"導電性基体と前記導電性基体上に設けられた感光層と、を有し、最表面層が、反応性官能基として-OH基を持つ第1反応性電荷輸送材料及び反応性官能基として-OCH3基を持つ第2反応性電荷輸送材料から各々選択される少なくとも2種の反応性電荷輸送材料と、フッ素樹脂粒子と、下記構造式A及び構造式Bで表される繰り返し単位を持つフッ化アルキル基含有共重合体と、を含む組成物の硬化膜で構成され、比誘電率εrが下記式1を満たす層である電子写真感光体。式1:3.5≦εr≦4.0構造式A及び構造式B中、R1、R2、R3及びR4は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表す。Xは、アルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、-S-、-O-、-NH-又は単結合を表す。Yはアルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、-CzH2z-1OH-又は単結合を表す。Qは-O-又は-NH-を表す。l、m及びnは、それぞれ独立に1以上の整数を表す。p、q、r及びsは、それぞれ独立に0または1以上の整数を表す。tは、1以上7以下の整数を表す。zは1以上の整数を表す。前記第1反応性電荷輸送材料と前記第2反応性電荷輸送材料との比率前記第1反応性電荷輸送材料/前記第2反応性電荷輸送材料は、質量比で2以上20以下である請求項1に記載の電子写真感光体。前記最表面層が、ビス4-ジエチルアミノ2-メチルフェニル-4-ジエチルアミノフェニル-メタン、ビス4-ジエチルアミノ2-メチルフェニル-フェニルメタンから選択される少なくとも1種の化合物を更に含んで構成される請求項1又は2に記載の電子写真感光体。請求項1~3のいずれか1項に記載の電子写真感光体を備え、画像形成装置に脱着されるプロセスカートリッジ。請求項1~3のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤を収納し、当該現像剤によって、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナー像に現像する現像手段と、前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、を備える画像形成装置。本発明の課題は、残留電位の上昇を抑制すると共に、繰り返し画像を形成したときに生じる画像部と非画像部との表面電位差の増加を抑制する電子写真感光体を提供することである。上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、請求項1に係る発明は、導電性基体と前記導電性基体上に設けられた感光層と、を有し、最表面層が、反応性官能基として-OH基を持つ第1反応性電荷輸送材料及び反応性官能基として-OCH3基を持つ第2反応性電荷輸送材料から各々選択される少なくとも2種の反応性電荷輸送材料と、フッ素樹脂粒子と、下記構造式A及び構造式Bで表される繰り返し単位を持つフッ化アルキル基含有共重合体と、を含む組成物の硬化膜で構成され、比誘電率εrが下記式1を満たす層である電子写真感光体。式1:3.5≦εr≦4.0構造式A及び構造式B中、R1、R2、R3及びR4は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表す。Xは、アルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、-S-、-O-、-NH-又は単結合を表す。Yはアルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、-CzH2z-1OH-又は単結合を表す。Qは-O-又は-NH-を表す。l、m及びnは、それぞれ独立に1以上の整数を表す。p、q、r及びsは、それぞれ独立に0または1以上の整数を表す。tは、1以上7以下の整数を表す。zは1以上の整数を表す。請求項2に係る発明は、前記第1反応性電荷輸送材料と前記第2反応性電荷輸送材料との比率前記第1反応性電荷輸送材料/前記第2反応性電荷輸送材料は、質量比で2以上20以下である請求項1に記載の電子写真感光体。請求項3に係る発明は、前記最表面層が、ビス4-ジエチルアミノ2-メチルフェニル-4-ジエチルアミノフェニル-メタン、ビス4-ジエチルアミノ2-メチルフェニル-フェニルメタンから選択される少なくとも1種の化合物を更に含んで構成される請求項1又は2に記載の電子写真感光体。請求項4に係る発明は、請求項1~3のいずれか1項に記載の電子写真感光体を備え、画像形成装置に脱着されるプロセスカートリッジ。請求項5に係る発明は、請求項1~3のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤を収納し、当該現像剤によって、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナー像に現像する現像手段と、前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、を備える画像形成装置。請求項1に係る発明によれば、最表面層が、反応性官能基として-OH基を持つ第1反応性電荷輸送材料及び反応性官能基として-OCH3基を持つ第2反応性電荷輸送材料から各々選択される少なくとも2種の反応性電荷輸送材料と、フッ素樹脂粒子と、下記構造式A及び構造式Bで表される繰り返し単位を持つフッ化アルキル基含有共重合体と、を含まない組成物の硬化膜で構成され、比誘電率εrが下記式1を満たさない層である場合に比べて、残留電位の上昇を抑制すると共に、繰り返し画像を形成したときに生じる画像部と非画像部との表面電位差の増加を抑制する電子写真感光体を提供できる。請求項2に係る発明によれば、第1反応性電荷輸送材料と前記第2反応性電荷輸送材料との比率が上記範囲外の場合に比べ、残留電位の上昇を抑制すると共に、繰り返し画像を形成したときに生じる画像部と非画像部との表面電位差の増加を抑制する電子写真感光体を提供できる。請求項3に係る発明によれば、上記特定の化合物を最表面層に含まない場合に比べ、残留電位の上昇を抑制すると共に、繰り返し画像を形成したときに生じる画像部と非画像部との表面電位差の増加を抑制する電子写真感光体を提供できる。請求項4、5に係る発明によれば、反応性官能基として-OH基を持つ第1反応性電荷輸送材料及び反応性官能基として-OCH3基を持つ第2反応性電荷輸送材料から各々選択される少なくとも2種の反応性電荷輸送材料と、フッ素樹脂粒子と、下記構造式A及び構造式Bで表される繰り返し単位を持つフッ化アルキル基含有共重合体と、を含まない組成物の硬化膜で構成され、比誘電率εrが下記式1を満たさない最表面層を有する電子写真感光体を備える場合に比べ、残留電位の上昇、及び繰り返し画像を形成したときに生じる画像部と非画像部との表面電位差の増加に起因する画像欠陥が抑制された画像が得られるプロセスカートリッジ、画像形成装置を提供できる。以下、本発明の一例である実施形態について説明する。[電子写真感光体]本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体と、導電性基体上に設けられた感光層と、を有する。そして、本実施形態に係る電子写真感光体の最表面層は、反応性官能基として-OH基を持つ第1反応性電荷輸送材料及び反応性官能基として-OCH3基を持つ第2反応性電荷輸送材料から各々選択される少なくとも2種の反応性電荷輸送材料と、フッ素樹脂粒子と、下記構造式A及び構造式Bで表される繰り返し単位を持つフッ化アルキル基含有共重合体と、を含む組成物の硬化膜で構成され、比誘電率εrが下記式1を満たす。式1:3.5≦εr≦4.0ここで、従来、電子写真感光体の最表面層に、フッ素樹脂粒子を含ませることが知られている。また、フッ素樹脂粒子を含有させることに伴い、その分散性を向上させる目的で使用される分散剤としてのフッ化アルキル基含有共重合体が最表面層中に含まれることなる。しかしながら、最表面層中に、フッ化アルキル基含有共重合体が含まれると、電子写真感光体を帯電するとき、フッ化アルキル基含有共重合体が容易に分極すると考えられることから、最表面層中の内部電場を低下させ、残留電位が上昇してしまう傾向がある。この残留電位の低減は、最表面層の比誘電率εrを下げる例えば、比誘電率εrを4.0以下に下げることにより実現される。これは、比誘電率が低いため、再表面層中の分極成分が少なくなり、最表面層中の内部電場の低下が抑制されると考えられるためである。一方で、最表面層の比誘電率εrを下げすぎると、繰り返し画像を形成したときに、画像部と非画像部との表面電位差が増加し、この表面電位差による濃度ムラが生じる残像現象以下、焼き付きゴーストということがあるが生じてしまう。これは、焼付きゴーストは露光部と非露光部のトラップキャリア量の差により生じるが、同じトラップキャリア量の差であっても非誘電率が小さい場合、露光部、非露光部の表面電位差としては増大してしまうと考えられるためである。そこで、本実施形態に係る電子写真感光体では、反応性電荷輸送材料と、フッ素樹脂粒子と、下記構造式A及び構造式Bで表される繰り返し単位を持つフッ化アルキル基含有共重合体と、を含む組成物の硬化膜で構成された最表面層の系において、最表面層の比誘電率εrを上記式1:3.5≦εr≦4.0を満たすように高めに調整する。そして、最表面層の比誘電率εrを上記範囲に高めに調整するために、反応性電荷輸送材料として、反応性官能基として-OH基を持つ第1反応性電荷輸送材料と、応性官能基として-OCH3基を持つ第2反応性電荷輸送材料と、の少なくとも2種を併用する。これにより、本実施形態に係る電子写真感光体では、残留電位の上昇が抑制される共に、繰り返し画像を形成したときに生じる画像部と非画像部との表面電位差の増加が抑制される。そして、本実施形態に係る電子写真感光体を備える画像形成装置プロセスカートリッジは、残留電位の上昇に起因する画像欠陥例えば黒点、カブリ、及び、繰り返し画像を形成したときに生じる画像部と非画像部との表面電位差の増加に起因する画像欠陥例えば焼き付きゴーストが抑制された画像が得られる。以下、図面を参照しつつ、本実施形態に係る電子写真感光体を詳細に説明する。図1から図3は、それぞれ本実施形態に係る電子写真感光体10の一部の断面を概略的に示している。図1に示す電子写真感光体10は、導電性支持体4上に下引層1が設けられ、下引層の上に感光層として電荷発生層2及び電荷輸送層3が設けられ、さらに最表面層となる表面保護層5が設けられている。図2に示す電子写真感光体10は、図1に示す電子写真感光体10と同様に電荷発生層2と電荷輸送層3とに機能が分離された感光層を備えているが、下引層1の上に電荷輸送層3、電荷発生層2、表面保護層5が順次設けられている。図3に示す電子写真感光体10は、電荷発生材料と電荷輸送材料とを同一の層、すなわち単層型感光層6電荷発生/電荷輸送層に含有し、感光層6の上には表面保護層5が設けられている。なお、図1~図3に示す電子写真感光体10は、感光層上に表面保護層5を設け、当該表面保護層5を最表面層とした形態を示しているが、表面保護層5を設けない場合、感光層の最上層が最表面層となる。具体的には、図1に示す電子写真感光体10の層構成であって、表面保護層5を設けない層構成の場合、電荷輸送層3が最表面層に相当する。また、図3に示す電子写真感光体10の層構成であって、表面保護層5を設けない層構成の場合、単層型感光層6が最表面層に相当する。以下、代表例として図に示す電子写真感光体10に基づいて、各要素について説明する。なお、符号は省略して説明する。導電性基体導電性基体としては、従来から使用されているものであれば、如何なるものを使用してもよい。例えば、薄膜例えばアルミニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼等の金属類、及びアルミニウム、チタニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼、金、バナジウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化錫インジウムITO等の膜を設けたプラスチックフィルム等、導電性付与剤を塗布又は含浸させた紙、導電性付与剤を塗布又は含浸させたプラスチックフィルム等が挙げられる。基体の形状は円筒状に限られず、シート状、プレート状としてもよい。導電性基体として金属パイプを用いる場合、表面は素管のままであってもよいし、予め鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、ウエットホーニングなどの処理が行われていてもよい。下引層下引層は、導電性基体表面における光反射の防止、導電性基体から感光層への不要なキャリアの流入の防止などの目的で、必要に応じて設けられる。下引層は、例えば、結着樹脂と、必要に応じてその他添加物とを含んで構成される。下引層に含まれる結着樹脂としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン-アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂などの公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂などが挙げられる。これらの中でも、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が望ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などが望ましく用いられる。下引層には、シリコン化合物、有機ジルコニウム化合物、有機チタン化合物、有機アルミニウム化合物等の金属化合物等を含有してもよい。金属化合物と結着樹脂との比率は、特に制限されず、所望する電子写真感光体特性を得られる範囲で任意に設定される。下引層には、表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子を添加してもよい。樹脂粒子としては、シリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチルPMMA樹脂粒子等が挙げられる。なお、表面粗さ調整のために下引層を形成後、その表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、ウエットホーニング、研削処理等が用いられる。ここで、下引層の構成として、結着樹脂と導電性粒子とを少なくとも含有する構成が挙げられる。なお、導電性粒子は、例えば体積抵抗率が107Ωcm未満の導電性を有するものがよい。導電性粒子としては、例えば、金属粒子アルミニウム、銅、ニッケル、銀などの粒子、導電性金属酸化物粒子酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛などの粒子、導電性物質粒子カーボンファイバ、カーボンブラック、グラファイト粉末の粒子等が挙げられる。これらの中でも、導電性金属酸化物粒子が好適である。導電性粒子は、2種以上混合して用いてもよい。また、導電性粒子は、疎水化処理剤例えばカップリング剤等により表面処理を施して、抵抗調整して用いてもよい。導電性粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、10質量以上80質量以下であることが望ましく、より望ましくは40質量以上80質量以下である。下引層の形成の際には、上記成分を溶媒に加えた下引層形成用塗布液が使用される。また、下引層形成用塗布液中に粒子を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。ここで、高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液-液衝突や液-壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。下引層の膜厚は、15μm以上が望ましく、20μm以上50μm以下がより望ましい。ここで、図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。中間層に用いられる結着樹脂としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン-アルキッド樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂などの高分子樹脂化合物のほかに、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、シリコン原子などを含有する有機金属化合物などが挙げられる。これらの化合物は、単独にあるいは複数の化合物の混合物あるいは重縮合物として用いてもよい。中でも、ジルコニウムもしくはシリコンを含有する有機金属化合物は残留電位が低く環境による電位変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変化が少ないなど点から好適である。中間層の形成の際には、上記成分を溶媒に加えた中間層形成用塗布液が使用される。中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。なお、中間層は上層の塗布性改善の他に、電気的なブロッキング層の役割も果たすが、膜厚が大きすぎる場合には電気的な障壁が強くなりすぎて減感や繰り返しによる電位の上昇を引き起こすことがある。したがって、中間層を形成する場合には、0.1μm以上3μm以下の膜厚範囲に設定することがよい。また、この場合の中間層を下引層として使用してもよい。電荷発生層電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂中とを含んで構成される。かかる電荷発生材料としては、無金属フタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン、チタニルフタロシアニン等のフタロシアニン顔料が挙げられ、特に、CuKα特性X線に対するブラッグ角2θ±0.2 ゚の少なくとも7.4 ゚、16.6 ゚、25.5 ゚及び28.3 ゚に強い回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶、CuKα特性X線に対するブラッグ角2θ±0.2 ゚の少なくとも7.7 ゚、9.3 ゚、16.9 ゚、17.5 ゚、22.4 ゚及び28.8 ゚に強い回折ピークを有する無金属フタロシアニン結晶、CuKα特性X線に対するブラッグ角2θ±0.2 ゚の少なくとも7.5 ゚、9.9 ゚、12.5 ゚、16.3 ゚、18.6 ゚、25.1 ゚及び28.3 ゚に強い回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶、CuKα特性X線に対するブラッグ角2θ±0.2 ゚の少なくとも9.6 ゚、24.1 ゚及び27.2 ゚に強い回折ピークを有するチタニルフタロシアニン結晶が挙げられる。その他、電荷発生材料としては、キノン顔料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイミダゾール顔料、アントロン顔料、キナクリドン顔料等が挙げられる。また、これらの電荷発生材料は、単独又は2種以上を混合して用いてもよい。電荷発生層を構成する結着樹脂としては、例えば、ビスフェノールAタイプあるいはビスフェノールZタイプ等のポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル-スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル-ブタジエン共重合体、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン-ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン-アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ-N-ビニルカルバゾール樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は、単独又は2種以上混合して用いてもよい。なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、例えば10:1乃至1:10の範囲が望ましい。電荷発生層の形成の際には、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液が使用される。電荷発生層形成用塗布液中に粒子例えば電化発生材料を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液-液衝突や液-壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。電荷発生層形成用塗布液を下引層上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。電荷発生層の膜厚は、望ましくは0.01μm以上5μm以下、より望ましくは0.05μm以上2.0μm以下の範囲に設定される。電荷輸送層電荷輸送層は、電荷輸送材料と、必要に応じて結着樹脂と、を含んで構成される。そして、電荷輸送層が最表面層に該当する場合、上記如く、電荷輸送層は、上記比表面積を持つフッ素樹脂粒子を含む。電荷輸送材料としては、例えば、2,5-ビスp-ジエチルアミノフェニル-1,3,4-オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、1,3,5-トリフェニル-ピラゾリン、1-[ピリジル-2]-3-p-ジエチルアミノスチリル-5-p-ジエチルアミノスチリルピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、N,N′-ビス3,4-ジメチルフェニルビフェニル-4-アミン、トリp-メチルフェニルアミニル-4-アミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第3級アミノ化合物、N,N′-ビス3-メチルフェニル-N,N′-ジフェニルベンジジン等の芳香族第3級ジアミノ化合物、3-4′-ジメチルアミノフェニル-5,6-ジ-4′-メトキシフェニル-1,2,4-トリアジン等の1,2,4-トリアジン誘導体、4-ジエチルアミノベンズアルデヒド-1,1-ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体、2-フェニル-4-スチリル-キナゾリン等のキナゾリン誘導体、6-ヒドロキシ-2,3-ジp-メトキシフェニルベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、p-2,2-ジフェニルビニル-N,N-ジフェニルアニリン等のα-スチルベン誘導体、エナミン誘導体、N-エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ-N-ビニルカルバゾール及びその誘導体などの正孔輸送物質、クロラニル、ブロアントラキノン等のキノン系化合物、テトラアノキノジメタン系化合物、2,4,7-トリニトロフルオレノン、2,4,5,7-テトラニトロ-9-フルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物等の電子輸送物質、及び上記した化合物からなる基を主鎖又は側鎖に有する重合体などが挙げられる。これらの電荷輸送材料は、1種又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。電荷輸送層を構成する結着樹脂としては、例えば、ビスフェノールAタイプあるいはビスフェノールZタイプ等のポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル-スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル-ブタジエン共重合体樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン-ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン-アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、塩素ゴム等の絶縁性樹脂、及びポリビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン等の有機光導電性ポリマー等があげられる。これらの結着樹脂は、単独又は2種以上混合して用いてもよい。なお、電荷輸送材料と上記結着樹脂との配合比は、例えば10:1乃至1:5が望ましい。電荷輸送層は、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液を用いて形成される。電荷輸送層形成用塗布液中に粒子例えばフッ素樹脂粒子を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液-液衝突や液-壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。電荷輸送層層形成用塗布液を電荷発生層上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いられる。電荷輸送層の膜厚は、望ましくは5μm以上50μm以下、より望ましくは10μm以上40μm以下の範囲に設定される。表面保護層まず、表面保護層の特性について説明する。表面保護層は、比誘電率εrが下記式1望ましくは下記式1-2、より望ましくは下記式1-3を満たす。式1:3.5≦εr≦4.0式1-2:3.6≦εr≦4.0式1-3:3.6≦εr≦3.9表面保護層の比誘電率εrを3.5以上とすることにより、焼き付けゴーストが抑制される。一方、表面保護層の比誘電率εrを4.0以下とすることにより、残留電圧の上昇が抑制される。表面保護層の比誘電率εrは、反応性官能基として-OH基を持つ第1反応性電荷輸送材料及び反応性官能基として-OCH3基を持つ第2反応性電荷輸送材料から各々選択される少なくとも2種の反応性電荷輸送材料を併用することに加え、例えば、1当該少なくとも2種の反応性電荷輸送材料の配合比を調整すること、2特定の酸化防止剤を配合量を調整すること、3硬化触媒の配合量を調整すること等により調整される。表面保護層の比誘電率εrは、次のようにして求められる。電子写真感光体の測定対象となる層から板状試料を採取する。そして、板状試料を金電極とアルミプレートとで挟み、サンドイッチセルを作製する。このサンドイッチセルに対して、SOLARTRON社製Impedanceanalyzerにて交流印加抵抗、静電容量測定を行って、比誘電率WP算出する。測定条件は以下の通りである。測定周波数帯:1000000Hz~0.001Hzバイアス電圧:0V印加ピーク交流電場:0.2V/μm測定環境:30°C、85RH表面保護層は、トラップキャリア電荷量Q[C/mm2]が下記式2望ましくは下記式2-2、より望ましくは下記式2-3を満たすことがよい。式2:Q≦5.0×10-8式2-2:Q≦4.0×10-8式2-3:Q≦3.0×10-8表面保護層のトラップキャリア電荷量Qを上記範囲とすることにより、残留電位の上昇が抑制され易くなる。これは、上記トラップキャリアが表面保護層中に残留することにより前記電子写真感光体における残留電位を発現していると考えられるためである。表面保護層のトラップキャリア電荷量Qは、例えば、表面保護層中の、1メラミン化合物やグアナミン化合物の量を調整すること、2フッ化アルキル基含有共重合体の量を調整すること、3酸化防止剤の量を調整すること、等により調整される。表面保護層のトラップキャリア電荷量Qは、次のようにして求められる。電子写真感光体の測定対象となる層から板状試料を採取する。そして、板状試料を金電極とアルミプレートとで挟み、サンドイッチセルを作製する。このサンドイッチセルに対して、リガク社製TS-FETTにて、脱トラップ電流値の測定を実施した。そこからトラップキャリア電荷量Qの算出を行った。測定条件は、測定条件は以下の通りである。温度掃引範囲:-150~100度照射光波長:380nm照射光強度:370μW/cm2コレクト電圧:1V昇温速度:10°C/分表面保護層は、体積抵抗率ρ[Ωm]が下記式3望ましくは下記式3-2、より望ましくは下記式3-3を満たすことがよい。式3:1.0×1011≦ρ≦2.0×1012式3-2:1.3×1011≦ρ≦2.0×1012式3-3:1.3×1011≦ρ≦1.9×1012表面保護層の体積抵抗率ρを上記範囲とすることにより、残留電位の上昇が抑制されると共に、焼き付きゴーストが抑制され易くなる。これは、体積抵抗率が低く表面保護層中にキャリアが残留しにくくなったと考えられるためである。表面保護層の体積抵抗率ρは、例えば、表面保護層中の硬化触媒の量を調整すること等により調整される。表面保護層の体積抵抗率ρは、次のようにして求められる。電子写真感光体の測定対象となる層から板状試料を採取する。そして、板状試料を金電極とアルミプレートとで挟み、サンドイッチセルを作製する。このサンドイッチセルに対して、SOLARTORON社製Impedanceanalyzerにて交流印加抵抗、静電容量測定を行って、体積抵抗率を算出する。測定条件は以下の通りである。測定周波数帯:1000000Hz~0.001Hzバイアス電圧:0V印加ピーク交流電場:0.2V/μm測定環境:30°C、85RH表面保護層は、イオン化ポテンシャルIPOCL[eV]が下記式4望ましくは下記式4-2、より望ましくは下記式4-3を満たすことがよい。但し、下記式4中、IPCTLは、電荷輸送層又は単層型感光層のイオン化ポテンシャル[eV]を示す。式4:IPOCL-IPCTL≦1.0式4-2:IPOCL-IPCTL≦0.5式4-3:IPOCL-IPCTL≦0.2表面保護層のイオン化ポテンシャルIPOCLと電荷輸送層又は単層型感光層のイオン化ポテンシャルIPCTLとを上記関係とすることにより、残留電位の上昇が抑制され易くなる。これは、キャリアの電荷輸送層から表面保護層への注入効率が向上したと考えられるためである。表面保護層及び電荷輸送層又は単層型感光層のイオン化ポテンシャルは、例えば、1電荷輸送材料の種類を選択すること、2電荷輸送材料の配合量を調整すること、等により調整される。表面保護層及び電荷輸送層又は単層型感光層のイオン化ポテンシャルは、次のようにして求められる。電子写真感光体の測定対象となる層から板状試料を採取する。そして、板状試料を金電極とアルミプレートとで挟み、サンドイッチセルを作製する。このサンドイッチセルに対して、RIKEN社製AC-2にてイオン化ポテンシャルの測定を行う。次に、表面保護層の構成について説明する。表面保護層は、反応性電荷輸送材料と、フッ素樹脂粒子と、フッ化アルキル基含有共重合体と、を含む組成物の硬化膜で構成されている。つまり、表面保護層は、反応性電荷輸送材料の重合体又は架橋体と、フッ素樹脂粒子と、フッ化アルキル基含有共重合体と、を含む電荷輸送性硬化膜で構成されている。また、表面保護層は、機械的強度を向上させ、電子写真感光体の長寿命化させる観点から、さらにグアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも1種を含む組成物の硬化膜で構成されていてもよい。つまり、表面保護層は、反応性電荷輸送材料とグアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも1種との重合体架橋体と、フッ素樹脂粒子と、フッ化アルキル基含有共重合体と、を含む電荷輸送性硬化膜で構成されていてもよい。表面保護層は、さらに、比誘電率を上記式1を満たす範囲に調整し、残留電位の上昇を抑制する共に、繰り返し画像を形成したときに生じる画像部と非画像部との表面電位差の増加を抑制する観点から、さらに特定の酸化防止剤を含む組成物の硬化膜で構成されていてもよい。つまり、表面保護層は、反応性電荷輸送材料の重合体又は架橋体と、フッ素樹脂粒子と、フッ化アルキル基含有共重合体と、特定の酸化防止剤を含む電荷輸送硬化膜で構成されていてもよい。反応性電荷輸送材料について説明する。反応性電荷輸送材料は、反応性官能基として-OH基を持つ第1反応性電荷輸送材料及び反応性官能基として-OCH3基を持つ第2反応性電荷輸送材料から各々選択される少なくとも2種が採用される。なお、これら2種の第1及び第2反応性電荷輸送材料以外の他の反応性電荷輸送材料を併用してもよい。反応性電荷輸送材料は、反応性官能基を持つ反応性電荷輸送材料であるが、反応性官能基として-OH基を持つものが第1反応性電荷輸送材料であり、反応性官能基として-OCH3基を持つものが第2反応性電荷輸送材料であり、反応性官能基として-OH基及び-OCH3基以外の他の反応性官能基例えば-NH2、-SH、-COOH等を持つものが他の反応性電荷輸送材料である。以下、これら反応性電荷輸送材料を単に反応性電荷輸送材料と称してまとめて説明する。反応性電荷輸送材料は、反応性置換基を少なくとも2つさらには3つ持つ電荷輸送材料であることがよい。この如く、電荷輸送材料に反応性官能基が増えることで、架橋密度が上がり、より強度の高い硬化膜架橋膜が得られ、特にブレード部材等の異物除去部材を用いた際の電子写真感光体の回転トルクが低減され、異物除去部材の摩耗の抑制や、電子写真感光体の磨耗が抑制される。この理由の詳細は不明であるが、反応性官能基の数が増すことで、架橋密度の高い硬化膜が得られることから、電子写真感光体の極表面の分子運動が抑制されてブレード部材の表面分子との相互作用が弱まるためと推測される。反応性電荷輸送材料としては、異物除去部材の摩耗の抑制や、電子写真感光体の磨耗を抑制する観点から、下記一般式Iで示される化合物であることが望ましい。F-n1R14n2-Yn3一般式I中、Fは電荷輸送能を有する化合物から誘導される有機基電荷輸送骨格、R13及びR14はそれぞれ独立に炭素数1以上5以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキレン基を示し、n1は0又は1を示し、n2は0又は1を示し、n3は1以上4以下の整数を示す。Xは酸素、NH、又は硫黄原子を示し、Yは反応性官能基を示す。一般式I中、Fを示す電荷輸送能を有する化合物から誘導される有機基における電荷輸送能を有する化合物としては、アリールアミン誘導体が好適に挙げられる。アリールアミン誘導体としては、トリフェニルアミン誘導体、テトラフェニルベンジジン誘導体が好適に挙げられる。そして、一般式Iで示される化合物は、下記一般式IIで示される化合物であることが望ましい。一般式IIで示される化合物は、特に、電荷移動度、酸化などに対する安定性等に優れる。一般式II中、Ar1からAr4は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ar5は置換若しくは未置換のアリール基又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Dは-n1R14n2-Yを示し、cはそれぞれ独立に0又は1を示し、kは0又は1を示し、Dの総数は1以上4以下である。また、R13及びR14はそれぞれ独立に炭素数1以上5以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキレン基を示し、n1は0又は1を示し、n2は0又は1を示し、Xは酸素、NH、又は硫黄原子を示し、Yは反応性官能基を示す。ここで、置換アリール基及び置換アリーレン基における置換基としては、D以外のものとして、炭素数1乃至4のアルキル基、炭素数1乃至4のアルコキシ基、炭素数6乃至10の置換若しくは未置換のアリール基等が挙げられる。一般式II中、Dを示す-n1R14n2-Yは、一般式Iと同様であり、R13及びR14はそれぞれ独立に炭素数1以上5以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキレン基である。また、n1として望ましくは、1である。また、n2として望ましくは、1である。また、Xとして望ましくは、酸素である。なお、一般式IIにおけるDの総数は、一般式Iにおけるn3に相当し、望ましくは、2以上4以下であり、さらに望ましくは3以上4以下である。また、一般式Iや一般式IIにおいて、Dの総数を一分子中に2以上4以下、望ましくは3以上4以下とすると、架橋密度が上がり、より強度の高い架橋膜が得られ、特に異物除去用のブレード部材を用いた際の電子写真感光体の回転トルクが低減され、ブレード部材の摩耗の抑制や、電子写真感光体の磨耗が抑制される。この詳細は不明であるが、前述したように、反応性官能基の数が増すことで、架橋密度の高い硬化膜が得られ、電子写真感光体の極表面の分子運動が抑制されてブレード部材の表面分子との相互作用が弱まるためと推測される。一般式II中、Ar1からAr4としては、下記式1から7のうちのいずれかであることが望ましい。なお、下記式1から7は、各Ar1からAr4に連結され得る-DCと共に示す。式1から7中、R15は水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルキル基もしくは炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基からなる群より選ばれる1種を表し、R16からR18はそれぞれ水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表し、Arは置換又は未置換のアリーレン基を表し、D及びcは一般式IIにおけるD、cと同様であり、sはそれぞれ0又は1を表し、tは1以上3以下の整数を表す。ここで、式7中のArとしては、下記式8又は9で表されるものが望ましい。式8から9中、R19及びR20はそれぞれ水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表し、tは1以上3以下の整数を表す。また、式7中のZ’としては、下記式10から17のうちのいずれかで表されるものが望ましい。式10から17中、R21及びR22はそれぞれ水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基もしくは炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表し、Wは2価の基を表し、q及びrはそれぞれ1以上10以下の整数を表し、tはそれぞれ1以上3以下の整数を表す。上記式16から17中のWとしては、下記18から26で表される2価の基のうちのいずれかであることが望ましい。但し、式25中、uは0以上3以下の整数を表す。また、一般式II中、Ar5は、kが0のときはAr1からAr4の説明で例示された上記1から7のアリール基であり、kが1のときはかかる上記1から7のアリール基から水素原子を除いたアリーレン基である。一般式Iで示される化合物の具体例としては、以下に示す化合物が挙げられる。なお、上記一般式Iで示される化合物は、これらにより何ら限定されるものではない。反応性電荷輸送材料の含有量は、例えば、塗布液における固形分濃度は、フッ素樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体を除く層全構成成分固形分に対して、80質量以上であり、望ましくは90質量以上、より望ましくは95質量以上である。この固形分濃度が90質量未満であると電気特性が悪化するおそれがある。なお、この反応性電荷輸送材料の含有量の上限は、他の添加剤が有効に機能する限り限定されるものではなく、多いほうが望ましい。ここで、反応性電荷輸送材料のうち、反応性官能基として-OH基を持つ第1反応性電荷輸送材料と、反応性官能基として-OCH3基を持つ第2反応性電荷輸送材料と、の比率第1反応性電荷輸送材料/第2反応性電荷輸送材料は、質量比で2以上20以下であることがよく、望ましくは2以上15以下、より望ましくは3以上10以下である第1反応性電荷輸送材料と第2反応性電荷輸送材料とを上記比率で併用することにより、比誘電率が上記式1を満たす範囲に調整され、残留電位の上昇を抑制する共に、繰り返し画像を形成したときに生じる画像部と非画像部との表面電位差の増加を抑制し易くなる。なお、他の反応性電荷輸送材料を第1反応性電荷輸送材料及び第2反応性電荷輸送材料と共に併用する場合、他の反応性電荷輸送材料は、全反応性電荷輸送材料に対して、10質量以内で併用することがよい。次に、グアナミン化合物について説明する。グアナミン化合物は、グアナミン骨格構造を有する化合物であり、例えば、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、ホルモグアナミン、ステログアナミン、スピログアナミン、シクロヘキシルグアナミンなどが挙げられる。グアナミン化合物としては、特に下記一般式Aで示される化合物及びその多量体の少なくとも1種であることが望ましい。ここで、多量体は、一般式Aで示される化合物を構造単位として重合されたオリゴマーであり、その重合度は例えば2以上200以下望ましくは2以上100以下である。なお、一般式Aで示される化合物は、1種単独で用いもよいが、2種以上を併用してもよい。特に、一般式Aで示される化合物は、2種以上混合して用いたり、それを構造単位とする多量体オリゴマーとして用いたりすると、溶剤に対する溶解性が向上する。一般式A中、R1は、炭素数1以上10以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキル基、炭素数6以上10以下の置換若しくは未置換のフェニル基、又は炭素数4以上10以下の置換若しくは未置換の脂環式炭化水素基を示す。R2からR5は、それぞれ独立に水素、-CH2-OH、又は-CH2-O-R6を示す。R6は、炭素数1以上10以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキル基を示す。一般式Aにおいて、R1を示すアルキル基は、炭素数が1以上10以下であるが、望ましくは炭素数が1以下8以上であり、より望ましくは炭素数が1以上5以下である。また、当該アルキル基は、直鎖状であってもよし、分鎖状であってもよい。一般式A中、R1を示すフェニル基は、炭素数が6以上10以下であるが、より望ましくは6以上8以下である。当該フェニル基に置換される置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。一般式A中、R1を示す脂環式炭化水素基は、炭素数4以上10以下であるが、より望ましくは5以上8以下である。当該脂環式炭化水素基に置換される置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。一般式A中、R2からR5を示す-CH2-O-R6において、R6を示すアルキル基は、炭素数が1以上10以下であるが、望ましくは炭素数が1以下8以上であり、より望ましくは炭素数が1以上6以下である。また、当該アルキル基は、直鎖状であってもよし、分鎖状であってもよい。望ましくは、メチル基、エチル基、ブチル基などが挙げられる。一般式Aで示される化合物としては、特に望ましくは、R1が炭素数6以上10以下の置換若しくは未置換のフェニル基を示し、R2からR5がそれぞれ独立に-CH2-O-R6を示す化合物である。また、R6は、メチル基又はn-ブチル基から選ばれることが望ましい。一般式Aで示される化合物は、例えば、グアナミンとホルムアルデヒドとを用いて公知の方法例えば、日本化学会編、実験化学講座第4版、28巻、430ページで合成される。以下、一般式Aで示される化合物の具体例として例示化合物:A-1から例示化合物:A-42を示すが、本実施形態はこれらに限られるわけではない。また、以下の具体例は単量体であるが、これら単量体を構造単位とする多量体オリゴマーであってもよい。尚、以下の例示化合物において、Meはメチル基を、Buはブチル基を、Phはフェニル基をそれぞれ示す。また、一般式Aで示される化合物の市販品としては、例えば、スーパーベッカミンRL-148-55、スーパーベッカミンR13-535、スーパーベッカミンRL-145-60、スーパーベッカミンRTD-126以上DIC社製、ニカラックBL-60、ニカラックBX-4000以上日本カーバイド社製、などが挙げられる。また、一般式Aで示される化合物多量体を含むは、合成後又は市販品の購入後、残留触媒の影響を取り除くために、トルエン、キシレン、酢酸エチル、などの適当な溶剤に溶解し、蒸留水、イオン交換水などで洗浄してもよいし、イオン交換樹脂で処理して除去してもよい。次に、メラミン化合物について説明する。メラミン化合物としては、メラミン骨格構造であり、特に下記一般式Bで示される化合物及びその多量体の少なくとも1種であることが望ましい。ここで、多量体は、一般式Aと同様に、一般式Bで示される化合物を構造単位として重合されたオリゴマーであり、その重合度は例えば2以上200以下望ましくは2以上100以下である。なお、一般式Bで示される化合物又はその多量体は、1種単独で用いてもよいし2種以上を併用してもよい。また、前記一般式Aで示される化合物又はその多量体と併用してもよい。特に、一般式Bで示される化合物は、2種以上混合して用いたり、それを構造単位とする多量体オリゴマーとして用いたりすると、溶剤に対する溶解性が向上する。一般式B中、R6からR11はそれぞれ独立に、水素原子、-CH2-OH、-CH2-O-R12、-O-R12を示し、R12は炭素数1以上5以下の分岐してもよいアルキル基を示す。当該アルキル基としてはメチル基、エチル基、ブチル基などが挙げられる。一般式Bで示される化合物は、例えば、メラミンとホルムアルデヒドとを用いて公知の方法で合成される例えば、実験化学講座第4版、28巻、430ページのメラミン樹脂と同様に合成される。以下、一般式Bで示される化合物の具体例として例示化合物:B-1から例示化合物:B-8を示すが、本実施形態はこれらに限られるわけではない。また、以下の具体例は、単量体のものを示すが、これらを構造単位とする多量体オリゴマーであってもよい。一般式Bで示される化合物の市販品としては、例えば、スーパーメラミNo.90日油社製、スーパーベッカミンRTD-139-60DIC社製、ユーバン2020三井化学社製、スミテックスレジンM-3住友化学工業社製、ニカラックMW-30日本カーバイド社製、などが挙げられる。また、一般式Bで示される化合物多量体を含むは、合成後又は市販品の購入後、残留触媒の影響を取り除くために、トルエン、キシレン、酢酸エチル、などの適当な溶剤に溶解し、蒸留水、イオン交換水などで洗浄してもよいし、イオン交換樹脂で処理して除去してもよい。ここで、グアナミン化合物一般式Aで示される化合物及びメラミン化合物一般式Bで示される化合物から選択される少なくとも1種の含有量塗布液における固形分濃度は、例えば、フッ素樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体を除く層全構成成分固形分に対して、0.1質量以上5質量以下であることがよく、望ましくは1質量以上3質量以下であることがよい。この固形分濃度が、0.1質量未満であると、緻密な膜となりにくいため十分な強度が得られ難く、5質量を超えると電気特性や耐ゴースト画像履歴による濃度ムラ性が悪化することがある。次に、フッ素樹脂粒子について説明する。フッ素樹脂粒子としては、特に限定されるものではないが、例えばポリテトラフルオロエチレン、ペルフルオロアルコキシフッ素樹脂、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリジクロロジフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン-パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン-ヘキサフルオロプロピレン共重合体、テトラフルオロエチレン-エチレン共重合体、またはテトラフルオロエチレン-ヘキサフルオロプロピレン-パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体等の粒子が挙げられる。フッ素樹脂粒子は、1種を単独でまたは2種以上を併用してもよい。フッ素樹脂粒子を構成するフッ素樹脂の重量平均分子量は、例えば、3000以上500万以下がよい。フッ素樹脂粒子の平均一次粒径は、例えば、0.01μm以上10μm以下であることがよく、望ましくは0.05μm以上2.0μm以下である。なお、フッ素樹脂粒子の平均一次粒径はは、レーザー回折式粒度分布測定装置LA-700堀場製作所製を用いて、フッ素樹脂粒子が分散された分散液と同じ溶剤に希釈した測定液を屈折率1.35で測定した値をいう。フッ素樹脂粒子の市販品としては、例えば、ルブロンシリーズダイキン工業株式会社製、テフロン登録商標シリーズディポン製、ダイニオンシリーズ住友3M製等が挙げられる。フッ素樹脂粒の含有量は、例えば、層全構成成分固形分に対して、1質量以上30質量以下がよく、望ましくは2質量以上20質量以下である。次に、フッ化アルキル基含有共重合体について説明する。フッ化アルキル基含有共重合体は、下記構造式A及び構造式Bで表される繰り返し単位を持つフッ化アルキル基含有共重合体である。構造式A及び構造式B中、R1、R2、R3及びR4は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表す。Xは、アルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、-S-、-O-、-NH-又は単結合を表す。Yはアルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、-CzH2z-1OH-又は単結合を表す。Qは-O-又は-NH-を表す。l、m及びnは、それぞれ独立に1以上の整数を表す。p、q、r及びsは、それぞれ独立に0または1以上の整数を表す。tは、1以上7以下の整数を表す。zは1以上の整数を表す。ここで、R1、R2、R3及びR4を表す基としては、水素原子、メチル基、エチル基が望ましく、これらの中でもメチル基がさらに望ましい。X及びYを表すアルキレン鎖未置換アルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖としては、炭素数1以上10以下のアルキレン鎖が望ましい。Yを表す-CzH2z-1OH-中のzは、zは1以上10以下の整数を表すことがよい。p、q、r及びsは、それぞれ独立に0または1以上10以下の整数を表すことがよい。フッ化アルキル基含有共重合体において、構造式Aと構造式Bとの含有比即ちl:mは、1:9乃至9:1が望ましく、3:7乃至7:3がさらに望ましい。構造式A及び構造式Bにおいて、R1、R2、R3及びR4で表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。R1、R2、R3及びR4としては、水素原子、メチル基が望ましく、これらの中でもメチル基がさらに望ましい。フッ化アルキル基含有共重合体は、構造式Cで表される繰り返し単位をさらに含んでもよい。構造式Cの含有量は、構造式A及び構造式Bの含有量の合計即ちlmとの比で、lm:zとして10:0乃至7:3が望ましく、9:1乃至7:3がさらに望ましい。構造式C中、R5及びR6は水素原子またはアルキル基を表す。zは1以上の整数を表す。R5、R6を表す基としては、水素原子、メチル基、エチル基が望ましく、これらの中でもメチル基がさらに望ましい。フッ化アルキル基含有共重合体の市販品としては、例えば、GF300、GF400東亞合成社製、サーフロンシリーズAGCセイミケキカル社製、フタージェントシリーズネオス社製、PFシリーズ北村化学社製、メガファックシリーズDIC製、FCシリーズ3M製等が挙げられる。なお、フッ化アルキル基含有共重合体は、1種を単独でまたは2種以上を併用してもよい。フッ化アルキル基含有共重合体の重量平均分子量は、例えば、2000以上250000以下がよく、望ましくは3000以上150000以下である。フッ化アルキル基含有共重合体の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィーGPCにより測定される。フッ化アルキル基含有共重合体の含有量は、例えば、フッ素樹脂粒子の質量に対して0.5質量以上10質量以下がよく、望ましくは1質量以上7質量以下である。次に、酸化防止剤について説明する。酸化防止剤は、例えば、帯電装置で発生するオゾン等の酸化性ガスによる劣化を抑制する目的で用いられる添加剤である。酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、芳香属アミン系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤、有機イオウ系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤も挙げられる。ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、例えば、2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノール、2,5-ジ-t-ブチルヒドロキノン、N,N’-ヘキサメチレンビス3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシヒドロシンナマイド、3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシ-ベンジルフォスフォネート-ジエチルエステル、2,4-ビス[オクチルチオメチル]-o-クレゾール、2,6-ジ-t-ブチル-4-エチルフェノール、2,2’-メチレンビス4-メチル-6-t-ブチルフェノール、2,2’-メチレンビス4-エチル-6-t-ブチルフェノール、4,4’-ブチリデンビス3-メチル-6-t-ブチルフェノール、2,5-ジ-t-アミルヒドロキノン、2-t-ブチル-6-3-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-メチルフェニルアクリレート、4,4’-ブチリデンビス3-メチル-6-t-ブチルフェノール等が挙げられる。ヒンダードフェノール系酸化防止剤の市販品としては、例えばイルガノックス1076、イルガノックス1010、イルガノックス1098、イルガノックス245、イルガノックス1330、イルガノックス3114、イルガノックス1076以上チバジャパン社製、3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシビフェニル等が挙げられる。芳香属アミン系酸化防止剤としては、例えば、ビス4-ジエチルアミノ2-メチルフェニル-4-ジエチルアミノフェニル-メタン、ビス4-ジエチルアミノ2-メチルフェニル-フェニルメタン等が挙げられる。ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、例えばサノールLS2626、サノールLS765、サノールLS770、サノールLS744以上三共ライフテック社製、チヌビン144、チヌビン622LD以上チバジャパン社製、マークLA57、マークLA67、マークLA62、マークLA68、マークLA63以上アデカ社製が挙げられる有機イオウ系酸化防止剤としては、例えば、スミライザ-TPS、スミライザーTP-D以上住友化学社製が挙げられる、ホスファイト系酸化防止剤としては、例えばマーク2112、マークPEP-8、マークPEP-24G、マークPEP-36、マーク329K、マークHP-10以上アデカ社製等が挙げられる。これら酸化防止剤のうち、特に、ビス4-ジエチルアミノ2-メチルフェニル-4-ジエチルアミノフェニル-メタン、ビス4-ジエチルアミノ2-メチルフェニル-フェニルメタンから選択される少なくとも1種の化合物がよい。この特定の化合物を含有することにより、比誘電率を上記式1を満たす範囲に調整し、残留電位の上昇を抑制させ共に、繰り返し画像を形成したときに生じる画像部と非画像部との表面電位差の増加を抑制し易くなる。酸化防止剤の添加量としては、フッ素樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体を除く層全構成成分固形分に対して、20質量以下が望ましく、10質量以下がより望ましい。以下、表面保護層についてさらに詳細に説明する。表面保護層には、反応性電荷輸送材料例えば一般式Iで示される化合物と共に、フェノール樹脂、尿素樹脂、アルキッド樹脂などを併用しても。また、強度を向上させるために、スピロアセタール系グアナミン樹脂例えばCTU-グアナミン、味の素ファインテクノ株製など、一分子中の官能基のより多い化合物を当該架橋物中の材料に共重合させることも効果的である。表面保護層には、放電生成ガスを吸着しすぎないように添加することで放電生成ガスによる酸化を効果的に抑制する目的から、フェノール樹脂などの他の熱硬化性樹脂を混合して用いてもよい。表面保護層には。界面活性剤を添加することがよい。界面活性剤としては、フッ素原子、アルキレンオキサイド構造、シリコーン構造のうち少なくとも1種類以上の構造を含む界面活性剤であれば特に制限はないが、上記構造を複数有するものが電荷輸送有機化合物との親和性相溶性が高く表面保護層用塗布液の成膜性が向上し、表面保護層のシワムラが抑制されるため、好適に挙げられる。表面保護層には、さらに、膜の成膜性、可とう性、潤滑性、接着性を調整するなどの目的から、カップリング剤、フッ素化合物と混合して用いても良い。この化合物として、各種シランカップリング剤、及び市販のシリコーン系ハードコート剤が用いられる。表面保護層の放電ガス耐性、機械強度、耐傷性、粒子分散性、粘度制御、トルク低減、磨耗量制御、ポットライフ層形成用塗布液の保存性の延長などの目的でアルコールに溶解する樹脂を加えてもよい。ここで、アルコールに可溶な樹脂とは、炭素数5以下のアルコールに1質量以上溶解する樹脂を意味する。アルコール系溶剤に可溶な樹脂としては、例えば、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂が挙げられる。表面保護層には、残留電位を下げる目的、又は強度を向上させる目的で、各種粒子を添加してもよい。粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン粒子等が挙げられる。表面保護層には、同様な目的でシリコーンオイル等のオイルを添加してもよい。表面保護層には、金属、金属酸化物及びカーボンブラック等を添加してもよい。表面保護層は、反応性電荷輸送材料と必要に応じてグアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも1種とを、酸触媒を用いて重合架橋させた硬化膜架橋膜であることが望ましい。酸触媒としては、酢酸、クロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸、マレイン酸、マロン酸、乳酸などの脂肪族カルボン酸、安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸などの芳香族カルボン酸、メタンスルホン酸、ドデシルスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、などの脂肪族、及び芳香族スルホン酸類などが用いられるが、含硫黄系材料を用いることが望ましい。ここで、触媒の配合量は、フッ素樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体を除く層全構成成分固形分に対して、0.1質量以上50質量以下の範囲であることが望ましく、特に10質量以上30質量以下が望ましい。この配合量が上記範囲未満であると、触媒活性が低すぎることがあり、上記範囲を超えると耐光性が悪くなることがある。なお、耐光性とは、感光層が室内光などの外界からの光にさらされたときに、照射された部分が濃度低下を起こす現象のことを言う。原因は、明らかではないが、特開平5-099737号公報にあるように、光メモリー効果と同様の現象が起こっているためであると推定される。以上の構成の表面保護層は、上記成分を混合した表面保護層形成用塗布液を用いて形成される。表面保護層形成用塗布液の調製は、無溶媒で行うか、必要に応じて溶剤を用いて行ってもよい。かかる溶剤は1種を単独で又は2種以上を混合して使用されるが、望ましくは沸点が100°C以下のものである。溶剤としては、特に、少なくとも1種以上の水酸基を持つ溶剤例えば、アルコール類等を用いることがよい。また、上記成分を反応させて塗布液を得るときには、単純に混合、溶解させるだけでもよいが、室温例えば25°C以上100°C以下、望ましくは、30°C以上80°C以下で10分以上100時間以下、望ましくは1時間以上50時間以下加温しても良い。また、この際に超音波を照射することも望ましい。これにより、恐らく部分的な反応が進行し、塗膜欠陥が少なく、厚さのバラツキが少ない膜が得られやすくなる。そして、表面保護層形成用塗布液を、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の公知の方法により塗布し、必要に応じて例えば温度100°C以上170°C以下で加熱して硬化させることで、表面保護層が得られる。以上、機能分離型の電子写真感光体を例に説明したが、例えば図3に示す単層型感光層電荷発生/電荷輸送層を形成する場合は、電荷発生材料の含有量は10質量以上85質量以下程度が望ましく、より望ましくは20質量以上50質量以下である。また、電荷輸送材料の含有量は5質量以上50質量以下とすることが望ましい。単層型感光層の形成方法は、電荷発生層や電荷輸送層の形成方法と同様である。単層型感光層の厚さは5μm以上50μm以下程度が望ましく、10μm以上40μm以下とするのがさらに望ましい。[画像形成装置プロセスカートリッジ]図4は、本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。本実施形態に係る画像形成装置101は、図4に示すように、例えば、矢印Aで示すように、時計回り方向に回転する電子写真感光体10と、電子写真感光体10の上方に、電子写真感光体10に相対して設けられ、電子写真感光体10の表面を帯電させる帯電装置20帯電手段の一例と、帯電装置20により帯電した電子写真感光体10の表面に露光して、静電潜像を形成する露光装置30静電潜像形成手段の一例と、露光装置30により形成された静電潜像に現像剤に含まれるトナーを付着させて電子写真感光体10の表面にトナー像を形成する現像装置40現像手段の一例と、記録紙P被転写媒体をトナーの帯電極性とは異なる極性に帯電させて記録紙Pに電子写真感光体10上のトナー像を転写させる転写装置50と、電子写真感光体10の表面をクリーニングするクリーニング装置70トナー除去手段の一例とを備える。そして、トナー像が形成された記録紙Pを搬送しつつ、トナー像を定着させる定着装置60が設けられている。以下、本実施形態に係る画像形成装置101における主な構成部材の詳細について説明する。-帯電装置-帯電装置20としては、例えば、導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が挙げられる。また、帯電装置20としては、例えば、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も挙げられる。帯電装置20としては、接触型帯電器がよい。-露光装置-露光装置30としては、例えば、電子写真感光体10表面に、半導体レーザ光、LED光、液晶シャッタ光等の光を、像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体10の分光感度領域にあるものがよい。半導体レーザーの波長としては、例えば、780nm前後に発振波長を有する近赤外がよい。しかし、この波長に限定されず、600nm台の発振波長レーザーや青色レーザーとして400nm以上450nm以下に発振波長を有するレーザーも利用してもよい。また、露光装置30としては、例えばカラー画像形成のためにはマルチビーム出力するタイプの面発光型のレーザー光源も有効である。-現像装置-現像装置40は、例えば、トナー及びキャリアからなる2成分現像剤を収容する容器内に、現像領域で電子写真感光体10に対向して配置された現像ロール41が備えられた構成が挙げられる。現像装置40としては、2成分現像剤により現像する装置であれば、特に制限はなく、周知の構成が採用される。ここで、現像装置40に使用される現像剤について説明する。現像剤は、トナーからなる一成分現像剤であってもよいし、トナーとキャリアを含む二成分系現像剤であってもよい。トナーは、例えば、結着樹脂、着色剤、及び必要に応じて離型剤等の他の添加剤を含むトナー粒子と、必要に応じて外添剤と、を含んで構成される。トナー粒子は、平均形状係数形状係数=ML2/A×π/4×100で表される形状係数の個数平均、ここでMLは粒子の最大長を表し、Aは粒子の投影面積を表すが100以上150以下であることが望ましく、105以上145以下であることがより望ましく、110以上140以下であることがさらに望ましい。さらに、トナーとしては、体積平均粒子径が3μm以上12μm以下であることが望ましく、3.5μm以上10μm以下であることがより望ましく、4μm以上9μm以下であることがさらに望ましい。トナー粒子は、特に製造方法により限定されるものではないが、例えば、結着樹脂、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等を加えて混練、粉砕、分級する混練粉砕法;混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力又は熱エネルギーにて形状を変化させる方法;結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された分散液と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の分散液とを混合し、凝集、加熱融着させ、トナー粒子を得る乳化重合凝集法;結着樹脂を得るための重合性単量体と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法;結着樹脂と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液とを水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等により製造されるトナー粒子が使用される。また上記方法で得られたトナー粒子をコアにして、さらに凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造をもたせる製造方法等、公知の方法が使用される。なお、トナーの製造方法としては、形状制御、粒度分布制御の観点から水系溶媒にて製造する懸濁重合法、乳化重合凝集法、溶解懸濁法が望ましく、乳化重合凝集法が特に望ましい。そして、トナーは、上記トナー粒子及び上記外添剤をヘンシェルミキサー又はVブレンダー等で混合することによって製造される。また、トナー粒子を湿式にて製造する場合は、湿式にて外添してもよい。また、トナーは、2成分現像剤として用いられる場合、キャリアとの混合割合は、周知の割合で設定する。なお、キャリアとしては、特に制限はないが、例えば、キャリアとしては、磁性粒子の表面に樹脂コーティングを施したものが好適に挙げられる。-転写装置-転写装置50としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。クリーニング装置クリーニング装置70は、例えば、筐体71と、クリーニングブレード72と、クリーニングブレード72の電子写真感光体10回転方向下流側に配置されるクリーニングブラシ73と、を含んで構成されている。また、クリーニングブラシ73には、例えば、固形状の潤滑剤74が接触して配置されている。以下、本実施形態に係る画像形成装置101の動作について説明する。まず、電子写真感光体10が矢印aで示される方向に沿って回転すると同時に、帯電装置20により負に帯電する。帯電装置20によって表面が負に帯電した電子写真感光体10は、露光装置30により露光され、表面に潜像が形成される。電子写真感光体10における潜像の形成された部分が現像装置40に近づくと、現像装置40現像ロール41により、潜像にトナーが付着し、トナー像が形成される。トナー像が形成された電子写真感光体10が矢印aに方向にさらに回転すると、転写装置50によりトナー像は記録紙Pに転写される。これにより、記録紙Pにトナー像が形成される。画像が形成された記録紙Pは、定着装置60でトナー像が定着される。なお、本実施形態に係る画像形成装置101は、例えば、図5に示すように、筐体11内に、電子写真感光体10、帯電装置20、露光装置30、現像装置40、及びクリーニング装置70を一体に収容させたプロセスカートリッジ101Aを備えた形態であってもよい。このプロセスカートリッジ101Aは、複数の部材を一体的に収容し、画像形成装置101に脱着させるものである。プロセスカートリッジ101Aの構成は、これに限られず、例えば、少なくとも、電子写真感光体10を備えてえればよく、その他、例えば、帯電装置20、露光装置30、現像装置40、転写装置50、及びクリーニング装置70から選択される少なくとも一つを備えていてもよい。また、本実施形態に係る画像形成装置101は、上記構成に限られず、例えば、電子写真感光体10の周囲であって、転写装置50よりも電子写真感光体10の回転方向下流側でクリーニング装置70よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、残留したトナーの極性を揃え、クリーニングブラシで除去しやすくするための第1除電装置を設けた形態であってもよいし、クリーニング装置70よりも電子写真感光体の回転方向下流側で帯電装置20よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、電子写真感光体10の表面を除電する第2除電装置を設けた形態であってもよい。また、本実施形態に係る画像形成装置101は、上記構成に限れず、周知の構成、例えば、電子写真感光体10に形成したトナー像を中間転写体に転写した後、記録紙Pに転写する中間転写方式の画像形成装置を採用してもよいし、タンデム方式の画像形成装置を採用してもよい。以下、実施例及び比較例に基づき本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。実施例1-下引層の形成-酸化亜鉛平均粒子径:70nm、テイカ社製、比表面積値:15m2/g100質量部をテトラヒドロフラン500質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤として、KBM603信越化学社製1.25質量部を添加し、2時間攪拌した。その後、テトラヒドロフランを減圧蒸留にて留去し、120°Cで3時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛粒子を得た。次に、表面処理を施した酸化亜鉛粒子60質量部と、アリザリン0.6質量部と、硬化剤としてブロック化イソシアネートスミジュール3173、住友バイエルンウレタン社製13.5質量部と、ブチラール樹脂エスレックBM-1、積水化学社製15質量部と、をメチルエチルケトン85質量部に溶解した溶液38質量部と、メチルエチルケトン25質量部とを混合し、直径1mmのガラスビーズを用いてサンドミルにて4時間の分散を行い分散液を得た。次に、得られた分散液に、触媒としてジオクチルスズジラウレート0.005質量部と、シリコーン樹脂粒子トスパール145、GE東芝シリコーン社製4.0質量部とを添加し、下引層塗布用液を得た。この塗布液を、浸漬塗布法にて直径30mmのアルミニウム基材上に塗布し、180°C、40分の乾燥硬化を行い厚さ25μmの下引層を形成した。-電荷発生層の形成-次に、電荷発生材料として、CuKα特性X線に対するブラッグ角2θ±0.2 ゚の少なくとも7.4 ゚、16.6 ゚、25.5 ゚及び28.3 ゚に強い回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶15質量部、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体樹脂VMCH、日本ユニオンカーバイト社製10質量部およびn-ブチルアルコール300質量部からなる混合物を、直径1mmのガラスビーズを用いてサンドミルにて4時間分散して電荷発生層用の塗布液を得た。この電荷発生層用塗布液を前記下引層上に浸漬塗布し、120°C、5分間乾燥して、厚みが0.2μmの電荷発生層を形成した。-電荷輸送層の形成-次に、電荷輸送物質としてN,N′-ビス3-メチルフェニル-N,N′-ジフェニルベンジジン2質量部、N,N′-ビス3,4-ジメチルフェニルビフェニル-4-アミン2質量、ビスフェノールZ型ポリカーボネート樹脂粘度平均分子量:40,0006質量部、及び酸化防止剤として2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノール0.1質量部を、テトラヒドロフラン24質量部及びトルエン11質量部に混合溶解し電荷輸送層形成用塗布液を得た。この電荷輸送層用塗布液を前記電荷発生層上に浸漬塗布し、120°C、40分間乾燥して、厚みが22μmの電荷輸送層を形成した。-表面保護層の形成-次に、フッ素樹脂粒子として4フッ化エチレン樹脂粒子ルブロンL-2ダイキン工業製10質量部と、下記構造式2で表される繰り返し単位を含むフッ化アルキル基含有共重合体重量平均分子量50,000、l:m=1:1、s=1、n=600.3質量部と、をシクロペンタノン40部に十分に攪拌混合して、4フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を作製した。次に、第1反応性電荷輸送材料として例示化合物I-845質量部と、第2反応性電荷輸送材料として例示化合物I-2615質量部と、グアナミン化合物として例示化合物A17ベンゾグアナミン化合物ニカラックBL-60、三和ケミカル社製4質量部と、酸化防止剤としてビス4-ジエチルアミノ2-メチルフェニル-4-ジエチルアミノフェニル-メタン1.5質量部と、をシクロペンタノン220質量部に加えて、十分に溶解混合し、さらに4フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を加えて、攪拌混合した。次に、得られた混合液を、微細な流路をもつ貫通式チャンバーを装着した高圧ホモジナイザー吉田機械興業製YSNM-1500ARを用いて、700kgf/cm2まで昇圧しての分散処理を20回繰返した後、ジメチルポリシロキサングラノール450、共栄社化学1質慮部と、硬化触媒としてNACURE5225キングインダストリー社製0.1質量部と、を加え保護層形成用塗布液を調製した。この表面保護層用塗布液を浸漬コーティング法で電荷輸送層の上に塗布し155°Cで35分乾燥し、膜厚約6μmの表面保護層を形成した。以上の工程を経て、電子写真感光体を得た。得られた電子写真感光体を感光体1とした。実施例2~16、比較例1~6表1~表3に従って、表面保護層の組成を変更した以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体を得た。これらを感光体2~16、比較感光体1~6とした。評価各例で得られた感光体について、表面保護層の特性を調べると共に、残留電位の上昇に起因して発生する黒点カブリ白点評価、画像部と非画像部との表面電位差が増加に起因して発生する焼付きゴースト評価を評価した。その結果を表4~表5に示す。-表面保護層の特性-表面保護層の特性として、比誘電率εr。トラップキャリア電荷量Q[C/mm2]、体積抵抗率ρ[Ωm]、イオン化ポテンシャルIPOCL[eV]を記述の方法に従って調べた。なお、電荷輸送層のイオン化ポテンシャルIPCTLについても記述の方法に従って調べて、表面保護層のイオン化ポテンシャルIPOCL[eV]とイオン化ポテンシャルIPCTLとの差を調べた。-黒点カブリ白点評価-各例で得られた感光体を、富士ゼロックス株社製DocuCentre-IIC7500に搭載した後、画像濃度5のハーフトーン画像をA4用紙4,000,000枚プリントした。その後、白紙のプリントテスト、ハーフトーン画像濃度30のプリントテストを行い、黒点カブリ、白点の発生状況を調べた。評価基準は以下の通りである。◎:発生なし○:極軽微に発生△:軽微に発生×:発生し許容できない-焼付きゴースト評価-各例で得られた感光体を、富士ゼロックス株社製DocuCentre-IIC7500に搭載した後、格子状の画像をA4用紙4,000,000枚プリントした。その後、ハーフトーン画像濃度30のプリントテストを行い、焼付きゴーストの発生状況を調べた。評価基準は以下の通りである。◎:発生なし○:極軽微に発生△:軽微に発生×:発生し許容できない上記結果から、本実施例では、比較例に比べ、黒点カブリ評価、焼付きゴースト評価について共に良好な結果が得られたことがわかる。なお、表1~表2中の詳細は、以下の通りである。ルブロンL-2:4フッ化エチレン樹脂粒子ルブロンL-2ダイキン工業製NACURE5225キングインダストリー社製Tris-TPM:ビス4-ジエチルアミノ2-メチルフェニル-4-ジエチルアミノフェニル-メタンBDETPM:ビス4-ジエチルアミノ2-メチルフェニル-フェニルメタン"