"式1:式中、Y1、Y2、Y3およびY4はそれぞれ互いに独立して、NH、NR5、酸素原子または硫黄原子であり、Y1、Y2、Y3またはY4に帰属されるNR5のR5は、炭素数1~8のアルキル基または置換基を有していてもよい炭素数6~15のアリール基である。尚、Y1、Y2、Y3およびY4のうち少なくとも2つがNR5で表される場合、これらNR5のR5はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。また、Z1およびZ2はそれぞれ互いに独立して、窒素原子、CHまたはCR6であり、Z1またはZ2に帰属されるCR6のR6は、置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6~15のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数4~12のヘテロアリール基、置換基を有していてもよい炭素数5~12のヘテロアラルキル基または炭素数7~15のアラルキル基を示す。尚、Z1およびZ2がともにCR6で表される場合、これらCR6のR6はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。R1、R2、R3およびR4の各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、1つのベンゼン環の6個の炭素原子のうち5員環と共有された2個の炭素原子を除いた4個の炭素原子に結合する4個の水素原子のうち1ないし4個を置換することができ、4個のベンゼン環の水素原子を置換した置換基の全てはそれぞれ互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基、ハロゲノ基、置換基を有していてもよい炭素数1~16のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基であり、Mは金属原子を示す。で表される有機色素安定化剤。式1における金属原子Mが、コバルト原子、ニッケル原子、または銅原子である請求項1に記載の有機色素安定化剤。請求項1または2に記載の有機色素安定化剤のうち少なくとも1種類と、少なくとも1種類の有機色素を含有することを特徴とする光吸収部材用組成物。請求項3に記載の光吸収部材用組成物を用いて作製される光吸収部材。本発明は、前記のような従来技術に伴う問題を解決しようとするものであり、光や熱等によって促進される有機色素の退色劣化を長期間有効に防止する手段として、有機色素に対して優れた安定化効果を発揮する有機色素安定化剤、該有機色素安定化剤と有機色素を含む光吸収部材用組成物、およびこれを用いて作製される光吸収部材を提供することを目的としている。本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、式1で表される金属錯体が有機色素に対して非常に優れた退色劣化抑制効果を有することを見出し、該金属錯体を有機色素安定化剤として使用することによって上記課題を解決に導き、本発明の完成に至った。すなわち、本発明は以下に示す有機色素安定化剤、該有機色素安定化剤のうち少なくとも1種類と少なくとも1種類の有機色素を含む光吸収部材用組成物、およびこれを用いた光吸収部材に関する。項1.式1:式中、Y1、Y2、Y3およびY4はそれぞれ互いに独立して、NH、NR5、酸素原子または硫黄原子であり、Y1、Y2、Y3またはY4に帰属されるNR5のR5は、炭素数1~8のアルキル基または置換基を有していてもよい炭素数6~15のアリール基である。尚、Y1、Y2、Y3およびY4のうち少なくとも2つがNR5で表される場合、これらNR5のR5はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。また、Z1およびZ2はそれぞれ互いに独立して、窒素原子、CHまたはCR6であり、Z1またはZ2に帰属されるCR6のR6は、置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6~15のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数4~12のヘテロアリール基、置換基を有していてもよい炭素数5~12のヘテロアラルキル基または炭素数7~15のアラルキル基を示す。尚、Z1およびZ2がともにCR6で表される場合、これらCR6のR6はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。R1、R2、R3およびR4の各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、1つのベンゼン環の6個の炭素原子のうち5員環と共有された2個の炭素原子を除いた4個の炭素原子に結合する4個の水素原子のうち1ないし4個を置換することができ、4個のベンゼン環の水素原子を置換した置換基の全てはそれぞれ互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基、ハロゲノ基、置換基を有していてもよい炭素数1~16のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基であり、Mは金属原子を示す。で表される有機色素安定化剤。項2.式1における金属原子Mが、コバルト原子、ニッケル原子、または銅原子である項1に記載の有機色素安定化剤。項3.項1または2に記載の有機色素安定化剤のうち少なくとも1種類と、少なくとも1種類の有機色素を含有することを特徴とする光吸収部材用組成物。項4.項3に記載の光吸収部材用組成物を用いて作製される光吸収部材。本発明によると、有機色素に対して非常に優れた安定化効果を発揮する有機色素安定化剤が得られる。従って、本発明の有機色素安定化剤と有機色素を用いることで、長期間に渡って優れた耐光性、耐熱性を持続することができる光吸収部材用組成物、およびこれを用いた光吸収部材を提供することができる。以下、本発明を詳細に説明する。本発明は、式1:式中、Y1、Y2、Y3およびY4はそれぞれ互いに独立して、NH、NR5、酸素原子または硫黄原子であり、Y1、Y2、Y3またはY4に帰属されるNR5のR5は、炭素数1~8のアルキル基または置換基を有していてもよい炭素数6~15のアリール基である。尚、Y1、Y2、Y3およびY4のうち少なくとも2つがNR5で表される場合、これらNR5のR5はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。また、Z1およびZ2はそれぞれ互いに独立して、窒素原子、CHまたはCR6であり、Z1またはZ2に帰属されるCR6のR6は、置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6~15のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数4~12のヘテロアリール基、置換基を有していてもよい炭素数5~12のヘテロアラルキル基または炭素数7~15のアラルキル基を示す。尚、Z1およびZ2がともにCR6で表される場合、これらCR6のR6はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。R1、R2、R3およびR4の各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、1つのベンゼン環の6個の炭素原子のうち5員環と共有された2個の炭素原子を除いた4個の炭素原子に結合する4個の水素原子のうち1ないし4個を置換することができ、4個のベンゼン環の水素原子を置換した置換基の全てはそれぞれ互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基、ハロゲノ基、置換基を有していてもよい炭素数1~16のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基であり、Mは金属原子を示す。で表される有機色素安定化剤と、該有機色素安定化剤のうち少なくとも1種類と少なくとも1種類の有機色素とを含む光収部材用組成物、およびこれを用いた光吸収部材を提供するものである。また、式1におけるZ1およびZ2、R1、R2、R3、R4、R5、R6およびMについて以下に例示する。式中、Y1、Y2、Y3またはY4に帰属される、前記のNR5のR5としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、n-ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル、n-ヘプチル基、n-オクチル基等のアルキル基や、フェニル基、2-メチルフェニル基、3-メチルフェニル基、4-メチルフェニル基、3-クロロフェニル基、4-ブロモフェニル基、3,4-ジクロロフェニル基、ナフチル基等のアリール基が挙げられる。合成方法の簡便さから炭素数1~8のアルキル基であることが好ましい。尚、Y1、Y2、Y3、Y4のうち少なくとも2つがNR5で表される場合、これらNR5のR5はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。ここで、式1におけるY1、Y2、Y3およびY4は、合成方法の簡便さの観点から、酸素原子または硫黄原子であることが特に好ましい。式中、Z1またはZ2に帰属される、前記のCR6のR6としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、n-ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル、n-ヘプチル基、n-オクチル基等のアルキル基や、フェニル基、2-メチルフェニル基、3-メチルフェニル基、4-メチルフェニル基、3-クロロフェニル基、4-ブロモフェニル基、3,4-ジクロロフェニル基、ナフチル基等のアリール基や、2-フリル基、2-チエニル基、5-クロロ-2-チエニル基、2-ピロリル基、2-オキサゾリル基、5-メチル-2-オキサゾリル基、2-チアゾリル基等のヘテロアリール基や、4-ピリジルメチル基、4-キノリルメチル基、2-チエニルメチル基等のヘテロアラルキル基や、4-アセトアミドベンジル基、3-アミノベンジル基、4-アミノベンジル基、3-メトキシベンジル基、2-メトキシフェネチル基、4-n-ペンチルオキシベンジル基、2-アリルオキシフェネチル基、5-アリル-2-ヒドロキシ-3-メトキシベンジル基、4-フェニルベンジル基、2-ブロモベンジル基、3-フェネチル基、4-ブロモベンジル基、2-クロロベンジル基、3-クロロベンジル基、4-クロロベンジル基、6-ブロモ-2-ヒドロキシベンジル基、5-ブロモ-3-ニトロ-2-ヒドロキシフェネチル基、4-n-ブチルベンジル基、3-ブロモ-5-メトキシ-4-ヒドロキシベンジル基、4-ベンジルオキシベンジル基、6-ブロモ-3-メトキシ-2-ヒドロキシベンジル基、1-ブロモ-2-ナフチル-n-プロピル基、2-ベンジルオキシベンジル基、35-ビストリフルオロメチルフェネチル基、4-tert-ブチルベンジル基、5-ブロモ-2-フルオロベンジル基、3-ブロモ-4-メトキシベンジル基、5-ブロモ-2-メトキシベンジル基、3-ブロモ-5-クロロ-2-ヒドロキシベンジル基、4-ブロモ-2-フルオロベンジル基、2-ブロモ-45-ジメトキシフェネチル基、34-エチレンジオキシベンジル基、3-ブロモ-4-フルオロフェネチル基、6-ブロモ-34-メチレンジオキシベンジル基、3-ブロモ-4-ヒドロキシベンジル基、2-ブロモ-5-フルオロフェネチル基、4-シアノベンジル基、4-トリフルオロベンジル基、4-4-クロロフェノキシフェネチル基、4-NN-ジエチルアミノベンジル基、34-ジアセトキシベンジル基、4-NN-ジフェニルアミノベンジル基、4-[N-44-ジオキソチオモルホリノ]ベンジル基、4-N-ピロリジノベンジル基、3-2-ヒドロキシエトキシベンジル基、4-2-ヒドロキシエトキシフェネチル基、4-ヒドロキシ-35-ジメチルベンジル基、6-ヒドロキシ-2-ナフチル-n-プロピル基、4-イソプロピルベンジル基、4-イソブチルベンジル基等のアラルキル基が挙げられる。尚、Z1およびZ2がともにCR6で表される場合、これらCR6のR6はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。さらに、式1におけるZ1およびZ2は、合成方法の簡便さの観点から、窒素原子、CHであることが好ましく、窒素原子であることが特に好ましい。式中、R1、R2、R3またはR4に帰属される、前記の置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、2-メトキシエチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、3-クロロ-n-プロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、4-ヒドロキシ-n-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、n-ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル、6-フェニル-n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基等が挙げられる。式中、R1、R2、R3またはR4に帰属される、前記の炭素数1~4のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、tert-ブトキシ基等が挙げられる。式中、R1、R2、R3またはR4に帰属される、前記のハロゲノ基としては、例えば、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基等が挙げられる。式中、R1、R2、R3またはR4に帰属される、前記の置換基を有していてもよい炭素数1~16のアルキルアミノスルホニル基としては、例えば、N-メチルアミノスルホニル基、N-エチルアミノスルホニル基、N-イソプロピルアミノスルホニル基、N-n-プロピルアミノスルホニル基、N-n-ブチルアミノスルホニル基、N,N-ジメチルアミノスルホニル基、N,N-メチルエチルアミノスルホニル基、N,N-ジエチルアミノスルホニル基、N,N-エチルイソプロピルアミノスルホニル基、N,N-ジイソプロピルアミノスルホニル基、N,N-ジ-n-プロピルアミノスルホニル基、N,N-ジ-n-ブチルアミノスルホニル基、N,N-ジイソブチルアミノスルホニル基、N,N-ジ-2-エチルヘキシルアミノスルホニル基等が挙げられる。式中、R1、R2、R3またはR4に帰属される、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基としては、例えば、モルホリノスルホニル基、2-メチルモルホリノスルホニル基、3-メチルモルホリノスルホニル基、2-エチルモルホリノスルホニル基、3-n-プロピルモルホリノスルホニル基、3-n-ブチルモルホリノスルホニル基、2,3-ジメチルモルホリノスルホニル基、2,6-ジメチルモルホリノスルホニル基、3-フェニルモルホリノスルホニル基等が挙げられる。式中、R1、R2、R3またはR4に帰属される、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基としては、例えば、ピペリジノスルホニル基、2-メチルピペリジノスルホニル基、3-メチルピペリジノスルホニル基、4-メチルピペリジノスルホニル基、2-エチルピペリジノスルホニル基、4-n-プロピルピペリジノスルホニル基、3-n-ブチルピペリジノスルホニル基、2,4-ジメチルピペリジノスルホニル基、2,6-ジメチルピペリジノスルホニル基、4-フェニルピペリジノスルホニル基等が挙げられる。式中、R1、R2、R3またはR4に帰属される、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基としては、例えば、ピロリジノスルホニル基、2-メチルピロリジノスルホニル基、3-メチルピロリジノスルホニル基、2-エチルピロリジノスルホニル基、3-n-プロピルピロリジノスルホニル基、3-n-ブチルピロリジノスルホニル基、2,4-ジメチルピロリジノスルホニル基、2,5-ジメチルピロリジノスルホニル基、3-フェニルピロリジノスルホニル基等が挙げられる。式中、R1、R2、R3またはR4に帰属される、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基としては、例えば、チオモルホルノスルホニル基、2-メチルチオモルホリノスルホニル基、3-メチルチオモルホリノスルホニル基、2-エチルチオモルホリノスルホニル基、3-n-プロピルチオモルホリノスルホニル基、3-n-ブチルチオモルホリノスルホニル基、2,3-ジメチルチオモルホリノスルホニル基、2,6-ジメチルチオモルホリノスルホニル基、3-フェニルチオモルホリノスルホニル基等が挙げられる。式中、R1、R2、R3またはR4に帰属される、置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基としては、例えば、ピペラジノスルホニル基、2-メチルピペラジノスルホニル基、3-メチルピペラジノスルホニル基、2-エチルピペラジノスルホニル基、3-n-プロピルピペラジノスルホニル基、3-n-ブチルピペラジノスルホニル基、2,5-ジメチルピペラジノスルホニル基、2,6-ジメチルピペラジノスルホニル基、3-フェニルピペラジノスルホニル基、2-ピリミジルピペラジノスルホニル基等が挙げられる。前記のR1、R2、R3およびR4の各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、1つのベンゼン環の6個の炭素原子のうち5員環と共有された2個の炭素原子を除いた4個の炭素原子に結合する4個の水素原子のうち1ないし4個、好ましくは1または2個を置換することができ、4個のベンゼン環の水素原子を置換した置換基の全てはそれぞれ互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基、ハロゲノ基、置換基を有していてもよい炭素数1~16のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基であり、経済性すなわち原料の入手の簡便さや、反応工程数、収率の観点からみれば、存在しないか、置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ハロゲノ基、炭素数1~4のアルコキシ基であることが好ましく、存在しないか、炭素数1~8のアルキル基、炭素数1~4のアルコキシ基であることがより好ましく、存在しないことがさらに好ましい。また、置換基を有していてもよい炭素数1~16のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基である場合には、溶媒に対する溶解性の面で特に有利であり、中でも炭素数1~16のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基であることがより好ましく、炭素数1~16のアルキルアミノスルホニル基、モルホリノスルホニル基であることがさらに好ましい。Y1、Y2、Y3およびY4、Z1およびZ2、R1、R2、R3およびR4はそれぞれ互いに独立したものであるが、合成方法の簡便さおよび取得する該金属錯体の品質純度管理の観点から、好ましくはY1=Y2且つY3=Y4且つZ1=Z2且つR1=R2=R3=R4である。また、該金属錯体の各種溶媒に対する溶解性の観点から言えば、Y1=Y3≠Y2=Y4且つZ1=Z2且つR1=R3=R2=R4、またはY1=Y3=Y2=Y4且つZ1=Z2且つR1=R3≠R2=R4であることが好ましい。式中、Mで表される金属原子は、例えば、コバルト原子、ニッケル原子、または銅原子等が挙げられる。式1で表される金属錯体は、下記式2で表される配位子と、金属ハロゲン化物、金属硫酸塩、金属酢酸塩、金属硝酸塩等の金属塩とを反応させることで合成することができる。式2:式2において、Y1、Y2、Z1、R1、R2は、それぞれ式1中のY1およびまたはY3、Y2およびまたはY4、Z1およびまたはZ2、R1およびまたはR3、R2およびまたはR4に対応している。式2で表される配位子は、例えば、特開昭56-87575、Synthesis1987,368、Synthesis1982,590、Synthesis1982,1066-1067、J.Org.Chem.2002,67,5753-5772、J.Org.Chem.2002,67,5753-5772、J.Org.Chem.1961,26,3434-3445、Gazz.Chim.Ital.1996,126,329-337、Gazz.Chim.Ital.1994,124,301-308、特表2007-535421において開示されている方法で合成することができる。以下、式2で表される配位子の製造方法を一部説明する。≪配位子の製造方法≫i下記式3:式2においてY1=Y2=S,Z1=Nの場合例えば、特開昭56-87575に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、2-アミノベンゾチアゾールR1およびR2が存在しない場合または2-アミノ-置換ベンゾチアゾールR1およびR2が置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合をフェノール等の酸触媒存在下において、150~185°Cに加熱し、反応させることによって2,2’-イミノビスベンゾチアゾールまたは2,2’-イミノビス置換ベンゾチアゾールを合成することができる。ii下記式4:式2においてY1=S,Y2=O,Z1=Nの場合例えば、Synthesis1987,368に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、2-アミノフェノールR2が存在しない場合または2-アミノ-置換フェノールR2が置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合をN,N’-ジメチルホルムアミドDMFに溶解させ、塩基として水酸化ナトリウム水溶液を加え、室温で30分間攪拌し、ここにS,S’-ジメチル-N-2-ベンゾチアゾリル-カルボンイミドジチオエートR1が存在しない場合またはS,S’-ジメチル-N-[2-置換ベンゾチアゾリル]-カルボンイミドジチオエートR1が置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合のDMF溶液を滴下し、窒素雰囲気下で還流させることで2-2-ベンゾチアゾリルアミノベンゾオキサゾールまたは2-[2-置換ベンゾチアゾリルアミノ]置換ベンゾオキサゾールを合成することができる。前記S,S’-ジメチル-N-2-ベンゾチアゾリルカルボンイミドジチオエートまたはS,S’-ジメチル-N-[2-置換ベンゾチアゾリル]カルボンイミドジチオエートは、例えば、Synthesis1982,590に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、2-アミノベンゾチアゾールR1が存在しない場合または2-アミノ-置換ベンゾチアゾールR1が置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合をDMFに溶解させ、水浴または氷浴下でこの溶液に、水酸化ナトリウム水溶液を滴下し、次に二硫化炭素を滴下し、さらに水酸化ナトリウム水溶液を滴下した後、ヨウ化メチルを滴下することで、S,S’-ジメチル-N-2-ベンゾチアゾリルカルボンイミドジチオエートR1が存在しない場合またはS,S’-ジメチル-N-2-置換ベンゾチアゾリルカルボンイミドジチオエートR1が置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合を合成することができる。iii下記式5:式2においてY1=S,Y2=NH,Z1=Nの場合例えば、Synthesis1982,1066-1067に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、o-フェニレンジアミンR2が存在しない場合またはo-置換フェニレンジアミンR2が置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合をDMFに溶解させ、ここにS,S’-ジメチル-N-2-ベンゾチアゾリル-カルボンイミドジチオエートR1が存在しない場合またはS,S’-ジメチル-N-[2-置換ベンゾチアゾリル]-カルボンイミドジチオエートR1が置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合のDMF溶液を滴下した後に、10~16時間還流させることで2-2-ベンゾチアゾリルアミノベンゾイミダゾールまたは2-[2-置換ベンゾチアゾリルアミノ]置換ベンゾイミダゾールを合成することができる。iv下記式6:式2においてY1=S,Y2=NH,Z1=CHの場合例えば、J.Org.Chem.2002,67,5753-5772に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、o-フェニレンジアミンR2が存在しない場合またはo-置換フェニレンジアミンR2が置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合と、エチル-2-ベンゾチアゾリルアセテートR1が存在しない場合またはエチル-2-置換ベンゾチアゾリルアセテートR1が置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合を窒素雰囲気下において160°Cで6時間還流することによって2-ベンゾチアゾリル2-ベンゾイミダゾリルメタンまたは[2-置換ベンゾチアゾリル][2-置換ベンゾイミダゾリル]メタンを合成することができる。前記エチル-2-ベンゾチアゾリルアセテートまたはエチル-2-置換ベンゾチアゾリルアセテートは、例えば、J.Org.Chem.2002,67,5753-5772に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、エチルシアノアセテートと2-アミノ-置換チオフェノールを混合し、窒素雰囲気下において120°Cで2時間反応させることで、エチル-2-ベンゾチアゾリルアセテートまたはエチル-2-置換ベンゾチアゾリルアセテートを合成することができる。v下記式7:式2においてY1=Y2=O,Z1=CHの場合例えば、US3250780に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、2-アミノフェノールR1およびR2が存在しない場合または2-アミノ-置換フェノールR1およびR2が置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合とマロン酸を混合し、この混合液を攪拌下のポリリン酸中に70°Cに保温しながら加える。次にこの反応液を175°Cまで昇温し、反応させることで、ビス2-ベンゾオキサゾリルメタンまたはビス[2-置換ベンゾオキサゾリル]メタンを合成することができる。vi下記式8:式2においてY1=Y2=S,Z1=CHの場合例えば、J.Org.Chem.1961,26,3434-3445に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、2-アミノチオフェノールR1およびR2が存在しない場合または2-アミノ-置換チオフェノールR1およびR2が置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合とマロン酸を混合し、この混合液を攪拌下のポリリン酸中に70°Cに保温しながら加える。次にこの反応液を125-150°Cで2時間反応させることで、ビス2-ベンゾチアゾリルメタンまたはビス[2-置換ベンゾチアゾリル]メタンを合成することができる。vii下記式9:式2においてY1=NR5、Y2=NR5,Z1=CHの場合例えば、Gazz.Chim.Ital.1996,126,329-337に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、N-置換-o-フェニレンジアミンR1およびR2が存在しない場合またはN-置換-[o-置換フェニレン]ジアミンR1およびR2が置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合とマロン酸ジエチルを混合し、この混合液を窒素雰囲気下において155°Cで11時間還流することで、ビス[2-N-置換ベンゾイミダゾリル]メタンまたはビス[2-N-置換置換ベンゾイミダゾリル]メタンを合成することができる。viii下記式10:式2においてZ1=CR6の場合例えば、Gazz.Chim.Ital.1994,124,301-308に記載されている方法に従って合成することができる。前記の通り、式1中のZ1またはZ2に帰属されるCR6のR6としてはアラルキル基であることが特に好ましい。ここでは、このアラルキル基が、例えば、4-ピリジルメチル基である場合を取り上げ、以下、合成方法を説明する。4-ピリジルメチル基以外の置換基である場合にも対応する基質置換基に対応するアルデヒド体を選択することで、同様の合成方法に従って合成することが可能である。ivで得られた2-ベンゾチアゾリル2-ベンゾイミダゾリルメタンまたは[2-置換ベンゾチアゾリル][2-置換ベンゾイミダゾリル]メタン、またはvで得られたビス2-ベンゾオキサゾリルメタンまたはビス[2-置換ベンゾオキサゾリル]メタン、またはviで得られたビス2-ベンゾチアゾリルメタンまたはビス[2-置換ベンゾチアゾリル]メタン、またはviiで得られたビス[2-N-置換ベンゾイミダゾリル]メタンまたはビス[2-N-置換置換ベンゾイミダゾリル]メタンと、酢酸および酢酸ナトリウムを混合し、ここに4-ピリジンカルボキシアルデヒドを添加し反応させた後に、パラジウムカーボン等を用いて還元することで、ivで得られた化合物からは、対応する4-[β,β-2-ベンゾチアゾリル2-ベンゾイミダゾリルエチル]ピリジンまたは4-[β,β-{2-置換ベンゾチアゾリル}{2-置換ベンゾイミダゾリル}エチル]ピリジンを、vで得られた化合物からは、対応する4-[β,β-ビス2-ベンゾオキサゾリルエチル]ピリジンまたは4-[β,β-ビス{2-置換ベンゾオキサゾリル}エチル]ピリジンを、viで得られた化合物からは、対応する4-[β,β-ビス2-ベンゾチアゾリルエチル]ピリジンまたは4-[β,β-ビス{2-置換ベンゾチアゾリル}エチル]ピリジンを、viiで得られた化合物からは、対応する4-[β,β-ビス{2-N-置換ベンゾイミダゾリル}エチル]ピリジンまたは4-[β,β-ビス{2-N-置換置換ベンゾイミダゾリルエチル]ピリジンを合成することができる。ix式2においてR1およびR2のそれぞれ少なくとも一つの置換基が、置換基を有していてもよい炭素数1~16のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基の場合例えば、特表2007-535421に記載されている方法に従って、前記i~viiiの方法で得られた配位子式2においてR1およびR2の各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、1つのベンゼン環の6個の炭素原子のうち5員環と共有された2個の炭素原子を除いた4個の炭素原子に結合する4個の水素原子のうち1ないし3個が置換されたものに限るに、置換基を有していてもよい炭素数1~16のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基を導入することができる。ここでは、iで得られた2,2’-イミノビスベンゾチアゾールまたは2,2’-イミノビス置換ベンゾチアゾールを例に取り上げ、以下、合成方法を説明する。iで得られた2,2’-イミノビスベンゾチアゾールまたは2,2’-イミノビス置換ベンゾチアゾールをクロロスルホン酸に添加し、混合物を一晩攪拌する。さらに塩化チオニルを添加し50°Cで1時間攪拌した後室温まで冷却する。混合物を氷の上に注ぎ、吸引ろ過し残った氷と一緒に一級または二級アミンと攪拌することで対応する2,2’-イミノビス置換ベンゾチアゾールを合成することができる。≪式1で表される金属錯体の製造方法≫例えば、Polyhedron2006,25,2363-2374やJ.Org.Chem.2002,67,5753-5772等に記載されている方法に従って、前記のi~ixの製造方法に基づいて得られた配位子と、金属ハロゲン化物、金属硫酸塩、金属酢酸塩、金属硝酸塩等の金属塩とを反応させることによって対応する金属錯体を合成することができる。すなわち前記のi~ixの製造方法に基づいて得られた配位子と、式1中のMに対応する金属の酢酸塩を、メタノール、エタノール、水、N,N-ジメチルホルムアミドDMF等の溶媒中で反応させることにより合成することができる。≪式1で表される有機色素安定化剤のうち少なくとも1種類と、少なくとも1種類の有機色素を含む光吸収部材用組成物≫本発明における光吸収部材用組成物は、式1で表される少なくとも1種類の有機色素安定化剤と少なくとも1種類の有機色素を含有することを特徴とする。さらに、少なくとも1種類のマトリックス材料およびまたはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーおよびまたは少なくとも1種類の溶媒を含有するものも本発明に含まれる。有機色素に対する安定化効果の観点からは、本発明における式1で表される有機色素安定化剤は分子レベルで溶解した状態で含有されることが好ましいが、有機色素は溶解状態であっても分散状態であってもよい。前記の有機色素としては、特に限定されるものではなく、例えば、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、ポルフィリン系、ニトロソ系、インダミン系、キノフタロン系、キサンテン系、キナクリドン系、キナクリドンキノン系、ベンズイミダゾロン系、キノン系、キノリン系、アントアントロン系、ジオキサジン系、ジオキシム系、ピロロピロール系、アンサンスロン系、インダンスロン系、フラバンスロン系、ペリノン系、ペリレン系、インドリン系、イソインドリン系、イソインドリノン系、アゾ系、シアニン系、メロシアニン系、スクアリリウム系、トリアリールメタン系、ピランスロン系、インジゴイド系、インダンスレン系、イモニウム系、アミニウム系、クマリン系、ルブレン系、アクリジン系、フルオラン系、スチリル系等の有機色素が挙げられる。前記有機色素安定化剤の各々の添加量としては、十分な有機色素安定化効果を得られる限り特に限定されることはないが、有機色素1モルに対して0.1~15モル、好ましくは0.3~10モル、より好ましくは0.5~5モルである。0.1モル未満では、十分な安定化効果が得られないおそれがあり、15モル以上添加しても添加量に見合う安定化効果が得られず経済的でない。前記のマトリックス材料としては、有機系または無機系バインダーのいずれであっても使用することができる。ここで、無機系バインダーとはポリマー主鎖に炭素原子を含まないものを示す。尚、本発明において使用するマトリックス材料という表現は、有機系または無機系バインダーと呼ばれるマトリックス成分固形分そのものだけでなく、該マトリックス成分を含む溶液例えば、市販のバインダー溶液も含む。有機系バインダーとしては、例えば、ポリメタアクリル酸メチル、ポリメタアクリル酸エチル、ポリメタアクリル酸プロピル、ポリメタアクリル酸ブチル、ポリメタアクリル酸シクロヘキシル等のポリメタアクリル酸エステル系樹脂や、メタアクリル酸メチル-メタアクリル酸エチル共重合体、メタアクリル酸メチル-メタアクリル酸ブチル共重合体等のメタアクリル酸エステル共重合体や、ポリスチレン、ポリα-メチルスチレン等のポリスチレン系樹脂や、スチレン-ブタジエン共重合体、スチレン-イソプレン共重合体、スチレン-アクリル酸共重合体、スチレン-アクリル酸エステル共重合体、スチレン-マレイン酸共重合体、スチレン-マレイン酸エステル系共重合体等のスチレン系共重合体や、ポリエチレンサクシネート、ポリブチレンアジペート、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、ポリカプロラクトン、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂や、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂や、ポリオキシメチレン、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル系樹脂や、シリコーン系樹脂や、ポリスルホン系樹脂や、ポリアミド系樹脂や、ポリイミド系樹脂や、ポリウレタン系樹脂や、ポリカーボネート系樹脂や、エポキシ系樹脂や、フェノール系樹脂や、メラミン樹脂や、ユリア樹脂や、ポリビニル系樹脂等の熱可塑性もしくは熱硬化性合成樹脂や、エチレン-プロピレン共重合ゴム、ポリブタジエンゴム、スチレン-ブタジエンゴム、アクリロニトリル-ブタジエンゴム等の合成ゴムもしくは天然ゴム等が挙げられる。基材への密着性や透明性の観点から、好ましくは、ポリメタアクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、スチレン系共重合体、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリビニル系樹脂等の熱可塑性もしくは熱硬化性合成樹脂であり、より好ましくは、ポリメタアクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、スチレン系共重合体、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、ポリビニル系樹脂である。尚、メタアクリルは、メタクリルおよびアクリルを示す。無機系バインダーとしては、ポリシロキサン系バインダーを好適に用いることができる。この場合、ポリシロキサン系バインダー前駆体としてシリコンアルコキシドの加水分解重縮合反応により得られるゾル溶液シロキサンオリゴマー溶液を好適に用いることができる。シリコンアルコキシドのゾル溶液は、通常、有機溶媒中で酸触媒存在下、シリコンアルコキシドに水を添加し、加水分解重縮合させることにより、調製することができるが、市販のゾル溶液を使用しても良い。以下、シリコンアルコキシドのゾル溶液の調製方法を具体的に説明する。シリコンアルコキシドシリコンアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等の4官能アルコキシシランや、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチル-トリス2-メトキシエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、エチル-トリス2-メトキシエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリプロポキシシラン、ヘキシルトリブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルジメトキシエトキシシラン、エチルジエトキシメトキシシラン等の3官能アルコキシシランや、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビス2-メトキシエトキシジメチルシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等の2官能アルコキシシランが挙げられる。これらの中でも、得られる膜の状態や強度、経済性の観点から、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランであることが好ましい。これらのシリコンアルコキシドは、単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。2種類以上を組み合わせて使用する場合の混合比率は所望に応じて適宜選択することができる。また、最終的に得られるコーティング膜に所望の物性を付与するために、必要に応じて、チタンアルコキシド、セリウムアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド、スズアルコキシド、アルミニウムアルコキシド、ニッケルアルコキシド、亜鉛アルコキシド等の金属アルコキシドを添加併用してもよい。例えば、反射率を高くしたい場合にはチタンアルコキシドや亜鉛アルコキシドを、また機械的強度、耐アルカリ性を高くしたい場合にはジルコニウムアルコキシドを、耐候性を向上させたい場合にはニッケルアルコキシドを添加併用することが効果的である。酸触媒酸触媒としては、特に限定されないが、例えば、硝酸、塩酸、硫酸等の無機酸や、蟻酸、酢酸、蓚酸等の有機酸が挙げられる。加水分解重縮合反応終了後に酸が残存すると、縮合安定性が悪化するため、低沸点で揮発性が高く、PKaの小さな蟻酸を用いることが好ましい。酸触媒の添加量としては、十分な触媒作用を発揮する限り、特に限定されるものではないが、通常シリコンアルコキシド1モルに対して0.01モル以上、より好ましくは0.3モル以上を配合することが好ましい。0.01モル未満では十分な触媒作用が得られないおそれがあり、また過剰に添加した場合には、最終的に得られるシリコンアルコキシドのゾル溶液が、残存する酸により経時的に劣化するおそれがある。よってシリコンアルコキシド1モルに対して1モル以下の割合で配合することが好ましい。水上記シリコンアルコキシドの加水分解を引き起こし得る限り、特に限定されないが、シリコンアルコキシド1モルに対し、2~6モルの割合で水を添加することが好ましい。2モル未満では十分に加水分解が進行しないおそれがあり、6モルを超えると加水分解が速く進行しすぎてしまい、続く重縮合反応の進行を妨げることに加え、反応後に除去する水の量が多くなり効率的でない。反応溶媒シリコンアルコキシド、水、酸触媒に加えて反応溶媒を使用することにより、加水分解速度を適度に低め、確実に加水分解重縮合を進行させることができる。さらに、最終的に得られるシリコンアルコキシドのゾル溶液シロキサンオリゴマー溶液の粘度をハンドリングしやすいレベルにまで調整するための希釈剤としての役割も兼ねる。反応溶媒としては、前記シリコンアルコキシドが溶解するものであれば特に限定されることなく、適宜選択し使用することができる。例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールIPA、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、エチレングリコールや1,2-プロパンジオール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類や、アセトン、メチルエチルケトンMEK、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン、3-オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、3-メチル-3-メトキシプロピオン酸-n-ブチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、酢酸-n-ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸-n-アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸-n-ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸-n-ブチル、ピルビン酸エチル、γ-ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、n-ペンタン、シクロペンタン、n-ヘキサン、シクロヘキサン、n-ヘプタン、シクロヘプタン等の炭化水素類や、2-ピロリドン、N-メチル-2-ピロリドン、ε-カプロラクタム等のラクタム類や、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ-n-ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートPGMEA、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、DMF等が挙げられる。反応性や経済性の観点から、好ましくは、メタノール、エタノール、IPA、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類、エチレングリコールや1,2-プロパンジオール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類、酢酸エチル、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、3-メチル-3-メトキシプロピオン酸-n-ブチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、酢酸-n-ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸-n-アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸-n-ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸-n-ブチル、ピルビン酸エチル、γ-ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ-n-ブチルエーテルアセテート、PGMEA、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類等である。後工程において、該シリコンアルコキシドのゾル溶液シロキサンオリゴマー溶液に式1で表される有機色素安定化剤を溶解混合する場合には、あらかじめ該有機色素安定化剤の溶解性が良好な溶媒を本工程における反応溶媒として使用することで、該有機色素安定化剤を溶解混合する際の労力を軽減することができる。ただし、該有機色素安定化剤の貧溶媒を用いて本工程におけるシリコンアルコキシドのゾル溶液シロキサンオリゴマー溶液を調製した場合であっても、該有機色素安定化剤を溶解混合する前に該シリコンアルコキシドのゾル溶液シロキサンオリゴマー溶液の溶媒を該有機色素安定化剤の良溶媒に置換する、あるいは該シリコンアルコキシドのゾル溶液シロキサンオリゴマー溶液に該有機色素安定化剤の良溶媒を添加することによって、問題なく溶解混合することもできる。前記反応溶媒の使用量は、シリコンアルコキシド100重量部に対し、50~1000重量部、好ましくは100~500重量部の範囲とすることが望ましい。50重量部未満では、加水分解重縮合反応を適度な反応速度で進行させることが困難になるおそれがあり、1000重量部を超えると、加水分解重縮合反応の速度が低下するため効率的でないことに加えて、後述の減圧留去工程に長時間を必要とするおそれがある。まず、1種類または2種類以上のシリコンアルコキシドを、酸触媒、水及び溶媒と混合する。この溶液を0~150°C、好ましくは50~100°Cの温度に維持することにより、加水分解重縮合反応を進行させる。0°C未満では、加水分解重縮合反応が進行しにくくなるおそれがある。また150°Cを超えると加水分解重縮合反応が急速に進行するため、未反応のアルコキシ基が残存したり、ゲル化や着色を招くおそれがある。加水分解重縮合反応の時間は、温度条件にもよるが、通常1~24時間、より好ましくは2~8時間である。1時間未満では、十分に加水分解重縮合反応が進行しないおそれがあり、24時間を超えてもそれ以上反応が進まないことから経済的でない。加水分解重縮合反応により副生するアルコールと水を系外に除去するために、反応終了後、あるいは反応中に、反応液を減圧留去することが好ましい。減圧留去しながら反応を進行させれば、重縮合反応の反応速度を向上させる効果も見込めるためより好ましい。この工程において、前記酸触媒として蟻酸等の低沸点で揮発性の高い触媒を用いれば、溶媒とともに酸触媒も系外に除去でき、反応終了後のゾル溶液の安定性を確保することができる。このようにして加水分解重縮合反応の進行により、無機系バインダー:ポリシロキサン系バインダー前駆体としての、シリコンアルコキシドのゾル溶液シロキサンオリゴマー溶液を得ることができる。これらのマトリックス材料は単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。組み合わせて使用する場合、有機系バインダーから選ばれる異なる2種類以上を組み合わせてもよいし、無機系バインダーから選ばれる異なる2種類以上を組み合わせてもよいし、有機系バインダーと無機系バインダーのそれぞれから選択される異なる2種類以上を組み合わせてもよい。前記の溶媒としては、該有機色素安定化剤の溶解性が良好であるものであれば適宜選択し、使用することができる。有機色素を溶解させて使用する場合には、有機色素安定化剤および有機色素の溶解性が良好なものを適宜選択し使用することができ、さらにマトリックス材料およびまたはマトリックスの材料の前駆体を含む場合には、有機色素安定化剤、有機色素およびマトリックス材料およびまたはマトリックスの材料の前駆体の溶解性相溶性が良好なものを選択し、使用することができる。例えば、メタノール、エタノール、IPA、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、エチレングリコール、1,2-プロパンジオール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、アセトン、MEK、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、3-オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、3-メチル-3-メトキシプロピオン酸-n-ブチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、酢酸-n-ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸n-アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸-n-ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸-n-ブチル、ピルビン酸エチル、γ-ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、n-ペンタン、シクロペンタン、n-ヘキサン、シクロヘキサン、n-ヘプタン、シクロヘプタン等の炭化水素類や、2-ピロリドン、N-メチル-2-ピロリドン、ε-カプロラクタム等のラクタム類や、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ-n-ブチルエーテルアセテート、PGMEA、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、DMF等が挙げられる。これらの中で、該有機色素安定化剤の溶解性の観点からより好ましいものを挙げると、メタノール、エタノール、IPA、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、アセトン、MEK、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、3-オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、3-メチル-3-メトキシプロピオン酸-n-ブチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、酢酸-n-ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸n-アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸-n-ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸-n-ブチル、ピルビン酸エチル、γ-ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、2-ピロリドン、N-メチル-2-ピロリドン、ε-カプロラクタム等のラクタム類や、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ-n-ブチルエーテルアセテート、PGMEA、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、DMF等である。さらに好ましくは、アルコール類としてはテトラフルオロプロパノール等が、ハロゲン化炭化水素類としてはクロロホルム、ジクロロメタン等が、ケトン類としてはMEK、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等が、エステル類としてはγ-ブチロラクトン、乳酸エチル等が、エーテル類としてはシクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等が、芳香族類としてはトルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼンが、ラクタム類としては2-ピロリドン、N-メチル-2-ピロリドン、ε-カプロラクタム等が、グリコールエーテル類としてはPGMEA等が、その他スルホラン、ジメチルスルホキシド、DMF等が挙げられる。また、前記の重合性モノマーは、マトリックス材料の前駆体としても使用できるし、前記溶媒としても使用することができる。重合性モノマーとしては、例えば、有機系重合性モノマーとして、スチレン、α-メチルスチレン、β-メチルスチレン、2,4-ジメチルスチレン、α-エチルスチレン、α-ブチルスチレン、α-ヘキシルスチレン、4-クロロスチレン、3-クロロスチレン、4-ブロモスチレン、4-ニトロスチレン、4-メトキシスチレン、ビニルトルエン等のスチレン系モノマーや、メタアクリル酸や、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、n-プロピルメタアクリレート、イソプロピルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、sec-ブチルメタアクリレート、tert-ブチルメタアクリレート、2-メチルブチルメタアクリレート、2-エチルブチルメタアクリレート、3-メチルブチルメタアクリレート、1,3-ジメチルブチルメタアクリレート、ペンチルメタアクリレート、ヘキシルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、ヘプチルメタアクリレート、オクチルメタアクリレート、2-エトキシエチルメタアクリレート、3-エトキシプロピルメタアクリレート、2-エトキシブチルメタアクリレート、3-エトキシブチルメタアクリレート、ジメチルアミノエチルメタアクリレート、ヒドロキシエチルメタアクリレート、ヒドロキシプロピルメタアクリレート、ヒドロキシブチルメタアクリレート、エチル-α-ヒドロキシメチルメタアクリレート、メチル-α-ヒドロキシメチルメタアクリレート、フェニルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、フェニルエチルメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ヘキサンジオールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート等のメタアクリル酸エステルや、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4-エポキシシクロヘキシルエチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド、アリルシクロヘキセンジオキシド、3,4-エポキシ-4-メチルシクロヘキシル-2-プロピレンオキシドおよびビス3,4-エポキシシクロヘキシルエーテル等の脂環式エポキシ化合物や、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ブロモ化ビスフェノールA、ビフェノール、レゾルシン等をグリシジルエーテル化した化合物や、トリメチレンオキシド、3-エチル-3-ヒドロキシメチルオキセタン、3,3-ジメチルオキセタン、3,3-ジクロルメチルオキセタン、3-エチル-3-フェノキシメチルオキセタン、3-エチル-3-[{3-エチルオキセタニルメトキシ}メチル]オキセタン、ビス3-エチル-3-オキセタニルメチルエーテル、1,4-ビス[{3-エチル-3-オキセタニルメトキシ}メチル]ベンゼン、トリ[3-エチル-3-オキセタニルメトキシメチル]ベンゼン、ビス[3-エチル-3-オキセタニルメトキシメチルフェニル]エーテル、3-エチル-3-オキセタニルメトキシオリゴジメチルシロキサン等のオキセタン化合物等が挙げられる。また、無機系重合性モノマーとして、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等の4官能アルコキシシランや、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチル-トリス2-メトキシエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、エチル-トリス2-メトキシエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリプロポキシシラン、ヘキシルトリブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルジメトキシエトキシシラン、エチルジエトキシメトキシシラン等の3官能アルコキシシランや、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビス2-メトキシエトキシジメチルシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等の2官能アルコキシシランや、チタンアルコキシド、セリウムアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド、スズアルコキシド、アルミニウムアルコキシド、ニッケルアルコキシド、亜鉛アルコキシド等の金属アルコキシド等を使用することができる。ここで、無機系重合性モノマーとは、重合反応により形成されるポリマー主鎖に炭素原子を含まないものを示す。これらの溶媒は、単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。2種類以上を組み合わせた混合溶媒を使用する場合の混合比率は適宜選択することができる。これら有機色素安定化剤、および有機色素、さらに必要に応じて併用されるマトリックス材料およびまたはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマー、およびまたは溶媒を混合する方法としては、特に制限されることなく公知の攪拌装置を使用することができる。例えば、有機色素安定化剤、および有機色素、およびマトリックス材料およびまたはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを溶媒に溶解させて使用する場合には、特に混合の手順に関して制限を受けることはなく、いかなる順番で各成分を混合してもよい。尚、溶媒として重合性モノマーを使用する場合にも同様にして混合することができる。また、有機色素安定化剤、およびマトリックス材料およびまたはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを溶媒に溶解させ、且つ有機色素は分散状態で使用したい場合には、混合の手順に関しては特に制限を受けることはないが、あらかじめ有機色素を溶媒に分散させた分散液を調整しておき、この分散液を添加混合するか、あるいは全成分を添加混合した後、公知の分散機を用いて、該有機色素を分散させることができる。尚、溶媒として重合性モノマーを使用する場合にも同様にして混合することができる。また、有機色素微粒子の分散状態を安定に保つために、必要に応じて公知の分散剤を併用してもよい。分散機としては、例えば、ペイントシェーカー、ボールミル、ナノミル、アトライター、バスケットミル、サンドミル、サンドグラインダー、ダイノーミル、ディスパーマット、SCミル、スパイクミル、アジテーターミル等のメディア型分散機や、超音波ホモジナイザー、高圧ホモジナイザー、ナノマイザー、デゾルバー、ディスパー、高速インペラー分散機等のメディアレス型分散機が挙げられる。中でも、コスト、処理能力の面から、メディア型分散機を使用するのが好ましい。また、これらのうちの一つを単独で用いても良く、2種類以上の装置を組み合わせて使用しても良い。分散メディアとしては、用いる分散機の分散室内部の材質に応じて、ステンレス鋼、スチール等の鋼球ビーズや、アルミナ、ステアタイト、ジルコニア、ジルコン、シリカ、炭化ケイ素、窒化ケイ素等のセラミックスビーズや、ソーダガラス、ハイビー等のガラスビーズや、WC等の超硬ビーズ等の中から適宜選択し使用することができ、そのビーズ径は0.03~1.5mmφの範囲が好ましい。分散剤としては、例えば、アルキルアミン塩、ジアルキルアミン塩、テトラアルキルアンモニウム塩、ベンザルコニウム塩、アルキルピリジニウム塩、イミダゾリウム塩等のカチオン性分散剤や、脂肪酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ジアルキルスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、アルキルジアリールジスルホン酸塩、アルキルリン酸塩等のアニオン性分散剤や、アルキルベタインやアミドベタイン等の両性分散剤や、ノニオン性分散剤や、フッ素系分散剤や、シリコン系分散剤や、高分子系分散剤等を使用することができる。中でも、次に例示するようなノニオン性分散剤や高分子系分散剤が特に好ましい。ノニオン性分散剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類や、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類や、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のポリエチレングリコールジエステル類や、ソルビタン脂肪酸エステル類が好ましく用いられる。分散性や経済性の観点から、より好ましくは、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類およびポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類である。高分子系分散剤としては、例えば、ポリウレタン、ポリカルボン酸エステル、不飽和ポリアミド、ポリカルボン酸及びその塩、スチレン-アクリル酸共重合体、アクリル酸-アクリル酸エステル共重合体、スチレン-マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンなどの水溶性樹脂や水溶性高分子化合物、ポリエステル系、変性ポリアクリレート、エチレンオキサイド/プロピレンオキサイド付加物等が好ましく用いられる。溶媒を使用することなく、該有機色素安定化剤、有機色素を、加熱により溶融させる等して流動性をもたせたマトリックス材料溶媒を含まないマトリックス成分そのもの中に練りこむ方法を採用してもよい。この場合には公知の溶融混練機を使用することが好ましい。一例を挙げると、短軸押出機を用いて溶融混練した後にストライド状に押し出し、ペレット状にカットすることで、成形材料としての光吸収部材用組成物を得ることができる。溶融混練時の温度は使用する有機色素安定化剤および有機色素の分解温度と、使用するマトリックス材料の融点またはガラス転移点の双方を考慮した上で適宜設定することができ、また混練時の圧力については、使用するマトリックス材料の物性に応じて適宜設定することができる。尚、溶融混練時に使用するマトリックス材料の好ましい例示としては、後述の基材の項で有機系基材として例示するものと同じものが挙げられる。また、本発明の効果を損なわない範囲内であれば、硬化剤、硬化触媒、架橋剤、カップリング剤、レベリング剤、潤滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、熱安定剤、難燃剤、フィラー、着色剤、光触媒材料、防錆剤、撥水剤、導電性材料、アンチブロッキング材、軟化剤、可塑剤、離型剤、蛍光増白剤、無機系光遮蔽剤等を適宜添加してもよい。また、重合性モノマーを用いる場合において、後述の光吸収部材を作製する際に重合工程を設ける場合には、別途重合開始剤を併用してもよい。重合開始剤としては特に限定されるものではなく、使用する重合性モノマーの種類に応じて適宜選択することができる。また、その使用量は、重合性モノマーおよび重合開始剤の活性に応じて適宜選択することができる。熱硬化の場合に使用されるラジカル重合開始剤としては、例えば、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビス2-メチルブチロニトリル、2,2’-アゾビスイソバレロニトリル、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル、1,1’-アゾビスシクロヘキサノン-1-カルボニトリル等のアゾ系化合物や、メチルエチルケトンパーオキシド、メチルイソブチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキサイド等のケトンパーオキシド類や、ベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、2,4-ジクロロベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド等を挙げることができる。光硬化の場合に用いられるラジカル重合開始剤としては、例えば、p-イソプロピル-α-ヒドロキシイソブチルフェノン、α-ヒドロキシイソブチルフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、4’-メチルチオ-2,2-ジメチル-2-モルホリノアセトフェノン、ベンゾインイソブチルエーテル、2-クロロチオキサントン、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニルホスフィンオキサイド等を挙げることができる。熱硬化の場合に使用されるカチオン重合開始剤としては、例えば、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、三フッ化ホウ素アミン錯体、塩化アルミニウム、四塩化チタン、四塩化スズ、塩化鉄III、塩化亜鉛等のルイス酸類や、アンモニウム塩、スルホニウム塩、オキソニウム塩、ホスホニウム塩等を挙げることができる。光硬化の場合に使用されるカチオン重合開始剤としては、例えば、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ホスホニウム塩等を挙げることができる。硬化剤としては、上記重合性モノマーとしてエポキシ系モノマーを使用する際に使用されるものとして、例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸などの酸無水物や、ジエチレントリアミン、トリエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジエチルアミノプロピルアミン、N-アミノエチルピペラジン、イソホロンジアミン、メンセンジアミン、ピペリジン、N,N-ジメチルピペラジンなどの脂肪族アミンや、m-フェニレンジアミン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、44ジアミノジフェニルスルホンなどの芳香族アミンや、2-メチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾールなどのイミダゾール類や、三フッ化ホウ素アミン錯体、塩化アルミニウム、四塩化チタン、四塩化スズ、塩化鉄III、塩化亜鉛等のルイス酸類や、アンモニウム塩、スルホニウム塩、オキソニウム塩、ホスホニウム塩や、ポリメルカプタン、ポリサルファイドなどを挙げることができる。中でも、酸無水物類が重合後のエポキシ樹脂の機械特性を向上する点で好ましく、操作性において常温で液状のものが好ましい。具体的には、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸等を挙げることができる。常温で固体の酸無水物、例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸等の酸無水物を使用する場合には、常温で液状の酸無水物に溶解させ、常温で液状の混合物として使用することが操作上好ましい。エポキシ系モノマーの上記硬化反応を促進するために、さらに硬化促進剤を使用することもできる。硬化促進剤は、単独または2種以上を混合して使用することができる。例えば、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-エチル-4-メチルイミダゾール、ベンジルジメチルアミン、2,4,6-トリスジアミノメチルフェノール、1,8-ジアザビスシクロ5,4,0ウンデセン-7とそのオクチル酸塩などの第三級アミン類やイミダゾール類及び/又はそれらの有機カルボン酸塩や、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、ベンジルトリフェニルホスホニウム臭素塩、ベンジルトリブチルホスホニウム臭素塩などのホスフィン類及び/又はそれらの第四級塩や、オクチル酸亜鉛、ラウリン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、オクチル酸錫などの有機カルボン酸金属塩や、亜鉛とβ-ジケトンよりなるアセチルアセトン亜鉛キレート、ベンゾイルアセトン亜鉛キレート、ジベンゾイルメタン亜鉛キレート、アセト酢酸エチル亜鉛キレートなどの金属-有機キレート化合物や、芳香族スルホニウム塩などが挙げられる。《光吸収部材用組成物を用いて作製される光吸収部材》かくして得られた光吸収部材用組成物を用いて光吸収部材を作製することができる。本発明における光吸収部材は主に以下の2種類の形態を示す。I基材上に該有機色素安定化剤および有機色素を含有する光吸収膜を有する積層体としての光吸収部材前記で得られた光吸収部材用組成物を基材に塗布し、乾燥およびまたは硬化することにより、基材上に該有機色素安定化剤および有機色素を含有する光吸収膜を有する積層体としての光吸収部材を作製することができる。前記光吸収部材用組成物を基材に塗布する方法としては、特に限定されないが、例えばディップコート法、スピンコート法、フローコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、バーコート法、スプレー法、リバースコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。基材は、所望によりフィルムでもボードでも良く、形状は限定されない。材質についても特に限定されるものではなく、用途に応じて適宜選択し、使用することができる。例えば、ガラス、金属板、セラミックス等の無機系基材や、ポリシクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、メタアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂等の有機系基材が挙げられる。中でも、透明性の観点から、ガラス、ポリシクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、メタアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂等が好ましい。また、層間剥離、コートムラを防ぐ目的で、塗布前に基材表面を洗浄してもよい。洗浄方法としては特に限定されず、基材の種類に応じて適宜選択し、実施することができる。通常、超音波洗浄、UV洗浄、セリ粉洗浄、酸洗浄、アルカリ洗浄、界面活性剤洗浄、有機溶剤洗浄等を単独で、または組み合わせて実施することができる。洗浄終了後は、洗浄剤が残留しないように濯ぎ及び乾燥を行う。塗布により形成される光吸収膜の膜厚は特に限定されるものではなく、用途に応じて適宜調整することができるが、通常0.01~1000μm、好ましくは0.05~700μm、さらに好ましくは0.1~500μmである。0.01μm未満では、膜特性と光吸収能の両立が困難となるおそれがあり、1000μmを超えると、後述の乾燥工程において光吸収部材用組成物中の揮発成分が膜内部から蒸発し、膜表面に凹凸を生じたり、クラックを生じる可能性がある。前記光吸収部材用組成物が溶媒を含有する場合には、乾燥工程を設けてもよい。乾燥温度、乾燥時間は、用いる溶媒の種類によって適宜設定することができる。また、前記光吸収部材用組成物がマトリックス材料およびまたはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを含有する場合には、マトリックス膜の機械的強度等の物性を目的に見合うようにコントロールするため、養生工程や焼成工程を設けてもよい。例えば、マトリックス材料としてポリシロキサン系バインダーを用いた場合、前記乾燥工程の後に100~500°C、好ましくは130~400°Cでの焼成工程を設けることによって膜自体の機械的強度を向上させることができる。すなわち、前記乾燥工程において、ゾルシロキサンオリゴマー同士が重縮合反応を起こすことでシロキサンネットワークを拡大し、ゲル体の骨格構造を形成する。このゲル体を焼成することでさらにシロキサンネットワークが拡大する。このシロキサンネットワークポリシロキサンの分子量の大きさにより、得られるマトリックス膜の機械的強度をコントロールすることができる。100°Cより低温では、機械的強度が十分向上しないおそれがあり、500°Cより高温では、マトリックス膜中に含有される該金属錯体およびまたは有機色素が熱分解してしまうおそれがある。焼成時間は、所望のマトリックス膜の物性に応じて適宜調整可能であるが、通常、10分間~5時間、好ましくは30分間~3時間である。10分間より短いと機械的強度が十分向上しないおそれがあり、5時間より長いと、時間に見合う効果が得られず経済的でない。また、重合処理を設ける場合、加熱処理やUV照射等の処理を設けることができる。加熱条件やUV照射条件は、使用する重合開始剤や重合性モノマーの種類に応じて適宜選択することができる。尚、後述の剥離性基材を用い、この上にコーティングを施した後、所望の別基材に該コーティング層を転写して得られた積層体もIの形態に含まれる。別基材としては前記の基材が例示される。具体的な方法としては、例えば、光吸収部材用組成物を剥離性基材例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布し、必要に応じて乾燥工程を設けた後、ラミネーター等を用いて別基材例えば、ガラス基材と貼り合わせ、その後剥離性基材を剥離することで、別基材上に有機色素安定化剤および有機色素を含有する光吸収膜を有する積層体としての光吸収部材を作製することができる。この場合にも必要に応じて、前記養生工程、焼成工程や重合処理等を設けてもよい。例えば、所望の基材上に異なる成分からなるマトリックス膜を多層化させた積層体を作製する場合に、このような転写法を用いることが有効である。すなわち、前記のように基材上に直接光吸収部材用組成物を塗布し、光吸収層を形成する方法で多層膜を形成しようとする場合、例えば、n1層目nは自然数を表すを形成する際に使用する光吸収部材用組成物は、n層目の構成成分が溶解したり膨潤したりしないものでなければならず、n1層目を構成する光吸収部材用組成物の構成成分が制限されてしまうが、かかる転写法を用いることにより、これらの制限を回避することができる。II該有機色素安定化剤および有機色素が含有された膜形態の光吸収部材前記で得られた光吸収部材用組成物を、剥離性基材上に塗布し、乾燥または硬化した後に、剥離性基材から該光吸収膜を剥離することによって得られる、該有機色素安定化剤および有機色素が含有された膜形態の光吸収部材を作製することができる。光吸収部材用組成物を剥離性基材に塗布する方法としては、特に限定されず、前記Iで例示したものが挙げられる。前記剥離性基材は、所望によりフィルムでもボードでも良く、形状は限定されない。剥離性基材は、基材を構成する素材が剥離性を有するものであれば基材単独でもよいし、基材を構成する素材が剥離性を有しない場合、または剥離性が乏しい場合には基材に剥離性層を積層したものであってもよい。前者の基材を構成する素材が剥離性を有するものである場合には、ポリエチレン樹脂やポリプロピレン樹脂等のポリオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂等のポリエステル系樹脂等を用いることができる。後者の、基材に剥離性層を積層したものである場合、基材としては前記Iで例示したような基材を用いることができる。これら基材の表面に基材とは接着性を有し、紫外線吸収部材用組成物から作製される該金属錯体を含有する膜層に対しては剥離性を有する剥離性層を積層したものを使用することができる。剥離性層は、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、剥離性物質をバインダー樹脂中に溶解または分散させたもの等で構成される。剥離性物質としては、特に制限されるものではなく、例えば、長鎖アルキル化合物、カルナバワックスやモンタンワックスや酸化ポリエチレンや非酸化ポリエチレン等の合成ワックス等が挙げられる。これらから選択される少なくとも1種以上を溶媒分散媒中に溶解、分散、希釈し、得られた組成物を基材上に公知の方法で塗布または印刷した後、乾燥または硬化することによって基材上に剥離性層を形成することができる。剥離性層の膜厚は、0.5μm~10μm程度であることが好ましい。光吸収部材用組成物を剥離性基材上に塗布することによって形成される該有機色素安定化剤および有機色素が含有された膜の膜厚は特に限定されるものではなく、用途に応じて適宜調整することができるが、通常0.01~1000μm、好ましくは0.05~700μm、さらに好ましくは0.1~500μmである。0.01μm未満では、膜特性と光吸収能の両立が困難となるおそれがあり、1000μmを超えると、後述の乾燥工程において光吸収部材用組成物中の揮発成分が膜内部から蒸発し、膜表面に凹凸を生じたり、クラックを生じる可能性がある。Iと同じく、前記光吸収部材用組成物が溶媒を含有する場合には、乾燥工程を設けてもよく、乾燥温度、乾燥時間は、用いる溶媒の種類によって適宜設定することができる。また、前記光吸収部材用組成物がマトリックス材料およびまたはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを含有する場合には、マトリックス膜の機械的強度等の物性を目的に見合うようにコントロールするため、養生工程や焼成工程を設けてもよい。例えば、マトリックス材料としてポリシロキサン系バインダーを用いた場合、前記乾燥工程の後に100~500°C、好ましくは130~400°Cでの焼成工程を設けることによって膜自体の機械的強度を向上させることができる。すなわち、前記乾燥工程において、ゾルシロキサンオリゴマー同士が重縮合反応を起こすことでシロキサンネットワークを拡大し、ゲル体の骨格構造を形成する。このゲル体を焼成することでさらにシロキサンネットワークが拡大する。このシロキサンネットワークポリシロキサンの分子量の大きさにより、得られるマトリックス膜の機械的強度をコントロールすることができる。100°Cより低温では、機械的強度が十分向上しないおそれがあり、500°Cより高温では、マトリックス膜中に含有される該金属錯体およびまたは有機色素が熱分解してしまうおそれがある。焼成時間は、所望のマトリックス膜の物性に応じて適宜調整可能であるが、通常、10分間~5時間、好ましくは30分間~3時間である。10分間より短いと機械的強度が十分向上しないおそれがあり、5時間より長いと、時間に見合う効果が得られず経済的でない。また、重合処理を設ける場合、加熱処理やUV照射等の処理を設けることができる。加熱条件やUV照射条件は、使用する重合開始剤や重合性モノマーの種類に応じて適宜選択することができる。また、前記光吸収部材用組成物の項で述べたように、該有機色素安定化剤、有機色素を、加熱により溶融させる等して流動性をもたせたマトリックス材料溶媒を含まないマトリックス成分そのもの中に練りこむ方法を採用する場合には、前記光吸収部材用組成物の項で挙げた一例に倣えば、得られたペレット状の光吸収部材用組成物を、シート押出機を用いて成形することでシート状の光吸収部材を得ることができる。以下に実施例および比較例を挙げ、本発明を具体的に説明するが、本発明は、これら実施例によって何ら限定されるものではない。製造例1フェノール18.8g0.2モルを50°Cまで加熱し溶融させ、ここに2-アミノベンゾチアゾール45.1g0.3モルを加えた後、さらに180°Cまで加熱し、20時間保温した。その後、反応液を80°Cまで冷却し、エタノール60gを滴下し、さらに1時間保温した。その後、室温まで冷却し、析出物を濾別し、エタノールで洗浄後、乾燥し、配位子として白色の2,2’-イミノビスベンゾチアゾールL1:下記表1参照32.1gを得た。収率は2-アミノベンゾチアゾールに対して75.5であった。製造例2製造例1において2-アミノベンゾチアゾール45.1g0.3モルに代えて2-アミノ-5,6-ジメチルベンゾチアゾール53.5g0.3モルを用いた以外は製造例1と同様にして、配位子として、白色の2,2’-イミノビス5,6-ジメチルベンゾチアゾールL2:下記表1参照42.1gを得た。収率は2-アミノ-5,6-ジメチルベンゾチアゾールに対して82.7であった。製造例3製造例1において2-アミノベンゾチアゾール45.1g0.3モルに代えて2-アミノ-6-クロロベンゾチアゾール55.4g0.3モルを用いた以外は製造例1と同様にして、配位子として、白色の2,2’-イミノビス6-クロロベンゾチアゾールL3:下記表1参照37.2gを得た。収率は2-アミノ-6-クロロベンゾチアゾールに対して70.4であった。製造例4製造例1において2-アミノベンゾチアゾール45.1g0.3モルに代えて2-アミノ-6-メトキシベンゾチアゾール54.1g0.3モルを用いた以外は製造例1と同様にして、配位子として、白色の2,2’-イミノビス6-メトキシベンゾチアゾールL4:下記表1参照41.7gを得た。収率は2-アミノ-6-メトキシベンゾチアゾールに対して81.0であった。製造例52-アミノベンゾチアゾール90.1g0.60モルをDMF566gに溶解させ、氷浴下で20モルLの水酸化ナトリウム水溶液36mL水酸化ナトリウム0.72モル相当を滴下し、次いで二硫化炭素91.4g1.2モルを滴下し、さらに20モルLの水酸化ナトリウム水溶液36mL水酸化ナトリウム0.72モル相当を滴下した後に、ヨウ化メチル178.8g1.26モルを滴下した。室温で2時間攪拌した後に、この反応液を水3000gの中に滴下した。析出物を濾別し、水で洗浄後、乾燥し、S,S’-ジメチル-N-2-ベンゾチアゾリルカルボンイミドジチオエート107.2gを得た。収率は2-アミノベンゾチアゾールに対して70.2であった。2-アミノフェノール21.8g0.20モルをDMF944gに溶解させ、ここに5モルLの水酸化ナトリウム水溶液40mL水酸化ナトリウム0.20モル相当を加え、室温で30分間攪拌し、次いでここに前記の得られたS,S’-ジメチル-N-2-ベンゾチアゾリルカルボンイミドジチオエート50.9g0.20モルをDMF1416gに溶解させた溶液を滴下した。次いで153°Cまで昇温し、窒素雰囲気下で6時間還流させた後、室温まで冷却し、この反応液を水2000g中に滴下した。析出物を濾別し、水で洗浄後、乾燥し、2-2-ベンゾチアゾリルアミノベンゾオキサゾールL5:下記表1参照30.0gを得た。収率は2-アミノフェノールに対して56.1であった。製造例6製造例5において2-アミノベンゾチアゾール90.1g0.60モルに代えて、2-アミノ-6-メチルベンゾチアゾール98.5g0.60モルを用いた以外は製造例5と同様にして、S,S’-ジメチル-N-[2-6-メチルベンゾチアゾリル]カルボンイミドジチオエート114.2gを得た。収率は2-アミノ-6-メチルベンゾチアゾールに対して70.9であった。製造例5においてS,S’-ジメチル-N-2-ベンゾチアゾリルカルボンイミドジチオエート50.9g0.20モルに代えて、ここで得られたS,S’-ジメチル-N-[2-6-メチルベンゾチアゾリル]カルボンイミドジチオエート53.7g0.20モルを用いた以外は製造例5と同様にして、2-[2-6-メチルベンゾチアゾリルアミノ]ベンゾオキサゾールL6:下記表1参照29.4gを得た。収率はS,S’-ジメチル-N-[2-6-メチルベンゾチアゾリル]カルボンイミドジチオエートに対して52.3であった。製造例7製造例5において2-アミノフェノール21.8g0.20モルに代えて、2-アミノ-4-クロロフェノール28.7g0.20モルを用いた以外は製造例5と同様にして、5-クロロ-2-2-ベンゾチアゾリルアミノベンゾオキサゾールL7:下記表1参照32.4gを得た。収率は2-アミノ-4-クロロフェノールに対して53.7であった。製造例8o-フェニレンジアミン21.6g0.2モルをDMF944gに溶解させ、ここにS,S’-ジメチル-N-2-ベンゾチアゾリル-カルボンイミドジチオエート50.9g0.20モルをDMF1258gに溶解させた溶液を滴下した。次いで153°Cまで昇温し、窒素雰囲気下で13時間還流させた後、0°Cまで冷却した。ここに水2000gを滴下し、析出物を濾別し、水で洗浄後、乾燥し、2-2-ベンゾチアゾリルアミノベンゾイミダゾールL8:下記表1参照32.0gを得た。収率はo-フェニレンジアミンに対して60.1であった。製造例9エチルシアノアセテート101.8g0.90モルと2-アミノチオフェノール112.7g0.90モルを混合し、窒素雰囲気下において120°Cで2時間保温した。この反応液を室温まで冷却した後、黄色のオイルとしてエチル-2-ベンゾチアゾリルアセテート185.7gを得た。収率は2-アミノチオフェノールに対して93.2であった。N-メチル-o-フェニレンジアミン73.3g0.60モルと、前で得られたエチル-2-ベンゾチアゾリルアセテート132.8g0.60モルを混合し、窒素雰囲気下において160°Cで6時間還流した。このとき副生するエタノールを留去しながら還流した。反応液を室温まで冷却し、ジエチルエーテル900gを加え、析出した黄色の固体を濾別した。濾別した黄色固体に20塩酸1500gを加え溶解させた。ここに活性炭を加え、室温で30分間攪拌後、濾過し、得られた濾液がpH8になるまで炭酸水素ナトリウム水溶液を滴下し中和したところ、沈殿物が得られた。これを濾別し、水600g、クロロホルム600gを加え、攪拌し、分液処理によりクロロホルム層を取り出した。クロロホルムを留去し、さらに乾燥することで、微黄色の2-ベンゾチアゾリル2-N-メチルベンゾイミダゾリルメタンL9:下記表1参照36.9gを得た。収率はN-メチル-o-フェニレンジアミンに対して22.0であった。製造例102-アミノフェノール32.7g0.30モルとマロン酸15.6g0.15モルを混合し、この混合液を攪拌下のポリリン酸390g中に70°Cに保温しながら加える。次にこの反応液を150°Cまで昇温し、3時間保温した後、室温まで冷却した後に水を滴下した。析出物を濾別し、水で洗浄後、乾燥し、ビス2-ベンゾオキサゾリルメタンL10:下記表1参照25.3gを得た。収率は2-アミノフェノールに対して67.4であった。製造例11製造例10において2-アミノフェノール32.7g0.30モルに代えて、2-アミノチオフェノール37.6g0.30モルを用いた以外は製造例10と同様にして、ビス2-ベンゾチアゾリルメタンL11:下記表1参照38.2gを得た。収率は2-アミノチオフェノールに対して90.2であった。製造例12N-メチル-o-フェニレンジアミン110.0g0.90モルとマロン酸ジエチル72.1g0.45モルを混合し、この混合液を窒素雰囲気下において155°Cで11時間還流した。析出物を濾別し、ジエチルエーテルで洗浄後、20塩酸900mLを加え溶解させた。ここに活性炭を加え、室温で30分間攪拌後、濾過し、得られた濾液がpH8になるまで炭酸水素ナトリウム水溶液を滴下したところ、沈殿を生じた。これを濾別し灰色固体を得た。この灰色固体をIPAから再結晶することにより精製し、乾燥することで、白色のビス[2-N-メチルベンゾイミダゾリル]メタンL12:下記表1参照38.1gを得た。収率はN-メチル-o-フェニレンジアミンに対して30.6であった。製造例13製造例1で得られた2,2’-イミノビスベンゾチアゾールL1:下記表1参照10g0.035モルをクロロスルホン酸70.1gに添加し、混合物を室温で18時間攪拌した。さらに塩化チオニル10g0.084モルを添加し50°Cで1時間攪拌した後室温まで冷却した。この混合物を400gの氷の上に注ぎ、吸引ろ過し残った氷と一緒にジイソブチルアミン13.1g0.101モルと即座に攪拌した。室温まで暖めた後、約1mLの50重量の水酸化ナトリウム溶液によって混合物をアルカリ性にした。固体を吸引ろ過し、水で洗浄後、乾燥することで薄黄色の2,2’-イミノビス[6-N,N-ジイソブチルアミノスルホニルベンゾチアゾール]L13:下記表1参照18.6gを得た。収率は2,2’-イミノビスベンゾチアゾールに対して80.0であった。製造例14製造例13においてジイソブチルアミン13.1g0.101モルに代えて、モルホリン8.8g0.101モルを用いた以外は製造例13と同様にして、2,2’-イミノビス6-モルホリノスルホニルベンゾチアゾールL14:下記表1参照15.4gを得た。収率は2,2’-イミノビスベンゾチアゾールに対して75.5であった。製造例15製造例13においてジイソブチルアミン13.1g0.101モルに代えて、モルホリン8.8g0.101モルを用いた以外は製造例13と同様にして、2,2’-イミノビス6-モルホリノスルホニルベンゾチアゾールL14:下記表1参照15.4gを得た。収率は2,2’-イミノビスベンゾチアゾールに対して75.5であった。得られた各配位子の構造式を表1に示す。製造例15製造例1で得られた配位子L128.3g0.1モルを温DMF250g70°Cに溶解させ、ここに酢酸コバルト4水和物12.5g0.05モルを添加した。この反応液を70°Cで1時間攪拌し、室温まで冷却した後メタノール300gを滴下した。生じた析出物を濾別し、メタノールで洗浄後、乾燥し、橙色のコバルト錯体C1-Co28.5gを得た。収率は配位子L1に対して91.4であった。製造例16製造例15において配位子L128.3g0.1モルに代えて、配位子L233.9g0.1モルを用いた以外は製造例15と同様にして、橙色のコバルト錯体C2-Co32.3gを得た。収率は配位子L2に対して87.8であった。製造例17製造例15において配位子L128.3g0.1モルに代えて、配位子L335.2g0.1モルを用い、さらに酢酸コバルト4水和物12.5g0.05モルに代えて、酢酸ニッケル4水和物12.4g0.05モルを用いた以外は製造例15と同様にして、赤紫色のニッケル錯体C3-Ni28.0gを得た。収率は配位子L3に対して73.6であった。製造例18製造例15において配位子L128.3g0.1モルに代えて、配位子L434.3g0.1モルを用い、さらに酢酸コバルト4水和物12.5g0.05モルに代えて、酢酸銅1水和物10.0g0.05モルを用いた以外は製造例15と同様にして、灰緑色の銅錯体C4-Cu26.2gを得た。収率は配位子L4に対して70.0であった。製造例19製造例17において配位子L335.2g0.1モルに代えて、配位子L526.7g0.1モルを用いた以外は製造例19と同様にして、赤褐色のニッケル錯体C5-Ni21.7gを得た。収率は配位子L5に対して73.5であった。製造例20製造例15において配位子L128.3g0.1モルに代えて、配位子L628.1g0.1モルを用いた以外は製造例15と同様にして、黄色のコバルト錯体C6-Co16.3gを得た。収率は配位子L6に対して52.6であった。製造例21製造例17において配位子L335.2g0.1モルに代えて、配位子L730.2g0.1モルを用いた以外は製造例17と同様にして、赤紫色のニッケル錯体C7-Ni22.5gを得た。収率は配位子L7に対して68.2であった。製造例22製造例18において配位子L434.3g0.1モルに代えて、配位子L826.6g0.1モルを用いた以外は製造例18と同様にして、緑色の銅錯体C8-Cu16.6gを得た。収率は配位子L8に対して55.9であった。製造例23製造例15において配位子L128.3g0.1モルに代えて、配位子L927.9g0.1モルを用いた以外は製造例15と同様にして、黄色のコバルト錯体C9-Co21.3gを得た。収率は配位子L9に対して69.1であった。製造例24製造例15において配位子L128.3g0.1モルに代えて、配位子L1025.0g0.1モルを用いた以外は製造例15と同様にして、赤色のコバルト錯体C10-Co20.3gを得た。収率は配位子L10に対して72.8であった。製造例25製造例15において配位子L128.3g0.1モルに代えて、配位子L1128.2g0.1モルを用いた以外は製造例15と同様にして、紫色のコバルト錯体C11-Co22.1gを得た。収率は配位子L11に対して71.1であった。製造例26製造例17において配位子L335.2g0.1モルに代えて、配位子L1227.6g0.1モルを用いた以外は製造例17と同様にして、灰色のニッケル錯体C12-Ni20.8gを得た。収率は配位子L12に対して68.3であった。製造例27製造例13で得られた配位子L134.00g0.006モルを温DMF24g70°Cに溶解させ、ここに酢酸ニッケル4水和物0.75g0.003モルを添加した。この混合物を70°Cで1時間攪拌し、室温まで冷却した後メタノール20gを滴下した。生じた析出物を濾別し、メタノールで洗浄後、乾燥し、黄緑色のニッケル錯体C13-Ni3.58gを得た。収率は配位子L13に対して85.9であった。製造例28製造例27において酢酸ニッケル4水和物0.75g0.003モルに代えて酢酸コバルト4水和物0.75g0.003モルを用いた以外は製造例27と同様にして、黄色のコバルト錯体C13-Co3.71gを得た。収率は配位子L13に対して89.0であった。製造例29製造例27において酢酸ニッケル4水和物0.75g0.003モルに代えて酢酸銅1水和物0.60g0.003モルを用いた以外は製造例27と同様にして、緑色の銅錯体C13-Cu3.55gを得た。収率は配位子L13に対して84.9であった。製造例30製造例27において配位子L134.00g0.006モルに代えて配位子L143.49g0.006モルを用いた以外は製造例27と同様にして、黄色のコバルト錯体C14-Co3.14gを得た。収率は配位子L14に対して85.8であった。得られた各金属錯体の構造式を表2に示す。無機系バインダー:シリコンアルコキシドのゾル溶液の調製尚、以下に記載のシリコンアルコキシドのゾル溶液の加熱残分とは、ガラス基材上にゾル溶液の液滴をのせ200°Cで30分間加熱した際にガラス基材上に残った固形分の重量を、前記のガラス基材上にのせたゾル溶液の液滴の重量で除した値である。それぞれの試料について3回ずつ測定し、得られた値の平均値を示した。製造例31メチルトリエトキシシラン49.9g0.28モルと、フェニルトリエトキシシラン24.0g0.10モルと、MEK80gとを混合し、室温で攪拌し、溶液を得た。この溶液に、触媒としてギ酸6.9g0.15モルおよび水25.0gを添加し、室温で30分間攪拌することにより、加水分解を行った。次に加水分解後の溶液を70°Cまで昇温し、4時間保温し、加水分解重縮合反応を進行させ、さらに減圧下で、副生したアルコールと水を留去しつつ、さらに1時間加水分解重縮合反応を進行させることで、無機系バインダー:ポリシロキサン系バインダー前駆体としての、シリコンアルコキシドのゾルMEK溶液シロキサンオリゴマーMEK溶液,加熱残分42.5を得た。光吸収部材用組成物およびこれを用いた光吸収部材実施例1有機系バインダーとしてアクリル酸メチル-メタクリル酸エチル共重合体ロームアンドハース社製の商品名;パラロイドB-720.79gをMEK8.8gに溶解させ、これにシアニン系色素D1下記表3参照、FEWChemicals社製のS03307.9mg0.0173mmolと、製造例15で得られた金属錯体C1-Co10.8mg0.0173mmolを加え、溶解させることにより、溶液形態の光吸収部材用組成物Aを得た。この光吸収部材用組成物Aを、バーコーター100μmを用いてポリエチレンテレフタレートフィルム基材上に塗布した後、室温下、窒素雰囲気において5分間予備乾燥させた。その後80°Cで3分間乾燥し、光吸収部材Aを得た。コーティング膜の膜厚は7μmであった。実施例2実施例1において、シアニン系色素D1下記表3参照、FEWChemicals社製のS03307.9mg0.0173mmolに代えてシアニン系色素D2下記表3参照、FEWChemicals社製のS02307.0mg0.0119mmolを用い、さらに製造例15で得られた金属錯体C1-Co10.8mg0.0173mmolに代えて製造例16で得られた金属錯体C2-Co8.7mg0.0119mmolを用いた以外は実施例1と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物B、および光吸収部材Bを得た。コーティング膜の膜厚は8μmであった。実施例3実施例1において、シアニン系色素D1下記表3参照、FEWChemicals社製のS03307.9mg0.0173mmolに代えてシアニン系色素D3下記表3参照、AmericanDyeSource社製のADS817BI6.9mg0.00868mmolを用い、さらに製造例15で得られた金属錯体C1-Co10.8mg0.0173mmolに代えて製造例17で得られた金属錯体C3-Ni6.6mg0.00868mmolを用いた以外は実施例1と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物C、および光吸収部材Cを得た。コーティング膜の膜厚は8μmであった。実施例4実施例1において、MEK8.8gに代えてクロロホルム16,2gを用い、またシアニン系色素D1下記表3参照、FEWChemicals社製のS03307.9mg0.0173mmolに代えてシアニン系色素D4下記表3参照、FEWChemicals社製のS094613.0mg0.0169mmolを用い、さらに製造例15で得られた金属錯体C1-Co10.8mg0.0173mmolに代えて製造例18で得られた金属錯体C4-Cu12.7mg0.0169mmolを用いた以外は実施例1と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物D、および光吸収部材Dを得た。コーティング膜の膜厚は9μmであった。実施例5実施例1において、シアニン系色素D1下記表3参照、FEWChemicals社製のS03307.9mg0.0173mmolに代えてスクアリリウム系色素D5下記表3参照、SensientImagingTechnologies社製のST3455.7mg0.0176mmolを用い、さらに製造例15で得られた金属錯体C1-Co10.8mg0.0173mmolに代えて製造例19で得られた金属錯体C5-Ni10.4mg0.0176mmolを用いた以外は実施例1と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物E、および光吸収部材Eを得た。コーティング膜の膜厚は7μmであった。実施例6実施例1において、シアニン系色素D1下記表3参照、FEWChemicals社製のS03307.9mg0.0173mmolに代えてジイモニウム系色素D6下記表3参照、SensientImagingTechnologies社製のST121025.0mg0.0223mmolを用い、さらに製造例15で得られた金属錯体C1-Co10.8mg0.0173mmolに代えて製造例20で得られた金属錯体C6-Co13.8mg0.0223mmolを用いた以外は実施例1と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物F、および光吸収部材Fを得た。コーティング膜の膜厚は8μmであった。実施例7シアニン系色素D1下記表3参照、FEWChemicals社製のS03308.7mg0.0190mmolと製造例21で得られた金属錯体C7-Ni12.6mg0.0190mmolをMEK0.7gに溶解させ、これに製造例31で得られたシロキサンオリゴマーMEK溶液を加え、溶解混合することにより、溶液形態の光吸収部材用組成物Gを得た。この光吸収部材用組成物Gを、スピンコーター株式会社アクティブ製、型番:ACT-300Aを用いてソーダライムガラス基材上に塗布した後、室温下、窒素雰囲気において5分間予備乾燥させた。その後、200°Cで30分間焼成し、光吸収部材Gを得た。コーティング膜の膜厚は7μmであった。実施例8実施例7において、シアニン系色素D1下記表3参照、FEWChemicals社製のS03308.7mg0.0190mmolに代えてシアニン系色素D2下記表3参照、FEWChemicals社製のS02307.8mg0.0132mmolを用い、さらに製造例21で得られた金属錯体C7-Ni12.6mg0.0190mmolに代えて製造例22で得られた金属錯体C8-Cu7.8mg0.0132mmolを用いた以外は実施例7と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物H、および光吸収部材Hを得た。コーティング膜の膜厚は7μmであった。実施例9実施例7において、シアニン系色素D1下記表3参照、FEWChemicals社製のS03308.7mg0.0190mmolに代えてシアニン系色素D3下記表3参照、AmericanDyeSource社製のADS817BI7.6mg0.009556mmolを用い、製造例21で得られた金属錯体C7-Ni12.6mg0.0190mmolに代えて製造例23で得られた金属錯体C9-Co5.9mg0.009556mmolを用いた以外は実施例7と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物I、および光吸収部材Iを得た。コーティング膜の膜厚は7μmであった。実施例10実施例7において、シアニン系色素D1下記表3参照、FEWChemicals社製のS03308.7mg0.0190mmolに代えてスクアリリウム系色素D5下記表3参照、SensientImagingTechnologies社製のST3456.5mg0.0200mmolを用い、さらに製造例21で得られた金属錯体C7-Ni12.6mg0.0190mmolに代えて製造例24で得られた金属錯体C10-Co11.2mg0.0200mmolを用いた以外は実施例7と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物J、および光吸収部材Jを得た。コーティング膜の膜厚は7μmであった。実施例11実施例7において、シアニン系色素D1下記表3参照、FEWChemicals社製のS03308.7mg0.0190mmolに代えてジイモニウム系色素D6下記表3参照、SensientImagingTechnologies社製のST121027.2mg0.0243mmolを用い、さらに製造例21で得られた金属錯体C7-Ni12.6mg0.0190mmolに代えて製造例25で得られた金属錯体C11-Co15.1mg0.0243mmolを用いた以外は実施例7と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物K、および光吸収部材Kを得た。コーティング膜の膜厚は7μmであった。実施例12シアニン系色素D4下記表3参照、FEWChemicals社製のS094614.0mg0.0182mmolと製造例26で得られた金属錯体C12-Ni11.1mg0.0182mmolをシクロペンタノン1.9gに溶解させ、これに重合性モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート0.7g、光重合開始剤チバスペシャルティケミカルズ社製の商品名:イルガキュア819130mgを加え、溶解混合することにより、溶液形態の光吸収部材用組成物Lを得た。この光吸収部材用組成物Lを、スピンコーター株式会社アクティブ製、型番:ACT-300Aを用いてソーダライムガラス基材上に塗布した後、室温下、窒素雰囲気において10分間予備乾燥させた。その後140°Cで3分間乾燥し、さらに露光装置ナノテック株式会社製の商品名:マスクアライナーLA410s、株式会社三永電機製作所製の商品名:超高圧水銀ランプL2501Lを用いて露光単色化なし、波長365nmにおける光強度40mWcm2、2.5秒間照射することによって硬化させ、紫外線吸収部材Lを得た。コーティング膜の膜厚は9μmであった。実施例13実施例3において、製造例17で得られた金属錯体C3-Ni6.6mg0.00868mmolに代えて製造例27で得られた金属錯体C13-Ni12.0mg0.00868mmolを用いた以外は実施例3と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物M、および光吸収部材Mを得た。コーティング膜の膜厚は8μmであった。実施例14実施例1において、製造例15で得られた金属錯体C1-Co10.8mg0.0173mmolに代えて製造例28で得られた金属錯体C13-Co24.0mg0.0173mmolを用いた以外は実施例1と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物N、および光吸収部材Nを得た。コーティング膜の膜厚は8μmであった。実施例15実施例2において、製造例16で得られた金属錯体C2-Co8.7mg0.0119mmolに代えて製造例28で得られた金属錯体C13-Co16.5mg0.0119mmolを用いた以外は実施例2と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物O、および光吸収部材Oを得た。コーティング膜の膜厚は7μmであった。実施例16実施例3において、製造例17で得られた金属錯体C3-Ni6.6mg0.00868mmolに代えて製造例28で得られた金属錯体C13-Co12.0mg0.00868mmolを用いた以外は実施例3と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物P、および光吸収部材Pを得た。コーティング膜の膜厚は8μmであった。実施例17実施例4において、製造例18で得られた金属錯体C4-Cu12.7mg0.0169mmolに代えて製造例28で得られた金属錯体C13-Co23.5mg0.0169mmolを用いた以外は実施例4と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Q、および光吸収部材Qを得た。コーティング膜の膜厚は9μmであった。実施例18実施例5において、製造例19で得られた金属錯体C5-Ni10.4mg0.0176mmolに代えて製造例28で得られた金属錯体C13-Co24.4mg0.0176mmolを用いた以外は実施例5と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物R、および光吸収部材Rを得た。コーティング膜の膜厚は8μmであった。実施例19実施例6において、製造例20で得られた金属錯体C6-Co13.8mg0.0223mmolに代えて製造例28で得られた金属錯体C13-Co40.0mg0.0223mmolを用いた以外は実施例6と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物S、および光吸収部材Sを得た。コーティング膜の膜厚は7μmであった。実施例20実施例1において、製造例15で得られた金属錯体C1-Co10.8mg0.0173mmolに代えて製造例29で得られた金属錯体C13-Cu24.1mg0.0173mmolを用いた以外は実施例1と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物T、および光吸収部材Tを得た。コーティング膜の膜厚は7μmであった。実施例21実施例10において、製造例24で得られた金属錯体C10-Co11.2mg0.0200mmolに代えて製造例30で得られた金属錯体C14-Co24.5mg0.0200mmolを用いた以外は実施例10と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物U、および光吸収部材Uを得た。コーティング膜の膜厚は9μmであった。実施例22実施例14において、製造例28で得られた金属錯体C13-Coの添加量を24.0mg0.0173mmolに代えて48.0mg0.0346mmolとした以外は実施例14と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物V、および光吸収部材Vを得た。コーティング膜の膜厚は8μmであった。実施例23実施例14において、製造例28で得られた金属錯体C13-Coの添加量を24.0mg0.0173mmolに代えて12.0mg0.00864mmolとした以外は実施例14と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物W、および光吸収部材Wを得た。コーティング膜の膜厚は8μmであった。比較例1実施例1において、製造例15で得られた金属錯体C1-Co10.8mg0.0173mmolに代えてビスジチオベンジルニッケル東京化成工業株式会社製9.4mg0.0173mmolを用いた以外は実施例1と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物X1、および光吸収部材X1を得た。コーティング膜の膜厚は8μmであった。比較例2実施例1において、製造例15で得られた金属錯体C1-Co10.8mg0.0173mmolに代えてジ-n-ブチルジチオカルバミン酸ニッケル東京化成工業株式会社製8.1mg0.0173mmolを用いた以外は実施例1と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物X2、および光吸収部材X2を得た。コーティング膜の膜厚は8μmであった。比較例3実施例2において、製造例16で得られた金属錯体C2-Co8.7mg0.0119mmolに代えてビスジチオベンジルニッケル東京化成工業株式会社製6.4mg0.0119mmolを用いた以外は実施例2と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物X3、および光吸収部材X3を得た。コーティング膜の膜厚は8μmであった。比較例4実施例3において、製造例17で得られた金属錯体C3-Ni6.6mg0.00868mmolに代えてビスジチオベンジルニッケル東京化成工業株式会社製4.7mg0.00868mmolを用いた以外は実施例3と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物X4、および光吸収部材X4を得た。コーティング膜の膜厚は9μmであった。比較例5実施例4において、製造例18で得られた金属錯体C4-Cu12.7mg0.0169mmolに代えてジ-n-ブチルジチオカルバミン酸ニッケル東京化成工業株式会社製7.9mg0.0169mmolを用いた以外は実施例4と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物X5、および光吸収部材X5を得た。コーティング膜の膜厚は8μmであった。比較例6実施例5において、製造例19で得られた金属錯体C5-Ni10.4mg0.0176mmolに代えてジ-n-ブチルジチオカルバミン酸ニッケル東京化成工業株式会社製8.2mg0.0176mmolを用いた以外は実施例5と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物X6、および光吸収部材X6を得た。コーティング膜の膜厚は8μmであった。比較例7実施例6において、製造例20で得られた金属錯体C6-Co13.8mg0.0223mmolに代えてジ-n-ブチルジチオカルバミン酸ニッケル東京化成工業株式会社製10.4mg0.0223mmolを用いた以外は実施例6と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物X7、および光吸収部材X7を得た。コーティング膜の膜厚は9μmであった。比較例8実施例1において、製造例15で得られた金属錯体C1-Co10.8mg0.0173mmolを使用しない以外は実施例1と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物X8、および光吸収部材X8を得た。コーティング膜の膜厚は8μmであった。比較例9実施例2において、製造例16で得られた金属錯体C2-Co8.7mg0.0119mmolを使用しない以外は実施例2と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物X9、および光吸収部材X9を得た。コーティング膜の膜厚は8μmであった。比較例10実施例3において、製造例17で得られた金属錯体C3-Ni6.6mg0.00868mmolを使用しない以外は実施例3と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物X10、および光吸収部材X10を得た。コーティング膜の膜厚は8μmであった。比較例11実施例4において、製造例18で得られた金属錯体C4-Cu12.7mg0.0169mmolを使用しない以外は実施例4と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物X11、および光吸収部材X11を得た。コーティング膜の膜厚は8μmであった。比較例12実施例5において、製造例19で得られた金属錯体C5-Ni10.4mg0.0176mmolを使用しない以外は実施例5と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物X12、および光吸収部材X12を得た。コーティング膜の膜厚は8μmであった。比較例13実施例6において、製造例20で得られた金属錯体C6-Co13.8mg0.0223mmolを使用しない以外は実施例6と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物X13、および光吸収部材X13を得た。コーティング膜の膜厚は8μmであった。光吸収部材の評価実施例1~23および比較例1~13で得られた光吸収部材A~WおよびX1~X13について、以下の手順により実施した。1耐光性試験実施例1~23および比較例1~13で得られた光吸収部材A~WおよびX1~X13について、分光光度計株式会社日立製作所製、型番:U-4100を用いて吸収スペクトルを測定した。光吸収部材A~WおよびX1~X13にはそれぞれ有機色素D1~D6のいずれかが含有されており、これらD1~D6の有機色素はそれぞれ特定の波長域に吸収を有している上記表3参照。光吸収部材A~WおよびX1~X13に一定の光を照射しながら、有機色素の吸収ピークの吸光度以下色素ピークの吸光度を時間別に測定することで、加速条件であるこの光照射による有機色素の経時劣化の様子を評価した。以下、詳細に説明する。1-1光吸収部材作製直後耐光性試験実施前に色素ピークの吸光度を測定した。1-2キセノンウェザーメータースガ試験機株式会社製、型番:X25を用いてこれら光吸収部材A~WおよびX1~X13に放射強度60W/m2300~400nm域における積算の光を照射した。1-3経時的にこれら光吸収部材A~WおよびX1~X13をキセノンウェザーメーターから取り出し、色素ピークの吸光度を測定し、色素残存率を算出した。吸光度から残存率を算出する方法は下記の式による。1-4時間を横軸、残存率を縦軸としたグラフにプロットし、光吸収部材A~WおよびX1~X7についてそれぞれ残存率が50となる時間T1を読み取った。1-51-4と同様に、比較例8~13で得られた光吸収部材X8~X13安定化剤を含まない系の残存率が50となる時間T2を読み取り、下記の式により安定化率を算出した。ここで算出される安定化率は、有機色素を単独で用いた場合に比べて、安定化剤を併用した場合に有機色素の劣化がどの程度抑制されるかを示す指標である。この安定化率の数値が大きい程、安定化剤としての能力がより高いことを示す。2耐熱性試験1と同様に、実施例1~23および比較例1~13で得られた光吸収部材A~WおよびX1~X13について、分光光度計株式会社日立製作所製、型番:U-4100を用いて、吸収スペクトルを測定した。光吸収部材A~WおよびX1~X13を加速条件である80°C環境下に静置し耐熱性試験を実施しながら、有機色素の吸収ピークの吸光度以下色素ピークの吸光度を時間別に測定することで、熱による有機色素の経時劣化の様子を評価した。以下、詳細に説明する。2-1光吸収部材作製直後耐熱性試験実施前に色素ピークの吸光度を測定した。2-2小型環境試験器エスペック株式会社製の商品名;SH-220を用いてこれら光吸収部材A~WおよびX1~X13を80°Cの環境下で静置した。2-3経時的にこれら光吸収部材A~WおよびX1~X13を小型環境試験器から取り出し、色素ピークの吸光度を測定し、色素残存率を算出した。吸光度から残存率を算出する方法は下記の式による。2-4時間を横軸、残存率を縦軸としたグラフにプロットし、光吸収部材A~WおよびX1~X7についてそれぞれ残存率が80となる時間T3を読み取った。2-52-4と同様に、比較例8~13で得られた光吸収部材X8~X13安定化剤を含まない系の残存率が80となる時間T4を読み取り、下記の式により安定化率を算出した。ここで算出される安定化率は、有機色素を単独で用いた場合に比べて、安定化剤を併用した場合に有機色素の劣化がどの程度抑制されるかを示す指標である。この安定化率の数値が大きい程、安定化剤としての能力がより高いことを示す。結果を以下の表4に示す。耐光性試験結果実施例1~6は、有機色素D1~D6と本発明における有機色素安定化剤製造例15~20で得られたもの等モル量混合し、マトリックス材料として有機系バインダーを使用した系光吸収材A~Fである。一方、比較例8~13はそれぞれ有機色素D1~D6のみを使用し、マトリックス材料として有機系バインダーを使用した系光吸収材X8~X13である。これら実施例1~6と比較例8~13との比較から、本発明における有機色素安定化剤は、有機色素D1~D6すべてに対する長期間の優れた耐光性向上効果を有することが確認された。実施例7~11は、有機色素D1~D3およびD5~D6と本発明における有機色素安定化剤製造例21~25で得られたもの等モル量混合し、マトリックス材料として無機系バインダーを使用した系光吸収材G~Kである。これら実施例7~11と比較例8~10および比較例12~13との比較より、本発明における有機色素安定化剤を使用することで、有機色素D1~D3およびD5~D6すべてについて耐光性が飛躍的に向上することが確認された。また、実施例1~3および実施例5~6と比べてもその安定化効果の度合いにほとんど差異は認められないことから、本発明における有機色素安定化剤の有機色素安定化効果はマトリックス材料の種類には影響を受けないと言える。実施例12はマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを含む光吸収部材用組成物を基材上にコーティングし、これを光硬化した系光吸収部材Lである。比較例11と比べて大幅に有機色素の耐光性が向上していることから、このような使用形態においても本発明における有機色素安定化剤は問題なく機能することが分かる。実施例13~21は、有機色素D1~D6と本発明における有機色素安定化剤のうち有機溶剤に対する溶解性面で特に有利な製造例27~30で得られたものとを等モル量混合した系で、実施例13~21はマトリックス材料として有機系バインダーを使用した系光吸収材M~Tであり、実施例21はマトリックス材料として無機系バインダーを使用した系光吸収材Uである。これら実施例13~21と比較例8~13の比較から、本発明における有機色素安定化剤は、有機色素の種類およびその吸収波長によらず、優れた安定化効果を発揮する。実施例22は有機色素D1に対して本発明における有機色素安定化剤C13-Coの添加量を2倍モル量とした系光吸収部材Vであり、実施例23は有機色素D1に対して本発明における有機色素安定化剤C13-Coの添加量を0.5倍モル量とした系光吸収部材Wである。有機色素D1と本発明における有機色素安定化剤C13-Coを等モル量混合した系である実施例14光吸収部材Nと比べると、2倍モル量添加した系では有機色素安定化効果が増大し、また0.5倍モル量添加した系ではやや有機色素安定化効果は低下しているものの、比較例1、2および8と比べると大幅に耐光性が向上していることが分かる。実施例1、7、14、20光吸収部材A、G、N、Tと比較例1~2光吸収部材X1、X2、実施例2、8、15光吸収部材B、H、Oと比較例3光吸収部材X3、実施例3,9,13,16光吸収部材C、I、M、Pと比較例4光吸収部材X4、実施例4,12,17光吸収部材D、L、Qと比較例5光吸収部材X5、実施例5、10、18、21光吸収部材E、J、R、Uと比較例6光吸収部材X6、実施例6,11,19光吸収部材F、K、Sと比較例7光吸収部材X7のそれぞれの比較より、本発明における有機色素安定化剤が従来公知の安定化剤よりも長期間の優れた有機色素安定化効果を有することが確認された。耐熱性試験結果実施例および比較例の各々の結果を比較した場合、いずれの実施例についても、上記耐光性試験の結果に比べるとその安定化効果の度合いはやや小さいものの、本発明における有機色素安定化剤を有機色素と併用することで有機色素の耐熱性が数倍向上し、長期間に渡る安定化効果は公知の安定化剤よりも優れていることが確認された。"