入口から出口に流体をつなぐオリフィスを規定する主流路を有する本体であって、主流路が入口およびオリフィスの間の入口体積境界ならびにオリフィスおよび出口の間の出口体積境界を規定し、さらに出口体積境界の一部が、オリフィスに隣接する内壁を含む本体、流路内に設置され、内壁が実質的に弁体の外表面を取り囲み、内壁および弁体の外表面の間のスロート方向の流体の流れを実質的に制限する弁体、および流体がオリフィスを通過する場合に、弁箱のスロート方向の流体の流れを増加させるための出口体積境界内の第2の流路、を含む流体レギュレータ。第2の流路がオリフィスに隣接し、出口の上流にある請求項1に記載の流体レギュレータ。主流路を通ってプロセス流体が流れる場合、第2の通路がドループ効果を生成することにより流体レギュレータのブースト効果を減らす請求項1~2のいずれか1項に記載の流体レギュレータ。第2の通路が弁箱の内壁と一体形成される請求項1~3のいずれか1項に記載の流体レギュレータ。第2の流路が本体のオリフィスとスロートの間の内壁内に形成される長軸方向ギャップを含む請求項1~4のいずれか1項に記載の流体レギュレータ。ギャップが少なくとも一部の内壁の周辺端部まで伸びる請求項1~5のいずれか1項に記載の流体レギュレータ。ギャップが2つの対向する内壁端部を規定し、対向する端部がオリフィスの長軸に対し実質的に平行である請求項1~6のいずれか1項に記載の流体レギュレータ。対向する端部がオリフィスの長軸に対して約5度と180度の間の角度で間隔をおいて配置される請求項1~7のいずれか1項に記載の流体レギュレータ。対向する端部がオリフィスの長軸に対して約100度の角度で間隔をおいて配置される請求項1~8のいずれか1項に記載の流体レギュレータ。第2の通路が1つまたは複数の内壁内に形成されたリリーフポートを含み、内壁と外表面の間を通る、流体の本体のスロート方向へのリリーフポートを介した流れを可能とする請求項1~9のいずれか1項に記載の流体レギュレータ。リリーフポートが内壁の周囲長の少なくとも一部に配置される請求項1~10のいずれか1項に記載の流体レギュレータ。リリーフポートがオリフィスの長軸に対し放射状に間隔を開けて配置される請求項1~11のいずれか1項に記載の流体レギュレータ。リリーフポートがオリフィスの長軸の周りに均等に間隔を開けて配置される請求項1~12のいずれか1項に記載の流体レギュレータ。リリーフポートが実質的に類似のプロファイルと形状を有し、実質的に類似のオリフィスとスロートの間の流体の流れを与える請求項1~13のいずれか1項に記載の流体レギュレータ。流路の入口から流路の出口へ流体をつなぐオリフィスを規定する弁箱に一体形成された第1の流路、および第1の流路のオリフィスおよび弁箱がアクチュエータに結合される場合にアクチュエータのセンシングチャンバと流体連通になるべき弁箱のスロート領域の間の流速を増加させるための弁箱に一体形成された第2の流路、を含む流体弁箱。弁体がオリフィスに隣接する第1の流路内に配置される場合に、第1の流路がオリフィスとスロート領域の間の流体連通を制限する請求項15に記載の流体弁箱。弁体がオリフィスに隣接する第1の流路内に配置される場合に、第2の流路がオリフィスとスロート領域の間の流体連通を可能とする請求項1~16のいずれか1項に記載の流体弁箱。弁体が第1の流路内に配置され、内壁および弁体が流体の流れを出口の方向に向かわせ、弁体の外表面と内壁の内表面の間の流体の流れを制限する場合に、第1の流路が弁体の外表面に近接する内表面を有する内壁を含む請求項1~17のいずれか1項に記載の流体弁箱。流体レギュレータの流路を通る流体の流れを制御する手段であって、その流体の流れを制御する手段が流路の内壁に隣接してスライド可能なように配置され、それにより、内壁およびその流体の流れを制御する手段が、流路のオリフィスを通って流体レギュレータの出口に流れる方向に流体を向かわせ、流路のスロート領域の方向への流体の流れを制限する手段、および流体がオリフィスを相対的に高速で通過する場合に、オリフィスを通ってスロート領域の方向に流体を向かわせる手段であって、オリフィスを通ってスロート領域の方向に流体を向かわせるその手段が、流路と一体形成されている手段、を含む流体レギュレータに使用する弁箱。オリフィスを通ってスロート領域の方向に流体の流れを向かわせる手段が、オリフィスとスロート領域の間の流速を増やすための手段を内壁と一体形成すること含む請求項19に記載の弁箱。一例では、流体レギュレータは、入口から出口へ流体をつなぐオリフィスを規定する主流路を有する主要部を含み、主流路が、入口とオリフィスの間の入口体積境界およびオリフィスと出口の間の出口体積境界を規定する。出口体積境界の一部は、オリフィスに隣接する内壁を含む。弁体は、流路の第2の部分内に設置され、それにより、内壁は、実質的に弁体の外表面を取り囲み、内壁と弁体の外表面の間を通って、スロートに向かう流量を実質的に制限する。出口体積境界内に第2の流路を有する弁箱は、オリフィスに向かう流量を増加させる。別の例では、流体弁箱は、流路の入口から流路の出口へと流体をつなぐオリフィスを規定するために、弁箱と一体に形成された第1の流路、および第1の流路のオリフィス、および弁箱のスロート領域の間の流速を増やすために、弁箱と一体に形成された第2の流路を含む。本明細書記載の例示流体レギュレータは、流体の流量を調節し、設定制御圧に基づく、受け入れ可能な圧力限界内に下流圧力を維持する。さらに、流体レギュレータは、流体レギュレータの定格容量および/または精度分類を大きく改善するための一体形成型ブースト低減機能を有する例示弁箱を含む。特に、本明細書記載の例示弁箱は、流体レギュレータが相対的に高流速に曝される場合に、ブーストを制御し、および/または流体レギュレータの過剰ブーストを防ぐ。換言すれば、本明細書記載の例示弁箱は、流体レギュレータが、例えば、従来の弁箱を備えた流体レギュレータに比べて、より広い範囲の操作圧力差にわたり特定の精度分類を得られるようにする。特に、例示弁箱は、弁箱の入口から出口へ流体をつなぐオリフィスおよびオリフィスから弁箱のスロート領域へと流体をつなぐ第2の流路を有する1次または主流路を規定する。さらに具体的には、その主流路は、オリフィスに隣接する内壁を含み、これは、流路内に配置された弁体と組み合わせて、弁箱のスロートの方向への流体の流れを実質的に制限する。特に、内壁および弁体は、流路のオリフィスを通って、弁箱の出口の方向の、スロート領域から離れた方向へ流れを曲げるか、または向かわせる。スロート領域から離れる方向へ流体を向かわせることにより、ドループフロー特性を低減できる。しかし、流体が相対的に高い圧力差でオリフィスを通過する場合、スロート領域から離れる方向へ流体を向かわせることは、また、過剰ブーストを増やす、または引き起こす可能性がある。第2の流路は、オリフィスからスロート領域へ流体をつなぐ流路を提供する。従って、そうでない場合は、弁体と内壁によりスロート領域から離れる方向に向けられるか、または曲げられるはずの流体が、第2の流路を経由してスロート領域内で流れるか、または移動できる。換言すれば、流体が相対的に高速で1次流路のオリフィスを横切って流れる場合、第2の流路は、ドループを形成し、過剰ブーストフロー特性を防ぐ。第2の流路は、例えば、内壁部分に一体的に形成されるギャップ、チャネル、コンジット、ポートまたは他の通路であってもよい。一部の例では、第2の流路は、オリフィスの軸の周りに放射状に空隙を開けて配置された1つまたは複数の壁部分を規定する複数のギャップまたはポートを含んでもよい。第2の流路は、ブーストフロー特性を制御し例えば、ドループを形成して、それにより、より正確な流体レギュレータを提供し、より広い範囲の操作パラメータ例えば、入口圧または圧力差に対し、下流の要求に正確に合わせられる流体レギュレータの能力を改善する。一体形成型ブースト低減機能を有する例示レギュレータおよび弁箱の詳細について考察する前に、既知の自動制御流体レギュレータ100の説明が図1に提供される。図1からわかるように、レギュレータ100は、レギュレータ弁104に結合したアクチュエータ102を含む。アクチュエータ102は、アクチュエータ筐体108に取り付けられて、ローディングチャンバ110およびセンシングチャンバ112を規定する隔膜106を含む。ローディングチャンバ110は、例えば、設定もしくは制御負荷または圧力を隔膜106の第1の側面118に与える制御スプリング116、等の負荷装置114を含む。典型的には、負荷装置114により与えられる制御負荷または圧力は、流体レギュレータ100により提供されるべき所望の出口圧力に相当する。レギュレータ弁104は、入口124と出口126の間の流体流路122を規定する弁箱120を含む。弁箱120は、アクチュエータ筐体108に結合され、それにより、弁箱120のスロート128は、センシングチャンバ112と流体連通状態になり、センシングチャンバ112は、弁箱120の出口126の位置の流体の圧力を探知できる。弁体130は、流路122内に配置され、弁座132に対し移動し、流路122を通る流量を制御する。隔膜106と弁体130を連結するために、流体レギュレータ100は、連結機構134を使用する。操作中、隔膜106は、センシングチャンバ112によりスロート128を介して探知された出口圧力および負荷装置114による設定または制御圧すなわち、制御スプリング116によるスプリング力により与えられる隔膜108の間の両側の圧力差に応じて、連結機構134を介して弁体130を移動させる。下流の要求が増加するにつれ、下流の流量要求が増加し、下流圧力が減少する。センシングチャンバ112は、スロート128を介して出口126の圧力を探知する。センシングチャンバ112により探知された、隔膜108の第1の側面118に対し負荷装置114により加えられた制御圧より低い圧力が、隔膜106両側の圧力差をもたらし、隔膜106をセンシングチャンバ112の方向へ移動させる。次に、隔膜108が、弁体130を弁座132から離れる方向へ移動させ、流体を流路122を通って流させる。下流の要求が減少する場合は、出口126の圧力が増加し、流量要求は減少する。センシングチャンバ112によりすなわち、スロート128を介して探知された、負荷装置114により加えられた制御圧よりも高い出口圧力により、隔膜106の両側に圧力差を生じ、隔膜106をローディングチャンバ110の方向に移動させる。次に、隔膜106は、弁体130を弁座132の方向に動かし、流路122を通した流体の流れを制限するか、または止める。流体レギュレータ100がある範囲の圧力差、および、それによる流量に曝される場合、流体レギュレータ100は、設定制御圧で出口圧力を維持する流体レギュレータ100の能力に基づいて、特定の容量格付けまたは精度分類に類別することができる。流体レギュレータ100が、受け入れられない程度に設定制御圧からずれる下流出口圧力を生ずる場合、流体レギュレータ100が特定の圧力差に曝されると、流体レギュレータ100は、もはや、定格精度分類または容量の範囲内で制御できない。受け入れられない程度の設定制御圧からのずれは、多くの場合、プロセス流体が流体レギュレータ100を通って相対的に高速で流れる場合に、ブーストフロー特性により生ずる。結果として、ブーストは、流体レギュレータ100の精度および/または容量に大きく悪影響を与えるか、またはこれらを低下させる。例えば、下流圧力が増加し例えば、急速な増加、流体が流路122を通って相対的に高速で流れる場合に、レギュレータ100は、ブーストを形成する可能性がある。オリフィス136の両側の相対的に大きい圧力差は、スロート128中の圧力領域を下流圧力または出口126の圧力よりも低くする可能性がある。結果として、センシングチャンバ122は、低い圧力出口圧力よりもを探知し、レギュレータ100に、出口126の方向へのより多くの流体を流させる弁座132の方向への弁体120の移動とは対照的に。その結果、流体レギュレータ100の出口側圧力は、設定制御圧からずれる可能性がある。ブーストは、多くの因子、例えば、隔膜106がセンシングチャンバ112の方向に移動するときの制御スプリング116のスプリング力の変動、隔膜106が隔膜106の両側の圧力差により曲がるかまたは移動するときの隔膜106の領域の変動、流路122のオリフィス136のサイズ、プロセス流体の入口圧力、オリフィス136や弁体130の両側の圧力差、等、により引き起こされる可能性がある。図2は、流路122を通って流れる流体を示す、図1の例示レギュレータ100の拡大部分図である。図3は、弁箱120の平面図である。図2と3にさらに詳細に示すように、弁体130は、流路122内に配置され、それにより、弁体130の外表面202は、弁箱120の内壁206の内表面204に隣接して配置され、相対的にタイトなフィットまたは狭い公差になる。同様の方式で、流体がオリフィス136を通って流れるにつれ、弁箱120の内壁206例えば、オリフィス136の入口側に隣接するおよび弁体130は、出口126の方向208中の流路122を通って流体が流れるように方向付ける。さらに、弁体130は、弁体130の外表面202に近接状態にあるので、内壁206および弁体130は、オリフィス136からスロート128方向、従って、センシングチャンバ122方向への流量を実質的に制限する。図3に最もよく示されているように、内壁206は、スロート128の円周に対し放射状に配置されており、オリフィス136の軸201の方向に内側に突き出ている。従って、流体が相対的に低速でオリフィス136を通過する場合、内壁206および弁体130は、ドループ低減機構を与えるブーストを増加させることにより。換言すれば、流体は、入口124および出口126の間を流れるとき、内壁206および弁体30は、スロート128またはセンシングチャンバ122から離れて、出口126に向かう下流方向208またはオリフィス136に向かう逆の方向210に流体を向かわせる。しかし、相対的に高い圧力の適用に対しては、流体の流れを方向210に向かわせることにより、オリフィス136の位置の流体の圧力が増加する。オリフィス136の位置の流体の圧力が増加すると、流路122内の流体は、オリフィス136を通って相対的に高速で流れる。従って、相対的に高い入口圧力または大きな圧力差を有する場合、プロセス流体は、相対的に高速または相対的に高い運動量で流路122を通過し、内壁206および弁体130は、弁箱120のスロート128の位置で低圧力領域を形成する可能性がある。次に、流体が相対的に高速で、センシングチャンバ112から離れて流路122を通過し、それにより、スロート128中に低圧力領域またはゾーンを形成するために、センシングチャンバ112は、出口126の下流の圧力よりも低いスロート128の圧力を探知する可能性がある。結果的に、流体レギュレータ100は、弁体120を弁座132から離れる方向に動かし、より多くの流体を流路122を通って流れさせ、それにより、要求より多い下流流量を与える。その結果、出口126の圧力は、制御スプリング116で与えられる所望または設定制御圧を越えて増加しすなわち、ブーストを生じ、それにより、相対的に低い入口圧力の場合の適用に対する流体レギュレータ100の精度を低下させる。結果として、流体レギュレータ100は、通常、より低い精度分類および/または容量を有することになる。図4は、流体レギュレータ400が相対的に高速流量に曝され、それにより、流体レギュレータ400の精度分類および定格容量が著しく高くなった場合、過剰ブーストを防ぐための一体形成型ブースト低減機能を有する本明細書記載の例示レギュレータ弁402を備えた例示流体レギュレータ400を図示したものである。換言すれば、レギュレータ弁402は、高圧流体が流体レギュレータ400を相対的に高速で流れる場合に、流体レギュレータ400のドループを形成または増加させて過剰ブーストを防ぐことにより、流体レギュレータ400のブーストを制御する。図4において、例示流体レギュレータ400は、動作可能なようにレギュレータ弁402に結合されているアクチュエータ404を含む。レギュレータ弁402は、入口412および出口414の間の主流路410を規定する弁箱406を含む。入口412は、流体レギュレータ400の上流の供給システム例えば、天然ガス供給システムに流体をつなぐことができ、出口414は、例えば、流体レギュレータ400の下流のボイラー、等の消費ソースに流体をつなぐことができる。弁座416は、弁箱406の流路410中に取り付けられ、流体が入口412および出口414の間を流れることができるオリフィス418を規定する。流路410を通る流体の流れを制御するために、レギュレータ弁402は、弁座416に対して動く流量制御部材または弁体420例えば、シールディスクsealingdiscを含む。弁体420例えば、シールディスクは、弁棒424の末端422に連結され、また、弁座416のシール表面にシールされて組み合わされるシールディスク428これはエラストマー材料から作られてもよいを含み、弁棒424と弁体420が弁座416の方向に動くとき、流路410を通る流体の流れを制限するか、または止める。アクチュエータ404は、隔膜部436を含む上部ケーシング432および下部ケーシング434を含む。隔膜部436は、アクチュエータ404の上部ケーシング432とアクチュエータ404の下部ケーシング434の間に取り付けられた隔膜438を含み、隔膜438の第1の側面440および上部ケーシング432がローディングチャンバ442を規定し、隔膜438の第2の側面444および下部ケーシング434がセンシングチャンバ446を規定する。レバー448は、動作可能なように隔膜438および弁体420に連結され、弁棒424の第2の末端450に連結される。レバー448は、隔膜プレート452およびプッシャーポスト部454を介して隔膜438に連結される。隔膜438は、弁体420例えば、シールディスクをレバー448を介して弁座416に対し移動させて、入口412と出口414の間の流体の流れを制御する。制御圧を与えるように調節するローディング部456は、ローディングチャンバ442内に配置される。この例では、ローディング部456は、調節可能スプリングシート460および第2のスプリングシート462例えば、隔膜プレート452の本体部分の間に配置される閉鎖スプリング458を含む。閉鎖スプリング458は、隔膜438の第1の側面440をセンシングチャンバ446の方向に曲げて弁座416から離れる方向へ例えば、開位置へ弁体420を動かす設定負荷または力例えば、下流制御圧を与える。閉鎖スプリング458により作用される力の量は、調節可能スプリングシート460により調節例えば、増やすまたは減らすできる。弁箱406は、アクチュエータ404の下部ケーシング434に連結され、それにより、センシングチャンバ446は、弁口またはスロート領域464を介して、出口414と流体連通状態になる。弁棒ガイド466は、下部アクチュエータケーシング434、弁箱406、または弁座416の内の少なくとも1つの部材と弁棒424および弁体420を整列させる。弁棒ガイド466は、また、センシングチャンバ446からスロート領域464および出口414へと流体をつなぐための少なくとも1つの流路468を含む。制御スプリング456により与えられる力が、センシングチャンバ446中の流体の圧力から与えられる力より小さい場合は、隔膜438は、ローディングチャンバ442の方向に動き、弁体420を弁座416の方向に動かし、流路410を通る流体の流れを制限するか、または止める例えば、閉状態。図5Aは、図4の弁箱406の断面図である。図5Bは、図4と5Aの弁箱406の平面図である。図5Aと5Bを参照すると、主流路410は、入口412およびオリフィス418の間の入口体積境界502を規定し、オリフィス418および出口414の間の出口体積境界504を規定する。出口体積境界504は、少なくとも部分的には、弁箱406の内壁508により規定されるオリフィス418の下流の流路を規定する。内壁508および弁体420の外表面510の間のスロート領域464に向かう流体の流れを実質的に制限するために、弁体420が出口体積境界504内に配置される場合は、内壁508は、弁体420を実質的に取り巻くまたは取り囲む。この例では、内壁508は、オリフィス418に隣接し、および出口414の上流に位置する。さらに、内壁508は、スロート領域464に隣接する。従って、弁体420が流路410の出口体積境界504内に配置される場合は、内壁508の少なくとも一部は、弁体420の外表面510のすぐ隣にある。弁体420の外表面510は、内壁508に対し相対的に近接しているが、弁体420の外表面510は、内壁508と係合しない。流体レギュレータ400のブーストを減らすために、図5Bに最もよく示されているように、弁箱406は、第2の通路512を含む。この例では、第2の通路512は、オリフィス418および出口414の上流に隣接する。特に、第2の通路512は、オリフィス418およびスロート領域464の間の流体をつなぐ。この方式で、流体がオリフィス418を通過する場合、第2の通路512は、流体の流れをスロート領域464に、従って、アクチュエータ404のセンシングチャンバ446に、方向付けする、または向かわせる。換言すれば、プロセス流体がオリフィス418を通過して相対的に高速で流れる場合に、第2の通路512は、ドループ効果を形成するか、または増加させ、過剰ブーストを大きく減らす、または防ぐことにより、流体レギュレータ400のブーストを減らす。図示した例では、第2の通路512は、弁箱406と一体的に形成される。さらに具体的には、この例では、第2の通路512は、内壁508と一体的に形成される。図5Bで最もよく示されているように、第2の通路512は、内壁508内に形成されたギャップまたは間隙514により提供される。図5Aで最もよく示されているように、ギャップ514は、弁箱406のオリフィス418およびスロート領域464の間のオリフィス418の長軸516に沿った方向に伸びる。換言すれば、ギャップ514は、オリフィス418およびスロート領域464の間に伸び、流体をオリフィス418およびスロート領域646の間に流せるようにできる長さ例えば、垂直長さを有する。さらに、図5Bで最もよく示されているように、第2の通路512またはギャップ514は、内壁508の一部または周囲長にわたり伸びる。換言すれば、ギャップ514は、内壁508の2つの対向する末端518と520を規定する。従って、ギャップ514は、内壁508中に間隙またはスリットを与え、それにより、オリフィス418の長軸516に垂直な面で切り取った場合、内壁508はC形状断面を有する。この例では、対向する末端518と520は、オリフィス418の長軸516に対し実質的に平行であり、ギャップ514または第2の通路512は、実質的に垂直な、または直線的な流路例えば、長軸516に実質的に平行な流路を与える。しかし、他の例では、内壁508の対向する末端518と520の長軸方向長さは、長軸516に対しある角度を持つことができ、ギャップ514または第2の通路512は、オリフィス418とスロート領域464の間で角度のあるまたはテーパーのついた流路を与える。さらに、再度、図5Bにおいて、ギャップ514により与えられる間隙のサイズは、内壁508の円周または周囲長のいずれかの部分の間を伸びることができる。例えば、図5Bでは、ギャップ514は、壁508の対向する末端518と520を任意の所望の角度515で一定の間隔をおいて配置する間隙を与える大きさにできる。例えば、ギャップ514は、対向する末端518と520を軸516に対し約5度と180度の間で間隔をおいて配置することができる。この特定の例では、ギャップ514により与えられた内壁508の対向する末端518と520の間の角度515は、約100度である。換言すれば、ギャップ514のサイズは、流体レギュレータ400のブーストおよび/またはドループを制御するために変えることができる。例えば、ギャップ514のサイズが大きいほど、スロート領域464の方向への相対的により大きな流量を与え、それにより、より大きなドループを生成し、ブーストを低減する。対照的に、より小さなサイズのギャップ514は、スロート領域464の方向への相対的に少ない流量を与え、それにより、大きなブーストを形成し、ドループを低減する。示してはいないが、他の例では、第2の通路512は、オリフィス418およびスロート領域464の間に流体連通を与えるチャネル、スロット、溝、ポート、コンジット例えば、弁箱中に形成されたまたはいずれかの他の通路であってもよい。さらに、第2の通路512は、オリフィス418の長軸516に平行すなわち、実質的に垂直であってもよく、または第2の通路512は、長軸516に対しある角度を持ってもよい。例えば、図5Bに示すように、末端518と520は、曲面を有する。さらに、この例では、第2の通路512は、オリフィス418とスロート領域464の間に一様な形またはプロファイルを有する例えば、一様な流路を有する。他の例では、第2の流路512は、オリフィス418との流体連通中の間隙およびスロート464との流体連通中の間隙の間に、不均一の形またはプロファイル例えば、不均一流路を含んでもよい。例えば、第2の通路512の流路は、オリフィス418に隣接する第1の部分およびスロート領域464に隣接する第2の部分の間で開口してもよく、または流路は、狭まり、オリフィス418に隣接する第1の部分およびスロート464に隣接する第2の部分の間で流量を制限してもよい。さらに他の例では、第2の流路512の長軸方向長さ例えば、オリフィス418とスロート領域464の間の垂直方向長さは、スロート領域464とオリフィス418の間で部分的に伸長してもよい。例えば、オリフィス418とスロート領域464の間で第2の通路512を部分的に伸長させることにより、オリフィス418とスロート領域464の間の流量は、さらに制御できる。例えば、オリフィス464と流体連通になっている第2の通路512は、内壁508の下位部分を越えて配置でき、それにより、弁体420が弁座416から離れた第1の位置にある場合は、オリフィス418とスロート領域464の間の流体の流れが許容されるが、しかし、弁体420が弁座416から離れた第2の位置にある場合は、内壁508と弁体420が、オリフィス418とスロート領域464の間の流体の流れを制限するか、または遮断する。従って、弁体420が第2の通路512の間隙から離れる方向へ動く場合例えば、弁体420が、弁座416から離れた第1の位置にある場合のみに、第2の通路512は、オリフィス418とスロート領域464の間の流体の流れを可能とする図4、5Aおよび5Bにおいて、操作中に、下流負荷例えば、消費ソースによるにより要求される流体の量を供給している間に、流体圧力および流量調節は、流路410を通る流量を調節し、出口414での要求下流圧力を維持することにより実現される。アクチュエータ404は、制御スプリング458により与えられた、または設定された所望の出口圧力に応じて出口414での圧力を調節する。特に、アクチュエータ404は、弁座416に対し弁体420を動かし、相対的に高い入口圧力を、制御スプリング458により与えられた設定制御圧に基づいた所望のより低い出口圧力にまで低減する。従って、制御スプリング458の調節により、出口414で供給されるべき圧力が変更される。特に、センシングチャンバ446は、スロート領域464の流体の圧力を探知し、これは、隔膜438の第1の側面440に与えられた制御スプリング458の力または圧力に対向する力または圧力を、隔膜438の第2の側面444に与える。センシングチャンバ446により探知された圧力が、制御スプリング458により与えられた制御圧に実質的に同じである場合は、流体レギュレータ400は、バランスの取れた状態にあり、弁体420は、弁座416の方向に動き、流体の下流消費に等しい定常流動を与える。実質的に等しくないか、または釣り合っていない隔膜438の両側の圧力差は、隔膜438が、弁座416に対し弁体420を動かし、流路410を通る流量を調節し、制御スプリング458により与えられる設定制御圧に相当する実質的に一定の、より低い出口圧力を実現する。特に、第1の側面440に与えられた圧力よりも大きな隔膜438の第2の側面444に与えられた圧力は、隔膜438をローディングチャンバ400の方向に動かし、さらに弁体420を弁座416の方向に動かし、流路410を通る流れを制限するか、または止める。同様に、隔膜438の第1の側面440に与えられた圧力より低い隔膜438の第2の側面444に与えられた圧力は、隔膜438をセンシングチャンバ446の方向に動かし、さらに、弁体420を弁座416から離れた方向に動かし、流路410を通る流れを許容するか、または増加させる。図5Aから最もよくわかるように、弁体420が弁座416から離れる方向に動く場合は、流体は、入口412と出口414の間でオリフィス418を通過して流れる。流体がオリフィス418を通過して流れる場合、弁体420と内壁508は、流体を、スロート領域464から離れる方向で、出口414に向かう方向522へと、曲げるか、または方向付けをする。さらに、弁体420と内壁508は、流体を反対の方向524に沿ったオリフィス418方向へ向かわせる可能性がある。従って、弁体420の外表面510が内壁508に近接しているために、内壁508と弁体420は、オリフィス418およびスロート領域464、従って、センシングチャンバ446の間の流量を実質的に制限する。入口圧力および/またはオリフィス418の両側の圧力差が相対的に低い例えば、第1入口圧力場合は、流体は、比較的低い速度または運動量でオリフィス418を通過する。弁体420と内壁508が、スロート領域464またはセンシングチャンバ446から離れる方向で、出口414に向かう下流の方向522の方向に流体の流れを方向付けるために、低い圧力を適用する場合は、内壁508と弁体420は、ドループ低減機構を与える。同様に、例えば、下流要求の急激な増加がある場合、弁体420と内壁508は、センシングチャンバ446に下流圧力より低い圧力例えば、わずかに低い圧力を探知させ、流体レギュレータ400のドループを制御する。さらに、図2と3の既知の弁箱120と異なり、例えば、流体がオリフィス418を相対的に高速で通過する場合、例示弁箱406は、第2の通路512を採用し、流体レギュレータ400の過剰ブーストを防ぐ。例えば、下流の要求が減少するにつれ、出口414の圧力が増加し、下流の流量要求が減少する。入口圧力および/またはオリフィス418の両側の圧力差が相対的に高い場合は、流体は、流路410を相対的に高速または大きい運動量で通る。相対的に高い圧力が適用される場合は、流体の流れを方向522と方向524の方に向かわせることにより、オリフィス418での流体圧力を増加させる。さらに、オリフィス418の流体圧力が増加するにつれ、流路410内の流体がオリフィス418を相対的に高速で通過する。流体が、相対的に高速または高い運動量で流路410を通って流れるために、高速流体の流れは、スロート領域464中に低圧領域を生ずる可能性がある。次に、弁体420と内壁508が高速流体を方向522および方向524に曲げるために、センシングチャンバ446が、実際の下流圧力より相対的に低いスロート領域464の圧力を探知する。図1~3の弁箱120とは対照的に、第2の通路512またはギャップ514は、流体がオリフィス418を相対的に高速で通過し、例えば、下流の要求の急速な減少がある場合、高速流体を方向526のスロート464に向けて方向付けるか、またはその方向に向かわせ、それにより、センシングチャンバ446は、下流圧力より低いスロート領域464での圧力を探知しない。従って、弁箱406は、オリフィス418とスロート領域464の間の流体連通弁体420と内壁508の組みあわせを介してを大きく制限して過剰ドループを防ぐ一体化流路410を含み、また、弁箱406は、オリフィス418とスロート領域464の間の流体連通ギャップ514を介してを可能として過剰ブーストを防ぐ一体化した第2の通路512を含む。例えば、流体がオリフィス418を相対的に高速で通過する場合、第2の通路512はオリフィス418とスロート領域464の流体をつないでスロート領域464中の低圧力領域形成を防ぐことにより流体レギュレータ400の過剰ブーストを防ぐ。次に、第2の通路512は、センシングチャンバ466がより厳密に下流圧力を代表するスロート領域464の圧力を探知するのを可能とし、それにより、流体レギュレータ400は、制御スプリング458により与えられる制御圧から大きくずれない。結果として、流体レギュレータ400は、より高い精度分類および/または容量を有することになる。図6は、例えば、図4の流体レギュレータ400、等の流体レギュレータの実装に使用できる、一体形成型ブースト低減機能を有する別の本明細書記載の例示弁箱600を示す。上述の弁箱406の構成要素と実質的に類似、または同じで、さらに、これらの構成要素の機能に類似、または同じ機能を有するこれらの弁箱600の構成要素については、以下では再度詳細に記載することはしない。その代わり、興味がある場合は、上記の対応する記載を参照されたい。図6の例では、弁箱600は、弁箱600に一体化された主または1次流路602および第2の通路604を含む。特に、第2の通路604は、複数のポート、間隙またはリリーフウェル606を含む。この特定の例では、ポート606は、弁箱600のオリフィス418とスロート領域464の間に伸び、ポート606が、オリフィス418の軸516の周りの任意の適切な角度610例えば、30度、45度、90度、等で間隔をおいて放射状に配置される複数の壁部分608を規定できる。この例では、壁部分608は、軸516の周りに等間隔例えば、45度の円弧長間隔で配置される。さらに、ポート606が、オリフィス418とスロート領域464の間に部分的に伸長して、それにより、壁部分608の少なくとも一部例えば、壁部分608の低端が連結もしくは結合されてもよく、またはポート606が、オリフィス418とスロート464の間に伸長し、それにより、壁部分608が完全に分離されるか、もしくはいくつかの部分に分かれてもよい。さらに、ポート606および/または壁部分608のプロファイル例えば、サイズ、流路断面、長さ、等は、ブーストを制御するために変えられてもよい。例えば、より大きな間隙または流路を有するポート606は、スロート領域464の方向へのより大きな流量を可能とし、それにより、より多くのドループを形成し、ブーストを減らすことができるすなわち、過剰ブーストの防止。対照的に、より小さい間隙または流路を有するポート606を与えることにより、より少ない流量が可能となり、それにより、ブーストを増やし、ドループを減らすことを可能とするすなわち、過剰ドループの防止。さらに、一部の例では、第1のポート606aおよび/または第1の壁部分608aは、第1のプロファイルまたは特性または流路例えば、第1のサイズ、寸法またはプロファイルを持つことができ、また、第2のポート606bおよび/または第2の壁部分608bは、第1の特性とは異なる第2のプロファイルまたは特性または流路例えば、第2のサイズ、寸法またはプロファイルを持つことができる。例えば、第1のポート606aが、開口して、オリフィス418とスロート領域464の間でより多くの流量を可能とする流路を含んでもよく、また、第2のポート606bが、オリフィス418とスロート領域464の間の流量を制限する流路を含んでもよい。図4~6の弁箱406と同様に、弁箱600のオリフィス418は、弁体420を受け、それにより、弁体420の外表面510と壁部分608が、主流路602の一部の流体の流れを入口612と出口614の間の方向に向けさせ、弁箱600のスロート領域464の方向の流体の流れを制限するように規定する。ポート606は、第2の通路604を与え、弁箱600のスロート領域464の方向への流体の流れを可能とする。特定の例示装置について、本明細書で記載されているが、本特許の適用範囲は、それらに限定されるものではない。むしろ、本特許は、文字通りまたは均等論の下に、添付請求項の範囲内に充分に入る全ての製造装置および製品を包含する。