"試料の測定エリアに対して照射した入射光とその反射光の偏光状態の変化に基づいて当該試料の光学軸の方向と光学異方性の大きさを測定する光学異方性パラメータ測定装置において、光源となるレーザからハーフミラーを介して前記測定エリアに対し垂直方向に入射光を照射すると共に、当該測定エリアから垂直方向に反射された反射光を前記ハーフミラーを介して受光素子に導く測定光学系と、受光素子により検出された反射光強度に基づいて光学異方性パラメータを算出する演算処理装置を備え、前記測定光学系は、前記レーザと前記ハーフミラーの間に偏光子が配されると共に、ハーフミラーと受光素子との間に検光子が配され、ハーフミラーと試料との間には、前記偏光子により生成される直線偏光を回転させるために回転駆動される1/2波長板と、遅相軸の向きを前記1/2波長板の遅相軸に対して±δδ≠nπ/4,nは整数ずらした初期位置から当該1/2波長板に対して回転角度が2倍となるように同期的に回転駆動される1/4波長板が配され、前記演算処理装置は、1/4波長板を初期位置δから1/2波長板と同期的に回転させたときに検出される反射光強度Rδと、1/4波長板を初期位置-δから1/2波長板と同期的に回転させたときに検出される反射光強度R-δとの差分ΔRを算出し、前記直線偏光の回転角と前記差分ΔRの関係に基づき試料の光学軸の方向及び光学異方性の大きさを決定することを特徴とする光学異方性パラメータ測定装置。前記測定光学系の前記レーザとハーフミラーとの間に、前記入射光を測定エリアに応じた大きさの光束径を有する平行光束とするビームエキスパンダが介装された請求項1記載の光学異方性パラメータ測定装置。前記測定光学系の前記レーザとハーフミラーとの間に、その照射光を所定の光束径を有する平行光束とするビームエキスパンダが介装され、前記1/4波長板と前記試料の間に、当該試料の表面上に焦点を結ぶように前記入射光を集光させる対物側集光レンズがその光軸方向に相対移動可能に設けられ、前記検光子と受光素子との間には、前記反射光を焦点位置に収束させた後、拡散しながら受光素子に導く検出側集光レンズが設けられると共に、その焦点位置にはピンホールが設けられた請求項1記載の光学異方性パラメータ測定装置。前記測定エリアが前記各波長板の直径より大きく設定されている場合に、前記測定光学系の前記レーザとハーフミラーとの間に、その照射光を所定の光束径を有する平行光束とするビームエキスパンダが介装され、前記1/4波長板と前記試料の間に、前記入射光を測定エリアに応じた大きさの光束径を有する平行光束に拡径するビームエキスパンダが介装された請求項1記載の光学異方性パラメータ測定装置。試料の測定エリアに対して照射した入射光とその反射光の偏光状態の変化に基づいて当該試料の光学軸の方向と光学異方性の大きさを測定する光学異方性パラメータ測定方法において、光源となるレーザからハーフミラーを介して前記測定エリアに対し垂直方向に入射光を照射すると共に、当該測定エリアから垂直方向に反射された反射光を前記ハーフミラーを介して受光素子に導く測定光学系を備え、当該測定光学系は、前記レーザと前記ハーフミラーの間に偏光子が配されると共に、ハーフミラーと受光素子との間に検光子が配され、ハーフミラーと試料との間には、前記偏光子により生成される直線偏光を回転させるために回転駆動される1/2波長板と、遅相軸の向きを前記1/2波長板の遅相軸に対して±δδ≠nπ/2,nは整数ずらした初期位置から当該1/2波長板に対して回転角度が2倍となるように同期的に回転駆動される1/4波長板が配されて成り、前記1/4波長板を初期位置δから1/2波長板と同期的に回転させながら反射光強度Rδを測定し、前記1/4波長板を初期位置-δから1/2波長板と同期的に回転させながら反射光強度R-δを測定する反射光強度測定工程と、検出された反射光強度Rδ及びR-δに基づき、差分ΔRを、ΔR=Rδ-R-δにより算出する差分算出工程と、前記直線偏光の回転角と前記差分ΔRの関係に基づき光学軸の方向及び光学異方性の大きさを決定する異方性分析工程と、を備えたことを特徴とする光学異方性パラメータ測定方法。試料の測定エリアに対して照射した入射光とその反射光の偏光状態の変化に基づいて当該試料の光学軸の方向と光学異方性の大きさを測定する光学異方性パラメータ測定方法において、光源となるレーザからハーフミラーを介して前記測定エリアに対し垂直方向に入射光を照射すると共に、当該測定エリアから垂直方向に反射された反射光を前記ハーフミラーを介して受光素子に導く測定光学系を備え、当該測定光学系は、前記レーザと前記ハーフミラーの間に偏光子が配されると共に、ハーフミラーと受光素子との間に検光子が配され、ハーフミラーと試料との間には、前記偏光子により生成される直線偏光を回転させるために回転駆動される1/2波長板と、遅相軸の向きを前記1/2波長板の遅相軸に対して±δδ≠nπ/4:nは整数ずらした初期位置から当該1/2波長板に対して回転角度が2倍となるように同期的に回転駆動される1/4波長板が配されて成り、前記試料をセットし、前記1/4波長板を初期位置δから1/2波長板と同期的に回転させながら反射光強度Rδを測定し、前記1/4波長板を初期位置-δから1/2波長板と同期的に回転させながら反射光強度R-δを測定する反射光強度測定工程と、前記試料に替えて光学異方性のない参照板をセットして、前記反射光強度測定工程同様に参照反射光強度REδ及びRE-δを測定する参照反射光強度測定工程と、前記反射光強度Rδ及びR-δと、前記参照反射光強度REδ及びRE-δに基づき、差分ΔRをΔR=[R0δ-R0-δ]-[REδ-RE-δ]により算出する差分算出工程と、前記直線偏光の回転角と前記差分ΔRの関係に基づき光学軸の方向及び光学異方性の大きさを決定する異方性分析工程と、を備えたことを特徴とする光学異方性パラメータ測定方法。試料の測定エリアに対して照射した入射光とその反射光の偏光状態の変化に基づいて当該試料の光学軸の方向と光学異方性の大きさを測定する光学異方性パラメータ測定方法において、光源となるレーザからハーフミラーを介して前記測定エリアに対し垂直方向に入射光を照射すると共に、当該測定エリアから垂直方向に反射された反射光を前記ハーフミラーを介して受光素子に導く測定光学系を備え、当該測定光学系は、前記レーザと前記ハーフミラーの間に偏光子が配されると共に、ハーフミラーと受光素子との間に検光子が配され、ハーフミラーと試料との間には、前記偏光子により生成される直線偏光を回転させるために回転駆動される1/2波長板と、遅相軸の向きを前記1/2波長板の遅相軸に対して±δδ≠nπ/4,nは整数ずらした初期位置から当該1/2波長板に対して回転角度が2倍となるように同期的に回転駆動される1/4波長板が配されて成り、前記試料を任意の方向にセットした状態で、前記1/4波長板を初期位置δから1/2波長板と同期的に回転させながら反射光強度R0δを測定し、前記1/4波長板を初期位置-δから1/2波長板と同期的に回転させながら反射光強度R0-δを測定する第一反射光強度測定工程と、前記試料を入射光の光軸を中心に90°回転させた状態で、前記第一反射光強度測定工程同様に反射光強度R90δ及びR90-δを測定する第二反射光強度測定工程と、前記第一反射光強度測定工程で測定された反射光強度R0δ及びR0-δと第二反射光強度測定工程で測定された反射光強度R90δ及びR90-δに基づき、差分ΔRをΔR=[R0δ-R0-δ]-[R90δ-R90-δ]により算出する第一差分算出工程と、前記直線偏光の回転角と前記再差分ΔRの関係に基づき光学軸の方向及び光学異方性の大きさを決定する異方性分析工程と、を備えたことを特徴とする光学異方性パラメータ測定方法。試料の測定エリアに対して照射した入射光とその反射光の偏光状態の変化に基づいて当該試料の光学軸の方向と光学異方性の大きさを測定する光学異方性パラメータ測定方法において、光源となるレーザからハーフミラーを介して前記測定エリアに対し垂直方向に入射光を照射すると共に、当該測定エリアから垂直方向に反射された反射光を前記ハーフミラーを介して受光素子に導く測定光学系を備え、当該測定光学系は、前記レーザと前記ハーフミラーの間に偏光子が配されると共に、ハーフミラーと受光素子との間に検光子が配され、ハーフミラーと試料との間には、前記偏光子により生成される直線偏光を回転させるために回転駆動される1/2波長板と、遅相軸の向きを前記1/2波長板の遅相軸に対して±δδ≠nπ/4,nは整数ずらした初期位置から当該1/2波長板に対して回転角度が2倍となるように同期的に回転駆動される1/4波長板が配されて成り、前記試料を任意の方向にセットした状態で、前記1/4波長板を初期位置δから1/2波長板と同期的に回転させながら反射光強度R0δを測定し、前記1/4波長板を初期位置-δから1/2波長板と同期的に回転させながら反射光強度R0-δを測定する第一反射光強度測定工程と、前記試料を入射光の光軸を中心に90°回転させた状態で、前記第一反射光強度測定工程同様に反射光強度R90δ及びR90-δを測定する第二反射光強度測定工程と、前記試料に替えて光学異方性のない参照板をセットして、前記第一反射光強度測定工程同様に参照反射光強度REδ及びRE-δを測定する参照反射光強度測定工程と、前記第一反射光強度測定工程で測定された反射光強度R0δ及びR0-δと、参照反射光強度REδ及びRE-δに基づき、差分ΔR0をΔR0=[R0δ-R0-δ]-[REδ-RE-δ]により算出する第一差分算出工程と、前記第二反射光強度測定工程で測定された反射光強度R90δ及びR90-δと参照反射光強度REδ及びRE-δに基づき、差分ΔR90をΔR90=[R90δ-R90-δ]-[REδ-RE-δ]により算出する第二差分算出工程と、前記各差分ΔR0及びΔR90に基づき、差分ΔRを、ΔR=ΔR0-ΔR90により算出する第三差分算出工程と、前記直線偏光の回転角と前記差分ΔRの関係に基づき光学軸の方向及び光学異方性の大きさを決定する異方性分析工程と、を備えたことを特徴とする光学異方性パラメータ測定方法。光源となるレーザからハーフミラーを介して試料の測定エリアに対し垂直方向に入射光を照射すると共に、当該測定エリアから垂直方向に反射された反射光を前記ハーフミラーを介して受光素子に導く光路が形成され、前記レーザと前記ハーフミラーの間に偏光子が配されると共に、ハーフミラーと受光素子との間に検光子が配され、ハーフミラーと試料との間には、前記偏光子により生成される直線偏光を回転させるために回転駆動される1/2波長板と、遅相軸の向きを前記1/2波長板の遅相軸に対して±δδ≠nπ/4,nは整数ずらした初期位置から当該1/2波長板に対して回転角度が2倍となるように同期的に回転駆動される1/4波長板が配されて成る測定光学系をコンピュータにより操作して、前記受光素子により検出された反射光の強度に基づいて当該試料の光学軸の方向と光学異方性の大きさを測定するための光学異方性パラメータ測定用プログラムにおいて、前記1/4波長板を初期位置δに設定し、1/2波長板と同期的に回転駆動させながら、前記受光素子で反射光強度Rδを測定し、前記直線偏光の回転角と関連付けて予め設定された記憶領域に記憶し、前記1/4波長板を初期位置-δに設定し、1/2波長板と同期的に回転駆動させながら、前記受光素子で反射光強度R-δを測定し、前記直線偏光の回転角と関連付けて予め設定された記憶領域に記憶する反射光強度測定手段と、記憶された反射光強度Rδ及びR-δに基づき、差分ΔRを、ΔR=Rδ-R-δにより算出する差分算出手段と、前記直線偏光の回転角と前記差分ΔRの関係に基づき光学軸の方向及び光学異方性の大きさを決定する異方性分析手段と、を備えたことを特徴とする光学異方性パラメータ測定用プログラム。光源となるレーザからハーフミラーを介して試料の測定エリアに対し垂直方向に入射光を照射すると共に、当該測定エリアから垂直方向に反射された反射光を前記ハーフミラーを介して受光素子に導く光路が形成され、前記レーザと前記ハーフミラーの間に偏光子が配されると共に、ハーフミラーと受光素子との間に検光子が配され、ハーフミラーと試料との間には、前記偏光子により生成される直線偏光を回転させるために回転駆動される1/2波長板と、遅相軸の向きを前記1/2波長板の遅相軸に対して±δδ≠nπ/4,nは整数ずらした初期位置から当該1/2波長板に対して回転角度が2倍となるように同期的に回転駆動される1/4波長板が配されて成る測定光学系をコンピュータにより操作して、前記受光素子により検出された反射光の強度に基づいて当該試料の光学軸の方向と光学異方性の大きさを測定するための光学異方性パラメータ測定用プログラムにおいて、前記1/4波長板を初期位置δに設定し、1/2波長板と同期的に回転駆動させながら、前記受光素子で反射光強度Rδを測定し、前記直線偏光の回転角と関連付けて予め設定された記憶領域に記憶し、前記1/4波長板を初期位置-δに設定し、1/2波長板と同期的に回転駆動させながら、前記受光素子で反射光強度R-δを測定し、前記直線偏光の回転角と関連付けて予め設定された記憶領域に記憶する反射光強度測定手段と、光学異方性のない参照板について、前記反射光強度測定手段と同様に参照反射光強度REδ及びRE-δを測定する参照反射光強度測定手段と、前記反射光強度Rδ及びR-δと、前記参照反射光強度REδ及びRE-δに基づき、差分ΔRをΔR=[R0δ-R0-δ]-[REδ-RE-δ]により算出する差分算出手段と、前記直線偏光の回転角と前記差分ΔRの関係に基づき光学軸の方向及び光学異方性の大きさを決定する異方性分析手段と、を備えたことを特徴とする光学異方性パラメータ測定用プログラム。光源となるレーザからハーフミラーを介して試料の測定エリアに対し垂直方向に入射光を照射すると共に、当該測定エリアから垂直方向に反射された反射光を前記ハーフミラーを介して受光素子に導く光路が形成され、前記レーザと前記ハーフミラーの間に偏光子が配されると共に、ハーフミラーと受光素子との間に検光子が配され、ハーフミラーと試料との間には、前記偏光子により生成される直線偏光を回転させるために回転駆動される1/2波長板と、遅相軸の向きを前記1/2波長板の遅相軸に対して±δδ≠nπ/4,nは整数ずらした初期位置から当該1/2波長板に対して回転角度が2倍となるように同期的に回転駆動される1/4波長板が配されて成る測定光学系をコンピュータにより操作して、前記受光素子により検出された反射光の強度に基づいて当該試料の光学軸の方向と光学異方性の大きさを測定するための光学異方性パラメータ測定用プログラムにおいて、任意の方向にセットされた前記試料について、前記1/4波長板を初期位置δから1/2波長板と同期的に回転させながら反射光強度R0δを測定し、前記1/4波長板を初期位置-δから1/2波長板と同期的に回転させながら反射光強度R0-δを測定し、各反射光強度を前記直線偏光の回転角と関連付けて予め設定された記憶領域に記憶する第一反射光強度測定手段と、前記試料を入射光の光軸を中心に90°回転させた状態で、前記第一反射光強度測定手段と同様に反射光強度R90δ及びR90-δを測定し、各反射光強度を前記直線偏光の回転角と関連付けて予め設定された記憶領域に記憶する第二反射光強度測定手段と、前記第一反射光強度測定手段で測定された反射光強度R0δ及びR0-δと第二反射光強度測定手段で測定された反射光強度R90δ及びR90-δに基づき、差分ΔRをΔR=[R0δ-R0-δ]-[R90δ-R90-δ]により算出する差分算出手段と、前記直線偏光の回転角と前記差分ΔRの関係に基づき光学軸の方向及び光学異方性の大きさを決定する異方性分析手段と、を備えたことを特徴とする光学異方性パラメータ測定プログラム。光源となるレーザからハーフミラーを介して試料の測定エリアに対し垂直方向に入射光を照射すると共に、当該測定エリアから垂直方向に反射された反射光を前記ハーフミラーを介して受光素子に導く光路が形成され、前記レーザと前記ハーフミラーの間に偏光子が配されると共に、ハーフミラーと受光素子との間に検光子が配され、ハーフミラーと試料との間には、前記偏光子により生成される直線偏光を回転させるために回転駆動される1/2波長板と、遅相軸の向きを前記1/2波長板の遅相軸に対して±δδ≠nπ/4,nは整数ずらした初期位置から当該1/2波長板に対して回転角度が2倍となるように同期的に回転駆動される1/4波長板が配されて成る測定光学系をコンピュータにより操作して、前記受光素子により検出された反射光の強度に基づいて当該試料の光学軸の方向と光学異方性の大きさを測定するための光学異方性パラメータ測定用プログラムにおいて、任意の方向にセットされた前記試料について、前記1/4波長板を初期位置δから1/2波長板と同期的に回転させながら反射光強度R0δを測定し、前記1/4波長板を初期位置-δから1/2波長板と同期的に回転させながら反射光強度R0-δを測定し、各反射光強度を前記直線偏光の回転角と関連付けて予め設定された記憶領域に記憶する第一反射光強度測定手段と、前記試料を入射光の光軸を中心に90°回転させた状態で、前記第一反射光強度測定手段と同様に反射光強度R90δ及びR90-δを測定し、各反射光強度を前記直線偏光の回転角と関連付けて予め設定された記憶領域に記憶する第二反射光強度測定手段と、前記試料に替えてセットされた光学異方性のない参照板について、前記第一反射光強度測定手段同様に参照反射光強度REδ及びRE-δを測定し、各反射光強度を前記直線偏光の回転角と関連付けて予め設定された記憶領域に記憶する第二反射光強度測定手段と、前記第一反射光強度測定手段で測定された反射光強度R0δ及びR0-δと、参照反射光強度REδ及びRE-δに基づき、差分ΔR0をΔR0=[R0δ-R0-δ]-[REδ-RE-δ]により算出する第一差分算出手段と、前記第二反射光強度測定手段で測定された反射光強度R90δ及びR90-δと参照反射光強度REδ及びRE-δに基づき、差分ΔR90をΔR90=[R90δ-R90-δ]-[REδ-RE-δ]により算出する第二差分算出手段と、前記各差分ΔR0及びΔR90に基づき、差分ΔRを、ΔR=ΔR0-ΔR90により算出する第三差分算出手段と、前記直線偏光の回転角と前記差分ΔRの関係に基づき光学軸の方向及び光学異方性の大きさを決定する異方性分析手段と、を備えたことを特徴とする光学異方性パラメータ測定プログラム。そこで本発明は、入射光を試料に対して垂直に照射させることにより装置全体の小型化を図ると同時に、きわめて短時間で光学軸の向き及び異方性の大きさを測定できるようにすることを技術的課題としている。この課題を解決するために、本発明は、試料の測定エリアに対して照射した入射光とその反射光の偏光状態の変化に基づいて当該試料の光学軸の方向と光学異方性の大きさを測定する光学異方性パラメータ測定装置において、光源となるレーザからハーフミラーを介して前記測定エリアに対し垂直方向に入射光を照射すると共に、当該測定エリアから垂直方向に反射された反射光を前記ハーフミラーを介して受光素子に導く測定光学系と、受光素子により検出された反射光強度に基づいて光学異方性パラメータを算出する演算処理装置を備え、前記測定光学系は、前記レーザと前記ハーフミラーの間に偏光子が配されると共に、ハーフミラーと受光素子との間に検光子が配され、ハーフミラーと試料との間には、前記偏光子により生成される直線偏光を回転させるために回転駆動される1/2波長板と、遅相軸の向きを前記1/2波長板の遅相軸に対して±δδ≠nπ/4,nは整数ずらした初期位置から当該1/2波長板に対して回転角度が2倍となるように同期的に回転駆動される1/4波長板が配され、前記演算処理装置は、1/4波長板を初期位置δから1/2波長板と同期的に回転させたときに検出される反射光強度Rδと、1/4波長板を初期位置-δから1/2波長板と同期的に回転させたときに検出される反射光強度R-δとの差分ΔRを算出し、前記直線偏光の回転角と前記差分ΔRの関係に基づき試料の光学軸の方向及び光学異方性の大きさを決定することを特徴としている。本発明に係る光学異方性測定装置は、光源となるレーザからハーフミラーを介して前記測定エリアに対し垂直方向に入射光を照射すると共に、当該測定エリアから垂直方向に反射された反射光を前記ハーフミラーを介して受光素子に導く測定光学系を備えている。したがって、試料に対して垂直方向に入射光が照射されることとなり、斜めから入射光を照射する場合に比して、装置を小型化することができるだけでなく、光学系を回転させる必要がないので、そのスペースを確保する必要もない。レーザから照射された光は偏光子で直線偏光となり、1/2波長板でその直線偏光の偏光軸が回転され、遅相軸が±δずれて配された1/4波長板により楕円偏光に変換されて、試料に対して垂直方向に照射される。その反射光に含まれる偏光成分のうち、偏光状態が変化していない偏光成分は、再び1/4波長板を通る際に直線偏光に戻され、1/2波長板を通過した時点で偏光子により生成された直線偏光と偏光軸が等しい直線編光に戻されるので、偏光子に対して直交ニコルの関係にある検光子でカットされるのに対し、偏光状態が変化した偏光成分は、元の直線偏光と異なる偏光状態になるので、検光子を透過して受光素子に達することとなり、光強度の変化として検出することができる。光学異方性を有する試料表面からの反射光は、偏光成分が変化するため、その異方性に応じて光強度変化が検出されることとなる。実際の測定に際しては、1/4波長板を初期位置δから1/2波長板と同期的に回転させたときに検出される反射光強度Rδと、1/4波長板を初期位置-δから1/2波長板と同期的に回転させたときに検出される反射光強度R-δとを測定する。すなわち、ひとつの測定点について、1/4波長板の初期位置をδとしたときと、-δとしたときの2回について、1/2波長板を180°回転すると同時に、1/4波長板を360°回転させるだけで測定が完了する。次いで、反射光強度の差分ΔR=Rδ-R-δを算出する。すなわち、対称関係にある二つの楕円偏光の反射光に含まれる偏光状態の差分をとることにより、試料の光学異方性に起因する偏光状態の変化のみを抽出することができる。そして、直線偏光の回転角と差分ΔRの関係に基づき、試料の光学軸の方向及び光学異方性の大きさを決定することができる。例えば、直線偏光の回転角をX軸とし、差分をY軸とするグラフを書けば、回転角が試料の光学軸の方向では差分ΔRが0となるので、その回転角を読めば試料の光学軸の方向がわかる。また、異方性が大きさは、差分ΔRの高さ方向の振幅に反映されるので、差分の極大値又は極小値の大きさに基づいて光学異方性の大きさを判断することができ、これら光学異方性パラメータを極めて簡単に且つ短時間で測定することができる。なお、このとき差分は、180°を1周期とするサインカーブに近似した変化を呈し、90°ごとに0の値をとる。これは、試料の光学軸の方向を0°としたときに、0°と180°で反射光強度が等しく、90°と270°で反射光強度が等しくなるからである。したがって、このデータのみからは光学軸の方向を特定できないことになる。しかし、例えば、液晶配向膜の製品試験は、複数の測定点における配向方位光学軸の方向の分布状態や、配向処理の方向からのずれを確認するものであり、配向処理によりおよその配向方向は既知であって、そのずれは大きくても20°程度であるので、光学軸の方向を90°間違うことはない。本発明は、入射光を試料に対して垂直に照射させることにより装置全体の小型化を図ると同時に、きわめて短時間で光学軸の向き及び異方性の大きさを測定できるようにするという目的を達成するために、光源となるレーザからハーフミラーを介して前記測定エリアに対し垂直方向に入射光を照射すると共に、当該測定エリアから垂直方向に反射された反射光を前記ハーフミラーを介して受光素子に導く測定光学系と、受光素子により検出された反射光強度に基づいて光学異方性パラメータを算出する演算処理装置を備えている。測定光学系は、レーザとハーフミラーの間に偏光子が配されると共に、ハーフミラーと受光素子との間に検光子が配され、ハーフミラーと試料との間には、偏光子により生成される直線偏光を回転させるために回転駆動される1/2波長板と、遅相軸の向きを前記1/2波長板の遅相軸に対して±δδ≠nπ/4,nは整数ずらした初期位置から当該1/2波長板に対して回転角度が2倍となるように同期的に回転駆動される1/4波長板が配されている。演算処理装置は、1/4波長板を初期位置δから1/2波長板と同期的に回転させたときに検出される反射光強度Rδと、1/4波長板を初期位置-δから1/2波長板と同期的に回転させたときに検出される反射光強度R-δとの差分ΔRを算出し、前記直線偏光の回転角と前記差分ΔRの関係に基づき試料の光学軸の方向及び光学異方性の大きさを決定する。図1に示す本例の光学異方性パラメータ測定装置1は、ステージ2に置かれた試料3上の測定点点状の測定エリアSの光学異方性パラメータを検出するものである。この光学異方性パラメータ測定装置1は、測定点Sに対して照射した入射光とその反射光の偏光状態の変化に基づいてその測定点Sにおける光学軸の方向と光学異方性の大きさを測定するためのもので、その偏光解析を行う測定光学系4とコンピュータなどの演算処理装置5を備えている。測定光学系4には、光源となるレーザ6からハーフミラー7を介して測定エリアSに対し垂直方向に入射光を照射する入射光路L1と、測定エリアSから垂直方向に反射された反射光をハーフミラー7を介して分岐させ、さらにハーフミラー8で分岐させて受光素子9に導く反射光路L2と、ハーフミラー8を透過した光を二次元光位置検出素子10に導くあおり検出光路L3が形成されている。入射光路L1には、レーザ6とハーフミラー7の間に、その照射光を拡大して平行光束にするビームエキスパンダ11と偏光子Pが配され、ハーフミラー7とステージ2との間に、偏光子Pにより生成された直線偏光を回転させるためにモータM1で回転駆動される1/2波長板12と、遅相軸の向きを前記1/2波長板12の遅相軸に対して±δδ≠nπ/4,nは整数ずらした初期位置から当該1/2波長板12に対して回転角度が2倍となるようにモータM2で同期的に回転駆動される1/4波長板13が配されている。なお、1/4波長板13とステージ2の間には、入射光を集光させる対物側集光レンズ14を備えると共に、入射光を平行光のまま透過させる透孔15が形成されたレボルバ16が、モータM3により回動可能に、且つ、対物側集光レンズ14により入射光が試料3の表面上に焦点を結ぶようにモータM4により上下動可能に配されている。本例では、レーザ6は波長532nm、光強度10mWの半導体レーザが使用され、拡大率10倍のビームエキスパンダ11で直径5mmの平行光束に拡大され、消光比10-6のグラントムソンプリズムを用いた偏光子Pを透過し、対物側集光レンズオリンパス製:倍率50倍を透過して、試料に照射される。このとき、試料への照射スポット系は約1ミクロンとなる。反射光路L2には、ハーフミラー7及び8間に検光子Aが配され、ハーフミラー8と受光素子9との間には、反射光を焦点位置に収束させた後、拡散させながら受光素子9に導く検出側集光レンズ17が設けられると共に、その焦点位置にはピンホール18が設けられており、これにより、対物側集光レンズ14の焦点位置以外から反射されたノイズ光例えば試料の裏面反射光を除去できるようになっている。本例では、焦点距離25mmの検出側集光レンズ17を用い、孔径20μmのピンホール18を透過させ、光電子増倍管でなる受光素子9で反射光の光強度を検出する。なお、ステージ2は、入射光の光軸Zに対して直交するX軸及びY軸方向に移動可能なXテーブル19x、Yテーブル19yと、試料2のあおり調整するためθx及びθy方向に傾動可能なθxテーブル20x及びθyテーブル20yを備え、各テーブルがモータM5~M8により駆動されるようになっている。また、本例では、偏光子Pの偏光軸がX軸方向と平行に向けられ、1/2波長板12の遅相軸が初期位置において偏光軸一致する方向に向けられ、1/4波長板13の遅相軸は1/2波長板12の遅相軸に対して±δδ≠nπ/4,nは整数ずらした位置が初期位置として設定され、検光子Aの偏光軸がY軸と平行に向けられることとなる。すなわち、初期状態で、偏光子Pの偏光軸及び1/2波長板12の遅相軸がX軸方向に向けられ、1/4波長板13の遅相軸がX軸に対してδあるいは-δに向けられる。ここで、偏光子P及び検光子Aを固定したまま、1/2波長板12を0~180°まで回転させると、1/4波長板13に入射される直線偏光がX軸方向を0°としてZ軸の周りに0~360°まで回転することになる。このとき、直線偏光の回転角は、その偏光軸の回転角で定義され、1/2波長板12の回転角度をφとすると、1/2波長板12を透過して1/4波長板13に入射される直線偏光の偏光軸の回転角は2φで表される。また、1/4波長板13は初期位置±δから1/2波長板12の2倍の回転角度となるように回転されるのでその回転角は2φ±δで表され、入射される直線偏光の偏光軸に対し遅相軸が常に±δδ≠nπ/4,nは整数ずれているので、1/4波長板13を透過した光は楕円偏光となる。これによって、楕円偏光は、その楕円率を一定に維持したまま、楕円の長軸に相当する方位角を360°回転させて試料に照射されることとなる。なお、1/4波長板13とレボルバ16の間には、光軸上に進退可能な観察用ハーフミラー21が配され、その反射光軸上に試料3を観察する照明付き撮像カメラ22が配されている。また、この測定光学系4は、直径約100mmのハウジング図示せずに収めることができ、従来の光学系は、稼動範囲も含めて直径600mmを必要としていたので、面積比にして約36分の1に小型化することができた。演算処理装置5は、その入力ポートに受光素子9、二次元光位置検出素子10、撮像カメラ22が接続されると共に、出力ポートに各モータM1~M8が接続されており、所定のプログラムに従い、試料3のあおり調整、測定点SのXY面内の位置決め、測定点SのZ軸方向位置の測定、1/2波長板12及び1/4波長板13の初期位置設定と駆動、受光素子9により測定された反射光強度データの記憶、光学異方性パラメータの算出などを行う。図2は演算処理装置5による一連の処理手順を示すフローチャートである。光学異方性を測定しようとする試料をステージ2にセットして、メインスイッチをオンすると、演算処理装置5、レーザ6、受光素子9、各モータM1~M8などに電源が供給されて、以下の処理が実行開始される。まず、ステップSTP1で測定点SのXY座標が入力されると、ステップSTP2でモータM5、M6が駆動されて、XYテーブル19x、19yにより測定点Sを入射光軸Zに一致させる。[あおり調整手段]次いで、ステップSTP3でモータM3によりレボルバ16を回転させて透孔15を入射光軸Zに進出させ、ステップSTP4で二次元光位置検出素子10により試料3からの反射光の光軸があおり検出光路L3の光軸と一致するか否かを判断し、一致しない場合は、ステップSTP5でモータM7、M8を駆動してθx、θyテーブル20x、20yにより試料3のあおりを調整してステップSTP4に戻り、あおりがない場合はステップSTP6に移行する。[対物側集光レンズ焦点位置調整手段]ステップSTP6ではモータM3によりレボルバ16を回転させて対物側集光レンズ14を入射光軸Zに進出させ、ステップSTP7で集光レンズ14を入射光軸Z方向に走査し、ステップSTP8で受光素子9の受光強度が最大となる位置に集光レンズ14の位置を固定し、そのときのZ座標を記憶して、ステップSTP9に移行する。[測定点検出手段]ステップSTP9では、観察用ハーフミラー21を光軸Z上に進出させ、ステップSTP10で撮像カメラ22の画像解析を行って入射光軸Zが測定点Sに一致するか否かを判断し、一致していなければステップSTP11でXYテーブル19x、19yを微調整してステップSTP10に戻り、照射されていればステップSTP12でそのXYZ座標を記憶して、観察用ハーフミラー21を退避させ、ステップSTP13に移行する。[反射光強度測定手段]ステップSTP13ではモータM1により1/2波長板12の遅相軸をX軸と平行にし、モータM2により1/4波長板13の遅相軸をX軸に対してδに向けて初期位置を設定する。その後、ステップSTP14で、モータM1、M2により1/2波長板12の回転角度φに対して1/4波長板13の回転角度が2倍となるように同期的に駆動し、ステップSTP15では1/2波長板12が所定角度回転するごとに受光素子9で反射光強度を測定し、1/2波長板12を透過した直線偏光の回転角、すなわち1/2波長板12の回転角の2倍の角度と対応させて反射光強度Rδを記憶する。そして、ステップSTP16で1/2波長板12が180°回転した時点で測定を中断する。次いで、ステップSTP17でモータM1により1/2波長板12の遅相軸をX軸と平行にし、モータM2により1/4波長板13の遅相軸をX軸に対して-δに向けて初期位置を設定し直す。その後、ステップSTP18で、モータM1、M2により1/2波長板12の回転角度φに対して1/4波長板13の回転角度が2倍となるように同期的に駆動し、ステップSTP19では1/2波長板12が180°回転するまで所定角度回転するごとに受光素子9で反射光強度を測定し、1/2波長板12を透過した直線偏光の回転角、すなわち1/2波長板12の回転角の2倍の角度と対応させて反射光強度R-δを記憶する。[差分算出手段]次いで、ステップSTP20に移行して、測定された反射光強度Rδ及びR-δに基づき、これらの差分ΔR=Rδ-R-δを算出する。なお、光学系4に起因するノイズを除去するため、必要に応じて、試料3を0°方向に向けてステージ2にセットした場合と、試料3を90°方向に向けてステージ2にセットした場合と、光学異方性のないガラスなどの等方性材料をステージ2にセットした場合についてステップSTP13~20の処理を行うことも有効である。この場合のそれぞれの反射光強度Rを以下のように表す。R0δ:試料3を0°に向け、1/4波長板13の初期位置をδとした場合R0-δ:試料3を0°に向け、1/4波長板13の初期位置を-δとした場合R90δ:試料3を90°に向け、1/4波長板13の初期位置をδとした場合R90-δ:試料3を90°に向け、1/4波長板13の初期位置を-δとした場合REδ:等方性材料をセットし、1/4波長板13の初期位置をδとした場合RE-δ:等方性材料をセットし、1/4波長板13の初期位置を-δとした場合差分ΔRは、上述の他、下記式で算出しても良いΔR=[R0δ-R0-δ]-[REδ-RE-δ]ΔR=[R0δ-R0-δ]-[R90δ-R90-δ]ΔR=ΔR0-ΔR90ΔR0=[R0δ-R0-δ]-[REδ-RE-δ]ΔR90=[R90δ-R90-δ]-[REδ-RE-δ][異方性分析手段]ステップSTP21では、直線偏光の回転角2φに対する差分ΔRをグラフ上にプロットし、ステップSTP22でフィッティング処理を行って、2φ-ΔR線図のグラフを描く。ステップSTP23でΔR=0となる角度を読み取り、このうちのひとつが試料3の測定点Sにおける光学軸の方向である。また、測定点S内の光学軸の方向が揃っていれば、異方性が大きいと言うことができ、ΔRの高さ方向の振幅により評価することができる。したがって、ステップSTP24では、ΔRの極大値と極小値の差、0から極大値までの高さなど、ΔRの高さ方向の振幅を反映した値を算出することにより、異方性の大きさが評価される。以上が本発明の一構成例であって、次に本発明方法について説明する。例えば、試料3として、配向処理を施した液晶配向膜を塗布したLCD用TFT基板1画素あたり30ミクロンをその配向処理の方向をX軸と平行にしてステージ2にセットし、対物レンズ用自動回転レボルバを回転し、対物レンズを光路から外した状態で光位置検出素子の信号を基にあおり調整を行う。あおり調整の後、対物側集光レンズ14を入射光軸Zに挿入し、集光レンズ14をZ方向に走査する。受光素子9での強度が最大となる位置に集光レンズ14の位置を固定し、そのときのZ座標を記憶すれば、測定点SのZ方向位置を測定することができる。次いで、撮像カメラ22の画像により、入射光がTFT基板の画素内に照射されるようXYテーブル19x、19yを調整したのち、反射光強度を測定する。まず、1/2波長板12について遅相軸がX軸と平行になるように初期位置を設定し、1/4波長板13について遅相軸がX軸に対してδ2°ずれた初期位置に設定する。次いで、1/2波長板12及び1/4波長板13を、1/2波長板12に対して1/4波長板の回転角度が2倍となるように、それぞれ回転速度20rpm及び40rpmで回転させ、1/2波長板12が0~180°まで5°回転するたびに、受光素子9により反射光強度Rδを読み取っていく。このとき、レーザ6から照射された光は入射光路L1に沿って進行し、偏光子Pで偏光軸がX軸方向と平行な直線偏光となり、1/2波長板12でその直線偏光の偏光軸が回転され、遅相軸が2°ずれて配された1/4波長板13により楕円偏光に変換されて、対物側集光レンズ14により直径1ミクロンのスポットに絞られて試料3に対して垂直方向に照射される。そして、試料3の測定点Sから拡散される反射光は反射光路L2に沿って進行し、対物側集光レンズ14で平行化され、再び1/4波長板13及び1/2波長板12を透過して直線偏光に変換され、ハーフミラー7で反射され、検光子Aを透過した後、ハーフミラー8で反射され、検出側集光レンズ17の焦点位置に置かれた孔径20μmのピンホール18により、対物側集光レンズ14の焦点位置以外から反射されたノイズ光例えば試料の裏面反射光が除去されて、測定点Sから反射された反射光のみが受光素子9に達する。このとき反射光に含まれる偏光成分のうち、偏光状態が変化していない偏光成分は、再び1/4波長板13を通る際に直線偏光に戻され、1/2波長板12を通過した時点で偏光軸がX軸と平行な直線編光に戻されるので、偏光軸がY軸と平行な検光子Aでカットされるのに対し、偏光状態が変化した偏光成分は、元の直線偏光と異なる偏光状態になるので、検光子Aを透過して受光素子9に達することとなり、光強度の変化として検出することができる。次いで、1/2波長板12について遅相軸がX軸と平行になるように初期位置を設定し、1/4波長板13について遅相軸がX軸に対して-δ-2°ずれた初期位置に設定した後、同様に受光素子9により反射光強度R-δを測定する。そして、これらの反射光強度Rδ、R-δの差分ΔRを次式にて算出する。ΔR=Rδ-R-δ図3a~cはこのときの測定結果を示すグラフであり、以下グラフはいずれも横軸が1/2波長板12により回転される直線偏光の回転角2φ、縦軸は、図3aが反射光強度Rδであり、図3bが反射光強度R-δであり、図3cが差分ΔRである。そして、図3cのデータにフィッティング処理を行い、ΔR=0となる偏光軸の角度2φを読み取ると、10°、100°190°280°であった。ステージ2に置いた試料3の配向処理方向はX軸と平行0°であるから、0°に最も近い10°190°がこの測定点Sの光学軸の方向配向方向であることがわかる。異方性の大きさHは、例えば、次式で求めることができる。H=ΔRmax-ΔRminこのとき、予め測定された良品について、異方性の大きさH0を測定しておき、これとの比H/H0に基づいて、例えば09以上であれば異方性の大きさが適正であると判断すればよい。図4は、試料3の表面上にマトリクス上に設定した多数の測定点について光学軸の方向を測定した結果を示すグラフ、図5は異方性の大きさについてその分布状態を示すグラフである。なお、測定光学系4に起因するノイズが大きい場合は、これを除去するため、必要に応じて、試料3を0°方向に向けてステージ2にセットした場合と、試料3を90°方向に向けてステージ2にセットした場合と、光学異方性のないガラスなどの光学等方性材料をステージ2にセットした場合について反射光強度を測定し、以下のように差分を算出すれば、より高精度に光学異方性パラメータを測定することができる。図6は、配向処理方向をX軸と平行0°方向に向けてステージ2にセットした試料3からの反射光強度R0δ、R0-δと、ステージ2に光学等方性材料であるガラスをセットしたときの反射光強度REδ、RE-δに基づいて、差分ΔRを次式にて算出したときの測定結果である。ΔR=[R0δ-R0-δ]-[REδ-RE-δ]図6aは反射光強度R0δ、図6bは反射光強度R0-δ、図6cはその差[R0δ-R0-δ]、図6dは反射光強度REδ、図6eは反射光強度RE-δ、図6fその差[REδ-RE-δ]、図6gは差分ΔRである。そして、図6gのデータにフィッティング処理を行い、ΔR=0となる偏光軸の角度2φを読み取ると、12°、102°192°282°であった。ステージ2に置いた試料3の配向処理方向はX軸と平行0°であるから、0°に最も近い12°192°がこの測定点Sの光学軸の方向配向方向であることがわかる。図7は、配向処理方向をX軸と平行0°方向に向けてステージ2にセットした試料3からの反射光強度R0δ、R0-δと、配向処理方向をX軸と平行90°方向に向けてステージ2にセットした試料3からの反射光強度R90δ、R90-δと、に基づいて、差分ΔRを次式にて算出したときの測定結果である。ΔR=[R0δ-R0-δ]-[R90δ-R90-δ]これによれば、光学系固有の異方性が除去され、さらに異方性の大きさが2倍となるため、より精度の高い測定を行うことができる。反射光強度R0δ及びR0-δについては、図6a及びbのデータを用いた。図7aは反射光強度R90δ、図7bは反射光強度R90-δ、図7cはその差[R90δ-R90-δ]を示し、図7dが差分ΔRである。そして、図7dのデータにフィッティング処理を行い、ΔR=0となる偏光軸の角度2φを読み取ると、15°、105°195°285°であった。ステージ2に置いた試料3の配向処理方向はX軸と平行0°であるから、0°に最も近い15°195°がこの測定点Sの光学軸の方向配向方向であることがわかる。ここで、中間データ[R0δ-R0-δ]及び[R90δ-R90-δ]を利用する必要があり、それぞれについて予め光学系4に起因するノイズを除去しておく必要があれば、差分ΔR0及びΔR90を次式で求めておき、ΔR0=[R0δ-R0-δ]-[REδ-RE-δ]ΔR90=[R90δ-R90-δ]-[REδ-RE-δ]これらのデータに基づき、差分ΔRを次式で求めればよい。ΔR=ΔR0-ΔR90反射光強度R0δ、R0-δ、REδ、RE-δは図6abdeのデータを用い、反射光強度R90δ、R90-δは図7abのデータを用いた。図8aが差分ΔR0、図8bが差分ΔR90であり、その差分ΔR=ΔR0-ΔR90は図7dの結果と同じであった。図9は本発明に係る他の光学異方性パラメータ測定装置を示す説明図である。本例の光学異方性パラメータ測定装置25は、ある程度の広さをもった測定エリアS2例えば直径10mm全体について光学異方性の評価を行うことができる。なお、図1と重複する部分は同一符号を付して詳細説明を省略する。本例では、測定光学系4のレーザ6とハーフミラー7との間に介装されたビームエキスパンダ11により、入射光が測定エリアS2に応じた大きさの光束径例えば直径10mmを有する平行光束となるようにその倍率が設定されている。また、図1の対物側集光レンズ14、検出側集光レンズ17、ピンホール18は設けられていない。これによれば、ビームエキスパンダ11で直径10mmの平行光束となった入射光は、偏光子P、1/2波長板12、1/4波長板13を透過して楕円偏光となって試料3の測定エリアS2全体に照射される。その反射光は、直径10mmの平行光束のまま1/4波長板13、1/2波長板12を透過し、反射光路L2に沿って検光子Aを透過して、受光素子9に達し、その光強度が測定される。このとき、測定エリアS2内の光学軸の方向はその平均的な方向が検出され、光学軸の方向が揃っていれば異方性の大きさを示す値Hが大きく、光学軸の方向にばらつきがあれば異方性の大きさを示す値Hが小さくなる。図10は本発明に係るさらに他の光学異方性パラメータ測定装置を示す説明図であって、図1と重複する部分は同一符号を付して詳細説明を省略する。本例の光学異方性パラメータ測定装置26は、測定エリアS3が波長板12、13の直径より大きく設定されている場合例えば直径1m程度でも、その測定エリアS3全体について一回の測定で光学異方性の評価を行うことができる。本例では、測定光学系4のレーザ6とハーフミラー7との間に、その照射光を所定の光束径例えば5mmの平行光束とするビームエキスパンダ11が介装され、1/4波長板13と試料3を置くステージ2の間に、入射光を測定エリアS3に応じた大きさの光束径を有する平行光束に拡径するビームエキスパンダ27が介装されている。また、図1の対物側集光レンズ14、検出側集光レンズ17、ピンホール18は設けられていない。これによれば、最初のビームエキスパンダ11で5mmの平行光束となった入射光は、偏光子P、1/2波長板12、1/4波長板13を透過して楕円偏光となり、ビームエキスパンダ27で直径1mの平行光束に拡径されて、試料3の測定エリアS2全体に照射される。その反射光は、直径1mの平行光束となって、ビームエキスパンダ27に逆方向に進行し、直径5mmの平行光束となって1/4波長板13、1/2波長板12を透過し、反射光路L2に沿って検光子Aを透過して、受光素子9に達し、その光強度が測定される。このとき、測定エリアS2内の光学軸の方向はその平均的な方向が検出され、光学軸の方向が揃っていれば異方性の大きさを示す値Hが大きく、ばらつきがあれば異方性の大きさを示す値Hが小さくなる点は前述の実施例と同様である。"