矩形の被露光基板を連続して移動させながら、露光光源から照射される露光光を、露光マスクとブラインドシャッタとを備える露光ヘッドを介して、該露光マスクのマスクパターンを該被露光基板上に露光する露光装置を用いて、画像表示部パターンと該画像表示部パターンの該移動方向の前部と後部に配置され該移動方向に直交した方向に延びる形をした2つの側部パターンとを備えるカラーフィルタパターンを該被露光基板上に連続して露光させるカラーフィルタの製造方法であって、前記被露光基板を静止させて前記前部の側部パターンを露光する第1の露光ステップと、前記被露光基板を移動させながら前記表示パターンをスキャン露光する第2の露光ステップと、前記被露光基板を静止させて前記後部の側部パターンを露光する第3の露光ステップとを備える、カラーフィルタの製造方法。前記露光マスクは、前記前部の側部パターンと前記表示パターンと前記後部の側部パターンとをそれぞれ露光するためのマスクパターンが形成された領域としてそれぞれ前部マスク領域と中央部マスク領域と後部マスク領域とを備え、前記第1の露光ステップにおいては、前記前部マスク領域は透光し、他の領域は前記ブラインドシャッタで遮光し、前記第2の露光ステップにおいては、前記中央部マスク領域は透光し、他の領域は前記ブラインドシャッタで遮光し、前記第3の露光ステップにおいては、前記後部マスク領域は透光し、他の領域は前記ブラインドシャッタで遮光する、請求項1記載のカラーフィルタの製造方法。前記第1の露光ステップと前記第3の露光ステップとを同時に行い、この場合においては、前記前部マスク領域及び後部マスク領域は透光し、中央部マスク領域は前記ブラインドシャッタで遮光する、請求項2記載のカラーフィルタの製造方法。前記露光装置は前記被露光基板上の被露光領域の幅をカバーするように、所定の長さの端部を重ねて移動方向の前後にずらして平行に並置された少なくとも前後に2列以上の複数の露光ヘッドを備え、各列の露光ヘッドの前後の間隔は、前記被露光基板上に露光される連続するカラーフィルタパターンのピッチ距離と同一またはピッチ距離の整数倍の距離に構成されている、請求項1記載のカラーフィルタの製造方法。前記露光光源は点滅光源である、請求項1記載のカラーフィルタの製造方法。前記露光光源は連続光源である、請求項1記載のカラーフィルタの製造方法。請求項1~6のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法によって製造されてなる、カラーフィルタ。しかしながら、小型マスク連続露光方式などの連続露光方式において、露光光源に水銀光源を用いた場合には、露光ヘッドの走査方向、すなわちスキャニング方向に平行なストライプ状のパターンの転写のみ可能である。また、YAGレーザーのような点滅光源を用いても、基本的には同じパターンを繰り返し形成できるのみであり、カラーフィルタの表示部パターンの繰り返しドットパターンなどの転写ができるだけであった。すなわち、従来の連続露光方式においては、スキャン方向に直交するクロススキャン方向に配置されたダミーパターンやアライメントマークなどの形成が難しいという不都合があった。そのため、従来は、被露光基板上の第1層のパターンとして、ブラックマトリックスBMととともにクロススキャン方向のアライメントマークなどを従来の方法で事前に形成し、この第1層のパターンを画像検出ユニットで読み取りながら第2層以降のパターンをEGIS露光方式で形成していた。本発明の目的は、被露光基板を連続して移動させながら、画像表示部パターンとともに移動方向に直交したクロススキャン方向に配置されたダミーパターンやアライメントマークなどの側部パターンを形成するカラーフィルタの製造方法を提供することにある。本発明は、上記の課題を解決するために、以下の構成を採用した。本発明にかかるカラーフィルタの製造方法は、矩形の被露光基板を連続して移動させながら、露光光源から照射される露光光を、露光マスクとブラインドシャッタとを備える露光ヘッドを介して、露光マスクのマスクパターンを被露光基板上に露光する露光装置を用いて、画像表示部パターンと画像表示部パターンの移動方向の前部と後部に配置され移動方向に直交した方向に延びる形をした2つの側部パターンとを備えるカラーフィルタパターンを被露光基板上に連続して露光させるカラーフィルタの製造方法であって、被露光基板を静止させて前部の側部パターンを露光する第1の露光ステップと、被露光基板を移動させながら表示パターンをスキャン露光する第2の露光ステップと、被露光基板を静止させて後部の側部パターンを露光する第3の露光ステップとを備える。また、露光マスクは、前部の側部パターンと表示パターンと後部の側部パターンとをそれぞれ露光するためのマスクパターンが形成された領域としてそれぞれ前部マスク領域と中央部マスク領域と後部マスク領域とを備え、第1の露光ステップにおいては、前部マスク領域は透光し、他の領域はブラインドシャッタで遮光し、第2の露光ステップにおいては、中央部マスク領域は透光し、他の領域はブラインドシャッタで遮光し、第3の露光ステップにおいては、後部マスク領域は透光し、他の領域はブラインドシャッタで遮光する。また、第1の露光ステップと第3の露光ステップとを同時に行い、この場合においては、前部マスク領域及び後部マスク領域は透光し、中央部マスク領域はブラインドシャッタで遮光する。また、露光装置は被露光基板上の被露光領域の幅をカバーするように、所定の長さの端部を重ねて移動方向の前後にずらして平行に並置された少なくとも前後に2列の複数の露光ヘッドを備えていて、各列の露光ヘッドの前後の間隔は、被露光基板上に露光される連続するカラーフィルタパターンのピッチ距離と同一またはピッチ距離の整数倍の距離に構成されている。また、露光光源は点滅光源もしくは連続光源である。そして、本発明にかかるカラーフィルタは、上述のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法によって製造されてなる。本発明によれば、上述の特徴を有することから、下記に示すことが可能となる。すなわち、矩形の被露光基板を連続して移動させながら、露光光源から照射される露光光を、露光マスクとブラインドシャッタとを備える露光ヘッドを介して、露光マスクのマスクパターンを被露光基板上に露光する露光装置を用いて、画像表示部パターンと画像表示部パターンの移動方向の前部と後部に配置され移動方向に直交した方向に延びる形をした2つの側部パターンとを備えるカラーフィルタパターンを被露光基板上に連続して露光させるカラーフィルタの製造方法であって、被露光基板を静止させて前部の側部パターンを露光する第1の露光ステップと、被露光基板を移動させながら表示パターンをスキャン露光する第2の露光ステップと、被露光基板を静止させて後部の側部パターンを露光する第3の露光ステップとを備えるので、被露光基板を連続して移動させながらも、画像表示部パターンとともに、移動方向に直交した方向に延びる形をした2つの側部パターンを露光することが可能となる。また、露光マスクは、前部の側部パターンと表示パターンと後部の側部パターンとをそれぞれ露光するためのマスクパターンが形成された領域としてそれぞれ前部マスク領域と中央部マスク領域と後部マスク領域とを備え、第1の露光ステップにおいては、前部マスク領域は透光し、他の領域はブラインドシャッタで遮光し、第2の露光ステップにおいては、中央部マスク領域は透光し、他の領域はブラインドシャッタで遮光し、第3の露光ステップにおいては、後部マスク領域は透光し、他の領域はブラインドシャッタで遮光するので、一つの露光マスクだけで3つのパターンを露光することが可能となる。また、第1の露光ステップと第3の露光ステップとを同時に行い、この場合においては、前部マスク領域及び後部マスク領域は透光し、中央部マスク領域はブラインドシャッタで遮光するので、隣接するカラーフィルタパターンの左側パターンと右側パターンとを、同一の露光マスク上の2つのマスクパターンを用いて、同時に形成することが可能となり、相互の間隔を高精度に、かつ、別々に形成する場合と比べて半分の露光時間で、形成することが可能となる。また、露光装置は被露光基板上の被露光領域の幅をカバーするように、所定の長さの端部を重ねて移動方向の前後にずらして平行に並置された少なくとも前後に2列の複数の露光ヘッドを備えていて、各列の露光ヘッドの前後の間隔は、被露光基板上に露光される連続するカラーフィルタパターンのピッチ距離と同一またはピッチ距離の整数倍の距離に構成されているので、各列の露光ヘッドを同時にまとめて静止露光またはスキャン露光することが可能となる。また、露光光源はYAGレーザーなどの点滅光源もしくは高圧水銀ランプなどの連続光源であるので、静止露光にもスキャン露光にも対応することが可能となる。そして、本発明にかかるカラーフィルタは、上述のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法によって製造されてなるので、被露光基板を連続して移動させながらも、画像表示部パターンとともに、移動方向に直交した方向に延びる形をした2つの側部パターンを有するカラーフィルタ得ることが可能となる。本発明の実施形態について詳細に説明する前に、本発明のカラーフィルタ製造方法などの概略を説明する。本実施形態の製造方法では、被露光基板を搬送する露光ステージおよびYAGレーザーを光源として搭載したEGIS露光機を用いている。被露光基板として感光性レジストが塗布された矩形のガラス基板を使用する。スキャン露光によりスキャン方向に平行な繰り返しのパターン転写を行う工程と、スキャン動作を停止し静止露光によりクロススキャン方向のパターン転写を行う工程とを繰り返すことにより、所定のカラーフィルタパターンを被露光基板の感光性レジストに転写した。この所定のカラーフィルタパターンを被露光基板に転写した後、公知のカラーフィルタの製造方法と同様な方法により、現像し、オーブン焼成により感光性レジストの硬化物よりなるパターンを基板上に形成した。ここで、BMなどの第1層のレイヤーの形成においては、露光装置が被露光基板の移動情報等を読み取ることにより露光開始位置および露光終了位置を決定し、露光ヘッドに対して被露光基板を機械的に位置制御することにより露光を行う。このとき、第1層のパターンとして、BMとともにクロススキャン方向のアライメントマーク、ダミーパターン、額縁パターンなどの側部パターンも転写する。第2層以降のレイヤーの形成においては、第1層のレイヤーのパターンを画像検出ユニットで読み取ることにより、露光開始位置および露光終了位置を決定して、基板のずれに対して、被露光基板の露光ヘッドに対してこのずれに追随するように位置制御することにより、露光を行う。このとき、画像表示領域にドットパターンを形成するとともに、クロススキャン方向のダミーパターンやアクセサリーマークの側部パターンを転写したり、積層したり補充したりする。本実施形態の製造装置では、光源と露光マスクとの間に、露光光を遮るためのブラインドシャッタ遮光羽根を有する遮光装置を配置する。このブラインドシャッタにより露光マスクの一部を遮光し他の部分を透光するようにして、露光マスクの所定のマスク領域を選択的に透光することにより、所定のパターンを被露光基板に転写する。本実施形態では、上記に説明したスキャン露光と静止露光とを行う各マスクパターンが、同一の露光マスク上に形成されている。以下、図面を参照して、本発明の実施形態について、詳細に説明する。はじめに、本実施形態の製造方法で形成するカラーフィルタパターン100について説明する。図1は、本実施形態の製造方法で、例えばガラス基板等の透明基板被露光基板上に形成するカラーフィルタパターン100を上方から見た図である。カラーフィルタパターン100は、中央に横長矩形形状の画像表示部パターン101を有し、その右側に右側部パターン102、左側に左側部パターン103を有していている。画像表示部パターン101は、表示装置としたときに画像が表示される領域である。右側部パターン102には、内側に画像表示部パターン101に隣接して右側部ダミーパターンもしくは額縁パターン102a、その外側に右側部アライメントマーク102bが設けられ、同様に、左側部パターン103には、左側部ダミーパターンもしくは額縁パターン103aと左側部アライメントマーク103bが設けられている。右側部パターン102bおよび左側部パターン103bは、表示装置として組み立てられるときに、位置合わせなどに使用される。後述するように、本実施形態におけるスキャン方向は、カラーフィルタパターン100の右側から左側への向きの横方向であり、右側部パターン102および左側部パターン103のパターンは縦方向の、スキャン方向と直交するクロススキャン方向の向きに配置されている。a.静止露光本実施形態では、クロススキャン方向に配置されているパターンは静止露光により形成される。まず、カラーフィルタパターン100の右側部パターン102に設けられたダミーパターンもしくは額縁パターン102aとアライメントマーク102bの形成について説明する。図2a、bに、本実施形態にかかる露光装置の要部の構成を示す。図2aは露光装置を上方から見たときの概略構成図であり、露光マスク2とブラインドシャッタ3とを備えた露光ヘッド1が示されている。図2bは概略断面図であり、露光のための光学系を含めた露光ヘッド1などが示されている。図2bにおいて、図示しない光源から出た光線はフライアイレンズ図示しないおよびコンデンサレンズ5などを介して平行光となり、これが露光光4として照射される。この露光光4が露光ヘッド1に照射され、透光した部分のパターンが被露光基板6上の感光性レジストに転写される。露光マスク2に形成されているマスクパターンを図3に示す。露光マスク2は、中央の中央マスク領域7中央部マスク領域、左側の左側マスク領域8前部マスク領域、右側の右側マスク領域9後部マスク領域の3つの領域を有する。中央マスク領域7の第1のマスクパターン11は、カラーフィルタパターン100の画像表示領域101に対応する。左側マスク領域8の第2のマスクパターン12は、カラーフィルタパターン100の右側部パターン102に対応し、第2のダミーもしくは額縁マスクパターン12aと第2のアライメントマークマスクパターン12bとを備える。右側マスク領域9の第3のマスクパターン13は、カラーフィルタパターン100の左側部パターン103に対応し、第3のダミーもしくは額縁マスクパターン13aと第3のアライメントマークマスクパターン13bとを備える。ブラインドシャッタ3は、図2a、bに示すように、上下に重ね合わされた複数枚の遮光板3aから構成される。各遮光板3aはスキャン方向にスライド自在に構成され、遮光板3aを移動させ展開し集結することにより、露光マスク2の中央マスク領域7と左側マスク領域8と右側マスク領域9との全部または一部を選択的に遮光する。この工程では、図2a、bにおいて、露光光4はブラインドシャッタ3により中央マスク領域7と右側マスク領域9とが遮光され、左側マスク領域8だけが照射される。露光光4が照射された左側マスク領域上の第2のマスクパターン12が静止している被露光基板6上に転写され、カラーフィルタパターン100の右側部パターン102が、まず露光される。このように、露光マスク2の第2のマスクパターン12を用いて、静止露光により被露光基板6上にパターン形成を行ったので、クロススキャン方向のパターンの形成が可能となった。次に、図4a、bを用いて、静止露光により、カラーフィルタパターン100の右側部領域102と左側部領域103のパターンを、同時に形成する工程について説明する。これは、後述の図10に示す、複数のカラーフィルタパターン100をスキャン方向に並べて被露光基板6上に形成する場合に用いられる工程である。図4a、bに示すように、ブラインドシャッタ3により、露光マスク2の中央マスク領域7が遮光され、他の領域は透光されることにより、左側マスク領域8と右側マスク領域9が照射される。そして、左側マスク領域8上の第2のマスクパターン12と、右側マスク領域9上の第3のマスクパターン13とが、静止している被露光基板6上に転写される。このように、露光マスク2の第2のマスクパターン12と第3のマスクパターン13を用いて、静止露光により被露光基板6上にパターン形成を行ったので、クロススキャン方向のパターンの形成が可能となった。隣接するカラーフィルタパターン100の左側部パターン103のパターンの形成と右側部パターン102とを、同一の露光マスク2上の第2のマスクパターン12、第3のマスクパターン13を用いて、同時に形成することが可能となった。そして、第2のマスクパターン12と第3のマスクパターン13の相互の間隔を高精度に、かつ、別々に形成する場合と比べて半分の露光時間で、形成することが可能となった。なお、被露光基板6の左端部近傍において、連続するカラーフィルタパターン100の最後の1つを転写する場合には、ブラインドシャッタ3により、露光マスク2の中央マスク領域7と左側マスク領域とを遮光し、右側マスク領域9のみ照射する。そして、右側マスク領域9上の第3のマスクパターン13だけを、静止している被露光基板6上に転写する。b.スキャン露光本実施形態では、スキャン方向に配置されているカラーフィルタパターン100の画像表示部パターン101については、スキャン露光により転写される。図5a、bに示すように、ブラインドシャッタ3により、露光マスク2の左側マスク領域8と右側マスク領域9とが遮光され、中央マスク領域7だけが照射される。また、図5bの下側の矢印のX方向に、スキャン露光に合わせて図示しない露光ステージもしくは浮上搬送ユニットにより、被露光基板6は右向きに搬送される。このようにして、従来の露光方式である繰り返しパターンによる連続スキャン露光により、中央マスク領域7に設けられた第1のマスクパターン11が被露光基板6上の感光性レジストに転写される。スキャン露光開始位置およびスキャン露光終了位置の近傍においては、被露光基板6上の感光性レジストの露光量が、他の繰り返しパターン露光領域と同じとなるように、ブラインドシャッタ3により調節される。その詳細は、後述する。c.スキャン露光と静止露光との繰り返しによるパターン転写次に、上述で説明したスキャン露光と静止露光とを組み合わせて、カラーフィルタパターン100を転写する方法について、図6乃至図11を用いて説明する。露光装置の要部の構成は図2などで示した構成と同様のものであるが、断面図は省略してある。この実施形態では、1つの露光マスク2を用いて、カラーフィルタのパターン100を1つずつ横並びに転写することにより、所定の間隔でカラーフィルタのパターン100を連続して形成する。c-1.静止露光によるパターン転写第1群のパターン図6a、bを用いて、本実施形態の第1群のパターンの形成の始めにおけるパターン転写について説明する。ここで、図6aは露光時における露光マスク2、ブラインドシャッタ3と被露光基板6とを上面から見た配置構成図を示し、図6bは、この工程の露光により転写された被露光基板6上の露光パターンを示している。この工程では、図2で説明したのと同様の露光パターンが被露光基板6上に形成される。すなわち、図6aに示すように、ブラインドシャッタ3で露光光4が一部遮光され、左側マスク領域8だけが照射され、左側マスク領域8上の第2のマスクパターン12が、静止している被露光基板6上に転写される。この工程で転写されたカラーフィルタパターン100の右側部パターン102の露光パターンを図6bに示す。ここで、被露光基板6は図示しない露光ステージもしくは浮上搬送ユニットにより搬送され露光ヘッド1に対して位置合わせされ、被露光基板6の右端から所定間隔離れた位置に右側部パターン102の露光パターンが形成される。すなわち、露光装置が被露光基板の移動情報等を読み取ることにより露光開始位置および露光終了位置を決定し、露光ヘッドに対して被露光基板を機械的に位置制御して位置出しし、被露光基板6を所定位置に静止させてから静止露光を行う。なお、本実施形態では、露光ヘッド1が固定され、被露光基板6が搬送され移動される構成となっている。c-2.スキャン連続露光によるパターン転写スキャン露光開始時第1群のパターン図7aは、スキャン連続露光によるスキャン方向への繰り返しパターン転写の開始時における状況を示す。まず、被露光基板6を所定長さ、X矢印方向に所定距離搬送する。次に、ブラインドシャッタ3によって、露光マスク2の左側マスク領域8と右側マスク領域9とを遮光し、中央マスク領域7の領域内において、画像表示領域101の右端に合わせてブラインドシャッタ3を移動させ部分的に透光してパターン転写を行う。このようにして、図7bに示すように、被露光基板6上に画像表示領域101の右側部パターン102と隣接する部分が転写される。c-3.スキャン連続露光によるパターン転写スキャン露光の中間領域第1群のパターン図8aは、スキャン連続露光によるスキャン方向への繰り返しパターン転写の中間領域における状況を示す。この工程では、図5で説明したのと同様のパターンが連続して被露光基板6上に形成される。すなわち、図8aに示すように、ブラインドシャッタ3により、露光マスク2の左側マスク領域8と右側マスク領域9とが遮光され、中央マスク領域7のほぼ全領域が透光されて照射される。また、スキャン露光に合わせて図示しない露光ステージもしくは浮上搬送ユニットにより、被露光基板6はX矢印方向に搬送される。このようにして、従来の露光方式である繰り返しパターンによる連続スキャン露光により、中央マスク領域7に設けられた第1のマスクパターン11が連続的に被露光基板6上の感光性レジストに転写される。c-4.スキャン連続露光によるパターン転写スキャン露光終了時第1群のパターン図9aは、スキャン連続露光によるスキャン方向への繰り返しパターン転写の終了時における状況を示す。図7aで説明した工程と同様に、ブラインドシャッタ3によって、露光マスク2の左側マスク領域8と右側マスク領域9とを遮光し、中央マスク領域7の領域内において、画像表示領域101の左端に合わせてブラインドシャッタ3を移動させてパターン転写を行う。上述した工程c-2、c-3およびc-4において、画像表示領域101各々の領域の露光量が一定となるように調整しながら露光を行う。このようにして、図9bに示すように、被露光基板6上に画像表示領域101が被露光基板6上の感光性レジストに転写される。c-5.静止露光によるパターン転写第1群の終わりと第2群の始めのパターン図10aに、静止露光による第1群の左側部パターン103と第2群の右側部パターン102の部分の、パターン転写の状況を示す。この工程は、図4について説明した内容と同様である。すなわち、9aに示すように、ブラインドシャッタ3により、露光マスク2の中央マスク領域7が遮光され、他の領域は透光されることにより、左側マスク領域8と右側マスク領域9が照射される。そして、左側マスク領域8上の第2のマスクパターン12と、右側マスク領域9上の第3のマスクパターン13とが、静止している被露光基板6上に転写される。このようにして、図10bに示すように、露光マスク2上に第1群のカラーフィルタパターン100と第2群の右側部領域102のパターンが露光された。c-6.スキャン連続露光によるパターン転写スキャン露光開始時第2群のパターン図11aは、第2群のカラーフィルタパターン100についてのスキャン連続露光によるスキャン方向への繰り返しパターン転写の開始時における状況を示す。詳細な説明は、c-2で説明したとおりである。このようにして、図11bに示すように、被露光基板6上に第2群のカラーフィルタパターン100の画像表示領域101の始めの部分が、右側部パターン102と隣接する位置に転写される。上記のc-1以下の工程を繰り返すことにより、クロススキャン方向のパターンを有する連続してカラーフィルタパターン100を、所定間隔で露光マスク2上に露光することが可能となる。d.スキャン露光と静止露光との繰り返しによるパターン転写大型基板における、複数の小型マスクによるスキャン露光と静止露光との繰り返しによるパターン転写について、図12乃至図19を用いて説明する。露光装置の要部の構成はcの説明で示した構成と同様のものであるが、形成された露光パターンの図は省略してある。この実施形態では、G8第8世代サイズの被露光基板6と、G8サイズ用のEGIS露光機を用いる。また、5個の露光ヘッド1をスキャン方向の上流側A列のクロススキャン方向に所定間隔で並べて配設し、4個の露光ヘッド1をその下流側B列のクロススキャン方向でA列の露光ヘッド1の間に位置するように並べて配設する。このようにクロススキャン方向に2列に露光ヘッド1を配設することにより、被露光基板6のほぼ全幅を9個の露光マスク2により隙間なく露光することが可能となる。このとき、各露光ヘッド1には、それぞれの各露光ヘッド1のクロススキャン方向の幅に含まれるカラーフィルタパターン100のパターンやマークに対応するマスクパターンが形成されている。そして、これらの露光ヘッド1を用いて、例えば縦方向図中上下方向5個×横方向図中左右方向3個の合計15個のカラーフィルタパターン100を、この被露光基板6上に形成する。また、A列の露光マスク2とB列の露光マスク2との横方向の間隔は、スキャン方向に隣接するカラーフィルタパターン100の中心間の距離である繰り返しピッチ間隔と同一になるよう整列されている。このように構成することにより、後述するように、A列の露光マスク2とB列の露光マスク2とで同時にスキャン露光または静止露光を行うことが可能となる。なお、本実施形態でのカラーフィルタパターン100は、図1で示したパターンの上下に、額縁状の上下部パターン104を更に備えている。図17参照d-1.A列の露光ヘッドによる第1群の静止露光図12に示すように、A列の露光ヘッドにより第1群の始まりを静止露光する。ここで、A列の露光マスク2やブラインドシャッタ3の働きは、c-1で説明したとおりであり、被露光基板6上に同時に5つの右側部パターン102であって、A列の露光マスク2の幅に含まれる部分について静止露光される。なお、ここでB列の露光マスク2は被露光基板6上にないので、ブラインドシャッタ3で覆われた状態となっている。d-2.A列の露光ヘッドによる第1群のスキャン露光図13に示すように、A列の露光ヘッドにより第1群をスキャン露光する。ここで、A列の露光マスク2やブラインドシャッタ3の働きは、c-2乃至c-4で説明したとおりであり、被露光基板6上に同時に4つの画像表示部パターン101の部分がスキャン露光される。なお、ここでB列の露光マスク2はブラインドシャッタ3で覆われた状態となっている。d-3.A列の露光ヘッドによる第1群の終わりと第2群の始まりの静止露光と、B列の露光ヘッドによる第1群の始まりの静止露光図14に示すように、A列の露光ヘッドにより第1群の終わりと第2群の始まりを静止露光する。ここで、A列の露光マスク2やブラインドシャッタ3の働きは、c-5で説明したとおりであり、被露光基板6上に同時に第1群の5つの左側部パターン103と第2群の4つの右側部パターン102であって、A列の露光マスク2の幅に含まれる部分について静止露光される。また、B列の露光マスク2やブラインドシャッタ3の働きは、c-1で説明したとおりであり、被露光基板6上に同時に第1群の4つの右側部パターン102であって、B列の露光マスク2の幅に含まれる部分について静止露光される。すなわち、A列の露光マスク2とB列の露光マスク2との間隔は、カラーフィルタパターン100の繰り返しピッチ間隔と同一に構成されているため、同時に静止露光が可能となる。d-4.A列の露光ヘッドによる第2群のスキャン露光と、B列の露光ヘッドによる第1群のスキャン露光図15に示すように、A列の露光ヘッドにより第2群を、B列の露光ヘッドにより第1群をスキャン露光する。ここで、A列およびB列の露光マスク2やブラインドシャッタ3の働きは、c-2乃至c-3で説明したとおりである。なお、ここでA列の露光マスク2とB列の露光マスク2との間隔は、カラーフィルタパターン100の繰り返しピッチ間隔と同一に構成されているため、同時にスキャン露光が可能となる。d-5.A列の露光ヘッドによる第2群の終わりと第3群の始まりの静止露光と、B列の露光ヘッドによる第1群の終わりと第2群の始まりの静止露光図16に示すように、d-3の説明と同様に、A列の露光ヘッドにより第2群の終わりと第3群の始まりを、B列の露光ヘッドにより第1群の終わりと第2群の始まりを静止露光する。なお、ここでA列の露光マスク2とB列の露光マスク2との間隔は、カラーフィルタパターン100の繰り返しピッチ間隔と同一に構成されているため、同時に静止露光が可能となる。d-6.A列の露光ヘッドによる第3群のスキャン露光と、B列の露光ヘッドによる第2群のスキャン露光図17に示すように、d-4の説明と同様に、A列の露光ヘッドにより第3群を、B列の露光ヘッドにより第2群をスキャン露光する。なお、ここでA列の露光マスク2とB列の露光マスク2との間隔は、カラーフィルタパターン100の繰り返しピッチ間隔と同一に構成されているため、同時にスキャン露光が可能となる。d-7.A列の露光ヘッドによる第3群の終わりの静止露光と、B列の露光ヘッドによる第2群の終わりと第3群の始まりの静止露光図18に示すように、d-3の説明と同様に、A列の露光ヘッドにより第2群の終わりと第3群の始まりを、B列の露光ヘッドにより第1群の終わりと第2群の始まりを静止露光する。なお、ここでA列の露光マスク2とB列の露光マスク2との間隔は、カラーフィルタパターン100の繰り返しピッチ間隔と同一に構成されているため、同時に静止露光が可能となる。d-8.B列の露光ヘッドによる第3群のスキャン露光図19に示すように、B列の露光ヘッドにより第3群をスキャン露光する。ここで、B列の露光マスク2やブラインドシャッタ3の働きは、c-2乃至c-3で説明したとおりである。なお、ここでA列の露光マスク2は被露光基板6上にないので、ブラインドシャッタ3で覆われた状態となっている。d-9.B列の露光ヘッドによる第3群の終わりの静止露光図20に示すように、d-3の説明と同様に、B列の露光ヘッドにより第3群の終わりを静止露光する。なお、ここでA列の露光マスク2は被露光基板6上にないので、ブラインドシャッタ3で覆われた状態となっている。以上のd-1乃至d-9で説明したように、スキャン露光と静止露光とを繰り返してパターン転写を行う。なお、この実施形態では、A列とB列の露光マスク2のスキャン方向の間隔は、カラーフィルタパターン100の繰り返しピッチ間隔と同一に構成したが、これに限定されず、繰り返しピッチ間隔の整数倍の距離に構成してもよい。なお、本実施形態では、露光マスク2をA列とB列の2列に配置したが、A列とB列とC列というように2列以上の配置に構成してもよい。この場合、A列とB列との間隔、B列とC列との間隔は、カラーフィルタパターン100の繰り返しピッチ間隔と同一またはその整数倍の距離に構成することにより、3列同時にスキャン露光または静止露光を行うことが可能となる。なお、本発明のカラーフィルタは、その細部が上述した実施形態に限定されず、種々の変形が可能である。一例として、カラーフィルタパターン100の左右に配置した側部ダミーパターンもしくは額縁パターン102a、103aと上下に配置した額縁などの上下部パターン104を連続させた、四角い枠状の形状をした額縁パターンとして形成してもよい。