放射の投影ビームを提供するための放射システムと、前記投影ビームを所望のパターンに従ってパターン化するべく機能するパターン化手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、パターン化されたビームを前記基板の目標部分に投影するための投影システムと、前記投影システムの最終エレメントと前記基板の間に液体を供給するための液体供給システムとを備えたリソグラフィ投影装置であって、前記液体供給システムが、使用中、液体によって占有されていない空間が前記液体と前記基板の間に存在するようになされたことを特徴とするリソグラフィ投影装置。前記液体と前記基板の間の間隔が前記放射の波長未満である、請求項1に記載の装置。前記液体と前記基板の間の前記間隔が100nm未満である、請求項1又は請求項2に記載の装置。前記基板に最も近い前記液体の表面の大部分が前記基板と実質的に平行である、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。前記液体供給システムが、前記液体の形状を画定するための疎水性表面を備えた、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。前記疎水性表面の形状が環状である、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。前記液体の形状を画定するための放射透過性親水性表面をさらに備えた、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。前記放射透過性親水性表面が円形であり、環状疎水性表面の中心の孔を塞ぐことを特徴とする請求項7に記載の装置。使用中、前記基板テーブルが前記投影システムの上方に垂直に位置する、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。前記液体の形状を調整するための電極を備えた、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。少なくとも一部が放射線感応材料の層で被覆された基板を提供するステップと、放射システムを使用して放射の投影ビームを提供するステップと、前記投影ビームの断面をパターン化するためにパターン化手段を使用するステップと、前記投影ステップで使用される投影システムの最終エレメントと前記基板の間に液体を提供するステップと、パターン化された放射のビームを放射線感応材料の層の目標部分に投影するステップとを含むデバイス製造方法であって、前記液体が液体レンズを形成すること、及び前記投影ビームが、前記液体レンズを透過した後、前記基板を露光する前に空間を通過することを特徴とするデバイス製造方法。しかしながら、これらのいずれの提案もいくつかの問題を抱えている。たとえば、レジストの化学的性質に対する液浸液の影響が未知であり、また、レジストのガス流出は、液浸液中に気泡が発生する原因になっている。液浸液中の気泡によって光の進路が変化し、ひいては露光の一様性が妨害されることになる。また、保護対策が施されている場合であっても、投影装置と基板の間の液浸液を介した結合による機械的な外乱の問題は、依然として深刻である。リソグラフィ装置の解像度を改善するための代替方法は、L.P.GhislainらがNear-FieldPhotolithographywithSolidImmersionLensApp.PhysLett74、501~503頁1999年の中で記述しているように、屈折率の大きい固体液浸レンズを投影システムと基板の間に提供することである。投影ビームが固体液浸レンズに集束し、エバネッセントフィールドニアフィールド動作モードを使用して、極めて薄い空気若しくは他のガス間隙を通ってレジストまで放射が伝搬する。固体レンズと基板の間の間隔は十分に狭いつまり、放射の波長未満であるため、光子の一部が間隙の両端間を透過して基板が露光される。この提案は、明らかに基板と固体レンズの間の極めて微小な間隙を利用しており、したがって基板と固体レンズが衝突する可能性が高い。したがって本発明の目的は、解像度が改善された代替方法及び装置を提供することである。この代替方法及び装置により、液体若しくは固体レンズが存在することによる欠点の一部が必ず軽減される。上記の目的及び他の目的は、本発明による、冒頭の段落に明記されている、前記液体供給システムが、使用中、液体によって占有されていない空間が前記液体と前記基板の間に存在するようになされたことを特徴とするリソグラフィ装置によって達成される。液体と基板の間の接触に起因する、レジストの化学的性質に対する影響及びレジストのガス放出などの問題を回避することができる。同様に、液体と基板の間に衝突が生じたとしても、その影響は、固体レンズと基板の間の衝突ほど深刻ではない。システム内を液体が分散することになるが、基板が永久的に損傷することは考えられず、また、リソグラフィ装置に大掛かりな修復作業が必要であることは考えられない。衝突の際に分散する液体を収集するための構造を容易に設けることができる。液体供給システムは、液体の位置、量、形状、流量或いは他のあらゆる特性を制御するためのエレメントを備えることができる。液体と基板の間の間隔は、放射の波長未満であることが好ましく、また、100nm未満であることが好ましい。液体と基板の間の間隔は、注意深く監視しなければならない。間隔が広すぎると、十分な放射が基板まで透過しなくなる。また、透過する光の量の変動を回避するためには、可能な限り液体と基板の間の間隔を一様にしなければならない。同様に、投影システム全体の焦点面に影響するため、液体の深さを監視しなければならない。液体と基板の間の間隔及び液体の深さは、あらゆる変動を補償することができるよう、いずれも慎重に調整しなければならない。誤った不適当な放射の屈折を防止するためには、基板に最も近い液体の表面は、実質的に基板と平行でなければならない。水を閉じ込めて液体レンズを形成するために、液体供給システムは、疎水性表面を備えている。この疎水性表面は、その形状が実質的に環状であり、環の中心に液体レンズが形状されることが好ましい。また、液体の形状を画定するための放射透過性親水性表面が存在していることが好ましい。この親水性表面は、環状疎水性表面の中心の孔を塞ぐことが好ましい。また、金属製の電極を使用して液体の形状直径を含むを調整することも可能である。容易に使用することができるよう、リソグラフィ装置は、基板テーブルが投影システムの上方で垂直になるように構成されることが好ましい。本発明の他の態様によれば、-少なくとも一部が放射線感応材料の層で被覆された基板を提供するステップと、-放射システムを使用して放射の投影ビームを提供するステップと、-投影ビームの断面をパターン化するためにパターン化手段を使用するステップと、-前記投影ステップで使用される投影システムの最終エレメントと前記基板の間に液体を提供するステップと、-パターン化された放射のビームを放射線感応材料の層の目標部分に投影するステップとを含むデバイス製造方法であって、前記液体が液体レンズを形成すること、及び前記投影ビームが、前記液体レンズを透過した後、前記基板を露光する前に空間を通過することを特徴とするデバイス製造方法が提供される。本明細書においては、本発明による装置のとりわけICの製造における使用が参照されているが、本発明による装置は、他の多くの可能アプリケーションを有していることを明確に理解されたい。たとえば、本発明による装置は、集積光学系、磁気領域メモリのための誘導及び検出パターン、液晶表示パネル、薄膜磁気ヘッド等の製造に使用することができる。このような代替アプリケーションのコンテキストにおいては、本明細書におけるレチクル、ウェハ或いはダイという用語の使用はすべて、それぞれより一般的なマスク、基板及び目標部分という用語に置換されているものと見なすべきであることは当業者には理解されよう。本明細書においては、放射及びビームという用語は、紫外放射たとえば波長が365nm、248nm、193nm、157nm若しくは126nmの放射を含むあらゆるタイプの電磁放射を包含するべく使用されている。以下、本発明の実施例について、単なる実施例にすぎないが、添付の略図を参照して説明する。図において、対応する参照記号は、対応する部品を表している。図1は、本発明の特定の実施例によるリソグラフィ投影装置を略図で示したものである。この装置は、-放射たとえばUV放射の投影ビームPBを供給するための放射システムEx、ILこの特定の実施例の場合、放射システムは放射源LAをさらに備えていると、-マスクMAたとえばレチクルを保持するためのマスクホルダを備えた、アイテムPLに対してマスクを正確に位置決めするための第1の位置決め手段に接続された第1の対物テーブルマスクテーブルMTと、-基板Wたとえばレジスト被覆シリコンウェハを保持するための基板ホルダを備えた、アイテムPLに対して基板を正確に位置決めするための第2の位置決め手段に接続された第2の対物テーブル基板テーブルWTと、-マスクMAの照射部分を基板Wの目標部分Cたとえば1つ又は複数のダイが含まれているに画像化するための投影システムレンズPLたとえば屈折レンズ系とを備えている。図に示すように、この装置は透過型たとえば透過型マスクを有するタイプの装置である。しかし、一般的にはたとえば反射型たとえば反射型マスクを備えたタイプの装置であっても良い。別法としては、この装置は、上で参照したタイプのプログラム可能ミラーアレイなどの他の種類のパターン化手段を使用することもできる。放射源LAたとえばレーザ生成源即ち放電プラズマ源は、放射のビームを生成している。このビームは、照明システムイルミネータILに直接供給されるか、或いはたとえばビームエキスパンダExなどの条件付け手段を介して供給される。イルミネータILは、ビーム中の強度分布の外部及び/又は内部ラジアルエクステント一般に、それぞれσ-外部及びσ-内部と呼ばれているを設定するための調整手段AMを備えることができる。また、イルミネータILは、通常、インテグレータIN及びコンデンサCOなどの他の様々なコンポーネントを備えている。この方法によれば、マスクMAに衝突するビームPBの断面に、所望する一様な強度分布を持たせることができる。図1に関して、放射源LAをリソグラフィ投影装置のハウジング内に配置し放射源LAがたとえば水銀灯の場合にしばしば見られるように、且つ、リソグラフィ投影装置から離して配置することにより、放射源LAが生成する放射ビームをリソグラフィ投影装置に供給するたとえば適切な誘導ミラーを使用してことができることに留意されたい。この後者のシナリオは、放射源LAがエキシマレーザの場合にしばしば見られるシナリオである。本発明及び特許請求の範囲には、これらのシナリオの両方が包含されている。次に、ビームPBが、マスクテーブルMT上に保持されているマスクMAによって遮断される。マスクMAを透過したビームPBは、ビームPBを基板Wの目標部分Cに集束させるレンズPLを通過する。基板テーブルWTは、第2の位置決め手段及び干渉測定手段IFを使用して正確に移動させることができ、それによりたとえば異なる目標部分CをビームPBの光路中に配置することができる。同様に、第1の位置決め手段を使用して、たとえばマスクライブラリからマスクMAを機械的に検索した後、或いは走査中に、マスクMAをビームPBの光路に対して正確に配置することができる。通常、対物テーブルMT及びWTの移動は、図1には明確に示されていないが、長ストロークモジュール粗位置決め及び短ストロークモジュール精密位置決めを使用して実現されているが、ウェハステッパステップアンドスキャン装置ではなくの場合、マスクテーブルMTは、短ストロークアクチュエータに接続するだけで良く、或いは固定することも可能である。図に示す装置は、2つの異なるモードで使用することができる。1.ステップモード:マスクテーブルMTが基本的に静止状態に維持され、マスク画像全体が目標部分Cに1回の照射で投影される即ち単一フラッシュ。次に、基板テーブルWTがx及び/又はy方向にシフトされ、異なる目標部分CがビームPBによって照射される。2.走査モード:所与の目標部分Cが単一フラッシュで露光されない点を除き、ステップモードと基本的に同じシナリオが適用される。走査モードでは、マスクテーブルMTを所与の方向いわゆる走査方向、たとえばy方向に速度νで移動させることができるため、投影ビームPBでマスク画像を走査し、且つ、基板テーブルWTを同時に同じ方向又は逆方向に、速度V=Mνで移動させることができる。MはレンズPLの倍率である通常、M=1/4若しくはM=1/5。この方法によれば、解像度を犠牲にすることなく、比較的大きい目標部分Cを露光することができる。図4及び5に示すように、基板テーブルWTは、投影システムPLの上方に位置している以下で考察するよう、必ずしもこの限りではない。ダクト17を介して投影システムPLと基板テーブルWTの間の空間に液体を供給するべく高精度液体供給システム18が提供されている。液体の屈折率はnであり、液体レンズ10即ちリザーバを形成している。液体レンズ10は、投影システムPLの画像視野の周りに形成されているため、基板の表面と投影システムPLの最終エレメントの間の空間に液体が閉じ込められる。液体レンズ10内に液体を閉じ込める疎水性材料22の帯たとえば被覆が液体供給システム18に接着されている。また、基板の表面に向かって配置されている投影システムPLの表面は、放射透過性親水性材料23たとえば被覆を備えており、液体レンズを投影システムに確実に接着している。特定の疎水性材料及び親水性材料の選択は液体によって決まる。たとえば液体に実質的に水を使用する場合、親水性材料にはガラスが適しており、疎水性材料にはテフロン登録商標が適していることが分かっている。また、他の要素、たとえば表面粗さの程度などを使用して材料の疎水性品質を改善することも可能である。液体センサ24は、液体レンズ10の深さをセンスしている。また、高精度液体供給システム18は、投影レンズと基板の間の空間を実質的に充填し、且つ、投影放射の波長未満の間隙が基板Wと液体レンズ10の間に存在するよう、十分な液体を提供している。液体センサ24は、液体レンズ10の深さが不十分である場合、高精度液体供給システム18によってより多くの液体を液体レンズ10に提供することができ、また、液体レンズ10の深さが深すぎる場合、出口14を使用して或いは複数のダクト17のうちの1つを出口として使用することも可能である液体レンズ10から液体を除去することができるフィードバックシステムの一部を形成している。液体センサ24は、液体レンズ10内からの光をセンスし、且つ、液体レンズの表面での内部反射を利用することによって動作しており、それにより液体レンズの深さを決定している。投影システムPLと基板Wの間の間隔は、その設定が可能であるか或いは容易に測定することができるため、投影システムPLと基板Wの間の全体の間隔から液体レンズ10の深さを単純に減算することによって液体レンズ10と基板Wの間の間隙を計算することができる。別法としては、たとえば基板テーブルWT上の電極と投影システムPLの間のキャパシタンスを測定することによってこれらの間隔を測定することも可能である。したがって、液体レンズ10を介して放射が投影され、基板Wと基板の表面に向かって配置されている液体レンズ10の表面の間にエバネッセントフィールドが形成される。したがってシステムの解像度がn分の一に改善される。放射の誤った屈折を防止するためには、液体レンズ10は、広く、且つ、平らな表面を有していることが好ましい。疎水性材料の下方の電極28金属製であることが好ましいを帯電させることにより、液体レンズの形状形態及び大きさを適切に調整することができる。たとえば直径が大きくなるように液体レンズ10を調整し、それにより広く、且つ、平らな領域を中心部分に提供することができる。疎水性材料22及び/又は親水性材料23の代替若しくは追加として、ガスシール16を使用して液体レンズ内に液体を閉じ込めることも可能である。図5に示すように、ガスシールは、高精度液体供給システム18と基板Wの間隙に入口15を介して加圧下で提供され、且つ、出口14を介して取り出されるガス、たとえば空気或いはN2であることが好ましい合成空気若しくは他の不活性ガスによって形成されている。ガス入口15の超過圧力、出口14の真空レベル及び間隙の幾何学は、液体を閉じ込める内側へ向かう高速空気流が存在するようになされている。液体レンズ10が十分に小さい場合、図1に示す、基板テーブルWTの上方に投影システムPLを備えたリソグラフィ装置を使用することができる。表面張力及び粘着力によって重力の力が補償され、液体レンズ10は、液体レンズ10と基板Wの間に空間を残して投影システムPLに粘着した状態を維持する。以上、本発明の特定の実施例について説明したが、説明した以外の方法で本発明を実践することができることは理解されよう。以上の説明は、本発明を制限することを意図したものではない。