"主相と粒界相からなる金属組織を有するネオジム磁石と、ネオジムと非希土類金属からなるネオジム合金を減圧雰囲気下で熱処理し、該粒界相内にネオジム合金を気相拡散させるネオジム磁石の製造方法。前記非希土類金属がアルミニウム、銅、マンガン、鉄のいずれか一種からなる請求項1に記載のネオジム磁石の製造方法。異なる非希土類金属からなる2種以上のネオジム合金を気相拡散させる請求項1または2に記載のネオジム磁石の製造方法。前記熱処理時の温度が700°C以下である請求項1~3のいずれかに記載のネオジム磁石の製造方法。主相と粒界相からなる金属組織を有するネオジム磁石において、該粒界相内にネオジムと非希土類金属からなるネオジム合金が拡散されているネオジム磁石。前記非希土類金属がアルミニウム、銅、マンガン、鉄のいずれか一種からなる請求項5に記載のネオジム磁石。異なる非希土類金属からなる2種以上のネオジム合金が粒界相内に拡散している請求項5または6に記載のネオジム磁石。本発明は上記する問題に鑑みてなされたものであり、ジスプロシウム等の希土類金属に代わる金属であって磁石保磁力を高めることのできる金属合金をネオジム磁石の粒界相に粒界拡散させることにより、磁石保磁力を高めながら材料コスト低減を図ることができ、粒界拡散過程における熱エネルギを少なくして製造コスト低減も図ることのできるネオジム磁石の製造方法と、この方法によって製造されたネオジム磁石を提供することを目的とする。前記目的を達成すべく、本発明によるネオジム磁石の製造方法は、主相と粒界相からなる金属組織を有するネオジム磁石と、ネオジムと非希土類金属からなるネオジム合金を減圧雰囲気下で熱処理し、該粒界相内にネオジム合金を気相拡散させるものである。本発明のネオジム磁石の製造方法は、磁石保磁力を高める金属としてジスプロシウムやテルビウム等の希土類金属でなく、希土類金属に比して格段に材料コストの安価な非希土類金属とネオジムの合金を使用し、これを減圧雰囲気下で熱処理するいわゆる気相法によって粒界相内に粒界拡散気相拡散させるものである。すなわち、用意されたネオジム磁石の粒界相内にネオジム合金を粒界拡散させて、保磁力が高められたネオジム磁石を得ることを、本明細書ではネオジム磁石の製造方法としている。ここで、上記非希土類金属としては、アルミニウム、銅、マンガン、鉄のいずれか一種を使用することができる。ジスプロシウムを気化させて粒界拡散させる際に850°C~1000°C程度の温度を要するのに対して、ネオジムとアルミニウムの合金NdAlの昇華温度は640°C程度、ネオジムと銅の合金NdCuの昇華温度は520°C程度、ネオジムとマンガンの合金NdMnの昇華温度は700°C以下、ネオジムと鉄の合金NdFeの昇華温度は600°C程度であり、いずれも700°C以下の温度となっている。上記ネオジム合金はいずれも共晶温度が存在し、金属元素単体のときの融点や昇華温度よりも合金融点や合金昇華温度は格段に低くなる。高真空雰囲気下における熱処理によって共晶合金は共沸現象を起こして蒸発拡散がおこるが、この際の温度が上記する700°C以下の低いものとなる。なお、補足的に記載するに、ネオジム単体の昇華温度は1000°C以上1080°C程度である。上記ネオジム合金を使用してこれをネオジム磁石の粒界相内に粒界拡散させることで、この粒界拡散過程での熱エネルギはジスプロシウム等の希土類金属を粒界拡散させる従来の製造方法に比して格段に少なくなり、このことは処理槽を構成するヒータに低規格のものを適用できることを含め装置コスト低減、製造コストの大幅な低減に繋がる。しかも、上記ネオジム合金はジスプロシウム等に比して材料コストも格段に廉価であることから、製造コスト低減と材料コスト低減が相俟って、ネオジム磁石の製品コストを格段に廉価にでき、このネオジム磁石を具備するIPMモータ等の製品コスト低減に繋がる。さらに、ジスプロシウム等を粒界拡散させる場合よりもネオジム合金を粒界拡散させる際の処理温度が150~200°C程度、もしくはそれ以上も低くなっていることから、粒界拡散過程での主相の粒成長を抑制することができ、このことは磁石保磁力低下の抑制に繋がる。なお、このように主相の粒成長を抑制できることから、本発明のネオジム磁石の製造方法をナノ結晶磁石の製造に適用することができる。すなわち、数十ナノnm程度の結晶サイズを保持しながら、これをネオジム磁石の粒界相内に粒界拡散させることが可能となる。ここで、上記する製造方法では、異なる非希土類金属からなる2種以上のネオジム合金を気相拡散させてもよい。たとえば、NdAlとNdCuを同時にネオジム磁石の粒界相内に粒界拡散させる実施の形態が挙げられる。たとえばNdAlのみを粒界相内に粒界拡散させた場合は、この粒界相内に存在していたNdと粒界拡散されたNdAlから、Nd,Alの各組成比が異なる新たなNdAlが生成され、あらたな組成比を有するネオジム合金とネオジムの単体が粒界相内でリッチな状態となって存在することになる。一方、NdAlとNdCuの2種の合金が粒界相内に粒界拡散された場合は、ネオジムのほか、NdとAlとCuがある組成比で合金化されたあらたなネオジム合金が粒界相内でリッチな状態となって存在することになる。また、本発明はネオジム磁石にもおよぶものであり、このネオジム磁石は、主相と粒界相からなる金属組織を有するネオジム磁石において、該粒界相内にネオジムと非希土類金属からなるネオジム合金が拡散されているものである。既述するように、上記非希土類金属としては、アルミニウム、銅、マンガン、鉄のいずれか一種が適用できる。このネオジム磁石は、ジスプロシウムやテルビウムを使用することなく、ネオジムと上記する非希土類金属の合金が粒界相内に拡散されていることで、ジスプロシウムが拡散された場合の保磁力性能と同等の保磁力性能を具備しながら、その材料コストと製造コストが格段に安価な磁石である。これは、ジスプロシウムが粒界拡散されてなる従来のネオジム磁石に比して粒界拡散の際の熱処理温度が格段に低いために主相の粒成長が抑制され、この粒成長抑制に起因して保磁力の低減が抑制され、これが本発明のネオジム磁石の保磁力性能に寄与していると言える。また、上記するネオジム磁石の製造方法と同様、このネオジム磁石においても、異なる非希土類金属からなる2種以上のネオジム合金が粒界相内に拡散している実施の形態であってもよい。以上の説明から理解できるように、本発明のネオジム磁石とその製造方法によれば、ジスプロシウムやテルビウムに比して格段に材料コストの安価な非希土類金属とネオジムの合金を使用し、これを減圧雰囲気下で熱処理してネオジム磁石の粒界相内に粒界拡散させることで、材料コストを低減でき、粒界拡散の際の熱エネルギを少なして製造コストを低減でき、粒界拡散の際の熱処理温度を格段に低くして主相の粒成長を抑制することができ、これらのことから、保磁力性能に優れたネオジム磁石を安価な材料コストおよび製造コストの下で製造することが可能となるものである。以下、図面を参照して本発明のネオジム磁石とその製造方法の一実施の形態を説明する。なお、図示するネオジム磁石の製造方法は、焼結体であるネオジム磁石に対してネオジム合金を粒界拡散させてその保磁力が高められたネオジム磁石を製造する方法のことである。図1は本発明のネオジム磁石の製造方法を説明した模式図であり、図2はネオジム磁石の粒界相内にネオジム合金が粒界拡散している状況を説明した模式図である。まず、Nd-Fe-B系焼結永久磁石であるネオジム磁石Mを用意する。このネオジム磁石Mは、主相Sの周りを粒界相Rが包囲するミクロ構造を呈しており、粒界相Rの主たる金属はネオジムであり、主相Sはネオジム、鉄、ボロンが主たる成分となっている。このネオジム磁石Mを処理槽C内に収容された容器Yの網Nの上に載置する。なお、この容器Yや網Nはモリブデンから形成できる。この処理槽Cは、その内部を700°C程度の高温雰囲気に熱処理するためのヒータHを備え、かつ、その一部に不図示のバキュームポンプに連通する真空引き管路Caが設けてある。容器Y内の網Nの下方には拡散源であるネオジム合金G’が載置されている。ここで、このネオジム合金G’は、ネオジムとアルミニウムの合金NdAl昇華温度は640°C程度、ネオジムと銅の合金NdCu昇華温度は520°C程度、ネオジムとマンガンの合金NdMn昇華温度は700°C以下、ネオジムと鉄の合金NdFe昇華温度は600°C程度のいずれか一種、もしくは複数種である。以下、ネオジムとアルミニウムの合金NdAlの一種を拡散源として容器Y内に収容する場合を取り上げて説明する。容器Y内にネオジム合金G’とネオジム磁石Mを収容したら、不図示のバキュームポンプを作動させて真空引き管路Caを介して処理槽C内を真空引きしX方向、処理槽C内を減圧雰囲気たとえば1.3×10-4Pa以下で好ましくは真空雰囲気とする。さらに、ヒータHを作動させ、処理槽C内をNdAlの昇華温度である640°C以上の高温雰囲気としてこの熱処理を10時間程度の所定時間継続する。この減圧雰囲気下における熱処理により、NdAlからなるネオジム合金G’が昇華気化し、昇華前のネオジム合金G’がその合金組成を維持しながら昇華後のネオジム合金Gとなってネオジム磁石Mの表面からその内部の粒界相R内へ粒界拡散する気相拡散。図2で示すように、ネオジム磁石Mを構成する主相S,...の周りを満たすネオジムリッチな粒界相R内に昇華後のネオジム合金Gが粒界拡散すると、この粒界相R内に存在していたNdと粒界拡散されたNdAlより、あらたなNd,Alの各組成比を有するNdAlが生成され、このあらたに生成されたネオジム合金とネオジムが粒界相R内でリッチな状態となって存在することになる。なお、図1で示す処理槽Cは、従来のジスプロシウムをネオジム磁石の粒界相内に粒界拡散気相拡散させる際に用いられたものと同様の装置である。しかしながら、ジスプロシウムを粒界拡散させる場合は、処理槽内を少なくとも850°C以上の高温雰囲気とする性能規格のヒータを要していたが、図示する処理槽Cの具備するヒータHはせいぜい700°C程度までの性能で十分であり、従来製法で使用された装置に比して装置コストを低減できるとともに、処理の際に要する熱エネルギも格段に少なくすることができる。また、粒界拡散に使用されるのがジスプロシウムやテルビウムではなく、ネオジムとアルミニウムの合金であることから材料コストも格段に廉価となる。さらに、上記する処理の際の温度低下に起因して、ネオジム磁石Mを構成する主相Sの粒成長を抑制することができ、このことはネオジム磁石Mの保磁力低下の抑制に繋がる。ネオジム磁石実施例、比較例の磁石性能を測定した実験とその結果本発明者等は、本発明の製造方法で製造されたネオジム磁石実施例と、従来の製造方法で製造されたネオジム磁石比較例1~比較例3を試作し、それぞれのネオジム磁石の残留磁化と保磁力をVSM振動試料型磁力計にて測定する実験をおこなった。ここで、実施例の拡散源としては85Nd15Alのネオジム合金を使用し、比較例1の拡散源はNdの単体金属、比較例2の拡散源はAlの単体金属、比較例3は拡散源がないものである。これらのネオジム磁石をモリブデン製の容器内の網上に載置し、処理槽内を2.3×10-5Paの真空雰囲気とし、700°Cで12時間保持し、最後に480°Cで1時間アニール処理して実施例および比較例1~3の各ネオジム磁石を製作した。実験結果を減磁曲線として図3に示すとともに、以下の表1に実施例および各比較例の測定結果を示している。表1および図3より、実施例の残留磁束密度は、比較例1や比較例3と同程度の結果となっており、したがって、粒界相内にネオジム合金を粒界拡散させた際に残留磁束密度の低下はないことが実証されている。残留磁束密度が低下しないことを確認した上で、実施例および各比較例の保磁力を比較するに、比較例の中でも保磁力の高い比較例3に比して実施例の保磁力は5程度も向上することが実証されている。なお、比較例1では、拡散源がネオジム単体であることから、粒界拡散させるための実際の処理温度は700°Cでは不十分であり、1000°C程度の処理温度を要した。また、比較例2では、拡散源がアルミニウム単体であることから、昇華したアルミニウムが容器の壁面を伝わってネオジム磁石に直接反応してしまい、したがって気相拡散でなく、液相拡散となっていた。この液相拡散の場合は気相拡散に比して反応が進みすぎてしまい、その結果として主相が壊れて残留磁束密度が低下したものと考えられる。以上、本発明の実施の形態を図面を用いて詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲における設計変更等があっても、それらは本発明に含まれるものである。"