"光ファイバにおいて、i第1の屈折率n1を有するコア;およびii前記コアを取り囲み、n1>n2となるような第2の屈折率n2を有するクラッドであって、前記光ファイバの長さに亘り縦に延在する少なくとも二組のガラス応力ロッドを有し、該少なくとも二組のガラス応力ロッドの内の一組の応力ロッドが、他の組の応力ロッドのCTEおよび/または軟化点とは異なるCTEおよび/または軟化点を有するものであるクラッド;を備え、iii前記光ファイバが、動作波長範囲内で単一偏波モードを支援する、または偏波保持特性を有することを特徴とする光ファイバ。一組の応力ロッドにおける前記応力ロッドの少なくとも2つが、他の組の少なくとも2つの応力ロッドの材料とは異なる材料から製造されていることを特徴とする請求項1記載の光ファイバ。前記コアが、0.1≦Δ1≦2となるような、前記クラッドに対する相対屈折率Δ1を有し、かつ6から40質量のGeを含み、前記クラッドが、Bがドープされたシリカ系ガラスであり、前記応力ロッドの内の少なくとも2つが、純粋なシリカ、もしくはFまたはBがドープされたシリカのいずれかであることを特徴とする請求項1記載の光ファイバ。前記クラッドが以下のドーパント:1から5質量のB2O3、0.1から2質量のF、0.1から1質量のClの内の少なくとも1種類を含むことを特徴とする請求項3記載の光ファイバ。前記クラッドが、2.5から3.5質量のB2O3、および/または0.2から0.5質量のClを含むことを特徴とする請求項4記載の光ファイバ。前記コアが、0.2≦Δ1≦2となるような、前記クラッドに対する相対屈折率Δ1を有し、かつ6から40質量のGeを含み、前記クラッドが、Bがドープされたシリカ系ガラスであり、前記応力ロッドの内の少なくとも2つが、前記クラッドの量とは異なる量のBがドープされており、前記応力ロッドの別の少なくとも2つのが純粋なシリカであることを特徴とする請求項1記載の光ファイバ。前記応力ロッドの少なくとも1つのCTEが約5×107/°Cであり、該応力ロッドの別の1つのCTEが約5×106/°Cであることを特徴とする請求項1記載の光ファイバ。前記応力ロッドの内の2つが、前記コアに圧縮力を印加し、該応力ロッドの内の他の2つが該コアに引張力を印加することを特徴とする請求項1記載の光ファイバ。前記応力ロッドの内の2つが、前記クラッドのCTEより小さいCTEを有し、該応力ロッドの内の他の2つが該クラッドのCTEより大きいCTEを有することを特徴とする請求項1記載の光ファイバ。前記応力ロッドの内の少なくとも2つが純粋なシリカロッドであることを特徴とする請求項1記載の光ファイバ。異なるCTEを有する二組の応力ロッドを備えたファイバを製造する方法であって、応力印加ロッドを挿入するための少なくとも4つの孔を有するプリフォームを製造する工程を有してなる方法。異なるCTEを有する二組の応力ロッドを備えたファイバを製造する方法であって、iコアロッドを複数の応力印加ロッドで取り囲む工程であって、該複数の応力印加ロッドが、異なるCTEを有する二組のロッドを含む工程を有してなる方法。前記複数のロッドが、前記二組の応力印加ロッドのCTEとは異なるCTEを有する第三組のロッドを含むことを特徴とする請求項12記載の方法。互いに異なる軟化点を有する三組のロッドを備えたファイバを製造する方法であって、iコアロッドを複数の応力印加ロッドで取り囲む工程であって、該複数の応力印加ロッドが、異なる軟化点を有する二組のロッドを含む工程を有してなる方法。前記複数のロッドが、前記応力印加ロッドのいずれか1つの軟化点とは異なる軟化点を有する、クラッド材料の第三組のロッドを含むことを特徴とする請求項14記載の方法。ここに引用されたどの文献も従来技術を構成するものとは認められない。本出願人は、任意の引用された文献の精度と関連性を厳密に調べる権利を明白に保有する。以下の定義および用語法は当該技術分野において一般に使用されている。屈折率プロファイル-屈折率プロファイルは、光ファイバの選択された部分に亘る光ファイバ材料の屈折率と、光ファイバの半径光ファイバの中心線から測定されるとの間の関係である。複屈折-複屈折は、光ファイバにおける基本モードの2つの垂直に偏波された状態の有効屈折率の差である。半径-ファイバセグメントの半径は、一般に、使用される材料が異なる組成になるためにその材料の屈折率が変化する地点に対して定義される。例えば、中心コアは、そのセグメントの最初の地点が中心線上にあるので、ゼロの内径を有する。中心コアセグメントの外径は、導波路の中心線から、正のデルタを有する中心コアの屈折率の最後の地点まで引かれた半径である。中心線から離れた第1の地点を有するセグメントについては、導波路の中心線から最初の屈折率地点の位置までの半径が、そのセグメントの内径である。同様に、導波路の中心線からそのセグメントの最後の屈折率地点までの半径が、そのセグメントの外径である。例えば、中心コアを取り囲むダウンドープされた環状セグメントは、その環状セグメントとクラッドとの間の界面に位置する外径を有するであろう。相対屈折率パーセントΔ-Δという用語は、式:Δ=100×ni2-nc2/2ni2により定義される屈折率の相対的尺度を表し、ここで、Δは、Iで示される屈折率プロファイルセグメントの最大屈折率であり、基準屈折率であるncは、クラッド層の屈折率と解釈される。そのセグメントの全ての地点が、クラッドに対して測定された関連する屈折率を有する。本発明の少なくともいくつかの実施の形態によれば、光ファイバは、i第1の屈折率n1を有するコア;およびiiコアを取り囲み、n1>n2となるような第2の屈折率n2を有するクラッドであって、光ファイバの長さに亘り縦に延在する少なくとも二組のガラス応力ロッドを有し、これら少なくとも二組のガラス応力ロッドの内の一組の応力ロッドが、他の組の応力ロッドのCTEおよび/または軟化点とは異なるCTEおよび/または軟化点を有するものであるクラッド;を備えiii光ファイバが、動作波長範囲内で単一偏波モードを支援する、または偏波保持特性を有する。追加の特徴および利点は、以下の詳細な説明に述べられており、一部は、その説明から当業者には容易に明白であるか、または説明とその特許請求の範囲、並びに添付の図面にに記載された実施の形態を実施することによって認識されるであろう。先の一般的な説明および以下の詳細な説明の両方は、単なる例示であり、請求項の性質および特徴を理解するための概要または構成を提供することが意図されているのが理解されよう。添付の図面は、さらなる理解を提供するために含まれ、本明細書に包含され、その一部を構成する。図面は、1つ以上の実施の形態を示し、説明と共に、様々な実施の形態の原理および動作を説明するように働く。図2を参照すると、いくつかの実施の形態によれば、光ファイバ10は、シリカ系コア12;コア12を取り囲むクラッド14;およびクラッド14の内部に位置し、光ファイバ10の長さに亘り縦に延在する複数の応力ロッド13A,13Bを含む。応力ロッド14A,13Bは、互いに異なる熱膨張係数CTEであって、クラッドのCTEと異なるCTEを有する。クラッド14は、ドーパントの有無にかかわらず、シリカ系であってよいが、他のタイプのガラスをクラッド材料に使用してもよい。2つのタイプの応力ロッド、例えば、二対の応力ロッド13A,13Bを使用する場合、これらの応力ロッドは、異なる符号の応力誘発複屈折を生じる。すなわち、ある応力ロッド対により生じる応力は、別の応力ロッド対により生じる応力とは異なる符号を有する。これにより、コア材料中の総応力が増加し、したがって、PMまたはSPファイバ10の複屈折が増加するまたはビート長が減少する。例えば、ある実施の形態において、ファイバのビート長は、1550nmの波長で約3mmから25mmである。代わりに、または異なるCTEを有することに加えて、応力ロッド13A,13Bすなわち、応力印加部分は、異なる軟化点を有するガラスから製造されてもよく、これにより、コアに異なる機械的歪み誘発複屈折が生じる。シリカガラスの粘度、それゆえ、軟化点は、屈折率に著しく影響を与えずに、ガラスに塩素を添加することによって劇的に変えられることに留意されたい。ファイバのコア12は、円形または楕円形のいずれであっても差し支えない。コアが円形である場合、コアは、コアの半径Rコアにより特定される。応力ロッド13A,13Bの位置と寸法は、距離Dロット ゙応力ロッド13A,13Bの縁からファイバのコア12の縁までの距離、および応力ロッドの半径Rロット ゙A,Rロット ゙Bにより指定される。距離Dロット ゙は、例えば、0から約17μm、例えば、0μm、1μm、5μm、または10μmであってよい。ファイバの各部分の屈折率nは、クラッドに対するデルタによって特定される。図2の光ファイバ10について、特定すべきデルタ値クラッドに対するが3つあり、それは、コアのデルタ、Δコア、2つのタイプの応力ロッドのデルタ、Δロット ゙A応力ロッド13Aについて、Δロット ゙B応力ロッド13Bについてである。Δロット ゙AおよびΔロット ゙Bが0.1未満であることが好ましい。Δコアが0.2.から2、例えば、0.2から0.5または0.2から1であることが好ましい。コア12は、第1の屈折率n1を有する。クラッド14は、n1>n2となるような第2の屈折率n2を有する。応力ロッド13A,13Bは、異なるガラスから製造され、異なるCTEを有する。例えば、2つのホウ素ドープト応力ロッドおよび2つの純粋なシリカ応力ロッドを利用したファイバにおいて、ロッドのホウ素ドープトシリカガラス20質量のホウ素のCTEは約3×106/°Cであり、純粋なシリカガラスから製造された応力ロッドのCTEは約5.4×107/°Cである。したがって、応力ロッド13A,13Bは、ファイバのコア区域において、符号が反対の機械的応力を生じる。上述したように、応力ロッド13A,13Bは、クラッド14のものとは異なるガラスから製造されており、したがって、クラッドのCTEとは異なるCTEを有する。光ファイバ10は、単一偏波モードを支援する、または動作波長範囲内に偏波保持特性を有する。例えば、クラッドがホウ素を含む場合、応力ロッド13Aは、ファイバのコアに垂直方向の応力を生成するために純粋なシリカから製造されるであろう。あるいは、クラッド14が3質量のBを含む場合、応力ロッド13Aは、それより少ないB例えば、0.5から2.5質量のB2O3がドープされたシリカであってよい。例えば、Bドープされた応力ロッド図2のロッド13Bを用いて、水平方向に沿ってPMファイバのコア区域に応力を生成してもよいが、そのような実施の形態において、ロッド13Bは、クラッド14の量とは異なる量のBを有する。例えば、クラッド14が3質量のB2O3を含む場合、ロッド13Bはより多くのB例えば、5質量から25質量のB2O3を有する。二組のロッド13A,13Bは、水平方向と垂直方向に応力を好ましく生成するために異なる組成を有し、よってこれらの応力は反対の符号を有し、これによりファイバの複屈折が増加する。例えば、応力ロッド13BがBドープトシリカから製造される場合、応力ロッド13AはFがドープされたシリカであってよい。あるいは、一組のロッドから純粋なシリカから製造され、他の組の応力ロッドが、Fがドープされたシリカからなってもよい。垂直方向の応力と反対の符号の水平方向の応力をコアに生成するために、他のドーパントを利用してもよい。ある実施の形態において、一組の応力ロッドが約5×107/°CのCTEを有し、別の組の応力ロッドのCTEは約5×106/°Cである。ある実施の形態において、一組の応力ロッドが約4×107/°Cから1×106/°C例えば、5×107/°Cから8×107/°CのCTEを有し、他の組の応力ロッドは2×106/°Cより大きいたとえば、4×106/°Cから8×106/°Cより大きいCTEを有する。ある実施の形態において、クラッド14は、B、および必要に応じて他のドーパントがドープされたシリカ系ガラスである。他の実施の形態において、クラッド14は、Cl例えば、0.3質量から1質量がドープされたシリカ系ガラスである。ある実施の形態において、応力印加部分は2つの応力ロッド13Aと2つの応力ロッド13Bであり、これらは、クラッド材料のCTEとは異なるCTEを有する。例えば、応力ロッド13Aは、クラッド14の量よりも多い量のBがドープされたシリカからなり、応力ロッド13Bは純粋なシリカガラスからなる。ある実施の形態において、クラッド14は純粋なシリカクラッドであり、一組の応力ロッドはBがドープされ、他の組の応力ロッドはFがドープされていてよい。応力ロッド13A,13Bは、コア領域中の光弾性効果により応力複屈折を生じる。応力ロッド13Aの半径Rロット ゙Aは、4μmと20μmの間、好ましくは10μmと20μmの間、例えば、10μm、12μmまたは18μmである。応力ロッド13Aはファイバのコア12の外側に位置している。応力ロッド13Bの半径Rロット ゙Bは、4μmと20μmの間、好ましくは10μmと20μmの間、例えば、10μm、12μmまたは18μmである。応力ロッド13Bはファイバのコア12の外側に位置している。しかしながら、応力ロッド13A,13Bは、円形断面を有する必要なく、他の形状を有していてよい。例えば、いずれかの応力ロッドの対の内の応力ロッドは、弓形の形状を形成してもよい。以下の実施の形態において、コア12のクラッド14に対する相対屈折率デルタΔコアは、0.1と2間、より好ましくは0.2と1.0の間、さらにより好ましくは0.7未満または0.5未満、最も好ましくは0.3と0.5の間である。コア12が円形である場合、コア12の半径Rコアは、1~10μm、より好ましくは2.5~8μmの範囲にある。例えば、コアの半径は3.8μm、4μm、4.3μm、4.5μm、または5μmであってよい。クラッド14の半径は20μmと100μmの間にあり、好ましい値は40から62.5μmの辺りにある。実施の形態の少なくともいくつかにおけるコア12は、屈折率上昇材料がドープされている。屈折率上昇ドーパントがGeO2であることが好ましい。ある実施の形態によれば、ファイバのコア12は、0.2から15質量のGeを含み、以下の例示の実施の形態において、コア中のGeの量は約6質量である。ある実施の形態によれば、クラッド14は97質量のSiO2および3質量のBを含む。しかしながら、クラッドは、例えば、純粋なシリカ、または1から5質量のB2O3、例えば、2.5から3.5質量のB2O3がドープされたSiO2であってよい。様々な実施の形態が、以下の実施例によりさらに明確になるであろう。実施例1この実施の形態において、光ファイバ10はPMファイバであり、クラッド14は、ニューヨーク州コーニング所在のコーニング社から得られるVycor登録商標ガラスから製造されている。Vycorガラスは純粋なシリカ材料ではない。これは、ホウ素を含むシリカ系ガラスである。この例示の実施の形態において、クラッド14は、約97質量のシリカガラスおよび約3質量のB2O3を含むVycorガラスからなる。図2の光ファイバの実施の形態では、2つの応力ロッド13Aと2つの応力ロッド13Bを利用する。この実施の形態において、応力ロッド13Bは、ロッド13Aの対称軸軸Aに垂直な対称軸軸Bを有する。二対の応力ロッドにより生じる応力は、一般に、これらの軸に沿ってファイバのコア12に印加される。より多くの応力ロッドを利用してもよいことに留意されたい。例えば、2つのより大きい応力ロッド13Aまたは13Bの代わりに、4つまたは6つのより小さい応力ロッド13Aおよび/または13Bを使用してもよい。応力ロッド13Aおよび13Bは、互いに、またクラッド材料のものと、異なるガラス組成および異なるCTEを有する例えば、Vycorガラスと異なるCTEを有する材料。例えば、この実施の形態のBドープト応力ロッドは2×106/°CのCTEを有するのに対し、純粋なシリカロッドは5.4×107/°CのCTEを有し、クラッドは約8×106/°CのCTEを有する。純粋なシリカまたは純粋なシリカガラスという用語は、ここに用いたように、0.1質量未満のClより好ましくは0.05質量未満のCl、5ppb未満のOHを有し、他のドーパントを含まないSiO2ガラスを意味する。図3は、図2のファイバの断面に似た、線引きされたファイバの断面を示している。図3の光ファイバ10の直径は約126μmであり、コアの直径は約11.4μmであり、各応力ロッドの直径は32μmから33μmである。この例示のファイバにおいて、ファイバのクラッド材料は約97質量のSiO2および約3質量のBである。コア材料は、Δコア=0.25を提供するために約6質量のGeO2がドープされたSiO2である。一対の応力ロッドロッド13Bは純粋なシリカガラスであり、別の対の応力ロッドロッド13Aはホウ素約12質量がドープされたSiO2である。応力ロッド13Aおよび13Bは、反対の符号を有する機械的応力をファイバのコア区域に生成する。比較例この比較例は、同じコア12Δコア=0.25を提供するために約6質量のGeがドープされたSiO2、クラッド14このクラッドは、約97質量のシリカガラスおよび約3質量のホウ素を含むシリカ系ガラスであるを利用しているので、実施例1の光ファイバ10と似ているが、応力ロッド13Aは、クラッド14と同じ量のB3質量がドープされたシリカから製造されている。この比較例の応力ロッド13Bは純粋なシリカである。このファイバの直径は約127μmであり、コアの直径は約10.8μmであり、応力ロッドの直径は33μmから35μmである。この設計では、PMファイバのコア区域において、反対の符号を有する機械的応力は生じない。実施例2この実施例は実施例1と似ている。実施例2の光ファイバ10も、約97質量のシリカガラスおよび約3質量のホウ素を含むシリカ系ガラスであるクラッド14を含むが、応力ロッド13Aは純粋なシリカである。応力ロッド13Aは、コアのすぐ隣りに配置されても、またはコアから短い距離だけ離されてもよく、距離Dロット ゙は0から10μmである。この実施例の応力ロッド13Bは、P5質量がドープされたシリカであり、ロッド13Aよりもコアから離れている例えば、ロッド13Bは、縁から縁でコアから少なくとも10μmだけ離れている。それゆえ、垂直方向に軸Aコアに亘り応力ロッドによって生成される機械的応力は、水平方向軸Bの応力とは反対の符号のものである。すなわち、これらの軸の内の一方に沿って、応力は圧縮性であるのに対し、他方の軸に沿って、応力は引張性である。この光ファイバ10のファイバ複屈折は、応力ロッド13Aと13Bによって生じた応力差の結果である。その上、この実施例において、応力ロッド13Aのガラスは、応力ロッド13Bのガラスの軟化点とは異なる軟化点を有する。最終的なファイバ複屈折は応力ロッド13Aと13Bによって生じた応力差の結果であり、この応力は、CTEの差と、異なる軟化点を有する材料の使用による機械的歪みから生じるものである。実施例3この実施例は実施例1と似ている。実施例3の光ファイバは、0.3から1質量のClを含むシリカ系クラッド14を備え、応力ロッド13Aは少なくとも12質量のB2O3例えば、12質量から25質量を含むBドープトシリカであり、応力ロッド13Bは純粋なシリカであるすなわち、Clが0.1質量未満であり、OHが5ppb未満であり、他のドーパントを含まないシリカ。この実施例において、クラッド14および応力ロッド13BはCTEがわずかしか違わないが、このクラッドと応力ロッドのガラス材料の軟化点は非常に異なり、それゆえ、2つの材料のCTEの差から生じる歪みによる複屈折よりも著しく大きい、機械的歪み誘発複屈折を引き起こす。このファイバの実施例は、ファイバのコア区域に、符号が反対の機械的応力も有する。実施例4この実施例は実施例1と似ている。実施例4のファイバは、ホウ素がドープされた3質量シリカ系クラッド14を利用するが、応力ロッド13Aは純粋なシリカであり、応力ロッド13Bは、FとGeそれぞれ5質量がドープされたシリカである。この実施例において、クラッド14および応力ロッド13Aと13Bは、互いに異なるCTEを有する。その上、クラッドおよび応力ロッド13Aと応力ロッド13Bのガラス材料の軟化点も互いに異なる。それゆえ、ファイバのコアは、機械的歪み誘発複屈折並びに2つの応力ロッドの材料のCTEの差から生じる歪みによる複屈折を経験する。このファイバの実施例は、ファイバのコア区域に、符号が反対の応力も有する。応力ロッド13Bは、Fのみすなわち、Geを含まないがドープされたシリカであってよい。実施例5この実施例において、光ファイバ10は実施例1のファイバと似ているが、クラッド14は、0.5質量のFがドープされたシリカから製造されている。図2の光ファイバの実施例は、2つの応力ロッド13A、および2つの応力ロッド13Bを利用している。この実施例において、応力ロッド13Bは、ロッド13Aの軸軸Aに対して垂直な対称軸軸Bを有する。二対の応力ロッドにより生じる応力は、一般に、これらの軸に沿ってファイバのコア12に印加される。それより数の多い応力ロッドを利用してもよいことに留意されたい。例えば、2つのより大きい応力ロッド13Aまたは13Bの代わりに、4つまたは6つのより小さい応力ロッド13Aおよび/または13Bを使用してもよい。応力ロッド13Aおよび13Bは、異なるガラス組成を有し、互いから、またクラッド材料のCTEとは、異なるCTEを有する例えば、Vycorガラスとは異なるCTEを有する材料。例えば、この実施例のBドープト応力ロッドは2×106/°CのCTEを有するのに対し、純粋なシリカロッドは5.4×107/°CのCTEを有し、クラッドは約8×106/°CのCTEを有する。光ファイバ10の直径は約126μmであり、コアの直径は約11.4μmであり、各応力ロッドの直径は32μmから33μmである。この実施例のファイバにおいて、クラッドの材料は99.5質量のSiO2および0.5質量のFである。コア材料は、Δコア=0.25を提供するために約6質量のGeがドープされたSiO2である。一対の応力ロッドロッド13Bは純粋なシリカガラスであり、別の対の応力ロッドロッド13Aはホウ素約12質量がドープされたSiO2である。応力ロッド13Aと13Bは、ファイバのコア区域に、符号が反対の機械的応力を生成する。しかしながら、クラッド中に他の量のF、例えば、0.1から2質量のFを利用してもよい。ファイバの製造光ファイバ10は、例えば、iVycorガラス管20ファイバのクラッドを形成するに、複数の応力ロッドを挿入するための孔23、およびコアロッドのための中央孔22を設けることによって、ファイバプリフォームから製造することができる図4。コアロッドおよび応力ロッドをプリフォームのクラッド部分に挿入した後、得られたアセンブリを、より小さなブランクに再度線引きし、次いで、光ファイバ10、例えば、図2または3の光ファイバに線引きすることができる。あるいは、コアクラッドプリフォームコアクラッドブランクとも称されるを最初に製造し、次いで、応力ロッド23A,23Bを収容するための孔23をプリフォームのクラッド材料に適切な位置でドリルにより開けても差し支えない。そのようなコアクラッドブランクの例示の屈折率プロファイルが図5に示されている。このコアブランクの実施例において、ブランクのクラッド部分は3質量のBを含有していた。2つの応力ロッドを、13質量のBがドープされたシリカから製造した。他の2つの応力ロッドは、純粋なシリカから製造した。純粋なシリカの応力ロッド例えば、ロッド23Bは、固結プロセスの乾燥工程中にシリカスート中のヒドロキシルを除去するために、シリカスートプリフォームを塩素乾燥することによって製造することができる。次いで、シリカスートプリフォームは、一酸化炭素を導入することによって積極的に、または塩素を受動的に放出するために約1200°Cである期間に亘り例えば、2から10時間単にガス放出させることによって、塩素を除去する。ガス抜き後、スートプリフォームを約1450°CでHe雰囲気中において焼結固結プロセスの焼結工程し、適切なサイズの応力ロッド例えば、ロッド23Bに再度線引きされる。ガラス管20ファイバのクラッドに相当するがClドープトシリカ0.3から1質量のClにより製造されている場合、ガラス中にClを保持するために、焼結工程中にClが残されることを除いて、純粋なシリカのロッドを製造するための上述した方法と同様にそのガラス管を製造することができる。応力ロッド23A,23Bをそれぞれの孔23に挿入した後、組み立てられたファイバプリフォーム図6を真空下で線引きして、直径125μmのファイバを製造した。線引き温度は1875°Cと1925°Cの間であり、線引き速度は3m/sと7m/sの間であった。線引き張力は全てのサンプルについて40gであった。得られた例示の光ファイバの断面ファイバを切断した後が図3に示されているファイバの実施例1。この実施例の例示の光ファイバは、1550nmで2.5~4.5dB/kmのスペクトル減衰、および9.6~9.9μmのモードフィールド径MFD、並びに1550nmの波長での22~23mmの偏波ビート長を有した。あるいは、孔を有する管20を製造し、その後、その孔にロッドを充填するよりもむしろ、プリフォームを製造するためのバンドル手法を利用してもよい。この場合、対向するロッド例えば、純粋なシリカ、ホウ素ドープトロッドおよび塩素ドープトシリカロッドをコアロッドの周りに組み立て、次いで、周囲のシリカ管内に滑り込ませ、次いで、ファイバに線引きする。この方法により、典型的に、非円形断面を有する応力ロッドが得られる。このファイバにおいて、複屈折は、符号が反対の追加の組のロッドによって増加させられる。偏波ビート長は、広帯域光源、それぞれ、ファイバのサンプル長さ約1mの入力端と出力端に、直線偏光子および分析器を使用することよって測定した。測定した例示のファイバのサンプルの内の1つに関する光スペクトル分析器OSAの出力が図7に示されている。ビート長Lbは、OSA信号のスペクトル期間Δλ、中心波長λc我々の場合には1550nm、およびサンプルの物理的長さLを使用して計算される:Lb=Δλ/λc×L図3の5つの異なるファイバのサンプルに関して測定したビート長は、21.4mmと23.9mmの間であった。既に公知のファイバにより達成されたのと同じレベルの複屈折が、ここで、少ないドーパントを使用して、および/または複数の対の応力ロッドから生じたより小さい応力レベルを生成して、生じることが都合よいであろう。何故ならば、直交方向に生じた応力は反対の符号を有するからである。より少ないホウ素ドーピングレベルにより、PMファイバの製造が容易になるファイバの線引き段階。あるいは、また都合よくは、一対の応力ロッドが高レベルのBBドープト応力ロッドを有する従来のPMファイバに使用されるレベルと同じレベルを利用する場合、二組の応力ロッド13Aと13Bによって生じる応力差のために、従来のファイバにより達成できるよりも多量の複屈折を達成することができる。そうではないと明白に述べない限り、ここに述べたどの方法も、その工程を特定の順序で行う必要があるものと考えられるものでは決してない。したがって、方法の請求項が、その工程が従う順番を実際に列挙していない場合、またはそうでなければ、工程が特定の順序に制限されることが請求項または説明に具体的に述べられていない場合、どのような特定の順序も意味されるものでは決してない。光ファイバ10の少なくともいくつかの実施の形態の利点の内の1つは、応力ロッド13Aと13Bが異なるCTEを有し、それにより、応力ロッドの各対による、ファイバのコア区域内の応力誘発複屈折の符号が異なることである。全体の有効複屈折値は、市販のPMファイバの複屈折に対して実質的に増加されるか、または同じレベルの複屈折が、応力印加ロッドの低レベルのドーピングにより得られるであろう。同様に、互いから、またクラッド材料のものとは、異なる軟化点を有する応力ロッド13Aと13Bを使用すると、ファイバのコア区域において、応力ロッドの各対により複屈折が加わり、応力の符号が異なる。さらに、20質量のB2O3がドープされたシリカロッドの粘度より低い粘度を有する二組の応力印加部材例えば、応力ロッドを使用すると、線引きプロセスが複雑でなくなるおよび/または速くなることが都合よい。このことは、ブランクのサイズ、線引き速度に都合よく影響を与え、より低コストのファイバが得られる。本発明の精神すなわち範囲から逸脱せずに、様々な改変および変種を作製できることが当業者には明らかであろう。本発明の精神および本質を含む開示された実施の形態の改変、組合せ、副組合せ、および変種が当業者に考えられるであろうから、本発明は、添付の特許請求の範囲およびその同等物の範囲内の全てを含むと解釈すべきである。"