"式Iの化合物の調製方法であって、a式II式中、Xはクロロまたはブロモであるの化合物を不活性雰囲気中で有機金属種と反応させて式X式中、Xはクロロまたはブロモであるのハロベンジンにし;そのように形成された前記式Xのハロベンジンをシクロペンタジエンと反応させて式III式中、Xはクロロまたはブロモであるの化合物にする工程と;b前記式IIIの化合物を不活性溶媒の存在下でオキシダントと反応させて式IV式中、Xはクロロまたはブロモであるの化合物にする工程と;c前記式IVの化合物をルイス酸および水素化物源の存在下で反応させて式V式中、Xはクロロまたはブロモであるの化合物にする工程と;d前記式Vの化合物を酸化剤、塩基および不活性溶媒の存在下で反応させて式VI式中、Xはクロロまたはブロモであるの化合物にする工程と;e前記式VIの化合物をホスファンおよびCCl4またはCHCl3の存在下で式VII式中、Xはクロロまたはブロモであるの化合物に転化する工程と;f1前記式VIIの化合物をパラジウムと少なくとも1つの配位子とを含む触媒の存在下でNH3と反応させて式VIIIの化合物にする工程、およびg前記式VIIIの化合物を塩基の存在下で式IXの化合物と反応させて前記式Iの化合物にする工程;またはf2前記式VII式中、Xはクロロまたはブロモであるの化合物を溶媒、塩基、銅触媒および少なくとも1つの配位子の存在下で式IXaの化合物と反応させて前記式Iの化合物にする工程のいずれか一方とを包含する、方法。aXがブロモである請求項1に記載の式IIの化合物を、式IIIの化合物と反応させる工程を包含する、請求項1に記載の方法。メタ-クロロ-過安息香酸が工程bにおけるオキシダントとして使用される、請求項1に記載の方法。LiAlH4が工程cにおいて前記水素化物源として使用される、請求項1に記載の方法。前記式VIIの化合物をパラジウムと少なくとも1つの配位子とを含む触媒の存在下でNH3と反応させて前記式VIIIの化合物にする工程、および前記式VIIIの化合物を塩基の存在下で式IXの化合物と反応させて前記式Iの化合物にする工程を包含する、請求項1に記載の方法。工程eにおいて、前記式VIの化合物が、トリフェニルホスファンおよび四塩化炭素の存在下で前記式VIIの化合物に転化される、請求項1に記載の方法。式IV式中、Xはクロロまたはブロモであるの化合物。式V式中、Xはクロロまたはブロモであるの化合物。式VII式中、Xはクロロまたはブロモであるの化合物。したがって、本発明の目的は、公知の方法の欠点を回避し、経済的に有利なやり方で、高収率で良質の3-ジフルオロメチル-1-メチル-1H-ピラゾール-4-カルボン酸9-ジクロロメチレン-1,2,3,4-テトラヒドロ-1,4-メタノ-ナフタレン-5-イル-アミドを調製することを可能にする、3-ジフルオロメチル-1-メチル-1H-ピラゾール-4-カルボン酸9-ジクロロメチレン-1,2,3,4-テトラヒドロ-1,4-メタノ-ナフタレン-5-イル-アミドの製造のための新規方法を提供することである。したがって、本発明によれば、式Iの化合物の調製方法であって、a式II式中、Xはクロロまたはブロモであるの化合物を不活性雰囲気中で有機金属種例えば、C16アルキルリチウムもしくはフェニルリチウムのハロゲン化物またはC16アルキルマグネシウムもしくはフェニルマグネシウムのハロゲン化物と反応させて式X式中、Xはクロロまたはブロモであるのハロベンジンにし;そのように形成された式Xのハロベンジンをシクロペンタジエンと反応させて式III式中、Xはクロロまたはブロモであるの化合物にする工程と;b式IIIの化合物を不活性溶媒の存在下でオキシダントと反応させて式IV式中、Xはクロロまたはブロモであるの化合物にする工程と;c式IVの化合物をルイス酸および水素化物源の存在下で反応させて式V式中、Xはクロロまたはブロモであるの化合物にする工程と;d式Vの化合物を酸化剤、塩基および不活性溶媒の存在下で反応させて式VI式中、Xはクロロまたはブロモであるの化合物にする工程と;e式VIの化合物をホスファンおよびCCl4またはCHCl3の存在下で式VII式中、Xはクロロまたはブロモであるの化合物に転化する工程と;f1式VIIの化合物をパラジウムと少なくとも1つの配位子とを含む触媒の存在下でNH3と反応させて式VIIIの化合物にする工程、およびg式VIIIの化合物を塩基の存在下で式IXの化合物と反応させて式Iの化合物にする工程;またはf2式VII式中、Xはクロロまたはブロモ、好ましくはブロモであるの化合物を溶媒、塩基、銅触媒および少なくとも1つの配位子の存在下で式IXaの化合物と反応させて式Iの化合物にする工程のいずれか一方とを包含する方法が提供される。先行技術の方法に対する本発明のさらなる重要な利点は、不安定なジクロロフルベンの使用が不要であることである。反応工程a:Xがブロモである式IIの化合物は公知であり、例えばRecueildesTravauxChimiquesdesPays-Bas,81,3651962に開示されている。Xがクロロまたはブロモである式IIの化合物は、例えば国際公開第2008/049507号パンフレットに開示されている。1-ブロモ-2,3-ジクロロ-ベンゼンは、いわゆるザンドマイヤー反応により2,3-ジクロロ-アニリンから調製され得る。そのようなザンドマイヤー反応は、臭素化剤としての臭化銅IIの存在下で有機溶媒例えば、アセトニトリル中の有機亜硝酸エステル例えば、亜硝酸tert-ブチルまたは亜硝酸イソ-ペンチルを使用することによりJournalofOrganicChemistry,1977,42,2426-31に記載のとおり、または無機亜硝酸塩を使用して0°C~15°Cの温度で酸性水性反応媒体中でジアゾ化し次いで反応混合物を臭化銅I溶液に添加することを含む二段反応によってRecueildesTravauxChimiquesdesPays-BasetdelaBelgique,1932,51,98-113および特開昭62-114921号公報に記載のとおり行われ得る。式IIIの化合物は、式X式中、Xはクロロまたはブロモであるのハロベンジンを不活性有機溶媒中でシクロペンタジエンと反応させる工程を包含する処理によって調製され得る。式Xのハロベンジンがどのように生成されるかに応じて、この処理は、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチルエーテル、tert-ブチルメチルエーテル、メチル-エチル-ケトン、酢酸エチル、酢酸メチルまたは芳香族もしくは脂肪族炭化水素例えば、トルエン、キシレン、ベンゼン、ヘキサン、ペンタンまたは石油エーテルなどの有機溶媒中で、-20°C~10°Cの温度で行われ、この温度は、反応を完結させるために、周囲温度またはそれより高い温度まで上げられ得る。式IIIの化合物は、この反応混合物を水性媒体中例えば、飽和塩化アンモニウム溶液中で急冷し、生成物を酢酸エチルなどの溶媒中で抽出し、その溶媒抽出物を例えばブラインおよび水で洗浄し、それを乾燥させ、溶媒を蒸発除去してハロベンゾノルボルナジエンIIIを得ることによって単離され得、このハロベンゾノルボルナジエンIIIは、ヘキサンなどの溶媒からの結晶化によってさらに精製され得る。ハロベンジンXは、式IIの化合物を不活性溶媒の存在下で有機金属種と反応させることによって得られ得る。この反応工程のための好ましい有機金属種は、C16アルキルリチウムもしくはフェニルリチウムのハロゲン化物またはC16アルキルマグネシウムもしくはフェニルマグネシウムのハロゲン化物である。イソプロピルマグネシウムクロリドが好ましい。式IIIの化合物は、第1段階においてハロベンジンXが形成され、それに続くシクロペンタジエンの添加によって、またはそれに続くシクロペンタジエンへの添加によって、第2段階において式IIIの化合物が形成されるという、段階的手順で形成され得る。ハロベンゼンIIと有機金属種との間の第1段階の反応は、-78°C~0°Cの温度で、典型的には-20°C~-10°Cで、行われる。1つ目の場合の、後続のシクロペンタジエンの添加は、-20°C~10°Cの温度で、典型的には-10°C~0°Cで、行われる。この反応は、周囲温度まで、または好ましくは使用される溶媒の還流温度まで、混合物を温めることによって促進される。2つ目の場合の、後続のシクロペンタジエンへの添加は、20°C~100°Cで、典型的には70°C~95°Cで、行われる。この反応物は、さらに1時間攪拌されて転化を完了する。好適な溶媒には、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチルエーテル、tert-ブチルメチルエーテル、ヘキサン、石油エーテル、ペンタン、ベンゼン、トルエンおよびキシレンが含まれ、好ましくは、トルエン、テトラヒドロフランまたはヘキサンである。5-クロロ-または5-ブロモベンゾ-ノルボルナジエンは、次いで、上記のように水性媒体中で急冷することによって単離され得る。反応が行われる不活性雰囲気は、例えば、窒素雰囲気である。この種の変換は、OrganicLetters,6,15892004においてJ.CoeによりまたはAngew.Chem.116,44642004においてP.Knochelにより、記載されている。反応工程b:好適なオキシダントは、過ギ酸、過酢酸、または有機酸例えば、酢酸と組み合わせた過酸化水素である。リン酸水素二ナトリウムおよび無水酢酸の存在下での過酸化カルバミドもまた、この酸化に適した系である。好ましいオキシダントは、メタ-クロロ-過安息香酸である。反応工程bに適した溶媒は、例えば、クロロホルム、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、ジメトキシエタンまたはジオキサンである。ジクロロメタンが好ましい。この反応は、0°Cから溶媒の還流温度までの温度で、好ましくは20~30°Cで、行われ得る。式IVの化合物は新規であり、特に本発明に従う方法のために開発され、したがって、本発明のさらなる目的を構成する。反応工程c:このエポキシドを開環し、その開環により形成されるカルボカチオンを転位させ、還元するために、ルイス酸と水素化物源との組み合わせ例えば、BH3.DMSまたはBH3.THFルイス酸の役割を果たす、1.2~1.4当量とNaBH4またはLiAlH4触媒的、0.1~0.2当量、これらは最初の段階の間に形成されるホウ素アルコキシドからインサイチューで再生され得るためが使用され得る。別の方法は、同じくルイス酸である還元剤例えば、DiBAl-Hを使用することである。別の実行可能な手段は、単独のLiAlH4であり、なぜならこれは、ルイス酸性であるAlIII種をインサイチューで生成するからである。好ましい溶媒は、使用される試薬に応じて、THF、Et2O、トルエンである。温度は、-78°Cから還流温度refluxまで可変である。好ましい方法は、還流Et2O中のLiAlH4の使用である。式Vの化合物は新規であり、特に本発明に従う方法のために開発され、したがって、本発明のさらなる目的を構成する。反応工程d:第二級アルコールを酸化してケトンにする方法は、先行技術に記載されており、それらの方法の多くが、この特定の変換に適しているであろう。穏やかなSwern酸化は、酸化剤特に、ジメチルスルホキシドの活性化のために塩化オキサリルを使用して、有機塩基例えば、トリエチルアミンの存在下で、第一級または第二級アルコールをアルデヒドまたはケトンに酸化する化学反応である。これは、不活性溶媒例えば、塩素化アルカン中で行われ得、温度は、好ましくは-78°C~-55°Cの間に最後の塩基の添加まで維持されなければならない。反応工程e:式VIIの化合物は、H-D.Martinetal,Chem.Ber.118,25141985,S.Hayashietal,Chem.Lett.1979,983、またはM.Suda,TetrahedronLetters,22,14211981により記載されている手順に従いまたはそれに類似の手順により、インサイチュー生成されるジハロメチリデンホスホランRP=CClClここでRは、トリフェニル、トリC14アルキルまたはトリジメチルアミンであるを用いた式VIの化合物のWittigオレフィン化によって得られる。適切な溶媒は、例えばアセトニトリルまたはCH2Cl2であり、好ましくはアセトニトリルである。温度は、周囲温度~60°Cの間で可変であり、好ましいのは、50~60°Cの範囲、特に60°Cである。好ましいホスファンは、トリフェニルホスファンであり、これは、2.2~8当量、好ましくは2.2当量の量で使用され得る。四塩化炭素は、1.5~5当量、好ましくは1.5当量の量で使用され得る。CCl4:PPh3の比は、1:2から1:1.7までである。この反応はまた、四塩化炭素の代わりにクロロホルムを用いても行われ得る。四塩化炭素が好ましい。式VIIの化合物は新規であり、特に本発明に従う方法のために開発され、したがって、本発明のさらなる目的を構成する。反応工程f1:工程f1~工程gおよび工程f2の2つの処理変形形態processvariantの工程からは、変形工程f1~gが好ましい。この処理で使用されるパラジウムと少なくとも1つの配位子とを含む触媒は、概して、パラジウム前駆体および少なくとも1つの適切な配位子から形成される。この処理が溶媒中で行われる場合、錯体は通常、溶媒に可溶である。この処理の文脈において、パラジウム錯体は、環状有機パラジウム化合物パラダサイクルpalladacycleおよび第二級ホスファン配位子からなるものを、明示的に包含する。パラジウム錯体は、ロバストな予備形成種として使用されても、インサイチューで形成されてもよい。典型的に、パラジウム錯体は、パラジウム前駆体を少なくとも1つの適切な配位子と反応させることによって作製される。不完全な変換の場合には、残りの量のパラジウム前駆体または配位子は、反応混合物に溶解せずに存在し得る。有用なパラジウム前駆体は、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、塩化パラジウム溶液、パラジウム2-ジベンジリデンアセトン3もしくはパラジウム-ジベンジリデンアセトン2、パラジウム-テトラキストリフェニルホスファン、パラジウム/炭素、パラジウムジクロロ-ビスベンゾニトリル、パラジウム-トリス-tert-ブチルホスファン2またはパラジウム2-ジベンジリデンアセトン3とパラジウム-トリス-t-ブチルホスファン2との混合物から選択され得る。有用な配位子は、例えば、第三級ホスファン配位子、N-複素環式カルベン配位子およびホスファン酸phosphanicacid配位子である。第三級ホスファン配位子には、一般的に、単座配位子および二座配位子の二種類がある。単座配位子は1つのパラジウム配位部位を占有し得るが、二座配位子は2つの配位部位を占有するものであり、したがってパラジウム種をキレート化することができる。以下は、第三級ホスファン配位子、N-複素環式カルベン配位子およびホスファン酸配位子の例、ならびに第二級ホスファン配位子を有するパラダサイクルの例である。A単座ホスファン配位子:トリ-tert-ブチルホスファン、トリ-tert-ブチルホスホニウムテトラフルオロボレートPtBu3HBF4、トリス-オルト-トリルホスファンPoTol3、トリス-シクロヘキシルホスファンPCy3、2-ジ-tert-ブチル-ホスファノ-1,1’-ビスフェニルPtBu2BiPh、2-ジ-シクロヘキシル-ホスファノ-1,1’-ビスフェニルPCy2BiPh、2-ジシクロヘキシルホスファノ-2’,4’,6’-トリ-イソプロピル-1,1’-ビスフェニルx-Phos、およびtert-ブチル-ジ-1-アダマンチル-ホスファンPtBuAdam2。単座ホスファン配位子についてのさらなる情報は、米国特許出願公開第2004/0171833号明細書に見出され得る。B二座第三級ホスファン配位子:B1ビホスファン配位子:B1.1フェロセニル-ビホスファン配位子Josiphos配位子:1,1’-ビスジフェニルホスファノフェロセンdppf、1,1’-ビスジ-tert-ブチルホスファノ-フェロセン、R---1-[S-2-ビス4-トリフルオロメチルフェニルホスファノフェロセニル]エチル-ジ-tert-ブチル-ホスファン、R---1-[S-2-ジ3,5-ビス-トリフルオロメチルフェニルホスファノフェロセニル]エチルジシクロヘキシルホスファン、R---1-[S-2-ジ3,5-ビス-トリフルオロメチルフェニルホスファノフェロセニル]エチルジ3,5-ジメチルフェニルホスファン、R---1-[S-2-ジシクロヘキシルホスファノフェロセニル]エチルジ-tert-ブチルホスファン、R---1-[S-2-ジシクロヘキシルホスファノフェロセニル]エチルジシクロヘキシルホスファン、S--1-[R-2-ジシクロヘキシルホスファノフェロセニル]エチルジシクロヘキシルホスファン、S--1-[R-2-ジシクロヘキシルホスファノフェロセニル]エチルジフェニルホスファン、R---1-[S-2-ビス3,5-ジメチル-4-メトキシフェニルホスファノフェロセニル]エチルジシクロヘキシルホスファン、S--1-[R-2-ジ-フリルホスファノフェロセニル]エチルジ-3,5-キシリルホスファン、R---1-[S-2-ジフェニルホスファノフェロセニル]エチルジ-tert-ブチルホスファン、S--1-[R-2-ジフェニルホスファノフェロセニル]エチルジ-tert-ブチルホスファン、R---1-[S-2-ジフェニルホスファノフェロセニル]エチルジシクロヘキシルホスファン、R--1-[R-2-ジフェニルホスファノフェロセニル]エチルジシクロヘキシルホスファン、S--1-[R-2-ジフェニルホスファノフェロセニル]エチルジシクロヘキシルホスファン、R---1-[S-2-ジシクロヘキシルホスファノフェロセニル]エチルジフェニルホスファン、R---1-[S-2-ジフェニルホスファノフェロセニル]エチルジ3,5-ジメチルフェニルホスファン、R---1-[S-2-ジ-tert-ブチル-ホスファノフェロセニル]エチル-ジ-o-トリルホスファンR---1-[S-2-ビス3,5-ジメチル-4-メトキシフェニルホスファノフェロセニル]-エチル-ジ-tert-ブチルホスファンR---1-[S-2-ジエチルホスファノフェロセニル]-エチル-ジ-tert-ブチルホスファンR---1-[S-2-P-メチル-P-イソプロピル-ホスファノフェロセニル]エチルジシクロヘキシルホスファンR---1-[S-2-P-メチル-P-フェニル-ホスファノフェロセニル]エチル-ジ-tert-ブチルホスファンおよびこれらのラセミ混合物、特に1-[2-ジ-tert-ブチルホスファノフェロセニル]エチル-ジ-o-トリルホスファン、1-[2-ジシクロヘキシルホスファノフェロセニル]エチルジ-tert-ブチルホスファンおよび1-[2-ジフェニルホスファノフェロセニル]エチルジシクロヘキシルホスファンのラセミ混合物。B1.2ビナフチル-ビスホスファン配位子:2,2’ビスジフェニルホスファノ-1,1’-ビナフチルBINAP、R--2,2’-ビスジ-p-トリルホスファノ-1,1’-ビナフチルTol-BINAP、ラセミ2,2’-ビスジ-p-トリルホスファノ-1,1’-ビナフチルラセミTol-BINAP。B1.39,9-ジメチル-4,5-ビスジフェニル-ホスファノ-キサンテンXantphos。B2アミノホスファン2配位子:B2.1ビフェニル配位子:2-ジシクロヘキシルホスファノ-N,N-ジメチルアミノ-1,1’-ビフェニルPCy2NMe2BiPh2-ジ-tert-ブチルホスファノ-N,N-ジメチルアミノ-1,1’-ビフェニルPtBu2NMe2BiPh。CN-複素環式カルベン配位子:1,3-ビス-2,6-ジイソプロピルフェニル-イミダゾリウムクロリドI-Pr、1,2-ビス1-アダマンチル-イミダゾリウムクロリドI-Adおよび1,3-ビス-2,6-メチルフェニル-イミダゾリウムクロリドI-Me。Dホスファン酸配位子:ジ-tert-ブチル-ホスファンオキシド。E第二級ホスファン配位子を含有するパラダサイクル:式A-1式中、norbはノルボルニルであるの錯体、および式A-2の錯体。パラジウム錯体A-1は、Synlett.,2549-25522004に、コード名SK-CC01-Aで記載されている。錯体A-2は、Synlett.同書に、コード名SK-CC02-Aで記載されている。ホスファン酸配位子を含有するパラジウム錯体のさらなる例は、J.Org.Chem.66,8677-8681に、コード名POPd、POPd2およびPOPD1で記載されている。N-複素環式カルベン配位子を含有するパラジウム錯体のさらなる例は、ナフトキノン-1,3-ビス2,6-ジイソプロピルフェニルイミダゾール-2-イリデン-パラジウム[Pd-NQ-IPr]2、ジビニル-テトラメチルシロキサン-1,3-ビス2,6-ジイソプロピルフェニルイミダゾール-2-イリデン-パラジウムPd-VTS-IPr、1,3-ビス2,6-ジイソプロピルフェニルイミダゾール-2-イリデン-パラジウムジクロリドPd-Cl-IPr、1,3-ビス2,6-ジイソプロピルフェニルイミダゾール-2-イリデン-パラジウムジアセテートPd-OAc-IPr、アリル-1,3-ビス2,6-ジイソプロピルフェニルイミダゾール-2-イリデン-パラジウムクロリドPd-Al-Cl-IPrおよび式A-3:式中、R5は、2,6-ジイソプロピルフェニルまたは2,4,6-トリメチルフェニルであるの化合物である。[Pd-NQ-IPr]2、Pd-VTS-IPr、Pd-Cl-IPr、Pd-OAc-IPrおよびPd-Al-Cl-IPrについてのさらなる情報は、OrganicLetters,4,2229-22312002およびSynlett.,275-2782005に見出され得る。式A-3の化合物についてのさらなる情報は、OrganicLetters,5,1479-14822003に見出され得る。単一のパラジウム錯体または異なるパラジウム錯体の混合物が、一般式VIIIの化合物を調製するための方法において使用され得る。パラジウム錯体の形成に特に有用なパラジウム前駆体は、酢酸パラジウム、パラジウム2-ジベンジリデンアセトン3、パラジウム-ジベンジリデンアセトン2、塩化パラジウム溶液、またはパラジウム2-ジベンジリデンアセトン3とパラジウム-トリス-tert-ブチルホスファン2との混合物から選択される、パラジウム前駆体である。酢酸パラジウムは特に有用であり、塩化パラジウムも同様である。少なくとも1つの配位子が、パラジウム錯体の形成に使用される。通常、このパラジウム錯体は、単座第三級ホスファン配位子、二座第三級ホスファン配位子およびN-複素環式カルベン配位子から選択される少なくとも1つの配位子を有し、典型的には、フェロセニル-ビホスファン配位子、ビナフチル-ビスホスファン配位子およびアミノホスファン配位子から選択される少なくとも1つの配位子を有する。特に好適であるのは、トリ-tert-ブチルホスピンbutylphospine、PtBu3HBF4、PoTol3、PCy3、PtBu2BiPh、PCy2BiPh、x-Phos、PtBuAdam2、R---1-[S-2-ジシクロヘキシルホスファノフェロセニル]エチルジ-tert-ブチルホスファン、ラセミ1-[2-ジシクロヘキシルホスファノフェロセニル]エチルジ-tert-ブチルホスファン、R---1-[S-2-ジ-tert-ブチル-ホスファノフェロセニル]エチルジ-o-トリルホスファン、ラセミ1-[2-ジ-tert-ブチル-ホスファノフェロセニル]エチルジ-o-トリルホスファン、dppf、1,1’-ビスジ-tert-ブチル-ホスファノ-フェロセン、R---1-[S-2-ジフェニルホスファノフェロセニル]エチルジシクロヘキシルホスファン、ラセミ1-[2-ジフェニルホスファノフェロセニル]エチルジシクロヘキシルホスファン、R---1-[S-2-ジフェニルホスファノフェロセニル]エチルジ-tert-ブチルホスファン、BINAP、Tol-BINAP、ラセミTol-BINAP、Xantphos、PCy2NMe2BiPh、PtBu2NMe2BiPh、I-Pr、I-AdおよびI-Meから選択される少なくとも1つの配位子を含有するパラジウム錯体、ならびに式A-3式中、R5は、2,6-ジイソプロピルフェニルまたは2,4,6-トリメチルフェニルであるのパラジウム錯体である。好ましいのは、トリ-tert-ブチルホスピンbutylphospine、PtBu3HBF4、PtBu2BiPh、PCy2BiPh、x-Phos、R---1-[S-2-ジシクロヘキシルホスファノフェロセニル]エチルジ-tert-ブチルホスファン、ラセミ1-[2-ジシクロヘキシルホスファノフェロセニル]エチルジ-tert-ブチルホスファン、R---1-[S-2-ジ-tert-ブチルホスファノフェロセニル]エチルジ-o-トリルホスファン、ラセミ1-[2-ジ-tert-ブチルホスファノフェロセニル]エチルジ-o-トリルホスファン、dppf、PCy2NMe2BiPhおよびI-Prから選択される少なくとも1つの配位子を有するパラジウム錯体である。特に興味深いのは、以下の群から選択される少なくとも1つの配位子を含有するパラジウム錯体である。iトリ-tert-ブチルホスピンbutylphospine、PtBu3HBF4、PtBu2BiPh、PCy2BiPh、x-Phos、PCy2NMe2BiPhおよびI-Pr;iiトリ-tert-ブチルホスピンbutylphospine、PtBu3HBF4、PCy2NMe2BiPhおよびI-Pr;iiiトリ-tert-ブチルホスピンbutylphospineおよびPtBu3HBF4;ならびにivR---1-[S-2-ジシクロヘキシルホスファノフェロセニル]エチルジ-tert-ブチルホスファンおよびラセミ1-[2-ジシクロヘキシルホスファノフェロセニル]エチルジ-tert-ブチルホスファン。好ましいのは、PCy2NMe2BiPh、I-Pr、R---1-[S-2-ジシクロヘキシルホスファノフェロセニル]エチルジ-tert-ブチルホスファンまたはラセミ1-[2-ジシクロヘキシルホスファノフェロセニル]エチルジ-tert-ブチルホスファンを配位子として含有するパラジウム錯体である。好ましい錯体は、前駆体が塩化パラジウムであり、配位子がR---1-[S-2-ジシクロヘキシルホスファノフェロセニル]エチルジ-tert-ブチルホスファンである、錯体である。パラジウム錯体は、触媒量で、通常は、式IVの化合物に対して1:10~1:10000のモル比で、典型的には、1:100~1:1000、例えば1:500~1:700または約1:600の比で、式IIの化合物の調製において使用される。錯体は、予備形成されていても、前駆体および配位子を一緒に混合することによってインサイチューで形成されてもよく、その前駆体および配位子は、概しておよそ等モル量で使用される。反応工程fのための特に好ましいパラジウム触媒は、PdOAc2であり好ましい添加量は、3~5mol、特に4molである、配位子は、Josiphos型、DavePhos例えば、2-ジシクロヘキシルホスファノ-2’-N,N-ジメチルアミノビフェニル型またはXantphos4,5-ビスジフェニルホスファノ-9,9-ジメチルキサンテン型から選択され、好ましいのは、Josiphos型、特に2R-1-[1R-1-[ビス1,1-ジメチルエチルホスファノ]エチル]-2-ジシクロヘキシルホスファノフェロセンであるJosiphosSL-J009-1である好ましい量は、3~5mol、特に4.4molである。NH3は、有利には0.9~1.1MPa、好ましくは1~1.05MPaの圧力下で添加される。好ましくは、この反応工程は、1.4~2.6MPa、好ましくは1.5~2.2MPaの圧力、特に2.2MPaで、80~150°C、好ましくは100~120°Cの温度で行われる。好ましい溶媒は、ジメチルエーテルなどのエーテルである。反応工程g:式IXの化合物は公知であり、例えば米国特許第5,093,347号明細書に、開示されている。反応工程gのための好ましい塩基は、トリエチルアミンなどのアミン、または炭酸もしくは重炭酸ナトリウムもしくはカリウム、またはNaOHであり、好ましくはトリエチルアミンまたはNaOHである。好ましい溶媒は、キシレン、トルエンまたはクロロベンゼンである。好ましくは、この反応は、-10~90°C、好ましくは70~80°Cの温度で行われる。反応工程f2:式IXaの化合物は、例えば国際出願PCT/EP2009/067286号明細書に記載されている。反応工程f2は、100~180°Cの温度で、好ましくは130°Cで行われ得る。加熱は、密封バイアル、開放フラスコ中で、還流下またはマイクロ波照射下で可能であり、好ましくは密封バイアル中である。溶媒としては、アミドDMF、NMP、アルコールシクロヘキサノール、エーテルジグリム、ジオキサン、スルホキシドDMSO、炭化水素メシチレン、トルエン、ニトリルブチロニトリルおよびそれらの混合物トルエン/メタノール、トルエン/シクロヘキサノール、ジオキサン/メタノール、ジオキサン/水、好ましくはトルエンおよびジオキサンが使用され得る。銅源としては、Cu0、CuIまたはCuII塩が使用され得る。例は、Cu0粉末、ヨウ化CuI、チオフェンカルボン酸CuI、CuIIフタロシアニン、酢酸CuII、酸化CuII、塩化CuII、臭化CuII、硫酸CuII五水和物およびそれらの混合物であり、好ましくは酸化CuIIおよび塩化CuIIである。銅触媒は、2~330molの間の量で、好ましくは8~12mol、特に10molで使用され得る。Cu0が使用される場合、この量は、好ましくは>100モルである。配位子は、概して、有効な触媒作用のために必要とされる。例は、N,N’-ジメチルエチレンジアミン、1,2-ビスジメチルアミノシクロヘキサン、1,2-ジアミノシクロヘキサン、1,2-フェニレンジアミン、4-ジメチルアミノピリジン、1,2-ビス3-アミノプロピルアミノエタン、トリエチレンテトラミン、ジエチレントリアミン、トリス2-アミノエチルアミンである。好ましくは、N,N’-ジメチルエチレンジアミンが使用される。炭酸塩、例えば、炭酸セシウムおよび好ましくは炭酸カリウムが、塩基として使用され得る。この転化は、概して5~24時間後に完了する。調製実施例:工程a:式IIIaの5-クロロ-1,4-ジヒドロ-1,4-メタノ-ナフタレンの調製:115gの1-ブロモ-2,3-ジクロロベンゼンを、470gのトルエンに溶解させ、この溶液を-10°Cまで冷却した。次いで、イソプロピルマグネシウムクロリドの20THF溶液309gを30分かけて添加し、この反応混合物を-10°Cで1時間攪拌した。新たに蒸留したシクロペンタジエン44.5g、1.3当量を、10分かけて添加した。周囲温度での1時間の攪拌後、この混合物を加熱して還流させた。転化が完了すると、反応混合物を濾別し、トルエンで2回洗浄した。母液を蒸発させ、106gの褐色の粗油を得た収率:91.5。この物質は、蒸留によって、またはCCシリカゲル、溶離剤:ヘプタン/TBME19/1によって、精製され得る。1H-NMR400MHz,CDCl3:δ=7.08-6.97m,3H,Ar-H;7.00-6.96m,2H,ビニル-H;4.32-4.31m,1H;4.09-4.08m,1H;2.46dt,J=7.5Hz,1.5Hz,1H;2.41dt,J=7.0Hz,1.5Hz,1H.工程b:式IVaの化合物の調製:10.6gの5-クロロ-1,4-ジヒドロ-1,4-メタノ-ナフタレンを200mLのCH2Cl2に溶解させ、0°Cまで冷却した。160mLのCH2Cl2中で希釈した15gのメタ-クロロ-過安息香酸を10分かけて添加し、この反応混合物を、出発物質の完全な転化まで周囲温度で攪拌した。亜硫酸水素ナトリウム溶液を反応混合物に添加し、有機相を分離した。この有機相を、NaHCO3溶液で2回洗浄し、次いでブラインで洗浄した。溶媒蒸発後、12gの粘性の黄色の粗生成物を得た収率:定量的。精製CC、シリカゲル、溶離剤:19/1ヘプタン/EA後に、当該化合物を白色固体の形態で得ることができた。1H-NMR400MHz,CDCl3:δ=7.05-7.03m,1H,Ar-H;6.97-6.89m,2H,Ar-H;3.62-3.61m,1H;3.39-3.37m,2H;3.31-3.30m,1H;2.19-2.11m,2H;1.89dt,J=9.2Hz,1.7Hz,1H;1.47dt,J=8.8Hz,1.1Hz,1H.工程c:式Vaの5-クロロ-1,2,3,4-テトラヒドロ-1,4-メタノ-ナフタレン-9-オールの調製:LiAlH4を用いた実施例:乾燥バイアル中、周囲温度で、28mgのLiAlH40.78mmol、1当量を1mLのEt2O中で攪拌した。この混合物に、4mLのEt2O中の式IVaの化合物150mg、0.78mmol、1当量の溶液を、ゆっくりと添加した。結果として得られた混合物を加熱して16時間還流させ、次いでこれを周囲温度まで冷却させた。次いで、塩化アンモニウムの飽和水溶液を、注意深く添加した。次いで、2つの相を分離し、水層を酢酸エチルで抽出し、合せた有機層を飽和塩化アンモニウム水で洗浄し、固体硫酸ナトリウム上で乾燥させ、真空下で濃縮した。次いで、粗生成物を、クロマトグラフィーカラムでシリカゲルにより精製し、ヘプタン/酢酸エチル4/1で溶出した。105mgの式Vaの化合物を得た70収率。ジイソブチル-アルミニウムハイドライドを用いた実施例:0.6gの式IVaの化合物をアルゴン雰囲気下で5gのトルエンに溶解させた。この混合物を0°Cまで冷却し、2.5gのジイソブチル-アルミニウムハイドライド1当量を0°Cで1時間かけて添加した。この反応混合物を、一定量の生成物が形成するまで攪拌した。この反応混合物をAcOEtで希釈し、次いで冷酸性水、水およびブラインで抽出した。得られた粗油を、クロマトグラフィーヘプタン/AcOEt:4/1で精製した。収率:50。1H-NMR400MHz,CDCl3:7.13-7.05ppm3H,m;3.87ppm1H,bs;3.41ppm1H,bs;3.19ppm1H,bs;2.15ppm,2H,m;1.79ppm1H,d,J=4Hz;1.32-1.15ppm2H,m.工程d:式VIaの5-クロロ-1,2,3,4-テトラヒドロ-1,4-メタノ-ナフタレン-9-オンの調製:1.8gの塩化オキサリル6.1当量を35mLのCH2Cl2に溶解させ、-60°Cまで冷却した。この溶液に、次の試薬を順々に添加した:1/10mLのCH2Cl2に溶解させた2.2gのDMSO12.2当量を5分かけて添加;2/10mLのCH2Cl2に溶解させた460mgの式Vaの化合物を5分かけて添加し、混合物を15分攪拌した;3/10mLのCH2Cl2中で希釈した6.65gのトリエチルアミン27.8当量を添加し、混合物を5分攪拌した。添加の完了後、混合物を周囲温度まで自己加熱した。この反応混合物をCH2Cl2で希釈し、次いで水およびブラインで洗浄した。有機相を蒸留して、0.7gの粗粘性油を得た。この生成物を、フラッシュクロマトグラフィーヘプタン/AcOEt:95/5により精製した。0.4gの純粋な物質を得た≧収率:88。1H-NMR400MHz,CDCl3:δ=7.25-7.17m,3H,Ar-H;3.61-3.60m,1H;3.41-3.40m,1H;2.27-2.21m,2H;1.47-1.36m,2H.工程e:式VIIaの5-クロロ-9-ジクロロメチレン-1,2,3,4-テトラヒドロ-1,4-メタノ-ナフタレンの調製:50gの5-クロロ-1,2,3,4-テトラヒドロ-1,4-メタノ-ナフタレン-9-オンおよび520mLのアセトニトリルの溶液に、157g2.2当量のPPh3を、周囲温度で少しずつinportion添加した。次いで、60gのCCl41.5当量を40分かけて供給した。反応混合物を60°Cで加熱し、完全な転化まで攪拌した。この反応混合物を蒸留して、259gの粗油を得た。500gの氷水および500mLのCH2Cl2を添加した。相分離後、水相をCH2Cl2で洗浄した。合せた有機相をブラインで洗浄し、有機相を蒸留した。粗油を精製するために、400mLのアセトンを添加し、その油を50°Cで溶解させた。500mLのヘキサンを添加することによって、生成物を析出させた。この生成物を濾別し、150mLのヘキサンで洗浄した。母液を蒸発させ、先に記載したように再び結晶させた;この操作を2回繰り返した。合計で66.1gの褐色の油を得た。この得られた油をシリカAcOEt/シクロヘキサン:1/9で精製して、62.8gの式VIIaの化合物を得た。収率:93.2。1H-NMR400MHz,CDCl3:δ=7.13-7.03m,3H,Ar-H;4.18-4.17m,1H;3.97-3.96m,1H;2.15-2.07m,2H;1.45-1.32m,2H.工程f1:5-ブロモ-9-ジクロロメチレン-1,2,3,4-テトラヒドロ-1,4-メタノ-ナフタレンから出発する式VIIIの9-ジクロロメチレン-1,2,3,4-テトラヒドロ-1,4-メタノ-ナフタレン-5-イルアミンの調製:触媒調製:8.98mgの酢酸パラジウム0.040mmolおよび22mgのJosiphos配位子JosiphosSL-J009-1、2R-1-[1R-1-[ビス1,1-ジメチルエチルホスファノ]エチル]-2-ジシクロヘキシルホスファノフェロセンSolviasAG、0.040mmolを5mLシュレンク管に入れ、アルゴン/真空で不活性化inertizeした。2.5mLのジメチルエーテルを添加し、この触媒を15分にわたり攪拌状態にしておいた。出発物質溶液:608mgの5-ブロモ-9-ジクロロメチレン-1,2,3,4-テトラヒドロ-1,4-メタノ-ナフタレン2mmolを5mLシュレンク管に入れ、アルゴン/真空で不活性化した。次いで、この出発物質に、2.5mLの脱ガスしたジメチルエーテルを添加した。反応:384gのNaOtBu4mmolを、ステンレス鋼の50mLオートクレーブに入れた。このオートクレーブの蓋を締めscrewedon、アルゴン下に置いた。アルゴンの絶え間ない流れの下で、出発物質溶液をオートクレーブに移し入れ、続いて触媒溶液を移し入れた。NH3を、圧力が1.05MPaに達するまで添加した。オートクレーブを105°Cまで加熱し、圧力を1.6MPaまで上昇させた。32時間の反応後、反応を停止させた。79の生成物を、HPLCにより同定した。式VIIIの化合物は、5-クロロ-9-ジクロロメチレン-1,2,3,4-テトラヒドロ-1,4-メタノ-ナフタレンを出発物質として用いて同様に調製され得る。工程g:式Iの3-ジフルオロメチル-1-メチル-1H-ピラゾール-4-カルボン酸9-ジクロロメチレン-1,2,3,4-テトラヒドロ-1,4-メタノ-ナフタレン-5-イル-アミドの調製:9-ジクロロメチレン-1,2,3,4-テトラヒドロ-1,4-メタノ-ナフタレン-5-イルアミン166g、35キシレン溶液、0.25mol、トリエチルアミン28g、0.275molおよびキシレン13gを反応器中に投入し、混合物を80°Cまで加熱した。3-ジフルオロメチル-1-メチル-1H-ピラゾール-4-カルボニルクロリド182g、26キシレン溶液、0.25molを2時間かけて添加した。転化後、生成物を抽出し、濃縮し、キシレン/メチシクロヘキサンmethycyclohexaneの混合物中で結晶させた。83gの純粋な生成物を単離した。純度:97、収率:821H-NMR400MHz,CDCl3:δ=8.12bs,1H,NH;8.05s,1H,Pyr-H;7.83-7.80d,1H,Ar-H;7.19-7.15t,1H,Ar-H;7.04d,1H,Ar-H;7.02-6.76t,1H,CHF2;4.1s,1H,CH;3.95-4.0bs,4H,CHCH3;2.18-2.08m,2H,CH2;1.55-1.32m,2H,CH2.工程f2:式Iの3-ジフルオロメチル-1-メチル-1H-ピラゾール-4-カルボン酸9-ジクロロメチレン-1,2,3,4-テトラヒドロ-1,4-メタノ-ナフタレン-5-イル-アミドの調製:20mLねじ蓋バイアルに、次の固体を充填した:CuO0.05mmol、4.0mg、無水CuCl20.05mmol,6.7mg、K2CO32.0mmol、277mg、3-ジフルオロメチル-1-メチル-1H-ピラゾール-4-カルボン酸アミド1.1mmol、193mgおよび5-ブロモ-9-ジクロロメチレン-1,2,3,4-テトラヒドロ-1,4-メタノ-ナフタレン1.0mmol、304mg。磁気攪拌棒を加え、開けたままのバイアルをN2で静かにフラッシした。ジオキサン2mLを添加し、続いてN,N’-ジメチルエチレンジアミン0.45mmol、48μLを添加した。このバイアルを密封し、余熱した130°Cの遮蔽ブロックscreeningblockの中に入れた。転化は24時間後に完了した。式Iの化合物の収率HPLC分析は、70であった。この反応は、5,9,9-トリクロロメチレン-1,2,3,4-テトラヒドロ-1,4-メタノ-ナフタレンを出発物質として使用して同様に行われ得る。"