"低分子量化合物を含有する溶液からのナノ濾過によるそれの分離前にポリマーナノ濾過膜を処理する方法であって、ナノ濾過膜の処理が、ナノ濾過透過液への低分子量化合物の透過流束を高める条件下で有機液体を用いて行われることを特徴とする、上記方法。有機液体が、有機酸およびアルコールから選択される1つ又はそれ以上の化合物を含む溶液であることを特徴とする、請求項1に記載の方法。有機酸が、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、乳酸、シュウ酸、クエン酸、グリコール酸およびアルドン酸から選択されることを特徴とする、請求項2に記載の方法。アルコールが、メタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノールおよびグリセリンから選択されることを特徴とする、請求項2に記載の方法。有機液体中の化合物の濃度が、2質量~98質量、好ましくは10質量~60質量であることを特徴とする、請求項2に記載の方法。処理が、20°C~100°C、好ましくは20°C~90°C、より好ましくは40°C~80°Cの温度で行われることを特徴とする、請求項1に記載の方法。処理時間が、1~150時間、好ましくは2~100時間であることを特徴とする、請求項1に記載の方法。処理が、以下の条件:-酸濃度5質量~80質量、好ましくは10質量~45質量、-処理温度40°C~80°C、好ましくは65°C~75°C、-処理時間20~90時間の下で、ギ酸の溶液を用いて行われることを特徴とする、請求項1に記載の方法。処理が、以下の条件:-酸濃度10質量~95質量、好ましくは30質量~85質量、-処理温度40°C~80°C、好ましくは65°C~75°C、-処理時間20~90時間の下で、乳酸の溶液を用いて行われることを特徴とする、請求項1に記載の方法。処理が、以下の条件:-アルコール濃度5質量~80質量、好ましくは15質量~45質量、-処理温度40°C~80°C、好ましくは65°C~75°C、-処理時間20~90時間の下で、イソプロピルアルコールの溶液を用いて行われることを特徴とする、請求項1に記載の方法。処理が、以下の条件:-酸濃度10質量~100質量、好ましくは10質量~60質量、-処理温度40°C~80°C、好ましくは65°C~75°C、-処理時間30~70時間、好ましくは40~60時間の下で、酢酸の溶液を用いて行われることを特徴とする、請求項1に記載の方法。低分子量化合物が、最大で360g/molまでのモル質量を有することを特徴とする、請求項1に記載の方法。低分子量化合物が、糖、糖アルコール、イノシトール、ベタイン、グリセリン、アミノ酸、ウロン酸、カルボン酸、アルドン酸ならびに無機および有機塩から選択されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。糖が、単糖であることを特徴とする、請求項13に記載の方法。単糖が、ペントースおよびヘキソースから選択されることを特徴とする、請求項14に記載の方法。ペントースが、キシロースおよびアラビノースから選択されることを特徴とする、請求項15に記載の方法。ヘキソースが、グルコース、ガラクトース、ラムノース、マンノース、フルクトース、イソマルトースおよびタガトースから選択されることを特徴とする、請求項15に記載の方法。低分子量化合物を含む溶液が、植物系のバイオマス加水分解物およびバイオマス抽出物、デンプン加水分解物、オリゴ糖含有シロップsurup、グルコースシロップsyryp、フルクトースシロップ、マルトースシロップ、コーンシロップならびにラクトース含有酪農製品から選択されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。ポリマーナノ濾過膜が、ポリアミド膜であることを特徴とする、請求項1に記載の方法。ポリアミド膜が、ポリピペラジンアミド膜であることを特徴とする、請求項19に記載の方法。ナノ濾過透過液への低分子量化合物の透過流束が、10~20,000g/m2時の範囲内にあることを特徴とする、請求項1に記載の方法。ナノ濾過透過液への糖の透過流束が、20~15,000g/m2時、好ましくは100~8000g/m2時、より好ましくは100~4000g/m2時の範囲内にあることを特徴とする、請求項13に記載の方法。ナノ濾過透過液へのキシロースの透過流束が、100~10,000g/m2時、好ましくは100~8000g/m2時、より好ましくは100~4000g/m2時の範囲内にあることを特徴とする、請求項16に記載の方法。ナノ濾過透過液へのグルコースの透過流束が、200~15,000g/m2時、好ましくは200~10,000g/m2時、より好ましくは200~8000g/m2時の範囲内にあることを特徴とする、請求項17に記載の方法。方法が、ナノ濾過保持液とナノ濾過透過液とを得るための低分子量化合物を含有溶液のナノ濾過をさらに含み、それにより該低分子量化合物が、ナノ濾過透過液中に分離されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。ポリマーナノ濾過膜を用いるナノ濾過によってキシロース含有溶液からキシロースを分離し回収する方法であって、ギ酸、乳酸、酢酸、イソプロパノール、エタノールおよびメタノールから選択される化合物を含む有機液体で、以下の条件:-化合物濃度10~80質量-処理温度40~90°C、および-処理時間2~100時間において、膜を処理して処理ナノ濾過膜を得る工程と、それに続く処理ナノ濾過膜を用いて100~10,000gキシロース/m2時のナノ濾過透過液へのキシロース透過流束でキシロース含有溶液をナノ濾過する工程と、ナノ濾過透過液からキシロースを回収する工程とを含む、上記方法。上記のような後処理、比較的穏やかな条件下での状態調節および洗浄方法を含む公知のナノ濾過方法に付随する問題の1つは、膜の処理能力が、長期的に十分ではなくかつ/または安定を保たず、連続ナノ濾過運転においてあまりにも急に低下することである。したがって、膜構造および分離効率に悪影響を及ぼすことなく向上した膜処理能力を達成する、より効率的な処理方法に対する必要性がある。本発明に関する定義膜処理能力は、分離されるべき化合物のフラックスとして例えば、キシロースがナノ濾過方法によって分離されるべき標的化合物である場合についてはキシロースフラックスとして表される。フラックスまたは透過液フラックスは、1時間の間にナノ濾過膜を透過する溶液の量リットルまたはkgであって、膜表面1平方メートル当たり、すなわちL/m2時またはkg/m2時で算出される量をいう。キシロースフラックスは、1時間の間にナノ濾過膜を透過するキシロースの量gであって、膜表面1平方メートル当たり、すなわちg/m2時で算出される量をいう。キシロースフラックスは、液体フラックスと、透過液中の乾燥物質およびキシロースの含有量とを測定することによって求められ得る。同じ定義が、分離されるべき他の標的化合物にも当てはまる。したがって、例えばグルコースフラックスおよびベタインフラックスも、同様に定義される。分離効率は、1種または複数種の標的化合物をナノ濾過供給原料中の他の化合物から分離する、ナノ濾過方法における膜の能力をいい、供給原料中の化合物の純度DSに基づくと比較したナノ濾過透過液中の化合物の純度として表わされる。分離効率はまた、互いから分離されるべき2種の化合物の関係供給原料中のそれらの関係と比較した透過液中のそれらの関係としても表わされ得る。DSは、KarlFischer滴定によりまたは屈折率測定RIにより測定される乾燥物質含有量をいい、重量として表わされる。MgSO4保持率は、以下に示されるようなMgSO4に対する膜選択性の尺度である、MgSO4の実測保持率をいう。RMgSO4=1-cpMgSO4/cfMgSO4ここで、RMgSO4は、MgSO4の実測保持率であり、cpMgSO4は、透過液中のMgSO4の濃度g/100g溶液であり、cfMgSO4は、供給原料中のMgSO4の濃度g/100g溶液である。膜処理は、膜処理能力を高めるために化学薬品でナノ濾過膜を改質することをいう。本発明に従う膜処理は、膜製造業者により膜製造の仕上段階において後処理として行われ得る。本発明に従う膜処理はまた、ナノ濾過作業における前処理としても行われ得る。膜清浄化および膜洗浄は、未使用膜から膜保存用化合物を除去すること、またはナノ濾過作業の間もしくはナノ濾過膜の貯蔵の間にナノ濾過膜その表面および細孔に蓄積されたファウリング物質foulant/汚染物質/不純物を除去することをいう。発明の説明したがって、本発明の目的は、公知のナノ濾過方法における不十分な膜処理能力または膜処理能力の低下に関連した上記の不都合を軽減するようにナノ濾過膜を処理する方法を提供することである。本発明は、低分子量化合物のそれを含有する溶液からのナノ濾過による分離前にポリマーナノ濾過膜を処理する方法であって、ナノ濾過膜の処理が、低分子量化合物の分離効率を実質的に維持しつつナノ濾過透過液への低分子量化合物のフラックスを高める条件下で有機液体を用いて行われることを特徴とする、方法に関する。処理液として使用される有機液体は、有機酸およびアルコールから選択される1種以上の化合物を含む溶液であり得る。処理液はまた、1種以上の前記化合物を含有する工業プロセス流であり得る。有機酸は、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、乳酸、シュウ酸、クエン酸、グリコール酸およびアルドン酸から選択され得る。アルドン酸は、例えばキシロン酸およびグルコン酸から選択され得る。アルコールは、例えばメタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノールおよびグリセリンから選択され得る。本発明の典型的な実施形態において、処理液は、1種以上の上に列挙された化合物を含有する水溶液である。処理液中のその列挙された化合物の濃度は、2重量~98重量、好ましくは10重量~60重量、より好ましくは10重量~40重量であり得る。処理液はまた、例えば、列挙された化合物の1種以上を上記の濃度で含有する工業プロセス流であり得る。こうした工業プロセス流は、例えば、工業プラントからの様々な副流から選択され得る。有用な工業プロセス流の例には、例えば、典型的に列挙された酸またはアルコールを適切な範囲で含有し得る、木材加工工業およびバイオリファイナリーからの副流がある。工業プロセス流は、適宜、所望の濃度に希釈または濃縮され得る。本発明に従う処理は、20°C~100°C、好ましくは20°C~90°C、より好ましくは40°C~80°Cの温度で行われる。処理時間は、1~150時間、好ましくは2~100時間、より好ましくは20~50時間であり得る。処理条件温度および時間は、例えば選択された処理液およびその濃度ならびに選択された膜に応じて、広い範囲内で異なり得る。本発明の1つの具体的な実施形態において、処理は、以下の条件:-酸濃度5重量~80重量、好ましくは10重量~45重量、-処理温度40°C~80°C、好ましくは65°C~75°C、-処理時間20~90時間の下で、ギ酸の溶液を用いて行われる。本発明のさらなる具体的な実施形態において、処理は、以下の条件:-酸濃度10重量~95重量、好ましくは30重量~85重量、-処理温度40°C~80°C、好ましくは65°C~75°C、-処理時間20~90時間の下で、乳酸の溶液を用いて行われる。本発明のなおさらなる具体的な実施形態において、処理は、以下の条件:-アルコール濃度5重量~80重量、好ましくは15重量~45重量、-処理温度40°C~80°C、好ましくは65°C~75°C、-処理時間20~90時間の下で、イソプロピルアルコールの溶液を用いて行われる。本発明のなおさらなる具体的な実施形態において、処理は、以下の条件:-酸濃度10重量~100重量、好ましくは10重量~60重量、-処理温度40°C~80°C、好ましくは65°C~75°C、-処理時間20~70時間、好ましくは40~60時間の下で、酢酸の溶液を用いて行われる。本発明の1つの実施形態において、有機酸とアルコールとの混合物が、処理液として使用され得る。有用な混合物の一例は、イソプロパノールとギ酸との混合物である。本発明のさらなる実施形態において、処理は、2つ以上の連続工程例えば、アルコール例えば、イソプロパノールでの第1の処理および有機酸例えば、酢酸での第2の処理を含み得る。実施面では、処理は、処理液中での膜エレメントの浸漬、浸軟または温置によって行われ得る。所望される場合は、混合が適用され得る。処理はまた、処理されるべき膜エレメントを備えたナノ濾過装置中で前処理液を再循環させることによっても行われ得る。本発明の処理方法に続いて、種々のナノ濾過供給原料から標的化合物を分離するための実際のナノ濾過が行われる。したがって、本発明のさらなる実施形態において、当該方法は、ナノ濾過保持液とナノ濾過浸透液とを得るための、複数種の低分子量化合物を含むナノ濾過供給原料のナノ濾過をさらに包含し、それにより1種または複数種の前記低分子量化合物が、分離効率を実質的に維持しつつ改善されたその1種または複数種の化合物のフラックスで、ナノ濾過浸透液中に分離される。ナノ濾過は、上記のように処理されたナノ濾過膜を用いて行われる。1種または複数種の化合物のフラックスの改善は、処理されていない膜についてのフラックスと比較して、20より大きい、好ましくは50より大きい、より好ましくは100より大きい。本発明の処理は、例えば、参照により本明細書に援用される国際公開第02/053781A1号パンフレットおよび同第02/053783A1号パンフレットならびに国際公開第2007/048879A1号パンフレットに開示されているナノ濾過方法に、適用され得る。ナノ濾過により分離されるべき化合物は、典型的に、360g/molまでのモル質量を有する低分子量化合物である。分離されるべき低分子量化合物は、糖、糖アルコール、イノシトール、ベタイン、グリセリン、アミノ酸、ウロン酸、カルボン酸、アルドン酸ならびに無機および有機塩から選択され得る。本発明の1つの実施形態において、糖は、単糖である。単糖は、ペントースおよびヘキソースから選択され得る。ペントースは、キシロースおよびアラビノースから選択され得る。本発明の1つの実施形態において、ペントースは、キシロースである。ヘキソースは、グルコース、ガラクトース、ラムノース、マンノース、フルクトースおよびタガトースから選択され得る。本発明の1つの実施形態において、ヘキソースは、グルコースである。糖アルコールは、例えば、キシリトール、ソルビトールおよびエリトリトールから選択され得る。カルボン酸は、クエン酸、乳酸、グルコン酸、キシロン酸およびグルクロン酸から選択され得る。分離されるべき無機塩は、例えば、一価のアニオン例えば、Cl-から選択され得る。本発明の好ましい実施形態において、ナノ濾過透過液中に分離されるべき化合物は、生成物化合物例えば、キシロース、グルコースおよびベタインであり得る。本発明のさらなる実施形態において、ナノ濾過透過液中に分離されるべき化合物は、不純物例えば、無機塩、特に、NaCl、NaHSO4およびNaH2PO4などの一価の塩であり得る。本発明に従うナノ濾過供給原料として使用される出発原料は、植物ベースのバイオマス加水分解物およびバイオマス抽出物ならびにそれらの発酵生成物から選択され得る。本発明の1つの実施形態において、植物ベースのバイオマス加水分解物は、様々な木材種例えば、硬材由来の木質材料、穀物の様々な部分、バガス、ココナッツ殻、綿実皮などから得られ得る。本発明の1つの実施形態において、出発原料は、パルプ化工程から得られる廃液例えば、硬材の亜硫酸パルプ化から得られる亜硫酸パルプ化廃液であり得る。本発明のさらなる実施形態において、出発原料は、テンサイベースの溶液またはサトウキビベースの溶液例えば、糖蜜または蒸留残渣である。本発明のさらなる実施形態において、ナノ濾過供給原料は、デンプン加水分解物、オリゴ糖含有シロップsurup、グルコースシロップ、フルクトースシロップ、マルトースシロップおよびコーンシロップから選択される。本発明のさらなる実施形態において、ナノ濾過供給原料は、ラクトース含有乳製品例えば、乳清であり得る。本発明の1つの実施形態において、ナノ濾過は、パルプ化工程から得られる廃液例えば、硬材の亜硫酸パルプ化から得られる亜硫酸パルプ化廃液からのキシロースの分離を含む。キシロースは、ナノ濾過透過液から生成物として回収される。本発明のさらなる実施形態において、ナノ濾過は、テンサイベースの溶液例えば、糖蜜または蒸留残渣からのベタインの分離を含む。ベタインは、ナノ濾過透過液から生成物として回収され得る。本発明のなおさらなる実施形態において、ナノ濾過は、グルコースシロップ例えば、デキストロースコーンシロップからのグルコースの分離を含む。グルコースは、ナノ濾過透過液から生成物として回収される。本発明のなおさらなる実施形態において、ナノ濾過は、ラクトース含有乳製品例えば、乳清からの無機塩特に、一価の塩の分離を含む。この塩は、ナノ濾過透過液中に不純物として分離される。本発明において有用なポリマーナノ濾過膜としては、例えば、芳香族ポリアミド膜例えば、ポリピペラジンアミド膜、芳香族ポリアミン膜、ポリエーテルスルホン膜、スルホン化ポリエーテルスルホン膜、ポリエステル膜、ポリスルホン膜、ポリビニルアルコール膜およびそれらの組み合わせが挙げられる。上記のポリマー材料および/または他の材料の1種以上のものの層からなる複合膜もまた、本発明において有用である。好ましいナノ濾過膜は、ポリアミド膜、特にポリピペラジンアミド膜から選択される。有用な膜の例として、GeneralElectricsOsmonicsInc.によるDesal-5DL、Desal-5DKおよびDesalHL、DowChemicalsCo.によるNF270およびNF90、ならびにWoongjinChemicalsCo.によるNE40およびNE70が挙げられ得る。本発明の処理に有用なナノ濾過膜は、典型的に150~1000g/mol、好ましくは150~250g/molのカットオフサイズ有する。本発明において有用なナノ濾過膜は、負電荷または正電荷を有し得る。膜は、イオン膜であり得るすなわち、それらの膜は、カチオン基またはアニオン基を含有し得るが、中性の膜でも有用である。ナノ濾過膜は、親水性膜および疎水性膜から選択され得る。膜の典型的な形態は、スパイラル型膜ならびにプレートアンドフレーム型モジュールとして組み立てられたフラットシート膜である。膜の構成は、例えば、チューブ、および中空糸からも選択され得る。本発明の1つの実施形態において、処理は、使用されていない未使用膜に対して、その膜の使用に入る前に行われる。本発明の別の実施形態において、処理は、使用された膜に対して、新たなナノ濾過の前に行われ得る。処理は、ナノ濾過での使用の間に、例えば3~6カ月間隔の範囲内で、定期的に繰り返され得る。ナノ濾過条件例えば、温度および圧力、ナノ濾過供給原料の乾燥物質含有量ならびにナノ濾過範囲内であり供給原料中の低分子量化合物の含有量は、選択された出発原料ナノ濾過供給原料、分離されるべき化合物および選択された膜に応じて異なり得る。ナノ濾過条件は、例えば、参照により本明細書に援用される国際公開第02/053781A1号パンフレットおよび同第02/053783A1号パンフレットならびに国際公開第2007/048879A1号パンフレットに記載されている条件から、選択され得る。ナノ濾過温度は、5~95°C、好ましくは30~80°Cの範囲内であり得る。ナノ濾過圧力は、10~50バール、典型的には15~35バールの範囲内であり得る。ナノ濾過供給原料の乾燥物質含有量は、5重量~60重量、好ましくは10重量~40重量、より好ましくは20重量~35重量の範囲内であり得る。植物ベースのバイオマスの加水分解物および抽出物から選択されるナノ濾過供給原料中の低分子量化合物例えば、キシロースまたはベタインの含有量は、DSに基づき10~65、好ましくはDSに基づき30~65の範囲内であり得る。デンプン加水分解物、オリゴ糖含有シロップsurup、グルコースシロップ、フルクトースシロップ、マルトースシロップおよびコーンシロップから選択されるナノ濾過供給原料中の低分子量化合物例えば、グルコースの含有量は、90~99、好ましくは94~99の範囲内であり得る。本発明の前処理方法は、ナノ濾過透過液中に分離された低分子量化合物に対する膜処理能力の大幅な向上をもたらすことが見出された。例えばキシロースの分離において、能力の向上は、膜を通るキシロースフラックスの増加としてキシロース分離について測定され、分離効率を維持しつつ、300以上までにもなり得る。達成された能力向上は、繰り返されるナノ濾過サイクルの間中安定していることも分かった。同時に、例えばキシロースの純度としてまたはグルコースからのキシロースの分離として測定された分離効率は、同じままであったか、または能力の向上に伴い一緒に改善されさえした。本発明の1つの実施形態において、ナノ濾過透過液への低分子量化合物のフラックスは、10~20,000g/m2時の範囲内である。糖の分離において、ナノ濾過透過液への糖のフラックスは、20~15,000g/m2時、好ましくは100~8,000g/m2時、最も好ましくは100~4000g/m2時の範囲内であり得る。キシロースの分離において、ナノ濾過透過液へのキシロースのフラックスは、100~10,000g/m2時、好ましくは100~8,000g/m2時、最も好ましくは100~4000g/m2時の範囲内であり得る。グルコースの分離において、ナノ濾過透過液へのグルコースのフラックスは、200~15,000g/m2時、好ましくは200~10,000g/m2時、最も好ましくは200~8000g/m2時の範囲内であり得る。本発明の1つの具体的な実施形態において、本発明は、ポリマーナノ濾過膜によるナノ濾過によってキシロース含有ナノ濾過供給原料からキシロースを分離し回収する方法であって、ギ酸、乳酸、酢酸、イソプロパノール、エタノールおよびメタノールから選択される1種以上の化合物を含む有機液体で、以下の条件:-化合物濃度10~80重量-処理温度40~90°C、および-処理時間2~100時間において、膜を処理して処理ナノ濾過膜を得る工程と、それに続く処理ナノ濾過膜により200~10,000gキシロース/m2時のナノ濾過透過液へのキシロースフラックスでキシロース含有ナノ濾過供給原料をナノ濾過する工程と、ナノ濾過透過液からキシロースを回収する工程とを包含する方法に関する。次に、以下の実施例により、本発明をより詳細に説明する。これらの実施例は、本発明の範囲を限定するものとして解釈されるものではない。以下の膜を、実施例において使用する。-Desal-5DLポリエステル層、ポリスルホン層および2つのプロプライエタリproprietary層からなる、150~300g/molのカットオフサイズ、7.6L/m2時バールの透過性25°C、962g/LのMgSO4保持率を有する4層膜、製造業者GEOsmonicsInc.、-Desal-5DKポリエステル層、ポリスルホン層および2つのプロプライエタリ層からなる、150~300g/molのカットオフサイズ、5.4L/m2時バールの透過性25°C、982g/LのMgSO4保持率を有する4層膜、製造業者GEOsmonicsInc.、-NE70薄膜複合ポリアミド膜、製造業者WoongjinChemicalCo.,Ltd。HPLC糖およびベタインの測定については、液体クロマトグラフィーを指す。RI検出を使用した。実施例1酢酸またはギ酸での処理後のキシロースフラックス試験膜処理試験を、スパイラル型エレメントから切り取ったフラットシートを用いて実施した。試験した膜は、GEOsmonicsDesal5DLおよびGEOsmonicsDesal5DKであった。この試験で使用した濾過ユニットは、AlfaLavalLabStakM20であった。膜シートを、まず無イオン水で25°Cにて48時間洗浄して、全ての膜保存用化合物を除去した。次いで、膜を、30°Cの0.1アルカリ溶液EcolabUltrasil112中で浸軟させることによってアルカリ性洗浄剤で30分間洗浄した。次いで、膜を、無イオン水でフラッシングした。次の工程は、30°Cの0.1酢酸中で膜を2分間浸軟させることによる洗浄であり、IEXイオン交換水でのフラッシングが後に続いた。前洗浄工程後、膜シートを、70°Cの種々の試験液中での48時間の温置によって処理した。温置後、膜シートを無イオン水で十分にフラッシングした後に、それらの膜シートを濾過ユニットに組み付けた。キシロースフラックス試験を、純粋なキシロースを無イオン水中に溶解させることによって作製した40キシロース溶液を用いて実施した。膜を通してのこのキシロースフラックス試験を30バールで60°Cにて行い、クロスフロー速度を3m/秒に調整した。濾過は、還流モードで行ったすなわち、全ての透過液を供給原料槽に導き戻した。測定および試料採取までの濾過時間は、30分であった。透過液フラックス値を記録し、キシロースフラックスを算出するために透過液試料を分析した。処理溶液とそれぞれの膜について測定されたキシロースフラックスとを、表1に示す。実施例2酢酸またはギ酸での処理後のさらなるキシロースフラックス試験さらなる膜処理試験を、スパイラル型エレメントから切り取ったフラットシートを用いて実施した。試験した膜は、GEOsmonicsDesal5DL、GEOsmonicsDesal5DKおよびWoongjinNE70膜であった。この試験で使用した濾過ユニットは、AlfaLavalLabStakM20であった。膜シートを、まず無イオン水で25°Cにて48時間洗浄して、全ての膜保存用化合物を除去した。次いで、膜を、30°Cの0.1アルカリ溶液Ecolab20Ultrasil112中で浸軟させることによってアルカリ性洗浄剤で30分間洗浄した。アルカリ洗浄後、膜を、無イオン水でフラッシングした。次の工程は、30°Cの0.1酢酸中で膜を2分間浸軟させることによる洗浄であり、IEXイオン交換水でのフラッシングが後に続いた。前洗浄工程後、膜シートを、70°Cの種々の試験液中での48時間の温置によって処理した。温置後、膜シートを無イオン水で十分にフラッシングした後に、それらの膜シートを濾過ユニットに組み付けた。キシロースフラックス試験を、Mgベース酸性亜硫酸パルプ化廃液のクロマトグラフィーにより分離されたキシロース画分である、国際公開第021053783A1号パンフレットに準じて得られた25DSの工業的キシロース溶液を用いて実施した。工業的キシロース溶液の組成は:DSに基づき4.8のグルコース、DSに基づき45.8のキシロース、DSに基づき4.5のラムノース、DSに基づき0.9のアラビノース、DSに基づき4.5のマンノースであった。このキシロースフラックス試験を30バールで60°Cにて行い、クロスフロー速度を3m/秒に調整した。濾過は、還流モードで行ったすなわち、全ての透過液を供給原料槽に導き戻した。測定および試料採取までの濾過時間は、30分であった。透過液フラックス値を記録し、キシロースフラックスを算出するために透過液試料を分析した。処理溶液とそれぞれの膜について測定されたキシロースフラックスとを、表2に示す。実施例3イソプロパノール/ギ酸での処理後のキシロースフラックス試験さらなる膜処理試験を、スパイラル型エレメントから切り取ったフラットシートを用いて実施した。試験した膜は、GEOsmonicsDesal5DLおよびWoongjinNE70膜であった。この試験で使用した濾過ユニットは、AlfaLavalLabStakM20であった。膜シートを、まず無イオン水で25°Cにて48時間洗浄して、全ての膜保存用化合物を除去した。次いで、膜を、30°Cの0.1アルカリ溶液Ecolab20Ultrasil112中で浸軟させることによってアルカリ性洗浄剤で30分間洗浄した。膜を、無イオン水でフラッシングした。次の工程は、30°Cの0.1酢酸中で膜を2分間浸軟させることによる洗浄であり、IEXイオン交換水でのフラッシングが後に続いた。前洗浄工程後、膜シートを、70°Cの種々の試験液中での48時間の温置によって処理した。高温温置後、膜シートを無イオン水で十分にフラッシングした後に、それらの膜シートを濾過ユニットに組み付けた。処理膜についての最初の試験は、MgSO4保持試験であり、一定の入口圧力8.3バールで、2000ppmのMgSO4溶液を用いて25°Cで行った。その後、キシロースフラックス試験を、実施例2の場合と同様に作製した20DSの工業的キシロース溶液を用いて実施した。このキシロースフラックス試験を30バールで60°Cにて行い、クロスフロー速度を3m/秒に調整した。濾過は、還流モードで行った例えば、全ての透過液を供給原料槽に導き戻した。測定および試料採取までの濾過時間は、30分であった。透過液フラックス値を記録し、キシロースフラックスを算出するために透過液試料を分析した。処理溶液とそれぞれの膜について測定されたキシロースフラックスとを、表3に示す。実施例4ギ酸での処理後のキシロースフラックスおよびキシロース純度の試験さらなる膜処理試験を、スパイラル型エレメントから切り取ったフラットシートを用いて実施した。試験した膜は、WoongjinNE70膜であった。この試験で使用した濾過ユニットは、AlfaLavalLabStakM20であった。膜シートを、まず無イオン水で25°Cにて48時間洗浄して、全ての膜保存用化合物を除去した。次いで、膜を、30°Cの0.1アルカリ溶液Ecolab20Ultrasil112中で浸軟させることによってアルカリ性洗浄剤で30分間洗浄した。次いで、膜を、無イオン水でフラッシングした。次の工程は、30°Cの0.1酢酸中で膜を2分間浸軟させることによる洗浄であり、IEXイオン交換水でのフラッシングが後に続いた。前洗浄工程後、膜シートを、70°Cの種々の試験液中での23~145時間の温置によって処理した。試験液は、様々な濃度のギ酸FA溶液であった。温置後、膜シートを無イオン水で十分にフラッシングした後に、それらの膜シートを濾過ユニットに組み付けた。処理膜についての最初の試験は、実施例2の場合と同様に作製した25DSの工業的キシロース溶液を用いて実施した、キシロースフラックス試験であった。このキシロースフラックス試験を30バールで60°Cにて行い、クロスフロー速度を3m/秒に調整した。濾過は、還流モードで行った例えば、全ての透過液を供給原料槽に導き戻した。測定および試料採取までの濾過時間は、30分であった。透過液フラックス値を記録し、キシロースフラックスを算出するためのキシロース含有量を測定するためにHPLCで透過液試料を分析した。処理溶液とそれぞれの膜について測定されたキシロースフラックスとを、表4に示す。実施例5酢酸またはギ酸での処理後のさらなるキシロースフラックス試験膜処理試験を、スパイラル型エレメントから切り取ったフラットシートを用いて実施した。試験した膜は、GEOsmonicsDesal5DLおよびGEOsmonicsDesal5DKであった。この試験で使用した濾過ユニットは、AlfaLavalLabStakM20であった。膜シートを、まず無イオン水で25°Cにて48時間洗浄して、全ての膜保存用化合物を除去した。次いで、膜を、30°Cの0.1アルカリ溶液Ecolab,Ultrasil112中で浸軟させることによってアルカリ性洗浄剤で分洗浄した。次いで、膜を、無イオン水でフラッシングした。次の工程は、30°Cの0.1酢酸中で膜を2分間浸軟させることによる洗浄であり、IEXイオン交換水でのフラッシングが後に続いた。前洗浄工程後、膜シートを、70°Cの種々の試験液中での48時間の温置によって処理した。温置後、膜シートを無イオン水で十分にフラッシングした後に、それらの膜シートを濾過ユニットに組み付けた。処理膜についてのキシロースフラックス試験Aを、実施例2の場合と同様に作製した25DSの工業的キシロース溶液を用いて実施した。このキシロースフラックス試験を30バールの一定圧力で60°Cにて行い、クロスフロー速度を3m/秒に調整した。濾過は、還流モードで行ったすなわち、全ての透過液を供給原料槽に導き戻した。測定および試料採取までの濾過時間は、30分であった。透過液フラックス値を記録し、キシロースフラックスを算出するためのキシロース含有量を測定するためにHPLCで透過液試料を分析した。処理溶液と試験Aに関してそれぞれの膜について測定されたキシロースフラックスとを、表5に示す。最初のキシロースフラックス測定試験Aの後に、同じ工業的キシロース溶液を用いての2日間の一定フラックスでのバッチ運転が続いた。この2日間のバッチ運転後、膜を、まず2バールの供給原料圧力で40°Cの2酢酸溶液で30分間洗浄し、次いで0.3Ecolab20Ultrasil112溶液で30分間洗浄した。その後、新たなキシロースフラックス試験Bを、試験Aに記載されたのと同様の条件において2日間実施した。表5は、試験Bからの結果も示している。達成された能力向上は安定しており、能力の順位は、工業グレードのキシロース溶液への曝露後も同じままであったことが分かる。実施例6種々の酸での処理後のキシロースフラックスおよびキシロース/グルコース純度の試験膜処理試験を、スパイラル型エレメントから切り取ったフラットシートを用いて実施した。処理試験において試験した膜は、GEOsmonicsDesal5DL、GEOsmonicsDesal5DKおよびWoongjinNE70膜であった。この試験で使用した濾過ユニットは、AlfaLavalLabStakM20であった。膜シートを、まず無イオン水で25°Cにて48時間洗浄して、全ての膜保存用化合物を除去した。次いで、膜を、30°Cの0.1アルカリ溶液Ecolab,Ultrasil112中で浸軟させることによってアルカリ性洗浄剤で分洗浄した。膜を、無イオン水でフラッシングした。次の工程は、30°Cの0.1酢酸中で2分間浸軟させることによる膜の洗浄であり、IEXイオン交換水でのフラッシングが後に続いた。前洗浄工程後、膜シートを、70°Cの種々の試験液中での48時間の温置によって処理した。高温温置後、膜シートを無イオン水で十分にフラッシングした後に、それらの膜シートを濾過ユニットに組み付けた。キシロースフラックス試験を、実施例2の場合と同様に作製した25DSの工業的キシロース溶液を用いて実施した。溶液のキシロース含有量はDSに基づき49.4、溶液のグルコース含有量は4.1であり、これにより、グルコース/キシロース比は8.2であった。このキシロースフラックス試験を30バールで60°Cにて行い、クロスフロー速度を3m/秒に調整した。濾過は、還流モードで行ったすなわち、全ての透過液を供給原料槽に導き戻した。測定および試料採取までの濾過時間は、30分であった。透過液フラックス値を記録し、キシロースフラックスを算出するために透過液試料を分析した。処理溶液とそれぞれの膜について測定されたキシロースフラックスとを、表6に示す。同時に、キシロースおよびグルコースの純度を分析し、グルコースとキシロースの比を算出することによって、透過液品質を測定した。グルコースからのキシロースの分離は、同じままであるか、または達成される能力の向上に伴い一緒に改善されさえすることが分かる。実施例7ギ酸での処理後の透過液フラックス、キシロースフラックスおよびキシロース純度の試験膜処理試験を、スパイラル型エレメントから切り取ったフラットシートを用いて実施した。試験した膜は、OsmonicsDesal5DL膜であった。この試験で使用した濾過ユニットは、AlfaLavalLabStakM20であった。試験される膜シートは全て、まず無イオン水で25°Cにて48時間洗浄して、全ての膜保存用化合物を除去した。次いで、膜を、30°Cの0.1アルカリ溶液EcolabUltrasil112中で浸軟させることによってアルカリ性洗浄剤で30分間洗浄した。膜を、無イオン水でフラッシングした。次の工程は、30°Cの0.1酢酸中で膜を2分間浸軟させることによる洗浄であり、IEXイオン交換水でのフラッシングが後に続いた。前洗浄工程後、膜シートを、70°Cの種々の試験液中での23~145時間の温置によって処理した。試験液は、様々な濃度のギ酸FA溶液であった。温置後、膜シートを無イオン水で十分にフラッシングした後に、それらの膜シートをナノ濾過試験ユニットに組み付けた。処理膜についてのキシロースフラックス試験を、実施例2の場合と同様に作製した25DSの工業的キシロース溶液を用いて実施した。このキシロースフラックス試験を30バールで65°Cにて行い、クロスフロー速度を3m/秒に調整した。濾過は、還流モードで行った例えば、全ての透過液を供給原料槽に導き戻した。測定および試料採取までの濾過時間は、30分であった。透過液フラックス値を記録し、キシロースフラックスの算出のためのキシロース含有量を測定するためにHPLCで透過液試料を分析した。処理剤とそれぞれの膜について測定されたキシロースフラックスとを、表7に示す。実施例8酢酸での処理後の水フラックス、キシロースフラックスおよびキシロース純度の試験膜処理試験を、スパイラル型エレメントから切り取ったフラットシートを用いて実施した。試験した膜は、WoongjinNE70膜であった。この試験で使用した濾過ユニットは、AlfaLavalLabStakM20であった。試験される膜シートは全て、まず無イオン水で25°Cにて48時間洗浄して、全ての膜保存用化合物を除去した。次いで、膜を、30°Cの0.1アルカリ溶液EcolabUltrasil112中で浸軟させることによってアルカリ性洗浄剤で30分間洗浄した。膜を、無イオン水でフラッシングした。次の工程は、30°Cの0.1酢酸中で膜を2分間浸軟させることによる洗浄であり、IEXイオン交換水でのフラッシングが後に続いた。前洗浄工程後、膜シートを、70°Cの種々の試験液中での23~145時間の温置によって処理した。試験液は、様々な濃度の酢酸溶液であった。温置後、膜シートを無イオン水で十分にフラッシングした後に、それらの膜シートをナノ濾過試験ユニットに組み付けた。処理膜についての最初の試験は、MgSO4保持率および水フラックスを求めるための試験であった。この試験を、2000ppmのMgSO4溶液を用いて、8.3バール/25°Cで、還流モードで実施した例えば、全ての透過液を供給原料槽に導き戻した。測定および試料採取までの濾過時間は、60分であった。処理膜についてのもう一つの試験は、実施例2の場合と同様に作製した25DSの工業的キシロース溶液を用いて実施した、キシロースフラックス試験であった。このキシロースフラックス試験を30バール/65°Cで行い、クロスフロー速度を3m/秒に調整した。濾過は、還流モードで行った例えば、全ての浸透液を供給原料槽に導き戻した。測定および試料採取までの濾過時間は、30分であった。透過液フラックス値を記録し、キシロースフラックスの算出のためのキシロース含有量を測定するためにHPLCで透過液試料を分析した。処理剤とそれぞれの膜について測定されたキシロースフラックスとを、表8に示す。実施例9イソプロピルアルコールでの処理後の水フラックス、キシロースフラックスおよびキシロース純度の試験さらなる処理試験を、スパイラル型エレメントから切り取ったフラットシートを用いて実施した。試験した膜は、GEOsmonicsDesal5DL膜であった。この試験で使用した濾過ユニットは、AlfaLavalLabStakM20であった。膜シートを、実施例7の手順と同様の手順で前洗浄した。前洗浄工程後、膜シートを、70°Cの種々の試験液中での23~145時間の温置によって処理した。試験液は、様々な濃度のイソプロパノールIPA水溶液であった。温置後、膜シートを無イオン水で十分にフラッシングした後に、それらの膜シートをナノ濾過試験ユニットに組み付けた。処理膜についての最初の試験は、MgSO4保持率および水フラックスを求めるための試験であった。この試験を、2000ppmのMgSO4溶液を用いて、8.3バールで25°Cにて、還流モードで実施した例えば、全ての透過液を供給原料槽に導き戻した。測定および試料採取までの濾過時間は、60分であった。処理膜についてのもう一つの試験は、実施例2で使用されたものと同様の25DSの工業的キシロース溶液を用いて実施した、キシロースフラックス試験であった。このキシロースフラックス試験を30バールで65°Cにて行い、クロスフロー速度を3m/秒に調整した。濾過は、還流モードで行った例えば、全ての透過液を供給原料槽に導き戻した。測定および試料採取までの濾過時間は、30分であった。透過液フラックス値を記録し、キシロースフラックスを算出するためのキシロース含有量を測定するためにHPLCで透過液試料を分析した。処理溶液とそれぞれの膜について測定されたキシロースフラックスとを、表9に示す。実施例10種々の酸またはグリセリンでの処理後のキシロースフラックス試験さらなる処理試験を、スパイラル型エレメントから切り取ったフラットシートを用いて実施した。試験した膜は、GEOsmonicsDesal5DL膜であった。この試験で使用した濾過ユニットは、AlfaLavalLabStakM20であった。膜シートを、実施例7の手順と同様の手順で前洗浄した。前洗浄工程後、膜シートを、25~70°Cの種々の試験液中での72時間の温置によって処理した。試験液は、イオン交換水、様々な濃度のギ酸、乳酸、グリセリンおよびグルコン酸の溶液であった。温置後、膜シートを無イオン水で25°Cにて十分にフラッシングした後に、それらの膜シートをナノ濾過試験ユニットに組み付けた。処理膜についてのキシロースフラックス試験を、実施例2の場合と同様に作製した24DSの工業的キシロース溶液を用いて実施した。このキシロースフラックス試験を30バールで65°Cにておよび30バールで70°Cにて行い、クロスフロー速度を3m/秒に調整した。濾過は、還流モードで行った例えば、全ての透過液を供給原料槽に導き戻した。測定および試料採取までの濾過時間は、30分であった。透過液フラックス値を記録し、糖フラックスを算出するための糖含有量を測定するためにHPLCで透過液試料を分析した。処理溶液とそれぞれの膜について測定された乾燥物質フラックスとを、表10に示す。実施例11ギ酸での処理後の液体フラックスならびに種々の糖についての糖フラックスおよび純度の試験さらなる処理試験を、4インチのスパイラル型膜エレメントを用いて実施した。試験した膜エレメントは、GEOsmonicsDesal5DLであった。この試験で使用した濾過ユニットは、GEAパイロットモデルRユニットであった。この膜エレメントを、まず20°Cのイオン交換水を用いて24時間温置し、次いで透過液を循環させて供給原料槽に戻しながら、30°Cにて1バールで20分、0.3Ultrasil110溶液で前洗浄し、イオン交換水で十分にすすぎ、その後、2酢酸で洗浄し30°C、1バール、5分、イオン交換水で十分にすすいだ。前洗浄工程後、膜エレメントをパイロットユニットに組み付け、2バールの圧力で、圧送速度を0.2m3/時とし、68°Cにて96時間、還流モードで処理液を循環させることによって、処理を実施した。試験液は、イオン交換水IEXおよび40ギ酸FAであった。処理後、フラックス試験前に膜エレメントを無イオン水で十分にフラッシングした。前処理膜についての最初の試験は、実施例2の場合と同様に作製した21DSの工業的キシロース溶液を用いて実施した、キシロースフラックス試験であった。このキシロースフラックス試験を、27バールの入口圧力、0.3バールの4インチエレメントをまたぐ圧力差で、65°Cにて行い、クロスフロー速度を3m/秒に調整した。その後、供給原料溶液の組成を、製造モードのナノ濾過における条件を模倣するように、段階的ナノ濾過により43、37および31のキシロースの供給原料純度に調整した。供給原料の乾燥物質濃度を、21に維持した。測定および試料採取までの濾過時間は、30分であった。各供給原料溶液組成物についての透過液フラックス値を記録し、糖フラックスを算出するための透過液の組成を測定するためにHPLCで透過液試料を分析した。膜処理溶液とそれぞれの膜について測定された化合物フラックスとを、表11に示す。実施例12ギ酸での処理後のベタインフラックス試験さらなる処理試験を、スパイラル型エレメントから切り取ったフラットシートを用いて実施した。試験した膜は、GEOsmonicsDesal5DL膜であった。この試験で使用した濾過ユニットは、AlfaLavalLabStakM20であった。膜シートを、実施例7の手順と同様の手順で前洗浄した。前洗浄工程後、膜シートを、70°Cの純水または40ギ酸FA中での72時間の温置によって処理した。フラックス試験のためのナノ濾過供給原料は、14のDSを有しかつDSに基づき48.5のベタインを含有する、クロマトグラフィーにより分離された、蒸留残渣の画分であった。ベタインフラックス試験を28バールで68°Cにて行い、クロスフロー速度を3m/秒に調整した。濾過は、還流モードで行った例えば、全ての透過液を供給原料槽に導き戻した。測定および試料採取までの濾過時間は、30分であった。ベタインフラックス値を記録し、ベタインフラックスを算出するためのベタイン含有量を測定するためにHPLCで透過液試料を分析した。処理溶液とそれぞれの膜について測定されたベタインフラックスとを、表12に示す。実施例13ギ酸での処理後のグルコースフラックス試験さらなる処理試験を、スパイラル型エレメントから切り取ったフラットシートを用いて実施した。試験した膜は、GEOsmonicsDesal5DL膜であった。この試験で使用した濾過ユニットは、AlfaLavalLabStakM20であった。膜シートを、実施例7の手順と同様の手順で前洗浄した。前洗浄工程後、膜シートを、70°Cの種々の試験液中での72時間の温置によって処理した。膜処理液は、イオン交換水および40ギ酸であった。グルコースフラックス試験のためのナノ濾過供給原料は、95.7のグルコース純度を有する、乾燥物質含有量が40の工業的デキストロースコーンシロップであった。グルコースフラックス試験を30バールで66°Cにて行い、クロスフロー速度を3m/秒に調整した。濾過は、還流モードで行った例えば、全ての透過液を供給原料槽に導き戻した。測定および試料採取までの濾過時間は、30分であった。液体フラックス値を記録し、グルコースフラックスを算出するための透過液中のグルコース含有量を測定するためにHPLCで透過液試料を分析した。処理溶液とそれぞれの膜について測定されたグルコースフラックスとを、表13に示す。実施例14ギ酸での処理後の液体フラックス、キシロースフラックスおよびキシロース純度の試験膜処理試験を、スパイラル型エレメントから切り取ったフラットシートを用いて実施した。試験した膜は、DowNF270膜であった。この試験で使用した濾過ユニットは、AlfaLavalLabStakM20であった。試験される膜シートは全て、まず無イオン水で25°Cにて48時間洗浄して、全ての膜保存用化合物を除去した。次いで、膜を、30°Cの0.1アルカリ溶液EcolabUltrasil112中で浸軟させることによってアルカリ性洗浄剤で30分間洗浄した。膜を、無イオン水でフラッシングした。次の工程は、30°Cの0.1酢酸中で膜を2分間浸軟させることであり、IEXイオン交換水でのフラッシングが後に続いた。前洗浄工程後、膜シートを、70°Cの種々の試験液中での120時間の温置によって処理した。試験液は、様々な濃度のギ酸FA溶液であった。温置後、膜シートを無イオン水で十分にフラッシングした後に、それらの膜シートをナノ濾過試験ユニットに組み付けた。処理膜についてのキシロースフラックス試験を、実施例2の場合と同様に作製した25DSの工業的キシロース溶液を用いて実施した。このキシロースフラックス試験を30バールで65°Cにて行い、クロスフロー速度を3m/秒に調整した。濾過は、還流モードで行った例えば、全ての透過液を供給原料槽に導き戻した。測定および試料採取までの濾過時間は、30分であった。透過液フラックス値を記録し、キシロースフラックスの算出のためのキシロース含有量を測定するためにHPLCで透過液試料を分析した。処理剤とそれぞれの膜について測定されたキシロースフラックスとを、表7に示す。実施例15ギ酸での処理後の液体フラックスおよびイオン化合物のフラックスさらなる処理試験を、4インチのスパイラル型膜エレメントを用いて実施した。試験した膜エレメントは、GEOsmonicsDesal5DLであった。この試験で使用した濾過ユニットは、GEAパイロットモデルRユニットであった。この膜エレメントを、まず20°Cのイオン交換水を用いて24時間温置し、次いで透過液を循環させて供給原料槽に戻しながら、30°Cにて1バールで20分、0.3Ultrasil110溶液で前洗浄し、イオン交換水で十分にすすぎ、その後、2酢酸で洗浄し30°C、1バール、5分、イオン交換水で十分にすすいだ。前洗浄工程後、膜エレメントをパイロットユニットに組み付け、2バールの圧力で、圧送速度を0.2m3/時とし、68°Cにて96時間、還流モードで処理液を循環させることによって、処理を実施した。試験液は、イオン交換水IEXおよび40ギ酸FAであった。処理後、フラックス試験前に膜エレメントを無イオン水で十分にフラッシングした。前処理膜についての最初の試験は、実施例2の場合と同様に作製した21DSの工業的キシロース溶液を用いて実施した、キシロースフラックス試験であった。このキシロースフラックス試験を、27バールの入口圧力、0.3バールの4インチエレメントをまたぐ圧力差で、65°Cにて行った。その後、供給原料溶液の組成を、製造モードのナノ濾過における条件を模倣するように、段階的ナノ濾過によりDSに基づき43、37および31のキシロースの供給原料純度に調整した。供給原料の乾燥物質濃度を、21に維持した。測定および試料採取までの濾過時間は、30分であった。各供給原料溶液組成物についての透過液フラックス値を記録し、イオン化合物のフラックスを算出するための透過液の組成を測定するためにHPLCで透過液試料を分析した。透過液フラックス値を記録し、塩フラックスを算出するための塩およびイオン化合物の含有量を測定するためにHPLCおよび導電率計で透過液試料を分析した。処理溶液とそれぞれの膜について測定された化合物フラックスとを、表15に示す。実施例16乳酸、ギ酸および純キシロースでの処理後の透過液フラックス、グルコースフラックス、純キシロースフラックス、キシロースフラックスおよびキシロース純度の試験膜処理試験を、スパイラル型エレメントから切り取ったフラットシートを用いて実施した。試験した膜は、OsmonicsDL膜であった。この試験で使用した濾過ユニットは、AlfaLavalLabStakM20であった。試験される膜シートは全て、実施例15の場合と同じ方法で前洗浄した。前洗浄工程後、膜シートを、70°Cの種々の試験液中での23~145時間の温置によって処理した。試験液は、様々な濃度の乳酸LAおよびギ酸FAであった。浸軟処理後、膜シートを無イオン水で十分にフラッシングした後に、それらの膜シートをナノ濾過試験ユニットに組み付けた。処理膜についてのグルコースフラックス試験を、40純グルコース溶液を用いて実施した。3m/秒のクロスフロー速度を使用して、30バール/65°Cでこのグルコースフラックス試験を行った。濾過は、還流モードで行った例えば、全ての浸透液を供給原料槽に導き戻した。測定および試料採取までの濾過時間は、30分であった。処理膜についてのキシロースフラックス試験を、実施例2の場合と同様にして得られた23DSの工業的キシロース溶液を用いて実施した。3m/秒のクロスフロー速度を使用して、30バール/65°Cでこのキシロースフラックス試験を行った。濾過は、還流モードで行った例えば、全ての浸透液を供給原料槽に導き戻した。測定および試料採取までの濾過時間は、30分であった。透過液フラックス値を記録し、キシロースフラックスの算出のためのキシロース含有量を測定するためにHPLCで透過液試料を分析した。処理剤とそれぞれの膜について測定されたキシロースフラックスとを、表16に示す。"