"素子が形成された基板と、色材層と、電極層と、前記電極層および前記色材層に対する屈折率が調整された調整層と、を備えたことを特徴とする素子基板。請求項1に記載の素子基板において、前記基板上に前記色材層が形成され、前記色材層上に前記調整層が形成され、前記調整層上に前記電極層が形成され、前記調整層の屈折率が、前記色材層の屈折率よりも高く、かつ、前記電極層の屈折率よりも低いことを特徴とする素子基板。請求項2に記載の素子基板において、前記色材層と前記調整層との接触面が、前記色材層側に向けて凸形状を成すことを特徴とする素子基板。請求項3に記載の素子基板において、複数の前記色材層のうち、透過光波長が長い前記色材層に対応する前記接触面の曲率が、透過光波長が短い前記色材層に対応する前記接触面の曲率よりも大きいことを特徴とする素子基板。請求項3に記載の素子基板において、複数の前記色材層のうち、透過光波長が長い前記色材層と前記調整層との屈折率の差が、透過光波長が短い前記色材層と前記調整層との屈折率との差よりも大きいことを特徴とする素子基板。素子が形成された基板上に色材層を形成する色材層形成工程と、前記色材層上に、前記色材層の屈折率よりも高い屈折率を有する調整層を形成する調整層形成工程と、前記調整層上に、前記調整層の屈折率よりも高い屈折率を有する電極層を形成する電極層形成工程と、を含むことを特徴とする素子基板の製造方法。請求項1~5のいずれか一項に記載の素子基板、または、請求項6に記載の素子基板の製造方法によって製造された素子基板を備えたことを特徴とする液晶表示装置。請求項7に記載の液晶表示装置を搭載したことを特徴とする電子機器。しかしながら、上記の液晶表示装置では、カラーフィルターに光が照射された場合に、各材料間における屈折率の差が大きいため、各材料間の界面において光が反射し、透過率が低下してしまう、という課題があった。本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。[適用例1]本適用例にかかる素子基板は、素子が形成された基板と、色材層と、電極層と、前記電極層および前記色材層に対する屈折率が調整された調整層と、を備えたことを特徴とする。この構成によれば、色材層と電極層と調整層との積層構造において、例えば、屈折率が高い順となるように、調整層が適切な屈折率に調整される。これにより、積層構造に向けて照射された光は、徐々に屈折率が変化する各層内を進行するため、各層の界面における光の反射が低減され、透過率を向上させることができる。[適用例2]上記適用例にかかる素子基板は、前記基板上に前記色材層が形成され、前記色材層上に前記調整層が形成され、前記調整層上に前記電極層が形成され、前記調整層の屈折率が、前記色材層の屈折率よりも高く、かつ、前記電極層の屈折率よりも低いことを特徴とする。この構成によれば、色材層と電極層との間には、色材層の屈折率と電極層の屈折率との間の屈折率を有する調整層が形成される。そして、例えば、色材層側から電極層側に向けて光を照射した場合、光は色材層から調整層を介して電極層側に進行するが、この際、光の進行に従って徐々に屈折率が変化する各層内を進行することになるこの場合、光は、屈折率が徐々に高くなる方向に進行する。このため、光が進行した際、各層の界面における光の反射が低減され、透過率を向上させることができる。なお、電極層側から色材層側に向けて光を照射した場合も同様の作用効果を奏するなお、この場合、光は、屈折率が徐々に低くなる方向に進行する。[適用例3]上記適用例にかかる素子基板は、前記色材層と前記調整層との接触面が、前記色材層側に向けて凸形状を成すことを特徴とする。この構成によれば、透過率を高めるとともに、凸形状を有する接触面が集光レンズ機能を成し、照射された光を集光させることができる。[適用例4]上記適用例にかかる素子基板では、複数の前記色材層のうち、透過光波長が長い前記色材層に対応する前記接触面の曲率が、透過光波長が短い前記色材層に対応する前記接触面の曲率よりも大きいことを特徴とする。この構成によれば、接触面の曲率が大きい場合には、透過した光の焦点距離を短くさせることができる。一方、接触面の曲率が小さい場合には、透過した光の焦点距離を長くさせることができる。従って、相対的に透過光波長が長い色材層を透過した光の焦点距離を短くさせるとともに、透過光波長が短い色材層を透過した光の焦点距離を長くさせて、各色材層を透過した光の焦点を揃え、色バランスを向上させることができる。[適用例5]上記適用例にかかる素子基板では、複数の前記色材層のうち、透過光波長が長い前記色材層と前記調整層との屈折率の差が、透過光波長が短い前記色材層と前記調整層との屈折率との差よりも大きいことを特徴とする。この構成によれば、色材層と調整層との屈折率の差を大きくすることにより、透過させた光の焦点距離を短くさせることができる。一方、色材層と調整層との屈折率の差を小さくすることにより、透過させた光の焦点距離を長くさせることができる。従って、相対的に透過光波長が長い色材層を透過した光の焦点距離を短くさせるとともに、透過光波長が短い色材層を透過した光の焦点距離を長くさせて、各色材層を透過した光の焦点を揃え、色バランスを向上させることができる。[適用例6]本適用例にかかる素子基板の製造方法は、素子が形成された基板上に色材層を形成する色材層形成工程と、前記色材層上に、前記色材層の屈折率よりも高い屈折率を有する調整層を形成する調整層形成工程と、前記調整層上に、前記調整層の屈折率よりも高い屈折率を有する電極層を形成する電極層形成工程と、を含むことを特徴とする。この構成によれば、色材層と電極層との間には、色材層の屈折率と電極層の屈折率との間の屈折率を有する調整層が形成される。そして、例えば、色材層側から電極層側に向けて光を照射した場合、光は色材層から調整層を介して電極層側に進行するが、この際、光の進行に従って徐々に屈折率が変化する各層内を進行することになるこの場合、光は、屈折率が徐々に高くなる方向に進行する。このため、光が進行した際、各層の界面における光の反射が低減され、透過率を向上させることができる。なお、電極層側から色材層側に向けて光を照射した場合も同様の作用効果を奏するなお、この場合、光は、屈折率が徐々に低くなる方向に進行する。[適用例7]本適用例にかかる液晶表示装置は、上記の素子基板、または、請素子基板の製造方法によって製造された素子基板を備えたことを特徴とする。この構成によれば、いわゆるCOA構造ColorFilteronArrayを有する液晶表示装置を得ることができる。これにより、高開口率化が可能となるとともに、高透過率を有する高品質な液晶表示装置を提供することができる。[適用例8]本適用例にかかる電子機器は、上記の液晶表示装置を搭載したことを特徴とする。この構成によれば、高品位の電子機器を提供することができる。この場合、電子機器は、例えば、上記の液晶表示装置を搭載したテレビ受像機、パーソナルコンピューター、携帯型電子機器、その他、各種の電子機器がこれに該当する。以下、図面を参照しつつ、第1および第2実施形態について説明する。なお、説明に用いる図面において、特徴的な部分を分かりやすく示すために、図面中の構造の寸法や縮尺を実際の構造に対して異ならせている場合がある。[第1実施形態]液晶表示装置の構成まず、液晶表示装置の構成について説明する。図1は、液晶表示装置の構成を示し、同図aは、斜視図であり、同図bは、一部拡大した平面図である。図1aに示すように、液晶表示装置1aは、概略板状のものであり、一方の面に表示領域A1を有している。表示領域A1a内に、複数の画素領域Pが行列状に配置されている。表示領域A1の外側は、額縁A2になっている。液晶表示装置1aの内部には、複数の走査線10aと、複数のデータ線10bが設けられている。複数の走査線10aは互いに略平行に配列されている。また、複数のデータ線10bも互いに略平行に配列されている。そして、走査線10aとデータ線10bとが略直交交差しており、走査線10aとデータ線10bとで囲まれた領域の各々が、画素領域Pとなっている。走査線10a及びデータ線10bは、表示領域A1と額縁A2とにわたって設けられている。額縁A2において走査線10aの端部は、走査信号を供給する走査線駆動回路図示略と電気的に接続されている。また、額縁A2においてデータ線10bの端部は、画像信号を供給するデータ線駆動回路図示略と電気的に接続されている。図1bに示すように、表示領域A1には、複数の画素領域Pが含まれている。本実施形態の画素領域Pでは、赤表示の画素領域Pr、緑表示の画素領域Pg、青表示の画素領域Pbが含まれている。そして、画素領域Pr,Pg,Pbから、それぞれ赤色光、緑色光、青色光が表示側に向けて射出されると、赤色光、緑色光、青色光が混じり合って視認されて、フルカラー画像の1画素が表示される。画素領域Pr,Pg,Pbの各間は、遮光領域Dが設けられている。図2は、本実施形態にかかる素子基板を含む液晶表示装置の要部断面図である。図2に示すように、液晶表示装置1aは、素子基板11aと、素子基板11aに対向して配置された対向基板12と、素子基板11aと対向基板12との間に挟持された液晶層13を備えている。素子基板11aは、素子としての薄膜トランジスターTFT112が形成された基板としての透明基板119と、色材層122122R,122G,122Bと、電極層としての画素電極113と、画素電極113および色材層122に対する屈折率が調整された調整層124とを備えている。すなわち、本実施形態にかかる液晶表示装置1aは、アレイ基板110上に色材層122が形成された素子基板11aを有し、いわゆるCOA構造ColorFilteronArrayを有するものである。さらに、透明基板119上に色材層122が形成され、色材層122上に調整層124が形成され、調整層124上に画素電極113が形成され、調整層124の屈折率が、色材層122の屈折率よりも高く、かつ、電極層113の屈折率よりも低く設定されている。透明基板119は、ガラスや石英、プラスチック等からなる透明性を有した基板である。そして、透明基板119上に素子層111が形成されている。素子層111には、素子としての薄膜トランジスターTFT112や、図1aに示した走査線10a、データ線10b等の各種配線や素子等が含まれている。なお、TFT112や各種配線は、光が遮光される遮光領域Dに対応する部分に設けることが好ましい。素子層111上には、遮光領域Dと重なる部分に隔壁121が設けられている。隔壁121には、画素領域Pr,Pg,Pbと重なる部分に開口が設けられている。すなわち、隔壁121は、画素領域Pr、Pg、Pbの各々を環状に囲んでいる。隔壁121は、例えば、黒色顔料等の遮光材料を含有したアクリル樹脂等からなり、ブラックマトリクスとして機能する。そして、画素領域Pr,Pg,Pbと重なる部分に、色材層122R,122G,122Bが区画配置されている。色材層122R,122G,122Bは、隔壁121に設けられた複数の開口内の各々に配置されており、隔壁121によって仕切られている。色材層122R,122G,122Bは、それぞれ赤色光、緑色光、青色光を透過させ、その他の波長帯域の色光を吸収する特性を有している。色材層122R,122G,122B上には、調整層124が設けられている。調整層124は、透光性を有する樹脂材料等からなる。調整層124上には、画素電極113が形成されている。各画素電極113は、コンタクトホール200を介してTFT112と1対1の関係で電気的に接続されている。TFT112は、走査信号に基づいて画像信号をスイッチングし、画像信号が画素電極113に所定のタイミングで供給される。画素電極113と液晶層13との間には、第1配向膜115が設けられている。第1配向膜115は、例えばポリイミド等からなる膜にラビング処理等の配向処理を施したものであり、後述する第2配向膜126とともに液晶層13の配向状態を制御する。ここでは、液晶層13をネマティックツイスト配向TN配向させるように、第1配向膜115および第2配向膜126に配向処理がなされている。ここで、素子基板11aは、色材層122と調整層124と画素電極113との積層構造を有している。そして、色材層122と画素電極113との間に形成された調整層124の屈折率が、色材層122の屈折率よりも高く、かつ、画素電極113の屈折率よりも低くなっている。例えば、色材層122の屈折率は約1.5、画素電極113の屈折率は約1.9に設定され、調整層124の屈折率は約1.7に設定されている。すなわち、調整層124の屈折率が、色材層122の屈折率と画素電極113の屈折率の間になるように調整されている。このように、色材層122と画素電極113との間に、中間屈折率を有する調整層124を形成することにより、色材層122と調整層124と画素電極113に光を透過させた場合に、各層の界面における光の反射が低減され、光の透過率を高めることができる。また、本実施形態では、色材層122と調整層124との接触面123が、色材層122側に向けて凸形状を成している。これにより、例えば、色材層122側から画素電極113側に向けて光が照射された場合において、効率よく集光させ、コントラストを向上させることができる。さらに、本実施形態では、複数の色材層122のうち、相対的に透過光波長が長い色材層122に対応する接触面123の曲率が、相対的に透過光波長が短い色材層122に対応する接触面123の曲率よりも大きくなるように形成されている。換言すれば、相対的に透過光波長が長い色材層122に対応する接触面123の曲がりの度合いが、相対的に透過光波長が短い色材層122に対応する接触面123の曲がりの度合いよりも大きい。具体的には、複数の色材層122R,122G,122Bのうち、赤色光を透過させる色材層122Rが、最も透過光波長が長く、次いで、緑色光を透過させる色材層122Gが長く、青色光を透過させる色材層122Bが最も透過光波長が短い。従って、透過光波長が長い色材層122Rに対応する接触面123aの曲率が、透過光波長の短い色材層122G,122Bに対応する接触面123b,123cの曲率よりも大きくなるように形成されている。すなわち、色材層122Bに対応する接触面123c、色材層122Gに対応する接触面123b、色材層122Rに対応する接触面123aの順に段々に曲率が大きくなるように形成されている。これにより、透過光波長が長い色材層122Rを透過する光が、他の色材層122G,122Bを透過する光よりも大きく屈折される。一方、透過光波長が短い色材層122Bを透過する光の屈折を小さくさせ、焦点距離を長くさせることができる。そして、各色材層122R,122G,122Bを透過して集光される距離が、素子基板11aから等しくなるように各接触面123a,123b,123cの曲率が形成されている。なお、各色材層122R,122G,122Bに対応する接触面123a,123b,123cの曲率の設定方法は、特に限定されないが、例えば、色材層122Gに対応する接触面123bの曲率を基準として、接触面123aの曲率は、接触面123bの曲率よりも大きく、接触面123cの曲率は、接触面123bの曲率よりも小さくなるように形成することができる。対向基板12は、透明基板120を有している。透明基板120は、ガラスや石英、プラスチック等からなる透明性を有した基板である。透明基板120の素子基板11aに対向する面には共通電極125が設けられている。そして、共通電極125上に第2配向膜126が設けられている。また、透明基板120の共通電極125が形成された面とは反対側の面には第2偏光板偏光層127が形成されている。第2偏光板127は、直線偏光を通す特性を有している。ここでは、第2偏光板127の透過軸が、第1偏光板116の透過軸に対して略90°の角度をなしている。共通電極125、第2配向膜126および第2偏光板127は、いずれも画素領域Pr,Pg,Pbに対応して通して全面に設けられている。液晶層13は、複屈折性を有する液晶材料からなる。本実施形態では、液晶層13の配向状態がTN配向になっており、液晶層13は電界非印加状態で複屈折性を発現するようになっている。液晶層13に電界が印加されると、液晶分子のディレクター方向が電界方向と略平行になり、液晶層13は複屈折性を発現しなくなる。次に、本実施形態の液晶表示装置1aの集光状態について説明する。図2に示すように、液晶表示装置1aにおいて、素子基板11a側から対向基板12側に照射された照射光は、第1偏光板116を通って直線偏光になり、アレイ基板110を透過して色材層122に入射する。ここで、画素領域Prに着目すると、色材層122Rに入射した光は、赤色光以外の波長帯域の光が吸収され、色材層122Rから赤色光が射出される。色材層122Rから射出された赤色光は、色材層122Rと調整層124と接触面123aで屈折し、調整層124を透過した光は、画素電極113に入射され、調整層124と画素電極113との界面において屈折し、液晶層13に入射する。ここで、画素電極113に画像信号が供給されていない状態では、液晶層13は電界非印加状態になっており複屈折性を発現している。電界非印加状態の液晶層13に入射した光は、位相変調されて第1直線偏光から90°回転した第2直線偏光になり、対向基板12に入射し、振動方向が第2偏光板127の透過軸と略一致しており、第2偏光板127を透過して、画素領域Prが明表示赤となり、第2偏光板127を透過した光は、集光点CP1において集光される。画素領域Pg,Pbの集光状態についても、上記画素領域Prと同様であるが、接触面123a,123b,123cにおいて、接触面123aの曲率が他の接触面123b,123cの曲率よりも大きく設定され、次いで、接触面123bの曲率が大きく設定されている。このため、透過光波長の長い色材層122Rを透過する光は、相対的に大きく屈折され、透過光波長の短い色材層122Bを透過する光は、相対的に屈折が抑えられる。このため、透過光波長が異なる場合であっても、例えば、素子基板11aから各色材層122R,122G,122Bを透過した光の集光点CP1~CP3までの距離をほぼ等しくさせることができる。また、画素電極113に画像信号が供給された状態では、液晶層13が電界印加状態となり複屈折性を発現しなくなる。第1偏光板116を通って電界印加状態の液晶層13に入射した直線偏光は、振動方向が第2偏光板127の吸収軸と略一致しており、第2偏光板127に吸収される。これにより、画素領域Prが暗表示黒になる。画素領域Pg,Pbについても、上記画素領域Prと同様である。素子基板の製造方法次に、素子基板の製造方法について説明する。なお、素子基板の製造において、機能液を液滴として吐出してパターンを形成する液滴吐出装置を用いるため、素子基板の製造方法の説明に先立ち、まず、液滴吐出装置について説明する。図3は、液滴吐出装置の構成を示す斜視図である。液滴吐出装置IJは、液滴吐出ヘッド1001と、X軸方向駆動軸1004と、Y軸方向ガイド軸1005と、制御装置CONTと、ステージ1007と、クリーニング機構1008と、基台1009と、ヒーター1015を備えている。ステージ1007は、機能液が塗布されるワークWを支持するものであって、ワークWを基準位置に固定する図示は省略の固定機構を備えている。液滴吐出ヘッド1001は、複数の吐出ノズルを備えたマルチノズルタイプの液滴吐出ヘッドであり、長手方向とX軸方向とを一致させている。複数の吐出ノズルは、液滴吐出ヘッド1001の下面に一定間隔で設けられている。そして、液滴吐出ヘッド1001の吐出ノズルからステージ1007に支持されているワークWに向けて、機能液が液滴として吐出され、ワークW上に機能液を塗布するように構成されている。X軸方向駆動軸1004には、X軸方向駆動モーター1002が接続されている。このX軸方向駆動モーター1002は、ステッピングモーター等からなるもので、制御装置CONTからX軸方向の駆動信号が供給されると、X軸方向駆動軸1004を回転させる。X軸方向駆動軸1004が回転すると、液滴吐出ヘッド1001はX軸方向に移動する。Y軸方向ガイド軸1005は、基台1009に対して動かないように固定されている。ステージ1007は、Y軸方向駆動モーター1003を備えている。Y軸方向駆動モーター1003はステッピングモーター等であり、制御装置CONTからY軸方向の駆動信号が供給されると、ステージ1007をY軸方向に移動する。制御装置CONTは、液滴吐出ヘッド1001に液滴の吐出制御用の電圧を供給する。また、X軸方向駆動モーター1002に液滴吐出ヘッド1001のX軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を、Y軸方向駆動モーター1003にステージ1007のY軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を供給する。クリーニング機構1008は、液滴吐出ヘッド1001をクリーニングするものである。クリーニング機構1008には、図示は省略のY軸方向の駆動モーターが備えられている。このY軸方向の駆動モーターの駆動により、クリーニング機構は、Y軸方向ガイド軸1005に沿って移動する。クリーニング機構1008の移動も制御装置CONTにより制御される。ヒーター1015は、ここではランプアニールによりワークWを熱処理する手段であり、ワークW上に配置された機能液に含まれる溶媒の蒸発及び乾燥を行う。このヒーター1015の電源の投入及び遮断も制御装置CONTにより制御される。液滴吐出装置IJは、液滴吐出ヘッド1001とワークWを支持するステージ1007とを相対的に走査しつつ、ワークWに対して、液滴吐出ヘッド1001の下面にX軸方向に配列された複数の吐出ノズルから液滴を吐出するようになっている。図4は、ピエゾ方式による機能液の吐出原理を説明する図である。図4において、機能液を収容する液体室1021に隣接してピエゾ素子1022が設置されている。液体室1021には、機能液を収容する材料タンクを含む液体材料供給系1023を介して機能液が供給される。ピエゾ素子1022は駆動回路1024に接続されており、この駆動回路1024を介してピエゾ素子1022に電圧を印加し、ピエゾ素子1022を変形させることにより、液体室1021が変形し、吐出ノズル1025から機能液が液滴Sとして吐出される。この場合、印加電圧の値を変化させることにより、ピエゾ素子1022の歪み量が制御される。また、印加電圧の周波数を変化させることにより、ピエゾ素子1022の歪み速度が制御される。ピエゾ方式による液滴吐出は材料に熱を加えないため、材料の組成に影響を与えにくいという利点を有する。素子基板の製造方法の説明に戻り、図を参照しながら説明する。図5及び図6は、素子基板の製造方法を示す工程図である。本実施形態の素子基板の製造方法は、素子が形成された基板上に色材層を形成する色材層形成工程と、色材層上に、色材層の屈折率よりも高い屈折率を有する調整層を形成する調整層形成工程と、調整層上に、調整層の屈折率よりも高い屈折率を有する電極層を形成する電極層形成工程と、を含むものである。まず、図5aに示すように、アレイ基板110上に隔壁121を形成する。具体的には、例えばアレイ基板110上に樹脂材料を成膜し、この膜において画素領域Pr,Pg,Pbと重なる部分を開口して、隔壁121を形成する。次いで、色材層形成工程では、図5bに示すように、液滴吐出装置IJの液滴吐出ヘッド1001から隔壁121によって区画された領域に向けて各色材層122R,122G,122Bの材料を含む機能液を液滴S1として吐出させ、隔壁121に囲まれる部分に、機能液122R’,122G’,122B’を付着させる。この際、色材層122R,122G,122Bの曲率が異なるように、例えば、液滴の吐出の前に、各色材層122R,122G,122Bに対応する隔壁121によって区画された領域に表面処理を施す。具体的には、色材層122Rに対応する区画領域において、特に、隔壁121の側面部区画領域内における隔壁121の表面に強親液力を有する表面処理を施す。一方、色材層122Gに対応する区画領域、色材層122Bに対応する区画領域の順に親液力を弱めた表面処理を施す。これにより、例えば、親液力の強い色材層122Rに対応する区画領域に塗布された機能液は、隔壁121の面に塗れ広がるはい上がる。一方、親液性の弱い色材層122Bに対応する区画領域に塗布された機能液は、色材層122Rに対応する区画領域に塗布された機能液に比べ、隔壁121の面に塗れ広がらないはい上がりが少ない。その後、付着された機能液122r’,122g’,122b’を乾燥焼成等して固化することにより、図5cに示すように、色材層122R,122G,122Bが形成される。固化された色材層122R,122G,122Bの表面部は、アレイ基板110側に凹形状の曲面を成し、当該曲面の曲率は、色材層122B、色材層122G、色材層122Rの順に曲率が大きくなるように形成される。次いで、調整層形成工程では、図6dに示すように、液滴吐出装置IJの液滴吐出ヘッド1001から各色材層122R,122G,122Bに向けて調整層としての調整層124の材料を含む機能液を液滴S2として吐出させ、各色材層122R,122G,122B上に機能液124’を塗布させる。そして、塗布された機能液124’を乾燥焼成等して固化させる。これにより、図6eに示すように、各色材層122R,122G,122B上に調整層124が形成される。なお、調整層124の屈折率が、色材層122の屈折率よりも高く、かつ、画素電極113の屈折率よりも低くなるように材料選定される。次いで、各色材層122上に画素電極113を形成する。この際、画素電極113の屈折率が、調整層124の屈折率よりも高くなるように材料選定される。なお、画素電極113の形成は、例えば、フォトリソグラフィ法やインクジェット法等を用いることができる。フォトリソグラフィ法を用いる場合には、図7aに示すように、調整層124を形成した後に、コンタクトホール200を形成し、その後、画素電極113を成膜すればよい。また、インクジェット法を用いる場合には、図7bに示すように、隔壁121の形成時において、隔壁121aと隔壁121bとの間にコンタクトホール200を形成しておき、画素電極113の材料を含む機能液を液滴として、調整層124とコンタクトホール200に向けて吐出する。そして、塗布した機能液を固化すればよい。次いで、画素電極113および隔壁121上に第1配向膜115を形成する。これにより、第1偏光板116を除いた素子基板11aが形成される。さらに、液晶表示装置1aの製造方法としては、上記素子基板11aの形成と別に、対向基板12を形成する。具体的には、透明基板120上に共通電極125を形成し、共通電極125上に第2配向膜126を形成する。次いで、素子基板11aの画素電極113と対向基板12の共通電極125とを対向配置させる。そして、素子基板11aと対向基板12とを位置合わせしつつ、素子基板11aの周縁部と対向基板12の周縁部とを貼り合せるとともに、素子基板11aと対向基板12との間に液晶材料を封入して液晶層13を形成する。また、透明基板119の外側に第1偏光板116を貼設し、透明基板120の外側に第2偏光板127を貼設することにより液晶表示装置1aが形成される図2参照。電子機器の構成次に、電子機器の構成について説明する。なお、本実施形態では、電子機器としてのモバイル型パーソナルコンピューターの構成について説明する。図8は、電子機器としてのモバイル型パーソナルコンピューターの構成を示す斜視図である。モバイル型パーソナルコンピューター1100は、液晶表示装置1aと、キーボード1102を有する本体部1103等を備えている。なお、上記の電子機器は、本発明の電子機器を例示するものであって、本発明の技術範囲を限定するものではない。例えば、液晶表示装置1aは、他の電子機器として、携帯電話、携帯用オーディオ機器、PDAPersonalDigitalAssistantなどにも適用することができる。従って、上記実施形態によれば、以下に示す効果がある。1色材層122と画素電極113との間に、色材層122の屈折率と画素電極113の屈折率の間の屈折率を有する調整層124を設けた。これにより、各層間の屈折率の差が小さくなり、光が透過した場合に、各層の界面における光の反射が低減されるので、透過率を向上させることができる。2複数の色材層122R,122G,122Bのうち、透過光波長が長い色材層122Rに対応する接触面123aの曲率が、他の透過光波長の短い色材層122G,122Bに対応する接触面123b,123cの曲率よりも大きくなるように形成した。具体的には、色材層122B、色材層122G、色材層122Rの順にそれぞれの色材層122B,122G,122Rに対応する接触面123の曲率を大きくした。これにより、透過光波長が長い色材層122Rを透過した光の焦点距離を短くさせ、透過光波長の短い色材層122Bを透過した光の焦点距離を長くさせることが可能となり、例えば、液晶表示装置1aの表示面から各色材層122R,122G,122Bを透過した光の各集光点CP1~CP3の高さ距離を揃えることができる。これにより、色バランスを向上させることができる。[第2実施形態]次に、第2実施形態について説明する。なお、液晶表示装置の基本的な構成、電子機器の構成については第1実施形態と同様なので説明を省略する図1,8参照。また、第1実施形態と同様な部材については、第1実施形態と同じ符号を付している。図9は、本実施形態にかかる液晶表示装置の要部断面図である。図9に示すように、液晶表示装置1bは、素子基板11bと、素子基板11bに対向配置された対向基板12と、素子基板11bと対向基板12との間に挟持された液晶層13を備えている。なお、対向基板12の構成および液晶層13等の構成は、第1実施形態と同様なので説明を省略し、第1実施形態の構成と異なる部分、すなわち、素子基板11bの構成について主に説明する。素子基板11bは、素子としての薄膜トランジスターTFT112が形成された基板としての透明基板119と、色材層122122R,122G,122Bと、電極層としての画素電極113と、画素電極113および色材層122に対する屈折率が調整された調整層124とを備えている。すなわち、本実施形態にかかる液晶表示装置1bは、アレイ基板110上に色材層122が形成された素子基板11bを有し、いわゆるCOA構造ColorFilteronArrayを有するものである。さらに、透明基板119上に色材層122が形成され、色材層122上に調整層124が形成され、調整層124上に画素電極113が形成され、調整層124の屈折率が、色材層122の屈折率よりも高く、かつ、電極層113の屈折率よりも低く設定されている。透明基板119は、ガラスや石英、プラスチック等からなる透明性を有した基板である。そして、透明基板119上に素子層111が形成されている。素子層111には、素子としての薄膜トランジスターTFT112や、図1aに示した走査線10a、データ線10b等の各種配線や素子等が含まれている。なお、TFT112や各種配線は、光が遮光される遮光領域Dに対応する部分に設けることが好ましい。素子層111上には、遮光領域Dと重なる部分に隔壁121が設けられている。隔壁121には、画素領域Pr,Pg,Pbと重なる部分に開口が設けられている。すなわち、隔壁121は、画素領域Pr、Pg、Pbの各々を環状に囲んでいる。隔壁121は、例えば、黒色顔料等の遮光材料を含有したアクリル樹脂等からなり、ブラックマトリクスとして機能する。そして、画素領域Pr,Pg,Pbと重なる部分に、色材層122R,122G,122Bが区画配置されている。色材層122R,122G,122Bは、隔壁121に設けられた複数の開口内の各々に配置されており、隔壁121によって仕切られている。色材層122R,122G,122Bは、それぞれ赤色光、緑色光、青色光を透過させ、その他の波長帯域の色光を吸収する特性を有している。色材層122R,122G,122B上には、調整層124が設けられている。調整層124は、透光性を有する樹脂材料等からなる。調整層124上には、画素電極113が形成されている。各画素電極113は、コンタクトホール200を介してTFT112と1対1の関係で電気的に接続されている。TFT112は、走査信号に基づいて画像信号をスイッチングし、画像信号が画素電極113に所定のタイミングで供給される。画素電極113と液晶層13との間には、第1配向膜115が設けられている。第1配向膜115は、例えばポリイミド等からなる膜にラビング処理等の配向処理を施したものであり、後述する第2配向膜126とともに液晶層13の配向状態を制御する。ここでは、液晶層13をネマティックツイスト配向TN配向させるように、第1配向膜115および第2配向膜126に配向処理がなされている。ここで、素子基板11bは、色材層122と調整層124と画素電極113との積層構造を有している。そして、色材層122と画素電極113との間に形成された調整層124の屈折率が、色材層122の屈折率よりも高く、かつ、画素電極113の屈折率よりも低くなっている。すなわち、調整層124の屈折率が、色材層122の屈折率と画素電極113の屈折率の間になるように調整されている。このように、色材層122と画素電極113との間に、中間屈折率を有する調整層124を形成することにより、色材層122と調整層124と画素電極113に光を透過させた場合に、各層の界面における光の反射が低減され、光の透過率を高めることができる。本実施形態では、色材層122と調整層124との接触面123が、色材層122側に向けて凸形状を成している。これにより、例えば、色材層122側から画素電極113側に向けて光が照射された場合において、効率よく集光させ、コントラストを向上させることができる。なお、図9に示すように、素子基板11bでは、各色材層122R,122G,122Bに対応する各接触面123の曲率が、ほぼ同一である。そして、複数の色材層122のうち、透過光波長が長い色材層122と調整層124との屈折率の差が、透過光波長が短い色材層122と調整層124との屈折率との差よりも大きくなるように構成されている。なお、画素電極113の屈折率は1.9に設定され、調整層124の屈折率は1.7に設定され、色材層122の屈折率は1.7より小さくなるように設定されている。そして、色材層122の屈折率は1.7よりも小さくなるように設定され、複数の色材層122R,122G,122Bのうち、相対的に透過光波長が長い色材層122Rの屈折率が、相対的に透過光波長が短い色材層122G,122Bの屈折率よりも低い材料で形成されている。これにより、色材層122Rと調整層124との屈折率の差を大きくすることができる。具体的には、複数の色材層122R,122G,122Bのうち、赤色光を透過させる色材層122Rが、最も透過光波長が長く、次いで、緑色光を透過させる色材層122Gが長く、青色光を透過させる色材層122Bが最も透過光波長が短い。従って、透過光波長が長い色材層122Rの屈折率が、透過光波長の短い色材層122G,122Bの屈折率よりも低い材料で形成されている。すなわち、色材層122B、色材層122G、色材層122Rの順に段々に屈折率が小さい材料で形成される。これにより、透過光波長が長い色材層122Rを透過する光が、他の色材層122G,122Bを透過する光よりも大きく屈折される。一方、透過光波長が短い色材層122Bを透過する光の屈折を小さくさせ、焦点距離を長くさせることができる。そして、各色材層122R,122G,122Bを透過して集光される距離が、素子基板11bから等しくなるように各色材層122R,122G,122Bの屈折率が調整されている。次に、本実施形態の液晶表示装置1bの集光状態について説明する。図9に示すように、液晶表示装置1bにおいて、素子基板11b側から対向基板12側に照射された照射光は、第1偏光板116を通って直線偏光になり、アレイ基板110を透過して色材層122に入射する。ここで、画素領域Prに着目すると、色材層122Rに入射した光は、赤色光以外の波長帯域の光が吸収され、色材層122Rから赤色光が射出される。色材層122Rから射出された赤色光は、色材層122Rと調整層124との接触面123で屈折し、調整層124を透過した光は、画素電極113に入射され、調整層124と画素電極113との界面において屈折し、液晶層13に入射する。ここで、画素電極113に画像信号が供給されていない状態では、液晶層13は電界非印加状態になっており複屈折性を発現している。電界非印加状態の液晶層13に入射した光は、位相変調されて第1直線偏光から90°回転した第2直線偏光になり、対向基板12に入射し、振動方向が第2偏光板127の透過軸と略一致しており、第2偏光板127を透過して、画素領域Prが明表示赤となり、第2偏光板127を透過した光は、集光点CP1において集光される。画素領域Pg,Pbの集光状態についても、上記画素領域Prと同様であるが、色材層122Bの屈折率が最も大きく設定され、次いで、色材層122Gの屈折率が大きく設定され、色材層122Rの屈折率が最も小さく設定されている。すなわち、色材層122Rと調整層124との屈折率の差が最も大きく、色材層122Bと調整層124との屈折率の差が最も小さい。このため、透過光波長の長い色材層122Rを透過する光は、相対的に大きく屈折され、透過光波長の短い色材層122Bを透過する光は、相対的に屈折が抑えられる。このため、透過光波長が異なる場合であっても、例えば、素子基板11bから各色材層122R,122G,122Bを透過した光の集光点CP1~CP3までの距離をほぼ等しくさせることができる。また、画素電極113に画像信号が供給された状態では、液晶層13が電界印加状態となり複屈折性を発現しなくなる。第1偏光板116を通って電界印加状態の液晶層13に入射した直線偏光は、振動方向が第2偏光板127の吸収軸と略一致しており、第2偏光板127に吸収される。これにより、画素領域Prが暗表示黒になる。画素領域Pg,Pbについても、上記画素領域Prと同様である。素子基板の製造方法次に、素子基板の製造方法について説明する。なお、素子基板の製造に用いる液滴吐出装置IJの構成については、第1実施形態と同様のため、説明を省略する。図10は、本実施形態にかかる素子基板の製造方法を示す工程図である。まず、アレイ基板110上に隔壁121を形成する。具体的には、図10aに示すように、例えば、アレイ基板110上に樹脂材料を成膜し、この膜において画素領域Pr,Pg,Pbと重なる部分を開口して、隔壁121を形成する。次いで、色材層形成工程では、図10bに示すように、液滴吐出装置IJの液滴吐出ヘッド1001から色材層122の材料を含む機能液を液滴S1として吐出させ、隔壁121に囲まれる部分に、機能液122R’,122G’,122B’を塗布する。ここで、各色材層122R,122G,122Bにおいて、それぞれ屈折率が異なる。そして、本実施形態では、機能液122B’,122G’,122R’の順に屈折率が高い材料を含む機能液を液滴として吐出する。但し、機能液122B’,122G’,122R’の屈折率は、調整層124の屈折率である1.7よりも小さくなるように設定される。そして、塗布された機能液122R’,123G’,123B’を乾燥焼成等して固化させる。これにより、図10cに示すように、それぞれの形状がほぼ同一となる色材層122R,122G,123Bが形成される。以降、色材層形成工程等を含む素子基板の製造方法は、第1実施形態と同様なので説明を省略する。そして、以上の工程を経ることにより、素子基板11bが形成される。従って、上記の第2実施形態によれば、以下に示す効果がある。複数の色材層122R,122G,122Bのうち、透過光波長が長い色材層122Rを、他の透過光波長の短い色材層122G,122Bよりも屈折率が低い材料で形成した。すなわち、色材層122Rと調整層124との屈折率の差が、最も大きく、次いで、色材層122Gと調整層124との屈折率の差が大きく、色材層122Bと調整層124との屈折率の差が最も小さい。これにより、透過光波長が長い色材層122Rを透過した光の焦点距離を短くさせ、透過光波長の短い色材層122Bを透過した光の焦点距離を長くさせることが可能となり、例えば、液晶表示装置1bの表示面から各色材層122R,122G,122Bを透過した光の各集光点CP1~CP3の高さを揃えることができる。これにより、色バランスを向上させることができる。なお、上記の実施形態に限定されるものではなく、以下のような変形例が挙げられる。変形例1上記実施形態における素子基板11a,11bの構造の他、図11に示す構成であってもよい。図11は、変形例にかかる素子基板の構成を示す要部断面図である。図11aに示すように、色材層122と調整層124との間に、各画素における素子基板11cと対向基板12との間の液晶層13のギャップを規定するギャップ層130を備えてもよい。この場合において、ギャップ層130の屈折率が、色材層122の屈折率よりも高く、かつ、調整層124の屈折率より低く設定される。或いは、ギャップ層130の屈折率が、色材層122の屈折率と同等に設定される。このようにすれば、コントラストを向上させることができるとともに、透過率を向上させることができる。図11bに示すように、素子基板11dは、壁部121によって区画された領域のアレイ基板110上に形成された調整層124と、調整層124上に形成された色材層122と、色材層122上に形成された画素電極113とを有する構成であってもよい。ここで、調整層124と色材層122との接触面123が、アレイ基板110側に向けて凸形状を有している。この場合において、調整層124の屈折率を色材層の122の屈折率よりも低くなるように設定する。このようにしても、上記同様の効果を得ることができる。また、図11cに示すように、素子基板11eは、壁部121によって区画された領域のアレイ基板110上に形成された調整層124と、調整層124上に形成されたギャップ層130と、ギャップ層130上に形成された色材層122と、色材層122上に形成された画素電極113とを有する構成であってもよい。このようにしても、上記同様の効果を得ることができる。変形例2上記実施形態では、色材層122と画素電極113との間に調整層124を一層設けたが、これに限定されず、色材層122と画素電極113との間に調整層124を複数設けてもよい。この場合、各調整層124における屈折率を異ならせ、例えば、色材層122から画素電極113に向けて、徐々に屈折率が高くなるように配置する。このようにすれば、各層間における屈折率差が、さらに小さくなるので、より光反射を低減させ、透過率を向上させることができる。変形例3上記実施形態では、色材層122毎に対応した接触面123の曲率を調整して、焦点距離を均一化したが、これに限定されない。曲率とともに、各部材間の屈折率差の両方で調整してもよい。このようにしても、上記同様に各色材層122R,122G,122Bを透過した光の集光点CP1~CP3の高さを揃えることができる。変形例4上記実施形態では、3種類の色材層122R,122G、122Bを例に挙げて説明したが、これに限定されない。例えば、色材層122が、1または2種類であってもよいし、4種類以上あってもよい。このような場合であっても、上記同様の効果を得ることができる。変形例5上記実施形態および変形例にかかる素子基板11a~11eの構成を任意に組み合わせて液晶表示装置1a,1b等に適用してもよい。このようにすれば、設計の自由度を高めることができる。変形例6上記実施形態において説明した液晶層13は、VA配向等のTN配向以外の配向のものであってもよいし、横電界により駆動されるものでもよい。液晶層の配向性や駆動方法を変更する場合には、電極配置や配向膜の特性、偏光板の特性等も適宜変更すればよい。また、透過型の液晶装置の他にも、反射型、あるいは半透過半反射型の液晶表示装置としてもよい。このようにしても、上記同様の効果を得ることができる。"