開口部を有する反応室と、前記反応室に設けられる回転スタンドと、前記回転スタンドに設けられ、前記回転スタンドにより連動して回転し、少なくとも二つの異なる直径を有し、その一表面に設けられて、複数のウエハを積込むことに適用されて、前記ウエハに対応する複数のサポートゾーンを含むウエハサセプタと、前記回転スタンド内で、前記ウエハサセプタの下に設けられるヒーターと、前記ウエハサセプタの前記表面に向かって反応気体を放出するように、前記反応室の前記開口部を覆うシャワーヘッドと、を含む有機金属化学気相堆積MOCVD装置。前記サポートゾーンは、複数の直径2インチのサポートゾーン、及び複数の直径4インチのサポートゾーンを含む請求項1に記載の有機金属化学気相堆積装置。前記サポートゾーンは、直径が同じである複数の第1のサポートゾーン、及び直径が同じである少なくとも一つの第2のサポートゾーンを含み、前記第1のサポートゾーンの直径が前記少なくとも一つの第2のサポートゾーンの直径より大きい請求項1に記載の有機金属化学気相堆積装置。前記第1のサポートゾーンの深さは、前記少なくとも一つの第2のサポートゾーンの深さにより大きい請求項3に記載の有機金属化学気相堆積装置。前記第1のサポートゾーンの深さは、前記少なくとも一つの第2のサポートゾーンの深さに等しい請求項3に記載の有機金属化学気相堆積装置。前記サポートゾーンの深さは、積込む前記ウエハの厚みより小さい請求項1に記載の有機金属化学気相堆積装置。前記サポートゾーンの深さは、積込む前記ウエハの厚みに等しい請求項1に記載の有機金属化学気相堆積装置。前記サポートゾーンの形状は、積込む前記ウエハの形状と同じである請求項1に記載の有機金属化学気相堆積装置。前記サポートゾーンの直径は、積込む前記ウエハの直径より大きい又は等しい請求項1に記載の有機金属化学気相堆積装置。前記ヒーターは、前記回転スタンドにより連動して回転しない請求項1に記載の有機金属化学気相堆積装置。製造プロセス技術の進歩に伴い、採用するウエハのサイズも徐々に増加してきた。例として、発光ダイオードの製造において、青光エピタクシー基板は、従来の2インチから現在の4インチまで発展した。基板サイズの増加は、一般的に後の結晶粒子製造プロセスのコストを下げることを目的とする。しかし、元の反応室のサイズに制限されるために、ウエハサセプタのサイズを拡大することができない。この場合に、4インチウエハを積込むように、ウエハサセプタのサポートゾーンを新しく計画し調整すると、設置できる4インチウエハサポートゾーン数は大幅に7つまで縮減する。図1は、従来のウエハサセプタにおける二種類のサイズのウエハサポートゾーンを示すレイアウト略図である。当該ウエハサセプタ100において、2インチウエハを積込むように設計する場合に、ウエハサセプタ100の表面102に31個の2インチウエハサポートゾーン104を設けてよく、例えば図1に示す点線円である。当該設計において、サイズが小さいウエハサポートゾーン104を緊密に並べることができる。一方、4インチウエハを積込むようにウエハサセプタ100を設計する場合に、ウエハのサイズによる影響に制限されて、ウエハサセプタ100の表面102に4インチウエハサポートゾーン106を7つだけ設計でき、例えば図1に示す実線円である。図1から分かるように、4インチウエハサポートゾーン106を設ける場合に、ウエハサセプタ100の表面102の面積の利用率は、2インチウエハサポートゾーン104を設ける場合より顕著的に低い。このように、サイズが同じである有機金属化学気相堆積Metal-OrganicCVD;MOCVD装置の反応室において、サイズが大きいウエハを採用することは、後の結晶粒子製造プロセスのコストを節約できるが、前段階のエピタクシープロセスにおいて、ユニット産出数量の増加が実現できないだけではなく、かえってユニットの産出数量を下げたため、製造プロセスコストを更に高めることもある。そのため、本発明の一態様は、ウエハサセプタに様々なサイズのウエハサポートゾーンを設けることにより、ウエハサセプタの使用空間をより有効に利用できる有機金属化学気相堆積装置を提供する。本発明のまた他の態様は、ウエハサセプタを高いサポート空間を有するように設計することにより、ユニットの生産率を大幅に高め、生産能力を向上することができる有機金属化学気相堆積装置を提供する。本発明の又一つの態様は、ウエハサセプタの空間利用率とサイズが大きいウエハの採用との両方を配慮したため、生産コストを減少できる有機金属化学気相堆積装置を提供する。本発明の前記目的によれば、有機金属化学気相堆積装置を提供する。当該有機金属化学気相堆積装置は、反応室、回転スタンド、ウエハサセプタ、ヒーター、シャワーヘッドShowerHeadを含む。反応室は、開口部を有する。回転スタンドは、反応室に設けられる。ウエハサセプタは、回転スタンドに設けられ、回転スタンドにより連動して回転する。その内、ウエハサセプタは、その一表面に設けられる、少なくとも二つの異なる直径を有する複数のサポートゾーンを含み、これらのサポートゾーンが複数のウエハに対応して、前記ウエハを積込むことに適用する。ヒーターは、回転スタンド内で、ウエハサセプタの下に設けられる。シャワーヘッドは、ウエハサセプタの表面に向かって反応気体を放出するように、反応室の開口部を覆う。本発明の一実施例によれば、前記サポートゾーンは、直径が同じな複数の第1のサポートゾーン、及び直径が同じな複数の第2のサポートゾーンを含み、第1のサポートゾーンの直径が第2のサポートゾーンの直径より大きい。本発明のまた他の実施例によれば、前記第1のサポートゾーンの深さは、第2のサポートゾーンの深さより大きい。本発明の又一つの実施例によれば、前記第1のサポートゾーンの深さは、第2のサポートゾーンの深さに等しい。本発明の更に一つの実施例によれば、前記サポートゾーンの深さは、積込むウエハの厚みより小さい。ウエハサセプタに少なくとも二種類のサイズのウエハサポートゾーンを設けることにより、ウエハサセプタの使用空間をより有効に利用できるので、ウエハサセプタの空間利用率とサイズが大きいウエハの採用の両方を配慮できるだけではなく、ユニットの生産率を高め、生産コストを減少する目的も実現できる。下記図面の説明は、本発明の前記又は他の目的、特徴、長所、実施例をより分りやくするためのものである。図2は、本発明の一実施形態による有機金属化学気相堆積装置を示す略図である。本実施形態において、有機金属化学気相堆積装置200は発光ダイオードの半導体材料層のエピタクシー作業を行うことに適用する。有機金属化学気相堆積装置200は、例えば、反応室202、回転スタンド204、ウエハサセプタ206、ヒーター218、シャワーヘッド220を含んでよい。有機金属化学気相堆積装置200において、反応室202は、一般的に開口部226を有し、複数のウエハを開口部226を介してウエハサセプタ206に載せる。また、製造プロセスの需要によって、反応室202は常に選択的に少なくとも一つの排気口222を含んでよい。排気口222は、例えば、反応室202の下部に設けられ、製造プロセスで発生した廃ガスを反応室202から排出する。一般的に、発光ダイオード等のユニットのエピタクシー作業は、反応室202で行われる。回転スタンド204は、反応室202内に設けられる。製造プロセスの需要によって、回転スタンド204は反応室202内でその場で自転してよく、更にその上に載せられたウエハ210と214を連動して回転させる。回転スタンド204の構造は、例えば中空柱体又は支持構造であってよい。ウエハサセプタ206は、複数のウエハ210と214をサポートして積込むためのものであり、これらのウエハ210と214を運送して処理を行う。ウエハサセプタ206は、回転スタンド204に支持されるように回転スタンド204に設けられる。ウエハサセプタ206は、挟み固定のような方式で、回転スタンド204に固定されてよい。回転スタンド204が回転すると、その上に固定されたウエハサセプタ206は連動して回転し、更にウエハサセプタ206に載せられたウエハ210と214が連動して回転する。有機金属化学気相堆積装置200においてエピタクシープロセスを行う場合に、一定の反応室202内で化学反応により発生したエピタクシー生成物は、全面的にウエハサセプタ206の表面に堆積する。それで、ウエハ間の隙間に堆積したエピタクシー層は、後の製造プロセスを行うことができないので、無駄な浪費を引き起こしてしまう。そこで、同じ反応室空間で処理できるユニット数が多ければ、ユニットの製造コストを下げることができる。これによって、ウエハサセプタ206の設計はユニットの産出数量に影響を与えることが了解できる。図3と図4を同時に参照すれば、図3は、本発明の一実施形態によるウエハサセプタを示す上面図であり、図4は、図3のウエハサセプタを示す断面図である。本実施形態において、ウエハサセプタ206の表面208に複数のサポートゾーン212と216が設けられた。その内、これらのサポートゾーン212と216は、ウエハサセプタ206の表面208における窪み領域に凹んで設けられた。このように、ウエハサセプタ206は反応室202内でウエハ210と214を確実にサポートして製造プロセスを行う。図3に示す実施例から分かるように、これらのサポートゾーン212と216のすべては円形である。そして、この実施例において、ウエハサセプタ206は、二種類の異なる直径のサポートゾーン212と216を含む。その内、サポートゾーン212のすべては直径が同じであり、サポートゾーン216の直径が同じであり、サポートゾーン212の直径がサポートゾーン216より大きい。一例において、例えば発光ダイオードの製造プロセスにおいて、サポートゾーン212の直径が例えば4インチであってよく、サポートゾーン216の直径が例えば2インチであってよい。本実施形態において、まず、ウエハサセプタ206の表面208に大きいサイズのサポートゾーン212を設けてから、ウエハサセプタ206の表面208の空き領域に小さいサイズのサポートゾーン216を設けてよい。このように、ウエハサセプタ206の表面208の利用率を向上するだけではなく、更にユニットの生産率を高めることができる。注目すべき点について、本実施形態のウエハサセプタ206は、二種類の異なる直径のサポートゾーン212と216を含むが、その他の実施形態において、ウエハサセプタが二種類以上の異なる直径のサポートゾーンを含んでよい。図2を再び参照すれば、ウエハサセプタ206において、異なる直径のサポートゾーン212と216は、異なるサイズのウエハ210と214に対応して、前記ウエハを積込むことに適用する。サポートゾーン212と216の直径は、積込むウエハ210と214の直径より大きい又は等しくてよい。これらのサポートゾーン212と216の形状は、積込むウエハ210と214の形状と同じであってよい。また他の実施例において、サポートゾーン212と216の形状は、積込むウエハ210と214の形状と異なってよい。図2と図4を参照すれば、一実施例において、サポートゾーン212と216の深さ228と230は、積込むウエハ210と214の厚みより小さい又は等しいことが好ましい。そこで、ウエハ210と214を別々にウエハサセプタ206のサポートゾーン212と216に積込む場合に、ウエハ210と214の表面がウエハサセプタ206の表面208と同じような高さ、或はウエハサセプタ206の表面208より高いようにすることができる。そこで、ウエハサセプタ206に載せられたウエハ210と214に対してエピタクシー等のような堆積ステップを行う場合に、堆積された材料はウエハサセプタ206に凹んで設けられたサポートゾーン212と216の側壁を覆うことを避け、更にサポートゾーン212と216の側壁における堆積物が後の製造プロセスに影響を与えることをなくす。サイズが異なるウエハが異なる厚みを有するので、各ウエハの厚みと合わせるために、ウエハサセプタ206のサポートゾーン212と216を異なる深さに設計してよい。一般的に言えば、大きいサイズのウエハ210の厚みは、小さいサイズのウエハ214の厚みより小さい。そこで、図4に示すように、一実施例において、大きいサイズのウエハ210を積込むサポートゾーン212の深さ228は、小さいサイズのウエハ214を積込むサポートゾーン216の深さ230より大きい。しかし、また他の実施例において、大きいサイズのウエハを積込むサポートゾーンの深さを、小さいサイズのウエハを積込むサポートゾーンの深さと相当するように設計してもよい。図2を再び参照すれば、ヒーター218は、回転スタンド204内で、ウエハサセプタ206の下に設けられ、ウエハサセプタ206に載せられたウエハ210と214に対して加熱処理を行う。ヒーター218の動作は、回転スタンド204とは独立であることが好ましく、ヒーター218を回転スタンド204の回転により回転させない。回転スタンド204の回転によりウエハサセプタ206を連動して回転させることで、ウエハサセプタ206に載せられたウエハ210と214を均一に加熱し、それによって、形成されたユニットの特性が更に類似する。シャワーヘッド220は、反応室202の開口部226を覆うように反応室202に設けられる。シャワーヘッド220の下表面に、ウエハサセプタ206に載せられたウエハ210と214と対向する複数の噴気孔221を有する。このように、シャワーヘッド220に入った反応気体224は、噴気孔221を通して、ウエハサセプタ206の表面208に向かってウエハ210と214に放出される。これにより、ウエハ210と214の上でエピタクシー等のような堆積ステップを行ってよい。図5は、本発明のまた他の実施形態によるウエハサセプタを示す上面図である。この実施形態において、まず、ウエハサセプタ232の表面238に、7つの大きいサイズのウエハサポートゾーン234を設けてから、これらの大きいサイズのサポートゾーン234の外囲に6つの小さいサイズのウエハサポートゾーン236を設けてよい。図1に示すウエハサセプタ100、図3に示すウエハサセプタ206、図5に示すウエハサセプタ232はそれぞれ直径380mmのサセプタであることを例とする。このような直径サイズでは、従来のウエハサセプタ100の設計で、31枚の2インチウエハを積込めた。現行の反応室において、ウエハサセプタ100で31枚の2インチウエハを積込む場合に、シングルのエピタクシー工程により生産できた小さいサイズの発光ダイオードチップサイズ10×23mil2の数が433318粒であり、又はミドルサイズの発光ダイオードチップサイズ20×40mil2の数が125674粒である。ウエハサセプタ100で7枚の4インチウエハを積込む場合に、シングルのエピタクシー工程により生産できた小さいサイズの発光ダイオードチップサイズ10×23mil2の数が391391粒であり、又はミドルサイズの発光ダイオードチップサイズ20×40mil2の数が113505粒である。31枚の2インチウエハから7枚の4インチウエハに調整した後で、小さいサイズの発光ダイオードチップの産出量が約10.72減少し、ミドルサイズの発光ダイオードチップの産出量が約10.71減少した。また、図3のウエハサセプタ206を使用する場合に、シングルのエピタクシー工程により生産できた小さいサイズの発光ダイオードチップサイズ10×23mil2の数が405368粒であり、又はミドルサイズの発光ダイオードチップサイズ20×40mil2の数が117560粒である。31枚の2インチウエハサセプタに対して、小さいサイズの発光ダイオードチップの産出量が約6.89減少し、ミドルサイズの発光ダイオードチップの産出量が約6.9減少した。しかし、7枚の4インチウエハサセプタに対して、小さいサイズの発光ダイオードチップの産出量が約3.57向上し、ミドルサイズの発光ダイオードチップの産出量が約3.57向上した。また、図5のウエハサセプタ232を使用する場合に、シングルのエピタクシー工程により生産できた小さいサイズの発光ダイオードチップサイズ10×23mil2の数が475259粒であり、又はミドルサイズの発光ダイオードチップサイズ20×40mil2の数が137829粒である。31枚の2インチウエハサセプタに対して、小さいサイズの発光ダイオードチップの産出量が約9.68増加し、ミドルサイズの発光ダイオードチップの産出量が約9.67増加した。そして、7枚の4インチウエハサセプタに対して、小さいサイズの発光ダイオードチップの産出量が更に約21.43増加し、ミドルサイズの発光ダイオードチップの産出量が約21.43増加した。前記説明から分かるように、同一なサセプタサイズで、サイズが様々であるサポートゾーン設計によって、確かに大きいサイズのウエハの採用及びサセプタ使用空間の利用率の両方を配慮できる。そこで、前記実施形態にかかるサイズが様々であるサポートゾーンを有するサセプタを採用すれば、生産率を有効に向上でき、量産優勢を充分に持たせる。前記実施形態から分かるように、本発明の長所の一つは、有機金属化学気相堆積装置のウエハサセプタに様々なサイズのウエハサポートゾーンが設けられるので、ウエハサセプタの使用空間をより有効に利用できることにある。前記実施形態から分かるように、本発明のまた他の長所は、有機金属化学気相堆積装置のウエハサセプタが高いサポート空間を有するように設計されるので、ユニットの生産率を大幅に高め、更に生産能力を向上できることにある。前記実施形態から分かるように、本発明の又一つの長所は、有機金属化学気相堆積装置がウエハサセプタの空間利用率とサイズが大きいウエハの採用との両方を配慮できるので、生産コストを有効に減少できることにある。本発明では好適な実施例を前述の通り開示したが、これは本発明を限定するものではなく、当業者であれば、本発明の精神と範囲から逸脱しない限り、多様の変動や修正を加えることができ、従って、本発明の保護範囲は、後の特許請求の範囲の記載によって限定される。