"複数の光エミッタと、前記複数の光エミッタから光を受信するための光入力端と、前記光入力端の横方向にある第1レーザカット端と、を含む光ガイドと、を備える照明システム。前記光ガイドは、ガラスから形成される、前記請求項1に記載の照明システム。前記光入力端は、つや消しされる、前記請求項1に記載の照明システム。前記光入力端は、約0.1-5μmの表面粗度Raを持つ、前記請求項3に記載の照明システム。前記光エミッタは、約ΔLのピッチを持ち、ここで、但し、ΔLは、隣接する光エミッタの個々の位置の間の距離であり、Llightguideは、前記光ガイドの前記横端間の距離であり、Nlightemittersは、前記複数の光エミッタにおける光エミッタの数である、前記請求項4に記載の照明システム。さらに、前記光ガイドのエリアよりも小さい活動表示エリアを持つディスプレイを備え、前記光入力端の長さは、前記光入力端を向く前記活動表示エリアの相当する寸法よりも長い、前記請求項5に記載の照明システム。さらに、前記光ガイドの主要な表面に向く前記主要な表面を持つディスプレイを備え、前記光ガイドは、前記光ガイドの外に及び前記光ガイドの前記主要な表面へ光を排出するように構成される複数の光変更特性を備える、前記請求項1に記載の照明システム。前記光ガイドは、前灯の一部を形成する、前記請求項17に記載の照明システム。前記ディスプレイは、分岐干渉変調器の例を含む反射ディスプレイである、前記請求項17に記載の照明システム。さらに、前記ディスプレイと通信するように構成されるプロセッサであって、ここで前記プロセッサは、イメージデータを処理するように構成される、プロセッサと、前記プロセッサと通信するように構成されるメモリ機器と、を備える、前記請求項17に記載の照明システム。さらに、前記ディスプレイに少なくとも1つの信号を送信するように構成されるドライバ回路を備える、前記請求項10に記載の照明システム。さらに、前記ドライバ回路へ前記イメージデータの少なくとも一部を送信するように構成されるコントローラを、備える、前記請求項11に記載の照明システム。さらに、前記プロセッサへ前記イメージデータを送信するように構成されるイメージソースモジュールを、備える、前記請求項10に記載の照明システム。前記イメージソースモジュールは、受信機、トランシーバ、及び、送信器の少なくとも1つを含む、前記請求項13に記載の照明システム。さらに、入力データを受信するように、及び、前記プロセッサに前記入力データを伝達するように構成される入力機器を、備える、前記請求項10に記載の照明システム。さらに、前記第1レーザカット端と反対にあり前記光入力端の横方向にある第2レーザカット端を、備える、前記請求項1に記載の照明システム。前記光ガイドは、一般的に光学的に透明な材料の平面プレートである、前記請求項1に記載の照明システム。光エミッタと、ガラスから構成される光ガイドであって、ここで、前記光ガイドは、前記光エミッタから光を受信するための光入力端と、前記光入力端の横方向にある横端と、を備える、光ガイドと、前記横端に沿う鏡面反射板と、を備える照明システム。前記光入力端は、つや消しされる、前記請求項18に記載の照明システム。前記鏡面反射板は、前記横端の全体の長さを相当に延ばす、前記請求項18に記載の照明システム。前記鏡面反射板は、前記横端の表面である、前記請求項18に記載の照明システム。さらに、前記横端に隣接し及び前記光ガイド内に再度前記横端を出る光を反射するように構成される補助反射板を備える、前記請求項21に記載の照明システム。前記補助反射板は、前記横端から離れて配置される、前記請求項22に記載の照明システム。前記鏡面反射板は、前記光ガイドへ取り付けられる、前記請求項18に記載の照明システム。さらに、複数の光エミッタを備え、前記光エミッタは、約ΔLの距離によって離れて均一に配置され、ここで、但し、ΔLは、隣接する光エミッタの個々の位置の間の距離であり、Llightguideは、前記光ガイドの前記横端間の距離であり、Nlightemittersは、前記複数の光エミッタにおける光エミッタの数である、前記請求項18に記載の照明システム。さらに、前記光ガイドの主要な表面に向く前記主要な表面を持つディスプレイを備え、前記光ガイドは、前記光ガイドの外へ及び前記光ガイドの前記主要な表面へ光を排出するように構成される複数の光変更特性を備える、前記請求項18に記載の照明システム。さらに、前記光ガイドの前方にある表板であって、ここで、前記表板は、アンチグレア層、耐引っ掻き層、耐指紋層、タッチパネル、光学フィルタ層、光拡散層及びそれらの組み合わせから成る前記グループから選択される構造を含む、表板を、備える、前記請求項26に記載の表示システム。前記光ガイドは、前記表板と前記ディスプレイとの間に配置され、さらに、前記光ガイドと前記表板及び前記ディスプレイの1つ又は両者との間に配置される光学的外装層を備える、前記請求項1に記載の表示システム。前記第1鏡面反射表面は、前記第1横端の途切れない長さ上で鏡面反射を供給する、前記請求項18に記載の照明システム。光を受信するための光入力端であって、ここで、前記光入力端は、長さを持つ、光入力端と、第1横端であって、ここで、前記第1横端は、前記光入力端の横方向にある第1横端を含む光ガイドと、前記第1横端に沿う第1鏡面反射表面と、活動エリアを持つディスプレイであって、ここで、前記ディスプレイの主要な表面は、前記光ガイドの主要な表面に向き、前記光入力端の前記長さは、前記長さに向くピクセルエリアの相当する寸法よりも長い、ディスプレイと、前記光入力端内へ光を導入するように構成される複数の離れて配置される光エミッタと、を備え、ここで、前記光エミッタ間の距離は、約ΔLであり、ここで、但し、ΔLは、隣接する光エミッタの個々の位置の間の距離であり、Llightguideは、前記光ガイドの前記横端間の距離であり、Nlightemittersは、前記複数の光エミッタにおける光エミッタの数である、表示システム。前記光エミッタのそれぞれは、前記光入力端の幅と同一の軸上で相当に延びる高さの光発光面を持ち、ここで、前記光発光面の前記高さは、前記光入力端の前記幅より大きいか等しい、前記請求項30に記載の表示システム。前記第1鏡面反射表面は、前記第1横端の表面である、前記請求項30に記載の表示システム。さらに、前記入力端の横にあり前記第1横端の反対にある第2横端に沿う第2鏡面反射表面と、前記光入力端の反対にある前記光ガイドの側の他の光入力端と、前記他の光入力端内に光を導入するように構成される他の複数の光エミッタと、を備え、ここで、前記光エミッタ間の距離は、約ΔL’であって、ここで、但し、ΔLは、隣接する光エミッタの個々の位置の間の距離であり、Llightguideは、前記光ガイドの前記横端を分離する距離であり、Nlightemittersは、前記複数の光エミッタにおける光エミッタの数である、前記請求項30に記載の表示システム。前記複数の光エミッタは、前記光入力端に沿って中心に置かれる、前記請求項30に記載の表示システム。前記光ガイドは、前記ディスプレイの前にあり、前灯の一部であって、ここで、前記ディスプレイは、反射ディスプレイである、前記請求項30に記載の表示システム。光源と、前記光エミッタから光を受信するように構成される光入力端と、前記光入力端の横方向にある逆横端と、を持つ光ガイドと、前記横端の少なくとも1つに沿う光を反射するための手段と、を備える照明システム。前記光源は、前記光ガイド手段内に光を導入するように構成される複数の光エミッタを含む、前記請求項36に記載の照明システム。前記光ガイドは、ガラスから形成される、前記請求項37に記載の照明システム。光を反射するための前記手段は、前記横端の少なくとも1つの表面である、前記請求項37に記載の照明システム。前記表面は、前記横端の前記少なくとも1つに沿う少なくとも約5mmの途切れない距離上で鏡面反射を供給する、前記請求項39に記載の照明システム。光を反射するための前記手段は、前記横端から離れて配置される鏡面反射板を含む、前記請求項37に記載の照明システム。前記光入力端は、つや消しされる表面を含む、前記請求項37に記載の照明システム。鏡面反射板である光学端を持つ光ガイドを供給することであって、ここで、前記鏡面反射板は、前記横端の途切れない長さ上で鏡面反射を供給し、前記長さは約5mm又はそれ以上である、供給することと、前記光ガイドの光入力端で光エミッタを供給することと、を備え、ここで、前記光学端は、前記光入力端の横方向にある、照明システムを製造するための方法。前記光ガイドを供給することは、前記光ガイドの前記端で前記鏡面反射板を形成するため光学的に透明な材料をレーザカッティングすることを含む、前記請求項43に記載の方法。光学的に透明な前記材料は、ガラスである、前記請求項44に記載の方法。前記光ガイドを供給することは、前記光学端を研ぎ及び磨くことを含む、前記請求項43に記載の方法。前記光ガイドを供給することは、前記入力端の横方向にある前記光ガイドの端に隣接する前記鏡面反射板を取り付けることを含む、前記請求項43に記載の方法。前記鏡面反射板を取り付けることは、前記光入力端の横方向にある前記光ガイドの前記端から離れて配置される前記鏡面反射板をそのままにしておく、前記請求項47に記載の方法。前記光エミッタを供給することは、前記光入力端に沿って中心に置かれる複数の前記光エミッタを供給することを含み、ここで、前記光エミッタのピッチは、約ΔLであり、ここで、但し、ΔLは、隣接する光エミッタの個々の位置の間の距離であり、Llightguideは、前記光ガイドの前記横端間の距離であり、Nlightemittersは、前記複数の光エミッタにおける光エミッタの数である、前記請求項43に記載の方法。前記光ガイドを供給することは、前記光入力端状に光学的に拡散する表面を形成するために前記光入力端を粗くすることを含む、前記請求項43に記載の方法。次の詳細な記述は、革新的な態様を記述する目的のためある実施形態に向けられる。しかしながら、本文中の教示は、多数の異なる方法において適用されることができる。記述される実施形態は、動作たとえば、ビデオで又は固定たとえば、スチールイメージであろうとなかろうと、及び、テキスト、図、又は写真のいずれであっても、イメージを表示するために構成される任意の機器において実施され得る。特に、実施形態は、限定ではなく、モバイルテレフォン、携帯電話で可能となるマルチメディアインターネット、モバイルテレビレシーバ、無線機器、スマートフォン、ブルートゥース機器、携帯情報端末PDA、無線電子メールレシーバ、ハンドヘルド若しくはポータブルコンピュータ、ネットブック、ノートブック、スマートブック、プリンタ、コピー機、スキャナ、複写機、GPSレシーバ/ナビゲータ、カメラ、MP3プレイヤ、小型ビデオカメラ、ゲームコンソール、腕時計、時計、計算機、テレビモニタ、フラットパネルディスプレイ、電気リーディング機器たとえば、eリーダ、コンピュータモニタ、自動ディスプレイたとえば、走行距離計ディスプレイなど、コクピット制御並びに/若しくはディスプレイ、カメラビューディスプレイたとえば、乗り物におけるリアビューカメラのディスプレイ、電気的写真、電気的ビルボード若しくはサイン、プロジェクタ、建築構造、マイクロ波、冷蔵庫、ステレオシステム、カセットリーダ若しくはプレイヤ、DVDプレイヤ、CDプレイヤ、VCR、無線、ポータブルメモリチップ、洗濯機、ドライヤ、洗濯機/ドライヤ、パッケージングたとえば、MEMS及びノンMEMS、美的な構造たとえば、宝石の部分上のイメージの表示、及び様々な電気機械的システム機器のような様々な電気的機器において又は関連して実施され得ることが意図される。本文中の技術はまた、限定ではなく、電気的スイッチ機器、無線周波数フィルタ、センサ、加速度測定器、ジャイロスコープ、モーションセンサ機器、磁力探知機、コンシューマ電子装置に関する慣性コンポーネント、コンシューマ電子装置製品の一部、バラクタ、液晶機器、電気泳動機器、ドライブスキーム、製造プロセス、電気的テスト装備のようなノンディスプレイアプリケーションにおいて使用されることができる。したがって、教示は、図において単に描かれる実施形態に限定されることを意図されず、しかし代わりに当業者に容易に明らかであるように広い適用性を持つ。いくつかの実施形態において、照明システムは、光を分配するため光ガイドに供給される。1つの態様において、光ガイドは、光が導入される第1光入力端と、第1光入力端の横方向にある横端とを持つ。横端の1つ又は両者は、滑らかで、鏡面反射板として動作し、及び/又は横端の1つ又は両者を侵害する光を反射するために、取り付けられる鏡面反射板を持つことができる。第1光入力端は、粗いことができ、それによって隣接する光エミッタのアレイに拡散干渉を供給する。光エミッタは、約ΔLである光エミッタのピッチにより、第1光入力端に沿って配置され中心に置かれ、ここで、ΔLは、光エミッタの数によって分割される光ガイドの横端間の距離と等しい。光ガイドは、ディスプレイエリアを持つディスプレイのスタックにおいて配置されることができる。光エミッタアレイによってカバーされる長さは、ディスプレイの表示エリアを通じて広がることができる。それ自身の拡散表面を備える第2光入力端は、第2光入力端に沿って中心に配置され及び均一に配置される第2の複数の光エミッタにより、第1光入力端に繁体の光ガイドのサイドに配置されることができる。光エミッタは、光入力端を通じて光ガイドへ光を導入する。光ガイドは、光ガイドの外側の光の方向を変える光変更特性により供給されることができる。いくつかの実施形態において、方向を変えられる光は、ディスプレイを照らすために適用されることができる。ある実施形態において、ディスプレイは、光ガイドの基礎をなす反射型ディプレイである。この開示において記述される技術主題の個々の実施形態は、次の潜在的な利点の1つ又はそれ以上を実現するために実施される。拡散光入力端は、光ガイドに入射する光を拡散させることができ、それによって特に光入力端に近い領域において、光ガイド内の光分布の均一さを上昇させる。光が光ガイドを通じて広まるように、横端の鏡面反射板は、アーティファクトを有する光反射を供給せず、反射はまた、仮想の光源のように動作し、ここで、それは、特に光入力端からより遠い領域において、光ガイド内の光の均一な分布をさらに容易にすることができる。加えて、光エミッタの間隔と配置とは、光ガイドと光ガイドを横切る暗いX型のパターンのコーナーで不均一を減少させ又は除去することに役立つことができる。光ガイド内の光分布のより大きな均一さは、ディスプレイのような、物を照らすために光ガイドから排出される光の均一さを上昇させる。したがって、ディスプレイの高い均一な照明は、いくつかの実施形態において達成される。記述される実施形態が適用され得る適切なMEMS機器の1つの例は、反射型表示機器である。反射型表示放置は、光学的干渉の原理を使用して入射光を選択的に吸収し及び/又は反射するため分岐干渉変調器IMODを組み込むことができる。IMODは、吸収体、吸収体に関連して移動可能である反射板、及び吸収体と反射板との間に限定される光学的に反響するくぼみを含むことができる。反射板は、2つ又はそれ以上の異なる位置へ移動されることができ、ここでそれらは、光学的に反響するくぼみのサイズを変化させることができ、それによって分岐干渉変調器の反射に影響を及ぼす。IMODの反射率の幅は、異なる色を生成するため可視波長に通じてシフトされることができる相当に幅の広いスペクトル帯を生成することができる。スペクトル帯の位置は、光学的に反響するくぼみに厚さを変えることによって、即ち、反射板の位置を変えることによって、調整されることができる。図1は、分岐干渉変調器IMOD表示機器の一列のピクセルにおいて2つの隣接するピクセルを描くアイソメトリックビューに例を示す。IMOD表示機器は、1つ又はそれ以上の分岐干渉MEMS表示用を含む。これらの機器において、MEMS表示要素のピクセルは、光る又は暗い状態の何れかであることができる。光る緩和、開く又はオン状態において、表示要素は、たとえば、ユーザへの、入射可視光の大部分を反射する。逆に、暗い作動、閉じる又はオフ状態において、表示要素は、入射可視光をほとんど反射しない。いくつかの実施形態において、オン及びオフ状態の光反射率プロパティは、受信され得る。MEMSピクセルは、黒及び白に加えて色表示を可能にする特定の波長で主に反射するために構成されることができる。IMOD表示機器は、IMODの行/列アレイを含むことができる。各IMODは、反射層のペア、即ち、空間ギャップまたは光学ギャップ又はくぼみと呼ばれるから互いに変化し及び制御可能な距離に配置される、移動可能な反射層及び固定の部分的な反射層、を含むことができる。移動可能な反射層は、少なくとも2つの位置の間で移動され得る。第1位置、即ち、緩和位置、において、移動可能な反射層は、固定の部分的な反射層から比較的大きな距離に配置されることができる。第2位置、即ち、作動位置、において、移動可能な反射層は、部分的な反射層のより近くに位置されることができる。2つの層から反射する入射光は、移動可能な反射層の位置に依存して有益に又は有害に干渉し、各ピクセルに関してすべて反射又は非反射状態の何れかを生成する。いくつかの実施形態において、IMODは、作動されない場合に反射状態であり得、可視スペクトル内で光を反射し、作動される場合に暗い状態であり得、可視レンジの外側の光たとえば、赤外線を反射する。いくつかの他の実施形態において、しかしながら、IMODは、作動されない場合に暗い状態であり、作動される場合に反射状態であり得る。いくつかの実施形態において、印加される電圧の導入は、状態を変化させるためにピクセルを動作させることができる。いくつかの他の実施形態において、印加される電荷は、状態を変化させるためにピクセルを動作させることができる。図1におけるピクセルアレイの描かれる一部は、2つの隣接する分岐干渉変調器12を含む。示されるように左にあるIMOD12において、移動可能な反射層14は、光学スタック16から所定の距離で緩和位置において示され、ここで、それは、部分的な反射層を含む。左にあるIMOD12を横切って印加される電圧V0は、移動可能な反射層14の作動を引き起こすには不十分である。右にあるIMOD12において、移動可能な反射層14は、光学スタック16に近い又は隣接する作動位置において示される。右にあるIMOD12を横切って印加される電圧Vbiasは、作動位置において移動可能な反射層を維持するのに十分である。図1において、ピクセル12の反射プロパティは、ピクセル12上に入射する光を示す矢印13と左にあるピクセル12から反射する光15とによって一般に示される。詳細に示されないが、ピクセル12上に入射する光13の多くは、光学スタック16へ、透明基板を通じて送信されるであろうことは、当業者によって理解されるだろう。光学スタック16上に入射する光の一部は、光学スタック16の部分的な反射層を通じて送信されるだろうし、一部は、透明基板20を通じて戻るように反射するである。光学スタック16を通じて送信される光13の一部は、透明基板20へ及び通じて戻るように、移動可能な反射層14で反射されるだろう。光学スタック16の部分的な反射層から反射される光と移動可能な反射層14から反射される光との間の有益な又は有害な干渉は、ピクセル12から反射される光15の複数の波長を決定するだろう。光学スタック16は、単一の層又はいくつかの層を含むことができる。複数の層は、電極層、部分的に反射する並びに部分的に透明な層、及び透明絶縁層の1つ又はそれ以上を含むことができる。いくつかの実施形態において、光学スタック16は、電気的に伝導し、部分的に透明であり、及び、部分的に反射し、たとえば、透明基板20に上の層の1つ又はそれ以上を置くことによって、作成され得る。電極層は、様々な金属、たとえば、酸化インジウムスズ、のような様々な金属から形成されることができる。部分的な反射層は、様々な金属、たとえば、クロム、半導体、絶縁体、のような、部分的に反射する様々な金属から形成されることができる。部分的な反射層は、金属の1つ又はそれ以上の層から形成されることができ、各層は、単一の金属又は金属の組み合わせで形成されることができる。いくつかの実施形態において、光学スナック16は、光学吸収体及び導体として役立つ金属又は半導体の単一の半透明層を含むことができるが、異なるより伝導の層又は部分たとえば、光学スタック16の、又は、IMODの他の構造のは、IMODピクセル間で信号を運ぶために役に立つことができる。光学スタック16はまた、1つ又はそれ以上の伝導層又は伝導/吸収層をカバーする1つ又はそれ以上の遮断又は絶縁層を含むことができる。いくつかの実施形態において、光学スタック16の複数の層は、平行なストリップにパターンづけられることができ、以下にさらに記述するように表示機器において行電極を形成し得る。当業者によって理解されるように、パターンづけられるという用語は、エッチング処理はもちろんマスキングを示すために本文中で使用される。いくつかの実施形態において、アルミニウムのような、非常に伝導がよく反射する金属は、移動可能な反射層14に使用され得、これらのストリップは、表示機器において列電圧を形成し得る。移動可能な反射層14は、ポスト18のトップに置かれる列とポスト18間に置かれる干渉する犠牲的な材料を形成するため置かれる金属層又は複数の層光学スタック16の行電極と直行するの平行なストリップのシリーズとして形成される。犠牲的な材料がエッチングされなくなる場合、限定されるギャップ19又は光学的なくぼみは、移動可能な反射層14と光学スタック16との間に形成されることができる。いくつかの実施形態において、ポスト18間の間隔は、1-1000umのオーダであり得るが、ギャップ19は、10,000オングストロームÅ>のオーダであり得る。いくつかの実施形態において、IMODの各ピクセルは、作動される又は緩和される状態であるかに関わらず、本質的には、固定及び動作する反射層によって形成される容量である。電圧が印加されない場合、移動可能な反射層14aは、移動可能な反射層14と光学スタック16との間のギャップ19により、図1において左にあるピクセル12によって示されるように、機械的な緩和される状態を維持する。しかしながら、ポテンシャルギャップ、たとえば、電圧、が少なくとも選択される行及び列に適用される場合、相当するピクセルでの行及び列電極の交点で形成される容量は、チャージされ、静電力は、一緒に電極を引く。印加される電圧が閾値を超える場合、移動可能な反射層14は、光学スタック16の近くに又は反対に変形し及び移動することができる。光学スタック16内の絶縁層図視されないは、図1において右にある作動されるピクセルによって示されるように、層14と16との間の分離距離を短くなくことを妨げ、制御し得る。振る舞いは、適用される潜在的な差と正反対にもかかわらず同じである。アレイにおけるピクセルのシリーズは、行又は列としてのいくつかの例において言及され得、当業者は、行としての1つの方向と列としての他の方向とに言及することは、恣意的であることを容易に理解する。言い換えると、いくつかのオリエンテーションにおいて、行は列と考えられることができ、列は行と考えられる。さらに、表示要素は、直交する行及び列アレイにおいて均等に調整され、又は、たとえば、他のものに関連するあるあるポテンシャルオフセットモザイクを持つ、非線形な構成において調整され得る。アレイ及びモザイクという用語は、いずれの構成を示し得る。したがって、ディスプレイがアレイ又はモザイクを含むことを示されるが、要素自身は、任意の例において、他のものと直行して調整され、又は、均一に分布される必要はないが、非対称な形状及び非平行的に分配される要素を持つ調整を含み得る。図2は、3×3分岐干渉変調器ディプレイを組み込む電子機器を示すシステムブロック図の例を示す。電子機器は、1つ又はそれ以上のソフトウェアモジュールを実行するために構成され得るプロセッサ21を含む。動作システムを実行することに加えて、プロセッサ21は、ウェブブラウザ、テレフォンアプリケーション、イーメールプログラム、又は任意の他のソフトウェアアプリケーションを含む、1つ又はそれ以上のソフトウェアアプリケーションを実行するために構成され得る。プロセッサ21は、アレイドライバ22と通信するように構成されることができる。アレイドライバ22は、たとえばディスプレイアレイ又はパネル30へ信号を供給する行ドライバ回路24及び列ドライバ回路26を含むことができる。図1において示されるIMOD表示機器のクロスセクションは、図2におけるライン1-1によって示される。図2は、明確さの目的のためIMODの3×3アレイを示すが、表示アレイ30は、非常にタスのIMODを含み得、列と異なる行におけるIMODの数を持ち得、逆も同じである。図3は、図1の分岐干渉変調器へ印加される電圧に対する移動可能な反射層位置を示すブロック図の例を示す。MEMS分岐干渉変調器に関して、行/列即ち、列/セグメント書込プロシーシャは、図3において示されるようなこれらの機器のヒステリシスプロパティの利点があり得る。たとえば、分岐干渉変調器は、移動可能な反射層又は鏡に、緩和される状態から作動される状態へ変化させるため、約10ボルトの潜在的な差を供給し得る。電圧がその値から減少される場合、移動可能な反射層は、電圧がたとえば10V以下に戻るようにその状態を維持し、しかしながら、移動可能な反射層は、電圧が2ボルト以下になるまで完全には緩和しない。したがって、電圧の範囲、約3-7ボルト、は、図3において示されるように、機器が緩和される又は作動される状態のいずれかに安定する印加される電圧の窓がある場所に存在する。これは、ヒステリシス窓又は、安定性ウィンドウと本文中で呼ばれる。図3のヒステリシスの特徴を持つ表示アレイ30に関して、与えられる行にアドレスを指定する中に作動されるべきアドレスを指定される行におけるピクセルは、約10ボルトの電圧差にさらされ、緩和されるべきピクセルは、ゼロボルトに近い電圧差にさらされるように、行/列書込プロシーシャは、一度に1つ又はそれ以上の行にアドレスを指定するように設計されることができる。アドレス指定の後、ピクセルが前にストロボ状態を維持するように、ピクセルは、安定した状態又は約5ボルトのバイアス電圧差にさらされる。この例において、アドレスを指定される後に、各ピクセルは、約3-7ボルトの安定性ウィンドウ内で潜在的な差を観察する。ヒステリシスプロパティの特徴は、たとえば、図1において示される、ピクセル設計に同一の印加される電圧状況の下で作動又は緩和先行存在状態のいずれに安定することを維持させることを可能にする。各IMODが、作動される又は緩和される状態であるかに関わらず、本質的に固定の又は移動する反射層によって形成される容量であるので、この安定した状態は、パワーを相当に消費し又はロスすることなくヒステリシス窓内に安定した電圧で保たれることができる。さらに、印加される潜在的な電圧が相当に固定され続けている場合、電流は、IMODピクセル内へ本質的にほとんど又は全く流れない。いくつかの実施形態において、イメージのフレームは、与えられる行におけるピクセルの状態への所望の変化もしあればに従って、列電極のセットに沿ってセグメント電圧の形でデータ信号を適用することによって作成され得る。フレームが一度に1つの行に書かれるように、アレイの各行は、順々にアドレスを指定されることができる。第1行におけるピクセルに所望のデータを書き込むため、第1行におけるピクセルの所望の状態に相当するセグメント電圧は、列電圧に印加されることができ、特定の列電圧又は信号の形における第1行パルスは、第1行電極へ印加されることができる。セグメント電圧のセットは、そのとき第2行におけるピクセルの状態への所望の変化もしあればに相当するように変化されることができ、第2列電圧は、第2列電極へ印加されることができる。いくつかの実施形態において、第1行におけるピクセルは、列電圧にそって印加されるセグメント電圧における変化によって影響を及ぼされず、第1列電圧行パルス中にセットされた状態に留まる。この処理は、イメージフレームを生成するため一連の流れにおいて、行、あるいは、列の全体のシリーズに関して繰り返される。フレームは、秒ごとにフレームのいくつかの所望の回数でこの処理を繰り返し続けることによって新しいイメージデータにリフレッシュされ及び/又はアップデートされることができる。各ピクセルを横切って適用されるセグメント及び列信号の組み合わせつまり、各ピクセルを横切る潜在的な差は、各ピクセルの結果状態を決定する。図4は、様々な列及びセグメント電圧が印加される場合に分岐干渉変調器の様々な状態を示すテーブルの例を示す。当業者によって容易に理解されるように、セグメント電圧は、列電極又は行電極の何れかに印加されることができ、列電圧は、列電極又は行電極の他のものに印加されることができる。図4において図5Bにおいて示されるタイミングブロック図においてはもちろん示されるように、放出電圧VCRELは、コモンラインに沿って印加される場合に、セグメントライン、即ち、ハイセグメント電圧VSH及びローセグメント電圧VSL、に沿って印加される電圧にもかかわらず、コモンラインに沿う全ての分岐干渉変調器要素は、緩和される状態に配置され、あるいはまた、放出または非作動状態と呼ばれるだろう。特に、放出電圧VCRELは、コモンラインに沿って印加される場合、変調器を横切る潜在的な電圧あるいはまたピクセル電圧と呼ばれるは、ハイセグメント電圧VSHとローセグメント電圧VSLとがそのピクセルに相当するセグメントラインに沿って印加される場合の両者の場合に緩和ウィンドウ図3参照、また放出窓とも呼ばれる内にある。ハイホールド電圧VCHOLDH又はローホールド電圧VCHOLDL保たれる電圧がコモンラインに印加される場合、分岐干渉変調器の状態は、一定のままでいるだろう。たとえば、緩和IMODは、緩和位置においてそのままでいるだろうし、作動IMODは、作動位置においてそのままでいるだろう。ハイセグメント電圧VSHとローセグメント電圧VSLとが相当するセグメントラインに沿って印加される場合の両者の場合にピクセル電圧が安定性ウィンドウ内のままでいるように、保たれる電圧は、選択されることができる。したがって、セグメント電圧変動、即ち、ハイセグメント電圧VSHとローセグメント電圧VSLとの差、は、ポジティブ又はネガティブ安定性ウィンドウの何れかの幅よりも小さい。ハイアドレッシング電圧VCADDH又はローアドレッシング電圧VCADDLのような、アドレッシング又は作動電圧がコモンラインに印加される場合、データは、各セグメントラインに沿ったセグメント電圧の適用によってそのラインに沿って変調器へ選択的に書かれることができる。作動は、印加されるセグメント電圧に依存するように、セグメント電圧は、選択され得る。アドレッシング電圧がコモンラインに沿って印加される場合、セグメント電圧の適用は、安定性ウィンドウ内にピクセル電圧を結果として生じ、ピクセルに非作動のままでいさせるだろう。反対に、他のセグメント電圧の適用は、安定性ウィンドウを超えたピクセル電圧を結果として生じ、ピクセルの作動を結果として生じるだろう。作動の原因となる特定のセグメント電圧は、アドレッシング電圧が使用されるかに依存して変化することができる。いくつかの実施形態において、ハイアドレッシング電圧VCADDHが、コモンラインに沿って印される場合、ハイセグメント電圧VSHの適用は、変調器にその現在の位置を維持させるが、ローセグメント電圧VSLの適用は、変調器の作動の原因となる。結果として、セグメント電圧の効果は、変調器の作動の原因となるハイセグメント電圧VSHと変調器の状態で効果のない即ち、安定を維持するローセグメント電圧VSLとにより、ローアドレッシング電圧VCADDLが適用される場合に逆になることができる。いくつかの実施形態において、変調器を横切る同一の極性の潜在的な差をいつも生成する、保たれる電圧、アドレス電圧、及びセグメント電圧は、使用され得る。いくつかの他の実施形態において、変調器の潜在的な差の極性を交互にする信号は、使用されることができる。変調器を横切る逆極性の交代つまり、書込プロシーシャの極性の交代は、単一の極性の繰り返される書込動作の後に生じる電荷蓄積を減少させ又は抑制し得る。図5Aは、図2の3×3の分岐干渉変調器ディスプレイにおいて表示データのフレームを示すブロック図の例である。図5Bは、図5Aにおいて示される表示データのフレームを書くために使用され得る列及びセグメント信号に関するタイミングブロック図の例を示す。信号は、たとえば、図2の3×3アレイに適用されることができ、ここでそれは、図5Aにおいて示されるライン時間60e表示調整を最終的には結果として生じるだろう。図5Aにおける作動変調器は、暗い状態であり、即ち、反射される光の相当の部分は、たとえば、見る人へ、暗い外観を結果として生じるために可視スペクトルの外側である。図5Aにおいて示されるフレームに書き込む前に、ピクセルは、任意の状態であることができるが、図5Bのタイミングブロックにおいて示される書込プロシーシャは、各変調器が第1ライン時間60aの前に放出され非作動状態に属していることを推定する。第1ライン時間60aの間に、放出電圧70は、コモンライン1で印加され、コモンライン2で印加される電圧は、ハイホールド電圧72で開始し、放出電圧70へ移動し、ローホールド電圧76は、コモンライン3に沿って印加される。したがって、コモンライン1に沿った変調器列1、セグメント11,2及び1,3は、第1ライン時間60aの間ずっと緩和又は非動作状態を維持し、コモンライン2に沿った変調器2,1、2,2及び2,3は、緩和される状態へ移動するだろうし、コモンライン3に沿った変調器3,1、3,2及び3,3は、それらの前の状態を維持するだろう。図4に関連して、コモンライン1,2又は3は、ライン時間60a即ち、VCREL-緩和及びVCHOLDL-安定の間に作動の原因となる電圧レベルにさらされないように、セグメントライン1,2及び3に沿って印加されるセグメント電圧は、分岐干渉変調器の状態で効果を持たないだろう。第2ライン時間60bの間に、コモンライン1の電圧は、ハイホールド電圧72へ移動し、コモンライン1に沿った全ての変調器は、アドレッシング又は作動電圧がコモンライン1に沿って印加されたので印加されるセグメント電圧にも関わらず緩和される状態を維持する。コモンライン2に沿う変調器は、放出電圧70の適用のせいで緩和される状態を維持し、コモンライン3に沿う変調器3,1、3,2及び3,3は、コモンライン3に沿う電圧が放出電圧70へ移動する場合に緩和するだろう。第3ライン時間60cの間に、コモンライン1は、コモンライン1上でハイアドレス電圧74を印加することによってアドレスを指定される。ローセグメント電圧64がアドレス電圧の適用の間にセグメントライン1及び2に沿って適用されるので、変調器1,1及び1,2を横切るピクセル電圧は、ポジティブ安定性ウィンドウのハイエンドよりも大きく、変調器1,1及び1,2は、作動される。逆に、ハイセグメント電圧62がセグメントライン3によって印加されるので、変調器1,3を横切るピクセル電圧は、変調器1,1及び1,2のそれよりも小さく、変調器のポジティブ安定性ウィンドウ内であることを維持し、したがって変調器1,3は、緩和を維持する。また、ライン時間60cの間に、コモンライン2に沿う電圧は、ローホールド電圧76へ減少し、コモンライン3に沿う電圧は、放出電圧70で維持し、緩和位置においてコモンライン2及び3に沿う変調器を残す。第4ライン時間60dの間に、コモンライン1上の電圧は、ハイホールド電圧72へ戻り、それらにそれぞれアドレスを指定される状態におけるコモンライン1に沿う変調器を残す。コモンライン2上の電圧は、ローアドレス電圧78へ減少させられる。ハイセグメント電圧62がセグメントライン2に沿って印加されるので、変調器2,2を横切るピクセル電圧は、変調器のネガティブ安定性ウィンドウの下端以下であって、変調器に作動させる。逆に、ローセグメント電圧64がセグメントライン1及び3に沿って印加されるので、変調器2,1及び2,3は、緩和位置で維持する。コモンライン3上の電圧は、ハイホールド電圧72へ上昇し、緩和される状態においてコモンライン3に沿う変調器を残す。最終的に、第5ライン時間60eの間に、コモンライン1上の電圧は、ハイホールド電圧72で維持し、コモンライン2上の電圧は、ローホールド電圧76で維持し、それらそれぞれにアドレスを指定される状態においてコモンライン1及び2に沿う変調器を残す。コモンライン3上の電圧は、コモンライン3に沿って変調器にアドレスを指定するためハイアドレス電圧74へ上昇する。ローセグメント電圧64がセグメントライン2及び3上で印加されるように、一方では、セグメントライン1に沿って印加されるハイセグメント電圧62は、変調器3,1に緩和位置において維持させる。したがって、第5ライン時間60eの終わりで、3×3ピクセルアレイは、図5Aにおいて示される状態であり、他のコモンライン示されないに沿って変調器がアドレスを指定されている場合に生じ得るセグメント電圧における変化にもかかわらず、ホールド電圧がコモンラインに沿って印加される限りその状態に維持するだろう。図5Bのタイミングブロック図において、与えられる書込プロシーシャ即ち、ライン時間60a-60eは、ハイホールド及びアドレス電圧、又は、ローホールド及びアドレス電圧の何れかの使用を含むことができる。書込プロシーシャが与えられるコモンラインに関して完成されている及び、列電圧は、作動電圧として同一の極性を持つホールド電圧にセットされると、ピクセル電圧は、与えられる安定性ウィンドウ内で維持し、放出電圧がそのコモンラインに印加されるまでに緩和ウィンドウを通じてパスしない。さらに、各変調器が変調器にアドレスを指定する前に書込プロシーシャの一部として放出されるように、変調器の作動時間、むしろ放出時間、は、必要なライン時間を決定し得る。特に、変調器の放出時間が作動時間よりも大きい実施形態において、放出電圧は、図5Bにおいて描かれるように、単一のライン時間よりも長く印加され得る。いくつかの他の実施形態において、コモンライン又はセグメントに沿って印加される電圧は、作動における変化の原因となるように変化し、異なる色の変調器のような、異なる変調器の電圧を放出し得る。上に列挙される原理に従って動作する分岐干渉変調器の構造の詳細は、広く変化し得る。たとえば、図6A-6Eあ、移動可能な反射層14及びその支持構造を含む、分岐干渉変調器の実施形態を変化させるクロスセクションの例を示す。図6Aは、図1の分岐干渉変調器ディスプレイの部分的クロスセクションの例を示し、ここで、金属材料のストリップ、即ち、移動可能な反射層14、は、基板20から直交に拡張する支持18に配置される。図6Bにおいて、各IMODの移動可能な反射層14は、形状において一般的に正方形又は長方形であり、テザー32に、コーナーに又は近くで支持するために取り付けられる。図6Cにおいて、移動可能な反射層14は、形状において一般的に正方形または長方形であり、変形可能層34から吊るされ、こkで、そらは、固定金属を含み得る。変形可能層34は、移動可能な反射層14の周囲に基板20に、直接的に又は非直接的に、接続することができる。これらの接続は、支持ポストと本文中に呼ばれる。図6Cにおいて示される実施形態は、その機械的な機能から移動可能な反射層14の光学的な機能を分離することから得る追加の利益を持ち、ここで、それらは、変形可能層34によって運び出される。この分離は、反射層14のために使用される構造設計及び材料と他のものの独立的に最適化されるためため変形可能層34のために使用されるそれらとを可能にする。図6Dは、IMODの他の例を示し、ここで、移動可能な反射層14は、反射サブ層14aを含む。移動可能な反射層14は、支持ポスト18のような、支持構造に支えられる。支持ポスト18は、より低い固定の電極即ち、示されるIMODにおける光学スタック16の一部から移動可能な反射層14の分離を供給するので、ギャップ19は、たとえば、移動可能な反射層14が緩和位置にある場合に、移動可能な反射層14と光学スタック16との間に形成される。移動可能な反射層14はまた、伝導層14cを含むことができ、ここでそれは、電極及び支持層14bとして役立つように構成され得る。この例において、伝導層14は、基板20から遠方の、支持層14bの1つのサイドに配置され、反射サブ層14aは、基板20から近い、支持層14bの他のサイドに配置される。いくつかの実施形態において、反射サブ層14aは、伝導であることができ、支持層14bと光学スタック16との間に配置されることができる。支持層14bは、絶縁材料、たとえば、酸窒化ケイ素SiON又は二酸化ケイ素SiO2、の1つ又はそれ以上の層を含むことができる。いくつかの実施形態において、支持層14bは、たとえば、SiO2/SiON/SiO2の3層スタックのような、層のスタックであることができる。反射サブ層14aと伝導層14cとの何れか又は両者は、たとえば、約Cu5を持つAl合金、又は他の反射金属材料を含むことができる。上で及び下で伝導層14aと14cとを使用すると、絶縁支持層14bは、荷重をバランスし、強化された伝導性を供給することができる。いくつかの実施形態において、反射サブ層14aと伝導層14cとは、移動可能な反射層14内に特定の荷重プロファイルを達成するような、様々な設計目的のため異なる材料で形成されることができる。図6Dにおいて示されるように、いくつかの実施形態はまた、ブラックマスク構造23を含むことができる。ブラックマスク構造23は、周囲の又は時折の光を吸収するため光学的に活動しない領域たとえば、ピクセルの間、又はポスト18の下において形成されることができる。ブラックマスク構造23はまた、ディスプレイの活動しない部分から反射され又は通じて送信される光を抑制することによって表示機器の光学的プロパティを改善することができ、それによって、コントラスト比を上昇させる。追加的に、ブラックマスク構造23は、伝導であって、電気的バス層として機能するように構成されることができる。いくつかの実施形態において、行電極は、接続される行電極の抵抗を減少させるためブラックマスク構造23に接続されることができる。ブラックマスク構造23は、堆積又はパターン化技術を含む、様々な方法を使用して形成されることができる。ブラックマスク構造23は、1つ又はそれ以上の層を含むことができる。たとえば、いくつかの実施形態において、ブラックマスク構造23は、それぞれ、約30-80Å、500-1000Å及び500-6000Åの厚さを持つ、光学的吸収体として役立つクロムモリブデンMoCr層と、SiO2層と、反射板及びバス層として役立つアルミニウム化合物と、を含むことができる。1つ又はそれ以上の層は、たとえば、MoCr及びSiO2層のためのCF4及び/又はO2と、アルミニウム化合物層のためのCl2及び/BCl3を含む、写真平板及びドライエッチングを含む、様々な技術を使用してパターン化されることができる。いくつかの実施形態において、ブラックマスク構造23は、エタロン又は分岐干渉変調器の構造であることができる。そのような分岐干渉スタックブラックマスク構造23において、伝導吸収体は、各行又は列の光学スタック16においてより低い固定の電極間の信号を送信する又はバスするために使用されることができる。いくつかの実施形態において、スペーサ層35は、ブラックマスク23において伝導層から吸収体層を一般的に電気的に分離させるために役立つことができる。図6Eは、移動可能な反射層14が自ら支持するIMODの例を示す。図6Dと反対に、図6Eの実施形態は、支持ポスト18を含まない。代わりに、移動可能な反射層14は、多数の位置で基礎をなす光学スタック16に接触し、移動可能な反射層14の湾曲は、分岐干渉変調器を横切る電圧が作動の原因となるのに不十分である場合に移動可能な反射層14が図6Eの非作動位置へ戻る十分な支持を供給する。複数のいくつかの異なる層を含み得る光学スタック16は、光学吸収体16a及び絶縁体16bを含む明確さのためにここに示される。いくつかの実施形態において、光学吸収体16aは、固定の電極として及び部分的な反射層としての両者として役立つことができる。図6A-6Eにおいて示されるそのような実施形態において、IMODは、イメージが透明基板20の前側、即ち、変調器が調整される側と逆側、から見られる、ダイレクトビュー機器として作用する。これらの実施形態において、機器の後ろ部分つまり、たとえば図6Cにおいて示される変形可能層34を含む移動可能な反射層14の後ろのディスプレイの任意の部分は、反射層14が機器のこれらの部分を光学的にシールドするので、表示機器のイメージクオリティに影響を与え、又はネガティブに作用することなく、設定され、動作されることができる。たとえば、いくつかの実施形態において、バス構造図視されないは、電圧アドレッシング及びそのようなアドレッシングから結果として生じる動きのような、変調器の電気機械的プロパティから変調器の光学プロパティを分離する能力を供給する移動可能な反射層14の後ろに含まれることができる。加えて、図6A-6Eの実施形態は、たとえば、パターン化のような処理を単純化することができる。図7は、分岐干渉変調器のため製造処理80を示すフローブロック図の例を示し、図8A-8Eは、そのような製造処理80の相当するステージのクロスセクション概念図の例を示す。いくつかの実施形態において、製造処理80は、図7に示されない他のブロックに加えて、たとえば、図1及び6において示される一般的なタイプの分岐干渉変調器を製造するために実施されることができる。図1、6及び7に関連して、処理80は、基板20の上で光学スタック16の構成を用いてブロック82で開始する。図8Aは、基板20の上で形成されるそのような光学スタック16を示す。基板20は、ガラス又はプラスチックのような透明基板であり得、それは、柔軟である又は比較的固く及び強固であり得、光学スタック16の効果的な構成を容易にするため、準備処理、たとえば、クリーニング、の前に受けさせされる。上に議論されるように、光学スタック16は、電気的に伝導し、部分的に透明で、部分的に反射することができ、たとえば、透明基板20上に所望のプロパティを持つ1つ又はそれ以上の層を配置することによって、作成され得る。図8Aにおいて、より多くの又はより少ないサブ層がいくつかの他の実施形態において、含まれ得るが、光学スタック16は、サブ層16a及び16bを持つ多層構造を含む。いくつかの実施形態において、サブ層16a、16bの1つは、組み合わされる導体/吸収体サブ層16aのような、光学的吸収及び伝導プロパティの両者によって構成されることができる。加えて、サブ層16a、16bの1つ又はそれ以上は、平行なストリップにパターン化されることができ、表示機器における行電極を形成し得る。そのようなパターン化は、マスキング及びエッチング処理又は技術において知られる他の適切な処理によって実行されることができる。いくつかの実施形態において、サブ層16a、16bの1つは、1つ又はそれ以上の金属層たとえば、1つ又はそれ以上の反射及び/又は導電層の上に配置されるサブ層16bのような、隔離又は絶縁層であることができる。加えて、光学スタック16は、ディスプレイの行を形成する個々の平行なストリップにパターン化されることができる。処理80は、光学スタック16の上で犠牲層25の構成を用いてブロック84で継続する。犠牲層25は、くぼみ19を形成するために後に取り除かれたとえば、ブロック90で、したがって、犠牲層25は、図1において示される結果として生じる分岐干渉変調器において示されない。図8Bは、光学スタック16の上に形成される犠牲層25を含む部分的に作成される機器を示す。光学スタック16の上の犠牲層25の構成は、所望の設計サイズを持つギャップ又はくぼみ19図1及び8Eも参照を後の除去の後に供給するために選択される厚さにおいて、モリブデンMo又はアモルファスシリコンSiのような二フッ化キセノンXeF2エッチアブル材料の堆積を含み得る。犠牲層の堆積は、物理気相成長PVD、たとえば、スパッタリング、プラズマ促進化学気相成長PECVD、サーマル化学気相成長サーマルCVD、又は遠心被覆のような堆積技術を使用して実行され得る。処理80は、支持構造、たとえば、図1、6及び8Cにおいて示されるようなポスト18、の構成によりブロック86で継続する。ポスト18の構成は、支持構造の隙間を形成するため犠牲層25をパターン化すること、そのときPVD、PECVD、サーマルCVD又は遠心被覆のような堆積技術を使用して、ポスト18を形成するため隙間に材料たとえば、ポリマー又は無機材料、たとえば、酸化ケイ素を堆積することを含み得る。いくつかの実施形態において、犠牲層において形成される支持構造の隙間は、犠牲層25と光学スタック20との両者を通じて基礎基板へ広がることができ、そのためポスト18のより下端は、図6Aにおいて示されるように基板20に接触する。あるいはまた、図8Cにおいて描かれるように、犠牲層25において形成される隙間は、光学スタック16でなく犠牲層25を通じて広がることができる。たとえば、図8Eは、光学スタック16のより上方の表面と接触している支持ポスト18の下端を示す。ポスト18又は他の支持構造は、犠牲層25上に支持構造材料の層を堆積させることと犠牲層25において隙間から離れて配置される支持構造材料の一部をパターン化することとによって形成され得る。支持構造は、図8Cにおいて示されるように、隙間内に配置され得、しかしまた、犠牲層25の一部上に、少なくとも部分的に、広がることができる。上に示されるように、犠牲層25及び/又は支持ポスト18のパターン化は、パターン化又はエッチング処理によって実行されることができ、しかしまた、代わりのエッチング方法によって実行され得る。処理80は、図1、6及び8Dにおいて示される移動可能な反射層14のような移動可能な反射層又は膜の構成によりブロック88で継続する。移動可能な反射層14は、1つ又はそれ以上のパターン化、マスキング及び/又はエッチングステップに加えて、1つ又はそれ以上の堆積ステップ、たとえば、反射層たとえば、アルミニウム、又はアルミニウム化合物堆積、を用いることによって形成され得る。移動可能な反射層14は、電気的に伝導であって、電気的伝導層と呼ばれることができる。いくつかの実施形態において、移動可能な反射層14は、図8Dにおいて示されるような複数のサブ層14a、14b、14cを含み得る。いくつかの実施形態において、サブ層14a、14cのよう、1つ又はそれ以上のサブ層は、それらの光学プロパティのために選択される高反射サブ層を含み得、他のサブ層14bは、その機械的プロパティのために選択される機械的サブ層を含み得る。犠牲層25がブロック88で形成される部分的に製造される分岐干渉変調器においてまだ存在するので、移動可能な反射層14は、このステージで一般的に移動可能でない。犠牲層25を含む部分的に製造されるIMODはまた、非放出IMODと本文中では呼ばれ得る。図1に関連して上に記述されるように、移動可能な反射層14は、ディスプレイの列を形成する個々の平行なストリップへパターン化されることができる。処理80は、くぼみ、たとえば、図1、6及び8Eにおいて示されるようなくぼみ19の構成によりブロック90で継続する。くぼみ19は、エッチング液へ犠牲材料25ブロック84で堆積されるをさらすことによって形成され得る。たとえば、Mo又は非結晶ケイ素のようなエッチアブル犠牲材料は、ドライ化学的エッチングによって、たとえば、くぼみ19を囲む構造との関連で一般的に選択的に取り除かれる、材料の所望の量を取り除くために効果的な期間に固形のXeF2から運ばれる気体のような、ガス状又は気体のようなエッチング液に犠牲層25をさらすことによって、取り除かれ得る。他のエッチング方法、たとえば、ウェットエッチング及び/又はプラズマエッチング、はまた、使用され得る。犠牲層25がブロック90の間に取り除かれるので、移動可能な反射層14は、このステージの後に一般的に移動可能である。犠牲材料の除去の後に、生じる完全に又は部分的に製造されるIMODは、放出IMODと本文中で呼ばれ得る。本文中で記述されるように、分岐干渉変調器は、反射表示要素として機能し得、いくつかの実施形態において、それらの動作のために周囲の光又は内部の照明を使用し得る。これらの実施形態のいくつかにおいて、照明源は、表示要素の前方に配置される光ガイド内へ光を向け、ここで、光は、その後は、照明要素へ再度向けられ得る。光ガイド内の光の分布は、光表示要素の輝度の均一さを決定するだろう。光ガイド内の光が均一でない分布又は強烈なプロフィールを持つ場合、光ガイドがディスプレイを照らすために適用される場合に、それは、光ガイド内でより暗い及びより明るい領域とその結果表示要素の乏しい照明を生成し得る。図9Aは、不均一な光分布を促進することができる光ガイド1010のトップダウンビューの例を示す。離れて配置される光エミッタ1020a及び1030aの2つのアレイ1020及び1030は、光ガイド1010の逆の光入力端1022及び1032内に光を導入するように構成される。光ガイド1010はまた、光入力端1022及び1032へ横断するエッジ1040及び1050を持つ。光ガイド1010及び光エミッタアレイ1020並びに1030は、ディスプレイ図視されないを照らすために利用されることができる照明システムを形成する。ディスプレイは、ピクセルがイメージを形成するためにある活動エリアを持つことができる。活動エリアは、図9Aにおいて数字1060によって表される。光ガイド1010内の光は、活動エリア1060を照らすために光ガイドの外側へ排除されることができる。光ガイド1010が光分布における様々な不均一によって苦しめられることは、知られている。図9Bは、不均一な光分布を持つ光ガイドのトップダウンビューの写真の例である。外径端1040及び1050の隣に、交互になる多い及び少ない光量の縞は、見られることができる。光入力端1022及び1032の隣に、クロスハッチパターンは、少ない量の光によって分離される多い光量の四角と一緒に見られることができる。加えて、X型の暗いパターンは、光ガイドの角から光ガイド1010を横切って対角線上に広がって見られることができる。理論によって限定されることなく、発明者は、何がこれら不均一を生じさせると信じられているかを特定している。いくつかの実施形態において、これら不均一は、減少され又は除去される。不均一の様々なあり得る原因は、最初に議論される。図9Aと9Bに継続して関連して、光ガイド1010は、材料のより大きなシートから形成され得る。たとえば、より大きなシートは、所望の寸法を持つ光ガイド1010を形成するため、ダイアモンドホイールを用いて、又は、材料に線を付けること及び切断することによって、カットされ得る。これら及び同様な方法によって形成されるエッジが、粗く、ピークと谷とを有する不均一なエッジを残すことができることは、知られている。図10Aは、ダイアモンドホイールを用いるカットによって形成される光ガイド端の例の写真を示す。特に、横端1050は、示される。横端1050は、カッティングホイールのカッティング動作によって原因とされるように信じられる対角縞を定義するピーク及び谷を持つ。これらの縞は、光を反射する場合にアーティファクトの原因となることができる。図10Bと関連して、図10Aの光ガイド1010のセクションのトップダウンビューの写真の例は示される。光エミッタ1020aは、光ガイド1010の光入力端1022内に光を導入する。横端1050は、光を不均一に反射し得るピーク及び谷図10Aを持つ。たとえば、各ピークは、光エミッタ1020aに向き光エミッタからの光を反射するサイドを持ち得るが、ピークの逆のサイドは、ピークの陰にあり、より少ない光を反射し得る。横端1050の不均一さの正味の効果は、図10Bにおいて示される。光エミッタ1020aによって導入される光は、光ガイド1010を横切って広がり、横端1050へ接触する。横端1050における不均一さは、光が不均一に反射されることの原因となる。不均一な光分布は、多い及び少ない光量の交互にある領域によって定義される反射される光の縞として容易に見られることができる。横端1050からの反射によって生じる不均一に加えて、暗いX型の光パターンは、光ガイド1010の全体を横切って存在し得る。図11は、光ガイドの1つのサイドの光量のパイロットに加えて、図10Bの光ガイドの全体のトップダウンビューの写真の例を示す。Xの先端は、光ガイド1010の角にある。理論によって限定されることなく、X型の暗い領域が、横端1040及び1050の関連で光エミッタ1020a及び1030aの位置によって生じさせされることは、信じられている。いくつかの取り決めにおいて、図9Aに再度関連して、光ガイド1010は、活動エリア1060より大きくなり得、ここでそれは、光入力端1032及び/又は1022と並ぶ寸法1062を持つ。光エミッタ1020a及び1030aからの光が活動エリア1060を照らすために簡単に使用されるので、光エミッタ1020a及び1030aは、活動エリア1060の角と並び得るが、寸法1062より大きな長さ1034を横切って広がらないこともあり得る。この配置は、光ガイド1010の角で暗い領域の原因となる。活動エリア1060が光ガイド1010のこれらの角へ広がらないこともあり得ることは、注意される。しかしながら、暗い領域が、図11において見られるように、角でのみに場所を限定されないことは、知られている。むしろ、横端1040及び1050から反射される光を用いて光エミッタアレイ1020及び1030から発せられる光の相互作用は、この暗い領域を、光ガイド1010を横切って対角線状に広げさせる。加えて、図11に関連して、光入力端1022及び1032の隣の光量は、多い光量の領域が少ない光量の領域によって分割されるクロスパッチパターンを展開し得る。光エミッタ1020a及び1030aが離れて配置され光エミッタ1020及び1030のアレイへ標準の最も大きい量で光を発するので、より少ない光は、光エミッタ1020aと1030aとの間に直接、光ガイド1010の領域内へ導入される。これは、高い及び低い輝度のその交互にある領域により、クロスハッチ効果の生成に寄与する。光ガイド1010へ入った後に、光は、光エミッタ1020a及び1030aからの距離により自然に広がり得る。結果として、クロスハッチ効果は、光エミッタ1020a及び1030aに直接隣接する領域において最も多く宣言される。様々な実施形態において、本文中に議論される様々な光分布の不均一に取り組むことができる。いくつかの実施形態において、光ガイドは、鏡面反射板として動作する滑らかな横端を供給される。鏡面反射板は、いくつかの実施形態において可視波長での光の鏡面反射板を供給することができ、この反射は、いくつかの実施形態において全反射によって生じることができる。図12は、滑らかな横端120及び130を備える光ガイド100を持つ照明システムのトップダウンビューの写真の例を示す。光は、光エミッタアレイ110によって光ガイド100内へ導入され、それは、複数の光エミッタ110aを含む。光エミッタ110aは、光入力表面112を通じて光ガイド100内に光を導入する。光エミッタ110aは、均一に間隔をあけて配置され、ΔLのピッチを持つ。図12において示されるように、光エミッタのピッチは、隣接する光エミッタ上の個々のポイント間の距離である。横端120及び130は、光入力表面の横方向にある光ガイド100のサイドを定義する。示されるように、これら端のそれぞれは、平面であって、異なる水平面において広がることができる。横端120及び130の1つ又は両者は、滑らかであって、鏡面反射板として機能する。反射は、いくつかの実施形態において全反射TIRによって生じ得る。いくつかの実施形態において、横端120及び130は、光ガイド100の、光入力端112と比較して、より長い寸法である。いくつかの他の実施形態において、横端120及び130は、光入力端112と比較して、より短い寸法であり得る。図12を継続して関連して、光ガイド100は、光学的に透明な材料の1つ又はそれ以上の層により形成されることができる。材料の例は、次の、アクリル、アクリエートコポリマ、紫外線硬化樹脂、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマ、ポリマ、有機物、無機物、ケイ酸塩、アルミナ、サファイア、ポリエチレンテレフタラートPET、ポリエチレンテレフタレートグリコールPET-G、オキシ窒化ケイ素、及び/又は、他の光学的に透明な材料を含む。いくつかの他の実施形態において、光学的に透明な材料は、ガラスである。光エミッタ110aは、限定ではなく、発光ダイオードLED、電球、レーザ、蛍光灯、又は、光エミッタの任意の他の形式のような発光機器であり得ある。いくつかの他の実施形態において、光入力端112の大部分に沿って広がる光バーの形式における単一の信号光エミッタ110a。ある実施形態において、光が全反射TIRによって光ガイド100内に反射するように、光の一部が光ガイド100の主要表面110aと比較して低度の各で光ガイド100の少なくとも一部を横切る方向において広がるように、光エミッタ110aからの光は、光ガイド100内へ導入される。図12に継続して関連して、横端120及び/又は130は、滑らかな表面を結果として生じる処理によって形成され得る。いくつかの実施形態において、横端120及び/又は130の表面は、滑らかで、鏡面反射板として機能し得る。滑らかな表面は、横端120及び/又は130が定義されるように形成され得、又は、端120及び130を定義した後の処理によって形成され得る。たとえば、横端120及び/又は130は、レーザカッティングによって定義されるレーザカット端であり得、ここで、レーザは、その端を形成するために材料を通じてたとえば、材料を溶かすことによって完全にカットする。いくつかの他の実施形態において、横端120及び/又は130は、カッティングホイール又は材料の1つに線を付けること及び切断することによるカッティングであって、ここで、それは、粗い又は不均一な表面を残し得るカッティングのような、任意の方法によって形成され得る。粗い又は不均一な表面は、そのとき、研ぐこと、又は、細かい砂を用いる研磨及び/又は表面を磨くことのような、滑らかにする処理を受ける必要があり得る。横端120及び/又は、いくつかの実施形態において、約0.1mm若しくはそれ以上、約0.5mm若しくはそれ以上、約1mm若しくはそれ以上、約5mm若しくはそれ以上、又は約10mm又はそれ以上の横端の途切れない長さで鏡面反射を供給する。鏡面反射のそのようなレベルは、横端の全体で存在し得る。いくつかの実施形態において、横端120及び/又は130は、それらの長さの大体全体で鏡面反射板として機能する。いくつかの実施形態において、横端は、横端の長さに沿う完全に歪曲していない可視光の反射からの低い誤差minordeviationsを持つ間に、鏡面反射板として機能し得る。たとえば、横端の長さを横切る1cmの長さで、全体としてこれらの誤差は、約1mmを超えない、約0.05mmを超えない、約0.03mmを超えない、約0.02mmを超えない、又は約0.01を超えない距離をカバーし得る。いくつかの実施形態において、完全に歪まない反射からの誤差によって生じる個々の光の縞の幅は、約1mmを超えない、約0.05mmを超えない、約0.03mmを超えない、約0.02mmを超えない、又は約0.01mmを超えない。鏡面反射を供給する横端は、滑らかな外観を持ち得る。図13Aは、レーザカッティングによって形成される光ガイドの端の写真の例を示す。光ガイド100の横端130は、その端の均一な外観で明らかなように、非常に滑らかである。横端130は、不均一な表面によって生じる反射アーティファクトを減少させるために鏡面反射板として機能する。図13Bは、図13Aにおいてまた示されるような光ガイド100のセクションのトップダウンビューの写真の例を示す。光エミッタ110aからの光は、光入力表面112を通じて光ガイド100内へ導入される。光は、光ガイド100を通じて広がり、横端130に影響を及ぼし、ここで、それは、反射される。横端130に影響を及ぼす光の均一によって決定される均一の角度により、横端130は、鏡面反射板として作用し、反射される光は、非常に均一である。いくつかの実施形態において、反射される光の均一さは、横端130に影響を与える光の均一さと相当にマッチする。図10Bにおいて示される不均一な端1050と比較すると、横端130から離れる反射によって生じるアーティファクトは、観測されない。多い又は少ない量の光の縞は、明確でない。したがって、滑らかな横端130は、不均一な表面から離れる反射によって生じる光の部鵜ぷにおいてアーティファクト及び不均一さを減少させ、又は、除去する。加えて、横端がまた、その端に沿って仮想の光エミッタを供給することによって均一さを上昇させることができることは、信じられる。アレイ110の光エミッタ110aは、離れて配置され、これらの光エミッタのイメージは、横端120及び/又は130に沿って異なる位置で反射される図12。当業者は、光がこれら反射されるイメージのそれぞれから広がり、それなりに、反射されるイメージが離れて配置される仮想の光エミッタ自身として機能することを認識するだろう。これは、光ガイド周辺の光エミッタの明確な数を上昇させ、それにより光ガイド100内の光分布の均一さを改善する影響を持つことができる。図14に関連して、実際の光エミッタは、光ガイド100の多数のサイドに位置されることができる。図14Aは、多数の光エミッタアレイを持つ光ガイド100の例を示す。アレイ110は、光入力端112にあり、光エミッタ140aの第2アレイ140は、逆にある光入力端142にある。光エミッタ140aは、ピッチΔLを持ち、ここでそれは、光エミッタ110aの隣接するものの間の分離として同一の値であることができ、又は、異なる値であり得るたとえば、光ガイド100の各サイド上の光エミッタの数が異なり、そのとき各サイドの光エミッタ間の分離が異なり得る。横端120及び130は、端112及び142の間の線にそってそれぞれ拡張し得る。横端120及び130は、距離150によって離れて配置され得、ここでそれはまた、いくつかの実施形態において端112及び142の長さであり得、又は、光ガイド100の角が曲げられ若しくは端112及び142へ先細りになる実施形態において端112及び142の長さよりも長くなり得る。いくつかの他の実施形態において、光入力端112及び142の長さは、異なり得る。光エミッタ110a及び140aの間隔及び配置が光ガイド100内の光分布の均一さに影響を与えることができることは、知られている。図14Bに関連して、光ガイド100は、ディスプレイ200を照らすために使用され得る。図14Bは、図14Aの光ガイド100を組み込む表示システムの側断面の例を示す。示されるように、ディスプレイ200は、光ガイド100より下に供給され得る。そのような実施形態において、光ガイド100は、前灯の一部であり、ディスプレイ200の前に配置され、ディスプレイ200よりも見る人202に近い。光ガイド100は、光ガイド100内に広がる光を曲げる複数の光変更特性により供給されることができるので、光は、ディスプレイ200へ光ガイドの外側に向けられる。光変更特性102は、限定でなく、プリズム反射特性、回折特性たとえば、フォログラフィ特性又は回折格子又はそれらの組み合わせであり得る。示されるように、光エミッタ110a及び140aからの光線114及び144は、光ガイド100内へ導入され、光ガイド100を通じて広がり、及び、そのとき光変更特性102によって光ガイド100の主要な表面の外側に排出されることができる。排出される光線114及び144は、底にあるディスプレイ200を照らし、ここでそれは、見る人202へ光ガイド100を通じて光を後方へ反射する反射ディスプレイであることができる。ディスプレイ200は、分岐干渉変調器12のような反射表示要素を持つことができる図1。他の実施形態において、光ガイド100は、ディスプレイ200の背後に配置され、バックライトの一部であり得る。そのような実施形態において、ディスプレイ200は、液晶ディスプレイのような、透明なディスプレイであり得る。図14Bに継続して関連して、光エミッタ110a及び140aは、それぞれ、光が外側に発せられる面111及び141を持つ。面111及び141は、光ガイドの厚い寸法と同一の軸において広がる高さ、又は光入力端142の幅をそれぞれ持つ。いくつかの実施形態において、面111及び141の高さは、光入力端142の幅とおおよそ同じか又はより大きく、又は光ガイド100の厚さである。図14A及び14Bの両者に関連して、ディスプレイ200のピクセルは、活動エリアと呼ばれるエリアを占有することができる。活動エリアは、イメージが見る人202へ表示されるディスプレイ200の一部である。いくつかの実施形態において、図14Aに関連して、参照番号160によって表される活動エリアは、光ガイド100の主要な表面100aによって占有されるエリアよりも小さい。たとえば、活動エリア160は、整列され光入力端142に直接面する寸法162を持ち得る。加えて、寸法162は、横端120及び130を分離する距離150よりも短くあり得る。本文中に注意されるように、光エミッタ110a及び140aのピットとアレイ110及び140によってカバーされる距離とが、活動エリア160の寸法に依存して選択されるべきであることは信じられている。たとえば、光ガイド100の全体を通じて照らされ広がる活動エリア160が活動エリア160を照らすことを必要としないので、光エミッタ140aの位置が、整列され光ガイド端142に最も近い活動エリア160の寸法162に基づいて選択されるべきであることは、信じられている。しかしながら、そのような設計ルールが光ガイド100を横切るX型光パターンの原因となることは、信じられている。いくつかの実施形態において、光エミッタ110a並びに140aの間隔と活動エリア162の寸法上のアレイ110並びに140によってカバーされる距離とのパラメータに基づくよりむしろ、これらのパラメータは、反射横端120及び130の間の距離150によって決定される。たとえば、アレイ140及び光エミッタ140aに関して、光エミッタのピッチは、距離150によって決定される。いくつかの実施形態において、光エミッタ140aと最も近い横端120又は130との間の距離は、光エミッタ140aのピッチの半分を超えない。いくつかの実施形態において、アレイ110及び140は、それぞれ、対応する光入力端112及び142に沿って中心に配置され、光エミッタ110a及び140aは、次の公式によって決定さえるピッチΔLを持つ:ここで、ΔLは、隣接する光エミッタの個々のポイント間の距離であり、Llightguideは、光ガイドの横端間の距離であり、Nlightemittersは、光エミッタのアレイにおける光エミッタの番号である。光エミッタアレイが活動エリア寸法162よりも長い距離をカバーするように、ピッチΔLで光エミッタを配置することと光入力端に沿って光エミッタを中心に配置することは、活動エリアを超えて広がる光エミッタを結果として生じることができる。いくつかの実施形態において、Llightguideは、ピッチΔLが計算されている光入力端での光ガイドの横端間の距離である。図15は、いくつかの実施形態にしたがって配置される光エミッタを持つ光ガイドのトップダウンビューの写真の例である。アレイ110及び140は、それら対応する光入力端112及び142に沿って中心に配置され、光エミッタ110a及び140aは、ΔLに関する上記の公式にしたがって配置される。光エミッタが活動エリア寸法に基づいて選択された、図11のX型パターンが相当に除去されていることは、確かめられている。加えて、図15の光ガイド100は、滑らかな横端120及び130を持つ。写真において見られるように、それらの端に隣接した光分布はまた、非常に均一である。いくつかの実施形態において、横端の長さから離れて反射する光の量プロフィールがその端に当たる光の量プロフィールに相当にマッチするように、横端120及び/又は130は、それらの端に当たる光の量プロフィールを保存することができる。たとえば、横端の長さに沿って任意の与えられるポイントで反射される光の量は、そのポイントで端に当たる光の量から、約5を超えない、約2を超えない、又は、約1を超えない差異を持ち得る。図15に継続して関連して、クロスハッチパターンは、光入力端112及び142の近くにまだ観測され得る。図16に関連して、光学的に拡散する光入力端を持つ又は持たない光ガイドを示す写真の例は、示される。クロスハッチパターンが光学的に拡散する表面を形成するために光入力端112及び/又は142を扱うことによって減少され又は除去されることができることは、知られている。光入力端を扱うことは、光入力表面自身の物理的構造又はトポロジーを変化させること、たとえば、表面を粗くすること、及び/又は、光拡散コーティング若しくは材料の層、又は粘着される光拡散構造を含む、その表面への追加の構造を追加することを含み得る。光入力端の粗くされる表面はまた、つや消し表面と呼ばれ得る。いくつかの実施形態において、光入力端112及び/142は、それらの端の1つ又はそれ以上から材料を取り除き、それによってつや消し表面を形成するための摩耗又は他の処理を受けさせられ得る。光入力表面122を摩耗するための処理の例は、研磨粒子を持つ紙やすり又は他の材料を用いて表面をこすること、光入力表面上に研磨粒子を置くこと、光入力表面を化学エッチングすること、及びそれらの組み合わせを含む。いくつかの実施形態において、光入力表面122を磨くことは、約220若しくはそれ以上、約280-600、約280-500、又は約360-400のグリッド数を持つ、研磨道具、たとえば、紙やすり、を使用して達成される。いくつかの適用において、約280-500又は訳360-400のグリッド数は、輝度の高いレベルを維持する間、クロスハッチ効果を減少させるための格別の利点を供給する。いくつかの実施形態において、つや消し表面140は、訳0.5μm、約0.7-2μm、約0.8-1.5μm、又は、約0.8-1.2μmの表面粗度Raを持つ。いくつかの適用において、約0.8-1.5μm、又は約0.8-1.2μmの表面粗度Raは、優れた輝度レベルを持つ照明機器を供給する間にクロスハッチ効果における減少を可能にする。いくつかの実施形態において、現在のつや消し表面を持たないことと比べると、輝度における減少は、約20を下回り、又は、約10を下回る。図16に継続して関連して、下左手側の写真は、図15の写真と同一であり、クロスハッチパターンを示す。図16の上右手角の写真は、光入力表面112がつや消し表面を形成するために扱われる別の同一の光ガイド100のセクションを示す。クロスハッチパターンが、相当に除去されており、かなり均一な光量プロフィールが達成されることは、知られることができる。加えて、X型のパターン、及び不均一な横端によって生じさせられる光の縞はまた、帆文中に示されるように、相当に除去される。図17A及び17Bに関連して、いくつかの実施形態において、横端120及び130は、それぞれ補助反射板170により供給されることができる。図17Aは、空間ギャップによって光ガイドから離れて配置される補助反射板を持つ表示システムのサイドビューの例を示す。図17Bは、固形の材料、たとえば、接着剤、の層によって光ガイドから離れて配置される補助反射板を持つ表示システムのサイドビューの例を示す。横端120及び130での反射板が全反射によって占められるので、臨界角よりも低い角度でこれらの端に影響を及ぼす光は、それらが光ガイドの外側に広がる場合に、反射されないだろうし、失われるだろう。この光を再度キャプチャするため、補助反射板170及び180の1つ又は両者は、光ガイド内に戻って光ガイド100から逃げる光を反射するために供給されることができる。補助反射板170及び180は、鏡面反射板であり得、金属的なフィルム、金属シートたとえば、打ち抜き板金及び絶縁スタックフィルムESRを含む、様々な形式を取り得る。横端120及び130でTIRを容易にするために、空間ギャップ172及び182は、図17Aにおいて示されるように、補助反射板170及び180と、相当する横端120及び130と、の間に供給される。空間ギャップ172及び182は、光ガイド100のより高い屈折率の材料と比較して、より低い屈折率の媒体を供給し、それにより横端120及び130でTIRを容易にする。図17Bに関連して、固形の材料174の層は、横端120及び130と補助反射板170及び180との間に配置される。いくつかの実施形態において、層174及び184は、補助反射板170及び180をそれらそれぞれの横端120及び130に接着する接着層であり得る。層174及び184は、TIRを容易にするために光ガイド100よりも低い屈折率を持ち得る。いくつかの実施形態において、層174及び184の屈折率は、約0.05若しくはそれ以上、又は、約0.10若しくはそれ以上による光ガイドの屈折率よりも低くあり得る。いくつかの実施形態において、層174及び184は、率がマッチするか、又は、光ガイド100よりも高い屈折率を持つ。そのような実施形態において、TIRは、横端120及び130で生じえないこともあり得る。むしろ、光は、光ガイド100の外に広がり、補助反射板170及び180に影響を及ぼすことによって反射される。光がこれらの実施形態において横端120及び130によって反射されないので、横端120及び130は、不均一であり得、滑らかでないこともあり得る。むしろ、補助反射板170及び180は、いくつかの実施形態において、横端120及び130に沿って単独の鏡面反射板として機能し得る。いくつかの他の実施形態において、補助反射板170及び180は、横端120及び130から離れて配置されない。むしろ、補助反射板170及び180は、それら端120及び130上に直接配置される。たとえば、補助反射板170及び180は、端120及び130上に直接配置される金属層であり得る。図17A及び17Bに継続して関連して、光ガイド100及び光エミッタ110a及び142aを持つ照明システムは、ディスプレイを照らすために表示システム内に統合されることができる。たとえば、照明システムは、ディスプレイ200を持つスタックにおいて統合されることができる。照明システムが前灯であるスタックはまた、光ガイド100の上に横たわる表板superstrate210を含むことができる。表板210は、さまざまな機能を供給する機能的な構造であることができ、たとえば、アンチグレア層、耐引っ掻き層、耐指紋層、タッチパネル、光学フィルタ層、光拡散層及びそれらの組み合わせを含むことができる。材料の1つ又はそれ以上の層は、光ガイド100とディスプレイ200及び表板210との間にあることができる。たとえば、層220は、ディスプレイ200と光ガイド100とを分離することができ、層230は、表板210と光ガイド100とを分離することができる。いくつかの実施形態において、層220及び/又は230は、接着層である。いくつかの実施形態において、層220及び/又は230は、光ガイド100より低い屈折率を持つ外装層であり得る。より低い屈折率は、光ガイド100内のTIRを容易にし、それにより光ガイド100を横切る光の広がりを促進する。いくつかの実施形態において、層220及び230の屈折率は、約0.05若しくはそれ以上、約0.10若しくはそれ以上による光ガイド100の屈折率よりも低くあり得る。いくつかの他の実施形態において、ディスプレイ200及び表板210自身は、外装層として機能し、約0.05若しくはそれ以上、又は、約0.10若しくはそれ以上による光ガイド100の屈折率よりも低い屈折率を持つ材料の層を供給する。図18A及び18Bに関して、表示システムスタックにおける様々な他の構造は、補助反射板170及び180を取り付けるための表面を供給することができる。たとえば、補助反射板170及び180は、光ガイド100を超えて突き出る表板210のような、構造を取り付けられ得る。図18Aは、表板へ取り付けられる補助反射板を持つ表示システムのクロスセクションの例を示す。いくつかの他の実施形態において、補助反射板170及び180は、光ガイド100自身に取り付けられる。図18Bは、光ガイドに取り付けられる補助反射板を持つ表示システムのクロスセクションの例を示す。図19に今関連して、照明システムを製造する方法の例を示すブロック図が示される。鏡面反射板である光学端を持つ光ガイドは、供給される300。光エミッタは、光ガイドの光入力端で供給される310。光学端は、光入力端の横方向にある光ガイドの端であることができる。光学端は、横端に沿って少なくとも約5mmの継続する距離で鏡面反射を供給し得る。光学端は、レーザカッティング及び、不均一な表面を持つ光ガイド端を形成しそのとき表面を滑らかにすることたとえば、端を削り及び/又は磨くことによってを含む、様々な処理によって形成されることができる。たとえば、不均一な表面は、カッティングホイールを用いるカッティング、又は、材料の一部に刻み目を付け折ることによって形成され得る。いくつかの実施形態において、鏡面反射板は、光ガイドの横端に隣接する鏡面反射板を取り付けることによって供給される。アタッチメントは、横端に直接鏡面反射板にくっつくことによって作られ得る。いくつかの他の実施形態において、空間ギャップは、横端から鏡面反射板を分離する。光エミッタを供給することは、光入力端に隣接する光エミッタを取り付けることを含み得る。光エミッタを取り付けることは、光入力端に沿って中心に配置される複数の光エミッタを取り付けることを含むことができる。光エミッタは、約ΔLのピッチで離れて配置されることができ、ここで、ここで、ΔLは、隣接する光エミッタの個々の位置の間の距離であり、Llightguideは、光ガイドの横端間の距離であり、Nlightemittersは、光エミッタのアレイにおける光エミッタの数である。光エミッタは、光エミッタを光源に化学的に取り付けることたとえば、接着によって又は、留め金具を使用して光源を機械的に取り付けることを含む、様々な方法によって光ガイドに取り付けられることができる。光入力端は、光学的拡散表面を形成するために粗くされ得る。粗くすることは、サンドペーパ上のそれらのような、研磨粒との接触による研磨を含む、本文中に記述される様々な方法によって生じ得る。粒の動作の方向は、様々な報告において進み得る。いくつかの実施形態において、研磨粒の動作は、相当に、光入力端の短い寸法の方向でたとえば、光ガイドの薄い寸法の方法であり、ここでそれは、光入力端の長い寸法に沿う粒の動作よりもより均一な光分散を与えることができる。図20A及び20Bは、複数の分岐干渉変調器を含む表示機器40を示すシステムブロック図の例を示す。たとえば、表示機器40は、セルラ又はモバイルテレフォンであることができる。しかしながら、表示機器40のコンポーネント又はそれのわずかな変化はまた、テレビ、イーリーダ及びポータブルメディアプレイヤのような様々なタイプの表示機器の例である。表示機器40は、覆い41、ディスプレイ30、アンテナ43、スピーカ45、入力機器48及びマイクロフォン46を含む。覆い41は、射出形成及び真空形成を含む、任意の様々な製造処理から形成されることができる。加えて、覆い41は、限定ではなく、プラスチック、金属、ガラス、ゴム及びセラミック又はそれらの組み合わせを含む、任意の様々な材料から作られ得る。覆い41は、異なる色又は異なるロゴ、絵、若しくはシンボルを含む他の取り外し可能な部分と交換され得る取り外し可能な部分図視されないを含むことができる。ディスプレイ30は、本文中に記述されるように、双安定又はアナログディスプレイを含む、任意の様々なディスプレイであり得る。ディスプレイ30はまた、プラズマ、EL、OLED、STNLCD若しくはTFTLCDのようなフラットパネルディスプレイ、又は、CRT又は他のチューブ機器のような非フラットパネルディスプレイを含むように構成されることができる。加えて、ディスプレイ30は、本文中に記述されるように、分岐干渉変調器を含むことができる。表示機器40のコンポーネントは、図21Bにおいて概略的に示される。表示機器40は、覆い41を含み、その中に少なくとも部分的に封入される追加のコンポーネントを含むことができる。たとえば、表示機器40は、トランシーバ47に接続されるアンテナ43を含むネットワークインターフェース27を含む。トランシーバ47は、プロセッサ21に接続され、ここでそれは、調整ハードウェア52に接続される。調整ハードウェア52は、信号を調節するたとえば、信号をフィルタ処理するように構成され得る。調整ハードウェア52は、スピーカ45及びマイクロフォン46に接続される。プロセッサ21はまた、入力機器48及びドライバコントローラ29に接続される。ドライバコントローラ29は、フレームバッファ28に及びアンテナドライバ22に接続され、ここでそれは、表示アレイ30に順々に接続される。電力供給50は、個々の表示機器40の設計によって要求されるような全てのコンポーネントへ電力を供給することができる。ネットワークインターフェース27は、アンテナ43及びトランシーバ47を含むので、表示機器40は、ネットワーク上で1つ又はそれ以上の機器と通信することができる。ネットワークインターフェース27はまた、たとえば、プロセッサ21のデータ処理要求を緩和するいくつかの処理性能を持ち得る。アンテナ43は、信号を送信し及び受信することができる。いくつかの実施形態において、アンテナ43は、IEEE16.11a、b若しくはgを含む、IEEE16.11標準、又は、IEEE802.11a、b、g若しくはnを含む、IEEE802.11標準に従ってRF信号を送信し及び受信する。いくつかの他の実施形態において、アンテナ43は、ブルートゥースBLUETOOTH登録商標標準に従ってRF信号を送信し及び受信する。セルラフォンの事例において、アンテナ43は、符号分割多元接続CDMA、周波数分割多元接続FDMA、時分割多元接続TDMA、モバイル通信用グローバルシステムGlobalSystemforMobilecommunicationsGSM登録商標、GSM登録商標/汎用パケット無線サービスGSM登録商標GeneralPacketRadioServiceGPRS、促進データGSM登録商標環境EnhancedDataGSM登録商標EnvironmentEDGE、地上基盤無線TerrestrialTrunkedRadioTETRA、広帯域CDMAW-CDMA、エボリューションデータオプティマイズEvolutionDataOptimizedEV-DO、高速ダウンリンクパケットアクセスHighSpeedDownlinkPacketAccessHSDPA、高速アップリンクパケットアクセスHighSpeedUplinkPacketAccess、発展ハイスピードパケットアクセスEvolvedHighSpeedPacketAccessHSPA、ロングタームエボルブドLongTermEvolvedLTE、AMPS、又は、3G若しくは4G技術を利用するシステムのような、無線ネットワーク内で通信するために使用される他の知られる信号を受信するように設計される。トランシーバ47は、アンテナ43から受信される信号を仮に処理することができ、そのため、それらは、受信され、及び、さらにプロセッサによって多重化され得る。トランシーバ47はまた、プロセッサ21から受信される信号を処理することができ、そのため、それらは、アンテナ43を通じて表示機器40から送信され得る。いくつかの実施形態において、トランシーバ47は、受信機によって置き換えられることができる。加えて、ネットワークインターフェース27は、イメージソースによって置き換えられることができ、ここで、それは、プロセッサ21へ送信されるためのイメージデータを格納し又は生成することができる。プロセッサ21は、表示機器40の全体の動作を制御することができる。プロセッサ21は、ネットワークインターフェース27又はイメージソースから圧縮されるイメージデータのような、データを受信し、及び、生のイメージデータ内で、又は、生のイメージデータ内に容易に処理されるフォーマット内でデータを処理する。プロセッサ21は、ドライバコントローラ29へ又は記録のためのフレームバッファ28へ処理されるデータを送信することができる。生のデータは、イメージ内の各位置でイメージ特性を決定する情報を一般的に示す。たとえば、そのようなイメージ特性は、色、再度、及びグレイスケールレベルを含むことができる。プロセッサ21は、表示装置40の動作を制御するためマイクロコントローラ、CPU、又はロジックユニットを含むことができる。調整ハードウェア52は、スピーカ45へ信号を送信するため及びマイクロフォン46から信号を受信するためのアンプ及びフィルタを含み得る。調整ハードウェア52は、表示機器40内のディスクリートコンポーネントであり得、又は、プロセッサ若しくはコンポーネント内に組み込まれ得る。ドライバコントローラ29は、プロセッサ21から又はフレームバッファ28から直接プロセッサ21によって生成される生のイメージデータを取ることができ、及び、アレイドライバ22への高速送信のため適切に生のイメージデータを再フォーマットすることができる。いくつかの実施形態において、それが表示アレイ30を横切ってスキャンするために適切な時間オーダを持つように、ドライバコントローラ29は、ラスタライクフォーマットを持つデータフロー内に生のイメージデータを再フォーマットすることができる。そのとき、ドライバコントローラ29は、アレイドライバ22へフォーマットされる情報を送信する。LCDコントローラのような、ドライバコントローラ29は、スタンドアローン集積回路ICとしてシステムプロセッサ21にしばしば関連するが、そのようなコントローラは、多くの方法において実施され得る。たとえば、コントローラは、ハードウェアとしてプロセッサ21において埋め込まれ、ソフトウェアとしてプロセッサ21において埋め込まれ、又は、アレイドライバ22にハードウェアにおいて完全に統合され得る。アレイドライバ22は、ドライバコントローラ29からフォーマットされる情報を受信することができ、及び、ピクセルの表示x-y行列から来る数百、及び時々数千のリードへ毎秒多数回適用される波形の平行なセット内へビデオデータを再フォーマットすることができる。いくつかの実施形態において、ドライバコントローラ29、アレイドライバ22及び表示アレイ30は、本文中に記述される任意のタイプの表示に適応する。たとえば、ドライバコントローラ29は、従来のディスプレイコントローラ又は、双安定ディスプレイコントローラたとえば、IMODコントローラであることができる。加えて、アレイドライバ22は、従来のドライバ又は双安定ディスプレイドライバたとえば、IMODディスプレイドライバであることができる。さらに、表示アレイ30は、伝統的な表示アレイ又は双安定表示アレイたとえば、IMODのアレイを含むディスプレイであることができる。いくつかの実施形態において、ドライバコントローラ29は、アレイドライバ22に統合されることができる。そのような実施形態は、セルラフォン、時計、又は他の小エリアディスプレイのような高統合システムにおいて共通である。いくつかの実施形態において、入力機器48は、たとえば、表示機器40の動作を制御することをユーザに可能にするように構成されることができる。入力機器48は、クウェティQWERTYキーボード若しくはテレフォンキーパッドのような、キーパッド、ボタン、スイッチ、ロッカー、タッチ感応画面、又は、感圧若しくは感熱膜を含むことができる。マイクロフォン46は、表示機器40のための入力機器として構成されることができる。いくつかの実施形態において、マイクロフォン46を通じる声の命令は、表示機器40の動作を制御するために使用されることができる。電源供給50は、技術においてよく知られるような様々なエネルギー蓄積機器を含むことができる。たとえば、電源供給50は、ニッケルカドミウムバッテリ又はリチウムイオンバッテリのような、充電可能なバッテリであることができる。電源供給50はまた、プラスチックソーラーセル、又はソーラーセル塗装を含む、再生可能なエネルギーソース、キャパシティ、又はソーラーセルであることができる。電源供給50はまた、コンセントからパワーを受信するように構成されることができる。いくつかの実施形態において、制御プログラム可能性は、電気的な表示システムにおいていくつかの位置において配置されることができるドライバコントローラ29に存在する。いくつかの他の実施形態において、制御プログラム可能性は、アレイドライバ22に存在する。上に記述される最適化は、任意の数のハードウェア並びに/若しくはソフトウェアコンポーネントにおいて及び様々な構成において実施され得る。本文中に開示される実施形態に関連して記述される様々な例示のロジック、ロジックブロック、モジュール、回路及びアルゴリズムステップは、電気的なハードウェア、コンピュータソフトウェア又は両者の組み合わせとして実施され得る。ハードウェアとソフトウェアとの交換可能性は、機能性の観点から一般に記述されて、及び、上に記述される様々な例示のコンポーネント、ブロック、モジュール、回路、及びステップにおいて示されている。そのような機能性がハードウェア又はソフトウェアにおいて実施されるかは、個々のアプリケーションおよび全体のシステムに課せられる設計制約に依存する。本文中に開示される態様に関連して記述される様々な例示のロジック、ロジックブロック、モジュール及び回路を実施するために使用されるハードウェア及びデータ処理装置は、汎用単一若しくは多重チッププロセッサ、デジタル信号プロセッサDPS、特定用途向け集積回路ASIC、フィールドプログラマブルゲートアレイFPGA若しくは他のプログラマブルロジック機器、ディスクリートゲート若しくはトランジスタロジック、ディスクリートハードウェアコンポーネント、又は、本文中に記述される機能を実行するように設計されるそれらの任意の組み合わせを用いて実施され又は実行され得る。汎用プロセッサは、マイクロプロセッサ若しくは任意の従来のプロセッサ、コントローラ、マイクロコントローラ又は状態機械であり得る。プロセッサはまた、コンピューティング機器の組み合わせ、たとえば、DSPとマイクロプロセッサとの組み合わせ、複数のマイクロプロセッサ、DSPコアに関連する1つ若しくはそれ以上のマイクロプロセッサ、又は、任意の他のそのような構成、として実施され得る。いくつかの実施形態において、個々のステップ及び方法は、与えられる機能に特有の回路によって実行され得る。1つ又はそれ以上の態様において、記述される機能は、この明細書において記述される構造及びそれらと構造的に同等物を含む、ハードウェア、デジタル電気回路、コンピュータソフトウェア及びファームウェアにおいて、又は、それらの任意の組み合わせにおいて実施され得る。この明細書において記述される記述主題の実施形態はまた、データ処理装置による実行のため、又は、動作を制御するため、コンピュータ記録媒体上にエンコードされる1つ又はコンピュータプログラム、即ち、コンピュータプログラム命令の1つ又はそれ以上のモジュール、として実施されることができる。この開示において記述される実施形態の様々な修正は、当業者によって容易に明らかであり得、及び、本文中に定義される一般的な原理は、この開示の精神又は範囲から離れることなく他の実施形態に適用され得る。したがって、開示は、本文中に示される実施形態に限定されることを意図しないが、本文中に開示される請求項、原理、及び新規な特徴と一致する最も広い範囲に従うべきである。例示のexemplaryという単語は、例example、例示instance又は事例illustrationを提供するを意味するために本文中にもっぱら使用される。例示のexemplaryとして本文中に記述される任意の実施形態は、他の実施形態よりもより良い又は利点があると解釈される必要はない。追加的に、当業者は、上方のupper及び下方のlowerという用語が図をそれぞれ記述することのためにしばしば使用され、適切に向けられるページでの図の向きに対応する相対的な位置を示し、実施されるようにIMODの適切な向きを反映していないこともあることを容易に認識するだろう。別々の実施形態の文脈でこの明細書において記述されるある特徴はまた、単一の実施形態において組み合わせて実施されることができる。反対に、単一の実施形態の文脈で記述される様々な特徴はまた、多数の実施形態において別々に、又は、任意の適切なサブコンビネーションにおいて実施されることができる。さらに、特徴がある組み合わせにおいて動作するように上に記述され、そのようにさえ最初にクレームされ得るが、クレームされる組み合わせからの1つ又はそれ以上の特徴は、いくつかの事例において組み合わせから削除されることができ、及び、クレームされる組み合わせは、サブコンビネーション又はサブコンビネーションの多様性に向けられ得る。同様に、動作が特定の順序において図において記述されるが、これは、そのような動作が、示される特定の順序において又は一連の順序において実行されること、又は、全ての示される動作が所望の結果を達成するために実行されることを要求するように理解されるべきではない。ある事情において、マルチタスキング及び平行処理は、利点があり得る。さらに、上に記述される実施形態において様々なシステムコンポーネントの分離は、全ての実施形態におけるそのような分離を要求するように理解されるべきではなく、記述されるプログラムコンポーネント及びシステムが一般的に単一のソフトウェア製品において一緒に統合され又は多数のソフトウェア製品内にパッケージされることができることは、理解されるべきである。追加的に、他の実施形態は、次の請求項の範囲内である。いくつかの事例において、請求項に列挙される動作は、異なる順序において実行され、及びなお所望の結果を達成することができる。"