"下記一般式1で示される化合物からなることを特徴とする光応答性界面活性剤。式中、Rは、炭素数4~8の直鎖状または分岐状のアルキル基である。Xは、水素またはメトキシ基である。EOはオキシエチレン基を示し、nはオキシエチレン基の平均付加モル数で、8≦n≦10である。Yは、水素またはメチル基である。請求項1に記載の光応答性界面活性剤を含むことを特徴とする化粧料。請求項2に記載の化粧料において、前記光応答性界面活性剤を0.01~10質量含むことを特徴とする化粧料。本発明は前記従来技術に鑑みなされたものであり、その解決すべき課題は、優れた界面活性能を有するものの光照射後は異性化を起こし、その能力が低下する光応答性界面活性剤を提供することにある。本発明者等が前記課題に鑑み鋭意研究した結果、桂皮酸を付与した誘導体は優れた界面活性能を有するものの、光照射後は異性化を起こし、その能力が低下する光応答性界面活性剤が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明にかかる光応答性界面活性剤は、下記一般式1で示される化合物からなることを特徴とする。式中、Rは、炭素数4~8の直鎖状または分岐状のアルキル基である。Xは、水素またはメトキシ基である。EOはオキシエチレン基を示し、nはオキシエチレン基の平均付加モル数で、8≦n≦10である。Yは、水素またはメチル基である。本発明にかかる化粧料は、前記光応答性界面活性剤を含むことを特徴とする。前記化粧料において、前記光応答性界面活性剤を0.01~10質量含むことが好適である。本発明にかかる光応答性界面活性剤は、桂皮酸を付与した誘導体からなるものであり、優れた界面活性能を有するものの光照射後は異性化を起こし、その能力が低下する界面活性剤を提供することができる。以下、本発明の実施の形態について詳しく説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。本発明にかかる光応答性界面活性剤は、一般式1で示される化合物である。一般式1中、Rは、炭素数4~8の直鎖状または分岐状のアルキル基である。Rとしては、n-ブチル、i-ブチル、s-ブチル、t-ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、ネオヘキシル、ヘプチル、イソペンチル、ネオペンチル、オクチル、イソオクチル、ネオオクチル基等が挙げられる。本発明において、Rは炭素数4のアルキル基であることが好適である。Rの炭素数が4未満では、界面活性能が低くなる。また、8を超えると、水への溶解性が低くなる。Xは、水素またはメトキシ基である。また、EOはオキシエチレン基を示し、nはオキシエチレン基の平均付加モル数で、8≦n≦10である。本発明において、nは8であることが好適である。nが8未満では、界面活性能が低くなる。また、10を超えると、使用感触べたつきが悪くなる傾向になる。また、Yは水素またはメチル基である。本発明にかかる光応答性界面活性剤は、太陽光が照射されると、化3に示されるように異性化を起こす。このような本発明の光応答性界面活性剤は、光照射前は優れた界面活性能を有し、安定性の向上や洗浄力の付与に寄与するが、光照射後は界面活性能が低下することから、まれに起こる肌荒れも起こりにくくなると考えられる。次に、本発明の光応答性界面活性剤の合成方法について、以下に示す化4を用いて詳述する。なお、ここでは、一般式1で示される化合物のXが水素の場合を例として説明を行っている。工程iにおいて、化合物aはp-クマル酸であり、公知の方法により合成することができる。化合物bは、p-クマル酸と反応溶媒の存在下でウィリアムソンエーテル反応によりp-クマル酸のO-H部位に官能基として導入される。その後、加水分解することにより、化合物cを得ることができる。すなわち、反応溶媒中で化合物a、化合物b、反応触媒を混合した後に還流させて、加水分解することにより、化合物cが得られる。なお、化合物bのRは、炭素数4~8の直鎖状または分岐状のアルキル基である。化合物bのMは、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられるが、好ましくは臭素が用いられる。この反応は、反応触媒として水酸化ナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の塩基性化合物を用いて行うことができる。反応溶媒としては、アセトニトリル、テトラヒドロフランTHF、ジオキサン、ジメチルホルムアミドDMF、アセトン等の有機溶媒が挙げられる。好ましくはアセトニトリルが用いられる。また、工程iでは、反応温度、反応時間は限定されないが、通常50~100°C、48~72時間程度で行われる。また、反応終了後、得られた化合物cから、未反応の化合物bおよび反応溶媒を減圧下で留去することが好ましい。留去の方法は、公知の方法を採用することができる。具体的な減圧蒸留装置としては、エバポレーター、薄膜蒸留装置、高度真空ポンプ等が挙げられる。上記工程iにより得られた化合物cから本発明の目的とする化合物gを得るために、次のii-Aまたはii-Bのいずれかの方法を用いることができる。これらのうちii-Bの方法が、室温で反応でき、反応時間も短いため、好適に用いることができる。まず、工程ii-Aについて説明する。工程iで得られた化合物cと化合物dであるオキサリルクロリドを反応させることにより、化合物eを得る。次に、化合物eと化合物fとを、ショッテンバウマン反応させることにより、化合物gを合成することができる。すなわち、反応溶媒中で化合物e、化合物fを撹拌後、還流することにより、化合物gが得られる。ここで、使用される反応溶媒は、テトラヒドロフランTHF、トルエン等の有機溶媒が挙げられる。また、工程ii-Aでは、反応温度、反応時間は限定されないが、通常50~150°C、48~96時間程度で行われる。次に、工程ii-Bについて説明する。工程iで得られた化合物cを、縮合剤を用いて、化合物fと縮合反応させることにより、化合物gを合成することができる。すなわち、反応溶媒中で化合物c、化合物f、縮合剤、反応触媒を撹拌し、溶媒留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーを行うことにより、化合物gが得られる。この縮合反応に用いる縮合剤としては、1-エチル-3-3-ジメチルアミノプロピルカルボジイミド塩酸塩等が挙げられる。また、反応溶媒としては、例えばピリジン、テトラヒドロフランTHF等を用いることができる。反応触媒としては、例えば、N,N-ジメチルアミノピリジン等を用いることができる。また、工程ii-Bでは、反応温度、反応時間は限定されないが、通常20~30°C、24~48時間程度で行われる。本発明の光応答性界面活性剤は、化粧料に好適に配合することができる。近年、化粧料に汎用されている界面活性剤は、漠然と悪いイメージを持たれる場合があり、肌に及ぼす影響を懸念している消費者も多い。しかし、本発明の光応答性界面活性剤は、容器から肌へと塗布する際、光照射により界面活性能が低下するため、そのようなイメージを持つ消費者にとっても、安心して使用することができる。本発明の光応答性界面活性剤を化粧料に配合する場合、光応答性界面活性剤の配合量は、特に限定されるものではないが、化粧料全量中0.01~10質量であることが好適である。また、0.1~5質量であることが特に好適である。光応答性界面活性剤の配合量が0.01質量未満では、安定性が悪くなる場合があり、また、10質量を超えると、使用感触に悪影響を及ぼす場合がある。化粧料に配合する場合、上記必須成分である光応答性界面活性剤に加えて、通常の化粧料に用いられるその他の任意成分を、本発明の効果を損なわない質的量的な範囲内で、配合することもできる。そのような任意成分としては、例えば、油分、ワックス、保湿剤、増粘剤、ゲル化剤、金属石鹸、水溶性高分子、油溶性高分子、薬剤、酸化防止剤、顔料、染料、パール剤、ラメ剤、有機無機粉末、香料等が挙げられる。また、化粧料の使用用途は、特に限定されるものではなく、例えば、クリーム、乳液、ローション、エッセンス等のスキンケア化粧料、へアクリーム、ヘアローション、整髪料等のヘアケア化粧料、サンスクリーン、ボディクリーム、ボディローション等のボディケア化粧料、口紅、マスカラ、アイライナー、ネールエナメル、ファンデーション等のメーキャップ化粧料等、種々の化粧料に利用することができる。本発明について、以下に実施例を挙げてさらに詳述するが、本発明はこれにより何ら限定されるものではない。以下の実施例で用いた光応答性界面活性剤以下、化合物1の構造、およびその合成方法について以下に示す。化合物1の合成方法アセトニトリル50mlにp-クマル酸1.64gを入れ溶解させ、1-ブロモブタン13.7g、炭酸カリウム13.8gを加えて80°Cで44時間還流した。吸引濾過により炭酸カリウムを除去し、エバポレーターにより反応液から未反応の1-ブロモブタン、アセトニトリルを除去した。アセトニトリル10mlと水酸化ナトリウム0.9g、水30mlを加え、80°C、24時間還流した。エバポレーターにより反応液からアセトニトリルを除去した。その後撹拌しながら20塩酸を20ml加え、反応液を吸引濾過、水洗を1回行った。ヘキサン/酢酸エチル溶液で再結晶を行い化6で示される化合物白色固体を1.02g収率46で得た。次に、オクタエチレングリコールモノメチルエーテル0.97gとテトラヒドロフラン14gを入れ、窒素雰囲気下にした。また、化6で示される化合物0.44g、N,N-ジメチルアミノピリジン0.29g、ジクロロメタン11gに溶解させた1-エチル-3-3-ジメチルアミノプロピルカルボジイミド塩酸塩0.43g、ピリジン0.37gを加えた。室温で24時間撹拌した。エバポレーターによりテトラヒドロフラン、ジクロロメタンを除去し、反応液を酢酸エチルと5塩酸水溶液で3回、炭酸水素ナトリウム水溶液で3回、水で1回洗浄した。エバポレーターにより酢酸エチルを除去した後、酢酸エチル:アセトン:メタノール=60:35:5の展開溶媒を用いてシリカゲルカラムクロマトグラフィーを行い、目的である化合物1を0.8g収率68で得た。反応生成物が化合物1であることは、1HNMRにより同定された。1HNMRスペクトル測定結果を図1に示す。なお、図1に記載の水素位置番号に対応した化学構造式を、化7に示す。また、化合物1について、質量分析イオン化法:ESIも行った。精密質量分析の結果、マススペクトルのナトリウム付加分子ピークm/z609MNaであり、理論値と一致していることから、化合物1が生成していることが明らかとなった。次に、化合物1の光異性化率について検討を行った。化合物1に90分間、UV光波長250~390nmを強度10mW/cm2で照射した前後での、光異性化率を求めた。UV光照射前およびUV光照射後の1HNMRスペクトル測定結果をそれぞれ、図2aおよび図2bに示す。なお、図2に記載の水素位置番号に対応した化学構造式を、化8に示す。図2におけるピークの積分強度比から、UV光照射による異性化率は、51であることが明らかとなった。次に、イオン交換水に、化合物1transまたは、UV光照射後の化合物1cisを溶解した水溶液を、表面張力計KRUumlSS社製K100協和界面科学社製CBVPZを用いて、測定温度25°Cで表面張力を測定した。なお、UV光波長250~390nmは、強度10mW/cm2で210分間照射された。化合物1transおよび、UV光照射後の化合物1cisについて、1×10-6~1×10-3mol/lの濃度範囲で表面張力を測定した結果を、図3に示す。また、図3より、臨界ミセル形成濃度における表面張力、すなわちγCMCを算出した結果を表1に示す。表1によれば、化合物1は、優れた表面張力低下剤であるが、光を照射することにより表面張力低下能が劣ることがわかる。したがって、化合物1は、優れた界面活性剤であるが、UV光照射による異性化により界面活性剤としての機能が低下することが示唆される。以下に、本発明の光応答性界面活性剤の配合処方例化粧料を挙げるが、本発明の技術範囲はこれらにより限定されるものではない。配合処方例1:乳液配合成分質量1流動パラフィン7.02スクワラン2.53化合物12.041,3-ブチレングリコール1.55ジプロピレングリコール1.56エタノール2.07カルボキシビニルポリマー0.28水酸化カリウム0.19エデト酸三ナトリウム0.0510フェノキシエタノール0.511香料0.112精製水残余配合処方例2:クリーム配合成分質量1流動パラフィン8.02水添ポリイソブテン3.03化合物13.04モノステアリン酸ソルビタン1.55セテアリルアルコール7.06ステアリン酸PEG-750.57グリセリン4.081,3-ブチレングリコール3.59ヒアルロン酸ナトリウム1.510L-アルギニン塩酸塩0.0211エデト酸三ナトリウム0.0512フェノキシエタノール0.413香料0.114精製水残余"