"排出ガス流における窒素含有化合物の選択的、触媒的な変換のための方法であって、ここにおいて、チタノ-アルミノ-ホスフェートまたはチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートを含有する触媒が使用される。前記窒素含有化合物の変換が、窒素酸化物の還元である請求項1に記載の方法。NH3、尿素、一酸化炭素、または、炭水化物化合物が、還元剤として使用される請求項2に記載の方法。前記窒素含有化合物の返還が、窒素-水素化合物、及び/または、窒素含有有機化合物の酸化である請求項1に記載の方法。酸素含有ガス、空気、または、笑気ガスが、酸化剤として使用される請求項4に記載の方法前記チタノ-アルミノ-ホスフェートまたはチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートが、200~1200m2/gの範囲内のBET比表面積を有する請求項1~5のいずれかに記載の方法。前記チタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートを含有する触媒が使用される請求項1~6のいずれかに記載の方法。前記チタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートがTAPSO-34である請求項7に記載の方法。前記チタノ-アルミノ-ホスフェートまたはチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートが、少なくとも1つの遷移金属カチオンで修飾されて存在している請求項1~8のいずれかに記載の方法。前記少なくとも1つの遷移金属カチオンで修飾されたチタノ-アルミノ-ホスフェートまたはチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートが、以下の式を有する請求項9に記載の方法:TixAlySizPqO2aMbab、ここにおいて、使用された符号及び添え字は、以下の意味を有する:xyzq=1;0.010≦x≦0.110;0.400≦y≦0.550、0≦z<0.090、0.350≦q≦0.450;a=y-q;Mbは、bの電荷を帯びた少なくとも1つの遷移金属カチオンを表し、ここにおいて、bは、1以上の整数である。前記少なくとも1つの遷移金属カチオンが、鉄、銅、クロム、マンガン、コバルト、プラチナ、パラジウム、ロジウム、銀、金からなる群から選択されるカチオンである請求項9または10に記載の方法。前記チタノ-アルミノ-ホスフェートまたはチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートに存在している前記少なくとも1つの遷移金属カチオンは、前記チタノ-アルミノ-ホスフェートまたはチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートの総重量に対して0.01重量~20重量の範囲内に存在する請求項9~11のいずれかに記載の方法。前記チタノ-アルミノ-ホスフェートまたはチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートは、Ti/AlPモル比またはSiTi/AlPモル比として0.01~0.5の範囲を有する請求項1~12のいずれかに記載の方法。前記チタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートは、Si/Ti比として0~20の範囲を有し、及び/または、前記チタノ-アルミノ-ホスフェートまたはチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートは、Al/P比として1~1.5の範囲を有する請求項1~13のいずれかに記載の方法。前記チタノ-アルミノ-ホスフェートまたはチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートは、全て押出成形物として、または、コーティングの形態における担体上に存在している請求項1~14のいずれかに記載の方法。前記変換が、50°C~550°Cの範囲内の温度で生じる請求項1~15のいずれかに記載の方法。窒素含有化合物の選択的、触媒的な変換のための、チタノ-アルミノ-ホスフェートまたはチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートの使用。排出ガス精製触媒成分の製造のための、チタノ-アルミノ-ホスフェートまたはチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートの使用。チタノ-アルミノ-ホスフェートまたはチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートを含有する排出ガス精製触媒成分。従って、本発明の目的は、触媒の調製の間に損傷を受けず、できるだけ長期間にわたって一定の活性を有する、SCRまたはSCOのための触媒材料を提供することであった。この目的は、窒素含有化合物の選択的、触媒的な変換のための本発明の方法によって達成され、ここにおいて、チタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートを含有する触媒が使用され、また、上記目的は、SCR及びSCOの適用におけるチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートの使用によって達成される。ケイ素に代えての銅原子の置換は、シリコ-アルミノ-ホスフェートと比較して、チタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートの場合では、低温でより高い活性に既につながる。上記したSAPOと同様、本発明の意味において、チタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートは、規則的な3次元ネットワークを形成するためにTiO4/AlO4/SiO4/PO4四面体から構成され、共通の酸素原子によって連結された空間的なネットワーク構造を有する結晶形物質である。これら全ての四面体ユニットは、共にいわゆる骨格フレームワークを形成する。さらに、ベースネットワークの四面体ユニットから構成されていないユニットは、いわゆるエクストラネットワークとして言及される。チタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートの構造は、各構造的な型の特徴であるボイドを含有している。ゼオライトのように、この構造的な分類は、分子篩を示す。それらは、トポロジーに従って異なる構造に分けられる。結晶の骨格は、通常、水分子、及び、取って変わられる追加的な骨格のカチオンで占められ占められているチャンネル及びケージの形態内に、開かれたボイドを含有している。いわゆるアルミノ-ホスフェートの場合には、少なくともチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートの骨格内に、各アルミニウム原子のためのリン原子があり、その結果、電荷が互いに相殺している。リン原子に代えてチタン原子が置換されると、チタン原子は、カチオンで補正される余剰の負電荷を形成する。細孔システムの内側は、触媒的に活性な表面を示す。骨格内においてチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートが含有するリンがアルミニウムと比較して少ないほど、格子内の負電荷の密度が高くなり、その内部表面において極性が高くなる。細孔のサイズ及び構造は、製造の間のパラメータ、すなわち、テンプレート、pH、圧力、温度、種触媒の存在に加えて、チタノ-アルミノ-ホスフェートまたはチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートの触媒的な特徴の最大の部分を説明するP/Al/Ti/Si比によって、決定される。骨格に関するリン原子に代えてのチタン原子の置換は、正電荷の不足を引き起こし、その結果、分子篩全体が負に帯電されることになる。負の電荷は、ゼオライト材料の細孔にカチオンを取り込むことによって、補正される。チタン原子に加えて、ケイ素原子もリン原子に取って変えられることができ、それは、上述した括弧内に記載されたケイ素の任意の存在からも分かる。それから、これらも負電荷を引き起こし、カチオンによって補正されなければならない。本発明で使用されるチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートは、従来技術と同様に、主に、にTiO4/AlO4/SiO4/PO4四面体の強固なネットワークによって形成されるボイドの幾何学に従って、区別される。ボイドへの入口は、入口開口を形成する金属原子に関して、8、10または12の環状原子から形成されており、ここにおいて、当業者は、狭い、平均の、及び、広い細孔構造との用語を使用する。本発明によれば、ここでは、狭い細孔構造が好ましい。これらチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートは、均一な構造、例えば、直線状のチャンネルを有するVFIまたはAETトポロジーを有することができるが、ここにおいて、より大きなボイドが細孔開口の背後に伴っている他のトポロジーも考えられる。本発明によれば、8つの四面体原子、すなわち、狭い細孔材料から形成された開口を有するチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートが、好ましい。これらは、好ましくは約3.1~5Å、特に好ましくは3.4~3.6Åの直径を有する開口を有する。分子篩の用語が意味するものは、自然のまたは合成的に製造された、ボイドとチャンネルとを有する骨格構造であり、例えば、特定の分子サイズを有するガス、蒸気及び溶解された物質に対して高い吸着能力を有するゼオライト及び関連材料である。驚くべきことに、チタン含有シリコ-アルミノ-ホスフェートが、排出ガス精製触媒成分、特にSCR及びSCO触媒における分子篩として、特に適していることが判明した。チタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートは、それらの高い相純度、温度安定性、遷移金属イオンを用いて可能な高い電荷レベル、及び、高いアンモニア貯蔵能力によって、SCR及びSCO触媒における分子篩として著しく適している。窒素酸化物の用語が意味するものは、原則的に、一般式NxOyの考えられる全ての窒素酸化物を意味し、例えば、エンジンを伴って、またはエンジンを伴わない燃焼プロセスだけでなく、産業的なプロセスにおいても形成され得るものである。本発明の触媒の用語が意味するものは、好ましくは、チタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートと、好ましくは、カチオンの形態で触媒的に活性な金属とに基づいた分子篩とを含有する担体である。担体は、分子篩からの全ての押出成形物として形成され得るか、または、分子篩を含有する組成物を用いてコーティングされた形態で存在し得る。担体は、好ましくは、排出パイプ内に取り込まれたユニット内に埋め込まれる。そのユニットは、好ましくは、触媒床を有し、該触媒床内に担体が配されている。排出ガスが、触媒床内に配された担体上をまたは該担体を通って通過することによって、SCRの適用の場合には、窒素酸化物が、SCOの適用の場合には、アンモニア及び窒素含有有機化合物といった窒素-水素化合物が、好ましくは、窒素、水及び二酸化炭素へと変換される。本発明のSCRの適用においては、窒素酸化物が、好ましくは、還元剤を用いてN2へと還元される。本発明のSCOの適用においては、アンモニア及び窒素含有有機化合物といった窒素-水素化合物が、好ましくは、酸化剤を用いて窒素、水及びCO2へと酸化される。SCRの適用の場合には、本発明の意味において、窒素酸化物の触媒的な還元に適しているいかなる還元剤も、還元剤として使用され得る。本発明によれば、以下の還元剤が好ましい:NH3、尿素、一酸化炭素、エンジンを伴った燃焼プロセスの場合においてエンジン区画内で変換されない燃料、ここにおいて、NH3または尿素が特に好ましい。SCOの適用の場合には、本発明の意味において、アンモニア及び窒素含有有機化合物といった窒素-水素化合物の触媒的な酸化に適しているいかなる酸化剤も、酸化剤として使用され得る。本発明によれば、以下の酸化剤が好ましい:酸素、空気、笑気ガス。本発明の方法に使用されるチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートは、好ましくは、1000~1500μmol/gの酸性度、特に好ましくは1100~1400μmol/gの酸性度を有し、この酸性度は、温度がプログラムされたアンモニアの脱着によって決定される。この範囲の酸性度は、SCRの適用においては、主として還元剤の貯蔵のために、または、SCOの適用においては、アンモニア及び窒素含有有機化合物といった窒素-水素化合物の貯蔵のために、特に重要である。さらに好ましくは、本発明の方法におけるチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートは、200~1200m2g1、特に好ましくは400~850m2g1、一層好ましくは500~750m2g1の範囲のBET比表面積を有する。分子篩のBET比表面積は、小さ過ぎるべきではなく、その理由は、窒素酸化物の触媒的に活性な成分との接触が不十分となり、これにより、窒素酸化物の還元が不十分となるからである。BET比表面積が大き過ぎると、材料の低密度によって、もはや十分な温度安定性が得られないという不利点をもたらす。BET比表面積は、DIN66132に従って窒素の吸着によって決定される。チタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートは、ゼオライトの異なるトポロジーの分類から知られているように、いわゆるCHA構造を有する。特に好ましくは、チタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートは、TAPO-34チタノ-アルミノ-ホスフェート-34またはTAPSO-34チタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェート-34である。TAPO-34及びTAPSO-34の優れた水熱安定性、及び、その小さな細孔開口は、TAPO-34またはTAPSO-34を、窒素酸化物の還元のための選択的な触媒として理想的に適している。TAPSO-34は、非常に特に好ましく、チタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートとして使用される。従来技術では、CHA構造を有するゼオライトではなく、MFI及びBEA構造を有するゼオライトが主として使用されている。しかし、それらの熱安定性は、非常に限られている。これにより、例えば、水熱エージング試験において条件:10体積のH2O;700°C、24時間、BEAゼオライトの場合には比表面積が11まで低下し、MFIゼオライトの場合には8まで低下した。加えて、エージング試験後、両材料は、酸性度に関して著しくより低い値を示し、それは、温度がプログラムされたアンモニアの脱着によって決定された。BEA構造を有するゼオライトは、酸性度の54が、MFI構造を有するゼオライトは、酸性度の77が消失する。これに対し、本発明のチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートは、エージング試験後、酸性度の19が消失するのみである。このように、その高い水熱安定性によって、本発明に従って使用されるチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートは、エンジンを伴った、及びエンジンを伴わない特定のSCR及びSCOにおいて優勢であるといったように、高温で湿気のある雰囲気において使用されるのに、特に適している。CHA構造を有するチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートは、好ましくは約3.5Åという小さな細孔開口を有しており、本発明の意味において、特に適していることが証明された。これらの構造は、いわゆるコールドスタートトラップのようなエンジンの開始相における非燃焼燃料の高い吸着を有し、システムの加熱後、燃料が窒素酸化物のための還元剤として使用され得るため、エンジンを伴った適用に特に適している。本発明の方法において使用されるチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートは、TAPSO-5、TAPSO-8、TAPSO-11、TAPSO-16、TAPSO-17、TAPSO-18、TAPSO-20、TAPSO-31、TAPSO-34、TAPSO-35、TAPSO-36、TAPSO-37、TAPSO-40、TAPSO-41、TAPSO-42、TAPSO-44、TAPSO-47、TAPSO-56から選択されることが好ましい。特に、TAPSO-5、TAPSO-11またはTAPSO-34が好ましく使用され、その理由は、これらが水に対して特に高い水熱安定性を示すからである。TAPO-5、TAPO-11およびTAPO-34はまた、それらのミクロ細孔構造に起因する、異なるプロセスでの触媒としての良好な特性の理由から、及び、高い吸着能力によって吸着剤として極めて適しているという理由から、特に適している。さらに、それらは、30°C~90°Cの間の温度で既に可逆的に放出され、また、他の小分子を吸着するため、低い再生温度を有する。本発明によれば、CHA構造を有するチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートの使用が、特に適している。本発明の方法において使用される分子篩は、例えばEP161488及びUS4,684,617からの従来技術において知られているように、いわゆるTAPSO-34が、極めて特に好ましい。リン原子がチタンまたはケイ素原子で置き換えられるため、本発明の方法において使用されるチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートは、負の電荷を有し、カチオンによって補正される。チタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートの合成においては、EP161488から長年の間知られているように、分子篩は、好ましくは、プロトン化された形態、特にNaの形態で存在している。本発明の方法においては、チタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートは、変形された形態で存在しており、その形態においては、少なくとも1種類の遷移金属カチオンがカウンターイオンとしてボイド内に、好ましく存在している。骨格構造内部の遷移金属カチオンは、その構造に触媒的な特性を与える。遷移金属カチオンによるHまたはNaのイオン交換は、液体の及び固体の両方の形態で実行され、ここにおいて、また、異なる遷移金属カチオンが、複数の交換ステップにおいて同時にまたは連続して導入され得る。加えて、気相交換プロセスも知られているが、それは、産業的なプロセスとしては、高価過ぎる。現在の技術の不利点は、固体イオン交換の場合においては、チタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートの骨格に規定量の金属イオンが導入され得るが、金属イオンの均一な分布が得られないことである。これに対し、液体イオン交換の場合においては、チタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートに、均一な金属イオン分布が達成され得る。しかし、液体イオン交換の場合には、小細孔の分子篩を伴った不利点は、金属イオンが小さな細孔開口に浸透可能とするために金属イオンの水和燃料装置が余りにも大き過ぎ、これによって交換率が非常に低い、ということである。上記した方法に加えて、水溶液含浸またはインシピエントウェットネスincipientwetness法によって、1以上の金属カチオンを用いて、ドーピングや修飾が実行され得る。これらドーピングや修飾は、従来技術において知られている。ドーピングや修飾が、水溶液のイオン交換によって1以上の金属化合物によって実行されることが好ましく、ここにおいて、金属塩及び金属複合体の両方が、イオンを供給するために使用される。遷移金属カチオンで修飾された分子篩は、好ましくは以下の一般式を有する:TixAlySizPqO2aMbab、ここにおいて、使用された符号及び添え字は、以下の意味を有する:xyzq=1;0.010≦x≦0.110;0.400≦y≦0.550;0≦z<0.090;0.350≦q≦0.450;a=y-qただし、yは、好ましくはqよりも大きく;Mbは、bの電荷を帯びたカチオンを表し、ここにおいて、bは、1以上の整数であり、好ましくは1、2、3または4であり、さらに好ましくは1、2または3であり、最も好ましくは1または2である。分子篩の負電荷の数は、リン原子の数よりも過剰なアルミニウム原子の数から得られる。各Ti、Al、Si及びP原子に対して2つの酸素原子が存在するとした場合、これらのユニットは、以下の電荷を有する:ユニットTiO2及びユニットSiO2は、電荷において中性であり、ユニットAlO2は、アルミニウムの3価に起因して負の電荷を有し、ユニットPO2は、5価のリンに起因して正の電荷を有する。本発明において特に好ましいのは、アルミニウム原子の数がリン原子の数よりも大きく、その結果、分子篩が全体として負に帯電していることである。上記した式においては、これは、添え字aで示され、それは、リン原子よりも少なく存在しているアルミニウム原子の差を示す。従って、これは、特定の場合には、中性に帯電したTiO2またはSiO2ユニットが、正に帯電したPO2ユニット代えて置換されるようになる。分子篩の骨格を形成し、分子篩の価数を決定する比率を形成する上記したSiO2、TiO2、AlO2、PO2ユニットに加えて、分子篩は、Al及びPユニットも含有することができ、それらは、形式的に、電荷において中性とみなされ、例えば、その理由は、好ましくは構造の終末または端の位置で存在している場合に、配位位置を占めるのがO2ユニットであるからではなく、OHやH2Oといった他のユニットがこの位置に配されるからである。これらのユニットのこの部分は、分子篩のいわゆるエクストラ骨格フレームワークとして言及される。本発明の方法において使用される分子篩は、Ti/AlPモル比またはSiTi/AlPモル比の比率として0.01~0.5から1まで、好ましくは、0.02~0.4から1まで、一層好ましくは0.05~0.3から1まで、最も好ましくは0.07~0.2から1までである。また、本発明の方法に使用される分子篩は、重要な要素として、Tiに加えてSiを含有することも、特に好ましい。特に、ケイ素含有チタノ-アルミノ-ホスフェートが、高い水熱安定性によって特徴付けられる。Si/Ti比は、好ましくは、0~20の範囲内、より好ましくは0.5~10の範囲内、一層より好ましくは1~8の範囲内に存在する。Al/P比は、分子篩の全てのユニット、すなわち、チタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートの骨格及びエクストラ骨格に対して、好ましくは0.5~1.5の範囲内、より好ましくは0.70~1.25の範囲内に存在する。Al/P比は、チタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートのフレームワークのみに対して、好ましくは1を超えて1.5までの範囲内、より好ましくは1.05~1.25の範囲内に存在する。遷移金属で修飾された分子篩内の遷移金属カチオンは、分子篩の総重量に対して、好ましくは、0.01重量~20重量の範囲内、好ましくは0.1~10重量の範囲内、より好ましくは0.2~8重量の範囲内、最も好ましくは0.5~7重量の範囲内に存在する。遷移金属カチオンは、本発明の意味において、SCR及びSCOの適用における触媒的に活性な要素として使用され得るいかなる遷移金属カチオンも使用され得る。遷移金属カチオンの金属として、鉄、銅、クロム、マンガン、コバルト、プラチナ、パラジウム、ロジウム、銀、金、特に銅が、特に好ましい。遷移金属で修飾された分子篩の製造後、これは、通常、粉体の形態で存在している。粉体として存在しているこれらの分子篩は、それから、酸化及び/または有機バインダーの補助によって押出成形物、全ての押出成形物/ハニカム触媒に成形されるか、または、セラミックまたは金属担体、特にハニカムに形成された担体にウォッシュコートの中間段階を介して塗布される。本発明の方法において使用される分子篩は、好ましくは、全ての押出成形物として、または、コーティングの形態で担体上に存在している。特に、全ての押出成形物がハニカムの形態に製造されるか、または、全ての押出成形物でコーティングされた担体が、好ましくはハニカムに成形された担体である。本発明の方法において使用される分子篩が全ての押出成形物で存在すれば、その全ての押出成形物は、好ましくは、チタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートと、少なくとも1つの酸化及び/または有機バインダーとを備えている。全ての押出成形物は、好ましくは、遷移金属で修飾された分子篩と、少なくとも1つの酸化及び/または有機バインダーとを含む触媒的に活性な組成物の押出成形によって製造される。全ての押出成形物は、好ましくは、ハニカム形状の押出成形物である。上記した組成物は、バインダーに加えて、さらに、金属酸化物、促進剤、安定剤、及び/または賦形剤も含有し得る。この組成物において、遷移金属カチオンで修飾されたチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートは、好ましくは、総組成物の5~95重量の範囲内、より好ましくは50~90重量の範囲内に存在している。分子篩が、コーティングの形態の担体上に存在している場合には、コーティングされた担体を製造するために、上記した組成物は、好ましくは、担体をコーティングするのに適しているウォッシュコートへと製造される。そのようなウォッシュコートは、好ましくは、ウォッシュコートの総重量に対して、本発明の方法に使用されるチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートを5~90重量、より好ましくは10~80重量、特に好ましくは10~70重量含有している。本発明におけるウォッシュコートは、上記した成分に加えて、バインダーと同様、水または溶媒を含有している。組成物内におけるバインダーは、担体にコーティングされたとき、分子篩を結合する役割を担う。溶媒は、コーティングの形態において、分子篩及びバインダーの両方が触媒担体にコーティングされることを可能とする役割を担う。また、本発明は、排出ガス精製触媒成分を製造するためのチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートの使用に関する。ここでも、本発明の方法において使用される種々のチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートが好ましい。排出ガス精製触媒成分によって意味するものは、排出ガス流におけるユニットであり、そのユニット内に上記で定義された触媒が存在し、SCRの適用の場合には窒素酸化物が還元され、SCOの適用の場合にはアンモニア及び窒素含有有機化合物といった窒素-水素化合物が酸化される。従って、本発明は、また、チタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートを含有する排出ガス精製触媒成分に関する。ここでも、本発明の方法において使用される種々のチタノ-シリコ-アルミノ-ホスフェートが好ましい。本発明は、ここにおいて、特に限定されることなく、以下の実施例の補助を伴って示される:実施例1:500gのCuTAPSO-345.3重量のCu、製造者はズードケミーAGが、100gのプラルPuralSBSasolドイツGmbH、133.3gのH2O、16.7gの濃HNO3、10.7gのグリセロール65p.a.メルク及び270.3gのチロース溶液1000gの脱塩水に、70gのチロースMH50G4DEAC098000信越を用いて、約1.6mmの直径及び0.5~5mmの長さを有する糸状の押出成形物を形成した。押出成形物は、それから、120°Cで16時間乾燥され、空気中で500°C加熱速度は1°C/分で5時間焼成された。実施例1:エージングされた実施例1の押出成形物が、700°Cまで加熱され、水蒸気雰囲気10体積のH2Oにおいて、この温度で24時間のエージングを行った。比較例1:CuZSM-54重量のCu、製造者はミズサワが、100gのプラルPuralSBSasolドイツGmbH、133.3gのH2O、16.7gの濃HNO3、10.7gのグリセロール65p.a.メルク及び242gのチロース溶液2000gの脱塩水に、140gのチロースMH50G4DEAC098000信越を用いて、約1.6mmの直径及び0.5~5mmの長さを有する糸状の押出成形物を形成した。押出成形物は、それから、120°Cで16時間乾燥され、空気中で500°C加熱速度は1°C/分で5時間焼成された。本発明の触媒と、比較例との両方が、ブラインド反応を抑制するために石英配管に沿って並べられた固定床反応器内で、酸素及び水蒸気の存在下でNH3を伴ったNOxの選択的、触媒的な還元において試験された。試験条件は、下記表1に示す。試験ガス組成として、NH3/NOx=0.91が、フレッシュな触媒サンプル試験1のために適用され、その結果、最大のNOx変換は、91を超えることができない。エージングされたサンプルの場合試験2、NH3/NOx比は、=1.15であり、その結果、アンモニアの最大87が、窒素酸化物によって変換されることができる。過剰のアンモニアは、ここでは、SCO反応に従って、酸素によって変換される。実施例2:ウォッシュコートは、100gの脱イオン水、100gの銅含有TAPSO-345.3重量のCu、製造者はズードケミーAG、22.6gのBindzil2034DIEKAケミカルズ、及び、4.4gの65硝酸Merckから製造された。セラミック物質75mm×100mm、200cpsi、Rauschert製が、ウォッシュコートに浸された。乾燥後、ハニカムは、空気中で4時間の間に40°Cから550°Cまで加熱され、この温度で3時間保った。比較例2:ウォッシュコートは、800gの脱イオン水、666.5gの銅含有ゼオライトベータ3.8重量のCu、製造者はズードケミーAG、160gのBindzil2034DIEKAケミカルズ、及び、26.5gの65硝酸Merckから製造された。コーディエライトハニカムφ20mm、75mm、200cpsi、Rauschert製が、ウォッシュコートに浸された。乾燥後、ハニカムは、空気中で4時間の間に40°Cから550°Cまで加熱され、この温度で3時間保った。比較例3:ウォッシュコートは、100gの脱イオン水、111.1gの銅含有SAPO-345.6重量のCu、製造者はズードケミーAG、22.65gのBindzil2034DIEKAケミカルズから製造された。セラミック物質75mm×100mm、200cpsi、Rauschert製が、ウォッシュコートに浸された。乾燥後、ハニカムは、空気中で4時間の間に40°Cから550°Cまで加熱され、この温度で3時間保った。本発明の触媒と、比較例2、3の触媒との両方が、ブラインド反応を抑制するために石英配管に沿って並べられた固定床反応器内で、酸素及び水蒸気の存在下でNH3を伴ったNOxの選択的、触媒的な還元において試験された。試験条件は、下記表2に示す。試験3において、試験ガス組成として、NH3/NOx比=1.15が適用され、その結果、アンモニアの最大87が、窒素酸化物によって変換されることができる。過剰のアンモニアは、ここでは、SCO反応に従って、酸素によって変換される。試験4は、空気を伴ったアンモニアの選択的、触媒的な酸化SCOに対応する。結果:図1、2及び表3は、SCR反応における、実施例1及び比較例1で製造された触媒サンプルの、NOx及びNH3によって測定される変換を示す。NOx及びNH3の両方に関して、実施例1のために測定された変換は、比較例1の場合よりも高かった。両サンプルは、笑気ガスの形成が測定可能ではないことを示す。図3、4、5及び表4、5は、SCR反応における、実施例2及び比較例2、3で製造された触媒サンプルの、アンモニア及び窒素酸化物に関して試験3に従った試験ガス組成、及び、笑気ガスの収量に関して測定される変換を示す。NOx及びNH3の両方に関して、実施例2のために測定された変換は、比較例2、3の場合よりも高かった。比較例2のサンプルは、小さいが、望ましくない笑気ガスの形成を示し、それは、実施例2の場合には観察されなかった。図6、7及び表6は、SCO反応における、実施例2及び比較例2で製造された触媒サンプルの、NH3酸化及びアンモニアの収量において測定される変換を示す。実施例2のために測定された変換は、比較例2の場合よりも高かった。加えて、アンモニアの高い変換を伴って、実施例2の場合における望ましくない笑気ガスは、比較例2の場合よりも低い。さらに、両サンプルの場合において、窒素酸化物の小さな形成が450°Cよりも上で観察されたが、アンモニアに関する収量は、500°Cでも3よりも小さかった。"