"平面形状の基板を位置補正して位置決めする基板位置決め装置であって、前記基板を少なくとも浮上させる浮上部、及び中心部に形成された孔を有する基板搭載ステージと、前記基板搭載ステージの孔の中に配置されたテーブル、搭載される前記基板の平面と垂直な方向に前記テーブルを上下移動する上下方向移動部、搭載される前記基板の平面に垂直な回転軸で前記テーブルを回転する回転部を有する中央ステージとを備えた、基板位置決め装置。搭載される前記基板を回転する回転方向移動部を備え、前記中央ステージは、前記基板を吸着保持する吸着部、前記基板の平面に平行な方向に前記テーブルを移動する平面方向移動部を有し、前記回転方向移動部は、前記浮上部によって浮上され、前記吸着部によって前記テーブルに吸着される前記基板を回転する、請求項1記載の基板位置決め装置。前記回転方向移動部は、前記テーブルに吸着される前記基板の端縁を押圧する押圧部材を有している、請求項2記載の基板位置決め装置。前記基板との位置を調整するために前記基板搭載ステージに形成されているステージ用アライメントマーク、及び前記基板搭載ステージとの位置を調整するために前記基板に形成されている基板用アライメントマークを撮像する撮像部と、前記撮像部により撮像した前記基板用アライメントマーク及び前記ステージ用アライメントマークから、前記基板搭載ステージに対する前記基板の位置が許容範囲になるように、前記回転部が回転するごとく制御する制御部とを更に備えた、請求項1記載の基板位置決め装置。平面形状の基板を位置補正して位置決めする基板位置決め方法であって、基板搭載ステージ上に前記基板を搭載する搭載ステップと、前記基板搭載ステージ上で前記基板を浮上させる浮上ステップと、前記基板搭載ステージの中心部に形成された孔に配置されたテーブルを上昇させ、当接状態で前記基板を吸着する載置ステップと、前記基板と前記基板搭載ステージの回転角度が所望の回転角度になるように、前記基板を吸着保持した前記テーブルを回転する回転ステップと、前記基板搭載ステージで前記基板を吸着保持する基板保持ステップとを備えた、基板位置決め方法。前記載置ステップの前に、前記基板と平行な面方向における前記基板搭載ステージの中心位置と前記基板の中心位置の距離が所望の距離以下になるように、前記テーブルを移動させる第1移動ステップと、前記載置ステップの後に、前記テーブルを前記第1移動ステップで移動する前の位置に戻す第2移動ステップとを備えた、請求項5記載の基板位置決め方法。前記基板保持ステップでは、前記基板の中央部側から端に向かって順に前記基板を吸着し、前記基板搭載ステージで前記基板を吸着保持する、請求項5記載の基板位置決め方法。前記基板搭載ステージは、前記基板との位置を調整するためのステージ用アライメントマークを有し、前記基板は、前記基板搭載ステージとの位置を調整するための基板用アライメントマークを有し、前記ステージ用アライメントマーク及び前記基板用アライメントマークを撮像し、前記基板と前記基板搭載ステージとの相対的な位置関係を求める位置関係検出ステップを更に備え、求められた前記相対的な位置関係に基づいて、前記回転ステップが行われる、請求項5記載の基板位置決め方法。上記従来例のレーザ照射装置図19参照において基板の位置決めを行う場合、図20に示すXYθテーブルを用いると、基板の大型化にともなってXYθテーブルが大型化する。特に特許文献1のXYθテーブルの構成では、基板を搭載するXYθテーブルをXY方向に移動して位置決めを行うのでテーブルを移動する駆動系の大型化は避けられず、また、XYθテーブルごと回転させるθ軸についてもθ回転駆動系が大型化し、高トルクが必要になる。図19の装置構成で、図20の方式を採用するとなれば少なくともXYθテーブルを回転制御する大型高トルクθ軸ステージが必要である。大型化、高トルク化のモータは駆動系からの発熱も大きく構成部材への熱影響により熱膨張による位置決め精度悪化も懸念される。一方、θ軸回転駆動系は大型化、高トルク化傾向以外に、高回転精度も要求される。現在市販されているロータリーエンコーダの分解能は数μラジアン、大型基板例えば一辺が2mを超えるような基板サイズであれば基板端部で10ミクロン程度の回転位置決め精度前述した数値:10マイクロラジアン1mになる。XYステージの位置決め精度に比べ10倍ほど精度が悪いため、大型基板に対してはθ方向の位置決めの更なる高精度化が必要となる。本発明の目的は、上記した従来技術の問題点を解決し、大型化を出来るだけ抑え、高精度な基板位置決めを行うことが可能な基板位置決め装置及び基板位置決め方法を提供することである。上記目的を達成するために、第1の本発明は、平面形状の基板を位置補正して位置決めする基板位置決め装置であって、前記基板を少なくとも浮上させる浮上部、及び中心部に形成された孔を有する基板搭載ステージと、前記基板搭載ステージの孔の中に配置されたテーブル、搭載される前記基板の平面と垂直な方向に前記テーブルを上下移動する上下方向移動部、搭載される前記基板の平面に垂直な回転軸で前記テーブルを回転する回転部を有する中央ステージとを備えた、基板位置決め装置である。第2の本発明は、搭載される前記基板を回転する回転方向移動部を備え、前記中央ステージは、前記基板を吸着保持する吸着部、前記基板の平面に平行な方向に前記テーブルを移動する平面方向移動部を有し、前記回転方向移動部は、前記浮上部によって浮上され、前記吸着部によって前記テーブルに吸着される前記基板を回転する、第1の本発明の基板位置決め装置である。第3の本発明は、前記回転方向移動部は、前記テーブルに吸着される前記基板の端縁を押圧する押圧部材を有している、第2の本発明の基板位置決め装置である。第4の本発明は、前記基板との位置を調整するために前記基板搭載ステージに形成されているステージ用アライメントマーク、及び前記基板搭載ステージとの位置を調整するために前記基板に形成されている基板用アライメントマークを撮像する撮像部と、前記撮像部により撮像した前記基板用アライメントマーク及び前記ステージ用アライメントマークから、前記基板搭載ステージに対する前記基板の位置が許容範囲になるように、前記回転部が回転するごとく制御する制御部とを更に備えた、第1の本発明の基板位置決め装置である。第5の本発明は、平面形状の基板を位置補正して位置決めする基板位置決め方法であって、基板搭載ステージ上に前記基板を搭載する搭載ステップと、前記基板搭載ステージ上で前記基板を浮上させる浮上ステップと、前記基板搭載ステージの中心部に形成された孔に配置されたテーブルを上昇させ、当接状態で前記基板を吸着する載置ステップと、前記基板と前記基板搭載ステージの回転角度が所望の回転角度になるように、前記基板を吸着保持した前記テーブルを回転する回転ステップと、前記基板搭載ステージで前記基板を吸着保持する基板保持ステップとを備えた、基板位置決め方法である。第6の本発明は、前記載置ステップの前に、前記基板と平行な面方向における前記基板搭載ステージの中心位置と前記基板の中心位置の距離が所望の距離以下になるように、前記テーブルを移動させる第1移動ステップと、前記載置ステップの後に、前記テーブルを前記第1移動ステップで移動する前の位置に戻す第2移動ステップとを備えた、第5の本発明の基板位置決め方法である。第7の本発明は、前記基板保持ステップでは、前記基板の中央部側から端に向かって順に前記基板を吸着し、前記基板搭載ステージで前記基板を吸着保持する、第5の本発明の基板位置決め方法である。第8の本発明は、前記基板搭載ステージは、前記基板との位置を調整するためのステージ用アライメントマークを有し、前記基板は、前記基板搭載ステージとの位置を調整するための基板用アライメントマークを有し、前記ステージ用アライメントマーク及び前記基板用アライメントマークを撮像し、前記基板と前記基板搭載ステージとの相対的な位置関係を求める位置関係検出ステップを更に備え、求められた前記相対的な位置関係に基づいて、前記回転ステップが行われる、第5の本発明の基板位置決め方法である。本発明によれば、大型化を出来るだけ抑え、高精度な基板位置決めを行うことが可能な基板位置決め装置及び基板位置決め方法を提供することが出来る。以下、図面を参照しながら、本発明にかかる実施の形態について詳細に説明する。図1は、本発明にかかる実施の形態1におけるレーザ照射装置を模式的に示す斜視図である。このレーザ照射装置では、位置補正した矩形平面形状の基板にレーザを照射する。図2は、本実施の形態1の基板を模式的に示した斜視図である。図1に示すように、本実施の形態1のレーザ照射装置は、基板1の位置決めを行う基板位置決め装置100と、位置決めが行われた基板1にレーザを照射するレーザヘッド2を備えている。本実施の形態1の基板位置決め装置100は、Xステージ6に搭載された基板搭載ステージ5を有しており、レーザヘッド2は、Yステージ7に搭載され、ライン状のレーザを出射する。このレーザ照射装置で基板1にレーザを照射する際には、基板位置決め装置100によって基板1が基板搭載ステージ5に位置決めして搭載され、基板搭載ステージ5をX1,X2方向に走査し、レーザヘッド2から出たレーザ光によって、基板1にライン状レーザ光が、その短軸方向に走査されて照射される。そして、X1方向の走査が終わると、レーザヘッド2がY1又はY2方向に移動し、X2方向の走査が行われる。この動作を数回行うことで基板1の全面を照射することができる。上記基板搭載ステージ5には、基板1との位置合わせを行うために、その4コーナ近傍にアライメントマーク10a、10b、10c、10dが形成されている。図2に示すように、基板1にも、その4コーナ近傍にアライメントマーク3a、3b、3c、3dが形成されている。以後、3a、3b、3c、3dを基板アライメントマーク、10a、10b、10c、10dをステージアライメントマークと呼ぶ。このような基板1が基板搭載ステージ5に装填される。4つの基板アライメントマーク3a、3b、3c、3dの形成する中心位置は基板1の中心位置と一致し、4つのステージアライメントマーク10a、10b、10c、10dの形成する中心位置は基板搭載ステージ5の中心位置と一致するように夫々のアライメントマークは配置されている。基板搭載ステージ5の中央部には、断面が円形状の孔5aが形成されており、この孔5aの中に、XYZθ方向に移動可能なXYZθテーブル8が設置されている。次に、XYZθテーブル8をX、Y、Z、θ方向に移動させるXYZθステージ80について説明する。図3は、本実施の形態1のXYZθステージ80を模式的に示す斜視図である。XYZθステージ80は、空気微小穴や空気溝により基板1を吸着浮上する、上面が円形状のXYZθテーブル8と、XYZθテーブル8をθ1、θ2方向に回転するθステージ11と、XYZθテーブル8をX1、X2方向に微小移動するX軸ステージ12、XYZθテーブル8をY1,Y2方向に微小移動するY軸ステージ13、XYZθテーブル8とともに基板を上下させるZ軸ステージ14とを有している。基板1の平行移動、回転移動、及び上下移動をこのXYZθステージ80で行うことができる。X軸ステージ12、Y軸ステージ13、Z軸ステージ14にはX、Y、Z方向への駆動手段が備え付けられているが、θステージ11には駆動源はなく、ブレーキのみが設けられている。又、基板1の回転方向の駆動を行うために、基板1の端縁を押圧する押圧部材9a、9b図1参照が設けられている。所定の回転位置に到達したらこのブレーキにより基板回転を停止する。図4は、基板搭載ステージ5の表面の拡大図である。図4に示すように、基板搭載ステージ5には、空気供給及び空気排除を行う微小空気穴16と、吸着及び吸着破壊時に空気の経路となる空気溝15が形成されている。これら微小空気穴16及び空気溝15により基板1の吸着保持や空気浮上が可能となる。尚、XYZθテーブル8の表面にも、基板搭載ステージ5と同様に微小空気穴16及び空気溝15が形成されている。XYZθテーブル8で吸着された基板1は、その端部を押圧する対向する押圧部材9a、9bで基板1を時計、反時計方向に回転することができる。基板1の基板アライメントマーク3a、3b、3c、3d及び基板搭載ステージ5のステージアライメントマーク10a、10b、10c、10dはXY方向に移動可能な移動手段を有する撮像部4a、4b、4c、4dによりその位置測定が行われる。又、図1に示すように、レーザ照射装置を制御する制御部110が設けられている。この制御部110は、レーザ照射の際に、基板搭載ステージ5及びレーザヘッド2の制御を行うとともに、基板を位置決めする際の基板搭載ステージ5、XYZθステージ80、押圧部材9a、9b、及び撮像部4a、4b、4c、4d等の制御も行う。尚、レーザ照射の際の制御と基板位置決めの際の制御の双方を制御部110が行っているが、レーザ照射の際の制御と、基板位置決めの際の制御が別々の制御部で行われていても良い。尚、本実施の形態1の基板位置決め装置100は、基板搭載ステージ5、XYZθステージ80、押圧部材9a、9b、撮像部4a、4b、4c、4d及び制御部110等から構成されている。又、本発明の浮上部の一例は、本実施の形態の微小空気穴16、配管経路19a、19b、21a、21bに対応する。本発明の中央ステージの一例は、本実施の形態のXYZθステージ80に対応し、本発明のテーブルの一例は、本実施の形態のXYZθテーブル8に対応する。本発明の上下方向移動部の一例は、本実施の形態のZ軸ステージ14に対応し、本発明の回転部の一例は、本実施の形態のθステージ11に対応する。又、本発明の平面方向移動部の一例は、本実施の形態のX軸ステージ12、及びY軸ステージ13に対応し、本発明の回転方向移動部の一例は、本実施の形態の押圧部材9a、9bに対応する。又、本発明の吸着部の一例は、本実施の形態の微小空気穴16、配管経路21に対応する。次に、本実施の形態1のレーザ照射装置における基板位置決め方法について説明するとともに、本発明の基板位置決め方法の一例についても述べる。図5は、本実施の形態1の基板位置決め方法の制御を示すフロー図である。図6~図16は、基板位置決め動作を説明するための図である。図6は、基板1がロボット17により基板搭載ステージ5上に搬送されている状態を模式的に示す断面図である。はじめに、図6に示すように、ステップS1において基板1はロボットアーム18上で保持されて基板搭載ステージの直上に搬送される。その後、図7に示すように基板搭載ステージ5の下面から突上げピン22がZ1方向に上昇するとロボットアーム18は引込み、基板1の受け渡しが行われ、突上げピン22はZ2方向に下降する。この図6、及び図7に示すステップS1が、本発明の搭載ステップの一例に対応する。そして、この下降の際、ステップS2において基板搭載ステージ5上では19a、19b、20a、20bの配管経路を通じて、XYZθステージ80上では21の配管経路を通じて空気が供給され空気流量と基板1の重量の釣合いで基板1が浮上する。このステップS2が、本発明の浮上ステップの一例に対応する。浮上した基板1の状態が、後述する図8に示されている。例えば基板1の大きさが約2mを超えるガラス基板であるとき、例えば基板1は基板1a図中点線で示すのように変形し厚み方向の基板変形量は約100μmほどに達する。この変形量分以上に浮上させるように、配管経路19a、19b、20a、20b、21からの供給空気流量を調整し基板1が、基板搭載ステージ5及びXYZθステージ80の表面から100μm以上に浮上させられる。次に、図8、図9a、及び図9bに示すように、ステップS3において4組の撮像部4a、4b、4c、4dが基板搭載ステージ5にあるステージアライメントマーク10a、10b、10c、10dのそれぞれの位置計測を行い、続いて4組の撮像部4a、4b、4c、4dは基板アライメントマーク3a、3b、3c、3dの位置計測をそれぞれ行う。図8は、基板アライメントマーク3a、3b、3c、3d及びステージアライメントマーク10a、10b、10c、10dを撮像する状態を模式的に示した断面図である。又、図9aは、ステージアライメントマーク10a、10b、10c、10dを撮像する状態を模式的に示した平面図であり、図9bは基板アライメントマーク3a、3b、3c、3dを撮像する状態を模式的に示した平面図である。ここで制御部110図1参照は、この2計測により図10a、bに示すような基板搭載ステージ中心位置C1の情報、基板中心位置C2の情報、基板回転角度θ3の情報を得て、基板搭載ステージ5上の基板1の理想の位置と、撮像部4a、4b、4c、4dにより位置計測をした基板搭載ステージ5上の基板1の実際の位置との差を演算する。図10aは、基板1が浮上している状態を示す平面模式図であり、図10bは、図10aの断面模式図である。図10a、bに示すように、基板1の中心位置C2は、基板搭載ステージ5の中心位置C1とずれている。このステップS3が、本発明の位置関係検出ステップの一例に対応する。次に、図11a、bに示すように、ステップS4において撮像部4a、4b、4c、4dにより位置計測をした基板搭載ステージ5上の基板1の実際の位置と、理想の位置との差が所望の値となるように、XYZθテーブル8を、X1、X2方向、Y1,Y2方向に動かす。図11aは、XYZθテーブル8のθ回転軸8aの位置と、基板1の中心位置が一致した状態を示す平面模式図である。図11bは、図11aの断面模式図である。この様にして、XYZθテーブル8のθ回転軸8aの位置と基板1の中心位置とを一致させる。尚、本実施の形態では、θ回転軸8aの位置と基板1の中心位置C2を一致させたが、完全に一致させず所望の範囲内であってもよい。又、このステップS4が、本発明の第1移動ステップの一例に対応する。ここで、上述したように基板搭載ステージ5には、中央部に断面が円形状の孔5aが形成されており、その孔にXYZθテーブル8が配置されている。基板搭載ステージ5とXYZθテーブル8のθ回転軸8aは予め一致するように設計されている。このように、XYZθテーブル8のθ回転軸8aが基板搭載ステージ5の中心位置C1と一致するようなXYZθテーブル8の位置が初期位置とされる。次に、図12a、bに示すように、ステップS5において浮上した基板1がXYZθテーブル8によって吸着保持される。図12aは、基板1がXYZθテーブル8によって吸着された状態を示す平面模式図であり、図12bは、図12aの断面模式図である。空気浮上した基板1を、その中央部で吸着保持するためにXYZθテーブル8はZ軸ステージ14によりZ1方向に上昇する。上昇後、基板1はXYZθテーブル8にある配管経路21から真空吸着される。このステップS5が、本発明の載置ステップの一例に対応する。すなわち、基板搭載ステージ5及びXYZθステージ80上で浮上した基板1の中心位置に、XYZθテーブル8の中心位置を合わせるように、制御部110がXYZθテーブル8を移動し、その後、上昇し基板1を吸着保持する。このようにして基板1の中心位置とXYZθテーブル8の中心位置が一致した状態で、基板1がXYZθテーブル8に吸着保持される。一方、基板搭載ステージ5では配管経路19a、19b、20a、20bを通じて空気が供給され基板1の中央部以外は浮上したままである。基板1が中央部のみで吸着されている状態、たとえば基板1の中央部で直径30cm程度の面積で吸着されている場合では、基板1とXYZテーブル8との吸着力が5Kgほどになり、一旦、基板1がXYZθテーブル8に吸着した場合、外力が働かない限り相対位置ズレはないといえる。次に、図13a、bに示すように、ステップS6において基板1を吸着保持した状態で、XYZθテーブル8は、基板搭載ステージ5の中央部初期位置に戻る。図13aは、基板1を吸着保持した状態でXYZθテーブル8が初期位置に移動した状態を示す平面模式図であり、図13bは、図13aの断面模式図である。このステップS6が、本発明の第2移動ステップの一例に対応する。基板1の浮上高さが100μm以下の場合、局部的に基板1は基板搭載ステージ5に接触することになり、基板ごとに、そり及び変形量が異なるので接触による摩擦力が変化する。基板1の浮上高さが100μm以上図13b:B寸法参照の時、基板1は基板搭載ステージ5から完全に浮上し基板1と基板搭載ステージ5との摩擦係数または摩擦力が一定となり摩擦係数は約0.001程度である。例えば、基板1の重量が10Kgの場合、基板搭載ステージ5上では基板1の重量は0.1Kgにしかならない。XYZθテーブル8上では基板1の重量は更に小さくなる。すなわち、基板搭載ステージ5から空気を噴出し、基板1を浮かせるように力が作用しているため、XYZθテーブル8は、基板1を吸着保持していても、ほとんど重量がかからないことになる。そのためX軸ステージ12、Y軸ステージ13、Z軸ステージ14の搭載負荷はほとんどがステージ自重によるものとなり、また摩擦力の負荷変動が少ないため推力の小さい小型ステージXYZθステージ80によって、基板1を基板搭載ステージ5上で、紙面垂直方向において手前方向図2ではX2方向、奥方向図2ではX1方向やY1、Y2方向に平行移動し、基板1の中心位置を基板搭載ステージ5の中心位置に高精度に調整することができる。このような平行移動中は、基板1はXYZθテーブル8で吸着保持されているため相対位置ズレは生じない。一方、基板1を回転させる場合、基板1の回転慣性は空気浮上を行っても変化ないので、浮上の状態でも基板1の回転には大きなトルクが必要となる。そこで大型基板のθ回転を行うためには回転中心近傍に動力源を設置して基板回転させるのではなく、基板1の中心を回転軸として基板1の端部を押圧し、その回転の移動量を制御することで基板回転を小さな推力で高精度に行うことができる。又、基板の回転中においても、θステージ11は駆動源がいらないので小型化できる。一方、浮上高さを管理することは摩擦力の変動をなくすことだけでなく、接触により発生する微細な塵等のコンタミ発生の防止ともなる。そして、図14に示すように、ステップS7において、ステップS3で演算された回転角度に基づいて、基板1の回転が行われる。図14は押圧部材9a、9bによりXYZθテーブル8の中心を回転軸として基板回転角度の補正が行われている状態を示す平面模式図である。図14に示すように、押圧部材9aの押圧部90aと基板1との接触部の中心図中S参照と押圧部材9bの押圧部90bと基板1との接触部の中心図中T参照とを結ぶ直線は、XYZθテーブル8の回転中心であるθ回転軸8aに対して、偏心した配置となっている。つまり、押圧部材9aの押圧部90aと基板1との接触部と、押圧部材9bの押圧部90bと基板1との接触部とを結ぶ直線と、XYZθテーブル8のθ回転軸8aとは、予め定められた距離が離れるように、XYZθテーブル8と押圧部材9a、9bが配置されている。押圧部材9a、9bにおいて、基板1を時計方向に回転させる場合は押圧部材9aが基板1を押圧し、基板1を反時計方向に回転させる場合は押圧部材9bが基板1を押圧する。これら押圧部材9a、9bのどちらか一方には、ばね機構による規制を緩和する機能が設けられている。ここで制御部110は、撮像部4a、4b、4c、4dにより基板アライメントマーク3a、3b、3c、3dの位置を計測し、基板回転角度が基板搭載ステージ5に対してゼロまたは規格所望の値内になるまで押圧部材9a、9bにより基板10を押圧させる。基板1の回転角度がゼロまたは規格所望の値を満足した後、制御部110は、ブレーキを用いてθステージ11の回転を止め、基板1の回転を完全に止める。この動作により高精度な基板回転移動工程を行うことができる。つまり、撮像部4a、4b、4c、4dの撮像情報に基づいて制御部110により、基板搭載ステージ5上の基板1の位置が予め定めた所定の位置となるように、押圧部材9a、9bを動作して、XYZθテーブル8のθ回転軸8aを回転中心として基板1を回転させる。こうして基板1を回転させて、基板1の平面に垂直なθ回転軸回りの、基板搭載ステージ5に対する基板1の角度を、予め定めた所定の角度となるように位置補正が行われる。その後、基板1を基板搭載ステージ5に吸着するために押圧部材9a、9bは基板1を押圧しない方向Y3、Y4に退避する。図15は、押圧部材9a、9bがY3、Y4方向に退避している状態を示す断面模式図である。基板1は、その中央部がXYZθテーブル8に吸着されたままZ軸ステージ14によりZ2方向に下降する。次に、図16に示すように、ステップS8において今まで空気供給していた配管経路19a、19b、20a、20bは空気排気を行い、基板1は中央部側から順に最後は基板周辺部にかけて基板搭載ステージ5に吸着される。基板1は基板搭載ステージ5の配管経路19a、19b、20a、20b及びXYZθステージ80の配管経路21によって基板搭載ステージ5及びXYZθステージ80に完全に吸着される。このステップS8が、本発明の基板保持ステップの一例に対応する。尚、図16では基板搭載テーブル5及びXYZθステージ80を合わせた配管経路は5系統しかないが、基板の大きさにより空気たまりを防ぐためには配管経路を増やすことも必要となる。増やした場合でも排気の順番は基板中央に近い配管系統から行い、最後は基板周辺部を吸着する。尚、基板搭載ステージ5に基板1を吸着している最中でも基板1の位置にズレがないかが、撮像部4a、4b、4c4dによって監視計測されている。図16に示すように、基板1が全面吸着した場合に、基板1の位置の確認が行われる。基板1の浮上、吸着により基板位置に変化がないかを確認する基板確認工程である。撮像部4a、4b、4c、4dは基板1の浮上吸着に対し十分焦点深度があるレンズ系を用いた場合には焦点調整機能が不要となり認識計測誤差が小さく基板位置決め精度向上になる。以上より、基板位置決めを行うにあたって大型化するXYθステージを移動、回転させることなく中央に位置する微小移動可能なXYZθテーブルで基板を移動、回転させ大型化を避けることができる。さらに回転精度の向上のため、基板1の端部の押圧により基板1を回転させ、押圧による基板変位量を制御することで、基板1の端部で数ミクロンの回転位置決め精度が可能になる。また、各工程の平行移動、回転移動をそれぞれ独立に制御できるので位置決め動作アルゴリズムや機構動作の簡便化を図ることができ高速高精度な基板位置決めが行える。また、基板1は空気により基板搭載ステージ5から浮上するので基板1と基板搭載ステージ5との摩擦力が小さいため基板1は低推力で平行移動可能となり、中央にあるXYZθテーブル8は低推力で直交移動、回転を行うことができる。また浮上した基板をθ回転させる場合には端部からの押圧に対して回転を行うので小さい推力で行える。このようにステージの大型化や高トルク化、熱発生による精度劣化を防いだ高精度な基板位置決めが行える。また、ステップS8において、基板の中央部から順に、基板端部が最後に吸着するように順番に基板を吸着することで、基板1と基板搭載ステージ5との間に空気たまりが生じることを防ぎ全面吸着させることができる。そのため、空気たまりによる基板の位置ずれや、空気たまりによる基板変形、またそれに伴うアライメントマーク位置の高さ変化による認識精度劣化を防ぐことができる。また、基板浮上高さを100μm以上とすることにより、基板のたわみ、変形があっても、基板は基板搭載ステージから完全に浮上することができ基板搭載ステージとの摩擦力が一定となり負荷変動の少ない推力での直交移動、回転移動が高精度で行える。上記の実施の形態では基板アライメントマーク、ステージアライメントマークをそれぞれ4組にしたが、中心位置を決定するためには少なくとも3組以上であればよい。また、マーク設置位置も各コーナに設置しているが基板やステージの各辺の中央であってもよい。また、基板吸着、浮上に微小空気穴、空気溝を用いたが多孔質焼結材を用い吸着、浮上を行ってもよい。尚、上記実施の形態では、2つの押圧部材9a、9bが設けられていたが、X1、X2方向に移動可能な押圧部材が1つだけ設けられていてもよい。例えば、図14に示すように、左上から右下に向かって傾斜している場合には、図14に示す押圧部材9aの位置で基板1を押圧すれば基板1を右回転でき、一方、基板1が右上から左下に向かって傾斜している場合には、押圧部材9aをX1の方向に移動させて基板1を押圧すれば基板1を左回転させることができる。又、上記実施の形態では、押圧部材9a、9bによって基板1を回転させているが、XYZθステージ80がXYZθテーブル8を回転駆動させる駆動系を備え、XYZθテーブル8が回転することにより基板1が回転するように構成してもよい。"