"下記一般式1で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。式中、J1は、-O-、-NR1-、-S-、-SO-、-SO2-、-POO-、-CO-、-COO-、-NR2CO-、-NR3COO-、-NR4CONR5-、-OCO-、-OCONR6-、-CONR7-、-NR8SO-、-NR9SO2-、-SONR10-、-SO2NR11-を表し、R1~R11は水素原子、アルキル基、アリール基を表す。Sp1は2価の連結基を表し、ハロゲン原子、置換基を有してもよい。但し、Sp1に紫外線吸収性基が直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。下記一般式2で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。式中、J2、J3は、一般式1中のJ1と同義であり、J2、J3は互いに同じであっても異なってもよい。Sp2、Sp3は一般式1中のSp1と同義であり、Sp2、Sp3は互いに同じであっても異なってもよいが、Sp2、Sp3の少くとも一方に、紫外線吸収性基が直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、Sp2、Sp3の少なくとも一方において、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。請求項1に記載の前記一般式1で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体。請求項2に記載の前記一般式2で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体。従って、本発明の目的は、塗布故障が少なく、生産性に優れ、且つ、透明性に優れたセルロースエステルフィルム、それを用いて作られる光学フィルム、偏光板、光学補償フィルム及び液晶表示装置を提供することにある。本発明の上記目的は以下の構成により達成される。1下記一般式1で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。式中、J1は、-O-、-NR1-、-S-、-SO-、-SO2-、-POO-、-CO-、-COO-、-NR2CO-、-NR3COO-、-NR4CONR5-、-OCO-、-OCONR6-、-CONR7-、-NR8SO-、-NR9SO2-、-SONR10-、-SO2NR11-を表し、R1~R11は水素原子、アルキル基、アリール基を表す。Sp1は2価の連結基を表し、ハロゲン原子、置換基を有してもよい。但し、Sp1に紫外線吸収性基が直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。2下記一般式2で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。式中、J2、J3は、一般式1中のJ1と同義であり、J2、J3は互いに同じであっても異なってもよい。Sp2、Sp3は一般式1中のSp1と同義であり、Sp2、Sp3は互いに同じであっても異なってもよいが、Sp2、Sp3の少くとも一方に、紫外線吸収性基が直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、Sp2、Sp3の少なくとも一方において、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。3前記1に記載の前記一般式1で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体。4前記2に記載の前記一般式2で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体。即ち、本発明者等は、従来、低分子の紫外線吸収剤しか使えなかったことによる前記問題点の解決に対し種々検討を重ねた結果、セルロースエステルに対して相溶性の優れた紫外線吸収性重合体を選択することにより、前記ブリードアウトによる性能低下や工程汚染、更には光学補償フィルムの配向乱れや光学性能低下、コストに対し著しい効果を発揮する紫外線吸収性重合体を開発するに至った。又、この重合体はブリードアウトばかりでなく、高温高湿下に於ける耐湿熱特性に対しても著しい効果を有することが判明し本発明に至った。本発明に係る上記以外の構成を下記に列記する。a下記一般式3で表される紫外線吸収性基を有する繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。式中、R12~R25は各々、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表す。また、R12~R25において、隣接するもの同士は、互いに結合して環を形成してもよい。一般式3で表される紫外線吸収性基はいずれかの部位で重合体主鎖と直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。b下記一般式4で表される紫外線吸収性基を有する繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。式中、R26、R27は各々炭素数1~10のアルキル基を表し、R28、R29、R30は各々アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基を表し、X、Yは各々電子吸引性基を表す。但し、R26~R30及びX、Yはハロゲン原子、置換基を有してもよく、また、これらは互いに連結して5または6員環を形成していても良い。但し、一般式4で表される紫外線吸収性基はいずれかの部位で重合体主鎖と直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。c下記一般式5で表される紫外線吸収性基を有する繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。式中、R66~R71は各々、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表す。X、Yは一般式4中のX、Yと同義である。但し、一般式5で表される紫外線吸収性基はいずれかの部位で重合体主鎖と直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。d下記一般式6で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。式中、R31、R32は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表し、lは0、1、2、3を、mは0、1、2、3、4を表す。lが2又は3のとき、R31同士は互いに同じでも異なっていてもよく、mが2、3又は4のとき、R32同士は互いに同じでも異なっていてもよい。J4は、-O-、-NR1-、-S-、-SO-、-SO2-、-POO-、-CO-、-COO-、-NR2CO-、-NR3COO-、-NR4CONR5-、-OCO-、-OCONR6-、-CONR7-、-NR8SO-、-NR9SO2-、-SONR10-、-SO2NR11-を表す。但し印は、で紫外線吸収性基に連結していることを示す。R1~R11は一般式1中のR1~R11と同義である。Sp4は一般式1のSp1と同義である。e下記一般式7で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。式中、R33、R34は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表し、sは0、1、2、3、4を、oは0、1、2、3を表す。sが2、3又は4のとき、R33同士は互いに同じでも異なっていてもよく、oが2又は3のとき、R34同士は互いに同じでも異なっていてもよい。J5は、-O-、-NR1-、-S-、-SO-、-SO2-、-POO-、-CO-、-COO-、-NR2CO-、-NR3COO-、-NR4CONR5-、-OCO-、-OCONR6-、-CONR7-、-NR8SO-、-NR9SO2-、-SONR10-、-SO2NR11-を表す。但し印は、で紫外線吸収性基に連結していることを示す。R1~R11は一般式1中のR1~R11と同義である。Sp5は一般式1のSp1と同義である。f下記一般式8及び9で表される化合物から誘導される共重合体である紫外線吸収性重合体を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。式中、R35~R39は、各々、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表し、Sp6は一般式1のSp1と同義である。qは0、1、2、3、4を、rは0、1、2、3を表す。qが2、3又は4のとき、R35同士は互いに同じでも異なっていてもよく、rが2又は3のとき、R36同士は互いに同じでも異なっていてもよい。gセルロースもしくはセルロース誘導体のヒドロキシル基のいずれかに紫外線吸収性基が直接、またはスペーサーを介して結合した変性セルロースを含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。hヘイズが0~0.5であることを特徴とする前記1、2、a~gの何れか1項に記載のセルロースエステルフィルム。i380nmにおける透過率が0~10であることを特徴とする前記1、2、a~hの何れか1項に記載のセルロースエステルフィルム。j紫外線吸収性重合体又は紫外線吸収性基が直接、またはスペーサーを介して結合した変性セルロースが、エチレン性不飽和モノマーとの共重合体であることを特徴とする前記1、2、a~iの何れか1項に記載のセルロースエステルフィルム。k光学フィルムが前記1、2、a~jの何れか1項に記載のセルロースエステルフィルムであることを特徴とする光学フィルム。lセルロースエステルがセルロースの低級脂肪酸エステルであることを特徴とする前記kに記載の光学フィルム。m第1の光学フィルム、偏光子、第2の光学フィルムを有する偏光板において、該第1の光学フィルム又は第2の光学フィルムが前記kまたはlに記載の光学フィルムであることを特徴とする偏光板。n前記mに記載の偏光板を用いることを特徴とする液晶表示装置。o前記1、2、a~jの何れか1項に記載のセルロースエステルフィルムを支持体として用いることを特徴とする光学補償フィルム。p光学異方性層にディスコティック化合物を含有することを特徴とする前記oに記載の光学補償フィルム。q光学異方性層に2軸性液晶化合物を含有することを特徴とする前記oに記載の光学補償フィルム。r光学異方性層に棒状液晶化合物を含有することを特徴とする前記oに記載の光学補償フィルム。本発明によるセルロースエステルフィルム、それを用いて作られる光学フィルム、偏光板、光学補償フィルム及び液晶表示装置は塗布故障が少なく、生産性に優れ、且つ、透明性に優れた効果を有する。以下、本発明についてさらに詳しく説明する。本発明の前記1~4の発明の紫外線吸収性重合体は、前記一般式1、2で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体であれば如何なるものでもよい。一般式1において、J1は-O-、-NR1-、-S-、-SO-、-SO2-、-POO-、-CO-、-COO-、-NR2CO-、-NR3COO-、-NR4CONR5-、-OCO-、-OCONR6-、-CONR7-、-NR8SO-、-NR9SO2-、-SONR10-、-SO2NR11-を表すが、好ましくは-O-、-S-、-COO-、-OCO-、-NR2CO-、-CONR7-が挙げられる。R1~R11は各々水素原子、アルキル基例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、t-ブチル基等、アリール基例えば、フェニル基、ナフチル基、p-トリル基、p-クロロフェニル基等を表す。なお、アルキル基、アリール基は置換されていても、未置換であってもよい。Sp1は2価の連結基を示し、特に限定はされないが、好ましくはアルキレン基、アリーレン基を含む2価の連結基が挙げられ、更に好ましくは、炭素数1~10のアルキレン基、炭素数4~10のアリーレン基である。これら2価の連結基はハロゲン原子、置換基を有していてもよい。前記置換基としては、アルキル基例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、t-ブチル基等、アリール基例えばフェニル基、ナフチル基、p-トリル基、p-クロロフェニル基等、アシル基例えばアセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基等、スルホニル基例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等、アルコキシ基例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基等、アリールオキシ基例えばフェノキシ基等、アルキルチオ基例えばメチルチオ基、エチルチオ基、n-ブチルチオ基等、アリールチオ基例えばフェニルチオ基等、アミノ基、アルキルアミノ基例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基等、アリールアミノ基例えばフェニルアミノ基等、アシルアミノ基例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等、ヒドロキシル基、シアノ基、カルバモイル基例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等、スルファモイル基例えばエチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等、スルホンアミド基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、スルホニルアミノ基例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等、ウレイド基例えば3-メチルウレイド基、3,3-ジメチルウレイド基、1,3-ジメチルウレイド基等、スルファモイルアミノ基ジメチルスルファモイルアミノ基等、アルコキシカルボニル基例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等、アリールオキシカルボニル基例えばフェノキシカルボニル基等、ニトロ基、イミド基例えばフタルイミド基等、ヘテロ環基例えば、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等が挙げられるが、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アシルアミノ基、カルバモイル基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基である。但し、Sp1に紫外線吸収性基が直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。ここで言うスペーサーとは、2価の連結基であれば如何なるものでもよいが、好ましくは置換または未置換のアルキレン基、置換または未置換のアリーレン基を含む2価の連結基、または、-O-、-NR4O-、-S-、-SO-、-SO2-、-POO-、-CO-、-COO-、-NR41CO-、-NR42COO-、-NR43CONR44-、-OCO-、-OCONR45-、-CONR46-の何れかと置換または未置換のアルキレン基、または置換または未置換のアリーレン基の組み合わせからなる2価の連結基が挙げられる。ここで、R41~R46は各々水素原子、ヒドロキシル基、アルキル基、アリール基を表す。アルキル基、アリール基は各々複数の置換基を有してもよく、置換基の例としては、一般式1中のSp1が取り得る置換基の例として挙げたもの等が挙げられる。本発明における紫外線吸収性基は、380nmにおける分光吸収が極めて大きく、更に420nm以上の可視光を殆ど吸収しない基を示し、この様な性質を有する基であれば如何なるものでもよいが、具体的には、下記一般式10~18で表される化合物から水素原子を一つ以上取り除いた紫外線吸収性基を挙げることができる。本発明の紫外線吸収性基は各々1または複数のハロゲン原子、置換基で置換されていてもよい。置換基の例としては、一般式1中のSp1の置換基の例として挙げたもの等が挙げられる。もちろん、一般式1、2で表される繰り返し単位、一般式3~5で表される紫外線吸収性基や一般式6、7で表される繰り返し単位中の紫外線吸収性基を有しても良い。一般式10~18において、R55~R65は水素原子、ハロゲン原子、置換基を表し、置換基の例としては、一般式1におけるSp1の置換基の例として挙げたもの等が挙げられるが、好ましくは、一般式12において、R55、R56は水素原子、アルキル基、一般式15において、R57、R58、R59は水素原子、アルキル基、アリール基、一般式17において、R60、R61はアルキル基を挙げることができる。また、一般式17及び18のR62~R65は好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基を挙げることができる。一般式15において、Xはメチレン、カルコゲン原子を表し、好ましくは硫黄原子である。一般式17、18において、EWG1~EWG4は電子吸引性基を表し、電子吸引性基の例としては、アシルアミノ基例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等、スルホニルアミノ基例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等、スルファモイルアミノ基例えばジメチルスルファモイルアミノ基等、カルバモイル基例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等、スルファモイル基例えばエチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等、アルコキシカルボニル基例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等、アリールオキシカルボニル基例えばフェノキシカルボニル基等、スルホニル基例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等、アシル基例えばアセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基等、ニトロ基、シアノ基等の置換基、及び、ハロゲン原子が挙げられ、好ましくはシアノ基、アシル基、スルホニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基が挙げられる。但し、一般式17のEWG1、EWG2及び一般式18のEWG3、EWG4は両者が共に電子吸引性基である必要はなく、どちらか一方が電子吸引性基であれば良い。さらに一般式17において、R60~R64、EWG1、EWG2、一般式18においてEWG3、EWG4、R65は互いに連結し5または6員環を形成していてもよい。一般式2において、J2、J3は、一般式1におけるJ1と同義であり、J2、J3は互いに同じであっても異なってもよい。Sp2、Sp3は一般式1中のSp1と同義であり、Sp2、Sp3は互いに同じであっても異なってもよい。Sp2、Sp3の少なくとも一方に紫外線吸収性基が直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、Sp2、Spの少なくとも一方が紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。Sp2、Sp3の連結基及び置換基の具体例は、一般式1のSp1に準ずる。紫外線吸収性基は一般式1で紫外線吸収性基として挙げたものと同じものを挙げることができ、同様にスペーサーも一般式1でスペーサーとして挙げたものをあげることができる。また、本発明の前記a、b、cの発明の紫外線吸収性重合体は、一般式3、4、5で表される紫外線吸収性基を有する繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体であれば如何なるものでもよい。一般式3において、R12~R25は各々、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有し、置換基の例としては、一般式1中のSp1の置換基の例として挙げたもの等が挙げられる。R12~R25はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。また、R12~R25において、隣接するもの同士は、互いに結合して環を形成してもよい。一般式3で表される紫外線吸収性基はいずれかの部位で重合体主鎖と直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。スペーサーは一般式1でスペーサーとして挙げたものをあげることができる。一般式4において、R26、R27は各々炭素数1~10のアルキル基を表し、R28、R29、R30は各々アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基を表し、X、Yは各々電子吸引性基を表す。電子吸引性基の例としては一般式17、18における、EWG1~EWG4の例として挙げたもの等が挙げられる。但し、R26~R30及びX、Yはハロゲン原子、置換基を有してもよく、置換基の例としては、一般式1における、Sp1が取り得る置換基の例として挙げたもの等が挙げられる。なお、R26~R30は、それぞれ同じでも異なっていてもよい。また、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基は、それぞれ置換基を有していても、未置換であってもよい。但し、R26~R30、X、Yは、互いに連結して5または6員環を形成していても良い。但し、一般式4で表される紫外線吸収性基はいずれかの部位で重合体主鎖と直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。紫外線吸収性基は一般式1で紫外線吸収性基として挙げたものと同じものを挙げることができ、同様にスペーサーも一般式1でスペーサーとして挙げたものをあげることができる。一般式5において、R66~R71は各々水素原子、ハロゲン原子、置換基を表し、好ましくは、R66~R70は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基が挙げられ、R71は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基が挙げられる。但し、R66~R70は互いに連結して5または6員環を形成していても良い。X、Yは一般式4中のX、Yと同義である。なお、R66~R70においては、隣接するもの同士は、互いに結合して環を形成してもよい。また一般式5で表される紫外線吸収性基において、X,Yとは互いに結合して環を形成することはない。但し、一般式5で表される紫外線吸収性基はいずれかの部位で重合体主鎖と直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。紫外線吸収性基は一般式1で紫外線吸収性基として挙げたものと同じものを挙げることができ、同様にスペーサーも一般式1でスペーサーとして挙げたものをあげることができる。また、前記d、eの発明の紫外線吸収性重合体は、前記一般式6、7で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体であれば如何なるものでもよい。なお、一般式6で表される繰り返し単位か、一般式7で表される繰り返し単位の何れかを有する紫外線吸収性重合体は、エチレン性不飽和モノマーとの共重合体であることが好ましい。一般式6、7において、R31~R34は、ハロゲン原子、置換基を表し、置換基の例としては、一般式1中のSp1の置換基の例として挙げたもの等が挙げられる。lは0、1、2、3を、mは0、1、2、3、4、sは0、1、2、3、4を、oは0、1、2、3を表す。J4は、-O-、-NR1-、-S-、-SO-、-SO2-、-POO-、-CO-、-COO-、-NR2CO-、-NR3COO-、-NR4CONR5-、-OCO-、-OCONR6-、-CONR7-、-NR8SO-、-NR9SO2-、-SONR10-、-SO2NR11-を表すが但し印は、で紫外線吸収性基に連結していることを示す、好ましくは-O-、-NR1-、-S-、-SO-、-SO2-、-NR3COO-、-NR4CONR5-である。J5は、-O-、-NR1-、-S-、-SO-、-SO2-、-POO-、-CO-、-COO-、-NR2CO-、-NR3COO-、-NR4CONR5-、-OCO-、-OCONR6-、-CONR7-、-NR8SO-、-NR9SO2-、-SONR10-、-SO2NR11-を表すが但し印は、で紫外線吸収性基Sp4と逆側に連結していることを示す、好ましくは、-O-、-NR1-、-S-、-SO-、-SO2-、-NR3COO-、-NR4CONR5-である。R1~R11は前記一般式1のR1~R11と同義である。Sp4、Sp5は2価の連結基を表し、ハロゲン原子、または置換基を有してもよい。連結基や置換基の具体例は一般式1のSp1に準ずる。lが2または3のとき、R31は互いに同じでも異なってもよい。mが2,3,4の何れかのとき、R32は互いに同じでも異なってもよい。oが2または3のとき、R34は互いに同じでも異なってもよい。sが2,3,4の何れかのとき、R33は互いに同じでも異なってもよい。また、一般式6、7において、sとoとが、またはlとmとが、共に0とはならないことが好ましい。また、前記fの発明の紫外線吸収性重合体は、一般式8及び9で表される化合物から誘導される共重合体を含有するものであれば如何なるものでもよい。一般式8、9において、R35、R36は、各々ハロゲン原子、置換基を表す。置換基の例としては、一般式1中のSp1が取り得る置換基の例として挙げたものが挙げられる。R35、R36は互いに同じでも異なっていてもよい。qは0、1、2、3、4を、rは0、1、2、3を表す。rが2,3のとき、R36同士は互いに同じでも異なってもよい。qが2,3,4の何れかのとき、R35同士は互いに同じでも異なってもよい。R37~R39は、各々、水素原子、ハロゲン原子、置換基の何れかを表す。Sp6は2価の連結基を表し、ハロゲン原子、または置換基を有してもよい。Sp6において、連結基と置換基の具体例は、一般式1のSp1に準ずる。また、前記gの発明の紫外線吸収性重合体は、セルロースもしくはセルロース誘導体のヒドロキシル基のいずれかに紫外線吸収性基が直接、またはスペーサーを介して結合した変性セルロースであれば如何なるものでもよい。セルロースもしくはセルロース誘導体のヒドロキシル基に紫外線吸収性基がスペーサーを介して結合したとは、セルロースの繰り返し単位が有する3箇所のヒドロキシル基のいずれかに、少なくとも一つの紫外線吸収性基が直接、またはスペーサーを介して結合していればよく、紫外線吸収性基は一般式1で紫外線吸収性基として挙げたものを挙げることができ、同様にスペーサーも一般式1でスペーサーとして挙げたものをあげることができる。この紫外線吸収性重合体は、繰り返し単位がセルロース誘導体であるため、セルロースとの相溶性が非常に良好であり、セルロースフィルムの製造工程中やアルカリ処理液で鹸化する際に問題となっていた、ブリード現象、結晶の析出等が起こらず安定である。本発明の紫外線吸収性重合体は、前記一般式1、2、6、7で表される繰り返し単位を含む重合体、前記一般式3、4、5で表される紫外線吸収性基を有する繰り返し単位を含む重合体、前記一般式8及び9で表される化合物から誘導される共重合体又はセルロースのヒドロキシル基のいずれかに紫外線吸収性基が直接、またはスペーサーを介して結合した変性セルロースから選ばれる少なくとも一種含有することを特徴としており、本発明の繰り返し単位、もしくは、本発明の化合物から誘導される共重合体を含有していれば、ホモポリマーであっても、複数の他の連続単位との共重合体であっても良い。他の連続単位としては、例えば、アクリルアミド誘導体含有モノマー、アクリル酸エステル誘導体含有モノマー、メタクリル酸エステル誘導体含有モノマー、ビニルエーテル誘導体含有モノマー、エチレンオキシド誘導体含有モノマー、ビニルエステル誘導体含有モノマー、ジカルボン酸誘導体含有モノマー、ジオール誘導体含有モノマー、ジアミン誘導体含有モノマー等から得られる連続単位などがあげられる。本発明の紫外線吸収性重合体、または変性セルロースを共重合体とする場合、エチレン性不飽和モノマーとの共重合体であることが好ましい。より好ましくは、エチレン性不飽和モノマーが、ヒドロキシル基またはエーテル結合を有するメタクリル酸エステルか、ヒドロキシル基を有するアクリル酸エステルである。好ましい例を以下に挙げる。メタクリル酸及びそのエステル誘導体メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸i-ブチル、メタクリル酸t-ブチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸2-ヒドロキシエチル、メタクリル酸2-ヒドロキシプロピル、メタクリル酸テトラヒドロフルフリル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸ジエチルアミノエチル等、或いはアクリル酸及びそのエステル誘導体アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸i-ブチル、アクリル酸t-ブチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸2-ヒドロキシエチル、アクリル酸2-ヒドロキシプロピル、アクリル酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸ジメチルアミノエチル、アクリル酸ジエチルアミノエチル等、アルキルビニルエーテルメチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル等、アルキルビニルエステルギ酸ビニル、酢酸ビニル、酪酸ビニル、カプロン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等、アクリロニトリル、塩化ビニル、スチレン等が好ましい例として挙げることができる。これらのエチレン性不飽和モノマーの内、ヒドロキシル基またはエーテル結合を有するアクリル酸エステル、またはメタクリル酸エステル例えば、メタクリル酸2-ヒドロキシエチル、メタクリル酸2-ヒドロキシプロピル、アクリル酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸2-エトキシエチル、アクリル酸ジエチレンクリコールエトキシレート、アクリル酸3-メトキシブチルが好ましい。これらは1種単独でも2種以上混合して、紫外線吸収性モノマーと共重合させることができる。また、紫外線吸収性重合体における、紫外線吸収性モノマーの含有量が1~70質量以上であることが好ましい。より好ましくは、20~70質量、更には30~60質量であることが好ましい。特に紫外線吸収性重合体が、一般式6で表される繰り返し単位と、エチレン性不飽和モノマーとの共重合体である場合、紫外線吸収性重合体における、一般式6で表される繰り返し単位の含有量が、1~45質量であることが好ましく、より好ましくは、10~45質量であり、更に好ましくは20~40質量である。また、特に紫外線吸収性重合体が、一般式7で表される繰り返し単位の含有量が、1~55質量であることが好ましい。より好ましくは、10~55質量であり、更に好ましくは、20~50質量である。本発明に用いられる重合体は、セルロースエステルに対し、0.01~40質量の割合で混ぜることが好ましく、更に好ましくは、0.01~30質量の割合で混ぜることが好ましい。なお、セルロースエステルフィルムの膜厚が65μm以下のときは、1~10質量が好ましく、より好ましくは、1~5質量である。また、セルロースエステルの膜厚70μm以上のときは、0.5~5質量が好ましく、より好ましくは、0.5~2.5質量である。この時の、セルロースエステルフィルムを形成した時のヘイズが0~0.5であれば特に制限はされないが、好ましくは、ヘイズが0.2以下である。更に好ましくは、セルロースエステルフィルムを形成した時のヘイズが0~0.2、かつ380nmにおける透過率が0~10であることである。また、本発明の紫外線吸収性重合体はセルロースエステルに混合する際に、他の低分子化合物、高分子化合物、もしくは無機化合物などと一緒に用いることもできる。例えば、本発明の紫外線吸収性重合体と他の低分子紫外線吸収剤を同時にセルロースエステルフィルムに混合することも好ましい様態の一種である。本発明の重合体はモノマー以外であれば、特に制限なく用いることができるが、好ましい重合体の重量平均分子量は500~1000000であり、特に好ましくは1000~100000である。更に好ましくは、2000~20000であり、更には7000~15000である。本発明の重合体の重合方法は特に問わないが、例えば、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合などが挙げられる。ラジカル重合法の開始剤としては、例えば、アゾ化合物、過酸化物等が挙げられ、アゾビスイソブチロニトリルAIBN、アゾビスイソブチル酸ジエステル誘導体、過酸化ベンゾイルなどが挙げられる。重合溶媒は特に問わないが、例えば、トルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、メタノール等のアルコール系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセトンなどのケトン系溶媒、水溶媒等が挙げられる。溶媒の選択により、均一系で重合する溶液重合、生成したポリマーが沈澱する沈澱重合、ミセル状態で重合する乳化重合を行うこともできる。本発明の紫外線吸収性重合体は、従来知られている低分子紫外線吸収剤等と比較してセルロースとの相溶性が良好であり且つ高分子量である為、セルロースフィルムの製造工程中およびアルカリ処理液で鹸化する際に問題となっていた、ブリード現象や結晶析出等が起こらない。更に、ヘイズの発生が極端に少なく、重合体自身、紫外線、熱、湿度に対して充分に安定であり、高温、高湿下に曝されても紫外線吸収特性の低下が殆どなく、耐湿熱特性の優れたセルロースエステルフィルムを得ることができる。本発明の偏光板は、第1の偏光板保護フィルムと、偏光子と、第2の偏光板保護フィルムとを有する。そして、第1の偏光板保護フィルム、もしくは、第2の偏光板保護フィルムの少くとも一方が、本発明のセルロースエステルフィルムである。偏光板の作製方法偏光板は、一般的な方法で作製することができる。例えば、本発明のセルロースエステルフィルムをアルカリ処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の両面に、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリケン化処理とは、このときの水系接着剤の濡れを良くし、接着性を向上させるために、セルロースエステルフィルムを高温の強アルカリ液中に浸ける処理のことをいう。本発明のセルロースエステルフィルムについて説明する。本発明に用いられるセルロースエステルとしては、セルロースエステルが低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースエステルの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が6以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等がセルロースの低級脂肪酸エステルの好ましい例として挙げられる。また、上記以外にも、特開平10-45804号、同8-231761号、米国特許第2,319,052号等に記載のセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることが出来る。上記記載の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルはセルローストリアセテートである。更に、ベース強度の観点から、特に重合度250~400、総置換度2.3~3.0が好ましく、特に2.6~2.8が好ましい。あるいは、総置換度が2.3~2.8、かつアセチル置換度が1.5~2.5、プロピオニル置換度が0.1~1.0のセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられる。セルローストリアセテートは綿花リンターから合成されたセルローストリアセテートと木材パルプから合成されたセルローストリアセテートのどちらかを単独あるいは混合して用いることができる。ベルトやドラムからの剥離性がもし問題になれば、ベルトやドラムからの剥離性が良い綿花リンターから合成されたセルローストリアセテートを多く使用すれば生産性が高く好ましい。木材パルプから合成されたセルローストリアセテートを混合し用いた場合、綿花リンターから合成されたセルローストリアセテートの比率が40質量以上で、剥離性の効果が顕著になるため好ましく、60質量以上がさらに好ましく、単独で使用することが最も好ましい。本発明の偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。これらは、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。該偏光膜の面上に本発明の偏光板用保護フィルムである透明なセルロースエステルフィルムが張り合わされて偏光板を形成する。本発明のセルロースエステルフィルムの製造方法について説明する。本発明において、セルロースエステルが溶解しているドープ液とは、セルロースエステルが溶剤溶媒に溶解している状態であり、前記ドープ液には、可塑剤を加え、必要によりこの他の添加剤を加えることも出来る。ドープ液中のセルロースエステルの濃度としては、10~30質量が好ましく、更に好ましくは、18~20質量である。本発明で用いられる溶剤は、単独でも併用でもよいが、良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが、生産効率の点で好ましく、更に好ましくは、良溶剤と貧溶剤の混合比率は良溶剤が70~95質量であり、貧溶剤が30~5質量である。本発明に用いられる良溶剤、貧溶剤とは、使用するセルロースエステルを単独で溶解するものを良溶剤、単独で膨潤するかまたは溶解しないものを貧溶剤と定義している。そのため、セルロースエステルの結合酢酸量によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばアセトンを溶剤として用いるときには、セルロースエステルの結合酢酸量55では良溶剤になり、結合酢酸量60では貧溶剤となってしまう。本発明に用いられる良溶剤としては、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類が挙げられる。セルロースエステルの結合酢酸量によっては、良溶剤にも、貧溶剤にもなる溶剤としては、アセトン、酢酸メチル、酢酸エチルなどが挙げられる。本発明に用いられる貧溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、n-ブタノール、シクロヘキサン等が好ましく用いられる。上記記載のドープ液を調製する時の、セルロースエステルの溶解方法としては、一般的な方法を用いることができるが、好ましい方法としては、セルロースエステルを貧溶剤と混合し、湿潤あるいは膨潤させ、さらに良溶剤と混合する方法が好ましく用いられる。このとき加圧下で、溶剤の常温での沸点以上で、かつ溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱し、攪拌しながら溶解する方法が、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため、より好ましい。加圧は窒素ガスなどの不活性気体を圧入する方法や、加熱による溶剤の蒸気圧の上昇によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。溶剤を添加しての加熱温度は、使用溶剤の融点以上で、かつ該溶剤が沸騰しない範囲の温度が好ましく例えば60°C以上、70~110°Cの範囲に設定するのが好適である。又、圧力は設定温度で、溶剤が沸騰しないように調整される。溶解後は冷却しながら容器から取り出すか、または容器からポンプ等で抜き出して熱交換器などで冷却し、これを製膜に供する。このときの冷却温度は常温まで冷却してもよいが、沸点より5~10°C低い温度まで冷却し、その温度のままキャスティングを行うほうが、ドープ粘度を低減できるためより好ましい。キャスト工程における支持体はベルト状もしくはドラム状のステンレスを鏡面仕上げした支持体が好ましく用いられる。キャスト工程の支持体の温度は一般的な温度範囲0°C~溶剤の沸点未満の温度で、流延することができるが、0~30°Cの支持体上に流延するほうが、ドープをゲル化させ剥離限界時間をあげられるため好ましく、5~15°Cの支持体上に流延することがさらに好ましい。剥離限界時間とは透明で平面性の良好なフィルムを連続的に得られる流延速度の限界において、流延されたドープが支持体上にある時間をいう。剥離限界時間は短い方が生産性に優れていて好ましい。流延キャストされる側の支持体の表面温度は、10~55°C、溶液の温度は、25~60°C、更に溶液の温度を支持体の温度より0°C以上高くするのが好ましく、5°C以上に設定するのが更に好ましい。溶液温度、支持体温度は、高いほど溶媒の乾燥速度が速くできるので好ましいが、あまり高すぎると発泡したり、平面性が劣化する場合がある。支持体の温度の更に好ましい範囲は、20~40°C、溶液温度の更に好ましい範囲は、35~45°Cである。また、剥離する際の支持体温度を10~40°C、更に好ましくは、15~30°Cにすることでフィルムと支持体との密着力を低減できるので、好ましい。製造時のセルロースエステルフィルムが良好な平面性を示すためには、支持体から剥離する際の残留溶媒量は、10~80が好ましく、更に好ましくは、20~40であり、特に好ましくは、20~30である。本発明においては、残留溶媒量は下記式で定義される。残留溶媒量=加熱処理前質量-加熱処理後の質量/加熱処理後質量×100尚、残留溶媒量を測定する際の、加熱処理とは、フィルムを115°Cで1時間の加熱処理を行うことを表す。支持体とフィルムを剥離する際の剥離張力は、通常196~245N20~25kgf/mで剥離が行われるが、セルロースエステルの単位質量あたりの紫外線吸収剤の含有量が多く、且つ、従来よりも薄膜化されている本発明のセルロースエステルフィルムは、剥離の際にシワが入りやすいため、剥離できる最低張力から167N17kgf/m以内の力で剥離することが好ましく、更に好ましくは、最低張力から137N14kgf/m以内の力で剥離することである。また、セルロースエステルフィルムの乾燥工程においては、支持体より剥離したフィルムを更に乾燥し、残留溶媒量を3質量以下にすることが好ましい、更に好ましくは、0.5質量以下である。フィルム乾燥工程では一般にロール懸垂方式か、ピンテンター方式でフィルムを搬送しながら乾燥する方式が採られる。液晶表示部材用としては、ピンテンター方式で幅を保持しながら乾燥させることが、寸法安定性を向上させるために好ましい。特に支持体より剥離した直後の残留溶剤量の多いところで幅保持を行うことが、寸法安定性向上効果をより発揮するため特に好ましい。フィルムを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行う。簡便さの点で熱風で行うのが好ましい。乾燥温度は40~150°Cの範囲で3~5段階の温度に分けて、段々高くしていくことが好ましく、80~140°Cの範囲で行うことが寸法安定性を良くするためさらに好ましい。本発明のセルロースエステルフィルムには可塑剤が含有されるのが好ましい。用いることのできる可塑剤としては特に限定はないが、リン酸エステル系では、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ-2-エチルヘキシルフタレート等、グリコール酸エステル系では、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等を単独あるいは併用するのが好ましい。これらの可塑剤を含有することにより、寸法安定性、耐水性に優れたフィルムが得られるため特に好ましい。本発明においては前述の紫外線吸収剤とこれらの可塑剤のうち融点20°C以下の可塑剤を併用することが加工性に優れ、前記異物故障や面品質の上で好ましい。融点20°C以下の可塑剤としては、融点が20°C以下であれば特に限定されず、上記可塑剤の中から選ぶことができる。例えば、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、トリブチルホスフェート、ジエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ-2-エチルヘキシルフタレート、トリアセチン、エチルフタリルエチルグリコレート等をあげることができる。これらの可塑剤を単独あるいは併用するのも好ましい。本発明中の融点は、共立出版株式会社出版の化学大辞典に記載されている真の融点を融点としている。これらの可塑剤の使用量は、フィルム性能、加工性等の点で、セルロースエステルに対して1~15質量が好ましい。液晶表示部材用としては、寸法安定性の観点から5~15質量が更に好ましく、特に好ましくは、7~12質量である。またセルロースエステルに対して融点が20°C以下の可塑剤の含有量は1質量~10質量が好ましく、更に好ましくは、3質量~7質量である。加工性とはベースフィルムや液晶表示部材をスリット加工や打ち抜き加工する際の加工のしやすさのことで、加工性が悪いと切断面がノコギリ状になり切り屑が発生し、製品に付着して異物故障となるため好ましくない。本発明のセルロースエステルフィルムは、高い寸法安定性、良好な紫外線カット性能から液晶表示用部材に用いられるのが好ましい。液晶表示用部材とは液晶表示装置に使用される部材のことで、例えば、偏光板、偏光板用保護フィルム、位相差板、反射板、視野角向上フィルム、防眩フィルム、無反射フィルム、帯電防止フィルム等があげられる。上記記載の中でも、寸法安定性に対しても厳しい要求のある偏光板、偏光板用保護フィルムにおいて、本発明のセルロースエステルフィルムは更に好ましく用いられる。本発明のセルロースエステルフィルムは、用途にもよるが、厚さが5~200μmであることが好ましく、更に好ましくは、10~100μmであり、最も好ましくは、20~65μmである。本発明の光学フィルムには、他に必要ならマット剤として微粒子を加えてもよい。本発明に使用される微粒子としては無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600以上日本アエロジル株製の商品名で市販されており、使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルR976及びR811以上日本アエロジル株製の商品名で市販されており、使用することができる。これらの中でアエロジル200V、アエロジルR972Vが光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。ポリマーの例として、シリコーン樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール103、同105、同108、同120、同145、同3120及び同240以上東芝シリコーン株製の商品名で市販されており、使用することができる。次に、本発明の光学補償フィルムについて説明する。光学補償フィルムとは、主に液晶表示装置に用いることのできる光学異方性を有するフィルムのことであり、一般に支持体フィルム上に光学異方性層を設けることで製造される。本発明の光学補償フィルムは、本発明の前記1または2に記載のセルロースエステルフィルムを支持体として用い、その上に光学異方性層を有する。光学異方性層に好ましく用いられる化合物としては、ディスコティック化合物、二軸性液晶性化合物、棒状液晶性化合物であり、更に好ましくは、ネマティック相を有するディスコティック液晶化合物、ネマティック相を有する2軸性液晶化合物、ネマティック相を有する棒状液晶性化合物である。ディスコティック化合物は、例えば、ベンゼン誘導体、シクロヘキサン誘導体、アザクラウン系マクロサイクル、フェニルアセチレン系マクロサイクル、トリフェニレン誘導体、トルキセン誘導体、フタロシアニン誘導体、アントラキノン誘導体、フルバレン誘導体、ビピラニリデン誘導体、β-ジケトン錯体などが挙げられる。更に好ましくは、これらディスコティック化合物を分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその側鎖として放射状に置換された構造を有するディスコティック液晶性化合物があげられる。但し、分子自身が負の一軸性を有し、一定の配向を付与できるものであれば、上記記載に限定されるものではない。二軸性液晶性化合物とは、液晶状態での光学軸が2つ存在する液晶性化合物のことである。言い換えると、液晶相の3軸方向の屈折率を小さい順にnx、ny、nzとしたとき、nx<ny<nzの関係を満たす液晶性化合物であり、例えば、HandbookofLiquidCrystalsChapterXVBiaxialNematicLiquidCrystalsに記載されている様な液晶性化合物を挙げることができる。但し、ある方向とそれとは別の方向の屈折率が全て異なり、一定の配向を付与できるものであれば、上記記載に限定されるものではない。棒状液晶性化合物とは、最も一般的な液晶性化合物であり、分子形状が棒状とみなせる化合物の総称である。分子形状が棒状とみなせるとは、分子の長軸をa、分子の短軸をbとした時、a/bが十分大きければ棒状で有るといい、好ましくは、a/b≧2さらに好ましくはa/b≧3である。但し、分子自身が正の一軸性を有し、一定の配向を付与できるものであれば、上記記載に限定されるものではない。これらの化合物は、化合物単独、または、少なくとも1種の該化合物を含有する組成物からなり、また、これらの化合物は低分子でも高分子でもよいが、その液晶状態における配向形態を損なうことなく固定化するために、これらの化合物をポリマー中に混入させたり、または、液晶相形成温度からその配向状態を維持したまま冷却したり、または、液晶性化合物に重合性基を導入し、重合開始剤を添加した組成物を液晶相形成温度まで加熱した後、重合反応によって配向状態を安定に固定化してもよい。保護膜の素材としては、ポリメチルメタアクリレート、アクリル酸メタクリル酸共重合体、スチレン-無水マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール、N-メチロールアクリルアミド、スチレン-ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル-塩化ビニル共重合体、エチレン-酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネートなどの高分子物質、およびシランカップリング剤等を挙げることができる。ω-トリコサン酸、ジオクタデシルジメチルアンモニウムクロリドおよびステアリン酸メチルなどのラングミュアブロジェットLB法により形成される累積膜を使用することもできる。重合用の光線としては、電子線、紫外線、可視光線、赤外線熱線が好ましく、より好ましくは紫外線である。紫外線による光重合開始剤を用いるラジカル重合やカチオン重合は、一般に極めて重合速度が大きく、製造工程における生産性の点で好ましい。ラジカル光源としては、低圧水銀ランプ、高圧放電ランプ、およびショートアーク放電ランプが好ましく用いられ、高圧放電ランプがより好ましく用いられる。本発明の光学補償フィルムは、液晶表示素子の視野角補償を行うためのフィルムであり、好ましくはダイレクターがフィルムの上面と下面とで異なるフィルムであり、更に好ましくはフィルム厚み方向で徐々に変化したハイブリッド配向を形成しているフィルムである。本発明のハイブリッド配向を得るためには、液晶性材料の上下を異なる界面で挟んだり、電場、磁場などを用いることが望ましく、具体的な態様としては、1枚の基板と空気界面とを利用し、液晶層の下界面を基板に、また上の界面を空気に接するようにする。片方の界面が気相と接した状態で支持体上に塗布することが好ましい。本発明に好ましく用いることのできる配向基板は、光学異方性層の化合物の配向方向を規定する機能を有する。配向基板は、有機化合物好ましくはポリマーのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュアブロジェット法LB膜による有機化合物例えば、ω-トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチルの累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向基板も用いることができる。本発明の光学補償フィルムは、これらの配向基板上に前記液晶性化合物を塗布し、次いで均一配向過程、固定化過程を経て得られる。基板上への塗布は、各種溶媒に該材料を溶解した溶液、または、該材料を溶融した状態のものを用いて行うことができるが、プロセス上、溶媒に液晶性化合物を溶解した溶液を用いて塗布する溶液塗布が好ましい。これらの溶液を、次に上記の配向基板上に塗布する。塗布方法は、蒸着法、スピンコート、ディップコート、エクストルージョンコートなどが挙げられる。塗布後、溶媒を除去し、基板上に膜厚の均一な層をまず形成させる。通常、室温での風乾、ホットプレートでの乾燥、乾燥炉での乾燥、温風や熱風の吹き付けなどを利用して溶媒を除去する。その後配向させるために、熱処理を行うことが好ましく、熱処理は、液晶性化合物の液晶転移点以上で行う。すなわち該液晶性化合物の液晶状態で配向させるか、または、一旦液晶相を呈する温度範囲よりもさらに高温の等方性液体状態にした後、液晶相を呈する温度範囲にまで温度を下げることにより行う。通常、熱処理の温度は0°C~200°Cの範囲で行われ、特に20°C~150°Cの範囲が好適である。尚、本発明では、上記の熱処理工程において、液晶性化合物を配向させるために磁場や電場を用いても特に構わない。こうして得られた配向状態を次に冷却する、もしくは光や熱等によって重合させることによって該配向状態を損なうことなく固定化し、本発明の光学補償フィルムを得る。このようにして得られた本発明の光学補償フィルムは、液晶ディスプレイに対して該光学補償フィルムが通常1枚または複数枚で使用されることにより、好適な光学補償効果を発現することができる。以下に紫外線吸収性重合体の重合例を述べるが、本発明はこれら重合例1~9に限定されるものではない。重合例1重合体Aの合成一般式2ジヒドロキシベンゾトリアゾールa11.83g20mmolとアジピン酸b2.92g20mmolに酸化アンチモン0.02gを加え、真空かき混ぜ機をつけた重合管に入れる。重合管には窒素ガス導入管をつなぎ、この重合管を油浴に入れ180°Cに加熱しながら、ゆっくりと窒素ガスを通した。かき混ぜながら、徐々に270°Cまで昇温し、同時に真空度を102Paまで高めた。このまま3時間加熱した後、放冷し、定量的に重合体Aを得た。重合体Aの分子量をGPCにより測定した結果、数平均分子量は12500であった。また重合体の構造は1H-NMRにより確認した。重合例2重合体Bの合成一般式2及び3ペンタヒドロキシトリアジンc10.35g20mmolとグルタル酸d2.64g20mmolに酸化アンチモン0.02gを加え、真空かき混ぜ機をつけた重合管に入れる。重合管には窒素ガス導入管をつなぎ、この重合管を油浴に入れ180°Cに加熱しながら、ゆっくりと窒素ガスを通した。かき混ぜながら、徐々に270°Cまで昇温し、同時に真空度を102Paまで高めた。このまま3時間加熱した後、放冷し、定量的に重合体Bを得た。重合体Bの分子量をGPCにより測定した結果、数平均分子量は23000であった。また重合体の構造は1H-NMRにより確認した。重合例3重合体Cの合成一般式7アクリルモノマーe7.18g20mmolとアクリルモノマーf10.75g125mmolを100ml三頭コルベンに入れ、真空ポンプにより、減圧にした後窒素置換を三回行なった。窒素下脱水テトラヒドロフラン60mlに溶解し、加熱還流した。この溶液にAIBN、1.16g7.25mmolのテトラヒドロフラン溶液を添加し、3時間加熱還流した。反応溶液の溶媒を減圧留去した後、少量のテトラヒドロフランに溶解し、アセトンで再沈した。析出物を濾取し、重合体Cを得た。重合体Cの分子量をGPCにより測定した結果、数平均分子量は16800であった。また重合体の構造は1H-NMRにより、アクリルモノマーeとアクリルモノマーfのユニット比はそれぞれ40質量、及び60質量であることを確認した。重合例4重合体Dの合成一般式8及び9メタクリルモノマーg6.46g20mmolと酢酸ビニルモノマーh4.31g50mmolを100ml三頭コルベンに入れ、真空ポンプにより、減圧にした後窒素置換を三回行なった。窒素下脱水テトラヒドロフラン20mlに溶解し、加熱還流した。この溶液にAIBN、0.57mg3.5mmolのテトラヒドロフラン溶液を添加し、3時間加熱還流した。反応溶液の溶媒を減圧留去した後、少量のテトラヒドロフランに溶解し、アセトンで再沈した。析出物を濾取し、重合体Dを得た。重合体Dの分子量をGPCにより測定した結果、数平均分子量は19500であった。また重合体の構造は1H-NMRにより、メタクリルモノマーgと酢酸ビニルモノマーhのユニット比はそれぞれ50質量及び50質量であることを確認した。重合例5重合体Eの合成ジアセチルセルロース10.0gを100ml三頭コルベンに入れ、テトラヒドロフラン20ml、炭酸カリウム11.0g80mmol、アルキルハライドモノマーi16.0g50mmolを加え3時間加熱還流した。反応溶液の溶媒を減圧留去した後、少量のDMFに溶解し、ヘキサンで再沈した。析出物を濾取し、重合体Eを得た。重合体Eの構造は1H-NMRにより確認した。重合例6重合体Fの合成一般式6ビニルモノマーj4.09g10mmol、ビニルモノマーk2.53g9mmol、ビニルモノマーl9.50g95mmolを100ml三頭コルベンに入れ、真空ポンプにより、減圧にした後窒素置換を三回行なった。窒素下脱水テトラヒドロフラン60mlに溶解し、加熱還流した。この溶液にAIBN、0.93g5.7mmolのテトラヒドロフラン溶液を添加し、3時間加熱還流した。反応溶液の溶媒を減圧留去した後、最少のテトラヒドロフランに溶解し、アセトンで再沈した。析出物を濾取し、重合体Fを得た。重合体Fの分子量をGPCにより測定した結果、数平均分子量は21000であった。また重合体の構造は1H-NMRにより、ビニルモノマーjとビニルモノマーkとビニルモノマーlのユニット比はそれぞれ25質量、15質量及び60質量であることを確認した。重合例7重合体Gの合成一般式4100mlの三頭コルベンに、カルボン酸モノマーm1.94g10mmol、塩化メチレン10mlを加えたところへ、塩化オキザリル1.50g12mmolとジメチルホルムアミド数滴を加え約一時間撹拌した後、溶媒を減圧除去し、カルボン酸モノマーmの酸クロライド体を得た。次に、ポリビニルアルコールn≒20001.32gをカルボン酸モノマーmの酸クロライド体の入った100ml三頭コルベンに入れ、テトラヒドロフラン30mlとピリジン0.95g12mmolに溶解し、3時間撹拌した。反応溶液の溶媒を減圧留去した後、少量のテトラヒドロフランに溶解し、酢酸エチルで再沈した。析出物を濾取し、重合体Gを得た。重合体Gの構造は1H-NMR及びIRにより、置換度が27のポリビニルアルコールであることを確認した。重合例8重合体Hの合成一般式5100mlの三頭コルベンに、カルボン酸モノマーn2.17g10mmol、塩化メチレン10mlを加えたところへ、塩化オキザリル1.50g12mmolとジメチルホルムアミド数滴を加え約一時間撹拌した後、溶媒を減圧除去し、カルボン酸モノマーnの酸クロライド体を得た。次に、ポリビニルアルコールn≒20001.32gをカルボン酸モノマーnの酸クロライド体の入った100ml三頭コルベンに入れ、テトラヒドロフラン30mlとピリジン0.95g12mmolに溶解し、3時間撹拌した。反応溶液の溶媒を減圧留去した後、少量のテトラヒドロフランに溶解し、酢酸エチルで再沈した。析出物を濾取し、重合体Hを得た。重合体Hの構造は1H-NMR及びIRにより、置換度が25のポリビニルアルコールであることを確認した。重合例9重合体Iの合成一般式1100ml三頭コルベンを真空ポンプにより減圧にした後窒素置換を三回行なった。窒素下脱水ジエチルエーテル60mlとエチレンオキシドモノマーo13.34g40mmolを三頭コルベンに入れ、この溶液にBF3OEt20.06g0.4mmolを添加し、0°Cで3時間撹拌した。反応溶液の溶媒を減圧留去した後、最少のテトラヒドロフランに溶解し、アセトンで再沈した。析出物を濾取し、重合体Iを得た。重合体Iの分子量をGPCにより測定した結果、数平均分子量は6200であった。また重合体の構造は1H-NMRにより確認した。重合例10比較重合体Jの合成アクリルモノマーp50gとアクリルモノマーq10gを300ml三頭コルベン中、ジオキサン150mlに溶解し、窒素気流下に70°Cで加熱撹拌しながらジオキサン5mlに溶かした2,2′-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル270mgを加えた後、4時間反応させた。室温まで冷却し、反応液を氷水2リットルに注ぎ析出した固体を濾取し、重合体Jを得た。重合体Jの分子量をGPCにより測定した結果、数平均分子量35000であった。この重合体の構造は1H-NMRによりアクリルモノマーpを58モル含有する重合体であることを確認した。以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるものではない。実施例1試料1~12酸化珪素分散液アエロジル200V日本アエロジル株製一次粒子の平均径12nm、見掛け比重100g/リットル10質量部エタノール90質量部以上をディゾルバーで30分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。分散後の液濁度は93ppmであった。添加液Aの作製前記重合体A10質量部メチレンクロライド100質量部以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、濾過した。これに酸化珪素分散液10質量部を撹拌しながら加えて、さらに30分間撹拌した後、濾過し、添加液Aを調製した。ドープ液Aの調製リンター綿から合成されたトリアセチルセルロース85質量部木材パルプから合成されたトリアセチルセルロース15質量部エチルフタリルエチルグリコレート2.5質量部トリフェニルホスフェート9質量部メチレンクロライド475質量部エタノール50質量部以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、濾過し、ドープ液Aを調製した。ドープ液100質量部に対して添加液を表1に示す質量部を加えて、インラインミキサー東レ静止型管内混合機Hi-Mixer、SWJで十分混合し、濾過した。次いで、ベルト流延装置を用い、温度33°C、1500mm幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶媒量が25になるまで溶媒を蒸発させ、剥離張力127N13kgf/mでステンレスバンド支持体上から剥離した。剥離したセルローストリアセテートフィルムを1300mm幅にスリットし、その後、ピンテンターで幅手方向に1.03倍延伸しながら乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、1100mm幅にスリットし、セルローストリアセテートフィルム試料1を得た。このときのセルローストリアセテートフィルムの膜厚は40μmであった。試料1の添加液Aにかえて、表1に示すような下記の添加液と添加量にかえた以外は同様にして試料2~12を作製した。添加液B添加液Aの前記重合体Aを前記重合体B、10質量部にかえた以外は同様にして添加液Bを作製した。添加液C添加液Aの前記重合体Aを前記重合体C、10質量部にかえた以外は同様にして添加液Cを作製した。添加液D添加液Aの前記重合体Aを前記重合体D、10質量部にかえた以外は同様にして添加液Dを作製した。添加液E添加液Aの前記重合体Aを前記重合体E、10質量部にかえた以外は同様にして添加液Eを作製した。添加液F添加液Aの前記重合体Aを前記重合体F、10質量部にかえた以外は同様にして添加液Fを作製した。添加液G添加液Aの前記重合体Aを下記紫外線吸収剤にかえた以外は同様にして添加液Gを作製した。TINUVIN109チバスペシャリティケミカルズ株製8質量部前記重合体G2質量部添加液H添加液Aの前記重合体Aを下記紫外線吸収剤にかえた以外は同様にして添加液Hを作製した。TINUVIN109チバスペシャリティケミカルズ株製5質量部前記重合体H5質量部添加液I添加液Aの前記重合体Aを前記重合体I、10質量部にかえた以外は同様にして添加液Iを作製した。添加液J添加液Aの前記重合体Aを下記紫外線吸収剤にかえた以外は同様にして添加液Jを作製した。TINUVIN326チバスペシャリティケミカルズ株製5質量部TINUVIN328チバスペシャリティケミカルズ株製5質量部添加液K添加液Aの前記重合体Aを前記重合体J、10質量部にかえた以外は同様にして添加液Kを作製した。添加液L添加液Aの前記重合体Aを除いた以外は同様にして添加液Lを作製した。《測定方法》ロール汚れ10000mのセルロースエステルフィルムを作製した後、ステンレスバンド支持体から剥離したフィルムが接する一本目のロールの汚れ具合を目視で観察し、以下のランクに分けて評価した。A:ロールが汚れているのが全くわからないB:ロールが部分的に汚れているのがかすかにわかるC:ロールが全面的に汚れているのがかすかにわかるD:ロールが全面的に汚れているのがはっきりわかるA~Cは生産が続けられるレベル。Dは生産を中断してロールを清掃するレベル。透過率SpectrophotometerU-3200日立製作所製を用い、フィルムの分光吸収スペクトルを測定し、500nmと380nmにおける透過率を求め、以下のようにランク分けを行った。500nmの透過率は高い程優れており、380nmの透過率は低い程優れている。500nm透過率A:透過率92以上B:透過率90以上92未満C:透過率85以上90未満D:透過率85未満380nm透過率A:透過率6未満B:透過率6以上10未満C:透過率10以上25未満D:透過率25以上ヘイズフィルム試料1枚をASTM-D1003-52に従って、東京電色工業株社製T-2600DAを使用して測定し、以下のようにランクわけを行った。A:ヘイズ0.2未満B:ヘイズ0.2以上1未満C:ヘイズ1以上5未満D:ヘイズ5以上引き裂き強度JIS-K7128-2に規定されるプラスチック-フィルム及びシートの引裂強さ試験方法-エルメンドルフ引裂法に従って測定した。押され故障10000mセルロースエステルフィルムを作製した所で、フィルムをサンプリングし、得られたフィルム1m2上に存在する30μm以上の押され故障の数を数えて求めた。偏光板の作製厚さ120μmのポリビニルアルコールフィルムを、沃素1kg、ホウ酸4kgを含む水溶液100kgに浸漬し50°Cで6倍に延伸して偏光膜を作った。この偏光膜の両面にアルカリケン化処理を行ったセルロースエステルフィルム試料を完全ケン化型ポリビニルアルコール5水溶液を粘着剤として各々貼り合わせ偏光板を作製した。液晶パネルの作製15型TFT型カラー液晶ディスプレイLA-1529HMNEC製の偏光板を剥がし、液晶セルを挟むようにして、前記作製した偏光板2枚を偏光板の偏光軸がもとと変わらないように互いに直交するように貼り付け、15型TFT型カラー液晶ディスプレイを作製した。試料12のセルロースアセテートフィルムから作製された偏光板を張り付けた液晶ディスプレイと他のセロースアセテートフィルムから作製された液晶ディスプレイを2台並べて置き、この液晶ディスプレイ上にJIS-X-9201高精細カラーデジタル標準画像に基づいて作製されたSCID画像CD-ROM日本規格協会製の自転車画像を表示し、解像度、鮮鋭度を以下の通り評価した。画像A:試料12に比して、解像度、鮮鋭度の差がかわらないB:試料12に比して、解像度、鮮鋭度がやや劣化しているのが分かるC:試料12に比して、解像度、鮮鋭度が明らかに劣化しているのが分かる上記表1から明らかな様に、本発明の紫外線吸収性重合体は、セルロースエステルとの相溶性に優れる為、ヘイズの発生が極端に低く、引き裂き強度や透過率にも優れ、また、これまで問題になっていたブリード現象による、ロール汚れや、押され故障も著しく改善されていることが分かる。実施例2上記実施例1で作製したセルロースエステルフィルム試料1~試料10を支持体として光学補償フィルムを作製した。光学補償フィルム試料2-1の作製セルロースエステルフィルム試料1の一方の側に配向膜としてメチルエチルケトンに溶解させた2ポリビニルシンナメートを塗布し、この膜に偏光紫外線を照射した。その上にディスコティック液晶性化合物αの10質量メチルエチルケトン溶液に光重合開始剤チバガイギー製イルガキュアー907、増感剤日本化薬製カヤキュアーDETXを極小量溶解した塗布液をスピンコーターにより1000rpmで塗布し、液晶性化合物の塗布層を形成した。表面温度95°Cに加熱した金属ローラに支持体側から40秒間接触させ、液晶を配向させた後、95°Cのまま120W/cmの高圧水銀灯を用いて、照度600mW/cm2で2秒間塗布面上にUV照射した後室温にもどして、液晶性化合物含有層を塗設した光学補償フィルムを作製した。試料2-2試料2-1の前記セルロースエステルフィルムを試料2に変えた以外は、同様にして試料2-2を作製した。試料2-3試料2-1の前記セルロースエステルフィルムを試料3に変えた以外は、同様にして試料2-3を作製した。試料2-4試料2-1の前記セルロースエステルフィルムを試料4に変え、ディスコティック液晶性化合物αを二軸性液晶性化合物βに変えた以外は、同様にして試料2-4を作製した。試料2-5試料2-4の前記セルロースエステルフィルムを試料5に変えた以外は、同様にして試料2-5を作製した。試料2-6試料2-4の前記セルロースエステルフィルムを試料6に変えた以外は、同様にして試料2-6を作製した。試料2-7試料2-1の前記セルロースエステルフィルムを試料7に変え、ディスコティック液晶性化合物αを棒状液晶性化合物γに変えた以外は、同様にして試料2-7を作製した。試料2-8試料2-7の前記セルロースエステルフィルムを試料8に変えた以外は、同様にして試料2-8を作製した。試料2-9試料2-7の前記セルロースエステルフィルムを試料9に変えた以外は、同様にして試料2-9を作製した。試料2-10試料2-1の前記セルロースエステルフィルムを試料10に変えた以外は、同様にして試料2-10を作製した。試料2-11試料2-4の前記セルロースエステルフィルムを試料11に変えた以外は、同様にして試料2-11を作製した。これらのフィルムについて、偏光板を用いてクロスニコル下で、液晶化合物の配向乱れを目視で観察し、以下のランクに分けて評価した。A:液晶性化合物の配向乱れは観察されないB:液晶性化合物の配向乱れがかすかにわかるC:液晶性化合物の配向乱れがはっきりわかるD:液晶性化合物が全く配向していない表2の結果より、本発明のセルロースエステルフィルムを用いた光学補償フィルムは、従来問題となっていた、配向乱れが全く生じず、液晶性化合物をディスコティック液晶性化合物、二軸性液晶性化合物、棒状液晶性化合物に変えた時でも、変わりなく液晶性化合物の配向が保たれることが分かる。"