"溶融した原材料を回転ディスク上に滴下し、その遠心力にて、前記原料を微粉状にする遠心噴霧法に用いる回転ディスクであって、前記炭化物分散型のモリブデン合金からなることを特徴とする回転ディスク。前記炭化物分散型のモリブデン合金は、Ti:0.3~0.7質量、Zr:0.05~0.12質量、C:0.01~.04質量、残部:Mo及び不可避不純物の組成を有する、請求項1に記載の回転ディスク。溶融した銀を回転ディスク上に滴下し、その遠心力にて、溶融した銀を微粉状にする遠心噴霧法による銀粉末の製造方法であって、前記回転ディスクが、前記炭化物分散型のモリブデン合金からなることを特徴とする銀粉末の製造方法。前記回転ディスクに滴下される前記溶融した銀の出湯温度が1250~1500°Cである、請求項3に記載の銀粉末の製造方法。溶融した原材料を回転ディスク上に滴下し、その遠心力にて、前記原料を微粉状にする遠心噴霧装置であって、前記回転ディスクが、前記請求項1又は請求項2に記載の回転ディスクである特徴とする遠心噴霧装置。以上説明した回転ディスクが提案されることで、錫合金を代表とする低融点材料以外にも遠心噴霧法により微細な金属粉末の実用化が期待されている。しかし、溶湯の種類によっては実際に遠心噴霧した場合にディスク上での濡れ拡がりが充分ではなく、微粉末を効率よく得ることができないことがある。例えば、銀Agの粉末はコンデンサ、電池をはじめとする電子部品機器に対する需要は大きいが、これまで遠心噴霧法も含め、高い歩留まりで球形度の高い製造することが困難であった。そのために、この程度の粒径を有する銀粉末は高価である。本発明は、このような課題に基づいてなされたもので、遠心噴霧法により球形度の高い銀粉末を効率よく製造することのできる技術を提供することを目的とする。本発明者等は上記目的を達成するために、回転ディスクを構成する材質について検討を行なったところ、炭化物で強化されたモリブデンMo合金で回転ディスクを構成することにより、球形度の高い銀粉末を極めて高い歩留まりで作製できることを知見した。すなわち本発明は、溶融した原材料を回転ディスク上に滴下し、その遠心力にて、原料を微粉状にする遠心噴霧法に用いる回転ディスクであって、炭化物分散型のモリブデン合金からなることを特徴とする回転ディスクである。この炭化物分散型のモリブデン合金としては、Ti:0.3~0.7質量、Zr:0.05~0.12質量、C:0.01~.04質量、残部:Mo及び不可避不純物の組成有するものが好適である。また、本発明はこの回転ディスクを用いて銀粉末を製造する遠心噴霧法を提供する。すなわち本発明は、溶融した銀を回転ディスク上に滴下し、その遠心力にて、溶融した銀を微粉状にする銀粉末の製造方法において、炭化物分散型のモリブデン合金からなる回転ディスクを用いる。この銀粉末の製造方法においては、銀の出湯温度を1250~1350°Cとすることが好ましい。さらに本発明は、溶融した原材料を回転ディスク上に滴下し、その遠心力にて、原料を微粉状にする遠心噴霧装置であって、炭化物分散型のモリブデン合金からなる回転ディスクを用いる遠心噴霧装置が提供される。本発明によれば、遠心噴霧法により球形度の高い銀粉末を効率よく製造することのできる。以下、添付図面に示す実施の形態に基づいてこの発明を詳細に説明する。はじめに、耐熱性を有する材料に対する銀の濡れ性を接触角θで評価した。結果は以下の通りである。また、1はプランゼー社オーストリア製のTZM合金商品名であり、Ti:0.3~0.7質量、Zr:0.05~0.12質量、C:0.01~.04質量、残部:Mo及び不可避不純物の組成を有しており、典型的にはTi:0.5質量、Zr:0.08質量、C:0.03質量、残部:Mo及び不可避不純物の組成を有している。この合金は、再結晶温度が1400°C程度であり、この付近の温度での機械的強度に優れる。また、4は黒鉛の表面に窒化チタン膜を形成したものである。1炭化物分散型モリブデン合金:θ=◎2窒化ホウ素BN:θ=×3黒鉛:θ=×4窒化チタンTiN黒鉛:θ=△5窒化珪素系セラミックスサイアロン,Si3N4Al2O3:θ=×接触角θの評価基準◎=50°以下、△=50°~90°、×=90°超以上の濡れ性の評価結果に基づいて、1、4の材料で回転ディスクを作製し、遠心噴霧法により銀粉末を作製する試験を行った。この試験で使用した遠心噴霧装置10の概略構成を図1に示す。遠心噴霧装置10は、銀原料を溶解する黒鉛製の坩堝1を備える。坩堝1は、高周波誘導加熱により原料を加熱、溶融するものであり、周囲に電磁コイル2が巻き回されている。図示しない電源から電磁コイル2に通電することで、坩堝1内に置かれた銀原料が誘導過熱される。坩堝1の下部には黒鉛製の出湯ノズル3が設けられており、溶解された銀は出湯ノズル3を通って滴下される。坩堝1の下方には、出湯ノズル3から距離をあけて回転ディスク4が設けられている。回転ディスク4は、モータ5の出力軸に固定されており、モータ5の回転に伴って回転する。遠心噴霧装置10は、以上の坩堝1、回転ディスク4などを収容するチャンバ6を備えている。チャンバ6の内壁には、受け板7が張り付けられており、噴霧された粉末はこの受け板7に当たった後に、受け板7に案内されながら下方に移送される。チャンバ6の底には、回収容器8が設けられており、受け板7を案内されてきた粉末が落下して収容される。本試験では、上記1及び4で示す材料を用い、異なる材質の回転ディスク4を作製して遠心噴霧試験を行った。なお、回転ディスク4以外の条件は以下の通りである。ディスク径:φ40mmディスク回転数:30000min-1溶湯温度:1300°C出湯ノズル径:φ1.2mmチャンバ内雰囲気:N2出湯ノズル-回転ディスク間距離:65mm1の材料、つまり炭化物分散型モリブデン合金で作製された回転ディスク4を用いた試験では、回転ディスク4の表面に銀溶湯が均一に濡れながら、回転ディスク4から放射状に遠心噴霧されたことが観察された。得られた銀粉末を回収して、SEMscanningelectronmicroscopeにより外観を観察した。その一例を図2に示すが、球形度の高い銀粉末が得られたことが確認された。また、得られた銀粉末の粒度分布を測定した結果を図3に示す。なお、各粒径は以下の通りである。10粒径d10:22.1μm50粒径d50:45.7μm90粒径d90:80.6μm平均粒径:48.9μm以上に対して、4の材料窒化チタン黒鉛で作製された回転ディスク4を用いた試験では、回転ディスク4と銀溶湯との濡れ性が悪く、球状の銀粉末を得ることができなかった。以上の試験はあくまで一例である。遠心噴霧法においては、DN値を調整することにより得られる粉末の粒径を調整することができる。なお、DN値とは、回転ディスク4の直径Dmmと回転数Nrpmとの積である。本発明者の知見によると、本発明の回転ディスク4を用いることにより、表1及び図4に示すように、DN値を調整することで、任意の粒径の銀粉末を得ることができる。次に、本発明により銀粉末を製造する場合、遠心噴霧される溶湯の温度出湯温度を調整することが望まれる。銀の融点が962°C近傍にあるため、この融点以上に坩堝1内で加熱する必要があるが、回転ディスク4との濡れ性を確保するためには、融点よりも300°C程度高く出湯温度を設定することが望まれる。つまり、出湯温度は1250°C以上に調整することが望ましい。本発明者等が行なった他の試験では、出湯温度を1150°Cとした場合には、以上の試験に比べて粒度分布の劣る結果となった。一方で、必要以上の温度に加熱する必要はないし、溶湯の温度をあまり高くすると、回転ディスク4の耐久性に悪影響を及ぼすので、溶湯温度の上限は1500°C、より好ましくは1350°Cとするのがよい。また、実際に遠心噴霧法により粉末を製造する場合、回転ディスク4の温度が低いと素性のよい粉末を得ることができない。したがって、出湯直後からしばらくの間は、滴下した溶湯で回転ディスク4を必要な温度まで暖める期間として捉えることが好ましい。つまり、回転ディスク4が必要な温度まで昇温された後に、定常的な遠心噴霧法による粉末の製造に移行する。一方で、坩堝1内の溶湯の量が少なくなり、出湯ノズル3からの溶湯の吐出圧力が低下すると、やはり素性のよい粉末が得られなくなる。したがって、溶湯の量が所定値よりも少なくなった後は、定常的な粉末製造を終えたものと捉えることが好ましい。本発明における回転ディスク4、その全体が炭化物分散型のモリブデン合金からなる必要はなく、溶湯が滴下される面が当該合金から構成されていればよい。したがって、他の部分は他の材料で構成した複合材料からなる回転ディスクとすることを本発明は許容する。これ以外にも、本発明の主旨を逸脱しない限り、上記実施の形態で挙げた構成を取捨選択し、あるいは他の構成に適宜変更することが可能である。"