"透明基材と、前記透明基材より上層に積層されたハードコート層と、前記ハードコート層より上層に積層された反射防止層と、前記透明基材と前記ハードコート層との間に遮蔽層と、を備え、前記ハードコート層は、アミド化合物を含むハードコート層であり、前記遮蔽層は、酸化ケイ素を含む遮蔽層であることを特徴とする反射防止フィルム。前記酸化ケイ素は、粒径が45μm以上85μm未満の範囲にある粒子状の酸化ケイ素を原料とすることを特徴とする請求項1に記載の反射防止フィルム。前記遮蔽層の厚みは、200nm以上350nm以下の範囲にあることを特徴とする請求項1または請求項2のいずれかに記載の反射防止フィルム。7.0g/m2/day以下の範囲にある水蒸気バリア性を備えることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の反射防止フィルム。請求項1から4のいずれかに記載の反射防止フィルムと、前記反射防止フィルムの遮蔽層の形成面と反対側の透明基材上に偏光層と、を備えたことを特徴とする偏光板。請求項5に記載の偏光板を用いた表示装置。しかしながら、反射防止フィルムに偏光層を設けた構成の偏光板は、偏光層が退色するといった問題を有していた。そこで、本発明は、上述の問題を解決するためになされたものであり、偏光板として用いたとき、偏光層が退色することが抑制される反射防止フィルムを提供することを目的とする。本発明者は鋭意検討の結果、反射防止フィルム内に存在するアミド化合物が偏光板の退色を促進することを見出し、アミド化合物を含む層と偏光層との間にアミド化合物を遮蔽する酸化ケイ素を含む遮蔽層を設けることにより、偏光板の退色を抑制することを想到するに至った。本発明の一実施形態は、透明基材と、前記透明基材より上層に積層されたハードコート層と、前記ハードコート層より上層に積層された反射防止層と、前記透明基材と前記ハードコート層との間に遮蔽層と、を備え、前記ハードコート層は、アミド化合物を含むハードコート層であり、前記遮蔽層は、酸化ケイ素を含む遮蔽層であることを特徴とする反射防止フィルムを特徴とする反射防止フィルムである。また、前記酸化ケイ素は、粒径が45μm以上85μm未満の範囲にある粒子状の酸化ケイ素を原料とすることが好ましい。また、前記遮蔽層の厚みは、200nm以上350nm以下の範囲にであってもよい。また、上述の反射防止フィルムは、7.0g/m2/day以下の範囲にある水蒸気バリア性を備えることが好ましい。本発明の一実施形態は、上述に記載の反射防止フィルムと、前記反射防止フィルムの遮蔽層の形成面と反対側の透明基材上に偏光層と、を備えたことを特徴とする偏光板である。本発明の一実施形態は、上述に記載の偏光板を用いた表示装置である。本発明の反射防止フィルムは、透明基材とアミド化合物を含むハードコート層との間に、酸化ケイ素を含む遮蔽層を設けることにより、透明基材側方向へのアミド化合物による影響を抑制することが出来る。このため、反射防止フィルムの遮蔽層の形成面と反対側の透明基材上に偏光層を設けることで、偏光層が退色することが抑制された偏光板を提供することが出来る。以下、本発明の反射防止フィルムについて説明を行う。本発明の反射防止フィルムは、透明基材と、前記透明基材より上層に積層されたハードコート層と、前記ハードコート層より上層に積層された反射防止層と、前記透明基材と前記ハードコート層との間に遮蔽層と、を備え、前記ハードコート層は、アミド化合物を含むハードコート層であり、前記遮蔽層は、酸化ケイ素を含む遮蔽層である。本発明の反射防止フィルムは、透明基材とアミド化合物を含むハードコート層との間に、酸化ケイ素を含む遮蔽層を設けることにより、透明基材側方向へのアミド化合物による影響を抑制することが出来る。このため、反射防止フィルムの遮蔽層の形成面と反対側の透明基材上に偏光層を設けることで、偏光層が退色することが抑制された偏光板を提供することが出来る。図1に、本発明の反射防止フィルムの一例を示す。図1は、最表面から見て、反射防止層13/ハードコート層12/遮蔽層14/透明基材11が順に積層された反射防止フィルム10を示す。透明基材は、機械的強度や寸法安定性に優れ、透光性を備えた材料を適宜公知の材料から選択し、用いてよい。例えば、プラスチックフィルム用いてよい。プラスチックフィルムとして、具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリエーテルサルフォンPES、ポリスチレンPS、ポリエチレンナフタレートPEN、ポリアリレートPAR、ポリエーテルエーテルケトンPEEK、ポリカーボネートPC、ポリエチレンPE、ポリプロピレンPP、ナイロン6等のポリアミドPA、ポリイミドPI、トリアセチルセルロースTAC等のセルロース系樹脂フィルム、ポリウレタンPUR、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニルPVC等のビニル化合物、ポリアクリル酸PMMA、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン等のビニリデン化合物、フッ化ビニリデン/トリフルオロエチレン共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体等のビニル化合物またはフッ素系化合物の共重合体、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコールPVA、ポリビニルブチラール、などを用いてもよい。特に、トリアセチルセルロースTACフィルムは、複屈折が少なく透明性が良好であるため、本発明の反射防止フィルムに用いる材料として好ましい。また、透明基材は、コロナ処理、低温プラズマ処理などの表面処理を施しても良い。表面処理を行うことにより、他の層を積層するにあたり密着性を向上させることが出来る。ハードコート層は、反射防止フィルムの機械的強度を改善するために設ける。ハードコート層を設けることにより、高い表面硬度、鉛筆等の荷重のかかる引っ掻きに対する耐擦傷性、上層のクラック抑制、などの利点が得られる。また、ハードコート層の膜厚は、所望する仕様に応じて適宜設計してよい。具体的には、例えば、5μm以上12μm以下程度の範囲にあることが好ましい。ただし、本発明の反射防止フィルムにおけるハードコート層の膜厚は上記範囲に限定されるものではない。また、ハードコート層は、アミド化合物を含む材料よりなる。ハードコート層にアミド化合物を含むことにより、反射防止フィルムの硬度の向上および反り耐性を両立させることが出来る。本発明の反射防止フィルムのハードコート層に含まれるアミド化合物は、一分子内に1以上のアミド基および1以上の重合性基を有するモノマーである、炭素-炭素不飽和二重結合を備えるアミド化合物が好ましい。炭素-炭素不飽和二重結合を備えるアミド化合物としては、例えば、メタアクリルアミド、N-メチロールメタアクリルアミド、N,N-ジメチルメタアクリルアミド、N,N-ジブチルメタアクリルアミド、N,N-ジオクチルメタアクリルアミド、N-モノブチルメタアクリルアミド、N-2-ヒドロキシエチルアクリルアミド、N-2-ヒドロキシエチルメタクリルアミドメタアクリロイルモルホリンなどのアクリル系化合物、N-ビニルホルムアミド、2-プロペニルホルムアミド、N-ビニルピロリドン、N-ビニル-ε-カプロラクタムなどのビニル系化合物が挙げられる。また、ハードコート層の形成方法としては、ハードコート層に選択した材料に応じて適宜公知の層形成方法を用いてよい。以下、一例として、ハードコート層形成用塗液を調整し、ハードコート層形成用塗液を塗工し、乾燥し、電離放射線により硬化し、ハードコート層を形成する方法について、具体的に説明を行う。まず、ハードコート層形成用塗液を調整する。ハードコート層を形成する材料を適宜選択し、該材料を溶媒に拡散させる。例えば、ハードコート層形成用塗液は、4級アンモニウム塩材料、アミド化合物、光重合性モノマー、光重合開始剤、などを溶媒に拡散した液であってもよい。4級アンモニウム塩材料は-NX-の構造を示し、4級アンモニウムカチオンNとアニオンX-を備えることによりハードコート層に導電性を発現させる。このとき、X-としては、Cl-、Br-、I-、F-、HSO4-、SO42-、NO3-、PO43-、HPO42-、H2PO4-、SO3-、OH-、などを挙げることができる。また、4級アンモニウム塩材料として、4級アンモニウム塩を官能基として分子内に含むアクリル系材料を好適に用いることができる。4級アンモニウム塩を官能基として分子内に含むアクリル系材料としては、例えば、4級アンモニウム塩-NX-を官能基として分子内に含む多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような多官能または多官能のメタアクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタンメタアクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、などが挙げられる。光重合性モノマーは、機械的強度などを考慮し適宜公知の材料より選択してよい。例えば、アクリル系材料を用いてもよい。アクリル系材料としては、例えば、ポリメチロールプロパントリメタアクリレートヘキサンジオールメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、1、6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルなどの多官能のメタアクリレート化合物、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートから合成されるような多官能のウレタンメタアクリレート化合物、などが挙げられる。特に、官能基を3つ以上持つアクリル系材料は、硬度および硬化速度に優れることから、ハードコート層に用いる材料として好ましい。官能基を3つ以上持つ材料としては、例えば、ペンタエリスリトールヘキサメタアクリレートなどが挙げられる。また、所望する分子量、分子構造を設計でき、形成されるハードコート層の物性のバランスを容易にとることが可能であるといった理由から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。なお、メタアクリレートとはアクリレートとメタクリレートの両方を示し例えば、ウレタンメタアクリレートはウレタンアクリレートとウレタンメタアクリレートの両方を示すものとする。光重合開始剤、選択した光重合性モノマーに応じて適宜好適なものを選択してよい。例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、などの光重合開始剤を用いてよい。溶媒としては、組成物の安定性、塗工表面に対する濡れ性、揮発性などを考慮して適宜選択してよい。具体的には、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、2-メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトンメチルイソブチル等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、N-メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、などを用いてもよい。また、溶媒は1種類のみならず2種類以上の溶媒を混合した混合溶媒であってもよい。次に、ハードコート層形成用塗液を塗工し、乾燥させる。塗工方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いてよい。次に、塗工したハードコート層形成用塗液に電離放射線を照射し、ハードコート層を形成する。電離放射線は、選択した光重合開始剤に応じて適宜用いる電離放射線を選択してよい。電離放射線として、例えば、紫外線、電子線などを用いてよい。また、電離放射線を照射する際、大気、窒素やアルゴンなどの不活性ガスなど様々な雰囲気下で照射してもよい。また、電離放射線を照射するにあたり、紫外線を用いる場合、照射にあたり、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、無電極放電管、などを用いて行ってよい。反射防止層は、ハードコート層と屈折率の異なる層であり、反射防止層を設けることにより、観察面である表示画面に対する外光などの反射を防止することが出来る。また、反射防止層の膜厚は、所望する仕様に応じて適宜設計してよい。具体的には、例えば、95nm以上110nm以下程度の範囲にあることが好ましい。ただし、本発明の反射防止フィルムにおける反射防止層の膜厚は上記範囲に限定されるものではない。また、反射防止層の形成方法としては、反射防止層に選択した材料に応じて適宜公知の層形成方法を用いてよい。以下、一例として、反射防止層形成用塗液を調整し、反射防止層形成用塗液を塗工し、乾燥し、電離放射線により硬化し、反射防止層を形成する方法について、具体的に説明を行う。まず、反射防止層形成用塗液を調整する。反射防止層を形成する材料を適宜選択し、該材料を溶媒に拡散させる。例えば、反射防止層形成用塗液は、低屈折率粒子、撥水性能を有する材料、光重合性モノマー、光重合開始剤、などを溶媒に拡散した液であってもよい。低屈折率粒子は、反射防止層の屈折率を制御するために選択される。低屈折率粒子として、例えば、{LiF、MgF、3NaFAlF3、AlF3いずれも、屈折率1.4}、Na3AlF6氷晶石屈折率1.33、低屈折率シリカ粒子、などを用いてもよい。特に、低屈折率粒子として低屈折率シリカ粒子を用いることが好ましい。低屈折率シリカ粒子は、粒子の内部に空隙を有する低屈折率粒子であり、粒子の内部に空隙を有する粒子においては、空隙の部分を空気の屈折率≒1とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすることができる。低屈折率シリカ粒子としては、例えば、多孔質シリカ粒子、シェル構造のシリカ粒子、などが挙げられる。低屈折率粒子に低屈折率シリカ粒子を用いる場合、低屈折率シリカ粒子の粒径は、1nm以上100nm以下程度の範囲にあることが好ましく、50nm以上80nm以下程度の範囲にあることがより好ましい。低屈折率シリカ粒子の粒径が100nmを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、反射防止層13が白化して反射防止フィルム10の透明性が低下する傾向にある。一方、低屈折率シリカ粒子の粒径が1nm未満の場合、粒子の凝集による反射防止層における粒子の不均一性等の問題が生じる。撥水性能を有する材料は、撥水性能を示す材料より適宜選択してよい。例えば、1アルキルアラルキル変性シリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、アルキルポリエーテル変性シリコーンオイル、などのシリコーン系材料、2アルキルアルコキシシラン化合物、シランシロキサン化合物、ポリエステル基を含有するシラン化合物、ポリエーテル基を有するシラン化合物、シロキサン化合物、などの有機ケイ素化合物、などを用いてもよい。光重合性モノマーは、機械的強度などを考慮し適宜公知の材料より選択してよい。例えば、アクリル系材料を用いてもよい。アクリル系材料としては、例えば、ポリメチロールプロパントリメタアクリレートヘキサンジオールメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、1、6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルなどの多官能のメタアクリレート化合物、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートから合成されるような多官能のウレタンメタアクリレート化合物、などが挙げられる。特に、官能基を3つ以上持つアクリル系材料は、硬度および硬化速度に優れることから、反射防止層に用いる材料として好ましい。官能基を3つ以上持つ材料としては、例えば、ペンタエリスリトールヘキサメタアクリレートなどが挙げられる。また、所望する分子量、分子構造を設計でき、形成される反射防止層の物性のバランスを容易にとることが可能であるといった理由から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。なお、メタアクリレートとはアクリレートとメタクリレートの両方を示し例えば、ウレタンメタアクリレートはウレタンアクリレートとウレタンメタアクリレートの両方を示すものとする。光重合開始剤は、選択した光重合性モノマーに応じて適宜好適なものを選択してよい。例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、などの光重合開始剤を用いてよい。溶媒としては、組成物の安定性、塗工表面に対する濡れ性、揮発性などを考慮して適宜選択してよい。具体的には、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、2-メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトンメチルイソブチル等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、N-メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、などを用いてもよい。また、溶媒は1種類のみならず2種類以上の溶媒を混合した混合溶媒であってもよい。次に、反射防止層形成用塗液を塗工し、乾燥させる。塗工方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いてよい。次に、塗工した反射防止層形成用塗液に電離放射線を照射し、ハードコート層を形成する。電離放射線は、選択した光重合開始剤に応じて適宜用いる電離放射線を選択してよい。電離放射線として、例えば、紫外線、電子線などを用いてよい。また、電離放射線を照射する際、大気、窒素やアルゴンなどの不活性ガスなど様々な雰囲気下で照射してもよい。また、電離放射線を照射するにあたり、紫外線を用いる場合、照射にあたり、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、無電極放電管、などを用いて行ってよい。遮蔽層は、遮蔽層は酸化ケイ素を含む層であり、ハードコート層に含まれるアミド化合物が他の層に浸透拡散することを抑制するために設けられる。また、遮蔽層の厚みは、200nm以上350nm以下程度の範囲にあることが好ましい。形成される遮蔽層の膜厚が200μmに満たない場合、遮蔽層のアミド化合物に対するバリア性に影響し、偏光板の退色を抑制する効果を十分なものとすることができない。また、形成される遮蔽層の膜厚が350nmを超える場合、遮蔽層の形成に時間を要し製造コストが増大するため好ましくない。また、遮蔽層の形成方法としては、酸化ケイ素を含む層を好適に形成可能な方法を適宜公知の方法から選択して用いてよい。例えば、物理蒸着PVD、化学蒸着CVD、真空蒸着、などのドライコーティング法を用いて形成してよい。以下、一例として、酸化ケイ素を含む蒸着材料を形成し、真空蒸着であるEB蒸着により遮蔽層の形成を行う方法について説明を行う。まず、酸化ケイ素を含む蒸着材料を形成する。a粉末のケイ素を金型に投入し、b金型上部からプレス板を用いて加圧し、c加圧され成型されたケイ素を金型から剥離し、d成型されたケイ素を加熱炉にて酸素を注入しながら焼成することにより、粒状の酸化ケイ素が凝集された酸化ケイ素を含む蒸着材料を形成することが出来る。このとき、蒸着材料の最表面の酸化度は内部に比べ高い。このとき、酸化度は、酸素/ケイ素の比のことをいう。また、酸化ケイ素を含む蒸着材料は、粒径が45μm以上85μm未満の範囲にある粒子状の酸化ケイ素よりなることが好ましい。酸化ケイ素の粒径が85μm以上の場合、蒸着材料の最表面上の密度が粗くなることから、均一にEB照射されず、均質な遮蔽層を形成できず好ましくない。また、酸化ケイ素の粒径が45μm以下の場合、蒸着材料自体の密度が大きくなることから、EB照射時に蒸着材料自体が破損し、破片が蒸着対象へ衝突し、蒸着対象が破損する恐れがある。次に、得られた酸化ケイ素を含む蒸着材料に真空下でエレクトロンビームEB照射し、EB蒸着を行い、遮蔽層の形成することが出来る。図2に、酸化ケイ素を含む蒸着材料を成型する工程を示す。図2は、a粉末のケイ素Aを金型Bに投入する工程、b金型B上部からプレス板Cを用いて加圧Jする工程、c加圧され成型されたケイ素板Eを金型から剥離する工程、d剥離したケイ素板Eを加熱炉Fにて酸素Gを注入しながら焼成することにより、酸化ケイ素板Iを得る工程、を示す。また、図2では、柱状の金型Bを用いることにより、柱状に成型されたケイ素柱E、柱形状に焼成された酸化ケイ素柱Hも併せて示す。このとき、加圧Jは、100kN以上200kN以下程度の範囲の圧力であってもよい。また、加熱炉Fの焼成条件は、温度:1000°C、加熱時間30分以上60分以下程度の範囲であってもよい。また、本発明の反射防止フィルムは、平均視感反射率が0.5以上1.5以下の範囲内であることが好ましい。平均視感反射率が1.5を越える場合は、反射防止性能が低下してしまい、外光の映り込みが発生しやすくなる。一方、平均視感反射率が0.4未満の場合は、高い反射防止性能を実現するために高屈折率層、低屈折率を積層する必要がありコスト高となる。また、本発明の反射防止フィルムは、全光線透過率が95以上であることが好ましい。全光線透過率が95未満の場合には、透過型液晶ディスプレイ等の画像装置の表面に設けるのに適さなくなってしまう。また、本発明の反射防止フィルムは、反射防止層表面の表面抵抗値が1.0×105Ω/cm2以上1.0×1011Ω/cm2以下であることが好ましい。表面の表面抵抗値が1.0×1011Ω/cm2以下といった高い帯電防止性をハードコート層に付与するにあっては、金属粒子や金属酸化物粒子といった導電性粒子を用いて帯電防止性を有するハードコート層を形成する場合には相当量の導電性粒子を添加する必要があり、このとき、全光線透過率が低下してしまう。しかしながら、4級アンモニウム塩材料を用い、帯電防止性を有するハードコート層を形成するにあっては、良好な帯電防止性能を発現しかつ全光線透過率の低下を防ぐことができる。また、本発明の反射防止フィルムは、ヘイズが0.05以上0.3以下の範囲内とすることが好ましい。ヘイズを0.3以下とすることにより、明所コントラストの高い反射防止フィルムとすることができる。ヘイズが0.3を超える場合には、散乱による透過損失によって暗所での黒表示させた際の光モレを見かけ上抑制することが可能となるが、明所での黒表示の際に散乱によって黒表示が白ボケしてコントラストが低下してしまう。反射防止フィルムのヘイズは、小さいほうが好ましいが、0.01未満に作製することは困難である。また、本発明の反射防止フィルムは、水蒸気バリア性が5.0g/m2/day以上7.0g/m2/day以下程度の範囲にあることが好ましい。水蒸気バリア性が7.0g/m2/day以下を超える場合にあっては、反射防止フィルムとして偏光板の退色を抑制する効果を十分なものとすることができないことがある。また、本発明の反射防止フィルムにあっては、水蒸気バリア性が5.0g/m2/day以上であることが好ましい。反射防止フィルムの水蒸気バリア性が5.0g/m2/dayを下回る場合にあっては、偏光板化した際に偏光層内の水分が反射防止フィルム内を透過することが困難となり、不具合が発生することがある。以下、本発明の偏光板について説明を行う。本発明の偏光板は、上述の反射防止フィルムの遮蔽層の形成面と反対側の透明基材上に偏光層を備える。偏光層は、透過したとき偏光させる物性を示す材料を適宜公知の材料から選択して形成してよい。例えば、主として延伸配向したポリビニルアルコールフィルム及びその誘導体にヨウ素を配向させて吸着させることにより偏光性能を示すPVA偏光フィルム、などを用いてもよい。図3に、本発明の偏光板210の一例を示す。図3は、表層から見て、反射防止層13/ハードコート層12/遮蔽層14/透明基材11/がこの順で積層された反射防止フィルム10において、遮蔽層14の形成面と反対側の透明基材11上に偏光層23および偏光板透明基材22を積層した偏光板210を示す概略図である。以下、本発明の表示装置について説明を行う。本発明の表示装置は、上述の偏光板を用いた表示装置である。また、本発明の表示装置は、上述の偏光板の他に、他の機能性部材を備えても良い。他の機能性部材としては、例えば、バックライトから発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルム、液晶セルや偏光板の位相差を補償するための位相差フィルム、などが挙げられる。図4に、本発明の表示装置の一例を示す。図4は、観察面である最表層からみて反射防止層13/ハードコート層12/遮蔽層14/透明基材11/偏光層23/偏光板透明基材22/がこの順で積層された偏光板210と、該偏光板210の下部に配置された液晶セル30と、該液晶セル30の下部に配置され、第1偏光板透明基材上層41/第2偏光板偏光層43/第2偏光板透明基材下層42がこの順で積層された第2偏光板40と、該第2偏光板の下部に配置されたバックライトユニット50と、を備えた液晶セル30を有する表示装置を示す概略図である。<実施例1>まず、透明基材上に、蒸着材料を真空蒸着し、遮蔽層を形成した。このとき、透明基材は、トリアセチルセルロースTriAcetylCellulose,TACフィルムを用いた。また、蒸着材料は、粒径45μmの酸化ケイ素を成型加工し、焼成した蒸着材料とした。また、遮蔽層の厚みは250nmとした。次に、遮蔽層上に、ハードコート層形成用塗液を塗布し、乾燥し、紫外線照射し、透明なハードコード層を形成した。このとき、遮蔽層の乾燥膜厚は10μmとした。また、紫外線照射は、紫外線照射装置フュージョンUVシステムズジャパン、光源Hバルブを用いて照射線量250mJ/m2の条件で行った。また、用いたハードコート層形成用塗液の組成を以下に示す。ハードコート層形成用塗液:実施例14級アンモニウム塩材料/メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド共栄社製、ライトエステルDQ-100:20重量部。アミド化合物/N-ビニルホルムアミド荒川化学製、ビームセット770:10重量部。光重合性モノマー/ペンタエリスリトールテトラアクリレート:25重量部。光重合開始剤/イルガキュア184BASF製:5重量部。その他/ウレタンアクリレート:75重量部、酢酸メチル:50重量部、2-ブタノン:50重量部。次に、ハードコート層上に、反射防止層形成用塗液を塗布し、乾燥し、紫外線照射し、透明な反射防止層を形成した。このとき、反射防止層の乾燥膜厚は100nmとした。また、紫外線照射は、紫外線照射装置フュージョンUVシステムズジャパン、光源Hバルブを用いて照射線量200mJ/m2の条件で行った。また、用いた反射防止層形成用塗液の組成を以下に示す。反射防止層形成用塗液:実施例1低屈折率粒子/シリカ粒子平均粒子径50nm:36重量部。光重合性モノマー/ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート:1.6重量部。撥水性能を有する材料/モメンティブパフォーマンスマテリアルズ製TSF44:0.2重量部。光重合開始剤/イルガキュア184BASF製:0.2重量部。その他/イソプロピルアルコール:72.2重量部。メチルイソブチルケトン:13.8重量部。以上より、透明基材/遮蔽層/ハードコート層/反射防止層がこの順で積層された本発明の反射防止フィルムを得た。次に、得られた反射防止フィルムに、PVA偏光フィルムおよびトリアセチルセルロースTriAcetylCellulose,TACフィルムを貼付した。以上より、本発明の反射防止フィルム/PVA偏光フィルム/TACフィルムがこの順で積層された本発明の偏光板を得た。<実施例2>実施例1と同様に偏光板を作成した。ただし、蒸着材料に用いた酸化ケイ素の粒径を60μmとした。<実施例3>実施例1と同様に偏光板を作成した。ただし、蒸着材料に用いた酸化ケイ素の粒径を30μmとした。<実施例4>実施例1と同様に偏光板を作成した。ただし、蒸着材料に用いた酸化ケイ素の粒径を85μmとした。<実施例5>実施例1と同様に偏光板を作成した。ただし、遮蔽層の膜厚を50nmとした。<比較例1>実施例1と同様に偏光板を作成した。ただし、反射防止フィルムの作成において、透明基材上に直接ハードコート層を形成し、遮蔽層がない構成とした。<評価>実施例1~5および比較例1にて得られた偏光板について、1ヘイズ、2視感平均反射率、3表面抵抗値、4水蒸気バリア性、5偏光板の退色評価、の評価を行った。それぞれの検査条件を下記に示す。また、評価結果を表1にまとめる。ヘイズ得られた反射防止フィルムについて、ヘイズメーター日本電色工業社製、NDH2000にてヘイズの測定を行った。視感平均反射率得られた反射防止フィルムの反射防止層表面について、自動分光光度計日立製作所製、U-4100、測定波長360~800nmを用い、入射角5°における分光反射率を測定した。また、得られた分光反射率曲線から平均視感反射率を求めた。なお、測定の際には透明基材の反射防止層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置をおこなった。平均視感反射率は、可視光の各波長の反射率を比視感度により校正し、平均した反射率の値である。このとき、比視感度は明所視標準比視感度が用いられる。表面抵抗値得られた反射防止フィルムの反射防止層表面について、JISK6911に準拠しての表面抵抗値を測定した。水蒸気バリア性得られた反射防止フィルムについて、JISZ0208に準拠して、40°C、90の条件でカップ法により、水蒸気バリア性を測定した。偏光板の退色評価まず、評価対象の偏光板を65°C-95、200hrの条件で加速劣化させた。次に、暗室にて、予め作成したTAC/PVA偏光フィルム/TAC構成の偏光板と加速劣化させた偏光板とをランプの上部にてクロスニコルの状態にセットした。次に、ランプの上部より、目視にて光漏れがあるかどうか評価した。表1に示すように、遮蔽層を形成した実施例1~5は、遮蔽層を形成していない比較例1と比較すると、偏光板の退色が抑制されていることが確認された。また、酸化ケイ素の粒径が45μmより小さい実施例3は、粒径が45μm以上85μm未満の範囲にある実施例1~2と比較すると、わずかに偏光板が退色していること確認された。また、酸化ケイ素の粒径が85μm以上である実施例4は、粒径が45μm以上85μm未満の範囲にある実施例1~2と比較すると、偏光板の退色は同等に確認されなかったものの、遮蔽層が一部着色してしまい反射防止フィルムにはあまり適さないことが確認された。これは、粒径が大きいためにEB照射による材料の消耗量が均一でないためであると考えられる。また、遮蔽層が200nm未満である実施例5は、遮蔽層が200nm以上350nm以下の範囲にある実施例1~2と比較すると、わずかに偏光板が退色していること確認された。これは、遮蔽層の厚みが薄いことにより、水蒸気バリア性が7.0g/m2/day以下の範囲となったためであると考えられる。以上より、酸化ケイ素を含む遮蔽層を形成することで偏光板の退色が抑制されることが確認された。また、蒸着材料に45μm以上85μm未満の範囲にある粒子状の酸化ケイ素を用いることがより好ましいことが確認された。また、遮蔽層の厚みは、200nm以上350nm以下の範囲にあることがより好ましいことが確認された。"