"レーザ光源によって出射されたレーザ光を入射される、電気光学材料によって形成された光導波層と、この光導波層における前記レーザ光の進行方向に沿って設けられた、同光導波層に電圧を印加する第1の電圧印加部及び第2の電圧印加部とを備え、第1の電圧印加部は、前記光導波層に入射した前記レーザ光を前記進行方向と交わる第1の方向に偏向する屈折率変調領域を形成するために前記光導波層に電圧を印加する第1の電極を有し、第2の電圧印加部は、前記光導波層に入射した前記レーザ光が前記進行方向及び第1の方向によって形成される平面と交わる第2の方向に偏向するように同光導波層内に第2の方向に沿った電界分布を形成するために同光導波層に電圧を印加する第2の電極を有する光偏向素子。請求項1記載の光偏向素子において、第1の電極と前記光導波層との間に絶縁層を有することを特徴とする光偏向素子。請求項1または2記載の光偏向素子において、第2の電極は、TiまたはAlであることを特徴とする光偏向素子。請求項1ないし3の何れか1つに記載の光偏向素子において、前記屈折率変調領域は、プリズム型であり、前記光導波層における前記進行方向に複数形成されることを特徴とする光偏向素子。請求項4記載の光偏向素子において、前記屈折率変調領域は、前記進行方向の下流側に向けて面積が漸増することを特徴とする光偏向素子。請求項4または5記載の光偏向素子において、前記電極の形状によって、前記屈折率変調領域の形状がプリズム型とされることを特徴とする光偏向素子。請求項4ないし6の何れか1つに記載の光偏向素子において、前記光導波層に設けられた分極反転領域の形状によって、前記屈折率変調領域の形状がプリズム型とされることを特徴とする光偏向素子。請求項1ないし7の何れか1つに記載の光偏向素子を有する光偏向装置。光偏向素子とプリズムとを組み合わせる構成では、光軸調整を行うためのプリズムの位置決めが必要となり、位置決め精度の確保に困難が予想される、位置決めの時間がかかるなどの製造上の問題があるほか、プリズムが高価であるため高コスト化の懸念があり、また集積化に適していない、構成が複雑になるという問題や、この問題に起因して小型化が困難であるという問題もある。プリズムを用いることなく、電気光学材料を利用した光偏向素子によって2次元に偏向可能とするために、電気光学材料を利用して別々に製作された光偏向素子を2つ用いて2次元に偏向可能とすることも考えられるが、この場合も、同様に、光軸調整を行うための位置決めが必要となり、位置決め精度の確保に困難が予想される、位置決めの時間がかかるなどの製造上の問題があるほか、高コスト化の懸念があり、また集積化に適していない、構成が複雑になるという問題や、この問題に起因して小型化が困難であるという問題も生じることが予想される。本発明は、電気光学材料によって形成されレーザ光を入射される光導波層とこの光導波層に電圧を印加してレーザ光を偏向させるための電極とを備えた光偏向素子であって、プリズムを用いることなく、また別々に製作された光偏向素子を2つ用いることなく、2次元に偏向可能な光偏向素子及びこの光偏向素子を有する光偏向装置を提供することを目的とする。上記目的を達成するため、本発明は、レーザ光源によって出射されたレーザ光を入射される、電気光学材料によって形成された光導波層と、この光導波層における前記レーザ光の進行方向に沿って設けられた、同光導波層に電圧を印加する第1の電圧印加部及び第2の電圧印加部とを備え、第1の電圧印加部は、前記光導波層に入射した前記レーザ光を前記進行方向と交わる第1の方向に偏向する屈折率変調領域を形成するために前記光導波層に電圧を印加する第1の電極を有し、第2の電圧印加部は、前記光導波層に入射した前記レーザ光が前記進行方向及び第1の方向によって形成される平面と交わる第2の方向に偏向するように同光導波層内に第2の方向に沿った電界分布を形成するために同光導波層に電圧を印加する第2の電極を有する光偏向素子にある。本発明は、レーザ光源によって出射されたレーザ光を入射される、電気光学材料によって形成された光導波層と、この光導波層における前記レーザ光の進行方向に沿って設けられた、同光導波層に電圧を印加する第1の電圧印加部及び第2の電圧印加部とを備え、第1の電圧印加部は、前記光導波層に入射した前記レーザ光を前記進行方向と交わる第1の方向に偏向する屈折率変調領域を形成するために前記光導波層に電圧を印加する第1の電極を有し、第2の電圧印加部は、前記光導波層に入射した前記レーザ光が前記進行方向及び第1の方向によって形成される平面と交わる第2の方向に偏向するように同光導波層内に第2の方向に沿った電界分布を形成するために同光導波層に電圧を印加する第2の電極を有する光偏向素子にあるので、プリズムを用いることなく、また別々に製作された光偏向素子を2つ用いることなく、第1の電圧印加部と第2の電圧印加部とを用いることで、各方向への偏向を行う部分の位置決め精度を向上であるとともに位置決めの時間を短縮可能であるとともに、低コスト化、大型化を抑制可能であり、集積化に適した、2次元に偏向可能な光偏向素子を提供することができる。図1に本発明を適用した光偏向装置である光学装置の一例の概略を示す。光学装置100は、レーザ光Lを出射するレーザ光原である光源10と、光源10から出射されたレーザ光Lを入射される光偏向素子20と、光源10、光偏向素子20をその内部に収容した筐体50と、光源10から出射され光偏向素子20を透過したレーザ光Lを筐体50の外部に出力する、筐体50に設けられた出力孔51とを有している。光学装置100はまた、図2に示すように、光偏向素子20に電圧を印加する第1の電圧印加手段としての電源30と、第2の電圧印加手段としての電源40とを有している。図1において、矢印Yは、光源10から出射されたレーザ光Lの進行方向であって、光偏向素子20内においてレーザ光Lの偏向が行われないとした場合の光偏向素子20におけるレーザ光Lの進行方向を示している。同図において、矢印Xは、同図の紙面に垂直な方向であって、Y方向と垂直な方向を示している。同図において、矢印Zは、同図における上下方向であって、X方向及びY方向に垂直な方向すなわちX方向及びY方向によって形成される平面であるXY平面に垂直な方向を示している。図2以下において示されている矢印X、Y、Zはそれぞれ図1におけるX方向、Y方向、Z方向と同じ方向を示すものとする。また、図2以下において、図1等の、既出の図において示された符号と同じ符号が付されているものは、当該既出の図に沿って説明されたものと同様のものであることとし、適宜説明を省略する。また、電源30、40等については適宜図示を省略する。光源10は、レーザダイオードを用いたものであり、Y方向に波長650nmのレーザ光Lを伝播させるように構成されている。レーザ光Lの偏光方向はZ方向である。光偏向素子20は、レーザ光Lを透過するコア層である光導波層21を有する光導波路構造としての光導波部22と、光導波層21に電圧を印加するためにY方向に沿って設けられた第1の領域である第1の電圧印加部としての電圧印加部31及び第2の領域である第2の電圧印加部としての電圧印加部41とを有している。光導波層21、光導波部22は、XY平面に平行な平面状をなしている。光導波部21は、光源10から出射されたレーザ光Lを入射し、出力孔51に向けて透過する。光導波層21は、電気光学材料であるニオブ酸リチウムLiNbO3にマグネシウムをドープしたマグネシウム添加ニオブ酸リチウム山寿セラミクス製:Z-cutである。ただし、光導波層21の材料はこれに限らず、電気光学材料としてタンタル酸リチウムLiTaO3を用いても良いし、ドープする材料は鉄であっても良い。ニオブ酸リチウム、タンタル酸リチウムは、電圧をかけずに光を透過させてもビームが歪むフォトリフラクティブ効果を生ずることが知られているが、安価でロバスト性が高く、安定した材料であるため有用であり、マグネシウム等をドープすることでフォトリフラクティブ効果が抑制される。マグネシウム添加ニオブ酸リチウムMgO添加LiNbO3は光損傷耐性を向上させることで知られている。マグネシウムをドープする場合、マグネシウム濃度は4.5mol~5.5molの範囲が好ましく、とくに5.0molであることが最適である。このような電気光学材料は強誘電体であり、外部電場を加えなくても自発分極を持っている。自発分極の向きが一方向に揃った領域は分域言い換えるとドメインと言われる。光導波層21は、全体において自発分極の向きが一方向に揃うように形成されている。なお、自発分極の向きが一方向に揃った領域と、自発分極の向きが180°異なるドメインとの領域はドメイン壁と言われる。光導波部22は、図2に示した例では光導波層21のみによって構成されており、光導波層21が光導波部22そのものとなっているが、電圧印加部31における光導波部22については、図7に示して後述するように、Z方向において光導波層21を挟むように設けられる絶縁層23を有していても良い。図2に示すように、電圧印加部31は、光導波層21に入射したレーザ光Lを、Y方向と交わる第1の方向であるX方向に偏向する屈折率変調領域を形成するために光導波層21に電圧を印加する第1の電極として、Z方向において光導波部22の両側に設けられ電源30に接続された電極32を有している。電極32は、Z方向において光導波部22を挟むように対をなして設けられており、電源30にそれぞれ接続され、光導波部22の表面と裏面とにそれぞれ一体化された上面電極である上部電極32aと下面電極である下部電極32bとを有している。上部電極32aは、Y方向に沿って並ぶように設けられたプリズム型、具体的には正三角形の複数の電極によって構成されている。下部電極32bは、XY平面において上部電極32aの配置領域を含むように、方形、具体的は長方形の平面状に設けられている。電源30は、外部電圧源によって電力を供給される交流電源であり、電極32に交流電圧による電圧信号を印加する。光導波層21は、電極32に電圧が印加されることによって、光導波層21の結晶内部に1次の電気光学効果すなわちEO効果が発現し、結晶内の屈折率が変化することによって屈折率変調領域33が形成される。屈折率変調領域33は、プリズム型の上部電極32aに対応して、プリズム型、具体的には正三角形状に形成される。このように、上部電極32aの形状がプリズム形状であることにより、光導波層21に擬似的なプリズムが形成される。よって、光偏向素子20は、電源30によって電極32に交流電圧が印加されると、光導波層21に形成されるプリズム型の屈折率変調領域33を用いて、光導波層21を透過するレーザ光Lの位相を変調し、図2において矢印で示すように、レーザ光LをX方向に偏向して出射する。これは、光偏向素子20は、電気光学効果によって光導波層21の結晶内の屈折率を変調することが可能であり、かかる結晶内のレーザ光Lの位相を変調する位相変調素子として機能するようになっているためである。なお、図2においては、レーザ光Lを示す矢印が上部電極32aを透過するように図示されているが、実際には、レーザ光Lは、光導波層21内を透過する。このとき電源30によって電圧が印加されていれば、上部電極32aの形状とほぼ同形状で光導波部22内に形成される屈折率変調領域33を、レーザ光Lが透過し、レーザ光Lは、屈折率変調領域33の境界位置で屈折してX方向に偏向される。光偏向素子20による、X方向へのレーザ光Lの偏向角は、電源30による電極32への印加電圧に応じて変化する。よって、電源30が交流電圧を電極32に印加することで、光偏向素子20から出射するレーザ光Lは、電源30の交流電圧の周期に応じた周期で、X方向に走査される。なお、X方向への偏向角が一定で良ければ、電源30は直流電源であっても良い。図2に示した構成例では、電極32の形状によって、屈折率変調領域33の形状がプリズム型とされているが、図3に示すように、電極32の形状は上部電極32a、下部電極32bの何れも方形とし、同図aに示すように、光導波層21にプリズム型、具体的には正三角形状の分極反転領域21aを形成することによって、屈折率変調領域33の形状がプリズム型、具体的には正三角形状とされるようにしても良い。分極反転領域21aは、自発分極の向きが180°反転されたドメインであり、自発分極の向きがこのように反転されていないドメインである非分極反転領域21bとの間にドメイン壁を形成する。図3において、分極反転領域21aの分極軸の向きは-Z方向であり、非分極反転領域21bの分極軸の向きはZ方向である。上部電極32a、下部電極32bは、分極反転領域21a及び非分極反転領域21bを覆うように形成する。電極32を方形とし、分極反転領域21aを用いて屈折率変調領域33を形成すると、非分極反転領域21bによっても屈折率変調領域33が形成される。よって、光導波部23内には、分極反転領域21aによる屈折率変調領域33と、非分極反転領域21bによる屈折率変調領域33とが形成され、これらの屈折率変調領域33の境界位置であるドメイン壁においてレーザ光Lが屈折するため、電極32の形状によって屈折率変調領域33を形成する場合の2倍の偏向角が得られる。この理由について、以下詳細に説明する。まず、EO効果を利用した具体的な光偏向素子の動作原理をより詳細に説明する。上述の構成のように、電気光学材料の表面および裏面に、電界を形成するための電極層を対面して配置すると、電極層を通じて電圧を偏向素子に印加することで、電気光学材料の分極軸に平行な電界が形成され、電気光学効果によりその屈折率が変化する。ポッケルス効果による屈折率変化を利用する場合、電気光学材料の屈折率変化量Δnは、式1で与えられる。式1において、nは電気光学材料の屈折率であり、rijは電気光学定数であり、Vは印加電圧であり、dは結晶厚である。次に、電極32の形状によって屈折率変調領域33を形成する場合の偏向角について説明する。光ビームが伝播する領域上の電極形状が複数の三角形からなるようにしてプリズム電極を複数形成すると、出射光の偏向角は各分極反転領域での屈折角の足し合わせとなるため、出射光の偏向角が増加する。これは、電極に電圧を印加すると、屈折率変化領域も三角形状となり、それぞれが伝播ビームに対してプリズムとして機能するためである。すなわち屈折率変化領域を伝播するにしたがって、伝播光ビームはX軸方向に偏向角を与えられる。光ビーム偏向素子から出力されるレーザビームが与えられる偏向角θは電気光学材料の屈折率変化量に比例し、以下の式で表される。式2において、Lは複数のプリズム部全体の長さであり、Dはプリズム幅である。式1および式2より、光偏向素子から出射される偏向角は印加電圧に比例する。したがって光偏向素子への印加電圧を制御することにより、任意の偏向角にレーザビームを出力させることが可能である。そして、分極反転領域21aの形状によって屈折率変調領域33を形成する場合の偏向角は次のようになる。コア層となる光導波層を形成する電気光学材料は一般的にその分極軸を制御することが可能であるため、図3aに示したように、コア層内部にプリズムドメインを形成することが可能となる。このように、コア層内部に複数のプリズム形状を並べた分極反転領域を持たせることにより、分極反転プリズム領域全体を覆った電極層を通じて素子に電圧を印加することによって、電気光学材料にプリズム状の屈折率変化領域が形成される。分極反転領域とその他の領域で屈折率変化の符号が異なることから、電気光学材料の内部に複数のプリズムが備わることと同じ効果が発現する。偏向素子端面から入力された光ビームはプリズム部によってその伝播方向がX軸方向に傾けられ、素子出射端において偏向したビームが出力される。分極反転による屈折率変化の符号の反転により、屈折率変化量はプリズム状電極の屈折率変化量の2倍となり、素子からの出射角θは、で与えられる。すでに述べたように、電極32は、プリズムドメインを覆うように長方形に形成する。分極反転領域21aの形状によって屈折率変調領域33をプリズム型とすることで、電極32を四角形状で作成することが可能となり、電極32の作成が容易となる。図2、図3に示したように、Y方向に沿ってプリズム型の屈折率変調領域25を複数形成する場合、各屈折率変調領域33は、図4に示すように、Y方向の下流側に向けて面積が漸増するようにしても良い。各屈折率変調領域33は、互いに相似形とすることが好ましい。同図に示した構成においては、図3に示した例のように、分極反転領域21aの形状により、屈折率変調領域33をプリズム型としており、また、電極32を四角形状としているが、図2に示した例のように、電極32の形状により、屈折率変調領域33をプリズム型としても良い。図4に示すように、プリズムサイズを段階的に大きくし、分極反転領域21aのサイズを、レーザ光Lの入射側から段階的に大きくしていく、ホーン型に形成することで、偏向角をより大きくすることが可能である。非特許文献YiChiu,etal,JournalofLightwaveTechnology,VOL17,No.1Jan1999によると、進行距離z、入射側プリズム幅D0、最大屈折変化量Δnmax、屈折率n0を用いて、プリズム幅Dzは、から求めることが可能である。また、このときの外部偏向角θzはで与えられる。図4に示した構成では、D0=0.5mm、Δnmax=3.83×10-3、屈折率n=2.203、プリズム長L=20mmとして、式4、5からプリズム幅Dを逐次計算によって計算し、出射側プリズム幅は1.56mmとなっている。式4、5によって求めたプリズム幅は、図4においてで示す2つの包絡線の距離で表される。これらの包絡線は、ホーン型プリズムの包絡線となっている。ホーン型の分極反転領域を作製するには、正三角形の分極反転領域のサイズをこの包絡線により入射側から順次決めていき、同図に示されているように分極反転領域21aを隙間無く形成していくのが好ましい。図2に示すように、電圧印加部41は、光導波層21に入射したレーザ光Lを、XY平面と交わる第2の方向であるZ方向に偏向するように光導波層21内にZ方向に沿った電界分布を形成するために光導波層21に電圧を印加する第2の電極として、Z方向において光導波部22の両側に設けられ電源40に接続された電極42を有している。電極42は、Z方向において光導波部22を挟むように対をなして設けられており、電源40にそれぞれ接続され、光導波部22の表面と裏面とにそれぞれオーミック接触によって一体化された上面電極である上部電極42aと下面電極である下部電極42bとを有している。上部電極42a、下部電極42bは、XY平面において電圧印加部31において偏向されたレーザ光Lの透過範囲を含むように、方形、具体的は長方形の平面状に設けられている。電源40は、外部電圧源によって電力を供給される交流電源であり、電極42に交流電圧による電圧信号を印加する。光導波層21は、電極42に電圧が印加されることによって、上部電極42aと下部電極42bとのうち陰極として機能している側から電子を注入され、空間電荷制限電流による屈折率変化を誘起される。光導波層21は、このような電荷注入効果により、光導波層21を透過するレーザ光LをZ方向に偏向して出射する。この電荷注入効果を効率よく得るために、電極42は、電子を注入しやすい、言い換えれば仕事関数の低い金属材料である材料で形成することが好ましく、本例ではTiによって形成されているが、同じ理由により、Alなどを用いて電極42を形成しても良い。また、これらの材料を用いると、スパッタによる成膜が容易であるという利点もある。なお、図2においては、レーザ光Lを示す矢印が上部電極42aを透過するように図示されているが、実際には、レーザ光Lは、光導波層21内を透過する。このとき電源40によって電圧が印加されていれば、電荷注入効果の作用領域を、レーザ光Lが透過し、この過程で、レーザ光LはZ方向に偏向される。光偏向素子20による、Z方向へのレーザ光Lの偏向角は、電源40による電極42への印加電圧に応じて変化する。よって、電源40が交流電圧を電極42に印加することで、光偏向素子20から出射するレーザ光Lは、電源40の交流電圧の周期に応じた周期で、X方向に走査される。なお、Z方向への偏向角が一定で良ければ、電源40は直流電源であっても良い。電荷注入効果を利用した具体的な光偏向素子の動作原理言い換えるとビーム偏向の原理をより詳細に説明する。上述の構成のように、電極と光導波層がオーミック接触している光偏向素子に電圧を印加すると、電極から光導波層に電子が注入され、これにより光導波層のZ方向に電界分布が生じ、この電界分布により光が偏向する。Z方向は電気光学結晶の厚さ方向に対応している。電気光学結晶の厚さ方向に線形に変化する屈折率nzは、z=0における屈折率をnとし、zにおける屈折率nからの変化量をΔnzとして、nz=nΔnzで表されるものとする。光軸に対して垂直な断面における直径がDであるビームが、電気光学結晶の中を通過する場合、ビームの上端と下端での屈折率差はΔnD-Δn0である。ビームが通過する屈折率に傾斜がある部分の長さとなる相互作用長をLとすると、長さLを伝搬後のビームの上端と下端とでの等位相面にずれが生じる。その上端と下端の等位相面のずれの長さは、である。この時のビームの伝搬方向の傾きθは、ずれの量がビームの光軸に対して垂直な断面における直径より十分小さく、かつ電気光学結晶の端面から屈折率が1と近似できる外部に出射すると、電気光学結晶と外部の境界面で屈折し、入射光の光軸からの全偏向角は、となる。ここで、電気光学効果による屈折率変化は式1で表せることから、で表される。この式8は、電界Ezがzに依存する場合は、ゼロでない偏向角がZ方向に発生することを表す。図5aに示すように、電荷注入の発生無き場合は、結晶内に発生する電界は一般に、で一定であるため、Z方向に偏向することは無い。一方、図5bに示すように、陰極からの電子注入がある場合には、空間電荷制限電流が結晶内に発生し、電界は、と表せる。それにより、z方向の偏向角は、で表される。以上により、印加電圧により電極から電気光学結晶内に電子注入が起きると、電気光学結晶内が空間電荷制限状態となり、Z方向に電界分布が生じ、この電界分布によって屈折率分布が発生し、光がZ方向に偏向することが説明される。以上のような電圧印加部31及び電圧印加部41を有する光偏向素子20と、電源30及び電源40とを備えた光学装置100は、光導波層21に入射したレーザ光Lを、電圧印加部31においてX方向に偏向するとともに電圧印加部41においてZ方向に偏向し、2次元に走査可能な偏向光として出射する光偏向装置として機能する。このように、光学装置100は、2次元光偏向装置となっており、光偏向素子20は、2次元光偏向素子となっている。また、光導波層21がマグネシウム添加ニオブ酸リチウムであることで、光偏向素子20は可視光域でも利用可能な光ビーム偏向素子としての光偏向素子となっている。光学装置100は、光偏向装置としての光学特性を向上すべく、図6に示すように、光源10と光偏向素子20との間と、光偏向素子20と出力孔51との間とにそれぞれ、光学素子としてのレンズ11、レンズ12を備えていることが望ましい。レンズ11は、光源10から出射されたレーザ光Lを光導波層21に入射させる焦点距離8mmのレンズである。レンズ12は、光偏向素子20から出射されたレーザ光Lである偏向光をコリメートさせて出力孔51から光走査装置100外に出射させるレンズである。図7に示すように、電圧印加部31における光導波部22への電荷注入により電圧印加部31においてレーザ光LのZ方向への偏向が生じることを防止ないし抑制し、電圧印加部41における光導波部22への電荷注入により電圧印加部41においてレーザ光LのZ方向への偏向を行うことで、光偏向素子20によるZ方向への偏向精度を確保するために、Z方向において電圧印加部41における光導波層21の両側に絶縁層23を設け、光導波部22が、光導波層21と絶縁層23とを有するようにしても良い。絶縁層23は、上部電極32aと一体の上部絶縁層23aと、下部電極32bと一体の下部絶縁層23bとを有している。絶縁層23の材質は、Ta2O5であるが、他の材質であっても良い。上部絶縁層23a、下部絶縁層23bのそれぞれの厚みは、1.5umであるが、適宜変更可能である。絶縁層23は、レーザ光Lの光利用効率を向上するクラッド層としても機能し得る。クラッド層は、導波光の光損失を低減するものであり、光導波層21よりも屈折率の低い材質によって、光導波層21と電極32との間に形成される。なお、同図に示した構成においては、図3に示した例のように、電極23を四角形状としており、また、図3、図4に示した例のように、分極反転領域21aの形状により、屈折率変調領域33をプリズム型としているが、図2に示した例のように、電極32の形状により、屈折率変調領域33をプリズム型としても良い。図示を省略するが、光偏向素子20は、支持基板を一体に有していても良い。支持基板を一体化されることで、コア層である光導波層21や光導波部22を薄くすることが可能となる。光導波層21が薄いと、低電圧で駆動可能となる利点がある。支持基板は、Z方向において上部電極32aの上側、下部電極32bの下側の少なくとも一方に設けられれば良い。支持基板を一体に有する場合、光偏向素子20は、支持基板の他、支持基板と上部電極や下部電極との間に接着層を有し、接着層によって支持基板を一体化する構成とすることが可能である。光偏向素子20の実施例及びその製造方法について述べる。まず、光導波層21を構成するウエハー基板としてマグネシウム添加ニオブ酸リチウム山寿セラミクス製φ3Z板t=0.5mmを用いてプリズム型の分極反転を形成した。分極反転をする方法すなわち分極反転領域を形成する方法について述べると、かかるφ3ウエハー基板である電気光学基板の分極反転プロセスは、この基板にスピンコーティングでフォトレジスト膜厚さ2umを作製した。レジストパターンは基板のZ面、そしてフォトリソグラフィーで正三角形列長さ20mmのレジストパターンを作製した。このとき、光が入出射する正三角形の2辺はドメイン壁と平行になるように作製した。その後、直接電界印加法で、抗電界に対応する電圧を分極反転基板に印加して、正三角形の分極反転領域を作製した。直接電界印加では、レジスト境界から30um程度、分極反転領域が外側に広がる結果が得られた。そのため、レジストパターンは所望のプリズムドメインよりも30um小さく作製するのが望ましい。また、プリズムドメイン領域を精度良く作製するために、始めにスパイク電界をかけて、反転核を均一に発生させて、続けて一定電界をかけることで反転核のドメイン壁を広げるのが好ましい。具体的には9kV/mmのスパイク電界を5ms、5.5kV/mmの一定電界を5secかけると、プリズムドメイン領域のプリズムドメイン境界辺は直線となり、頂角はシャープなプリズムドメイン領域を形成することが可能となった。次に、電圧印加部31に絶縁層23としてTa2O5厚さ1.5umをスパッタで成膜した。絶縁層23は、既に述べたように、電圧印加部31での電荷注入効果を抑制して、X方向のみの偏向機能を持たせるために形成したものである。続いて、電圧印加部31と電圧印加部41とにスパッタで上下電極である上部電極32a、下部電極32b、上部電極42a、下部電極42bを成膜した。電極材料は、電圧印加部31、電圧印加部41ともにTiである。上部電極32a、下部電極32b、上部電極42a、下部電極42bの厚さは200nmであり、上部電極32aの大きさはX=3mm、Y=21mmであり、上部電極42aの大きさは、X=3mm、Y=3mmである。基板からダイシングソーによって5mm×25mmを切り出し、端面を研磨、反射コートの工程を経て、光偏向素子20を製作した。図8に、このようにして作成した光偏向素子20の、Z方向とX方向とにおける、印加電圧に対する偏向角度の測定結果を示す。同図に示されているように、この光偏向装置20により、200Vppの電圧印加でZ方向全角1.16mrad、X方向1.31mradの結果が得られている。以上本発明の好ましい実施の形態について説明したが、本発明はかかる特定の実施形態に限定されるものではなく、上述の説明で特に限定していない限り、特許請求の範囲に記載された本発明の趣旨の範囲内において、種々の変形変更が可能である。たとえば、第1の電圧印加部による偏向方向と第2の電圧印加部による偏向方向とは、上述の例における第1の電圧印加部による偏向方向と第2の電圧印加部による偏向方向と入れ替えても良い。本発明を適用した光学装置、光偏向装置、光変調装置は、レーザプリンタ、レーザ加工、ディスプレイ、計測、光通信等の様々な分野に用いることが可能である。本発明の実施の形態に記載された効果は、本発明から生じる最も好適な効果を列挙したに過ぎず、本発明による効果は、本発明の実施の形態に記載されたものに限定されるものではない。"