"平均粒子径が1~60nmであり、配位原子として窒素、酸素、硫黄、およびリンのうちいずれかを有する炭素鎖長C6~C24の有機配位子が配位した結晶性スズ含有酸化インジウム粒子から構成されることを特徴とする透明導電膜。平均粒子径が1~60nmであり、配位原子として窒素、酸素、硫黄、リンのいずれかを有する炭素鎖長C6~C24の有機配位子が配位した結晶性スズ含有酸化インジウム粒子である透明導電膜形成用粒子の分散液を基材に塗布、乾燥するが、300°C以上の焼成処理を行わないことを特徴とする透明導電膜の製造方法。前記透明導電膜形成用粒子の分散液を精製して前記基材に塗布、乾燥することを特徴とする請求項2に記載の透明導電膜の製造方法。前記透明導電膜形成用粒子の分散液にエタノールを添加することにより前記透明導電膜形成用粒子を凝集析出させ、遠心分離することにより凝集析出させた前記透明導電膜形成用粒子を液体と分離し、前記液体から分離させた前記透明導電膜形成用粒子をヘキサンに分散させることにより前記透明導電膜形成用粒子の分散液を精製することを特徴とする請求項3に記載の透明導電膜の製造方法。本発明は、上記事実に鑑みてなされたものであり、その目的は、高い透過率と導電性を有する透明導電膜を提供することにある。本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、所定の有機配位子が配位した結晶性スズ含有酸化インジウム粒子の分散液を用いて製造された透明導電膜において高い透過率と導電性が両立しており、その結果上記課題を解決できることを見出したことに基づき、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、平均粒子径が1~60nmであり、配位原子として窒素、酸素、硫黄、およびリンのうちいずれかを有する炭素鎖長C6~C24の有機配位子が配位した結晶性スズ含有酸化インジウム粒子から構成されることを特徴とする透明導電膜、並びにその製造方法である。本発明によれば、高い透過率と導電性を有する透明導電膜を提供することができる。以下、本発明の実施形態の1つについて詳細に説明する。本実施形態の透明導電膜は、結晶性スズ含有酸化インジウム粒子で構成されている。そして、本実施形態の透明導電膜を構成している結晶性スズ含有酸化インジウム粒子以下、透明導電膜形成用粒子ともいうは平均粒子径数平均粒子径が1~60nmであり、配位原子として窒素、酸素、硫黄、およびリンのうちいずれかを有し、C6~C24炭素原子数が6~24個である炭素鎖長の有機配位子が配位している。透明導電膜形成用粒子は、結晶状態の金属酸化物に、有機配位子が配位している構成を備える。そのため、透明導電膜の製造の過程において高温での焼成により粒子を結晶化させる工程を必要とせず、基材への塗布及び例えば常温付近等の従来よりも低温での乾燥のみで高い導電性を有する透明導電膜が作製可能である。また、透明導電膜形成用粒子は、金属酸化物の周囲に有機配位子が配位している構造から、有機溶媒中に容易に、かつ安定的に分散させることが可能である。よって、特殊な分散剤や溶媒、特殊な装置を使用することなく、汎用の有機溶媒に同粒子を分散させることで、透明導電膜を作製するための塗布液分散液を作製することができる。すなわち、本実施形態の透明導電膜は、同塗布液を基材に塗布し、例えば従来よりも低温で乾燥以下、低温乾燥ともいうさせるのみでも成膜可能である。よって、従来のスパッタ法や真空蒸着法よりも簡便かつ低コストに、例えば透明導電膜形成用粒子を有機溶媒に分散させた分散液を基材上に塗布し、次いで常温で乾燥させるのみによっても導電性金属酸化物の透明導電膜を提供することができる。また、本実施形態の透明導電膜は、金属酸化物を用いて構成されていることから比較的透明性が高いので従来の貴金属を用いた塗膜よりもいずれの波長の光についても膜の光線透過率が高く、透過色のムラの少ない透明導電膜を提供することが可能である。透明導電膜形成用粒子は、金属に配位可能な有機配位子が配位した金属酸化物粒子であり、高い導電性を有することを特徴とする。有機配位子が配位する本実施形態に係る金属金属酸化物材料は、高い透過率と導電性を有している、スズを含有した結晶性酸化インジウム結晶性スズ含有酸化インジウムで構成されている。透明導電膜形成用粒子は、金属に配位可能な有機配位子が配位することで、有機溶媒への分散性や溶液安定性、また塗膜にした際の基材への密着性など、金属酸化物単独では得られない特性を備えている。用いる有機配位子としては中心の金属酸化物への配位が可能であり、炭素鎖長C6~C24であれば単座配位子、多座配位子のいずれも用いることができ、例えば、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、ヘキサノール、オクタノール、2-エチルヘキサノール、デカノール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、ヘキサデカノール、オレイルアルコール、テトラコサノール、ヘキシルアミン、オクチルアミン、デシルアミン、ウンデシルアミン、ドデシルアミン、トリデシルアミン、テトラデシルアミン、ペンタデシルアミン、ヘキサデシルアミン、ヘプタデシルアミン、ステアリルアミン、ノナデシルアミン、オレイルアミン、ヘキサメチレンジアミン等があげられる。安定した金属酸化物粒子を形成し、かつより高い導電性を発現させるために、C6~C24の炭素鎖長を有する鎖状構造配位子が適している。炭素鎖長がC6未満であると、有機溶媒への分散安定性が低下して凝集を起こしやすくなる。一方、炭素鎖長がC24を超えると、塗膜にした際に金属酸化物粒子間の距離が遠くなり、導電性が低下することがある。金属へ配位する配位原子を含有する官能基配位基としてはどのような構造でもよく、例えば、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アルデヒド基、カルボキシル基、カルボニル基、アシル基、アセチル基、エーテル基、エポキシ基、ホスフィノ基、チオール基、スルフィド基、ジスルフィド基、アミノ基、ピリジル基、ビピリジル基、アミド基、シアノ基、ハロゲン基等が挙げられる。一方、本実施形態においては、金属酸化物に有機配位子が安定的に配位するために、配位原子として窒素、酸素、硫黄、およびリンのうちいずれかを有している必要がある。透明導電膜形成用粒子の外観は、透過型電子顕微鏡TEMを用いて観察することができる。TEMを用いた測定により得られる透明導電膜形成用粒子の平均粒子径平均一次粒子径は、1~60nmであり、高い透過率を得るためには、4~40nmであることが好ましく、5~20nmであることがさらに好ましい。平均粒子径が1nm未満では、粒径が小さすぎることから、透明導電膜にした際に十分な導電性が得られない。一方、平均粒子径が60nmを超えると粒径が大きすぎることから、塗膜にした際に光を散乱し、可視光域での光の透過率が悪化する等の点で不十分である。本実施形態の透明導電膜を構成する透明導電膜形成用粒子は、例えば、原料の金属塩と有機配位子とを溶媒中で還流することにより製造することができる。より詳細には、インジウム塩とスズ塩、及び有機配位子を240°C以上の沸点を有している溶媒以下、高沸点溶媒という中に添加し、240°C以上で還流することで、有機配位子が配位した結晶性スズ含有酸化インジウム粒子を得る。用いる原料金属塩インジウム塩およびスズ塩は、金属酸化物を形成するための酸素を含有している必要があり、例えば、酢酸塩、硫酸塩、2-エチルヘキサン酸塩、リン酸塩、硝酸塩、炭酸塩、水酸化物塩等が挙げられる。用いる高沸点溶媒としては、例えば、1-オクタデセン、安息香酸ブチル、1-ドデカノール、1-トリデカノール、1-テトラデカノール、1-ペンタデカノール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、n-ジオクチルエーテル、ジフェニルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル等を用いることができる。上記試薬をフラスコ中で、240~280°C、90~300分還流することで、目的の透明導電膜形成用粒子を合成することが可能である。この手法は、加圧や300°C以上の高温加熱といった工程を必要とせず、またワンポッドでの合成が可能であることから、透明導電膜形成用粒子を簡便に合成でき、工業的なプロセスにも適しているといえる。本実施形態において、透明導電膜形成用粒子の原料となる金属塩と有機配位子の割合は特に限定されないが、例えば、粒子の形成しやすさの観点から、インジウム塩とスズ塩の比率は50:50~98:2、および粒子の分散性の観点からインジウム塩と有機配位子の比率は50:50~5:95とすることができる。上記手法で得られた透明導電膜形成用粒子は、結晶性を有していることがX線回折分析より確認できるため、粒子形成後に300°C以上の高温で焼成し、結晶化させるプロセスを必要としない。本実施形態においては、透明導電膜形成用粒子を有機溶媒に添加することで、透明導電膜形成用粒子分散液を作製することができる。ここで、本実施形態に係る透明導電膜形成用粒子を有機溶媒に添加するとき、金属酸化物に配位している有機配位子が有機溶媒によって溶媒和される。そのため、汎用の有機溶媒を用いても粒子が安定して分散している透明導電膜形成用粒子分散液を作製することができる。有機溶媒としては、透明導電膜形成用粒子が分散すればどのようなものでも使用でき、単独及び数種類を組み合わせて使用することもできる。例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、ベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ヘキサン、オクタン、シクロヘキサン、デカヒドロナフタレンなどの脂肪族炭化水素系、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、アセチルアセトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、N-メチルピロリドンなどのケトン類、ホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミドなどのアミド類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メトキシエタノール、エトキシエタノールなどのエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2-ジクロロエタンなどの塩化脂肪族炭化水素類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミルなどの酢酸エステル類等が挙げられる。透明導電膜形成用粒子の分散安定性の観点から、ヘキサン、シクロヘキサン、クロロホルム、ジエチルエーテル、トルエン、ベンゼン、o-ジクロロベンゼン、p-ジクロロベンゼン、デカヒドロナフタレンなどが好ましい。本実施形態の透明導電膜は、透明導電膜形成用粒子の他に未反応原料、脱離配位子、溶媒等を含有していてもよい。未反応原料は目的の透明導電膜形成用粒子形成に使用されなかった余剰の原料であり、脱離配位子は透明導電膜形成用粒子分散液中で粒子から脱離した単体の有機配位子であり、溶媒は合成時に使用した溶媒や透明導電膜形成用粒子を分散させるために使用した溶媒である。本実施形態においては、例えば、透明導電膜形成用粒子分散液を基材上に塗布し、乾燥させることにより透明導電膜を作製することができる。塗布方法としては、例えば、スピンコート法、ドロップコート法、ロールコート法、スプレー法、バーコート法、ディップ法、メニスカスコート法、ドクターブレード法、スクリーン印刷法、Tダイ法、リップコーター法、ロールコート法等の公知の方法が使用可能である。塗布後の乾燥条件は任意であり室温~200°Cの範囲で任意の温度で乾燥可能である。また、乾燥雰囲気については空気中、窒素雰囲気中、減圧下など、特に制限されない。本実施形態の透明導電膜の製造においては、透明導電膜形成用粒子分散液を、透明導電膜形成用粒子合成時に生じた副生成物及び、未反応原料、溶媒を除去するために、基材に塗布する前に精製することが好ましい。精製の方法としては、クロスフローろ過、デッドエンドろ過などの膜分離法、ふるい分け法、遠心分離法等が挙げられる。このうち、本実施形態においては、平均粒子径が小さい透明導電膜形成用粒子に適した分離膜の選択に要する手間や時間を省略できるため、遠心分離法で精製することが好ましい。遠心分離法に基づき精製を行う場合、例えば合成した透明導電膜形成用粒子分散液にエタノールを添加して粒子を凝集析出させ、粒子が凝集析出したこの分散液を遠心分離に供して固液分離する。その後、さらに液体溶液部分を除去して凝集粒子のみを取り出し、へキサン中に透明導電膜形成用粒子を再分散させることにより透明導電膜形成用粒子分散液を精製する。当該精製処理を行うことにより、より純度の高い透明導電膜形成用粒子分散液を得ることができる。本実施形態の透明導電膜の製造においては、透明導電膜形成用粒子分散液を、透明導電膜形成用粒子合成時に生じた粒子の粒径分布を揃えるために、基材に塗布する前に分級することが好ましい。透明導電膜形成用粒子分散液の分級方法としては湿式での分級方法が適しており、クロスフローろ過、デッドエンドろ過などの膜分離法、ふるい分け法、遠心分離法等が挙げられる。このうち、本実施形態においては、平均粒子径が小さい透明導電膜形成用粒子に適した分離膜およびふるいの選択に要する手間や時間を省略できるため、遠心分離法で分級することが好ましい。遠心分離法に基づき分級を行う場合、例えば合成した透明導電膜形成用粒子分散液にエタノールを添加して、その添加量を調整することで粒子径の大きい粒子を凝集析出させ、粒子が凝集析出したこの分散液を遠心分離に供して固液分離する。その後、さらに溶液部分を除去して凝集粒子のみを取り出し、へキサン中に透明導電性形成用粒子を再分散させることにより透明導電膜形成用粒子分散液を分級する。当該分級処理を行うことにより、より粒子径の揃った透明導電膜形成用粒子分散液を得ることができる。本実施形態においては、透明導電膜形成用粒子分散液を塗布する基材についても特に制限はなく、例えば、ガラス系などの無機基材、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレートなどのフィルム基材等を使用できる。これらの基材は、透明導電膜の密着性を高めるために表面処理を行ってもよい。表面処理液の成分としては、例えば、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、トリス2-メトキシエトキシビニルシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-2-アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、γ-クロロプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシランなどのシランカップリング剤、有機チタン、有機アルミニウム、有機ジルコニウムなどの有機金属等が挙げられる。シランカップリング剤や有機金属等を有機溶媒、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコールなどで0.1~5の濃度に希釈したものを表面処理液として用いる。この表面処理液をスピナーなどで基板上に均一に塗布することによって表面処理ができる。こうして得られる本実施形態の透明導電膜の厚みは目的を損なわない限りにおいて任意に設定されるが、0.001~5μm程度が好ましい。より好ましくは、0.01~2μm、さらに好ましくは0.05~1μmである。上記膜厚が薄すぎると微粒子がアイランド状に存在し、導電連鎖性が不足し、所望の導電性が得られない等の点で不充分であり、また、膜厚が厚すぎると膜による光の吸収が強すぎ、可視光域での光の透過率が下がりすぎる等の点で不十分である。以上、本実施形態によれば、透過率と導電性に優れた透明導電膜を提供することができる。透明導電膜形成用粒子は、平均粒子径が十分に小さく、粒径分布が狭いため、例えば上記の手法で得られる本実施形態の透明導電膜は、透明導電材料として十分な光線透過率を発現できる。本実施形態の透明導電膜の光線透過率は60以上であり、好ましくは70以上である。透明導電膜形成用粒子は、X線回折法により単結晶粒子であることを確認しているため、塗布することで高い導電性が発現する特徴を有する。従来報告されている透明導電膜形成用の粒子の多くは粒子生成時に非晶質の酸化物であり、粒子生成後または塗布後に300°C以上の高温で焼成することによって結晶化させる必要がある。これに対し、本実施形態の透明導電膜は、高い結晶性を有する金属酸化物粒子から構成されているため、塗布及び低温乾燥のみで製造されても高い導電性を示す特徴を持つ。したがって、本実施形態によれば、透明導電膜の製造において、300°C以上の焼成処理を行わない。透明導電膜の導電性は4深針プローブを用いた抵抗率計で評価を行うことができる。透明導電膜のシート抵抗は、電磁波漏洩防止用として用いられる場合、106Ω/□以下が好ましい。さらに、本実施形態においては透明導電膜の製造にあたり上述の透明導電膜形成用粒子を用いることで、安定な分散液を得ることができる。さらにまた、当該分散液を用いて形成された透明導電膜は基材への高い密着性を示し、また、透明導電膜形成用粒子は透明導電膜を構成する粒子として最適な粒径であるため、高透過率で、かつ高い導電性を発現する。以下に本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明はこれら実施例によりなんら制限されるものではない。<透明導電膜形成用粒子の精製>得られた透明導電膜形成用粒子は、遠心機H-300、コクサン株製を使用し、遠心分離によって精製を行った。具体的には、透明導電膜形成用粒子の分散液にエタノールを添加することにより分散液中の透明導電膜形成用粒子を凝集析出させた。次に、遠心分離に供することにより透明導電膜形成用粒子を液体と分離したより具体的には固液分離を生じさせた後、液体部分を除去した。続いて、液体から分離させた透明導電膜形成用粒子をヘキサンに分散させることにより透明導電膜形成用粒子の分散液を精製した。<透明導電膜形成用粒子の分級>得られた透明導電膜形成用粒子は、遠心機H-300、コクサン株製を使用し、遠心分離によって分級を行った。具体的には、透明導電膜形成用粒子の分散液に添加するエタノール量を調整することにより分散液中の透明導電膜形成用粒子の一部を凝集析出させた。次に、遠心分離に供することにより透明導電膜形成用粒子を分級した。さらに、分級した透明導電膜形成用粒子をヘキサンに分散させることにより透明導電膜形成用粒子の分散液を得た。<透明導電膜形成用粒子の外観観察>透明導電膜形成用粒子の外観は、透過型電子顕微鏡TEMで観測した。該透明導電膜形成用粒子を有機溶媒に分散させた粒子分散液を用意し、これをコロジオン膜展張したカーボンコーティング銅メッシュに落として溶媒を揮発させ、このサンプルを透過型顕微鏡で観察した。また得られた像から、粒子の粒子径を読み取った。<透明導電膜の導電性の測定>抵抗率計Loresta-AP、三菱油化株製を用い、4探針法に基づきシート抵抗の測定を行った。なお、実施例および比較例については、106Ω/□以下のシート抵抗を示す導電膜について高い導電性を有すると判断した。<光線透過率の測定>ヘーズメーターNDH-5000、日本電色工業株製を用い、JISK7361-1に準拠して、透明導電膜の光線透過率の測定を行った。なお、実施例および比較例については、60以上の光線透過率を示す導電膜について高い透過性を有すると判断した。<結晶性の測定>X線回折分析装置X‘portPROMRD、スペクトリス社製を用い、X線回折法で透明導電膜形成用粒子の結晶性を測定した。得られたX線回折ピークから結晶格子を読み取り、結晶性を判断した。製造例1オレイルアミン炭素鎖長C18の配位した結晶性スズ含有酸化インジウム粒子分散液の製造例100mLフラスコに酢酸インジウムIII300mg、2-エチルヘキサン酸スズ40μL、2-エチルヘキサン酸570μL、オレイルアミン3160μL、n-ジオクチルエーテル10mLを仕込み、真空中80°Cで1時間加熱し、その後常圧に戻して窒素雰囲気中150°Cで1時間加熱し、次いで窒素雰囲気中280°Cで2時間加熱した。得られた溶液にエタノール100mLを加えて遠心分離に供することにより固液分離し、次いで溶液部分を除去することにより副生成物などを除去した。続いて、n-ヘキサン50mLを加えて透明導電膜形成用粒子を分散させることにより透明導電膜形成用粒子分散液オレイルアミンの配位した結晶性スズ含有酸化インジウム粒子分散液を精製した。得られた粒子は単結晶粒子であり、また、その平均粒子径は8.4nmであった。製造例2オレイルアルコール炭素鎖長C18の配位した結晶性スズ含有酸化インジウム粒子分散液の製造例100mLフラスコに酢酸インジウムIII300mg、2-エチルヘキサン酸スズ40μL、2-エチルヘキサン酸570μL、オレイルアルコール3160μL、n-ジオクチルエーテル10mLを仕込み、真空中80°Cで1時間加熱し、その後常圧に戻して窒素雰囲気中150°Cで1時間加熱し、次いで窒素雰囲気中280°Cで2時間加熱した。得られた溶液にエタノール100mLを加えて遠心分離に供することにより固液分離し、次いで溶液部分を除去することにより副生成物などを除去した。続いて、n-ヘキサン40mLを加えて透明導電膜形成用粒子を分散させることにより透明導電膜形成用粒子分散液オレイルアルコールの配位した結晶性スズ含有酸化インジウム粒子分散液を精製した。得られた粒子は単結晶粒子であり、また、その平均粒子径は5.3nmであった。製造例3ジオクチルアミン炭素鎖長C8の配位した結晶性スズ含有酸化インジウム粒子分散液の製造例有機配位子としてオレイルアルコールの代わりにジオクチルアミン炭素鎖長C8を使用した以外は製造例2と同様の手法でジオクチルアミンの配位した結晶性スズ含有酸化インジウム粒子分散液を得た。得られた粒子は単結晶粒子であり、また、その平均粒子径は6.7nmであった。製造例4製造例1の結晶性スズ含有酸化インジウム粒子の製造における分級例製造例1で得られた溶液をさらに遠心分離法によって精製した後、エタノール10mLを加えて遠心分離を行い、次いで溶液部分を除去することにより、粒子径の小さい粒子を除去した。続いて、n-ヘキサン50mLを加えて透明導電膜形成用粒子を分散させることにより透明導電膜形成用粒子分散液オレイルアミンの配位した結晶性スズ含有酸化インジウム粒子分散液を得た。得られた粒子の平均粒子径は17.4nmであった。製造例5ジトリデシルアミン炭素鎖長C26の配位した結晶性スズ含有酸化インジウム粒子分散液の製造例有機配位子としてオレイルアミンの代わりにジトリデシルアミン炭素鎖長C26を使用した以外は製造例1と同様の手法でジトリデシルアミンの配位した結晶性スズ含有酸化インジウム粒子分散液を得た。得られた粒子の平均粒子径は12.9nmであった。実施例1製造例1で製造した透明導電膜形成用粒子分散液を基材であるガラス板に塗布し、室温25°Cで10時間乾燥させ、透明導電膜を得た。該透明導電膜は、基材への密着性も高く、光線透過率70、シート抵抗5×105Ω/□であり、高い透過率と導電性を有していた。実施例2製造例1で製造した透明導電膜形成用粒子分散液をさらに遠心分離法によって精製した後、基材であるガラス板に塗布し、室温25°Cで10時間乾燥させ、透明導電膜を得た。該透明導電膜は、基材への密着性も高く、光線透過率80、シート抵抗2×105Ω/□であり、高い透過率と導電性を有していた。実施例3製造例1で製造した透明導電膜形成用粒子分散液をさらに遠心分離法によって精製した後、基材であるPETフィルムに塗布し、室温25°Cで10時間乾燥させ、透明導電膜を得た。該透明導電膜は、基材への密着性も高く、光線透過率75、シート抵抗6×105Ω/□であり、高い透過率と導電性を有していた。実施例4製造例2で製造した透明導電膜形成用粒子分散液をさらに遠心分離法によって精製した後、基材であるガラス板に塗布し、室温25°Cで10時間乾燥させ、透明導電膜を得た。該透明導電膜は、基材への密着性も高く、光線透過率80、シート抵抗9×105Ω/□であり、高い透過率と導電性を有していた。実施例5製造例2で製造した透明導電膜形成用粒子分散液を、さらに遠心分離法によって精製した後、基材であるPETフィルムに塗布し、室温25°Cで10時間乾燥させ、透明導電膜を得た。該透明導電膜は、の基材への密着性も高く、光線透過率75、シート抵抗8×105Ω/□であり、高い透過率と導電性を有していた。実施例6製造例2で製造した透明導電膜形成用粒子分散液を、基材であるPETフィルムに塗布し、50°Cで3時間乾燥させ、透明導電膜を得た。該透明導電膜は、基材への密着性も高く、光線透過率70、シート抵抗1×106Ω/□であり、高い透過率と導電性を有していた。実施例7製造例3で製造した透明導電膜形成用粒子分散液をさらに遠心分離法によって精製した後、基材であるガラス板に塗布し、室温25°Cで10時間乾燥させ、透明導電膜を得た。該透明導電膜は、基材への密着性も高く、光線透過率80、シート抵抗7×105Ω/□であり、高い透過率と導電性を有していた。実施例8製造例4で分級した透明導電膜形成用粒子分散液を基材であるガラス板に塗布し、室温25°Cで10時間乾燥させ、透明導電膜を得た。該透明導電膜は、基材への密着性も高く、光線透過率80、シート抵抗1×105Ω/□であり、高い透過率と導電性を有していた。比較例1市販品の平均粒子径30nmのスズ含有酸化インジウムITO微粒子シーアイ化成社製、商品名:NanoTeckITO0.5g、分散剤としての脂肪族系リン酸エステル型界面活性剤旭電化工業株製、商品名PS-440E50mg、有機溶剤のメチルイソブチルケトンMIBK5gを混合した後、ジルコニアビーズを用いたペイントシェーカーにより湿式粉砕して、ITO微粒子分散液を作製した。該ITO微粒子分散液を基材であるガラス板に塗布し、60°Cで10時間乾燥させ、透明導電膜を得た。該透明導電膜は、基材への密着性も低く、光線透過率52、シート抵抗は9.9×107Ω/□以上で測定できなかった。比較例2製造例5で製造したジトリデシルアミンの配位した結晶性スズ含有酸化インジウム粒子分散液を、さらに遠心分離法によって精製した後、基材であるガラス板に塗布し、室温で10時間乾燥させ、透明導電膜を得た。該透明導電膜は、基材への密着性は高かったが、光線透過率75、シート抵抗9.9×107Ω/□以上で測定できず、透明導電膜として十分な導電性を有しているとはいえなかった。"