"下記一般式1で示される化合物であることを特徴とする、光学材料用有機化合物。式1において、X及びYは、それぞれ下記に示される置換基から選択される置換基である。は、R1又はR2との結合手を表す。R1及びR2は、それぞれ水素原子、炭素数1乃至2のアルキル基及びメタアクリロイル基から選択される置換基である。Z1及びZ2は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1乃至2のアルコキシ基、炭素数1乃至2のアルキルチオ基、置換あるいは無置換の炭素数1乃至2のアルキル基から選択される置換基である。a及びbは、それぞれ0乃至2の整数である。aが2のとき2つのZ1は、同じであってもよいし異なっていてもよい。bが2のとき2つのZ2は、同じであってもよいし異なっていてもよい。X及びYが、それぞれ下記に示される置換基から選択される置換基であることを特徴とする、請求項1に記載の光学材料用有機化合物。は、R1又はR2との結合手を表す。X及びYが、それぞれ下記に示される置換基から選択される置換基であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の光学材料用有機化合物。は、R1又はR2との結合手を表す。R1及びR2が、それぞれ水素原子又はメタアクリロイル基であり、X及びYが、それぞれ下記に示される置換基から選択される置換基であり、Z1及びZ2が、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1乃至2のアルコキシ基、炭素数1乃至2のアルキルチオ基及び炭素数1乃至2のアルキル基から選択される置換基であることを特徴とする、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の光学材料用有機化合物。は、R1又はR2との結合手を表す。X及びYが、それぞれ-S-又は-O-であり、R1及びR2が、それぞれ水素原子又は炭素数1乃至2のアルキル基であり、Z1及びZ2が、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1乃至2のアルコキシ基、炭素数1乃至2のアルキルチオ基及び置換あるいは無置換の炭素数1乃至2のアルキル基から選択される置換基であることを特徴とする、請求項1に記載の光学材料用有機化合物。X及びYが、それぞれ-S-又は-O-であり、R1及びR2が、それぞれ水素原子又は炭素数1乃至2のアルキル基であり、Z1及びZ2が、それぞれ水素原子又は置換あるいは無置換の炭素数1乃至2のアルキル基であることを特徴とする、請求項1又は5に記載の光学材料用有機化合物。X及びYが、それぞれ-S-又は-O-であり、R1及びR2が、それぞれ炭素数1乃至2のアルキル基であり、Z1及びZ2が、それぞれ水素原子又は置換あるいは無置換の炭素数1乃至2のアルキル基であることを特徴とする、請求項1、5及び6のいずれか一項に記載の光学材料用有機化合物。Z1及び/又はZ2が、置換基を有しても良い炭素数1乃至2のアルキル基であり、前記置換基が、下記一般式3で示される置換基であることを特徴とする、請求項1乃至3及び請求項5乃至7のいずれか一項に記載の光学材料用有機化合物。式3において、は、結合手を表し、mは、0又は1であり、nは、2乃至4の整数であり、Rは、水素又はメチル基である。下記一般式2で示されることを特徴とする、光学材料用有機化合物。式2において、Xは、下記に示される置換基から選択される置換基である。は、R11との結合手を表す。Yは、下記に示される置換基から選択される置換基である。は、R12との結合手を表す。R11及びR12は、それぞれ水素原子、炭素数1乃至2のアルキル基及びメタアクリロイル基から選択される置換基である。Z3は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1乃至2のアルコキシ基、炭素数1乃至2のアルキルチオ基及び置換あるいは無置換の炭素数1乃至2のアルキル基から選択される置換基である。cは、0乃至2の整数である。cが2のとき2つのZ3は、同じであってもよいし異なっていてもよい。Xが、下記に示される置換基から選択される置換基であり、は、R11との結合手を表す。Yが、下記に示される置換基から選択される置換基であることを特徴とする、請求項9に記載の光学材料用有機化合物。は、R12との結合手を表す。Xが、下記に示される置換基であり、は、R11との結合手を表す。Yが、下記に示される置換基であることを特徴とする、請求項9又は10に記載の光学材料用有機化合物。は、R12との結合手を表す。Xが、下記に示される置換基であり、は、R11との結合手を表す。Yが、下記に示される置換基であり、は、R12との結合手を表す。R11及びR12が水素原子又はメタアクリロイル基であり、Z3が、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1乃至2のアルコキシ基、炭素数1乃至2のアルキルチオ基及び炭素数1乃至2のアルキル基から選択される置換基であることを特徴とする、請求項9乃至11のいずれか一項に記載の光学材料用有機化合物。Z3が、置換基を有しても良い炭素数1乃至2のアルキル基であり、前記置換基が、下記一般式3で示される置換基であることを特徴とする、請求項9乃至11のいずれか一項に記載の光学材料用有機化合物。式3において、は、結合手を表し、mは、0又は1であり、nは、2乃至4の整数であり、Rは、水素又はメチル基である。mが0であることを特徴とする、請求項8又は請求項13に記載の光学材料用有機化合物。請求項1乃至14のいずれか一項に記載の光学材料用有機化合物を含有することを特徴とする、光学材料。請求項15に記載の光学材料を成形加工してなることを特徴とする、光学素子。しかしながら、図1中のBで示されているエリア内の特性高θg、F特性を有する材料で実用性低着色、高透明のあるものが現在存在しない。また特許文献1にて提案された材料は、いずれもθg,F値が0.70以下である。さらに特許文献2にて提案された材料は、θg,F値が0.70以上であるものの、透過率が低い。具体的には、膜厚12.5μmのサンプルにおいて波長430nmの光の透過率91以下である。本発明は、以上に述べた背景技術に鑑みてなされたものであり、その目的は、屈折率の分散特性アッベ数νd及び2次分散特性θg,Fが高く、可視光領域内の透過率が高く、かつ色収差補正機能の高い特性を有する光学材料用化合物を提供することである。本発明の光学材料用有機化合物は、下記一般式1又は2で示される化合物であることを特徴とする。式1において、X及びYは、それぞれ下記に示される置換基から選択される置換基である。は、R1又はR2との結合手を表す。R1及びR2は、それぞれ水素原子、炭素数1乃至2のアルキル基及びメタアクリロイル基から選択される置換基である。Z1及びZ2は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1乃至2のアルコキシ基、炭素数1乃至2のアルキルチオ基、置換あるいは無置換の炭素数1乃至2のアルキル基から選択される置換基である。a及びbは、それぞれ0乃至2の整数である。aが2のとき2つのZ1は、同じであってもよいし異なっていてもよい。bが2のとき2つのZ2は、同じであってもよいし異なっていてもよい。式2において、Xは、下記に示される置換基から選択される置換基である。は、R11との結合手を表す。Yは、下記に示される置換基から選択される置換基である。は、R12との結合手を表す。R11及びR12は、それぞれ水素原子、炭素数1乃至2のアルキル基及びメタアクリロイル基から選択される置換基である。Z1及びZ2は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1乃至2のアルコキシ基、炭素数1乃至2のアルキルチオ基及び置換あるいは無置換の炭素数1乃至2のアルキル基から選択される置換基である。cは、0乃至2の整数である。cが2のとき2つのZ11は、同じであってもよいし異なっていてもよい。本発明によれば、屈折率の分散特性アッベ数νd及び2次分散特性θg,Fが高く、色収差補正機能の高い特性を有する光学材料用有機化合物を提供することができる。このため、本発明の光学材料用有機化合物を有する光学材料を成形することで得られる光学素子は、効率良く色収差を取り除くことができる。従って、本発明によれば、光学系をより軽量短小化することができる。以下、本発明を詳細に説明する。まず本発明の光学素子用有機化合物について説明する。本発明の光学素子用有機化合物は、具体的には、下記一般式1又は2で表される化合物である。本発明の光学素子用有機化合物は、下記1A又は2Aで示される部分構造を基本骨格として有する化合物であるが、好ましくは、下記1A又は2Aで示される部分構造と、メタアクリロイル基と、を有するメタアクリレート化合物である。式1A及び式2Aにおいて、X0及びY0は、それぞれ酸素原子又は硫黄原子である。尚、本発明の光学素子用有機化合物の好ましい態様については後述する。まず式1の化合物について説明する。式1において、X及びYは、それぞれ下記に示される置換基から選択される置換基である。式1中のX及びYで表わされる置換基において、は、R1又はR2との結合手を表す。式1において、R1及びR2は、それぞれ水素原子、炭素数1乃至2のアルキル基及びメタアクリロイル基から選択される置換基である。R1及びR2で表されるアルキル基として、メチル基及びエチル基が挙げられる。式1において、Z1及びZ2は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1乃至2のアルコキシ基、炭素数1乃至2のアルキルチオ基、置換あるいは無置換の炭素数1乃至2のアルキル基から選択される置換基である。Z1及びZ2で表されるハロゲン原子として、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素が挙げられる。Z1及びZ2で表されるアルコキシ基として、メトキシ基及びエトキシ基が挙げられる。Z1及びZ2で表されるアルキルチオ基として、メチルチオ基及びエチルチオ基が挙げられる。Z1及びZ2で表されるアルキル基として、メチル基及びエチル基が挙げられる。尚、このアルキル基は、さらに、メタアクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシエトキシ基1-メタアクリロイルオキシエトキシ基、2-メタアクリロイルオキシエトキシ基、2-ヒドロキシエトキシ基、2-メルカプトエトキシ基、2-メルカプトエチルチオ基、メタアクリロイルオキシプロポキシ基1-メタアクリロイルオキシプロポキシ基、2-メタアクリロイルオキシプロポキシ基、3-メタアクリロイルオキシプロポキシ基、3-ヒドロキシプロポキシ基、3-メルカプトプロポキシ基、3-メルカプトプロピルチオ基、メタアクリロイルオキシブトキシ基1-メタアクリロイルオキシブトキシ基、2-メタアクリロイルオキシブトキシ基、3-メタアクリロイルオキシブトキシ基、4-メタアクリロイルオキシブトキシ基、4-ヒドロキシブトキシ基、4-メルカプトブトキシ基、4-メルカプトブチルチオ基、アリルオキシ基、アリルチオ基、4-ビニルベンジルオキシ基、オキシラニルメトキシ基、オキシラニルエトキシ基、チイラニルメトキシ基、チイラニルエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メトキシ基及びエトキシ基から選択される置換基を有していてもよい。式1において、a及びbは、それぞれ0乃至2の整数である。ここでaが2のとき2つのZ1は、同じであってもよいし異なっていてもよい。またbが2のとき2つのZ2は、同じであってもよいし異なっていてもよい。合成のし易さを考慮すると、a及びbは、それぞれ0又は1であることが好ましい。次に、式1に示される化合物の好ましい態様について説明する。ここで式1に示される化合物の好ましい態様は、下記1-1と1-2とに大別される。1-1X及びYが、それぞれ下記に示す置換基より選択される置換基である場合1-2X及びYが、それぞれ硫黄原子-S-又は酸素原子-O-である場合1-1の場合、下記1-1-1乃至1-1-3を充足する態様がより好ましい。1-1-1X及びYが、それぞれ下記に示される置換基から選択される置換基であること1-1-2R1及びR2が、それぞれ水素原子、炭素数1乃至2のアルキル基及びメタアクリロイル基から選択される置換基であること1-1-3Z1及びZ2が、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1乃至2のアルコキシ基、炭素数1乃至2のアルキルチオ基、置換あるいは無置換の炭素数1乃至2のアルキル基から選択される置換基であることまた1-1の場合、上記1-1-1、並びに下記1-1-4及び1-1-5を充足する態様が特に好ましい。1-1-4R1及びR2が、それぞれ水素又はメタアクリロイル基であること1-1-5Z1及びZ2が、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1乃至2のアルコキシ基、炭素数1乃至2のアルキルチオ基及び炭素数1乃至2のアルキル基から選択される置換基であること1-2の場合、下記1-2-1乃至1-2-3を充足する態様が好ましい。1-2-1X及びYが、それぞれ-S-又は-O-であること1-2-2R1及びR2が、それぞれ水素又は炭素数1乃至2のアルキル基であること1-2-3Z1及びZ2が、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1乃至2のアルコキシ基、炭素数1乃至2のアルキルチオ基及び置換あるいは無置換の炭素数1乃至2のアルキル基から選択される置換基であることまた1-2の場合、上記1-2-1及び1-2-2、並びに下記1-2-4を充足する態様がより好ましい。1-2-4Z1及びZ2が、それぞれ水素原子又は置換あるいは無置換の炭素数1乃至2のアルキル基であることさらに1-2の場合、上記1-2-1及び1-2-4、並びに下記1-2-5を充足する態様が特に好ましい。1-2-5R1及びR2が、それぞれ炭素数1乃至2のアルキル基であることところで、Z1及びZ2が置換基を有する炭素数1乃至2のアルキル基である場合、当該アルキル基の具体的な構造として下記一般式3に示される構造が好ましい。式3において、は、結合手を表す。またmは、0又は1であり、nは、2乃至4の整数を表す。尚、合成のし易さという観点から、mは0であることが好ましい。ここで、Z1及びZ2のいずれかの構造が式3に示される構造である場合、化合物自体がよりフレキシブルな構造になるので、化合物自体の融点を下げることができる。化合物自体の融点が下がることは、成形のしやすさという観点で有利であるといえる。次に、下記一般式2の化合物について説明する。式2において、Xは、下記に示される置換基から選択される置換基である。式2中のXで表わされる置換基において、は、R11との結合手を表す。式2において、Yは、下記に示される置換基から選択される置換基である。式2中のYで表わされる置換基において、は、R12との結合手を表す。式2において、R11及びR12は、それぞれ水素原子、炭素数1乃至2のアルキル基及びメタアクリロイル基から選択される置換基である。R11及びR12で表されるアルキル基として、メチル基及びエチル基が挙げられる。式2において、Z3は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1乃至2のアルコキシ基、炭素数1乃至2のアルキルチオ基及び置換あるいは無置換の炭素数1乃至2のアルキル基から選択される置換基である。Z3で表されるアルコキシ基として、メトキシ基及びエトキシ基が挙げられる。Z3で表されるアルキルチオ基として、メチルチオ基及びエチルチオ基が挙げられる。Z3で表されるアルキル基として、メチル基及びエチル基が挙げられる。尚、このアルキル基は、さらに、メタアクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシエトキシ基1-メタアクリロイルオキシエトキシ基、2-メタアクリロイルオキシエトキシ基、2-ヒドロキシエトキシ基、2-メルカプトエトキシ基、2-メルカプトエチルチオ基、メタアクリロイルオキシプロポキシ基1-メタアクリロイルオキシプロポキシ基、2-メタアクリロイルオキシプロポキシ基、3-メタアクリロイルオキシプロポキシ基、3-ヒドロキシプロポキシ基、3-メルカプトプロポキシ基、3-メルカプトプロピルチオ基、メタアクリロイルオキシブトキシ基1-メタアクリロイルオキシブトキシ基、2-メタアクリロイルオキシブトキシ基、3-メタアクリロイルオキシブトキシ基、4-メタアクリロイルオキシブトキシ基、4-ヒドロキシブトキシ基、4-メルカプトブトキシ基、4-メルカプトブチルチオ基、アリルオキシ基、アリルチオ基、4-ビニルベンジルオキシ基、オキシラニルメトキシ基、オキシラニルエトキシ基、チイラニルメトキシ基、チイラニルエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メトキシ基及びエトキシ基から選択される置換基を有していてもよい。式2において、cは、0乃至2の整数である。cが2のとき2つのZ3は、同じであってもよいし異なっていてもよい。合成のし易さを考慮すると、cは、0又は1であることが好ましい。次に、式2に示される化合物の好ましい態様について説明する。式2に示される化合物のうち、好ましい態様は、下記2-1乃至2-4を充足する態様である。2-1Xが、下記に示される置換基から選択される置換基であること2-2Yが、下記に示される置換基から選択される置換基であること2-3R11及びR12が、それぞれ水素原子、炭素数1乃至2のアルキル基及びメタアクリロイル基から選択される置換基であること2-4Z3が、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1乃至2のアルコキシ基、炭素数1乃至2のアルキルチオ基及び置換あるいは無置換の炭素数1乃至2のアルキル基から選択される置換基であることまた式2に示される化合物のうち、より好ましい態様は、上記2-3及び2-4、並びに下記2-5及び2-6を充足する態様である。2-5Xが、下記に示される置換基から選択される置換基であること2-6Yが、下記に示される置換基から選択される置換基であることまた式2に示される化合物のうち、特に好ましい態様は、上記2-5及び2-6、並びに下記2-7及び2-8を充足する態様である。2-7R11及びR12が、それぞれ水素原子及びメタアクリロイル基から選択される置換基であること2-8Z3が、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1乃至2のアルコキシ基、炭素数1乃至2のアルキルチオ基及び炭素数1乃至2のアルキル基から選択される置換基であることところで、Z3が置換基を有する炭素数1乃至2のアルキル基である場合、当該アルキル基の具体的な構造として下記一般式3に示される構造が好ましい。式3において、は、結合手を表す。またmは、0又は1であり、nは、2乃至4の整数を表す。尚、合成のし易さという観点から、mは0であることが好ましい。ここで、Z3の構造が式3に示される構造である場合、化合物自体がよりフレキシブルな構造になるので、化合物自体の融点を下げることができる。化合物自体の融点が下がることは、成形のしやすさという観点で有利であるといえる。次に、本発明に係る光学材料用有機化合物の製造方法について一例を挙げて説明する。本発明に係る光学材料用有機化合物は、その製造ルートについては特に限定されず、どの様な製造方法でも採用することが可能である。ただし少なくとも下記a及びbの合成工程が含まれ、化合物によってはさらにcの合成工程が含まれる。a芳香環ベンゼン環同士の結合の形成bエーテルチオエーテル化反応cメタアクリレート化反応合成のしやすさ等を考慮すると、上記合成工程は、a、b、cの順番で行われる。合成工程aにおいては、芳香族化合物が有する官能基の種類によって臨機応変に変更可能である。例えば、遷移金属触媒によるカップリング反応やハロゲン化物同士の酸化的カップリング反応、芳香環上での置換反応等である。尚、反応の収率を考慮すると遷移金属触媒によるカップリング反応が望ましい。遷移金属触媒によるカップリング反応は、任意に選択する事が可能である。代表的な方法としては、ホウ酸等を利用する鈴木カップリング、有機スズを利用するスティルカップリング、有機亜鉛を利用する根岸カップリング等が好適に用いられる。合成工程bにおいて、エーテル化反応の代表的な方法としては、水酸基を水素化ナトリウムや水酸化カリウム等で塩にした後、対応するハロゲン化物を添加するウィリアムソンエーテル合成法等である。一方、チオエーテル化反応は、チオール基生成反応と、チオール基とハロゲン化物との反応と、により行われる。ここでチオール基生成反応は、例えば、水酸基を求核置換反応に対して活性がある置換基TsO-、Cl-、CF3S=O2-O-等に変換した後、硫化イオンS2を用いた求核置換反応を行うことにより達成される。またチオール基とハロゲン化物との反応においては、上述したウィリアムソンエーテル合成法等を応用することができる。合成工程cにおいて、代表的な方法としては、メタアクリル酸ハライドやメタアクリル酸無水物を使用して水酸基をエステル化する方法、メタアクリル酸の低級アルコールのエステルを使用するエステル交換反応、N,N‘-ジシクロヘキシルカルボジイミド等の脱水縮合剤を使用してメタアクリル酸と該ジオールとを脱水縮合させる直接エステル化反応、メタアクリル酸と該ジオールを硫酸等の脱水剤存在下で加熱する方法等が好適に用いられる。また、本発明に係る光学材料用有機化合物がメタアクリレート化合物である場合、反応時や保存時に重合が進行しないように重合禁止剤を必要に応じて使用してもよい。重合禁止剤の例としては、p-ベンゾキノン、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、2,5-ジフェニルパラベンゾキノン等のヒドロキノン類、テトラメチルピペリジニル-N-オキシラジカルTEMPO等のN-オキシラジカル類、t-ブチルカテコール等の置換カテコール類、フェノチアジン、ジフェニルアミン、フェニル-β-ナフチルアミン等のアミン類、ニトロソベンゼン、ピクリン酸、分子状酸素、硫黄、塩化銅II等を挙げることができる。この中でもヒドロキノン類、フェノチアジン及びN-オキシラジカル類が汎用性かつ重合抑制の点で好ましい。重合禁止剤の使用量は、前記メタアクリレート化合物に対して、下限が、通常10ppm以上、好ましくは50ppm以上であり、上限が、通常10000ppm以下、好ましくは1000ppm以下である。少なすぎる場合は、重合禁止剤としての効果が発現しないか効果が小さく、反応時や後処理工程での濃縮時に重合が進行する危険性があり、多すぎる場合には、例えば、後述する光学材料を製造する際の不純物となり、また、重合反応性を阻害する等の悪影響を及ぼす危険性があり好ましくない。次に、本発明の光学素子用有機化合物の特徴について説明する。本発明者らは、従来よりも高い色収差補正機能を光学素子に付与するためには、光学素子の材料特性として、下記i及びiiを充足することが光学設計上、極めて有効であることに着目した。i可視光領域内の透過率が高いことii2次分散特性θg,Fが汎用の材料から外れて、より大きい特性高θg,F特性であること具体的には、図1にて示される、アッベ数νdと2次分散特性θg,Fとの関係が硝材若しくは有機樹脂の汎用材料のプロットからずれているBのエリアである。具体的には、500μm内部透過率が410nmで90以上の特性である。ここでBエリアの特性は、νd<25、θg,F>0.70である。本発明者等は、図1に示されるBエリアの特性を満たす材料について鋭意検討を重ねた結果、共役可能な電子吸引性置換基と電子供与性置換基を少なくとも一つずつ有する長い共役構造の芳香族化合物が、屈折率の分散特性アッベ数νdが高く、かつ2次分散特性θg,Fが高い高θg,F特性、色収差補正機能の高い特性と実用性を兼ね備えた材料になることを見出した。即ち、本発明者らは、下記1Aあるいは2Aで示される部分構造を基本骨格とする化合物を見出した。一般に、芳香族化合物に代表される長い共役構造を有する化合物は、汎用材料よりもバンドギャップが小さいため、紫外領域の吸収端が可視光領域側にシフトしている。その影響により、長い共役構造を有する化合物は、高屈折率特性を有するようになる。この高屈折率特性は、短波長側により影響を与えるため、必然的に2次分散特性θg、Fが高くなって化合物の特性が図1に示されるBエリア内に収まるようになる。しかし、単純に芳香族化合物を連結させて長い共役構造を構築するだけでは実用性のある材料は得られない。例えば、大きな芳香族化合物は、合成性や他の化合物との相溶性、着色の点において課題が残る。そのため、前記共役可能な電子吸引性置換基と電子供与性置換基を少なくとも一つずつ有する長い共役構造の芳香族化合物が望ましい。このように、屈折率特性や2次分散特性を高くするという観点からすれば、化合物の共役長は長ければ長い方がよい。しかし、共役構造が長くなり過ぎると可視光領域の短波長側での透過率が低下するため、光学材料という用途を考慮する場合には、共役構造の長さを調整する必要がある。ここで、一般式1A及び2Aで示される部分構造においては、透過率及び屈折率特性について塩梅がよい程の共役長を有している。ところで共役可能な電子吸引性置換基としては、スルホン、ケトン、イミン、オキシム、ニトリル、ニトロ、エステル等が挙げられる。ここで生成物の長期安定性を考慮すると、好ましくは、スルホン、ケトン、ニトリル、エステルであり、より好ましくはスルホンである。このため、本発明の光学素子用有機化合物には、1A及び2Aに示されるように部分構造としてスルホンを有する化合物である。また共役可能な電子供与性置換基としては、ヒドロキシル基、メルカプト基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキル基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボニルオキシ基等である。好ましくは、ヒドロキシル基、メルカプト基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキル基、カルボニルオキシ基である。ただし、置換基の分子量が大きくなり過ぎると高い2次分散特性θg、Fが得られなくなる。このため、置換基としては、炭素数が0乃至10の置換基が望ましい。合成のし易さという観点からすれば、好ましくは、炭素数1乃至4の置換基である。本発明においては、特に好ましい置換基であるヒドロキシル基、メルカプト基、炭素数1乃至4のアルコキシ基及び炭素数1乃至4のアルキルチオ基が選択されている。また式1乃至2中に示されているH水素原子は、共役構造を調整するために必要であり、その他の置換基では当該置換基の立体障害に起因する芳香環同士のねじれによる共役の切断が起こり、特性が発現しない場合がある。次に、本発明に係る光学材料について説明する。本発明の光学材料は、下記A乃至Cに大別される。A本発明の光学材料用有機化合物をマトリックスポリマーに含有させてなる材料B本発明の光学材料用有機化合物を重合させてなる材料C本発明の光学材料用有機化合物と他の化合物とを共重合させてなる材料ここで、本発明の光学材料用有機化合物のうち、メタアクリロイル基を有していない化合物はAの形態で用いられる。一方、本発明の光学材料用有機化合物のうち、メタアクリロイル基を有している化合物はA乃至Cのいずれの形態においても利用可能であるが、専らB又はCの形態で用いられる。本発明の光学材料用有機化合物をAの形態で用いる場合、マトリックスポリマーとして、メタアクリル系ポリマー;アリル系ポリマー;エチレン単独重合体、エチレンとプロピレン、1-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキセン、4-メチル-1-ペンテン等の1種又は2種以上のα-オレフィンとのランダム又はブロック共重合体、エチレンと酢酸ビニル、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチルとの1種又は2種以上のランダム又はブロック共重合体、プロピレン単独重合体、プロピレンとプロピレン以外の1-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキセン、4-メチル-1-ペンテン等の1種又は2種以上のα-オレフィンとのランダム又はブロック共重合体、1-ブテン単独重合体、アイオノマー樹脂、さらにこれら重合体の混合物等のポリオレフィン系樹脂;石油樹脂、テルペン樹脂等の炭化水素原子系樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂;ナイロン6、ナイロン66、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン610、ナイロン6/66、ナイロン66/610、ナイロンMXD等ポリアミド系樹脂;ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂;ポリスチレン、スチレン-アクリロニトリル共重合体、スチレン-アクリロニトリル-ブタジエン共重合体、ポリアクリロニトリル等のスチレン,アクリロニトリル系樹脂;ポリビニルアルコール、エチレン-ビニルアルコール共重合体等のポリビニルアルコール系樹脂;ポリカーボネート樹脂;ポリケトン樹脂;ポリメチレンオキシド樹脂;ポリスルホン樹脂;ポリイミド樹脂;ポリアミドイミド樹脂等が挙げられる。尚、メタアクリル系ポリマーとは、後述するメタアクリレート化合物を重合してなるポリマーである。またアリル系ポリマーとは、後述するアリル化合物を重合してなるポリマーである。これらの樹脂は1種類を単独で使用してもよいし、2種類以上を混合して用いてもよい。またこれらマトリックスポリマーは、本発明の光学材料用有機化合物との相溶性を考慮した上で適宜選択される。また本発明の光学材料用有機化合物をAの形態で用いる場合、材料全体に対する本発明の光学材料用有機化合物の含有量は、本発明の光学材料用有機化合物とマトリックスポリマーとの相溶性を考慮した上で適宜選択される。本発明の光学材料用有機化合物をAの形態で用いる場合、マトリックスポリマーとなる樹脂の含有量は、材料全体を基準として50重量以上99重量以下である。得られる光学材料のθg,F特性や成形体の脆性を考慮すると、好ましくは、50重量以上80重量以下が望ましい。本発明の光学材料用有機化合物をBの形態で用いる場合、本発明の光学材料は、本発明の光学材料用有機化合物メタアクリレート化合物と、重合開始剤と、からなる組成物から作製される。尚、この組成物には、必要に応じて重合禁止剤、光増感剤、樹脂等をさらに含有させてもよい。重合開始剤には、光照射によりラジカル種を発生するものやカチオン種を発生するもの、熱によりラジカル種を発生するもの等が挙げられるがこれらに限定されない。光照射によりラジカル種を発生する重合開始剤としては、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-1-ブタノン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニルフォスフィンオキサイド、4-フェニルベンゾフェノン、4-フェノキシベンゾフェノン、4,4’-ジフェニルベンゾフェノン、4,4’-ジフェノキシベンゾフェノン等であるがこれらに限定されない。また、光照射によりカチオン種を発生する重合開始剤としては、ヨードニウム4-メチルフェニル[4-2-メチルプロピルフェニル]-ヘキサフルオロフォスフェートが好適な重合開始剤として挙げられるがこれに限定されない。さらに、熱によりラジカル種を発生する重合開始剤としては、アゾビソイソブチルニトリルAIBN等のアゾ化合物、ベンゾイルパーオキサイド、t-ブチルパーオキシピバレート、t―ブチルパーオキシネオヘキサノエート、t-ヘキシルパーオキシネオヘキサノエート、t―ブチルパーオキシネオデカノエート、t-ヘキシルパーオキシネオデカノエート、クミルパーオキシネオヘキサノエート、クミルパーオキシネオデカノエート等の過酸化物が挙げられるがこれらに限定されない。本発明の光学材料において、本発明の光学材料用有機化合物をBの形態で用いる場合、本発明の光学材料用有機化合物の含有量は、望ましくは1.0重量以上99重量以下であり、50重量以上99重量以下が好ましい。本発明の光学材料において、本発明の光学材料用有機化合物をBの形態で用いる場合、本発明の光学材料の硬化成形に用いる光重合開始剤の添加量は、重合可能な成分に対して0.01重量以上10.00重量以下の範囲が好ましい。尚、光重合開始剤は樹脂の反応性、光照射の波長によって1種類のみで使用することもできるし、2種類以上を併用して使用することもできる。本発明の光学材料において、本発明の光学材料用有機化合物をBの形態で用いる場合、使用される重合禁止剤としては、本発明の光学材料用有機化合物の保存剤として上述した重合禁止剤が挙げられる。光として紫外線等を照射して重合を開始させる場合には、公知の増感剤等を使用することもできる。増感剤の代表的なものとしては、ベンゾフェノン、4,4-ジエチルアミノベンゾフェノン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、p-ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4-ジメチルアミノ安息香酸メチル、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、2,2-ジエトキシアセトフェノン、o-ベンゾイル安息香酸メチル、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、アシルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。尚、重合可能な樹脂成分に対する光重合開始剤の添加比率は、光照射量、さらには、付加的な加熱温度に応じて適宜選択することができる。また、得られる重合体の目標とする平均分子量に応じて、調整することもできる。本発明の光学材料の硬化成形に用いる光重合開始剤の添加量は、重合可能な成分に対して0.01重量以上10.00重量以下の範囲が好ましい。光重合開始剤は樹脂の反応性、光照射の波長によって1種類のみで使用することもできるし、2種類以上を併用して使用することもできる。本発明の光学材料用有機化合物をCの形態で用いる場合、本発明の光学材料用有機化合物と共重合させる化合物としては、特に制限は無い。例えば、1,3-アダマンタンジオールジメタクリレート、1,3-アダマンタンジメタノールジメタクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジメタクリレート、トリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリアクリレート、22-エトキシエトキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、2-フェノキシエチルアクリレート、イソデシルアクリレート、イソボニルアクリレート、イソボニルメタクリレート、1,3-ブチレングリコールジアクリレート、1,4-ブタンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、1,4-ブタンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、9,9-ビス[4-2-アクリロイルオキシエトキシフェニル]フルオレン、9,9-ビス[4-2-メタクリロイルオキシエトキシフェニル]フルオレン、9,9-ビス[4-2-アクリロイルオキシフェニル]フルオレン、9,9-ビス[4-2-メタクリロイルオキシフェニル]フルオレン、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、ブチキシエチルアクリレート、ブトキシメチルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシメチルメタクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、エチレングリコールビスグリシジルアクリレート、エチレングリコールビスグリシジルメタクリレート、ビスフェノールAジアクリレート、ビスフェノールAジメタクリレート、2,2-ビス4-アクリロキシエトキシフェニルプロパン、2,2-ビス4-メタクリロキシエトキシフェニルプロパン、2,2-ビス4-アクリロキシジエトキシフェニルプロパン、2,2-ビス4-メタクリロキシジエトキシフェニルプロパン、ビスフェノールFジアクリレート、ビスフェノールFジメタクリレート、1,1-ビス4-アクリロキシエトキシフェニルメタン、1,1-ビス4-メタクリロキシエトキシフェニルメタン、1,1-ビス4-アクリロキシジエトキシフェニルメタン、1,1-ビス4-メタクリロキシジエトキシフェニルメタン、1,1-ビス4-アクリロキシエトキシフェニルスルホン、1,1-ビス4-メタクリロキシエトキシフェニルスルホン、1,1-ビス4-アクリロキシジエトキシフェニルスルホン、1,1-ビス4-メタクリロキシジエトキシフェニルスルホン、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、グリセロールジアクリレート、グリセロールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、メチルチオアクリレート、メチルチオメタクリレート、フェニルチオアクリレート、ベンジルチオメタクリレート、キシリレンジチオールジアクリレート、キシリレンジチオールジメタクリレート、メルカプトエチルスルフィドジアクリレート、メルカプトエチルスルフィドジメタクリレート等のメタアクリレート化合物、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、ジアリルテレフタレート、ジアリルイソフタレート、ジアリルカーボネート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート等のアリル化合物、スチレン、クロロスチレン、メチルスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ジビニルベンゼン、3,9-ジビニルスピロビm-ジオキサン等のビニル化合物、ジイソプロペニルベンゼン等が挙げられる。ただし本発明はこれらに限定されない。本発明の光学材料用有機化合物をCの形態で用いる場合、本発明の光学材料用有機化合物と共重合させる化合物の含有量は、材料全体を基準として1.0重量以上80重量以下である。得られる光学材料のθg,F特性や成形体の脆性を考慮すると、好ましくは、1.0重量以上30重量以下である。次に、本発明の光学素子について図を参照しながら説明する。図2は、本発明の光学素子の例を示す概略図である。aの光学素子は、本発明の光学材料を成形加工してなる薄膜光学部材10がレンズ基板20の片方の面上に設けられている。図1aの光学素子を作製する方法としては、例えば、光透過性材料からなる基板上に膜厚の薄い層構造を形成する方法が採用される。具体的には、金属材料からなる型をガラス基板から一定の距離を置いて設け、この型とガラス基板との間にある空隙に流動性の光学材料又は光学用樹脂組成物を充填してから、軽く抑えることで、型成形を行う。そして必要に応じてその状態に保ったまま該光学材料又は該光学用樹脂組成物の重合を行う。かかる重合反応に供する光照射は、光重合開始剤を用いたラジカル生成に起因する機構に対応して、好適な波長の光、通常、紫外光もしくは可視光を用いて行う。例えば、前記基板として利用する光透過性材料、具体的にはガラス基板を介して、成形されている光学材料調製用のモノマー等の原料に対して、均一に光照射を実施する。照射される光量は、光重合開始剤を利用したラジカル生成に起因する機構に応じて、また、含有される光重合開始剤の含有比率に応じて、適宜選択される。一方、かかる光重合反応による光学材料の成形体の作製においては、照射される光が型成形されているモノマー等の原料の全体に均一に照射されることがより好ましい。従って、利用される光照射は、基板に利用する光透過性材料、例えばガラス基板を介して、均一に行うことが可能な波長の光を選択することが一層好ましい。この際、光透過性材料の基板上に形成する光学材料の成形体の厚さを薄くすることは、本発明にはより好適である。一方、図1bの光学素子は、本発明の光学材料を成形加工してなる薄膜光学部材10がレンズ基板30とレンズ基板40との間に設けられている。図1bの光学素子を作製する方法としては、例えば、前述した成形体の樹脂組成物側の面と、対応する別のレンズの両者の間に、同様の未硬化の樹脂組成物等を流し込み、軽く抑えることで成形を行う。そしてこの状態に保ったまま未硬化の樹脂組成物の光重合を行う。それにより前記光学材料がレンズに挟まれた成形体を得ることができる。同様に、熱重合法により成形体の作製を行うこともできる。この場合、全体の温度をより均一とすることが望ましく、光透過性材料の基板上に形成する重合性組成物の成形体の総厚を薄くすることは、本発明にはより好適なものとなる。また形成する光学材料の成形体の総厚を厚くする場合には、より膜厚、樹脂成分の吸収、微粒子成分の吸収を考慮した照射量、照射強度、光源等の選択が必要である。一方、本発明の光学材料用有機化合物を含んだ光学材料の成形体を形成する場合、成形方法については、特に限定されるものはないが、低複屈折性、機械強度及び寸法精度等の特性に優れた成形物を得るためには、溶融成形が特に好ましい。溶融成形法としては、プレス成形、押し出し成形、射出成形等が挙げられるが、成形性及び生産性の観点から射出成形が好ましい。また、成形工程における成形条件は、使用目的又は成形方法により適宜選択されるが、射出成形における樹脂組成物の温度は、150°Cから400°Cの範囲であることが好ましく、200°Cから350°Cの範囲であることがより好ましく、200°Cから330°Cの範囲であることが特に好ましい。前記温度範囲で成形することにより、成形時に適度な流動性を樹脂に付与して成形品のヒケやひずみの発生とともに、樹脂の熱分解によるシルバーストリークの発生を防止し、さらには、成形物の黄変を効果的に防止することができる。本発明の光学材料を上記の成形方法で成形された成形体は光学素子として用いることができる。光学素子の利用例としては、例えばカメラレンズ等が挙げられる。以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下に説明する実施例に限定されるものではない。また、反応式中の略号はそれぞれ下記の通りである。尚、合成した化合物の分子構造の分析は、日本電子製JNM-ECA400NMRを用いて行った。THF:テトラヒドロフランDMF:N,N-ジメチルホルムアミドTsOH:パラトルエンスルホン酸水和物合成例14,4’-ビス4-ヒドロキシフェニルジフェニルスルホンの合成下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。4,4’-ジクロロジフェニルスルホン:15g4-ヒドロキシフェニルボロン酸:21g炭酸水素ナトリウム:33g1,4-ジオキサン:500ml水:250mlテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム:2.5g次に、反応溶液を90°Cに加熱してこの温度90°Cで20時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合を薄相クロマトグラフィー以下、TLCで随時確認した。反応終了後、反応溶液を水で希釈した後、溶媒抽出により有機相を回収した。次に、この有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。次に、有機相を減圧濃縮することで得られた残渣についてヘキサン及び酢酸エチルの混合溶液による再結晶精製を行うことにより、淡黄色結晶の4,4’-ビス4-ヒドロキシフェニルジフェニルスルホン以下、中間体化合物D1という。を20g収率95得た。合成例24-2-テトラヒドロピラニルオキシエチルチオ-フェニルボロン酸ピナコールエステルの合成1下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。水素化ナトリウム55:6.2gN,N-ジメチルホルムアミド:200ml次に、反応溶液を0°Cに冷却した後、4-ブロモチオフェノール25gをゆっくり添加した。次に、室温まで昇温しながら反応溶液を撹拌した。次に、2-2-ブロモエトキシテトラヒドロ-2H-ピラン24mlを添加した後、反応溶液を40°Cに昇温した後この温度40°Cで12時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、水で反応を停止させた後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することにより、4-2-テトラヒドロピラニルオキシエチルチオ-ブロモベンゼンを44g得た。尚、得られた化合物は、そのまま次の工程で使用した。21にて得られた化合物及びテトラヒドロフラン400mlを反応容器内に投入した。次に、反応溶液を-78°Cに冷却した後、ブチルリチウム2.6M64mlをゆっくり滴下した。次に、反応溶液を同温度-78°Cでさらに2時間撹拌した。次に、2-イソプロポキシ-4,4,5,5-テトラメチル-1,3,2-ジオキサボロラン35mlを滴下した後、反応溶液を室温までゆっくりと昇温しながら12時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮することで得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することにより、4-2-テトラヒドロピラニルオキシエチルチオ-フェニルボロン酸ピナコールエステル以下、中間体化合物D2という。を31g収率64得た。合成例3トリフルオロメタンスルホン酸4-4-ヒドロキシフェニルスルホニルフェニルの合成下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。4,4’-ジヒドロキシジフェニルスルホン:25gトリフルオロメタンスルホニルクロリド:12mlクロロホルム:200ml次に、反応溶液を0°Cに冷却した後、ゆっくりとトリエチルアミン15mlを滴下した。次に、同温度0°Cで反応溶液を1時間撹拌した。次に、反応溶液を室温まで昇温してからさらに5時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止し、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することでトリフルオロメタンスルホン酸4-4-ヒドロキシフェニルスルホニルフェニル以下、中間化合物D3という。を17g収率45得た。合成例44,4’-ビス3-ヒドロキシメチル-4-メトキシフェニルジフェニルスルホンの合成1下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。4,4’-ジヒドロキシジフェニルスルホン:25gトリフルオロメタンスルホニルクロリド:25mlクロロホルム:300ml次に、反応溶液を0°Cに冷却した後、ゆっくりとトリエチルアミン42mlを滴下した。次に、同温度0°Cで反応溶液を1時間撹拌した。次に、反応溶液を室温まで昇温してからさらに5時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止し、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機相を減圧濃縮して得られた粗生成物についてヘキサン/酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製を行うことにより、ジフェニルスルホン-4,4’-ジイルビストリフルオロメタンスルホナートを49g収率94得た。ここで得られた化合物については、そのまま次の工程で使用した。2下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。ジフェニルスルホン-4,4’-ジイルビストリフルオロメタンスルホナート1で合成したものをそのまま使用:28g3-ホルミル-4-メトキシフェニルボロン酸:25g炭酸水素ナトリウム:30gテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム:1.3g1,4-ジオキサン:500ml水:250ml次に、反応溶液を80°Cに加熱してこの温度80°Cで3時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、水250mlを添加した後、反応溶液を80°Cで1時間撹拌した。次に、生成した結晶粗結晶をろ過回収した後、この粗結晶をエタノールで洗浄してから、ヘキサン/酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製を行うことで薄灰色の結晶を得た。次に、得られた薄灰色結晶と、下記に示す溶媒を反応容器内に投入した。メタノール:200mlテトラヒドロフラン:200ml次に、反応溶液を0°Cに冷却した後、水素化ホウ素ナトリウム12gをゆっくり添加した。次に、反応進行度合をTLCで確認しながら反応溶液を同温度0°Cで撹拌した。反応の進行を確認した後、2N塩酸水溶液を添加した。次に、反応溶液を室温で1時間撹拌した。次に、生成した結晶を炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順で洗浄した。次に、エタノール/酢酸エチル/ヘキサン混合溶媒で再結晶精製を行うことにより、4,4’-ビス3-ヒドロキシメチル-4-メトキシフェニルジフェニルスルホン以下、中間化合物D4という。を48g収率90得た。[実施例1]実施例1で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。1下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。水素化ナトリウム55:620mgN,N-ジメチルホルムアミド:30ml次に、反応溶液を0°Cに冷却した後、中間化合物D12.3gをゆっくりと添加した。次に、反応溶液を室温まで昇温しながら撹拌した。次に、2-2-ブロモエトキシテトラヒドロ-2H-ピラン2.7mlを添加した後、反応溶液を60°Cに加熱してこの温度60°Cで12時間撹拌した。このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、水で反応を停止し、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機相を減圧濃縮して粗生成物を得た。このようにして得られた粗生成物をそのまま次の工程で使用した。21にて得られた粗生成物及び下記に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。テトラヒドロフラン:10mlメタノール:40mlパラトルエンスルホン酸水和物:少量次に、反応溶液を室温で12時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、生成した沈殿物をろ過した後、この沈殿物をクロロホルム/ヘキサン混合溶液で再結晶精製を行うことにより、4,4’-ビス4-2-ヒドロキシエトキシフェニルジフェニルスルホン2.3g収率82が得られた。3下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。4,4’-ビス4-2-ヒドロキシエトキシフェニルジフェニルスルホン:3.0gメタクリル酸:30mlパラトルエンスルホン酸:0.2g4-メトキシフェノール:0.2gトルエン:30ml次に、反応溶液を20時間加熱撹拌した。尚、このとき生成する水分を適宜除去し、反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、水酸化ナトリウム水溶液を添加して反応溶液を中性にした後、有機相をクロロホルムで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することにより、4,4’-ビス4-2-メタクリロイルオキシエトキシフェニルジフェニルスルホンを2.1g収率55得た。得られた化合物について、1H-NMRによりその構造を確認した。1H-NMRCDCl3;TMS:δ1.95s、6H、4.27t、4H、4.52t、4H、5.59s、2H、6.14s、2H、6.99-7.01m、4H、7.25-7.26m、4H、7.50-7.53m、4H、7.65-7.67m、4H、7.98-8.02m、4H[実施例2]実施例2で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。1下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。中間体化合物D3:5g中間体化合物D2:6g炭酸水素ナトリウム:4gジオキサン:150ml水:70mlテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム:0.3g次に、反応溶液を90°Cに加熱してこの温度90°Cで20時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製した。この精製によって得られた化合物をそのまま次の工程で使用した。2次に、下記に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。水素化ナトリウム:0.6gN,N-ジメチルホルムアミド:100ml次に、反応溶液を0°Cに冷却した後、1にて得られた化合物をゆっくり添加した。次に、反応溶液を室温まで昇温しながら2時間撹拌した。次に、2-2-ブロモエトキシテトラヒドロ-2H-ピラン2.4mlを添加した後、反応溶液を60°Cに加熱しこの温度60°Cで10時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機層を減圧濃縮することで粗生成物を得た。得られた粗生成物は、このまま次の工程で使用した。32で得られた粗生成物、及び下記に示した試薬、溶媒を反応容器に投入した。テトラヒドロフラン:10mlメタノール:40mlパラトルエンスルホン酸:少量次に、反応溶液を室温で10時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、生成した沈殿物をろ過回収し、クロロホルム/ヘキサン混合溶媒で再結晶精製を行うことにより、4-4-2-ヒドロキシエチルチオフェニル-4’-2-ヒドロキシエチルオキシジフェニルスルホンを4.1g収率73得た。4実施例13において、4,4’-ビス4-2-ヒドロキシエトキシフェニルジフェニルスルホンに代えて4-4-2-ヒドロキシエチルチオフェニル-4’-2-ヒドロキシエチルオキシジフェニルスルホンを使用した。これを除いては、実施例13と同様の方法により合成を行い、4-4-2-メタクリロイルオキシエチルチオフェニル-4’-2-メタクリロイルオキシエチルオキシジフェニルスルホンを2.5g収率63得た。尚、本実施例において、メタクリル酸の使用量は20mlである。得られた化合物について、1H-NMRによりその構造を確認した。1H-NMRCDCl3;TMS:δ1.92s、3H、1.95s、3H、3.22t、2H、4.25t、2H、4.27t、2H、4.50t、2H、5.57d、1H、5.58d、1H、6.12d、1H、6.12d、1H、6.94-7.03m、4H、7.47-7.67m、4H、7.89-7.99m、4H[実施例3]実施例3で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。1下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。4,4’-ジクロロジフェニルスルホン:10g4-ヒドロキシフェニルボロン酸:5.8g炭酸水素ナトリウム:10gジオキサン:400ml水:200mlテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム:0.8g次に、反応溶液を90°Cに加熱してこの温度90°Cで10時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製した。このようにして得られた生成物を、次の工程でそのまま使用した。2下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。水素化ナトリウム:1.4gN,N-ジメチルホルムアミド:200ml次に、反応溶液を0°Cに冷却した後、1にて得られた生成物をゆっくりと添加した。次に、反応溶液を室温まで昇温しながら2時間撹拌した。次に、2-2-ブロモエトキシテトラヒドロ-2H-ピラン6.4mlを添加した後、反応溶液を60°Cに加熱してこの温度60°Cで5時間撹拌した。このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製した。このようにして得られた生成物を、次の工程でそのまま使用した。32にて得られた生成物及び下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。中間化合物D2:6.6g炭酸水素ナトリウム:4.5gジオキサン:300ml水:150mlテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム:0.3g次に、反応溶液を90°Cに加熱してこの温度90°Cで20時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製した。このようにして得られた生成物を、次の工程でそのまま使用した。43にて得られた生成物及び下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。テトラヒドロフラン:10mlメタノール:40mlパラトルエンスルホン酸:少量次に、反応溶液を室温で12時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、生成した沈殿物をろ過回収した後、この沈殿物をクロロホルム/ヘキサンの混合溶媒で再結晶精製を行うことで4-4-2-ヒドロキシエチルチオフェニル-4’-4-2-ヒドロキシエチルオキシフェニルジフェニルスルホンを5g28得た。5実施例13において、4,4’-ビス4-2-ヒドロキシエトキシフェニルジフェニルスルホンの代わりに4-4-2-ヒドロキシエチルチオフェニル-4’-4-2-ヒドロキシエチルオキシフェニルジフェニルスルホン2.0gを使用した。これを除いては、実施例13と同様の方法により合成を行い、4-4-2-メタクリロイルオキシエチルチオフェニル-4’-4-2-メタクリロイルオキシエチルオキシフェニルジフェニルスルホンを0.8g収率31得た。尚、本実施例において、メタクリル酸の使用量は20mlである。得られた化合物について、1H-NMRによりその構造を確認した。1H-NMRCDCl3;TMS:δ1.91s、3H、1.95s、3H、3.24t、2H、4.27t、2H、4.35t、2H、4.52t、2H、5.56-5.60m、2H、6.09-6.13m、2H、6.98-7.02m、2H、7.45-7.69m、12H、7.98-8.02m、2H[実施例4]実施例4で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。1下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。4,4’-ジクロロジフェニルスルホン:13g中間化合物D2:50g炭酸水素ナトリウム:29gジオキサン:400ml水:200mlテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム:2.1g次に、反応溶液を90°Cに加熱してこの温度90°Cで20時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製した。このようにして得られた生成物を、次の工程でそのまま使用した。21にて得られた生成物及び下記に示される試薬、溶媒を反応容器内に投入した。テトラヒドロフラン:30mlメタノール:100mlパラトルエンスルホン酸:少量次に、反応溶液を室温で12時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、生成した沈殿物をろ過回収した後、クロロホルム/ヘキサン混合溶媒で再結晶精製を行うことにより、4,4’-ビス4-2-ヒドロキシエチルチオフェニルジフェニルスルホンを19g収率74得た。3実施例13において、4,4’-ビス4-2-ヒドロキシエトキシフェニルジフェニルスルホンの代わりに、4,4’-ビス4-2-ヒドロキシエチルチオフェニルジフェニルスルホンを使用した。これを除いては、実施例13と同様の方法により合成を行い、4,4’-ビス4-2-メタクリロイルオキシエチルチオフェニルジフェニルスルホンを3.0g収率80得た。尚、本実施例において、メタクリル酸及びトルエンの使用量は、それぞれ29ml、40mlである。得られた化合物について、1H-NMRによりその構造を確認した。1H-NMRCDCl3;TMS:δ1.91s、6H、3.22t、4H、4.35t、4H、5.56s、2H、6.07s、2H、7.42-7.52m、8H、7.65-7.71m、4H、8.00-8.05m、4H[実施例5]実施例5で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。1下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。水素化ナトリウム55:2.5gN,N-ジメチルホルムアミド:200ml次に、反応溶液を0°Cに冷却した後、中間化合物D110gをゆっくりと添加した。次に、反応溶液を室温まで昇温しながら撹拌した。次に、3-ブロモプロパノール5.4mlを添加した後、反応溶液を50°Cに加熱してこの温度50°Cで12時間撹拌した。このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、水で反応を停止し、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機相を減圧濃縮して得られた粗生成物をヘキサン/酢酸エチル混合溶媒で再結晶することにより白色結晶を得た。このようにして得られた白色結晶を、次の工程でそのまま使用した。2実施例13において、4,4’-ビス4-2-ヒドロキシエトキシフェニルジフェニルスルホンの代わりに本実施例の1で得られた白色結晶を使用した。これを除いては、実施例13と同様の方法により、4,4’-ビス4-3-メタクリロイルオキシプロポキシフェニルジフェニルスルホンを11.5g収率71得た。尚、本実施例において、メタクリル酸、パラトルエンスルホン酸、メトキシフェノール及びトルエンの使用量は、それぞれ90ml、0.6g、0.6g、90mlである。得られた化合物について、1H-NMRによりその構造を確認した。1H-NMRCDCl3;TMS:δ1.94s、6H、2.19dt、4H、4.11t、4H、4.36t、4H、5.56br、2H、6.11br、2H、6.94-6.99m、4H、7.45-7.54m、4H、7.63-7.69m、4H、7.96-8.03m、4H[実施例6]実施例6で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。1以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。4,4’-ジクロロジフェニルスルホン:10g3-メトキシ-4-4,4,5,5-テトラメチル-1,3,2-ジオキサボロラン-2-イルフェノール:25g炭酸水素ナトリウム:25g1,4-ジオキサン:500ml水:250mlテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム:2.5g次に、反応溶液を90°Cに加熱してこの温度90°Cで20時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、反応溶液を水で希釈して溶媒抽出により有機相を回収した後、この有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄した。次に、この有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮することで粗生成物を得た。次に、この粗生成物をヘキサン/酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製を行うことで4,4’-ビス4-ヒドロキシ-3-メトキシフェニルジフェニルスルホンが淡黄色結晶として得られた。このようにして得られた淡黄色結晶を、次の工程でそのまま使用した。2以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。水素化ナトリウム55:5.1gN,N-ジメチルホルムアミド:300ml次に、反応溶液中に、1にて得られた淡黄色結晶をゆっくりと添加した。次に、反応溶液を室温で1時間撹拌した。次に、3-ブロモプロパノール10mlをゆっくりと滴下した後、反応溶液を60°Cに加熱してこの温度60°Cで12時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、水で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をヘキサン/酢酸エチル混合溶媒で再結晶することで白色結晶を得た。このようにして得られた白色結晶を、次の工程でそのまま使用した。3実施例13において、4,4’-ビス4-2-ヒドロキシエトキシフェニルジフェニルスルホンの代わりに本実施例の2で得られた白色結晶を使用した。これを除いては、実施例13と同様の方法により、4,4’-ビス4-3-メタクリロイルオキシプロポキシ-3-メトキシフェニルジフェニルスルホンを21g収率84得た。尚、本実施例において、メタクリル酸、パラトルエンスルホン酸、メトキシフェノール及びトルエンの使用量は、それぞれ120ml、1.3g、11.3g、300mlである。得られた化合物について、1H-NMRによりその構造を確認した。1H-NMRCDCl3;TMS:δ1.94s、6H、2.24dt、4H、3.91s、6H、4.17t、4H、4.37t、4H、5.56br、2H、6.11br、2H、6.92-7.15m、6H、7.64-7.70m、4H、7.97-8.03m、4H[実施例7]実施例7で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。1実施例61において、2-メトキシ-4-4,4,5,5-テトラメチル-1,3,2-ジオキサボロラン-2-イルフェノールの代わりに2,6-ジメチル-4-4,4,5,5-テトラメチル-1,3,2-ジオキサボロラン-2-イルフェノールを使用した以外は、実施例61と同様の方法で合成を行った。尚、本実施例において4,4’-ジクロロジフェニルスルホン及びテトラキストリフェニルホスフィンパラジウムの使用量は、それぞれ9.6g、2.3gである。これにより4,4’-ビス4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニルジフェニルスルホンを白色結晶として得た。このようにして得られた白色結晶を、次の工程でそのまま使用した。2以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。水素化ナトリウム55:3.1gN,N-ジメチルホルムアミド:300ml次に、反応溶液中に、1にて得られた白色結晶をゆっくりと添加した後、反応溶液を室温で1時間撹拌した。次に、メタクリル酸-2-ブロモエチル15gをゆっくりと滴下した後、反応溶液を60°Cに加熱してこの温度60°Cで12時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、水を添加して反応を停止した後、有機層を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することにより4,4’-ビス4-2-メタクリロイルオキシエトキシ-3,5-ジメチルフェニルジフェニルスルホンを15g収率66得た。得られた化合物について、1H-NMRによりその構造を確認した。1H-NMRCDCl3;TMS:δ1.89s、6H、2.30s、12H、4.30t、4H、4.62s、4H、5.47br、2H、6.05br、2H、7.21-7.27m、4H、7.60-7.67m、4H、7.93-8.01m、4H[実施例8]実施例8で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。1以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。水素化ナトリウム55:11gN,N-ジメチルホルムアミド:300ml溶液次に、反応溶液を0°Cに冷却した後、中間化合物D430gをゆっくりと添加した。次に、反応溶液を同温度0°Cで1時間撹拌した。次に、2-2-ブロモエトキシテトラヒドロ-2H-ピラン36mlを添加した後、反応溶液を70°Cに加熱してこの温度70°Cで6時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、水を添加して反応を停止させた後、有機層を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機層を、水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機層を減圧濃縮して得られる粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することで薄黄色液体を得た。このようにして得られた薄黄色固体をそのまま次の工程で使用した。21にて得られた薄黄色液体及び以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。メタノール:150mlテトラヒドロフラン:50mlパラトルエンスルホン酸:触媒量次に、反応溶液を室温で12時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、トリエチルアミンを添加して反応を停止させた後、生成した結晶をろ過回収した。次に、得られた結晶をヘキサン/酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製を行うことで白色結晶を得た。このようにして得られた白色固体をそのまま次の工程で使用した。32にて得られた白色液体及び以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。クロロホルム:100mlピリジン:150ml4-メトキシフェノール:0.2gN,N-ジメチルアミノピリジン:1.2g無水メタクリル酸:30ml次に、反応溶液を室温で12時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、2N塩酸を添加して反応を停止させた後、有機層をトルエンで抽出した。次に、得られた有機層を2N塩酸、10水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することで油状の生成物を得た。次に、得られた油状生成物をヘキサン/酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製を行うことにより、4,4’-ビス3-2-メタクリロイルオキシエトキシメチル-4-メトキシフェニルジフェニルスルホンを26g収率55得た。得られた化合物について、1H-NMRによりその構造を確認した。1H-NMRCDCl3;TMS:δ1.89s、6H、3.78t、4H、3.87s、6H、4.35t、4H、4.65s、4H、5.49br、2H、6.09br、2H、6.90-6.98m、2H、7.45-7.51m、2H、7.60-7.72m、8H、7.94-8.02m、4H[実施例9]実施例9で合成した化合物の具体的な合成方法について以下に説明する。1実施例81において、2-2-ブロモエトキシテトラヒドロ-2H-ピランの代わりに、下記に示す2-4-クロロブトキシテトラヒドロ-2H-ピラン9.0mlを使用した。これを除いては、実施例81と同様の方法により合成を行い、薄黄色液体の生成物を得た。尚、本実施例において、水素化ナトリウム55及び中間化合物D4の使用量は、それぞれ2.8g、8.0gである。このようにして得られた薄黄色液体をそのまま次の工程で使用した。2実施例82において、実施例81にて得られた薄黄色液体の代わりに、本実施例1にて得られた薄黄色液体を使用したことを除いては、実施例82と同様の方法により白色結晶を得た。このようにして得られた白色固体をそのまま次の工程で使用した。3実施例83において、実施例82にて得られた白色固体の代わりに、本実施例2にて得られた白色固体を使用した。これを除いては、実施例82と同様の方法により、下記に示される化合物、即ち、4,4’-ビス3-4-メタクリロイルオキシブトキシメチル-4-メトキシフェニルジフェニルスルホンを6.7g収率53得た。得られた化合物について、1H-NMRによりその構造を確認した。1H-NMRCDCl3;TMS:δ1.89s、6H、2.24dt、4H、3.73t、4H、3.85s、6H、4.32t、4H、4.65s、4H、5.49br、2H、6.09br、2H、6.91-6.99m、2H、7.45-7.52m、2H、7.59-7.72m、8H、7.93-8.02m、4H[比較例1]下記に示す化合物を合成して、後述する光学特性及び実用性の実験を行った。以下に、本比較例の化合物の合成方法を説明する。1以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。中間化合物D3:5g4-ヒドロキシフェニルボロン酸:2.5g炭酸水素ナトリウム:4gジオキサン:200ml水:100mlテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム:0.3g次に、反応溶液を90°Cに加熱してこの温度90°Cで20時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液を添加して反応を停止させた後、有機層を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することで4-4-ヒドロキシフェニル-4’-ヒドロキシジフェニルスルホンを4.2g収率98得た。2以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。水素化ナトリウム:1.2gN,N-ジメチルホルムアミド:150ml次に、反応溶液を0°Cに冷却した後、1にて合成した4-4-ヒドロキシフェニル-4’-ヒドロキシジフェニルスルホン4.2gを同温度0°Cでゆっくり添加した。次に、反応溶液を室温まで昇温しながら2時間攪拌した。次に、2-2-ブロモエトキシテトラヒドロ-2H-ピラン4.8mlを添加した後、反応溶液を60°Cに加熱してこの温度60°Cで12時間攪拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液を添加して反応を停止させた後、有機層を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られる粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製した。これにより得られた生成物を次の工程でそのまま使用した。32にて得られた生成物及び以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。テトラヒドロフラン:10mlメタノール:40mlパラトルエンスルホン酸:少量次に、反応溶液を室温で12時間攪拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、生成した沈殿物をろ過回収した後、クロロホルム/ヘキサン混合溶媒で再結晶精製を行うことで4-4-2-ヒドロキシエチルオキシフェニル-4’-2-ヒドロキシエチルオキシジフェニルスルホンを5.0g収率92得た。4以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。4-4-2-ヒドロキシエチルオキシフェニル-4’-2-ヒドロキシエチルオキシジフェニルスルホン:4.0gメタクリル酸:25mlパラトルエンスルホン酸:0.2g4-メトキシフェノール:0.2gトルエン:30ml次に、反応溶液を20時間加熱撹拌した。尚、このとき生成する水分を適宜除去し、反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、水酸化ナトリウム水溶液を添加して反応溶液を中性にした後、有機相をクロロホルムで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することにより、4-4-2-メタクリロイルオキシエチルオキシフェニル-4’-2-メタクリロイルオキシエチルオキシジフェニルスルホンを4.3g収率81得た。得られた化合物について、1H-NMRによりその構造を確認した。1H-NMRCDCl3;TMS:δ1.92s、3H、1.95s、3H、4.20-4.29m、4H、4.46-4.52m、4H、5.58d、1H、5.58d、1H、6.12d、1H、6.12d、1H、6.94-7.03m、4H、7.47-7.54m、2H、7.61-7.67m、2H、7.88-7.97m、4H[比較例2]4,4’-ビス2-メチルチオフェニルジフェニルスルホンの合成下記に示す化合物4,4’-ビス2-メチルチオフェニルジフェニルスルホンを合成して、後述する光学特性及び実用性の実験を行った。以下に、本比較例の化合物の合成方法を説明する。1以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。4,4’-ジクロロジフェニルスルホン:0.4g2-メチルチオフェニルボロン酸:0.6g炭酸水素ナトリウム:0.8g1,4-ジオキサン:20ml水:10mlテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム:0.07g次に、反応溶液を90°Cに加熱してこの温度で20時間撹拌した。尚。このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、反応溶液を水で希釈した後、溶媒抽出により有機層を回収した。次に、得られた有機層を、水、飽和食塩水の順で洗浄した。次に、得られた有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮して粗生成物を得た。次に、この粗生成物を、ヘキサン/酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製を行うことにより、4,4’-ビス2-メチルチオフェニルジフェニルスルホンを淡黄色結晶として0.5g収率72得た。得られた化合物について、1H-NMRによりその構造を確認した。1H-NMRCDCl3;TMS:δ2.37s、6H、7.14-7.40m、8H、7.56-7.62m、4H、8.00-8.06m、4H[比較例3]4-4-メチルチオフェニルジフェニルエーテルの合成下記に示す化合物4-4-メチルチオフェニルジフェニルエーテルを合成して、後述する光学特性及び実用性の実験を行った。以下に、本比較例の化合物の合成方法を説明する。1以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。4-ブロモジフェニルエーテル:0.8g4-メチルチオフェニルボロン酸:0.6g炭酸水素ナトリウム:0.8gジオキサン:20ml水:10mlテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム:0.1g次に、反応溶液を90°Cに加熱してこの温度で20時間撹拌した。尚。このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、反応溶液を水で希釈した後、溶媒抽出により有機層を回収した。次に、得られた有機層を、水、飽和食塩水の順で洗浄した。次に、得られた有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮して粗生成物を得た。次に、この粗生成物を、ヘキサン/酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製を行うことにより、4-4-メチルチオフェニルジフェニルエーテルを0.8g収率89得た。得られた化合物について、1H-NMRによりその構造を確認した。1H-NMRCDCl3;TMS:δ2.51s、3H、7.03-7.15m、4H、7.28-7.39m、5H、7.46-7.55m、4H[光学特性の評価]実施例及び比較例でそれぞれ合成した化合物について光学特性の評価を以下に示す方法で行った。1評価用サンプルの作製まず評価用のサンプルを以下に示す方法で作製した。1a屈折率測定用サンプル直径20mmの円板型のガラス基板を2枚用意して、測定対象となる化合物を、厚さが12.5μmで均一になるように、1枚目のガラス基板上に載置した。次に、2枚目のガラス基板を測定対象となる化合物上に載置した後、ガラス基板の外周部分を封止した。ここで測定対象となる化合物がメタアクリレート化合物である場合は、サンプルに紫外光を照射することで2枚のガラス基板に挟まっている化合物を硬化させた。一方、測定対象となる化合物がメタアクリレート化合物以外の化合物である場合は、サンプルを加熱して2枚のガラス基板に挟まっている化合物を融解させた。1b透過率測定用サンプル上記1aにおいて、用意する基板を直径50μmの円板型のガラス基板とし、1枚目のガラス基板上に載置する測定対象となる化合物の厚さを500μmとすることを除いては、上記1aと同様の方法によりサンプルを作製した。2測定及び評価屈折率は、アッベ屈折計カルニュー光学工業を用いて測定した。また透過率は、光路長の異なる2種類の膜を成形し、日立ハイテクノロジー社製分光光度計U-4000製品名でそれぞれ測定し、410nmでの内部透過率500μmに換算した結果を表に示す。ここで光学特性が図1中のB範囲内でありかつ410nmでの透過率が90以上のものを総合評価○とし、それ以外を総合評価×とした。結果を表1に示す。[安定性の評価]安定性は、大気中25°Cで2週間保管した際に変質がないものを○、変質したものを×とした。但し、重合性置換基を有するものは、少量1000ppm以下の重合禁止剤を含有させた状態で判定している。結果を表1に示す。"