"少なくとも1層の有機層と、少なくとも1層のアルミまたはケイ素の、酸化物、窒化物、炭化物、またはその混合物を含む無機層とを有し、前記有機層は、下記一般式またはで表される重合性化合物を含む重合性組成物を重合させてなるポリマーを含む、バリア性積層体。一般式1中、R11は、水素原子またはメチル基を表す。L11は2価の連結基を表す。一般式2中、R21は、水素原子またはメチル基を表す。L21は2価の連結基を表す。前記有機層が、無機層の表面に設けられている、請求項1に記載のバリア性積層体。少なくとも1層の有機層が芳香族基を含む、請求項1または2に記載のバリア性積層体。前記無機層、前記有機層、前記無機層が、該順に、隣接して設けられている、請求項1~3のいずれか1項に記載のバリア性積層体。前記重合性組成物が、メタアクリレートを含む、請求項1~4のいずれか1項に記載のバリア性積層体。一般式1におけるL11または一般式2におけるL12が、それぞれ、アルキレン基、アリーレン基、エーテル基、イミノ基、カルボニル基、およびこれらの2価の基が複数個直列に結合した2価の基から選択される、請求項1~5のいずれか1項に記載のバリア性積層体。基材フィルム上に、請求項1~6のいずれか1項に記載のバリア性積層体を有するガスバリアフィルム。基材フィルム上に、少なくとも一層のアンカー層を有し、かつ、該アンカー層の上に前記有機層を有する、請求項7記載のガスバリアフィルム。基材フィルムの表面に前記有機層を有する、請求項7または8に記載のガスバリアフィルム。前記基材フィルムが、ポリエチレンテレフタレートフィルムまたはポリエチレンナフタレートフィルムである、請求項7~9いずれか1項に記載のガスバリアフィルム。請求項7~10のいずれか1項に記載のガスバリアフィルムを基板として用いたデバイス。請求項1~6のいずれか1項に記載のバリア性積層体または請求項7~10のいずれか1項に記載のガスバリアフィルムを用いて封止したデバイス。前記デバイスが、電子デバイスである、請求項11または12に記載のデバイス。前記デバイスが、有機EL素子または太陽電子素子である、請求項11~13のいずれか1項に記載のデバイス。請求項1~6のいずれか1項に記載のバリア性積層体または請求項7~10のいずれか1項に記載のガスバリアフィルムを用いた封止用袋。しかしながら、有機層と無機層の交互積層を重ねていくと、有機層と無機層との間の密着性が問題となる。特に高温プロセスを必要とするデバイスでは、基板が高温に晒される。高温にさらされたガスバリアフィルムはバリア性が劣化することが問題でその改善が求められていた。本発明は、上記課題を解決することを目的としたものであって、有機層と無機層との間の密着性が高く、高温にさらされても高いバリア性を維持するバリア性積層体、ガスバリアフィルムを提供することを目的とする。ここで、有機層と無機層の密着性を向上させる手段として、有機層にシランカップリング剤を数添加する方法が知られている。しかしながら、本願発明者が検討を行ったところ、従来公知のシランカップリング剤は高温で熱分解し、メタノールなどの脱ガスを生じてしまうことが分かった。図1は、その状態を示したものであって、1は無機層を、2’は無機層の表面に設けられたシランカップリング剤を用いて形成した有機層を、3は有機層の表面にさらに設けられた無機層を示している。従来の有機層2’には、カップリング剤由来のアルコール4が残存しており、この状態で加熱や脱気が起こると、かかるアルコールガスが放出し、ガスバリア性を低下させてしまう。特に、図1に示す本実施形態のように、有機層の表面に無機層3が設けられている場合、アルコール4由来のガスが無機層3を破壊してしまうこともあった。かかるバリア性積層体を組み込んだデバイスを、100°C以上の高温プロセスに曝された際に、副生成物の残存によるこの傾向が顕著であることが分かった。上記課題のもと、有機層として、特定の構造の重合性化合物を含む重合性組成物を重合させてなるものを含むものを重合硬化してなる層を採用することにより、高温下においても破壊されることなく、高いバリア性を維持できるバリア性積層体が得られ、上記課題を解決することを見出した。具体的には、下記手段<1>により、好ましくは<2>~<15>により、上記課題を解決しうることを見出した。<1>少なくとも1層の有機層と、少なくとも1層のアルミまたはケイ素の、酸化物、窒化物、炭化物、またはその混合物を含む無機層とを有し、前記有機層は、下記一般式またはで表される重合性化合物を含む重合性組成物を重合させてなるポリマーを含む、バリア性積層体。一般式1中、R11は、水素原子またはメチル基を表す。L11は2価の連結基を表す。一般式2中、R21は、水素原子またはメチル基を表す。L21は2価の連結基を表す。<2>前記有機層が、無機層の表面に設けられている、<1>に記載のバリア性積層体。<3>少なくとも1層の有機層が芳香族基を含む、<1>または<2>に記載のバリア性積層体。<4>前記無機層、前記有機層、前記無機層が、該順に、隣接して設けられている、<1>~<3>のいずれか1項に記載のバリア性積層体。<5>前記重合性組成物が、メタアクリレートを含む、<1>~<4>のいずれか1項に記載のバリア性積層体。<6>一般式1におけるL11または一般式2におけるL12が、それぞれ、アルキレン基、アリーレン基、エーテル基、イミノ基、カルボニル基、およびこれらの2価の基が複数個直列に結合した2価の基から選択される、<1>~<5>のいずれか1項に記載のバリア性積層体。<7>基材フィルム上に、<1>~<6>のいずれか1項に記載のバリア性積層体を有するガスバリアフィルム。<8>基材フィルム上に、少なくとも一層のアンカー層を有し、かつ、該アンカー層の上に前記有機層を有する、<7>記載のガスバリアフィルム。<9>基材フィルムの表面に前記有機層を有する、<7>または<8>に記載のガスバリアフィルム。<10>前記基材フィルムが、ポリエチレンテレフタレートフィルムまたはポリエチレンナフタレートフィルムである、<7>~<9>いずれか1項に記載のガスバリアフィルム。<11><7>~<10>のいずれか1項に記載のガスバリアフィルムを基板として用いたデバイス。<12><1>~<6>のいずれか1項に記載のバリア性積層体または<7>~<10>のいずれか1項に記載のガスバリアフィルムを用いて封止したデバイス。<13>前記デバイスが、電子デバイスである、<11>または<12>に記載のデバイス。<14>前記デバイスが、有機EL素子または太陽電子素子である、<11>~<13>のいずれか1項に記載のデバイス。<15><1>~<6>のいずれか1項に記載のバリア性積層体または<7~10のいずれか1項に記載のガスバリアフィルムを用いた封止用袋。本発明における有機層を採用することにより、密着性および耐熱性能が向上したバリア性積層体を提供することが可能になった。以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において~とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。また、本発明における有機EL素子とは、有機エレクトロルミネッセンス素子のことをいう。本明細書において、メタアクリレートとは、アクリレートおよびメタクリレートの両方を含む意味で使用される。<バリア性積層体>本発明のガスバリアフィルム積層体は、少なくとも1層の有機層と、少なくとも1層のアルミまたはケイ素の、酸化物、窒化物、炭化物、またはその混合物からなる無機層とを有し、前記有機層は、下記一般式またはで表される重合性化合物を含む重合性組成物を重合させてなるポリマーを含むことを特徴とする。一般式1中、R11は、水素原子またはメチル基を表す。L11は2価の連結基を表す。一般式2中、R21は、水素原子またはメチル基を表す。L21は2価の連結基を表す。このような有機層を有するバリア性積層体とすることにより、不必要なガス発生をもたらすことなく有機層と無機層の密着性を向上させることができ、耐熱温度を向上することができる。本発明者らの検討によれば、カルボン酸基が無機層、基材に保有される水酸基、カルボン酸基、基材に塗布されたプライマー層と水素結合を形成することにより、強固な密着性が得られる。本発明のバリア性積層体は、好ましくは、有機層の表面に無機層を設けた構成であり、さらに好ましくは、少なくとも2層の上記構成の有機層と、少なくとも2層の無機層とが交互に積層した構造である。このような構成とすることにより、有機層と無機層の密着性が向上し、バリア性がより向上する。有機デバイス有機ELデバイス、有機太陽電池デバイス、有機TFTデバイス等の分野において、ガスバリアフィルム積層体をガラス基板に代わりに採用する場合、デバイス作製プロセスにおいて、100°C~200°C、数時間の熱プロセスに耐えることが必要になる。その際、公知のガスバリアフィルムでは、無機層間に挟まれた有機層で、脱ガスが生じると、両側が極めて高いガスバリア性能を持っている無機層であるため、内部圧力が上昇し、無機有機界面に剥離力を及ぼしてしまっていた。本発明では、低脱ガス性能の有機層とすることにより、無機層間に挟まれた有機層における密着性を向上させたものである。有機層本発明における有機層のうち少なくとも1層は、一般式1または一般式2で表される重合性化合物を含む組成物を重合させてなるものである。一般式1中、R11は、水素原子またはメチル基を表す。L11は2価の連結基を表す。一般式2中、R21は、水素原子またはメチル基を表す。L21は2価の連結基を表す。L11およびL21は、それぞれ、2価の連結基を表す。2価の連結基の例としては、アルキレン基例えば、メチレン基、エチレン基、1,3-プロピレン基、2,2-ジメチル-1,3-プロピレン基、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロピレン基、1,6-ヘキシレン基、1,9-ノニレン基、1,12-ドデシレン基、1,16-ヘキサデシレン基等、アリーレン基例えば、フェニレン基、ナフチレン基、エーテル基、イミノ基、カルボニル基、およびこれらの2価の基が複数個直列に結合した2価の基を挙げることができる。L11およびL21は、それぞれ、置換基を有してもよく、L11およびL21の置換基の例としては、アルキル基例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert-ブチル基、n-オクチル基、n-デシル基、n-ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等、アルケニル基例えば、ビニル基、アリル基、2-ブテニル基、3-ペンテニル基等、アリール基例えば、フェニル基、p-メチルフェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基等、ハロゲン原子例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、ヒドロキシ基、アルコキシ基例えば、メトキシ基、エトキシ基、アリールオキシ基例えば、フェノキシ基、アシル基例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基等、アシルオキシ基例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、アルコキシカルボニル基例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等、アリールオキシカルボニル基例えば、フェニルオキシカルボニル基等等が挙げられる。これらの置換基はさらに置換されていてもよい。以下に、本発明で用いられる重合性化合物の具体例を示すが本発明はこれらに限定されるものではない。重合性組成物本発明における重合性組成物は一般式1または2で表される重合性化合物を含む。一般式1または2で表される重合性化合物以外に、その他の重合性化合物、光重合開始剤、溶媒、その他添加剤を含有しても良い。一般式1または2で表される重合性化合物およびその他の重合性化合物が、重合性組成物の固形分揮発分が揮発した後の残分中に占める割合は、好ましくは、0.2~70質量であり、1~50質量が好ましく、5~30質量が特に好ましい。本発明において、その他の重合性化合物としては、公知の重合性化合物を広く採用することができ、メタアクリレートが好ましく、芳香族基を含有するメタアクリレートが特に好ましい。メタアクリレート系化合物としては、メタアクリレート、ウレタンメタアクリレートやポリエステルメタアクリレート、エポキシメタアクリレート等が好ましい。以下に、メタアクリレート系化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。さらに、本発明では、下記一般式3で表されるメタアクリレート系化合物も好ましく採用できる。一般式3一般式3中、R1は、置換基を表し、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。nは、0~5の整数を示し、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。但し、R1の少なくとも1つは重合性基を含む。R1の置換基としては、-CR22-R2は水素原子または置換基、-CO-、-O-、フェニレン基、-S-、-C≡C-、-NR3-R3は水素原子または置換基、-CR4=CR5-R4、R5は、ぞれぞれ、水素原子または置換基の1つ以上と、重合性基との組み合わせからなる基が挙げられ、-CR22-R2は水素原子または置換基、-CO-、-O-およびフェニレン基の1つ以上と、重合性基との組み合わせからなる基が好ましい。R2は、水素原子または置換基であるが、好ましくは、水素原子またはヒドロキシ基である。R1の少なくとも1つが、ヒドロキシ基を含むことが好ましい。ヒドロキシ基を含むことにより、有機層の硬化率が向上する。R1の少なくとも1つの分子量が10~250であることが好ましく、70~150であることがより好ましい。R1が結合している位置としては、少なくともパラ位に結合していることが好ましい。nは、0~5の整数を示し、0~2の整数であることが好ましく、0または1であることがより好ましく、いずれも1であることがさらに好ましい。一般式3で表される化合物は、R1の少なくとも2つが同じ構造であることが好ましい。さらに、nは、いずれも1であり、4つのR1の少なくとも2つずつがそれぞれ同じ構造であることがより好ましく、nは、いずれも1であり、4つのR1が同じ構造であることがさらに好ましい。一般式3が有する重合性基は、メタアクリロイル基またはエポキシ基であることが好ましく、メタアクリロイル基であることがより好ましい。一般式3が有する重合性基の数は、2つ以上であることが好ましく、3つ以上であることがより好ましい。また、上限は特に定めるものではないが、8つ以下であることが好ましく、6つ以下であることがより好ましい。一般式3で表される化合物の分子量は、600~1400が好ましく、800~1200がより好ましい。本発明では、一般式3で表される化合物を1種類のみ含んでいてもよいし、2種類以上含んでいてもよい。2種類以上含んでいる場合、例えば、同じ構造のR1を含み、かつ、該R1の数が異なる化合物およびそれらの異性体を含んでいる組成物が例示される。以下に、一般式3で表される化合物の具体例を示すが、これによって本発明が限定されることはない。また、下記化合物では、一般式3の4つのnがいずれも1の場合を例示しているが、一般式3の4つのnのうち、1つまたは2つまたは3つが0のもの例えば、2官能や3官能化合物等や、一般式3の4つのnのうち、1つまたは2つまたは3つ以上が2つ以上のものR1が1つの環に、2つ以上結合しているもの、例えば、5官能や6官能化合物等も本発明の好ましい化合物として例示される。一般式3で表される化合物は、市販品として入手することができる。また、上記化合物は、公知の方法によって合成することもできる。例えば、エポキシアクリレートは、エポキシ化合物とアクリル酸との反応で得ることができる。これらの化合物は、通常、反応の際、2官能、3官能、5官能やその異性体なども生成する。これらの異性体を分離したい場合は、カラムクロマトグラフィによって分離できるが、本発明では、混合物として用いることも可能である。重合開始剤本発明における有機層は、通常、重合性芳香族シランカップリング剤等の重合性化合物を含む重合性組成物を塗布硬化させて得られる。本発明では、前記重合性組成物に熱または各種のエネルギー線を照射して重合、架橋させることにより高分子を主成分とする有機層を形成する。エネルギー線の例としては紫外線、可視光線、赤外線、電子線、エックス線、ガンマ線等が挙げられる。このとき、熱で重合させる場合は熱重合開始剤を、紫外線で重合させる場合は光重合開始剤を、可視光線で重合させる場合は光重合開始剤と増感剤を用いる。以上の中では、光重合開始剤を含有する重合性化合物を紫外線で重合、架橋することが好ましい。光重合開始剤を用いる場合、その含量は、重合性化合物の合計量の0.1モル以上であることが好ましく、0.5~2モルであることがより好ましい。このような組成とすることにより、活性成分生成反応を経由する重合反応を適切に制御することができる。光重合開始剤の例としてはチバスペシャルティーケミカルズ社から市販されているイルガキュアIrgacureシリーズ例えば、イルガキュア651、イルガキュア754、イルガキュア184、イルガキュア2959、イルガキュア907、イルガキュア369、イルガキュア379、イルガキュア819など、ダロキュアDarocureシリーズ例えば、ダロキュアTPO、ダロキュア1173など、クオンタキュアQuantacurePDO、サートマー製ゼオノア1600:160°C、ポリアリレートPAr:210°C、ポリエーテルスルホンPES:220°C、ポリスルホンPSF:190°C、シクロオレフィンコポリマーCOC:特開2001-150584号公報の化合物:162°C、ポリイミド例えば三菱ガス化学株ネオプリム:260°C、フルオレン環変性ポリカーボネートBCF-PC:特開2000-227603号公報の化合物:225°C、脂環変性ポリカーボネートIP-PC:特開2000-227603号公報の化合物:205°C、アクリロイル化合物特開2002-80616号公報の化合物:300°C以上が挙げられる括弧内はTgを示す。特に、透明性を求める場合には脂環式ポレオレフィン等を使用するのが好ましい。本発明のガスバリアフィルムを偏光板と組み合わせて使用する場合、ガスバリアフィルムのバリア性積層体がセルの内側に向くようにし、最も内側に素子に隣接して配置することが好ましい。このとき偏光板よりセルの内側にガスバリアフィルムが配置されることになるため、ガスバリアフィルムのレターデーション値が重要になる。このような態様でのガスバリアフィルムの使用形態は、レターデーション値が10nm以下の基材フィルムを用いたガスバリアフィルムと円偏光板1/4波長板1/2波長板直線偏光板を積層して使用するか、あるいは1/4波長板として使用可能な、レターデーション値が100nm~180nmの基材フィルムを用いたガスバリアフィルムに直線偏光板を組み合わせて用いるのが好ましい。レターデーションが10nm以下の基材フィルムとしてはセルローストリアセテート富士フイルム株:富士タック、ポリカーボネート帝人化成株:ピュアエース、株カネカ:エルメック、シクロオレフィンポリマーJSR株:アートン、日本ゼオン株:ゼオノア、シクロオレフィンコポリマー三井化学株:アペルペレット、ポリプラスチック株:トパスペレットポリアリレートユニチカ株:U100ペレット、透明ポリイミド三菱ガス化学株:ネオプリム等を挙げることができる。また1/4波長板としては、上記のフィルムを適宜延伸することで所望のレターデーション値に調整したフィルムを用いることができる。アンカー層アンカー層とは、PET基材、PEN基材に、第一層として、有機層あるいは無機層から積層されるバリアフィルムにおいて、基材と第一層の間に少なくとも1層以上からなり、易接着機能などを付与する層である。本発明のガスバリアフィルムは有機EL素子等のデバイスとして利用されることから、プラスチックフィルムは透明であること、すなわち、光線透過率が通常80以上、好ましくは85以上、さらに好ましくは90以上である。光線透過率は、JIS-K7105に記載された方法、すなわち積分球式光線透過率測定装置を用いて全光線透過率および散乱光量を測定し、全光線透過率から拡散透過率を引いて算出することができる。本発明のガスバリアフィルムをディスプレイ用途に用いる場合であっても、観察側に設置しない場合などは必ずしも透明性が要求されない。したがって、このような場合は、プラスチックフィルムとして不透明な材料を用いることもできる。不透明な材料としては、例えば、ポリイミド、ポリアクリロニトリル、公知の液晶ポリマーなどが挙げられる。本発明のガスバリアフィルムに用いられるプラスチックフィルムの厚みは、用途によって適宜選択されるので特に制限がないが、典型的には1~800μmであり、好ましくは10~200μmである。これらのプラスチックフィルムは、透明導電層、プライマー層等の機能層を有していても良い。機能層については、特開2006-289627号公報の段落番号0036~0038に詳しく記載されている。これら以外の機能層の例としてはマット剤層、保護層、帯電防止層、平滑化層、密着改良層、遮光層、反射防止層、ハードコート層、応力緩和層、防曇層、防汚層、被印刷層、易接着層等が挙げられる。<デバイス>本発明のバリア性積層体およびガスバリアフィルムは空気中の化学成分酸素、水、窒素酸化物、硫黄酸化物、オゾン等によって性能が劣化するデバイスに好ましく用いることができる。前記デバイスの例としては、例えば、有機EL素子、液晶表示素子、薄膜トランジスタ、タッチパネル、電子ペーパー、太陽電池等等の電子デバイスを挙げることができ有機EL素子に好ましく用いられる。本発明のバリア性積層体は、また、デバイスの膜封止に用いることができる。すなわち、デバイス自体を支持体として、その表面に本発明のバリア性積層体を設ける方法である。バリア性積層体を設ける前にデバイスを保護層で覆ってもよい。本発明のガスバリアフィルムは、デバイスの基板や固体封止法による封止のためのフィルムとしても用いることができる。固体封止法とはデバイスの上に保護層を形成した後、接着剤層、ガスバリアフィルムを重ねて硬化する方法である。接着剤は特に制限はないが、熱硬化性エポキシ樹脂、光硬化性アクリレート樹脂等が例示される。従来のバリア性積層体およびガスバリアフィルムは、これらをデバイスに組み込み、その状態で、100°C以上の温度で加熱したとき、シランカップリング剤由来のアルコールガスを放出し、デバイスにダメージを与えてしまっていた。しかしながら、本発明のバリア性積層体およびガスバリアフィルムは、100°C以上の温度例えば、100~200°Cで加熱してもアルコールガスを大量に放出しないため、デバイスにダメージを与えることを効果的に抑制できる。有機EL素子ガスバリアフィルム用いた有機EL素子の例は、特開2007-30387号公報に詳しく記載されている。有機EL素子の製造工程には、ITOのエッチング工程後の乾燥工程や湿度の高い条件下での工程があるため、本発明のガスバリアフィルムを用いることは極めて優位である。液晶表示素子反射型液晶表示装置は、下から順に、下基板、反射電極、下配向膜、液晶層、上配向膜、透明電極、上基板、λ/4板、そして偏光膜からなる構成を有する。本発明におけるガスバリアフィルムは、前記透明電極基板および上基板として使用することができる。カラー表示の場合には、さらにカラーフィルター層を反射電極と下配向膜との間、または上配向膜と透明電極との間に設けることが好ましい。透過型液晶表示装置は、下から順に、バックライト、偏光板、λ/4板、下透明電極、下配向膜、液晶層、上配向膜、上透明電極、上基板、λ/4板および偏光膜からなる構成を有する。このうち本発明の基板は、前記上透明電極および上基板として使用することができる。カラー表示の場合には、さらにカラーフィルター層を下透明電極と下配向膜との間、または上配向膜と透明電極との間に設けることが好ましい。液晶セルの種類は特に限定されないが、より好ましくはTN型TwistedNematic、STN型SuperTwistedNematicまたはHAN型HybridAlignedNematic、VA型、ECB型ElectricallyControlledBirefringence、OCB型OpticallyCompensatedBend、CPA型、IPS型InPlaneSwitchingであることが好ましい。太陽電池本発明のバリア性積層体およびガスバリアフィルムは、太陽電池素子の封止フィルムとしても用いることができる。ここで、本発明のバリア性積層体およびガスバリアフィルムは、接着層が太陽電池素子に近い側となるように封止することが好ましい。太陽電池は、ある程度の熱と湿度に耐えることが要求されるが、本発明のバリア性積層体およびガスバリアフィルムは好適である。本発明のバリア性積層体およびガスバリアフィルムが好ましく用いられる太陽電池素子としては、特に制限はないが、例えば、単結晶シリコン系太陽電池素子、多結晶シリコン系太陽電池素子、シングル接合型、またはタンデム構造型等で構成されるアモルファスシリコン系太陽電池素子、ガリウムヒ素GaAsやインジウム燐InP等のIII-V族化合物半導体太陽電池素子、カドミウムテルルCdTe等のII-VI族化合物半導体太陽電池素子、銅インジウムセレン系いわゆる、CIS系、銅インジウムガリウムセレン系いわゆる、CIGS系、銅インジウムガリウムセレン硫黄系いわゆる、CIGSS系等のI-III-VI族化合物半導体太陽電池素子、色素増感型太陽電池素子、有機太陽電池素子等が挙げられる。中でも、本発明においては、上記太陽電池素子が、銅インジウムセレン系いわゆる、CIS系、銅インジウムガリウムセレン系いわゆる、CIGS系、銅インジウムガリウムセレン硫黄系いわゆる、CIGSS系等のI-III-VI族化合物半導体太陽電池素子であることが好ましい。その他その他の適用例としては、特表平10-512104号公報に記載の薄膜トランジスタ、特開平5-127822号公報、特開2002-48913号公報等に記載のタッチパネル、特開2000-98326号公報に記載の電子ペーパー、特開平9-18042号公報に記載の太陽電池等が挙げられる。また、ポリエチレンフィルムやポリプロピレンフィルム等の樹脂フィルムと、本発明のバリア性積層体またはガスバリアフィルムを積層して封止用袋として用いることができる。これらの詳細については、特開2005-247409号公報、特開2005-335134号公報等の記載を参酌できる。<光学部材>本発明のガスバリアフィルムを用いる光学部材の例としては円偏光板等が挙げられる。円偏光板本発明におけるガスバリアフィルムを基板としλ/4板と偏光板とを積層し、円偏光板を作製することができる。この場合、λ/4板の遅相軸と偏光板の吸収軸とが45°になるように積層する。このような偏光板は、長手方向MDに対し45°の方向に延伸されているものを用いることが好ましく、例えば、特開2002-865554号公報に記載のものを好適に用いることができる。以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。実施例1ガスバリアフィルムの作製ポリエチレンナフタレートフィルムPEN、帝人デュポン社製、テオネックスQ65FA、厚さ100μm上に、下記表に記載の重合性化合物と重合開始剤Lamberti社、EsacureKTO461グラム、2-ブタノン400グラムとを含む重合性組成物を乾燥膜厚が1000nmとなるように塗布成膜し、酸素含有量100ppm以下の窒素雰囲気下で紫外線照射量0.5J/cm2で照射して硬化させ、有機層を作製した。その有機層表面に、膜厚が40nmとなるように窒化珪素無機層をプラズマCVD法で成膜した。さらに、同様の有機層、無機層、有機層を積層し、バリアフィルムを作製した。得られたガスバリアフィルムについて、下記手法により水蒸気透過率および密着性を測定した。[バリア性能]GNISATO、PCPBOUTEN、PJSLIKKERVEERらSIDConferenceRecordoftheInternationalDisplayResearchConference14351438頁に記載の方法を用いて水蒸気透過率g/m2/dayを測定した。このときの温度は40°C、相対湿度は90とした。結果を下記表に示した。上記表中の化合物は下記のとおりである。化合物B:B-1B-2B-3実施例2密着性の試験ポリエチレンテレフタレートフィルムPETフィルム東洋紡製、品番:A4100、厚さ:100μmの表面に、実施例1と同様の方法で、有機層、無機層、有機層を該順に形成してガスバリアフィルムPET/有機層/無機層/有機層を作製した。得られたガスバリアフィルムについて、以下の試験を行った。[密着性の試験]PET基材上に有機層、無機層、有機層からなるガスバリアフィルムの密着性を評価する目的で、JISK5400に準拠した碁盤目試験を行なった。上記層構成を有するガスバリアフィルムの表面にそれぞれカッターナイフで膜面に対して90°の切込みを1mm間隔で入れ、1mm間隔の碁盤目を100個作製した。この上に2cm幅のマイラーテープ[日東電工製、ポリエステルテープNo.31B]を貼り付け、テープ剥離試験機を使用して貼り付けたテープをはがした。積層フィルム上の100個の碁盤目のうち剥離せずに残存したマスの数nをカウントした。結果は、で示した。上記試料No.1~10において、有機層のアクリレートを同量の下記の化合物に変え、他は同様に行った。メタアクリレート実施例3耐熱性試験ポリエチレンナフタレートフィルムPEN、帝人デュポン社製、テオネックスQ65FA、厚さ100μm上に、実施例1と同様の方法で、有機層、無機層、有機層、無機層の順に積層してガスバリアフィルムPEN有機層/無機層/有機層/無機層を作製した。但し、Aの化合物の配合量ならびにBの化合物の種類及び配合量は下記表に示すとおりとした。得られたガスバリアフィルムについて、耐熱性を評価した。[耐熱性試験]ガスバリアフィルムの耐熱性を評価する目的で、200°Cの恒温槽に上記ガスバリアフィルムを入れて、1時間保持した。10cm2を観察し、無機層と無機層に挟まれた有機層中でのガス発生による膨れ部の有無を評価した。膨れ部なしのものは、○で表し、膨れ部ありのものは×で表した。揮発ガスを多く含むシランカップリング剤KBM-5103信越化学を用いた場合を比較例とした。上記表のB-4の化合物は、3アクリロキシプロピルトリメトキシシラン信越シリコーン製、KBM5103を用いた。実施例4基材フィルムと有機層の密着性評価ポリエチレンテレフタレートフィルムPENフィルム東洋紡製、品番:A4100、厚さ:100μmの易接着層が形成されていない表面に、実施例1と同様にして、有機層を形成した。但し、Aの化合物の配合量ならびにBの化合物の種類及び配合量は下記表に示すとおりとした。得られた積層フィルムPET/有機層について、密着性を評価した。[基材との密着性の試験]JISK5400に準拠した碁盤目試験を行なった。上記層構成を有するガスバリアフィルムの表面にそれぞれカッターナイフで膜面に対して90°の切込みを1mm間隔で入れ、1mm間隔の碁盤目を100個作製した。この上に2cm幅のマイラーテープ[日東電工製、ポリエステルテープNo.31B]を貼り付け、テープ剥離試験機を使用して貼り付けたテープをはがした。積層フィルム上の100個の碁盤目のうち剥離せずに残存したマスの数nをカウントした。結果は、で示した。上記結果から明らかなとおり、本発明の化合物は、バリア性および密着性に優れていることが分かった。実施例5有機EL発光素子での評価バリア性を評価するために、水蒸気や酸素で黒点ダークスポット欠陥を生じる有機EL素子を作成し評価した。まず、ITO膜を有する導電性のガラス基板表面抵抗値10Ω/□を2-プロパノールで洗浄した後、10分間UV-オゾン処理を行った。この基板陽極上に真空蒸着法にて以下の化合物層を順次蒸着した。第1正孔輸送層銅フタロシアニン:膜厚10nm第2正孔輸送層N,N’-ジフェニル-N,N’-ジナフチルベンジジン:膜厚40nm発光層兼電子輸送層トリス8-ヒドロキシキノリナトアルミニウム:膜厚60nm電子注入層フッ化リチウム:膜厚1nmこの上に、金属アルミニウムを100nm蒸着して陰極とし、その上に厚さ3μm窒化珪素膜を平行平板CVD法によって付け、有機EL素子を作成した。次に、熱硬化型接着剤エポテック310、ダイゾーニチモリ株を用いて、作成した有機EL素子上と、実施例1で作製した各ガスバリアフィルムを、バリア層が有機EL素子の側となるように貼り合せ、65°Cで3時間加熱して接着剤を硬化させた。このようにして封止された有機EL素子を各20素子ずつ作成した。作成直後の有機EL素子をソースメジャーユニットSMU2400型、Keithley社製を用いて7Vの電圧を印加して発光させた。顕微鏡を用いて発光面状を観察したところ、いずれの素子もダークスポットの無い均一な発光を与えることが確認された。最後に、各素子を60°C相対湿度90の暗い室内に24時間静置した後、発光面状を観察した。直径300μmよりも大きいダークスポットが観察された素子の比率を故障率と定義し、各素子の故障率を算出した。故障率は、本発明の素子については、いずれも、5以下と良好であった。実施例6太陽電池の作成上記で作成したガスバリアフィルムを用いて、太陽電池モジュールを作成した。具体的には、太陽電池モジュー用充填剤として、スタンダードキュアタイプのエチレン-酢酸ビニル共重合体を用いた。10cm角の強化ガラス上に厚さ450μmのエチレン-酢酸ビニル共重合体でアモルファス系のシリコン太陽電池セルを挟み込み充填し、さらにその上のガスバリアフィルムを設置することで太陽電池モジュールを作成した。設置条件は、150°Cにて真空引き3分行ったあと、9分間圧着を行った。本方法で作成した太陽電池モジュールは、良好に作動し、85°C、85相対湿度の環境下でも良好な電気出力特性を示した。実施例7封止用袋の作成上記で作成したガスバリアフィルムを用いて、封止用袋を作成した。ガスバリアフィルムの基材フィルム側と、樹脂フィルムからなるバックポリエチレン製のバッグをヒートシール法によって融着し、封止用袋を作成した。得られた封止用袋に、薬剤として、セファゾリンナトリウム大塚製薬工場製を封入し、40°C相対湿度75の条件で6ヶ月保存して色調の変化を評価したところ、色調に変化はほとんど見られなかった。"