EUV透過膜、該透過膜に接合されたハニカム形状構造物、及び、該構造物を支持する、長方形又は正方形のフレームを有するEUV用ペリクルであって、前記構造物が、ハニカムの1辺Aと、前記長方形のフレームの長辺又は正方形のフレームの1辺とのなす角度が、±20°以内となるように構築されていることを特徴とする、EUV用ペリクル。前記角度が±15°以内である、請求項1に記載されたEUV用ペリクル。前記角度が±10°以内である、請求項1に記載されたEUV用ペリクル。前記角度が0°である、請求項1に記載されたEUV用ペリクル。EUV透過膜、該透過膜に接合されたハニカム形状構造物、及び、該構造物を支持するフレームを有するEUV用ペリクル、並びに、該ペリクルに接合されたEUV用フォトマスクを有するEUV用レチクルであって、該レチクルがスキャナー内での露光時に往復運動する方向をペリクル膜に投影したときに、該往復運動の方向と、前記ハニカム構造物のハニカムの1辺Aとがなす角度が、±20°以内となるように、前記ペリクルが前記フォトマスクに接合されていることを特徴とするEUV用レチクル。前記角度が±15°以内である、請求項5に記載されたEUV用レチクル。前記角度が±10°以内である、請求項5に記載されたEUV用レチクル。前記角度が0°である、請求項5に記載されたEUV用レチクル。従って本発明の第1の目的は、通過するEUV光の減衰が最小限に抑えられるペリクルを提供することにある。本発明の第2の目的は、俊敏に行なわれる往復運動によって生じる強い加速度に耐えることができるEUV用レクチルを提供することにある。本発明者等は、EUV用ペリクルの実際の使用状態に注目し、ペリクル膜を補強する構造材の開口率の向上と強度の向上という相反する問題を解決すべく、EUV用ペリクルの加速度方向即ちレチクルの往復運動の方向とEUV用ペリクル膜強度を補完するハニカムとの関係について鋭意検討したところ、ハニカムの強度が、レチクルの往復運動で加わる加速度方向に対するハニカム辺の角度に依存する事を見いだし本発明に到達した。即ち本発明は、EUV透過膜、該透過膜に接合されたハニカム形状構造物、及び、該構造物を支持する、長方形又は正方形のフレームを有するEUV用ペリクルであって、前記構造物が、前記ハニカムの1辺Aと、前記長方形のフレームの長辺又は正方形のフレームの1辺とのなす角度が、±20°以内となるように構築されていることを特徴とする、EUV用ペリクル;及び、EUV透過膜、該透過膜に接合されたハニカム形状構造物、及び、該構造物を支持するフレームを有するEUV用ペリクル、並びに、該ペリクルに接合されたEUV用フォトマスクを有するEUV用レチクルであって、該レチクルがスキャナー内での露光時に往復運動する方向をペリクル膜に投影したときに、該往復運動の方向と、前記ハニカム構造物のハニカムの1辺Aとがなす角度が、±20°以内となるように、前記ペリクルが前記フォトマスクに接合されていることを特徴とするEUV用レチクルである。前記EUV用ペリクルにおいて、前記ハニカムの1辺Aと、前記長方形のフレームの長辺又は正方形のフレームの1辺とがなす角度は、±15°以内であることが好ましく、±10°以内であることが更に好ましく、0°であることが最も好ましい。前記EUV用レチクルにおいて、前記往復運動の方向と、前記ハニカム構造物のハニカムの1辺Aとがなす角度は、±15°以内であることが好ましく、±10°以内であることが更に好ましく、0°であることが最も好ましい。本発明のEUV用ペリクル及びEUV用レクチルは、通過するEUV光の減衰が最小限に抑えられると共に、俊敏に行なわれる往復運動によって生じる強い加速度に耐えることができる。本発明のEUV用ペリクルは、EUV透過膜、該透過膜に接合されたハニカム形状構造物、及び、該ハニカム形状構造物を支持する正方形又は長方形のフレームを有する。また、本発明のEUV用レチクルは、EUV透過膜、該透過膜に接合された複数のハニカム辺からなるハニカム形状構造物を有する接合体、及び、該接合体を支持するフレームを有するEUV用ペリクル、並びに、該ペリクルに接合されたEUV用フォトマスクを有する。EUV用ペリクル光の減衰を決定するのはEUV用ペリクル膜の厚さとハニカムの開口率である。図1及び2を参照すると、ハニカム1の開口率は、ハニカムの辺の幅2、ハニカムのピッチ3、ハニカムの高さ4によって決定される。ここで、ハニカムの高さ4が開口率に影響を与えるのは、EUVステッパー内では、ペリクルへのEUV光の入射角が、ペリクルの鉛直角に対して4°~6°の角度で傾斜しているため、ハニカムの高さによって、影ができるからである。一方で、ペリクルの用途を考えた場合に充分な強度を持つことが要求される。ハニカムの強度は、ピッチが狭いほど、辺の幅が広いほど、辺の高さが高いほど向上するが、このようすることによって、ハニカムの開口率が低下する。従って、開口率を極力低下させないでペリクルの強度を維持できる構造が求められる。これを、図3を用いて説明すると、ハニカム1の構造は、正六角形の単位が組み合わされて構成されているから、ハニカムの特定の1辺A黒塗り部が、3aの状態から右上がりになるように30°30°とする。傾けてなる3bと、左上がりになるように30°30°傾けてなる3cとは等価である。また、3bから更に30°傾けることは、3bから3aに戻ることと等価である。よって、図中の3aの水平な辺Aをレチクルの往復運動の方向と平行な辺とすると、該平行なハニカムの辺と、レチクルの往復運動の方向とが形成する角度を±30°の範囲で変化させることができる。この角度の中から、EUVスキャナー中のEUV用レチクルの往復運動によって、ハニカムにかかる最大内部応力が最小になるような、ハニカムの傾き角を求めることによって、EUV用ペリクルに最適なハニカム構造を得ることができる。これを確認するため、ハニカム構造物のハニカムの特定の1辺Aとレチクルの往復運動の方向とがなす角度を±30°の範囲として、レチクルの往復運動による応力がハニカムに印加された場合の、ハニカムにかかる最大内部応力、及び該応力が印加される部位との関係を、コンピューターによって計算した。図4は、ハニカムの1辺Aとレチクルの往復運動の方向がとる角度と、EUV光透過薄膜が破断する加速度との関係を表わしたものである。前記レチクルの往復の方向と前記ハニカムの辺Aとがなす角度が0°であるときには、最大応力の数値が小さいことから、応力がハニカムの辺部図2中の5に分散して存在し、緩和されていることが確認された。一方、前記レチクルの往復の方向とハニカムの辺Aとがなす角度が30°であるときには、ハニカムの角部図2中の6で応力が最大となっており、角部に応力が集中していることが確認された。従って、EUV光透過薄膜が最も破断しにくいのは、レチクルの往復運動の方向と前記ハニカムの辺Aとの角度が0°のときであり、最も破断しやすいのは、レチクルの往復運動の方向とハニカムの辺Aとの角度が30°のときである。図5及び図6は、それぞれEUV用ペリクルの実施例及び比較例の模式図である。但し、ここではEUV光透過薄膜は図示しておらず、ハニカムの一部だけが図示されている。図5は、ハニカムの1辺Aとレチクルの往復移動の方向とがなす角度矢印a及び矢印bがなす角度が0°である状態を表わす。一方、図6は、ハニカムの1辺Aとレチクルの往復移動の方向とがなす角度矢印a及び矢印bがなす角度が30°である状態を表わす。これらのペリクルを用いて、EUV光透過薄膜が破断する加速度を測定したところ、図4に示されたものと同様の結果が得られた。このように、ペリクル又はレチクルにかかる応力を十分に緩和するという観点から、本発明のEUV用ペリクルにおいて、前記構造物が、ハニカムの1辺Aと、前記長方形のフレームの長辺又は正方形のフレームの1辺とのなす角度が、±20°以内となるように構築されていることが必要であり、前記角度は±15°以内であることが好ましく、±10°以内であることが更に好ましく、0°であることが最も好ましい。また本発明のEUV用レチクルにおいては、該レチクルがスキャナー内での露光時に往復運動する方向をペリクル膜に投影したときに、該往復運動の方向と、前記ハニカム構造物のハニカムの1辺Aとがなす角度が、±20°以内となるように、前記ペリクルが前記フォトマスクに接合されていることが必要であり、±15°以内であることが好ましく、±10°以内であることが更に好ましく、0°であることが最も好ましい。以下、本発明を実施例によって更に詳述するが、本発明はこれによって限定されるものではない。[EUV用ペリクル膜の作製]直径が200mm、厚さが725μmのシリコン基板のハンドル基板上に、150nmの熱酸化膜SiO2を介して、実質的にCOP等の結晶欠陥が少ないシリコン単結晶NearlyPerfectCrystal:NPCの、厚さが100nmの薄膜が貼り付けられているSOISiliconOnInsulator基板を用いた。上記SOI基板のハンドル基板を50μmまで薄化した後、リソグラフィーによってハンドル基板側にメッシュ構造をパターニングし、DRIE深堀り反応性イオンエッチングによってメッシュ構造を作り込んだ。メッシュ構造は、メッシュピッチを200μm、ハニカム線幅を25μmとした。エッチングした後、HF処理によって前記熱酸化膜を除去し、EUV用ペリクル膜を得た。[EUV用ペリクル作製]得られたペリクル膜を、図5に示されたとおり、長さ150mm、幅125mm、厚さ15mmのアルミ合金製フレームと同じサイズに、且つ、EUV用ペリクル膜のハニカムの1辺Aと、アルミフレームの長辺とがなす角矢印a及び矢印bがなす角度度が0°になるように裁断し、水ガラスを用いて前記フレームに、裁断されたEUV用ペリクル膜を接着し、EUV用ペリクルを作製した。[振動試験]得られたEUV用ペリクルのフレームを、透明なアクリル板で作製されたアクリルボックス内に両面テープで固定し、アクリルボックスを振動試験機の振動台に、フレームの長辺方向に振動するようにセットした。次にアクリルボックスを、ロータリー真空ポンプで真空排気しながら振動台に正弦波振動をかけた。正弦波振動の加速度を増加させながら振動を継続したところ、加速度が18Gに達したときにEUV用ペリクル膜が破損した。EUV用ペリクル膜を、ハニカムの1辺Aとアルミフレームの長辺との角度が15°になるようにセットしたこと以外は、実施例1と同様にしてEUV用ペリクルを製造し、振動試験を実施したところ、加速度が12Gに達したときにハニカム膜が破損した。[比較例1]EUV用ペリクル膜を、図6に示されたとおり、ハニカムの1辺Aとアルミフレームの長辺との角度矢印a及び矢印bがなす角度が30°になるようにセットしたこと以外は、実施例1と同様にしてEUV用ペリクルを製造し、振動試験を実施したところ、加速度が85Gに達したときにハニカム膜が破損した。