"露光すべきパターンを有するマスクを保持するマスク保持部と、被露光材としてのワークを保持するワーク保持部と、前記マスク保持部を駆動するマスク駆動部と、前記ワーク保持部を駆動するワーク駆動部と、前記マスク及び前記ワークとの間のギャップを測定するギャップセンサと、前記ワークに対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射手段と、を備え、前記マスクと前記ワークとを近接して所定の露光ギャップで対向配置した状態で、前記ワーク上に前記マスクのパターンを露光転写する近接露光装置であって、前記マスク及び前記ワークを、前記マスクの平面に対して垂直方向に離間する方向に相対的に移動させる際、前記マスクの保持力と前記所定の露光ギャップを考慮して、前記マスクと前記ワークとの前記相対移動に伴って生じる前記マスクを前記マスク保持部から離間させる方向に作用する剥離力の大きさが、前記マスク保持部に対する前記マスクの保持力よりも小さくなるように前記マスクと前記ワークとの前記相対移動速度を制御する制御装置を備えることを特徴とする近接露光装置。前記制御装置は、前記マスクと前記ワークとの前記相対移動による前記ギャップの増大に応じて前記相対移動速度を段階的に速くしながら前記マスクと前記ワークとを相対移動させることを特徴とする請求項1に記載の近接露光装置。前記ワークには、1層目としてブラックマトリクス層が露光転写されるとともに、2層目以降として複数の着色層が露光転写され、前記ワークに着色層を露光転写する際に、前記所定の露光ギャップから前記マスク及び前記ワークを互いに離間するように相対移動させる際の前記相対移動速度は、前記ワークにブラックマトリクス層を露光転写する際に、前記所定の露光ギャップから前記マスク及び前記ワークを互いに離間するように相対移動させる際の前記相対移動速度よりも速いことを特徴とする請求項1または2に記載の近接露光装置。露光すべきパターンを有するマスクを保持するマスク保持部と、被露光材としてのワークを保持するワーク保持部と、前記マスク保持部を駆動するマスク駆動部と、前記ワーク保持部を駆動するワーク駆動部と、前記マスク及び前記ワークとの間のギャップを測定するギャップセンサと、前記ワークに対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射手段と、を備え、前記マスクと前記ワークとを近接して所定の露光ギャップで対向配置した状態で、前記ワーク上に前記マスクのパターンを露光転写する近接露光装置の近接露光方法であって、前記マスク及び前記ワークを前記マスクの平面に対して垂直方向に離間する方向に相対的に移動させる際、前記マスクの保持力と前記所定の露光ギャップを考慮して、前記マスクと前記ワークとの前記相対移動に伴って生じる前記マスクを前記マスク保持部から離間させる方向に作用する剥離力の大きさが、前記マスク保持部に対する前記マスクの保持力よりも小さくなるように前記マスクと前記ワークとの前記相対移動速度を制御することを特徴とする近接露光方法。前記マスクと前記ワークとの前記相対移動による前記ギャップの増大に応じて前記相対移動速度が段階的に速くなるように、前記マスクと前記ワークとを相対移動させることを特徴とする請求項4に記載の近接露光方法。前記ワークには、1層目としてブラックマトリクス層が露光転写されるとともに、2層目以降として複数の着色層が露光転写され、前記ワークに着色層を露光転写する際に、前記所定の露光ギャップから前記マスク及び前記ワークを互いに離間するように相対移動させる際の前記相対移動速度は、前記ワークにブラックマトリクス層を露光転写する際に、前記所定の露光ギャップから前記マスク及び前記ワークを互いに離間するように相対移動させる際の前記相対移動速度よりも速いことを特徴とする請求項4または5に記載の近接露光方法。しかしながら、特許文献1及び特許文献2に開示されている露光装置は、マスクと基板とを近接して対向配置した状態で露光転写することは記載されているが、マスクと基板との相対移動に伴うマスクの位置ずれやマスクの落下についての記述はない。特許文献3の露光装置は、マスクホルダの下面に取り付けた支持部材により、マスクの下面を支持して、マスクの位置ずれやマスクの落下の防止を図っているが、マスクと支持部材との間にギャップが生じるため、基板とマスクとの間の気体流出に伴ってマスクの位置がずれる可能性がある。また、特許文献4の露光装置は、基板とマスクとのギャップに空気を給排気するための給排装置が必要となり、設備費が増大すると共に、給排装置の設置スペースを要し、露光装置が大型となる問題点があり、改善の余地があった。本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、基板とマスクとを離間させるときに発生するマスクの剥離力を小さくして、マスクの落下や位置ずれを抑制することができるとともに、タクトタイムを短縮することができる近接露光装置及び近接露光方法を提供することにある。本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。1露光すべきパターンを有するマスクを保持するマスク保持部と、被露光材としてのワークを保持するワーク保持部と、前記マスク保持部を駆動するマスク駆動部と、前記ワーク保持部を駆動するワーク駆動部と、前記マスク及び前記ワークとの間のギャップを測定するギャップセンサと、前記ワークに対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射手段と、を備え、前記マスクと前記ワークとを近接して所定の露光ギャップで対向配置した状態で、前記ワーク上に前記マスクのパターンを露光転写する近接露光装置であって、前記マスク及び前記ワークを、前記マスクの平面に対して垂直方向に離間する方向に相対的に移動させる際、前記マスクの保持力と前記所定の露光ギャップを考慮して、前記マスクと前記ワークとの前記相対移動に伴って生じる前記マスクを前記マスク保持部から離間させる方向に作用する剥離力の大きさが、前記マスク保持部に対する前記マスクの保持力よりも小さくなるように前記マスクと前記ワークとの前記相対移動速度を制御する制御装置を備えることを特徴とする近接露光装置。2前記制御装置は、前記マスクと前記ワークとの前記相対移動による前記ギャップの増大に応じて前記相対移動速度を段階的に速くしながら前記マスクと前記ワークとを相対移動させることを特徴とする上記1に記載の近接露光装置。3前記ワークには、1層目としてブラックマトリクス層が露光転写されるとともに、2層目以降として複数の着色層が露光転写され、前記ワークに着色層を露光転写する際に、前記所定の露光ギャップから前記マスク及び前記ワークを互いに離間するように相対移動させる際の前記相対移動速度は、前記ワークにブラックマトリクス層を露光転写する際に、前記所定の露光ギャップから前記マスク及び前記ワークを互いに離間するように相対移動させる際の前記相対移動速度よりも速いことを特徴とする上記1または2に記載の近接露光装置。4露光すべきパターンを有するマスクを保持するマスク保持部と、被露光材としてのワークを保持するワーク保持部と、前記マスク保持部を駆動するマスク駆動部と、前記ワーク保持部を駆動するワーク駆動部と、前記マスク及び前記ワークとの間のギャップを測定するギャップセンサと、前記ワークに対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射手段と、を備え、前記マスクと前記ワークとを近接して所定の露光ギャップで対向配置した状態で、前記ワーク上に前記マスクのパターンを露光転写する近接露光装置の近接露光方法であって、前記マスク及び前記ワークを前記マスクの平面に対して垂直方向に離間する方向に相対的に移動させる際、前記マスクの保持力と前記所定の露光ギャップを考慮して、前記マスクと前記ワークとの前記相対移動に伴って生じる前記マスクを前記マスク保持部から離間させる方向に作用する剥離力の大きさが、前記マスク保持部に対する前記マスクの保持力よりも小さくなるように前記マスクと前記ワークとの前記相対移動速度を制御することを特徴とする近接露光方法。5前記マスクと前記ワークとの前記相対移動による前記ギャップの増大に応じて前記相対移動速度が段階的に速くなるように、前記マスクと前記ワークとを相対移動させることを特徴とする上記4に記載の近接露光方法。6前記ワークには、1層目としてブラックマトリクス層が露光転写されるとともに、2層目以降として複数の着色層が露光転写され、前記ワークに着色層を露光転写する際に、前記所定の露光ギャップから前記マスク及び前記ワークを互いに離間するように相対移動させる際の前記相対移動速度は、前記ワークにブラックマトリクス層を露光転写する際に、前記所定の露光ギャップから前記マスク及び前記ワークを互いに離間するように相対移動させる際の前記相対移動速度よりも速いことを特徴とする上記4または5に記載の近接露光方法。本発明の近接露光装置及び近接露光方法によれば、マスクの平面に対して垂直方向に離間する方向にマスク及びワークを相対的に移動させる際、マスクとワークとの相対移動速度を制御する制御装置を備える。この制御装置は、マスクの保持力と所定の露光ギャップを考慮して、マスクとワークとの相対移動に伴って生じるマスク保持部からマスクを離間させる方向に作用する剥離力の大きさが、マスク保持部に対するマスクの保持力よりも小さくなるように、マスクとワークとの相対移動速度を制御するので、マスクとワークとの相対移動に伴って発生するマスクの剥離力を小さくして、マスクの落下や位置ずれを抑制することができるとともに、タクトタイムを短縮することができる。以下、本発明に係る近接露光方法が適用される近接露光装置の各実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。第1実施形態図1は本発明に係るステップ式近接露光装置の部分破断正面図である。ステップ式近接露光装置PEは、図1に示すように、被露光材としての基板Wより小さいマスクMを用い、マスクMをマスクステージ1で保持すると共に、基板Wをワークステージ2で保持し、この状態でワークステージ2をマスクMに対してX軸方向とY軸方向の二軸方向にステップ移動させて、ステップ毎にマスクMと基板Wとを近接させて所定の露光ギャップで対向配置した状態で、照射手段3からパターン露光用の光をマスクMに向けて照射することにより、マスクMのパターンを基板W上に露光転写する。装置ベース4上には、ワークステージ2をX軸方向にステップ移動させるためのX軸ステージ送り機構5が設置され、X軸ステージ送り機構5のX軸送り台5a上にはワークステージ2をY軸方向にステップ移動させるためのY軸ステージ送り機構6が設置され、Y軸ステージ送り機構6のY軸送り台6aの上方に、ワークステージ2が設置されている。ワークステージ2の上面には、基板Wがワークチャック等で真空吸引された状態で保持される。Y軸ステージ送り機構6とワークステージ2の間には、ワークステージ2を上下方向に移動させるため、比較的位置決め分解能は粗いが移動ストローク及び移動速度が大きな上下粗動装置7と、上下粗動装置7と比べて高分解能での位置決めが可能でワークステージ2を上下に微動させてマスクMと基板Wとの対向面間のギャップを所定量に微調整する上下微動装置8が設置されている。上下粗動装置7は微動ステージ6bに設けられた適宜の駆動機構によりワークステージ2を微動ステージ6bに対して上下動させる。ワークステージ2の底面の4箇所に固定されたステージ粗動軸14は、微動ステージ6bに固定された直動ベアリング14aに係合し、微動ステージ6bに対し上下方向に案内される。なお、上下粗動装置7は、分解能が低くても、繰り返し位置決め精度が高いことが望ましい。上下微動装置8は、Y軸送り台6aに固定された固定台9と、固定台9にその内端側を斜め下方に傾斜させた状態で取り付けられたリニアガイドの案内レール10とを備えており、該案内レール10に跨架されたスライダ11を介して案内レール10に沿って往復移動するスライド体12にボールねじのナット図示せずが連結されると共に、スライド体12の上端面は微動ステージ6bに固定されたフランジ12aに対して水平方向に摺動自在に接している。そして、固定台9に取り付けられたモータ17によってボールねじのねじ軸を回転駆動させると、ナット、スライダ11及びスライド体12が一体となって案内レール10に沿って斜め方向に移動し、これにより、フランジ12aが上下微動する。なお、上下微動装置8は、モータ17とボールねじによってスライド体12を駆動する代わりに、リニアモータによってスライド体12を駆動するようにしてもよい。この上下微動装置8は、Z軸送り台6aのY軸方向の一端側図1の左端側に1台、他端側に2台、合計3台設置されてそれぞれが独立に駆動制御されるようになっている。これにより、上下微動装置8は、後述するマスク側変位センサ31を構成するギャップセンサによる複数箇所でのマスクMと基板Wとのギャップ量の計測結果に基づき、3箇所のフランジ12aの高さを独立に微調整してワークステージ2の高さ及び傾きを微調整する。なお、上下微動装置8によってワークステージ2の高さを十分に調整できる場合には、上下粗動装置7を省略してもよい。また、Y軸送り台6a上には、ワークステージ2のY方向の位置を検出するY軸レーザ干渉計18に対向するバーミラー19と、ワークステージ2のX軸方向の位置を検出するX軸レーザ干渉計に対向するバーミラー共に図示せずとが設置されている。Y軸レーザ干渉計18に対向するバーミラー19は、Y軸送り台6aの一側でX軸方向に沿って配置されており、X軸レーザ干渉計に対向するバーミラーは、Y軸送り台6aの一端側でY軸方向に沿って配置されている。Y軸レーザ干渉計18及びX軸レーザ干渉計は、それぞれ常に対応するバーミラーに対向するように配置されて装置ベース4に支持されている。なお、Y軸レーザ干渉計18は、X軸方向に離間して2台設置されている。2台のY軸レーザ干渉計18により、バーミラー19を介してY軸送り台6a、ひいてはワークステージ2のY軸方向の位置及びヨーイング誤差を検出する。また、X軸レーザ干渉計により、対向するバーミラーを介してX軸送り台5a、ひいてはワークステージ2のX軸方向の位置を検出する。ステップ送り時に得られる2つのY軸方向位置データ及びX軸方向位置データの検出信号を制御装置40に出力し、制御装置40がこの検出信号実際の位置データと指令された位置データ位置決めすべき位置のデータとの差に基づいて補正量を算出して、その算出結果を後述するマスク位置調整手段50及び必要に応じて上下微動装置8の駆動回路に出力することで、該補正量に応じてマスク位置調整手段50等が制御されてX軸方向及びY軸方向の位置ずれ及びヨーイング誤差が補正される。これにより、マスクMが、基板Wの露光すべき位置に正しく対向するようにアライメントされる。マスクステージ1は、略長方形状の枠体からなるマスクフレーム24と、該マスクフレーム24の中央部開口にギャップを介して挿入されて、マスク位置調整手段50によってX,Y,θ方向X,Y平面内に移動可能に支持されたマスク保持枠25とを備えており、マスクフレーム24は装置ベース4から突設された支柱4aによってワークステージ2の上方の定位置に保持されている。図2も参照して、マスク保持枠25の中央部開口の下面には、内方に張り出すマスク保持部であるフランジ26が、間座21を介して開口の全周に沿って設けられている。フランジ26には、マスクMのマスクパターンが描かれていない周縁部を吸着するための複数の吸着溝27が開設されており、マスクMは、吸着溝27を介して図示しない真空式吸着装置によりフランジ26に着脱自在に保持される。また、フランジ26の上方には、基板Wの上面の高さを測定すると共に、マスクMと基板Wとの対向面間のギャップを測定するギャップセンサを構成するマスク側変位センサ31、及びマスクMのアライメントマーク図示せずと、基板W側に設けられたアライメントマーク図示せず、又はワークステージ2、若しくはマスクフレーム24に設けられた基準アライメントマーク図示せずとを撮像する手段としてのアライメントカメラ30がそれぞれ移動可能に配置されている。マスク側変位センサ31は、フランジ26のX軸方向に沿う二辺の内側上方にX軸方向に互いに離間して2か所ずつ、合計4か所配置されている。マスク側変位センサ31は、非接触式センサであればよく、光学式や超音波式や渦電流式のギャップセンサが適用される。アライメントカメラ30はフランジ26のX軸方向に沿う二辺の各内側上方でX軸方向の略中央部にそれぞれ一カ所ずつ合計2カ所配置されており、これらの2個のアライメントカメラ30の画像データに基づいて制御装置40が演算処理を行うことで、マスクMと基板Wとの平面ずれ量を検出する。そして、この検出平面ずれ量に応じてマスク位置調整手段50が、マスク保持枠25をX,Y,θ方向に移動させてマスク保持枠25に保持されたマスクMの基板Wに対する位置を調整する。なお、これらマスク側変位センサ31やアライメントカメラ30は、図示しない駆動機構を介してマスクステージ1に対して移動可能に支持されてもよい。マスク位置調整手段50は、マスクフレーム24のX軸方向に沿う一辺に取り付けられたY軸方向駆動装置図示せずと、マスクフレーム24のY軸方向に沿う一辺に互いにY軸方向に離間して取り付けられた二台のX軸方向駆動装置51とを備えており、Y軸方向駆動装置によりマスク保持枠25のY軸方向の調整を、二台のX軸方向駆動装置51によりマスク保持枠25のX軸方向及びθ軸方向Z軸まわりの揺動の調整を行うようになっている。マスキングアパーチャ機構28は、マスク保持枠25に保持されたマスクM上の任意の範囲の露光光を必要に応じて遮光することで、露光範囲を制限する遮光ブレード図示せずを有する。次に、このような構成を有するステップ式近接露光装置PEによる露光転写方法について詳細に説明する。図3はステップ式近接露光装置による露光手順を示すフローチャートであり、先ず、ステップS1でX軸ステージ送り機構5およびY軸ステージ送り機構6を作動させて、基板Wを保持するワークステージ2を、マスクMの下方の露光位置に移動させる。ステップS2で上下粗動装置7又は上下微動装置8によりワークステージ2を上昇させた後、ギャップセンサマスク側変位センサ31を用いて、マスクMと基板Wとのギャップgを測定して上下微動装置8でマスクMと基板Wとを所定の露光ギャップに調整して対向配置する。そして、ステップS3で照射手段3からパターン露光用の光を照射して、第1ステップ目の露光パターンを基板W上に露光転写する。次いで、ステップS4でマスクMと基板Wとのギャップgに応じてワークステージ2の適正な下降速度マスクMとワークWとの相対移動速度Vを求める。なお、相対移動速度Vについては、後に詳述する。ステップS5で上下粗動装置7または上下微動装置8を作動させ、ステップS4で求められた相対移動速度Vでワークステージ2を下方に移動させて、マスクMと基板Wとの対向面間のギャップgを、ワークステージ2のステップ移動でマスクMと基板Wとが接触する虞のないギャップgにまで広げ、ステップS6で1枚の基板Wに予定していた全てのショットの露光が終了したか否かを判別する。全てのショットの露光が終了している場合は、ステップS7でワークステージ2から露光済みの基板Wを取り外し、未露光の基板Wを吸着保持させて基板Wを交換し、再びステップS1に戻って同様に操作を繰り返し行う。また、露光が終了していない場合は、ステップS1に戻り、ワークステージ2を例えば、Y軸方向に1ステップ量だけステップ移動させ、再び、マスクMと基板Wとのギャップgを露光ギャップに調整した後ステップS2、パターン露光用の光を照射して次ステップ目の露光パターンを露光転写するステップS3ことを繰り返し行う。次に、ステップS4におけるマスクMとワークWとの相対移動速度Vを求める方法について詳述する。ワークステージ2のステップ移動に先だち、ステップ移動によってマスクMと基板Wとが干渉しないようにワークステージ2を下降させてギャップgを広げる必要がある。ワークWを下降させる際の相対移動速度Vは、タクトタイムに直接影響を及ぼすので、できるだけ速い速度であることが望ましい。一方、上下微動装置8を作動させてワークステージ2を下方に移動させると、マスクMと基板Wとの微小ギャップg例えば、数10μmが拡大することでギャップg内の圧力が低下する。これにより、マスクMには、マスクステージ1フランジ26から引き剥がす方向の剥離力Fが作用する。マスクMに作用する剥離力Fが、フランジ26によるマスクMの保持力fより大きくなると、フランジ26からマスクMが落下したり、フランジ26に対してマスクMの位置がずれる虞がある。これを防止するには、フランジ26によるマスクMの保持力fより、マスクMに作用する剥離力Fを小さくすることが必要であるf>F。このため、本実施形態では、剥離力Fを小さくすることでマスクMの保持力f>マスクMに作用する剥離力Fの関係を達成する。マスクMに作用する剥離力Fの大きさは、マスクMのサイズが一定であれば、マスクMと基板Wとのギャップgが広がれば小さくなり、マスクMとワークWとの相対移動速度Vに比例して大きくなることが分かっているので、マスクMと基板Wとのギャップgに応じて相対移動速度Vを変更することで、剥離力Fを保持力fより小さくすることができる。具体的には、不図示の圧力計によりフランジ26の吸着溝27内の圧力負圧pを測定して制御装置40の記憶部40aに記憶させると共に、制御装置40の演算部40bがマスクMの保持力f吸着溝27の開口部面積S×吸着溝27の圧力pを算出する。次いで、ギャップセンサマスク側変位センサ31を用いてマスクMと基板Wとのギャップgを測定して制御装置40の記憶部40aに記憶させると共に、制御装置40の演算部40bは、マスクMの保持力fと所定の露光ギャップを考慮して、発生する剥離力FがマスクMの保持力fより小さくなるようにf>F、マスクMと基板Wとの相対移動速度Vを求める。なお、相対移動速度ワークステージの下降速度Vは、剥離力Fやギャップgをパラメータとする演算式を用いて算出してもよく、或いは、図4に示すようなテーブルを用いて算出してもよい。相対移動速度Vを与える演算式としては、以下の式1が知られており、剥離力Fは、ギャップgの3乗に反比例し、移動速度Vに比例することがわかる。ここで、μ:空気の動粘度、L:マスク長さ、B:マスク幅、px,y:圧力を表している。また、図4はギャップgと剥離力Fとの関係を相対移動移動Vをパラメータとして示すグラフであり、例えば、マスクMの保持力fが20000N、マスクMと基板Wとのギャップgが100μmの場合、相対移動速度V=2mm/Sとすれば、マスクMに作用する剥離力Fは略17000Nであり、剥離力FをマスクMの保持力fより小さくできるf>Fことが分かる。しかし、相対移動速度V=5mm/Sとすると、剥離力Fは略38000NとなってマスクMの保持力f20000Nより大きくなり、マスクMの落下や位置ずれが生じる可能性が高くなる。従って、この場合の適正な相対移動速度Vは、2mm/Sとなる。制御装置40の制御部40cは、上記で求められた適正な相対移動速度V2mm/Sでワークステージ2が下降するように上下微動装置8を制御する。これにより、マスクMの落下や位置ずれなどを発生させることなく、安全にステップ移動可能なギャップgにまで広げて、次の露光位置にステップ移動することができる。上記したように、マスクMの保持力fとマスクMと基板Wとのギャップgに応じて変更した相対移動速度Vでワークステージ2を下降させることにより、剥離力Fを小さくして、マスクMの落下や位置ずれなどを防止すると共にタクトタイムを短縮することができる。なお、両者が接近する方向に移動する場合には、基板WとマスクMとのギャップgの圧力は寧ろ高まるので、マスクMの落下や位置ずれの虞はなく、通常の速度での作動が可能となる。以上説明したように、本実施形態のステップ式近接露光装置PEによれば、マスクMの平面に対して垂直方向に離間する方向にマスクM及び基板Wを相対的に移動させる際、マスクMと基板Wとの相対移動速度Vを制御する制御装置40を備える。この制御装置40は、マスクの保持力fと所定の露光ギャップを考慮して、マスクMと基板Wとの相対移動に伴って生じるフランジマスク保持部26からマスクMを離間させる方向に作用する剥離力Fの大きさが、フランジ26に対するマスクMの保持力fよりも小さくなるように、マスクMと基板Wとの相対移動速度Vを制御するので、相対移動に伴って発生するマスクMの剥離力Fを小さくして、マスクMの落下や位置ずれを抑制することができるとともに、タクトタイムの短縮が可能となる。第2実施形態次に、本発明の第2実施形態について説明する。第2実施形態のステップ式近接露光装置PEは、マスクMから基板Wを離間移動させる際のワークステージ2の移動速度Vが、ギャップgの大きさに応じて段階的に制御される点で第1実施形態のステップ式近接露光装置PEと異なる。その他の部分については、同様であるので同一部分については説明を省略する。本実施形態のステップ式近接露光装置PEは、制御装置40が、マスクMと基板Wとの相対移動によるギャップgの増大に応じて、マスクMと基板Wとの相対移動速度Vを段階的に速くなるように制御しながら移動させる。具体的には、第1実施形態と同様に、不図示の圧力計によりフランジ26の吸着溝27内の圧力負圧pを測定して制御装置40の記憶部40aに記憶させると共に、制御装置40の演算部40bがマスクMの保持力fを算出する。次いで、マスク側変位センサ31を用いてマスクMと基板Wとのギャップgを測定して制御装置40の記憶部40bに記憶させると共に、剥離力FがマスクMの保持力fより小さくなるf>FマスクMと基板Wとの相対移動速度V0を求め、制御部40cが上下微動装置8を制御して相対移動速度V0でワークステージ2の下降を開始する。相対移動速度V0でのワークステージ2の下降移動中に、マスク側変位センサ31でマスクMと基板Wとのギャップgを連続して監視して所定のギャップgに達したとき、そのギャップgにおいて保持力f>剥離力Fを満足させる相対移動速度V1を新たに求め、ワークステージ2の下降速度を、新しく求められた相対移動速度V1に変更してワークステージ2を下降させる。このときの相対移動速度V1は、マスクMと基板Wとのギャップgが露光ギャップより大きくなっているので、初期の相対移動速度V0より当然大きな相対移動速度V1での移動が可能となる。例えば、マスクMの保持力fが20000N、マスクMと基板Wとのギャップ初期ギャップhが100μmの場合、図4に示すように、剥離力FがマスクMの保持力fより小さい相対移動速度V0=2mm/Sでワークステージ2の下降を開始する。しかし、この速度で安全にステップ移動可能なギャップg例えば、400μmまでワークステージ2を下降させると時間がかかり、生産効率向上の観点から好ましくない。一方、図4から分かるように、相対移動速度V=5mm/Sとしたとき、ギャップg=150μmにおいて発生する剥離力Fは、略10000Nであり、マスクMの保持力f20000Nより小さくなっている。従って、ギャップgが150μmに達するまでの間は、相対移動速度V0=2mm/Sでワークステージ2を下降させ、ギャップgが150μmに達した時点で相対移動速度V1=5mm/Sに変更して下降させることにより、マスクMの落下や位置ずれを防止しながら、タクトタイムの短縮が可能となる。このように、マスクMに作用する剥離力Fが、マスクMの保持力fより大きくならない範囲で、段階的に相対移動速度Vを速めながらワークステージ2を下降させることで、効率的な露光処理が可能となる。なお、相対移動速度Vは、上記した2段階に限定されず、3段階以上とすることもできる。例えば、上記の条件の場合、ギャップgが150μm以下の範囲はV=2mm/Sで、ギャップgが150μm~200μmの範囲はV=5mm/Sで、ギャップgが200μm以上の範囲はV=10mm/Sと、段階的に切り換えて下降させてもよい。上記したように、本実施形態のステップ式近接露光装置PEによれば、マスクMの落下や位置ずれが生じない範囲内で、相対移動速度Vを段階的に速めながらワークステージ2を下降させるので、タクトタイムを更に短縮することができ、生産効率が向上する。尚、本発明は、前述した各実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。例えば、上記の説明では、マスクステージに対してワークステージ基板を上下方向に移動させてギャップ調整を行うように説明したが、ワークステージに対してマスクステージを上下方向移動させるようにしてもよい。また、カラーフィルター用基板を製造する場合には、1層目としてブラックマトリクス層を露光転写し、2層目以降として複数の着色層を露光転写する。この場合、2層目以降の露光におけるマスクMと基板Wとの相対移動速度Vは、1層目の露光時の相対移動速度Vより速い速度でワークステージ2を移動下降させてもよい。これは、2層目以後の露光においては、ショットごとにマスクMと基板Wとのアライメントが調整されるため、マスクMに若干の位置ずれアライメント修正可能な範囲内での位置ずれが生じたとしても、露光前に修正されて露光精度に影響しないことによる。この場合、ブラックマトリクス層を露光する近接露光装置と、着色層を露光する近接露光装置は、同一であってもよいし、別々のものであってもよい。"