基板の処理装置であって、基板を収容するカセットを処理装置の外部との間で搬入出する際に載置するカセット載置部と、基板を処理する基板処理部と、前記カセット載置部のカセット内の基板を前記基板処理部に搬送し、なおかつ前記基板処理部で処理の終了した基板を前記カセット載置部のカセットに搬送する基板搬送部と、基板が基板処理部に搬送されて空になったカセットを一時的に載置する空カセット載置部と、前記空カセット載置部と前記カセット載置部との間で空のカセットを移送する空カセット移送機構と、前記空カセット載置部に設けられ、カセットを載置して水平方向に移動させるカセット移動装置と、を有し、前記カセット移動装置は、カセットの下面を支持し、平行に設けられた2本の駆動ベルトと、前記各駆動ベルトを移動させて、前記2本の駆動ベルト間の距離を調整するスライダと、を備えることを特徴とする、基板の処理装置。前記カセット載置部へのカセットの搬入出は、処理装置の外部のカセット搬送装置により行われ、前記カセット搬送装置は、処理装置の外部から上下方向に移動して前記カセット載置部に対してカセットを搬送することを特徴とする、請求項1に記載の基板の処理装置。前記空カセット載置部は、前記カセット載置部の上方に配置され、前記カセット搬送装置とそのカセット搬送装置に搬送されるカセットが上下方向に通過可能に構成されていることを特徴とする、請求項2に記載の基板の処理装置。前記2本の駆動ベルトは、前記カセット搬送装置とそのカセット搬送装置に搬送されるカセットが上下方向に通過する通路の外側に退避可能に構成されていることを特徴とする、請求項3に記載の基板の処理装置。前記空カセット載置部は、前記カセット搬送装置とそのカセット搬送装置に搬送されるカセットの通路を妨げないように、載置したカセットを水平方向に移動できることを特徴とする、請求項3又は4に記載の基板の処理装置。前記カセット載置部は、複数のカセットを水平方向に並べて載置可能であり、前記空カセット載置部は、前記カセット載置部と同じ水平方向に複数のカセットを並べて載置可能であり、前記空カセット載置部は、カセットを載置して前記水平方向に移動させる複数の前記カセット移動装置を有し、前記複数のカセット移動装置は、前記水平方向に並べられ、隣り合うカセット移動装置間でカセットを受け渡し可能に構成されていることを特徴とする、請求項5に記載の基板の処理装置。前記空カセット載置部は、複数段に設けられていることを特徴とする、請求項3~6のいずれかに記載の基板の処理装置。前記空カセット移送機構は、前記空カセット載置部の上方に配置され、前記カセット搬送装置とそのカセット搬送装置により搬送されるカセットの通路を通って前記空カセット載置部と前記カセット載置部に対し空のカセットを移送できることを特徴とする、請求項3~7のいずれかに記載の基板の処理装置。前記空カセット移送機構は、水平方向に移動可能に構成されていることを特徴とする、請求項8に記載の基板の処理装置。ところで、近年、塗布現像処理装置には、半導体デバイスの多品種少量生産化に応じた、いわゆる小ロット処理への対応が求められている。小ロット処理の場合、一つのカセット内に収容されるウェハの枚数が少なくなるので、ウェハ処理が開始されると、カセット載置台上のカセット内のウェハが直ちに払い出し終えることが多い。ところが、カセットは、ウェハが処理ステーションから戻るまでカセット載置台上で待機するため、処理ステーションにウェハ処理の空きがあるにもかかわらず、新しいカセットをカセット載置台に載置できないことが生じる。この結果、塗布現像処理装置におけるスループットが低下することになる。また、かかる場合、単純にカセット載置台の載置可能数を増加させることも考えられるが、この場合塗布現像処理装置のフットプリントが増大し、加えてカセットステーションの構造を大きく変更する必要がある。本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、塗布現像処理装置などの基板の処理装置において、スループットを低下させず、またフットプリントを増加させずに、小ロット処理に対応することをその目的とする。上記目的を達成するための本発明は、基板の処理装置であって、基板を収容するカセットを処理装置の外部との間で搬入出する際に載置するカセット載置部と、基板を処理する基板処理部と、前記カセット載置部のカセット内の基板を前記基板処理部に搬送し、なおかつ前記基板処理部で処理の終了した基板を前記カセット載置部のカセットに搬送する基板搬送部と、基板が基板処理部に搬送されて空になったカセットを一時的に載置する空カセット載置部と、前記空カセット載置部と前記カセット載置部との間で空のカセットを移送する空カセット移送機構と、前記空カセット載置部に設けられ、カセットを載置して水平方向に移動させるカセット移動装置と、を有し、前記カセット移動装置は、カセットの下面を支持し、平行に設けられた2本の駆動ベルトと、前記各駆動ベルトを移動させて、前記2本の駆動ベルト間の距離を調整するスライダと、を備えることを特徴とする。本発明によれば、基板が取り出されて空になったカセットをカセット載置部から空カセット載置部に一時的に載置することができる。このため、カセット載置部に順次新しいカセットを搬入できるので、一つのカセット内の基板枚数が少ない小ロット処理においても、時間間隔を空けずに基板処理部に基板を連続的に搬入できる。この結果、基板の処理装置におけるスループットを低下させずに、小ロット処理に対応できる。また、基板の処理装置のフットプリントを増大させずに、小ロット処理に対応できる。参考例としての前記空カセット移送機構は、カセットを支持するアームと、前記アームを上下方向及び水平方向に移動させるアーム移動部と、を有し、前記アームは、前記空カセット載置部と前記カセット載置部の側方から水平方向に移動して、前記空カセット載置部と前記カセット載置部に対してカセットを移送するようにしてもよい。参考例としてのカセットは、基板を収容する本体部と、前記本体部の上面から上方に突出し、前記空カセット移送機構のアームに係止される係止部と、を有していてもよい。参考例としての前記空カセット載置部は、前記カセット載置部の上方に配置され、前記空カセット載置部は、水平方向に複数のカセットを載置可能であり、前記空カセット載置部内には、処理装置の外部から搬入したカセットを一時的に載置する搬入スペースと、処理装置の外部に搬出するカセットを一時的に載置する搬出スペースと、が設けられていてもよい。参考例としての前記搬入スペースと前記搬出スペースに対するカセットの搬入出は、処理装置の外部のカセット搬送装置により行われ、前記カセット搬送装置は、処理容器の外部から上下方向に移動して前記搬入スペースと前記搬出スペースに対してカセットを搬送するようにしてもよい。参考例としての前記搬入スペースと前記カセット載置部との間のカセットの移送、及び前記搬出スペースと前記カセット載置部との間のカセットの移送は、前記空カセット移送機構により行われるようにしてもよい。参考例としての前記空カセット載置部は、複数段に設けられ、前記搬入スペースと前記搬出スペースは、それぞれ最上段の前記空カセット載置部に設けられていてもよい。参考例としての前記空カセット移送機構によるカセットの移送を制御する制御部をさらに有し、前記制御部は、前記搬入スペースのカセットを前記カセット載置部に移送し、前記カセット載置部のカセット内の基板が前記基板処理部に搬送された後、当該空になったカセットを前記空カセット載置部に移送し、前記基板処理部内での基板に対する所定の処理が終了した際に、前記空カセット載置部のカセットを前記カセット載置部に移送し、前記カセット載置部のカセット内に処理が終了した基板が収容された後、当該カセットを前記搬出スペースに移送するように、前記空カセット移送機構を制御するようにしてもよい。参考例としての前記所定の処理の処理状況は、前記基板処理部から前記制御部に出力され、前記制御部は、前記基板処理部からの出力結果に基づいて、前記所定の処理が終了した際に、前記空カセット載置部のカセットを前記カセット載置部に移送するように前記カセット移送機構を制御するようにしてもよい。前記カセット載置部へのカセットの搬入出は、処理装置の外部のカセット搬送装置により行われ、前記カセット搬送装置は、処理装置の外部から上下方向に移動して前記カセット載置部に対してカセットを搬送するようにしてもよい。前記空カセット載置部は、前記カセット載置部の上方に配置され、前記カセット搬送装置とそのカセット搬送装置に搬送されるカセットが上下方向に通過可能に構成されていてもよい。前記2本の駆動ベルトは、前記カセット搬送装置とそのカセット搬送装置に搬送されるカセットが上下方向に通過する通路の外側に退避可能に構成されていてもよい。前記空カセット載置部は、前記カセット搬送装置とそのカセット搬送装置に搬送されるカセットの通路を妨げないように、載置したカセットを水平方向に移動できてもよい。前記カセット載置部は、複数のカセットを水平方向に並べて載置可能であり、前記空カセット載置部は、前記カセット載置部と同じ水平方向に複数のカセットを並べて載置可能であり、前記空カセット載置部は、カセットを載置して前記水平方向に移動させる複数の前記カセット移動装置を有し、前記複数のカセット移動装置は、前記水平方向に並べられ、隣り合うカセット移動装置間でカセットを受け渡し可能に構成されていてもよい。前記空カセット載置部は、複数段に設けられていてもよい。前記空カセット移送機構は、前記空カセット載置部の上方に配置され、前記カセット搬送装置とそのカセット搬送装置により搬送されるカセットの通路を通って前記空カセット載置部と前記カセット載置部に対し空のカセットを移送できてもよい。前記空カセット移送機構は、水平方向に移動可能に構成されていてもよい。本発明によれば、基板の処理装置のスループットを低下させず、またフットプリントを増加させずに、小ロット処理に対応できる。以下、本発明の参考例としての実施の形態について説明する。図1は、本実施の形態にかかる基板の処理装置としての塗布現像処理装置1の内部構成の概略を示す説明図である。図2、図3は、塗布現像処理装置1の内部の構成の概略を示す側面図である。塗布現像処理装置1は、図1に示すように例えば外部との間でカセットCが搬入出されるカセットステーション2と、フォトリソグラフィー処理の中で枚葉式に所定の処理を施す複数の各種処理ユニットを備えた基板処理部としての処理ステーション3と、処理ステーション3に隣接する露光装置4との間でウェハWの受け渡しを行うインターフェイスステーション5とを一体に接続した構成を有している。カセットステーション2は、例えばカセット搬入出部10と基板搬送部としてのウェハ搬送部11に分けられている。例えばカセット搬入出部10は、塗布現像処理装置1のY方向負方向図1の左方向側の端部に設けられている。カセット搬入出部10には、カセット載置部としてのカセット載置台12が設けられている。カセット載置台12上には、複数、例えば4つの載置板13が設けられている。載置板13は、水平方向のX方向図1の上下方向に一列に並べて設けられている。載置板13は、例えば略方盤形状を有し、載置されたカセットCを固定できる。また、載置板13は、例えばY方向にスライド自在あり、載置したカセットCのウェハ取り出し口をウェハ搬送部11側の後述するウェハ搬送口11bに接続できる。例えば図4に示すようにカセットステーション2のカセット搬入出部10の上方には、レールRが配設されており、当該レールRには、塗布現像処理装置1と外部の他の処理装置との間でカセットCを搬送する外部カセット搬送装置Aが設けられている。外部カセット搬送装置Aは、カセット搬入出部10の上方をX方向に移動できる。外部カセット搬送装置Aは、例えば上下方向に伸縮自在なカセット把持部A1を有し、外部カセット搬送装置Aの本体がカセット載置台12の所定の載置板13の上方に移動し、その後カセット把持部A1を上下方向に移動させて、所定の載置板13に対してカセットCを搬送できる。カセット搬入出部10のカセット載置台12の上方には、複数段、例えば2段の空カセット載置部としての空カセット載置台20、21が設けられている。また、空カセット載置台20、21のさらに上には、空カセット移送機構22が設けられている。各空カセット載置台20、21には、例えば4つのカセット移動装置30が設けられている。4つのカセット移動装置30は、カセット載置台12の4つの載置板13に対応するようにX方向に並べて設けられている。各カセット移動装置30は、例えば図5に示すようにX方向に延びる2本の駆動ベルト31を有している。2本の駆動ベルト31は、平行に設けられ、この2本の駆動ベルト31上にカセットCを載置できる。なお、本実施の形態では、この2本の駆動ベルト31がカセットCの下面を支持する支持部材として機能する。各駆動ベルト31は、例えば両端が2つのプーリ32に掛けられており、一つのプーリ32の回転軸33には、モータ34が接続されている。モータ34によりプーリ32を回転させることにより、各駆動ベルト31はX方向に回転できる。これにより、駆動ベルト31上に載置したカセットCをX方向に移動できる。また、例えば図6に示すように各駆動ベルト31の回転軸33は、軸受け部35に回転自在に支持されている。例えば軸受け部35は、Y方向に延びるレール36上をモータ等により移動可能なスライダ37に取り付けられている。つまり、各駆動ベルト31やモータ34は、軸受け部35を介してスライダ37に取り付けられている。スライダ37の移動により、各駆動ベルト31は、各々Y方向に移動でき、この結果、2本の駆動ベルト31間の距離を調整することができる。これにより、図5に示すように2本の駆動ベルト31を外側に開いてその間に、外部カセット搬送装置Aのカセット把持部A1とそのカセット把持部A1に搬送されるカセットCが上下に通過する通路B図5の点線領域を形成できる。図4に示すように4つのカセット移動装置30は、互いに近接されて設けられており、隣り合うカセット移動装置30間でカセットCの受け渡しを行うことができる。これにより、例えば外部カセット搬送装置Aのカセット把持部A1等が通路Bを通る際に、載置されているカセットCを隣のカセット移動装置30に移動させることができる。空カセット移送機構22は、例えば図4に示すようにカセット搬入出部10の最上部に設けられたX方向に延びるレール40上を移動できる。レール40は、図7に示すように例えば2本設けられ、外部カセット搬送装置Aのカセット把持部A1等の通路Bを妨げないように間隔を開けて配置されている。空カセット移送機構22は、図4に示すように上下方向に伸縮自在なカセット把持部41を有している。カセット把持部41は、上述の外部カセット搬送装置A等の通路Bを通過可能な大きさに形成されている。空カセット移送機構22は、カセット把持部41を上下方向に移動させて、載置板13と各空カセット載置台20、21のカセット移動装置30に対してカセットCを搬送できる。図1及び図2に示すようにカセットステーション2のウェハ搬送部11は、雰囲気制御を行うためのケーシング11aにより覆われている。ケーシング11aのカセット搬入出部10側の壁面には、各載置板13に対応する位置にウェハ搬送口11bが形成されている。各ウェハ搬送口11bには、載置板13上のカセットCの扉を開閉するドアオープナー50が設けられている。図1に示すようにウェハ搬送部11には、X方向に延びる搬送路60上を移動自在なウェハ搬送装置61が設けられている。ウェハ搬送装置61は、上下方向及び鉛直軸周りθ方向にも移動自在であり、各載置板13上のカセットCと、後述する処理ステーション3の第3のブロックG3の受け渡し装置との間でウェハWを搬送できる。処理ステーション3には、各種ユニットを備えた複数例えば4つのブロックG1、G2、G3、G4が設けられている。例えば処理ステーション3の正面側図1のX方向負方向側には、第1のブロックG1が設けられ、処理ステーション3の背面側図1のX方向正方向側には、第2のブロックG2が設けられている。また、処理ステーション3のカセットステーション2側図1のY方向負方向側には、第3のブロックG3が設けられ、処理ステーション3のインターフェイスステーション5側図1のY方向正方向側には、第4のブロックG4が設けられている。例えば第1のブロックG1には、図3に示すように複数の液処理ユニット、例えばウェハWを現像処理する現像処理ユニット80、ウェハWのレジスト膜の下層に反射防止膜以下下部反射防止膜というを形成する下部反射防止膜形成ユニット81、ウェハWにレジスト液を塗布してレジスト膜を形成するレジスト塗布ユニット82、ウェハWのレジスト膜の上層に反射防止膜以下上部反射防止膜というを形成する上部反射防止膜形成ユニット83が下から順に4段に重ねられている。例えば第1のブロックG1の各ユニット80~83は、処理時にウェハWを収容するカップFを水平方向に複数有し、複数のウェハWを並行して処理することができる。例えば第2のブロックG2には、図2に示すようにウェハWの熱処理を行う熱処理ユニット90や、ウェハWを疎水化処理するアドヒージョンユニット91、ウェハWの外周部を露光する周辺露光ユニット92が上下方向と水平方向に並べて設けられている。熱処理ユニット90は、ウェハWを載置して加熱する熱板と、ウェハWを載置して冷却する冷却板を有し、加熱処理と冷却処理の両方を行うことができる。なお、熱処理ユニット90、アドヒージョンユニット91及び周辺露光ユニット92の数や配置は、任意に選択できる。例えば第3のブロックG3には、複数の受け渡しユニット100、101、102、103、104、105、106が下から順に設けられている。また、第4のブロックG4には、複数の受け渡しユニット110、111、112が下から順に設けられている。図1に示すように第1のブロックG1~第4のブロックG4に囲まれた領域には、ウェハ搬送領域Dが形成されている。ウェハ搬送領域Dには、例えばウェハ搬送装置120が配置されている。ウェハ搬送装置120は、例えばY方向、前後方向、θ方向及び上下方向に移動自在な搬送アームを有している。ウェハ搬送装置120は、ウェハ搬送領域D内を移動し、周囲の第1のブロックG1、第2のブロックG2、第3のブロックG3及び第4のブロックG4内の所定のユニットにウェハWを搬送できる。ウェハ搬送装置120は、例えば図2に示すように上下に複数台配置され、例えば各ブロックG1~G4の同程度の高さの所定のユニットにウェハWを搬送できる。また、ウェハ搬送領域Dには、第3のブロックG3と第4のブロックG4との間で直線的にウェハWを搬送するシャトル搬送装置130が設けられている。シャトル搬送装置130は、例えばY方向に直線的に移動自在になっている。シャトル搬送装置130は、ウェハWを支持した状態でY方向に移動し、第3のブロックG3の受け渡しユニット102と第4のブロックG4の受け渡しユニット112との間でウェハWを搬送できる。図1に示すように第3のブロックG3のX方向正方向側には、ウェハ搬送装置140が設けられている。ウェハ搬送装置140は、例えば前後方向、θ方向及び上下方向に移動自在な搬送アームを有している。ウェハ搬送装置140は、ウェハWを支持した状態で上下に移動して、第3のブロックG3内の各受け渡しユニットにウェハWを搬送できる。インターフェイスステーション5には、ウェハ搬送装置150と受け渡しユニット151が設けられている。ウェハ搬送装置150は、例えば前後方向、θ方向及び上下方向に移動自在な搬送アームを有している。ウェハ搬送装置150は、例えば搬送アームにウェハWを支持して、第4のブロックG4内の各受け渡しユニットと受け渡しユニット151にウェハWを搬送できる。次に、以上のように構成された塗布現像処理装置1の作用について説明する。先ず、1ロット分の未処理のウェハWを収容したカセットC1が、外部カセット搬送装置Aにより図4に示すように塗布現像処理装置1のカセット搬入出部10の上方まで搬送される。その後、図8に示すように外部カセット搬送装置Aのカセット把持部A1が下方に伸びて、カセットC1がカセット載置台12の所定の載置板13に載置される。このとき、空カセット移送機構22は、カセット把持部A1の通路B上から退避している。また、各空カセット載置台20、21のカセット移動装置30も、駆動ベルト31が図5の点線で示したようにY方向の外方に開いて、通路B上から退避している。カセット把持部A1は、その空カセット載置台20、21を通過して、載置板13にカセットC1を搬送する。図1に示す載置板13にカセットC1が載置された後、当該載置板13がウェハ搬送部11側に移動し、カセットC1がウェハ搬送口11bにセットされる。そして、ドアオープナー50によりカセットC1の扉が開けられる。その後、ウェハ搬送装置61によりカセットC1内の各ウェハWが順に取り出され、処理ステーション3内に搬送され処理される。カセットC1から総てのウェハWが搬出された後、当該空のカセットC1は、空カセット移送機構22により例えば空カセット載置台20に搬送される。このとき、先ず空カセット移送機構22が空のカセットC1の真上に移動し、図9に示すように空カセット移送機構22のカセット把持部41が下方に伸びて空のカセットC1を保持する。なお、このとき空カセット載置台20、21のカセット移動装置30の駆動ベルト31は外側に開かれており、通路Bが確保されている。そして、カセット把持部41が空のカセットC1を空カセット載置台20の上方まで持ち上げ、その後カセット移動装置30の駆動ベルト31の間隔が狭められる。そして、図10に示すようにカセット把持部41により空カセット載置台20のカセット移動装置30に空のカセットC1が載置される。こうして、空のカセットC1は、ウェハWのロット処理中に一時的に空カセット載置台20に貯め置かれる。空のカセットC1が空カセット載置台20に載置されると、図11に示すように新しいロットのカセットC2が外部カセット搬送装置Aにより載置板13に搬入される。このとき、外部カセット搬送装置Aの通路B上に空のカセットC1がある場合には、カセット移動装置30の駆動ベルト31が作動し、空のカセットC1が隣のカセット移動装置30の駆動ベルト31に受け渡される。これにより、外部カセット搬送装置Aの通路Bが確保され、載置板13に新しいカセットC2を搬送できる。載置板13に搬送されたカセットC2は、上記カセットC1と同様に総てのウェハWが処理ステーション3に搬送された後、図12に示すように空カセット移送機構22により例えば空カセット載置台21に搬送される。その後、カセットC2は、必要に応じて通路Bを確保するため隣のカセット移動装置30に移送される。以上のように、載置板13上でウェハWが搬出されて空になったカセットCは、空カセット載置台20又は21に搬送され、一時的に貯め置かれる。一方、処理ステーション3に搬送されたカセットC1内のウェハWは、例えば熱処理ユニット90、下部反射防止膜形成ユニット81、熱処理ユニット90、アドヒージョンユニット91、レジスト塗布ユニット82、熱処理ユニット90、上部反射防止膜形成ユニット83、熱処理ユニット90、周辺露光ユニット92等に順次搬送され、各ユニットにおいて所定の処理が施される。その後、ウェハWは、露光装置4に搬送されて露光処理が施され、その後、処理ステーション3に戻される。その後、ウェハWは、熱処理ユニット90、現像処理ユニット80、熱処理ユニット90等に順次搬送され、各ユニットにおいて所定の処理が施される。こうして、ウェハWに対する一連の処理フォトリソグラフィー処理が終了する。ウェハWの一連の処理が終了するとき、空カセット載置台20に一時的に載置されていた空のカセットC1が、図13に示すように空カセット移送機構22により元の載置板13に戻される。このとき、空のカセットC1が隣のカセット移動装置30に受け渡されていた場合には、空のカセットC1は、元の載置板13の真上のカセット移動装置30に戻され、その後空カセット移送機構22により元の載置板13に載置される。なお、この際、カセット移動装置30の駆動ベルト31は外側に開かれ、通路Bが確保されている。また、例えば空カセット載置台21のカセットC2が通路Bを妨げている場合には、カセットC2は、隣のカセット移動装置30に移される。カセットC1が元の載置板13に戻された後、処理の終了したウェハWが、ウェハ搬送装置61により元のカセットC1に戻される。その後、図14に示すように外部カセット搬送装置Aのカセット把持部A1が下降し、当該カセット把持部A1により載置板13上のカセットC1が保持される。その後、カセット把持部A1が上昇して、カセットC1が塗布現像処理装置1から搬出される。カセットC2も同様に、ウェハWの処理が終了するときに空カセット移送機構22により元の載置板13に戻される。総てのウェハWが収容された後、カセットC2は、外部カセット搬送装置Aにより塗布現像処理装置1から搬出される。以上の実施の形態によれば、塗布現像処理装置1のカセット搬入出部10に、空カセット載置台20、21と空カセット移送機構22を設けたので、各ロットの処理中に空になったカセットCを載置板13から外して一時的に空カセット載置台20、21に貯めておくことができる。このため、載置板13に順次新しいカセットCを搬入できるので、一つのカセット内のウェハ枚数が少ない小ロット処理においても、時間の間隔を空けずに処理ステーション3に対しウェハWを連続的に搬入できる。この結果、塗布現像処理装置1におけるスループットを低下させずに、小ロット処理に対応できる。また、カセット載置台12の載置板13の数を増やさずに、塗布現像処理装置1のフットプリントの増大させずに、小ロット処理に対応できる。さらに、外部カセット搬送装置Aとカセット載置台12との間のカセットCの搬送については、既存のものと同じにできるので、例えば外部カセット搬送装置AによるカセットCの搬入出の制御等を変更する必要がなく、比較的簡単に小ロット処理に対応できる。以上の実施の形態では、カセット載置台12の真上に空カセット載置台20、21と空カセット移送機構22を設けたので、空カセット載置台20、21等の設置によりフットプリントが増えることを防止できる。また、空カセット載置台20、21は、外部カセット搬送装置Aやその外部カセット搬送装置Aに搬送されるカセットCが上下方向に通過できるように構成されたので、既存の外部カセット搬送装置Aを用いたカセットCの搬入出を適正に行うことができる。空カセット載置台20、21は、カセットCを支持する駆動ベルト31を有し、その駆動ベルト31は、Y方向に移動して通路Bの外側に退避できるように構成されたので、カセットCの支持と、外部カセット搬送装置A等の通路Bの確保の両方を適正に行うことができる。空カセット載置台20、21には、カセットCをX方向に移動する4つのカセット移動装置30を並べて設け、それらのカセット移動装置30間でカセットCを受け渡し可能にしたので、例えば載置された空のカセットCを隣のカセット移動装置30に受け渡して、外部カセット搬送装置A等の通路Bを確保することができる。これによって、外部カセット搬送装置Aにより新しいカセットCをカセット載置台12に連続的に搬入することができる。空カセット載置台20、21は、複数段に設けられたので、多くの空のカセットCを貯めることができ、その分新しいカセットCをカセット載置台12に搬入できる。この結果、より小ロットの処理にも対応できる。空カセット移送機構22は、外部カセット搬送装置A等の通路Bを通ってカセットCを搬送できるので、カセット移送装置22を空カセット載置台20、21の上方に設けた場合でも、カセットCの移送を適正に行うことができる。また、空カセット移送機構22は、外部カセット搬送装置A等の通路Bを妨げないように、水平方向に移動できるので、これによっても外部カセット搬送装置AによるカセットCの搬入出を適正に行うことができる。なお、例えば以上の実施の形態で記載した処理ステーション2内の空カセット載置台の段数は、2段に限られず、3段以上であってもよい。また、各空カセット載置台20、21のカセット移動装置30の数も載置板13の数に応じて任意に選択できる。以上の実施の形態では、カセット移動装置30のカセットの支持部材が駆動ベルト31であったが、他の構造の支持部材であってもよい。また、カセット移動装置30によるカセットCの移動は駆動ベルト31により行われていたが、他の駆動機構により行ってもよい。次に、前記実施の形態で説明したカセット搬入出部10の他の実施の形態本発明の実施の形態である、図15に示すカセット搬入出部200を搭載した塗布現像処理装置1について説明する。図15は、他の実施の形態にかかる塗布現像処理装置1の内部構成の概略を示す説明図であり、図16は、塗布現像処理装置1の内部の構成の概略を示す側面図である。なお、本実施の形態におけるカセットCは、図17に示すようにウェハWを収容する本体部210と、本体部210の上面から突出した軸211と、軸211に支持された係止部212を有している。係止部212は略方盤形状を有し、その1辺の長さは軸211の径よりも長くなっている。例えばカセット搬入出部200は、図15に示すように塗布現像処理装置1のY方向負方向図15の左方向側の端部に設けられている。カセット搬入出部200には、カセット載置部としてのカセット載置台220が設けられている。カセット載置台220上には、複数、例えば4つの載置板221が設けられている。載置板221は、水平方向のX方向図15中の上下方向に一列に並べて設けられている。載置板221は、例えば略方盤形状を有し、載置されたカセットCを固定できる。また、載置板221は、例えばY方向にスライド自在あり、載置したカセットCのウェハ取り出し口をウェハ搬送部11側のウェハ搬送口11bに接続できる。カセット搬入出部200のカセット載置台220の上方には、図18に示すように、複数段、例えば2段の空カセット載置部としての空カセット載置台230、231が設けられている。各空カセット載置台230、231上には、複数、例えば4つの載置板232が設けられている。4つの載置板232は、カセット載置台220の4つの載置板221に対応するようにX方向に並べて設けられている。各載置板232は、例えば略方盤形状を有し、載置されたカセットCを固定できる。上段の空カセット載置台231に設けられた4つの載置板232のうち、2つの載置板232にカセットCが載置されるスペースは、塗布現像処理装置1の外部との間でカセットCを搬入出するための、搬入スペース240及び搬出スペース241として機能している。また、上段の空カセット載置台231の上方には、レールRが配設されており、当該レールRには、塗布現像処理装置1と外部の他の処理装置との間でカセットCを搬送する外部カセット搬送装置Aが設けられている。外部カセット搬送装置Aは、空カセット載置台231の上方をX方向に移動できる。外部カセット搬送装置Aは、例えば上下方向に伸縮自在なカセット把持部A1を有し、外部カセット搬送装置Aの本体が空カセット載置台231の搬入スペース240又は搬出スペース241の上方に移動し、その後カセット把持部A1を上下方向に移動させて、搬入スペース240又は搬出スペース241に対してカセットCを搬送できる。カセット搬入出部200には、例えば図15に示すようにカセット載置台220のY方向負方向図15の左方向側に空カセット移送機構250が設けられている。空カセット移送機構250は、図19及び図20に示すようにカセットCを支持するアーム251を有している。アーム251は、図21に示すように2本の本体部252と、本体部252を支持する支持部253とを有している。2本の本体部252は、カセットCの軸211に干渉することなく、係止部212の下面と当接して、カセットCを支持できる。アーム251は、図19及び図20に示すように水平方向図中のX方向に延びるアーム支持部254に支持されている。アーム支持部254は、上下方向図中のZ方向に延びるアーム駆動部255に支持されている。アーム駆動部255には、例えば図示しないモータなどが内蔵され、アーム支持部254及びアーム251を水平方向図中のX方向及びY方向に移動させると共に、上下方向図中のZ方向に移動させることができる。すなわち、アーム251は、空カセット載置台230、231とカセット載置台220の側方から水平方向図中のY方向に移動して、空カセット載置台230、231とカセット載置台220に対してカセットCを移送できる。また、アーム251は、上下方向に移動することで、空カセット載置台230、231とカセット載置台220との間でカセットCを移送できる。なお、本実施の形態では、これらアーム支持部254とアーム駆動部255がアーム移動部を構成している。この空カセット移送機構250の動作は、図19及び図20に示す制御部300によって制御される。制御部300は、空カセット載置台230、231とカセット載置台220の適切な場所に適切なタイミングでカセットCを載置するように、空カセット移送機構250の動作を制御する。例えば本実施の形態においては、空カセット載置台230、231とカセット載置台220の載置板232、221にはアドレスが付され、カセットCにはカセットIDが付されている。そして制御部300は、これら載置板232、221のアドレスとカセットIDに基づいてカセットCの載置場所を設定し、空カセット移送機構250の動作を制御する。また本実施の形態においては、カセットC内のウェハWにもカセットIDに対応するウェハIDが付されている。そして制御部300は、カセットIDとウェハIDに基づいて、常にウェハWが同一のカセットC内に収容されるようにカセットCの載置場所を設定し、空カセット移送機構250の動作を制御する。さらに制御部300は、上述した空カセット移送機構250の動作と共に、塗布現像処理システム1におけるウェハWの処理も制御する。制御部300には、処理ステーション3の各ユニットや露光装置4等からウェハWの処理状況がウェハIDと共に出力される。そして制御部300では、その出力結果に基づいてウェハWの処理を制御すると共に、空カセット移送機構250の動作を制御する。制御部300は、例えばCPUやメモリなどを備えたコンピュータにより構成され、例えばメモリに記憶されたプログラムを実行することによって、空カセット移送機構250の動作やウェハWの処理を制御できる。当該各種プログラムは、例えばコンピュータ読み取り可能なCDなどの記憶媒体に記憶されていたものであって、その記憶媒体から制御部300にインストールされたものが用いられている。なお、塗布現像処理装置1のその他の構成については、前記実施の形態で説明した構成と同一であるので、説明を省略する。次に、以上のように構成された塗布現像処理装置1の作用について説明する。先ず、1ロット分の未処理のウェハWを収容したカセットC1が、外部カセット搬送装置Aにより空カセット載置台231の搬入スペース240の上方まで搬送される。その後、図22に示すように外部カセット搬送装置Aのカセット把持部A1が下方に伸びて、カセットC1が搬入スペース240の載置板232に載置される。次に、搬入スペース240のカセットC1は、図23に示すように空カセット移送機構250によりカセット載置台220の所定の載置板221に載置される。このとき、新しいロットのカセットC2が、外部カセット搬送装置Aにより搬入スペース240の上方まで搬送される。載置板221にカセットC1が載置された後、図15に示す当該載置板221がウェハ搬送部11側に移動し、カセットC1がウェハ搬送口11bにセットされる。そして、ドアオープナー50によりカセットC1の扉が開けられる。その後、ウェハ搬送装置61によりカセットC1内の各ウェハWが順に取り出され、処理ステーション3内に搬送され処理される。カセットC1内のウェハWが処理ステーション3に搬送されている間、図24に示すように搬入スペース240のカセットC2が、空カセット移送機構250によりカセット載置台220の他の載置板221に載置される。このとき、新しいロットのカセットC3が、外部カセット搬送装置Aにより搬入スペース240の上方まで搬送される。カセットC1から総てのウェハWが搬出された後、当該空のカセットC1は、図24に示すように空カセット移送機構250により例えば空カセット載置台230に移送される。空のカセットC1は、空カセット載置台230の所定の載置板232に載置され、ウェハWのロット処理中に一時的に空カセット載置台230に貯め置かれる。空のカセットC1は、当該カセットC1の総てのウェハWに所定の処理、例えば現像ユニット80での現像処理が終了するまで、載置板232に載置される。また、カセットC1から総てのウェハWが搬出されると、次のカセットC2が載置された載置板221がウェハ搬送部11側に移動し、カセットC2内の各ウェハWが順に取り出され、処理ステーション3内に搬送され処理される。その後、カセットC2から総てのウェハWが搬出されると、当該空のかセットC2は、空カセット載置台230の所定の載置台232に載置される。このように所定の個数、例えば6つのカセットC1~C6が順次カセットステーション2に搬入された後、当該カセットC1~C6内のウェハWが処理ステーション3内に搬出される。そして空のカセットC1~C6は、図25に示すように空カセット載置台230、231の載置板232に載置される。なお、空カセット載置台230、231に貯め置かれる空のカセットCの個数は6つに限定されず、ウェハWに対する処理プロセス等に応じて任意に変更することができる。一方、処理ステーション3に搬出されたカセットC1のウェハWには、各種処理が行われている。この間、制御部300には、処理ステーション3等からウェハWの処理状況が出力されている。そして、例えばカセットC1の総てのウェハWに対して現像ユニット80での現像処理が終了した場合に、制御部300が空カセット移送機構250を制御することにより、図26に示すように空カセット載置台230の空のカセットC1がカセット載置台220の所定の載置板221に移送される。その後、一連のフォトリソグラフィー処理が終了したウェハWが、ウェハ搬送装置61により元のカセットC1に戻される。総てのウェハWがカセットC1に収容されると、図27に示すように空カセット移送機構250によりカセットC1が搬出スペース241に移送され、載置板232に載置される。その後、図28に示すように搬出スペース241の上方から外部カセット搬送装置Aのカセット把持部A1が下降し、当該カセット把持部A1により載置板232上のカセットC1が保持される。そして、カセット把持部A1が上昇して、カセットC1が塗布現像処理装置1から搬出される。このとき、カセットC2の総てのウェハWに対して現像ユニット80での現像処理が終了している場合には、空カセット移送機構250により空カセット載置台230の空のカセットC2がカセット載置台220の所定の載置板221に移送される。以上のように、カセットCが連続的に塗布現像処理装置1に搬入出され、当該カセットC内のウェハWにフォトリソグラフィー処理が行われる。以上の実施の形態によれば、塗布現像処理装置1のカセット搬入出部200に、空カセット載置台230、231と空カセット移送機構250を設けたので、各ロットの処理中に空になったカセットCをカセット載置台220から外して一時的に空カセット載置台230、231に貯めておくことができる。このため、カセット載置台220に順次新しいカセットCを移送できるので、一つのカセット内のウェハ枚数が少ない小ロット処理においても、時間の間隔を空けずに処理ステーション3に対しウェハWを連続的に搬入できる。この結果、塗布現像処理装置1におけるスループットを低下させずに、小ロット処理に対応できる。また、カセット載置台220の載置板221の数を増やさずに、塗布現像処理装置1のフットプリントの増大させずに、小ロット処理に対応できる。さらに、外部カセット搬送装置Aは、搬入スペース240及び搬出スペース241のみに対してカセットCを搬入出するので、外部カセット搬送装置AのカセットCの搬送については、既存のものと同じにできる。これによって、例えば外部カセット搬送装置AによるカセットCの搬入出の制御等を変更する必要がなく、比較的簡単に小ロット処理に対応できる。また、このように空カセット載置台230、231と空カセット移送機構250を設けることは、ウェハW上に微細なパターンを形成する際に用いられるダブルパターニング処理を行う場合にも有効である。ダブルパターニング処理では、ウェハW上の微細な層に形成されるパターンを2回に分けて露光処理し、最初の露光処理後にエッチング処理を行い、再び同じ層に2回目の露光処理を行っている。したがって、1回目のパターニングと2回目のパターニングでは、ウェハWに行う処理工程が異なるため、それぞれの処理にかかる時間が異なる。このようなダブルパターニング処理の際に、本実施の形態にかかる塗布現像処理システム1を用いた場合でも、カセットCを空カセット載置台230、231に貯めておくことで、適切なタイミングでカセットCをカセット載置台220に移送することができる。したがって、処理が終わったウェハWを順にカセットCに収容することができ、塗布現像処理装置1におけるスループットを向上させることができる。以上の実施の形態では、カセット載置台220の真上に空カセット載置台230、231を設けたので、空カセット載置台230、231等の設置によりフットプリントが増えることを防止できる。空カセット移送機構250のアーム251は、アーム支持部254とアーム駆動部255によって上下方向及び水平方向に移動することができるので、空カセット載置台230、231とカセット載置台220の側方から水平方向に移動して、空カセット載置台230、231とカセット載置台220に対してカセットCを移送することができる。これによって、複数のカセットCが塗布現像処理装置1に搬入された場合でも、各カセットCを干渉させることなく適正に所定の場所に移送することができる。空カセット載置台230、231には、塗布現像処理装置1の外部との間でカセットCを搬入出するために搬入スペース240が設けられ、搬入スペース241のカセットCは、空カセット移送機構250によりカセット載置台220に移送される構成にしたので、外部カセット搬送装置Aにより新しいカセットCを搬入スペース240に連続的に搬入することができる。空カセット載置台230、231は複数段に設けられ、また各カセット載置台230、231には複数の載置板232が設けられたので、多くの空のカセットCを貯めることができ、その分新しいカセットCをカセット載置台220に移送できる。この結果、塗布現像処理装置1におけるスループットを低下させずに、より小ロットの処理にも対応できる。以上の実施の形態の塗布現像処理装置1を用いて、例えば塗布現像処理装置1のシャットダウン時における装置内のウェハWの回収を制御してもよい。シャットダウン時では、処理ステーション3に搬入された順でウェハWを回収するのが最も効率が良いとは限らない。例えばレジスト塗布ユニット82内のウェハWは、露光装置4内のウェハWよりも後に処理ステーション3に搬入されているが、カセットステーション2までの搬送経路は短い。この場合、レジスト塗布ユニット82内のウェハWを先に回収した方が効率が良い場合がある。そこで塗布現像処理装置1がシャットダウンされると、先ず、制御部300は、各ウェハWの処理状況に基づいて回収する順を決定する。その後、この決定されたウェハWの回収順に基づいて空カセット移送機構250を制御し、空カセット載置台230、231の空のカセットCがカセット載置台220に移送される。これによって、シャットダウン時に塗布現像処理装置1内に残っているウェハWを効率よく回収することができ、スループットを向上させることができる。以上の実施の形態では、カセットC内のウェハWは、カセット載置台220に移送された順で、処理ステーション3に搬出され処理されていたが、各カセットC内のウェハWの処理条件に応じて処理ステーション3に搬出する順を変更してもよい。例えば熱処理ユニット90において、ウェハWに対して異なる熱処理温度の熱処理を連続して行う場合、例えばカセットC1内のウェハWに対する熱処理温度が90度であり、カセットC2内のウェハWに対する熱処理温度が100度であり、カセットC3内のウェハWに対する熱処理温度が90度の場合がある。このとき、カセットC1~C3がこの順でカセット載置台220に移送された場合でも、カセットC1とカセットC3内のウェハWを処理ステーション3に搬出した後、カセットC2内のウェハWを処理ステーション3に搬出する。そうすると、熱処理ユニット90では、1回の熱処理温度の変更によって、ウェハWを連続的に熱処理することができる。したがって、塗布現像処理装置1におけるスループットを向上させることができる。なお、この場合の処理条件は熱処理温度に限定されず、その他の処理条件であってもよい。以上の実施の形態では、カセット載置台220は1段に設けられていたが、2段以上であってもよい。また、空カセット載置台230、231は2段に設けられていたが、3段以上であってもよい。さらに、空カセット載置台230、231は、図15に示したように空カセット移送機構250のY方向正方向側に設けられていたが、空カセット移送機構250のY方向負方向側にも空カセット載置台をさらに設けてもよい。また、各空カセット載置台230、231の載置板232の数も任意に増加させることができる。以上のように、カセットCの載置箇所を増加させることによって、多くの空のカセットCを貯めることができ、その分新しいカセットCをカセット載置台220に移送できる。この結果、塗布現像処理装置1におけるスループットを低下させずに、より小ロットの処理にも対応できる。以上の実施の形態では、空カセット載置台230、231は、カセット載置台220の上方に固定されていたが、取り外し自在に構成されていてもよい。これによって、例えば空カセット載置台230、231のメンテナンスを容易に行うことができる。また、空カセット載置台230、231を取り外した場合でも、塗布現像処理装置1をそのまま稼動させることができる。以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。以上の実施の形態における基板の処理装置は、フォトリソグラフィー処理を行う塗布現像処理装置であったが、他の処理を行う処理装置であってもよい。さらに、本発明は、半導体ウェハ以外に、FPDフラットパネルディスプレイ、フォトマスク用のマスクレチクルなどの他の基板の処理装置にも適用できる。