"太陽電池の透明電極上の集光膜を形成する材料であって、633nmの波長で1.5から2.0の屈折率を有し、且つ400nmの波長の光に対して95以上の透過率を有する、芳香族基を有する有機系高分子化合物A及び架橋剤Bを含む、膜形成材料。前記有機系高分子化合物Aは、側鎖に炭素環式基を有する化合物である、請求項1に記載の膜形成材料。前記有機系高分子化合物Aは、下記式1で表される構造及び式2で表される構造のうちの少なくとも一種の構造を含む高分子化合物である、請求項2に記載の膜形成材料。式中、R1乃至R12は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数1乃至10のアルキル基、炭素原子数1乃至10のハロアルキル基、炭素原子数1乃至10のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、ホルミル基、シアノ基、アミノ基、カルボキシル基、ホスホニル基、スルホニル基、W8で置換されていてもよいフェニル基、W8で置換されていてもよいナフチル基、W8で置換されていてもよいチエニル基又はW8で置換されていてもよいフリル基を表し、W8は、炭素原子数1乃至10のアルキル基、炭素原子数1乃至10のハロアルキル基、炭素原子数1乃至10のアルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、ホルミル基、シアノ基、カルボキシル基、ホスホニル基又はスルホニル基を表し、Z1乃至Z6は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数1乃至10のアルキル基、炭素原子数1乃至10のハロアルキル基、炭素原子数1乃至10のアルコキシ基、ハロゲン原子を表し、n及びmは、繰り返し単位構造の数であって、それぞれ独立して1以上の整数を表す。前記有機系高分子化合物Aは、前記式1で表される構造及び/又は式2で表される構造を、該高分子化合物を構成する全構造に対して40モル以上含む化合物であり、重量平均分子量が500以上である高分子化合物である、請求項3に記載の膜形成材料。前記B成分の架橋剤が、ヒドロキシメチル基及び/又はアルコキシメチル基で置換された少なくとも2つの窒素原子を有するトリアジン化合物から選択される化合物である、請求項1に記載の膜形成材料。前記トリアジン化合物が芳香族基を有する化合物である、請求項5に記載の膜形成材料。前記有機系高分子化合物A100質量部に対し、前記成分Bを50乃至400質量部含有する、請求項5又は請求項6に記載の膜形成材料。さらにC成分として、酸を発生する化合物を含有する、請求項7に記載の膜形成材料。前記有機系高分子化合物A100質量部に対し、前記成分Cを10質量部以下の割合で含有する、請求項8に記載の膜形成材料。さらにD成分として、pKaが4未満の酸化合物を含有する、請求項7に記載の膜形成材料。前記有機系高分子化合物A100質量部に対し、前記成分Dを10質量部以下の割合で含有する、請求項10に記載の膜形成材料。さらに溶剤Eを含有しワニスの形態にある、請求項1乃至請求項11のうちいずれか一項に記載の膜形成材料。請求項1乃至請求項12のうちいずれか一項に記載の膜形成材料から得られる硬化膜。請求項1乃至請求項12のうちいずれか一項に記載の膜形成材料から作られる硬化膜を透明電極の表面上に被覆してなる太陽電池。上述のMPPT制御システムは、家庭用などの小規模で独立した電力系統の太陽光発電システムに導入した場合、入射光強度の変動に伴う太陽光発電システムの出力電力変動が電力系統の周波数に悪影響を及ぼす虞がある面で不利がある。MPPT制御システムを用いずとも最大出力を向上させる他の方法が望まれていた。本発明は、上記の事情に鑑みなされたものであって、例えば従来のMPPT制御システムを用いずとも、太陽電池の最大出力向上に寄与できる、太陽電池に用いる新規な材料の提供を目的とする。本発明者等は、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、太陽電池セルの透明電極上に、集光膜として高屈折率且つ高透明性の硬化膜を形成することにより、最大出力を向上させた太陽電池を製造できることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明は、第1観点として、太陽電池の透明電極上の集光膜を形成する材料であって、633nmの波長で1.5から2.0の屈折率を有し、且つ400nmの波長の光に対して95以上の透過率を有する、芳香族基を有する有機系高分子化合物A及び架橋剤Bを含む、膜形成材料に関する。第2観点として、前記有機系高分子化合物Aは、側鎖に炭素環式基を有する化合物である、第1観点に記載の膜形成材料に関する。第3観点として、前記有機系高分子化合物Aは、下記式1で表される構造及び式2で表される構造のうちの少なくとも一種の構造を含む高分子化合物である、第2観点に記載の膜形成材料に関する。式中、R1乃至R12は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数1乃至10のアルキル基、炭素原子数1乃至10のハロアルキル基、炭素原子数1乃至10のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、ホルミル基、シアノ基、アミノ基、カルボキシル基、ホスホニル基、スルホニル基、W8で置換されていてもよいフェニル基、W8で置換されていてもよいナフチル基、W8で置換されていてもよいチエニル基又はW8で置換されていてもよいフリル基を表し、W8は、炭素原子数1乃至10のアルキル基、炭素原子数1乃至10のハロアルキル基、炭素原子数1乃至10のアルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、ホルミル基、シアノ基、カルボキシル基、ホスホニル基又はスルホニル基を表し、Z1乃至Z6は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数1乃至10のアルキル基、炭素原子数1乃至10のハロアルキル基、炭素原子数1乃至10のアルコキシ基、ハロゲン原子を表し、n及びmは、繰り返し単位構造の数であって、それぞれ独立して1以上の整数を表す。第4観点として、前記有機系高分子化合物Aは、前記式1で表される構造及び/又は式2で表される構造を、該高分子化合物を構成する全構造に対して40モル以上含む化合物であり、重量平均分子量が500以上である高分子化合物である、第3観点に記載の膜形成材料に関する。第5観点として、前記B成分の架橋剤が、ヒドロキシメチル基及び/又はアルコキシメチル基で置換された少なくとも2つの窒素原子を有するトリアジン化合物から選択される化合物である、第1観点に記載の膜形成材料に関する。第6観点として、前記トリアジン化合物が芳香族基を有する化合物である、第5観点に記載の膜形成材料に関する。第7観点として、前記有機系高分子化合物A100質量部に対し、前記成分Bを50乃至400質量部含有する、第5観点又は第6観点に記載の膜形成材料に関する。第8観点として、さらにC成分として、酸を発生する化合物を含有する、第7観点に記載の膜形成材料に関する。第9観点として、前記有機系高分子化合物A100質量部に対し、前記成分Cを10質量部以下の割合で含有する、第8観点に記載の膜形成材料に関する。第10観点として、さらにD成分として、pKaが4未満の酸化合物を含有する、第7観点に記載の膜形成材料に関する。第11観点として、前記有機系高分子化合物A100質量部に対し、前記成分Dを10質量部以下の割合で含有する、第10観点に記載の膜形成材料に関する。第12観点として、さらに溶剤Eを含有しワニスの形態にある、第1観点乃至第11観点のうちいずれか一項に記載の膜形成材料に関する。第13観点として、第1観点乃至第12観点のうちいずれか一項に記載の膜形成材料から得られる硬化膜に関する。第14観点として、第1観点乃至第12観点のうちいずれか一項に記載の膜形成材料から作られる硬化膜を透明電極の表面上に被覆してなる太陽電池に関する。本発明の膜形成材料は、太陽電池セルの透明電極上に塗布し硬化させるだけで、透明で高屈折率の硬化膜を形成できる。そして本発明の膜形成材料から作られる硬化膜を透明電極の表面上に被覆してなる太陽電池は、その最大出力を向上させることができる。本発明は、太陽電池の透明電極上の集光膜を形成する材料であって、633nmの波長で1.5から2.0の屈折率を有し、且つ400nmの波長の光に対して95以上の透過率を有する、芳香族基を有する有機系高分子化合物A及び架橋剤Bを含む膜形成材料に関するものである。<A成分:有機系高分子化合物>本発明で用いる前記有機系高分子化合物Aとは、具体的には側鎖に炭素環式基を有する化合物である。ここで炭素環式基とは、環内に窒素原子や炭素原子等のヘテロ原子を含まない環式基であって、ベンゼン環等の単環式基、ナフタレン環やアントラセン環等の炭素縮合環式基が挙げられる。好ましくは下記式1で表される構造及び式2で表される構造のうちの少なくとも一種の構造を含む高分子化合物である。トリアジン骨格又はフルオレン骨格を有する高分子化合物を用いる。上記式中、R1乃至R12は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数1乃至10のアルキル基、炭素原子数1乃至10のハロアルキル基、炭素原子数1乃至10のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、ホルミル基、シアノ基、アミノ基、カルボキシル基、ホスホニル基、スルホニル基、W8で置換されていてもよいフェニル基、W8で置換されていてもよいナフチル基、W8で置換されていてもよいチエニル基又はW8で置換されていてもよいフリル基を表す。またW8は、炭素原子数1乃至10のアルキル基、炭素原子数1乃至10のハロアルキル基、炭素原子数1乃至10のアルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、ホルミル基、シアノ基、カルボキシル基、ホスホニル基又はスルホニル基を表す。そしてZ1乃至Z6は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数1乃至10のアルキル基、炭素原子数1乃至10のハロアルキル基、炭素原子数1乃至10のアルコキシ基、ハロゲン原子を表す。さらに、n及びmは、繰り返し単位構造の数であって、それぞれ独立して1以上の整数を表す。上記式中、炭素原子数1乃至10のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル、イソペンチル基、n-ヘキシル基及びシクロヘキシル基等が挙げられる。また、炭素原子数1乃至10のハロアルキル基としては上述の炭素原子数1乃至10のアルキル基において、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子からなる群から選択される少なくとも一種のハロゲン原子で置換されたアルキル基を挙げることができる。さらに、炭素原子数1乃至10のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、n-ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ基、n-ヘキシルオキシ基及びシクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。また、ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。このような式1で表される構造或いは式2で表される構造を有する高分子化合物の具体例としては、スチレン、2-フルオロスチレン、2-クロロスチレン、2-ブロモスチレン、2-ヨードスチレン、2-ヒドロキシカルボニルスチレン、2-シアノスチレン、2-フェニルスチレン、2-アミノスチレン、2-ニトロスチレン、2-メトキシスチレン、2-エトキシスチレン、2-プロポキシスチレン、2-メチルスチレン、2-エチルスチレン、2-ヒドロキシホスホリルスチレン、3-フルオロスチレン、3-クロロスチレン、3-ブロモスチレン、3-ヨードスチレン、3-ヒドロキシカルボニルスチレン、3-シアノスチレン、3-フェニルスチレン、3-アミノスチレン、3-ニトロスチレン、3-メトキシスチレン、3-エトキシスチレン、3-プロポキシスチレン、3-メチルスチレン、3-エチルスチレン、3-ヒドロキシホスホリルスチレン、4-フルオロスチレン、4-クロロスチレン、4-ブロモスチレン、4-ヨードスチレン、4-ヒドロキシカルボニルスチレン、4-シアノスチレン、4-フェニルスチレン、4-アミノスチレン、4-ニトロスチレン、4-メトキシスチレン、4-エトキシスチレン、4-プロポキシスチレン、4-メチルスチレン、4-エチルスチレン、4-ヒドロキシホスホリルスチレン、2,4-ジフルオロスチレン、2,4-ジクロロスチレン、2,4-ジブロモスチレン、2,4-ジヨードスチレン、2,4,5-トリフルオロスチレン、2,4,5-トリクロロスチレン、2,4,5-トリブロモスチレン、2,4,5-トリヨードスチレン、ビニルナフタレンなどをモノマーとして形成される高分子化合物が挙げられるが、この限りではない。前記該有機系高分子化合物Aのポリスチレン換算にて表される重量平均分子量は500以上、好ましくは塗布性の観点から500以上40,000以下であることが望ましい。そして高分子化合物は、前記式1で表される構造及び/又は式2で表される構造、すなわち、式1で表される構造、又は式2で表される構造、或いは、式1で表される構造及び式2で表される構造を双方含む場合にはその双方が、高分子化合物を構成する全構造のうちの40モル以上、好ましくは45モル以上含む。<B成分:架橋剤>本発明の膜形成材料には、架橋剤としてB成分:ヒドロキシメチル基及び/又はアルコキシメチル基で置換された少なくとも2つの窒素原子を有するトリアジン化合物を含有する。これらヒドロキシメチル基及び/又はアルコキシメチル基で置換された少なくとも2つの窒素原子を有するトリアジン化合物の例としては、ヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基又はその両方で置換された窒素原子を有するメラミン化合物、及び、ヒドロキシメチルヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基又はその両方で置換された窒素原子を有するベンゾグアナミン化合物を挙げることができる。上記ヒドロキシメチル基置換された窒素原子を有するメラミン化合物及びベンゾグアナミン化合物は、例えば沸騰水中でメラミン/ベンゾグアナミンとホルマリンとを反応させ、ヒドロキシメチル化することによって得られる。そしてアルコキシメチル基された窒素原子を有するメラミン化合物及びベンゾグアナミン化合物は、先にヒドロキシメチル置換したメラミン/ベンゾグアナミン化合物を、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ノルマルヘキサノールなどのアルコールと反応させることによって得られる。これらヒドロキシメチル基及び/又はアルコキシメチル基で置換されたメラミン化合物及びベンゾグアナミン化合物は、市販品として入手可能である。上記メラミン化合物の例としては、日本サイテックインダストリーズ株製サイメル300、同サイメル303、同サイメル325、同サイメル725、株三和ケミカル製ニカラックMW-30M、同MW-30、同MW-30HM、同ニカラックMW-390、同ニカラックMW-100LM以上、メトキシメチル化メラミン化合物;日本サイテックインダストリーズ株製サイメル370、同サイメル701以上、メチル化メトキシメチル化メラミン化合物;同サイメル266、同サイメル285、同サイメル212以上、メトキシメチル化ブトキシメチル化メラミン化合物;同サイメル272、同サイメル202以上、メチル化メトキシメチル化メラミン化合物;同サイメル238メトキシメチル化イソブトキシメチル化メラミン化合物;日本サイテックインダストリーズ株製マイコート506ブトキシメチル化メラミン化合物が挙げられる。また、上記ベンゾグアナミン化合物の例としては、日本サイテックインダストリーズ株製サイメル1123メトキシメチル化エトキシメチル化ベンゾグアナミン化合物;同サイメル1123-10、同マイコート30以上、メトキシメチル化ブトキシメチル化ベンゾグアナミン化合物;同マイコート105、同マイコート106以上、メトキシメチル化ベンゾグアナミン化合物;同サイメル1128ブトキシメチル化ベンゾグアナミン化合物;同マイコート102メチル化メトキシメチル化ベンゾグアナミン化合物が挙げられる。上記B成分は、前記有機系高分子化合物A100質量部に対し、50乃至4000質量部の割合で、より好ましくは保存安定性の観点から50乃至200質量部の割合で使用する。<C成分:酸を発生する化合物、D成分:pKaが4未満の酸化合物>本発明の膜形成材料において、C成分として酸を発生する化合物以下、単に酸発生材ともいう、及び/又はD成分としてpKaが4未満の酸化合物を含有し得る。本発明において、酸解離定数pKaは、酸性化合物を水溶液中に溶解させた、酸解離定数Kaを、式pKalog10Kaで表したものである。酸発生材及び酸化合物はそれぞれ、一種のみを使用してもよく、また二種以上を組み合わせて使用することができる。また、酸発生材と酸化合物を組み合わせて使用することもできる。上記酸発生材としては、例えば、2,4,4,6-テトラブロモシクロヘキサジエノン、ベンゾイントシレート、2-ニトロベンジルトシレート、p-トリフルオロメチルベンゼンスルホン酸-2,4-ジニトロベンジル、フェニル-ビストリクロロメチル-s-トリアジン、及びN-ヒドロキシスクシンイミドトリフルオロメタンスルホネート等の熱又は光によって酸を発生する酸発生材を挙げることができる。また、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフエート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、及びビス4-tert-ブチルフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート等のヨードニウム塩系酸発生材、及びトリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、及びトリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート等のスルホニウム塩系酸発生材を挙げることができる。上記酸化合物としては、例えば、p-トルエンスルホン酸トシル酸ともいう、トリフルオロメタンスルホン酸、及びピリジニウム-p-トルエンスルホネート等のスルホン酸化合物、スルホサリチル酸、トリフルオロ酢酸、フマル酸、マレイン酸等のカルボン酸化合物を挙げることができる。本発明の膜形成材料における酸発生材又は酸化合物の含有量としては、固形分中で例えば0.01乃至10質量であり、得られる膜の特性から、好ましくは0.1乃至5質量であり、保存安定性の観点から、より好ましいのは、又は0.2乃至3質量である。<その他成分>本発明の膜形成材料には、その他慣用の添加剤、例えば界面活性剤等を添加できる。前記界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェノールエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェノールエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤、エフトップEF301、EF303、EF352株式会社ジェムコ旧株トーケムプロダクツ製、メガファックF171、F173、R-30DIC株式会社旧大日本インキ化学工業株製、フロラードFC430、FC431住友スリーエム株製、アサヒガードAG710、サーフロンS-382、SC101、SC102、SC103、SC104、SC105、SC106旭硝子株製、フタージェント220P株ネオス製等のフッ素系界面活性剤、オルガノシロキサンポリマーKP341信越化学工業株製等を挙げることができる。これらの界面活性剤の配合量は、本発明の膜形成材料の全成分中、通常0.2質量以下、好ましくは0.1質量以下である。これらの界面活性剤は単独で添加してもよいし、また2種以上の組合せで添加することもできる。<E成分:溶剤>本発明の膜形成材料は、溶剤を添加して溶解し、ワニスの形態としてもよい。この時使用される溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2-ヒドロキシ-3-メチルブタン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドン、及びγ-ブチロラクトン等を用いることができる。これらの溶剤は単独又は2種以上の組合せで使用することができる。本発明の膜形成材料における固形分は、例えば0.5乃至50質量、1乃至30質量、又は1乃至25質量である。ここで固形分とは膜形成材料の全成分から溶剤成分を除いたものである。<太陽電池>本発明の膜形成材料は、従来提案されている種々のシリコン系太陽電池の材料として適用可能である。なお太陽電池は、通常、透明電極表面電極-光電変換層-裏面電極から構成される太陽電池セルと、それを搭載するパネル材、すなわち、セルモジュールを封止するエチレン酢酸ビニル共重合樹脂EVAなどの封止材と、セルモジュール及び封止材を保護する表面ガラス強化ガラス及び保護フィルムバックシートより構成される。本発明においては、太陽電池を構成する各構成成分、すなわち、太陽電池セル裏面電極、光電変換層、透明電極、封止材、表面ガラス、及び保護フィルム、並びに各種電極保護材料については、これまでに提案されている種々のものを使用可能である。実際には、本発明の膜形成材料を太陽電池セルの透明電極の表面上に塗布することにより、電極表面被覆膜を形成する。そして強化ガラス-封止材-太陽電池セル電極表面被覆膜-透明電極-光電変換層-裏面電極-封止材-バックシートの順に積層し、太陽電池を製造する。以下に実施例を掲げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。[実施例で用いる略記号]以下の実施例で用いる略記号の意味は、次のとおりである。<モノマー架橋材>サイメル1123:日本サイテックインダストリーズ株製メラミン系化合物メトキシメチル化ベンゾグアナミン化合物VN:2-ビニルナフタレンMAA:メタクリル酸Pst:ポリスチレンTAG-2689:キングインダストリーズKingIndustriesInc社製、酸発生材<溶剤>PGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートPGME:プロピレングリコールモノメチルエーテル<界面活性剤>フタージェント220P:株ネオス製<太陽電池セル>Motech社製125mm角結晶シリコンセル<封止材>サンビック製株封止材<タブ>丸正株15mmPV-ribbonwire<バックシート>株エムエーパッケージング製バックシート<強化ガラス>株新協和製強化ガラス[重量平均分子量の測定]以下の合成例に従い得られたポリマーの重量平均分子量以下Mwと略すは、日本分光株製GPC装置Shodex登録商標カラムKF803L及びKF805Lを用い、溶出溶媒としてジメチルホルムアミドを流量1ml/分でカラム中にカラム温度:50°C流して溶離させるという条件で測定した。なお、Mwはポリスチレン換算値にて表される。[サンプル塗布]株ワイディーメカトロソリューションズ製スプレー塗布装置を用いてセルの透明電極上に膜形成材料を塗布した。[屈折率測定]ジェーエーウーラムジャパン株製高速分光エリプソメーターM-2000を用いて測定した。[モジュール作製]モジュールの作製は、株エヌピーシー製ラミネータLM-50×50-Sを用いて行った。強化ガラス上に、封止材、セル、封止材、バックシートの順にのせ、130°C20分ラミネートした。[IV測定]IV測定は、山下電装株製のソーラーシミュレータYSS-150を使用した。25°C中、モジュールに6回光を照射し、得られたIV測定データを平均化した。[合成例]<ポリマーA1の合成及びA1溶液の調製VN:MAA=45:55>3L三口フラスコに、VN200.0g1.30モル、MAA133.3g1.55モル、溶媒としてPGME666.7g、開始剤としてアゾビスブチロニトリル16.7gを入れて溶解した後、窒素雰囲気下で加熱して80°Cに保ったPGME266.7gに2時間かけて滴下した。反応溶液を冷却後、多量のメタノール水溶液メタノール濃度:50質量に投入してポリマーを再沈殿させ、加熱乾燥して、ポリマーA1を得た。得られたポリマーの重量平均分子量Mwは6,200であった。得られたポリマーA1をプロピレングリコールモノメチルエーテルに再溶解し、ポリマーA1溶液固形分濃度30.0質量とした。<ポリマーA2及びA3溶液の調製>ポリマーA2として重量平均分子量Mw:2,000のポリスチレンを採用した。Pst20.0gをPGMEAに80.0gに溶解し、ポリマーA2溶液とした。また同様に、ポリマーA3としてMw:35,000のポリスチレンを採用し、このPst20.0gをPGMEAに80.0gに溶解し、ポリマーA3溶液とした。[膜形成材料の合成:実施例1~4]次の表2に示す組成に従い、A成分:ポリマー溶液、B成分:架橋材、C成分:酸を発生する化合物又はD成分:酸化合物、E成分:溶剤を表1のように混合し、室温およそ25°Cで3時間以上攪拌して均一な溶液とすることにより、ワニス状の膜形成材料を得た。[実施例5乃至実施例9、比較例:モジュール作製及びIV特性評価]得られた実施例1乃至実施例4のワニス状の膜形成材料を、スプレー装置を用いてセルに塗布し、キュアをした後、モジュール化した。また、比較例として、膜形成材料を塗布していないモジュールも同様に作製した。使用した膜形成材料、キュア条件、並びに膜厚及び屈折率の測定結果を表2に示す。なお膜厚測定は、Si基板上に前記セルと同様の条件で塗布とキュアを行った試料に対して、接触式膜厚測定器Dektak3を用いて行った。また屈折率については、Si基板上にセルと同様の条件で塗布とキュアを行った試料において、633nmにおける屈折率を測定した。作製した実施例及び比較例のセルを用いて電流-電圧I-V測定を行い、得られた短絡電流A:Isc、開放電圧V:Voc、及び最大出力W:Pmaxのそれぞれについて、比較例膜形成材料なしのセルにおける測定値を100としたときの、各実施例セルのIsc、Voc及びPmaxの相対値を求めた下記式参照。得られた結果を表2に示す。Isc=100×実施例XIsc値/比較例Isc値Voc=100×実施例XVoc値/比較例Voc値Pmax=100×実施例XPmax値/比較例Pmax値[評価結果]表2に示すように、本発明の膜形成材料を用いることにより、最大出力Pmaxを1~4上昇させることが、実施例5乃至実施例9の結果より明らかとなった。"