"式Iで表されるカルボニル化合物を、式IIで表されるルテニウム化合物と塩基との存在下に水素化することを含む、式IIIa、式IIIb、式IIIcまたは式IIIdで表される光学活性アルコール化合物のいずれかを製造する方法。式I中、Rは無置換の若しくは置換基を有するC6~10アリール基、無置換の若しくは置換基を有する5~8員環ヘテロアリール基、または無置換の若しくは置換基を有するビニル基を示す。Hetは無置換の若しくは置換基を有する3~8員ヘテロ環を示す。は該炭素原子が不斉炭素であることを示す。式II中、XおよびYは、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、テトラヒドロホウ酸、ハロゲン原子、C1~20アルコキシ基、またはC1~20アシルオキシ基を示す。Pxは光学活性若しくはラセミ体のホスフィン配位子を示す。nはPxの数を示し且つ1または2である。Aは光学活性若しくはラセミ体のジアミン配位子を示す。ただし、PxとAとの両方がラセミ体であることはない。式IIIa、式IIIb、式IIIcおよび式IIId中、RおよびHetは式I中のそれらと同じ意味を示す。式I中の、Hetが5~7員ヘテロ環である、請求項1に記載の製造方法。式II中の、Aが、式IIa、式IIb、式IIc、式IIdまたは式IIeで表される配位子である、請求項1または2に記載の製造方法。R1CHNH2CH2NR2R3IIaR1CHNR2R3CH2NH2IIbH2NHR4C-B-CHR4NH2IIcR1CHNH2CR5R5NH2IIdR1CHNH2R1CHNH2IIe式IIa、式IIb、式IIc、式IIdおよび式IIe中、R1は、無置換の若しくは置換基を有するC1~20アルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC2~20アルケニル基、無置換の若しくは置換基を有するC3~8シクロアルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC7~20アラルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC6~10アリール基、または無置換の若しくは置換基を有する3~8員ヘテロ環基を示す。R2、R3およびR5は、それぞれ独立に、水素原子、無置換の若しくは置換基を有するC1~20アルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC2~20アルケニル基、無置換の若しくは置換基を有するC3~8シクロアルキル基、または無置換の若しくは置換基を有するC7~20アラルキル基を示す。R2とR3は結合して環を形成してもよい。ただし、R2とR3との両方が水素原子であることはない。R4は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有するC1~20アルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC2~20アルケニル基、無置換の若しくは置換基を有するC3~8シクロアルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC7~20アラルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC6~10アリール基、または無置換の若しくは置換基を有する3~8員ヘテロ環基を示す。Bは、無置換の若しくは置換基を有するエチレン基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロ環の2価基を示す。Bが複数の置換基を有するエチレン基の場合、当該複数の置換基同士が結合して環を形成してもよい。式II中、Pxが光学活性なホスフィン配位子である、請求項1~3いずれか1項に記載の製造方法。式II中、Pxが軸不斉を有する2座のホスフィン配位子である、請求項1~4いずれか1項に記載の製造方法。式II中、Aが光学活性なジアミン配位子である、請求項1~5のいずれか1項に記載の製造方法。本発明は、下記式Iで表わされるカルボニル化合物をジアステレオ選択的且つエナンチオ選択的に水素化することを含む光学活性アルコール化合物の製造方法を提供することが課題である。本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、下記式Iで表されるカルボニル化合物を、光学活性なルテニウム触媒を用いて速度論分割を伴う不斉水素化反応で還元することにより、ジアステレオ選択的かつエナンチオ選択的に光学活性アルコール化合物を製造できることを見出した。本発明は、この知見に基づいてさらに検討を重ねた結果、完成するに至ったものである。すなわち、本発明は、以下のものを含む。1式Iで表されるカルボニル化合物を、式IIで表されるルテニウム化合物と塩基との存在下に、水素化することを含む、式IIIa、式IIIb、式IIIcまたは式IIIdで表される光学活性アルコール化合物のいずれかを製造する方法。式I中、Rは無置換の若しくは置換基を有するC6~10アリール基、無置換の若しくは置換基を有する5~8員環ヘテロアリール基、または無置換の若しくは置換基を有するビニル基を示す。Hetは無置換の若しくは置換基を有する3~8員ヘテロ環を示す。は該炭素原子が不斉炭素であることを示す。式II中、XおよびYは、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、テトラヒドロホウ酸、ハロゲン原子、C1~20アルコキシ基、またはC1~20アシルオキシ基を示す。Pxは光学活性若しくはラセミ体のホスフィン配位子を示す。nはPxの数を示し且つ1または2である。Aは光学活性若しくはラセミ体のジアミン配位子を示す。ただし、PxとAとの両方がラセミ体であることはない。式IIIa、式IIIb、式IIIcおよび式IIId中、RおよびHetは式I中のそれらと同じ意味を示す。2式I中の、Hetが5~7員ヘテロ環である、1に記載の製造方法。3式II中、Aが、式IIa、式IIb、式IIc、式IIdまたは式IIeで表される配位子である、1または2に記載の製造方法。R1CHNH2CH2NR2R3IIaR1CHNR2R3CH2NH2IIbH2NHR4C-B-CHR4NH2IIcR1CHNH2CR5R5NH2IIdR1CHNH2R1CHNH2IIe式IIa、式IIb、式IIc、式IIdおよび式IIe中、R1は、無置換の若しくは置換基を有するC1~20アルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC2~20アルケニル基、無置換の若しくは置換基を有するC3~8シクロアルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC7~20アラルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC6~10アリール基、または無置換の若しくは置換基を有する3~8員ヘテロ環基を示す。R2、R3およびR5は、それぞれ独立に、水素原子、無置換の若しくは置換基を有するC1~20アルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC2~20アルケニル基、無置換の若しくは置換基を有するC3~8シクロアルキル基、または無置換の若しくは置換基を有するC7~20アラルキル基を示す。R2とR3は結合して環を形成してもよい。ただし、R2とR3との両方が水素原子であることはない。R4は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有するC1~20アルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC2~20アルケニル基、無置換の若しくは置換基を有するC3~8シクロアルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC7~20アラルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC6~10アリール基、または無置換の若しくは置換基を有する3~8員ヘテロ環基を示す。Bは、無置換の若しくは置換基を有するエチレン基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロ環の2価基を示す。Bが複数の置換基を有するエチレン基の場合、当該複数の置換基同士が結合して環を形成してもよい。4式II中、Pxが光学活性なホスフィン配位子である、1~3いずれか1項に記載の製造方法。5式II中、Pxが軸不斉を有する2座のホスフィン配位子である、1~4いずれか1項に記載の製造方法。6式II中、Aが光学活性なジアミン配位子である、1~5のいずれか1項に記載の製造方法。本発明の光学活性アルコール化合物の製造方法によると、式Iで表わされるカルボニル化合物中ののついた炭素原子が光学活性およびラセミ体のいずれであってもジアステレオ選択的且つエナンチオ選択的に水素化できるので、式IIIa、式IIIb、式IIIcまたは式IIIdで表される光学活性アルコール化合物のいずれか一つを高選択率で得ることができる。式IIIa、式IIIb、式IIIcまたは式IIIdで表される光学活性アルコール化合物は、医薬品およびそれの中間体として有用な化合物である。本発明の光学活性アルコール化合物の製造方法は、上記式Iで表されるカルボニル化合物を、上記式IIで表されるルテニウム化合物と塩基との存在下に、水素化することを含むものである。式Iのカルボニル化合物式I中、Rは無置換の若しくは置換基を有するC6~10アリール基、無置換の若しくは置換基を有する5~8員環ヘテロアリール基、または無置換の若しくは置換基を有するビニル基を示す。Rにおける無置換のC6~10アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基などを挙げることができる。置換基を有するC6~10アリール基中の置換基としては、特に制限されないが、例えば、水酸基;チオール基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子;シアノ基;ニトロ基;ホルミル基;アミノ基、メチルアミノ基、ベンジルアミノ基、アニリノ基、ジメチルアミノ基などの無置換若しくは置換アミノ基;メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基などのアルキル基、好ましくはC1~6アルキル基;ビニル基、アリル基、2-メトキシエテニル基などのアルケニル基;エチニル基、1-プロピニル基、2-フェニルエチニル基、プロパルギル基などのアルキニル基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、s-ブトキシ基、t-ブトキシ基などのアルコキシ基、好ましくはC1~6アルコキシ基;ビニルオキシ基、アリルオキシ基などのアルケニルオキシ基;エチニルオキシ基、プロパルギルオキシ基などのアルキニルオキシ基;フェノキシ基、ベンジルオキシ基などのアリールオキシ基;2-ピリジルオキシなどのヘテロアリールオキシ基;クロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基、好ましくはC1~6ハロアルキル基;フルオロメトキシ基、ジブロモメトキシ基などのハロアルコキシ基、好ましくはC1~6ハロアルコキシ基;メチルチオカルボニル基、エチルチオカルボニル基、などのアルキルチオカルボニル基、好ましくはC1~6アルキルチオカルボニル基;メチルスルホニルアミノ基、t-ブチルスルホニルアミノ基などのアルキルスルホニルアミノ基C1~6アルキルスルホニルアミノ基が好ましい;フェニルスルホニルアミノ基などのアリールスルホニルアミノ基、好ましくはC6-12アリールスルホニルアミノ基;ピペラジニルスルホニルアミノ基などのヘテロアリールスルホニルアミノ基、好ましくはC3-12へテロアリールスルホニルアミノ基;メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基などのアルキルカルボニルアミノ基、好ましくはC1~6アルキルカルボニルアミノ基;メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基などのアルコキシカルボニルアミノ基、好ましくはC1~6アルコキシカルボニルアミノ基;フルオロメチルスルホニルアミノ基、ジクロロメチルスルホニルアミノ基などのハロアルキルスルホニルアミノ基、好ましくはC1~6ハロアルキルスルホニルアミノ基;ビスメチルスルホニルアミノ基などのビスアルキルスルホニルアミノ基、好ましくはビスC1~6アルキルスルホニルアミノ基;ビスフルオロメチルスルホニルアミノ基などのビスハロアルキルスルホニルアミノ基、好ましくはビスC1~6ハロアルキルスルホニルアミノ基;ヒドラジノ基、N’-フェニルヒドラジノ基、N’-メトキシカルボニヒドラジノ基などの無置換もしくは置換ヒドラジノ基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などのアルコキシカルボニル基、好ましくはC1~6アルコキシカルボニル基;フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基などのアリール基、好ましくはC6~12アリール基;ベンジル基、フェネチル基などのアラルキル基、好ましくはC7~20アラルキル基;フラニル基、チオフェニル基、ピロリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、イソオキサゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基などの不飽和複素5員環基;ピリジル基、ピリダジニル基、ピラジニル基などの不飽和複素6員環基;テトラヒドロフラニル、ピペリジニル基などの飽和複素環基;アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基などのN無置換もしくはN置換アミノカルボニル基;メチルチオ基、エチルチオ基、t-ブチルチオ基などのアルキルチオ基;ビニルチオ基、アリルチオ基などのアルケニルチオ基;エチニルチオ基、プロパルギルチオ基などのアルキニルチオ基;フェニルチオ基、4-クロロフェニルチオ基などのアリールチオ基;2-ピリジルチオ基などのヘテロアリールチオ基;ベンジルチオ基、フェネチルチオ基などのアラルキルチオ基;メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、t-ブチルスルホニル基などのアルキルスルホニル基;アリルスルホニル基などのアルケニルスルホニル基;プロパルギルスルホニル基などのアルキニルスルホニル基;フェニルスルホニル基などのアリールスルホニル基;2-ピリジルスルホニル基、3-ピリジルスルホニル基などのヘテロアリールスルホニル基;ベンジルスルホニル基などのアラルキルスルホニル基;などを挙げることができる。Rにおける無置換の5~8員環ヘテロアリール基としては、例えば、チエニル基、フリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、1,2,4-トリアゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、1,3,4-チアジアゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、オキサジアゾリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピリダジル基、ピラジル基、1,2,4-トリアジル基などを挙げることができる。置換基を有する5~8員環ヘテロアリール基中の置換基としては、特に制限されないが、例えば、前記置換基を有するアリール基中の置換基として挙げたものと同じものを挙げることができる。Rにおける置換基を有するビニル基中の置換基としては、特に制限されないが、例えば、前記置換基を有するアリール基中の置換基として挙げたものと同じものを挙げることができる。式I中、Hetは無置換の若しくは置換基を有する3~8員ヘテロ環を示す。Hetにおける無置換の3~8員ヘテロ環としては、例えば、エポキシ基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペリジニル基、モルホリノ基、ピロリジニル基、ピペラジニル基、オキサゾリニル基、イミダゾリニル基、オキサゾニジニル基、1,2-ピラニル基、チアジニル基、ジオキサニル基、チオモルホリノ基などを挙げることができる。これらのうち、5~7員へテロ環が好ましい。置換基を有する3~8員ヘテロ環中の置換基としては、特に制限されないが、例えば、前記置換基を有するアリール基中の置換基として挙げたものと同じものを挙げることができる。式I中、は該炭素原子が不斉炭素であることを示すが、該炭素原子は光学活性またはラセミのいずれであってもよい。[式IIのルテニウム化合物]上記式II中、XおよびYは、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、テトラヒドロホウ酸、ハロゲン原子、C1~20アルコキシ基、またはC1~20アシルオキシ基を示す。XおよびYにおけるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などを挙げることができる。XおよびYにおけるC1~20アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、s-ブトキシ基、i-ブトキシ基、t-ブトキシ基などを挙げることができる。XおよびYにおけるC1~20アシルオキシ基としては、例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、2-クロロベンゾイルオキシ基、4-メチルベンゾイルオキシ基などを挙げることができる。式II中、Pxは、光学活性若しくはラセミ体のホスフィン配位子を示す。ホスフィン配位子は、単座若しくは二座のものが代表的なものとして挙げられる。単座ホスフィン配位子としては、例えば、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリp-トリルホスフィン、ジフェニルメチルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、ジイソプロピルメチルホスフィン、1-2-ジフェニルホスフィノフェロセニルエチルメチルエーテル、2-ジフェニルホスフィノ-2’-メトキシ―1,1’―ビナフチルなどを挙げることができる。二座ホスフィン配位子としては、例えば、ビスジフェニルホスフィノメタン、ビスジフェニルホスフィノエタン、ビスジフェニルホスフィノプロパン、無置換の若しくは置換基を有する2,2’-ビス―ジフェニルホスフィノ-1,1’―ビナフチルBINAPなどを挙げることができる。置換基を有するBINAPの具体例としては、2,2’-ビス―ジ―p―トリホスフィノ-1,1’―ビナフチルTol-BINAP、2,2’-ビス[ビス3,5-ジメチルフェニルホスフィノ]―1,1’―ビナフチルXylyl-BINAPなどを挙げることができる。これらの中で、Pxとしては、光学活性なホスフィン配位子が好ましく、軸不斉を有する2座のホスフィン配位子がさらに好ましい。式II中、nは、Pxの数を示し且つ1または2である。式II中、Aは、光学活性若しくはラセミ体のジアミン配位子を示す。なお、Aは光学活性なジアミン配位子であることが好ましい。なお、式IIにおいて、PxとAとの両方がラセミ体であることはない。Aにおけるジアミン配位子は、安定して金属錯体を形成し得るものであれば、何ら限定されるものではないが、上記式IIa、上記式IIb、上記式IIc、上記式IIdまたは上記式IIeで表されるジアミン配位子が好ましい。式IIa、式IIb、式IIdおよび式IIe中、R1は、無置換の若しくは置換基を有するC1~20アルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC2~20アルケニル基、無置換の若しくは置換基を有するC3~8シクロアルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC7~20アラルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC6~10アリール基、または無置換の若しくは置換基を有する3~8員ヘテロ環基を示す。R1における無置換のC1~20アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基などを挙げることができる。R1における置換基を有するC1~20アルキル基中の置換基としては、特に制限されないが、例えば、水酸基;チオール基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子;シアノ基;ニトロ基;ホルミル基;アミノ基、メチルアミノ基、ベンジルアミノ基、アニリノ基、ジメチルアミノ基などの無置換若しくは置換アミノ基;ビニル基、アリル基、2-メトキシエテニル基などのアルケニル基;エチニル基、1-プロピニル基、2-フェニルエチニル基、プロパルギル基などのアルキニル基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、s-ブトキシ基、t-ブトキシ基などのアルコキシ基、好ましくはC1~6アルコキシ基;ビニルオキシ基、アリルオキシ基などのアルケニルオキシ基;エチニルオキシ基、プロパルギルオキシ基などのアルキニルオキシ基;フェノキシ基、ベンジルオキシ基などのアリールオキシ基;2-ピリジルオキシなどのヘテロアリールオキシ基;フルオロメトキシ基、ジブロモメトキシ基などのハロアルコキシ基、好ましくはC1~6ハロアルコキシ基;メチルチオカルボニル基、エチルチオカルボニル基、などのアルキルチオカルボニル基、好ましくはC1~6アルキルチオカルボニル基;メチルスルホニルアミノ基、t-ブチルスルホニルアミノ基などのアルキルスルホニルアミノ基、好ましくはC1~6アルキルスルホニルアミノ基;フェニルスルホニルアミノ基などのアリールスルホニルアミノ基、好ましくはC6~12アリールスルホニルアミノ基;ピペラジニルスルホニルアミノ基などのヘテロアリールスルホニルアミノ基、好ましくはC3~12へテロアリールスルホニルアミノ基;メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基などのアルキルカルボニルアミノ基、好ましくはC1~6アルキルカルボニルアミノ基;メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基などのアルコキシカルボニルアミノ基、好ましくはC1~6アルコキシカルボニルアミノ基;フルオロメチルスルホニルアミノ基、ジクロロメチルスルホニルアミノ基などのハロアルキルスルホニルアミノ基、好ましくはC1~6ハロアルキルスルホニルアミノ基;ビスメチルスルホニルアミノ基などのビスアルキルスルホニルアミノ基、好ましくはビスC1~6アルキルスルホニルアミノ基;ビスフルオロメチルスルホニルアミノ基などのビスハロアルキルスルホニルアミノ基、好ましくはビスC1~6ハロアルキルスルホニルアミノ基;ヒドラジノ基、N’-フェニルヒドラジノ基、N’-メトキシカルボニヒドラジノ基などの無置換もしくは置換ヒドラジノ基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などのアルコキシカルボニル基、好ましくはC1~6アルコキシカルボニル基;フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基などのアリール基、好ましくはC6-12アリール基;フラニル基、チオフェニル基、ピロリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、イソオキサゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基などの不飽和複素5員環基;ピリジル基、ピリダジニル基、ピラジニル基などの不飽和複素6員環基;テトラヒドロフラニル、ピペリジニル基などの飽和複素環基;アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基などのN無置換もしくはN置換アミノカルボニル基;メチルチオ基、エチルチオ基、t-ブチルチオ基などのアルキルチオ基;ビニルチオ基、アリルチオ基などのアルケニルチオ基;エチニルチオ基、プロパルギルチオ基などのアルキニルチオ基;フェニルチオ基、4-クロロフェニルチオ基などのアリールチオ基;2-ピリジルチオ基などのヘテロアリールチオ基;ベンジルチオ基、フェネチルチオ基などのアラルキルチオ基;メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、t-ブチルスルホニル基などのアルキルスルホニル基;アリルスルホニル基などのアルケニルスルホニル基;プロパルギルスルホニル基などのアルキニルスルホニル基;フェニルスルホニル基などのアリールスルホニル基;2-ピリジルスルホニル基、3-ピリジルスルホニル基などのヘテロアリールスルホニル基;ベンジルスルホニル基などのアラルキルスルホニル基;などを挙げることができる。R1における無置換のC2~20アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、2-メトキシエテニル基などを挙げることができる。置換基を有するC2~20アルケニル基中の置換基としては、特に制限されないが、例えば、前記置換基を有するC1~20アルキル基中の置換基として挙げたものと同じものを挙げることができる。R1における無置換のC3~8シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基などを挙げることができる。置換基を有するC3~8シクロアルキル基中の置換基としては、特に制限されないが、例えば、前記置換基を有するC1~20アルキル基中の置換基として挙げたものと同じものを挙げることができる。R1における無置換のC7~20アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基などを挙げることができる。置換基を有するC7~20アラルキル基中の置換基としては、特に制限されないが、例えば、前記置換基を有するC1~20アルキル基中の置換基として挙げたものと同じものを挙げることができる。R1の無置換の若しくは置換基を有するC6~10アリール基および無置換の若しくは置換基を有する3~8員ヘテロ環基としては、特に制限されないが、例えば、前記Rにおける無置換の若しくは置換基を有するC6~10アリール基、ならびに前記Rにおける無置換の若しくは置換基を有する5~8員環のヘテロアリール環、および前記Hetにおける無置換の若しくは置換基を有する3~8員ヘテロ環基の具体例として挙げたものと同じものを挙げることができる。これらの中で、R1としては、無置換の若しくは置換基を有するC6~10アリール基が好ましい。式IIa、式IIbおよび式IId中、R2、R3およびR5は、それぞれ独立に、水素原子、無置換の若しくは置換基を有するC1~20アルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC2~20アルケニル基、無置換の若しくは置換基を有するC3~8シクロアルキル基、または無置換の若しくは置換基を有するC7~20アラルキル基を示す。なお、R2とR3との両方が水素原子であることはない。R2、R3およびR5における、無置換の若しくは置換基を有するC1~20アルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC2~20アルケニル基、無置換の若しくは置換基を有するC3~8シクロアルキル基、または無置換の若しくは置換基を有するC7~20アラルキル基としては、特に制限されないが、例えば、前記R1における、無置換の若しくは置換基を有するC1~20アルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC2~20アルケニル基、無置換の若しくは置換基を有するC3~8シクロアルキル基、または無置換の若しくは置換基を有するC7~20アラルキル基の具体例として挙げたものと同じものを挙げることができる。これらの中で、R2、R3およびR5としては、無置換の若しくは置換基を有するC1~20アルキル基が好ましく、無置換の若しくは置換基を有するC1~6アルキル基が特に好ましい。R2とR3は結合して環を形成してもよい。R2とR3が結合して形成する環の具体例としては、例えば、ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環などを挙げることができる。式IIc中、R4は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有するC1~20アルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC2~20アルケニル基、無置換の若しくは置換基を有するC3~8シクロアルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC7~20アラルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC6~10アリール基、または無置換の若しくは置換基を有する3~8員ヘテロ環基を示す。R4における、無置換の若しくは置換基を有するC1~20アルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC2~20アルケニル基、無置換の若しくは置換基を有するC3~8シクロアルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC7~20アラルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC6~10アリール基、または無置換の若しくは置換基を有する3~8員ヘテロ環基としては、特に制限されないが、例えば、前記R1における、無置換の若しくは置換基を有するC1~20アルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC2~20アルケニル基、無置換の若しくは置換基を有するC3~8シクロアルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC7~20アラルキル基、無置換の若しくは置換基を有するC6~10アリール基、または無置換の若しくは置換基を有する3~8員ヘテロ環基の具体例として挙げたものと同じものを挙げることができる。これらの中で、R4としては、無置換の若しくは置換基を有するC1~20アルキル基が好ましく、無置換の若しくは置換基を有するC1~6アルキル基が特に好ましい。式IIc中、Bは、無置換の若しくは置換基を有するエチレン基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロ環の2価基を示す。Bにおける、置換基を有するエチレン基中の置換基としては、特に制限されないが、例えば、前記Rにおける置換基を有するC6~10アリール基中の置換基として挙げたものと同じものを挙げることができる。Bが複数の置換基を有するエチレン基の場合、当該複数の置換基同士が結合して環を形成してもよい。複数の置換基同士が結合して形成される環としては、例えば、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環などの炭化水素環;テトラヒドロフラン環、1,3-ジオキソラン環、モルホリン環などのエーテル結合を有する飽和環;ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環などの窒素原子を含有する飽和環;ベンゼン環、ピリジン環などの芳香族環;などを挙げることができる。Bにおける、無置換の若しくは置換基を有するヘテロ環の2価基中の無置換の若しくは置換基を有するヘテロ環の具体例としては、特に制限されないが、例えば、前記式I中のHetにおける、無置換の若しくは置換基を有する3~8員へテロ環の具体例として挙げたものと同じものを挙げることができる。[塩基]本発明の水素化反応において使用される塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンDABCO、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エンDBUなどの有機塩基;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt-ブトキシド、マグネシウムメトキシド、マグネシウムエトキシドなどの金属アルコキシド類;n-ブチルリチウムなどの有機リチウム化合物;リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビストリメチルシリルアミドなどのリチウムアミド類;水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物;水酸化マグネシウム、水酸化カルシウムなどのアルカリ土類金属水酸化物;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなどのアルカリ金属炭酸水素塩;炭酸マグネシウム、炭酸カルシウムなどのアルカリ土類金属炭酸塩;水素化ナトリウム、水素化カルシウムなどの金属水素化物;などを挙げることができる。[水素化]本発明の光学活性アルコール化合物の製造方法における水素化は、その手法によって特に制限されない。例えば、反応基質となる式Iで表されるカルボニル化合物と、触媒となる式IIで表されるルテニウム化合物と塩基とを反応器に仕込み、次いで所定圧力の水素ガスまたは所定量の水素供与体を供給することで、水素化を行うことができる。式IIで表されるルテニウム化合物は、例えば、日本国特開2005-068113号公報、日本国特開2003-104993号公報などに記載の方法に準じて調製したものを当該水素化反応系に添加してもよいし、水素化反応系内で調製して用いてもよい。水素化反応系における、式IIで表されるルテニウム化合物の使用量は、反応容器の大きさやルテニウム化合物の活性によって異なるが、反応基質であるカルボニル化合物に対して、好ましくは1/50~1/2,000,000倍モル、より好ましくは1/500~1/500,000倍モルである。塩基の使用量は、式IIで表されるルテニウム化合物に対して、好ましくは2~500,000倍モル、より好ましくは2~5,000倍モルである。水素化反応は無溶媒若しくは溶媒中で行うことができる。水素化反応において用いられる溶媒は、水素化反応に不活性で且つカルボニル化合物およびルテニウム化合物を溶解できるものであれば特に制限されない。用いる溶媒の具体例としては、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒;ペンタン、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素系溶媒;塩化メチレンなどのハロゲン含有炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフランTHFなどのエーテル系溶媒;メタノール、エタノール、ベンジルアルコールなどのアルコール系溶媒;アセトニトリル、ジメチルホルムアミドDMF、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシドDMSOなどのヘテロ原子を含む有機溶媒;などを挙げることができる。これらの中でも、溶媒としてはアルコール系溶媒が好ましい。溶媒の使用量は、式Iで表されるカルボニル化合物の溶解度などに依存するが、式Iで表されるカルボニル化合物100重量部に対して、好ましくは0.1~10,000重量部、より好ましくは20~1,000重量部である。水素ガスを供給する場合、水素ガスの圧力は、好ましくは1~200気圧、より好ましくは3~50気圧である。水素供与体を供給する場合、水素供与体としては、例えば、水素貯蔵合金やジイミドなどを用いることができ、水素供与体の供給量は、式Iで表されるカルボニル化合物に対して、好ましくは1~100倍当量である。水素化反応における温度は、好ましくは-50°C~100°C、より好ましくは25°C~40°Cである。また、反応時間は、反応基質濃度、温度、圧力などの反応条件、反応容器の大きさなどに依存するが、好ましくは数分間~数日間である。反応形式は、バッチ式であってもよいし、連続式であってもよい。反応終了後は、蒸留、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィーなどの方法によって、単離精製することにより、目的物である式IIIa~式IIIdで表される光学活性アルコール化合物を得ることができる。目的物の構造は、1H-NMR、旋光度測定、液体クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィーなどの公知の分析手段によって決定することができる。本発明の製造方法によって、式IIIa~式IIIdで表される光学活性アルコール化合物のいずれかを高選択的に得ることができる。次に、実施例を示し、本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明は、これら実施例などによって何ら限定されるものではない。各実施例中に示す略語は、以下の意味を表す。S/C:基質/触媒の比RuCl2binapdmapen:RuCl2ptolbinapdmapen:RuCl2binapiphan:RuCl2binapdpen:RuCl2binapdpen:RuCl2ptolbinapdpen:RuCl2xylbinapdpen:各実施例における物性は以下の装置を用いて測定した。1NMR:JNM-A300300MHz、日本電子社製およびJNM-A400400MHz、日本電子社製2旋光度:旋光度計、JASCODIP-360日本分光社製3高速液体クロマトグラフィー:LC-10Advp、SPD-10Avp島津製作所社製4ガスクロマトグラフィー:GC-17A島津製作所社製実施例1N-ベンゾイル-2S-2-[R-ヒドロキシ-フェニル-メチル]モルホリンの製造アルゴン雰囲気下、オートクレーブに、N-ベンゾイル-モルホリン-2-イル-フェニル-メタノン0.295g1mmol、ラセミ体、イソプロパノール0.5ml、カリウムtブトキシドを0.1Mイソプロパノール溶液として0.5ml0.05mmol、およびRuCl2binapdmapen9.6mg10μmol,S/C=100を添加した。脱気操作後、水素を10気圧まで圧入し、25°Cで20時間撹拌しながら反応させた。得られた粗生成物をHPLCGLScienceInertsilODS-325cmアセトニトリル/水/ドデシル硫酸ナトリウム/10リン酸=400ml/600ml/9g/1ml,1ml/分,40°C,ジアステレオマーのリテンションタイム6.4分,7.3分で分析したところ、ジアステレオマーの生成比は>99:1であった。粗生成物を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、光学活性N-ベンゾイル-モルホリン-2-イル-フェニル-メタノール0.283g0.96mmolを96の収率で得た。鏡像異性体過剰率をHPLCYMC-PackSIL25cmとDaicelChiralcelOJ-H15cmを直列に接続,ヘキサン/イソプロパノール/エタノール=85/15/5,1ml/分,20°C,鏡像異性体のリテンションタイム36.4分および50.7分により分析したところ99eeリテンションタイム36.4分の鏡像異性体であった。この鏡像異性体は、分析の結果、N-ベンゾイル-2S-2-[R-ヒドロキシ-フェニル-メチル]モルホリンであることがわかった。実施例2N-ベンゾイル-2S-2-[R-ヒドロキシ-フェニル-メチル]モルホリンの製造RuCl2binapdmapenを、RuCl2ptolbinapdmapenS/C=100に替えた以外は実施例1と同じ手法で反応させ、得られた粗生成物を精製した。この結果、ジアステレオマーの生成比99:1、単離収率97、97eeで光学活性N-ベンゾイル-モルホリン-2-イル-フェニル-メタノールリテンションタイム36.4分の鏡像異性体を得た。この鏡像異性体は、分析の結果、N-ベンゾイル-2S-2-[R-ヒドロキシ-フェニル-メチル]モルホリンであることがわかった。実施例3N-ベンゾイル-2S-2-[R-ヒドロキシ-フェニル-メチル]モルホリンの製造RuCl2binapdmapenを、RuCl2binapiphanS/C=100に替えた以外は実施例1と同じ手法で反応させ、得られた粗生成物を精製した。この結果、ジアステレオマーの生成比94:6、単離収率96、92eeで光学活性N-ベンゾイル-モルホリン-2-イル-フェニル-メタノールリテンションタイム36.4分の鏡像異性体を得た。この鏡像異性体は、分析の結果、N-ベンゾイル-2S-2-[R-ヒドロキシ-フェニル-メチル]モルホリンであることがわかった。実施例4N-ベンゾイル-2S-2-[R-ヒドロキシ-フェニル-メチル]モルホリンの製造RuCl2binapdmapenを、RuCl2binapdpenS/C=100に替えた以外は実施例1と同じ手法で反応させ、得られた粗生成物を精製した。この結果、ジアステレオマーの生成比96:4、単離収率94、87eeで光学活性N-ベンゾイル-モルホリン-2-イル-フェニル-メタノールリテンションタイム36.4分の鏡像異性体を得た。この鏡像異性体は、分析の結果、N-ベンゾイル-2S-2-[R-ヒドロキシ-フェニル-メチル]モルホリンであることがわかった。実施例5N-ベンゾイル-2S-2-[R-ヒドロキシ-フェニル-メチル]モルホリンの製造N-ベンゾイル-モルホリン-2-イル-フェニル-メタノンの量を4.45g15mmol、ラセミ体に、イソプロパノールの量を10.2mlに、カリウムt-ブトキシドの量を0.1Mイソプロパノール溶液として4.8ml0.48mmolに、およびRuCl2binapdmapenの量を14.4mg15μmol,S/C=1,000に変えた以外は、実施例1と同じ手法で反応させ、得られた粗生成物を精製した。この結果、ジアステレオマーの生成比>99:1、単離収率99、99eeで光学活性N-ベンゾイル-モルホリン-2-イル-フェニル-メタノールリテンションタイム36.4分の鏡像異性体を得た。この鏡像異性体は、分析の結果、N-ベンゾイル-2S-2-[R-ヒドロキシ-フェニル-メチル]モルホリンであることがわかった。実施例6N-ベンゾイル-2S-2-[R-ヒドロキシ-フェニル-メチル]モルホリンの製造N-ベンゾイル-モルホリン-2-イル-フェニル-メタノンの量を1.18g4mmol、ラセミ体に、イソプロパノールの量を2.7mlに、カリウムt-ブトキシドの量を0.1Mイソプロパノール溶液として1.3ml0.13mmolに、およびRuCl2ptolbinapdmapenの量を4.1mg4μmol,S/C=1,000に変えた以外は、実施例2と同じ手法で反応させ、得られた粗生成物を精製した。この結果、ジアステレオマーの生成比99:1、単離収率94、98eeで光学活性N-ベンゾイル-モルホリン-2-イル-フェニル-メタノールリテンションタイム36.4分の鏡像異性体を得た。この鏡像異性体は、分析の結果、N-ベンゾイル-2S-2-[R-ヒドロキシ-フェニル-メチル]モルホリンであることがわかった。実施例7N-ベンゾイル-2S-2-[R-ヒドロキシ-フェニル-メチル]モルホリンの製造N-ベンゾイル-モルホリン-2-イル-フェニル-メタノンの量を4.45g15mmol、ラセミ体に、イソプロパノールの量を20.9mlに、カリウムt-ブトキシドの量を0.1Mイソプロパノール溶液として9.1ml0.91mmolに、およびRuCl2binapdmapenの量を2.9mg3μmol,S/C=5,000に変えた以外は、実施例1と同じ手法で反応させ、得られた粗生成物を精製した。この結果、ジアステレオマーの生成比>99:1、単離収率99、99eeで光学活性N-ベンゾイル-モルホリン-2-イル-フェニル-メタノールリテンションタイム36.4分の鏡像異性体を得た。この鏡像異性体の比旋光度は[α]D=27.9c=2.53,CHCl3を示した。この鏡像異性体は、分析の結果、N-ベンゾイル-2S-2-[R-ヒドロキシ-フェニル-メチル]モルホリンであることがわかった。実施例8N-ベンゾイル-2S-2-[R-ヒドロキシ-フェニル-メチル]モルホリンの製造N-ベンゾイル-モルホリン-2-イル-フェニル-メタノンの量を4.45g15mmol、ラセミ体に、イソプロパノールの量を10.4mlに、カリウムt-ブトキシドの量を0.1Mイソプロパノール溶液として4.6ml0.46mmolに、およびRuCl2binapdmapenの量を3.0mg3μmol,S/C=5,000に変え、且つ水素圧を50気圧に変えた以外は実施例1と同じ手法で反応させ、得られた粗生成物を精製した。この結果、ジアステレオマーの生成比99:1、単離収率98、98eeで光学活性N-ベンゾイル-モルホリン-2-イル-フェニル-メタノールリテンションタイム36.4分の鏡像異性体を得た。この鏡像異性体は、分析の結果、N-ベンゾイル-2S-2-[R-ヒドロキシ-フェニル-メチル]モルホリンであることがわかった。実施例9N-ベンゾイル-2S-2-[R-ヒドロキシ-フェニル-メチル]モルホリンの製造RuCl2binapdmapenを、RuCl2binapdpenS/C=100に替えた以外は実施例1と同じ手法で反応させ、得られた粗生成物を精製した。この結果、ジアステレオマーの生成比95:5、単離収率96、62eeで光学活性N-ベンゾイル-モルホリン-2-イル-フェニル-メタノールリテンションタイム36.4分の鏡像異性体を得た。この鏡像異性体は、分析の結果、N-ベンゾイル-2S-2-[R-ヒドロキシ-フェニル-メチル]モルホリンであることがわかった。実施例10N-ベンゾイル-2S-2-[R-ヒドロキシ-フェニル-メチル]モルホリンの製造RuCl2binapdmapenを、RuCl2ptolbinapdpenS/C=100に替えた以外は実施例1と同じ手法で反応させ、得られた粗生成物を精製した。この結果、ジアステレオマーの生成比93:7、単離収率93の収率、64eeで光学活性N-ベンゾイル-モルホリン-2-イル-フェニル-メタノールリテンションタイム36.4分の鏡像異性体を得た。この鏡像異性体は、分析の結果、N-ベンゾイル-2S-2-[R-ヒドロキシ-フェニル-メチル]モルホリンであることがわかった。実施例11N-ベンゾイル-2R-2-[S-ヒドロキシ-フェニル-メチル]モルホリンの製造RuCl2binapdmapenを、RuCl2xylbinapdpenS/C=100に替えた以外は実施例1と同じ手法で反応させ、得られた粗生成物を精製した。この結果、ジアステレオマーの生成比95:5、単離収率94、33eeで光学活性N-ベンゾイル-モルホリン-2-イル-フェニル-メタノール実施例1と逆の鏡像異性体を得た。この鏡像異性体は、分析の結果、N-ベンゾイル-2R-2-[S-ヒドロキシ-フェニル-メチル]モルホリンであることがわかった。実施例12N-t-ブトキシカルボニル3S-3-S-ヒドロキシ-フェニル-メチル]-ピペリジンの製造アルゴン雰囲気下、オートクレーブに、N-t-ブトキシカルボニル-ピペリジン-3-イル-フェニル-メタノン8.68g30mmol、ラセミ体、イソプロパノール29.1ml、カリウムt-ブトキシドを1.0Mイソプロパノール溶液として0.91ml0.91mmol、およびRuCl2binapdmapen2.9mg3μmol,S/C=10,000を添加した。脱気操作後、水素を10気圧まで圧入し、25°Cで20時間撹拌しながら反応させた。得られた粗生成物をHPLCGLScienceInertsilODS-325cmアセトニトリル/水/ドデシル硫酸ナトリウム/10リン酸=600ml/400ml/9g/1ml,1ml/分,40°C,ジアステレオマーのリテンションタイム8.9分,10.2分で分析したところ、ジアステレオマーの生成比は>99:1であった。粗生成物を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、光学活性N-t-ブトキシカルボニル-ピペリジン-3-イル-フェニル-メタノール8.77g30.0mmolを100の収率で得た。鏡像異性体過剰率をHPLCDaicelChiralpackAD-H25cm,ヘキサン/イソプロパノール/エタノール=97/2/1,1ml/分,20°C,鏡像異性体のリテンションタイム24.7分および32.5分により分析したところ>99eeリテンションタイム32.5分の鏡像異性体であった。また、この鏡像異性体の比旋光度は[α]D=-30.0c=1.04,MeOHを示した。この鏡像異性体は、分析の結果、N-t-ブトキシカルボニル3S-3-S-ヒドロキシ-フェニル-メチル]-ピペリジンであることがわかった。実施例13N-t-ブトキシカルボニル3S-3-S-ヒドロキシ-フェニル-メチル]-ピペリジンの製造N-t-ブトキシカルボニル-ピペリジン-3-イル-フェニル-メタノンの量を11.57g40mmol、ラセミ体に、イソプロパノールの量を38.8mlに、カリウムtブトキシドの量を1.0Mイソプロパノール溶液として1.2ml1.2mmolに、RuCl2-binap-dmapenの量を1.9mg2μmol,S/C=20,000に変え、且つ水素圧を50気圧に変えた以外は実施例12と同じ手法で反応させ、得られた粗生成物を精製した。この結果、ジアステレオマーの生成比>99:1、単離収率97、>99eeでN-t-ブトキシカルボニル3S-3-S-ヒドロキシ-フェニル-メチル]-ピペリジンを得た。実施例14N-t-ブトキシカルボニル3S-3-S-ヒドロキシ--メチル]-ピペリジンの製造アルゴン雰囲気下、オートクレーブに、N-t-ブトキシカルボニル-ピペリジン-3-イル-3-クロロ-フェニルメタノン4.86g15mmol、ラセミ体、イソプロパノール14.5ml、カリウムt-ブトキシドを1.0Mイソプロパノール溶液として0.46ml0.46mmol、およびRuCl2binapdmapen2.9mg3μmol,S/C=5,000を添加した。脱気操作後、水素を10気圧まで圧入し、25°Cで20時間撹拌しながら反応させた。得られた粗生成物をHPLC実施例12と同じ条件,ジアステレオマーのリテンションタイム12.2分,14.8分で分析したところジアステレオマーの生成比は>99:1であった。粗生成物を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し光学活性N-t-ブトキシカルボニル-ピペリジン-3-イル-3-クロロ-フェニルメタノール4.81g14.9mmolを99の収率で得た。鏡像異性体過剰率をHPLCDaicelChiralpackAD-H25cm,ヘキサン/イソプロパノール/エタノール=98/1/1,1ml/分,20°C,鏡像異性体のリテンションタイム30.7分および38.2分により分析したところ>99eeリテンションタイム38.2分の鏡像異性体であった。また、この鏡像異性体の比旋光度は[α]D=-25.0c=1.01,MeOHを示した。この鏡像異性体は、分析の結果、N-t-ブトキシカルボニル3S-3-S-ヒドロキシ--メチル]-ピペリジンであることがわかった。実施例15N-t-ブトキシカルボニル3S-3-S-ヒドロキシ--メチル]-ピペリジンの製造アルゴン雰囲気下、オートクレーブに、N-t-ブトキシカルボニル-ピペリジン-3-イル-2-チエニル-メタノン1.18g4mmol、ラセミ体、イソプロパノール5.4ml、カリウムt-ブトキシドを0.1Mイソプロパノール溶液として2.6ml0.26mmol、およびRuCl2binapdmapen7.8mg8.1μmol,S/C=500を添加した。脱気操作後、水素を10気圧まで圧入し、25°Cで20時間撹拌しながら反応させた。得られた粗生成物をHPLCGLScienceInertsilODS-325cmアセトニトリル/水/ドデシル硫酸ナトリウム/10リン酸=600ml/400ml/8g/1ml,1ml/分,40°C,ジアステレオマーのリテンションタイム8.2分,9.2分ジアステレオマーの生成比は>99:1であった。粗生成物を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、光学活性N-t-ブトキシカルボニル-ピペリジン-3-イル-2-チエニル-メタノール1.12g3.8mmolを95の収率で得た。鏡像異性体過剰率をHPLCDaicelChiralpackAD-H25cm,ヘキサン/イソプロパノール/エタノール=92/3/5,1ml/分,20°C,鏡像異性体のリテンションタイム10.5分および13.1分により分析したところ99eeリテンションタイム13.1分の鏡像異性体であった。また、この鏡像異性体の比旋光度は[α]D=7.7c=1.05,MeOHを示した。この鏡像異性体は、分析の結果、N-t-ブトキシカルボニル3S-3-S-ヒドロキシ--メチル]-ピペリジンであることがわかった。実施例16N-t-ブトキシカルボニル3S-3-S-ヒドロキシ--メチル]-ピペリジンの製造RuCl2binapdmapenを、RuCl2ptolbinapdmapenS/C=500に替えた以外は実施例15と同じ手法で反応させ、得られた粗生成物を精製した。この結果、ジアステレオマーの生成比>99:1、単離収率99、95eeで光学活性N-t-ブトキシカルボニル-ピペリジン-3-イル-2-チエニル-メタノールを得た。この鏡像異性体は、分析の結果、N-t-ブトキシカルボニル3S-3-S-ヒドロキシ--メチル]-ピペリジンであることがわかった。実施例171R,8aR-1-フェニル-ヒドロキシ-オキサゾロ-3,4-aピリジン-3-オンの製造アルゴン雰囲気下、オートクレーブに、N-t-ブトキシカルボニル-ピペリジン-2-イル-フェニル-メタノン1.18g4.0mmol、ラセミ体、イソプロパノール2.7ml、カリウムt-ブトキシドを0.1Mイソプロパノール溶液として1.3ml0.13mmol、およびRuCl2binapdmapen3.8mg4μmol,S/C=1,000を添加した。脱気操作後、水素を10気圧まで圧入し、25°Cで20時間撹拌しながら反応させた。得られた粗生成物をHPLC実施例1と同条件、ジアステレオマーのリテンションタイム13.0分,15.3分で分析したところ、ジアステレオマーの生成比は>99:1であった。粗生成物を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製したところ、光学活性1-フェニル-ヘキサヒドロ-オキサゾロ-[3,4-a]ピリジン-3-オン0.888g4.0mmolが100の収率で得られた。鏡像異性体過剰率をHPLCDaicelChiralcelOD-H25cm,ヘキサン/エタノール=95/5,1.0ml/分,20°C,鏡像異性体のリテンションタイム16.6分および31.2分により分析したところ96.7eeリテンションタイム31.2分の異性体であった。また、この鏡像異性体の比旋光度は[α]D=9.6c=1.20,MeOHを示した。この鏡像異性体は、分析の結果、1R,8aR-1-フェニル-ヒドロキシ-オキサゾロ-3,4-aピリジン-3-オンであることがわかった。実施例181R,8aR-1-フェニル-ヒドロキシ-オキサゾロ-3,4-aピリジン-3-オンの製造RuCl2binapdmapenを、RuCl2ptolbinapdmapenS/C=500に替えた以外は実施例17と同じ手法で反応させ、得られた粗生成物を精製した。この結果、ジアステレオマーの生成比>99:1、単離収率98、87eeで光学活性1-フェニル-ヘキサヒドロ-オキサゾロ-[3,4-a]ピリジン-3-オンを得た。この鏡像異性体は、分析の結果、1R,8aR-1-フェニル-ヒドロキシ-オキサゾロ-3,4-aピリジン-3-オンであることがわかった。実施例19N-ベンゾイル-2-R-ヒドロキシ-フェニル-メチルピペリジンの製造アルゴン雰囲気下、オートクレーブに、N-ベンゾイル-ピペリジン-2-イル-フェニル-メタノン0.880g3mmol、ラセミ体、イソプロパノール2.2ml、カリウム-t-ブトキシドを0.1Mイソプロパノール溶液として2.1ml0.21mmol、およびRuCl2binapdmapen14.4mg15μmol,S/C=200を添加した。脱気操作後、水素を10気圧まで圧入し、25°Cで20時間撹拌しながら反応させた。得られた粗生成物をHPLCGLScienceInertsilODS-325cmアセトニトリル/水/ドデシル硫酸ナトリウム/10リン酸=400ml/600ml/8g/1ml,1ml/分,40°C,ジアステレオマーのリテンションタイム5.0分,6.3分ジアステレオマーの生成比は>99:1であった。粗生成物を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製したところ、光学活性N-ベンゾイル-ピペリジン-2-イル-フェニル-メタノール0.834g2.85mmolが95の収率で得られた。鏡像異性体過剰率をHPLCDaicelChiralpackAD-H25cm,ヘキサン/エタノール/イソプロパノール=85/10/51.0ml/分,20°C,鏡像異性体のリテンションタイム18.0分および21.4分により分析したところ96eeリテンションタイム18.0分の鏡像異性体であった。また、この鏡像異性体の比旋光度は[α]D=-118.5c=1.10,MeOHを示した。この鏡像異性体は、分析の結果、N-ベンゾイル-2-R-ヒドロキシ-フェニル-メチルピペリジンであることがわかった。実施例20N-ベンゾイル2R-2-[R-ヒドロキシ-フェニル-メチル-ピロリジンの製造アルゴン雰囲気下、オートクレーブに、N-ベンゾイル-ピロリジン-2-イル-フェニル-メタノン1.11g4mmol、ラセミ体、イソプロパノール3.9ml、ジクロロメタン1.3ml、カリウム-t-ブトキシドを0.1Mイソプロパノール溶液として2.8ml0.28mmol、およびRuCl2binapdmapen19.1mg20μmol,S/C=200を添加した。脱気操作後、水素を10気圧まで圧入し、25°Cで20時間撹拌しながら反応させた。得られた粗生成物をHPCLYMC-PackSIL25cm,ヘキサン/エタノール=98/2,ジアステレオマーのリテンションタイム15.9分および22.5分で分析したところのジアステレオマーの生成比は98:2であった。粗生成物を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製したところ、光学活性N-ベンゾイル-ピペリジン-2-イル-フェニル-メタノール1.10g39mmolが98の収率で得られた。鏡像異性体過剰率をHPLCDaicelChiralpackAD-H25cm,ヘキサン/エタノール/イソプロパノール=85/10/5,1.0ml/分,20°C,鏡像異性体のリテンションタイム35.0分および42.8分により分析したところ94eeリテンションタイム35.0分の鏡像異性体であった。この鏡像異性体は、分析の結果、N-ベンゾイル2R-2-[R-ヒドロキシ-フェニル-メチル-ピロリジンであることがわかった。実施例21-2-[R-ヒドロキシ-フェニル-メチル-テトラヒドロフランの製造アルゴン雰囲気下、オートクレーブに、フェニル-テトラヒドロフラン-2-イル-メタノン0.529g3mmol、ラセミ体、イソプロパノール1.98ml、カリウム-t-ブトキシドを0.1Mイソプロパノール溶液として1.02ml0.102mmol、およびRuCl2binapdmapen5.8mg6μmol,S/C=500を添加した。脱気操作後、水素を10気圧まで圧入し、25°Cで20時間撹拌しながら反応させた。得られた粗生成物をガスクロマトグラフィーβ-DEX12030m×0.25μm、120°C、20分、5°C/分、150°C、60分、キャリアガス:ヘリウム100kPa、検出器:FID、4つの異性体のリテンションタイム54.1分、55.1分、56.6分、58.3分ジアステレオマーの生成比は95:5であった。粗生成物を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製したところ、光学活性フェニル-テトラヒドロフラン-2-イル-メタノール0.491mg2.76mmolが92の収率で得られた。鏡像異性体過剰率を上記と同条件のガスクロマトグラフィーで分析したとろ99eeリテンションタイム58.3分の鏡像異性体であった。この鏡像異性体は、分析の結果、-2-[R-ヒドロキシ-フェニル-メチル-テトラヒドロフランであることがわかった。実施例22N-t-ブトキシカルボニル-3S-3-[S-ヒドロキシ-フェニル-メチル--ピロリジンの製造アルゴン雰囲気下、オートクレーブに、N-ベンゾイル-ピロリジン-3-イル-フェニル-メタノン1.10g4mmol、ラセミ体、イソプロパノール2.7ml、カリウム-t-ブトキシドを0.1Mイソプロパノール溶液として1.3ml0.13mmol、およびRuCl2{S-binap}{R-dmapen}3.8mg4μmol,S/C=1,000を添加した。脱気操作後、水素を10気圧まで圧入し、25°Cで20時間撹拌しながら反応させた。得られた粗生成物をHPLC実施例15と同条件,ジアステレオマーのリテンションタイム8.4分,9.1分で分析したところ、ジアステレオマーの生成比は75:25であった。粗生成物を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製したところ、光学活性N-ベンゾイル-ピペリジン-2-イル-フェニル-メタノール0.833g3.0mmolが75の収率で得られた。鏡像異性体過剰率をHPLCDaicelChiralpackAD-H25cm,ヘキサン/イソプロパノール=90/10,1.0ml/分,20°C,鏡像異性体のリテンションタイム15.8分および20.3分により分析したところ98eeリテンションタイム15.8分の鏡像異性体であった。この鏡像異性体は、分析の結果、N-t-ブトキシカルボニル-3S-3-[S-ヒドロキシ-フェニル-メチル--ピロリジンであることがわかった。本発明を詳細に説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく、様々な修正や変更を加えることができることは、当業者にとって明らかである。本出願は、2010年12月15日出願の日本特許出願2010-279412及び2011年4月18日出願の日本特許出願2011-092511に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。また、明細書中に記載の文献の全ての内容も、参照として取り込まれる。"