マトリクス状に配置された複数の表示画素を含む表示領域と、マトリクス状に配置された複数の第1電極と、前記第1電極と同層に配置され前記第1電極同士を接続する第2電極と、前記第1電極および前記第2電極上に格子状に配置された第3電極と、を備えたアレイ基板と、前記アレイ基板と対向して配置された対向基板と、前記アレイ基板と前記対向基板との間に挟持された液晶層と、を備えた液晶表示装置。前記第3電極は、前記複数の表示画素が配列する行方向に延びる第1センサと、前記複数の表示画素が配列する列方向に延びる第2センサと、を備え、前記第2電極は、前記第1センサおよび前記第2センサの下層に配置され、前記第2電極の前記第1電極間に延びる方向と略直交する方向の幅は、前記列方向における前記第1センサの幅、および、前記行方向における前記第2センサの幅と略同一である請求項1記載の液晶表示装置。前記アレイ基板は、前記第3電極の上層に配置された絶縁層を介して前記第1電極と対向するように配置された第4電極をさらに備え、前記第4電極は、互いに略平行に延びる複数のスリットを有している請求項1又は請求項2記載の液晶表示装置。センサ電極を一対の基板の一方に一体に形成する場合、センサ電極の下層に配置される導電層等のパターン端部に段差が生じ、上層に配置されたセンサ電極が切れたり、空洞化したりする場合があった。センサ電極が切れたり空洞化したりすると、センサ電極の抵抗が大きくなり接触位置の検出精度が低下したり、ショート不良が発生する場合があった。本発明は上記事情を鑑みて成されたものであって、接触位置の検出感度が良好な液晶表示装置を提供することを目的とする。実施形態によれば、マトリクス状に配置された複数の表示画素を含む表示領域と、マトリクス状に配置された複数の第1電極と、前記第1電極と同層に配置され前記第1電極同士を接続する第2電極と、前記第1電極および前記第2電極上に格子状に配置された第3電極と、を備えたアレイ基板と、前記アレイ基板と対向して配置された対向基板と、前記アレイ基板と前記対向基板との間に挟持された液晶層と、を備えた液晶表示装置が提供される。以下、実施形態の液晶表示装置について、図面を参照して説明する。図1に、本実施形態の液晶表示装置の一例を概略的に示す。液晶表示装置は、アレイ基板110とアレイ基板110と所定の間隙をおいて対向配置された対向基板120と、アレイ基板110と対向基板120との間に挟持された液晶層70図2に示すと、マトリクス状に配置された表示画素PXを含む表示領域25と、を備える液晶表示パネルと、液晶表示パネルを背面側から照明するバックライトユニット130と、を備えている。図2に、図1に示す液晶表示パネルのII-IIにおける断面の一例を示す。本実施形態の液晶表示装置は、横電界を利用して液晶層の配向状態を制御するFFSモードの液晶表示装置である。アレイ基板110は、ガラス等の透明絶縁性基板10と、透明絶縁性基板10上に配置された画素駆動配線と、スイッチング素子14と、絶縁膜L1、50と、平坦化膜20と、共通電極第1電極、第2電極30と、センサ電極第3電極40と、画素電極第4電極60と、図示しない配向膜と、駆動回路と、を備えている。画素駆動配線は、複数の表示画素PXが配列する行に沿って延びる走査線11と、複数の表示画素PXが配列する列に沿って延びる信号線12と、を備えている。駆動回路は、表示領域25の周囲を囲む額縁領域に配置された複数の走査線11を駆動する走査線駆動回路YDと、複数の信号線12を駆動する信号線駆動回路XDと、を備えている。走査線駆動回路YDは走査線11が延びる方向における表示領域25の両脇に配置され、走査線駆動回路YDには表示領域25から延びる複数の走査線11が電気的に接続されている。信号線駆動回路XDには表示領域25から延びる複数の信号線12が電気的に接続されている。アレイ基板110の端部には図示しないフレキシブル基板が接続され、走査線駆動回路YDおよび信号線駆動回路XDには、フレキシブル基板を介して図示しない信号源から制御信号および映像信号が供給される。走査線11は、表示領域25においてマトリクス状に配置された表示画素PXの行に沿って延びている。信号線12は、表示領域25においてマトリクス状に配置された表示画素PXの列に沿って延びている。スイッチング素子14は、走査線11と信号線12とが交差する位置近傍に配置されている。スイッチング素子14は、透明絶縁性基板10上に配置された図示しないアンダーコート層上に配置され、アモルファスシリコンあるいはポリシリコンの半導体層SCと、ゲート電極14bと、ソース電極14aと、ドレイン電極14cと、を含む薄膜トランジスタを備えている。スイッチング素子14の半導体層SCの上層にはゲート絶縁膜が配置され、ゲート絶縁膜上にスイッチング素子14のゲート電極14bが配置されている。スイッチング素子14のソース電極14aとドレイン電極14cとは絶縁膜L1に設けられたコンタクトホールにおいて半導体層SCと接続されている。スイッチング素子14のゲート電極14bは、対応する走査線11と電気的に接続されているあるいは一体に形成されている。スイッチング素子14のソース電極14aは、対応する信号線12と電気的に接続されているあるいは一体に形成されている。スイッチング素子のドレイン電極14cは、後述するコンタクトホール21、51において対応する画素電極60と電気的に接続されている。走査線駆動回路YDにより走査線11が駆動されてスイッチング素子14のゲート電極14bに電圧が印加されると、ソース電極14aとドレイン電極14cとの間が導通し、スイッチング素子14が一定期間オン状態となる。スイッチング素子14がオン状態である期間に、信号線12からスイッチング素子14を介して画素電極60へ映像信号が供給される。スイッチング素子14上には平坦化膜20が配置されている。本実施形態では、平坦化膜20は透明有機絶縁膜であって、平坦化膜20の膜厚は略3μmである。平坦化膜20は、コンタクトホール21を除いて表示領域25の全体に渡って配置されている。スイッチング素子14のドレイン電極14c上の平坦化膜20には、後述する画素電極60と電気的接続を取るためのコンタクトホール21が設けられている。平坦化膜20上には共通電極30が配置されている。図3に、アレイ基板110の表示領域25の構成の一例を示す。なお、図3では、画素電極60とセンサ電極40とを一部省略して共通電極30の形状を示している。カラー表示タイプの液晶表示装置である場合、複数の表示画素PXは複数種類の色画素を含んでいる。本実施形態では、複数の表示画素PXは、赤色を表示する赤色表示画素と、緑色を表示する緑色表示画素と、青色を表示する青色表示画素と、含んでいる。赤色表示画素と緑色表示画素と青色表示画素との3種類の色画素により、1絵素が構成されている。表示領域25には赤色表示画素と、緑色表示画素と、青色表示画素と、が走査線11の延びる方向に周期的に並んで配置され、信号線12が延びる方向には同種類の色画素が並んで配置されている。図4に、共通電極30の一構成例を説明するための平面図を示す。共通電極30は例えばITOindiumtinoxideやIZOindiumzincoxide等の透明電極材料により形成されている。表示領域25の端部に配置された共通電極30は額縁領域へ延びて配置され、例えば外部の信号源からフレキシブル基板を介して共通電圧が印加されている。共通電極30は後述のセンサ電極40との重ね合せ精度を考慮した同じパターンも盛り込み形成する。すなわち、共通電極30は複数の画素電極60と対向するように配置された複数の第1電極30Aと、第1電極30A同士を電気的に接続する第2電極30Bとを備えている。第1電極30Aと第2電極30Bとは同層に配置されている。第1電極30Aは、1絵素に配置された3つの画素電極60と対向するように配置されている。第2電極30Bは、第1電極30A間において後述するセンサ配線40の下層に配置されている。第2電極30Bの幅W2は、センサ配線40の幅W1と略等しく略5μmである。ここで、第2電極30Bの幅W2は、走査線11と略平行に延びる電極の信号線12が延びる方向の幅、および、信号線12と略平行に延びる電極の走査線11が延びる方向の幅である。また、コンタクトホール21には共通電極30と同じ材料で形成された接続電極31が配置されている。スイッチング素子14のドレイン電極14cと接続電極31とはコンタクトホール21において電気的に接続している。図5に、センサ電極40の一構成例を説明するための平面図を示す。なお、図5には共通電極30および接続電極31のパターン形状を破線で記載している。共通電極30上にはセンサ電極40が配置されている。センサ電極40は、例えばアルミニウムとモリブデンとの多層電極である。センサ電極40は走査線11が延びる方向と略平行に延びた第1センサと信号線12が延びる方向と略平行に延びた第2センサとを含む格子状に配置され、複数の共通電極30を電気的に接続している。本実施形態では、走査線11が延びる方向の第2センサの幅W1および信号線12が延びる方向の第1センサの幅W1は、略5μmである。本実施形態では、信号線12と略平行に延びたセンサ電極40は、表示領域25において走査線11の延びる方向に周期的に並んで配置された赤色表示画素と、緑色表示画素と、青色表示画素との所定の2種類の色画素間において、信号線12の上層に配置されている。図6に、図3の線VI-VIにおけるアレイ基板110の断面の一例を示す。センサ電極40は、表示領域25において共通電極30上の段差のない平坦な部分に配置されることが望ましい。本実施形態では、センサ電極40は、共通電極30の第1電極30Aと第2電極30Bとの上に配置されている。センサ電極40は額縁領域へ延びて配置され、例えば外部に設けられた図示しない感知回路と電気的に接続されている。本実施形態の液晶表示装置で接触位置を検出する場合、感知回路はセンサ電極40へ所定波形の信号を供給する。ユーザの指先やペン先とセンサ電極40と距離に応じて、指先等とセンサ電極40との間に生じる容量の大きさが変化する。感知回路は、指先等とセンサ電極40との間の容量の変化によるセンサ電極40の電位の変化を、センサ電極40から出力された信号の出力波形から検出して、ユーザの指先やペン先等が接触した位置に対応するセンサ電極40の座標位置を検出する。図7に比較例の液晶表示装置の表示領域の一構成例を概略的に示す。図8に比較例の液晶表示装置の共通電極30および接続電極31の一構成例を説明する平面図を示す。比較例の液晶表示装置では、共通電極30は、島状の第1電極30Aを複数備えている。すなわち、比較例の液晶表示装置では共通電極30が第1電極30A同士を接続する第2電極30Bを備えず、センサ電極40が島状の第1電極30A同士を電気的に接続するように、共通電極30上に配置されている。このように、島状の第1電極30Aをセンサ電極40により電気的に接続することにより、表示領域25に配置された第1電極30Aを略同電位としている。表示領域25全体に一体の共通電極を配置すると、共通電極の抵抗が大きくなり表示ムラが発生し、表示品位が低下するが、上記のように共通電極30を複数の島状の第1電極30Aとすると、表示ムラの発生を回避し、良好な表示品位の液晶表示装置を提供することができる。図9に、図7の線IX-IXにおける断面の一例を示す。しかしながら、上記のように共通電極30を複数の島状の第1電極30Aとすると、共通電極30上に配置されるセンサ電極40は、第1電極30Aのパターン端部を横切って配置され、第1電極30Aのパターン端部に生じる段差上で電極が切れたり、空洞化が生じたりして、センサ電極40の抵抗が大きくなることがあった。これに対し、本実施形態の液晶表示装置では、第1電極30A間においてセンサ配線40が配置される下層には第2電極30Bが配置されているため、センサ配線40が第1電極30Aのパターン端部を横切って配置されることがなくなる。したがって、本実施形態の液晶表示装置では、センサ電極40が切れたり、空洞化が生じたりすることがなくなり、センサ電極40の抵抗が大きくなることが回避される。すなわち、本実施形態の液晶表示装置によれば、低抵抗で良質のセンサ電極をもった液晶表示装置を提供することができる。センサ電極40上には絶縁膜50が配置されている。絶縁膜50は、画素電極60と接続電極31とを電気的に接続するためのコンタクトホール51を備えている。絶縁膜50上には画素電極60が配置され、コンタクトホール51において接続電極31と電気的に接続している。画素電極60は、例えばITOやIZO等の透明電極材料により形成されている。画素電極60の上層には図示しない配向膜が配置されている。図3に示すように、画素電極60は、互いに略平行に延びたスリット60Sを備えている。本実施形態では、複数のスリット60Sは信号線12が延びる方向と略平行に延びている。画素電極60と共通電極30との間、あるいは、画素電極60の端部とセンサ電極40との間に生じる電界により液晶層70の配向状態が制御される。画素電極60にスリット60Sを設けることにより、表示画素PXの中央部分においても画素電極60と共通電極30との間に電界が生じて、液晶層70の配向状態を制御することが可能となる。対向基板120は、ガラス等の透明絶縁性基板28と、透明樹脂平坦化膜29と、複数の着色層と、図示しない配向膜とを備えている。複数の着色層は、有機絶縁膜である赤R、緑G、青Bのうちのいずれかのレジストによって着色された第1着色層24a、第2着色層24b、第3着色層24cと、黒色の第4着色層27a、第5着色層27bと、を備えている。赤色の第1着色層24aは赤色表示画素に配置され、緑色の第2着色層24bは緑色表示画素に配置され、青色の第3着色層24cは青色表示画素に配置されている。第4着色層27aは表示領域25を囲むように配置され、額縁領域における光抜けを防止する遮光層である。第5着色層27bは、アレイ基板110の走査線11および信号線12と対向する位置に格子状に配置され、表示画素PX間における光抜けを防止する遮光層である。アレイ基板110と対向基板120とは、互いの配向膜が対向するように配置されシール剤26により固定される。アレイ基板110と対向基板120との間には、柱状スペーサ22が配置されている。柱状スペーサ22によりアレイ基板110と対向基板120との距離は一定に保持される。本実施形態では、柱状スペーサ22の高さは2μm以上6μm以下で任意に制御している。液晶層70は、アレイ基板110、対向基板120、およびシール剤26により囲まれた領域に配置されている。アレイ基板110および対向基板120の液晶層70側と反対に位置する面には図示しない偏光板が夫々配設されている。続いて、本実施形態の液晶表示装置の製造方法の一例について説明する。まず、アレイ基板110を形成する方法について説明する。複数のアレイ基板110を切り出す第1透明絶縁性基板上に成膜とパターンニングとを繰り返してスイッチング素子14、走査線11、信号線12、絶縁膜L1、および、アレイ基板110上の他のスイッチング素子や各種配線を形成する。続いて、露光レジストを塗布、露光、現像して平坦化膜20を形成する。このとき、露光レジストは表示領域25および額縁領域の全面に塗布される。本実施形態では露光レジストは光硬化性のものを採用し、露光マスクを介してフォトレジストを露光し、現像してコンタクトホール21を有する所定パターンの平坦化膜20となるように形成する。平坦化膜20の上にITO等の透明電極材料を成膜し、透明電極材料上にさらに露光レジストを塗布する。露光レジストを露光および現像して接続電極31および共通電極30の所定のパターンにパターンニングする。続いて、エッチングにより透明電極材料をパターンニングして、露光レジストを剥離して所定パターンの共通電極30を形成する。続いて、共通電極30の上層に、モリブデンの成膜およびパターンニングを行い、アルミニウムの成膜およびパターンニング行い、さらにモリブデンの成膜およびパターンニングを行い、共通電極30の第1電極30Aおよび第2電極30B上に配置されたアルミニウムとモリブデンとの電極パターンを複数回形成し、センサ電極40を形成する。続いて、センサ電極40上に露光レジストを塗布、露光、現像してコンタクトホール51を有する絶縁膜50を形成する。続いて、絶縁膜50上にITO等の透明電極材料を成膜し、スリット60Sを備える所定のパターンにパターンニングして画素電極60を形成する。その後、画素電極60の表面には所定方向にラビング処理を施した配向膜を形成する。次に、対向基板120を形成する方法について説明する。複数の対向基板120を切り出す第2透明絶縁性基板上に、着色された露光レジストの塗布、露光、現像を繰り返して、第1着色層24a、第2着色層24b、第3着色層24c、第4着色層27a、および、第5着色層27bを形成する。さらに、複数の着色層上に透明樹脂平坦化膜29となる透明樹脂材料を塗布し、所定パターンにパターンニングして透明樹脂平坦化膜29を形成する。その後、透明樹脂平坦化膜29の表面に所定方向にラビング処理を施した配向膜を形成する。柱状スペーサ22は、第1透明絶縁性基板あるいは第2透明絶縁性基板の上層に、例えば樹脂材料を塗布し、所定パターンにパターンニングすることにより形成される。続いて、表示領域25を囲むように第1透明絶縁性基板上あるいは第2透明絶縁性基板上に例えば紫外線硬化樹脂からなるシール剤26を塗布し、複数のアレイ基板110となる透明絶縁性基板と複数の対向基板120となる透明絶縁性基板とを互いの配向膜が向かい合うように対向させて位置あわせし、シール剤26に紫外線を照射して硬化させて固定する。液晶材料は、シール剤26が開口した注入口から表示領域25に注入されてもよく、第1透明絶縁性基板と第2透明絶縁性基板とを貼り合わせる前に、シール剤26に囲まれた領域に滴下されてもよい。注入口から液晶材料を注入する場合は、注入後に注入口を封止剤により封止して液晶層70が形成される。液晶材料を滴下する場合には、滴下した後に第1透明絶縁性基板と第2透明絶縁性基板とを貼り合わせて液晶層70が形成される。第1透明絶縁性基板と第2透明絶縁性基板とが貼り合わされた状態で、複数のアレイ基板110と、アレイ基板110と対向する第2透明絶縁性基板の部分とを切り出し、さらに第2透明絶縁性基板を割断して対向基板120を切り出す。続いて、アレイ基板110および対向基板120の液晶層70側と反対に位置する面に偏光板を配設して、液晶表示装置を形成する。上記のように、本実施形態の液晶表示装置は、共通電極30とセンサ電極40とが同電位で構成され、共通電極30の第1電極30A間においてセンサ配線40の下層に配置された第2電極30Bを設けることにより、センサ電極40が第1電極30Aのパターン端部の段差上を横切って配置されることを回避してセンサ電極40が切れたり、空洞化したりすることを防止しすることを可能としている。すなわち、本実施形態によれば、低抵抗で良質なセンサ電極を有し、接触位置の検出感度が良好な液晶表示装置を提供することができる。なお、第2電極30Bの第1電極30A間に延びる方向と略直交する方向の幅W2は、列方向における第1センサの幅W1、および、行方向における第2センサの幅W1と略同一であったが、第2電極30Bの幅W2は、第1センサおよび第2センサの幅W1以上であれば上述の実施形態と同様の効果を得ることができる。このとき、第2電極30Bの幅W2を広くすることにより、共通電極30の抵抗が大きくなり表示ムラが生じることが無いように調整すべきである。本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。