イオン注入ワークピース走査システムにおいて、第1の軸周りに回転するように構成された走査アーム、回転自在に上記走査アームと連結し、ワークピースを選択的に固定するように構成され、さらに、第2の軸周りに回転するように構成された冷却されるエンドエフェクタ、上記第2の軸に沿って配置された軸受け、上記第2の軸に沿って配置されたシール、および、上記軸受けと上記シールとに近接して配置されたヒータアッセンブリ、を備え、上記第1の軸および上記第2の軸は、所定の間隔を開けて配置され、かつ、上記冷却されるエンドエフェクタは、クランピングプレートとこのクランピングプレートを冷却するように構成された1つ以上の冷却機構とを有し、上記軸受けは、上記エンドエフェクタを上記走査アームに回転自在に連結し、上記シールは、一般に、外部環境と、上記走査アームおよび上記エンドエフェクタのうちの1つ以上の内部領域と繋がった内部環境との間に圧力障壁を備え、上記ヒータアッセンブリは、上記軸受けと上記シールとに所望量の熱を選択的に提供し、それによって、上記第2の軸周りに回転するように上記エンドエフェクタの傾きを増加させることを特徴とするイオン注入ワークピース走査システム。上記シールは、回転するように構成された磁気流体回転式シールアッセンブリである、上記外部環境と上記内部環境との間の密閉シールを備えたことを特徴とする請求項1に記載のイオン注入ワークピース走査システム。上記磁気流体回転式シールアッセンブリは、さらに、上記冷却されるエンドエフェクタに動作可能に連結され、上記第2の軸周りに回転するように構成された回転子、上記第2の軸に沿って配置され、上記回転子を回転させるように構成された固定子、および、上記回転子と上記固定子との間の環状領域に配置された磁性流体、を備えたことを特徴とする請求項2に記載のイオン注入ワークピース走査システム。上記ヒータアッセンブリは、加熱パワーが約100から200Wの範囲である電気的要素を備えたことを特徴とする請求項1に記載のイオン注入ワークピース走査システム。上記ヒータアッセンブリは、中を通る加熱流体を循環させるように構成された1つ以上の流路を備えたことを特徴とする請求項1に記載のイオン注入ワークピース走査システム。上記冷却されるエンドエフェクタは、さらに、そのクランピング面に選択的に静電気的にワークピースを押し付けるように構成された冷却される静電チャックを備えることを特徴とする請求項1に記載のイオン注入ワークピース走査システム。上記第1の軸および上記第2の軸は、互いに平行であることを特徴とする請求項1に記載のイオン注入ワークピース走査システム。上記1つ以上の冷却機構は、上記クランピングプレートに対して冷却流体を循環させるように構成された1つ以上の流体チャネルを備えることを特徴とする請求項1に記載のイオン注入ワークピース走査システム。イオン注入ワークピース走査システムであって、イオンビームを横切ってワークピースを平行移動するように構成された走査アーム、上記走査アームに回転自在に連結され、ワークピースを選択的に固定し、ねじれ軸周りに回転するように構成されたエンドエフェクタ、上記ねじれ軸に沿って配置された軸受け、上記ねじれ軸に沿って配置されたシール、および、上記軸受けと上記シールとに近接して配置されるヒータアッセンブリ、を備え、上記軸受けは、上記エンドエフェクタを上記走査アームに回転自在に連結し、上記シールは、一般に、外部環境と、上記走査アームおよび上記エンドエフェクタのうちの1つ以上の内部領域と繋がった内部環境との間に圧力障壁を備え、上記ヒータアッセンブリは、上記軸受けおよび上記シールに所望量の熱を選択的に提供し、それによって、上記ねじれ軸周りに回転するように上記エンドエフェクタの傾きを増加させることを特徴とするイオン注入ワークピース走査システム。上記シールは、回転するように構成された磁気流体回転式シールアッセンブリである、上記外部環境と上記内部環境との間の密閉シールを備えたことを特徴とする請求項9に記載のイオン注入ワークピース走査システム。上記磁気流体回転式シールアッセンブリは、さらに、上記エンドエフェクタアッセンブリに動作可能に連結され、上記第2の軸周りに回転するように構成された回転子、上記ねじれ軸に沿って配置され、上記回転子を回転させるように構成された固定子、および、上記回転子と上記固定子との間の環状領域に配置された磁性流体、を備えることを特徴とする請求項10に記載のイオン注入ワークピース走査システム。上記ヒータアッセンブリは、加熱パワーが約100から200Wの範囲である電気的要素を備えたことを特徴とする請求項9に記載のイオン注入ワークピース走査システム。上記ヒータアッセンブリは、中を通る加熱流体を循環させるように構成された1つ以上の流路を備えたことを特徴とする請求項9に記載のイオン注入ワークピース走査システム。上記冷却されるエンドエフェクタは、さらに、そのクランピング面に選択的に静電気的にワークピースを押し付けるように構成された冷却される静電チャックを備えることを特徴とする請求項9に記載のイオン注入ワークピース走査システム。イオン注入ワークピース走査システムであって、上記走査システムに回転自在に連結され、ワークピースを選択的に固定するように構成され、さらに、軸周りに回転するように構成された冷却されるエンドエフェクタ、上記軸に沿って配置された軸受け、上記軸に沿って配置されたシール、および、上記軸受けと上記シールとに近接して配置されるヒータアッセンブリ、を備え、上記冷却されるエンドエフェクタは、クランピングプレートとこのクランピングプレートを冷却するように構成された1つ以上の冷却機構とを有しており、上記軸受けは、上記冷却されるエンドエフェクタを上記走査システムに回転自在に連結し、上記シールは、一般に、外部環境と、上記走査アームおよび上記冷却されるエンドエフェクタのうちの1つ以上の内部領域と繋がった内部環境との間に圧力障壁を備え、上記ヒータアッセンブリは、上記軸受けと上記シールとに所望量の熱を選択的に提供し、それによって、軸周りに回転するように冷却されるエンドエフェクタの傾きを増加させることを特徴とするイオン注入ワークピース走査システム。上記シールは、回転するように構成された磁気流体回転式シールアッセンブリである、上記外部環境と上記内部環境との間の密閉シールを備えたことを特徴とする請求項15に記載のイオン注入ワークピース走査システム。上記磁気流体回転式シールアッセンブリは、さらに、上記冷却されるエンドエフェクタに動作可能に連結され、上記軸周りに回転するように構成された回転子と、上記軸に沿って配置され、上記回転子を回転させるように構成された固定子と、上記回転子と固定子との間の環状領域に配置された磁性流体と、を備えたことを特徴とする請求項16に記載のイオン注入ワークピース走査システム。上記ヒータアッセンブリは、加熱パワーが約100から200Wの範囲である電気的要素を備えたことを特徴とする請求項15に記載のイオン注入ワークピース走査システム。上記ヒータアッセンブリは、中を通る加熱流体を循環させるように構成された1つ以上の流路を備えたことを特徴とする請求項15に記載のイオン注入ワークピース走査システム。冷却されるエンドエフェクタは、さらに、選択的に静電気的にそれらのクランピング面にワークピースを押し付けるように構成された冷却される静電チャックを備えることを特徴とする請求項15に記載のイオン注入ワークピース走査システム。冷却されるエンドエフェクタの回転能力を維持する方法であって、クランピングプレートとこのクランピングプレートを冷却するように構成された1つ以上の冷却機構とを備え、軸周りに回転するように構成された、冷却されるエンドエフェクタを用意する工程、外部環境と、上記軸に沿って配置された軸受けおよび/またはシールを介して上記冷却されるエンドエフェクタの内部領域と繋がった内部環境との間に圧力障壁を形成する工程、上記軸受けおよび上記シールのうちの1つ以上を加熱する工程、および、上記軸受けおよび上記シールへ所定量の熱を選択的に提供するよう上記加熱を制御し、その結果、軸周りを回転するように、上記冷却されるエンドエフェクタの傾きを増加させる工程を含むことを特徴とする方法。上記圧力障壁を形成する工程は、回転するように構成された磁気流体回転式シールアッセンブリである、上記外部環境と上記内部環境との間の密閉シールを提供する工程を含むことを特徴とする請求項21に記載の方法。