一端と、前記一端とは反対側の他端と、前記一端から前記他端に向かう第1方向に沿って延在する側面と、を有する複数の導光部であって、前記複数の導光部は、前記第1方向に対して交差する第2方向に、互いに離間しつつ並ぶ、複数の導光部と、前記導光部の前記一端から前記導光部中に光を入射させる光源と、前記導光部の前記側面に接する第1主面と、前記第1主面とは反対側の第2主面と、を有し、前記側面に接する部分が透明な支持基板と、前記第2主面に設けられた光透過性の第1電極と、前記第2主面と対向し、前記第1電極と離間する対向基板と、前記対向基板の前記第2主面と向かい合う面上に設けられた光透過性の第2電極と、前記支持基板と前記対向基板との間に設けられ、前記第1方向及び前記第2方向に対して平行な平面に射影したときに、前記複数の導光部間に配置された複数のスペーサと、を備え、前記第1電極と前記第2電極との間に印加される電圧により、隣接する前記スペーサ間と前記第1電極と前記第2電極とで囲まれた領域内の光学特性が変化する表示装置。前記領域の屈折率の変化により、前記導光部中を伝播する光が前記導光部から前記導光部の外部に出射する請求項1記載の表示装置。前記対向基板は、複数設けられ、前記複数の対向基板のそれぞれは前記第2方向に延在し、前記複数の対向基板は、互いに離間しつつ前記第1方向に並ぶ請求項1または2に記載の表示装置。前記支持基板の光吸収率よりも高い光吸収率を有する光吸収部をさらに備え、前記光吸収部は、前記第2主面と前記スペーサとの間、前記スペーサと前記対向基板との間及び前記第1主面上の前記複数の導光部の間の少なくともいずれかに設けられた請求項1~3のいずれか1つに記載の表示装置。前記スペーサの光吸収率は、前記支持基板の前記光吸収率よりも高い請求項1~4のいずれか1つに記載の表示装置。前記支持基板のうちの前記第1方向及び前記第2方向と直交する第3方向にみて前記複数の導光部の間の部分に設けられ、前記第2方向を法線とする反射面を有する複数の反射部をさらに備えた請求項1~5のいずれか1つに記載の表示装置。前記支持基板のうちの前記第1方向及び前記第2方向と直交する第3方向にみて前記複数の導光部間に設けられ、前記第2方向を法線とする界面を有する基材部をさらに備え、前記基材部の屈折率は、前記支持基板の屈折率よりも低い請求項1~6のいずれか1つに記載の表示装置。前記光源から前記導光部の前記一端に入射する前記光の光軸は、前記第1主面と非平行である請求項1~7のいずれか1つに記載の表示装置。前記光軸は、前記第1方向及び前記第2方向と直交する第3方向と、前記第1方向とを含む平面に対して平行である請求項8記載の表示装置。保護基板をさらに備え、前記保護基板と前記支持基板との間に前記複数の導光部が配置される請求項1~9のいずれか1つに記載の表示装置。本発明の実施形態は、製造容易な表示装置を提供する。実施形態に係る表示装置は、複数の導光部と、光源と、支持基板と、第1電極と、対向基板と、第2電極と、複数のスペーサと、を備える。複数の導光部のそれぞれは、一端と、前記一端とは反対側の他端と、前記一端から前記他端に向かう第1方向に沿って延在する側面と、を有する。前記複数の導光部は、前記第1方向に対して交差する第2方向に、互いに離間しつつ並ぶ。光源は、前記導光部の前記一端から前記導光部中に光を入射させる。支持基板は、前記導光部の側面に接する第1主面と、前記第1主面とは反対側の第2主面と、を有し、前記側面に接する部分が透明である。第1電極は、前記第2主面に設けられた光透過性の電極である。対向基板は、前記第2主面と対向し、前記第1電極と離間して設けられる。第2電極は、前記対向基板の前記第2主面と向かい合う面上に設けられた光透過性の電極である。複数のスペーサは、前記支持基板と前記対向基板との間に設けられ、前記第1方向及び前記第2方向に対して平行な平面に射影したときに、前記複数の導光部間に配置される。表示装置では、前記第1電極と前記第2電極との間に印加される電圧により、前記複数のスペーサ間に設けられた領域の光学特性が変化する。以下に、各実施の形態について図面を参照しつつ説明する。なお、図面は模式的または概念的なものであり、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。なお、本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。第1の実施形態図1は、第1の実施形態に係る表示装置を例示する模式的平面図である。図2は、図1のA1-A2線断面を例示する模式的断面図である。図2には、図1のA1-A2線断面の一部拡大した断面が示されている。図1に表したように、表示装置110は、複数の導光部1と、光源4と、支持基板2と、第1電極15と、対向基板3と、第2電極16と、複数のスペーサ5と、を備える。導光部1は、一端1aと、一端1aとは反対側の他端1bと、一端1aから他端1bに向かうY軸方向第1方向に沿って延在する側面1cと、を有する。導光部1は、Y軸方向に延在する。複数の導光部1は、Y軸方向に対して交差するX軸方向第2方向に、互いに間隔dで離間しつつ並ぶ。光源4は、一端1aから複数の導光部1の中に光を入射させる。例えば、複数の光源4のそれぞれは、複数の導光部1のそれぞれの一端1aに連結される。複数の光源4から出射された光は、複数の導光部1の各一端1aから各他端1bに向けて伝播する。支持基板2は、導光部1の側面1cに接する第1主面2aと、第1主面2aとは反対側の第2主面2bと、を有する。第1主面2aのうちの少なくとも導光部1の側面1cに接する部分が透明である。支持基板2の第1主面2aには、複数の導光部1が互いに離間して設けられている。支持基板2は、複数の導光部1を支持する基板として機能する。支持基板2は、複数の導光部1と光学的に接続されていればよく、例えば透明な接着剤で固定されていても、またマッチングオイルで光学的に接続されていてもよい。図2に表したように、支持基板2には第1電極15が設けられる。第1電極15は光透過性の電極である。第1電極15は、光源4から出射される光に対して透光性を有する。第1電極15には、例えばITOIndiumTinOxideが用いられる。対向基板3は、支持基板2の第2主面2bに対向し、第1電極15と離間して配置される。対向基板3には第2電極16が設けられる。第2電極16は光透過性の電極であって、対向基板3の、第2主面2bと向かい合う面3a上に設けられる。表示装置110では、複数の第2電極16が設けられている。複数の第2電極16のそれぞれはX軸方向に延在する。複数の第2電極16は、Y軸方向に、互いに離間して並ぶ。第2電極16の第1電極15側には絶縁膜17が形成される。絶縁膜17は、第2の電極16と第1の電極15の電気的短絡を防止する目的で設けられる。支持基板2から対向基板3に光が漏れ出るために、絶縁膜17は光を透過させる必要があるが、散乱性を有しても良い。この場合は、絶縁膜17で散乱を受けた光が対向基板3を経由して外に取り出される。絶縁膜17は、第2の電極16と第1の電極15により生じる電界強度に対して絶縁破壊しない程度の厚さを有する必要がある。厚すぎると、前記両電極の距離が離れ、静電力が低下する。複数のスペーサ5は、支持基板2と対向基板3との間に設けられる。スペーサ5は、Y軸方向及びX軸方向に対して平行な平面に射影したときに、複数の導光部1間に配置される。すなわち、スペーサ5は、第2主面2bで、かつX軸方向及びY軸方向に直交するZ軸方向第3方向にみて複数の導光部1の間に設けられる。スペーサ5によって支持基板2と対向基板3との間は所定の間隔に保持される。スペーサ5は、Z軸方向にみて光取り出し部10と重ならないように配置されるのが望ましい。実施形態に係る表示装置110では、第1電極15と第2電極16との間に印加される電圧により、隣接するスペーサ5の間、第1電極15及び第2電極16で囲まれた領域の光学特性が変化する。ここで、上記の領域の光学特性の変化には、導光部1を伝播する光に対する透明及び散乱の変化、この光の波長に対する平均屈折率の変化が含まれる。上記の領域は光取り出し部10に含まれる。ここで、光取り出し部10は、導光部1を伝播した光を外側に取り出す部分である。光取り出し部10は、Z軸方向にみて、導光部1と第2電極16との重なる部分に設けられる。光取り出し部10によって、表示装置110の表示単位である画素が構成される。表示装置110は、駆動回路14によって駆動される。駆動回路14は、第1電極15及び第2電極16に接続される。ここで、光取り出し部10に電圧が印加されて光が取り出される仕組みについて説明する。駆動回路14から第1電極15と第2電極16との間に電圧を印加すると、光取り出し部10において支持基板2と対向基板3との間に静電力が生じ、両基板が接近する。この結果、導光部1及び支持基板2を伝播する光の一部が対向基板3に漏れ、導光部1の外部に光が取り出される。一方、第1電極15と第2電極16との間に電圧が印加されていない場合は、図2に表したように、支持基板2と対向基板3とのZ軸方向の隙間は維持される。その結果、光路9aに示すように、導光部1及び支持基板2の内部を全反射しながら伝播する光は外部に取り出されない。例えば、Y軸方向にnnは1以上の整数個の画素を有する表示装置の場合、Y軸方向上部の第1走査線L1から最下部の第n走査線Lnまで走査線単位で順次電圧を印加し、光を取り出す走査線を切り替える。第i走査線1≦i≦nが光取り出し状態になっている場合、第i走査線の画像情報に合わせて光源4から適切な色波長及び強度の光を導光部1に入射することで、第i走査線の画像が表示される。以下同様に、第i1走査線を光取り出し状態に切り替え、第i1走査線に相当する画像情報として光源4から適切な色波長及び強度の光を導光部1に入射することで、第i1走査線の画像が表示される。第1走査線L1から第n走査線Lnまでの走査を1秒間に30回以上の速さで実行すると、フリッカを感じない画像が表示装置全体で表示される。図3は、電圧が印加された状態を例示する模式的断面図である。図3には、図1のA1-A2線断面の一部拡大した断面が示されている。第1電極15と第2電極16との間に電圧が印加された場合は、図3に表したように、静電力により両電極は接近する。この際、絶縁膜17の存在により、両電極が短絡することはない。この結果、導光部1を伝播する光の光路9bは対向基板3へ進む。対向基板3に、光路を曲げる手段、例えば対向基板3の面3bのうち、Z軸方向にみてスペーサ5と重ならない位置に凹凸図示せずを付与することにより、光路9bの光は外部に取り出される。実施形態に係る表示装置110では、支持基板2の第1主面2aに導光部1を配置する前の状態で、スペーサ5、対向基板3を形成できるため、平坦面に支持基板2を固定した状態でスペーサ5、対向基板3を精度良く形成することが可能となる。すなわち、支持基板2の第2主面2b上に、精度良くスペーサ5を形成することができる。また、スペーサ5を形成したあとで対向基板3を精度良く形成することができる。さらに、支持基板2の第1主面2a上において、Z軸方向にみてスペーサ5と重ならない位置に正確に複数の導光部1を配置することができる。この結果、スペーサ5の高さを均質化できる。さらに、導光部1の正確な位置へスペーサ5を容易に配置することが可能になる。例えば、スペーサ5の高さZ軸方向の高さを低くして両電極間の距離を短く保つ。これにより、光取り出し部10において、第1電極15と第2電極16との間の静電力作用を強めることができる。なお、図2及び図3に示す光路9cのように、導光部中を全反射しながら伝播する光のうち、支持基板2の中を全反射しながら伝播して、隣接する導光部に入るわずかな量の光成分が存在する。この光路9cの成分は支持基板2を薄くすることで低減される。以下、表示装置110の製造方法の具体例を示す。支持基板2として、例えば厚さ100マイクロメートルμmのPETPolyethyleneterephthalateフィルムを用いる。このPETフィルムの一方の主面第2主面2bに、第1電極15としてITOを形成する。ITOの厚さは、例えば100ナノメートルnmである。ITOを形成した主面第2主面2bに、例えば幅1ミリメートルmm、厚さ10μmのレジストを、5mmの間隔で形成する。レジストは、フォトリソグラフィ及びエッチングによって形成される。このレジストは、スペーサ5として用いられる。表示装置110では、支持基板2の第2主面2bにフォトリソグラフィ及びエッチングによって正確かつ容易にスペーサ5を形成することができる。次に、対向基板3として、例えば厚さ50μmのPETフィルムを用いる。このPETフィルムの一方の主面に、第2電極16としてITOを形成する。ITOの厚さは、例えば100nmである。さらに、このITOの上に絶縁膜17として例えばシリコン酸化膜を500nmの厚さで形成する。そして、絶縁膜17の成膜面がスペーサ5に接するように、スペーサ5上に第2電極16及び絶縁膜17が設けられた対向基板3を重ね合わせ、例えば熱圧着によって絶縁膜17とスペーサ5とを接着する。得られた光取り出し部10のうち、第1主面2aで、例えばZ軸方向にみてスペーサ5と重ならない位置に、幅4mmの複数の導光部1を配置し、透明接着剤例えば、Norland社製NOA81:紫外線硬化型接着剤で支持基板2と接着する。なお、導光部1の一部がZ軸方向にみてスペーサ5と重なっても良い。複数の導光部1は、支持基板2の第1主面2aに正確な位置に確実に支持される。次に、対向基板3の面3bのうち、Z軸方向にみてスペーサ5と重ならない位置を粗面化する。粗面化には、例えば機械的な方法などが用いられる。さらに、導光部1の一端1aに対向して、光源4を配置する。支持基板2に設けた第1電極15及び対向基板3に設けた第2電極16に、駆動回路14を接続する。これにより、表示装置110が完成する。表示装置110において、駆動回路14から第1電極15及び第2電極16間に印加される電圧は、例えば300ボルトVである。表示装置110によって映像を表示するには、光取り出し部10の光取り出し状態を順次走査して切り替えながら、それに同期させて光源4の調光を行う。実施形態に係る表示装置110では、30Hz以上の走査周波数でフリッカを感じない映像が得られる。実施形態に係る表示装置110では、スペーサ5を精度良く形成できるため、表示装置110の表面面内における光取り出し部10の特性ばらつきが抑制される。図4は、第1実施形態に係る表示装置の他の例を示す模式的平面図である。図4に表した表示装置111では、対向基板3が走査線L1~Lnごとに分離されていない。すなわち、対向基板3は、XY平面に沿って一体に設けられている。例えば、対向基板3は、支持基板2と同じ大きさである。対向基板3を一体にした場合、対向基板3に形成される第2電極16は、走査線L1~Lnごとに分離して設けられる。この表示装置111では、第1電極15と、選択された第2電極16との間に電圧が印加されることにより、第1電極15とその選択された第2電極16との間になる支持基板2及び対向基板3の一部の間隔が静電力によって接近することになる。すなわち、対向基板3のうち電圧印加を行う選択された第2電極16の部分が支持基板2と接近し、光取り出し部10の光学特性が変化する。これにより、導光部1から光の取り出しが行われる。一方、第1電極15と第2電極16との間に電圧が印加されないと、支持基板2と対向基板3とは接近せず、光取り出しは行われない。すなわち、第1電極15と第2電極16との間の印加電圧によって光の取り出し及び光の取り出しの停止による映像の表示が行われる。表示装置111では、一体の対向基板3に複数の第2電極16が形成されるため、複数の第2電極16の間隔を正確に形成することができる。また、対向基板3が一体であるため、対向基板3と支持基板2との重ね合わせを容易に行うことができる。第2の実施形態図5~図8は、第2の実施形態に係る表示装置を例示する模式的断面図である。図5~図8に表したように、第2の実施形態に係る表示装置121~123は、第1の実施形態に係る表示装置110に比べて光吸収部60を備える点で相違する。光吸収部60は、第1光吸収部61及び第2光吸収部62の総称である。ここで、光吸収部60の光吸収率は、支持基板2の光吸収率よりも高い。例えば、導光部1を伝播する光の波長に対する光吸収部60の吸収率は、その波長の光に対する支持基板2の吸収率よりも高い。導光部1を伝播する光は、例えば、R赤、G緑、B青のそれぞれの波長の光、可視光を含む光である。図5に表した表示装置121は、スペーサ5と支持基板2の第2主面2bとの間に第1光吸収部61を備える。図5に表した光路9cのように、導光部1中を全反射しながら伝播する光のうち、支持基板2の中を全反射しながら伝播して、隣りの導光部1へ向かうわずかな量の光成分が存在する。この成分が隣りの導光部1へ入り込むと混色の原因になる。表示装置121において、一の導光部1から支持基板2を介して隣りの導光部1に向かって漏れ出る光は、第1光吸収部61に到達した時点で吸収される。これにより、一の導光部1から漏れる光が隣りの導光部1へ到達することを抑制し、混色の発生を防止する。図6に表した表示装置122では、スペーサ5自体が光吸収機能を有する。この表示装置122においても表示装置121と同様に、一つの導光部1から支持基板2を介して隣りの導光部1に向かって漏れ出る光を光吸収機能を有するスペーサ5で吸収でき、混色の発生を防止する。また、表示装置122では、対向基板3内を全反射しながら伝播する光成分をスペーサ5で吸収する。図7には、対向基板内を伝播する光成分が例示されている。図7に表したように、光取り出し部10から取り出された光光路9には、対向基板3内を全反射しながら伝播する光成分が存在する。対向基板3内を伝播する光成分は、スペーサ5の位置まで到達した際に吸収される。また、表示装置122においては、対向基板3側から表示装置122を見た場合、複数の導光部1の隙間に光を吸収するスペーサ5が配置されるため、より黒表示が引き締まって見え、画質が向上する。図8に表した表示装置123は、対向基板3とスペーサ5との間に第2光吸収部62を備える。なお、図8に表した表示装置123のように、支持基板2とスペーサ5との間にさらに第1光吸収部61を設けてもよい。表示装置123において、導光部1から対向基板3を介して隣りの光取り出し部10に向かって漏れ出る光光路9dは、第2光吸収部62に到達した時点で吸収される。また、第1光吸収部61が設けられている場合には、一の導光部1から支持基板2を介して隣りの導光部1に向かって漏れ出る光光路9cを第1光吸収部61で吸収する。これにより、一の導光部1から漏れる光が隣りの導光部1へ到達することを抑制し、混色の発生を防止する。第2の実施形態に係る表示装置121~123では、支持基板2に第1光吸収部61、光吸収機能を有するスペーサ5及び第2光吸収部62を形成することで、隣接する導光部1の間の混色を防ぐことができる。したがって、画質の高い表示装置121~123を容易に製造することができる。第3の実施形態図9は、第3の実施形態に係る表示装置を例示する模式的断面図である。図9に表したように、第3の実施形態に係る表示装置130は、支持基板2の第1主面2aにおける複数の導光部1の間に、それぞれ第3光吸収部63を備える。図9に表した表示装置130において、第3光吸収部63は、インクジェット方式等の印刷技術を用いて複数の導光部1の間に形成される。光吸収部64には、例えば黒色のインクが用いられる。表示装置130では、第2の実施形態に係る表示装置121~123と同様に、支持基板2内を伝播する漏れ光の広がりを抑制し、混色を防止する。なお、支持基板2の第1主面2aにおいて第3光吸収部63を印刷する箇所に凹部を設けておき、この凹部内に黒色インク等を塗布するようにしてもよい。これにより、支持基板2内に黒色インク等が染み込み、支持基板2内を伝播する漏れ光の抑制効果が高まる。第3の実施形態に係る表示装置130において第2の実施形態に係る表示装置121~123と同様に、支持基板2に第3光吸収部63を形成することで、隣接する導光部1の間の混色を防ぐことができる。したがって、画質の高い表示装置130を容易に製造することができる。第4の実施形態図10は、第4の実施形態に係る表示装置を例示する模式的断面図である。図10に表したように、第4の実施形態に係る表示装置140は、支持基板2内に第2基材部8を備える。第2基材部8は、支持基板2内であって、複数の導光部1の間にそれぞれ設けられる。すなわち、第2基材部8は、X軸方向を法線方向とする反射面12を有する。第2基材部8は、Y軸方向に延伸し、XZ平面の断面形状が矩形の第1の角柱であって、アルミニウムなどの高反射率材料からなる。第2基材部8は、アクリル、ガラスなどの高反射率を有しない部材からなる角柱の表面にアルミニウムなどの高反射率材料をコートしたものでもよい。一方、第2基材部8以外の第1基材部21は、同様にY軸方向に延伸し、XZ平面の断面形状が矩形の第2の角柱からなる。Y軸方向に延伸した第1の角柱及び第2の角柱を、X軸方向に沿って交互にXY平面に並べた後、角柱どうしがX軸方向に接するように加圧すると共に加熱することで、角柱どうしを接続させ、支持基板2を得ることができる。このような表示装置140において、支持基板2内を伝播する漏れ光は、反射面12で反射した後、漏れ出た導光部1に向かって戻ることになる。その結果、支持基板2内を伝播する漏れ光の広がりが抑制される。これにより、表示装置140において混色が防止される。第4の実施形態に係る表示装置140では、支持基板2内に光反射部8を形成することで、隣接する導光部1の間の混色を防ぐことができる。したがって、画質の高い表示装置140を容易に製造することができる。第5の実施形態図11は、第5の実施形態に係る表示装置を例示する模式的断面図である。図11に表したように、第5の実施形態に係る表示装置150は、支持基板2内に第3基材部7を備える。第3基材部7は、支持基板2内であって、複数の導光部1の間にそれぞれ設けられる。第3基材部7の屈折率は、支持基板2の屈折率よりも低い。第3基材部7は、Y方向に延伸し、XZ平面の断面形状が矩形の第1の角柱で、屈折率が低いフッ素系材料からなる。一方、第3基材部7以外の第1基材部21は、同様にY方向に延伸し、XZ平面の断面形状が矩形の第2の角柱からなる。Y軸方向に延伸した第1の角柱及び第2の角柱を、X軸方向に沿って交互にXY平面に並べた後、角柱どうしがX方向に接するように圧力をかけながら加圧すると共に加熱することで、角柱どうしを接続させ、支持基板2を得ることができる。第3基材部7は、第1基材部21と第3基材部7との界面の方線が、導光部1が配置される方向X軸方向に沿うように形成される。この界面は全反射面13となる。支持基板2内を伝播する漏れ光のうち、全反射条件を満たす光は、全反射面13で全反射した後、元の方向に戻る。その結果、漏れ光の広がりが抑制され、混色が防止される。なお、全反射条件を満たさない光については、導光部1に入射し伝播する光の成分のうち、左右方向X軸方向よりも上下方向Z軸方向に多く全反射を繰り返すようにする。すなわち、上下方向の進行成分が多くなるようにすることで、全反射面13で全反射がより多くなる。具体的には導光部1の一端aから入射する光の光軸を、支持基板2の第1主面2aの法線方向に傾けることで、実現される。第5の実施形態に係る表示装置150では、支持基板2内に基材部7を形成することで、隣接する導光部1の間の混色を防ぐことができる。したがって、画質の高い表示装置150を容易に製造することができる。第6の実施形態図12は、第6の実施形態に係る表示装置を例示する模式的断面図である。図12に表したように、第6の実施形態に係る表示装置160は、保護基板18をさらに備える。保護基板18は、導光部1の支持基板2とは反対側に設けられる。すなわち、導光部1は、支持基板2と保護基板18との間に配置される。保護基板18は、例えば透明接着剤によって導光部1と接続される。表示装置160では、導光部1が保護基板18で覆われているため、導光部1への傷、埃などの付着を防ぐことができる。表示装置160では、保護基板18に第4光吸収部64第4光吸収部を設けてもよい。第4光吸収部64は、保護基板18の表面における複数の導光部1の間の位置に設けられる。この第4光吸収部64によって、一の導光部1から保護基板18を介して隣りの導光部1に向かって漏れ出る光光路9eを吸収する。これにより、一の導光部1から漏れる光が隣りの導光部1へ到達することを抑制し、混色の発生を防止する。第6の実施形態に係る表示装置160では、導光部1が保護基板18で覆われているため、導光部1への傷や埃の付着を防ぐことができる。その結果、製造工程あるいは使用中での画質の劣化を抑えた表示装置160を容易に製造することができる。第7の実施形態図13は、第7の実施形態に係る表示装置を例示する模式的断面図である。図13に表したよう、第7の実施形態に係る表示装置170は、対向基板3の支持基板2とは反対側に保護基板19を備える。保護基板19は、例えば支持部6例えば支柱を介して対向基板3と離間して設けられる。例えば、支持部6は、Z軸方向にみてスペーサ5と重なる位置に設けられる。この際、Z軸方向において、支持基板2と保護基板19との中間位置に対向基板3が配置されるよう支持部6の高さを調整する。これにより、対向基板3を光取り出し部10の中立面に配置することができ、表示装置170が撓んだ状態で駆動する場合、可動部である対向基板3の動作に対する影響が抑制される。第7の実施形態に係る表示装置170では、対向基板3上に保護基板19を設けて、対向基板への接触、あるいは水分、埃の吸着といった動作を妨げる要因を防ぐことができ、信頼性を向上させた表示装置170を容易に製造することができる。上記説明したいずれの実施形態であっても、支持基板2及び対向基板3を例えば薄い樹脂フィルムで形成すれば、表示装置に可撓性を持たせることができる。図14a~bは、湾曲した表示装置を例示する模式的断面図である。図14aは、表示装置110の対向基板3側が凸型に湾曲した例、図14bは、表示装置110の対向基板3側が凹型に湾曲した例を表している。表示装置110において、複数の導光部1は、それぞれY軸方向に延在し、X軸方向に離間して配置されている。したがって、複数の導光部1の隙間の存在により、支持基板2及び対向基板3が湾曲した場合であっても、導光部1どうしが干渉しない範囲で、表示装置110に可撓性を持たせることができる。図14aに表したように、表示装置110が導光部1とは反対側が凸になるように湾曲する場合には、複数の導光部1の間隔が狭くなることから、導光部1どうしが干渉しない範囲で湾曲可能である。図14bに表したように、表示装置110が導光部1とは反対側が凹になるように湾曲する場合には、複数の導光部1の間隔が広くなることから、導光部1どうしの干渉の問題なく湾曲可能である。なお、図14a~bには保護基板18及び19が示されていないが、保護基板18及び19を備えた表示装置150及び160では、支持基板2、対向基板3及び保護基板18、19を例えば薄い樹脂フィルムで形成すれば、上記と同様に表示装置150及び160に可撓性を持たせることができる。図15は、各実施形態に係る表示装置の光軸の例を示す模式的模式図である。図15では、導光部1をX軸方向にみた模式的な断面を表している。光源4の光軸としては、支持基板2の第1主面2aに対して非平行であることが望ましい。光源4から導光部1の一端1aに入射する光の光軸cの、第1主面2a側面1cに対する角度θは、0°よりも大きく、かつ導光部1と空気の界面における臨界角をθcとした時の90°-θcよりも小さい。これにより、光は導光部1の上下の側面1cで全反射を繰り返して効率良く伝播することになる。光軸cは、Z軸方向とY軸方向とを含む平面に対して実質的に平行であることが望ましい。これによって、導光部1を伝播する光の隣り合う導光部1への漏れが抑制される。なお、光源4から出射される光の強度分布例えば、FFP:FarFieldPatternが楕円形になる場合、第1主面2aに対して直交する方向Z軸方向に長い楕円形になるように光源4の向きを設定してもよい。これにより、導光部1に入射される光の第1主面2aと直交する方向Z軸方向の成分を、第1主面2aと平行な方向X軸方向の成分よりも多くすることができる。これによって、光は導光部1の上下の側面1cでの全反射を、左右の側面1cでの全反射よりも多くして、効率良く伝播することになる。上記説明した各実施形態においては、光取り出し部10として第1電極15と第2電極16との間に印加された電圧による静電力によって支持基板2と対向基板3とを接近させて光学特性を変化させる例を示したが、光取り出し部10の例はこれに限定されない。例えば、光取り出し部10における第1電極15と第2電極16との間に液晶層を介在させ、第1電極15と第2電極16との間に印加された電圧によって液晶層の屈折率を変化させるようにしてもよい。実施形態によれば、製造容易な表示装置が提供される。以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明の実施形態は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、表示装置に含まれる光源、導光部、支持基板、対向基板及びスペーサなどの各要素の具体的な構成に関しては、当業者が公知の範囲から適宜選択することにより本発明を同様に実施し、同様の効果を得ることができる限り、本発明の範囲に包含される。また、各具体例のいずれか2つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。その他、本発明の実施の形態として上述した表示装置を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての表示装置も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。その他、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。