"電気光学効果を有する基板と、該基板に形成されたマッハツェンダー型光導波路を含む光導波路と、該光導波路を伝搬する光波を変調するための変調電極と、該光導波路からの出射光を導波する光ファイバとを有する光変調器において、該マッハツェンダー型光導波路から放出される2つの放射光を1つの受光素子に向けて集光する集光手段と、該受光素子が受光する該2つの放射光の光量比を調整する光量比調整手段とを有することを特徴とする光変調器。請求項1に記載の光変調器において、該集光手段は、該基板の端部に該光ファイバを接続するための補強用キャピラリに設けることを特徴とする光変調器。請求項1に記載の光変調器において、該集光手段は、レンズ、ミラー又は光ファイバの少なくとも一つを用いて構成することを特徴とする光変調器。請求項1乃至3のいずれかに記載の光変調器において、該光量比調整手段は、該受光素子の配置位置を調整する手段であることを特徴とする光変調器。請求項1乃至3のいずれかに記載の光変調器において、該光量比調整手段は、光強度調整フィルターであることを特徴とする光変調器。請求項1乃至5のいずれかに記載の光変調器において、該基板には、該放射光を導波する放射光用導波路が形成されていることを特徴とする光変調器。請求項1乃至6のいずれかに記載の光変調器において、該基板の厚みは20μm以下であることを特徴とする光変調器。本発明が解決しようとする課題は、上述したような問題を解決し、光変調器の出力光とモニタ光との位相差が補償可能であり、かつ簡単な構成で小型化可能な構成を有する光変調器を提供することである。上記課題を解決するため、請求項1に係る発明では、電気光学効果を有する基板と、該基板に形成されたマッハツェンダー型光導波路を含む光導波路と、該光導波路を伝搬する光波を変調するための変調電極と、該光導波路からの出射光を導波する光ファイバとを有する光変調器において、該マッハツェンダー型光導波路から放出される2つの放射光を1つの受光素子に向けて集光する集光手段と、該受光素子が受光する該2つの放射光の光量比を調整する光量比調整手段とを有することを特徴とする。請求項2に係る発明では、請求項1に記載の光変調器において、該集光手段は、該基板の端部に該光ファイバを接続するための補強用キャピラリに設けることを特徴とする。請求項3に係る発明では、請求項1に記載の光変調器において、該集光手段は、レンズ、ミラー又は光ファイバの少なくとも一つを用いて構成することを特徴とする。請求項4に係る発明では、請求項1乃至3のいずれかに記載の光変調器において、該光量比調整手段は、該受光素子の配置位置を調整する手段であることを特徴とする。請求項5に係る発明では、請求項1乃至3のいずれかに記載の光変調器において、該光量比調整手段は、光強度調整フィルターであることを特徴とする。請求項6に係る発明では、請求項1乃至5のいずれかに記載の光変調器において、該基板には、該放射光を導波する放射光用導波路が形成されていることを特徴とする。請求項7に係る発明では、請求項1乃至6のいずれかに記載の光変調器において、該基板の厚みは20μm以下であることを特徴とする光変調器。請求項1に係る発明により、電気光学効果を有する基板と、該基板に形成されたマッハツェンダー型光導波路を含む光導波路と、該光導波路を伝搬する光波を変調するための変調電極と、該光導波路からの出射光を導波する光ファイバとを有する光変調器において、該マッハツェンダー型光導波路から放出される2つの放射光を1つの受光素子に向けて集光する集光手段と、該受光素子が受光する該2つの放射光の光量比を調整する光量比調整手段とを有するため、受光径が小さな1つの受光素子を用いて、2つの放射光が同時に受光できる。しかも、2つの放射光は光変調器の出力光に対して逆相でそれぞれ正負にずれた特性を持っており、同時受光によりそれぞれの光強度が加算され出力特性が補償される。つまり、該受光素子が出力する電気信号の変化が、該光ファイバに導波される出射光の強度変化と逆相状態となるため、光変調器の出力光出射光と逆相状態となるモニタ光モニタ出力を容易に得ることができる。請求項2に係る発明により、集光手段は、基板の端部に光ファイバを接続するための補強用キャピラリに設けるため、部品点数の増加が抑制されるため、製造時の組立作業を容易にし、低コスト化を図ることが可能となる。請求項3に係る発明により、集光手段は、レンズ、ミラー又は光ファイバの少なくとも一つを用いて構成するため、多様な集光手段を形成することが可能となる。請求項4に係る発明により、光量比調整手段は、受光素子の配置位置を調整する手段であるため、受光素子の位置合わせにより、2つの放射光の光量比を容易に調整することが可能となる。請求項5に係る発明により、強度調整手段は、光強度調整フィルターであるため、2つの放射光の少なくとも一方に配置することにより、容易に光量比調整を行うことが可能となる。請求項6に係る発明により、基板には、放射光を導波する放射光用導波路が形成されているため、放射光が基板から放出される位置及び方向を調整することが可能となり、2つの放射光を適正な位置に容易に導くことが可能となる。請求項7に係る発明により、基板の厚みは20μm以下であるため、薄板基板に閉じ込められた不要光が多い場合でも、2つの放射光を利用して精確なモニタ光を得ることできる。以下、本発明を好適例を用いて詳細に説明する。図1は、本発明の光変調器の第1の実施例を示す。本発明は、電気光学効果を有する基板1と、該基板に形成されたマッハツェンダー型光導波路21~24を含む光導波路2と、該光導波路を伝搬する光波を変調するための変調電極不図示と、該光導波路からの出射光を導波する光ファイバ4とを有する光変調器において、該マッハツェンダー型光導波路から放出される2つの放射光R1,R2を1つの受光素子5に向けて集光する集光手段31,32と、該受光素子5が受光する該2つの放射光の光量比を調整する光量比調整手段とを有することを特徴とする。本発明の光変調器における集光手段としては、図1に示すような、基板1の端部に光ファイバ4を接続するための補強用キャピラリ3を用いることが可能である。例えば、補強用キャピラリ3の端部の切断角を図1のように変更することで、合波部分23で生じた2つの放射光R1,R2を受光径の小さな1つの受光素子5で受光することが可能となる。これにより、モニタ光と光ファイバ出力光Sとの間の位相差を補償し、良好なモニタ特性を得ることができる。具体的には、光ファイバの出射光Sの光強度は、図2のグラフAで表示される。グラフの横軸は、変調電極に印加されるバイアス電圧入力電圧である。2つの放射光R1,R2の光強度は、B及びCで表示される。通常、放射光の光強度は、Off光のみの場合には、出力光に対して逆相で変化し、2つの放射光の電界振幅は互いに逆の状態となる。これに、On光における変換損となる一部の光On光と同相状態が混在すると、2つの放射光R1,R2の光強度は、図2のB及びCで表示するように、互いに逆方向にズレて、位相差を生じることになる。そして、放射光B及びCを同時に受光すると、変換損となる一部の光の影響はキャンセルされ、モニタ出力としてグラフDを得ることができる。このように、放射光の出力特性が補正され、光ファイバから出力される出力光に対して位相差の無いモニタ出力を得ることができる。つまり、モニタ出力Dは出力光Aと逆相状態となる。なお、各グラフの高さは規格化して示している。実際は、図1の放射光R1及びR2が受光素子に到達する際の光強度分布は同じではない。これは図2のグラフのB及びCの振幅値が異なることを意味している。このため、両者を1つの受光素子に入射し、単純に光強度変化を加算してもグラフDの出力は得られない。本発明では、受光素子が受光する2つの放射光の光量比を調整するする光量比調整手段を設けている。光量比調整手段としては、受光素子の配置位置を調整する手段として構成することが可能である。例えば、図3に示すように、2つの放射光R1及びR2の伝搬方向を交差するよう設定し、交差点Xを避けて、所定の範囲hに受光素子5の受光面が配置されるよう調整している。この交差点は放射光の伝搬方向が同一平面にある場合に限らず、ねじれの位置関係でも両者が近接する部分があれば良い。受光素子5は、図3の上下方向及び左右方向に位置を調整して設置することが可能である。これにより、図4に示すように、放射光R1のビーム形状と放射光R2のビーム形状に対して、相対的に受光面PDの位置を変化させることができ、受光素子に入射する放射光R1とR2の光強度を変更することが可能となる。受光素子5の位置は、2つの放射光R1,R2の光路間隔d光強度分布のピーク間隔が、該受光素子の受光径受光面PDの直径の0.5~2倍となる位置に配置することが好ましい。0.5倍より小さいと、受光素子を図3や図4の左右方向移動させても、受光する各放射光の光強度比を大きく変化させることができず、また、2倍より大きい場合には、1つの受光素子で両者の放射光を同時に効率良く受光することが困難となる。受光面は、円形に限定されず、矩形状であっても良い。その場合、受光径は、図4の受光面PDを矩形にし、矢印dに相当する方向の長さが該当する。図3の範囲hの部分では、上述した2つの放射光R1,R2の光路間隔dが、受光素子の受光径の0.5~2倍となる範囲を示している。また、範囲hは、2つの放射光が交差する交差点Xから外れた位置に配置される。受光素子を交差点Xから外れた位置に配置することで、位置ズレなどによる感度変動を最小限に抑えつつ、2つのモニタ光の受光量の比率が調整可能となり、モニタ出力の位相差を調整することができる。補強用キャピラリ3に設けられた反射手段は、図1に示すように平面であっても良いし、曲面であっても良い。また、反射手段で放射光が全反射するよう構成することで、放射光を効率良く受光素子方向に指向させることが可能となる。全反射させる手段は、放射光の光軸と反射面の関係が全反射を満たすようにキャピラリの端面角度を設定したり、キャピラリの反射面に金属などを製膜によるミラー形成することなどにより実現できる。図1に示すような光変調器により、モニタ光の光軸が受光素子の受光径程度の間隔がある地点に受光素子5を設置することで、感度の変動が少なく位相差が0となるモニタ出力を得ることができる。しかも、従来の片側の放射光を受光する場合と比較し、受光素子に入力される光パワーが多くなるため、モニタ用の受光素子の感度も高感度とすることができる。さらに、受光素子の受光径が小さいものを使用することができ、周波数応答にも優れたモニタ出力を得ることができる。例えば、受光径を100μm以下とすることで、数百M~数GHz程度の高速なモニタ光の応答特性が実現できる。次に、図5に示すように、マッハツェンダ型光導波路の合波部分から放出される放射光を導波するため、出力用導波路24を挟むように配置される放射光用導波路6を設けることが好ましい。特に、基板の厚さが20μm以下の薄板を使用する際には、放射光用導波路を設けることで、出力光との分離を効率良く行うことができる。しかも、この放射光用導波路6の形状を調整することで、放射光R1,R2が補強用キャピラリ3に放出される位置及び方向を調整することが可能となり、当該補強用キャピラリの反射手段31,32と共働して、2つの放射光を適正に位置に容易に導くことが可能となる。次に、図6に示すように、補強用キャピラリの中心部分に切り欠き部33を設けることも可能である。この構成により、基板内の出力用導波路24と光ファイバ4との接続部で放出される、光ファイバのデカップリング光Lが受光素子に入射することを抑制でき、モニタ出力の消光比の劣化を抑制することができる。また、図6のように、基板と光ファイバ又は補強用キャピラリとはスネルの法則を満足する角で傾斜させて接合し、光波が接合面で正反射し逆行するのを抑制することも可能である。さらに、本発明の光変調器では、受光素子の設置位置を、図3のように、放射光の伝搬方向が交差した前又は後に配置することで、受光素子の位置により、放射光の受光比率を容易に調整することができるため、製造誤差などがある場合でも、最適な位相差の光変調器を得ることができる。また、光変調器と光ファイバとを、特許文献4のように、補強用キャピラリを用いずに、集光レンズを用いて空間光学系で光学的に接続する場合がある。このような光学系では、図7又は8に示すように、2つの放射光の集光手段として、基板1に形成された、放射光を導波する放射光用導波路61,62を利用することも可能である。放射光用導波路61,62から出射した放射光R1,R2が受光素子5に向かうように、放射光用導波路の形状を調整することで実現することが可能である。図7の符号7は、光変調器からの出力光出射光Sを光ファイバ4に導くための集光レンズである。図8に示すような放射光を導波する光ファイバ81,82を設け、受光素子5に放射光R1,R2を導光するよう構成することも可能である。光ファイバ81,82に代えて、レンズやミラーを用いることも可能である。さらに、図9に示すように放射光用導波路62を基板の側面で折り曲げ、該側面に反射膜等の反射手段63を配置し、2つの放射光R1,R2を基板1上で交わるように構成することも可能である。受光素子5は、基板1の放射光用導波路に接触又は近接して配置することで、当該導波路を伝搬する2つの放射光を受光することが可能となる。当然、放射光用導波路に対して受光素子5の位置を調整することで、受光素子が受光する2つの放射光の光量比も調整することが可能となる。本発明の光変調器では、光量比調整手段として、上述した受光素子の位置調整手段に代えて、図10に示すような、光強度調整フィルター9を利用することも可能である。光強度調整フィルター9を少なくとも一方の放射光の光路中に挿入して、受光素子5に入射する2つの放射光の光量比を調整する。当該フィルター9はその挿入量により光の透過率が変化するよう構成することにより、より多様なレベルで光量を調整することも可能となる。"