"水耕栽培システム10の養液の浄化装置であって、浄化タンク61と、前記浄化タンク61内に設けられ前記養液中で放電を行う放電部62と、前記浄化タンク61内の前記養液に超音波を照射する超音波発生部94とを備え、前記放電部62は、前記養液中で前記放電を生起する電極対6465、464465、564565、664665と、前記電極対6465、464465、564565、664665に電圧を印加する電源部70とを有し、前記放電によって前記養液中に水酸ラジカルを生成するように構成されており、前記超音波発生部94は、生成した水酸ラジカルが変化して生成する前記養液中の過酸化水素を水酸ラジカルに変換するように構成されていることを特徴とする浄化装置。前記放電部62及び超音波発生部94の運転及び停止を制御する制御部103をさらに備え、前記制御部103は、前記浄化タンク61内の前記養液に含まれる過酸化水素の濃度が所定の範囲内となるように、前記放電部62及び超音波発生部94の運転及び停止を制御することを特徴とする請求項1に記載の浄化装置。前記制御部103は、前記浄化タンク61内の前記養液に含まれる過酸化水素の濃度が、予め設定した下限値に達するまでは、前記放電部62を運転状態とし、前記超音波発生部94を停止状態とし、前記下限値に達した後、予め設定した上限値に達するまでは、前記放電部62及び前記超音波発生部94を運転状態とし、前記上限値に達した後、前記下限値に達するまでは、前記放電部62を停止状態とし、前記超音波発生部94を運転状態とすることを特徴とする請求項2に記載の浄化装置。前記浄化タンク61内の前記養液に含まれる過酸化水素の濃度を測定するセンサをさらに備えていることを特徴とする請求項2又は3に記載の浄化装置。前記電極対564565は、互いに対向するよう配置された板状の電極により構成され、前記電源部70は、前記電極対564565にパルス電圧を印加するパルス電源であり、前記放電部62は、前記電極対564565の間において前記養液中に気泡を発生させる気泡発生部520を有していることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載の浄化装置。前記水耕栽培システム10は、植物200を植えつける栽培床101を備え、前記栽培床101は、前記養液の流入用、及び流出用の配管5152がそれぞれ接続され、前記浄化タンク61は、前記栽培床101よりも下流側の配管51に接続されていることを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載の浄化装置。前記配管5152は、該配管5152内に銅イオン又は鉄イオンを供給するイオン供給部52を構成していることを特徴とする請求項6に記載の浄化装置。しかしながら、有機液肥と酸性水を一々混ぜ合わせるのは煩雑である。また、加熱の場合には養液が変性するおそれがある。UV及び光触媒を用いる方式は養液の内部まで殺菌することは困難である。オゾンガスは養液への溶解効率が低いので大量のオゾンガスを発生させる必要があるうえ、余剰のオゾンガスの処理も必要になる。フィルタや活性炭を使用する方式では、フィルタの目詰まりが起こり、メンテナンスコストが大きくなる場合がある。本発明は前記の問題を解決し、水耕栽培用の養液の浄化をより効率的にできるようにすることを目的とする。本発明に係る浄化装置の第1の態様は、水耕栽培システム10の養液の浄化装置を対象とし、浄化タンク61と、浄化タンク61内に設けられ養液中で放電を行う放電部62と、浄化タンク61内の養液に超音波を照射する超音波発生部94とを備え、放電部62は、養液中で放電を生起する電極対6465、464465、564565、664665と、電極対6465、464465、564565、664665に電圧を印加する電源部70とを有し、放電によって養液中に水酸ラジカルを生成するように構成されており、超音波発生部94は、生成した水酸ラジカルが変化して生成する養液中の過酸化水素を水酸ラジカルに変換するように構成されている。第2の態様として、放電部62及び超音波発生部94の運転及び停止を制御する制御部103をさらに備え、制御部103は、浄化タンク61内の養液に含まれる過酸化水素の濃度が所定の範囲内となるように、放電部62及び超音波発生部94の運転及び停止を制御してもよい。この場合において、制御部103は、浄化タンク61内の養液に含まれる過酸化水素の濃度が、予め設定した下限値に達するまでは、放電部62を運転状態とし、超音波発生部94を停止状態とし、下限値に達した後、予め設定した上限値に達するまでは、放電部62及び超音波発生部94を運転状態とし、上限値に達した後、下限値に達するまでは、放電部62を停止状態とし、超音波発生部94を運転状態とすることが好ましい。この場合において、浄化タンク61内の養液に含まれる過酸化水素の濃度を測定するセンサをさらに備えていることが好ましい。第3の態様として、電極対564565は、互いに対向するよう配置された板状の電極により構成され、電源部70は、電極対564565にパルス電圧を印加するパルス電源であり、放電部62は、電極対564565の間において養液中に気泡を発生させる気泡発生部520を有していてもよい。第4の態様として、水耕栽培システム10は、植物200を植えつける栽培床101を備え、栽培床101は、養液の流入用、及び流出用の配管5152がそれぞれ接続され、浄化タンク61は、栽培床101よりも下流側の配管51に接続されていてもよい。第5の態様として、配管5152は、該配管5152内に銅イオン又は鉄イオンを供給するイオン供給部52を構成していてもよい。本発明に係る浄化装置によれば、水耕栽培用の養液の殺菌をより効率的にできる。以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、以下の実施形態は、本質的に好ましい例示であって、本発明、その適用物、あるいはその用途の範囲を制限することを意図するものではない。実施形態1<全体構成>図1は、本発明の実施形態に係る水耕栽培システム10の構成を示す図である。この水耕栽培システム10は、いわゆる施設園芸例えばビニールハウスや、閉鎖環境で人工光を用いて植物を栽培する植物工場等で使用される。図1に示すように、水耕栽培システム10は、栽培床101、配管51,52、ポンプ102、浄化ユニット60浄化装置、及び制御部103を備えている。この水耕栽培システム10では、栽培床101、ポンプ102、及び浄化ユニット60は、配管51,52で互いに接続され、植物の栽培に必要な養分を含んだ養液Lが循環する。図1では、養液の循環方向を矢印で示してある。栽培床101は、養液Lを、所定の量だけ溜めるようになっている。栽培床101には、植物200が植えつけられる。植えつけられた植物200は、栽培床101に溜められた養液Lを吸収し、吸収した養液L中の養分を利用する。この栽培床101には養液Lが流入する流入孔と、養液Lが流出する流出孔が設けられ、流出孔には配管51、流入孔には配管52がそれぞれ接続されている。浄化ユニット60は、水中具体的には養液Lでの放電によって水中に水酸ラジカルを経て過酸化水素を生成し、生成した過酸化水素を超音波により水酸ラジカルに変換することにより養液の浄化を行う。養液の浄化とは、養液中の雑菌の殺菌、養液中に存在する汚れの発生原因となる有機物の分解等を含む概念である。浄化ユニット60の構成は後に詳述する。この浄化ユニット60には養液Lが流入する流入孔と、養液Lが流出する流出孔が設けられ、流入孔が栽培床101よりも下流側の配管51に接続され、栽培床101を通過した養液Lが該配管51で供給されている。また、浄化ユニット60の流出孔には、配管52が接続されている。ポンプ102は、養液Lを循環させるためのポンプである。このポンプ102の吸入孔は、浄化ユニット60の流出孔と配管52で接続され、吐出孔は、栽培床101の流入孔と配管52で接続されている。このポンプ102の運転状態は、制御部103により制御する。本実施形態では、配管51,52は、一部が銅配管であり、残りの部分が樹脂の配管である。より詳しくは、浄化ユニット60とポンプ102の間の配管52が銅配管である。この配管52は、イオン供給部としても機能する。制御部103は、ポンプ102及び浄化ユニット60に所定の制御信号SIGを出力し、ポンプ102の運転状態オンオフの制御と、浄化ユニット60の運転状態放電部及び超音波発生部のオンオフの制御を行う。<浄化ユニット60の構成>図2は、浄化ユニット60の構成例を示す図である。浄化ユニット60は、水中での放電によって水中に水酸ラジカルを経て過酸化水素を生成し、生成した過酸化水素を超音波により水酸ラジカルに変換する。生成した過酸化水素及び水酸ラジカルにより養液の浄化を行う。浄化ユニット60は、浄化タンク61と放電部62と超音波発生部94とを有している。浄化タンク61は、密閉型の容器状に形成され、栽培床101において使用された養液Lが流入する。具体的に、浄化タンク61には、栽培床101の流出孔に繋がる配管51と、ポンプ102の吸入孔に繋がる配管52が接続されている。すなわち、浄化タンク61は、栽培床101の下流側に配設されている。放電部62は、第1電極64及び第2電極65とからなる電極対64,65と、この電極対64,65に電圧を印加する電源部70と、第1電極64を内部に収容する絶縁ケーシング71とを備えている。電極対64,65は、水中で放電を生起するためのものである。第1電極64は、絶縁ケーシング71の内部に配置されている。第1電極64は、上下に扁平な板状に形成されている。第1電極64は、電源部70と接続されている。第1電極64は、例えばステンレス、銅等の導電性の金属材料で構成されている。第2電極65は、絶縁ケーシング71の外部に配置されている。第2電極65は、第1電極64の上方に設けられている。第2電極65は、上下に扁平な板状であって、且つ上下に複数の貫通孔66を有するメッシュ形状ないしパンチングメタル形状に構成されている。第2電極65は、第1電極64と略平行に配設されている。第2電極65は、電源部70と接続されている。第2電極65は、例えばステンレス、真鍮等の導電性の金属材料で構成されている。電源部70は、電極対64,65に所定の電圧を印加する。電源部70は、電極対64,65に対して瞬時的に高電圧を繰り返し印加するようなパルス電源であってもよいが、電極対64,65に対して常に数キロボルトの直流電圧を印加する直流電源でかまわない。直流電源の場合には電源部70の第2電極65が接続される負極側を、アースと接続すればよい。また、電源部70には、電極対64,65の放電電力を一定に制御する定電力制御部が設けられている図示省略。なお、電源部70を電極対64,65に対して瞬時的に高電圧を繰り返し印加するようなパルス電源としてもよい。電源部70が直流電源である場合には、電源部70がパルス電源である場合と比べて放電発生時の音を小さくすることができる。絶縁ケーシング71は、浄化タンク61の底部に設置されている。絶縁ケーシング71は、例えばセラミックス等の絶縁材料で構成されている。絶縁ケーシング71は、一面上面が開放された容器状のケース本体72と、該ケース本体72の上方の開放部を閉塞する板状の蓋部73とを有している。ケース本体72は、角型筒状の側壁部72aと、該側壁部72aの底面を閉塞する底部72bとを有している。第1電極64は、底部72bの上側に敷設されている。絶縁ケーシング71では、蓋部73と底部72bとの間の上下方向の距離が、第1電極64の厚さよりも長くなっている。つまり、第1電極64と蓋部73との間には、所定の間隔が確保されている。これにより、絶縁ケーシング71の内部では、第1電極64とケース本体72と蓋部73との間に空間Sが形成される。図2及び図3に示すように、絶縁ケーシング71の蓋部73には、該蓋部73を厚さ方向に貫通する1つの開口74が形成されている。この開口74により、第1電極64と第2電極65との間の電界の形成が許容されている。蓋部73の開口74の内径は、0.02mm以上0.5mm以下であることが好ましい。以上のような開口74は、電極対64,65の間の電流経路の電流密度を上昇させる電流密度集中部を構成する。以上のように、絶縁ケーシング71は、電極対64,65のうちの一方の電極第1電極64のみを内部に収容し、且つ電流密度集中部としての開口74を有する絶縁部材を構成している。加えて、絶縁ケーシング71の開口74内では、電流経路の電流密度が上昇することで、水がジュール熱によって気化して気泡Bが形成される。つまり、絶縁ケーシング71の開口74は、該開口74に気相部としての気泡Bを形成する気相形成部として機能する。超音波発生部94は、板状の圧電セラミックス板95と、圧電セラミックス板95を挟むように設けられた一対の金属板96a,96bとにより構成されている。超音波発生部94を封入するケース97は密閉され、浄化タンク61の底部に配置されている。金属板96a,96bには、増幅器309によって増幅された超音波波形発生部308の出力信号交流電圧が供給される。これにより、超音波発生部94は任意の周波数の超音波を浄化タンク61内の養液に照射できる。但し、過酸化水素を分解して水酸ラジカルを効率良く発生させるためには、超音波の周波数が、100kHz以上程度であれることが好ましい。なお、超音波発生部94は、浄化タンク61内の液体に超音波を照射できる範囲で任意の位置に設置されていてよい。例えば、図4に示すように、超音波発生部94は浄化タンク61の底部外側に設置されていてもよい。超音波発生部94が浄化タンク61の底部外側に設置されている場合、超音波は浄化タンク61の壁面を介して養液に伝達される。また、超音波発生部94は、図5に示すように、金属ケース97aの上部と金属板96とで板状の圧電セラミックス板95を挟み、両者の間に交流電圧を供給する構成であってもよい。なお、養液の循環を連続的に行っている場合には、放電部62を運転しても、浄化タンク61内の過酸化水素濃度が、放電部62よりも流入側では高くならない可能性がある。このため、超音波発生部94は、放電部62よりも流出側に設ける方が好ましい。しかし、ポンプ102の停止時に浄化タンク61内の養液の殺菌を行うような場合には、超音波発生部94が放電部62よりも流入側に設けられていても問題ない。<水耕栽培システム10の動作>水耕栽培システム10では、制御部103によって、ポンプ102がオン状態にされると、養液Lが栽培床101に供給される。栽培床101では、それぞれの植物200が必要量の養液Lを吸収する。植物200に吸収されなかった養液Lは、栽培床101から配管51を通って流出し、浄化ユニット60を通過する。浄化ユニット60から出た養液Lは、配管52この部分は銅配管を通過する。浄化ユニット60から出た養液Lは、不足した成分や水が補われ、再び栽培床101に流入する。養液Lの成分調整や量の調整を行う装置は、図1では図示を省略してある。なお、養液Lの循環は、連続的に行ってもよいし、適当な時間間隔をあけて行うようにしてもよい。<本実施形態における養液の浄化>水耕栽培システム10において養液Lを浄化するには、浄化ユニット60で放電を行わせると共に超音波照射を行う。具体的には、制御部103が浄化ユニット60をオンにする。放電部62の運転の開始時には、図2に示すように、絶縁ケーシング71の内の空間Sが浸水した状態となっている。電源部70から電極対64,65に所定の電圧例えば1kVが印加されると、電極対64,65の間に電界が形成される。この際、第1電極64の周囲は、絶縁ケーシング71で覆われている。このため、電極対64,65の間での漏れ電流が抑制されるとともに、開口74内の電流経路の電流密度が上昇した状態となる。開口74内の電流密度が上昇すると、開口74内のジュール熱が大きくなる。その結果、絶縁ケーシング71では、開口74の近傍において、水の気化が促進されて気泡Bが形成される。この気泡Bは、図6に示すように、開口74のほぼ全域を覆う状態となり、第2電極65と第1電極64との間に気泡Bが介在する。従って、この状態では、気泡Bが、第1電極64と第2電極65との間での水を介した導電を阻止する抵抗として機能する。これにより、第1電極64と第2電極65との間の漏れ電流が抑制され、電極対64,65間では、所望とする電位差が保たれることになる。すると、気泡B内では、絶縁破壊に伴い放電が発生する。以上のようにして、気泡Bで放電が行われると、浄化タンク61内の水中では、水酸ラジカルが発生する。発生した水酸ラジカルは急速に反応して過酸化水素となる。このため、浄化タンク61内の過酸化水素濃度が次第に上昇する。過酸化水素濃度が十分に上昇した後、養液に超音波を照射すると、養液中の過酸化水素が分解され再び水酸ラジカルが発生する。超音波照射により発生した水酸ラジカルは再び結合して過酸化水素に戻る。このため、図7に示すように過酸化水素から水酸ラジカルへの変換と、水酸ラジカルから過酸化水素への変換とが循環して生じる。但し、殺菌等の養液の浄化に使われた水酸ラジカルは水に変化するので、放電を停止して超音波照射のみを行った場合には、過酸化水素の濃度は徐々に低下する。過酸化水素により養液を十分に浄化しようとすると、養液中の過酸化水素の濃度を高くしなければならない。過酸化水素は、低濃度では比較的安全であるが濃度が高くなると植物に悪影響をおよぼすおそれがある。一方、水酸ラジカルは、過酸化水素と比べてはるかに高い浄化能力を有している。従って、低い濃度においても養液を十分に浄化することができる。しかし、水酸ラジカルは不安定であり直ぐに反応して過酸化水素となってしまう。このため、水酸ラジカルにより養液の浄化を行うためには、水酸ラジカルを連続的に発生させなければならない。放電の場合、水が分解されて水酸ラジカルが発生するため、連続的に運転を行うと養液中の過酸化水素濃度がどんどん上昇してしまう。一方、超音波照射の場合には、過酸化水素から水酸ラジカルへの変換は生じるが、水の分解は生じない。このため、水酸ラジカルの生成を連続的に行っても、過酸化水素の濃度が上昇することはない。従って、放電により過酸化水素を発生させ、超音波により水酸ラジカルを発生させることにより、放電のみを用いて浄化を行う場合よりもはるかに効率良く浄化を行うことができる。また、過酸化水素の濃度を低く抑えることができるので、より安全な浄化装置を実現することができる。水酸ラジカルは反応性が高いため、栽培床101において栽培している植物200に水酸ラジカルが直接接すると、植物200に悪影響が生じるおそれがある。しかし、水酸ラジカルの寿命は非常に短いため、浄化タンク61外においては水酸ラジカルはほとんど存在しない。一方、低濃度の過酸化水素は、植物200にほとんど影響を与えない。このため、浄化ユニット60を栽培床101から独立させることにより、栽培床101において栽培する植物200が水酸ラジカルの影響を受けることがなくなるという利点が得られる。養液中の過酸化水素は、養液Lの循環に伴って、水耕栽培システム10全体に広がる。この過酸化水素には、配管51,52の汚れの原因となる物質を分解付着防止したり、養液L中の雑菌を殺菌する作用がある。そのため、過酸化水素が到達した部位では、配管51,52の浄化及び殺菌が行われる。また、配管51,52の一部として設けられた銅配管イオン供給部からは、銅イオンが養液L中に溶出する。過酸化水素と銅イオンの存在下では、フェントン反応により、銅イオンが触媒的に作用して水酸ラジカルの生成が生じる。これにより、水酸ラジカルにより配管中においても養液の殺菌効率が向上する。加えて、銅イオンは菌の繁殖を抑制する効果があるため、水中での殺菌作用も高くなる。なお、浄化ユニット60による殺菌及び汚れ分解は、常時行ってもよいが、適当な時間間隔をあけて行うようにしてもよい。浄化ユニット60の運転の開始や休止の制御は制御部103で行えばよい。放電部62と超音波発生部94とを常に動作状態としてもかまわないが、養液中の過酸化水素濃度が低い場合には、超音波を照射しても十分な水酸ラジカルの発生が望めない。また、放電部62を動作させ続けると養液中の過酸化水素濃度が高くなりすぎるおそれもある。このため、図8に示すような運転を行うことが好ましい。まず、放電部62のみを運転して、浄化タンク61内の過酸化水素を上昇させた後、超音波発生部94の運転を開始し水酸ラジカルの生成を開始する。その後、浄化タンク61内の過酸化水素濃度が十分に上昇した時点で放電部62の運転を休止し、超音波発生部94のみを運転する。浄化タンク61内の過酸化水素の濃度が低下した時点で、再び放電部62の運転を開始し、浄化タンク61内の過酸化水素濃度を上昇させる。以上のような、制御は予め設定したタイミングに基づいて行ってもよいが、浄化タンク61内の過酸化水素濃度の測定値に基づいて図9に示すような制御を行ってもよい。この場合には、図10に示すように過酸化水素濃度を測定するセンサ307を浄化タンク61内に設け、センサ出力に基づいて、制御部103により、放電部62及び超音波発生部94を制御すればよい。制御部103は、中央演算装置CPUを備えた演算回路等とすればよい。また、ポンプ102についても制御する構成を示したが、ポンプ102の制御と、放電部62及び超音波発生部94の制御は独立して行う構成としてもよい。なお、放電部62の運転中に超音波発生部94の運転を開始する例を示したが、放電部62の運転を休止してから超音波発生部94の運転を開始してもよい。また、放電部62の再運転する場合に、超音波発生部94を休止した状態としてもよい。<本実施形態における効果>以上のように、本実施形態によれば、浄化ユニット60において発生した水酸ラジカル及び過酸化水素によって養液L中の汚れの原因物質の分解及び殺菌等の浄化ができる。また、養液Lの循環経路配管51,52の汚れを抑制することもできる。また、本実施形態では、浄化ユニット60が栽培床101よりも下流側に設けられているので、栽培床101において養液L中に入り込んだ細菌及び汚れの原因物質を、システムに広がる前に分解して浄化することが可能になる。《放電部の変形例1》実施形態1では、絶縁ケーシング71の蓋部73に1つの開口74が形成されている例を示した。しかし、例えば図11及び図12に示すように、絶縁ケーシング71の蓋部73に複数の開口74を形成してもよい。この変形例では、絶縁ケーシング71の蓋部73が、略正方形板状に形成され、この蓋部73に複数の開口74が等間隔を置きながら碁盤目状に配列されている。一方、第1電極64及び第2電極65は、全ての開口74に跨るような正方形板状に形成されている。変形例1においても、各開口74が、電流密度集中部、及び気相形成部として機能する。これにより、電源部70から電極対64,65に電圧が印加されると、各開口74の電流密度が上昇し、各開口74で気泡Bが形成される。その結果、各気泡Bでそれぞれ放電が生起され、水酸ラジカル等の活性種や、過酸化水素が生成される。《放電部の変形例2》放電部62は以下のような構成としてもよい。図13に示すように、変形例2の放電部62は、浄化タンク61の外側から内部に向かって挿入されて固定される、いわゆるフランジユニット式に構成されている。また、実施形態2の放電部62は、第1電極64と第2電極65と絶縁ケーシング71とが一体的に組み立てられている。変形例2の絶縁ケーシング71は、大略の外形が円筒状に形成されている。絶縁ケーシング71は、ケース本体72と蓋部73とを有している。変形例2のケース本体72は、ガラス質又は樹脂製の絶縁材料で構成されている。ケース本体72は、円筒状の基部76と、該基部76から浄化タンク61側に向かって突出する筒状壁部77と、該筒状壁部77の外縁部からさらに浄化タンク61側に向かって突出する環状凸部78とを有している。また、ケース本体72には、環状凸部78の先端側に先端筒部79が一体に形成されている。基部76の軸心部には、円柱状の挿入口76aが軸方向に延びて貫通形成されている。筒状壁部77の内側には、挿入口76aと同軸となり、且つ挿入口76aよりも大径となる円柱状の空間Sが形成されている。実施形態2の蓋部73は、略円板状に形成されて環状凸部78の内側に嵌合している。蓋部73は、セラミックス材料で構成されている。蓋部73の軸心には、実施形態1と同様、蓋部73を上下に貫通する円形状の1つの開口74が形成されている。第1電極64は、軸直角断面が円形状となる縦長の棒状の電極で構成されている。第1電極64は、基部76の挿入口76aに嵌合している。これにより、第1電極64は、絶縁ケーシング71の内部に収容されている。実施形態2では、第1電極64のうち浄化タンク61とは反対側の端部が、浄化タンク61の外部に露出される状態となる。このため、浄化タンク61の外部に配置される電源部70と、第1電極64とを電気配線によって容易に接続することができる。第1電極64のうち浄化タンク61側の端部64aは、絶縁ケーシング71の内部の空間Sに臨んでいる。なお、図7に示す例では、第1電極64の端部64aが、挿入口76aの開口面よりも上側浄化タンク61側に突出しているが、この端部64aの先端面を挿入口76aの開口面と略面一としてもよいし、端部64aを挿入口76aの開口面よりも下側に陥没させてもよい。また、第1電極64は、実施形態1と同様、開口74を有する蓋部73との間に所定の間隔が確保されている。第2電極65は、円筒状の電極本体65aと、該電極本体65aから径方向外方へ突出する鍔部65bとを有している。電極本体65aは、絶縁ケーシング71のケース本体72に外嵌している。鍔部65bは、浄化タンク61の壁部に固定されて放電部62を保持する固定部を構成している。放電部62が浄化タンク61に固定された状態では、第2電極65の電極本体65aの一部が浸水された状態となる。第2電極65は、電極本体65aよりも小径の内側筒部65cと、該内側筒部65cと電極本体65aとの間に亘って形成される連接部65dとを有している。内側筒部65c及び連接部65dは、浄化タンク61内の水中に浸漬している。内側筒部65cは、その内部に円柱空間67を形成している。内側筒部65cの軸方向の一端は、蓋部73と当接して該蓋部73を保持する保持部を構成している。また、電極本体65aと内側筒部65cと連接部65dの間には、ケース本体72の先端筒部79が内嵌している。内側筒部65cの軸方向の他端側には、円柱空間67を覆うようにメッシュ状の漏電防止材68が設けられている。この漏電防止材68は、第2電極65と接触することで、実質的にアースされている。これにより、漏電防止材68は、浄化タンク61の内部の空間水中のうち、円柱空間67の内側から外側への漏電を防止している。第2電極65は、電極本体65aの一部が浄化タンク61の外部に露出される状態となる。このため、電源部70と第2電極65とを電気配線によって容易に接続することができる。<放電部の運転動作>変形例2においても、放電部62が運転されることにより過酸化水素が生成される。放電部62の運転の開始時には、図13に示すように、絶縁ケーシング71の内の空間Sが浸水した状態となっている。電源部70から電極対64,65に所定の電圧例えば1kVが印加されると、開口74の内部の電流密度が上昇してく。図13に示す状態から、電極対64,65へさらに電圧が継続して印加されると、開口74内の水が気化されて気泡Bが形成される図14を参照。この状態では、気泡Bが開口74のほぼ全域を覆う状態となり、円柱空間67内の負極側の水と、第1電極64との間に気泡Bの抵抗が付与される。これにより、第1電極64と第2電極65との間の電位差が保たれ、気泡Bで放電が発生する。その結果、水中では、水酸ラジカルを経て過酸化水素が生成される。《放電部の変形例3》変形例2では円板状の蓋部73の軸心に1つの開口74を形成する例を示したが、この蓋部73に複数の開口74を形成してもよい。図15に示す例では、蓋部73の軸心を中心とする仮想ピッチ円上に、5つの開口74が等間隔置きに配列されている。このように蓋部73に複数の開口74を形成することで、各開口74の近傍でそれぞれ放電を生起させることができる。なお、実施形態1及び各変形例の電源部70には、放電の放電電力を一定に制御する定電力制御部を用いている。しかし、定電力制御部に代えて、放電時の放電電流を一定に制御する定電流制御部を設けることもできる。この定電流制御を行うと、洗浄水の導電率によらず放電が安定するため、スパークの発生も未然に回避できる。実施形態1及び各変形例において、電源部70が直流電源の場合には正極に第1電極64を接続し、電源部70の負極に第2電極65を接続すればよい。しかし、電源部70の負極に第1電極64を接続し、電源部70の正極に第2電極65を接続して、電極対64,65の間で、いわゆるマイナス放電を行うようにしてもよい。なお、電源部70は交流電源又はパルス電源等であってもよい。実施形態2図16は、実施形態2に係る浄化ユニット60Bを示す構成図である。図16では、実施形態1の浄化ユニット60と同様の構成については図2と同じ符号を付している。また、図16では、制御部103等の記載は省略している。以下においては、主に実施形態1に係る浄化ユニット60と異なる点について説明する。本実施形態の浄化ユニット60Bは、浄化タンク61と、浄化タンク61内に配置された放電部62と、超音波発生部94とを備えている。放電部は、電極対464,465と、電極対464,465に接続された電源部70とを有している。超音波発生部94は、浄化タンク61の底部に設置されている。電極464は絶縁ケーシング471aの内部に収納され、電極465は絶縁ケーシング471bの内部に収納されている。電極464及び電極465は、それぞれ扁平な板状に形成されている。また、電極464及び電極465はステンレス、銅等の導電性の金属材料で構成されている。電源部70は、数キロボルト程度の交流電圧を電極対464,465に供給する。絶縁ケーシング471a,471bは、例えばセラミックス等の絶縁材料で構成されており、図2に示す絶縁ケーシング71と同様の構成を有している。すなわち、絶縁ケーシング471aは、一面図16では右側の面が開放された容器状のケース本体480aと、該ケース本体480aの上記開放部を閉塞する板状の蓋部473aとを有している。また、絶縁ケーシング471bは、一面図16では左側の面が開放された容器状のケース本体480bと、該ケース本体480bの開放部を閉塞する板状の蓋部473bとを有している。絶縁ケーシング471aの蓋部473aには、該蓋部473aを厚さ方向に貫通する1つの開口474aが形成されている。絶縁ケーシング471bの蓋部473bにも、該蓋部473bを厚さ方向に貫通する1つの開口474bが形成されている。これらの開口474a,474bにより、電極464と電極465との間の電界の形成が許容されている。開口474a,474bの内径は、0.02mm以上0.5mm以下であることが好ましい。以上のような開口474a,474bは、電極対464,465の間の電流経路の電流密度を上昇させる電流密度集中部を構成する。絶縁ケーシング471a,471bは、浄化タンク61内の互いに対向する側面に、蓋部473a,473b同士が対向するように設置されている。言い換えれば、電極464と電極465とは互いに対向するよう配置されている。絶縁ケーシング471a,471bの開口474a,474b内では、電流経路の電流密度が上昇することで、液体がジュール熱によって気化して気泡が形成される。つまり、絶縁ケーシング471a,471bの開口474a,474bは、該開口474a,474bに気相部としての気泡を形成する気相形成部として機能する。この構成により、交流電圧が電極対464,465に供給された場合に電極対464,465間の気泡内に放電を生起させることができる。なお、超音波発生部94の具体的な構成は実施形態1と同様にすればよく、浄化タンク61の底部に設置されていることが好ましいが、浄化タンク61内の液体に超音波を照射できる限りにおいて任意の位置に設置可能である。以上の構成をとることにより、交流電圧を電極対464,465に供給する場合でも、電極対464,465間に放電を生起させることができ、過酸化水素の濃度を抑えながら高い浄化能力を発揮させることができる。なお、電源部70から電極対464,465へは交流電圧を印加してもよいが、矩形波を印加しても電極対464,465間に放電を生起することができる。本実施形態の浄化ユニット60Bにおいても、図8又は図9に示すような制御を行うことが好ましい。実施形態3図17は、本発明の実施形態3に係る浄化ユニット60Cを示す構成図である。図17では、実施形態1の浄化ユニット60と同様の構成については図2と同じ符号を付している。また、図17では、制御部103等の図示は省略している。以下においては、主に実施形態1に係る浄化ユニットと異なる点について説明する。本実施形態の浄化ユニット60Cは、浄化タンク61と、浄化タンク61内に配置された放電部62と、超音波発生部94とを備えている。放電部は、浄化タンク61内に設けられた電極対564,565と、電極対564,565に接続された電源部70と、気泡発生部520とを有している。超音波発生部94は、浄化タンク61の底部に設置されている。本実施形態の浄化ユニット60Cにおいては、電源部70は、第1電極64及び第2電極565に高電圧のパルス電圧が供給される。また、第1電極564を囲む絶縁ケーシングは設けなくてよい。第1電極564及び第2電極565は共に板状であり、浄化タンク61内の側面に、互いに対向するように設置される。気泡発生部520は、例えば浄化タンク61の底部など、少なくとも電極対564,565の間であって、電極対564,565よりも低い位置に設けられたノズル吐出手段519と、ノズル519に空気等の気体を送るエアポンプ送出手段518とを有している。エアポンプ518によって送出された気体は、ノズル519を介して浄化タンク61内に送り込まれ浄化タンク61内に気泡を発生させる。なお、浄化タンク61内の気体を循環させる構成としても、外部から気体を取り入れる構成としてもよい。超音波発生部94の構成は実施形態1と同様にすればよく、浄化タンク61の底部に設置されていることが好ましいが、浄化タンク61内の液体に超音波を照射できる限りにおいて任意の位置に設置可能である。少なくとも放電処理を行う期間中、ノズル519から養液中へ気体が送り込まれ、気泡が発生する。養液中に気泡が存在する状態で電極対564,565にパルス電圧を供給すると、気泡の内部において放電が生起され、水酸ラジカルが生成し、水酸ラジカルから過酸化水素が生成する。本実施形態の浄化ユニット60Bにおいても、図8又は図9に示すような制御を行うことが好ましい。以上の構成及び方法によれば、電極対564,565間にパルス放電を発生させる場合でも、超音波照射と組み合わせることで、過酸化水素の濃度を抑えながら高い浄化能力を発揮させることができる。発明の実施形態4図18は、本発明の実施形態4に係る浄化ユニット60Dを示す構成図である。図18では、実施形態1の浄化ユニット60と同様の構成については図2と同じ符号を付している。また、図18では、制御部103等の記載は省略している。以下においては、主に実施形態1に係る浄化ユニット60と異なる点について説明する。本実施形態の浄化ユニット60Dは、浄化タンク61と、浄化タンク61内に配置された放電部62と、超音波発生部94とを備えている。放電部は、電極対664,665と、電極対664,665に接続された電源部70とを有している。超音波発生部94は、浄化タンク61の底部に設置されている。電源部70は、例えば交流電源で構成されているが、直流電源で構成されていてもよいし、矩形波やパルス電圧を供給する電源で構成されていてもよい。電極664と電極665とは、それぞれ浄化タンク61内の側面に、互いに対向するように設置されている。電極664は、少なくとも1つの導電部654と、導電部654を囲む絶縁部655とを有している。電極665は、少なくとも1つの導電部656と、導電部656を囲む絶縁部657とを有している。以上のように、電極664における導電部654の露出面、及び電極665における導電部656の露出面の面積は小さいので、電圧を電極対664,665に供給した場合には導電部654,656の表面で電流密度の集中部が形成される。そのため、導電部654,656の表面では液体がジュール熱によって気化して気泡が形成される。この泡によって導電部654,656の露出面が覆われた状態で電源部70からの電圧供給を継続することにより、気泡の内部で放電が生起される。なお、超音波発生部94の具体的な構成は実施形態1と同様にすればよく、浄化タンク61の底部に設置されていることが好ましいが、浄化タンク61内の液体に超音波を照射できる限りにおいて任意の位置に設置可能である。以上の構成によっても、電極対664,665間での放電と、超音波照射とを組み合わせることにより、過酸化水素濃度を抑えながら高い浄化能力を発揮させることができる。本実施形態の浄化ユニット60Dにおいても、図8又は図9に示すような制御を行うことが好ましい。<イオン供給部の構成>上述した各実施形態では、配管52を銅配管とすることで、配管52を銅イオンのイオン供給部としている。しかしながら、イオン供給部としては、例えば鉄イオンを生成する鉄製の配管を用いることもできる。鉄イオンも銅イオンと同様、過酸化水素の存在下でフェントン反応を促進させるため、水酸ラジカルの生成量を増大できる。銅配管や鉄配管は、浄化タンク61と連通する配管であれば、他の箇所に設けることもできる。例えば、配管51を銅配管や鉄配管としたり、配管51,52の全てを銅配管や鉄配管としてもよい。また、例えば銅片や鉄片を浄化タンク61内に浸漬することで、これらをイオン供給部とすることもできる。但し、イオン供給部は設けなくてもよい。なお、浄化ユニット60を設ける位置は例示である。例えば、栽培床101の上流側に設けることも可能である。また、水耕栽培システム10の構成は例示である。例えば、養液を貯留するタンクを設けたり、水を補給する装置を設けるなど種々の変形が可能である。また、放電部62及び超音波発生部94を養液のタンク内に設ければ、タンク内の養液を攪拌して均一化するという効果も得られる。"