"3級アミノ基を有する繰り返し単位及び4級アンモニウム塩基を有する繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも1種の繰り返し単位を含むブロック鎖Aと、酸性基を有する繰り返し単位及び下記式I式中、R1は、水素原子又はC1~C3アルキル基を表し、R2は、脂肪族炭化水素基又は脂環式炭化水素基を表す。で表される繰り返し単位を含むブロック鎖Bとを含有し、上記式Iで表される繰り返し単位の共重合割合がブロック鎖B中90質量以上であることを特徴とする共重合体。3級アミノ基を有する繰り返し単位及び4級アンモニウム塩基を有する繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも1種の繰り返し単位が、式II式中、R3は、水素原子又はC1~C3アルキル基を表し、R4及びR5は、それぞれ独立に、C1~C6アルキル基又はC6~C10アリールC1~C6アルキル基を表し、Xは、C1~C10アルキレン基又はC1~C10アルキレン-O-C1~C10アルキレン基を表す。で表される繰り返し単位であることを特徴とする請求項1に記載の共重合体。酸性基を有する繰り返し単位が、式III式中、R9は、水素原子又はC1~C3アルキル基を表す。で表される繰り返し単位、又は式IV式中、R10は、水素原子又はC1~C3アルキル基を表し、Yは、C1~C10アルキレン基又はC1~C10アルキレン-O-C1~C10アルキレン基を表す。で表される繰り返し単位であることを特徴とする請求項1又は2に記載の共重合体。近年、分散剤の用途の多様化に伴い、分散剤として使用する共重合体には、様々な特性が求められている。例えば、カラー液晶表示装置分野では、可視光の高透過率化と高コントラスト化の要望の強まりから、顔料粒子は少なくとも可視光の波長以下まで微粒子化されている。そのような微粒子では、顔料粒子の比表面積が通常よりも大きくなるため、従来使用されてきた顔料分散剤用の共重合体では、初期の顔料分散性及び経時の分散安定性が不十分であるという問題があった。また、最近では、分散性能以外でもより高い性能が要求されているが、従来の共重合体では、十分な性能が得られないという問題があった。本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究した結果、3級アミノ基を有する繰り返し単位及び4級アンモニウム塩基を有する繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも1種の繰り返し単位を含むブロック鎖と、酸性基を有する繰り返し単位及び式Iで表される繰り返し単位を含むブロック鎖とを含有することを特徴とする新規の共重合体を使用することにより、上記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち本発明は、13級アミノ基を有する繰り返し単位及び4級アンモニウム塩基を有する繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも1種の繰り返し単位を含むブロック鎖Aと、酸性基を有する繰り返し単位及び式I式中、R1は、水素原子又はC1~C3アルキル基を表し、R2は、脂肪族炭化水素基又は脂環式炭化水素基を表す。で表される繰り返し単位を含むブロック鎖Bとを含有し、式Iで表される繰り返し単位の共重合割合がブロック鎖B中90質量以上であることを特徴とする共重合体、23級アミノ基を有する繰り返し単位及び4級アンモニウム塩基を有する繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも1種の繰り返し単位が、式II式中、R3は、水素原子又はC1~C3アルキル基を表し、R4及びR5は、それぞれ独立に、C1~C6アルキル基又はC6~C10アリールC1~C6アルキル基を表し、Xは、C1~C10アルキレン基又はC1~C10アルキレン-O-C1~C10アルキレン基を表す。で表される繰り返し単位であることを特徴とする1に記載の共重合体、及び、3酸性基を有する繰り返し単位が、式III式中、R9は、水素原子又はC1~C3アルキル基を表す。で表される繰り返し単位、又は式IV式中、R10は、水素原子又はC1~C3アルキル基を表し、Yは、C1~C10アルキレン基又はC1~C10アルキレン-O-C1~C10アルキレン基を表す。で表される繰り返し単位であることを特徴とする1又は2に記載の共重合体に関する。1共重合体本発明の共重合体は、以下のブロック鎖A及びブロック鎖Bを、それぞれ少なくとも1個含有する。ブロック鎖A:3級アミノ基を有する繰り返し単位及び4級アンモニウム塩基を有する繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも1種の繰り返し単位を含むブロック鎖ブロック鎖B:酸性基を有する繰り返し単位と、式Iで表される繰り返し単位を含むブロック鎖また、本発明の共重合体は、上記ブロック鎖A及びブロック鎖B以外に他のブロック鎖を含有していてもよい。1ブロック鎖Aブロック鎖Aにおいて、3級アミノ基を有する繰り返し単位及び4級アンモニウム塩基を有する繰り返し単位とは、繰り返し単位の側鎖に上記カチオン性官能基を有しているものであれば、特に制限されない。具体的には、ブロック鎖Aは、3級アミノ基を有する繰り返し単位、又は4級アンモニウム塩基を有する繰り返し単位の1種のみからなるブロック鎖、3級アミノ基を有する繰り返し単位又は4級アンモニウム塩基を有する繰り返し単位の2種以上からなるブロック鎖、3級アミノ基を有する繰り返し単位の少なくとも1種及び4級アンモニウム塩基を有する繰り返し単位の少なくとも1種からなるブロック鎖、及びこれらと他の共重合しうるモノマー由来の繰り返し単位とのブロック鎖を包含する。ブロック鎖Aにおける各繰り返し単位の結合は、ランダム、交互、ブロックなどのいずれの形態であってもよい。3級アミノ基を有する繰り返し単位上記3級アミノ基を有する繰り返し単位としては、3級アミノ基を有する限り特に制限はないが、例えば、下記一般式Vで表される繰り返し単位が例示される。式V中、R11、R12、R13は、それぞれ独立して、水素原子又はC1~C3アルキル基を表す。X1は、C1~C10アルキレン基、-COOR16-、-CONHR16-、-OCOR16-及び-R17-OCO-R16-からなる群より選ばれる基を表すここでR16、R17は、それぞれ独立して、C1~C10アルキレン基又はC1~C10アルキレン-O-C1~C10アルキレン基を表す。R14、R15は、それぞれ独立して、C1~C6アルキル基又はC6~C10アリールC1~C6アルキル基を表す。このうち、好ましくは、次式IIで表される繰り返し単位である。式II中、R3は、水素原子又はC1~C3アルキル基を表し、R4及びR5は、それぞれ独立に、C1~C6アルキル基又はC6~C10アリールC1~C6アルキル基を表し、Xは、C1~C10アルキレン基又はC1~C10アルキレン-O-C1~C10アルキレン基を表す。ここで、C1~C3アルキル基及びC1~C6アルキル基としては、メチル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、n-ブチル、s-ブチル、i-ブチル、t-ブチル、n-ペンチル、n-ヘキシル等が例示される。C1~C10アルキレン基としては、メチレン鎖、エチレン鎖、プロピレン鎖、メチルエチレン鎖、ブチレン鎖、1,2-ジメチルエチレン鎖、ペンチレン鎖、1-メチルブチレン鎖、2-メチルブチレン鎖又はヘキシレン鎖等が例示される。C6~C10アリールC1~C6アルキル基としては、ベンジル、フェネチル、3-フェニル-n-プロピル、1-フェニル-n-へキシル、ナフタレン-1-イルメチル、ナフタレン-2-イルエチル、1-ナフタレン-2-イル-n-プロピル、インデン-1-イルメチル等が例示される。式V又は式IIで表される繰り返し単位の原料となるモノマーとしては、ジメチルアミノエチルメタアクリレート、ジメチルアミノプロピルメタアクリレート、ジメチルアミノブチルメタアクリレート、ジエチルアミノエチルメタアクリレート、ジエチルアミノプロピルメタアクリレート、ジエチルアミノブチルメタアクリレート等が例示される。4級アンモニウム塩基を有する繰り返し単位上記4級アンモニウム塩基を有する繰り返し単位としては、4級アンモニウム塩基を有する限り、特に制限はないが、例えば、下記一般式VIで表される繰り返し単位が例示される。式VI中、R21、R22、R23は、それぞれ独立して、水素原子又はC1~C3アルキル基を表す。X2は、C1~C10アルキレン基、-COOR27-、-CONHR27-、-OCOR27-及び-R28-OCO-R27-からなる群より選ばれる基を表すここでR27、R28は、それぞれ独立して、C1~C10アルキレン基又はC1~C10アルキレン-O-C1~C10アルキレン基を表す。R24、R25、R26は、それぞれ独立して、C1~C6のアルキル基又はC6~C10アリールC1~C6アルキル基を表す。Z-はハロゲン化物イオン、ハロゲン化アルキルイオン、アルキルカルボキシレートイオン、ニトロキシドイオン、アルキルスルフェートイオン、スルホネートイオン、ホスフェートイオン又はアルキルフォスフェートイオン等の対イオンを表す。ここで、C1~C3アルキル基、C1~C6のアルキル基、C1~C10アルキレン基、及び、C6~C10アリールC1~C6アルキル基は、上記3級アミノ基を有する繰り返し単位の式Vにおけるものと同様のものを例示できる。このうち、好ましくは、式VIIで表される繰り返し単位である。式VII中、R29は、水素原子又はC1~C3アルキル基を表す。X3は、C1~C10アルキレン基又はC1~C10アルキレン-O-C1~C10アルキレン基を表す。R30、R31、R32は、それぞれ独立して、C1~C6のアルキル基又はC6~C10アリールC1~C6アルキル基である。Z-は対イオンを表す。ここで、C1~C3アルキル基、C1~C6のアルキル基、C1~C10アルキレン基、及び、C6~C10アリールC1~C6アルキル基は、上記3級アミノ基を有する繰り返し単位の式Vにおけるものと同様のものを例示できる。式VI又は式VIIで表される繰り返し単位の原料となるモノマーとしては、メタアクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムフロリド、メタアクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロリド、メタアクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムブロミド、メタアクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムヨージド、メタアクリロイルオキシプロピルトリメチルアンモニウムフロリド、メタアクリロイルオキシプロピルトリメチルアンモニウムクロリド、メタアクリロイルオキシプロピルトリメチルアンモニウムブロミド、メタアクリロイルオキシプロピルトリメチルアンモニウムヨージド、メタアクリロイルオキシブチルトリメチルアンモニウムフロリド、メタアクリロイルオキシブチルトリメチルアンモニウムクロリド、メタアクリロイルオキシブチルトリメチルアンモニウムブロミド、メタアクリロイルオキシブチルトリメチルアンモニウムヨージド、メタアクリロイルオキシエチルベンジルジメチルアンモニウムフロリド、メタアクリロイルオキシエチルベンジルジメチルアンモニウムクロリド、メタアクリロイルオキシエチルベンジルジメチルアンモニウムブロミド、メタアクリロイルオキシエチルベンジルジメチルアンモニウムヨージド、メタアクリロイルオキシプロピルベンジルジメチルアンモニウムフロリド、メタアクリロイルオキシプロピルベンジルジメチルアンモニウムクロリド、メタアクリロイルオキシプロピルベンジルジメチルアンモニウムブロミド、メタアクリロイルオキシプロピルベンジルジメチルアンモニウムヨージド、メタアクリロイルオキシブチルベンジルジメチルアンモニウムフロリド、メタアクリロイルオキシブチルベンジルジメチルアンモニウムクロリド、メタアクリロイルオキシブチルベンジルジメチルアンモニウムブロミド、メタアクリロイルオキシブチルベンジルジメチルアンモニウムヨージド等が例示される。他の含有しうる繰り返し単位ブロック鎖A中の他の含有しうる繰り返し単位としては、メタアクリル酸系モノマー、芳香族ビニル系モノマー、共役ジエン系モノマー等由来の繰り返し単位が例示される。上記繰り返し単位の原料となるメタアクリル酸系モノマー、芳香族ビニル系モノマー、共役ジエン系モノマーとしては以下のものが例示される。メタアクリル酸系モノマーとしては、メタアクリル酸;メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸n-プロピル、メタアクリル酸i-プロピル、メタアクリル酸n-ブチル、メタアクリル酸i-ブチル、メタアクリル酸s-ブチル、メタアクリル酸t-ブチル、メタアクリル酸ヘキシル、メタアクリル酸シクロヘキシル、メタアクリル酸2-エチルへキシル、メタアクリル酸1-エチルシクロヘキシル、メタアクリル酸ベンジル等のメタアクリル酸エステル化合物;2-メトキシエチルメタアクリレート、メトキシポリエチレングリコールエチレングリコールの単位数は2~100メタアクリレート、エトキシポリエチレングリコールメタアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタアクリレート等を例示することができ、これらは1種単独で、あるいは2種以上混合して、用いることができる。芳香族ビニル系モノマーとしては、スチレン、o-メチルスチレン、p-メチルスチレン、p-t-ブチルスチレン、α-メチルスチレン、p-t-ブトキシスチレン、m-t-ブトキシスチレン、p-1-エトキシエトキシスチレン、2,4-ジメチルスチレン、ビニルアニリン、ビニル安息香酸、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、2-ビニルピリジン、4-ビニルピリジン、2-ビニルキノリン、4-ビニルキノリン、2-ビニルチオフェン、4-ビニルチオフェン等のヘテロアリール化合物等を挙げることができ、これらは1種単独で、あるいは2種以上混合して、用いることができる。共役ジエン系モノマーとしては、1,3-ブタジエン、イソプレン、2-エチル-1,3-ブタジエン、2-t-ブチル-1,3-ブタジエン、2-フェニル-1,3-ブタジエン、2,3-ジメチル-1,3-ブタジエン、1,3-ペンタジエン、2-メチル-1,3-ペンタジエン、3-メチル-1,3-ペンタジエン、1,3-ヘキサジエン、2-メチル-1,3-オクタジエン、4,5-ジエチル-1,3-オクタジエン、3-ブチル-1,3-オクタジエン、1,3-シクロペンタジエン、1,3-シクロヘキサジエン、1,3-シクロオクタジエン、1,3-トリシクロデカジエン、ミルセン、クロロプレン等を挙げることができ、これらは1種単独で、あるいは2種以上混合して、用いることができる。2ブロック鎖Bブロック鎖Bは、酸性基を有する繰り返し単位の少なくとも1種と、式Iで表される繰り返し単位の少なくとも1種を含有するブロック鎖である。ブロック鎖B中、式Iで表される繰り返し単位の少なくとも1種の共重合割合は90質量以上、好ましくは、91質量~99質量である。ブロック鎖Bは、ランダム、交互、ブロックなどのいずれの形態であってもよい。酸性基を有する繰り返し単位ブロック鎖Bにおける酸性基を有する繰り返し単位としては、-OH、-COOH、-SO3H、-SO2NH2、-CCF32-OH等の酸性基を有する限り、特に制限はないが、たとえば、式VIIIで表される繰り返し単位が例示される。式VIII中、R41、R42、R43は、それぞれ独立して、水素原子又はC1~C3アルキル基を表す。X5は、単結合又はC1~C10アルキレン基、-COOR44-、-CONHR44-、-OCOR44-及び-R45-OCO-R44-からなる群より選ばれる基を表すここでR44、R45は、それぞれ独立して、C1~C10アルキレン基又はC1~C10アルキレン-O-C1~C10アルキレン基を表す。X6は、-OH、-COOH、-SO3H、-SO2NH2、-CCF32-OH等の酸性基を表す。このうち、好ましくは、式III又は式IVで表される繰り返し単位である。式中、R9は、水素原子又はC1~C3アルキル基を表す。式中、R10は、水素原子又はC1~C3アルキル基を表し、Yは、C1~C10アルキレン基又はC1~C10アルキレン-O-C1~C10アルキレン基を表す。式VIII、式III又は式IVで表される繰り返し単位の原料となるモノマーとしては、以下のものが例示される。カルボキシル基を有するモノマーの具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸カルボキシメチルエステル、アクリル酸2-カルボキシ-エチルエステル等を挙げることができる。酸性基としてヒドロキシル基を有するモノマーの例としては、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタクリレート、2-ヒドロキシブチルアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタクリレート、グリセロールアクリレート、グリセロールメタクリレート、エチレングリコールアクリレート、エチレングリコールメタクリレート、ポリエチレングリコールアクリレート、ポリエチレングリコールメタクリレート、プロピレングリコールアクリレート、プロピレングリコールメタクリレート、ポリプロピレングリコールアクリレート、ポリプロピレングリコールメタクリレート、ビニルアルコール等を挙げることができる。また、酸性基としてスルホン酸基を有するモノマーの例としては、2-アクリロイルオキシエチルスルホン酸、2-アクリロイルオキシエチルスルホン酸、2-アクリロイルオキシエチルスルホン酸ナトリウム、2-アクリロイルオキシエチルスルホン酸リチウム、2-アクリロイルオキシエチルスルホン酸アンモニウム、2-アクリロイルオキシエチルスルホン酸イミダゾリウム、2-アクリロイルオキシエチルスルホン酸ピリジニウム、2-メタクリロイルオキシエチルスルホン酸ナトリウム、2-メタクリロイルオキシエチルスルホン酸リチウム、2-メタクリロイルオキシエチルスルホン酸アンモニウム、2-メタクリロイルオキシエチルスルホン酸イミダゾリウム、2-メタクリロイルオキシエチルスルホン酸ピリジニウム、スチレンスルホン酸、スチレンスルホン酸ナトリウム、スチレンスルホン酸リチウム、スチレンスルホン酸アンモニウム、スチレンスルホン酸イミダゾリウム、スチレンスルホン酸ピリジニウム等を挙げることができる。式Iで表される繰り返し単位ブロック鎖Bは、さらに次式Iで表される繰り返し単位の少なくとも1種を含有する。式I中、R1は、水素原子又はC1~C3アルキル基を表し、R2は、脂肪族炭化水素基又は脂環式炭化水素基を表す。本発明において、R1のC1~C3アルキル基としては、上記3級アミノ基を有する繰り返し単位の式Vにおけるものと同様のものを例示できる。本発明において、R2の脂肪族炭化水素基は、飽和又は不飽和のいずれでも良く、C1~C20のアルキル基、C2~C20のアルケニル基、C2~C20のアルキニル基を包含する。上記C1~C20のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、tert-ペンチル、2-メチルブチル、n-へキシル、イソヘキシル、3-メチルペンチル、エチルブチル、n-ヘプチル、2-メチルへキシル、n-オクチル、イソオクチル、tert-オクチル、2-エチルへキシル、3-メチルへプチル、n-ノニル、イソノニル、1-メチルオクチル、エチルへプチル、n-デシル、1-メチルノニル、n-ウンデシル、1,1-ジメチルノニル、n-ドデシル、n-テトラデシル、n-ヘプタデシル、n-オクタデシル基等が挙げられる。これらのうち、好ましくはC1~C6のアルキル基である。上記C2~C20のアルケニル基としては、例えば、ビニル、1-プロペニル、2-プロペニル、1-ブテニル、2-ブテニル、3-ブテニル、1-メチル-2-プロペニル、2-メチル-2-プロペニル、1-ペンテニル、2-ペンテニル、3-ペンテニル、4-ペンテニル、1-メチル-2-ブテニル、2-メチル-2-ブテニル、1-ヘキセニル、2-ヘキセニル、3-ヘキセニル、4-ヘキセニル、5-ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、デセニル基、ぺンタデセニル、エイコセニル基、トリコセニル等が挙げられる。これらのうち好ましくは、C2~C6のアルケニル基である。上記C2~C20のアルキニル基としては、エチニル、1-プロピニル、2-プロピニル、1-ブチニル、2-ブチニル、3-ブチニル、1-メチル-2-プロピニル、2-メチル-2-プロピニル、1-ペンチニル、2-ペンチニル、3-ペンチニル、4-ペンチニル、1-メチル-2-ブチニル、2-メチル-2-ブチニル、1-ヘキシニル、2-ヘキシニル、3-ヘキシニル、4-ヘキシニル、5-ヘキシニル、1-ヘプチニル、1-オクチニル、1-デシニル、1-ぺンタデシニル、1-エイコシニル、1-トリコシニル等が挙げられる。好ましくは、C2~C6のアルキニル基である。また、本発明において、脂環式炭化水素基は、基内のいずれかの部分に単環又は多環の環状構造を有する、飽和又は不飽和の炭化水素基を意味し、C3~C20のシクロアルキル基、C4~C20のアルキル置換シクロアルキル基、C4~C20のシクロアルキルアルキル基、C3~C20のシクロアルケニル基、C4~C20のアルキル置換シクロアルケニル基、C4~C20のシクロアルケニルアルキル基、C7~C20の橋かけ環炭化水素基等を包含する。上記C3~C20のシクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロへキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等が挙げられる。上記C4~C20のアルキル置換シクロアルキル基としては、1-メチルシクロプロピル、2-エチルシクロプロピル、3-メチルシクロへキシル、4-メチルシクロへキシル、4-エチルシクロへキシル、3-エチルシクロヘキシル、2-メチルシクロオクチル等が挙げられる。上記C3~C20のシクロアルキルアルキル基としては、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロへキシルメチル、シクロヘプチルエチル、シクロオクチルエチル等が挙げられる。上記C3~C20のシクロアルケニル基としては、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプテニル、シクロオクテニル、シクロペンタジエニル等が挙げられる。上記C4~C20のアルキル置換シクロアルケニル基としては、3-エチルシクロペンテニル、ヘキセニル4-メチルシクロへキセニル、4-エチルシクロへキセニル、等が挙げられる。上記C4~C20のシクロアルケニルアルキル基としては、シクロプロペニルメチル、シクロブテニルメチル、シクロペンテニルエチル、シクロヘキセニルエチル等が挙げられる。上記C7~C20の橋かけ環炭化水素基としては、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イル基、アダマンチル基、ジシクロペンテニル基、イソボルニル基等が挙げられる。他の含有しうる繰り返し単位ブロック鎖B中の他の含有しうる繰り返し単位としては、芳香族ビニル系モノマー、共役ジエン系モノマー等由来の繰り返し単位が例示される。芳香族ビニル系モノマーとしては、スチレン、o-メチルスチレン、p-メチルスチレン、p-t-ブチルスチレン、α-メチルスチレン、p-t-ブトキシスチレン、m-t-ブトキシスチレン、p-1-エトキシエトキシスチレン、2,4-ジメチルスチレン、ビニルアニリン、ビニル安息香酸、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、2-ビニルピリジン、4-ビニルピリジン、2-ビニルキノリン、4-ビニルキノリン、2-ビニルチオフェン、4-ビニルチオフェン等のヘテロアリール化合物等を挙げることができ、これらは1種単独で、あるいは2種以上混合して、用いることができる。共役ジエン系モノマーとしては、1,3-ブタジエン、イソプレン、2-エチル-1,3-ブタジエン、2-t-ブチル-1,3-ブタジエン、2-フェニル-1,3-ブタジエン、2,3-ジメチル-1,3-ブタジエン、1,3-ペンタジエン、2-メチル-1,3-ペンタジエン、3-メチル-1,3-ペンタジエン、1,3-ヘキサジエン、2-メチル-1,3-オクタジエン、4,5-ジエチル-1,3-オクタジエン、3-ブチル-1,3-オクタジエン、1,3-シクロペンタジエン、1,3-シクロヘキサジエン、1,3-シクロオクタジエン、1,3-トリシクロデカジエン、ミルセン、クロロプレン等を挙げることができ、これらは1種単独で、あるいは2種以上混合して、用いることができる。3その他の事項共重合体中のブロック鎖A、ブロック鎖B以外の含有しうるブロック鎖本発明の共重合体は、ブロック鎖A及びB以外に、他のブロック鎖を有していてもよい。そのようなブロック鎖としては、メタアクリル酸系モノマー、芳香族ビニル系モノマー、共役ジエン系モノマー等由来の繰り返し単位を含有するブロック鎖が挙げられ、各繰り返し単位は、単独重合、ランダム共重合、交互共重合、ブロック共重合等のいずれの形態であってもよい。メタアクリル酸系モノマー、芳香族ビニル系モノマー、共役ジエン系モノマー等については、上記と同様のものが例示される。共重合体中のブロック鎖Aとブロック鎖Bの比及び分子量等の物性本発明の共重合体中のブロック鎖Aとブロック鎖Bの比は、特に制限はないが、重量比で、10~40対90~60、好ましくは、15~35対85~65である。また、共重合体中の酸性基を有する繰り返し単位の含有割合は、0.5~20重量、好ましくは、1~15質量である。また、GPCを用いて測定した重量平均分子量は、2,000~50,000であり、分散剤としては2,000~20,000が好ましく、より好ましくは4,000~15,000である。GPCを用いて測定した重量平均分子量と数平均分子量との比は、1.0~2.0であり、分散剤としては特に、1.0~1.5が好ましい。2共重合体の製造法本発明のブロック共重合体の製造方法は、特に制限されず、公知の方法により製造することができるが、たとえば、モノマーをリビング重合で重合させ、ブロック共重合体とすることができる。リビング重合としてはリビングラジカル重合、リビングアニオン重合等が挙げられるが、このうちリビングアニオン重合がさらに好ましい。ブロック共重合体とするには、ブロック鎖A又はBのモノマーを重合した後、連続的に別のブロックのモノマーを重合させてブロック共重合体化してもよいし、ブロック鎖Aとブロック鎖Bの各モノマーを別々に反応させてブロックを作製した後、各ブロックを結合してもよい。リビングアニオン重合は、厳密に組成や分子量をコントロールすることができる点から好ましい。リビングアニオン重合でブロック共重合体を製造する場合には、例えば、添加剤及び重合開始剤を付加した溶媒に、所望のモノマーを滴下して重合することができる。この際、所望の配列のブロックポリマーとするためには、各ブロックのモノマーを、所望の配列になるよう順次滴下して、反応させる。あるブロックのモノマーを重合し、次のブロックのモノマーを重合するには、先のブロックの重合反応の終了後、次のブロックのモノマーの滴下を開始する。重合反応の進行は、モノマーの残量をガスクロマトグラフィーや液体クロマトグラフフィーで検出することによって確認できる。また、先のブロックのモノマー滴下終了後、モノマーや溶媒の種類により異なるが、1分から1時間攪拌後、次のブロックのモノマーの滴下を開始することもできる。各ブロックに複数種類のモノマーが含まれる場合には、それらを別々に滴下してもよいし、同時に滴下することもできる。リビングアニオン重合で共重合体を製造する場合は、酸性基を有するモノマーの活性水素を保護しておくことが好ましい。保護基で保護した酸性基を有するモノマーを重合させた後、保護基を脱保護することにより、酸性基を有する繰り返し単位に導くことができる。ここで保護基とは、当技術分野において、酸性基の保護基として使用されることが周知である基であれば特に限定されない。例えば、カルボキシル基の保護基として、t-ブチル基、ベンジル基、メトキシメチル基、エトキシエチル基等を挙げることができる。水酸基の保護基としては、メトキシメチル基、2-メトキシエトキシメチル基、ビス2-クロロエトキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、4-メトキシテトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、トリフェニルメチル基、トリメチルシリル基、2-トリメチルシリルエトキシメチル基、t-ブチルジメチルシリル基、トリメチルシリルメチル基、t-ブチル基、t-ブトキシカルボニル基、t-ブトキシカルボニルメチル基、2-メチル-2-t-ブトキシカルボニルメチル基等を挙げることができる。リビングアニオン重合で4級アンモニウム塩基を有するモノマーを重合するのは一般的に困難である。したがって、リビングアニオン重合で4級アンモニウム塩基を有する繰り返し単位を含む重合体を製造する場合は、3級アミノ基を有する繰り返し単位の原料となるモノマーを重合した後に、該3級アミノ基を公知の方法で、4級化することができる。4級化剤としては、塩化ベンジル、臭化ベンジル、ヨウ化ベンジル等や、塩化メチル、塩化エチル、臭化メチル、ヨウ化メチル等のハロゲン化アルキル、硫酸ジメチル、硫酸ジエチル、硫酸ジ-n-プロピル等の一般的なアルキル化剤を挙げることができる。リビングラジカル重合で製造する場合には、リビングアニオン重合と同様に反応を行うこともできるし、あるブロックのモノマーを重合後、次のモノマーを重合する前に、一旦重合体を精製して、先の反応のモノマーの残を除去した後に、次のモノマーを重合することもできる。各ブロックのモノマー同士が互いに混入しないことが好ましい場合には、重合体の精製を行うことが好ましい。モノマーの重合に使用するアニオン重合開始剤としては、求核剤であって、アニオン重合性モノマーの重合を開始させる働きを有するものであれば特に制限されるものではなく、例えば、アルカリ金属、有機アルカリ金属化合物、リチウムアミド、その他の公知メタクリレート用アニオン性開始剤等を使用することができる。アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム等が挙げられる。有機アルカリ金属化合物としては、上記アルカリ金属のアルキル化物、アリル化物、アリール化物等が挙げられ、特にアルキルリチウムが好ましい。具体的には、エチルリチウム、n-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、t-ブチルリチウム、エチルナトリウム、リチウムビフェニル、リチウムナフタレン、リチウムトリフェニル、ナトリウムナフタレン、カリウムナフタレン、α-メチルスチレンナトリウムジアニオン、1,1-ジフェニルヘキシルリチウム、1,1-ジフェニル-3-メチルペンチルリチウム、1,4-ジリチオ-2-ブテン、1,6-ジリチオヘキサン、ポリスチリルリチウム、クミルカリウム、クミルセシウム等を使用できる。リチウムアミドとしては、リチウムジエチルアミド、リチウムジイソプロピルアミド等を使用できる。その他の公知メタクリレート用アニオン性開始剤としては、メチルα-リチオイソブチレート等のα-リチオイソブチレート等を使用できる。これらのアニオン重合開始剤は1種単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。アニオン重合開始剤の使用量は、用いるアニオン重合性モノマー全体に対して、通常0.0001~0.2当量、好ましくは0.0005~0.1当量である。この範囲のアニオン重合開始剤を用いることによって、目的とする重合体を収率よく製造することができる。本発明における重合温度は、移動反応や停止反応などの副反応が起こらず、モノマーが消費され重合が完結する温度範囲であれば特に制限されないが、-100°C以上溶媒沸点以下の温度範囲で行なわれることが好ましい。また、モノマーの重合溶媒に対する濃度は、特に制限されないが、通常、1~40重量であり、10~30重量であることが好ましい。本発明の製造方法に用いられる重合溶媒は、重合反応に関与せず、かつ重合体と相溶性のある溶媒であれば特に制限されず、具体的には、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランTHF、ジオキサン、トリオキサンなどのエーテル系化合物、テトラメチルエチレンジアミン、ヘキサメチルホスホリックトリアミドなどの第3級アミンなどの極性溶媒や、ヘキサンやトルエンなどの脂肪族、芳香族又は脂環式炭化水素化合物などの非極性溶媒又は低極性溶媒を例示することができる。これらの溶媒は、1種単独で、又は2種以上の混合溶媒として用いることができる。本発明の製造方法においては、非極性溶媒又は低極性溶媒を極性溶媒と併用した場合でも、精度よく重合をコントロールすることができ、例えば、非極性溶媒又は低極性溶媒は、溶媒全体に対して、5vol以上用いることができ、20vol以上用いてもよく、50vol以上用いてもよい。本発明においては、必要に応じて、ジエチル亜鉛等のジアルキル亜鉛、ジブチルマグネシウム等のジアルキルマグネシウム、トリエチルアルミニウム等の有機金属を、重合安定化剤、モノマーや溶媒の精製剤として使用することもできる。本発明においては、必要に応じてアルカリ金属塩、またはアルカリ土類金属塩などの添加剤を、重合開始時又は重合中に添加することができる。このような添加剤として、具体的には、ナトリウム、カリウム、バリウム、マグネシウムの硫酸塩、硝酸塩、ホウ酸塩などの鉱酸塩やハロゲン化物を例示することができ、より具体的には、リチウムやバリウムの塩化物、臭化物、ヨウ化物や、ホウ酸リチウム、硝酸マグネシウム、塩化ナトリウム、塩化カリウムなどを挙げることができる。これらの中でも、リチウムのハロゲン化物、例えば塩化リチウム、臭化リチウム、ヨウ化リチウム、フッ化リチウムが好ましく、塩化リチウムが特に好ましい。3本発明の共重合体の用途本発明の共重合体は、塗料、印刷インク、インクジェットインク、カラーフィルタ用顔料分散物等における顔料分散にきわめて有用である。以下実施例を用いて本発明を詳細に説明するが、本発明の技術的範囲はこれらの例示に限定されるものではない。[実施例1]重合工程反応容器にテトラヒドロフラン以下、THFと略すことがある55.7部、塩化リチウム4.54重量濃度THF溶液4.65部、ジフェニルエチレン0.45部を加え、-60°Cまで冷却した。その後、n-ブチルリチウム1.22部15.36重量濃度ヘキサン溶液を加え、10分間熟成した。次に、メタクリル酸1-エトキシエチル以下、EEMAと略すことがある1.66部、メタクリル酸n-ブチル以下、nBMAと略すことがある9.9部、メタクリル酸メチル以下、MMAと略すことがある4.14部の混合液を120分かけて滴下し、滴下後15分反応を継続した。そしてガスクロマトグラフィー以下、GCと略すにより測定し、モノマーの消失を確認した。次にメタクリル酸2-ジメチルアミノエチル以下、DMMAと略すことがある3.96部を滴下し、滴下後30分反応継続した。そして、GCを測定し、モノマーの消失を確認した後、メタノール0.41部を加えて反応を停止した。得られた共重合体をゲルパーミィエイションクロマトグラフィー以下、GPCと略す移動相DMF、ポリメタクリル酸メチル以下、PMMAと略すことがあるスタンダードにより分析し、分子量Mwが12,220、分子量分布Mw/Mnが1.46、組成比がDMMA-[nBMA/MMA/EEMA]=21-[48/22/9]重量の共重合体であることを確認した。脱保護工程得られた前駆体ポリマーの25重量濃度のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート以下、PGMEAと略すことがある溶液65.64部中に水16.44部を加え、100°Cに加温し8時間反応させた。水分を留去し、40重量濃度のPGMEA溶液に調製した。得られた共重合体をGPC移動相DMF、PMMAスタンダードにより分析し、分子量Mwが12,720、分子量分布Mw/Mnが1.46、組成比がDMMA-[nBMA/MMA/MA]=22-[50/23/5]重量の共重合体であることを確認したMAは、メタクリル酸を表す。[実施例2]重合工程反応容器にTHF600.30部、塩化リチウム3.63重量濃度THF溶液10.80部、ジフェニルエチレン3.84部を加え、-60°Cまで冷却した。その後、n-ブチルリチウム9.60部15.36重量濃度ヘキサン溶液を加え、10分間熟成した。次に、nBMA103.84部、EEMA13.45部の混合液を30分かけて滴下し、滴下後15分反応を継続した。そしてGCにより測定し、モノマーの消失を確認した。反応液の一部をサンプリングし、GPC移動相DMF、PMMAスタンダードにより分析したところ、分子量Mwは2,910、分子量分布Mw/Mnは1.03であった。次にDMMA32.25部を滴下し、滴下後30分反応継続した。そして、GCにより測定し、モノマーの消失を確認した後、メタノール3.42部を加えて反応を停止した。得られた共重合体をGPC移動相DMF、PMMAスタンダードにより分析したところ、分子量Mwは4,010、分子量分布Mw/Mnが1.07であった。脱保護工程得られた共重合体の50重量濃度のPGMEA溶液220部を、160°Cに加温し3時間熟成させた。その後、40重量濃度のPGMEA溶液に調製した。得られた共重合体をGPC移動相DMF、PMMAスタンダード、カラムは変更により分析し、分子量Mwは12,040、分子量分布Mw/Mnが1.24、組成比がDMMA-[nBMA/MA]=22-[73/5]重量の共重合体であることを確認した。[比較例1]反応容器にTHF568.08部、塩化リチウム3.63重量濃度THF溶液11.56部、ジフェニルエチレン3.25部を加え、-60°Cまで冷却した。その後、n-ブチルリチウム7.16部15.36重量濃度ヘキサン溶液を加え、10分間熟成した。次に、MMA33.72部、nBMA15.52部、メタクリル酸ベンジル以下、BzMAと略すことがある13.14部、メタクリル酸エチルヘキシル以下、EHMAと略すことがある15.79部、メトキシポリエチレングリコールモノメタクリレートPME-200日油株式会社製以下、PEGMAと略すことがある11.94部の混合液を30分かけて滴下し、滴下後15分反応を継続した。そしてGCにより測定し、モノマーの消失を確認した。反応液の一部をサンプリングし、GPC移動相DMF、PMMAスタンダードで分析したところ、分子量Mwは5,590、分子量分布Mw/Mnは1.07であった。次に、DMMA30.09部を滴下し、滴下後30分反応継続した。そして、GCにより測定し、モノマーの消失を確認した後、メタノール2.52部を加えて反応を停止した。その後、減圧蒸留により、40重量濃度のPGMEA溶液に調製した。得られた共重合体をGPC移動相DMF、PMMAスタンダードにより分析したところ、分子量Mwは7,110、分子量分布Mw/Mnは1.08、組成比がDMMA-[MMA/nBMA/BzMA/EHMA/PEGMA]=25-[28/13/11/13/10]重量の共重合体であることを確認した。[比較例2]重合工程反応容器にTHF626.56部、塩化リチウム3.63重量濃度THF溶液10.26部、ジフェニルエチレン3.23部を加え、-60°Cまで冷却した。その後、n-ブチルリチウム6.95部15.36重量濃度ヘキサン溶液を加え、10分間熟成した。次に、MMA26.52部、nBMA62.13部の混合液を30分かけて滴下し、滴下後15分反応を継続した。そしてGCにより測定し、モノマーの消失を確認した。反応液の一部をサンプリングし、GPC移動相DMF、PMMAスタンダードで分析したところ、分子量Mwは3,840、分子量分布Mw/Mnは1.04であった。次にDMMA42.19部を滴下し、滴下後30分反応継続した。そして、GCにより測定し、モノマーの消失を確認した後、メタノール3.79部を加えて反応を停止した。その後、減圧蒸留により、40重量濃度のPGMEA溶液に調製した。得られた共重合体をGPC移動相DMF、PMMAスタンダードにより分析したところ、分子量Mwは5,770、分子量分布Mw/Mnが1.08、組成比がDMMA-[MMA/nBMA]=32-[20/48]重量の共重合体であることを確認した。[比較例3]攪拌子を備えたフラスコ内に、PGMEA30部を仕込み、窒素ガスを注入しながら80°Cに加温した。同温度で、MA1.4部、nBMA12.6部、EHMA5.6部及びDMMA8.4部をPGMEA16部に溶解させた溶液と、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル1.2部をPGMEA10部に溶解させた溶液を、同時に2時間かけて滴下した。その後、反応溶液の温度を100°Cに上昇させ、この温度を1時間保持して重合を行った。その後、減圧蒸留により、40質量濃度のPGMEA溶液に調製した。このようにして、MA、nBMA、EHMA及びDMMAのランダム共重合体を得た。顔料分散液の調製上記実施例1~2及び比較例1~3で得られた共重合体溶液を顔料分散剤として用いて、以下の顔料分散液を調製した。顔料としてC.I.ピグメントグリーン36とC.I.ピグメントイエロー150との70/30混合物15部、顔料分散剤として上記実施例1~2及び比較例1~3で得られたいずれかの共重合体溶液を10部、溶媒としてPGMEA55部及びジエチレングリコールメチルエチルエーテル20部を用いて、ビーズミルにより12時間混合分散して顔料分散液を調製した。その結果、実施例1~2で得られた共重合体を用いて調製された顔料分散液は、鮮やかな緑色を示し、40°Cで1週間保管した後も、調製直後と変わらぬ粘度値を示した。一方、比較例1~2で得られた共重合体を用いて調製された顔料分散液は、鮮やかな緑色を示したが、40°Cで1週間保管した後、粘度値が調製直後対比で20増加した。また、比較例3で得られた共重合体を用いて調製された顔料分散液は、鮮やかな緑色を示したが、40°Cで1週間保管した後、粘度値が調製直後対比で30増加した。本発明の共重合体は顔料分散性に優れており、例えば、光学的カラーフィルターの製造のための顔料分散剤として使用することができる。"