,6062-60651979による定理から始まる。具体的には、全エネルギーEtは、式中、T[ρ]は密度ρの非相互作用粒子の系の運動エネルギーであり、U[ρ]はクーロン相互作用による古典的静電エネルギーであり、Exc[ρ]は全エネルギー、特に交換及び補正エネルギーに対するすべての多体寄与を含むとして記載され得る。他の分子軌道方法Roothaan,C.C.J.,Newdevelopmentsinmolecularorbitaltheory,Rev.Mod.Phys.,23,69-891951;Slater,J.C.,Statisticalexchange-correlationintheself-consistentfield,Adv.QuantumChem.,6,1-921972;Dewar,M.J.S.,J.Mol.Struct.,100,411983の場合のように、波動関数は1粒子関数の反対称化積スレイター行列式、すなわち分子軌道:であると見なされる。分子軌道はまた、正規直交でなければならない:すべての分子軌道上の合計電荷密度は単純合計:ここで、合計はすべての占有分子軌道φiを検算するにより得られる。この式から得られる密度も電荷密度として知られている。波長関数及び電荷密度から、方程式1からのエネルギー成分は原子単位でとして記載され得る。方程式6中、ZαはN原子系の核α上の電荷を指す。更に、方程式6中、用語ρr1VNは電子-核引力を表し、用語ρr1Ver1/2は電子-電子反発を表し、用語VNNは核-核反発を表す。方程式1中の用語Exc[ρ]の交換相関エネルギーはこの方法が計算的に処理するように若干の近似を要する。簡単で驚くほど良好な近似は、均一電子ガスの公知の交換相関エネルギーに基づく局所密度近似であるHedin,L.;Lundqvist,B.I.Explicitlocalexchangecorrelationpotentials,J.Phys.C,4,2064-20831971;Ceperley,D.M.;Alder,B.J.,Groundstateoftheelectrongasbyastochasticmethod,Phys.Rev.Lett.,45,566-5691980。局所密度近似は、電荷密度は原子スケールでゆっくり変化すると仮定しているすなわち、分子の各領域は実際均一電子ガスのように見える。全交換相関エネルギーは均一電子ガス結果を統合することにより得られ得る:ここで、Exc[ρ]は均一電子ガス中の1粒子あたりの交換相関エネルギーであり、ρは粒子の数である。この研究では、勾配補正交換相関関数PW91を使用しているPerdew,J.P.;Wang,Y.,Phys.Rev.B,45,132441992。密度汎関数法内の分子系の全エネルギーを説明するために誘導されるすべてのコンポーネントを用いて、双極子モーメントはDMol3出力ファイルの終わりに表示される個々の電子及び核双極子モーメントベクターを合計することにより計算され得る。本明細書中の極性添加物の言及は、極性を有しており、上記したMaterialsStudioソフトウェアまたは分子の双極子モーメントについてMaterialsStudioソフトウェアと実質的に同一の計算値を与える他の公知方法により計算して本発明の組成物中に使用される炭化水素油の双極子モーメントを超える双極子モーメントを有している分子を意味すると理解される。極性添加物の双極子モーメントは少なくとも0.45またはそれを超えなければならない。しかしながら、極性添加物が少なくとも0.5またはそれを超える特有の双極子モーメントを有していることが好ましく、極性添加物の双極子モーメントは少なくとも0.6またはそれを超えていることがより好ましい。極性添加物の双極子モーメントの典型的な上限値は約5までであり、よって極性添加物の双極子モーメントは例えば0.45~5の範囲であり得る。極性添加物の双極子モーメントが0.5~4.5の範囲であることが好ましく、双極子モーメントが0.6~4の範囲であることがより好ましい。上に暗に言及されているように、極性添加物の極性は本発明にとって重要である。なぜならば、極性が支持体材料の表面及び本発明の組成物の支持体材料の活性金属成分と相互作用させるために必要であるからである。これらの相互作用により、本発明の組成物の活性相と物理的化学的結合が形成される。極性添加物の特に望ましい属性は、該化合物がヘテロ化合物であることである。ヘテロ化合物は、本明細書において炭素及び水素に加えて原子を含む分子であると考えられる。これらの追加原子には、例えば窒素及び/または酸素が含まれ得る。ヘテロ化合物の群が硫黄を含むヘテロ化合物を排除することが望ましく、いずれの場合も極性添加物にはパラフィン及びオレフィン化合物、すなわち炭素及び水素原子のみを含有する化合物が含まれない。ヘテロ化合物の群の定義から硫黄含有化合物を排除することを考えると、水素及び硫黄で処理する前の油及び添加物含浸した組成物が硫黄含有化合物の材料の存在を排除することが更に望ましいことがある。本発明の極性添加物として使用するために適当であり得る具体的な極性化合物を下表1に示す。下表1には算出した双極子モーメントも示している。極性添加物の好ましい特性は、その沸点が50°C~275°Cの範囲であることである。極性添加物の沸点は、より好ましくは60°C~250°Cの範囲、最も好ましくは80°C~225°Cの範囲である。本発明の極性添加物として使用するために最も望ましい化合物は、ジメチルホルムアミドを含めたアミド化合物の群から選択されるものである。本発明の添加物含浸した組成物は原位置外または原位置で水素及び硫黄化合物で処理され、実際本発明の有利な特徴の1つは非硫化組成物を反応器に送入、デリバリーすることができることであり、前記反応器では該組成物が水素処理ステップ、次いで硫化ステップにより原位置で活性化され得る。添加物含浸した組成物の活性化では、該組成物をまず水素処理にかけ、次いで硫黄化合物で処理し得る。水素処理は、添加物含浸した組成物を250°Cまでの範囲の温度で水素を含有しているガス状雰囲気に曝すことを含む。好ましくは、添加物含浸した組成物を100°C~225°Cの範囲の水素処理温度で水素ガスに曝し、最も好ましくは水素処理温度は125°C~200°Cの範囲である。水素処理ステップで使用されるガス状雰囲気の水素の分圧は、通常1バール~70バール、好ましくは1.5バール~55バール、最も好ましくは2バール~35バールの範囲であり得る。添加物含浸した組成物をス状雰囲気と上記した温度及び圧力条件下で0.1時間~100時間の範囲の水素処理時間ガ接触させ、水素処理時間は好ましくは1時間~50時間、最も好ましくは2時間~30時間である。水素で処理した後の添加物含浸した組成物の硫化は当業者に公知の慣用の方法を用いて行われる。よって、水素処理した添加物含浸した組成物を本発明の接触条件下で硫化水素または硫化水素に分解され得る化合物であり得る硫黄含有化合物と接触させ得る。前記分解性化合物の例には、メルカプタン、CS2、チオフェン、硫化ジメチルDMS及び二硫化ジメチルDMDSが含まれる。好ましくは、硫化は水素処理した組成物を適当な硫化処理条件下である濃度の硫黄化合物を含有している炭化水素原料と接触させることによってもなされる。炭化水素原料の硫黄化合物は有機硫黄化合物、特に典型的には水素化脱硫方法により処理される石油留分中に含まれるものであり得る。適当な硫化処理条件は、水素処理した炭化水素油及び極性添加物含浸した組成物の活性金属成分をその硫化形態に変換する条件である。典型的には、水素処理した炭化水素油及び極性添加物含浸した組成物を硫黄化合物と接触させる硫化温度は150°C~450°C、好ましくは175°C~425°C、最も好ましくは200°C~400°Cの範囲である。水素処理した組成物を硫化させるために本発明の触媒組成物を用いて水素処理しようとする炭化水素原料を用いる場合、硫化条件は水素化処理を実施するプロセス条件と同一であり得る。水素処理した添加物含浸した組成物を硫化する硫化圧力は通常1バール~70バール、好ましくは1.5バール~55バール、最も好ましくは2バール~35バールの範囲であり得る。本発明の添加物含浸した組成物により得られる効果の1つは、所謂遅延供給物導入手順を用いて始動させる反応器システムにおいて利用され得ることである。遅延供給物導入手順では、添加物含浸した組成物を収容している反応容器を含む反応器システムをまず加熱ステップにかけて、反応器及び処理のために硫化剤または加熱した炭化水素原料を導入するために製造中に該反応器中に収容されている添加物含浸した組成物の温度を上昇させる。この加熱ステップは、反応器に上記水素処理条件で水素含有ガスを導入することを含む。添加物含浸した組成物を水素処理した後、該組成物を本明細書中に先に記載したように硫黄化合物で処理する。水素処理し、次いで硫黄化合物で処理した後の添加物含浸した組成物は含浸されていない以外は同一の組成物よりも留分原料の高い接触水素化処理活性を発揮することが知見された。水素及び硫黄で処理した後の本発明の添加物含浸した組成物が炭化水素原料の水素化処理に使用するための非常に有効な触媒であることが認められる。この触媒は炭化水素原料の水素化脱硫または水素化脱窒素を伴う用途において特に有用であり、特に15ppmw未満、好ましくは10ppmw未満、最も好ましくは8ppmw未満の硫黄濃度を有する超低硫黄留分製品を得るために留分原料、特にディーゼルを水素化脱硫する際に使用するための優れた触媒であることが知見された。水素化処理用途において、好ましくは上記したように遅延供給物導入手順において使用される、または他の方法で水素及び硫黄で処理される添加物含浸した組成物を適当な水素化脱硫条件下で、典型的にはある濃度の硫黄を有する炭化水素原料と接触させる。より典型的な好ましい炭化水素原料は、大気圧下で140°C~410°Cの範囲の沸点を有する石油中間留分である。これらの温度は中間留分のほぼ初期の沸点である。中間留分の意味の範囲内に含まれると意図される精油所流の例には、上記した沸騰範囲で沸騰する直留留分燃料例えば、灯油、ジェット燃料、軽質ディーゼル油、暖房油、重質ディーゼル油及び分解留分例えば、FCCサイクル油、コーカ軽油及び水素化分解装置留分が含まれる。本発明の留分水素化脱硫方法の好ましい原料は約140°C~400°Cの範囲のディーゼル沸騰範囲で沸騰する中間留分である。中間留分原料の硫黄濃度は高濃度であり得、例えば元素硫黄の重量及び硫黄化合物を含めた留分原料の全重量に基づいて留分原料の約2重量までの範囲である。しかしながら、典型的には、本発明の方法の留分原料は0.01重量100ppmw~1.8重量18,000の範囲の硫黄濃度を有している。前記硫黄濃度は、より典型的には0.1重量1000ppmw~1.6重量16,000ppmw、最も典型的には0.18重量1800ppmw~1.1重量11,000ppmwの範囲である。本明細書中の留分原料の硫黄含量の言及は、留分原料または水素脱硫した留分製品中に通常存在し、硫黄原子を含有し、通常有機硫黄化合物を含めた化合物に対すると理解される。本発明の添加物含浸した組成物は、水素の存在並びに高い全圧及び温度を含み得る適当な水素化脱硫条件下で該組成物またはその誘導体を留分原料と接触させる適当な反応器システムの一部として使用され得る。適当な反応システムには、固定触媒床システム、沸騰触媒床システム、スラリー化触媒システム及び流動化触媒床システムが含まれる。好ましい反応器システムは、留分原料を反応容器に導入するための反応器供給物入口手段例えば、供給物ノズル及び反応容器から反応器流出物、処理した炭化水素製品または超低硫黄留分製品を抜き取るための反応器流出物出口手段例えば、供給物出口ノズルを備えた反応容器内に収容されている本発明の触媒の固定床を含むものである。水素化脱硫方法は、通常689.5kPa100psig~13,789kPa2000psig、好ましくは1896kPa275psig~10,342kPa1500psig、より好ましくは2068.5kPa300psig~8619kPa1250psigの範囲の水素化脱硫反応圧力で操作する。水素化脱硫反応温度は、通常200°C392°F~420°C788°F、好ましくは260°C500°F~400°C752°F、最も好ましくは320°C608°F~380°C716°Fの範囲である。本発明の本発明添加物含浸した組成物の使用の予期せぬ特徴の1つは、該組成物がある他の代替触媒組成物よりも有意に高い触媒活性を有しており、よって通常所与量の原料を水素処理するために比較的低いプロセス温度しか必要としないことであると認められる。留分原料を本発明の方法の反応ゾーンに導入する流速は、通常0.01hr-1~10hr-1の範囲の液時空間速度LHSVを与えるような流速である。本明細書中で使用されている用語液時空間速度は、1時間あたりに留分原料を本発明方法の反応ゾーンに導入する容量で示される速度を留分原料を導入する反応ゾーン中に収容されている触媒の容量で割った数的比を意味する。好ましいLHSVは0.05hr-1~5hr-1、より好ましくは0.1hr-1~3hr-1、最も好ましくは0.2hr-1~2hr-1の範囲である。本発明の方法の反応ゾーンに留分原料と一緒に水素を導入することが好ましい。この場合、水素は時々水素処理ガスと称される。水素処理ガス速度は反応ゾーンに導入される留分原料の量に対する水素の量であり、通常1781m3/m310,000SCF/bblまでの範囲である。処理ガス速度は、好ましくは89m3/m3500SCF/bbl~1781m3/m310,000SCF/bbl、より好ましくは178m3/m31,000SCF/bbl~1602m3/m39,000SCF/bbl、最も好ましくは356m3/m32,000SCF/bbl~1425m3/m38,000SCF/bblの範囲である。本発明の方法から生ずる脱硫留分製品は留分原料に比して低いまたは減少した硫黄濃度を有している。本発明の方法の特に有利な態様は深度脱硫したディーゼル製品または超低硫黄ディーゼル製品を与えることができることである。本明細書中に既に言及したように、低硫黄留分製品は、50ppmw未満の硫黄濃度または本明細書の他のところに記載した硫黄濃度例えば、15ppmw未満、10ppmw未満、または8ppmw未満を有している。本発明の特定の態様を更に説明するために以下の実施例を提示するが、これらは本発明の範囲を限定すると解釈してはならない。[実施例1]本実施例は、触媒微粉を添加せずに粉末状アルミナから作成した比較支持体の製造及び粉末状アルミナに加えて金属含有触媒微粉を用いて作成した支持体の製造を説明する。触媒微粉を含有している支持体は実施例3の本発明の触媒組成物の製造において使用した。本実施例は更に各支持体の特定物性を示す。比較支持体は、アルミナ、水及び硝酸を混合して混合物を形成し、これを1.3mm三葉形押出物に押出すことにより製造した。成形支持体押出物を標準の乾燥及び焼成技術を用いて乾燥し、焼成して、組成物の活性金属及び添加物成分を充填するためのアルミナ支持体を得た。この成形アルミナ支持体の特性を下表2に示す。触媒微粉を含有する支持体は、アルミナ粉末、金属含有触媒微粉、水及び硝酸を混合して混合物を形成し、これを1.3mm三葉形押出物に押出すことにより同様に作成した。作成のために利用した微粉の量は30重量の微粉由来のアルミナであるように選択し、全アルミナ含量の70重量は新鮮なアルミナ粉末由来であった。2つの支持体の各々についての累積細孔サイズ分布を水銀ポロシメトリーにより測定し、結果を図1に示す。図1のプロットで見られ得るように、比較支持体はその全細孔容積の5未満しか支持体のマクロ細孔すなわち、350オングストローム超の細孔直径を有する細孔に包含されないような細孔構造を有しているが、触媒微粉を含有する支持体はその全細孔容積の少なくとも20がマクロ細孔に包含されるような細孔構造を有している。これは、支持体の製造における触媒微粉の使用が支持体の最終細孔構造に対して与える効果を立証している。本明細書に先に述べたように、触媒中のマクロ細孔の量が多いとある用途の場合触媒活性の損失を引き起こし得る。[実施例2]本実施例は、実施例1に記載されている比較支持体を用いる比較組成物Aの製造を説明し、特性を表2に略述する。200gの乾燥支持体を下記する含浸溶液を含浸させるために用いた。含浸溶液は次のように調製した:ΝΗ42Μo2O759.07g、MoO316.57g及びDIH2O47.83mlをガラスビーカー中で周囲温度で撹拌しながら合わせた。発熱をコントロールするために表面の下の混合物にMEAモノエタノールアミン2.85gを添加した。固体を溶解するために混合物を140°Fに加熱し、pH=5.29で周囲温度まで冷却して、溶液1を得た。別に、硝酸ニッケルNiNO326H2O30.59gをDIH2O29.2ml中で炭酸ニッケルNiCO38.86gと合わせた。発泡をコントロールするためにリン酸H3PO485.923.83gをゆっくり添加した。周囲温度で透明溶液2を形成した後、pHは0.19であった。次いで、溶液2を撹拌しながら溶液1に添加した。生じた混合物にDIH2Oを加えて、合成のために用いた200gの支持体の全水孔容積に等しい176mlの全溶液容量とした。含浸前の最終溶液のpHは2.82であった。含浸溶液を支持体に一度に添加し、含浸物を時々振とうしながら数時間エージングした。含浸物を212°F100°Cで4時間乾燥し、最後に900°F482°Cで焼成して、次の目標金属含量:15.0Mo、3.5Ni、2.2P乾燥基準を有する比較組成物Aを得た。[実施例3]本実施例は、実施例1の30再生触媒微粉を含有する支持体を用い、これに水素化金属成分及びキレート剤を含浸し、次いで極性添加物を満たす組成物Bの製造を説明する。組成物Bにキレート剤ジエチレンジアミントリアミン五酢酸DTPA及び金属を含む溶液を含浸した。この溶液は次のように調製した:MoO366.5Mo56.44g、NiCO342.73Ni22.73g及びDIH2O67mlをガラスビーカー中で周囲温度で撹拌しながら合わせた。透明な溶液が得られるまで混合物を撹拌しながら約195°F91°Cに加熱した。溶液を約140°F60°Cまで冷却したら、ジエチレンジアミントリアミン五酢酸DTPA,99濃度,BASF,TrilonCPowder12.72gを添加した。溶液を周囲温度まで冷却した後、DI水を加えて容量を143.1mlとした。最終透明溶液を得た。含浸溶液を160.15gの触媒微粉含有支持体実施例1、表2に一度に添加した。含浸物を時々振とうしながら数時間エージングした後、過剰の水分を除去し、その揮発分を目標LOIまで減らし、その後極性添加物が満たされ得る細孔容積を広げるために空気中300°F149°Cで3時間乾燥した焼成はしなかった。こうして、組成物Bの触媒中間体を得た。含浸溶液から添加された金属含量乾燥新鮮金属基準は15.36Mo、3.98Ni及び2.76Pであった。次いで、乾燥した触媒中間体に、少なくとも90細孔容積充填まで極性添加物ジメチルホルムアミドDMFを細孔容積含浸法により満たして、本発明の組成物B添加物含浸した組成物を得た。[実施例4]本実施例は、実施例3に記載されている中間体組成物Bに50容量のDMFと50容量のヘキサデシルアミンの混合物からなる極性添加物のブレンドを細孔容積含浸法により得た本発明組成物Cを説明する。[実施例5]本実施例は、実施例2~4の組成物の触媒性能の試験手順を説明し、減圧軽油原料の水素処理における使用の性能結果活性試験を示す。触媒組成物A、B及びCの水素化脱硫HDS及び水素化脱窒素HDN活性を試験するために滴下流マイクロ反応器を使用した。全ペレットの充填密度に基づいて50cc容量の各組成物を試験に使用した。1:1の組成物:希釈剤容量比で80~60メッシュSiCで希釈した各組成物の押出物を反応器に充填した。組成物をコンディショニングし、遅延供給物導入手順を用いて硫化した。この手順では、組成物をまず加熱し、操作圧力及び149°C300°F~204°C400°Fの範囲の温度で純粋な水素と約12時間接触させることによりコンディショニングした。この水素処理の後、組成物をDMDSを含有するディーゼル範囲で沸騰する軽油の液体炭化水素を用いて硫化して、硫化供給物中の硫黄含量を2.5とした。反応器にVGO減圧軽油沸騰範囲のブレンド原料を充填することにより組成物の活性を試験した。原料は3.32重量の硫黄含量及び0.231重量の窒素含量を有しており、1400psigの圧力で操作している反応器に0.75hr-1の液時空間速度LHSVを与える速度で充填した。反応器に充填する水素ガス速度は3500scfH2/bblであった。重量平均床温度WABTを260ppm製品窒素目標に対して正規化した。図2は、製品中の目標とする260ppm窒素含量を達成するために必要なWABTとして測定した活性の試験結果を示す。示したプロットから、本発明の組成物Cが比較組成物A及びBよりも高い活性所与のHDNレベルに対してより低いWABTを示すことが観察され得る。組成物Cは製品中68ppmの総窒素を与えたのに対して、組成物Bは製品中125ppmの全窒素を示し、結果的に本発明の組成物Cの5.5°C10°F温度有利となる。"