"式の化合物又はその塩。OH、又は、NHCHCOH、R2は、S2OH、CH2CHCH2OH、CH2COH、R0、又は、H、A環は、含窒素ヘテロアリール、含窒素ヘテロシクロアルキル、アリール、又は、シクロアルキル、RAはH、R0、L0NH2、L0OH、L0OR0、L0COH、L0SOH、COR0、CL0NH2、CCHCH2OH、CHNH2、CH2、又は、C36シクロアルキル、Xは、単結合、CH2、NH、又は、N、RB及びRCは、それぞれ同一又は異なって、H又はハロゲン、R0は、低級アルキル、R00は、高級アルキル、L0は、低級アルキレン、L00は、高級アルキレン、B環は、下記式、又は、式で示される基であり、は、式におけるXと結合する位置を示し、は、式におけるRBと結合する位置を示し、D環は、アリール、又は、含窒素ヘテロアリールであり、RDは、下記式からで示される基、又は、LOR0で示される基であり、E環は、ヘテロシクロアルキル、F環及びF1環は、それぞれ同一又は異なって、シクロアルキル、Fg環は、シクロアルキル、又は、アリール、Efg環は、ヘテロシクロアルキル、シクロアルキル、又は、アリール、Lは、L0、O、OL0、又は、単結合、REは、H、R0、OR0、又は、ハロゲン、RZ1又はRZ2は、それぞれ同一又は異なって、H、ハロゲン、R0、R00、OR0、OR00、Oシクロアルキル、Oアリール、OL0アリール、L00OR0、シクロアルキル、又は、COCH2アリールである。医薬組成物、特に真菌症の予防用及び又は治療用医薬組成物の有効成分として有用な化合物を提供する。本発明者らは、優れた真菌症の予防及び又は治療薬について鋭意検討した結果、式の化合物が優れた抗真菌活性を有することを知見して本発明を完成した。即ち、本発明は、式の化合物又はその塩、並びに、式の化合物又はその塩、及び賦形剤を含有する医薬組成物に関する。OH、又は、NHCHCOH、R2は、S2OH、CH2CHCH2OH、CH2COH、R0、又は、H、A環は、含窒素ヘテロアリール、含窒素ヘテロシクロアルキル、アリール、又は、シクロアルキル、RAはH、R0、L0NH2、L0OH、L0OR0、L0COH、L0SOH、COR0、CL0NH2、CCHCH2OH、CHNH2、CH2、又は、C36シクロアルキル、Xは、単結合、CH2、NH、又は、N、RB及びRCは、それぞれ同一又は異なって、H又はハロゲン、R0は、低級アルキル、R00は、高級アルキル、L0は、低級アルキレン、L00は、高級アルキレン、B環は、下記式、又は、式で示される基であり、は、式におけるXと結合する位置を示し、は、式におけるRBと結合する位置を示し、D環は、アリール、又は、含窒素ヘテロアリールであり、RDは、下記式からで示される基、又は、LOR0で示される基であり、E環は、ヘテロシクロアルキル、F環及びF1環は、それぞれ同一又は異なって、シクロアルキル、Fg環は、シクロアルキル、又は、アリール、Efg環は、ヘテロシクロアルキル、シクロアルキル、又は、アリール、Lは、L0、O、OL0、又は、単結合、REは、H、R0、OR0、又は、ハロゲン、RZ1又はRZ2は、それぞれ同一又は異なって、H、ハロゲン、R0、R00、OR0、OR00、Oシクロアルキル、Oアリール、OL0アリール、L00OR0、シクロアルキル、又は、COCH2アリールである。なお、特に記載がない限り、本明細書中のある化学式中の記号が他の化学式においても用いられる場合、同一の記号は同一の意味を示す。また、本発明は、式の化合物又はその塩を含有する真菌症の予防用及び又は治療用医薬組成物、即ち、式の化合物又はその塩を含有する真菌症の予防剤及び又は治療剤に関する。また、本発明は、真菌症の予防用及び又は治療用医薬組成物の製造のための式の化合物又はその塩の使用、並びに、式の化合物又はその塩の有効量を患者に投与することからなる真菌症の予防方法及び又は治療方法に関する。また、本発明は、真菌症の治療における使用の為の化合物に関する。式の化合物又はその塩は、抗真菌活性を有し、真菌症等の予防剤又は治療剤として使用できる。以下、本明細書を詳細に説明する。本明細書において、低級アルキルとは、直鎖又は分枝状の炭素数が1から6のアルキル、例えばメチル、エチル、nプロピル、イソプロピル、nブチル、イソブチル、secブチル、tertブチル、nペンチル、nヘキシル等である。別の態様としては、C14アルキルであり、さらに別の態様としては、C13アルキルであり、またさらに別の態様としては、メチル又はエチルである。低級アルキレンは、上記低級アルキルの任意の水素原子1個を除去してなる二価基を意味し、ある態様としてはC14アルキレンであり、別の態様としてはメチレン又はエチレンである。高級アルキルとは、直鎖又は分枝状の炭素数が7から12のアルキル、例えば、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシルである。別の態様としては、C78アルキルであり、さらに別の態様としては、ヘプチルである。高級アルキレンは、上記高級アルキルの任意の水素原子1個を除去してなる二価基を意味し、ある態様としてはC710アルキレンであり、別の態様としてはヘプタンジイル、オクタンジイルである。ハロゲンは、F、Cl、Br、Iを意味する。シクロアルキルとは、C310の飽和炭化水素環基であり、架橋を有していてもよい。例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、アダマンチル等である。別の態様としては、C36シクロアルキルであり、またさらに別の態様としては、シクロプロピル又はシクロブチルである。アリールとは、C614の単環~三環式芳香族炭化水素環基であり、例えばフェニル、ナフチルであり、別の態様としてはフェニルである。ヘテロ環基とは、i酸素、硫黄及び窒素から選択されるヘテロ原子を1~4個含有する3~8員の、別の態様としては5~7員の単環ヘテロ環、並びに、ii当該単環ヘテロ環が、単環へテロ環、ベンゼン環、C58シクロアルカン及びC58シクロアルケンからなる群より選択される1又は2個の環と縮環し形成される、酸素、硫黄および窒素から選択されるヘテロ原子を1~5個含有する二~三環式ヘテロ環、から選択される環基を意味する。環原子である硫黄又は窒素が酸化されオキシドやジオキシドを形成してもよい。ヘテロ環基として以下の態様が挙げられる。単環式飽和へテロ環基1~4個の窒素原子を含むもの、例えば、アゼパニル、ジアゼパニル、アジリジニル、アゼチジニル、ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジル、ピラゾリジニル、ピペラジニル、アゾカニル等;1~3個の窒素原子、ならびに1~2個の硫黄原子および/または1~2個の酸素原子を含むもの、例えば、チオモルホリニル、チアゾリジニル、イソチアゾリジニル、オキサゾリジニル、モルホリニル等;1~2個の硫黄原子を含むもの、例えば、テトラヒドロチオピラニル等;1~2個の硫黄原子および1~2個の酸素原子を含むもの、例えば、オキサチオラニル等;1~2個の酸素原子を含むもの、例えば、オキシラニル、オキセタニル、ジオキソラニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、14ジオキサニル等;単環式不飽和へテロ環基1~4個の窒素原子を含むもの、例えば、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ジヒドロピリジル、テトラヒドロピリジニル、ピリミジニル、ピラジニル、ピリダジニル、トリアゾリル、テトラゾリル、トリアジニル、ジヒドロトリアジニル、アゼピニル等;1~3個の窒素原子、ならびに1~2個の硫黄原子および/または1~2個の酸素原子を含むもの、例えば、チアゾリル、イソチアゾリル、チアジアゾリル、ジヒドロチアジニル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル、オキサジニル等;1~2個の硫黄原子を含むもの、例えば、チエニル、チエピニル、ジヒドロジチオピラニル、ジヒドロジチオニル等;1~2個の硫黄原子および1~2個の酸素原子を含むもの、具体的には、ジヒドロオキサチオピラニル等;1~2個の酸素原子を含むもの、例えば、フリル、ピラニル、オキセピニル、ジオキソリル等;縮合多環式飽和へテロ環基1~5個の窒素原子を含むもの、例えば、キヌクリジニル、7アザビシクロ221ヘプチル、3アザビシクロ322ノナニル等;1~4個の窒素原子、ならびに1~3個の硫黄原子および/または1~3個の酸素原子を含むもの、例えば、トリチアジアザインデニル、ジオキソロイミダゾリジニル等;1~3個の硫黄原子および/または1~3個の酸素原子を含むもの、例えば、26ジオキサビシクロ322オクト7イル等;縮合多環式不飽和へテロ環基1~5個の窒素原子を含むもの、例えば、インドリル、イソインドリル、インドリニル、インドリジニル、ベンゾイミダゾリル、ジヒドロベンゾイミダゾリル、テトラヒドロベンゾイミダゾリル、キノリル、テトラヒドロキノリル、イソキノリル、テトラヒドロイソキノリル、インダゾリル、イミダゾピリジル、ベンゾトリアゾリル、テトラゾロピリダジニル、カルバゾリル、アクリジニル、キノキサリニル、ジヒドロキノキサリニル、テトラヒドロキノキサリニル、フタラジニル、ジヒドロインダゾリル、ベンゾピリミジニル、ナフチリジニル、キナゾリニル、シンノリニル等;1~4個の窒素原子、ならびに1~3個の硫黄原子および/または1~3個の酸素原子を含むもの、例えば、ベンゾチアゾリル、ジヒドロベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、イミダゾチアゾリル、イミダゾチアジアゾリル、ベンゾオキサゾリル、ジヒドロベンゾオキサゾリル、ジヒドロベンゾオキサジニル、ベンゾオキサジアゾリル、ベンゾイソチアゾリル、ベンゾイソオキサゾリル等;1~3個の硫黄原子を含むもの、例えば、ベンゾチエニル、ベンゾジチオピラニル、ジベンゾ[b,d]チエニル等;1~3個の硫黄原子および1~3個の酸素原子を含むもの、例えば、ベンゾオキサチオピラニル、フェノキサジニル等;1~3個の酸素原子を含むもの、例えば、ベンゾジオキソリル、ベンゾフラニル、ジヒドロベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、クロマニル、クロメニル、ジベンゾ[b,d]フラニル、メチレンジオキシフェニル、エチレンジオキシフェニル等;など。含窒素へテロ環基とは、上記のへテロ環基のうち、、、、、、、及び等のように、少なくとも1個の窒素原子を含んでいるものをいう。ヘテロアリールとは、上記のへテロ環基の及びのうち、芳香族性を有するへテロ環基であり、例えば、ピリジル、ピロリル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、イミダゾリル、トリアゾリル、トリアジニル、テトラゾリル、チアゾリル、ピラゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、チエニル、フリル等の単環式ヘテロアリール、インドリル、イソインドリル、ベンゾイミダゾリル、インダゾリル、キノリル、イソキノリル、キナゾリニル、キノキサリニル、イミダゾピリジル、ピラゾロピリジル、フタラジニル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイソチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、ベンゾオキサゾリル、イミダゾチアゾール、ベンゾイソオキサゾリル、ベンゾフラニル、ベンゾチエニル、イミダゾチアジアゾール、等の二環式ヘテロアリール、カルバゾリル、ジベンゾbdフラニル、ジベンゾbdチエニル等の三環式ヘテロアリールであり、別の態様としては、ピリジル、ピリミジニル、チアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、イミダゾピリジル、ピラゾロピリジル、ベンゾチアジアゾリル、ベンゾオキサゾリル、イミダゾチアゾリル、イミダゾチアジアゾリルであり、さらに別の態様としては、ピリミジニル、オキサゾリル、又は、イミダゾチアジアゾリルである。含窒素ヘテロアリールは、上記ヘテロアリールのうち、少なくとも1つの窒素原子を含んでいるものをいう。例えば、ある態様として、イミダゾチアジアゾリル、ピリミジニル、又は、オキサジアゾリルがあげられる。また、別の態様として、イミダゾ21b134チアジアゾリル、ピリミジニル、124オキサジアゾリルが挙げられる。ヘテロシクロアルキルとは、上記のへテロ環基の、、、又は、上記ヘテロ環基の、、、の内、芳香族性を有さないヘテロ環基をいう。例えば、アゼパニル、ジアゼパニル、アジリジニル、アゼチジニル、ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジル、ピラゾリジニル、ピペラジニル、アゾカニル、チオモルホリニル、チアゾリジニル、イソチアゾリジニル、オキサゾリジニル、モルホリニル、テトラヒドロピリジニル、ジヒドロトリアジニル、テトラヒドロピリジル等の単環ヘテロシクロアルキル、キヌクリジル、7-アザビシクロ[221]ヘプチル等の二環ヘテロシクロアルキルが挙げられる。含窒素ヘテロシクロアルキルとは、上記ヘテロシクロアルキルのうち、少なくとも1つの窒素原子を含んでいるものをいう。ある態様としては、ピペリジル、ピペラジニル、テトラヒドロピリジル等である。また別の態様としては、1236テトラヒドロピリジルである。環基とは、上記定義のうち、含窒素ヘテロアリール、含窒素ヘテロシクロアルキル、アリール、又は、シクロアルキル等の環状の基を意味し、結合手が二本ある場合には、二価基を示す。本明細書において、置換されていてもよいとは、無置換、若しくは置換基を1~5個有していることを意味する。なお、複数個の置換基を有する場合、それらの置換基は同一であっても、互いに異なっていてもよい。本発明化合物のある態様を以下に示す。R1が、NH2である化合物。R2が、S2OH又はMeであり、別の態様としては、S2OHである化合物。A環が、1236テトラヒドロピリジル4イル、又は、ピペリジン4イルで示される基である化合物。Xが単結合である化合物。RAが、L0OH、R0、又は、Hであり、別の態様としては、CH2CH2OHであり、また、別の態様としては、CH3である化合物。Xが、単結合である化合物。B環が、式で示される基である化合物。RBが、Hである化合物。D環が、イミダゾチアジアゾリル、ピリミジニル、又は、オキサジアゾリル、であり、別の態様としては、D環がイミダゾ21b134チアジアゾリルであり、また別の態様としては、E環が、ピペラジニル又はピペリジルであり、また別の態様としてはピリミジニルであり、さらに別の態様としては、オキサジアゾリルである化合物。Rcが、Hである化合物。RDが、式で示される基であり、また別の態様としては、式で示される基である化合物。E環が、含窒素ヘテロシクロアルキルであり、ある態様としては、ピペラジニル又はピペリジルであり、別の態様としては、ピペラジニルである化合物。Fg環が、フェニルであり、また別の態様としては、シクロアルキルである化合物。Efg環が、フェニルである化合物。Lが、CH2CH2、O、又は、OCH2であり、別の態様としては、LがOCH2であり、また別の態様としては、CH2CH2である化合物。また、上記~で示される基のうち二以上の組み合わせである化合物。本発明に包含される具体的化合物の例として、以下の化合物が挙げられる。R1がNH2であり、R2がS2OHであり、A環が1236テトラヒドロピリジル4イルであり、RAがCH2CH2OHであり、Xが単結合であり、B環が式で示される基であり、RBがHであり、RcがHであり、D環がイミダゾ21b134チアジアゾリル、ピリミジニル、又は、124オキサジアゾリルであり、RDが式で示される基であり、E環が、ピペラジニル又はピペリジルであり、Lが、CH2CH2であり、Fg環がフェニルである化合物。R1がNH2であり、R2がS2OHであり、A環が1236テトラヒドロピリジル4イルであり、RAがCH2CH2OHであり、Xが単結合であり、B環が式で示される基であり、RBがHであり、RcがHであり、D環がオキサジアゾリルであり、RDが式で示される基であり、E環がピペリジルであり、LがCH2CH2であり、Fg環がシクロアルキルである化合物。R1がNH2であり、R2がS2OHであり、A環が1236テトラヒドロピリジル4イルであり、RAがメチルであり、Xが単結合であり、B環が式で示される基であり、RBがHであり、RcがHであり、D環がピリミジニルであり、RDが式で示される基であり、LがOCH2であり、Efg環がフェニルである化合物。本発明に包含される具体的化合物の例として、以下のに示される群から選択される化合物又はその製薬学的に許容される塩が挙げられる。硫酸水素52203アミノ1ヒドロキシ3オキソプロピル21115トリヒドロキシ61ヒドロキシエチル91236テトラヒドロピリジン4イル424ピペラジン1イルイミダゾ21b134チアジアゾール6イル11ビフェニル4カルボキサミド16メチル5814192225ヘキサオキソテトラコサヒドロ1Hジピロロ21c21l147101316ヘキサアザシクロヘンイコシン23イル2ヒドロキシエチル2ヒドロキシフェニルエステル。硫酸水素52203アミノ1ヒドロキシ3オキソプロピル21115トリヒドロキシ61ヒドロキシエチル91236テトラヒドロピリジン4イル454ピペラジン1イルピリミジン2イルビフェニル4イルカルボニルアミノ16メチル5814192225ヘキサオキソテトラコサヒドロ1Hジピロロ21c21l147101316ヘキサアザシクロヘニコシン23イル2ヒドロキシエチル2ヒドロキシフェニルエステル。硫化水素52203アミノ1ヒドロキシ3オキソプロピル9オキシピペリジン1イル124オキサジアゾール3イル311236テトラヒドロピリジン4イルビフェニル4イカルボニルアミノ21115トリヒドロキシ61ヒドロキシエチル16メチル5814192225ヘキサオキソテトラコサヒドロ1Hジピロロ21c21l147101316ヘキサアザシクロヘニコシン23イル2ヒドロキシエチル2ヒドロキシフェニエステル。N203アミノ1ヒドロキシ3オキソプロピル21115トリヒドロキシ61ヒドロキシエチル231ヒドロキシ2エチル16メチル5814192225ヘキサオキソテトラコサヒドロ1Hジピロロ21c21l147101316ヘキサアザシクロヘニコシン9イル4エチルピペラジン1イルピリミジン2イル3ビフェニル4カルボキサミドジヒドロクロリド。式の化合物には、置換基の種類によって、幾何異性体が存在しうる。本明細書中、式の化合物が異性体の一形態のみで記載されることがあるが、本発明は、それ以外の異性体も包含し、異性体の分離されたもの、あるいはそれらの混合物も包含する。また、式の化合物には、不斉炭素原子や軸不斉を有する場合があり、これに基づく光学異性体が存在しうる。本発明は、式の化合物の光学異性体の分離されたもの、あるいはそれらの混合物も包含する。さらに、本発明は、式で示される化合物の製薬学的に許容されるプロドラッグも包含する。製薬学的に許容されるプロドラッグとは、加溶媒分解により又は生理学的条件下で、アミノ基、水酸基、カルボキシル基等に変換されうる基を有する化合物である。プロドラッグを形成する基としては、例えば、ProgMed521572161や、医薬品の開発第7巻分子設計163198に記載の基が挙げられる。また、式の化合物の塩とは、式の化合物の製薬学的に許容される塩であり、置換基の種類によって、酸付加塩又は塩基との塩を形成する場合がある。具体的には、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸や、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、フマル酸、マレイン酸、乳酸、リンゴ酸、マンデル酸、酒石酸、ジベンゾイル酒石酸、ジトルオイル酒石酸、クエン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、pトルエンスルホン酸、アスパラギン酸、グルタミン酸等の有機酸との酸付加塩、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、アルミニウム等の無機塩基、メチルアミン、エチルアミン、エタノールアミン、リシン、オルニチン等の有機塩基との塩、アセチルロイシン等の各種アミノ酸及びアミノ酸誘導体との塩やアンモニウム塩等が挙げられる。さらに、本発明は、式の化合物及びその塩の各種の水和物や溶媒和物、及び結晶多形の物質も包含する。また、本発明は、種々の放射性又は非放射性同位体でラベルされた化合物も包含する。式の化合物及びその塩は、その基本構造あるいは置換基の種類に基づく特徴を利用し、種々の公知の合成法を適用して製造することができる。その際、官能基の種類によっては、当該官能基を原料から中間体へ至る段階で適当な保護基に置き換えておくことが製造技術上効果的な場合がある。このような保護基としては、例えば、ウッツ及びグリーン著、GreenesProtectiveGroupsinOrganicSynthesisに記載の保護基等を挙げることができ、これらの反応条件に応じて適宜選択して用いればよい。このような方法では、当該保護基を導入して反応を行なったあと、必要に応じて保護基を除去することにより、所望の化合物を得ることができる。また、式の化合物のプロドラッグは、上記保護基と同様、原料から中間体へ至る段階で特定の基を導入、あるいは得られた式の化合物を用いてさらに反応を行なうことで製造できる。反応は通常のエステル化、アミド化、脱水等、当業者に公知の方法を適用することにより行うことができる。以下、式の化合物の代表的な製造法を説明する。各製法は、当該説明に付した参考文献を参照して行うこともできる。なお、本発明の製造法は以下に示した例には限定されない。本発明化合物は、化合物と化合物との反応により製造できる。本反応は、化合物のアミノ基と対応するのカルボン酸との縮合反応である。本反応では、化合物と化合物とを等量若しくは一方を過剰量用い、これらの混合物を縮合剤の存在下、反応に不活性な溶媒中、冷却下から加熱下、好ましくは-20°Cから60°Cで、01時間から5日間撹拌する。溶媒の例としては、特に限定はされないが、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、非プロトン性溶媒、又は、水、及びこれらの混合溶媒が挙げられる。縮合剤の例としては、EDCI、DPPA、オキシ塩化リンが挙げられるが、これらに限定されるものではない。添加剤を用いることが反応に好ましい場合がある。有機塩基、または無機塩基の存在下で反応を行うことが、反応を円滑に進行させる上で有利な場合がある。また、化合物は、化合物を反応性誘導体として一度単離した後に、化合物と反応させて得ることもできる。カルボン酸体の反応性誘導体の例としては、ハロゲン化剤と反応して得られる酸ハロゲン化物、クロロギ酸イソブチル等と反応して得られる混合酸無水物、又は、HOBt等と縮合して得られる活性エステル等が挙げられる。化合物と反応性誘導体との反応は、ハロゲン化炭化水素類、芳香族炭化水素類、エーテル類等の反応に不活性な溶媒中、冷却下から加熱下、好ましくは、-20°Cから60°Cで行うことができる。なお、反応に際して塩基の存在下に反応させるのが、反応を円滑に進行させる上で有利な場合がある。また、ピリジンは溶媒を兼ねることもできる。文献SRSandler及びWKaro著、OrganicFunctionalGroupPreparations、第2版、第1巻、AcademicPressInc、1991年日本化学会編実験化学講座16巻R’’を意味する。R’又はR’’は、同一又は異なってHR0、L0NH2、L0OH、L0OR0、L0COH、L0SOH、CHNH2、CH2を意味する。本発明化合物は、化合物と化合物とを反応により得ることができる。この反応では、化合物と化合物とを等量若しくは一方を過剰量用い、これらの混合物を、還元剤の存在下、反応に不活性な溶媒中、-45°Cから加熱還流下、好ましくは°C~室温において、通常01時間~5日間撹拌する。ここで用いられる溶媒の例としては、特に限定されないが、MeOH、EtOH等のアルコール類、ジエチルエーテル等のエーテル類、及びこれらの混合物が挙げられる。還元剤としては、NaBH3、NaBH3CN、NaBH4等が挙げられる。化合物の例としては、一般式OCRで表わされるアルデヒド又はケトンの他、14ジオキサン25ジオール等も用いることができる。モレキュラーシーブス等の脱水剤、又はAcOH、塩酸、チタニウムイソプロポキシド錯体等の酸存在下で反応を行うことが好ましい場合がある。反応によっては、化合物と化合物との縮合によりイミンが生成し、安定な中間体として単離できる場合がある。そのような場合には、このイミン中間体の還元反応により化合物を得ることができる。また、前記還元剤での処理の代わりに、MeOH、EtOH、EtOAc等の溶媒中、AcOH、塩酸等の酸の存在下又は非存在下で、還元触媒を用いて反応を行うこともできる。この場合、反応を常圧から50気圧の水素雰囲気下で、冷却下から加熱下で行うことが好ましい。文献ARKatritzky及びRJKTaylor著、ComprehensiveOrganicFunctionalGroupTransformationsII、第2巻、ElsevierPergamon、2005年日本化学会編実験化学講座14巻なお、本発明化合物はの化合物をの化合物でアルキル化することによっても得られる。ここで、脱離基Lvgの例には、ハロゲン、メタンスルホニルオキシ、pトルエンスルホニルオキシ基等が含まれる。この反応では、化合物と化合物とを等量若しくは一方を過剰量用い、これらの混合物を、反応に不活性な溶媒中、又は無溶媒下、冷却下から加熱還流下、好ましくは0°Cから80°Cにおいて、通常01時間~5日間撹拌する。ここで用いられる溶媒の例としては、特に限定はされないが、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジオキサン、THF等のエーテル類、又はDCM、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、DMF、DMSO、EtOAc、MeCN及びこれらの混合物が挙げられる。Et3N若しくはDIPEA等の有機塩基、又はK2CO3、Na2CO3若しくはKOH等の無機塩基の存在下で反応を行うのが、反応を円滑に進行させる上で有利な場合がある。文献SRSandler及びWKaro著、OrganicFunctionalGroupPreparations、第2版、第1巻、AcademicPressInc、1991年日本化学会編実験化学講座14巻化合物は、化合物のXがX1の化合物である。化合物は、化合物と化合物とから製造できる。本反応はアリール化合物とホウ酸化合物とを反応させる、いわゆる鈴木カップリングにより、化合物を製造する方法である。反応は無溶媒中、芳香族炭化水素類、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類、非プロトン性溶媒等、反応に不活性な溶媒中、室温から加熱還流下に行うことができる。反応は、パラジウム、ホスフィンリガンドおよび金属塩基共存下で行う。パラジウムとしては、Pd2等の2価パラジウムや、Pd23等の0価パラジウムを使用することができる。ホスフィンリガンドとしては、BINAP、DPPF等の2座配位子、P3等の単座配位子、等を使用することができる。金属塩基としては、K2CO3、Cs2CO3、リン酸カリウム、NaOBut等を使用することができる。ここで脱離基Lvgとしては、ハロゲン、トリフルオロメタンスルホニルオキシ等を含む。を示す。化合物は、化合物のXがX2の化合物である。化合物は、化合物と化合物との反応により得ることができる。この反応では、化合物と化合物とを等量若しくは一方を過剰量用い、これらの混合物を、反応に不活性な溶媒中、又は無溶媒下、冷却下から加熱還流下、好ましくは0°Cから80°Cにおいて、通常01時間から5日間撹拌する。ここで用いられる溶媒の例としては、特に限定はされないが、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、THF、ジオキサン、DME等のエーテル類、DCM、12ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、DMF、DMSO、EtOAc、MeCN及びこれらの混合物が挙げられる。Et3N、DIPEA若しくはNMM等の有機塩基、又はK2CO3、Na2CO3若しくはKOH等の無機塩基の存在下で反応を行うのが、反応を円滑に進行させる上で有利な場合がある。文献SRSandler及びWKaro著、OrganicFunctionalGroupPreparations、第2版、第1巻、AcademicPressInc、1991年日本化学会編実験化学講座14巻式の化合物中、A環の窒素原子が四級アンモニウム塩を形成した化合物は、本発明化合物の含窒素ヘテロシクロアルキル基をNアルキル化反応させることにより製造できる。Nアルキル化反応としては、常法のNアルキル化反応によって行うことができるが、具体的には、本発明化合物を、A環のアミノ基のアルキル化を行うのに十分量のアルキル化剤とDMF、CHCl3、MEK、MeCNまたはTHFなどの反応に不活性な溶媒中、氷冷下から室温下、または場合により加温下攪拌することにより行うことができる。アルキル化剤としては、アルキルハライド、または低級アルキルメタンスルホネート等が挙げられる。化合物は、化合物からのカルボキシル基の脱保護することにより製造することができる。例えば、加水分解反応により脱保護することができる。化合物は化合物のXがX1の化合物であり、化合物は化合物のXがX2の化合物である。本反応は化合物を出発原料として、化合物又は化合物とをそれぞれ、反応させることにより、それぞれ、化合物、化合物が製造できる。反応条件については、一般的製法3又は一般的製法4と同様の条件で求める化合物を製造することができる。なお、上記の全ての反応は、本明細書の製造例若しくは実施例に記載の方法、またはそれに準じた方法を採用することもでき、化合物は、公知の方法、当業者にとって自明である方法、あるいは本明細書の製造例若しくは実施例に記載の方法、またはそれに準じた方法により製造することができる。本願実施例化合物を製造の際に用いられる一般式で示される原料化合物は、国際公開WO9732975号、国際公開WO9940108号、国際公開WO2000064927号、国際公開WO2002072621号、国際公開WO2003068807号、国際公開WO2009057568号に示される方法、又は、記載の方法と同様にして製造することができる。式の化合物は、遊離化合物、その塩、水和物、溶媒和物、あるいは結晶多形の物質として単離され、精製される。式の化合物の塩は、常法の造塩反応に付すことにより製造することもできる。単離、精製は、抽出、分別結晶化、各種分画クロマトグラフィー等、通常の化学操作を適用して行なわれる。各種の異性体は、適当な原料化合物を選択することにより製造でき、あるいは異性体間の物理化学的性質の差を利用して分離することができる。例えば、光学異性体は、ラセミ体の一般的な光学分割法により得られ、また、適当な光学活性な原料化合物から製造することもできる。式の化合物の薬理活性は、以下の試験により確認した。試験例1:Echinocandin低感受性カンジダグラブラータFP2135株に対する感受性測定20mMHEPES緩衝液で緩衝したヒト血清を試験媒体として用いる微量液体希釈法によって、ヒト血清中のMICを求めた。細胞数106個mLの懸濁液を血球計算版で調製し、細胞約5x103~2x104個mLの接種サイズを得た。マイクロプレートを5CO2雰囲気下37°Cで24時間インキュベートした。本株に対するMICは増殖が完全に阻止されている試験化合物の最低濃度として定義した。上市されているEchinocandin類の本株に対するMICは全て64μgmLであった。本発明の幾つかの代表化合物について、上記試験例1の試験結果のMICを下記表1に示した。表中、Exは実施例番号を示した。上記の各試験の結果、式の化合物は抗菌活性を有することが認められ、この効果は比較化合物に代表される従来の化合物と比較して優れていることが確認された。このことから、式の化合物は種々の真菌感染症、特に下記の真菌による感染症疾患の予防剤又は治療剤として有用しうる:アクレモニウム;アブシディア;アスペルギルス;ブラストミセス;カンジダ;クラドスポリウム;コクシジオイデス;クリプトコッカス;クンニングアメラ;皮膚糸状菌;エキソフィアラ;エピデルモフィトン;フォンセセア;フザリウム;ゲオトリクム;ヒストプラスマ;マラセジア;ミクロスポルム;ムコール;パラコクシジオイデス;ペニシリウム;フィアロフォラ;ニューモシスチス;プソイドアレシェリア;リゾプス;サッカロミセス;スコプラリオプシス;スポロトリクス;トリコフィトン;トリコスポロン。上記の真菌は、皮膚、眼、毛髪、爪、口腔粘膜、胃腸管、気管支、肺、心内膜、脳、髄膜、泌尿器、腟部、口腔、眼球、全身、腎臓、心臓、外耳孔、骨、鼻腔、副鼻腔、脾臓、肝臓、皮下組織、リンパ管、胃腸、関節、筋肉、腱、肺内間質性形質細胞、血管等に種々の感染症を引き起こすことがよく知られている。従って、式の化合物は、種々の感染症、例えば皮膚糸状菌症、でん風、カンジダ症、クリプトコックス症、ゲオトリクム症、砂毛症、アスペルギルス症、ペニシリウム症、フザリウム症、接合菌症、スポロトリクス症、クロモミセス症、コクシジオイデス症、ヒストプラスマ症、ブラストミセス症、パラコクシジオイデス症、プソイドアレシェリアシス、足菌腫、真菌性角膜炎、耳真菌症、ニューモシスティス症、真菌血症等の予防及び又は治療に有用である。式の化合物又はその塩の1種又は2種以上を有効成分として含有する医薬組成物は、当分野において通常用いられている賦形剤、即ち、薬剤用賦形剤や薬剤用担体等を用いて、通常使用されている方法によって調製することができる。投与は錠剤、丸剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤、液剤等による経口投与、又は、関節内、静脈内、筋肉内等の注射剤、坐剤、点眼剤、眼軟膏、経皮用液剤、軟膏剤、経皮用貼付剤、経粘膜液剤、経粘膜貼付剤、吸入剤等による非経口投与のいずれの形態であってもよい。経口投与のための固体組成物としては、錠剤、散剤、顆粒剤等が用いられる。このような固体組成物においては、1種又は2種以上の有効成分を、少なくとも1種の不活性な賦形剤、例えば乳糖、マンニトール、ブドウ糖、ヒドロキシプロピルセルロース、微結晶セルロース、デンプン、ポリビニルピロリドン、及び/又はメタケイ酸アルミン酸マグネシウム等と混合される。組成物は、常法に従って、不活性な添加剤、例えばステアリン酸マグネシウムのような滑沢剤やカルボキシメチルスターチナトリウム等のような崩壊剤、安定化剤、溶解補助剤を含有していてもよい。錠剤又は丸剤は必要により糖衣又は胃溶性若しくは腸溶性物質のフィルムで被膜してもよい。経口投与のための液体組成物は、薬剤的に許容される乳濁剤、溶液剤、懸濁剤、シロップ剤又はエリキシル剤等を含み、一般的に用いられる不活性な希釈剤、例えば精製水又はエタノールを含む。当該液体組成物は不活性な希釈剤以外に可溶化剤、湿潤剤、懸濁剤のような補助剤、甘味剤、風味剤、芳香剤、防腐剤を含有していてもよい。非経口投与のための注射剤は、無菌の水性又は非水性の溶液剤、懸濁剤又は乳濁剤を含有する。水性の溶剤としては、例えば注射用蒸留水又は生理食塩液が含まれる。非水性の溶剤としては、例えばプロピレングリコール、ポリエチレングリコール又はオリーブ油のような植物油、エタノールのようなアルコール類、又はポリソルベート80等がある。このような組成物は、さらに等張化剤、防腐剤、湿潤剤、乳化剤、分散剤、安定化剤、又は溶解補助剤を含んでもよい。これらは例えばバクテリア保留フィルターを通す濾過、殺菌剤の配合又は照射によって無菌化される。また、これらは無菌の固体組成物を製造し、使用前に無菌水又は無菌の注射用溶媒に溶解又は懸濁して使用することもできる。外用剤としては、軟膏剤、硬膏剤、クリーム剤、ゼリー剤、パップ剤、噴霧剤、ローション剤、点眼剤、眼軟膏等を包含する。一般に用いられる軟膏基剤、ローション基剤、水性又は非水性の液剤、懸濁剤、乳剤等を含有する。例えば、軟膏又はローション基剤としては、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、白色ワセリン、サラシミツロウ、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、モノステアリン酸グリセリン、ステアリルアルコール、セチルアルコール、ラウロマクロゴール、セスキオレイン酸ソルビタン等が挙げられる。吸入剤や経鼻剤等の経粘膜剤は固体、液体又は半固体状のものが用いられ、従来公知の方法に従って製造することができる。例えば公知の賦形剤や、更に、pH調整剤、防腐剤、界面活性剤、滑沢剤、安定剤や増粘剤等が適宜添加されていてもよい。投与は、適当な吸入又は吹送のためのデバイスを使用することができる。例えば、計量投与吸入デバイス等の公知のデバイスや噴霧器を使用して、化合物を単独で又は処方された混合物の粉末として、もしくは医薬的に許容し得る担体と組み合わせて溶液又は懸濁液として投与することができる。乾燥粉末吸入器等は、単回又は多数回の投与用のものであってもよく、乾燥粉末又は粉末含有カプセルを利用することができる。あるいは、適当な駆出剤、例えば、クロロフルオロアルカン、ヒドロフルオロアルカン又は二酸化炭素等の好適な気体を使用した加圧エアゾールスプレー等の形態であってもよい。特に真菌感染症の予防及び又は治療の場合には、前述の非経口投与のための注射剤又は吸入剤や経鼻剤などの経粘膜剤が好ましい。通常経口投与の場合、1日の投与量は、体重当たり約0001~100mgkg、好ましくは10~30mgkg、更に好ましくは01~10mgkgが適当であり、これを1回であるいは2回~4回に分けて投与する。静脈内投与される場合は、1日の投与量は、体重当たり約00001~10mgkgが適当で、1日1回~複数回に分けて投与する。また、経粘膜剤としては、体重当たり約0001~100mgkgを1日1回~複数回に分けて投与する。投与量は症状、年令、性別等を考慮して個々の場合に応じて適宜決定される。式の化合物は、前述の式の化合物が有効性を示すと考えられる疾患の種々の予防剤又は治療剤と併用することができる。当該併用は、同時投与、或いは別個に連続して、若しくは所望の時間間隔をおいて投与してもよい。同時投与製剤は、配合剤であっても別個に製剤化されていてもよい。以下、実施例に基づき、式の化合物の製造法をさらに詳細に説明する。なお、本発明は、下記実施例に記載の化合物に限定されるものではない。また、原料化合物の製法を製造例に、それぞれ示す。また、式の化合物の製造法は、以下に示される具体的実施例の製造法のみに限定されるものではなく、式の化合物はこれらの製造法の組み合わせ、あるいは当業者に自明である方法によっても製造されうる。また、実施例、製造例及び後記表中において、以下の略号を用いることがある。Ag2O=酸化銀、AgOTf銀トリフルオロメタンスルホネート、BINAP=11ビナフタレン22ジイルビス、BOC又はboctertブチルオキシカルボニル、BOP=ヘキサフルオリン酸ベンゾトリアゾール-1-イルオキシトリスホスホニウム、Boc2O二炭酸ジtertブチル、Bnベンジル、DBU18ジアザビシクロ540ウンデカ7エン、CH2Cl2又はDCM=ジクロロメタン、CO=一酸化炭素、DCE=ジクロロエタン、DIPEANNジイソプロピルエチルアミン、DMAc=NNジメチルアセトアミド、DMF=NNジメチルホルムアミド、DMI=13ジメチル2イミダゾリジノン、DMSO=ジメチルスルホキシド、DPPA=ジフェニルリン酸アジド、DPPP=1,3-ビスプロパン、EDCI、WSC=3エチル1カルボジイミド、Et3Nトリエチルアミン、EtOAc=酢酸エチル、EtOH=エタノール、FMOCフルオレニルメチルオキシカルボニル、HBTU=oベンゾトリアゾールNNNNテトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート、HOBt=1ヒドロキシベンゾトリアゾール、Hex=ヘキサン、K3PO4=トリポタシウムホスフェート、KOAc=酢酸カリウム、LHMDS=リチウムビストリメチルシリルアミド、MeIメチルアイオダイド、MS3A=モレキュラーシーブス3オングストローム、MeCN=アセトニトリル、MgSO4=無水硫酸マグネシウム、NIS=N-ヨードスクシンイミド、NMM=Nメチルモルホリン、NMP=Nメチルピロリドン、NaBH3CN=シアン化水素化ホウ素ナトリウム、NaBH3=トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム、NaBH4=水素化ホウ素ナトリウム、Na2S2O3チオ硫酸ナトリウム、Na2SO4無水硫酸ナトリウム、NaBH3=ナトリウムトリアセトキシボロハイドライド、NaHCO3=炭酸水素ナトリウム、NaOtBuナトリウムtertブトキシド、PdCパラジウム炭素、Pd23トリスジパラジウム、PdCl2CH2CL211ビスフェロセンパラジウムジクロリドジクロロメタンコンプレックス、TBAI=テトラブチルアンモニウムアイオダイド、TEA又はEt3N=トリエチルアミン、TFAトリフルオロ酢酸、THFテトラヒドロフラン、TfOHトリフルオロメチルスルホン酸、brine飽和食塩水、nBuOHノルマルブタノール、n=ノルマル、sat=飽和、tert=ターシャリー。また、特に構造式において、以下の略号を用いることがある。BOC=ターシャリーブトキシカルボニル、Bnベンジル、Et=エチル、FMOCフルオレニルメチルオキシカルボニル、Meメチル、OMeメトキシ、OBn=ベンジルオキシ、OEt=エトキシ、OMeメトキシ、OiPrイソプロポキシ、OnBuノルマルブチルオキシ、OnPnノルマルペンチルオキシ、OnPrノルマルプロポキシ、OtBuターシャリーブチルオキシ、Tf=トリフルオロメタンスルホナート、Cbzベンジルオキシカルボニル、iPrイソプロピル、nBuノルマルブチル、nHepノルマルヘプチル、nHexノルマルヘキシル、nOctノルマルオクチル、nPnノルマルペンチル、nPrノルマルプロピル、tBuターシャリーブチル。製造例16クロロ24フェニル13ベンゾチアゾールのトルエン溶液に、4シクロヘキシル4メトキシピペリジン、Pd23、2NNジメチルビフェニル2アミン及びNaOtBuを加え、マイクロウェーブ中、160°Cで1時間照射した。反応混合物中に、01MHClを加えて数分間攪拌した。有機層は、brineで洗浄し、MgSO4で乾燥した後、減圧下濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、624フェニル13ベンゾチアゾールを得た。製造例1の方法と同様にして、後記表に示す製造例11から製造例17の化合物を製造した。製造例2メチル424ピペラジン1イルイミダゾ21b134チアジアゾール6イル3ビフェニル4カルボキシレートをCH2Cl2とMeOHの混合溶媒に溶解し、氷冷下で14ジオキサン25ジオール、NaBH3を加え、室温で1時間撹拌した。反応液に、0°C下satNaHCO3水溶液を加え、CHCl3で抽出した。有機層はbrineで洗浄し、MgSO4で乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をMeCNで洗浄し、メチル311236テトラヒドロピリジン4イル424ピペラジン1イルイミダゾ21b134チアジアゾール6イルビフェニル4カルボキシレートを白色固体として得た。製造例2の方法と同様にして、後記表に示す製造例21から製造例248の化合物を製造した。製造例32ブロモ6イミダゾ21b134チアジアゾールのDMAc溶液に1ピペラジン、Et3Nを添加し、バス温90°Cで3時間攪拌した。反応混合物を放冷した後、3時間攪拌し、得られた析出物を水に懸濁してろ取し、析出物を水、少量のMeCNで洗浄し、624ピペラジン1イルイミダゾ21b134チアジアゾールを得た。製造例3の方法と同様にして、後記表に示す製造例31から製造例34の化合物を製造した。製造例43ブロモ545ジヒドロ12オキサゾールのNMP溶液にピペラジンを加え130°Cにて3時間攪拌した。反応液に水、EtOAcを加えて分配した。有機層をbrineで洗浄し、減圧下濃縮して粗生成物を得た。残渣をCH2Cl2に溶解し、Et3N、Boc2Oを加え室温で攪拌した。反応混合物に水、EtOAcを加えて抽出し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、tertブチル4545ジヒドロ12オキサゾール3イルピペラジン1カルボキシレートを得た。製造例5624ピペラジン1イルイミダゾ21b134チアジアゾール、311236テトラヒドロピリジン4イル4フェニルボロン酸のジオキサン及び水混合溶液にK3PO4、12345ペンタフェニル1フェロセンの混合物を窒素で置換した。Pd23を加え、再度系内を減圧にして窒素で置換した。窒素雰囲気下、混合物を100°Cで24時間撹拌した。反応液を放冷し、析出物をろ過した。得られた析出物を水に懸濁させてろ過した。得られた白色粉末をMeCNに懸濁させ加熱還流下30分攪拌し、放冷した。析出物をろ過し、少量のアセトニトリルで洗浄し、tertブチル44424ピペラジン1イルイミダゾ21b134チアジアゾール6イルビフェニル3イル36ジヒドロピリジン1カルボキシレートを得た。製造例5Aの方法と同様にして、後記表に示す製造例5A1から製造例5A47の化合物を製造した。製造例5B44445555オクタメチル22ビ132ジオキサボロラン、KOAc、tertブチル4スルホニルオキシ36ジヒドロピリジン1カルボキシレートに、超音波で20分脱気したジオキサンを加えた。反応系内は、窒素で3回置換した。反応系内に、Pd23、ジシクロヘキシルホスフィンを加え、再度、反応系内を窒素で3回置換した。反応混合物は110°Cで3時間攪拌した。室温に戻し、メチル2クロロ4ベンゾエート、K3PO4、H2Oを加え、110°Cで2時間攪拌した。反応混合物をEtOAcで希釈した後、水を加え洗浄した。有機層を分離し、brineで洗浄し、MgSO4で乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、tertブチル425フェニル36ジヒドロキシピリジン1カルボキシレートをオレンジ色油状物として得た。製造例5Bの方法と同様にして、後記表に示す製造例5B1から製造例5B15の化合物を製造した。製造例5C13124オキサジアゾール5イル4オキシピペリジン、311236テトラヒドロピリジン4イル4フェニルボロン酸、K3PO4、パラジウムアセテート、トリシクロヘキシルホスフィンのジオキサン水混合溶液を室温で1時間撹拌した。反応液にEtOAcと水を加えた後、セライト濾過した。ろ液を分配して、有機層をbrineで洗浄した。有機層はMgSO4で乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、tertブチル44オキシピペリジン1イル124オキサジアゾール3イル4ビフェニル3イル36ジヒドロキシピリジン1カルボキシレートを白色固体として得た。製造例5Cの方法と同様にして、後記表に示す製造例5C1から製造例5C27の化合物を製造した。製造例5Dtertブチル425スルホニルオキシフェニル36ジヒドロピリジン1カルボキシレート、44445555オクタメチル22ビ132ジオキサボロラン、トリフェニルホスフィン、KOAc、ジオキサンの混合物を入れた反応容器の系内を減圧にして窒素置換した。PdCl22を加えて再度窒素置換し、バス温100°Cで20時間撹拌した。反応混合物を室温に戻し、水を加えて、EtOAcで抽出した。有機層をbrineで洗浄し、MgSO4で乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製しtertブチル425フェニル36ジヒドロピリジン1カルボキシレートを得た。製造例5Dの方法と同様にして、後記表に示す製造例5D1から製造例5D6の化合物を製造した。製造例5E454ピペラジン1イルピリミジン2イルフェニルトリフルオロメタンスルホネート、3クロロ4フェニルボロン酸、20MNa2CO3水溶液、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム、DMEを混合し、窒素を吹き込んだ後、加熱還流下で2時間攪拌した。反応液を水にあけた後に、生じた固体をろ取し、水、MeCNで洗浄し、40°Cで減圧下乾燥してメチル3クロロ454ピペラジン1イルピリミジン2イルビフェニル4カルボキシレートを得た。製造例5Eの方法と同様にして、後記表に示す製造例5E1から製造例5E28の化合物を製造した。製造例5F44445555オクタメチル22ビ132ジオキサボロラン、DIPEAおよびtertブチル437スルホニルオキシオキシ2ナフチル36ジヒドロピリジン1カルボキシレートに、超音波で20分脱気したジオキサンを加えた。反応系内は、窒素で3回置換した。反応系内に、ビフェニル2イルホスフィン、Pd2を加え、再度、反応系内を窒素で3回置換した。反応混合物を80°Cで1時間攪拌した。室温に戻し、水、K3PO4、トリシクロヘキシルホスフィン、Pd2および13124オキサジアゾール5イル42エチルピペラジンを加え、80°Cで終夜攪拌した。反応混合物をCHCl3で希釈した後、水を加え洗浄した。有機層を分離し、MgSO4で乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、tertブチル474エチルピペラジン1イル124オキサジアゾール3イルフェニル32ナフチル36ジヒドロピリジン1カルボキシレートを黄色固体として得た。製造例5G窒素雰囲気下、tertブチル4メチレンピペリジン1カルボキシレートのTHF溶液に05M9ボラビシクロ331ノナンTHF溶液を加え1時間加熱還流した。反応液にメチル4クロロ2スルホニルオキシベンゾエート、K3PO4、PdCL2CH2CL2、水を加え80°Cで12時間撹拌した。反応液に水を加えEtOAcで抽出した。brineで洗浄し、MgSO4で乾燥後、減圧化濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、tertブチル45クロロ2ベンジルピペリジン1カルボキシレートを薄黄色油状物として得た。製造例6tertブチル45ヒドロキシ2フェニル36ジヒドロピリジン1カルボキシレート、111トリフルオロNフェニルNスルホニルメタンスルホンアミド、及びDIPEAのDMF溶液を室温で5時間撹拌した。反応液にEtOAcを加えて抽出した。有機層は、水、brineで洗浄し、MgSO4で乾燥後、減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、tertブチル425スルホニルオキシフェニル36ジヒドロピリジン1カルボキシレートを黄色油状物として得た。製造例6の方法と同様にして、後記表に示す製造例61から製造例625の化合物を製造した。製造例754ピペラジン1イル13チアゾール2アミン及び2ブロモ1エタノンをnBuOH中90°C下撹拌1時間した。反応混合物を室温まで放冷した後、EtOHを加えて析出物をろ取し、得られた固体をEtOHで洗浄し、40°Cで減圧下乾燥し、624ピペラジン1イルイミダゾ21b13チアゾールを紫色固体として得た。製造例85フルオロ24フェニルピリミジンのDMSO溶液に1ピペラジン及びK2CO3を加え140°Cで20時間攪拌した。室温まで放冷後、反応混合物に水を加え、生じた沈殿をろ取した。得られた粉末をIPEで洗浄した後に、減圧下40°Cで一夜乾燥して、54ピペラジン1イル24フェニルピリミジンを得た。製造例8の方法と同様にして、後記表に示す製造例81から製造例826の化合物を製造した。製造例95フルオロ24フェニルピリミジンのNMP溶液に2メチルピペラジン及びK2CO3を加え140°Cで6時間撹拌した。さらに、2メチルピペラジン、K2CO3を追加し、終夜攪拌した。反応液にbrine、水を加え、EtOAcで3回抽出した。有機層は、brineで4回洗浄し、MgSO4で乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣のCH2Cl2溶液にフェニルアセトアルデヒド、NaBH3を加えて、室温で1時間撹拌した。反応液にsatNaHCO3水溶液をゆっくりと加え、CH2Cl2で2回抽出した。有機層はMgSO4で乾燥し、得られた残渣をで精製し53メチル4ピペラジン1イル24フェニルピリミジンを得た。製造例9の方法と同様にして、後記表に示す製造例91の化合物を製造した。製造例10311236テトラヒドロピリジン4イル424ピペラジン1イルイミダゾ21b134チアジアゾール6イルビフェニル4カルボン酸、BOP、DMF、DIPEAの混合物を室温で1時間撹拌した。国際公開WO9940108号の実施例番号169の化合物を加え、室温で終夜撹拌した。反応液にEtOAcを加え生じた析出物をろ取し減圧下、3時間乾燥した。この粉末を溶媒に溶解した後、1MNaOH水溶液を加えて撹拌しながら水で希釈した。この溶液をODS中圧カラムクロマトグラフィーを用いて精製した後、凍結乾燥し、製造例10の化合物を得た。製造例10の方法と同様にして、後記表に示す製造例101から製造例1033の化合物を製造した。製造例11製造例3325の化合物、BOP、DMF、DIPEAの混合物を室温で1時間撹拌した。反応混合物に国際公開WO9940108号の実施例番号169の化合物を加え室温で終夜撹拌した。反応液にEtOAcを加え生じた析出物をろ取した。ろ取物のMeOHH2O溶液にPdCのMeOH溶液を加え、H2雰囲気中で9時間撹拌した。さらに反応混合物にPdCを追加して7時間撹拌した。反応液をセライトろ過で洗いこんだ。ろ液を軽く減圧下留去した後、得られた溶液にH2O:MeCN80:20と1MNaOH水溶液を加え、ODSカラムクロマトグラフィーで精製し、製造例11の化合物を得た。製造例12214フェニルエタノンオキシムのCH2Cl2懸濁液にDIPEAを加え、氷冷下TFAAを滴下した。反応混合物を7°C~10°Cで1時間、水冷下で2時間攪拌した。反応液を50mLの水で洗浄した後、有機層を、MgSO4で乾燥後、減圧下濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、4ブロモ234フェニル2Hアジレン2イルピリジンを油状物質として得た。製造例13窒素雰囲気下で、5ブロモ24フエニルピリジン、4シクロヘキシル4メトキシピペリジン塩酸塩、Cs2CO3のトルエン溶液にPd2、BINAPを室温で加えた。反応溶液は、終夜還流した。室温まで冷却し、反応液にCHCl3水を加えて分配した。有機層はbrineで洗浄し、MgSO4で乾燥後、減圧下濃縮し、得られた固体はIPEに懸濁させ、30分間攪拌した。固体はIPEで洗浄及び粉末化し、524フェニルピリジンを橙色固体として得た。製造例14Atertブチル4445ピリミジン2イルビフェニル3イル36ジヒドロピリジン1カルボキシレート、12メチルベンゼン、K2CO3、NaI、DMIの混合物を140°Cで20時間攪拌した。冷却後、EtOAcで希釈し、satNaHCO3水溶液で洗浄後、MgSO4で乾燥した。溶媒を減圧下濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、tertブチル444エチルピペラジン1イルピリミジン2イルビフェニル3イル36ジヒドロピリジン1カルボキシレートを得た。製造例14Aの方法と同様にして、後記表に示す製造例14A1から製造例14A15の化合物を製造した。製造例14B氷冷下、トランス43124オキサジアゾール5イルシクロヘキサノール、CH2Cl2、AgOTf、26ジtertブチルピリジンの混合物中に1ヨードプロパンを加え、10分撹拌した。室温に戻し1時間攪拌した。反応混合物をセライト濾過した後、ろ液を1M塩酸水、satNaHCO3水、水、brineで洗浄し、MgSO4で乾燥後減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し35124オキサジアゾールを白色固体として得た。製造例14Bの方法と同様にして、後記表に示す製造例14B1から製造例14B4の化合物を製造した。製造例14Cトランス43124オキサジアゾール5イルシクロヘキサノールと10Mのトリエチルオキソニウムテオラフルオロボレートのジクロロメタン溶液の混合物を室温で終夜撹拌した。反応液に水を加えEtOAcで抽出した。有機層を、水、brineで洗浄しMgSO4で乾燥した後、減圧下濃縮し得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し目的物35124オキサジアゾールを白色固体として得た。製造例15tertブチル4ヒドロキシピペリジン1カルボキシレートのTHF溶液に0°CでAg2Oを加え、6ブロモ33ジメチルシクロヘキセンのTHF溶液を加えた。室温で終夜攪拌した後ろ過し、ろ液をEtOAcで洗浄した。有機層はbrineで洗浄し、MgSO4で乾燥後、減圧下濃縮した。シリカゲルクロマトグラフィーで精製し、tertブチル4オキシピペリジン1カルボキシレートを無色透明固体として得た。製造例16tertブチル444シアノビフェニル3イル36ジヒドロピリジン1カルボキシレート、ヒドロキシルアミン塩酸塩、NaHCO3及びMeOHの混合物を80°Cで6時間撹拌した。反応液に水を加え、EtOAcで抽出した。有機層を、水、brineで洗浄しMgSO4で乾燥した後、減圧下濃縮し、tertブチル44アミノメチル4ビフェニル3イル36ジヒドロピリジン1カルボキシレートを白色固体として得た。製造16の方法と同様にして、後記表に示す製造例161から製造例163の化合物を製造した。製造例1714フェニル2ブロモエタン、5ブロモ2ピリジンアミン、及び95EtOHの反応混合物を3時間還流し、さらに60°Cで12時間攪拌した。放冷した後、析出物をろ取し、24フェニル6ブロモイミダゾ12aピリジンを固体として得た。製造例184ブロモNシクロヘキシルカルボニルオキシベンゼンカルボキシイミダミド及びDMAcの混合物を120°Cで6時間攪拌した。反応液を室温に戻し水を加え30分撹拌した。析出物をろ取した後、減圧乾燥し、354シクロヘキシル124オキサジアゾールをベージュ色の粉末として得た。製造例18の方法と同様にして、後記表に示す製造例181から製造例1822の化合物を製造した。製造例19窒素雰囲気下、4ブロモ234フェニル2Hアジレン2イルピリジンのMeCN溶液にFeCl2を加え油浴で2時間加熱攪拌した。室温まで冷却後、MeCNを減圧下濃縮した。得られた残渣をCHCl3に溶解し、水を加えた。セライトでろ過して、不溶物を除いた。ろ液の有機層を分離し、水層をCHCl3で抽出した。抽出液をあわせ、MgSO4で乾燥後、活性炭処理した。ろ過後、ろ液を溶媒を留去した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、5ブロモ24フェニルピラゾロ15aピリジン得た。製造例204ブロモNカルボニルベンゾヒドラジド、P2S5及びTHFの反応混合物を50°Cで5時間撹拌した。反応液に水、1MNaOH水溶液を順次加え、室温で15分撹拌した。生じた析出物をろ取し、減圧下乾燥し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、25134チアジアゾールを白色固体として得た。製造例20の方法と同様にして、後記表に示す製造例201の化合物を製造した。製造例214ブロモN22オキソエチルベンズアミド、ピリジン、P2S5の混合物を100°Cで6時間攪拌した。反応液に水を加え、1MNaOH水溶液で塩基性として、15分間攪拌した。反応液をCHCl3で抽出し、1MHCl水で2回、水、brineで順次洗浄し、MgSO4で乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣にMeOHを加え析出物をろ取した。残渣をMeOHで洗浄後、減圧下乾燥し、1213チアゾール5イル4シクロヘキシル4メトキシピペリジンをベージュ色固体として得た。製造例22グローブボックス中、窒素気流下で充填した三径コルベン中で無水CeCl3を細かく粉砕した。三径コルベンをグローブボックスから取り出し、系内をアルゴンで置換した。コルベン中に無水THFを加え、反応混合物を、室温で終夜激しく攪拌した。反応系内に、nペンチルマグネシウムブロマイドの20Mのジエチルエーテル溶液を10分かけて加えて、氷浴を用いて内温を10°C以下に保った。反応混合物は室温で3時間攪拌した。tertブチル4オキソピペリジン1カルボキシレートのTHF溶液を反応混合物に15分かけて添加し、氷浴を用いて、内温を10°C以下に保った。反応混合物は、4°Cで15時間攪拌した。反応混合物中に、10酢酸をゆっくり加え、反応混合物はEtOAcで2回抽出した。有機層は、水とbrineで洗浄し、MgSO4で乾燥させた。ろ過後、を液を減圧下濃縮した。残渣は、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製しtertブチル4ヒドロキシ4ペンチルピペリジン1カルボキシレートを白色固体として得た。製造例22の方法と同様にして、後記表に示す製造例221から製造例224の化合物を製造した。製造例232134オキサジアゾールの酢酸溶液に臭素を室温で10分かけて加えた。室温で15時間攪拌した。反応液を、50°Cに昇温し15時間攪拌し、臭素を追加し、50°Cで5時間攪拌した。反応液に臭素をを加え50°Cで5時間攪拌した。反応液を室温に戻し、1MNaOH水溶液、EtOAcを加えた。有機層を分離し、1MNaOH水溶液で洗浄した。10Na2S2O3水溶液、水、brineで洗浄後、MgSO4で乾燥し、減圧下濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、2ブロモ5134オキサジアゾールを白色固体として得た。製造例23の方法と同様にして、後記表に示す製造例231から製造例232の化合物を製造した。製造例24アルゴン雰囲気下、413オキサゾールとTHFの混合物に内温-65~-60°CでLHMDSを8分かけて滴下した。反応混合物をMeCNドライアイスバス中、内温-43°Cで30分撹拌した。ヘキサクロロエタンを加えて室温に昇温し終夜撹拌した。反応液にEtOAcと水を加えた。有機層を分離し、01M塩酸水、brineで洗浄した。MgSO4で乾燥し濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し42クロロ13オキサゾールを白色固体として得た。製造例250°Cにて1ベンジル43124オキサジアゾール5イルピリジニウムブロミドのMeOH白色懸濁液にNaBH4を少しずつ加えた。黄色の反応懸濁液を同温で1時間攪拌した。反応混合物中に固体のNH4Clを加え、減圧下溶媒を留去した。残渣に水を加え、EtOAcTHF41の溶液を用いて抽出操作を行った。有機層をbrineで洗浄し、MgSO4で乾燥後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、1ベンジル43124オキサジアゾール5イル1236テトラヒドロピリジンを黄色油状物として得た。製造例265ブロモ134チアジアゾール2アミン、2ブロモ1エタノンのnBuOHの懸濁液を125°Cで20時間攪拌した。反応混合物は、放冷した後EtOHに注ぎ、2時間攪拌した後、析出した固体をろ取した。固体をEtOHにて洗浄し2ブロモ6イミダゾ21b134チアジアゾールを白色粉末を得た。製造例27窒素雰囲気下、2オキシテトラヒドロ2Hピラン、THFを混合させた。276MnBuLiのヘキサン溶液を内温-65~-60°Cで30分かけて滴下し、室温に昇温しながら1時間撹拌した。反応液にMeOHを加え1時間撹拌した。brineを加え、1M塩酸水でpH4に調整した。EtOAcで抽出した。有機層をbrineで洗浄し、MgSO4で乾燥後、減圧下濃縮して得た残渣にヘキサンを加えて析出物をろ取した後、減圧乾燥し、5クロロ62ナフチルボロン酸を白色固体として得た。製造例28ヒドロキシカーボンイミジックジブロマイドのDMF溶液に、5°Cで1ブロモ4ビニルベンゼンを加え、続いてNaHCO3水溶液を滴下し、終夜攪拌した。反応混合物に水を加え、EtOAcで抽出し、有機層を減圧下濃縮した。得られた残渣はシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、3ブロモ545ジヒドロイソキサゾールを得た。製造例29過ヨウ素酸ナトリウムと酢酸アンモニウムの水溶液にtertブチル425フェニル36ジヒドロピリジン1カルボキシレートのEtOAc溶液を加えて3日間撹拌した。析出物をろ別してEtOAcで洗浄した。ろ液と洗浄液を合わせて分液し、有機層を5Na2S2O3水溶液、brineで洗浄し、MgSO4で乾燥し、減圧下濃縮した後、粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、311236テトラヒドロピリジン4イル4フェニルボロン酸を得た。製造例29の方法と同様にして、後記表に示す製造例291の化合物を製造した。製造例30tertブチル434スルホニルオキシ2ナフチルフェニル124オキサジアゾール5イルピペラジン1カルボキシレート、DMI、Pd2、Et3N、プロパン13ジイルビス及びMeOHの反応混合物を、一酸化炭素で充填した。反応混合物は、一酸化炭素雰囲気下で5時間95°Cで攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、水を加えた。反応混合物をろ過し、得られた固体を水で洗浄した。固体をCHCl3に溶解させた。有機層はNa2SO4で乾燥後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製しtertブチル42ナフチルフェニル124オキサジアゾール5イルピペラジン1カルボキシレートを白色固体として得た。製造例30の方法と同様にして、後記表に示す製造例301の化合物を製造した。製造例31tertブチル4ヒドロキシ4ペンチルピペリジン1カルボキシレートをTHFに溶解し、氷冷下NaHを加え、室温で1時間撹拌した。反応液を氷冷し、ヨードメタンを加えて5分間撹拌し、さらに、室温で5時間撹拌した。反応液に水を加え、EtOAcと水で分配し、水層をEtOAcで2回抽出した。まとめた有機層をbrineで洗浄し、MgSO4で乾燥した後、減圧下濃縮し、tertブチル4メトキシ4ペンチルピペリジン1カルボキシレートを無色透明油状物質として得た。製造例31の方法と同様にして、後記表に示す製造例311から製造例315の化合物を製造した。製造例326アセトキシ2ナフチル酸、TBAI及びPd2のDMF溶液中にNISを加えた。反応溶液を45°Cで8時間攪拌した。反応混合物中にNISを加え、45°Cで12時間攪拌した。反応混合物中に、NIS及びPd2を加え、20時間撹拌後、Pd2及びNISを加え、48時間攪拌した。反応混合物を0°Cまで冷却し、K2CO3を加えた。反応溶液中に、MeIを加えて、室温で1時間攪拌した。反応混合物をEtOAcで希釈した。有機層をNa2S2O3水溶液、1MNaOH水溶液、H2O、005MHClで2回、H2O、NaHCO3水溶液、brineで洗浄しNa2SO4で乾燥後減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーで精製し、メチル6アセトキシ3ヨード2ナフトエートを不純物の混ざりの黄色固体として得た。製造例33メチル311236テトラヒドロピリジン4イル424ピペラジン1イルイミダゾ21b134チアジアゾール6イルビフェニル4カルボキシレートのジオキサン溶液に1MNaOH水溶液を加え100°Cで5時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、減圧下濃縮し、水、1M塩酸水を加えpHを3とした。析出物をろ取した。得られた固体はIPEで洗浄し、311236テトラヒドロピリジン4イル424ピペラジン1イルイミダゾ21b134チアジアゾール6イルビフェニル4カルボン酸を得た。製造例33の方法と同様にして、後記表に示す製造例331から製造例33134の化合物を製造した。製造例340°Cで2エタノールのCH2Cl2溶液中、デスマーチンペルヨージナンを加え、室温で2時間攪拌した。反応混合物に、satNaHCO3水溶液、satNa2S2O3水溶液を加え、CH2Cl2で2回抽出した。有機層をMgSO4で乾燥後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、アセトアルデヒドを無色油状物質として得た。製造例34の方法と同様にして、後記表に示す製造例341から製造例343の化合物を製造した。製造例35DMF中、実施例161の化合物、BOC2O及びDIPEAの反応混合物を25°Cで4時間攪拌した。反応混合物をEtOAcで希釈すると沈殿物が生じ、ろ取した。得られた固体をEtOAcで洗浄して製造例35の化合物を得た。製造例36CH2Cl2中、メチル2クロロ4ヒドロキシベンゾエート34ジヒドロ2Hピラン及びPPTSの混合物を室温で18時間攪拌した。反応混合物をEtOAcで希釈後、satNaHCO3水溶液で洗浄した。分離した有機層をbrineで洗浄し、MgSO4で乾燥後、減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトで精製し、メチル2クロロ4ベンゾエートを黄色油状物として得た。製造例36の方法と同様にして、後記表に示す製造例361から製造例362の化合物を製造した。製造例37氷冷下、トランス43124オキサジアゾール5イルシクロヘキサノール、ベンジル222トリクロロエタンイミデート、CH2Cl2の混合物中にTfOHを加えた。室温に昇温し2時間撹拌した。反応液をEtOAcで希釈し、satNaHCO3水溶液を加えた。有機層をbrineで洗浄し、MgSO4で乾燥した後、減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、5トランス4シクロヘキシル3124オキサジアゾールを白色固体として得た製造例3824フェニル64ピペラジン1イルイミダゾ12aピリジン、10PdC、MeOH、THFの混合物を3気圧の水素下、室温にて終夜攪拌した。溶媒を減圧下濃縮し、464ピペラジン1イルイミダゾ12aピリジン2イルフェノールを灰色固体として得た。製造例38の方法と同様にして、後記表に示す製造例381の化合物を製造した。製造例39常圧水素雰囲気下、ベンジルトランス4シクロヘキサンカルボキシレート、EtOAc、及びPdC10の混合物を室温で5時間撹拌した。反応液をセライトろ過してPdCを除去し、ろ液を減圧下濃縮し、トランス4シクロヘキサンカルボン酸を白色固体として得た。製造例39の方法と同様にして、後記表に示す製造例391から製造例393の化合物を製造した。製造例40tertブチル44424ピペラジン1イルイミダゾ21b134チアジアゾール6イルビフェニル3イル36ジヒドロピリジン1カルボキシレートをジオキサンに溶解し、4MHClジオキサンを加え、室温で1時間撹拌した。反応混合物をIPEで希釈し、沈殿物をろ取してIPEで洗浄し、減圧下に乾燥した。得られた粉末にCH2Cl2を加えた。有機層はNaHCO3、brineで洗浄し、有機層を減圧下濃縮し、メチル424ピペラジン1イルイミダゾ21b134チアジアゾール6イル3ビフェニル4カルボキシレートを得た。製造例40の方法と同様にして、後記表に示す製造例401から製造例4023の化合物を製造した。製造例41tertブチル4445124オキサジアゾール3イルビフェニル3イル36ジヒドロピリジン1カルボキシレート及び4MHClEtOAcの混合物を室温で2時間撹拌した。さらに5時間撹拌した。濃縮し得た残渣に、ジオキサン、2MNa2CO3水溶液、9Hフルオレン9イルメチルクロロカーボネートを加え室温で4時間撹拌した。反応液に水を加えた。1M塩酸水でpH2に調整し、EtOAcで抽出した。反応液は、水、brineで洗浄した。有機層をMgSO4で乾燥後、減圧下濃縮し45124オキサジアゾール3イル31カルボニル1236テトラヒドロピリジン4イルビフェニル4カルボン酸を白色泡状固体として得た。製造例41の方法と同様にして、後記表に示す製造例411から製造例412の化合物を製造した。製造例42製造例102の化合物のMeOHH2O溶液にPdC1050wetを加え、H2置換して7時間撹拌した。反応液をセライトろ過した。ろ液を軽く減圧留去した後、得られた溶液にH2OMeCN8020溶液と1MNaOH水溶液を加え、ODSカラムクロマトグラフィーで精製した。目的物フラクションのMeCNを減圧下留去した後、凍結乾燥し、製造例42の化合物を得た。製造例42の方法と同様にして、後記表に示す製造例421から製造例424の化合物を製造した。製造例43tertブチルピペラジン1カルボキシレートのCH2Cl2溶液にEt3Nと2ニトロベンゼンスルホニルクロリドを氷冷下に加えて同温で15分、室温で45時間撹拌した。反応混合物に0°Cで水を加え、EtOAcで3回抽出した。有機層をあわせて、brineで洗浄し、MgSO4で乾燥した。溶媒を減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製した。フラクションを減圧下に濃縮し、残渣をIPEで粉末化してtertブチル4スルホニルピペラジン1カルボキシレートを得た。製造例44tertブチル444スルホニルピペラジン1イル124オキサジアゾール3イルビフェニル3イル36ジヒドロピリジン1カルボキシレートをDMFに溶解し、K2CO3、4メチルベンゼンチオールを加えて室温で一夜撹拌した。反応混合物に水を加え、CH2Cl2で2回抽出した。有機層を水、brineで洗浄しMgSO4で乾燥後、減圧下濃縮した。残渣をEtOAc約1Lに溶解し、6回水洗後、brineで洗浄しMgSO4で乾燥後、減圧下濃縮した。残渣を中圧シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、tertブチル444ビフェニル3イル36ジヒドロピリジン1カルボキシレートを淡褐色泡状物質として得た。製造例4554ピペラジン1イル24フェニルピリミジンのジオキサン懸濁液に氷冷下、6M塩酸を加え、室温で2時間攪拌した。反応混合物を氷冷下、1NNaOH水溶液でpH8にした後、生じた固体をろ取、MeCNで洗浄し、454ピペラジン1イルピリミジン2イルフェノールをクリーム色粉末として得た。製造例45の方法と同様にして、後記表に示す製造例451から製造例4519の化合物を製造した。製造例46tertブチル425フェニル36ジヒドロピリジン1カルボキシレート、4メチルベンゼンスルホン酸、MeOHの混合物を室温で3時間撹拌した。反応混合物を水中に注ぎ、EtOAcで抽出した。水層にbrineを加え、EtOAcで再度抽出した。有機層をあわせてbrineで洗浄し、MgSO4で乾燥した後、減圧下濃縮し、tertブチル45ヒドロキシ2フェニル36ジヒドロピリジン1カルボキシレートを得た。製造例46の方法と同様にして、後記表に示す製造例461から製造例464の化合物を製造した。製造例47645ピリミジン2イルフェニル1クロロ2ナフチルトリフルオロメタンスルホネートPd2及びDPPPのDMSOMeOH溶液にEt3Nを室温で加えた。CO雰囲気下、90°Cで4時間攪拌した。反応溶液に水を加えて析出物をろ取して水洗し、減圧乾燥を行い粗粉末を得た。粗粉末をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、メチル645ピリミジン2イルフェニル1クロロ2ナフタレンを得た。製造例47の方法と同様にして、後記表に示す製造例471から製造例472の化合物を製造した。製造例48メチル4-ベンゼン、4ブロモ2メチルピリジンのTHF溶液に氷冷下1MLHMDSを加え、室温で終夜攪拌した。反応液に水、EtOAcを加えて抽出した。有機層は、MgSO4で乾燥後、減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、214フェニルエタノンを得た。製造例49製造例35の化合物のMeOHDMFの溶液にジメチルアミンを加えた。反応混合物を25°Cで18時間、40°Cで8時間攪拌した。反応混合物に1MNaOH水溶液を加え、反応混合物は室温で終夜攪拌した。反応液を中和し、水で希釈し、ODSカラムクロマトグラフィーで溶出し、減圧下濃縮した後に凍結乾燥し、製造例49の化合物を得た。製造例50tertブチル4オキシピペリジン1カルボキシレートのMeOH溶液に10PdC50wet、50mgを加えて水素1気圧下、室温で5時間接触還元を行った。反応液をセライトろ過して触媒をろ別し、ろ液を減圧下濃縮して、tertブチル4オキシピペリジン1カルボキシレートを無色油状物として得た。製造例50の方法と同様にして、後記表に示す製造例501の化合物を製造した。製造例514ブロモ2クロロ安息香酸、DIBOC、DMAP、THF、tBuOHの混合物を室温で24時間撹拌した。反応液にsatNaHCO3水を加え、EtOAcで抽出した。有機層を、水、01M塩酸水、brineで順次洗浄し、MgSO4で乾燥した後に減圧下濃縮し、tertブチル4ブロモ2クロロベンゾエートをオレンジ色の油状物質として得た。実施例131カルボニル1236テトラヒドロピリジン4イル45124オキサジアゾール3イルビフェニル4カルボン酸、HBTU、DMF、DIPEAの混合物を室温で30分撹拌した。国際公開WO9940108号の実施例番号169の化合物を加え室温で5時間撹拌した。TLCにおいて、活性エステルが消失したことを確認した。ピペリジンを加え室温で30分撹拌した。反応液にEtOAcを加え生じた析出物をろ取した。水に懸濁させ1MNaOH水を溶解するまで加えた。その混合物をODSで精製した後凍結乾燥し、実施例1の化合物を白色粉末として得た。実施例2から6の化合物は、実施例1の方法と同様にして製造した。実施例7製造例421の化合物のDMF溶液に3メトキシベンズアルデヒド、AcOH、NaBH3を加え、窒素雰囲気下、室温で15時間撹拌した。反応液にEtOAcを加え生じた析出物をろ取した。得られた混合物に0°Cで、TFAを加え、同温で05時間撹拌した。1MNaOH水溶液H2Oに氷冷下、反応液をゆっくりと加え、そのままODSカラムクロマトグラフィーで精製した。目的物のフラクションのMeCNを減圧留去した後、凍結乾燥し、実施例7の化合物を得た。実施例8から32の化合物は、実施例7の方法と同様にして製造した。実施例33から36の化合物は、製造例10の方法と同様にして製造した。実施例37311236テトラヒドロピリジン4イル424ピペラジン1イルイミダゾ21b134チアジアゾール6イルビフェニル4カルボン酸、BOP、DMF、DIPEAの混合物を室温で1時間撹拌した。国際公開WO9940108号の実施例番号169の化合物を加え室温で終夜撹拌した。EtOAc中に反応液を加え生じた析出物をろ取しIPEにて洗浄し、減圧下3時間乾燥した。氷冷下、TFAに得られた粉末加え2時間撹拌した。氷冷下反応液にCH2Cl2を加え、Et3Nを、内温15°C以下になる様に留意しゆっくりと滴下した。反応液を減圧下濃縮し、得られたオイルを氷冷下攪拌しながら、1MNaOH水溶液を含む水に加えた。さらに、1MNaOH水溶液を加え、pH11にした。この溶液をODSカラムクロマトグラフィーを用いて精製した。目的物を含むフラクションを水に希釈し、1MNaOH水溶液を加えて溶解させた。この溶液をODSカラムクロマトグラフィーを用いて脱塩し、減圧下濃縮し、凍結乾燥により実施例37の化合物を得た。実施例38から153の化合物は、実施例37の方法と同様にして製造した。実施例154製造例35の化合物とグリオキシル酸水和物とMS3AをDMFに懸濁させ、終夜室温で攪拌した。MeOHで反応液を希釈し、MS3Aをろ別し、MeOHで洗浄した。ろ液と洗液をあわせ減圧下濃縮した後、残渣にEtOAcを加え、析出した粉末をろ取し、EtOAcで洗浄した。粉末を乾燥後、CH2Cl2に懸濁させ、氷冷下、TFAを加えた。室温に昇温しながら3時間攪拌した。氷冷下、Et3Nを加え、反応を停止させた。減圧下濃縮して得られた残渣に水を加えた。さらに、その懸濁液に1MNaOH水溶液10MeCNH2Oを加え溶解させた。その混合物をODS精製。フラクションを濃縮後、H2Oで希釈、チャージ後溶出液;H2O、10MeCNH2O、50MeCNH2Oの順溶出した。凍結乾燥し目的物を白色粉末として得た。実施例155製造例3355の化合物、HBTU、DMF、DIPEAの混合物を室温で1時間撹拌した。国際公開WO03068807号の製造例20の化合物を加え室温で6時間撹拌した。反応液にEtOAcを加え生じた析出物をろ取した。減圧乾燥して得た固体を、氷冷下、TFA中に加え3時間撹拌した。反応液を7MeCN水中に滴下した。その混合物をODSシリカゲルクロマトグラフィーで精製した。凍結乾燥し実施例155の化合物を黄色固体として得た。実施例156から164の化合物は、実施例155の方法と同様にして製造した。実施例165実施例57の化合物のDMF溶液にエチル3ブロモプロピオネート、粉末K2CO3及びNaIを加え、室温で4日間撹拌した。反応液にEtOAcを加え生じた析出物をろ取し、粗エチルエステル中間体を白色粉末として得た。粗エチルエステル中間体を水に溶解し、1MNaOH水溶液を加え、室温で2時間撹拌した。1M塩酸で中和後、ODSシリカゲルクロマトグラフィーで精製した。目的物を含むフラクションを集め水で約2倍に希釈した後、ODSカラムクロマトグラフィーにより脱塩し、MeCNを減圧下濃縮した後、凍結乾燥し、実施例165の化合物を白色アモルファスとして得た。実施例166実施例55の化合物のDMF溶液に13プロパンサルトンを加え室温で20時間撹拌した。13プロパンサルトンを追加し、室温撹拌20時間し、さらに13プロパンサルトンを追加した後、50°Cに昇温し、3日間撹拌した。反応液を室温まで放冷後、水を加え、ODSシリカゲルクロマトグラフィーで精製した。目的物を含むフラクションを集め水で約2倍に薄めた後、ODSカラムクロマトグラフィーで脱塩し、MeCNを減圧下濃縮後、凍結乾燥し、実施例166の化合物を白色アモルファスとして得た。実施例167製造例1019の化合物にTFAを加えて室温下1時間撹拌し、氷冷下でEt3Nを加えた。混合溶液を減圧下濃縮し、20MeCN水溶液を加えたところ、懸濁液になったため、1MNaOH水溶液を加えてpH95程度にし、完全に溶解させた。この水溶液をODSカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた水溶液を再度ODSカラムクロマトグラフィーを行うことにより、塩を除き、また溶媒をMeCNで置換した。得られた溶液を減圧下濃縮し、残った水溶液を凍結乾燥することで実施例167の化合物を白色粉末として得た。実施例168から179の化合物は、実施例167の方法と同様にして製造した。実施例180実施例37の化合物のMeOH溶液に10HClMeOH溶液を加えると懸濁した。反応混合物は室温で攪拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた固体をEtOAcを加えて粉末化した。沈殿物をろ取し、EtOAcで洗浄後、乾燥し、実施例180の化合物を得た。実施例181の化合物は、実施例180の方法と同様にして製造した。実施例182実施例156の化合物、1Hピラゾール1カルボキサミジン塩酸塩、DMF、DIPEAの混合物を室温で終夜撹拌した。反応液に水を加え溶解するまでMeCNを加えた。その混合物をODSシリカゲルクロマトグラフィー精製した。凍結乾燥し、実施例182の化合物を白色粉末として得た。実施例183実施例55の化合物、14ジオキサン25ジオール、CHCl3、MeOH、MS3Aの混合物にNaBH3CNとAcOHを加えた。混合物を室温で3時間撹拌した。MS3Aをろ別して減圧下濃縮した。残渣をMeCN:H2O=約1:10の溶液に懸濁し、1MNaOHを用いてpH8から9に調整し溶解させた。この溶液をODS中圧カラムクロマトグラフィー=1:9、溶出:MeCN:1437を用いて精製した。目的物を含むフラクションを集めてH2Oで約15倍に希釈し、ODS中圧カラムクロマトグラフィーを用いて脱塩減圧下濃縮した。目的物を含むフラクションを減圧下に濃縮し、水を含む残渣を凍結乾燥して実施例183の化合物を粉末として得た。実施例184から294の化合物は、実施例183の方法と同様にして製造した。上述の実施例又は製造例の方法と同様にして、後記表に示す実施例及び製造例の化合物を製造した。製造例化合物および実施例化合物について、それぞれ、構造、物理化学的データ及び製造法を示した。表中、Prは製造例番号、Exは実施例番号を表す。RefPrは参考にして製造できる製造例番号を表し、RefExは参考にして製造できる実施例番号を表す。ただし、RefPr中に、参考にして製造できる実施例番号を記載することもあり、その場合には、Ex番号で記載している。RefEx中に、参考にして製造できる製造例番号を記載することもあり、その場合には、Pr番号で記載している。STRの欄には構造式を表している。DATの欄は、1HNMR及び又はMSデータを記載した。NMR1DMSOd6中で測定した1HNMRのケミカルシフト値、NMR2DMSOd6D2O中で測定した1HNMRのケミカルシフト値、NMR3CDCl3中で測定した1HNMRのケミカルシフト値を示す。ESI及びEIは、それぞれエレクトロスプレーイオン化法による質量分析値、電子イオン化法による質量分析値を表し、ESIおよびEIデータの又は未記載の場合にはポジティブを意味する。APCIは、大気圧化学イオン化法質量分析を示し、APCIESIはAPCIとESIで同時測定された質量分析値を意味する。"