"光透過性支持体上に金属メッシュパターンを有し、前記光透過性支持体側から見た金属メッシュパターン部が黒化部および非黒化部から構成され、黒化部の面積に対する非黒化部の面積比が20~50であることを特徴とする透明導電性材料。従って、本発明の目的は、光透過性が高く、メッシュパターンの細線視認性が低く、かつ支持体側から見た場合の虹状の画像ぼけが低減された透明導電性材料を提供することにある。本発明の上記課題は以下の発明によって達成される。1光透過性支持体上に金属メッシュパターンを有し、前記支持体側から見た金属メッシュパターン部が黒化部および非黒化部から構成され、黒化部の面積に対する非黒化部の面積比が20~50であることを特徴とする透明導電性材料。本発明により、光透過性が高く、メッシュパターンの細線視認性が低く、かつ虹状の画像ぼけ現象が低減された透明導電性材料を提供することができる。本発明の透明導電性材料は支持体上にメッシュパターン状の金属細線を有する。本発明の透明導電性材料の金属メッシュパターンの形状は、例えば、正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形などの四角形、正六角形、正八角形など各種パターンの繰り返しを使用できるが、金属細線の視認性の観点から、正方形の繰り返しパターンが好ましい。本発明の透明導電性材料において、メッシュパターンのピッチの範囲は100~250μmであることが好ましく、さらに好ましくは150~225μmである。ピッチが好ましい範囲よりも狭いと十分な光透過性が得られない場合があり、導電性材料を介して見た対象物の画像にじみが強くなる傾向がある。好ましい範囲よりも広いとメッシュパターンの細線視認性が高まり、導電性材料を介して見た対象物の美観を損ねる場合がある。本発明の透明導電性材料において、メッシュパターンの線幅は細い方が好ましいが、導電性との兼ね合いもあるので、20μm以下、さらには17μm以下が好ましい。下限は5μmであることが好ましい。本発明の透明導電性材料の全光線透過率は70以上が好ましく、さらに好ましくは75以上である。本発明の透明導電性材料において、良好な電磁波シールド材としての導電性を得るために必要なメッシュパターンの金属細線の厚みは、3~10μmが好ましく、さらに好ましくは4~8μmである。本発明の透明導電性材料において、例えば、電磁波シールド材として適用する場合の導電性は、シート抵抗で2Ω/□以下、さらに好ましくは1Ω/□以下である。本発明において、支持体側から見た金属メッシュパターン部とは、すなわち光透過性支持体を介して反対側から見た金属メッシュパターン部のことであり、支持体に接している側の金属メッシュパターンの面を指す。本発明の透明導電性材料は、支持体側から見た金属メッシュパターン部が黒化部および非黒化部から構成される。本発明の透明導電性材料において、支持体側から見た金属メッシュパターン部の黒化部と非黒化部は、メッシュパターンと同条件で作製した金属べた部をJISZ8722に準拠して支持体側から測定したときのL値で定義する。本発明においては、L値が35以下の場合を黒化部とする。非黒化部は同様に測定したL値が35以上で、さらに黒化部に対して5以上高い部分とする。本発明の透明導電性材料の支持体側から見た金属メッシュパターン部の黒化部、非黒化部の形態は、a金属メッシュパターン細線の中央部が黒化されており、黒化部の外側縁の部分が非黒化部である、b金属メッシュパターン細線の中央部が非黒化部であり、非黒化部の外側縁の部分が黒化部であるような形態があるが、虹状の画像ぼけ現象を低減するという観点から、aの形態が好ましい。上記aについて説明する。aは、支持体上に支持体面側が黒化された金属メッシュパターンを形成し、その後、該メッシュパターンにめっき処理を実施することで黒化部と非黒化部を形成する。めっき条件は、支持体面側が黒化された金属の外側に黒化されていない金属を付与するために、例えば、十分な導電性が得られるめっき条件よりもめっき時間を長くするなど、過度の条件でめっきを実施することで非黒化部を形成する。本発明における過度の条件とは、シート抵抗1Ω/□以下の導電性が得られる条件のめっき厚よりも、3倍以上めっき厚を付与することを意味する。上記aの支持体上に支持体面側が黒化された金属メッシュパターンを形成するには、1黒化した銅、ニッケル、銀などの金属薄膜の黒化された面を光透過性支持体に張り合わせてから、フォトエッチング法などによってメッシュパターンを形成する、2予め光透過性支持体上に親水性ポリマーなどから構成される下引き層などを設け、その上に金属ペーストを支持体上にスクリーン印刷法やインクジェット印刷法等で印刷し、焼結等させることでメッシュパターンを形成し、黒化液を下引き層から浸透させる、3ある特定の表面粗さを持った金属を光透過性支持体に貼合した後、フォトエッチング法などによってメッシュパターンを形成する、など種々の方法が可能であるが、容易に、支持体面側が黒化された高精細な金属メッシュパターンが形成できるという観点から、特開2007-087625号公報、特開2008-251274号公報、特開2009-185342号公報などで開示された銀塩拡散転写法を用いる方法が好ましい。上記aの支持体面側が黒化された金属メッシュパターン上に、めっきにより金属を被覆するには、無電解めっき化学還元めっきや置換めっき、電解めっき、または無電解めっきと電解めっきの両方を用いることができるが、電解ニッケルめっきが、支持体面側が黒化された金属の外側に黒化されていない金属を比較的容易に付与することができるため好ましい。電解ニッケルめっきについて説明する。電解ニッケルめっきには、ワット浴、スルファミン酸浴などが利用できる。これらの浴には、ニッケル箔の柔軟性を調整するため、必要に応じてサッカリン、パラトルエンスルホンアミド、ベンゼンスルホン酸ナトリウム、ナフタリントリスルホン酸ナトリウムのような添加剤、及びその調合剤である市販の添加剤を添加してもよい。ワット浴の場合、硫酸ニッケルの濃度として50~300g/Lが好ましく、さらに好ましくは150~250g/Lである。硫酸ニッケルの濃度が50g/Lより低いとめっき処理時間が掛かり過ぎてコスト高となる。また、硫酸ニッケルの濃度が300g/Lより高いとめっき液が不安定となり、めっき皮膜が密着不良となる場合がある。塩化ニッケルの濃度は、5~100g/Lが好ましく、さらに好ましくは20~50g/Lである。塩化ニッケルの濃度が5g/Lより低いとめっき液が不安定となり、100g/Lより高いとめっき皮膜の応力が高くなり皮膜にクラックが入る場合がある。ホウ酸の濃度としては、10~80g/Lが好ましく、さらに好ましくは20~50g/Lである。ホウ酸の濃度が10g/Lより低い場合は、電気分解によるpHの変化を受け易く、80g/Lより高いとホウ酸が結晶化し、製品に付着する場合がある。めっき処理液のpHとしては、1~10が好ましく、さらに好ましくは4~6である。pHが1より低いとめっき皮膜にムラが発生し、pHが10より高いと密着不良となる場合がある。めっき処理液の温度は、20~80°Cが好ましく、さらに好ましくは40~70°Cである。めっき処理液の温度が20°Cより低いとめっき析出が不安定となる場合があり、80°Cより高いとエネルギーコストが高くつく。電解めっきの電流密度としては、0.1~20A/cm2が好ましく、さらに好ましくは0.5~10A/cm2である。電解めっきの電流密度が0.1A/cm2より低いと、めっき時間が長くなりコストアップとなる。また、電解めっきの電流密度が20A/cm2より高いと、密着不良及び製品にスパークが発生するから好ましくない。上記aの黒化部、非黒化部の形態のさらに外側を黒化部とすることもできる。すなわち、非黒化部として金属めっきにより形成された金属の表面を黒化処理することで黒化部を形成する。黒化処理は例えば、銅の亜塩素酸のアルカリ水溶液での表面酸化、銀の硫化物による硫化黒化などの表面処理、黒色ニッケルめっき、黒色クロムめっき、黒色ロジウムめっきなどの黒色めっき処理で実施することができる。例えば、ニッケル表面上に黒化するのであれば黒色ニッケルめっきが好ましい。黒色ニッケルめっきについて説明する。めっき浴には、硫酸ニッケル60~80g/L、硫酸ニッケルアンモニウム35~50g/L、硫酸亜鉛20~35g/L、チオシアン酸ナトリウムが含有される。めっき処理液のpHとしては、1~10が好ましく、さらに好ましくは4~6である。pHが1より低いとめっき皮膜にムラが発生し、pHが10より高いと密着不良となる場合がある。めっき処理液の温度は、20~80°Cが好ましく、さらに好ましくは50~60°Cである。めっき処理液の温度が20°Cより低いとめっき析出が不安定となる場合があり、80°Cより高いとエネルギーコストが高くつく。電解めっきの電流密度としては、0.1~5A/cm2が好ましく、さらに好ましくは0.5~1.5A/cm2である。上記bについて説明する。bは支持体上に金属メッシュパターンを形成し、その後、メッシュパターンを黒化処理することにより達成される。上記bの支持体上に金属メッシュパターンを形成するには、1金属薄膜が被覆された支持体を、フォトエッチング法などを用いることによってメッシュパターンを形成する、2金属ペーストを支持体上にスクリーン印刷法やインクジェット印刷法等で印刷し、焼結等させることでメッシュパターンを形成する、3無電解めっき触媒を有するペーストを支持体上にスクリーン印刷法やインクジェット印刷法等で印刷し、無電解めっきを施しメッシュパターンを形成する、4国際公開第2001/51276号パンフレット、特開2004-221564号公報に記載された銀塩写真感光材料を用いて、メッシュパターンを形成する、5特開2008-251274号公報の実施例導電性材料前駆体12に記載された銀塩拡散転写法を用いて形成することができる。上記bのメッシュパターンを黒化処理する方法としては、上記aで記載したような黒色ニッケルめっきなどの黒色めっき処理を過度の条件で実施することで非黒化部を形成することができる。本発明において、黒化部の面積に対する非黒化部の面積比非黒化部の面積/黒化部の面積。以下、非黒化率と記載するは、光学顕微鏡で支持体側からのメッシュパターン部を撮影し、画像解析することで求めることができる。本発明において、非黒化率は、20~50である。この範囲から外れるとメッシュパターンの視認性が上がったり、また虹状の画像ぼけが発生し好ましくない。本発明の透明導電性材料の光透過性支持体としては、例えばポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリイミド樹脂、セロハン、セルロイド等のプラスチック樹脂フィルム、などの光透過性支持体を用いる。ここで光透過性とは全光線透過率が80以上であることを意味する。これらは本発明の目的を妨げない程度に着色していても良く、さらにこれら各種光透過性支持体を単体で使うこともできるが、これらを組み合わせた積層体であっても良い。光透過性支持体の厚みは、5~300μmが好ましい。本発明の導電性材料の金属細線パターンに使用される金属としては、特に限定されないが、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、タングステン、クロム、チタンなどの金属の内の1種または2種以上の金属、あるいは2種以上を組み合わせた合金を使用することができる。以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、無論この記述により本発明が制限されるものではない。比較例1透明導電性材料シート抵抗1Ω/□以下の光透過性電磁波シールド用フィルムを作製するために導電性材料前駆体を作製した。光透過性支持体として、塩化ビニリデンを含有する層により易接着加工が施された、全光線透過率が90、厚み100μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。次に、硫化パラジウムゾル液を下記のようにして作製し、得られたゾルを用いて物理現像核液を作製した。<硫化パラジウムゾルの調製>A液塩化パラジウム5g塩酸40mL蒸留水1000mLB液硫化ソーダ8.6g蒸留水1000mLA液とB液を撹拌しながら混合し、30分後にイオン交換樹脂の充填されたカラムに通し硫化パラジウムゾルを得た。<物理現像核液組成/1m2あたり>前記硫化パラジウムゾル0.4mg2質量のグルタルアルデヒド溶液0.08mL10質量SP-200水溶液0.5mg日本触媒株製ポリエチレンイミン;平均分子量10,000この物理現像核液を硫化パラジウムが固形分で0.4mg/m2になるように、下引き層の上に塗布し、乾燥した。続いて、上記物理現像核層を塗布した側と反対側の面に下記組成の裏塗り層を塗布した。<裏塗り層組成/1m2あたり>ゼラチン2g不定形シリカマット剤平均粒径5μm20mg染料1200mg界面活性剤S-1400mg続いて、支持体に近い方から順に下記組成の中間層、ハロゲン化銀乳剤層、及び最外層を上記物理現像核層の上に塗布した。ハロゲン化銀乳剤は、写真用ハロゲン化銀乳剤の一般的なダブルジェット混合法で製造した。このハロゲン化銀乳剤は、塩化銀95モルと臭化銀5モルで、平均粒径が0.15μmになるように調製した。このようにして得られたハロゲン化銀乳剤を定法に従いチオ硫酸ナトリウムと塩化金酸を用い、金イオウ増感を施した。こうして得られたハロゲン化銀乳剤は銀1gあたり0.5gのゼラチンを含む。<中間層組成/1m2あたり>ゼラチン0.5g界面活性剤S-15mg<ハロゲン化銀乳剤層組成/1m2あたり>ゼラチン1.0gハロゲン化銀乳剤4.0g銀相当1-フェニル-5-メルカプトテトラゾール3.0mg界面活性剤S-120mg<最外層組成/1m2あたり>ゼラチン1g不定形シリカマット剤平均粒径3.5μm10mg界面活性剤S-110mgこのようにして得た導電性材料前駆体を、水銀灯を光源とする密着プリンターでピッチ175μm、線幅12μmのメッシュパターンを有する透過原稿を密着させて露光した。露光量は透明導電性材料のメッシュ細線幅が透過原稿の細線幅と同じになる露光量で行った。その後、露光した導電性材料前駆体を下記現像液中に20°Cで60秒間浸漬した後、続いてハロゲン化銀乳剤層、中間層、最外層および裏塗り層を40°Cの温水で水洗除去し、乾燥処理した。露光したサンプルからはメッシュパターン状に銀薄膜が形成された透明導電性材料を得た。得られたメッシュパターン画像の細線幅、ピッチを光学顕微鏡で確認したところ、露光用マスクの細線幅、ピッチを再現していた。また、未露光の導電性材料前駆体も同時に現像処理し、支持体上に均一な銀画像を有する銀べたフィルムを得た。<拡散転写現像液組成>水酸化カリウム25gハイドロキノン18g1-フェニル-3-ピラゾリドン2g亜硫酸カリウム80gN-メチルエタノールアミン15g臭化カリウム1.2g全量を水で1000mLとする。pH=12.2に調整する。上記のようにして得られたメッシュパターン状銀薄膜が形成された透明導電性材料及び銀べたフィルムの後処理として、15質量塩化ナトリウム水溶液を用いて60°Cで60秒処理を実施した。続いて、メッシュパターンおよび銀べたフィルムに、下記のめっき液を用いて、液温60°C、電流密度2A/cm2、めっき時間3分の条件下で電解ニッケルめっきを実施した。めっき後のメッシュパターンのシート抵抗は0.9Ω/□であり、十分なシールド性能が得られることを確認した。共焦点顕微鏡レーザーテック社製、オプテリクスC130により、測定したメッシュパターンのめっき厚は1μm、線幅は13μmであった。<めっき液>硫酸ニッケル240g塩化ニッケル45gホウ酸30g全量を水で1000mLとする。pH=4.6に調整する。銀べた部の表面金属ニッケル面および裏面金属銀面のL値を日本電色株色差計ZE-200を用い、JIS-Z8722に従い測定した。金属ニッケル面は、裏面側からの測定値の代用とするために、上記の物理現像核層塗設済みの光透過性支持体を挟んで測定した。結果、金属ニッケル面のL値は49.5、金属銀面のL値は20.0であり、黒化部および非黒化部が形成されていることを確認した。上記のようにして得られた金属メッシュパターンが形成された透明導電性材料について下記の評価を実施した。1表面抵抗率株ダイアインスツルメンツ社製、ロレスターGP/ESPプローブによってJIS-K7194に準拠して測定した。測定場所は30cm四方の正方形の四隅左上、左下、右上、右下及び中心部の5箇所とした。測定結果の平均値Ω/□を表1に示す。2全光線透過率スガ試験機株製、ヘーズコンピューターHZ-2によって、JISK7361-1に従い測定した。測定結果を表1に示す。3非黒化部の黒化部に対する面積比非黒化率共焦点顕微鏡レーザーテック社製、オプテリクスC130により、支持体側から見た電解ニッケルめっき後のメッシュパターン部を撮影し、画像解析処理により非黒化率を算出した。算出した結果を表1に示す。4金属細線の視認性得られた透明導電性材料をライトテーブル上で50cm離れた位置から目視し、金属細線の視認性を評価した。5段階で評価し、1:金属細線をほとんど視認できない最も良いレベル、2:凝視することで金属細線を僅かに視認できるレベル、3:凝視することで金属細線が視認できるレベル、4:一目で金属細線が視認できるレベル、5:金属細線の視認性が高い最も悪いレベルと規定した。1、2を可、3~5を不可レベルと規定した。この結果を表1に示す。5虹状の画像ぼけ得られた透明導電性材料をディスプレイ上に支持体面を外側に向けて設置し、夜景の画像を5秒間隔で表示し、目視にて虹状の画像ぼけを評価した。5段階で評価し、1:虹状の画像ぼけが認識できないレベル、2:凝視すると若干虹状の画像ぼけが認識できるレベル、3:凝視すると虹状の画像ぼけが認識できるレベル、4:一目で虹状の画像ぼけが認識できるレベル、5:虹状の画像ぼけが強く最も悪いレベル、と規定した。同じく1、2を可、3~5を不可レベルと規定した。この結果を表1に示す。比較例2前記比較例1において、電解ニッケルめっきのめっき時間を5分に延長した。共焦点顕微鏡レーザーテック社製、オプテリクスC130により、測定しためっき厚は2μm、線幅は14μmであった。その他は比較例1と同様に透明導電性材料を作製し、比較例1と同様に評価を実施した。金属ニッケル面のL値は49.8、金属銀面のL値は20.5であり、黒化部および非黒化部が形成されていることを確認した。この結果を表1に示す。実施例1前記比較例1において、電解ニッケルめっきのめっき時間を10分に延長した。共焦点顕微鏡レーザーテック社製、オプテリクスC130により、測定しためっき厚は4μm、線幅は15μmであった。その他は比較例1と同様に透明導電性材料を作製し、比較例1と同様に評価を実施した。金属ニッケル面のL値は50.0、金属銀面のL値は21.0であり、黒化部および非黒化部が形成されていることを確認した。この結果を表1に示す。実施例2前記比較例1において、電解ニッケルめっきのめっき時間を20分に延長した。共焦点顕微鏡レーザーテック社製、オプテリクスC130により、測定しためっき厚は8μm、線幅は18μmであった。その他は比較例1と同様に透明導電性材料を作製し、比較例1と同様に評価を実施した。金属ニッケル面のL値は50.0、金属銀面のL値は20.5であり、黒化部および非黒化部が形成されていることを確認した。この結果を表1に示す。比較例3前記比較例1において、電解ニッケルめっきのめっき時間を30分に延長した。共焦点顕微鏡レーザーテック社製、オプテリクスC130により、測定しためっき厚は12μm、線幅は21μmであった。その他は比較例1と同様に透明導電性材料を作製し、比較例1と同様に評価を実施した。金属ニッケル面のL値は49.8、金属銀面のL値は21.0であり、黒化部および非黒化部が形成されていることを確認した。この結果を表1に示す。比較例4黒化部のない金属メッシュパターンを作製するために導電性材料前駆体の作製で用いた物理現像核液組成を下記の処方に変更した。その他は実施例1と同様に透明導電性材料を作製し、比較例1と同様に評価を実施した。裏面金属銀面のL値は37であり黒化部が形成されていないことを確認した。この結果を表1に示す。<物理現像核液組成/1m2あたり>前記硫化パラジウムゾル0.4mg2質量のグルタルアルデヒド溶液0.08mL表1の結果から、本発明の有効性が理解できる。"