水素及び一酸化炭素を含む不活性ガスを精製する不活性ガス精製方法であって、前記不活性ガスに酸素を添加し、触媒を用いた反応により水素を水にする第1の工程と、前記第1の工程後、吸着剤により、前記不活性ガスから前記一酸化炭素、前記水、及び前記二酸化炭素を除去する第2の工程と、を含むことを特徴とする不活性ガス精製方法。前記触媒の温度が、135~200°Cの範囲内であることを特徴とする請求項1記載の不活性ガス精製方法。前記第1の工程において、前記不活性ガスに添加する前記酸素の濃度が、1vol以下であることを特徴とする請求項1または2記載の不活性ガス精製方法。前記触媒が、アルミナに貴金属触媒であるパラジウムが坦持されていることを特徴とする請求項1ないし3のうち、いずれか1項記載の不活性ガス精製方法。前記吸着剤が、ゼオライト、アルミナ、活性炭のうち、少なくとも1種よりなることを特徴とする請求項1ないし4のうち、いずれか1項記載の不活性ガス精製方法。しかしながら、特許文献1記載のアルゴン精製方法では、触媒塔において一酸化炭素及び水素の全量を酸素で酸化するため、非常に多くの量の酸素及び触媒が必要であり、コストが増加してしまう。つまり、特許文献1記載のアルゴン精製方法では、不活性ガスを効率良く精製することができないという問題があった。そこで、本発明は、不活性ガスを効率良く精製することの可能な不活性ガス精製方法を提供することを目的とする。上記課題を解決するため、請求項1に係る発明によれば、水素及び一酸化炭素を含む不活性ガスを精製する不活性ガス精製方法であって、前記不活性ガスに酸素を添加し、触媒を用いた反応により水素を水にする第1の工程と、前記第1の工程後、吸着剤により、前記不活性ガスから前記一酸化炭素、前記水、及び前記二酸化炭素を除去する第2の工程と、を含むことを特徴とする不活性ガス精製方法が提供される。また、請求項2に係る発明によれば、前記触媒の温度が、135~200°Cの範囲内であることを特徴とする請求項1記載の不活性ガス精製方法が提供される。また、請求項3に係る発明によれば、前記第1の工程において、前記不活性ガスに添加する前記酸素の濃度が、1vol以下であることを特徴とする請求項1または2記載の不活性ガス精製方法が提供される。また、請求項4に係る発明によれば、前記触媒が、アルミナに貴金属触媒であるパラジウムが坦持されていることを特徴とする請求項1ないし3のうち、いずれか1項記載の不活性ガス精製方法が提供される。また、請求項5に係る発明によれば、前記吸着剤が、ゼオライト、アルミナ、活性炭のうち、少なくとも1種よりなることを特徴とする請求項1ないし4のうち、いずれか1項記載の不活性ガス精製方法が提供される。本発明によれば、不活性ガスに酸素を添加し、触媒を用いた反応により水素を水にする第1の工程と、第1の工程後、吸着剤により、不活性ガスから一酸化炭素、水、及び二酸化炭素を除去する第2の工程と、を含むことにより、難吸着成分である水素を選択的に酸化させて易吸着成分である水とし、その後、易吸着成分である一酸化炭素及び水を容易に吸着除去することが可能となる。これにより、従来の不活性ガスの精製方法と比較して、不活性ガスの精製を効率よく行うことができる。実施の形態図1は、本発明の実施の形態に係る不活性ガス精製装置の概略構成を示す図である。図1を参照するに、本実施の形態の不活性ガス精製装置10は、バッファタンク11と、触媒塔13と、第1のガス輸送ライン14と、水素濃度分析計15と、酸素供給ライン16と、熱交換器18と、第2のガス輸送ライン21と、吸着分離部23と、ガス排出ライン24と、を有する。バッファタンク11は、一酸化炭素及び水素を含む不活性ガスより具体的には、セラミクスや金属等を溶融する加熱炉図示せずからの排ガス等である原料ガス以下、原料ガスAというが貯留されるタンクである。バッファタンク11は、第1のガス輸送ライン14と接続されている。触媒塔13は、第1のガス輸送ライン14を介して、バッファタンク11と接続されている。触媒塔13は、第1のガス輸送ライン14のうち、熱交換器18を一度通過した後の部分に設けられている。触媒塔13は、第2のガス輸送ライン21の一端と接続されている。触媒塔13には、第1のガス輸送ライン14により、酸素が添加された原料ガスAが輸送される。触媒塔13では、触媒により原料ガスAに含まれる水素と添加された酸素とを反応触媒反応させることで、水を生成する。触媒反応後の原料ガスAは、一旦、室温例えば、25°C程度まで冷却された後、吸着分離部23に導入される。触媒塔13で使用する触媒としては、水素を酸化することが可能な触媒であればよい。具体的には、上記触媒としては、例えば、アルミナ、シリカ、アルミナシリケート等の担体に、白金、パラジウム、ロジウム、及びルテニウムのうち、少なくとも1種を担持させた貴金属触媒が好適である。また、水素を酸化できる触媒は、一般に一酸化炭素も酸化させる。したがって、一酸化炭素の酸化を抑制する観点から、触媒塔13の温度は、135~200°Cの範囲内に設定することが好ましい。水素濃度分析計15は、第1のガス輸送ライン14のうち、バッファタンク11と酸素供給ライン16との間に位置する部分を流れる原料ガスAに含まれる水素濃度を計測する。酸素供給ライン16は、第1のガス輸送ライン14のうち、水素濃度分析計15の分析位置と熱交換器18との間に位置する部分から分岐された分岐ラインである。酸素供給ライン16は、第1のガス輸送ライン14により輸送される原料ガスAに酸素を添加するためのラインである。酸素供給ライン16は、水素濃度分析計15により計測された原料ガスAに含まれる水素濃度の1/2の量の酸素を、原料ガスAに添加する。また、原料ガスAに添加する酸素の添加量は、触媒塔13の温度上昇を抑える観点から、原料ガスにA対して1vol以下とすることが好ましい。図2は、本発明の実施の形態の変形例に係る不活性ガス精製装置の概略構成を示す図である。図2において、図1に示す不活性ガス精製装置10と同一構成部分には同一符号を付す。ところで、原料ガスA中の水素濃度が2volを超えている場合、酸素の添加量が原料ガスAに対して1vol以下であると、原料ガスAに水素が残留してしまう。そこで、原料ガスA中の水素濃度が高くなることが想定される場合には、図2に示すように、バッファタンク11と吸着分離部23との間に、触媒塔13、第1のガス輸送ライン14、水素濃度分析計15、酸素供給ライン16、熱交換器18、及び第2のガス輸送ライン21よりなるユニットが複数図2の場合、2つ直列に設置された不活性ガス精製装置30を用いて、各触媒塔13に導入される原料ガスAに添加する酸素の添加量を1vol以下にするとよい。熱交換器18は、触媒塔13の前段に位置する第1のガス輸送ライン14、及び触媒塔13の後段に位置する第2のガス輸送ライン21に設けられている。このように、触媒塔13の前段に位置する第1のガス輸送ライン14、及び触媒塔13の後段に位置する第2のガス輸送ライン21に熱交換器18を設けることにより、触媒処理工程における熱効率を向上させることができる。吸着分離部23は、一端が第2のガス輸送ライン21の分岐した他端と接続されており、他端がガス排出ライン24と接続されている。第2のガス輸送ライン21は、熱交換器18を通過しており、触媒塔13から排出され、かつ温度が室温例えば、25°C程度まで冷却された原料ガスAを吸着分離部23に輸送する。吸着分離部23では、吸着剤により、上記原料ガスAに含まれる一酸化炭素、及び触媒塔13で生成された水の除去を行う。これにより、吸着分離部23の出口側からガス排出ライン24を介して、精製された不活性ガスを取り出すことができる。吸着分離部23で使用する吸着剤としては、一酸化炭素及び水を吸着可能な吸着剤を用いることができる。なお、触媒塔13において、一部の一酸化炭素が酸化されることで、二酸化炭素を生成する可能性がある。そこで、吸着分離部23で使用する吸着剤としては、一酸化炭素及び水を吸着可能で、かつ微量の二酸化炭素も吸着可能な吸着剤を用いるとよい。このような吸着剤としては、例えば、ゼオライト、アルミナ、及び活性炭のうち、少なくとも1種よりなるものを用いることができる。積層構造とされた吸着剤として最も好適な組み合わせの1つとして、例えば、アルミナと、ゼオライトと、を順次積層させたものがある。本実施の形態の不活性ガス精製方法によれば、水素及び一酸化炭素を含む不活性ガスに酸素を添加し、触媒反応により水素を水にする第1の工程と、第1の工程後、吸着剤により、不活性ガスから一酸化炭素、水、及び二酸化炭素を除去する第2の工程と、を含むことにより、難吸着成分である水素を選択的に酸化させて易吸着成分である水とし、その後、易吸着成分である一酸化炭素及び水を容易に吸着除去することが可能となる。これにより、従来の不活性ガスの精製方法と比較して、不活性ガスの精製を効率よく行うことができる。以上、本発明の好ましい実施の形態について詳述したが、本発明はかかる特定の実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲内に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形変更が可能である。触媒反応温度の評価その1一酸化炭素5vol、水素0.1vol、及び酸素0.1volを含むアルゴンガス7.0L/minを、アルミナにパラジウムを坦持させた触媒42ccを充填した触媒塔13図1参照に導入し、その後、触媒の温度を50~280°Cの範囲で変化させた際の触媒塔13から排出される原料ガスに含まれる水素及び一酸化炭素の濃度について評価した。以下、この実験を第1の実験という。この結果を図3に示す。図3は、触媒の温度を50~280°Cの範囲で変化させた際の触媒塔から排出される原料ガスに含まれる水素及び一酸化炭素の濃度を示す図である。図3を参照するに、触媒の温度が50°Cを超えると水素の酸化が徐々に始まり、触媒の温度が135~200°Cになると水素が優先的に酸化されて水素濃度が0.01volになることが確認できた。また、触媒の温度が200°Cを超えると、水素の反応率が減少し、一酸化炭素の酸化が水素の酸化に優先して始まっていることが分かった。さらに、図示してはいないが、触媒として、アルミナに白金を担持させたものを使用した場合でも同様に、135~200°Cで水素が優先的に酸化されるという結果を得た。つまり、触媒の温度は、135~200°Cの範囲内に設定するとよいことが確認できた。触媒反応温度の評価その2先に説明した第1の実験とは、不活性ガスに含まれる水素の濃度を変えて、同様な実験を行った。一酸化炭素5vol、水素1vol、及び酸素1volを含むアルゴンガス7.0L/minを、アルミナにパラジウムを坦持させた触媒42ccを充填した触媒塔13図1参照に導入し、その後、触媒の温度を50~280°Cの範囲で変化させた際の触媒塔13から排出される原料ガスに含まれる水素濃度について評価した。以下、この実験を第2の実験という。この場合、触媒の温度が100°Cを超えると、反応熱により200°C付近まで急激に温度が上昇した。このときの触媒塔の出口側における不活性ガスに含まれる水素の濃度は、0.0volであり、一酸化炭素濃度は、4.0volとなった。この条件では、不活性ガスに含まれる全ての水素が酸化されたが、一部の一酸化炭素も反応していることが分かった。触媒反応温度の評価その3一酸化炭素5vol、水素4vol、及び酸素2volを含むアルゴンガスを用いて、第2の実験と同様の実験を行った。この場合、触媒の温度が100°Cを超えると、反応熱により触媒の温度が急激に300°Cに達した。また、触媒塔13の出口側における水素の濃度は、3.5volであり、一酸化炭素の濃度は、1.5volとなった。第2の実験と比較して、より多くの一酸化炭素が反応して、水素の反応が抑制されたことが確認できた。