"表面に光硬化性膜が形成された可撓性ウェブの裏面を支持する周面を有し、前記支持された可撓性ウェブを搬送する金属製のバックアップロールと、前記支持されている前記可撓性ウェブ上の前記光硬化性膜に向けての硬化光を放つ光源と、前記バックアップロールに近接するようにして前記光源及び前記バックアップロールの間に配され、前記可撓性ウェブの搬送方向へ延び前記可撓性ウェブの幅方向に並ぶスリットを有し、前記硬化光を遮る光マスク板と、前記光マスク板及び前記バックアップロールの間に配され、前記光マスク板を支持するマスク支持板とを備え、前記マスク支持板の前記バックアップロール側の面は、前記光マスク板の前記バックアップロール側の面よりも、前記硬化光が吸収あるいは散乱しやすいことを特徴とする露光装置。前記マスク支持板の前記バックアップロール側の面の表面粗さRyRmaxは、0.5μm以上100μm以下であることを特徴とする請求項1記載の露光装置。表面に光硬化性膜が形成された可撓性ウェブの裏面を支持する周面を有し、前記支持された可撓性ウェブを搬送する金属製のバックアップロールと、前記支持されている前記可撓性ウェブ上の前記光硬化性膜に向けての硬化光を放つ光源と、前記バックアップロールに近接するようにして前記光源及び前記バックアップロールの間に配され、前記可撓性ウェブの搬送方向へ延び前記可撓性ウェブの幅方向に並ぶスリットを有し、前記硬化光を遮る光マスク板と、前記光マスク板及び前記バックアップロールの間に配され、前記光マスク板を支持するマスク支持板とを備え、前記バックアップロールの周面は、前記光マスク板の前記バックアップロール側の面よりも、前記硬化光が散乱しやすいことを特徴とする露光装置。前記バックアップロールの周面の表面粗さRyRmaxは、0.5μm以上100μm以下であることを特徴とする請求項3記載の露光装置。搬送中の可撓性ウェブ上に形成された光硬化性膜へ硬化光を照射する硬化光照射工程を有し、前記可撓性ウェブ上に硬化膜を形成する硬化膜の形成方法において、請求項1ないし4のうちいずれか1項の露光装置を用いて前記硬化光照射工程を行なうことを特徴とする硬化膜の形成方法。ところで、特許文献2のような露光装置を用いて露光を行なう場合、未露光部分に設定された領域にまで露光がされてしまう以下、カブリ故障ことを避けなければならない。このためには、光マスク板とバックアップロールとのギャップを小さくしなければならない。ところが、光マスク板をバックアップロールに近づけた場合、バックアップロールの形状に起因して、ウェブの長手方向両端部における光マスク板とバックアップロールとのギャップは、ウェブの長手方向中央部に比べて大きい。このため、ウェブの長手方向におけるスリットの長さを長くすると、スリットの両端部では、カブリ故障が問題となる。こうしたことから、ウェブの長手方向におけるスリットの長さはできるだけ短くする必要がある。一方、ウェブの長手方向におけるスリットの長さが短い光マスク板を用いて、硬化性膜の硬化を行なう場合には、より高照度の光源が必要となる。ところが、高照度の光源を用いて硬化性膜の硬化を行なうと、カブリ故障が多発した。発明者は、鋭意検討の結果、カブリ故障は、バックアップロールや光マスク板の支持部材にて反射した硬化光に起因することを突き止めた。本発明は、カブリ故障を抑えつつ、良好な露光パターンが得られる露光装置及び硬化膜の形成方法を提供することを目的とする。本発明の露光装置は、表面に光硬化性膜が形成された可撓性ウェブの裏面を支持する周面を有し、前記支持された可撓性ウェブを搬送する金属製のバックアップロールと、前記支持されている前記可撓性ウェブ上の前記光硬化性膜に向けての硬化光を放つ光源と、前記バックアップロールに近接するようにして前記光源及び前記バックアップロールの間に配され、前記可撓性ウェブの搬送方向へ延び前記可撓性ウェブの幅方向に並ぶスリットを有し、前記硬化光を遮る光マスク板と、前記光マスク板及び前記バックアップロールの間に配され、前記光マスク板を支持するマスク支持板とを備え、前記マスク支持板の前記バックアップロール側の面は、前記光マスク板の前記バックアップロール側の面よりも、前記硬化光が吸収あるいは散乱しやすいことを特徴とする。前記マスク支持板の前記バックアップロール側の面の表面粗さRyRmaxは、0.5μm以上100μm以下であることが好ましい。また、本発明の露光装置は、表面に光硬化性膜が形成された可撓性ウェブの裏面を支持する周面を有し、前記支持された可撓性ウェブを搬送する金属製のバックアップロールと、前記支持されている前記可撓性ウェブ上の前記光硬化性膜に向けての硬化光を放つ光源と、前記バックアップロールに近接するようにして前記光源及び前記バックアップロールの間に配され、前記可撓性ウェブの搬送方向へ延び前記可撓性ウェブの幅方向に並ぶスリットを有し、前記硬化光を遮る光マスク板と、前記光マスク板及び前記バックアップロールの間に配され、前記光マスク板を支持するマスク支持板とを備え、前記バックアップロールの周面は、前記光マスク板の前記バックアップロール側の面よりも、前記硬化光が散乱しやすいことを特徴とする。前記バックアップロールの周面の表面粗さRyRmaxは、0.5μm以上100μm以下であることが好ましい。本発明は、搬送中の可撓性ウェブ上に形成された光硬化性膜へ硬化光を照射する硬化光照射工程を有し、前記可撓性ウェブ上に硬化膜を形成する硬化膜の形成方法において、上記の露光装置を用いて前記硬化光照射工程を行なうことを特徴とする。本発明によれば、カブリ故障を抑えつつ、良好な露光パターンを得ることができる。硬化膜形成設備10は、図1に示すように、ロール状の支持フィルム以下、支持フィルムロールと称する11を収納する収納部12と、支持フィルムロール11から支持フィルム13を引き出す引出部14と、硬化膜形成ユニット15とを有する。引出部14は、巻き芯17と、巻き芯17を駆動する駆動部18とを備える。収納部12から引出部14に向かって、複数の搬送ローラ19が並べられる。これらの搬送ローラ19によって、支持フィルム13の搬送路25が設けられる。硬化膜形成ユニット15は、支持フィルム13に硬化膜26を形成するものであり、搬送路25に設けられる。引出部14は、所定の張力で支持フィルム13を引き出し、硬化膜26を有するものとなった支持フィルム13を、巻き芯17に巻き取る。なお、複数の搬送ローラ19の全てがフリーローラでもよいし、複数の搬送ローラ19にドライブローラが含まれていてもよい。支持フィルム13は、可撓性を有し、ウェブ状に形成される。支持フィルム13の形成材料は、光透過性を有するもののであれば特に限定されないが、ポリマーであることが好ましく、例えば、セルロースアシレート、環状ポリオレフィン、ラクトン環含有重合体、環状ポリオレフィン、ポリカーボネイト等があげられる。硬化膜形成ユニット15は、硬化剤及び溶剤を含む塗工液30を支持フィルム13の表面13Aに塗布し、硬化剤を含む硬化性膜27を形成する膜形成装置31と、硬化性膜27から溶剤を蒸発させる乾燥装置32と、硬化性膜27への硬化光の照射により、硬化性膜27を硬化させて硬化膜26を得る露光装置33とを有する。膜形成装置31は、支持フィルム13の表面13Aに塗工液30を塗布するダイ31Aを有する。塗工液30の塗布により、支持フィルム13の表面13Aには、塗工液30からなる硬化性膜27が形成される。塗工液は、硬化剤を適当な溶剤に溶解若しくはコロイド状分散して作製される。塗工液30における硬化剤の濃度は、用途に応じて適宜選択されるが、一般的には、10質量以上95質量以下であることが好ましい。硬化剤硬化剤としては、紫外線硬化剤がある。紫外線硬化剤としては、例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを用いることが好ましい。電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。光重合性官能基としては、メタアクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、メタアクリロイル基が好ましい。硬化剤の感度は、例えば、硬化光の波長が365nmの場合、5mJ/cm2以上100mJ/cm2以下であることが好ましく、10mJ/cm2以上80mJ/cm2以下であることがより好ましい。溶剤としては、支持フィルム13をなす物質を溶解させない化合物であることが好ましい。また、支持フィルム13と硬化膜26との密着性を向上させるために、支持フィルム13をなす物質を膨潤させる化合物であることが好ましい。更に、溶剤としては、硬化剤が沈殿を生じることなく、均一に溶解又は分散されるものであれば特に制限はなく、2種類以上の溶剤を併用することもできる。乾燥装置32は、硬化性膜27に乾燥風32Aをあてる乾燥風供給機32Bを有する。硬化性膜27に乾燥風32Aをあてることで、硬化性膜27から溶剤を蒸発させることができる。露光装置33は、露光ケーシング40と、露光ケーシング40内に配された露光装置本体とを備える。露光装置本体は、バックアップローラ41と、ハウジング42と、ガス供給機43と、露光機44と、ガス吸引機45とを備える。バックアップローラ41は、支持フィルム13の裏面13Bを周面41Aで支持し搬送するためのものであり、露光ケーシング40内に配される。バックアップローラ41は、搬送ローラ19とともに露光ケーシング40内の搬送路25を形成する。バックアップローラ41の形成材料として、金属、例えば、ステンレスやセラミックスなどを用いることができる。また、バックアップローラ41には、ハードクロムめっきが施されている。バックアップローラ41の半径は400mm~900mmであることが好ましい。ハウジング42は、搬送路25のうちバックアップローラ41によって形成される部分を覆うものである。ハウジング42は、搬送路25と近接するように設けられる。ハウジング42内において、支持フィルム13の搬送方向以下、X方向と称する上流側から下流側に向かって、ガス供給機43と、露光機44と、ガス吸引機45とが並ぶ。ガス供給機43は、ハウジング42内を不活性ガスで充満させるために、ハウジング42内へ不活性ガスを供給する。ガス吸引機45は、ハウジング42内のガスを吸引する。露光機44は、図2に示すように、光源51と、反射板52と、波長選択フィルタ53と、NDフィルタ54と、露光エリア調節板55と、光マスク板56と、マスク支持部57とを備える。光源51は、硬化光を放つものであり、バックアップローラ41に対向するように配される。硬化光としては、紫外線や可視光がある。光源51として、例えば、紫外線ランプを用いることができる。紫外線ランプとしては、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等がある。光源51の照度は、例えば、500mW/cm2以上1000mW/cm2以下である。反射板52は、光源51からの硬化光を反射するためのものであり、バックアップローラ41側に開口が形成されるように、光源51を囲む。反射板52は、アルミミラー、コールドミラーなど公知のものを用いればよい。光源51からバックアップローラ41に向かって、波長選択フィルタ53と、NDフィルタ54と、露光エリア調節板55と、光マスク板56と、マスク支持部57とが順に並ぶ。波長選択フィルタ53としては、ロングパスフィルタやショートパスフィルタ、或いはこれらの組み合わせたものを用いることができる。露光エリア調節板55は、光源からの硬化光の一部を遮り、周面41A上に設定され、硬化光が照射されるエリア以下、照射エリアと称する41SA図3参照の範囲を調節するためのものである。露光エリア調節板55としては、例えば、ガラス板の表面にハードクロムめっきを施したものを用いることができる。図3及び図4に示すように、光マスク板56は、照射エリア41SAを覆うように配され、光源51からの硬化光を遮るためのものであり、バックアップローラ41に近接するように配される。光マスク板56とバックアップローラ41とのギャップGは、50μm以上1000μm以下である。光マスク板56は、平らに形成される。光マスク板56としては、硬化光の吸収による熱変形を防ぐために、硬化光を反射しやすいものが好ましく、例えば、ガラス板56Gの表面にハードクロムめっき層56CRを設けたものを用いることができる図5参照。また、光マスク板56は、X方向に延びたスリット56SをX方向中央部に有する。スリット56Sは、支持フィルム13の幅方向以下、Y方向と称するに一定のピッチで並ぶ。図6に示すように、X方向におけるスリット56Sの長さLXは、例えば、5mm以上50mm以下である。Y方向におけるスリット56Sの長さLYは、例えば、50μm以上10mm以下である。Y方向におけるスリット56Sの形成ピッチPは、例えば、10μm以上10mm以下である。図2及び図3に示すように、マスク支持部57は、光マスク板56をバックアップローラ41側から支持するものであり、光マスク板56のX方向上流側を支持する上流支持板57Aと、光マスク板56のX方向下流側を支持する下流支持板57Bとを備える。上流支持板57Aと下流支持板57Bとは、それぞれ平らに形成される。上流支持板57A及び下流支持板57Bの形成材料としては、光マスク板56に比べて硬化光が散乱しやすいものが好ましく、例えば、ガラス板57Gにアルミニウムの陽極酸化皮膜57ALを設けたもの等を用いることができる。陽極酸化皮膜57Aは、例えば、アルマイト登録商標処理により形成される。硬化光についての上流支持板57Aや下流支持板57Bの反射率R57は、硬化光についての光マスク板56の反射率R56よりも低く、例えば、R57/R56の値は0.05以上0.9以下である。ここで、反射率は、分光反射率計URE-50ウシオ電機株式会社製により測定できる。なお、反射率R57は、例えば、1~7であり、反射率R56は、例えば、8~20である。上流支持板57A及び下流支持板57Bには、エンボス加工が施されることが好ましい。エンボス加工が行なわれる部分は、上流支持板57A及び下流支持板57Bの全体であってもよいし、上流支持板57A及び下流支持板57Bのうちバックアップローラ41と対向する面であってもよい。上流支持板57A及び下流支持板57Bの表面粗さRyRmaxは、例えば、0.5μm以上100m以下であることが好ましい。表面粗さRyRmaxの測定方法は、JISB06011993による。本発明の作用について説明する。図1に示すように、引出部14は、収納部12から支持フィルム13を所定の張力で引き出す。支持フィルム13は、硬化膜形成ユニット15を所定の移動速度例えば、5m/分以上50m/分以下で通過する。硬化膜形成ユニット15から送り出された支持フィルム13の表面13Aには、硬化膜26が形成される。硬化膜26を有するものとなった支持フィルム13は、引出部14にて巻き芯37に巻き取られる。硬化膜形成ユニット15にて、ダイ31Aは、支持フィルム13の表面13Aに塗工液30を塗布する。塗工液30の塗布により、塗工液30からなる硬化性膜27が表面13Aに形成される。乾燥風供給機32Bは、支持フィルム13上の硬化性膜27に乾燥風32Aをあてて、硬化性膜27から溶剤を蒸発させる。乾燥風32Aの温度は、10°C以上150°C以下であることが好ましく、20°C以上120°C以下であることがより好ましい。硬化性膜27からの溶剤の蒸発は、硬化性膜27における残留溶剤量が0.5質量以下なるまで行うことが好ましい。乾燥装置32から送りだされた硬化性膜27の厚みの下限は、0.01μm以上であることが好ましく、0.05μm以上であることがより好ましい。また、硬化性膜27の厚みの上限は、30μm以下であることが好ましく、15μm以下であることがより好ましい。露光装置33は、光マスク板56を用いて、光源51からの硬化光を、照射エリア41SAに向けて照射する。光源51からの硬化光のうち、光マスク板56に照射されたものは、光マスク板56により反射される。光マスク板56により反射された硬化光は、専ら光源51側に進む。一方、光源51からの硬化光のうち、スリット56Sを通過したものは、照射エリア41SA上にある硬化性膜27のうちスリット56Sと正対する部分に照射される。硬化性膜27へ硬化光を照射することにより、硬化性膜27から硬化膜26が得られる。硬化膜26には、硬化光の照射によって硬化が進んだ露光部分26Rと未だ硬化光が照射されておらず硬化が進んでいない未露光部分26MとがY方向において交互に並ぶ、いわゆる、ストライプ状の露光パターンが形成される図7及び図8参照。ところが、硬化性膜27に照射された硬化光は、周面41Aで反射する。周面41Aで反射した硬化光が、上流支持板57Aと下流支持板57Bによって反射されると、硬化性膜27のうち硬化光の照射が予定されていない部分、すなわち、未露光部分26M図7及び図8参照となる部分にまで照射される結果、カブリ故障が発生してしまう。露光装置33では、上流支持板57Aと下流支持板57Bが光マスク板56に比べて硬化光が散乱しやすいものであるため、周面41Aで反射された硬化光が上流支持板57Aと下流支持板57Bによって散乱される結果、周面41Aで反射された硬化光が未露光部分26M図7及び図8参照となる部分にまで照射されることを抑える。この結果、カブリ故障を抑えることができる。なお、バックアップローラ41として、光マスク板56に比べて硬化光が散乱しやすいものを用いても良い。これにより、硬化性膜27へ照射された硬化光は、周面41Aで散乱される。周面41Aで散乱された硬化光は、周面41Aにより反射された硬化光と比べて、硬化性膜27のうち硬化光の照射が予定されていない部分にまで照射されにくい。この結果、カブリ故障を抑えることができる。硬化光についての周面41Aの反射率R41Aは、硬化光についての光マスク板56の反射率R56よりも低く、例えば、R41A/R56の値0.05以上0.9以下である。なお、反射率R41Aは、例えば、1~7である。周面41Aには、エンボス加工が施されることが好ましい。エンボス加工が行なわれる部分は、周面41Aの全体であってもよいし、支持フィルム13を巻きかけたときに露出する部分であってもよい。周面41Aの表面粗さRyRmaxは、例えば、0.5μm以上100μm以下であることが好ましい。なお、上記実施形態では、マスク支持板は光マスク板よりも、硬化光が散乱しやすい、すなわち硬化光の反射率が低いとしたが、本発明はこれに限られず、マスク支持板は光マスク板よりも、硬化光を吸収しやすいとしてもよい。本発明の効果を確認するために、実験1~3を行なった。実験1<透明支持体Aの作製>下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液Aを調製した。────────────────────────────────────セルロースアシレート溶液Aの組成────────────────────────────────────置換度2.86のセルロースアセテート100質量部トリフェニルホスフェート可塑剤7.8質量部ビフェニルジフェニルホスフェート可塑剤3.9質量部メチレンクロライド第1溶媒300質量部メタノール第2溶媒54質量部1-ブタノール11質量部────────────────────────────────────別のミキシングタンクに、下記の組成物を投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、添加剤溶液Bを調製した。────────────────────────────────────添加剤溶液Bの組成────────────────────────────────────下記化合物B1Re低下剤40質量部下記化合物B2波長分散制御剤4質量部メチレンクロライド第1溶媒80質量部メタノール第2溶媒20質量部────────────────────────────────────<<セルロースアセテート透明支持体の作製>>セルロースアシレート溶液Aを477質量部に、添加剤溶液Bの40質量部を添加し、充分に攪拌して、ドープを調製した。流延ダイを用いて、0°Cに冷却したドラム上へドープを流延した。溶媒含有率70質量の状態で剥ぎ取り、フィルムの巾方向の両端をピンテンター特開平4-1009号の図3に記載のピンテンターで固定し、溶媒含有率が3乃至5質量の状態で、横方向機械方向に垂直な方向の延伸率が3となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み60μmのセルロースアセテート保護フィルム透明支持体Aを作製した。透明支持体Aは紫外線吸収剤を含有しておらず、Re550は0nmであり、Rth550は12.3nmであった。<<アルカリ鹸化処理>>セルロースアセテート透明支持体Aを、温度60°Cの誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を40°Cに昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量14ml/m2で塗布し、110°Cに加熱し、株ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、10秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を3ml/m2塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを3回繰り返した後に、70°Cの乾燥ゾーンに10秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアセテート透明支持体A以下、支持体Aと称するを作製した。────────────────────────────────────アルカリ溶液の組成質量部────────────────────────────────────水酸化カリウム4.7質量部水15.8質量部イソプロパノール63.7質量部界面活性剤SF-1:C14H29OCH2CH2O20H1.0質量部プロピレングリコール14.8質量部────────────────────────────────────<ラビング配向膜付透明支持体の作製>図1に示すように、ダイ31Aを用いて、支持体Aの鹸化処理を施した面に、塗工液30を8のワイヤーバーで連続的に塗布し、配向膜を形成した。塗工液30として、下記の組成の配向膜形成用塗布液を用いた。その後、乾燥風供給機32Bを用いて、60°Cの温風で60秒、さらに100°Cの温風で120秒乾燥し、配向膜の乾燥を進めた。次に、配向膜を有するものとなった支持体Aを、露光装置33図1参照へ導入し、バックアップローラ41に巻きかけて搬送した。バックアップローラ41の表面粗さRyRmaxは0.5μmである。図2に示すように、表面粗さRyRmaxが0.5μmのマスク支持板57を用いて、光マスク板56を、ラビング配向膜上に0.5mmのギャップで配置した。光マスク板56は、表面粗さRyRmaxが0.02μmであり、長さLY図6参照が285μm、形成ピッチP図6参照が285μmであった。室温空気下にて、UV-C領域における照度800mW/cm2の空冷メタルハライドランプアイグラフィックス株製を用いて照射して、光酸発生剤を分解し酸性化合物を発生させることにより第1位相差領域用配向層を形成した。第1位相差領域用配向層には、図7に示すようなストライプ状の露光パターンが形成された。照射時の支持体の移動速度は、15m/分であった。その後に、ストライプ状の露光パターンの長手方向に対して45°の角度を保持して500rpmで一方向に1往復、ラビング処理を行い、ラビング配向膜付透明支持体を作製した。なお、配向膜の膜厚は、0.5μmであった。────────────────────────────────────配向膜形成用塗布液の組成────────────────────────────────────配向膜用ポリマー材料3.9質量部PVA103、クラレ株製ポリビニルアルコール下記光酸発生剤S-20.1質量部メタノール36質量部水60質量部────────────────────────────────────<パターン化された光学異方性層Aの作製>下記の光学異方性層用塗布液を、バーコーターを用いて塗布量4ml/m2で塗布した。次いで、膜面温度110°Cで2分間加熱熟成した後、80°Cまで冷却し空気下にて20mW/cm2の空冷メタルハライドランプアイグラフィックス株製を用いて紫外線を20秒間照射して、その配向状態を固定化することによりパターン光学異方性層Aを形成した。露光部分第1位相差領域は、ラビング方向に対し遅相軸方向が平行にディスコティック液晶が垂直配向しており、未露光部分第2位相差領域は直交に垂直配向していた。なお、光学異方性層の膜厚は、0.9μmであった。────────────────────────────────────光学異方性層用塗布液の組成────────────────────────────────────下記ディスコティック液晶E-1100質量部下記配向膜界面配向剤II-13.0質量部下記空気界面配向剤P-10.4質量部光重合開始剤3.0質量部イルガキュア907、チバスペシャルティケミカルズ株製増感剤カヤキュア-DETX、日本化薬株製1.0質量部メチルエチルケトン400質量部────────────────────────────────────形成されたパターン光学異方性層Aの第1位相差領域及び第2位相差領域をそれぞれTOFSIMS飛行時間型二次イオン質量分析法、ION-TOF社製TOF-SIMSVにより分析したところ、第1位相差領域と第2位相差領域では、対応する配向層中における光酸発生剤S-2の存在比が8対92であり、第1位相差領域ではS-2がほとんど分解していることがわかった。また、光学異方性層においては、第1位相差領域の空気界面に、II-1のカチオン及び光酸発生剤S-2から発生した酸HBF4のアニオンBF4-が存在していることが確認された。第2位相差領域の空気界面には、これらのイオンはほとんど観測されず、II-1のカチオン及びBr-が配向膜界面近傍に存在していることがわかった。空気界面におけるそれぞれのイオンの存在比は、II-1のカチオンは93対7、BF4-は90対10であった。このことから、第2位相差領域中、配向膜界面配向剤は配向膜界面に偏在しているが、第1位相差領域では偏在性が減少し、空気界面にも拡散していること、及び第1位相差領域においては、発生した酸HBF4とII-1がアニオン交換することによってII-1カチオンの拡散が促進されていることが理解できる。パターン化された光学異方性層Aを、第1位相差領域又は第2位相差領域のいずれか一方の遅相軸が、直交位に組合された2枚の偏光板のいずれか一方の偏光軸と平行になるように、偏光板の間に入れ、さらに、位相差530nmの鋭敏色板を、その遅相軸が偏光板の偏光軸と45°の角度をなすように、光学異方性層の上においた。次に、光学異方性層を45°回転させた状態を偏光顕微鏡NIKON製ECLIPEE600WPOLで観察した。45°回転させた場合、第1位相差領域の遅相軸と鋭敏色板の遅相軸が平行になっているため、位相差は530nmよりも大きくなり、その色は青色白黒図面では濃淡の濃い部分に変化している。一方、第2位相差領域の遅相軸は鋭敏色板の遅相軸と直交しているため、位相差は530nmよりも小さくなり、その色は白色白黒図面では濃淡の淡い部分に変化する。実験2~3実験2では、表面粗さが0.3μmのマスク支持板57を用いたこと以外は、実験1と同様にして行なった。実験3では、表面粗さが0.2μmのバックアップローラ41、及び表面粗さが0.2μmのマスク支持板57を用いたこと以外は、実験1と同様にして行なった。光学異方性層の評価シャーカステンの上に、クロスニコルの偏光板の間に光学フィルムを配置して、露光部分と未露光部分とにおける液晶の配向を確認した。○:全面きれいに配向している。△:露光部分及び未露光部分の境界部分において、配向が乱れている箇所がところどころ見られた。×:露光部分及び未露光部分の境界部分において、配向が乱れている箇所が全面的に見られた。露光部分と未露光部分との評価結果を表1に示す。表1に示す結果から、実験3では、カブリ故障が発生していた。一方、実験1,2では未露光部分全体の配向が良好であり、カブリ故障は抑えられていた。"