"トリアセチルセルロース基材の一方の面上にハードコート層を有する光学積層体であって、前記ハードコート層の表面のマルテンス硬度N1、前記ハードコート層の断面中央のマルテンス硬度N2及び前記トリアセチルセルロース基材の断面中央のマルテンス硬度N3を、それぞれナノインデンテーション法により測定したときに、N2>N1>N3なる関係を有し、前記ハードコート層は、JISK5600-5-41999に規定する鉛筆硬度試験に準ずる試験であって、荷重を4.9Nとしたときの鉛筆硬度が、4H以上であることを特徴とする光学積層体。トリアセチルセルロース基材は、断面の中央のマルテンス硬度N3が、ハードコート層を形成する前のトリアセチルセルロース基材の断面の中央のマルテンス硬度N3bよりも高い請求項1記載の光学積層体。ハードコート層は、平均1次粒径が1~50nmの球状シリカ微粒子の3~20個が無機の化学結合により結合した反応性異型シリカ微粒子を含有する請求項1又は2記載の光学積層体。反応性異型シリカ微粒子は、ハードコート層のトリアセチルセルロース基材側により多く含有されている請求項3記載の光学積層体。反応性異型シリカの含有量が、ハードコート層中のバインダー樹脂100質量部に対して、10~70質量部である請求項3又は4記載の光学積層体。偏光素子を備えてなる偏光板であって、偏光素子表面に請求項1、2、3、4又は5記載の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板。最表面に請求項1、2、3、4若しくは5記載の光学積層体、又は、請求項6記載の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置。本発明は、上記現状に鑑みて、優れた硬度を有し、耐擦傷性に優れる光学積層体、該光学積層体を用いてなる偏光板及び画像表示装置を提供することを目的とするものである。本発明は、トリアセチルセルロース基材の一方の面上にハードコート層を有する光学積層体であって、上記ハードコート層の表面のマルテンス硬度N1、上記ハードコート層の断面中央のマルテンス硬度N2及び上記トリアセチルセルロース基材の断面中央のマルテンス硬度N3を、それぞれナノインデンテーション法により測定したときに、N2>N1>N3なる関係を有し、前記ハードコート層は、JISK5600-5-41999に規定する鉛筆硬度試験に準ずる試験であって、荷重を4.9Nとしたときの鉛筆硬度が、4H以上であることを特徴とする光学積層体である。本発明の光学積層体において、また、上記トリアセチルセルロース基材は、断面の中央のマルテンス硬度N3が、ハードコート層を形成する前のトリアセチルセルロース基材の断面の中央のマルテンス硬度N3bよりも高いことが好ましい。また、上記ハードコート層は、平均1次粒径が1~50nmの球状シリカ微粒子の3~20個が無機の化学結合により結合した反応性異型シリカ微粒子を含有することが好ましい。また、上記ハードコート層中の反応性異型シリカ微粒子は、上記ハードコート層のトリアセチルセルロース基材側により多く含有されていることが好ましい。また、上記反応性異型シリカの含有量が、ハードコート層中のバインダー樹脂100質量部に対して、10~70質量部であることが好ましい。本発明はまた、偏光素子を備えてなる偏光板であって、上記偏光板は、偏光素子表面に上述の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板でもある。本発明は、最表面に上述の光学積層体、又は、上述の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置でもある。以下に、本発明を詳細に説明する。本発明は、トリアセチルセルロース基材の一方の面上にハードコート層を有する光学積層体である。上記トリアセチルセルロース基材は、透明性が高く、複屈折率が小さいため光学異方性が小さく光学的特定に優れ、更に、ディスプレイに搭載し使用するための機械的強度に優れたものである。上記トリアセチルセルロース基材の厚みは、20~300μmであることが好ましく、30~200μmであることがより好ましい。なお、近年のディスプレイ軽量化に伴い、最も好ましい厚みは30~65μmである。また、上記トリアセチルセルロース基材は、その上にハードコート層を形成するに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤又はプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。また、本発明の光学積層体において、上記トリアセチルセルロース基材は、断面の中央のマルテンス硬度N3が、後述するハードコート層を形成する前のトリアセチルセルロース基材の断面の中央のマルテンス硬度N3bよりも高いことが好ましい。このようなトリアセチルセルロース基材を有することで、本発明の光学積層体は、優れた硬度及び耐擦傷性を有するものとなる。ここで、上記トリアセチルセルロースは、前述したように光学的特性が優れているため、例えば、偏光板用のフィルムとして好ましく用いられている。しかしながら、セルロースという材料の物理特性上、ディスプレイ表面に用いることができる充分な硬度や耐擦傷性は、トリアセチルセルロース基材だけでは付与できない。具体的には、上記トリアセチルセルロース基材の鉛筆硬度は、荷重を4.9Nとしたとき、Bにも満たない弱さがある。よって、トリアセチルセルロース基材上に高硬度で耐擦傷性のあるハードコート層を積層しても、この弱いままのトリアセチルセルロース基材であると、ハードコート層の物理特性が充分に発揮できていなかった。例えば、同じハードコート層を積層する基材の材料をガラスのような、基材だけで充分な硬度を有するものに変更すると、光学積層体全体の硬度は極めて優れたものになることが知られている。そこで、本発明においては、トリアセチルセルロース基材自身の硬度を向上させることを検討し、上述したような関係で高い硬度とすることができるようにしたものであり、特に30~65μmと厚みが薄いトリアセチルセルロース基材においても良好に高硬度化ができ好ましい。上記トリアセチルセルロース基材の断面の中央のマルテンス硬度N3を、ハードコート層を形成する前のトリアセチルセルロース基材の断面の中央のマルテンス硬度N3bよりも高くする方法としては、後述する浸透性溶剤を含有するハードコート層形成用組成物を用いてハードコート層をトリアセチルセルロース基材上に形成する方法が挙げられる。当該方法により後述するハードコート層形成用組成物がトリアセチルセルロース基材中に浸透し、あたかもトリアセチルセルロース基材内部にハードコート層を設けたような状態になったり、また、ハードコート層を形成する際に乾燥工程で温度がかかったり、紫外線照射されたりすることも上記トリアセチルセルロース基材の断面の中央のマルテンス硬度を上記関係とするのに寄与しているものと推測される。なお、上記マルテンス硬度とは、株フィッシャーシンスツルメント社製、ピコデンターHM-500を用いてナノインデンテーション法により測定された値を意味する。本発明の光学積層体は、負荷荷重が20mNの場合、上記トリアセチルセルロース基材の断面中央におけるマルテンス硬度は、200~350N/mm2であることが好ましく、より好ましくは300N/mm2以上である。300N/mm2以上であると、トリアセチルセルロース基材部分の硬度が高いため、安定して鉛筆硬度を4H以上とすることができる。上記トリアセチルセルロース基材の断面の中央の硬度が上記範囲にあることで、好適に本発明の光学積層体が優れた硬度を有するものとすることができる。本発明の光学積層体は、ハードコート層を有する。本発明の光学積層体は、上記ハードコート層の表面のマルテンス硬度N1、上記ハードコート層の断面中央のマルテンス硬度N2及び上記トリアセチルセルロース基材の断面中央のマルテンス硬度N3を、それぞれナノインデンテーション法により測定したときに、N2>N1>N3なる関係を有するものである。このような硬度の関係を有することで、本発明の光学積層体の硬度及び耐擦傷性を、特に優れたものとすることができる。上記マルテンス硬度についての上述の関係は、例えば、後述する反応性異型シリカ微粒子がハードコート層のトリアセチルセルロース側により多く含有されていることで満たすことができる。上記ハードコート層は、平均1次粒径が1~50nmの球状シリカ微粒子の3~20個が無機の化学結合により結合した反応性異型シリカ微粒子を含有することが好ましい。上記反応性異型シリカ微粒子は、該反応性異型シリカ微粒子と同程度の粒径の球状シリカ微粒子等と比較して表面積が大きくなるため、ハードコート層を構成する後述するバインダー成分との密着性が優れたものとなる。その結果、本発明の光学積層体は、上記ハードコート層の硬度が優れたものとなり耐擦傷性に優れたものとなる。上記反応性異型シリカ微粒子は、該反応性異型シリカ微粒子を構成する球状シリカ微粒子の表面に反応性官能基を有することが好ましい。上記反応性官能基としては、後述するハードコート層を構成するバインダー成分に対して反応性を有する官能基が挙げられ、例えば、メタアクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合を有する官能基や、エポキシ基等が挙げられる。上記球状シリカ微粒子の平均1次粒径は、1~50nmである。1nm未満であると、本発明の光学積層体の硬度を充分に高くできず、耐擦傷性に劣ることとなる。50nmを超えると、上記反応性異型シリカ微粒子の粒径が大きくなりすぎ、ハードコート層の透明性が低下し、本発明の光学積層体の全光線透過率の低下や、ヘイズの上昇を招くこととなる。上記球状シリカ微粒子の平均1次粒径のより好ましい下限は5nm、より好ましい上限は40nmである。上記球状シリカ微粒子の平均1次粒径がこの範囲にあることで、より緻密な構造となり高硬度を達成することが出来る。なお、上記球状シリカ微粒子の平均粒径とは、溶液中の当該球状シリカ微粒子を動的光散乱方法で測定し、粒径分布を累積分布で表したときの50粒子径d50メジアン径を意味する。当該平均粒径は、日機装株式会社製のMicrotrac粒度分析計又はNanotrac粒度分析計を用いて測定することができる。なお、上記球状シリカ微粒子の平均1次粒径は、上記球状シリカ微粒子をSEM写真又はTEM写真を用いて観察し、観察された球状シリカ微粒子を100個数え、その粒径の平均値として求めることもできる。上記反応性異型シリカ微粒子は、該反応性異型シリカ微粒子を構成する球状シリカ微粒子の少なくとも表面の一部が有機成分で被覆され、該有機成分により上記反応性官能基が球状シリカ微粒子の表面に導入されたものであることが好ましい。このような球状シリカ微粒子としては特に限定されず、従来公知のものが挙げられ、また、市販品を用いることができる。上記球状シリカ微粒子の市販品としては、例えば、日産化学工業株式会社製のMIBK―ST、MIBK-ST―MS、MIBK-ST―L、MIBK-ST―ZL等が挙げられる。上記反応性異型シリカ微粒子は、上述した球状シリカ微粒子の3~20個が無機の化学結合により結合した凝集体の表面の少なくとも一部を有機成分で被覆し、上記球状シリカ微粒子の表面に上記反応性官能基が導入されたものであることが好ましい。上記球状シリカ微粒子の個数が3個未満であると、実質的に単分散粒子と変わらず、本発明の光学積層体の硬度及び耐擦傷性を充分に向上させることができないことがある。上記球状シリカ微粒子の個数が20個を超えると、ハードコート層の透明性が低下し、本発明の光学積層体の透過率の悪化、ヘイズの上昇を招くこととなる。上記反応性異型シリカ微粒子は、上記球状シリカ微粒子の5~15個が無機の化学結合により結合した凝集体であることがより好ましい。上記無機の化学結合としては、例えば、イオン結合、金属結合、配位結合、及び共有結合等が挙げられる。なかでも、上記反応性異型シリカ微粒子を極性溶媒中に添加しても、結合した微粒子が分散しない結合、具体的には、金属結合、配位結合、及び共有結合が好ましく、更に、共有結合が好ましい。上記反応性異型シリカ微粒子が、共有結合のない凝集体であると、上記ハードコート層を形成する際に、物理的な外力によって、上記凝集体が分離し、反応性異型シリカ微粒子としての形態を保持できない恐れがある。また、本発明の光学積層体への物理的な外力尖ったもの等による接触によって、上記凝集体が分離して傷となる恐れがあり、好ましくない。これに対して、共有結合であれば、上記凝集体は、物理的、化学的な力による分解が起こりにくく安定している。上記反応性異型シリカ微粒子の大きさ、すなわち、平均2次粒径としては、3~300nmであることが好ましい。上記範囲内にあることで、上記ハードコート層の透明性を損なうことなく、本発明の光学積層体の硬度及び耐擦傷性に優れたものとすることができる。上記反応性異型シリカ微粒子の平均2次粒径のより好ましい下限は50nm、より好ましい上限は250nmである。なお、上記反応性異型シリカ微粒子の大きさ平均2次粒径は、ハードコート層の断面をSEM写真又はTEM写真を用いて観察し、観察された反応性異型シリカ微粒子を100個数え、各反応性異型シリカ微粒子の円相当径Heywood径を測定しその平均値として求めることができる。上記ハードコート層における上記反応性シリカ微粒子の含有量は、後述するバインダー樹脂100質量部に対して、10~70質量部であることが好ましい。10質量部未満であると、ハードコート層の硬度を充分に高くすることができないことがあり、70質量部を超えると、ハードコート層の透明性が低下やクラック防止性の低下を招くことがある。上記反応性異型シリカ微粒子の含有量のより好ましい下限は20質量部、より好ましい上限は60質量部である。また、上記ハードコート層中の反応性異型シリカ微粒子は、該ハードコート層のトリアセチルセルロース基材側により多く含有されていることが好ましい。このような状態で反応性異型シリカ微粒子がハードコート層中に含有されていることで、基材側の塗膜のマルテンス硬度が向上し、結果、鉛筆硬度が向上する。なお、反応性異型シリカ微粒子が、ハードコート層のトリアセチルセルロース基材側により多く含有されているとは、厚み方向に裁断したハードコートフィルムを観察した際に、基材とは反対側の塗膜空気に近いほうに比べ、基材側のほうの充填率が高いという状態を意味する。このようなハードコート層における反応性異型シリカ微粒子の含有状態は、ハードコート層の断面顕微鏡観察により確認することができる。なお、上記ハードコート層中の反応性異型シリカ微粒子を、該ハードコート層のトリアセチルセルロース基材側により多く含有させる方法については後述する。上記ハードコート層は、バインダー樹脂を含有する。上記バインダー樹脂としては、透明性のものが好ましく、例えば、紫外線又は電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂との混合物、又は、熱硬化型樹脂を挙げることができる。より好ましくは電離放射線硬化型樹脂である。なお、本明細書において、樹脂は、モノマー、オリゴマー等の樹脂成分も包含する概念である。上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の1又は2以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。1の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチルメタアクリレート、エチルヘキシルメタアクリレート、ヘキサンジオールメタアクリレート、スチレン、メチルスチレン、N-ビニルピロリドン等を挙げることができる。2以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレートTMPTA、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートDPPA、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートDPHA、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能化合物、又は、上記多官能化合物とメタアクリレート等の反応生成物例えば多価アルコールのポリメタアクリレートエステル等を挙げることができる。なかでも、重量平均分子量が200以上800以下のもの例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレートPETA、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートDPHA、トリメチロールプロパントリアクリレートTMPTA、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートDPPA、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートやその他変性品が好ましく、特に、重量平均分子量600以下のもの例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレートPETAやその変性品が好ましい。このような重量平均分子量を有する電離放射線硬化型樹脂を用いることで、後述する浸透性溶剤を用いる効果を好適に奏することができる。上記重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCによるポリスチレン換算により求めることができる。なお、本明細書においてメタアクリレートは、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。上記電離放射線硬化型樹脂は、溶剤乾燥型樹脂と併用して使用することもできる。溶剤乾燥型樹脂を併用することによって、塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができる。上記電離放射線硬化型樹脂と併用して使用することができる溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、メタアクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性という観点から、スチレン系樹脂、メタアクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体セルロースエステル類等等が好ましい。上記バインダー樹脂として使用できる熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン-尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。上記ハードコート層は、上述した反応性異型シリカ微粒子、バインダー樹脂及び溶剤を含有するハードコート層形成用組成物を、トリアセチルセルロース基材に塗布し形成した塗膜を硬化させることで形成することができる。上記溶剤としては、使用するバインダー樹脂の種類及び溶解性に応じて選択して使用することができ、例えば、ケトン類アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等、エーテル類ジオキサン、テトラヒドロフラン等、脂肪族炭化水素類ヘキサン等、脂環式炭化水素類シクロヘキサン等、芳香族炭化水素類トルエン、キシレン等、ハロゲン化炭素類ジクロロメタン、ジクロロエタン等、エステル類酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等、アルコール類エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等、セロソルブ類メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等、セロソルブアセテート類、スルホキシド類ジメチルスルホキシド等、アミド類ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等等が例示でき、これらの混合溶媒であってもよい。上記溶剤は、なかでも、トリアセチルセルロース基材に対して浸透性のある浸透性溶剤を含有することが好ましい。本発明において、浸透性溶剤の浸透性とは、トリアセチルセルロース基材に対する浸透性、膨潤性、湿潤性等のすべての概念を包含する意である。このような浸透性溶剤がトリアセチルセルロース基材を膨潤、湿潤することによって、ハードコート層形成用組成物の一部がトリアセチルセルロース基材まで浸透する挙動をとる。上記ハードコート層形成用組成物が浸透性溶剤を含有することで、トリアセチルセルロース基材の断面の中央の硬度を、ハードコート層形成後により高いものとすることができる。特に、重量平均分子量が200以上800以下で、反応性基を3以上有する電離放射線硬化型樹脂がハードコート層形成用組成物に含まれることによって、その一部がトリアセチルセルロース基材の内部に浸透し、内部でそのまま架橋硬化することで硬度を上げることができる。そのような電離放射線硬化型樹脂として、ペンタエリスリトールトリアクリレートPETA、トリメチロールプロパントリアクリレートTMPTA、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートDPPA、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートDPHA、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が好ましい。上記浸透性溶剤の具体例としては、ケトン類;アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、エステル類;蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、含窒素化合物;ニトロメタン、アセトニトリル、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、グリコール類;メチルグリコール、メチルグリコールアセテート、エーテル類;テトラヒドロフラン、1,4―ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテル、ハロゲン化炭化水素;塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロルエタン、グリコールエーテル類;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート、PGME、PGMEA、その他、ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレンが挙げられ、またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくはエステル類、ケトン類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン等が挙げられる。その他、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコール等のアルコール類や、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類も、上記浸透性溶剤と混合して用いることができる。また、ハードコート層形成用組成物中において、上記浸透性溶剤は、溶剤全量中10~100質量、特に50~100質量となることが好ましい。上記ハードコート層形成用組成物中における原料の含有割合固形分として特に限定されないが、通常は5~70質量、特に25~60質量とすることが好ましい。上記ハードコート層形成用組成物には、ハードコート層の硬度を高くする、硬化収縮を抑える、屈折率を制御する、防眩性を付与する等の目的に応じて、従来公知の分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤顔料、染料、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、易滑剤、防汚剤、防眩性付与微粒子拡散性微粒子、低屈折率微粒子、高屈折率微粒子等を添加していてもよい。上記ハードコート層形成用組成物の調製方法としては各成分を均一に混合できれば特に限定されず、例えば、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー、ミキサー等の公知の装置を使用して行うことができる。上記ハードコート層を形成する工程は、具体的には、上記ハードコート層形成用組成物をトリアセチルセルロース基材上に塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を硬化することによって行われる。上記塗布の方法としては特に限定されず、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法、グラビアコート法等の公知の方法を挙げることができる。上記塗膜の硬化としては特に限定されないが、必要に応じて乾燥し、そして加熱、活性エネルギー線照射等により硬化させて形成することが好ましい。上記活性エネルギー線照射としては、紫外線又は電子線による照射が挙げられる。上記紫外線源の具体例としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が挙げられる。また、紫外線の波長としては、190~380nmの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。ここで、上記ハードコート層中の反応性異型シリカ微粒子が、該ハードコート層のトリアセチルセルロース基材側により多く含有されているハードコート層は、例えば、上述した浸透性溶剤、上記バインダー樹脂のモノマー及び反応性異型シリカ微粒子を含有するハードコート層形成用組成物を用いることで形成することができる。すなわち、上記組成のハードコート層形成用組成物を用いることで、トリアセチルセルロース基材上に形成した塗膜のトリアセチルセルロース基材近くのモノマーが、トリアセチルセルロース基材に浸透性溶剤とともに浸透し、該塗膜中の反応性異型シリカ微粒子の存在比が、トリアセチルセルロース基材側で高くなる。その後、上記塗膜中のモノマーを硬化させることで、トリアセチルセルロース基材近傍の反応性異型シリカ微粒子の存在比を相対的に多いハードコート層を形成することができる。上記トリアセチルセルロース基材近傍の反応性異型シリカ微粒子の存在比を相対的に多いハードコート層とすることで、該反応性異型シリカ微粒子の硬度が高いことから、上述したハードコート層の表面のマルテンス硬度N1、上記ハードコート層の断面中央のマルテンス硬度N2及び上記トリアセチルセルロース基材の断面中央のマルテンス硬度N3を、それぞれナノインデンテーション法により測定したときに、N2>N1>N3なる関係を有するものとしやすくなる。より詳細に説明すると、上記ハードコート層中のバインダー樹脂のモノマー成分をトリアセチルセルロース基材中に浸透させ、硬化させることによって、該トリアセチルセルロール基材の硬度を高くできる。そして、そのトリアセチルセルロース基材上に積層されるハードコート層が、上記N2>N1なる関係を有することで、更にトリアセチルセルロース基材の弱さをカバーでき、更にはN1>N3なる関係を有することで最終的に本発明の光学積層体の表面が、ガラスのような高硬度の基材の上にハードコート層が設けられたような状態になり、結果、本発明の光学積層体の硬度が良好なものとなる。本発明の光学積層体の構成は、トリアセチルセルロース基材上に1層のハードコート層が積層されたものであるが、上記トリアセチルセルロース基材とハードコート層とが上記マルテンス硬度の関係を有することで、あたかもトリアセチルセルロース基材/反応性異形シリカ微粒子層/ハードコート層のような3層構成疑似3層構成を有しているようになる。これに対して、例えば、トリアセチルセルロース基材上に全てを反応性異型シリカ微粒子からなるハードコート層を形成した場合、トリアセチルセルロース基材上にいきなり高硬度のハードコート層が存在することになり、トリアセチルセルロース基材との硬度の差が大きい場合はクラックの原因にもなり、また、光学積層体がカールしやすく曲げに対する強度も得られなくなる。一方、本発明のような擬似3層構成であると、実際には2層であるので密着性には問題がなく、かつ、トリアセチルセルロース基材からハードコート最表面に至るにしたがって徐々に物性が変化することになり、最終硬度が得られるだけではなく、クラックやカール、曲げに対しても優れたものにできる。上記ハードコート層の表面のマルテンス硬度N1の具体的な測定方法としては、例えば、図1に示したように、上記N1は、ハードコート層10の表面トリアセチルセルロース基材と反対側表面に対して垂直方向から対面角136°のダイヤモンド正四角錐形状のビッカース圧子12を押し込み、得られた荷重-変位曲線から、マルテンス硬度を算出し、これを5箇所について求めた平均をハードコート層の表面のマルテンス硬度N1とする。なお、上記マルテンス硬度は、より具体的には、ビッカース圧子の押し込みによりできたピラミッド形のくぼみ13aの対角線の長さからその表面積Amm2を計算し、試験荷重FNを割るF/Aことで求められる。また、上記ハードコート層の断面中央のマルテンス硬度N2は、図1に示したように、ハードコート層10の断面10aの中央A-A線に、該断面10aに対して垂直方向からビッカース圧子12を押し込んで形成したくぼみ13bから、上記N1と同様にしてマルテンス硬度5箇所について求めた平均を求める。また、上記トリアセチルセルロース基材の断面中央のマルテンス硬度N3は、トリアセチルセルロース基材11の断面11aの中央B-B線に、該断面11aに対して垂直方向からビッカース圧子12を押し込んで形成したくぼみ13cから、上記N1と同様にしてマルテンス硬度5箇所について求めた平均を求める。上記マルテンス硬度は、例えば株フィッシャーインスツルメント社製、ピコデンターHM-500で測定できる。なお、本発明の光学積層体において、上記ハードコート層の表面のマルテンス硬度N1及び断面中央のマルテンス硬度N2は、それぞれ負荷荷重が20mNの場合、上記N1は、300~500N/mm2であることが好ましく、350~450N/mm2であることがより好ましく、上記N2は、350~550N/mm2であることが好ましく、400~500N/mm2であることがより好ましい。上記ハードコート層の表面及び断面中央のマルテンス硬度が上記範囲にあることで、好適に本発明の光学積層体が優れた硬度を有するものとすることができる。なお、上記N1及びN2は、具体的なマルテンス硬度が上記範囲にある場合であっても、N2は、N1よりも大きいことが必要である。N1の値がN2の値以上であると、ハードコート層の耐擦傷性は向上するが、鉛筆硬度試験を行ったときに、ハードコート層の表面にクラックが生じてしまい、4H以上とすることができなくなるからである。これは、耐擦傷性は、ハードコート層の最表面のみの硬度が反映されるのに対し、鉛筆硬度試験では、ハードコート層の膜厚方向へ力がかかるため、ハードコート層全体の硬度関係が反映される。上述したような関係のマルテンス硬度であると、ハードコート層が硬いために脆い性質が出てくる。N2>N1なる関係を有するのであれば、このような高硬度のN1部分を、N2部分がガラス基材のように支えることができるので、脆い性質をカバーすることができる。しかしながら、N1>N2であると、N1部分の脆い性質をカバーできる部分がハードコート層にないため、クラックを生じやすくなる。本発明の光学積層体におけるハードコート層は、上記反応性異型シリカ微粒子を含有するため、硬度を優れたものとすることができる。具体的には、本発明の光学積層体におけるハードコート層は、表面のJISK5600-5-41999に規定する鉛筆硬度試験4.9N荷重の硬度が4H以上である。なお、本明細書において、上記ハードコート層の鉛筆硬度試験による硬度は、5回ひっかき試験をしたうち、1回の引いた長さの3分の1以上の長さに傷が発生した回をNGとし、NGが1回以下であれば合格という基準に基づいて評価した結果を意味する。つまり、5回ひっかき試験をしたうち1回傷が発生した場合は4/5という記述になり合格となる。なお、上記ハードコート層の鉛筆硬度を4H以上とする具体的な方法としては、例えば、上記ハードコート層形成用組成物に、反応性異型シリカ微粒子を含有させる方法、又は、上記反応性異型シリカ微粒子と6~15官能の反応性ポリマー又はオリゴマーとを含有させる方法が好適に挙げられる。上記反応性ポリマー又はオリゴマーの反応性基としては、電離放射線硬化型のメタアクリロイル基が好ましい。上記6~15官能の反応性ポリマー又はオリゴマーとしては、なかでも、6~15官能のウレタンアクリレートオリゴマーが好ましく、具体的には、日本合成化学工業社製のUV1700B10官能等が挙げられる。また、本発明の光学積層体は、全光線透過率が85以上であることが好ましい。85未満であると、本発明の光学積層体を画像表示装置の表面に装着した場合において、色再現性や視認性、コントラストを損なうおそれがある。上記全光線透過率は、90以上であることがより好ましく、92以上であることが更に好ましい。また、本発明の光学積層体は、ヘイズが1未満であることが好ましく、0.5未満であることがより好ましい。本発明の光学積層体は、また、本発明の効果が損なわれない範囲内で、必要に応じて他の層防眩層、帯電防止層、低屈折率層、防汚層、接着剤層、他のハードコート層等の1層又は2層以上を適宜形成することができる。なかでも、防眩層、帯電防止層、低屈折率層及び防汚層のうち少なくとも一層を有することが好ましい。これらの層は、公知の反射防止用積層体と同様のものを採用することもできる。本発明の光学積層体は、トリアセチルセルロース基材上に、反応性異型シリカ微粒子、バインダー樹脂及び溶剤を含有するハードコート層形成用組成物を使用してハードコート層を形成することにより製造することができる。上記ハードコート層形成用組成物及びハードコート層の形成方法については、上述したハードコート層において説明したものと同様の材料、方法が挙げられる。本発明の光学積層体は、偏光素子の表面に、本発明による光学積層体を該光学積層体におけるハードコート層が存在する面と反対の面に設けることによって、偏光板とすることができる。このような偏光板も、本発明の一つである。上記偏光素子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン-酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光素子と本発明の光学積層体とのラミネート処理においては、光透過性基材トリアセチルセルロースフィルムにケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。本発明は、最表面に上記光学積層体又は上記偏光板を備えてなる画像表示装置でもある。上記画像表示装置は、LCD、PDP、FED、ELD有機EL、無機EL、CRT、タッチパネル、電子ペーパー、ダブレットPC等の画像表示装置であってもよい。上記の代表的な例であるLCDは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がLCDである場合、この透過性表示体の表面に、本発明の光学積層体又は本発明の偏光板が形成されてなるものである。本発明が上記光学積層体を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は光学積層体の下側から照射される。なお、STN型VA型IPS型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。上記画像表示装置であるPDPは、表面ガラス基板表面に電極を形成と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板電極および、微小な溝を表面に形成し、溝内に赤、緑、青の蛍光体層を形成とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がPDPである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板ガラス基板又はフィルム基板に上述した光学積層体を備えるものでもある。上記画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質:発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行うELD装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるCRTなどの画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した光学積層体を備えるものである。本発明の画像表示装置は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ等のディスプレイ表示に使用することができる。特に、CRT、液晶パネル、PDP、ELD、FED、タッチパネル、電子ペーパー、タブレットPC等の高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。本発明の光学積層体は、上述した構成からなるものであるため、ハードコート層の硬度及び耐擦傷性に優れたものである。このため、本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置CRT、液晶ディスプレイLCD、プラズマディスプレイPDP、有機無機エレクトロルミネッセンスディスプレイELD、フィールドエミッションディスプレイFED、タッチパネル、電子ペーパー、タブレットPC等に好適に適用することができる。本発明の内容を下記の実施例により説明するが、本発明の内容はこれらの実施態様に限定して解釈されるものではない。特別に断りの無い限り、部及びは質量基準である。以下に示した配合によってハードコート層形成用組成物1~3を調製した。<ハードコート層形成用組成物1>樹脂1;ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート日本化薬社製;DPHA20質量部反応性異型シリカ微粒子A-120質量部固形分樹脂2;ポリマーアクリレートB-110質量部開始剤1;Irg.184チバジャパン社製;イルガキュアー1842質量部レベリング剤1;フッ素系界面活性剤DIC社製;メガファックMCF350-50.05質量部メチルイソブチルケトンMIBK50質量部なお、反応性異型シリカ微粒子A-1は、平均一次粒径30nmの球状シリカ微粒子4個が無機の化学結合した平均2次粒径100nmであって、MIBKで希釈した固形分40のものであった。また、ポリマーアクリレートB-1は、1分子におけるアクリロイル基が10個以上10官能以上であって、重量平均分子量Mwが15000であった。<ハードコート層形成用組成物2~10>表1に示した組成及び配合でハードコート層形成用組成物2~10を調製した。なお、表1中、A-3とは単分散反応性シリカ微粒子粒径15nm、固形分30、MIBK希釈品を示し、A-4とは平均一次粒径20nmの球状シリカ微粒子5個が無機の化学結合した平均2次粒径80nmであって、MIBKで希釈した固形分40の反応性異型シリカを示す。<ハードコート層形成用組成物11>樹脂1;ペンタエリスリトールトリアクリレート;PETA日本化薬社製;PET3030質量部樹脂2;ポリマーアクリレートB-120質量部開始剤1;Irg.184チバジャパン社製;イルガキュアー1841質量部開始剤2;Irg.907チバジャパン社製;イルガキュアー9071質量部レベリング剤1;DIC社製;メガファックMCF350-50.05質量部MIBK50質量部<ハードコート層形成用組成物12>樹脂1;ペンタエリスリトールトリアクリレート;PETA日本化薬社製;PET3030質量部樹脂2;多官能ウレタンアクリレート日本合成化学工業社製;UV1700B、10官能20質量部開始剤1;Irg.184チバジャパン社製;イルガキュアー1842質量部レベリング剤1;DIC社製;メガファックMCF350-50.05質量部メチルイソブチルケトン50質量部<ハードコート層形成用組成物13~21>表1に示した組成及び配合でハードコート層形成用組成物13~21を調製した。なお、表1中、A-2とは単分散シリカ微粒子日産化学工業社製;MIBK-STを示し、A-5とは平均一次粒径30nmの球状シリカ微粒子30個が無機の化学結合した平均2次粒径500nmであって、MIBKで希釈した固形分40の反応性異型シリカを示し、A-6とは平均一次粒径60nmの球状シリカ微粒子4個が無機の化学結合した平均2次粒径200nmであって、MIBKで希釈した固形分40の反応性異型シリカを示す。実施例1トリアセチルセルロース基材厚み40μm、コニカミノルタ社製;KC4UYWを準備し、基材の片面に、ハードコート層形成用組成物1を塗布し、温度70°Cの熱オーブン中で60秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が100mJ/cm2になるように照射して塗膜を硬化させることにより、10g/cm2乾燥時のハードコート層を形成し、光学積層体を作製した。実施例2~10、比較例1~8、参考例1~3ハードコート層形成用組成物1の代わりにハードコート層形成用組成物2~21をそれぞれ表2に示したように使用した以外は、実施例1と同様にして実施例2~10、比較例1~8及び参考例1~3に係る光学積層体をそれぞれ作製した。実施例、比較例及び参考例で得られた光学積層体を以下の方法により評価し、それぞれの結果を表2に示した。評価1:マルテンス硬度の測定実施例、比較例及び参考例に係る光学積層体のハードコート層の表面、断面中央、及び、トリアセチルセルロース基材の断面中央を株フィッシャーインスツルメント社製、ピコデンターHM-500を用いてナノインデンテーション法によりマルテンス硬度を測定した。なお、負荷荷重を20mNとし、ハードコート層の表面を5回測定した平均値をN1N/mm2とした。また、各実施例、比較例及び参考例に係る光学積層体を50μm程度に裁断し、負荷荷重を20mNとし、ハードコート層及びトリアセチルセルロース基材それぞれの断面のほぼ中央となる場所を5回測定した値の平均値をそれぞれN2、N3とした。また、各実施例、比較例及び参考例に係る光学積層体において、ハードコート層を形成する前のトリアセチルセルロース基材の断面の中央のマルテンス硬度を予め測定し、5回測定した値の平均をN3bとした。なお、マルテンス硬度の詳細な測定方法は、図1を用いて説明したとおりである。評価2:鉛筆硬度実施例、比較例及び参考例に係る光学積層体を、温度23°C、相対湿度50の条件で16時間以上調湿した後、JIS-S-6006が規定する試験用鉛筆硬度4Hを用いて、JISK5600-5-41999に規定する鉛筆硬度評価方法に準拠し、4.9Nの荷重にて引っかき試験を行い、下記の基準にて評価した。5回ひっかき試験をしたうち、1回の引いた長さの3分の1以上の長さに傷が発生し充分な明るさの蛍光灯下での目視にて確認できた傷をNGとし、NGが5回中1回以下であれば合格○、2回以上傷が発生した場合を不合格×とした。評価3:耐擦傷性実施例、比較例及び参考例に係る光学積層体のハードコート層表面を、0000番のスチールウールを用いて、摩擦荷重を変化させ、10往復摩擦し、その後の塗膜の傷、剥がれの有無を目視し下記の基準にて評価した。◎:1000g/cm2荷重で、傷なし、塗膜の剥がれなし×:1000g/cm2で傷又は塗膜の剥がれがあった評価4:屈曲性JIS-K5600-5-1に記載されているマンドレル試験2mmから32mmの金属製円柱にサンプルを巻きつける試験に準じ、円柱にハードコート層を外側にした実施例、比較例及び参考例に係る光学積層体の長さ方向で巻き付けたときのクラックひびが発生しなかった棒の最小直径を記載した。つまり、直径15mmの円柱でクラックが発生し、直径16mmで発生しなかった場合は、16mmとした。評価5:ヘイズ実施例、比較例及び参考例に係る光学積層体のヘイズ値を、ヘイズメーター村上色彩技術研究所製、製品番号;HM-150を用いてJISK-7136に従って測定した。表2より、実施例1~10に係る光学積層体は、厚み40μmのトリアセチルセルロース基材であっても硬度4Hの鉛筆硬度試験において、良好な結果であり、また、耐擦傷性にも優れたものであった。よって、本発明はディスプレイ軽量化に有効である。一方、比較例の光学積層体は、いずれも硬度4Hの鉛筆硬度試験における結果が劣るものであった。なお、比較例8に係る光学積層体は、耐擦傷性も劣るものであり、更にトリアセチルセルロース基材とハードコート層との密着性にも劣るものであった。また、参考例1及び3に係る光学積層体は、硬度4Hの鉛筆硬度試験において良好な結果であったが、ヘイズが実施例に係る光学積層体よりも高いものであった。また、参考例2に係る光学積層体は、硬度4Hの鉛筆硬度試験における結果に劣り、ヘイズも実施例に係る光学積層体よりも高いものであった。"