液晶と、前記液晶に電圧を印加する画素電極と、前記画素電極に電圧を印加するスイッチング素子と、前記画素電極以外の領域を覆って、前記画素電極と対向する開口部を有する遮光部と、前記開口部の全面と重なり合うように形成される色材と、前記遮光部の一部であって、前記色材に隣接する封入部と前記封入部に覆われている黒色粉末封入ポケットと、前記黒色粉末封入ポケット内に封入されている黒色粉末と、を有することを特徴とする液晶表示パネル。液晶と、前記液晶に電圧を印加する画素電極と、前記画素電極に電圧を印加するスイッチング素子と、前記画素電極以外の領域を覆って、前記画素電極と対向する開口部を有する遮光部と、前記開口部の全面と重なり合うように形成される色材と、前記遮光部内に配設されて、前記色材に近接する柱スペーサーと前記柱スペーサーに覆われている黒色粉末封入ポケットと、前記柱スペーサーの上部にあって前記黒色粉末封入ポケットを封止する封入部と、前記黒色粉末封入ポケット内に封入されている黒色粉末と、を有することを特徴とする液晶表示パネル。前記黒色粉末封入ポケットは、前記色材よりも厚いことを特徴とする請求項2に記載の液晶表示パネル。請求項1ないし3のいずれかの請求項に記載の液晶表示パネルに対して、レーザー光を前記黒色粉末封入ポケットに照射することにより前記黒色粉末を前記遮光部から前記開口部へと拡散させる工程を含むことを特徴とする液晶表示パネルの修復方法。前記開口部の中央部に対応する領域の前記色材にレーザー光を照射することにより、前記色材の光透過率を低くする工程をさらに含むことを特徴とする請求項4に記載の液晶表示パネルの修復方法。前記遮光部内にあって前記色材に近接する柱スペーサーを有し、前記柱スペーサーは、前記黒色粉末封入ポケットを有していることを特徴とする請求項4または5に記載の液晶表示パネルの修復方法。背景技術におけるいずれの手法によっても、液晶表示パネルの性能を低下させることや、リペアが不完全な結果となってしまうことが、課題として残る。本発明は、液晶表示パネルの性能を低下させることなく、より確実に欠陥部をリペアすることができるように工夫した材料を使用し、リペアを実施することで、上記の課題を解決し、ひいては歩留まり向上品質向上につなげることを目的としている。本発明は、液晶と前記液晶に電圧を印加する画素電極と、前記画素電極に電圧を印加するスイッチング素子と、前記画素電極以外の領域を覆って前記画素電極と対向する開口部を有する遮光部と、前記開口部の全面と重なり合うように形成される色材と、前記遮光部の一部であって、前記開口部に隣接する黒色粉末封入ポケットと前記黒色粉末封入ポケットを覆うように形成する封入部と、前記黒色粉末封入ポケット内に封入されている黒色粉末とを有することを特徴とする液晶表示パネルに関するものである。本発明によれば、液晶表示パネルの表示領域における画素周辺部に黒点化に必要な黒色の粉末を封入しておき、輝点欠陥が存在する画素に隣接する黒色粉末部にレーザーを照射し、黒色粉末を欠陥画素内に拡散させることで、輝点欠陥を黒点化させることが容易にできるように工夫したものである。しかも本来の液晶表示パネルの性能を低下させることなく、リペアを確実に実施できるメリットがある。実施の形態1以下、この発明の実施の形態を図について説明する。図1に、本発明の実施の形態1にかかるCF基板の平面図を示す。図2は、図1においてA-Aで示す箇所の断面図である。図3は、本発明の実施の形態1にかかる輝点欠陥の修復を示すCF基板の断面図である。図1、2から、CF基板においてはガラス基板1上に、遮光部2が形成されている。遮光部2は、格子状で開口部3を有する。ここで、開口部3は表示領域内の1画素図示しないに対応している。すなわち、アレイ基板上で薄膜トランジスタ等のスイッチング素子により電位が印加される画素電極図示しないと対応している。遮光部2はブラックマトリクスからなる第1遮光部2aを備えており、さらに黒色粉末封入ポケット4と封入材5とを備えた第2遮光部2bを備えている。第2遮光部2bは、第1遮光部2aが形成されていない領域に形成されるが、少なくとも1つの開口部3に隣接するように形成されている。図1においては、1つの開口部3をはさんで対向するように2つの第2遮光部2bが開口部3に隣接して配置されているが、第2遮光部2bの数や位置はこの限りではない。1つの開口部あたりの数が多いほど黒化の効果も増大するが、1個以上あれば発明の効果を奏する。第2遮光部2bは局所的離散的に配置しなくても、たとえば、開口部3の周辺を囲むように形成してもよい。前述した通り、第2遮光部2bは、ガラス基板1上に形成された黒色粉末封入ポケット4とそれを覆うようにして形成されている封入材5とを有する。図2からわかるように、第2遮光部2bの一部である封入材5は色材7に隣接している。そして、黒色粉末封入ポケット4は封入材5に覆われており色材7とは隣接していない。ここで、第2遮光部2bも第1遮光部2aと同じく遮光機能を有する必要があるため、黒色粉末封入ポケット4の中に封入される黒色粉末6も光透過率が低いほうがのぞましい。具体的にはカーボン粉末や金属酸化物粉末等の黒色粉末がのぞましい。封入材5は黒色粉末6が外に漏れないように被覆するためのものである。封入材5も遮光機能のためには、光透過率が低い方が望ましく、具体的には樹脂ブラックマトリクス樹脂BMがのぞましい。開口部3を覆うように色材7が形成されている。色材7はカラーフィルタの色と対応し、一般的にはR赤、G緑、B青の3色のいずれかである。しかし、カラーフィルタがRGB以外の色を含む4色以上を有している場合、色材7の色もRGB以外の色を有することとなる。カラーフィルタが透明な色を含む場合は、色材7も光学的に透明であり、本発明における色材とはそのようなものも含んでいる。色材7と遮光部2との間にすき間があるとそこから光が漏れるため、開口部3付近で色材7と遮光部2とは一部重畳する。すなわち、色材7は開口部3だけでなく、開口部3付近の遮光部2も覆う。ここで、色材7は第2遮光部2bを完全に覆っており、色材7の形成される領域の端部は第1遮光部2a上に位置していてもよい。必ずしもこのように完全に覆う必要は無いものの、その方が黒化の効果が高いためであるが、その理由については後述する。図1、2から、色材7や遮光部2を覆うようにして、樹脂等からなる平滑材8が形成されている。この平滑材は無くてもよい。さらに、平滑材8を覆うようにして透明導電材9が形成されている。この透明導電材9は液晶表示パネルにおいて、TFT等のスイッチング素子が形成されるアレイ基板上の画素電極と液晶を介して対向する共通電極を構成するものである。したがって、IPS等の横電界方式のように共通電極をアレイ基板上に形成する場合には、透明導電材9は形成せず、色材7や遮光部2上には平滑材8のみを形成する。次に、図1、2に示すカラーフィルタの製造方法について説明する。ガラス基板1上に第1遮光部2aとなるブラックマトリクスを形成する。まず、クロム等の金属膜をスパッタ法や蒸着法などの成膜方法により形成する。その後、写真製版プロセスを経て、図1に示すように第1遮光部2aの形状にパターニングを行う。次に、第2遮光部2bに黒色粉末6を形成する。具体的には、微細ノズルから黒色粉末を第2遮光部2bに適量を滴下することにより黒色粉末ポケット4を形成する。その後、黒色粉末ポケット4の上から微細ノズルで樹脂BM等を適量落とした後、UV硬化や熱硬化などの方法で硬化させることにより黒色粉末を密封する封入材5となす。さらに、色材7を塗布パターニングもしくは、マスク蒸着法により形成する。この際、画素周辺部において色材7は遮光部2と重畳するように形成し、さらに色材7は第2遮光部2bの封入材5を覆うように形成する。その後、平滑材8を塗布する。その後、透明導電材9をスパッタ法や蒸着法により成膜して、適宜パターニングを行う。次に、図1、2に示すカラーフィルタに対応する画素において輝点欠陥が生じた場合に、それを黒点欠陥とするための修復方法について図3を用いて説明する。図3にレーザー照射後のCF基板の断面図を示す。レーザー10をCFのガラス基板1側より照射し、封入材5を破損させ、開口部3における色材7とガラス基板1との隙間へと黒色粉末6を拡散させることにより、CF基板の開口部3に対応する領域を黒化させる。ここで、もし色材7が封入材5を覆っていなければ、黒色粉末6は開口部3以外の領域、たとえば第1遮光部2aに拡散してしまい、十分な黒化がなされないことになる。本実施の形態1においては、色材7が封入材5を覆っているため、黒色粉末6が開口部3の色材7とガラス基板1の隙間へと拡散し、黒化がなされる。レーザーの波長は、適宜決めてよく、一般的には、1064nm、532nm、355nm、266nm等を用いる。なお、実施の形態1においては、TFT等のスイッチング素子を備えたアレイ基板と液晶を介して対向するカラーフィルタ基板を例にして説明したが、その限りではない。アレイ基板上にカラーフィルタを形成するCFオンアレイと呼ばれる液晶パネルにおいても適用することは可能である。この場合、アレイ基板上に形成されたカラーフィルタを囲む遮光部に黒色粉末封入部を設けることにより同様の効果を得ることが可能である。また、第1遮光部と第2遮光部とは同じレイヤーで形成したが、異なる層で形成してもよい。この場合、遮光効果を増すために第1遮光部と第2遮光部とは一部重畳していてもよい。実施の形態2実施の形態1では黒色粉末を用いた輝点欠陥の黒点化について説明したが、画素の寸法が大きいパネルや開口率が高いパネルにおいては、画素全体を十分に黒点化できる黒色粉末を格納するスペースが得られない可能性がある。本実施の形態2においては、実施の形態1の修復方法に加えて、レーザーをCF基板の開口部の中央部に照射することによりCFを直接的に黒化させる工程も追加することを特徴とする。画素全体を黒化するために十分な量の黒色粉末を格納するスペースが無い場合、レーザー照射により黒色粉末が開口部内へと拡散しても、開口部の中央部まで到達しきれないことがある。この場合、結果として液晶表示パネルの画素周辺部は黒くなるものの、画素中央部のみ十分な黒化ができないことになる。一方、レーザー照射によりCFの色材を直接黒化する方法には、画素周辺部にレーザーを照射した場合、その周辺に配向異常領域を発生させるデメリットがあるものの、レーザー照射領域を画素中央部に限定すれば上記の問題はかなり軽減されることとなる。本実施の形態2においては、黒色粉末を格納するスペースが少ないパネルにおいて、実施の形態1に係る黒化の方法と、レーザーによりCFを直接的に黒化する方法とを組み合わせることにより双方のデメリットを補いあい、画素の中央部も周辺部も含む全面について十分に黒化させることが可能となる。次に、実施の形態2にかかる修復方法について、図4を用いて説明する。まずCFもしくはTFTガラス面側より開口部中央部3bにレーザー10を照射し、開口部の中央部3bにおける色材7や有機膜等を炭化させ、それらの光透過率を低下させる。すなわち、画素を黒点化する。この時、画素周辺部3aにはレーザー10を照射しないようにする。次に画素周辺部3aの第2遮光部2bに封入した黒色粉末ポケット4にレーザー10をCF基板のガラス基板1側より照射し、封入材5を破損させ、色材7とガラス基板1の隙間に黒色粉末6を拡散させることにより、CF基板の開口部の周辺部3aを黒化させる。なお、レーザー10をCF基板に直接的に照射してCFを黒化させる工程と、レーザー照射により黒色粉末を拡散させる工程の順番は、いずれが先であってもよいし、同時に行ってもよい。たとえば、CF基板の開口部の中央部3bに照射する系統と、黒色粉末6にレーザーを照射する系統とを別に有するレーザー照射装置を用いてもよい。ここで、別系統とは、異なるレーザー素子を複数有していてもよいし、時分割で照射工程を分けてもよい。照射領域によって、最適なレーザーのパワー、波長、パルス幅等のパラメータを切り換えてもよい。また、あらかじめ画素の寸法、隣接画素との隙間、ブラックマトリクスの寸法を設定させるか画像認識で読み取って、レーザーの照射前に照射領域を設定してもよい。さらに、色材7の光透過率を低下させる領域と、黒色粉末6を拡散させることにより黒化させる領域が開口部3内で一部重畳してもよい。これらを組み合わせることにより、さらなる黒点化の制御性の向上と生産性の増大とを達成することができる。実施の形態3実施の形態1においては、黒色粉末を遮光部内に配置する形態について説明した。本実施の形態3では、アレイ基板と対向基板との面内のギャップを制御するための柱スペーサー内に黒色粉末を封入し、レーザーの照射により画素内に黒色粉末を拡散させることを特徴とする。その構造や方法について、以下、図5~7を用いて説明する。図5は、本実施の形態3にかかる液晶表示パネルの平面図であり、図6は、図5においてB-Bで示す箇所の断面図である。図5において、遮光部2に囲まれた開口部3の全面と重なり合うように形成されている色材7と近接するように柱スペーサー11が形成されている。ここで、柱スペーサー11は一般的にセルギャップを一定間隔で保つために形成されているが、図5に示すように遮光部2内に配設される。図5においては、柱スペーサー11は、各開口部につき1個形成しているが、その数、位置はこのかぎりではない。数は1個以上あればよく、位置は画素の4辺どこに設置させてもよい。次に、断面図の図6も用いて柱スペーサー11を説明する。本実施の形態3においては、具体的には、図6のように、ガラス基板1上にBM2、色材7、更には液晶の駆動方法の違いにより必要なら有機膜等からなる平滑材8、およびITO等の透明導電材9を形成してなる。CFの柱スペーサー11を形成する領域は遮光部2内に位置するが、その箇所には第1遮光部2aや色材7や有機膜等からなる平滑材8を形成しないで柱スペーサー11用の窪み12を形成する。そして、その窪み12内に柱スペーサー11を形成する。図6においては、柱スペーサー11は色材7と直接接触しておらず近接しているが、直接接触していてもよい。ここでいう近接とは直接接触する場合も含んでいる。柱スペーサー11の中央部は空洞にしておき、上部に穴を形成する。ここが黒色粉末ポケット4に該当する。黒色粉末ポケット4内に黒色粉末6を適量入れ、柱スペーサー11の上部において封入材5で黒色粉末6を封入し固化させる。黒色粉末6は光の透過率が低い材料が望ましく、カーボン粉末や金属酸化物粉末等が良い。また、封入材5は柱スペーサー11と同様の材料等を用いる。柱スペーサー11は一般的にセルギャップを一定間隔で保つために形成されており、BM部よりはるかに厚みがある。したがって、柱スペーサー11の内部には遮光部2よりも多量の黒色粉末6を封入することができるため、画素が大きく開口率が高いパネルにおいても十分に黒点化が可能となる。また黒色粉末6を多量に含むことを可能とするため、黒色粉末ポケット4の厚みは色材よりも厚くするとよい。次に輝点欠陥を黒点とする修復の方法を図7に示す。CF基板の裏面から黒色粉末ポケット4にレーザー10を照射することにより、開口部3における色材7とその下層の基板1との隙間に黒色粉末6を拡散させるという点で、実施の形態1の記載とほぼ同様の修復方法である。実施の形態1と異なる点は、本実施の形態3においては、レーザー10は封入材5を破壊するのではなく、柱スペーサー11の周囲の透明導電材9と第1遮光部2aとを破壊する点であり、レーザー照射条件も適宜調整する必要がある。なお、本実施の形態においては、カラーフィルタ基板のブラックマトリクスにレーザーを照射する製造方法について記載したが、この形態に限られることはない。たとえば、カラーフィルタやブラックマトリクスがアレイ基板上にあってもよい。対向電極を形成する基板が、対向基板ではなくアレイ基板であるようなIPSやFFSにおいても適用可能である。この場合、色材7は必ずしもガラス基板1上に形成しなくともよい。たとえば、アレイ基板上のTFTや画素電極と同じレイヤーに色材7を形成してもよいし、TFTや画素電極を覆う絶縁膜上に形成してもよい。色材7に対応する開口部3を有するような遮光部もアレイ基板上に適宜形成することができる。特に、アレイ基板においてはCF基板よりもレイヤー数が多いため、第2遮光部と色材とを第1遮光部とは異なるレイヤーに形成してもよい。たとえば、アレイ基板上の遮光部と画素電極との間の容量を考慮する必要がある場合、第1遮光部と画素電極との間の絶縁層の数を第2遮光部と画素電極との間の絶縁層の数よりも大きくしてもよい。また、本実施の形態においては、光を透過する画素電極を例にして説明したが、光を反射する画素電極を配して外光を利用する反射型液晶表示装置においても適用可能である。もちろん、反射画素電極と透過画素電極とを備えた半透過型液晶表示装置においても適用可能である。また、カラーフィルタが無いモノクロ型の表示装置においても、ブラックマトリクスと黒色粉末が拡散する隙間があれば、本発明の製造方法を適用することができる。なお、この場合、色材といっても光学的には透明な樹脂等となる。すなわち、本発明の意義は黒化であるため、色材の中には透明なものを含むこととなる。本実施の形態を適宜組み合わせてもよい。たとえば、実施の形態2と実施の形態3とを組み合わせてもよい。