"下記化学式1で表される化合物。前記式において、前記R11は水素、炭素数1~10のアルキル、炭素数1~10のペルフルオロアルキル、及び炭素数1~10のアルコキシ基からなる群から選択された何れか1つであり、前記Q1及びQ2は各々独立に水素及びハロゲン原子からなる群から選択された何れか1つであり、前記Aは有機対イオンである。下記化学式2の繰り返し単位を含む重合体。前記式において、前記R11、R41、及びR42は各々独立に水素、炭素数1~10のアルキル、炭素数1~10のペルフルオロアルキル、及び炭素数1~10のアルコキシ基からなる群から選択された何れか1つであり、前記Q1及びQ2は各々独立に水素及びハロゲン原子からなる群から選択された何れか1つであり、前記Aは有機対イオンである。前記重合体は下記化学式3で表される請求項2に記載の重合体。前記式において、前記R11、R12、R13、R14、R41、R42、R43、R44、R45、R46、R47及びR48は各々独立に水素、炭素数1~10のアルキル、炭素数1~10のペルフルオロアルキル、及び炭素数1~10のアルコキシ基からなる群から選択された何れか1つであり、前記Q1及びQ2は各々独立に水素及びハロゲン原子からなる群から選択された何れか1つであり、前記R21、R22及びR23は各々独立に水素、アルキル基、ヘテロアルキル基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、及びこれらの組み合わせからなる群から選択された何れか1つであり、前記Aは有機対イオンであり、前記Xはオレフィン系単量体から誘導された重合単位であり、前記l、m、n、o及びpは各々0<l≦0.4、0<m≦0.5、0≦n≦0.5、0≦o≦0.5、0<p≦0.2の範囲であり、lmnop=1である。前記重合体は、重量平均分子量が2,000~100,000であり、分子量分布が1.5~5であることを特徴とする請求項3に記載の重合体。下記化学式2の繰り返し単位を含む重合体を含む化学増幅型レジスト組成物。前記式において、前記R11、R41、及びR42は各々独立に水素、炭素数1~10のアルキル、炭素数1~10のペルフルオロアルキル、及び炭素数1~10のアルコキシ基からなる群から選択された何れか1つであり、前記Q1及びQ2は各々独立に水素及びハロゲン原子からなる群から選択された何れか1つであり、前記Aは有機対イオンである。本発明の目的は、化学増幅型レジストに、光酸発生剤や単量体として使用できる新規の化合物を提供することにある。また、優れた感度と高安定性を有しながらも、ガス排出量を低減し、高解像度と低LERを有する化学増幅型レジスト組成物に使用できる前記化合物を単量体として含む重合体を提供することにある。前記目的を達成するために、本発明の一実施例による化合物は下記化学式1で表される。前記式において、前記R11は水素、炭素数1~10のアルキル、炭素数1~10のペルフルオロアルキル、及び炭素数1~10のアルコキシ基からなる群から選択された何れか1つであり、前記Q1及びQ2は各々独立に水素及びハロゲン原子からなる群から選択された何れか1つであり、前記Aは有機対イオンである。本発明の他の一実施例による重合体は下記化学式2の繰り返し単位を含む。前記式において、前記R11、R41及びR42は各々独立に水素、炭素数1~10のアルキル、炭素数1~10のペルフルオロアルキル、及び炭素数1~10のアルコキシ基からなる群から選択された何れか1つであり、前記Q1及びQ2は各々独立に水素及びハロゲン原子からなる群から選択された何れか1つであり、前記Aは有機対イオンである。前記重合体は下記の化学式3で表されるものであり得る。前記式において、前記R11、R12、R13、R14、R41、R42、R43、R44、R45、R46、R47及びR48は、各々独立に水素、炭素数1~10のアルキル、炭素数1~10のペルフルオロアルキル、及び炭素数1~10のアルコキシ基からなる群から選択された何れか1つであり、前記Q1及びQ2は各々独立に水素及びハロゲン原子からなる群から選択された何れか1つであり、前記R21、R22及びR23は各々独立に水素、アルキル基、ヘテロアルキル基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、及びこれらの組み合わせからなる群から選択された何れか1つであり、前記Aは有機対イオンであり、前記Xはオレフィン系単量体から誘導された重合単位であり、前記l、m、n、o、及びpは各々0<l≦0.4、0<m≦0.5、0≦n≦0.5、0≦o≦0.5、0<p≦0.2の範囲であり、lmnop=1である。前記重合体は重量平均分子量が2,000~100,000であり、分子量分布が1~5であるものであり得る。本発明のまた他の一実施例による化学増幅型レジスト組成物は、前記化学式2の繰り返し単位を含む重合体を含む。以下、本発明をより詳細に説明する。本明細書で使用する用語の定義は下記の通りである。本明細書で特に言及しない限り、ハロゲン原子はフルオロ、塩素、ブロム、及びヨードからなる群から選択された何れか1つを意味する。本明細書で特に言及しない限り、アルキル基は第1級アルキル基、第2級アルキル基、及び第3級アルキル基を含む。本明細書で特に言及しない限り、ペルフルオロアルキル基は一部の水素原子または全ての水素原子がフルオロで置換されたアルキル基を意味する。本明細書で特に言及しない限り、ペルフルオロアルコキシ基は一部の水素原子または全ての水素原子がフルオロで置換されたアルコキシ基を意味する。本明細書で特に言及しない限り、全ての化合物または置換基は置換または非置換のものであり得る。ここで、置換とは、水素がハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、チオ基、メチルチオ基、アルコキシ基、ニトリル基、アルデヒド基、エポキシ基、エーテル基、エステル基、カルボニル基、アセタール基、ケトン基、アルキル基、ペルフルオロアルキル基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、アリル基、ベンジル基、アリール基、ヘテロアリール基、これらの誘導体及びこれらの組み合わせからなる群から選択された何れか1つに代替されたものを意味する。本明細書で特に言及しない限り、接頭語のヘテロは、N、O、S、及びPからなる群から選択される1~3のヘテロ原子が炭素原子を置換していることを意味する。例えば、ヘテロアルキル基は、アルキル基の炭素原子中の1~3の炭素原子をヘテロ原子が置換しているものを意味する。本明細書で特に言及しない限り、アルキル基は直鎖または分岐鎖の炭素数1~30のアルキル基、ヘテロアルキル基は炭素数1~3のヘテロアルキル基、アルコキシ基は炭素数1~10のアルコキシ基、ペルフルオロアルキル基は炭素数1~10のペルフルオロアルキル基、ペルフルオロアルコキシ基は炭素数1~10のペルフルオロアルコキシ基、シクロアルキル基は炭素数3~32のシクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基は炭素数2~32のヘテロシクロアルキル基、アリール基は炭素数6~30のアリール基、ヘテロアリール基は炭素数2~30のヘテロアリール基を意味する。本明細書で特に言及しない限り、シクロアルキル基は一環式、ニ環式、三環式、四環式を含む。また、アダマンチル基、ノルボルニル基、ノルボルニル基を含む多環式シクロアルキル基を含む。本明細書で特に言及しない限り、アリール基はベンゼン環を含む化合物及びこの誘導体を意味し、例えばベンゼン環にアルキル側鎖がついたトルエンまたはキシレンなど、2つ以上のベンゼン環が単一結合により結合したビフェニルなど、2つ以上のベンゼン環がシクロアルキル基またはヘテロシクロアルキル基を媒介として結合したフルオレン、キサンテンまたはアントラキノンなど、2つ以上のベンゼン環が縮合したナフタレンまたはアントラセンなどであり得る。本明細書で特に言及しない限り、オレフィンは二重結合を含む不飽和炭化水素化合物を意味する。例えば、アルキレン、アクリレート、スチレン、ノルボルネン、インデン、アセナフチレン、フランジオンなどであり得るが、これに限定されることはない。本発明の一実施例の化合物は下記化学式1で表される。前記式において、前記R11は水素、炭素数1~10のアルキル、炭素数1~10のペルフルオロアルキル及び炭素数1~10のアルコキシ基からなる群から選択された何れか1つであり、好ましくは水素、トリフルオロメチル、炭素数1~5のアルキル基及び炭素数1~5のアルコキシ基から選択された何れか1つであり得る。前記Q1及びQ2は各々独立に水素及びハロゲン原子からなる群から選択された何れか1つであり、好ましくはフルオロである。前記Aは有機対イオンである。前記有機対イオンは、好ましくは下記化学式5または下記化学式6であり得る。前記式において、前記R1、R2及びR3は各々独立にアルキル基、ヘテロアルキル基、ペルフルオロアルキル基、アルコキシ基、アリール基、及びヘテロアリール基からなる群から選択された何れか1つである。前記式において、前記R4及びR5は各々独立にアルキル基、ヘテロアルキル基、ペルフルオロアルキル基、アルコキシ基、アリール基、及びヘテロアリール基からなる群から選択された何れか1つである。前記化学式5は下記化学式5-i~5-xxiiからなる群から選択された何れか1つであり得る。前記化学式6は、下記化学式6-i~6-ixからなる群から選択された何れか1つであり得る。前記化学式1の化合物は単量体であり、かつ光酸発生剤の役割をする。この時、化合物の主鎖の炭素数を調節することにより、この化合物を単量体として重合した重合体から露光により発生した酸が拡散できる空間を確保し、パターニング時に酸の拡散距離を適切に調節して解像度及びLER特性を改善することができる。本発明の他の一実施例による重合体は、下記化学式2の繰り返し単位を含む。前記式において、前記R11、R41及びR42は各々独立に水素、炭素数1~10のアルキル、炭素数1~10のペルフルオロアルキル及び炭素数1~10のアルコキシ基からなる群から選択された何れか1つであり、好ましくは水素、トリフルオロメチル、炭素数1~5のアルキル基及び炭素数1~5のアルコキシ基から選択された何れか1つであり得る。前記Q1及びQ2は各々独立に水素及びハロゲン原子からなる群から選択された何れか1つであり、好ましくはフルオロである。前記Aは有機対イオンである。前記Aに関する説明は前記化学式1の説明と同一であるため、その記載は省略する。前記重合体は光酸発生剤の役割をする前記化学式1の化合物を重合体に直接重合することにより、光酸発生剤を多量投入することを可能にし、前記重合体を含むレジストが露光時に高速の感度と高安定性を有し、露光後に発生する排出ガスの量を低減し、低LERを有する重合体を製造することになる。前記重合体は多元共重合体であって、ブロック共重合体、ランダム共重合体またはグラフト共重合体であり得る。また、前記化学式2で表される繰り返し単位を含む重合体は酸不安定基を有する繰り返し単位、ヒドロキシ基を含む繰り返し単位、ラクトン環の密着性基を含む繰り返し単位及びこれらの組み合わせからなる群から選択される何れか1つの繰り返し単位を含むものであり得る。より具体的に前記重合体は下記の化学式3で表されるものであり得る。前記式において、前記R11、R12、R13、R14、R41、R42、R43、R44、R45、R46、R47及びR48は各々独立に水素、炭素数1~10のアルキル、炭素数1~10のペルフルオロアルキル及び炭素数1~10のアルコキシ基からなる群から選択された何れか1つであり、好ましくは水素、トリフルオロメチル、炭素数1~5のアルキル基及び炭素数1~5のアルコキシ基から選択された何れか1つであり得る。前記Q1及びQ2は各々独立に水素及びハロゲン原子からなる群から選択された何れか1つであり、好ましくはフルオロである。前記Aは有機対イオンであり、前記Aに関する説明は前記化学式1におけるAの説明と同一であるため、その記載は省略する。前記l、m、n、o及びpは各々0<l≦0.4、0<m≦0.5、0≦n≦0.5、0≦o≦0.5、0<p≦0.2の範囲であり、lmnop=1である。前記Xはオレフィン系単量体から誘導された重合単位である。前記オレフィン系単量体は、好ましくはアクリレートacrylate、スチレンstylene、ノルボルネンnorbornene、インデンindene、アセナフチレンacenaphthylene、フランジオンfurandione、及びこれらの誘導体からなる群から選択される何れか1つであり得る。前記-X-は、好ましくは下記化学式3-a~3-fで表される重合単位であり得る。前記式において、前記R15、R49及びR50は水素、炭素数1~10のアルキル基、炭素数1~10のペルフルオロアルキル基及び炭素数1~10のアルコキシ基からなる群から選択された何れか1つであり、好ましくは水素、トリフルオロメチル、炭素数1~5のアルキル基、及び炭素数1~5のアルコキシ基から選択された何れか1つであり得る。前記R31及びR32は各々独立にハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、カルボキシ基、ニトリル基、アルデヒド基、エポキシ基、ニトロ基、アミノ基、チオ基、メチルチオ基、アルキル基、アルコキシ基、ペルフルオロアルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、COOR’及びCOR’からなる群から選択された何れか1つである。前記R’はアルキル基、ペルフルオロアルキル基、シクロアルキル基、アリール基及びシクロアリール基からなる群から選択された何れか1つである。前記aは0~5の整数であり、前記bは0~5の整数であり、前記cは0~8の整数であり、前記dは0~4の整数であり、前記eは0~3の整数であり、前記fは0~3の整数である。前記化学式3において、前記R21、R22及びR23は各々独立に水素、アルキル基、ヘテロアルキル基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基及びこれらの組み合わせからなる群から選択された何れか1つであり、好ましくは下記化学式3-i~3-ixからなる群から選択された何れか1つであり得る。前記式において、前記R33~R35は各々独立に水素、アルキル基、アルコキシ基、ペルフルオロアルキル基、ペルフルオロアルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、チオ基、メチルチオ基、エーテル基、及びメトキシ基からなる群から選択された何れか1つであり、好ましくは前記R33~R35は各々独立に水素、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数1~4のペルフルオロアルキル基、炭素数1~4のペルフルオロアルコキシ基、炭素数1~6のヒドロキシアルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、チオ基、メチルチオ基、及びメトキシ基からなる群から選択された何れか1つであり得る。前記gは0~9の整数であり、前記hは0~9の整数であり、前記iは0~5の整数であり、前記jは0~15の整数であり、前記kは0~15の整数であり、前記qは0~17の整数であり、前記rは0~11の整数である。前記重合体は、好ましくは下記化学式4で表されるものであり得る。前記式において、R11、R12、R13、R14、R41、R42、R43、R44、R45、R46、R47、R48、Q1、Q2、A、R21、R22、R23、l、m、n、o及びpに関する記載は前記化学式3の説明と同一であるため、その記載は省略する。前記式において、前記bは0~5の整数であり、前記cは0~8の整数である。前記式において、前記R15及びR49は各々独立に水素、炭素数1~10のアルキル、炭素数1~10のペルフルオロアルキル、及び炭素数1~10のアルコキシ基からなる群から選択された何れか1つであり、好ましくは前記R15及びR49は各々独立に水素、トリフルオロメチル、炭素数1~5のアルキル基、及び炭素数1~5のアルコキシ基から選択された何れか1つであり得る。前記式において、前記R31はハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、カルボキシ基、ニトリル基、アルデヒド基、エポキシ基、ニトロ基、アミノ基、チオ基、メチルチオ基、アルキル基、アルコキシ基、ペルフルオロアルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、COOR’及びCOR’からなる群から選択された何れか1つである。前記R’はアルキル基、ペルフルオロアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、及びシクロアリール基からなる群から選択された何れか1つである。前記R31は、好ましくは炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数1~4のペルフルオロアルキル基、炭素数1~4のペルフルオロアルコキシ基、炭素数1~6のヒドロキシアルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、チオ基、及びメチルチオ基からなる群から選択された何れか1つであり、さらに好ましくは前記R31は水素及び下記化学式3-xからなる群から選択された何れか1つであり得る。メタアクリル重合体を含む重合体でレジストを製造する場合、光吸収量は少ないが、芳香族化合物に比べて耐エッチング性が劣るという短所がある。しかし、前記化学式4のようにメタアクリル重合体よりも炭素数の多い環状オレフィンと共に主鎖に導入する場合には、エッチング耐性が向上し、酸により切れる部分が前処理SoftBakingの後にも気化しきれずレジスト膜内に残るようになって、露光時に酸発生剤から出た酸の流動性を向上させ、これによって、パターニング特性を向上させることができる。前記重合体は下記化学式4-a~4-lからなる群から選択された何れか1つであり得る。前記式において、前記l、m、n、o及びpは各々0<l≦0.4、0<m≦0.5、0≦n≦0.5、0≦o≦0.5、0<p≦0.2の範囲であり、lmnop=1である。前記Aは有機対イオンであり、前記化学式1におけるAの説明と同一であるため、その記載は省略する。前記化学式2の繰り返し単位を含む重合体は、好ましくはゲル浸透クロマトグラフィーGPCによるポリスチレン換算重量平均分子量が2,000~100,000で、分子量分布が1~5であり、さらに好ましくは3,000~30,000で、分子量分布が1.50~3であり得る。前記重量平均分子量が100,000を超えると、フォトレジスト組成物に使用する時、溶解度とLERが良くないことがあり、2,000未満であれば樹脂の機械的強度mechanicalstrengthが劣ってパターンを円滑に形成できない現象patternのcollapseが発生する。また、前記分子量分布が5を超えるとLERが劣ることもある。したがって、上述した重量平均分子量と分子量分布の範囲を有する重合体をフォトレジスト組成物に使用する場合、現像性、塗布性、及び耐熱性が良好な物性を有することになる。前記化学式1で表される化合物は下記の方式で製造される。前記化学式1で表される化合物は、下記化学式7と化学式8で表される化合物を反応させる第1段階、及び前記第1段階で製造された反応物と下記化学式9で表される化合物を置換反応させる第2段階により製造することができる。前記式において、前記MはLi、Na、及びKからなる群から選択された何れか1つである。前記Z-はOSO2CF3-、OSO2C4F9-、OSO2C8F17-、NCF32-、NC2F52-、NC4F92、CCF33-、CC2F53-、CC4F93-、F-、Cl-、Br-、I-、BF4-、AsF6-、及びPF6-からなる群から選択された何れか1つであり、前記A、R11、Q1及びQ2に関する説明は前記化学式1で表される化合物の説明と同一であるため、その記載は省略する。前記第1段階の反応は溶媒下で行われ、前記溶媒としてはエステル類、エーテル類、ラクトン類、ケトン類、アミド類、アルコール類及びこれらの組み合わせからなる群から選択された何れか1つを使用でき、好ましくはジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、アセトニトリル、トルエン、ベンゼン、1,4-ジオキサンなどが使用できる。前記第1段階の反応は、塩基性触媒と共に行われ、前記塩基性触媒としてはトリエチルアミン、ジエチルアミン、ピリジン、ジエチルイソプロピルアミン、アニリン、ジイソプロピルエチルアミン及びこれらの組み合わせからなる群から選択された何れか1つであり得る。前記塩基性触媒と共に前記第1段階の反応が行われる場合は、反応時間を短縮でき、反応conversionの収率を高め、副反応を低減することができる。前記化学式8で表される化合物は、下記化学式10で表される化合物を還元して得られる。前記式において、前記MはLi、Na及びKからなる群から選択された何れか1つである。前記R6は水素、炭素数1~10のアルキル基及び炭素数1~10のアルキル基における水素1~3がハロゲン原子で置換されたものであるヘテロアルキル基からなる群から選択された何れか1つであり、水素、炭素数1~5のアルキル基、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、トリブロモメチル及びトリヨードメチルからなる群から選択された何れか1つであり得る。前記Q1及びQ2に関する説明は前記化学式1で表される化合物の説明と同一であるため、その記載は省略する。前記化学式10で表される化合物を還元して前記化学式8で表される化合物を得る過程は、具体的に、テトラヒドロフランとアルコール性溶媒に前記化学式8の化合物を溶かし、氷浴bath下で還元剤をゆっくり滴加し、滴加の完了後、40~100°Cに昇温して反応混合液を製造し、撹拌しながら反応させた後、前記反応混合液の反応を終結し、溶媒を除去して結晶化する過程を含むことができる。前記結晶化の方法は、通常の結晶化方法が挙げられるが、具体的に溶媒が除去された反応混合液を強酸を用いてpHを5~6に酸性化させ、濃縮後にアルコールを入れてスラリー状にして濾過し、その濾液をヘキサンを用いて洗浄した後に再び濃縮し、ジエチルエーテルで結晶化する方法が挙げられる。前記化学式2の繰り返し単位を含む重合体は、重合体を製造する通常の方法により重合されるが、好ましくはラジカル重合の方式が挙げられる。前記ラジカル重合に使用される重合開始剤としては、アゾビスイソブチロニトリルAIBN、過酸化ベンゾイルBPO、過酸化ラウリル、アゾビスイソカプロニトリル、アゾビスイソバレロニトリル、tert-ブチルヒドロペルオキシド及びこれらの組み合わせからなる群から選択された何れか1つを用いることができる。前記重合の重合反応は、塊状重合、溶液重合、懸濁重合、塊状-懸濁重合、乳化重合などの方法で行うことができ、前記重合に使用する重合溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ハロゲン化ベンゼン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,2-ジクロロエタン、エステル類、エーテル類、ラクトン類、ケトン類、アミド類の中で1種以上を選択して使用することができる。前記重合の完了後、反応混合物に残っている未反応単量体及び副生成物は、これらを除去するための通常の方法で除去でき、好ましくは溶媒による沈殿法で除去することができる。本発明のまた他の一実施例による化学増幅型レジスト組成物は、前記化学式2の繰り返し単位を含む重合体を含む。前記重合体において、前記化学式1で表される単量体の使用量は前記全体重合体の固体成分100重量部に対して0.5~15重量部であり、上述した重量部の範囲で前記化学式1で表される単量体を使用する場合、さらに優れた感度と高安定性を有し、ガス排出量を低減することができる。前記レジスト組成物は、前記化学式2の繰り返し単位を含む重合体を全体レジスト組成物に対して3重量以上含むことができ、好ましくは5重量以上含むことができる。前記重合体の含量が3重量未満であれば、前記重合体による効果が十分に得られないことがある。前記レジスト組成物は、前記重合体以外に添加剤や溶剤など、通常のレジスト組成物を構成する構成要素を含んでもよい。前記化学式2の繰り返し単位を含むレジスト組成物は、前記レジスト組成物を基板上に塗布する工程、前記塗布されたレジスト組成物に加熱処理をして高エネルギー線で露光する工程、現像液を用いて現像する工程を含むパターン形成方法でパターンを形成することができる。前記高エネルギー線は、波長13.5nm~250nmの範囲のものを用い、これによって高解像度と低LERが得られる。本発明による新規の化合物及びこれを含む重合体は、化学増幅型レジスト組成物に使用する場合、優れた感度と高安定性を有し、ガス排出量を低減でき、高解像度で、かつ低LERはが得られる。以下、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者が容易に実施できるように、本発明の実施例について詳細に説明する。しかし、本発明は、様々な形態で実現できるものであり、ここに説明する実施例に限定されることはない。<化合物の合成例>1ジフルオロヒドロキシプロパンスルホン酸ナトリウム塩difluorohydroxypropanesulfonicacidsodiumsaltの合成氷浴下で33-ジフルオロ3-スルホプロピオン酸エチルエステルナトリウム塩33-difluoro3-sulfopropionicacidethylestersodiumsalt83gをメタノール160mlと1.2LのTHFに溶かし、水素化ホウ素ナトリウムNaBH444gをゆっくり滴加した。前記滴加を完了した反応混合液は、氷浴を除去した後、昇温して60°Cで約4時間撹拌した。前記撹拌した反応混合液を蒸溜水でクエンチングquenchingし、溶媒を除去した。前記溶媒を除去した反応混合液を蒸溜水で再び溶かし、濃塩酸でpH5~6になるまでに酸性化した。前記酸性化した反応混合液を再び濃縮した後、メタノールを入れてスラリーを濾過して無機塩を除去した後、その濾液をヘキサンで2回洗浄し、メタノール層を再び濃縮した後、ジエチルエーテルを用いて結晶化した。前記結晶化して得られた白色の固体を真空乾燥して1HNMRによりその構造を確認した。下記反応式1でAと表示したジフルオロヒドロキシプロパンスルホン酸ナトリウム塩difluorohydroxylpropanesulfonicacidsodiumsalt、sodium3-ethoxy-1,1-difluoro-3-oxopropane-1-sulfonate68.5g収率95を得た。1H-NMRクロロホルム-d3、内部基準:テトラメチルシラン:ppm3.3t、2H、4.58~4.68t、2H前記式において、Meはメチル基、Etはエチル基を意味する。22-メチルアクリル酸-2,2-ジフルオロ-2-スルホプロピルエステルナトリウム塩2-Methyl-acrylicacid-2,2-difluoro-2-sulfo-propylestersodiumsaltの合成前記化合物の合成例1により製造した反応式1でAと表示したジフルオロヒドロキシプロパンスルホン酸ナトリウム塩difluorohydroxylpropanesulfonicacidsodiumsalt、sodium3-ethoxy-1,1-difluoro-3-oxopropane-1-sulfonate68gとメタクリロイルクロリドmethacryloylchloride54.6mlをジクロロメタンMC500mlに混ぜて撹拌し、15~25°CでN,N’-ジメチルアミノピリジンN,N’-dimethylaminopyridine、DMAP3.2g、重合防止剤HydroquinoneMonomethylEther、MEHQ50mgを入れて混合した。15~25°Cで予め用意したトリエチルアミンEt3N104mlを滴下ロートを用いて徐々に滴加して反応混合液を製造した。前記反応混合液を15~25°Cで3時間撹拌し、NMRで反応の進行を判断して反応を終結した。前記反応混合液の反応終結後、反応溶媒のジクロロメタンを減圧蒸留して除去し、蒸溜水300mlを入れた後、炭酸カリウムを入れて飽和溶液を作った。前記飽和溶液を2時間撹拌して生成した固体を濾過して下記反応式2でBと表示した2-メチルアクリル酸-2,2-ジフルオロ-2-スルホプロピルエステルナトリウム塩2-Methyl-acrylicacid-2,2-difluoro-2-sulfo-propylestersodiumsalt、sodium1,1-difluoro-3-methacryloyloxypropane-1-sulfonate81g収率:86が得られ、その構造を1HNMRにより確認した。1H-NMRDMSO、内部基準:テトラメチルシラン:ppm1.91s、3H、3.3t、2H、4.57~4.67t、2H、5.77s、1H、6.11s、1H前記式において、Etはエチル基を意味する。32-メチルアクリル酸-2,2-ジフルオロ-2-スルホプロピルエステルジフェニルメチルフェニルスルホニウム塩2-Methyl-acrylicacid-2,2-difluoro-2-sulfo-propylesterdiphenylmethylphenylsulfoniumsaltの合成前記化合物の合成例2により製造した2-メチルアクリル酸-2,2-ジフルオロ-2-スルホプロピルエステルナトリウム塩2-Methyl-acrylicacid-2,2-difluoro-2-sulfo-propylestersodiumsalt、sodium1,1-difluoro-3-methacryloyloxypropane-1-sulfonate31gと下記反応式3でCと表示したジフェニルメチルフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホニウム塩dipenylmethylphenylsulfoniumtrifluoromethanesulfoniumsalt35gをジクロロメタンMC300ml、蒸溜水300mlに溶かして反応混合物を製造し、二層反応により激しく3時間撹拌した。前記撹拌が完了すると、有機層を採って19FNMRにより反応の進行程度を確認し、反応を終結した。前記反応が終結した反応混合液の有機層を集めて溶媒を除去し、良溶媒goodsolvetのジクロロメタンと貧溶媒poorsolventのヘキサンを用いて洗浄し、溶媒を除去して結晶を得た。前記溶媒を除去した結晶を減圧乾燥して下記反応式3でDと表示した2-メチルアクリル酸-2,2-ジフルオロ-2-スルホプロピルエステルジフェニルメチルフェニルスルホニウム塩2-Methyl-acrylicacid-2,2-difluoro-2-sulfo-propylesterdiphenylmethylphenylsulfoniumsalt40g収率96を収得し、その構造を1HNMRにより確認した。1H-NMRクロロホルム-d3、内部基準:テトラメチルシラン:ppm1.95s、3H、2.43s、3H、3.3t、2H、4.82t、2H、5.60s、1H、6.22s、1H、7.43~7.80m、14H<重合体の合成例>実施例1重合用単量体の2-メチル2-アダマンチルアクリレート2-methyl2-adamantylacrylate、γ-ブチロラクチルメタクリレートγ-butyrolactylmethacrylate、3-ヒドロキシ1-アダマンチルメタクリレート3-hydroxy1-adamantylmethacrylate、前記反応式3でDと表示した2-メチルアクリル酸-2,2-ジフルオロ-2-スルホプロピルエステルジフェニルメチルフェニルスルホニウム塩2-Methyl-acrylicacid-2,2-difluoro-2-sulfo-propylesterdiphenylmethylphenylsulfoniumsaltを各々13g、8.4g、11.6g、1gを1,2-ジクロロエタン1,2-dichloroethane58gに溶かして単量体混合液を製造した。250mlフラスコにノルボルネン3.7g、重合開始剤のアゾビスイソブチロニトリルAIBN2.5g、及び重合溶媒の1,2-ジクロロエタン1,2-dichloroethane117gを入れた反応槽に窒素ガスを注入して15~25°Cを維持しながら1時間撹拌した。前記反応槽の温度を65°Cに維持し、前記単量体混合液を1時間にかけて徐々に滴加して反応混合液を製造し、16時間反応させた。前記重合が完了した反応混合液を15~25°Cに冷却し、ヘキサンで沈殿させて濾過した。前記濾過時には同一の溶媒で複数回洗浄して結晶を減圧乾燥し、下記化学式11で表される実施例1の重合体37g収率79を得た。下記化学式11で表される実施例1の重合体において、lは0.24、mは0.25、nは0.30、oは0.20、及びpは0.01である。前記実施例1の重合体は、ポリスチレン換算重量平均分子量Mwが1,190、分子量分布重量平均分子量と数平均分子量の比、Mw/Mnが1.57であった。実施例2前記実施例1と同一の方式で製造するが、各重合用単量体の量を調節して前記化学式11のl、m、n、o、pの値を前記実施例1と異なるように製造した。実施例2の重合体は、前記化学式11のl、m、n、o、pの値を各々lは0.24、mは0.25、nは0.30、oは0.18、及びpは0.03にした。実施例3前記実施例1と同一の方式で製造するが、各重合用単量体の量を調節して前記化学式11のl、m、n、o、pの値を前記実施例1と異なるように製造した。実施例3の重合体は、前記化学式11のl、m、n、o、pの値を各々lは0.24、mは0.25、nは0.30、oは0.16、及びpは0.05にした。実施例4前記実施例1と同一の方式で製造するが、各重合用単量体の量を調節して前記化学式11のl、m、n、o、pの値を前記実施例1と異なるように製造した。実施例4の重合体は、前記化学式11のl、m、n、o、pの値を各々lは0.24、mは0.25、nは0.30、oは0.14、及びpは0.07にした。比較例重合用単量体の2-メチル2-アダマンチルメタクリレート2-methyl2-adamantylmethacrylate、γ-ブチロラクチルメタクリレートγ-butyrolactylmethacrylate、3-ヒドロキシ1-アダマンチルメタクリレート3-hydroxy1-adamantylmethacrylateを各々10.0g、7.3g、10.1gずつ混ぜて1,4-ジオキサン1,4-dioxane82gに溶かし、単量体混合液を製造して徐々に槽の温度を65°Cまで上げた。250mlフラスコにノルボルネン3.7g、重合開始剤のアゾビスイソブチロニトリルAIBN2.5g及び重合溶媒の1,2-ジクロロエタン1,2-dichloroethaneを117g入れた反応槽に窒素ガスを注入して15~25°Cを維持しながら1時間撹拌した。前記反応槽の温度を65°Cに維持し、前記単量体混合液を1時間にかけて徐々に滴加して反応混合液を製造し、16時間反応させた。前記重合が完了した反応混合液を15~25°Cに冷却し、ヘキサンで沈殿させて濾過した。前記濾過時には同一の溶媒で複数回洗浄して結晶を減圧乾燥し、下記化学式12で表される重合体25g収率91を得た。下記化学式12において、前記lは0.28、前記mは0.24、前記nは0.24、及び前記oは0.24である。下記化学式12で表される重合体は、ポリスチレン換算重量平均分子量Mwが1,780、分子量分布重量平均分子量と数平均分子量の比、Mw/Mnが1.68であった。<レジストの製造及び物性評価>実施例1前記実施例1の重合体100重量部に対して、塩基性添加剤としてテトラメチルアンモニウムヒドロキシドTetramethylammoniumhydroxide0.75重量部をプロピレングリコールメチルエーテルアセテート1,000重量部に溶解させた後、0.2μmの膜フィルタで濾過してレジスト液を製造した。前記レジスト液をスピナーを用いて基板に塗布し、110°Cで90秒間乾燥して0.2μm厚さの皮膜を形成した。形成された皮膜にArFエキシマレーザーステッパーレンズの開口数:0.75を用いて露光させ、120°Cで90秒間熱処理した。前記熱処理した基板を2.38wtのテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で40秒間現像し、洗浄、乾燥してレジストパターンを形成した。実施例2~4前記レジストの製造及び物性評価において、実施例1の重合体100重量部の代りに各々の重合体合成例の実施例2~4で合成した100重量部の重合体を使用し、前記レジストの製造及び物性評価の方式は実施例1と同一の方式でレジストパターンを形成して物性を評価した。比較例1~3前記化学式12で表される比較例の重合体を用いて下記表1の組成でレジスト液を製造し、前記レジストの製造及び物性評価の方式は実施例1と同一の方式でレジストパターンを形成して物性を評価した。1酸発生剤:トリフェニルスルホニウムノナフレートTriphenylsulfoniumnonaflate2塩基性添加剤:テトラメチルアンモニウムヒドロキシドTetramethylammoniumhydroxide前記実施例1~4及び比較例1~3の物性は、感度、解像度、LERを評価して下記表2に示した。感度は、現像後に形成された0.10umラインアンドスペースL/Sパターンを1:1の線幅に形成する露光量を最適とし、前記最適の露光量を感度とする場合に解像される最小パターンの寸法を解像度として表示した。LERはCDSEMにより測定し、評価結果を5段階に分けて1とても悪い、2悪い、3普通、4良い、5とても良いで表わした。前記表2を参照すると、実施例1~4の感度及び解像度が比較例1~3よりも全般的に優れ、特に、LERは、実施例1~4が比較例に比べて非常に優れている。以上、本発明の好ましい実施例に対して詳細に説明したが、本発明の権利範囲はこれに限定されるものではなく、次の請求範囲で定義している本発明の基本概念を用いた当業者の様々な変形及び改良形態も本発明の権利範囲に属するものである。"