"式11:[式中、R1は水素原子又は低級アルキル基を示す。R2はA1aフェニル基上に1個以上のハロゲン置換低級アルコキシ基が置換しているフェノキシ基、A1bフェニル基上に1個以上のハロゲン置換低級アルキル基が置換しているフェノキシ置換低級アルキル基、A1cフェニル基上にハロゲンが置換しているフェニル置換低級アルコキシ低級アルキル基、A1dフェニル基上に1個以上のハロゲン置換低級アルコキシ基が置換しているフェニル置換低級アルキル基、A1e1個以上のハロゲン置換低級アルコキシ基が置換しているフェニル基及び低級アルキル基を有するアミノ基、及びA1fフェニル基上に1個以上のハロゲン置換低級アルコキシ基が置換しているフェニル置換低級アルコキシ基から選択される置換基を4位に有する1-ピペリジル基を示す。nは1~6の整数を示す。X3は有機スルホニルオキシ基を示す。]で表される化合物。請求項1に記載の化合物を製造する方法であって、式10:[式中、R1、R2及びnは前記に同じである。]で表される化合物を、有機スルホン酸と反応させる工程を含む方法。式10:[式中、R1、R2及びnは請求項1におけるそれらに同じである。]で表される化合物。請求項3に記載の化合物の製造方法であって、式9:[式中、X1は脱離基を示す。R1及びnは請求項1におけるそれらに同じである。]で表される化合物を、式2:[式中、R2は前記に同じである。]で表される化合物と反応させる工程を含む方法。請求項3に記載の化合物の製造方法であって、式9:[式中、X1は脱離基を示す。R1及びnは請求項1におけるそれらに同じである。]で表される化合物を式9-i:[式中、RAは低級アルキル基又は置換基を有することのあるフェニル基を示す。RBは水素原子又は低級アルキル基である。RA及びRBはそれらが結合している炭素原子と一緒になってシクロアルキル基を形成してもよい。]で表される化合物と反応させて、式9-ii:[式中、R1、X1、n、RA及びRBは前記におけるそれらに同じである。]で表される化合物を得る工程、式9-iiで表される化合物を式2:[式中、R2は請求項1におけるそれに同じである。]で表される化合物と反応させて式9-iii:[式中、R1、R2、n、RA及びRBは前記におけるそれらに同じである。]で表される化合物を得る工程、及び式9-iiiで表される化合物を脱保護に付す工程を含む方法。式12:[式中、R1、R2及びnは請求項1におけるそれらに同じである。]で表される化合物を製造する方法であって、請求項1に記載の化合物をエポキシ化反応に付す工程を含む方法。式1:[式中、R1、R2及びnは請求項1におけるそれらに同じである。]で表される化合物を製造する方法であって、以下の工程:請求項1に記載の化合物をエポキシ化反応に付して、式12:[式中、R1、R2及びnは請求項1におけるそれらに同じである。]で表される化合物を調製する工程、式12で表される化合物を式8:[式中、X2はハロゲン原子を示す。]で表される化合物と反応させて、式13:[式中、R1、R2、X2及びnは前記に同じである。]で表される化合物を調製する工程、及び式13で表される化合物を閉環反応に付して、式1で表される化合物を調製する工程を含む方法。本発明は、化合物1aを包含する式1で表されるオキサゾール化合物を高収率かつ高純度特に、高い光学純度で製造するために用いることができる新規な合成中間体及び当該中間体の製法を提供することを課題とする。本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、後記に示す合成中間体としての化合物、及びこれを用いた製造方法により、目的とする式1のオキサゾール化合物を高収率かつ高純度で製造できることを見い出した。本発明は、このような知見に基づき完成されたものである。すなわち、本発明は、次の各項に記載の態様等を提供する。[項1]式11:[式中、R1は水素原子又は低級アルキル基を示す。R2はA1aフェニル基上に1個以上のハロゲン置換低級アルコキシ基が置換しているフェノキシ基、A1bフェニル基上に1個以上のハロゲン置換低級アルキル基が置換しているフェノキシ置換低級アルキル基、A1cフェニル基上にハロゲンが置換しているフェニル置換低級アルコキシ低級アルキル基、A1dフェニル基上に1個以上のハロゲン置換低級アルコキシ基が置換しているフェニル置換低級アルキル基、A1e1個以上のハロゲン置換低級アルコキシ基が置換しているフェニル基及び低級アルキル基を有するアミノ基、及びA1fフェニル基上に1個以上のハロゲン置換低級アルコキシ基が置換しているフェニル置換低級アルコキシ基から選択される置換基を4位に有する1-ピペリジル基を示す。nは1~6の整数を示す。X3は有機スルホニルオキシ基を示す。]で表される化合物。[項2]前記項1に記載の化合物を製造する方法であって、式10:[式中、R1、R2及びnは前記に同じである。]で表される化合物を、有機スルホン酸と反応させる工程を含む方法。[項3]式11:[式中、R1、R2及びnは前記項1におけるそれらに同じである。]で表される化合物。[項4]前記項3に記載の化合物の製造方法であって、式9:[式中、X1は脱離基を示す。R1及びnは前記項1におけるそれらに同じである。]で表される化合物を、式2:[式中、R2は前記に同じである。]で表される化合物と反応させる工程を含む方法。[項5]前記項3に記載の化合物の製造方法であって、式9:[式中、X1は脱離基を示す。R1及びnは前記項1におけるそれらに同じである。]で表される化合物を式9-i:[式中、RAは低級アルキル基又は置換基を有することのあるフェニル基を示す。RBは水素原子又は低級アルキル基である。RA及びRBはそれらが結合している炭素原子と一緒になってシクロアルキル基を形成してもよい。]で表される化合物と反応させて、式9-ii:[式中、R1、X1、n、RA及びRBは前記におけるそれらに同じである。]で表される化合物を得る工程、式9-iiで表される化合物を式2:[式中、R2は前記項1におけるそれに同じである。]で表される化合物と反応させて式9-iii:[式中、R1、R2、n、RA及びRBは前記におけるそれらに同じである。]で表される化合物を得る工程、及び式9-iiiで表される化合物を脱保護に付す工程を含む方法。[項6]式12:[式中、R1、R2及びnは前記項1におけるそれらに同じである。]で表される化合物を製造する方法であって、前記項1に記載の化合物をエポキシ化反応に付す工程を含む方法。[項7]式1:[式中、R1、R2及びnは前記項1におけるそれらに同じである。]で表される化合物を製造する方法であって、以下の工程:前記項1に記載の化合物をエポキシ化反応に付して、式12:[式中、R1、R2及びnは前記項1におけるそれらに同じである。]で表される化合物を調製する工程、式12で表される化合物を式8:[式中、X2はハロゲン原子を示す。]で表される化合物と反応させて、式13:[式中、R1、R2、X2及びnは前記に同じである。]で表される化合物を調製する工程、及び式13で表される化合物を閉環反応に付して、式1で表される化合物を調製する工程を含む方法。また、本発明は、更に、次の項に記載の態様等を提供する。[項7]式[式中、R1は水素原子又は低級アルキル基を示す。R2はA1aフェニル基上に1個以上のハロゲン置換低級アルコキシ基が置換しているフェノキシ基、A1bフェニル基上に1個以上のハロゲン置換低級アルキル基が置換しているフェノキシ置換低級アルキル基、A1cフェニル基上にハロゲンが置換しているフェニル置換低級アルコキシ低級アルキル基、A1dフェニル基上に1個以上のハロゲン置換低級アルコキシ基が置換しているフェニル置換低級アルキル基、A1e1個以上のハロゲン置換低級アルコキシ基が置換しているフェニル基及び低級アルキル基を有するアミノ基、及びA1fフェニル基上に1個以上のハロゲン置換低級アルコキシ基が置換しているフェニル置換低級アルコキシ基から選択される置換基を4位に有する1-ピペリジル基を示す。nは1~6の整数を示す。]で表される化合物を製造する方法であって、以下の工程:式9:[式中、X1は脱離基を示す。R1、X1及びnは前記項1におけるそれらに同じである。]で表される化合物を、式2:[式中、R2は前記項1におけるそれに同じである。]で表される化合物と反応させて、式10:[式中、R1、R2及びnは前記に同じである。]で表される化合物を調製する工程、式10で表される化合物を、有機スルホン酸と反応させて、式11:[式中、X3は有機スルホニルオキシ基である。R1、R2及びnは前記に同じである。]で表される化合物を調製する工程、式11で表される化合物をエポキシ化反応に付して、式12:[式中、R1、R2及びnは前記に同じである。]で表される化合物を調製する工程、式12で表される化合物を、式8:[式中、X2はハロゲン原子を示す。]で表される化合物と反応させて、式13:[式中、R1、R2、X2及びnは前記に同じである。]で表される化合物を調製する工程、式13で表される化合物を閉環反応に付して、式1:[式中、R1、R2及びnは前記に同じである。]で表される化合物を調製する工程を含む方法。本明細書において用いられる用語は、具体的には次の通りである。本明細書中、室温とは、例えば、10°C~35°Cの範囲内の温度を意味する。1-ピペリジル基における4位にとは、当業者が通常理解する通り、以下に数字4で示す位置である。本明細書において示される各基は、具体的には次の通りである。ハロゲン原子または、ハロゲンとしては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。低級アルコキシ基としては、例えば、炭素数1~6好ましくは炭素数1~4の直鎖状又は分岐鎖状のアルコキシ基を挙げることができる。より具体的には、メトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブトキシ、イソブトキシ、tert-ブトキシ、sec-ブトキシ、n-ペンチルオキシ、1-エチルプロポキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、n-ヘキシルオキシ、1,2,2-トリメチルプロポキシ、3,3-ジメチルブトキシ、2-エチルブトキシ、イソヘキシルオキシ、3-メチルペンチルオキシ基等が含まれる。ハロゲン置換低級アルコキシ基としては、ハロゲン原子が1~7個、好ましくは1~3個置換した前記例示の低級アルコキシ基を挙げることができる。より具体的には、フルオロメトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、クロロメトキシ、ジクロロメトキシ、トリクロロメトキシ、ブロモメトキシ、ジブロモメトキシ、ジクロロフルオロメトキシ、2,2,2-トリフルオロエトキシ、ペンタフルオロエトキシ、2-クロロエトキシ、3,3,3-トリフルオロプロポキシ、ヘプタフルオロプロポキシ、ヘプタフルオロイソプロポキシ、3-クロロプロポキシ、2-クロロプロポキシ、3-ブロモプロポキシ、4,4,4-トリフルオロブトキシ、4,4,4,3,3-ペンタフルオロブトキシ、4-クロロブトキシ、4-ブロモブトキシ、2-クロロブトキシ、5,5,5-トリフルオロペンチルオキシ、5-クロロペンチルオキシ、6,6,6-トリフルオロへキシルオキシ、6-クロロヘキシルオキシ基等が含まれる。フェニル基上に1個以上のハロゲン置換低級アルコキシ基が置換しているフェノキシ基としては、例えば、フェニル基上に前記例示のハロゲン置換低級アルコキシ基が1~3個好ましくは1個置換しているフェノキシ基を挙げることができる。低級アルキル基としては、炭素数1~6好ましくは炭素数1~4の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を挙げることができる。より具体的には、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、tert-ブチル、sec-ブチル、n-ペンチル、1-エチルプロピル、イソペンチル、ネオペンチル、n-ヘキシル、1,2,2-トリメチルプロピル、3,3-ジメチルブチル、2-エチルブチル、イソヘキシル、3-メチルペンチル基等が含まれる。ハロゲン置換低級アルキル基としては、ハロゲン原子が1~7個、好ましくは1~3個置換した前記例示の低級アルキル基を挙げることができる。より具体的には、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、ジクロロフルオロメチル、2,2-ジフルオロエチル、2,2,2-トリフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、2-フルオロエチル、2-クロロエチル、3,3,3-トリフルオロプロピル、ヘプタフルオロプロピル、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル、ヘプタフルオロイソプロピル、3-クロロプロピル、2-クロロプロピル、3-ブロモプロピル、4,4,4-トリフルオロブチル、4,4,4,3,3-ペンタフルオロブチル、4-クロロブチル、4-ブロモブチル、2-クロロブチル、5,5,5-トリフルオロペンチル、5-クロロペンチル、6,6,6-トリフルオロへキシル、6-クロロヘキシル等が含まれる。フェノキシ置換低級アルキル基としては、フェノキシ基が1個置換した前記低級アルキル基を例示できる。より具体的には、フェノキシメチル、2-フェノキシエチル、1-フェノキシエチル、2-フェノキシエチル、2-フェノキシ-1-メチルエチル、2-フェノキシ-1-エチルエチル、3-フェノキシプロピル、4-フェノキシブチル等が含まれる。フェニル基上に1個以上のハロゲン置換低級アルキル基が置換しているフェノキシ置換低級アルキル基としては、例えば、フェニル基上に前記例示のハロゲン置換低級アルキル基が1~3個好ましくは1個置換している前記例示のフェノキシ置換低級アルキル基を挙げることができる。低級アルコキシ低級アルキル基としては、前記例示の低級アルコキシ基が1個置換した前記例示の低級アルキル基を例示できる。より具体的には、メトキシメチル、2-メトキシエチル、1-エトキシエチル、2-エトキシエチル、2-イソブトキシエチル、2,2-ジメトキシエチル、2-メトキシ-1-メチルエチル、2-メトキシ-1-エチルエチル、3-メトキシプロピル、3-エトキシプロピル、3-イソブトキシプロピル、3-n-ブトキシプロピル、4-n-プロポキシブチル、1-メチル-3-イソブトキシプロピル、1,1-ジメチル-2-n-ペンチルオキシエチル、5-n-ヘキシルオキシペンチル、6-メトキシヘキシル、1-エトキシイソプロピル、2-メチル-3-メトキシプロピル基等が含まれる。フェニル置換低級アルコキシ低級アルキル基としては、低級アルコキシ基上にフェニル基が1個置換した前記低級アルコキシ低級アルキル基を例示できる。より具体的には、ベンジルオキシメチル、2-フェニルエトキシメチル、1-フェニルエトキシメチル、3-3-フェニルプロポキシプロピル、4-4-フェニルブトキシブチル、5-5-フェニルペンチルオキシペンチル、6-6-フェニルヘキシルオキシヘキシル、1,1-ジメチル-2-フェニルエトキシエチル、2-メチル-3-3-フェニルプロポキシプロピル、2-ベンジルオキシエチル、1-ベンジルオキシエチル、3-ベンジルオキシプロピル、4-ベンジルオキシブチル、5-ベンジルオキシペンチル、6-ベンジルオキシヘキシル基等を例示できる。フェニル基上にハロゲンが置換しているフェニル置換低級アルコキシ低級アルキル基としては、例えば、ハロゲン原子が1~7個、より好ましくは1~3個置換している前記例示のフェニル置換低級アルコキシ低級アルキル基を挙げることができる。フェニル置換低級アルキル基としては、フェニル基が1個置換した前記低級アルキル基を例示できる。より具体的には、ベンジル、1-フェニルエチル、2-フェニルエチル、1-メチル-1-フェニルエチル、1,1-ジメチル-2-フェニルエチル、1,1-ジメチル-3-フェニルプロピル、3-フェニルプロピル、4-フェニルブチル基等が含まれる。フェニル基上に1個以上のハロゲン置換低級アルコキシ基が置換しているフェニル置換低級アルキル基としては、例えば、前記例示のハロゲン置換低級アルコキシ基が1~3個好ましくは1個置換している前記例示のフェニル置換低級アルキル基を挙げることができる。フェニル基上に1個以上のハロゲン置換低級アルコキシ基が置換しているフェニル基としては、例えば、前記例示のハロゲン置換低級アルコキシ基が1~3個好ましくは1個置換しているフェニル基を挙げることができる。1個以上のハロゲン置換低級アルコキシ基が置換しているフェニル基及び低級アルキル基を有するアミノ基としては、例えば、アミノ基上に、前記例示のハロゲン置換低級アルコキシ基が置換しているフェニル基の1個及び前記例示の低級アルキル基の1個が置換したアミノ基を挙げることができる。フェニル置換低級アルコキシ基としては、フェニル基が1個置換した前記低級アルキル基を例示できる。より具体的には、ベンジルオキシ、1-フェニルエトキシ、2-フェニルエトキシ、1-メチル-1-フェニルエトキシ、1,1-ジメチル-2-フェニルエトキシ、1,1-ジメチル-3-フェニルプロポキシ、3-フェニルプロポキシ、4-フェニルブトキシ基等が含まれる。フェニル基上に1個以上のハロゲン置換低級アルコキシ基が置換しているフェニル置換低級アルコキシ基としては、例えば、前記例示のハロゲン置換低級アルコキシ基が1~3個好ましくは1個置換している前記例示のフェニル置換低級アルコキシ基を挙げることができる。本発明の一態様である、式1のオキサゾール化合物の製造方法について、以下に説明する。本発明の他の態様もまた、当該説明によって理解される。本発明の、式1のオキサゾール化合物の製造方法の概要を、反応スキーム-Dに示す。<反応スキーム-D>[式中、R1、R2、X1、X2、X3及びnは前記に同じである。]式1のオキサゾール化合物の製造方法の一態様は、次の工程1~5を有する。工程1:式[式中、R1は水素原子又は低級アルキル基を示す。nは1~6の整数を示す。X1は脱離基を示す。]で表される化合物を、式[式中、R2はA1aフェニル基上に1個以上のハロゲン置換低級アルコキシ基が置換しているフェノキシ基、A1bフェニル基上に1個以上のハロゲン置換低級アルキル基が置換しているフェノキシ置換低級アルキル基、A1cフェニル基上にハロゲンが置換しているフェニル置換低級アルコキシ低級アルキル基、A1dフェニル基上に1個以上のハロゲン置換低級アルコキシ基が置換しているフェニル置換低級アルキル基、A1e1個以上のハロゲン置換低級アルコキシ基が置換しているフェニル基及び低級アルキル基を有するアミノ基、及びA1fフェニル基上に1個以上のハロゲン置換低級アルコキシ基が置換しているフェニル置換低級アルコキシ基から選択される置換基を4位に有する1-ピペリジル基を示す。]で表される化合物と反応させて、式[式中、R1、R2及びnは前記に同じである。]で表される化合物を調製すること。工程2:式10で表される化合物を、有機スルホン酸と反応させて、式11:[式中、X3は有機スルホニルオキシ基を示す。R1、R2及びnは前記に同じである。]で表される化合物を調製すること。工程3:式11で表される化合物をエポキシ化反応に付して、式12:[式中、R1、R2及びnは前記に同じである。]で表される化合物を調製すること。工程4:式12で表される化合物を、式8:[式中、X2はハロゲン原子を示す。]で表される化合物と反応させて、式13:[式中、R1、R2、X2及びnは前記に同じである。]で表される化合物を調製すること。工程5:式13で表される化合物を閉環反応に付して、式1:[式中、R1、R2及びnは前記に同じである。]で表される化合物を調製すること。以下に、各工程について詳細に説明する。<工程1>式10で表される化合物は、式9で表される化合物を式2で表される化合物と反応させることによって製造される。式9において、X1で示される脱離基としては、例えば、ハロゲン原子、ハロゲン置換もしくは未置換の低級アルカンスルホニルオキシ基、置換もしくは未置換のアリールスルホニルオキシ基等が挙げられる。中でも、好ましくはハロゲン原子である。ハロゲン置換もしくは未置換の低級アルカンスルホニルオキシ基としては、具体的にはメタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、n-プロパンスルホニルオキシ、イソプロパンスルホニルオキシ、n-ブタンスルホニルオキシ、tert-ブタンスルホニルオキシ、n-ペンタンスルホニルオキシ、n-ヘキサンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ、2,2,2-トリフルオロエタンスルホニルオキシ等の炭素数が1~6の直鎖又は分枝鎖状のアルカンスルホニルオキシ基等を例示できる。置換もしくは未置換のアリールスルホニルオキシ基としては、例えば、ベンゼン環上に置換基として炭素数1~6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、炭素数1~6の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基、ニトロ基及びハロゲン原子からなる群より選択される1~3個の置換基をそれぞれ有することのあるフェニルスルホニルオキシ、ナフチルスルホニルオキシ基等を挙げることができる。前記置換基を有することのあるフェニルスルホニルオキシ基の具体例としては、フェニルスルホニルオキシ、4-メチルフェニルスルホニルオキシ、2-メチルフェニルスルホニルオキシ、4-ニトロフェニルスルホニルオキシ、4-メトキシフェニルスルホニルオキシ、2-ニトロフェニルスルホニルオキシ、3-クロロフェニルスルホニルオキシ等を例示できる。ナフチルスルホニルオキシの具体例としては、α-ナフチルスルホニルオキシ、β-ナフチルスルホニルオキシ等を例示できる。一般式2で表される化合物と一般式9で表される化合物との反応は、無溶媒又は不活性溶媒中、遷移金属化合物と配位子の存在下、塩基性化合物の存在下又は非存在下にて行われる。当該工程においては、遷移金属化合物及び配位子の使用が必須であり、両者を組み合わせて触媒として反応系に加える。添加方法は、反応系に、これらをそれぞれ加えてもよく、これらの錯体を添加してもよい。遷移金属TransitionMetal化合物としては、8から11族元素を含有する化合物が挙げられ、好ましくはニッケル化合物、パラジウム化合物、銅化合物であり、最も好ましいのはパラジウム化合物である。パラジウム化合物としては特に限定されるものではないが、例えば、ヘキサクロロパラジウムIV酸ナトリウム四水和物、ヘキサクロロパラジウムIV酸カリウムなどの4価パラジウム化合物類;塩化パラジウムII、臭化パラジウムII、酢酸パラジウムII、パラジウムIIアセチルアセトナート、ジクロロビスベンゾニトリルパラジウムII、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウムII、ジクロロシクロオクタ-1,5-ジエンパラジウムII等の2価パラジウム化合物類;トリスジベンジリデンアセトン二パラジウム0、トリスジベンジリデンアセトン二パラジウム0クロロホルム錯体、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム0等の0価パラジウム化合物類などが挙げられ、中でもトリスジベンジリデンアセトン二パラジウム0、トリスジベンジリデンアセトン二パラジウム0クロロホルム錯体が好ましい。配位子Ligandとしては、例えば、ホスフィン類、N-へテロN環状カルベン類等が挙げられる。ホスフィン類は、特に限定されるものではないが、例えば、トリイソプロピルホスフィン、トリ-tert-ブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリ-o-トリルホスフィン、2-ジ-tert-ブチルホスフィノビフェニル、2-ジ-tert-ブチルホスフィノ-2-N,N-ジメチルアミノビフェニル、2-ジ-tert-ブチルホスフィノ-2-メチルビフェニル、2-ジ-tert-ブチルホスフィノ-2,4,6-トリ-イソプロピル-1,1-ビフェニル、2-ジシクロヘキシルホスフィノビフェニル、2-ジ-tert-ブチルホスフィノ-1,1-ビナフチル、2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2,6-ジメトキシ-3-スフォナト-1,1-ビフェニルナトリウム塩水和物、2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2-N,N-ジメチルアミノビフェニル、2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2,6-ジ-i-プロポキシ-1,1-ビフェニル、2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2-メチルビフェニル、2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2,4,6-トリ-イソプロピル-1,1-ビフェニル、2-ジフェニルホスフィノ-2-N,N-ジメチルアミノビフェニル、5-ジ-tert-ブチルホスフィノ-1,3,5-トリフェニル-1H-[1,4]-ビピラゾール、2-ジ-tert-ブチルホスフィノ-1-フェニル-1H-ピロール、及び2-ジ-tert-ブチルホスフィノ-1-フェニル-1H-インドール等の単座ホスフィン;1,2-ビスジフェニスホスフィノベンゼン、2,2-ビスジフェニスホスフィノ-1,1-ビナフチル、4,5-ビスジフェニルホスフィノ-9,9-ジメチルキサンテン、1,2-ビスジフェニルホスフィノエタン、1,3-ビスジフェニルホスフィノプロパン、1,1-ジフェニルホスフィノフェロセン等の二座ホスフィンが挙げられ、中でも2-ジ-tert-ブチルホスフィノ-2,4,6-トリ-イソプロピル-1,1-ビフェニル、5-ジ-tert-ブチルホスフィノ-1,3,5-トリフェニル-1H-[1,4]-ビピラゾール、2-ジ-tert-ブチルホスフィノ-2-N,N-ジメチルアミノビフェニル、2-ジシクロヘキシルホスフィノビフェニル、及び2-ジ-tert-ブチルホスフィノ-1-フェニル-1H-ピロールが好ましく、最も好ましくは2-ジ-tert-ブチルホスフィノ-2,4,6-トリ-イソプロピル-1,1-ビフェニルである。また、N-へテロ環状カルベン類は、特に限定されるものではないが、例えば、1,3-ビス2,6-ジイソプロピルフェニルイミダゾリニウムクロリド、1,3-ビス2,6-ジイソプロピルフェニルイミダゾリウムクロリド、1,3-ビス2,4,6-トリメチルフェニルイミダゾリニウムクロリド、1,3-ビス2,4,6-トリメチルフェニルイミダゾリウムクロリドなどが挙げられる。遷移金属化合物及び配位子の錯体としては、パラジウム錯体Palladiumcomplexが挙げられる。パラジウム錯体としては特に限定されるものではないが、例えばナフトキノン-[1,3-ビスジイソプロピルフェニルイミダゾール-2-イリデン]パラジウム0、ナフトキノン-[1,3-ビスメシチルイミダゾール-2-イリデン]パラジウム0、アリルクロロ-[1,3-ビスジイソプロピルフェニルイミダゾール-2-イリデン]パラジウムII、アリルクロロ-[1,3-ビスジイソプロピルフェニルイミダゾール-2-イリデン]パラジウムII、アリルクロロ-[1,3-ビスメシチルイミダゾール-2-イリデン]パラジウムII、アリルクロロ-[1,3-ビスジイソプロピルフェニル-2-イミダゾリジニリデン]パラジウムII、フェニルアリルクロロ-[1,3-ビスジイソプロピルフェニルイミダゾール-2-イリデン]パラジウムII、フェニルアリルクロロ-[1,3-ビスジイソプロピルフェニル-2-イミダゾリジニリデン]パラジウムII、ジクロロ-[1,3-ビスジイソプロピルフェニルイミダゾール-2-イリデン]パラジウムIIダイマー、ジクロロ-1,2-ビスジフェニルホスフィノフェロセニルパラジウムII、ジクロロビストリシクロヘキシルホスフィンパラジウムII、ジクロロ-1,5-シクロオクタジエン-パラジウムII等が挙げられる。不活性溶媒としては、例えば、水;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル溶媒;ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒;メタノール、エタノール、イソプロパノール、tert-ブタノール等の低級アルコール溶媒;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン溶媒;N,N-ジメチルホルムアミドDMF、ジメチルスルホキシドDMSO、ヘキサメチルリン酸トリアミド、アセトニトリル等の極性溶剤等の単独もしくは混合溶媒が挙げられ、芳香族炭化水素溶媒が好ましい。塩基性化合物としては、種々の公知のものを使用でき、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム等のアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩;ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属;ナトリウムアミド、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の無機塩基、及びナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、リチウム-tert-ブトキシド、ナトリウム-tert-ブトキシド、カリウム-tert-ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類;トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、キノリン、ピペリジン、イミダゾール、N-エチルジイソプロピルアミン、ジメチルアミノピリジン、トリメチルアミン、ジメチルアニリン、N-メチルモルホリン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン-5DBN、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン-7DBU、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンDABCO等の有機塩基を挙げることができる。これらの塩基性化合物は、1種単独で又は2種以上混合して使用される。より好ましくは、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム-メトキシド、カリウム-エトキシド、リチウム-tert-ブトキシド、ナトリウム-tert-ブトキシド、カリウム-tert-ブトキシド等のようなアルカリ金属アルコキシド類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、またはトリブチルアミンと水酸化カリウムの混合塩基である。遷移金属化合物の使用量は、式2で表される化合物1モルに対して、通常0.0001~1モル、好ましくは0.001~0.1モルである。配位子の使用量は、式2で表される化合物1モルに対して、通常0.00005~10モル、好ましくは0.001~0.4モルである。また、配位子の使用量は、遷移金属化合物1モルに対して、通常0.5~10モル、好ましくは1~4モルである。塩基性化合物の使用量は、式2で表される化合物1モルに対して、通常0.5~10モル、好ましくは0.5~6モルである。前記反応は、常圧下、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行うことも、また加圧下でも行うことができる。式9で表される化合物は、式2で表される化合物1モルに対して、少なくとも0.5モル、好ましくは0.5~5モル程度の量で用いられる。前記反応の反応温度は、通常室温~200°C、好ましくは室温~150°Cである。反応時間は、通常1~30時間程度である。<工程2>式11で表される化合物は、式1で表される化合物を有機スルホン酸と反応させることによって調製される。式10で表される化合物と有機スルホン酸との反応は、無溶媒又は不活性溶媒中、塩基性化合物の存在下又は非存在下にて行われる。有機スルホン酸としては、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ニトロベンゼンスルホン酸オルト-、メタ-、パラ-、2,4,6-トリメチルベンゼンスルホン酸、2,4,6-トリイソプロピルベンゼンスルホン酸などが挙げられる。有機スルホン酸は、酸ハロゲン化物の形態で用いられるのが好ましい。X3で示される有機スルホニルオキシ基は、有機スルホン酸に由来する基である。有機スルホニルオキシ基としては、メタンスルホニルオキシメシルオキシ、パラトルエンスルホニルオキシトシルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ニトロベンゼンスルホニルオキシオルト-、メタ-、パラ-、2,4,6-トリメチルベンゼンスルホニルオキシ、2,4,6-トリイソプロピルベンゼンスルホニルオキシなどが挙げられる。不活性溶媒としては、例えば、水;ジオキサン、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸tブチル等のエステル溶媒;ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒;メタノール、エタノール、イソプロパノール、tert-ブタノール等の低級アルコール溶媒;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン溶媒;N,N-ジメチルホルムアミドDMF、ジメチルスルホキシドDMSO、ヘキサメチルリン酸トリアミド、アセトニトリル等の極性溶剤等の単独もしくは混合溶媒が挙げられ、シクロペンチルメチルエーテル、酢酸エチル、及びN,N-ジメチルホルムアミドDMFが好ましい。塩基性化合物としては、種々の公知のものを使用でき、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム等のアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩;ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属;ナトリウムアミド、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の無機塩基、及びナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、リチウム-tert-ブトキシド、ナトリウム-tert-ブトキシド、カリウム-tert-ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類;トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、キノリン、ピペリジン、イミダゾール、N-エチルジイソプロピルアミン、ジメチルアミノピリジン、トリメチルアミン、ジメチルアニリン、N-メチルモルホリン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン-5DBN、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン-7DBU、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンDABCO等の有機塩基を挙げることができる。これらの塩基性化合物は、1種単独で又は2種以上混合して使用される。塩基性化合物は、式10で表される化合物1モルに対して、通常0.5~10モル、好ましくは0.5~6モルの量で用いられる。スルホン酸は、式10で表される化合物1モルに対して、通常、少なくとも0.5モル、好ましくは0.5~5モル程度の量で用いられる。前記反応の反応温度は、通常-20°C~100°C、好ましくは-10°C~室温である。反応時間は、通常15分間~30時間程度である。<工程3>式12で表される化合物は、式11で表される化合物をエポキシ化反応に付すことによって調製される。エポキシ化反応は、無溶媒又は不活性溶媒中、塩基性化合物の存在下又は非存在下にて行われる。不活性溶媒としては、例えば、水;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸tブチル等等のエステル溶媒;ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒;メタノール、エタノール、イソプロパノール、tert-ブタノール等の低級アルコール溶媒;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン溶媒;N,N-ジメチルホルムアミドDMF、ジメチルスルホキシドDMSO、ヘキサメチルリン酸トリアミド、アセトニトリル等の極性溶剤等の単独もしくは混合溶媒が挙げられ、シクロペンチルメチルエーテル、メタノール、及びN,N-ジメチルホルムアミドDMFが好ましい。塩基性化合物としては、種々の公知のものを使用でき、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム等のアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩;ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属;ナトリウムアミド、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の無機塩基、及びナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、リチウム-tert-ブトキシド、ナトリウム-tert-ブトキシド、カリウム-tert-ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類;トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、キノリン、ピペリジン、イミダゾール、N-エチルジイソプロピルアミン、ジメチルアミノピリジン、トリメチルアミン、ジメチルアニリン、N-メチルモルホリン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン-5DBN、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン-7DBU、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンDABCO等の有機塩基を挙げることができる。これらの塩基性化合物は、1種単独で又は2種以上混合して使用される。塩基性化合物の使用量は、式11で表される化合物1モルに対して、通常0.5~10モル、好ましくは0.5~6モルである。前記反応の反応温度は、通常-20°C~100°C、好ましくは0°C~室温である。反応時間は、通常15分間~30時間程度である。前記反応は、相間移動触媒の存在下に行ってもよい。使用できる相関移動触媒としては、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムフルオリド、テトラブチルアンモニウムアイオダイド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、硫酸水素テトラブチルアンモニウム、トリブチルメチルアンモニウムクロリド、トリブチルベンジルアンモニウムクロリド、テトラペンチルアンモニウムクロリド、テトラペンチルアンモニウムブロミド、テトラヘキシルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルオクチルアンモニウムクロリド、メチルトリヘキシルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルオクタデカニルアンモニウムクロリド、メチルトリデカニルアンモニウムクロリド、ベンジルトリプロピルアンモニウムクロリド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、フェニルトリエチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニウムクロリド等の炭素数1~18の直鎖または分枝鎖状のアルキル基、フェニル低級アルキル基及びフェニル基からなる群より選択される置換基が置換した4級アンモニウム塩類;テトラブチルホスホニウムクロリド等の炭素数1~18の直鎖または分枝鎖状のアルキル基が置換したホスホニウム塩類;1-ドデカニルピリジニウムクロリド等の炭素数1~18の直鎖または分枝鎖状のアルキル基が置換したピリジニウム塩類等が挙げられる。この場合、反応は、好ましくは、水中、または水及び水と混ざらない有機溶媒ベンゼン、トルエン、キシレン、塩化メチレン、1、2-ジクロルエタン等の混合液中で行われる。相関移動触媒は、式11で表される化合物1モルに対して、通常0.01~0.5モル、好ましくは0.2~0.3モルの量で用いられる。<工程4>式13で表される化合物は、式12のエポキシ化合物を式8で表される4-ニトロイミダゾール化合物と反応させることによって調製される。式12で表される化合物は、式8で表される化合物1モルに対して、通常0.5~5モル、好ましくは0.5~3モルの量で用いられる。塩基性化合物としては、種々の公知のものを使用でき、例えば金属水素化物、アルカリ金属低級アルコキシド、水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩等の無機塩基及び酢酸塩等の有機塩基が挙げられる。金属水素化物としては、具体的には、水素化ナトリウム、水素化カリウム等を例示できる。アルカリ金属低級アルコキシドとしては、具体的には、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムtert-ブトキシド等を例示できる。水酸化物としては、具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を例示できる。炭酸塩としては、具体的には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等を例示できる。炭酸水素塩としては、具体的には、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を例示できる。無機塩基には、前記以外に、ナトリウムアミド等も包含される。酢酸塩としては、具体的には、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等を例示できる。前記以外の有機塩基としては、具体的には、トリエチルアミン、トリメチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、1-メチルピロリジン、N-メチルモルホリン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン-5DBN、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン-7DBU、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンDABCO等を例示できる。塩基性化合物は、式8で表される化合物1モルに対して、通常0.1~2モル、好ましくは0.1~1モル、より好ましくは0.1~0.5モルの量で用いられる。式12で表される化合物と式8で表される化合物との反応は、通常、適当な溶媒中で行われる。溶媒としては、種々の公知のものを使用でき、反応を阻害しない溶媒が好ましい。このような溶媒としては、例えば、ジメチルホルムアミドDMF、ジメチルスルホキシドDMSO、アセトニトリル等の非プロトン性極性溶媒;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン、テトラリン、流動パラフィン等の炭化水素溶媒;メタノール、エタノール、イソプロパノール、n-ブタノール、tert-ブタノール等のアルコール溶媒;テトラヒドロフランTHF、ジオキサン、ジプロピルエーテル、ジエチルエーテル、ジグライム等のエーテル溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸tブチル等のエステル溶媒;これらの混合溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、水が含まれていてもよい。式12で表される化合物と式8で表される化合物との反応は、例えば、式8で表される化合物を反応溶媒に溶解し、撹拌しながら氷冷下又は室温例、30°Cで塩基性化合物を加え、室温~80°Cで30分間~1時間撹拌した後、式12で表される化合物を加え、通常室温~100°C、好ましくは50~80°Cで30分間~60時間、好ましくは1~50時間攪拌を続けることにより行われる。式8で表される化合物は、公知の化合物であるか、公知の方法に準じて容易に調製できる化合物である。<工程5>式1で表される化合物は、式13で表される化合物を閉環反応に付すことにより調製される。閉環反応は、工程4で得られた式13で表される化合物を反応溶媒に溶解し、塩基性化合物を加えて撹拌することにより行われる。反応溶媒及び塩基性化合物としては、工程4の反応で用いられる反応溶媒及び塩基性化合物と同様のものを使用できる。塩基性化合物は、式13で表される化合物1モルに対して、通常1モル~過剰量、好ましくは1~5モル、より好ましくは1~2モルの量で用いられる。閉環反応の反応温度は、通常0°C~150°C、好ましくは0°C~室温である。反応時間は、通常30分間~48時間、好ましくは1~24時間、より好ましくは1~12時間である。工程4において生成する式13で表される化合物を単離することなく、反応混合物をそのまま引き続く閉環反応に供してもよい。式1で表される目的化合物は、また、例えば、式12で表される化合物を式8で表される化合物と室温~100°Cで反応させた後、反応混合物に塩基性化合物を添加し、0°C~100°Cで更に攪拌を行うか、又は式12で表される化合物と式8で表される化合物とを室温~100°Cで反応させた後、反応混合物を濃縮し、残留物を高沸点溶媒に溶解し、得られる溶液に塩基性化合物を添加し、0°C~100°Cで更に攪拌を行うことによっても調製することもできる。式1で表される目的化合物は、また、式12で表される化合物と式8で表される化合物との反応において、式8で表される化合物1モルに対して0.9~2モルの塩基性化合物を用い、50°C~100°Cで攪拌することにより、式12で表される化合物と式8で表される化合物との反応、及びこれにより生成する式13で表される化合物の閉環反応を一挙に行い、調製することもできる。上記反応スキーム-Dにおける式10で表される化合物は、式9で表される化合物から、下記反応スキーム-Eに示す方法を用いて製造することもできる。反応スキーム-E[式中、R1、R2、X1及びnは前記に同じ。RAは、低級アルキル基又は置換基を有することのあるフェニル基を示す。RBは、水素原子又は低級アルキル基を示す。また、RA及びRBは、これらが結合する炭素原子と一緒になってシクロアルキル環を形成してもよい。]反応スキーム-Eにおいては、式9で表される化合物と式9-iで表される化合物とを反応させて式9-iiで表される化合物を得、次いで式9-iiで表される化合物と式2で表される化合物とを反応させて式9-iiiで表される化合物を得る。その後、式9-iiiで表される化合物を脱保護することにより、式10で表される化合物を得る。RA及びRBで示される低級アルキル基としては、上述した低級アルキル基を例示できる。RAで示される、置換基を有することのあるフェニル基における置換基としては、上述した低級アルコキシ基を例示できる。好ましくは、1~3個のこのような置換基が、フェニル環上に存在する。RA及びRBが、これらが結合する炭素原子と一緒になって形成してもよいシクロアルキル環としては、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環等が挙げられる。式9-iで表される化合物としては、アセトン、ベンズアルデヒド、p-メトキシベンズアルデヒド、2,4-ジメトキシベンズアルデヒド、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン等が挙げられる。式9で表される化合物と式9-iで表される化合物との反応において、式9-iで表される化合物は、式9で表される化合物1モルに対して、通常1~200モル、好ましくは1~100モル使用される。式9で表される化合物と式9-iで表される化合物との反応は、適当な溶媒中、酸触媒の存在下に行われる。溶媒としては、種々の公知のものを使用でき、反応を阻害しない溶媒が好ましい。このような溶媒としては、例えば、ジメチルホルムアミドDMF、ジメチルスルホキシドDMSO、アセトニトリル等の非プロトン性極性溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン、テトラリン、ヘキサン、ペンタン、流動パラフィン等の炭化水素溶媒;テトラヒドロフランTHF、ジオキサン、ジプロピルエーテル、ジエチルエーテル、ジグライム等のエーテル溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸t-ブチル等のエステル溶媒;ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素溶媒;及びこれらの混合物等が挙げられる。アセトン、メチルエチルケトン、及びシクロヘキサノン等のケトン溶媒もまた使用できる。触媒としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸;ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、酢酸等の有機酸;塩化アンモニウム、ピリジニウムヘキサフルオロアンチモナート等のアンモニウム塩;及びBF3OC2H52、四塩化チタン、スカンジウムトリフラート等のルイス酸が挙げられる。これらの酸触媒は、通常の触媒量で使用される。具体的には、式9で表される化合物1モルに対して、通常0.01~1モル、好ましくは0.01~2モル使用される。この反応は、通常0°C~200°C、好ましくは室温~150°Cで行われ、通常30分~72時間程度で完結する。上記反応により、式9で表される化合物の2つの水酸基が保護される。引き続く式9-iiで表される化合物と式2で表される化合物との反応は、前記式9で表される化合物と式2で表される化合物との反応と同様の反応条件下に行われる。斯くして得られる式9-iiiで表される化合物の脱保護には、保護された水酸基から保護基を除去する種々の公知の反応条件を採用できる。例えば、適当な溶媒中、酸の存在下に、式9-iiiで表される化合物の脱保護を行うことが好ましい。この脱保護で用いられる溶媒としては、例えば、前記式9で表される化合物と式9-iで表される化合物との反応に使用される溶媒と同様のものが挙げられる。酸としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸;ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、酢酸等の有機酸;及び塩化アンモニウム、ピリジニウムヘキサフルオロアンチモナート等のアンモニウム塩が挙げられる。これらの酸は、式9-iiiで表される化合物1モルに対して、通常0.01~1モル、好ましくは0.01~0.2モル使用される。この反応は、通常0~200°C、好ましくは室温~150°Cで行われ、通常30分~24時間程度で完結する。本発明の化合物を包含する、前記各反応式における原料化合物及び目的化合物は、フリー体であってもよく、塩の形態であってもよい。このような塩としては、薬理的に許容される塩であって、無機塩基の塩、有機塩基の塩、無機酸の塩及び有機酸の塩を挙げることができる。無機塩基の塩としては、例えば、アルカリ金属塩例えば、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩等、アルカリ土類金属塩例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等等の金属塩、アンモニウム塩、炭酸アルカリ金属例えば、炭酸リチウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム等の塩、炭酸水素アルカリ金属例えば、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の塩、アルカリ金属水酸化物例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等の塩等を挙げることができる。有機塩基の塩としては、例えば、トリ低級アルキルアミン例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、N-エチルジイソプロピルアミン等、ピリジン、キノリン、ピペリジン、イミダゾール、ピコリン、ジメチルアミノピリジン、ジメチルアニリン、N-低級アルキル-モルホリン例えば、N-メチルモルホリン等、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン-5DBN、18-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン-7DBU、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンDABCOの塩等を挙げることができる。無機酸の塩としては、例えば、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩等を挙げることができる。有機酸の塩としては、例えば、ギ酸塩、酢酸塩、プロピオン酸塩、シュウ酸塩、マロン酸塩、コハク酸塩、フマル酸塩、マレイン酸塩、乳酸塩、リンゴ酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、炭酸塩、ピクリン酸塩、メタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩、p-トルエンスルホン酸塩、グルタミン酸塩等を挙げることができる。また、本発明の化合物を包含する、各反応式において示された原料化合物及び目的化合物は溶媒和物例えば、水和物、エタノレート等の形態であってもよい。好ましい溶媒和物としては水和物が挙げられる。前記各工程で得られる各々の目的化合物は、反応混合物から、例えば、冷却後、濾過、濃縮、抽出等の単離操作によって粗反応生成物を分離し、カラムクロマトグラフィー、再結晶等の通常の精製操作に付すことによって、単離精製することができる。一方、これらを単離せずに、そのまま反応混合物として、次の工程の原料として用いてもよい。前記各工程において用いられる原料化合物及び目的化合物は、特に記載の無い限り、ラセミ体であってもよく、光学活性体であってもよいが、式1で表される化合物の光学活性体:[式中、R1、R2及びnは前記に同じである。]を得るためには、各工程で以下の光学活性体を用いることが好ましい。式9:[式中、R1、X1及びnは前記に同じである。]で表される化合物。式10:[式中、R1、R2及びnは前記に同じである。]で表される化合物。式11:[式中、各記号はR1、R2、X3及びnは前記に同じである。]で表される化合物。式12:[式中、R1、R2及びnは前記に同じである。]で表される化合物。式13:[式中、R1、R2、X2及びnは前記に同じである。]で表される化合物。式1、10~13で表される化合物の光学活性体は、工程1において、式9で表される化合物を用いることによって、各工程で立体配置が維持されて、高い光学純度で得ることができる。本発明によれば、式2で表される化合物から式1で表される化合物を高収率で製造することができる。本発明によれば、原料化合物に光学活性体を使用した場合、高い光学純度で、式1で表される化合物の光学活性体を製造できる。本発明者らの研究によれば、これは、例えば、以下の理由に基づくものであると推測されるが、本発明はこれに限定されるものではない。前記の公知の方法には、後記の反応式に示すように、化合物RNsへフェノキシドが求核攻撃を開始する工程がある。その工程では、化合物RNsにおける、pathAの矢印で示した位置をフェノキシドが攻撃して目的のRエナンチオマーが得られる。しかしながら、フェノキシドは、pathBの矢印で示した位置も攻撃するので、Sエナンチオマーも副生する。従って、生成物の光学純度が低下する。これに対して、本発明の方法は、このような光学純度の低下を招く工程を含まず、この点で前記の公知の方法より優れている。以下に実施例を掲げて、本発明をより一層明らかにする。以下で用いる略号は、特に記載が無い限り、当業者が通常理解する意味を有するが、例えば、次の略号は、ここに記載する意味を有する。s:シングレット、d:ダブレット、t:トリプレット、q:カルテット、m:マルチプレット、dd:ダブルダブレット、dt:ダブルトリプレット、br:ブロード幅が広いaq.:水溶液MeOH:メタノール参考例12メチル2メチルオキシランの製造4ブロモフェノール80g462mmol、22メチルオキシラン400ml、及び炭酸カリウム9586g693mmolを混合し、100°Cで4時間反応させた。反応終了後、減圧濃縮し、酢酸エチル200ml、水400mlを加え抽出した。水層を酢酸エチル200mlで抽出した。有機層を水200mlで2回洗浄した。その後、減圧濃縮し、酢酸エチルを除去した。その後、トルエンを加え減圧濃縮し、粗製物を120g得た。1HNMRδppm147273286390402680737。実施例132メチルプロパン12ジオールの製造β-メタリルアルコール900g125mol、D酒石酸ジイソプロピル1753g750mmol、モレキュラーシーブス450g、脱水トルエン900mlの混合物を18°Cで撹拌し、チタンテトライソプロポキシド177g624mmolを加えて16~18°Cで05時間撹拌した。さらに、80クメンハイドロペルオキシド404g全体として212molを16~18°Cで2時間の間に滴下し、10°Cで5時間攪拌した。その後、ジメチルスルホキシド957g1225mmolを11~13°Cで07時間の間に添加した。さらに、室温で6時間攪拌した。セライト180gを加えて05時間攪拌した後、反応混合物を濾過して、S2メチルグリシジルアルコールのトルエン溶液を得た。得られたトルエン溶液に4-ブロモフェノール108g624mmolと25水酸化ナトリウム水溶液110gを加え、40°Cで9時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却して、活性炭90gとセライト450gを加えて05時間攪拌し、濾過した。トルエン層を水洗した後、トルエン及びクミルアルコールを減圧留去した。濃縮残渣に、トルエン162mlを加え、70°Cまで加熱し溶解させた。その溶液を5時間で室温まで徐冷し、さらにヘキサン162mlを加えて5時間攪拌した。析出した白色結晶を濾取して、ヘキサン及びトルエンの混合溶媒ヘキサン/トルエンの混合比が3/190mlで洗浄した。50°Cで送風乾燥し目的物を1238g4-ブロモフェノール基準で761得た。融点:90°C光学純度:9223ee1H-NMRδppm130208262358372390681739。実施例232メチルプロパン12ジオールの製造β-メタリルアルコール10g139mmolとタングステン酸ナトリウム2水和物92mg028mmolの混合物を室温下で攪拌し、35過酸化水素水173g153mmolを5分かけて滴下した。40°Cまで加熱後、7時間攪拌した。得られた反応液の半量β-メタリルアルコール基準で70mmolに対し、炭酸カリウム96g69mmolと4-ブロモフェノール79g46mmolを加え、60°Cで25時間攪拌した。トルエン30mlを加えた後加熱し、60°C付近で水洗した。反応液を氷冷し、析出した結晶を濾取した。結晶をトルエン5mlで洗浄した後減圧乾燥し、32メチルプロパン12ジオールを98g得た収率824ブロモフェノール基準。実施例332メチルプロパン12ジオールの製造2メチル2メチルオキシラン729g300mmol、アセトン360ml、水180ml、硫酸73mlを混合し、60°Cで1時間撹拌した。冷却後、減圧濃縮した。濃縮残渣に、酢酸エチル360ml、飽和重曹水を加え抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後濃縮した。得られた粗製物に酢酸エチル102mlを加え、加熱、溶解させた。室温まで冷却後、ヘキサン204mlを加え、10°C以下で1時間撹拌した。析出した結晶を濾取し、酢酸エチル24ml及びヘキサン48mlの混合溶液で洗浄した。得られた結晶を減圧乾燥し、目的物を440g得た収率56。実施例414フェニル44フェノキシピペリジン32メチルプロパン12ジオール8796g3369mmol光学純度922ee、44フェノキシピペリジン80g3062mmol、トリスジベンジリデンアセトン二パラジウム0Pd2dba3701mg077mmol、2-ジtertブチルホスフィノ246トリイソプロピル11ビフェニル780mg184mmol、ナトリウムtertブトキシド3385g3522mmol、トルエン240mlを混合し、アルゴン雰囲気下70°Cで6時間撹拌した。冷却後、反応混合液に塩化アンモニウム水溶液を加え、トルエンで抽出した。有機層を減圧留去し2メチル3フェノキシピペリジン1イルフェノキシプロパン12ジオールの粗製物を得た。1HNMRδppm128188203203219222275292305330345357373386393436448678698713。その粗製物に酢酸エチル810ml、トリエチルアミン62g612mmolを加えた。次に氷冷下メタンスルホニルクロリドを原料が消失するまで加え403g3518mmol20分撹拌した。反応終了後、混合液に水を加え酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水で洗浄した後、減圧留去し2ヒドロキシ2メチル3フェノキシピペリジン1イルフェノキシプロピルメタンスルホネートの粗製物を得た。1HNMRδppm137198205205219263293307303332343385390427438447681697714。その粗製物にメタノール954ml、炭酸カリウム847g612mmolを加え0°Cから室温で30分撹拌した。反応混合液を減圧留去し、トルエン、水を加えた。トルエン層を水で水洗した後、減圧留去した。得られた残渣にイソプロパノール520ml、水を加え加熱し溶解させた。その後冷却し、析出晶を濾取、乾燥し985gの14フェニル44フェノキシピペリジンを得た収率762。光学純度:9432ee1HNMRδppm14819212722862931333539139843456870714。実施例54メチル224トリメチル13ジオキソランの製造32メチルプロパン12ジオール261mg100mmol、アセトン77mg13mmol、テトラヒドロフラン、三ふっ化ほう素ジエチルエーテル錯体3滴を混合し、室温下、67時間撹拌し、アセトン102mg176mmolを加えて2時間撹拌した。反応混合物に炭酸ナトリウム、酢酸エチルと水を加えて抽出し、有機層を2回、食塩水で洗浄した。有機層を減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルでクロマトグラフィー精製塩化メチレンして121mg収率40の表題化合物を得た。性状:無色油状物1HNMRδppm143374378384411678736。実施例64メチル224トリメチル13ジオキソランの製造32メチルプロパン12ジオール261mg、100mmol、アセトン10mLと三ふっ化ほう素ジエチルエーテル錯体3滴を混合し、室温下、14時間撹拌した。減圧濃縮して得た残渣に酢酸エチルと水を加えて抽出し、有機層を2回、食塩水で洗浄した。有機層を減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルでクロマトグラフィー精製塩化メチレンして183mg収率61の表題化合物を得た。性状:無色油状物1HNMRδppm143375378385411679737。実施例744フェノキシ14メトキシフェニルピペリジンの製造4メチル224トリメチル13ジオキソラン156mg0518mmol、44フェノキシピペリジン135mg0517mmol、酢酸パラジウム12mg00053mmol、テトラフェニルほう素トリtertブチルホスホニウム27mg00052mmol、ナトリウムtertブトキシド55mg057mmolとトルエン2mLを混合し、還流下に2時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルと水を加えて抽出し、有機層を2回、水で洗浄した。有機層を減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルでクロマトグラフィー精製酢酸エチルして232mg収率93の表題化合物を得た。性状:淡黄色油状物1HNMRδppm143192021222931333437537838441344456846970714。実施例82メチル3フェノキシピペリジン1イルフェノキシプロパン12ジオールの製造44フェノキシ14メトキシフェニルピペリジン223mg0463mmol、エタノール10mLと濃塩酸2mLを混合し、室温下、14時間撹拌した。反応混合物に水を加え、炭酸ナトリウムで中和後、混合物に酢酸エチルを加えて抽出し、有機層を3回、水で洗浄した。有機層を減圧濃縮して196mg収率96の表題化合物を得た。性状:白色結晶1HNMRδppm1271920212224282931333435637138539144456856970713。実施例92メチル6ニトロ244ピペリジン1イルフェノキシメチル23ジヒドロイミダゾ21bオキサゾールの製造14フェニル44フェノキシピペリジン100g236mmol光学純度943ee、2クロロ4ニトロイミダゾール、酢酸ナトリウム、酢酸tブチル10mlを混合し、100°Cで35時間撹拌した。反応液にメタノール70mlを加え、次いで水酸化ナトリウムの25水溶液を氷冷下滴下した。得られた混合物を0°Cで15時間撹拌し、さらに室温付近で40分撹拌した。これに水15ml、酢酸エチル5mlを加え、45~55°Cで1時間撹拌した。室温まで冷却後、析出した結晶を濾取し、メタノール30ml、次いで水40mlで洗浄した。得られた結晶にメタノール100mlを加え還流下30分撹拌した。室温まで冷却した後、結晶を濾取し、メタノール30mlで洗浄した。得られた結晶を減圧乾燥し、目的物を93g得た収率73。光学純度:9946ee。実施例1032メチルプロパン12ジオールの製造β-メタリルアルコール50g693mmolとタングステン酸ナトリウム2水和物460mg14mmolの混合物を室温下で攪拌し、30過酸化水素水を5分かけて滴下した。40°Cまで加熱後、9時間攪拌した。得られた反応液に、炭酸カリウム797g576mmolと4-クロロフェノール524g407mmolを加え、70°Cで1時間攪拌した。トルエン390mlを加えた後加熱し、60°C付近で水洗した。反応液を氷冷し、析出した結晶を濾取した。得られた結晶を減圧乾燥し、32メチルプロパン12ジオールを600g得た収率684クロロフェノール基準。1HNMRδppm129229274357679690719730。実施例112メチル3フェノキシピペリジン1イルフェノキシプロパン12ジオールの製造32メチルプロパン12ジオール1907mg088mmol、44フェノキシピペリジン2089mg08mmol、Pd2dba318mg0002mmol、2ジtertブチルホスフィノ246トリイソプロピル11ビフェニル34mg0008mmol、ナトリウムtertブトキシド、トルエン06mlを混合し、アルゴン雰囲気下110°Cで3時間撹拌し91の転化率で2メチル3フェノキシピペリジン1イルフェノキシプロパン12ジオールが生成していることをUPLCにより確認した。分析条件UPLC検出器:紫外吸光光度計測定波長:220nmカラム:ACQUITYUPLCBEHC1821mmid×50mm、17μm、WATERS社カラム温度:50°C移動相:01MHCOONH4aqMeOHグラジエント条件:01MHCOONH4aq及びMeOHの組成を7030から3分間で直線的に2080に変化させる。実施例122メチル3フェノキシピペリジン1イルフェノキシプロパン12ジオールpトルエンスルホン酸塩の製造32メチルプロパン12ジオール、44フェノキシピペリジン、トリスジパラジウム、2ジtertブチルホスフィノ246トリイソプロピル11ビフェニル、ナトリウムtertブトキシド、トルエンを加えアルゴン雰囲気下70°Cで3時間撹拌した。冷却後、反応混合液に塩化アンモニウム水溶液を加え、トルエンで抽出した。イソプロパノールを流入し、pトルエンスルホン酸一水和物を加え攪拌し、析出晶を濾取、乾燥し2メチル3フェノキシピペリジン1イルフェノキシプロパン12ジオールpトルエンスルホン酸塩を403kg得た収率857。実施例1314フェニル44フェノキシピペリジンの製造2メチル3フェノキシピペリジン1イルフェノキシプロパン12ジオールpトルエンスルホン酸塩、シクロペンチルメチルエーテル、トリエチルアミンを加えた。次に5°C以下でメタンスルホニルクロリドを滴下した。反応終了後、25水酸化ナトリウム水溶液を加え40°C付近で90分撹拌した。反応混合液にトルエン、水を加え、トルエン層を水洗した後、減圧留去した。得られた残渣に70イソプロパノールを加え加熱し溶解させた。その後冷却し、析出晶を濾取、乾燥し14フェニル44フェノキシピペリジンを54kg得た。実施例142メチル3フェノキシピペリジン1イルフェノキシプロパン12ジオールの製造32メチルプロパン12ジオール、44フェノキシピペリジン、トリスジパラジウム、2ジtertブチルホスフィノ246トリイソプロピル11ビフェニル、水酸化カリウム、トリブチルアミン、キシレンを加え窒素雰囲気下80°Cで6時間撹拌し、96の転化率で、2メチル3フェノキシピペリジン1イルフェノキシプロパン12ジオールが生成していることをHPLCにて確認した。実施例152メチル3フェノキシピペリジン1イルフェノキシプロパン12ジオールの製造32メチルプロパン12ジオール、44フェノキシピペリジン、トリスジパラジウム、2ジtertブチルホスフィノ246トリイソプロピル11ビフェニル、リン酸カリウム、トルエンを加え窒素雰囲気下80°Cで21時間撹拌し、52の転化率で、2メチル3フェノキシピペリジン1イルフェノキシプロパン12ジオールが生成していることをHPLCにて確認した。実施例162メチル3フェノキシピペリジン1イルフェノキシプロパン12ジオールの製造32メチルプロパン12ジオール、44フェノキシピペリジン、トリスジパラジウム、2ジtertブチルホスフィノ246トリイソプロピル11ビフェニル、水酸化ナトリウム、トルエンを加え窒素雰囲気下80°Cで14時間撹拌し、93の転化率で、2メチル3フェノキシピペリジン1イルフェノキシプロパン12ジオールが生成していることをHPLCにて確認した。実施例172メチル3フェノキシピペリジン1イルフェノキシプロパン12ジオールの製造32メチルプロパン12ジオール、44フェノキシピペリジン、トリスジパラジウム、2ジtertブチルホスフィノ246トリイソプロピル11ビフェニル、炭酸セシウム、トルエンを加え窒素雰囲気下80°Cで14時間撹拌し、79の転化率で、2メチル3フェノキシピペリジン1イルフェノキシプロパン12ジオールが生成していることをHPLCにて確認した。実施例182メチル3フェノキシピペリジン1イルフェノキシプロパン12ジオールの製造32メチルプロパン12ジオール、44フェノキシピペリジン、トリスジパラジウム、2ジtertブチルホスフィノ2、水酸化カリウム、トリブチルアミン、キシレンを加え窒素雰囲気下80°Cで21時間撹拌し、99の転化率で、2メチル3フェノキシピペリジン1イルフェノキシプロパン12ジオールが生成していることをHPLCにて確認した。実施例192メチル3フェノキシピペリジン1イルフェノキシプロパン12ジオールの製造32メチルプロパン12ジオール、44フェノキシピペリジン、トリスジパラジウム、2ジtertブチルホスフィノ2ビフェニル、水酸化ナトリウム、トルエンを加え窒素雰囲気下80°Cで14時間撹拌し、85の転化率で、2メチル3フェノキシピペリジン1イルフェノキシプロパン12ジオールが生成していることをHPLCにて確認した。実施例202メチル3フェノキシピペリジン1イルフェノキシプロパン12ジオールの製造32メチルプロパン12ジオール、44フェノキシピペリジン、トリスジパラジウム、5135トリフェニル1H14ビピラゾール、ナトリウムtertブトキシド、トルエンを加え窒素雰囲気下100°Cで2時間撹拌し、99の転化率で、2メチル3フェノキシピペリジン1イルフェノキシプロパン12ジオールが生成していることをHPLCにて確認した。実施例212メチル3フェノキシピペリジン1イルフェノキシプロパン12ジオールの製造32メチルプロパン12ジオール、44フェノキシピペリジン、トリスジパラジウム、21フェニル1Hピロール、ナトリウムtertブトキシド、トルエンを加え窒素雰囲気下100°Cで2時間撹拌し、93の転化率で、2メチル3フェノキシピペリジン1イルフェノキシプロパン12ジオールが生成していることをHPLCにて確認した。実施例222メチル3フェノキシピペリジン1イルフェノキシプロパン12ジオールの製造32メチルプロパン12ジオール、44フェノキシピペリジン、トリスジパラジウム、21フェニル1Hインドール、ナトリウムtertブトキシド、トルエンを加え窒素雰囲気下100°Cで2時間撹拌し、89の転化率で、2メチル3フェノキシピペリジン1イルフェノキシプロパン12ジオールが生成していることをHPLCにて確認した。実施例232メチル3フェノキシピペリジン1イルフェノキシプロパン12ジオールの製造32メチルプロパン12ジオール、44フェノキシピペリジン、トリスジパラジウム、211ビナフチル、ナトリウムtertブトキシド、トルエンを加え窒素雰囲気下100°Cで2時間撹拌し、96の転化率で、2メチル3フェノキシピペリジン1イルフェノキシプロパン12ジオールが生成していることをHPLCにて確認した。実施例244メチル224トリメチル13ジオキソランの製造32メチルプロパン12ジオール、pトルエンスルホン酸をアセトンに溶解し、還流下、55時間撹拌した。反応の進行はTLCにて追跡した。生成する水は300gの溶媒を常圧下で共沸留去することにより除去し,アセトン300gを途中で追加した。反応終了後,溶媒を減圧下留去し,濃縮残渣を酢酸イソプロピルに溶解し,有機層を1M水酸化ナトリウム水溶液にて洗浄し、得られた有機層を濃縮乾固し25gの4メチル224トリメチル13ジオキソランを得た。実施例2544フェノキシ14メトキシフェニルピペリジンの製造4メチル224トリメチル13ジオキソラン、44フェノキシピペリジン、トリスジパラジウム、2ジシクロヘキシルホスフィノ2ビフェニル、水酸化カリウム、トリブチルアミン、キシレンを加え窒素雰囲気下80°Cで8時間撹拌し、99の転化率で、44フェノキシ14メトキシフェニルピペリジンが生成していることをHPLCにて確認した。実施例2644フェノキシ14メトキシフェニルピペリジンの製造4メチル224トリメチル13ジオキソラン、44フェノキシピペリジン、トリスジパラジウム、2ジシクロヘキシルホスフィノ11ビフェニル、水酸化カリウム、トリブチルアミン、キシレンを加え窒素雰囲気下80°Cで8時間撹拌し、99の転化率で、44フェノキシ14メトキシフェニルピペリジンが生成していることをHPLCにて確認した。実施例2744フェノキシ14メトキシフェニルピペリジンの製造4メチル224トリメチル13ジオキソラン、44フェノキシピペリジン、酢酸パラジウム、2ジシクロヘキシルホスフィノ26ジメトキシ11ビフェニル、ナトリウムtertブトキシド、トルエンを混合し窒素雰囲気下還流下で8時間撹拌し、99以上の転化率で、44フェノキシ14メトキシフェニルピペリジンが生成していることをNMRにて確認した。実施例2832メチルプロパン12ジオールの製造β-メタリルアルコール900g125mol、D酒石酸ジイソプロピル175g748mmol、モレキュラーシーブス4A450g、脱水トルエン450mlの混合物を窒素雰囲気下20°Cで撹拌し、チタンテトライソプロポキシド177g624mmolを5分間の間に加えて、05時間撹拌した。さらに、80クメンハイドロペルオキシド309g162molを20~15°Cで2時間の間に滴下し、10°Cで3時間攪拌した。その後、ジメチルスルホキシド592g748mmolを20~35°Cで05時間の間に滴下した。得られた混合物を30~40°Cで3時間攪拌した。混合物を冷却し、その後一晩静置した。セライト180gを加えて05時間攪拌した後、反応混合物を濾過して、S2メチルグリシジルアルコールのトルエン溶液を得た。得られたトルエン溶液に4-ブロモフェノール127g734mmolと10水酸化ナトリウム水溶液176g440mmolを加え、55°Cで5時間攪拌した。混合物を冷却し、その後一晩静置した。反応混合物を12°Cに冷却して、10希硫酸217N423mlを添加し、その後02時間攪拌した。トルエン層を分離し、その後5水酸化ナトリウム水溶液178ml、5食塩水128ml3回、及び水128ml2回で洗浄した。その後、トルエン及びクミルアルコールクミルアルコールBp60~65°C2mmHgを有機層から減圧留去した。残渣を70°Cまで冷却し、トルエン191mlを加えた。得られた混合物を5°Cまで冷却した。析出した結晶を濾取し、冷トルエン95mlで洗浄した。得られた結晶を送風機によって乾燥させ、1540gの32メチルプロパン12ジオール4ブロモフェノール基準で収率803を得た。光学純度886ee融点8789°C"