コレステリック液晶分子の導波器の螺旋軸が液晶層の厚さ方向と平行に形成されているコレステリック配向された液晶領域と、前記螺旋軸が前記液晶層の厚さ方向と平行ではないように形成されているコレステリック配向された液晶領域と、を含む液晶層を有することを特徴とする液晶フィルム。前記液晶層は、ヘイズが5以上であることを特徴とする請求項1に記載の液晶フィルム。前記液晶層は、反射光の中心波長がお互いに相異なっている2種類のコレステリック配向された液晶領域を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の液晶フィルム。前記液晶層は、下記化学式1で表示される化合物を架橋または重合された形態で含むことを特徴とする請求項1から3の何れか1項に記載の液晶フィルム。前記化学式1において、Aは、単一結合、-COO-または-OCO-であり、R1からR10は、各々独立的に、水素、ハロゲン、アルキル基、アルコッキシ基、シアノ基、ニトロ基、-O-Q-Pまたは下記化学式2の置換基である。好ましくは、R1からR10の中で少なくとも一つは、-O-Q-Pまたは下記化学式2の置換基であり、前記Qは、アルキレン基またはアルキリデン基であり、Pは、アルケニル基、エポキシ基、シアノ基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基である。前記化学式2において、Bは、単一結合、-COO-または-OCO-であり、R11からR15は、各々独立的に、水素、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基または-O-Q-Pである。好ましくは、R11からR15の中で少なくとも一つは、-O-Q-Pであり、前記Qは、アルキレン基またはアルキリデン基であり、Pは、アルケニル基、エポキシ基、シアノ基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基である。前記液晶層は、キラル剤をさらに含むことを特徴とする請求項4に記載の液晶フィルム。前記液晶層は、厚さが3μm~8μmであることを特徴とする請求項1から5の何れか1項に記載の液晶フィルム。基材をさらに含み、液晶層が前記基材の少なくとも一面に形成されていることを特徴とする請求項1から6の何れか1項に記載の液晶フィルム。前記コレステリック液晶分子の導波器の螺旋軸が液晶層の厚さ方向と平行ではないように配向されたコレステリック配向領域が液晶層内で基材側に分布していることを特徴とする請求項7に記載の液晶フィルム。前記液晶層が形成される基材の面は、水に対するぬれ角が0度~50度であることを特徴とする請求項7または8に記載の液晶フィルム。コレステリック配向された液晶領域を含む単一層の液晶層を形成する方法を含み、前記液晶領域が、コレステリック液晶分子の導波器の螺旋軸が前記液晶層の厚さ方向と平行に配向されたコレステリック配向領域と、前記螺旋軸が前記液晶層の厚さ方向と平行ではないように配向されたコレステリック配向領域と、を含むように液晶層を形成することを特徴とする液晶フィルムの製造方法。液晶層の形成過程は、水に対するぬれ角が0度~50度である基材の面にコレステリック液晶組成物を塗布する過程を含むことを特徴とする、液晶フィルムの製造方法。請求項1から9の何れか1項に記載の液晶フィルム、及び前記液晶フィルムの液晶層の上部に形成されているλ4波長層を含むことを特徴とする光学素子。前記λ4波長層は、基板と、前記基板の上部に形成されている配向膜と、前記配向膜の上部に形成されている液晶層と、を含み、前記液晶層が前記液晶フィルムの液晶層と接していることを特徴とする請求項12に記載の光学素子。前記λ4波長層の上部に配置された偏光素子をさらに含むことを特徴とする請求項12または13に記載の光学素子。請求項12から14の何れか1項に記載の光学素子を含むことを特徴とする液晶表示装置。液晶パネルと前記液晶パネルの一側に配置された光源とを含み、前記光学素子が前記液晶パネルと光源との間に配置されていることを特徴とする請求項15に記載の液晶表示装置。前記光学素子は、液晶フィルムがλ4波長層に比べて光源が近く位置するように配置されていることを特徴とする請求項16に記載の液晶表示装置。したがって、前記のような従来の諸問題点を解消するために提案されたものであって、本発明の目的は、液晶フィルム、液晶フィルムの製造方法、光学素子及びLCDを提供することにある。本発明は、液晶フィルムに関するもので、例示的な液晶フィルムは、コレステリック配向された液晶領域を含む液晶層を含む。本発明の例示的な液晶フィルムの製造方法は、コレステリック配向された液晶領域を含む液晶層を形成する方法を含み、前記液晶領域が、コレステリック液晶分子の導波器の螺旋軸が前記液晶層の厚さ方向と平行に配向されたコレステリック配向領域と、前記螺旋軸が前記液晶層の厚さ方向と平行ではないように配向されたコレステリック配享領域と、を有する液晶層を含むように液晶層を形成する。本発明の例示的な光学素子は、前記液晶フィルム、及び前記液晶フィルムの液晶層の上部に形成されているλ4波長層を含むことができる。本発明の例示的な液晶表示装置は、前記光学素子を含むことができる。本発明の例示的な液晶フィルムは、LCDなどのディスプレイ装置の光利用効率を改善し、輝度を向上させることができる反射型偏光板で使われることができる。特に、前記液晶フィルムは、液晶層の内部にホメオトロピックまたはフォーカルコニック配向されたCLC領域が含まれて輝度向上効果を極大化することができ、且つ光源が有する色座標を効果的に再現することができるので、優秀な映像品質を有するディスプレイ装置を提供する。本発明は、液晶フィルムに関する。例示的な液晶フィルムは、コレステリック配向された液晶領域を含む液晶層を含むことができる。前記液晶領域は、液晶分子の導波器が螺旋軸に沿って捩れながら層を成して配向している螺旋状構造のコレステリック配向された液晶領域であり、前記CLC層は、前記のような液晶領域を2個以上含む。前記液晶領域は、前記領域の螺旋軸が前記CLC層の厚さ方向と平行に形成されているコレステリック配向された液晶領域、及び前記領域の螺旋軸が前記CLC層の厚さ方向と平行ではないように形成されているコレステリック配向された液晶領域と、を含む。本明細書において、用語CLC層の厚さ方向は、前記CLC層の一つの主表面とそれと対向する主表面を最短距離で連結する仮想の線と平行な方向を意味する。一例で、前記液晶フィルムが後述のような基材をさらに含み、前記CLC層が前記基材の一面に形成されている場合には、前記CLC層の厚さ方向は、前記CLC層が形成されている基材の面と垂直の方向に形成された仮想の線と平行な方向である。本明細書において、角度を定義するにおいて、垂直、水平、直交または平行などの用語を使用する場合、これは目的する効果を損傷させない範囲での実質的な垂直、水平、直交または平行を意味することで、例えば、製造誤差または偏差などを考慮した誤差を含む。例えば、前記各々の場合は、約±15度以内の誤差、約±10度以内の誤差または約±5度以内の誤差を含むことができる。前記CLC層は、コレステリック配向された液晶領域を含む。本明細書において、コレステリック液晶またはコレステリック配向された液晶は、CLCと略称することができる。図1を参照すれば、CLCは、液晶分子の導波器が螺旋軸に沿って捩れながら層を成して配向した螺旋状の構造を有する。前記CLCの構造において、液晶分子の導波器が360度の回転を完成するまでの距離をピッチと称する。本明細書において、用語液晶領域またはCLC領域は、CLCの導波器が360度の回転を完成している領域を意味する。本明細書において、各CLC領域は、前記領域の螺旋軸の前記CLC層の厚さ方向に対する配向形態から角度または各液晶領域の反射光の中心波長により区分することができる。CLCは、円形偏光の光を選択的に反射させることができる。CLCにより反射される光の波長は液晶の屈折率及びピッチに依存する。CLC導波器の螺旋形の捩れは材料の誘電体テンソルで空間的に周期的な変形を誘発し、これは光の波長の選択的反射を起こす。一般的に、CLCでは螺旋軸に沿って伝播される光に対して、波長λが一般式1の範疇である時、ブラッグ反射が発生する。[数1]NoPλNeP前記一般式1において、Pは、CLC領域のピッチであり、Neは、CLCの導波器に対して平行に偏光された光に対するCLCの屈折率を示し、Noは、CLCの導波器に垂直に偏光された光に対するCLCの屈折率を示す。また、CLCにより反射される光の波長範囲の中心波長λ0は、下記一般式2により近似されることができる。[数2]λo=05P前記一般式2において、P、Ne及びNoは、前記一般式1での定義と同様である。また、CLCにより反射される光のスペクトラム幅△λ0は、下記一般式3により近似されることができる。[数3]△λ0=2λo=P前記一般式3において、P、Ne及びNoは、前記一般式1での定義と同様である。前記CLC層の液晶領域は、前記CLC層の厚さ方向と平行な方向に螺旋軸を有するCLC領域と、前記CLC層の厚さ方向と平行ではない方向に螺旋軸を有するCLC領域と、を含む。CLC領域の螺旋軸の配置を図2を参照して例示的に説明すれば、下記の通りである。通常的に、CLC領域は、螺旋状で回転しているCLC分子を含み、前記CLC分子の導波器、例えば、CLC分子の長軸の螺旋軸が前記CLC層の厚さ方向に対して平行になるように整列される。通常的な場合、CLC領域は、図2のAに示したように、CLCの螺旋軸HAが、CLC層の厚さ方向21と平行に配向される。図2において、前記厚さ方向21と垂直の方向22は、例えば、上述のような基材の面方向を意味することができる。本明細書において、前記のように螺旋軸がCLC層の厚さ方向と平行な状態で配向されているCLC領域は、平面配向されたCLC領域であると呼称することができる。CLCの配向条件や、あるいはCLCが形成される基材の面の特性に応じては、前記CLC分子の導波器の螺旋軸を前記CLC層の厚さ方向とは平行ではない方向に整列することができる。例えば、図2のBに示したように、CLCの螺旋軸HAをCLC層の厚さ方向21と垂直の方向に配向するか、図2のCに示したように、CLCの螺旋軸HAがCLC層の厚さ方向21と垂直及び平行な方向以外の方向に配向が行われることができる。本明細書では、前記のように螺旋軸がCLC層の厚さ方向と垂直の状態で配向されているCLC領域は、ホメオトロピック配向されたCLC領域と呼称し、螺旋軸がCLC層の厚さ方向と垂直及び平行な方向以外の方向に配向した状態のCLC領域は、フォーカルコニック配向されたCLC領域であると呼称する。通常的な方式で形成されたCLC層内でCLC領域は、螺旋軸がCLC層の厚さ方向と平行を成しながら配向される。しかし、前記液晶フィルムのCLC層には、人為的に螺旋軸がCLC層の厚さ方向と平行以外の方向に形成されるCLC領域を含ませる。前記螺旋軸がCLC層の厚さ方向と平行以外の方向に形成されるCLC領域は、例えば、CLC層に入射される光を散乱または拡散させて前記液晶フィルムの輝度特性及び視野角特性を一層向上させることができる。前記ホメオトロピックまたはフォーカルコニック配向されたCLC領域のCLC層内での量や位置及び分布状態、またはフォーカルコニック配向で螺旋軸がCLC層の厚さ方向と成す角度などは、特別に限定されない。一例で、前記ホメオトロピックまたはフォーカルコニック配向されたCLC領域は、前記領域によりCLC層が光を散乱または拡散させて示す前記CLC層のヘイズが所定範囲になるように形成及び配置されている。一例において、前記のようなホメオトロピックまたはフォーカルコニック配向されたCLC領域を含む前記CLC層は、ヘイズ数値が5以上、10以上または15以上である。前記CLC層のヘイズは、前記液晶フィルムが適用される用途によって各々の用途で一番好適な効果を発揮するように選択されることができる。前記CLC層のヘイズは、例えば、MurakamicolorResearchLaboratory社のHR-100またはHM-150などようなヘイズメーターを使用して製造社のマニュアルによって測定することができる。また、前記CLC層のヘイズの上限は、特別に限定されるものではなく、例えば、前記上限は、30、25または20程度である。また、前記CLC層は、反射光の中心波長がお互いに相異なっている少なくとも2種類以上のCLC領域を含むことができる。前記2種類以上のCLC領域を含むCLC層は、単一層であってもよい。本明細書において、単一層のCLC層には、2個以上のCLC層を積層または付着して形成されるCLC層や、CLC層を形成するためにCLC組成物を複数回コーティングして形成されたCLC層などは含まれない。前記のように2種類以上のCLC領域を含むCLC層を単一の層で形成すれば、一層薄い厚さで広い波長帯域で選択的な反射特性を確保すると共に、層間界面による光の反射損失なども防止することができる。本明細書では、前記のように反射光の中心波長が相異なっているCLC領域を2種類以上含む単一層のCLC層は広帯域特性を有するCLC層であると呼称されることができる。前記反射光の中心波長によって分類される各々のCLC領域は、プランナー、ホメオトロピックまたはフォーカルコニック配向されたCLC領域である。CLC層が反射光の中心波長が相異なっている少なくとも2種のCLC領域を含む場合、前記各CLC領域の分布は、特別に限定されるものではない。一例において、前記CLC領域は、CLC層の厚さ方向に沿って前記中心波長が長波長から短波長または短波長から長波長に順次変化されるように配置されるか、または前記中心波長が順次に短くなっている途中さらに増加する方向または順次に長くなっている途中さらに減少する方向に配置されるか、または前記中心波長がCLC層の厚さ方向に沿って不規則的に変化するように配置されることができる。一例において、前記CLC層は、反射光の中心波長が可視光線の赤色光領域に属するCLC領域、反射光の中心波長が可視光線の緑色光領域に属するCLC領域、及び反射光の中心波長が青色光領域に属するCLC領域を少なくとも含むことができる。図3は、前記CLC層2を抽象的に図式した模式図として、CLC層2の一つの主表面21側から他の主表面22側方向に反射光の中心波長が赤色光の範疇に属するCLC領域231、緑色光の範疇に属するCLC領域232及び青色光の範疇に属するCLC領域233が順次に配置された例を示す。前記CLC層は、反射光の中心波長が400nm~500nmである第1の領域、反射光の中心波長が500nm~600nmである第2の領域及び反射光の中心波長が600nm~700nmである第3の領域を少なくとも含むことができる。前記第1から第3の領域は、CLC層の厚さ方向に沿って前記中心波長が順次に増加または減少する方向に配置することができるが、これに限定されるものではない。また、前記反射光の中心波長は、例えば、前記一般式2に基づいて測定することができ、この分野では前記中心波長を測定する方式が広く公知されている。一例において、CLC層は、液晶高分子を含むことができる。例示的なCLC層の製造方法は、架橋性または重合性液晶化合物及びキラル剤を含む組成物をコーティングし、前記キラル剤により螺旋ピッチを誘導した状態で前記組成物を重合または架橋させて形成することができ、この場合、前記CLC層は、架橋または重合された液晶高分子を含むことができる。前記キラル剤は、架橋性または重合性や非架橋性または非重合性であってもよい。一つの例示的なCLC層は、下記化学式1で表示される化合物を架橋または重合された形態で含むことができる。前記化学式1において、Aは、単一結合、-COO-または-OCO-であり、R1からR10は、各々独立的に、水素、ハロゲン、アルキル基、アルコッキシ基、シアノ基、ニトロ基、-O-Q-Pまたは下記化学式2の置換基である。好ましくは、R1からR10の中で少なくとも一つは、-O-Q-Pまたは下記化学式2の置換基であり、前記Qは、アルキレン基またはアルキリデン基であり、Pは、アルケニル基、エポキシ基、シアノ基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基である。前記化学式2において、Bは、単一結合、-COO-または-OCO-であり、R11からR15は、各々独立的に、水素、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基または-O-Q-Pである。好ましくは、R11からR15の中で少なくとも一つは、-O-Q-Pであり、前記Qは、アルキレン基またはアルキリデン基であり、Pは、アルケニル基、エポキシ基、シアノ基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基である。前記化学式2で、Bの左側の-は、Bが化学式1のベンゼンに直接連結されることを意味する。前記化学式1及び化学式2において、用語単一結合は、AまたはBで表示される部分に別途の原子が存在しない場合を意味する。例えば、化学式1において、Aが単一結合の場合、Aの両側のベンゼンが直接連結すされてビフェニル構造を形成することができる。前記化学式1及び化学式2において、ハロゲンでは、塩素、臭素またはヨウ素などを例示することができる。前記化学式1及び化学式2において、アルキル基では、炭素数1~20、炭素数1~16、炭素数1~12、炭素数1~8または炭素数1~4の直鎖状または分岐鎖状アルキル基または炭素数3~20、炭素数3~16または炭素数4~12のシクロアルキル基を例示することができる。また、前記アルキル基は、任意的に一つ以上の置換基により置換されることができる。前記化学式1及び化学式2において、アルコキシ基では、炭素数1~20、炭素数1~16、炭素数1~12、炭1~8または炭素数1~4のアルコキシ基を例示することができる。前記アルコキシ基は、直鎖状、分岐状または環状である。また、前記アルコキシ基は、任意的に一つ以上の置換基により置換されることができる。また、前記化学式1及び化学式2において、アルキレン基またはアルキリデン基では、炭素数1~12、炭素数4~10または炭素数6~9のアルキレン基またはアルキリデン基を例示することができる。前記アルキレン基またはアルキリデン基は、直鎖状、分岐状または環状である。また、前記アルキレン基またはアルキリデン基は、任意的に一つ以上の置換基により置換されることができる。また、前記化学式1及び化学式2において、アルケニル基では、炭素数2~20、炭素数2~16、炭素数2~12、炭素数2~8または炭素数2~4のアルケニル基を例示することができる。前記アルケニル基は、直鎖状、分岐状または環状である。また、前記アルケニル基は、任意的に一つ以上の置換基により置換されることができる。前記アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アルキレン基またはアルキリデン基に置換される置換基では、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、エポキシ基、シアノ基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基またはアリール基などを例示することができるが、これに限定されるものではない。また、前記化学式1及び科学式2において、Pは、好ましくは、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基であり、より好ましくは、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基であり、さらに好ましくは、アクリロイルオキシ基である。前記化学式1及び科学式2において少なくとも一つ以上存在することができる-O-Q-Pまたは化学式2の残基は、例えば、R3、R8またはR13の位置に存在することができ、例えば、1個または2個が存在することができる。また、前記化学式1の化合物または化学式2の残基において-O-Q-Pまたは化学式2の残基以外の置換基は、例えば、水素、ハロゲン、炭素数1~4の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基、炭素数4~12のシクロアルキル基、シアノ基、炭素数1~4のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基であり、好ましくは、塩素、炭素数1~4の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基、炭素数4~12のシクロアルキル基、炭素数1~4のアルコキシ基またはシアノ基である。前記CLC層に含まれることができるキラル剤では、前記液晶高分子または液晶化合物の液晶性、例えば、ネマチック規則性を損傷させないで、目的する螺旋ピッチを誘発することができるものであれば、特別に制限なしに使用することができる。液晶に螺旋ピッチを誘発するためのキラル剤は、分子構造中にキラリティーを少なくとも含む必要がある。キラル剤では、例えば、1つあるいは2つ以上の不斉炭素を有する化合物、キラルなアミンやキラルなスルフォキシドなどのようにヘテロ原子上に不斉点を有する化合物、あるいはクムレンやビナフトールなどの軸不斉を有する光学活性な部位を有する化合物を例示することができる。前記キラル剤は、例えば、分子量が1500以下の低分子化合物である。例えば、キラル剤では、市販のキラルネマチック液晶、例えば、キラルドーパント液晶S-811またはLC756などを使用することができる。前記CLC層は、例えば、3μm~8μmまたは4μm~6μmの厚さを有する。CLC層の厚さを前記範囲で制御することで、CLC層内でホメオトロピックまたはフォーカルコニック配向されたCLC領域を効果的に形成し、また、前記フィルムを多様な用途で効果的に適用することができる。一例において、前記液晶フィルムは、基材をさらに含み、前記CLC層が前記基材の少なくとも一面に形成されている。図4は、例示的な液晶フィルム4を示す断面図として、基材42の上部に前記のようなCLC層41が形成されている。基材では、多様な種類の基材を使用することができる。一例で、前記基材では、光学的等方性基材、位相遅延層などのように光学的異方性基材または偏光素子などを使用することができる。前記光学的等方性基材では、ガラスまたは透明プラスチック基材などのような透明基材を使用することができる。プラスチック基材では、DACまたはTAC基材のようなセルロース基材、ノルボルネン誘導体樹脂基材などのCOP基材、PMMA基材などのアクリル基材、PC基材、PEまたはPP基材などのようなオレフィン基材、PVA基材、PES基材、PEEK基材、PEI基材、PEN基材、PET基材などのようなポリエステル基材、PI基材、PSF基材、PAR基材またはフッ素樹脂基材などを例示することができる。前記基材は、例えば、シートまたはフィルム形状である。光学的異方性基材、例えば、位相遅延層では、λ4波長層またはλ2波長層などを使用することができる。本明細書において、用語λ4波長層は、入射光をその波長の14波長ほど位相遅延させることができる光学素子を意味し、λ2波長層は、入射光をその波長の12波長ほど位相遅延させることができる光学素子を意味する。前記位相遅延層は、重合性液晶化合物を配向及び重合させて形成された液晶高分子層であるか、延伸または収縮工程などにより複屈折性を付与したプラスチックフィルムである。一例において、位相遅延層は、傾斜延伸により複屈折性が付与されたプラスチックフィルム、例えば、傾斜延伸されたCOPフィルムなどであってもよい。偏光素子では、この分野で公知されている通常的な素子が使われることができる。例えば、前記偏光素子は、ポリビニールアルコール樹脂に異色性色素などを吸着及び配向させて製造される素子を使用することができる。液晶フィルムが基材を追加で含む場合、前記ホメオトロピックまたはフォーカルコニック配向されたCLC領域は、CLC層内で前記基材側方向に分布していることが好ましい。一例において、前記CLC層内では、ホメオトロピックまたはフォーカルコニック配向されたCLC領域が基材の上部表面と平行な方向に層を成すと共に、CLC層の基材側から所定の厚さを有するように配向されており、その以外の領域は、平面配向されたCLC領域が存在することができる。一例において、前記ホメオトロピックまたはフォーカルコニック配向されたCLC領域を形成させるために、前記基材の少なくともCLC層が形成される面は親水性であることができる。一例において、前記基材の少なくともCLC層が形成される面は、水に対するぬれ角が0度~50度、0度~40度、0度~30度、0度~20度または0度~10度であるか、10度~50度、20度~50度、30度~50度程度である。このような範囲のぬれ角を有する基材の面にCLC層を形成すれば、前記ホメオトロピックまたはフォーカルコニック配向されたCLC領域を適切に形成することができる。前記基材の水に対するぬれ角を測定する方式は、特別に限定されるものではなく、この分野で公知されているぬれ角の測定方式を使用することができる。例えば、KRUSS社製のDSA100機器を使用して製造社のマニュアルに応じて測定することができる。基材が前記ぬれ角を有するようにするためには、基材の面に親水化処理を実行するか、または基材として親水性官能基を含む基材を使用する。この分野では、基材のぬれ角を前記範囲で制御することができる多様な親水化処理方式や、前記のようなぬれ角を有する基材が多様に公知されている。親水化処理では、コロナ処理、プラズマ処理またはアルカリ処理などを例示することができる。したがって、一例において前記基材の面にはコロナ処理層、プラズマ処理層またはアルカリ処理層を形成することができる。また、前記のような範囲のぬれ角を有する基材上にCLC層を形成すれば、CLC層の配向のために通常的に使われる配向膜を使用せずにCLC層の配向や配向されたCLC領域の螺旋軸を目的する範囲で制御することができる利点がある。しかし、必要に応じて、前記基材のCLC層が形成される面にはラビング配向膜または高分子配向膜などの公知の配向膜が形成されてもよい。液晶フィルムに含まれる基材には適切な表面処理が実行されている。一例で、前記表面処理された層は、ディンプルパターンを有する表面処理面である。これによって、基材にはディンプルパターンが形成されている。ディンプルパターンを適切に形成することで、液晶フィルムにヘイズを追加的に調節するか、表示装置などに適用された場合、他の部品や光学フィルムなどと接触して染みなどを誘発する現象を効果的に抑制することができる。また、適切な光拡散効果を得ることができ、表示装置の光特性、反射防止特性、輝度特性及びコントラスト特性を向上させる効果も得ることができる。ディンプルパターンを形成する方式は、特別に限定されるものではなく、例えば、基材の製造過程で適切なエムボシング処理を実行するか、または基材に硬化性樹脂組成物をコーティングして金型などと接触させた状態で硬化させて適切な凹凸構造を付与するか、あるいは硬化性樹脂組成物に適切なビードを配合し、これを基材にコーティング及び硬化させる方式で形成することができる。前記方式で硬化性樹脂組成物を使用する時、硬化されてハードな硬化層を形成することができる組成物を使用する場合には、基材に優秀な耐磨耗性及び耐スクラッチ性を付与し、また高温及びまたは高湿条件のような苛酷な条件下でも寸法安全性を有するようにすることができる。前記硬化性樹脂組成物を使用してディンプルパターンを形成する場合、使用できる樹脂では、例えば、多様な常温硬化型、湿気硬化型、熱硬化型または光硬化型樹脂組成物を使用することができ、これによって、前記ディンプルパターンは、前記のような樹脂組成物を硬化された状態で含むことができる。好ましくは、熱硬化型または光硬化型樹脂組成物、より好ましくは、光硬化型樹脂組成物を使用することができる。前記硬化された状態とは、樹脂組成物に含まれる成分が架橋反応または重合反応などを経て樹脂組成物がハードな状態に転換された場合を意味する。また、前記常温硬化型、湿気硬化型、熱硬化型または光硬化型樹脂組成物は、前記のような硬化された状態が常温下で誘導されるか、あるいは適切な湿気の存在下、熱の印加または紫外線のような電磁気波の照射により誘導されることができる組成物を意味する。一例において、前記樹脂組成物は、主材料としてアクリル化合物、エポキシ化合物、ウレタン系化合物、フェノール系化合物またはポリエステル系化合物などを含むことができる。前記化合物は、単量体性、オリゴマー性または重合体性化合物である。一例では、前記樹脂組成物として、透明性などの光学的特性が優秀であり、黄変などに対する抵抗性が卓越なアクリル系樹脂組成物、好ましくは、紫外線硬化型アクリル系樹脂組成物を使用することができる。紫外線硬化型アクリル系樹脂組成物は、アクリレートオリゴマー及び希釈用単量体を含むことができ、必要に応じて、硬度確保のために前記希釈用単量体として多官能性アクリレートを使用することができる。前記アクリレートオリゴマーの例では、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、エステル系アクリレートまたはエーテル系アクリレートなどを挙げることができ、好ましくは、ウレタンアクリレートを使用することができる。この分野では、紫外線硬化型組成物を製造するための多様なアクリレートオリゴマーが知られており、本発明では前記のような化合物を適切に選択することができる。紫外線硬化型アクリル系樹脂組成物の製造に使用できる希釈用単量体の種類もこの分野で多様に知られており、その一つの好ましい例では、多官能性アクリレートを挙げることができるが、前記希釈用単量体の種類は、これに限定されるものではない。前記多官能性アクリレートの例では、14-ブタンジオールジアクリレート、16-ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートジアクリレート、ヒドロキシピバル酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジシクロペンタニルジアクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジアクリレート、エチレンオキシド変性ジアクリレート、ジアクリロキシエチルイソシアヌレート、アリル化シクロヘキシルジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールアクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジアクリレート、エチレンオキシド変性ヘキサヒドロフタル酸ジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールアクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチルプロパンジアクリレート、アダマンタンジアクリレートまたは99-ビス[4-フェニル]フルオリンなどのような2官能型アクリレート、トリメチルロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、3官能型ウレタンアクリレートまたはトリスアクリロキシエチルイソシアヌレートなどの3官能型アクリレート、ジグリセリンテトラアクリレートまたはペンタエリスリトールテトラアクリレートなどの4官能型アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレートなどの5官能型アクリレート、及びジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートまたはウレタンアクリレートアクリレートの反応物など、例えば、Kyoeisha社製のUA-306IまたはUA306Tなどの6官能型アクリレートなどを挙げることができ、樹脂層の硬度確保のために、4官能型以上、好ましくは、6官能型以上のアクリーイトを使用することができるが、これに限定されるものではない。紫外線硬化型アクリル系樹脂組成物を製造するための前記成分の選択や選択された成分の配合の割合などは、特別に限定されるものではなく、目的する樹脂層の硬度及びその他物性を考慮して調節することができる。また、前記ディンプルパターンを上述の硬化性樹脂組成物にビッドを配合して形成する場合、前記ビードでは、好ましくは、光散乱性ビードを使用することができる。用語光散乱性ビードは、前記樹脂層、例えば、上述の硬化された状態の樹脂組成物とは相異なっている屈折率を有し、樹脂層内に入射される光を内部で散乱させることができるビードを意味する。一例において、前記光散乱性ビードは、樹脂屈折率の差が003以下、好ましくは、002~02である。前記屈折率の差が過度に大きくなれば、樹脂内での散乱が過度に発生してヘイズを大きく増加させる一方、樹脂光透過度を低下させるか、表示装置のコントラストなどを低下させる恐れがある。前記光散乱性ビードの形状は、特別に限定されるものではなく、例えば、球形、楕円形、多面体形、無定形またはその他形状を有することができる。前記ビードまたは光散乱性ビードは、平均直径が50nm~5000nmであることが好ましい。また、一例では、前記ビードまたは光散乱性ビードとして、表面に凹凸が形成されていることを使用することができ、具体的には、平均表面粗度が10nm~50nm、好ましくは、20nm~40nmや、表面に形成された凹凸の最大高さが約100nm~500nm、好ましくは、200nm~400nmであり、凹凸間の幅が400nm~1200nm、好ましくは、600nm~1000nmであるビードまたは光散乱性ビードを使用することができる。ビードまたは光散乱性ビードの形状を前記のように調節することで、樹脂内での分散性から相溶性を高めて、樹脂単位体積当たりビードの数を適切に調節して、目的する散乱効果及びヘイズ数値を効果的に確保することができる。光散乱性ビードの具体的な種類は、上述の条件を満足するものであれば、特別に限定されるものではなく、多様な無機系または有機系ビードを使用することができ、好ましくは、無機系ビードを使用することができる。無機系ビードの例では、シリカ、非晶質チタニア、非晶質ジルコニア、酸化インジウム、アルミナ、非晶質酸化亜鉛、非晶質酸化セリウム、酸化バリウム、炭酸カルシウム、非晶質チタン酸バリウム及び硫酸バリウムよりなった群から選択された一つ以上を有することができ、有機系ビードの例では、アクリル系樹脂、スチレン樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、エポキシ樹脂またはシリコン樹脂などの有機系素材の架橋物または非架橋物などを挙げることができるが、これに限定されるものではない。ディンプルパターンを形成する樹脂層内で前記光散乱性ビードの含量は、特別に限定されるものではない。一例では、樹脂及びビードの種類などを考慮して、樹脂層が適正にディンプルパターンを形成し、またヘイズ数値が効果的に調節されることができるようにビードの含量を調節することができる。前記樹脂組成物には、必要に応じて、重合開始剤、紫外線遮断剤または吸収剤、帯電防止剤または分散剤などの添加剤が適切に含まれている。前記ディンプルパターンの具体的な形状は、特別に限定されるものではなく、一例では、前記パターンが約15以下のヘイズ数値を示すように制御されることができる。前記のようなヘイズ数値は、ディンプルパターンの形状を適切に制御するか、あるいはディンプルパターンを形成する樹脂層内のビードの屈折率や含量を調節する方式で達成することができる。前記基材には、上述のディンプルパターンの外にも必要に応じて多様な表面処理が実行される。このような表面処理の例では、低反射処理、反射防止処理、防幻処理及び高解像度防幻処理を挙げることができ、その中で一つまたは二つ以上の処理が基材に実行されることができる。前記各々の表面処理を実行する方式は、特別に限定されるものではなく、この分野で公知されている多様な方式を適用することができる。また、本発明は、液晶フィルムの製造方法に関するものである。例示的な液晶フィルムの製造方法は、CLC領域を含むCLC層を形成する。前記CLC層の形成は、前記CLC領域がCLC分子の導波器の螺旋軸が前記CLC層の厚さ方向と平行にコレステリック配向されたCLC領域と、前記螺旋軸が前記CLC層の厚さ方向と平行ではないようにコレステリック配向されたCLC領域、を含むように実行される。前記CLC分子の導波器の螺旋軸がCLC層の厚さ方向と平行ではないようにコレステリック配向されたCLC領域は、上述したホメオトロピックまたはフォーカルコニック配向されたCLC領域である。前記ホメオトロピックまたはフォーカルコニック配向されたCLC領域を形成する方式は、特別に限定されるものではなく、例えば、コレステリックCLC層を上述のぬれ角を有する基材の親水性表面に形成するか、またはCLC層を形成するために使用する液晶組成物に適切な添加剤を配合する方式を使用することができる。一例で、前記CLC層の形成は、ぬれ角が0度~50度、0度~40度、0度~30度、0度~20度または0度~10度である基材の表面にCLC組成物を塗布してCLC層を形成するステップを含むことができる。前記のようなぬれ角を有する基材では、表面に適切な親水化処理を実行した基材、またはその自体が親水性官能基を含んではじめから親水性を有する基材を使用することができる。前記親水化処理では、コロナ処理、プラズマ処理またはアルカリ処理などを例示することができる。前記処理条件は、特別に限定されるものではない。この分野では、基材に親水性を付与するための多様な方式が公知されており、前記のような方式を採用して前記ぬれ角を基材が示すように親水化処理を実行することができる。前記ぬれ角を有する面にCLC組成物を適用してCLC層を形成することができる。前記用語CLC組成物は、目的するパターンで液晶領域を含むCLC層を形成するために使われることができるすべての種類の組成物が含まれる。一例において、前記組成物は、ネマチック液晶化合物及びキラル剤を含むことができる。また、前記組成物は、化学式1で表示される化合物の重合または架橋のための開始剤または架橋剤などをさらに含むことができる。適切な重合開始剤は重合または架橋を開始して伝播するために自由ラジカルを発生させることができるものを含むことができる。自由ラジカル開始剤は、例えば、安全性または半減期によって選択されることができる。好ましくは、自由ラジカル開始剤は、吸収または他の方式によりCLC層で追加の色を発生しない。自由ラジカル開始剤は、典型的に熱的自由ラジカル開始剤または光開始剤である。熱的自由ラジカル開始剤は、例えば、パーオキサイド、パースルフェートまたはアゾニトリル化合物を含む。自由ラジカル開始剤は、熱的分解時に自由ラジカルを生成する。電磁気輻射線または粒子の照射により光開始剤が活性化されることができる。適切な光開始剤の例は、オニウム塩光開始剤、有機金属光開始剤、陽イオン性金属塩光開始剤、光分解可能な有機シラン、潜在性スルホン酸、フォスフィンオキサイド、シクロヘキシルフェニルケトン、アミン置換されたアセトフェノン及びベンゾフェノンを含むことができる。一般的に、他の光源を使用することができるが、光開始剤を活性化させるために紫外線照射が使われることができる。光開始剤は、光の特定波長の吸収を基礎として選択されることができる。CLC組成物は、典型的に一つ以上の溶媒を含むコーティング組成物の一部である。コーティング組成物は、例えば、分散剤、酸化防止剤及びオゾン発生防止剤を含むことができる。追加で、コーティング組成物は、必要に応じて、紫外線、赤外線または可視光線を吸収するために多様な染料及び顔料を含むことができる。一部の場合には、増粘剤及び充填剤のような粘度改質剤を添加することが適切である。CLC組成物は、例えば、各種液体コーティング方法により前記基材に適用されることができる。一部の具現様態において、コーティング後に、CLC組成物は、CLC層で架橋、重合または転換される。このような転換は、溶媒の蒸発、CLC物質を整列させるための加熱、CLC組成物の架橋または重合、または、例えば、化学線照射のような熱の印加、紫外線、可視光線または赤外線などの光の照射及び電子ビームの照射、またはこれらの組み合わせまたは類似な技術を使用したCLC組成物の硬化を含んだ多様な技術により達成できる。一例において、前記CLC組成物は、前記化学式1の化合物、開始剤及びキラル剤を含むことができる。開始剤では、化学式1の化合物の重合または架橋を開始させることができるものを選択することができる。開始剤では、例えば、光開始剤として、2-メチル-1-4-フェニル-2--1-プロパノンphenyl-2--1-propanone、2-ジメトキシ-12-ジフェニルエタン-1-オン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモン酸塩及びジフェニル-ホスフィンオキシド-phosphineoxideなどから選択される1種または2種以上を使用することができるが、これに限定されるものではない。CLC組成物は、開始剤を化学式1の化合物100重量部に対して01重量部~10重量部の割合で含むことができる。開始剤の含量を前記のように調節することで、液晶の効果的な重合及び架橋を誘導し、重合及び架橋後に残存開始剤による物性低下を防止することができる。本明細書において、特定しない限り、単位重量部は重量の割合を意味する。キラルゼ剤は、上述の種類の化合物を使用することができる。CLC組成物は、キラル剤を化学式1の化合物100重量部に対して1重量部~10重量部の割合で含むことができる。キラル剤の含量を前記のように調節することで、CLCの螺旋状捩れを効果的に誘導することができる。CLC組成物は、必要に応じて、溶媒を追加で含むことができる。溶媒では、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、コロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、12-ジメトキシベンゼンなどの芳香族炭化水素類、メタノール、エチルアルコール、プロパノール、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノンなどのアルコール類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなどのセロソルブ類、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類などを挙げることができる。また、前記溶媒の含量は、特別に限定されるものではなく、コーティング効率や乾燥効率などを考慮して適切に選択されることができる。また、CLC組成物は、界面活性剤を追加で含むことができる。前記界面活性剤は、液晶表面に分布して表面を平滑にするだけではなく、液晶配向を安定化させてCLC層の形成後にフィルム表面を柔らかく維持するようにし、その結果、外観品質を向上させることができる。界面活性剤では、例えば、フルオロカーボン系列の界面活性剤及びまたはシリコーン系列の界面活性剤を使用することができる。フルオロカーボン系列の界面活性剤では、3M社製のFluoradFC4430TM、FluoradFC4432TM、FluoradFC4434TMとDupont社製のZonylなどを使用することができ、シリコン系列の界面活性制では、BYKChemie社製のBYKTMなどを使用することができる。界面活性制の含量は、特別に限定されるものではなく、コーティング効率や乾燥効率などを考慮して適切に選択することができる。前記製造方法において、前記CLC組成物をコーティングしてCLC層を形成するステップは、例えば、CLC組成物のコーティング層に紫外線を照射してコーティング層内でキラル剤の濃度勾配を形成するステップ、及びキラル剤の濃度勾配が形成されたコーティング層を硬化させるステップを含むことができる。CLC成物の塗布層に相対的に弱い強度の紫外線を所定温度で照射する場合、塗布層内でキラル剤の濃度勾配、すなわち、塗布層内で所定方向に沿ってキラル剤の濃度の変化を誘導することができる。一例で、前記キラル剤の濃度勾配は、塗布層の厚さ方向に沿って形成することができる。キラル剤の濃度勾配を形成した紫外線の照射は、例えば、40°C~80°C、50°C~70°Cまたは約60°C前後の温度範囲で実行することができる。また、前記濃度勾配の形成のための紫外線の照射は、紫外線A領域の紫外線を約10mJcm2~500mJcm2の光量で照射して実行することができる。前記のような方式で濃度勾配を形成した後、組成物の成分を重合させるに十分な量の紫外線を照射してCLC層を形成することができる。前記紫外線の照射により塗布層は形成されたキラル剤の濃度勾配によって液晶が相異なっているピッチを有した状態で固定されてCLC領域が形成される。前記強い紫外線の照射の条件は、組成物の成分の重合が十分に進行されるほどに実行される限り、特別に限定されない。一例で、前記紫外線の照射は、紫外線A~C領域の紫外線を約1Jcm2~10Jcm2の光量で照射して実行することができる。前記のような方式を通じてホメオトロピックまたはフォーカルコニック配向が形成されているか、広帯域特性を有するCLC層を効果的に形成することができる。また、本発明は、光学素子に関するものである。光学素子は、前記液晶フィルム、及び前記液晶フィルムの少なくとも一面に配置されているλ4波長層を含むことができる。一例において、前記光学素子は、反射型偏光板で使われることができる。λ4波長層では、例えば、高分子フィルムまたは液晶フィルムを使用することができ、断層または多層構造であることができる。高分子フィルムでは、PC、ノルボルネン樹脂、PVA、PS、PMMA、PPなどのポリオレフィン、Par、PA、PETまたはPSなどを含むフィルムを使用することができる。前記高分子フィルムを適切な条件で延伸または収縮処理して複屈折性を付与して前記λ4波長層で使用することができる。前記λ4波長層は、液晶層であってもよい。一例で、前記λ4波長層である液晶層は、基材の表面に形成されている。また、前記基材と液晶層との間には、配向膜が存在してもよい。λ4波長層である液晶層の基材または配向膜あるいは前記λ4波長層を形成する液晶の種類などは、特別に限定されるものではない。一例で、基材では、上述したCLC層の基材、例えば、光学的等方性基材などを使用することができる。配向膜では、例えば、光配向膜またはラビング配向膜などのような公知の配向膜を使用することができる。また、液晶では、下部の配向膜や目的する位相差特性などを考慮して適切な物質を使用することができ、例えば、Merk社のRMまたはBASF社のLC242などを例示することができる。λ4波長層である液晶層は、例えば、基材上に配向膜を形成し、前記配向膜上に重合性液晶化合物を塗布及び配向させた後に、配向された液晶化合物を重合させて形成することができる。光学素子は、多様な構造で具現することができる。図5から図12は、前記偏光板の例示的な構造を示す。一例において、前記光学素子5は、図5に示したように、第1の基材54、第1の基材54の一面に形成されているλ4波長層53、前記λ4波長層53と付着されている前記CLC層52及び第2の基材51を含むことができる。図5の構造において、λ4波長層53は前記液晶層であり、このようなλ4波長層53は、前記CLC層52と接している状態で形成される。前記第1または第2の基材51、54に対しては、上述の事項が同一に適用される。図5の構造では、CLC層52内に上述のホメオトロピックまたはフォーカルコニック配向されたCLC領域が存在するか、あるいは第1または第2の基材51、54の一面に上述のヘイズ層が形成されて全体的なフィルムのヘイズが調節される。図6の例示的な光学素子6は、一つの基材61の両面にλ4波長層53及び前記CLC層52が形成されている構造である。前記基材61では、前記CLC層またはλ4波長層が形成される基材と同一な基材が使われることができる。図6の構造では、CLC層52内に上述のホメオトロピックまたはフォーカルコニック配向されたCLC領域が存在するか、あるいはλ4波長層53またはCLC層52の一面に上述のヘイズ層が形成されて全体的なフィルムのヘイズが調節されることができる。図7の例示的な光学素子7は、一つの基材71上にCLC層52とλ4波長層53が順に形成されている構造である。前記基材71では、前記CLC層またはλ4波長層が形成される基材と同一な基材が使われることができる。図7の構造では、CLC層52内にホメオトロピックまたはフォーカルコニック配向されたCLC領域が存在するか、あるいはλ4波長層53または基材71に上述のヘイズ層が形成されて全体的なフィルムのヘイズが調節されることができる。図8の例示的な光学素子8は、一つの基材81上にλ4波長層53とCLC層52が順に形成されている構造である。前記基材81では、前記CLC層またはλ4波長層が形成される基材と同一な基材が使われることができる。図8の構造では、CLC層52内にホメオトロピックまたはフォーカルコニック配向されたCLC領域が存在するか、あるいはCLC層52または基材81に上述のヘイズ層が形成されて全体的なフィルムのヘイズが調節されることができる。また、図5から図8に例示的に示した光学素子は、偏光素子と一体化されて光学素子を形成してもよい。通常的に、LCDなどに使われる偏光板は、ポリビニールアルコール系偏光素子のような偏光素子を含み、また、前記偏光素子の一面または両面に形成されている保護フィルムを含む。一例において、図5から図8に例示的に開示された光学素子の構造で、基材として前記偏光板の保護フィルムを使用するか、または前記光学素子を前記偏光板の保護フィルムに付着する方式で一体型光学素子を具現することが可能である。一体型素子の構成時には、偏光素子は、λ4波長層の上部に配置されるように構成することができる。図9から図12は、各々図5から図8に対応する光学素子の構造を使用した一体型光学素子を示し、各々の場合、ポリビニールアルコール系偏光素子などのような偏光素子91が含まれている。また、本発明はLCDに関するものである。例示的なLCDは、前記光学素子を含むことができる。一例において、前記LCDは、液晶パネルと前記液晶パネルの一側に配置された光源をさらに含むことができ、前記光学素子が前記液晶パネルと光源との間に配置される。また、光学素子は、液晶フィルムがλ4波長層に比べて光源が近く位置するように配置されている。図13に示したように、LCD13は、例えば、上部及び下部に偏光板131、133が両側に配置されている液晶パネル132と、前記下部偏光板133の下部に配置されている光源135と、を含むことができ、前記下部偏光板133と光源135との間に前記光学素子134が配置されている。前記光学素子134は、CLC層1342とλ4波長層1341を含むことができ、前記CLC層1342がλ4波長層1341に比べて光源135に一層近く存在するように配置されている。前記構造において、光学素子134のCLC層1342は、光源135から出射される光の一部は透過させて下部偏光板133側に送って、残り光はさらに光源135側に反射させることができる。下部偏光板133側に送られた光は、λ4波長層1341により直線偏光に変換されて上部に伝達される。前記CLC層1342により反射された光は、装置の内部で再反射され、その偏光特性が変わってさらに偏光板134に入射される。このような過程が反復されながら装置の輝度特性が向上される。一例において、上述のように前記光学素子が偏光素子と一体型構造を具現する場合には、図13で偏光板133と光学素子134が存在する領域に前記偏光板133と光学素子134の代わりに前記一体型構造の光学素子が位置してもよい。このような場合にも光源135から出射した光は、まず、前記一体型構造の光学素子内のCLC層に入射して一部は反射され、一部は透過され、前記透過された光は、前記素子内のλ4波長層と偏光素子を順に透過して液晶パネル132に入射されるように前記素子が配置される。LCDが前記光学素子を含む限り、他の部品または構造などは、特別に限定されるものではなく、この分野で公知されているすべての内容を適切に適用することができる。[発明の実施のための形態]以下、本発明による実施例と比較例を通じて前記液晶フィルムをより詳しく説明するが、前記粘着剤組成物の範囲は、下記提示された実施例により限定されるものではない。[製造例1CLC組成物の調剤]CLC組成物は、Merck社製のCLC混合物であるRMM856をトルエン及びシクロヘキサノンの混合溶媒に固形粉が40重量程度になるように溶解させた後、均一な溶液の形成のために60°Cで1時間程度加熱した後に充分に冷やして製造した。[実施例1]液晶フィルムの製造基材層として、PET、MRL38、Mitsubishi社製基材の一面に、300Wattの条件で5秒間コロナ処理を実行して親水性表面が形成された基材層を製造した。前記PET基材の水に対するぬれ角は、約60度程度であり、前記紫外線の照射を通じて親水性表面の水に対するぬれ角が約30度~40度になるように調節した。以後、前記基材層の親水性表面上にCLC組成物をワイヤバーでコーティングし、100°Cで2分間乾燥させて厚さが約5μmである液晶層を形成した。その後、約60°Cの温度で乾燥されたコーティング層に波長が紫外線照射装備で350nm~400nm程度の範囲内である紫外線を照射してキラル剤の濃度勾配を誘導した。濃度勾配を誘導した後、さらに紫外線照射装備で組成物が充分に硬化されるように紫外線を照射し、コーティング層を重合させてCLC層を形成し、液晶フィルムを製造した。前記のように製造された液晶フィルムに対して、MurakamicolorResearchLaboratory社のヘイズメーターを使用してヘイズを測定した結果、約10程度のヘイズを示した。これを通じてCLC層内にホメオトロピック及びまたはフォーカルコニック配向されたCLC領域が適切に形成されたことを確認することができる。反射型偏光板の製造前記製造された液晶フィルムのCLC層をλ4波長層と付着して反射型偏光板を製造した。λ4波長層では、TAC基材の一面に配向膜及び液晶層が順に形成されているλ4波長層を使用し、前記λ4波長層の液晶層をCLC層と粘着剤で付着して反射型偏光板を製造した。[比較例1]コロナ処理が実行されなかったPET基材を使用したことの以外は、実施例1と同一な方式で液晶フィルム及び反射型偏光板を製造した。前記製造された液晶フィルムに対して、MurakamicolorResearchLaboratory社のヘイズメーターを使用してヘイズを測定した結果、約2程度のヘイズを示した。[実験例1波長による透過率の測定]Axometrics社のAxoScan機器を使用して、実施例1及び比較例1で製造された液晶フィルムの広帯域反射特性を確認し、その結果を図14及び図15に各々添付した。図14は、実施例1の結果、図15は、比較例1の結果を示し、各図面において、x軸は、波長を示し、y軸は、透過率を示す。また、図14及び図15において、0で表示された線は、正面で測定した結果であり。55で表示された線は、55度の勾配角で測定した結果である。図14及び図15の結果から実施例では正面及び勾配角で安定的な広帯域特性を示すことを確認することができる。[実験例2CIEのx及びy特性の測定]製造された反射型偏光板のCLC層側で光源を照射しながら前記CLC層を透過して出た光のCIEのx及びy数値をEldim社のEZContrast装備を利用して製造社のマニュアルに応じて測定し、下記に記載した。