曲線部分を有する一対の光導波路であって、当該曲線部分は、少なくとも、同一の曲率を有する円弧状導波路部分により構成され、前記一対の光導波路において、それぞれの光導波路が有する前記円弧状導波路部分の数が等しいことを特徴とする光導波路。前記一対の光導波路は、予め設定した光路長差を有していることを特徴とする、請求項1に記載の光導波路。前記一対の光導波路は、それぞれ等しい光路長を有し、かつ異なる形状を有していることを特徴とする、請求項1に記載の光導波路。前記光路長差は、対をなすそれぞれの光導波路を構成する円弧状導波路部分の長さ、および直線導波路部分の長さのうち、少なくとも一方に差を設けることにより設けられていることを特徴とする、請求項2に記載の光導波路。前記光路長差を有している前記一対の光導波路は、それぞれ同一の長さを有する同数の円弧状導波路部分を組み合わせて曲線部分を構成した光導波路部分と、相違する長さを有する同数の円弧状導波路部分を組み合わせて曲線部分を構成した光導波路部分と、を含むことを特徴とする、請求項2または4に記載の光導波路。前記円弧状導波路部分同士が変曲点を構成する接合箇所および前記円弧状導波路部分と直線導波路部分との接合箇所において、前記円弧状導波路の円弧の外側部分を、接合先導波路の導波路中心の方向に、前記接合箇所で発生する、伝播光の電界強度ピーク位置ずれ量に相当する幅分をスライドさせた、段差構造を有していることを特徴とする、請求項1乃至5のいずれかに記載の光導波路。前記変曲点となる接合箇所においては、前記円弧状導波路部分の曲率半径を前記電界強度ピーク位置ずれ量に相当する幅分を変化させることにより、前記変曲点となる接合箇所に段差構造を設けたことを特徴とする、請求項6に記載の光導波路。それぞれ請求項1乃至7のいずれかに記載の光導波路からなる、第1および第2の光導波路対を備え、前記第1および第2の光導波路対のうち、少なくとも一方は予め設定した光路長差を有していることを特徴とした光導波路。第1の入力光を分岐して、第1および第2の光導波路に出力する、第1の光分岐手段と、第2の入力光を分岐して、第3および第4の光導波路に出力する、第2の光分岐手段と、前記第1および第3の光導波路を伝播する光波を合流した後、分岐して出力する、第1の光合分岐手段と、前記第2および第4の光導波路を伝播する光波を合流した後、分岐して出力する、第2の光合分岐手段と、を備え、前記第1と第2の光導波路からなる光導波路対は請求項2、4、5のいずれかに記載の一対の光導波路を備え、前記第3と第4の光導波路からなる光導波路対は請求項3に記載の一対の光導波路を備えていることを特徴とする光導波路デバイス。前記第1乃至第4の光導波路の曲線部分を構成する円弧状導波路部分同士が変曲点を構成する接合箇所および前記円弧状導波路部分と直線導波路部分との接合箇所において、前記円弧状導波路の円弧の外側部分を、接合先導波路の導波路中心の方向に、前記接合箇所で発生する、伝播光の電界強度ピーク位置ずれ量に相当する幅分をスライドさせた、段差構造を有していることを特徴とする、請求項9に記載の光導波路デバイス。前記変曲点となる接合箇所においては、前記円弧状導波路部分の曲率半径を前記電界強度ピーク位置ずれ量に相当する幅分を変化させることにより、前記変曲点となる接合箇所に段差構造を設けたことを特徴とする、請求項10に記載の光導波路デバイス。しかしながら上述した技術は、90度光ハイブリッド干渉計のように、対をなす光導波路の光路長差を厳密に制御する必要のある光導波路デバイスにおいて、形状が異なる光導波路の光路長をそれぞれ正確に制御することは難しい。特に、当該一対の光導波路がそれぞれ多数の円弧部分を組み合わせて構成されている場合は、光導波路対の光路長差を厳密に制御することは難しい。すなわち、光導波路中の曲線部分における導波路中心と電界強度ピーク位置とのギャップ量が正確に把握できるのならば、実際の光路長を所望の値で設計することも可能である。また、図7に示すように、変曲点となる箇所や、曲線部分と直線部分の接続点となる箇所において、導波路中心と電界強度ピーク位置とのギャップ量に応じて基準形状からのオフセットを設けることにより、電界強度ピーク位置が一致するように構成することもできる。しかしながら例えば上述の90度光ハイブリッド干渉計の場合、オフセット量の値は通常0.5μm以下の、小さなスケールとなるため、最適値を正確に見積もることが難しい。加えて、光導波路の設計パラメータが製造ばらつきを含むため、実際のオフセット量も微小な値でばらつくことになる。例えば図8は、上述の90度光ハイブリッド干渉計を構成する曲がり導波路において、導波路中心と電界強度ピーク位置との乖離量の計算値、あるいは前記実験結果に基づきオフセットを設けた様子を示す模式図である。ここでは90度光ハイブリッド干渉計のアーム15および16の基準形状はそれぞれ、半径r、中心角φおよびθの円弧状曲がり導波路円弧長はそれぞれrφ、rθとなると、直線導波路との組み合わせで構成するものとする。なお、曲がり導波路の半径rは、導波路中心を基準とした値とする。ここで導波路中心と電界強度ピーク位置との乖離量がdと見積もられたとすると、図7に示すように変曲点部分での電界強度ピーク位置の不一致を補償するための、基準形状からのオフセット量は2dとなる。このオフセットは、図8に示すように、曲がり導波路部分の半径をr-dとして基準形状からの段差を設けることにより構成することができる。ここでアーム16は半径r-dの曲がり導波路4つを有し、それらの中心角および導波路中心とモード中心との乖離量はいずれもそれぞれθおよびdとしている。オフセットを設けることにより4つの曲がり導波路部分全体での光が通る距離の合計は4rθになる。ここで製造ばらつきや、設計上の計算精度不足などによって、実際の電界強度ピーク位置と設計上の電界強度ピーク位置との間に位置ずれオフセット見積り誤差が生じ、導波路中心と電界強度ピーク位置とのギャップ量が計算値dよりΔdだけずれたとする。この場合、4つの曲がり導波路部における光路長は、計4θ×Δdだけずれることになる。一方、アーム15の方は、曲がり導波路が2つ接続されており、2つの曲がり導波路部分全体での光が通る距離の合計は2rφになる。これらについてもΔdのオフセット見積り誤差があったとすると、同様に曲がり導波路部分における光路長は計2φ×Δdだけずれる。その結果、アーム14と15との光路長差は、4θ-2φ×Δdだけ設計上の値から乖離する。ここで図8の90度光ハイブリッド干渉計を、例えばθ=π/6、φ=π/4、Δd=0.03μmとして構成した場合、光路長差の設計値からの乖離量は0.016μmとなる。90度ハイブリッド機能を実現させるための光路長差は、伝播光の波長、導波路の等価屈折率をそれぞれλ、nとすると、λ/4nで表され、例えば波長が1550nm、光導波路の屈折率が1.46とすると、およそ0.265μm程度となる。仮に、±0.015μmだけ光路長差がずれたとするとハイブリッド角度は±5°変化する。高速データ通信を推進する業界団体であるOIFOpticalInternetworkingForumでは、信号の復調に必要なハイブリッド角度は90±5°以内と言われている。実際のデバイスでは使用波長帯域におけるハイブリッド角度の波長依存性や温度依存性などを考慮しなければならず、光路長差は0.015μmより小さいレベルで制御される必要がある。これに対し上述の通り、図8の構成ではオフセット量の変動によって生じる光路長差のゆらぎは大きく、ハイブリッド角度の精度を損ない、製造歩留まりを低下させるという問題がある。本発明の目的は、上記問題を解決し、多数の曲がり導波路部分を組み合わせて構成した光導波路同士の対においても、当該一対の光導波路の光路長差を正確に制御できる、光導波路及び光導波路デバイスを提供することである。本発明の光導波路は、曲線部分を有する一対の光導波路であって、当該曲線部分は、少なくとも、同一の曲率を有する円弧状導波路部分により構成され、前記一対の光導波路において、それぞれの光導波路が有する前記円弧状導波路部分の数が等しいことを特徴とする光導波路とすることを特徴とする。本発明によれば、多数の曲がり導波路部分を組み合わせて構成した光導波路同士の対において、当該一対の光導波路の光路長差を正確に制御できる、光導波回路及び光導波路デバイスを提供することができる。次に本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。第1の実施の形態図1は本発明の一実施の形態の光導波路の構成を示す模式図である。図1に示す光導波路1、2は、曲線部分を有する一対の光導波路であって、当該曲線部分は、少なくとも、同一の曲率を有する円弧状導波路部分1a~1dおよび2a~2dにより構成されている。一対の光導波路1、2において、それぞれの光導波路が有する円弧状導波路部分1a~1dおよび2a~2dの数は等しい。図1の光導波路1、2の対は、それぞれ曲線部分がすべて同一の曲率の曲がり導波路で構成されている。同一の曲率の曲がり導波路においては、導波路中心からの伝播光の電界強度ピーク位置ずれ量はいずれも同一と考えられ、直線導波路部分では導波路中心と電界強度ピーク位置は一致していると考えられる。したがってこの電界強度ピーク位置ずれ量は曲がり導波路部分でのみ生じることになる。したがって、光導波路1、2の対において、それぞれが有する曲がり導波路部分の数が等しければ、各光導波路対の光路長差については、電界強度ピーク位置ずれによる光路長差の変動が相殺される。また電界強度ピーク位置ずれ量が設計値から乖離を生じていても、その分も相殺されるため、光路長差のばらつきは効果的に抑制できる。一方、光導波路1、2が有する直線導波路部分の数や長さは光路長の変動には影響しない。なお上記の電界強度ピーク位置ずれ量が、設計の精度や製造ばらつきにより設計で求めた値から乖離を生じた場合については、まず設計の精度に起因する当該乖離は、その設計に基づいて製造する以上は、固定された量になると考えられる。一方、製造ばらつき起因する当該乖離に関しては、たとえば光導波路を構成するシリコン酸化膜中にドープする物質の濃度ばらつきや、エッチングレートの揺らぎ等が要因になると考えられる。これらのプロセス要因は、製造ロットや基板毎に変動があったとしても、同一基板内ではそれほどの変動はないと考えられる。したがって同一デバイス内であれば、同様な構造部分で発生する当該乖離の量はいずれもほぼ同じであると考えられる。このため当該乖離量は相殺され、光導波路対の光路長差に対する影響はほとんどなくなると考えられる。なお、図1において光導波路1、2は、円弧状導波路部分と直線導波路部分を組み合わせて構成した例を示したが、円弧以外の形状の曲がり導波路部分であって、同一形状の導波路部分が光導波路1、2にそれぞれ同数含まれていてもよい。形状が同一であれば、単純な円弧形状でなくても、電界強度ピーク位置ずれ量も同一であると考えられ、光導波路1、2に含まれる数が同じならならば、電界強度ピーク位置ずれ量は相殺され光路長差の変動分はゼロとなるからである。以上のように、この実施の形態によれば、多数の曲がり導波路部分を組み合わせて構成した光導波路同士の対においても、当該一対の光導波路の光路長差を正確に制御することができる。第2の実施の形態図2は本発明の第2の実施の形態の光導波路の構成を示す模式図である。この光導波路は、第1の入力光を分岐して、光導波路3、4に出力する光分岐素子5と、第2の入力光を分岐して、6、7の光導波路に出力する光分岐素子8とを備えている。また光導波路3、6を伝播する光波を合流した後、分岐して出力する、光合分岐素子9と、光導波路4、7を伝播する光波を合流した後、分岐して出力する、光合分岐素子10と、を備えている。光導波路3、4並びに6、7は曲線部分を有し、光導波路3、4の対、並びに光導波路6、7の対においてはそれぞれ、同一の曲率を有する円弧状導波路により前記曲線部分が構成され、かつ前記曲線部分を構成する前記円弧状導波路部分の数が等しい。そして光導波路3、4の対は光路長が等しく、光導波路7は光導波路6に対してλ/2nだけ光路長を長くし、90度光ハイブリッド干渉計を構成している。ここでnは光導波路の等価屈折率、λは導波光の波長である。なお光導波路3、4の対は光路長が等しければ、互いに形状が異なっていてもよい。この実施の形態は、90度光ハイブリッド干渉計を、上述した本発明の第1の実施の形態の光導波路を2つ組み合わせて構成したものである。90度光ハイブリッド干渉計は、複雑な形状の導波路レイアウトを必要とし、しかも2つの光導波路対の光路長差をそれぞれ正確に制御する必要がある。したがってこの本発明の光導波路を90度光ハイブリッド干渉計に適用した、この実施の形態は特にメリットが大きい。第3の実施の形態次に本発明の第3の実施の形態を、図面を参照して説明する。図3は、本発明の第3の実施の形態の光導波路の構成を示す模式図である。図3においては、図2と対応する構成要素については同一の番号を付している。図3の光導波回路では、図2と同様に光導波路3、4の対、並びに光導波路6、7の対においてはそれぞれ、同一の曲率を有する円弧状導波路により前記曲線部分が構成され、かつ前記曲線部分を構成する前記円弧状導波路部分の数が等しい。そして光導波路3、4の対は光路長が等しく、光導波路7は光導波路6に対してλ/2nだけ光路長を長くし、90度光ハイブリッド干渉計を構成している。ここでnは光導波路の等価屈折率、λは導波光の波長である。ここで光導波路6、7はそれぞれ、B-C間でのみ形状が異なり、この部分の円弧の長さまたは直線部分の長さにより光路長差が設定されている。一方、C-D間では双方の光導波路形状は同一で、またA-B間では双方は同じ形状で反転した構造になっている。また光導波路3、4については、A-B間では双方は同じ形状で反転した構造になっており、残りの部分では同一の形状となっている。図3において、例えばA-D間の距離を約3mm、B-C間の距離を約500μmとし、光導波路7は光導波路4より0.265μmだけ長い光路長を有しているとする。ここで、光導波路6、7間の光路長差をA-D間に渡って形成する場合には、A-D間の距離約3mmに対して、光導波路の長さとして0.265μmを制御する必要がある。したがって光導波路コアをパターニングする際に用いるフォトマスクに関し、マスクデータの分解能が低く描画精度が不十分な場合は、適切に光路長差を付与することができなくなる。これに対して光導波路6、7間の光路長差をB-C間で形成する場合、B-C間の距離約500μmに対して0.265μmを制御すればよく、特に描画精度の高いフォトマスクを必要とするということがなくなる。以上のように、この実施の形態によれば、一対の光導波路において、限られた区間のみ互いの形状が異なり、その区間で光路長差を形成するようにしているため、製造上求められる精度が緩和され、また設計も容易になる。第4の実施の形態次に本発明の第4の実施の形態を、図面を参照して説明する。図4は、本発明の第4の実施の形態の光導波回路の構成を示す模式図である。図4においては、図3と対応する構成要素については同一の番号を付している。図4の光導波回路も、図3同様に90度光ハイブリッド干渉計を構成している。ここで、上述の第2の実施の形態が、光路長のみに着目していたのに対し、第3の実施の形態では電界強度ピーク位置のミスマッチの補償も考慮している。すなわち、図4の光導波回路は、図3に示した光導波回路と基準となる形状、構成は同一である。ただし曲がり方向が変化する点において発生する電界強度ピーク位置のミスマッチを補償するために、これらの箇所で基準形状からのオフセット段差が設けられている。なおこのオフセットは、円弧部分同士、あるいは円弧部分と直線部分との接合部分を基準形状からスライドさせた形状とすることにより構成される。なお円弧同士の接合で構成される変曲点におけるオフセットは、当該円弧の双方または一方の曲率半径をオフセット量に相当する長さ分変化させることによって構成してもよい。図5は曲がり導波路と直線導波路、および曲がり導波路同士の接合部分において、一方を基準形状から段差オフセットを設けることによって電界強度ピーク位置の一致を図っている例を示す。ここでdは光導波路中心と電界強度ピークとのギャップ量、Δdは電界強度ピーク位置のずれ量である。このオフセットは、図4に示すように光導波路の曲がり方向が変化する箇所に設けられ、想定した電界強度ピーク位置同士を一致させている。このようにオフセットを設けることにより、曲がり方向が変化する箇所の結合損は大幅に抑制される。なお、図5に示すように、実際の電界強度ピークと導波路中心とのギャップ量が計算値からΔdのずれを生じていた場合には、多少の結合損が生じる。ただし光導波路1、2の対、並びに光導波路4、5の対において、それぞれが有する曲がり導波路部分は数が等しいため、上述のように電界強度ピーク位置ずれΔdによる光路長差の変動は相殺され、光路長差には影響しない。以上のようにこの実施の形態では、第3の実施の形態と同様に、光路長差の変動を抑制できることに加えて、曲がり方向が変化する点において発生する光の結合損を抑制できる効果がある。第5の実施の形態本発明の第5の実施の形態の光導波路の製造方法は、曲線部分を有する一対の光導波路の製造方法であって、当該曲線部分は、同一の曲率を有する円弧状導波路により構成された形状とし、前記一対の光導波路において、それぞれの光導波路が有する前記円弧状導波路部分の数を等しくすることを特徴としている。付記1曲線部分を有する一対の光導波路であって、当該曲線部分は、同一の曲率を有する円弧状導波路により構成された形状を有し、前記一対の光導波路において、それぞれの光導波路が有する前記円弧状導波路部分の数が等しいことを特徴とする光導波路。付記2付記1に記載の光導波路であって、前記円弧状導波路部分同士が変曲点を構成する接合箇所および前記円弧状導波路部分と直線導波路部分との接合箇所において、前記円弧状導波路の円弧の外側部分を、接合先導波路の導波路中心の方向に、前記接合箇所で発生する電界強度ピーク位置のミスマッチ幅に相当する幅にスライドさせた、段差構造を有していることを特徴とする光導波路。付記3前記変曲点となる接合箇所においては、前記円弧状導波路部分の曲率半径を変化させることにより、前記変曲点となる接合箇所に段差構造を設けたことを特徴とする、付記2に記載の光導波路。付記4前記一対の光導波路は、予め設定した光路長差を有していることを特徴とする、付記1乃至3のいずれかに記載の光導波路。付記5前記一対の光導波路は、それぞれ等しい光路長を有し、かつ異なる形状を有していることを特徴とする、付記1乃至3のいずれかに記載の光導波路。付記6前記一対の光導波路の光路長差は、それぞれの光導波路を構成する円弧状導波路および直線導波路部分のうち、少なくとも一方の長さにより調整されることを特徴とする、付記1乃至5のいずれかに記載の光導波路。付記7付記1乃至6のいずれかに記載の光導波路を有することを特徴とする光導波路デバイス。付記8曲線部分を有する一対の光導波路の製造方法であって、当該曲線部分は、同一の曲率を有する円弧状導波路により構成された形状とし、前記一対の光導波路において、それぞれの光導波路が有する前記円弧状導波路部分の数を等しくすることを特徴とする光導波路の製造方法。付記9付記8に記載の光導波路の製造方法であって、前記円弧状導波路部分同士が変曲点を構成する接合箇所および前記円弧状導波路部分と直線導波路部分との接合箇所において、前記円弧状導波路の円弧の外側部分を、接合先導波路の導波路中心の方向に、前記接合箇所で発生する電界強度ピーク位置のミスマッチ幅に相当する幅にスライドさせた、段差構造を設けることを特徴とする光導波路の製造方法。付記10前記変曲点となる接合箇所においては、前記円弧状導波路部分の曲率半径を変化させることにより、前記変曲点となる接合箇所に段差構造を設けたことを特徴とする、付記9に記載の光導波路の製造方法。付記11前記一対の光導波路は、予め設定した光路長差を有していることを特徴とする、付記8乃至10のいずれかに記載の光導波路の製造方法。付記12前記一対の光導波路は、それぞれ等しい光路長を有し、かつ異なる形状を有していることを特徴とする、付記8乃至10のいずれかに記載の光導波路の製造方法。付記13前記一対の光導波路の光路長差は、それぞれの光導波路を構成する円弧状導波路の長さおよび直線導波路部分の長さのうち、少なくとも一方により調整することを特徴とする、付記8乃至12のいずれかに記載の光導波路の製造方法。付記14付記8乃至13のいずれかに記載の光導波路の製造方法を用いて製造することを特徴とした光導波路デバイスの製造方法。以上、実施の形態を参照して本願発明を説明したが、本願発明は上記実施形態及び実施例に限定されるものではない。本願発明の構成や詳細には、本願発明のスコープ内で当業者が理解し得る様々な変更をすることができる。なお、この出願は、2010年3月17日に出願された日本出願特願2010-060505を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。