"発光材料と、下記一般式1で表される構成連鎖を主鎖に有する高分子化合物と、を含む組成物。-[-Yn-Z-]m-1[式中、Yは、下記一般式Y-1又はY-2で表される構造から水素原子を2個除いた2価の基を示す。Zは、下記一般式Z-1、Z-2、Z-3、Z-4、Z-5、Z-6、Z-7又はZ-8で表される構造から水素原子を2個除いた2価の基を示す。mは4~10000の整数、nは1~3の整数を示す。複数あるY、Z及びnは、各々、同一であっても異なっていてもよい。なお、Y及びZが有する水素原子は、R’で置換されていてもよく、R’は、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アミノ基、シリル基、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド化合物残基、酸イミド残基、1価の複素環基及び1価の複素環チオ基からなる群より選ばれる官能基、又はハロゲン原子を示す。R’が複数ある場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、複数のR’は互いに結合して環構造を形成していてもよい。前記官能基が有する水素原子は置換基で更に置換されていてもよい。][式中、Xは、-CH=又は-N=を示す。複数あるXは、同一であっても異なっていてもよい。但し、Xとしての-N=の数は、0~2である。RXは、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アミノ基、シリル基、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド化合物残基、酸イミド残基、1価の複素環基及び1価の複素環チオ基からなる群より選ばれる官能基、又は水素原子若しくはハロゲン原子を示す。複数あるRXは、同一であっても異なっていてもよく、複数のRXは互いに結合して環構造を形成していてもよい。前記官能基が有する水素原子は置換基で更に置換されていてもよい。]前記発光材料が、高分子発光材料である請求項1に記載の組成物。前記発光材料が、下記一般式A、B又はCで表される構成単位の少なくとも1種を有する高分子発光材料である、請求項2に記載の組成物。[式中、Ar1及びAr5は、それぞれ独立に、アリーレン基、2価の複素環基又は金属錯体構造を有する2価の基を示す。Ar2、Ar3及びAr4は、それぞれ独立に、アリーレン基又は2価の複素環基を示す。R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又は1価の複素環基を示す。X1は-CR3=CR4-又は-C≡C-を示す。R3及びR4は、それぞれ独立に、水素原子、カルボキシル基、置換カルボキシル基、シアノ基、アルキル基、アリール基又は1価の複素環基を示す。aは、0又は1である。]前記発光材料が、前記一般式Bで表される構成単位を有する請求項3に記載の組成物。前記Yが、下記一般式Y-3、Y-4、Y-5又はY-6で表される2価の基である、請求項1~4のいずれか一項に記載の組成物。[式中、Rは、水素原子、アルキル基、アリール基又は1価の複素環基を示す。複数あるRは、同一であっても異なっていてもよい。]前記Zが、下記一般式Z-9、Z-10、Z-11、Z-12、Z-13、Z-14、Z-15、Z-16、Z-17、Z-18、Z-19又はZ-20で表される2価の基である、請求項1~5のいずれか一項に記載の組成物。[式中、Rは、水素原子、アルキル基、アリール基又は1価の複素環基を示す。複数あるRは、同一であっても異なっていてもよい。RXは前記と同義である。]前記Zが、前記一般式Z-11、Z-15又はZ-17で表される2価の基である、請求項6に記載の組成物。前記高分子化合物1質量部に対して、前記発光材料を0.1~100質量部含む、請求項1~7のいずれか一項に記載の組成物。前記高分子化合物が、縮合重合で合成されるものであり、高分子化合物には、前記Yで表される基及び前記Zで表される基が縮合重合により導入されており、Yで表される基及びZで表される基とは相違する任意追加基が縮合重合により導入されていてもよく、高分子化合物における、Y、Z及び任意追加基のモル数をそれぞれNY、NZ及びNMとしたときに、NY、NZ及びNMが下記式2を満たす、請求項1~8のいずれか一項に記載の組成物。30≦NY×100/NYNZNM≦752前記高分子化合物及び前記発光材料が、それぞれ縮合重合で合成されるものであり、高分子化合物には、前記Yで表される基及び前記Zで表される基が縮合重合により導入されており、Yで表される基及びZで表される基とは相違する任意追加基が縮合重合により導入されていてもよく、高分子化合物における、Y、Z及び任意追加基のモル数をそれぞれNY、NZ及びNMとし、発光材料における、縮合重合により導入される発光材料を構成する化学構造のモル数をNLとしたときに、NY、NZ、NM及びNLが下記式3を満たす、請求項1~9のいずれか一項に記載の組成物。0.5≦NY×100/NYNZNMNL≦37.53前記高分子化合物の主鎖が前記一般式1で表される構成連鎖のみからなる、請求項1~10のいずれか一項に記載の組成物。下記一般式1で表される構成連鎖を主鎖に有し、かつ、発光材料を構成する化学構造を主鎖又は側鎖に有する、ブロック型共重合体。-[-Yn-Z-]m-1[式中、Yは、下記一般式Y-1又はY-2で表される構造から水素原子を2個除いた2価の基を示す。Zは、下記一般式Z-1、Z-2、Z-3、Z-4、Z-5、Z-6、Z-7又はZ-8で表される構造から水素原子を2個除いた2価の基を示す。mは4~10000の整数、nは1~3の整数を示す。複数あるY、Z及びnは、各々、同一であっても異なっていてもよい。Y及びZが有する水素原子は、R’で置換されていてもよく、R’は、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アミノ基、シリル基、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド化合物残基、酸イミド残基、1価の複素環基及び1価の複素環チオ基からなる群より選ばれる官能基、又はハロゲン原子を示す。R’が複数ある場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、複数のR’が互いに結合して環構造を形成していてもよい。前記官能基が有する水素原子は置換基で更に置換されていてもよい。][式中、Xは、-CH=又は-N=を示す。複数あるXは、同一であっても異なっていてもよい。但し、Xとしての-N=の数は、0~2である。RXは、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アミノ基、シリル基、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド化合物残基、酸イミド残基、1価の複素環基及び1価の複素環チオ基からなる群より選ばれる官能基、又は水素原子若しくはハロゲン原子を示す。複数あるRXは、同一であっても異なっていてもよく、複数のRXは互いに結合して環構造を形成していてもよい。前記官能基が有する水素原子は置換基で更に置換されていてもよい。]前記発光材料を構成する化学構造が、下記一般式A、B又はCで表される構成単位の少なくとも1種である、請求項12に記載のブロック型共重合体。[式中、Ar1及びAr5は、それぞれ独立に、アリーレン基、2価の複素環基又は金属錯体構造を有する2価の基を示す。Ar2、Ar3及びAr4は、それぞれ独立に、アリーレン基又は2価の複素環基を示す。R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又は1価の複素環基を示す。X1は、-CR3=CR4-又は-C≡C-を示す。R3及びR4は、それぞれ独立に、水素原子、カルボキシル基、置換カルボキシル基、シアノ基、アルキル基、アリール基又は1価の複素環基を示す。aは、0又は1である。]前記発光材料を構成する化学構造が、前記一般式Bで表される構成単位である、請求項13に記載のブロック型共重合体。前記Yが、下記一般式Y-3、Y-4、Y-5又はY-6で表される2価の基である、請求項12~14のいずれか一項に記載のブロック型共重合体。[式中、Rは、水素原子、アルキル基、アリール基又は1価の複素環基を示す。複数あるRは、同一であっても異なっていてもよい。]前記Zが、下記一般式Z-9、Z-10、Z-11、Z-12、Z-13、Z-14、Z-15、Z-16、Z-17、Z-18、Z-19又はZ-20で表される2価の基である、請求項12~15のいずれか一項に記載のブロック型共重合体。[式中、Rは、水素原子、アルキル基、アリール基又は1価の複素環基を示す。Rが複数ある場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。RXは前記と同義である。]前記Zが、前記一般式Z-11、Z-15又はZ-17で表される2価の基である、請求項16に記載のブロック型共重合体。前記一般式1で表される構成連鎖を1~30有する、請求項12~17のいずれか一項に記載のブロック型共重合体。前記ブロック型共重合体は、縮合重合で合成されるものであり、ブロック型共重合体には、前記Yで表される基、前記Zで表される基及び前記発光材料を構成する化学構造が、縮合重合により導入されており、Yで表される基、Zで表される基及び発光材料を構成する化学構造とは相違する任意追加基が縮合重合により導入されていてもよく、ブロック型共重合体における、Y、Z、任意追加基及び発光材料を構成する化学構造のモル数を、それぞれNY、NZ、NM及びNKしたときに、NY、NZ、NM及びNKが下記式4を満たす、請求項12~18のいずれか一項に記載のブロック型共重合体。2≦NY×100/NYNZNKNM<404前記発光材料を構成する化学構造と前記一般式1で表される構成連鎖のみからなる、請求項12~19のいずれか一項に記載のブロック型共重合体。一対の電極と、該一対の電極の間に設けられた有機層を有し、該有機層が、請求項1~11のいずれか一項に記載の組成物を用いてなる、有機エレクトロルミネッセンス素子。一対の電極と、該一対の電極の間に設けられた有機層を有し、該有機層が、請求項12~20のいずれか一項に記載のブロック型共重合体を含む、有機エレクトロルミネッセンス素子。請求項21又は22に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を有する面状光源。請求項21又は22に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を有する表示装置。しかしながら、従来の高分子有機材料、特に青色で発光する材料を有機EL素子の作製に用いる場合、有機EL素子の輝度寿命が十分であるとは言えなかった。そこで、本発明は、輝度寿命に優れる有機EL素子、これを用いた面状光源及び表示装置、並びに、この素子の有機層に用いることのできる、組成物及びブロック型共重合体を提供することを目的とする。すなわち、本発明は、発光材料と、下記式1で表される構成連鎖を主鎖に有する高分子化合物と、を含む組成物を提供する。-[-Yn-Z-]m-1[式中、Yは、下記一般式Y-1又はY-2で表される構造から水素原子を2個除いた2価の基を示す。Zは、下記一般式Z-1、Z-2、Z-3、Z-4、Z-5、Z-6、Z-7又はZ-8で表される構造から水素原子を2個除いた2価の基を示す。mは4~10000の整数、nは1~3の整数を示す。複数あるY、Z及びnは、各々、同一であっても異なっていてもよい。なお、Y及びZが有する水素原子は、R’で置換されていてもよく、R’は、それぞれ独立に、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アミノ基、シリル基、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド化合物残基、酸イミド残基、1価の複素環基及び1価の複素環チオ基からなる群より選ばれる官能基、又はハロゲン原子を示す。R’が複数ある場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、複数のR’が互いに結合して環構造を形成していてもよい。前記官能基が有する水素原子は置換基で更に置換されていてもよい。][式中、Xは、-CH=又は-N=を示す。複数あるXは、同一であっても異なっていてもよい。但し、Xとしての-N=の数は、0~2である。RXは、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アミノ基、シリル基、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド化合物残基、酸イミド残基、1価の複素環基及び1価の複素環チオ基からなる群より選ばれる官能基、又は水素原子若しくはハロゲン原子を示す。複数あるRXは、同一であっても異なっていてもよく、複数のRXは互いに結合して環構造を形成していてもよい。前記官能基が有する水素原子は置換基で更に置換されていてもよい。]このような組成物を用いて得られる有機EL素子は、輝度寿命に優れる。上記発光材料は、高分子発光材料であることが好ましい。発光材料が高分子発光材料であることにより、電荷移動に対する抵抗が小さくなる傾向があるので、電流特性に優れる。上記高分子発光材料は、輝度寿命が一層優れる傾向、及び/又は、発光効率が向上する傾向があるので、下記一般式A、B又はCで表される構成単位の少なくとも1種を有することが好ましい。[式中、Ar1及びAr5は、それぞれ独立に、アリーレン基、2価の複素環基又は金属錯体構造を有する2価の基を示す。Ar2、Ar3及びAr4は、それぞれ独立に、アリーレン基又は2価の複素環基を示す。R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、又は1価の複素環基を示す。X1は-CR3=CR4-又は-C≡C-を示す。R3及びR4は、それぞれ独立に、水素原子、カルボキシル基、置換カルボキシル基、シアノ基、アルキル基、アリール基又は1価の複素環基を示す。aは、0又は1である。]上記発光材料は、正孔輸送性が向上するので、上記一般式Bで表される構成単位を有することがより好ましい。上記組成物において、Yは、それぞれ独立に、下記一般式Y-3、Y-4、Y-5又はY-6で表される2価の基であることが好ましく、下記一般式Y-3、Y-4又はY-5で表される2価の基であることがより好ましく、下記一般式Y-3又はY-5で表される2価の基であることがさらに好ましく、下記一般式Y-3で表される2価の基であることが特に好ましい。[式中、Rは、水素原子、アルキル基、アリール基又は1価の複素環基を示す。複数あるRは、同一であっても異なっていてもよい。]上記組成物において、Zは、下記一般式Z-9、Z-10、Z-11、Z-12、Z-13、Z-14、Z-15、Z-16、Z-17、Z-18、Z-19又はZ-20で表される2価の基であることが好ましく、下記一般式Z-9、Z-11、Z-13、Z-15、Z-16、Z-17又はZ-19で表される2価の基であることがより好ましく、下記一般式Z-9、Z-11、Z-15、Z-16、Z-17又はZ-19で表される2価の基であることがさらに好ましく、下記一般式Z-11、Z-15又はZ-17で表される2価の基であることが特に好ましい。とりわけ好ましくは、下記一般式Z-15で表される2価の基である。[式中、Rは、水素原子、アルキル基、アリール基又は1価の複素環基を示す。複数あるRは、同一であっても異なっていてもよい。RXは上記と同義である。]組成物は、上記高分子化合物1質量部に対して、上記発光材料を0.1~100質量部含むことが好ましい。上記組成物の一実施形態では、上記高分子化合物は、縮合重合で合成されるものであり、高分子化合物には、上記Yで表される基及び上記Zで表される基が縮合重合により導入されており、Yで表される基及びZで表される基とは相違する任意追加基が縮合重合により導入されていてもよく、高分子化合物における、Y、Z及び任意追加基のモル数をそれぞれNY、NZ及びNMとしたときに、NY、NZ及びNMが下記式2を満たすことが好ましい。30≦NY×100/NYNZNM≦752上記組成物のその他の実施形態では、上記高分子化合物及び上記発光材料は、それぞれ縮合重合で合成されるものであり、高分子化合物には、上記Yで表される基及び上記Zで表される基が縮合重合により導入されており、Yで表される基及びZで表される基とは相違する任意追加基が縮合重合により導入されていてもよく、高分子化合物における、Y、Z及び任意追加基のモル数をそれぞれNY、NZ及びNMとし、発光材料における、縮合重合により導入される発光材料を構成する化学構造のモル数をNLとしたときに、NY、NZ、NM及びNLが下記式3を満たすことが好ましい。高分子化合物中のYの数が下記式2又は3を満たすとき、発光効率が向上する傾向にある。0.5≦NY×100/NYNZNMNL≦37.53上記組成物において、上記高分子化合物は、輝度寿命が一層優れる傾向、及び/又は、発光効率が向上する傾向にあるので、主鎖が上記一般式1で表される構成連鎖のみからなることが好ましい。本発明はまた、下記一般式1で表される構成連鎖を主鎖に有し、かつ、発光材料を構成する化学構造を主鎖又は側鎖に有する、ブロック型共重合体を提供する。-[-Yn-Z-]m-1[式中、Yは、下記一般式Y-1又はY-2で表される構造から水素原子を2個除いた2価の基を示す。Zは、下記一般式Z-1、Z-2、Z-3、Z-4、Z-5、Z-6、Z-7又はZ-8で表される構造から水素原子を2個除いた2価の基を示す。mは4~10000の整数、nは1~3の整数を示す。複数あるY、Z及びnは、各々、同一であっても異なっていてもよい。Y及びZが有する水素原子は、R’で置換されていてもよく、R’は、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アミノ基、シリル基、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド化合物残基、酸イミド残基、1価の複素環基及び1価の複素環チオ基からなる群より選ばれる官能基、又はハロゲン原子を示す。R’が複数ある場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、複数のR’が互いに結合して環構造を形成していてもよい。前記官能基が有する水素原子は置換基で更に置換されていてもよい。][式中、Xは、-CH=又は-N=を示す。複数あるXは、同一であっても異なっていてもよい。但し、Xとしての-N=の数は、0~2である。RXは、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アミノ基、シリル基、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド化合物残基、酸イミド残基、1価の複素環基及び1価の複素環チオ基からなる群より選ばれる官能基、又は水素原子若しくはハロゲン原子を示す。複数あるRXは、同一であっても異なっていてもよく、複数のRXは互いに結合して環構造を形成していてもよい。前記官能基が有する水素原子は置換基で更に置換されていてもよい。]このブロック型共重合体を用いて得られる有機EL素子は、輝度寿命に優れる。上記ブロック型共重合体において、上記発光材料を構成する化学構造は、輝度寿命が一層優れる傾向、及び/又は、発光効率が向上する傾向があるので、下記一般式A、B又はCで表される構成単位の少なくとも1種であることが好ましい。[式中、Ar1及びAr5は、それぞれ独立に、アリーレン基、2価の複素環基又は金属錯体構造を有する2価の基を示す。Ar2、Ar3及びAr4は、それぞれ独立に、アリーレン基又は2価の複素環基を示す。R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又は1価の複素環基を示す。X1は、-CR3=CR4-又は-C≡C-を示す。R3及びR4は、それぞれ独立に、水素原子、カルボキシル基、置換カルボキシル基、シアノ基、アルキル基、アリール基又は1価の複素環基を示す。aは、0又は1である。]上記ブロック型共重合体において、上記発光材料を構成する化学構造は、電流特性が向上する傾向があるので、上記一般式Bで表される構成単位であることが好ましい。上記ブロック型共重合体において、Yは、下記一般式Y-3、Y-4、Y-5又はY-6で表される2価の基であることが好ましく、下記一般式Y-3、Y-4又はY-5で表される2価の基であることがより好ましく、下記一般式Y-3又はY-5で表される2価の基であることがさらに好ましく、下記一般式Y-3で表される2価の基であることが特に好ましい。[式中、Rは、水素原子、アルキル基、アリール基又は1価の複素環基を示す。複数あるRは、同一であっても異なっていてもよい。]上記ブロック型共重合体において、Zは、それぞれ独立に、下記一般式Z-9、Z-10、Z-11、Z-12、Z-13、Z-14、Z-15、Z-16、Z-17、Z-18、Z-19又はZ-20で表される2価の基であることが好ましく、下記一般式Z-9、Z-11、Z-13、Z-15、Z-16、Z-17又はZ-19で表される2価の基であることがより好ましく、下記一般式Z-9、Z-11、Z-15、Z-16、Z-17又はZ-19で表される2価の基であることがさらに好ましく、下記一般式Z-11、Z-15又はZ-17で表される2価の基であることが特に好ましく、下記一般式Z-15で表される2価の基であることがとりわけ好ましい。[式中、Rは、水素原子、アルキル基、アリール基又は1価の複素環基を示す。Rが複数ある場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。RXは上記と同義である。]上記ブロック型共重合体は上記一般式1で表される構成連鎖を1~30有することが好ましい。上記ブロック型共重合体の一実施形態では、発光効率が向上する傾向にあるので、縮合重合で合成されるものであり、ブロック型共重合体には、上記Yで表される基、上記Zで表される基及び上記発光材料を構成する化学構造が、縮合重合により導入されており、Yで表される基、Zで表される基及び発光材料を構成する化学構造とは相違する任意追加基が縮合重合により導入されていてもよく、ブロック型共重合体における、Y、Z、任意追加基及び発光材料を構成する化学構造のモル数を、それぞれNY、NZ、NM及びNKしたときに、NY、NZ、NM及びNKが下記式4を満たすことが好ましい。2≦NY×100/NYNZNKNM<404上記ブロック型共重合体のその他の実施形態では、発光効率が向上する傾向にあるので、上記発光材料を構成する化学構造と上記一般式1で表される構成連鎖のみからなることが好ましい。本発明はまた、一対の電極と、該一対の電極の間に設けられた有機層を有し、該有機層が、上記組成物を用いてなる、有機EL素子を提供する。本発明はまた、一対の電極と、該一対の電極の間に設けられた有機層を有し、該有機層が、上記ブロック型共重合体を含む、有機EL素子を提供する。本発明はまた、上記有機EL素子を有する面状光源及び表示装置を提供する。本発明の組成物又はブロック型共重合体を用いることにより、得られる有機EL素子の輝度寿命を向上させることができる。また、本発明によれば、輝度寿命に優れた有機EL素子、面状光源及び表示装置、並びに、この素子の有機層に用いることのできる、組成物及びブロック型共重合体を提供することができる。以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明において、tert-ブチル基をt-Bu、フェニル基をPhとそれぞれ表記する場合がある。[用語の説明]以下、本明細書において共通して用いられる用語について、必要に応じて具体例を挙げて説明する。構成単位という用語は、高分子化合物の分子鎖に存在する原子又は原子団を表し、構成連鎖という用語は、1種又は数種の構成単位を一定の順序で含む分子鎖を表す。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。Cp~Cqp、qはp<qを満たす正の整数であるという用語は、この用語の直後に記載された官能基名に該当する部分構造の炭素原子数が、p~q個であることを表す。すなわち、Cp~Cqの直後に記載された有機基が、複数の官能基名を組み合わせて命名された有機基例えば、Cp~Cqアルコキシフェニル基である場合、複数の官能基名のうちCp~Cqの直後に記載された官能基名例えば、アルコキシに該当する部分構造の炭素原子数が、p~q個であることを示す。例えば、C1~C12アルキル基は炭素原子数が1~12個であるアルキル基を示し、C1~C12アルコキシフェニル基は炭素原子数が1~12個であるアルコキシ基を有するフェニル基を示す。アルキル基は、置換基を有していてもよく、直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基及び環状アルキル基シクロアルキル基のいずれであってもよい。アルキル基としては、直鎖状アルキル基又は環状アルキル基が好ましく、非置換のアルキル基又はハロゲン原子等で置換されたアルキル基が好ましい。置換基としては、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アミノ基、シリル基、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド化合物残基、酸イミド残基、1価の複素環基、1価の複素環チオ基及びハロゲン原子等が挙げられ、これらの基に含まれる水素原子の一部又は全部は、フッ素原子で置換されていてもよい。また、置換基が炭素鎖を有する場合の置換基の炭素原子数は、1~20であることが好ましい以下、置換基と言うときは、特記しない限り、同様の基を例示できる。。アルキル基の炭素原子数は、直鎖状アルキル基及び分岐状アルキル基では、好ましくは1~20、より好ましくは1~15、さらに好ましくは1~12であり、環状アルキル基では、好ましくは3~20、より好ましくは3~15、さらに好ましくは3~12である。置換基を有していてもよいアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、イソアミル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、2-エチルヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、3,7-ジメチルオクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、アリールアルキル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基及びパーフルオロオクチル基等が挙げられる。アリールアルキル基は、置換基を有していてもよく、好ましくは、非置換のアリールアルキル基、又はハロゲン原子若しくはアルコキシ基等で置換されたアリールアルキル基である。アリールアルキル基の炭素原子数は、好ましくは7~60、より好ましくは7~48、さらに好ましくは7~30である。置換基を有していてもよいアリールアルキル基としては、フェニル-C1~C12アルキル基、C1~C12アルコキシフェニル-C1~C12アルキル基、C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキル基、1-ナフチル-C1~C12アルキル基及び2-ナフチル-C1~C12アルキル基等が挙げられる。アルコキシ基は、置換基を有していてもよく、直鎖状アルコキシ基、分岐状アルコキシ基又は環状アルコキシ基シクロアルコキシ基のいずれであってもよい。アルコキシ基としては、直鎖状アルコキシ基又は環状アルコキシ基が好ましく、非置換のアルコキシ基、又はハロゲン原子若しくはアルコキシ基等で置換されたアルコキシ基が好ましい。アルコキシ基の炭素原子数は、直鎖状アルコキシ基及び分岐状アルコキシ基では、好ましくは1~20、より好ましくは1~15、さらに好ましくは1~12であり、環状アルコキシ基では、好ましくは3~20、より好ましくは3~15、さらに好ましくは3~12である。置換基を有していてもよいアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、2-エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、3,7-ジメチルオクチルオキシ基、ドデシルオキシ基、アリールアルコキシ基、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、パーフルオロブトキシ基、パーフルオロヘキシルオキシ基、パーフルオロオクチルオキシ基、メトキシメチルオキシ基及び2-メトキシエチルオキシ基等が挙げられる。アリールアルコキシ基は、置換基を有していてもよく、好ましくは非置換のアリールアルコキシ基、又はハロゲン原子若しくはアルコキシ基等で置換されたアリールアルコキシ基である。アリールアルコキシ基の炭素原子数は、好ましくは7~60、より好ましくは7~48、さらに好ましくは7~30である。置換基を有していてもよいアリールアルコキシ基としては、フェニル-C1~C12アルコキシ基、C1~C12アルコキシフェニル-C1~C12アルコキシ基、C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルコキシ基、1-ナフチル-C1~C12アルコキシ基及び2-ナフチル-C1~C12アルコキシ基等が挙げられる。アルキルチオ基は、置換基を有していてもよく、直鎖状アルキルチオ基、分岐状アルキルチオ基及び環状アルキルチオ基シクロアルキルチオ基のいずれであってもよい。アルキルチオ基としては、直鎖状アルキルチオ基又は環状アルキルチオ基が好ましく、非置換のアルキルチオ基、又はハロゲン原子等で置換されたアルキルチオ基が好ましい。アルキルチオ基の炭素原子数は、直鎖状アルキルチオ基及び分岐状アルキルチオ基では、好ましくは1~20、より好ましくは1~15、さらに好ましくは1~12であり、環状アルキルチオ基では、好ましくは3~20、より好ましくは3~15、さらに好ましくは3~12である。置換基を有していてもよいアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、イソブチルチオ基、sec-ブチルチオ基、tert-ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、2-エチルヘキシルチオ基、ノニルチオ基、デシルチオ基、アリールアルキルチオ基、3,7-ジメチルオクチルチオ基、ドデシルチオ基及びトリフルオロメチルチオ基等が挙げられる。アリールアルキルチオ基は、置換基を有していてもよく、好ましくは非置換のアリールアルキルチオ基、又はハロゲン原子若しくはアルコキシ基等で置換されたアリールアルキルチオ基である。アリールアルキルチオ基の炭素原子数は、好ましくは7~60、より好ましくは7~48、さらに好ましくは7~30である。置換基を有していてもよいアリールアルキルチオ基としては、フェニル-C1~C12アルキルチオ基、C1~C12アルコキシフェニル-C1~C12アルキルチオ基、C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキルチオ基、1-ナフチル-C1~C12アルキルチオ基及び2-ナフチル-C1~C12アルキルチオ基等が挙げられる。アリール基は、芳香族炭化水素から芳香環を構成する炭素原子に結合した水素原子1個を除いた残りの原子団であり、置換基を有していてもよい。アリール基としては、芳香環のみからなるアリール基、非置換のアリール基、又はハロゲン原子若しくはアルコキシ基等で置換されたアリール基が好ましい。アリール基としては、ベンゼン環を有する基、縮合環を有する基、ベンゼン環及び/又は縮合環が2個以上、単結合又は2価の有機基例えば、ビニレン基等のアルキレン基を介して結合した基等が挙げられる。アリール基の炭素原子数は、好ましくは6~60、より好ましくは6~48、さらに好ましくは6~30である。置換基を有していてもよいアリール基としては、フェニル基、C1~C12アルコキシフェニル基、C1~C12アルキルフェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基、1-アントラセニル基、2-アントラセニル基、9-アントラセニル基、2-フルオレニル基、ペンタフルオロフェニル基、ビフェニリル基、C1~C12アルコキシビフェニリル基及びC1~C12アルキルビフェニリル基等が挙げられ、中でも、フェニル基、C1~C12アルコキシフェニル基、C1~C12アルキルフェニル基、ビフェニリル基、C1~C12アルコキシビフェニリル基又はC1~C12アルキルビフェニリル基が好ましい。C1~C12アルコキシフェニル基としては、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロピルオキシフェニル基、イソプロピルオキシフェニル基、ブチルオキシフェニル基、イソブチルオキシフェニル基、tert-ブチルオキシフェニル基、ペンチルオキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基又はオクチルオキシフェニル基等が挙げられる。C1~C12アルキルフェニル基としては、メチルフェニル基、エチルフェニル基、ジメチルフェニル基、プロピルフェニル基、メシチル基、イソプロピルフェニル基、ブチルフェニル基、イソブチルフェニル基、tert-ブチルフェニル基、ペンチルフェニル基、イソアミルフェニル基、ヘキシルフェニル基、ヘプチルフェニル基、オクチルフェニル基、ノニルフェニル基、デシルフェニル基及びドデシルフェニル基等が挙げられる。アリールオキシ基は、置換基を有していてもよく、好ましくは非置換のアリールオキシ基、又はハロゲン原子若しくはアルコキシ基等で置換されたアリールオキシ基である。アリールオキシ基の炭素原子数は、好ましくは6~60、より好ましくは6~48、さらに好ましくは6~30である。置換基を有していてもよいアリールオキシ基としては、フェノキシ基、C1~C12アルコキシフェノキシ基、C1~C12アルキルフェノキシ基、1-ナフチルオキシ基、2-ナフチルオキシ基及びペンタフルオロフェニルオキシ基等が挙げられ、C1~C12アルコキシフェノキシ基又はC1~C12アルキルフェノキシ基が好ましい。C1~C12アルコキシフェノキシ基としては、メトキシフェノキシ基、エトキシフェノキシ基、プロピルオキシフェノキシ基、イソプロピルオキシフェノキシ基、ブチルオキシフェノキシ基、イソブチルオキシフェノキシ基、tert-ブチルオキシフェノキシ基、ペンチルオキシフェノキシ基、ヘキシルオキシフェノキシ基及びオクチルオキシフェノキシ基等が挙げられる。C1~C12アルキルフェノキシ基としては、メチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、プロピルフェノキシ基、1,3,5-トリメチルフェノキシ基、メチルエチルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、ブチルフェノキシ基、イソブチルフェノキシ基、sec-ブチルフェノキシ基、tert-ブチルフェノキシ基、ペンチルフェノキシ基、イソアミルフェノキシ基、ヘキシルフェノキシ基、ヘプチルフェノキシ基、オクチルフェノキシ基、ノニルフェノキシ基、デシルフェノキシ基及びドデシルフェノキシ基等が挙げられる。アリールチオ基は、置換基を有していてもよく、好ましくは非置換のアリールチオ基、又はハロゲン原子若しくはアルコキシ基等で置換されたアリールチオ基である。アリールチオ基の炭素原子数は、好ましくは6~60、より好ましくは6~48、さらに好ましくは6~30である。置換基を有していてもよいアリールチオ基としては、フェニルチオ基、C1~C12アルコキシフェニルチオ基、C1~C12アルキルフェニルチオ基、1-ナフチルチオ基、2-ナフチルチオ基及びペンタフルオロフェニルチオ基等が挙げられる。アルケニル基は、置換基を有していてもよく、直鎖状アルケニル基、分岐状アルケニル基及び環状アルケニル基のいずれであってもよい。アルケニル基の炭素原子数は、好ましくは2~20、より好ましくは2~15、さらに好ましくは2~10である。置換基を有していてもよいアルケニル基としては、ビニル基、1-プロペニル基、2-プロペニル基、1-ブテニル基、2-ブテニル基、1-ペンテニル基、2-ペンテニル基、1-ヘキセニル基、2-ヘキセニル基、1-オクテニル基及びアリールアルケニル基等が挙げられる。アリールアルケニル基は、置換基を有していてもよく、好ましくは非置換のアリールアルケニル基、又はハロゲン原子若しくはアルコキシ基等で置換されたアリールアルケニル基である。アリールアルケニル基の炭素原子数は、好ましくは8~60、より好ましくは8~48、さらに好ましくは8~30である。置換基を有していてもよいアリールアルケニル基としては、フェニル-C2~C12アルケニル基、C1~C12アルコキシフェニル-C2~C12アルケニル基、C1~C12アルキルフェニル-C2~C12アルケニル基、1-ナフチル-C2~C12アルケニル基及び2-ナフチル-C2~C12アルケニル基等が挙げられ、中でもC1~C12アルコキシフェニル-C2~C12アルケニル基又はC1~C12アルキルフェニル-C2~C12アルケニル基が好ましい。アルキニル基は、置換基を有していてもよく、直鎖状アルキニル基、分岐状アルキニル基及び環状アルキニル基のいずれであってもよい。アルキニル基の炭素原子数は、直鎖状アルキニル基及び分岐状アルキニル基では、好ましくは2~20、より好ましくは2~15、さらに好ましくは2~10であり、環状アルキニル基では、好ましくは10~20、より好ましくは10~15である。置換基を有していてもよいアルキニル基としては、エチニル基、1-プロピニル基、2-プロピニル基、1-ブチニル基、2-ブチニル基、1-ペンチニル基、2-ペンチニル基、1-ヘキシニル基、2-ヘキシニル基、1-オクチニル基及びアリールアルキニル基等が挙げられる。アリールアルキニル基は、置換基を有していてもよく、好ましくは非置換のアリールアルキニル基、又はハロゲン原子若しくはアルコキシ基等で置換されたアリールアルキニル基である。アリールアルキニル基の炭素原子数は、好ましくは8~60、より好ましくは8~48、さらに好ましくは8~30である。置換基を有していてもよいアリールアルキニル基としては、フェニル-C2~C12アルキニル基、C1~C12アルコキシフェニル-C2~C12アルキニル基、C1~C12アルキルフェニル-C2~C12アルキニル基、1-ナフチル-C2~C12アルキニル基及び2-ナフチル-C2~C12アルキニル基等が挙げられ、中でもC1~C12アルコキシフェニル-C2~C12アルキニル基又はC1~C12アルキルフェニル-C2~C12アルキニル基が好ましい。1価の複素環基は、複素環式化合物から複素環を構成する原子に結合した水素原子1個を除いた残りの原子団であり、置換基を有していてもよい。1価の複素環基としては、非置換の1価の複素環基、又はアルキル基等の置換基で置換された1価の複素環基が好ましく、1価の芳香族複素環基が好ましい。1価の複素環基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めずに、好ましくは4~60、より好ましくは4~30、さらに好ましくは4~20である。複素環式化合物とは、環式構造をもつ有機化合物のうち、環を構成する元素として、炭素原子だけでなく、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、リン原子、ホウ素原子、ケイ素原子、セレン原子、テルル原子、ヒ素原子等のヘテロ原子を含むものを言う。置換基を有していてもよい1価の複素環基としては、チエニル基、C1~C12アルキルチエニル基、ピロリル基、フリル基、ピリジル基、C1~C12アルキルピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、ピロリジル基、ピペリジル基、キノリル基及びイソキノリル基等が挙げられ、チエニル基、C1~C12アルキルチエニル基、ピリジル基又はC1~C12アルキルピリジル基が好ましい。1価の複素環チオ基は、メルカプト基の水素原子が1価の複素環基で置換された基であり、置換基を有していてもよい。1価の複素環チオ基としては、ピリジルチオ基、ピリダジニルチオ基、ピリミジニルチオ基、ピラジニルチオ基及びトリアジニルチオ基等が挙げられる。アミノ基は、置換基を有していてもよく、好ましくは非置換のアミノ基、又はアルキル基、アリール基及び1価の複素環基から選ばれる1又は2個の置換基で置換されたアミノ基以下、置換アミノ基という。である。該置換基はさらに置換基以下、官能基の有する置換基が、さらに有する置換基を、二次置換基という場合がある。を有していてもよい。置換アミノ基の炭素原子数は、二次置換基の炭素原子数を含めずに、好ましくは1~60、より好ましくは2~48、さらに好ましくは2~40である。二次置換基を有していてもよい置換アミノ基としては、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、プロピルアミノ基、ジプロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基、sec-ブチルアミノ基、tert-ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、2-エチルヘキシルアミノ基、ノニルアミノ基、デシルアミノ基、3,7-ジメチルオクチルアミノ基、ドデシルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、ジシクロペンチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ジトリフルオロメチルアミノ基、フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、C1~C12アルコキシフェニルアミノ基、ビスC1~C12アルコキシフェニルアミノ基、C1~C12アルキルフェニルアミノ基、ビスC1~C12アルキルフェニルアミノ基、1-ナフチルアミノ基、2-ナフチルアミノ基、ペンタフルオロフェニルアミノ基、ピリジルアミノ基、ピリダジニルアミノ基、ピリミジニルアミノ基、ピラジニルアミノ基、トリアジニルアミノ基、フェニル-C1~C12アルキルアミノ基、C1~C12アルコキシフェニル-C1~C12アルキルアミノ基、ジC1~C12アルコキシフェニル-C1~C12アルキルアミノ基、C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキルアミノ基、ジC1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキルアミノ基、1-ナフチル-C1~C12アルキルアミノ基及び2-ナフチル-C1~C12アルキルアミノ基等が挙げられる。シリル基は、置換基を有していてもよく、好ましくは非置換のシリル基、又はアルキル基、アリール基及び1価の複素環基から選ばれる1~3個の置換基で置換されたシリル基以下、置換シリル基という。である。該置換基は二次置換基を有していてもよい。置換シリル基の炭素原子数は、二次置換基の炭素原子数を含めないで、好ましくは1~60、より好ましくは3~48、さらに好ましくは3~40である。二次置換基を有していてもよい置換シリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリ-イソプロピルシリル基、ジメチル-イソプロピルシリル基、ジエチル-イソプロピルシリル基、tert-ブチルジメチルシリル基、ペンチルジメチルシリル基、ヘキシルジメチルシリル基、ヘプチルジメチルシリル基、オクチルジメチルシリル基、2-エチルヘキシル-ジメチルシリル基、ノニルジメチルシリル基、デシルジメチルシリル基、3,7-ジメチルオクチル-ジメチルシリル基、ドデシルジメチルシリル基、フェニル-C1~C12アルキルシリル基、C1~C12アルコキシフェニル-C1~C12アルキルシリル基、C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキルシリル基、1-ナフチル-C1~C12アルキルシリル基、2-ナフチル-C1~C12アルキルシリル基、フェニル-C1~C12アルキルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、トリ-p-キシリルシリル基、トリベンジルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、tert-ブチルジフェニルシリル基及びジメチルフェニルシリル基等が挙げられる。アシル基は、置換基を有していてもよく、好ましくは非置換のアシル基、又はハロゲン原子等で置換されたアシル基である。アシル基の炭素原子数は、好ましくは2~20、より好ましくは2~18、さらに好ましくは2~16である。アシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、トリフルオロアセチル基及びペンタフルオロベンゾイル基等が挙げられる。アシルオキシ基は、置換基を有していてもよく、好ましくは非置換のアシルオキシ基、又はハロゲン原子等で置換されたアシルオキシ基である。アシルオキシ基の炭素原子数は、好ましくは2~20、より好ましくは2~18、さらに好ましくは2~16である。アシルオキシ基としては、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基及びペンタフルオロベンゾイルオキシ基等が挙げられる。イミン残基は、一般式:H-CRX1=N-RY1又は一般式:H-N=CRY12の少なくとも一方で表される構造を有するイミン化合物から、上記一般式中の水素原子を除いた残基を意味する。式中、RX1は水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルケニル基又はアリールアルキニル基を示し、RY1は、水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルケニル基又はアリールアルキニル基を示す。RY1が2個存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、また、2個のRY1は相互に結合し一体となって2価の基、例えば、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基又はヘキサメチレン基等の炭素原子数2~18のアルキレン基として環を形成してもよい。このようなイミン化合物としては、例えば、アルジミン、ケチミン又はアルジミン中の窒素原子に結合した水素原子が、アルキル基、アリール基、アリールアルケニル基又はアリールアルキニル基で置換された化合物が挙げられる。イミン残基の炭素原子数は、好ましくは2~20、より好ましくは2~18、さらに好ましくは2~16である。イミン残基の具体例としては、以下の構造式で示される基が挙げられる。アミド化合物残基は、一般式:H-NRX2-CORY2又は一般式:H-CO-NRY22の少なくとも一方で表される構造を有するアミド化合物から、上記一般式中の水素原子を除いた残基を意味する。式中、RX2及びRY2は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基を表す。アミド化合物残基の炭素原子数は、好ましくは2~20、より好ましくは2~18、さらに好ましくは2~16である。アミド化合物残基としては、ホルムアミド基、アセトアミド基、プロピオアミド基、ブチロアミド基、ベンズアミド基、トリフルオロアセトアミド基、ペンタフルオロベンズアミド基、ジホルムアミド基、ジアセトアミド基、ジプロピオアミド基、ジブチロアミド基、ジベンズアミド基、ジトリフルオロアセトアミド基及びジペンタフルオロベンズアミド基等が挙げられる。酸イミド残基は、一般式:RX3-CO-NH-CO-RY3で表される構造を有する酸イミドから、上記一般式中の水素原子を除いた残基を意味する。式中、RX3及びRY3は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基を表すか、又は、RX3及びRY3が互いに結合して形成される環構造を表す。酸イミド残基の炭素原子数は、好ましくは4~20、より好ましくは4~18、さらに好ましくは4~16である。酸イミド残基としては、例えば、以下に示す基が挙げられる。アリーレン基は、芳香族炭化水素から芳香環を構成する炭素原子に結合した水素原子2個を除いてなる原子団を意味し、独立したベンゼン環又は縮合環を有する基を含み、置換基を有していてもよい。アリーレン基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、好ましくは6~60、より好ましくは6~48、さらに好ましくは6~30、特に好ましくは6~18である。該炭素原子数は置換基の炭素原子数を含まない。アリーレン基としては、1,4-フェニレン基、1,3-フェニレン基、1,2-フェニレン基等のフェニレン基;1,4-ナフタレンジイル基、1,5-ナフタレンジイル基、2,6-ナフタレンジイル基等のナフタレンジイル基;1,4-アントラセンジイル基、1,5-アントラセンジイル基、2,6-アントラセンジイル基、9,10-アントラセンジイル基等のアントラセンジイル基;2,7-フェナントレンジイル基等のフェナントレンジイル基;1,7-ナフタセンジイル基、2,8-ナフタセンジイル基、5,12-ナフタセンジイル基等のナフタセンジイル基;2,7-フルオレンジイル基、3,6-フルオレンジイル基等のフルオレンジイル基;1,6-ピレンジイル基、1,8-ピレンジイル基、2,7-ピレンジイル基、4,9-ピレンジイル基等のピレンジイル基;3,9-ペリレンジイル基、及び3,10-ペリレンジイル基等のペリレンジイル基等が挙げられる。これらのうち、好ましくは、置換基を有していてもよいフェニレン基、置換基を有していてもよいフルオレンジイル基である。2価の複素環基は、複素環式化合物から複素環を構成する炭素原子又はヘテロ原子に結合した水素原子2個を除いた残りの原子団をいい、置換基を有していてもよい。2価の複素環基としては、非置換の2価の複素環基又はアルキル基等で置換された2価の複素環基が好ましい。2価の複素環基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、好ましくは4~60、より好ましくは4~30であり、さらに好ましくは4~12である。2価の複素環基としては、2,5-ピリジンジイル基、2,6-ピリジンジイル基等のピリジンジイル基;2,5-チオフェンジイル基等のチオフェンジイル基;2,5-フランジイル基等のフランジイル基;2,6-キノリンジイル基等のキノリンジイル基;1,4-イソキノリンジイル基、1,5-イソキノリンジイル基等のイソキノリンジイル基;5,8-キノキサリンジイル基等のキノキサリンジイル基;2,1,3-ベンゾチアジアゾール-4,7-ジイル基等の2,1,3-ベンゾチアジアゾールジイル基;4,7-ベンゾチアゾールジイル基等のベンゾチアゾールジイル基;2,7-カルバゾールジイル基、3,6-カルバゾールジイル基等のカルバゾールジイル基;3,7-フェノキサジンジイル基等のフェノキサジンジイル基;3,7-フェノチアジンジイル基等のフェノチアジンジイル基;2,7-ジベンゾシロールジイル基等のジベンゾシロールジイル基等が挙げられる。これらのうち、好ましくは置換基を有していてもよい2,1,3-ベンゾチアジアゾール-4,7-ジイル基、置換基を有していてもよいフェノキサジンジイル基、置換基を有していてもよいフェノチアジンジイル基である。なお、2価の複素環基としては、2価の芳香族複素環基が好ましい。[組成物]本実施形態の組成物は、発光材料と高分子化合物とを含む。組成物は、高分子化合物1質量部に対して、発光材料を0.1~100質量部含むことが好ましく、高分子化合物1質量部に対して、発光材料を1~100質量部含むことが好ましく、高分子化合物1質量部に対して、発光材料を4~20質量部含むことが好ましい。上記発光材料と高分子化合物について以下に説明する。<高分子化合物>高分子化合物は、上記一般式1で表される構成連鎖を主鎖に有する。なお、上記一般式1で表される構成連鎖を主鎖に有し、さらに後述の発光材料を構成する化学構造を有する高分子化合物は、ブロック型共重合体でない限り上記高分子化合物に分類される。一般式1で表される構成連鎖において、n≧2の場合であって、複数あるYが一般式Y-1で表される構造から水素原子を2個除いた2価の基であるときには、複数の一般式Y-1で表される構造は同一であっても異なっていてもよいが、好ましくは同一である。一般式1で表される構成連鎖において、n≧2の場合であって、複数あるYが一般式Y-1で表される構造から水素原子を2個除いた2価の基であるときには、複数の一般式Y-1で表される構造は、すべてのXが-CH=である構造のみからなっていてもよく、すべてのXが-CH=である構造とXの内の1つ又は2つが-N=であり残りのXが-CH=である構造の両方からなっていてもよく、或いはXの内1つ又は2つが-N=であり残りのXが-CH=である構造のみからなっていてもよいが、好ましくはすべてのXが-CH=である構造のみからなる。Y及びZが有する水素原子がR’で置換されている場合、R’は、好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アミノ基及び1価の複素環基からなる群より選ばれる官能基又はハロゲン原子である。R’は、より好ましくはアルキル基、アリール基及び1価の複素環基からなる群より選ばれる官能基又はハロゲン原子であり、さらに好ましくはアルキル基又はアリール基であり、特に好ましくはアルキル基である。R’が複数ある場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、複数のR’が互いに結合して環構造を形成していてもよい。R’が環構造を形成する場合、不飽和結合を持たない環構造であることが好ましく、そのような構造を形成し得るR’としては、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基及びシリル基等が挙げられる。一般式1で表される構成連鎖において、n≧2の場合であって、複数あるYが一般式Y-2で表される構造から水素原子を2個除いた2価の基であるときには、複数の一般式Y-2で表される構造は同一であっても異なっていてもよいが、好ましくは同一である。一般式1で表される構成連鎖において、n≧2の場合であって、複数あるYが一般式Y-2で表される構造から水素原子を2個除いた2価の基であるときには、複数の一般式Y-2で表される構造は、すべてのXが-CH=である構造のみからなっていてもよく、すべてのXが-CH=である構造とXの内の1つ又は2つが-N=であり残りのXが-CH=である構造の両方からなっていてもよく、或いはXの内1つ又は2つが-N=であり残りのXが-CH=である構造のみからなっていてもよいが、好ましくはすべてのXが-CH=である構造のみからなる。Y及びZが有する水素原子がR’で置換されている場合の、R’の好ましい範囲は、上記と同じである。一般式1で表される構成連鎖において、m個ある[-Yn-Z-]で表される構造は、各々、同一であっても異なっていてもよい。例えば、m=4であって、4個あるnが左の構造から順番に、n=1、2、1、2である場合、該構成連鎖は、[-Y01-Z01-]-[-Y02-Y03-Z02-]-[-Y04-Z03-]-[-Y05-Y06-Z04-]と表されるが、ここで、Y01、Y02、Y03、Y04、Y05及びY06は、同一であっても異なっていてもよく、Z01、Z02、Z03及びZ04は、同一であっても異なっていてもよい。なお、m及びnが、その他の整数の組み合わせであっても同様である。一般式1で表される構成連鎖において、式Z-1、Z-2、Z-3、Z-4、Z-5、Z-6、Z-7及びZ-8、並びに、後述の式Z-9、Z-10、Z-11、Z-12、Z-13、Z-14、Z-15、Z-16、Z-17、Z-18、Z-19及びZ-20に含まれるRXは、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基又は1価の複素環基であることが好ましく、アルキル基又はアリール基であることがより好ましく、アリール基であることがさらに好ましい。また、式、Z-6、Z-8、Z-15及びZ-16において、2つのRXのうち、1つがアルキル基であり、もう1つがアリール基であることが好ましい。また、式Z-5、Z-17及びZ-18において、複数あるRX同士は互いに結合して環構造を形成していることが好ましい。当該環構造は、不飽和結合を持たない環であってもよいし、不飽和結合を持つ環であってもよい。一般式1中、mは4~10000の整数を示す。mは、8~10000の整数であることが好ましく、30~10000の整数であることがさらに好ましく、50~5000の整数であることが特に好ましい。一般式1中、複数あるnは同一又は異なり1~3の整数を示すが、同じ整数を示すことが好ましく、複数あるnがすべて1、又はすべて2を示すことがさらに好ましい。一般式1中、複数あるYは、同一又は異なり、上記一般式Y-3、Y-4、Y-5又はY-6で表される2価の基であることが好ましい。上記一般式Y-3、Y-4、Y-5及びY-6中、Rは、好ましくは水素原子、アルキル基又はアリール基であり、より好ましくは水素原子又はアルキル基であり、特に好ましくは水素原子である。一般式1中のYの好ましい構造としては、下記の基が挙げられる。一般式1で表される構成連鎖において、Zは一般式Z-1、Z-2、Z-3、Z-4、Z-5、Z-6、Z-7又はZ-8で表される構造から水素原子を2個除いた2価の基を示す。複数あるZは一般式Z-1、Z-2、Z-3、Z-4、Z-5、Z-6、Z-7及びZ-8で表される構造から水素原子を2個除いた2価の基のいずれか1つの基のみからなっていてもよく、複数の基からなっていてもよいが、いずれか1つの基のみからなっていることが好ましい。一般式1で表される構成連鎖において、複数あるZの中の2以上が一般式Z-1、Z-2、Z-3、Z-4、Z-5、Z-6、Z-7及びZ-8で表される構造から水素原子を2個除いた2価の基のいずれか1つである場合、一般式Z-1、Z-2、Z-3、Z-4、Z-5、Z-6、Z-7又はZ-8で表される構造は同一であっても異なっていてもよいが、好ましくは同一である。Zの中の複数が一般式Z-1、Z-2、Z-3、Z-4、Z-5、Z-6、Z-7又はZ-8で表される構造から水素原子を2個除いた2価の基である場合、複数の一般式Z-1、Z-2、Z-3、Z-4、Z-5、Z-6、Z-7又はZ-8で表される構造は、すべてのXが-CH=である構造のみからなっていてもよく、すべてのXが-CH=である構造とXの内の1つ又は2つが-N=であり残りのXが-CH=である構造の両方からなっていてもよく、或いはXの内1つ又は2つが-N=であり残りのXが-CH=である構造のみからなっていてもよいが、好ましくはすべてのXが-CH=である構造のみからなる。一般式1中のZは、上記一般式Z-9、Z-10、Z-11、Z-12、Z-13、Z-14、Z-15、Z-16、Z-17、Z-18、Z-19又はZ-20で表される2価の基であることが好ましい。複数あるZは、同一であっても異なっていてもよい。Zは、これらの中でも、一般式Z-9、Z-11、Z-13、Z-15、Z-16、Z-17又はZ-19で表される2価の基であることが好ましく、一般式Z-9、Z-11、Z-15、Z-16、Z-17又はZ-19で表される2価の基であることがより好ましく、一般式Z-11、Z-15又はZ-17で表される2価の基であることがさらに好ましく、一般式Z-15で表される2価の基であることが特に好ましい。一般式1中のZの好ましい構造としては、下記の構造が挙げられる。一般式1中のYとZの組み合わせとしては、例えば、式Y-3で表される2価の基と式Z-9で表される2価の基の組み合わせ以下、単にY-3とZ-9のように言う。、Y-3とZ-11、Y-3とZ-13、Y-3とZ-15、Y-3とZ-16、Y-3とZ-17、Y-3とZ-19、Y-4とZ-9、Y-4とZ-11、Y-4とZ-13、Y-4とZ-15、Y-4とZ-16、Y-4とZ-17、Y-4とZ-19、Y-5とZ-9、Y-5とZ-11、Y-5とZ-13、Y-5とZ-15、Y-5とZ-16、Y-5とZ-17、Y-5とZ-19、Y-6とZ-9、Y-6とZ-11、Y-6とZ-13、Y-6とZ-15、Y-6とZ-16、Y-6とZ-17又はY-6とZ-19が挙げられ、好ましくは、Y-3とZ-9、Y-3とZ-11、Y-3とZ-13、Y-3とZ-15、Y-3とZ-16、Y-3とZ-17、Y-3とZ-19、Y-4とZ-9、Y-4とZ-11、Y-4とZ-13、Y-4とZ-15、Y-4とZ-16、Y-4とZ-17、Y-4とZ-19、Y-5とZ-9、Y-5とZ-11、Y-5とZ-13、Y-5とZ-15、Y-5とZ-16、Y-5とZ-17又はY-5とZ-19であり、より好ましくは、Y-3とZ-9、Y-3とZ-11、Y-3とZ-15、Y-3とZ-16、Y-3とZ-17、Y-3とZ-19、Y-4とZ-9、Y-4とZ-11、Y-4とZ-15、Y-4とZ-16、Y-4とZ-17、Y-4とZ-19、Y-5とZ-9、Y-5とZ-11、Y-5とZ-15、Y-5とZ-16、Y-5とZ-17又はY-5とZ-19であり、さらに好ましくは、Y-3とZ-11、Y-3とZ-15、Y-3とZ-16、Y-3とZ-17、Y-4とZ-11、Y-4とZ-15、Y-4とZ-16、Y-4とZ-17、Y-5とZ-11、Y-5とZ-15、Y-5とZ-16又はY-5とZ-17であり、特に好ましくは、Y-3とZ-11、Y-3とZ-15、Y-3とZ-17、Y-4とZ-11、Y-4とZ-15、Y-4とZ-17、Y-5とZ-11、Y-5とZ-15又はY-5とZ-17である。一般式1で表される構成連鎖において、[-Yn-Z-]で表される構造の、好ましい例を下記に示す。式中、x及びyは共重合比を表し、xy=1を満たす数である。一般式1で表される構成連鎖は、例えば、上記式[-Yn-Z-]で表される構造を1種又は2種以上組み合わせて合計m個連鎖した構造であってもよい。一般式1で表される構成連鎖を主鎖に有する高分子化合物のポリスチレン換算の数平均分子量は、好ましくは1×103~1×107であり、より好ましくは1×104~5×106である。前記高分子化合物のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは1×104~5×107であり、より好ましくは5×104~1×107である。数平均分子量及び重量平均分子量が上記下限を上回る場合は、電荷移動に対する抵抗が小さくなる傾向にあり、かつ、塗布法での成膜性が向上する傾向にあり、上記上限を下回る場合は、塗布法による成膜性が良好となる傾向がある。<発光材料>本実施形態の発光材料について説明する。本実施形態における発光材料としては、例えば、一般的な発光材料を用いることができる。上記発光材料としては、好ましくは、有機ELディスプレイ時任静士、安達千波矢、村田英幸共著、株式会社オーム社、平成16年8月20日第1版第1刷発行17~48頁、83~99頁又は101~120頁に記載の蛍光材料又は三重項発光材料が利用できる。低分子の蛍光材料としては、例えば、ペリレン及びその誘導体、ポリメチン系、キサンテン系、クマリン系及びシアニン系等の色素類、8-ヒドロキシキノリンの金属錯体、8-ヒドロキシキノリン誘導体の金属錯体、芳香族アミン、テトラフェニルシクロペンタジエン及びその誘導体並びにテトラフェニルブタジエン及びその誘導体等が挙げられ、より具体的には、特開昭57-51781号公報、特開昭59-194393号公報に記載されているもの等が使用されうる。その他にも、上記発光材料としては、例えば、国際公開第99/13692号パンフレット、国際公開第99/48160号パンフレット、独国特許出願公開第2340304号明細書、国際公開第00/53656号パンフレット、国際公開第01/19834号パンフレット、国際公開第00/55927号パンフレット、独国特許出願公開第2348316号明細書、国際公開第00/46321号パンフレット、国際公開第00/06665号パンフレット、国際公開第99/54943号パンフレット、国際公開第99/54385号パンフレット、米国特許第5777070号明細書、国際公開第98/06773号パンフレット、国際公開第97/05184号パンフレット、国際公開第00/35987号パンフレット、国際公開第00/53655号パンフレット、国際公開第01/34722号パンフレット、国際公開第99/24526号パンフレット、国際公開第00/22027号パンフレット、国際公開第00/22026号パンフレット、国際公開第98/27136号パンフレット、米国特許第573636号明細書、国際公開第98/21262号パンフレット、米国特許第5741921号明細書、国際公開第97/09394号パンフレット、国際公開第96/29356号パンフレット、国際公開第96/10617号パンフレット、欧州特許出願公開第0707020号明細書、国際公開第95/07955号パンフレット、特開2001-181618号公報、特開2001-123156号公報、特開2001-3045号公報、特開2000-351967号公報、特開2000-303066号公報、特開2000-299189号公報、特開2000-252065号公報、特開2000-136379号公報、特開2000-104057号公報、特開2000-80167号公報、特開平10-324870号公報、特開平10-114891号公報、特開平9-111233号公報若しくは特開平9-45478号公報等に開示されているポリフルオレン、フルオレン誘導体の共重合体、ポリアリーレン、アリーレン誘導体の共重合体、ポリアリーレンビニレン、アリーレンビニレン誘導体の共重合体、芳香族アミン及びその誘導体の共重合体が例示される。なお、発光材料であって、さらに上記一般式1で表される構成連鎖を主鎖に有する高分子化合物は、上記高分子化合物又は後述のブロック型共重合体に分類される。上記発光材料は、好ましくは高分子発光材料であり、より好ましくは共重合体である高分子発光材料である。上記高分子発光材料は、好ましくは上記一般式A、B又はCで表される構成単位の少なくとも1種を有する。なお、上記一般式A、B又はCで表される構成単位の少なくとも1種を有していても、上記一般式1で表される構成連鎖を主鎖に有する高分子発光材料は、上述の高分子化合物又は後述のブロック型共重合体に分類される。上記高分子発光材料は正孔輸送性が向上するので、上記一般式Bで表される構成単位を有することが好ましい。また、電荷正孔及び電子を意味する。以下、同様。注入性及び電荷輸送性が向上し、かつ、正孔及び電子の結合による励起エネルギーが効率よく形成されるので、上記一般式Aで表される構成単位と上記一般式Bで表される構成単位とを有する高分子発光材料、上記一般式Bで表される構成単位と上記一般式Cで表される構成単位とを有する高分子発光材料、又は上記一般式Aで表される構成単位と上記一般式Bで表される構成単位と上記一般式Cで表される構成単位とを有する高分子発光材料が好ましく、上記一般式Aで表される構成単位と上記一般式Bで表される構成単位とを有する高分子発光材料がより好ましい。高分子発光材料が、上記一般式Bで表される構成単位と、上記一般式Aで表される構成単位及び/又は上記一般式Cで表される構成単位とからなる場合、上記一般式Bで表される構成単位とその他の構成単位との好ましい含有比モル比は、1:99~40:60であり、より好ましくは3:97~30:70であり、さらに好ましくは5:95~20:80である。上記高分子発光材料のポリスチレン換算の数平均分子量は、好ましくは1×103~1×107であり、より好ましくは1×104~5×106である。上記高分子発光材料のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは1×104~5×107であり、より好ましくは5×104~1×107である。数平均分子量及び重量平均分子量が上記下限を上回る場合は、電荷移動に対する抵抗が小さくなる傾向があり、かつ、塗布法による成膜性が向上する傾向があり、上記上限を下回る場合は、塗布法における成膜性が良好となる傾向がある。一般式Aにおいて、Ar1は、アリーレン基、2価の複素環基又は金属錯体構造を有する2価の基を示し、置換基を有していてもよい。ここで、置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールアルコキシ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、1価の複素環基、カルボキシル基、ニトロ基及びシアノ基等が挙げられ、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、置換アミノ基又は1価の複素環基が好ましく、アルキル基、アルコキシ基又はアリール基がより好ましい。一般式Aおいて、Ar1であるアリーレン基は、上述の[用語の説明]の説明及び例と同じであるが、1,4-フェニレン基、2,7-ビフェニリレン基、1,4-ナフタレンジイル基、1,5-ナフタレンジイル基、2,6-ナフタレンジイル基又は2,7-フルオレンジイル基が好ましく、1,4-フェニレン基、1,4-ナフタレンジイル基、1,5-ナフタレンジイル基、2,6-ナフタレンジイル基又は2,7-フルオレンジイル基がより好ましく、1,4-フェニレン基、2,6-ナフタレンジイル基、2,7-ビフェニリレン基、又は2,7-フルオレンジイル基が更に好ましく、2,7-フルオレンジイル基が特に好ましい。一般式Aおいて、Ar1である2価の複素環基は、上述の[用語の説明]の説明、例、及び、好ましい例と同じである。上記一般式A中、Ar1で表される置換基を有していてもよい金属錯体構造を有する2価の基としては、イリジウム錯体又は白金錯体から水素原子2個を取り除いた残りの原子団即ち、イリジウム錯体又は白金錯体の残基等が挙げられ、以下の式M-1、M-2、M-3、M-4、M-5、M-6、又はM-7で表される基が好ましい。式中、Rは、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、1価の複素環基、カルボキシル基、ニトロ基又はシアノ基を示す。複数あるRは、同一であっても異なっていてもよい。一般式Aで表される構成単位として2種類以上含む場合、置換基を有していてもよいフルオレンジイル基からなる構成単位、置換基を有していてもよいフェニレン基からなる構成単位、置換基を有していてもよいナフタレンジイル基、及び、置換基を有していてもよい2,7-ビフェニリレン基からなる群から選ばれる基が好ましい。一般式Aで表される構成単位としては、下記一般式A-1、A-2、A-3、A-4又はA-5で表される構成単位が好ましく、A-2、A-4又はA-5で表される構成単位がより好ましい。式中、R5は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールアルコキシ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、1価の複素環基、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基又はハロゲン原子を示し、bは0~4の整数を示す。これらの基は置換基を有していてもよい。bが2以上のとき、複数存在するR5は、互いに同一であっても異なっていてもよく、複数のR5は互いに結合して環構造を形成していてもよい。式中、R6及びR7は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、又は1価の複素環基を示し、これらの基は置換基を有していてもよい。R6及びR7は互いに結合して環構造を形成していてもよい。R6及びR7は、好ましくはアルキル基、アリール基又は1価の複素環基であり、より好ましくは、アルキル基又はアリール基である。式中、R8及びR9は、それぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アシル基、アシルオキシ基、1価の複素環基、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、置換アミノ基、水素原子又はハロゲン原子を示す。これらの基は置換基を有していてもよい。R8及びR9は互いに結合して環構造を形成していてもよい。R8及びR9は、好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、置換アミノ基、アシル基又は1価の複素環基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基又は1価の複素環基であり、さらに好ましくは水素原子、アルキル基であり、特に好ましくは水素原子である。式中、R20及びR21は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又は1価の複素環基を示す。これらの基は置換基を有していてもよい。R20及びR21は、好ましくは水素原子、アルキル基又はアリール基であり、より好ましくは、アルキル基又はアリール基である。式中、R22、R23、R24及びR25は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又は1価の複素環基を示す。これらの基は置換基を有していてもよい。R22、R23、R24及びR25は互いに結合して環構造を形成していてもよい。R22、R23、R24及びR25は、好ましくは水素原子、アルキル基又はアリール基であり、より好ましくは、アルキル基又はアリール基である。一般式Bにおいて、Ar2、Ar3及びAr4は、それぞれ独立に、アリーレン基又は2価の複素環基を示し、置換基を有していてもよい。ここで、置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、1価の複素環基、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基及びハロゲン原子が挙げられ、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、置換アミノ基、アシル基又はシアノ基が好ましく、アルキル基、アルコキシ基又はアリール基がより好ましい。一般式Bにおいて、Ar2、Ar3及びAr4であるアリーレン基は、上述の[用語の説明]の説明及び例と同じであるが、1,3-フェニレン基、1,4-フェニレン基、2,7-ビフェニリレン基、1,4-ナフタレンジイル基、2,6-ナフタレンジイル基及び2,7-フルオレンジイル基が好ましい。一般式Bにおいて、Ar2、Ar3及びAr4である2価の複素環基は、上述の[用語の説明]の説明及び例と同じであるが、2,5-チオフェンジイル基、N-メチル-2,5-ピロールジイル基、2,5-フランジイル基、4,7-ベンゾ[2,1,3]チアジアゾールジイル基、2,5-ピリジンジイル基及び2,5-ピリミジンジイル基が好ましい。Ar2及びAr4は、アリーレン基であることが好ましく、1,3-フェニレン基、1,4-フェニレン基、2,7-ビフェニリレン基、1,4-ナフタレンジイル基又は2,6-ナフタレンジイル基であることがより好ましく、1,4-フェニレン基、2,7-ビフェニリレン基又は1,4-ナフタレンジイル基であることがさらに好ましく、1,4-フェニレン基であることが特に好ましい。これらの基は置換基を有していてもよい。Ar3は、1,3-フェニレン基、1,4-フェニレン基、2,7-ビフェニリレン基、1,4-ナフタレンジイル基、2,7-フルオレンジイル基又は4,7-ベンゾ[2,1,3]チアジアゾールジイル基であることが好ましく、1,4-フェニレン基、2,7-ビフェニリレン基、1,4-ナフタレンジイル基又は2,7-フルオレンジイル基であることがより好ましく、1,4-フェニレン基又は2,7-ビフェニリレン基であることが特に好ましい。これらの基は置換基を有していてもよい。R1及びR2は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基又は1価の複素環基であることが好ましく、アルキル基又はアリール基であることがより好ましく、アリール基であることがさらに好ましい。一般式Bで表される構成単位としては、下記一般式B-1、B-2、B-3、B-4、B-5又はB-11で表される構成単位が挙げられる。下記一般式中、Raは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、1価の複素環基、カルボキシル基、ニトロ基又はシアノ基を示す。複数あるRaは、同一であっても異なっていてもよく、互いに結合して環構造を形成していてもよい。下記一般式中、Rbは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、1価の複素環基、カルボキシル基、ニトロ基又はシアノ基を示す。複数あるRbは、同一であっても異なっていてもよく、互いに結合して環構造を形成していてもよい。Rb同士が互いに結合して構成する環構造は、5員環であることが好ましい。一般式Bにおいて、aが1のとき、Ar2とAr3又はAr3とAr4は、それぞれ互いに結合して環を形成していてもよい。aが0のとき、Ar2とAr4は、互いに結合して環を形成していてもよい。ここで、Ar2とAr3、Ar3とAr4又はAr2とAr4は、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子又は珪素原子を介して結合していてもよく、直接結合していてもよい。このような一般式Bで表される構成単位としては、下記一般式B-6、B-7、B-8、B-9又はB-10で表される構成単位が好ましい。式中、R10、R11、R12、R13、R14、R15及びR16は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又は1価の複素環基を示し、置換基を有していてもよい。X2、X3、X4、X5及びX6は、それぞれ独立に、-CR17R18d-で表される基を示す。R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17及びR18は、好ましくはアルキル基、アリール基又は1価の複素環基であり、より好ましくはアルキル基又はアリール基であり、さらに好ましくはアリール基である。R17及びR18は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又は1価の複素環基を示し、置換基を有していてもよい。dは0~2の整数を示し、0又は1が好ましく、1がより好ましい。dが2のとき、複数存在するR17は互いに同一であっても異なっていてもよく、複数存在するR18は互いに同一であっても異なっていてもよい。一般式CにおけるAr5であるアリーレン基、2価の複素環基、及び、金属錯体構造を有する2価の基は、上述のAr1と同様の基である。一般式Cで表される構成単位としては、下記式C-1、C-2、C-3、C-4、C-5、C-6、C-7、C-8又はC-9で表される構成単位が挙げられる。以下に本実施形態の高分子化合物及び高分子発光材料の好ましい製造方法を詳細に説明する。本実施形態の高分子化合物及び高分子発光材料は、例えば、縮合重合により製造することができる。上記縮合重合の方法としては、Suzuki反応により重合する方法ケミカルレビューChem.Rev.,第95巻,2457頁1995年、Grignard反応により重合する方法共立出版、高分子機能材料シリーズ第2巻、高分子の合成と反応2、432~433頁、及び山本重合法により重合する方法プログレッシブポリマーサイエンスProg.Polym.Sci.,第17巻,1153~1205頁,1992年などが挙げられる。上記高分子化合物及び上記高分子発光材料は、縮合重合により合成されることが好ましく、Suzuki反応により重合する方法により合成されることがより好ましい。特に、一般式1で表される構成連鎖を含む高分子化合物を重合する場合、[-Yn-Z-]mの構成単位を一つのユニットとして合成した後、ポリマー主鎖に組み込む方法、及び、Suzuki反応により重合する方法など、シーケンスを制御できる重合方法で構成連鎖を含むポリマーを重合する方法などが挙げられる。その中でもSuzuki反応により重合する方法が好ましいが、構成連鎖を含むポリマーであればその合成方法に制限はない。以下、Suzuki反応により重合する方法について説明する。高分子化合物において、Y及びZで表される基並びに一般式1で表される構成連鎖は、例えば、下記一般式M1で表される化合物と下記一般式M2で表される化合物とを、又は下記一般式M3で表される化合物と下記一般式M4で表される化合物とを、縮合重合することにより導入することができる。高分子化合物には、Y及びZで表される基とは相違する任意追加基が縮合重合により導入されていてもよい。高分子発光材料が上記一般式A、B又はCで表される構成単位を有する場合には、上記一般式A、B又はCで表される構成単位は、例えば、下記一般式M5、M6又はM7で表される化合物を縮合重合することにより導入される。高分子発光材料には、上記一般式A、B又はCで表される構成単位とは相違する任意追加基が縮合重合により導入されていてもよい。A-Y-AM1[式中、Yは上記と同義である。Aは、ハロゲン原子を表す。2つのAは同一であっても異なっていてもよい。]B’-Z-B’M2[式中、Zは上記と同義である。B’は、ホウ酸エステル残基、ホウ酸残基-BOH2、下記式a-1で表される基、下記式a-2で表される基、下記式a-3で表される基、又は下記式a-4で表される基を表す。2つのB’は、同一であっても異なっていてもよい。][式中、RTは、アルキル基又はアリール基を表し、置換されていてもよい。XAは、ハロゲン原子を表す。]A-Z-AM3[式中、Z及びAは上記と同義である。2つのAは同一であっても異なっていてもよい。]B’-Y-B’M4[式中、Y及びB’は上記と同義である。2つのB’は同一であっても異なっていてもよい。]C’-Ar1-C’M5[式中、Ar1は、上記と同義である。C’は、ハロゲン原子、ホウ酸エステル残基、ホウ酸残基、上記式a-1で表される基、上記式a-2で表される基、上記式a-3で表される基、又は上記式a-4で表される基を表す。2つのC’は、同一であっても異なっていてもよい。][式中、Ar2、Ar3、Ar4、R1、R2及びC’は、上記と同義である。aは、0又は1である。]C’-Ar5-X1-C’M7[式中、Ar5、X1及びC’は、上記と同義である。]A、C’及びXAで表されるハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。B’及びC’で表されるホウ酸エステル残基としては、下記式で表される基が挙げられる。上記式a-1中、RTで表される非置換のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-ブチル基が挙げられる。RTで表される置換のアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基が挙げられる。上記式a-1中、RTで表されるアリール基としては、例えば、フェニル基、4-メチルフェニル基、4-n-ブチルフェニル基が挙げられる。上記式a-1で表される基としては、例えば、メタンスルホネート基、トリフルオロメタンスルホネート基、フェニルスルホネート基、4-メチルフェニルスルホネート基が挙げられる。上記式a-4中、RTで表されるアルキル基は、上述の[用語の説明]の記載及び例と同じであるが、非置換のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-ブチル基が好ましく、置換のアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基が好ましい。上記式a-1中、RTで表されるアリール基は、上述の[用語の説明]の記載及び例と同じであるが、フェニル基、4-メチルフェニル基、4-n-ブチルフェニル基が好ましい。上記式a-4で表される基としては、例えば、トリメチルスタナニル基、トリエチルスタナニル基、トリブチルスタナニル基が挙げられる。上記一般式M1、M2、M3、M4、M5、M6又はM7で表される化合物は、予め合成し単離して用いることも、反応系中で調製してそのまま用いることもできる。上記一般式M2及びM4中のB’、並びにM5、M6及びM7中のC’は、上記一般式M2、M4、M5、M6及びM7で表される化合物の合成が簡便であり、かつ、取り扱い易いので、ホウ酸エステル残基又はホウ酸残基であることが好ましい。上記縮合重合の方法としては、上記一般式M1、M2、M3、M4、M5、M6又はM7で表される化合物を、適切な触媒や適切な塩基を用いて、反応させる方法が挙げられる。上記触媒としては、パラジウム[テトラキストリフェニルホスフィン]、[トリスジベンジリデンアセトン]ジパラジウム、パラジウムアセテート等のパラジウム錯体、ニッケル[テトラキストリフェニルホスフィン]、[1,3-ビスジフェニルホスフィノプロパン]ジクロロニッケル、[ビス1,4-シクロオクダジエン]ニッケル等のニッケル錯体等の遷移金属錯体と、必要に応じて、さらにトリフェニルホスフィン、トリtert-ブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、ジフェニルホスフィノプロパン、ビピリジル等の配位子とからなる触媒が挙げられる。上記触媒は、予め合成して用いることもできるし、反応系中で調製してそのまま用いることもできる。これらの触媒は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。上記触媒を用いる場合には、上記一般式M1、M2、M3、M4、M5、M6又はM7で表される化合物のモル数の合計に対する触媒の金属原子の量は、0.00001~3モル当量であることが好ましく、0.00005~0.5モル当量であることがより好ましく、0.0001~0.2モル当量であることがさらに好ましく、0.0001~0.01モル当量であることが特に好ましい。上記塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム若しくはリン酸三カリウム等の無機塩基、又はフッ化テトラブチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム若しくは水酸化テトラブチルアンモニウム等の有機塩基が挙げられる。これらの塩基は、1種単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。上記塩基を用いる場合には、その使用量は、上記一般式M1、M2、M3、M4、M5、M6又はM7で表される化合物のモル数の合計に対して、0.5~20モル当量であることが好ましく、1~10モル当量であることがより好ましい。縮合重合は、通常、有機溶媒等の溶媒の存在下で行われる。上記有機溶媒は、上記一般式M1、M2、M3、M4、M5、M6又はM7で表される化合物の種類や反応によって異なるが、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、ジメトキシエタン、N,N-ジメチルアセトアミド又はN,N-ジメチルホルムアミドである。副反応を抑制するために、これらの溶媒に対して、脱酸素処理をしておくことが望ましい。これらの有機溶媒は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。上記有機溶媒の使用量は、上記一般式M1、M2、M3、M4、M5、M6又はM7で表される化合物の合計濃度が、通常、0.1~90質量、好ましくは1~50質量、より好ましくは2~30質量となる量である。縮合重合の反応温度は、好ましくは-100~200°Cであり、より好ましくは-80~150°Cであり、さらに好ましくは0~120°Cである。上記反応時間は、反応温度等の条件によるが、通常、1時間以上であり、好ましくは2~500時間である。高分子化合物において、Y、Z及び任意追加基Mのモル数をそれぞれNY、NZ及びNMとしたときに、NY、NZ及びNMが下記式2を満たすことが好ましい。30≦NY×100/NYNZNM≦752高分子化合物及び高分子発光材料が、いずれも縮合重合で合成される場合、高分子化合物における、Y、Z及び任意追加基Mのモル数をそれぞれNY、NZ及びNMとし、縮合重合により導入される高分子発光材料中の発光材料を構成する化学構造のモル数をNLとしたときに、NY、NZ、NM及びNLが下記式3を満たすことが好ましい。0.5≦NY×100/NYNZNMNL≦37.53高分子化合物は、一般式1で表される構成連鎖のみからなる共重合体であることが特に好ましい。縮合重合の後処理は、メタノール等の低級アルコールに縮合重合で得られた反応液を加えて析出させた沈殿物をろ過、乾燥する方法等の公知の方法で行うことができる。上記のようにして得られた高分子化合物及び発光材料は、公知の方法により混合され、組成物とすることができる。[ブロック型共重合体]本発明において、ブロック型共重合体とは、一般式1で表される構成連鎖を主鎖に有し、発光材料を構成する化学構造を主鎖又は側鎖に有する共重合体である。このブロック型共重合体は、一般式1で表される構成連鎖を側鎖に有することができるし、一般式1で表される構成連鎖及び発光材料を構成する化学構造以外の構成連鎖以下、その他の構成連鎖と言う。、及び/又は、連結基等の2価の基を主鎖又は側鎖に有することができる。このブロック型共重合体において、一般式1で表される構成連鎖、発光材料を構成する化学構造、及び、その他の構成連鎖は、各々、一種のみ有していても二種以上を組み合わせて有していてもよい。本実施形態のブロック型共重合体は、上記一般式1で表される構成連鎖を主鎖に有し、発光材料を構成する化学構造を主鎖又は側鎖に有する。上記ブロック型共重合体は上記一般式1で表される構成連鎖を1~30有することが好ましい。一般式1で表される構成連鎖は、高分子化合物において前述した一般式1で表される構成連鎖と同様である。発光材料を構成する化学構造としては、例えば、低分子蛍光体を構成する化学構造が挙げられる。低分子蛍光体を構成する化学構造がポリマー鎖中に組み込まれる場合、該低分子蛍光体を構成する化学構造は主鎖に組み込まれていても、側鎖に組み込まれていてもよい。発光材料を構成する化学構造としては、好ましくは、ポリフルオレン、フルオレン誘導体の共重合体、ポリアリーレン、アリーレン誘導体の共重合体、ポリアリーレンビニレン、アリーレンビニレン誘導体の共重合体、芳香族アミン又はその誘導体を構成する化学構造が挙げられる。発光材料を構成する化学構造は、上記一般式A、B又はCで表される構成単位の少なくとも一種であることが好ましく、上記一般式Bで表される構成単位であることがより好ましい。一般式A、B又はCで表される構成単位は、発光材料において上述した一般式A、B又はCで表される構成単位と同様である。但し、発光材料を構成する化学構造には式1で表される構成単位は含まない。また、発光材料を構成する化学構造は、上記式Aで表される構成単位を一種以上及び上記式Bで表される構成単位を一種以上含むことが好ましい。ブロック型共重合体において、発光材料を構成する化学構造と上記一般式1で表される構成連鎖との結合としては、例えば、直接結合、芳香環を介しての共役結合、又はアルキレン鎖等を介しての非共役結合が挙げられる。これらの中でも、直接結合、又は芳香環を介しての共役結合が好ましい。ブロック型共重合体のポリスチレン換算の数平均分子量は、好ましくは1×103~1×107であり、より好ましくは1×104~5×106である。また、ブロック型共重合体のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは1×104~5×107であり、より好ましくは5×104~1×107である。数平均分子量及び重量平均分子量が上記下限を上回る場合は、電荷移動に対する抵抗が小さくなりやすく、かつ、塗布法による成膜性が向上しやすく、上記上限を下回る場合は、塗布法による成膜性が良好になりやすい。ブロック型共重合体は、縮合重合により合成されるものであることが好ましく、Suzuki反応により重合する方法など、シーケンスを制御できる重合方法で構成連鎖を含む高分子化合物を重合する方法により合成される共重合体であることがより好ましいが、構成連鎖と発光材料を構成する化学構造とを含む高分子化合物であればその合成方法に制限はない。なお、ブロック型共重合体をSuzuki反応により重合する方法により合成する場合には、上述の高分子化合物と同様にブロック型共重合体を合成することができる。ブロック型共重合体を縮合重合により得る場合、ブロック型共重合体には、Y及びZで表される基と発光材料を構成する化学構造とが、縮合重合により導入される。当該基及び化学構造とは相違する任意追加基が縮合重合により導入されていてもよい。縮合重合の方法としては、上述の高分子化合物又は発光材料と同様の方法が挙げられる。例えば、一般式1で表される構成連鎖を有するブロックと、該ブロック以外の発光材料を構成する化学構造を有するブロックとを主鎖に有するブロック型共重合体の製造方法としては、下記の方法1、方法2又は方法3が挙げられる。方法1一般式1で表される構成連鎖を有するブロックを形成するために必要なモノマーを縮合重合させ、一般式1で表される構成連鎖を有する重合体を調製した後、該重合体に発光材料を構成する化学構造を有するブロックを形成するために必要なモノマーを追加して縮合重合させる方法。方法2発光材料を構成する化学構造を有するブロックを形成するために必要なモノマーを縮合重合させた、発光材料を構成する化学構造を有する重合体を調製した後、該重合体に一般式1で表される構成連鎖を有するブロックを形成するために必要なモノマーを追加して縮合重合させる方法。方法3一般式1で表される構成連鎖を有するブロックを形成するために必要なモノマーを縮合重合させ、一般式1で表される構成連鎖を有する重合体aを調製し、別途、発光材料を構成する化学構造を有するブロックを形成するために必要なモノマーを縮合重合させた重合体bを調製し、重合体aと重合体bとを縮合重合させる方法。方法1~方法3で用いられる上記モノマーとしては、上述の高分子化合物又は発光材料と同様の一般式M1、M2、M3、M4、M5、M6又はM7で表される化合物が挙げられる。例えば、方法1では、一般式1で表される構成連鎖を有する重合体において、一般式1で表される構成連鎖は、上記一般式M1で表される化合物と上記一般式M2で表される化合物とを、又は上記一般式M3で表される化合物と上記一般式M4で表される化合物とを、縮合重合することにより導入される。さらに、発光材料を構成する化学構造は、上記一般式M5、M6又はM7で表される化合物を上記重合体に追加して縮合重合することにより導入される。以上のようにして、ブロック型共重合体に、一般式1で表される構成連鎖及び発光材料を構成する化学構造が導入される。方法2及び方法3においても、方法1と同様にして、ブロック型共重合体に、一般式1で表される構成連鎖及び発光材料を構成する化学構造が導入される。縮合重合に用いられる触媒、塩基及び有機溶媒の種類と量、並びに反応温度等の条件は、上述と同様である。ブロック型共重合体における、Y、Z、任意追加基M及び発光材料を構成する化学構造のモル数を、それぞれNY、NZ、NM及びNKしたときに、NY、NZ、NM及びNKが下記式4を満たすことが好ましく、下記式4-1を満たすことがより好ましい。2≦NY×100/NYNZNKNM<4043≦NY×100/NYNZNKNM≦304-1さらに、ブロック型共重合体における、Y、Z及び任意追加基Mのモル数を、それぞれNY、NZ及びNMとしたときに、NY、NZ及びNMが下記式5を満たすことが好ましく、下記式5-1を満たすことがさらに好ましい。20≦NY×100/NYNZNK530≦NY×100/NYNZNK5-1なお、Suzuki反応により上述の高分子化合物又はブロック型共重合体を重合する場合、使用するモノマーのモノマー種及びモノマー比を適切に選ぶことが好ましい。例えば、モノマーとして、Yのジブロモ体50mol及びZのジホウ酸体50molを準備し、これらをSuzuki反応により重合する場合は、Y及びZの交互共重合体ができるため、下記一般式1で表される構成連鎖のみからなるポリマーを重合できる。[-Y-Z-]m1また、Yのジブロモ体、Zのジホウ酸体及び第3成分のモノマーJとするを準備し、Yのジブロモ体、Zのジホウ酸体及びJのジブロモ体をそれぞれ37.5mol:50mol:12.5molのモル比で使用して、これらをSuzuki反応により重合して得られる高分子化合物の場合には、下記一般式1-1:...-Y-Z-Y-Z-Y-Z-J-Z-Y-Z-Y-Z-Y-Z-J-Z...1-1のように、mが4未満の高分子化合物が重合される可能性がある。一方で、Yのジブロモ体が37.5molより大きく、Jのジブロモ体が12.5molより小さい場合には必ずmが4以上の構成連鎖を有する高分子化合物が重合される。例えば、Yのジブロモ体、Zのジホウ酸体及びJのジブロモ体を、それぞれ45mol:50mol:5molのモル比で使用して、これらをSuzuki反応により重合する場合でも、上記一般式1で表される構成連鎖を主鎖に有する高分子化合物又はブロック型共重合体を重合できる。本実施形態において、上記のようにYのジブロモ体及びZのジホウ酸体以外のモノマーを用いて高分子化合物又はブロック共重合体を重合する場合には、必ず上記一般式1で表される構成連鎖を含むポリマーとなるように、それぞれのモノマー種及びモノマー比を選ぶことが好ましい。上記のように、Yのジブロモ体とZのジホウ酸体に加え、第3成分Jのジブロモ体が存在する場合において、Yのジブロモ体、Zのジホウ酸体及びJのジブロモ体を、それぞれ50-tmol:50mol:tmolの割合で使用したとき、tの好ましい範囲としては、0<t<12.5であり、より好ましくは0<t≦10、さらに好ましくは0<t≦5である。ここで、tは、0を超え50未満の数である。Suzuki反応を用いて、上記構成連鎖を含む本実施形態の高分子化合物又はブロック型共重合体を合成する場合、重合するモノマー比によって生じる構成連鎖の平均を、予め下記の[重合シミュレーション]に記載の方法により求めることで、高分子化合物又はブロック型共重合体が上記構成連鎖を含むか否かを判断することができる。[重合シミュレーション]重合シミュレーションは以下の機能を持つプログラムを作成して実施した。脱離基A例えば、ホウ酸エステル残基を2個持つk種類kは1以上の整数のモノマーユニット以下、モノマーユニットA群と言う。をそれぞれM1個、....、Mk個M1、....、Mkは1以上の整数、脱離基B例えば、臭素原子を2個持つv種類vは1以上の整数のモノマーユニット以下、モノマーユニットB群と言う。をそれぞれN1個、....、Nv個N1、....、Nvは1以上の整数と定義する。そして、次の2つのステップ[ステップ1]及び[ステップ2]を、初期に存在する脱離基数N0に対する未反応の脱離基数NFの割合NF/N0がある特定の値以下、R値と言う。に減少するまで繰り返すプログラムを作成した。ここで、未反応の脱離基数とは、下記の2つのステップ[ステップ1]及び[ステップ2]を実施した後に残っている脱離基の総数を表す。[ステップ1]2個の乱数によりモノマーユニットA群及びモノマーユニットB群のそれぞれから1個ずつモノマーユニットを選ぶステップ。[ステップ2]ステップ1で選ばれた2個のモノマーユニットの間の結合を登録し、選ばれたモノマーユニットの持つ脱離基の数を1つずつ減じるステップ。なお、計算機による乱数の発生については、HiroshiHaramoto,MakotoMatsumoto、INFORMSJournalonComputingVol.20,No.3,Summer2008,pp.385-390に記載されたプログラムを使用した。[平均連鎖長の計算]平均連鎖長は、以下のとおり、計算した。まず、モノマーユニットA群及びモノマーユニットB群のそれぞれから1個ずつモノマーユニットを選択し、それらに同一の識別記号Pを与えた上で[重合シミュレーション]を実施した。重合によって得られたポリマーの配列をスキャンして、記号Pで識別されるモノマーユニットの連鎖以下、P連鎖と言う。を構成するPの個数以下、P連鎖長と言う。を記録した。記号Pで識別されるモノマーユニットが連鎖を形成せずに存在する場合すなわち、Pが未反応モノマーとして存在する場合と、Pに結合したモノマーユニットがいずれもPでない場合と、を除外する。換言すれば、Pの連鎖が存在しない場合を除外する。そして、P連鎖を構成するPの総和つまり、P連鎖長の総和をP連鎖の数で除した値を平均連鎖長とした。さらに、上述の[重合シミュレーション]を1つの重合条件に対して、独立に5回実施し、得られた5回分の平均連鎖長を平均して目的の平均連鎖長とした。具体的な計算の条件は、以下の設定とした。S1重合シミュレーション条件共通k=1、v=2、R値=0.003、及び、M1=5000とし、モノマーユニットA群及びモノマーユニットB群ともに1番目の種類のモノマーユニットに識別記号Pを与える。S2個別の重合シミュレーション条件重合条件1:N1=500、N2=4500重合条件2:N1=1000、N2=4000重合条件3:N1=1500、N2=3500重合条件4:N1=2000、N2=3000重合条件5:N1=2500、N2=2500重合条件6:N1=3000、N2=2000重合条件7:N1=3500、N2=1500重合条件8:N1=4000、N2=1000重合条件9:N1=4500、N2=500計算によって得られた平均連鎖長は以下のとおりである。重合条件1:平均連鎖長=3.2重合条件2:平均連鎖長=3.5重合条件3:平均連鎖長=3.8重合条件4:平均連鎖長=4.3重合条件5:平均連鎖長=5.0重合条件6:平均連鎖長=5.9重合条件7:平均連鎖長=7.6重合条件8:平均連鎖長=10.7重合条件9:平均連鎖長=19.8ここで、M1、N1が、それぞれ上記一般式1におけるZ、Ynに相当するとした場合、上記の重合条件におけるポリマーでは、上記一般式1のmに相当する値の平均値m’は下記のとおりである。重合条件1:m’=1.6重合条件2:m’=1.75重合条件3:m’=1.9重合条件4:m’=2.15重合条件5:m’=2.5重合条件6:m’=2.95重合条件7:m’=3.8重合条件8:m’=5.35重合条件9:m’=9.9なお、上記で求めたm’は、好ましくはm’≧3.0であり、より好ましくはm’≧3.8であり、さらに好ましくはm’≧5.35であり、特に好ましくはm’≧9.9である。一方、上記[重合シミュレーション]の記載にに基づいて合成した高分子化合物及びブロック型共重合体が、上記一般式1を満たすか否かは、例えば、核磁気共鳴分光法NMRを用いて判断することができる。本実施形態の組成物は、正孔輸送材料及び電子輸送材料からなる群より選ばれる少なくとも1種の材料を含有していてもよい。またブロック型共重合体は、正孔輸送材料及び電子輸送材料からなる群より選ばれる少なくとも1種の材料との組成物としてもよい。以下、これら2種の組成物を総称して、単に、本実施形態の組成物と言い、これらについて説明する。正孔輸送材料及び電子輸送材料は、主に電荷正孔及び電子バランスの調整の役割を担う。正孔輸送材料としては、ポリビニルカルバゾール及びその誘導体、ポリシラン及びその誘導体、側鎖又は主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体、ポリアニリン及びその誘導体、ポリチオフェン及びその誘導体、ポリピロール及びその誘導体、ポリp-フェニレンビニレン及びその誘導体、並びにポリ2,5-チエニレンビニレン及びその誘導体等が挙げられる。その他にも、特開昭63-70257号公報、特開昭63-175860号公報、特開平2-135359号公報、特開平2-135361号公報、特開平2-209988号公報、特開平3-37992号公報、及び特開平3-152184号公報に記載された正孔輸送材料も挙げられる。正孔輸送材料の含有割合は、組成物100質量部に対して、電荷バランスが良好となるので、好ましくは3~30質量部であり、より好ましくは3~20質量部であり、特に好ましくは3~10質量部である。また、正孔輸送材料の含有割合は、ブロック型共重合体100質量部に対して、電荷バランスが良好となるので、好ましくは3~30質量部、より好ましくは3~20質量部、特に好ましくは3~10質量部加えられる。電子輸送材料としては、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタン及びその誘導体、ベンゾキノン及びその誘導体、ナフトキノン及びその誘導体、アントラキノン及びその誘導体、テトラシアノアントラキノジメタン及びその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン及びその誘導体、ジフェノキノン誘導体、8-ヒドロキシキノリン及びその誘導体の金属錯体、ポリキノリン及びその誘導体、ポリキノキサリン及びその誘導体、並びにポリフルオレン及びその誘導体等が挙げられる。その他にも、特開昭63-70257号公報、特開昭63-175860号公報、特開平2-135359号公報、特開平2-135361号公報、特開平2-209988号公報、特開平3-37992号公報、及び特開平3-152184号公報に記載された電子輸送材料も挙げられる。電子輸送材料の含有割合は、組成物100質量部に対して、電荷バランスが良好となるので、好ましくは5~50質量部であり、より好ましくは5~30質量部であり、特に好ましくは5~20質量部である。また、電子輸送材料の含有割合は、ブロック型共重合体100質量部に対して、電荷バランスが良好となるので、好ましくは5~50質量部、より好ましくは5~30質量部、特に好ましくは5~20質量部加えられる。本実施形態の組成物は有機溶媒を含むことにより、また、本実施形態のブロック型共重合体は有機溶媒と混合することにより、溶液又は分散液以下、単に溶液という。とすることができる。溶液とすることにより、塗布による成膜を行うことができる。この溶液は、一般的に、インク組成物、液状組成物等と呼ばれる。該溶液には、上述の正孔輸送材料及び/又は電子輸送材料が含まれていてもよい。有機溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレン、1,2-ジクロロエタン、1,1,2-トリクロロエタン、クロロベンゼン及びo-ジクロロベンゼン等の塩素系溶媒、テトラヒドロフラン及びジオキサン等のエーテル系溶媒、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン及びメシチレン等の芳香族炭化水素系溶媒、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、n-ペンタン、n-ヘキサン、n-へプタン、n-オクタン、n-ノナン及びn-デカン等の脂肪族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン及びシクロヘキサノン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルベンゾエート及びエチルセルソルブアセテート等のエステル系溶媒、エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジメトキシエタン、プロピレングリコール、ジエトキシメタン、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、グリセリン及び1,2-ヘキサンジオール等の多価アルコール及びその誘導体、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール及びシクロヘキサノール等のアルコール系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、並びに、N-メチル-2-ピロリドン及びN,N-ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒が挙げられる。なお、これらの有機溶媒は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの有機溶媒のうち、ベンゼン環を含む構造を有し、かつ融点が0°C以下、沸点が100°C以上である有機溶媒を含むと、溶液の粘度が適切な範囲となり、その結果、成膜性が良好となる傾向があるので好ましい。有機溶媒の含有割合は、組成物100質量部に対して、成膜性が良好となるので、好ましくは10.0~99.9質量部であり、より好ましくは20.0~99.8質量部であり、特に好ましくは30.0~99.7質量部である。また、有機溶媒の含有割合は、ブロック型共重合体1質量部に対して、成膜性が良好となるので、好ましくは10~1000質量部であり、より好ましくは20~500質量部であり、特に好ましくは30~100質量部である。本実施形態の組成物が有機溶媒を含む場合、及び、ブロック型共重合体を有機溶媒と併用する場合、組成物を用いてなる薄膜、及び、ブロック型共重合体からなる薄膜を積層成膜させるには、溶液を塗布した後、乾燥により有機溶媒を除去するだけでよく、製造上非常に有利である。なお、溶液は、50~150°Cに加温して乾燥させてもよく、また、10-3Pa程度に減圧して乾燥させてもよい。積層成膜には、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットプリント法、及びノズルコート法等の塗布法を用いることができる。本実施形態の組成物が有機溶媒を含む場合、及び/又はブロック型共重合体が有機溶媒を含む場合、溶液の粘度は印刷法によって異なるが、25°Cにおいて0.5~500mPasの範囲であることが好ましい。また、インクジェットプリント法等、溶液が吐出装置を経由する方法である場合には、吐出時の目詰まり及び飛行曲がりを防止するために、溶液の粘度は25°Cにおいて0.5~20mPasの範囲であることが好ましい。[薄膜]上記組成物及び/又はブロック型共重合体は、有機層となる薄膜を作製するのに有用である。このような薄膜は、上述の方法により、上記溶液から容易に製造することができる。そして、このような薄膜は、上記組成物を用いてなるため、或いは、ブロック型共重合体を含有するため、有機EL素子の発光層として好適であり、当該薄膜を発光層として有する有機EL素子は輝度寿命が向上する。[有機EL素子]有機EL素子は、陽極と陰極とからなる一対の電極、及び該一対の電極の間に設けられた上記有機層を有する。ここで、上記有機層は、発光層として機能する。有機EL素子は、好ましくは、上記薄膜からなる発光層を有する。上記有機EL素子の構成としては、以下のa~dの構成が挙げられる。a陽極/発光層/陰極b陽極/正孔輸送層/発光層/陰極c陽極/発光層/電子輸送層/陰極d陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極ここで、/は各層が隣接して積層されていることを示す。以下、同様である。なお、発光層とは、発光する機能を有する層である。正孔輸送層とは、正孔を輸送する機能を有する層である。電子輸送層とは、電子を輸送する機能を有する層である。正孔輸送層と電子輸送層を総称して電荷輸送層と呼ぶ。各層の積層成膜は、溶液から行うことができる。溶液からの積層成膜には、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットプリント法、及びノズルコート法等の塗布法を用いることができる。発光層の厚さは、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように選択すればよいが、通常、1nm~1μmであり、好ましくは2nm~500nmであり、さらに好ましくは5nm~200nmである。有機EL素子が正孔輸送層を有する場合、使用される正孔輸送材料としては、上記と同様の材料が挙げられる。正孔輸送層の成膜は、如何なる方法で行ってもよいが、正孔輸送材料が低分子化合物である場合には、高分子バインダーとの混合溶液から成膜することが好ましい。正孔輸送材料が高分子化合物である場合には、溶液から成膜することが好ましい。溶液からの成膜には、塗布法として例示した方法を用いることができる。正孔輸送材料と混合する高分子バインダーは、電荷輸送を極度に阻害しない化合物であって、可視光に対する吸収が強くない化合物が好ましい。高分子バインダーとしては、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル及びポリシロキサン等が挙げられる。正孔輸送層の厚さは、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように選択すればよいが、通常、1nm~1μmであり、好ましくは2nm~500nmであり、さらに好ましくは5nm~200nmである。有機EL素子が電子輸送層を有する場合、使用される電子輸送材料としては、上記と同様のものが挙げられる。電子輸送層の成膜は、如何なる方法で行ってもよいが、電子輸送材料が低分子化合物である場合には、粉末からの真空蒸着法、溶液又は溶融状態からの成膜による方法が好ましい。電子輸送材料が高分子化合物である場合には、溶液又は溶融状態からの成膜による方法が好ましい。溶液又は溶融状態からの成膜には、高分子バインダーを併用してもよい。溶液からの成膜には、塗布法として例示した方法を用いることができる。電子輸送材料と混合する高分子バインダーは、電荷輸送を極度に阻害しない化合物であって、可視光に対する吸収が強くない化合物が好ましい。高分子バインダーとしては、ポリN-ビニルカルバゾール、ポリアニリン及びその誘導体、ポリチオフェン及びその誘導体、ポリp-フェニレンビニレン及びその誘導体、ポリ2,5-チエニレンビニレン及びその誘導体、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、並びにポリシロキサン等が挙げられる。電子輸送層の厚さは、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように選択すればよいが、通常、1nm~1μmであり、好ましくは2nm~500nmであり、さらに好ましくは5nm~200nmである。電極に隣接して設けた電荷輸送層のうち、電極からの電荷注入効率を改善する機能を有し、素子の駆動電圧を下げる効果を有する層は、特に電荷注入層正孔注入層、電子注入層と呼ぶことがある。さらに、電極との密着性向上や電極からの電荷注入の改善のために、電極に隣接して上記の電荷注入層又は絶縁層を設けてもよく、界面の密着性向上や混合の防止等のために電荷輸送層又は発光層の界面に薄いバッファー層を挿入してもよい。なお、積層する層の順番、数、及び各層の厚さについては、発光効率及び素子寿命を勘案して選択すればよい。電荷注入層を設けた有機EL素子の構成としては、以下のe~pの構成が挙げられる。e陽極/電荷注入層/発光層/陰極f陽極/発光層/電荷注入層/陰極g陽極/電荷注入層/発光層/電荷注入層/陰極h陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/陰極i陽極/正孔輸送層/発光層/電荷注入層/陰極j陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電荷注入層/陰極k陽極/電荷注入層/発光層/電荷輸送層/陰極l陽極/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極m陽極/電荷注入層/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極n陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電荷輸送層/陰極o陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極p陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極電荷注入層としては、導電性高分子を含む層、陽極と正孔輸送層との間に設けられ、陽極材料と正孔輸送層に含まれる正孔輸送材料との中間の値のイオン化ポテンシャルを有する材料を含む層、陰極と電子輸送層との間に設けられ、陰極材料と電子輸送層に含まれる電子輸送材料との中間の値の電子親和力を有する材料を含む層等が挙げられる。電荷注入層が導電性高分子を含む層である場合、該導電性高分子の電気伝導度は、10-5S/cm~103S/cmであることが好ましく、発光画素間のリーク電流を小さくするためには、10-5S/cm~102S/cmであることがより好ましく、10-5S/cm~101S/cmであることがさらに好ましい。かかる範囲を満たすために、導電性高分子に適量のイオンをドープしてもよい。ドープするイオンの種類は、正孔注入層であればアニオン、電子注入層であればカチオンである。アニオンとしては、ポリスチレンスルホン酸イオン、アルキルベンゼンスルホン酸イオン、樟脳スルホン酸イオン等が挙げられ、カチオンとしては、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、テトラブチルアンモニウムイオン等が挙げられる。電荷注入層の厚さは、例えば、1~100nmであり、2~50nmが好ましい。電荷注入層に用いる材料としては、電極や隣接する層の材料との関係で選択すればよく、ポリアニリン及びその誘導体、ポリチオフェン及びその誘導体、ポリピロール及びその誘導体、ポリフェニレンビニレン及びその誘導体、ポリチエニレンビニレン及びその誘導体、ポリキノリン及びその誘導体、ポリキノキサリン及びその誘導体、芳香族アミン構造を主鎖又は側鎖に含む重合体等の導電性高分子、金属フタロシアニン銅フタロシアニン等、並びにカーボン等が挙げられる。絶縁層は、電荷注入を容易にする機能を有する層である。この絶縁層の平均厚さは、通常、0.1~20nmであり、好ましくは0.5~10nm、より好ましくは1~5nmである。絶縁層に用いる材料としては、金属フッ化物、金属酸化物、及び有機絶縁材料等が挙げられる。絶縁層を設けた有機EL素子の構成としては、以下のq~abの構成が挙げられる。q陽極/絶縁層/発光層/陰極r陽極/発光層/絶縁層/陰極s陽極/絶縁層/発光層/絶縁層/陰極t陽極/絶縁層/正孔輸送層/発光層/陰極u陽極/正孔輸送層/発光層/絶縁層/陰極v陽極/絶縁層/正孔輸送層/発光層/絶縁層/陰極w陽極/絶縁層/発光層/電子輸送層/陰極x陽極/発光層/電子輸送層/絶縁層/陰極y陽極/絶縁層/発光層/電子輸送層/絶縁層/陰極z陽極/絶縁層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極aa陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/絶縁層/陰極ab陽極/絶縁層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/絶縁層/陰極有機EL素子を形成する基板は、電極及び有機層を形成する際に化学的に変化しない基板であればよく、ガラス、プラスチック、高分子フィルム、及びシリコン等の基板が挙げられる。不透明な基板の場合には、該基板により近い電極と反対側の電極が透明又は半透明であることが好ましい。本実施形態において、通常は、陽極及び陰極からなる電極の少なくとも一方が透明又は半透明であり、陽極側が透明又は半透明であることが好ましい。陽極の材料としては、導電性の金属酸化物膜、半透明の金属薄膜等が用いられ、具体的には、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、若しくはそれらの複合体であるインジウムスズオキサイドITO、インジウム亜鉛オキサイド等からなる導電性無機化合物を用いて作製された膜、NESA、金、白金、銀、銅等が用いられる。また、陽極として、ポリアニリン及びその誘導体、ポリチオフェン及びその誘導体等の有機の透明導電膜を用いてもよい。また、陽極上に、電荷注入を容易にするために、フタロシアニン誘導体、導電性高分子、又はカーボンからなる層、或いは金属酸化物、金属フッ化物、又は有機絶縁材料からなる層を設けてもよい。陽極の作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、及びメッキ法等が挙げられる。陽極の厚さは、光の透過性と電気伝導度とを考慮して選択することができるが、通常、10nm~10μmであり、好ましくは20nm~1μmであり、さらに好ましくは40nm~500nmである。陰極の材料としては、仕事関数の小さい材料が好ましく、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、スカンジウム、バナジウム、亜鉛、イットリウム、インジウム、セリウム、サマリウム、ユーロピウム、テルビウム、若しくはイッテルビウム等の金属、それらのうち2種以上の合金、又はそれらのうち1種以上と、金、銀、白金、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン及び錫のうち1種以上との合金、或いはグラファイト若しくはグラファイト層間化合物等が用いられる。陰極の作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、金属薄膜を熱圧着するラミネート法等が用いられる。陰極の厚さは、電気伝導度及び耐久性を考慮して選択することができるが、通常、10nm~10μmであり、好ましくは20nm~1μmであり、さらに好ましくは50nm~500nmである。また、陰極と発光層又は陰極と電子輸送層との間に、導電性高分子からなる層、或いは金属酸化物、金属フッ化物、有機絶縁材料等からなる層を設けてもよく、陰極作製後、有機EL素子を保護する保護層を装着していてもよい。該有機EL素子を長期安定的に用いるためには、有機EL素子を外部から保護するために、保護層及び/又は保護カバーを装着することが好ましい。保護層としては、樹脂、金属酸化物、金属フッ化物、又は金属ホウ化物等を用いることができる。保護カバーとしては、ガラス板、又は表面に低透水率処理を施したプラスチック板等を用いることができ、該保護カバーを熱硬化樹脂や光硬化樹脂で素子基板と貼り合わせて密閉する方法が好適に用いられる。スペーサーを用いて空間を維持すれば、素子がキズつくのを防ぐことが容易である。該空間に窒素やアルゴン等の不活性なガスを封入すれば、陰極の酸化を防止することができ、さらに酸化バリウム等の乾燥剤を該空間内に設置することにより製造工程で吸着した水分が素子にタメージを与えるのを抑制することが容易となる。本実施形態の組成物を用いてなる有機層、又は、ブロック型共重合体を含有する有機層を有する有機EL素子は、曲面状光源、及び平面状光源等の面状光源例えば、照明;セグメント表示装置、ドットマトリックス表示装置例えば、ドットマトリックスのフラットディスプレイ、及び液晶表示装置例えば、液晶表示装置、液晶ディスプレイのバックライト等の表示装置等に有用である。また、本実施形態の組成物及び/又はブロック型共重合体は、これらの作製に用いられる材料として好適である以外にも、レーザー用色素、有機太陽電池用材料、有機トランジスタ用の有機半導体、導電性薄膜、及び有機半導体薄膜等の伝導性薄膜用材料、蛍光を発する発光性薄膜材料、並びに電界効果トランジスタの材料等としても有用である。白色照明の一部として本実施形態の組成物を用いてなる発光層、又は、ブロック型共重合体を含有する発光層を用いる場合は、白色の色純度を得るために青色以外の発光材料を該発光層に含有してもよいし、青色以外の発光材料を有する第二の発光層を有していてもよい。本実施形態の組成物及び/又はブロック型共重合体を含有する有機層を有する有機EL素子を用いて面状の発光を得るためには、面状の陽極と陰極が重なり合うように配置すればよい。パターン状の発光を得るためには、該面状の有機EL素子の表面にパターン状の窓を設けたマスクを設置する方法、陽極及び陰極のいずれか一方、又は両方の電極をパターン状に形成する方法がある。これらのいずれかの方法でパターンを形成し、いくつかの電極を独立にON/OFFできるように配置することにより、数字や文字、簡単な記号等を表示できるセグメント表示装置が得られる。さらに、ドットマトリックス表示装置とするためには、陽極と陰極をともにストライプ状に形成して直交するように配置すればよい。複数の種類の発光色の異なる高分子化合物を塗り分ける方法、又は、カラーフィルター若しくは蛍光変換フィルターを用いる方法により、部分カラー表示、マルチカラー表示が可能となる。ドットマトリックス表示装置は、パッシブ駆動も可能であるし、TFT等と組み合わせてアクティブ駆動してもよい。これらの表示装置は、コンピュータ、テレビ、携帯端末、携帯電話、カーナビゲーション、及びビデオカメラのビューファインダー等に用いることができる。以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。数平均分子量及び重量平均分子量数平均分子量及び重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPC、島津製作所製、商品名:LC-10Avpにより、ポリスチレン換算で、求めた。測定する化合物を、約0.5質量の濃度になるようテトラヒドロフランに溶解させ、溶液をGPCに30μL注入した。GPCの移動相にはテトラヒドロフランを用い、0.6mL/分の流速で流した。カラムには、TSKgelSuperHM-H東ソー製2本とTSKgelSuperH2000東ソー製1本を直列に繋げたものを用いた。検出器には、示差屈折率検出器島津製作所製、商品名:RID-10Aを用いた。NMR測定化合物のNMR測定は、以下の条件で行った。装置:核磁気共鳴装置、INOVA300商品名、バリアン社製測定溶媒:重水素化クロロホルム又は重水素化テトラヒドロフランサンプル濃度:約1質量測定温度:25°CLC-MS測定LC-MSの測定は、以下の方法で行った。測定試料を約2mg/mLの濃度になるようにクロロホルム又はテトラヒドロフランに溶解させて、LC-MSアジレントテクノロジー製、商品名:1100LCMSDに1μL注入した。LC-MSの移動相には、イオン交換水、アセトニトリル、テトラヒドロフラン又はそれらの混合液を用い、必要に応じて酢酸を添加した。カラムは、L-column2ODS3μm化学物質評価研究機構製、内径:2.1mm、長さ:100mm、粒子径3μmを用いた。重合に用いられる化合物の合成<合成例1:化合物3Aの合成>4口フラスコ内の気体を窒素で置換し、上記フラスコ内で、2,7-ジブロモフルオレノン16.5質量部をジフェニルエーテルに懸濁させた。懸濁液を120°Cまで加熱し、2,7-ジブロモフルオレノンを溶解させた後、溶液に水酸化カリウム15.5質量部を加え、160°Cまで昇温し、2.5時間撹拌した。溶液を室温まで放冷後、ヘキサンを加えて、ろ過し、得られた固形分をヘキサンで洗浄した。4口フラスコ内の気体を窒素で置換し、上記フラスコ内で、得られた生成物のを脱水N,N-ジメチルホルムアミド以下、DMFという。に溶解させた。得られた溶液を90°Cに昇温し、反応を追跡しながら合計53.0質量部のヨウ化メチルを加えた。反応時間は合計10時間であった。室温まで放冷した溶液を、0°Cに冷却した水の中に滴下し、反応生成物をヘキサンで2回抽出した。得られた溶液をシリカゲルを敷いたグラスフィルターでろ過後、ろ液を濃縮した。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物1Aを13.3質量部得た。1H-NMR300MHz/CDCl3:δppm=3.68s,3H、7.15d,2H、7.20d,1H、7.52d,2H、7.65d,1H、8.00brs,1H.13C-NMR300MHz/CDCl3:δppm=52.6、121.8、122.2、130.1、131.6、132.3、132.4、133.2、134.7、139.4、140.6、167.8.3口丸底フラスコに1-ブロモ-4-n-ヘキシルベンゼン7.5質量部及び無水テトラヒドロフランを加え、-78°Cに冷却した。ゆっくりと1.6Mのn-ブチルリチウム/ヘキサン溶液1-ブロモ-4-n-ヘキシルベンゼンに対して1モル当量を加え、-78°Cで2時間撹拌した。温度を保ちながら化合物1A4.95質量部を無水テトラヒドロフランに溶かし、滴下ロートを用いて、該溶液を-70°C以下に保ちながら滴下した。滴下終了後、-78°Cで2時間撹拌し、ゆっくりと室温まで昇温した。得られた溶液に塩化アンモニウム飽和水溶液を500mL加えて撹拌し、分液ロートに移して水層を除去した。得られた有機層を水で2回洗浄し、そこに無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥させた。シリカゲルの層を敷いたグラスフィルターに、乾燥させた有機層を流してろ過し、その溶出液をテトラヒドロフランで洗浄した。得られた溶液を濃縮し乾燥させた。次いで、ヘキサン300mLに懸濁させて攪拌した後、ろ過することにより、化合物2Aを6.0質量部得た。3口フラスコに化合物2A6.0質量部及びジクロロメタンを加え、氷浴を用いて0°Cに冷却した。得られた溶液に、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体27質量部を、滴下ロートを用いて滴下した。溶液を2時間0°Cで撹拌した後、該溶液を水と氷を入れたビーカーに注加して反応を停止した。反応液を分液ロートへ移して分液し、ジクロロメタンで抽出した後、有機層を合わせて水で2回洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥させた。シリカゲルの層を敷いたグラスフィルターを用いて硫酸ナトリウムをろ過し、ろ液を濃縮した。得られた油状物にトルエンを加えて加熱しながら還流し、70°Cまで冷却後、イソプロピルアルコールを加えて撹拌し、室温まで放置して冷却した。生じた結晶をろ過し、乾燥させた。得られた結晶をナスフラスコに加え、さらにヘキサン及び活性炭を加えて、加熱しながら還流を2時間行った。ラヂオライト昭和化学工業品、その上にセライトを敷いたグラスフィルターを、70°Cに加熱しておき、これを用いて、活性炭をろ過して取り除いた。得られたろ液を半量濃縮し、加熱しながら還流した後、室温で1時間撹拌した。さらに氷浴を用いて反応液を冷却しながら2時間撹拌し、生じた結晶をろ過して集めた。目的とする化合物3Aを5.4質量部得た。1H-NMR300MHz/CDCl3:δppm=0.87t,6H、1.28~1.37m,12H、1.50~1.62m,4H、2.54t,4H、7.04s,8H、7.45d,2H、7.49s,2H、7.55d,2H.13C-NMR300MHz/CDCl3:δppm=14.4、22.9、29.4、31.6、32.0、35.8、65.4、121.8、122.1、128.1、128.7、129.7、131.1、138.3、141.9、142.1、153.7.<合成例2:化合物4Aの合成>不活性雰囲気下、化合物3A6.1質量部及び無水テトラヒドロフランからなる溶液に、-78~-70°Cにて2.5Mのn-ブチルリチウム/ヘキサン溶液化合物3Aに対して2.5モル当量を滴下し、さらに6時間撹拌した。次いで、-70°C以下にて化合物5Aイソプロピルピナコールボレート5.2質量部を滴下し、室温にて一晩撹拌した。反応混合物に、塩酸ジエチルエーテル溶液を-30°Cにて滴下した。滴下後に反応液の温度を室温まで戻し、減圧濃縮し、トルエンを加え撹拌した。反応液を、シリカゲルを敷き詰めたろ過器を通じてろ過し、得られたろ液を減圧濃縮し固体を得た。得られた固体をアセトニトリルとトルエンを用いて再結晶を行い、目的とする化合物4Aを4.5質量部得た。<合成例3:化合物2Bの合成>アルゴン気流下、反応容器に1-ブロモ-3,5-ジ-n-ヘキシルベンゼン20.0質量部とテトラヒドロフランを加え、均一溶液を調製し、該溶液を-69°Cまで冷却した。該溶液に2.76Mのn-ブチルリチウム/ヘキサン溶液1-ブロモ-3,5-ジ-n-ヘキシルベンゼンに対して1モル当量を-68°Cで1.5時間かけて滴下し、さらに該溶液を-70°Cで1.5時間撹拌した。次いで、化合物1B-19.0質量部とテトラヒドロフランからなる溶液を-70°Cで1時間かけて滴下し、-70°Cで2時間撹拌した。次いで、該溶液に-70°Cにてメタノール及び蒸留水を加え撹拌した後、室温まで昇温し、室温にて一晩撹拌した。次いで、反応混合物をろ過し、ろ液を濃縮し、ヘプタン及び水を加え撹拌し、静置して分液した有機層から水層を除去した。該有機層に飽和食塩水を加え撹拌し、静置して分液した有機層から水層を除去した。有機層に硫酸マグネシウムを加え撹拌し、ろ過して得られたろ液を濃縮し、化合物1Bを23.4質量部得た。アルゴン気流下、反応容器に化合物1B48.0質量部及びジクロロメタンを加え、均一溶液を調製し、-30°Cに冷却した。該溶液に三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体化合物1Bに対して1モル当量を30分間かけて滴下し、室温にて一晩撹拌した。次いで、反応混合物を-20°Cに冷却し、蒸留水を加え、1時間撹拌した後、静置して分液した水層を有機層から除去した。次いで、水を加え撹拌し、静置して分液した水層を有機層から除去した。得られた有機層に10質量炭酸水素ナトリウム水溶液を加え撹拌し、静置して分液した水層を有機層から除去した。該有機層を濃縮し溶媒を除去した。次いで、トルエン及びヘプタンを展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、濃縮して溶媒を除去した。次いで、酢酸ブチルとメタノールを用い再結晶することにより、目的とする化合物2Bを23.2質量部得た。<合成例4:化合物3Bの合成>アルゴン気流下、2Lの4口フラスコに化合物2B9.5質量部、化合物3B-16.6質量部、1,4-ジオキサン、酢酸カリウム7.05質量部、1,1’-ビスジフェニルホスフィノフェロセンdppf、0.1質量部及び1,1’-ビスジフェニルホスフィノフェロセンジクロロパラジウムII塩化メチレン錯体PdCl2dppfCH2Cl2、0.15質量部を加え、100~102°Cで5時間撹拌した。次いで、得られた反応混合物を室温まで冷却した後、セライト及びシリカゲルを敷き詰めたろ過器でろ過し、得られたろ液を濃縮して溶媒を除去した。次いで、ヘキサンを加えて調製した溶液に、活性炭を加え、ヘキサンが還流する温度にて1時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷却後、セライトを敷き詰めたろ過器でろ過し、濃縮して溶媒を除去した。次いで、トルエン及びアセトニトリルで再結晶を行うことにより、目的とする化合物3Bを10.1質量部得た。<合成例5:化合物2Cの合成>不活性雰囲気下、3口フラスコに、3-n-ヘキシル-5-メチルブロモベンゼン26.2質量部及び無水テトラヒドロフランを加え均一溶液とし、-70°Cに冷却した。得られた溶液に、2.5Mのn-ブチルリチウム/ヘキサン溶液3-n-ヘキシル-5-メチルブロモベンゼンに対して0.93モル当量を、溶液の温度が-70°Cに保たれるように滴下し、同温度にて4時間撹拌し、溶液以下、溶液Aと言う。を調製した。別途、2口フラスコに、2-メトキシカルボニル-4,4’-ジブロモビフェニル16.0質量部及び無水テトラヒドロフランを加え、溶液以下、溶液Bと言う。を調製した。溶液Aに溶液Bを、溶液Aの温度が-70°Cに保たれるように滴下し、撹拌した。次いで、反応液を室温にて15時間撹拌した。次いで、反応液に水を0°Cにて加え、撹拌した。次いで、得られた混合液を減圧下で濃縮することにより溶媒を留去し、残留物にヘキサン及び水を加え、撹拌し、静置して生成した水層を除去し有機層を得た。この有機層を飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥させた後、減圧下で濃縮することにより、下記式で表される化合物1Cを白色固体として得た。不活性雰囲気下、3口フラスコに、化合物1C30.0質量部及び無水ジクロロメタンを加え、5°Cに冷却した。得られた混合物に、温度が0~5°Cの範囲内に保たれるように、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体化合物1Cに対して4.2モル当量を滴下した後、室温にて終夜撹拌した。反応液を、氷水に注意深く注ぎ、30分撹拌し、静置して分液した水層を有機層から除去した。この有機層に10質量リン酸カリウム水溶液を加え、2時間撹拌した後、静置して生成した水層を有機層から除去した。得られた有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥させた後、濃縮することにより溶媒を留去し、オイル状の液体を得た。このオイル状の液体にメタノールを加え、固体を得た。この固体をn-ブチルアセテート及びメタノールから再結晶を行うことにより、下記式で表される化合物2Cを24.0質量部得た。<合成例6:化合物3Cの合成>三口フラスコに、合成例5で合成した化合物2C8.0質量部、ビスピナコレートジボロン6.6質量部、1,1’-ビスジフェニルホスフィノフェロセンジクロロパラジウムII塩化メチレン錯体PddppfCH2Cl2、0.15質量部、1,1’-ビスジフェニルホスフィノフェロセン0.099質量部、無水1,4-ジオキサン及び酢酸カリウム7.0質量部を加え、100°Cで20時間撹拌した。反応液を室温に冷却した後、シリカゲルに通液させ、シリカゲルをトルエンで洗浄し、得られた溶液を濃縮することにより溶媒を留去し、褐色の液体を得た。この液体を、ヘキサンを展開溶媒としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製した。溶出液を濃縮することにより得られた液体にアセトニトリルを加え、固体を得た。この固体をアセトニトリル及びトルエンを用いて再結晶を1回行い、ジクロロメタン及びメタノールを用いて再結晶を1回行い、減圧下で乾燥させることにより、下記式で表される化合物3Cを2.9質量部得た。<合成例7:化合物2Dの合成>3口フラスコ内の気体を窒素で置換し、3口フラスコ内で、1-ブロモ-3-n-ヘキシルベンゼン22.6質量部を、無水テトラヒドロフランに溶解させた。得られた溶液を-75°C以下に冷却し、2.5Mn-ブチルリチウム/ヘキサン溶液1-ブロモ-3-n-ヘキシルベンゼンに対して0.96モル当量を滴下し、-75°C以下に保ちながら5時間撹拌した。そこに、2-メトキシカルボニル-4,4’-ジブロモビフェニル15.0質量部を無水テトラヒドロフランに溶解させた溶液を-70°C以下に保ちながら滴下した。得られた溶液を室温までゆっくりと昇温後、終夜撹拌した。反応液を0°Cで撹拌しながら、水を滴下した。反応液から溶媒を留去した後、残渣に水を加え、ヘキサンで3回抽出した。得られた有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、水層をヘキサンで再抽出した。得られた有機層を合わせ、硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥させた有機層から溶媒を留去したところ、26.4質量部の化合物1Dの粗生成物を得た。3口フラスコ内で、上記で合成した化合物1D26.4質量部を、ジクロロメタンに溶解させ、該フラスコ内の気体を窒素で置換した。得られた溶液を0°C以下に冷却し、5°C以下に保ちながら三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体化合物1Dに対して5モル当量を滴下した。室温までゆっくり昇温後、終夜撹拌した。反応液を氷水中に撹拌しながら注ぎ、30分撹拌した。反応液を分液し、水層をジクロロメタンで抽出した。有機層を合わせ、10質量リン酸カリウム水溶液を加えて分液し、有機層を水2回で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥させた有機層から溶媒を留去して得られたオイルをトルエンに溶解させ、シリカゲルを敷いたグラスフィルターに通し、ろ過した。ろ液から溶媒を留去した後、メタノールを加えて激しく撹拌した。得られた結晶をろ過し、メタノールで洗浄した。洗浄した結晶をヘキサンと酢酸ブチルとの混合溶媒で再結晶して、化合物2Dを12.1質量部得た。1H-NMR300MHz,CDCl3:δppm=0.866H,t、1.2612H,m、1.524H,m、2.514H,t、6.872H,d、7.002H,s、7.042H,d、7.122H,t、7.462H,dd、7.482H,d、7.552H,d.<合成例8:化合物3Dの合成>3口フラスコに化合物2D5.0質量部を加え、該フラスコ内の気体を窒素で置換した。そこに、無水テトラヒドロフランを加え、-70°C以下に冷却した。得られた溶液を-70°C以下に保ちながら2.5Mn-ブチルリチウム/ヘキサン溶液化合物2Dに対して2.2モル当量を滴下した。滴下後、反応液の温度を保ちながら4時間撹拌した。そこに、2-イソプロポキシ-4,4,5,5-テトラメチル-1,3,2-ジオキサボロラン化合物2Dに対して2.8モル当量を加えた後、室温までゆっくり昇温し終夜撹拌した。反応液を-30°Cに冷却し、2M塩酸/ジエチルエーテル溶液を滴下した後、室温まで昇温した。そこから溶媒を留去した後、トルエンを加えて溶解させ、シリカゲルを敷いたグラスフィルターに通してろ過し、得られた溶液の溶媒を留去して、5.0質量部の粗生成物を得た。この粗生成物を、窒素雰囲気下でトルエンとアセトニトリルとの混合溶媒を用いて再結晶し、化合物3Dを3.4質量部得た。1H-NMR300MHz,CDCl3:δppm=0.866H,t、1.26-1.2912H,m、1.3124H,s、1.52-1.534H,m、2.504H,t、6.922H,d、7.002H,d、7.082H,t、7.132H,s、7.772H,d、7.81-7.824H,m.<合成例9:化合物1Eの合成>ピレン8.8質量部にクロロホルムを加えて調製した溶液に、臭素13.4質量部とクロロホルムからなる溶液を20~25°Cにて7時間かけて滴下し、さらに20~25°Cにて3時間撹拌した。次いで、反応液を20~25°Cにて3時間静置した後、析出した固体をろ過し、クロロホルムで洗浄し、減圧乾燥を行い、固体A9.7質量部を得た。次いで、得られた固体A4.0質量部にトルエンを加え30~35°Cにて1時間撹拌し、5°Cにて18時間静置した。析出した固体をろ過し、メタノールで洗浄し、減圧乾燥することにより、目的とする化合物1E2.66質量部を得た。LC-MSAPPI-MSposi:358[M]<合成例10:化合物4Fの合成>3口フラスコに、3,5-ジブロモフェノール9.6質量部、3,5-ビス4-tert-ブチルフェニルフェニルボロン酸30.9質量部特開2005-82730号公報に記載の方法に従って合成した。及びテトラエチルアンモニウムヒドロキシド95.0質量部20質量水溶液を加えた後、フラスコ内の気体を窒素で置換した。そこに、トルエン及びジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム0.15質量部を加え、100°Cで8時間加熱した。その後、得られた混合液を放冷すると、結晶が析出した。この結晶を、クロロホルムを加えて溶解させ、得られた溶液に1N塩酸を加えて酸性にし、分液した。得られた水層をクロロホルムで抽出し、抽出後のクロロホルムを有機層と合わせ、水、飽和食塩水の順番で洗浄した。洗浄後の有機層を、シリカゲルを敷いたグラスフィルターに通してろ過し、溶媒を留去したところ、41.8質量部の粗生成物を得た。これに、ヘキサンを加え、還流温度まで昇温後、室温までゆっくり放冷し、ろ過し、析出物をヘキサン洗浄を行ったところ、下記式で表される化合物1Fを28.0質量部得た。LC-MSAPPI-MS,posi775[MH]、exactmass=7741H-NMR300MHz,CDCl3:δppm=1.3536H,s,5.191H,s,7.15s,2H,7.47d,8H,7.59s,1H,7.60d,8H,7.78s,6H.13C-NMR300MHz,CDCl3:δppm=31.8,34.9,113.9,119.6,125.2,125.7,126.2,127.4,138.6,142.1,142.6,144.0,150.9,156.6.4口フラスコ内の気体を窒素で置換し、4口フラスコ内で化合物1F28.0質量部及びN,N-ジメチル-4-アミノピリジン13.0質量部を脱水ジクロロメタンに溶解させ、0°Cに冷却した。そこに、無水トリフルオロメタンスルホン酸25.0質量部を30分かけて滴下した。そして、20分撹拌後、冷浴を外し、1.5時間撹拌を継続した。得られた混合液を、シリカゲルを敷いたグラスフィルターに通し、ろ過し、トルエンで洗浄した。得られた混合液から溶媒を留去したところ、下記式で表される化合物2Fを28.9質量部得た。LC-MSESI-MS,positive945[MK]、exactmass=9061H-NMR300MHz,CDCl3:δppm=1.3836H,s,7.528H,d,7.572H,s,7.648H,d,7.774H,s,7.852H,s,7.971H,s.13C-NMR300MHz,CDCl3:δppm=31.7,34.9,119.3.4口フラスコ内の気体を窒素で置換し、フェノキサジン6.1質量部を入れ、脱水トルエンに溶解させた。そこに、トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム0.71質量部、1,1’-ビスジフェニルホスフィノフェロセン0.86質量部及び炭酸セシウム15.2質量部を加え、110°Cに加熱した。そこに、化合物2F28.9質量部を窒素バブリングした脱水トルエンに溶解させた溶液を1時間かけて滴下した。そして、20時間撹拌後、得られた混合物をシリカゲルを敷いたグラスフィルターで熱時ろ過し、トルエンで洗浄した。得られた混合液から溶媒を留去したところ、33.0質量部の粗生成物を得た。この粗生成物をトルエンに溶解させ、得られた溶液をメタノール1L中に滴下し、再沈殿させた。得られた溶液を、ろ過し、メタノール洗浄したところ、50.0質量部の粗生成物を得た。そこに、トルエンを加え、加熱して溶解させ、エタノールを滴下し、再結晶した。さらに、得られた生成物を、ろ過し、エタノールで洗浄したところ、24.8質量部の生成物を得た。この生成物を、トルエンとエタノールとの混合溶媒を用いて再結晶したところ、下記式で表される化合物3Fを16.6質量部得た。LC-MSAPCI,positive940[MH]、exactmass=9391H-NMR300MHz,CDCl3:δppm=1.3736H,s,6.13-6.162H,m,6.62-6.716H,m,7.508H,d,7.648H,d,7.722H,s,7.836H,s,8.111H,s.13C-NMR300MHz,CDCl3:δppm=31.7,34.9,113.7,115.8,121.7,123.7,125.0,126.0,126.1,126.3,127.4,128.8,134.6,138.4,140.4,141.1,142.8,144.3,145.3,151.0.4口フラスコ内の気体を窒素で置換し、化合物3F16.6質量部を加え、クロロホルムに溶解させた。得られた溶液を0°Cに冷却し、そこに、6.3質量部のNBSN-ブロモスクシンイミドをDMFに溶解させた溶液を50分かけて滴下した。そして、10分撹拌後、冷浴を外し、3時間撹拌を継続した。得られた混合液を、再度0°Cに冷却し、そこに、0.1質量部のNBSをDMFに溶解させた溶液を滴下した。そして、室温で1.5時間撹拌した後、そこに、水を滴下し分液した。得られた水層をトルエンで2回抽出し、抽出したトルエンを有機層と合わせ、トルエンを加えた。得られた混合液を、水及び飽和食塩水で洗浄した。洗浄後の混合液を、シリカゲルを敷いたグラスフィルターに通してろ過し、トルエンで洗浄した。得られた混合液から溶媒を留去したところ、下記式で表される化合物4Fを25.1質量部得た。LC-MSAPCI,positive1096[MH]、exactmass=10951H-NMR300MHz,CDCl3:δppm=1.3736H,s,5.992H,d,6.752H,d,6.852H,brs,7.508H,d,7.61-7.6510H,m,7.826H,d,8.111H,s.13C-NMR300MHz,CDCl3:δppm=31.7,34.9,113.3,114.9,119.0,125.0,126.2,126.7,127.3,128.2,129.3,133.5,138.3,139.6,140.7,142.9,144.5,145.6,151.1.<合成例11:化合物3Gの合成>不活性雰囲気下で、3口フラスコに酢酸225質量部を入れ、5-tert-ブチル-m-キシレン24.3質量部を加えた。続いて臭素31.2質量部を加えた後、15~20°Cで3時間反応させた。反応液を水に加え析出した沈殿をろ過した。この沈澱を水で2回洗浄し、白色の固体である化合物1Gを34.2質量部得た。1H-NMR300MHz/CDCl3:δppm=1.3s,9H、2.4s,6H、7.1s,2MSFDM241不活性雰囲気下で、3口フラスコに脱気した脱水トルエンを入れ、トリtert-ブチルホスフィン0.63質量部を加えた。次いで、そこに、トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム0.41質量部、上記の化合物1G9.6質量部、tert-ブトキシナトリウム5.2質量部及びN,N’-ジフェニル-1,4-フェニレンジアミン4.7質量部を加えた後、100°Cで3時間反応させた。反応液を飽和食塩水に加え、約50°Cに温めたクロロホルムで抽出した。得られた有機層から溶媒を留去したところ、固体が生じたので、トルエンを加えて、固体が溶解するまで加熱した。次いで、得られた溶液を、放冷した後、沈殿をろ過し、白色の固体である化合物2Gを9.9質量部得た。不活性雰囲気下で、3口フラスコに脱水N,N-ジメチルホルムアミドを入れ、上記の化合物2G5.2質量部を溶解した後、氷浴下でN-ブロモスクシンイミド3.5質量部/N,N-ジメチルホルムアミド溶液を滴下し、一昼夜反応させた。反応液に水を加え、析出した沈殿をろ過し、メタノールで2回洗浄し白色の固体である化合物3Gを4.4質量部得た。1H-NMR300MHz/テトラヒドロフラン-d8:δppm=1.3s,18H、2.0s,12H、6.6~6.7d,4H、6.8~6.9br,4H、7.1s,4H、7.2~7.3d,4H.MSFDM738<合成例12:化合物4Iの合成>アルゴン雰囲気下、反応容器に、1-ブロモ-3,5-ジ-n-ヘキシルベンゼン58.4gおよびテトラヒドロフランを加え、均一溶液を調製し、-75°Cまで冷却した。該溶液に2.5Mのn-ブチルリチウム/ヘキサン溶液1-ブロモ-3,5-ジ-n-ヘキシルベンゼンに対して1モル当量71.2mLを-75°Cで1.5時間かけて滴下し、さらに該溶液を-70°Cで1.5時間撹拌した。次いで、そこに、2,7-ジブロモフルオレノン55.2gとテトラヒドロフランからなる溶液を-75°Cで1時間かけて滴下し、反応液を室温まで昇温させ4時間撹拌した。次いで、該溶液を0°Cまで冷却させ、アセトン、2mol塩酸水溶液をゆっくり加え撹拌した後、室温まで昇温し、室温にて静置した。次いで、反応混合物をろ過し、ろ液を濃縮し、ヘキサン及び水を加え撹拌し、静置して分液した有機層から水層を除去した。該有機層に飽和食塩水を加え撹拌し、静置して分液した有機層から水層を除去した。有機層に硫酸マグネシウムを加え撹拌し、ろ過して得られたろ液を濃縮し、化合物1I30.2gを得た。反応容器をアルゴン気流下とし、化合物1I27.7g及びトリフルオロ酢酸36mLを加えた。該溶液にトリメチルシラン8.4mLとヘキサン25mLの混合溶液を30分間かけて滴下し、室温にて一晩撹拌した。次いで、該反応液を10°Cに冷却し、ヘキサンと蒸留水を加え、1時間撹拌した後、静置して分液した水層を有機層から除去した。次いで、水を加え撹拌し、静置して分液した水層を有機層から除去した。該有機層に飽和食塩水を加え撹拌し、静置して分液した有機層から水層を除去した。有機層に硫酸マグネシウムを加え撹拌し、ろ過して得られたろ液を濃縮した。次いで、ヘキサン及びジクロロメタンを展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、濃縮して溶媒を除去した。次いで、メタノールで洗浄することにより、目的とする化合物2I12.1gを得た。アルゴン気流下で、反応容器に、化合物2I12.0g、ジメチルスルホキシド60mL、水2mL及び水酸化カリウム4.85gを加えた。該溶液にヨウ化メチル4.1mLを滴下し、室温にて一晩撹拌した。次いで、該反応液を室温にて、ヘキサンと蒸留水を加え、1時間撹拌した後、静置して分液した水層を有機層から除去した。次いで、そこに水を加え撹拌し、反応液を静置して分液した水層を有機層から除去した。該有機層に飽和食塩水を加え撹拌し、静置して分液した有機層から水層を除去した。有機層に硫酸マグネシウムを加え撹拌し、ろ過して得られたろ液を濃縮した。次いで、メタノールと酢酸ブチルを用いて再結晶することにより、目的とする化合物3I4.3gを得た。アルゴン雰囲気下、反応容器に、化合物3I4.2g、ビスピナコラートジボロン4,4,4’,4’,5,5,5’,5’-オクタメチル-2,2’-ビ-1,3,2-ジオキサボロラン4.0g、1,4-ジオキサン45mL、酢酸カリウム4.2g、1,1’-ビスジフェニルホスフィノフェロセンdppf、59mg及び1,1’-ビスジフェニルホスフィノフェロセンジクロロパラジウムII塩化メチレン錯体PdCl2dppfCH2Cl2、88mgを加え、100°Cで20時間撹拌した。次いで、得られた反応混合物を室温まで冷却した後、セライト及びシリカゲルを敷き詰めたろ過器でろ過し、得られたろ液を濃縮して溶媒を除去した。次いで、ヘキサンを加えて調製した溶液に、活性炭を加え、ヘキサンが還流する温度にて1時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷却後、セライトを敷き詰めたろ過器でろ過し、濃縮して溶媒を除去した。次いで、トルエン及びメタノールで再結晶を行うことにより、目的とする化合物4I3.9gを得た。<合成例13:化合物1Tの合成>100mLの3口フラスコの内部の気体を窒素で置換し、2-エチルヘキシルマグネシウムブロミド1.0Mジエチルエーテル溶液、25mL、25mmolを入れ、還流した。この溶液に2-ブロモアントラセン5.34g、20.8mmolとPdCl2dppfCH2Cl233mg、0.04mmolとを50mLの脱水シクロペンチルメチルエーテルに懸濁させた懸濁液を35分間で滴下した。1時間還流後、氷浴につけて反応液を冷却し、2M塩酸5mLを滴下した。そこに、トルエン50mLを加え、50mL、30mLの水で順番に分液することにより洗浄した。水層を合わせ、トルエンで再抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水30mLで洗浄した。シリカゲル20gを敷いたグラスフィルターを通して濾過し、トルエンで洗浄した。濾液の溶媒を留去したところ、7.45gの粗生成物を得た。5.40gの粗生成物をイソプロピルアルコール54mLで再結晶を行った。ここで、加熱して粗生成物の溶解を確認した後、放冷したところ、内温65°Cで結晶化が見られ、この温度で2時間保温した。その後、得られた溶液をゆっくり冷却し、室温まで放冷した後、ろ過し、析出物をイソプロピルアルコールで洗浄した。イソプロピルアルコールによる再結晶を更に2回繰り返し、3.81gの2-2-エチルヘキシルアントラセン収率67.2を白色固体として得た。LC-MSAPPIpositive291[MH]、exactmass=2901H-NMRCDCl3、300MHz:δppm=0.87~0.946H、m、1.27~1.488H、m、1.68~1.751H、m、2.712H、d、7.291H、d、7.40~7.462H、m、7.71s、1H、7.911H、d、7.95~7.982H、m、8.321H、s、8.361H、s.13C-NMRCDCl3、75MHz:δppm=11.1、14.4、23.4、25.9、29.2、32.8、40.9、41.0、125.2、125.5、125.6、126.2、127.2、128.2、128.3、128.4、128.5、131.0、131.8、132.2、139.2.300mLの4口フラスコの内部の気体を窒素で置換し、2-2-エチルヘキシルアントラセン3.50g、12.1mmolを取り、105mLの脱水ジクロロメタンに溶解させた。氷浴につけて、得られた溶液を冷却し、20分で臭素4.17g、26.1mmolを20分かけて滴下した。次いで、45分攪拌した後、1質量チオ硫酸ナトリウム水溶液を5分で滴下し、反応を停止させた。分液し、有機層をクロロホルム100mLで抽出した。有機層を合わせ、水洗した。シリカゲル20gを敷いたグラスフィルターを通してろ過し、ヘキサンで洗浄した。濾洗液を濃縮し、5.47gの粗生成物を黄色粘性オイルとして得た。この黄色粘性オイルをシリカゲルカラムクロマトグラフィーシリカ120g、展開溶媒ヘキサンのみにて精製し、4.26gの黄色粘性オイルとして得た。次いでメタノール1Lを加え加熱して溶解し、一晩静置して結晶を得た。得られたスラリー溶液を約150mLまで濃縮した後、ろ過し、3.91gの淡黄色固体を得た。得られた固体をヘキサン50mLに溶解させ、活性炭1.00gを加え、1時間攪拌した。セライト13gを敷いたグラスフィルターを通してろ過、ヘキサンで洗浄し、濾洗液を濃縮した。これにイソプロピルアルコール100mLを加えて加熱した後、35°Cまで放冷し、種晶を加えた。攪拌後、ろ過し、イソプロピルアルコールで洗浄し、2.76g収率51の9,10ジブロモ-2-2-エチルヘキシルアントラセン化合物1Tを淡黄色固体として得た。1H-NMRCDCl3、300MHz:δppm=0.86~0.976H、m、1.20~1.408H、m、1.72~1.771H、m、2.782H、d、7.431H、d、7.55~7.592H、m、8.281H、s、8.461H、d、8.51~8.542H、m.13C-NMRCDCl3、75MHz:δppm=11.2、14.5、23.3、25.9、29.1、32.7、40.7、40.9、122.8、123.6、127.2、127.3、127.6、128.3、128.4、128.5、130.3、130.8、131.4、141.7.<合成例14:化合物3Pの合成>窒素雰囲気下、1,5-ナフチルビストリフルオロメタンスルホネート化合物1P、25.0gと、[1,1’-ビスジフェニルホスフィノフェロセン]ジクロロパラジウムIIジクロロメチレン付加体0.24gと、tert-ブチルメチルエーテル410mLを仕込み、10°C以下で、2-エチルヘキシルマグネシウムブロマイド1mol/Lジエチルエーテル溶液173mLを滴下し、室温にて4時間攪拌した。反応終了後、水と2N塩酸の混合液に反応液を注加し、水層を酢酸エチルにより抽出した。次いで、得られた有機層を塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。洗浄した有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧下で溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒ヘキサンにより精製を行い、化合物2Pを淡黄色油状物として21.3g得た。MSESI、positive:[M]3531H-NMR300MHz、CDCl3:δppm=0.75-1.0012H,m,1.10-1.5016H,m,1.69-1.852H,m,2.90-3.054H,m,7.24-7.383H,m,7.35-7.443H,m,7.90-7.953H,m.窒素雰囲気下、化合物2P21.3g、ビスピナコラートジボロン4,4,4’,4’,5,5,5’,5’-オクタメチル-2,2’-ビ-1,3,2-ジオキサボロラン46.0g、ビス1,5-シクロオクタジエンジ-μ-メトキシジイリジウムI0.24gアルドリッチ社製、4,4’-ジtert-ブチル-2,2’-ジピリジル0.19g及びジオキサン140mLの混合物を、100°Cで3時間攪拌した。得られた混合物を冷却後、ジオキサンを減圧下で留去し、残留物にメタノールを加え、析出した固体をろ取し、乾燥させた。この固体をトルエンに溶解させ、活性白土を加え、60°Cで30分撹拌した。その後、混合物を、シリカゲルをプレコートしたろ過機にて熱時ろ過し、ろ液を減圧下で濃縮した。得られた濃縮残渣にメタノールを加え、析出した固体をろ取し、乾燥させて、化合物3Pを白色粉末固体として28.0g得た。LC-MSESI、positive:[M]6051H-NMR300MHz、CDCl3:δppm=0.85-0.9512H,m,1.24-1.5016H,m,1.66-1.852H,m,2.90-3.184H,m,7.602H,s,8.472H,s.<合成例15:化合物6Mの合成>5Lの三つ口フラスコに、マグネシウム60.5g、2.485mol、脱水ジエチルエーテル1500mL、1,2-ジブロモエタン1mL、0.0115molを加え、そこに、2-エチルヘキシルブロミドをゆっくり加え、40°Cにて2時間攪拌し、室温に戻し溶液Aを調製した。次いで、5Lの三つ口フラスコに、3,4-ジブロモチオフェン100g、0.4233mol、ビスジフェニルフォスフィノプロパンニッケルII及び脱水ジエチルエーテル1500mLを加えて溶液を調製し、そこに、溶液Aを室温にて加え、室温で4時間攪拌し、さらに40°Cにて14時間攪拌した。得られた反応液を、1.5N塩酸水溶液と氷の混合物に加え攪拌し、得られた有機層を水層と分離した。該有機層を水1000mL、飽和食塩水1000mLで洗浄し、濃縮し、乾燥させることにより固化した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的とする化合物1Mを得た124g、収率97。1H-NMRCDCl3、300MHz:δppm=0.96~1.0312H、m、1.19~1.3816H、m、1.55~1.602H、m、2.444H、d、6.862H、s.5Lの三つ口フラスコに、化合物1M124g、0.4018mol及びジクロロメタン2.5Lを加え、そこに攪拌しながらメタクロロ過安息香酸m-CPBAをゆっくり加え、室温にて14時間攪拌した。次いで、ジクロロメタン1Lを加え、NaHSO3水溶液500mLにて2回、NaHCO3水溶液500mLにて2回、飽和食塩水500mLにて2回洗浄し、有機層を濃縮し、乾燥させることにより固化して粗生成物を得た。該粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、目的とする化合物2Mを得た80g、収率59。1H-NMRCDCl3、300MHz:δppm=0.86~0.9212H、m、1.27~1.3916H、m、1.40~1.602H、m、2.224H、d、6.202H、s.2Lの三つ口フラスコに、化合物2M80g、0.2349mol、1,4-ナフタレンジオン63.15g、0.3993mol及びジメチルスルホキシド1600mLを加え、110°Cにて60時間攪拌した。次いで、得られた反応液を、室温にて水1Lにゆっくり加え攪拌し、ジクロロメタン2Lを加え攪拌し、得られた有機層を水層と分離した。該有機層を、水500mLで2回、飽和食塩水1000mLで1回洗浄し、濃縮し、乾燥させることにより固化して粗生成物を得た。次いで、該粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的とする化合物3Mを得た51g、収率49。1H-NMRCDCl3、300MHz:δppm=0.92~0.9912H、m、1.26~1.3916H、m、1.66~1.682H、m、2.714H、d、7.782H、dd、8.052H、s、8.312H、dd1,4-ジブロモベンゼン31.20g、132mmol及び脱水ジエチルエーテル279mLからなる溶液に、1.67Mのn-ブチルリチウム/n-ヘキサン溶液79.2mL、132mmolを-78°Cにて滴下し、同温度にて1時間攪拌し、溶液Bを調製した。次いで、化合物3M14.31g、33mmol及び脱水ジエチルエーテル28mLからなる溶液に、溶液Bを-78°Cにて滴下し、同温度にて1時間攪拌した。次いで、室温にて3時間攪拌し、0°Cにて水140mLを加え攪拌した。次いで、酢酸エチルを加え攪拌して得られた有機層を水層と分離した。得られた有機層を濃縮し、乾燥させることにより固化し、目的とする化合物4Mを得た32.8g。化合物4M24.69g、酢酸165mL、ヨウ化カリウム14.27g及びNaHPO2H2O31.54gを125°Cにて3時間攪拌した。得られた反応液を氷水に加え攪拌し、さらにトルエンを加え攪拌し、得られた有機層を水層と分離した。該有機層を濃縮し、乾燥させることにより固化し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的とする化合物5Mを得た21.83g。不活性ガス雰囲気下、化合物5M1.70g、2.39mmol、ビスピナコラートジボロン4,4,4’,4’,5,5,5’,5’-オクタメチル-2,2’-ビ-1,3,2-ジオキサボロラン1.33g、5.25mmol、1,1-ビスジフェニルホスフィノフェロセンジクロロパラジウムIIジクロロメタン錯体PddppfCH2Cl2、38mg、0.05mmol、1,1-ビスジフェニルホスフィノフェロセン30mg、0.05mmol、無水1,4-ジオキサン20mL及び酢酸カリウム1.4g、14.31mmolを加え、還流下6時間攪拌した。得られた混合物を室温に戻した後、水及びトルエンを加え攪拌し、得られた有機層を水層と分離し、濃縮し、乾燥させることにより固化し、粗生成物を得た。該粗生成物に、ヘキサン100mL及び活性炭0.3gを加え40°Cにて30分攪拌し、セライトを敷き詰めたろ過器にてろ過を行い、濃縮し、乾燥させることにより固化し固体を得た。該固体をヘキサンにて再結晶を行い、目的とする化合物6Mを得た0.43g。<合成例16:化合物5Nの合成>まず、化合物1Nを用いて下記のとおり化合物2Nを合成した。式中、波線は、当該波線を有する化合物が幾何異性体混合物であることを示す。撹拌器を備えた1Lの四つ口フラスコにヘプチルトリフェニルホスホニウムブロミド115.0g入れ、フラスコ内の気体をアルゴンで置換した。このフラスコ内に、トルエン375gを入れ、5°C以下に冷却した。カリウムtert-ブトキシド29.2gを入れ、室温まで昇温した後、室温で3時間保温撹拌した。反応液中に生じた赤色スラリーに、化合物1N15.0gを入れ、室温で12時間保温撹拌した。反応液に酢酸10.0gを入れて15分撹拌した後、ろ過し、濾過残渣をトルエンで複数回洗浄した。複数回分のろ液を合わせて濃縮し、ヘキサンを入れたところスラリーが生じたので、このスラリーを50°Cで、1時間保温しながら撹拌した。得られた混合物を室温まで冷却し、ろ過した。濾過残渣をヘキサンで複数回洗浄し、複数回分のろ液を合わせて濃縮することで粗生成物が得られた。この粗生成物をシリカゲルカラム展開溶媒ヘキサンを用いて精製することで、無色透明液体として化合物2Nを21.7g得た。LC-MSESI、positive:[MK]4911H-NMRCDCl3、300MHz:δppm=0.876H、t、1.20~1.3616H、m、1.82~1.974H、m、2.57~2.818H、m、5.202H、br、7.23~7.324H、m、7.41~7.482H、m、7.87~7.902H、m.次いで、化合物2Nを用いて下記のとおり化合物3Nを合成した。式中、波線は、当該波線を有する化合物が幾何異性体混合物であることを示す。また、式中、は、それを付した炭素原子が不斉炭素原子であることを示す。撹拌器を備えた1Lの四つ口フラスコに化合物2N21.7gを入れた後、酢酸エチル152.4gとエタノール151.6gを入れ、フラスコ内の気体を窒素で置換した。5質量Pd/C約50質量含水品4.3gを入れた後、フラスコ内の気体を水素で置換し、水素雰囲気下、40°Cで27時間保温しながら撹拌した。得られた混合物を室温まで冷却し、セライトをプレコートしたろ過器によりろ過し、残渣を酢酸エチルで複数回洗浄し、複数回分のろ液を合わせて濃縮することにより、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲルカラム展開溶媒ヘキサンを用いて精製することで、無色透明液体として化合物3Nを21.7g得た。LC-MSAPPI、positive:[M]4561H-NMRCDCl3、300MHz:δppm=0.66~0.986H、m、1.00~2.2234H、m、7.13~7.506H、m、7.80~7.982H、m.次いで、化合物3Nを用いて下記のとおり化合物4Nを合成した。式中、は、それを付した炭素原子が不斉炭素原子であることを示す。撹拌器を備えた500mLの四つ口フラスコに化合物3N21.7g、クロロホルム261.1g及びトリフルオロ酢酸44gを入れ、フラスコ内の気体をアルゴンで置換した。四つ口フラスコ全体を遮光し、臭素19.0gとクロロホルム65.3gの混合物を室温で、15分かけてフラスコ内に滴下し、その後35°Cまで昇温した。35°Cで7時間、保温しながら撹拌した後、15°C以下に冷却した。反応液に10質量亜硫酸ナトリウム水溶液109g入れ、室温まで昇温した。反応液から水層を分離し、有機層を水、5質量炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順に洗浄した。得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過し、ろ液を濃縮することにより、粗生成物を得た。この粗生成物をエタノールとヘキサンの混合液で、2回再結晶を行った。得られた固体をヘキサンに溶解させ、シリカゲルカラム展開溶媒ヘキサンを用いて精製し、得られたヘキサン溶液に活性炭2.1gを加え、45°Cで1時間、保温しながら撹拌した。得られた混合物を室温まで冷却し、セライトをプレコートしたろ過器によりろ過し、残渣をヘキサンで複数回洗浄し、複数回分のろ液を合わせて一部濃縮しヘキサン溶液を得た。このヘキサン溶液にエタノールを加えて、再結晶することにより、化合物4Nを白色固体として18.8g得た。LC-MSESI、negative:[MCl]-6481H-NMRCDCl3、300MHz:δppm=0.66~0.986H、m、1.00~2.2034H、m、7.22~7.786H、m.1H-NMRの測定結果から、化合物4Nが立体化学の異なる異性体4a:4b:4c=51:39:10モル比の混合物であることを確認した。次いで、化合物4Nを用いて下記のとおり化合物5Nを合成した。式中、は、それを付した炭素原子が不斉炭素原子であることを示す。200mLの4つ口フラスコに、化合物4N9.70g、ビスピナコレートジボロン8.82g及び酢酸カリウム9.25gを入れた後、フラスコ内の気体を窒素で置換した。そこに、1,4-ジオキサン95mL、塩化パラジウムジフェニルホスフィノフェロセンジクロロメタン付加体PdCl2dppfCH2Cl20.195g及びジフェニルホスフィノフェロセンdppf0.131gを加え、105°Cで7時間攪拌した。得られた溶液を、室温まで冷却した後、セライトをプレコートした漏斗でろ過した。ろ液を減圧濃縮して得られた濃縮物をヘキサンに溶解させた後、活性炭を加えて40°Cで1時間加熱しながら攪拌した。得られた混合物を、室温まで冷却した後、セライトをプレコートした漏斗でろ過した。ろ液を減圧濃縮して得られた固体を、トルエンとアセトニトリルの混合溶媒で再結晶することで白色固体として化合物5Nを9.0g得た。LC-MSESI、positive、KCl添加:[MK]747<合成例17:化合物2Qの合成>下記化合物1Q3.00g、ビスピナコレートジボロン2.84g、酢酸カリウム2.99g、1,4-ジオキサン30g、塩化パラジウムジフェニルホスフィノフェロセンジクロロメタン付加体PdCl2dppfCH2Cl283mg及びジフェニルホスフィノフェロセンdppf56mgを、103°Cで6時間攪拌した。得られた溶液を、室温まで冷却した後、セライトを敷き詰めた漏斗でろ過した。ろ液を減圧濃縮して得られた濃縮物をヘキサンに溶解させた後、活性炭を加えて40°Cで1時間加熱しながら攪拌した。得られた混合物を、室温まで冷却した後、セライトを敷き詰めた漏斗でろ過した。濾液を減圧濃縮して得られた固体を、トルエンとアセトニトリルの混合溶媒で再結晶することで白色固体として化合物2Qを2.6g得た。<合成例18:化合物5Rの合成>まず、化合物1Rを用いて下記のとおり化合物2Rを合成した。撹拌器を備えた500mLの四つ口フラスコに化合物1R4.5g、エチレングリコール180gを入れ、フラスコ内の気体をアルゴンで置換した。そこに、ヒドラジン1水和物3.2gと水酸化カリウム4.3gを入れ、180°Cに昇温し、その温度で28時間保温しながら撹拌した。反応液を室温まで冷却し、水を入れたところ、固体が析出した。この固体をろ別回収した後、室温で減圧乾燥させることにより、化合物2Rを白色固体として3.9g得た。1H-NMRCDCl3、300MHz:δppm=1.35~1.724H、m、1.89~2.248H、m、7.10~7.466H、m、7.902H、d.次いで、化合物2Rを用いて下記のとおり化合物3Rを合成した。撹拌器を備えた100mLの四つ口フラスコ内の気体をアルゴンで置換し、化合物2R3.7g、クロロホルム45g及びトリフルオロ酢酸7.5mLを入れた。四つ口フラスコ全体を遮光し、臭素5.7gとクロロホルム11.2gの混合物を室温で入れた。室温で、2.5時間保温しながら撹拌し、10質量亜硫酸ナトリウム水20gを入れた。反応液から水層を分離し、有機層を、水、10質量リン酸水素2カリウム水、水の順で洗浄し、得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過し、ろ液を濃縮して粗生成物を得た。粗生成物をトルエンとメタノールの混合液で再結晶し、得た固体をクロロホルムに溶解させた後、シリカゲルカラム展開溶媒トルエン/ヘキサンを用いて精製した。得られた溶液を濃縮し、活性炭3gを加え、65°Cで0.5時間、保温しながら撹拌した。その温度で、セライトをプレコートしたろ過器によりろ過し、残渣をトルエンで複数回洗浄し、複数回分のろ液を合わせて一部濃縮しトルエン溶液を得た。このトルエン溶液にヘキサンを加えて再結晶することにより、化合物3Rを白色固体として3.6g得た。LC-MSESI、positive:[MH]4171H-NMRCDCl3、300MHz:δppm=1.38~1.764H、m、1.85~2.248H、m、7.332H、d、7.502H、s、7.702H、d.次いで、化合物3Rを用いて下記のとおり化合物4Rを合成した。撹拌器を備えた500mLの四つ口フラスコに、N-フェニル-N-4-tert-ブチル-2,6-ジメチルフェニルアミン24.3gと、トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム01.99gと、トリ-tert-ブチルホスホニウムテトラフルオロボレート2.53gと、ナトリウムtert-ブトキシド12.6gを入れ、フラスコ内の気体を窒素で置換した。そこに、トルエン100mLとtert-ブタノール9mLを入れた後、化合物3R18.2gとトルエン170mLの混合物を滴下した。その後、還流温度まで昇温し、2時間保温しながら撹拌した。反応液を室温まで冷却し、水を入れ、セライトをプレコートしたろ過器によりろ過し、残渣をトルエンで洗浄し、ろ液から水層を分離し、有機層を水で洗浄した。得られた有機層を濃縮し、粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラム展開溶媒ヘキサン/トルエン混合液を用いて精製した。得られた溶液を濃縮し、イソプロパノールとトルエンの混合液で再結晶し、白色固体として化合物4Rを30.6g得た。次いで、化合物4Rを用いて下記のとおり化合物5Rを合成した。撹拌器を備えた1Lの四つ口フラスコ内の気体を窒素で置換し、化合物4R30.1g、N,N-ジメチルホルムアミド36mL、クロロベンゼン360mL及びクロロホルム100mLを入れ、10°Cに冷却した。フラスコ全体を遮光し、10°CでN-ブロモスクシンイミドNBS14.2gを複数回に分けて入れた。その温度で4時間、保温しながら撹拌した後、水を入れ、次いで、飽和亜硫酸ナトリウム水溶液を臭素の色が消えるまで入れた。室温まで昇温後、得られた溶液に、クロロホルムを入れ、水層を分離した。有機層を水で2回洗浄し、濃縮することで粗生成物を得た。粗生成物をトルエンに溶解させ、65°Cに昇温し、シリカゲル75g及び活性炭2gを入れ30分保温しながら撹拌した。シリカゲルをプレコートしたろ過器によりろ過し、残渣をトルエンで洗浄した。得られたトルエン溶液にイソプロパノールを加えて再結晶した後、さらにトルエンとイソプロパノールの混合液で再結晶し、白色固体として化合物5Rを29.8g得た。LC-MSAPCI、positive:[MH]9191H-NMRCDCl3、300MHz:δppm=1.11~1.6322H、m、1.80~2.0820H、m、6.53~6.702H、br、6.75~6.904H、m、7.05~7.3610H、m、7.50~7.662H、br.<合成例19:化合物3Sの合成>反応容器をアルゴン雰囲気下とし、3-n-ヘキシルブロモベンゼン111.1g及びテトラヒドロフランを加え、均一溶液を調製し、-75°Cまで冷却した。該溶液に2.5Mのn-ブチルリチウム/ヘキサン溶液1-ブロモ-3,5-ジ-n-ヘキシルベンゼンに対して1モル当量176mLを-75°Cで1.5時間かけて滴下し、さらに該溶液を-70°Cで1.5時間撹拌した。次いで、2,7-ジブロモフルオレノン142gとテトラヒドロフランからなる溶液を-75°Cで1時間かけて滴下し、反応液を室温まで昇温させ4時間撹拌した。次いで、該溶液を0°Cまで冷却させ、アセトン、2mol塩酸水をゆっくり加え撹拌した後、室温まで昇温し、室温にて静置した。次いで、反応混合物をろ過し、ろ液を濃縮し、ヘキサン、水を加え撹拌し、静置して分液した有機層から水層を除去した。該有機層に飽和食塩水を加え撹拌し、静置して分液した有機層から水層を除去した。有機層に硫酸マグネシウムを加え撹拌し、ろ過して得られたろ液を濃縮した。次いで、ヘキサン及びジクロロメタンを展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、化合物1S162gを得た。反応容器をアルゴン気流下とし、化合物1S162g及びトリフルオロ酢酸245mLを加えた。該溶液にトリメチルシラン115mLを30分間かけて滴下し、室温にて一晩撹拌した。次いで、該反応液を10°Cに冷却し、ヘキサンと蒸留水を加え、1時間撹拌した後、静置して分液した水層を有機層から除去した。次いで、水を加え撹拌し、静置して分液した水層を有機層から除去した。該有機層に飽和食塩水を加え撹拌し、静置して分液した有機層から水層を除去した。有機層に硫酸マグネシウムを加え撹拌し、ろ過して得られたろ液を濃縮した。次いで、ヘキサン及びジクロロメタンを展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、濃縮して溶媒を除去した。次いで、メタノールで洗浄することにより、目的とする化合物2S138gを得た。反応容器をアルゴン気流下とし、化合物2S138g、1-ブロモオクタン75.4mL、メチルトリオクチルアンモニウムクロライド商品名:Aliquat登録商標336、アルドリッチ社製1.2g及び40水酸化カリウム60mLを加え、85°Cにて一晩撹拌した。次いで、該反応液を室温に冷却させた後、ジクロロメタンと蒸留水を加え、1時間撹拌した後、静置して分液した水層を有機層から除去した。次いで、水を加え撹拌し、静置して分液した水層を有機層から除去した。該有機層に飽和食塩水を加え撹拌し、静置して分液した有機層から水層を除去した。有機層に硫酸マグネシウムを加え撹拌し、ろ過して得られたろ液を濃縮した。次いで、ヘキサン及びジクロロメタンを展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、濃縮して溶媒を除去した。次いで、メタノールとジクロロメタンを用いた再沈殿を行うことにより、目的とする化合物3S145gを得た。重合体の製造<重合例1:重合体1の合成>不活性雰囲気下、化合物3C6.501g、8.48mmol、化合物2D4.425g、6.87mmol、化合物4F1.885g、1.72mmol、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム6.0mg及びトルエン203mLを混合し、105°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液28.5mLを滴下し、3時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸104.7mg、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム6.1mg及び20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液28.5mLを加え、さらに16時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水で2回、3質量酢酸水溶液で2回、水で2回洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体1高分子発光材料6.87gを得た。重合体1のポリスチレン換算の数平均分子量は9.3×104であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は2.1×105であった。重合体1は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位とを、50:40:10のモル比で有する共重合体であった。<重合例2:重合体2の合成>不活性雰囲気下、化合物3C13.554g、17.68mmol、下記式:で表される化合物F8BE:3.631g、6.85mmol、化合物2D12.571g、19.50mmol、化合物3G3.564g、4.82mmol、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム17.2mg及びトルエン581mLを混合し、105°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液86mLを滴下し、8時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸300mg及びジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム17.1mgを加え、さらに14.5時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水で2回、3質量酢酸水溶液で2回、水で2回洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体2高分子発光材料20gを得た。重合体2のポリスチレン換算の数平均分子量は8.1×104であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は2.5×105であった。重合体2は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位とを、36:14:40:10のモル比で有する共重合体であった。<重合例3:重合体3の合成>不活性雰囲気下、化合物3C13.380g、17.45mmol、化合物F8BE3.702g、6.98mmol、化合物2D16.121g、24.93mmol、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム17.5mg及びトルエン478mLを混合し、100°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液83.7gを滴下し、4.5時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸300mg及びジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム17.5mgを加え、さらに14時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水で2回、3質量酢酸水溶液で2回、水で2回洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体3高分子発光材料14.75gを得た。重合体3のポリスチレン換算の数平均分子量は6.1×104であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は2.1×105であった。重合体3は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位とを、36:14:50のモル比で有する共重合体であった。<重合例4:重合体4の合成>不活性雰囲気下、化合物4A2.218g、3.00mmol、下記式:で表される化合物1H:1.008g、3.02mmol、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム2.1mg及びトルエン75mLを混合し、105°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液10mLを滴下し、5.5時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸36.6mg、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム2.1mg及び20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液10mLを加え、さらに14時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水で2回、3質量酢酸水溶液で2回、水で2回洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体41.33gを得た。重合体4高分子化合物のポリスチレン換算の数平均分子量は1.4×105であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は3.2×105であった。重合体4は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式:で表される式1中のZに該当する構成単位と、下記式:で表される式1中のYに該当する構成単位とを、50:50のモル比で有し、式1で表される構成連鎖n=1のみからなる交互共重合体であった。<重合例5:重合体5の合成>不活性雰囲気下、化合物3B2.694g、2.97mmol、化合物1H1.008g、3.00mmol、フェニルボロン酸7.3mg、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム2.1mg及びトルエン71mLを混合し、105°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液10mLを滴下し、6.5時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸36.5mg、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム2.1mg及び20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液10mLを加え、さらに16.5時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水で2回、3質量酢酸水溶液で2回、水で2回洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体5高分子化合物2.13gを得た。重合体5のポリスチレン換算の数平均分子量は2.9×104であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は8.6×104であった。重合体5は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式:で表される式1中のZに該当する構成単位と、下記式:で表される式1中のYに該当する構成単位とを、50:50のモル比で有し、式1で表される構成連鎖n=1のみからなる交互共重合体であった。<重合例6:重合体6の合成>不活性雰囲気下、化合物3C2.300g、3.00mmol、化合物1H1.008g、3.00mmol、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム2.1mg及びトルエン71mLを混合し、105°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液10mLを滴下し、3.5時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸37.0mg、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム2.1mg及び20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液10mLを加え、さらに16時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水で2回、3質量酢酸水溶液で2回、水で2回洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体6高分子化合物1.50gを得た。重合体6のポリスチレン換算の数平均分子量は1.3×105であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は3.6×105であった。重合体6は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式:で表される式1中のZに該当する構成単位と、下記式:で表される式1中のYに該当する構成単位とを、50:50のモル比で有し、式1で表される構成連鎖n=1のみからなる交互共重合体であった。<重合例7:重合体7の合成>不活性雰囲気下、化合物3B1.785g、1.97mmol、化合物1E0.720g、2.00mmol、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム1.4mg及びトルエン47mLを混合し、105°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液7mLを滴下し、4時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸24.4mg、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム1.3mg及び20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液7mLを加え、さらに19時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水で2回、3質量酢酸水溶液で2回、水で2回洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体7高分子化合物1.41gを得た。重合体7のポリスチレン換算の数平均分子量は6.1×104であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は1.5×105であった。重合体7は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式:で表される式1中のZに該当する構成単位と、下記式:で表される式1中のYに該当する構成単位とを、50:50のモル比で有し、式1で表される構成連鎖n=1のみからなる交互共重合体であった。<重合例8:重合体8の合成>不活性雰囲気下、化合物3B1.805g、1.99mmol、下記式:で表される化合物1J1.024g、2.00mmol、酢酸パラジウム0.5mg、トリストリ-o-メトキシフェニルホスフィン2.8mg及びトルエン60mLを混合し、105°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液7mLを滴下し、3時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸24.4mg、酢酸パラジウム0.5mg、トリストリ-o-メトキシフェニルホスフィン2.8mg及び20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液7mLを加え、さらに18.5時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水で2回、3質量酢酸水溶液で2回、水で2回洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体8高分子化合物0.87gを得た。重合体8のポリスチレン換算の数平均分子量は5.6×104であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は3.1×105であった。重合体8は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式:で表される式1中のZに該当する構成単位と、下記式:で表される式1中のY2に該当する構成単位を含む構造とを、50:50のモル比で有し、式1で表される構成連鎖n=2のみからなる交互共重合体であった。<重合例9:重合体9の合成>不活性雰囲気下、化合物3B2.688g、2.96mmol、下記式:で表される化合物1K1.640g、1.80mmol、下記式:で表される化合物F8BR:0.411g、0.75mmol、下記式:で表される化合物1L0.238g、0.45mmol、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム2.1mg及びトルエン62mLを混合し、105°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液10mLを滴下し、3時間20分還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸36.8mg、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム2.1mg及び20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液10mLを加え、さらに16時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水で2回、3質量酢酸水溶液で2回、水で2回洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体93.12gを得た。重合体9のポリスチレン換算の数平均分子量は8.0×104であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は2.6×105であった。重合体9は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位とを、50:30:12.5:7.5のモル比で有する共重合体であった。<重合例10:重合実施例1となる重合体10の合成>不活性雰囲気下、化合物3C1.803g、2.35mmol、化合物3G0.133g、0.18mmol、化合物4F0.329g、0.30mmol、F8BR0.329g、0.60mmol、化合物2D0.851g、1.32mmol、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム2.1mg及びトルエン53mLを混合し、105°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液10mLを滴下し、2.5時間還流させた。次いで、化合物3C0.471g、0.61mmol及び化合物1H0.202g、0.60mmolを加え、2.5時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸36.5mg、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム2.2mg及び20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液10mLを加え、さらに16.5時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水で2回、3質量酢酸水溶液で2回、水で2回洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体10ブロック型共重合体2.49gを得た。重合体10のポリスチレン換算の数平均分子量は9.3×104であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は2.5×105であった。重合体10は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式:で表される式1中のZに該当する構成単位10Aと、下記式:で表される構成単位10Bと、下記式:で表される構成単位10Cと、下記式:で表される構成単位10Dと、下記式:で表される構成単位10Eと、下記式:で表される式1中のYに該当する構成単位10Fとを、50:3:5:10:22:10のモル比で有し、構成単位10A、構成単位10B、構成単位10C、構成単位10D及び構成単位10Eの5種類の構成単位からなるブロック10Xと、構成単位10A及び構成単位10Fの2種類の構成単位からなるブロック10Yとを有し、ブロック10Yは式1で表される構成連鎖n=1のみからなる、ブロック型共重合体であった。<重合例11:重合実施例2となる重合体11の合成>不活性雰囲気下、化合物3C1.803g、2.35mmol、化合物3G0.133g、0.18mmol、化合物4F0.329g、0.30mmol、F8BR0.329g、0.60mmol、化合物2D0.851g、1.32mmolジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム2.0mg及びトルエン53mLを混合し、105°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液10mLを滴下し、2.5時間還流させた。次いで、化合物3B0.558g、0.61mmol及び化合物1H0.201g、0.60mmolを加え、2.5時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸36.6mg、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム2.2mg及び20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液10mLを加え、さらに16.5時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水で2回、3質量酢酸水溶液で2回、水で2回洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体11ブロック型共重合体2.13gを得た。重合体11のポリスチレン換算の数平均分子量は9.7×104であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は3.2×105であった。重合体11は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式:で表される構成単位11Aと、下記式:で表される式1中のZに該当する構成単位11Bと、下記式:で表される構成単位11Cと、下記式:で表される構成単位11Dと、下記式:で表される構成単位11Eと、下記式:で表される構成単位11Fと、下記式:で表される式1中のYに該当する構成単位11Gとを、40:10:3:5:10:22:10のモル比で有し、構成単位11A、構成単位11C、構成単位11D、構成単位11E及び構成単位11Fの5種類の構成単位からなるブロック11Xと、構成単位11B及び構成単位11Gの2種類の構成単位からなるブロック11Yとを有し、ブロック11Yは式1で表される構成連鎖n=1のみからなる、ブロック型共重合体であった。<重合例12:重合体12の合成>不活性雰囲気下、化合物3C2.2749g、2.97mmol、化合物F8BR0.3290g、0.60mmol、化合物2D1.2375g、1.92mmol、化合物3G0.1330g、0.18mmol、化合物4F0.3295g、0.30mmol、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム2.1mg及びトルエン76mLを混合し、105°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液10mLを滴下し、2時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸37mg、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム2.1mg、トルエン6mL及び20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液10mlを加え、さらに14.5時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、有機層を、水で2回、3質量酢酸水溶液で2回、水で2回洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体122.42gを得た。重合体12のポリスチレン換算の数平均分子量は1.0×105であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は2.9×105であった。重合体12は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位とを、50:10:32:3:5のモル比で有する共重合体であった。<重合例13:重合体13の合成>不活性雰囲気下、化合物3P1.1969g、1.98mmol、化合物3S1.0737g、1.80mmol、化合物4F0.2197g、0.20mmol、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム1.4mg、及び、トルエン47mLを混合し、105°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液6.6mLを滴下し、3.5時間還流させた。反応後、そこに、フェニルホウ酸24mg、20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液6.6mL、及び、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム1.4mgを加え、16.5時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。冷却後、反応液を、水で2回、3質量酢酸水溶液で2回、水で2回洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下し、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体13を1.12g得た。重合体13のポリスチレン換算の数平均分子量は7.5×104であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は2.7×105であった。重合体13は、仕込み原料から求めた理論値では、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位とが、50:45:5のモル比で構成されてなる共重合体であった。<重合例14:重合体14の合成>不活性雰囲気下、化合物3B8.888g、9.80mmol、化合物2B0.813g、1.00mmol、化合物1H3.024g、9.00mmol、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム7.0mg及びトルエン202mLを混合し、100°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液33mLを滴下し、6時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸122mg、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム7.0mg及び20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液33mLを加え、さらに12時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水129mLで2回、3質量酢酸水溶液129mLで2回、水129mLで2回洗浄し、得られた溶液をメタノール1560mLに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン320mLに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール1560mLに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体14高分子化合物6.4gを得た。重合体14のポリスチレン換算の数平均分子量は6.9×104であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は2.1×105であった。重合体14は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式:で表される式1中のZに該当する構成単位と、下記式:で表される式1中のYに該当する構成単位とを、55/45のモル比で有する共重合体であった。この共重合体は、上記の[重合シミュレーション]を用いた場合の重合条件9に該当し、共重合体中に含まれる式1で表される構成連鎖n=1、m’=9.9を含む重合体であった。<重合例15:重合体15の合成>不活性雰囲気下、化合物4I1.725g、2.55mmol、化合物1H0.8401g、2.50mmol、ジクロロビストリス-o-メトキシフェニルホスフィンパラジウム2.2mg及びトルエン39mLを混合し、100°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液8.3mLを滴下し、2.5時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸30.5mg、ジクロロビストリス-o-メトキシフェニルホスフィンパラジウム2.2mg及び20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液8.3mLを加え、さらに12時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水18mLで2回、3質量酢酸水溶液18mLで2回、水18mLで2回洗浄し、得られた溶液をメタノール253mLに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン52mLに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール253mLに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体15高分子化合物6.4gを得た。重合体15のポリスチレン換算の数平均分子量は1.2×105であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は4.8×105であった。重合体15は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式:で表される式1中のZに該当する構成単位と、下記式:で表される式1中のYに該当する構成単位とを、50/50のモル比で有し、式1で表される構成連鎖n=1のみからなる交互共重合体であった。<重合例16:重合体16の合成>不活性雰囲気下、化合物4I1.999g、3.0mmol、化合物1T1.345g、3.0mmol、ジクロロビストリス-o-メトキシフェニルホスフィンパラジウム2.7mg及びトルエン55mLを混合し、100°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液10mLを滴下し、6.5時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸37mg、ジクロロビストリス-o-メトキシフェニルホスフィンパラジウム2.7mg及び20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液10mLを加え、さらに12時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水30mLで2回、3質量酢酸水溶液30mLで2回、水30mLで2回洗浄し、得られた溶液をメタノール360mLに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン123mLに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール360mLに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体16高分子化合物1.37gを得た。重合体16のポリスチレン換算の数平均分子量は9.4×104であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は2.6×105であった。重合体16は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式:で表される式1中のZに該当する構成単位と、下記式:で表される式1中のYに該当する構成単位とを、50/50のモル比で有し、式1で表される構成連鎖n=1のみからなる交互共重合体であった。<重合例17:重合体17の合成>不活性雰囲気下、化合物3P1.782g、2.95mmol、化合物1T1.345g、3.00mmol、ジクロロビストリス-o-メトキシフェニルホスフィンパラジウム2.7mg及びトルエン50mLを混合し、100°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液10mLを滴下し、3.0時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸37mg、ジクロロビストリス-o-メトキシフェニルホスフィンパラジウム2.7mg及び20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液10mLを加え、さらに12時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水27mLで2回、3質量酢酸水溶液27mLで2回、水27mLで2回洗浄し、得られた溶液をメタノール323mLに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン199mLに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール323mLに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体17高分子化合物1.60gを得た。重合体17のポリスチレン換算の数平均分子量は4.4×104であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は2.9×105であった。重合体17は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式:で表される式1中のZに該当する構成単位と、下記式:で表される式1中のYに該当する構成単位とを、50/50のモル比で有し、式1で表される構成連鎖n=1のみからなる交互共重合体であった。<重合例18:重合体18の合成>不活性雰囲気下、化合物6M0.8175g、1.0mmol、化合物1T0.4706g、1.0mmol、ジクロロビストリス-o-メトキシフェニルホスフィンパラジウム0.9mg及びトルエン36mLを混合し、100°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液3.5mLを滴下し、6時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸13mg、ジクロロビストリス-o-メトキシフェニルホスフィンパラジウム0.9mg及び20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液3.5mLを加え、さらに12時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水12mLで2回、3質量酢酸水溶液12mLで2回、水12mLで2回洗浄し、得られた溶液をメタノール149mLに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン102mLに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール149mLに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体18高分子化合物0.49gを得た。重合体18のポリスチレン換算の数平均分子量は4.5×104であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は2.2×105であった。重合体18は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式:で表される式1中のY及びZに該当する構成単位を含む構造と、下記式:で表される式1中のYに該当する構成単位とを、50/50のモル比で有し、式1で表される構成連鎖n=1のみからなる交互共重合体であった。<重合例19>不活性雰囲気下、化合物3P0.7300g、1.21mmol、化合物5N0.8858g、1.25mmol、化合物1T1.1206g、2.50mmol、ジクロロビストリス-o-メトキシフェニルホスフィンパラジウム2.2mg及びトルエン45mLを混合し、100°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液8.3mLを滴下し、4時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸31mg、ジクロロビストリス-o-メトキシフェニルホスフィンパラジウム2.2mg及び20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液8.3mLを加え、さらに20時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水24mLで2回、3質量酢酸水溶液24mLで2回、水24mLで2回洗浄し、得られた溶液をメタノール292mLに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン120mLに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール292mLに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体19高分子化合物1.25gを得た。重合体19のポリスチレン換算の数平均分子量は7.0×104であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は8.0×105であった。重合体19は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式:で表される式1中のZに該当する構成単位と、下記式:で表される式1中のZに該当する構成単位と、下記式:で表される式1中のYに該当する構成単位とを、25/25/50のモル比で有し、式1で表される構成連鎖n=1のみからなる共重合体であった。<重合例20:重合体20の合成>不活性雰囲気下、化合物2Q1.3419g、1.960mmol、化合物4I0.3383g、0.500mmol、化合物1T1.1206g、2.50mmol、ジクロロビストリス-o-メトキシフェニルホスフィンパラジウム2.2mg及びトルエン46mLを混合し、100°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液8.3mLを滴下し、4時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸31mg、ジクロロビストリス-o-メトキシフェニルホスフィンパラジウム2.2mg及び20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液8.3mLを加え、さらに20時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水25mLで2回、3質量酢酸水溶液25mLで2回、水25mLで2回洗浄し、得られた溶液をメタノール303mLに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン124mLに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール673mLに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体20高分子化合物1.36gを得た。重合体20のポリスチレン換算の数平均分子量は7.5×104であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は3.0×105であった。重合体20は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式:で表される式1中のZに該当する構成単位と、下記式:で表される式1中のZに該当する構成単位と、下記式:で表される式1中のYに該当する構成単位とを、40/10/50のモル比で有し、式1で表される構成連鎖n=1のみからなる共重合体であった。<重合例21:重合体21の合成>不活性雰囲気下、化合物3P0.7330g、1.213mmol、化合物4I0.8457g、1.250mmol、化合物1T1.1206g、2.50mmol、ジクロロビストリス-o-メトキシフェニルホスフィンパラジウム2.2mg及びトルエン44mLを混合し、100°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液8.3mLを滴下し、5時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸31mg、ジクロロビストリス-o-メトキシフェニルホスフィンパラジウム2.2mg及び20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液8.3mLを加え、さらに20時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水24mLで2回、3質量酢酸水溶液24mLで2回、水24mLで2回洗浄し、得られた溶液をメタノール285mLに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン117mLに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール380mLに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体21高分子化合物1.14gを得た。重合体21のポリスチレン換算の数平均分子量は8.0×104であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は2.6×105であった。重合体21は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式:で表される式1中のZに該当する構成単位と、下記式:で表される式1中のZに該当する構成単位と、下記式:で表される式1中のYに該当する構成単位とを、25/25/50のモル比で有し、式1で表される構成連鎖n=1のみからなる共重合体であった。<重合例22:重合体22の合成>不活性雰囲気下、化合物3P4.9955g、8.264mmol、化合物4I1.4208g、2.100mmol、化合物1T4.7064g、10.500mmol、ジクロロビストリス-o-メトキシフェニルホスフィンパラジウム9.3mg及びトルエン177mLを混合し、100°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液35mLを滴下し、4時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸128mg、ジクロロビストリス-o-メトキシフェニルホスフィンパラジウム9.3mg及び20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液35mLを加え、さらに20時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水96mLで2回、3質量酢酸水溶液96mLで2回、水96mLで2回洗浄し、得られた溶液をメタノール1158mLに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン237mLに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール1158mLに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体22高分子化合物5.0gを得た。重合体22のポリスチレン換算の数平均分子量は7.0×104であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は2.6×105であった。重合体22は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式:で表される式1中のZに該当する構成単位と、下記式:で表される式1中のZに該当する構成単位と、下記式:で表される式1中のYに該当する構成単位とを、40/10/50のモル比で有し、式1で表される構成連鎖n=1のみからなる共重合体であった。<重合例23:重合体23の合成>不活性雰囲気下、化合物3B2.133g、2.352mmol、化合物F8BR0.085g、0.150mmol、化合物1K1.640g、1.800mmol、化合物1L0.238g、0.450mmol、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム2.1mg及びトルエン53mLを混合し、100°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液10mLを滴下し、2時間還流させた。次いで、化合物3B0.558g、0.615mmol、化合物1H0.202g、0.600mmolを加え、2時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸37mg、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム2.1mg及び20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液10mLを加え、さらに12時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水39mLで2回、3質量酢酸水溶液39mLで2回、水39mLで2回洗浄し、得られた溶液をメタノール466mLに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン94mLに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール466mLに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体23ブロック型共重合体3.17gを得た。重合体23のポリスチレン換算の数平均分子量は5.9×104であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は1.8×105であった。重合体23は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式:で表される式1中のZに該当する構成単位23Aと、下記式:で表される構成単位23Bと、下記式:で表される構成単位23Cと、下記式:で表される構成単位23Dと、下記式:で表される式1中のYに該当する構成単位23Eとを、50/30/7.5/2.5/10のモル比で有し、構成単位23A、構成単位23B、構成単位23C、構成単位23Dの4種類の構成単位からなるブロック23Xと、構成単位23A及び構成単位23Eの2種類の構成単位からなるブロック23Yとを有し、ブロック23Yは式1で表される構成連鎖n=1のみからなる、ブロック型共重合体であった。<重合例24:重合体24の合成>不活性雰囲気下、化合物5N1.403g、1.98mmol、化合物3S1.002g、1.68mmol、化合物3G0.089g、0.12mmol、化合物4F0.220g、0.20mmol、ジクロロビストリス-o-メトキシフェニルホスフィンパラジウム1.8mg、及び、トルエン47mLを混合し、105°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液7.5mLを滴下し、2.5時間還流させた。反応後、そこに、フェニルホウ酸25mg、20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液7.5mL、及び、ジクロロビストリス-o-メトキシフェニルホスフィンパラジウム1.8mg、トルエン5mLを加え、17時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。冷却後、反応液を、水26mLで2回、3質量酢酸水溶液26mLで2回、水26mLで2回洗浄し、得られた溶液をメタノール311mLに滴下し、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール327mLに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体24を1.16g得た。重合体24のポリスチレン換算の数平均分子量は1.2×105であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は2.5×105であった。重合体24は、仕込み原料から求めた理論値では、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位とが、50:42:3:5のモル比で構成されてなる共重合体であった。<重合例25:重合体25の合成>不活性雰囲気下、化合物4I1.6661g、2.463mmol、化合物3S1.3122g、2.200mmol、化合物5R0.2302g、0.250mmol、化合物4F0.0549g、0.050mmol、ジクロロビストリス-o-メトキシフェニルホスフィンパラジウム0.7mg及びトルエン58mLを混合し、100°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液8.3mLを滴下し、8時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸31mg、ジクロロビストリス-o-メトキシフェニルホスフィンパラジウム2.2mg及び20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液8.3mLを加え、さらに12時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水32mLで2回、3質量酢酸水溶液32mLで2回、水32mLで2回洗浄し、得られた溶液をメタノール380mLに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン78mLに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール380mLに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体251.61gを得た。重合体25のポリスチレン換算の数平均分子量は8.6×104であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は2.4×105であった。重合体25は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位とを、50/44/5/1のモル比で有する共重合体であった。<重合例26:重合体26の合成>不活性雰囲気下、化合物4I1.3437g、1.986mmol、化合物3S1.0498g、1.760mmol、化合物5R0.2210g、0.240mmol、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム1.4mg及びトルエン46mLを混合し、100°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液6.7mLを滴下し、5時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸24mg、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム1.4mg及び20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液6.7mLを加え、さらに12時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水25mLで2回、3質量酢酸水溶液25mLで2回、水25mLで2回洗浄し、得られた溶液をメタノール303mLに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン75mLに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール303mLに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体261.08gを得た。重合体26のポリスチレン換算の数平均分子量は8.9×104であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は2.3×105であった。重合体26は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位とを、50/44/6のモル比で有する共重合体であった。<重合例27:重合体27の合成>不活性雰囲気下、化合物3C1.7988g、2.346mmol、化合物3B0.5440g、0.600mmol、化合物2D1.2375g、1.920mmol、化合物3G0.1330g、0.180mmol、化合物4F0.3294g、0.300mmol、化合物1H0.2016g、0.600mmol、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム2.1mg及びトルエン79mLを混合し、100°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液10mLを滴下し、7時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸37mg、ジクロロビストリス-o-メトキシフェニルホスフィンパラジウム2.1mg及び20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液10mLを加え、さらに12時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水43mLで2回、3質量酢酸水溶液43mLで2回、水43mLで2回洗浄し、得られた溶液をメタノール514mLに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン105mLに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール514mLに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体271.78gを得た。重合体27のポリスチレン換算の数平均分子量は7.7×104であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は2.3×105であった。重合体27は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位とを、40/10/32/3/5/10のモル比で有する共重合体であった。<重合例28:重合体28の合成>不活性雰囲気下、化合物3B1.796g、1.98mmol、化合物2B0.650g、0.80mmol、化合物1H0.403g、1.2mmol、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム1.4mg及びトルエン47mLを混合し、100°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液6.6mLを滴下し、5時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸24.4mg、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム1.4mg及び20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液6.6mLを加え、さらに20時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水26mLで2回、3質量酢酸水溶液26mLで2回、水26mLで2回洗浄し、得られた溶液をメタノール311mLに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン63mLに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール311mLに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体281.74gを得た。重合体28のポリスチレン換算の数平均分子量は1.1×105であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は3.7×105であった。重合体28は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位とを、70/30のモル比で有する共重合体であった。この共重合体は、上記の[重合シミュレーション]を用いた場合の重合条件6に該当し、共重合体中に含まれる式1で表される構成連鎖n=1、m’=2.95を含む共重合体であった。<重合例29:重合体29の合成>不活性雰囲気下、化合物3B1.796g、1.98mmol、化合物2B0.9754g、1.20mmol、化合物1H0.2688g、0.80mmol、ジクロロビストリス-o-メトキシフェニルホスフィンパラジウム1.8mg及びトルエン38mLを混合し、100°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液6.7mLを滴下し、35時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸24.4mg、ジクロロビストリス-o-メトキシフェニルホスフィンパラジウム1.8mg及び20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液6.7mLを加え、さらに12時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水31mLで2回、3質量酢酸水溶液31mLで2回、水31mLで2回洗浄し、得られた溶液をメタノール376mLに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン77mLに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール376mLに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体291.67gを得た。重合体29のポリスチレン換算の数平均分子量は6.1×104であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は2.4×105であった。重合体29は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位とを、80/20のモル比で有する共重合体であった。この共重合体は、上記の[重合シミュレーション]を用いた場合の重合条件4に該当し、共重合体中に含まれる式1で表される構成連鎖n=1、m’=2.15を含む共重合体である。<重合例30:重合体30の合成>不活性雰囲気下、化合物3B1.796g、1.98mmol、化合物2B1.301g、1.60mmol、化合物1H0.131g、0.40mmol、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム1.4mg及びトルエン47mLを混合し、100°Cに加熱した。反応液に20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液6.6mLを滴下し、5時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸24.4mg、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム1.4mg及び20質量水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液6.6mLを加え、さらに20時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80°Cで2時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水26mLで2回、3質量酢酸水溶液26mLで2回、水26mLで2回洗浄し、得られた溶液をメタノール311mLに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン63mLに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール311mLに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体302.07gを得た。重合体30のポリスチレン換算の数平均分子量は1.1×105であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は3.4×105であった。重合体30は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式:で表される構成単位と、下記式:で表される構成単位とを、90/10のモル比で有する共重合体であった。この共重合体は、上記の[重合シミュレーション]を用いた場合の重合条件2に該当し、共重合体中に含まれる式1で表される構成連鎖n=1、m’=1.75を含む共重合体である。有機EL素子の製造と評価<実施例1:有機EL素子1の製造と評価>スパッタ法により45nmの厚みでITO膜を付けたガラス基板に、ポリチオフェンスルホン酸系の正孔注入剤であるAQ-1200Plextronics社製をスピンコート法により50nmの厚みで成膜し、ホットプレート上で170°Cで15分間乾燥し、有機EL用基材を作製した。次に、キシレン溶媒中に0.7質量の濃度で溶解させた正孔輸送性重合体重合体9の溶液をスピンコートして、約20nmの厚みに成膜した。その後、窒素雰囲気下においてホットプレート上で180°C、60分間熱処理した。次に、キシレン溶媒中に1.2質量の濃度で溶解させた重合体1の溶液と、キシレン溶媒中に1.2質量の濃度で溶解させた重合体2の溶液と、キシレン溶媒中に1.2質量の濃度で溶解させた重合体5の溶液とを質量比で、重合体1:重合体2:重合体5=50:30:20となるように混合して、組成物1を調製した。組成物1をスピンコート法により1200rpmの回転速度で上記有機EL用基材上に成膜した。厚さは約60nmであった。これを窒素雰囲気下130°Cで10分間乾燥した後、陰極としてフッ化ナトリウムを約3nm、次いでアルミニウムを約80nm蒸着して、有機EL素子1を作製した。なお、真空度が、1×10-4Pa以下に到達した後に金属の蒸着を開始した。得られた有機EL素子1に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体1に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.9Vから発光が開始し、最大発光効率は9.29cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子1を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度は136時間後に半減した。<実施例2:有機EL素子2の製造と評価>実施例1における組成物1に代えて、キシレン溶媒中に1.2質量の濃度で溶解させた重合体1の溶液と、キシレン溶媒中に1.2質量の濃度で溶解させた重合体2の溶液と、キシレン溶媒中に1.2質量の濃度で溶解させた重合体4の溶液とを質量比で、重合体1:重合体2:重合体4=50:30:20となるように混合して、組成物2を調製した以外は、実施例1と同様にして、有機EL素子2を作製した。得られた有機EL素子2に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体1に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.9Vから発光が開始し、最大発光効率は8.23cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子2を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度は109時間後に半減した。<実施例3:有機EL素子3の製造と評価>実施例1における組成物1に代えて、キシレン溶媒中に1.2質量の濃度で溶解させた重合体1の溶液と、キシレン溶媒中に1.2質量の濃度で溶解させた重合体2の溶液と、キシレン溶媒中に1.2質量の濃度で溶解させた重合体6の溶液とを質量比で、重合体1:重合体2:重合体6=50:30:20となるように混合して、組成物3を調製した以外は、実施例1と同様にして、有機EL素子3を作製した。得られた有機EL素子3に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体1に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.9Vから発光が開始し、最大発光効率は8.70cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子3を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度は123時間後に半減した。<実施例4:有機EL素子4の製造と評価>実施例1における組成物1に代えて、キシレン溶媒中に1.2質量の濃度で溶解させた重合体1の溶液と、キシレン溶媒中に1.2質量の濃度で溶解させた重合体2の溶液と、キシレン溶媒中に1.2質量の濃度で溶解させた重合体7の溶液とを質量比で、重合体1:重合体2:重合体7=50:30:20となるように混合して、組成物4を調製した以外は、実施例1と同様にして、有機EL素子4を作製した。得られた有機EL素子4に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体1に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.9Vから発光が開始し、最大発光効率は10.34cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子4を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度は100時間後に半減した。<実施例5:有機EL素子5の製造と評価>実施例1における組成物1に代えて、キシレン溶媒中に1.2質量の濃度で溶解させた重合体1の溶液と、キシレン溶媒中に1.2質量の濃度で溶解させた重合体2の溶液と、キシレン溶媒中に1.2質量の濃度で溶解させた重合体8の溶液とを質量比で、重合体1:重合体2:重合体8=50:30:20となるように混合して、組成物5を用いた以外は、実施例1と同様にして、有機EL素子5を作製した。得られた有機EL素子5に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体1に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.9Vから発光が開始し、最大発光効率は8.13cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子5を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度は137時間後に半減した。<実施例6:有機EL素子6の製造と評価>実施例1における組成物1に代えて、キシレン溶媒中に1.2質量の濃度で溶解させた重合体10の溶液を調製した以外は、実施例1と同様にして、有機EL素子6を作製した。得られた有機EL素子6に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体10中のブロック10Xに由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.9Vから発光が開始し、最大発光効率は11.45cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子6を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度は154時間後に半減した。<実施例7:有機EL素子7の製造と評価>実施例1における組成物1に代えて、キシレン溶媒中に1.2質量の濃度で溶解させた重合体11の溶液を調製した以外は、実施例1と同様にして、有機EL素子7を作製した。得られた有機EL素子7に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体11中のブロック11Xに由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.9Vから発光が開始し、最大発光効率は11.70cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子7を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度は192時間後に半減した。<比較例1:有機EL素子C1の製造と評価>実施例1における組成物1に代えて、キシレン溶媒中に1.2質量の濃度で溶解させた重合体1の溶液と、キシレン溶媒中に1.2質量の濃度で溶解させた重合体2の溶液と、キシレン溶媒中に1.2質量の濃度で溶解させた重合体3の溶液とを質量比で、重合体1:重合体2:重合体3=50:30:20となるように混合して、組成物6を用いた以外は、実施例1と同様にして、有機EL素子C1を作製した。得られた有機EL素子C1に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体1に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.9Vから発光が開始し、最大発光効率は8.68cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子C1を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度は74時間後に半減した。<比較例2:有機EL素子C2の製造と評価>実施例1における組成物1に代えて、キシレン溶媒中に1.2質量の濃度で溶解させた重合体12の溶液を調製した以外は、実施例1と同様にして、有機EL素子C2を作製した。得られた有機EL素子C2に電圧を印加したところ、この素子から重合体12に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.9Vから発光が開始し、最大発光効率は10.33cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子C2を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度は84時間後に半減した。上記の実施例1~7、並びに比較例1及び2の結果を表1に示す。<実施例8:有機EL素子8の製造と評価>実施例1における組成物1に代えて、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体1の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体2の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体14の溶液とを質量比で、重合体1:重合体2:重合体14=50:30:20となるように混合して、組成物8を調製した。組成物8をスピンコート法により1500rpmの回転速度で上記有機EL用基材上に成膜した。厚さは約60nmであった。これを窒素雰囲気下130°Cで10分間乾燥した後、陰極としてフッ化ナトリウムを約3nm、次いでアルミニウムを約80nm蒸着して、有機EL素子8を作製した。なお、真空度が、1×10-5Pa以下に到達した後に金属の蒸着を開始した。得られた有機EL素子8に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体1に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.6Vから発光が開始し、最大発光効率は9.35cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子8を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は105時間であった。<実施例9:有機EL素子9の製造と評価>実施例8における組成物8に代えて、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体1の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体2の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体15の溶液とを質量比で、重合体1:重合体2:重合体15=50:30:20となるように混合して組成物9を調製した以外は、実施例8と同様にして、有機EL素子8を作製した。得られた有機EL素子8に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体1に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.6Vから発光が開始し、最大発光効率は11.05cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子8を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は158時間であった。<実施例10:有機EL素子10の製造と評価>実施例8における組成物8に代えて、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体1の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体2の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体16の溶液とを質量比で、重合体1:重合体2:重合体16=50:30:20となるように混合して組成物10を調製した以外は、実施例8と同様にして、有機EL素子10を作製した。得られた有機EL素子10に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体1に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.7Vから発光が開始し、最大発光効率は9.41cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子10を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は124時間であった。<実施例11:有機EL素子11の製造と評価>実施例8における組成物8に代えて、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体1の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体2の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体17の溶液とを質量比で、重合体1:重合体2:重合体17=50:30:20となるように混合して組成物11を調製した以外は、実施例8と同様にして、有機EL素子11を作製した。得られた有機EL素子11に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体1に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は3.0Vから発光が開始し、最大発光効率は6.89cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子11を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は111時間であった。<実施例12:有機EL素子12の製造と評価>実施例8における組成物8に代えて、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体1の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体2の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体18の溶液とを質量比で、重合体1:重合体2:重合体18=50:30:20となるように混合して組成物12を調製した以外は、実施例8と同様にして、有機EL素子12を作製した。得られた有機EL素子12に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体1に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.8Vから発光が開始し、最大発光効率は7.06cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子12を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は101時間であった。<実施例13:有機EL素子13の製造と評価>実施例8における組成物8に代えて、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体1の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体2の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体19の溶液とを質量比で、重合体1:重合体2:重合体19=50:30:20となるように混合して組成物13を調製した以外は、実施例8と同様にして、有機EL素子13を作製した。得られた有機EL素子13に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体1に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.8Vから発光が開始し、最大発光効率は9.91cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子13を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は137時間であった。<実施例14:有機EL素子14の製造と評価>実施例8における組成物8に代えて、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体1の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体2の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体20の溶液とを質量比で、重合体1:重合体2:重合体20=50:30:20となるように混合して組成物14を調製した以外は、実施例8と同様にして、有機EL素子14を作製した。得られた有機EL素子14に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体1に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.6Vから発光が開始し、最大発光効率は10.71cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子14を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は124時間であった。<実施例15:有機EL素子15の製造と評価>実施例8における組成物8に代えて、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体1の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体2の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体21の溶液とを質量比で、重合体1:重合体2:重合体21=50:30:20となるように混合して組成物15を調製した以外は、実施例8と同様にして、有機EL素子15を作製した。得られた有機EL素子15に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体1に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.7Vから発光が開始し、最大発光効率は9.56cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子15を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は126時間であった。<実施例16:有機EL素子16の製造と評価>実施例8における組成物8に代えて、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体1の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体2の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体22の溶液とを質量比で、重合体1:重合体2:重合体22=50:30:20となるように混合して組成物16を調製した以外は、実施例8と同様にして、有機EL素子16を作製した。得られた有機EL素子16に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体1に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.8Vから発光が開始し、最大発光効率は9.16cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子16を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は103時間であった。<実施例17:有機EL素子17の製造と評価>実施例8における組成物8に代えて、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体1の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体2の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体3の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体5の溶液とを質量比で、重合体1:重合体2:重合体3:重合体5=50:30:19:1となるように混合して組成物17を調製した以外は、実施例8と同様にして、有機EL素子17を作製した。得られた有機EL素子17に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体1に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.6Vから発光が開始し、最大発光効率は11.51cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子17を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は79時間であった。<実施例18:有機EL素子18の製造と評価>実施例8における組成物8に代えて、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体1の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体2の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体3の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体5の溶液とを質量比で、重合体1:重合体2:重合体3:重合体5=50:30:18:2となるように混合して組成物18を調製した以外は、実施例8と同様にして、有機EL素子18を作製した。得られた有機EL素子18に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体1に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.6Vから発光が開始し、最大発光効率は11.42cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子18を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は105時間であった。<実施例19:有機EL素子19の製造と評価>実施例8における組成物8に代えて、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体1の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体2の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体3の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体5の溶液とを質量比で、重合体1:重合体2:重合体3:重合体5=50:30:15:5となるように混合して組成物19を調製した以外は、実施例8と同様にして、有機EL素子19を作製した。得られた有機EL素子19に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体1に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.6Vから発光が開始し、最大発光効率は10.70cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子19を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は115時間であった。<実施例20:有機EL素子20の製造と評価>実施例8における組成物8に代えて、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体1の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体2の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体3の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体5の溶液とを質量比で、重合体1:重合体2:重合体3:重合体5=50:30:10:10となるように混合して組成物20を調製した以外は、実施例8と同様にして、有機EL素子20を作製した。得られた有機EL素子20に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体1に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.7Vから発光が開始し、最大発光効率は10.59cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子20を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は138時間であった。<実施例21:有機EL素子21の製造と評価>正孔輸送性重合体として、重合体9に代えて重合体23を用い、さらに、実施例8における組成物8に代えて比較例1の組成物6重合体1:重合体2:重合体3=50:30:20を調製した以外は、実施例8と同様にして、有機EL素子21を作製した。得られた有機EL素子21に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体1に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.7Vから発光が開始し、最大発光効率は9.83cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子21を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は107時間であった。<実施例22:有機EL素子22の製造と評価>実施例8における組成物8に代えて、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体25の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体15の溶液とを質量比で、重合体25:重合体15=80:20となるように混合して組成物21を調製した以外は、実施例8と同様にして、有機EL素子22を作製した。得られた有機EL素子22に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体25に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.7Vから発光が開始し、最大発光効率は8.24cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子22を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は199時間であった。<実施例23:有機EL素子23の製造と評価>実施例8における組成物8に代えて、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体26の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体15の溶液とを質量比で、重合体26:重合体15=80:20となるように混合して組成物22を調製した以外は、実施例8と同様にして、有機EL素子23を作製した。得られた有機EL素子23に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体26に由来する445nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.7Vから発光が開始し、最大発光効率は6.29cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子23を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は86時間であった。<実施例24:有機EL素子24の製造と評価>実施例8における組成物8に代えて、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体13の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体15の溶液とを質量比で、重合体13:重合体15=90:10となるように混合して組成物24を調製した以外は、実施例8と同様にして、有機EL素子24を作製した。得られた有機EL素子24に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体13に由来する465nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.6Vから発光が開始し、最大発光効率は11.1cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子24を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は360時間であった。<実施例25:有機EL素子25の製造と評価>実施例8における組成物8に代えて、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体24の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体15の溶液とを質量比で、重合体24:重合体15=90:10となるように混合して組成物25を調製した以外は、実施例8と同様にして、有機EL素子25を作製した。得られた有機EL素子25に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体24に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.6Vから発光が開始し、最大発光効率は10.0cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子25を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は188時間であった。<比較例3:有機EL素子C3の製造と評価>実施例8における組成物8に代えて、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体27の溶液を調製した以外は、実施例8と同様にして、有機EL素子C3を作製した。得られた有機EL素子C3に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体27に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.7Vから発光が開始し、最大発光効率は7.45cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子C3を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は33時間であった。<比較例4:有機EL素子C4の製造と評価>実施例8における組成物8に代えて、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体1の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体2の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体28の溶液とを質量比で、重合体1:重合体2:重合体28=50:30:20となるように混合して組成物28を調製した以外は、実施例8と同様にして、有機EL素子C4を作製した。得られた有機EL素子C4に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体1に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.7Vから発光が開始し、最大発光効率は7.53cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子C4を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は58時間であった。<比較例5:有機EL素子C5の製造と評価>実施例8における組成物8に代えて、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体1の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体2の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体29の溶液とを質量比で、重合体1:重合体2:重合体29=50:30:20となるように混合して組成物29を調製した以外は、実施例8と同様にして、有機EL素子C5を作製した。得られた有機EL素子C5に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体1に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は3.0Vから発光が開始し、最大発光効率は6.02cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子C5を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は47時間であった。<比較例6:有機EL素子C6の製造と評価>実施例8における組成物8に代えて、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体1の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体2の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体30の溶液とを質量比で、重合体1:重合体2:重合体30=50:30:20となるように混合して組成物30を調製した以外は、実施例8と同様にして、有機EL素子C6を作製した。得られた有機EL素子C6に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体1に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.7Vから発光が開始し、最大発光効率は7.35cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子C6を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は56時間であった。<比較例7:有機EL素子C7の製造と評価>実施例8における組成物8に代えて、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体25の溶液を調製した以外は、実施例8と同様にして、有機EL素子C7を作製した。得られた有機EL素子C7に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体25に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.6Vから発光が開始し、最大発光効率は7.21cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子C7を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は78時間であった。<比較例8:有機EL素子C8の製造と評価>実施例8における組成物8に代えて、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体26の溶液を調製した以外は、実施例8と同様にして、有機EL素子C8を作製した。得られた有機EL素子C8に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体26に由来する445nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.6Vから発光が開始し、最大発光効率は5.25cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子C8を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は23時間であった。<比較例9:有機EL素子C9の製造と評価>実施例8における組成物8に代えて、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体13の溶液を調製した以外は、実施例8と同様にして、有機EL素子C9を作製した。得られた有機EL素子C9に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体13に由来する465nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.6Vから発光が開始し、最大発光効率は9.19cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子C9を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は153時間であった。<比較例10:有機EL素子C10の製造と評価>実施例8における組成物8に代えて、クロロベンゼン溶媒中に0.9質量の濃度で溶解させた重合体24の溶液を調製した以外は、実施例8と同様にして、有機EL素子C10を作製した。得られた有機EL素子C10に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体24に由来する460nmにピークを有するEL発光が得られた。該素子は2.6Vから発光が開始し、最大発光効率は9.46cd/Aであった。上記で得られた有機EL素子C10を初期輝度が5000cd/m2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は80時間であった。以下の比較例3~8の結果を表4に示す。実施例8~25の結果を、表2及び表3に示す。比較例3~10の結果を、表4に示す。"