"ガラス基板上に金属膜からなる反射層および無機保護層が形成された基板上に、少なくとも着色層が形成されたカラーフィルタの欠陥修正方法において、予め前記カラーフィルタの欠陥修正部分を炭化着色させる段階と、その後前記欠陥修正部分にレーザー光を照射して前記欠陥修正部分をレーザーアブレーションにより除去する段階と、を具備することを特徴とするカラーフィルタの欠陥修正方法。下地である前記金属膜からなる反射層および前記無機保護層に損傷を与えない低いエネルギーのレーザー光を照射して、前記欠陥修正部分を選択的にレーザーアブレーションにより除去することを特徴とする請求項1に記載するカラーフィルタの欠陥修正方法。予め前記カラーフィルタの前記欠陥修正部分を炭化着色させることで、該当欠陥修正部分のレーザーエネルギーの吸収率を高めることを特徴とする請求項1に記載するカラーフィルタの欠陥修正方法。ガラス基板上に金属膜からなる反射層、無機保護層が順次形成された基板上に、少なくとも着色層が形成されたカラーフィルタを有する液晶表示装置用カラーフィルタ基板であって、上記請求項1~3のいずれか1項に記載するカラーフィルタの欠陥修正方法によって、欠陥部分が修正されたことを特徴とするカラーフィルタ基板。上記した、カラーフィルタのレーザー修正において、着色層RGB他およびブラックマトリックスBM等からなるカラーフィルタ層の欠陥部分を修正する際、一般にYAGレーザー266nm、355nm、532nm等を用いレーザーアブレーションにて除去するが、カラーフィルタ層のレーザーエネルギー吸収量が構成層により様々であり、欠陥修正部分の周囲への影響をも考慮する必要がある。この為、アブレーションのレーザー強度レベルはそれぞれの層を構成する材料に応じて調整される。ガラス基板上にカラーフィルタを形成した単独カラーフィルタの場合、レーザー修正したい形成層の下層はガラス基板の為、修正箇所のレーザーアブレーションに伴う下地の損傷はそれほど考慮しなくてよかった。しかし、ガラス基板上にAl金属膜などの反射層および無機保護膜層を設けた基板上にカラーフィルタを直接形成する反射型液晶表示装置用カラーフィルタの場合、ブラックマトリックスBMおよび着色層RGB他などのカラーフィルタ層の所定箇所の修正を行う場合、修正箇所のレーザーアブレーションに伴い下地である金属反射層および無機保護膜の損傷を考慮する必要がある。また、実際に無機保護膜上のカラーフィルタ層を修正する場合において、カラーフィルタ層の修正箇所のアブレーション除去に必要なレーザー強度に対して、下地である金属反射層の無機保護膜がアブレーションにより損傷を受けるレーザーエネルギー強度が、カラーフィルタ層のそれよりも小さい場合、カラーフィルタ層のレーザーアブレーションにより下地である金属反射層の無機保護膜が損傷してしまうことがしばしばある。この為、金属反射層および無機保護膜上に形成されたカラーフィルタ層の選択的な修正ができないことが現状である。これに関連して、本出願人は、特願2011-009554及び特願2011-009555において、ガラス基板又はTFT基板上に着色層RGB他およびブラックマトリックスBMなどのカラーフィルタが形成されたカラーフィルタ製造におけるレーザー修正において、修正箇所のレーザーアブレーションに伴う下地の損傷を発生させることなく、効率的に、且つ、選択的にカラーフィルタ層のみを修正することができるカラーフィルタの欠陥修正方法を発明し提案している。本発明は上述の事情に鑑みてなされたものであり、ガラス基板上に金属膜からなる反射層および無機保護層が形成された基板上に、着色層RGB他およびブラックマトリックスBMなどのカラーフィルタが形成された、反射型液晶表示装置用カラ-フィルタにおけるレーザー修正において、無機保護膜の損傷を発生させることなく、選択的にカラーフィルタ層のみを修正することができるカラーフィルタの欠陥修正方法、及び、その欠陥修正方法によって欠陥部分が修正されたカラーフィルタ基板を提供することを課題としている。そこで、本発明の請求項1に係る発明は、ガラス基板上に金属膜からなる反射層および無機保護層が形成された基板上に、少なくとも着色層が形成されたカラーフィルタの欠陥修正方法において、予め前記カラーフィルタの欠陥修正部分を炭化着色させる段階と、その後前記欠陥修正部分にレーザー光を照射して前記欠陥修正部分をレーザーアブレーションにより除去する段階と、を具備することを特徴とするカラーフィルタの欠陥修正方法である。また、本発明の請求項2に係る発明は、下地である前記金属膜からなる反射層および前記無機保護層に損傷を与えない低いエネルギーのレーザー光を照射して、前記修正部分を選択的にレーザーアブレーションにより除去することを特徴とする請求項1に記載するカラーフィルタの欠陥修正方法である。また、本発明の請求項3に係る発明は、予め前記カラーフィルタの前記欠陥修正部分を炭化着色させることで、該当欠陥修正部分のレーザーエネルギーの吸収率を高めることを特徴とする請求項1に記載するカラーフィルタの欠陥修正方法である。次に、本発明の請求項4に係る発明は、ガラス基板上に金属膜からなる反射層、無機保護層が順次形成された基板上に、少なくとも着色層が形成されたカラーフィルタを有する液晶表示装置用カラーフィルタ基板であって、上記請求項1~3のいずれか1項に記載するカラーフィルタの欠陥修正方法によって、欠陥部分が修正されたことを特徴とするカラーフィルタ基板である。本発明のカラーフィルタの欠陥修正方法では、予めカラーフィルタの欠陥修正部分を炭化着色させることで、ガラス基板上に金属膜からなる反射層、無機保護層が順次形成された基板上に形成された着色層RGB他あるいはブラックマトリックスBMなどの反射型液晶表示装置用カラーフィルタにおけるレーザー修正において、修正箇所の下地である金属膜の反射層および無機保護膜のレーザーアブレーションに伴う損傷を発生させることなく、選択的にカラーフィルタ層のみを修正することが可能となった。また、本発明のカラーフィルタの欠陥修正方法によれば、修正箇所のレーザーエネルギー吸収率を上げることが可能となり、従来のアブレーション除去に必要なレーザーエネルギー強度に比べ、低いレーザーエネルギー強度で修正箇所をアブレーション除去することが可能となった。本発明のカラーフィルタの欠陥修正方法を、一実施形態例に基づいて以下に詳細に説明する。以下の説明で使用する符号は背景技術で既に説明した透過型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の従来技術と共通する部分については新たな番号を付与させることなく同一の番号を用いる。図2は、本発明の欠陥修正方法が適用される、反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の一実施形態での構成を部分断面で示した模式図である。図2aに示すように、この反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板1は、基板11上に、金属膜18、無機保護膜17、遮光膜13,透明着色層14、透明導電膜15が形成されたものである。なお、図2bに示すように、従来の透過型液晶表示装置では、各色に着色された透過光の混色を防止するために、遮光膜13を設けていたが、本発明に係る反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板では、光の反射利用効率の点で必ずしも遮光膜13を必要としない設計も存在する。この反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板1を、図3に示すように、対向基板として、アレイ基板であるTFT基板2とを一定の間隙で貼り合わせ、液晶3をその間隙注入することで、TFT基板2側から視認する反射型液晶表示装置が得られる。本発明に係る反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板は、少なくとも以下の工程を経ることで得られる。まず、無アルカリガラス等の基板11上全面に反射率の高い金属膜18を成膜する。反射率の高い金属にはアルミニウム、銀、白金、ロジウム等があるが、安価で合金とすることで安定性にも優れたアルミニウムとその合金が好ましく使用できる。Al膜はDCマグネトロンスパッタリング法や抵抗加熱の真空蒸着により基板11上全面に成膜する。膜厚としては、少なくとも100nm程度以上必要であり、100nm~200nmが適当である。500nm以上とすることも可能であるが、反射率への寄与は少なく、経済的生産性の点で不利である。基板11としては、石英ガラスや無アルカリガラスなどのガラス基板があり、一般的に無アルカリガラス基板が好適に使用できる。さらに、本発明に係る反射型液晶表示装置が透過型との併用をしない完全反射型液晶表示装置として適用する場合には、光反射層を基板の液晶層側に設けるために、使用する基板が透明であったり、光学的等方性を持つ必要が無く、従来液晶表示装置用の基板として使用できなかった耐熱性に優れたエンジニアリングプラスチック等も使用可能である。次に、この金属膜18上に無機保護膜17を成膜する。無機保護膜17としては、カラーフィルタ層を形成するためのカラーレジストの現像液でエッチングされない保護膜として、CVDChemicalVaporDeposition方式を用いた窒化珪素SiNSiliconNitrideが、製膜の安定性均一性および保護膜としての物性の点で好ましく使用できる。無機保護膜17としては、窒化珪素以外にもSiO2等が使用でき、真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法、溶液法等で適用可能である。無機保護膜17の厚さは、用いられる無機化合物の種類構成により最適条件が異なるが、300~800nmの範囲が好ましく、その値は適宜選択される。より好ましくは、400~600nmの範囲である。上記したガラス基板上に金属膜からなる反射層、無機保護層が順次形成された基板上への着色層および遮光層の作製方法は、公知のインクジェット法、印刷法、フォトリソグラフィ法、エッチング法など何れかの方法で作製できる。高精細、分光特性の制御性及び再現性等を考慮すれば、透明な樹脂中に顔料を、光開始剤、重合性モノマーと共に適当な溶剤に分散させた着色樹脂組成物をアレイ基板上に塗布して塗布膜を形成し、この塗布膜にパターン露光、現像することで一色の着色層を形成する工程を各色毎に繰り返し行って着色画素を形成するフォトリソグラフィ法が好ましい。すなわち、金属膜18を介して無機保護膜17が形成された透明基板上の全面に、公知のフォトリソ法を用いて、感光性着色樹脂組成物を塗布乾燥し、所定のマスクを介して露光し、現像し、焼成して着色画素をパターンニング形成する。この工程をBMおよびRGB等所望する色数に従って繰り返すことで着色層を形成する。その後、この基板に公知の方法にてITO層の形成を行うことで、先に説明した、図2に示す、反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板1が得られる。ここで、本発明の係る反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板では、光が反射して各構成材料を2度透過することになるため、従来の透過型と同じ顔料濃度では暗くなってしまう。そこで、着色層の厚さを変更する代わりに、着色層の顔料濃度を調整し、所定の色を再現することが好ましい。また、偏光膜も表面に1枚のみ使用する。感光性着色樹脂組成物は、その成分として、光重合性モノマー、バインダー樹脂、重合開始剤、着色剤及び溶剤を含有するものである。また、分散剤、光増感剤、連鎖移動剤などの添加剤を含有するものであっても良い。光重合性モノマーは、露光光線の照射によって重合し、感光性着色組成物の塗布膜を現像液不溶性に変化させるものである。一般には、ラジカルにより重合が誘起されるモノマーである。このような光重合性モノマーとしては、水酸基を有するメタアクリレートと多官能イソシアネートを反応させて得られる多官能ウレタンアクリレートを用いることができる。光重合性モノマーの含有量は、組成物の総量100質量に対して20質量以下であることが好ましい。また、露光感度、得られる膜厚とパターンの解像性及び耐溶剤性の観点から、1質量以上であることが好ましい。バインダー樹脂は、可視光領域の400~700nmの全波長領域において透過率が好ましくは80以上、より好ましくは95以上の樹脂であり、溶剤可溶性樹脂、またはアルカリ可溶性樹脂が好ましい。溶剤可溶性樹脂は、現像液として用いられる溶剤に対する溶解性が高い樹脂が好ましい。アルカリ可溶性樹脂は酸価を有する樹脂であり、感光性着色組成物をアルカリ現像型とするために用いられる。バインダー樹脂としては、カラーフィルタの製造工程において高温加熱の処理が行われるため、加熱処理においても耐性の良い樹脂を用いることが好ましい。さらに、カラーフィルタの製造工程において、感光性着色組成物の皮膜を熱硬化した後に種々の溶剤や薬品による処理も行われるため、硬化皮膜としたときに耐溶剤性や耐薬品性に優れる樹脂を用いることが好ましい。アルカリ可溶性樹脂としては、メタアクリル酸共重合体、スチレン-マレイン酸共重合体、カルボキシル基を有するポリエステル樹脂等が挙げられる。バインダー樹脂としては、溶剤可溶性樹脂またはアルカリ可溶性樹脂に加え、耐熱性や密着性などの特性の付与を目的として、溶剤可溶性、アルカリ可溶性を有しない樹脂を含有させることもできる。着色剤は、透明着色皮膜を着色して、液晶表示装置の表示光を着色するものである。顔料や染料を利用することができるが、耐久性に優れている点で、顔料を使用することが望ましい。顔料としては、有機顔料と無機顔料のいずれであっても良いが、有機顔料が好ましく使用できる。また、その配合量は特に限定されるものではない。着色剤として顔料を使用する場合には、この顔料を分散させるための分散剤を含有させることが望ましい。分散剤としては、界面活性剤等が使用される。感光性着色樹脂組成物に好適に用いられる光重合開始剤としては、例えば、4-フェノキシジクロロアセトフェノン、4-t-ブチル-ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、1-4-イソプロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1オン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-メチル-1-4-フェニル-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタン-1-オン等のアセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系、ベンゾフェノン系光重合開始剤、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4-フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、等のオキシムエステル系光重合開始剤、ヨードニウムボレート、スルホニウムボレート、アンモニウムボレートなどのオニウムボレート系光重合開始剤、イミダゾール系光重合開始剤等の化合物が用いられる。上記光重合開始剤は、単独あるいは2種以上混合して用いてもよい。感光性着色樹脂組成物には、重合開始剤に加えて光重合開始剤の反応性を向上させる目的で、増感剤として下記のような光重合開始剤を併用することも好ましく、例えばα-アシロキシムエステル、アシルフォスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシレート、ベンジル、9,10-フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアンスラキノン、4,4’-ジエチルイソフタロフェノン、3,3’,4,4’-テトラt-ブチルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、4,4’-ジエチルアミノベンゾフェノン等の化合物を使用することもでき、単独あるいは2種以上を混合して使用してもよい。本発明に用いられる感光性着色樹脂組成物には、重合禁止剤を添加することができる。重合禁止剤としては、カテコール、レゾルシノール、1,4-ヒドロキノン、2-メチルカテコール、3-メチルカテコール、4-メチルカテコール、2-エチルカテコール、3-エチルカテコール、4-エチルカテコール、2-プロピルカテコール、3-プロピルカテコール、4-プロピルカテコール、2-n-ブチルカテコール、3-n-ブチルカテコール、4-n-ブチルカテコール、2-tert-ブチルカテコール、3-tert-ブチルカテコール、4-tert-ブチルカテコール、3,5-ジ-tert-ブチルカテコール等のアルキルカテコール系化合物等が挙げられる。また、感光性着色樹脂組成物には、連鎖移動剤としての働きをする多官能チオールを含有させることができる。多官能チオールは、チオール基を2個以上有する化合物であればよい。多官能チオールの使用量は、着色剤100質量部に対し、0.01~50.0質量部が好ましく、より好ましくは005~30.0質量部である。溶剤は、基板上の無機保護膜上への均一な塗布を可能とすると共に、着色剤を均一に分散させる機能を有するものである。溶剤としては、水溶性有機溶剤等が利用できる。水溶性有機溶剤は、着色剤及び水溶性無機塩を湿潤する働きをするものであり、水に溶解混和し、かつ用いる無機塩を実質的に溶解しないものであれば特に限定されない。ただし、ソルトミリング時に温度が上昇し、溶剤が蒸発し易い状態になるため、安全性の点から、沸点120°C以上の高沸点溶剤が好ましい。有機溶剤としては、例えば、2-メトキシエタノール、2-ブトキシエタノール、2-イソペンチルオキシエタノール、2-ヘキシルオキシエタノール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、液状のポリエチレングリコール、1-メトキシ-2-プロパノール、1-エトキシ-2-プロパノール、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、液状のポリプロピレングリコール、エチルセロソルブアセテート、1-メトキシ-2-プロピルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールジエチルエーテル、エチルセロソルブ、メチルエチルケトン、酢酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルケトン、等が挙げられる。有機溶剤は、着色剤の全質量を基準100質量として、5~1000質量用いることが好ましく、50~500質量用いることが最も好ましい。感光性着色樹脂組成物は、公知の方法により調製することができる。例えば、光重合性モノマー又は樹脂バインダー、あるいはその両者を溶剤に溶解した溶液に、顔料と分散剤を予め混合して調製した顔料組成物を添加して分散させ、残りの成分を添加する等である。ここで、顔料や分散剤の分散は、三本ロールミル、二本ロールミル、サンドミル、ニーダー、ディゾルバー、ハイスピードミキサー、ホモミキサー、アトライター等の各種分散装置を用いて行うことができる。次に、以上のようにして得られた感光性着色樹脂組成物を、金属膜からなる反射層、無機保護層が順次形成された基板上に均一に塗布し、乾燥させ、プリベークして塗布膜を形成する。塗布方法としては、スピンコート法、スリットアンドスピンコート法、スピンレス方式、ロールコート等が利用できる。露光はプロキシミティーアライナーによる近接露光方式で行うことができる。露光波長は、通常の超高圧水銀灯より得られる紫外線が多く使用される。露光条件としては、露光量250mJ/cm2、照度25.2mW、露光Gap100μm等が例示できる。次に、露光された塗布膜を現像する。現像液としては、アルカリ水溶液又は有機アルカリ溶液等のアルカリ現像液が使用できる。アルカリ水溶液としては、炭酸ソーダ、苛性ソーダ等が例示でき、有機アルカリ溶液としては、ジメチルベンジルアミン、トリエタノールアミン等が例示できる。また、必要に応じて消泡剤や界面活性剤が添加された現像液を使用しても良い。現像処理方法としては、シャワー現像法、スプレー現像法、ディップ浸漬現像法、パドル液盛り現像法等を適用することができる。最後にポストベークしてカラーフィルタ層を形成する。本発明のカラーフィルタの欠陥修正方法を適用する場合、まず、上記したガラス基板に反射層となる金属膜および窒化珪素SiNの無機保護膜が順次形成された基板上への着色層および遮光層の作製工程において、欠陥を検出する。上記した工程で作製されたカラーフィルタ付基板を、図示しない検査機で検査し、欠陥を検出した場合、欠陥の位置を座標データとして記録し、図示しない修正装置へ転送する。以下、欠陥修正装置における作業となる。対象となる欠陥は、着色層の白欠陥、ブラックマトリックスの白欠陥及び黒欠陥などがある。上記位置データに基づき、金属膜を介して無機保護膜が形成された基板上に形成された着色層RGB他およびブラックマトリックスBMなどのカラーフィルタ層の任意の修正箇所に赤外線を集光させ、カラーフィルタ層の任意の修正箇所を炭化させる。ここで、着色層およびブラックマトリックス層はアクリル樹脂を骨格としている為、300~700°C付近の熱エネルギーをかけることで、炭化処理により着色茶褐色~黒色を呈する。この為、レーザーエネルギーの吸収率が上がる。また、下地にあたる無機保護膜は、通常窒化珪素Si3N4シリコンナイトライド:SiliconNitrideなどのナイトライドにより形成されており、共有結合による強固で安定した構造であり、高硬度、耐摩耗性に優れ、高温環境で機械的強度を失わず、高い耐熱性を持つ。なお、窒化珪素Si3N4は約1400°Cまで安定しているが、約1400°C~1500°Cにおいてα型と呼ばれる低温安定相からβ型と呼ばれる高温安定相へと相転移が起こる。このナイトライドの耐熱性により、任意の修正箇所のカラーフィルタ層を炭化処理することにおける保護膜の損傷はない。次に、炭化させた任意の修正箇所をYAGレーザー266nmにてレーザーアブレーションを行い除去する。ここで、レーザー光源は、強度可変のレーザー光源が選定される。昇華時に必要な光強度を確保するためにYAGレーザーを用いることが好ましい。また、レーザー波長としては、用途に応じて355nmの他、532nm等を用いても良い。レーザーは、特にこのタイプに限定されず、炭化処理されたカラーフィルタ層が除去されるエネルギーを持つレーザーであればよい。表1に、修正対象である着色層の炭化処理した炭化処理部と、未処理部とのアブレーションに必要なレーザーエネルギー強度の値を示す。このときのレーザー条件は、波長355nm、周波数20Hz、レーザーショット数20Shotである。表1に示すように、修正箇所の炭化処理を行うことにより、該当カラーフィルタ層のレーザーエネルギーの吸収率が高まるため、未処理部に比べより低エネルギーでのレーザーアブレーションが可能となることがわかる。ここで、レーザーエネルギー強度の単位として、発振出力2mJを0.5単位で100分割した値をエネルギー強度1と規定している。すなわち、レーザーエネルギー強度1=1.0×10-2[mJ/強度]である。表2に、修正対象である着色層の下地となる、ガラス基板上に金属膜を介して形成された無機保護膜のアブレーションに必要なレーザー強度の値を示す。このときのレーザー条件は、波長355nm、周波数20Hz、レーザーショット数20Shotである。ここで、レーザーエネルギー強度1=1.0×10-2[mJ/強度]である。この結果、ガラス基板上に金属膜を介して形成された無機保護膜のアブレーションに必要なレーザーエネルギー強度の値に対して、炭化処理を施すことによりカラーフィルタ層のアブレーションに必要なレーザーエネルギー強度が十分に低くなるため、ガラス基板上に金属膜を介して形成された無機保護膜を損傷させることなく、選択的にカラーフィルタ層の任意修正箇所をレーザーアブレーションにより選択的に除去することが可能となった。以上の如く、選択的に欠陥修正を実施した後、次に、公知の方法により着色層を再形成することで着色画素を再生させることができた。次に、透明電極としてのITOをスパッタリング法で成膜し、先に述べた反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板を製造することができた。以上説明したように、本発明のカラーフィルタの欠陥修正方法を用いることによって、今まで廃棄せざるをえなかった反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の不良品の良品化が図れるため、歩留まりが向上し、生産性向上への寄与が期待できる。"