"2つの摺動材料が相互に摺動する摺動面に潤滑油を介在させた摺動機構であって、潤滑油は、分子内に、窒素N原子及び/又は酸素O原子を有し、硫黄S原子を有してもよい有機モリブデン化合物であって、硫黄含有量が、化合物基準で0.5質量以下であることを特徴とする有機モリブデン化合物を含む潤滑油組成物からなり、2つの摺動材料のうち、少なくとも一方の摺動材料の摺動面に非晶質炭素膜が形成されており、非晶質炭素膜の表面には、粒平均直径0.1~10μm、凹凸高さ平均5~400nmの粒状凹凸が密集して形成されている摺動機構。2つの摺動材料が相互に摺動する摺動面に潤滑油を介在させた摺動機構であって、潤滑油は、分子内に、窒素N原子及び/又は酸素O原子を有し、硫黄S原子を有してもよい有機モリブデン化合物であって、硫黄含有量が、化合物基準で0.5質量以下であることを特徴とする有機モリブデン化合物を含む潤滑油組成物でからなり、2つの摺動材料のうち、少なくとも一方の摺動材料の摺動面に非晶質炭素膜が形成されており、非晶質炭素膜の表面が、直径0.1~10μmで深さ0.1~2μmの凹みを1000個/mm2以上有している摺動機構。非晶質炭素膜が、表面に粒状凹凸が密集した下地層の上に形成されている請求項1または2に記載の摺動機構。非晶質炭素膜が、水素を含有し、かつX線散乱スペクトルにおいてグラファイト結晶ピークを有している請求項1~3のいずれかに記載の摺動機構。2つの摺動材料が相互に摺動する摺動面に潤滑油を介在させた摺動機構であって、潤滑油は、分子内に、窒素N原子及び/又は酸素O原子を有し、硫黄S原子を有してもよい有機モリブデン化合物であって、硫黄含有量が、化合物基準で0.5質量以下であることを特徴とする有機モリブデン化合物を含む潤滑油組成物からなり、2つの摺動材料のうち、少なくとも一方の摺動材料の摺動面に非晶質炭素膜が形成されており、少なくとも最表層の非晶質炭素膜が、ビッカース硬度50~1000の非晶質炭素膜である摺動機構。非晶質炭素膜が、2層以上の複層構造であり、表層ほど膜硬度が低い請求項5に記載の摺動機構。潤滑油組成物が、有機モリブデン化合物の窒素含有量Nとモリブデン含有量Moの質量比N/Moが0.05以上1.0以下の潤滑油組成物である請求項1~6のいずれかに記載の摺動機構。潤滑油組成物が、組成物全量基準で、有機モリブデン化合物に由来する硫黄含有量が、100質量ppm以下である潤滑油組成物である請求項1~7のいずれかに記載の摺動機構。有機モリブデン化合物が、aモリブデン化合物とアミン化合物との反応生成物、b脂肪酸及び/又は脂肪酸誘導体、アミノ基及び/又はアルコール基含有有機化合物とモリブデン化合物の反応生成物、及び該生成物を硫化して得られる生成物、及びc酸性モリブデン化合物又はその塩と、コハク酸イミドもしくはカルボン酸アミドの反応生成物、及び該生成物を硫化して得られる生成物、の中から選ばれた1種又は2種以上の化合物である請求項1~8のいずれかに記載の摺動機構。潤滑油組成物が、さらに、有機ジチオリン酸亜鉛を含む請求項1~8のいずれかに記載の摺動機構。有機ジチオリン酸亜鉛を構成する炭化水素基が、2級アルキル基を含むものである請求項10に記載の摺動機構。潤滑油組成物が、組成物全量基準で、モリブデン含有量が0.02~0.2質量の潤滑油組成物である請求項1~11のいずれかに記載の摺動機構。本発明は、上記事情に鑑みなされたものであって、低摩擦摺動材料用潤滑油として用いた際に優れた低摩擦性に加えて優れた耐摩耗性を備えた低摩擦摺動材料用潤滑油組成物およびより優れた低摩擦性を有する摺動材料からなる摺動機構を提供することにより、優れた低摩擦性と耐摩耗性とを効果的に実現することを目的とするものである。本発明者等は、まず、潤滑油組成物について鋭意検討を行い、特定の有機モリブデン化合物を含む潤滑油組成物、具体的には、分子内に、窒素N原子及び/又は酸素O原子を有し、硫黄S原子を有してもよい有機モリブデン化合物であって、硫黄含有量が、化合物基準で0.5質量以下である有機モリブデン化合物を含む潤滑油組成物を用いた場合に優れた低摩擦性と耐摩耗性が得られることを見出した。本発明者等は、次に、摺動材料について鋭意検討を行った。その結果、前記したDLC皮膜等の非晶質炭素皮膜の表面が平滑すぎると低摩擦化の効果が小さくなる原因が、非晶質炭素皮膜の表面が平滑すぎる場合には、摺動面に固体状の潤滑物質が形成されにくく、また、形成されたとしても面圧が高いために摺動面から押し出されてしまうことにあることが分かったまた、基材表面が粗すぎると低摩擦化の効果が小さくなる原因は、以下の通りであることが分かった。即ち、摺動材料は、図9aに示すように、基材81上に、中間層82、非晶質炭素皮膜DLC皮膜83を形成することにより作製される。このとき、基材81の表面が平滑に近ければ基材81上に形成されるDLC皮膜83の表面も平滑に近くなるため、図9bに示すように、DLC皮膜83と摺動相手材91との接触面積が大きくなり、なじみ層として機能する固体状の潤滑物質84が広く形成される。一方、基材81の表面が粗い場合には基材81上に形成されるDLC皮膜83の表面も粗くなるため、図9cに示すように、摺動相手材91との接触面積を充分に確保することができず、固体状の潤滑物質84を充分に形成することができない。また形成されたとしてもDLC皮膜83の凹んだ部分に逃げてしまう。この結果、低摩擦化の効果が小さくなる。本発明者等は、上記の知見を基にさらに鋭意研究を重ねた結果、潤滑油として、前記した所定の有機モリブデン化合物を含む潤滑油組成物で構成された潤滑油を用いると共に、摺動材料として、2つの摺動材料のうち少なくとも一方の摺動材料の摺動面に、適切な大きさの粒状凹凸が密集した非晶質炭素膜または適切な大きさの凹みが多数設けられている非晶質炭素膜が形成されている摺動材料、あるいは少なくとも最表面に低硬度の非晶質炭素膜が設けられている摺動材料を用いることにより、前記課題が解決できることを見出した。すなわち本発明は、1.2つの摺動材料が相互に摺動する摺動面に潤滑油を介在させた摺動機構であって、潤滑油は、分子内に、窒素N原子及び/又は酸素O原子を有し、硫黄S原子を有してもよい有機モリブデン化合物であって、硫黄含有量が、化合物基準で0.5質量以下であることを特徴とする有機モリブデン化合物を含む潤滑油組成物からなり、2つの摺動材料のうち、少なくとも一方の摺動材料の摺動面に非晶質炭素膜が形成されており、非晶質炭素膜の表面には、粒平均直径0.1~10μm、凹凸高さ平均5~400nmの粒状凹凸が密集して形成されている摺動機構、2.2つの摺動材料が相互に摺動する摺動面に潤滑油を介在させた摺動機構であって、潤滑油は、分子内に、窒素N原子及び/又は酸素O原子を有し、硫黄S原子を有してもよい有機モリブデン化合物であって、硫黄含有量が、化合物基準で0.5質量以下であることを特徴とする有機モリブデン化合物を含む潤滑油組成物からなり、2つの摺動材料のうち、少なくとも一方の摺動材料の摺動面に非晶質炭素膜が形成されており、非晶質炭素膜の表面が、直径0.1~10μm、深さ0.1~2μmの凹みを1000個/mm2以上有している摺動機構、3.非晶質炭素膜が、表面に粒状凹凸が密集した下地層の上に形成されている上記1または2に記載の摺動機構、4.非晶質炭素膜が、水素を含有し、かつX線散乱スペクトルにおいてグラファイト結晶ピークを有している上記1~3のいずれかに記載の摺動機構、5.2つの摺動材料が相互に摺動する摺動面に潤滑油を介在させた摺動機構であって、潤滑油は、分子内に、窒素N原子及び/又は酸素O原子を有し、硫黄S原子を有してもよい有機モリブデン化合物であって、硫黄含有量が、化合物基準で0.5質量以下であることを特徴とする有機モリブデン化合物を含む潤滑油組成物からなり、2つの摺動材料のうち、少なくとも一方の摺動材料の摺動面に非晶質炭素膜が形成されており、少なくとも最表層の非晶質炭素膜が、ビッカース硬度50~1000の非晶質炭素膜である摺動機構、6.非晶質炭素膜が、2層以上の複層構造であり、表層ほど膜硬度が低い上記5に記載の摺動機構、7.潤滑油組成物が、有機モリブデン化合物の窒素含有量Nとモリブデン含有量Moの質量比N/Moが0.05以上1.0以下の潤滑油組成物である上記1~6のいずれかに記載の摺動機構、8.潤滑油組成物が、組成物全量基準で、有機モリブデン化合物に由来する硫黄含有量が、100質量ppm以下である潤滑油組成物である上記1~7のいずれかに記載の摺動機構、9.有機モリブデン化合物が、aモリブデン化合物とアミン化合物との反応生成物、b脂肪酸及び/又は脂肪酸誘導体、アミノ基及び/又はアルコール基含有有機化合物とモリブデン化合物の反応生成物、及び該生成物を硫化して得られる生成物、及びc酸性モリブデン化合物又はその塩と、コハク酸イミドもしくはカルボン酸アミドの反応生成物、及び該生成物を硫化して得られる生成物、の中から選ばれた1種又は2種以上の化合物である上記1~8のいずれかに記載の摺動機構、10.潤滑油組成物が、さらに、有機ジチオリン酸亜鉛を含む上記1~8のいずれかに記載の摺動機構、11.有機ジチオリン酸亜鉛を構成する炭化水素基が、2級アルキル基を含むものである上記10に記載の摺動機構、12.潤滑油組成物が、組成物全量基準で、モリブデン含有量が0.02~0.2質量の潤滑油組成物である上記1~11のいずれかに記載の摺動機構、を提供するものである。本発明によれば、低摩擦摺動材料用潤滑油として用いた際に優れた低摩擦性に加えて優れた耐摩耗性を備えた低摩擦摺動材料用潤滑油組成物およびより優れた低摩擦性を有する摺動材料からなる摺動機構を提供することができ、優れた低摩擦性と耐摩耗性とを効果的に実現することができる。本実施の形態の摺動機構は、以下に説明する潤滑油組成物からなる潤滑油と摺動材料とを組み合わせて構成されている。1.潤滑油組成物はじめに潤滑油組成物について説明する。潤滑油組成物は、以下に記載する潤滑油基油と有機モリブデン化合物を含有する。本発明で用いる潤滑油基油は特に制限はなく、従来使用されている公知の鉱物系基油及び合成系基油の中から適宜選択して用いることができる。ここで、鉱油としては、例えば、原油を常圧蒸留して得られる常圧残油を減圧蒸留して得られた潤滑油留分を、溶剤脱れき、溶剤抽出、水素化分解、溶剤脱ろう、接触脱ろう、水素化精製等の1つ以上の処理を行って精製した鉱油、あるいはワックスやGTLWAXを異性化することによって製造される鉱油等が挙げられる。また、合成油としては、例えば、ポリブテン、ポリオレフィン[α-オレフィン単独重合体や共重合体例えばエチレン-α-オレフィン共重合体など]、各種のエステル例えば、ポリオールエステル、二塩基酸エステル、リン酸エステルなど、各種のエーテル例えば、ポリフェニルエーテルなど、ポリグリコール、アルキルベンゼン、アルキルナフタレンなどが挙げられる。これらの合成油のうち、特にポリα-オレフィンが好ましい。本発明においては、基油として、上記鉱油を1種用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、上記合成油を1種用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。さらには、鉱油1種以上と合成油1種以上とを組み合わせて用いてもよい。基油の粘度については特に制限はなく、潤滑油組成物の用途に応じて異なるが、通常100°Cの動粘度が2~30mm2/s、好ましくは2.5~15mm2/s、より好ましくは3.5~10mm2/sである。100°Cにおける動粘度が2mm2/s以上であれば蒸発損失が少なく、一方30mm2/s以下であれば、粘性抵抗による動力損失があまり大きくなることがなく、燃費改善効果が得られる。また、基油としては、JISK2541に準拠して測定した硫黄分が50質量ppm以下であるものが好ましい。硫黄分が50質量ppm以下であれば、低摩擦摺動材料の耐摩耗性を高める効果がある。より好ましい硫黄分は、30質量ppm以下、さらには20質量ppm以下である。また、基油としては、環分析によるCAが3.0以下のものが好ましく用いられる。ここで、環分析によるCAとは、環分析n-d-M法にて算出した芳香族分の割合百分率を示す。CAが、3.0以下であれば、良好な酸化安定性を示す。より好ましいCAは1.0以下、さらには、0.5以下である。さらに、基油の粘度指数は、70以上が好ましく、より好ましくは100以上、さらに好ましくは120以上である。この粘度指数が70以上の基油は、温度の変化による粘度変化が小さく、安定した潤滑特性が得られる。本発明においては、分子内に、窒素N原子及び/又は酸素O原子を有し、硫黄S原子を有してもよい有機モリブデン化合物であって、硫黄含有量が、化合物基準で0.5質量以下である有機モリブデン化合物を用いる。このような化合物を含む潤滑油組成物は、低摩擦摺動材料に対して優れた低摩擦性と耐摩耗性とを共に付与する効果がある。すなわち、本発明において用いる有機モリブデン化合物は、硫黄含有量が、化合物基準で0.5質量以下であることを要する。有機モリブデン化合物の硫黄含有量が、化合物基準で0.5質量を越える有機モリブデン化合物を用いると、低摩擦摺動材料に対する耐摩耗性が悪化する。従って、好ましい有機モリブデン化合物の硫黄含有量は、0.3質量以下である。また、本発明の有機モリブデン化合物は、窒素含有量Nとモリブデン含有量Moの質量比N/Moが0.05以上1.0以下であることが好ましい。これによって、さらに優れた低摩擦性を得ることができる。窒素含有量Nとモリブデン含有量Moの質量比N/Moが0.05未満であると化合物の安定性が劣ることがあり、1.0を越えると摩擦低減効果が低下することがある。従って、窒素含有量Nとモリブデン含有量Moの質量比N/Mo0.1以上0.8以下であることがより好ましい。このような化合物は、特に制限はないが、例えば、aモリブデン化合物とアミン化合物との反応生成物、b脂肪酸及び/又は脂肪酸誘導体、アミノ基及び/又はアルコール基含有有機化合物とモリブデン化合物の反応生成物、及び該生成物を硫化して得られる反応生成物、及びc酸性モリブデン化合物又はその塩と、コハク酸イミド、もしくはカルボン酸アミドとの反応生成物、及び該生成物を硫化して得られる反応生成物、が挙げられる。前記aモリブデン化合物とアミン化合物との反応生成物は、6価のモリブデン化合物、具体的には三酸化モリブデン及び/又はモリブデン酸とアミン化合物とを反応させることにより、例えば特開2003-252887号公報に記載の製造方法で得ることができる。6価のモリブデン化合物と反応させるアミン化合物としては特に制限されないが、具体的には、モノアミン、ジアミン、ポリアミン及びアルカノールアミンが挙げられる。より具体的には、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ウンデシルアミン、ドデシルアミン、トリデシルアミン、テトラデシルアミン、ペンタデシルアミン、ヘキサデシルアミン、ヘプタデシルアミン、オクタデシルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、ジノニルアミン、ジデシルアミン、ジウンデシルアミン、ジドデシルアミン、ジトリデシルアミン、ジテトラデシルアミン、ジペンタデシルアミン、ジヘキサデシルアミン、ジヘプタデシルアミン、ジオクタデシルアミン、メチルエチルアミン、メチルプロピルアミン、メチルブチルアミン、エチルプロピルアミン、エチルブチルアミン、及びプロピルブチルアミン等の炭素数1~30のアルキル基これらのアルキル基は直鎖状でも分枝状でもよいを有するアルキルアミン;エテニルアミン、プロペニルアミン、ブテニルアミン、オクテニルアミン、及びオレイルアミン等の炭素数2~30のアルケニル基これらのアルケニル基は直鎖状でも分枝状でもよいを有するアルケニルアミン;メタノールアミン、エタノールアミン、プロパノールアミン、ブタノールアミン、ペンタノールアミン、ヘキサノールアミン、ヘプタノールアミン、オクタノールアミン、ノナノールアミン、メタノールエタノールアミン、メタノールプロパノールアミン、メタノールブタノールアミン、エタノールプロパノールアミン、エタノールブタノールアミン、及びプロパノールブタノールアミン等の炭素数1~30のアルカノール基これらのアルカノール基は直鎖状でも分枝状でもよいを有するアルカノールアミン;メチレンジアミン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、及びブチレンジアミン等の炭素数1~30のアルキレン基を有するアルキレンジアミン;ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン等のポリアミン;ウンデシルジエチルアミン、ウンデシルジエタノールアミン、ドデシルジプロパノールアミン、オレイルジエタノールアミン、オレイルプロピレンジアミン、ステアリルテトラエチレンペンタミン等の上記モノアミン、ジアミン、ポリアミンに炭素数8~20のアルキル基又はアルケニル基を有する化合物やイミダゾリン等の複素環化合物;これらの化合物のアルキレンオキシド付加物;及びこれらの混合物等が例示できる。これらのアミン化合物の中でも、第1級アミン、第2級アミン及びアルカノールアミンが好ましい。これらのアミン化合物が有する炭化水素基の炭素数は、好ましくは4以上であり、より好ましくは4~30であり、特に好ましくは8~18である。アミン化合物の炭化水素基の炭素数が4未満であると、溶解性が悪化する傾向にある。また、アミン化合物の炭素数を30以下とすることにより、反応生成物におけるモリブデン含量を相対的に高めることができ、少量の配合でその効果を高めることができる。これらのアミン化合物は1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。前記6価のモリブデン化合物とアミン化合物との反応比は、アミン化合物1モルに対し、モリブデン化合物のMo原子のモル比が、0.7~5であることが好ましく、0.8~4であることがより好ましく、1~2.5であることがさらに好ましい。反応方法については特に制限はなく、従来公知の方法、例えば特開2003-252887号公報に記載されている方法を採用することができる。前記b脂肪酸及び/又は脂肪酸誘導体、アミノ基及び/又はアルコール基含有有機化合物とモリブデン化合物の反応生成物は、様々な形態で製造可能であるが、特許2757174に記述されている反応生成物は、米国特許第5,412,130号で開示されているジオール、ジアミノ、又はアミノ-アルコール化合物とモリブデン源とを相間移動触媒の存在において反応させることによって得られる。米国特許第4,889,647号には脂肪油と、ジエタノールアミンとモリブデン源との反応生成物、米国特許第5,137,647号には2-2-アミノエチルアミノエタノールの脂肪酸誘導体とモリブデン源との反応生成物が開示されている。特許3291339に開示されている2-2-アミノエチルアミノエタノールの脂肪誘導体とモリブデン源との反応で得られる反応生成物は、1-2-ヒドロキシエチル-2-イミダゾリンの脂肪誘導体の加水分解によってできるアミン-アミド中間体とモリブデン源との反応で得られる。特許4109428に開示されている反応生成物は、脂肪油、モノアルキル化アルキレンジアミン及びモリブデン源の反応生成物を含んでおり、第1のステップとして、脂肪油とモノ置換アルキレンジアミンを高温で反応させてアミノアミド/グリセリド混合物を製造し、第2のステップとして、モリブデン源と反応させる方法で製造することが好ましい。脂肪油としては脂肪酸のグリセリルエステル、トリアシルグリセロールまたはトリグリセリドが挙げられる。ジアミンとしては、脂肪油と反応することが可能で、中間体のアミノアミド/グリセリド混合物がモリブデン源と反応することが可能であるモノアルキル化ジアミンが用いられる。モリブデン源は、アンモニウムモリブデート、ナトリウムモリブデート、酸化モリブデン及びこれらの混合物が挙げられ、特に好ましいモリブデン源は三酸化モリブデンである。特許4109429に開示されている反応生成物は、長鎖モノカルボン酸とモノアルキル化アルキレンジアミンとグリセリドとモリブデン源の反応生成物を含んで成る。長鎖モノカルボン酸は、炭素原子を好適には少なくとも8、より好適には少なくとも12含む。モリブデン源にはモリブデン酸アンモニウム、モリブデン酸ナトリウム、酸化モリブデンおよびそれらの混合物が挙げられる。さらに、これらの反応生成物は、特開2004-2866号公報に記載された製造方法により、硫化させてもよい。また、前記c酸性モリブデン化合物又はその塩と、コハク酸イミドもしくはカルボン酸アミドとの反応生成物、及び該生成物を硫化して得られる反応生成物は、特開2004-2866号公報に記載された製造方法で得ることができる。本発明の潤滑油組成物における、上記有機モリブデン化合物に由来する硫黄含有量については、組成物全量基準で100質量ppm以下であることが好ましい。また、本発明の潤滑油組成物における、上記有機モリブデン化合物の配合量については、組成物全量基準とし、モリブデン換算で、0.02~0.2質量であることが好ましい。0.02質量以上であれば、低摩擦性と良好な耐摩耗性を得ることができる。より好ましい配合量は、モリブデン換算で、0.025質量以上、さらには0.03質量以上である。本発明の潤滑油組成物においては、上記有機モリブデン化合物とともに、さらに、有機ジチオリン酸亜鉛を含むことが好ましい。上記有機モリブデン化合物と有機ジチオリン酸亜鉛が共存することより、低摩擦摺動材料に対する低摩擦性と耐摩耗性とをさらに向上させることができる。前記有機ジチオリン酸亜鉛としては、一般式Iで表わされる有機ジチオリン酸亜鉛を用いることができる。一般式I中のR1、R2、R3及びR4は、それぞれ別個に炭素数1~24の炭化水素基を示す。これら炭化水素基としては、炭素数1~24の直鎖状又は分枝状のアルキル基、炭素数3~24の直鎖状又は分枝状のアルケニル基、炭素数5~13のシクロアルキル基又は直鎖状若しくは分枝状のアルキルシクロアルキル基、炭素数6~18のアリール基又は直鎖状若しくは分枝状のアルキルアリール基、及び炭素数7~19のアリールアルキル基等のいずれかであることが望ましい。また、アルキル基やアルケニル基は、第1級、第2級及び第3級のいずれであってもよい。本発明においては、炭化水素基であるR1、R2、R3及びR4が、第2級のアルキル基を含むものが好ましい。例えば、ジ-sec-ブチルジチオリン酸亜鉛、ジ-sec-ペンチルジチオリン酸ジ-sec-ヘキシルジチオリン酸亜鉛、及びこれらの任意の組合せに係る混合物等が挙げられる。本発明の潤滑油組成物における、上記有機ジチオリン酸亜鉛の配合量については、リン量換算で、0.005質量以上であることが好ましい。0.005質量以上であれば、低摩擦性と耐摩耗性を向上することができる。より好ましい配合量は、リン換算で、0.01質量以上、さらには0.02質量以上である。本発明の潤滑油組成物には、本発明の目的が損なわれない範囲で、必要に応じて他の添加剤、例えば、粘度指数向上剤、流動点降下剤、清浄分散剤、酸化防止剤、耐摩耗剤又は極圧剤、摩擦低減剤、分散剤、防錆剤、界面活性剤又は抗乳化剤、消泡剤などを適宜配合することができる。粘度指数向上剤としては、例えば、ポリメタクリレート、分散型ポリメタクリレート、オレフィン系共重合体例えば、エチレン-プロピレン共重合体など、分散型オレフィン系共重合体、スチレン系共重合体例えば、スチレン-ジエン共重合体、スチレン-イソプレン共重合体などなどが挙げられる。粘度指数向上剤の配合量は、配合効果の点から、潤滑油組成物全量基準で、通常0.5~15質量程度であり、好ましくは1~10質量である。流動点降下剤としては、例えば、重量平均分子量が5000~50,000程度のポリメタクリレートなどが挙げられる。流動点降下剤の配合量は、配合効果の点から、潤滑油組成物全量基準で、通常0.1~2質量程度であり、好ましくは0.1~1質量である。清浄分散剤としては、無灰分散剤、金属系清浄剤を用いることができる。無灰分散剤としては、潤滑油に用いられる任意の無灰分散剤を用いることができるが、例えば、一般式IIで表されるモノタイプのコハク酸イミド化合物、又は一般式IIIで表されるビスタイプのコハク酸イミド化合物が挙げられる。一般式II、IIIにおいて、R11、R13及びR14は、それぞれ、数平均分子量500~4,000のアルケニル基若しくはアルキル基で、R13及びR14は同一でも異なっていてもよい。R11、R13及びR14の数平均分子量は、好ましくは1,000~4,000である。また、R12、R15及びR16は、それぞれ、炭素数2~5のアルキレン基で、R15及びR16は同一でも異なっていてもよく、rは1~10の整数を示し、sは0又は1~10の整数を示す。上記R11、R13及びR14の数平均分子量が500未満であると、基油への溶解性が低下し、4,000を超えると、清浄性が低下し、目的の性能が得られないおそれがある。また、上記rは、好ましくは2~5、より好ましくは3~4である。rが1未満であると、清浄性が悪化し、rが11以上であると、基油に対する溶解性が悪くなる。一般式IIIにおいて、sは好ましくは1~4、より好ましくは2~3である。上記範囲内であれば、清浄性及び基油に対する溶解性の点で好ましい。アルケニル基としては、ポリブテニル基、ポリイソブテニル基、エチレン-プロピレン共重合体を挙げることができ、アルキル基としてはこれらを水添したものである。好適なアルケニル基の代表例としては、ポリブテニル基又はポリイソブテニル基が挙げられる。ポリブテニル基は、1-ブテンとイソブテンの混合物あるいは高純度のイソブテンを重合させたものとして得られる。また、好適なアルキル基の代表例としては、ポリブテニル基又はポリイソブテニル基を水添したものである。上記のアルケニル若しくはアルキルコハク酸イミド化合物は、通常、ポリオレフィンと無水マレイン酸との反応で得られるアルケニルコハク酸無水物、又はそれを水添して得られるアルキルコハク酸無水物を、ポリアミンと反応させることによって製造することができる。上記のモノタイプのコハク酸イミド化合物及びビスタイプのコハク酸イミド化合物は、アルケニルコハク酸無水物若しくはアルキルコハク酸無水物とポリアミンとの反応比率を変えることによって製造することができる。上記ポリオレフィンを形成するオレフィン単量体としては、炭素数2~8のα-オレフィンの1種又は2種以上を混合して用いることができるが、イソブテンとブテン-1の混合物を好適に用いることができる。ポリアミンとしては、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ブチレンジアミン、ペンチレンジアミン等の単一ジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン、ジメチルエチレントリアミン、ジブチレントリアミン、トリブチレンテトラミン、ペンタペンチレンヘキサミン等のポリアルキレンポリアミン、アミノエチルピペラジン等のピペラジン誘導体を挙げることができる。また、上記のアルケニル若しくはアルキルコハク酸イミド化合物の他に、そのホウ素誘導体、及び/又はこれらを有機酸で変性したものを用いてもよい。アルケニル若しくはアルキルコハク酸イミド化合物のホウ素誘導体は、常法により製造したものを使用することができる。例えば、上記のポリオレフィンを無水マレイン酸と反応させてアルケニルコハク酸無水物とした後、更に上記のポリアミンと酸化ホウ素、ハロゲン化ホウ素、ホウ酸、ホウ酸無水物、ホウ酸エステル、ホウ素酸のアンモニウム塩等のホウ素化合物を反応させて得られる中間体と反応させてイミド化させることによって得られる。このホウ素誘導体中のホウ素含有量には、特に制限はないが、ホウ素として、通常、0.05~5質量、好ましくは0.1~3質量である。一般式IIで表されるモノタイプのコハク酸イミド化合物、又は一般式IIIで表されるビスタイプのコハク酸イミド化合物の配合量は、潤滑油組成物全量基準で、0.5~15質量、好ましくは1~10質量である。配合量が0.5質量未満であると、その効果が発揮されにくく、又15質量を超えてもその配合量に見合った効果は得られない。また、コハク酸イミド化合物は、上記の規定量を含有する限り、単独又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。金属系清浄剤としては、潤滑油に用いられる任意のアルカリ土類金属系清浄剤が使用可能であり、例えば、アルカリ土類金属スルフォネート、アルカリ土類金属フェネート、アルカリ土類金属サリシレート及びこれらの中から選ばれる2種類以上の混合物等が挙げられる。アルカリ土類金属スルフォネートとしては、分子量300~1,500、好ましくは400~700のアルキル芳香族化合物をスルフォン化することによって得られるアルキル芳香族スルフォン酸のアルカリ土類金属塩、特にマグネシウム塩及び/又はカルシウム塩等が挙げられ、中でもカルシウム塩が好ましく用いられる。アルカリ土類金属フェネートとしては、アルキルフェノール、アルキルフェノールサルファイド、アルキルフェノールのマンニッヒ反応物のアルカリ土類金属塩、特にマグネシウム塩及び/又はカルシウム塩等が挙げられ、中でもカルシウム塩が特に好ましく用いられる。アルカリ土類金属サリシレートとしては、アルキルサリチル酸のアルカリ土類金属塩、特にマグネシウム塩及び/又はカルシウム塩等が挙げられ、中でもカルシウム塩が好ましく用いられる。前記アルカリ土類金属系清浄剤を構成するアルキル基としては、炭素数4~30のものが好ましく、より好ましくは6~18の直鎖又は分枝アルキル基であり、これらは直鎖でも分枝でもよい。これらはまた1級アルキル基、2級アルキル基又は3級アルキル基でもよい。また、アルカリ土類金属スルフォネート、アルカリ土類金属フェネート及びアルカリ土類金属サリシレートとしては、前記のアルキル芳香族スルフォン酸、アルキルフェノール、アルキルフェノールサルファイド、アルキルフェノールのマンニッヒ反応物、アルキルサリチル酸等を直接、マグネシウム及び/又はカルシウムのアルカリ土類金属の酸化物や水酸化物等のアルカリ土類金属塩基と反応させたり、又は一度ナトリウム塩やカリウム塩等のアルカリ金属塩としてからアルカリ土類金属塩と置換させること等により得られる中性アルカリ土類金属スルフォネート、中性アルカリ土類金属フェネート及び中性アルカリ土類金属サリシレートだけでなく、中性アルカリ土類金属スルフォネート、中性アルカリ土類金属フェネート及び中性アルカリ土類金属サリシレートと過剰のアルカリ土類金属塩やアルカリ土類金属塩基を水の存在下で加熱することにより得られる塩基性アルカリ土類金属スルフォネート、塩基性アルカリ土類金属フェネート及び塩基性アルカリ土類金属サリシレートや、炭酸ガスの存在下で中性アルカリ土類金属スルフォネート、中性アルカリ土類金属フェネート及び中性アルカリ土類金属サリシレートをアルカリ土類金属の炭酸塩又はホウ酸塩を反応させることにより得られる過塩基性アルカリ土類金属スルフォネート、過塩基性アルカリ土類金属フェネート及び過塩基性アルカリ土類金属サリシレートも含まれる。本発明において金属系清浄剤としては、上記の中性塩、塩基性塩、過塩基性塩及びこれらの混合物等を用いることができ、特に過塩基性サリチレート、過塩基性フェネート、過塩基性スルフォネートの1種以上と中性スルフォネートとの混合が清浄性、耐摩耗性において好ましい。本発明において、金属系清浄剤の全塩基価は、通常、10~500mgKOH/g、好ましくは15~450mgKOH/gであり、これらの中から選ばれる1種又は2種以上併用することができる。なお、ここでいう全塩基価とは、JISK2501石油製品及び潤滑油-中和価試験方法の7.に準拠して測定される電位差滴定法塩基価過塩素酸法による全塩基価を意味する。また、本発明の金属系清浄剤としては、その金属比に特に制限はなく、通常20以下のものを1種又は2種以上混合して使用できるが、好ましくは、金属比が3以下、より好ましく1.5以下、特に好ましくは1.2以下の金属系清浄剤を必須成分とすることが、酸化安定性や塩基価維持性及び高温清浄性等により優れるため特に好ましい。なお、ここでいう金属比とは、金属系清浄剤における金属元素の価数×金属元素含有量モル/せっけん基含有量モルで表され、金属元素とはカルシウム、マグネシウム等、せっけん基とは、スルフォン酸基、フェノール基及びサリチル酸基等を意味する。金属系清浄剤は、通常、軽質潤滑油基油等で希釈された状態で市販されており、また入手可能であるが、一般的に、その金属含有量が1.0~20質量、好ましくは2.0~16質量のものを用いるのが望ましい。金属系清浄剤の配合量は、潤滑油組成物全量基準で、0.01~20質量、好ましくは0.1~10質量である。配合量が0.01質量未満であると、その効果が発揮されにくく、また20質量を超えてもその添加に見合った効果は得られない。また、金属系清浄剤は、上記の規定量を含有する限り、単独又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤及び硫黄系酸化防止剤等が挙げられる。フェノール系酸化防止剤としては、例えば、4,4’-メチレンビス2,6-ジ-t-ブチルフェノール;4,4’-ビス2,6-ジ-t-ブチルフェノール;4,4’-ビス2-メチル-6-t-ブチルフェノール;2,2’-メチレンビス4-エチル-6-t-ブチルフェノール;2,2’-メチレンビス4-メチル-6-t-ブチルフェノール;4,4’-ブチリデンビス3-メチル-6-t-ブチルフェノール;4,4’-イソプロピリデンビス2,6-ジ-t-ブチルフェノール;2,2’-メチレンビス4-メチル-6-ノニルフェノール;2,2’-イソブチリデンビス4,6-ジメチルフェノール;2,2’-メチレンビス4-メチル-6-シクロヘキシルフェノール;2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノール;2,6-ジ-t-ブチル-4-エチルフェノール;2,4-ジメチル-6-t-ブチルフェノール;2,6-ジ-t-アミル-p-クレゾール;2,6-ジ-t-ブチル-4-N,N’-ジメチルアミノメチルフェノール;4,4’-チオビス2-メチル-6-t-ブチルフェノール;4,4’-チオビス3-メチル-6-t-ブチルフェノール;2,2’-チオビス4-メチル-6-t-ブチルフェノール;ビス3-メチル-4-ヒドロキシ-5-t-ブチルベンジルスルフィド;ビス3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルスルフィド;n-オクチル-3-4-ヒドロキシ-3,5-ジ-t-ブチルフェニルプロピオネート;n-オクタデシル-3-4-ヒドロキシ-3,5-ジ-t-ブチルフェニルプロピオネート;2,2’-チオ[ジエチル-ビス-3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート]などが挙げられる。これらの中で、特にビスフェノール系及びエステル基含有フェノール系のものが好適である。また、アミン系酸化防止剤としては、例えば、モノオクチルジフェニルアミン;モノノニルジフェニルアミンなどのモノアルキルジフェニルアミン系、4,4’-ジブチルジフェニルアミン;4,4’-ジペンチルジフェニルアミン;4,4’-ジヘキシルジフェニルアミン;4,4’-ジヘプチルジフェニルアミン;4,4’-ジオクチルジフェニルアミン;4,4’-ジノニルジフェニルアミンなどのジアルキルジフェニルアミン系、テトラブチルジフェニルアミン;テトラヘキシルジフェニルアミン;テトラオクチルジフェニルアミン;テトラノニルジフェニルアミンなどのポリアルキルジフェニルアミン系、及びナフチルアミン系のもの、具体的には、α-ナフチルアミン;フェニル-α-ナフチルアミン;更にはブチルフェニル-α-ナフチルアミン;ペンチルフェニル-α-ナフチルアミン;ヘキシルフェニル-α-ナフチルアミン;ヘプチルフェニル-α-ナフチルアミン;オクチルフェニル-α-ナフチルアミン;ノニルフェニル-α-ナフチルアミンなどのアルキル置換フェニル-α-ナフチルアミンなどが挙げられる。これらの中で、ジアルキルジフェニルアミン系及びナフチルアミン系のものが好適である。硫黄系酸化防止剤としては、例えばフェノチアジン、ペンタエリスリトール-テトラキス-3-ラウリルチオプロピオネート、ジドデシルサルファイド、ジオクタデシルサルファイド、ジドデシルチオジプロピオネート、ジオクタデシルチオジプロピオネート、ジミリスチルチオジプロピオネート、ドデシルオクタデシルチオジプロピオネート、2-メルカプトベンゾイミダゾールなどが挙げられる。酸化防止剤の配合量は、潤滑油組成物全量基準で、0.1~5質量、好ましくは0.1~3質量である。摩擦低減剤としては、潤滑油用の摩擦低減剤として通常用いられている任意の化合物が使用可能であり、例えば、炭素数6~30のアルキル基又はアルケニル基を分子中に少なくとも1個有する、脂肪酸エステル、脂肪酸アミド、脂肪酸、脂肪族アルコール、脂肪族アミン、脂肪族エーテル等の無灰摩擦低減剤が挙げられる。摩擦低減剤の配合量は、潤滑油組成物全量基準で、0.01~2質量、好ましくは0.01~1質量である。金属不活性剤としてベンゾトリアゾール系、トリルトリアゾール系、チアジアゾール系、及びイミダゾール系化合物等が挙げられる。金属不活性剤の配合量は、潤滑油組成物全量基準で、0.01~3質量、好ましくは0.01~1質量である。防錆剤としては、石油スルホネート、アルキルベンゼンスルホネート、ジノニルナフタレンスルホネート、アルケニルコハク酸エステル、多価アルコールエステル等が挙げられる。これら防錆剤の配合量は、配合効果の点から、潤滑油組成物全量基準で、通常0.01~1質量程度であり、好ましくは0.05~0.5質量である。界面活性剤又は抗乳化剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル及びポリオキシエチレンアルキルナフチルエーテル等のポリアルキレングリコール系非イオン性界面活性剤等が挙げられる。界面活性剤又は抗乳化剤の配合量は、潤滑油組成物全量基準で、0.01~3質量、好ましくは0.01~1質量である。消泡剤としては、シリコーン油、フルオロシリコーン油及びフルオロアルキルエーテル等が挙げられ、消泡効果及び経済性のバランスなどの点から、潤滑油組成物全量基準で、0.005~0.5質量、好ましくは0.01~0.2質量である。上記潤滑油を後記する摺動材料の摺動面に介在させて摺動させることにより、摺動面にモリブデンを成分とする固体状の潤滑物質が形成されて、大きな低摩擦化効果が得られる。2.摺動材料次に、摺動材料について説明する。摺動材料は、少なくとも一方の摺動材料の摺動面に以下に記載する第1~第3のいずれかの非晶質炭素膜が形成されている。a.非晶質炭素膜1第1の非晶質炭素膜第1の非晶質炭素膜は、表面に、粒平均直径が0.1~10μm、凹凸高さ凸部の頂上と凹部の底との高低差平均が5~400nmの粒状凹凸が連続的に形成されて密集している非晶質炭素膜である。前記のように摺動面が平滑すぎる場合、低摩擦化することは困難であるが、上記のような粒状凹凸が密集した非晶質炭素膜を形成することによって低摩擦化することができる。図1は非晶質炭素膜表面における粒状凹凸の平均直径と最小摩擦係数との関係の一例を示す図である。図1に示すように、粒状凹凸の平均直径が大きくなるに伴って、最小摩擦係数が低下している。このように粒状凹凸が大きくなると摩擦係数が低下する理由は、以下のように考えられる。即ち、上記の潤滑油と非晶質炭素膜を組み合わせて摺動させた場合、前記のように摺動面にモリブデンを成分とする固体状の潤滑物質が形成され、摩擦係数が低下する。しかし、この固体状の潤滑物質は低硬度でかつ強固に固着するものではないため、面圧が高い平滑な表面では摺動領域から押し出され、排除されやすい。また面圧が高いと有機モリブデン化合物が摺動面に留まりにくいため、固体状の潤滑物質が生成されにくい。これに対して、表面に適度な粒状の凹凸が形成された第1の非晶質炭素膜の場合には、摺動により非晶質炭素膜表面が摩耗しても、接触しない凹みが存在し、潤滑油が溜まりやすい。これにより、有機モリブデン化合物の反応により固体状の潤滑物質の生成が促進され、また生成された固体状の潤滑物質も摺動面に留まりやすい。図2に、本実施の形態に係る第1の非晶質炭素膜の摺動前と摺動後の表面SEM写真を示す。なお、図2において、aは摺動前、bは摺動後の非晶質炭素膜表面のSEM写真であり、各図の左側は広域、右側は拡大写真である。図2に示すように、摺動後においても凹みが存在していることが分かる。また、第1の非晶質炭素膜は、水素を含有し、かつX線散乱スペクトルにおいてグラファイト結晶ピークを有する場合、更なる低摩擦、耐摩耗性が得られるため好ましい。そして、水素を5~50含有するa-C:H水素アモルファスカーボンやDLCWが好ましい。なお、グラファイト結晶の結晶径としては、15~100nmであることが好ましい。2第2の非晶質炭素膜第2の非晶質炭素膜は、表面に、直径0.1~10μm、深さ0.1~2μmの凹みを1000個/mm2以上有している非晶質炭素膜である。第2の非晶質炭素膜の場合においても、上記した第1の非晶質炭素膜の場合と同様に、表面に凹みが充分に多く存在するため、摺動面に潤滑油が充分に溜まりやすく、大きな低摩擦化効果を発揮させることができると共に、その効果を長時間維持することができる。なお、凹みが多すぎると、基材上に膜が突起状に形成された状態となり、摩擦係数が上昇する恐れがあるため、相手材を考慮して適宜設定される。また、第1の非晶質炭素膜と同様に、水素を含有し、かつX線散乱スペクトルにおいてグラファイト結晶ピークを有する第2の非晶質炭素膜は、更なる低摩擦、耐摩耗性が得られるため好ましい。3第3の非晶質炭素膜第3の非晶質炭素膜は、少なくとも最表層がビッカース硬度50~1000の非晶質炭素膜である。摺動中に膜表面になじみ層として生成される固体状の潤滑物質の量は接触面積に依存するため、粗い基材表面に通常のビッカース硬度Hvが1000より大きく2000以下である高硬度の非晶質炭素膜DLC皮膜を形成した場合、摺動が始まっても凸部の摩耗が進行しにくいため平滑な表面状態を形成することができず、充分な接触面積を得ることができない。この結果、図9を用いて既に説明したように、固体状の潤滑物質が充分に生成されず、また、固体状の潤滑物質は表面に強固に固着しないため、摺動面に固体状の潤滑物質が形成されても凹んだ部分に逃げてしまい、充分な低摩擦化効果を得ることができない。これに対して、第3の非晶質炭素膜は、例えば、図3aに示すように、基材21、中間層22、および第1と第2最表層の2層の非晶質炭素膜23、24とで構成されており、少なくとも最表層24は、ビッカース硬度Hvが50~1000の低硬度の非晶質炭素膜である。このように、最表層に低硬度の非晶質炭素膜24を形成することにより、図3bに示すような、表面が粗い基材21上に粗い非晶質炭素膜23、24が形成された摺動材であっても、図3cに示すように、摺動相手材31との摺動により早期に凸部が摩耗して表面が平滑化する。この結果、接触面積が大幅に大きくなり、充分に固体状の潤滑物質が生成される。また、大きな凹みがなくなるため、摺動面に安定的に留まることができ、大きな低摩擦化効果を早く得ることができる。なお、摺動環境にもよるが、より早期に摩耗させるためには、最表面の非晶質炭素膜24のビッカース硬度は300~500であることが好ましい。また、図3においては非晶質炭素膜を2層構造としているが、3層以上の複層構造とすることも好ましい。この場合、表層ほど硬度を低くすることにより、上記と同様な効果を得ることができる。なお、第1層の非晶質炭素膜23は、耐摩耗層として、ビッカース硬度1000以上の非晶質炭素膜であることが好ましいが、摺動における負荷が小さい場合には、全てを低硬度の非晶質炭素膜とすることもできる。上記においては、硬度の指標としてビッカース硬度を用いているが、インデンテーション硬度を用いることもできる。インデンテーション硬度は、圧子を試料表面に押し込み、そのときの圧子にかかる荷重と圧子の下の射影面積から求められるものであり、上記した50~1000のビッカース硬度HvAkashi社製の押し込み硬さ試験機品番:HM-114を用い、荷重25gで測定は、エリオニクス社製インデンテーション硬度計ナノインデンターENT-1100aを用い、測定荷重100mgで測定したときのインデンテーション硬度で、5~20GPaに相当する。2.非晶質炭素膜の形成方法次に、上記した各非晶質炭素膜の形成方法について説明する。1第1の非晶質炭素膜第1の非晶質炭素膜の形成には、ドロップレットマクロパーティクルがないプラズマCVD法、例えば、陰極PIGPenninngIonizationGaugeプラズマCVD法が好ましく用いられ、高密度プラズマ雰囲気下で形成することにより、グラファイト結晶のピークを有する非晶質炭素膜を得ることができる。具体的には、例えば、陰極PIGにて発生させたプラズマがコイルで形成された磁場に閉じ込められることにより高密度化され、原料ガスを高い効率で活性な原子、分子、イオンに分解する。さらに、高活性な原料ガス成分を堆積させながら、直流パルスを基材に印加することによって高エネルギーイオンを照射することができる。これによって、摺動特性に優れた非晶質炭素膜を効率的に形成することが出来る。形成方法の詳細は、特願2008-335718特開2010-156026に記載されている方法が好ましい。図4は、陰極PIGプラズマCVD装置の一例の概略を示す図である。図4において、40はチャンバー、41は基材、42はホルダー、43はプラズマ源、44は電極、45はコイル、46はカソード、47はガス導入口、48はガス排出口、49はバイアス電源である。そして、50はチャンバー40内に形成されたプラズマである。上記装置を用いて、以下のようにして非晶質炭素膜を形成することができる。最初に、基材41をホルダー42に支持させてチャンバー40内に配置する。次いで、ガス導入口47よりArガスを注入すると共に、プラズマ源43、電極44、コイル45を用いて、プラズマ50を発生、安定させる。プラズマ中にて分解されたArガスをバイアス電源49にて基材41へ引きつけ、表面エッチングを行う。その後、金属よりなるカソード46、Arガスを用いて下地層である金属層を形成する。さらに、高密度プラズマ雰囲気下でガス導入口47より注入された原料ガスを分解、反応させることにより、非晶質炭素膜中にグラファイト結晶を生成させる。所定の厚さの非晶質炭素膜となるまでそのまま維持する。このとき、グラファイト結晶の結晶径は、15~100nmとなるように制御する。上記陰極PIGプラズマCVD装置においては、プラズマ特性やガス種等を変更することにより、得られる非晶質炭素膜の特性を変更することが可能であり、前記したグラファイト結晶の結晶径の他に、グラファイト結晶の量、非晶質炭素膜の硬度や表面粗さ等を適正化することにより、摺動性および耐久性を向上させることができる。形成された非晶質炭素膜内におけるグラファイト結晶の存在の確認および結晶径の確認は、以下に示すX線回折測定を用いて行うことが好ましい。通常、結晶材料のX線回折スペクトルには、個々の格子面に対応した鋭い回折ピークが複数本存在し、これらを照合して結晶構造が確定されるのが一般的である。これに対し、上記の非晶質炭素膜の場合、非晶質に特有のハローパターンと呼ばれるブロードな散乱ピークに混じって、グラファイト結晶の回折ピークが存在する。図5は、上記の方法で形成したグラファイト結晶を含有する非晶質炭素膜のX線回折スペクトルの一例である。このX線回折スペクトルは、下記の測定条件で測定したものである。測定条件X線源:放射光源X線エネルギー:15keV入射スリット幅:0.1mm検出器:シンチレーションカウンタ前段にソーラースリットを配置散乱角2θの測定範囲:5~100°測定ステップ:0.1°積算時間:30秒/ステップなお、非晶質炭素膜試料は、基板から剥離し、ガラス細管キャピラリに充填して測定した。図5に示すように、本発明において好ましい非晶質炭素膜試料は主成分が非晶質であるため、グラファイト結晶の回折ピーク強度は相対的に弱い場合がある。この場合でも、分析化学で広く用いられている微分スペクトルを用いることで、主な結晶ピークの存在を確認することができる。図5において用いたのと同じ膜試料についての微分スペクトルを図6に示す。本実施の形態では、微分スペクトルにおいて認められるピークとして大きいものから順に10本を選び、その中でグラファイト結晶のピーク位置と一致するものが最低3本あれば、そのDLC皮膜はグラファイト結晶を含有していると規定した。この方法は、一般的な結晶材料のX線回折で用いられるHanawalt法、即ち、最も強度の大きい3本のピークを用いて回折図形を特徴付ける方法に準拠している。さらに、上記のような回折ピークの広がりから、グラファイト結晶の結晶径を推定することができる。具体的には、X線散乱スペクトルから非晶質によるハローパターンをバックグランドとして差し引き、グラファイト結晶ピークを抽出した後、式1で示すScherrerの式を適用することにより求めることができる。図5において用いたのと同じ非晶質炭素膜試料についてグラファイト結晶ピークを抽出した結果を図7に示す。D=0.9×λ/β×cosθ式1但し、D:結晶径nmλ:X線の波長nmβ:結晶ピークの半価幅ラジアンθ:結晶ピークの位置得られた非晶質炭素膜は、前記した通り、炭素を主成分とする非晶質構造であり、炭素同士の結合形態がダイヤモンド構造SP3構造とグラファイト構造SP2構造の両方からなり、10~35atomの水素を膜中に含有する。c密集した粒状凹凸の形成第1の非晶質炭素膜における粒状凹凸は、平滑状態に形成された非晶質炭素膜を表面処理することにより形成させることができるが、粒状の凹凸が密集した下地層を設けた後に非晶質炭素膜を成膜することによっても形成することができる。この方法の場合、前記した表面処理工程が不要となるため、低コスト化を図ることができる。またプロセス条件により容易に凹凸の大きさを制御できるため好ましい。粒状の凹凸が密集した下地層は、金属、金属窒化物あるいは金属炭化物からなり、基材表面にスパッタ法により形成され、スパッタ時の基板バイアス電圧、基板温度などの条件を適宜変更することにより、適宜調整することができる。2第2の非晶質炭素膜第2の非晶質炭素膜の形成には、成膜時に多数のドロップレットが形成される例えばアーク蒸着法が好ましく用いられる。成膜後に表面をラップしてドロップレットを除去することにより、その跡が凹みとして形成される。3第3の非晶質炭素膜第3の非晶質炭素膜の形成には、例えば陰極PIGプラズマCVD法が好ましく用いられる。非晶質炭素膜の硬度は非晶質炭素膜を形成する際のバイアス電圧を調整することによって制御される。即ち、低硬度の非晶質炭素膜を形成する際にはバイアス電圧を低く設定し、高硬度の非晶質炭素膜を形成する際にはバイアス電圧を高く設定する。[3]その他の構成1.基材基材としては、金属系またはセラミックス系の基材を用いることができ、具体的には、例えば、鉄、熱処理鋼、超硬合金、ステンレス、ニッケル、鋼、アルミニウム合金、チタン合金、アルミナ、窒化珪素、炭化珪素などを挙げることができる。2.中間層および下地層非晶質炭素膜は、一般に、鉄基材料やアルミニウム合金等に密着力よく形成することが困難であるため、前記のように密着層としての中間層を設ける。中間層としては、具体的には、例えば、Ti、Cr、W、Siより選択されたいずれかの金属の金属膜、これらの金属の炭化膜、窒化膜やこれらを複層形成した構造を挙げることができる。中間層の総厚さは0.1~2.0μmであることが望ましい。即ち、0.1μm未満である場合には、中間層としての機能が不十分となる。一方、2.0μmを超える場合には、中間層そのものが低硬度であるため、耐衝撃性や密着性が低下する恐れがある。また、必要に応じて基材の表面に下地層が設けられる。下地層としては、具体的には、例えば、Ti、Cr、W、Siより選択された金属、金属窒化物、金属炭化物製の膜が挙げられる。3.他方の摺動材料摺動相手材の摺動面他方の摺動材料には、例えば、非晶質炭素材料、鉄基材料あるいはアルミニウム合金材料などが用いられる。つまり、2つの摺動面がともに非晶質炭素材料、一方の摺動面が非晶質炭素材料で他方の摺動面が鉄基材料、一方の摺動面が非晶質炭素材料で他方の摺動面がアルミニウム合金材料である場合が例示できる。鉄基材料としては、例えば浸炭鋼SCM420やSCr420JISなどを挙げることができる。アルミニウム合金材料としては、ケイ素を4~20質量及び銅を1.0~5.0質量を含む亜共晶アルミニウム合金又は過共晶アルミニウム合金を用いることが好ましい。具体的にはAC2A、AC8A、ADC12、ADC14JISなどを挙げることができる。また、前記非晶質炭素材料及び鉄基材料、あるいは非晶質炭素材料及びアルミニウム合金材料のそれぞれの表面粗さは、算術平均粗さRaで、0.1μm以下であることが摺動の安定性の面から好適である。0.1μm以下であると局部的なスカッフィングが形成しにくく、摩擦係数の増大を抑制することができる。更に、上記DLC材料は、表面硬さが、マイクロビッカーズ硬さ98mN荷重でHv1000~3500、厚さが0.3~2.0μmであることが好ましい。一方、前記鉄基材料は、表面硬さがロックウェル硬さCスケールでHRC45~60であることが好ましい。この場合は、カムフォロワー部材のように700MPa程度の高面圧下の摺動条件においても、膜の耐久性を維持できるので有効である。また、前記アルミニウム合金材料は、表面硬さがブリネル硬さHB80~130であることが好ましい。非晶質炭素材料の表面硬さ及び厚さが上記範囲にあると摩滅や剥離が抑制される。また、鉄基材料の表面硬さがHRC45以上であると、高面圧下で座屈し剥離するのを抑制することができる。一方、アルミニウム合金材料の表面硬さが上記範囲にあれば、アルミニウム合金の摩耗が抑制される。次に、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるものではない。本実施例は、第1の非晶質炭素膜を形成した摺動材料を用意し、本発明の潤滑油と組み合わせた摺動機構の摺動特性摩擦係数、摩耗量を評価した例である。1.摺動材料摺動材料として、以下の構成の摺動材料を用意した。1基材基材として、φ24mm×7.9mmのFCD700鋳鉄を用いた。成膜前処理として、アルカリ洗浄液にて10分間超音波線状した後、120°Cにて充分乾燥させた。乾燥後、図4に示すPIGプラズマCVD装置にセットし、2×10-3Paまで真空引きした。基材41をセットした後、チャンバー40内にArガスを注入して、チャンバー40内の圧力を0.3Paに調整した。その後、プラズマ源43を印加してArプラズマ50を生成させ、Arイオンによる基材41の表面エッチングを放電電流10A、コイル電流8Aおよび基板パルス電圧550Vにて10分間行った。2下地層の形成次に、基材1の表面上に、スパッタリング法によりTi金属からなる下地層を形成した。具体的には、Tiカソード46およびArガス80ccを用い、圧力0.4Pa、DC電流6kW、バイアス電圧50Vにて、厚さ0.5μmのTi金属層を形成した。これにより、粒平均直径0.5μ、凹凸高さ平均0.2μm200nmの粒が密集した表面の下地層が形成された。3中間層の形成次に、下地層上に中間層を形成した。具体的には、テトラメチルシラン60ccおよびアセチレンガス150ccをガス導入口41より導入し、圧力0.4Pa、放電電流10A、コイル電流8A、バイアス電圧550Vにて、厚さ0.5μmのシリコーン炭素混合非晶質層からなる中間層を形成した。4非晶質炭素膜の形成さらに、中間層上に陰極PIGプラズマCVD法を用いて非晶質炭素膜を形成した。具体的には、アセチレンガス140ccを用い、放電電流20A、コイル電流8A、バイアス電圧700Vにて厚さ2μmのグラファイト結晶を有する非晶質炭素膜を形成した。これにより、粒平均直径1.0μm、凹凸高さ平均20nmの粒が密集した表面を有する非晶質炭素膜を得た総膜厚3μm。2.潤滑油潤滑油として、以下の組成の潤滑油を用意した。1基油組成比率:残余:水素化精製基油、40°C動粘度21mm2/s、100°C動粘度4.5mm2/s、粘度指数127、CA0.0、硫黄含有量20質量ppm未満、NOACK蒸発量13.3質量2有機モリブデン化合物組成比率:0.20質量:商品名SAKURA-LUBES-710ADEKACorporation製、モリブデン含有量;10質量、窒素含有量;1.3質量、硫黄含有量0.02質量3ジアルキルジチオリン酸亜鉛組成比率:0.92質量:Zn含有量;9.0質量、リン含有量;8.2質量、硫黄含有量;17.1質量、アルキル基;第2級ブチル基と第2級ヘキシル基の混合物4粘度指数向上剤組成比率:5.00質量:ポリメタクリレート、質量平均分子量230,0005流動点降下剤組成比率:0.10質量:ポリアルキルメタクリレート、質量平均分子量6,0006アミン系酸化防止剤組成比率:0.60質量:ジアルキルジフェニルアミン、窒素含有量3.4質量7フェノール系酸化防止剤組成比率:0.30質量:オクタデシル3-3,5-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート8金属系清浄剤A組成比率:1.50質量:過塩基性カルシウムサリシレート、塩基価過塩素酸法350mgKOH/g、カルシウム含有量12.1質量、硫黄量0.3質量9金属系清浄剤B組成比率:0.60質量:中性カルシウムスルフォネート、塩基価過塩素酸法17mgKOH/g、カルシウム含有量2.4質量、硫黄含有量2.8質量10ポリブテニルコハク酸ビスイミド組成比率:3.00質量:ポリブテニル基の数平均分子量2000、塩基価過塩素酸法11.9mgKOH/g、窒素含有量0.99質量、硫黄量0.18質量11ポリブテニルコハク酸モノイミドホウ素化物組成比率:1.50質量:ポリブテニル基の数平均分子量1000、塩基価過塩素酸法25mgKOH/g、窒素含有量1.23質量、ホウ素含有量1.3質量12その他の添加剤組成比率:0.50質量:防錆剤、界面活性剤および消泡剤3.摺動特性の評価1摩擦係数の測定往復動摩擦試験機オプティマール社製SRV往復動摩擦試験機を用いて、以下の方法SRV試験により摩擦係数を測定した。具体的には、非晶質炭素膜をコーティングしたディスクφ24mm×7.9mmを用い、その上に上記の潤滑油を数滴滴下する。SCM420製のシリンダーφ15mm×22mmを上記ディスク上部にセットした状態で、荷重400N、振幅1.5mm、周波数50Hz、温度100°Cの条件で摩擦係数を求めた。2摩耗量の測定摩耗量は、摺動部分を触針式の粗さ計で段差を計測することにより測定した。3比較例1比較例1として、粒平均直径0.05μm、凹凸高さ平均8nmの表面がより平滑な非晶質炭素膜を形成したこと以外は実施例1と同様の方法で摺動材料を作製し、摺動特性を評価した。4摺動特性評価結果実施例1および比較例1の測定結果を表1に示す。表1より、非晶質炭素膜の表面に適度な粒状凹凸を形成することにより、より低摩擦となることが確認できた。本実施例は、第2の非晶質炭素膜を形成した摺動材料を用意し、潤滑油と組み合わせた摺動機構の摺動特性を評価した例である。1.摺動材料実施例1で用いた基材と同様の基材上に、アーク蒸着法を用いて水素を含有しない非晶質炭素膜を形成した。成膜後、形成された非晶質炭素膜の表面をラップして、非晶質炭素膜の表面に形成されたドロップレットを除去した。これにより、平均直径1μm、深さ0.1μm以上の凹みが5000個/mm2以上形成された表面を有する非晶質炭素膜を得た総膜厚1μm。2.潤滑油実施例1で用いた潤滑油と同じ組成の潤滑油を用いた。3.摺動特性の評価1摩擦係数および摩耗量の測定実施例1と同じ方法を用いて、摩擦係数および摩耗量を測定した。2比較例2比較例2として、偏向フィルターを介してアーク蒸着を行うフィルタードアーク蒸着装置を用いて、ドロップレットが非常に少ない非晶質炭素膜総膜厚1μmを形成したこと以外は実施例2と同様に摺動材料を作製した。ラップ後の表面に形成された平均直径1μm、深さ0.1μm以上の凹みは、30個/mm2であった。3摺動特性評価結果実施例2および比較例2の測定結果を表2に示す。表2より、非晶質炭素膜の表面に適切な数の凹みを形成することにより、より低摩擦となることが確認できた。本実施例は、第3の非晶質炭素膜を形成した摺動材料を用意し、潤滑油と組み合わせた摺動機構の摩擦低減効果につき測定した例である。1.摺動材料1基材基材として、面粗度が粗い、具体的には表面粗度Rz=6.0μmのSCM415クロムモリブデン鋼、ロックウェル硬さHRC:58-6を用いたサイズ:φ30×t3mm。成膜前処理として、アルカリ洗浄液にて10分間超音波洗浄した後、120°Cにて充分乾燥させた。乾燥後、図4に示すPIGプラズマCVD装置にセットし、2×10-3Paまで真空引きした。基材41をセットした後、チャンバー40内にArガスを注入して、チャンバー40内の圧力を0.3Paに調整した。その後、プラズマ源43を印加してArプラズマ50を生成させ、Arイオンによる基材41の表面エッチングを放電電流10A、コイル電流8Aおよび基板パルス電圧550Vにて10分間行った。2中間層の形成次に、スパッタリング法を用いて基材上に中間層として厚さ0.5μmのTi金属層を形成した。具体的には、Tiカソード46およびArガス80ccを用い、圧力0.4Pa、DC電流6kW、バイアス電圧50Vにて、厚さ0.5μmのTi金属層を形成した。3非晶質炭素膜の形成さらに、中間層上に陰極PIGプラズマCVD法を用いて、2層からなる非晶質炭素膜を形成した。具体的には、先ず、アセチレンガス150ccを用い、放電電流30A、コイル電流5A、バイアス電圧を500Vと高くすることによって、Hvビッカース硬度1500、厚さ2μmの第1層を形成した。次に、バイアス電圧を50Vに落とすことによって、Hv500、厚さ5μmの第2層最表層を形成した。2.潤滑油実施例1で用いた潤滑油と同じ組成の潤滑油を用いた。3.摩擦係数の測定1摩擦係数および摩耗量実施例1と同じSRV試験法を用いて、摩擦係数を測定した。2比較例3、4比較例3として、平滑な表面を有する基材、具体的には表面粗度Rz=0.5μの基材を用いて非晶質炭素膜を上記の第1層のみ形成したこと以外は実施例3と同様にして摺動材料を作製した。また、比較例4として、非晶質炭素膜を上記の第1層のみ形成したこと以外は実施例3と同様にして摺動材料を作製した。3摩擦係数測定結果実施例3および比較例3、4の測定結果を図8に示す。図8より、粗い表面の基材上に非晶質炭素膜を形成する場合、高硬度の非晶質炭素膜が形成されていると摩擦係数は徐々にしか低下しないが比較例4、上層に低硬度の非晶質炭素膜、下層に高硬度の非晶質炭素膜という2層構造の非晶質炭素膜とすることにより比較的早く摩擦係数の低下が開始し実施例3、早期に、平滑な表面の基材上に高硬度の非晶質炭素膜を形成した場合比較例3に近い摩擦係数まで低下することが分かる。"