"直径約50μm以下の空隙を有する、欠陥のあるセラミック膜を用意することと、前記空隙の内部表面上にコーティングスラリーを堆積させることと、約400°C~800°Cの範囲の温度で焼結することとを含む、欠陥を含まないセラミック膜の製作方法。前記コーティングスラリーを堆積させることが、制御された期間の間、加圧下において前記膜の流路を通って前記コーティングスラリーをポンプ送りすることを含む、請求項1記載の方法。前記コーティングスラリーが、50~500ml/分の範囲の速度で、前記流路を通ってポンプ送りされる、請求項1記載の方法。前記コーティングスラリーが、約5~約50psiの範囲の圧力で、前記流路を通ってポンプ送りされる、請求項1記載の方法。前記コーティングスラリーが、約2~約30分の範囲の時間、前記流路を通ってポンプ送りされる、請求項1記載の方法。前記焼結温度が、約450°C~約600°Cの範囲にある、請求項1記載の方法。前記コーティングスラリーが、ベーマイトゾル、多孔質アルミナおよびポリマー質結合剤を含む、請求項1記載の方法。請求項1記載の方法によって調製される、欠陥を含まないセラミック膜。多孔質支持体であり、その中を通って伸び、かつ多孔質壁によって画定される表面を有する少なくとも1つの内部流路を有する、多孔質支持体を用意することと、前記少なくとも1つの内部流路の表面上にコーティングスラリーを堆積させることと、約400°C~800°Cの範囲の温度で焼結することとを含むセラミック膜の製作方法であって、前記コーティングスラリーが、ベーマイトゾル、および多孔質アルミナ粒子のコロイド状懸濁液を含む方法。前記コーティングスラリーが、ポリマー質結合剤をさらに含む、請求項9記載の方法。前記コーティングスラリーが、前記ベーマイトゾル、前記多孔質アルミナ粒子のコロイド状懸濁液、およびポリマー質結合剤の水性分散液を組み合わせることによって調製される、請求項9記載の方法。前記ベーマイトゾルが、アルミニウムアルコキシドを加水分解して、加水分解生成物を生成させることと、前記加水分解生成物を、ペプタイザーと組み合わせることとによって調製される、請求項9記載の方法。前記ペプタイザーが硝酸である、請求項9記載の方法。前記ベーマイトゾルの粒度が、約50nm~約500nmの範囲である、請求項9記載の方法。前記ベーマイトゾルの粒度が、約200nm~約300nmの範囲である、請求項9記載の方法。前記多孔質アルミナが、多孔質アルミナ粉末を、約800°C~約1400°Cの範囲の温度で仮焼することによって調製される、請求項9記載の方法。前記仮焼した粉末を、約8未満のpHの水と一緒に微粉砕することをさらに含む、請求項16記載の方法。前記ポリマー質結合剤がポリビニルアルコールである、請求項9記載の方法。請求項9記載の方法によって調製されるセラミック膜。公称細孔径約1μm未満を有する多孔質セラミック基板と、前記基板上に直接配置された連続的な多孔質アルミナ層とを備えたセラミック膜であって、前記多孔質アルミナ層は、第1の母集団の多孔質アルミナ粒子、および前記第1の母集団の粒子間の間隙内に配置された第2の母集団のアルミナ粒子を含み、前記第2の母集団が、約5~約500nmの範囲のメジアン粒径を有し、前記第1の母集団が、前記第2の母集団の粒子のメジアン粒径の約100倍未満のメジアン粒径を有する、セラミック膜。前記多孔質アルミナ層が、約100nm~約800nmの範囲の最大公称細孔径を有する、請求項20記載のセラミック膜。前記多孔質アルミナ層が、約2nm~約10nmの範囲の最小細孔径を有する、請求項20記載のセラミック膜。前記多孔質アルミナ層の厚さが、約3μm~約21μmの範囲にある、請求項20記載のセラミック膜。前記第1の母集団の粒子の体積パーセントが、前記第1および第2の母集団の合計体積の約30体積パーセント未満である、請求項20記載のセラミック膜。前記第2の母集団の粒子のメジアン粒径が、約50nm~約300nmの範囲にある、請求項20記載のセラミック膜。前記第1の母集団の粒子のメジアン粒径が、前記第2の母集団の粒子のメジアン粒径の約10倍未満である、請求項20記載のセラミック膜。前記第1の母集団の粒子のメジアン粒径が、約300nm~約2000nmの範囲にある、請求項20記載のセラミック膜。前記第2の母集団のアルミナ粒子が、ガンマ-アルミナを含む、請求項20記載のセラミック膜。水の脱油方法であって、油/水収集井から集められた油/水混合物を用意することと、前記油/水混合物から油を分離して、油製品、および生成した水を含有する油を得ることと、請求項20記載のセラミック膜を通して、前記生成した水を濾過することとを含む方法。本発明の膜製作方法は、セラミック膜における欠陥を修復するのに、すなわち、直径約50μmまでの比較的大きくてもよい空隙を含有する多孔質膜構造体について欠陥を修復するのに特に有用である。本出願の文脈において使用される直径は、断面寸法を指すことを意図しており、断面が円ではない場合、その円ではない構造体の断面積と同一の断面積を有する仮想円の直径を指すことを意図している点に注意されたい。本方法は、欠陥を含まない支持体構造体で使用することもできる。この膜製作方法の一実施形態においては、欠陥のあるセラミック膜の空隙の内側表面にコーティングスラリーを堆積させる。この膜は、少なくとも、1つの多孔質支持体と、この支持体上に配置される1つまたは複数の薄層とで作られる。この支持体は、一般に、著しい流れ抵抗を伴わずに膜エレメントに機械的強度をもたらす、厚く非常に多孔質の構造体である。この支持体は、セラミック、ガラスセラミック、ガラス、金属およびこれらの組合せで構成することができる。これらの例には、金属、例えばステンレス鋼またはINCONEL商標合金など、金属酸化物、例えばアルミナ例えば、アルファ-アルミナ、デルタ-アルミナ、ガンマ-アルミナまたはこれらの組合せ、コーディエライト、ムライト、チタン酸アルミニウム、チタニア、ゼオライト、セリア、マグネシア、炭化ケイ素、ジルコニア、ジルコン、ジルコネート、ジルコニア-スピネル、スピネル、ケイ酸塩、ホウ化物、アルミノ-ケイ酸塩、磁器、アルミノ-ケイ酸リチウムlithiumalumino-silicates、長石、アルミノ-ケイ酸マグネシウムおよび溶融シリカなどが含まれるが、これらに限定されない。この支持体の公称細孔径は、典型的には約1~約10μmの範囲にあり、いくつかの実施形態において約1μm未満、特に約800nm未満である。欠陥のあるセラミック膜は、内部流路表面上の濾過層も含む。任意選択の多孔質中間層を、多孔質支持体と濾過層との間で多孔質支持体上に配置することができる。空隙の表面は、多孔質支持体層、多孔質中間層または濾過層のいずれかで構成することができ、スラリーは、空隙の表面に露出され得る、これらの層のいずれかまたは全ての上に堆積させることができる。欠陥を含まない支持体構造体が使用される本発明の膜製作方法の実施形態において、コーティングスラリーは、多孔質中間層上に、または直接多孔質支持体層上に堆積されて、濾過層を形成する。セラミック膜または支持体構造体は、単一流路または多流路セラミック膜、あるいは、単管の束bundleまたは多流路もしくはモノリス管の束を含有するモノリスの形状に配列されたハニカムモノリスとすることができる。多流路セラミック膜およびハニカムモノリスは、フィード入口と出口との間に、多数の平行な通過路または流路を含有する。1つまたは複数の内部流路の数、空間配置および配列は決定的なものではなく、可能性として考えられる膜の用途を考慮して選択される。コーティングスラリーは、加圧下で基板の開放流路を通ってポンプ送りすることによって堆積させることができるが、いくつかの実施形態において圧力は不要であり、スラリーは単に、ゼロではない流速で、流路を通って連続して流すことができる。他の実施形態において、コーティングスラリーは、膜の一方の端部を密封して1つまたは複数の流路に加圧浸透させることができる。流路を通ってコーティングスラリーをポンプ送りする場合、流速は50~500ml/分の範囲とすることができ、圧力は約5~約50psiの範囲とすることができる。流速および圧力は、幾何配置に依存しており、特定の状況によって変動してもよい点に注意されたい。連続なまたは実質的に連続な層を堆積させるのに要する時間量も変動する;いくつかの実施形態において堆積のための時間は、約2分~約30分の範囲にある。堆積した層は、約1400°Cまでの温度で焼結させることによって、セラミック酸化物に変換されるが、はるかに低い温度で焼結することによって、連続的な、欠陥を含まない膜を形成することができる。用語連続的continuousおよび欠陥を含まないdefect-freeは、濾過層が、実質的に流路の内部表面を被覆していることを意味し、また流体伝達が、実質的に濾過層の気孔を通って行われることを意味する点に注意されたい。これらの用語は、欠陥が絶対的に存在しないことを必ずしも意味するものではなく、流体流から所望される分離をもたらす個数に限定した、少数の、有限な数の欠陥または連続性に欠ける箇所を企図している。焼結ステップのための温度は、約400°C~約800°Cの範囲にあり、いくつかの実施形態では、約450°C~約600°Cの範囲でさえある。膜を焼結する雰囲気は決定的ではなく、他のガスの使用が指定されない限り、空気雰囲気を使用してよい。例示的な熱処理スケジュールは、6°C/分での500°Cまでの立ち上がり、続いて500°Cで4時間保持、6°C/分での急冷である。コーティングスラリーは、ベーマイトゾル、および多孔質アルミナ粒子のコロイド状懸濁液を含み、ポリマー質結合剤をさらに含むことができる。用語コロイド状懸濁液colloidalsuspensionは、多孔質アルミナが、水相中に一様に分散されていることを意味する。コーティングスラリーは、ベーマイトゾル、多孔質アルミナの水性懸濁液、および任意選択のポリマー質結合剤の水溶液もしくは分散液を組み合わせることによって調製することができる。細孔径、厚さ、表面粗さおよびフィルターとしての性能を含む、最終アルミナ層の特性は、スラリー組成によって全て調節可能である。熱的な前処理法、アルミナ粉末の粒径、およびベーマイト対アルミナの比率を変化させて、堆積層の特性を調節することができる。ベーマイトゾルは、アルミニウムアルコキシドを加水分解および縮合させること、ならびに加水分解生成物をペプタイザーpeptizingagentと組み合わせることによって得ることができる。適切なアルミニウムアルコキシドとしては、例えばアルミニウムトリ-sec-ブトキシドが挙げられ、また、アルミニウムイソプロポキシドを、特定の実施形態において使用することができる。適切なペプタイザーとしては、無機酸、例えば、硝酸、塩酸および硫酸など、ならびに有機酸、例えば酢酸などが挙げられる;特定の実施形態において、硝酸を使用することができる。ベーマイトゾルの粒度は、約50nm~約500nm、特に約200nm~約300nmの範囲にある。このゾルの粒度は、加水分解時間、およびペプチゼーション酸対アルコキシドの比率の正確な使用により制御できる。特定の実施形態において、ベーマイトゾルは、アルミニウムトリ-sec-ブトキシドを熱水中に溶解し、次いでこの混合物をペプチゼーションして粒度を設定することによって調製される。ペプチゼーションステップには硝酸が使用され、酸のモル濃度および量によって粒子が制御される。この方法は、濃度3重量~8重量のゾルをもたらす。この用途に使用される粒度範囲は、50nm~500nmである。コーティングスラリーに使用されるゾルは、0.5N硝酸を使用して調製でき、濃度8において粒度250nmに設定される。次いで、この生成物は、コーティングスラリー用の供給原料に使用される。多孔質アルミナ粒子は、多孔質アルミナ粉末を約800°C~約1400°Cの範囲の温度で仮焼することによって調製できる。適切なアルミナ材料は、低温で焼結可能で高い表面積を有する、高度に反応性の酸化アルミニウムまたは酸化アルミニウム水酸化物、例えば、アルファ-アルミナ粉末、ガンマ-アルミナ粉末、擬ガンマ-アルミナ粉末および擬ベーマイトなどであり、これらを使用して、コロイド状懸濁液のための多孔質アルミナ粒子を調製することができる。適切な多孔質アルミナ粉末の例には、UOPから入手できるVERSAL商標アルミナ粉末、特に、VERSALV-200、V-250およびV-300が挙げられるが、これらに限定されない。多孔質アルミナ粒子は、膜の多孔質構造のためのテンプレートを形成する。細孔径を制御するため、粉末は最初に熱処理して粒度、形態を設定し、反応性を制御する。熱処理は、アルミナ坩堝中における粉末の開放空気仮焼を含むことができる。使用される温度範囲は、250°C~1400°Cである。水処理において使用する膜のために使用される構造体を製作するために、粉末は1100°Cで熱処理することができる。この熱処理した粉末は、次いでボールミル粉砕して、全ての凝集した粒子を分解する。このボールミル粉砕は、pH制御した水性スラリー中で行われる。pHは、必要な場合は硝酸の添加によって、約8未満、特に約3~約8、とりわけ約3~約6、また特定の実施形態において、約5に調節される。この材料は、YSZ媒体を使用して磁器ジャー内でボールミル粉砕される。微粉砕時間は、約12時間~96時間の範囲であり、または所望の粒度に到達するまでである。典型的な微粉砕時間は、約14時間であり、微粉砕により得られるコロイドは、固形分約25~30体積/体積を含有することができる。コーティングスラリーは、ポリマー質結合剤を含むこともできる。適切なポリマー質結合剤の例としては、ポリビニルアルコールPVAおよびポリエチレングリコールPEG、特にPVAが挙げられるが、これらに限定されない。ポリマー質結合剤は、コーティングの過程で使用され、コーティングスラリーのレオロジ特性を設定する助けとなる。その上、ポリマー質結合剤は、被膜形成剤でもある。コロイドはpH4~5において水性系であり、したがって相容性ポリマーが選択される。適切なPVAポリマー質結合剤の一例は、DuPontElvanol登録商標75-15である。ポリマーは熱水中に溶解されて、結合剤溶液を形成できる。いくつかの実施形態において、コーティング溶液濃度の制御を可能にするため、濃度20重量が使用される。この材料を他の材料と組み合わせて、コーティングスラリーを形成する。コーティング溶液は、ベーマイトゾルおよびアルミナのコロイド状懸濁液、ならびに任意選択のポリマー質結合剤を混合することによって作製することができる。特定の実施形態において、コーティングスラリーの重量パーセントは約20とすることができ、水に対して65の粘度を有する。このコーティングスラリーは、制御された期間の間、適度の圧力のもとに低い流速で再循環系中にポンプ送りすることによって、支持体構造体の1つまた複数の流路の内側表面上に堆積される。例示的なコーティングサイクルは、スラリーを50~500ml/分、5~50psiで2~30分間流路を通ってポンプ送りすることからなる。このコーティングサイクルが完了して直ぐに、真空の助けによる排液操作を用い、支持体の流路を空にして、コーティングを、20°C~120°Cに加熱した相対湿度30~100のチャンバー内で乾燥する。欠陥を含まないセラミック膜および本発明の膜製作方法により作製した膜を含む、本発明によるセラミック膜は、多モード粒度分布を有するアルミナ粒子を含有する濾過層を特徴とする。この濾過層は、約1μm未満の公称細孔径を有する多孔質基板上に配置された、連続的なまたは実質的に連続的な多孔質アルミナ層である。この連続的な多孔質アルミナ層は、第1の母集団の多孔質アルミナ粒子、および第1の母集団の粒子間の間隙内に配置された第2の母集団のアルミナ粒子を含む。いくつかの実施形態において、第2の母集団のアルミナ粒子は、ガンマ-アルミナで構成される。多孔質基板は、多孔質支持体層と、中間層と、コーティングスラリーから形成される濾過層以外の濾過層とを含むことができ、あるいは、多孔質支持体層と、中間層または濾過層のいずれか一方とを含むのみとすることができる。連続的な多孔質アルミナ層は、欠陥のある膜の空隙内に配置することができる。第1の母集団の粒子は、第2の母集団の粒子のメジアン粒径の約100倍未満、特に約10倍未満、とりわけ約5倍未満のメジアン粒径を有する。いくつかの実施形態において、第2の母集団のメジアン粒径は約5nm~約500nmの範囲にあり、また他の実施形態において、約50nm~約300nmの範囲にある。第1の母集団の粒子のメジアン粒径は、約300nm~約2000nmの範囲にある。連続的な多孔質アルミナ層の最大公称細孔径は、約100nm~約800nmの範囲にあり、一方、最小公称細孔径は、約2nm~約10nmの範囲にある。多孔質アルミナ層の厚さは、約3μm~約21μm、特に約6μm~約12μmの範囲とすることができる。第1の母集団の粒子の体積パーセントは、第1および第2の母集団の合計体積の約30体積パーセント未満、特に合計体積の約15体積パーセント未満とすることができる。本発明の方法によって調製されるセラミック膜は、水処理向けに、特に、スチーム補助重力掘削steam-assistedgravitydrillingSAGD法から生じる水を脱油するために使用することができる。他の態様において、本発明は水の脱油方法に関する;これらの方法は、油/水収集井から集められた油/水混合物を用意することと、この油/水混合物から油を分離して、油製品、および生成した水を含有する油を得ることと、セラミック膜を通して、この生成した水を濾過することとを含む。SAGD法の一部としての水処理方法の詳細は、US6,733,636;US7,077,201;US7,150,320;US2005/0279500およびUS2006/0032630において記述されており、これらそれぞれの内容全体が参照により組み込まれる。実施例[実施例1]ベーマイトゾルは、加水分解/縮合反応を使用して調製される。高純度水11.4リットルを85°Cまで加熱する。次に、1.8リットルの97アルミニウムトリ-sec-ブトキシドATSBを1滴ずつゆっくり熱水に添加する。添加時間は1時間45分である。この混合物を、90°Cで2時間還流させる。次いで、溶液に直接添加される1N硝酸65mlを使用して、混合物をペプチゼーションする。95°Cで12時間還流する間に、ペプチゼーション過程が行われる。次いで、この混合物を洗浄して、遠心分離を使用して、溶液から大きい粒子を分離する。得られた溶液は、250~300nmのベーマイト粒子を含有する8重量ゾルである。使用したベース粉末は、UOPLLCの製品であるVERSAL商標250アルミナである。Versal250粉末は擬ベーマイトであり、供給業者によれば表面積320m2/gを有する。この粉末を1100°Cで4時間仮焼する。直径5mmのTZPジルコニア粉砕媒体および18MΩ水を使用し、微粉砕ジャー内で60重量スラリーを作る。微粉砕中、定期的に硝酸を添加することによりpH5に、pHを調節および保持する。スラリーは、メジアン粒径が約1μmとなるまで微粉砕する。PVADuPontElvanol登録商標75-15を水中に溶解して、結合剤の20重量溶液を作る。粉末は、120°Cの水にゆっくり添加し、250rpmで撹拌して、溶解を助ける。次いで、溶液を粗く濾過する。支持体構造体は、InoporGmbHによって製作された、公称細孔径800nm、19流路アルミナ多孔質支持体構造体である。制御された背圧下で再循環流を使用して、これらの流路の内部直径上にコーティングを堆積させる。供給スラリーは、次の成分を含む:ベーマイト溶液620ml、VERSAL商標250アルミナスラリー740ml、20PVA溶液1570mlおよび過剰の水2270ml。これらの成分は、撹拌ミキサーを使用して組み合わせ、支持体構造体の本体を通ってポンプ送りする。流速225ml/分で、コーティングスラリーの圧力は15psi、時間は6分である。コーティングサイクルが完了すると直ぐに、真空の助けによる方法を使用して、残ったコーティングスラリーを排出する。次いで、室温で相対湿度80のチャンバー内で72時間、膜を乾燥する。最後に、乾燥したコーティングを600°Cで4時間熱処理する。[実施例2]ベーマイトゾルは、加水分解/縮合反応を使用して調製される。高純度水11.4リットルを85°Cまで加熱する。次に、1.8リットルの97アルミニウムトリ-sec-ブトキシドATSBを1滴ずつゆっくり熱水に添加する。添加時間は1時間45分である。この混合物を、90°Cで2時間還流させる。次いで、溶液に直接添加される1N硝酸35mlを使用して、混合物をペプチゼーションする。95°Cで12時間還流する間に、ペプチゼーション過程が行われる。次いで、この混合物を洗浄して、遠心分離を使用して、溶液から大きい粒子を分離する。得られた溶液は、500~800nmのベーマイト粒子を含有する8重量ゾルである。使用したベース粉末は、TaimeiChemicalsCo.,LTDの製品であるTM-DARである。TM-DAR粉末はアルファ-アルミナであり、供給業者によれば表面積14.5m2/gを有する。直径5mmのTZPジルコニア粉砕媒体および18MΩ水を使用し、微粉砕ジャー内で70重量スラリーを作る。微粉砕中、定期的に硝酸を添加することによりpH4に、pHを調節および保持する。スラリーは、メジアン粒径が約300nmとなるまで微粉砕する。PVADuPontElvanol登録商標75-15を水中に溶解して、結合剤の20重量溶液を作る。粉末は、120°Cの水にゆっくり添加し、250rpmで撹拌して、溶解を助ける。次いで、溶液を粗く濾過する。支持体構造体は、InoporGmbHによって製作された、公称細孔径800nm、19流路アルミナ多孔質支持体構造体である。制御された背圧下で再循環流を使用して、これらの流路の内部直径上にコーティングを堆積させる。供給スラリーは、次の成分を含む:ベーマイト溶液2890ml、TM-DARアルミナスラリー850ml、20PVA溶液816mlおよび過剰の水644ml。これらの成分は、撹拌ミキサーを使用して組み合わせ、担体構造体の本体を通ってポンプ送りする。流速375ml/分で、コーティングスラリーの圧力は5psi、時間は20分である。コーティングサイクルが完了すると直ぐに、真空の助けによる方法を使用して、残ったコーティングスラリーを排出する。次いで、室温の相対湿度80のチャンバー内で72時間、膜を乾燥する。最後に、乾燥したコーティングを600°Cで4時間熱処理する。[実施例3]ベーマイトゾルは、加水分解/縮合反応を使用して調製される。高純度水11.4リットルを85°Cまで加熱する。次に、1.8リットルの97アルミニウムトリ-sec-ブトキシドATSBを1滴ずつゆっくり熱水に添加する。添加時間は1時間45分である。この混合物を、90°Cで2時間還流させる。次いで、溶液に直接添加される1N硝酸350mlを使用して、混合物をペプチゼーションする。95°Cで12時間還流する間に、ペプチゼーション過程が行われる。次いで、この混合物を洗浄して、遠心分離を使用して、溶液から大きい粒子を分離する。得られた溶液は、60~70nmのベーマイト粒子を含有する8重量ゾルである。使用したベース粉末は、CATAPAL200である。CATAPAL200粉末はベーマイトであり、供給業者によれば表面積100m2/gを有する。この粉末を800°Cで4時間仮焼する。直径5mmのTZPジルコニア粉砕媒体および18MΩ水を使用し、微粉砕ジャー内で20重量スラリーを作る。微粉砕中、定期的に硝酸を添加することによりpH4に、pHを調節および保持する。スラリーは、メジアン粒径が約2μmとなるまで微粉砕する。PVADuPontElvanol登録商標75-15を水中に溶解して、結合剤の20重量溶液を作る。粉末は、120°Cの水にゆっくり添加し、250rpmで撹拌して、溶解を助ける。次いで、溶液を粗く濾過する。支持体構造体は、HyfluxLTDによって製作された、公称細孔径800nm、単一流路アルミナ多孔質支持体構造体InoCep登録商標M800である。制御された背圧下で再循環流を使用して、流路の内部直径上にコーティングを堆積させる。供給スラリーは、次の成分を含む:ベーマイト溶液227ml、CATAPAL200アルミナスラリー1674ml、20PVA溶液2527mlおよび過剰の水772ml。これらの成分は、撹拌ミキサーを使用して組み合わせ、担体構造体の本体を通ってポンプ送りする。流速60ml/分で、コーティングスラリーの圧力は15psi、時間は10分である。コーティングサイクルが完了すると直ぐに、真空の助けによる方法を使用して、残ったコーティングスラリーを排出する。次いで、室温の相対湿度80のチャンバー内で72時間、膜を乾燥する。最後に、乾燥したコーティングを500°Cで4時間熱処理する。[実施例4]ベーマイトゾルは、加水分解/縮合反応を使用して調製される。高純度水11.4リットルを85°Cまで加熱する。次に、950ミリリットルの97アルミニウムトリ-sec-ブトキシドATSBを1滴ずつゆっくり熱水に添加する。添加時間は1時間45分である。この混合物を、90°Cで2時間還流させる。次いで、溶液に直接添加される1N硝酸120mlを使用して、混合物をペプチゼーションする。95°Cで12時間還流する間に、ペプチゼーション過程が行われる。次いで、この混合物を洗浄して、遠心分離を使用して、溶液から大きい粒子を分離する。得られた溶液は、130~160nmのベーマイト粒子を含有する8重量ゾルである。使用したベース粉末は、UOPLLCの製品であるVERSAL商標Bアルミナである。Versal商標B粉末はバイヤライトbayeriteであり、供給業者によれば表面積370m2/gを有する。この粉末を1400°Cで4時間仮焼する。直径5mmのTZPジルコニア粉砕媒体および18MΩ水を使用し、微粉砕ジャー内で25重量スラリーを作る。微粉砕中、定期的に硝酸を添加することによってpH5に、pHを調節および保持する。スラリーは、メジアン粒径が約1μmとなるまで微粉砕する。PVADuPontElvanol登録商標75-15を水中に溶解して、結合剤の20重量溶液を作る。粉末は、120°Cの水にゆっくり添加し、250rpmで撹拌して、溶解を助ける。次いで、溶液を粗く濾過する。支持体構造体は、HyfluxLTDによって製作された、200nmの単一流路アルミナ多孔質支持体構造体InoCep登録商標M800である。制御された背圧下で再循環流を使用して、流路の内部直径上にコーティングを堆積させる。供給スラリーは、次の成分を含む:ベーマイト溶液1590ml、CATAPAL200アルミナスラリー3160ml、20PVA溶液450ml。これらの成分は、撹拌ミキサーを使用して組み合わせ、担体構造体の本体を通ってポンプ送りする。流速40ml/分で、コーティングスラリーの圧力は20psi、時間は4分である。コーティングサイクルが完了すると直ぐに、真空の助けによる方法を使用して、残っているコーティングスラリーを排出する。次いで、室温の相対湿度80のチャンバー内で72時間、膜を乾燥する。最後に、乾燥したコーティングを800°Cで4時間熱処理する。本発明のいくつかの特徴のみを、本明細書において例示および記述したが、当業者は多くの修正および変更に想到するであろう。このため、添付した特許請求の範囲は、本発明の真の精神の範囲内に収まる全てのこのような修正および変更に及ぶよう意図されていることを理解されたい。"