"基板上に形成された情報記録層を、光透過性を有するカバー層で覆ってなる光ディスクであって、前記カバー層の屈折率nに関する関数fnと、前記カバー層における収差の許容値に基づいて設定される定数t1及びt2とを用いて、前記カバー層の厚さtがfn-t1≦t≦fnt2の範囲に設定されることを特徴とする光ディスク。基板上に形成された情報記録層を、光透過性を有するカバー層で覆い、前記カバー層の屈折率nに関する関数fnと、前記カバー層における収差の許容値に基づいて設定される定数t1及びt2とを用いて、前記カバー層の厚さtがfn-t1≦t≦fnt2の範囲に設定された光ディスクに対して、前記カバー層における球面収差を補正する補正手段を備えたことを特徴とする光ディスクの記録再生装置。例えば次世代光ディスク等において有効な光透過層の厚さ及び光透過層の屈折率の範囲を規定し、高密度記録に適した極めて良好な光ディスクとその記録再生装置を提供することを目的とする。実施の形態によれば、光ディスクは、基板上に形成された情報記録層を、光透過性を有するカバー層で覆ったものを対象としている。そして、カバー層の屈折率nに関する関数fnと、カバー層における収差の許容値に基づいて設定される定数t1及びt2とを用いて、カバー層の厚さtがfn-t1≦t≦fnt2の範囲に設定されるようにしたものである。以下、第1の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。図1は、この第1の実施の形態で説明する光ディスク11の構造を断面で示したものである。この光ディスク11は、例えばポリカーボネート等からなる基板12上に、例えば相変化記録膜を含む情報記録層13が形成されている。なお、この光ディスク11が再生専用ディスクである場合には、相変化記録膜の代わりに金属反射膜による情報記録層13が形成される。そして、この情報記録層13の上に厚さtのカバー層光透過層14が形成されている。このカバー層14は、例えばプラスチック材料からなる厚さtのシートであり、これが基板12上に形成された情報記録層13の上に粘着剤や紫外線硬化樹脂等を介して接着されている。次に、図2は、この光ディスク11に対して記録再生を行なう光ディスク装置を示している。この光ディスク装置は、その光源に短波長の半導体レーザ光源20を用いている。この半導体レーザ光源20からの出射光100の波長は、例えば395nm~415nmの範囲の紫色波長帯のものである。この半導体レーザ光源20からの出射光100は、コリメートレンズ21により平行光に変換され、偏光ビームスプリッタ22及びλ/4板23を順次透過した後、リレーレンズ系24を透過し、対物レンズ25に入射する。これにより、光ディスク11のカバー層14を透過し、情報記録層13に集束される。そして、光ディスク11の情報記録層13による反射光101は、再び光ディスク11のカバー層14を透過し、対物レンズ25、リレーレンズ系24、λ/4板23を透過し、偏光ビームスプリッタ22で略直角に反射された後、光検出系26を透過して光検出器27に入射される。この光検出器27は、その受光部が複数の領域に分割されており、それぞれの受光領域から光強度に応じた電流を出力する。この光検出器27の各受光領域から出力された電流は、図示しないI/V増幅器により電圧に変換された後、演算回路30に供給される。この演算回路30は、光検出器27の各受光領域にそれぞれ対応する電圧信号を演算処理することにより、HFHighFrequency信号、フォーカス誤差信号及びトラッキング誤差信号、上記リレーレンズ系24の制御信号等を生成している。このうち、フォーカス誤差信号及びトラッキング誤差信号は、サーボドライバ31を介して駆動部29に供給されることにより、対物レンズ25のフォーカス方向及びトラッキング方向の制御に供される。また、上記リレーレンズ系24は、ボトムレンズ24aとトップレンズ24bとから構成されている。そして、トップレンズ24bは、演算回路31からのリレーレンズ系24の制御信号が、サーボドライバ31を介して駆動部28に供給されることにより、光軸方向に制御される。このリレーレンズ系24は、カバー層14の厚さが規定値例えば100μmのときには、レーザ光が対物レンズ25にほぼ平行光として入射するように設計されている。ところが、カバー層14の厚さが規定値からずれている場合には、カバー層14の厚み誤差に起因する球面収差が生じる。このとき、光ディスク11の情報記録層13上に集束されるビームスポットの形状が歪むため、安定かつ正確な記録再生が困難となる。一方、対物レンズ25への入射光を、収束光あるいは発散光にすることによって球面収差が生じる。また、リレーレンズ系24のトップレンズ24bを光軸方向に移動することにより、対物レンズ25への入射光を収束光あるいは発散光にすることができる。このため、リレーレンズ系24のトップレンズ24bを、カバー層14の厚み誤差量に応じて光軸方向に移動させ、対物レンズ25への入射光を収束光あるいは発散光にすることにより、カバー層14の厚み誤差により生じる球面収差を補正することができる。具体的には、カバー層14の厚みが規定値よりも厚い場合、カバー層14の厚み誤差量に応じて対物レンズ25への入射光が発散光になるように、リレーレンズ系24のトップレンズ24bを光軸方向に移動させる。また、カバー層14の厚みが規定値よりも薄い場合、カバー層14の厚み誤差量に応じて対物レンズ25への入射光が収束光になるように、リレーレンズ系24のトップレンズ24bを光軸方向に移動させる。このように、次世代光ディスクに対して記録再生を行なう光ディスク装置においては、光ディスク11のカバー層14の規定値からの厚み誤差に伴なう球面収差を補正する手段を備えることが前提とされている。これは、従来の光ディスクシステムであるCDやDVDにおいては考慮されていなかったことであるため、次世代光ディスクを製造する上では従来の規定をそのまま適用することは誤った結果を生むこととなる。このため、この第1の実施の形態で説明する光ディスク11は、球面収差の補正手段を備えた光ディスク装置で記録再生されることを考慮した、カバー層14の厚さ誤差及び屈折率の範囲を有するものとしている。次世代光ディスクに対して記録再生を行なう光ディスク装置の仕様として、例えばレーザ光の波長が405nmで、対物レンズ25のNAが0.85を用いた場合を考える。そして、カバー層14の屈折率が1.622で、厚さが100μmなるレンズ負荷を有する光ディスク11に対して、対物レンズ25が、完全に収差の補正がなされた理想的なものであると仮定する。この対物レンズ25に対して、カバー層14の屈折率n及びカバー層14の厚さtが種々異なる光ディスク11を用いた場合に生ずる波面収差のrms値を求めた結果を、図3に示している。図3では、横軸にカバー層14の屈折率n、縦軸にカバー層14の厚さtをとり、座標平面上のそれぞれの点における収差のrms値を等高線表示している。等高線の刻みは、レーザ光の波長=405nmの100分の2である。図3において、◎で示した点は基準仕様、つまり、対物レンズ25の負荷仕様のポイントで、この点で収差は0となる。この結果により、カバー層14の屈折率n及び厚さtが種々異なる光ディスク11を用いた場合、残留収差量を一定とするためには、例えば屈折率nがレンズ負荷仕様値より大きくなる場合に、カバー層14の厚さtを仕様値よりやや増加させた方が良いことがわかる。したがって、次世代DVDにおける光ディスク11のカバー層14の規定として、カバー層14の厚さtの誤差許容範囲は、カバー層14の屈折率nに応じて絶対値として変化させるように規定することが必要となる。この第1の実施の形態で説明する光ディスク11のカバー層14の屈折率nと厚さtとの範囲は、図4に示すようになる。これは、の領域を示している。これは、図3に示した等高線図における収差が0.1λrms以下の範囲とほぼ一致しており、このような範囲の光ディスク11を規定することで、カバー層14の厚さtと屈折率nの仕様値からのずれによる収差を、ほぼ0.1λrms以下という条件に保つことができる。図3の波面収差量の等高線は縦軸方向にほぼ平行に並んでおり、その曲線は上式3に一定のオフセットを与えた形になっている。このため、収差の許容値が決まれば、カバー層14の厚さtと屈折率nの範囲を、上式1~3により定めることができる。このとき、収差の許容値に応じてt1,t2を変化させることで、カバー層14の厚さtの範囲を調整すれば良い。例えば、許容できる収差が0.04λrmsの場合には、上記式においてt1,t2=4μmとすることで適正な範囲を指定することができる図5参照。一方、屈折率nの範囲については、カバー層14の材質とレーザ光の波長によって決まるものであり、光ディスク11のカバー層14の材料として有効なものが含まれる範囲を規定することになる。この場合、1.47~1.67程度とすることで、ポリカーボネート等の光ディスク11のカバー層光透過層14として有効な材料の紫色波長帯での屈折率nをカバーすることができる。従来の光ディスク装置では、光ディスクの光透過層の厚さと屈折率誤差とによる収差は0.02~0.03λrmsが限度であった。このため、例えば収差の許容値を0.02λrmsとすれば、図3よりカバー層14の厚さtの誤差範囲はt1,t2=2μmとする必要があった。この場合、光ディスク11の製造上のマージンが非常に狭くなることが容易に想像される。しかしながら、次世代光ディスクでは、上述したように球面収差の補正手段を導入することが前提となる。このため、許容される収差量は、従来の光ディスク装置に比べて大きくとることができる。したがって、例えば上記のように許容収差量を0.1λrmsとすれば、t1,t2=10μmとなり、光ディスク11の製造上のマージンを大きくとることができ、歩留まりの向上が期待できることになる。一方、前述した公知例のように、カバー層の厚さ誤差を屈折率に関係なく一定とした仕様を考えると、これは上式3を定数カバー層厚さの仕様値とすることに相当する。この場合、例えばt1,t2=2μmとすると、図6に示されるような領域となる。図6からわかるように、このような領域は波面収差が一定値以下の領域と合っていない。上記した第1の実施の形態との比較としてt1,t2=10μmの場合を考えると、図7のような領域となる。この場合も、領域の境界で波面収差の値が大きく変化してしまい、例えばn=1.47、t=110μmのところでは、収差が0.12λrmsに達することとなる。このため、上記した第1の実施の形態でt1,t2=10μmとした場合に、全領域において、波面収差が0.10λrms以下に抑えられていたことを考えると、許容収差量を大きくする必要が生ずる。逆に言えば、ある一定の許容収差量に対して、従来例ではカバー層の厚さ誤差の許容範囲を狭めなくてはならなくなる。すなわち、ディスク製造上のマージンを縮小させることになるのである。また、第2の実施の形態について説明する。この第2の実施の形態で説明する光ディスク11のカバー層14の厚さtと屈折率nの範囲を、図8に示している。これは、図4で示した第1の実施の形態の光ディスク11の範囲とほぼ同様ではあるが、領域を曲線ではなく直線で囲んだ範囲としている。この場合、図8において、収差が0.10λrmsを示す曲線上から、複数図示の場合は3つの点をサンプルし、そのサンプル点を直線で結んで範囲を設定している。これによっても、第1の実施の形態の光ディスク11とほぼ同等の効果を得ることができる。さらに、第3の実施の形態について説明する。図9は、この第3の実施の形態で説明する光ディスク51の断面を示している。この光ディスク51は、例えばポリカーボネート等からなる基板52上に、例えば相変化記録膜を含む情報記録層53が形成される。そして、この情報記録層53の上には、透明性の中間層54が形成され、さらにその上に別の情報記録層55が形成されている。なお、情報記録層53,55は、共に金属反射膜による再生専用層でも良いし、共に記録再生可能層であっても良いし、一方が再生専用層で他方が記録再生可能層であっても良い。さらに、この情報記録層55の上にカバー層光透過層56が形成されている。このカバー層56は、例えばプラスチック材料からなるシートであり、これが情報記録層55の上に粘着剤や紫外線硬化樹脂を介して接着されている。上記の中間層54の役割は、一方の情報記録層53または55を再生している場合に、他方の情報記録層55または53からの情報の漏れ込みクロストークを光学的に遮断することである。その意味では、2層の情報記録層53,55の間隔はできるだけ離れていた方がよく、中間層54の厚さは厚い方がよいことになる。しかしながら、その場合には、記録再生する光学系に負担がかかることになる。すなわち、対物レンズ25の負荷として、カバー層56の表面から中間層54の中心までの厚さを規定した場合には、どちらの情報記録層53または55を記録再生する場合でも、中間層54の半分の厚さの厚み誤差による収差が発生するからである。したがって、記録再生光学系の収差という観点からは、中間層54の厚さは薄い方が良いことになる。つまり、中間層54の厚さは、情報記録層53,55間のクロストークと、記録再生光学系の収差におけるトレードオフ関係との妥協点に定められることになる。次世代光ディスクに対して記録再生を行なう光ディスク装置の仕様として、例えばレーザ光の波長を405nmとし、対物レンズ25のNAを0.85とした場合、上記のトレードオフを考えると、中間層54の厚さは20~30μm程度が適当である。2層タイプの光ディスク51の光透過層の厚さ規定としては、カバー層56の厚さの最小値と、カバー層56の厚さとカバー層56に隣接する情報記録層55の厚さと中間層54の厚さとの合計値の最大値と、で表わすのが良い。このときの光ディスク51の光透過層の厚さと屈折率との範囲は、図10に示すようになる。なお、これまでに説明した実施の形態と同様に、光ディスク51の光透過層の屈折率が1.622、厚さが100μmのレンズ負荷を仮定している。規定された領域は、屈折率が1.47≦n≦1.67で、カバー層56の厚さがfn-t1以上、カバー層56情報記録層55中間層54の厚さがfnt2以下の範囲であり、t1,t2=20μmである。なお、fnは式3の通りである。結果として、中間層54の厚さが入るため1層の場合と比べて厚さ方向の範囲は広くなる。さらに、第4の実施の形態について説明する。図11は、この第4の実施の形態で説明する光ディスク51のカバー層56の厚さと屈折率の範囲を示している。これは、図10で示した第3の実施の形態の光ディスク51の範囲とほぼ同様ではあるが、領域を曲線ではなく直線で囲んだ範囲としたものである。この場合も、収差が0.20λrmsを示す曲線上から、複数図示の場合は3つの点をサンプルし、そのサンプル点を直線で結んで範囲を設定している。これによっても、第3の実施の形態の光ディスク51とほぼ同等の効果を得ることができる。また、上記下第3及び第4の実施の形態では、2つの情報記録層53,55を持つ場合を示したが、2層以上の情報記録層を持つ光ディスクにも適用可能であることは言うまでもない。なお、この発明は上記した実施の形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を種々変形して具体化することができる。また、上記した実施の形態に開示されている複数の構成要素を適宜に組み合わせることにより、種々の発明を形成することができる。例えば、実施の形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除しても良いものである。さらに、異なる実施の形態に係る構成要素を適宜組み合わせても良いものである。"