電磁石の吸引力を利用して型締力を発生させる型締装置を備える射出成形機であって、前記電磁石を含む電磁石ブロックと、フレームに対して前記電磁石ブロックを支持する支持部と、を備え、前記支持部には、前記電磁石の磁場漏れを低減させる空間が設けられる、ことを特徴とする射出成形機。前記空間は、前記電磁石ブロックの吸着面と、該吸着面と同じ側の前記支持部の表面との間の少なくとも一部を隔てる、ことを特徴とする請求項1に記載の射出成形機。前記電磁石ブロックの吸着面と、前記吸着面と同じ側の前記支持部の表面とは、それぞれ異なる平面上にある、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の射出成形機。前記電磁石ブロックは、フレームに固定される固定部材、又は、可動金型と共に移動する可動部材を構成する、ことを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の射出成形機。しかしながら、特許文献1に記載のリヤプラテンは、リヤプラテンの背面と脚部の背面とが連続するように構成されるため、電磁石が発生させた磁場をその脚部を通じて漏出させてしまう。上述の点に鑑み、本発明は、電磁石の磁場漏れを低減させる構造を有する射出成形機を提供することを目的とする。上述の目的を達成するために、本発明の実施形態に係る射出成形機は、電磁石の吸引力を利用して型締力を発生させる型締装置を備える射出成形機であって、前記電磁石を含む電磁石ブロックと、フレームに対して前記電磁石ブロックを支持する支持部と、を備え、前記支持部には、前記電磁石の磁場漏れを低減させる空間が設けられることを特徴とする。上述の手段により、本発明は、電磁石の磁場漏れを低減させる構造を有する射出成形機を提供することができる。以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本実施形態では、型締装置については、型閉じを行う際の可動プラテンの移動方向を前方とし、型開きを行う際の可動プラテンの移動方向を後方として説明する。図1は本発明の第1の実施形態に係る射出成形機の型閉じ時の状態を示す図、図2は本発明の第1の実施形態に係る射出成形機の型開き時の状態を示す図である。なお、図1及び図2のそれぞれにおける斜線ハッチング部分は、射出成形機の中心線を通る垂直面における断面を示す。図1において、10は型締装置を示し、Frは射出成形機のフレームを示し、GdはフレームFr上に敷設されてレールを構成し、型締装置10を支持するとともに案内する第1の案内部材としての2本のガイド図においては、2本のガイドGdのうちの1本だけを示す。を示す。また、11は、ガイドGd上に載置される第1の固定部材としての固定プラテンを示す。13は、固定プラテン11と所定の間隔を置いて、かつ、固定プラテン11と対向させて配置される第2の固定部材としてのリヤプラテン13を示す。固定プラテン11とリヤプラテン13との間には連結部材としての4本のタイバー14図においては、4本のタイバー14のうちの2本だけを示す。が架設される。なお、リヤプラテン13は、タイバー14が伸縮するのに伴って、ガイドGdに対してわずかに移動することができるようにガイドGd上に載置される。なお、リヤプラテン13は、フレームFr上に載置されてもよい。そして、タイバー14に沿って固定プラテン11と対向させて第1の可動部材としての可動プラテン12が型開閉方向に進退自在に配設される。そのために、可動プラテン12における、タイバー14と対応する箇所には、タイバー14を貫通させるための図示されないガイド穴が形成される。なお、可動プラテン12には、タイバー14の位置に対応する切り欠き部が形成されてもよい。タイバー14の前端部には図示されないねじ部が形成され、固定プラテン11とタイバー14とは、そのねじ部とナットとを螺合させることによって固定される。また、リヤプラテン13の前面には図示されないねじ受け部が形成され、リヤプラテン13とタイバー14とは、タイバー14の後端部に形成された図示されないねじ部とそのねじ受け部とを螺合させることによって固定される。また、固定プラテン11には第1の金型としての固定金型15が固定され、可動プラテン12には第2の金型としての可動金型16が固定される。固定金型15及び可動金型16によって金型装置19が構成される。そして、可動プラテン12の進退に伴って固定金型15と可動金型16とが接離させられ、型閉じ、型締め及び型開きが行われる。なお、型締めが行われるのに伴って、固定金型15と可動金型16との間に図示されないキャビティ空間が形成され、射出装置の射出ノズルから射出された成形材料としての図示されない樹脂がそのキャビティ空間に充填される。また、キャビティ空間に樹脂が充填された後、金型装置19が冷却され、キャビティ空間内の樹脂が冷却されて固化すると、型開きが行われる。このとき、可動プラテン12の背面に配設された図示されないエジェクタ装置が作動させられ、図示されないエジェクタピンが可動金型16から突き出され、成形品が取り出される。そして、可動プラテン12と平行に配設された第2の可動部材としての吸着板22が、リヤプラテン13より後方においてガイドGdに沿って進退自在に配設される。可動プラテン12と吸着板22との間には、可動プラテン12と吸着板22とを連結する型締力伝達部材としてのセンターロッド39が配設される。センターロッド39は、型閉じ時及び型開き時に、吸着板22の進退に連動させて可動プラテン12を進退させる。また、センターロッド39は、型締め時に、電磁石ユニット37によって発生させられた型締力を可動プラテン12に伝達する。第1の駆動部としての、かつ、型開閉用の駆動部としてのリニアモータ28は、可動プラテン12を進退させるために、吸着板22とフレームFrとの間にガイドGdに沿って配設される。リニアモータ28は、フレームFr上に、ガイドGdと平行に、第1の駆動要素としての固定子29、及び、第2の駆動要素としての可動子31を備える。固定子29は、吸着板22及び可動プラテン12の移動範囲に対応させて配設される。可動子31は、推進力伝達部としてのスライドベースSbを介して吸着板22の下端に取り付けられる。また、可動子31は、固定子29と対向させて、所定の範囲にわたって配設される。また、可動子31は、固定子29に向けて所定のピッチで突出する複数の磁極歯33が形成されたコア34、及び、各磁極歯33に巻装されたコイル35を備える。スライドベースSbは、可動子31の上面を覆って、前方に向けて延在させられる。そのために、リヤプラテン13の下端には、リニアモータ28、ガイドGd、スライドベースSb等を通過させるための空間215が形成される。その結果、リヤプラテン13は、空間215の両側に形成される一対の脚部を介してフレームFrに固定される。なお、脚部については詳細を後述する。また、固定子29は、図示されないコア、及びそのコア上に延在させて形成された図示されない永久磁石を備え、その永久磁石は、図示されないN極及びS極の各磁極を交互に着磁させることによって形成される。なお、リニアモータ28とセンターロッド39とは互いに非対称に配設される。したがって、コイル35に所定の電流を供給することによってリニアモータ28を駆動すると、可動子31が進退させられ、それに伴って、吸着板22及び可動プラテン12が進退させられ、型閉じ及び型開きが行われる。なお、本実施形態においては、固定子29に永久磁石を、可動子31にコイル35を配設するようになっているが、固定子にコイルを、可動子に永久磁石を配設することもできる。その場合、リニアモータ28が駆動されるのに伴って、コイルが移動しないので、コイルに電力を供給するための配線を容易に行うことができる。ところで、可動プラテン12が前進させられて可動金型16が固定金型15に当接すると、型閉じに続いて型締めが行われる。そして、型締めを行うために、リヤプラテン13と吸着板22との間に、第2の駆動部としての、かつ、型締め用の駆動部としての電磁石ユニット37が配設される。なお、固定プラテン11、可動プラテン12、リヤプラテン13、吸着板22、リニアモータ28、電磁石ユニット37、センターロッド39等によって型締装置10が構成される。電磁石ユニット37は、リヤプラテン13側に配設された第1の駆動部材としての電磁石49、及び吸着板22側に配設された第2の駆動部材としての吸着部51から構成される。電磁石49は、コア46、ヨーク47、及びコイル48から構成され、リヤプラテン13の背面の所定の部分に形成される。そのため、本実施形態において、リヤプラテン13は、電磁石ブロックとして機能する。吸着部51は、吸着板22の前端面の所定の部分、本実施形態においては、吸着板22においてセンターロッド39を包囲し、かつ、電磁石49と対向する部分に形成される。なお、コア46及びヨーク47、並びに吸着板22は、強磁性体から成る薄板を積層することによって形成されてもよい。本実施形態においては、リヤプラテン13とは別に電磁石49が、吸着板22とは別に吸着部51が形成されるが、リヤプラテン13の一部として電磁石を、吸着板22の一部として吸着部を形成することもできる。したがって、電磁石ユニット37において、コイル48に電流を供給すると、電磁石49が駆動され、吸着部51を吸着し、型締力を発生させることができる。そして、センターロッド39は、後端部において吸着板22と連結させて、前端部において可動プラテン12と連結させて配設され、型閉じ時に吸着板22が前進するのに伴って前進させられて可動プラテン12を前進させ、型開き時に吸着板22が後退するのに伴って後退させられて可動プラテン12を後退させる。センターロッド39の前進及び後退のために、リヤプラテン13の中央部分には、センターロッド39を貫通させるための穴41が形成される。吸着板22の中央部分には、センターロッド39を貫通させるための穴42が形成される。センターロッド39を受け入れて固定するためである。具体的には、センターロッド39の後端部にねじ43が形成され、ねじ43と、吸着板22に対して回転自在に支持されたナット44とが螺合させられる。ところで、型閉じが終了した時点で、吸着板22はリヤプラテン13に近接させられ、リヤプラテン13と吸着板22との間に所定のギャップδが形成される。また、最適なギャップδは、金型装置19の厚さが変化するのに伴って変化する。そこで、ナット44の外周面に図示されない大径のギヤが形成され、吸着板22に第3の駆動部としての、かつ、型厚調整用の駆動部としての図示されない型厚調整用モータが配設され、その型厚調整用モータの出力軸に取り付けられた図示されない小径のギヤと、ナット44の外周面に形成されたギヤとが噛合させられる。そして、金型装置19の厚さに対応させて、その型厚調整用モータを駆動し、ナット44をねじ43に対して所定量回転させると、吸着板22に対するセンターロッド39の位置が調整され、可動プラテン12に対する吸着板22の位置が調整され、ギャップδを最適な値にすることができる。なお、型厚調整用モータ、各ギヤ、ナット44、センターロッド39等によって型厚調整装置が構成される。また、各ギヤによって、型厚調整用モータの回転をナット44に伝達する回転伝達部が構成される。そして、ナット44及びねじ43によって運動方向変換部が構成され、その運動方向変換部において、ナット44の回転運動がセンターロッド39の直進運動に変換される。この場合、ナット44によって第1の変換要素が、ねじ43によって第2の変換要素が構成される。リニアモータ28は、センターロッド39より下方の、オフセットされた位置において、センターロッド39とオーバラップさせて配設されるので、型締装置10の全長を短くすることができる。次に、前記構成の型締装置10の動作について説明する。図示されない制御部の型開閉処理手段は、型開閉処理を行い、型閉じ時に、図2の状態において、コイル35に電流を供給する。続いて、リニアモータ28が駆動され、可動プラテン12が前進させられ、図1に示されるように、可動金型16が固定金型15に当接させられる。このとき、リヤプラテン13と吸着板22との間、すなわち、電磁石49と吸着部51との間には、最適なギャップδが形成される。なお、型閉じに必要とされる力は、型締力と比較されて十分に小さくされる。続いて、型開閉処理手段は、型締め時に、図1の状態において、コイル48に電流を供給し、吸着部51を電磁石49の吸着力によって吸着する。それに伴って、吸着板22及びセンターロッド39を介して型締力が可動プラテン12に伝達され、型締めが行われる。また、型締力は図示されない荷重検出器によって検出され、検出された型締力は制御部に送られ、その制御部において、型締力が設定値になるようにコイル48に供給される電流が調整され、フィードバック制御が行われる。この間、射出装置において溶融させられた樹脂が射出ノズルから射出され、キャビティ空間に充填される。なお、荷重検出器として、歪みセンサをセンターロッド39やタイバー14に設けるようにしてもよい。また、本実施形態においては、リヤプラテン13の背面に電磁石49が形成され、電磁石49と対向させて、吸着板22の前面に吸着部51が配設されるようになっているが、リヤプラテン13の背面に吸着部を配設し、その吸着部と対向させて、吸着板22の前面に電磁石を配設することもできる。この場合、吸着板22は、電磁石ブロックを形成する。また、本実施形態においては、第1の駆動部としてリニアモータ28が配設されるようになっているが、リニアモータ28に代えて電動式のモータ、油圧シリンダ等を配設することができる。なお、モータを使用する場合、モータを駆動することによって発生させられた回転の回転運動は、運動方向変換部としてのボールねじによって直進運動に変換され、可動プラテン12が進退させられる。ここで、図3を参照しながら、電磁石49を含むリヤプラテン13について説明する。なお、図3Aは、図1の破線を含む平面を矢印IIIAで示す方向から見た図であり、リヤプラテン13の吸着面13Sを示す。また、図3Bは、図3Aの矢印IIIBで示す方向から見たリヤプラテン13の側面を示す。本実施形態において、リヤプラテン13は、磁性体で形成され、コア46とコイル48で構成される電磁石49を含む電磁石ブロックを形成する。また、リヤプラテン13は、吸着面13Sの中央に、センターロッド39を貫通させるための穴41を有する。また、電磁石ブロックは、複数のコイルで構成されてもよい。リヤプラテン13の下端には、リニアモータ28、ガイドGd、スライドベースSb等を通過させるための空間215が形成される。その結果、リヤプラテン13は、空間215の両側に形成される一対の脚部216、216を介してフレームFrに固定される。なお、一対の脚部216、216のそれぞれは、リヤプラテン13の一部であり、リヤプラテン13の側方に突出し、図示しないボルト等の締結部材によってフレームFrに締め付けられる。また、脚部216は、例えば鋳造によりリヤプラテン13と同じ材料で一体的に形成されリヤプラテン13の一部を構成するが、リヤプラテン13とは別の独立した部材であってもよい。一対の脚部216、216は、リヤプラテン13の吸着面13SがフレームFrの延在方向に対して垂直となるようにリヤプラテン13を支持する支持部として機能する。脚部216の後方には、図3Bに示すように、リヤプラテン13の吸着面13Sと、吸着面13Sと同じ側を向く脚部216の表面S1とを前後に隔てる空間SP1が存在する。本実施形態では、リヤプラテン13の吸着面13Sと、脚部216の表面S1とは、それぞれ異なる平面上に位置し、互いに平行である。具体的には、図3Bに示すように、表面S1は、吸着面13Sから距離D1だけ前方に位置し、吸着面13Sから距離D1だけオフセットされた状態となる。なお、吸着面13Sと表面S1とは平行でなくてもよい。一方で、吸着面13Sと、吸着面13Sと同じ側を向く脚部216のもう1つの表面S2とは、同一平面上に位置する。すなわち、脚部216の下部は、上部よりも大きい厚さを有する。なお、吸着面13Sと表面S2とはそれぞれ異なる平面上に位置していてもよく、平行でなくてもよい。また、表面S1と表面S2とは同一平面上に位置していてもよい。すなわち、脚部216の下部は、上部と同じ厚さを有していてもよい。このように、厚さD1、高さH1、幅W1を有する空間SP1の存在により、リヤプラテン13は、電磁石49が発生させた磁場が、吸着面13S以外の表面から漏れるのを抑制することができる。具体的には、仮に空間SP1が脚部磁性体で満たされていたならば、その脚部を経由して、吸着面13Sに連続するその脚部の表面に漏出していた磁場を低減させることができる。このような磁場漏れの発生を抑制する効果は、厚さD1が大きいほど大きくなる。また、磁場漏れの発生を抑制する効果が大きいほど、吸着面13Sに形成される磁場の低下、すなわち電磁石49の吸着力の低下を抑制することができる。次に、図4を参照しながら、電磁石49を含むリヤプラテンの別の実施形態13Aについて説明する。なお、図4Aは、図3Aに対応する図であり、リヤプラテン13Aの吸着面13ASを示す。また、図4Bは、図4Aの破線を含む平面を矢印IVBで示す方向から見た断面図である。本実施形態では、リヤプラテン13Aは、側方に突出する一対の脚部216A、216Aを有する。脚部216Aは、リヤプラテン13Aの一部であり、図示しないボルト等の締結部材によってフレームFrに締め付けられる。また、脚部216Aは、例えば鋳造によりリヤプラテン13Aと一体的に形成されリヤプラテン13Aの一部を構成するが、リヤプラテン13Aとは別の独立した部材であってもよい。脚部216Aは、リヤプラテン13Aの吸着面13ASがフレームFrの延在方向に対して垂直となるようにリヤプラテン13Aを支持する支持部として機能する。本実施形態では、リヤプラテン13Aの吸着面13ASと、吸着面13ASと同じ側を向く脚部216Aの表面216ASとは、それぞれが同一平面上に位置し、互いに不連続となるように形成される。具体的には、図4Bに示すように、吸着面13ASと表面216ASとは、深さD2、高さH2、幅W2の空隙216AGを隔てて配置される。この構成は、例えば、吸着面13ASと脚部216Aの表面とが同一平面上で連続するように一体形成された材料に溝を形成することによって実現される。但し、空隙216AGは、リヤプラテン13Aを鋳造する際に形成されていてもよい。以上の構成により、脚部216Aは、空隙216AGにより、電磁石49が発生させた磁場が、吸着面13AS以外の表面から漏れるのを抑制することができる。なお、脚部216Aは、本実施形態では、表面216ASに開口がある空隙216AGを有する。しかしながら、本発明はこれに限定されない。例えば、脚部216Aは、表面216ASに開口がある空隙216AGに加え或いはその代わりに、脚部216Aを構成する、表面216AS以外の他の面に開口がある空隙を有していてもよい。次に、図5を参照しながら、電磁石49を含むリヤプラテンのさらに別の実施形態13Bについて説明する。なお、図5Aは、図3A及び図4Aに対応する図であり、リヤプラテン13Bの吸着面13BSを示す。また、図5Bは、図5Aの破線を含む平面を矢印VBで示す方向から見た断面図である。本実施形態では、リヤプラテン13Bは、側方に突出する一対の脚部216B、216Bを有する。脚部216Bは、リヤプラテン13Bの一部であり、図示しないボルト等の締結部材によってフレームFrに締め付けられる。また、脚部216Bは、例えば鋳造によりリヤプラテン13Bと一体的に形成されリヤプラテン13Bの一部を構成するが、リヤプラテン13Bとは別の独立した部材であってもよい。脚部216Bは、リヤプラテン13Bの吸着面13BSがフレームFrの延在方向に対して垂直となるようにリヤプラテン13Bを支持する支持部として機能する。本実施形態では、リヤプラテン13Bの吸着面13BSと、吸着面13BSと同じ側を向く脚部216Bの表面216BSとは、それぞれが同一平面上に位置し、一部が連続するように形成される。具体的には、図5Bに示すように、吸着面13BSと表面216BSとは、深さD3、高さH3、幅W3の凹部216BRを間に挟み、凹部216BRの両側で連続するように配置される。この構成は、例えば、吸着面13BSと脚部216Bの表面とが同一平面上で連続するように一体形成された材料に凹部を形成することによって実現される。但し、凹部216BRは、リヤプラテン13Bを鋳造する際に形成されていてもよい。以上の構成により、脚部216Bは、凹部216BRにより、電磁石49が発生させた磁場が、吸着面13BS以外の表面から漏れるのを抑制することができる。また、脚部216Bは、脚部216Aと異なり、吸着面13BSと表面216BSとを凹部216BRの両側で連続させるため、リヤプラテン13Bの剛性ひいては設置安定性を更に向上させることができる。なお、脚部216Bは、本実施形態では、吸着面13BSと表面216BSとが凹部216BRの両側の2箇所でつながるように配置される凹部216BRを有する。しかしながら、本発明はこれに限定されない。例えば、脚部216Bは、吸着面13BSと表面216BSとが凹部216BRの片側の1箇所のみでつながるよう配置される凹部216BRを有していてもよい。また、脚部216Bは、凹部216BRが脚部216Bを前後に貫通するように凹部216BRを形成してもよい。また、脚部216Bは、表面216BSに形成される凹部216BRに加え或いはその代わりに、脚部216Bを構成する、表面216BS以外の他の面に開口を有する凹部を形成してもよい。また、脚部216Bは、1つの面に複数の凹部を形成してもよい。以上、本発明の好ましい実施形態について詳説したが、本発明は、上述した実施形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなしに上述した実施形態に種々の変形及び置換を加えることができる。例えば、上述の実施形態では、脚部216、216A、216Bは、リヤプラテン13、13A、13Bの側方に突出するように構成されるが、リヤプラテン13、13A、13Bの下方に突出するように構成されてもよい。この場合、空間SP1、空隙261AG、凹部216BRは、上述のようにリヤプラテン13、13A、13Bの側端に隣接するように形成される代わりに、リヤプラテン13、13A、13Bの下端に隣接するように形成される。リヤプラテン13、13A、13Bの吸着面13S、13AS、13BSと脚部216、216A、216Bの表面S1、216AS、261BSと完全に或いは部分的に隔てるようにするためである。また、脚部216、216A、216Bは、その一部がリヤプラテン13、13A、13Bの側方に突出し、別の一部がリヤプラテン13、13A、13Bの下方に突出するよう構成されてもよい。この場合、空間SP1、空隙216AG、凹部216BRは、リヤプラテン13、13A、13Bの下端にある2つの角部のそれぞれに隣接するよう形成される。リヤプラテン13、13A、13Bの吸着面13S、13AS、13BSと脚部216、216A、216Bの表面S1、216AS、261BSとを完全に或いは部分的に隔てるようにするためである。また、上述の実施例では、空間、空隙、凹部の形状に直方体又は立方体が採用されている。しかしながら、本発明はこれに限定されることはない。例えば、空間、空隙、凹部の形状に他の複雑な形状が採用されてもよい。また、上述の実施形態では、空間、空隙、凹部には何れの部材も挿入されることはない。しかしながら、本発明はこれに限定されることはない。例えば、リヤプラテンの剛性を増大させるために、空間、空隙、凹部に非磁性体が挿入されてもよい。また、上述の実施形態は、横型射出成形機における電磁石ブロックの特徴的な構造を説明する。しかしながら、本発明はこれに限定されることはない。例えば、上述の特徴的な構造は、竪型射出成形機における電磁石ブロックに適用されてもよい。