"金属材料、金属酸化物材料、及びプラスチック材料からなる群より選択される少なくとも一種の材料からなる構造体が接合した重合体ゲルの製造方法であって、上記構造体が付着した基体を重合体ゲルに対して、当該構造体と重合体ゲルとが接触するように配置する配置工程と、次いで、上記基体と重合体ゲルとを離す離間工程と、を含むことを特徴とする重合体ゲルの製造方法。上記配置工程は、上記重合体ゲルの原料であるモノマーを含む溶液と上記基体に付着している構造体とが接触した状態で、当該モノマーを重合することで行うことを特徴とする請求項1に記載の製造方法。上記配置工程と離間工程との間に、上記重合体ゲルと上記基体とを押し付けあう工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の製造方法。上記重合体ゲルが、ハイドロゲルであることを特徴とする請求項1~3の何れか1項に記載の製造方法。上記重合体ゲルが、カルボキシル基を有するものであることを特徴とする請求項1~4の何れか1項に記載の製造方法。上記重合体ゲルが、重合性不飽和カルボン酸モノマーの単独又は共重合体であることを特徴とする請求項5に記載の製造方法。上記重合性不飽和カルボン酸が、アクリル酸又はメタクリル酸であることを特徴とする請求項6に記載の製造方法。上記構造体が、蒸着によって上記基体に付着されることを特徴とする請求項1~7の何れか1項に記載の製造方法。上記構造体が薄膜であることを特徴とする請求項1~8の何れか1項に記載の製造方法。上記構造体が、当該構造体をなす材料の膜を、上記基体上でパターニングすることにより形成されていることを特徴とする請求項1~9の何れか1項に記載の製造方法。上記基体における上記構造体が付着している面が、ガラス製又はシリコン製であることを特徴とする請求項1~10の何れか1項に記載の製造方法。請求項1~11の何れか1項に記載の製造方法によって製造されることを特徴とする、構造体が接合した重合体ゲル。しかし、接着剤による接合法では、接着剤層の形成等により、固体材料と重合体ゲルとの直接的なコンタクトが得られない上、重合体ゲル自体の特性が劣化する虞があるという問題があった。また、非特許文献1の方法では、金属の粒成長又は重合体ゲルの内部への伸展成長により、微細なスケールで平滑性及び光沢性を有する金属薄膜の形成が困難であった。さらに、複雑な化学処理プロセスが必要である上、化学物質が残存するという問題もあった。さらに、重合体ゲルに直接金属薄膜を形成する方法では、微細スケールの回路及び規則構造等の薄膜構造パターンを形成するためには、リソグラフィ等の微細加工法を適用する必要がある。しかし、重合体ゲルはその柔軟性ゆえ、形状が不安定であり、微細加工法によって薄膜構造パターンを形成することが困難であった。本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、金属材料、金属酸化物材料、及びプラスチック材料からなる群より選択される少なくとも一種の材料からなる構造体が直接接合した重合体ゲルの新規な製造方法等を提供することにある。本願発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討を行った。その結果、重合体ゲルではない異種材料からなる構造体を予め形成しておき、当該構造体を重合体ゲルに移し取ることで、構造体の形状等が保持されたまま重合体ゲルに接合できることを見出し、本発明を完成させるに至った。すなわち、本発明に係る製造方法は、金属材料、金属酸化物材料、及びプラスチック材料からなる群より選択される少なくとも一種の材料からなる構造体が接合した重合体ゲルの製造方法であって、上記構造体が付着した基体を重合体ゲルに対して、当該構造体と重合体ゲルとが接触するように配置する配置工程と、次いで、上記基体と重合体ゲルとを離す離間工程と、を含むことを特徴とする。本発明に係る製造方法は、上記配置工程は、上記重合体ゲルの原料であるモノマーを含む溶液と上記基体に付着している構造体とが接触した状態で、当該モノマーを重合することで行うことが好ましい場合がある。本発明に係る製造方法は、上記配置工程と離間工程との間に、上記重合体ゲルと上記基体とを押し付けあう工程を含むことが好ましい場合がある。本発明に係る製造方法において、上記重合体ゲルが、ハイドロゲルであってもよい。本発明に係る製造方法において、上記重合体ゲルが、カルボキシル基を有するものであることが好ましい。一例として、当該重合体ゲルが、重合性不飽和カルボン酸モノマーの単独又は共重合体であることが好ましい。本発明に係る製造方法において、上記重合性不飽和カルボン酸が、アクリル酸又はメタクリル酸であることがより好ましい。本発明に係る製造方法において、上記構造体が、蒸着によって上記基体に付着されるものであってもよい。本発明に係る製造方法において、上記構造体が薄膜であってもよい。本発明に係る製造方法において、上記構造体が、当該構造体をなす材料の膜を、上記基体上でパターニングすることにより形成されているものであってもよい。本発明に係る製造方法において、上記基体における上記構造体が付着している面が、ガラス製又はシリコン製であることが好ましい。本発明はさらに、上記の製造方法によって製造されることを特徴とする、構造体が接合した重合体ゲルを提供する。本発明によれば、金属材料、金属酸化物材料、及びプラスチック材料からなる群より選択される少なくとも一種の材料からなる構造体が、その形状等が保持されたまま、直接接合した重合体ゲルを製造することができる。また、本発明によれば、上記構造体が微細なスケールである場合においても、その形状等が保持されたまま、直接接合した重合体ゲルを製造することができる。1.重合体ゲルの製造方法製造方法の概要本発明に係る重合体ゲルの製造方法は、金属材料、金属酸化物材料、及びプラスチック材料からなる群より選択される少なくとも一種の材料からなる構造体が接合した重合体ゲルの製造方法であって、上記構造体が付着した基体を重合体ゲルに対して、当該構造体と重合体ゲルとが接触するように配置する配置工程と、次いで、上記基体と重合体ゲルとを離す離間工程と、を含む方法である。重合体ゲル本発明における重合体ゲルは、ハイドロゲル及びオルガノゲルの何れでもよい。また、重合体には、数百個程度のモノマーからなるオリゴマー、及び、それより多数のモノマーからなるポリマー高分子が含まれ、ゲルの分散質となり得るものである。また、本発明において、重合体ゲルは、その製造方法により、i専ら化学重合により製造される重合体をゲルの分散質として利用するタイプ、及びii重合体を液体に溶解させた後固化する過程でゲル化するタイプの両方を包含する。i専ら化学重合により製造される重合体をゲルの分散質として利用するタイプ重合体を構成するモノマーとしては、ハイドロゲル又はオルガノゲルに用いる各種のモノマーが好適に用いられる。重合体を構成するモノマーの電荷の有無、側鎖の種類等は、特に限定されない。モノマーとして、例えば、重合性の不飽和モノマー等が挙げられる。不飽和モノマーは、電気的に中性な基、酸性基、塩基性基等を有していてもよい。電気的に中性な基を有する不飽和モノマーとしては、例えば、アクリルアミドAAm、N-イソプロピルアクリルアミド、ヒドロキシエチルアクリルアミド、N,N-ジメチル-アクリルアミド、N,N-ジエチルアクリルアミド、メチルメタクリレートMMA、ビニルピリジン、ヒドロキシエチルアクリレート、酢酸ビニル、アクリロイルモルホリン、フッ素含有不飽和モノマー等が挙げられる。フッ素含有不飽和モノマーとしては、例えば、トリフルオロエチルアクリレートTFE、2,2,2-トリフルオロエチルメチルアクリレート、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピルメタクリレート、3-ペルフルオロブチル-2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、1H,1H,9H-ヘキサデカフルオロノニメタクリレート、2,2,2-トリフルオロエチルアクリレート、2,3,4,5,6-ペンタフルオロスチレン、フッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレン、パーフルオロ2-フルオロサルフォニルエトキシプロピルビニルエーテル等が挙げられる。不飽和モノマーが有し得る酸性基としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基等が挙げられる。また、不飽和モノマーが有し得る塩基性基としては、例えば、アミノ基等が挙げられる。酸性基、塩基性基等を有する不飽和モノマーとしては、例えば、アクリル酸AAc、メタクリル酸MAc、2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸AMPS、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、ジメチルアミノエチルアクリレート4級化物、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド4級化物又はそれらの塩を挙げることができる。重合体ゲルは、1種類のモノマーの単独重合体でもよく、2種類以上のモノマーの共重合体でもよい。重合体ゲルが共重合体からなる場合は、単独重合体ではゲルを与えない各種モノマーもコモノマー成分として重合体ゲルの製造に利用され得る。なお、本発明では、アクリル酸AAc、メタクリル酸MAc、ビニル酢酸のような重合性不飽和基を有するモノカルボン酸;フマル酸、マレイン酸、イタコン酸のような重合性不飽和基を有するポリカルボン酸ジカルボン酸等;これらポリカルボン酸の酸無水物;を重合性不飽和カルボン酸と総称する場合がある。重合体ゲルを構成するモノマーの種類は、必要に応じて、後述する構造体をなす材料の種類に応じて選択してもよい。例えば、構造体をなす材料が、金属材料、又は金属酸化物材料の場合は、構造体と重合体ゲルとの接合がより良好になるとの観点で、重合体ゲルはカルボキシル基を有するものであることが好ましい。カルボキシル基を有する重合体ゲルを製造する一例では、上記モノマーとして重合性不飽和カルボン酸を用いることが好ましく、中でもアクリル酸、及びメタクリル酸がより好ましい。また、構造体をなす材料が金属材料又は金属酸化物材料であって、且つ重合体ゲルが重合性不飽和カルボン酸と、重合性不飽和カルボン酸以外のモノマーとの共重合体からなる場合は、全繰り返し単位中に占める、重合性不飽和カルボン酸由来の繰り返し単位の含有割合が、モノカルボン酸換算で、25以上であることが好ましく、50以上であることがより好ましく、75以上であることがさらに好ましい。また、金属材料又は金属酸化物材料と重合体ゲルとの接合の程度は、重合体ゲルに導入されたカルボキシル基の量に主に依存すると推定されるため、上記重合性不飽和カルボン酸がジカルボン酸の場合は、上記含有割合は12.5以上であることが好ましく、25以上であることがより好ましく、37.5以上であることがさらに好ましい。なお、上記含有割合は、重合体ゲルを製造するためのモノマー成分中に占める、重合性不飽和カルボン酸の含有割合モル換算と略一致する。なお、重合体を製造後に当該重合体にカルボキシル基を導入して、カルボキシル基を有する重合体ゲルを得ることもできる。例えば、重合体として、その側鎖にアミド基、エステル基、又はニトリル基を持つ重合体を製造し、これら側鎖の官能基に対して加水分解によりカルボキシル基を導入可能である。重合体は、ゲルを構成する他の重合体との間で架橋されている架橋点を少なくとも1つ有していることが好ましい。ここで架橋するとは、共有結合等によって重合体同士が化学的に結合することをいう。重合体は、例えばモノマー由来の繰り返し単位同士が結合することによって架橋される。重合体が有する架橋点の数は、当該重合体が有する繰り返し単位の数の0.001以上20以下であることが好ましい。このように重合体が架橋点を有することによって、ゲルを構成する重合体間が架橋されるため、ゲルの機械強度をより高くすることができる。架橋剤は、重合体を形成するモノマーの種類等に応じて適宜選択すればよく、例えば、N,N’-メチレンビスアクリルアミドMBAAm、N,N’-プロピレンビスアクリルアミド、ジアクリルアミドメチルエーテル、1,2-ジアクリルアミドエチレングリコール、1,3-ジアクリロイルエチレンウレア、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、N,N’-ジアリルタータルジアミド、N,N’-ビスアクリロイルシスタミン等が挙げられる。モノマーの重合に際しては、必要に応じて重合開始剤を用いてもよい。重合開始剤は、重合体を形成するモノマーの種類等に応じて適宜選択すればよく、例えば、オキソグルタル酸、アゾビスイソブチロニトリルAIBN、過酸化ベンゾイルBPO、過硫酸アンモニウムN,N,N’,N’-デトラエチレンジアミンTEMEDと共に添加する、過硫酸カリウム、過酸化水素と塩化鉄IIとの組合せ等が挙げられる。モノマー、必要に応じて添加される架橋剤、及び必要に応じて添加される重合開始剤、並びにその他の添加物を溶媒中で混ぜ合わせて重合用モノマー溶液を作製する。溶媒はモノマーの種類に応じて、水又は有機溶剤例えば、エタノール、メタノール等を用いればよい。なお、重合開始剤は重合反応を開始させる直前に加えることが望ましい。配合量は、例えば、モノマーを0.1M~10M、架橋剤を0.1mM~1000mM、重合開始剤を0.1mM~100mMとすればよい。重合体ゲルの作製は、上記重合用モノマー溶液を、モノマーの種類に応じた方法で重合反応させればよい。例えば、上記重合用モノマー溶液に対して、紫外光UV光を照射することにより、又は加熱例えば、60°C、2~6時間することにより、重合を行い、ゲル化させる。得られた重合体ゲルは、さらに必要に応じて、水又は有機溶剤を吸液させてもよい。ii重合体を液体に溶解させた後固化する過程でゲル化するタイプ重合体として、単糖又はアミノ酸モノマーの重合体が挙げられる。単糖の重合体としては、アガロース、寒天、カラギーナン等が挙げられる。また、アミノ酸の重合体としては、コラーゲン、ゼラチン等が挙げられる。上記重合体は、主に生体内に含まれる物質であり、例えば生体から精製されたものを水に溶解した後、ゲル化すればよい。例えばアガロースの場合、粉末状のアガロースを熱水に溶解させた後に、冷却することでゲル化する。重合体ゲルの大きさは特に限定されず、所望の面積及び厚さが可能である。また、重合体ゲルの形状も特に限定されない。構造体本発明における構造体は、金属材料、金属酸化物材料、及びプラスチック材料からなる群より選択される少なくとも一種の材料からなる。金属としては、例えば、金、白金、アルミニウム、クロム、亜鉛、銀、銅、ニッケル等が挙げられる。また、金属は合金でもよく、例えば、ステンレス、ジェラルミン等が挙げられる。金属酸化物としては、アルミナAl2O3、酸化チタン、酸化マグネシウム等が挙げられる。プラスチックとしては、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等が挙げられる。構造体の大きさ及び形状は、特に限定されないが、マイクロデバイスにおいては、厚さは、50nm~20μmが好ましく、50nm~200nmがより好ましい。構造体を基体に付着させる方法は特に限定されず、形成した構造体を基体に付着させてもよいし間接付着法、基体に構造体を直接形成してもよい直接付着法。なお、何れの方法を採用する場合でも、接着剤層等を介さずに、構造体が基体に直接付着していることが好ましい。上記間接付着法とは、例えば、構造体と基体とを圧力をかけながら付着させる等の、物理的吸着又は化学的吸着等を利用する付着法である。一方、上記直接付着法とは、例えば、蒸着法、ナノインプリント等のインプリント法印刷技法、インクジェット直描法等の、直接形成法である。なお、構造体が付着した基体の取扱い性に優れ、構造体の不所望な脱落がないという観点では、直接付着法がより好ましい。また、直接付着法の中では、構造体表面の均一性の実現という観点では、蒸着法が好ましい。蒸着法の種類は特に限定されず、例えば、真空蒸着法が挙げられる。また、ナノスケールのような極めて微細な構造体を精緻に形成可能という観点では、蒸着法及びインプリント法が好ましく、インプリント法がより好ましい。基体に付着された構造物の大きさ及び形状は特に限定されず、数cm×数cm大の薄膜でもよいし、μm又はnmオーダーのライン又はドット等でもよい。また、構造物は粒子でもよく、例えば、薄膜形成には至らない量の金属粒子が基体に付着されてもよい。また、構造体は、基体上で、所定のパターンを構成していてもよいパターニング工程。パターンは、例えば、公知のリソグラフィ及び薄膜形成法を用いて基体の上で作製することができる。より具体的には、基体上に形成したレジスト膜に対して、電子線リソグラフィ装置、又はDUVDeepUltraviolet露光装置等を使用してパターンを描画し、描画後のレジスト膜を現像することで、その微小限界サイズであるナノメートルオーダーのマスクパターンを形成する。次いで、マスクパターンが形成された基体上に構造体の材料からなる薄膜を形成し、マスクパターン及びその上に形成された薄膜を取り除くリフトオフ除去。この方法で、ナノメートルスケールの設計寸法で規則構造微細パターン構造体を基体上に形成することが可能である。したがって、ナノメートルオーダーのパターンを有する構造体を重合体ゲルに接合することが可能である。なお、ナノメートルオーダーのパターンを有する構造体は、ナノインプリンティング法等によって形成してもよい。また、構造体の表面は化学修飾されてもよい。例えば、チオール基をもつ有機分子は、金表面に二重結合して自己組織化単分子膜を形成するため、重合体ゲルとの接着力を増強させることができる。基体本発明における基体は、重合体ゲルに接合させるまでの間、上記構造体を支持する支持部材である。基体の構造は、上記構造体が付着できる面付着面を有していればよい。なお、付着面は曲面であってもよいが、構造体の形成及び剥離重合体ゲルへの移し取りを容易とするため平面であることが好ましい。基体の材質は、上記付着面においては、例えば、ガラス、シリコン、金属材料、プラスチック材料等が挙げられる。後述する剥離工程において、基体から構造物を剥離し易くするため、上記付着面の材質は、構造体の材料とは異種の材質から選択することが好ましい場合がある。例えば、構造体が金属材料、又は金属酸化物材料からなる場合、付着面はガラス、シリコン、又はプラスチック等の非金属性の材料が好ましい場合がある。同様に、構造体がプラスチック材料からなる場合、付着面はガラス、シリコン、金属材料等の非プラスチック性の材料が好ましい場合がある。基体の大きさ及び形状は、上記構造体を付着することができる限り、特に限定されない。基体は、スライドガラスのような板状でもよい。或いは、基体を重合体ゲルの重合型に使用する場合は、製造する重合体ゲルの形状に合わせた内面上記付着面に相当を持つ容器状であってもよい。製造方法の詳細配置工程配置工程は、上記構造体が付着した基体を重合体ゲルに対して、当該構造体と重合体ゲルとが接触するように配置する工程である。配置工程は、重合体ゲルの形成と同時に行ってもよく、或いは、重合体ゲルを予め形成してから行ってもよい。配置工程と重合体ゲルの形成とを同時に行う一例として、重合体ゲルの原料であるモノマーを含む溶液重合用モノマー溶液と上記基体に付着している構造体とが接触した状態で、モノマーを重合することが挙げられる。具体的には、構造体が付着した基体基板と、対向基板例えばスライドガラスとの間に、テフロン登録商標シート又はシリコーンゴムシート等で作製したスペーサーを挟んで、モールド型を形成する。このとき、構造体と重合体ゲルとが接触するように、基体は構造体の付着面を内側に配置する。次いで、モールド型に上記重合用モノマー溶液を注入し、紫外光を照射する等して重合反応を開始させる。このとき、同時に重合体ゲルと構造体との接合が開始される。対向基板の代わりに、構造体が付着した基体2枚でモールド型を形成することで、両面に構造体が接合した重合体ゲルを作製することもできる。なお、上記モールド型に、重合体を溶解させた液体を流し込んだ後に固化することで、上記したアガロース、寒天、カラギーナン、コラーゲン、ゼラチン等を用いた場合でも、構造体が接合した重合体ゲルを作製することができる。重合体ゲルを予め形成してから配置工程を行う一例として、予め形成した重合体ゲルを、構造体が付着した基体の付着面上に伸展させることが挙げられる。この場合、重合体ゲルと構造体との接合をより強固にするため、配置工程と後述する離間工程との間に、重合体ゲルと基体とを押し付けあう押付工程を設けることが好ましい。具体的には、例えば、予め形成した重合体ゲルを、構造体が付着した基体基板の付着面上に広げて、その上から対向基板スライドガラス等をのせ、基体と対向基板とを適当な圧力で押し付けて、数時間~数十時間静置する。押付工程では、上記重合体ゲルと上記基体とを、両者の接触面と垂直方向に加圧することが好ましい。なお、対向基板の代わりに、構造体が付着した基体をもう1枚用いることで、両面に構造体が接合した重合体ゲルを作製することもできる。離間工程離間工程は、配置工程を行うことで互いに接触している上記基体と重合体ゲルとを離して、両者を離間させる工程である。配置工程と重合体ゲルの形成とを同時に行う場合は、重合反応によって重合体ゲルが形成された後に離間工程を行う。重合体ゲルを予め形成してから配置工程を行う場合は、必要に応じて上記押付工程を行った後、離間工程を行う。すると、構造体は基体から剥離し、その形状及びパターン等を維持したままで重合体ゲル上に接合される。2.本発明が施されたゲルの応用例本発明の方法により製造された構造体が接合した重合体ゲルは、i構造体が当該重合体ゲルに強く接合しており、iiゲルの変形膨潤収縮及び乾燥に追従し、iii環境変化による接着力が変わらない、という特性を持つ。したがって、本発明に係る重合体ゲルは、機能素子として様々な分野において利用することが可能である。当該重合体ゲルはフレキシブルであるため、特にユビキタスコンピューティング例えば、ウエアラブルデバイス、ICタグ等に好適に利用され得る。また、当該重合体ゲルはウエットであるため、特にバイオ分野例えば、生体計測、病気診断、人工筋肉等に好適に利用され得る。具体的には、以下のような応用例が可能である。<応用例1>電気化学素子構造体が金属薄膜である場合、当該重合体ゲルに接合された金属は、良好な金属光沢性を有し、金属表面のナノスケールでの均一性、及び電導性を示す。また、金属薄膜は、重合体ゲルの膨張及び収縮によく追従し、重合体ゲルの表面から剥離し難い実施例参照。さらに、金属製の構造体は、薄膜のみならず、板状電極、マイクロ電極、ナノ電極、櫛歯状電極等、所望の大きさ及び形状をもつ金属パターンとして重合体ゲル上に配置し得る。したがって、構造体が接合した上記重合体ゲルを用いれば、ウエット且つフレキシブルな電気化学素子が実現できる。含溶液材料である重合体ゲルに接合した金属製の構造体は、ゲル中の液相を介した電気化学反応で用いる電極として利用可能である。例えば、イオン又は分子の状態を電気化学的に計測したり、電気化学反応を行ったりすることが可能である。計測ではイオン若しくは分子の濃度、又は化学種のセンサー素子として、電気化学反応では電池等のエネルギー素子としての応用が考えられる。さらに、これら計測、電気化学反応、並びにその他の機能から選択される複数の機能を集積した電気化学集積素子を作製することができる。<応用例2>アクチュエーション素子又は形状記憶素子ライン状の樹脂構造体等を、好ましくは複数本平行に重合体ゲルに接合することで、ゲルの膨潤収縮による立体変化に方向性を持たせることが可能である。樹脂構造体は、重合体ゲルの体積変化に抗する骨格として機能し、重合体ゲルの膨潤及び収縮の程度に応じて所定の形状を取る素子が提供される。すなわち、本発明に係る重合体ゲルは方向制御アクチュエーション素子又は形状記憶素子として機能する図15参照。重合体ゲル及び樹脂構造体として透光性を有するものを採用すれば、例えば、焦点可変レンズ又は高フィット感コンタクトレンズ等を実現することができる。また、金属製の構造体を重合体ゲルに接合することで、電気信号伝達用の接合電極を形成することが可能である。当該接合電極に電気を流して重合体ゲル中のイオン分布を変化させて、ゲルの部分的な膨潤収縮によるゲル全体の形状の変化を起こさせることができる。したがって、本発明に係る重合体ゲルは電場応答性を有し、ソフトアクチュエーション素子として機能する。ゲルによるソフトアクチュエーションは、生物的な柔らかい動作を行う機能素子への応用が期待されている。このような素子は、ヒューマンインターフェースとして、我々の身体が物理的に接触する部品又は製品等に埋め込み活用されることが望まれている。例えば、シート又はベッドに埋め込むことにより、利用者の姿勢等をアクティブにサポートするような機構のための動作基本素子として利用することができる。<応用例3>電気化学集積素子上記応用例1及び2を組み合わせた素子の一例として、電気化学的な計測、及びアクチュエーションの機能を集積した電気化学集積素子を示す。図1に示すように、電気化学集積素子は、平板状の重合体ゲル高分子電解質ゲル、当該重合体ゲルの上下両面に設けられた駆動電極構造体、重合体ゲルの上面に設けられたセンシング用電極センサーパターン:構造体、アクチュエータ駆動電源、歪センシング回路、及び電気化学測定回路、を含んで構成されている。上記アクチュエータ駆動電源は、一対の駆動電極に電気的に接続されており、当該駆動電極間に駆動電圧を印加する。駆動電圧の印加により重合体ゲル中の電解質イオン等が移動をし、その分布が変化する。その結果、重合体ゲルは、駆動電圧の大きさに応じて、所定量の形状変化を起こす上記<応用例2>の記載も参照。一方、駆動電圧の印加を止めると、重合体ゲルは元の形状に戻る。すなわち、駆動電極が接合された重合体ゲルは、アクチュエーション素子として機能する。なお、上記駆動電圧は特に限定されないが、低消費電力で且つゲルの損傷を回避するという観点では、1ボルト以下の低電圧駆動が好ましく、数百ミリボルト程度の低電圧駆動がより好ましい。上記歪センシング回路は、その両端が、上記センシング用電極の両端に接続されており、当該センシング用電極を介して、重合体ゲルの形状変化を量的にセンシングする。形状変化のセンシングは、センシング用電極が、重合体ゲルの形状変化に追従して変位することを利用しその変位量から検出する。そして、歪センシング回路が検出した、重合体ゲルの形状変化量歪量は、アクチュエータ駆動電源の動作を制御する制御信号として、当該アクチュエータ駆動電源に入力される。すなわち、歪センシング回路が検出した歪量実際の形状変化量と、重合体ゲルの想定した形状変化量とにずれがある場合は、アクチュエータ駆動電源の動作を、想定した形状変化量に近づけるように制御する。電気化学測定回路は、上記センシング用電極の一端、及び、一対の駆動電極に電気的に接続されており、重合体ゲル中の電解質の分布の変化を検出する。この電解質の分布の変化は、重合体ゲルの形状変化量と連関するため、アクチュエータ駆動電源の動作を制御する制御信号として、当該アクチュエータ駆動電源に入力される。なお、電解質の分布の変化は、例えば、μM~M濃度の単位で検出することができる。なお、重合体ゲルの実際の形状変化量は、センシング用電極のラインパターンを回析格子として用いて、例えば、サブマイクロメートル~マイクロメートル単位で計測することもできる後述の実施例13~14等も参照。そして、この計測値を、アクチュエータ駆動電源の動作を制御する制御信号として用いてもよい。<応用例4>触媒金属の固定白金及びレアメタル等の機能性の希少金属からなる構造体を重合体ゲルに固定することにより、触媒付フィルターエレメント等に利用することができる。<応用例5>金属等の表面保護層鏡面仕上げ等により形成した良好な金属等構造体の表面に対する外部からの物理的な刺激による破損から保護するために、重合体ゲルを表面保護層として利用することができる。このゲル表面層は溶液で湿潤されているため、ウエットな感触表現、及び低摩擦表面も実現できる。さらに、重合体ゲルに化学的に着色することにより色彩表現等も実現できる。<応用例6>不要物質等の剥離除去プロセスガラス等の基材表面に付着した不要な金属等構造体を、重合体ゲルに吸着接合させることにより簡便に除去し、基材表面を清浄化することができる。以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、以下の実施例において、所定の幅のある条件の記載は、当該幅の範囲内で複数の実験を行ったことを示す。<実施例1>方法実験条件の数値範囲は複数回の実施によるものである。概略を図2に示す。アクリル酸AAcモノマー0.9ml、架橋剤N,N’-メチレンビスアクリルアミドMBAAm、0.02g、及び純水9.1mlからなるゲル原料溶液を作製した。ゲル原料溶液1mlに重合開始剤2Mオキソグルタル酸水溶液2~5μlを加えた重合用モノマー溶液を、シリコーンゴムシートをスペーサー500μm厚とし両面をスライドガラス20mm×20mmで挟んだ重合用モールド型に注入した。ブラックライト出力15W、主波長352nmによるUV光を照射することにより、重合反応を開始させ、ポリアクリル酸ゲルを作製した。このポリアクリル酸ゲルを十分に純水中で膨潤させた。一方、接合させる金Au薄膜10mm×10mmは、高真空蒸着装置到達真空圧力約10-5Pa、W431型、片桐エンジニアリング製を用いて、電子ビーム蒸着法により、スライドガラス基体上に100~200nm程度の膜厚に堆積させ、Au薄膜付スライドガラスを作製した。上記ポリアクリル酸ゲルを、2枚の上記Au薄膜付スライドガラスのAu蒸着面で挟み、ダブルクリップでとめて圧力を加え、数時間~数10時間静置した後、離型した。結果Au薄膜はスライドガラスから剥離し、ポリアクリル酸ゲルに接合した。<実施例2>方法概略を図3に示す。実施例1と同様の方法で、スライドガラス20mm×26mm上に膜厚150nmのAu薄膜10mm×10mmを堆積させ、Au薄膜付スライドガラスを作製した。1枚のスライドガラス及び1枚のAu薄膜付スライドガラスで、シリコーンゴムシートで作製したスペーサー500μm厚を挟みこむことにより、重合用モールド型を形成した。Au薄膜付スライドガラスは、Au蒸着面を内側にした。アクリル酸AAcモノマー又メタクリル酸MAcモノマー水溶液何れも2.5~5.0M、10ml、架橋剤MBAAm、0.02~0.04gからなるゲル原料溶液を作製した。ゲル原料溶液1mlに重合開始剤2Mオキソグルタル酸水溶液2~5μlを加えた重合用モノマー溶液を、上記重合用モールド型に注入した。ブラックライト出力15W、主波長352nmによるUV光を照射することにより、重合反応光重合を開始させ、同時にAu薄膜との接合を開始させた。UV光の照射時間は1~10時間程度であった。重合反応によりポリアクリル酸ゲル又はポリメタクリル酸ゲルが形成した後、離型した。結果Au薄膜はスライドガラスから剥離し、ポリアクリル酸ゲル及びポリメタクリル酸ゲルの何れにも接合した。<実施例3>方法実施例2と同様の方法でAu薄膜付スライドガラスを作製し、さらに実施例2と同様の方法で重合用モールド型を作製した。実施例2と同様の組成のゲル原料溶液1mlに重合開始剤VA-057水溶性アゾ重合開始剤、和光純薬、0.01~0.02gを加えた重合用モノマー溶液を、重合用モールド型に注入した。60°Cのオーブンで2~6時間加熱することにより、モノマーを重合させた熱重合。ポリアクリル酸ゲル又はポリメタクリル酸ゲルが形成した後、離型した。結果Au薄膜はスライドガラスから剥離し、ポリアクリル酸ゲル及びポリメタクリル酸ゲルの何れにも付着した。重合方法光重合、熱重合に関わらず、Au薄膜をゲルに接合できることがわかった。<実施例4>方法実施例2と同様の実験を、Auにかえて、白金Ptについて実施した。結果Pt薄膜はスライドガラスから剥離し、ポリアクリル酸ゲル及びポリメタクリル酸ゲルの何れにも接合した。<実施例5>方法スライドガラス20mm×26mmに膜厚20μmのアルミフォイル20mm×26mmを液滴接着又は静電接着等の方法で付着させ、Alフォイル付スライドガラスを作製した。1枚のスライドガラス及び1枚のAlフォイル付スライドガラスで、シリコーンゴムシートで作製したスペーサー500μm厚を挟みこむことにより、重合用モールド型を形成した。実施例2と同様の組成の溶液重合用モノマー溶液を、上記重合用モールド型に注入した。実施例2と同様の重合条件により重合を行った後、離型した。結果ポリアクリル酸ゲル及びポリメタクリル酸ゲルの何れもスライドガラスからは剥離し、Alフォイルと接合した。<実施例6>方法実施例5と同様の方法で重合用モールド型を形成した。実施例3と同様の組成の重合用モノマー溶液を、上記重合用モールド型に注入した。実施例3と同様の重合条件により重合を行った後、離型した。結果ポリアクリル酸ゲル及びポリメタクリル酸ゲルの何れもスライドガラスからは剥離し、Alフォイルと接合した。<実施例7>アクリル酸AAcモノマーとアクリルアミドAAmモノマーとの共重合体ゲルにAu薄膜を接合することができるか調べた。方法実施例2と同様の方法でAu薄膜付スライドガラスを作製し、さらに実施例2と同様の方法で重合用モールド型に作製した。AAcモノマーとAAmモノマーの水溶液AAc:AAmモル濃度比=1:3又は1:1、AAcAAm=2.5M、10ml、架橋剤MBAAm、0.02~0.04gからなるゲル原料溶液を作製した。ゲル原料溶液1mlに重合開始剤2Mオキソグルタル酸水溶液2~5μlを加えた重合用モノマー溶液を、上記重合用モールド型に注入した。実施例2と同様の条件でUV光を照射し、重合反応を開始させた。重合反応によりポリアクリル酸-アクリルアミド共重合体ゲルが形成した後、離型した。結果Au薄膜はスライドガラスから剥離し、何れの組成のポリアクリル酸-アクリルアミド共重合体ゲルにも接合した。AAc:AAm=1:1の共重合体ゲルの方が、1:3の共重合体ゲルよりもAu薄膜の接合が良好であった。AAc:AAm=1:1であるポリアクリル酸-アクリルアミド共重合体ゲルにAu薄膜が接合している写真を、図4に示す。<実施例8>方法概略を図5に示す。シリコンウエハ20mm×20mm基体上に、スピンコート法により、ヘキサメチルジシラザランHMDS液による界面処理及びレジスト液AZ1500、AZElectronicMaterials社による膜厚2μm程度のレジスト膜の形成を行った。次いでマスクレスフォトリソグラフィ装置株ナノシステムソリューションズ社製を用いてパターン露光処理を行い、AZ1500専用現像液に45秒間浸漬した後、純水で洗浄を行うことにより、sub-μm~mmスケールのサイズのパターン蒸着マスクを作製した。このシリコンウエハ基板上に真空蒸着装置を用いてAuの電子ビーム蒸着を行い、膜厚150nmのAu薄膜を堆積させた。このシリコンウエハを、アセトンに約5分間浸漬し攪拌することにより、レジスト膜溶解除去と同時に、不要箇所のAu薄膜のリフトオフ除去を行い、目的とする薄膜微細構造パターン線幅/スペース=4μm/4μmのAuラインパターンを形成した。スライドガラス及び当該薄膜微細構造パターンのあるシリコンウエハパターン付きシリコンウエハで、テフロンシート又はシリコーンゴムシートで作製したスペーサー50~500μm厚を挟みこむことにより、重合用モールド型を形成した。シリコンウエハ基板は、パターン形成面を内側にした。アクリル酸AAcモノマー又メタクリル酸MAcモノマー水溶液何れも2.5~5.0M、1ml、架橋剤MBAAm、0.01~0.02gからなるゲル原料溶液を作製した。ゲル原料溶液1mlに重合開始剤2Mオキソグルタル酸水溶液2~5μlを加えた重合用モノマー溶液を、上記重合用モールド型に注入した。実施例2と同様の条件でUV光を照射し、重合反応を開始させた。重合反応によりポリアクリル酸ゲル又はポリメタクリル酸ゲルが形成した後、離型した。また、実施例2と同様の組成の液についても、同様の実験を行った。結果何れのゲルについても、Auの薄膜微細構造パターン線幅/スペース=4μm/4μmのAuラインパターンはシリコンウエハから剥離し、ポリアクリル酸ゲル及びポリメタクリル酸ゲルに接合した。ゲル上の薄膜微細構造パターンを光学顕微鏡で観察したところ、線幅/スペース=4μm/4μmのAuラインパターンを形成していることが確認された。<実施例9>方法実施例8と同様の実験を、線幅/スペース=4μm/4μmのAuラインパターンにかえて、1μmのAuドットパターンについて実施した。結果何れのゲルについても、Auの薄膜微細構造パターン1μmのAuドットパターンはシリコンウエハから剥離し、ポリアクリル酸ゲル及びポリメタクリル酸ゲルに接合した。ポリアクリル酸ゲル上の薄膜微細構造パターンを走査型電子顕微鏡日立製作所製、型番S4800で観察した画像を図6に示す。a、bはそれぞれ倍率を×2500、×15000にしたものである。a及びbにおいて、ゲル上に1μmのAuドットパターンが形成されていることが確認された。<実施例10>方法概略を図7に示す。シリコンウエハ又はスライドガラスに、スピンコート法により、感光性樹脂剤であるSU-8エポキシ系樹脂、日本化薬株の膜形成膜厚24μm又は50μmをし、90°Cのオーブンで約10分間加熱して硬化させた。次いでマスクレスフォトリソグラフィ装置を用いてパターン露光処理を行い、SU-8専用現像液に5~8分間浸漬した後、イソプロピルアルコールで洗浄を行うことにより、樹脂マイクロパターン線幅/スペース=36μm/36μm付の基板を作製した。スライドガラス及び当該樹脂マイクロパターンのある基板で、テフロンスペーサー100μm厚を挟みこむことにより、重合用モールド型を形成した。基板は樹脂マイクロパターン形成面を内側にした。アクリルアミドAAmモノマー又はアクリル酸AAcモノマー水溶液何れも2.5~5.0M、10ml、架橋剤MBAAm、0.02~0.04gからなるゲル原料溶液を作製した。ゲル原料溶液1mlに重合開始剤2Mオキソグルタル酸水溶液2~5μlを加えた重合用モノマー溶液を、重合用モールド型に注入した。ブラックライト出力15W、主波長352nmによるUV光を照射することにより、重合反応を開始させ、同時に樹脂マイクロパターンとの接合を開始させた。UV光の照射時間は1~10時間程度であった。重合反応によりポリアクリルアミドゲル又ポリアクリル酸ゲルが形成した後、離型した。結果何れのゲルについても、樹脂マイクロパターンは基板から剥離し、ゲルに接合して、当該ゲル上に樹脂マイクロパターンが形成された。<実施例11>方法実施例2で作製したAu薄膜膜厚150nmを接合したポリアクリル酸ゲルを風乾し、走査型電子顕微鏡日立製作所製、型番S4800を用いて、Au薄膜の表面を観察した。結果図8はAu薄膜を接合したポリアクリル酸ゲルの、風乾後の電子顕微鏡の画像である。a~dはそれぞれ倍率を×150、×200、×5000、×50000にしたものである。a及びbにおいて、ゲルの変形収縮に伴ってAu薄膜がしわになっていることが観察された。さらに拡大したcを見ると、しわになっているように見える部分は、収縮したゲルの起伏に沿って、Au薄膜が接合したまま起伏しているだけであることがわかった。さらに拡大したdを見ると、山になっている部分に破れはなく、しなやかに折れていることが確認された。これらの観察の結果、ゲルとAu薄膜は良好に接合しており、Au薄膜はsub-μmオーダー曲率半径のゲルの変形にも追従することがわかった。<実施例12>方法実施例8で作製した薄膜微細構造パターン線幅/スペース=4μm/4μmのAuラインパターンを接合したポリアクリル酸ゲルを風乾し、光学顕微鏡オリンパス製、型番BXを用いて、Auラインパターンの変化を観察した。結果図9はAuラインパターンを接合したポリアクリル酸ゲルの光学顕微鏡の画像である。aは純水中で膨潤させた状態の画像であり、bは1.5MのKCl水溶液中で収縮させた状態の画像である。観察の結果、ゲルとAu薄膜ラインパターンは良好に接合しており、ゲルの膨潤収縮に追従して、Auラインパターンが伸縮していることがわかった。<実施例13>光学素子本発明の方法で作製したゲルについて、光学素子としての利用可能性を検討した。方法実施例8と同様の方法で、線幅/スペース=4μm/4μmのAuラインパターンを周期配列させたマイクロスリット構造をもつポリアクリル酸ゲル回折格子を作製した。ゲルの膨潤収縮によりスリット間隔が変化する稼働型の回折格子素子である。この素子にレーザー光を照射した。結果光学干渉によりスリット間隔に応じた回折スポットを得ることができた。つまり、ゲルの膨潤収縮によりレーザー光を任意の位置に分割照射する光学機能素子が作製できた。<実施例14>変形計測素子本発明の方法で作製したゲルについて、変形計測素子としての利用可能性を検討した。原理実験は、マイクロスリット構造離間したAuラインパターンをもつゲル回折格子にレーザー光を照射して、ゲル回折格子を透過したレーザー光を回折スポットとしてスクリーンに映し出すことで行う。レーザーの波長をλ、ゲル上のAuラインパターンのスリット間隔をd、スクリーン上の回折スポットの間隔をx、ゲルのAu接合面とスクリーンとの距離をLとすると、回折スポットパターンはdx/L=λの関係が成り立つ。したがって、回折スポットの間隔xを測定することにより、スリット間隔dを計算することができる。そして、スリット間隔dはゲルの膨潤収縮により増減するため、スリット間隔dを得ることができれば、ゲルの膨潤収縮状態を知ることができる。なお、スリット間隔dは、隣り合うAuライン間の距離に相当する。方法まず、実施例13で作製したゲルを2.5MのCaCl2水溶液中で十分収縮させた後、純水中で膨潤させた。純水への移動と同時に、回折スポットの間隔xの測定を開始した。また、実施例13で作製したゲルを純水中で十分膨潤させた後、2.5MのCaCl2水溶液中で収縮させた。CaCl2水溶液への移動と同時に、回折スポットの間隔xの測定を開始した。次に測定した回折スポットの間隔xの値から、スリット間隔dの値を計算した。同様の方法で、NaCl水溶液でも測定を行った。結果図10は、ゲルの膨潤収縮変化によるスリット間隔dの変化の結果を示す図である。図10のaに示すように、収縮状態から膨潤状態になる過程で、スリット間隔dの値が経時的に大きくなっていくことを定量計測することができた。また、図10のbに示すように、膨潤状態から収縮状態になる過程で、スリット間隔dの値が経時的に小さくなっていくことを定量計測することができた。また、当該計測は、静置した状態で±約5nm程度で安定しており、その結果として、図11に示すように、空間分解能20nm、時間分解能67msecで収縮過程の計測を行うことができた。以上のことから、ゲル回折格子のゲル部分及びゲル回折格子をコンタクトさせた構造体等の変形を高感度の変形検出素子として利用できることがわかった。<実施例15>イオンセンサー素子本発明の方法で作製したゲルについて、イオンセンサー素子としての利用可能性を検討した。方法ゲルの収縮のNaCl濃度依存性及びCaCl2濃度依存性を調べた。実施例13で作製したゲルを純水中で十分膨潤させた後、NaCl水溶液又はCaCl2水溶液中で収縮させた。NaClの濃度は、50mM、0.5M、1M、2.5M、5Mとし、それぞれについて実験した。また、CaCl2の濃度は、2.5mM、25mM、0.25M、2.5Mとし、それぞれについて実験した。ゲルの飽和収縮比WをNaCl及びCaCl2について求めた。ゲルの飽和収縮比Wは、W=1-ds/dw3と定義する。なお、dwは純水中におけるスリット間隔d、dsはNaCl水溶液又はCaCl2水溶液中におけるスリット間隔dの飽和値である。また、本実験で計測したゲルの収縮は便宜的に三次元等方的であると仮定し、収縮体積量を一次元収縮量の3乗として計算し、初期の単位時間当たりの変化量を初期体積収縮速度Rとした。このRと塩の濃度Cとの関係式をR=kCpと仮定した。ここで、kは速度定数、pは次数である。結果図12はゲルの収縮のCaCl2濃度依存性の結果を示す。bはaのスケールを拡大したものである。図12に示すように、mM~Mオーダーまでの塩濃度測定が可能であることがわかった。また、図13は、ゲルの飽和収縮比の塩濃度依存性の結果を示す。aはNaCl、bはCaCl2についての結果である。これを比較すると、NaClの方がCaCl2に比較して飽和量が大きくなることが分かる。従来は2価のCa2の方が1価のNaより収縮効果が高いと考えられていたが、その逆であった。これは、ミリ秒、ナノメートルスケールの時間空間分解能をもつ本手法によってはじめてわかることである。この結果から、本発明に係るゲルは、ゲルの飽和収縮比を計測することで、イオン種の同定素子として利用可能であることが示された。また、図14はゲルの初期体積収縮速度Rの塩濃度依存性の結果を示す。aはNaCl、bはCaCl2についての結果である。NaClとCaCl2とではゲルの収縮速度が異なることがわかった。また、速度定数k及び次数pは、NaClではk=3.0×105、p=0.5となり、CaCl2ではk=1.7×105、p=1.4となった。NaClとCaCl2とでは、速度定数k及び反応次数pが異なることがわかった。この結果から、本発明に係るゲルは、ゲルの収縮速度を計測することでも、イオン種の同定素子として利用可能であることが示された。<実施例16>アクチュエーション素子本発明の方法で作製したゲルについて、アクチュエーション素子としての利用可能性を検討した。方法概略を図15のaに示す。実施例10で作製したポリアクリルアミドゲル膜厚24μmの樹脂マイクロパターン付をアセトン槽に入れ、脱水した。また、同じゲルを水槽に入れ、吸水させた。結果図15のbに示すように、ゲルをアセトン槽に入れると、ゲルは脱水されて収縮し、マイクロパターンが接合している面が外側になる形でゲルが変形した状態A。一方、ゲルを水槽に入れると、ゲルは吸水して膨潤し、マイクロパターンが接合している面が内側になる形でゲルが変形した状態B。この結果から、本発明に係るゲルは、膨潤収縮による立体変化に方向性を持たせることが可能であり、方向制御アクチュエーション素子又は形状記憶素子として利用可能であることが示された。<実施例17>アクチュエーション素子本発明の方法で作製したゲルについて、実施例16と同様、アクチュエーション素子としての利用可能性を検討した。方法概略を図16のaに示す。実施例10と同様の方法で作製した十字型のポリアクリルアミドゲル膜厚24μmの樹脂マイクロパターン付をアセトンと水との混合槽に入れて弛緩させた後、水槽に移して吸水させた。また、同じゲルを水槽に入れて吸水させた後、アセトン及び水の混合槽に移した。結果図16のbに示すように、混合槽において弛緩状態となっているゲルを水槽に移すと、15秒以内に変形し、目的の立体形状を形成した。また、水槽で立体形状を形成しているゲルを混合槽に移すと、15秒以内に変形し、弛緩状態となった。この結果から、本発明に係るゲルは、高速でのフォールディング立体造形制御が可能であり、高速アクチュエーション素子又は形状記憶素子として利用可能であることが示された。本発明は上述した実施形態及び実施例に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能である。"