基板上に形成され、複数の走査線と、複数の信号線と、前記複数の走査線及び複数の信号線に接続された複数のスイッチング素子と、前記複数の走査線、複数の信号線及び複数のスイッチング素子上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成された透明な複数の導電部と、を含む下地部を有したアレイ基板と、前記アレイ基板に隙間を置いて対向配置された対向基板と、前記アレイ基板及び対向基板間に挟持された液晶層と、前記下地部上に形成され、前記アレイ基板及び対向基板間の隙間を保持した複数の正規柱状スペーサと、前記下地部上に形成され、前記正規柱状スペーサより低く形成された複数の補助柱状スペーサと、を備え、前記補助柱状スペーサは、前記導電部に25以上重ねられていることを特徴とする液晶表示パネル。前記複数の導電部は、前記絶縁膜上に形成され、前記絶縁膜に形成された複数のコンタクトホールを通って前記複数のスイッチング素子に電気的に接続された透明な複数の画素電極であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示パネル。前記補助柱状スペーサは、隣合う複数の画素電極に重ねられていることを特徴とする請求項2に記載の液晶表示パネル。前記下地部は、基板上に形成された複数の補助容量線をさらに含み、前記正規柱状スペーサ及び補助柱状スペーサは、前記信号線及び補助容量線の少なくとも一方に重ねられていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示パネル。前記正規柱状スペーサ及び補助柱状スペーサは、同一材料で形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示パネル。ところで、上記柱状スペーサを形成する際、アレイ基板上に2種類の柱状スペーサを形成する場合がある。例えば、アレイ基板上に正規柱状スペーサと、正規柱状スペーサより低い補助柱状スペーサとを形成する場合がある。正規柱状スペーサは、常時、アレイ基板及び対向基板の隙間を保持するものである。補助柱状スペーサは、液晶材料が収縮したときや、液晶表示パネルが押圧されたときなどに、アレイ基板1及び対向基板2間の隙間を保持するものである。正規柱状スペーサ及び補助柱状スペーサを形成する際、互いに紫外線透過率の異なる複数のパターンを有したフォトマスクを使用することにより、正規柱状スペーサ及び補助柱状スペーサを、同一材料を使用して同時に形成することができる。しかしながら、補助柱状スペーサは、正規柱状スペーサよりも、紫外線照射量が少ない分、下地部との密着性が悪くなる問題がある。補助柱状スペーサは、下地部との密着性が悪いと剥がれる恐れがあるものである。この発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、表示品位の低下を抑制することができ、製品歩留まりの高い液晶表示パネルを提供することにある。一実施形態に係る液晶表示パネルは、基板上に形成され、複数の走査線と、複数の信号線と、前記複数の走査線及び複数の信号線に接続された複数のスイッチング素子と、前記複数の走査線、複数の信号線及び複数のスイッチング素子上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成された透明な複数の導電部と、を含む下地部を有したアレイ基板と、前記アレイ基板に隙間を置いて対向配置された対向基板と、前記アレイ基板及び対向基板間に挟持された液晶層と、前記下地部上に形成され、前記アレイ基板及び対向基板間の隙間を保持した複数の正規柱状スペーサと、前記下地部上に形成され、前記正規柱状スペーサより低く形成された複数の補助柱状スペーサと、を備え、前記補助柱状スペーサは、前記導電部に25以上重ねられていることを特徴としている。以下、図面を参照しながら一実施形態に係る液晶表示パネルについて詳細に説明する。図1、図5及び図6に示すように、液晶表示パネルは、アレイ基板1と、このアレイ基板に所定の隙間を置いて対向配置された対向基板2と、これら両基板間に挟持された液晶層3とを備えている。液晶表示パネルは、アレイ基板1及び対向基板2が重なった表示領域Rを有している。アレイ基板1は、表示領域Rにマトリクス状に配置された複数の画素13を有している。なお、画素13については後述する。図2に示すように、表示領域Rの外側において、ガラス基板10上には、走査線駆動回路4、信号線駆動回路5及び補助容量線駆動回路6が形成されている。走査線駆動回路4は、表示領域Rの外側に延出した複数の走査線19と接続されている。信号線駆動回路5は、表示領域Rの外側に延出した複数の信号線27と接続されている。補助容量線駆動回路6は、表示領域Rの外側に延出した複数の補助容量線21と接続されている。図1乃至図6に示すように、アレイ基板1は、透明な絶縁基板として、例えばガラス基板10を備えている。ガラス基板10上にはアンダーコーティング層12が成膜されている。アンダーコーティング層12は、例えばSiNXやSiOXで形成されている。表示領域Rにおいて、ガラス基板10上には、第1方向d1に沿って延出した複数の走査線19及び第1方向に直交した第2方向d2に沿って延出した複数の信号線27が配置されている。ガラス基板10上には、走査線19に平行な複数の補助容量線21が形成されている。この実施形態において、補助容量線21及び信号線27は遮光部として機能している。隣合う2本の信号線27及び隣合う2本の補助容量線21で囲まれた各領域には画素13が形成されている。次に、画素13を1つ取り出して説明する。図2乃至図6に示すように、画素13は、画素電極34、この画素電極に接続されたスイッチング素子としてのTFT薄膜トランジスタ14及び補助容量素子16を有している。詳述すると、アンダーコーティング層12上に、複数の半導体層15及び複数の補助容量電極17が形成されている。補助容量電極17は、第1方向d1に並べられ、第2方向d2に間隔をおいて並べられている。半導体層15は、ソース領域RS及び補助容量電極17に一対一で接続されたドレイン領域RDを有している。半導体層15及び補助容量電極17は、アンダーコーティング層12上に形成された半導体膜をパターニングすることにより、同一材料で同時に形成されている。この実施形態において、半導体層15及び補助容量電極17は、ポリシリコンで形成されている。また、半導体層15及び補助容量電極17は、一体に形成されている。アンダーコーティング層12、半導体層15及び補助容量電極17上に、ゲート絶縁膜18が成膜されている。ゲート絶縁膜18は、例えばSiOXで形成されている。ゲート絶縁膜18上に、複数のゲート電極20を含む複数の走査線19と、複数の補助容量線21とが形成されている。走査線19及び補助容量線21は、アルミニウムやモリブデン-タングステン等の遮光性を有する低抵抗材料により同時に形成されている。この実施形態において、走査線19及び補助容量線21は、モリブデン-タングステンで形成されている。ゲート電極20は、ゲート絶縁膜18を介して半導体層15と交差し、半導体層15とともに複数のTFT14を形成している。補助容量線21は、第1方向d1に延在し、第2方向d2に間隔をおいて並べられている。補助容量線21は、ゲート絶縁膜18を介して複数の補助容量電極17に対向配置され、複数の補助容量電極17とともに複数の補助容量素子16を形成している。ゲート絶縁膜18、走査線19及び補助容量線21上に、層間絶縁膜22が形成されている。層間絶縁膜22は、例えばSiNXで形成されている。ゲート絶縁膜18及び層間絶縁膜22は、複数の半導体層15のソース領域RSに対向した複数の第1コンタクトホールCH1と、複数の補助容量電極17に対向した複数の第2コンタクトホールCH2と、を有している。言うまでも無いが、第1コンタクトホールCH1及び第2コンタクトホールCH2は、ゲート絶縁膜18及び層間絶縁膜22を貫通し形成されている。層間絶縁膜22上には、複数の信号線27及び複数のコンタクト電極30が形成されている。信号線27は、第2方向d2に延在し、第1方向d1に間隔をおいて並べられている。信号線27は、層間絶縁膜22を介して複数のゲート電極20複数の走査線19及び複数の補助容量線21と交差している。信号線27は、複数の第1コンタクトホールCH1を通って複数の半導体層15のソース領域RSに電気的に接続されている。コンタクト電極30は、第2コンタクトホールCH2を通って補助容量電極17に電気的に接続されている。言うまでも無いが、コンタクト電極30及び補助容量線21間の絶縁状態は維持されている。コンタクト電極30は、補助容量電極17を介して半導体層15のドレイン領域RDに電気的に接続されている。信号線27及びコンタクト電極30は、アルミニウムやモリブデン-タングステン等の遮光性を有する低抵抗材料により同時に形成されている。この実施形態において、信号線27及びコンタクト電極30は、アルミニウムで形成されている。層間絶縁膜22、複数の信号線27及び複数のコンタクト電極30上に、絶縁膜として、透明な樹脂により平坦化膜31が成膜されている。平坦化膜31は、無機絶縁膜又は有機絶縁膜で形成されている。この実施形態において、平坦化膜31は有機絶縁膜で形成されている。平坦化膜31は、補助容量電極17及びコンタクト電極30に重なって形成された複数のコンタクトホール32を有している。平坦化膜31上には、ITOインジウムティンオキサイドやインジウムジンクオキサイドIZO等の透明な導電材料により複数の画素電極34が形成されている。画素電極34は、第1方向d1及び第2方向d2に沿ってマトリクス状に並べられている。画素電極34は、コンタクトホール32を通ってコンタクト電極30に電気的に接続されている。画素電極34は、第2方向d2に長軸を有している。画素電極34は、補助容量電極17に一対一で電気的に接続されている。この実施形態において、画素電極34は、アレイ基板1の平面に沿った方向に延出した延出部35を有している。導電部としての延出部35は、画素電極34本来の機能を有するものではないが、後述する柱状スペーサの土台として機能する。上記画素電極34を形成する際、例えば、平坦化膜31を形成した後、ガラス基板10又は、ガラス基板10に分断する前のマザーガラス上全体に、例えばスパッタリング法によりITOを堆積し、導電膜を形成する。その後、導電膜をパターニングすることにより複数の延出部35を有した複数の画素電極34を形成することができる。上記のように、ガラス基板10上には、複数の走査線19、複数の信号線27、複数のTFT14、平坦化膜31及び画素電極34を含む下地部が形成されている。下地部上には、複数の正規柱状スペーサ36a及び複数の補助柱状スペーサ36bが形成されている。平坦化膜31、複数の画素電極34、複数の正規柱状スペーサ36a及び複数の補助柱状スペーサ36b上に、配向膜37が形成されている。複数の画素13は、TFT14、補助容量素子16及び画素電極34をそれぞれ1つずつ有している。次に、対向基板2について説明する。図1、図4、図5及び図6に示すように、対向基板2は、透明な絶縁基板として、例えばガラス基板40を備えている。ガラス基板40上には、カラーフィルタ50が形成されている。図示しないが、カラーフィルタ50は、赤色、青色、緑色の複数の着色層を有している。各着色層は、ストライプ状に形成され、信号線27の延出した方向に平行である。各着色層の周縁は、信号線27に重なっている。カラーフィルタ50上には、ITO等の透明な導電材料により対向電極41が形成されている。カラーフィルタ50及び対向電極41上に、配向膜43が形成されている。アレイ基板1及び対向基板2は、複数の正規柱状スペーサ36aにより、所定の隙間を保持して対向配置されている。アレイ基板1及び対向基板2は、表示領域R外周の両基板間に配置されたシール材60により互いに接合されている。液晶層3は、アレイ基板1、対向基板2及びシール材60で囲まれた領域に形成されている。液晶層3は、滴下工法により形成されている。上記のように液晶表示パネルが形成されている。次に、上記正規柱状スペーサ36a及び補助柱状スペーサ36bについて説明する。図3及び図6に示すように、正規柱状スペーサ36aは、常時、アレイ基板1および対向基板2間の隙間を保持するものである。補助柱状スペーサ36bは、正規柱状スペーサ36aより低く形成されている。補助柱状スペーサ36bは、液晶材料が収縮したときや、液晶表示パネルが押圧されたときなどに、アレイ基板1及び対向基板2間の隙間を保持するものである。正規柱状スペーサ36a及び補助柱状スペーサ36bは、平坦化膜31及び画素電極34上に形成されている。正規柱状スペーサ36a及び補助柱状スペーサ36bは、隣合う複数の画素電極34に重ねられている。正規柱状スペーサ36a及び補助柱状スペーサ36bが、コンタクトホール32から外れて形成されていることは言うまでもない。正規柱状スペーサ36a及び補助柱状スペーサ36bは、信号線27及び補助容量線21の少なくとも一方に重ねられている。この実施形態において、正規柱状スペーサ36a及び補助柱状スペーサ36bは、信号線27及び補助容量線21の両方に重ねられている。補助柱状スペーサ36bは、画素電極34延出部35に25以上重ねられている。この実施形態において、補助柱状スペーサ36bは、画素電極34延出部35に35重ねられている。上記の場合、互いに紫外線透過率の異なる複数のパターンを有したフォトマスクを使用することにより、正規柱状スペーサ36a及び補助柱状スペーサ36bを同一材料を使用して同時に形成することができる。正規柱状スペーサ36a及び補助柱状スペーサ36bを形成する際、まず、平坦化膜31及び画素電極34を含む下地部が形成されたガラス基板10又は、上記マザーガラス上に、レジストとして例えば紫外線硬化型のアクリル樹脂を滴下し、ガラス基板10を回転させて行うスピンコート法によりアクリル樹脂をガラス基板10上全体に塗布する。続いて、アクリル樹脂が塗布されたガラス基板10をプリベークした後、所定のフォトマスクを介して紫外線を照射し、アクリル樹脂を露光する。紫外線の照射条件は、例えば、露光量を150mJ/cm2とした。これにより、残したい個所のアクリル樹脂が硬化する。露光に用いるフォトマスクは、正規柱状スペーサ36aを形成するためのパターンと、補助柱状スペーサ36bを形成するためのパターンとを有している。その後、アクリル樹脂を、現像し、水洗いし、不要なアクリル樹脂を除去する。続いて、アクリル樹脂をポストベークする。上記のように、フォトリソグラフィ法を用い、アクリル樹脂をパターニングすることにより、正規柱状スペーサ36a及び補助柱状スペーサ36bを同一材料で同時に形成することができる。本願発明者は、正規柱状スペーサ36aよりも補助柱状スペーサ36bは、紫外線照射量が少ない分、平坦化膜31絶縁膜との密着性が悪くなることを確認した。そこで、補助柱状スペーサ36bを画素電極34延出部35上に形成することにより、平坦化膜31絶縁膜上に形成する場合に比べ密着性が改善されることが判明した。したがって、補助柱状スペーサ36bを画素電極34上に形成することにより、補助柱状スペーサ36bの剥がれを防止するものである。さらに、本願発明者は、補助柱状スペーサ36bを画素電極34にどの程度重ねれば上記効果を得ることができるのかについて調査した。次に、調査した比較例1の補助柱状スペーサ36b、比較例2の補助柱状スペーサ36b、実施例1の補助柱状スペーサ36b及び実施例2の補助柱状スペーサ36bについて説明する。なお、比較例1、2及び実施例1、2では、画素電極34は、延出部35を有していない。比較例1図7に示すように、補助柱状スペーサ36bのずらしは無いため、補助柱状スペーサ36bの位置は上述した場合図3の場合と同じである。比較例1では、補助柱状スペーサ36bは、画素電極34から外れ、平坦化膜31上にのみ形成されている。本願発明者が比較例1の補助柱状スペーサ36bの剥がれの有無を確認したところ、補助柱状スペーサ36bの剥がれが確認された。比較例2図8に示すように、補助柱状スペーサ36bは、比較例1に比べ、5μmずれた位置に形成されている。比較例2では、補助柱状スペーサ36bは、画素電極34延出部35に約13重ねられている。本願発明者が比較例2の補助柱状スペーサ36bの剥がれの有無を確認したところ、補助柱状スペーサ36bの剥がれが確認された。実施例1図9に示すように、画素電極34は矩形状に形成されている。画素電極34は、上記延出部35を有していない。補助柱状スペーサ36bは、比較例1に比べ、10μmずれた位置に形成されている。実施例1では、補助柱状スペーサ36bは、画素電極34延出部35に25重ねられている。本願発明者が実施例1の補助柱状スペーサ36bの剥がれの有無を確認したところ、補助柱状スペーサ36bの剥がれは無かった。実施例2図10に示すように、実施例1と同様、画素電極34は矩形状に形成されている。補助柱状スペーサ36bは、比較例1に比べ、20μmずれた位置に形成されている。実施例2では、補助柱状スペーサ36bは、画素電極34延出部35に約70重ねられている。本願発明者が実施例2の補助柱状スペーサ36bの剥がれの有無を確認したところ、補助柱状スペーサ36bの剥がれは無かった。以上のように構成された液晶表示パネルによれば、液晶表示パネルは、ガラス基板10上に形成され、複数の走査線19と、複数の信号線27と、複数のTFT14と、平坦化膜31と、複数の画素電極34と、を含む下地部を有したアレイ基板1と、対向基板2と、液晶層3と、複数の正規柱状スペーサ36aと、複数の補助柱状スペーサ36bと、を備えている。正規柱状スペーサ36aは、下地部上に形成され、アレイ基板1及び対向基板2間の隙間を保持している。補助柱状スペーサ36bは、下地部上に形成され、正規柱状スペーサ36aより低く形成されている。補助柱状スペーサ36bは、画素電極34に重ねられている。画素電極34は、平坦化膜31と比べ、柱状スペーサとの密着性に優れている。補助柱状スペーサ36bが剥がれることを抑制することができるため、補助柱状スペーサ36bを良好に形成することができる。上記の効果は、補助柱状スペーサ36bが画素電極34に25以上重ねられている場合に有効である。また、柱状スペーサは、画素電極34光透過領域から外れているため、表示画像の輝度レベルの低下及びコントラスト比の低下をそれぞれ防止することができる。上記したことから、表示品位の低下を抑制することができ、製品歩留まりの高い液晶表示パネルを得ることができる。なお、この発明は上記実施の形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化可能である。また、上記実施の形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。例えば、導電部は、画素電極34延出部35に限らず、種々変形可能である。例えば、導電部は、平坦化膜31上に形成され、画素電極34に間隔を置いて位置した分断部であってもよい。この場合、分断部を、画素電極34と同一材料を使用して同時に形成することができる。本発明は、上述した液晶表示パネルに限定されるものではなく、種々変形可能であり、各種の液晶表示パネルに適用可能である。