"1ベース基板上に第1感光性膜を形成し、前記第1感光性膜上に親油性付与成分を含有する第2感光性膜を形成する工程、2前記第1感光性膜および前記第2感光性膜を選択的に露光する工程、ならびに3露光後の第1感光性膜および露光後の第2感光性膜を現像する工程を有する、少なくとも1つの細孔を有し、前記細孔の側壁面の少なくとも一部が親油性を有する細孔板の製造方法。前記親油性付与成分が、E2シリコーン系界面活性剤である請求項1の細孔板の製造方法。前記露光前の第2感光性膜が、A2重合体、B2光ラジカル発生剤、C2少なくとも1つのエチレン性不飽和結合を有する化合物、D2溶剤およびE2シリコーン系界面活性剤を含有する感光性組成物から得られる塗膜である請求項2の細孔板の製造方法。前記露光前の第1感光性膜が、親水性付与成分を含有する請求項1~3のいずれか一項の細孔板の製造方法。前記親水性付与成分が、A1水酸基を有する重合体である請求項4の細孔板の製造方法。前記露光前の第1感光性膜が、A1水酸基を有する重合体、B1光ラジカル発生剤、C1少なくとも1つのエチレン性不飽和結合を有する化合物およびD1溶剤を含有する感光性組成物から得られる塗膜である請求項5の細孔板の製造方法。前記細孔板が、マイクロアレイ用である請求項1~6のいずれか一項の細孔板の製造方法。請求項3または7の細孔板の製造方法に用いられる感光性組成物であり、A2重合体、B2光ラジカル発生剤、C2少なくとも1つのエチレン性不飽和結合を有する化合物、D2溶剤、およびE2シリコーン系界面活性剤を含有する感光性組成物。請求項6または7の細孔板の製造方法に用いられる感光性組成物であり、A1水酸基を有する重合体、B1光ラジカル発生剤、C1少なくとも1つのエチレン性不飽和結合を有する化合物、およびD1溶剤を含有する感光性組成物。請求項1~7のいずれか一項の細孔板の製造方法によって製造される、少なくとも1つの細孔を有し、前記細孔の側壁面の少なくとも一部が親油性を有する細孔板。少なくとも1つの細孔を有し、前記細孔の側壁面の少なくとも一部が親油性を有する細孔板であり、親油性を有する側壁面の表面がシリコン原子を含有する細孔板。請求項10または11の細孔板と、直径500nm以下の貫通孔を少なくとも一つ有するポリマー膜とを有し、前記ポリマー膜が、前記細孔板の細孔を覆うように形成されているマイクロアレイ用基板。上記特許文献に記載の方法でマイクロアレイ用等の細孔板を製造する場合、リソグラフィープロセスや、剥離工程などの力学的なプロセス、化学的気相成長法やプラズマエッチングなどのドライプロセスなど、手法が大きくことなるプロセスを複数用いる必要があり、その製造が容易でなかった。本発明は上述の課題を解決するためになされたものであり、つまり、力学的なプロセスやドライプロセスを用いずに、マイクロアレイ用等の細孔板を製造する方法の提供、前記方法に用いられる感光性組成物の提供、前記方法により製造されるマイクロアレイ用等の細孔板の提供および前記細孔板を有するマイクロアレイ用基板の提供を目的とする。本発明は以下のとおりである。[1]1ベース基板上に第1感光性膜を形成し、前記第1感光性膜上に親油性付与成分を含有する第2感光性膜を形成する工程、2前記第1感光性膜および前記第2感光性膜を選択的に露光する工程、ならびに3露光後の第1感光性膜および露光後の第2感光性膜を現像する工程を有する、少なくとも1つの細孔を有し、前記細孔の側壁面の少なくとも一部が親油性を有する細孔板の製造方法。[2]前記親油性付与成分が、E2シリコーン系界面活性剤である前記[1]の細孔板の製造方法。[3]前記露光前の第2感光性膜が、A2重合体、B2光ラジカル発生剤、C2少なくとも1つのエチレン性不飽和結合を有する化合物、D2溶剤およびE2シリコーン系界面活性剤を含有する感光性組成物から得られる塗膜である前記[2]の細孔板の製造方法。[4]前記露光前の第1感光性膜が、親水性付与成分を含有する前記[1]~[3]のいずれか一項の細孔板の製造方法。[5]前記親水性付与成分が、A1水酸基を有する重合体である前記[4]の細孔板の製造方法。[6]前記露光前の第1感光性膜が、A1水酸基を有する重合体、B1光ラジカル発生剤、C1少なくとも1つのエチレン性不飽和結合を有する化合物およびD1溶剤を含有する感光性組成物から得られる塗膜である前記[5]の細孔板の製造方法。[7]前記細孔板が、マイクロアレイ用である前記[1]~[6]のいずれか一項の細孔板の製造方法。[8]前記[3]または[7]の細孔板の製造方法に用いられる感光性組成物であり、A2重合体、B2光ラジカル発生剤、C2少なくとも1つのエチレン性不飽和結合を有する化合物、D2溶剤、およびE2シリコーン系界面活性剤を含有する感光性組成物。[9]前記[6]または[7]の細孔板の製造方法に用いられる感光性組成物であり、A1水酸基を有する重合体、B1光ラジカル発生剤、C1少なくとも1つのエチレン性不飽和結合を有する化合物、およびD1溶剤を含有する感光性組成物。[10]前記[1]~[7]のいずれか一項の細孔板の製造方法によって製造される、少なくとも1つの細孔を有し、前記細孔の側壁面の少なくとも一部が親油性を有する細孔板。[11]少なくとも1つの細孔を有し、前記細孔の側壁面の少なくとも一部が親油性を有する細孔板であり、親油性を有する側壁面の表面がシリコン原子を含有する細孔板。[12]前記[10]または[11]の細孔板と、直径500nm以下の貫通孔を少なくとも一つ有するポリマー膜とを有し、前記ポリマー膜が、前記細孔板の細孔を覆うように形成されているマイクロアレイ用基板。本発明のマイクロアレイ用等の細孔板の製造方法によれば、力学的なプロセスやドライプロセスなどを用いず容易にマイクロアレイ用等の細孔板を製造することができる。以下、本発明のマイクロアレイ用途に好適に用いられる細孔板の製造方法、前記細孔板の製造に用いられる感光性組成物、マイクロアレイ用途に好適に用いられる細孔板、およびマイクロアレイ用基板について、詳細に説明する。1.細孔板の製造方法本発明の細孔板の製造方法は、1ベース基板上に第1感光性膜を形成し、前記第1感光性膜上に親油性付与成分を含有する第2感光性膜を形成する工程以下工程1ともいう。、2前記第1感光性膜および前記第2感光性膜を選択的に露光する工程以下工程2ともいう。、ならびに3露光後の第1感光性膜および露光後の第2感光性膜を現像する工程以下工程3ともいう。を有する。1-1.工程1工程1は、図1の1に示すように、ベース基板111上に第1感光性膜112を形成し、前記第1感光性膜112上に親油性付与成分を含有する第2感光性膜113を形成する工程である。ベース基板111としては、シリコン基板やガラス基板などの無機材料から形成された基板でも、有機材料から形成された基板でもよく、またこれらの複合材料から形成された基板であってもよい。また、ベース基板111は、核酸塩基などがポリマー膜を通過したことを確認するためにセンサーを有する基板であってもよい。第1感光性膜112としては、露光により現像液に対する溶解性が変化する膜であれば、ポジ型の感光性膜でもネガ型の感光性膜でもよい。後述するポリマー膜を細孔134に蓋をするように形成するとき、バッファー液が親水性の場合、効率よく細孔134内にバッファー液を取り込むことができることから、図1の3に示すように、細孔134の、第1感光性膜112により形成される側壁面131が、親水性を有することが好ましい。細孔134の側壁面131に親水性を付与するには、通常、第1感光性膜112中に親水性付与成分を含有させればよい。前記親水性付与成分としては、例えば、水酸基やカルボキシル基などの極性基を有する化合物が挙げられる。細孔134の側壁面131に効率よく親水性を付与するには、水酸基を有する重合体A1を用いることが好ましい。なお、水酸基を有する重合体A1の詳細については、3-1.水酸基を有する重合体A1で記載する。第1感光性膜112をベース基板111上に形成する方法としては、例えば、光ラジカル発生剤B1、光酸発生剤およびナフトキノンジアジド化合物などの光により性質が変わる化合物を含有する組成物を、スピンコート法、ロールコート法またはインクジェット法などの手法によりベース基板111上に塗布して、第1感光性膜112を形成する方法が挙げられる。前記方法は、平坦な第1感光性膜112を形成できることから好ましい。特に、光ラジカル発生剤B1を含有する組成物は、バッファー液に溶解しにくく、物理的にも強靱な第1感光性膜112を形成できることから好ましい。以上のことから、第1感光性膜112としては、親水性付与成分としてA1水酸基を有する重合体、B1光ラジカル発生剤、C1少なくとも1つのエチレン性不飽和結合を有する化合物、およびD1溶剤を含有する組成物以下第1感光性組成物ともいう。から得られる塗膜が好ましい。なお、第1感光性組成物の詳細については、3.第1感光性組成物にて記載する。第2感光性膜113としては、親油性付与成分を含有し、且つ、露光により現像液に対する溶解性が変化する膜であれば、ポジ型の感光性膜でもネガ型の感光性膜でもよい。前記親油性付与成分は、図1の3に示すように、細孔134の、第2感光性膜113により形成される側壁面132に親油性を付与するために用いられる。親油性付与成分としては、例えば、ジメチルシリコーン構造を有する化合物や、フッ素原子を有する化合物など、親油性に寄与する構造を有する化合物が挙げられる。これらの中でも露光現像処理後に細孔134の側壁面132の親油性が大幅に向上することから、シリコーン系界面活性剤E2が好ましく、ジメチルシリコーン構造を有するシリコーン系界面活性剤E2が特に好ましい。なお、シリコーン系界面活性剤E2の詳細については、2-5.シリコーン系界面活性剤E2で記載する。第2感光性膜113を第1感光性膜112上に形成する方法としては、例えば、光ラジカル発生剤B2、光酸発生剤およびナフトキノンジアジド化合物などの光により性質が変わる化合物を含有する組成物を、スピンコート法、ロールコート法またはインクジェット法などの手法により第1感光性膜112上に塗布して、第2感光性膜113を形成する方法が挙げられる。前記方法は、平坦な第2感光性膜113を形成できることから好ましい。以上のことから、第2感光性膜113としては、A2重合体、B2光ラジカル発生剤、C2少なくとも1つのエチレン性不飽和結合を有する化合物、D2溶剤、および親油性付与成分としてE2シリコーン系界面活性剤を含有する組成物以下第2感光性組成物ともいう。から得られる塗膜が好ましい。なお、第2感光性組成物の詳細については、2.第2感光性組成物にて記載する。また、第1感光性膜および第2感光性膜は、良好な形状の細孔を形成するには同じ型ポジ型またはネガ型である必要がある。つまり、第1感光性膜がネガ型の感光性膜の場合、第2感光性膜もネガ型の感光性膜であり、第1感光性膜がポジ型の感光性膜の場合、第2感光性膜もポジ型の感光性膜である必要がある。第1感光性膜および第2感光性膜をそれぞれ形成する際の加熱条件は、これらの含有成分膜厚等に応じて適宜設定されるが、例えば50~250°Cで30秒~1時間、好ましくは80~200°Cで60秒~0.5時間である。第1感光性膜および第2感光性膜の膜厚は、細孔の深さや、後述するポリマー膜に応じて適宜決定される。第1感光性膜の膜厚は、通常0.1~50μm、好ましくは1~30μmである。第2感光性膜の膜厚は、通常0.1~50μm、好ましくは1~30μmである。1-2.工程2工程2は、図1の2に示すように図1は感光性膜がポジ型の場合である、前記工程1で形成された第1感光性膜112および第2感光性膜113に、必要に応じてマスク124を介して、選択的に露光光123を露光し、第1感光性膜112における潜像121および第2感光性膜113における潜像122を形成する工程である。なお、本発明において第1感光性膜および第2感光性膜を選択的に露光するとは、パターン化塗膜を形成するため、パターン形状に応じて、これら感光性膜の特定箇所を露光することをいう。露光光としては、例えば、半導体レーザー、エキシマレーザー、メタルハライドランプ等による紫外線等;高圧水銀灯によるg線、h線、i線等;極端紫外線が挙げられ、また、電子線を挙げることもできる。これらの中でも、高解像度でパターンを形成できる点から、g線またはi線が好ましい。露光光の露光量は、露光光の種類、第1感光性膜および第2感光性膜の膜厚および種類により適宜選択されるが、高圧水銀灯の場合、通常100~1500mJ/cm2である。第1感光性膜および第2感光性膜に、選択的に露光光123を露光する方法としては、電子線など指向性のある露光光を選択的に露光する方法も可能であるが、細孔板の製造を大量に行う場合は、通常、マスク124を介して行われる。マスク124は、第1感光性膜および第2感光性膜がポジ型の感光性膜か、ネガ型の感光性膜かにより適宜選択される。つまり、第1感光性膜および第2感光性膜がネガ型の感光性膜の場合、目的とする細孔に対応する箇所がそれ以外の箇所よりも露光光に対する透過率が小さくなるよう設計したマスク124を用いる。一方、第1感光性膜および第2感光性膜がポジ型の感光性膜の場合、目的とする細孔に対応する箇所がそれ以外の箇所よりも露光光に対する透過率が大きくなるよう設計したマスク124を用いる。細孔の大きさによって露光方法は適宜選択可能であり、微細な細孔を形成する際は、通常、縮小投影法により露光する。また、露光後、必要に応じて、加熱処理以下PEBともいう。をすることも可能である。PEB条件は、各感光性膜中の各成分の種類および含有量等によって適宜選択可能であるが、通常30~300°Cで1分間~5時間である。1-3.工程3工程3は、図1の3に示すように図1は感光性膜がポジ型の場合である、前記工程2で形成された露光後の前記第1感光性膜および前記第2感光性膜に、現像液を接触させることにより、相対的に現像液への溶解性の高い箇所を除去、つまり、潜像121および潜像122を現像し、パターン化塗膜133を形成し、親油性を有する側壁面132を有する細孔134を形成する工程である。前記現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア、エチルアミン、n-プロピルアミン、ジエチルアミン、ジエチルアミノエタノール、ジ-n-プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、ピロール、ピペリジン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]-5-ノナンなどの塩基性化合物の水溶液を用いることができる。また、前記塩基性化合物の水溶液にメタノール、エタノール等の水溶性有機溶剤や界面活性剤を適当量添加した水溶液を現像液として使用することもできる。現像液を接触する方法としては、例えば液盛り法、ディッピング法、揺動浸漬法、シャワー法等の適宜の方法を利用することができる。その後、パターン化塗膜133は、通常、水により洗浄処理する。また、パターン化塗膜133を充分に硬化させることを目的に、光を全面に照射後露光することもできる。前記後露光における露光量は、通常1~1500mJ/cm2である。さらに、パターン化塗膜133を充分に硬化させることを目的に、加熱処理後ベークをすることも可能である。後ベークの条件は、各感光性膜中の各成分の種類および含有量等によって適宜選択可能であるが、通常30~300°Cで1分~5時間である。パターン化塗膜133により、細孔134は形成されている。細孔134は、第2感光性膜113により形成される親油性を有する側壁面132を有することになる。細孔134は、第2感光性膜113により形成される、親油性を有する側壁面132と、第1感光性膜112により形成される、親水性を有する側壁面131とを有することが好ましい。細孔134の深さは、通常0.2~100μmである。細孔板の上面から見たときの細孔134の形状は、通常、円形もしくは楕円形である。細孔134が円形の場合、その直径は、通常10~300μmである。また、細孔板にある細孔134の数は1つ以上である。上記工程1~工程3により、力学的なプロセスやドライプロセスを用いずに、少なくとも1つの細孔134を有し、細孔134の側壁面の少なくとも一部が親油性を有する細孔板、好ましくは細孔134の側壁面の少なくとも他の一部が親水性を有する細孔板を製造することができる。前記細孔板は、マイクロアレイ用に好適に用いることができる。2.第2感光性組成物本発明の第2感光性組成物は、A2重合体、B2光ラジカル発生剤、C2少なくとも1つのエチレン性不飽和結合を有する化合物以下エチレン性化合物C2ともいう。、D2溶剤、およびE2シリコーン系界面活性剤を含有する。第2感光性組成物から得られる第2感光性膜を露光すると、第2感光性膜の露光された箇所では、光ラジカル発生剤B2からラジカルなどの活性種が発生し、この活性種が、エチレン性化合物C2に作用することで、エチレン性化合物が重合する。その結果、第2感光性膜の露光された箇所は、工程3の現像液に対して難溶化する。一方、第2感光性膜の露光されていない箇所は、工程3の現像液に可溶である。したがって、露光現像処理によりパターンを形成することができる。2-1.重合体A2重合体A2は、パターンの構成成分として用いられる。重合体A2は、溶剤D2に可溶であり、且つ、工程3の現像液に対して可溶であれば特に限定されず、例えば、ノボラック樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、不飽和ポリエステル重合体、アルキド樹脂、ポリウレタンなどの熱硬化性樹脂;ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ABS樹脂アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合樹脂、AS樹脂アクリロニトリル/スチレン共重合樹脂、ポリメタアクリル酸エステル重合体、フッ素樹脂、ポリアミド、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、環状ポリオレフィン、ポリイミドなどの熱可塑性樹脂;ポリフェニレンスルファイド、ポリスルホン、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルケトン、液晶ポリマーなどのスーパーエンジニアリングプラスチック;が挙げられる。第2感光性膜を経て、第1感光性膜は露光されるため、第2感光性膜の露光光に対する透過性を上げることが好ましい。第2感光性膜の透過性は、重合体A2の種類により大きく影響するため、重合体A2は、露光光に対して透過性の高い重合体が好ましい。このような重合体A2としては、ポリメタアクリル酸エステル重合体が好ましく、工程3の現像液としてアルカリ現像液を用いる場合、アルカリ現像液に対して可溶性に優れることから、カルボキシル基を有するポリメタアクリル酸エステル重合体が更に好ましい。前記メタアクリル酸とは、メタクリル酸およびアクリル酸の総称である。ポリメタアクリル酸エステル重合体とは、メタアクリル基を有する化合物以下メタアクリル単量体ともいう。と、必要に応じてメタアクリル単量体と重合可能な単量体以下その他単量体ともいう。とを、特開2003-241372号公報、特開2005-274920号公報等に記載の公知の方法により、重合して得た重合体のことである。メタアクリル単量体としては、例えば、特開2003-241372号公報、特開2005-274920号公報、特開2007-272087号公報等に記載の単量体、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、n-プロピルメタアクリレート、i-プロピルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、i-ブチルメタアクリレート、sec-ブチルメタアクリレート、t-ブチルメタアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、3-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタアクリレート、3-ヒドロキシブチルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート、アリルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、フェニルメタアクリレート、2-メトキシエチルメタアクリレート、2-フェノキシエチルメタアクリレート、メトキシジエチレングルコールメタアクリレート、メトキシトリエチレングルコールメタアクリレート、メトキシプロピレングルコールメタアクリレート、メトキシジプロピレングルコールメタアクリレート、トリシクロ5.2.1.026デカジエニルメタアクリレート、トリシクロ5.2.1.026デカニルメタアクリレート、トリシクロ5.2.1.026デセニルメタアクリレート、イソボロニルメタアクリレート、ジシクロペンタジエニルメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルメタアクリレート、グリセロールモノメタアクリレート、フェノキシジエチレングリコールメタアクリレートが挙げられる。ポリメタアクリル酸エステル重合体に、カルボキシル基を導入することができるメタアクリル単量体およびその他単量体としては、例えば、メタアクリル酸、クロトン酸、α-クロルアクリル酸、ケイ皮酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、メサコン酸が挙げられる。その他単量体としては、例えば、特開2003-241372号公報、特開2005-274920号公報、特開2007-272087号公報等に記載の単量体、p-イソプロペニルフェノール、インデン、1-メチルインデン、アセナフチレンが挙げられる。重合体A2のゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCによるポリスチレン換算の重量平均分子量Mwは、現像液への溶解性の点から、好ましくは5,000~20,000、より好ましくは7,000~15,000である。重合体A2は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。重合体A2の含有割合は、細孔の深さ、細孔の側壁面の親油性を有する面の面積、第2感光性組成物の塗布性などにより、適宜選択される。2-2.光ラジカル発生剤B2光ラジカル発生剤B2は、露光光によりラジカルなどの活性種を発生することができる化合物である。光ラジカル発生剤B2は、特開2006-285035号公報および特開2009-192613号公報に記載の光ラジカル発生剤が挙げられる。具体的には、アシルホスフィンオキサイド系化合物、ビイミダゾール系化合物、ベンゾイン系化合物、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α-ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、トリアジン系化合物、O-アシルオキシム型化合物等が挙げられる。光ラジカル発生剤B2としては、精度よくパターンを形成できることから、アシルホスフィンオキサイド系化合物およびアセトフェノン系化合物から選ばれる1種以上が好ましい。アシルホスフィンオキサイド系化合物としては、例えば、ビス2,6-ジクロルベンゾイル-フェニルホスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス2,6-ジクロルベンゾイル-2,5-ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス2,6-ジクロルベンゾイル-4-エトキシフェニルホスフィンオキサイド、ビス2,6-ジクロルベンゾイル-4-プロピルフェニルホスフィンオキサイド、ビス2,6-ジクロルベンゾイル-2-ナフチルホスフィンオキサイド、ビス2,6-ジクロルベンゾイル-1-ナフチルホスフィンオキサイド、ビス2,6-ジクロルベンゾイル-4-クロルフェニルホスフィンオキサイド、ビス2,6-ジクロルベンゾイル-2,4-ジメトキシフェニルホスフィンオキサイド、ビス2,6-ジクロルベンゾイル-デシルホスフィンオキサイド、ビス2,6-ジクロルベンゾイル-4-オクチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキサイド、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイル-2,5-ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス2,6-ジクロル-3,4,5-トリメトキシベンゾイル-2,5-ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス2,6-ジクロル-3,4,5-トリメトキシベンゾイル-4-エトキシフェニルホスフィンオキサイド、ビス2-メチル-1-ナフトイル-2,5-ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス2-メチル-1-ナフトイル-4-エトキシフェニルホスフィンオキサイド、ビス2-メチル-1-ナフトイル-2-ナフチルホスフィンオキサイド、ビス2-メチル-1-ナフトイル-4-プロピルフェニルホスフィンオキサイド、ビス2-メチル-1-ナフトイル-2,5-ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス2-メトキシ-1-ナフトイル-4-エトキシフェニルホスフィンオキサイド、ビス2-クロル-1-ナフトイル-2,5-ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス2,6-ジメトキシベンゾイル-2,4,4-トリメチルペンチルホスフィンオキサイドが挙げられる。アセトフェノン系化合物としては、例えば、2,2-ジメトキシアセトフェノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-4-イソプロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、2-メチル-1-4-メチルチオフェニル-2-モルフォリノプロパン-1-オン、4-2-ヒドロキシエトキシフェニル-2-ヒドロキシ-2-プロピルケトン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニルブタン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オンが挙げられる。光ラジカル発生剤B2は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。光ラジカル発生剤B2の含有量は、露光波長により適宜選択されるが、重合体A2の含有量100重量部に対して、通常1~30重量部、好ましくは2~25重量部である。2-3.エチレン性化合物C2エチレン性化合物C2は、露光光により光ラジカル発生剤B2からラジカルなどの活性種が発生し、この活性種と作用することで重合する化合物のことである。具体的には、メタアクリレート基やビニル基などのエチレン性不飽和結合基を少なくとも1つ有する化合物などである。エチレン性化合物C2としては、例えば、特開2006-285035号公報および特開2009-192613号公報に記載の化合物、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルキレングリコールのジメタアクリレート;ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリアルキレングリコールのジメタアクリレート;グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等の3価以上の多価アルコールのポリメタアクリレートやそれらのジカルボン酸変性物;ポリエステル、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、シリコーン樹脂、スピラン樹脂等のオリゴメタアクリレート;両末端ヒドロキシポリ-1,3-ブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトン等の両末端ヒドロキシル化重合体のジメタアクリレート;トリス2-メタアクリロイロキシエチルフォスフェート類が挙げられる。これらのエチレン性化合物C2のうち、3価以上の多価アルコールのポリメタアクリレートやこれらのジカルボン酸変性物が好ましく、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートおよびジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが、精度よくパターンを形成できることから特に好ましい。エチレン性化合物C2は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。エチレン性化合物C2の含有量は、露光光により適宜選択されるが、重合体A2の含有量100重量部に対して、通常30~80重量部、好ましくは40~70重量部である。2-4.溶剤D2溶剤D2は、第2感光性組成物に含まれる溶剤D2以外の成分を均一に混合し、均一な塗膜を形成するために用いられる。溶剤D2は、溶剤D2以外の成分を均一に混合し、且つ、これら成分と化学反応しないものが選ばれる。また、第2感光性組成物は、第1感光性膜上に塗布して塗膜を形成するため、溶剤D2は、第1感光性膜を溶解させないものが選ばれる。溶剤D2としては、例えば、エチレングリコール等のアルコール;テトラヒドロフラン等の環状エーテル;エチレングリコールモノメチルエーテル等の多価アルコールのアルキルエーテル;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の多価アルコールのアルキルエーテルアセテート;トルエン等の芳香族炭化水素;メチルエチルケトン等のケトン;酢酸エチル等のエステルが挙げられる。溶剤D2は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。溶剤D2としては、また、N-メチルホルムアミド、N、N-ジメチルホルムアミド、N-メチルホルムアニリド、N-メチルアセトアミド、N、N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1-オクタノール、1-ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ-ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテートなどの高沸点の溶剤も挙げられる。溶剤D2の含有量は、塗布方法や細孔の深さパターンの高さに応じて適宜選択される。例えば、第2感光性組成物において、溶剤D2以外の全成分の含有割合が、通常30~70重量、好ましくは40~60重量となるよう、溶剤D2は用いられる。2-5.シリコーン系界面活性剤E2シリコーン系界面活性剤E2は、第2感光性膜の表面に親油性を付与するために用いるものであり、工程1~工程3の段階で、第2感光性膜の表面に析出し、シリコーン系界面活性剤E2が有する親油性を、第2感光性膜の表面、さらには、細孔の側壁面の一部に親油性を付与することになる。シリコーン系界面活性剤E2としては、例えば、特開平5-295354号公報、特開2010-181865号公報、特開2009-258619号公報、特開2009-255314号公報および特開2009-168900号公報記載の化合物、側鎖変性ポリジメチルシロキサン、両末端変性ポリジメチルシロキサン、片末端変性ポリジメチルシロキサン、側鎖両末端変性ポリジメチルシロキサンなどのジメチルシリコーン構造を有するシリコーン系界面活性剤が挙げられ、変性基としてはポリオキシエチレン基、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン基、ポリグリセリン基等のポリエーテル基が挙げられる。これらの中でも、ジメチルシリコーン構造を有するシリコーン系界面活性剤が好ましく用いられる。商業的に入手可能なシリコーン系界面活性剤E2としては、例えば、FZ-2122、FZ-2110、FZ-7006、SH28PA、FZ-2166、FZ-2164、FZ-7001、FZ-2120、SH8400、FZ-7002、FZ-2104以上、東レダウコーニング社製、ポリフローKL-250、ポリフローKL-260、ポリフローKL-270、ポリフローKL-280、ポリフローKL-402以上、共栄社化学株式会社製が挙げられる。シリコーン系界面活性剤E2は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。シリコーン系界面活性剤E2の含有量は、細孔側壁面の親油性の程度、第1感光性膜への塗布性により適宜選択される。つまり、細孔側壁面の親油性の程度は、シリコーン系界面活性剤E2の含有割合が多いと上がり、少ないと下がる。また、第1感光性膜への塗布性は、シリコーン系界面活性剤E2の含有割合にも影響されうる。これらのバランスによりシリコーン系界面活性剤E2の含有量は適宜選ばれるが、重合体A1の含有量100重量部に対して、通常0.01~1重量部、好ましくは0.05~0.5重量部である。2-6.その他成分本発明の第2感光性組成物には、必要に応じて、シリコーン系界面活性剤E2以外の界面活性剤、密着助剤、熱重合禁止剤、溶解性調整剤、粘度調整剤などを含有する。シリコーン系界面活性剤E以外の界面活性剤は、本発明の第2感光性組成物の基板に塗布する際の塗布性、消泡性、レベリング性を向上させるために用いる成分である。前記界面活性剤としては、例えば、市販されているものとして、FTX-204D、FTX-208D、FTX-212D、FTX-216D,FTX-218F、FTX-220D、FTX-222D以上株ネオス製、メガファックF142D、同F172、同F173、同F183以上、大日本インキ化学工業株製、フロラードFC-135、同FC-170C、同FC-430、同FC-431以上、住友スリーエム株製、サーフロンS-112、同S-113、同S-131、同S-141、同S-145以上、旭硝子株製が挙げられる。シリコーン系界面活性剤E以外の界面活性剤の含有量は、第1感光性膜への塗布性により適宜選択されるが、重合体A1の含有量100重量部に対して、通常0.01~1重量部、好ましくは0.05~0.5重量部である。2-7.第2感光性組成物の調製方法本発明の第2感光性組成物は、例えば、所定量の上記各成分をディゾルバー、ホモジナイザー、3本ロールミルなどの分散機を用いて分散混合することにより調製できる。また必要に応じて、メッシュメンブランフィルターなどを用いて、第2感光性組成物を濾過してもよい。3.第1感光性組成物本発明の第1感光性組成物は、A1水酸基を有する重合体、B1光ラジカル発生剤、C1少なくとも1つのエチレン性不飽和結合を有する化合物以下エチレン性化合物C1ともいう。、およびD1溶剤を含有する。第1感光性組成物から得られる第1感光性膜を露光すると、第1感光性膜の露光された箇所では、光ラジカル発生剤B1からラジカルなどの活性種が発生し、この活性種が、エチレン性化合物C1に作用することで、エチレン性化合物が重合する。その結果、第1感光性膜の露光された箇所は、工程3の現像液に対して難溶化する。一方、第1感光性膜の露光されていない箇所は、工程3の現像液に可溶である。したがって、露光現像処理によりパターンを形成することができる。3-1.水酸基を有する重合体A1水酸基を有する重合体A1は、第1感光性膜に親水性を付与するために用いられ、つまり、前記親水性付与成分として用いられる。第1感光性膜に親水性を付与することにより、第2感光性膜との混ざりミキシングを防ぐことができ、さらに、後述するポリマー膜を細孔に蓋をするように形成するとき、バッファー液が親水性の場合、効率よく細孔内にバッファー液を取り込むことができる。水酸基とは、アルコール性水酸基およびフェノール性水酸基のことであり、つまり、水酸基を有する重合体A1としては、アルコール性水酸基を有する重合体A1-1、フェノール性水酸基を有する重合体A1-2が挙げられる。アルコール性水酸基を有する重合体A1-1としては、例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレートなどを単量体成分として用いて得られるメタアクリル樹脂;アリルアルコールなどを単量体成分として用いるアリル樹脂;ビニルアルコールなどを単量体成分として用いるビニル樹脂;フェノキシ樹脂;エポキシアクリレート樹脂;が挙げられる。これらのなかでもエチレン性不飽和結合を有することにより、エチレン性化合物C1と同様に、露光により発生した活性種により重合し、リソグラフィー法によるパターンの形成が容易なことから、エポキシアクリレート樹脂が好ましい。エポキシアクリレート樹脂とは、エポキシ樹脂と、不飽和一塩基酸および/または不飽和多塩基酸を開環付加反応して得られる樹脂のことである。前記エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノール型エポキシ樹脂;ビフェニル型エポキシ樹脂;脂環式エポキシ樹脂;テトラグリシジルアミノジフェニルメタン等の多官能性グリシジルアミン樹脂;テトラフェニルグリシジルエーテルエタン等の多官能性グリシジルエーテル樹脂;フェノールノボラック型エポキシ樹脂やクレゾールノボラック型エポキシ樹脂;フェノール、o-クレゾール、m-クレゾール、ナフトール等のフェノール化合物と、フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族アルデヒドとの縮合反応により得られるポリフェノール化合物と、エピクロルヒドリンとの反応物;フェノール化合物とジビニルベンゼンやジシクロペンタジエン等のジオレフィン化合物との付加反応により得られるポリフェノール化合物と、エピクロルヒドリンとの反応物;4-ビニルシクロヘキセン-1-オキサイドの開環重合物を過酸でエポキシ化したもの;トリグリシジルイソシアヌレート等の複素環を有するエポキシ樹脂;フェノールアラルキル型エポキシ樹脂;が挙げられる。前記エポキシ樹脂は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。前記不飽和一塩基酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、ケイ皮酸が挙げられる。前記不飽和多塩基酸としては、例えば、マロン酸、コハク酸、メチルコハク酸、2,2-ジメチルコハク酸、2,3-ジメチルコハク酸、ヘキシルコハク酸、グルタル酸、2-メチルグルタル酸、3-メチルグルタル酸、2,2-ジメチルグルタル酸、3,3-ジメチルグルタル酸、3,3-ジエチルグルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸等の脂肪族飽和多塩基酸;フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸等の芳香族飽和多塩基酸;ヘット酸、1,2-ヘキサヒドロフタル酸、1,1-シクロブタンジカルボン酸、5-ノルボルネン-2,3-ジカルボン酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環族飽和多塩基酸が挙げられる。前記不飽和一塩基酸および前記不飽和多塩基酸は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。フェノール性水酸基を有する重合体A1-2としては、例えば、フェノールおよびその誘導体と、縮合剤との縮合によって得られるフェノール樹脂;p-ヒドロキシスチレン、p-イソプロペニルフェノールなどの単量体成分として用いる芳香族ビニル樹脂;が挙げられる。これらのなかでも親水性に優れた第1感光性膜を得られることから、フェノール樹脂が好ましい。前記フェノールおよびその誘導体としては、例えば、フェノール、o-クレゾール、m-クレゾール、p-クレゾール、p-キシレノール、2,3-キシレノール、2,4-キシレノール、2,5-キシレノール、3,4-キシレノール、3,5-キシレノール、2,3,5-トリメチルフェノール、1-ナフトール、2-ナフトール、2,7-ジヒドロキシナフタレンが挙げられる。前記フェノールおよびその誘導体は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。前記縮合剤としては、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、o-ヒドロキシベンズアルデヒド、m-ヒドロキシベンズアルデヒド、p-ヒドロキシベンズアルデヒド、グリオキサール、グルタルアルデヒド、テレフタルアルデヒド、イソフタルアルデヒドが挙げられる。前記縮合剤は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。水酸基を有する重合体A1のゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCによるポリスチレン換算の重量平均分子量Mwは、好ましくは1,000~100,000、より好ましくは3,000~50,000である。水酸基を有する重合体A1は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。水酸基を有する重合体A1の含有割合は、細孔の深さ、第1感光性組成物の塗布性などにより、適宜選択される。3-2.光ラジカル発生剤B1光ラジカル発生剤B1は、露光光によりラジカルなどの活性種を発生することができる化合物である。光ラジカル発生剤B1は、特開2006-285035号公報および特開2009-192613号公報に記載の光ラジカル発生剤が挙げられる。具体的には、アシルホスフィンオキサイド系化合物、ビイミダゾール系化合物、ベンゾイン系化合物、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α-ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、トリアジン系化合物、O-アシルオキシム型化合物等が挙げられる。光ラジカル発生剤B1としては、精度よくパターンを形成できることから、アシルホスフィンオキサイド系化合物およびアセトフェノン系化合物から選ばれる1種以上が好ましい。アシルホスフィンオキサイド系化合物およびアセトフェノン系化合物としては、例えば、前記2-2.光ラジカル発生剤B2に記載の化合物が挙げられる。光ラジカル発生剤B1は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。光ラジカル発生剤B1の含有量は、露光波長により適宜選択されるが、水酸基を有する重合体A1の含有量100重量部に対して、通常1~30重量部、好ましくは2~25重量部である。3-3.エチレン性化合物C1エチレン性化合物C1は、露光光により光ラジカル発生剤B1からラジカルなどの活性種が発生し、この活性種と作用することで重合する化合物のことである。具体的には、メタアクリレート基やビニル基などのエチレン性不飽和結合基を少なくとも1つ有する化合物などである。エチレン性化合物C1としては、例えば、前記2-3.エチレン性化合物C2に記載の化合物が挙げられる。これらのエチレン性化合物C1のうち、3価以上の多価アルコールのポリメタアクリレートやこれらのジカルボン酸変性物が好ましく、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートおよびジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが、精度良くパターンを形成出来ることから特に好ましい。エチレン性化合物C1は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。エチレン性化合物C1の含有量は、露光光により適宜選択されるが、水酸基を有する重合体A1の含有量100重量部に対して、通常5~80重量部、好ましくは10~70重量部である。3-4.溶剤D1溶剤D1は、第1感光性組成物に含まれる溶剤D1以外の成分を均一に混合し、均一な塗膜を形成するために用いられる。溶剤D1は、溶剤D1以外の成分を均一に混合し、且つ、これら成分と化学反応しないものが選ばれる。溶剤D1としては、例えば、前記2-4.溶剤D2に記載の化合物が挙げられる。溶剤D1は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。溶剤D1の含有量は、塗布方法や細孔の深さパターンの高さに応じて適宜選択される。例えば、第1感光性組成物において、溶剤D1以外の成分の含有割合が、通常30~70重量、好ましくは40~60重量となるよう、溶剤D1は用いられる。3-5.その他成分本発明の第1感光性組成物には、必要に応じて、界面活性剤、密着助剤、熱重合禁止剤、溶解性調整剤、粘度調整剤などを含有する。界面活性剤としては、例えば、前記2-6.その他成分に記載の化合物が挙げられる。界面活性剤の含有量は、ベース基板での塗布性により適宜選択されるが、水酸基を有する重合体A1の含有量100重量部に対して、通常0.01~1重量部、好ましくは0.05~0.5重量部である。密着助剤は、ベース基板との密着性を向上させるために用いる成分である。密着助剤としては、官能性シランカップリング剤が好ましい。なお、官能性シランカップリング剤とは、カルボキシル基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エポキシ基などの反応性置換基を有するシランカップリング剤を意味する。上記官能性シランカップリング剤としては、例えば、トリメトキシシリル安息香酸、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ-イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシランが挙げられる。密着助剤の含有量は、第1感光性膜とベース基板との密着性により適宜選択されるが、水酸基を有する重合体A1の含有量100重量部に対して、通常0.1~10重量部、好ましくは1~5重量部である。3-6.第1感光性組成物の調製方法本発明の第1感光性組成物は、例えば、所定量の上記各成分をディゾルバー、ホモジナイザー、3本ロールミルなどの分散機を用いて分散混合することにより調製できる。また必要に応じて、メッシュメンブランフィルターなどを用いて、第1感光性組成物を濾過してもよい。4.細孔板本発明の細孔板は、少なくとも1つの細孔を有し、前記細孔の側壁面の少なくとも一部が親油性を有する。前記新油性を有する側壁面の表面はシリコン原子を通常含有する。本発明の細孔板は、例えば、前記1.細孔板の製造方法により得られ、マイクロアレイ用途に好適に用いられる。本発明の細孔板は、細孔の側壁面の少なくとも一部、好ましくは細孔の開口部近辺の側壁面が親油性を有することから、細孔をポリマー膜により覆うことができる。例えば、細孔の開口部近辺を塞ぐように、ポリマー膜を形成することができる。このため、マイクロアレイ用基板を形成することができる。図3に示すように、マイクロアレイ用細孔板の、細孔の側壁面の親油性となる場所301は、細孔をポリマー膜により覆うためには、ポリマー膜の厚さと新油性となる場所301の厚さとがほぼ同等であり、ポリマー膜の幅と新油性となる場所301における細孔の幅とがほぼ同等となるように、形成されていることが好ましい。さらに、後述するバッファー液を使った手法で細孔をポリマー膜により覆う場合、細孔の側壁面の親油性となる場所301は、開口部302に近い側に形成される方が好ましい。前記細孔の深さ303は、通常0.2~100μmである。細孔板の上面から見たときの細孔の形状は、通常、円形もしくは楕円形である。細孔が円形の場合、その直径304は、通常10~300μmである。また、細孔板にある細孔の数は1つ以上である。5.マイクロアレイ用基板本発明のマイクロアレイ用基板は、上述の細孔板と、直径500nm以下の貫通孔を少なくとも1つ有するポリマー膜とを有し、前記ポリマー膜が、前記細孔板の細孔を覆うように形成されている。マイクロアレイ用基板は、国際公開公報2005-071405号公報や、Anal.Chem.2006、78、頁8169~8174LipidBilayerFormationbyContactingMonolayersInaMlcrofluldlcDevlceforMenbraneProteinAnalysisに記載の方法により製造することができる。つまり、図2の4に示すように、マイクロアレイ用細孔板の細孔内にバッファー液211を充填する。次いで図2の5に示すように、バッファー液にポリマー膜221を浮かべて、ポリマー膜221の端部を、親油性の側壁面132と作用させるととにより、ポリマー膜221により細孔を覆い、マイクロアレイ用基板を製造することができる。前記、直径500nm以下の貫通光を有するポリマー膜とは、特表2008-545518号公報に記載されているポリマー膜のことである。本発明のマイクロアレイ用基板は、J.Am.Chem.Soc.2007,129、頁16142~16148や、CurrentOpinioninChemicalBiology2006、10、頁628~637や、Nature2001、413、頁636~640に記載のタンパク質ナノポアを用いたDNAシーケンシングなどに用いることができる。以下、実施例を挙げて、本発明の実施の形態を更に具体的に説明する。但し、本発明は、これらの実施例に何ら制約されるものではない。なお、部およびは、特記しない限り重量基準である。1.第1感光性組成物の調製[実施例1]水酸基を有する重合体A1として、酸変性ビスフェノールA型エポキシアクリレート商品名KAYARADZAR-2001H、日本化薬社製95部、およびm-クレゾール/p-クレゾール=60/40モル比からなるクレゾールノボラック樹脂ポリスチレン換算の重量平均分子量=8,7005部、光ラジカル発生剤B1として、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン商品名イルガキュア651、チバスペシャリティケミカルズ社製19部、および2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド商品名LucirinLR8953X、BASF社製4部、エチレン性化合物C1として、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート30部、密着助剤として、3-グリシドキプロピルトリメトキシシラン3部、ならびに界面活性剤として、フッ素系界面活性剤商品名FTX-218F、ネオス社製0.1部を、溶剤D1として、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート75部にて混合して、均一な溶液を調製した。この溶液を孔径10μmのカプセルフィルターでろ過して実施例1の感光性組成物を得た。2.第2感光性組成物の調製[合成例1]窒素置換したフラスコ中に、2,2’-アゾビスイソブチロニトリルを5部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを150部仕込み、重合開始剤が溶解するまで攪拌した。この溶液に、メタクリル酸を10部、p-イソプロペニルフェノールを15部、イソボロニルアクリレートを40部、フェノキシジエチレングリコールアクリレートを20部、トリシクロ[5.2.1.026]デカニルメタクリレートを15部仕込み、ゆるやかに攪拌を開始し、80°Cまで昇温した。その後、80°Cで6時間保持して重合することにより、合成例1の重合体の溶液を得た。なお、合成例1の重合体のゲルバーミエーションカラムクロマトグラフィーによるポリスチレン換算の重量平均分子量は10,000であった。[実施例2]重合体A2として、合成例1の重合体100部、光ラジカル発生剤B2として、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン商品名イルガキュア651、チバスペシャリティケミカルズ社製19部、および2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド商品名LucirinLR8953X、BASF社製4部、エチレン性化合物C1として、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート60部、ならびにシリコーン系界面活性剤E2として、シリコーン系界面活性剤商品名SH28PA、東レダウコーニング社製0.3部を、溶剤D2として、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート95部にて混合して、均一な溶液を調製した。この溶液を孔径10μmのカプセルフィルターでろ過して実施例2の感光性組成物を得た。3.マイクロアレイ用細孔板の製造[参考例1]シリコンウエハ上にスピンコート法にて、実施例1の感光性組成物を塗布し、次いで、ホットプレートにて110°Cで5分間加熱して、膜厚10μmの第1感光性膜を得た。第1感光性膜表面の水での接触角23°C、一気圧は、35°であった。[参考例2]シリコンウエハ上にスピンコート法にて、実施例2の感光性組成物を塗布し、次いで、ホットプレートにて110°Cで5分間加熱して、膜厚13μmの第2感光性膜を得た。第2感光性膜表面の水での接触角23°C、一気圧は、85°であった。また、第2感光性膜表面のヘキサデカンでの接触角23°C、一気圧は、10°未満であった。[実施例3]シリコンウエハ上にスピンコート法にて、実施例1の感光性組成物を塗布し、次いで、ホットプレートにて110°Cで5分間加熱して、膜厚10μmの第1感光性膜を得た。ついで、前記第1感光性膜上に、スピンコート法にて、実施例2の感光性組成物を塗布し、次いで、ホットプレートにて110°Cで5分間加熱して、膜厚13μmの第2感光性膜を得た。第1感光性膜および第2感光性膜に、パターン化マスクを介して、露光機Suss社製、商品名MA200eを用いて、窒素雰囲気下、150mJ/cm2の露光光を露光した。次いで、露光後の第1感光性膜および第2感光性膜を、2.38重量テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を現像液として、室温で30秒間、現像処理を行った後、流水洗浄し、更に窒素ブローして、直径80μmで、細孔間の幅が150μmの、複数の細孔を有する実施例3のマイクロアレイ用細孔板を得た。実施例3のマイクロアレイ用細孔板の電子顕微鏡による写真を図41に示す。また、実施例3のマイクロアレイ用細孔板の表面の水での接触角23°C、一気圧は、100°であった。第2感光性膜がシリコーン系界面活性剤E2を含有することで、水での接触角が85°から100°に増加したことから、細孔の開口部近辺に親油性の高い領域が形成されたことが確認された。[実施例4]実施例3において、現像処理を室温で45秒間行った以外は、実施例3と同様の手法にて、直径80μmで、細孔間の幅が150μmの、複数の細孔を有する実施例4のマイクロアレイ用細孔板を得た。実施例4のマイクロアレイ用細孔板の電子顕微鏡による写真を図42に示す。また、実施例4のマイクロアレイ用細孔板の表面の水での接触角23°C、一気圧は、100°であった。[実施例5]実施例3において、200mJ/cm2の露光光を露光した以外は、実施例3と同様の手法にて、直径80μmで、細孔間の幅が150μmの、複数の細孔を有する実施例5のマイクロアレイ用細孔板を得た。実施例5のマイクロアレイ用細孔板の電子顕微鏡による写真を図43に示す。また、実施例5のマイクロアレイ用細孔板の表面の水での接触角23°C、一気圧は、100°であった。[実施例6]実施例3において、200mJ/cm2の露光光を露光し、且つ現像処理を室温で45秒間行った以外は、実施例3と同様の手法にて、直径80μmで、細孔間の幅が150μmの、複数の細孔を有する実施例6のマイクロアレイ用細孔板を得た。実施例6のマイクロアレイ用細孔板の電子顕微鏡による写真を図44に示す。また、実施例6のマイクロアレイ用細孔板の表面の水での接触角23°C、一気圧は、100°であった。"