"機関排気通路内に排気に含まれるNOXと炭化水素とを反応させるための排気浄化触媒を備え、排気浄化触媒は、上流側触媒と下流側触媒とを含み、上流側触媒は酸化能力を有し、下流側触媒は、排気流通表面上に貴金属の触媒粒子が担持されていると共に触媒粒子の周りには塩基性の排気流通表面部分が形成されており、排気浄化触媒は、排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると、炭化水素を部分酸化し、NOXを活性化して活性NOXを生成し、部分酸化された炭化水素と活性NOXとが反応することにより還元性中間体を生成し、還元性中間体と活性NOXとが反応することにより、排気中に含まれるNOXを還元する性質を有すると共に、炭化水素濃度の振動周期を前記予め定められた範囲よりも長くすると排気中に含まれるNOXの吸蔵量が増大する性質を有しており、機関運転時に排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度を前記予め定められた範囲内の振幅および前記予め定められた範囲内の周期でもって振動させ、排気中に含まれるNOXを排気浄化触媒において還元する制御を行なうように形成されており、上流側触媒の温度を上昇させる昇温装置を更に備え、上流側触媒が予め定められた効率にて炭化水素の部分酸化を行うことができる温度、または予め定められた効率にて還元性中間体の生成を行うことができる温度に基づいて第1の判定温度が設定されており、下流側触媒が予め定められた効率にて還元性中間体と活性NOXとの反応を行うことができる温度に基づいて第2の判定温度が設定されており、上流側触媒の温度が第1の判定温度未満であると共に、下流側触媒の温度が第2の判定温度よりも高い場合に、昇温装置は上流側触媒の温度を上昇させることを特徴とする、内燃機関の排気浄化装置。上流側触媒が酸化機能を有する酸化触媒から構成されており、第1の判定温度は、上流側触媒が予め定められた効率にて炭化水素の部分酸化を行うことができる温度に基づいて設定されている、請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。上流側触媒は、排気流通表面上に担持されている貴金属の触媒粒子と、触媒粒子の周りに形成された塩基性の排気流通表面部分とを有し、第1の判定温度は、上流側触媒が予め定められた効率にて還元性中間体の生成を行うことができる温度に基づいて設定されている、請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。排気浄化触媒は、上流側触媒と下流側触媒とが一体化された触媒により構成されており、一体化された触媒は、排気流通表面上に担持されている貴金属の触媒粒子と、触媒粒子の周りに形成された塩基性の排気流通表面部分とを有し、上流側触媒の温度として一体化された触媒の上流側の端部の温度を検出し、下流側触媒の温度として一体化された触媒の下流側の端部の温度を検出する、請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。排気に含まれる窒素酸化物を除去する方法として、機関排気通路にNOX吸蔵触媒を配置することが知られている。NOX吸蔵触媒は、流入する排気の空燃比がリーンの時には排気に含まれるNOXを吸蔵し、流入する排気の空燃比がリッチになると吸蔵したNOXを放出すると共にNOXを還元する機能を有する。上記の公報には昇温を行なうための排気浄化触媒として、NOX吸蔵触媒を配置することが開示されている。上記の公報に開示された排気浄化システムは、NOX吸蔵触媒の上流側に配置されているヒータ付触媒を高温にすることにより、NOX吸蔵触媒に流入する排気の温度を上昇させて、NOX吸蔵触媒を短時間の間に活性化することが開示されている。始動時等に短時間にNOX吸蔵触媒を活性化温度以上に昇温することができて、NOXを浄化することができる。ところで、NOX吸蔵触媒は、活性化温度以上に昇温することによりNOXの浄化率を大きくすることができるが、温度が高くなりすぎるとNOXの浄化率が低下する場合があった。本発明は、窒素酸化物の浄化能力に優れた内燃機関の排気浄化装置を提供することを目的とする。本発明の内燃機関の排気浄化装置は、機関排気通路内に排気に含まれるNOXと炭化水素とを反応させるための排気浄化触媒を備える。排気浄化触媒は、上流側触媒と下流側触媒とを含み、上流側触媒は酸化能力を有し、下流側触媒は、排気流通表面上に貴金属の触媒粒子が担持されていると共に触媒粒子の周りには塩基性の排気流通表面部分が形成されている。排気浄化触媒は、排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると、炭化水素を部分酸化し、NOXを活性化して活性NOXを生成し、部分酸化された炭化水素と活性NOXとが反応することにより還元性中間体を生成し、還元性中間体と活性NOXとが反応することにより、排気中に含まれるNOXを還元する性質を有する。更に排気浄化触媒は、炭化水素濃度の振動周期を予め定められた範囲よりも長くすると排気中に含まれるNOXの吸蔵量が増大する性質を有している。機関運転時に排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させ、排気中に含まれるNOXを排気浄化触媒において還元する制御を行なうように形成されている。排気浄化装置は、上流側触媒の温度を上昇させる昇温装置を更に備える。上流側触媒が予め定められた効率にて炭化水素の部分酸化を行うことができる温度、または予め定められた効率にて還元性中間体の生成を行うことができる温度に基づいて第1の判定温度が設定されている。下流側触媒が予め定められた効率にて還元性中間体と活性NOXとの反応を行うことができる温度に基づいて第2の判定温度が設定されている。排気浄化触媒は、上流側触媒の温度が第1の判定温度未満であると共に、下流側触媒の温度が第2の判定温度よりも高い場合に、昇温装置は上流側触媒の温度を上昇させる。上記発明においては、上流側触媒が酸化機能を有する酸化触媒から構成されており、第1の判定温度は、上流側触媒が予め定められた効率にて炭化水素の部分酸化を行うことができる温度に基づいて設定することができる。上記発明においては、上流側触媒は、排気流通表面上に担持されている貴金属の触媒粒子と、触媒粒子の周りに形成された塩基性の排気流通表面部分とを有し、第1の判定温度は、上流側触媒が予め定められた効率にて還元性中間体の生成を行うことができる温度に基づいて設定することができる。上記発明においては、排気浄化触媒は、上流側触媒と下流側触媒とが一体化された触媒により構成されている。一体化された触媒は、排気流通表面上に担持されている貴金属の触媒粒子と、触媒粒子の周りに形成された塩基性の排気流通表面部分とを有する。上流側触媒の温度として一体化された触媒の上流側の端部の温度を検出し、下流側触媒の温度として一体化された触媒の下流側の端部の温度を検出することができる。本発明によれば、窒素酸化物の浄化能力に優れた内燃機関の排気浄化装置を提供することができる。図1から図23を参照して、実施の形態における内燃機関の排気浄化装置について説明する。本実施の形態においては、車両に取り付けられている圧縮着火式の内燃機関を例に取り上げて説明する。図1は、本実施の形態における内燃機関の全体図である。内燃機関は、機関本体1を備える。また、内燃機関は、排気を浄化する排気浄化装置を備える。機関本体1は、各気筒としての燃焼室2と、それぞれの燃焼室2に燃料を噴射するための電子制御式の燃料噴射弁3と、吸気マニホールド4と、排気マニホールド5とを含む。吸気マニホールド4は、吸気ダクト6を介して排気ターボチャージャ7のコンプレッサ7aの出口に連結されている。コンプレッサ7aの入口は、吸入空気量検出器8を介してエアクリーナ9に連結されている。吸気ダクト6内にはステップモータにより駆動されるスロットル弁10が配置されている。更に、吸気ダクト6の途中には、吸気ダクト6内を流れる吸入空気を冷却するための冷却装置11が配置されている。図1に示される実施例では、機関冷却水が冷却装置11に導かれている。機関冷却水によって吸入空気が冷却される。一方、排気マニホールド5は、排気ターボチャージャ7の排気タービン7bの入口に連結されている。本実施の形態における排気浄化装置は、排気に含まれるNOXを浄化する排気浄化触媒13を備える。排気浄化触媒13は、排気に含まれるNOXと炭化水素とを反応させる。本実施の形態における第1の排気浄化触媒13は、上流側触媒61と下流側触媒62とを含む。上流側触媒61と下流側触媒62とは、直列に接続されている。排気浄化触媒13は、排気管12を介して排気タービン7bの出口に連結されている。排気浄化触媒13の上流には圧縮着火式内燃機関の燃料として用いられる軽油、又は、その他の燃料からなる炭化水素を供給するための炭化水素供給弁15が配置されている。本実施の形態においては、炭化水素供給弁15から供給される炭化水素として軽油が用いられている。なお、本発明は、燃焼時の空燃比がリーンに制御される火花点火式の内燃機関にも適用することができる。この場合、炭化水素供給弁からは火花点火式の内燃機関の燃料として用いられるガソリン又は、その他の燃料からなる炭化水素が供給される。排気浄化触媒13の下流には、パティキュレートフィルタ63が配置されている。パティキュレートフィルタ63は、排気中に含まれる炭素微粒子等の粒子状物質パティキュレートを除去するフィルタである。パティキュレートフィルタ63は、例えば、ハニカム構造を有し、ガスの流れ方向に伸びる複数の流路を有する。複数の流路において、下流端が封止された流路と上流端が封止された流路とが交互に形成されている。流路の隔壁は、コージェライトのような多孔質材料で形成されている。この隔壁を排気が通過するときにパティキュレートが捕捉される。パティキュレートフィルタ63に次第に堆積する粒子状物質は、空気過剰の雰囲気中で温度を例えば650°C程度まで上昇する再生制御を行うことにより酸化されて除去される。排気マニホールド5と吸気マニホールド4との間には、排気再循環EGRを行うためにEGR通路16が配置されている。EGR通路16には電子制御式のEGR制御弁17が配置されている。また、EGR通路16の途中にはEGR通路16内を流れるEGRガスを冷却するための冷却装置18が配置されている。図1に示される実施例では機関冷却水が冷却装置18内に導かれている。機関冷却水によってEGRガスが冷却される。それぞれの燃料噴射弁3は、燃料供給管19を介してコモンレール20に連結されている。コモンレール20は、電子制御式の吐出量可変な燃料ポンプ21を介して燃料タンク22に連結されている。燃料タンク22に貯蔵される燃料は、燃料ポンプ21によってコモンレール20内に供給される。コモンレール20内に供給された燃料は、それぞれの燃料供給管19を介して燃料噴射弁3に供給される。本実施の形態における電子制御ユニット30は、デジタルコンピュータからなる。本実施の形態における電子制御ユニット30は、排気浄化装置の制御装置として機能する。電子制御ユニット30は、双方性バス31によって互いに接続されたROMリードオンリメモリ32、RAMランダムアクセスメモリ33、CPUマイクロプロセッサ34、入力ポート35および出力ポート36を含む。ROM32は、読み込み専用の記憶装置である。ROM32には、制御を行なうための必要なマップ等の情報が予め記憶されている。CPU34は、任意の演算や判別を行なうことができる。RAM33は、読み書きが可能な記憶装置である。RAM33は、運転履歴などの情報を保存したり、演算結果を保存したりすることができる。上流側触媒61の下流には、上流側触媒61の温度を検出するための温度センサ23が配置されている。下流側触媒62の下流には、下流側触媒62の温度を検出するための温度センサ24が配置されている。パティキュレートフィルタ63には、上流側圧力と下流側の圧力との差圧を検出するための差圧センサ64が取り付けられている。パティキュレートフィルタ63の下流には、パティキュレートフィルタ63の温度を検出する温度センサ25が配置されている。温度センサ23,24,25、差圧センサ64および吸入空気量検出器8の出力信号は、夫々対応するAD変換器37を介して入力ポート35に入力される。また、アクセルペダル40にはアクセルペダル40の踏込み量に比例した出力電圧を発生する負荷センサ41が接続されている。負荷センサ41の出力電圧は対応するAD変換器37を介して入力ポート35に入力される。更に入力ポート35にはクランクシャフトが例えば15°回転する毎に出力パルスを発生するクランク角センサ42が接続される。クランク角センサ42の出力により、クランク角度や機関回転数を検出することができる。一方、出力ポート36は、対応する駆動回路38を介して燃料噴射弁3、スロットル弁10の駆動用ステップモータ、炭化水素供給弁15、EGR制御弁17および燃料ポンプ21に接続されている。これらの燃料噴射弁3、スロットル弁10、炭化水素供給弁15およびEGR制御弁17等は、電子制御ユニット30により制御されている。図2Aは、第1の排気浄化触媒の上流側触媒の基体上に担持された触媒担体の表面部分を図解的に示している。上流側触媒61は、酸化能力を有する触媒から構成されている。本実施の形態における第1の排気浄化触媒の上流側触媒61は、いわゆる酸化触媒である。上流側触媒61において、アルミナ等から形成されている触媒担体50上には触媒粒子51が担持されている。触媒粒子51は、貴金属や遷移金属等の酸化を促進する触媒作用を有する材質から形成することができる。本実施の形態における触媒粒子51は白金Ptにより形成されている。本実施の形態における第1の排気浄化触媒の上流側触媒61は、後述する塩基性層を有していない。図2Bは、第1の排気浄化触媒の下流側触媒の基体上に担持された触媒担体の表面部分を図解的に示している。下流側触媒62では、例えばアルミナからなる触媒担体54上には貴金属の触媒粒子55,56が担持されている。更に、触媒担体54上にはカリウムK、ナトリウムNa、セシウムCsのようなアルカリ金属、バリウムBa、カルシウムCaのようなアルカリ土類金属、ランタノイドのような希土類および銀Ag、銅Cu、鉄Fe、イリジウムIrのようなNOXに電子を供与しうる金属から選ばれた少くとも一つを含む塩基性層57が形成されている。排気は触媒担体54上に沿って流れるので触媒粒子55,56は下流側触媒62の排気流通表面上に担持されていると言える。また、塩基性層57の表面は塩基性を呈するので、塩基性層57の表面は塩基性の排気流通表面部分58と称される。図2Bにおいて、貴金属の触媒粒子55は白金Ptからなり、貴金属の触媒粒子56はロジウムRhからなる。即ち、触媒担体54に担持されている触媒粒子55,56は白金PtおよびロジウムRhから構成されている。なお、下流側触媒62の触媒担体54上には白金PtおよびロジウムRhに加えて更にパラジウムPdを担持させることができるし、或いはロジウムRhに代えてパラジウムPdを担持させることができる。即ち、触媒担体54に担持されている触媒粒子55,56は、白金Ptと、ロジウムRhおよびパラジウムPdの少なくとも一方とにより構成される。図3は、第1の排気浄化触媒の上流側触媒の基体上に担持された触媒担体の表面部分を図解的に示している。炭化水素供給弁15から排気中に炭化水素が噴射されると、炭化水素は上流側触媒61において改質される。即ち、炭化水素供給弁15から噴射された炭化水素HCは上流側触媒61の触媒作用によって炭素数の少ないラジカル状の炭化水素HCとなる。第1の排気浄化触媒では、上流側触媒61において改質された炭化水素を用いて下流側触媒62においてNOXを浄化するようにしている。また、燃料噴射弁3から燃焼室2内に燃料、即ち炭化水素を膨張行程の後半或いは排気行程中に噴射してもこの炭化水素は燃焼室2内又は上流側触媒61において改質され、排気中に含まれるNOXはこの改質された炭化水素によって浄化される。従って本発明では炭化水素供給弁15から機関排気通路内に炭化水素を供給する代りに、膨張行程に後半或いは排気行程中に燃焼室2内に炭化水素を供給することもできる。このように本発明では炭化水素を燃焼室2内に供給することもできるが、以下炭化水素を炭化水素供給弁15から機関排気通路内に噴射するようにした場合を例にとって本発明を説明する。図4は、炭化水素供給弁からの炭化水素の供給タイミングと排気浄化触媒に流入する排気の空燃比A/Finの変化とを示している。なお、この空燃比A/Finの変化は排気浄化触媒13に流入する排気中の炭化水素の濃度変化に依存しているので図4に示される空燃比A/Finの変化は炭化水素の濃度変化を表しているとも言える。ただし、炭化水素濃度が高くなると空燃比A/Finは小さくなるので図4においては空燃比A/Finがリッチ側となるほど炭化水素濃度が高くなっている。図5は、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を周期的に変化させることによって図4に示されるように排気浄化触媒13への流入排気の空燃比A/Finを変化させたときの排気浄化触媒13によるNOX浄化率を排気浄化触媒13の各触媒温度TCに対して示している。本発明者は長い期間に亘ってNOX浄化に関する研究を重ねており、その研究課程において、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると、図5に示されるように400°C以上の高温領域においても極めて高いNOX浄化率が得られることが判明したのである。更に、このときには、窒素および炭化水素を含む多量の還元性中間体が排気浄化触媒13内において生成され、この還元性中間体が高NOX浄化率を得る上で中心的役割を果していることが判明したのである。次に、このことについて図6Aおよび図6Bを参照しつつ説明する。なお、図6Aおよび図6Bは、下流側触媒の触媒担体の表面部分を図解的に示している。図6Aおよび図6Bには、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させたときに生ずると推測される反応が示されている。図6Aは、排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度が低いときを示している。図4からわかるように、排気浄化触媒13に流入する排気の空燃比は一瞬を除いてリーンに維持されているので下流側触媒62に流入する排気は通常酸素過剰の状態にある。従って排気中に含まれるNOは触媒粒子55上において酸化されてNO2となり、次いでこのNO2は更に酸化されてNO3となる。また、NO2の一部はNO2-となる。この場合、NO3の生成量の方がNO2-の生成量よりもはるかに多い。従って触媒粒子55上には多量のNO3と少量のNO2-が生成されることになる。これらNO3およびNO2-は活性が強く、以下これらNO3およびNO2-を活性NOXと称する。これらの活性NOXは、塩基性層57の表面上に付着又は吸着することによって保持される。次に、炭化水素供給弁15から炭化水素が供給されると、図3に示したように、上流側触媒61では排気に含まれる炭化水素が部分酸化される。炭化水素は、上流側触媒61内において改質されてラジカル状になり、改質された炭化水素は下流側触媒62に供給される。図6Bは、炭化水素供給弁から炭化水素が供給されて排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度が高くなっているときを示している。下流側触媒62に流入する炭化水素の濃度が高くなると、活性NOX周りの炭化水素濃度が高くなる。活性NOX周りの炭化水素濃度が高くなると、活性NOXは触媒粒子55上においてラジカル状の炭化水素HCと反応し、それにより還元性中間体が生成される。なお、このとき最初に生成される還元性中間体はニトロ化合物R-NO2であると考えられる。このニトロ化合物R-NO2は生成されるとニトリル化合物R-CNとなるがこのニトリル化合物R-CNはその状態では瞬時しか存続し得ないのでただちにイソシアネート化合物R-NCOとなる。このイソシアネート化合物R-NCOは加水分解するとアミン化合物R-NH2となる。ただしこの場合、加水分解されるのはイソシアネート化合物R-NCOの一部であると考えられる。従って図6Bに示されるように生成される還元性中間体の大部分はイソシアネート化合物R-NCOおよびアミン化合物R-NH2であると考えられる。下流側触媒62内にて生成された多量の還元性中間体は、塩基性層57の表面上に付着又は吸着される。次に、図6Aに示すように、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が低くなると、下流側触媒62では、活性NOXと生成された還元性中間体とが反応する。ところで、このように活性NOXが塩基性層57の表面上に保持された後、或いは活性NOXが生成された後、活性NOX周りの酸素濃度が高い状態が一定時間以上継続すると活性NOXは酸化され、硝酸イオンNO3-の形で塩基性層57内に吸収される。しかしながらこの一定時間が経過する前に還元性中間体が生成されると、図6Aに示されるように活性NOXは、還元性中間体R-NCOやR-NH2と反応してN2、CO2、またはH2Oとなり、斯くしてNOXが浄化されることになる。なお、この場合、生成された還元性中間体が活性NOXと反応するまで、十分な量の還元性中間体R-NCOやRNH2を塩基性層57の表面上に、即ち塩基性の排気流通表面部分58上保持しておかなければならず、そのために塩基性の排気流通表面部分58が設けられている。このように、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を一時的に高くすることにより還元性中間体を生成し、生成された還元性中間体を活性NOXと反応させることにより、NOXが浄化される。即ち、排気浄化触媒13によりNOXを浄化するには排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を周期的に変化させる必要がある。無論、この場合、還元性中間体を生成するのに十分高い濃度まで炭化水素の濃度を高める必要がある。即ち、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅で振動させる必要がある。一方、炭化水素の供給周期を長くすると炭化水素が供給された後、次に炭化水素が供給されるまでの間において酸素濃度が高くなる期間が長くなり、従って活性NOXは還元性中間体を生成することなく硝酸塩の形で塩基性層57内に吸収されることになる。これを回避するためには排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の周期でもって振動させることが必要となる。因みに図4に示される例では噴射間隔が3秒とされている。上述したように炭化水素濃度の振動周期、即ち炭化水素HCの供給周期を予め定められた範囲内の周期よりも長くすると下流側触媒62において活性NOXは図7Aに示されるように硝酸イオンNO3-の形で塩基性層57内に拡散し、硝酸塩となる。即ち、このときには排気中のNOXは硝酸塩の形で塩基性層57内に吸収されることになる。一方、図7BはこのようにNOXが硝酸塩の形で塩基性層57内に吸収されているときに排気浄化触媒13内に流入する排気の空燃比が理論空燃比又はリッチにされた場合を示している。この場合には排気中の酸素濃度が低下するために反応が逆方向NO3-→NO2に進み、斯くして塩基性層57内に吸収されている硝酸塩は順次硝酸イオンNO3-となって図7Bに示されるようにNO2の形で塩基性層57から放出される。次いで放出されたNO2は排気中に含まれる炭化水素HCおよびCOによって還元される。図8は、塩基性層57のNOX吸収能力が飽和する少し前に排気浄化触媒13に流入する排気の空燃比A/Finを一時的にリッチにするようにした場合を示している。なお、図8に示す例ではこのリッチ制御の時間間隔は1分以上である。この場合には排気の空燃比A/Finがリーンのときに塩基性層57内に吸収されたNOXは、排気の空燃比A/Finが一時的にリッチにされたときに塩基性層57から一気に放出されて還元される。従ってこの場合には塩基性層57はNOXを一時的に吸収するための吸収剤の役目を果している。なお、このとき塩基性層57がNOXを一時的に吸着する場合もあり、従って吸収および吸着の双方を含む用語として吸蔵という用語を用いると、このとき塩基性層57はNOXを一時的に吸蔵するためのNOX吸蔵剤の役目を果していることになる。即ち、この場合には、機関吸気通路、燃焼室2および上流側触媒61上流の排気通路内に供給された空気および燃料炭化水素の比を排気の空燃比と称すると、下流側触媒62は、排気の空燃比がリーンのときにはNOXを吸蔵し、排気中の酸素濃度が低下すると吸蔵したNOXを放出するNOX吸蔵触媒として機能している。図9は、排気浄化触媒をこのようにNOX吸蔵触媒として機能させたときのNOX浄化率を示している。なお、図9の横軸は下流側触媒62の触媒温度TCを示している。排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合には図9に示されるように下流側触媒62の温度TCが300°Cから400°Cのときには極めて高いNOX浄化率が得られるが触媒温度TCが400°C以上の高温になるとNOX浄化率が低下する。このように触媒温度TCが400°C以上になるとNOX浄化率が低下するのは、触媒温度TCが400°C以上になると硝酸塩が熱分解してNO2の形で下流側触媒62から放出されるからである。即ち、NOXを硝酸塩の形で吸蔵している限り、触媒温度TCが高いときに高いNOX浄化率を得るのは困難である。しかしながら図4から図6Aおよび図6Bに示される新たなNOX浄化方法では図6Aおよび図6Bからわかるように硝酸塩は生成されず或いは生成されても極く微量であり、斯くして図5に示されるように触媒温度TCが高いときでも高いNOX浄化率が得られることになる。このように、本実施の形態の排気浄化装置は、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると排気中に含まれるNOXを還元する性質を有する。また、本実施の形態の排気浄化装置は、排気浄化触媒13に流入する炭化水素濃度の振動周期を予め定められた範囲よりも長くすると排気中に含まれるNOXの吸蔵量が増大する性質を有している。図4から図6Aおよび図6Bに示されるNOX浄化方法は、貴金属の触媒粒子を担持しかつNOXを吸収しうる塩基性層を形成した触媒を用いた場合において、ほとんど硝酸塩を形成することなくNOXを浄化するようにした新たなNOX浄化方法であると言うことができる。実際、この新たなNOX浄化方法を用いた場合には排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合に比べて、塩基性層57から検出される硝酸塩は極く微量である。なお、この新たなNOX浄化方法を以下、第1のNOX浄化方法と称する。本実施の形態における内燃機関は、第1のNOX浄化方法にてNOXを浄化するために、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させる制御を行なうように形成されている。次に、図10から図15を参照しつつこの第1のNOX浄化方法についてもう少し詳細に説明する。図10は、図4に示される空燃比A/Finの変化を拡大して示している。なお、前述したようにこの排気浄化触媒13に流入する排気の空燃比A/Finの変化は同時に排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度変化を示している。なお、図10においてΔHは排気浄化触媒13に流入する炭化水素HCの濃度変化の振幅を示しており、ΔTは排気浄化触媒13に流入する炭化水素濃度の振動周期を示している。更に図10においてA/Fbは機関出力を発生するための燃焼ガスの空燃比を示すベース空燃比を表している。言い換えるとこのベース空燃比A/Fbは炭化水素の供給を停止したときに排気浄化触媒13に流入する排気の空燃比を表している。一方、図10において、Xは、活性NOXと改質された炭化水素から十分な量の還元性中間体を生成することができかつ活性NOXを硝酸塩の形で塩基性層57内に吸蔵させることなく還元性中間体と反応させることのできる空燃比A/Finの上限を表しており、活性NOXと改質された炭化水素から十分な量の還元性中間体を生成させかつ活性NOXを硝酸塩の形で塩基性層57内に吸蔵させることなく還元性中間体と反応させるには空燃比A/Finをこの空燃比の上限Xよりも低くすることが必要となる。別の言い方をすると図10のXは、十分な量の還元性中間体を生成させかつ活性NOXを還元性中間体と反応させるのに必要な炭化水素の濃度の下限を表しており、十分な量の還元性中間体を生成させかつ活性NOXを還元性中間体と反応させるには炭化水素の濃度をこの下限Xよりも高くする必要がある。この場合、十分な量の還元性中間体が生成されかつ活性NOXが還元性中間体と反応するか否かは活性NOX周りの酸素濃度と炭化水素濃度との比率、即ち空燃比A/Finで決まり、十分な量の還元性中間体を生成させかつ活性NOXを還元性中間体と反応させるのに必要な上述の空燃比の上限Xを以下、要求最小空燃比と称する。図10に示される例では要求最小空燃比Xがリッチとなっており、従ってこの場合には十分な量の還元性中間体を生成させかつ活性NOXを還元性中間体と反応させるために空燃比A/Finが瞬時的に要求最小空燃比X以下に、即ちリッチにされる。これに対し、図11に示される例では要求最小空燃比Xがリーンとなっている。この場合には空燃比A/Finをリーンに維持しつつ空燃比A/Finを周期的に低下させることによって十分な量の還元性中間体が生成されかつ活性NOXが還元性中間体と反応せしめられる。この場合、要求最小空燃比Xがリッチになるかリーンになるかは上流側触媒61の酸化力による。この場合、上流側触媒61は例えば貴金属の担持量を増大させれば酸化力が強まり、酸性を強めれば酸化力が強まる。従って上流側触媒61の酸化力は貴金属の担持量や酸性の強さによって変化することになる。さて、酸化力が強い上流側触媒61を用いた場合に図11に示されるように空燃比A/Finをリーンに維持しつつ空燃比A/Finを周期的に低下させると、空燃比A/Finが低下せしめられたときに炭化水素が完全に酸化されてしまい、その結果還元性中間体を生成することができなくなる。これに対し、酸化力が強い上流側触媒61を用いた場合に図10に示されるように空燃比A/Finを周期的にリッチにさせると空燃比A/Finがリッチにされたときに炭化水素は完全に酸化されることなく部分酸化され、即ち炭化水素が改質され、斯くして十分な量の還元性中間体が生成されかつ活性NOXが還元性中間体と反応することになる。従って酸化力が強い上流側触媒61を用いた場合には要求最小空燃比Xはリッチにする必要がある。一方、酸化力が弱い上流側触媒61を用いた場合には図11に示されるように空燃比A/Finをリーンに維持しつつ空燃比A/Finを周期的に低下させると、炭化水素は完全に酸化されずに部分酸化され、即ち炭化水素が改質され、斯くして十分な量の還元性中間体が生成されかつ活性NOXが還元性中間体と反応せしめられる。これに対し、酸化力が弱い上流側触媒61を用いた場合に図10に示されるように空燃比A/Finを周期的にリッチにさせると多量の炭化水素は酸化されることなく単に上流側触媒61から排出されることになり、斯くして無駄に消費される炭化水素量が増大することになる。従って酸化力が弱い上流側触媒61を用いた場合には要求最小空燃比Xはリーンにする必要がある。即ち、要求最小空燃比Xは図12に示されるように上流側触媒61の酸化力が強くなるほど低下させる必要があることがわかる。このように要求最小空燃比Xは上流側触媒61の酸化力によってリーンになったり、或いはリッチになったりするが、以下要求最小空燃比Xがリッチである場合を例にとって、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度変化の振幅や排気浄化触媒13に流入する炭化水素濃度の振動周期について説明する。さて、ベース空燃比A/Fbが大きくなると、即ち炭化水素が供給される前の排気中の酸素濃度が高くなると空燃比A/Finを要求最小空燃比X以下とするのに必要な炭化水素の供給量が増大する。従って、炭化水素が供給される前の排気中の酸素濃度が高いほど炭化水素濃度の振幅を大きくする必要がある。図13は同一のNOX浄化率が得られるときの、炭化水素が供給される前の排気中の酸素濃度と炭化水素濃度の振幅ΔHとの関係を示している。図13から同一のNOX浄化率を得るためには炭化水素が供給される前の排気中の酸素濃度が高いほど炭化水素濃度の振幅ΔHを増大させる必要があることがわかる。即ち、同一のNOX浄化率を得るにはベース空燃比A/Fbが高くなるほど炭化水素濃度の振幅ΔHを増大させることが必要となる。別の言い方をすると、NOXを良好に浄化するためにはベース空燃比A/Fbが低くなるほど炭化水素濃度の振幅ΔHを減少させることができる。ところでベース空燃比A/Fbが最も低くなるのは加速運転時であり、このとき炭化水素濃度の振幅ΔHが200ppm程度あればNOXを良好に浄化することができる。ベース空燃比A/Fbは通常、加速運転時よりも大きく、従って図14に示されるように炭化水素濃度の振幅ΔHが200ppm以上であれば良好なNOX浄化率を得ることができることになる。一方、ベース空燃比A/Fbが最も高いときには炭化水素濃度の振幅ΔHを10000ppm程度にすれば良好なNOX浄化率が得られることがわかっている。従って本発明では炭化水素濃度の振幅の予め定められた範囲が200ppmから10000ppmとされている。また、炭化水素濃度の振動周期ΔTが長くなると炭化水素が供給された後、次に炭化水素が供給される間、活性NOX周りの酸素濃度が高くなる。この場合、炭化水素濃度の振動周期ΔTが5秒程度よりも長くなると活性NOXが硝酸塩の形で塩基性層57内に吸収され始め、従って図15に示されるように炭化水素濃度の振動周期ΔTが5秒程度よりも長くなるとNOX浄化率が低下することになる。従って炭化水素濃度の振動周期ΔTは5秒以下とする必要がある。一方、炭化水素濃度の振動周期ΔTがほぼ0.3秒以下になると供給された炭化水素が排気浄化触媒13上に堆積し始め、従って図15に示されるように炭化水素濃度の振動周期ΔTがほぼ0.3秒以下になるとNOX浄化率が低下する。そこで本発明では炭化水素濃度の振動周期が0.3秒から5秒の間とされている。さて、本発明では炭化水素供給弁15からの炭化水素供給量および噴射時期を変化させることによって炭化水素濃度の振幅ΔHおよび振動周期ΔTが機関の運転状態に応じた最適値となるように制御される。この場合、本発明による実施例ではこの最適な炭化水素濃度の振幅ΔHを得ることのできる炭化水素供給量Wが燃料噴射弁3からの噴射量Qおよび機関回転数Nの関数として図16に示すようなマップの形で予めROM32内に記憶されている。また、最適な炭化水素濃度の振動振幅ΔT、即ち炭化水素の噴射周期ΔTも同様に噴射量Qおよび機関回転数Nの関数としてマップの形で予めROM32内に記憶されている。次に図17から図20を参照しつつ排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合のNOX浄化方法について具体的に説明する。このように排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合のNOX浄化方法を以下、第2のNOX浄化方法と称する。この第2のNOX浄化方法では図17に示されるように塩基性層57に吸蔵された吸蔵NOX量ΣNOXが予め定められた許容量MAXを越えたときに排気浄化触媒13に流入する排気の空燃比A/Finが一時的にリッチにされる。排気の空燃比A/Finがリッチにされると排気の空燃比A/Finがリーンのときに塩基性層57内に吸蔵されたNOXが塩基性層57から一気に放出されて還元される。それによってNOXが浄化される。吸蔵NOX量ΣNOXは例えば機関から排出されるNOX量から算出される。本発明による実施例では機関から単位時間当りに排出される排出NOX量NOXAが噴射量Qおよび機関回転数Nの関数として図18に示すようなマップの形で予めROM32内に記憶されており、この排出NOX量NOXAから吸蔵NOX量ΣNOXが算出される。この場合、前述したように排気の空燃比A/Finがリッチにされる周期は通常1分以上である。この第2のNOX浄化方法では図19に示されるように燃焼室2内に燃料噴射弁3から燃焼用燃料Qを噴射する主噴射に加え、追加の燃料WRを噴射する補助噴射を行うことによって排気浄化触媒13に流入する排気の空燃比A/Finがリッチにされる。なお、横軸はクランク角を示している。図19に示す例において、燃料WRは、燃焼するが機関出力となって現われない時期に、即ち圧縮上死点後ATDC90°の少し手前で噴射される。この燃料量WRは噴射量Qおよび機関回転数Nの関数として図20に示すようなマップの形で予めROM32内に記憶されている。無論、この場合炭化水素供給弁15からの炭化水素の供給量を増大させることによって排気の空燃比A/Finをリッチにすることもできる。ところで、本実施の形態における内燃機関の排気浄化装置は、上流側触媒61の温度を上昇させる昇温装置を備える。本実施の形態における昇温装置は、電気加熱器を含む。本実施の形態においては、上流側触媒61の基体が電気加熱器として機能する。すなわち本実施の形態における上流側触媒61は、電気加熱触媒により構成されている。図21Aに、本実施の形態における第1の排気浄化触媒の上流側触媒の概略正面図を示す。図21Bに、本実施の形態における第1の排気浄化触媒の上流側触媒の概略断面図を示す。上流側触媒61は、触媒粒子を担持するための基体61aと、基体61aの周りに配置され、基体61aを保持するように形成されている外筒61cと含む。基体61aは、同心円状に配置されている円筒状の板状部材と、円筒状の板状部材同士の間に配置されている波形状の板状部材とを含む。それぞれの板状部材の間には、排気の流路が構成されている。それぞれの排気の流路の壁面には触媒担体および触媒粒子が配置されている。基体61aのほぼ中央には、中心電極61bが配置されている。本実施の形態における上流側触媒61は、基体61aが抵抗体になるように構成されている。温度制御装置は、中心電極61bと外筒61cとの間に電圧が印加するように形成されている。中心電極61bと外筒61cとの間に電圧が印加されることにより、基体61aが発熱する。このように、本実施の形態における第1の排気浄化触媒においては、上流側触媒61に通電することにより、上流側触媒61自体が発熱して温度が上昇するように形成されている。上流側触媒61の通電は、電子制御ユニット30により制御されている。電気加熱触媒の構成としては、この形態に限られず、電圧を印加することにより、発熱する任意の構造を採用することができる。例えば、本実施の形態における上流側触媒の基体は、それぞれの板状部材が金属により形成されているが、この形態に限られず、基体はコージェライト等の耐熱性を有する材質から形成されていても構わない。また、電極の構成は、基体に電圧を印加することができる任意の構成を採用することができる。本実施の形態における第1の排気浄化触媒13は、第1のNOX浄化方法を行う場合に、上流側触媒61において炭化水素の少なくとも一部を部分酸化して改質された炭化水素を下流側触媒62に供給するようにしている。このため、上流側触媒61において、多くの炭化水素を部分酸化することが好ましい。ところで、本実施の形態の第1のNOX浄化方法により運転を行なっている期間中に、上流側触媒61の温度が低下する場合がある。特に、上流側触媒61の上流側の端部の温度が大きく低下する場合がある。または、第1のNOX浄化方法により運転を行なうべき時に、上流側触媒61の温度が低下している場合がある。すなわち、第1のNOX浄化方法により運転を行なう直前に上流側触媒61の温度が低下している場合がある。例えば、要求負荷がほぼ一定の定常運転を行っているときに加速運転に移行した場合には、機関回転数が増加し、機関本体1から排出される排気の流量が急激に増加する場合がある。定常運転においては、炭化水素供給弁15から間欠的に炭化水素が供給されるとともに、排気の空燃比がリーンの排気が上流側触媒61に流入する。上流側触媒61においては、酸化反応が生じている。このために、定常運転においては、上流側触媒61の温度が上流側触媒61に流入する排気の温度よりも高くなっている状態が維持されている。ところが、上流側触媒61に流入する排気の流量が増加すると、排気が上流側触媒61から多くの熱を奪うために上流側触媒61の温度が低下する。上流側触媒61は上流側の端部から下流側の端部に向けて徐々に温度が低下する。または、本実施の形態の排気浄化装置においては、排気を処理する任意の装置の昇温を行なうときに、上流側触媒61の温度が大きく低下する場合がある。たとえば、本実施の形態の排気浄化装置は、排気浄化触媒13の下流にパティキュレートフィルタ63が配置されている。本実施の形態のパティキュレートフィルタ63は、差圧センサ64の出力に基づいて、パティキュレートフィルタ63に蓄積する粒子状物質の量を推定することができる。パティキュレートフィルタ63に堆積する粒子状物質の量が、予め定められた判定値よりも大きくなると、パティキュレートフィルタ63を昇温し、粒子状物質の堆積量を減少させる再生制御を行うことができる。パティキュレートフィルタ63を昇温する場合には、例えば、炭化水素供給弁15から炭化水素をNOXの浄化を行なうために必要な量よりも多く供給することにより、排気浄化触媒13において酸化反応を生じさせて、排気の温度を上昇させることができる。排気の温度が上昇することにより、パティキュレートフィルタ63の温度を、粒子状物質の除去が可能な温度よりも高くすることができる。ところが、炭化水素供給弁15から供給される炭化水素は液体であり、炭化水素供給弁15から多量の炭化水素が供給されると、上流側触媒61の上流側の端部に付着する場合がある。すなわち、炭化水素が上流側触媒61に液体の状態で物理的に吸着する場合がある。このために、上流側触媒61の温度が低下する場合がある。さらには、排気浄化触媒13により第2のNOX浄化方法にてNOXを浄化しているときには、下流側触媒62の塩基性層にNOXと共にSOXが吸蔵される。内燃機関の運転とともに次第に蓄積するSOXは、下流側触媒62の温度を所定の温度よりも高温にした状態で、流入する排気の空燃比を理論空燃比またはリッチにすることにより、塩基性層から放出させることができる。下流側触媒62からSOXを放出する制御においても、下流側触媒62の昇温を行なうために、炭化水素供給弁15から多量の炭化水素を供給する場合がある。SOXを放出させる制御を行なうときにも、上流側触媒61に炭化水素が吸着し、上流側触媒61の温度が低下する場合がある。このように、内燃機関の運転状態の変化により、上流側触媒61の温度が大きく低下し、炭化水素を部分酸化することができる温度未満になる場合がある。すなわち、上流側触媒61が失活する場合がある。上流側触媒61の温度が炭化水素を部分酸化することができる温度未満になった場合には、上流側触媒61において十分に炭化水素を部分酸化することができずに、下流側触媒62に供給する改質された炭化水素が不足する場合がある。この結果、排気浄化触媒13におけるNOXの浄化率が低下する場合がある。本実施の形態の第1の排気浄化触媒を備える排気浄化装置は、上流側触媒61において、予め定められた効率にて炭化水素の部分酸化を行なうことができる温度に基づいて、第1の判定温度が設定されている。本実施の形態における第1の排気浄化触媒の第1の判定温度は、上流側触媒において予め定められた効率にて炭化水素の部分酸化を行なうことができる温度に設定されている。本実施の形態における第1の排気浄化触媒の第1の判定温度は、たとえば略250°に設定することができる。また、本実施の形態の第1の排気浄化触媒を備える排気浄化装置は、下流側触媒62において、予め定められた効率にて還元性中間体と活性NOXとの反応を行なうことができる温度に基づいて第2の判定温度が設定されている。本実施の形態における第2の判定温度は、予め定められた効率にて還元性中間体と活性NOXとの反応を行なうことができる温度に設定されている。ここでの還元性中間体と活性NOXとの反応の効率には、還元性中間体が生成される効率も含まれている。本実施の形態における第1の排気浄化触媒の第2の判定温度は、例えば、略300°Cに設定することができる。本実施の形態における第2の判定温度は、第1の判定温度よりも高く設定されている。なお、第1の排気浄化触媒では、下流側触媒62において還元性中間体の生成が行われるが、予め定められた効率にて還元性中間体と活性NOXとの反応を行なうことができる温度では、還元性中間体の生成も十分に行うことができる。第1の判定温度の設定においては、この形態に限られず、予め定められた効率にて炭化水素の部分酸化を行なうことができる温度の近傍の温度を採用することができる。例えば、予め定められた効率にて炭化水素の部分酸化を行なうことができる温度に余裕分を加算した温度が設定されていても構わない。第2の判定温度の設定についても同様に、例えば、予め定められた効率にて還元性中間体と活性NOXとの反応を行なうことができる温度の近傍の温度を採用することができる。本実施の形態における第1の判定温度は、上流側触媒の種類および供給される炭化水素の種類等により変化する。また、本実施の形態における第2の判定温度は、下流側触媒の種類および供給される炭化水素の種類等により変化する。このために、それぞれの内燃機関の排気浄化触媒の構成および供給される炭化水素の種類等に応じて第1の判定温度および第2の判定温度を設定することが好ましい。内燃機関の運転状態に応じて、上流側触媒61の温度が第1の判定温度未満になり、下流側触媒62の温度が第2の判定温度よりも高くなった場合には、上流側触媒61において十分な量の炭化水素を部分酸化することができずに、下流側触媒62に供給する改質された炭化水素が不足する。このために、下流側触媒62における還元性中間体を生成する能力および還元性中間体と活性NOXとを反応させる能力が十分であったとしてもNOXの浄化率が低下する。本実施の形態の内燃機関においては、上流側触媒61の温度が第1の判定温度未満であると共に、下流側触媒62の温度が第2の判定温度よりも高い場合には、上流側触媒61の温度を上昇させる制御を行う。本実施の形態においては、上流側触媒61の温度が第1の判定温度以上になるまで昇温する制御を行う。本実施の形態の第1の排気浄化触媒13は、上流側触媒61が電気加熱触媒により構成されているために、上流側触媒61に通電する制御を行なうことにより、上流側触媒61の温度を上昇させることができる。図22に、本実施の形態における運転制御のフローチャートを示す。図22に示す運転制御は、例えば、予め定められた時間間隔ごとに繰り返して行なうことができる。ステップ111においては、上流側触媒61の温度を検出する。図1を参照して、上流側触媒61の温度は、温度センサ23により検出することができる。次に、ステップ112においては、上流側触媒61の温度が第1の判定温度未満であるか否かを判別する。第1の排気浄化触媒の第1の判定温度は、上流側触媒61において予め定められた効率にて炭化水素を部分酸化することができる温度が設定されている。ステップ112において、上流側触媒61の温度が第1の判定温度以上である場合には、この制御を終了する。上流側触媒61の温度が第1の判定温度未満である場合には、ステップ113に移行する。ステップ113においては、下流側触媒62の温度を検出する。図1を参照して、下流側触媒62の温度は、温度センサ24により検出することができる。ステップ114においては、下流側触媒62の温度が第2の判定温度よりも高いか否かを判別する。第1の排気浄化触媒の第2の判定温度としては、下流側触媒62において、予め定められた効率にて還元性中間体と活性NOXとの反応を行なうことができる温度が設定されている。ステップ114において、下流側触媒62の温度が第2の判定温度以下の場合には、この制御を終了する。ステップ114において、下流側触媒62の温度が第2の判定温度よりも高い場合は、ステップ115に移行する。ステップ115においては、上流側触媒61の通電量を設定する。通電量としては、例えば、上流側触媒61に印加する電圧と通電時間とのうち少なくとも一方を設定することができる。通電量は、例えば、第1の判定温度および上流側触媒61の温度に基づいて設定することができる。例えば、第1の判定温度と上流側触媒61の温度との温度差を関数にする通電量のマップを予め電子制御ユニット30に記憶させておくことができる。第1の判定温度と上流側触媒61の温度との差が大きいほど、上流側触媒61の通電量を大きく設定することができる。次に、ステップ116においては、ステップ115において設定した通電量に基づいて上流側触媒に通電を行なう。上流側触媒61に通電することにより、上流側触媒61の温度の上昇させることができる。上流側触媒61の温度を、予め定められた効率にて部分酸化を行なうことができる温度以上にすることができる。上流側触媒61において、NOXの還元に必要な十分の量の部分酸化された炭化水素を生成し、下流側触媒62に供給することができる。この結果、排気浄化触媒13におけるNOXの浄化率の向上を図ることができる。本実施の形態の昇温装置は、電気加熱触媒として機能する上流側触媒に通電することにより上流側触媒の温度を上昇させているが、この形態に限られず、昇温装置は任意の装置および任意の制御により上流側触媒の温度を上昇させることができる。本実施の形態の第1の排気浄化触媒においては、上流側に酸化触媒が配置され、下流側に貴金属の触媒粒子が担持されているとともに、塩基性の排気流通表面部分を有する触媒が配置されているが、この形態に限られず、上流側触媒は酸化能力を有する任意の触媒を採用することができる。更に、上流側触媒は、炭化水素を部分酸化して改質できる任意の触媒を採用することができる。たとえば、上流側触媒は、触媒粒子の構成が三元触媒の触媒粒子の構成と同様であっても構わない。次に、本実施の形態における第2の排気浄化触媒について説明する。第2の排気浄化触媒は、上流側触媒61と下流側触媒62とを備え、上流側触媒61は、第1の排気浄化触媒の下流側触媒と同様の構成を有している。すなわち、上流側触媒61は、貴金属の触媒粒子と触媒粒子の周りに形成された塩基性の排気流通表面部分とを有している。上流側触媒61は、下流側触媒62と同様に塩基性層を有する。下流側触媒62は、第1の排気浄化触媒の下流側触媒と同様の構成を有している。第2の排気浄化触媒においては、本実施の形態における第1のNOX浄化方法を行うことにより、上流側触媒61において還元性中間体を生成することができる。すなわち、上流側触媒61に流入する排気の炭化水素の濃度が低いときには、NOXを活性化して活性NOXを生成する。生成された活性NOXは、塩基性層の表面上に保持される。排気の炭化水素の濃度が高くなると炭化水素を部分酸化して炭化水素のラジカルを生成する。また、活性NOXと部分酸化された炭化水素とが反応して還元性中間体が生成される。上流側触媒61において生成された還元性中間体は、下流側触媒62に供給することができる。下流側触媒62においては、供給された還元性中間体と活性NOXとが反応して、NOXを浄化することができる。または、上流側触媒61においても生成された還元性中間体によりNOXを還元して浄化することができる。更に、第2の排気浄化触媒においても、本実施の形態における第2のNOX浄化方法を行なうことができる。すなわち、炭化水素の濃度の振動周期を予め定められた範囲よりも長くすることにより、上流側触媒61がNOX吸蔵触媒として機能する。上流側触媒61および下流側触媒62をNOX吸蔵触媒として機能させることができるために、第2のNOX浄化方法にてNOXの浄化を行う場合には、NOX吸蔵触媒の容量を大きくすることができる。第2の排気浄化触媒を備える排気浄化装置においても、第1の排気浄化触媒を備える排気浄化装置と同様に、本実施の形態における図22に示す運転制御を行うことができる。図22を参照して、ステップ112における第1の判定温度は、上流側触媒61において予め定められた効率にて還元性中間体の生成を行うことができる温度に基づいて設定することができる。ここでの還元性中間体の生成の効率には、炭化水素が部分酸化される反応の効率が含まれている。本実施の形態の第2の排気浄化触媒においては、上流側触媒61が予め定められた効率にて還元性中間体の生成を行うことができる温度を第1の判定温度として採用している。本実施の形態の第2の排気浄化触媒における第1の判定温度としては、略250°Cを採用している。ステップ114における下流側触媒62の第2の判定温度としては、本実施の形態における第1の排気浄化触媒と同様に、下流側触媒62が予め定められた効率にて還元性中間体と活性NOXとの反応を行うことができる温度に基づいて設定することができる。たとえば、第2の判定温度は、略300°Cに設定することができる。ステップ115,116において上流側触媒61の昇温を行う場合には、上流側触媒61の温度が、予め定められた効率にて還元性中間体の生成を行うことができる温度以上になるように昇温することができる。このように、上流側触媒および下流側触媒の両方が、貴金属の触媒粒子および塩基性の排気流通表面部分を有する触媒により構成されている場合にも、上流側触媒が第1の判定温度未満であり、更に下流側触媒の温度が第2の判定温度よりも高い場合には、上流側触媒の温度を上昇させる制御を行うことができる。この制御により、上流側触媒において多くの還元性中間体を生成して下流側触媒に供給することができるために、NOXの浄化率の向上を図ることができる。図23に、本実施の形態における第3の排気浄化触媒の概略断面図を示す。本実施の形態における第1の排気浄化触媒および第2の排気浄化触媒は、上流側触媒と下流側触媒とに分割されている。第3の排気浄化触媒13は、上流側触媒と下流側触媒とが一体化された触媒により構成されている。第3の排気浄化触媒13は、第1の排気浄化触媒の下流側触媒と同様に、触媒作用を有する金属と、触媒粒子の周りに形成されている塩基性の排気流通表面部分とを有する。本実施の形態においては、触媒担体の表面に、貴金属の触媒粒子と塩基性層とが配置されている。すなわち、第3の排気浄化触媒は、第2の排気浄化触媒の上流側触媒と下流側触媒とが互いに接合されている構成を有する。第3の排気浄化触媒13は、電気加熱触媒により構成されている。第3の排気浄化触媒13よりも上流側には、炭化水素供給弁15が配置され、機関排気通路に炭化水素を供給するように形成されている。排気浄化触媒13の上流側の端部には、温度センサ23が配置されている。排気浄化触媒13の下流側の端部には、温度センサ24が配置されている。第3の排気浄化触媒13においても、本実施の形態における第1のNOX浄化方法にてNOXを浄化することができる。すなわち、第3の排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させることにより、NOXを浄化することができる。この場合には、第3の排気浄化触媒13を上流部分と下流部分との2つの部分に分割したときに、第3の排気浄化触媒13の上流部分は、第2の排気浄化触媒における上流側触媒として機能する。更に、第3の排気浄化触媒13の下流部分は、第2の排気浄化触媒における下流側触媒として機能する。第1のNOX浄化方法においては、第3の排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が低い場合には、排気に含まれるNOXから活性NOXを生成する。流入する炭化水素の濃度を高くすることにより、炭化水素を改質することができる。また、改質された炭化水素と活性NOXとが反応して還元性中間体が生成される。流入する排気ガスの濃度を低くすることにより、還元性中間体と活性NOXとが反応してNOXを浄化することができる。また、第3の排気浄化触媒13は、第2のNOX浄化方法によりNOXの浄化を行なうことができる。更に、第3の排気浄化触媒13を備える排気浄化装置は、図22に示す運転制御を行うことができる。第3の排気浄化触媒13においても、所定の内燃機関の運転状態において排気浄化触媒13の温度が低くなる場合がある。特に、排気浄化触媒13の上流側の端部の温度が低くなる場合がある。このときに排気浄化触媒13の基体には、上流側の端部の温度が低く下流に向かうにつれて徐々に高くなる温度勾配が生じている。第3の排気浄化触媒を備える排気浄化装置においても、第2の排気浄化触媒を備える排気浄化装置と同様の運転制御を行なうことができる。第3の排気浄化触媒13においては、上流側の端部の温度が第1の判定温度未満であると共に、下流側の端部の温度が第2の判定温度よりも高い場合には、第3の排気浄化触媒13に通電して、上流側の端部の温度を上昇させることができる。第3の排気浄化触媒13の上流側の端部の温度が、予め定められた効率にて還元性中間体の生成を行うことができる温度以上になるように昇温することができる。図22を参照して、ステップ111においては、上流側触媒の温度として温度センサ23により第3の排気浄化触媒13の上流側の端部の温度を検出することができる。ステップ113においては、下流側触媒の温度として温度センサ24により第3の排気浄化触媒13の下流側の端部の温度を検出することができる。ステップ112における第1の判定温度は、第2の排気浄化触媒と同様に、第3の排気浄化触媒13が予め定められた効率にて還元性中間体の生成を行うことができる温度に基づいて設定することができる。例えば、第3の排気浄化触媒13が予め定められた効率にて還元性中間体の生成を行うことができる温度を第1の判定温度として採用することができる。ステップ114における第2の判定温度は、第2の排気浄化触媒と同様に、排気浄化触媒が予め定められた効率にて還元性中間体と活性NOXとの反応を行うことができる温度に基づいて設定することができる。例えば、第3の排気浄化触媒13が予め定められた効率にて還元性中間体と活性NOXとの反応を行うことができる温度を第2の判定温度として採用することができる。第3の排気浄化触媒13の上流側の端部が第1の判定温度未満であり、更に第3の排気浄化触媒13の下流側の端部の温度が第2の判定温度よりも高い場合には、ステップ115において通電量を設定する。さらに、ステップ116において、第3の排気浄化触媒13に通電することにより、第3の排気浄化触媒13の温度を上昇させる制御を行うことができる。特に、第3の排気浄化触媒13の上流側の端部の温度を上昇させる制御を行うことができる。この結果、第3の排気浄化触媒13にて効率よくNOXを浄化することができる。本実施の形態における第3の排気浄化触媒13を昇温する昇温装置は、第3の排気浄化触媒全体を加熱するように形成されているが、昇温装置としては、この形態に限られず、第3の排気浄化触媒の上流側の端部の温度を上昇させるように形成されていれば構わない。上記の制御は、機能および作用を変更しない範囲にて適宜ステップの順序を変更することができる。上記の実施の形態は、適宜組み合わせることができる。上述のそれぞれの図において、同一または相等する部分には同一の符号を付している。なお、上記の実施の形態は例示であり発明を限定するものではない。また、実施の形態においては、請求の範囲に示される変更が含まれている。"