面型蒸着源を用いて少なくとも一つの蒸着対象基材に対し、面型蒸着を行い、前記面型蒸着源は、一つの蒸着源基板を備え、前記蒸着源基板には少なくとも一つの表面を備え、蒸着源基板の少なくとも一表面は蒸着材料で被覆し、前記面型蒸着源に対して加熱を行い、前記蒸着材料を蒸着対象基材表面に蒸着し、前記蒸着対象基材表面に蒸着膜を形成することを特徴とする面型蒸着法。前記蒸着源基板の蒸着材料で被覆されたエリアは気化後のエリアとなり、複数の蒸着対象基材を包含することを特徴とする請求項1に記載の面型蒸着法。前記蒸着材料で被覆される蒸着源基板は、平面、曲面、平滑面、粗表面の何れかとすることを特徴とする請求項1に記載の面型蒸着法。前記蒸着源基板の蒸着材料で被覆されるエリアは、点、線、或いは面分布配列によって形成されることを特徴とする請求項1に記載の面型蒸着法。前記蒸着源基板は、可撓性を備える材質とすることを特徴とする請求項1に記載の面型蒸着法。前記蒸着材料で被覆される蒸着源基板は、巻き付けて面型蒸着源の巻付材を形成したもので、面型蒸着源の巻付材は駆動装置に配置し、前記駆動装置により面型蒸着源の巻付材を連続的に送り出すか断続的フィード式で送り出して、連続蒸着を行うことを特徴とする請求項5に記載の面型蒸着法。前記蒸着材料は、少なくとも一種の蒸着物質により組成されることを特徴とする請求項1に記載の面型蒸着法。面型蒸着源は、少なくとも一つの蒸着対象基材に対し蒸着を行うもので、前記面型蒸着源は、一つの蒸着源基板を備え、前記蒸着源基板には少なくとも一つの表面を備え、少なくとも一つの蒸着材料は、蒸着源基板の少なくとも一つの表面を被覆し、前記蒸着材料の分布エリアは、蒸着材料気化後に蒸着対象基材を包含するエリアとなることを特徴とする面型蒸着源。前記蒸着源基板の蒸着材料で被覆されるエリアは気化後のエリアとなり複数の蒸着対象基材を包含することを特徴とする請求項8に記載の面型蒸着源。前記蒸着材料で被覆される蒸着源基板は、平面、曲面、平滑面、粗表面の何れかとすることを特徴とする請求項8に記載の面型蒸着源。前記蒸着源基板の蒸着材料で被覆されるエリアは、点、線、或いは面分布配列によって形成されることを特徴とする請求項8に記載の面型蒸着源。前記蒸着源基板は、可撓性を備える材質とすることを特徴とする請求項8に記載の面型蒸着源。前記蒸着材料で被覆される蒸着源基板は、巻き付けて面型蒸着源の巻付材を形成することを特徴とする請求項12に記載の面型蒸着源。前記面型蒸着源の巻付材は駆動装置に配置し、前記駆動装置によって面型蒸着源の巻付材を連続的に送り出すか断続的フィード式で送り出すことを特徴とする請求項13に記載の面型蒸着源。前記蒸着材料は、少なくとも一種の蒸着物質により組成されることを特徴とする請求項8に記載の面型蒸着源。面型蒸着源と加熱装置とを含む面型蒸着システムにおいて、前記面型蒸着源は、一つの蒸着源基板と少なくとも一つの蒸着材料とによって構成され、前記蒸着材料は、蒸着源基板の内の少なくとも一表面を被覆し、しかも蒸着材料の分布エリアは、蒸着材料の気化後に蒸着対象基材を包含するエリアとなり、前記加熱装置は、面型蒸着源を加熱可能なエリアに配置し、加熱装置が面型蒸着源に対して加熱を行うことにより、面型蒸着源を固体から気体へと変換し、蒸着対象基材表面に拡散させ、表面において核生成、凝結、及び成長等のメカニズムを起こして膜を形成することを特徴とする面型蒸着システム。前記蒸着源基板の蒸着材料を配置したエリアは蒸着材料気化後に複数の蒸着対象基材を包含するエリアとなることを特徴とする請求項16に記載の面型蒸着システム。前記蒸着材料で被覆される蒸着源基板は、平面、曲面、平滑面、粗表面の何れかとすることを特徴とする請求項16に記載の面型蒸着システム。前記蒸着源基板の蒸着材料で被覆されるエリアは、点、線、或いは面の分布配列によって形成されることを特徴とする請求項16に記載の面型蒸着システム。前記蒸着源基板は、可撓性材質とすることを特徴とする請求項16に記載の面型蒸着システム。前記蒸着材料を配置した蒸着源基板は、巻き付けて面型蒸着源の巻付材を形成することを特徴とする請求項16に記載の面型蒸着システム。前記面型蒸着源の巻付材は駆動装置に配置し、前記駆動装置によって面型蒸着源の巻付材を連続的に或いは断続的にフィードして送り出すことを特徴とする請求項21に記載の面型蒸着システム。前記蒸着材料は、少なくとも一種の蒸着物質により組成されることを特徴とする請求項16に記載の面型蒸着システム。公知技術の欠点に鑑み、本発明では、次の特徴を有する面型蒸着源及びその蒸着メッキ法とシステムを提出する。1薄膜品質を精確に制御可能。2連続生産を行う技術手段の提供。3蒸着の大面積化を実現可能。4蒸着材料は、材質の劣化回避のために長期的に高温状態にする必要がない。上述目的を達成するために、本発明の開示する面型蒸着法は、少なくとも一つの蒸着対象基材に対して蒸着を行うものである。前記面型蒸着法は、少なくとも一つの蒸着材料及び面型蒸着源を用いる。蒸着材料は面型蒸着源の表面を被覆し、前記蒸着材料の分布エリアは蒸着材料気化後に蒸着対象基材を包含するエリアとなり、更に、面型蒸着源に対して加熱を行う。加熱方式によって面型蒸着源を固体から気体へと変換させ、蒸着対象基材の表面に拡散させる。蒸発、凝結、及び核生成の原理に基づき、蒸気を原子或いは分子状態で、蒸着対象基材の表面に核生成、凝結、及び核生成、成長させるメカニズムにより薄膜を形成する。上述の目的を達成するために、本発明は更に、面型蒸着源を提出し、少なくとも一つの蒸着対象基材に対して蒸着を行う。面型蒸着源には、蒸着源基板を備える。前記蒸着源基板には、少なくとも一つの平面を備え、少なくとも一つの蒸着材料は、蒸着源基板の少なくとも一つの平面上を被覆し、蒸着材料の分布エリアは蒸着材料の気化後に蒸着対象基材を包含するエリアとなる。本発明は更に、面型蒸着源の製造のための面型蒸着源の製造法を提供する。それは、蒸着源基板を利用するものである。前記蒸着源基板は、少なくとも一つの表面を備え、蒸着材料で被覆される蒸着源基板とし、平面、曲面、平滑面、粗表面とする。少なくとも一つの蒸着材料は、蒸着源基板の少なくとも一つの表面上を被覆し、蒸着材料の分布エリアは、蒸着材料気化後に蒸着対象基材を包含するエリアとなる。蒸着材料で被覆されるエリアは、点、線、或いは面分布配列によって形成される。上述目的を達成するために、本発明は更に、面型蒸着源システムを提出する。少なくとも一つの蒸着対象基材は、面型蒸着源と加熱装置とを備える。前記面型蒸着源は、一つの蒸着源基板と少なくとも一つの蒸着材料とによって構成され、前記蒸着材料は、蒸着源基板の内の少なくとも一表面を被覆し、蒸着材料の分布エリアは、前記蒸着材料の気化後に蒸着対象基材を包含するエリアとなる。しかも、蒸着対象基材の内の少なくとも一面は、気化した蒸着材料が到達可能なエリア内に配置する。前記加熱装置は、面型蒸着源を加熱できるエリアに配置し、加熱装置が面型蒸着源に対して加熱を行い、面型蒸着源を固体から気体へと変換し、蒸着対象基材表面に拡散させる。これにより、蒸気は、原子或いは分子の形態で表面において核生成、凝結、及び成長し、膜を形成させる。本発明の面型蒸着源及びその蒸着メッキ法とシステムは、薄膜品質を精確に制御し、大面積化蒸着を連続的に行えるため、メッキ率及び材料利用率を高める効果を有する。本発明の構造の目的及び効果について更なるご理解とご賛同を戴くために、次に、図面を参照とした詳細説明を行う。次に、添付図面を参照として、本発明の達成する目的に用いる技術手段と効果を説明する。以下の図面に列挙した実施例は、単に説明を補助し、ご理解して戴くための利便をはかるものである故、本発明の技術手段は図面及び実施例に制限されないことをここに記する。図1に示す通り、本発明の提案する面型蒸着法は、面型蒸着源10を用いて蒸着対象基材20に対して面型蒸着を行う。前記面型蒸着源10は、少なくとも一種の蒸着材料12を塗布、インクジェット、蒸着等の方法によって、但し前記方法に制限されることなく、蒸着源基板11の内の一表面に被覆して形成される。前記蒸着源基板11に蒸着材料12を組み合わせた形式には多種あり、図2乃至図4の実施例に示す通りである。その内、図2に示した蒸着源基板11は平面であり、蒸着材料12もまた平面である。図3に示した蒸着源基板11は平面で、蒸着材料12は粗表面をなし、図4に示した蒸着源基板11は粗表面、粗表面の凸点或いは凹点の大きさ、形状、配列密度を変化させることにより、蒸着の有効エリアを変更し、薄膜メッキを調整する目的を達成する。蒸着材料12は、蒸着源基板11の凹み空間内に充填し、図2乃至図4の実施例に示す通りである。本発明の蒸着源基板11は平面、平滑面、粗い非フラット面とし、本発明の蒸着源基板11を被覆する蒸着材料12は平面、平滑面、粗表面とし、蒸着材料12は全面的に或いは大面積の蒸着源基板11表面を被覆する他、塗布、インクジェット、蒸着方式を用いて、蒸着源基板11に点、線、或いは面を分布配列して構成される図案を形成することも可能である。前記蒸着源基板の材質には制限はなく、一定の耐熱性を備えることを原則とする。本発明は蒸着に応用するため、蒸着源基板11はある一定レベル例えば、少なくとも100°Cを超えるの耐熱性を備え、前記蒸着源基板11の融解点は蒸着対象基材の実際蒸着時の作業温度より低くならないことを必然原則とし、蒸着材料12は単一の蒸着物質とするか、多種の異なる蒸着物質とし、必要比率によって混合、調和する。例えば、シーアイジーエスCIGS、アールジービーRGB有機発光層等の有機材料、蒸着材料12を蒸着源基板11表面に塗布し、蒸着源基板11表面には蒸着薄膜層を形成する。前記蒸着材料12の塗布エリア図中では斜線エリアは、蒸着材料12の気化後に蒸着対象基材20を包含するエリアとなる。例えば、図に示した蒸着材料12の塗布エリアは凡そ前記蒸着対象基材20に等しく、蒸着材料12で蒸着源基板11表面全体を塗布する。即ち、本発明の面型蒸着源10は、蒸着対象基材20に対して一回で全面的な蒸着を行うもので、明らかに伝統的な点蒸着或いは線蒸着とは異なる。図5に示した実施例は、図1の実施例を基礎として応用したもので、図5は、本発明の開示する面型蒸着法を示した。それは、湾曲し弧度を備える面型蒸着源10Aを用いて同様に湾曲し曲面を備える蒸着対象基材20Aに対し面型蒸着を行うもので、前記面型蒸着源10Aは、少なくとも一種の蒸着材料12Aを塗布、インクジェット、蒸着等の方法で、但し前記方法に制限されることなく、蒸着源基板11Aの表面に被覆して形成される。本実施例において採用される前記蒸着源基板11A及び蒸着材料12Aと、図1の蒸着源基板11A及び蒸着材料12Aの材質及びそれの達成する効果は同じである。本実施例の特徴は、面型蒸着源10Aに曲面を持たせ、曲面の蒸着対象基材20Aに対して面蒸着を行うことにあり、この種の方法によって曲率半径の異なる基材への蒸着が可能となる。同様に、蒸着源基板11Aと蒸着材料12Aを組み合わせた形式には多種あり、図6乃至図8には実施例を示す。図6に示した蒸着源基板11Aは平滑曲面を有するもので、蒸着材料12Aもまた平滑曲面とする。図7に示した蒸着源基板11Aは平滑曲面とし、蒸着材料12Aの曲面は粗表面である。図8に示した蒸着源基板11Aは粗表面をなし、蒸着材料12Aは蒸着源基板11Aの凹み空間に充填し、粗表面の凸点或いは凹点の大きさ、形状、配列密度を変化させることにより、蒸着の有効エリアを変更し、薄膜メッキを調整する目的を達成する。図9には本発明の面型蒸着源システムの実施例に関する構造図を示す。蒸着源システム100には、面型蒸着源30を備える。面型蒸着源30は、少なくとも一種の蒸着材料32を塗布、インクジェット、蒸着等の方法で、但し前記方法に制限されることなく、蒸着源基板31の表面に被覆して形成される。前記蒸着材料32の塗布エリア図中斜線エリアは、蒸着材料32の気化後に蒸着対象基材20を包含するエリアとなる。蒸着材料で被覆される蒸着源基板31は、図2乃至図8に示した平面、曲面、平滑面、加工によって形成される粗表面例えば、中心粗度少なくともRaを01μm~5cmとするの蒸着源基板11、11Aとすることも可能である。また、蒸着材料32は、蒸着源基板31表面を全面的或いは大面積で被覆する他、塗布、インクジェット、蒸着等の方法で蒸着源基板31に点、線、面を分布配列させて図案を形成することも可能である。図9に示した実施例の特徴は、蒸着材料32を蒸着源基板31全面に塗布するか一部に塗布する。蒸着源基板31は可撓性を備え、しかも蒸着材料32で被覆される蒸着源基板31は巻き付け状態の巻付材を形成し、蒸着源の巻付材は駆動装置未図示に接続し、前記駆動装置によって蒸着源の巻付材を連続的に送り出すか断続性フィード式で送り出す。面型蒸着源30に対応する二つの面にはそれぞれ蒸着対象基材20と加熱装置40を配置し、蒸着対象基材20の蒸着源基板31方向には蒸着材料32の一面を配置し、加熱装置40は、蒸着源基板31の蒸着材料32未塗布の一面に配置する。図9を参照すると、前記蒸着材料32は蒸着源基板31上面に塗布し、蒸着対象基材20を面型蒸着源30上方に配置し、蒸着対象基材20の内少なくとも一面は気化した蒸着材料32が到達するエリア内に配置する。前記加熱装置40は、面型蒸着源30下方の面型蒸着源30を加熱できるエリアに配置し、加熱装置40が面型蒸着源30を加熱し、面型蒸着源30を固体から気体へと変換し、蒸着対象基材20表面に拡散する。原子或いは分子形態の蒸気を段階的に制御する手法に基づき、蒸着対象基材20の表面には核生成、凝結、及び成長する物理的メカニズムによる薄膜が形成される。面型蒸着源30は、前記蒸着対象基材20に対して面型蒸着を行う他、面型蒸着源30はある一定長さを備え、且つ連続的に送り出されるか断続性フィード式で送り出される。蒸着対象基材20が蒸着を完了した後は、新しい蒸着対象基材20を置き換えるだけで次の蒸着が実行できる。以上により、連続的蒸着、連続的生産という目的を実現する。同理論により、複数の蒸着対象基材20を配置し、それに対する数量の加熱装置40を組み合わせることができる図10参照。または、複数の蒸着対象基材20に一つの大型加熱装置40を組み合わせることも可能である図11参照。これによって、複数の蒸着対象基材20に対し同時に蒸着を行うことができる。前述したとおり、本発明の提供する面型蒸着源及びその蒸着メッキ法とシステムは、少なくとも一種の蒸着材料を、或いは多種の蒸着材料を予め均等に混合した後、塗布等の方法によって、大面積の蒸着源基板上に結合する。蒸着材料で被覆した蒸着源基板は、図1乃至図8に示した平面、曲面、平滑面、加工によって形成される粗表面の蒸着源基板11、11Aとすることも可能であり、蒸着源基板11、11Aを被覆する蒸着材料12、12Aは、平面のほか、塗布、インクジェット、蒸着の方法で、点、線、面を分布配列させて図案形成することも可能である。大面積の蒸着源基板は、単一片の基板とし、一片一片を連続的に蒸着する図1乃至図5参照か、大面積の蒸着源基板の単一片を巻き付けて巻付材とし、連続的或いは断続的フィード式で送り出し連続的な蒸着を実現することも可能であり図9乃至図11、これにより、薄膜品質を精確に制御し、大面積化蒸着を連続的に行え、メッキ率及び材料利用率を高め、伝統的な蒸着機による分割生産方式に取って代わることができる。強調的に説明すべき点は、物理気相成長法PVDは、物理メカニズムによって薄膜を堆積させ、物質の相変化を用いて薄膜を形成するもので、よく見られるものに、スパッタリングsputteringや蒸着メッキevaporation等の方法がある。本発明の開示する薄膜平面型連続式蒸着源は、固体から気体に変換し、蒸着対象基材の表面に拡散するものである。原子或いは分子の段階制御により蒸気を表面で核生成、凝結、及び成長させて膜を形成し、伝統的な膜メッキ手法例えば塗布やインクジェット等により得られなかった均等性、ナノサイズ等の特殊構造及び機能を備えた薄膜を獲得できる。よって、精度要求の厳格な半導体及び光電産業に適用し、伝統的な塗布やインクジェットによる膜メッキ手法と比較すると、本発明の提供する蒸着技術と応用分野は何れも、先進技術レベルを備えるものであると言える。前述は、単に本発明の実施例であり、これによって本発明の特許登録請求の範囲を制限するものではない。即ち、本発明の特許登録請求の範囲に基づいてなされる同等効果を有する変化及び修正は全て、本発明の特許登録請求の範囲に包含されることをここに記する。