装置上下方向の軸線の周りに回転可能に設けられ、前記軸線の周りの空間が仕切部に仕切られることで複数の処理室が周方向に並設されると共に、前記処理室には外周側に向けて開口し被処理対象物の搬入用、前記被処理対象物の搬出用、及び投射材の通過用となる開口部が形成されているロータリーと、前記処理室における前記開口部を通して前記処理室の内部に投射材を投射する投射機と、前記ロータリーの天井部に設けられ、前記被処理対象物を前記処理室内に吊り下げ支持する共に前記被処理対象物が前記投射機により投射される投射エリアで自転可能な吊下支持部と、前記ロータリーを前記軸線の周りに回転させることで前記吊下支持部を公転させると共に、前記投射エリアの複数位置を前記被処理対象物の公転停止位置として前記ロータリーを一次停止させる回転駆動機構と、を有するショット処理装置。前記投射エリアにおける前記被処理対象物の公転停止位置は、装置平面視で前記吊下支持部の自転軸心が前記投射機における投射材の投射方向の中心線上に配置される位置となる第二位置と、前記第二位置に対して前記ロータリーの回転方向上流側の位置である第一位置と、前記第二位置に対して前記ロータリーの回転方向下流側の位置である第三位置と、に設定されている、請求項1記載のショット処理装置。前記被処理対象物を前記吊下支持部に吊り下げ支持させるための搬入エリアと、前記被処理対象物を前記吊下支持部から降ろすための搬出エリアと、が設けられると共に、前記処理室が前記ロータリーの周方向に三室以上並設されており、前記被処理対象物の公転停止位置で前記ロータリーを一次停止させた場合に前記処理室のうちの少なくとも一室が前記搬入エリアに配置されると共に前記処理室のうちの他の少なくとも一室は前記搬出エリアに配置されるように設定されている、請求項1又は請求項2に記載のショット処理装置。前記投射機は、前記ロータリーの上部の側方に配置され、投射材の投射方向の中心線が前記処理室の内部側へ向けて装置下方側に傾斜するように設定された第一投射機と、前記ロータリーの下部の側方に配置され、投射材の投射方向の中心線が前記処理室の内部側へ向けて装置上方側に傾斜するように設定されると共に、投射材の単位時間当たりの投射量が前記第一投射機に比べて多量に設定された第二投射機と、を備えている、請求項1~請求項3のいずれか1項に記載のショット処理装置。前記第一投射機における投射材の投射方向の中心線と、前記第二投射機における投射材の投射方向の中心線とが、少なくとも前記吊下支持部の自転軸の下方側延長線よりも各投射位置側の空間では交差しない関係に設定されている、請求項4記載のショット処理装置。しかしながら、このような装置で被処理対象物を全面に亘って精度良くショット処理するにはある程度の時間を要するため、トータルの処理時間を短縮する点で改善の余地がある。本発明は、上記事実を考慮して、トータルの処理時間を短縮することができるショット処理装置を得ることが目的である。請求項1に記載する本発明のショット処理装置は、装置上下方向の軸線の周りに回転可能に設けられ、前記軸線の周りの空間が仕切部に仕切られることで複数の処理室が周方向に並設されると共に、前記処理室には外周側に向けて開口し被処理対象物の搬入用、前記被処理対象物の搬出用、及び投射材の通過用となる開口部が形成されているロータリーと、前記処理室における前記開口部を通して前記処理室の内部に投射材を投射する投射機と、前記ロータリーの天井部に設けられ、前記被処理対象物を前記処理室内に吊り下げ支持する共に前記被処理対象物が前記投射機により投射される投射エリアで自転可能な吊下支持部と、前記ロータリーを前記軸線の周りに回転させることで前記吊下支持部を公転させると共に、前記投射エリアの複数位置を前記被処理対象物の公転停止位置として前記ロータリーを一次停止させる回転駆動機構と、を有する。請求項1に記載する本発明のショット処理装置によれば、ロータリーは、装置上下方向の軸線の周りに回転可能に設けられ、前記軸線の周りの空間が仕切部に仕切られることで複数の処理室が周方向に並設されると共に、処理室には外周側に向けて開口し被処理対象物の搬入用、被処理対象物の搬出用、及び投射材の通過用となる開口部が形成されている。これに対して、投射機は、処理室における開口部を通して処理室の内部に投射材を投射する。また、吊下支持部は、ロータリーの天井部に設けられて被処理対象物を処理室内に吊り下げ支持する共に、被処理対象物が投射機により投射される投射エリアで自転可能となっている。このため、被処理対象物が全周に亘って投射される。また、回転駆動機構は、ロータリーを装置上下方向の軸線の周りに回転させることで吊下支持部を公転させると共に、投射エリアの複数位置を被処理対象物の公転停止位置としてロータリーを一次停止させる。このため、被処理対象物は、複数の公転停止位置で投射材の当たり方が相対的に変えられるので、より均一に精度良く投射される。請求項2に記載する本発明のショット処理装置は、請求項1記載の構成において、前記投射エリアにおける前記被処理対象物の公転停止位置は、装置平面視で前記吊下支持部の自転軸心が前記投射機における投射材の投射方向の中心線上に配置される位置となる第二位置と、前記第二位置に対して前記ロータリーの回転方向上流側の位置である第一位置と、前記第二位置に対して前記ロータリーの回転方向下流側の位置である第三位置と、に設定されている。請求項2に記載する本発明のショット処理装置によれば、投射エリアに入った被処理対象物は、第一位置、第二位置、及び第三位置の順で公転停止されて、それぞれの位置で自転しながら投射される。ここで、第二位置は、装置平面視で吊下支持部の自転軸心が投射機における投射材の投射方向の中心線上に配置される位置となっており、第一位置は、第二位置に対してロータリーの回転方向上流側の位置であり、第三位置は、第二位置に対してロータリーの回転方向下流側の位置である。このため、被処理対象物は、投射材が効率良く当たる第二位置とその前後の第一、第三位置で、効率的にかつ均一に投射される。請求項3に記載する本発明のショット処理装置は、請求項1又は請求項2に記載の構成において、前記被処理対象物を前記吊下支持部に吊り下げ支持させるための搬入エリアと、前記被処理対象物を前記吊下支持部から降ろすための搬出エリアと、が設けられると共に、前記処理室が前記ロータリーの周方向に三室以上並設されており、前記被処理対象物の公転停止位置で前記ロータリーを一次停止させた場合に前記処理室のうちの少なくとも一室が前記搬入エリアに配置されると共に前記処理室のうちの他の少なくとも一室は前記搬出エリアに配置されるように設定されている。請求項3に記載する本発明のショット処理装置によれば、搬入エリアは、被処理対象物を吊下支持部に吊り下げ支持させるためのエリアとなっており、搬出エリアは、被処理対象物を吊下支持部から降ろすためのエリアとなっている。そして、処理室がロータリーの周方向に三室以上並設されており、被処理対象物の公転停止位置でロータリーを一次停止させた場合に処理室のうちの少なくとも一室が搬入エリアに配置されると共に処理室のうちの他の少なくとも一室は搬出エリアに配置される。このため、投射エリアで被処理対象物に投射がなされている間に、搬入エリアで被処理対象物を吊下支持部に吊り下げ支持させると同時に、搬出エリアで被処理対象物を吊下支持部から降ろすことができる。このように、投射中に搬出と搬入とを同時に別々のエリアで行うことができるので、例えば、1箇所のエリアで搬出及び搬入を行うような構成に比べて、搬入出に要する時間が短縮される。請求項4に記載する本発明のショット処理装置は、請求項1~請求項3のいずれか1項に記載の構成において、前記投射機は、前記ロータリーの上部の側方に配置され、投射材の投射方向の中心線が前記処理室の内部側へ向けて装置下方側に傾斜するように設定された第一投射機と、前記ロータリーの下部の側方に配置され、投射材の投射方向の中心線が前記処理室の内部側へ向けて装置上方側に傾斜するように設定されると共に、投射材の単位時間当たりの投射量が前記第一投射機に比べて多量に設定された第二投射機と、を備えている。請求項4に記載する本発明のショット処理装置によれば、第一投射機は、ロータリーの上部側方に配置され、投射材の投射方向の中心線が処理室の内部側へ向けて装置下方側に傾斜するように設定されている。これに対して、第二投射機は、ロータリーの下部側方に配置され、投射材の投射方向の中心線が処理室の内部側へ向けて装置上方側に傾斜するように設定されている。このように、被処理対象物に対して、斜め上方側と斜め下方側との両方から投射材が投射されることで、被処理対象物の全面に効率良く投射される。また、第二投射機は、投射材の単位時間当たりの投射量が第一投射機に比べて多量に設定されているので、斜め上向き投射によって投射材が減速しても、第一投射機の斜め下向き投射によるショット処理と同程度のショット処理がなされる。請求項5に記載する本発明のショット処理装置は、請求項4記載の構成において、前記第一投射機における投射材の投射方向の中心線と、前記第二投射機における投射材の投射方向の中心線とが、少なくとも前記吊下支持部の自転軸の下方側延長線よりも各投射位置側の空間では交差しない関係に設定されている。請求項5に記載する本発明のショット処理装置によれば、第一投射機における投射材の投射方向の中心線と、第二投射機における投射材の投射方向の中心線とが、少なくとも吊下支持部の自転軸の下方側延長線よりも各投射位置側の空間では交差しない関係に設定されているので、第一投射機から投射された投射材と第二投射機から投射された投射材とが被処理対象物に達する前に互いに干渉してしまうという不具合が抑えられる。このため、投射効率が向上する。以上説明したように、本発明に係るショット処理装置によれば、トータルの処理時間を短縮することができるという優れた効果を有する。[第1実施形態]本発明の第1の実施形態に係るショット処理装置としてのロータリーハンガー式のショットブラスト装置10について図1~図6を用いて説明する。なお、これらの図において適宜示される矢印FRは図1の装置正面視の手前側を示しており、矢印UPは装置上方側を示しており、矢印LHは図1の装置正面視の左側を示している。また、矢印Xは被処理対象物Wの搬送方向を示している。図1には、本発明の第1の実施形態に係るショットブラスト装置10の全体構成が正面図にて示され、図2には、ショットブラスト装置10の全体構成が左側面図にて示され、図3には、ショットブラスト装置10の全体構成が平面図にて示されている。本実施形態に係るショットブラスト装置10は、例えば、鍛造品のスケール落とし等に適用される装置である。被処理対象物Wには、鍛造品、プレス品、溶接構造物、及び熱処理部品例えば、ギア等等、より具体的には一例として自動車関連部品が適用される。図1~図3に示されるように、ショットブラスト装置10は、キャビネット12を備えている。キャビネット12は、中空の略七角柱状に形成されている。また、図3に示されるように、キャビネット12には、被処理対象物Wを搬入する矢印A方向参照ための搬入口12A、及び被処理対象物Wを搬出する矢印B方向参照ための搬出口12Bが形成されている。キャビネット12の内部における中央部には、略円筒状のロータリー14が配置されている。ロータリー14は、詳細後述するように、装置上下方向の軸線の周りに回転駆動させられるように回転駆動機構60に接続されている。図6には、ロータリー14及びその周辺部の概略構成が模式的な斜視図にて示されている。図6に示されるように、ロータリー14は、天板部材15Aと底板部材15Bとが複数の柱部材15C、15D、15Eによって装置上下方向に連結されている。また、複数の柱部材15C、15D、15Eは、ロータリー14の回転中心の周りに配置されている。すなわち、外周側に開放された屈曲板状の柱部材15Cが周方向に間隔を開けて三本配置されると共に、隣り合う柱部材15Cの内周側のコーナ部同士が連結用の柱部材15Dにより連結され、さらに、隣り合う柱部材15Cの外周側の端部同士が外壁用の柱部材15Eにより連結されている。柱部材15Eは、装置平面視で公転軸部62の軸心を円弧中心とした外周壁14Wを備えている。そして、外周壁14Wは、ロータリー14の回転中心となる装置上下方向の軸線の周りの空間を取り囲む位置に配置されている。また、外周壁14Wの内側の空間には、仕切部16前述した屈曲板状の柱部材15C仕切部材で構成された部位に仕切られることで複数本実施形態では三室の処理室R1が周方向に並設されている。処理室R1は、被処理対象物Wの搬入出及び投射材の投射をなすための部屋となっている。これらの処理室R1には、外周側に向けて開口した開口部14Aが、前述した屈曲板状の柱部材15C、天板部材15A、及び底板部材15Bによって形成されている。開口部14Aは、被処理対象物Wの搬入用、被処理対象物Wの搬出用、及び投射材の通過用となる。なお、前述の説明及び図6から明らかなように、仕切部16は、ロータリー14における天井部14Uの下方側に設けられているが、図3では、図を見易くするために、仕切部16を隠れ線ではなく実線で図示している。ここで、処理室R1について補足説明すると、図6に示される処理室R1は、キャビネット12の内部空間に配置され、ロータリー14の回転変位によって、搬入室18、投射室20、及び搬出室22のいずれにもなり得る部屋である。ここで、搬入室18は、ショットブラスト装置10の搬入エリア40Aに配置されて被処理対象物Wの搬入を行うための部屋であり、投射室20は、ショットブラスト装置10の投射エリア40Bに配置されて被処理対象物Wへの投射材の投射によって被処理対象物Wの表面加工をなす部屋であり、搬出室22は、ショットブラスト装置10の搬出エリア40Cに配置されて被処理対象物Wの搬出を行うための部屋である。換言すれば、例えば、当初は搬入室18であった処理室R1は、ロータリー14がその軸周りに所定角度だけ回転変位することで、投射室20になり、さらに、ロータリー14がその軸周りに所定角度だけ回転変位することで、搬出室22になる。なお、搬入エリア40Aは、被処理対象物Wを後述する吊下支持部としての自転軸部材46に吊り下げ支持させるためのエリアである。また、搬出エリア40Cは、被処理対象物Wを自転軸部材46から降ろすためのエリアである。一方、ロータリー14の上部の側方には第一投射機30Aが配置されており、この第一投射機30Aは、キャビネット12の側壁の上部側に取り付けられている。これに対して、ロータリー14の下部の側方には第二投射機30Bが配置されており、この第二投射機30Bは、キャビネット12の側壁の下部側に取り付けられている。また、本実施形態では、第一投射機30Aが取り付けられる取付面と第二投射機30Bが取り付けられる取付面とは、隣り合った異なる面に設定されている。なお、図1に示される第一投射機30Aが取り付けられる取付部12D及び第二投射機30Bが取り付けられる取付部12Eは、点検時に開閉可能な点検扉を兼ねている。第一投射機30A及び第二投射機30Bは、羽根車インペラの回転により投射材ショット、本実施形態では一例として鋼球に遠心力を付与することが可能な遠心式投射機とされている。そして、図6に示されるように、第一投射機30A及び第二投射機30Bは、遠心力で加速させた投射材を処理室R1における開口部14Aを通して処理室R1の内部に投射するようになっている。第一投射機30Aは、投射材の投射方向の中心線L1が処理室R1の内部側へ向けて装置下方側に傾斜するように設定されている。これに対して、第二投射機30Bは、投射材の投射方向の中心線L2が処理室R1の内部側へ向けて装置上方側に傾斜するように設定されている。また、第一投射機30Aにおける投射材の投射方向の中心線L1と、第二投射機30Bにおける投射材の投射方向の中心線L2とが、自転軸部材46の自転軸の下方側延長線よりも各投射位置側の空間では交差しない関係に設定されている。なお、図中では、第一、第二投射機30A、30Bからの投射軌跡の範囲が中心線L1、L2を挟む二点鎖線で示されている。さらに、第二投射機30Bは、投射材の単位時間当たりの投射量が第一投射機30Aに比べて多量になるように設定されている。本実施形態では、一例として、上側の第一投射機30Aにおける投射材の単位時間当たりの投射量が300kg/min、下側の第二投射機30Bにおける投射材の単位時間当たりの投射量が400kg/minに設定されている。なお、この投射材の単位時間当たりの投射量の調整については後述する。一方、処理室R1内に投射された投射材を装置下方側へ落下させるために、処理室R1の底床部14Zには複数の孔部14Z1が形成されている。また、図6では図示を省略しているが、図3に示されるように、外周壁14Wの外側には取付板を介してシール部材42が取り付けられている。シール部材42は、ゴム製とされて外周壁14Wの上下方向の全長に亘って設けられると共に装置平面視で周方向に沿って複数配置されており、外周壁14Wとキャビネット12の内周面との間をシールしている。さらに、ロータリー14の外周側に対向するキャビネット12の内周側には、円柱状の丸棒図示省略が装置上下方向を軸方向として取り付けられている。前記丸棒は、キャビネット12の内周の周方向に沿って複数配置されており、キャビネット12の内周に沿って流れようとする投射材の進行を阻止して落下させるようになっている。図1に示されるように、第一投射機30Aには、導入筒28Aを介して投射材供給用の導入管26Aの下端が連結され、導入管26Aの上端には投射材の流量を調整するための流量調整装置24Aが設けられている。同様に、第二投射機30Bには、導入筒28Bを介して投射材供給用の導入管26Bの下端が連結され、導入管26Bの上端には投射材の流量を調整するための流量調整装置24Bが設けられている。流量調整装置24A、24Bは、開閉ゲートを備えており、この開閉ゲートの開度は調整可能とされている。そして、本実施形態では、流量調整装置24A、24Bの開閉ゲートを開く場合には、流量調整装置24Aの開閉ゲートのゲート開度よりも流量調整装置24Bの開閉ゲートのゲート開度のほうが大きくなるように設定されている。これにより、第二投射機30Bによる投射材の単位時間当たりの投射量が第一投射機30Aによる投射材の単位時間当たりの投射量に比べて多量に設定される。図5に示されるように、流量調整装置24A、24Bは、制御部38に接続されており、開閉ゲートの作動開閉及び開閉量の調整が制御部38によって制御されている。また、図1に示されるように、第一投射機30Aは、導入筒28A、導入管26A、及び流量調整装置24Aを介して循環装置34に連結され、第二投射機30Bは、導入筒28B、導入管26B、及び流量調整装置24Bを介して循環装置34に連結されている。循環装置34は、第一投射機30A及び第二投射機30Bによって投射された投射材を搬送して第一投射機30A及び第二投射機30Bへ循環させるための装置である。循環装置34は、キャビネット12の下部にスクリュウコンベヤ34Aを備えている。スクリュウコンベヤ34Aは、水平に配置されて装置左右方向を長手方向としており、投射室20図6参照から落下する投射材を回収して当該投射材をスクリュウコンベヤ34Aの長手方向に沿った所定方向本実施形態では装置右側へ向けて搬送するようになっている。スクリュウコンベヤ34Aの搬送方向下流側図1の装置右側には、装置上下方向に延びるバケットエレベータ34Bの下端部側が配置されている。図2に示されるように、バケットエレベータ34Bは、公知構造であるため詳細説明を省略するが、ショットブラスト装置10の上部及び下部に配置されたプーリ34B1に無端ベルト34B2が巻き掛けられると共に、無端ベルト34B2に多数のバケット34B3が取り付けられている。またプーリ34B1は駆動用モータ34C図1参照に接続されて回転駆動可能とされている。これにより、バケットエレベータ34Bは、スクリュウコンベヤ34Aで回収した投射材をバケット34B3で掬い上げると共に、プーリ34B1を駆動用モータ34C図1参照で回転させることによって、バケット34B3内の投射材をキャビネット12の上方側へ向けて搬送するようになっている。バケットエレベータ34Bの上部は、シュート34Dを介してスクリュウコンベヤ34Eに接続されている。なお、図1に示される装置右側の架台36は、バケットエレベータ34Bの上部及びスクリュウコンベヤ34Eの点検を行う際に作業者の足場となる台である。図1に示されるように、スクリュウコンベヤ34Eは、水平に配置されて装置左右方向を長手方向としており、バケットエレベータ34Bの上部からシュート34Dを介して投入された投射材をスクリュウコンベヤ34Eの長手方向に沿った所定方向本実施形態では装置左側へ搬送するようになっている。スクリュウコンベヤ34Eの長手方向中間部の下方側には、スクリュウコンベヤ34Eからの投射材が流通可能な位置に投射材タンク34F、34Gが設けられている。投射材タンク34F、34Gは、スクリュウコンベヤ34Eで搬送された投射材を流量調整装置24A、24Bへ供給するためのタンクであり、投射材タンク34Fは流量調整装置24Aの上方側に配置され、投射材タンク34Gは流量調整装置24Bの上方側に配置されている。一方、スクリュウコンベヤ34Eの搬送方向下流側の端部には、オーバーフローパイプ34Hの上端部が設けられている。また、オーバーフローパイプ34Hの下端部には、風選式のセパレータ34Iが取り付けられている。セパレータ34Iは、流入された投射材を含む粉粒物に気流を当てることによって前記気流に乗せられる軽量物と落下する重量物とに選別し、投射材から異物を分級するようになっている。セパレータ34Iの側面部には、セパレータ34Iに連通するセトリングチャンバ34Jが取り付けられている。セトリングチャンバ34Jは、ダクト34Kを介して図示しない集塵機に接続されると共に、セトリングチャンバ34Jの内部セパレータ34I側とダクト34K側と間の通路にチャンバ上壁側から垂れ下がる案内板34J1を備えている。これにより、セトリングチャンバ34Jは、前記集塵機の吸入手段ブロワの吸入力で吸入された空気へ案内板34J1によって迂回流を生じさせると共に、吸入されたエア中の粒子異物を前記迂回流によって分離するようになっている。ダクト34Kは、微粉を含むエアを流通させるようになっており、ダクト34Kに連結された前記集塵機は、微粉を含むエアを濾過してエアのみを大気中へ排気すると共に、微粉を前記集塵機の下方側の微粉受箱図示省略に堆積させるようになっている。セトリングチャンバ34Jの下部は、傾斜篩34Lに連通しており、セトリングチャンバ34Jで前記異物から分離された粗粉が傾斜篩34Lで篩い分けられる分級されるようになっている。また、傾斜篩34Lは、投射材戻りシュート34Mを介してキャビネット12の内部スクリュウコンベヤ34Aの上流側近傍に連通している。傾斜篩34Lで篩い分けられて使用可能な投射材は、投射材戻りシュート34Mを通ってキャビネット12の内部に戻り、循環使用されるようになっている。また、セトリングチャンバ34Jの下部は微粉排出シュート34Nに連通し、微粉排出シュート34Nの下方側には、微粉受け箱34Pが配置されている。これにより、セトリングチャンバ34Jにて分離された微粉が微粉排出シュート34Nを通って微粉受け箱34Pへ排出されるようになっている。次に、図2に示される被処理対象物Wを公転及び自転させるための機構について説明する。図2に示されるように、ロータリー14の天井部14Uには、自転軸部材46が設けられている。自転軸部材46は、その下部が処理室R1内に配置され、ケージ44を介して被処理対象物Wを処理室R1内に吊り下げ支持する。被処理対象物Wがケージ44内に配置されることで被処理対象物Wの落下防止と被処理対象物Wの傷付き防止が図られている。ケージ44を自転させる自転軸部材46の自転軸線と平面視でのケージ44の回転中心とは、装置平面視で同心になるように設定されている図示省略。なお、図2の図中左側のケージ44は、自転軸部材46から取り外された状態を示している。また、キャビネット12には、回転駆動機構60が設けられている。回転駆動機構60は、公転軸部62、公転車輪64、及び公転駆動モータ66を含んで構成され、ロータリー14を装置上下方向の軸線の周りに回転させることで自転軸部材46を公転させるようになっている。公転軸部62は、ロータリー14の天井部14Uの中央部に取り付けられ、装置上下方向を軸方向としてロータリー14の上方側に配置されており、その上下方向中間部は軸受部68を介してフレーム部70を貫通している。公転車輪64は、公転軸部62の上端部に同軸的に連結されており、公転駆動モータ66によって回転駆動されるようになっている。換言すれば、公転軸部62は、公転駆動モータ66の作動によって装置上下方向の軸周りに回転するようになっている。図5に示されるように、公転駆動モータ66図5ではブロック化して図示は、制御部38に接続されており、制御部38によって作動が制御されている。また、回転駆動機構60は、公転ロック用として、ロータリー14の外周面の所定位置に形成された凹部14Xと、ロータリー14の外周面に対向して配置されたロックシリンダ72A図中では模式化して図示と、を備えている。本実施形態では、凹部14Xは、ロータリー14の周方向の近接位置に三個連続して形成されて凹部群を形成すると共に、この凹部群がロータリー14の周方向に等間隔で計三箇所に形成されている。また、ロックシリンダ72Aは、公知のエアシリンダとされ、ロッド72A1が凹部14Xの内部に嵌る位置とロータリー14の外周面から離れた位置との間で伸縮可能とされている。ロックシリンダ72Aは、いずれもブロック化して図示するエア方向制御機器電磁弁等72Bを介してエア供給源72Cと接続されており、エア方向制御機器72Bは、制御部38に接続されている。制御部38は、後述する所定の条件に従って、エア方向制御機器72Bを制御することで、ロックシリンダ72Aのロッド72A1の伸縮を方向制御している。また、回転駆動機構60は、ロータリー14の外周面に120°間隔で金属74Zが取り付けられると共に、ロータリー14の外周面から若干離れてかつ互いに近接配置された計三個の近接スイッチ74A、74B、74Cを備えている。近接スイッチ74A、74B、74Cは、金属74Zが所定範囲内まで接近した際に近接スイッチ74A、74B、74Cを含む電気回路制御回路部を導通状態にする構成とされている。すなわち、ロータリー14が所定の回転角度位置に達した状態では、金属74Zが近接スイッチ74A、74B、74Cに近接することにより、近接スイッチ74A、74B、74Cが金属74Zの近接を検出、換言すれば、ロータリー14が所定の回転角度位置にあることを検出するようになっている。近接スイッチ74A、74B、74Cは、制御部38に接続されている。制御部38は、近接スイッチ74A、74B、74Cが金属74Zの近接を検出した場合には、その検出結果に基づいて、エア方向制御機器72Bを制御することで、ロックシリンダ72Aのロッド72A1がロータリー14の外周面の凹部14Xに嵌る位置に伸びるように方向制御している。また、制御部38は、近接スイッチ74A、74B、74Cが金属74Zの近接を検出しない場合には、エア方向制御機器72Bを制御することで、ロックシリンダ72Aのロッド72A1がロータリー14の外周面から離れた位置に縮むように方向制御している。これにより、回転駆動機構60は、投射エリア40Bの複数位置を被処理対象物Wの公転停止位置としてロータリー14を一次停止させるようになっており、ブラスト処理のムラ研掃ムラの防止又は効果的な抑制を図っている。ここで、図4に示されるように、投射エリア40Bにおける被処理対象物Wの公転停止位置は、装置平面視で自転軸部材46の自転軸心が第一、第二投射機30A、30Bにおける投射材の投射方向の中心線L1、L2の上に配置される位置となる第二位置図4B参照と、図4Bに示される第二位置に対してロータリー14の回転方向上流側の位置いわば偏心した位置である第一位置図4A参照と、図4Bに示される第二位置に対してロータリー14の回転方向下流側の位置いわば偏心した位置である第三位置図4C参照と、に設定されている。なお、被処理対象物Wの公転停止位置でロータリー14を一次停止させた場合には図6に示されるように、処理室R1のうちの一室が搬入エリア40Aに配置される換言すれば、搬入室18になると共に処理室R1のうちの他の一室は搬出エリア40Cに配置される換言すれば、搬出室22になるように設定されている。一方、図2に示されるように、自転軸部材46の上部には、ロータリー14の上方側で自転車輪48が同軸的に連結されている。自転車輪48は、ゴムローラで構成され、自転軸部材46に取り付けられたケージ44が投射エリア40B図6参照、被処理対象物Wが第一、第二投射機30A、30Bにより投射されるエリアの所定位置、具体的には被処理対象物Wの公転停止位置に達すると、自転駆動車輪50に接するようになっている。また、自転駆動車輪50は、ゴムローラで構成されると共に自転駆動モータ52に駆動可能に接続されており、自転駆動車輪50が自転駆動モータ52によって駆動された状態で自転車輪48に接すると、自転軸部材46がその軸周りに自転するようになっている。図5に示されるように、自転駆動モータ52図5ではブロック化して図示は、制御部38に接続されている。制御部38は、被処理対象物Wへの投射材の投射が行われている場合には自転駆動モータ52を作動させるように制御している。自転駆動車輪50は、軸受を介して揺動アーム54Aに取り付けられている。揺動アーム54Aは、装置上下方向の軸54X周りに揺動回転移動可能とされて駆動部54B図5ではブロック化して図示に接続されており、駆動部54Bの作動によって揺動するようになっている。なお、駆動部54Bはエアシリンダを含んで構成されている。駆動部54Bは制御部38に接続されている。制御部38は、被処理対象物Wが公転停止位置に到達した場合に、駆動部54Bを制御することで、揺動アーム54Aを揺動させ、自転駆動車輪50を自転車輪48に当接させるように制御している。また、自転軸部材46の自転ロック用として、自転車輪48と同軸に固着されたロックリング49の外周面には、凹部49Aが形成されると共に、ロックリング49の外周側にはロック用ローラ56Aが設けられている。ロック用ローラ56Aは、駆動部56B図中ではブロック化して図示に接続され、駆動部56Bの作動によって、凹部49A内に配置される位置と凹部49Aから離れた位置との間で変位可能とされている。駆動部56Bは制御部38に接続されている。制御部38は、自転駆動モータ52を作動させている場合には、駆動部56Bを制御することでロック用ローラ56Aを凹部49Aから離間した位置に配置し、自転駆動モータ52を停止させた場合には、駆動部56Bを制御することでロック用ローラ56Aを凹部49A内に配置させる。また、制御部38は、ロック用ローラ56Aを凹部49A内に配置させた後、駆動部54Bを制御することで、揺動アーム54Aを揺動させ、自転駆動車輪50を自転車輪48から離間させるように制御している。なお、図5では、三本の自転軸部材46のうちの一本のみについてその自転及び自転ロックの機構を図示しているが、他の二本の自転軸部材46についても同様の機構が設けられている図5では図示省略。作用効果次に、上記実施形態の作用及び効果について説明する。本実施形態に係るショットブラスト装置10では、図6に示される自転軸部材46は、ロータリー14の天井部14Uに設けられて被処理対象物Wを処理室R1内に吊り下げ支持する共に被処理対象物Wが第一、第二投射機30A、30Bにより投射される投射エリア40Bで自転可能となっている。このため、被処理対象物Wが全周に亘って投射される。また、本実施形態に係るショットブラスト装置10では、搬入エリア40Aは、被処理対象物Wを自転軸部材46に吊り下げ支持させるためのエリアとなっており、搬出エリア40Cは、被処理対象物Wを自転軸部材46から降ろすためのエリアとなっている。そして、処理室R1がロータリー14の周方向に三室並設されており、被処理対象物Wの公転停止位置でロータリー14を一次停止させた場合に処理室R1のうちの一室が搬入エリア40Aに配置されると共に処理室R1のうちの他の一室は搬出エリア40Cに配置される。このため、投射エリア40Bで被処理対象物Wに投射がなされている間に、搬入エリア40Aでケージ44内に一個ないし複数個の被処理対象物Wを挿入することで被処理対象物Wを自転軸部材46に吊り下げ支持させると同時に、ショット処理済みの被処理対象物Wを搬出エリア40Cで自転軸部材46から降ろすことができる。このように、投射中に搬出と搬入とを同時に別々のエリアで行うことができるので、例えば、1箇所のエリアで搬出及び搬入を行うような構成に比べて、搬入出に要する時間が短縮される。搬入エリア40Aで搬入されると共に搬出エリア40Cで搬出されると、公転駆動モータ66図2参照の駆動力によりロータリー14及び仕切部16が公転軸部62を中心軸として120°弱回転され、ケージ44に挿入された状態の被処理対象物Wが搬入エリア40Aから投射エリア40Bに移動される。次に、図5に示されるように、投射エリア40Bにおいて、自転駆動モータ52が作動することで自転駆動車輪50が回転し、自転駆動車輪50が自転車輪48に当接することで自転軸部材46が回転される。これにより、投射エリア40Bのケージ44は自転軸部材46を中心にして自転する。そして、流量調整装置24A、24Bの開閉ゲートが開かれ、第一、第二投射機30A、30B図6参照の作動により、自転軸部材46を中心にして自転するケージ44内の被処理対象物Wへ投射材が投射される。ここで、図6に示される第一投射機30Aは、ロータリー14の上部側方に配置され、投射材の投射方向の中心線L1が処理室R1の内部側へ向けて装置下方側に傾斜するように設定されている。これに対して、第二投射機30Bは、ロータリー14の下部側方に配置され、投射材の投射方向の中心線L2が処理室R1の内部側へ向けて装置上方側に傾斜するように設定されている。このように、被処理対象物Wに対して、斜め上方側と斜め下方側との両方から投射材が投射されることで、被処理対象物Wの全面に効率良く投射される。また、第二投射機30Bは、投射材の単位時間当たりの投射量が第一投射機30Aに比べて多量に設定されている。このため、斜め上向き投射によって投射材が減速しても、第一投射機30Aの斜め下向き投射によるショット処理と同程度のショット処理がなされる。また、本実施形態では、投射中に被処理対象物Wがケージ44内で若干浮き上がり、ケージ44の載置部上面と被処理対象物Wの底面との間に隙間ができた状態で投射がなされることになる。このため、ブラスト処理研掃しにくい被処理対象物Wの底面ケージ44に接する面の未処理部分未研掃部分をなくすことができ、被処理対象物Wの全体を確実にブラスト処理することができる。また、第一投射機30Aにおける投射材の投射方向の中心線L1と、第二投射機30Bにおける投射材の投射方向の中心線L2とが、少なくとも自転軸部材46の自転軸の下方側延長線よりも各投射位置側の空間では交差しない関係に設定されているので、第一投射機30Aから投射された投射材と第二投射機30Bから投射された投射材とが被処理対象物Wに達する前に互いに干渉してしまうという不具合が抑えられる。このため、投射効率が向上する。一方、本実施形態に係るショットブラスト装置10では、図5に示される回転駆動機構60は、ロータリー14を装置上下方向の軸線の周りに回転させることで自転軸部材46を公転させると共に、投射エリア40Bの複数位置を被処理対象物Wの公転停止位置としてロータリー14を一次停止させる。このため、被処理対象物Wは、複数の公転停止位置で投射材の当たり方が相対的に変えられるので、より均一に精度良く投射される。より具体的には、図4に示されるように、投射エリア40Bに入った被処理対象物Wは、第一位置図4A参照、第二位置図4B参照、及び第三位置図4C参照の順で公転停止されて、それぞれの位置で自転しながら投射される。ここで、図4Bに示される第二位置は、装置平面視で自転軸部材46の自転軸心が第一、第二投射機30A、30Bにおける投射材の投射方向の中心線L1、L2の上に配置される位置となっており、図4Aに示される第一位置は、図4Bに示される第二位置に対してロータリー14の回転方向上流側の位置であり、図4Cに示される第三位置は、図4Bに示される第二位置に対してロータリー14の回転方向下流側の位置である。このため、被処理対象物Wは、投射エリア40Bで三点停止されつつ投射がなされ、投射材が効率良く当たる第二位置図4B参照とその前後の第一、第三位置図4A及び図4C参照で、効率的にかつ均一に投射される。以上説明したように、本実施形態に係るショットブラスト装置10によれば、トータルの処理時間を短縮することができる。[第2実施形態]次に、本発明の第2の実施形態に係るショット処理装置としてのショットブラスト装置80について、図7~図10を用いて説明する。図7には、本実施形態に係るショットブラスト装置80の全体構成が正面図にて示され、図8には、ショットブラスト装置80の全体構成が右側面図にて示され、図9には、ショットブラスト装置80の全体構成が平面図にて示されている。また、図10には本実施形態における処理室R2の構成が平面視の断面図にて示されている。なお、第1の実施形態と実質的に同様の構成部については、同一符号を付して説明を省略する。図7~図9に示されるように、ショットブラスト装置80は、中空柱状のキャビネット82を備えている。図9に示されるように、キャビネット82の内部における中央部には、略円筒状のロータリー84が配置されている。ロータリー84は、詳細後述するように、装置上下方向の軸線の周りに回転駆動させられるように回転駆動機構94に接続されている。ロータリー84には、回転中心である装置上下方向の前記軸線の周りの空間が仕切部86仕切部材に仕切られることで複数本実施形態では計六室の処理室R2が周方向に並設されている。なお、仕切部86は、ロータリー84における天井部84Uの下方側に設けられているが、図中では、図を見易くするために、仕切部86の大部分を隠れ線ではなく実線で図示している。処理室R2は、被処理対象物Wの搬入出及び投射材の投射をなすための部屋となっている。これらの処理室R2には、外周側に向けて開口した開口部84Aが形成されている。開口部84Aは、被処理対象物Wの搬入用、被処理対象物Wの搬出用、及び投射材の通過用となる。処理室R2は、第1の実施形態と同様に、キャビネット82の内部空間に配置され、ロータリー84の回転変位によって、搬入室18、投射室20、及び搬出室22のいずれにもなり得る部屋である。本実施形態では、投射室20は二室設けられている。また、本実施形態では、投射室20と搬出室22との間が吹き落とし室21とされている。ロータリー84の外周側で吹き落とし室21の対向部には、図示しない吹付装置エアブロー部が配置されている。前記吹付装置は、被処理対象物W上に残留した投射材の吹き落とし用とされ、開口部84Aを通してロータリー84の内部側に気体本実施形態では圧縮空気の吹き付けが可能になっている。なお、本実施形態における搬入エリア40Aは、被処理対象物Wを後述する吊下支持部としてのハンガーフック92に吊り下げ支持させるためのエリアであり、搬出エリア40Cは、被処理対象物Wをハンガーフック92から降ろすためのエリアである。図10に示されるように、仕切部86には、処理室R2の室内側へ向けられた仕切面にライナ87A、87Bが取り付けられている。ライナ87Aは、平面視でロータリー84の半径方向に延在すると共にロータリー84の外周面側に配置された端部87A1が内向きに湾曲している。ライナ87Aの端部87A1の内側面にはゴムライニングが施されている。このような構成では、投射された投射材がライナ87Aに沿って流れてもライナ87Aの端部87A1で失速してロータリー84の底床部84Zに落下し、底床部84Zの孔部84Z1から後述するホッパ90A図8参照に回収されるようになっている。なお、ロータリー84には、底床部84Z及び図示しない天井部にも同様にライナ87Cが取り付けられている。一方、図7及び図8に示されるように、ロータリー84の上部の側方には第一投射機88Aが配置されており、この第一投射機88Aは、キャビネット82の側壁の上部側に取り付けられている。これに対して、ロータリー84の下部の側方には第二投射機88Bが配置されており、この第二投射機88Bは、キャビネット82の側壁の下部側に取り付けられている。第一、第二投射機88A、88Bは、第1の実施形態における第一、第二投射機30A、30B図1及び図2参照と同様の基本構成を備えており、投射材を図9に示される処理室R2における開口部84Aを通して処理室R2の内部に投射するようになっている。また、図7等に示される第一、第二投射機88A、88Bの投射方向は、第1の実施形態と同様に設定されている。すなわち、第一投射機88Aは、投射材の投射方向の中心線図示省略が処理室R2図9参照の内部側へ向けて装置下方側に傾斜するように設定され、第二投射機88Bは、投射材の投射方向の中心線図示省略が処理室R2図9参照の内部側へ向けて装置上方側に傾斜するように設定されている。また、第一投射機88Aにおける投射材の投射方向の中心線と、第二投射機88Bにおける投射材の投射方向の中心線とが、ハンガーフック92の自転軸の下方側延長線よりも各投射位置側の空間では交差しない関係に設定されている。さらに、第1の実施形態と同様に、第二投射機88Bは、投射材の単位時間当たりの投射量が第一投射機88Aに比べて多量になるように設定されている。図7及び図8に示されるように、第一、第二投射機88A、88Bは、導入筒28A、28B、及び導入管26A、26Bを介して流量調整装置24A、24Bに接続されている。なお、流量調整装置24A及び流量調整装置24Bは、それぞれ二台設けられており、二本の導入管26Aは、それぞれ流量調整装置24Aと一対一で接続されると共に、二本の導入管26Bは、それぞれ流量調整装置24Bと一対一で接続されている。流量調整装置24A、24Bは、第1実施形態と同様に、制御部図示省略に接続されており、開閉ゲートの作動開閉及び開閉量の調整が第1実施形態と同様に前記制御部によって制御されている。第一、第二投射機88A、88Bは、導入筒28A、28B、導入管26A、26B、及び流量調整装置24A、24Bを介して循環装置90に連結されている。循環装置90は、第一、第二投射機88A、88Bによって投射された投射材を搬送して第一、第二投射機88A、88Bへ循環させるための装置であり、第1の実施形態における循環装置34図1参照と実質的に一部同様の構成とされている。よって、第1の実施形態における循環装置34図1参照と実質的に同様の構成部については説明を省略する。循環装置90は、ロータリー84の下方側にホッパ90Aを備えている。ホッパ90Aは、ロータリー84の底床部84Zに形成された孔部84Z1図10参照から落下した投射材をスクリュウコンベヤ34Aへ流す。一方、装置上部では、上側のスクリュウコンベヤ34Eの搬送方向下流側に風選式のセパレータ90Bが取り付けられている。セパレータ90Bは、流入された投射材を含む粉粒物に気流を当てることによって前記気流に乗せられる軽量物と落下する重量物とに選別し、投射材から異物を分級するようになっており、使用可能な投射材のみを投射材タンク90Cへ流す。投射材タンク90Cは、投射材を流量調整装置24A、24Bへ供給するためのタンクであり、流量調整装置24A、24Bの上方側に配置されている。次に、図9に示される被処理対象物Wを公転及び自転させるための機構について説明する。図9に示されるように、ロータリー84の天井部84Uには、ハンガーフック92が設けられている。ハンガーフック92は、その軸上部にホイール部92Aが同軸的に連結されると共に、その下部が処理室R2内に配置され、被処理対象物Wを処理室R2内に吊り下げ支持する。また、キャビネット82には、回転駆動機構94が設けられている。回転駆動機構94は、公転軸部96、公転タイヤ98、及び公転駆動モータ100を含んで構成され、ロータリー84を装置上下方向の軸線の周りに回転させることでハンガーフック92を公転させるようになっている。図7に示されるように、公転軸部96は、装置上下方向を軸心方向として配置され、上下端部が軸受部を介してフレーム部に支持されると共に、ロータリー84の天井部84Uの中央部に固定されている。図9に示されるように、ロータリー84の外周側面は、装置上下方向を軸心方向として配置された公転タイヤ98に接している。公転タイヤ98を回転自在に支持する軸受部は、装置上下方向の軸99X周りに揺動回転移動可能な揺動アーム99に取り付けられている。揺動アーム99の先端部図中の右端部は、図示しないバネによってロータリー84側へ付勢されている。これにより、公転タイヤ98はロータリー84側へ押し付けられている。また、公転タイヤ98は、公転駆動モータ100のモータ軸に同軸的に連結されており、公転駆動モータ100によって回転駆動されるようになっている。換言すれば、ロータリー84は、公転駆動モータ100の作動によって公転軸部96周りに回転するようになっている。なお、公転駆動モータ100は、第1の実施形態と同様に、制御部図示省略に接続されており、前記制御部によって作動が制御される。また、回転駆動機構94は、第1の実施形態の回転駆動機構60図5参照と同様に公転ロック用の機能を備えている。これらにより、回転駆動機構94は、投射エリア40Bの複数位置を被処理対象物Wの公転停止位置としてロータリー84を一次停止させるようになっており、ブラスト処理のムラ研掃ムラの防止又は効果的な抑制を図っている。ここで、投射エリア40Bにおける被処理対象物Wの公転停止位置は、第1の実施形態図4参照と同様に、装置平面視でハンガーフック92の自転軸心が第一、第二投射機88A、88Bにおける投射材の投射方向の中心線上に配置される位置となる第二位置と、前記第二位置に対してロータリー84の回転方向上流側の位置である第一位置と、前記第二位置に対してロータリー84の回転方向下流側の位置である第三位置と、に設定されている。これらは、第1の実施形態と同様に、制御部図示省略によって制御される。また、本実施形態では、ハンガーフック92は、投射エリア40Bに入ると低速で公転移動して、第一位置での前停止、第二位置での中央停止、第三位置での後停止の三点で公転停止し、さらに投射エリア40Bから次の投射エリア40Bへ移る際には高速で公転移動するように、制御されている。なお、被処理対象物Wの公転停止位置でロータリー84を一次停止させた場合に、処理室R2のうちの一室が搬入エリア40Aに配置される換言すれば、搬入室18になると共に、処理室R2のうちの他の一室は搬出エリア40Cに配置される換言すれば、搬出室22になるように設定されている。一方、キャビネット82の天井部82Uには、チェーンホイール付き駆動モータ102が投射室20に対応して計二個配置されている。チェーンホイール付き駆動モータ102のチェーンホイール102Aは、シリンダ104によって、ハンガーフック92のホイール部92A側へ押し付け可能となっている。具体的には、チェーンホイール102Aは、被処理対象物Wが投射エリア40B被処理対象物Wが第一、第二投射機88A、88Bにより投射されるエリアの公転停止位置に達すると、ハンガーフック92のホイール部92Aに押し付けられるようになっている。また、チェーンホイール付き駆動モータ102が作動状態で、そのチェーンホイール102Aがハンガーフック92のホイール部92Aに接すると、ハンガーフック92がその軸周りに自転するようになっている。なお、シリンダ104は、伸縮可能なロッドを備えた公知のエアシリンダとされ、図示しないエア方向制御機器電磁弁等を介して図示しないエア供給源と接続されており、前記エア方向制御機器は、図示しない制御部に接続されている。前記制御部は、第1の実施形態と同様のタイミングでハンガーフック92を所定時に自転させるように、シリンダ104のロッドの伸縮を方向制御することで、ハンガーフック92のホイール部92Aにチェーンホイール付き駆動モータ102のチェーンホイール102Aを接離させている。また、図9に示される被処理対象物Wを公転、公転停止、自転、及び自転停止させるための条件は、第1の実施形態と同様であり、図示しない前記制御部によってこれらの作動等が制御されている。以上説明した本実施形態の構成によっても、前述した第1実施形態と同様の作用及び効果が得られる。[第2実施形態の変形例なお、第2の実施形態の変形例として、ロータリー84の内部の仕切構成は、図11に示されるような構成でもよい。なお、上記実施形態と実質的に同様の構成部は同一符号を付して説明を省略する。また、詳細図示を省略するが、仕切部86には、処理室R2の室内側へ向けられた仕切面にライナ第2の実施形態におけるライナ87A、87B図10参照と同様のライナが取り付けられ、ロータリー84には、底床部及び天井部に適宜ライナが取り付けられている。図11Aは、処理室R2が二室であり、搬入出室19及び投射室20がそれぞれ一室ずつ設けられた構成である。図11Bは、処理室R2が三室であり、搬入室18、投射室20、及び搬出室22がそれぞれ一室ずつ設けられた構成である。図11Cは、処理室R2が五室であり、搬入室18、投射室20、及び搬出室22がそれぞれ一室ずつ設けられた構成である。図11Dは、処理室R2が六室であり、投射室20が二室、搬入室18及び搬出室22がそれぞれ一室ずつ設けられた構成である。図11Eは、処理室R2が四室であり、搬入室18、投射室20、及び搬出室22がそれぞれ一室ずつ設けられた構成である。図11Fは、処理室R2が六室であり、投射室20が二室、搬入室18及び搬出室22がそれぞれ一室ずつ設けられた構成である。[第3実施形態]次に、本発明の第3の実施形態に係るショット処理装置としてのショットブラスト装置110について、図12~図14を用いて説明する。図12には、本発明の第3の実施形態に係るショットブラスト装置110の全体構成が正面図にて示され、図13には、ショットブラスト装置110の全体構成が右側面図にて示され、図14には、ショットブラスト装置110の全体構成が平面図にて示されている。なお、第1、第2の実施形態と実質的に同様の構成部については、同一符号を付して説明を省略する。また、本実施形態に係るショットブラスト装置110の被処理対象物Wには、例えば、鋳造品、プレス品、及び溶接構造物等、より具体的には一例として自動車関連部品が適用される。図12~図14に示されるように、ショットブラスト装置110は、箱状のキャビネット112を備えている。図14に示されるように、キャビネット112の内部には、略円筒状のロータリー114公転ドラムともいう。が配置されている。ロータリー114は、詳細後述するように、装置上下方向の軸線の周りに回転駆動させられるように回転駆動機構126に接続されている。ロータリー114には、回転中心である装置上下方向の前記軸線の周りの空間が仕切部116に仕切られることで複数本実施形態では計二室の処理室が周方向に並設されている。仕切部116は仕切部材によって構成されている。処理室R3には、外周側に向けて開口し開口部114Aが形成されている。開口部114Aは、被処理対象物Wの搬入用、被処理対象物Wの搬出用、及び投射材の通過用となる。処理室R3は、キャビネット12の内部空間に配置され、ロータリー114の回転変位によって、搬入出室19及び搬出室22のいずれにもなり得る部屋である。ここで、搬入出室19は、ショットブラスト装置110の搬入出エリア40Dに配置されて被処理対象物Wの搬入用と搬出用とを兼ねた部屋である。換言すれば、例えば、当初は搬入出室19であった処理室R3は、ロータリー114がその軸周りに所定角度だけ回転変位することで、投射室20になり、さらに、ロータリー114がその軸周りに所定角度だけ回転変位することで、搬入出室19になる。なお、搬入出エリア40Dは、被処理対象物Wを後述する吊下支持部としての自転軸部材122から降ろすためのエリアでありかつ被処理対象物Wを自転軸部材122に吊り下げ支持させるためのエリアである。一方、図13に示されるように、ロータリー114の上部の側方には第一投射機118Aが配置されており、この第一投射機118Aは、キャビネット112の側壁の上部側に取り付けられている。これに対して、ロータリー114の下部の側方には第二投射機118Bが配置されており、この第二投射機118Bは、キャビネット112の側壁の下部側に取り付けられている。第一、第二投射機118A、118Bは、第1の実施形態における第一、第二投射機30A、30B図1及び図2参照と同様の基本構成を備えており、投射材を図14に示される処理室R3における開口部114Aを通して処理室R3の内部に投射するようになっている。また、図13に示される第一、第二投射機118A、118Bの投射方向は、第1の実施形態と同様に設定されている。すなわち、第一投射機118Aは、投射材の投射方向の中心線L3が処理室R3の内部側へ向けて装置下方側に傾斜するように設定され、第二投射機118Bは、投射材の投射方向の中心線L4が処理室R3の内部側へ向けて装置上方側に傾斜するように設定されている。また、図12に示されるように、第一投射機118Aと第二投射機118Bとは、それぞれの羽根車の回転軸線CL3、CL4が互いに平行とされると共に、互いに羽根車の回転軸線方向にオフセットして配置されている。このオフセットにより、第一投射機118Aにおける投射材の投射方向の中心線L3図13参照と、第二投射機118Bにおける投射材の投射方向の中心線L4図13参照とは、自転軸部材122の自転軸の下方側延長線よりも各投射位置側の空間を含め交差しない関係に設定されている。なお、図13では、第一投射機118Aにおける投射材の投射方向の中心線L3と、第二投射機118Bにおける投射材の投射方向の中心線L4とが二次元的に見ると交差しているように見えるが、中心線L3と中心線L4とは、図中の紙面に垂直な方向にずれており、三次元的には交差していない。さらに、第1の実施形態と同様に、第二投射機118Bは、投射材の単位時間当たりの投射量が第一投射機118Aの投射量に比べて多量になるように設定されている。本実施形態では、一例として、上側の第一投射機118Aにおける投射材の単位時間当たりの投射量が300kg/min、下側の第二投射機118Bにおける投射材の単位時間当たりの投射量が400kg/minに設定されている。第一、第二投射機118A、118Bは、導入管26A、26Bを介して流量調整装置24A、24Bに接続されている。流量調整装置24A、24Bは、第1実施形態と同様に、制御部図示省略に接続されており、開閉ゲートの作動開閉及び開閉量の調整が第1実施形態と同様に前記制御部によって制御されている。第一、第二投射機118A、118Bは、導入管26A、26B、及び流量調整装置24A、24Bを介して循環装置120に連結されている。循環装置120は、第一、第二投射機118A、118Bによって投射された投射材を搬送して第一、第二投射機118A、118Bへ循環させるための装置であり、第1の実施形態における循環装置34図1参照と実質的に一部同様の構成とされている。よって、第1の実施形態における循環装置34図1参照と実質的に同様の構成部については説明を省略する。図12に示されるように、装置上部には、箱体120Aが設置されている。箱体120Aの内部の上部側には、ロータリースクリーン回転式の篩120Bが配設され、ロータリースクリーン120Bの内部にはスクリュウコンベヤ34Eが挿入されている。ロータリースクリーン120Bは、図示しない篩本体を備えており、前記篩本体は、網状体を備えて筒状に形成される共に投射材の径よりも大きい径の孔部網目が複数形成され、自らの軸周りに回転駆動されるようになっている。そして、ロータリースクリーン120Bは、回収された投射材と粉粒状の異物とを含む混合物がスクリュウコンベヤ34Eから前記篩本体の内部に流入されると共に前記篩本体が軸周りに回転することにより混合物を転動させながら孔部よりも径が大きい異物を除去する。また、箱体120Aの内部の下部側には、風選式のセパレータ120Cが配置されている。セパレータ120Cは、ロータリースクリーン120Bの前記孔部を通過して流入された投射材を含む粉粒物に気流を当てることによって前記気流に乗せられる軽量物と落下する重量物とに選別し、投射材から異物例えば、微粉や砂等の不純物を分級するようになっている。セパレータ120Cには、ダクト120Fを介して集塵機120G図13参照が接続されている。集塵機120Gは、吸入手段ブロワによってセパレータ120C内の空気を吸入しており、この吸入力によってセパレータ120Cの内部に前記気流を発生させる。箱体120Aの下部には、投射材タンク120D及び異物排出シュート120Eが連通連結されている。投射材タンク120Dには、セパレータ120Cで不純物が分離された投射材が流入して循環使用されるようになっている。投射材タンク120Dは、投射材を図13に示される流量調整装置24A、24Bへ供給するためのタンクであり、流量調整装置24A、24Bの上方側に配置されている。これに対して、異物排出シュート120Eは、ロータリースクリーン120Bの先端部側から排出された大きめの異物例えば、鋳バリを装置外へ排出するための排出用とされている。次に、図13及び図14に示される被処理対象物Wを公転及び自転させるための機構について説明する。図13に示されるように、ロータリー114の天井部114Uには、自転軸部材122が設けられている。自転軸部材122は、その下部が処理室R3内に配置され、ケージ124を介して被処理対象物Wを処理室R3内に吊り下げ支持する。なお、本実施形態では、図13に示されるケージ124は、自転軸部材122に上端部が係止されることで装置上下方向を長手方向として配置される支柱部124Aを備えると共に、支柱部124Aから水平方向に張り出して被処理対象物Wの挿入配置用とされたアーム部124Bを備えている。被処理対象物Wがケージ124に挿入されることで被処理対象物Wの落下防止と被処理対象物Wの傷付き防止が図られている。また、装置平面視でアーム部124Bにおける被処理対象物Wの配置中心は、自転軸部材122の自転軸線自転中心と同心になるように設定されている。ちなみに、図中ではアーム部124Bは一個設けられているが、アーム部124Bは装置上下方向に間隔を開けて複数個例えば三個設けられてもよい。また、ケージ124に代えて、籠状のケージ125を適用してもよい。また、キャビネット112には、回転駆動機構126が設けられている。回転駆動機構126は、公転軸部128、公転車輪130図14参照、及び公転駆動モータ132を含んで構成され、図14に示されるロータリー114を装置上下方向の軸線の周りに回転させることで自転軸部材122を公転させるようになっている。なお、図14では、公転軸部128の軸心に符号128を付している。図13に示されるように、公転軸部128は、装置上下方向を軸心方向として配置され、軸受部を介してフレーム部に支持されると共に、ロータリー114の天井部114Uの中央部に固定されている。図14に示されるように、ロータリー114の外周側面は、装置上下方向を軸心方向として配置された公転車輪130に接している。また、公転車輪130は、公転駆動モータ132のモータ軸に同軸的に連結されており、公転駆動モータ132によって回転駆動されるようになっている。換言すれば、ロータリー114は、公転駆動モータ132の作動によって公転軸部128周りに回転するようになっている。なお、公転駆動モータ132は、第1の実施形態と同様に、制御部図示省略に接続されており、前記制御部によって作動が制御される。また、回転駆動機構126は、第1の実施形態の回転駆動機構60図5参照と同様に公転ロック用の機能を備えている。これらにより、回転駆動機構126は、投射エリア40Bの複数位置を被処理対象物Wの公転停止位置としてロータリー114を一次停止させるようになっており、ブラスト処理のムラ研掃ムラの防止又は効果的な抑制を図っている。ここで、投射エリア40Bにおける被処理対象物Wの公転停止位置は、装置平面視で自転軸部材122の自転軸心が第一投射機118A図13参照における投射材の投射方向の中心線L3図13参照の上に配置される位置となる第二位置と、前記第二位置に対してロータリー114の回転方向上流側の位置である第一位置と、前記第二位置に対してロータリー114の回転方向下流側の位置である第三位置と、に設定されている。なお、変形例に係る設定として、投射エリア40Bにおける被処理対象物Wの公転停止位置は、装置平面視で自転軸部材122の自転軸心が第二投射機118B図13参照における投射材の投射方向の中心線L4図13参照上に配置される位置となる第二位置と、前記第二位置に対してロータリー114の回転方向上流側の位置である第一位置と、前記第二位置に対してロータリー114の回転方向下流側の位置である第三位置と、に設定されてもよい。これらは、第1の実施形態と同様に、制御部図示省略によって制御される。なお、被処理対象物Wの公転停止位置でロータリー114を一次停止させた場合には、処理室R3のうちの一室が投射エリア40Bに配置される換言すれば、投射室20になると共に処理室R3のうちの他の一室は搬入出エリア40Dに配置される換言すれば、搬入出室19になるように設定されている。一方、図13に示されるように、キャビネット112の装置上方側では、自転軸部材122の上端部に自転車輪134が同軸的に固着されている。これに対して、投射室20の上方側には、自転駆動モータ136が設けられると共に、自転駆動モータ136の作動により駆動される駆動ローラ138が設けられている。図14に示されるように、駆動ローラ138は、第1の実施形態の揺動アーム54A図5参照と同様の揺動アーム140に取り付けられると共に、第1の実施形態と同様に、被処理対象物Wが投射エリア40B被処理対象物Wが第一、第二投射機118A、118B図13参照により投射されるエリアの公転停止位置に達すると、自転車輪134に押し付けられるようになっている。また、自転駆動モータ136図13参照の作動状態で駆動ローラ138が自転車輪134に接すると、自転軸部材122がその軸周りに自転するようになっている。なお、図14に示される被処理対象物Wを公転、公転停止、自転、及び自転停止させるための条件は、第1の実施形態と同様であり、図示しない前記制御部によってこれらの作動等が制御されている。上記実施形態の構成によれば、投射エリア40Bで被処理対象物Wに投射がなされている間に、被処理対象物Wの搬入と搬出とを同時にはできないものの、投射中に被処理対象物Wの搬出と搬入が可能であり、また、他の点については、前述した第1実施形態とほぼ同様の作用及び効果が得られる。そして、公転駆動モータ132図13参照が作動されて、ロータリー114及び仕切部116が公転軸部128を中心にして180°弱回転されることで、ケージ124に挿入された状態の被処理対象物Wが投射エリア40Bと搬入出エリア40Dとの間で移動される。[第4実施形態]次に、本発明の第4の実施形態に係るショット処理装置としてのショットブラスト装置150について、図15~図17を用いて説明する。図15には、ショットブラスト装置150の全体構成が正面図にて示され、図16には、ショットブラスト装置150の全体構成が右側面図にて示され、図17には、ショットブラスト装置150の全体構成が平面図にて示されている。これらの図に示されるショットブラスト装置150は、基本的には第3の実施形態に係るショットブラスト装置110図12~図14参照を小型化した装置である。なお、第1~第3の実施形態に係るショットブラスト装置110と実質的に同様の構成部については、同一符号を付して説明を省略する。図16に示されるように、第一、第二投射機118A、118Bによって投射された投射材を搬送して第一、第二投射機118A、118Bへ循環させるための循環装置152は、バケットエレベータ34Bの上部がシュート34Dを介してセパレータ120Cに接続されている。すなわち、循環装置152は、図12等に示される第3の実施形態の循環装置120におけるスクリュウコンベヤ34E及びロータリースクリーン120Bに相当する構成を備えていない。本実施形態の構成によっても、前述した第3実施形態とほぼ同様の作用及び効果得られる。[実施形態の補足説明]なお、上記実施形態では、ショット処理装置は、ショットブラスト装置10、80、110とされているが、ショット処理装置は、例えば、ショットピーニング装置に適用されてもよい。また、上記実施形態では、投射材を遠心力で加速して投射する遠心式の投射機第一投射機30A、88A、118A、及び第二投射機30B、88B、118Bがショットブラスト装置10、80、110の投射機として用いられているが、投射機は、例えば、圧縮空気とともに投射材を圧送しノズルから噴射するエアノズル式の投射機等のような他の投射機であってもよい。また、公転軸部62、96、128の駆動ついては、上記実施形態の構成に代えて、例えば、公転軸部回転軸に駆動モータの軸部を直接連結させて駆動させたり、駆動モータに直接連結されたテンションゴムローラで公転軸部回転軸を駆動させたりしてもよい。また、上記実施形態では、被処理対象物Wの公転停止位置が、第一位置、第二位置、及び第三位置に設定されており、より効率的にかつ均一に投射する観点からはこのような設定が好ましいが、被処理対象物Wの公転停止位置は、例えば、第一位置、第二位置、及び第三位置のうちのいずれか二つの位置に設定されてもよい。また、上記実施形態では、第一投射機30A、88A、118Aがロータリー14、84、114の上部の側方に配置されてかつ投射する投射材の投射方向の中心線L1、L3が処理室R1、R2、R3の内部側へ向けて装置下方側に傾斜するように設定されると共に、第二投射機30B、88B、118Bがロータリー14、84、114の下部の側方には配置されてかつその投射する投射材の投射方向の中心線L2、L4が処理室R1、R2、R3の内部側へ向けて装置上方側に傾斜するように設定されているが、例えば、被処理対象物の形状によっては、投射機がロータリーの上下方向中央部の側方にのみ配置される構成も採り得る。また、上記実施形態では、第一投射機30A、88A、118Aにおける投射材の投射方向の中心線L1、L3と、第二投射機30B、88B、118Bにおける投射材の投射方向の中心線L2、L4とが、少なくとも吊下支持部自転軸部材46、ハンガーフック92、自転軸部材122の自転軸の下方側延長線よりも各投射位置側の空間では交差しない関係に設定されており、被処理対象物Wをより効率的に投射する観点からはこのような構成が好ましいが、このような設定でない形態も採り得る。また、上記実施形態では、吊下支持部自転軸部材46、ハンガーフック92、自転軸部材122が所定時に自転停止されるが、吊下支持部が公転時に常時自転するような構成も採り得る。また、上記実施形態の変形例として、ショット処理装置は、例えば、処理室がロータリーの周方向に六室並設されており、被処理対象物の公転停止位置でロータリーを一次停止させた場合に処理室のうちの二室が投射エリアに配置され、処理室のうちの二室が搬入エリアに配置されると共に処理室のうちの二室は搬出エリアに配置されるように設定されているものであってもよい。なお、上記実施形態及び上述の複数の変形例は、適宜組み合わされて実施可能である。ちなみに、本発明ではない参考例として、上記実施形態とほぼ同様の装置構成で投射エリアの単一の位置を被処理対象物の公転停止位置としてロータリーを一次停止させるような形態例えば、公転軸部回転軸の駆動用にカム式割出装置例えば、CKD製のインデックスマン登録商標及びトルクリミッタを備えた構成を適用したような形態が採り得る。