"マスク検査装置の照明系であって、マスク検査装置の作動中の照明系610が、重心光線を有する照明光線束615でマスク630を照明し、前記重心光線は、前記マスク630上の前記照明光線束615の入射場所に依存する方向を有する、ことを特徴とする照明系。前記マスク630の異なる場所上に入射する2つの光線束の入射平面の間の最大角度が、少なくとも3°、特に少なくとも5°、更に具体的には少なくとも10°、更に具体的には少なくとも15°であることを特徴とする請求項1に記載の照明系。前記マスク630の異なる場所上に入射する2つの光線束の前記重心光線の間の最大角度が、少なくとも3°、特に少なくとも5°、更に具体的には少なくとも10°、更に具体的には少なくとも15°であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の照明系。前記マスク検査装置の作動中に分析されるマスク630が、投影露光装置においてリングの断片の形状にある照明領域に対して用いられるように設計されることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の照明系。前記マスク630上の前記照明光線束の入射場所に依存する前記重心光線の前記方向の変動が、条件:に従い、ここで、x,yは、マスク平面の座標を表し、Rは、リング視野の半径を表し、αは、入射平面照明系から前記マスク上に入射する前記重心光線と該マスクによって反射されるそれとによって形成されるとy=0平面との間の角度を表す、ことを特徴とする請求項4に記載の照明系。照明系610が、EUVモードにおける作動のために設計されることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の照明系。前記マスク630上の前記照明光線束615の前記入射場所に依存する前記重心光線の前記方向の前記変動は、該重心光線と該マスク630上の表面法線との間の角度の大きさが維持されるようなものであることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の照明系。所定の移動平面内で可動である少なくとも1つのブレード650が、前記マスク630上の前記照明光線束の前記入射場所に依存する前記重心光線の前記方向の前記変動の調節のために設けられることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の照明系。前記移動平面は、前記マスク平面との実質的な共面関係で延びることを特徴とする請求項8に記載の照明系。前記ブレード650が前記マスク630上の前記照明光線束の前記入射場所に依存する前記重心光線の前記方向の前記変動の調節のためにその上で可動である前記移動平面の領域410が、実質的にじん臓形の輪郭を有することを特徴とする請求項8又は請求項9に記載の照明系。前記ブレード650は、以下の照明設定、すなわち、四重極照明設定、二重極照明設定、輪帯照明設定、及び従来照明設定のうちの1つ又はそれよりも多くの調節に適応されることを特徴とする請求項8から請求項10のいずれか1項に記載の照明系。前記ブレード650は、回転可能に配置されることを特徴とする請求項8から請求項11のいずれか1項に記載の照明系。前記ブレードは、可変調節可能なブレード配列の形態にあり、該ブレード配列の調節により、前記マスク検査装置内のEUV投影露光装置の照明瞳の輝度分布に部分構造を与えることができることを特徴とする請求項8から請求項12のいずれか1項に記載の照明系。前記ブレード配列は、互いに対して可動である少なくとも2つのブレード910,920;950,960を有することを特徴とする請求項13に記載の照明系。前記ブレード910,920;950,960は、異なる形状及び/又はサイズのブレード開口部911~913;921~923;951~953;961~963を有することを特徴とする請求項14に記載の照明系。前記ブレード960の少なくとも1つが、アポダイジングアームを有することを特徴とする請求項14又は請求項15に記載の照明系。前記マスク630は、回転可能に配置されることを特徴とする請求項1から請求項16のいずれか1項に記載の照明系。マスク検査装置の投影対物系であって、マスク検査装置の作動中の投影対物系620が、主要光線を有する観察光線束625を用いてマスク630を観察し、前記主要光線は、前記マスク630上の前記観察光線束625の開始場所に依存する方向を有する、ことを特徴とする投影対物系。投影対物系620が、EUVモードの作動用に設計されることを特徴とする投影請求項18に記載の投影対物系。所定の移動平面内で可動である少なくとも1つのブレード660が、前記マスク630上の前記観察光線束625の前記開始場所に依存する前記主要光線の前記方向の変動の調節のために設けられることを特徴とする請求項18又は請求項19に記載の投影対物系。前記ブレード660が、前記マスク630上の前記観察光線束625の前記開始場所に依存する前記主要光線の前記方向の前記変動の調節のためにその上で可動である前記移動平面の領域510が、実質的にじん臓形の輪郭を有することを特徴とする請求項20に記載の投影対物系。前記移動平面は、前記マスクの平面と実質的な共面関係で延びることを特徴とする請求項20又は請求項21に記載の投影対物系。請求項1から請求項17のいずれか1項に記載の照明系と、請求項18から請求項22のいずれか1項に記載の投影対物系と、を含むことを特徴とするマスク検査装置。前記照明系610のブレード650と前記投影対物系620のブレード660が、反対方向に互いに対して同期して可動であることを特徴とする請求項23に記載のマスク検査装置。マスク検査装置を作動させる方法であって、マスク検査装置の作動中に、照明系610が、重心光線を有する照明光線束615を用いてマスク630を照明し、投影対物系620が、主要光線を有する観察光線束625を用いて前記マスク630を観察し、前記重心光線の方向及び前記主要光線の方向が、前記マスク630上の場所に依存してそれぞれ変更される、ことを特徴とする方法。マスク検査装置の照明系であって、ブレード配列の調節によってEUV投影露光装置の照明瞳の輝度分布に部分構造を与えることができるような方法で可変調節可能である少なくとも1つのブレード配列を有する、ことを特徴とする照明系。上述の背景を念頭に、本発明の目的は、投影露光装置において発生する条件のより正確なエミュレーションを可能にするマスク検査装置の照明系及び投影対物系を提供することである。この目的は、独立請求項の特徴によって得られる。態様において、本発明は、マスク検査装置の照明系に関し、照明系は、マスク検査装置の作動中に、重心光線を有する照明光線束でマスクを照明し、この重心光線は、マスク上の照明光線束の入射場所に依存する方向を有する。その点に関して、ビームの全ての部分光線にわたるエネルギ平均を表す上で、通常の術語に従って重心光線という用語を使用する。本発明により、照明光線束の重心光線がマスク上の照明光線束の入射場所に依存する方向のものであるということは、以下に説明するように、投影対物系の瞳照明をより正確にエミュレートすることを可能にする。より確実な理解のために、以下では、最初に図1から図3に着目し、本発明の根底に流れる概念を説明する。本発明により、変化を表す上で、好ましくは、マスク上の場所に依存する重心光線の方向の変動への参照が使用され、この点に関して、マスク上の異なる場所上に入射する2つの光線束の重心光線の間の最大角度は、少なくとも1°である。実施形態では、マスク上の異なる場所上に入射する2つの光線束の重心光線の間の最大角度は、少なくとも3°、特に少なくとも5°、更に具体的には少なくとも10°、更に具体的には少なくとも15°である。別の手法では、マスク上の異なる場所上に入射する2つの光線束の入射平面の間の最大角度は、少なくとも3°、特に少なくとも5°、更に具体的には少なくとも10°、更に具体的には少なくとも15°である。実施形態では、マスク検査装置の作動において分析されるマスクは、投影露光装置におけるリングの断片の形状にある照明領域に対して用いられるように設計される。リソグラフィ工程では、従来のVUV系の場合には、一般的に矩形の幾何学形状のものであるが、EUV系の場合はリングの断片の形状にある幾何学形状のものであるスキャナスロットによってマスク全体が走査される。ここでの背景は、EUV光学系は回転対称光学設計を有するが、リソグラフィ工程では光軸から比較的分離した上述の環状視野のうちの小部分しか使用されないということである。更に、反射EUVマスクを使用する場合には、照明系と投影対物系を分離するためには、照明光線束をマスク又はレチクル上に有限入射角で誘導することが必要であることは公知であり、この場合本発明がこの場合に制限されることはない、マスク上の表面法線に対する重心光線の一般的な角度は、現在のスキャナでは60°とすることができる。図1から図3の各々は、結像される構造を有する領域102を有するマスク101上のリングの断片の形状にある物体視野110を示している。図1では、現在照明されている位置は、物体視野110の中心にあり、それに対して図2で現在照明されている位置は、物体視野110の左手縁部領域内にあり、図3では物体視野110の右手縁部領域内にある。その結果、投影対物系も、マスク101の表面法線に対するものと同じ値のものである主要光線角度又は主光線角度を有する光又は観察光線束を受光する。この場合、スキャナ、特に投影光学系における光学系は、回転対称構成のものであるので、上述の角度は、対称性の理由からマスク101又は投影光学系の物体平面の観察されている最中の物体点と光軸とによって形成される平面になければならない。それぞれ観察されている物体点で反射された光線束は、ある一定の主要光線角度現在の例では6°で同様に投影対物系内に入射するが、この角度は、ここで、それが投影対物系の光軸によって形成される平面にあるように向けられる。ここで、図1から図3に示すように、マスク101上でリングの断片の形状にある物体視野110に沿って様々な点に着目した場合、投影対物系内に進む光線は、全てが互いに対してほぼ平行に延びるわけではなく、図1から図3に見ることができるように、リングの断片の形状にある物体視野110に対して必ず垂直である。図2及び図3の状況と図1の状況の間の比較は、従って、物体視野110の左手位置及び右手位置それぞれにおいて、照明重心光線がマスク101から投影対物系内に進む主要光線と形成する平面すなわち、マスク101内に入射する光線束と、マスク101によって反射される光線束とによる平面が、図1の状況照明位置が物体視野110の中心にあると比較して回転されていることを示しており、この平面は、投影露光装置又はスキャナの光軸を必ず含む。従って、リングの断片の形状にある物体視野110に沿った移動は、物体視野110に沿って上述の平面を回転させることも必要とする。実施形態では、マスク上の照明光線束の入射場所に依存する重心光線の方向の変動は、以下の条件:に従い、ここで、以下の通りである。x,y:マスク平面の座標を表し、R:リング視野の半径を表し、かつα:入射平面照明系からマスク上に入射する重心光線とマスクによって反射された重心光線とによって形成されるとy=0の平面との間の角度を表す。実施形態では、照明系は、EUVモードにおける作動用に設計される。本発明の実施形態では、実施は、EUV用に設計されたマスク検査装置内で達成されるが、本発明は、この実施に限定されない。従って、照明における角度差は、長い作動波長例えば、193nmに関して発生する可能性もあるので、本発明は、そのような波長のマスク検査装置に適用することができ、従って、恐らくマスク上の場所に依存する重心光線の方向の本発明による変化によって改善されたマスク検査を達成することができる。更に、本発明は、主要光線のための収束構成すなわち、主要光線が、マスクにおける反射の後に光軸に向けて進むを含む系と、更に発散主要光線を含む系の両方に関連して実施することができることに注意されたい。主要光線が投影対物系内に発散して進む系は、例えば、US2005/0088760A1から公知であるUS2005/0088760A1の図91及び図93を参照されたい。実施形態では、マスク上の照明光線束の入射場所に依存する重心光線の方向の変動は、重心光線とマスク上の表面法線との間の角度の大きさが維持されるようなものである。実施形態では、マスク上の照明光線束の入射場所に依存する重心光線の方向の変動を調節するために、所定の移動平面内で可動である少なくとも1つのブレード又は開口絞りが設けられる。本発明の実施形態では、これ以降に解説するブレードは、通常の方法において、望ましい照明設定に従って設計された孔が設けられ、他の点に関しては不透過である円盤又は板の形態にあるとすることができる。しかし、本発明は、上記に限定されない。従って、更に別の実施形態では、円盤又は板の代わりに、部分的に透過する構成要素及び/又は部分的に偏光する構成要素を使用することができる。これらの構成要素の使用は、例えば、瞳座標の関数としてのスキャナの透過率変化をエミュレートするか又は照明において照明強度変化を照明瞳にわたって調節する場合に有利であり、又はEUVスキャナ又は投影露光装置内の偏光要素のエミュレーションにも有利である。開口数の連続的な調節のために、例えば、絞り又は絞りブレードにより、ブレード自体をその形状において可変とすることができる。更に、物理的なブレードの代わりに、照明光線の入射方向を調節するための別の適切なデバイス、例えば、互いに異なって調節可能な多数の微小ミラー要素を有するそれ自体公知の多ミラーアレイMMAと呼ぶを使用することができる。実施形態では、上述の所定の移動平面は、マスク平面と実質的な共面関係にある。実施形態では、移動平面のうちで、マスク上の照明光線束の入射場所に依存する重心光線の方向の変動の調節に対してブレードが可動である領域は、実質的にじん臓形の輪郭を有する。実施形態では、ブレードは、四重極照明設定、二重極照明設定、輪帯照明設定、及び従来照明設定という照明設定のうちの1つ又はそれよりも多くの調節に関して設計される。この点に関して、通常の術語に従って円内で可能な限り均一な強度を有する円形照明を表す上で、従来照明設定という用語を使用する。実施形態では、ブレードは、回転可能に配置され、この配列は、エミュレートされる投影露光装置のそれぞれの特定の構成に依存して有利であるとすることができる。実施形態では、ブレードは、可変調節ブレード配列の形態にあり、ブレード配列の調節により、EUV投影露光装置の照明瞳の輝度分布において部分構造を維持することができる。実施形態では、ブレード配列は、互いに対して可動である少なくとも2つのブレードを有する。これらのブレードは、特に、異なる形状及び/又はサイズのブレード開口部を有することができる。代替的又は追加的に、これらのブレードのうちの1つは、アポダイジングアームを有することができる。実施形態では、マスクは、回転可能に配置される。この場合、異なる傾き角例えば、6°、9°等を調節するのに、照明系及び時に投影対物系の平面の視野依存変位のみが依然として必要とされるだけである。更に別の態様では、本発明は、マスク検査装置の投影対物系にも関し、マスク検査装置の作動中に、投影対物系は、主要光線を有する観察光線束を用いてマスクを観察し、主要光線は、マスク上の観察光線束の開始場所に依存する方向を有する。実施形態では、マスク上の観察光線束の開始場所に依存する主要光線の方向の変動の調節のために、所定の移動平面内で可動である少なくとも1つのブレードが設けられる。実施形態では、移動平面のうちで、マスク上の観察光線束の開始場所に依存する主要光線の方向の変動の調節に対してブレードが可動である領域は、実質的にじん臓形の輪郭を有する。実施形態では、この移動平面は、マスク平面と実質的な共面関係で延びている。更に別の態様では、本発明は、露光系及び上述の特徴を有する投影対物系を有するマスク検査装置にも関する。この点に関して、実施形態では、照明系のブレードと投影対物系のブレードは、互いに同期する関係で反対方向に可動である。更に別の態様では、本発明は、マスク検査装置を作動させる方法にも関し、マスク検査装置の作動中に、照明系は、重心光線を有する照明光線束を用いてマスクを照明し、投影対物系は、主要光線を有する観察光線束を用いてマスクを観察し、重心光線の方向及び主要光線の方向は、マスク上の場所に依存してそれぞれ変更される。本発明の更に別の態様では、照明瞳が、その輝度分布において、理想的な形態一般的に二重極照明設定又は四重極照明設定に関する基礎を形成するから逸脱する部分構造を有する状況も考えられている。そのような部分構造は、特に、マスク平面内で重ね合わされる多数の光通路を生成するハニカムコンデンサーを照明系内に使用することによって支配することができる。これらの光通路は、ここでは、瞳を完全に満たすわけではなく、従って、個々のスポット又は照明ピークを観察することができる。上記を考慮するために、本発明により、ブレード平面に例えば照明設定において理想的又は均一な二重極又は四重極を生成するだけでなく、その代わりにブレード平面に完全な部分構造化照明分布を維持することができる。従って、態様により、本発明は、マスク検査装置の照明系に関し、照明系は、ブレード配列の調節によってEUV投影露光装置の照明瞳の輝度分布において部分構造を維持することができるような方法で可変調節可能な少なくとも1つのブレード配列を有する。実施形態では、ブレード配列は、互いに対して可動である少なくとも2つのブレードを有する。これらのブレードは、特に、異なる形状及び/又はサイズのブレード開口部を有することができる。代替的又は追加的に、これらのブレードのうちの1つは、アポダイジングアームを有することができる。本発明の更に別の構成は、この説明及び添付の特許請求の範囲に見出される。以下では、添付図面に例示的に示す実施形態を用いて本発明をより詳細に説明する。以下では、本発明の実施形態によるマスク検査装置において投影露光装置又はスキャナによって実施される上述の照明条件すなわち、照明系から入射し、投影光学系によって集光される光の方向の変動が如何にして可能な限り良好に再現されるかを説明するために図4から図7を参照する。図6にごく模式的に例示するように、マスク検査装置600は、照明系610及び投影対物系620を含み、照明系610内にはEUV光源601の光が進み、投影対物系620の物体平面に配置されたマスク630のそれぞれ照明される領域又は物体視野上に照明光線束615がもたらされ、この物体視野は、投影対物系620を用いてカメラCCDセンサ配列640上に結像される観察光線束625により。例として図4から図7を参照して説明する実施形態により、以下に説明するように、マスク検査装置600の照明系610内と同じく投影対物系620内の両方において、それぞれのブレード650及び660が使用され、それぞれのブレード650及び660は、マスク630上の照明光線束615の入射場所に依存する重心光線の方向の変動を調節するために、所定の移動平面内でそれぞれ可動である。更にこれらのブレード650、660は、好ましくは、瞳平面にそれぞれ配置され、横方向すなわち、例示する座標系内のx方向及びy方向にそれぞれ移動される。以下に図4及び図5を参照して説明するように、それぞれの重心光線は、照明系610及び投影対物系620それぞれのうちのブレード650、660によって影響を受ける。この場合、照明光学系の角度すなわち、マスク上に入射する照明光線束の重心光線の角度は、照明系620に対して設けられたブレード650の位置によって調節され、投影対物系内に進む結像光線経路内の観察光線束の重心光線又は主光線の角度は、投影対物系に対して設けられたブレード660の位置によって調節される。それとは対照的に、照明系610及び投影対物系620の他の構成要素従って、特に、EUV光源、ミラー、カメラ、及び他のものは、上述の目的で移動しなくてもよい。2つのブレード650、660が移動する移動平面は、それぞれマスク平面と平行にそれと共面関係で延びる本発明がこれに限定されることなく。図4及び図6に示すように、ブレード650は、望ましい照明設定例示する例では四重極照明設定に対応する開口部651から654を有し、設定される望ましい角度に従って図示の例ではマスク平面と平行な移動平面内で移動する。参照番号410は、ブレード650の全体の移動過程に使用され、図4に示すようにじん臓形の幾何学形状のものとすることができる領域を表している。この点に関して、例えば、例示するブレード650は、NA=0.5という開口数に適することができ、それに対して図4に同様に示すより内側に配置された又はより小さいじん臓形領域411、412は、より小さい瞳又は開口数例えば、領域411ではNA=0.32及び領域412ではNA=0.25を有する系に対応する。従って、じん臓形領域410又は411又は412それぞれは、ブレード650が作動状態になる場合、又はその前にブレード650の使用前に光で満たされる領域も表している。これは、一般的に光学系が大きい角度領域すなわち、大きい開口数に適するように設計されることを意味する。図5は、図6に示すようにマスク検査装置の投影光学系に使用されるが、円形の幾何学形状を有し、更にマスク検査装置の投影光学系投影対物系620の瞳平面内で同様に移動するブレード660における類似の状況を示している。従って、本発明により、正確に投影露光装置の条件の下で良好に機能するように書き込まれたマスク上の結像される構造が、マスク検査装置内のものと可能な限り同じ条件の下で観察され、この場合、非常に小さい視野のみが利用可能であり、マスクが、投影対物系に対してスキャナ方向だけではなく、スキャナ方向に対して横向きにもすなわち、左から右に移動するように考えられている。更に、上述の状況を図7aから図7bを参照して幾分異なる図として説明する。この点に関して、図7aでは、作図面と垂直に延びるスキャナの投影光学系の光軸をOApに示している。この図は、リングの断片の形状にあり、光軸OApの回りに同心状に光軸OApが、リングの断片の形状にある物体視野631の曲率の中心点であるように延びるスキャナスロット又は物体視野631も示している。図7aは、リングの断片の形状にある物体視野の左手縁部と右手縁部の両方に対して、更に中心に対して、各々が作図面に対して同様に垂直に延び、光軸OApと交わる入射平面A、B、及びCそれぞれの構成も示している。この図では、照明系及び投影対物系すなわち、マスク検査装置の投影光学系それぞれの瞳平面に配置され、本発明による入射平面A、B、及びCのそれぞれの構成を実施するブレード650及び660を平面図として示している。図7bは、OAMが、マスク検査装置の光軸を表し、リングの断片の形状にある物体視野631この図では断面で見られるが、投影露光装置の光軸から間隔Rの位置に配置されて幅bのものである対応する側面図を示している。この図では、照明系又は投影対物系すなわち、マスク検査装置の投影光学系それぞれのうちのブレードをそれぞれASill及びASobで表している。従って、本発明は、マスク検査過程におけるマスク630の移動中に光の有効入射方向を模擬するという概念に基づいており、これは、ここで説明する実施形態では、マスク検査装置の照明系610及び投影対物系620投影光学系それぞれに配置されたブレード650、660を同じく移動することによって実施される。これは、図7に示すように、マスク630上でリングの断片の形状にある物体視野631を照明するように機能する光線束が、マスク630上の観察場所がマスク630又は物体視野631の左手領域内にある瞬間に領域410の左手部分において停止しなければならず、それに対して、対応する方式で、光学結像系マスク検査装置の投影光学系内に進む光線束が、領域510の右手部分において停止すべきであることを意味する。ここでは、マスク検査過程において、検査されているそれぞれの場所が例えばマスク630にわたって左から右に移動する間に、図7aの左に示す状況が、マスク630を照明するように機能する光線束が領域410の右手部分に停止し、対応する方式で光学結像系が領域510の左手部分で停止する図7aの右に示す鏡像状況に徐々に変化するように、ブレード650及び660の移動は、同期して互いに反対の方向に実施される。従って、言い換えれば、走査手順中に、ブレード650、660は、現在検査されているそれぞれのマスクの場所に基づいて、光軸に対して異なる重心光線方向が設定されるようにマスクの上で移動される。従って、ブレード移動は、重心光線の望ましい場所変化を正確に達成し、同じブレードを使用する結果として、照明設定は、それぞれ維持される。この点に関して、マスク上の1つの場所から別の場所への重心光線の場所変化では、入射重心光線とマスクの表面法線の間の角度のあらゆる大きさの変化も意図されておらず、この角度又は重心光線の方向の変動が存在することに注意されたいこの点に関して、マスクの表面法線に対して、例えば、6°の大きさの角度を指定することにより、入射方向円錐が定義され、重心光線の方向の変動がこの円錐に沿って発生することに注意されたい。それに応じて、本発明による変形では、好ましくは、マスク上の表面法線と重心光線の間の角度の大きさは保持される。上記では、各場合に照明系又は投影対物系すなわち、マスク検査装置の投影光学系それぞれの瞳平面内でのブレードの配列に対して言及したが、本発明は、その通りの瞳平面内配列に限定されない。その通りの瞳平面内配列の代わりに、顕微鏡の物体視野の非常に小さいサイズに鑑みて、マスク又は物体平面から離れた各平面を妥当な近似度で瞳平面と捉えることができる。従って、実施の簡易化のためにかつ本発明をこの実施に限定することなく、ブレード650、660を各々マスク630に対して比較的大きい間隔で配置し、図6に模式的に示すように、照明系610及び投影対物系620すなわち、マスク検査装置の投影光学系それぞれの光学配置の残りの部分の外側に配置することが適切であり、この点に関して、特に、ブレード650及びブレード660それぞれと照明系及び投影対物系マスク検査装置の投影光学系それぞれとの間にいずれの付加的な結像光学手段を存在させなくてもよい。しかし、本発明は、上記に限定されず、従って、他の実施形態では、ブレードと照明系又はマスク検査装置の投影光学系との間に更に別の結像光学系を設けることができる。ブレード650及び660が移動するそれぞれの平面に関しては、これらの平面は、同じ平面又は同様に互いに共面の平面を含むことができる。更に、これらの平面は、物体平面及びマスク平面それぞれに対して共面のものとすることができる。しかし、本発明はまた、上記に限定されず、すなわち、一部の状況下では、これらの平面をレチクルと比較して及び/又は互いに対して傾斜させることを適切とすることができる。マスク上の場所に依存する本発明による重心光線変化の数学表現は、以下の通りとすることができる。x及びyは、マスク平面の座標を表す上で使用され、yが、マスク平面に対して垂直な座標を表す上で使用され、この点に関して、xが、走査が実施される際に辿る座標を表す上で使用される場合には、マスクの作動面は、y方向に-b/2からb/2まで延び、ここで、bは、スキャナスロット幅を表す一例として104mmのものとすることができる。照明光線束の重心光線の方向は、ベクトルcx,cy,czを用いて定義することができ、ここで、cx2cy2cz2=1であり、cxは、x軸上への投影を表し、以降同様に続く=いわゆる標準方向ベクトルcを用いた方向余弦表現。リング視野半径Rリング視野の中心の投影対物系の光軸からの間隔として定義されるを使用すると、得られる式は以下の通りである。及びここで、czは、6°と約8~9°又はそれよりも大きいもの高い開口数においてとの間の現時点での一般的な値を含むことができる入射角の余弦に対応する。マスクの縁部に関する計算例は、yにおける最大値yMax=52mm、R=リング視野半径=100mm、並びにcx=0.089、cy=0.054、及びcz=cos6°=0.995とすることができる。入射平面照明設定からマスク上に入射する光線と、射出する、すなわち、投影対物系内に入射する光線とによって形成されるが、y=0の平面との間に含む角度αは、式3又は同じく式4によって与えられる。ここで、上述の例では、α=31.2度である。本発明の更に別の態様により、照明瞳が、その輝度分布において理想的な形態から逸脱する部分構造を有する状況も考えられている。そのような部分構造は、特に、マスク平面内で重ね合わされる多数の光通路を生成するハニカムコンデンサーを照明配列内に使用することによって支配される可能性がある。この場合、これらの光通路は、瞳を完全に満たすわけではなく、従って、個々のスポット又は照明ピークを観察することができる。この点に関して、図8は、2つの異なる視野点における一般的なEUV瞳の例を示している。白色の円内にそれぞれ示す数字は、瞳区画の異なる輝度レベル及びこれらの輝度レベルの視野依存性を表している。上述の状況を考慮するために、本発明により、マスク検査装置の開口平面に理想的な照明分布例えば、均一な二重極設定又は四重極設定を生成することができるだけではなく、更に開口平面内で完全な部分構造化照明分布を維持することができる。次に、マスク検査における強度変動を含む瞳照明の上述の分配を再現するように機能する実施形態を説明するために、以下では図9から図11を参照することとする。この目的のために、一部の実施形態では、従来の単体ブレードの代わりに、少なくとも2つのブレード従って、更に別の実施形態では、3つ、4つ、又はそれよりも多いブレードを含むブレード配列が使用され、これらのブレードは、言わば直列接続され、ブレードの相対的な変位及び/又は回転が、瞳区画の有効開口部、従って、積分輝度及びその光効率を調節することを可能にする設計構成のものである。図9a及び図9bを参照すると、ブレード配列は、光伝播方向に連続して配置された2つのブレード910、920で構成され、これらの各々は、それぞれ3つの孔911~913及び921~923例えば、各瞳区画に対するそれぞれの孔を有するが、両方のブレード910、920は、異なる形状の孔を有する。従って、ごく模式的に示す第1のブレード110は、一例として3つの円形の孔911~913を有し、それに対して第2のブレード920は、2つの細長い孔921と923の間に円形の孔922を有する。ブレード配列の個々のブレードは、必ずしも直接連続する関係で配置しなくてもよい。図9c、図9d、及び図9eに示しているように、ブレード910、920の水平方向の相対変位により、各瞳区画における有効孔サイズ変化、従って、積分輝度又は光効率の調節を提供することができる。例えば、第1のブレード910内の孔911~913のサイズが想定値3で定量化される場合には、例えば、孔サイズは、表1に指定する水平変位の関数と捉えることができる。従って、本発明により、上述のマスク検査装置における瞳照明の部分構造化を与えることができる。図10に模式的に例示する更に別の実施形態では、少なくとも2つのブレード950、960のうちで、孔開口部を部分的に覆い、従って、孔サイズの有効な縮小をもたらす少なくとも1つのアポダイジングアームを有する少なくとも1つのブレードこの場合、図10bに示す第2のブレード960により、可変孔サイズ、従って、瞳区画の有効開口部の変化、従って、積分輝度又は光効率の変化を同様に与えることができる。従って、有効孔サイズは、図10aの第1のブレード950に対する第2のブレード960の相対変位により、第1のブレード950内の孔サイズがこの孔を覆うアームの区域によって縮小されることによって通路毎に変更される。図11は、ブレード970上のアームの更に可能な構成を示すごく模式的な図である。更に別の実施形態では、上述の部分瞳又は部分構造における強度の可変調節のためのブレード配列は、適切なアクチュエータによって個別又は全体的に調節可能な多数の可変調節可能絞りブレードを有する1段ブレードで同様に実施することができる。マスク検査装置内で完全な部分構造化照明分布を与えるという上述の概念は、マスク上の場所に依存して重心光線の方向を変更するという本発明の概念とは独立して実施することができることが認められるであろう。従って、更に別の態様により、本発明はまた、同時にマスク上の場所に依存する重心光線の方向の変動が更に実施されることなく、好ましくは適切なブレード配列を使用することにより、照明分布の部分構造が与えられるマスク検査装置にも関する。本発明を特定的な実施形態を用いて説明したが、例えば、個々の実施形態の特徴の組合せ及び/又は交換により、当業者には多くの変形及び代替実施形態が明らかであろう。従って、当業者は、そのような変形及び代替実施形態が、本発明に同様に包含され、本発明の範囲が、添付の特許請求の範囲及びその均等物の意味においてのみ限定されることを認めるであろう。"