X線源を用いトールボット干渉法により位相情報を取得するX線撮像装置であって、X線源と被検査物との間に配置され、1次元周期構造を有する線源格子と、前記X線源から照射され前記線源格子を透過したX線のトールボット効果により自己像を形成する2次元周期構造を有する位相格子と、前記位相格子によって自己像が形成される位置に配置される吸収格子と、前記吸収格子を透過したX線の強度を検出可能に構成されたX線検出器と、前記X線検出器により検出されたX線の強度により、前記位相情報を取得する演算手段と、を備え、前記線源格子が、前記位相格子と平行な面内で90度回転可能に構成され、前記線源格子を前記位相格子と平行な面内で90度回転させる前後において前記X線検出器で検出されたX線強度を、前記演算手段によって演算して前記位相情報を取得することを特徴とするX線撮像装置。前記吸収格子が市松状の2次元周期構造による構成を備え、前記X線源を通る前記検出器の表面に対する垂直な直線と垂直な面内において、前記吸収格子と前記位相格子の2次元周期構造における周期方向が、45度で交差するようにして配置されていることを特徴とする請求項1に記載のX線撮像装置。前記吸収格子が、1次元周期構造による構成を備えると共に、前記線源格子と平行な面内で90度回転可能に構成され、前記線源格子および前記吸収格子を90度回転させる前後において前記X線検出器で検出されたX線強度を、前記演算手段によって演算して位相情報を取得することを特徴とする請求項1に記載のX線撮像装置。前記位相格子が、市松状で位相がπ変化する格子で構成されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のX線撮像装置。前記演算手段は、前記X線強度を縞走査法により演算して前記位相情報を取得することが可能に構成されていることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載のX線撮像装置。前記演算手段は、前記X線強度をフーリエ変換法により演算して前記位相情報を取得することが可能に構成されていることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載のX線撮像装置。上記した従来例のトールボット干渉法によるX線撮像装置によりX線位相コントラスト像を取得する場合、つぎのような課題を有している。すなわち、1方向の微分位相情報のみから物体の位相像を得ようとすると、一部の位相情報が欠落する。そして、上記特許文献1に記載のX線撮像装置で、互いに直交する2方向の微分位相像を取得するためには、全格子または被検査物を90°回転する必要があり、装置構成上複雑なものとなる。本発明は、上記課題に鑑み、簡単な構成で互いに直交する2方向の位相情報を取得することができ、精度の高いX線位相コントラスト像の撮像が可能となるX線撮像装置の提供を目的とする。本発明のX線撮像装置は、X線源を用いトールボット干渉法により位相情報を取得するX線撮像装置であって、X線源と被検査物との間に配置され、1次元周期構造を有する線源格子と、前記X線源から照射され前記線源格子を透過したX線のトールボット効果により自己像を形成する2次元周期構造を有する位相回折格子と、前記位相回折格子によって自己像が形成される位置に配置される吸収格子と、前記吸収格子を透過したX線の強度を検出可能に構成されたX線検出器と、前記X線検出器により検出されたX線の強度により、前記位相情報を取得する演算手段と、を備え、前記線源格子が、前記位相格子と平行な面内で90度回転可能に構成され、前記線源格子を前記位相格子と平行な面内で90度回転させる前後において前記X線検出器で検出されたX線強度を、前記演算手段によって演算して前記位相情報を取得することを特徴とする。本発明によれば、簡単な構成で互いに直交する2方向の位相情報を取得することができ、精度の高いX線位相コントラスト像の撮像が可能となるX線撮像装置を実現することができる。つぎに、本発明の実施形態について説明する。実施形態1実施形態1として、トールボット干渉法を用い線源格子を90度回転させる前後において得られた互いに直交する2方向のX線強度により、位相情報を取得するX線撮像装置の構成例について、図1を用いて説明する。図1において、1はX線源、2線源格子、3は位相格子、4は吸収格子、5は検出器、6は線源格子移動部、7は位相格子移動部、8は吸収格子移動部、9は演算部演算手段、10は被検査物である。線源格子2は1次元周期構造を、位相格子3は2次元周期構造を有している。また、線源格子2は、線源格子移動部6により90度回転可能である。また、各格子はそれぞれの線源格子移動部6、位相格子移動部7、吸収格子移動部8により、周期方向に移動することが可能である。X線源1より照射されたX線は位相格子3を透過し、トールボット効果により吸収格子4上に位相格子3の形状を反映した自己像12を形成する。例えば、図2aの線源格子2に図2bの位相格子3を用いると、図2cに示す自己像12が得られる。自己像12と重なり合うように吸収格子4を配置し、吸収格子4を透過したX線を検出器5において強度を計測する。線源格子2と位相格子3と吸収格子4は、X線源1を通る検出器5表面に対する垂直な直線と、垂直となるように配置されている。また、X線源1と位相格子3の間に配置する線源格子2は、位相格子3と吸収格子4とトールボットラウ干渉計の位置に配置されおり、線源格子2の個々の開口を通ったX線により形成される自己像12が一致する。つぎに、線源格子2を90度回転することによる自己像12形状の変化について、図2を用いて説明する。図2aに示す1次元周期構造を持つ線源格子2を透過したX線は、2次元周期構造を持つ位相格子3により、1次元の周期構造を持つ自己像12を形成する。位相格子3として、例えば図2bに示すような市松状の2次元周期構造を用いることができる。図2bにおいて、着色部を透過した所望の波長のX線は位相がπもしくはπ/2変化する。線源格子2後のX線は、周期方向にのみ干渉性を持つ。そのため、2次元構造を持つ位相格子3により形成される自己像12は、線源格子2の周期方向に対してのみ強度分布を示す。例えば、図2bに示す形状で位相がπ変化する位相格子3により形成される自己像12は、図2cに示すような1次元周期構造を形成し、周期方向は線源格子3の周期方向と一致する。なお、位相がπ/2変化する位相格子3を使用する場合は、同じピッチの自己像を得るためには、位相格子3のピッチを1/2にする必要がある。その後、図2dに示すように線源格子2を位相格子3と平行な面内で90度回転した後に撮像する。回転前と同一の位相格子3を透過するX線は、図2eに示すように線源格子2の周期方向と同一方向に周期構造を持つ自己像12を形成する。つまり、線源格子2を90度回転することで、静止した同一の位相格子3を用いても自己像12を90度回転することが可能となる。被検査物10を線源格子2と位相格子3間に入れることで、形成される自己像12形状が変形する。このときの変形量は被検査物10の位相量に依存するので、自己像12を直接観察できれば被検査物10の位相情報を取得することができる。しかし、一般的なX線検出器5の画素ピッチと比較して位相格子3は狭ピッチであるため、直接自己像12の変形を検出することは困難である。このために吸収格子4を用いる。吸収格子4の形状としては図3a、bに示すようなメッシュ状、図3cに示すような市松状のものを用いることができる。図3において、黒色部はX線遮光部、無着色部がX線透過部である。吸収格子4は自己像12と同一面内に配置する。吸収格子4上に形成される自己像12を図3d、eに示す。単色で可干渉性が十分なX線を用いる場合、吸収格子4を透過することにより図3dの位置では透過するX線強度は25となり、図3eではX線の強度が75となる。自己像12と吸収格子4の相対位置を変化させて撮像することにより位相情報を取得する方法として、縞走査法がある。例えば、位相格子3を格子面内で周期方向に移動することで、自己像12は吸収格子4上を移動する。被検査物10がない状態で位相格子3を移動したときに、同一画素で検出されるX線の強度変化を図4に示す。自己像12を移動することにより、検出されるX線の強度が増減する。X線強度は図3dの位置で最大となり、図3eの位置で最少となる。また、自己像12が90度回転しても図3a、b、cに示す2次元周期構造を持つ吸収格子4を用いることにより、自己像12の位置とX線強度の関係は同様にすることができる。また、図3cに示す市松状の吸収格子4を用い、この吸収格子4と上記位相格子3における2次元周期構造の周期方向が、45度で交差するようにして配置することで、自己像12を移動したときの強度変化が図4のように正弦波状となる。図4において、横軸は自己像移動量/自己像の周期であり、縦軸は自己像12と吸収格子4の位置を相対的に変化させたときに検出器5で検出されるX線の強度である。1次元周期構造を持つ吸収格子4や、図3a、bに示す吸収格子4を用いた場合は、X線の度変化が三角波状となる。正弦波に近い方が、少ない撮像枚数でより正確な位相情報を取得できる。図5に、互いに直交するXおよびY方向の2方向の位相情報微分位相像または位相像を、縞走査法により得るときのフローチャートを示す。まず、線源格子2と位相格子3と吸収格子4を、トールボットラウ干渉計となるように配置する。その後、線源格子2と位相格子3間に被検査物10を配置する。この位置を、第一の配置とする。第一の配置において、線源格子2を周期方向に移動してから撮像することを繰り返す。フローチャート内では、自己像周期の1/3ずつ自己像12を移動して撮像することを繰り返し、一方向での撮像回数を3回としている。しかし、3回は一方向に対する最低の撮像回数であり、多くても良い。次に、線源格子2を、位相格子3と平行な面内で90度回転する。90度回転後の配置を、第2の配置とする。第二の配置においても、第一の配置の場合と同様に少なくとも3回撮像する。その後、演算部演算手段9において各画素のX線強度変化より、隣り合う画素の位相変化量から微分位相像をそれぞれの方向について得る。さらに、演算部演算手段9においてその取得した微分位相像を合成して積分することで、位相像を取得することもできる。ここで、自己像12を移動するためには位相格子3を移動するほか、吸収格子4または線源格子を移動しても良い。線源格子2は他の格子よりも小さくて軽く、縞走査時の格子移動量に対する要求精度が低くなる。位相情報を得る手法としては縞走査法のほか、フーリエ変換法を用いることもできる。フーリエ変換法を用いる場合の撮像方法について以下に説明する。自己像12と吸収格子4により、検出器5で検出可能なモアレ縞を形成する。その後、被検査物10を配置した後に撮像を行う。撮像した像をフーリエ変換した空間周波数スペクトルにおいて、キャリア周波数成分を切り出す。得られたキャリア周波数成分を原点に移動して逆フーリエ変換することで被検査物10の位相情報を取得する。線源格子3や吸収格子4において、X線遮光部はX線透過率の低い材料から形成される。例えば金、白金、タングステン、タンタル、モリブデンなどである。これらを含む合金でも良い。X線透過部は、X線透過率の高い材料から形成されている。例えば感光性レジストなどの樹脂やシリコンである。X線透過部は空洞となっていても良い。位相格子3は、X線を所望の位相量変化させるための吸収がなるべく少ない材料で構成させることが好ましい。このため、シリコンやレジストなどの樹脂材料を用いることができる。但し、金などのX線吸収率の大きな材料により位相格子3を作製すると、アスペクト比を低くすることができる。実施形態2実施形態2として、トールボット干渉法を用い線源格子2および吸収格子4を90度回転させる前後において得られた互いに直交する2方向のX線強度により、位相情報を取得するX線撮像装置の構成例について、図2を用いて説明する。実施形態2においては、線源格子2および吸収格子4は1次元構造、位相格子3は2次元構造とする。線源格子2および吸収格子4は、線源格子移動部6および吸収格子移動部8により90度回転可能とする。形成される自己像12は、図2に示すように線源格子2と同一の周期方向を持つ1次元の強度分布を示す。吸収格子4としては、ピッチが自己像と等しい1次元周期構造体を用いる。これにより、吸収格子4を透過するX線の強度は、自己像と吸収格子の相対位置により変化する。第一の配置で撮像した後に、線源格子と吸収格子を90度回転した第二の位置で撮像する。被検査10物の位相量を得る演算手法としては、実施形態1と同様に縞走査法とフーリエ変換法を用いることができる。以下に、本発明の実施例について説明する。[実施例1]実施例1として、縞走査法を用いたトールボット干渉法により位相像を取得するX線撮像装置の構成例について説明する。線源格子2は22.1μmピッチで開口幅が5μmの1次元構造とし、光軸と垂直な面内で90度回転可能とする。位相格子3は、光学ピッチ8.49μm、吸収格子4はピッチ8.24μmの市松状とする。線源格子2、位相格子3、吸収格子4は平行になるように配置する。また、位相格子3と吸収格子4の周期方向が45度で交差するようにする。また、それぞれの格子がトールボットラウ干渉計の位置となるよう、線源格子2と位相格子3間の距離は936mm、位相格子3と吸収格子4間の距離は349mmとする。このとき線源格子2と吸収格子4は50μm厚の金から成り、位相格子3は23μm厚のSiから構成される。X線ターゲットとして17.3keVに特性X線を持つMoを用いX線を照射する。なお、17.3keVのX線は、23μm厚Siにより位相がπ変調される。次に、被検査物10を線源格子2と位相格子3の間に入れて撮影を行う。1回目の撮像が終わった後に、線源格子2を移動して自己像12を周期方向に2.74μm移動して撮像する。2回目の撮像後、線源格子2を移動して自己像12を更に2.74μm移動し撮像する。その後、線源格子2を90度回転する。線源格子回転前と同様の方法により、X線吸収像を3回撮像する。以上の撮像データを用い、演算部9において縞走査法により互いに直交するXおよびY方向の2方向の微分位相像を取得する。[実施例2]フーリエ変換法を用いたトールボット干渉法により位相情報を取得するX線撮像装置の構成例について説明する。線源格子2は25.9μmピッチで開口幅が5μmの1次元構造とし、位相格子3と平行な面内で90度回転可能とする。位相格子3は、光学ピッチ8.49μmの市松状、吸収格子4は光学ピッチ8.24μmの市松状とする。線源格子2、位相格子3、吸収格子4は平行になるように配置する。また、位相格子3と吸収格子4の周期方向が45度で交差するようにする。また、それぞれの格子がトールボットラウ干渉計の位置となるよう、線源格子2と位相格子3間の距離は1053mm、位相格子3と吸収格子4間の距離は335mmとする。このとき線源格子2と吸収格子4は50μm厚の金から成り、位相格子3は23μm厚のSiにより作製される。X線ターゲットとして17.3keVに特性X線を持つMoを用いX線を照射する。このとき、自己像12と吸収格子4によりモアレ縞が200μmピッチで形成されるように各格子位置を調整する。次に被検査物10を線源格子2と位相格子3の間に入れて撮影を行う。その後、線源格子2を90度回転し、線源格子回転前と同様の方法により撮像を行う。以上の撮像データを用い、演算部9においてフーリエ変換法により互いに直交するXおよびY方向の2方向の微分位相像を取得する。[実施例3]1次元周期構造を持つ線源格子2および吸収格子4と、市松状の2次元周期構造をもつ位相格子3を用いた、トールボット干渉法により位相情報を取得するX線撮像装置の構成例について説明する。線源格子2は22.1μmピッチで開口幅が5μmの1次元構造とし、吸収格子4は8.24μmピッチで線幅4.12μmの1次元構造とする。線源格子と吸収格子は、光軸と垂直な面内で90度回転可能とする。また、位相格子は、光学ピッチ8.49μmの市松状とする。線源格子、位相格子、吸収格子は平行になるように配置する。また、それぞれの格子がトールボットラウ干渉計の位置となるよう、線源格子と位相格子3間の距離は936mm、位相格子3と吸収格子4間の距離は349mmとする。このとき線源格子2と吸収格子4は50μm厚の金から成り、位相格子は23μm厚のSiによって作製される。X線ターゲットとして17.3keVに特性X線を持つMoを用いX線を照射する。なお、17.3keVのX線は、23μm厚Siにより位相がπ変調される。次に、被検査物を線源格子と位相格子の間に入れて撮影を行う。1回目の撮像が終わった後に、線源格子を移動して自己像を周期方向に2.74μm移動して撮像する。2回目の撮像後、線源格子2を移動して自己像を更に2.74μm移動し撮像する。その後、線源格子および吸収格子を90度回転する。線源格子回転前と同様の方法により、X線吸収像を3回撮像する。以上の撮像データを用い、演算部9において縞走査法により互いに直交するXおよびY方向の2方向の微分位相像を取得する。