工作物をプラズマチャンバー内に挿入し、次に負圧を作用させた状態でプラズマの点火後に工作物上にコーティングを被着し、プラズマの点火をパルス化されたマイクロ波エネルギーによって行い、マイクロ波の作用段階と遮断段階とを制御部によって択一的に設定するようにした、工作物をプラズマ処理する方法において、工作物5に対し処理工程を実施している間、前記作用段階の時間44と前記遮断段階の時間45との関係を変化させることを特徴とする方法。プラズマ処理を実施している間、作用時間44の長さと遮断時間45の長さとの商を増大させることを特徴とする、請求項1に記載の方法。プラズマ処理の継続時間の少なくとも一部の間、2つの前記作用時間44の間の前記遮断時間45の長さを一定に保持することを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。前記遮断時間45がほぼ30ミリ秒であることを特徴とする、請求項1から3までのいずれか一つに記載の方法。プラズマ処理開始時の前記作用時間44がほぼ0.3ミリ秒であることを特徴とする、請求項1から4までのいずれか一つに記載の方法。プラズマ処理終了時の前記作用時間44がほぼ0.3ミリ秒であることを特徴とする、請求項1から4までのいずれか一つに記載の方法。プラズマ工程を継続している間の前記作用時間44を連続的に増大させることを特徴とする、請求項1から6までのいずれか一つに記載の方法。前記工作物5としての瓶状の容器にバリア層40を備えさせることを特徴とする、請求項1から7までのいずれか一つに記載の方法。前記バリア層40に、層厚43にわたって、可変炭素成分を備えさせることを特徴とする、請求項1から8までのいずれか一つに記載の方法。前記バリア層40として、SiOxを含んでいる層を使用することを特徴とする、請求項1から9までのいずれか一つに記載の方法。前記バリア層40内の炭素成分を、前記工作物5を起点として当初は層厚43にわたって減少させ、前記工作物5とは逆の領域において再び増大させることを特徴とする、請求項1から10までのいずれか一つに記載の方法。前記コーティング工程を継続している間の前記作用時間44と前記遮断時間45との商を、当初は大きくさせ、その後再び小さくさせることを特徴とする、請求項1から11までのいずれか一つに記載の方法。工作物を受容するための真空化可能な少なくとも1つのプラズマチャンバーを有し、該プラズマチャンバーが処理ステーションの領域に配置され、前記プラズマチャンバーがチャンバー底部と、チャンバーカバーと、側部のチャンバー壁とによって画成され、前記プラズマチャンバーがパルス化したマイクロ波エネルギーによってプラズマを点火するための機構と連結され、マイクロ波の作用段階と遮断段階とを交互に発生させるためにマイクロ波エネルギーのカップリングを制御する制御機構が設けられている、工作物をプラズマ処理するための装置において、1つの工作物5に対する処理工程を実施している間に、前記制御機構が前記作動段階44の継続時間と前記遮断段階45の継続時間との間の関係を変化させることを特徴とする装置。瓶状工作物5の内表面にバリア層40を生成させるための機構が設けられていることを特徴とする、請求項13に記載の装置。本発明の課題は、冒頭で述べた種類の方法において、且つ端且つ迅速なプロセス制御が達成されるように改善することである。また、本発明の他の課題は、冒頭で述べた種類の装置においては、且つ端且つ迅速なプロセス制御が達成されるように改善することである。上記の課題は、前記方法においては、工作物に対し処理工程を実施している間、作用段階の時間と遮断段階の時間との関係を変化させることによって解決される。また、上記の課題は、前記装置においては、1つの工作物に対する処理工程を実施している間に、制御機構が作動段階の継続時間と遮断段階の継続時間との間の関係を変化させることによって解決される。パルス化されたマイクロ波エネルギーの作用段階と遮断段階との間の時間的関係を変化させることができることにより、コーティング工程を制御するための補助的な可能性が提供される。特に、プロセスガスの組成および/または供給されるプロセスガスの体積流を変化させることなく、或いは、少なくともプロセスに対するこの種の影響を最少にして、極めて効果的な制御を実施することが可能である。本発明によれば、時間的手段でもたらされるエネルギーを変化させることにより、プロセスガスの被覆挙動析出挙動を著しく変更できることが認められた。たとえば、平均エネルギー供給量が少ない場合でも、よってマイクロ波エネルギーの作用時間が比較的短い場合でも、炭素被覆量が増えることが明らかになった。珪素、酸素、炭素を含むプロセスガスを使用した場合、エネルギー供給量が増えるに従ってSiOxの被覆量が増大し、よって被覆層の炭素成分が少なくなる。同様の効果は、プロセスガスの組成が異なっていてもえられることが実証された。プラズマ処理の際に被覆される層の化学的特性および物理学的特性を合目的に制御するため、プラズマ処理を実施している間、作用時間の長さと遮断時間の長さとの商を増大させることができる。十分な量のプロセスガスの供給を保証するため、プラズマ処理の継続時間の少なくとも一部の間、2つの作用時間の間の遮断時間の長さを一定に保持することが提案される。本発明による方法の典型的な実施態様は、遮断時間がほぼ30ミリ秒であることによって決定される。さらに、プラズマ処理開始時の作用時間がほぼ0.3ミリ秒であることが考えられる。同様に、プラズマ処理終了時の作用時間がほぼ0.3ミリ秒であるのも合目的であることが明らかになった。層厚にわたって連続的なパラロータ変化を達成するため、プラズマ工程を継続している間の作用時間を連続的に増大させる。1つの有利な実施態様によれば、工作物としての瓶状の容器にバリア層を備えさせることが考えられる。接着性および/または酸性媒体またはアルカリ性媒体の作用に対する化学的耐性を制御するため、バリア層に、層厚にわたって、可変炭素成分を備えさせる。バリア特性に優れた透明なバリア層は、バリア層として、SiOxを含んでいる層を使用することによって提供される。接着層と保護層との双方を提供するため、バリア層内の炭素成分を、工作物を起点として当初は層厚にわたって減少させ、工作物とは逆の領域において再び増大させる。接着層の生成と保護層の生成との双方を制御技術的に達成するため、コーティング工程を継続している間の作用時間と遮断時間との商を、当初は大きくさせ、その後再び小さくさせる。本発明による方法および本発明による装置は、プラスチックから成る瓶のコーティング方法の工程を制御するために特に適している。この場合、特に瓶の内側がSiOxから成る層でコーティングされ、その際SiOxから成る層のプラスチックに対する接着は、定着剤として形成された中間層によって改善することができる。本発明によるコーティング方法は、好ましくはPICVDプラズマプロセスとして実施される。この種の方法では、プラズマはマイクロ波のパルスを使用して点火される。パルスはそのパルス幅、パルス間隔およびパルス高に関し制御することができる。図1の図示から明らかなように、プラズマモジュール1は回転プラズマホイール2を備えている。プラズマホイール2の周に沿って多数のプラズマステーション3が配置されている。プラズマステーション3は、処理される工作物5を受容するためのキャビティ4またはプラズマチャンバー17を備えている。処理される工作物5は、装入部6の領域でプラズマモジュール1に供給され、個別化ホイール7を介して受け渡しホイール8へ転送される。受け渡しホイール8は位置決め可能な担持アーム9を備えている。担持アーム9は受け渡しホイール8の台座10に対し相対的に回動可能に配置されており、その結果工作物5相互の相対間隔を変化させることができる。これにより受け渡しホイール8から装入ホイール11への工作物5の受け渡しは、工作物5相互の相対間隔を個別化ホイール7に対して大きくして行なわれる。装入ホイール11は処理される工作物5をプラズマホイール2へ受け渡す。処理を実施した後、処理された工作物5は搬出ホイール12によりプラズマホイール2の領域から除去されて、搬出区間13の領域へ移送される。図2の実施形態では、プラズマステーション3はそれぞれ2つのキャビティ4またはプラズマチャンバー17を備えている。これによりそれぞれ2つの工作物5を同時に処理することができる。基本的には、これらのキャビティ4を互いに完全に分離して構成することが可能であるが、1つの共通のキャビティ空間内で複数の部分領域だけを互いに境界づけて、すべての工作物5の最適なコーティングを保証するようにすることも可能である。この場合、特に、複数の部分キャビティを少なくとも別個のマイクロ波カップリングによって互いに境界づけることが考えられる。図3は、一部にプラズマホイール2を組み付けたプラズマモジュール1の斜視図である。複数のプラズマステーション3が1つの担持リング14上に配置され、担持リング14は回転結合部の一部として形成されて、機械台座15の領域で支持されている。プラズマステーション3はそれぞれ、プラズマチャンバー17を保持するステーションフレーム16を有している。プラズマチャンバー17は筒状のチャンバー壁18とマイクロ波発生器19とを有している。プラズマホイール2の中央には、プラズマステーション3に作動媒体とエネルギーとを供給する回転分配器20が配置されている。作動媒体を分配するため、特にリングパイプ21を使用することができる。処理される工作物5は筒状チャンバー壁18の下方に図示されている。プラズマチャンバー17の下部部分は図示を簡単にするためにそれぞれ図示していない。図4は1つのプラズマステーション3の斜視図である。これからわかるように、ステーションフレーム16は案内棒23を備え、該案内棒上で、筒状チャンバー壁18を保持するためのスライダ24が案内されている。図4はスライダ24をチャンバー壁18とともに持ち上げ状態で示したものであり、その結果工作物5は開放されている。プラズマステーション3の上部領域には、マイクロ波発生器19が配置されている。マイクロ波発生器19は、転向部25とアダプタ26とを介して、プラズマチャンバー17に開口している連結チャネル27に接続されている。基本的には、マイクロ発生器19を、チャンバーカバー31の領域にダイレクトに配置しても、また間隔要素を介してチャンバーカバー31に連結させて、チャンバーカバー31に対し予め設定可能な距離を持たせ、よってチャンバーカバー31の周囲に比較的広範囲に配置してもよい。アダプタ26はジャンクションの機能を持ち、連結チャネル27は同軸ケーブルとして形成されている。連結チャネル27がチャンバーカバー31に開口する領域には、石英ガラス窓が配置されている。転向部25は中空導体として形成されている。工作物5は、チャンバー底部29の領域に配置されている保持要素28によって位置決めされる。チャンバー底部29はチャンバー台座30の一部として形成されている。位置調整を容易にするため、チャンバー台座30を案内棒23の領域に固定してもよい。他の変形実施形態によれば、チャンバー台座30は直接ステーションフレーム16に固定される。この種の配置構成では、たとえば案内棒23を鉛直方向において2部分から成るように実施することも可能である。図5は、図3のプラズマステーション3を、プラズマチャンバー17閉じた状態で示した正面図である。この場合、筒状のチャンバー壁18を備えたスライダ24は図4の位置決め状態に比べて降下しており、その結果チャンバー壁18はチャンバー底部29のほうへ移動している。この位置決め状態でプラズマコーティングを実施することができる。図6は図5の配置構成の鉛直断面図である。この図から特にわかるように、連結チャネル27はチャンバーカバー31内に開口し、チャンバーカバー31は側方に突出するフランジ32を有している。フランジ32の領域にはパッキン33が配置され、パッキン33はチャンバー壁18の内側フランジ34の作用を受ける。これによって、チャンバー壁18の降下状態でチャンバーカバー31に対するチャンバー壁18の密封が行われる。他のパッキン35がチャンバー壁18の下部領域に配置され、ここでもチャンバー底部29に対する密封が保証されている。図6に図示した位置決め状態では、チャンバー壁18はキャビティ4を取り囲んでおり、その結果キャビティ4の内部空間も工作物5の内部空間も真空にさせることができる。プロセスガスの供給を補助するため、チャンバー台座30の領域には、工作物5の内部空間内へ挿入可能な中空の槍状ガス供給部材36が配置されている。槍状ガス供給部材36の位置決めを行なうため、該槍状ガス供給部材を、案内棒23に沿って位置決め可能な槍状供給部材用スライダ37によって保持させる。槍状供給部材用スライダ37の内部にはプロセスガス通路38が延在しており、該プロセスガス通路は、図6に図示した持ち上げ位置では、チャンバー台座30のガス接続部39と連結されている。このような配置構成ににより、槍状供給部材用スライダ37にチューブ状の結合要素を設ける必要がなくなる。上述したプラズマステーションの構成とは択一的に、本発明によれば、工作物5を、付設の担持構造部に対し相対的に不動なプラズマチャンバー17に挿入してもよい。同様に、工作物5の口部を鉛直方向下向きにして工作物をコーティングする図示した態様とは択一的に、工作物5の口部を鉛直方向上向きにして工作物をコーティングする態様も可能である。特に、瓶状の工作物5のコーティングを行なうことが考えられる。この種の瓶も好ましくは同様に熱可塑性プラスチックから成っている。好ましくはPETまたはPPの使用が考えられる。他の有利な実施形態によれば、前記瓶は飲料物を受容するために用いられる。次に、1つのコーティング工程を例にして典型的なコーティング工程を説明する。まず、装入ホイール11を使用して工作物5をプラズマホイール2へ搬送する。スリーブ状のチャンバー壁18を上昇させた状態で、工作物5をプラズマステーション3内へ挿入する。挿入工程の終了後、チャンバー壁18を密封位置へ降下させ、キャビティ4と工作物5の内部空間とを同時に真空にさせる。キャビティ4の内部空間を十分に真空にさせた後、槍状ガス供給部材36を工作物5の内部空間内へ挿入し、保持要素28を変位させることによって工作物5の内部空間をキャビティ4の内部空間に対し隔絶させる。キャビティの内部空間の真空化の開始に同期して槍状ガス供給部材36を工作物5に挿入してもよい。次に、工作物5の内部空間内の圧力をさらに降下させる。また、槍状ガス供給部材36の位置決め運動を少なくとも部分的にすでにチャンバー壁18の位置決めに平行して行うことも考えられる。十分低い負圧に達した後、工作物5の内部空間内にプロセスガスを導入し、マイクロ波発生器19によりプラズマを点火させる。特に、プラズマを用いて仕上げ剤を工作物5の表面に被着させることも、また酸化珪素から成る本来のバリア層を被着させることも考えられる。コーティング工程の終了後、槍状ガス供給部材36を再び工作物5の内部空間から除去し、プラズマチャンバー17と工作物5の内部空間とに空気を導入する。キャビティ4内部が周囲圧に達した後、チャンバー壁18を再び持ち上げて、コーティングした工作物5の取り出しと、新たにコーティングする工作物5の装入とを行なう。チャンバー壁18、密封要素28および/または槍状ガス供給部材36の位置決めは、異なる駆動ユニットを使用して行うことができる。基本的には、空気圧駆動部および/または電気駆動部特に1実施形態ではリニアモータを使用することが考えられる。しかし、特に、運動に関するプラズマホイール2の回転との正確な協働を支援するためにカム制御を実現することも考えられる。カム制御は、たとえば、プラズマホイール2の周に沿って複数の制御カムを配置し、これらの制御カムに沿って複数のカムローラを誘導するように実施されていてよい。カムローラはそれぞれ位置決めされる構成要素と連結されている。図7は、バリア層40を備えている工作物5の拡大横断面の部分図である。典型的には、バリア層40は瓶状容器の壁の上に配置されている。特に、工作物5はPETから成っている。好ましくは、バリア層40は接着層41を介して工作物5と結合されている。さらに、バリア層40の、工作物5本体とは逆の側の領域に、保護層42を設けることが可能である。基本的には、接着層41および/または保護層42は、バリア層40によって画成される装置として形成されていてよい。しかし、特に、層圧43にわたって元素組成を変化させることによって層状作用が達成されるいわゆる勾配層を実現させることも可能である。これによっていわゆる勾配層が提供される。元素組成の変化とは、炭素、珪素、酸素のうちの少なくとも1つの化学元素を変化させることである。しかし、基本的には、他の化学元素をこれらとは択一的にまたはこれらに加えて使用することも可能である。図8は、プラズマを点火させるためにパルス化したマイクロ波供給の時間的経緯を説明するグラフである。工作物5のコーティングを行なっている間、よってバリア層40を形成している間、マイクロ波エネルギーの作用時間43とマイクロ波エネルギーの遮断時間44との比率を変化させる。図示した実施形態は、遮断時間44を一定にして作用時間43の継続時間を変化させるようにすることを示している。この場合、一定の遮断時間44は有利には30ミリ秒である。実現可能な範囲は、10ミリ秒と100ミリ秒との間であり、有利には20ミリ秒と40ミリ秒との間である。プロセス開始時に行われる作用時間は、本実施形態の場合、ほぼ0.3ミリ秒である。プロセス終了時の作用時間はほぼ10ミリ秒である。従って、プロセス時間にわたって作用時間43のほぼ30倍が行われる。特に、コーティングプロセスを行なっている間、作用時間43を連続的に増大させることが考えられる。従って、プロセス時間にわたる作用時間43の量は、階段状のスロープ状推移を生じさせる。マイクロ波の典型的なパルス出力はほぼ1500ワットである。典型的なプロセス圧力は0.2mbarと0.5mbarの間である。プロセスガスとして有利にはHMDSNを使用する。この場合の典型的な流量は、コーティング段階でのダブルリアクタごとに5-10sccmの範囲である。酸化ガスとして酸素を供給することができる。この場合の典型的な流量は300-800sccmである。マイクロ波の平均出力はプロセス開始時では20-100ワットの範囲であり、プロセス終了時では200-600ワットである。図9は、バリア層40を備えた工作物5の他の拡大部分横断面図である。この図には、炭素濃度と層厚43との関係が元素パーセンテージで記入されている。図9は特に基体5上の単層構造を示している。接着層41および/または保護層42の機能的特性は、この単層内部の元素組成を変化するだけで達成される。典型的には、接着機能層41および/または保護機能層42の領域での炭素成分は、元素パーセンテージで10-30の範囲である。有利にはほぼ20の値である。バリア機能特性の範囲での炭素成分はほぼ5元素パーセンテージである。