一般式1RaSi2Cl6a1のジシランの製造方法において、一般式2RbSi2Cl6b2[前記式中、Rは、1~6個の炭素原子を有するアルキル基を表し、aは、1、2又は3の値を表し、bは、4、5又は6の値を表す]のジシランを含有する混合物を、酸化アルミニウム100質量部に対して、塩化アルミニウム1~10質量部、及び酸化マグネシウム、酸化銅、酸化亜鉛及びそれらの混合物から選択される金属酸化物0~10質量部を含有する酸化アルミニウム触媒の存在でハロゲン化水素と反応させる、ジシランの製造方法。前記基Rは、メチル基又はエチル基である、請求項1記載の方法。ハロゲン化水素として塩化水素を使用する、請求項1又は2記載の方法。前記酸化アルミニウム触媒は、少なくとも0.2cm3/gの細孔容量を有する、請求項1から3までのいずれか1項記載の方法。前記酸化アルミニウム触媒は、少なくとも100m2/gのBET表面積を有する、請求項1から4までのいずれか1項記載の方法。前記温度は180°C~280°Cである、請求項1から5までのいずれか1項記載の方法。