"Aカルボキシル基を有するポリイミドと、B熱硬化性樹脂と、C光酸発生剤と、を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物。前記B熱硬化性樹脂がエポキシ樹脂であることを特徴とする請求項1に記載のポジ型感光性樹脂組成物。前記Aポリイミドを構成するモノマーの酸成分の少なくとも一種がエーテル結合を有する酸であることを特徴とする請求項1または2に記載のポジ型感光性樹脂組成物。前記Aポリイミドを構成するモノマーの酸成分の少なくとも一種が、直鎖炭化水素を有する酸であることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。前記Aポリイミドを構成するモノマーのジアミン成分の少なくとも一種が、カルボキシル基を有するジアミンであることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。前記Aポリイミドを構成するモノマーのジアミン成分が、少なくとも、カルボキシル基を有するジアミン及びカルボキシル基を有さないジアミンの2種を含むことを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。前記Aポリイミドを構成するモノマーのジアミン成分が、少なくとも、カルボキシル基を有するジアミン、カルボキシル基を有さないジアミン及びシリコンジアミンの3種を含むことを特徴とする請求項1~6のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。前記Aポリイミドのカルボキシル基1つに対する分子量が、500~1300であることを特徴とする請求項1~7のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。感光性樹脂組成物としては、ヒドロキシル基を有するポリイミド、ポリイミド前駆体、ポリベンゾオキサゾール前駆体などがあるが、ヒドロキシル基を有するポリイミドはヒドロキシを有するモノマーを多量に含む必要があり、モノマー組成比に制限がかかり、ポリイミド前駆体は重縮合のための高温加熱が必要であり、ポリベンゾオキサゾールはポリイミドに対して感度が低いという問題があった。本発明の目的は、低温硬化可能な高感度のポジ型感光性樹脂組成物、該組成物を用いた表面保護膜や絶縁膜の製造方法を提供することにある。本発明者は、上記の課題に鑑み鋭意検討した結果、カルボキシル基を有するポリイミドを使用することで、パターニング性良好で低温硬化が可能なポジ型感光性樹脂組成物を実現できることを見出し、本発明を完成させるに至った。即ち、本発明は、Aカルボキシル基を有するポリイミドと、B熱硬化性樹脂と、C光酸発生剤と、を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物に関する。前記B熱硬化性樹脂がエポキシ樹脂であることが好ましい。前記Aポリイミドを構成するモノマーの酸成分の少なくとも一種が、エーテル結合を有する酸であることが好ましい。前記Aポリイミドを構成するモノマーの酸成分の少なくとも一種が直鎖炭化水素を有する酸であることが好ましい。前記Aポリイミドを構成するモノマーのジアミン成分の少なくとも一種が、カルボキシル基を有するジアミンであることが好ましい。前記Aポリイミドを構成するモノマーのジアミン成分が、少なくとも、カルボキシル基を有するジアミン及びカルボキシル基を有さないジアミンの2種を含むこと好ましい。前記Aポリイミドを構成するモノマーのジアミン成分が、少なくとも、カルボキシル基を有するジアミン、カルボキシル基を有さないジアミン及びシリコンジアミンの3種を含むことが好ましい。前記Aポリイミドのカルボキシル基1つに対する分子量が、500~1300であることが好ましい。本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、低温硬化可能で、高感度、高解像度といった優れたポジ型のリソグラフィー性能を有し、良好な形状のパターン硬化膜を得ることができる。さらに、低温プロセスで硬化できることにより、デバイスへのダメージが避けられ、信頼性の高い電子部品が得られる。以下、本発明にかかるポジ型感光性樹脂組成物の好適な実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。Aカルボキシル基を有するポリイミド本発明におけるカルボキシル基を有するポリイミドとは、カルボキシル基を分子構造に有するポリイミドであり、アルカリ水溶液に可溶であることが好ましい。例えば、テトラカルボン酸とジアミンより誘導されるが、ジアミンの代わりにイソシアネートを使用してもよい。カルボキシル基は主鎖にあってもよく、側鎖にあってもよい。本発明のポリイミドを合成する一例としてのテトラカルボン酸とジアミンとの反応は、当業者には理解されるように、公知の方法により行うことができる。例えば、有機溶媒中で、テトラカルボン酸とジアミンを等モル又はほぼ等モルの比率で投入し、反応温度70°C以下、好ましくは0~50°Cで付加反応させる。各成分の添加順序は任意である。反応が進行するにつれ反応液の粘度が徐々に上昇し、ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸が生成する。生成したポリアミド酸を脱水閉環させることにより、ポリイミドが生成する。脱水閉環は、加熱による熱閉環法、又は脱水剤を使用する化学閉環法により行うことができる。本発明のポリイミドに用いるテトラカルボン酸としては特に限定されないが、例えば、2,2’-ヘキサフルオロプロピリデンジフタル酸二無水物、2,2-ビス4-ヒドロキシフェニルプロパンジベンゾエート-3,3’,4,4’-テトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3-ジメチル-1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4-シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5-トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、3,5,6-トリカルボキシノルボナン-2-酢酸二無水物、2,3,4,5-テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、5-2,5-ジオキソテトラヒドロフラル-3-メチル-3-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸二無水物、ビシクロ[2,2,2]-オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物等の脂肪族または脂環式テトラカルボン酸二無水物;ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-フランテトラカルボン酸二無水物、4,4’-ビス3,4-ジカルボキシフェノキシジフェニルスルフィド二無水物、4,4’-ビス3,4-ジカルボキシフェノキシジフェニルスルホン二無水物、4,4’-ビス3,4-ジカルボキシフェノキシジフェニルプロパン二無水物、3,3’,4,4’-パーフルオロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビスフタル酸フェニルホスフィンオキサイド二無水物、p-フェニレン-ビストリフェニルフタル酸二無水物、m-フェニレン-ビストリフェニルフタル酸二無水物、ビストリフェニルフタル酸-4,4’-ジフェニルエーテル二無水物、ビストリフェニルフタル酸-4,4’-ジフェニルメタン二無水物等の芳香族テトラカルボン酸二無水物等、及びそれらの誘導体などが挙げられ、これらを単独で、または任意の割合で混合した混合物を好ましく用いることができる。中でも、有機溶媒への溶解性の高いポリイミドを得るためには、3,3’,4,4’-ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2’-ヘキサフルオロプロピリデンジフタル酸二無水物、2,3,3’,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、4,4-4,4’-イソプロピリデンジフェノキシビスフタル酸無水物、2,2-ビス4-ヒドロキシフェニルプロパンジベンゾエート-3,3’,4,4’-テトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、1,2-エタンジベンゾエート-3,3’,4,4’-テトラカルボン酸二無水物、4,4’-オキシジフタル酸二無水物、p-フェニレンビストリメリット酸モノエステル酸無水物、2,2-ビス4-トリメリット酸モノエステル酸フェニルプロパン酸二無水物からなる群より選ばれる少なくとも1種の酸二無水物を用いることが好ましい。特に、Aポリイミドを構成するモノマーの酸成分の少なくとも一種がエーテル結合を有する酸であることが有機溶剤への溶解性が高いことから好ましい。エーテル結合を有する酸としては、例えば1,2-エタンジベンゾエート-3,3’,4,4’-テトラカルボン酸二無水物、4,4’-オキシジフタル酸二無水物、p-フェニレンビストリメリット酸モノエステル酸無水物、2,2-ビス4-トリメリット酸モノエステル酸フェニルプロパン酸二無水物からなる群より選ばれる少なくとも1種の酸二無水物を用いることが好ましい。また、Aポリイミドを構成するモノマーの酸成分の少なくとも一種が、直鎖炭化水素を有する酸であることが有機溶剤への溶解性が高いことから好ましい。直鎖炭化水素を有する酸としては、例えば1,2-エタンジベンゾエート-3,3’,4,4’-テトラカルボン酸二無水物を用いることが好ましい。本発明のポリイミドに用いるジアミンとしては特に限定されないが、例えば、[ビス4-アミノ-3-カルボキシフェニル]メタン、p-フェニレンジアミン、m-フェニレンジアミン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノフェニルエタン、4,4’-ジアミノフェニルエーテル、4,4’-ジジアミノフェニルスルフィド、4,4’-ジジアミノフェニルスルフォン、1,5-ジアミノナフタレン、3,3-ジメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、5-アミノ-1-4’-アミノフェニル-1,3,3-トリメチルインダン、6-アミノ-1-4’-アミノフェニル-1,3,3-トリメチルインダン、4,4’-ジアミノベンズアニリド、3,5-ジアミノ-3’-トリフルオロメチルベンズアニリド、3,5-ジアミノ-4’-トリフルオロメチルベンズアニリド、3,4’-ジアミノジフェニルエーテル、2,7-ジアミノフルオレン、2,2-ビス4-アミノフェニルヘキサフルオロプロパン、4,4’-メチレン-ビス2-クロロアニリン、2,2’,5,5’-テトラクロロ-4,4’-ジアミノビフェニル、2,2’-ジクロロ-4,4’-ジアミノ-5,5’-ジメトキシビフェニル、3,3’-ジメトキシ-4,4’-ジアミノビフェニル、4,4’-ジアミノ-2,2’-ビストリフルオロメチルビフェニル、2,2-ビス[4-4-アミノフェノキシフェニル]プロパン、2,2-ビス[4-3-アミノフェノキシフェニル]プロパン、2,2-ビス[4-4-アミノフェノキシフェニル]スルフォン、2,2-ビス[4-3-アミノフェノキシフェニル]スルフォン、2,2-ビス[4-4-アミノフェノキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン、1,4-ビス4-アミノフェノキシベンゼン、1,4-ビス3-アミノフェノキシベンゼン、4,4’-ビス4-アミノフェノキシ-ビフェニル、1,3’-ビス4-アミノフェノキシベンゼン、1,3’-ビス3-アミノフェノキシベンゼン、9,9-ビス4-アミノフェニルフルオレン、4,4’-p-フェニレンイソプロピリデンビスアニリン、4,4’-m-フェニレンイソプロピリデンビスアニリン、2,2’-ビス[4-4-アミノ-2-トリフルオロメチルフェノキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン、4,4’-ビス[4-4-アミノ-2-トリフルオロメチルフェノキシ]-オクタフルオロビフェニル等の芳香族ジアミン;ジアミノテトラフェニルチオフェン等の芳香環に結合された2個のアミノ基と当該アミノ基の窒素原子以外のヘテロ原子を有する芳香族ジアミン;1,1-メタキシリレンジアミン、1,3-プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、4,4-ジアミノヘプタメチレンジアミン、1,4-ジアミノシクロヘキサン、イソフォロンジアミン、テトラヒドロジシクロペンタジエニレンジアミン、ヘキサヒドロ-4,7-メタノインダニレンジメチレンジアミン、トリシクロ[6,2,1,02.7]-ウンデシレンジメチルジアミン、4,4’-メチレンビスシクロヘキシルアミン等の脂肪族ジアミンおよび脂環式ジアミン等及びそれらの誘導体などが挙げられ、これらを単独で、または任意の割合で混合した混合物を好ましく用いることができる。本発明のポリイミドは、アルカリ性の現像液に溶解することが好ましく、カルボキシル基を有することがアルカリ性の現像液への溶解を可能にする。更に、ポリイミド側鎖にカルボキシル基があるとアルカリ性の現像液への溶解性が増すことから、ポリイミド側鎖にカルボキシル基を与えられるジアミン、すなわちカルボキシル基を有するジアミンを使用することが好ましい。従って、Aポリイミドを構成するモノマーのジアミン成分の少なくとも一種が、カルボキシル基を有するジアミンであることがアルカリ性の現像液への溶解を可能にする点において好ましい。カルボキシル基を有するジアミン類しては、カルボキシル基を有していれば特に限定されることはないが例えばカルボキシル基を2個有するジアミンとして以下の様なものが例示できる。例えば、2,5-ジアミノテレフタル酸等のジアミノフタル酸類、3,3’-ジアミノ-4,4’-ジカルボキシビフェニル、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジカルボキシビフェニル、4,4’-ジアミノ-2,2’-ジカルボキシビフェニル、4,4’-ジアミノ-2,2’,5,5’-テトラカルボキシビフェニル等のカルボキシビフェニル化合物類、3,3’-ジアミノ-4,4’-ジカルボキシジフェニルメタン、3,3’-ジカルボキシ-4,4’-ジアミノフェニルメタン、2,2-ビス[3-アミノ-4-カルボキシフェニル]プロパン、2,2-ビス[4-アミノ-3-カルボキシフェニル]プロパン、2,2-ビス[3-アミノ-4-カルボキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン、4,4’-ジアミノ-2,2’,5,5’-テトラカルボキシジフェニルメタン等のカルボキシジフェニルメタン等のカルボキシジフェニルアルカン類、3,3’-ジアミノ-4,4’-ジカルボキシジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジカルボキシジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノ-2,2’-ジカルボキシジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノ-2,2’,5,5’-テトラカルボキシジフェニルエーテル等のカルボキシジフェニルエーテル化合物、3,3’-ジアミノ-4,4’-ジカルボキシジフェニルスルフォン、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジカルボキシジフェニルスルフォン、4,4’-ジアミノ-2,2’-ジカルボキシジフェニルスルフォン、4,4’-ジアミノ-2,2’,5,5’-テトラカルボキシジフェニルスルフォン等のジフェニルスルフォン化合物、2,2-ビス[4-4-アミノ-3-カルボキシフェノキシフェニル]プロパン等のビス[カルボキシフェニルフェニル]アルカン化合物類、2,2-ビス[4-4-アミノ-3-カルボキシフェノキシフェニル]スルフォン等のビス[カルボキシフェノキシフェニル]スルフォン化合物を挙げることができる。また、別途水酸基やカルボキシ基を1個有するジアミンを用いることもできる。例えば、2,4-ジアミノフェノール等のジアミノフェノール類、3,3’-ジアミノ-4,4’-ジヒドロキシビフェニル、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジヒドロキシビフェニル、4,4’-ジアミノ-2,2’-ジヒドロキシビフェニル、4,4’-ジアミノ-2,2’,5,5’-テトラヒドロキシビフェニル等のヒドロキシビフェニル化合物類、3,3’-ジアミノ-4,4’-ジヒドロキシジフェニルメタン、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジハイドロキシジフェニルメタン、4,4’-ジアミノ-2,2’-ジハイドロキシジフェニルメタン、2,2-ビス[3-アミノ-4-ヒドロキシフェニル]プロパン、2,2-ビス[4-アミノ-3-ヒドロキシフェニル]プロパン、2,2-ビス[3-アミノ-4-ヒドロキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン、4,4’-ジアミノ-2,2’,5,5’-テトラヒドロキシジフェニルメタン等のヒドロキシジフェニルメタン等のヒドロキシジフェニルアルカン類、3,3’-ジアミノ-4,4’-ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノ-2,2’-ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノ-2,2’,5,5’-テトラヒドロキシジフェニルエーテル等のヒドロキシジフェニルエーテル化合物、3,3’-ジアミノ-4,4’-ジヒドロキシジフェニルスルフォン、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジヒドロキシジフェニルスルフォン、4,4’-ジアミノ-2,2’-ジヒドロキシジフェニルスルフォン、4,4’-ジアミノ-2,2’,5,5’-テトラヒドロキシジフェニルスルフォン等のジフェニルスルフォン化合物、2,2-ビス[4-4-アミノ-3-ヒドロキシフェノキシフェニル]プロパン等のビス[ヒドロキシフェニルフェニル]アルカン化合物類、4,4’-ビス4-アミノ-3-ヒドキシフェノキシビフェニル等のビスヒドキシフェノキシビフェニル化合物類、2,2-ビス[4-4-アミノ-3-ヒドロキシフェノキシフェニル]スルフォン等のビス[ヒドロキシフェノキシフェニル]スルフォン化合物、3,5-ジアミノ安息香酸等のジアミノ安息香酸類、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジハイドロキシジフェニルメタン、4,4’-ジアミノ-2,2’-ジハイドロキシジフェニルメタン、2,2-ビス[3-アミノ-4-カルボキシフェニル]プロパン、4,4’-ビス4-アミノ-3-ヒドキシフェノキシビフェニル等のビスヒドキシフェノキシビフェニル化合物類をあげることができる。また、本発明におけるAポリイミドを構成するモノマーのジアミン成分が、少なくとも、カルボキシル基を有するジアミン及びカルボキシル基を有さないジアミンの2種を含むことが好ましい。ポリイミドのジアミン成分としてカルボキシル基を有さないジアミンを含有することで、ポリイミドに含まれるカルボキシル基の量を制御することが可能となり、Aポリイミドのカルボキシル基1つに対する分子量を制御することが可能となる。また、カルボキシル基を有さないジアミンとして芳香族ジアミンでm-位3-にアミノ基を持つジアミンを用いれば、ポリイミドの溶媒への溶解性が向上する傾向があり好ましい。更に、露光後の再接着性を高めるために、ジアミンの一部に、シリコンジアミンを選択することができる。この場合には、Aポリイミドを構成するモノマーのジアミン成分が、少なくとも、カルボキシル基を有するジアミン、カルボキシル基を有さないジアミン及びシリコンジアミンの3種を含むことが好ましい。シリコンジアミンの例としては、ビス4-アミノフェニルジメチルシラン、ビス4-アミノフェニルテトラメチルシロキサン、ビス4-アミノフェニルテトラメチルジシロキサン、ビスγ-アミノプロピルテトラメチルジシロキサン、1,4-ビスγ-アミノプロピルジメチルシリルベンゼン、ビス4-アミノブチルテトラメチルジシロキサン、ビスγ-アミノプロピルテトラフェニルジシロキサン等が挙げられる。溶剤浸透性が向上し、低温で硬化させた場合にも溶剤が残りにくいという利点もある。これらの理由から、本発明のAポリイミドを構成するモノマーのジアミン成分が、少なくとも、カルボキシル基を有するジアミン、カルボキシル基を有さないジアミン及びシリコンジアミンの3種を含むことが好ましい。本発明のポリイミドは、主鎖中にイミド骨格を有し、カルボキシル基を有する。ポリイミドのカルボキシル基1つに対する分子量が500~1300であることが好ましい。ポリイミドのカルボキシル基当量が500未満であると現像時に接着層が非着層から剥離してしまう可能性が高くなる傾向にある。逆にポリイミドのカルボキシル基等量が1300より大きくなるとアルカリ現像液への溶解性が低下する傾向にある。なお、本発明におけるAポリイミドのカルボキシル基1つに対する分子量が、500~1300であるとは、Aポリイミドの分子構造から理論計算値で算出された値である。本発明のポリイミドはテトラカルボン酸とカルボキシル基を有するジアミンとの反応により得ることができる。これにより、ポリイミドにはジアミンに由来するカルボキシル基が導入される。モノマーの種類及びその仕込み比、反応条件等を適宜調整することにより、ポリイミドのカルボキシル基当量を500~1300とすることができる。ポジ型感光性樹脂組成物の現像液浸透性によって好ましいカルボキシル基当量は変化する。例えば、現像液水溶液浸透性の大きい組成となる場合はカルボキシル等量は大きい方へ調製することが好ましい。逆に、アルカリ水溶液浸透性の小さい組成となる場合はカルボキシル等量を小さい方へ調整することが好ましい。また、カルボキシル基を有するモノマーを使用することで、ヒドロキシル基を有するモノマーを使用するよりも、モノマー組成比の自由度が増し、最終的な硬化膜の特性を制御しやすい。更に、ポジ型感光性樹脂組成物として使用される酸発生剤は、通常カルボキシル基を生成しアルカリ水溶液に溶解する。本発明にかかるAカルボキシル基を有するポリイミドもカルボキシル基を有しており、ヒドロキシ基を有する樹脂と比較して、アルカリ水溶への溶解性速度ムラが抑制されることも利点となる。B熱硬化性樹脂本発明のポジ型感光性樹脂組成物に含まれる熱硬化性樹脂は、加熱することにより硬化反応が進行する化合物のことであり、具体的には炭素-炭素2重結合を有する化合物エポキシ化合物イソシアネート化合物シアン酸エステル化合物等である。熱によりAカルボキシル基を有するポリイミドと架橋しうる、あるいはそれ自身が重合しうる化合物を含むことが好ましい。塗布、露光、現像後に加熱処理する工程において、カルボキシル基を有するポリイミドと反応、架橋する。又は、前記加熱処理する工程において、当該樹脂自身が重合する。これによって、比較的低い温度、例えば200°C以下の硬化において懸念される膜の脆さを防ぎ、機械特性を向上させることができる。また、ポリイミドが有するカルボキシル基と反応することで、電気信頼性を向上させることができる。また、当該樹脂が架橋しうる温度としては、ポジ型感光性樹脂組成物の塗布、乾燥、露光、現像の各工程で架橋が進行しないように150°C以上であることが好ましい。本発明のポジ型感光性樹脂組成物に含まれる熱硬化性樹脂は、例えば、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ビスマレイミド樹脂、トリアジン樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、シアノアクリレート樹脂、ポリイソシアネート樹脂、フラン樹脂、レゾルシノール樹脂、キシレン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、シリコーン樹脂、シロキサン変性エポキシ樹脂及びシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を混合して使用することができる。耐熱性及び接着性を向上する観点から、エポキシ樹脂を含有することが好ましい。上記エポキシ樹脂としては、硬化して接着作用を有するものであれば特に限定されず、例えば、エポキシ樹脂ハンドブック新保正樹編、日刊工業新聞社等に記載されるエポキシ樹脂を広く使用することができる。具体的には、例えば、ビスフェノールA型エポキシ等の二官能エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂やクレゾールノボラック型エポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂を使用することができる。また、多官能エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、複素環含有エポキシ樹脂又は脂環式エポキシ樹脂など、一般に知られているものを適用することができる。より具体的な例として以下のように例示することができる。エピコート828油化シェル社製等のビスフェノール樹脂、180S65油化シェル社製等のオルソクレゾールノボラック樹脂、157S70油化シェル社製等のビスフェノールAノボラック樹脂、1032H60油化シェル社製等のトリスヒドロキシフェニルメタンノボラック樹脂、ESN375等のナフタレンアラルキルノボラック樹脂、テトラフェニロールエタン1031S油化シェル社製、YGD414S東都化成、トリスヒドロキシフェニルメタンEPPN502H日本化薬、特殊ビスフェノールVG3101L三井化学、特殊ナフトールNC7000日本化薬、TETRAD-X、TETRAD-C三菱瓦斯化学社製等のグリシジルアミン型樹脂などがあげられる。B熱硬化性樹脂成分の配合量は、硬化後の接着剤の耐熱性、接着性を維持し、高信頼性を発現させるため、A、B及びC成分の合計100質量部に対して5~70質量部であることが好ましく、8~50質量部であることがより好ましく、10~40質量部であることが更に好ましい。C光酸発生剤本発明のポジ型感光性樹脂組成物に含まれる光酸発生剤には、光により酸を発生する化合物が使用される。C成分は感光剤であり、酸を発生させ、光の照射部のアルカリ水溶液への可溶性を増大させる機能を有するものである。具体的にはナフトキノンジアジド構造を有する化合物、オニウム塩、ハロゲン含有化合物、などを用いることができるが、感光性ジアゾキノン化合物が好ましい。上記オニウム塩としては、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホシホニウム塩、ホスホニウム塩、アンモニウム塩、及びジアゾニウム塩などが挙げられ、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩、及びトリアリキルスルホニウム塩からなる群から選ばれるオニウム塩が好ましい。上記ハロゲン含有化合物としては、ハロアルキル基含有炭化水素化合物などが挙げられ、トリクロロメチルトリアジンが好ましい。上記ナフトキノンジアジド構造を有する化合物は、1,2-ベンゾキノンジアジド構造あるいは1,2-ナフトキノンジアジド構造を有する化合物であり、米国特許明細書第2772975号、第2797213号、第3669658号により公知の物質である。それらの中で、特に好ましいのは、多価フェノール化合物と1,2-ナフトキノン-2-ジアジド-5-スルホン酸6-ジアゾ-5,6-ジヒドロ-5-オキソ-ナフタレン-1-スルホン酸または、1,2-ナフトキノン-2-ジアジド-4-スルホン酸とのエステルであるが、それらに限定されるものではない。本発明で用いるC酸発生剤の添加量は、ポリイミド樹脂100質量部に対して、1~50質量部が好ましく、3~43質量部がより好ましく、5~36質量部がさらにこの好ましく、5~29質量部が特に好ましい。1質量部未満だと良好なパターンが得られず、50質量部を超えると感度が大幅に低下する。36質量部以下であると硬化後の膜の脆さが抑制され、29質量部以下だと機械特性を向上させることができる。溶媒本発明においては、これらの成分を溶媒に溶解してポジ型感光性樹脂組成物として使用することが好ましい。このような溶媒としては、N-メチルー2-ピロリドン、γブチロラクトン以下、GBLとも言う、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、イソホロン、N,N-ジメチルアセトアミド、ジメチルイミダゾリノン、テトラメチルウレア、ジメチルスルホキシド、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、メチルー1,3-ブチレングリコールアセテート、1,3-ブチレングリコールー3-モノメチルエーテル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、メチルー3-メトキシプロピオネート等を単独または混合して使用できる。これらの溶媒のうち、これらの溶媒のうち、非アミド系溶媒がフォトレジストなどへの影響が少ない点から好ましい。具体的には、γブチロラクトン、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどが好ましい。パターン硬化膜の製造方法本発明によるパターン硬化膜の製造方法は、上述したポジ型感光性樹脂組成物を支持体基板上に塗布し乾燥する工程、露光する工程、感光性樹脂膜の露光部を除去するためにアルカリ水溶液を用いて現像する工程、及び現像された感光性樹脂膜を加熱処理する工程を経て、所望の耐熱性高分子のパターンとすることができる。以下に各工程について説明する。塗布乾燥工程本発明のポジ型感光性樹脂組成物を支持体上に塗布する。支持体としては例えば、シリコンウエハ、セラミック基板、アルミ基板、銅基板等が挙げられる。塗布方法としては、スピナーを用いた回転塗布、ダイコーター又はロールコーター等のコーターによる塗布が挙げられる。支持体への塗布後、ホットプレート、オーブン等を用いて乾燥する。これにより、ポジ型感光性樹脂組成物の被膜である感光性樹脂膜が形成される。露光工程支持体上で被膜となった感光性樹脂膜にマスクを介して、コンタクトアライナー、ミラープロジェクションやステッパーを用いて化学線による露光を行うか、光線、電子線またはイオン線を直接照射する。該化学線としては、X線、電子線、紫外線、または可視光線などが使用できるが、200~500nm波長のものが好ましい。パターンの解像度及び取扱い性の点で、その光源波長は水銀ランプのg線、h線もしくはi線が好ましく、単独でも混合していても良い。現像工程露光部を現像液で除去することにより、パターン樹脂膜が得られる。現像液としては例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、計算ナトリウム、アンモニア、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどのアルカリ水溶液が好ましい。これらの水溶液の塩基濃度は0.1~10wtとされることが好ましい。現像方法としては、スプレー、パドル、ディップ、または超音波等の方式が挙げられる。加熱処理工程得られたパターン樹脂膜に250°C以下、好ましくは200°C以下、より好ましくは180°C以下の熱処理を行うことにより、耐熱性高分子のパターンになる。また、加熱処理は、石英チューブ炉、ホットプレート、ラピッドサーマルアニール、縦型拡散炉、赤外線硬化炉、電子線硬化炉、及びマイクロ波硬化炉等を用いて行う。大気中、又は窒素等の不活性雰囲気中いずれを選択することもできるが、窒素下で行う方が感光性樹脂膜の参加を防ぐことができるので好ましい。本発明にかかるポジ型感光性樹脂組成物は加熱処理に必要な温度が従来よりも低いため、支持体やデバイスへのダメージを小さく抑えることができる。したがって、本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いることで、デバイスが歩留まり良く製造でき、且つプロセスの省エネルギー化に繋がる。以下、実施例及び比較例に基づき、本発明について更に具体的に説明する。なお、本発明は下記実施例に限定されるものではない。合成例1撹拌機、温度計を備えた3リットルのフラスコ中にN,N-ジメチルホルムアミド以下、DMFと示すを295.53g仕込み、1,2-エタンジベンゾエート-3,3’,4,4’-テトラカルボン酸二無水物以下、TMEGと示すを59.91g投入し、窒素雰囲気下で、液温30°C以下で撹拌した。[ビス4-アミノ-3-カルボキシフェニル]メタン以下、MBAAと示すを22.99g投入し、同条件で撹拌した。並行して、信越化学工業株式会社製シロキサンジアミン商品名:X-22-9409S54.47gを54.47gのDMFに溶解した。得られたシリコンジアミンの溶解した溶液を前述のフラスコに投入し、同条件で撹拌した。続いて、ビス[4-3-アミノフェノキシフェニル]スルフォン以下、BAPS-mと示すを12.63g投入し、同条件で60分間撹拌した。並行して、DMF59.1gにピリジン46.20g、無水酢酸44.73gを混合した溶液を作製した。該溶液を前述のフラスコに投入し、110°Cに加熱しながら120分間撹拌した。常温に戻ってから、フラスコに1.5リットルのイソプロピルアルコール以下、IPAと示すを投入し、析出物を回収した。更に1.5リットルのIPAでの洗浄を5回行い、得られた析出物を110°Cで12時間乾燥し、ポリイミドを得た。合成例2撹拌機、温度計を備えた3リットルのフラスコ中にDMFを323.56g仕込み、TMEGを72.71g投入し、窒素雰囲気下で、液温30°C以下で撹拌した。MBAAを35.52g投入し、同条件で撹拌した。並行して、信越化学工業株式会社製シロキサンジアミン商品名:X-22-9409S26.44gを26.44gのDMFに溶解した。得られたシリコンジアミンの溶解した溶液を前述のフラスコに投入し、同条件で撹拌した。続いて、BAPS-mを15.33g投入し、同条件で60分間撹拌した。並行して、DMF39.60gにピリジン56.07g、無水酢酸54.28gを混合した溶液を作製した。該溶液を前述のフラスコに投入し、110°Cに加熱しながら120分間撹拌した。常温に戻ってから、フラスコに1.5リットルのIPAを投入し、析出物を回収した。更に1.5リットルのIPAでの洗浄を5回行い、得られた析出物を110°Cで12時間乾燥し、ポリイミドを得た。合成例3撹拌機、温度計を備えた3リットルのフラスコ中にDMFを288.26g仕込み、TMEGを56.59g投入し、窒素雰囲気下で、液温30°C以下で撹拌した。MBAAを19.74g投入し、同条件で撹拌した。並行して、信越化学工業株式会社製シロキサンジアミン商品名:X-22-9409S61.74gを61.74gのDMFに溶解した。得られたシリコンジアミンの溶解した溶液を前述のフラスコに投入し、同条件で撹拌した。続いて、BAPS-mを11.93g投入し、同条件で60分間撹拌した。並行して、DMF64.1gにピリジン43.64g、無水酢酸42.25gを混合した溶液を作製した。該溶液を前述のフラスコに投入し、110°Cに加熱しながら120分間撹拌した。常温に戻ってから、フラスコに1.5リットルのIPAを投入し、析出物を回収した。更に1.5リットルのIPAでの洗浄を5回行い、得られた析出物を110°Cで12時間乾燥し、ポリイミドを得た。合成例4撹拌機、温度計を備えた3リットルのフラスコ中にDMFを350.00g仕込み、TMEGを95.48g投入し、窒素雰囲気下で、液温30°C以下で撹拌した。続いて、ピロメリット酸二無水物以下、PMDAと示すを7.61g投入し、同条件で撹拌した。続いて、MBAAを40.51g投入し、同条件で撹拌した。続いて、2,2’-ジトリフルオロメチル-4,4’-ジアミノビフェニル以下、TFMBと示すを25.49g投入し、同条件で60分間撹拌した。並行して、DMF12.3gにピリジン69.95g、無水酢酸67.72gを混合した溶液を作製した。該溶液を前述のフラスコに投入し、110°Cに加熱しながら120分間撹拌した。常温に戻ってから、フラスコに1.5リットルのIPAを投入し、析出物を回収した。更に1.5リットルのIPAでの洗浄を5回行い、得られた析出物を110°Cで12時間乾燥し、ポリイミドを得た。合成例5撹拌機、温度計を備えた3リットルのフラスコ中にDMFを294.69g仕込み、TMEGを60.84g投入し、窒素雰囲気下で、液温30°C以下で撹拌した。MBAAを14.86g投入し、同条件で撹拌した。並行して、信越化学工業株式会社製シロキサンジアミン商品名:X-22-9409S55.31gを55.31gのDMFに溶解した。得られたシリコンジアミンの溶解した溶液を前述のフラスコに投入し、同条件で撹拌した。続いて、TFMBを18.99g投入し、同条件で60分間撹拌した。並行して、DMF57.7gにピリジン46.92g、無水酢酸45.42gを混合した溶液を作製した。該溶液を前述のフラスコに投入し、110°Cに加熱しながら120分間撹拌した。常温に戻ってから、フラスコに1.5リットルのIPAを投入し、析出物を回収した。更に1.5リットルのIPAでの洗浄を5回行い、得られた析出物を110°Cで12時間乾燥し、ポリイミドを得た。合成例6撹拌機、温度計を備えた3リットルのフラスコ中にDMFを340.00g仕込み、4,4’-オキシジフタル酸二無水物以下、ODPAと示すを76.49g投入し、窒素雰囲気下で、液温30°C以下で撹拌した。続いて、MBAAを45.88g投入し、同条件で撹拌した。続いて、TFMBを27.63g投入し、同条件で60分間撹拌した。並行して、DMF6.5gにピリジン78.01g、無水酢酸75.52gを混合した溶液を作製した。該溶液を前述のフラスコに投入し、110°Cに加熱しながら120分間撹拌した。常温に戻ってから、フラスコに1.5リットルのIPAを投入し、析出物を回収した。更に1.5リットルのIPAでの洗浄を5回行い、得られた析出物を110°Cで12時間乾燥し、ポリイミドを得た。合成例7撹拌機、温度計を備えた3リットルのフラスコ中にDMFを311.74g仕込み、TMEGを70.14g投入し、窒素雰囲気下で、液温30°C以下で撹拌した。MBAAを41.60g投入し、同条件で撹拌した。並行して、信越化学工業株式会社製シロキサンジアミン商品名:X-22-9409S38.26gを38.26gのDMFに溶解した。得られたシリコンジアミンの溶解した溶液を前述のフラスコに投入し、同条件で60分間撹拌した。並行して、DMF43.5gにピリジン54.09g、無水酢酸52.36gを混合した溶液を作製した。該溶液を前述のフラスコに投入し、110°Cに加熱しながら120分間撹拌した。常温に戻ってから、フラスコに1.5リットルのIPAを投入し、析出物を回収した。更に1.5リットルのIPAでの洗浄を5回行い、得られた析出物を110°Cで12時間乾燥し、ポリイミドを得た。合成例8撹拌機、温度計を備えた3リットルのフラスコ中にDMFを350.00g仕込み、4,4’-オキシジフタル酸二無水物以下、ODPAと示すを67.78g投入し、窒素雰囲気下で、液温30°C以下で撹拌した。続いて、BAPSを47.24g投入し、同条件で撹拌した。続いて、TFMBを34.98g投入し、同条件で60分間撹拌した。並行して、DMF14.0gにピリジン69.12g、無水酢酸66.92gを混合した溶液を作製した。該溶液を前述のフラスコに投入し、110°Cに加熱しながら120分間撹拌した。常温に戻ってから、フラスコに1.5リットルのIPAを投入し、析出物を回収した。更に1.5リットルのIPAでの洗浄を5回行い、得られた析出物を110°Cで12時間乾燥し、ポリイミドを得た。上記合成例1~8においてポリイミドの原料として使用した酸二無水物及びジアミンの種類とモル比、ならびにポリイミドのカルボキシル基1つに対する分子量であるカルボキシル基当量を表1に記載する。実施例1~7、比較例1~2<ポジ型感光性樹脂組成物の調製>上記合成例で得たAポリイミドをγブチロラクトンに溶解して、固形分濃度38の溶液を得た。また、C4,4’-[1-[4-[1-4-ヒドロキシフェニル-1-メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノールと6-ジアゾ-5,6-ジヒドロ-5-オキソ-ナフタレン-1-スルホン酸とのジエステルをγブチロラクトンに溶解して、固形分濃度38の溶液を得た。上記2種の溶液と、B2,2’-ビス4-グリシジルオキシフェニルプロパンエピコート828とγブチロラクトンを混合し、表2に記載した実施例1~7、及び比較例1~2のポジ型感光性樹脂組成物を得た。<ポジ型感光性樹脂組成物の評価>上記実施例、及び比較例のポジ型感光性樹脂組成物をスピンコーターミカサ株式会社製、MS-A200を用いて、4インチシリコンウエハにスピンコートした。オーブンにて60°C、5分間プリベークを行った。この塗膜に、ライン幅/スペース幅=2μm/2μm、5μm/5μm、10μm/10μmのパターンを有するポジ型フォトマスクを置いて減圧下で紫外線を500mJ/cm2露光して感光させた。この感光フィルムに対し、2.38重量テトラメチルアンモニウム水溶液を30°Cに保温した溶液を用いて、1.0kgf/mm2の吐出圧でスプレー現像を行った。現像後、純水でリンスを行い、190°Cのオーブン中で60分加熱して硬化させ、樹脂パターンの形成された反りのないシリコンウエハを得た。SEMを用いて得られたサンプルの外観観察を行い、パターニング性の評価を行った。結果を表2に示す。"