"画素電極である櫛歯状の第1の電極と、櫛歯状の第2の電極とを備え、前記第1の電極の櫛歯の第1の長手方向と前記第2の電極の櫛歯の第2の長手方向とが平行であり、画素単位又はサブピクセル単位に区分けされるアレイ基板と、前記アレイ基板と液晶層を介して対向し、櫛歯状の第3の電極を備え、前記第1の長手方向と前記第3の電極の櫛歯の第3の長手方向とが平行であり、前記画素単位又は前記サブピクセル単位に区分けされる対向基板とを具備する液晶表示基板において、前記第1から第3の長手方向と垂直な断面において、前記第1の電極の櫛歯と前記第2の電極の櫛歯とが、基板平面と平行な第1の水平方向にずれた第1の配置関係を持ち、前記断面において、前記第1の電極の櫛歯と前記第3の電極の櫛歯とが、前記第1の水平方向の逆方向である第2の水平方向にずれた第2の配置関係を持つ、液晶表示基板。請求項1の液晶表示基板において、前記対向基板は、前記基板平面の垂直方向に光を通過させる開口部を持つブラックマトリクスと、前記開口部に形成されるカラーフィルタとを具備する、液晶表示基板。請求項1の液晶表示基板において、前記対向基板は、透明基板と、前記透明基板の上に形成された前記第3の電極と、前記第3の電極の形成された前記透明基板の上に形成され前記前記アレイ基板と前記対向基板とが対向する垂直方向に光を通過させる開口部を持つブラックマトリクスと、前記第3の電極及び前記ブラックマトリクスの形成された前記透明基板の上に形成された透明樹脂層とを具備する、液晶表示基板。請求項2の液晶表示基板において、前記対向基板は、透明基板と、前記透明基板の上に形成された前記第3の電極と、前記第3の電極の形成された前記透明基板の上に形成された前記ブラックマトリクスと、前記ブラックマトリクスの前記開口部に形成された前記カラーフィルタと、前記カラーフィルタの上に形成された透明樹脂層とを具備する、液晶表示基板。請求項2の液晶表示基板において、前記対向基板は、透明基板と、前記透明基板の上に形成された前記ブラックマトリクスと、前記ブラックマトリクスの前記開口部に形成された前記第3の電極と、前記第3の電極の形成された前記ブラックマトリクスの前記開口部に形成された前記カラーフィルタと、前記カラーフィルタの上に形成された透明樹脂層とを具備する、液晶表示基板。請求項1の液晶表示基板において、前記対向基板は、透明基板と、前記透明基板の上に形成された開口部を持つブラックマトリクスと、前記ブラックマトリクスの形成された前記透明基板の上に形成された透明樹脂層と、前記透明樹脂層の上に形成された前記第3の電極とを具備する、液晶表示基板。前記第3の電極は、可視域透明な導電膜によって形成される、請求項1の液晶表示基板。請求項1の液晶表示基板において、前記第3の電極の櫛歯の本数は、前記画素単位又は前記サブピクセル単位に対して、2以上の偶数であり、前記第3の電極の櫛歯は、前記断面の画素又はサブピクセル内において、前記基板平面と平行な水平方向について、前記画素又は前記サブピクセルの中心から対称に配置される、液晶表示基板。請求項1の液晶表示基板において、前記第1の電極の櫛歯の本数は、前記画素単位又は前記サブピクセル単位に対して、2以上の偶数であり、前記第2の電極の櫛歯の本数は、前記画素単位又は前記サブピクセル単位に対して、2以上の偶数であり、前記第1の電極の櫛歯は、前記断面の画素又はサブピクセル内において、前記基板平面と平行な水平方向について、前記画素又は前記サブピクセルの中心から対称に配置され、前記第2の電極の櫛歯は、前記断面の画素又はサブピクセル内において、前記水平方向について、前記画素又は前記サブピクセルの中心から対称に配置される、液晶表示基板。画素電極である櫛歯状の第1の電極と、櫛歯状の第2の電極とを備え、前記第1の電極の櫛歯の第1の長手方向と前記第2の電極の櫛歯も第2の長手方向とが平行であり、画素単位又はサブピクセル単位に区分けされるアレイ基板と、前記アレイ基板と液晶層を介して対向し、櫛歯状の第3の電極を備え、前記第1の長手方向と前記第3の電極の櫛歯の第3の長手方向とが平行であり、前記画素単位又は前記サブピクセル単位に区分けされる対向基板とを具備する液晶表示装置において、前記第1から第3の長手方向と垂直な断面において、前記第1の電極の櫛歯と前記第2の電極の櫛歯とが、基板平面と平行な第1の水平方向にずれた第1の配置関係を持ち、前記断面において、前記第1の電極の櫛歯と前記第3の電極の櫛歯とが、前記第1の水平方向の逆方向である第2の水平方向にずれた第2の配置関係を持つ、液晶表示装置。請求項10の液晶表示装置において、前記対向基板は、前記基板平面の垂直方向に光を通過させる開口部を持つブラックマトリクスと、前記開口部に形成されるカラーフィルタとを具備する、液晶表示装置。請求項10の液晶表示装置において、前記アレイ基板及び前記対向基板に形成される複数の画素又は複数のサブピクセルは、平面において、対向する辺が平行な形状を持つ、液晶表示装置。請求項12の液晶表示装置において、前記複数の画素又は前記複数のサブピクセルのそれぞれは、前記平面において、4つの分割領域に分割され、前記第1の電極と前記第2の電極と前記第3の電極とは、前記平面において、前記分割領域ごとに、前記分割領域の一辺に平行な櫛歯の長手方向を持ち、互いに接する分割領域の間で、前記櫛歯の長手方向が異なる、液晶表示装置。請求項12の液晶表示装置において、前記複数の画素又は前記複数のサブピクセルのそれぞれは、前記平面において、4つの分割領域に分割され、前記第1の電極と前記第2の電極と前記第3の電極とは、前記4つの分割領域のそれぞれに備えられ、前記平面において、前記複数の画素又は前記複数のサブピクセルの中心点で点対称であり、前記分割領域の各辺に対して傾斜角を持つ櫛歯の長手方向を持つ、液晶表示装置。請求項10の液晶表示装置において、前記画素単位又は前記サブピクセル単位の前記第3の電極の櫛歯の本数は、前記第1の電極の櫛歯の本数より多い、液晶表示装置。請求項10の液晶表示装置において、前記第1の電極と前記第2の電極と前記第3の電極とは、可視域透明な導電膜によって形成される、液晶表示装置。請求項10の液晶表示装置において、前記液晶層は、負の誘電率異方性を有し、初期配向が垂直な液晶である、液晶表示装置。本発明の実施形態は、ディスクリネーションを軽減し、明るく、応答性が良好な、斜め電界による液晶の駆動に適している液晶表示基板、及びこれを具備する液晶表示装置を提供することを目的とする。本態様において、液晶表示基板又は液晶表示装置は、アレイ基板と、液晶層と、対向基板とを含む。アレイ基板は、画素電極である櫛歯状の第1の電極と、櫛歯状の第2の電極とを備え、第1の電極の櫛歯の第1の長手方向と第2の電極の櫛歯の第2の長手方向とが平行であり、画素単位又はサブピクセル単位に区分けされる。対向基板は、アレイ基板と液晶層を介して対向し、櫛歯状の第3の電極を備え、第1の長手方向と第3の電極の櫛歯の第3の長手方向とが平行であり、画素単位又はサブピクセル単位に区分けされる。第1から第3の長手方向と垂直な断面において、第1の電極の櫛歯と前記第2の電極の櫛歯とは、基板平面と平行な第1の水平方向にずれた第1の配置関係を持つ。断面において、第1の電極の櫛歯と第3の電極の櫛歯とは、第1の水平方向の逆方向である第2の水平方向にずれた第2の配置関係を持つ。本発明によれば、ディスクリネーションを軽減し、明るく、応答性が良好な、斜め電界による液晶の駆動に適している液晶表示基板、及びこれを具備する液晶表示装置を提供することができる。以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について説明する。なお、以下の説明において、同一又は実質的に同一の機能及び構成要素については、同一符号を付し、必要に応じて説明を行う。第1の実施形態本実施形態では、薄膜トランジスタ以下、TFTThinFilmTransistorと示すなどのようなアクティブ素子を備えたアレイ基板の画素電極である第1の電極と、アレイ基板の第2の電極と、対向基板に備えられている第3の電極とによって発生される斜め電界に基づく液晶駆動に適している液晶表示基板及びこの液晶表示基板を備える液晶表示装置について説明する。なお、TFTは、例えば、シリコン半導体によって形成されてもよく、又は酸化物半導体によって形成されてもよい。酸化物半導体によってTFTが形成された場合には、画素又はサブピクセルの開口率を向上させることができる。酸化物半導体によって形成されるTFTの代表的なチャネル材料としては、例えば、IGZOと呼ばれるインジウム、ガリウム、亜鉛の複合金属酸化物が用いられる。図1は、本実施形態に係る液晶表示基板の第1の例を示す部分断面図である。この図1では、画素の断面の一例を示している。1つの画素例えば、矩形画素は、複数のサブピクセルを含むとしてもよい。本実施形態に係る液晶表示装置の基板1において、表面に樹脂層2が形成されており複数のカラーフィルタ着色画素を含む又は含まない対向基板3と、TFTなどの液晶駆動素子が形成されているアレイ基板4とは対向する。互いに対向する対向基板3とアレイ基板4とは、液晶層5を挟持した状態で、貼り合わされる。対向基板3の平面とアレイ基板4の平面とは、それぞれ画素単位又はサブピクセル単位に区分けされる。さらに、本実施形態に係る基板1は、画素電極である第1の電極6と、液晶駆動時にこの第1の電極とは電位の異なる第2の電極7と、対向基板3の基板透明基板8上に透明導電膜などで形成される第3の電極9とを具備する3極の電極構成を持つ。基板1を備える液晶表示装置は、3極の電極構成による斜め電界技術を採用する。第1の電極6は、TFTなどアクティブ素子と電気的に接続され、櫛歯状パターンストライプ状でもよいに形成される。第2の電極7及び第3の電極9は、第1の電極と同様に、櫛歯状パターンに形成される。第2の電極7と第3の電極9との両方又は片方は、共通電極コモンとしてもよい。図1では、第1から第3の電極6,7,9における櫛歯軸方向例えば、櫛歯の長手方向、又は、単に、櫛歯方向に対する垂直断面が図示されている。ここで、櫛歯軸方向とは、例えば、アレイ基板4又は対向基板3を平面視した場合の、第1の電極6、第2の電極7、第3の電極9の線状導体部の長手方向を意味する。アレイ基板4の基板透明基板12の表面には、絶縁層10a,10bが形成される。絶縁層10bの上には、第2の電極7が形成される。第2の電極7の上には、絶縁層10cが形成される。絶縁層10cの上には、第1の電極6が形成される。第1の電極6と第2の電極7とは、アレイ基板4と対向基板3との対向方向厚み方向、高さ方向、垂直方向、又は積層方向でもよいにおいて絶縁層10cにより電気的に絶縁される。絶縁層10cがSiNx窒化ケイ素の場合、この絶縁層10cの実用的な膜厚の範囲は、例えば0.1μmから0.5μmである。本実施形態においては、例えば、画素又はサブピクセルごとの第3の電極9の櫛歯の数は、第1の電極6の櫛歯の数より多くしてもよい。画素又はサブピクセルごとの第3の電極9の櫛歯の総面積は、第1の電極6の櫛歯の総面積より大きくしてもよい。第1の電極6、第2の電極7、第3の電極9は、可視域において、透明な導電膜とすることができる。各電極6,7,9の櫛歯の密度、ピッチ、及び電極幅は、画素又はサブピクセル内で、適宜調整することができる。画素又はサブピクセルの断面視において、それぞれの電極6,7,9を画素の中心軸から対称となる位置に形成することは、液晶表示の広視野角確保の観点から重要である。それぞれの電極6,7,9を画素の中心軸から対称となる位置に形成するためには、1つの画素又はサブピクセルについて、断面視でそれぞれの電極6,7,9の櫛歯数が2以上かつ偶数であることが必要である。さらに、本実施形態において、第1の電極6、第2の電極7、第3の電極9は、向かい合う状態で対向する。本実施形態において、第1の電極6の櫛歯軸方向と、第2及び第3の電極7,9の櫛歯軸方向とは、ほぼ平行となる。そして、本実施形態において、それぞれが対向する第1の電極6の櫛歯の並び位置と、第2の電極の櫛歯7の並び位置とは、対向方向に対して垂直な水平方向基板8,12の表面に平行な方向の位置において、第1の方向11aにずれた位置関係となる。また、それぞれが対向する第1の電極6の櫛歯の並び位置と、第3の電極7の櫛歯の並び位置とは、水平方向の位置において、第1の方向11aとは反対の第2の方向11bにずれた位置関係となる。換言すれば、第1の電極6の櫛歯に対して、第2の電極7の櫛歯と第3の電極9の櫛歯とは、それぞれ反対方向にずれた位置関係となる。この図1において、第1の方向11aは画素の中心から画素の端へ向かう方向であり、第2の電極7の櫛歯は、第1の電極6の櫛歯よりも第1の方向11aにずれている。第2の方向11bは画素の端から画素の中心へ向かう方向であり、第3の電極9の櫛歯は、第1の電極6の櫛歯よりも第2の方向11bにずれている。第1から第3の電極6,7,9は、水平方向において、画素の断面の中心軸から対称に形成される。このような第1から第3の電極6,7,9を備えることにより、本実施の形態に係る液晶表示装置は、液晶を効率良く駆動可能である。対向基板3の基板8上には、対向方向において光を通過させるための開口部を持つブラックマトリクス13が形成され、基板8上の複数のブラックマトリクス13の間開口部に、第3の電極9の櫛歯部分が配置される。ブラックマトリクス13は、例えば、対向する辺が平行な形状を持ち、例えば矩形状であるとする。図2は、本実施形態に係る液晶表示基板1の第2の例を示す部分断面図である。画素又はサブピクセルは、液晶表示の最小単位である。この図2は、第1から第3の電極6,7,9に備えられている各櫛歯軸方向に対する垂直断面を示す。この図2において、アレイ基板4の第1の表面上に少なくとも1層図2では2層の絶縁層10a,10bが形成される。絶縁層10b上の特定の位置に第2の電極7が形成される。第2の電極7の形成された絶縁層10b上に少なくとも1層の絶縁層10cが形成される。絶縁層210cの特定の位置に第1の電極6が形成される。絶縁層10c及び第1の電極6の上に液晶層5が形成される。液晶層5の上に透明樹脂層2が配設される。透明樹脂層2は、上面液晶層5と逆側の面の特定の位置に、開口部を持つブラックマトリクス13と、このブラックマトリクス内の第3の電極9とが配設される。本実施形態において、ブラックマトリクス13は、図2の画素の断面の水平方向の両端部に配設される。透明樹脂層2と第3の電極9とブラックマトリクス13との上には、基板8が配設される。図2において、第3の電極9は、画素の断面の中心軸Cから対称に、基板8の液晶層5側の面に配設される。アレイ基板4の基板12上には、絶縁層10a,10bを介して第2の電極7が配設され、さらに、絶縁層10cを介して第1の電極6が配設される。この図2の第2の電極7は、平面視で、ブラックマトリクス13の下の位置、かつ、アレイ基板4側に、ブラックマトリクス13の幅と同程度の幅を持つ部分7aを備える。第2の電極7において、平面視でブラックマトリクス13の下に位置する部分7aは、コモン電位とすることで、隣接の画素又は隣接のサブピクセルへのクロストークを緩和することができる。図2において、第1の電極6と第2の電極7とは、水平方向において、画素の断面の中心軸Cから対称に形成される。第2の電極7の櫛歯は、第1の電極6の櫛歯よりも第2の方向11bにずれている。第3の電極9の櫛歯は、第1の電極6の櫛歯よりも第1の方向11aにずれている。上記図1及び図2において、対向基板3の基板8上およびアレイ基板4上の基板12上の配向膜、基板1の両面に具備される偏光板などは省略されている。液晶層5は、負の誘電率異方性を有し、初期配向が垂直な液晶分子を含む。垂直配向の液晶層5は、対向基板3とアレイ基板4との間に挟持される。この図1及び図2において、Dは液晶の倒れる方向である。例えば、図1の液晶層5において、液晶分子の軸長手方向又は長軸方向は、駆動電圧印加時に、第1の方向11aに倒れ、透過表示可能となる。例えば、図2の液晶層5において、液晶分子の軸は、駆動電圧印加時に、第2の方向11bに倒れ、透過表示可能となる。図3は、第1から第3の電極6,7,9の配置の一例を示す斜視図である。第2の電極7の任意の櫛歯7aの水平方向の位置は、この第2の電極7の櫛歯7aに対応する第1の電極6の櫛歯6aの水平方向の位置から、第1の方向11aにずれている。第3の電極9のある櫛歯9aの水平方向の位置は、この第3の電極9の櫛歯9aに対応する第1の電極6の櫛歯6aの水平方向の位置から、第2の方向11bにずれている。第1の方向11aと第2の方向11bとは、逆向きである。以下で、画素の1/2の断面図である図4、図5、図6を用いて、液晶層5に含まれる液晶の駆動についてさらに詳細に説明する。図4は、駆動電圧無印加時における中心軸Cから左側の画素の一例を示す部分断面図である。この図4に示すように、液晶層5の液晶分子5a~5fは、駆動電圧無印加時に、対向基板3、アレイ基板4のそれぞれの表面図示しない配向膜の上に対して垂直に配向する。図5は、駆動電圧印加直後における中心軸Cから左側の画素の一例を示す部分断面図である。駆動電圧印加直後の対向基板1側では、画素電極である第1の電極6から、共通電極である第3の電極9に向かう電気力線14a~14dが形成され、液晶分子5a~5dの軸がこの電気力線14a~14dの方向に垂直になるように、液晶分子5a~5dが倒れ始める。駆動電圧印加直後のアレイ基板4側では、第1の電極6から、共通電極である第2の電極7に向かう電気力線14e,14fが形成され、液晶分子5e,5fの軸がこの電気力線14e,14fの方向に垂直になるように、液晶分子5e,5fが倒れ始める。図6は、駆動電圧印加から液晶駆動に十分な所定時間経過後における中心軸Cから左側の画素の一例を示す部分断面図である。液晶分子5a~5dの傾きの変化は、電圧の大きさに応じて止まる。図6に示されるように、それぞれの液晶分子5a~5fは、第1の電極6からの距離に基づいて、傾斜が異なる。さらに、画素は中心軸Cを基準に対称となる。したがって、液晶分子の傾斜及び画素の対称構成によって、駆動電圧印加時の液晶分子に異なる傾きを持たせることができ、液晶表示の視野を拡げることができる。以下で、第1から第3の電極6,7,9と液晶動作との関係を図7及び図8を用いて説明する。図7は、左側の矩形画素の一例を示す部分断面図である。図8は、右側の矩形画素の一例を示す部分断面図である。この図7及び図8に示されるように、液晶層5の液晶分子5g~5jの倒れる方向は、第2の電極7及び第3の電極9を、第1の電極6に対してずらす方向によって設定可能である。例えば、第1の電極6と第2の電極7との間の水平方向のはみ出し幅W1は、液晶セルのディメンション又は液晶駆動電圧などとの関係で適宜調整される。例えば、画素幅又はピクセル幅が10μmから300μmの場合、はみ出し幅W1は、0.5μmから6μm前後であればよい。はみ出し幅W1は、液晶の応答性を向上させるために、液晶層5の厚みより小さくすることができる。また、第1の電極6と第2の電極7との間の水平方向の重なり幅W2は、補助容量に用いる観点から、液晶セルの電気容量の大きさに基づいて調整される。第1の電極6の幅W3は、用いられる液晶層5の材料、液晶セル条件、駆動条件などに基づいて適宜調整される。第2及び第3の電極7,9の幅についても、液晶セル条件にしたがって調整される。第1の電極の幅W3は、画素サイズ又はサブピクセルサイズに対応させて2μmから20μmの範囲で調整される。第1の電極6の櫛歯の中心と、第3の電極9の櫛歯の中心との間の距離W4は、例えば液晶セルのディメンション又は用いられる液晶配向の特性などのような液晶セル条件に基づいて適宜調整される。距離W4は、例えば、2μmから30μmの範囲内に設定される。第1の電極6と第2の電極7の重なり幅W2の部分は、補助容量として使用できる。第1の電極6の液晶セル内での形成位置と本数とのうちの少なくとも一方に基づいて、はみ出し幅W1、重なり幅W2は、一画素内で変更されてもよい。一画素にTFT素子が複数形成され、複数のTFT素子のそれぞれに対する駆動電圧を変えることによって液晶層5の液晶分子が駆動されるとしてもよい。液晶表示の焼き付きを緩和するために、第1の電極6又は第2の電極7などに印加される駆動電圧にオフセットを用いてもよい。例えば、1つの画素又は1つのサブサブピクセルを、2個以上のアクティブ素子によって駆動する場合などにおいては、一方のアクティブ素子の駆動電圧のタイミング又は印加電圧の波形が調整されてもよい。1つの画素又は1つのサブサブピクセルを2個以上のアクティブ素子によって駆動する場合、オフセットは、電圧の大きさがずれるとともに、電圧印加のタイミングもずれるとしてもよい。第2の電極7に印加されるコモン電圧又は第3の電極8に印加されるコモン電圧は、液晶応答性を改善するために、コモン電圧変調としてもよい。一般的な垂直配向液晶は、例えば89度といった傾斜角プレチルト角を初期的に持つ。垂直配向液晶は、一般的には、駆動電圧印加時に傾斜角が小さくなる方向に倒れる。一般的な垂直配向液晶では、初期の傾斜角によって駆動電圧印加時の液晶分子の倒れる方向が設定される。このような一般的な垂直配向液晶を用いる場合には、1画素又は1サブピクセルに対して、図示しない配向膜の複数方向のラビング又は複数方向での光配向が必要とされる。これに対し、本実施形態では、垂直配向液晶の初期配向に傾斜角を付与することなく、斜め電界で発生される電気力線に基づいて液晶分子の倒れる方向が決められる。本実施形態においては、例えば、負の誘電率異方性の液晶を用いて、液晶の初期配向をおよそ90°の垂直配向としている。上述したように、本実施形態においては、液晶にプレチルト角を付与することは必要ない。しかしながら、液晶駆動において数msの超高速応答を実現するために、PSA法を用いて、液晶に例えば89.7°から88°前後のプレチルト角が付与されてもよい。このように液晶にわずかなプレチルト角を付与することにより、本実施形態に係る液晶表示装置は、超高速応答又は従来よりも低い駆動電圧による液晶駆動を実現することができる。PSA法では、感光性の配向膜又は重合組成物を用いて液晶セル化が実行された後に、第1の電極等に駆動電圧を印加しながら紫外線などの光が液晶に照射され、配向膜又は液晶セル内壁に、プレチルト角が付与される。この配向膜又は液晶セル内壁のプレチルト角に応じて、液晶分子にプレチルト角が付与される。本実施形態において、液晶の初期配向は、垂直配向としてもよく、水平配向としてもよい。本実施形態に係る液晶表示装置は、ノーマリーブラック表示の液晶表示装置であってもよく、ノーマリーホワイトの液晶表示装置であってもよい。本実施形態に係る液晶表示装置は、上述したように、カラーフィルタなどを含む対向基板と、TFTなどのような液晶駆動素子が形成されているアレイ基板4とを対向させ、対向基板3とアレイ基板4との間に液晶層5が挟持される構成を持つとしてもよい。液晶の初期配向が水平配向の場合、液晶は、電圧印加時に水平方向から垂直方向に向かって立ち上がる。液晶の初期配向が垂直配向の場合、液晶分子は、電圧印加時に垂直方向から水平方向に倒れる。このように、液晶層5には、誘電率異方性が負である液晶と、正である液晶のどちらを用いてもよい。例えば、誘電率異方性が負の液晶として、室温付近で屈折率異方性が0.08から0.16の範囲のネマチック液晶を用いることができる。液晶応答を高速化するために、液晶厚みを3μm以下とする場合には、例えばΔnが0.1から0.16の範囲の液晶など、屈折率異方性の高い液晶を用いることができる。誘電率異方性が正の液晶が用いられる場合、さらに広範囲の特性を持つ液晶材料を適用することができる。例えば、後述されるように、液晶材料として、分子構造内にフッ素原子を含む液晶材料以下、フッ素系液晶と称するを用いることができる。第1の電極6と、第2の電極7のはみ出し部との間には、液晶駆動電圧の印加時に、実質的に強電界が発生する。このため、従来から用いられている垂直配向の液晶材料よりも、低誘電率誘電率異方性の小さなの液晶材料を使用することができ、低電圧で液晶を駆動させることができる。高い透過率又は低い飽和電圧を目的として、液晶層5をやや厚めにしても、第2の電極7のはみ出し部に対応する液晶が高速で応答するために、従来の液晶駆動よりも低電圧の液晶駆動又は高速の液晶駆動を実現することができる。一般的に、誘電率異方性の小さな液晶材料は、その粘土が低い。低粘度の液晶材料を用いることにより、駆動電圧をオフした場合の立ち下がり時間τdecayを短くすることができる。さらに、誘電率の低いフッ素系液晶においては、イオン性不燃物の取り込みが少なく、不純物による電圧保持率低下などの性能劣化又は表示の焼き付きが小さく、表示ムラが生じにくい。誘電率異方性の絶対値の大きい液晶材料を用いることによって、しきい値電圧又は立ち上がり時間τriseを小さくすることができる。誘電率異方性の絶対値の大きい液晶材料が用いられる場合、液晶の低粘度のために、例えばアルケニケル化合物のような減粘剤が液晶に少量添加されてもよい。液晶層5の厚みは、特に限定されない。例えば、液晶層5の厚さとして、超高速応答の液晶表示を実現するために、3.5μm以下、好ましくは1.5μmから3.4μmの範囲の薄い厚さが適用されてもよい。本実施形態では、第1から第3の電極6,7,9によって、斜め電界とはみ出し構造とが併用される。このような本実施形態においては、液晶粘度とその比誘電率、複屈折率、弾性定数を最適化し、液晶表示装置の消費電力を従来よりも低下させることができる。本実施形態で実効的に適用可能な液晶層5のΔndは、例えば、およそ200nmから500nmの範囲である。上記図1~図8で省略されている配向膜としては、例えば、ポリイミド系有機高分子膜、又はポリシロキサン構造を含む有機高分子膜を加熱硬膜化して用いることができる。また、液晶表示装置において、例えば、1から3枚の位相差板を偏光板に貼り合わせて用いてもよい。以下で、第1から第3の電極6,7,9の平面配置状態の例について図9から図11を用いて説明する。図9から図11では、例えば、第3の電極9の垂直方向の配置状態を例として説明する。図9は、第3の電極9の第1の例を示す上平面図である。第3の電極9は、平面の形状が矩形状の画素15に対して備えられている。第3の電極9は、櫛歯状である。第3の電極9の櫛歯軸方向は、平面において、画素15のいずれかの辺と平行である。第3の電極9は、対向基板3の基板8の液晶側の平面に対して、ほぼ平行に備えられる。なお、第2の電極7は、第1の電極6の下側に、第1の電極6と間隔を空けて、平行に配置される。第3の電極9は、第1の電極6の上側に、第1の電極6の間隔を空けて、平行に配置される。以下の図10及び図11の場合も同様である。図10は、第3の電極9の第2の例を示す上平面図である。この図10において、平面の形状が矩形状の画素15は、平面において、水平方向の中心線C1及び垂直方向の中心線C2により4つの分割領域に分割されており、各分割領域のそれぞれに櫛歯状の第3の電極9が備えられている。各第3の電極9における櫛歯軸方向は、中心線C1又は中心線C2、あるいは、画素のいずれかの辺に平行である。中心線C1,C2の交わる中心点において、4つの分割領域の4つの第3の電極9は、点対称の関係を持つ。分割領域同士の間でいずれかの辺が接する場合、この辺が接する分割領域の第2の電極9の櫛歯軸方向は異なるとしてもよい。すなわち、4つの第3の電極9には、櫛歯軸方向が異なる電極が含まれていてもよい。図11は、第3の電極9の第3の例を示す上平面図である。この図11において、第3の電極9の櫛歯軸方向は、各画素又は各分割領域の各辺と平行ではない関係を持つ。この図11では、平面の形状が矩形状の画素15が、平面における水平方向の中心線C1及び垂直方向の中心線C2により4つの分割領域に分割されている。1つの画素15に対して、2つの第3の電極9が割り当てられる。2つの第3の電極9のうちの一方は、画素15の右側に設置され、他方は、画素15の左側に設置される。2つの第3の電極9における櫛歯軸方向は、中心線C1及び中心線C2に対して傾きを持つ。すなわち、櫛歯軸方向は、平面における水平方向の中心線C1及び垂直方向の中心線C2と、平行及び垂直でない。中心線C1,C2の交わる中心点において、2つの第3の電極9は、点対称の関係を持つ。上記図10及び図11では、複数の液晶ドメインを形成するために、画素15が複数の領域に分けられている。そして、この複数の領域における櫛歯軸方向を変えることで、視野角を拡大することができる。なお、上記図9から図11において、第1の電極6及び第2の電極7についても、上記の第3の電極9と同様の配置状態を用いることができる。例えば、第2の電極7は、第1の電極6の下側に、第1の電極6と間隔を空けて、平行に配置される。第3の電極9は、第1の電極6の上側に、第1の電極6の間隔を空けて、平行に配置される。第2の電極7の櫛歯及び第3の電極9の櫛歯は、櫛歯軸方向に垂直な断面において、基板8,12と平行な方向水平方向に対する配置に関して、それぞれが第1の電極6からずれている。櫛歯軸方向に垂直な断面において、第1の電極6から第2の電極7へ向かう水平方向のずれは、第1の電極6から第3の電極9へ向かう水平方向のずれと、反対となる。上記の第1から第3の電極6,7,9は、画素15単位で形成される場合を例として説明した。しかしながら、例えば、上記の第1から第3の電極6,7,9を、サブピクセル単位で形成するとしてもよい。画素又はサブピクセルの平面形状は、上記図9から図11では、矩形状としているが、他の形状を用いてもよい。画素の平面形状としては、例えば、平行四辺形などのような対向する辺が平行な形状とすることができる。ブラックマトリクス13は、液晶表示のコントラストをアップさせるために、表示の最小単位である画素又はサブピクセルの周囲、あるいは画素の両辺に配設される遮光性のパターンである。矩形画素は、ブラックマトリクス13の開口部に対応し、絵素と同義である。アレイ基板12側の第1の電極6及び第2の電極7の材料としては、上述したITOなどのような、導電性の金属酸化物を用いることができる。また、第1の電極6及び第2の電極7の材料として、金属酸化物より導電性の高い金属が用いられてもよい。反射型又は半透過型の液晶表示装置の場合には、第1の電極6と第2の電極7のうちの少なくとも一方の材料として、アルミニウム又はアルミニウム合金の薄膜を用いてもよい。アルミニウム又はアルミニウム合金の薄膜が用いられる場合、これらの薄膜表面に酸化アルミニウムを保護層として形成してもよい。第1の電極6、第2の電極7、及び上記図1から図11で省略されているアクティブ素子の金属配線などは、窒化ケイ素SiNx又は酸化ケイ素SiOxなどの絶縁層10a~10cのうちの少なくとも一つを介して形成される。上記の図1から図11では、TFT素子やTFT素子に接続される金属配線は省略されている。なお、導電性金属酸化物であるITOとの低コンタクト性を有するアルミニウム合金の単層によりゲート配線及びソース配線をそれぞれで形成する技術は、例えば、特開2009-105424号公報に開示されている。本実施形態に係る液晶表示基板1は、対向基板3とTFTのアクティブ素子が形成されているアレイ基板4とを貼り合わせた構成である。対抗基板3とアレイ基板4との間には、液晶層5が封入される。アレイ基板4には、櫛歯状又はストライプ状の第1及び第2の電極6,7を備えており、対向基板3は、櫛歯状又はストライプ状の第3の電極9を備える。本実施形態に係る液晶表示装置は、さらに、基板1の両面に、偏光板及び位相差板を備える。これにより、本実施形態に係る液晶表示装置は、モノクロで階調表示可能である。対向基板3及びアレイ基板4の表面には、予め垂直配向膜が塗布、形成されているとしてもよい。なお、垂直配向用の配向膜は、本実施形態において図示を省略している。本実施形態では、MVA又はVATNなどの垂直配向の液晶表示装置に必要な厳密な配向処理例えば、チルト角89°とし、複数ドメインを形成するための複数方向の配向処理を実施する必要がなく、液晶のチルト角はほぼ90°の垂直配向とすることができる。初期配向が垂直配向の液晶分子は、駆動電圧印加時に、第1の電極6と第2の電極7との間に生じる電気力線電界により、また、第1の電極6と第3の電極9との間の斜め電界により、この斜め電界と垂直になるように倒れ始める。本実施形態において、第2の電極7と第3の電極9とは、第1電極6から反対方向にずれている。第3の電極9と第2の電極7とは、例えば、同電位でもよい。画素電極である第1の電極6は、TFTであるアクティブ素子のドレインと電気的に接続されるとしてもよい。本実施形態において、TFT及び垂直配向膜は、図示することを省略している。以上説明した本実施形態に係る液晶表示装置においては、ディスクリネーションを軽減することができ、視野角を広くすることができ、画面を明るくすることができる。本実施形態においては、斜め電界により効果的な液晶駆動を行うことができ、液晶の応答性を向上させることができる。なお、本実施形態において、対向基板3は、例えば、基板8と、基板8上に形成された第3の電極9と、第3の電極9の形成された透明基板8上に形成されたブラックマトリクス13と、第3の電極9及びブラックマトリクス13の形成された基板3上に形成された透明樹脂層2とを具備する構成としてもよい。対向基板3は、例えば、基板8と、基板8上に形成されたブラックマトリクス13と、ブラックマトリクス13の形成された基板8上に形成された透明樹脂層2と、透明樹脂層2上であり、ブラックマトリクス13の開口部に対応する位置に形成された第3の電極9とを具備する構成としてもよい。第2の実施形態本実施形態においては、ブラックマトリクスの開口部にカラーフィルタを備える対向基板カラーフィルタ基板について説明する。図12は、本実施形態に係る液晶表示基板の一例を示す断面図である。本実施形態に係る液晶表示基板16において、対向基板17と、アレイ基板4とは互いに対向する。対向基板17とアレイ基板4とは、液晶層5を挟持し、貼り合わされる。より具体的に説明すると、アレイ基板4の上面に液晶層5が配設される。液晶層5の上面に第3の電極9が配設される。液晶層5及び第3の電極9の上面に、透明樹脂層2が配設される。透明樹脂層2の上面に、カラーフィルタ18及びブラックマトリクス13が配設される。カラーフィルタ18は、例えば、赤フィルタ18r、緑フィルタ18g、青フィルタ18bを含む。カラーフィルタ18及びブラックマトリクス13の上面には、基板8が配設される。この図12においては、平面視で、ブラックマトリクス13と重なる位置に、第3の電極9の櫛歯、第2の電極7の櫛歯が設けられている。図13は、カラーフィルタを備えた対向基板の一例を示す断面図である。対向基板17の基板8上には、開口部を持つブラックマトリクス13と、少なくとも開口部におけるカラーフィルタ18が形成される。カラーフィルタ18の上には、透明樹脂層2が形成される。透明樹脂層2の上には、第3の電極9が形成される。図14は、駆動電圧印加直後における画素の一例を示す部分断面図である。垂直配向の液晶層5の液晶5k~5pは、駆動電圧無印加時に、対向基板17、アレイ基板4のそれぞれの表面図示しない配向膜上に対して垂直に配向する。駆動電圧印加直後においては、画素電極である第1の電極6から第3の電極9に向かう電気力線14k~14pが形成され、液晶5k~5pの軸がこの電気力線14k~14pの方向に垂直になるように、液晶5k~5pが倒れ始める。図15は、駆動電圧印加から所定時間経過後における画素の一例を示す部分断面図である。液晶5k~5pの傾きの変化は、電圧の大きさに応じて止まる。図15に示されるように、それぞれの液晶5k~5pは、第1の電極6からの距離に基づいて、傾斜が異なる。したがって、第1から第3の電極6,7,9に対する電圧印加に応じて、駆動電圧印加時の液晶5k~5pに異なる傾きを持たせることができ、液晶表示の視野を拡げることができる。本実施形態において、対向基板17は、例えばブラックマトリクス13の形成材料として、遮光層を備えるとしてもよい。また、対向基板17は、例えばブラックマトリクス13の形成材料、カラーフィルタ18の形成材料として、着色層とを備えるとしてもよい。遮光層とは、透明樹脂に遮光性の顔料を分散させた遮光性の塗膜である。遮光層には、一般的に感光性が付与される。遮光層は、露光現像を含むフォトリソグラフィの手法によりパターン形成される。着色層とは、後述される有機顔料を透明樹脂に分散させた塗膜である。着色層は、ブラックマトリクス開口部への塗膜の形成、フォトリソグラフィ法によるパターン形成により、形成される。本実施形態において、着色層の比誘電率は、比較的重要な特性である。この着色層の比誘電率は、透明樹脂に対する着色剤として添加される有機顔料の比率に基づいてほぼ一義的に決定される。このため、比誘電率を大きく変化させることは困難である。換言すれば、着色層中の有機顔料の種類又は含有量は、液晶表示装置として必要な色純度から設定され、これにより着色層の比誘電率もほぼ決まる。なお、有機顔料の比率を高くして着色層を薄膜化することにより、比誘電率を4以上とすることが可能である。また、透明樹脂として高屈折率材料を用いることにより、比誘電率を若干アップ可能である。有機顔料を用いた着色層の比誘電率は、概ね2.9から4.5の範囲に入る。カラーフィルタ18に含まれる着色画素フィルタは、赤フィルタ18r、緑フィルタ18g、青フィルタ18bの3色を含むとしてもよく、黄フィルタなどの補色系フィルタを含むとしてもよく、白色画素透明画素を含むとしてもよい。カラーフィルタ18は、対向基板17側に備えるのではなく、アレイ基板4上に備えるとしてもよい。また、カラーフィルタを用いることなく、赤緑青の個別発光素子を備えるバックライトを用いるとしてもよい。例えば、本実施形態に係る液晶表示装置は、LEDバックライトを備えており、時分割発光フィールドシーケンシャルを用いるカラー液晶表示装置であるとしてもよい。以下で、画素の上平面の形状及び配列の例について図16から図20を用いて説明する。図16は、3つのサブピクセルを含む1画素の上平面の形状及び配列の一例を示す平面図である。この図16では、縦ストライプカラーフィルタが示されている。矩形長方形又は正方形の画素19は、矩形の赤サブピクセル19r、矩形の緑サブピクセル19g、矩形の青サブピクセル19bにより構成されている。図17は、向かい合う辺が平行な多角形の複数のサブピクセル19r,19g,19bを含む1画素19の上平面の形状及び配列の一例を示す平面図である。この図17では、横ストライプカラーフィルタが示されている。縦方向のラインは波形状となる。9つの平行四辺形状の赤サブピクセル19rが行方向横方向に配列されている。赤サブピクセル19rの下行に、9つの平行四辺形状の緑サブピクセル19gが行方向に配列されている。緑サブピクセル19gの下に、9つの平行四辺形状の青サブピクセル19gが行方向に配列されている。画素19は、9つの赤サブピクセル19r、9つの緑サブピクセル19g、9つの青サブピクセル19bにより構成されている。図17では、隣り合う上下の行の間で斜辺の傾きが異なる。すなわち、上下に配列される2つの平行四辺形のサブピクセルは、接線に対して対称となり、<形状又は、アローヘッド型、V字を90度回転させた型に配置される。赤サブピクセル19rと、2行下の赤サブピクセル19rとは、緑サブピクセル19gと青サブピクセル19bとを挟んで、斜辺の角度が異なる。緑サブピクセル19gと、2行下の緑サブピクセル19gとは、青サブピクセル19bと赤サブピクセル19rとを挟んで、斜辺の角度が異なる。青サブピクセル19bと、2行下の青サブピクセル19bとは、赤サブピクセル19rと緑サブピクセル19gとを挟んで、斜辺の角度が異なる。図18は、複数の平行四辺形状のサブピクセル19r,19g,19bを含む縦ストライプの画素19の上平面の形状及び配列の一例を示す平面図である。縦方向のラインは、波形状になる。この図18では、行方向に、赤サブピクセル19r、緑サブピクセル19g、青サブピクセル19bが配列されており、各列方向縦方向に、複数の赤サブピクセル19r、複数の緑サブピクセル19g、複数の青サブピクセル19bが配列されている。図19は、複数の平行四辺形状のサブピクセル19r,19g,19bを含む横ストライプの画素19の上平面の形状及び配列の一例を示す平面図である。上記のような平行四辺形の画素又はサブピクセルにおいて、第1から第3の電極6,7,9の櫛歯方向は、上辺又は下辺に平行でもよく、斜辺に平行でもよい。この図19では、上記図17の場合と同様に、各行方向に、複数の赤サブピクセル19r、複数の緑サブピクセル19g、複数の青サブピクセル19bが配列されており、縦方向に、赤サブピクセル19r、緑サブピクセル19g、青サブピクセル19bが配列されている。図20は、1単位で<形状が形成されるサブピクセル19r,19g,19b及び画素19の上平面の形状及び配列の一例を示す平面図である。このように、<形状のサブピクセル19r,19g,19bにより、画素19が構成されるとしてもよい。複数の画素19は、横ストライプ配列でもよく、縦ストライプ配列でもよい。上記のような<形状の画素又はサブピクセルにおいて、第1から第3の電極6,7,9の櫛歯方向は、画素又はサブピクセルのいずれかの辺に平行とすることができる。以上説明した本実施形態に係るカラーフィルタ18を備えた液晶表示基板16においては、ディスクリネーションを軽減することができ、視野角を広くすることができ、画面を明るくすることができる。本実施形態に係る基板16を用いることにより、斜め電界により効果的な液晶駆動を行うことができ、液晶の応答性を向上させることができる。本実施形態のように、画素19及びサブピクセル19r,19g,19bの形状は、自由に設定することができ、これにより液晶の配向を変化させることができ、広い視野角を実現させることができる。なお、本実施形態において、対向基板17は、基板8と、基板8上に形成された第3の電極9と、第3の電極9の形成された基板8上に形成されたブラックマトリクス13と、ブラックマトリクス13の開口部に形成されたカラーフィルタ18と、カラーフィルタ18上に形成された透明樹脂層2とを具備する構成としてもよい。対向基板17は、例えば、基板8と、基板8上に形成されたブラックマトリクス13と、ブラックマトリクス13の開口部に形成された第3の電極9と、第3の電極9の形成されたブラックマトリクス13の開口部に形成されたカラーフィルタ18と、カラーフィルタ18上に形成された透明樹脂層2とを具備する構成としてもよい。第3の実施形態本実施形態においては、上記第2の実施形態で説明したカラーフィルタ18に使用可能な透明樹脂及び有機顔料等の例について説明する。[透明樹脂]遮光層又は着色層の形成に用いられる感光性着色組成物は、顔料分散体に加え、多官能モノマー、感光性樹脂又は非感光性樹脂、重合開始剤、溶剤等を含む。以下、感光性樹脂及び非感光性樹脂など、本実施形態で使用可能な透明性の高い有機樹脂を総称して透明樹脂と呼ぶ。透明樹脂は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、又は感光性樹脂を含む。熱可塑性樹脂としては、例えば、ブチラール樹脂、スチレンーマレイン酸共重合体、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル系樹脂、アルキッド樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ゴム系樹脂、環化ゴム系樹脂、セルロース類、ポリブタジエン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイミド樹脂等が用いられる。熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フマル酸樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂等が用いられる。熱硬化性樹脂としては、例えば、メラミン樹脂とイソシアネート基を含有する化合物とを反応させて得られる物質が使用されてもよい。[アルカリ可溶性樹脂]本実施形態で使用されるブラックマトリクス13の形成材料である遮光層、着色層の形成には、フォトリソグラフィによるパターン形成可能な感光性樹脂組成物を用いることが好ましい。透明樹脂は、アルカリ可溶性を付与された樹脂であることが好ましい。アルカリ可溶性樹脂としては、カルボキシル基又は水酸基を含む樹脂を使用することができる。例えば、アルカリ可溶性樹脂として、エポキシアクリレート系樹脂、ノボラック系樹脂、ポリビニルフェノール系樹脂、アクリル系樹脂、カルボキシル基含有エポキシ樹脂、カルボキシル基含有ウレタン樹脂等を使用することができる。アルカリ可溶性樹脂としては、エポキシアクリレート系樹脂、ノボラック系樹脂、アクリル系樹脂が好ましく、特に、エポキシアクリレート系樹脂やノボラック系樹脂が好ましい。[アクリル樹脂]透明樹脂としては、例えば、以下のアクリル系樹脂を適用可能である。アクリル系樹脂には、単量体として、例えばメタアクリル酸;メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、プロピルメタアクリレート、ブチルメタアクリレート、t-ブチルメタアクリレートペンジルメタアクリレート、ラウリルメタアクリレート等のアルキルメタアクリレート;ヒドロキシエチルメタアクリレート、ヒドロキシプロピルメタアクリレート等の水酸基含有メタアクリレート;エトキシエチルメタアクリレート、グリシジルメタアクリレート等のエーテル基含有メタアクリレート;及びシクロヘキシルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート等の脂環式メタアクリレート等を用いて得られる重合体が用いられる。なお、上記の単量体には、単独の物質を用いてもよく、又は、2種以上の物質を併用してもよい。さらに、単量体と共重合可能なスチレン、シクロヘキシルマレイミド、又はフェニルマレイミド等の化合物との共重合体を、アクリル樹脂に用いてもよい。例えばメタアクリル酸等のエチレン性不飽和基を有するカルボン酸を共重合して得られた共重合体と、グリシジルメタクリレート等のエポキシ基及び不飽和二重結合を含有する化合物とを反応させることによって、感光性を有する樹脂を得るとしてもよい。また、グリシジルメタクリレート等のエポキシ基含有メタアクリレートの重合体又はグリシジルメタクリレート等のエポキシ基含有メタアクリレートの重合体と他のメタアクリレートとの共重合体に、メタアクリル酸等のカルボン酸含有化合物を付加させることによって、感光性を有する樹脂を得るとしてもよい。例えば、ヒドロキシエチルメタアクリレート等のモノマーであり、水酸基を有する重合体に、メタクリロイルオキシエチルイソシアネート等のイソシアネート基及びエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させることによって、感光性を有する樹脂を得るとしてもよい。また、上述したように、複数の水酸基を有するヒドロキシエチルメタクリレート等の共重合体と多塩基酸無水物を反応させて、共重合体にカルボキシル基を導入し、カルボキシル基を有する樹脂を得ることができる。カルボキシル基を有する樹脂の製造方法は、この方法のみに限るものではない。上記の反応に用いる酸無水物の例として、例えばマロン酸無水物、コハク酸無水物、マレイン酸無水物、イタコン酸無水物、フタル酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルテトラヒドロフタル酸無水物、及びトリメリト酸無水物等がある。上述したアクリル系樹脂の固形分酸価は、20~180mgKOH/gであることが好ましい。酸価が20mgKOH/gより小さい場合には、感光性樹脂組成物の現像速度が遅すぎて現像に要する時間が多くなり、生産性が劣る傾向がある。また、固形分酸価が180mgKOH/gより大きい場合には、逆に現像速度が速すぎて、現像後でのパターンハガレ又はパターン欠けなどのような不具合が生じる傾向がある。さらに、上記アクリル系樹脂が感光性を有する場合、このアクリル樹脂の二重結合当量は100以上であることが好ましく、より好ましくは100~2000であり、最も好ましくは100~1000である。二重結合当量が2000を超える場合には、十分な光硬化性が得られない場合がある。[光重合性モノマー]光重合性モノマーとして、例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、トリシクロデカニルメタアクリレート、メラミンメタアクリレート、エポキシメタアクリレート等の各種アクリル酸エステルおよびメタクリル酸エステル、メタアクリル酸、スチレン、酢酸ビニル、メタアクリルアミド、N-ヒドロキシメチルメタアクリルアミド、アクリロニトリル等を用いることができる。また、光重合性モノマーとして、例えば、水酸基を有するメタアクリレートに多官能イソシアネートを反応させて得られるメタアクリロイル基を有する多官能ウレタンアクリレートが用いられることが好ましい。なお、水酸基を有するメタアクリレートと多官能イソシアネートとの組み合わせは任意であり、特に限定されるものではない。また、光重合性モノマーとして、1種の多官能ウレタンアクリレートを単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いることもできる。[光重合開始剤]光重合開始剤としては、例えば、4-フェノキシジクロロアセトフェノン、4-t-ブチル-ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、1-4-イソプロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタン-1-オン等のアセトフェノン系化合物;ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系化合物;ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4-フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4’-メチルジフェニルサルファイド等のベンゾフェノン系化合物;チオキサンソン、2-クロルチオキサンソン、2-メチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、2,4-ジイソプロピルチオキサンソン等のチオキサンソン系化合物;2,4,6-トリクロロ-s-トリアジン、2-フェニル-4,6-ビストリクロロメチル-s-トリアジン、2-p-メトキシフェニル-4,6-ビストリクロロメチル-s-トリアジン、2-p-トリル-4,6-ビストリクロロメチル-s-トリアジン、2-ピペニル-4,6-ビストリクロロメチル-s-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-スチリルs-トリアジン、2-ナフト-1-イル-4,6-ビストリクロロメチル-s-トリアジン、2-4-メトキシ-ナフト-1-イル-4,6-ビストリクロロメチル-s-トリアジン、2,4-トリクロロメチル-ピペロニル-6-トリアジン、2,4-トリクロロメチル4’-メトキシスチリル-6-トリアジン等のトリアジン系化合物;1,2-オクタンジオン,1-4-フェニルチオ-,2-O-ベンゾイルオキシム、O-アセチルN-1-フェニル-2-オキソ-2-4’-メトキシナフチルエチリデンヒドロキシルアミン等のオキシムエステル系化合物;ビス2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等のホスフィン系化合物;9,10-フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアントラキノン等のキノン系化合物;ボレート系化合物;カルバゾール系化合物;イミダゾール系化合物;チタノセン系化合物等を用いることができる。感度を向上させるためには、オキシム誘導体類オキシム系化合物を用いることが有効である。これらの物質は1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。[増感剤]増感剤としては、例えば、光重合開始剤と増感剤とを併用することが好ましい。増感剤としては、例えば、α-アシロキシエステル、アシルフォスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシレート、ベンジル-9,10-フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアンスラキノン、4,4’-ジエチルイソフタロフェノン、3,3’,4,4’-テトラt-ブチルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、4,4’-ジエチルアミノベンゾフェノン等の化合物を併用することもできる。増感剤は、光重合開始剤100質量部に対して、0.1質量部から60質量部の量を含有させることができる。[エチレン性不飽和化合物]上述した光重合開始剤は、エチレン性不飽和化合物と共に用いられることが好ましい。エチレン性不飽和化合物とは、エチレン性不飽和結合を分子内に1個以上有する化合物を意味する。さらに、光重合開始剤は、重合性、架橋性、及びそれに伴う露光部と非露光部との現像液溶解性の差異を拡大できる等の点から、エチレン性不飽和結合を分子内に2個以上有する化合物であることが好ましい。また、光重合開始剤としては、その不飽和結合がメタアクリロイルオキシ基に由来するメタアクリレート化合物が特に好ましい。エチレン性不飽和結合を分子内に1個以上有する化合物としては、例えば、メタアクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸等の不飽和カルボン酸、及びそのアルキルエステル;メタアクリロニトリル;メタアクリルアミド;スチレン等が用いられる。エチレン性不飽和結合を分子内に2個以上有する化合物としては、例えば、不飽和カルボン酸とポリヒドロキシ化合物とのエステル類、メタアクリロイルオキシ基含有ホスフェート類、ヒドロキシメタアクリレート化合物とポリイソシアネート化合物とのウレタンメタアクリレート類、及びメタアクリル酸又はヒドロキシメタアクリレート化合物とポリエポキシ化合物とのエポキシメタアクリレート類等が用いられる。上記の光重合性開始剤、増感剤、及びエチレン性不飽和化合物は、液晶セル内に位相差層を形成する場合には、重合性液晶化合物を含む組成物に加えられてもよい。[多官能チオール]感光性着色組成物には、連鎖移動剤としての働きをする多官能チオールを含有させることができる。多官能チオールは、チオール基を2個以上有する化合物であればよく、例えば、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、1,4-ブタンジオールビスチオプロピオネート、1,4-ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリス3-メルカプトブチレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、トリメルカプトプロピオン酸トリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレート、1,4-ジメチルメルカプトベンゼン、2、4、6-トリメルカプト-s-トリアジン、2-N,N-ジブチルアミノ-4,6-ジメルカプト-s-トリアジン等を用いることができる。これらの多官能チオールは、1種または2種以上混合して用いることができる。多官能チオールは、感光性着色組成物中に、顔料100質量部に対して、好ましくは0.2~150質量部、より好ましくは0.2~100質量部の量で用いることができる。[貯蔵安定剤]感光性着色組成物には、組成物の経時粘度を安定化させるために貯蔵安定剤を含有させることができる。貯蔵安定剤としては、例えば、ベンジルトリメチルクロライド、ジエチルヒドロキシアミンなどの4級アンモニウムクロライド、乳酸、シュウ酸などの有機酸およびそのメチルエーテル、t-ブチルピロカテコール、トリエチルホスフィン、トリフェニルフォスフィンなどの有機ホスフィン、亜リン酸塩等を用いることができる。貯蔵安定剤は、感光性着色組成物中の顔料100質量部に対して、0.1質量部から10質量部の量で含有させることができる。[密着向上剤]感光性着色組成物には、基板との密着性を高めるためにシランカップリング剤等の密着向上剤を含有させることもできる。シランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリスβ-メトキシエトキシシラン、ビニルエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン等のビニルシラン類、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のメタアクリルシラン類;β-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシルメチルトリメトキシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシルメチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のエポキシシラン類;N-βアミノエチルγ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-βアミノエチルγ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-βアミノエチルγ-アミノプロピルメチルジエトキシシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリエトキシシラン等のアミノシラン類;γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリエトキシシラン等のチオシラン類等を用いることができる。シランカップリング剤は、感光性着色組成物中に、顔料100質量部に対して、0.01質量部から100質量部で含有させることができる。[溶剤]感光性着色組成物には、基板上への均一な塗布を可能とするために、例えば、水又は有機溶剤等の溶剤が配合される。また、本実施形態で用いられる組成物がカラーフィルタの着色層の場合、溶剤は、顔料を均一に分散させる機能も有する。溶剤としては、例えば、シクロヘキサノン、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、1-メトキシ-2-プロピルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチルベンゼン、エチレングリコールジエチルエーテル、キシレン、エチルセロソルブ、メチル-nアミルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、トルエン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルケトン、石油系溶剤等を用いることができる。溶剤は、これら物質を単独で又は混合して用いることができる。溶剤は、着色組成物中に、顔料100質量部に対して、800質量部から4000質量部、好ましくは1000質量部から2500質量部で含有させることができる。[有機顔料]赤色顔料としては、例えば、C.I.PigmentRed7、9、14、41、48:1、48:2、48:3、48:4、81:1、81:2、81:3、97、122、123、146、149、168、177、178、179、180、184、185、187、192、200、202、208、210、215、216、217、220、223、224、226、227、228、240、242、246、254、255、264、272、279等を用いることができる。黄色顔料としては、例えば、C.I.PigmentYellow1、2、3、4、5、6、10、12、13、14、15、16、17、18、20、24、31、32、34、35、35:1、36、36:1、37、37:1、40、42、43、53、55、60、61、62、63、65、73、74、77、81、83、86、93、94、95、97、98、100、101、104、106、108、109、110、113、114、115、116、117、118、119、120、123、125、126、127、128、129、137、138、139、144、146、147、148、150、151、152、153、154、155、156、161、162、164、166、167、168、169、170、171、172、173、174、175、176、177、179、180、181、182、185、187、188、193、194、199、213、214等を用いることができる。青色顔料としては、例えばC.I.PigmentBlue15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、16、22、60、64、80等を用いることができ、これらの中では、C.I.PigmentBlue15:6が好ましい。紫色顔料としては、例えば、C.I.PigmentViolet1、19、23、27、29、30、32、37、40、42、50等を用いることができ、これらの中では、C.I.PigmentViolet23が好ましい。緑色顔料としては、例えば、C.I.PigmentGreen1、2、4、7、8、10、13、14、15、17、18、19、26、36、45、48、50、51、54、55、58等を用いることができ、これらの中では、C.I.PigmentGreen58が好ましい。以下、C.I.Pigmentの顔料種の記載において、単にPBPigmentBlue、PVPigmentViolet、PRPigmentRed、PYPigmentYellow、PGPigmentGreenなどと省略して記載することがある。[遮光層の色材]遮光層又はブラックマトリクスに含まれる遮光性の色材は、可視光波長領域に吸収を有することにより遮光機能を示す色材である。本実施形態において、遮光性の色材には、例えば、有機顔料、無機顔料、染料等が用いられる。無機顔料としては、例えば、カーボンブラック、酸化チタン等が用いられる。染料としては、例えば、アゾ系染料、アントラキノン系染料、フタロシアニン系染料、キノンイミン系染料、キノリン系染料、ニトロ系染料、カルボニル系染料、メチン系染料等が用いられる。有機顔料としては、上記の有機顔料が採用できる。なお、遮光性成分は、1種を用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。また、これら色材の表面による樹脂被覆により、高体積抵抗化が行われてもよい。逆に、樹脂の母材に対して色材の含有比率を上げて若干の導電性を付与することにより、低体積抵抗化が行われてもよい。しかし、このような遮光性材料の体積抵抗値は、およそ1×108~1×1015Ωcmの範囲であり、透明導電膜の抵抗値に影響するレベルではない。同様に、遮光層の比誘電率も色材の選択又は含有比率でおよそ3~11の範囲で調整可能である。遮光層、第1の透明樹脂層、着色層の比誘電率は、液晶表示装置の設計条件又は液晶の駆動条件にあわせて調整可能である。[分散剤分散助剤]顔料分散剤として高分子分散剤を用いることは、経時の分散安定性が優れるため、好ましい。高分子分散剤としては、例えば、ウレタン系分散剤、ポリエチレンイミン系分散剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル系分散剤、ポリオキシエチレングリコールジエステル系分散剤、ソルビタン脂肪族エステル系分散剤、脂肪族変性ポリエステル系分散剤等を用いることができる。そのうち、特に、窒素原子を含有するグラフト共重合体からなる分散剤は、顔料を多く含む本実施形態に用いられる遮光性感光性樹脂組成物に対して現像性に優れ、好ましい。分散剤は、1種を用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。分散助剤としては、例えば、色素誘導体等を用いることができる。色素誘導体としては、例えば、アゾ系、フタロシアニン系、キナクリドン系、ベンズイミダゾロン系、キノフタロン系、イソインドリノン系、ジオキサジン系、アントラキノン系、インダンスレン系、ペリレン系、ペリノン系、ジケトピロロピロール系、ジオキサジン系等の誘導体を用いることができ、そのうち、キノフタロン系が好ましい。色素誘導体の置換基としては、例えば、スルホン酸基、スルホンアミド基及びその4級塩、フタルイミドメチル基、ジアルキルアミノアルキル基、水酸基、カルボキシル基、アミド基等が顔料骨格に直接又はアルキル基、アリール基、複素環基等を介して結合されるとしてもよい。これらの中では、スルホン酸基が用いられることが好ましい。また、これら置換基は、一つの顔料骨格に複数置換してもよい。色素誘導体としては、例えば、フタロシアニンのスルホン酸誘導体、キノフタロンのスルホン酸誘導体、アントラキノンのスルホン酸誘導体、キナクリドンのスルホン酸誘導体、ジケトピロロピロールのスルホン酸誘導体、ジオキサジンのスルホン酸誘導体等を用いることができる。以上の分散助剤及び色素誘導体は、1種を用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。第4の実施形態本実施形態においては、上記図1の対向基板3の製造について説明する。[第3電極9の形成]この対向基板3の製造工程では、まず、無アルカリガラスである透明基板8上に、ブラックマトリクス13が形成される。次に、ブラックマトリクス13の形成された透明基板8上に、スパッタリング装置を用いて、第3の電極を形成するためのITOインジウムスズの金属酸化物薄膜が全面を覆うように成膜される。このITOは、例えば、スパッタリング装置を用いて、常温にて、0.14μmの膜厚で成膜される。次に、ITOは、フォトリソグラフィ法により、例えば7μmの幅の櫛歯状に形成される。この櫛歯状のITOは、共通電極である第3の電極9となる。なお、ITOの室温成膜では、透過率アップのためアニーリングが必要である。アニーリングのための熱処理は、後工程のブラックマトリクスなどの硬膜処理とともに実施されるとしてもよい。そして、第3の電極9の形成された表面に、透明樹脂層2が形成される。第3の電極9のパターン形状は、上述された図9から図11に示されている形状を適用可能である。ブラックマトリクス13及び透明樹脂層2は、例えば、以下で説明される形成手段によって形成される。また、ITOより形成される第3の電極9のパターン幅は、画素サイズに対応させて2μmから30μmの範囲で調整される。第3の電極9の形成密度又はパターン幅は、一画素内で変更されてもよい。そのパターン形状又は密度分布は、例えば、一画素の中心から点対称又は線対称とすることにより、画素の中心から対称の液晶の倒れを実現し、液晶表示において広い視野角を確保することができる。なお、第1及び第2の電極6,7についても、この第3の電極9と同様の手法により製造することができる。ブラックマトリクス13の形成<ブラックマトリクス形成用分散液>カーボンブラック分散液は、カーボン顔料20重量部、高分子分散剤8.3重量部、銅フタロシアニン誘導体東洋インキ製造社製1.0重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート71重量部、を各々添加し、ビーズミル分散機によって攪拌することにより、作製される。<ブラックマトリクス形成用フォトレジスト>ブラックマトリクス形成用レジストの材料として、例えば、カーボンブラック分散液、樹脂固形分56.1重量、モノマー、開始剤、溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート又はエチル-3-エトキシプロピオネート、レベリング剤、が使用される。これらの材料が、以下の組成比で混合攪拌され、ブラックマトリクス形成用レジストに用いられる固形分中の顔料濃度:約20。カーボンブラック分散液3.0重量部樹脂1.4重量部モノマー0.3重量部開始剤0.67重量部開始剤0.17重量部プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート14重量部エチル-3-エトキシプロピオネート5.0重量部レベリング剤1.5重量部<ブラックマトリクス13の形成条件>ブラックマトリクス13の形成においては、まず、上記フォトレジストがガラスである透明基板8にスピンコートされ、例えば、100°Cで3分間乾燥され、透明基板8の表面に膜厚1.9μmの塗膜が形成される。次に、所定のパターン幅ブラックマトリクス13の画線幅に相当及び開口パターンを持つ露光用のフォトマスクを用いて、透明基板8上の塗膜に対して、光源から光が照射される。この光は、例えば、超高圧水銀灯ランプを用いて200mjcm2照射される。次に、光照射後の基板に対して、2.5炭酸ナトリウム水溶液を用いて例えば60秒間現像が行われ、水洗及び乾燥が行われ、230°Cで60分加熱処理が行われ、パターンの定着が行われる。これにより、透明基板8上にブラックマトリクス13が形成される。ブラックマトリクス13の画線幅は、例えば、約20μm又は約20.5μm程度が用いられる。ブラックマトリクス13は、画素又はサブピクセルの周囲に形成される。例えば、透明基板8の面からのパターンエッジである画線端部の傾斜角度は、約45度とされる。[透明樹脂層2の形成]ブラックマトリクス13及びブラックマトリクス13のない開口部を覆うように、アルカリ可溶性のアクリル感光性樹脂塗布液を用いて、透明樹脂層2が形成される。透明樹脂層2は、硬膜後の膜厚が例えば約1μmになるように形成される。この透明樹脂層2の形成により、液晶表示用の対向基板3が形成される。なお、本実施形態の基板3は、カラーフィルタ18がアレイ基板4側に形成される液晶表示装置、又は、フィールドシーケンシャル複数色のLED光源をバックライトに用い、時分割の光源駆動により、カラーフィルタなしでカラー表示を行う手法のカラー液晶表示装置、に適用可能である。アクリル感光性樹脂塗布液としては、例えば、下記のように、アクリル樹脂を合成し、さらにモノマー、光開始剤を加え、例えば0.5μmのフィルトレーションを行って得られる透明樹脂塗布液を用いることができる。<アクリル樹脂の合成>アクリル樹脂の合成においては、まず、反応容器にシクロヘキサノン800部を入れ、反応容器に窒素ガスを注入しながら加熱し、下記モノマー及び熱重合開始剤の混合物を滴下して重合反応を行う。スチレン55部メタクリル酸65部メチルメタクリレート65部ベンジルメタクリレート60部熱重合開始剤15部連鎖移動剤3部滴下後に十分加熱を行い、その後、この混合物に、熱重合開始剤2.0部をシクロヘキサノン50部で溶解させた物質を添加し、さらに反応を続けてアクリル樹脂の溶液が得られる。この樹脂溶液に、固形分が30重量になるようにシクロヘキサノンを添加してアクリル樹脂溶液を調製し、樹脂溶液1が得られる。アクリル樹脂の重量平均分子量は、約20000であった。さらに、下記の組成の混合物を均一に攪拌混合した後、例えば直径1mmのガラスビーズを用いて、サンドミルで所定時間2時間分散した後、0.5μmのフィルタで濾過して透明樹脂塗布液が得られる。樹脂溶液1100重量部多官能重合性モノマーEO変性ビスフェノールAメタクリレート20部光開始剤16重量部シクロヘキサノン190重量部第5の実施形態本実施形態においては、上記図12の対向基板17の製造について説明する。[ブラックマトリクス13の形成]無アルカリガラスである透明基板8上に、上述したブラックマトリクス形成用のフォトレジストを用いて、同様パターンでブラックマトリクス13が形成される。[着色フィルタ着色画素の形成]<着色層形成用分散液>着色層に分散する有機顔料として、以下の材料が使用される。赤色用顔料CIPigmentRed254CIPigmentRed177緑色用顔料CIPigmentGreen58後述する緑色顔料CIPigmentYellow150青色用顔料CIPigmentBlue15CIPigmentViolet23上記の顔料を用いて、赤色、緑色、青色の各色分散液を作製する。赤色顔料分散液赤色顔料:CIPigmentRed25418重量部赤色顔料:CIPigmentRed1772重量部アクリルワニス固形分20重量108重量部上記の組成の混合物を均一に攪拌した後、ガラスビーズを用いて、サンドミルで所定時間例えば5時間分散し、フィルタ例えば5μmフィルタで濾過して赤色顔料分散液を作製する。緑色顔料分散液CIPigmentGreen5816重量部CIPigmentYellow1508重量部アクリルワニス固形分20重量102重量部上記の組成の混合物に対して、赤色顔料分散液と同様の作製方法を用いて、緑色顔料分散液を作製することができる。青色顔料分散液CIPigmentBlue1550重量部CIPigmentViolet232重量部分散剤6重量部アクリルワニス固形分20重量200重量部上記の組成の混合物に対して、赤色顔料分散液と同様の作製方法を用いて、青色顔料分散液を作製することができる。[着色画素形成カラーレジスト]赤色画素形成カラーレジスト赤色分散液150重量部トリメチロールプロパントリアクリレート13重量部光開始剤4重量部増感剤2重量部溶剤:シクロヘキサノン257重量部上記組成の混合物を均一になるように攪拌混合した後、5μmのフィルタで濾過することにより、赤色画素形成カラーレジストが得られる。緑色画素形成カラーレジスト緑色分散液126重量部トリメチロールプロパントリアクリレート14重量部光開始剤4重量部増感剤2重量部シクロヘキサノン257重量部上記の組成の混合物を均一になるように攪拌混合した後、5μmのフィルタで濾過することにより、緑色画素形成カラーレジストが得られる。青色画素形成カラーレジスト青色画素形成カラーレジストは、組成がそれぞれ下記組成となるように、赤色画素形成カラーレジストと同様の方法で作製される。青色分散液258重量部トリメチロールプロパントリアクリレート19重量部光開始剤4重量部増感剤2重量部シクロヘキサノン214重量部[緑色顔料の調整]緑色顔料を調整するために、例えば、塩化アルミニウム356部及び塩化ナトリウム6部の200°Cの溶融塩に、亜鉛フタロシアニン46部を溶解し、130°Cまで冷却し、1時間攪拌する。さらに、反応温度を180°Cに昇温し、臭素を1時間あたり10部で10時間滴下する。その後、塩素を1時間あたり0.8部で5時間導入する。緑色顔料の調整では、このようにして得られる反応液を水3200部に徐々に注入した後、濾過、水洗し、107.8部の粗製ハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料を得る。例えば、粗製ハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料の1分子内に含まれる平均臭素数は、14.1個、平均塩素数は1.9個となる。例えば、得られた粗製ハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料120部、粉砕した食塩1600部、及びエチレングリコール270部がステンレス製1ガロンニーダーに仕込まれ、70°Cで12時間混練される。このようにして得られる混合物は、温水5000部に投入され、約70°Cに加熱されつつハイスピードミキサーで約1時間攪拌され、スラリー状にされる。さらに、スラリー状にされた混合物に対して、濾過、水洗が繰り返され、食塩及び溶剤が除去される。その後、混合物は、80°Cで24時間乾燥される。これにより、117部のソルトミリング処理の緑色顔料が得られる。[着色画素形成]上記のような方法によって得られた着色画素形成カラーレジストを用いて着色層が形成される。以下の着色層の形成における各種条件は一例であり、他の条件が適用されてもよい。着色層の形成では、まず、ガラス基板に、赤色画素形成用カラーレジストがスピンコートにより仕上り膜厚1.8μmとなるように塗布される。90°C、5分間乾燥の後、着色画素形成用のフォトマスクを通して高圧水銀灯の光が300mJ/cm2照射されアルカリ現像液にて60秒間現像され、ストライプ形状の赤色の着色画素が得られる。その後、赤フィルタ18r赤色の着色画素は、230°C、30分で焼成される。BM部とカラー部の重なりは、例えば80μmで作製される。緑色画素形成用レジストも、同様にスピンコートにより仕上り膜厚1.8μmとなるように塗布される。90°C、5分間乾燥の後、前述の赤色画素と隣接した位置にパターンが形成されるように、フォトマスクを通して露光及び現像が行われる。これにより、緑フィルタ18g緑色画素が得られる。赤色、緑色と同様の手法により、青色画素形成用レジストについても仕上り膜厚1.8μmで赤フィルタ18r、緑フィルタ18gと隣接した青フィルタ18bが得られる。これで、基板8上に赤、緑、青3色の着色を持つカラーフィルタが得られる。その後、カラーフィルタは230°C、30分で硬膜される。[透明樹脂層2の形成]上記のアクリル感光性樹脂塗布液を用いて、硬膜後膜厚1μmの透明樹脂層2は、赤、緑、青3色のカラーフィルタ18全体を覆うように形成される。透明樹脂層2は、露光、現像後、230°C、30分で硬膜化される。[第3の電極9の形成]第3の電極9の形成では、スパッタリング装置を用いて、ブラックマトリクス13形成後の全面を覆うように、ITOインジウムスズの金属酸化物薄膜が、膜厚0.14μm、室温で、成膜される。ITOは、公知のフォトリソグラフィ法を用いて、共通電極である7μm幅の櫛歯状の第3の電極9に形成される。第3の電極9は、パターン形成後に、ITO膜のアニーリングとして、230°C、30分で熱処理される。これにより対向基板17が形成される。なお、本実施形態においては、第3の電極9を透明樹脂層2の上に形成する構成を説明したが、第3の電極9は、ガラスなどの透明基板8に直接形成してもよく、カラーフィルタ18と透明樹脂層2の間に形成されるとしてもよい。第6の実施形態本実施形態においては、上記第1から第6で説明された基板1,16を備える液晶表示装置の例について説明する。図21は、本実施形態に係る液晶表示装置の構成の一例を示す断面図である。この図21では、液晶表示装置100が基板1を備える場合を例示しているが、基板16を備える場合についても同様である。液晶表示装置100は、反射偏光板を用いた半透過型液晶表示装置である。反射偏光板としては、例えば、特許第4177398号公報に記載されているような反射偏光板を用いることができる。基板1は、上記の第1の実施形態で説明したように、アクティブ素子TFTの形成されたアレイ基板4を備える。アレイ基板4は、櫛歯状の第1及び第2の電極6,7を備える。対向基板3及びアレイ基板4は、対向して配置され、間に液晶層5を介して貼り合わせられている。対向基板3における液晶層5と反対側の面裏面には、位相差板21及び偏光板22が配置される。また、アレイ基板20における液晶層5と反対側の面裏面には、偏光板23、光拡散層24、反射偏光板25、位相差板光学補償層26、プリズムシート27、光拡散層28、導光板29、光反射板30が順次配設される。導光板29には、例えばLEDなどのような光源31が取付けられる。偏光板22,23としては、例えばクロスニコルでの配置が用いられる。光源31としては、RGB個別発光素子であることが望ましいが、フィールドシーケンシャルでの個別のRGB発光素子の制御を行わない場合には、擬似白色LEDであってもよい。また、光源31として、従来汎用されている冷陰極線管や蛍光灯を用いてもよい。光源31としてRGB個別発光素子を用いた場合には、それぞれの発光強度を色ごと、画素ごとに個別に調整することができ、最適な色表示を行うことが可能であり、液晶と同期した時分割駆動によりカラーフィルタを使うことなく、カラーで表示することができる。また、立体画像表示に適用することもできる。液晶表示装置100において、表示画面の各部分でバックライトの明るさを調整してコントラストを向上させる技術であるローカルデミング法が適用されてもよい。以上説明した本実施形態に係る液晶表示装置100においては、対向基板3及びアレイ基板4の配向処理を軽減させることができる。さらに、液晶表示装置100においては、液晶の応答性を改善することができる。また、第1から第3の電極6,7,9の構成により、液晶のディスクリネーションを軽減することができ、液晶表示を向上させることができる。なお、液晶表示装置100は、上記第2の実施形態のように、カラーフィルタ18の有効表示画素を覆うように透明導電膜2を積層する構成の対向基板17を備えるとしてもよい。カラーフィルタ18を備える基板16では、対向基板17とTFTのアクティブ素子を形成したアレイ基板4とを貼り合わせ、対向基板17とアレイ基板4との間に、負の誘電率異方性の液晶11が封入される。基板16の両面には、偏光板及び位相差板が備えられる。これにより、カラーの階調表示が可能になる。対向基板17及びアレイ基板4の表面には、予め垂直配向膜が形成されるとしてもよい。アクティブ素子の形成されたアレイ基板4は、櫛歯状又はストライプ状の第1及び第2の電極6,7を備える。前述の図12から図15では、カラーフィルタ18を備える基板16の断面図を例示するが、垂直配向用の配向膜は、省略されている。本実施形態に係る液晶表示装置100においては、MVA又はVATNなどの垂直配向の液晶表示装置に必要な厳密な配向処理例えば、チルト角89°とし、複数ドメインを形成するための複数方向の配向処理が必要ない。本実施形態に係る液晶表示装置100では、ほぼ90°の垂直配向とすることができる。上記の本実施形態においては、副次的効果として、IPS横電界で液晶を駆動する又はFFS櫛歯電極のフリンジに生じる電界で液晶を駆動する方式と異なり、外部電場の影響を受けにくい液晶表示装置を提供することができる。なお、本実施形態に係る液晶表示装置100の矩形画素は、平面の画素中心から線対称又は点対称の1/2又は1/4画素に区分できる。TFT素子を一画素に2個又は4個形成し、TFT素子ごとに異なる電圧を印加する駆動方式を適用する技術は、各種の視角調整技術及び立体画像表示技術に適用できる。"