"実質的に類似した形状の複数の薄板で構成された低損失バルクアモルファス金属磁性部品であって、薄板が、強磁性アモルファス金属ストリップから打ち抜かれ、積層され、接着剤接合して多面体形状の部品を形成していて、励起周波数fでピーク誘導レベルBmaxに作動された場合、該部品の鉄損がL未満でありLは式:L=0.0074fBmax130.000282f15Bmax24で与えられ、該鉄損、該励起周波数、及び該ピーク誘導レベルはそれぞれW/kg、Hzヘルツ、Tテスラで測定される、そして該強磁性アモルファス金属ストリップの各々が、式:M7085Y520Z020添字は原子MはFeNi及びCoの少なくとも1つであり、YはBC及びPの少なくとも1つであり、ZはSiAl及びGeの少なくとも1つであり、ただし成分Mの10原子以下は、金属種TiVCrMnCuZrNbMoTaHfAgAuPdPt及びWの少なくとも1つで置換することができ、成分の10原子以下は、非金属種InSnSb及びPbの少なくとも1つで置換することができ、成分の約1原子以下は付随的な不純物でありうるで本質的に定義される組成を有する、上記磁性部品。該強磁性アモルファス金属ストリップの各々が、少なくとも70原子のFe、少なくとも5原子のB、および少なくとも5原子のSiを含有する組成を有し、ただしB及びSiの総含有量が少なくとも15原子である、請求項1記載のバルクアモルファス金属磁性部品。該強磁性アモルファス金属ストリップの各々が、式Fe80B11Si9で実質的に定義される組成を有する、請求項2記載のバルクアモルファス金属磁性部品。少なくとも1つの長方形の断面を有する3次元多面体の形状を有する、請求項1~3のいずれかに記載のバルクアモルファス金属磁性部品。少なくとも1つの台形の断面を有する3次元多面体の形状を有する、請求項1~3のいずれかに記載のバルクアモルファス金属磁性部品。少なくとも1つの正方形の断面を有する3次元多面体の形状を有する、請求項1~3のいずれかに記載のバルクアモルファス金属磁性部品。少なくとも1つのアーチ状の表面が含まれる、請求項1~3のいずれかに記載のバルクアモルファス金属磁性部品。強磁性金属ストリップ材料を打ち抜いて、所定の形状を有する薄板を複数形成し、該薄板を積層し、見当を合致させ、3次元形状を有する積層物を形成し、該積層物をアニールし、該積層物にエポキシ樹脂を浸透させ、該樹脂の浸透した積層物を硬化させて、該部品を形成する、以上の工程を含む方法であって、励起周波数fでピーク誘導レベルBmaxに作動された場合、該部品の鉄損がL未満でありLは式:L=0.0074fBmax130.000282f15Bmax24で与えられ、該鉄損、該励起周波数、及び該ピーク誘導レベルはそれぞれW/kg、Hzヘルツ、Tテスラで測定される、該強磁性アモルファス金属ストリップの各々が、式:M7085Y520Z020添字は原子MはFeNi及びCoの少なくとも1つであり、YはBC及びPの少なくとも1つであり、ZはSiAl及びGeの少なくとも1つであり、ただし成分Mの10原子以下は、金属種TiVCrMnCuZrNbMoTaHfAgAuPdPt及びWの少なくとも1つで置換することができ、成分の10原子以下は、非金属種InSnSb及びPbの少なくとも1つで置換することができ、成分の約1原子以下は付随的な不純物でありうるで本質的に定義される組成を有する、バルクアモルファス金属磁性部品の作成方法。過剰の接着剤の除去、該部品の適切な表面仕上げ、該部品の最終的な部品寸法の付与の少なくとも1つを果たすため、該部品に仕上げを施す工程をさらに含む請求項8の方法。パンチ及びダイ器具をカーバイド材料から加工し、パンチとダイとの間のクリアランスが小さくかつ均一になるよう、パンチおよびダイ器具を調整し、高歪速度で打抜過程を作動させる、以上の工程を含み、該クリアランスが0.050mm0.002インチ未満である、請求項1記載のバルク強磁性アモルファス金属ストリップの打抜のためのパンチ及びダイ器具を準備する方法。カーバイド材料の硬度が少なくとも1100kg/mm2である、請求項10の方法。歪速度が少なくとも105/秒である、請求項10の方法。歪速度が少なくとも5×105/秒である、請求項10の方法。実質的に類似した形状の複数の薄板で構成された低損失バルクアモルファス金属磁性部品であって、薄板が、強磁性アモルファス金属ストリップから打ち抜かれ、積層され、接着剤接合して多面体形状の部品を形成し、該アモルファス金属ストリップの飽和誘導が少なくとも約1.2テスラであり、励起周波数fでピーク誘導レベルBmaxに作動された場合、該部品の鉄損がL未満でありLは式:L=0.0074fBmax130.000282f15Bmax24で与えられ、該鉄損、該励起周波数、及び該ピーク誘導レベルはそれぞれW/kg、Hzヘルツ、Tテスラで測定される、該強磁性アモルファス金属ストリップの各々が、式:M7085Y520Z020添字は原子MはFeNi及びCoの少なくとも1つであり、YはBC及びPの少なくとも1つであり、ZはSiAl及びGeの少なくとも1つであり、ただし成分Mの10原子以下は、金属種TiVCrMnCuZrNbMoTaHfAgAuPdPt及びWの少なくとも1つで置換することができ、成分の10原子以下は、非金属種InSnSb及びPbの少なくとも1つで置換することができ、成分の約1原子以下は付随的な不純物でありうるで本質的に定義される組成を有する、上記磁性部品。実質的に類似した形状の複数の薄板で構成された低損失バルクアモルファス金属磁性部品であって、薄板が、強磁性アモルファス金属ストリップから打ち抜かれ、積層され、接着剤接合して多面体形状の部品を形成し、該強磁性アモルファス金属ストリップの各々が、式:M7085Y520Z020添字は原子MはFeNi及びCoの少なくとも1つであり、YはBC及びPの少なくとも1つであり、ZはSiAl及びGeの少なくとも1つであり、ただし10原子以下の成分Mは、金属種TiVCrMnCuZrNbMoTaHfAgAuPdPt及びWの少なくとも1つで置換することができ、成分の10原子以下は、非金属種InSnSb及びPbの少なくとも1つで置換することができ、成分の約1原子以下は付随的な不純物でありうるで本質的に定義される組成を有し、励起周波数fでピーク誘導レベルBmaxに作動された場合、該部品の鉄損がL未満でありLは式:L=0.0074fBmax130.000282f15Bmax24で与えられ、該鉄損、該励起周波数、及び該ピーク誘導レベルはそれぞれW/kg、Hzヘルツ、Tテスラで測定される、そして該部品は、i60Hzの周波数及び1.4Tの磁束密度で作動した場合、鉄損が1W/kg-磁性金属材料以下であり;ii1000Hzの周波数及び1.0Tの磁束密度で作動した場合、鉄損が12W/kg-磁性金属材料以下であり;またはiii20,000Hzの周波数及び0.30Tの磁束密度で作動した場合、鉄損が70W/kg-磁性金属材料以下である、上記磁性部品。実質的に類似した形状の複数の薄板で構成された低損失バルクアモルファス金属磁性部品であって、薄板が、強磁性アモルファス金属ストリップから打ち抜かれ、積層され、接着剤接合して多面体形状の部品を形成し、該強磁性アモルファス金属ストリップの各々が、少なくとも70原子のFe、少なくとも5原子のB、および少なくとも5原子のSi、を含有し、ただしB及びSiの総含有量が少なくとも15原子であり、励起周波数fでピーク誘導レベルBmaxに作動された場合、該部品の鉄損がL未満であるLは式:L=0.0074fBmax130.000282f15Bmax24で与えられ、該鉄損、該励起周波数、及び該ピーク誘導レベルはそれぞれW/kg、Hzヘルツ、Tテスラで測定される、そして該部品は、i60Hzの周波数及び1.4Tの磁束密度で作動した場合、鉄損が1W/kg-磁性金属材料以下であり;ii1000Hzの周波数及び1.0Tの磁束密度で作動した場合、鉄損が12W/kg-磁性金属材料以下であり;またはiii20,000Hzの周波数及び0.30Tの磁束密度で作動した場合、鉄損が70W/kg-磁性金属材料以下である、上記磁性部品。詳細な説明本発明は、広く多面体の形状の低損失バルクアモルファス金属部品を提供する。直方柱、正方柱、台形柱を含む様々な3次元3-D幾何構造ただしそれらに限定されないを有するバルクアモルファス金属部品が本発明により構成される。さらに、前記の何れの幾何形状も、少なくとも1つのアーチ状表面を有してもよく、いくつかの実施態様では、ほぼ湾曲状又はアーチ状のバルクアモルファス金属部品を形成するように向かい合って配置された2つのアーチ状表面を有してもよい。さらに、完成した磁性デバイス例えば、磁極面マグネットは、本発明によるバルクアモルファス金属部品として構成できる。これらのデバイスは一体成形されても、複数の片が集合して完成デバイスを形成しても、何れでもよい。あるいはまた、デバイスはアモルファス金属部品のみから構成された複合構造であっても、アモルファス金属部品とその他の磁性材料との組み合わせであっても、何れでもよい。磁気共鳴画像MRIデバイスはしばしば、磁場発生手段の一部として磁極片磁極面とも呼ばれるを用いる。当該技術で知られているように、前記磁場発生手段は、定常磁場と、それに重畳された時間変化する磁場勾配を提供する。高品質で高分解能であるMRI像を生成するため、観察される試料体積全体にわたって定常場が均一であること、そして磁場勾配が細かく規定されていることが不可欠である。適切な磁極片を用いることにより、この均一性を向上することができる。本発明のバルクアモルファス金属磁性部品は、そのような磁極面の構成に用いるのに適している。MRI又はその他の磁石システムのための磁極片は、少なくとも1つの起磁力mmf源から生じる磁束を所定の方法で形状を整え、方向付けるよう適合されている。起磁力源は既知のmmf発生手段を備えることができ、通常の導電性又は超伝導の巻き線の何れかを有する永久磁石及び電磁石が含まれる。各々の磁極片は、ここに記載する1以上のバルクアモルファス金属磁性部品を備えてもよい。磁極片が、高い透磁率及び高い飽和磁束密度を含む良好なDC磁気特性を示すことが望まれる。MRIシステムにおいて分解能を向上し作動磁束密度を高めるという要望から、磁極片が良好なAC磁気特性をも有することがさらに求められている。より具体的には、時間変化する勾配場により磁極片に生成する鉄損を最小化することが必要である。鉄損を有益に低減すると磁場勾配の解像度が向上し、磁場勾配がより速く変化できるようになり、その結果、画像の質を妥協することなく画像化時間が低減できる。初期の磁極片は、固体磁性材料炭素鋼又はアームコ鉄として該技術でよく知られる高純度鉄から作られた。それらは優れたDC特性を有するが、AC場が存在すると、巨視的な渦電流のため鉄損が非常に大きい。従来の鋼鉄を積層した磁極片を形成することにより、いくらかの進歩が得られる。しかし、必要なDC特性だけでなく充分改善されたAC特性も示す磁極片のため、さらなる進歩が依然として求められている;もっとも重要な特性は鉄損の低下である。下に説明するように、本発明の磁性部品を磁極片の構成にあたって用いることにより、高磁束密度、高透磁率、及び低鉄損という必要な組み合わせがもたらされる。以下、図1A-1Cを詳細に参照するが、図1Aは、3次元のほぼ長方形の形状を有するバルクアモルファス金属磁性部品10を示す。磁性部品10は、実質的に類似した形状である強磁性アモルファス金属ストリップ材料の層20の複数個で構成されており、層は共に積層され、アニールされる。図1Bに描かれた磁性部品は3次元のほぼ台形の形状を有し、強磁性アモルファス金属ストリップ材料の層20の複数個で構成されており、各々の層が実質的に類似したサイズ及び形状であり、共に積層され、アニールされる。図1Cに描かれた磁性部品には2つの向かい合って配置されたアーチ状表面12が含まれる。部品10は、実質的に類似した形状である強磁性アモルファス金属ストリップ材料の層20の複数個で構成されており、層は共に積層され、アニールされる。本発明のバルクアモルファス金属磁性部品10は一般に3次元多面体であり、一般に直方柱、正方柱、及び台形柱でありうる。あるいはまた、図1Cに描かれるように、部品10が少なくとも1つのアーチ状表面12を有してもよく、図に示されるように互いに向かい合って配置された2つのアーチ状表面が含まれてもよい。本発明により構成された3次元磁性部品10は低鉄損を示す。励起周波数fでピーク誘導レベルBmaxに励起する場合、部品の室温での鉄損はL未満であるLは式:L=0.0074fBmax130.000282f15Bmax24で与えられ、該鉄損、該励起周波数、及び該ピーク誘導レベルはそれぞれW/kg、Hzヘルツ、Tテスラで測定される別の実施態様では、磁性部品はi約60Hzの周波数及び約1.4Tの磁束密度で作動した場合、鉄損が約1W/kg-アモルファス金属材料以下であり;ii約1000Hzの周波数及び約1.0Tの磁束密度で作動した場合、鉄損が約12W/kg-アモルファス金属材料以下であり;iii約20,000Hzの周波数及び約0.30Tの磁束密度で作動した場合、鉄損が約70W/kg-アモルファス金属材料以下である。有利であることに、本発明の部品の鉄損が低減されるため、それを備えた電子デバイスの効率が改善される。鉄損の値が低いため、本発明のバルク磁性部品は、高周波数の磁気励起例えば、少なくとも約100Hzの周波数で起きる励起がなされる用途に特に適している。従来の鋼鉄では、高周波数において本質的に鉄損が大きいため、高周波励起を求めるデバイスでの用途には不適当であった。バルクアモルファス金属部品の特定の幾何構造に関わらず、これらの鉄損性能の値は、本発明の様々な実施態様にあてはまる。本発明は、バルクアモルファス金属部品の構成方法も提供する。実施において、本方法は:強磁性アモルファス金属ストリップ原料から必要な形状で薄板を打ち抜き;薄板を積層して3次元の物体を形成し;塗布手段を塗布し活性化して、薄板を互いに接着させ、充分に機械的一体性を有する状態とし;部品に仕上げを施し、過剰な接着剤を除去し、適切な表面仕上げを行い、最終的な部品寸法とする;工程を含む。この方法は、部品の磁性特性を改善するアニーリング工程を場合によりさらに含んでもよい。これらの工程は様々な順序で、様々な技術ここで述べる技術及び当業者に明らかなその他の技術が含まれるを用いて行うことができる。伝統的に、3つの要因が組み合わさって、アモルファス金属部品を形成する実行可能なアプローチとしての打ち抜きの使用が排除されてきた。第一にそして最も重要なことに、典型的にはアモルファス金属ストリップが従来の磁性材料例えば、無方向性電磁鋼板より薄いということである。より薄い材料の使用は、より多くの薄板が所定の形状の部品を作るために必要とされることを意味する。薄い材料の使用では、打ち抜き過程での器具及びダイのクリアランスをより小さくすることが求められる。第二に、アモルファス金属は代表的な金属パンチ及びダイ材料より相当硬い傾向にある。典型的には、鉄系アモルファス金属が1100kg/mm2を越える硬度を示す。それに較べ、空冷、油冷、及び水冷器具鋼では硬度が800から900kg/mm2の範囲に限定されている。この様に、アモルファス金属の硬度は独自の原子構造及び化学的性質に由来し、従来の金属パンチ及びダイ材料より硬い。第三に、アモルファス金属は、打ち抜き中にパンチ及びダイ間に押さえられる際に、破断というよりはむしろ著しい変形を受ける。アモルファス金属は、非常に局在化した剪断流により変形する。張力で変形する場合例えば、アモルファス金属ストリップを引っ張る場合、単一の剪断帯の形成が、小さくそして全体に及ぶ変形で破断に至ることがある。張力下では、破断は1以下の伸張で起こりうる。しかし打ち抜き中の器具とダイとの間での折り曲げの際のように、機械的拘束が塑性不安定性を排除するような方式で変形される場合、多重剪断帯が形成され、著しく局部化された変形が生じうる。そのような変形態様における破断の伸張は、局部的には100を越えることがある。これら後者の2つの要因、つまり並はずれた硬度と著しい変形が組み合わさって、従来の打ち抜き設備、器具、及び方法を用いた打ち抜きプレスのパンチ及びダイ部品に多大な摩耗が生じる。破断に至る前の変型の間に、硬いアモルファス金属を柔らかいパンチ及びダイ材料に擦りつける直接の摩擦directabrasionのため、パンチ及びダイでの摩耗が起きる。本発明では、打ち抜き過程間のパンチ及びダイの摩耗を最小化する方法を提供する。本方法は:パンチ及びダイ器具をカーバイド材料から加工し;パンチとダイとの間のクリアランスが小さくかつ均一になるよう、その器具を加工し;高歪速度で打抜過程を作動させる;工程を含む。パンチ及びダイ器具に用いられるカーバイド材料の硬度は、少なくとも1100kg/mm2であるべきであり、好ましくは1300kg/mm2である。アモルファス金属以上の硬度を有するカーバイド器具は、打ち抜き過程でアモルファス金属に直接摩擦されることに耐性を有し、それによりパンチ及びダイの摩耗を最小化する。パンチ及びダイ間のクリアランスは0.050mm0.002インチ未満であるべきであり、好ましくは0.025mm0.001インチ未満である。打ち抜き過程で用いられる変形速度は、1秒間に少なくとも1回のパンチストロークにより生じるものであるべきであり、好ましくは1秒間に少なくとも5回のパンチストロークである。0.025mm0.001インチの厚みのアモルファス金属ストリップについて、このストローク速度の範囲は少なくとも105/秒の歪速度におよそ等しく、好ましくは少なくとも5x105/秒である。打ち抜き過程におけるパンチ及びダイ間の小さいクリアランスと高歪速度とが組み合わさって、打ち抜き過程中で破断に至る前のアモルファス金属の機械的変形の量を制限する。ダイキャビティでのアモルファス金属の機械的変形を制限することにより、アモルファス金属とパンチとの直接の摩擦が制限され、それによりパンチ及びダイの摩耗が最小化される。本発明の部品10で使用するため選定されるアモルファス金属ストリップの磁気特性は、ストリップの実質的に完全にガラス質である微細構造を変えることなく、必要な向上をもたらすのに充分な温度及び時間で熱処理することにより、向上させることができる。場合により、熱処理の少なくとも一部の期間例えば、熱処理の少なくとも冷却部分の間、ストリップに磁場を印加することができる。本発明で用いられるアモルファス金属の熱処理には、その金属が必要な熱プロファイルを受ける何れの加熱手段を用いてもよい。適切な加熱手段には、赤外加熱源、オーブン、流動床、高温で保持された熱浴との熱的な接触、ストリップを流れる電流により生じる抵抗加熱、及び誘導RF加熱が含まれる。加熱手段の選択は、上記に列挙した必要な加工工程の順序に依存しうる。さらに熱処理は、打ち抜き工程前のストリップ材料;打ち抜き工程後であるが積層工程前の個々の薄板;又は、積層工程で生じた積層物;の何れについても行うことができる。熱処理は:原材料のバルクのスプールに分離されたオフラインのバッチ過程、好ましくはオーブン又は流動床で、打ち抜き過程前に行うことができ;あるいは、ストリップを放出payoffスプールから加熱帯を通って受取take-upスプールへ送る連続的なスプールからスプールへの過程で行うこともできる。あるいはまた、放出スプールから加熱帯を通って、引き続き行われる穿孔及び積層工程のためパンチプレスへとリボンを連続的に送ることにより、加熱処理をインラインで行うことができる。加熱処理は、穿孔工程の後、ただし積層の前に、個々の薄板について行うことができる。この実施態様では、薄板がパンチから出て直接移動ベルトに置かれることが好ましく、そのベルトが薄板を加熱帯を通過して運搬し、それによって薄板が適切な時間-温度プロファイルを受ける。別の実施では、個々の薄板が見当を合致させて積層された後に熱処理が行われる。そのような積層物をアニールするための適切な加熱手段には、オーブン、流動床、及び誘導加熱が含まれる。接着手段は、見当を合致させたアモルファス金属材料の薄板複数個を互いに接着するため用いられ、それによってバルクの3次元物体を構成することができ、その物体は:取り扱い、使用、又は、より大きな構造物への組み込みについて、充分な構造結着性を有する。様々な接着剤が適切でありうるが、エポキシ、ワニス、嫌気性接着剤、室温効果RTVシリコーン材料が含まれる。望ましくは、接着剤は低粘度、低収縮率、低弾性率、高剥離強度、及び高絶縁強度を有する。エポキシは、硬化が化学的に活性化される多液式であっても、硬化が熱的に又は紫外光照射への露出により活性化される一液式であっても、何れでもよい。接着剤を塗布する適切な方法には、ディッピング、噴霧、ブラッシング、静電堆積が含まれる。アモルファス金属12に接着剤を移すロッド又はローラーを通すことにより、ストリップ又はリボンの形状のアモルファス金属を被覆することができる。テクスチャード加工表面を有するローラー又はロッド例えば、グラビア又はワイヤーを捲いたローラーが、アモルファス金属上に均一なコーティングを移す上で特に効果的である。接着剤は、アモルファス金属の個々の層に、穿孔前のストリップ材料又は穿孔後の薄板の何れの場合でも、一度に塗布することができる。あるいはまた、薄板を積層後、薄板にまとめて接着手段を塗布することができる。この場合、薄板間における接着剤のキャピラリー流により積層物に浸透させる。より完全に充填し、加えた接着剤の総体積を最小化し、高い積層率を確保するため、スタックを真空下又は静水圧下の何れかに置くことができる。本発明の第一の実施態様が図2Aに示されている。強磁性アモルファス金属ストリップ材料32のロール30をアニーリングオーブン36を通って連続的に供給し、ストリップの磁気特性を効果的に改善するのに充分なレベルにそして充分な時間にわたり、オーブンがストリップの温度を上げる。次にストリップ材料32を自動高速パンチプレスへ、パンチ40と底の開いたダイ41との間に送る。パンチをダイに駆動し、必要な形状の薄板20が形成される。薄板20は落下し、つまり回収マガジン48へ輸送され、パンチ40が引っ込む。ストリップ材料32の骨格状の物体skelton33が残り、その物体は薄板20が取り除かれた穴34を含有する。骨格状の物体33は、受取スプール31に回収される。それぞれの穿孔動作がなされた後、ストリップ32に印をつけ、別の穿孔サイクルのためのストリップに備える。ストリップ材料32を、単一層又は複数層示していないのどちらでも、そして複数の放出スプール又は予めスプールした複数層のどちらによっても、プレス38に供給することができる。有利なことには、ストリップ材料32の複数層を用いることにより、所定の数の薄板20を生成するのに必要なパンチストロークの数が減少する。穿孔過程が継続する際、複数の薄板20が、充分によく整列して見当を合致させた状態でマガジン48に回収される。必要な数の薄板20が穿孔され、マガジン48に積まれた後、パンチプレス38の作動が中断する。必要な数は予め選択しても、マガジン48が収容した薄板20の高さ又は重さで決定してもよい。マガジン48は、さらなる加工のため、パンチプレス38から取り出される。低粘度の熱活性化エポキシ示していないを、薄板20の間の空間にしみ込ませることができ、薄板はマガジン48の壁で見当を合致させた状態に保持される。マガジン48及びそれに含有される薄板20全体を、エポキシを硬化するのに充分な時間にわたり熱源に露出することによって、エポキシを活性化する。そして薄板20の積層物10図1A-1Cを取り出し、過剰のエポキシを除去することにより、積層物10の表面を仕上げる。第二の実施態様を図2Bに示す。強磁性アモルファス金属ストリップ材料32のロール30をアニーリングオーブン36を通って連続的に供給し、ストリップの磁気特性を効果的に改善するのに充分なレベルにそして充分な時間にわたり、オーブンがストリップの温度を上げる。ストリップ32を送ってグラビアローラー52を備えた接着剤塗布手段50を通過させ、そのローラー52上には低粘度の熱活性化エポキシが接着剤リザーバー54から供給される。それにより、エポキシがローラー52からストリップ32の下側表面に移される。アニーリングオーブン36と接着剤塗布手段50との間の距離は、ストリップ32の移送時間の間に、少なくともエポキシの熱活性化温度以下にストリップ32を冷却するのに充分である。あるいはまた冷却手段図には示していないを用いて、オーブン36と塗布手段50との間でストリップ32をより迅速に冷却することもできる。次にストリップ材料32を、自動高速パンチプレスへ、パンチ40と底の開いたダイ41との間に送る。パンチをダイに駆動し、必要な形状の薄板20が形成される。薄板20は落下し、つまり回収マガジン48へ輸送され、パンチ40が引っ込む。ストリップ材料32の骨格状の物体33が残り、その物体は薄板20が取り除かれた穴34を含有する。骨格状の物体33は、受取スプール31に回収される。それぞれの穿孔動作がなされた後、ストリップ32に印をつけ、別の穿孔サイクルのためのストリップに備える。穿孔過程が継続し、複数の薄板20が、充分によく整列して見当を合致させた状態でマガジン48に回収される。必要な数の薄板20が穿孔され、マガジン48に積まれた後、パンチプレス38の作動が中断する。必要な数は予め選択しても、マガジン48が収容した薄板20の高さ又は重さで決定してもよい。マガジン48は、さらなる加工のため、パンチプレス38から取り出される。低粘度の熱活性化エポキシ示していないを追加し、薄板20の間の空間に浸透させることができ、薄板はマガジン48の壁で見当を合致させた状態に保持される。マガジン48及びそれに含有される薄板20全体を、エポキシを硬化するのに充分な時間にわたり熱源に露出することによって、エポキシを活性化する。そして薄板20の積層物10図1A-1Cを取り出し、過剰のエポキシを除去することにより、積層物10の表面を仕上げうる。第三の実施態様を図2Cに示す。まず、ストリップの実質的に完全なガラス質である微細構造を変えることなく磁気特性を改善するのに充分な、予め選択した温度及び予め選択した時間で、強磁性アモルファス金属ストリップを不活性ガスボックスオーブン中でアニールする。次に熱処理ストリップ32を、自動高速パンチプレスへ、パンチ40と底の開いたダイ41との間に送る。パンチをダイに駆動し、必要な形状の薄板20が形成される。薄板20は落下し、つまりダイ41から回収装置49へ輸送され、パンチ40が引っ込む。回収装置49は図2Cに示すようにコンベアベルトであってもよく、薄板20を回収するコンテナ又は容器であってもよい。ストリップ材料32の骨格状の物体33が残り、その物体は薄板20が取り除かれた穴34を含有する。骨格状の物体33は、受取スプール31に回収される。それぞれの穿孔動作がなされた後、ストリップ32に印をつけ、別の穿孔サイクルのためのストリップに備える。予め選択した数の薄板20が打ち抜かれ容器に回収されるまで穿孔過程が継続し、プレスサイクルを停止する。それぞれの薄板20の一方の面に、手動で嫌気性接着剤を塗布することができ、薄板を整列治具に見当を合致させて積層する示していない。接着剤を硬化する。薄板20の積層物10を整列治具から取り出し、過剰の接着剤を除去することにより、積層物10の表面を仕上げる。別の実施態様を図2Dに示す。熱処理ストリップ32を、自動高速パンチプレスへ、パンチ40と底の開いたダイ41との間に送る。パンチをダイに駆動し、必要な形状の薄板20が形成される。薄板20は落下し、つまり回収マガジン48に輸送され、パンチ40が引っ込む。ストリップ材料32の骨格状の物体33が残り、その物体は薄板20が取り除かれた穴34を含有する。骨格状の物体33は、受取スプール31に回収される。それぞれの穿孔動作がなされた後、ストリップ32に印をつけ、別の穿孔サイクルのためのストリップに備える。ストリップ材料32を、単一層又は複数層示していないのどちらでも、そして複数の供給源又は予めスプールした複数層のどちらによっても、プレス38に供給することができる。有利なことには、ストリップ材料32の複数層を用いることにより、所定の数の薄板20を生成するのに必要なパンチストロークの数が減少する。穿孔過程を継続し、複数の薄板20が充分によく整列して見当を合致させた状態でマガジン48に回収される。必要な数の薄板20が穿孔され、マガジン48に積まれた後、パンチプレス38の作動を中断する。必要な数は予め選択しても、マガジン48が収容した薄板20の高さ又は重さで決定してもよい。マガジン48は、さらなる加工のため、パンチプレス38から取り出される。実施において、マガジン48とそこに含有される薄板20とを不活性ガスボックスオーブン示していないに置き;アモルファス金属薄板の実質的に完全にガラス質である微細構造を変えることなく磁気特性を改善するのに充分な、予め選択した温度に加熱し、及び予め選択した時間保持して、熱処理する。マガジンと薄板とを周囲温度に冷却する。低粘度の熱活性化エポキシ示していないを薄板20の間の空間にしみ込ませることができ、薄板はマガジン48の壁で見当を合致させた状態に保持される。マガジン48及びそれに含有される薄板20全体を、エポキシを硬化するのに充分な時間にわたり硬化オーブン中に置くことにより、エポキシを活性化する。そして薄板20の積層物10図1A-1Cを取り出し、過剰のエポキシを除去することにより、積層物10の表面を仕上げる。本発明によるバルクアモルファス金属磁性部品の構成は、高性能のMRIシステム、テレビ及びビデオシステム、並びに電子及びイオンビームシステムに用いられる磁極面マグネットのタイルに特に適している。磁性部品製造が簡素化され、製造時間が減少する。その他の点では、バルクアモルファス金属部品を構成する間に受ける張力が最小化される。完成した部品の磁気特性が最適化される。本発明のバルクアモルファス金属磁性部品10は、多くの強磁性アモルファス金属合金を用いて製造することができる。一般的に言うと、部品10での使用に適した合金は、式:M7085Y520Z020添字は原子で定義される。MはFeNi及びCoの少なくとも1つであり、YはBC及びPの少なくとも1つであり、ZはSiAl及びGeの少なくとも1つであり、ただし成分Mの10原子以下は、金属種TiVCrMnCuZrNbMoTaHfAgAuPdPt及びWの少なくとも1つで置換することができ、成分の10原子以下は、非金属種InSnSb及びPbの少なくとも1つで置換することができ、成分の約1原子以下は付随的な不純物でありうる。ここで用いられる通り、アモルファス金属合金という語は、長距離秩序を実質的に欠き、液体又は無機酸化物ガラスについて観測されるのと定性的に類似したX線回折の最大強度で特徴づけられる金属合金を意味する。本発明の実施での使用に適した合金は、その部品が用いられる温度で強磁性である。強磁性材料は、その物質固有の温度一般的にキュリー温度という語が用いられる以下において、構成元素の磁気モーメントが強い長距離カップリングを示し、空間的に整列するものである。室温で作動するデバイスに用いられる材料のキュリー温度が、少なくとも約200°C、好ましくは少なくとも約375°Cであることが好ましい。デバイスに組み込まれる材料が適切なキュリー温度を有している場合には、デバイスを極低温から高温まで含まれるその他の温度で作動させてもよい。当該技術で知られている通り、強磁性材料はさらに、飽和誘導、つまり等価には飽和磁束密度又は飽和磁化で特徴づけられる。本発明の使用に適した合金は、好ましくは少なくとも約1.2テスラTの飽和誘導を有し、より好ましくは、少なくとも約1.5Tの飽和誘導を有する。その合金は高い電気抵抗も有し、好ましくは少なくとも約100μΩ-cm、もっとも好ましくは130μΩ-cmである。本発明の実施において原料として用いるのに適したアモルファス金属合金は市販で入手可能であり、一般には、幅が20cmまで又はそれ以上、厚みが約20-25μmである、連続的な薄いストリップ又はリボンの形態である。これらの合金は、実質的に完全にガラス質の微細構造例えば、非晶質の構造を有する材料が、少なくとも約80体積を有して形成される。好ましくは、合金が非晶質構造の材料を本質的に100有して形成される。非晶質構造の体積分率は、該技術で既知の方法例えば、X線、中性子、又は電子回折、透過電子顕微鏡、あるいは示差走査熱量分析により決定しうる。低コストでもっとも高い誘導値は、Mが鉄、Yがホウ素、Zがケイ素の合金で達成される。この理由から、鉄-ホウ素-ケイ素合金で構成されるアモルファス金属ストリップが好ましい。より具体的には、合金が:少なくとも70原子のFe、少なくとも5原子のB、少なくとも5原子のSi;を含有し、ただしB及びSiの総含有量が少なくとも15原子である。もっとも好ましいのは、本質的に:約11原子のホウ素、約9原子のケイ素、並びに、鉄及び付随的な不純物である残部;からなる組成を有するアモルファス金属ストリップである。このストリップは、飽和誘導が約1.56Tで抵抗が約137μΩ-cmであり、METGLAS登録商標合金2605SA-1という名称でHoneywellInternationalInc.により販売されている。当業者には、打ち抜きプレスを通って原材料を連続的に自動供給する本発明の実施態様では、例えば薄いリボン又はストリップのスプールとして供給されるアモルファス金属が好都合に用いられるということが理解される。あるいはまた、本発明は他の形態の原料及び他の供給スキームで実施でき、短いストリップ又は幅が均一でないその他の形状のストリップの手動供給が含まれる。1以上の磁極面マグネットを有する電磁石を備えた電磁石システムは、電磁石のギャップに時間変化する磁場を生成するために広く用いられる。時間変化する磁場は、純粋なAC場、つまり、時間平均値が0である場であってもよい。場合により、時間変化する場について、慣習的に場のDC成分と呼ばれる時間平均が0でなくてもよい。電磁石システムでは、少なくとも1つの磁極面マグネットに時間変化する磁場がかけられる。その結果、各々の励起サイクルで磁極面マグネットが磁化及び消磁される。磁極面マグネット内で時間変化する磁束密度又は誘導により、鉄心から熱が発生する。磁極面が複数のバルク磁性部品で構成されている場合、総鉄損は:各々の部品が単独で同じ磁束波形にさらされた場合に生じる鉄損と;部品間の電気伝導経路を流れる渦電流によって生じる損失の両方である。バルクアモルファス金属部品は、他の鉄系磁性金属で作られた部品と較べ、より効率的に磁化及び消磁される。磁極マグネットとして用いられる場合、バルクアモルファス金属部品と別の鉄系磁性金属から作られる類似の部品とを同じ誘導及び励起周波数で磁化すると、バルクアモルファス金属部品の方が発熱が小さい。さらに、本発明での使用に好ましい鉄系アモルファス金属は、他の低損失軟磁性材料例えば、飽和誘導が典型的には0.6-0.9Tであるパーマロイ合金に比べ飽和誘導が相当大きい。従って、バルクアモルファス金属部品は他の鉄系磁性金属で作られた磁性部品と比較して:1低い作動温度、2サイズ及び重量を小さくする高誘導、3サイズ及び重量を小さくする、又は優れたシグナル分解能を実現する高励起周波数;で作動させることができる。従来技術では、長い強磁性ロッドをなす磁極片の渦電流は、非伝導性材料を挿んでロッドをそれぞれ電気的に分離することによって低減できることが認識されている。本発明では、総損失がさらに相当低減される。その理由は、その他の材料又は構成方法で作成された従来技術の部品で生じる損失よりも、ここで開示する材料及び構成方法を使用すると、個々の部品各々の中で生じる損失が低減されるからである。当該技術で知られている通り、鉄損はエネルギーの散逸であり、磁化が時間と共に変化する際に磁性材料内で起きる。所定の磁性部品の鉄損は、一般には部品の励起を循環的に励起して決定する。時間変化する磁場を部品に印加し、対応して時間変化する磁気誘導つまり磁束密度を生成する。測定の標準化のため、一般的には、周波数fかつピーク振幅Bmaxで磁気誘導が正弦波で変化するように励起が選択される。鉄損は、既知の電気測定装置及び技術により決定される。慣習的には、損失は、励起される磁性材料の単位質量又は体積当たりのワットで報告される。当該技術では、損失がf及びBmaxに単調に増加することが知られている。磁極面マグネットの部品に用いられる軟磁性材料の鉄損を試験するためのもっとも標準的なプロトコル例えば、ASTM規格A912-93及びA927A927M-94では、実質的に閉磁気回路に置かれた前記材料の試料、つまり、閉じた磁束線が試料体積内に完全に含有される配置が必要とされる。その一方、前記磁極面マグネットといった部品に用いられる磁性材料は、磁気的な開回路に置かれており、つまり磁束線が空隙を横断しなければならない配置にある。縁部による場に対する効果fringingfieldeffect及びその場の不均一性のため、開回路で試験される所定の材料は、閉回路で測定された場合と比べ、一般に高い鉄損つまり質量又は体積当たりの高いワット値を示す。有利なことに、本発明のバルク磁性部品は開回路配置であっても、広い磁束密度及び周波数領域で低い鉄損を示す。何れの理論にも束縛されないが、本発明の低損失バルクアモルファス金属部品の総鉄損は、ヒステリシス損失及び渦電流損失からの寄与を含むと考えられる。これら2つの寄与の各々は、ピーク磁気誘導Bmaxと励起周波数fとの関数である。各々の寄与の程度は、外部要因例えば、部品の構成方法及び部品に用いられる材料の熱機械履歴が挙げられるにさらに依存する。アモルファス金属の鉄損について従来の解析では例えば、GEFishJApplPhys573569及びGEFishetalJApplPhys645370参照、一般に、閉磁気回路で材料について得られたデータに限られている。これらの解析でみられる低いヒステリシス及び渦電流損は、一つにはアモルファス金属の高い抵抗によってもたらされている。本発明のバルク磁性部品単位重量当たりの総鉄損LBmax,fは、本質的に以下の形の関数で定義することができる:LBmax,f=c1fBmaxnc2fqBmaxm係数c1及びc2並びに指数n,m及びqは全て経験的に定めなければならず、これらの値を正確に決定する理論は知られていない。この式を用いることにより、本発明のバルク磁性部品の総鉄損を、任意の必要な作動誘導及び励起周波数で定めることができる。一般に、バルク磁性部品の特定の幾何構造において、その中の磁場は空間的に一様ではないことがわかっている。当該技術では、有限要素モデリングといった技術により、ピーク磁束密度の空間及び時間変化を見積もることができ、実際のバルク磁性部品で測定される磁束密度分布を近似する。空間的に一様な磁束密度の下で所定の材料の磁気損失を与える適切な経験式を入力として用い、作動される配置での所定の部品について対応する実際の鉄損を、これらの技術によって合理的な精度で予測することができる。本発明の磁性部品の鉄損測定を、当該技術で知られた様々な方法を用いて行うことができる。本部品を測定する適切な方法の一つには、本発明の磁性部品と磁束閉じ込め構造手段fluxclosurestructuremeansとを有する磁気回路の形成が含まれる。別の方法では、磁気回路が本発明の複数の磁性部品、及び場合により磁束閉じ込め構造手段を備えうる。一般的に言えば、磁束閉じ込め手段は、高い透磁率と、少なくともその部品を試験する際の磁束密度に等しい飽和磁束密度とを有する軟磁性材料を含む。好ましくは、その軟磁性材料の飽和磁束密度は、少なくとも部品の飽和磁束密度に等しい。一般に、部品が試験される磁束の方向は、部品の第一及び第二の向かい合った面を画定する。磁束線は、第一の向かい合う面の平面にほぼ垂直方向で部品に入る。一般に、磁束線は部品のアモルファス金属ストリップの面に従い、第二の対向する面から現れる。一般に磁束閉じ込め構造手段は、磁束閉じ込め磁性部品を備える。そのような部品を本発明により構成することができるが、当該技術で知られたその他の方法及び材料で作成してもよい。磁束閉じ込め磁性部品は、磁束線が出入りする第一及び第二の向かい合った面も有し、磁束線はそれぞれの面にほぼ垂直方向に出入りする。磁束閉じ込め部品の向かい合った面は、磁束閉じ込め部品が実際の試験の間に対として用いられる磁性部品の対応する面と、実質的に同じサイズ及び形状を有する。磁束閉じ込め磁性部品の第一及び第二の面がそれぞれ、本発明の磁性部品の第一及び第二の面と近接し、かつ実質的に平行な対となる関係に置かれる。本発明の磁性部品又は磁束閉じ込め磁性部品の何れかを取り囲む第一の巻き線に電流を流すことにより、起磁力を印加する。生じる磁束は、試験される磁性部品を取り囲む第二の巻き線に誘起される電圧から、ファラデー則により決定される。印加磁場は、起磁力からアンペール則により決定される。そして鉄損は、印加電圧と生ずる磁束密度から、従来の方法により算出される。図3を参照すると、前述の試験方法の一つの形態を行うアセンブリー60が図示されており、この形態では磁束閉じ込め構造手段を必要としない。アセンブリー60は、本発明の打ち抜かれたバルクアモルファス金属磁性部品10の4つを備える。部品10の各々は、図1Cに描かれた形態のアーチ状表面12を有する完全円形の柱のセグメントである。各々の部品は第一の向かい合った面66aと、第二の向かい合った面66bを有する。部品10は対をなす関係に置かれ、ほぼ完全円形の柱の形状を有するアセンブリー60を形成する。各々の部品10の第一の向かい合った面66aは、隣の部品10の第一の向かい合った面に近接して、そしてほぼ平行に配列して置かれる。このように、部品10の隣り合った面の4つのセットは、アセンブリー60の全周を等間隔に隔てる4つのギャップ64を画定する。部品10の対をなす関係はバンド62によって確保しうる。アセンブリー60は4つの透磁性セグメントそれぞれが部品10で構成される及び4つのギャップ64を有する磁気回路を形成する。2つの銅ワイヤー巻き線示していないをアセンブリー60全体にわたってトロイダル形状で通す。適切な振幅の交流電流を第一の巻き線に流し、必要な周波数とピーク磁束密度でアセンブリーを励起する起磁力を発生させる。一般に、磁束線はストリップ20の面内にあり、周方向に向けられている。それぞれの部品10内で時間変化する磁束密度を示す電圧は、第二の巻き線に誘起される。総鉄損は、電圧及び電流の測定値から従来の電子的手段により決定され、4つの部品10に均等に割り付けられる。以下の例は、本発明をより完全に記載するため提供される。本発明の原理及び実施を説明するために述べる特定の技術、条件、材料、割合、及び報告データは例示的なものにすぎず、本発明の範囲を制限するために用いられるべきではない。実施例1打ち抜きアモルファス金属アーチ状部品の製造及び電磁試験幅が約60mmで厚みが約0.022mmのFe80B11Si9の強磁性アモルファス金属リボンを打ち抜いて個々の薄板を形成し、その各々は90°のセグメントで外径が100mm、内径が75mmの形状を有する。約500個の薄板それぞれを積層し、見当を合致させ、図1Cに示す様に完全円形柱の90°のアーチ状セグメント高さ12.5mm、外形100mm、及び内径75mmを形成する。円柱状セグメントアセンブリーは治具に置かれ、窒素雰囲気下でアニールされる。アニールは:1アセンブリーを365°Cに加熱し;2温度を約365°Cに約2時間保持し;3アセンブリーを周囲温度に冷却する工程からなる。円柱状セグメントアセンブリーを治具から取り出す。柱状セグメントアセンブリーを第二の治具に置き、エポキシ樹脂溶液を真空含浸し、120°Cで約4.5時間硬化する。完全に硬化すると、柱状セグメントアセンブリーを第二の治具から取り出す。生成したエポキシ結合アモルファス金属柱状セグメントアセンブリーの重量は、約70gである。この過程を繰り返し、前記アセンブリーを計4つ形成する。4つのアセンブリーを対を成す関係に置き、束ねて、図3に示す様に4つの等間隔のギャップを有するほぼ円柱状の試験アセンブリーを形成する。電気試験のため、第一及び第二の電気巻き線を円柱状試験アセンブリーに固定した。試験アセンブリーは:周波数約60Hz及び磁束密度約1.4テスラTで作動させた場合、アモルファス金属材料1kg当たり1ワット未満;周波数約1,000Hz及び磁束密度約1.0テスラTで作動させた場合、アモルファス金属材料1kg当たり12ワット未満;周波数約20,000Hz及び磁束密度約0.30テスラTで作動させた場合、アモルファス金属材料1kg当たり70ワット未満;の鉄損を示す。本発明の部品の鉄損が小さいことから、磁極面の構成での使用に適している。実施例2打ち抜きアモルファス金属アーチ状部品の高周波数電磁試験4つの打ち抜きアモルファス金属アーチ状部品を備えた円柱状試験アセンブリーを実施例1の通りに製造する。第一及び第二の電気巻き線を試験アセンブリーに固定する。電気試験を60,1000、5000、及び20,000Hz及び様々な磁束密度で行う。鉄損の値を下の表1,2、3及び4にまとめる。表3及び4に示す通り、励起周波数5000Hz以上では、鉄損が特に低い。このように、本発明の磁性部品はMRIシステムの磁極面マグネットでの使用に特に適している。実施例3低損失バルクアモルファス金属部品の高周波数挙動上の実施例2の鉄損を、従来の非線形回帰法を用いて解析する。Fe80B11Si9アモルファス金属リボンで構成される低損失バルクアモルファス金属部品の鉄損は、式:LBmax,f=c1fBmaxnc2fqBmaxmの関数で実質的に定めることができる。係数c1及びc2並びに指数n,m,及びqの適切な値は、バルクアモルファス金属部品の磁損の上限を定めるよう選択される。表5は実施例2の部品の鉄損と、上記式で予測された鉄損を記述し、各々はW/kgで測定される。fHz及びBmaxテスラの関数として予測された鉄損は、係数c1=0.0074及びc2=0.000282並びに指数n=1.3、m=2.4、及びq=1.5を用いて計算される。実施例2のバルクアモルファス金属部品の鉄損は、式で予測される対応する鉄損より小さい。本発明を幾分詳細に記載したが、このような細部に厳格に従うのではなく、当業者には様々な変更や修正が示唆され、その全てが添付の請求項で規定される本発明の範囲内にある。"