マスク平面の像を視野平面内に投影するように機能し、該視野平面に露光視野を有するマイクロリソグラフィの分野のための投影対物器械であって、露光視野にわたって非一定プロフィールを有する付加的迷光成分が、視野平面の該露光視野内に導入され、前記視野平面の前記露光視野は、中心区域及び境界区域を含み、前記付加的迷光成分は、該視野の該境界区域よりも該視野の該中心区域においてより低く、前記付加的迷光成分は、前記瞳における少なくとも1つの拡散及び/又は回折光学要素により、及び/又は、該マスク平面から該視野平面への光線方向に該視野平面の前に配置されるか又は該マスク平面から該視野平面への該光線方向に該視野平面と共役な中間像平面の直前又は直後に配置された少なくとも1つの視野近接拡散及び/又は回折光学要素により発生する、ことを特徴とする投影対物器械。マスク平面の像を視野平面内に投影するように機能し、該視野平面に露光視野を有するマイクロリソグラフィの分野のための投影対物器械であって、露光視野にわたって非一定プロフィールを有する付加的迷光成分を視野平面の該露光視野内に導入するための手段を含み、前記視野平面の前記露光視野は、中心区域及び境界区域を含み、前記付加的迷光成分は、該視野の該境界区域よりも該視野の該中心区域においてより低く、前記付加的迷光成分は、前記瞳における少なくとも1つの拡散及び/又は回折光学要素により、及び/又は、該マスク平面から該視野平面への光線方向に該視野平面の前に配置されるか又は該マスク平面から該視野平面への該光線方向に該視野平面と共役な中間像平面の直前又は直後に配置された少なくとも1つの視野近接拡散及び/又は回折光学要素により発生する、ことを特徴とする投影対物器械。前記マスク平面から前記視野平面への光線経路に沿って多数の光学要素を有する場合に、該少なくとも1つの光学要素の少なくとも1つの表面が、前記露光視野にわたって前記非一定プロフィールを有する前記付加的迷光成分を生成する表面粗度を有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のマイクロリソグラフィの分野のための投影対物器械。前記表面は、中心及び境界を有する光学的使用区域を含み、前記表面の前記表面粗度は、前記光学的使用区域の前記中心から該光学的使用区域の前記境界へと増大する、ことを特徴とする請求項3に記載のマイクロリソグラフィの分野のための投影対物器械。前記境界から前記中心への表面粗度の差を有する場合に、該差は、0.5nmRMSよりも大きく、好ましくは、1.0nmRMSよりも大きく、更に好ましくは、2nmRMSよりも大きいことを特徴とする請求項4に記載のマイクロリソグラフィの分野のための投影対物器械。前記中心からの横方向距離の関数としての前記表面粗度は、一般多項式関数の平方根関数に対応し、前記横方向距離は、可変量を表す、ことを特徴とする請求項4又は請求項5に記載のマイクロリソグラフィの分野のための投影対物器械。前記表面粗度は、前記中心からの前記横方向距離と共に2次関数的に増大することを特徴とする請求項6に記載のマイクロリソグラフィの分野のための投影対物器械。前記表面粗度は、前記中心からの前記横方向距離と共に線形に増大することを特徴とする請求項6に記載のマイクロリソグラフィの分野のための投影対物器械。前記表面粗度は、局所的凹凸の波長範囲を有し、該表面粗度の局所的凹凸の該波長範囲は、1mmと10μmの間にあることを特徴とする請求項3から請求項8のいずれか1項に記載のマイクロリソグラフィの分野のための投影対物器械。前記表面粗度は、局所的凹凸の波長範囲を有し、該表面粗度の局所的凹凸の該波長範囲は、10mmと1mmの間にあることを特徴とする請求項3から請求項8のいずれか1項に記載のマイクロリソグラフィの分野のための投影対物器械。前記マスク平面から前記視野平面への光線経路に沿って多数の光学要素を有し、かつ該マスク平面から該視野平面への光線方向に該視野平面の前に配置された最終光学要素を有する場合に、視野開口絞りが、該最終光学要素と該視野平面の間に存在することを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか1項に記載のマイクロリソグラフィの分野のための投影対物器械。光学的使用区域が、前記視野開口絞りの平面内で延びており、前記視野開口絞りは、前記横方向寸法に対する1mmよりも小さく、特に0.2mmよりも小さい付加的な許容値を有する、ことを特徴とする請求項11に記載のマイクロリソグラフィの分野のための投影対物器械。前記マスク平面から前記視野平面への光線経路に沿って多数の光学要素を有し、かつ該マスク平面から該視野平面への光線方向に該視野平面の前に配置された最終光学要素を有する場合に、該最終光学要素は、表側及び裏側を有し、該マスク平面から該視野平面への該光線方向に対して、該表側は、該裏側の前方の場所を占有し、該裏側は、該視野平面の前方の場所を占有し、かつ前記表面は、該最終光学要素の該表側であることを特徴とする請求項3から請求項12のいずれか1項に記載のマイクロリソグラフィの分野のための投影対物器械。視野開口絞りが、前記最終光学要素と前記視野平面の間に位置し、該視野開口絞りは、該最終光学要素の前記裏側の一部を遮蔽することによって実現されることを特徴とする請求項13に記載のマイクロリソグラフィの分野のための投影対物器械。前記遮蔽は、吸収剤又は反射層を有するコーティングを通して達成されることを特徴とする請求項14に記載のマイクロリソグラフィの分野のための投影対物器械。光学的使用区域が、前記最終光学要素の前記裏側上で延びており、前記遮蔽は、前記光学的使用区域に追加された前記横方向寸法に対する0.5mmよりも小さく、特に0.1mmよりも小さい許容値を含む、ことを特徴とする請求項15に記載のマイクロリソグラフィの分野のための投影対物器械。多数の光学要素を有する場合に、少なくとも1つの光学要素は、多結晶材料から成ることを特徴とする請求項1から請求項17のいずれか1項に記載のマイクロリソグラフィの分野のための投影対物器械。前記多結晶材料は、フッ化物、第II族の酸化物、第III族の酸化物、希土類の酸化物、ガーネット、又はスピネルから成ることを特徴とする請求項17に記載のマイクロリソグラフィの分野のための投影対物器械。前記多結晶材料は、複屈折性である多くの個々の結晶から成ることを特徴とする請求項17又は請求項18に記載のマイクロリソグラフィの分野のための投影対物器械。多結晶材料の前記光学要素は、全体では前記個々の結晶の各々よりも複屈折性の程度が低いことを特徴とする請求項19に記載のマイクロリソグラフィの分野のための投影対物器械。多結晶材料の前記光学要素は、前記露光視野における有用光に対して0.1よりも大きく、特に0.2よりも大きく該視野にわたって変動する迷光成分を有することを特徴とする請求項17から請求項19のいずれか1項に記載のマイクロリソグラフィの分野のための投影対物器械。前記マスク平面から前記視野平面への光線経路に沿って多数の光学要素を有し、かつ該マスク平面から該視野平面への光線方向に該視野平面の前に配置された最終光学要素を有する場合に、少なくとも該最終光学要素は、多結晶材料から成ることを特徴とする請求項17から請求項21のいずれか1項に記載のマイクロリソグラフィの分野のための投影対物器械。前記マスク平面から前記視野平面への光線経路に沿って多数の光学要素を有し、かつ該マスク平面から該視野平面への光線方向に該視野平面の前に配置された最終光学要素を有する場合に、該最終光学要素は、作動波長で1.7よりも大きい屈折率を有する材料から成ることを特徴とする請求項1から請求項22のいずれか1項に記載のマイクロリソグラフィの分野のための投影対物器械。前記最終光学要素は、レンズであることを特徴とする請求項11から請求項23のいずれか1項に記載のマイクロリソグラフィの分野のための投影対物器械。前記最終光学要素は、平面平行プレートであることを特徴とする請求項12から請求項24のいずれか1項に記載のマイクロリソグラフィの分野のための投影対物器械。前記少なくとも1つの視野近接光学要素は、ミラーであり、前記少なくとも1つの表面は、ミラー表面であることを特徴とする請求項3に記載のマイクロリソグラフィの分野のための投影対物器械。前記付加的迷光成分は、少なくとも1つの拡散及び/又は回折光学要素によって発生することを特徴とする請求項1又は請求項2のいずれか1項に記載の投影対物器械。前記少なくとも1つの拡散及び/又は回折光学要素は、拡散器ディスク、0.5nmRMSよりも大きく、好ましくは1.0nmRMSよりも大きく、更に好ましくは2nmRMSよりも大きい表面粗度を有する光学要素、多結晶材料の光学要素、回折光学要素DOE、回折格子Blazeグリッド、バイナリグリッド、サブ-ラムダグリッド、コンピュータ発生ホログラムCGH、及びワイヤグリッドから成る群からの光学要素であることを特徴とする請求項27に記載の投影対物器械。前記非一定プロフィールを有する前記付加的迷光成分は、前記露光視野にわたって与えられた所定のプロフィールに適合することを特徴とする請求項1から請求項28のいずれか1項に記載の投影対物器械。前記与えられた所定のプロフィールは、別の投影対物器械の測定データから判断されることを特徴とする請求項26に記載の投影対物器械。前記付加的迷光成分は、投影対物器械の前記露光視野にわたる前記迷光成分及び/又は該迷光成分の変動を別の投影対物器械の前記露光視野にわたる前記迷光成分及び/又は該迷光成分の変動に適応させることを特徴とする請求項1から請求項30のいずれか1項に記載の投影対物器械。前記適応の後では、投影対物器械の前記露光視野における前記迷光成分の最大値が、他方の投影対物器械の該露光視野における該迷光成分の最大値から、該2つの迷光成分の該それぞれの最大値のうちの大きい方に対して50よりも小さく、好ましくは25よりも小さく外れることを特徴とする請求項31に記載の投影対物器械。従って、本発明の目的は、投影対物器械のコントラスト特性を明確な方式で適応させることである。本発明の態様により、露光視野にわたる迷光成分の変動が、半導体構成要素の製造業者に対して迷光成分それ自体よりも大きな問題を引き起こすという観測を利用する。本発明の別の態様により、投影対物器械間の生産工程の移行中に、異なる投影対物器械の露光視野にわたるそれぞれの迷光成分の間の差、又はそれぞれの迷光成分変動の間の差が、半導体構成要素の製造業者に対して投影対物器械のうちの1つが有する露光視野にわたる大きい迷光成分又は大きい迷光成分変動がそれ自体によって引き起こす問題よりも大きい問題を引き起こすという観測を利用する。本発明により、この課題は、露光視野にわたる非一定プロフィールを有する付加的迷光成分が導入された投影対物器械又は投影対物器械内に、露光視野にわたる非一定プロフィールを有する付加的迷光成分を視野平面内の露光視野内に導入するための手段が設けられた投影対物器械によって解決される。この場合、露光視野にわたって非一定プロフィールを有する付加的迷光成分の特性は、露光視野内の少なくとも2つの任意の視野点において、有用光部分に対して≧0.02の差が存在する付加的迷光成分分布を意味すると理解すべきである。従って、マスク平面の像を視野平面に投影するように機能し、視野平面に露光視野を有する投影対物器械であり、投影対物器械の既存の迷光成分以外に、露光視野にわたって非一定プロフィールを有する付加的迷光成分が導入されること、及び/又は投影対物器械が、投影対物器械の既存の迷光成分以外に、露光視野にわたって非一定プロフィールを有する付加的迷光成分を露光視野内に導入するための手段を含むことによって特徴付けられる投影対物器械が、マイクロリソグラフィにおける使用に向けて利用可能になる。この解決法を取ることにより、露光視野にわたる迷光成分変動を低減することができる。本発明により、有用光の均一な光束に由来する迷光成分のプロフィールを露光視野にわたって均等化するために、露光視野の境界区域内の迷光成分を露光視野の中心区域と比較して増大すると、この有用光の均一な光束に由来する迷光成分のプロフィールが光学器械の一部においてのみ発生した場合であっても、あらゆる光学器械において有意であることが更に認められた。これは、光学器械が均一材料で構成され、例えば、投影対物器械のレンズ又は複数のレンズとして均一な仕上げ表面を有するという前提条件を有する。特に、視野の直前にある最後のレンズの屈折力が強い正のものである液浸リソグラフィにおける使用のための液浸対物器械では、この強く湾曲したレンズだけで、この材料を通じて光線が進む経路長が、中心区域を通過する光線と比較して境界区域を横断する光線では数パーセント異なり、その結果、露光視野の中心区域内で高い比率を有し、境界区域内で低い比率を有する付帯的な迷光成分変動が生じるという効果を有する。強い拡散材料が用いられた場合には、この効果は更に増大する。このことにおいて、視野に近い少なくとも1つの光学要素本明細書では視野近接要素とも呼ぶの少なくとも1つの表面の仕上げ処理は、露光視野にわたって非一定プロフィールを有する付加的迷光成分を投影対物器械内に導入するのに簡単で費用効果的な手法の代表的なものである。仕上げ処理は、合計の付加的迷光成分が、個々の表面が寄与する迷光の総和として現れるように、いくつかの視野近接表面に適用することができる。いくつかの表面にわたる付加的表面粗度のこの分布は、個々の表面においてその表面上又はその表面の一部の上での最終研磨段階を省くことによって簡単に達成することができる粗度値が生じる場合には、有利なものとすることができる。この場合、視野に近いということ又は視野近接は、露光視野に近い表面の代わりに中間像に近い表面を仕上げ処理に向けて選択することができることを意味する。この選択は、これらの表面が、その幾何学形状に関して作業し易いか、又は像誤差に関するこれらの表面の光学感度に基づいて、これらの表面が露光視野の直前にある最終光学要素よりも設置又は撤去し易い場合に特に有利である。この観点からすると、光学要素として特に平面平行プレートが好ましく、これは、平面平行プレートに対して満足できる機械的位置公差がレンズ又はミラーに対するものよりも非常に大きいことによる。平面平行プレートは、容易に差し換え可能な要素として設計することができ、従って、システムが作動中である後の時点で、顧客仕様に従ってこの要素を交換、再加工、又は変更することができる可能性をもたらすという更に別の利点を有する。視野に近い表面本明細書では視野近接表面とも呼ぶの光学的使用区域の中心に対して光学的使用区域の周辺で表面粗度を高めることは、露光視野にわたるプロフィールを有し、露光視野の中心区域よりも境界区域内で強い付加的迷光成分を露光視野内で生成する最も簡単な手法である。本発明によると、この手法により、そうでなければ存在する投影対物器械の迷光成分を理想的な方式で補完する付加的迷光成分が生成される。視野近接表面の光学的使用区域の周辺における表面粗度、及び光学的使用区域の中心における表面粗度に関するそれぞれのRMS値の間に0.5nmよりも大きい差を引き起こす表面粗度の調節は、例えば、193nmの作動波長における露光視野内の有用光に対する約0.02の比率の付加的迷光成分に対応する。0.5nmの差は、露光視野内の迷光成分を補正するのに有意な値における大体の下限値である。境界から中心への表面粗度の上記差における2nmよりも大きいRMS値は、本発明に従って露光視野にわって非一定プロフィールを有する付加的迷光成分を導入することにより、例えば、193という波長における有用光に対して0.2の露光視野にわたる迷光成分変動を有するマイクロリソグラフィにおいて現在用いられている投影対物器械を補正するという課題を満たす。特に、視野の直前にある最後のレンズの屈折力が強い正のものである液浸リソグラフィにおける使用のための液浸対物器械では、境界区域から中心区域への露光視野にわたるより強い迷光成分変動が発生し、上述のように、境界から中心へのRMS表面粗度の差において大きい値を用いることにより、この変化を補償することは意味がある。この種の構成における最後のレンズに対して強拡散材料が用いられる場合には、RMS表面粗度の差において更に高い値が必要である。横方向距離が独立変数である場合に、一般的な多項式関数の平方根によって表される関数に従う中心からの横方向距離の関数としての表面粗度プロフィールは、研磨機、特に研磨ロボットをプログラムするのを容易にするという利点をもたらし、これは、これらの機械に固有の又は馴染み深い関数システムが用いられるからである。表面の境界におけるRMS粗度値の上昇を可能性を有する最も簡単で最も迅速な方式で達成することを可能にするこのカテゴリにおいて最も簡単で最も迅速な関数は、中心からの横方向距離の線形関数又は2次関数である。1mmと10μmの間の表面粗度の局所的凹凸の波長範囲は、いわゆる視野外迷光量を小さく保つという利点を有する。視野外迷光は、露光視野を外れ、光への望ましくない露光を引き起こす可能性がある区域内に入り込む迷光である。請求項11に示している1mmと10mmの間の凹凸波長の局所範囲は、迷光に対する効果を有するだけでなく、視野点の像形成波面にも影響を及ぼし、それによってこの局所波長範囲で、任意の視野点の波面の同時補正を行うことができるという利点を有する。上述のように、表面粗度又は不整部分の局所波長範囲は、本出願の限度内では、光学要素の表面に沿った不整部分の横方向グリッド間隔の範囲を意味すると理解すべきである。光伝播方向に投影対物器械の最終光学要素と視野平面の間の視野開口絞りは、付加的に導入される迷光が、露光視野の外側区域内に入り込み、これらの区域の望ましくない露光を招くのを防止するという課題を有する。視野開口絞りと視野開口絞りの平面内の光学的使用区域との間の1mmよりも小さく、特に0.2mmよりも小さい横方向寸法許容値は、製造工程において必要とされる高精度に起因して高いコストを招く過度に厳しい許容値と、露光視野の外側の過剰な望ましくない迷光を招く過度に大きい許容値との間の有利な妥協点を意味する。最後のレンズの表側、すなわち、最終光学要素の物体に対面する表面は、表面粗度によって迷光を導入するのに有利に適しており、これは、一方でこの表面が露光視野の間近に位置することで、表側にわたる表面粗度のプロフィールによって露光視野内に迷光成分プロフィールを生成することができること、他方で表側上の個々の視野点の部分開口が依然として十分に幅広であることで、表側の仕上げにおける小さい不整部分が、それぞれの視野点の像に対して効果を持たないことによる。特に、液浸リソグラフィに用いられる投影対物器械では、レンズの屈折率と液浸リソグラフィの屈折率における小さい差に起因して、裏側の仕上げ又は再加工は、投影対物器械の結像特性、又は走査工程中の液浸リソグラフィの動特性に対して悪影響を有することになる大きい表面粗度値を招くことになるので、最終光学要素の表側の仕上げは特に重要である。液浸リソグラフィに用いられる投影対物器械では、最終光学要素とウェーハの間の設計空間は、機械的開口絞りの使用を可能にするには幅狭過ぎる。従って、最終光学要素の裏側を遮蔽する概念は、液浸システムにおいて、付加的に導入される迷光が露光視野の外側区域内に入り込み、これらの区域の望ましくない露光を招くことを防止する視野開口絞りを達成するのに殆ど唯一の可能な手法である。表面コーティングによるこの種の遮蔽は費用効果的である。視野開口絞りの平面内の遮蔽区域と光学的使用区域の間の0.5mmよりも小さく、特に0.1mmよりも小さい寸法許容値は、特にコーティング工具に必要とされる高製造精度に起因して高コストを招く過度に厳しい寸法許容値と、露光視野の外側の過剰な望ましくない迷光を招く過度に大きい許容値との間の有利な妥協点を意味する。付加的迷光を導入するという本発明の概念は、多結晶材料から成る光学要素を有する投影対物器械では特に有利であり、これは、これらの投影対物器械では、多結晶材料は、現在用いられている投影対物器械において引き起こすことになるものよりも強い迷光成分変動を視野にわたって引き起こすからである。フッ化物、第II族の酸化物、第III族の酸化物、希土類酸化物、ガーネット、又はスピネルから作られる光学要素を有する投影対物器械において付加的迷光を導入するという本発明の概念は、結晶及び結晶間の気泡が露光視野内の迷光成分プロフィールに寄与する付帯的なプロフィール部分の補償をもたらす。複屈折のものである多くの結晶から成る多結晶材料から成る光学要素を有する投影対物器械において付加的迷光を導入するという本発明の概念は、異なる結晶配向の結果として発生する多くの屈折率変動が露光視野内の迷光成分プロフィールに寄与する付帯的プロフィール部分の補償をもたらす。個々の結晶の各々よりも低い複屈折度を提供する多結晶材料から成る少なくとも1つの光学要素を有する投影対物器械において付加的迷光を導入するという本発明の概念は、ほぼ複屈折のない材料が特に露光視野の前にある最終光学要素において好ましく用いられるので特に重要である。多結晶材料から成る少なくとも1つの光学要素を有する投影対物器械において付加的迷光を導入するという本発明の概念は、特に、この光学要素自体が露光視野にわたって0.1よりも大きいプロフィール変動を有する迷光成分を既に有する場合には、個々の光学要素自体が現在用いられている投影対物器械で見られる露光視野にわたる迷光成分変動の約半分に等しい露光視野にわたる迷光成分変動を提供するので賢明な手法である。特に、マスク平面から視野平面への光線方向を基準として視野平面の前に位置した多結晶材料から成る最終光学要素は、本発明により補償する必要がある、露光視野にわたる投影対物器械のより強い迷光成分変動を招き、これは、そのような視野近接光学要素の下流では、この要素によって発生する迷光が露光視野に到達するのを防止するために、露光視野を有する視野平面の直前に開口絞りを配置する更に別の可能性がないからである。液浸リソグラフィに用いられる将来の投影対物器械の分解能を高めるためには、場合によっては、開口数NA、すなわち、開口角を更に高めることが必要になる。しかし、これを達成するためには、作動波長が、例えば、193nmであった場合、最終光学要素において1.7よりも大きい屈折率を有する材料が必要である。これに関しては、WO2006/133、801A1における最後のレンズ要素の屈折率に関する解説を参照されたい。例えば、157nm又は248nmのような他の作動波長の場合にも、それぞれの作動波長において、高い開口を有する投影対物器械における最後のレンズ要素に対して高屈折率を有する材料を用いることは賢明である。そのような将来のシステムの結像性能に対して課せられる要件、及び同様に露光視野にわたる迷光成分変動に対して課せられる要件は、場合によっては現在のシステムに対するものよりも高くなる。本発明は、露光視野にわたる迷光成分変動に対する将来の高い要件を満たす機能も達成するので、作動波長において1.7よりも大きい屈折率を有する材料から成る最終光学要素を有するこの種の投影対物器械において付加的迷光を導入するという本発明による概念は、上述の予想展開を考慮に入れている。特に、視野の直前にある最後のレンズの屈折力が強い正のものである液浸リソグラフィにおける使用のための液浸対物器械では、この強く湾曲したレンズだけで、この材料を通じて光線が進む経路長が、中心区域を通過する光線と比較して境界区域を横断する光線では数パーセント異なり、その結果、迷光成分の付帯的な変動が生じるという効果を有する。この効果は、最後のレンズに対して強拡散材料が用いられる場合には、更に増大する。従って、そのような投影対物器械において付加的迷光を導入するという本発明による概念は、最後に正の屈折力のレンズを有する投影対物器械において露光視野にわたる迷光成分変動を低減するのに有利である。最終光学要素として平面平行プレートを用いることは、平面平行プレートが、レンズ又はミラーと比較して大きい機械的位置公差を許容し、従って、光学的に依存しないという利点を有する。従って、この種の光学要素は、投影対物器械から撤去し、その中に再度設置することができ、又は大きな問題なしに別の平面平行プレートと交換することができるので、表面粗度を高めるための再加工作業に関して有利である。それによって顧客の場所における再仕上げ作業も可能になり、顧客の希望に従った迷光分布調節が実施可能になる。この顧客要求は、例えば、特定のマスク照明に関連する可能性がある。ミラー表面の表面粗度は、約1.5の屈折率を有する空気中のレンズの対応する表面粗度よりも約16倍強い効果を有する。従って、本発明によると、露光視野にわたる大きい迷光成分変動を補正すべきである場合には、この目的のためにミラー表面を用いることは有利である。少なくとも1つの拡散光散乱光学要素及び/又は回折光学要素によって発生する付加的迷光を有する対応する投影対物器械は、この光学要素が迷光の発生に影響を及ぼすことができる自由度を利用可能にするので、迷光成分及び迷光成分プロフィールのターゲットを定めた柔軟性の高い適応の可能性をもたらす。瞳内の少なくとも1つの拡散光学要素及び/又は回折光学要素、及び/又は少なくとも1つの視野近接拡散光学要素及び/又は回折光学要素によって発生する付加的迷光成分を有する対応する投影対物器械は、迷光を生成するのに用いられる自由度を視野近接要素と瞳近接要素との間で分割する最適な手法の代表的なものである。付加的迷光成分を発生させるための拡散光学要素及び/又は回折光学要素を有する対応する投影対物器械では、迷光成分又は迷光成分プロフィールを簡単でターゲットを定めた手法で発生させることができる技術的に好ましい迷光発生要素は、拡散器ディスク、0.5nmRMSよりも大きく、好ましくは1.0nmRMSよりも大きく、更に好ましくは2nmRMSよりも大きい表面粗度を有する光学要素、多結晶材料から成る光学要素、回折光学要素DOE、回折格子Blazeグリッド、バイナリグリッド、サブ-ラムダグリッド、コンピュータ発生ホログラムCGH、ワイヤグリッドを含む群からの拡散光学要素及び/又は回折光学要素である。非一定プロフィールを有する付加的迷光成分が露光視野にわたる与えられた所定のプロフィールに適合する場合に、露光視野にわたってこの非一定プロフィールを有する付加的迷光成分を有する対応する投影対物器械は、投影対物器械の迷光成分プロフィールを望ましい迷光成分プロフィールにターゲットを定めた手法で適応させる可能性をもたらす。その結果、好ましい迷光成分、より具体的には好ましい迷光成分プロフィールに関する半導体製造業者の例えば特定の種類の投影対物器械に対する要求を考慮に入れることができる。非一定プロフィールを有する付加的迷光成分が、露光視野にわたる与えられた所定のプロフィールに適合し、この所定のプロフィールが、別の投影対物器械の測定データから判断される場合に、露光視野にわたってこの非一定プロフィールを有する付加的迷光成分を有する対応する投影対物器械は、製造工程を1つの投影対物器械から別の投影対物器械へとより容易に移行することができるように、投影対物器械の迷光成分又は迷光成分プロフィールを別の投影対物器械のものに適応させる可能性をもたらす。特に、対物器械の開発プロトタイプと生産ユニットとの間で生産工程を移行する時には、開発から生産への移行に要する時間は、半導体構成要素の早期市場投入における判断要因のうちの1つであるから、半導体製造業者に対して工程を容易に移行する機能は重要である。付加的迷光成分が、投影対物器械の露光視野にわたる迷光成分及び/又は迷光成分変動を別の投影対物器械の露光視野にわたる迷光成分及び/又は迷光成分変動に適応させる場合に、この付加的迷光成分を有する対応する投影対物器械は、上記に解説したものと同じ可能性をもたらす。付加的迷光成分が、投影対物器械の露光視野にわたる迷光成分及び/又は迷光成分変動を別の投影対物器械の露光視野にわたる迷光成分及び/又は迷光成分変動に適応させ、この適応の後に、投影対物器械の露光視野内の迷光成分の最大値が、別の投影対物器械の露光視野内の迷光成分の最大値から、2つの迷光成分のそれぞれの最大値のうちの大きい方に対して50よりも小さく、好ましくは25よりも小さく外れる場合に、この付加的迷光成分を有する対応する投影対物器械は、迷光に関して製造工程を適応させる必要なく投影対物器械間で製造工程を移行する可能性をもたらす。本発明の更に別の目的は、投影対物器械のコントラスト特性を別の投影対物器械のコントラスト特性に適応させることである。この課題に対処するのに、本発明は、上述のように、特にEUVリソグラフィのための異なる投影対物器械間の製造工程の移行性における判断要因が、投影対物器械のうちの1つが有する迷光成分の絶対強度ではなく、それぞれの投影対物器械の有用光に対する迷光成分の互いの間の相対比較性であるという観測を利用する。更に、この課題に対処するのに、投影対物器械の迷光成分又は迷光成分変動に対する絶えず下がり続ける仕様値を満たす目的で、レンズ及びミラーの材料、コーティング、及び表面仕上げに関して絶えず増大する開発努力を通じて投影対物器械を互いに適応させることよりも、異なる投影対物器械の迷光成分又は迷光成分変動を互いに適応させるという手法の方がより有利であるということを認識することが本発明の一部であった。この課題は、マスク平面を視野平面へと投影するように機能し、視野平面に露光視野を有するマイクロリソグラフィにおける使用のための本発明による投影対物器械であって、有用光に対して0.2を超える、好ましくは0.4を超える付加的迷光成分を発生させるように機能する少なくとも1つの拡散光学要素及び/又は回折光学要素を有する投影対物器械によって解決される。この課題は、マスク平面を視野平面へと投影するように機能し、視野平面に露光視野を有するマイクロリソグラフィにおける使用のための本発明による投影対物器械であって、付加的迷光成分が、投影対物器械の露光視野にわたる迷光成分及び/又は迷光成分変動を別の投影対物器械の露光視野にわたる迷光成分及び/又は迷光成分変動に適応させる投影対物器械によって更に解決される。この課題に対処するのに、露光視野内の迷光成分の最大値が、別の投影対物器械の露光視野内の迷光成分の最大値から、これら2つの迷光成分のそれぞれの最大値のうちの大きい方に対して50よりも小さく、好ましくは25よりも小さく外れる投影対物器械は、迷光に関して製造工程を適応させる必要なく投影対物器械間で直接製造工程を移行する可能性をもたらす。付加的迷光成分を発生させるための拡散光学要素及び/又は回折光学要素を有する対応する投影対物器械では、迷光成分又は迷光成分プロフィールを簡単でターゲットを定めた手法で発生させることができる技術的に好ましい迷光発生要素は、拡散器ディスク、0.5nmRMSよりも大きく、好ましくは1.0nmRMSよりも大きく、更に好ましくは2nmRMSよりも大きい表面粗度を有する光学要素、多結晶材料から成る光学要素、回折光学要素DOE、回折格子Blazeグリッド、バイナリグリッド、サブ-ラムダグリッド、コンピュータ発生ホログラムCGH、ワイヤグリッドを含む群からの拡散光学要素及び/又は回折光学要素である。露光視野にわたって非一定プロフィールを有する付加的迷光を有する対応する投影対物器械は、露光視野にわたる迷光成分変動を低減する可能性をもたらす。視野平面内の露光視野が、中心区域及び境界区域を有し、非一定プロフィールを有する付加的迷光成分が、瞳内の拡散光学要素及び/又は回折光学要素によって視野の中心区域内で調節される露光視野にわたって付加的迷光を有する対応する投影対物器械は、投影対物器械の迷光成分を迅速かつ効率的に増大する可能性をもたらす。視野平面内の露光視野が、中心区域及び境界区域を有し、非一定プロフィールを有する付加的迷光成分が、少なくとも1つの視野近接拡散光学要素及び/又は回折光学要素によって視野の境界区域内で調節される露光視野にわたって付加的迷光を有する対応する投影対物器械は、露光視野の境界区域内の迷光成分を迅速かつ効率的に補正する簡単で費用効果的な可能性を示している。拡散光学要素及び/又は回折光学要素の散乱効果を交換及び/又は変更するための手段が設けられた付加的迷光成分を発生させるように機能する少なくとも1つの拡散光学要素及び/又は回折光学要素を有する対応する投影対物器械は、マスク上の照明角度分布変更及び/又はマスク構造変更の場合に、迷光成分又は迷光成分プロフィールに関する半導体製造業者の要求変更に対して迅速に応答する可能性をもたらす。露光視野内の有用光に対して0.1よりも大きく、特に0.2よりも大きく、視野にわたる変動を有する付加的迷光成分を発生させるように機能する少なくとも1つの拡散光学要素及び/又は回折光学要素を有する対応する投影対物器械は、視野にわたる小さい迷光成分変動でさえも補償する可能性をもたらす。本発明の更に別の目的は、露光視野全体においてほぼ同等なコントラスト特性を有する投影対物器械を提供することである。この課題は、マスク平面を視野平面へと投影するように機能し、多数の光学要素を有するマイクロリソグラフィにおける使用のための投影対物器械であって、視野平面内の露光視野において走査方向にわたって平均化された投影対物器械の迷光成分が有用光に対して0.2よりも小さい変動を有する投影対物器械によって解決される。この課題を解決するのに、露光視野が、有用光に対して2よりも小さく、走査方向にわたって平均化された迷光成分の最大値を有する対応する投影対物器械は、同時に、高いコントラストという利点をもたらす。また、この課題を解決するのに、露光視野が、有用光に対して2よりも小さく、走査方向にわたって平均化された迷光成分の最大値を有する対応する投影対物器械は、同時に、露光視野の外側の迷光成分が、意図しない露光を引き起こすには十分に大きくないという利点を有する。拡散光学要素及び/又は回折光学要素が、投影対物器械の付加的迷光成分を生成し、この付加的迷光成分が、露光視野内の有用光に対して0.1よりも大きく、特に0.2よりも大きく、視野にわたる変動を有する対応する投影対物器械は、視野にわたる小さい迷光成分変動でさえも補償する可能性をもたらす。付加的迷光成分が拡散光学要素及び/又は回折光学要素によって発生する対応する投影対物器械では、迷光成分又は迷光成分プロフィールを簡単でターゲットを定めた手法で発生させることができる技術的に好ましい迷光発生要素は、拡散器ディスク、0.5nmRMSよりも大きく、好ましくは1.0nmRMSよりも大きく、更に好ましくは2nmRMSよりも大きい表面粗度を有する光学要素、多結晶材料から成る光学要素、回折光学要素DOE、回折格子Blazeグリッド、バイナリグリッド、サブ-ラムダグリッド、コンピュータ発生ホログラムCGH、ワイヤグリッドを含む群からの拡散光学要素及び/又は回折光学要素である。本発明の更に別の目的は、投影対物器械のコントラスト特性を適応させる方法を提案することである。本発明により、この課題は、マイクロリソグラフィ用途のための投影対物器械の迷光成分を適応させる方法であって、露光視野内の有用光に対して0.1よりも大きく、特に0.2よりも大きく、視野にわたる変動を有する付加的迷光成分を導入する少なくとも1つの拡散光学要素及び/又は回折光学要素を用いる方法によって解決される。与えられた所定のプロフィールに適合する露光視野にわたって非一定プロフィールを有する付加的迷光成分が導入される対応する方法は、投影対物器械の迷光成分プロフィールを望ましい迷光成分プロフィールにターゲットを定めた手法で適応させる可能性をもたらす。その結果、好ましい迷光成分、より具体的には好ましい迷光成分プロフィールに関する半導体製造業者の例えば特定の種類の投影対物器械に対する要求を考慮に入れることができる。所定のプロフィールが別の投影対物器械の測定データから判断される対応する方法は、製造工程を1つの投影対物器械から別の投影対物器械へとより容易に移行することができるように、投影対物器械の迷光成分又は迷光成分プロフィールを別の投影対物器械のものに適応させる可能性をもたらす。特に、対物器械の開発プロトタイプと生産ユニットとの間で生産工程を移行する時には、開発から生産への移行に要する時間は、半導体構成要素の早期市場投入における判断要因のうちの1つであるから、半導体製造業者に対して工程を容易に移行する機能は重要である。付加的迷光成分が、投影対物器械の露光視野にわたる迷光成分及び/又は迷光成分変動を別の投影対物器械の露光視野にわたる迷光成分及び/又は迷光成分変動に適応させるのに用いられる対応する方法は、上記に解説したものと同じ可能性をもたらす。付加的迷光成分が、その非一定プロフィールにおいて拡散光学要素及び/又は回折光学要素の散乱効果の交換及び/又は変更によって変更される対応する方法は、マスク上の照明角度分布変更の場合、及び/又はマスク構造変更の場合に、迷光成分又は迷光成分プロフィールに関する半導体製造業者の要求変更に対して迅速に応答する可能性をもたらす。投影対物器械が、別の投影対物器械を用いてマスク構造の像を生成するのに適用される臨界寸法CDに対して、臨界寸法において20よりも小さい偏差を伴って同じマスク構造の像を生成するように、投影対物器械の付加的迷光成分が導入される対応する方法は、投影対物器械の迷光成分の理由からマスク構造を適応させる必要なく投影対物器械間の製造工程の移行に関する条件を満たす。通常、マスク構造の適応は、新しいマスクを生成することを必要とし、これは一方で高価であり、他方で適応されたマスク構造が迷光適応に対して効果を持たないという危険性をはらむ。本発明の更に別の目的は、投影対物器械を有する投影露光装置を提供し、この装置を用いて実施することができるマイクロリソグラフィ生産工程、並びにこの工程を通じて生産することができる構成要素を提案することである。本発明により、この課題は、本明細書に示す投影露光装置及び製造方法、並びに本発明による投影対物器械又は方法を用いながらこの製造方法の下で製造される構成要素によって解決される。本発明の実施形態の実施例を図面を参照してより詳細に以下に解説する。図1は、X軸及びY軸に沿った有用光の分布を含む、スキャナとして用いられるマイクロリソグラフィ用途のための投影対物器械の視野平面内の露光視野15を示している。図1では、露光視野15が位置した視野平面は平面図で見られ、つまり紙面は視野平面と対応する。更に、図1では、座標システムは、いわゆるスキャナでは走査方向がY方向を向かなければならないという規則に従って視野平面内で定めている。いわゆるスキャナでは、マスク構造全体の像が、投影対物器械の最大像視野1に対して大き過ぎるので、微細構造構成要素のマスク構造は、その全部が1回の露光段階で投影対物器械によって転写されるわけではない。その代わりにマスク構造は、走査工程において、投影対物器械の対物面又はマスク平面を通じて徐々に移動され、それと同時に、ウェーハが、同期化された動きで像平面又は視野平面を通じて移動される。屈折要素のみを有する従来の回転対称投影システムでは、視野平面内の最大像視野1は、投影対物器械の光軸3によって定められる中心を有する円である。照明システム内に位置した視野開口絞り、いわゆるREMAレチクル遮蔽ブレードを用いて、最大像視野1は、この対物器械の光軸3によって定められる中心を有する矩形露光視野15へと再度切り取って整えられる。REMAブレードは、走査工程の開始時と終了時それぞれにおいて、露光視野15にわたってブレード自体を収縮及び展開させるという追加機能を有する。露光視野15の中心は、図1で陰付きの中心区域5によって形成される。図1で同様に陰付きの露光視野の境界区域本明細書では周辺区域とも呼ぶ7及び9は、走査方向に対して垂直の方向に露光視野の左右の周辺を形成する矩形露光視野の境界区域7及び9である。走査方向では、露光視野15の前縁11及び後縁13は、間に露光視野15が位置した線であり、これらの線の間では、この対物器械によって投影される光がゼロよりも大きい強度を有する。有用光の走査方向及び走査方向に対して垂直のそれぞれの強度分布プロフィールは、図1の2つのグラフに示しているように互いに異なる。走査方向では、有用光の強度分布プロフィールは、前縁11及び後縁13において値ゼロを取り、中心区域5内で最大値を有するように調節される。これらの2つの点の間の正確な強度プロフィールは、走査工程において、微細構造構成要素のあらゆる部分的区域がほぼ等しい光の部分を受光するように選択される。走査方向におけるいわゆるシルクハットプロフィール、すなわち、矩形分布プロフィールでは、一般的にパルスレーザが光源として用いられ、この場合、微細構造構成要素の1つの部分的区域が、別の部分的区域よりも1つ多くのレーザパルスから光を受光することになるということが否めず、部分的区域毎又は露光視野毎に5つから7つのレーザパルスが一般的であるから、上述のことを提供することは不可能になる。前縁11及び後縁13における値ゼロから中心区域5に向って連続的に増大する走査方向の強度プロフィールでは、微細構造構成要素に対するそのような強度効果は抑制される。それとは対照的に、走査方向に対して垂直な強度プロフィールは、中心区域5、境界区域7及び9、並びにこれらの区域の間で走査方向に対して垂直な線に沿って位置する全ての視野点において同じ強度値を有する露光視野15にわたるいわゆるシルクハットプロフィール又は矩形プロフィールである。従って、走査方向にわたって平均化された場合に、この強度プロフィールの形状も変動しない。走査方向にわたって平均化され、有用光に対するパーセントで表されたこの強度プロフィールを図1の下部分にあるグラフで示している。この平均強度プロフィールは、境界区域7と同じく中心区域5において有用光に対して100という同じ値を有する。本明細書では、上記に定めた迷光成分は、走査方向にわたって平均化され、有用光に対する比率において相対量として表された迷光成分、又は言い換えれば、図1に例示しているように、走査方向における強度プロフィールの100の値に対する比率において相対量として表された迷光成分であると理解される。一般的にスキャナの露光視野15は、走査方向に対して垂直に20mmから30mmの長さであり、走査方向に5mmから10mmの長さである。これらの寸法と合わせて、露光視野15の中心区域5は、直径4mmを超えてはならず、露光視野15の境界区域7及び9は、走査方向に対して垂直に幅2mmを超えてはならず、これは、これらの区域が、露光視野15の主要部分にわたって広がらずに、露光視野15の中心及び境界間近の小さい表面部分しか占有してはならないからである。図2は、スキャナとして用いられ、露光視野45として矩形のいわゆる軸外視野45を有するマイクロリソグラフィ用途のための投影対物器械の視野平面内の露光視野45を示している。図1のものと類似する図2内の要素は、同じ参照番号を30だけ増した参照番号を有する。投影対物器械の露光視野45としてのそのような矩形軸外視野45は、少なくとも1つの反射屈折部分対物器械を有する投影対物器械において一般的である。本明細書では反射屈折という属性は、例えば、レンズのような屈折要素以外に、像形成に寄与する要素として用いられる、例えば、ミラーのような反射要素も存在し、従って、屈折力を有することを意味する。これらのシステムの折り返し光線経路に起因して、露光視野45は、これらのシステムの光軸33及び最大像視野31に対してオフセットされる。この状況で光軸33及び最大像視野31に言及する場合には、光軸33、並びに最大像視野31全体をこれらの反射屈折投影対物器械の投影像内に含めることができることを意味しない。上述のことは、完成した対物器械内に用いられる光線伝播パターンが、光軸31に対して回転対称で折り返されず、光学要素のうちのいくつかの物理的形状が、光軸31に対してもはや回転対称ではなくても、これらの反射屈折投影対物器械の多くをその設計に関して回転対称性を用いて依然として表すことができることのみを示している。露光視野45として矩形軸外視野45を有する反射屈折投影対物器械設計の例は、US2005/0190435A1、WO2004/019128A2、及びWO2006/133801A1、並びに本特許出願の図14、図16、及び図17に示されている。図1に関連して走査方向及びそれに垂直の強度プロフィールに対して上記に示したものは、矩形軸外視野45に対しても直接適用可能であり、従って、更なる説明の必要はない。反射屈折投影対物器械の矩形軸外視野45は、純屈折投影対物器械の露光視野15とほぼ同じサイズを有する。反射屈折投影対物器械は、液浸対物器械の1よりも多い大きい開口数値NAを有する場合であっても、純屈折設計と比較するとレンズ及びミラーの直径を比較的小さく保つことを可能にするので、主に液浸リソグラフィに用いられる。図3は、スキャナとして用いられ、露光視野65としていわゆるリング視野65を有するマイクロリソグラフィ用途のための投影対物器械の視野平面内の露光視野65を示している。図1のものと類似する図3内の要素は、同じ参照番号を50だけ増した参照番号を有する。そのようなリング視野65は、矩形視野を誘導することになる折り返し光線経路を許さない設計の反射屈折対物器械において一般的である。図1に関連して走査方向及びそれに垂直の強度プロフィールに対して上記に示したものは、リング視野65に対しても直接適用可能であり、従って、更なる説明の必要はない。走査方向の強度プロフィールは、X方向に異なる高さを有し、得られるプロフィールが、走査方向の全ての強度プロフィールにおいて同じではないということに限って図1に示している強度プロフィールとは異なるものとすることができる。しかし、全てのスキャナシステムは必ず、走査方向に沿った強度プロフィール形状に関わらず、走査方向にわたって平均化された時に図1の下部に例示している種類のシルクハットプロフィール又は矩形プロフィールに適合する走査方向に対して垂直な強度プロフィールが常に得られるように設計されるので、上述の強度プロフィールの違いは全く影響を持たず、また、この違いが矩形視野15を有するシステムで発生した場合にも全く影響を持たない。反射屈折投影対物器械のリング視野65は、純屈折投影対物器械の露光視野15の走査方向に対して垂直な寸法とほぼ同じ、走査方向に対して垂直な寸法を有する。図4は、ステッパとして用いられ、露光視野85として正方形視野85を有するマイクロリソグラフィ用途のための投影対物器械の視野平面内の露光視野85を示している。図1のものと類似する図4内の要素は、同じ参照番号を70だけ増した参照番号を有する。スキャナとは対照的に、ステッパは、投影対物器械の対物面又はマスク平面に位置した、生産される半導体素子のためのマスク構造が、全体で、すなわち、走査工程なしで視野平面内の露光視野85へと投影されるように機能する。しかし、ステッパは、投影対物器械がスキャナの場合よりも大きい露光視野85を設けることを必要とする。ステッパの場合の大きい露光視野85に対する代替形態として、いわゆる縫い合わせ技術を用いて、ステッパにおいて半導体素子を個々の部分で連続して露光することができる。この場合には、スキャナの場合よりも小さい露光視野85を用いることができる。ステッパにおける露光視野85は、照明システムにおけるREMAブレードにより、X方向、並びにY方向により大きく、更にはより小さく任意に作ることができる。ステッパにおける露光視野85にわたる強度プロフィールは完全に均一であり、従って、得られるプロフィールは、X方向、並びにY方向にシルクハットプロフィール又は矩形プロフィールを有する。本特許出願の範囲内でステッパをスキャナと比較することができることを保証するために、境界区域77及び79は、Y方向に対して垂直なステッパ視野の左右の境界に位置する。更に、本明細書に説明しているスキャナに類似して、X方向の強度プロフィールは、Y方向にわたって平均化され、この結果、図1の下部に示している種類のシルクハットプロフィールが生じ、中心区域5と75とでそれぞれ100という同じ有用光強度値を有し、同様に境界区域7と77とでそれぞれ100という同じ有用光強度値を有する。スキャナとの比較性を維持するために、ステッパの迷光成分も同様にY方向に沿って平均化されたものとして定める。図5は、投影対物器械103、及び同じく視野平面105内に結果として発生する自然迷光分布を説明するように機能する均一なガラス円柱111としての投影対物器械の代替モデルの概略図である。図5の上部には、投影対物器械103の概略図を光軸113に沿う4つのレンズ109によって示している。この投影対物器械103は、マスク平面に位置したマスク101の像を視野平面105内に投影する機能を有する。この目的で、投影されるマスクは、図面内には示していない照明システムからの光107によって均一に照らされる。照明システムは、マスク101上に均一に当たる入射光線107の角度分布をマスクにわたる強度分布を変動させることなく変更することができる。それによって部分コヒーレント像の理論に基づいて説明することができ、マスク101上のある一定の構造をできる限り小さい像サイズへと投影することができるという目的を有する半導体製造業者に対して利用可能な異なる、いわゆる設定を有することが可能になる。図5の下部は、投影対物器械103に対する代替モデルとして、マスク101上に均一に当たる光線107によって均一に照らされる均一なガラス円柱111を示している。断面区域にわたって均一に照らされるこの種のガラス円柱111は、断面区域の等しいサイズの表面要素内で等しい量の迷光を発生させることになる。マスク101から視野平面105へと光軸113に沿うガラス円柱111を全体の照明強度が、吸収及び散乱に起因してマスク101から視野平面105へと光軸113に沿って低下する一連の多くのそのような均一照明断面区域として見た場合、図5の右下のグラフに従う走査方向Yにわたって平均化された視野平面105内の迷光成分が得られる。各断面区域の等しいサイズの表面要素の各々が等しい量の迷光を発生することに起因して、中心区域115は、境界区域117が各断面区域の互いに隣接する表面要素の迷光を受光するよりも多数のこれらの表面要素の迷光を受光するので、視野平面105の露光視野の中心区域115内では、露光視野の境界区域117内よりも迷光の比率が高い図5の右下のグラフに例示しているように。円柱ガラス本体の均一照明から生じる図5の右下部に例示している露光視野にわたる迷光成分のこのプロフィールは、以下では迷光成分の自然プロフィールと呼ぶことにする。図6は、視野及び瞳の概念を示すために、幾何学的光学器械の原理による投影対物器械の像形成光線パターンを示している。この概略図では、図6の投影対物器械123を2つのレンズ129、これらの2つのレンズ129の間の瞳平面133、及びレンズ129が位置した2つの視野近接平面135、137から成るいわゆる4fシステムとして示している。投影対物器械は、光線127によって均一に照らされるマスク121の像を光軸131に沿って視野平面125内に投影する。像投影光線パターンを説明するために、マスク121の軸上点に対して3つの特定の光線経路、すなわち、光軸131に沿った主光線139、上側開口光線又はコマ光線141、及び下側開口光線又はコマ光線143を示している。これらの開口光線又はコマ光線は、これらの光線を投影対物器械によって像へと依然として投影することができる可能な最大角度で軸上点を離れる光線である。また、投影対物器械によって投影される最外側視野点に対する主光線149の経路も示している。瞳は、全ての視野点の主光線139、149が互いに交差する中心を有し、開口光線141、143によって判断されるサイズを有する区域として定められる。これから瞳は、必ずしも図6に示しているように瞳平面133内に常に存在する必要はないが、図6にあるような図は、視野及び瞳の光学的概念の説明を容易にする。従って、図6による瞳平面133は、光伝播方向又はZ方向に関して視野点の主光線139、149が互いに出合う場所である。主光線139は光軸と対応するので、図6の瞳は、視野点の全ての主光線139、149が光軸と交差する場所でもある。従って、視野点の主光線139、149は、瞳内では光軸からの高さ又は距離を持たない。一方、開口光線141、143は瞳の境界を定め、従って、瞳内の全ての可能な光線のうちで光軸からの最大高さ又は最大距離を有する。すなわち、光軸からの光線高さ又は距離は、対物器械内の光学要素を瞳に近い瞳近接と呼ぶことができ、又は視野に近い視野近接と呼ぶことができるかに関する適切な基準のように機能する。光学要素の表面における軸上点又は中心視野点の開口光線141、143の高さ又は距離が、同じ表面上での最外側投影可能視野点の主光線の高さの6倍よりも大きい場合には、本明細書ではこの光学要素を瞳に近い又は瞳近接と呼び、他の場合は本明細書ではこの光学要素を視野に近い又は視野近接と呼ぶことになり、いわゆるRCR設計屈折-反射屈折-屈折設計では、Schupmann群G20図16を参照の要素における光線距離に対する基準はこれらの設計の光軸である。この基準に基づくと、図6の2つのレンズ129が、それぞれ視野近接平面135及び137内に位置することは明らかである。更に、視野と瞳は、視野内での像形成光線139、141、143、149の光軸131からの高さ又は距離が瞳内での像形成光線139、141、143、149と光軸の間の角度に対応する空間フーリエ変換を通じて互いに関連付けられる。それと同時に逆関係も成り立ち、すなわち、視野内での像形成光線139、141、143、149と光軸の間の角度は、視野内での像形成光線139、141、143、149の光軸131からの高さ又は距離に対応する。言い換えれば、投影することができる最外側視野点の主光線149の経路は、マスク121の像平面内で光軸131からの最大高さ又は最大距離を有し、光軸131に対する角度ゼロを有する。この同じ光線経路149は、瞳平面133の中心において最大交差角で光軸131と交差し、すなわち、光軸131からの光線高さはこの点において最小であり、その一方で光軸131に対する角度は最大である。逆に開口光線は、光軸131に対する最小高さ及び最大角をマスクの像平面121及び視野平面125で有し、その一方で光軸131に対する最大高さ及び最小角は瞳平面133内で発生する。視野と瞳とのこの特別な関係に基づいて、視野の全ての視野点に対して均一な効果を有する、瞳内の光プロフィールへの干渉を実施することができる。最も簡単な可能性は、例えば、瞳を開口絞りで収縮させることであり、それによって全ての視野点で、視野において、収縮した瞳によって許される最大可能開口角よりも大きい角度を有する光線が不足するようになる。いわゆる照明環境を規定する顧客要件を満たすために、マスク121上に均一に当たる光線127は、照明システムを用いて光軸に対する角度分布に関して適応され、従って、異なる強度を有する異なる区域が投影対物器械の瞳内に形成され、それによって投影対物器械の瞳の近くのレンズは、照明環境に依存して異なって照らされる。例えば、環状設定は、適切なマスク構造との組合せで、瞳の近くのレンズが、レンズの光学使用可能部分の境界区域内でのみ光を受光するという結果を有する。マスク構造との組合せにおける照明環境の作動原理の説明に対しては、自己発光のものではない物体の部分コヒーレント像の理論に関する関連文献を参照されたい。瞳、特に瞳の近くのレンズと迷光の間の関係では、Rayleigh散乱、Mie散乱、及び幾何学的散乱という3つの要因に起因して、ガラス材料の不均一部分において発生する波長λの光の弾性散乱が、常に有用光線の方向の回りに対称な角度分布を生成することが重要である。これは、瞳において大きく角度付けられた主光線を有する、視野の境界における視野点、及び小さいシグマ値を有する従来の設定瞳の中心区域のみ、すなわち、主光線が横断する区域のみが用いられる設定では、得られる、瞳近接レンズ内の迷光の角度分布が、対物器械のハウジングへと外向きに光軸から分離するように向けられ、それによって瞳から視野への途中で、迷光が対物器械のハウジング及びレンズマウントによって吸収されることを意味する。この結果は、迷光吸収に起因して、露光視野の境界区域147内で露光視野の残りの部分よりも低い値を有する、視野にわたる迷光成分プロフィールである。一方、瞳の境界区域、従って、開口光線が横断する区域を用いる環状設定では、開口光線の傾き角において、境界区域の視野点と中心区域の視野点との間で全体としてごく僅かの差しか存在しないが、瞳の境界区域の対物器械のハウジングへの近接性に起因して、迷光の瞳内で大きい角度の下で散乱する部分は、最も強く吸収される。フーリエ変換によると、瞳における大きい角度は、視野における大きい高さに変換されるので、瞳内で大きい角度で散乱する迷光は、対物器械のハウジング内での吸収を受け、従って、露光視野の中心区域145と比較して境界区域147内で不足する。従って、環状照明環境すなわち、光線127が、幅狭に定められた角度範囲内の入射角で回転対称にマスク121上に当たる設定は、特には従来の設定で得られるプロフィールとは定性的に異なる迷光成分プロフィールにはつながらない。液浸リソグラフィのための投影対物器械では、強い正の屈折力を有する最後のレンズは、異なる視野点に対して光学材料内の経路長が異なるという結果を有する。露光視野の中心視野点の全ての像形成光線と比較した露光視野の境界区域内の視野点の全ての像形成光線の相対経路長の差は、そのようなレンズだけで数パーセントに達する可能性がある。その結果、ガラス材料内の不均一部分に起因する迷光成分は、有用光がガラス材料内を進む経路長に直接依存するので、上述の相対経路長の差は、その結果、特に強散乱材料において視野にわたって中心区域145よりも露光視野の境界区域147内で低い値を有する迷光成分プロフィールをもたらす。図5及び図6に関連して、全てが、走査方向にわたって平均化された迷光成分をもたらす合計で3つの異なる効果であり、露光視野にわたるプロフィールが、図6の右手部分に例示しているように、露光視野の境界区域147よりも中心区域145内により強い迷光成分を有する効果を解説した。これらの3つの効果の全てが、ガラス材料内の不均一部分における光の弾性散乱に起因する1次迷光から生じ、それぞれ、均一に照らされるガラス本体の自然迷光分布、瞳に近いレンズの迷光分布、及び強い正の視野レンズ内の経路長の差に起因する迷光分布である。迷光の1次要因、すなわち、ガラス材料内の不均一部分における光の弾性散乱に起因する上述の効果に加えて、上述のように、迷光の2次要因に対応する表面不整部分における光の散乱に起因する重ね合わせ迷光が存在する。通常、レンズは、表面の全ての部分の上で均一な仕上げ品質に達するまで研磨され、その結果、視野の境界区域からの視野点の像形成光線経路が、中心区域からの視野点の像形成光線経路よりも、光軸及び屈折表面に対して全体として強く傾くという上述の一連の理由は、迷光の角度分布が、表面散乱の場合にも有用光の方向に対して回転対称であるということとの組合せで、表面不整部分における散乱が、同様に視野の境界区域よりも視野の中心区域内で強く、視野にわたるプロフィールによって特徴付けられる走査方向にわたっての平均迷光成分を生じるという結論を誘導する。任意の回折物体によって引き起こされ、従って、従来の分類による1次要因及び2次要因へと区分することができない迷光の場合には、視野の中心及び境界区域内の迷光成分に対して一般的な説明を行うことができない。図7は、現在の設計のマイクロリソグラフィ投影対物器械における走査方向にわたって平均化された一般的な迷光成分151を、本明細書で考察する測定規則に従ってX方向に沿った露光視野にわたるプロフィールグラフとして示している。明らかなように、迷光成分151は、境界区域157において有用光に対して0.6の値を有するのと比較して、視野の中心区域155では有用光に対して0.8の値を有し、より高い。図8は、液浸リソグラフィのための投影露光装置201の光学部分を略示している。投影露光装置201は、光源として193nmの波長を有するエキシマレーザ203を有する。代替形態として、248nm又は157nmのような他の波長を用いることができる。光源の下流の光路に配置された照明システム205は、光路内に続く投影対物器械211の対物面207でもある照明システム205の像平面207内に鮮明に境界が定められた均一な照明視野を生成する。通常この配列では、照明システム205の出射側における光線幾何学形状は、投影システム211の入射側における幾何学形状に合うように適応される。上述のように、照明システム205は、対物面207上に当たる光線207の角度分布を構造化するための及び入射光線の偏光状態を制御するための手段を含む。いわゆるレチクル台は、マスク213を照明システムの対物面内に保持し、走査工程に従ってこのマスクを走査方向215に沿って移動する。同時にマスク平面207のように機能する対物面207の後には、次に投影対物器械211が光路内に続き、マスク213の縮小像をウェーハ219上に投影する。ウェーハ219は、感光性のいわゆるフォトレジスト221を伴い、フォトレジスト221を有するウェーハ219の平面表面が、投影対物器械211の像平面223又は視野平面223内に位置するように位置決めされる。ウェーハ219は、いわゆるウェーハ台217によって保持され、マスク213の動きと同期化された速度で給送される。またウェーハ台217は、ウェーハ219を光軸225に沿って、又はそれに対して垂直に移動することができるマニピュレータを有する。同様にウェーハ台217には、ウェーハ219を光軸225に対して垂直な軸に対して傾斜することができる傾斜マニピュレータが組み込まれる。ウェーハ台217は、特に液浸リソグラフィに向けて設計され、基板219のための浅い凹部、並びに液浸液231を収容するための外縁229を有する保持要素227を含む。液浸リソグラフィ用途のための投影対物器械211は、1.0よりも大きく、好ましくは1.2よりも大きく、より好ましくは1.5よりも大きい像側開口数NAを有する。投影対物器械211は、視野平面223の前の最終光学要素として、マスク平面から視野平面へと伝播する光線の方向に見た光路内で、投影対物器械211の最後の光学面である裏側235を有する平凸レンズ233を有する。この裏側235は、液浸液231内に完全に浸漬される。半球形平凸レンズ233は、好ましくは、図9に例示している微細構造を有する多結晶材料から成る。場合によっては、投影対物器械の更に別のレンズ237も、多結晶材料で構成することができる。図9は、多結晶材料の微細構造を概略的に正確ではない縮尺で示している。この図に示している材料300は、多結晶マグネシウムスピネルMgAl2O4であり、それぞれの結晶境界303によって境界が定められた多数の異なる配向の結晶302を有する。この例における平均結晶寸法は25μm前後である。結晶302の間には、この例における平均寸法が約1μmである空洞空間、又は気泡304が散在する。この他の多結晶材料、例えば、他の多結晶スピネル、多結晶YAG[イットリウムアルミニウムガーネットY3Al5O12]、多結晶LuAG[ルテチウムアルミニウムガーネットLu3Al5O12]、多結晶酸化マグネシウムMgO、多結晶酸化ベリリウムBeO、多結晶酸化アルミニウムAl2O3、多結晶酸化イットリウムY2O3、又は例えば、BaLiF3又はLaF3のような高屈折率を有する多結晶フッ化物を光学材料としての使用に向けて同様に想定することができる。図10は、40mm厚のスピネルから成る均一多結晶材料の有用光に対するパーセントでの迷光成分をWO2006/061225に示されているこの結晶材料に対応する迷光モデルに従って平均結晶寸法Dの関数として示している。この迷光モデルは、光路に沿った結晶の異なる配向に起因する屈折率変動から生じる迷光Iretを考慮に入れること以外に、結晶境界303において発生する全反射から生じる迷光成分Iscatも含む。それによって図10にIsumとして示し、矢印Pで印した結晶サイズにおける最小値を有する迷光における合計迷光成分への加算が行われる。更に、40mm厚のスピネルから成る多結晶材料のモデル依存の迷光成分をWO2006/061255のこの多結晶材料に対応する迷光モデルに従って平均気泡直径の関数として有用光に対するパーセントで表し、図11に示している。WO2006/061255の迷光モデル又は図10及び図11に基づくと、多結晶材料における平均結晶サイズ及び平均バブル直径における特定のパラメータ範囲だけが、マイクロリソグラフィ用途のための投影対物器械においてこの種の材料を用いる上で利用可能であり、これは、そうでなければ投影対物器械の迷光成分が過度に大きくなるからである。しかし、図10及び図11は、多結晶スピネル材料の生産において、迷光に関して最適なパラメータ範囲に固執したとしても、40mmの厚みを有するスピネルから成る光学要素は、有用光に対して約0.4の迷光成分を依然として生成することになるという結論を招く。また上述の均一な光束を伝播する本体の自然迷光分布を考慮することにより、視野平面の直前にある多結晶材料から成る最後の視野近接レンズでは、走査方向にわたって平均化された迷光成分のプロフィールが、視野平面にわたって有用光に対して0.4の変動を有するという結果に達する。走査方向にわたって平均化されたそのような視野近接レンズの迷光成分における視野平面内の露光視野にわたる変動の正確な量は、レンズ及び露光視野の正確な幾何学形状、並びに視野平面からのレンズの距離に依存し、この変動を上述の値の僅か半分の大きさにすることは全く可能である。従って、対物器械の最後のレンズとして用いられるスピネルから成る強い正の単一のレンズは、露光視野にわたって現在の設計の投影対物器械全体の変動の約半分の大きさの迷光変動を有する。図12は、最後のレンズ400の多結晶材料内の不均一部分407における散乱及び最後のレンズの表面粗度403を適応させる概念に関する主要概念に加えて、得られる視野にわたる迷光分布411、413を示す概略図を示している。図12では、投影対物器械の最後のレンズ400は、この最後のレンズ400の直後に光軸401に対して垂直に延びる視野平面405の前に位置する。レンズ400内には、ガラス材料の不均一部分を迷光の角度分布を示す散乱ローブ407として図式的に示している。走査方向にわたって平均化され、有用光に対する百分率で表されたガラス材料の不均一部分体積散乱に起因するレンズ400の迷光成分411は、X方向に沿った視野にわたるプロフィールグラフとして図12の中央部分に示している。多結晶材料で構成され、マスク平面から視野平面への光線の方向に視野平面の前の最後の位置に配置されたレンズの体積散乱に起因する迷光成分411に関する現在のモンテカルロシミュレーションは、走査方向にわたって平均化され、有用光の百分率として表された迷光成分が、露光視野の中心区域415内で約0.4であり、露光視野の境界区域417内で約0.2であるという結果を誘導し、従って、上記に解説したWO2006/061225の迷光値が確認される。スピネルで構成された最後のレンズの体積散乱に起因する迷光成分411を補償するために、表側402、すなわち、最後のレンズの視野平面405から分離するように向く面の表面粗度は、境界区画403内で高められ、付加的迷光成分413という結果を発生させる。表側402の表面粗度の変化は、露光視野にわたって体積散乱に起因する迷光成分411を補完するプロフィールを有する付加的迷光成分413を生じ、ほぼ一定の総迷光成分へと加算されるように選択される。有用光の百分率として表され、走査方向にわたって平均化された表面粗度に起因する付加的迷光成分413は、図12の右手部分にX方向に沿った視野にわたるプロフィールグラフとして示している。最後のレンズの表側402上の表面粗度を変更することにより、迷光の付加量が約0.5である露光視野の境界区域417とは対照的に、露光視野の中心区域415内には非常に小量の付加的迷光413しか導入されず、それによって最後のレンズの体積散乱から生じる迷光411が補償される。表側402の表面粗度は、必ずしも再加工作業において生成する必要はなく、レンズの生産工程中に先行して適応させることができる。図13は、有用光に対する百分率として表されたマイクロリソグラフィ用途のための投影対物器械の迷光成分を示しており、この迷光成分は、本発明により補正され、走査方向yにわたって平均化されており、これを視野に沿ったX方向のプロフィールグラフ501として示している。図13の細かい点線は、最後のレンズが多結晶材料で構成されない投影対物器械の走査方向にわたって平均化された迷光成分を中心区域505及び境界区域507を有する露光視野にわたってX方向に沿ったプロフィールグラフ503の形態で示している。この迷光成分では、視野にわたる変動は、0.2よりも小さく、従って、迷光成分は、この用途の範囲内では一定の迷光成分であると考えられる。水平グリッド線及び0.2の高さを有する帯域509は、この用途内で迷光成分が一定であると考えられる範囲を示すグラフ背景として機能する。図13では、最後のレンズが多結晶材料で構成された対応する投影対物器械の迷光成分を参照記号502を有する破線で示している。迷光成分502は、一定の迷光成分509に対して許容可能になるものよりも強い変動を視野にわたって提供する。図13の太い実線501は、多結晶材料から成る最後のレンズにおいて本発明により補正された投影対物器械の迷光成分を示している。本発明により補正された投影対物器械のこの迷光成分501は、中心区域505及び境界区域507、並びにこれらの間の全ての視野点において、有用光に対して約1.3程度の迷光成分を有する。これに応じてこの迷光成分501は、露光視野にわたる変動が有用光に対して0.2を遥かに下回る走査方向にわたって平均化された非常に一定の迷光成分を示している。従って、本発明は、多結晶材料から成る最後のレンズを有する投影対物器械の補正だけでなく、現在の投影対物器械の改善にも適合し、それによってこれらの投影対物器械は、露光視野にわたって0.2よりも小さい変動しか持たない一定の迷光成分を有するようになる。図14は、1よりも大きい像側開口数を有する液浸リソグラフィのための投影対物器械のいわゆる2ミラー設計2100を示している。設計2100は、US2005/0190435A1の図38から同じ参照記号を保ったまま引用したものである。US2005/0190435A1の図38と比較すると、高い表面粗度の区域2003に対する参照記号のみが新しく追加されている。図14aでは、設計2100をX-Y断面図、従って、走査方向yと光学Z軸の方向とによって定められる平面に示しており、これは、そうでなければ光線経路の折り返し構成を視覚化することができないからである。以下に解説する反射屈折設計の全てにおいても、同じ形態の図を用いる。マスク平面2101は、第1の屈折対物器械群2110により、延長中間像平面2103上に投影される。第1の屈折群は、瞳平面又は開口平面Aを有する。ミラー2121及び2122を有するミラー群2120は、延長中間像平面2103を更に別の延長中間像平面2104へと投影する。第2の屈折対物器械群2130は、延長中間像平面2104を視野平面2102へと投影する。マスク平面2101から視野平面2102への光線の方向に視野平面2102の前にある最後のレンズは、参照記号2150を有する。露光視野2102又は中間視野平面2103及び2104の近くの視野近接光学要素の表面区域であり、本発明によると、表面粗度を高めることにより、露光視野にわたる迷光成分変動を補正するのに適切な表面区域を太い鋸歯線2003で示している。より良好な明瞭化のために、第2の屈折群2130の下部を図14bに拡大図で示している。図14bには、マスク平面2101から視野平面2102への光線の方向に視野平面2102の前にある最終光学要素2150の表面の区域2005を陰付きの棒状部で示しており、区域2005には、迷光、特に視野外迷光を低減するために、開口絞りを適切に配置することができる。この開口絞りは、最終光学要素2150と視野平面2102の間の機械的視野開口絞りを用いて達成することができる。一方、図14bの陰付きの棒状部によって示している、最終光学要素の表面部分2005をマスクすることによって開口絞りを提供することは、空間的干渉を発生させず、液浸液の流動特性に対して悪影響を持たないことからより有利である。この遮蔽は、図14bで陰付きの区域2005上に吸収剤又は反射コーティングを配置することによって費用効果的に達成することができる。一方、設計の構造的概念は、X-Z断面、すなわち、走査方向に対して垂直に示すことができないので、図14a及び図14bの設計図では、設計をY-Z断面図、従って、走査方向に示していることに注意すべきである。従って、図14a及び図14bの太い鋸歯線2003は、本発明による表面粗度の適応のためのものと考えることができる視野近接表面のみを示しており、その一方、露光視野の外側視野点の光線が出合う又は横断する視野近接表面の区域2003がより高い表面粗度を有するという本発明による原理のみを示している。走査方向にわたって平均化された迷光成分が、露光視野にわたって走査方向に対して垂直に変動する量を低減するのに適切な高い表面粗度を有する視野近接表面の区域2003は、設計のX-Z断面においてより明瞭に例示することができる。X-Z断面図で見ると、高い表面粗度を有する区域2003は、これらの区域2003が、光学的使用区域の中心の左右x方向に関しての境界に均等に位置し、中心区域の左右x方向に関しての境界区域内の走査方向にわたって平均化された迷光成分に対して均等な効果を有するように光学要素上に配置される。図15は、像側開口数1.2を有する液浸リソグラフィのための投影対物器械のいわゆる4ミラー設計PL1を示している。設計PL1は、US2007/0024960A1の図9から同じ参照記号を保ったまま引用したものである。US2007/0024960A1の図9と比較すると、視野平面W1に対する参照記号のみが新しく追加されている。マスク平面R1は、レンズL1からL4を有する純屈折部分群G11、並びにレンズ5及びミラーM1及びM2から成る反射屈折部分群から成る第1の反射屈折対物器械群G1によって中間像平面Q上に投影される。中間像平面Qは、2つのミラーM3及びM4、レンズL6及びL7を有する屈折部分群G21、レンズL8からL12を有する屈折部分群G22、並びにレンズL13からL18を有する屈折部分群G23から成る第2の反射屈折対物器械群G2によってレンズ18の直後にある視野平面W1へと投影される。瞳平面又は開口平面AS1は、部分群G22と部分群G23の間に位置する。ミラー表面M2及びM3を延びている破線は、反射屈折設計の実際の光線経路幾何学形状又は光学要素の実際の物理的形状が、もはや回転対称性を呈さない場合であっても、そのような設計を通常は回転対称設計という術語によって表すことができるという上記に説明したことを示している。この思考過程を見直すためには、図15に示している設計PL1を光軸AX1回りに回転すべきである。この回転の後には、全ての光学要素は光軸AX1に関して回転対称性を有し、更に光軸AX1は、設計PL1内の全ての光学要素の光軸である。本発明によると、表面粗度を高めることによって露光視野にわたる迷光成分変動を補正するのに適切なマスク平面R1から視野平面W1への光路の方向に視野平面W1又は中間像平面Qの近くにある視野近接表面区域は、この設計PL1では、ミラー表面M1からM4、並びにレンズL5、L6、及びL18の表面の全部である。図16は、像側開口数1.25を有する液浸リソグラフィのための投影対物器械のいわゆるRCR設計屈折-反射屈折-屈折設計を示している。この設計は、US2004/019128A2の図19から引用したものであり、群及びレンズの参照記号の各々にゼロを追加して拡張したことを除いて参照記号を最大限維持し、その一方、視野平面に対する参照記号W1、第1の方向変更ミラーに対する参照記号M10、第2の方向変更ミラーに対する参照記号M20をUS2004/019128A2の図19に新しく追加している。レンズL110からL1100を有する第1の屈折対物器械群G10は、マスク平面R1を第1の方向変更ミラーM10の後にある第1の延長中間像区域内に投影する。レンズL210、L220及び球面ミラーCMから成る反射屈折群G20は、縦色収差の補正のためのいわゆるSchupmann色消しレンズを形成し、第1の延長中間像区域を第2の方向変更ミラーM20の前にある第2の延長中間像区域へと投影する。第2の中間像平面は、レンズL310からL3150を有する第2の屈折対物器械群G30により、レンズ3150の直下にある視野平面W1へと投影される。第2の屈折対物器械群は、ASで示している瞳平面又は開口平面を有する。本明細書に提供している全ての他の設計とは対照的に、光軸回りのこの設計の回転対称性は、これらの方向変更ミラーによって壊されているので、既に上述のように、Schupmann色消しレンズ又は群G20の光軸が、第1の方向変更ミラーM10の後で、第2の方向変更ミラーM20の前にある全ての要素に関しての本明細書において用いる視野及び瞳の概念を定めるための基準軸のように機能する。本発明によると、表面粗度を高めることによって露光視野にわたる迷光成分変動を補正するのに適切なマスク平面R1から視野平面W1への光路の方向に視野平面W1又は中間像平面Qの近くにある視野近接表面は、このRCR設計では、方向変更ミラー表面M10及びM20、並びにレンズL100、L310、及びL3150の表面である。図17は、像側開口数1.75を有する液浸リソグラフィのための投影対物器械の更に別の2ミラー設計800を示している。設計800は、US2006/133801A1の図8から引用したものであり、参照記号を最大限維持している。US2006/133801A1の図8と比較すると、対物器械群G100からG900の参照記号のみが、ゼロを2つ追加することによって拡張されている。第1の屈折対物器械群ROP1は、マスク平面OPを延長中間像平面IMI1へと投影する。第1の屈折群は、ASと示している瞳平面又は開口平面を有する。延長中間像平面IMI1は、ミラーCM1及びCM2を有するミラー群COP2により、更に別の延長中間像平面IMI2へと投影される。第2の屈折対物器械群ROP3は、延長中間像平面IMI2を視野平面IPへと投影する。マスク平面OPから視野平面IPへの光線の方向に視野平面IPの前にある最後のレンズは、参照記号LOEを伴い、互いの間に液浸液ILを有する2つの部分レンズLOE1及びLOE2から成る図18の説明を参照されたい。本発明によると、表面粗度を高めることによって露光視野にわたる迷光成分変動を補正するのに適切なマスク平面OPから視野平面IPへの光路の方向における視野平面IP、又は延長中間像平面IMI1及びIMI2の近くの視野近接表面は、この設計800では、ミラー表面CM1及びCM2、並びにレンズB800、LOE及びマスク平面OPから像平面IPへの光線の方向にCM1の前にあるレンズの表面である。図18は、マスク平面OPから像平面IPへの光線の方向に視野平面IPの前にある最後のレンズ要素LOEを図17の設計800の詳細図として示している。このレンズ要素は、部分レンズLOE1における石英ガラス、部分レンズLOE2におけるサファイアで構成され、サファイアにおける結晶軸は、光軸AXに対して平行な方向CAに配向される。2つの部分レンズLOE1とLOE2の間には液浸液が存在する。またWO2005/133801A1にも、第2の部分レンズLOE2に向けて、例えば、スピネルMgAl2O4、YAG[イットリウムアルミニウムガーネットY3Al5O12]、酸化マグネシウムMgO、酸化ベリリウムBeO、酸化アルミニウムAl2O3、酸化イットリウムY2O3、又はフッ化ランタンLaF3のような高屈折率を有する他の結晶材料が言及されている。液浸リソグラフィの場合には、設計における要件として像側の高開口数が指定される時には、像側開口数の値が、露光視野の前にある最終光学要素の屈折率を超えてはならないというWO2006/133801A1の教示に注意することが重要である。従って、設計800の場合のような1.7よりも大きい開口数を有する設計では、最後のレンズ要素が、適用可能な作動波長において1.7よりも大きい屈折率を有することが重要である。図18の第2の部分レンズLOE2の材料として用いられるサファイアは、作動波長193nmにおいて屈折率1.92を有し、従って、WO2006/133801A1の教示によると、設計800の像側開口数1.75から十分な数値間隔を有する。一方、設計800を露光視野の前にある最後のレンズが、例えば、193nmの作動波長において1.7よりも大きい屈折率を有する多結晶材料から成る設計に適応させるのと同時に、1.7前後の高開口数値を提供するという大きな課題を含むことにもならない。図19は、いわゆるEUV極紫外リソグラフィにおける用途のための投影対物器械の6ミラー設計を示している。この設計は、US2004/0051857A1の図1から、数字5を追加するだけで同じ参照記号を最大限保ったまま引用したものである。第1の反射対物器械群G15は、ミラーM15及びM25を用いてマスク平面OB5を中間像IMI5へと投影する。この対物器械群は、瞳平面又は開口平面APE5を含む。第2の反射対物器械群G25は、ミラーM35、M45、M55、及びM65を用いて、中間像IMI5を視野平面IM5内に投影する。通常、EUVリソグラフィのための投影対物器械は、100nmよりも小さい波長では十分に透過的な材料が存在しないので、ミラーから構成される。従って、これらの投影対物器械においては、迷光成分のガラス材料内の不均一部分から生じる部分におけるプロフィールを露光視野にわたって均等化するという課題は、それ自体が存在しない。しかし、同じ表面仕上げを有するミラーは、空気中で屈折率1.5を有するレンズの約16倍強く光を散乱する。その結果、EUV投影対物器械は、光学要素の表面特性に起因する迷光に関して従来の屈折システムよりも極めて臨界的である。更に、別の要因として、光学要素自体の研磨のみならず、高反射コーティングもまた、EUV対物器械において迷光源として大きな部分を占める。従って、EUVリソグラフィに用いられる投影対物器械においても、本発明により、走査方向にわたって平均化された迷光成分をその露光視野にわたるプロフィールにおいて低減するか又は本特許出願に従って走査方向にわたって平均化された迷光成分が露光視野にわたって一定のプロフィールを有することを保証する解決法を取ることは実際的な利点を有する。本発明によると、表面粗度を高めることによって露光視野にわたる迷光成分変動を補正するのに適切なマスク平面OB5から視野平面IM5への光路の方向に中間像平面IMI5の近くにある視野近接表面は、この設計ではミラー表面M25、M35、及びM45である。投影対物器械のミラー上の光学的使用区域は、多くの場合に、投影対物器械の光軸OA5からかなりの距離のところに位置するので、光軸は、EUVリソグラフィのための投影対物器械内の瞳に近い要素と視野近接要素とを区別するために上記に提供した定義の下では、もはや距離に関する基準軸として機能することはできない。光軸ではなく、表面の光学的使用区域の幾何学的中心点における法線ベクトルが、EUVリソグラフィのための投影対物器械において瞳近接要素と視野近接要素とを区別する際の拠り所になる距離に関する新しい基準軸として機能するように選択される。光学要素の表面上における露光視野の中心視野点の開口光線が、上述のように定められた法線ベクトルから、露光視野の境界点の主光線がこの光学要素の同じ表面上で有するこの法線ベクトルからの距離の6倍大きい距離を有する場合には、この光学要素を瞳近接と呼び、そうでなければ視野近接と呼ぶことにする。可能な例として、図20は、結果として走査方向にわたって平均化された迷光成分が投影対物器械の露光視野にわたってより小さい変動を有することになるように、又はより具体的には、本特許出願の意味で一定である走査方向にわたって平均化された投影対物器械の迷光成分が得られるように、露光視野の中心区域内で小さい迷光成分を有し、露光視野の境界区域内で高い迷光成分を有する走査方向にわたって平均化された露光視野にわたる付加的迷光成分のプロフィールに関して、この付加的迷光成分に相関するマスク平面から視野平面への光線の方向に視野平面の前にある最後のレンズの表側の光学的使用区域にわたるRMS値として表面粗度における増加の分布を示している。最後のレンズの表側上の正のX方向の光学的使用区域の境界の高さが値1を有し、光学的使用区域の中心の高さが値ゼロを有するように、グラフのX軸上の縮尺は正規化されている。このグラフにおいて、光学的使用区域の中心におけるRMS値と比較した光学的使用区域の左右の境界における2nmよりも僅かに大きいRMS値の増加の最大量は、露光視野にわたって約0.2に達する走査方向にわたって平均化された投影対物器械の迷光成分変動を補正するためには、例えば、193nmの作動波長においては十分である。これは、図14、図15、図16、及び図17の設計による最後のレンズ、最後のレンズと露光視野の間の距離、露光視野のアスペクト比、並びに最後のレンズ要素の屈折率の一般的な幾何学的関係という仮定に基づいている。異なるパラメータに依存して、走査方向にわたって平均化された迷光成分が露光視野にわたって変動する量に対して約0.1から約0.4の異なる値を得ることができる。走査方向にわたって平均化された迷光成分が露光視野にわたって変動する量が0.2よりも大きく補正される場合には、表面粗度に必要な値は、これに応じて図20のグラフを正規化することによって得られる。図20のグラフにおける表面粗度値のプロフィールは、中心からの横方向距離が独立変数である場合に、一般的な多項式の平方根の形態にある関数によって表すことができる。この表現は、この表現から得られる係数が、例えば、研磨ロボットのような研磨機のプログラミングに有利に適合するという利点を有する。しかし、研磨ヘッドは有限寸法を有し、それによって図20によって例証しているグラフにおいて表面粗度プロフィールを表す曲線の曲率に対して制限が課せられるので、研磨機を用いて達成することができるプロフィールは、任意の選択肢に対して開かれたものではない。例えば、研磨ヘッドの有限寸法は、ゼロとは異なる表面粗度値が高さ0において残ることになるという影響を常に有することになるので、研磨機は、図20のグラフの曲線の高さ0において不連続点を提供することはできない。それによって例えば図12に示すように、中心区域415内の付加的迷光成分413の残存値という結果を有することになる。図21は、走査方向に平均化された投影対物器械の迷光成分が露光視野にわたって小さい変動しか持たないような、又はより具体的には、本特許出願の意味で一定である走査方向に平均化された投影対物器械の迷光成分が得られるような露光視野にわたるプロフィールを有する走査方向にわたって平均化された付加的迷光成分を有するマイクロリソグラフィ分野における用途のための投影対物器械を提供することができる異なる方法を略示している。第1段階Aでは、投影対物器械の迷光成分が、構成要素のデータ又はそれぞれの半加工品のデータから模擬されるか、又は特定されるかのいずれかが行われる。別の第1段階Bとして、この投影対物器械自体又は対応する設計の投影対物器械に対して測定を行うことができ、それによってこの投影対物器械の露光視野にわたる迷光成分変動が特定される。第2段階では、走査方向に平均化された投影対物器械の迷光成分が、露光視野にわたって小さい変動しか持たないように、又はより具体的には、本特許出願の意味で露光視野にわたって一定である走査方向に平均化された投影対物器械の迷光成分が得られるように、視野近接光学要素の表面の表面粗度、又は複数の視野近接光学要素のいくつかの表面の表面粗度特性が、投影対物器械内での設置の前の生産中に先行して適切に適応されるか、又は後に適切量だけ変更されるかのいずれかが行われる。第2段階で取られる解決法の成否は、第3段階において、投影対物器械の認定試験の一部として行われる測定によって検証される。第3段階の結果に依存して、投影対物器械が十分に良好な補正を有するものとして承認されるか、又は処理段階が第2段階へとループして戻され、単一の視野近接要素の単一の表面、又は複数の視野近接要素の複数の表面の表面粗度がその以前の値から変更されるかのいずれか行われる。これらの処理段階2及び3は、補正が十分であると判断されるまで繰り返される。上述の方法の代替形態として、1つの個別レンズが迷光成分の主要部分に寄与する投影対物器械では、第3段階で投影対物器械の認定試験を実施することができるように、本方法の第1段階でこの個別レンズの寄与のみを特定し、第2段階で、表面粗度の先行適応又はその後の変更によってこの寄与を補償することを妥当なものとすることができる。この別の手順の下では、第1処理段階Bにおいて、レンズ自体に対して測定を実施することができ、又は第1処理段階Bにおいて、このレンズの寄与は、同じ設計のレンズに対して行われる測定から特定される。代替形態として、第1処理段階Aの一部として個別レンズを模擬することができ、又はこのレンズからの寄与をレンズの半加工品から得られるデータから特定することができる。図22は、本特許出願による投影対物器械を有する投影露光装置を用いることにより、ウェーハ上に微細構造を生産するための処理段階を略示している。第1段階では、金属薄膜がウェーハ上に蒸着される。次に第2段階で、この金属膜を有するウェーハが、感光コーティング、いわゆるフォトレジストを用いて重ね合わされる。第3段階では、本特許出願による投影対物器械を有する投影露光装置が、走査工程においてマスク平面内のマスクの構造をフォトレジストの写真露光によってウェーハ上の半導体素子の現時点で処理されている表面に移す。この段階は、ウェーハ上の全ての半導体素子の全ての表面が露光し終わるまで繰り返される。この後、露光済みフォトレジストを有するウェーハは現像され、それによってウェーハ上で十分な露光を受けた場所にあるフォトレジストが、ウェーハから除去される。それによって先行処理段階でフォトレジストが除去された場所にある金属膜を除去することが可能になる。この処理段階はエッチングと呼ばれる。次の段階では、ウェーハは、更に別の処理に向けて準備が切り取って整えられ、この処理に向けて図22の処理段階の開始点に戻るか、又は別の装置における別の処理段階の開始点に誘導される。図23は、本発明の更に別の実施形態を投影対物器械600の例によって示している概略図である。投影対物器械600は、拡散光学要素623を瞳平面633a内に有し、更に視野近接拡散光学要素631を有する。投影対物器械600は、光線627によって均一に照らされるマスク621の像を光軸635に沿って像平面又は視野平面605内に投影する。投影対物器械は、2つの部分対物器械600a及び600bで構成され、これらの間には中間像平面又は中間視野平面607が位置する。部分対物器械600a及び600bをレンズ625、627、629、及び631によって略示しており、これらの部分対物器械は、それぞれ瞳平面633a及び633bを有する。異なる散乱機能619を有する交換可能拡散光学要素623を第1の瞳平面633a内に設置することができる。更に、異なる散乱機能609を有する交換可能視野近接光学要素又はレンズ631を用いることができる。光線639及び645は、中心視野点及び投影することができる最外側視野点に対する主光線である。光線641及び643は、それぞれ中心視野点に対する上側及び下側の開口光線又はコマ光線である。これらの光線は、この例の投影対物器械600における視野平面と瞳平面とを区別するように機能する。瞳は、中心において全ての視野点の全ての主光線639、645が互いに交差し、開口光線641、643によって判断される寸法を有する場所として定められる。逆に、視野平面は、中心において中心視野点の開口光線641、643と主光線639とが互いに交差する場所として定められる。散乱機能619に依存して、瞳平面633a内の拡散光学要素623は、図23の拡大グラフに示しているように、像平面又は視野平面605内に迷光成分プロフィール611を有する迷光成分を発生させる。いわゆるスキャナでは、迷光成分プロフィール611が、例示している座標システムによって作図面に対して垂直に向く走査方向Yにわたって平均化されるという規則が本出願内で適用される。迷光成分プロフィール611は、視野の境界区域617よりも中心視野点の周囲で高い迷光成分を有する。視野近接拡散光学要素631は、その散乱機能609に依存して、図23の迷光成分611のグラフの右にある拡大グラフに示しているように、迷光成分プロフィール613を有する迷光成分を像平面又は視野平面605内に発生させる。この例における拡散光学要素631は、光学要素631の直径にわたって均一な散乱機能609を持たず、光学要素631の境界区画内でのみ有意な程度で迷光を発生させる散乱機能609によって特徴付けられる。これは、例えば、高い表面粗度を有する光学要素631を用いて達成することができる図12の説明を参照されたい。迷光成分プロフィール613は、中心区域615よりも境界区域617内で高い迷光比率を示し、従って、本発明のこの実施形態は、瞳633a内の拡散光学要素623の散乱機能619、及び視野近接拡散光学要素631の散乱機能609を適切に選択し、プロフィール611と本発明の付加的迷光成分におけるプロフィール613とを重ね合わせることにより、あらゆる望ましい平均迷光成分プロフィールを生成することを可能にする。この解決法は、代替形態として、又は上述の固定式の高い表面粗度を有する光学要素との組合せとして達成することができる。これらの可能性の間で、表面粗度を高めることによる迷光成分プロフィールの静的適応と、差し換え可能散乱要素を用いた動的適応とを組み合わせることにより、非常に広範な照明角度分布設定及び非常に広範なマスク構造に対して望ましい迷光成分プロフィールを提供する可能な最高の柔軟性がもたらされる。従って、散乱要素623及び631を交換する概念は、マスク又は異なるマスク621の異なるマスク構造に対する非常に広範な結像要件と共に、それに関連する入射光線627の異なる照明角度分布に対して迅速に対応することを可能にする。この種の迷光マニピュレータでは、生産工程を1つの投影対物器械から別のものへとより容易に移行することができるように、異なる投影対物器械のプロフィールを互いに適応させることを更に想定することができる。この種の適応を実施する時には、適応される投影対物器械の等しい又は異なる照明角度分布、及び/又は単一のマスク又は複数のマスク上の等しい又は異なるマスク構造を考慮することができる。同じくこの概念を適用するのに、図23の実施形態は、略示している中間像平面607を有する投影対物器械600に限定されず、少なくとも1つの瞳平面及び1つの視野平面を有する限り、上記に提供した投影対物器械のあらゆるものに転用することができる。それぞれ異なる散乱機能619及び609を有する異なる拡散光学要素623及び631として機能するものとして、特に、従来の拡散器ディスク、高い表面粗度を有する光学要素上記を参照されたい、強散乱材料例えば、多結晶材料など、上記を参照されたいから成る光学要素、回折光学要素DOE、回折格子Blazeグリッド、バイナリグリッド、サブ-ラムダグリッド、コンピュータ発生ホログラムCGH、及び同じくいわゆるレンズ加熱を補償するのに用いられる種類のワイヤグリッドを用いることができる。この場合、例えば、望ましい視野プロフィールを発生させるために、散乱機能619及び特に視野近接光学要素631内の散乱機能609は、光学要素623及び631の部分的区域だけにわたって延びるように限定することができる。それぞれ異なる散乱機能619及び609を有する回折光学要素623又は631の上述の可能性の全てにおいて、従来の拡散器ディスク及び高い表面粗度を有する光学要素を除き、言及した可能な要素の全ては、投影対物器械における他の機能を正常に実施し、迷光マニピュレータとしての役割を2次的にのみ達成することに注意すべきである。例えば、主に光学設計に関連する理由から、投影対物器械において強散乱材料から成る光学要素が用いられるであろう。DOEは、例えば、波面補正に向けて用いることができる。特にサブ-ラムダグリッドの形態にある拡散格子は、投影対物器械600の偏光特性を補正するように機能することができる。CGHは、異なる課題を満たすことができ、上述のワイヤグリッドは、主に、有用光によって引き起こされるレンズ加熱を補正するために用いることができ、又はEUVリソグラフィのための投影対物器械において異なる課題を実施することができる。その結果、個々に又は組合せで用いられる上述の要素は、通常は最初にこれらの要素の主要機能に向けて設計され、これらの要素の散乱特性に従って2次的にのみ選択される。上述の要素を個々に、又は必要に応じて特に拡散効果の理由から瞳内に設けられる付加的な光学要素と合わせて組合せで最適化するという自由度が迷光最適化において明確に必要とされる場合には、これらの最適化を行うことができ、これらの要素の最適化の結果は、所定の種類の投影対物器械のための理想的な迷光マニピュレータを生成する。このようにして迷光成分を最適化するか又はより具体的には投影対物器械の迷光マニピュレータを最適化する際には、投影される像を有するマスク621上に当たる光線627の望ましい照明角度分布、並びにマスク621の望ましいマスク構造像を考慮に入れる必要があり、これは、これらの因子が、瞳の光が横断する区域を決めるからである。この種の最適化は、例えば、照明角度分布及び/又はマスク構造の変更がある時に、要素623及び631を交換することによって異なる照明角度分布及び異なるマスク構造に対する迷光成分の最適プロフィールを提供するために、交換可能な拡散光学要素623及び631の設計において用いることもできる。投影対物器械の瞳内の拡散光学要素として用いられる周期性p及び被覆率Wを有する回折バイナリ構造という以下の簡単な事例では、迷光の範囲Rs及びその相対強度Isを像平面内の回折次数nに対して示している。この種の回折バイナリ構造は、レンズフレネルレンズ、拡散光学要素等上のバイナリ位相グリッド以外に、有用光によるレンズ加熱の補正のためのレンズ上のワイヤグリッド又は対応するEUVリソグラフィのためのワイヤグリッドとすることができ、これらの場合の被覆率Wは、ワイヤの厚みと2つの隣接ワイヤの距離又は周期性pとの間の比として定められる。例えば、コンピュータ発生ホログラムCGHにおける回折クロムマスクでは、被覆率Wは、1つのクロムトレースの幅と2つの隣接クロムトレースの距離又は周期性pとの間の比として定められる。像平面内の回折次数nに対する迷光の範囲R及びその相対強度Iは、これらの場合は次式によって表される。Rs=n×λ/NA×RNA/p、及びIs=[sinnπ/nπ-W×1-T×sinnπW/nπW]2ここで、記号は、以下のものを表している。λ:光の波長NA:投影対物器械の開口数RNA:瞳直径p:回折構造の周期性W:個々の回折構造要素の幅とpの間の比T:回折構造例えば、ワイヤ又はクロムトレースの透過率更に、像平面内のゴースト像を回避するために、瞳内の光学要素の回折構造の最小周期性pmin、又は最大密度が存在し、これらは、像内に描画される最小構造寸法臨界寸法CDから次式によって推定することができることに注意すべきである。pmin=nλ/NARNA/CDここで、記号は、以下のものを表している。λ:光の波長NA:投影対物器械の開口数RNA:瞳直径CD:臨界寸法本発明を特定的な実施形態の呈示を通じて説明したが、当業者は、例えば、個々の実施形態の特徴を組み合わせる及び/又は交換することにより、変形及び代替的実施形態の数々の可能性を認識するであろう。従って、そのような変形及び代替的実施形態が本発明に含まれると見なされ、本発明の範囲が特許請求の範囲及びその均等物によってのみ限定されることは、当業者によって理解されるであろう。