"偏向器により偏向されたレーザー光を感光体上に結像させるレーザー走査光学装置であって、前記偏向器と、前記偏向器が配置される基板と、前記偏向器を回転駆動するモータと、前記基板に配置され、前記モータの回転駆動を制御する半導体素子と、前記偏向器を防塵し収容する収容筐体と、を備え、前記半導体素子は、前記収容筐体から露出するように配置されている、レーザー走査光学装置。前記収容筐体の外表面に放熱部材がさらに設けられている、請求項1に記載のレーザー走査光学装置。前記放熱部材を通過する放熱用の空気が当たる位置に前記半導体素子が位置するように前記基板が配置されている、請求項2に記載のレーザー走査光学装置。前記基板は、前記収容筐体に取り囲まれる領域と、前記収容筐体から突出する領域とを有し、前記半導体素子は、前記基板の前記収容筐体から突出する領域に配置されている、請求項1から3のいずれかに記載のレーザー走査光学装置。前記モータは、前記基板の表面に形成されるコイル部を有し、前記半導体素子は、前記コイル部が形成される前記基板の表面とは反対側の裏面に配置されている、請求項1または2に記載のレーザー走査光学装置。請求項1から5のいずれかに記載のレーザー走査光学装置を有する、画像形成装置。近年、レーザープリンタ、デジタル複写機等の画像形成装置において、印刷速度の高速化が進んでいる。この高速化に対応するために、レーザー走査光学装置では、レーザーを偏向走査するためのポリゴンミラーを高速で回転させることになる。ポリゴンミラーを高速回転させると、これに伴いポリゴンモータの軸受け部およびコイル、ポリゴンモータの駆動半導体素子部での発熱量が多くなり、レーザー走査光学装置内の温度が上昇する。その結果、走査光学素子等の熱変形が発生し、感光体上でのビーム照射位置が変化して、画像形成装置における印刷画像の品質劣化が生じてしまうことが懸念される。特に、最近では高画質を得るために高解像度化し、1200dpi等の高い走査密度が要求されており、ビーム照射位置を高精度に維持する必要がある。このため、レーザー走査光学装置内の温度上昇を抑制して所望のビーム照射位置を維持することは重要である。上述した特許文献1に開示されるレーザー走査光学装置では、ポリゴンモータの軸受け部分において発生した熱は、放熱用穴を通じて外部に放熱される。しかし、ポリゴンモータの軸受け部分以外に、コイル、駆動半導体素子部おいても発熱する。しかし、コイルや駆動半導体素子部に対しては放熱に対する対策が施されていない。また、同一基板上に駆動半導体素子部とポリゴンモータとが形成されるタイプ基板一体型のレーザー走査光学装置では、同一基板上において、ポリゴンモータのコイルと半導体素子部との2つが発熱源となる。コイルの上部にあるポリゴンミラーには防塵が必要なため、ポリゴンモータをカバーで覆う必要がある。そのため、同一基板上に配置される防塵が必要でない半導体素子部もカバーで覆われ、半導体素子部の放熱効率が落ちてしまう。本発明の目的は、レーザー走査光学装置および画像形成装置において、レーザー走査光学装置の内部で発生する熱の放熱効率を高めることにより、感光体上でのビーム照射位置の変化を防止し、また、画像形成装置における印刷画像の品質劣化の抑制を可能とする、レーザー走査光学装置および画像形成装置を提供することにある。この発明に基づいたレーザー走査光学装置においては、偏向器により偏向されたレーザー光を感光体上に結像させるレーザー走査光学装置であって、上記偏向器と、上記偏向器が配置される基板と、上記偏向器を回転駆動するモータと、上記基板に配置され、上記モータの回転駆動を制御する半導体素子と、上記偏向器を防塵し収容する収容筐体とを備え、上記半導体素子は、上記収容筐体から露出するように配置されている。他の形態では、上記収容筐体の外表面に放熱部材がさらに設けられている。他の形態では、上記放熱部材を通過する放熱用の空気が当たる位置に上記半導体素子が位置するように上記基板が配置される。他の形態では、上記基板は、上記収容筐体に取り囲まれる領域と、上記収容筐体から突出する領域とを有し、上記半導体素子は、上記基板の上記収容筐体から突出する領域に配置されている。他の形態では、上記モータは、上記基板の表面に形成されるコイルを有し、上記半導体素子は、上記コイルが形成される上記基板の表面とは反対側の裏面に配置される。この発明に基づいた画像形成装置においては、上述のいずれかに記載のレーザー走査光学装置を有する。この発明に基づいたレーザー走査光学装置および画像形成装置によれば、レーザー走査光学装置の内部で発生する熱の放熱効率を高めることにより、感光体上でのビーム照射位置の変化を防止し、また、画像形成装置における印刷画像の品質劣化の抑制を可能とする、レーザー走査光学装置および画像形成装置を提供することが可能となる。本発明に基づいた各実施の形態におけるレーザー走査光学装置および画像形成装置について、以下、図を参照しながら説明する。なお、以下に説明する実施の形態において、個数、量などに言及する場合、特に記載がある場合を除き、本発明の範囲は必ずしもその個数、量などに限定されない。また、同一の部品、相当部品に対しては、同一の参照番号を付し、重複する説明は繰り返さない場合がある。また、各実施の形態における構成を適宜組み合わせて用いることは当初から予定されていることである。なお、以下においては、画像形成装置の一例として、一般的なフルカラー電子写真方式を採用しているカラープリンタについて説明しているが、本発明は、フルカラー電子写真方式にのみ限定されるものではなく、モノクロ画像のみを形成する1種ブラック等のレーザー走査光学装置を採用しているプリンタへの適用も可能である。また、プリンタだけでなく、複写機、FAX等の画像形成装置に対して、本発明に基づくレーザー走査光学装置を搭載することが可能である。カラープリンタ1の全体構成、図1参照図1に、本発明に係るレーザー走査光学装置20を搭載したカラープリンタ1の概略構成を示す。このカラープリンタ1は、タンデム方式で4色の画像を合成するように構成されている。4つの画像形成ステーション22Y,2M,2C,2Kの直上に中間転写ベルト10が配置され、直下にレーザー走査光学装置20が配置されている。各画像形成ステーション2には、それぞれ、感光体ドラム33Y,3M,3C,3K、現像器44Y,4M,4C,4K、図示しない帯電器、残留トナーのクリーナなどが配置されている。なお、黒色の画像を形成するための画像形成ステーション2Kは大型に構成され、使用頻度の高いモノクロ画像を高速で形成できるようにしている。レーザー走査光学装置20は、Y,M,C,Kの画像データに基づいて放射される光束By,Bm,Bc,Bkによって各感光体ドラム3上に画像静電潜像を形成する。この潜像はトナーによって可視像化される。中間転写ベルト10は、駆動ローラ11および支持ローラ12に無端状に張り渡されている。中間転写ベルト10には、矢印Y方向への回転に基づいて上述の各感光体ドラム3上に形成された各色のトナー画像が順次1次転写され、合成される。記録用紙Pは、自動給紙カセット5に収納されており、1枚ずつ所定のタイミングで給紙される。記録用紙Pには、通紙経路6を経由して中間転写ベルト10から2次転写位置13にて合成トナー画像が2次転写される。2次転写された記録用紙Pは、定着装置15でトナーの加熱定着を施された後、排出ローラ16から排紙部9上に排出される。記録用紙Pへ両面プリントを行なう場合には、記録用紙Pは、スイッチバックローラ17からカラープリンタ1の外方に搬送され、スイッチバックされて反転経路7を経由して2次転写位置13に戻される。ここで裏面にトナー画像を2次転写された記録用紙Pは排出ローラ16から排紙部9上に排出される。レーザー走査光学装置20の概略構成、図2~図4参照図2は、レーザー走査光学装置20の断面図、図3は平面図、図4は底面図である。このレーザー走査光学装置20は、光源部21と、偏向器の一例としてポリゴンミラー40と第1および第2結像レンズ31,32と、各光路ごとに設けた折返しミラー34,35,36および第3結像レンズ33と、これらの部材を保持する筐体27とを有する。筐体27は、ポリゴンミラー40を防塵するポリゴンミラー収容筐体27Aと、第1および第2結像レンズ31,32、折返しミラー34,35,36、および第3結像レンズ33等を収容する光学系収容筐体27Bとを有する。光源部21は、レーザーダイオード2222Y,22M,22C,22Kと、合成ミラー2323Y,23M,23Cと、折返しミラー24と、シリンドリカルレンズ25とで構成され、プレート26に搭載されている。レーザーダイオード22Kから放射された光束は折返しミラー24に導かれる。また、レーザーダイオード22C,22M,22Yからそれぞれ放射された光束は、合成ミラー23C,23M,23Yでそれぞれ反射し、折返しミラー24に導かれる。折返しミラー24で反射された各光束はシリンドリカルレンズ25で副走査方向Z図2参照に集光され、ポリゴンミラー40の同一面に副走査方向Zに所定の角度を有して導かれる。これらの光束はポリゴンミラー40の回転に基づいて主走査方向X図3参照に等角速度で偏向され、第1および第2結像レンズ31,32を透過する。光束Bkは第3結像レンズ33Kを透過して折返しミラー34Kで反射され、感光体ドラム3K上を露光および走査する。光束Bcは折返しミラー34C,35Cで反射されて第3結像レンズ33Cを透過し、さらに折返しミラー36Cで反射され、感光体ドラム3C上を露光および走査する。光束Bmは折返しミラー34Mで反射されて第3結像レンズ33Mを透過し、さらに折返しミラー35Mで反射され、感光体ドラム3M上を露光および走査する。光束Byは折返しミラー34Yで反射されて第3結像レンズ33Yを透過し、さらに折返しミラー35Yで反射され、感光体ドラム3Y上を露光および走査する。図2に示すように、ポリゴンミラー40は、基板41に固定したモータ42の回転軸に取り付けられている。また、モータ42のコイル42cは基板41上に形成されている。また、基板41には、駆動用の半導体素子も配置されている。なお、ポリゴンミラー収容筐体27Aのモータ42の上部位置には、放熱部材の一例として放熱フィン43が取り付けられている。各感光体ドラム3上での各走査線の書出し位置を検出するため、即ち、主走査同期信号を得るため、ポリゴンミラー40で偏向された光束Bkの主走査方向上流側光束は、図3に示すように、検出用ミラー37で反射されてレンズ38で集光され、同期信号検出用受光センサ39に入射する。なお、筐体27は、カラープリンタ1の図示しないフレームに、3箇所の固定点Z1,Z2,Z3により、たとえば、ねじ止めにより固定されている図3参照。さらに、色ずれ調整レジスト調整として、図3に示すように、部分倍率調整機構45とスキュー調整機構50が設置されている。スキュー調整機構50は駆動源としてブラケット59を介して筐体27に固定されたステッピングモータ51を備えている。なお、部分倍率調整機構45およびスキュー調整機構50の詳細な説明は省略する。ここで、図5を参照して、参考技術として、基板41上における放熱構造について説明する。なお、図5は、参考技術におけるポリゴンミラー収容筐体における基板の収容状態を示す断面図であり、図2中のV-V線矢視断面に対応している。基板41上には、ポリゴンミラー40を駆動するためのモータ42が配置されている。基板41上には、モータ42のコイル42cが直接配置されている。また、同じ基板41上には駆動用の半導体素子60が配置されている。発熱源となる、モータ軸受け部42j、コイル42cおよび半導体素子60から放射される熱は、ポリゴンミラー収容筐体27Aの上部に設けられた、ポリゴンカバーを兼ねた放熱フィン43に熱伝達される。放熱フィン43には、外部に設けられた放熱用ファンからのエアーフローAFが吹き付けられ、放熱が促される。しかし、半導体素子60と、放熱フィン43との間の距離は、モータ42に比べると大きくなるため、半導体素子60と、放熱フィン43との間には何ら配置されず、ポリゴンミラー収容筐体27Aの内部に熱がこもり易い状態となっている。実施の形態1:図6、図7参照本発明に基づいた実施の形態1におけるレーザー走査光学装置について、図6および図7を参照して以下説明する。なお、図6は、ポリゴンミラー収容筐体における基板の収容状態を示す断面図であり、図7は、ポリゴンミラー収容筐体における基板の他の収容状態を示す断面図である。図6および図7はいずれも、図2中のV-V線矢視断面に対応している。なお、参考技術と同一または相当部分については、同一の参照番号を付し、重複する説明は繰り返さない場合がある。本実施の形態においては、ポリゴンミラー収容筐体27Aにおける基板41の収容状態に特徴を有し、半導体素子60は、ポリゴンミラー収容筐体27Aから露出するように配置されている。具体的には、基板41は、モータ42が配置されポリゴンミラー収容筐体27Aに取り囲まれる領域41Aと、ポリゴンミラー収容筐体27Aから突出する領域41Bとを有し、半導体素子60は、基板41のポリゴンミラー収容筐体27Aから突出する領域41Bに配置されている。なお、ポリゴンミラー収容筐体27Aは、ポリゴンミラー40に埃が付着しないように機密性を高める必要がある。そこで、ポリゴンミラー収容筐体27Aから突出する基板41とポリゴンミラー収容筐体27Aとの間に生じる隙間は、図示しないシール部材より気密性が確保されている。さらに、本実施の形態における基板41は、ポリゴンミラー40が配置される基板41の領域41Aに対して、半導体素子60が配置される基板41の領域41Bの方が上方に位置するように折り曲げられている。具体的には、基板41の領域41Bが、ポリゴンミラー収容筐体27Aの上面よりも上側に位置するように、基板41の領域41Bが折り曲げられている。これにより、半導体素子60は、放熱フィン43を通過する放熱用の空気AFが当たる位置に配置されることになる。その結果、一つの送風経路で放熱フィン43および半導体素子60の両方の放熱を効率良く行なうことが可能となる。以上、上述した実施の形態におけるレーザー走査光学装置20、およびこのレーザー走査光学装置20を採用したカラープリンタ1によれば、半導体素子60がポリゴンミラー収容筐体27Aから露出する位置に配置されているため、半導体素子60が筐体で覆われている場合に比べて、効果的に放熱が可能となる。また、モータ42からの放熱主にコイル42cおよび軸受け部を促す放熱フィン43の位置と半導体素子60の高さ位置が略合うように基板41に段差が設けられている。これにより、1つのエアーフローAFで効果的に放熱することが可能となる。また、モータ42と半導体素子60とは空間的に分離されており、ポリゴンミラー収容筐体27Aの体積を小さくすることができるため、放熱フィン43への熱伝達の効率を高め、放熱し易くすることができる。その結果、レーザー走査光学装置20の内部で発生する熱の放熱効率を高め、感光体上でのビーム照射位置の変化を防止し、また、カラープリンタにおける印刷画像の品質劣化の抑制が可能となる。なお、半導体素子60を、ポリゴンミラー収容筐体27Aから露出させる場合において、ポリゴンミラー収容筐体27Aから突出する領域41Bに半導体素子60を配置することで、半導体素子60の放熱が十分確保できる場合には、基板41を折り曲げることなく、図7に示すように、ポリゴンミラー収容筐体27Aから基板41を平板状態のまま突出させることも可能である。実施の形態2:図8参照本発明に基づいた実施の形態2におけるレーザー走査光学装置について、図8参照して以下説明する。なお、図8は、ポリゴンミラー収容筐体における基板の収容状態を示す断面図であり、図2中のV-V線矢視断面に対応している。上記実施の形態においては、半導体素子60は、基板41のポリゴンミラー収容筐体27Aから突出する領域41Bに配置されていたが、本実施の形態においては、基板41は、ポリゴンミラー収容筐体27Aの内部に収容された状態で、半導体素子60は、ポリゴンミラー収容筐体27Aに設けられた開口部27hから露出する形態を有している。具体的には、基板41は、モータ42が配置される領域41Aと、半導体素子60が配置される領域41Cとを有している。領域41Aにおいて基板41の表面上には、モータ42のコイル42cが形成されており、半導体素子60は、コイル42cが形成される基板41の表面とは反対側の裏面に配置されている。さらに、領域41Cは、領域41Aからみて裏面側に折り曲げられるとともに、領域41Cが、開口部27hを塞ぐように配置されている。これにより、半導体素子60がポリゴンミラー収容筐体27Aが露出する状態となり、半導体素子60の放熱を促すことが可能となる。また、必要に応じて、半導体素子60の放熱をさらに促すために、半導体素子60に対して、放熱用の空気が当たるようにしても良い。この放熱用の空気は、放熱フィン43を通過する放熱用の空気AFと同一であっても良いし、別途、半導体素子60に対して専用に設けた空気流れであっても良い。以上、本実施の形態におけるレーザー走査光学装置20、およびこのレーザー走査光学装置20を採用したカラープリンタ1によっても、実施の形態1の場合と同様に、半導体素子60がポリゴンミラー収容筐体27Aから露出する位置に配置されているため、半導体素子60が筐体で覆われている場合に比べて、効果的に放熱が可能となる。また、基板41の領域41Cが、開口部27hを塞ぐように配置されていることから、ポリゴンミラー収容筐体27Aの気密性を容易に維持しながら、半導体素子60の放熱が効果的に可能となる。その結果、レーザー走査光学装置20の内部で発生する熱の放熱効率を高め、感光体上でのビーム照射位置の変化を防止し、また、カラープリンタにおける印刷画像の品質劣化の抑制が可能となる。なお、上記各実施の形態において、偏向器の一例としてポリゴンミラー40を用いた場合について説明したが、ポリゴンミラー40に代わり、レゾナントスキャナやガルバノミラー等を用いることも可能である。なお、今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。"