エンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトに関して安定化される、高エネルギーフェムト秒パルスレーザであって、前記レーザは、エンベロープ周波数60及びキャリア周波数50を有する入力レーザパルス10の列を生成するように構成され、増幅されることになるレーザパルスの供給源1と、前記入力レーザパルス10を時間伸長するように構成された伸長手段2、伸長されたレーザパルス20を増幅するように構成された光増幅手段3、3a、3b、及び増幅されたレーザパルス30を時間圧縮するように構成された圧縮手段4を含むチャープパルス増幅手段と、前記出力レーザパルスのエンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトを制御する手段と、を備え、前記エンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトを制御する手段は、前記出力レーザパルス40のエンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトを時間の関数として安定化させるように、前記レーザパルスの光学経路に配置される電気光学調整手段を備えることを特徴とする高エネルギーフェムト秒パルスレーザ。前記電気光学調整手段は、横ポッケルス効果電気光学位相調整器5を備えることを特徴とする、請求項1に記載の超短パルスレーザ。前記レーザパルスの偏光方向に対する前記ポッケルス効果調整器5の正常光軸及び/又は異常光軸を角度的に位置合わせする手段を更に備えることを特徴とする、請求項1又は2に記載の超短パルスレーザ。前記ポッケルス効果調整器5は、前記チャープパルス増幅手段の光学経路上に配置されることを特徴とする、請求項2又は3に記載の超短パルスレーザ。前記伸長手段2及び/又は前記圧縮手段4は、少なくとも1つのプリズム43、44を備え、前記電気光学調整手段は、それぞれ前記プリズム43、44の各面に堆積される電極43a、43b、44a、44bと、前記プリズム43、44の屈折率の調整を引き起こすように前記電極の端子に電場を印加するための手段とを備えることを特徴とする、請求項1に記載の超短パルスレーザ。前記伸長手段及び/又は前記圧縮手段は、それぞれ前記光学ビームの空間オフセットを補償するように配置される2つのプリズム43、44を備え、前記電気光学調整手段は、それぞれ2つのプリズム43、44の各面に堆積される電極43a、43b、44a、44bと、前記2つのプリズム43、44の屈折率を調整するように前記2つのプリズム43、44の前記電極の端子に電場を印加するための手段とを備えることを特徴とする、請求項5に記載の超短パルスレーザ。前記電気光学調整手段は、数Hzから数MHzの間の作動周波数を有することを特徴とする、請求項1から6のいずれかに記載の超短パルスレーザ。前記出力レーザパルスのエンベロープ周波数60とキャリア周波数50との間の位相ドリフトを時間の関数として測定する手段と、前記電気光学手段によって引き起こされた調整を前記エンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトの関数として調節するようになったフィードバックループと、を更に備えることを特徴とする、請求項1から7のいずれかに記載の超短パルスレーザ。高エネルギーフェムト秒パルスレーザのエンベロープ周波数60とキャリア周波数50との間の位相ドリフトの安定化方法であって、該方法は、エンベロープ周波数60及びキャリア周波数50を有する入力レーザパルス10の列を生成する段階と、前記入力レーザパルスを時間伸長する段階、前記伸長されたレーザパルス20を光学増幅する段階、及び前記伸長及び増幅されたレーザパルス30を時間圧縮する段階を含む、前記入力レーザパルス10をチャープパルス増幅する段階と、を含み、前記チャープパルス増幅する段階は、出力レーザパルス40のエンベロープ周波数60とキャリア周波数50との間の位相ドリフトを安定化させる段階を含み、前記エンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトを安定化させる段階は、前記出力レーザパルスのエンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトを時間の関数として安定化させるように光学部品の電気光学を調整する段階を含むことを特徴とする安定化方法。前記出力レーザパルスのエンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトを時間の関数として測定する段階と、フィードバック電気光学位相調整を前記エンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトの関数として調節する段階と、を更に含むことを特徴とする、請求項9に記載の安定化方法。本発明の1つの目的は、高い繰り返し周波数kHzからMHz程度で作動する高エネルギーのチャープパルス増幅レーザに適用可能であり、低コストのCEPの安定化のための装置及び方法を提供することである。本明細書では、高エネルギーレーザパルスは、ナノジュールよりも大きなエネルギーを有するレーザパルスを意味する。詳細には、本発明は、エンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトに関して安定化された、高エネルギーのフェムト秒パルスレーザに関し、このレーザは、エンベロープ周波数及びキャリア周波数を有する入力レーザパルス列を発生するように構成される、増幅されることになるレーザパルスの供給源と、入力レーザパルスを時間伸長するように構成される伸長手段、伸長されたレーザパルスを増幅するように構成される光増幅手段、及び増幅されたレーザパルスを時間圧縮するように構成される圧縮手段を含むチャープパルス増幅手段と、出力レーザパルスのエンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトを制御する手段と、を備える。本発明によれば、エンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトを制御する手段は、レーザパルスの光学経路に配置されて、出力レーザパルスのエンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトを時間の関数として安定化する、電気光学調整手段を備える。本発明の第1の実施形態によれば、電気光学調整手段は、横ポッケルス効果電気光学位相調整器を備える。本発明の第1の実施形態の特定の態様によれば、-レーザは、レーザパルスの偏光方向に対するポッケルス効果調整器の正常光軸及び/又は異常光軸を角度方向に位置合わせする手段を更に備え、-ポッケルス効果調整器は、チャープパルス増幅手段の光学経路に配置される。本発明の第2の実施形態によれば、伸長手段及び/又は圧縮手段は、少なくとも1つのプリズムを備え、電気光学調整手段は、それぞれプリズムの両面に配置される複数の電極と、プリズムの屈折率を調節するように電極の端子に電場を印加する手段を備える。本発明の第2の実施形態の特定の態様によれば、伸長手段及び/又は圧縮手段は、光学ビームの空間オフセットを補償するように配置された2つのプリズムをそれぞれ備え、電気光学調整手段は、それぞれ2つのプリズムの両面に配置される複数の電極と、電極の端子に電場を印加する手段を備え、2つのプリズムの屈折率を調節するようになっている。本発明の種々の特定の態様によれば、-電気光学調整手段は、数Hzから数MHzの間の作動周波数を有し、-レーザは、出力レーザパルスのエンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトを時間の関数として測定する手段を更に備え、及び/又は-レーザは、エンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトの測定値の関数として、電気光学手段によって引き起こされる調整を調節するためのフィードバックループを更に備える。また、本発明は、高エネルギーナノジュールよりも大きいフェムト秒パルスレーザのエンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトを安定化させる方法に関し、本方法は、-エンベロープ周波数及びキャリア周波数を有する入力レーザパルス列を発生する段階と、-入力レーザパルスをチャープパルス増幅する段階であって、該段階は、入力レーザパルスを時間伸長する段階と、伸長されたレーザパルスを光学増幅する段階と、伸長及び増幅されたレーザパルスを時間圧縮する段階とを含み、-チャープパルス増幅する段階は、出力レーザパルスのエンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトを安定化する段階を含む。本発明による方法によれば、エンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトを安定化する段階は、出力レーザパルスのエンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトを安定化するために時間の関数として光学部品を電気光学調整する段階を含む。本発明の特定の態様の方法によれば、本方法は、-出力レーザパルスのエンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトを時間の関数として測定する段階と、-エンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトの測定値の関数として、フィードバック電気光学位相調整を調節する段階と、を更に含む。また、本発明は、以下の説明で明白になり、単独で又は何らかの技術的に可能な組み合わせで考える必要がある特徴に関する。例示目的の本明細書によれば、添付図面を参照して本発明の実施方法を良好に理解できるはずである。第1の実施形態第1の実施形態は、1つだけのオプトエレクトロニクス部品を用いた光パルスのCEPの調整に基づく。詳細には、第1の実施形態は電気光学タイプの調整器の使用に基づき、その原理を以下に詳細に説明する。分散光学要素内を伝搬するレーザパルスを考察する。位相時間Tφ及び群遅延時間Tgは、それぞれ以下の式1.a及び1.bで定義される。1.a.1.bここで、cは真空中の光速、Lは光学ビームが分散要素内を移動する長さ、ω0はレーザの中心角周波数、nω0及びngω0はそれぞれ周波数ω0での媒体中の屈折率及び群屈折率を表す。従って、群速度と位相速度との間の差分により引き起こされる遅延は、式2のようになる。2群屈折率ngは、波動ベクトルk[k=nω/c]の加群と関連し、式3aの関係にあり、3aこれにより、群屈折率を屈折率及び波長λ0の関数として表現できる。3b従って、式2は式4で表すことができる。4媒体に印加される電場Eは、屈折率の横ポッケルス効果変動を引き起こす。本明細書では、例えばニオブ酸リチウムLiNbO3クリスタルを方位Ozで伝搬する光パルスを考察する。しかしながら、同じ原理は、ポッケルス効果を示すRTPやKTA等の他の非線形クリスタルに適用できる。レーザ場は、電場と同じように方位Oxに直線偏光すると仮定され、軸Oxは異常軸に一致する。従って、印加される電場はパルスビームの伝搬軸を横切る。次に、正常n0屈折率及び異常ne屈折率は、電場E、並びに電気光学テンソル成分r13及びr33の関数として得られ、以下の関係にある。5.15.2.次に、式5.2の関係を用いると、電場を印加した場合の遅延の変動が得られる群速度と位相速度との間の差分により引き起こされる。6これは最終的に以下の形でCEP変動を表現することができる。7従って、エンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトΔφCEPは、電気光学調整器の端子に印加される電場Eの線形関数である。このような調整器に適切な電圧を印加することで、結果的に、超短パルスレーザのCEP変動を補正することが可能になる。このデバイスがフィードバックループを伴う場合、CEPを制御することが可能になる。実験用CEP制御デバイス例えばニオブ酸リチウムLiNbO3クリスタルで構成される横ポッケルス電気光学調整器の性能を試験するために、2つの異なる実験用デバイスを使用した。方位Oyのクリスタル表面に電圧を印加することができる金メッキを施した。レーザ放射は、方位Oxに直線偏光される。第1のデバイス本説明は、スペクトル干渉法の測定に基づいている。例えば業務用モデルSuperK商標Compactといった広周波数スペクトルレーザ11は、NKTphotonics社から販売されている。このレーザは、24kHzの繰り返し率で作動し、放射される放射線スペクトルは、600から900nmの幅があり、パルスの持続時間はns程度であり、照射平均出力は約100mWである。図2は、マッハツェンダータイプの干渉計に接続されるレーザ11を示し、図2のグラフに図式的に示す電場Utが印加される、ニオブ酸リチウムクリスタル5により引き起こされる放射線のスペクトルの位相の変動を測定するために使用される。電気光学位相調整器5は干渉計の一方のアームに挿入され、二次位相分散の影響は、適切な長さの分散性材料を備える他方のアームで補償される一次位相は光学遅延ライン8a又は8bで補償される。再結合後、ビームは、調整器によって引き起こされたCEP変動を直接取り出すことができる分光計に送られる。数百ms程度の期間だけ電圧を印加する。電圧発生器で制御されるメンブラン7により、2つの時系列中の放射線の選択が可能になり、一方は電圧が印加される時間Ut≠0に対応し、他方は電圧が印加されない時間Ut=0に対応する。これらの状况において、例えば図3に示すように、分光計の出口において比較のために、電圧が存在しない場合の干渉縞図3の実線カーブと重なり合った電圧が存在する場合の干渉縞図3の破線カーブの画像を記録することができる。横ポッケルス電気光学調整器のクリスタル5に印加する電圧Uの振幅を変えることで、CEP変動を電場の関数でプロットすることができる。図4は、電気光学調整器に印加される異なる電場値に関するCEP測定値■で示す、並びに直線回帰曲線一点鎖線を示す。また、印加電圧をこれから得られる位相変動に関連づける係数を決定できる。第2のデバイス第2のデバイスにおいて、横ポッケルス電気光学システム5は、チタンサファイヤタイプのチャープパルス増幅レーザの経路上に配置され、モードロック発振器のレーザはCEP安定化される。CEP変動は、印加された電場の関数として、kHzよりも高い周波数でショットバイショット測定を可能にする、内部で開発された高速f-2f干渉計によって、直接測定される。図5は、この第2のデバイスによるレーザシステムを概略的に示す。これは、モードロック発振器1、伸長器2、1つ又は複数の増幅段3a、3b、及び圧縮器4を備える。図5に示す実施例において、伸長器2及び圧縮器4は、回折格子21、22、41、42に基づいている。発振器1は、100MHz程度の繰り返し率、約1nJのエネルギー、及び数十nmの分光幅の超短パルス10を伝送する。最終的に、レーザシステムは、2mJでその持続時間が35fsに近い増幅及び再圧縮されたパルス40を送出する。増幅後のCEPショットバイショット残留ノイズは約320mradである1時間にわたって。電気光学調整器5は、伸長器2と再生増幅器3a、3bとの間に配置される。図6は、時間の関数としてのショットバイショットのCEP変化の測定値を示す。異なるステップは、電気光学調整器5に印加される異なる電圧U=-5kV、U=-2.5kV、U=2.5kV、U=5kV、U=3.5kVに対応する。破線は、時間の関数として緩慢なCEPドリフトを示す。このデバイスにより、kHzよりも高い繰り返し率でCEPの推測的調整が可能になり、これを検証するために、時間の関数としてクリスタルに数ボルトが印加されている。図7は、f-2f干渉計の干渉稿によって実験的に観測したCEPの周期的変化を示し、クリスタルに印加される電圧は、正弦波状図7A、鋸歯状図7B、又は矩形波状図7Cに調整される。この測定値は、回折格子ベースの伸長器及び圧縮器を用いて、CEP安定化チャープパルス増幅TiSチェーンの出力で得られる。図8は、電場の調整によって課せられ、f-2f干渉計で観測される干渉稿から推測されるCEPの変化をプロットしたものである。より明瞭にするために、位相は、正常軸に添ってオフセットされる。実線カーブは10Hzの電気光学調整器の周波数、破線カーブは50Hzの周波数、一点鎖線カーブは100Hzの周波数、最後に点線カーブは500Hzの周波数に対応する。数ヘルツから数百ヘルツにわたる各周波数でのCEPの調整が事実上観察される。第2の実施形態本発明の第2の実施形態は、プリズム圧縮器の使用、及びCEPの制御のために電気光学作用による圧縮器のプリズムの屈折率の調整に基づいている。例えば、図9Aに概略的に示す二重経路構成のプリズム圧縮器を考察する。圧縮器4は、第1のプリズム43、第2のプリズム44、及びミラー45を備える。入力パルス30は、光学ビームの軸を横切る実線で概略的に示されている。分離ライン6により、入射ビームを圧縮器の出力ビームから分離することができる。本来知られているように、第1のプリズム43は、入力パルスをパルススペクトルに存在する波長の関数として空間的に分散する。第1のプリズムの出口において、3つの空間的に分離されたビームそれぞれλ1、λ2、及びλ3が示される。また、第2のプリズム44は、ビームの分散を引き起こす。ミラー45での反射後、第2のプリズム44及び第1のプリズム43を通過して、3つのビームλ1、λ2、及びλ3は空間的に再結合するが、各々は同じ光学経路を辿らないので時間的にオフセットしている。従って、出力パルス40は、入力パルス30の分散のよって時間圧縮されることができる。電極は、プリズム43及び/又は44の反対面に金属層43a、43b、44a、44bを堆積することで形成される図9参照。従って、各電極の間に印加される電場は、パルスビームの伝搬軸を横切る。その結果、電気光学作用で電圧を印加することでプリズム43及び/又は44の屈折率を調整して、圧縮器4によって導入される分散を調整することが可能になる。2つのプリズム43及び44に同じ電圧を印加することで、システムは、完全に対称のままとなり、レーザビームのポインティング上で変動が誘導されない。4つのプリズムを使用し前述のプリズムの各々が2つのプリズムで構成される、高さ方向において圧縮器内のビームの往復経路をシフトすることで、各プリズムに印加される電圧は、同じ位相シフト作用を得るために2つに分割することができる。印加される電場の関数としての位相遅延と群遅延との間の差の変動の計算は、本方法が効率的にCEPの制御を可能にすることを示す。本発明は、特に高エネルギーのチャープパルス増幅レーザに適用可能な、CEPの高速補正のための単純で比較的安価な装置のいくつかの実施形態を提示する。本発明の装置及び方法により、超短フェムト秒パルスレーザのCEP補正が可能になる。更に、本発明により、数Hzから数MHzにわたる非常に高い周波数でのCEPのショットバイショット補正が可能になる。本装置は、パルスレーザのCEPドリフトを安定化させるために、数十kHzから数MHzの周波数で好都合に使用することができ、この繰り返し率は、光学部品プリズム板又は他の光学機械的調整手段の挿入に基づく装置では実現できなかった周波数を含んでいる。本発明の装置及び方法は従来のCPAレーザに使用できる。