"流体リザーバに連結されるように適合された流体入口、及び、送達位置に連結されるように適合された流体出口を含んでなる、フローレギュレータであって、該レギュレータは、所定のリンキングエリアにおいて、しっかりと一緒に連接された、硬い基板と可撓性膜を含んでなり、該基板、及び/又は、該膜は、-該膜が静止位置にある時-該膜と該基板との間に、キャビティを画成するように、凹部を有し;該基板、及び/又は、該膜は、該キャビティに隣接するスルーホールを有し、上記流体出口と連通していて、該基板、及び/又は、該膜は、なおその上、該キャビティに隣接する2つの別のスルーホールを含んでなり、上記流体入口と連通しており;該基板、及び/又は、該膜は、少なくとも2つのピラーを、該キャビティ内に有し、該ピラーの各々の高さは、該膜が静止している時、ギャップが、ピラー自由端と反対側のキャビティウォールの間に、形成される様な、高さであり;該ピラーの各々は、なおその上、上記別のスルーホールの1つと一直線になっていて、該ギャップ内にバルブを形成し;該ピラーは、なおその上、該一直線に並んだスルーホールの幅より大きい幅を有し;上記可撓性膜は、第1の所定の閾値より高い圧力が、上記基板と反対側の膜の面上にかかる場合、該基板の、少なくとも第1の部分と、上記キャビティ内部で、そして上記バルブの第1を含む部分と接触することができ、上記ギャップ高さを、最大でゼロにまで下げ、流体が上記第1のバルブを通して流れるのを妨げる結果となり、該可撓性膜は、第2の所定の閾値より高い圧力が、該基板と反対側の膜の面上にかかる場合、該基板の、少なくとも第2の部分と、該キャビティ内部で、そして該バルブの第2を含む部分と接触することができ、流体が上記第2のバルブを通して流れるのを妨げる結果となり;ここで、ピラーと別のスルーホールの位置と寸法は、少なくとも、上記第1と第2の所定の閾値からなる入口圧力の範囲内で、流体流量が受動的に調節されるように、配置される、上記フローレギュレータ。前記キャビティ内にn個の別のピラーを含んでなる請求項1に記載のフローレギュレータであって、前記基板及び/又は前記膜は、該キャビティに隣接する、少なくともn個の別のスルーホールを含んでなり、前記流体入口と連通し、及び、n個のバルブを形成し、各i番目のバルブが、第i番目の所定の閾値より低い圧力が、該基板と反対側の膜の面上にかかる場合、流体がそれを通して流れ得るように、配置されていて、上記n番目のバルブが、少なくとも、ほぼ前記第1の及びn2番目の所定の閾値から進む入口圧力の範囲内で、流体流量が受動的に調節されるように、さらに設計、及び、配置されている、上記フローレギュレータ。所定のリンキングエリアにおいて、ピラープレートにしっかりと連接されたボトムプレートを含んでなる請求項1又は2に記載のフローレギュレータであって、該ボトムプレートは、基板の前記別のスルーホール、及び、流体入口と連通している、スルーホールを含んでなり、前記流体リザーバに連結された入口、ボトムプレート内の該スルーホール、基板内の該別のスルーホール、前記バルブ、前記キャビティ、及び、出口と連通している、前記スルーホールから作られた、入口から、出口への流体経路を画成している、上記フローレギュレータ。基板の前記別のスルーホールの、少なくとも1つと連通している、少なくとも1つの流量絞り弁を含んでなる、請求項1又は2に記載のフローレギュレータであって、ここで、該流量絞り弁が、所定の圧力範囲において、流体経路の他の部分の流体抵抗よりも、大きな流体抵抗を有する、上記フローレギュレータ。前記基板と前記ボトムプレートとの間のインターフェースが、少なくとも1つのチャネルが中に画成されるチャネルプレーン、基板の前記別のスルーホール、及び、少なくとも該チャネルと連通しているボトムプレートの前記スルーホールを含み、該チャネルが、所定の入口圧力範囲において、流体経路の他の部分の流体抵抗よりも、大きな流体抵抗を有する、請求項3に記載のフローレギュレータ。基板とボトム層との間の前記インターフェースが、シリコンオンインシュレータの層である、請求項5に記載のフローレギュレータ。少なくとも1つの、前記バルブが、閉止弁、及び/又は、チェックバルブである、請求項1~6のいずれか1項に記載のフローレギュレータ。前記膜と前記基板との間のリンキングエリアが、膜のm個の可撓性の部分と、該膜のm個の可撓性の部分と該基板との間のm個のキャビティを画成し、該m個のキャビティが、互いの間と、出口に連結された共通のスルーホールと連通していて、該m個のキャビティの各々が、少なくとも1つのピラー、入口に連結された1つのスルーホール、及び、それゆえ、少なくとも1つのバルブを含んでなり、各j番目のバルブが、j番目の所定閾値より低い圧力が、上記基板と反対側の膜の面上にかかる場合、流体がそれを通して流れるように、配置されていて、該m個のバルブが、少なくとも、ほぼ前記第1と前記m2番目の所定閾値からなる、入口圧力の範囲内で、流体流量が、受動的に調節されるように、さらに、設計、及び、配置される、請求項1~7のいずれか1項に記載のフローレギュレータ。前記膜の前記m個の可撓性部分の各々の、厚さ及び/又は直径、又は双方、及び/又はm個のピラーの各々の、高さ及び直径、又は双方、及び/又は前記m個のキャビティの高さ、及び/又はm個のスルーホールの各々の直径が可変である、請求項8に記載のフローレギュレータ。前記キャビティ内に、少なくとも1つのフルピラー、即ち、いかなるスルーホールも有していないピラー、及び/又は、少なくとも1つのステップを含んでなる、請求項1~9のいずれか1項に記載のフローレギュレータであって、ここで、該フルピラー、及び/又は、該ステップは、前記バルブの部分を形成していなくて、ここで、該フルピラー、及び/又は、該ステップは、所定の閾値より高い圧力がかかる場合、膜の撓みと応力を制限する、上記フローレギュレータ。所定のリンキングエリア内で、膜としっかりと連接された別のプレートを含んでなる、請求項1~10のいずれか1項に記載のフローレギュレータであって、ここで、該別のプレート、及び/又は、膜が、該膜と該別のプレートとの間に、別のキャビティを形成するための凹部を有し、該別のプレートは、加圧されたリザーバを、該別のキャビティに連結する、スルーホールを含んでなり、ここで、該別のプレートは、膜内の該スルーホールの前に、少なくとも1つのピラーを含み、該ピラーは、所定の圧力範囲において、膜内の該スルーホールを閉じ、それゆえ、該スルーホールにおける逆流を防止する、上記フローレギュレータ。所定のリンキングエリアにおいて、膜にしっかり連接された、別のプレートを含んでなる、請求項1~11のいずれか1項に記載のフローレギュレータであって、ここで、該別のプレート、及び/又は、膜が、該膜と該別のプレートとの間に、別のキャビティを形成するための凹部を有し、ここで、該別のプレートが、少なくとも1つのピラーを含んで、該ピラーの方向への膜の撓みを防止し、ここで、該別のプレートが、上記別のキャビティに連結したスルーホールを含み、該フローレギュレータが、前記流体リザーバと連通している第1のポート、ボトム基板の前記スルーホールと連通している第2のポート、別のプレート内の該スルーホールと連通している第3のポートを含む、少なくとも、3つのポートを有する流体スイッチを含んでなり、ここで、スイッチが、ポート1と2の間の連通を可能にし、一方、ポート3は閉じている、第1の位置上にある時、流体が、リザーバからボトム基板のスルーホールにだけ流れ、上記膜と該別のプレートとの間の上記キャビティ内のリザーバ圧力をかけること、及び、それゆえ、前記膜の撓みを防止して、前記バルブを閉じ、ここで、スイッチの全てのポートは、スイッチが第2の位置にある時、互いの間で連通していて、上記別のキャビティが、それゆえ、リザーバ圧力を受け、流体が、リザーバから、ボトム基板のスルーホールに流れることを可能にし、リザーバ圧力の変わると、膜の変位と、それゆえ、バルブの閉止を可能にする、上記フローレギュレータ。前記基板と反対側の前記膜の表面の上に、薄い、弾力性のある、高分子層を含んでなる、請求項1~12のいずれか1項に記載のフローレギュレータ。基板の反対側のボトムプレート側上の、及び/又は、該基板と反対側の前記膜の表面の上に、弾力性があり、除去可能なフィルムを含んでなり、該フィルムが、フィルム位置決めに応じて、1つ、又は、数個の前記バルブを、選択的に、開く、又は、閉じる、開口部を有する、請求項1~13のいずれか1項に記載のフローレギュレータ。前記ピラーを含む前記キャビティ内の、膜面、及び/又は、基板面が、反結合性層を含む、請求項1~14のいずれか1項に記載のフローレギュレータ。流体と接触している表面が、親水性の、及び/又は、防食性の薬剤でコーティングされている、請求項1~15のいずれか1項に記載のフローレギュレータ。前記膜上に圧力をかけるように適合されたアクチュエータを含んでなる、請求項1~16のいずれか1項に記載のフローレギュレータ。前記膜が歪ゲージを含む、請求項1~17のいずれか1項に記載のフローレギュレータ。フィルタを含んでなる、請求項1~18のいずれか1項に記載のフローレギュレータ。本発明の目的は、上述の欠点を克服する、受動的流体フローレギュレータを提案することである。本発明の別の目的は、代案として、製造が、より容易で、及び、より安価であり、それの使用条件に注意する限り、より高い柔軟性と精度を提供する、受動的流体フローレギュレータを提供することにより、上述の先行技術の欠点を相殺することである。そのために、本発明は、流体リザーバに連結されるように適合された流体入口、及び、送達位置に連結されるように適合された流体出口を含んでなる、フローレギュレータに関わり、ここで、上記レギュレータが、所定の周辺リンキングエリアで、一緒に、しっかりと連接された剛体の基板と可撓性の膜を含んでなり、上記基板、及び/又は、上記膜が、-該膜が静止位置置にある時-、該膜と該基材との間に、キャビティを画成するように、凹部を有し;上記基板、及び/又は、上記膜が、上記キャビティに隣接する、スルーホールを有し、上記流体出口と連通しており、上記基板、及び/又は、上記膜が、なおその上、上記キャビティに隣接する2つの、別のスルーホールを含んでなり、上記流体入口と連通しており;上記基板、及び/又は、上記膜が、上記キャビティ内部に、少なくとも、2つのピラーを有し、該ピラーの各々の高さは、該膜が静止位置にある時、ピラーの自由端と反対側のキャビティウォールの間に、ギャップが形成される様な、高さであり;上記ピラーの各々は、なおその上、上記別のスルーホールの1つと一直線になっており、上記ギャップ内にバルブを形成し;上記ピラーは、なおその上、上記一直線に並んだスルーホールの幅より大きい幅を有し;上記ギャップ高さを、ゼロにまで下げ、上記第1のバルブを通る流体の流れを妨げる結果となる、第1の所定の閾値より高い圧力が、上記基板と反対側の膜の面上にかかる場合、上記可撓性膜は、上記キャビティ内部で、上記基板の、少なくとも、第1の部分と、及び、上記バルブの第1を含む部分と接触することができ、上記第2バルブを通る流体の流れを妨げる結果となる、第2の所定の閾値より高い圧力が、上記基板とは反対側の膜の面上にかかる場合、上記可撓性膜は、上記キャビティ内部で、上記基板の、少なくとも、第2の部分と、及び、上記バルブの第2含む部分と接触することができ、ここで、ピラーと別のスルーホールの位置と寸法は、流体流量が、少なくとも、上記第1と第2の所定の閾値からなる入口圧力の範囲内で受動的に調節されるように、配置される。本発明の好ましい実施態様が、従属クレームに定義されている。本発明は、以下の図面によって図示された限定的ではない例を含む、以下の詳細な記述によって、より明らかに理解されるであろう。本発明の第1の実施態様に記載の、デバイスの原理ピラープレート2は、所定のリンキングエリア16内で、膜1に、しっかりと連接されている。膜1は、2つの面を有する:膜70の前面上面は、図1aに表わされていない、流体リザーバの圧力を受け、一方、膜71の裏面は、ピラープレートの正面の凹部21内に位置している。膜の凹部21は、ピラープレート2内のキャビティ5に結合されている。ピラープレート2は、スルーホール11を有するピラー4を含み、該ピラーは、穴60から大きな出口と出口ポート10に結合されている、キャビティ5に囲まれている。キャビティ5は、それゆえ、ピラーの正面を除いて、出口圧力を受ける。設計によっては、ピラーエリア4は、キャビティ5のエリアより、少なくとも、10分の1より小さくてよい。膜が静止位置にある時、即ち、流体に圧力がない時、ピラー4の正面の膜裏面71は、初期ギャップ7を有するバルブ6を形成する。膜裏面71とピラー4の上端の間の、環状流体制約から作られている、バルブ6は、入口スルーホール11、及び、出口キャビティ5を有す。図1aは、入口ポート9、ピラープレート2内のスルーホール11、バルブ6、キャビティ5、出口スルーホール60、及び、最後に出口ポート10から作られている、流体経路灰色の矢印を示す。入口ポート9は、圧力Preservoirでリザーバに結合されていて、出口スルーホール60と出口ポート10は、圧力Poutで、送達位置に結合されている。圧力リザーバは、上記流体経路に従う、流れを引き起こす。バルブ6の開口部圧力なしの初期ギャップに等しいは、リザーバ圧力によって決まるので、リザーバ圧力を増やすことによって、膜1は、ピラープレート2のピラー4の方向に動き、ピラー4のスルーホール11を徐々に塞ぎ、それゆえ、バルブ6を次第に閉じ、バルブの流体抵抗は、圧力によって決まる。同様に圧力によって決まるキャビティの流体抵抗を除いて、それの高さは、膜の偏向によって、及び、それ故リザーバ圧力によって決まるので、流体経路のすべての他の部分は、一定の流体抵抗を示す。デバイスの作動原理は、流体経路の内方向部分個々に、入口ポート9とバルブ6の間の流体抵抗は、少なくとも、キャビティ、出口スルーホール60、及び、出口ポート10を含む流体経路の下方向部分の流体抵抗の10倍大きいことを強いる。当然の結果として、リザーバ圧力によって決まる、キャビティの流体抵抗は、どんなリザーバ圧力でも、内方向流体経路の流体抵抗の、少なくとも、10分の1より小さくなければならない。第1近似において、膜の可撓性部分は、それゆえ、リザーバ圧力と出口圧力の間の差に等しい、圧力勾配を受ける。リザーバ圧力のいかなる変化も、バルブ開度の変化を引き起こし、それゆえ、それらの流体抵抗の変化を引き起こす。かかる環状バルブに関して、最新技術の議論によると、かかるバルブの流体抵抗は線形ではなく、それらの開口部高さのマイナス3乗によって変わる。1つのみのバルブの使用は、リザーバ圧力が変化する時、一定流量、又は、任意の特定流れプロファイルを実現するのには、十分ではない。所定の圧力範囲にわたって、一定流量を得るため、リザーバ圧力が増える時に、同じ速度ではなく、徐々に閉止する、少なくとも、2つのバルブを与えることが必要である。実際には、膜1の中央近くに位置しているバルブは、最初に閉止し、一方、膜の端部近くに位置しているバルブは、遮断するために、より高い圧力を必要とする。スルーホール11の直径、ピラー4の位置、膜1の直径と厚さ、及び、最後に、キャビティ21の高さは、特定の圧力範囲にわたって、一定の流量を得るために選択される。一般的傾向として、バルブの数が多ければ多いほど、流れ精度はより高い。本発明の第2の好ましい実施態様において、デバイスは、積み重ねた、2枚のプレートから作られている:⇒スルーホール208を有する可撓性の膜1を備えた上端層⇒フルピラーfullpillar4、キャビティ5、入口ポート9、及び、出口ポート10を備えたミドルプレート2⇒デバイスの簡易化された側面図が図1bに示されている縮尺は合っていない。リザーバの流体は、膜1の上面70と接触している。リザーバ内圧力は、スルーホール208、バルブ6、キャビティ5、並びに、最後に、出口スルーホール60、及び、出口ポート10を通る流れを引き起こす。作動原理は、本発明の第1の好ましい実施態様に極めて類似している:リザーバ圧力の任意の変化によって、バルブ6の開度が変更され、それゆえ、それらの流体抵抗が変更される。膜内の穴は、膜が静止位置リザーバに圧力なしの時、流体経路のどの他の部分よりも、少なくとも、10倍大きい、流体抵抗を有する。デバイスは、特定の圧力範囲にわたって、流体抵抗が一定のままであることを確保するように、設計されてもよい。バルブ6を形成するため、フルピラー4は、膜1のスルーホール208の正面で機械加工される。望ましい調節プロファイル次第で、通常、高い圧力で自由流れが必要ならば、1個、又は、数個のスルーホール208が、ピラーが無い、キャビティ5の正面に位置してもよい。ピラーは、通常、高圧で、膜へのサポートが必要である時、又は、デバイスのデッドボリュームを最適化する必要がある時、体系的に穴の正面に、体系的に、置かれるのではない、極く低流量の調節を、通常は、1日あたり数ミリリッター以下を、確かにするため、ピラー4内スルーホール11、又は、膜1内スルーホール208は、数ミクロンの直径を有する必要がある。かかる小さな穴に対する相対機械加工公差は、MEMSプロセス、又は、プラスチックインジェクションを使用する時、大きいので、デバイスの最終精度は悪い。低流量調節のための、別のレギュレータ設計が必要である。今後の設計は、本発明の第1の好ましい実施態様に基づくであろう。本発明の別の実施態様において、低流量専用のデバイスは、積み重ねた3枚のプレートから作られている:⇒可撓性の膜1を備えた上端層⇒ピラー4、スルーホール11、及び、最終的に、チャネル8を備えたミドルプレート2⇒流体ポート9、及び、10、並びに、最終的に、チャネル8を備えたボトム基板3以下、ボトム基板と呼ばれている。デバイスの簡易化された側面図が図2aに示されている縮尺は合っていない。低流量専用の、本発明のこの別の実施態様に記載のデバイスの原理ピラープレート2は、膜1、及び、ボトムプレート3に、それぞれ、所定のリンキングエリア16と17において、しっかりと連接されている。膜とピラープレートの間のキャビティ5は、キャビティ内部の圧力が、確実に、出口圧力に大変近いようにするため、他のスルーホールと比較して、大きな出口スルーホール60を有する。膜1は2つの面を有する:膜80の前面上面は、図2aに表わされていない、流体リザーバの圧力を受け、一方、膜81の裏面キャビティ5とピラー4の正面のより低い面は、ピラーの正面を除いて、出口圧力を受ける。設計によっては、ピラーエリア4は、キャビティ5のエリアより、少なくとも、10分の1より小さい必要がある。膜が静止位置にある時、即ち、流体に圧力がない時、ピラー正面の膜裏面81は初期ギャップ7を有するバルブ6を形成する。81と4との間の環状流体制約で作られているバルブ6は、入口スルーホール11と、出口キャビティ5を有する。図2aは、入口ポート9、ボトムプレート内スルーホール11、ボトムプレートとピラープレートの間のチャネル8、ピラープレート内スルーホール11、バルブ6、キャビティ5、出口スルーホール60、及び、最後に、出口ポート10から作られている、流体経路灰色矢印を示している。入口ポート9は、圧力Preservoirでリザーバに結合されていて、出口スルーホール60と出口ポート10は、圧力Poutで、送達位置に結合されている。圧力リザーバは、上記流体経路に記載の流れを引き起こす。リザーバ圧力を高めることにより、膜1は、ミドルプレート2のピラー方向に動き、ピラー4のスルーホール11を徐々に塞ぎ、それ故、バルブ6を徐々に閉じるので、バルブ6の開度は、リザーバ圧力によって決まるので、バルブの流体抵抗は、圧力によって決まる。それの高さは、膜の偏向によって、それゆえ、リザーバ圧力によって決まるので、同様に圧力によって決まる、キャビティの流体抵抗を除いて、流体経路の、他のすべての部分は、一定流体抵抗を示す。デバイスの作動原理は、流体経路の内側向き部分入口ポート9とバルブ6の間の各々の流体抵抗は、流体経路の下側向き部分キャビティ、出口スルーホール60、及び、出口ポート10を含むの流体抵抗の、少なくとも、10倍大きいことを課している。当然の結果として、リザーバ圧力によって決まる、キャビティの流体抵抗は、どんなリザーバ圧力でも、内方向流体経路の流体抵抗の、少なくとも、10分の1より小さくなければならない。第1の近似において、膜の可撓性部分は、それゆえ、リザーバ圧力と出口圧力の間の差に等しい圧力勾配を受ける。リザーバ圧力のいかなる変化も、バルブ開口部の変化を引き起こし、それゆえ、それらの流体抵抗に変化を引き起こす。かかる環状バルブに対して、最新技術の議論によると、かかるバルブの流体抵抗は線形ではなく、それらの開口部高さのマイナス3乗によって変わる。1つのバルブのみを使用することは、リザーバ圧力が変化する時、一定流量、又は、任意の特定流れプロファイルの可能性を提供するには、十分ではない。所定の圧力範囲にわたって、一定流量を得るため、リザーバ圧力が増える時に、同じ速度ではなく、徐々に閉止する、少なくとも2つのバルブを与えることが必要である。実際には、膜の中央近くに位置しているバルブは、最初に閉止し、一方、膜の端部近くに位置しているバルブは、遮断するために、より高い圧力を必要とする。リザーバ圧力が変わるにつれて、可変の流体抵抗を有する、少なくとも2つの受動的バルブの存在は、本発明の主要な特徴である。本発明の第1と第2の、好ましい実施態様は、かかる受動的バルブを得るための、2つの異なった方法を示している。デバイスの圧力調節範囲は、バルブの動き具合とそれらの圧力に対する感度で、画成される。流量範囲は、リザーバとバルブ6の間の内方向流体経路の流体抵抗によって決まる。大きな流体抵抗が、低流量を得るために必要である。チャネル8は、図2aに示されているように、本発明の第2の主要な特徴である:これらのチャネルは、バルブ本体とは切り離されているので、それらは、大きな流体抵抗に達するために必要なだけ長く、又は、狭くてよい。応力リミッタ130、及び/又は、131は、図10、及び、12に示されているように、本発明の第3の主要な特徴である:膜内の応力は、高圧で限定されるので、シリコンのような、十分に高い降伏強度を有する材料のみを使用する必要はない:金属、又は、硬質プラスチックの使用は、これらの応力リミッタによって、可能となり、デバイスのコストを大きく削減することとなる。本発明の2つの好ましい実施態様において、入口ポート9と出口ポート10内の流れの方向は、図1bに示されるように、膜平面に垂直である。図2bに示されるように、チャネル18は、ピラープレート14内に作ることができ、その場合、ボトム基板3は、スルーホール12を備えた平板から容易に作られている。図2cに示されるように、チャネル19は、ピラープレート2、及び、ボトムプレート3の双方の内に作ることができる。凹部キャビティ21は、図1aと1bに示されるように、膜1内にエッチング加工されており、一方、凹部キャビティ20は、図2aと2bに示されるように、ピラープレート2内にエッチング加工によって作られる。凹部キャビティ20、又は、21の高さが、ギャップ7を画成する。出口を除いて、デバイス全体は、加圧流体に連結できる。薄い保護膜34図4a参照、通常は、高分子フィルムを、膜の破れの後、自由流れを防ぐため、膜1の上端面上に付着させることができる。ピラープレート2、及び、ボトムプレート3は、パイレックス登録商標Pyrex、又は、シリコン、又は、セラミック、プラスチック、又は、金属などの他の材料で作ることができる。チャネル8、及び/又は、18、及び/又は、19は、通常は、シリコン基板のKOHエッチングによって得られる、V溝から作られる。チャネル8、及び/又は、18、及び/又は、19は、機械加工でき、又は、エンボス加工、若しくは、インジェクション中に得ることができる。チャネル8、及び/又は、18、及び/又は、19は、1つの通りに限定されるものではない。スルーホール208、11、12、及び、60は、乾式エッチング、サンドブラスティング、超音波ドリル法、又は、いかなる、他の適切な技術によって、得ることができる。デバイスには、通常は、ホイートストンブリッジ構成で、シリコン膜内に歪ゲージを埋め込むことによる、膜1の偏向を測定する手段が含まれる。機械加工公差に関して、特別の配慮を払う必要がある、重要な部分は、膜1の厚さと平面度、スルーホール208の直径、ギャップ7、並びに、チャネル深さ8、18、及び、19である。ピラーキャビティ4内圧力は、出口圧力に極めて近くなくてはならないので、最終のチュービング、又は、カテーテルを含む出口の流体抵抗は、理想的には、少なくとも、デバイスの他の部分よりも、一桁低くなくてはならない。チャネル8、18、及び、19の断面は、使用されるプロセスによるが、通常、三角形、長方形、又は、台形である、しかし、断面形状には、実際、なんら制約はない。少なくとも1つのチャネルがある。各ピラー4スルーホールを、同一のチャネル8,18、及び、19に連結することができる。代表的なデバイスは、各ピラー4に対して、少なくとも、1つのチャネル8,18、及び、19を有する。チャネル8,18、及び、19は、膜1が偏向していない時、デバイスの主な流体制約を示さなければならない。膜1上の圧力を増すことにより、各バルブ6の抵抗は、各バルブ6に対する所定の圧力値で、チャネル8,18、及び、19の抵抗よりも大きくなるまで増える。ピラー基板31は、通常は、図4aに示すように、シリコンオンインシュレータSOIを使用することにより、1つ、又は、複数のチャネル34を含んでもよい。酸化物32が、SOI層33内チャネルを機械加工する間、エッチング停止材として、使用される。ピラー基板に対して、SOIを使用することは、酸化物は極めて効率的なエッチング停止材であるので、チャネル深さの機械加工精度を改善するために、望ましいこととなり得る。図4aは、SOIピラープレート31に基づいた、フローレギュレータの第3の実施態様の、第1の簡易化された図を示す。プロセス収率次第にもよるが、すべての、非常に重要な部分は、図4bに示すように、ピラープレート36内に含まれる例えば、ピラープレート36内にエッチング加工された凹部20付きで、今後示されるSOI設計。膜1は、なんら機械加工されていない単純な平板であり、一方、ボトムプレート3は、入口スルーホール12を作るため、穴が開けられただけの別の単純な平板である。出口ポート10は、ボトムプレート3に接着することなどの、任意の手段によって、取り付けられたコネクタであってよい。図4cは、本発明の第3の実施態様の、第3の、簡易化された図を示し、ここで膜38とピラープレート36の双方は、ギャップ7をつくるため、機械加工される。ピラープレート37は、図4dに示す様に、非常に重要な部分を含まなくてもよい。チャネルは、ボトムプレート39のため、SOIウエハーを、再び、使用することにより、得られてもよい。別の実施態様においては、デバイスは、2つのプレート、膜1とピラープレート2からのみ作られていて、流量絞り弁46例えば、チャネルが、チュービング44、コネクタ47、又は、他の流体経路を使用して、ピラープレート2に連結された、専用チップ内に置かれている。この、別の実施態様は、デッドボリューム及び、それゆえ、プライミング時間と組立体の複雑さを増す可能性がある。主な効果は、組立前に、容易にテストすることができる、市販の、即納のリストリクタを使用することができることである。各リストリクタは、小さな内径48を有するチュービングから、簡単に作ることができる。各リストリクタは、目標とした抵抗を得るため、単に、それの長さを調整することによって、同一の内径のチュービングを使用して、作ることができる。本発明の第2の好ましい実施態様に関して、ピラープレート内スルーホール11の流体抵抗は、予期された圧力範囲内で、流れ調節を確実にするように、調整することもできる。図5は、本発明のこの別の実施態様に記載の、凹部21、スルーホール11を備えたピラープレート2、及び、入口コネクタ47を有する膜1を含んでなる、デバイスの断面を表わす。3つの異なった種類の流量絞り弁、それぞれ、チュービング44を使用している、ピラープレート2のスルーホール11と連通している流量絞り弁46、ピラープレート内に直接作られた流量絞り弁スルーホール11自体、及び、最後に、小さい内径のチュービング48から作られている流量絞り弁が、同様に、図5に示されている。プレートは、特定のリンキングエリア16と17にて、通常は、陽極ボンディングパイレックス登録商標とシリコンプレートに対して、直接ボンディングシリコンプレートに対して、Au-Au熱圧着、又は、任意の他の適切なボンディング技術によって、一緒につながれている。反結合性の層51は、リンキングエリアの外側に、膜1の裏面上に、付着させ、又は、増やされてもよい。反結合性の層52は、同様に、ピラープレート2の正面に作られてもよい。図6aは、本発明の好ましい実施態様に記載の、バルブ6を示し、ここで、反結合性の層は、膜1の裏面上にある。反結合性の層51の形状は、2つの平らな面が接触して行く時に起こる、スクイーズフィルム効果を制約するために、作られる。反結合性の層51は、好ましくは、図6aに示すように膜1、又は、図6bに示すようにピラープレート2、又は、双方の、全面にわたって、均等に分布された、寸法の小さいパッドから作られている。特定の反結合性の形状53は、バルブシート全体を覆うために、バルブ6に対して作られねばならない。フローレギュレータの、いくつかの前述の実施態様の別の特徴は:酸性、又は、アルカリ性溶液による、どんな腐食をも防止するための、液体と接触している面の、通常は、膜面80と81、又は、70と71、キャビティ5、より一般的には、流体経路全体の、特定のコーティング例えば、TiO2など。デバイスのプライミングを改善し、面汚染を少なくするため、液体と接触している、すべての面上に親水性物質のコーティング例えば、PEGなど。バルブ漏えいの防止のための粒子フィルタ。本発明の好ましい実施態様のチャネル8の代表的正面図が、図7aに示されている。この正面図は、図2aに示されたボトムプレート3の正面、又は、図2bに示されたピラープレート2の裏面に相当することができる。入口ポート55と出口ポート56は、チャネル8、又は、18を、それぞれ、ピラーとボトムプレートのスルーホール11と12に連結するために使用される。ポート55と56の寸法は、主として、ボンディングプロセスの位置合わせ公差によって決定される。しっかりとした連結を確保しなければならず、位置合わせは、チャネル8、又は、18の流体抵抗に影響を及ぼしてはならない。本発明の好ましい実施態様に記載のピラープレート正面図2の例が、図7bに示されている。ピラー4に対して、出口60の位置は、他の抵抗に対して小さくなくてはならない、ピラーと出口の間の流体経路の抵抗によって、主として決定される。この見解に従い、出口60は、理想的には、最も大きい流れ抵抗を示すチャネル8につながれている、ピラー4の近くに置かれるべきである。スルーホール付きと無しの各ピラー4間の最大距離は、高圧力での、それらピラー間での、膜1の独立部分の2次的変形効果によって決定される。この付加的変形は、デバイスの流体挙動を変更してはならない。図7bに示されている、ピラーキャビティ5は、2つの前述の見解を考慮することにより、さらに、デバイスのプライミング能力を考慮することにより、設計しなければいけない。ピラーキャビティ形状によって、理想的には、デッドボリュームを最小にし、主な流れがこのデッドボリュームの最も大きい部分を確実に進ませる。デバイスの外部形状には、なんらの制限もない。別の実施態様において、本発明は、流体リザーバに連結されるように適合された流体入口9、送達位置に連結されるように適合された流体出口10を含んでなる受動的な種類であるフローレギュレータに関わり、該レギュレータは、ピラープレート101、ボトムプレート3、及び、可撓性膜110を画成する凹部104を有する膜プレート100を含んでなり、これらの3つのプレートは、所定のリンキングエリア17と16内で、少なくとも1つのキャビティ5とチャネル8を、それらの間に画成するように、一緒にしっかりと連接され、該キャビティ5は、スルーホール60により上記流体出口10に連結されている。本発明の、この別の実施態様において、上記硬い基板101は、上記流体入口9に連結されている、上記キャビティ5と反対側に第1の面を有し、一方、上記膜100は、該キャビティ5と反対側に外面を有し、上記ピラープレート101は、なおその上、少なくともスルーホール11を有し、上記ボトムプレートは、該流体入口9から上記流体出口10へ、流体のための経路を画成するため、該スルーホール11に隣接するチャネル8とスルーホール12を有し、上記可撓性膜110は、上記キャビティ5内のピラープレート101の上記ピラー4、及び、上記スルーホール11を含み、第1の所定の閾値より大きい圧力を流体が上記外面に加える場合に、バルブ6を画成する部分と接触することが可能であり、これにより、上記スルーホール11と上記バルブ6を通る流体の流れを妨げることとなり、ここで、上記ピラープレートは、上記キャビティ5に隣接する別のキャビティ115内に、少なくとも1つの別のスルーホール114を含み、ここで、流体は、上記別のキャビティ115からキャビティ5の方向に開口部120を経て流れることができ、ここで、上記膜プレート100は、少なくとも別の可撓性膜111を含み、該別の可撓性膜は、上記別のキャビティ115内のピラー117上のピラープレート101、及び、上記別のスルーホール114を含み、流体が、第1の所定の閾値より大きいが、第2の所定の閾値より小さい圧力を、上記外部面に加える場合に、別のバルブ116を画成する部分と、接触することが可能であり、上記別の膜111、上記別のキャビティ115、及び、上記別のスルーホール114が、流体流量が、ほぼ、上記第1から、上記第2の所定の閾値に及ぶ範囲にて、上記外部面上に加えられた圧力の関数として、実質的に線形であるように、さらになお、配置されている。本発明のこの別の実施態様の、簡易化された側面図が、図8aに図示されており、レギュレータは、第1の低い圧力を受ける。第2のより高い圧力を受ける、同じレギュレータが図8bに示されている。第5の実施態様の1つの、簡易化された、ピラープレート正面図が、図9aに示されている。この別の実施態様の膜裏面エッチング加工された面が、図9bに示されている。使用されるプロセスによるが、凹部104、又は、105は、傾斜を示す凹部壁を有してよい。<100>シリコンウエハ上の、異方性ウェットエッチングを使用することにより、代表的凹部壁の角度は54.7°である。デバイス内の異なったキャビティは、図9aに示すように、開口部120と相互に連結されねばならない。理想的には、これらの相互連結の流体抵抗は、すべてのキャビティ内の圧力が、出口圧力に極めて近いことを保証するように、設計される。膜プレート100は、正方形、長方形、楕円形、及び、円形の膜などの、任意の形状の膜を含むことができる。異なった形状の膜を、同じ膜プレート内に作ることができる。本発明の2つの、好ましい実施態様において、膜1のピラープレート2に対する変形が使用される。この効果は、強い非線形であり、結果として、圧力を増やすことにより、膜1を固くすることとなる。中央にはないバルブ6を閉じるため、大きな圧力、及び/又は、幅の広い、及び/又は、薄い膜1が必要である。バルブは、低圧、及び、高圧バルブとして、即ち、低圧それぞれ、高圧で閉じるバルブとして、分類することができる。図8aに表されている、本発明の実施態様において、ピラー4は、膜110の中央の正面に置かれている。その今後の構成において、閾値は、膜の寸法と膜と基板の間の距離によって、同一の膜プレート100内のバルブ1つずつ調整される。第1の実施態様の高圧バルブは、例えば、より小さな膜面、及び/又は、より厚い膜を有するバルブによって、置き換えられる。低圧膜の寸法を減らすため、ギャップ7膜プレート100内の、各凹状キャビティ104の深さは膜厚さより小さい。好ましい実施態様において、ギャップ7を減らすことにより、ピラープレート101上の膜1の接触角が、低圧で、極めて速やかに増え、それゆえ、膜1の中央部分は、低圧の狭い範囲を調節するためにのみ使用される。このことが、ピラー4が、設計によっては、大幅に偏心していることの理由を説明している。図8aに表されている実施態様の設計は、高圧と低圧のバルブが、同じデバイスに埋め込まれているので、作動圧力のより広い範囲と、範囲全体にわたってのより高い精度を可能にする。しかし、高いリザーバ圧力で、低圧の物理的完全性integrityに留意することは、重要である:材料の降伏強度に達してはならない、そうでなければ、塑性変形が観察され、デバイスの流体挙動の変化につながる。好ましい実施態様の膜は、まず第1に、大変高い降伏強度の理由で、それだけでなく、MEMS技術によって、スルーホールとチャネルに対して、良好な機械加工公差が可能になるので、好ましくは、シリコンで作られる。プラスチックの様な、より安価な膜材料を使用することに強い関心が持たれている:コストの理由だけでなく、プロセスの簡易化と、種々の厚さを有する膜と、種々の高さを有するギャップを、簡易化された方法で作ることを可能にするという理由からである。図8aに表された、プラスチックで作ることができる実施態様は、下記から作られている:⇒穴が開けられていない膜プレート100⇒高圧での、膜100の応力を制限するため、スルーホール11、ピラー130、及び、ステップ131を有する、ピラープレート101⇒スルーホール12とチャネル8を有するチャネルプレート3本発明の好ましい実施態様に関して、バルブの数と寸法は、必要な精度と、流れを調節する圧力範囲とに合うように調整される。応力リミッタピラー130とステップ131のコンセプトが、本発明の第5の実施態様のバルブ6を示す図10に示されている。バルブ6は、ここでは、双方の応力リミッタを含むが、好ましい実施態様において、1種類のみの応力リミッタが、通常は、ステップが、デバイスのデッドボリュームがより小さいので、使用される。明確さのために、1つのバルブ6のみ、図10に示されている;デバイスは、圧力範囲によるが、数個のバルブを含むことができる。膜100の中央は、スルーホール11を備えたピラー4に、まず達し、バルブ6を閉じる。リザーバ圧力を増やすことにより、膜100は、応力リミッタステップ131、及び/又は、ピラー130、又は、双方に、接触する様に動く。膜の付加的曲げは、機械的サポートのおかげで制限される。ステップ131の代わりに、ピラー130を使用することにより、開口部135は、空気トラッピングを防ぐため含まれなければならない。SLPは、それゆえ、図11に示すように、完全な円筒対称性を有する必要はない。SLP130、又は、SLS131、又は、双方は、デバイスの機能中、膜材料が降伏強度に達することがないように位置が決められ、設計される。数個のステップ、又は、ピラーが使用されてもよい。SLP130、又は、SLS131は、通常は、スルーホール11を有するピラー4より、大きな高さを有する。チャネル18は、好ましくは、ピラープレート内に含まれる。チャネル18、ピラー4と30、ステップ131、及び、全てのプラスチックプレートの部品は、成形、又は、エンボス加工の標準的設計規定を守らねばならない適合した逃げ角など。本発明の別の実施態様において、SLP145、バルブピラー145、及び、キャビティ150は、図12に示すように、膜裏面140内に機械加工される。ピラープレート142は、ピラーをもはや有していないが、穴11本文中では、スルーホールという名前でもあるをまだ有している。接着、はんだ付け、熱融着、又は、任意の、他のボンディング技術を、所定のリンキングエリア16と17を使用して、種々のプレートを組み立てるために使用することができる。プレートは、種々の材料から作ることができる、例えば、膜1、又は、100、又は、140は、シリコンから作ることができ、一方、ピラープレート2、又は、101、又は、142、及び、ボトムプレート3は、プラスチックから作られる。任意の材料の組み合わせを考慮することができる。これらの材料と注射される流体との間の相性を考慮しなければならない。通常、プラスチック材料を使用するならば、材料の水分吸収が、デバイスの流体挙動に影響を及ぼしてはならない。本発明の別の実施態様が、図13aに表されている。この実施態様は、本発明の第2の、好ましい実施態様から、直接、得られており、ここには、別のステップ131がある。この別の実施態様は、それゆえ、少なくとも2枚のプレートを含む:⇒少なくとも、2つのスルーホール208を有する膜プレート1。⇒出口スルーホール60、ピラー4、及び、ステップ131を有するピラープレート2この別の実施態様のバルブ6の簡易化された図が、図13aに示されている。穴が開けられた膜1の上に、別のピラープレート222を置くことにより、二方向性のフローレギュレータを作ることが可能である。図13bに、2つのバルブ6と230から作られた二方向性バルブを示している。本発明の別の実施態様は、少なくとも、2つ二方向性バルブを含む。バルブの数は、デバイスの精度の割当額、圧力の範囲、デバイスの寸法に合うように、設計によって調整される。図13bに示す、二方向性フローレギュレータは対称形である。図13cは、本発明の別の実施態様のエレメントとして、非対称形のバルブ6と237の簡易化された図を図示する。バルブ237は、プレート222内のスルーホール200を経て、加圧されたリザーバに連結されているキャビティ261内に置かれたピラー229を備えた、チェックバルブである。反結合性の層233を有してもよいピラー229は、ここでは、リザーバが加圧されていない時、膜と接触している。ピラー223の高さと、反結合性の層の厚さによるが、チェックバルブ237の閾値を調整することが可能である。前述の実施態様のいずれも、好都合なことに、流量を変えるために外部からチャンネル8の選択を可能にするスイッチを含むことができる。スイッチは、例えば、入口312のための開口部311と穴を備えた高分子層310から作ることができる。ボトムプレート300に対して、フィルム310を回転し、押すことにより、いくつかのチャネル8は開となるが、一方、他のものが閉となる。図14aは、3連の一列に並んだスルーホール、それぞれ、302,303、及び、304を備えたボトムプレートの対応する裏面を示す。3連のスルーホールの各々は、個別のレギュレータとして見ることができる。例えば、3連のスルーホール、302,303、及び、304は、それぞれ、時間あたり1,2、及び、4mlの公称流量を有する、3つのレギュレータに対応する。ボトムプレート300の出口301は、対称性の証拠のために、好ましくは、フィルム310の中央に位置するであろう。チャネルは、ここでは、ピラープレート2とボトムプレート3との間の接合部分に位置する。ボトムプレートを有していない実施態様に対して、図14aは、ピラープレート2の裏面に対応する。図14bは、半径方向開口部311スリットと、それの中央にある開口部312穴を備えた、フィルム310を示す。フィルム310を、機械的クランプ、ねじ、クリップ、又は、他の標準的組立手段を用いて、ボトムプレート300上に組み立てることができる。膜とピラープレートからのみ作られている実施態様のために、フィルムは、ピラープレート上に、直接貼り付けられる。膜とピラープレートのみから作られている本発明の第4の実施態様のために、フィルムは、ピラープレート上に、直接貼り付けられる。穴が開けられた膜とピラープレートのみから作られている本発明の第7の実施態様のために、フィルムは、膜プレート上に直接、貼り付けられる。図14cは、すべてのスルーホール302,303、及び、304を開にするため、ボトムプレート300と合わせられている、フィルム310を示す。今後の構成において、全流量は、3連のスルーホールの公称流量の和である。前記の例によると、流量は、それゆえ、時間あたり7mlである。フィルムを回転することにより、3つの公称流量の組み合わせにより、全流量を時間あたり1~7mlに設定することができる。フィルムの周りの、矢印320は、必要な流量に導く、フィルムの位置を表示している。高圧で閉じるようには意図されていないピラー、又は、膜内の、少なくとも、1つの穴を含んでなる前述の実施態様のいずれかを考慮すると、出口は、まず、流体抵抗を減らすだけでなく、上記穴を遮断することになるどんな残存バブルの存在をも防ぐため、上記穴の極めて近くに位置しなければならない。デバイスの異なった実施態様は、かなり低い流量通常は、時間あたり数mlを調整する意図であるので、デバイスのプライミング能力は、重要な問題である。設計によっては、空気トラッピングエリアが最小になり、その場合、流量が極めて小さい。デッドボリューム通常は、キャビティ5は、図7bに示すように、同様に最適化され、ここで、キャビティ5は、流体経路の穴周りのエリアに限定される。デバイスは、好都合には、ライミング時間を減らすため、図15a、及び、15bに表すように、保護キャップと流体スイッチを含むことができる。低流量の調節のための、好ましい実施態様の1つである図2aに表されている実施態様は、これらの新しい特徴を示すため使用されてきた。硬い材料で、例えば、PyrexTM、又は、シリコンで作られた保護キャップ440は、リンキングエリア16と同一のレイアウトを有する、所定のリンキングエリア430において、膜1の面80にしっかりと連接されている。保護キャップ440は、ピラー443上を除く膜1の可撓性部分の上にキャビティ441を有し、ここで、反結合性の層442は、ピラーと膜1との間のいかなる結合をも防ぐために作られている。ピラーは、膜と接触をしていて、それゆえ、膜のピラー基板の方向への移動のみが可能である。保護キャップは、ピラー443は互いの間で接触していないので、キャビティ441に連結されている少なくとも1つの流体ポート444を有する。図15aと15bには、2つのピラーだけが示されているが、ピラーの数、又は、形状、又は、配置には制限がない。流体ポート444は、流体ライン412、流体スイッチ420、及び、リザーバとスイッチの間の流体ライン411から作られている流体経路を経て、デバイスのリザーバに連結されている。デバイスの入口ポート9は、流体ライン413、流体スイッチ420、及び、リザーバとスイッチの間の流体ライン411から作られている別の流体経路を経て、デバイスのリザーバに連結されている。図15aにおいて、スイッチは、プライミングポジションに対応する、位置1に置かれている:リザーバは、満たされ、圧力はPreserviorまで上昇する。流体は、リザーバから、ライン413を経て、デバイスに流れることができ、一方、ライン412と保護キャップのキャビティ441は、加圧されない。膜は、ピラー方向に偏向せず、すべてのバルブ6は、高圧でも開であり、デバイス内に大きな流量を引き起こし、それゆえ、より早く、プライミングを引き起こす。ピラー443は、スイッチが位置1にある時、リザーバ内に大き過ぎる圧力がかかる時の膜の破れを防ぐ。プライミングが終了した時流体が出口10を流れる時、スイッチは、図15bに示すように、注入位置に対応する位置2に切り替えられる。リザーバ圧力は、入口ポート9とキャビティ441の双方にはなく、デバイスは、この時、それの意図する使用に従っての、流れ調節をすることはできない。プライミング時間を減らすために、注射器ここには示されていないを、高いプライミング圧力を発生するため、使用することができる:注射器は、位置1にある、スイッチの上に、直接、差し込むことができ、使用者は、次に、注射器プランジャを押しつけることにより、デバイスをプライミングすることができる。注射器は、次に、除去され、リザーバによって、置き換えられねばならない。スイッチは、他の位置を、例えば、ライン412、及び、143をベントする圧力放出位置、又は、リザーバを入口ポート9と保護キャップ440図15aと15bに表されていないの双方から隔離する位置を含んでよい。前述の実施態様のいずれも、好都合なことに、少なくとも能動的バルブを含むことができる。能動的バルブは、恒久的に膜に、又は、作動中だけ膜に連接されたアクチュエータから作ることができる。バルブは、その端に、導電性の、又は、磁性の層を含んでもよい。様々な種類のアクチュエータが使用可能である:⇒圧電型⇒静電気型⇒形状記憶合金⇒形状記憶ポリマ⇒電磁気型など。能動的バルブは、流れデューティサイクルモードdutycyclemodeを調節するため、又は、単に、所定の条件の下、バルブを閉じる、又は、開く安全弁として使用することができる。その端に、能動的バルブを、好都合なことに、圧力、又は、流量センサーに連結してもよい。調節プロファイルの限定的ではない例が、好ましい実施態様に対して、以下に示されている:⇒所定の圧力範囲で、一定流量⇒低圧で開の閾値、圧力の中間範囲で一定流量、及び、高圧で遮断⇒低圧で開の閾値、圧力の中間範囲で一定流量、及び、高圧で自由流れを有する、水頭症に似たプロファイル、本発明の好ましい実施態様は、可撓性膜の弾性変形に基づいている。FEMシミュレーションが、種々に機能する圧力での、膜形状を推定するために必要である。ピラー穴開けされたもの、又は、穴開けなしのものは、偏向した膜を支える。ピラーの正しい分配によって、圧力を受けた膜が、確実に軸対称に変形する。本発明の好ましい実施態様のためのモデル図2aに描かれたデバイスを検討する。基本的に、デバイスには、2つの主要な流体制約がある:1.チャネル2.バルブすべての、他の流体経路は、設計によって、流体抵抗に関して、ごく僅かでなければならない。ピラーキャビティは、それゆえ、スルーホールと出口直径と同様に、この要求に合うように、設計される。記号:流体の動的粘度η流体体積質量ρヤング率E膜厚さtm穴半径Rh穴深さLhピラー半径Rpピラーiと膜との間の距離バルブ開口部高さ:hi圧力勾配ΔP=Pin-Pout流体経路iを通る流量:Qiチャネル幅wcチャネル高さhcチャネル長さLc流体抵抗Rfチャネルの流体抵抗Rfcバルブの流体抵抗Rfv出口の流体抵抗Rfout流れを、チャネルとバルブに関して直列の流体抵抗としてモデル化することができ、チャネルとバルブの組の各々は互いの間で平行に置かれている同一入口、及び、同一出口。流れは層流であると仮定する。本明細書では、長方形のチャネルが検討される。チャネルiの流体抵抗Rfiは:wc>>hcに対して:バルブiの流体抵抗Rfvi:流量Qは次の式となる:もしも、レイノルズ数が、所定の圧力で、1より大きくなるなら、特異な水頭損失headlossが検討されるべきである。特異点の水頭損失は、流量の2乗に比例し、それゆえ、高圧でもそれらを検討しなければならない。流れの可逆性はもはや正当ではないことに留意することは重要である。流体経路を、両方向において、検討しなければならない。差圧ΔP=Pin-Poutは、以下のように、Qiの関数として表わされる:ΔP=αiQi2βiQiiが1つの流体経路を示す場合、は、流体経路Iの流体抵抗の和であり、αiは各特異点の面の関数である。ΔPの各値に対して、関数αiQiを数値的に推定する:全流量は、それゆえ:式を簡易化するため、チャネル8が穴の形状を有すると見なす。一般的な場合、出口スルーホール60、及び、キャビティ5を含む、流体抵抗へのすべての寄与を検討する。圧力の正の勾配に対して、流体は、それゆえ、チャネル8ここでは、穴、バルブ6、流体チャネルに組み込まれているキャビティ5、及び、最終的には、出口スルーホール60同様に、穴の形状を有するを経て、流れる。パラメータαiとβiは次の式となる:負の圧力勾配に対して、即ち、流体が、出口スルーホール60、バルブ6までのキャビティ5チャネル、及び、最終的には、チャネル8穴を経て流れる時、パラメータαとβは次の式となる:出口での流体抵抗Rfoutを、同様に検討する。その場合、所定の圧力勾配ΔPに対して、流量Qを、既に示したように推定する。Rfoutによる、別の圧力降下ΔPoutdは、この時:ΔPout=RfoutQ流量Qを得るのに必要な、効果的圧力勾配は、それゆえ:ΔPeff=ΔPΔPout関数hiは、圧力の下、膜の偏向に対するFEMモデルを使用して、推定される。図9a複数膜の設計に表されている、実施態様の詳細な記述がここに提供される。ギャップは、膜の巾の0.4倍より大きくないと仮定する。その構成において、接触までの偏向は、圧力と共に、線形である。デバイスの圧力特性に対しての流量推定のため、分析モデルが使用される。圧力の下の膜偏向の式を簡易化するため、発明者は、円形の膜と円形の穴から作られている、ピラープレートと膜プレートを有する、デバイスを設計する。流れは、穴と、ピラーと膜の間の開口部部とを含む、一連の流体抵抗を、単純に使用して、モデル化することができる。圧力Pでの、膜中心iとピラーiとの間の距離hiバルブiの開口部高さは:ここでP<Pcontactiの場合、ここでPcontactiは、ピラーiに対する膜iの接触圧力、hは、初期ギャップ高さ=凹部高さ、Dはプレート定数、rmiは膜iの半径、tmは膜厚さ、及び、νは膜材料のポアソン比である。P>Pcontactiの場合に対しては、hi=04枚の膜のシリコンレギュレータのための、4ml/日での流れ調節フローレギュレータは、疼痛管理のために、使用することができる。より小さな流量が予期され、通常は、時間当たり1ml以下が予期される。摂取過剰を避けるため、デバイスは、高圧では閉止弁でなければならない。4枚の膜と4つのチャネルを有するシリコンデバイスが、以下のシミュレーションのために使用された。機構130と131が付いていない、かかるバルブが、図10に示されている。図2a、又は、2b、又は、2cに表されている実施態様に従って、上記膜の下に、やはり、数個のチャネルと数個のピラーを備えた単一の膜を使用している、デバイスを、同様に得ることができる。すべての場合、膜の枚数、又は、同一の膜の下のピラーの数は、目標とする流量、及び、精度次第で変えられてもよい。デバイスパラメータ:⇒シリコン膜⇒ヤング率170GPa⇒ポアソン係数0.262⇒厚さ50ミクロン⇒ギャップ20ミクロンチャネルパラメータ:⇒深さ2.5ミクロン⇒巾100ミクロン動的粘度は、37°Cで、0.0007Pasである。チャネル長さは、200と400mbarの間で、1日あたり、4mlの流量に合うように、調整された。表1は、デバイスの主要寸法をまとめている。図16は、流量と圧力との間の、シミュレーションした関係を示す。平らなチャネルに関する、流量精度に対しての主な誤差は、主として、深さの誤差による。シリコンオンインシュレータを使用して、チャネル深さに関して、1σで±0.05ミクロン2.5ミクロンの深さに対して、±2の誤差を達成することができ、流量精度に対して、1σで±6につながる。チャネルの横方向エッチングによる誤差は、およそ±0.331σで100±0.33ミクロンであり、無視することができる。マイクロチャネルは、ここでは、流量精度に関して、1σで、±6の誤差を示す。例えば、以下の仕様が、鎮痛薬送達のための、埋め込み可能なポンプ内に組み込まれる、本発明に従った、フローレギュレータに適用される:a1ml/日の一定流量b粘度に関しては、水に相当する液体c温度=37°Cd圧力範囲=200から400mbar同一のデバイスを、図1b、又は、13aに表されているように、ピラーの正面に穴を有する膜を使用して、作ることができる。2枚の同じ膜と20ミクロンのギャップを用いて、1日あたり4mlの流量に合うために、穴は、それぞれ、6.81um、3.3um、4.3um、及び、4.6umの直径を示す必要がある。穴の極めて小さい寸法は、穴の機械加工公差は、デバイスの流量精度を強く制限するので、この設計は、低流量には十分には適応していないことを示している。この例は、低流量の調節のために、小さな穴の代わりに、流れの制約を発生させるチャネル8、又は、18、又は、19を含む、本発明の実施態様の重要性interestを示す。以前は露出していたフローレギュレータを、以下を含む埋め込み可能なポンプ内に組み込むことができる:チタンハウジング薬物リザーバ薬物のための充填ポートカテーテルポートボーラス注入のためのカテーテルアクセスポートポンプ駆動温度センサーフローレギュレータフィルタ例えば、0.22ミクロンの細孔径を有する細菌フィルタコントロールバルブバルブ、温度センサー、及び、圧力センサーに電力を供給するバッテリ圧力センサーと温度センサーに電力を供給する、ワイアレスシステム以下を指示するアラームシステム低バッテリ薬物リザーバが空圧力過剰、又は、圧力不足調節される圧力の範囲外膜破れ過熱本発明によるフローレギュレータは、特に、次の効果を提供する:⇒圧力変化登山、ダイビングなどによる、摂取過剰、及び、摂取不足のリスク低減⇒ガスプロペラが使用されていないならば、爆発のリスクなし⇒充填/再充填の処置中のリスク低減⇒ポンプ作動中、身体への衝撃の間、摂取過剰のリスクなし水頭症のためのフローレギュレータ水頭症に専用のデバイスが、同様に、シリコン170GPaのヤング率と0.262のポアソン比とPMMA3GPaのヤング率と0.35のポアソン比にて設計された。調節プロファイルが、15~40mbarの間で、流量20ml/hを調節するように設定された。高流量によって、穴が開けられたピラーに連結されたチャネルの代わりに、可撓性膜内の穴の使用が可能となる。デバイスは、それゆえ、シリコン、又は、PMMAの、2枚のプレートから作られる:⇒それらの中央に1つの穴を有する、2枚の膜を有する膜プレート;1枚の膜は、膜の端近くに付加的穴を、同様に、有する。⇒出口、及び、ピラーは、ボトムプレート内に作られる。流体圧力は、膜の最上部の面に直接かかる。ピラーと膜は、ここで、双方の設計に対して同一の寸法を有する。プラスチックデバイスに対して、これらの寸法は、同一のレギュレータ内部で可変であってよい。灰色の矢印が、流れ方向を指示する。本発明の第7の実施態様に記載の後のデバイスのバルブが、図13aに示されている。シリコン、及び、PMMAデバイスの重要な寸法が、表2と3に示されている。第3の穴は、膜の端部に位置し、一方、2つの他の膜の穴は、中央に位置する。PMMAデバイスの面は、シリコンの単一膜から作られた同様のデバイスの6分の1より小さい。流れ特性をシミュレーションし、シリコンとPMMAのデバイスに対して、グラフが、図17と18に示されている。機械的、化学的、及び、生体適合性の要求にもよるが、SAN、COC、PCなどの、他のプラスチック材料を使用することができる。本発明は、いうまでもなく、上述の例、及び、関連する図面に制限されるものではない。例えば、バルブ、スルーホール、ピラー、及び、チャネルの数、及び、配分には、なんら限定はない。ピラー、応力リミッタ機構、スルーホール、膜、及び、反結合性の層、又は、チャネルのためのパッドの形状は、前述の例に制限されるものではない。"