"透明な基板と、前記基板上に、パターン状に形成された金属材料からなる第1導電層と、前記基板上に形成されて前記第1導電層と電気的に接続された、導電性ポリマー及び水系溶剤に分散可能なポリマーを含有する透明な第2導電層と、を備え、前記第1導電層は、金属粒子を用いて形成されており、前記第2導電層に含有される水系溶剤に分散可能なポリマーは、解離性基含有自己分散型ポリマーであり、かつ、解離性基含有自己分散型ポリマーの解離性基の50以上がアンモニウム塩又は炭素数6以下のアミン塩として中和されていることを特徴とする透明電極。前記解離性基含有自己分散型ポリマーのガラス転移温度が、40°C以上80°C以下であることを特徴とする請求項1に記載の透明電極。請求項1又は請求項2に記載の透明電極を備えることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。しかし、特許文献2記載の技術では、導電性繊維を用いた場合、強制劣化試験後に抵抗が大きくなる。また、水系溶剤にバインダー樹脂を均一分散させるために用いる界面活性剤乳化剤等の添加剤がブリードアウトしたり、添加剤の親水性の影響により水分が残留する。また、解離性基を持つ水系溶剤分散性ポリマーを用いた場合、樹脂を水系溶媒中で分散安定化させるために、解離性基を解離度の高いナトリウム塩等の金属塩に中和して用いると、金属塩が乾燥後の塗膜中にも残存するため、その吸湿性の影響により水分が残留する等により、透明電極及び透明電極を用いた素子性能に悪影響を及ぼすことが判明した。本発明は、前記した事情に鑑みてなされたものであり、透明性、導電性及び膜強度に優れると共に、高温、高湿度環境下においても透明性、導電性及び膜強度の劣化が少ない透明電極、並びに、当該透明電極を用いた、発光均一性に優れ、高温、高湿度環境下においても発光均一性の劣化が少なく、発光寿命に優れる有機EL素子を提供することを課題とする。本発明の前記課題解決には、金属粒子を用いてパターン状に形成させた第1導電層と第2導電層に導電性ポリマーと併用するバインダー樹脂として界面活性剤乳化剤等の添加剤を含有しない解離性基を有する自己分散型ポリマーを用いること、かつ、解離性基の解離度は高く分散安定性を保ちつつ塗膜乾燥後には、膜中に残留しない揮発性の塩構造を有する解離性基を有するポリマーを用いることが重要であり、より詳しくは、以下の構成により達成される。1.透明な基板と、前記基板上に、パターン状に形成された金属材料からなる第1導電層と、前記基板上に前記第1導電層と電気的に接続されて形成された、導電性ポリマー及び水系溶剤に分散可能なポリマーを含有する透明な第2導電層と、を備え、前記第1導電層は、金属粒子を用いて形成されており、前記第2導電層に含有される水系溶剤に分散可能なポリマーは、解離性基含有自己分散型ポリマーであり、かつ、解離性基含有自己分散型ポリマーの解離性基の50以上がアンモニウム塩又は炭素数6以下のアミン塩として中和されていることを特徴とする透明電極。2.前記解離性基含有自己分散型ポリマーのガラス転移温度が、40°C以上80°C以下であることを特徴とする前記1記載の透明電極。3.前記1又は2に記載の透明電極を備えることを特徴とする有機EL素子。本発明により、透明性、導電性及び膜強度に優れると共に、高温、高湿度環境下においても透明性、導電性及び膜強度の劣化が少ない透明電極、並びに、当該透明電極を用いた、発光均一性に優れ、高温、高湿度環境下においても発光均一性の劣化が少なく、発光寿命に優れる有機EL素子を提供することができる。以下、本発明を実施するための形態について説明する。本発明は、第1導電層として金属粒子を用いてパターン状に形成された金属材料を用いるとともに、第2導電層において導電性ポリマーと併用するバインダー樹脂として、水系溶剤に分散可能な解離性基含有自己分散型ポリマーであって、かつ当該解離性基含有自己分散型ポリマーの解離性基の50以上がアンモニウム塩又は炭素数6以下のアミン塩として中和されているポリマーを用いることによって、界面活性剤乳化剤等の添加剤の悪影響を排除し、さらにはバインダー樹脂の分散安定性の保持と乾燥後の水分残留を極力抑えつつ、透明電極の透明性と導電性を両立し、かつ膜強度に優れ、さらに高温、高湿度環境下における環境試験後でも高い導電性、高い透明性及び良好な膜強度を併せ持ち、安定性の優れた透明電極及び当該透明電極を用いた高寿命の有機EL素子が得られることを見出したものである。以下、本発明の実施形態について説明する。図1は、本発明の実施形態に係る透明電極の一例を示す概略図であり、aは上面図、bはaのX矢視断面図である。図1に示すように、本発明の実施形態に係る透明電極1は、基板11と、第1導電層12と、第2導電層13と、を備える。第1導電層12は、パターン状に形成された金属材料からなり、第2導電層13は、導電性ポリマー及び水系溶剤に分散可能な解離性基含有自己分散型ポリマーを含有する。本発明の特徴は、第1導電層12が、金属粒子から形成されていること、及び、第2導電層13が、水系溶剤に分散可能な解離性基含有自己分散型ポリマーを含有し、かつ、前記解離性基含有自己分散型ポリマーとして、解離性基の50以上がアンモニウム塩又は炭素数6以下のアミン塩として中和されているポリマーを用いることである。<解離性基含有自己分散型ポリマー>本発明は、導電性ポリマー及びバインダー樹脂を有する透明導電層を第2導電層13として有する透明電極1であって、バインダー樹脂が、解離性基含有自己分散型ポリマーであり、かつ当該解離性基含有自己分散型ポリマーの解離性基の50以上がアンモニウム塩又は炭素数6以下のアミン塩として中和されているポリマーであることを特徴とする。本発明において、水系溶媒に分散可能な解離性基含有自己分散型ポリマーとは、ミセル形成を補助する界面活性剤、乳化剤等を含まず、ポリマー単体で水系溶媒に分散可能なものである。また、本発明において、水系溶媒に分散可能とは、水系溶剤中に凝集せずにバインダー樹脂からなるコロイド粒子が分散している状況であることをいう。コロイド粒子の大きさは、一般的に0.001~1μm1~1000nm程度である。コロイド粒子の大きさは、好ましくは3~500nmであり、より好ましくは5~300nmであり、さらに好ましくは10~100nmである。コロイド粒子が大きい場合500nmよりも大きい場合には、コロイド粒子を用いて造膜する際に平滑性が悪くなる。また、コロイド粒子が極端に小さい場合3nmよりも小さい場合には、コロイド粒子の製造に制限があり、また高コストになる。かかるコロイド粒子の大きさについては、光散乱光度計により測定することができる。また、本発明において、水系溶剤とは、純水蒸留水、脱イオン水を含むのみならず、酸、アルカリ、塩等を含む水溶液、含水の有機溶媒、又は、親水性の有機溶媒である。水系溶剤としては、純水蒸留水、脱イオン水を含む、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、水とアルコールの混合溶媒等が挙げられる。本発明に係る解離性基含有自己分散型ポリマーは、透明であることが好ましい。解離性基含有自己分散型ポリマーとしては、フィルムを形成するポリマー媒体であるとともに、ポリマー分散液中に界面活性剤乳化剤等は含まず、ポリマー単体で水系溶媒に分散可能なものであれば、特に限定されない。透明電極1の製造に用いられる解離性基含有自己分散型ポリマーの分散液のpHは、別途相溶させる導電性ポリマー溶液と分離しないという観点から、好ましくは0.1~11.0であり、より好ましくは3.0~9.0であり、さらに好ましくは4.0~7.0である。本発明に係る解離性基含有自己分散型ポリマーのガラス転移温度Tgは、特に限定はないが、好ましくは40°C以上80°C以下であり、より好ましくは50°C以上80°C以下である。Tgが40°C未満の場合には、フィルムの巻き取り工程時にブロッキングフィルム同士の密着トラブルを起こしたり、耐熱性が不十分で、透明電極、有機EL素子の環境試験後の性能を悪化させることがある。また、Tgが80°Cを超える場合には、乾燥条件によってはポリマー粒子同士の融着が不十分で、透明電極の表面平滑性が低くなり、透明電極1及び当該透明電極を備える有機EL素子の環境試験後の性能を悪化させることがある。なお、室温での製造工程を考慮した際に、Tgを50°C以上とすることによって、フィルムのブロッキングを抑制することができる。ガラス転移温度Tgは、示差走査熱量測定器PerkinElmer社製DSC-7型を用いて、昇温速度10°C/分で測定し、JISK71211987に従い求めることができる。解離性基含有自己分散型ポリマーに使用される解離性基は、解離性基の50以上がアンモニウム塩又は炭素数6以下のアミン塩として中和されているポリマーである。かかる解離性基としては、アニオン性基例えばスルホン酸基、カルボン酸基、リン酸基等が挙げられる。解離性基の量は、自己分散型ポリマーが水系溶剤に分散可能であれば良く、特に限定されない。解離性基含有自己分散型ポリマーの主骨格としては、ポリエチレン、ポリエチレン-ポリビニルアルコールPVA、ポリエチレン-ポリ酢酸ビニル、ポリエチレン-ポリウレタン、ポリブタジエン、ポリブタジエン-ポリスチレン、ポリアミドナイロン、ポリ塩化ビニリデン、ポリエステル、ポリアクリレート、ポリアクリレート-ポリエステル、ポリアクリレート-ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ポリウレタン-ポリカーボネート、ポリウレタン-ポリエーテル、ポリウレタン-ポリエステル、ポリウレタン-ポリアクリレート、シリコーン、シリコーン-ポリウレタン、シリコーン-ポリアクリレート、ポリフッ化ビニリデン-ポリアクリレート、ポリフルオロオレフィン-ポリビニルエーテル等が挙げられる。また、これらの骨格をベースに、さらに他のモノマーを使用した共重合が主骨格であってもよい。これらの中では、エステル骨格を有するポリエステル樹脂エマルジョン、ポリエステル-アクリル樹脂エマルジョン、エチレン骨格を有するポリエチレン樹脂エマルジョンが好ましい。市販品としては、ポリゾールFP3000ポリエステル樹脂、アニオン、コア:アクリル、シェル:ポリエステル、昭和電工社製、バイロナールMD1245ポリエステル樹脂、アニオン、東洋紡績社製、バイロナールMD1335ポリエステル樹脂、アニオン、東洋紡績社製、バイロナールMD1480ポリエステル樹脂、アニオン、東洋紡績社製、バイロナールMD1500ポリエステル樹脂、アニオン、東洋紡績社製、バイロナールMD2000ポリエステル樹脂、アニオン、東洋紡績社製、バイロナールMD1930ポリエステル樹脂、アニオン、東洋紡績社製、プラスコートRZ105ポリエステル樹脂、アニオン、互応化学工業社製、プラスコートRZ570ポリエステル樹脂、アニオン、互応化学工業社製、プラスコートZ561ポリエステル樹脂、アニオン、互応化学工業社製、プラスコートZ687ポリエステル樹脂、アニオン、互応化学工業社製、ペスレジンA640ポリエステル樹脂、アニオン、高松油脂社製、ペスレジンA645GHアクリル変性ポリエステル樹脂、アニオン、高松油脂社製、ペスレジンA647GEXアクリル変性ポリエステル樹脂、アニオン、高松油脂社製、ハイテックS-3121ポリエチレン樹脂、アニオン、東邦化学工業社製、ハイテックS-9242ポリエチレン樹脂、アニオン、東邦化学工業社製を用いることができる。これら市販品の自己分散型ポリマーは、アンモニア又は炭素数6以下のアミンで中和されることで使用可能となる。また、自己分散型ポリマー分散液は、前記した自己分散型ポリマーを1種含有するものであってもよく、複数種含有するものであってもよい。本発明において、自己分散型ポリマーの解離性基の中和に使用する塩基性物質は、アンモニア又は炭素数6以下のアミン化合物であり、乾燥後の塗膜への残存を無くすため、揮発性の高い化合物であることが好ましい。炭素数6以下のアミン化合物としては、具体的には、アンモニア、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、NN-ジメチルエチルアミン、NN-ジエチルメチルアミン、トリエチルアミン、n-プロピルアミン、ジ-n-プロピルアミン、N-メチル-n-プロピルアミン、NN-ジメチル-n-プロピルアミン、イソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、n-ブチルアミン、2-メチルブチルアミン、2-エチルブチルアミンN-メチル-n-ブチルアミン、n-ペンチルアミン、N-メチル-n-ペンチルアミン、n-ヘキシルアミンが挙げられる。好ましいアミン化合物としては、中和工程及び塗膜乾燥前の工程で揮発せず、塗膜乾燥時に水と同時に揮発するという観点から、沸点が50°C以上、120°C以下のアミン化合物が好ましい。特に好ましいアミン化合物は、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルアミンである。また、これらのアミン化合物を2種以上併用しても良い。前記塩基性物質の使用量としては、自己分散型ポリマー中に含まれる解離性基の50以上を中和することができれば、特に制限はないが、解離性基の量に対して、0.5~2.0倍当量が好ましく、0.5~1.2倍当量がより好ましい。ここで、50以上を中和する理由は、塩基性物質が過剰となった場合には、フリーの塩基性物質が残存し、導電性ポリマーの分散性に悪影響を及ぼす可能性があるためである。中和方法としては、特に限定されないが、例えば、解離性基含有自己分散型ポリマーを有機溶剤に溶解した後に、樹脂の酸価に対して、0.5~2.0倍当量のアンモニア又は炭素数6以下のアミンを添加することで中和し、水を加えることによって転相させ、その後、有機溶剤を除去することによって製造する手法を用いることができる。有機溶剤の除去方法としては、加熱により系外に除去してもよいし、真空中で系外へ除去してもよい。また、解離性基含有自己分散型ポリマーの製造に用いる原料として、予めアンモニア又は炭素数6以下のアミンで原料の解離性基を中和したモノマー原料を用いてもよい。解離性基がアンモニア又は炭素数6以下のアミンで中和されている割合としては、50以上であれば、特に制限はないが、好ましくは60以上90以下である。これは酸性の導電性ポリマーを混ぜるとゲル化する場合があり、これを防ぐために、少量の中和されていない解離性基が残っていることが好ましいためである。解離性基含有自己分散型ポリマーの使用量は、好ましくは導電性高分子に対して50~1000質量であり、より好ましくは導電性高分子に対して100~900質量であり、さらに好ましくは導電性高分子に対して200~800質量である。ここで、解離性基含有自己分散型ポリマーの使用量が導電性高分子に対して100~900質量であることがより好ましい理由は、100質量未満の場合には、透過率の向上効果が不十分となり導電性ポリマーは可視光領域の光を吸収するため、透過率を向上させるためには導電性を低下させない範囲で導電性ポリマーをできるだけ減らしたい、900質量を超える場合には、導電性ポリマーの比率が小さくなりすぎて導電性が低下するためである。<導電性ポリマー>本発明において、導電性とは、電気が流れる状態を指し、JISK7194の導電電性プラスチックの4探針法による抵抗率試験方法に準拠した方法で測定したシート抵抗が1×108Ω/□より低いことをいう。本発明において、導電性ポリマーとは、π共役系導電性高分子とポリ陰イオンとを有してなる導電性ポリマーである。こうした導電性ポリマーは、後記するπ共役系導電性高分子を形成する前駆体モノマーを、適切な酸化剤と酸化触媒と後記するポリ陰イオンとの存在下で化学酸化重合することによって、容易に製造することができる。π共役系導電性高分子本発明において、π共役系導電性高分子としては、特に限定されず、ポリチオフェン基本のポリチオフェンを含む、以下同様類、ポリピロール類、ポリインドール類、ポリカルバゾール類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類、ポリフラン類、ポリパラフェニレンビニレン類、ポリアズレン類、ポリパラフェニレン類、ポリパラフェニレンサルファイド類、ポリイソチアナフテン類、又は、ポリチアジル類の鎖状導電性ポリマーを利用することができる。中でも、導電性、透明性、安定性等の観点からポリチオフェン類又はポリアニリン類が好ましく、ポリエチレンジオキシチオフェンが最も好ましい。π共役系導電性高分子前駆体モノマー本発明において、π共役系導電性高分子の形成に用いられる前駆体モノマーとは、分子内にπ共役系を有し、適切な酸化剤の作用によって高分子化した際にもその主鎖にπ共役系が形成されるものである。かかる前駆体モノマーとしては、例えば、ピロール類及びその誘導体、チオフェン類及びその誘導体、アニリン類及びその誘導体等が挙げられる。前駆体モノマーの具体例としては、ピロール、3-メチルピロール、3-エチルピロール、3-n-プロピルピロール、3-ブチルピロール、3-オクチルピロール、3-デシルピロール、3-ドデシルピロール、3,4-ジメチルピロール、3,4-ジブチルピロール、3-カルボキシルピロール、3-メチル-4-カルボキシルピロール、3-メチル-4-カルボキシエチルピロール、3-メチル-4-カルボキシブチルピロール、3-ヒドロキシピロール、3-メトキシピロール、3-エトキシピロール、3-ブトキシピロール、3-ヘキシルオキシピロール、3-メチル-4-ヘキシルオキシピロール、チオフェン、3-メチルチオフェン、3-エチルチオフェン、3-プロピルチオフェン、3-ブチルチオフェン、3-ヘキシルチオフェン、3-ヘプチルチオフェン、3-オクチルチオフェン、3-デシルチオフェン、3-ドデシルチオフェン、3-オクタデシルチオフェン、3-ブロモチオフェン、3-クロロチオフェン、3-ヨードチオフェン、3-シアノチオフェン、3-フェニルチオフェン、3,4-ジメチルチオフェン、3,4-ジブチルチオフェン、3-ヒドロキシチオフェン、3-メトキシチオフェン、3-エトキシチオフェン、3-ブトキシチオフェン、3-ヘキシルオキシチオフェン、3-ヘプチルオキシチオフェン、3-オクチルオキシチオフェン、3-デシルオキシチオフェン、3-ドデシルオキシチオフェン、3-オクタデシルオキシチオフェン、3,4-ジヒドロキシチオフェン、3,4-ジメトキシチオフェン、3,4-ジエトキシチオフェン、3,4-ジプロポキシチオフェン、3,4-ジブトキシチオフェン、3,4-ジヘキシルオキシチオフェン、3,4-ジヘプチルオキシチオフェン、3,4-ジオクチルオキシチオフェン、3,4-ジデシルオキシチオフェン、3,4-ジドデシルオキシチオフェン、3,4-エチレンジオキシチオフェン、3,4-プロピレンジオキシチオフェン、3,4-ブテンジオキシチオフェン、3-メチル-4-メトキシチオフェン、3-メチル-4-エトキシチオフェン、3-カルボキシチオフェン、3-メチル-4-カルボキシチオフェン、3-メチル-4-カルボキシエチルチオフェン、3-メチル-4-カルボキシブチルチオフェン、アニリン、2-メチルアニリン、3-イソブチルアニリン、2-アニリンスルホン酸、3-アニリンスルホン酸等が挙げられる。ポリ陰イオン本発明において、導電性ポリマーに用いられるポリ陰イオンは、置換又は未置換のポリアルキレン、置換又は未置換のポリアルケニレン、置換又は未置換のポリイミド、置換又は未置換のポリアミド、置換又は未置換のポリエステル、及び、これらの共重合体であって、アニオン基を有する構成単位とアニオン基を有さない構成単位とからなるものである。このポリ陰イオンは、π共役系導電性高分子を溶媒に可溶化させる可溶化高分子である。また、ポリ陰イオンのアニオン基は、π共役系導電性高分子に対するドーパントとして機能して、π共役系導電性高分子の導電性及び耐熱性を向上させる。ポリ陰イオンのアニオン基としては、π共役系導電性高分子への化学酸化ドープが起こりうる官能基であればよい。かかるアニオン基は、製造の容易さ及び安定性の観点から、一置換硫酸エステル基、一置換リン酸エステル基、リン酸基、カルボキシ基、スルホ基等が好ましい。さらに、かかるアニオン基は、官能基のπ共役系導電性高分子へのドープ効果の観点から、スルホ基、一置換硫酸エステル基、又は、カルボキシ基がより好ましい。ポリ陰イオンの具体例としては、ポリビニルスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリアリルスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸、ポリ-2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリビニルカルボン酸、ポリスチレンカルボン酸、ポリアリルカルボン酸、ポリアクリルカルボン酸、ポリメタクリルカルボン酸、ポリ-2-アクリルアミド-2-メチルプロパンカルボン酸、ポリイソプレンカルボン酸、ポリアクリル酸等が挙げられる。また、ポリ陰イオンは、これらの単独重合体であってもよいし、2種以上の共重合体であってもよい。また、ポリ陰イオンは、化合物内に更にFフッ素原子を有するものであってもよい。かかるポリ陰イオンとして、具体的には、パーフルオロスルホン酸基を含有するナフィオンDupont社製、カルボン酸基を含有するパーフルオロ型ビニルエーテルからなるフレミオン旭硝子社製等を挙げることができる。これらのうち、ポリ陰イオンとしてスルホン酸を有する化合物を用いた場合には、塗布及び乾燥によって導電性ポリマー含有層を形成した後に、さらに100~120°Cで5分以上の加熱乾燥処理を施してからマイクロ並みを照射してもよい。かかる加熱乾燥処理は、架橋反応が促進し、塗布膜の洗浄耐性や溶媒耐性が著しく向上するという観点から好ましい。さらに、スルホン酸を有する化合物の中でも、ポリスチレンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、又は、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸が好ましい。これらのポリ陰イオンは、ヒドロキシ基含有非導電性ポリマーとの相溶性が高く、また、得られる導電性ポリマーの導電性をより高くすることができる。ポリ陰イオンの重合度は、導電性ポリマーの分散性の観点からは、モノマー単位が10~100000個の範囲であることが好ましく、溶媒溶解性及び導電性の観点からは、モノマー単位が50~10000個の範囲であることがより好ましい。ポリ陰イオンの製造方法としては、例えば、酸を用いてアニオン基を有しないポリマーにアニオン基を直接導入する方法、アニオン基を有しないポリマーをスルホ化剤によりスルホン酸化する方法、アニオン基含有重合性モノマーの重合により製造する方法等が挙げられる。アニオン基含有重合性モノマーを重合により製造する方法は、溶媒中、アニオン基含有重合性モノマーを、酸化剤及び/又は重合触媒の存在下で、酸化重合又はラジカル重合によって製造する方法が挙げられる。具体的には、所定量のアニオン基含有重合性モノマーを溶媒に溶解させ、これを一定温度に保ち、それに予め溶媒に所定量の酸化剤及び/又は重合触媒を溶解した溶液を添加し、所定時間で反応させる。その反応により得られたポリマーは溶媒によって一定の濃度に調整される。なお、この製造方法において、アニオン基含有重合性モノマーにアニオン基を有さない重合性モノマーを共重合させてもよい。アニオン基含有重合性モノマーの重合に際して使用する酸化剤及び酸化触媒、溶媒は、π共役系導電性高分子を形成する前駆体モノマーを重合する際に使用するものと同様である。得られたポリマーがポリ陰イオン塩である場合には、ポリ陰イオン酸に変質させることが好ましい。ポリ陰イオン酸に変質させる方法としては、イオン交換樹脂を用いたイオン交換法、透析法、限外ろ過法等が挙げられ、これらの中でも、作業が容易な点から限外ろ過法が好ましい。導電性ポリマーに含まれるπ共役系導電性高分子とポリ陰イオンの比率、π共役系導電性高分子:ポリ陰イオンは、導電性及び分散性の観点から、好ましくは質量比で1:1~20の範囲であり、より好ましくは質量比で1:2~10の範囲である。π共役系導電性高分子を形成する前駆体モノマーをポリ陰イオンの存在下で化学酸化重合して、本発明に係る導電性ポリマーを得る際に使用される酸化剤は、例えばJ.Am.Soc.,85、4541963に記載されるピロールの酸化重合に適する、いずれかの酸化剤である。かかる酸化剤としては、実際的な理由のために、安価かつ取り扱い易い酸化剤、例えば鉄III塩例えばFeCl3、FeClO43、有機酸を含む無機酸の鉄III塩、有機残基を含む無機酸の鉄III塩、過酸化水素、重クロム酸カリウム、過硫酸アルカリ例えば過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、アンモニウム、過ホウ酸アルカリ、過マンガン酸カリウム、又は、銅塩例えば四フッ化ホウ酸銅を用いることが好ましい。加えて、酸化剤として、随時触媒量の金属イオン例えば鉄イオン、コバルトイオン、ニッケルイオン、モリブデンイオン、バナジウムイオンの存在下における空気又は酸素も使用することができる。これらの中でも、過硫酸塩、有機酸を含む鉄III塩又は有機残基を含む無機酸の鉄III塩の使用が腐食性でないために大きな応用上の利点を有する。有機残基を含む無機酸の鉄III塩の例としては、炭素数1~20のアルカノールの硫酸半エステルの鉄III塩例えばラウリル硫酸、炭素数1~20のアルキルスルホン酸例えばメタン、ドデカンスルホン酸、脂肪族炭素数1~20のカルボン酸例えば2-エチルヘキシルカルボン酸、脂肪族パーフルオロカルボン酸例えばトリフルオロ酢酸、パーフルオロオクタノン酸、脂肪族ジカルボン酸例えばシュウ酸、殊に芳香族の、随時炭素数1~20のアルキル置換されたスルホン酸例えばベンゼセンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸のFeIII塩が挙げられる。こうした導電性ポリマーとしては、市販の材料も好ましく利用することができる。例えば、ポリ3,4-エチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルホン酸とからなる導電性ポリマーPEDOT-PSSと略すが、H.C.Starck社からCleviosシリーズとして、Aldrich社からPEDOT-PSSの483095、560596として、NagaseChemtex社からDenatronシリーズとして市販されている。また、ポリアニリンが、日産化学社からORMECONシリーズとして市販されている。本発明において、こうした剤も好ましく用いることができる。導電性ポリマーは、第2ドーパントとして有機化合物を含有してもよい。本発明で用いることができる有機化合物には特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、酸素含有化合物が好適に挙げられる。前記酸素含有化合物としては、酸素を含有する限り特に制限はなく、例えば、ヒドロキシ基含有化合物、カルボニル基含有化合物、エーテル基含有化合物、スルホキシド基含有化合物等が挙げられる。前記ヒドロキシ基含有化合物としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、1,4-ブタンジオール、グリセリン等が挙げられ、これらの中でも、エチレングリコール、ジエチレングリコールが好ましい。前記カルボニル基含有化合物としては、例えば、イソホロン、プロピレンカーボネート、シクロヘキサノン、γ-ブチロラクトン等が挙げられる。前記エーテル基含有化合物としては、例えば、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、等が挙げられる。前記スルホキシド基含有化合物としては、例えば、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。これらは、1種単独で使用されてもよいし、2種以上が併用されてもよいが、ジメチルスルホキシド、エチレングリコール、ジエチレングリコールから選ばれる少なくとも1種が用いられることが好ましい。<基板>基板11は、導電層である第1導電層12及び第2導電層13を担持しうる透明な板状体であり、基材とも呼ばれる。透明電極1を得るためには、JISK7361-1:1997プラスチック-透明材料の全光線透過率の試験方法に準拠した方法で測定した可視光波長領域における全光線透過率が80以上のものが基板11として好ましく用いられる。基板11としては、フレキシブル性に優れており、誘電損失係数が十分小さくて、マイクロ波の吸収が第1導電層12及び第2導電層13よりも小さい材質であるものが好ましく用いられる。基板11としては、例えば、樹脂基板、樹脂フィルム等が好適に挙げられるが、生産性の観点並びに軽量性及び柔軟性といった性能の観点から、透明樹脂フィルムを用いることが好ましい。透明樹脂フィルムとは、JISK7361-1:1997プラスチック-透明材料の全光線透過率の試験方法に準拠した方法で測定した可視光波長領域における全光線透過率が50以上のものをいう。好ましく用いることができる透明樹脂フィルムには特に制限はなく、その材料、形状、構造、厚み等については公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリエチレンナフタレート、変性ポリエステル等のポリエステル系樹脂フィルム、ポリエチレンPE樹脂フィルム、ポリプロピレンPP樹脂フィルム、ポリスチレン樹脂フィルム、環状オレフィン系樹脂等のポリオレフィン類樹脂フィルム、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂フィルム、ポリエーテルエーテルケトンPEEK樹脂フィルム、ポリサルホンPSF樹脂フィルム、ポリエーテルサルホンPES樹脂フィルム、ポリカーボネートPC樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム、アクリル樹脂フィルム、トリアセチルセルロースTAC樹脂フィルム等を挙げることができる。前記した全光線透過率が80以上である樹脂フィルムであれば、本発明に係る基板11としてより好ましく用いられる。かかる基板11としては、中でも透明性、耐熱性、取り扱いやすさ、強度及びコストの点から、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、二軸延伸ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリカーボネートフィルムが好ましく、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、二軸延伸ポリエチレンナフタレートフィルムがより好ましい。本発明に係る基板11には、塗布液の濡れ性及び接着性を確保するために、表面処理を施すことや易接着層を設けることができる。表面処理及び易接着層については、従来公知の技術を使用することができる。例えば、表面処理としては、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理等の表面活性化処理を挙げることができる。また、易接着層としては、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、ビニル系共重合体、ブタジエン系共重合体、アクリル系共重合体、ビニリデン系共重合体、エポキシ系共重合体等を挙げることができる。易接着層は単層でもよいが、接着性を向上させるために2層以上の構成にしてもよい。また、フィルム状の基板11の表面又は裏面には、無機物若しくは有機物の被膜又は無機物及び有機物のハイブリッド被膜が形成されていてもよく、JISK7129-1992に準拠した方法で測定した水蒸気透過度25±0.5°C、相対湿度90±2RHが、1×10-3g/m224h以下のバリア性フィルムであることが好ましく、さらには、JISK7126-1987に準拠した方法で測定した酸素透過度が、1×10-3ml/m224hatm以下、水蒸気透過度25±0.5°C、相対湿度90±2RHが、1×10-3g/m224h以下の高バリア性フィルムであることが好ましい。高バリア性フィルムとするためにフィルム状の基板11の表面又は裏面に形成されるバリア膜を形成する材料としては、水分や酸素等素子の劣化をもたらすものの侵入を抑制する機能を有する材料であればよく、例えば、酸化珪素、二酸化珪素、窒化珪素等を用いることができる。さらに当該バリア膜の脆弱性を改良するためにこれら無機層と有機材料からなる層の積層構造を持たせることがより好ましい。無機層と有機層との積層順については特に制限はないが、両者を交互に複数回積層させることが好ましい。<パターン状に形成された金属材料からなる第1導電層>本発明に係る透明電極1は、基板11上にパターン状に形成された金属材料からなる第1導電層12以下、金属パターン導電層12とも記載するを有する。特に、パターン形成のしやすさ、経時安定性、金属パターンの緻密化に有利であることから、第1導電層12が金属粒子を用いて形成されることを特徴とする。金属粒子金属粒子の金属としては、導電性に優れていれば特に制限はなく、例えば、金、銀、銅、鉄、ニッケル、クロム等の金属の他に合金などを挙げることができる。導電性の観点から銀又は銅が好ましく、銀又は銅単独でもよいし、それぞれの組み合わせでもよく、銀と銅の合金、銀又は銅が一方の金属でめっきされていてもよい。金属粒子の平均粒径としては、原子スケールから1000nmの範囲のものが好ましく適用できる。金属粒子の平均粒径が小さいほど金属細線の緻密化導電性向上及び表面平滑性に有利であるが、平均粒径が極端に小さい場合には、製造上の制限があり、高コストにもなる。かかる観点から、本発明においては、特に平均粒径が3~300nmであるものが好ましく、5~100nmであるものがより好ましく用いられる。上記の中でも特に、平均粒径3nm~100nmの銀ナノ粒子が好ましい。金属粒子のアスペクト比長径長/短径長は、表面平滑性向上や金属パターンの緻密化の観点から、2.0以下の球状に近い金属粒子が好ましい。本発明において、平均粒径とは、光散乱方式を用いた市販の測定装置を使用して簡便に計測することが可能である。具体的にはゼータサイザー1000マルバーン社製を用いて、レーザドップラー法によりS25°C、サンプル希釈液量1mlにて測定した値をいう。金属パターン導電層本発明に係る金属パターン導電層12は、金属を含有する層であり、透明な基板11上に開口部12aを有するようにパターン状に形成された層である。開口部12aとは、透明な基板11のうち、金属パターン導電層12を有さない部分であり金属パターンの透光性部分である。パターンの形状には特に制限はないが、例えば、ストライプ状、格子状、ハニカム状であることが好ましい。透明電極1全体の面に対して、開口部12aが占める割合、即ち開口率は、透明性の観点から、80以上であることが好ましい。例えば、金属パターン導電層12がストライプ状であるとき、線幅100μm、線間隔1mmのストライプ状パターンの開口率は、およそ90である。パターンの線幅は、透明性及び導電性の観点から、10~200μmが好ましい。ストライプ状又は格子状のパターンにおいて、金属パターン導電層12の細線の間隔は、透明性及び導電性の観点から、0.5~4mmが好ましい。また、ハニカム状のパターンにおいては、金属パターン導電層12の一辺の長さは、透明性及び導電性の観点から、0.5~4mmが好ましい。また、金属パターン導電層12において、細線の高さは、導電性及び電流リンク防止の面から、0.1~3.0μmが好ましい。金属パターン導電層の製造方法本発明に係る金属パターン導電層12は、基板11上に、金属粒子を含有する金属パターン導電層用塗布液を印刷により、パターン形成することで得られる。金属粒子を含有する金属パターン導電層用塗布液は、後記する金属粒子を含有する金属粒子分散液である。金属粒子分散液は、水、アルコールなどの溶媒中に金属粒子を含有するが、必要に応じバインダー、金属を分散させるための分散剤などを含んでもよい。金属粒子分散液を用い、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法等の印刷方式により金属パターン導電層12を基板11上に形成することができる。各印刷方式は、一般的に電極パターン形成に使われる手法が本発明に関しても適用可能である。具体的な例として、グラビア印刷法については特開2009-295980号公報、特開2009-259826号公報、特開2009-96189号公報、特開2009-90662号公報等に記載の方法が、フレキソ印刷法については特開2004-268319号公報、特開2003-168560号公報等に記載の方法が、スクリーン印刷法については特開2010-34161号公報、特開2010-10245号公報、特開2009-302345号公報等に記載の方法が例として挙げられる。また、金属パターン導電層12は、フィルム状の基板11にダメージを与えない範囲で加熱処理が施されることが好ましい。これにより、金属粒子の融着及び緻密化が進み、金属パターン導電層12が高導電化する。表面比抵抗の測定金属パターン導電層12の細線部の表面比抵抗は、100Ω/□以下であることが好ましく、10Ω/□以下であることがより好ましく、さらには大面積化の観点から、5Ω/□以下であることがより好ましい。表面比抵抗は、例えば、JISK6911、ASTMD257、等に準拠して測定することができ、また、市販の表面抵抗率計を用いて簡便に測定することができる。表面の粗さRaの測定本発明において、金属パターン導電層12の表面の粗さRaは、20nm以下である。Raの値は、JIS、B6011994に規定される表面粗さであり、本発明においては、下記のように測定した値である。本発明のRaは、金属パターン導電層12の細線上のRaを測定したものであり、金属パターン導電層12の細線に対して平行に、長さ10μmの直線上のRaを測定したものである。本発明において、Raの測定には、市販の原子間力顕微鏡AtomicForceMicroscopy:AFMが用いられ、以下の方法で測定される。AFMとして、セイコーインスツル社製SPI3800Nプローブステーション及びSPA400多機能型ユニットを使用し、ピエゾスキャナー上の水平な試料台上にセットし、カンチレバーを試料表面にアプローチし、原子間力が働く領域に達したところで、XY方向にスキャンし、その際の試料の凹凸をZ方向のピエゾの変位で捉える。ピエゾスキャナーとしては、XY20150μm、Z25μmが走査可能なものを使用される。カンチレバーとしては、セイコーインスツル社製シリコンカンチレバーSI-DF20で、共振周波数120~150kHz、バネ定数12~30nmのものが用いられ、Raを、DFMモードDynamicForceModeで測定する。測定は、CCDカメラを用いて、金属パターンの細線と測定エリアとが平行又は垂直になるように、探針の先が細線の幅手方向の中心部にくるように調整し、細線の中心部10×10μmを走査周波数0.1Hzで行った。測定後、細線に平行に0.9μmおきに10ヵ所、長さ10μmの線を引き、その線上のRaを算出し、その平均値をRaの値とする。<第2導電層>本発明に係る第2導電層13は、金属パターン導電層12が形成された基板11上に、前記の導電性ポリマー、及び水系溶媒に分散可能な解離性基含有自己分散型ポリマーを含有する塗布液を、基板11及びパターン導電層12上に塗布し、加熱、乾燥して形成される。ここで、第2導電層13は、金属パターン導電層12と電気的に接続されていればよく、金属パターン導電層12を完全に被覆してもよいし、金属パターン導電層12の一部を被覆してもよいし、金属パターン導電層12に接触してもよい。導電性ポリマー、及び、水系溶媒に分散可能な解離性基含有自己分散型ポリマーからなる塗布液の塗布は、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法等の印刷方法に加えて、ロールコート法、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、キャスティング法、ダイコート法、ブレードコート法、バーコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ドクターコート法、インクジェット法等の塗布法のいずれかを用いることができる。また、金属パターン導電層第1導電層12の一部を、導電性ポリマーと水系溶媒に分散可能な解離性基含有自己分散型ポリマーとを含有する第2導電性層13が被覆又は接触している透明電極1を製造する方法としては、転写フィルムに第1導電層12を前記した方法で形成し、さらに導電性ポリマーと水系溶媒に分散可能な解離性基含有自己分散型ポリマーを含有する第2導電層13を前記した方法で転写フィルムに積層したしたものを、フィルム状の基板11に転写する方法、金属パターン導電層第1導電層12が形成された基板11の非導電部にインクジェット法等で公知の方法で、導電性ポリマーと水系溶媒に分散可能な解離性基含有自己分散型ポリマーを含有する第2導電層13を形成する方法等が挙げられる。本発明の透明電極1は、第1導電層12及び第2導電層13を有することで、金属細線又は導電性ポリマー層単独では得ることのできない高い導電性を、電極面内において均一に得ることができる。導電性ポリマーと水系溶媒に分散可能な解離性基含有自己分散型ポリマーを含有する第2導電層13において、導電性ポリマーと水系溶媒に分散可能な解離性基含有自己分散型ポリマーとの比率は、導電性ポリマーを100質量部としたとき、水系溶媒に分散可能な解離性基含有自己分散型ポリマーが30~900質量部であることが好ましく、電流リーク防止、水系溶媒に分散可能な解離性基含有自己分散型ポリマーの導電性増強効果、及び、透明性の観点から、導電性ポリマーを100質量部としたとき、水系溶媒に分散可能な解離性基含有自己分散型ポリマーが100質量部以上であることがより好ましい。第2導電層13の乾燥膜厚は、30~2000nmであることが好ましく、導電性の観点から、100nm以上であることがより好ましく、透明電極1の表面平滑性の点から、200nm以上であることがさらに好ましい。また、第2導電層13の乾燥膜厚は、透明性の観点から、1000nm以下であることがより好ましい。導電性ポリマーと水系溶媒に分散可能な解離性基含有自己分散型ポリマーを含有する第2導電層13を塗布した後、適宜乾燥処理を施すことができる。乾燥処理の条件として特に制限はないが、基板や導電層が損傷しない範囲の温度で乾燥処理することが好ましい。例えば、80~150°Cで10秒から15分の乾燥処理をすることができる。これにより透明電極1の洗浄耐性及び溶媒耐性が著しく向上し、さらに素子性能が向上する。特に、当該透明電極1を備える有機EL素子においては、駆動電圧の低減及び寿命の向上といった効果が得られる。さらに、前記した塗布液は、塗布性等の作業性を高める観点から、溶媒例えば、水、有機溶媒アルコール類、グリコール類、セロソルブ類、ケトン類、エステル類、エーテル類、アミド類、炭化水素類等を含んでいてもよい。本発明において、透明導電層である第2導電層13の表面の平滑性を表すRyの値は、50nm以下であることがより好ましく、40nm以下であることがさらに好ましい。同様に、透明導電層である第2導電層13のRaの値は10nm以下であることがより好ましく、5nm以下であることがさらに好ましい。本発明において、第2導電層13の表面の平滑性を表すRyとRaは、Ry=最大高さ表面の山頂部と谷底部との高低差とRa=算術平均粗さを意味し、JISB6011994に規定される表面粗さに準ずる値である。本発明に係る透明電極1は、透明導電層である第2導電層13の表面の平滑性がRy≦50nm、かつ、透明導電層である第2導電層13の表面の平滑性がRa≦10nmであることが好ましい。本発明において、Ry及びRaの測定には、前記記載と同様に市販の原子間力顕微鏡AtomicForceMicroscopy:AFMを用いることができる。本発明において、透明電極1は、全光線透過率が60以上であることが好ましく、70以上であることがより好ましく、80以上であることが特に好ましい。全光透過率は、分光光度計等を用いた公知の方法に従って測定することができる。また、本発明の透明電極1における透明導電層である第2導電層13の電気抵抗値としては、表面抵抗率として1000Ω/□以下であることが好ましく、100Ω/□以下であることがより好ましい。さらには、透明電極1を電流駆動型オプトエレクトロニクスデバイスに適用するためには、透明導電層である第2導電層13の電気抵抗値としては、表面抵抗率として50Ω/□以下であることが好ましく、10Ω/□以下であることがより好ましい。特に、103Ω/□以下であると各種オプトエレクトロニクスデバイスにおいて、透明電極として機能することができて好ましい。前記した表面抵抗率は、例えば、JISK7194:1994導電性プラスチックの4探針法による抵抗率試験方法等に準拠して測定することができ、また、市販の表面抵抗率計を用いて簡便に測定することができる。本発明の透明電極1の厚みには特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、一般的に10μm以下であることが好ましく、厚みが薄くなるほど透明性や柔軟性が向上するためより好ましい。<有機EL素子>本発明の実施形態に係る有機EL素子は、透明電極1を備えることを特徴とするものであり、有機発光層を含む有機層と、透明電極1と、を備える。本発明の実施形態に係る有機EL素子は、透明電極1を陽極として備えることが好ましく、有機発光層及び陰極については、有機EL素子に一般的に使われている材料、構成等の任意のものを用いることができる。有機EL素子の素子構成としては、陽極/有機発光層/陰極、陽極/ホール輸送層/有機発光層/電子輸送層/陰極、陽極/ホール注入層/ホール輸送層/有機発光層/電子輸送層/陰極、陽極/ホール注入層/有機発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極、陽極/ホール注入層/有機発光層/電子注入層/陰極、等の各種の構成のものを挙げることができる。また、本発明において、有機発光層に使用できる発光材料又はドーピング材料としては、アントラセン、ナフタレン、ピレン、テトラセン、コロネン、ペリレン、フタロペリレン、ナフタロペリレン、ジフェニルブタジエン、テトラフェニルブタジエン、クマリン、オキサジアゾール、ビスベンゾキサゾリン、ビススチリル、シクロペンタジエン、キノリン金属錯体、トリス8-ヒドロキシキノリナートアルミニウム錯体、トリス4-メチル-8-キノリナートアルミニウム錯体、トリス5-フェニル-8-キノリナートアルミニウム錯体、アミノキノリン金属錯体、ベンゾキノリン金属錯体、トリ-p-ターフェニル-4-イルアミン、1-アリール-2,5-ジ2-チエニルピロール誘導体、ピラン、キナクリドン、ルブレン、ジスチルベンゼン誘導体、ジスチルアリーレン誘導体、各種蛍光色素、希土類金属錯体、燐光発光材料等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これらの化合物のうちから選択された発光材料を90~99.5質量部、ドーピング材料を0.5~10質量部含むようにすることも好ましい。有機発光層は、上記の材料等を用いて、蒸着、塗布、転写等の公知の方法によって製造される。この有機発光層の厚みは、発光効率の観点から、0.5~500nmが好ましく、0.5~200nmがより好ましい。本発明に係る透明電極1は、高い導電性と透明性とを併せ持ち、液晶表示素子、有機発光素子、無機電界発光素子、電子ペーパー、有機太陽電池、無機太陽電池等の各種オプトエレクトロニクスデバイスに加え、電磁波シールド、タッチパネル等の分野において好適に用いることができる。その中でも、透明電極表面の平滑性が厳しく求められる有機EL素子や有機薄膜太陽電池素子の電極として特に好ましく用いることができる。また、本発明に係る有機EL素子は、均一にムラなく発光させることができるため、照明用途で用いることが好ましいものであり、自発光型ディスプレイ、液晶用バックライト、照明等に用いることができる。以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において部あるいはの表示を用いるが、特に断りがない限り質量部あるいは質量を表す。<解離性基の50以上がアンモニウム塩又は炭素数6以下のアミン塩として中和されている解離性基含有自己分散型ポリマー分散液の製造>酸価の測定酸価の測定は、試料0.2gを精秤し20mlのクロロホルムに溶解し、0.01Nの水酸化カリウムエタノール溶液で滴定して求めた。指示薬には、フェノールフタレインを用いた。Tgの測定示差走査熱量測定器PerkinElmer社製DSC-7型を用いて、昇温速度10°C/分で測定し、JISK71211987に従い求めた。製造例1攪拌機、コンデンサー及び温度計を備えた容器に、公知の方法を用いて製造したポリマーA-1このポリマーA-1は酸成分が、テレフタル酸80モル、イソフタル酸14モル、5-スルホイソフタル酸6モルからなり、グリコール成分が、エチレングリコール74モル、ジエチレングリコール8モル、ヘキサメチレングリコール18モルから合成され、Tgが60°C、酸価が5mgKOH/gの水溶性ポリエステル樹脂である。100部を投入した後、メチルエチルケトン150部とテトラヒドロフラン50部を添加し、70°CでポリマーA-1を溶解した。その後冷却し、内温が50°Cになった時点で、ポリマーA-1の酸価に対して1.0倍等量のトリエチルアミンを添加し、さらに50°Cのイオン交換水550部を15分かけて添加し、ポリマーA-1の解離性基を中和した。続いて、容器を徐々に加熱し、約350部の溶剤及び水を留去したところで冷却を行い、35°Cになった時点で200メッシュのナイロンメッシュでろ過し、解離性基が100中和された解離性基含有自己分散型ポリマー分散液E-1固形分濃度20を得た。製造例2~4製造例1のトリエチルアミンの量をポリマーA-1の酸価に対してそれぞれ0.8倍、0.7倍、0.5倍等量添加した以外は製造例1と同様の方法で、解離性基がそれぞれ80、70、50中和された解離性基含有自己分散型ポリマー分散液E-2~E-4を得た。製造例5製造例1のポリマーA-1に代えて、市販の水分散ポリエステル樹脂プラスコートZ-561互応化学工業社製、Tgが64°C、酸価が2.5mgKOH/gの解離性基を酸に戻してから乾燥させたポリマーA-2を用いて、このポリマーA-2の酸価に対して0.8倍等量のトリエチルアミンを添加して解離性基を中和した以外は製造例1と同様の方法で、解離性基が80中和された解離性基含有自己分散型ポリマー分散液E-5を得た。製造例6~8製造例5のトリエチルアミンに代えて、ジエチルアミン、エチルアミン、1mol/Lアンモニア水溶液をそれぞれ用いた以外は製造例5と同様の方法で、解離性基がそれぞれ80中和された解離性基含有自己分散型ポリマー水系分散溶液E-6~E-8を得た。製造例9製造例1のポリマーA-1に代えて、市販の水分散ポリエステル樹脂バイロナールMD-1500東洋紡績社製、Tgが77°C、酸価が2.5mgKOH/gの解離性基を酸に戻してから乾燥させたものを原料ポリマーA-3として用いて、解離性基の中和塩基としてトリエチルアミンを前記ポリマーの酸価に対して、それぞれ0.8倍等量添加した以外は製造例1と同様の方法で解離性基が80中和された解離性基含有自己分散型ポリマー水系分散溶液E-9を得た。製造例10製造例1のポリマーA-1に代えて、市販の水分散ポリエステル樹脂ポリエスターWR-961日本合成化学工業社製、Tgが40°C、酸価が65mgKOH/gの解離性基を酸に戻してから乾燥させたものを原料ポリマーA-4として用いて、解離性基の中和塩基としてトリエチルアミンを前記ポリマーの酸価に対して、それぞれ0.8倍等量添加した以外は製造例1と同様の方法で解離性基が80中和された解離性基含有自己分散型ポリマー水系分散溶液E-10を得た。製造例11製造例1のポリマーA-1に代えて、市販の水分散ポリエステル樹脂プラスコートZ-687互応化学工業社製、Tgが110°C、酸価が2.5mgKOH/gの解離性基を酸に戻してから乾燥させたポリマーA-5を用いて、このポリマーA-5の酸価に対して0.8倍等量のトリエチルアミンを添加して解離性基を中和した以外は製造例1と同様の方法で解離性基が80中和された解離性基含有自己分散型ポリマー分散液E-11を得た。製造例12製造例1のポリマーA-1に代えて、市販の水分散ポリエステル樹脂ペスレジンA-510高松油脂社製、Tgが35°C、酸価が2.0mgKOH/gの解離性基を酸に戻してから乾燥させたポリマーA-6を用いて、このポリマーA-6の酸価に対して0.8倍等量のトリエチルアミンを添加して解離性基を中和した以外は製造例1と同様の方法でで解離性基が80中和された解離性基含有自己分散型ポリマー水系分散溶液E-12を得た。製造例13製造例1のポリマーA-1に代えて、市販の水分散ポリエチレン樹脂ハイテックS-3121東邦化学工業社製、Tgが30°C、酸価が155mgKOH/gの解離性基を酸に戻してから乾燥させたポリマーA-7を用いて、このポリマーA-7の酸価に対して0.8倍等量のトリエチルアミンを添加して解離性基を中和した以外は製造例1と同様の方法で解離性基が80中和された解離性基含有自己分散型ポリマー水系分散溶液E-13を得た。製造例14製造例1のポリマーA-1に代えて、市販の水分散ポリエステル樹脂バイロナールMD-1480東洋紡績社製、Tgが20°C、酸価が3.0mgKOH/gの解離性基を酸に戻してから乾燥させたポリマーA-8を用いて、このポリマーA-8の酸価に対して0.8倍等量のトリエチルアミンを添加して解離性基を中和した以外は製造例1と同様の方法で解離性基が80中和された解離性基含有自己分散型ポリマー分散液E-14を得た。製造例15製造例1のポリマーA-1に代えて、市販の水分散ポリエステル樹脂バイロナールMD-1335東洋紡績社製、Tgが4°C、酸価が2.5mgKOH/gの解離性基を酸に戻してから乾燥させたポリマーA-9を用いて、このポリマーA-9の酸価に対して0.8倍等量のトリエチルアミンを添加して解離性基を中和した以外は製造例1と同様の方法で解離性基が80中和された解離性基含有自己分散型ポリマー分散液E-15を得た。製造例16製造例1のポリマーA-1に代えて、公知の方法を用いて製造した水分散アクリル樹脂A-10この水分散アクリル樹脂A-9はメタクリル酸メチル54モル、アクリル酸エチル44モル、アクリル酸2モルの各モノマーから共重合により合成され、Tgが37°C、酸価が10mgKOH/gの水分散アクリルポリマーである。を用いて、このポリマーA-10の酸価に対して0.8倍等量のトリエチルアミンを添加して解離性基を中和した以外は製造例1と同様の方法で解離性基が80中和された解離性基含有自己分散型ポリマー分散液E-16を得た。製造例17製造例1のポリマーA-1に代えて、公知の方法を用いて製造した水分散アクリル樹脂A-11この水分散アクリル樹脂A-11はメタクリル酸メチル58モル、アクリル酸エチル40モル、アクリル酸2モルの各モノマーから共重合により合成され、Tgが42°C、酸価が10mgKOH/gの水分散アクリルポリマーである。を用いて、このポリマーA-11の酸価に対して0.8倍等量のトリエチルアミンを添加して解離性基を中和した以外は製造例1と同様の方法で解離性基が80中和された解離性基含有自己分散型ポリマー分散液E-17を得た。製造例18製造例1のポリマーA-1に代えて、公知の方法を用いて製造した水分散アクリル樹脂A-12この水分散アクリル樹脂A-12はメタクリル酸メチル83モル、アクリル酸エチル15モル、アクリル酸2モルの各モノマーから共重合により合成され、Tgが79°C、酸価が10mgKOH/gの水分散アクリルポリマーである。を用いて、このポリマーA-12の酸価に対して0.8倍等量のトリエチルアミンを添加して解離性基を中和した以外は製造例1と同様の方法で解離性基が80中和された解離性基含有自己分散型ポリマー分散液E-18を得た。製造例19製造例1のポリマーA-1に代えて、公知の方法を用いて製造した水分散アクリル樹脂A-13この水分散アクリル樹脂A-13はメタクリル酸メチル85モル、アクリル酸エチル13モル、アクリル酸2モルの各モノマーから共重合により合成され、Tgが82°C、酸価が10mgKOH/gの水分散アクリルポリマーである。を用いて、このポリマーA-13の酸価に対して0.8倍等量のトリエチルアミンを添加して解離性基を中和した以外は製造例1と同様の方法で解離性基が80中和された解離性基含有自己分散型ポリマー分散液E-19を得た。比較製造例20、21製造例1のトリエチルアミンの量をポリマーA-1の酸価に対してそれぞれ0.45倍、0.3倍等量添加した以外は製造例1と同様の方法で、解離性基がそれぞれ45、30中和された解離性基含有自己分散型ポリマー分散液E-20、E-21を得た。比較製造例22~24製造例1のトリエチルアミンに代えて、メチルジイソプロピルアミン、トリプロピルアミン、1mol/L水酸化ナトリウム水溶液を、ポリマーA-1の酸価に対して0.8倍等量それぞれ添加して解離性基を中和した以外は製造例1と同様の方法で、解離性基がそれぞれ80中和された解離性基含有自己分散型ポリマー分散液E-22~E-24を得た。比較製造例25製造例1のトリエチルアミンに代えて、1mol/L水酸化ナトリウム水溶液を、ポリマーA-1の酸価に対して0.45倍等量添加して解離性基を中和した以外は製造例1と同様の方法で、解離性基がそれぞれ45中和された解離性基含有自己分散型ポリマー分散液E-25を得た。製造例26製造例1のポリマーA-1に代えて、公知の方法を用いて製造した水分散アクリル樹脂A-11この水分散アクリル樹脂A-11はメタクリル酸メチル58モル、アクリル酸エチル40モル、アクリル酸2モルの各モノマーから共重合により合成され、Tgが42°C、酸価が10mgKOH/gの水分散アクリルポリマーである。を用いて、このポリマーA-11の酸価に対して0.8倍等量の1mol/L水酸化ナトリウム水溶液を添加して解離性基を中和した以外は製造例1と同様の方法で解離性基が80中和された解離性基含有自己分散型ポリマー分散液E-26を得た。製造例27製造例1のトリエチルアミンの量をポリマーA-1の酸価に対して0.5倍等量添加して解離性基を中和し、更にアニオン性乳化剤第一工業製薬社製ハイテノール08E3質量部を添加した以外は製造例1と同様の方法で、解離性基が50中和された解離性基含有乳化剤分散型ポリマー分散液E-27を得た。製造例28製造例1のポリマーA-1に代えて、公知の方法を用いて製造した水分散アクリル樹脂A-11この水分散アクリル樹脂A-11はメタクリル酸メチル58モル、アクリル酸エチル40モル、アクリル酸2モルの各モノマーから共重合により合成され、Tgが42°C、酸価が10mgKOH/gの水分散アクリルポリマーである。を用いて、このポリマーA-11の酸価に対して0.6倍等量のトリエチルアミンを添加して解離性基を中和し、更にアニオン性乳化剤第一工業製薬社製ハイテノール08E3質量部を添加した以外は製造例1と同様の方法で、解離性基が60中和された解離性基含有乳化剤分散型ポリマー分散液E-28を得た。製造例29製造例1のトリエチルアミンに代えて、1mol/L水酸化ナトリウム水溶液を、ポリマーA-1の酸価に対して0.8倍等量添加して解離性基を中和し、更にアニオン性乳化剤第一工業製薬社製ハイテノール08E3質量部を添加した以外は製造例1と同様の方法で、解離性基が80中和された解離性基含有乳化剤分散型ポリマー分散液E-29を得た。<基板の作製>厚み100μmのポリエチレンテレフタレートフィルムコスモシャインA4100、東洋紡績株式会社製の下引き加工していない面に、JSR株式会社製UV硬化型有機/無機ハイブリッドハードコート材:OPSTARZ7501を塗布、乾燥後の平均膜厚が4μmになるようにワイヤーバーで塗布した後、80°C、3分で乾燥後、空気雰囲気下、高圧水銀ランプ使用して硬化条件1.0J/cm2で硬化を行い、平滑層を形成した。次に、上記平滑層を設けた試料を、この上にガスバリア層を以下に示す条件で、形成した。ガスバリア層塗布液パーヒドロポリシラザンPHPS、AZエレクトロニックマテリアルズ株製アクアミカNN320の20質量ジブチルエーテル溶液をワイヤレスバーにて、乾燥後の平均膜厚が、0.30μmとなるように塗布し、塗布試料を得た。第一工程;乾燥処理得られた塗布試料を温度85°C、湿度55RHの雰囲気下で1分処理し、乾燥試料を得た。第二工程;除湿処理乾燥試料を更に温度25°C、湿度10RH露点温度-8°Cの雰囲気下に10分間保持し、除湿処理を行った。改質処理A除湿処理を行った試料を下記の条件で改質処理を行い、ガスバリア層を形成した。改質処理時の露点温度は-8°Cで実施した。改質処理装置株式会社エムディコム製エキシマ照射装置MODEL:MECL-M-1-200、波長172nm、ランプ封入ガスXe稼動ステージ上に固定した試料を以下の条件で改質処理を行った。改質処理条件エキシマ光強度60mW/cm2172nm試料と光源の距離1mmステージ加熱温度70°C照射装置内の酸素濃度1エキシマ照射時間3秒上記のようにしてガスバリア性を有する透明電極用のフィルム基板を作製した。<実施例1>透明電極TC-101の作製まず第一に上記で得られたガスバリア性を有する透明電極用フィルム基板上のバリアのない面に、以下に示すグラビア印刷によりパターン状に形成された金属材料からなる第1導電層を形成した。銀ナノ粒子ペースト1M-DotSLP:三ツ星ベルト製、平均粒径20nm、粒子50個観察した時のアスペクト比は1.5以下であった。をRKPrintCoatInstrumentsLtd製グラビア印刷試験機K303MULTICOATERを用いて線幅50μm、高さ1.5μm、間隔1.0mmの細線格子を印刷した後、110°C、5分の乾燥処理を行った。次に第1導電層を形成した透明電極上に、下記塗布液Aを、押し出し法を用いて、乾燥膜厚300nmになるように押し出しヘッドのスリット間隙を調整して塗布し、110°C、5分で加熱乾燥し、導電性ポリマーと水系溶剤に分散可能なバインダー樹脂からなる第2導電層を形成し、得られた電極を8×8cmに切り出した。得られた電極を、オーブンを用いて110°C、30分加熱することで透明電極TC-101を作製した。塗布液A導電性ポリマー分散液:PEDOT-PSSCLEVIOSPH510固形分濃度1.89、H.C.Starck社製1.59gバインダー樹脂分散液:E-10.35g固形分70mgジメチルスルホキシドDMSO、導電性ポリマー溶液質量の10分の10.16g透明電極TC-102~TC-119の作製透明電極TC-101の作製において、塗布液Aのバインダー樹脂分散液であるE-1を表1記載のバインダー樹脂分散液に変更した以外は透明電極TC-101の作製と同様にして、透明電極TC-102~TC-119を作製した。透明電極TC-120の作製透明電極TC-101の作製において、更に塗布液AのPEDOT-PSSCLEVIOSPH510固形分1.89、H.C.Starck社製を、ポリアニリンM固形分濃度6.0、ティーエーケミカル0.5gに変更したこと以外は透明電極TC-101の作製と同様にして、透明電極TC-120を作製した。透明電極TC-121の作製透明電極TC-101の作製において、銀ナノ粒子ペースト1に代えて銀ナノ粒子ペースト2前記、銀ナノ粒子ペースト2は平均分子量10000のポリビニルピロリドン東京化成社製0.28gを0.72gのエチレングリコール、グリセリン、ジエチレングリコール、2,3-ブタンジオールに溶解させ、平均粒径60nmの銀ナノ粒子シグマアルドリッチ社製4.0gと3本ロール及びミキサーを用いて混練しを作製した銀ナノ粒子ペーストである。粒子50個観察した時のアスペクト比は2.0以下であった。を用いてパターン状に形成された金属材料からなる第1導電層を形成し、塗布液Aのバインダー樹脂分散液であるE-1を表1記載のバインダー樹脂分散液に変更した以外は透明電極TC-101の作製と同様にして、透明電極TC-121を作製した。透明電極TC-122の作製透明電極TC-101の作製において、銀ナノ粒子ペースト1に代えて銅ナノ粒子ペースト前記、銅ナノ粒子ペーストは平均分子量10000のポリビニルピロリドン東京化成社製0.28gを0.72gのエチレングリコール、グリセリン、ジエチレングリコール、2,3-ブタンジオールに溶解させ、平均粒径50nmの銅ナノ粒子シグマアルドリッチ社製4.0gと3本ロール及びミキサーを用いて混練しを作製した銅ナノ粒子ペーストである。粒子50個観察した時のアスペクト比は2.0以下であった。を用いてパターン状に形成された金属材料からなる第1導電層を形成し、塗布液Aのバインダー樹脂分散液であるE-1を表1記載のバインダー樹脂分散液に変更した以外は透明電極TC-101の作製と同様にして、透明電極TC-122を作製した。比較透明電極TC-123、TC-124、TC-132、TC-138、TC-139の作製透明電極TC-101の作製において、銀粒子に代えて銀ナノワイヤを用いた第1導電層を以下に示すように作製した。銀ナノワイヤ分散液を、銀ナノワイヤの目付け量が0.06g/m2となるように、銀ナノワイヤ分散液を、バーコート法を用いて塗布し110°C、5分乾燥加熱し、銀ナノワイヤ基板を作製した。銀ナノワイヤ分散液は、Adv.Mater.,2002,14,833~837に記載の方法を参考に、PVPK30分子量5万;ISP社製を利用して、平均短径75nm、平均長さ35μmの銀ナノワイヤを作製し、限外濾過膜を用いて銀ナノワイヤを濾別、洗浄処理した後、ヒドロキシプロピルメチルセルロース60SH-50信越化学工業社製を銀に対し25質量加えた水溶液に再分散し、銀ナノワイヤ分散液を調製した。銀ナノワイヤによりランダムな網目構造を形成した透明電極上に、表1記載のバインダー樹脂分散液を用いて透明電極TC-101の作製と同様にして、透明電極TC-123、TC-124、TC-132、TC-138、TC-139を作製した。なおTC-132のバインダー樹脂は市販のボンコートAN-155EDIC社製、Tgが32°C、塩基で中和されていない水分散アクリルポリマーである。をそのまま用いた。比較透明電極TC-125~TC-131、TC-133~TC-137の作製透明電極TC-101の作製において、塗布液Aのバインダー樹脂分散液であるE-1を表1記載のバインダー樹脂分散液に変更した以外は透明電極TC-101の作製と同様にして、透明電極TC-125~TC-131、TC-133~TC-137を作製した。なおC-133のバインダー樹脂は市販のバイロナールMD1245東洋紡績社製、Tgが61°C、解離性基が100Na塩として中和された水分散ポリエステル樹脂である。をそのまま用いた。C-134のバインダー樹脂は市販のバイロナールMD1480東洋紡績社製、Tgが20°C、解離性基が100Na塩として中和された水分散ポリエステル樹脂である。をそのまま用いた。比較透明電極TC-140の作製透明電極TC-101の作製において、塗布液A中のバインダー樹脂分散液を使用しないこと以外は透明電極TC-101の作製と同様にして、透明電極TC-140を作製した。<透明電極の評価>得られた透明電極のフィルム形状、透明性、表面抵抗導電性、膜強度を下記に記載のように評価した。又、透明電極の安定性を評価するため、80°C90RHの環境下で6日間置く強制劣化試験後の透明電極試料のフィルム形状、透明性、表面抵抗、膜強度の評価を行なった。透明性JISK7361-1:1997に準拠して、東京電色社製HAZEMETERNDH5000を用いて、全光線透過率を測定し、下記基準で評価した。有機電子デバイスに用いる場合には、75以上であることが好ましい。◎:80以上○:75以上80未満△:70以上75未満×:70未満透明性に関しては、◎,○と評価された試料が本発明として合格である。表面抵抗JISK7194:1994に準拠して、抵抗率計ロレスタGPMCP-T610型:株ダイヤインスツルメンツ社製を用いて表面抵抗を測定した。表面抵抗は100Ω/□以下であることが好ましく、有機電子デバイスを大面積にするには、30Ω/□以下であることが好ましい。表面抵抗に関しては、強制劣化後30Ω/□以下と評価された試料が本発明として合格である。膜強度導電層の膜の強度を、テープ剥離法により評価した。導電層の上に住友スリーエム社製スコッチテープを用いて圧着/剥離を10回繰り返し、導電層の脱落を目視観察し、下記基準で評価した。◎:5回の圧着/剥離で変化無し○:3回の圧着剥離で変化無し△:1回の圧着剥離で剥離が見られるが8割以上のパターンが残っている×:1回の圧着剥離で剥離が見られ、残っているパターンが8割未満膜強度に関しては、◎,○,△と評価された試料が本発明として合格である。評価の結果を表1に示す。表1において、備考における本発明は本発明の実施例に該当することを表し、比較は比較例であることを表す。表1から、比較例の透明電極TC-123~TC-140と比べて、本発明の透明電極TC-101~122は、導電性、光透過性及び膜強度に優れると共に、高温、高湿度環境下においても導電性、光透過性及び膜強度の劣化が少なく、安定性に優れることが分かる。<実施例2>有機ELデバイスの作製実施例1で作製した透明電極基板を超純水で洗浄後、パターン辺長20mmの正方形タイル状透明パターン一個が中央に配置されるように30mm角に切り出し、アノード電極に用いて、以下の手順でそれぞれ有機ELデバイスを作製した。正孔輸送層以降は蒸着により形成した。透明電極TC-101~TC-140を用い、それぞれ有機EL素子OEL-201~OEL-240を作製した。市販の真空蒸着装置内の蒸着用るつぼの各々に、各層の構成材料を各々素子作製に必要量を充填した。蒸着用るつぼはモリブデン製又はタングステン製の抵抗加熱用材料で作製されたものを用いた。まず、正孔輸送層、有機発光層、正孔阻止層、電子輸送層からなる有機EL層を順次形成した。正孔輸送層の形成真空度1×10-4Paまで減圧した後、化合物1の入った前記蒸着用るつぼに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒で蒸着し、厚さ30nmの正孔輸送層を設けた。有機発光層の形成次に、以下の手順で各発光層を設けた。形成した正孔輸送層上に、化合物2が13.0質量、化合物3が3.7質量、化合物5が83.3質量になるように、化合物2、化合物3及び化合物5を蒸着速度0.1nm/秒で正孔輸送層と同じ領域に共蒸着し、発光極大波長が622nm、厚さ10nmの緑赤色燐光発光の有機発光層を形成した。続いて、化合物4が10.0質量、化合物5が90.0質量になるように、化合物4及び化合物5を蒸着速度0.1nm/秒で緑赤色燐光発光の有機発光層と同じ領域に共蒸着し、発光極大波長が471nm、厚さ15nmの青色燐光発光の有機発光層を形成した。正孔阻止層の形成更に、形成した有機発光層と同じ領域に、化合物6を膜厚5nmに蒸着して正孔阻止層を形成した。電子輸送層の形成引き続き、形成した正孔阻止層と同じ領域に、CsFを膜厚比で10になるように化合物6と共蒸着し、厚さ45nmの電子輸送層を形成した。カソード電極の形成形成した電子輸送層の上に、透明電極を陽極として陽極外部取り出し端子及び15mm×15mmの陰極形成用材料としてAlを5×10-4Paの真空下にてマスク蒸着し、厚さ100nmの陽極を形成した。更に、陰極及び陽極の外部取り出し端子が形成できるように、端部を除き陽極の周囲に接着剤を塗り、ポリエチレンテレフタレートを基板としAl2O3を厚さ300nmで蒸着した可撓性封止部材を貼合した後、熱処理で接着剤を硬化させ封止膜を形成し、発光エリア15mm×15mmの有機EL素子を作製した。<有機EL素子の評価>得られた有機EL素子について発光ムラ及び寿命を下記のように評価した。発光均一性発光均一性は、KEITHLEY製ソースメジャーユニット2400型を用いて、直流電圧を有機EL素子に印加し発光させた。1000cd/m2で発光させた有機EL素子OEL-201~OEL-240について、50倍の顕微鏡で各々の発光輝度ムラを観察した。又、有機EL素子OEL-201~OEL-240をオーブンにて60RH、80°C3時間加熱したのち、再び前記23±3°C、55±3RHの環境下で1時間以上調湿した後、同様に発光均一性を観察した。◎:完全に均一発光しており、申し分ない○:ほとんど均一発光しており、問題ない△:部分的に若干発光ムラが見られるが、許容できる×:全面にわたって発光ムラが見られ、許容できない発光均一性に関しては、◎,○,△と評価された有機EL素子が本発明として合格である。寿命得られた有機EL素子の、初期の輝度を5000cd/m2で連続発光させて、電圧を固定して、輝度が半減するまでの時間を求めた。アノード電極をITOとした有機EL素子を上記と同様の方法で作製し、これに対する比率を求め、以下の基準で評価した。かかる比率は、100以上であることが好ましく、150以上であることがより好ましい。◎:150以上○:100以上150未満△:80以上100未満×:80未満寿命に関しては、◎,○と評価された有機EL素子が本発明として合格である。評価の結果を表2に示す。表2において、備考における本発明は本発明の実施例に該当することを表し、比較は比較例であることを表す。表2から、比較例の有機EL素子OEL-223~OEL-240は80°C3時間の加熱後、発光均一性が著しく劣化するのに対し、本発明の有機EL素子OEL-201~OEL-222の発光均一性は加熱後でも安定しており耐久性に優れることが分かる。"