"波長Wを有する第1の光ビームを、第1の干渉計測定光路に沿って測定ターゲットに向かって送出する第1点光源を有し、前記第1の干渉計測定光路は、前記測定ターゲットの位置に応じて変動する長さを有する変動光路長部分を包含し、前記第1の光ビームは、少なくとも前記第1の干渉計測定光路に沿った距離に応じて変動する波面半径を有する第1の光源、波面半径に応じて変化するとともに前記第1の干渉計測定光路長を示す第1測定結果を与えるように構成された波面半径検出器、および前記第1測定結果に基づいて、前記第1の干渉計測定光路長の低解像度絶対光路長Rを計算するように構成された第1の光路長計算部を備える第1の干渉計と、合成測定波長Λを有する第2の干渉計光ビームを送出するビーム送出手段、前記第2の干渉計光ビームを、固定光路を伝播される参照ビームと、測定ターゲットの位置に応じて変動する長さを有する変動光路長部分を包含する第2の干渉計測定光路に沿って伝播される測定ビームと、に分割するとともに、前記固定光路を戻ってきた参照ビームと、前記測定ターゲットで反射されて前記第2の干渉計測定光路に沿って戻ってきた測定ビームと、を重ね合わせるビーム分割/重ね合わせ手段、前記重ね合わされたビームを受光して、前記重ね合わせビームの合成波長Λに伴う位相φを示す信号を与えるように構成された第2の干渉計検出器、および前記重ね合わせビームにおける波長Λの波の波数NΛ、波長Λ、および前記第2の干渉計検出器の信号により示される位相φに基づいて前記第2の干渉計測定光路長の中解像度絶対光路長測定値ZMを求めるように構成された第2の光路長計算部を備える第2の干渉計と、を有し、前記波数NΛは、前記第2の干渉計測定光路に含まれる完全な波長Λの個数の整数部分から計算されるとともに、前記低解像度絶対光路長Rと、前記第1の干渉計測定光路長と前記第2の干渉計測定光路長との定常差C12に関するオフセット定数と、に基づいて計算される固定波長絶対距離干渉計。前記波面半径検出器は、前記第1の光ビームと、波長Wおよび前記第1の光ビームの波面半径と同一の波面半径を有し、少なくとも前記波面半径検出器の近傍で前記第1の光ビームと干渉する第2の光ビームと、の干渉によって形成される干渉縞パターンを検出するように形成されている請求項1に記載の固定波長絶対距離干渉計。前記波面半径検出器は、前記波面半径検出器の近傍における前記第1の光ビームをコピーして前記第2の光ビームを付与するラテラルシアリング装置lateralshearingarrangementを有する請求項2に記載の固定波長絶対距離干渉計。前記ラテラルシアリング装置はサバール板を備える請求項3に記載の固定波長絶対距離干渉計。前記波面半径検出器はイメージングアレイを備える請求項2に記載の固定波長絶対距離干渉計。前記第1の光路長計算部においては、測定光路の低解像度絶対光路長Rは、前記波面半径検出器で検出された干渉縞パターンの縞ピッチPと、前記第1および第2の光ビームの波長Wと、前記第1および第2の光ビームの平行波面半径の方向に直角に測定された分離長さIsと、に基づいて計算される請求項2に記載の固定波長絶対距離干渉計。前記測定光路の低解像度絶対光路長Rは、以下の方程式1:R=cIsP/W1cは、干渉縞パターンの検出面に対して前記平行波面半径が整合しているかどうかに依存する定数である。で計算される請求項6に記載の固定波長絶対距離干渉計。前記第1の光源は、前記第1点光源に隣接する第2点光源を備え、前記第2点光源は、前記第1の干渉計測定光路に沿って第2の光ビームを送出し、前記第2の光ビームは、前記第1の干渉計測定光路に沿った距離に応じて変動する波面半径を有する請求項2に記載の固定波長絶対距離干渉計。前記第1の光源は、前記第1点光源を通して前記第1の波長Wを有する光を放射して第1の光ビームを生じさせる光エミッタと、前記第1点光源の近傍に位置し、前記第1の光ビームの一部を透過し、一部を反射し、前記反射された第1の光ビームが、第2の光ビームを送出する第2点光源となるようにするビームスプリッタと、を備える請求項8に記載の固定波長絶対距離干渉計。前記第1の光源は、末端が前記第1点光源となる第1の光ファイバと、末端が前記第2点光源となる第2の光ファイバと、前記第1の波長Wを有する光を放射するとともに、放出された光が前記第1の光ファイバおよび前記第2の光ファイバの両方に導入される光エミッタと、を備える請求項8に記載の固定波長絶対距離干渉計。前記第2の干渉計のビーム送出手段は、波長λ2のλ2光ビームを送出する第2の光源と、波長λ2とは異なる波長λ3を有するλ3光ビームを送出する第3の光源と、前記λ2光ビームと前記λ3光ビームとを重ね合わせ、方程式:Λ=λ2λ3/|λ3-λ2|で与えられる合成波長Λを与える前記第2干渉計光ビームとするビーム重ね合わせ装置と、を含み、前記第2の干渉計検出器は、重ね合わせビームにおけるλ2光ビームの参照ビーム成分に対する測定ビーム成分の位相φ2を検出するλ2検出器と、重ね合わせビームにおけるλ3光ビームの参照ビーム成分に対する測定ビーム成分の位相φ3を検出するλ3検出器と、を有し、前記第2の光路長計算部においては、前記重ね合わせビームにおける合成波長Λに付随する位相φを、前記λ2検出器で検出された位相φ2と前記λ3検出器で検出された位相φ3とから、以下の方程式2:φ=φ3-φ22によって求める請求項1に記載の固定波長絶対距離干渉計。前記第2の光路長計算部においては、以下の方程式3:ZM=Λ[|φ|mod2π/2π]NΛΛ3によって中解像度絶対光路長測定値ZMを求める請求項11に記載の固定波長絶対距離干渉計。構成a前記波面半径検出器が、前記測定ターゲットが前記波面半径検出器に対して相対的に移動するように配設されているとともに、前記第2の光路長計算部が、波数NΛを、数量[R-C12]を波長Λで除して得られた商の整数部分として求める構成、および構成b前記波面半径検出器が、前記測定ターゲットが前記波面半径検出器に対して固定されているように配設されているとともに、前記第2の光路長計算部が、波数NΛを、数量[2R-C12]を波長Λで除して得られた商の整数部分として求める構成の何れかにしたがって構成されている請求項12に記載の固定波長絶対距離干渉計。前記第2の光路長計算部は、中解像度絶対光路長測定値ZMを求め、次いで、中解像度絶対光路長測定値ZMにおけるλi光ビームi=2または3の波数であって中解像度絶対光路長測定値ZMを波長λiで除して得られる商の整数部分である波長λiの波の波数Nλiを求め、得られた波数Nλiと、λi検出器で検出されたλi光ビームの位相φiと、に基づいて高解像度絶対光路長測定値ZFを求める請求項11に記載の固定波長絶対距離干渉計。前記第2の光路長計算部は、下記の方程式4:ZF=λi|φi|mod2π/2πλiNλiCiFMi=2または34CiFMは、測定値ZFで求められた光路長と測定値ZMで求められた光路長との差であり、測定ターゲットの位置によらず、一定である。に基づいて高解像度絶対光路長測定値ZFを求める請求項14に記載の固定波長絶対距離干渉計。前記第2の干渉計のビーム送出手段は、波長λ2のλ2光ビームを送出する第2の光源と、波長λ2とは異なる波長λ3を有するλ3光ビームを送出する第3の光源と、前記λ2光ビームと前記λ3光ビームとを重ね合わせ、方程式:Λ=λ2λ3/|λ3-λ2|で与えられる合成波長Λを与える前記第2干渉計光ビームとするビーム重ね合わせ装置と、を含み、固定波長絶対距離干渉計は更に測定ビーム偏向手段を含むとともに、前記固定波長絶対距離干渉計は、前記測定ビーム偏向手段が、a少なくとも第1の光ビーム、およびb前記測定ビームの一方を含む光の少なくとも一部を偏向し、前記光が、前記変動光路長部分と経路が揃うようにして測定ターゲットに到達するようにするとともに、前記測定ビーム偏向手段が、a少なくとも第1の光ビーム、およびb前記測定ビームの一方を含む光の少なくとも一部を透過して、前記光が、前記変動光路長部分と経路が揃った状態を保持して測定ターゲットに到達するようにするように構成されている請求項1に記載の固定波長絶対距離干渉計。前記波長Wは前記波長λ2およびλ3とは異なり、前記測定ビーム偏向手段は、波長Wを有する光は透過するが、波長λ2またはλ3を有する光は反射するダイクロイックフィルタを備えるとともに、前記ダイクロイックフィルタは、前記測定ビームを反射して、前記測定ビームが前記変動光路長部分の経路を通って前記測定ターゲットに到達させ、前記測定ターゲットに到達後、前記測定ターゲットで反射されて前記変動光路長部分の経路に沿って戻るとともに、前記測定ビームを反射して前記ビーム分割/重ね合わせ装置上を通過させるように配設されている請求項16に記載の固定波長絶対距離干渉計。前記波長Wは前記波長λ2およびλ3の一方と同一であり、固定波長絶対距離干渉計は更に、第1の干渉計の波面半径検出器が作動しているときは、第2の干渉計の測定ビームが前記測定ビーム偏向手段に到達しないようにするように配設され、制御されるシャッタを備える請求項16に記載の固定波長絶対距離干渉計。波長λ2およびλ3の一方であって波長Wと等しい光を生じさせる光エミッタが、第1の干渉計の第1の光源にも光を供給するように構成されている請求項18に記載の固定波長絶対距離干渉計。全ての光ビームが、レーザから放射された光からなる請求項1に記載の固定波長絶対距離干渉計。しかしながら、前記ADIにはいくつか不利な点がある。例えば、1.Δλ=1nmの周波数チャープfrequencychirpが使用されるとともに、検出器で検出できる帯域が限られているのに対応して、低解像度の距離測定結果を得るために変調周波数100Hzが使用される。その結果、測定繰り返し頻度measurementsamplerateが100Hzと比較的低い値に限定される。2.ADIシステムには、周波数チャープを与えるために端面発光レーザexternalcavitylaserが用いられ、波長チャープを校正するために参照干渉計が使用されている。これにより、システムのコストが増加するとともに、システムがより複雑化する。他の公知のADIにおいては、有用な測定範囲を与えるために、従来の型の干渉計の構成例えばマイケルソン型やマッハ-ツェンダ型において連続的に変化する波長ではなく、固定波長が使用される。しかしながら、このようなADIにおいては、典型的には切り換え手段や構成手段として追加のレーザ光源が必要となる。したがって、このようなシステムはコストが高くなり、複雑になるから、用途によっては合わないことがある。本発明は、構成が単純であるとともに、ADIではない距離計で得られる測定結果に含まれる波長の曖昧さを排除でき、比較的に長い寸法範囲において正確な絶対距離測定結果を経済的に提供できる固定波長絶対距離干渉計を提供することを目的とする。本発明の第1態様は、少なくとも波長Wを有する第1の光ビームを、第1の干渉計測定光路に沿って測定ターゲットに向かって送出する第1点光源を最低限有し、前記第1の干渉計測定光路は、前記測定ターゲットの位置に応じて変動する長さを有する変動光路長部分を包含し、前記第1の光ビームは、少なくとも前記第1の干渉計測定光路に沿った距離に応じて変動する波面半径を有する第1の光源、波面半径検出器における波面半径であって前記第1干渉計測定光路長を示す第1測定結果を与えるように構成された波面半径検出器、および前記第1測定結果に基づいて、前記第1の干渉計測定光路長の低解像度絶対光路長Rを計算するように構成された第1の光路長計算部を備える第1の干渉計と、合成測定波長Λを有する第2の干渉計光ビームを送出するビーム送出手段、前記第2の干渉計光ビームを、固定された光路を伝播される参照ビームと、測定ターゲットの位置に応じて変動する長さを有する変動光路長部分を包含する第2の干渉計測定光路に沿って伝播される測定ビームと、に分割するとともに、前記固定光路を戻ってきた参照ビームと、前記測定ターゲットで反射されて前記第2の干渉計測定光路に沿って戻ってきた測定ビームと、を重ね合わせるビーム分割/重ね合わせ手段、前記重ね合わされたビームを受光して、前記重ね合わせビームの合成波長Λに伴う位相φを示す信号を与えるように構成された第2の干渉計検出器、および前記重ね合わせビームにおける波長Λの波の波数NΛ、波長Λ、および前記第2の干渉計検出器の信号により示される位相φに基づいて前記第2の干渉計測定光路長の中解像度絶対光路長測定値ZMを求めるように構成された第2の光路長計算部を備える第2の干渉計と、を有し、前記波数NΛは、前記第2の干渉計測定光路に含まれる完全な波長Λの個数の整数部分の計算値であり、前記波数NΛは、前記低解像度絶対光路長Rと、前記第1の干渉計測定光路長と前記第2の干渉計測定光路長との定常差C12に関するオフセット定数と、に基づいて計算される固定波長絶対距離干渉計に関する。1.実施形態1実施形態1の固定波長絶対距離干渉計1について以下に説明する。図1に示すように、固定波長絶対距離干渉計1は、測定光路第1の干渉計測定光路の低解像度絶対光路長Rを求めるための第1の干渉計11と、測定光路の中解像度絶対光路長測定値ZMおよび高解像度絶対光路長測定値ZFを求めるための第2の干渉計12と、を包含する。第1の干渉計11は、波長λ1W=λ1のレーザビームを放射する第1のレーザエミッタ14と、第1のレーザエミッタ14から放射されたレーザビームを点光源位置Sで2つのレーザビーム第1の光ビームと第2の光ビームに分割し、第1の干渉計測定光路を通って測定ターゲット13に向かって2つのレーザビーム第1の干渉計光ビームを放射するビーム分割装置15と、前記第1の光ビームと前記第2の光ビームとにより形成される干渉縞を検出する検出器アレイであるイメージングアレイ19と、を備える。第1のレーザエミッタ14とビーム分割装置15とは、第1の光源を与えるように動作するとともに、2つの点光源として機能する。イメージングアレイ19は、波面半径検出器16を与えるように動作する。第1のレーザエミッタ14とビーム分割装置15とは、光ファイバ17で繋がっており、光ファイバ17は、点光源位置Sにおいてファイバの末端または開口から、光源の光を出力する。イメージングアレイ19は、コンピュータ100に接続されて接続は図示せず。信号S1をコンピュータ100に出力する。コンピュータ100は、信号S1が入力されると、設計定数、およびイメージングアレイ19で検出された干渉縞のピッチPから、波面半径および/または低解像度絶対長測定値Rを計算するから、第1の光路長計算部に相当する。以下に述べるように、波面半径および/または低解像度絶対距離測定値Rは、ダイクロイックミラー29のミラー位置Mとレトロリフレクタ13との間の部分として定義される変動共通光路長部分ZVCPと、第1干渉計定常光路部分C1と、を包含するが、第1干渉計定常光路部分C1は、例えば点光源位置Sからミラー位置Mまでの光路部分SMと、ミラー位置Mから検出器位置Dまでの光路部分MDと、が寄与する光路長を包む。第2の干渉計は、第2の光源に対応し、波長λ2を有するレーザビームであるλ2光を放射する第2のレーザエミッタ21と、波長λ3を有するレーザビームであるλ3光を放射する第3のレーザエミッタ22と、λ2光とλ3光とを重ね合わせて合成波長ΛΛ=λ2λ3/|λ3-λ2|を有する合成波である第2の干渉計光ビームを与えるビーム重ね合わせ装置23と、前記第2の干渉計光ビームを、固定された光路長を有する光路を参照ミラー26に向かって伝搬する参照ビーム、およびレトロリフレクタ13測定ターゲットの位置に応じて変動する光路長を有するとともに、変動共通光路長部分ZVCPに沿って前記第1の干渉計測定光路と重なる第2の干渉計測定光路を伝搬する測定ビームに分割するとともに、参照ミラー26で反射され、固定光路を戻ってきた前記参照ビーム、およびレトロリフレクタ13で反射されて前記第2の干渉計測定光路に沿って戻ってきた前記測定ビームを重ね合わせて重ね合わせビームとするために、ビーム重ね合わせ装置23から送出される前記第2の干渉計光ビーム上の光路上に設けられたビーム分割/重ね合わせ装置25によって前記第2の干渉計光ビームが直交偏光した参照ビーム成分と測定ビーム成分に分割される前に、前記第2の干渉計光ビームに望ましい偏光面の回転を与えるため、ビーム分割/重ね合わせ装置25に入射する前記第2の干渉計光ビームの光路上に配設された半波長板251と、重ね合わせビームのλ2成分を検出するλ2検出器27と、前記重ね合わせビームのλ3成分を検出するλ3検出器28と、を備える。λ2検出器27とλ3検出器28とはコンピュータ100に接続されている接続は図示せず。λ2検出器27からの信号S2およびλ3検出器28からの信号はコンピュータ100に入力され、コンピュータ100は、λ2検出器27で検出された重ね合わせビームのλ2成分の位相と、λ3検出器28で検出された重ね合わせビームのλ3成分の位相と、から中解像度絶対長測定値ZMおよび高解像度絶対長測定値ZFを計算する。したがってコンピュータ100は、第2の光路長計算部にも相当する。後述するように、中解像度絶対長測定値ZMと高解像度絶対長測定値ZFとは、ミラー位置Mとレトロリフレクタ13との間に変動共通光路長部分ZVCPと、第2干渉計定常光路部分C2と、を包含するが、第2干渉計定常光路部分C2は、例えば、ミラー位置Mからビーム分割/重ね合わせ装置25におけるビーム分割/重ね合わせ位置Bまでの光路部分BM、およびビーム分割/重ね合わせ位置Bから検出器位置D’またはDまでの光路部分BDが寄与する光路長を含む。第2の干渉計12におけるビーム分割/重ね合わせ装置25、参照ミラー26、λ2検出器27、およびλ3検出器28の周囲の構成、とくにλ2検出器27およびλ3検出器28の一の態様の構成の詳細を図6および7に示す。λ2検出器27およびλ3検出器28の何れかに、代わりの形態として既知の90度位相信号検出法を使用できることは理解されるが、種々の形態においては、λ2検出器27はλ3検出器28と同一の構成を有してもよい。図1および6に示すように、半波長板251は、第2干渉計光ビームが参照ビームと測定ビームとに分離できるように、前記第2干渉計光ビームがビーム分割/重ね合わせ装置25に入射する光路上に設けられている。ビーム分割/重ね合わせ装置25の測定ビーム出射面と参照ビーム出射面とには、夫々1/4波長板252、253が設けられ、測定ビームと参照ビームとがビーム分割/重ね合わせ装置25に戻ってきたときに、正しく透過および反射されるようにされている。測定ビームは、ビーム分割/重ね合わせ装置25の測定ビーム出射面を通して前記第2の干渉計測定光路に出射され、一方、参照ビームは、ビーム分割/重ね合わせ装置25の参照ビーム出射面を通して参照ミラー26に向かって出射される。ビーム分割/重ね合わせ装置25から出力される重ね合わせビームの光路上において、ビーム分割/重ね合わせ装置25からの重ね合わせビームは、ビーム分割装置254によってλ2信号成分とλ3信号成分とに分けられる例えば、λ2の波長を有する成分をλ2検出器27に向け、λ3の波長を有する成分をλ3検出器28に向けるための波長フィルタリングインターフェイスを設けるなど、。図6および7に示す形態においては、λ3検出器28は、λ3信号成分を、非偏向ビームと発散角θで偏向する偏向ビームとに分ける偏光感受性ビーム偏向素子polarizationsensitivebeamdeflectingelement、PSBDE256と、偏向ビームの偏光角と非偏向ビームの偏光角との間の中間の角度に向けられた混合偏向板257と、結果として起こる偏向ビームと非偏向ビームとの干渉によって生じる干渉縞を検出する光検出器アレイ225と、を有する。PSBDE226は、米国特許第7,333,214明細書に記載されたPSBDEの構成を有するが、前記米国特許明細書の開示は、参照により、全体が本件明細書の一部とされる。’214と特許明細書は、第2の干渉計12と同様の干渉計を開示するとともに、PSBDEを用いて、直交偏光した参照ビームと対象測定ビームを入力しこれらのビームは、λ3またはλ2信号成分として入力されるのであるが、、参照ビームと対象ビームとの位相差に関連する変動部分空間位相spatialphaseを有する干渉縞145を生じさせ、光検出器アレイを用いて干渉縞145の変動空間位相を表示させ、前記表示された空間位相に基づいて直交偏光した参照ビームと対象ビームとの位相差を計算する方法を開示している。位相差の変化は、既知の干渉の原理に従って測定ビームの光路長の変化を示す。光検出器アレイ225はコンピュータに接続され、光検出器アレイ225上の干渉縞の位置空間位相から、米国特許第7,333,214号明細書に記載された手順に従ってλ2信号成分の位相φ2λ3信号成分の位相φ3を計算する。ある形態においては、第1の干渉計のビームと第2の干渉計のビームとを、これらのビームの間でクロストークを生じさせること無く、変動共通光路長部分ZVCPに沿って揃えるために、第2干渉計測定光路および第1干渉計測定光路上にダイクロイックミラー29を挿入し、波長λ1を有する光のみ透過させ、波長λ1とは異なる光を反射させるようにしてもよい。ルビジウムセル31または他の参照物は、ルビジウムセル31の吸収波長に相当する波長λ2およびλ3を有する成分の安定性を確かなものとするための校正参照を与え得る。ルビジウムセル31は、ビーム重ね合わせ装置23における第2の干渉計の光ビームの出力の一部を受け取る。λ2吸収検出器32は、ルビジウムセル31を通過した第2の干渉計の光ビーム中のλ2成分を検出し、λ3吸収検出器33は、ルビジウムセル31を通過した第2の干渉計の光ビーム中のλ3成分を検出する。吸収検出器32および33は、第2のレーザエミッタ21と第3のレーザエミッタ22とが正しい波長λ2およびλ3に調整されているときの、ルビジウムセル31を通過する第2の干渉計光ビーム中のλ2成分およびλ3成分の出力の低下を検出するように公知の方法に従って構成することができるとともに、制御信号を出力してレーザエミッタを制御し、レーザエミッタから正しい波長の光が出力されるようにしてもよい。以下、固定波長絶対距離干渉計1の作用について説明する。第1の干渉計11においては、以下の手順によって測定光路長の低分解能測定が行われる。最初に、第1のレーザエミッタ14が、波長λ1例えば633nmのレーザビームを放射する。第1のレーザエミッタ14から放射されたレーザビームは、焦点を合わされて光ファイバ17に導入され、光ファイバ17中を搬送され、光ファイバ17の末端から点光源としてビーム分割装置15に放射される。ビーム分割装置15においては、レーザビームを2本のレーザビームに分割するが、この2本のレーザビームは、2つの点光源から来たように見える。この2本のレーザビームは、波長λ1を有しているから、ダイクロイックミラーダイクロイックフィルタ29を通過してレトロリフレクタ13に向かって送出されるが、このレトロリフレクタ13は移動する測定ターゲットである。2本のレーザビームは、それぞれの近傍においてレトロリフレクタ13から反射されるから、互いに干渉しあって干渉縞を生じさせる。イメージングアレイ19は、前記2本のビームによって形成された干渉縞を検出するから、以下に述べるように波面半径検出器16を形成する。コンピュータ100は、イメージングアレイ19で検出された干渉縞のピッチPを計算し、ついで、以下の方程式1:R=cIsP/λ11によって低解像度絶対光路長測定値Rを得るが、低解像度絶対光路長測定値Rは実質的に波面半径と同一である。ここで、Pは干渉縞の最も明るい部分のピッチ即ち間隔であり、cは、干渉縞の検出面に対する2つの点光源の揃い方に依存する幾何学的定数であり、Isは、ビーム分割装置15における2つの点光源の距離である。低解像度絶対光路長測定値Rは、以下の方程式2:R=2ZVCPC12によれば、前に概説した変動共通光路長部分ZVCPと第1干渉計定常光路部分C1とに相当する。第2の干渉計12においては、中解像度絶対光路長測定値ZMと高解像度絶対光路長測定値ZFの測定が以下の手順で行われる。第2のレーザエミッタ21から放射された波長λ2例えば780nmを有するλ2光ビームと、第3のレーザエミッタ22から放射された波長λ3例えば795nmを有するλ3光ビームと、はビーム重ね合わせ装置23に入力される。ビーム重ねあわせ装置23においては、λ2光ビームはλ3光ビームと重ねあわされ、前記2つの波長を包含し、合成波長ΛがΛ=λ2λ3|λ3-λ2|3である第2干渉計光ビームが生じる。第2干渉計光ビームの殆ど全部が、ビーム重ね合わせ装置23から半波長板を通ってビーム分割/重ね合わせ装置25に放射され、測定ビームと参照ビームとに分割される。半波長板251は、第2干渉計光ビームの偏向を回転させ、ビーム分割/重ね合わせ装置25において、偏光が直交し強度の同様な測定ビームと参照ビームとが生じるようにする。ビーム重ね合わせ装置23からの第2干渉計光ビームの一部分がルビジウムセル31を透過して、上に概述したようにλ2吸収検出器32およびλ3吸収検出器33でモニターされる。測定ビームは、ビーム分割/重ね合わせ装置25から出射されて第2干渉計測定光路に沿ってレトロリフレクタ13に向かって伝達される。測定ビームは、第2干渉計測定光路に沿って1/4波長板252を透過してダイクロイックフィルタ29で反射される。測定ビームは、レトロリフレクタ13で反射されて第2干渉計測定光路を1/4波長板252およびビーム分割/重ね合わせ装置25に向かって戻る。測定ビームの偏光は1/4波長板252で変調され、第2干渉計測定光路に沿って反射された測定ビームが戻ってきてビーム分割/重ね合わせ装置25を透過する。同時に、参照ビームはビーム分割/重ね合わせ装置と1/4波長板253と固定された長さを有する参照光路とを透過して参照ミラー26で反射され、反射されたときの偏光でビーム分割/重ね合わせ装置25に戻ってくる。ビーム分割/重ね合わせ装置25に戻ってきた測定ビームと参照ビームとはビーム分割/重ね合わせ装置25で重ねあわされて重ね合わせビームとされ、ビーム分割装置24に伝達される。重ね合わせビームは、ビーム分割装置254でλ2信号成分とλ3信号成分とに分けられる例えばビーム分割装置254の波長フィルタリングインターフェイスwavelengthfilteringinterfaceにより。λ2信号成分は、重ね合わせビーム中に存在する互いに直角な偏光面を有する参照ビームおよび測定ビーム中のλ2信号成分の位相差即ち位相φ2を示す1またはそれ以上の信号S2を与えるλ2検出器27に入力される。前記位相差の変化は、既知の干渉原理によれば、測定光路の変化を示す。同様に、λ3信号成分は、重ね合わせビーム中に存在する互いに直角に偏光している参照ビームおよび測定ビーム中のλ3信号成分の位相差即ち位相φ3を示す1またはそれ以上の信号S3を与えるλ3検出器28に入力される。前記位相差の変化は、既知の干渉原理によれば、測定光路の変化を示す。一の形態においては、λ2検出器27およびλ3検出器28は、図6および7に示すように構成することができる。別の形態においては、干渉計で使用される直角位相検出法を何れかの検出器において使用できるが、更に別の形態においては、λ2検出器27およびλ3検出器28を同一の構成としてもよい。信号S2およびS3はコンピュータ100に入力され、コンピュータ100において合成波長位相φが、以下の方程式4:φ=φ3-φ24によって計算される。そして、中解像度絶対光路長測定値ZMは、以下の方程式5:ZM=Λ[|φ|mod2π/2π]NΛΛ5によって位相φと関連付けられる。ここで、NΛは、第2干渉計測定光路上に存在する合成波長波長Λを有する波の総数である。更に、ZMは、方程式6:ZM=2ZVCPC26に従って、上で略述した変動共通光路ZVCPの長さと第2干渉計定常光路部分C2とに関連付けられる。方程式6と2とから:ZM=R-C1C27が得られる。量C12をC12=C1-C2で定義でき、これは、第1干渉計11と第2干渉計12との測定光路の間の定常光路長差と見ることができる。C12は設計または実験で決定できる。方程式5と7とから、NΛ=|R-C12|/Λの整数部分7である。上で概述したように、Rは専ら第1の干渉計11で測定されるから、NΛは、前記測定値に基づいて決定することができ、ZMは、前記測定値と方程式7、4、および5の組み合わせに基づいてRに対して相対的に高い精度で決定できる。図に示すように、レトロリフレクタ13がイメージングアレイ19波面半径検出器16に対して相対的に移動するときは、波数NΛは前述したようにして計算できる。しかしながら、波面半径検出器16をレトロリフレクタ13と同一の素子に載置し、第1干渉計測定光路長が共通光路ZVCPを一回だけ通過して波面半径検出器16に至るようにし、R=ZVCPC ́18でRを求める形態も可能である。ここで、C ́1は、第1干渉計測定光路長に類する光路長suchafirstinterferometermeasurementopticalpathlengthに付随する定常光路長部分である。レトロリフレクタ13が波面半径検出器16に対して相対的に固定されているときは、波数NΛは、以下の方程式:NΛ=|2R-C ́12|/Λの整数部分C ́12は、第1干渉計測定光路長に類する光路長と第2干渉計測定光路長との定常差であり、例えばC ́12=2C ́1-C2であるとして計算される。さらに、コンピュータ100は、前記の過程によって求めた中解像度絶対光路長測定値ZMに基づいて、中解像度絶対光路長測定値ZM中のλi光ビームの波長λii=2または3の波数であって中解像度絶対光路長測定値ZMを波長λiで序して得られる商の整数部分である波数Nλiを求め、得られた波数Nλiとλi検出器で検出されたλi光ビームの位相φiとに基づいて、以下の方程式10:ZF=λi|φi|mod2π/2πλiNλiCiFMi=2または310によって高解像度絶対光路長測定値ZFを求める。ここで、CiFMは、高解像度測定ZFで測定した光路長と中解像度測定ZMで測定した光路長との差であり、レトロリフレクタ13測定ターゲットの位置に関係なく一定である。低解像度測定値Rと中解像度測定値ZMと高解像度測定値ZFとの関係を図5に示す。波長λ1、λ2、およびλ3を夫々633nm、780nm、および795nmとし、低解像度測定値R=123.42mmとする。図5に示すように、低解像度測定値Rは低解像度誤差coarseerrorを含むが、低解像度誤差は合成波長Λより小さく、ここに開示されている型の第1の干渉計においては10ミクロンのオーダである。したがって、低解像度測定値Rは、波数NΛの信頼できる基礎となり、中解像度測定値ZMは、波数NΛと、合成波長Λ42μm=λ2λ3/|λ3-λ2|と、合成波の位相φ=φ3-φ2と、に基づいて実施される。位相φを測定する際の誤差を波長λ2またはλ3よりも小さくすることにより、低解像度誤差よりも十分に小さくし、波数Nλiを高い信頼性で決定できる中解像度誤差mediumrangeerrorが提供される。図示された例においては、中解像度測定値ZMは、低解像度測定値Rよりも0.0037mmだけ大きい。したがって、中解像度測定値ZMは123.4237mmである。高解像度測定値ZFの計算は、波長λ2またはλ3、および位相φ2またはφ3に基づいて実施されるので、その結果、中解像度誤差は小さくなる。図示された例においては、高解像度測定値MFを、波数Nλ3、波長λ3=795nm、および位相φ3に基づいて計算したとき、高解像度測定値ZFは中解像度測定値ZMよりも0.000028mmだけ小さいから、高解像度測定値ZFは、123.423672mm123.4237mm-0.000028mmである。第1の干渉計11の構成は、2つの固定された波長を用いる第2の干渉計と組み合わせるのに理想的な測定範囲と分解能との比即ち測定範囲と誤差との比が得られるように決定された。従来は、この組み合わせの理想的な特性は、ここに開示されたような形では認識されることも使用されることもなかった。実施形態1の固定波長絶対距離干渉計においては、第1、第2、および第3のレーザエミッタとして固定波長レーザが使用できる。したがって、外部キャビティレーザを使用する必要がなく、更に、第1の干渉計および第2の干渉計は、振動に対する感受性およびドリフト誤差が小さく、信頼性が改善される。また、第1の干渉計においては、低解像度測定値Rを求めるのに、特定の変調波長例えば100Hzのチャープを用いていない。そのため、データ帯域が、比較的低い値100Hz未満に限定されることがない。更に、第1の干渉計11および第2の干渉計12の何れも、米国特許第7,292,347号明細書のADIと比較してより単純な構成を有している。ビーム分割装置15に替えて、第1のレーザエミッタ14からのレーザ光が一端から導入されるとともに第1の点光源を構成する第1の光ファイバと、第1のレーザエミッタ14からのレーザ光が一端から導入されるとともに、前記第1の点光源に隣接する第2の点光源を構成する第2の光ファイバとから構成される二点光源を使用することができる。第2の光ファイバは、第1の光ファイバから分岐させてもよい。二点光源は、互いに隣接するとともに、レトロリフレクタ13に向かってレーザビームを照射する2つのレーザエミッタから構成することもできる。2.実施形態2実施形態2の固定波長絶対距離干渉計2について以下に説明する。図2に示すように、固定波長絶対距離干渉計2は、第1の干渉計11と第2の干渉計12とを包含する。第2の干渉計は、実施形態1の固定波長絶対距離干渉計1の第2の干渉計と同一の構成を有している。第1の干渉計11の構成を以下に述べる。図2に示す第1の干渉計11の形態においては、波面半径検出器16′は、楔状素子18を備え、公知の波面半径検出方法が使用されているから、ビーム分割装置15を省略できる。楔状素子18は、透明な材料から形成された楔形の板であり、第1のレーザエミッタ14から放射されたレーザ光が透過する前面frontsurfaceFSが入射角θ例えば45度で傾斜している。楔状素子18の背面BSは、前面FSに対して楔角Δθの角度をなすように形成されている。第1のレーザエミッタ14から放射されたレーザビームは、光ファイバ17中を伝達され、光ファイバ17の末端における点光源開口部17Aからレトロリフレクタ13に向けて送出される。レトロリフレクタ13で反射されて戻ってきた第1干渉計光ビームは、楔状素子18に当たり、楔状素子18の前面FSと背面BSとの夫々で反射されて2つの波面半径を生じさせ、この2つの波面半径が互いに干渉して干渉縞を生じさせる。波面半径検出器16′は、このようにして生じた干渉縞がイメージングアレイ19で検出されるように構成されている。固定波長絶対距離干渉計2は、第1の干渉計11の前述した構成の違い以外は、実施形態1の固定波長絶対距離干渉計と同一の構成を有している。固定波長絶対距離干渉計2の作用について以下に記載する。第1の干渉計11において、点光源開口部17Aは単一の点光源なので、第1のレーザエミッタ14から放射されたレーザビームは、点光源開口部17Aから単一の球面状波面半径と波長λ1とを有するレーザビームとして放射される。単一の波面半径を有するレーザビームは、楔状素子18およびダイクロイックフィルタ29を透過し、第1干渉計測定光路に沿ってレトロリフレクタ13に向かって送出され、レトロリフレクタ13で反射されて戻ってくる。戻ってきたレーザビームにおける単一な岬面は、楔状素子18において、ほぼ同一の曲率半径を有する2つのほぼ同様な波面に分割され、この2つの波面が楔状素子18によってイメージングアレイ19に向かって反射される。この2つの波面によって生じた干渉縞は、イメージングアレイ19によって検出される。この2つの波面は、楔状素子18の厚さおよび楔角Δθにより、シアリング面の方向に沿ってシアリング距離即ちオフセットLSだけ分離される。LSの値は、設計または実験によって決定できる定数である。このような楔板について一般的に知られているように、球面状の波面によって形成された干渉縞は、楔状板18の作用により、シアリング面に対して即ち平面状の波面に対して角度γだけ回転される。コンピュータ100は、イメージングアレイ19によって検出された干渉縞のピッチおよび角度を計算する。低解像度測定値Rこれは波面半径Rであるは、イメージングアレイ19に接続されたコンピュータ100により、イメージングアレイ19で検出された干渉縞のピッチPおよび角度γから、以下の方程式:R=LSP/λ1sinγ11に従って求められる。ピッチPおよび角度γは、コンピュータ100によってフーリエ変換を用いて決定してもよい。楔状素子18の構成および関連する検出は、ほぼ論文DistanceMeasurementwithExtendedRangeusingLateralShearingInterferometryandFourierTransformFringeAnalysisに記載されているとおりである。上記論文に記載されているように、楔角を有する板状部材ではなく、平行面を有する板状部材を用いて波面半径検出器を構成することもできる。第2の干渉計12は、実施形態1に記載されているような作用をするとともに、中解像度測定値ZMおよび高解像度測定値ZFの計算も実施形態1に記載されているように実施される。前述したように、点光源開口部17Aから送出されたレーザビームは、2つの波面に分割されること無く、第1干渉計測定光路を通過した後に2つの波面が生成する。したがって、結果として得られる干渉縞はゆがみがより少ない故に、第1の干渉計11は、二点光源を有する第1の干渉計と比較して、揺らぎが厳密に制御されていない条件においても、より堅牢であり、正確である。3.実施形態3実施形態3の固定波長絶対距離干渉計3について以下に説明する。図3に示す形態の第1の干渉計11においては、波面半径検出器16′に替えて波面半径検出器16′′が使用されている。波面半径検出器16′′は、公知のラテラルシアリングlateralshearing波面半径検出方法を用いているとともに、反射素子REと第1偏光板45Pとサバール板SPと第2偏光板-45Pとイメージングアレイ19とを含み、後述するように動作する。上記の違いを除いては、固定波長絶対距離干渉計3は、実施形態2の固定波長絶対距離干渉計と同様の構成を有してよい。以下、固定波長絶対距離干渉計3の作用について説明する。第1のレーザエミッタ14から出射したレーザビームは、光ファイバ17の末端の点光源17Aからレトロリフレクタ13に向かって送出される。波面が単一のレーザビームは、反射部材REをバイパスしてダイクロイックフィルタ29を透過し、第1干渉計測定光路を通ってレトロリフレクタ13に向かって送出され、レトロリフレクタ13で反射される。戻ってきた第1干渉計光ビームは、反射エレメントREで反射され、第1偏光板45Pを通ってサバール板SPに向かう。戻ってきたレーザビームの単一の波面は、サバール板SPの公知の動作原理に従い、波面半径が同一であって進行方向に直角な分離オフセットIsを有する2つのほぼ同一な波面に分離される。Isの値は、サバール板の設計に付随し、設計または実験で決定することのできる定数である。そして、この2つの波面は第2偏光板-45Pを通って互いに干渉するようにイメージングアレイ19に向かって送出される。2つの波面によって形成された干渉縞はイメージングアレイ19によって検出される。低解像度測定値Rは、イメージングアレイ19に接続されたコンピュータ100によってイメージングアレイ19で検出された干渉事案のピッチPに基づき、実施形態1で記載されたのと同様の分析手法で求めることができる。波面半径検出器16′′および関連する検出器は、例えば論文RangeSensingBasedonShearingInterferometryに記載されたような構成としてもよい。4.実施形態4実施形態4の固定波長絶対距離干渉計4について以下に説明する。図4に示すように、固定波長絶対距離干渉計4は、以下に示す構成を有する第1の干渉計11および第2の干渉計12を有する。図4に示すように、固定波長絶対距離干渉計4は、第2のレーザエミッタ21からの光の一部を分離して光ファイバ17に送出して第1の干渉計11で用いるビーム分割装置24と、第2干渉計光ビームを断続的に遮断するための設けられたシャッタ素子36と、実施形態1、2、および3で使用されているダイクロイックフィルタ29の代わりとしての通常のビームスプリッタ35例えば銀鍍金したハーフミラーhalfsilveredmirrorと、を包含する。テレセントリック空間フィルタリング装置spatialfilteringarrangement38を含んでいてもよい。この構成によれば、以下に記載するように3つではなく2つのレーザエミッタが使用できる。上記の構成を除いては、固定波長絶対距離干渉計4は、実施形態2の固定波長絶対距離干渉計2と同様の構成とほぼ同様の測定方法とを有していてよい。固定波長絶対距離干渉計4の作用について以下に説明する。第2のレーザエミッタ21から放射されたλ2光ビームは、ビーム分割装置24に入射し、2つの部分に分けられる。λ2光ビームの一方の部分は入口ポート17Bおよび光ファイバ17を通して第1の干渉計11に導入され、点光源開口部17Aから出射される。波長λ1の光の代わりに波長λ2の光を使用する以外は、第1の干渉計11の構成および動作については、実施形態2を参照して記載できる。λ2光ビームの他方の部分と第3のレーザエミッタ22から放射されたλ3光ビームとは、ビーム重ね合わせ装置23で互いに重ねあわされて、合成波長Λを有する第2干渉計光ビームとされ、第2干渉計光ビームは、シャッタ素子36に出射される。後述するように第2の干渉計12の動作を中断させるためにシャッタ素子36を使用とともに、テレセントリック空間フィルタリング装置38を使用することもある以外は、第2の干渉計の構成および動作は前に述べた実施形態と同様である。同じ波長λ2の光ビームが第1の干渉計11および第2の干渉計12で使用されているから、シャッタ素子36を用いて第2の干渉計12の動作を停止させ、第1の干渉計11における信号S1から低解像度絶対光路長Rを決定している間、信号S1が第2の干渉計12からの波長λ2を有する光からの妨害を受けないようにすることができる。コンピュータ100は、この目的のために、シャッタ制御信号Csを出力してしかるべき時間にシャッタ素子36を閉じ、それからシャッタ素子36を再び開いて信号S2およびS3を測定するようにすることができる。点光源から出射されたλ2光ビームを2つに分けているため、第1の干渉計11からのλ2の強度は、第2の干渉計におけるλ2光よりも弱い。したがって、第2の干渉計12において信号S2を測定している間、第1の干渉計11の動作を中断させる必要がない。図4に示すように、テレセントリック空間フィルタリング装置38を使用することができる。テレセントリック空間フィルタリング装置38のようなテレセントリック空間フィルタリング装置について知られているように、平行光でない、言い換えれば分散している光は、これらの装置によって遮断される。従って、第1の干渉計11からの分散光が第2の干渉計12に到達することは実質的に防止される。固定波長絶対距離干渉計4においては、第1のレーザエミッタ14を省略できるから、実施形態2の固定波長絶対距離干渉計と比較して構成を簡略化できる。本発明の前述の実施形態は、本発明を説明し、記載する目的で提示されたものであり、本発明を、開示された形態に厳密に限定することを意図するものではない。例えば、第1および第2の干渉計における光路長の差は、前述した方程式により求められるが、定常光路長差、他の定数、等々は、他の種々の形態においては、もっと一般的な波長または位相等の他の数学的用語に拡張して類似の互換性ある方程式で使用できるようにしてもよいことは当業者であれば理解できるであろう。この分野に熟達した実施者には、多くの変更や変形は自明であろう。これらの実施形態は、本発明の原理と実際的な応用とを最もよく説明し、これにより、特別な用途に適合するように種々の実施形態を発明したり、種々の変更を付加したりすることができることを当業者が理解できるようにするために選択されている。本発明の範囲は以下の請求項とその均等物とによって定義されることが意図されている。"