"対向配置された一対の透明基板と、前記一対の透明基板間に配置された互いに相溶しない極性溶媒および非極性溶媒と、前記一対の透明基板の一方の基板の対向面側に形成された第1の透明電極と、前記一対の透明基板の他方の基板の対向面側に形成された第2および第3の透明電極と、前記第2および第3の透明電極を覆う平滑層と、を含む光学装置。前記極性溶媒または前記非極性溶媒には、着色体および蛍光体が溶解されている請求項1記載の光学装置前記蛍光体は、EuIII錯体である請求項2記載の光学装置。前記平滑層は、絶縁性および疎水性を有する材料で形成される請求項1~3いずれか1項記載の光学装置。さらに、前記一対の透明基板の一方の基板において、前記一対の透明基板の他方の基板に形成された前記第2の透明電極に対向する領域に、遮光層が形成されている請求項1~4いずれか1項記載の光学装置。さらに、前記第1の透明電極と前記第2の透明電極との間、および前記第1の透明電極と前記第3の透明電極との間、にそれぞれ電圧を印加する電源を備える請求項1~5いずれか1項記載の光学装置。さらに、前記一対の透明基板の他方の基板の外側に光源を備える請求項1~6いずれか1項記載の光学装置。1つの表示装置を、様々な環境下で利用したいという要求がある。例えば、明所では反射型表面照射型の表示装置として利用でき、暗所ではバックライトを用いた透過型裏面照射型の表示装置として利用できるような表示装置があれば望ましい。しかし、従来のMFPDおよびエレクトロクロミックディスプレイは、1つの表示装置が、反射型表示装置と透過型表示装置とを兼ねない。本発明の目的は、表面照射型表示装置と裏面照射型表示装置とを兼ねる表示装置に適用可能な光学装置を提供することである。本発明の1観点によれば、対向配置された一対の透明基板と、前記一対の透明基板間に配置された互いに相溶しない極性溶媒および非極性溶媒と、前記一対の透明基板の一方の基板の対向面側に形成された第1の透明電極と、前記一対の透明基板の他方の基板の対向面側に形成された第2および第3の透明電極と、前記第2および第3の透明電極を覆う平滑層と、を含む光学装置、が提供される。表面照射型表示装置と裏面照射型表示装置とを兼ねる表示装置に適用可能な光学装置が提供される。図1を参照して、本発明の実施例による光学装置の構成及び作製方法について説明する。図1は、実施例による光学装置の概略断面図である。実施例の光学装置を表示装置として用いる場合について説明を続ける。まず、表面に透明電極2および遮光層3が形成された上側基板1、および、表面に透明電極4a,4bがパターン形成された下側基板5を用意する。上下基板1,5は、例えば青板ガラスまたは白板ガラス等の透明材料からなり、厚さはそれぞれ例えば0.7mmtである。透明電極2,4a,4bは、例えばインジウムスズ酸化物ITOからなり、厚さはそれぞれ例えば80nmである。遮光層3は、例えばブラックカラーフィルタからなり、厚さは例えば800nmである。なお、実施例では、上側及び下側基板としてガラス基板を用いたが、必要に応じて、例えばプラスチック基板やフィルム基板等を用いてもよい。また、遮光層は、遮光する材料であればよく、上側透明基板の内側対向している透明基板の対向面側でなく外側に形成してもかまわない。次に、下側基板5上の透明電極4a,4bを覆って、平滑層6を形成する。平滑層6は、絶縁性さらに疎水性を有する材料を用いることが好ましい。本実施例で、平滑層6はテフロン系材料を用い、これをスピンコート1500rpm、15秒により塗布した。その後、150°Cで30分の熱処理を施す。次に、下側基板5上の平滑層6の表面に、非極性溶媒7を塗布する。本実施例で、非極性溶媒7は、高融点有機溶媒シクロヘキサノンに着色体として油溶性染料赤色、および蛍光体としてユウロピウム3価EuIII錯体赤色を溶解したものを用い、これをスピンコートにより塗布した。高融点有機溶媒における着色体の溶解量は約4wtであり、蛍光体の溶解量は約1wtである。さらに、下側基板5上に塗布された非極性溶媒7上に、非極性溶媒7とは相溶しない極性溶媒8を散布する。本実施例で、極性溶媒8は純水を用い、これをスプレーコート散布時間:2~15秒間、1mm2あたり散布量:8~68plにより散布した。なお、非極性溶媒に溶解されている着色体および蛍光体は、極性溶媒に混入することはない。また、非極性溶媒の塗布および極性溶媒の散布は、上記に示したスピンコートおよびスプレーコートには限られず、例えば、スリットコート、バーコート、またはスリットスピンコートや、インジェット、ディスペンサ、またはマイクロピペットを用いた液体滴下などの各種コーティング方法を用いることができる。なお、ここで用いたEuIII錯体は、錯体のタイプを変更することにより、極性溶媒にも溶解させることが可能である。次に、上側基板1上に、リブ材9を形成する。実施例では、リブ材9の材料としてポジ型感光性レジストを用いた。感光性レジストをスピンコートにより塗布仮焼成を行い、所定形状の開口を有するマスクにより露光現像処理および本焼成を行い、リブ材9を形成する。リブ材9により画定される1画素のサイズは一辺約400μmとした。次に、上側基板1の透明電極2が形成された面と、下側基板5の透明電極4a,4bが形成された面とを対向させ、例えば、平面視上で透明電極4aが遮光層3に覆われるように位置合わせをし、リブ材9を介して上側基板1と下側基板5とを重ね合わせる。このとき、平面視上、透明電極4aに対応する領域を領域10a、透明電極4bに対応する領域を領域10b、透明電極4a,4bが配置されていない領域を領域10cとする。また、遮光層3に覆われる領域を遮光領域11a、遮光層に覆われない領域を開口領域11bとする。重なりあった上下基板1,5の周縁部をエンドシール材にて封止する。以上のようにして、表示装置を作製する。図2Aおよび2Bは、極性溶媒を単位時間当たり散布量一定で2~15秒間散布した表示装置のそれぞれの平面観察写真である。なお、このとき、極性溶媒の1mm2あたり散布量はおよそ8~68plである。また、ここでは、便宜的に遮光層を形成していない表示装置の平面観察写真を示す。図中縦および横方向に延在する格子状ラインは画素を画定するリブ材である。基板平面内には一様に非極性溶媒が塗布されており、図中不規則に配置する斑点状の液滴はスプレーコートにより散布された極性溶媒である。これらの観察写真から、極性溶媒の液滴が散布時間とともに徐々に大きくなっていることがわかる。また、極性溶媒の液滴のサイズ分布の状態から、本実施例の条件において、極性溶媒は5~11秒間程度の散布が適当であることがわかった。なお、このときの極性溶媒の1mm2あたり散布量はおよそ20~50pl程度に対応する。実施例の表示装置における極性溶媒の移動制御について、図1および図3A,3Bを参照して説明する。図3Aおよび3Bは、極性溶媒を単位時間当たり散布量一定で7秒間散布した表示装置の所定の画素の平面観察写真を示す。なお、このときの極性溶媒の1mm2あたり散布量はおよそ30~35pl程度に対応する。図中の一点鎖線I-Iにおける断面は、図1に示す概略断面図に対応している。図3Aおよび3Bは、透明電極2と透明電極4aとの間、および透明電極2と透明電極4bとの間、にそれぞれ電圧を印加して、極性溶媒を移動させる様子を示す平面観察写真である。なお、ここでも、便宜的に遮光層3を形成していない表示装置の平面観察写真を示す。電圧無印加時、平滑層6上方には非極性溶媒7および極性溶媒8が、図1に示すように、表示装置厚み方向に対して層状に配置されている。透明電極2と透明電極4aとの間に電圧直流24V程度を印加したとき、図3Aに示すように、極性溶媒8が透明電極4a上方に、つまり領域10aに引き寄せられるように移動する。一方、透明電極2と透明電極4bとの間に電圧直流24V程度を印加したとき、図3Bに示すように、極性溶媒8が透明電極4b上方に、つまり領域10bに引き寄せられるように移動する。このように、透明電極2と透明電極4aとの間、および透明電極2と透明電極4bとの間、にそれぞれ電圧を印加したとき、極性溶媒8が領域10aと領域10bとの間で移動することが確認された。なお、本発明者らの観察によれば、透明電極2と透明電極4aとの間、ないし透明電極2と透明電極4bとの間、に電圧を印加して極性溶媒を移動させた後、電圧を無印加状態にすると、極性溶媒が電圧印加状態の位置に留まる傾向が確認された。図4A~4Dを参照して、実施例による表示装置の使用方法について説明する。明所で表面照射型表示装置として使用し、さらに、暗所でバックライトを用いた裏面照射型表示装置として使用する例について説明する。実施例による表示装置において、上側基板1上の透明電極2と下側基板5上の透明電極4aとが第1の直流電源に接続され、上側基板1上の透明電極2と下側基板5上の透明電極4bとが第2の直流電源に接続される。また、下側基板5の下方に、バックライト30が配置される。本実施例では、バックライトとして、紫外線を出射するものを用いた。なお、バックライト30は非極性溶媒に溶解される蛍光体を光励起する波長であれば、紫外光でなくてもかまわない。制御装置が、第1,2の直流電源のオンオフおよび、バックライトの点灯消灯を制御する。開口領域11bの表示状態が、上方から観察される。図4Aおよび4Bは、表面照射型として使用されている状態の表示装置の概略断面図である。バックライト30は消灯状態であり、外光108が上側基板1に上方から入射される。図4Aでは、透明電極2と透明電極4aとの間に電圧が印加され、極性溶媒8が領域10a、つまり遮光領域11aに移動し、非極性溶媒7が領域10b、つまり開口領域11bに移動する。遮光領域11aにおいて、遮光層3により外光は反射しない。開口領域11bでは、着色体赤色系色素が溶解した非極性溶媒7により外光は反射し、赤色に見える状態となる。このようにして、表面照射型表示装置における赤表示が実現される。また、図4Bでは、透明電極2と透明電極4bとの間に電圧が印加され、極性溶媒8が領域10b、つまり開口領域11bに移動し、非極性溶媒7が領域10a、つまり遮光領域11aに移動する。遮光領域11aにおいて、遮光層3により外光は反射しない。開口領域11bでは、透明な極性溶媒8により外光は反射しない状態となる。このようにして、表面照射型表示装置における黒表示が実現される。図4Cおよび4Dは、裏面照射型として使用されている状態の表示装置の概略断面図である。バックライト30は点灯状態であり、バックライト30から出射した紫外光が、下方から下側基板5に入射される。図4Cでは、透明電極2と透明電極4aとの間に電圧が印加され、極性溶媒8が遮光領域11aに移動し、非極性溶媒7が開口領域11bに移動する。開口領域11bでは、非極性溶媒7に溶解された赤色蛍光体が紫外光により励起されて発光し、赤色に見える状態となる。このようにして、裏面照射型表示装置における赤表示が実現される。また、図4Dでは、透明電極2と透明電極4bとの間に電圧が印加され、極性溶媒8が開口領域11bに移動し、非極性溶媒7が遮光領域11aに移動する。遮光領域11aにおいて、遮光層3により非極性溶媒7に溶解された蛍光体による発光は視認することができない。開口領域11bでは、透明な極性溶媒8により紫外光は透過する状態となる。紫外光は人間が視認できる波長帯ではないため、この裏面照射型表示装置における黒表示が実現される。なお、実施例による表示装置において、人間の目を紫外光から保護するため、上側基板1の開口領域11bに対応する領域には紫外線吸収フィルムを配置することが好ましいであろう。このように、実施例の表示装置は、着色体および蛍光体を溶解した非極性溶媒および極性溶媒を、遮光領域と開口領域との間で移動させることにより、表面照射型または裏面照射型表示装置として利用することが可能である。以上、実施例の光学装置を表示装置として用いる場合について説明したが、実施例の光学装置は、表示装置以外に用いることもできる。例えば照明装置として用いることができる。例えば、一般照明の配光制御に用いる場合について考える。再び図4A~図4Dを参照して、説明を続ける。図4Aおよび4Bでは、バックライト30が消灯状態であり、外光108が上側基板1に上方から入射される。図4Aでは、開口領域11bが着色状態であり、この照明装置は赤い壁紙として機能する。図4Bでは、開口領域11bが透明状態であり、この照明装置は黒もしくは透明な壁紙として機能する。図4Cおよび4Dでは、バックライト30が点灯状態である。図4Cでは、開口領域11bが発光状態であり、赤色のスポット光源が実現される。図4Dでは、開口領域11bが透明状態であり、紫外光のスポット光源が実現される。以上説明したように、実施例の光学装置は、例えば、表面照射型と裏面照射型とを切り替えられる表示装置や、拡散型とスポット型とを切り替えられる照明装置として利用することができる。様々な環境下で見やすい表示装置が実現され、様々な配光状態を生成する照明装置が実現される。なお、上記実施例では、非極性溶媒に着色体および蛍光体を溶解した光学装置について説明したが、極性溶媒に着色体および蛍光体を溶解した光学装置、極性溶媒に着色体を溶解し、非極性溶媒に蛍光体を溶解した光学装置、極性溶媒に蛍光体を溶解し、非極性溶媒に着色体を溶解した光学装置、などさまざまな組み合わせの光学装置を作製することが可能である。また、極性溶媒および非極性溶媒にそれぞれ異なる色の着色体ないし蛍光体を溶解してもかまわない。なお、極性溶媒または非極性溶媒への着色体および蛍光体の溶解は、用途に応じて、着色体または蛍光体どちらか一方のみでもかまわないし、それらの溶媒自体が所定の可視光反射吸収ないし透過スペクトルを有する溶媒であれば、必ずしも着色体および蛍光体を溶解させなくてもかまわない。さらに、上記実施例では、1画素分の基本的な表示技術について説明したが、実施例の表示装置を応用して多画素の表示装置を作製することも可能である。単純なキャラクタ表示スタティック駆動表示、もしくは、アクティブ素子を各画素に配置した電極配置を有するドットマトリクス表示を行う表示装置いずれも作製することが可能である。さらに、上記実施例では、外光が上側基板上方から入射され、バックライトが下側基板下方に配置される場合について説明したが、これに限らず、上側基板上方にバックライトを配置し、下側基板下方から外光を入射してもかまわない。なお、この際、遮光層は、下側基板上に形成することが好ましい。以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。"