以下の工程を少なくとも含んでなることを特徴とするMgまたはMg合金からなる基材の表面処理方法。工程1:MgまたはMg合金からなる基材の表面に陽極酸化被膜を形成する工程工程2:工程1において形成した陽極酸化被膜を250°C以上で加熱処理する工程工程3:工程2において加熱処理した陽極酸化被膜の表面に膜厚が20μm以上のAl蒸着被膜を0.1μm/分~0.5μm/分の成膜速度で形成する工程工程4:工程3において形成したAl蒸着被膜の表面に陽極酸化被膜を形成してからその表面を熱水処理する工程工程2における加熱処理を350°C以下で行うことを特徴とする請求項1記載の表面処理方法。工程3において形成するAl蒸着被膜の膜厚の上限を40μmとすることを特徴とする請求項1記載の表面処理方法。工程4において形成する陽極酸化被膜の熱水処理後の膜厚を0.1μm~10μmとすることを特徴とする請求項1記載の表面処理方法。請求項1記載の表面処理方法によって表面処理されてなることを特徴とする耐食性が付与されたMgまたはMg合金からなる基材。そこで本発明は、自動車部品のような使用環境が苛酷な用途においても優れた耐食性を発揮する、MgまたはMg合金からなる基材に対する表面処理方法を提供することを目的とする。本発明者らは、上記の点に鑑みて鋭意検討を重ねた結果、Mgの表面に陽極酸化被膜を形成した後、所定の温度で加熱処理してからその表面に所定の膜厚のAl蒸着被膜を所定の成膜速度で形成し、さらにAl蒸着被膜の表面に陽極酸化被膜を形成してからその表面を熱水処理することで、優れた耐食性を有するAl蒸着被膜が高い密着性をもってMgの表面に形成され、自動車部品のような使用環境が苛酷な用途においてもMgに対して優れた耐食性を付与できることを見出した。前述の通り、特許文献1にはMgの表面に陽極酸化被膜を形成した後、さらにその表面にAl蒸着被膜を形成することが記載されている。しかしながら、特許文献1における陽極酸化被膜の表面へのAl蒸着被膜の形成は、その表面に金属光沢の付与やデザイン性の高い彩色を施すためのZn被膜を置換反応によって形成することを目的としたものであり、また、その具体的な形成条件は記載されていない。上記の知見に基づいて完成された本発明のMgまたはMg合金からなる基材の表面処理方法は、請求項1記載の通り、以下の工程を少なくとも含んでなることを特徴とする。工程1:MgまたはMg合金からなる基材の表面に陽極酸化被膜を形成する工程工程2:工程1において形成した陽極酸化被膜を250°C以上で加熱処理する工程工程3:工程2において加熱処理した陽極酸化被膜の表面に膜厚が20μm以上のAl蒸着被膜を0.1μm/分~0.5μm/分の成膜速度で形成する工程工程4:工程3において形成したAl蒸着被膜の表面に陽極酸化被膜を形成してからその表面を熱水処理する工程また、請求項2記載の表面処理方法は、請求項1記載の表面処理方法において、工程2における加熱処理を350°C以下で行うことを特徴とする。また、請求項3記載の表面処理方法は、請求項1記載の表面処理方法において、工程3において形成するAl蒸着被膜の膜厚の上限を40μmとすることを特徴とする。また、請求項4記載の表面処理方法は、請求項1記載の表面処理方法において、工程4において形成する陽極酸化被膜の熱水処理後の膜厚を0.1μm~10μmとすることを特徴とする。また、本発明の耐食性が付与されたMgまたはMg合金からなる基材は、請求項5記載の通り、請求項1記載の表面処理方法によって表面処理されてなることを特徴とする。本発明によれば、自動車部品のような使用環境が苛酷な用途においても優れた耐食性を発揮する、MgまたはMg合金からなる基材に対する表面処理方法を提供することができる。本発明のMgまたはMg合金からなる基材の表面処理方法は、以下の工程を少なくとも含んでなることを特徴とする。工程1:MgまたはMg合金からなる基材の表面に陽極酸化被膜を形成する工程工程2:工程1において形成した陽極酸化被膜を250°C以上で加熱処理する工程工程3:工程2において加熱処理した陽極酸化被膜の表面に膜厚が20μm以上のAl蒸着被膜を0.1μm/分~0.5μm/分の成膜速度で形成する工程工程4:工程3において形成したAl蒸着被膜の表面に陽極酸化被膜を形成してからその表面を熱水処理する工程以下、各工程を、順を追って説明する。工程1:MgまたはMg合金からなる基材の表面に陽極酸化被膜を形成する工程この工程は、MgまたはMg合金からなる基材を陽極として電解液中で通電し、陽極酸化処理によって基材の表面に陽極酸化被膜を形成する工程である。電解液は、陽極酸化処理によってMgまたはMg合金からなる基材の表面に陽極酸化被膜を形成することができるものであれば特段制限されるものではなく、例えば市販のリン酸塩を含むリン酸系電解液など使用することができる。陽極酸化処理は、例えば交直重畳電解法により行うことができる。具体的な条件としては、例えば、電解液の温度を15°C~30°Cとし、交流周波数を10Hz~100Hzとして、200V~250Vの定電圧にて1分間~30分間の電解処理を行う条件が挙げられる。電解液の温度が15°C未満では所定の膜厚の陽極酸化被膜の形成に時間がかかりすぎる恐れがある一方、30°Cを超えると陽極酸化被膜が粗雑に成長することで脆くなってしまい、後の工程でその表面に高い密着性をもってAl蒸着被膜を形成することができない恐れがある。基材の表面に形成する陽極酸化被膜の膜厚は2μm~15μmが望ましい。膜厚が2μm未満では薄すぎて優れたアンカー効果を発揮する表面粗度が得られず、後の工程でその表面に高い密着性をもってAl蒸着被膜を形成することができない恐れがある一方、15μmを超えると陽極酸化被膜が粗雑に成長することで脆くなってしまい、後の工程でその表面に高い密着性をもってAl蒸着被膜を形成することができない恐れがある。工程2:工程1において形成した陽極酸化被膜を250°C以上で加熱処理する工程この工程は、工程1において形成した陽極酸化被膜の表面に高い密着性をもってAl蒸着被膜を形成するために陽極酸化被膜の表面の吸着水分を除去する工程である。加熱処理温度を250°C以上と規定するのは、250°C未満では加熱処理することの効果が得られない恐れがあるからである。なお、加熱処理温度の上限は例えば350°Cである。350°Cを超える温度で加熱処理すると陽極酸化被膜が劣化してしまう恐れがある。加熱処理条件は温度条件を除けば特段限定されるものではなく、例えば、後の工程で行うAl蒸着被膜の形成に利用する蒸着処理室内において、減圧下例えば1×10-4Pa~1×10-2Pa、所定の温度で20分間~1時間行えばよい。工程3:工程2において加熱処理した陽極酸化被膜の表面に膜厚が20μm以上のAl蒸着被膜を0.1μm/分~0.5μm/分の成膜速度で形成する工程この工程は、陽極酸化被膜の表面に緻密なAl蒸着被膜を高い密着性をもって形成する工程である。Al蒸着被膜の形成は、真空蒸着法やイオンプレーティング法などの自体公知の方法で、蒸着源に対してスパッタリング、抵抗加熱、電子銃加熱するなどして行うことができる。Al蒸着被膜の成膜速度を0.1μm/分~0.5μm/分と規定するのは、成膜速度が0.1μm/分未満では所定の膜厚のAl蒸着被膜の形成に時間がかかりすぎる恐れがある一方、0.5μm/分を超えるとAl蒸着被膜の緻密化が十分に進行しない恐れがあるからである。Al蒸着被膜の膜厚を20μm以上と規定するのは、20μm未満ではMgまたはMg合金からなる基材に対して優れた耐食性を付与することができない恐れがあるからである。なお、Al蒸着被膜の膜厚の上限は例えば40μmである。40μmを超える膜厚にしても効果の向上はさほど期待できず、時間や手間がかかるだけである。工程4:工程3において形成したAl蒸着被膜の表面に陽極酸化被膜を形成してからその表面を熱水処理する工程この工程は、陽極酸化被膜の表面に形成したAl蒸着被膜に優れた耐食性を発揮させるための工程である。Al蒸着被膜の表面に陽極酸化被膜を形成するための陽極酸化処理は、工程3によって得た表面にAl蒸着被膜を有するMgまたはMg合金からなる基材を陽極として電解液中で通電することによって行えばよい。電解液は、陽極酸化処理によってAl蒸着被膜の表面に陽極酸化被膜を形成することができるものであれば特段制限されるものではなく、例えば市販の硫酸塩を含む硫酸系電解液など使用することができる。陽極酸化処理は、例えば、電解液の温度を15°C~30°Cとし、0.1A/dm2~5A/dm2の電流密度を印加して1分間~30分間行えばよい。電解液の温度が15°C未満では所定の膜厚の陽極酸化被膜の形成に時間がかかりすぎる恐れがある一方、30°Cを超えると陽極酸化被膜が粗雑に成長することで脆くなってしまい、クラックや脱落が発生する恐れがある。陽極酸化処理によってAl蒸着被膜の表面に形成した陽極酸化被膜は、その表面を熱水処理して表面の封孔を行う。熱水処理は、例えば95°C以上の沸騰状態のイオン交換水を用いて30分間~90分間行えばよい。熱水処理時間が30分間未満では熱水処理による陽極酸化被膜の表面の封孔効果が得られない恐れがある一方、90分間を超えて熱水処理しても効果の向上はさほど期待できず、エネルギーを消費するだけの結果に終わる恐れがある。こうしてAl蒸着被膜の表面に形成した陽極酸化被膜の熱水処理後の膜厚は0.1μm~10μmが望ましい。膜厚が0.1μm未満ではMgまたはMg合金からなる基材に対してAl蒸着被膜に優れた耐食性を発揮させることができない恐れがある一方、10μmを超える膜厚にしても効果の向上はさほど期待できず、時間や手間がかかるだけである。本発明の表面処理方法は、Mgからなる基材に対してもMg合金からなる基材に対しても適用することができ、基材に対して優れた耐食性を付与することができる。従って、本発明の表面処理方法は、ノートパソコンの筐体のような従来からの使用環境が比較的穏やかな用途にはもちろんのこと、自動車部品のような使用環境が苛酷な用途にも利用することができる。なお、Mg合金としては、例えば、Mg-Al-Zn合金AZ91D合金、AZ31合金、AZ61合金など、Mg-Al-Mn合金AM60合金、AM120合金など、Mg-Al合金、Mg-Zn-Zr合金、Mg-希土類元素合金、Mg-Zn-希土類元素合金などが挙げられる。なお、本発明の表面処理方法によって耐食性が付与されたMgまたはMg合金からなる基材の表面に、さらに金属光沢の付与やデザイン性の高い彩色を施すことを可能にする金属被膜を形成したり、さらなる耐食性を付与するための耐食性被膜を形成したりしてもよい。以下、本発明を実施例によってさらに詳細に説明するが、本発明はこれに限定して解釈されるものではない。Mg合金からなる基材として、AZ31合金からなる50mm×50mm×2mm寸法の板を用いて以下の実験を行った以下基材と略称する。実験A:工程1基材に対して以下の3種類のいずれかの表面処理を行った。aサンドペーパーによる研磨処理:耐水研磨紙シリコンカーバイド、粒度:P1000、リファインテック社製を用いて全面研磨した後、エタノール中で5分間超音波洗浄してから自然乾燥させた。b化成処理:50°Cのリン酸カルシウム系化成処理液MZメイトプロセス、シミズ社製に基材を3分間浸漬して化成処理することで、基材の表面に膜厚が2.5μmの化成被膜を形成した後、水洗してから自然乾燥させた。c陽極酸化処理:リン酸系電解液マゴキシドコート、植田アルマイト工業社製の温度を20°Cとし、交流周波数を50Hzとして、240Vの定電圧にて5分間電解処理を行う条件での交直重畳電解法により、基材の表面に膜厚が6.2μmの陽極酸化被膜を形成した後、水洗してから自然乾燥させた。工程2工程1において表面処理を行った基材の表面にAl蒸着被膜を形成するため、基材を治具に固定し、蒸着槽内にセットした。槽内を3×10-3Paまで真空排気した後、Arガスを槽内の圧力が1.0Paになるよう供給した。その後、基材を固定した治具を水平中心軸線を中心に公転させながら、バイアス電圧-0.3kVの条件下、15分間グロー放電を行った。続いて、槽内の真空度が3×10-3Pa以下になるまで真空排気した後、表1に示す条件で基材を加熱処理した。工程3槽内の真空度を5×10-4Paまで真空排気した後、電子銃の駆動電力を成膜速度が0.2μm/分となるように設定し電圧値を10kVで一定として電流値を調整することによる、150分間の蒸着時間で基材の表面に膜厚が30μmのAl蒸着被膜を形成した。なお、成膜速度は水晶発振式成膜コントローラCRTM-7000、アルバック社製を用いて測定した。基材の表面に形成したAl蒸着被膜に対し、碁盤目テープ剥離試験JISD0202-1998に準拠を行った。Al蒸着被膜を1mm間隔にて10×10のマス目となるように碁盤目にカットした後、セロハンテープCT24、ニチバン社製にて剥離し、剥離しなかったマス目の数でAl蒸着被膜の密着性を判定した。結果を表1に示す。表1から明らかなように、基材の表面に高い密着性をもってAl蒸着被膜を形成するためには、工程1として陽極酸化処理を行い、工程2として250°C以上で加熱処理を行う必要があることがわかった。実験B:工程3実験AにおけるサンプルNo.6と同様にして、工程1として基材の表面を陽極酸化処理して膜厚が7.0μmの陽極酸化被膜を形成し、工程2として300°Cで加熱処理した後、表2に示す条件でAl蒸着被膜を形成した。工程4硫酸系電解液硫酸:15mass硫酸Al:5massの温度を15°Cとし、工程3によって得た表面にAl蒸着被膜を有する基材を陽極として1A/dm2の電流密度を印加して5分間陽極酸化処理することでAl蒸着被膜の表面に陽極酸化被膜を形成し、さらに沸騰状態のイオン交換水に30分間浸漬して陽極酸化被膜の表面を熱水処理した後、自然乾燥させた。Al蒸着被膜の表面に形成された陽極酸化被膜の熱水処理後の膜厚は0.2μmであった。こうして表面に陽極酸化被膜を形成してからその表面を熱水処理したAl蒸着被膜を有する基材に対し、300時間の塩水噴霧試験を行い、孔食および/または白錆溶出の面積を外観観察し、5以下の場合を合格とした。結果を表2に示す。なお、表2には、Al蒸着被膜の表面に陽極酸化被膜を形成してからその表面を熱水処理しなかった場合の結果をあわせて示す形成された陽極酸化被膜の膜厚:0.1μm。表2から明らかなように、Al蒸着被膜を形成する際の成膜速度を0.1μm/分~0.5μm/分とし、かつ、Al蒸着被膜の膜厚を20μm以上とし、さらにAl蒸着被膜の表面に陽極酸化被膜を形成してからその表面を熱水処理した場合、優れた耐食性を発揮した。この結果は、基材の表面に緻密なAl蒸着被膜が高い密着性をもって形成されたことに加え、Al蒸着被膜の表面の、表面を熱水処理した陽極酸化被膜が優れた耐食性を有する不働態被膜として機能したことに基づくと推察された。