"一般式1で表わされるエポキシ樹脂aにエチレン性不飽和基含有モノカルボン酸bを反応させて得られるエポキシカルボキシレート化合物A及び/又はエポキシカルボキシレート化合物Aの水酸基に多塩基酸無水物cを反応させて得られるポリカルボン酸化合物B、並びに光重合開始剤Dを含む光学レンズシート用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。式中、R1は同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1~4のアルキル基を表し、mは0~4の整数を、nは平均値で1~6の正数をそれぞれ表す。フェニルエーテル基を有するモノアクリレートモノマーCを更に含む請求項1に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。フェニルエーテル基を有するモノアクリレートモノマーCがo-フェニルフェノールポリエトキシメタアクリレート、p-フェニルフェノールポリエトキシメタアクリレート、o-フェニルフェノールエポキシメタアクリレート及びp-フェニルフェノールエポキシメタアクリレートからなる群から選択される1種以上の化合物である請求項2に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。一般式1のmが0である請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。分子内に3個以上のメタアクリロイル基を有する多官能メタアクリレート化合物Eを更に含む請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。成分A、成分B、成分C及び成分E以外のメタアクリレート化合物Fを更に含む請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。メタアクリレート化合物Fが、9,10-ジヒドロ-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキサイドから得られるホスフィンオキサイド化合物、ビナフトール骨格を有するメタアクリレート、フルオレン骨格を有するメタアクリレート、カルバゾール骨格を有するメタアクリレート、及びフェニルフェノールエポキシアクリレートと芳香族有機ポリイソシアネートとを反応させたウレタンアクリレートからなる群から選ばれる1つ以上の化合物を含む請求項6に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を硬化して得られる硬化物。請求項8に記載の硬化物を用いる光学レンズシート。本発明の目的は、常温での安定性が良好な樹脂組成物であって、レンチキュラーレンズ、プリズムレンズ、マイクロレンズなどの光学レンズシート類を連続加工するのに適し、離型性、型再現性、密着性に優れ、ブロッキングが無く、高屈折率な硬化物を提供することができる樹脂組成物を提供することを目的とする。本発明者らは、前記課題を解決するため鋭意研究の結果、特定の組成を有する活性エネルギー線硬化型樹脂組成物が前記課題を解決することを見いだし、本発明を完成させた。即ち、本発明は、以下の1~9に関する。1一般式1で表わされるエポキシ樹脂aにエチレン性不飽和基含有モノカルボン酸bを反応させて得られるエポキシカルボキシレート化合物A及び/又は、エポキシカルボキシレート化合物Aの水酸基に多塩基酸無水物cを反応させて得られるポリカルボン酸化合物B、並びに光重合開始剤Dを含む光学レンズシート用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。式中、R1は同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1~4のアルキル基を表し、mは0~4の整数を、nは平均値で1~6の正数をそれぞれ表す。2フェニルエーテル基を有するモノアクリレートモノマーCを更に含む前記1に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。3フェニルエーテル基を有するモノアクリレートモノマーCがo-フェニルフェノールポリエトキシメタアクリレート、p-フェニルフェノールポリエトキシメタアクリレート、o-フェニルフェノールエポキシメタアクリレート及びp-フェニルフェノールエポキシメタアクリレートからなる群から選択される1種以上の化合物である前記2に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。4一般式1のmが0である前記1乃至3のいずれか一つに記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。5分子内に3個以上のメタアクリロイル基を有する多官能メタアクリレート化合物Eを更に含む前記1乃至4のいずれか一つに記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。6成分A、成分B、成分C及び成分E以外のメタアクリレート化合物Fを更に含む前記1乃至5のいずれか一つに記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。7メタアクリレート化合物Fが、9,10-ジヒドロ-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキサイドから得られるホスフィンオキサイド化合物、ビナフトール骨格を有するメタアクリレート、フルオレン骨格を有するメタアクリレート、カルバゾール骨格を有するメタアクリレート、及びフェニルフェノールエポキシアクリレートと芳香族有機ポリイソシアネートを反応させたウレタンアクリレートからなる群から選ばれる1つ以上の化合物を含む前記6に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。8前記1乃至7のいずれか一つに記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を硬化して得られる硬化物。9前記8に記載の硬化物を用いる光学レンズシート。本発明の樹脂組成物は、安定性が良く、その硬化物は離型性、型再現性、基板との密着性に優れ、ブロッキングが無く、高屈折率である。そのため特にレンチキュラーレンズ、プリズムレンズ、マイクロレンズ等の光学レンズシートへの使用に適している。本発明の光学レンズシート用活性エネルギー線硬化樹脂組成物は、前記一般式1式中、R1は同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1~4のアルキル基を表し、mは0~4の整数を、nは平均値で1~6の正数をそれぞれ表す。で表されるエポキシ樹脂aと分子中にエチレン性不飽和基含有モノカルボン酸bとを反応させて得られるエポキシカルボキシレート化合物A及び/又は、エポキシカルボキシレート化合物Aの水酸基に多塩基酸無水物cを反応させて得られるポリカルボン酸化合物B、並びに光重合開始剤Dを含む。一般式1においてR1としては、使用される用途に応じて適宜選択でき、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、s-ブチル基等の炭素数が1~4の直鎖若しくは分岐鎖状の飽和炭化水素基;塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子が挙げられる。R1が塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子である場合には、より高い屈折率の硬化物が得られる。mは0~4の整数が好ましく、0~2の整数がより好ましい。なお、mが0は水素原子であることを示す。これらのうち、mが0、即ち、置換基を有しない化合物が材料の入手しやすい等の観点から最も好ましい。nは平均値で1~6の正数が好ましく、1~3の正数がより好ましい。一般式1で表されるフェノールビフェニルメチル型エポキシ樹脂であるエポキシ樹脂aにおいて、グリシジルエーテル基に対してビフェニルメチル基がオルト位又はパラ位に結合している樹脂が好ましい。一般式1で表されるエポキシ樹脂aは、例えば特許文献5にその製造方法が記載されており、その方法に準じて製造する事が可能である。また、市販品商品名:NC-3000、NC-3000P、NC-3000S、NC-3000H、NC-3100等の一般式1のmが0である樹脂;日本化薬株製を入手することも可能である。本発明の光学レンズシート用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物におけるエポキシカルボキシレート化合物Aは、一般式1で表されるエポキシ樹脂aとエチレン性不飽和基含有モノカルボン酸bとを反応させて得られる。本明細書ではこの反応は、エポキシカルボキシレート化工程と称することにする。本発明の光学レンズシート用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物におけるポリカルボン酸化合物Bは、前記エポキシカルボキシレート化合物Aの水酸基に多塩基酸無水物cを反応させて得られる。本明細書ではこの反応は、酸付加工程と称することにする。iエポキシカルボキシレート化工程について説明する。エポキシカルボキシレート化工程はエポキシ基とカルボキシル基とを反応させ、エポキシ樹脂の骨格に活性エネルギー線の反応性基であるエチレン性不飽和基を導入する事を目的とするものである。該エチレン性不飽和基含有モノカルボン酸bとしては、例えば、メタアクリル酸類、クロトン酸、α-シアノ桂皮酸、桂皮酸、及びエチレン性不飽和基と水酸基とを併せ持つ化合物に飽和若しくは不飽和二塩基酸を反応させた化合物等が挙げられる。メタアクリル酸類としては、例えば、メタアクリル酸、β-スチリルアクリル酸、β-フルフリルアクリル酸、メタアクリル酸二量体、メタアクリル酸とε-カプロラクトンとの反応生成物等が挙げられる。エチレン性不飽和基と水酸基とを併せ持つ化合物に飽和若しくは不飽和二塩基酸を反応させた化合物としては、例えば、1分子中に1個の水酸基を有するメタアクリレート誘導体と飽和若しくは不飽和二塩基酸無水物とを等モル反応させて得られる半エステル類が挙げられる。具体的には、例えば、ヒドロキシエチルメタアクリレート、ヒドロキシプロピルメタアクリレート、ヒドロキシブチルメタアクリレート等のヒドロキシアルキルメタアクリレートに、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水フタル酸、無水フタル酸の部分若しくは全水添化合物、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸等の飽和若しくは不飽和二塩基酸を反応させた化合物が挙げられる。エチレン性不飽和基含有モノカルボン酸bとして好ましくは、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物としたときの活性エネルギー線に対する感度の点からメタアクリル酸又は桂皮酸が挙げられる。この反応におけるエポキシ樹脂aと、エチレン性不飽和基含有モノカルボン酸bとの仕込み割合は、用途に応じて適宜変更をすることができる。即ち、全てのエポキシ基をカルボキシレート化した場合は、未反応のエポキシ基が残存しないために、エポキシカルボキシレート化合物Aとしての保存安定性は高い。この場合、硬化反応には導入した二重結合による反応性のみを利用する事になる。エポキシカルボキシレート化工程において、エポキシ基を残存させないようにするためには、エポキシ樹脂aと、エチレン性不飽和基含有モノカルボン酸bとの仕込み割合としては、エポキシ基1当量に対し、化合物bのカルボキシル基を0.9~1.2当量とするのが好ましい。この範囲を下回る場合、エポキシ基が残存し、酸付加工程においてゲル化したり、樹脂の保存安定性が悪くなったりすることがある。逆に化合物bの仕込み量がこの範囲より多い場合には、過剰の化合物bが残存し好ましくない。一方、エチレン性不飽和基含有モノカルボン酸bの仕込み量を減量して未反応のエポキシ基を残す事により、導入したエチレン性不飽和基による反応と残存するエポキシ基による反応例えば、光カチオン触媒による重合反応や熱重合反応等を複合的に利用する事も可能となる。エポキシカルボキシレート化工程において、エポキシ基を残す場合には、仕込み量として、エポキシ樹脂aのエポキシ基1当量に対し、エチレン性不飽和基含有モノカルボン酸bのカルボキシル基を0.2~0.9当量とするのが好ましい。この範囲を逸脱する場合には前記の複合的硬化による効果が弱まる。エポキシ基を残す場合には続く反応中のゲル化やエポキシカルボキシレート化合物Aの保存安定性に注意を払う必要がある。更に、後記の酸付加工程を経てポリカルボン酸化合物Bとして使用する場合には、エポキシカルボキシレート化合物Aにはエポキシ基を残存させないのが好ましい。即ち、エポキシ基が多く残存する場合には、導入されたカルボキシル基と反応してしまい、保存安定性等が特に悪化する。エポキシカルボキシレート化工程は無溶剤で若しくは溶剤で希釈して行なうことができる。溶剤を使用する場合、該溶剤としては反応に影響が無ければ特に限定されない。該溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等の芳香族系炭化水素溶剤、ヘキサン、オクタン、デカン等の脂肪族系炭化水素溶剤、又はそれらの組成物である石油エーテル、ホワイトガソリン、ソルベントナフサ等が挙げられる。また、該溶剤としてエステル系溶剤も使用することができる。エステル系溶剤として、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のアルキルアセテート類、γ-ブチロラクトン等の環状エステル類、エチレングリコールモノメチルエーテルモノアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルモノアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルモノアセテート、トリエチレングリコールモノエチルエーテルモノアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルモノアセテート、ブチレングリコールモノメチルエーテルモノアセテート等のモノ若しくはポリアルキレングリコールモノアルキルエーテルモノアセテート類、グルタル酸ジアルキル例えば、グルタル酸ジメチル等、コハク酸ジアルキル例えば、コハク酸ジメチル等、アジピン酸ジアルキル例えば、アジピン酸ジメチル等等のポリカルボン酸ポリアルキルエステル類等が挙げられる。また、該溶剤としてエーテル系溶剤も使用することができる。エーテル系溶剤として、ジエチルエーテル、エチルブチルエーテル等のアルキルエーテル類、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル等のグリコールジアルキルエーテル類、テトラヒドロフラン等の環状エーテル類等が挙げられる。また、該溶剤として、ケトン系溶剤も使用することができる。ケトン系溶剤として、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン等が挙げられる。この他にも、後記のメタアクリレート化合物等を溶剤として使用することもでき、これらを単独又は混合して使用することができる。メタアクリレート化合物等を溶剤として使用する場合、エポキシカルボキシレート化工程の生成物は本発明の樹脂組成物としてそのまま利用する事が出来るので好ましい。エポキシカルボキシレート化工程には、反応を促進させるために触媒を使用することが好ましい。該触媒の使用量は、反応物の総量に対して0.1~10重量程度添加するのが好ましい。該触媒としては、例えば、トリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン等の3級アミン類、塩化トリエチルアンモニウム、臭化ベンジルトリメチルアンモニウム、ヨウ化ベンジルトリメチルアンモニウム等の4級アンモニウム塩類、オクタン酸クロム、オクタン酸ジルコニウム等の有機金属塩類、トリフェニルホスフィン、トリフェニルスチビン等の塩基性触媒等が挙げられる。反応温度は通常60~150°Cであり、また、反応時間は好ましくは5~60時間である。また、熱重合禁止剤として、例えば、ハイドロキノンモノメチルエーテルメトキノン、2-メチルハイドロキノン、ハイドロキノン、ジフェニルピクリルヒドラジン、ジフェニルアミン、3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシトルエン等の重合禁止剤の使用が好ましい。エポキシカルボキシレート化工程は、適宜サンプリングしながら、サンプルの酸価JISK5601-2-1:1999に準拠して測定が1mgKOH/g以下、好ましくは0.5mgKOH/g以下となった時点を終点とする。ii次に、Bを製造する上での酸付加工程について説明する。酸付加工程は、エポキシカルボキシレート化工程によって生じた水酸基に多塩基酸無水物cを反応させ、エステル結合を介してカルボキシル基の導入を目的とする。多塩基酸無水物cとは、分子中に酸無水物構造を有する化合物であれば特に限定されないが、例えばアルカリ水溶液現像性、耐熱性、加水分解耐性等に優れた生成物を与える事から、無水コハク酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水イタコン酸、3-メチル-テトラヒドロ無水フタル酸、4-メチル-ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸又は無水マレイン酸が好ましい。酸付加工程は、前記エポキシカルボキシレート化工程の反応液に多塩基酸無水物cを加える事により行なう事もできる。多塩基酸無水物cの添加量は用途に応じて適宜変更されるべきものである。酸付加工程には反応を促進させるために触媒を使用することが好ましい。該触媒の使用量は、反応物の総量に対して0.1~10重量程度添加するのが好ましい。該触媒としては、例えば、トリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン等の3級アミン類、塩化トリエチルアンモニウム、臭化ベンジルトリメチルアンモニウム、ヨウ化ベンジルトリメチルアンモニウム等の4級アンモニウム塩類、オクタン酸クロム、オクタン酸ジルコニウム等の有機金属塩類、トリフェニルホスフィン、トリフェニルスチビン等の塩基性触媒等が挙げられる。反応温度は通常60~150°Cであり、また、反応時間は好ましくは5~60時間である。酸付加工程は無溶剤で行うか又は溶剤で希釈して行うことができる。溶剤を使用する場合、該溶剤は反応に影響が無ければ特に限定されない。また、前工程であるエポキシカルボキシレート化工程で溶剤を用いて製造した場合には、酸付加工程に影響が無い溶剤であれば溶剤を除くことなく酸付加工程に供してもよい。該溶剤としては前記エポキシカルボキシレート化工程の説明に記載した溶剤と同様な溶剤が挙げられる。また、熱重合禁止剤としては、前記エポキシカルボキシレート化工程におけるのと同様の化合物を使用することができる。酸付加工程は、適宜サンプリングしながら、反応物の酸価が目的とする用途に応じて設定した酸価の±10の範囲になった時点で終了とする。本発明の光学レンズシート用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に含有される光重合開始剤Dとしては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン類;アセトフェノン、2,2-ジエトキシ-2-フェニルアセトフェノン、2,2-ジエトキシ-2-フェニルアセトフェノン、1,1-ジクロロアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-フェニルプロパン-1-オン、ジエトキシアセトフェノン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-メチル-1-[4-メチルチオフェニル]-2-モルホリノプロパン-1-オン、オリゴ[2-ヒドロキシー2-メチル-1-[4-1-メチルビニルフェニル]プロパノン]等のアセトフェノン類;2-エチルアントラキノン、2-tert-ブチルアントラキノン、2-クロロアントラキノン、2-アミルアントラキノン等のアントラキノン類;2,4-ジエチルチオキサントン、2-イソプロピルチオキサントン、2-クロロチオキサントン等のチオキサントン類;アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類;ベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4’-メチルジフェニルサルファイド、4,4’-ビスメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類;2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキサイド、ジフェニル2,4,6-トリメチルベンゾイルホスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド類等を挙げることができる。好ましくは、アセトフェノン類であり、さらに好ましくは2-ヒドロキシ-2-メチル-フェニルプロパン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを挙げることができる。なお、本発明の樹脂組成物においては、光重合開始剤Dは単独で用いてもよいし複数種を混合して用いてもよいが、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキサイド、ジフェニル2,4,6-トリメチルベンゾイルホスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド類の少なくとも1種を用いるのが好ましい。次に、本発明の光学レンズシート用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に含有してもよいフェニルエーテル基を有するモノアクリレートモノマーCについて説明する。該フェニルエーテル基を有するモノアクリレートモノマーCとしては、例えば、フェノキシエチルメタアクリレート、フェニルポリエトキシメタアクリレート、p-クミルフェノキシエチルメタアクリレート、トリブロモフェニルオキシエチルメタアクリレート、フェニルチオエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェニルオキシプロピルメタアクリレート、フェニルフェノールポリエトキシメタアクリレート、フェニルフェノールエポキシメタアクリレートフェニルフェノールグリシジルエーテルのエポキシメタアクリレート等を挙げることができ、フェニルフェノールポリエトキシメタアクリレート又はフェニルフェノールエポキシメタアクリレートが好ましく、なかでもo-フェニルフェノールポリエトキシメタアクリレート、p-フェニルフェノールポリエトキシメタアクリレート、o-フェニルフェノールエポキシメタアクリレート、p-フェニルフェノールエポキシメタアクリレートが好ましい。また特にo-フェニルフェノールポリエトキシメタアクリレートが耐擦傷性の点からは好ましい。該フェニルフェノールポリエトキシメタアクリレートとしては、エトキシ構造部分の繰り返し数が平均で1~3の正数である化合物が好ましく、原料であるフェニルフェノールとエチレンオキサイドとの反応物とメタアクリル酸を反応させることにより得ることができる。フェニルフェノールはオルト体であるo-フェニルフェノール、パラ体であるp-フェニルフェノールが市販品として入手して、使用することができる例えば、O-PP、P-PPとして、何れも三光株製として入手可能。フェニルフェノールとエチレンオキサイドとの反応物は公知の方法により得ることができ、また、市販品も使用することができる。フェニルフェノールとエチレンオキサイドとの反応物を、p-トルエンスルホン酸又は硫酸等のエステル化触媒、ハイドロキノンやフェノチアジン等の重合禁止剤の存在下で、好ましくは溶剤類例えば、トルエン、シクロヘキサン、n-ヘキサン、n-ヘプタン等の存在下で、好ましくは70~150°Cでメタアクリル酸と反応させることによりフェニルフェノールポリエトキシメタアクリレートが得られる。メタアクリル酸の使用割合は、フェニルフェノールとエチレンオキサイドとの反応物1モルに対して1~5モル、好ましくは1.05~2モルである。エステル化触媒は使用するメタアクリル酸に対して0.1~15モル、好ましくは1~6モルである。本発明の光学レンズシート用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に含有してもよい分子内に3個以上のメタアクリロイル基を有する多官能メタアクリレート化合物Eについて説明する。該多官能メタアクリレート化合物Eとしては、モノマー成分としてトリスアクリロキシエチルイソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、トリペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート等が挙げられ、オリゴマー成分としては成分A、成分B以外の3官能以上のエポキシメタアクリレート、3官能以上のウレタンメタアクリレート等を挙げることができる。また、硬化物のガラス転移温度Tgを考慮するとメタアクリレート化合物Eとしてはトリスアクリロキシエチルイソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート等の3官能以上のメタアクリレートモノマーが好ましい。更に、本発明の光学レンズシート用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の粘度、密着性、ガラス転移温度Tg、硬化物の硬度等を考慮して、成分A、成分B、成分C、成分E以外のメタアクリレート化合物Fを単独又は二種類以上を混合して使用してもよい。該メタアクリレート化合物Fとしては、メタアクリレートモノマーやメタアクリレートオリゴマーが挙げられる。メタアクリレートモノマーとしては、単官能メタアクリレートモノマー、2官能メタアクリレートモノマー等を挙げることができる。単官能メタアクリレートモノマーとしては、例えば、アクリロイルモルホリン、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート、シクロヘキサン-1,4-ジメタノールモノメタアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、トリブロモフェニルオキシエチルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルメタアクリレート等を挙げることができる。2官能メタアクリレートモノマーとしては、1,4-ブタンジオールジメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジメタアクリレート、ビスフェノールAポリエトキシジメタアクリレート、ビスフェノールAポリプロポキシジメタアクリレート、ビスフェノールFポリエトキシジメタアクリレート、エチレングリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレートヒドロキシビバリン酸ネオペンチルグリコールのε-カプロラクトン付加物のジメタアクリレート例えば、日本化薬株製、KAYARADHX-220、HX-620等等を挙げることができる。メタアクリレートオリゴマーとしては、ウレタンメタアクリレート、エポキシメタアクリレート、ポリエステルメタアクリレート等を挙げることができる。ウレタンメタアクリレートとしては、例えば、ジオール化合物例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,4-ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6-ヘキサンジオール、1,8-オクタンジオール、1,9-ノナンジオール、2-メチル-1,8-オクタンジオール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、2,4-ジエチル-1,5-ペンタンジオール、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオール、シクロヘキサン-1,4-ジメタノール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ビスフェノールAポリエトキシジオール、ビスフェノールAポリプロポキシジオール等又はこれらジオール化合物と二塩基酸又はその無水物例えば、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、ダイマー酸、イソフタル酸、テレフタル酸、フタル酸若しくはこれらの無水物との反応物であるポリエステルジオールと、有機ポリイソシアネート例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等の鎖状飽和炭化水素ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、メチレンビス4-シクロヘキシルイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、水添キシレンジイソシアネート、水添トルエンジイソシアネート等の環状飽和炭化水素ジイソシアネート、2,4-トリレンジイソシアネート、1,3-キシリレンジイソシアネート、p-フェニレンジイソシアネート、3,3’-ジメチル-4,4’-ジイソシアネート、6-イソプロピル-1,3-フェニルジイソシアネート、1,5-ナフタレンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネートとを反応させ、次いで水酸基含有メタアクリレートを付加した反応物が挙げられる。また、前記有機ジイソシアネートと水酸基含有メタアクリレートを反応させた化合物等も挙げられる。エポキシメタアクリレートとしては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加物の末端グリシジルエーテル、フルオレンエポキシ樹脂等のエポキシ樹脂類と、メタアクリル酸との反応物等を挙げることができる。ポリエステルメタアクリレートとしては、例えば、前記のジオール化合物と前記の二塩基酸又はその無水物との反応物である前記ポリエステルジオールと、メタアクリル酸との反応物等が挙げられる。なかでも、本発明の樹脂組成物に使用することのできるメタアクリレート化合物Fとしては、屈折率を考慮するとビスフェノールA骨格を含む構造の化合物が好ましく、例えばビスフェノールAポリエトキシジメタアクリレート、ビスフェノールAポリプロポキシジメタアクリレートなどのメタアクリレートモノマー、ビスフェノールAの骨格を持つウレタンメタアクリレートオリゴマービスフェノールAポリエトキシジオール、ビスフェノールAポリプロポキシジオール等のジオール化合物、又はこれらジオール化合物と二塩基酸もしくはその無水物との反応物であるポリエステルジオールと、有機ポリイソシアネートと、水酸基含有メタアクリレートとを反応した化合物、ビスフェノールAの骨格を持つエポキシメタアクリレートオリゴマービスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加物の末端グリシジルエーテル等のエポキシ樹脂類とメタアクリル酸との反応物などが適している。また、9,10-ジヒドロ-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキサイドから得られるホスフィンオキサイド化合物、ビナフトール骨格を有するメタアクリレート、フルオレン骨格を有するメタアクリレート、カルバゾール骨格を有するメタアクリレート、又はフェニルフェノールエポキシアクリレートと芳香族有機ポリイソシアネートを反応させたウレタンアクリレートなども好ましい。特に、9,10-ジヒドロ-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキサイドから得られるホスフィンオキサイド化合物、ビナフトール骨格を有するメタアクリレート、フルオレン骨格を有するメタアクリレート、カルバゾール骨格を有するメタアクリレート、又はフェニルフェノールエポキシアクリレートと芳香族有機ポリイソシアネートとを反応させたウレタンアクリレートなどが好ましい。また、硬化物の密着性や粘度などを考慮すると、メタアクリレート化合物Fとしては単官能或いは2官能メタアクリレートモノマーが適しており、中でも、アクリロイルモルホリン、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート、1,4-ブタンジオールジメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルメタアクリレート等が好ましい。本発明の光学レンズシート用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の各成分の含有割合は、所望の屈折率やガラス転移温度や粘度や密着性等を考慮して決められるが、樹脂組成物の全体を100質量とした場合に、成分A及び/又は成分Bは樹脂組成物中に通常1~50質量であり、好ましくは5~40質量である。成分Cを含有する場合、その含有率は樹脂組成物中に通常5~80質量、好ましくは10~75質量である。成分Eを含有する場合、その含有率は樹脂組成物中に通常1~30質量であり、好ましくは1~20質量である。成分Fの含有率は樹脂組成物中に通常0~50質量であり、好ましくは0~40質量である。成分Dは樹脂組成物中に通常0.1~10質量であり、好ましくは0.3~7質量である。本発明のエネルギー線硬化型樹脂組成物は、前記成分以外に取り扱い時の利便性等を改善するために、離型剤、消泡剤、レベリング剤、光安定剤、酸化防止剤、重合禁止剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、色素等を状況に応じて併用して含有することができる。更に、必要に応じて、アクリルポリマー、ポリエステルエラストマー、ウレタンポリマー及びニトリルゴム等のポリマー類、無機あるいは有機の光拡散フィラー等も添加することができる。溶剤を加えることもできるが、溶剤を添加しないものが好ましい。本発明の樹脂組成物は、各成分を常法に従い混合溶解することにより調製することができる。例えば、撹拌装置、温度計のついた丸底フラスコに各成分を仕込み、40~80°Cにて0.5~6時間撹拌することにより得ることができる。本発明の樹脂組成物の粘度は、光学レンズシート類を製造するに適した粘度として、E型粘度計TV-200:東機産業社製を用いて測定した粘度が25°Cで200mPas以上、4000mPas以下であることが好ましい。常法に従い、本発明の光学レンズシート用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に紫外線等の活性エネルギー線を照射することにより硬化して得られる硬化物も本発明に含まれる。該硬化物は本発明の樹脂組成物を、例えば、フレネルレンズ、レンチキュラーレンズ、プリズムレンズ等の形状を有するスタンパー上に塗布して該樹脂組成物の層を設け、その層の上に硬質透明基板であるバックシート例えば、ポリメタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、又はこれらポリマーのブレンド品等からなる基板あるいはフィルムを接着させ、次いで該硬質透明基板側から高圧水銀灯等により紫外線を照射して該樹脂組成物を硬化させた後、該スタンパーから硬化物を剥離して得ることができる。これらの応用として連続式で製造することもできる。この様にして離型性、型再現性、密着性に優れたフレネルレンズ、レンチキュラーレンズ、プリズムレンズ、マイクロレンズ等の光学レンズ部分を形成した光学レンズシートを得ることができ、これら光学レンズシートも本発明に含まれる。なお、本発明の硬化物の屈折率はアッベ屈折率計DR-M2:株アタゴ製等で測定することができ、本発明の光学レンズシート用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物としては1.58~1.61程度が好ましい。前記硬化物は光学レンズシートとして有用であるが、それ以外の用途としては、各種コーティング剤、接着剤等が挙げられる。また、ポリカルボン酸化合物Bを含有する樹脂組成物の場合、上記の用途に加えて、カルボキシル基によって基材への密着性が高まるため、プラスチック基材若しくは金属基材を被覆するための用途として用いる事もできる。次に、実施例により本発明を更に詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施例によって何ら限定されるものではない。また、実施例中に特に断りが無い限り、部は質量部を示す。なお、合成例中のエポキシ当量は、JISK7236:2001に記載の方法で測定した。合成例1-1:エポキシカルボキシレート化合物Aの合成エポキシ樹脂aとしてフェノールビフェニルメチル型エポキシ樹脂である日本化薬製NC-3000Hエポキシ価288g/eq、式1でm=0、n=2.1144g、エチレン性不飽和基含有モノカルボン酸bとしてアクリル酸略称AA、分子量72を36g、触媒としてトリフェニルホスフィン1.5g、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルモノアセテート100gを加え、100°Cで24時間反応させ、エポキシカルボキシレート化合物Aを得た。合成例1-2:エポキシカルボキシレート化合物Aの合成エポキシ樹脂aとしてフェノールビフェニルメチル型エポキシ樹脂である日本化薬製NC-3100エポキシ価254g/eq、式1でm=0、n=1.4127gエチレン性不飽和基含有モノカルボン酸bとしてアクリル酸略称AA、分子量72を36g、触媒としてトリフェニルホスフィン1.5g、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルモノアセテート165gを加え、100°Cで24時間反応させ、エポキシカルボキシレート化合物Aを得た。合成例2-1、2-2:ポリカルボン酸化合物Bの合成合成例1-1において得られたエポキシカルボキシレート化合物Aに多塩基酸無水物cとしてテトラヒドロ無水フタル酸を表1中に記載の量を加え、固形分が70重量となるように溶剤としてのプロピレングリコールモノメチルエーテルモノアセテートを添加し、100°Cにて10時間加熱して付加反応させ、ポリカルボン酸化合物Bを得た。合成例3:多官能ウレタンメタアクリレートEの合成乾燥容器中にペンタエリスリトールトリアクリレート1020部、ジラウリン酸ジ-n-ブチルスズ0.6部、メトキノン0.6部を入れ、80°Cまで過熱撹拌した。これにイソホロンジイソシアネート略称:IPDI177.8部を1時間かけて滴下し、1~2時間撹拌後のイソシアネート値は0.3以下となり反応がほぼ定量的に終了した事を示し、多官能ウレタンメタアクリレートEを得た。合成例4:メタアクリレート化合物FRS-1,1’-ビ-2-ナフトールジエトキシジアクリレートの合成撹拌装置、還流管、温度計をつけたフラスコの中に、RS-1,1’-ビ-2-ナフトールを286.3g1.0mol、炭酸エチレンを264.2g3.0mol、炭酸カリウムを41.5g0.3mol、トルエン2000mlを仕込み、110°Cで12時間反応させた。反応後、得られた反応液を水洗、1NaOH水溶液で洗浄し、次いで洗浄水が中性になるまで水洗を行った。水洗後の溶液をロータリーエバポレーターを用いて減圧下に溶媒を留去し、RS-1,1’-ビ-2-ナフトールのエチレンオキサイド2mol反応物300.0gを得た。続いて、撹拌装置、還流管、温度計及び水分離機をつけたフラスコ中に、RS-1,1’-ビ-2-ナフトールのエチレンオキサイド2mol反応物187.2g0.5mol、アクリル酸86.5g2.4mol、パラトルエンスルホン酸0.95g、ハイドロキノン0.87g、トルエン917.4g、シクロヘキサン393.2g仕込み、反応温度95~105°Cで生成水を溶媒と共沸留去しながら反応させた。反応後、25NaOH水溶液で中和した後、15質量食塩水200gで3回洗浄した。溶媒を減圧留去して淡黄色固体の下記構造式の生成物337.8gを得た。合成例4の化合物の物性を以下に示す。液屈折率D線、25°C1.621H-NMRCDCl3、300MHz、ppm:4.00-4.30ppm=8H、5.60-5.90ppm=4H、6.05-6.15ppm=2H、7.05-7.50ppm=8H、7.80-8.00ppm=4H合成例5:メタアクリレート化合物FN-2-アクリロイルオキシエチルカルバゾールの合成オートクレーブ中に、カルバゾールを167.2g1.0mol、トルエンを114.5g、水酸化カリウムを0.5g仕込み、窒素置換を行なった後、エチレンオキサイド48.5g1.1molを120°C~140°C、反応圧0.2MPa以下の範囲で滴下し、6時間反応させた。反応後、減圧下で未反応のエチレンオキサイド、トルエンを留去し、得られたN-2-ヒドロキシエチルカルバゾール105.6g0.5mol、アクリル酸54.1g0.7mol、パラトルエンスルホン酸1.44g、ハイドロキノン0.54g、トルエン517.6g、シクロヘキサン221.8gを仕込み、反応温度95~105°Cで生成水を溶媒と共沸留去しながら反応させた。反応後、25NaOH水溶液で中和した後、15質量食塩水200gで3回洗浄した。溶媒を減圧留去して淡黄色固体の下記構造式3の生成物130.0gを得た。合成例5の化合物の物性を以下に示す。液屈折率D線、25°C1.611H-NMRCDCl3、300MHz、ppm:4.48-4.60ppm=4H、5.70-5.80ppm=1H、5.90-6.05ppm=1H、6.20-6.30ppm=1H、7.10-7.55ppm=6H、8.05-8.15ppm=2H以下の実施例に示すような組成数値は質量部を示すにて本発明の樹脂組成物を得て、次いで活性エネルギー線を照射し硬化物を得た。また、樹脂組成物及び硬化膜についての評価方法及び評価基準は以下の通り行った。1粘度:E型粘度計TV-200:東機産業株製を用い、25°Cにて測定した。2離型性:硬化した樹脂を金型より離型させるときの難易度を測定した。難易度は下記のように分類した。○金型からの離型が良好である。△離型がやや困難あるいは離型時に剥離音がある。×離型が困難あるいは型残りがある。3型再現性:硬化した紫外線硬化性樹脂層の表面形状と金型の表面形状を観察した。○再現性良好である。×再現性が不良である。4密着性:基材上に樹脂組成物を膜厚約50μm程度に塗布し、次いで高圧水銀灯80W/cm、オゾンレスで1000mJ/cm2の照射を行い硬化させたテストピースを作製し、JISK5600-5-6に準じて密着性評価を行った。評価結果は0~2を○良とし、3~5を×不良とした。5屈折率25°C:硬化した紫外線硬化性樹脂層の屈折率25°Cをアッベ屈折率計DR-M2:株アタゴ製で測定した。6ガラス転移温度Tg:硬化した紫外線硬化性樹脂層のTg点を粘弾性測定システムDMS-6000:セイコー電子工業株製において、引っ張りモード、周波数1Hzにて測定した。7耐擦傷性:プリズムシートの上にガラス棒を当て、プリズム形状に対して横方向に引きずった時の、傷のつき方を観察し、評価した。◎傷がつかず、プリズムシートとして使用できる状態○わずかに傷がつくが、性能に問題がない状態×傷がつき、プリズムシートとして使用できない状態実施例1成分Aとして、合成例1-1で得た化合物22.5部、成分Cとしてo-フェニルフェノールモノエトキシアクリレート67.5部、成分Dとして1-ヒドロキシ-シクロヘキシルフェニルケトン3部及びジフェニル2,4,6-トリメチルベンゾイルホスフィンオキサイド0.1部、成分Eとしてトリスアクリロキシエチルイソシアヌレート8部、成分Fとして1,4-ブタンジオールジアクリレート2部を60°Cに混合加温し、本発明の樹脂組成物を得た。この樹脂組成物の粘度は1756mPasであった。また、この樹脂組成物を高圧水銀灯80W/cm、オゾンレスにて600mJ/cm2の照射を行って硬化した、膜厚200μmの紫外線硬化型樹脂層の屈折率25°Cは1.606であり、ガラス転移温度Tgは57°Cだった。さらに、得られたこの樹脂組成物をプリズムレンズ金型の上に膜厚が50μmになるように塗布し、その上に基材として易接着PETフィルム東洋紡コスモシャインA4300、100μm厚を接着させ、更にその上から高圧水銀ランプで600mJ/cm2の照射量の紫外線を照射して硬化させた後、剥離して本発明のプリズムレンズシートを得た。評価結果は、離型性:○、型再現性:○、密着性:○、耐擦傷性:○であった。実施例2成分Bとして、合成例2-1で得た化合物25部、成分Cとしてo-フェニルフェノールモノエトキシアクリレート25部、フェノキシエチルアクリレート20部、成分Dとして1-ヒドロキシ-シクロヘキシルフェニルケトン3部及びジフェニル2,4,6-トリメチルベンゾイルホスフィンオキサイド0.1部、成分Eとしてトリスアクリロキシエチルイソシアヌレート10部、成分FとしてビスフェノールAテトラエトキシジアクリレート20部を60°Cに混合加温し、本発明の樹脂組成物を得た。この樹脂組成物の粘度は1675mPasであった。また、この樹脂組成物を高圧水銀灯80W/cm、オゾンレスにて600mJ/cm2の照射を行って硬化した、膜厚200μmの紫外線硬化型樹脂層の屈折率25°Cは1.589であり、ガラス転移温度Tgは59°Cだった。さらに、得られたこの樹脂組成物をプリズムレンズ金型の上に膜厚が50μmになるように塗布し、その上に基材として易接着PETフィルム東洋紡コスモシャインA4300、100μm厚を接着させ、更にその上から高圧水銀ランプで600mJ/cm2の照射量の紫外線を照射して硬化させた後、剥離して本発明のプリズムレンズシートを得た。評価結果は、離型性:○、型再現性:○、密着性:○、耐擦傷性:○であった。実施例3成分Bとして、合成例2-2で得た化合物10部、成分Cとしてo-フェニルフェノールモノエトキシアクリレート62部及びフェノキシエチルアクリレート10部、成分Dとして1-ヒドロキシ-シクロヘキシルフェニルケトン3部及びジフェニル2,4,6-トリメチルベンゾイルホスフィンオキサイド0.1部、成分Eとしてペンタエリスリトールトリアクリレート3部、成分FとしてビスフェノールAテトラエトキシジアクリレート15部を60°Cに混合加温し、本発明の樹脂組成物を得た。この樹脂組成物の粘度は511mPasであった。また、この樹脂組成物を高圧水銀灯80W/cm、オゾンレスにて600mJ/cm2の照射を行って硬化した、膜厚200μmの紫外線硬化型樹脂層の屈折率25°Cは1.595であり、ガラス転移温度Tgは44°Cだった。さらに、得られたこの樹脂組成物をプリズムレンズ金型の上に膜厚が50μmになるように塗布し、その上に基材として易接着PETフィルム東洋紡コスモシャインA4300、100μm厚を接着させ、更にその上から高圧水銀ランプで600mJ/cm2の照射量の紫外線を照射して硬化させた後、剥離して本発明のプリズムレンズシートを得た。評価結果は、離型性:○、型再現性:○、密着性:○、耐擦傷性:○であった。実施例4成分Aとして、合成例1-1で得た化合物9部、成分Bとして、合成例2-2で得た化合物10部、成分Cとしてo-フェニルフェノールモノエトキシアクリレート51部及びフェノキシエチルアクリレート15部、成分Dとして1-ヒドロキシ-シクロヘキシルフェニルケトン3部、ジフェニル2,4,6-トリメチルベンゾイルホスフィンオキサイド0.1部、成分Eとして合成例3で得た多官能ウレタンメタアクリレート3部、成分FとしてビスフェノールAテトラエトキシジアクリレート17部を60°Cに混合加温し、本発明の樹脂組成物を得た。この樹脂組成物の粘度は1123mPasであった。また、この樹脂組成物を高圧水銀灯80W/cm、オゾンレスにて600mJ/cm2の照射を行って硬化した、膜厚200μmの紫外線硬化型樹脂層の屈折率25°Cは1.594であり、ガラス転移温度Tgは48°Cだった。さらに、得られたこの樹脂組成物をプリズムレンズ金型の上に膜厚が50μmになるように塗布し、その上に基材として易接着PETフィルム東洋紡コスモシャインA4300、100μm厚を接着させ、更にその上から高圧水銀ランプで600mJ/cm2の照射量の紫外線を照射して硬化させた後、剥離して本発明のプリズムレンズシートを得た。評価結果は、離型性:○、型再現性:○、密着性:○、耐擦傷性:○であった。実施例5成分Aとして、合成例1-2で得た化合物20部、成分Cとしてo-フェニルフェノールモノエトキシアクリレート31部、成分Dとして1-ヒドロキシ-シクロヘキシルフェニルケトン3部、ジフェニル2,4,6-トリメチルベンゾイルホスフィンオキサイド0.01部、成分Eとしてトリスアクリロキシエチルイソシアヌレート18部、成分FとしてビスフェノールAテトラエトキシジアクリレート20部、アクリロイルモルフォリン7部及びKAYARADEF-053日本化薬株製、ビスフェノールA型エポキシ樹脂エポキシ当量:180~194のエポキシアクリレート4部を60°Cに混合加温し、本発明の樹脂組成物を得た。この樹脂組成物の粘度は2354mPasであった。また、この樹脂組成物を高圧水銀灯80W/cm、オゾンレスにて600mJ/cm2の照射を行って硬化した、膜厚200μmの紫外線硬化型樹脂層の屈折率25°Cは1.582であり、ガラス転移温度Tgは73°Cだった。さらに、得られたこの樹脂組成物をプリズムレンズ金型の上に膜厚が50μmになるように塗布し、その上に基材として易接着PETフィルム東洋紡コスモシャインA4300、100μm厚を接着させ、更にその上から高圧水銀ランプで600mJ/cm2の照射量の紫外線を照射して硬化させた後、剥離して本発明のプリズムレンズシートを得た。評価結果は、離型性:○、型再現性:○、密着性:○、耐擦傷性:○であった。実施例6成分Bとして、合成例2-1で得た化合物12.5部、成分Cとしてo-フェニルフェノールモノエトキシアクリレート12.5部、o-フェニルフェノールポリエトキシアクリレートn=1.551部、フェノキシジエチレングリコールアクリレート4部、成分Dとして1-ヒドロキシ-シクロヘキシルフェニルケトン5部及びジフェニル2,4,6-トリメチルベンゾイルホスフィンオキサイド0.1部、成分FとしてBPE-10第一工業製薬製:ビスフェノールAポリエトキシジアクリレート20部を60°Cに混合加温し、本発明の樹脂組成物を得た。この樹脂組成物の粘度は568mPasであった。また、この樹脂組成物を高圧水銀灯80W/cm、オゾンレスにて600mJ/cm2の照射を行って硬化した、膜厚200μmの紫外線硬化型樹脂層の屈折率25°Cは1.587であり、ガラス転移温度Tgは25°Cだった。さらに、得られたこの樹脂組成物をプリズムレンズ金型の上に膜厚が50μmになるように塗布し、その上に基材として易接着PETフィルム東洋紡コスモシャインA4300、100μm厚を接着させ、更にその上から高圧水銀ランプで600mJ/cm2の照射量の紫外線を照射して硬化させた後、剥離して本発明のプリズムレンズシートを得た。評価結果は、離型性:○、型再現性:○、密着性:○、耐擦傷性:◎であった。実施例7成分Bとして、合成例2-1で得た化合物5部、成分Cとしてo-フェニルフェノールモノエトキシアクリレート5部、o-フェニルフェノールポリエトキシアクリレートn=1.553部、フェノキシジエチレングリコールアクリレート2部、成分Dとして1-ヒドロキシ-シクロヘキシルフェニルケトン5部及びビス2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニルスルフォスフィンオキサイド1部、成分Eとしてトリスアクリロキシエチルイソシアヌレート3部、成分FとしてBPE-10第一工業製薬製:ビスフェノールAポリエトキシジアクリレート30部及び4-ヒドロキシブチルアクリレート2部を60°Cに混合加温し、本発明の樹脂組成物を得た。この樹脂組成物の粘度は314mPasであった。また、この樹脂組成物を高圧水銀灯80W/cm、オゾンレスにて600mJ/cm2の照射を行って硬化した、膜厚200μmの紫外線硬化型樹脂層の屈折率25°Cは1.576であり、ガラス転移温度Tgは20°Cだった。さらに、得られたこの樹脂組成物をプリズムレンズ金型の上に膜厚が50μmになるように塗布し、その上に基材として易接着PETフィルム東洋紡コスモシャインA4300、100μm厚を接着させ、更にその上から高圧水銀ランプで600mJ/cm2の照射量の紫外線を照射して硬化させた後、剥離して本発明のプリズムレンズシートを得た。評価結果は、離型性:○、型再現性:○、密着性:○、耐擦傷性:◎であった。実施例8成分Bとして、合成例2-1で得た化合物15部、成分Cとしてo-フェニルフェノールポリエトキシアクリレートn=1.540部及びフェノキシジエチレングリコールアクリレート5部、成分Dとして1-ヒドロキシ-シクロヘキシルフェニルケトン5部、ジフェニル2,4,6-トリメチルベンゾイルホスフィンオキサイド0.1部、成分FとしてBPE-10第一工業製薬製:ビスフェノールAポリエトキシジアクリレート10部、合成例4で得た化合物RS-1,1’-ビ-2-ナフトールジエトキシジアクリレート30部を60°Cに混合加温し、本発明の樹脂組成物を得た。この樹脂組成物の粘度は2834mPasであった。また、この樹脂組成物を高圧水銀灯80W/cm、オゾンレスにて600mJ/cm2の照射を行って硬化した、膜厚200μmの紫外線硬化型樹脂層の屈折率25°Cは1.604であり、ガラス転移温度Tgは44°Cだった。さらに、得られたこの樹脂組成物をプリズムレンズ金型の上に膜厚が50μmになるように塗布し、その上に基材として易接着PETフィルム東洋紡コスモシャインA4300、100μm厚を接着させ、更にその上から高圧水銀ランプで600mJ/cm2の照射量の紫外線を照射して硬化させた後、剥離して本発明のプリズムレンズシートを得た。評価結果は、離型性:○、型再現性:○、密着性:○、耐擦傷性:◎であった。実施例9成分Bとして、合成例2-1で得た化合物15部、成分Cとしてo-フェニルフェノールエトキシアクリレート55部及びフェノキシジエチレングリコールアクリレート4部、成分Dとして1-ヒドロキシ-シクロヘキシルフェニルケトン3部及びジフェニル2,4,6-トリメチルベンゾイルホスフィンオキサイド0.1部、成分EとしてKAYARADDPHA日本化薬製:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート2部、成分FとしてBPE-10第一工業製薬製:ビスフェノールAポリエトキシジアクリレート4部及び合成例5で得た化合物N-2-アクリロイルオキシエチルカルバゾール20部を60°Cに混合加温し、本発明の樹脂組成物を得た。この樹脂組成物の粘度は1231mPasであった。また、この樹脂組成物を高圧水銀灯80W/cm、オゾンレスにて600mJ/cm2の照射を行って硬化した、膜厚200μmの紫外線硬化型樹脂層の屈折率25°Cは1.612であり、ガラス転移温度Tgは52°Cだった。さらに、この樹脂組成物をプリズムレンズ金型の上に膜厚が50μmになるように塗布し、その上に基材として易接着PETフィルム東洋紡コスモシャインA4300、100μm厚を接着させ、更にその上から高圧水銀ランプで600mJ/cm2の照射量の紫外線を照射して硬化させた後、剥離して本発明のプリズムレンズシートを得た。評価結果は、離型性:○、型再現性:○、密着性:○、耐擦傷性:○であった。実施例10成分Bとして、合成例2-1で得た化合物15部、成分Cとしてo-フェニルフェノールエトキシアクリレート63部、成分Dとして1-ヒドロキシ-シクロヘキシルフェニルケトン3部及びジフェニル2,4,6-トリメチルベンゾイルホスフィンオキサイド0.1部、成分EとしてKAYARADTMPTA日本化薬製:トリメチロールプロパントリアクリレート2部、成分FとしてBPE-10第一工業製薬製:ビスフェノールAポリエトキシジアクリレート4部、A-BPEF新中村化学工業製:ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート12部及びテトラヒドロフルフリルアクリレート4部を60°Cに混合加温し、本発明の樹脂組成物を得た。この樹脂組成物の粘度は1236mPasであった。また、この樹脂組成物を高圧水銀灯80W/cm、オゾンレスにて600mJ/cm2の照射を行って硬化した、膜厚200μmの紫外線硬化型樹脂層の屈折率25°Cは1.602であり、ガラス転移温度Tgは54°Cだった。さらに、得られたこの樹脂組成物をプリズムレンズ金型の上に膜厚が50μmになるように塗布し、その上に基材として易接着PETフィルム東洋紡コスモシャインA4300、100μm厚を接着させ、更にその上から高圧水銀ランプで600mJ/cm2の照射量の紫外線を照射して硬化させた後、剥離して本発明のプリズムレンズシートを得た。評価結果は、離型性:○、型再現性:○、密着性:○、耐擦傷性:○であった。比較例1実施例2において、成分Bの変わりに、KAYARADEF-075日本化薬株製、ビスフェノールA型エポキシ樹脂エポキシ当量:900~1000のエポキシアクリレート25部を用いる以外は実施例2と同様に比較用の樹脂組成物を得た。この樹脂組成物の粘度は8420mPasであった。また、この樹脂組成物を高圧水銀灯80W/cm、オゾンレスにて600mJ/cm2の照射を行って硬化して得られた膜厚200μmの紫外線硬化型樹脂層の屈折率25°Cは1.585であり、ガラス転移温度Tgは58°Cだった。評価結果は、離型性:×、型再現性:×、密着性:○、耐擦傷性:×であった。この結果から比較例1の組成物は本発明の組成物と同程度の屈折率を有するが、粘度が高く加工適性に劣り、離型性、型再現性に劣る。実施例1~10、比較例1の評価結果から明らかなように、本発明の樹脂組成物は低粘度で、本発明の硬化物は離型性、型再現性、基材への密着性に優れ、高屈折率でガラス転移温度Tgが高かった。さらに、耐擦傷性にも優れていた。そのため微細構造を有する光学レンズシート、例えば、フレネルレンズ、レンチキュラーレンズ、プリズムレンズ、マイクロレンズ等に適している。特に微細な加工が必要な用途や連続加工が必要な工程を含む製造に適している。実施例1~10、比較例1について、表2に示した。"