酸化アルミニウム、ならびに、酸化ガドリニウム、酸化ジスプロシウムおよび酸化イッテルビウムからなる群より選択される少なくとも一つの化合物を含む、中程度の屈折率の光学層を製造するための蒸着材料。酸化アルミニウム、ならびに、酸化ガドリニウム、酸化ジスプロシウムおよび酸化イッテルビウムからなる群より選択される化合物を含む、請求項1に記載の蒸着材料。酸化アルミニウム、ならびに、酸化ガドリニウム、酸化ジスプロシウムおよび酸化イッテルビウムからなる群より選択される二つの化合物を含む、請求項1に記載の蒸着材料。酸化アルミニウム、酸化ガドリニウム、酸化ジスプロシウムおよび酸化イッテルビウムを含む、請求項1に記載の蒸着材料。酸化アルミニウムおよび酸化ジスプロシウムを含む、請求項1または2に記載の蒸着材料。酸化アルミニウムと、酸化ガドリニウム、酸化ジスプロシウムおよび酸化イッテルビウムからなる群より選択される化合物とを1:99~99:1モルの比で含む、請求項1、2または5のいずれかに記載の蒸着材料。酸化アルミニウム20~80モルおよび、酸化ガドリニウム、酸化ジスプロシウムおよび酸化イッテルビウムからなる群より選択される少なくとも一つの化合物80~20モルを含む、請求項1、2、5または6のいずれかに記載の蒸着材料。酸化アルミニウムを、酸化ガドリニウム、酸化ジスプロシウムおよび酸化イッテルビウムからなる群より選択される少なくとも一つの化合物と混合し、混合物を圧縮または懸濁、成形および続いて焼結する、請求項1に記載の蒸着材料を調製する方法。酸化アルミニウムと、酸化ガドリニウム、酸化ジスプロシウムおよび酸化イッテルビウムからなる群より選択される化合物とを1:99~99:1モルの比で混合する、請求項8に記載の方法。酸化アルミニウムを酸化ジスプロシウムと混合する、請求項8または9に記載の方法。焼結を、空気流入下に1300~1600°Cの温度で行う、請求項8~10のいずれかに記載の方法。焼結を、減圧下または不活性ガス下に1300~1600°Cの温度で行う、請求項8~10のいずれかに記載の方法。混合物を錠剤、ペレット、ディスク、円錐台、細粒、顆粒、棒またはビーズに成形する請求項8~12のいずれかに記載の方法。中程度の屈折率の光学層を製造するための、請求項1~7のいずれかに記載の蒸着材料の使用。請求項1~7のいずれかに記載の蒸着材料を含んでなる、屈折率が1.6~1.9の範囲である中程度屈折率の光学層。請求項1~7のいずれかに記載の蒸着材料を含んでなる、屈折率が1.6~1.9の範囲である中程度屈折率の少なくとも一つの光学層を含んでなる多層光学的システム。本発明の目的は、高い耐久力を有し、湿分、酸およびアルカリに対して不感性であり、放射能が低く、広スペクトル範囲において透明かつ非吸収性であり、溶融および蒸発中に最初の組成を変化させず、低い焼結温度しか必要とせず、それを利用して1.7~1.8の範囲にその屈折率を特定して設定することができる前記特性を有する中程度屈折率の層を得ることができる、中程度屈折率の光学層の製造のための蒸着材料を提供することである。本発明の目的は、酸化アルミニウム、ならびに、酸化ガドリニウム、酸化ジスプロシウムおよび酸化イッテルビウムからなる群より選択される少なくとも一つの化合物を含む、中程度の屈折率の光学層を製造するための蒸着材料により達成される。本発明の目的は、酸化アルミニウムを、酸化ガドリニウム、酸化ジスプロシウムおよび酸化イッテルビウムからなる群より選択される少なくとも一つの化合物と混合し、該混合物を圧縮または懸濁し、成形し、続いて焼結する、中程度屈折率の光学層を製造するための蒸着材料を調製する方法によっても達成される。さらに、本発明は、酸化アルミニウム、ならびに、酸化ガドリニウム、酸化ジスプロシウムおよび酸化イッテルビウムからなる群より選択される少なくとも一つの化合物を含む蒸着材料の、中程度屈折率の光学層の製造のための使用に関する。本発明の蒸着材料は、酸化アルミニウム、ならびに、酸化ガドリニウムGd2O3、酸化ジスプロシウムDy2O3および酸化イッテルビウムYb2O3からなる群より選択される少なくとも一つの化合物を含む。ここで、混合物のモル組成は、蒸着材料により製造することができる層の屈折率を決める。純酸化アルミニウムにより、約1.63の層の屈折率が得られる。これは、1.7~1.8の屈折率が必要である特定の用途には低すぎる。酸化ガドリニウム、酸化ジスプロシウムまたは酸化イッテルビウムの純粋層の屈折率は、層厚および適用法に依存して、1.55~1.85の間で変化する。大部分の場合に、これらの物質の添加により、純酸化アルミニウムの層と比べて、屈折率を増加させることができる。従って、混合物のモル比は、必要な屈折率に従って設定される。それは、広い制限範囲内で変化することができ、二元混合物において1:99~99:1モルである。酸化ガドリニウム、酸化ジスプロシウムおよび酸化イッテルビウムからなる群より選択される複数の化合物を用いる場合、各構成成分は、三元混合物の場合は98モルまでの量で、四元混合物の場合は97モルまでの量で存在する。ここで、酸化アルミニウム20~80モルおよび、酸化ガドリニウム、酸化ジスプロシウムおよび酸化イッテルビウムからなる群より選択される少なくとも一つの化合物80~20モルの割合が特に有利であるが、特に40:60~60:40が好ましい。好ましくは1.7~1.8の範囲における所望の屈折率の信頼性ある設定に加えて、この混合物は、酸化ガドリニウム、酸化ジスプロシウムまたは酸化イッテルビウムの純粋層を上回るかなりの経済的利点も提供する。酸化アルミニウムは、より容易に入手でき、値段が安いからである。酸化アルミニウムおよび酸化ガドリニウムおよび/または酸化ジスプロシウムおよび/または酸化イッテルビウムの三元または四元混合物の使用により、屈折率を正確に制御できる。設定することができる1.6~1.9の範囲の中程度屈折率の変動許容度が、このように増加する。予め定められた範囲の屈折率を有する層を製造することができる可能性以外に、本発明の蒸着材料は、多くのさらなる利点も有する。これらは混合物であるが、これらは調和的に蒸発する、すなわち、それらの成分が蒸発プロセス中に実質的に変化しないままである。このように、中程度屈折率の均質層を再現可能に製造することができる。これは、異なる屈折率の材料を用いる多層系を互いに重なるように配する場合、特に有利である。そうでなければ、中程度屈折率の層の数につれて、最初に計算したされたシステムの値からかなり変化してしまう。得られる光学層は、広スペクトル範囲において、すなわち約250nm~約7μmにおいて透明であり、この範囲において極めて低い吸収しか示さない。特に、可視スペクトル領域において、これらは全体として吸収を示さない。これにより、分極性ビーム分割器および二色フィルターにおいて用いるのに関心を引き起こすものとなる。本発明の蒸着組成物は、また改良された耐久性を有するが、これは主に湿熱環境において明確な効果が発揮される。出発材料は環境湿分に安定であるので、それらは、取り扱いが簡単であり、蒸着材料の調製およびその後の加工中に特別の保護手段を採る必要はない。さらに、これらの材料を用いて製造される光学層は、湿熱環境中においておよび酸およびアルカリに対して高い安定性を有する点で優れている。本発明の蒸着材料のさらなる利点は、用いられる物質が放射性同位体を有さないことにある。蒸着材料そのものも、それを用いて製造された層も放射線を発せず、それは、安全対策が不必要であること、および層に接触する光学部品や検出器へのこの点に関する損傷が予想されないことを意味する。本発明の蒸着材料は、酸化アルミニウムを、酸化ガドリニウム、酸化ジスプロシウムおよび酸化イッテルビウムからなる群より選択される少なくとも一つの化合物と混合し、混合物を圧縮または懸濁し、成形し、続いて焼結する方法により調製される。ここで、出発成分の混合モル比は、混合物が適用される層の目的屈折率に応じ、広範囲で、すなわち二元混合物の場合には1:99~99:1モルで、三元混合物中の酸化物の一つについては98モルまでの割合で、四元混合物の場合には97モルまでの割合で変化することができる。酸化アルミニウム20~80モルおよび、酸化ガドリニウム、酸化ジスプロシウムおよび酸化イッテルビウムからなる群より選択される少なくとも一つの化合物80~20モルの割合が特に有利であるが、特に40:60~60:40が好ましい。成分を互いに密に混合し、続いて、それ自体知られている適当な圧縮手段により圧縮および成形する。しかしながら、適当なキャリア媒体中で混合成分の懸濁液を調製することもでき、これは成形され続いて乾燥される。適当なキャリア媒体は、例えば、水であり、そこに、必要により、ポリビニルアルコール、メチルセルロースまたはポリエチレングリコールのようなバインダー、および必要により、例えば湿潤剤または抑泡剤のような助剤が添加される。懸濁操作の後には成形する。これについては、押し出し、射出成形またはスプレー乾燥のような種々の公知の技術を用いることができる。得られた成形物を乾燥し、例えば燃焼によりバインダーを除去する。これは、混合物の優れた取り扱い性および計量性により行われ、従って、連続的蒸着プロセスも利用できる。従って、混合物を転化する形状は、限定されない。適当な形状は、特に、本発明の蒸着材料での基材の連続被覆、およびこの目的に必要な補充プロセスにおいて特別の役割を果たす単純粋な取り扱いおよび良好な計量を容易にする全ての形状である。好ましい形状は、したがって種々の錠剤形状、ペレット、ディスク、円錐台、細粒または顆粒、棒またはビーズである。成形混合物を続いて焼結する。ここで、焼結プロセスを、種々の条件下に行うことができる。通常、本発明の蒸着材料は空気中で焼結される。しかしながら、焼結を減圧下または不活性ガス、例えばアルゴン下に行うこともできる。必要な焼結温度が、従来技術からの中程度屈折率の層のための他の適当な蒸着材料の焼結温度よりもかなり低いことが、ある場合には特に有利である。これらは、空気中または減圧下もしくは不活性ガス下に約1300~1600°Cである。これら比較的低い温度により、溶融るつぼおよび加熱コイルのような設備および装置の熱負荷が低くなり、これは、それらの寿命が長くなることを意味する。形成された成形焼結生成物は、貯蔵、輸送および蒸発装置への導入中にその形状を維持し、その後の全溶融および蒸発プロセス中に組成が安定である。焼結および冷却後、本発明の蒸着材料は、1.6~1.9の屈折率を有する中程度屈折率の光学層を製造に使用できる。本発明の蒸着材料は、例えば種々のガラスまたはプラスチックのような既知の適当な材料からなる窓ガラス、プリズム、シート、成形基材、例えば、光学レンズ、眼鏡レンズまたはカメラレンズ等の形状である全ての適当な基材の被覆に使用することができる。その性質、寸法、形状、材料および表面品質は制限されず、被覆装置中の基材の利用性によってのみ限定される。何故なら、基材を装置内に導入することができ、そこで支配的な温度および圧力条件下に安定を維持しなくてはならないからである。蒸着材料が予備加熱された基材に衝突するように被覆操作の前および操作中に基材を加熱することが有利であると分かった。しかしながら、この手法は、従来技術からそれ自体知られている。用いられる蒸着プロセスは、通常、蒸発るつぼまたはボートとして知られている適当なびん内の蒸着材料を、被覆すべき基材と共に蒸着装置に導入する高真空蒸着プロセスである。この装置を続いて減圧し、蒸着材料を、加熱および/または電子線照射により蒸発させる。蒸着材料が、薄層として基材の上に析出する。蒸発中、層の完全な酸化を確保するために酸素を添加することができる。層の密度を増加させるために、および、特に未加熱基材への接着を向上させるために、被覆操作中に、基材へのイオン照射イオン補助蒸着、プラズマ補助蒸着を行うことができる。しばしば複数の層が、基材上に交互に重なり合うように沈積される。個々の層の屈折率の適当な選択により、例えば反射率低下、反射率の増加、または系全体への予め定められた屈折率の設定のような所望の光学的特性を特定して設定することができる。しかしながら、光学的基材上のこのタイプの多層配列がそれ自体知られており、また頻繁に用いられている。本発明の蒸着材料は、広スペクトル領域において非吸収性であり、透明かつ均質であり、約1.6~約1.9の範囲に中程度屈折率を有し、湿熱環境において酸およびアルカリに対して安定であり、放射線を発しない中程度屈折率の接着性光学層を、適当な基材上に形成するために用いることができる。本発明を、幾つかの実施例により以下に説明するが、それらに限定されない。<実施例1>Al2O3およびDy2O3の混合物:酸化アルミニウム50モル21.11gおよび酸化ジスプロシウム50モル77.21gを、均質混合物が形成されるまで互いに密に混合する。この混合物を錠剤に成形し、それを空気中約1300°Cで4時間焼成する。冷却後、錠剤を、電子線蒸発器のるつぼ、例えば、レイボルドA700Qユニットに導入する。石英ガラスおよび眼鏡クラウンガラスBK7の精製基材を、ユニットの基材ホルダーに入れる。ユニットを、2×103Paの圧力で蒸発させる。基材を約300°Cに加熱する。次に、酸素をユニットに2×102Paの圧力になるまで入れて、完全酸化を達成する。続いて、蒸着材料の錠剤を約2100°Cの蒸発温度まで加熱し、約280nmの厚さを有する層を基材上に蒸着する。振動型石英層厚測定装置を用いて層厚を決める。冷却後、装置に空気を満たし、被覆された基材を除去する。透過および反射スペクトルを、分光光度計を用いて測定し、そこから層厚および屈折率を計算する。適用された層は均質であり、500nmの波長で屈折率が1.70である。300~900nmの範囲の吸収率は、1未満である。<実施例2>Al2O3およびYb2O3の混合物:酸化アルミニウム50モル20.11gおよび酸化イッテルビウム50モル81.57gを、均質混合物が形成されるまで互いに密に混合する。この混合物を錠剤に成形し、それを空気中約1300°Cで4時間焼成する。冷却された錠剤を、電子線蒸発器のるつぼ、例えば、レイボルドA700Q蒸着ユニットに導入する。石英ガラスおよび眼鏡クラウンガラスBK7の精製基材を、ユニットの基材ホルダーに入れる。ユニットを、2×103Paの圧力で蒸発させる。基材を約300°Cに加熱する。次に、酸素をユニットに2×102Paの圧力になるまで入れる。続いて、蒸着材料の錠剤を約2100°Cの蒸発温度まで加熱し、約280nmの厚さを有する層を基材上に蒸着する。冷却後、装置に空気を満たし、被覆された基材を除去する。透過および反射スペクトルを、分光光度計を用いて測定し、そこから層厚および屈折率を計算する。適用された層は均質であり、500nmの波長で屈折率が1.76である。300~900nmの範囲の吸収率は、1未満である。<実施例3>Al2O3およびGd2O3の混合物:酸化アルミニウム50モル21.56gおよび酸化ガドリニウム50モル76.67gを、均質混合物が形成されるまで互いに密に混合する。この混合物を錠剤に成形し、それを空気中約1300°Cで4時間焼成する。冷却後、錠剤を、レイボルドA700Q蒸着ユニットの電子線蒸発器のるつぼに導入する。石英ガラスおよび眼鏡クラウンガラスBK7の精製基材を、ユニットの基材ホルダーに入れる。ユニットを、2×103Paの圧力で蒸発させる。基材を約300°Cに加熱する。次に、酸素をユニットに2×102Paの圧力になるまで入れる。続いて、蒸着材料の錠剤を約2100°Cの蒸発温度まで加熱し、約240nmの厚さを有する層を基材上に蒸着する。冷却後、装置に空気を満たし、被覆された基材を除去する。透過および反射スペクトルを、分光光度計を用いて測定し、そこから層厚および屈折率を計算する。適用された層は均質であり、500nmの波長で屈折率が1.71である。300~900nmの範囲の吸収率は、1未満である。<実施例4>Al2O3およびYb2O3の混合物:酸化アルミニウム40モル14.46gおよび酸化イッテルビウム60モル83.65gを、均質混合物が形成されるまで互いに密に混合する。この混合物を錠剤に成形し、それを空気中約1300°Cで4時間焼成する。冷却後、錠剤を、レイボルドA700Q蒸着ユニットの電子線蒸発器のるつぼに導入する。石英ガラスおよび眼鏡クラウンガラスBK7の精製基材を、ユニットの基材ホルダーに入れる。ユニットを、2×103Paの圧力で蒸発させる。基材を約300°Cに加熱する。次に、酸素をユニットに2×102Paの圧力になるまで入れる。続いて、蒸着材料の錠剤を約2100°Cの蒸発温度まで加熱し、約240nmの厚さを有する層を基材上に蒸着する。冷却後、装置に空気を満たし、被覆された基材を除去する。透過および反射スペクトルを、分光光度計を用いて測定し、そこから層厚および屈折率を計算する。適用された層は均質であり、500nmの波長で屈折率が1.80である。300~900nmの範囲の吸収率は、1未満である。<実施例5>Al2O3、Dy2O3およびGd2O3の混合物:酸化アルミニウム50モル21.7重量、酸化ジスプロシウム25モル39.69重量および酸化ガドリニウム25モル38.57重量を、均質混合物が形成されるまで互いに密に混合する。この混合物を錠剤に成形し、それを空気中約1500°Cで4時間焼成する。冷却後、錠剤を、レイボルドL560蒸着ユニットの電子線蒸発器のるつぼに導入する。石英ガラスおよび眼鏡クラウンガラスBK7の精製基材を、ユニットの基材ホルダーに入れる。ユニットを、2×103Paの圧力で蒸発させる。基材を約250°Cに加熱する。次に、酸素をユニットに2×102Paの圧力になるまで入れる。続いて、蒸着材料の錠剤を約2100°Cの蒸発温度まで加熱し、約270nmの厚さを有する層を基材上に蒸着する。冷却後、装置に空気を満たし、被覆された基材を除去する。透過および反射スペクトルを、分光光度計を用いて測定し、そこから層厚および屈折率を計算する。適用された層は均質であり、500nmの波長で屈折率が1.72である。300~900nmの範囲の吸収率は、1未満である。<実施例6>Al2O3、Dy2O3、Gd2O3およびYb2O3の混合物:酸化アルミニウム50モル21.31重量、酸化ジスプロシウム16.66モル25.97重量、酸化ガドリニウム16.66モル25.42重量および酸化イッテルビウム16.88モル27.47重量を、均質混合物が形成されるまで互いに密に混合する。この混合物を錠剤に成形し、それを空気中約1500°Cで6時間焼成する。冷却後、錠剤を、レイボルドL560蒸着ユニットの電子線蒸発器のるつぼに導入する。石英ガラスおよび眼鏡クラウンガラスBK7の精製基材を、ユニットの基材ホルダーに入れる。ユニットを、2×103Paの圧力で蒸発させる。基材を約250°Cに加熱する。次に、酸素をユニットに2×102Paの圧力になるまで入れる。続いて、蒸着材料の錠剤を約2100°Cの蒸発温度まで加熱し、約290nmの厚さを有する層を基材上に蒸着する。冷却後、装置に空気を満たし、被覆された基材を除去する。透過および反射スペクトルを、分光光度計を用いて測定し、そこから層厚および屈折率を計算する。適用された層は均質であり、500nmの波長で屈折率が1.73である。300~900nmの範囲の吸収率は、1未満である。耐久性試験実施例1~4で得られた被覆機材を、種々の耐久性試験に付した。これらにおいて、基材を、種々の条件下に種々の媒体中に貯蔵した。結果:それぞれの試験後、どのサンプルガラスにおいても適用された層の剥離は観察されない。しみおよび/または曇りははっきりしない。透過および反射スペクトルの分析:実施例1~4で得た被覆基材および、Al2O3で被覆された石英基材からなる比較サンプルについて、前記耐久性試験後に透過および反射スペクトルを決め、未試験基材の透過および反射スペクトルと比較して評価する。以下の結果を得る:これらの結果によれば、Al2O3/Dy2O3の層が、湿熱環境にまたは酸およびアルカリに晒した後、その機械的耐久性およびスペクトルの変動性に関して最良の結果を示す。特に、これらは、純Al2O3の層よりも耐久性が優れている。酸化イッテルビウムおよび酸化ガドリニウム成分を含む層は、Al2O3/Dy2O3の層よりもやや耐久性に劣るが、純Al2O3の層よりはかなり優れている。