"光透過性基材と、該光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光学積層体の製造方法であって、前記光透過性基材を用意し、前記光透過性基材上に凹凸形状を有してなる前記防眩層を形成することを含んでなり、前記防眩層の凹凸形状が、前記防眩層の凹凸の平均間隔をSmとし、凹凸部の平均傾斜角をθaとし、凹凸の平均粗さをRzとした場合に、Smが100μm以上600μm以下であり、θaが0.1度以上1.2度以下であり、Rzが0.2μm超過1μm以下とされてなる、製造方法。前記防眩層を形成することが、前記光透過性基材上に、予め凹凸形状が施された防眩層を形成してなるものである、請求項1に記載の製造方法。前記防眩層を形成することが、前記光透過性基材上に、防眩層を形成し、該防眩層の表面に凹凸形状を形成してなるものである、請求項1に記載の製造方法。前記凹凸形状を形成することが、前記防眩層が有する凹凸形状と逆の凹凸形状を有する型を用いた賦型処理である、請求項3に記載の製造方法。前記防眩層を形成することが、前記光透過性基材上に、防眩層用組成物を付与し、前記凹凸形状を有する防眩層を形成してなるものである、請求項1に記載の製造方法。前記防眩層用組成物が、樹脂と微粒子とを含んでなる、請求項5に記載の製造方法。前記微粒子が凝集型微粒子である、請求項6に記載の製造方法。前記凝集型微粒子が、同一または異なる平均粒径を有する複数の微粒子である、請求項7に記載の製造方法。前記防眩層用組成物が、微粒子を含まず、少なくとも1つのポリマーと、少なくとも1つの硬化性樹脂前駆体との混合物を含んでなる、請求項5に記載の製造方法。光透過性基材と、該光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光学積層体の製造方法であって、前記光透過性基材を用意し、前記光透過性基材を、前記防眩層の表面の凹凸形状と逆の凹凸形状を有する型に導入し、該型に防眩層用組成物を付与し、前記光透過性基材上に凹凸形状を有する防眩層を形成することを含んでなり、前記防眩層の凹凸形状が、前記防眩層の凹凸の平均間隔をSmとし、凹凸部の平均傾斜角をθaとし、凹凸の平均粗さをRzとした場合に、Smが100μm以上600μm以下であり、θaが0.1度以上1.2度以下であり、Rzが0.2μm超過1μm以下とされてなる、製造方法。前記防眩層用組成物が、微粒子を含まず、樹脂および/またはポリマーを含んでなる、請求項10に記載の製造方法。前記防眩層用組成物を硬化させて、前記光透過性基材上に凹凸形状を有する防眩層を形成する、請求項10に記載の製造方法。前記防眩層を形成した後に、前記防眩層の凹凸形状の表面に表面調整層を形成することをさらに含んでなる、請求項1~12のいずれか一項に記載の製造方法。光透過性基材と、該光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光学積層体の製造装置であって、前記光透過性基材と凹凸形状を有してなる前記防眩層を供給する供給部と、前記光透過性基材上に前記防眩層を形成する形成部とを備えてなり、前記防眩層の凹凸形状が、前記防眩層の凹凸の平均間隔をSmとし、凹凸部の平均傾斜角をθaとし、凹凸の平均粗さをRzとした場合に、Smが100μm以上600μm以下であり、θaが0.1度以上1.2度以下であり、Rzが0.2μm超過1μm以下とされてなる、製造装置。光透過性基材と、該光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光学積層体の製造装置であって、前記光透過性基材と前記防眩層を供給する供給部と、前記光透過性基材上に前記防眩層を形成し、かつ、前記防眩層に凹凸形状を施してなる形成部とを備えてなり、前記防眩層の凹凸形状が、前記防眩層の凹凸の平均間隔をSmとし、凹凸部の平均傾斜角をθaとし、凹凸の平均粗さをRzとした場合に、Smが100μm以上600μm以下であり、θaが0.1度以上1.2度以下であり、Rzが0.2μm超過1μm以下とされてなる、製造装置。前記形成部が、前記防眩層が有する凹凸形状と逆の凹凸形状を有する型を備えてなるものである、請求項15に記載の製造装置。光透過性基材と、該光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光透過性基材の製造装置であって、前記光透過性基材を供給する供給部と、前記光透過性基材上に防眩層用組成物を付与する付与部と前記防眩層用組成物を硬化し、凹凸形状を有してなる前記防眩層を形成してなる形成部とを備えてなり、前記防眩層の凹凸形状が、前記防眩層の凹凸の平均間隔をSmとし、凹凸部の平均傾斜角をθaとし、凹凸の平均粗さをRzとした場合に、Smが100μm以上600μm以下であり、θaが0.1度以上1.2度以下であり、Rzが0.2μm超過1μm以下とされてなる、製造装置。前記防眩層用組成物が、微粒子を含まず、樹脂および/またはポリマーを含んでなる、請求項17に記載の製造装置。前記形成部が、前記防眩層用組成物に電離放射線を照射する照射部を備えてなる、請求項17に記載の製造装置。光透過性基材と、該光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光学積層体の製造装置であって、前記光透過性基材を供給する供給部と、前記光透過性基材に、前記防眩層の表面に形成される凹凸形状と逆の凹凸形状を有する型と、該型に防眩層用組成物を導入する導入部と、前記防眩層用組成物を硬化し、凹凸形状を有してなる前記防眩層を形成してなる形成部とを備えてなり、前記防眩層の凹凸形状が、前記防眩層の凹凸の平均間隔をSmとし、凹凸部の平均傾斜角をθaとし、凹凸の平均粗さをRzとした場合に、Smが100μm以上600μm以下であり、θaが0.1度以上1.2度以下であり、Rzが0.2μm超過1μm以下とされてなる、製造装置。前記防眩層用組成物が、微粒子を含まず、樹脂および/またはポリマーを含んでなる、請求項20に記載の製造装置。前記形成部が、前記防眩層用組成物に電離放射線を照射する照射部を備えてなる、請求項20に記載の製造装置。前記防眩層を形成した後に、前記防眩層の凹凸形状の表面に表面調整層を形成する形成部をさらに備えてなる、請求項14~22のいずれか一項に記載の製造装置。Rzが0.2μm超過1.2μm以下とされてなる、請求項1又は10に記載の製造方法。Rzが0.2μm超過1.2μm以下とされてなる、請求項14、15、17及び20のいずれか一項に記載の製造装置。請求項1~13のいずれか一項に記載の製造方法により製造された、光学積層体。請求項14~23のいずれか一項に記載の製造装置により製造された、光学積層体。定義本明細書実施例等において使用する用語は下記の通り定義される。110点平均粗さRz平均粗さの測定方法は、表面形状を2次元または3次元のプロファイルとして測定する。実際には、走査型プローブ顕微鏡または原子間力顕微鏡を用いて測定する。曲線そのものを客観的に比較するのは一般には困難なため、そのプロファイル曲線データから色々な粗さ指数を計算する。従って、本発明にあっては、上記測定結果を用いて、10点平均粗さRzを算出する。よって、10点平均粗さRzとは、平均値からもとめた偏差値のうち、最大のものから上位5つの偏差値の平均と、最小のものから下位5つの偏差値の絶対値の平均値の和として表される。2凹凸の平均間隔をSmμmおよび平均傾斜角をθa本発明による光学積層体を構成する防眩層は凹凸形状を有する。Smμmとは、この防眩層の凹凸の平均間隔を表し、θa度は凹凸部の平均傾斜角を表す。これらは、表面粗さ測定器型番:SE-3400/株小坂研究所製の取り扱い説明書1995,07,20改訂に記載されたものとして定義することができる。θa度は角度単位であり、傾斜を縦横比率で表したものがΔaである場合、θa度=1tanΔa=1各凹凸の極小部と極大部の差各凸部の高さに相当の総和基準長さで求められる。ここで、基準長さとは、下記の測定条件1:と同じである。本発明による光学積層体の表面粗さを表すパラメーターSm、θa、Rzを測定する場合、例えば、上記表面粗さ測定器を用いて、下記の測定条件により測定を行うことができ、この測定は本発明にあっては好ましいものである。測定条件1表面粗さ検出部の触針:型番/SE2555N2μ標準株小坂研究所製先端曲率半径2μm/頂角:90度/材質:ダイヤモンド2表面粗さ測定器の測定条件:基準長さ粗さ曲線のカットオフ値λc:2.5mm評価長さ基準長さカットオフ値λc×5:12.5mm触針の送り速さ:0.5mm/sψ≡Rz/Sm凹凸の平均粗さRzと凹凸の平均間隔Smとの比率ψは、ψ≡Rz/Smで定義し、凹凸の平均粗さRzと凹凸の平均間隔Smの比を取ることで、凹凸の傾斜の傾きを示す指標として用いることができる。凹凸の平均粗さRzと凹凸の平均間隔Smとの比率ψは、ψ≡Rz/Smで定義し、凹凸の平均粗さRzと凹凸の平均間隔Smの比を取ることで、凹凸の傾斜の傾き角を示す指標として用いることができる。3反射Y値反射Y値は、島津製作所製MPC3100分光光度計にて、5°正反射率を380~780nmまでの波長範囲で測定し、その後、人間が目で感じる明度として換算するソフトMPC3100内蔵で算出される、視感反射率を示す値である。なお、5°正反射率を測定する場合には、光学積層体であるフィルムの裏面反射を防止するため、測定膜面とは逆側に、黒テープ寺岡製を貼って測定する。4ヘイズ値、全光線透過率、60度グロスおよびと透過鮮明度ヘイズ値は、JISK-7136に従って測定することができる。測定に使用する機器としては、反射透過率計HR-100村上色彩技術研究所が挙げられる。防眩性積層体の全光線透過率は、JISK-7361に従って、ヘイズ値と同じ測定器で測定できる。なお、ヘイズ、全光線透過率は、塗工面を光源に向けて測定する。60度グロスは、JISZ8741により、精密光沢計株村上色彩研究所製GM-26Dを用いて測定可能である。測定は、サンプルの裏面反射の影響を除去するため、サンプルの裏面と測定器の黒蓋を両面テープ寺岡製作所製で貼り付けた状態で行う。透過鮮明度は、写像性測定器スガ試験機株、品番;ICM-1DPを用いて、JISK7105に準拠し、4種類の光学櫛0.125mm、0.5mm、1mm、および2mmで測定した数値の合計をもって表す。5表面ヘイズの定義本発明で使用している表面ヘイズは、以下のように求められる。防眩層の凹凸上にペンタエリスリトールトリアクリレートなどの樹脂モノマー又はオリゴマー等の樹脂成分を包含するをトルエンなどで希釈し、固形分60としたものをワイヤーバーで乾燥膜厚が8μmとなるように塗布する。これによって、防眩層の表面凹凸がつぶれ、平坦な層となる。ただし、この防眩層を形成する組成物中にレベリング剤などが入っていることで、リコート剤がはじきやすく濡れにくいような場合は、あらかじめ防眩フィルムをケン化処理2mol/lのNaOH又はKOH溶液55度3分浸したのち、水洗し、キムワイプで水滴を完全に除去した後、50度オーブンで1分乾燥により、親水処理を施すとよい。この表面を平坦にしたフィルムは、表面凹凸によるヘイズをもたない、内部ヘイズだけを持つ状態となっている。このヘイズを、内部ヘイズとして求めることができる。そして、内部ヘイズを、元のフィルムのヘイズ全体ヘイズから差し引いた値が、表面凹凸だけに起因するヘイズ表面ヘイズとして求められる。6防眩層の層厚防眩層の層厚は、基材の表示面側界面から空気と接する防眩性凹凸最表面までをいう。基材界面から最表面までには、防眩層が一層である場合と、表面調整層、その他光学機能層などが積層され、多層になっている場合がある。層厚の測定方法共焦点レーザー顕微鏡LeicaTCSNT:ライカ社製:倍率100~300倍にて、光学積層体の断面を透過観察し、界面の有無を判断し下記の評価基準で判断した。具体的には、ハレーションのない鮮明な画像を得るため、共焦点レーザー顕微鏡に、湿式の対物レンズを使用し、かつ、光学積層体の上に屈折率1.518のオイルを約2ml乗せて観察し判断した。オイルの使用は、対物レンズと光学積層体との間の空気層を消失させるために用いた。測定手順1:レーザー顕微鏡観察により平均層厚を測定した。2:測定条件は、上記の通りであった。3:1画面につき凹凸の最大凸部、最小凹部の基材からの膜厚を1点ずつ計2点測定し、それを5画面分、計10点測定し、平均値を算出した。製造方法本発明の製造方法により形成される防眩層の凹凸形状は、後記する光学積層体で説明される光学物性を有するものとして形成されものである。本発明の態様によれば、本発明による製造方法により製造される光学積層体は、その防眩層の凹凸形状が、前記防眩層の凹凸の平均間隔をSmとし、凹凸部の平均傾斜角をθaとし、凹凸の平均粗さをRzとした場合に、Smが100μm以上600μm以下であり、θaが0.1度以上1.2度以下であり、Rzが0.2μm超過1μm以下とされてなるものである。第1の製造方法本発明の第1の製造方法は、光透過性基材と、該光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光学積層体の製造方法であって、前記光透過性基材を用意し、前記光透過性基材上に凹凸形状を有してなる前記防眩層を形成することを含んでなるものである。本発明による光学積層体HGの製造方法について図3を用いて説明する。図3は本発明による光学積層体の断面図を示す。本発明の製造方法は、先ず、光透過性基材2を用意し、次に、この光透過性基材2の上面に防眩層4を形成することより達成されるものである。本発明にあっては、防眩層を形成する方法は様々なものが利用できるが、好ましくは以下の方法が挙げられる。第2の製造方法本発明の第2の製造方法は、本発明の第1の製造方法において、防眩層を形成することが、光透過性基材上に、予め凹凸形状が施された防眩層を形成してなるものである。具体的には、図3を用いて説明することができる。防眩層4は予め凹凸形状が施された防眩層を光透過性基材1上に形成する。防眩層4を形成する際に、好ましくは接着剤層又はプライマー等の易接着層を用いて行って良く、または、予め調製した防眩層を光透過性基材2の上面に接着剤層を介在させて形成した後に接着剤層を硬化等する方法により形成されてもよい。第3の製造方法本発明の第3の製造方法は、本発明の第1の製造方法において、防眩層を形成することが、光透過性基材上に、防眩層を形成し、該防眩層の表面に凹凸形状を形成してなるものである。本発明の好ましい態様によれば、凹凸形状を形成することが、防眩層が有する凹凸形状と逆の凹凸形状を有する型を用いた賦型処理で行われることが好ましい。具体的には、図3を用いて説明することができる。光透過性基材1上に防眩層を形成し、その後に、この防眩層の表面に凹凸形状を付与することにより、凹凸形状を有する防眩層4を形成することができる。また、本発明の好ましい態様によれば、防眩層4に凹凸形状を形成する場合、防眩層4が有する凹凸形状と逆の凹凸形状を有する型を用いて形成することができる。防眩層4自体を形成する方法は、第2の製造方法と同様であってよい。第4の製造方法第4の製造方法は、本発明の第1の製造方法において、防眩層を形成することが、前記光透過性基材上に、防眩層用組成物を付与し、前記凹凸形状を有する防眩層を形成してなるものである。本発明の好ましい態様によれば、凹凸形状を有する防眩層を形成する際に、防眩性用組成物を硬化等する方法を好ましくは用いてよい。図3によれば、防眩層4は樹脂と微粒子とを含んでなるものとして形成されてなる。微粒子は、同一の形状または平均粒径を有するもの、または同一または異なる形状または平均粒径を有するもの、さらには、凝集型微粒子であってよい。他方、本発明にあっては、ポリマーまたは樹脂のみを用いて防眩層を形成してもよい。防眩層4を形成する方法の詳細な説明は後記する防眩層の説明内容と同様であってよい。第5の製造方法第5の製造方法は、光透過性基材と、該光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光学積層体の製造方法であって、前記光透過性基材を用意し、前記光透過性基材を、前記防眩層の表面の凹凸形状と逆の凹凸形状を有する型に導入し、該型に防眩層用組成物を付与し、前記光透過性基材上に凹凸形状を有する防眩層を形成することを含んでなるものである。任意の工程本発明の好ましい態様によれば、防眩層4の上に表面調整層6を形成する製造方法も提案される。本発明のより好ましい態様によれば、ディスプレイ装置の最表面に配置される光学積層体において、外光の反射や像の映り込みによるコントラストの低下、視認性の低下等を防止するために、光学干渉の原理を用いて光学積層体の低反射化反射率の低減を行うことが好ましく、例えば、表面調整層6の表面に、防眩層4または表面調整層6の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層8を形成する製造方法が提案される。製造装置本発明の製造装置により製造される防眩層の凹凸形状は、後記する光学積層体で説明される光学物性を有するものとして形成されものである。本発明の好ましい態様によれば、本発明による製造装置により製造される光学積層体は、その防眩層の凹凸形状が、前記防眩層の凹凸の平均間隔をSmとし、凹凸部の平均傾斜角をθaとし、凹凸の平均粗さをRzとした場合に、Smが100μm以上600μm以下であり、θaが0.1度以上1.2度以下であり、Rzが0.2μm超過1μm以下とされてなるものである。第1の製造装置本発明による第1の製造装置は、光透過性基材と、該光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光学積層体の製造装置であって、光透過性基材と凹凸形状を有してなる防眩層を供給する供給部と、光透過性基材上に防眩層を形成する形成部とを備えてなるものである。この装置の概略図は具体的には図示しないが、本発明の第2の製造装置の一態様の概要を示す図4において、ローラーエンボス27とローラー25cとを有しないものと同様であってよい。よって、これら以外の構成については、後記する本発明の第2の製造装置と同様であってよい。第2の製造装置本発明による第2の製造装置は、光透過性基材と、該光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光学積層体の製造装置であって、光透過性基材と防眩層を供給する供給部と、光透過性基材上に防眩層を形成し、かつ、防眩層に凹凸形状を施してなる形成部とを備えてなるものである。第2の製造装置の概略を図4を用いて説明する。図4は、本発明の第2の製造装置の概略図を示す。光透過性基材21が供給部であるローラー25aを介して供給され、防眩層凹凸形状を有しない23が供給部であるローラー25bを介して供給される。供給された光透過性基材21と、防眩層23は、ローラー25aとローラー25bにより一体形成される。本発明の好ましい態様によれば、接着剤層を供給する供給部が設けられて良く、この供給部から供給される接着剤層を介在させて、光透過性基材21と防眩層23とを一体形成させることが挙げられる。一体形成された光透過性基材21と防眩層23とは、防眩層に付与される凹凸形状と逆の凹凸形状22を有するローラーエンボス27に導入される。一体形成された光透過性基材21と防眩層23はローラーエンボス27とローラー25cに挟持され、防眩層23に所望の凹凸形状が形成されて、光学積層体29として形成される。形成された光学積層体29はローラー25dを経由して製品とされる。本発明の好ましい態様によれば、形成部は、前記防眩層が有する凹凸形状と逆の凹凸形状を有する型を備えてなるものであり、ローラーエンボス27以外に、平板エンボス板が用いられる。エンボス処理法、ローラーエンボス、平板エンボス板等については、後記する本発明の第4の製造装置で説明するのと同様であってよい。第3の製造装置本発明による第3の製造装置は、光透過性基材と、該光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光学積層体の製造装置であって、前記光透過性基材を供給する供給部と、前記光透過性基材上に防眩層用組成物を付与する付与部と前記防眩層用組成物を硬化し、凹凸形状を有してなる前記防眩層を形成してなる形成部とを備えてなるものである。第3の製造装置の概略を図5を用いて説明する。図5は、本発明の第3の製造装置の概略図を示す。光透過性基材31が供給部であるローラー35aと35bに挟持されて供給される。供給部であるローラー35aと35bの後方には、コーティングヘッド33が設置され、パイプ36により、液溜めより防眩層用組成物34が供給される。供給された防眩層用組成物34が、コーティングヘッド33の下部に向かって開口したスリット39から供給される。供給された光透過性基材31の上に、スリット39から防眩層用組成物34が付与され、防眩層用組成物34の層が形成された後、コーティングヘッド33の後方に設置された、硬化装置38により硬化処理が行なわれる。これにより、防眩層用組成物34が硬化させれ、防眩層37に所望の凹凸形状が形成されて、その後、光透過性基材41の上に硬化され防眩層37を備えた光学積層体が移動し、ローラー25dを経由して光学積層体が製造される。第4の製造装置本発明による第4の製造装置は、光透過性基材と、該光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光学積層体の製造装置であって、前記光透過性基材を供給する供給部と、前記光透過性基材に、前記防眩層の表面に形成される凹凸形状と逆の凹凸形状を有する型と、該型に防眩層用組成物を導入する導入部と、前記防眩層用組成物を硬化し、凹凸形状を有してなる前記防眩層を形成してなる形成部とを備えてなるものである。第4の製造装置の一態様の概略を図6を用いて説明する。図6は、本発明の第4の製造装置エンボス装置40の概略図を示す。光透過性基材41が、供給部であるニップローラー45aを介しエンボスローラー47に供給される。このエンボスローラー47の表面には、所望の防眩層の凹凸形状と逆形状の凹凸形状42が形成されている。エンボスローラー47の下部には、コーティングヘッド43が設置され、パイプ46により、液溜め図示せずより防眩層用組成物44が供給される。供給された防眩層用組成物44が、コーティングヘッド43の上部に向かって開口したスリット49から供給される。エンボスローラー47の凹凸形状42を有する型面に防眩層用組成物44が付与された後、エンボスローラー47が回転図の矢印方向し、エンボスローラー47の凹凸形状42と供給部であるニップローラ45aとの間において、光透過性基材41と防眩層用組成物44が密着される。本発明の好ましい態様によれば、防眩層用組成物44を凹凸形状42に付与させた後に、光透過性基材41を形成させることに替えて、光透過性基材41をエンボスローラー47に巻き付けつつ、防眩層用組成物44をそれらの間に供給し、光透過性基材41と防眩層用組成物44の層とを密着させてもよい。光透過性基材41と防眩層用組成物44の層とが密着されたものを、エンボスローラー47の上部に移動させ、エンボスローラー47の上方に設置された、硬化装置48により硬化処理を行なう。これにより、防眩層用組成物44の層が硬化させれ、光透過性基材41の上に一体形成される。光透過性基材41の上に硬化され防眩層用組成物44の層の光学積層体を、エンボスローラー47の回転に伴い移動させ、剥離ローラ45bにより、エンボスローラー47から剥離し、凹凸形状を有する防眩層を伴った光学積層体が製造される。エンボス賦型本発明の第4の製造装置によれば、微粒子を配合せずに、所望の凹凸形状を有する防眩層を形成した光学積層体を得ることができるとの利点を有する。本発明にあっては、凹凸形状の形成は、成膜された防眩層または成膜中の防眩層に対し、エンボス版好ましくは、ローラーエンボスを賦型して、必要に応じて、加熱等の硬化処理を伴ったエンボス法によって行なうことができる。本発明の好ましい態様によれば、所望の凹凸形状と逆の形状を型面に形成した凹凸型を使用し、硬化性の優れた防眩層用組成物を光透過性基材上に付与した後に、硬化処理し、光透過性基材と凹凸形状を有する防眩層を一体化させ、光学積層体として製造することができる。本発明にあっては、防眩層用組成物を付与してから凹凸型で賦型してもよいし、防眩層用組成物を光透過性基材と凹凸型の界面に供給し、防眩層用組成物を凹凸型と光透過性基材の間に介在させて、凹凸形状の形成と防眩層の形成とを同時に行なってもよい。本発明の好ましい態様によれば、エンボスローラ以外に、平板状のエンボス板を用いることもできる。エンボスローラーまたは平板状のエンボス板等に形成されている凹凸型面は、種々の方法により、具体的には、サンドブラスト法またはビーズショット法によって形成することができる。サンドブラスト法によるエンボス版エンボスローラーを用いて形成された防眩層は、その上側に凹形状他方、下側に凸な断面形状が多数分布した形状となる。ビーズショット法によるエンボス版エンボスローラーを用いて形成された防眩層は、上側に凸形状他方、上側に凸な断面形状が多数分布した形状となる。防眩層の表面に形成された凹凸形状の平均粗さが同じ場合に、上側に凸部が多数分布した形状を有している防眩層は、上側に凹部が多数分布した形状を有しているものと比較して、室内の照明装置等の写り込みが少ないとされている。このことから、本発明の好ましい態様によれば、ビーズショット法により防眩層の凹凸形状と同一形状に形成された凹凸型を利用して防眩層の凹凸形状を形成することが好ましく、この凹凸型により形成された凹凸形状は、上側に凸な断面形状の部分が、下面に凸な断面形状の部分がより多いものとして形成される。また、本発明の別の好ましい態様によれば、ビーズショット法により防眩層の凹凸形状と逆形状に形成された凹凸型を利用して防眩層の凹凸形状を形成することが好ましく、この凹凸型により形成された凹凸形状は、下側に凸な断面形状即ち凹部の部分が、上側に凸な断面形状即ち凸部の部分よりも多いものとして形成される。凹凸型面を形成するための型材としては、金属、プラスチック、木またはこれらの複合体を使用することができる。本発明の好ましい型材としては、強度、繰返使用による耐摩耗性の観点から、金属としてのクロムが好ましく、経済性等の観点から、鉄製エンボス版エンボスローラーの表面にクロムをメッキしたものが好ましくは例示される。サンドブラスト法またはビーズショット法により凹凸型を形成する際に、吹き付ける粒子=ビーズの具体例としては、金属粒子、シリカ、アルミナ、またはガラス等の無機質粒子が挙げられる。これらの粒子の粒径直径としては、100μm~300μm程度であることが好ましい。これらの粒子を型材に吹き付ける際には、これら粒子を高速の気体と共に吹き付ける方法が挙げられる。この際、適切な液体、例えば、水等を併用してよい。また、本発明にあっては、凹凸形状を形成した凹凸型には、使用時の耐久性を向上させる目的で、クロムメッキ等を施してから使用することが好ましく、硬膜化、および腐食防止の上で好ましい。光学積層体本発明による光学積層体は、防眩性特性と優れた黒色再現性、コントラストとを兼ね備えたものである。本発明では、この光学積層体をハーフグレア光学積層体HGと称する。HGは、従来の優れた防眩性を有するアンチグレア光学積層体AGと優れた黒色再現性、コントラストを有するクリアーハードコートグレア層に低反射率層を備えた光学積層体ARの両特性を兼ね備えたものということができる。具体的には、ハーフグレア光学積層体HGの形成方法の一つとして考えられる表面調整層をアンチグレア光学積層体AG上に形成させることにより、防眩層の凹凸形状は滑らかになり、更に、アンチグレアAGと同等の表面粗さパラメーターを持たせることで、充分な防眩性を付与しつつ、極めて艶黒感の高い防眩性積層体を作製することが可能となる。そこで、本発明による光学積層体HGの内容について、従来のARとAGとの対比において説明する。図1は、光学積層体における表面ヘイズ値と反射Y値との関係を表す図である。図1によれば、従来のARは、その表面ヘイズ値が0.3程度未満の領域、具体的には、符号1の罫線より左側領域に属するものである。また、従来のAGはその表面ヘイズ値が4.0~25.0程度一般的には10.0以上であり、反射Y値が1.0~4.5程度の領域に属するものであり、具体的には符号5で囲まれた領域一般的には、符号5で囲まれた右側領域のものが利用されている。他方、本発明による光学積層体HGは、その表面ヘイズ値が0.2以上3.5以下好ましくは3.0以下程度であり、反射Y値が0.5以上4.5以下程度の領域に属するものであり、具体的には符号3で囲まれた領域のものをいう。本発明による製造方法により製造される光学積層体の光学物性について図2を用いて説明する。図2は、光学積層体における防眩層の凹凸部の平均傾斜角θadeg度と、この凹凸の平均間隔Smμmとの関係を表す図である。図2によれば、従来のAGは、具体的には、θa値が1.5度以上2.5度以下であり、Sm値が30μm超過200μm以下程度符号9の領域となっており、符号11の領域に含まれるものが好ましいものとして利用されていた。他方、本発明による光学積層体HGは、そのθa値が0.1度超過1.2度以下であり、好ましくは下限値が0.3度以上であり、上限値が0.6度以下であり、Sm値が100μm以上600μm以下程度であり、好ましくは下限値が120μm以上であり、上限値が400μm以下であり、具体的には符号7の領域に属するものが利用される。また、本発明による光学積層体のRzの値は、0.2μm超過好ましくは0.35μm以上であり、下限値が1.2μm以下好ましくは1μm以下、より好ましくは0.9μm以下である。1.防眩層本発明による製造方法にあっては、防眩層を形成する方法として、光学積層体の表面に、予め調製した防眩層を積層させる方法がある。本発明にあっては、この方法以外に、光学積層体の表面に、1樹脂に微粒子を添加した防眩性用組成物を用いて凹凸形状を有した防眩層を形成する方法、2微粒子を添加しないで、樹脂等のみを含んだ防眩性用組成物を用いて凹凸形状を有した防眩層を形成する方法、3凹凸形状を付与する処理を用いて防眩層を形成する方法等が挙げられる。本発明にあっては、予め防眩層を調製する場合、上記1~3の方法によって別途調製された防眩層であってよい。本発明による製造方法により形成される防眩層の厚Hμmは、0.5μm以上27μm以下12μm以下が好ましいであり、好ましくは下限が1μm以上であり上限が7μm以下である。1樹脂に微粒子を添加した防眩性用組成物を用いて防眩層を形成する方法防眩層の形成法防眩層は、微粒子または凝集型微粒子好ましくは第一微粒子と第二微粒子と樹脂とを、適切な溶剤、例えば、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類;メチルエチルケトンMEK、メチルイソブチルケトンMIBK、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;ハロゲン化炭化水素;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;またはこれらの混合物に混合して得た防眩層用組成物を光透過性基材に塗布することにより形成されてよい。防眩層用組成物を光透過性基材に塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。防眩層用組成物の塗布後に、乾燥と紫外線硬化を行う。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、190~380nmの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、または直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。樹脂が硬化し、樹脂中の微粒子が固定されて、防眩層の最表面に所望の凹凸形状が形成される。微粒子微粒子は球状、例えば真球状、楕円状、針状等のものであってよく、好ましくは真球状のものが挙げられる。本発明にあっては、微粒子の平均粒子径Rμmが10μm以上20μm以下であり、好ましくは上限が15.0μmであり下限が、3.5μmであるものが好ましい。本発明では、前記微粒子の全体の80以上好ましくは90以上が、前記微粒子の粒径平均分布がR±10好ましくは0.3μmの範囲内にあるものが好ましい。微粒子の粒径平均分布が上記の範囲とされてなることにより、防眩性積層体の凹凸形状の均一性を良好なものとし、かつ、メンギラ等を有効に防止することが可能となる。また、微粒子とその平均粒径が異なる第二微粒子、第三微粒子、複数微粒子をさらにをさらに含んでなるものを有するものであってもよく、例えば、微粒子の平均粒子径Rμmが下限の3.5μm程度の小粒子径については、単分散微粒子ではなく、平均粒子径が3.5μmの粒度分布をもつ微粒子で効率良く凹凸層を形成させることが可能となる。凝集型微粒子本発明の好ましい態様によれば、微粒子の中でも凝集型微粒子を用いることが好ましい。凝集型微粒子は、同一の微粒子であっても、または平均粒径が異なる複数の微粒子で構成されてよい。本発明の好ましい態様によれば、凝集型微粒子は、第一微粒子とその平均粒径が異なる第二微粒子を含んでなるものが好ましくは挙げられる。また、本発明のより好ましい態様によれば、第二微粒子の単体自体またはその凝集部自体のみでは、前記防眩層において防眩性を発揮しないものが好ましい。本発明にあっては、微粒子の平均粒子径をRμmとし、第二微粒子の平均粒子径をrμmとした場合に、下記式:025R好ましくは0.50≦r≦1.0R好ましくは0.70を満たすものが好ましい。rが025R以上であることにより、組成物の分散が容易となり、粒子が凝集することがない。また、塗布後の乾燥工程においてフローティング時の風の影響を受けることなく、均一な凹凸形状を形成することができる。また、rが0.85R以下であることにより、微粒子と第一粒子との役割を明確に区別することが可能となるので好ましい。また、本発明の別の態様によれば、樹脂と、微粒子と、第二微粒子との単位面積当りの総重量比が、微粒子の単位面積当りの総重量をM1、第二微粒子の単位面積当りの総重量をM2、樹脂の単位面積当りの総重量をMとした場合に、下記の式IIおよびIII:008≦/M≦0.36II0≦M2≦40M1IIIを満たすものが好ましい。また、本発明の別の好ましい態様によれば、微粒子と、第二微粒子と、および樹脂の屈折率をそれぞれ、n1、n2、n3とした場合に、下記の式IV:Δn=n1-n3<0.15およびまたはΔn=n2-n3<0.18IVを満たすものが好ましい。微粒子第二の微粒子は無機系、有機系のものが挙げられるが、好ましくは有機系材料により形成されてなるものが好ましい。微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは、透明性のものがよい。微粒子の具体例としては、プラスチックビーズが挙げられ、より好ましくは透明性を有するものが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ屈折率1.59、メラミンビーズ屈折率1.57、アクリルビーズ屈折率1.49、アクリル-スチレンビーズ屈折率1.54、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。本発明の好ましい態様によればその表面に疎水性基を有したプラスチックビーズが好ましくは使用され、例えばアクリルビーズが好ましくは挙げられる。樹脂本発明による防眩層は硬化型樹脂により形成することができる。本発明において、樹脂は、モノマー、オリゴマー等の樹脂成分を包含する概念である。硬化型樹脂としては、透明性のものが好ましく、その具体例としては、紫外線または電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物、または熱硬化型樹脂の三種類が挙げら、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。電離放射線硬化型樹脂の具体例としては、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジェン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物のメタアルリレート等のオリゴマー又はプレポリマー、反応性希釈剤が挙げられ、これらの具体例としては、エチルメタアクリレート、エチルヘキシルメタアクリレート、スチレン、メチルスチレン、N-ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、ポリメチロールプロパントリメタアクリレート、ヘキサンジオールメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート等が挙げられる。電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α-アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、n-ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ-n-ブチルホソフィン等が挙げられる。電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。熱可塑性樹脂は一般的に例示されるものが利用される。好ましい熱可塑性樹脂の具体例としては、例えば、スチレン系樹脂、メタアクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂、及びゴム又はエラストマー等が挙げられる。樹脂としては、通常、非結晶性であり、かつ有機溶媒特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒に可溶な樹脂が使用される。特に、成形性又は製膜性、透明性や耐候性の高い樹脂、例えば、スチレン系樹脂、メタアクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体セルロースエステル類等等が好ましい。本発明の好ましい態様によれば、光透過性基材の材料がトリアセチルセルロースTAC等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えばニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。セルロース系樹脂を用いことにより、光透過性基材と帯電防止層必要に応じてとの密着性と透明性とを向上させることができる。さらに、上記したアセチルセルロース、ニトロセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロース等のセルロース誘導体の他に、酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその共重合体、塩化ビニリデン及びその共重合体等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、アクリル樹脂及びその共重合体、メタアクリル樹脂及びその共重合体等のアクリル系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン-尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用することができる。レベリング剤本発明の好ましい態様によれば、防眩層用組成物に、フッ素系またはシリコーン系等のレベリング剤を添加することが好ましい。レベリング剤を添加した防眩層用組成物は、塗布または乾燥時に塗膜表面に対して酸素による硬化阻害を有効に防止し、かつ、耐擦傷性の効果とを付与することを可能とする。レベリング剤は、耐熱性が要求されるフィルム状光透過性基材例えばトリアセチルセルロースに好ましくは利用される。2微粒子を添加せず、樹脂等のみを含んだ防眩性用組成物を用いて防眩層を形成する方法防眩層の形成法防眩層は、少なくとも1つのポリマーと少なくとも1つの硬化性樹脂前駆体とを含む防眩層用組成物を用いて形成することができる。そして、少なくとも1つのポリマーと少なくとも1つの硬化性樹脂前駆体とを、適切な溶媒と共に混合した防眩層組成物を用いることにより、液相からのスピノーダル分解により、相分離構造を形成し、硬化性樹脂前駆体を硬化させ、少なくとも防眩層を形成することにより製造できる。液相からのスピノーダル分解は、溶媒を蒸発させることにより行うことができる。相分離構造を形成する組み合わせは、例えば、複数のポリマー同士、ポリマーと硬化性樹脂前駆体、複数の硬化性樹脂前駆体同士等であってもよい。この方法において、熱可塑性樹脂と、光硬化性化合物光重合性モノマーやオリゴマー等と、光重合開始剤と、熱可塑性樹脂および光硬化性化合物を可溶な溶媒共通溶媒とを含む組成物からのスピノーダル分解により相分離構造を形成し、光照射することにより防眩層を形成してもよい。また、熱可塑性樹脂と、この熱可塑性樹脂に非相溶で且つ光硬化性基を有する樹脂と、光硬化性化合物と、光重合開始剤と、樹脂および光硬化性化合物を可溶な溶媒とを含む組成物からのスピノーダル分解により相分離構造を形成し、光照射することにより防眩層を形成してもよい。これらの方法において、光透過性基材上に少なくとも一層の防眩層を形成することが可能となる。具体的な形成方法防眩層は、少なくとも一つのポリマーと少なくとも一つの硬化性樹脂前駆体とを、適切な溶媒を用いて混合した防眩層用組成物を光透過性基材に付与し、その後、溶媒の蒸発に伴うスピノーダル分解により、相分離構造を形成する工程と、硬化性樹脂前駆体を硬化させ、少なくとも防眩層を形成する工程とを経ることによりを得ることができる。相分離工程は、通常、ポリマーと硬化性樹脂前駆体と溶媒とを含む混合液特に均一溶液等の液状組成物を光透過性基材の表面に塗布又は流延する工程と、塗布層又は流延層から溶媒を蒸発させて規則的又は周期的な平均相間距離を有する相分離構造を形成する工程とで構成されており、硬化性樹脂前駆体を硬化させることにより防眩層を得ることができる。本発明の好ましい態様によれば、混合液として、熱可塑性樹脂と、光硬化性化合物と、光重合開始剤と、熱可塑性樹脂および光硬化性化合物を可溶な溶媒とを含む防眩層用組成物が使用でき、スピノーダル分解により形成された相分離構造の光硬化成分を光照射により硬化することにより防眩層が形成される。また、他の好ましい態様では、混合液として、互いに非相溶な複数のポリマーと、光硬化性化合物と、光重合開始剤と、溶媒とを含む防眩層用組成物が使用でき、スピノーダル分解により形成された相分離構造の光硬化成分を光照射により硬化することにより防眩層が形成される。このような溶媒の蒸発を伴うスピノーダル分解により、相分離構造のドメイン間の平均距離に規則性又は周期性を付与できる。そして、スピノーダル分解により形成された相分離構造は、硬化性樹脂前駆体を硬化させることにより直ちに固定化できる。硬化性樹脂前駆体の硬化は、硬化性樹脂前駆体の種類に応じて、加熱、光照射等、あるいはこれらの方法の組合せにより行うことができる。加熱温度は、相分離構造を有する限り、適当な範囲、例えば、50~150°C程度から選択でき、相分離工程と同様の温度範囲から選択してもよい。光学積層体の一部を構成する防眩層は、その防眩層の相分離構造、液相からのスピノーダル分解湿式スピノーダル分解により形成されている。すなわち、ポリマーと硬化性樹脂前駆体と溶媒とで構成された本発明による防眩層用組成物を用い、この防眩層用組成物の液相又は均一溶液やその塗布層から、溶媒を乾燥等により蒸発又は除去する過程で、濃度の濃縮に伴って、スピノーダル分解による相分離が生じ、相間距離が比較的規則的な相分離構造を形成できる。より具体的には、前記湿式スピノーダル分解は、通常、少なくとも1つのポリマーと少なくとも1つの硬化性樹脂前駆体と溶媒とを含んでなる防眩層用組成物好ましくは均一溶液を支持体に塗布し、塗布層から溶媒を蒸発させることにより行うことができる。本発明にあっては、このスピノーダル分解において、相分離の進行に伴って共連続相構造を形成し、さらに相分離が進行すると、連続相が自らの表面張力により非連続化し、液滴相構造球状、真球状、円盤状や楕円体状等の独立相の海島構造となる。従って、相分離の程度によって、共連続相構造と液滴相構造との中間的構造上記共連続相から液滴相に移行する過程の相構造も形成できる。本発明の防眩層の相分離構造は、海島構造液滴相構造、又は一方の相が独立または孤立した相構造、共連続相構造又は網目構造であってもよく、共連続相構造と液滴相構造とが混在した中間的構造であってもよい。これらの相分離構造により溶媒乾燥後には防眩層の表面に微細な凹凸を形成できる。相分離構造において、防眩層の表面に凹凸形状が形成され、かつ表面硬度を高める点からは、少なくとも島状ドメインを有する液滴相構造であるのが有利である。なお、ポリマーと前記前駆体又は硬化樹脂とで構成された相分離構造が海島構造である場合、ポリマー成分が海相を形成してもよいが、表面硬度の観点から、ポリマー成分が島状ドメインを形成するのが好ましい。なお、島状ドメインの形成により、乾燥後には防眩層の表面に所望の光学特性を発揮する凹凸形状が形成される。前記相分離構造のドメイン間の平均距離は、通常、実質的に規則性又は周期性を有している。例えば、ドメインの平均相間距離は、例えば、1~70μm例えば、1~40μm、好ましくは2~50μm例えば、3~30μm、さらに好ましくは5~20μm例えば、10~20μm程度であってもよい。ポリマーポリマーは、スピノーダル分解により相分離可能な複数のポリマー、例えば、セルロース誘導体と、スチレン系樹脂、メタアクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂等、またはこれらの組合せが挙げられる。硬化性樹脂前駆体は、複数のポリマーのうち、少なくとも一種のポリマーと相溶性を有していてもよい。複数のポリマーのうち、少なくとも1つのポリマーが、硬化性樹脂前駆体の硬化反応に関与する官能基、例えば、メタアクリロイル基等の重合性基を有していてもよい。ポリマー成分としては、通常、熱可塑性樹脂が使用される。熱可塑性樹脂の具体例としては、スチレン系樹脂、メタアクリル系樹脂、有機酸ビニルエステル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、オレフィン系樹脂脂環式オレフィン系樹脂を含む、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂、ポリスルホン系樹脂例えば、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリフェニレンエーテル系樹脂例えば、2,6-キシレノールの重合体、セルロース誘導体例えば、セルロースエステル類、セルロースカーバメート類、セルロースエーテル類、シリコーン樹脂例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン、ゴム又はエラストマー例えば、ポリブタジエン、ポリイソプレン等のジエン系ゴム、スチレン-ブタジエン共重合体、アクリロニトリル-ブタジエン共重合体、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム等が挙げられ、これらの単独又は二種以上組み合わせて使用できる。スチレン系樹脂の具体例としては、スチレン系単量体の単独又は共重合体例えば、ポリスチレン、スチレン-α-メチルスチレン共重合体、スチレン-ビニルトルエン共重合体、スチレン系単量体と他の重合性単量体[例えば、メタアクリル系単量体、無水マレイン酸、マレイミド系単量体、ジエン類]との共重合体等が含まれる。スチレン系共重合体としては、例えば、スチレン-アクリロニトリル共重合体AS樹脂、スチレンとメタアクリル系単量体との共重合体[例えば、スチレン-メタクリル酸メチル共重合体、スチレン-メタクリル酸メチル-メタアクリル酸エステル共重合体、スチレン-メタクリル酸メチル-メタアクリル酸共重合体等]、スチレン-無水マレイン酸共重合体等が挙げられる。好ましいスチレン系樹脂としては、ポリスチレン、スチレンとメタアクリル系単量体との共重合体[例えば、スチレン-メタクリル酸メチル共重合体等のスチレンとメタクリル酸メチルを主成分とする共重合体]、AS樹脂、スチレン-ブタジエン共重合体等が含まれる。メタアクリル系樹脂としては、メタアクリル系単量体の単独又は共重合体、メタアクリル系単量体と共重合性単量体との共重合体等が使用できる。メタアクリル系単量体の具体例としては、メタアクリル酸;メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸ブチル、メタアクリル酸t-ブチル、メタアクリル酸イソブチル、メタアクリル酸ヘキシル、メタアクリル酸オクチル、メタアクリル酸2-エチルヘキシル等のメタアクリル酸C1-10アルキル;メタアクリル酸フェニル等のメタアクリル酸アリール;ヒドロキシエチルメタアクリレート、ヒドロキシプロピルメタアクリレート等のヒドロキシアルキルメタアクリレート;グリシジルメタアクリレート;N,N-ジアルキルアミノアルキルメタアクリレート;メタアクリロニトリル;トリシクロデカン等の脂環式炭化水素基を有するメタアクリレート等が例示できる。共重合性単量体の具体例としては、前記スチレン系単量体、ビニルエステル系単量体、無水マレイン酸、マレイン酸、フマル酸等が例示でき、これらの単量体は、単独又は二種以上組み合わせて使用できる。メタアクリル系樹脂の具体例としては、ポリメタクリル酸メチル等のポリメタアクリル酸エステル、メタクリル酸メチル-メタアクリル酸共重合体、メタクリル酸メチル-メタアクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸メチル-アクリル酸エステル-メタアクリル酸共重合体、メタアクリル酸エステル-スチレン共重合体MS樹脂等等が挙げられる。好ましいメタアクリル系樹脂の具体例としては、ポリメタアクリル酸メチル等のポリメタアクリル酸C1-6アルキル、特にメタクリル酸メチルを主成分50~100重量、好ましくは70~100重量程度とするメタクリル酸メチル系樹脂が挙げられる。有機酸ビニルエステル系樹脂の具体例としては、ビニルエステル系単量体の単独又は共重合体ポリ酢酸ビニル、ポリプロピオン酸ビニル等、ビニルエステル系単量体と共重合性単量体との共重合体エチレン-酢酸ビニル共重合体、酢酸ビニル-塩化ビニル共重合体、酢酸ビニル-メタアクリル酸エステル共重合体等又はそれらの誘導体が挙げられる。ビニルエステル系樹脂の誘導体の具体例としては、ポリビニルアルコール、エチレン-ビニルアルコール共重合体、ポリビニルアセタール樹脂等が含まれる。ビニルエーテル系樹脂の具体例としては、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルプロピルエーテル、ビニルt-ブチルエーテル等のビニルC1-10アルキルエーテルの単独又は共重合体、ビニルC1-10アルキルエーテルと共重合性単量体との共重合体ビニルアルキルエーテル-無水マレイン酸共重合体等が挙げられる。ハロゲン含有樹脂の具体例としては、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル-メタアクリル酸エステル共重合体、塩化ビニリデン-メタアクリル酸エステル共重合体等が挙げられる。オレフィン系樹脂の具体例としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィンの単独重合体、エチレン-酢酸ビニル共重合体、エチレン-ビニルアルコール共重合体、エチレン-メタアクリル酸共重合体、エチレン-メタアクリル酸エステル共重合体等の共重合体が挙げられる。脂環式オレフィン系樹脂の具体例としては、環状オレフィン例えば、ノルボルネン、ジシクロペンタジエンの単独又は共重合体例えば、立体的に剛直なトリシクロデカン等の脂環式炭化水素基を有する重合体、前記環状オレフィンと共重合性単量体との共重合体例えば、エチレン-ノルボルネン共重合体、プロピレン-ノルボルネン共重合体等が例示できる。脂環式オレフィン系樹脂の具体例としては、商品名アートンARTON、商品名ゼオネックスZEONEX等として入手できる。ポリカーボネート系樹脂の具体例としては、ビスフェノール類ビスフェノールA等をベースとする芳香族ポリカーボネート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート等の脂肪族ポリカーボネート等が含まれる。ポリエステル系樹脂の具体例としては、テレフタル酸等の芳香族ジカルボン酸を用いた芳香族ポリエステル、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリC2-4アルキレンテレフタレートやポリC2-4アルキレンナフタレート等のホモポリエステル、C2-4アルキレンアリレート単位C2-4アルキレンテレフタレート及び/又はC2-4アルキレンナフタレート単位を主成分例えば、50重量以上として含むコポリエステル等、が例示できる。コポリエステルの具体例としては、ポリC2-4アルキレンアリレートの構成単位のうち、C2-4アルキレングリコールの一部を、ポリオキシC2-4アルキレングリコール、C6-10アルキレングリコール、脂環式ジオールシクロヘキサンジメタノール、水添ビスフェノールA等、芳香環を有するジオールフルオレノン側鎖を有する9,9-ビス4-2-ヒドロキシエトキシフェニルフルオレン、ビスフェノールA、ビスフェノールA-アルキレンオキサイド付加体等等で置換したコポリエステル、芳香族ジカルボン酸の一部を、フタル酸、イソフタル酸等の非対称芳香族ジカルボン酸、アジピン酸等の脂肪族C6-12ジカルボン酸等で置換したコポリエステルが含まれる。ポリエステル系樹脂の具体例としては、ポリアリレート系樹脂、アジピン酸等の脂肪族ジカルボン酸を用いた脂肪族ポリエステル、ε-カプロラクトン等のラクトンの単独又は共重合体も含まれる。好ましいポリエステル系樹脂は、通常、非結晶性コポリエステル例えば、C2-4アルキレンアリレート系コポリエステル等等のように非結晶性である。ポリアミド系樹脂の具体例としては、ナイロン46、ナイロン6、ナイロン66、ナイロン610、ナイロン612、ナイロン11、ナイロン12等の脂肪族ポリアミド、ジカルボン酸例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、アジピン酸等とジアミン例えば、ヘキサメチレンジアミン、メタキシリレンジアミンとから得られるポリアミド等が挙げられる。ポリアミド系樹脂の具体例としては、ε-カプロラクタム等のラクタムの単独又は共重合体であってもよく、ホモポリアミドに限らずコポリアミドであってもよい。セルロース誘導体のうちセルロースエステル類の具体例としては、例えば、脂肪族有機酸エステル、例えば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート等のセルロースアセテート;セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等のC1-6有機酸エステル等が挙げられ、芳香族有機酸エステルセルロースフタレート、セルロースベンゾエート等のC7-12芳香族カルボン酸エステル、無機酸エステル類、例えば、リン酸セルロース、硫酸セルロース等が例示でき、酢酸硝酸セルロースエステル等の混合酸エステルであってもよい。セルロース誘導体の具体例としては、セルロースカーバメート類例えば、セルロースフェニルカーバメート等が挙げられ、セルロースエーテル類、例えば、シアノエチルセルロース;ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等のヒドロキシC2-4アルキルセルロース;メチルセルロース、エチルセルロース等のC1-6アルキルセルロース;カルボキシメチルセルロース又はその塩、ベンジルセルロース、アセチルアルキルセルロース等が挙げられる。好ましい熱可塑性樹脂の具体例としては、例えば、スチレン系樹脂、メタアクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂、及びゴム又はエラストマー等が挙げられる。樹脂としては、通常、非結晶性であり、かつ有機溶媒特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒に可溶な樹脂が使用される。特に、成形性又は製膜性、透明性や耐候性の高い樹脂、例えば、スチレン系樹脂、メタアクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体セルロースエステル類等等が好ましい。ポリマー成分としては、硬化反応に関与する官能基又は硬化性化合物と反応可能な官能基を有するポリマーを用いることもできる。このポリマーは、官能基を主鎖に有していてもよく、側鎖に有していてもよい。前記官能基は、共重合や共縮合等により主鎖に導入されてもよいが、通常、側鎖に導入される。このような官能基の具体例としては、縮合性基や反応性基例えば、ヒドロキシル基、酸無水物基、カルボキシル基、アミノ基又はイミノ基、エポキシ基、グリシジル基、イソシアネート基、重合性基例えば、ビニル、プロペニル、イソプロペニル基、ブテニル、アリル等のC2-6アルケニル基、エチニル、プロピニル、ブチニル等のC2-6アルキニル基、ビニリデン等のC2-6アルケニリデン基、又はこれらの重合性基を有する基例えば、メタアクリロイル基等が挙げられる。これらの官能基のうち、重合性基が好ましい。重合性基を側鎖に導入する方法としては、例えば、反応性基や縮合性基等の官能基を有する熱可塑性樹脂と、前記官能基との反応性基を有する重合性化合物とを反応させる方法を用いることができる。官能基を有する熱可塑性樹脂としては、カルボキシル基又はその酸無水物基を有する熱可塑性樹脂例えば、メタアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ヒドロキシル基を有する熱可塑性樹脂例えば、メタアクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、セルロース誘導体、ポリアミド系樹脂、アミノ基を有する熱可塑性樹脂例えば、ポリアミド系樹脂、エポキシ基を有する熱可塑性樹脂例えば、エポキシ基を有するメタアクリル系樹脂やポリエステル系樹脂等が例示できる。また、スチレン系樹脂やオレフィン系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂等の熱可塑性樹脂に、前記官能基を共重合やグラフト重合で導入した樹脂であってもよい。重合性化合物としては、カルボキシル基又はその酸無水物基を有する熱可塑性樹脂の場合は、エポキシ基やヒドロキシル基、アミノ基、イソシアネート基等を有する重合性化合物等を用いることができる。ヒドロキシル基を有する熱可塑性樹脂の場合は、カルボキシル基又はその酸無水物基やイソシアネート基等を有する重合性化合物等が挙げられる。アミノ基を有する熱可塑性樹脂の場合は、カルボキシル又はその酸無水物基やエポキシ基、イソシアネート基等を有する重合性化合物等が挙げられる。エポキシ基を有する熱可塑性樹脂の場合は、カルボキシル基又はその酸無水物基やアミノ基等を有する重合性化合物等が挙げられる。前記重合性化合物のうち、エポキシ基を有する重合性化合物としては、例えば、エポキシシクロヘキセニルメタアクリレート等のエポキシシクロC5-8アルケニルメタアクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリルグリシジルエーテル等が例示できる。ヒドロキシル基を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシプロピルメタアクリレート等のヒドロキシC1-4アルキルメタアクリレート、エチレングリコールモノメタアクリレート等のC2-6アルキレングリコールメタアクリレート等が例示できる。アミノ基を有する重合性化合物としては、例えば、アミノエチルメタアクリレート等のアミノC1-4アルキルメタアクリレート、アリルアミン等のC3-6アルケニルアミン、4-アミノスチレン、ジアミノスチレン等のアミノスチレン類等が例示できる。イソシアネート基を有する重合性化合物としては、例えば、ポリウレタンメタアクリレートやビニルイソシアネート等が例示できる。カルボキシル基又はその酸無水物基を有する重合性化合物としては、例えば、メタアクリル酸や無水マレイン酸等の不飽和カルボン酸又はその無水物等が例示できる。代表的な例としては、カルボキシル基又はその酸無水物基を有する熱可塑性樹脂とエポキシ基含有化合物、特にメタアクリル系樹脂メタアクリル酸-メタアクリル酸エステル共重合体等とエポキシ基含有メタアクリレートエポキシシクロアルケニルメタアクリレートやグリシジルメタアクリレート等の組み合わせが挙げられる。具体的には、メタアクリル系樹脂のカルボキシル基の一部に重合性不飽和基を導入したポリマー、例えば、メタアクリル酸-メタアクリル酸エステル共重合体のカルボキシル基の一部に、3,4-エポキシシクロヘキセニルメチルアクリレートのエポキシ基を反応させて、側鎖に光重合性不飽和基を導入したメタアクリル系ポリマーサイクロマーP、ダイセル化学工業株製等が使用できる。熱可塑性樹脂に対する硬化反応に関与する官能基特に重合性基の導入量は、熱可塑性樹脂1kgに対して、0.001~10モル、好ましくは0.01~5モル、さらに好ましくは0.02~3モル程度である。これらのポリマーは適当に組み合わせて使用できる。すなわち、ポリマーは複数のポリマーで構成されていてもよい。複数のポリマーは、液相スピノーダル分解により、相分離可能であってもよい。また、複数のポリマーは、互いに非相溶であってもよい。複数のポリマーを組み合わせる場合、第1の樹脂と第2の樹脂との組み合わせは特に制限されないが、加工温度付近で互いに非相溶な複数のポリマー、例えば、互いに非相溶な2つのポリマーとして適当に組み合わせて使用できる。例えば、第1の樹脂がスチレン系樹脂ポリスチレン、スチレン-アクリロニトリル共重合体等である場合、第2の樹脂は、セルロース誘導体例えば、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル類、メタアクリル系樹脂ポリメタクリル酸メチル等、脂環式オレフィン系樹脂ノルボルネンを単量体とする重合体等、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂前記ポリC2-4アルキレンアリレート系コポリエステル等等であってもよい。また、例えば、第1のポリマーがセルロース誘導体例えば、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル類である場合、第2のポリマーは、スチレン系樹脂ポリスチレン、スチレン-アクリロニトリル共重合体等、メタアクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂ノルボルネンを単量体とする重合体等、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂前記ポリC2-4アルキレンアリレート系コポリエステル等等であってもよい。複数の樹脂の組合せにおいて、少なくともセルロースエステル類例えば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等のセルロースC2-4アルキルカルボン酸エステル類を用いてもよい。スピノーダル分解により生成された相分離構造は、活性光線紫外線、電子線等や熱等により最終的に硬化し、硬化樹脂を形成する。そのため、防眩層に耐擦傷性を付与でき、耐久性を向上できる。硬化後の耐擦傷性の観点から、複数のポリマーのうち、少なくとも一つのポリマー、例えば、互いに非相溶なポリマーのうち一方のポリマー第1の樹脂と第2の樹脂とを組み合わせる場合、特に両方のポリマーが硬化性樹脂前駆体と反応可能な官能基を側鎖に有するポリマーであるのが好ましい。第1のポリマーと第2のポリマーとの割合重量比は、例えば、第1のポリマー/第2のポリマーが、1/99~99/1、好ましくは5/95~95/5、さらに好ましくは10/90~90/10程度の範囲から選択でき、通常、20/80~80/20程度、特に30/70~70/30程度である。相分離構造を形成するためのポリマーとしては、前記非相溶な2つのポリマー以外にも、前記熱可塑性樹脂や他のポリマーが含まれていてもよい。ポリマーのガラス転移温度は、例えば、-100°C~250°C、好ましくは-50°C~230°C、さらに好ましくは0~200°C程度例えば、50~180°C程度の範囲から選択できる。なお、表面硬度の観点から、ガラス転移温度は、50°C以上例えば、70~200°C程度、好ましくは100°C以上例えば、100~170°C程度であるのが有利である。ポリマーの重量平均分子量は、例えば、1,000,000以下、好ましくは1,000~500,000程度の範囲から選択できる。硬化性樹脂前駆体硬化性樹脂前駆体としては、熱や活性エネルギー線紫外線や電子線等等により反応する官能基を有する化合物であり、熱や活性エネルギー線等により硬化又は架橋して樹脂特に硬化又は架橋樹脂を形成可能な種々の硬化性化合物が使用できる。前記樹脂前駆体としては、例えば、熱硬化性化合物又は樹脂[エポキシ基、重合性基、イソシアネート基、アルコキシシリル基、シラノール基等を有する低分子量化合物例えば、エポキシ系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂]、活性光線紫外線等により硬化可能な光硬化性化合物例えば、光硬化性モノマー、オリゴマーの紫外線硬化性化合物等が例示でき、光硬化性化合物は、EB電子線硬化性化合物等であってもよい。なお、光硬化性モノマー、オリゴマーや低分子量であってもよい光硬化性樹脂等の光硬化性化合物を、単に光硬化性樹脂という場合がある。光硬化性化合物には、例えば、単量体、オリゴマー又は樹脂、特に低分子量樹脂が含まれ、単量体としては、例えば、単官能性単量体[メタアクリル酸エステル等のメタアクリル系単量体、ビニルピロリドン等のビニル系単量体、イソボルニルメタアクリレート、アダマンチルメタアクリレート等の橋架環式炭化水素基を有するメタアクリレート等]、少なくとも2つの重合性不飽和結合を有する多官能性単量体[エチレングリコールジメタアクリレート、プロピレングリコールジメタアクリレート、ブタンジオールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ヘキサンジオールジメタアクリレート等のアルキレングリコールジメタアクリレート;ジエチレングリコールジメタアクリレート、ジプロピレングリコールジメタアクリレート、ポリオキシテトラメチレングリコールジメタアクリレート等のポリオキシアルキレングリコールジメタアクリレート;トリシクロデカンジメタノールジメタアクリレート、アダマンタンジメタアクリレート等の橋架環式炭化水素基を有するジメタアクリレート;トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリメチロールエタントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート等の3~6程度の重合性不飽和結合を有する多官能性単量体]が例示できる。オリゴマー又は樹脂としては、ビスフェノールA-アルキレンオキサイド付加体のメタアクリレート、エポキシメタアクリレートビスフェノールA型エポキシメタアクリレート、ノボラック型エポキシメタアクリレート等、ポリエステルメタアクリレート例えば、脂肪族ポリエステル型メタアクリレート、芳香族ポリエステル型メタアクリレート等、ポリウレタンメタアクリレート例えば、ポリエステル型ウレタンメタアクリレート、ポリエーテル型ウレタンメタアクリレート、シリコーンメタアクリレート等が例示できる。これらの光硬化性化合物は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。好ましい硬化性樹脂前駆体は、短時間で硬化できる光硬化性化合物、例えば、紫外線硬化性化合物モノマー、オリゴマーや低分子量であってもよい樹脂等、EB硬化性化合物である。特に、実用的に有利な樹脂前駆体は、紫外線硬化性樹脂である。さらに、耐擦傷性等の耐性を向上させるため、光硬化性樹脂は、分子中に2以上好ましくは2~6、さらに好ましくは2~4程度の重合性不飽和結合を有する化合物であるのが好ましい。硬化性樹脂前駆体の分子量としては、ポリマーとの相溶性を考慮して5000以下、好ましくは2000以下、さらに好ましくは1000以下程度である。硬化性樹脂前駆体は、その種類に応じて、硬化剤を含んでいてもよい。例えば、熱硬化性樹脂では、アミン類、多価カルボン酸類等の硬化剤を含んでいてもよく、光硬化性樹脂では光重合開始剤を含んでいてもよい。光重合開始剤としては、慣用の成分、例えば、アセトフェノン類又はプロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、アシルホスフィンオキシド類等が例示できる。光硬化剤等の硬化剤の含有量は、硬化性樹脂前駆体100重量部に対して0.1~20重量部、好ましくは0.5~10重量部、さらに好ましくは1~8重量部特に1~5重量部程度であり、3~8重量部程度であってもよい。硬化性樹脂前駆体は硬化促進剤を含んでいてもよい。例えば、光硬化性樹脂は、光硬化促進剤、例えば、第三級アミン類例えば、ジアルキルアミノ安息香酸エステル、ホスフィン系光重合促進剤等を含んでいてもよい。ポリマーと硬化性樹脂前駆体との具体的な組合せ少なくとも1つのポリマー及び少なくとも1つの硬化性樹脂前駆体のうち、少なくとも2つの成分が、加工温度付近で互いに相分離する組み合わせで使用される。相分離する組み合わせとしては、例えば、a複数のポリマー同士が互いに非相溶で相分離する組み合わせ、bポリマーと硬化性樹脂前駆体とが非相溶で相分離する組み合わせや、c複数の硬化性樹脂前駆体同士が互いに非相溶で相分離する組み合わせ等が挙げられる。これらの組み合わせのうち、通常、a複数のポリマー同士の組み合わせや、bポリマーと硬化性樹脂前駆体との組み合わせであり、特にa複数のポリマー同士の組み合わせが好ましい。相分離させる両者の相溶性が低い場合、溶媒を蒸発させるための乾燥過程で両者が有効に相分離し、防眩層としての機能が向上する。熱可塑性樹脂と硬化性樹脂前駆体又は硬化樹脂とは、通常、互いに非相溶である。ポリマーと硬化性樹脂前駆体とが非相溶で相分離する場合に、ポリマーとして複数のポリマーを用いてもよい。複数のポリマーを用いる場合、少なくとも1つのポリマーが樹脂前駆体又は硬化樹脂に対して非相溶であればよく、他のポリマーは前記樹脂前駆体と相溶してもよい。互いに非相溶な2つの熱可塑性樹脂と、硬化性化合物特に複数の硬化性官能基を有するモノマー又はオリゴマーとの組み合わせであってもよい。さらに、硬化後の耐擦傷性の観点から、前記非相溶な熱可塑性樹脂のうち一方のポリマー特に両方のポリマーが硬化反応に関与する官能基前記硬化性樹脂前駆体の硬化に関与する官能基を有する熱可塑性樹脂であってもよい。ポリマーを互いに非相溶な複数のポリマーで構成して相分離する場合、硬化性樹脂前駆体は、非相溶な複数のポリマーのうち、少なくとも1つのポリマーと加工温度付近で互いに相溶する組合せで使用される。すなわち、互いに非相溶な複数のポリマーを、例えば、第1の樹脂と第2の樹脂とで構成する場合、硬化性樹脂前駆体は少なくとも第1の樹脂又は第2の樹脂のどちらかと相溶すればよく、好ましくは両方のポリマー成分と相溶してもよい。両方のポリマー成分に相溶する場合、第1の樹脂及び硬化性樹脂前駆体を主成分とした混合物と、第2の樹脂及び硬化性樹脂前駆体を主成分とした混合物との少なくとも二相に相分離する。選択した複数のポリマーの相溶性が低い場合、溶媒を蒸発させるための乾燥過程でポリマー同士が有効に相分離し、防眩層としての機能が向上する。複数のポリマー相分離性は、双方の成分に対する良溶媒を用いて均一溶液を調製し、溶媒を徐々に蒸発させる過程で、残存固形分が白濁するか否かを目視にて確認することにより簡便に判定できる。通常、ポリマーと、樹脂前駆体の硬化により生成した硬化又は架橋樹脂とは互いに屈折率が異なる。また、複数のポリマー第1の樹脂と第2の樹脂の屈折率も互いに異なる。ポリマーと硬化又は架橋樹脂との屈折率の差、複数のポリマー第1の樹脂と第2の樹脂との屈折率の差は、例えば、0.001~0.2、好ましくは0.05~0.15程度であってもよい。ポリマーと硬化性樹脂前駆体との割合重量比は、特に制限されず、例えば、ポリマー/硬化性樹脂前駆体が、5/95~95/5程度の範囲から選択でき、表面硬度の観点から、好ましくは5/95~60/40程度であり、さらに好ましくは10/90~50/50、特に10/90~40/60程度である。溶媒溶媒は、前記ポリマー及び硬化性樹脂前駆体の種類及び溶解性に応じて選択し使用することができ、少なくとも固形分複数のポリマー及び硬化性樹脂前駆体、反応開始剤、その他添加剤を均一に溶解できる溶媒であればよく、湿式スピノーダル分解において使用することができる。そのような溶媒としては、例えば、ケトン類アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等、エーテル類ジオキサン、テトラヒドロフラン等、脂肪族炭化水素類ヘキサン等、脂環式炭化水素類シクロヘキサン等、芳香族炭化水素類トルエン、キシレン等、ハロゲン化炭素類ジクロロメタン、ジクロロエタン等、エステル類酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等、水、アルコール類エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等、セロソルブ類メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等、セロソルブアセテート類、スルホキシド類ジメチルスルホキシド等、アミド類ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等等が例示でき、これらの混合溶媒であってもよい。防眩層用組成物中の溶質ポリマー及び硬化性樹脂前駆体、反応開始剤、その他添加剤の濃度は、相分離が生じる範囲及び流延性やコーティング性等を損なわない範囲で選択でき、例えば、1~80重量、好ましくは5~60重量、さらに好ましくは15~40重量特に20~40重量程度である。3凹凸形状を付与する処理を用いて防眩層を形成する方法本発明による防眩層は、微粒子を含まない、ポリマー、樹脂等を含んでなる防眩層用組成物を用いて形成した防眩層の表面または防眩層形成中の防眩層の表面に対して、凹凸形状を付与する処理を行って防眩層を形成することができる。この方法については、本発明の製造方法と製造装置の項で説明したのと同様であってよい。2.表面調整層本発明にあっては、防眩層の凹凸表面を調整するために、表面調整層を形成してもよい。この場合、表面調整層は防眩層と一体となって防眩性機能を発揮するものである。従って、表面調整層を形成する場合、表面の凹凸形状の値であるSm、θa、Rz等の光学特性値は本願発明の範囲内にある。付言すれば、防眩層の上に表面調整層が付与される場合、表面調整層の表面凹凸形状が、本発明における防眩層の表面凹凸形状の光学特性値と当然に一致する。以上のことは、表面調整層の下記内容及び実施例からも理解される。表面調整層は、防眩層の凹凸形状を形成している表面粗さにおいて凹凸スケール凹凸の山高さと山間隔の1/10以下のスケールで凹凸形状に沿って存在している微細な凹凸を目止めして、スムージングを掛けて滑らかな凹凸を形成させること、または、凹凸の山間隔や山高さ、山の頻度個数の調整することが可能となる。また、表面調整層は、帯電防止、屈折率調整、高硬度化、防汚染性、等を付与することを目的として形成されるものである。表面調整層の膜厚硬化時は0.5μm以上27μm以下12μm以下が好ましいであり、好ましくは下限が3μm以上であり上限が8μm以下である。表面調整剤表面調整剤としては、帯電防止剤、屈折率調整剤、防汚染剤、撥水剤、撥油剤、指紋付着防止剤、高硬化剤および硬度調整剤緩衝性付与剤からなる群から選択される一種または二種以上の混合物が挙げられる。帯電防止剤導電剤表面調整層中に、帯電防止剤を含んでなることにより、光学積層体の表面における塵埃付着を有効に防止することができる。帯電防止剤の具体例としては、第4級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第1~第3アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられ、さらに上記に列記した化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第3級アミノ基、第4級アンモニウム基、または金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマーまたはオリゴマー、或いは官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。また、導電性超微粒子が挙げられる。導電性微粒子の具体例としては、金属酸化物からなるのものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ZnO屈折率1.90、以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。、CeO21.95、Sb2O21.71、SnO21.997、ITOと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫1.95、In2O32.00、Al2O31.63、アンチモンドープ酸化錫略称;ATO、2.0、アルミニウムドープ酸化亜鉛略称;AZO、2.0等を挙げることができる。微粒子とは、1ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものを指し、好ましくは、平均粒径が0.1nm~0.1μmのものである。本発明の好ましい態様によれば、表面調整層に含まれる樹脂と帯電防止剤との添加比が5以上25以下であり、好ましくは上限が20以下であり下限が5以上である。また、帯電防止剤として、導電性ポリマーが挙げられ、その具体例としては、脂肪族共役系のポリアセチレン、芳香族共役系のポリパラフェニレン、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリフェニレンビニレンが挙げられ、これら以外に、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフトまたはブロック共重した高分子である導電性複合体等を挙げられる。屈折率調整剤表面調整層に、屈折率調整剤を添加し、光学積層体の光学特性を調整することが可能となる。屈折率調整剤には、低屈折率剤、中屈折率剤、高屈折率剤等が挙げられる。1低屈折率剤低屈折率剤は、その屈折率が防眩層より低いものである。本発明の好ましい態様によれば、防眩層の屈折率が1.5以上であり、低屈折率剤の屈折率が1.5未満であり、好ましくは1.45以下で構成されてなるものが好ましい。低屈折率剤の具体例としては、シリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体が挙げられ、その例としてはフッ化ビニリデン30~90重量及びヘキサフルオロプロピレン5~50重量を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が60~70重量であるフッ素含有共重合体100重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物80~150重量部とからなる組成物が挙げられる。このフッ素含有共重合体は、フッ化ビニリデンとヘキサフルオロプロピレンとを含有するモノマー組成物を共重合することによって得られる共重合体が挙げられる。このモノマー組成物における各成分の割合は、フッ化ビニリデンが30~90重量、好ましくは40~80重量、特に好ましくは40~70重量であり、またはヘキサフルオロプロピレンが5~50重量、好ましくは10~50重量、特に好ましくは15~45重量である。このモノマー組成物は、更にテトラフルオロエチレンを0~40重量、好ましくは0~35重量、特に好ましくは10~30重量含有するものであってもよい。このフッ素含有共重合体を得るためのモノマー組成物は、必要に応じて、他の共重合体成分が、例えば、20重量以下、好ましくは10重量以下の範囲で含有されたものであってもよい。この共重合体の具体例としては、フルオロエチレン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、1,2-ジクロロ-1,2-ジフルオロエチレン、2-ブロモー3,3,3-トリフルオロエチレン、3-ブロモー3,3-ジフルオロプロピレン、3,3,3-トリフルオロプロピレン、1,1,2-トリクロロ-3,3,3-トリフルオロプロピレン、α-トリフルオロメタクリル酸等のフッ素原子を有する重合性モノマーを挙げることができる。このようなモノマー組成物から得られるフッ素含有共重合体のフッ素含有割合は60~70重量であることが好ましく、より好ましくは62~70重量、特に好ましくは64~68重量である。添加割合がこのような範囲であることにより、後述の溶剤に対して良好な溶解性を有する。または、フッ素含有共重合体を成分として含有することにより、優れた密着性と、高い透明性と、低い屈折率とを有し、優れた機械的強度を有する光学積層体を形成することが可能となる。フッ素含有共重合体は、その分子量がポリスチレン換算数平均分子量で5000~200000、特に10000~100000であることが好ましい。このような大きさの分子量を有するフッ素含有共重合体を用いることにより、得られるフッ素系樹脂組成物の粘度が好適な大きさとなり、従って、確実に好適な塗布性を有するフッ素系樹脂組成物とすることができる。フッ素含有共重合体自体の屈折率は1.45以下、好ましくは1.42以下、より好ましくは1.40以下であるものが好ましい。屈折率がこの範囲にあることにより、形成される光学積層体の反射防止効果が好ましいものとなる。樹脂の添加量は、フッ素含有共重合体100重量部に対して30~150重量部、好ましくは35~100重量部、特に好ましくは40~70重量部である。また、フッ素含有共重合体と樹脂とを含む重合体形成成分の合計量におけるフッ素含有割合が30~55重量、好ましくは35~50重量であることが好ましい。添加量またはフッ素含有割合が、上記した範囲内にあることにより、表面調整層の基材に対する密着性が良好となり、また、屈折率が低い良好な反射防止効果を得ることが可能となる。本発明の好ましい態様によれば、低屈折率剤として、空隙を有する微粒子を利用することが好ましい。空隙を有する微粒子は表面調整層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることを可能とする。本発明において、空隙を有する微粒子とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び/又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、塗膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び/又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。空隙を有する無機系の微粒子の具体例としては、特開2001-233611号公報で開示されている技術を用いて調製したシリカ微粒子が好ましくは挙げられる。空隙を有するシリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して表面調整層表面調整層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を1.20~1.45程度の範囲内に調製することを可能とする。特に、空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開2002-80503号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が好ましく挙げられる。塗膜の内部及び/又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラムおよび表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子、または断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体的としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名NipsilやNipgelの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業株製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカUPシリーズ商品名から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。空隙を有する微粒子の平均粒子径は、5nm以上300nm以下であり、好ましくは下限が8nm以上であり上限が100nm以下であり、より好ましくは下限が10nm以上であり上限が80nm以下である。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、表面調整層に優れた透明性を付与することが可能となる。2高屈折率剤/中屈折率剤高屈折率剤、中屈折率剤は、反射防止性をさらに向上させるために表面調整層に添加されてよい。高屈折率剤、中屈折率剤の屈折率は1.46~2.00の範囲内で設定されてよく、中屈折率剤は、その屈折率が1.46~1.80の範囲内のものを意味し、高屈折率剤は、その屈折率が1.65~2.00の範囲内のものを意味する。これら屈折率剤は、微粒子が挙げられ、その具体例かっこ内は屈折率を示すとしては、酸化亜鉛1.90、チタニア2.3~2.7、セリア1.95、スズドープ酸化インジウム1.95、アンチモンドープ酸化スズ1.80、イットリア1.87、ジルコニア2.0が挙げられる。レベリング剤表面調整層は、レベリング剤を添加することができる。レベリング剤の好ましいものとしては、フッ素系またはシリコーン系等が挙げられる。レベリング剤を添加した表面調整層は、塗工面を良好にし、塗布または乾燥時に塗膜表面に対して酸素による硬化阻害を有効に防止し、かつ、耐擦傷性の効果とを付与することを可能とする。防汚染剤表面調整層は防汚染剤を添加することができる。防汚染剤は、光学積層体の最表面の汚れ防止を主目的とし、さらに光学積層体の耐擦傷性を付与することが可能となる。防汚染剤の具体例としては、撥水性、撥油性、指紋拭き取り性を発現するような添加剤が有効である。より具体例としては、フッ素系化合物、ケイ素系化合物、またはこれらの混合化合物が挙げられる。より具体的には、2-パーフロロオクチルエチルトリアミノシラン等のフロロアルキル基を有するシランカップリング剤等が挙げられ、特に、アミノ基を有するものが好ましくは使用することができる。樹脂表面調整層は、表面調整剤と、樹脂モノマー、オリゴマー等の樹脂成分を包含するとにより少なくとも調整されてよい。表面調整剤を含まない場合には、この樹脂が高硬化剤として、または防眩層の凹凸を滑らかな面とする役割を担う。樹脂としてては、透明性のものが好ましく、その具体例としては、紫外線または電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物、または熱硬化型樹脂の三種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。電離放射線硬化型樹脂の具体例としては、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジェン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物のメタアルリレート等のオリゴマー又はプレポリマー、反応性希釈剤が挙げられ、これらの具体例としては、エチルメタアクリレート、エチルヘキシルメタアクリレート、スチレン、メチルスチレン、N-ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、ポリメチロールプロパントリメタアクリレート、ヘキサンジオールメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート等が挙げられる。電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α-アミロキシムエステル、チオキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、n-ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ-n-ブチルホスフィン等が挙げられる。また、電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤または光重合促進剤を添加することができる。光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いる。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物100重量部に対し、0.1~10重量部である。電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂は一般的に例示されるものが利用される。好ましい熱可塑性樹脂の具体例としては、例えば、スチレン系樹脂、メタアクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂、及びゴム又はエラストマー等が挙げられる。樹脂としては、通常、非結晶性であり、かつ有機溶媒特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒に可溶な樹脂が使用される。特に、成形性又は製膜性、透明性や耐候性の高い樹脂、例えば、スチレン系樹脂、メタアクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体セルロースエステル類等等が好ましい。溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。本発明の好ましい態様によれば、光透過性基材の材料がTAC等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えばニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン-尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用することができる。重合開始剤表面調整層を形成する際に、光重合開始剤を用いることができ、その具体例としては、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトンが挙げられる。この化合物は市場入手可能であり、例えば商品名イルガキュア184チバスペシャリティーケミカルズ社製が挙げられる。溶剤表面調整層を形成するには、上記成分を溶剤ともに混合した表面調整層用組成物を利用する。溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;ハロゲン化炭化水素;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、ケトン類、エステル類が挙げられる。表面調整層の形成法表面調整層は、表面調整層用組成物を防眩層に付与することにより形成されてよい。表面調整層用組成物を塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。表面調整層用組成物の塗布後に、乾燥と紫外線硬化を行う。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、190~380nmの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、または直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。3.任意の層本発明による光学積層体は、光透過性基材と、防眩層と、必要に応じて表面調整層とにより構成されてなるが、さらに任意の層として帯電防止層、低屈折率層、防汚染層等を備えてなるものであってよい。低屈折率層は、防眩層または表面調整層の屈折率よりも低い屈折率を有するものが好ましい。帯電防止層、低屈折率層、防汚染層は表面調整層において説明した、帯電防止剤、低屈折率剤、防汚染剤等に、樹脂等を添加した組成物を調整し、それぞれの層を形成してよい。従って、帯電防止剤、低屈折率剤、防汚染剤、樹脂等も同様であってよい。4.光透過性基材光透過性基材は、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度とに優れたものが好ましい。光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエステルポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、またはポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくはポリエステルポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、セルローストリアセテートが挙げられる。その他に、脂環構造を有した非晶質オレフィンポリマーCycloOlefinPolymer:COPフィルムもあり、これは、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体樹脂などが用いられる基材で、例えば、日本ゼオン製のゼオネックスやゼオノアノルボルネン系樹脂、住友ベークライト製スミライトFS1700、JSR製アートン変性ノルボルネン系樹脂、三井化学製アペル環状オレフィン共重合体、Ticona社製のTopas環状オレフィン共重合体、日立化成製オプトレッツOZ1000シリーズ脂環式アクリル樹脂などが挙げられる。また、トリアセチルセルロースの代替基材として旭化成ケミカルズ製のFVシリーズ低複屈折率、低光弾性率フィルムも好ましい。本発明にあっては、これらの熱可塑性樹脂を薄膜の柔軟性に富んだフィルム状体として使用することが好ましいが、硬化性が要求される使用態様に応じて、これら熱可塑性樹脂の板またはガラス板の板状体のものも使用することも可能である。光透過性基材の厚さは、20μm以上300μm以下、好ましくは上限が200μm以下であり、下限が30μm以上である。光透過性基材が板状体の場合にはこれらの厚さを越える厚さであってもい。基材は、その上に防眩層を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行なってもよい。光学積層体の利用本発明による製造方法によって製造される光学積層体は下記の用途を有する。偏光板本発明の別の態様によれば、偏光素子と、本発明による光学積層体とを備えてなる偏光板を提供することができる。具体的には、偏光素子の表面に、本発明による光学積層体を該光学積層体における防眩層が存在する面と反対の面に備えてなる、偏光板を提供することができる。偏光素子は、例えば、よう素又は染料により染色し、延伸してなるポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン-酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を用いることができる。ラミネート処理にあたって、接着性の増加のため、または電防止のために、光透過性基材好ましくは、トリアセチルセルロースフィルムにケン化処理を行うことが好ましい。画像表示装置本発明のさらに別の態様によれば、画像表示装置を提供することができ、この画像表示装置は、透過性表示体と、前記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなり、この透過性表示体の表面に、本発明による光学積層体または本発明による偏光板が形成されてなるものである。本発明による画像表示装置は、基本的には光源装置バックライトと表示素子と本発明による光学積層体とにより構成されてよい。画像表示装置は、透過型表示装置に利用され、特に、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサ等のディスプレイ表示に使用される。とりわけ、CRT、液晶パネル等の高精細画像用ディスプレイの表面に用いられる。本発明による画像表示装置が液晶表示装置の場合、光源装置の光源は本発明による光学積層体の下側から照射される。なお、STN型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。"