"貯留部に貯留された過酸化水素水に超音波振動を与えて霧化させる霧化部と、前記霧化部で霧化されてキャリアガスとともに流れる過酸化水素水が排出されるように当該過酸化水素水を上方へ導く内筒部と、前記内筒部が内側空間に配置されて前記内筒部とともに二重管を構成し、前記貯留部へ向かって下降する前記キャリアガス用のガス流路を、前記内筒部との間に形成する外筒部と、前記外筒部に連通され、前記外筒部に導入される前のキャリアガスが流れる中空のガス導入部と、前記ガス導入部を流れるキャリアガスを加熱するヒーターと、を備えたことを特徴とする過酸化水素ガス生成装置。貯留部に貯留された過酸化水素水に超音波振動を与えて霧化させる霧化部と、前記霧化部に連通するとともに前記霧化部で霧化された過酸化水素水を運ぶキャリアガスを前記霧化部の上方において上下方向に流通させる内筒部と、前記内筒部が内側空間に配置されて前記内筒部とともに二重管を構成し、前記内筒部との間に前記霧化部に連通するとともに前記キャリアガスが流れるガス流路を形成する外筒部と、前記外筒部と前記内筒部の間のガス流路に連通し、前記キャリアガスが流れる中空のガス導入部と、前記ガス導入部を流れるキャリアガスを加熱するヒーターと、を備えたことを特徴とする過酸化水素ガス生成装置。前記内筒部は、伝熱性を有する金属材料によって構成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の過酸化水素ガス生成装置。前記ヒーターは、前記ガス導入部の内部に配置され、前記ガス導入部の内表面と前記ヒーターとの間に、前記キャリアガスの流れ方向を規制するとともに伝熱性を有する金属板製の流路規制板を取り付けたことを特徴とする請求項1から3の何れか1項に記載の過酸化水素ガス生成装置。前記貯留部は、逆円錐台状に窪んだ凹部を備え、前記内筒部は、下端部が筒の長手方向に対して斜めに切断された円筒状部材によって構成されるとともに、前記下端部の頂部を通る前記キャリアガスの流速が前記下端部の他の部分を通る前記キャリアガスの流速よりも高くなるように、前記下端部の頂部が前記凹部の傾斜面に近接する高さに配置されていることを特徴とする請求項1から4の何れか1項に記載の過酸化水素ガス生成装置。前記ガス導入部を流れるキャリアガスの温度を、前記貯留部に貯留された過酸化水素水の沸点以上にすべく前記ヒーターに通電する制御、及び、前記ヒーターへの通電を開始した後、予め定められた期間に亘って前記霧化部が有する超音波振動子を動作させる制御を行う、制御部を設けたことを特徴とする請求項1から5の何れか1項に記載の過酸化水素ガス生成装置。キャリアガスが供給される供給口と、滅菌ガスが排出される排出口と、底面に設けられた開口部とを備える本体と、前記開口部を塞ぎつつ、過酸化水素水を貯留する貯留部と、前記貯留部に貯留された前記過酸化水素水を霧化させる霧化部と、前記供給口から前記貯留部に流れる前記キャリアガスを加熱するとともに、前記排出口から前記キャリアガス及び気化された前記過酸化水素水が前記滅菌ガスとして排出されるよう、霧化された前記過酸化水素水及び前記貯留部から前記排出口に流れる前記キャリアガスを加熱するヒーターと、を備えることを特徴とする滅菌ガス発生装置。請求項7に記載の滅菌ガス発生装置であって、前記本体は、前記供給口及び前記排出口が設けられた筒状部材であり、前記ヒーターは、前記筒状部材の中心軸方向に沿って設けられた発熱部材と、前記供給口からの前記キャリアガスが、前記貯留部に貯留された前記過酸化水素水の水面から前記発熱部材の下端までの間の空間を経由して前記排出口から排出されるよう、前記発熱部材から放射状に形成される一対の第1放熱板と、を含むことを特徴とする滅菌ガス発生装置。請求項8に記載の滅菌ガス発生装置であって、前記ヒーターは、前記筒状部材の内壁と前記一対の第1放熱板とに挟まれた2つの領域のうち前記供給口側の領域において、前記発熱部材から放射状に形成される第2放熱板と、前記2つの領域のうち前記排出口側の領域において、前記発熱部材から放射状に形成される第3放熱板と、を更に含むことを特徴とする滅菌ガス発生装置。キャリアガスが供給される供給口と、キャリアガスが排出される排出口と、前記供給口及び排出口よりも下方において過酸化水素水を貯留する貯留部とを備えた本体と、前記貯留部に貯留された過酸化水素水を霧化するための霧化部と、前記霧化部によって霧化された過酸化水素水をキャリアガスとともに加熱して気化するとともに上方の前記排出口に導くヒータとを備え、該ヒータは、前記供給口から供給されるキャリアガスを下方の前記貯留部に導きつつ加熱するヒータを兼ねることを特徴とする滅菌ガス発生装置。請求項10に記載の滅菌ガス発生装置であって、前記本体は筒状を呈し、前記ヒーターは、前記筒状部材の内部を前記供給口から前記貯留部へ到る空間と、前記貯留部から前記排出口へと至る空間に分ける放熱板を有することを特徴とする滅菌ガス発生装置。請求項11に記載の滅菌ガス発生装置であって、前記放熱板は、前記供給口から供給されるキャリアガスの一部を前記貯留部を経ずに直接排出口へと流すための開口を有することを特徴とする滅菌ガス発生装置。過酸化水素は、強い殺菌力及び腐食力を有しており、高濃度の溶液が人間の皮膚に付着すると強い刺激を受けてしまう。このため、過酸化水素の溶液をガス化するに際しては、残留溶液を極力少なくすることが求められる。また、過酸化水素の溶液をガス化するときに加熱をするとガス化が促進されるが、加熱の度合いが高すぎると熱分解される過酸化水素の量が多くなり、滅菌物質の量の低下に起因する殺菌力の低下が懸念される。本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、過酸化水素ガスを生成する際の残留溶液の量を極力少なくしつつ、熱分解される過酸化水素の量も極力少なくすることにある。前記課題を解決するため、本発明の過酸化水素ガス生成装置は、貯留部に貯留された過酸化水素水に超音波振動を与えて霧化させる霧化部と、前記霧化部で霧化されてキャリアガスとともに流れる過酸化水素水が排出されるように当該過酸化水素水を上方へ導く内筒部と、前記内筒部が内側空間に配置されて二重管を構成し、前記貯留部へ向かって下降する前記キャリアガス用のガス流路を、前記内筒部との間に形成する外筒部と、前記外筒部に連通され、前記外筒部に導入される前のキャリアガスが流れる中空のガス導入部と、前記ガス導入部を流れるキャリアガスを加熱するヒーターと、を備えたことを特徴とする。本発明の過酸化水素ガス生成装置によれば、ヒーターによって加熱されたキャリアガスがガス流路を流下して貯留部に導入される。そして、貯留部で霧化された過酸化水素水はキャリアガスの流れに乗って内筒部の内側空間を上方に流れる。その際、貯留部の過酸化水素水は、キャリアガスとの熱交換によっても蒸発されるので、貯留部に残留する過酸化水素水の量を極力少なくすることができる。また、霧化された過酸化水素水が気化する際に、キャリアガスの熱が過酸化水素水に吸収されるため、キャリアガスの温度が過度に上昇されず、過酸化水素の熱分解を抑制することもできる。従って、過酸化水素ガスを生成する際の残留溶液の量を極力少なくしつつ、熱分解される過酸化水素の量を極力少なくすることができる。<第1実施形態について>以下、本発明の実施形態について説明する。なお、本発明に係る過酸化水素ガス生成装置は、本実施形態における滅菌ガス生成装置20として、アイソレータに組み込まれている。このため、アイソレータを例に挙げて説明する。なお、本明細書において、過酸化水素水とは過酸化水素を水に溶解した過酸化水素水溶液のことであり、本実施形態では過酸化水素が35の水溶液を主に使用している。また、過酸化水素ガスを生成するとは純粋に過酸化水素の気体のみを生成するのではなく、過酸化水素及び過酸化水素水のミストが一部混ざったものも含めて使用している。<アイソレータの全体構成>図1に示すように、アイソレータは、作業室1、気体供給部2、気体排出部3、滅菌ガス供給装置4、及び制御部5を有している。作業室1は、無菌環境下での作業を行うための作業空間を区画する部分であり、前面に前面扉6を有する箱状部材によって構成されている。前面扉6は、外部から開閉可能に構成されている。この前面扉6には、作業用グローブ7が設けられている。この作業用グローブ7は、作業空間8で作業を行う際に作業者の腕が挿入される。作業室1における一方の側面には気体供給口9が設けられている。この気体供給口9を通じて気体供給部2からの気体例えば滅菌ガスとしての過酸化水素ガスが供給される。ここで、気体供給口9にはHEPAフィルタ10が設けられている。このため、気体供給部2からの気体に含まれる埃等はHEPAフィルタ10で捉えられ、気体のみが作業空間8に供給される。作業室1における他方の側面には気体排出口11が設けられている。この気体排出口11にもHEPAフィルタ10が設けられている。このため、気体排出口11を通じて埃等が作業空間8に入り込むことが防止される。そして、気体排出口11からは作業空間8内の気体が排出される。排出された気体は、気体排出部3へと送られる。気体供給部2は、作業室1へ気体を供給する部分である。この気体供給部2には、吸気口12、第1三方弁13、及びファン14が設けられている。吸気口12は、外部から空気を取り込む部分である。ファン14は、外部から取り込んだ空気を、第1三方弁13へと送出する。第1三方弁13は、滅菌ガス供給装置4、ファン14、及び作業室1のそれぞれと連通されている。そして、制御部5からの制御情報に応じて流路を切り替える。従って、第1三方弁13によって滅菌ガス供給装置4と作業室1とが連通されているとき、過酸化水素ガスが作業室1へと供給される。一方、第1三方弁13によってファン14と作業室1とが連通されているとき、ファン14の動作によって空気が作業室1へと供給される。なお、ファン14は、制御部5からの制御信号によって動作状態と停止状態とが切り替えられる。また、気体の送出量も調整することができる。気体排出部3は、作業室1の気体を排出する部分である。この気体排出部3には、第2三方弁15、滅菌物質低減処理部16、排気口17、及びファン21が設けられている。第2三方弁15は、作業室1の気体排出口11、ファン21、及び滅菌物質低減処理部16のそれぞれと連通されている。そして、制御部5からの制御情報に応じて流路を切り替える。例えば、気体排出口11と滅菌物質低減処理部16とを連通したり、気体排出口11とファン21とを連通したりする。ファン21は、気体排出口11からの気体を滅菌ガス供給装置4滅菌ガス生成装置20に供給する。このため、気体排出口11とファン21とが連通され、滅菌ガス供給装置4と作業室1とが連通されている場合には、気体排出口11からの気体は、アイソレータ内を循環することになる。滅菌物質低減処理部16は、第2三方弁15と排気口17との間に設けられており、第2三方弁15を通じて送られてきた気体中の過酸化水素滅菌物質について、その濃度を低減する処理を行う部分である。この滅菌物質低減処理部16は、例えば白金などの金属触媒や活性炭によって構成される。なお、滅菌物質低減処理部16に関し、過酸化水素の濃度を低減できれば、金属触媒や活性炭に限定されるものではない。排気口17は、滅菌物質低減処理部16で処理された後の気体を大気に排出する部分である。滅菌ガス供給装置4は、過酸化水素をガス化して供給する部分であり、過酸化水素ガス供給装置に相当する。この滅菌ガス供給装置4は、滅菌物質カートリッジ18、ポンプ19、及び滅菌ガス生成装置20を有する。滅菌物質カートリッジ18は、滅菌物質としての過酸化水素水を貯蔵する。ポンプ19は、滅菌物質カートリッジ18に貯蔵された過酸化水素水を汲み上げ、滅菌ガス生成装置20に送出する。このポンプ19は、例えばペリスタポンプによって構成される。滅菌ガス生成装置20は、供給された過酸化水素水から過酸化水素ガス滅菌ガスを発生させる。発生した過酸化水素ガスは、例えば第1三方弁13に供給される。なお、滅菌ガス生成装置20については後で詳しく説明する。制御部5は、前述した各部を電気的に制御する部分である。この制御部5は、例えば、気体供給部2が有する第1三方弁13やファン14、気体排出部3が有する第2三方弁15やファン21、及び滅菌ガス供給装置4が有する滅菌ガス生成装置20等を制御する。制御部5による制御によって、例えば、滅菌ガス生成装置20で生成された過酸化水素ガスを、第1三方弁13を通じて作業室1へ供給するとともに、作業室1から排出された過酸化水素ガスを、第2三方弁15を通じて滅菌ガス生成装置20の側へ送り、系内を循環させることもできる。そして、系内で過酸化水素ガスを循環させると、この系内を無菌環境にすることができる。前述したように、無菌環境とは、作業室1で行われる作業に必要な物質以外の物質の混入を防いだ限りなく無塵、無菌に近い環境をいう。<滅菌ガス生成装置20について>次に、滅菌ガス生成装置20について説明する。この滅菌ガス生成装置20は、過酸化水素ガス生成装置に相当する。図2に示すように、滅菌ガス生成装置20は、霧化部30とガス化部50とを有している。霧化部30は、ポンプ19から供給された過酸化水素水を霧化する部分である。また、ガス化部50は、霧化された過酸化水素水をガス化する部分である。まず、霧化部30について説明する。霧化部30は、収容部31、超音波振動子32、貯留部33、及び振動板34等を含んで構成されている。収容部31は、超音波振動子32や超音波伝播液35を収容する部分であり、上面に開口を有する中空円筒状の容器である。この収容部31は、ステンレス鋼等の金属や樹脂によって作製されている。収容部31の内側空間には、この内側空間を液密の状態で上下に仕切る円形板状の仕切板36が設けられている。超音波振動子32は、超音波振動を発生する素子であり、収容体37の内部に収容された状態で仕切板36に取り付けられている。この超音波振動子32は、制御部5からの制御情報に応じて動作が制御される。例えば、振動の開始や停止、振動の強さが制御部5によって制御される。貯留部33は、過酸化水素水を貯留する容器であり、図3に示すように、逆円錐台状に窪んだ凹部38を備えている。この凹部38には、ポンプ19から供給された過酸化水素水が貯留される。凹部38の底面は、振動板34によって区画されている。この振動板34は、厚さが0.02mm程度のステンレス薄板や厚さが0.2mm程度の樹脂薄板によって構成され、下端部55の頂部55a側に向けて下り傾斜させた状態で取り付けられている。さらに、振動板34は、Oリング39を挟んだ状態で、貯留部33の底面に下側から固定ネジ40で固定されている。また、貯留部33の上端部41はフランジ状に形成され、外筒部52の下端部54と気密状態で接続できるようになっている。収容部31における仕切板36よりも上側の空間には、超音波伝播液35が貯留される。本実施形態では、超音波伝播液35として水を用いている。この超音波伝播液35を介して、超音波振動子32による超音波振動が振動板34に伝播される。なお、超音波伝播液35は水に限られず、超音波振動を振動板34に伝播できる液体であればよい。そして、貯留部33に過酸化水素水が貯留された状態で超音波振動子32を動作させると、超音波伝播液35を介して超音波振動が振動板34に伝播され、振動板34も超音波振動する。この超音波振動によって貯留部33の過酸化水素水が霧化される。次に、ガス化部50について説明する。図2に示すように、ガス化部50は、内筒部51、外筒部52、ガス導入管53等を含んで構成され、霧化部30の上方に設けられている。内筒部51は、伝熱性を有する金属製の円筒部材によって構成されている。なお、本実施形態の内筒部51は、ステンレス鋼管により作製されたステンレス部51Aと、ステンレス部51Aの下端に接続され、ステンレス部51Aよりも薄いアルミニウム部材によって作製されたアルミ部51Bとを含んでいる。内筒部51の直径は、貯留部33が有する凹部38の開口径よりも小さく定められている。内筒部51の上部側面ステンレス部51Aの側面には配管59が取り付けられており、この配管59を通じて過酸化水素ガスがキャリアガスと共に排出される。配管59の側面には温度センサ68を通すための温度センサ用開口62が設けられている。そして、温度センサ68と温度センサ用開口62との隙間は、ブッシング62aによって塞がれる。このため、温度センサ68は気密状態で封止される。この温度センサ68によって配管59を流れるガスの温度、すなわちガス化部50の出口におけるガスの温度が検出される。この検出信号は、制御部5へ出力される。内筒部51の上端部60は、フランジ状に形成されており、内側蓋部材61が取り付けられることで気密状態に封止されている。また、内筒部51の下端部55は、筒の長手方向に対して斜めに切断されている。この内筒部51は、水平方向において、その軸心が凹部38と同心となるように配置されている。また、図3にも示すように、鉛直方向において、下端部55の頂部55aが、凹部38の傾斜面38aに近接する高さとなるように配置されている。ここで、凹部38の傾斜面38aに近接する高さとは、この傾斜面38aとの間に狭い隙間を形成する程度の高さ、すなわち、この隙間を通るキャリアガスについて他の部分を通るキャリアガスよりも流速を高める程度の高さを意味する。図2に示すように、外筒部52は、内筒部51よりも一回り大きな直径の金属製の円筒部材によって構成されている。本実施形態の外筒部52は、その内径が凹部38の内径と略等しい太さのステンレス鋼管によって構成されている。外筒部52の内側空間には、内筒部51が配置されている。すなわち、外筒部52と内筒部51によって二重管が構成されている。そして、外筒部52の内表面と内筒部51の外表面との間が、キャリアガスの流れるキャリアガス流路69となる。外筒部52の下端部54は、前述したように貯留部33の上端部41と気密状態で接続される。この外筒部52によって、内筒部51は、下端からその長さの約4/5程度の範囲が覆われている。言い換えれば、内筒部51のアルミ部51Bが覆われている。外筒部52の上部側面には、キャリアガスを導入するためのガス導入管53が、外筒部52における内部空間すなわち、キャリアガス流路69に連通された状態で取り付けられている。なお、このガス導入管53については、後で説明する。外筒部52の下部側面には、過酸化水素水を流すドレンチューブ67を通すためのチューブ用開口64が設けられている。なお、ドレンチューブ67とチューブ用開口64との隙間は、ブッシング64aによって塞がれる。このため、チューブ用開口64は気密状態で封止される。さらに、外筒部52の上端部65はフランジ状に形成されており、リング状の外側蓋部材66が取り付けられることで気密状態に封止されている。次に、ガス導入管53について説明する。ガス導入管53は、キャリアガスをガス化部50へ導入するための中空部材である。すなわち、ファン21図1参照から送出されたキャリアガスは、このガス導入管53を通じてキャリアガス流路69に流入する。なお、本実施形態では、キャリアガスとして清浄な空気が用いられている。ガス導入管53は、外筒部52の上端側面に、軸心が水平方向となる状態で取り付けられている。本実施形態において、ガス導入管53は、金属製の円筒部材によって作製されている。具体的にはステンレス鋼管によって作製されている。そして、ガス導入管53の内部空間には、ヒーター71が配置されている。このヒーター71は、通電によって加熱される部材であり、円柱状の発熱体73と、発熱体73の周囲に取り付けられた伝熱性のフィン74とを有している。すなわち、発熱体73からの熱をフィン74によって拡散させている。発熱体73は通電によって発熱するものであり、発熱体73への通電は制御部5によって制御される。例えば、ヒーター71の発熱開始や停止、ヒーター71の発熱温度を、制御部5から制御することができる。このヒーター71は、ガス導入管53におけるガス化部50側の近傍に配置されている。そして、ヒーター71の発熱体73とガス導入管53の内表面との間には、流路規制板75内部フィンが取り付けられている。流路規制板75は、発熱体73との当接部分が半円形状に切り欠かれた略半円状の金属板によって構成される。この流路規制板75は、ガス導入管53の内側空間における片半部分を覆う状態で略鉛直方向に取り付けられている。また、ガス導入管53は、水平方向に所定間隔をあけた状態で複数枚が互い違いに配置される。これらの流路規制板75によって、ヒーター71は、ガス導入管53の内側空間に位置決めされる。さらに、各流路規制板75によって、ガス導入管53の内側空間にはキャリアガスが通る蛇行流路が区画される。この蛇行流路によって、キャリアガスの流れ方向が制限されるため、ヒーター71からの熱を十分にキャリアガスへ伝えることができる。ガス導入管53の側面であって、ヒーター71の端部とガス化部50との間には、温度センサ76を通すための温度センサ用開口72が設けられている。そして、温度センサ76と温度センサ用開口72との隙間は、ブッシング72aによって塞がれる。このため、温度センサ76は気密状態で封止される。この温度センサ76によって、ヒーター71で加熱されたキャリアガスの温度が検出される。この検出信号もまた、制御部5へ出力される。<滅菌ガスの生成について>次に、滅菌ガス生成装置20による滅菌ガス過酸化水素ガスの生成について説明する。前述したように、滅菌ガス生成装置20は、制御部5からの制御信号によって動作が制御される。まず、ヒーター71発熱体73への通電が開始され、ヒーター71が発熱する。また、ポンプ19が駆動されて滅菌物質カートリッジ18の過酸化水素水が、滅菌ガス生成装置20の貯留部33に規定量供給される。さらに、ファン21の運転が開始されて、キャリアガス清浄な空気が系内を循環する。例えば、キャリアガスは、ファン21から排出された後、滅菌ガス生成装置20及び第1三方弁13を通って、気体供給口9から作業室1内に供給される。その後、作業室1の気体排出口11から排出されたキャリアガスは、第2三方弁15を通ってファン21へ戻される。ヒーター71が発熱していることから、系内を循環しているキャリアガスの温度は次第に上昇する。図4に示すように、ガス導入管53におけるヒーター71の周囲には、複数の流路規制板75による蛇行流路が設けられている。キャリアガスは、この蛇行流路に沿って蛇行しながら流れるため、ヒーター71との間で効率よく熱交換をすることができる。その結果、キャリアガスの温度を速やかに上昇させることができる。図5に示すように、ガス導入管53で加熱されたキャリアガスは、外筒部52の上部からキャリアガス流路69に流入し、このキャリアガス流路69を下方向に流れる。すなわち、内筒部51の外周面に沿って流れる。キャリアガスは、貯留部33の位置で流れの方向を変える。すなわち、内筒部51の下端部55で回り込み、内筒部51の内側空間に流入する。そして、この内側空間を上昇する。前述したように、この内筒部51では、下端部55を筒の長手方向に対して斜めに切断し、頂部55aを凹部38の傾斜面38aに近接する高さに配置している。このため、頂部55a側と反対側とでキャリアガスの流速に差をつけることができる。すなわち、頂部55a側を流れるキャリアガスの流速を、反対側を流れるキャリアガスの流速よりも高めることができる。キャリアガスの予熱に必要な所定時間が経過すると、制御部5は、超音波振動子32の動作を開始させる。前述したように、超音波振動子32による超音波振動は、超音波伝播液35を介して振動板34に伝播される。そして、振動板34の超音波振動によって貯留部33の過酸化水素水が霧化される。霧化された過酸化水素水はキャリアガスの流れに乗って内筒部51の内側空間を上昇する。ここで、頂部55a側におけるキャリアガスの流速を、反対側におけるキャリアガスの流速よりも高くしているので、流速が高められたキャリアガスを凹部38に貯留された過酸化水素水の液面に吹き付けることができる。これにより、霧化された過酸化水素水を確実に移動させることができる。そして、霧化された過酸化水素水は、キャリアガスとの熱交換によっても蒸発されるので、貯留部33に残留する過酸化水素水の量を極力少なくすることができる。また、霧化された過酸化水素水が気化する際に、キャリアガスの熱が過酸化水素水に吸収されるため、キャリアガスの温度が過度に上昇されず、過酸化水素の熱分解を抑制することもできる。従って、過酸化水素ガスを生成する際の残留溶液の量を極力少なくしつつ、熱分解される過酸化水素の量を極力少なくすることができる。加えて、本実施形態では、凹部38の底面38b振動板34を、下端部55の頂部55a側に向けて下り傾斜させた状態で設けている。このため、凹部38に貯留された過酸化水素水の量が少なくなると、この下り傾斜によって過酸化水素水が頂部55a側に集められる。これによっても、霧化された過酸化水素水の移動が助けられるため、過酸化水素水を確実にガス化できる。過酸化水素水に対する霧化の進行に伴い、霧化された過酸化水素水に吸収される熱の量が少なくなる。このため、キャリアガスの温度が上昇する。キャリアガスの温度上昇により、キャリアガスによる過酸化水素水のガス化及び内筒部51に付着したミスト状の過酸化水素水に対する乾燥が促進される。過酸化水素水の霧化に必要な時間に亘って超音波振動子32を動作させたならば、制御部5は、超音波振動子32の動作を停止させる。その後、予め定められたエアレーション期間に亘ってファン21を動作させる。これにより、ガス化された過酸化水素を含んだキャリアガスが系内を循環し、無菌環境が形成される。<具体例について>ここで、過酸化水素水のガス化工程を、具体例に基づいて詳細に説明する。図6は、ヒーターで加熱された直後のキャリアガス温度ヒーター温度HTと、内筒部51から排出された直後のキャリアガス温度出口温度EXの経時変化を示すグラフである。なお、ヒーター温度HTは温度センサ76によって検出され、出口温度EXは温度センサ68によって検出されたものである。図6の具体例では、ヒーター71に対する通電開始から10分間が予熱期間である。そして、予熱期間の経過後20分間が霧化期間であり、霧化期間の経過後20分間がエアレーション期間である。通電開始直後からヒーター温度HTは急速に上昇し、約1分半で100°Cに、約2分半で150°Cに達する。そして、予熱期間の終了タイミングである10分後において、ヒーター温度HTは約190°Cに達する。ヒーター温度HTの上昇に伴って出口温度EXも上昇する。約1分半で50°Cに、約5分半で100°Cに達する。そして、10分後において、出口温度EXは約110°Cに達する。なお、本実施形態で使用する過酸化水素水は35水溶液であり、その沸点は、水よりも多少高い程度108°Cである。そして、過酸化水素の濃度が高くなるほど過酸化水素水の沸点も高くなる。出口温度EXが過酸化水素水の沸点以上であることから、ガス化部50内を流れるキャリアガスの温度もまた過酸化水素水の沸点以上といえる。このため、この予熱期間において制御部5は、ガス導入部53を流れるキャリアガスの温度を、貯留部33に貯留された過酸化水素水の沸点以上にすべくヒーター71に通電する制御を行っているといえる。その後、制御部5は、予め定められた霧化期間に亘って霧化部39が有する超音波振動子32を動作させる制御を行う。霧化期間が開始されると、ヒーター温度HTは徐々に上昇し、約10分後通電開始から約20分後には、設定温度である200°Cに達した。これに対し、出口温度EXは、霧化期間の開始直後に50°C程度まで急激に低下し、その後約6分間通電開始から約17分までに亘って緩やかに上昇した。出口温度EXの急激な低下は、超音波振動によって霧化された過酸化水素水が気化する際に、キャリアガスの熱が吸収されたためと考えられる。また、出口温度EXの緩やかな上昇は、霧化された過酸化水素水の量の減少が原因と考えられる。すなわち、霧化期間の開始直後は、霧化される過酸化水素水の量が最も多くなって吸熱量が増えたため、出口温度EXが急激に低下したと考えられる。その後、貯留部33における過酸化水素水の量が徐々に減少したことから霧化量も減少し、出口温度EXが緩やかに上昇したと考えられる。通電開始から17分が経過した以降において、出口温度EXは急激に上昇した。これは、貯留部33における過酸化水素水の霧化が終了したためと考えられる。そして、通電開始から23分が経過した時点の出口温度EXは、110°Cよりも若干高い程度になった。その後、出口温度EXは緩やかに上昇し、霧化期間の終了時点通電開始から30分後には約120°Cになった。このように、ガス導入部53で加熱されたキャリアガスをガス化部50に供給することにより、過酸化水素水が霧化されている期間においては、ガスの温度を過酸化水素水の沸点よりも十分低く抑えることができることが確認できた。これにより、過酸化水素水をガス化するに際して、キャリアガスの温度が過度に上昇されず、過酸化水素が熱によって分解してしまう不具合を抑制できる。エアレーション期間において、制御部5はヒーター71への通電を継続する。これにより、ヒーター温度HTは、規定温度である200°Cで一定になり、出口温度EXも120°Cより若干高い程度で一定になった。この状態で、20分間に亘ってファン21の運転を継続することで、貯留部33や内筒部51に残存する過酸化水素水が蒸発する。また、過酸化水素ガスを含んだ状態のキャリアガスが系内を循環するので、系内を無菌状態にすることができる。<まとめ>以上説明したように、本実施形態の滅菌ガス生成装置20は、貯留部33に貯留された過酸化水素水に超音波振動を与えて霧化させる霧化部30と、霧化部30で霧化されてキャリアガスとともに流れる過酸化水素を上方へ導く内筒部51と、内筒部51が内側空間に配置されて二重管を構成し、貯留部33へ向かって下降するキャリアガス用のガス流路69を、内筒部51との間に形成する外筒部52と、外筒部52に連通され、外筒部52に導入される前のキャリアガスが流れる中空のガス導入部53と、ガス導入部53を流れるキャリアガスを加熱するヒーター71と、を備えている。これにより、ヒーター71によって加熱されたキャリアガスがガス流路69を流下して貯留部33に導入される。そして、貯留部33で霧化された過酸化水素水はキャリアガスの流れに乗って内筒部51の内側空間を上方に流れる。その際、貯留部33の過酸化水素水は、キャリアガスとの熱交換によっても蒸発されるので、貯留部33に残留する過酸化水素水の量を極力少なくすることができる。また、霧化された過酸化水素水が気化する際に、キャリアガスの熱が過酸化水素水に吸収されるため、キャリアガスの温度が過度に上昇されず、過酸化水素の熱分解を抑制することもできる。従って、過酸化水素ガスを生成する際の残留溶液の量を極力少なくしつつ、熱分解される過酸化水素の量を極力少なくすることができる。また、本実施形態では、内筒部51を、伝熱性を有する金属材料具体的にはステンレス部材及びアルミニウム部材によって構成している。このため、内筒部51は、ガス導入部53からのキャリアガスによって加温され、霧化した過酸化水素水の結露を抑制する。従って、過酸化水素水のガス化を促進することができる。また、本実施形態では、ヒーター71をガス導入部53の内部に配置し、ガス導入部53の内表面とヒーター71との間に、キャリアガスの流れ方向を規制するとともに伝熱性を有する金属板製の流路規制板を取り付けている。これにより、キャリアガスとヒーター71と間における熱交換性を高めることができる。また、本実施形態において、貯留部33には逆円錐台状に窪んだ凹部38を設け、内筒部51を、下端部55が筒の長手方向に対して斜めに切断された円筒状部材によって構成する。そして、下端部55の頂部55aを通るキャリアガスの流速が下端部55の他の部分を通るキャリアガスの流速よりも高くなるように、下端部55の頂部55aを凹部38の傾斜面38aに近接する高さに配置している。これらの構成により、頂部55aと傾斜面38aとの間を流れるキャリアガスを、凹部38の過酸化水素水に対して強く吹き付けることができ、霧化された過酸化水素水を確実に移動させることができる。また、本実施形態において、制御部5は、ガス導入部53を流れるキャリアガスの温度を、貯留部33に貯留された過酸化水素水の沸点以上にすべくヒーター71に通電する制御、及び、ヒーター71への通電を開始した後、予め定められた期間に亘って霧化部30が有する超音波振動子32を動作させる制御を行うので、過酸化水素の熱分解を抑制することができる。===他の実施形態===以上、第1実施形態について説明したが、以上の説明は本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得ると共に、本発明にはその等価物が含まれることは勿論である。例えば、以下の実施形態のように構成されていてもよい。<第2実施形態について>図7は、第2実施形態の滅菌ガス生成装置20 ́の構成を示す図である。なお、図7において、第1実施形態の滅菌ガス生成装置20と対応する部分には、[ ́]ダッシュを付して示し、説明を省略する。第2実施形態の滅菌ガス生成装置20 ́における、第1実施形態の滅菌ガス生成装置20との相違点は、主に次の通りである。第1の相違点は、内筒部51 ́の上端部分51a ́を湾曲させたことである。第2の相違点は、内筒部51 ́の下端部55 ́が管の長手方向に対して直交する方向に切断され、かつ、振動板34 ́に関し、ほぼ水平となるように取り付けられていることである。第3の相違点は、ヒーター71 ́を鉛直方向に配置したことである。第1の相違点に関し、第2実施形態の内筒部51 ́もまた伝熱性を有する金属製の円筒状部材によって作製されている。具体的には、ステンレス鋼管によって作製されている。そして、内筒部51 ́の上端部分51a ́は、内表面が曲面で構成されるように湾曲されている。このように構成することで、過酸化水素ガスやキャリアガスの流れを円滑にすることができ、結露等によって、過酸化水素ガスが内筒部51 ́の内表面に付着する不具合を抑制できる。第2の相違点に関し、振動板34 ́の上面凹部38 ́の底面が水平になるので、凹部38 ́での貯留量が少なくなった状態でも、過酸化水素水を振動板34 ́の全体に拡げ易くなり、霧化を効率よく行うことができる。第3の相違点に関し、ガス導入管53 ́を、鉛直方向に配置された鉛直部分53a ́と水平方向に配置された水平部分53b ́とによって構成し、ヒーター71 ́を鉛直部分53a ́の内部に鉛直方向に配置している。このように構成することで、ヒーター71 ́の水平方向への張り出し量を、第1実施形態のヒーター71よりも小さくできる。その結果、滅菌ガス生成装置20 ́における接地面積を小さくすることができる。<その他>ヒーター71,71 ́に関し、前述の各実施形態では、ガス導入管53,53 ́の内部空間に配置されているものを例示したが、この構成に限定されるものではない。例えば、図8に示す円筒状のヒーター81を用い、このヒーター61を、ガス導入管53の外周面を囲繞する状態に取り付けてもよい。また、第1実施形態の各部と第2実施形態の各部を組み合わせることも可能である。例えば、第1実施形態のガス導入管53に代えて第2実施形態のガス導入管53 ́を設け、ヒーター71 ́を鉛直方向に配置してもよい。ところで、上述した実施例では、ファン21から排出されたキャリアガスは滅菌ガス生成装置20を経て作業室1に供給され、作業室1から排出されたキャリアガスは再びファン21に帰還するようになっている。つまり、キャリアガスは、滅菌ガス生成装置20を通過する際、先ずヒーター71で加熱されてから貯留部33に到り、そこで霧化された過酸化水素水を巻き込んで配管59から流出するものである。予め加熱されたキャリアガスの中に過酸化水素水が霧化されるので、これはいわゆるプレヒート方式と呼べるものである。そこで、キャリアガスの流れる方向を逆向きにすることも考えられる。即ち、ファン21によるキャリアガスの送り方向を逆にすることで、作業室1を経たキャリアガスが配管59から貯留部33に到り、そこで霧化された過酸化水素水を巻き込んでガス導入管53へと流入する。このとき、キャリアガスによって運ばれたミスト状の過酸化水素水がガス化部50に設けられたヒーター71によって加熱され、ガス化が促進される。これは霧化された後に加熱されるのでポストヒート方式と呼べるものであり、これによっても効率的に過酸化水素水をガス化できるものである。<第3実施形態について>細胞の培養装置やアイソレータには、一般には、過酸化水素ガス等の滅菌ガスを発生させる滅菌ガス発生装置が設けられている例えば、特開2010-69256号公報参照。図18は、従来の滅菌ガス発生装置500の一例を示す図である。滅菌ガス発生装置500では、貯留部520に貯留された過酸化水素水が霧化ミスト化される。そして、霧化された過酸化水素水は、供給口510から供給されるキャリアガスとともにヒーター530で過熱され、排出口540から過酸化水素ガスとして出力される。ところで、貯留部520に貯留された過酸化水素水の量は霧化が進むにつれて減少する。その際、過酸化水素水は過酸化水素の水溶液なので、沸点の低い水の霧化がより速く進む。従って、貯留部520に貯留された過酸化水素水の量が減少すると、貯留部520に残る過酸化水素水の濃度は高くなるため、過酸化水素水は次第に霧化されにくくなる。この結果、十分長い時間霧化を継続した場合であっても、貯留部520には濃度の高い過酸化水素水が残留してしまうことがある。本発明は上記課題を鑑みてなされたものであり、貯留部に濃度の高い過酸化水素水が残留することを抑制できる滅菌ガス発生装置を提供することを目的とする。本明細書および添付図面の記載により、少なくとも以下の事項が明らかとなる。なお、本明細書では、滅菌とは微生物を殺滅して限りなく無菌に近くすることであるが、いわゆる除染、除菌、殺菌なども含めるものとする。また、過酸化水素水とは過酸化水素を水に溶解した過酸化水素水溶液のことであり、本実施形態では過酸化水素が35重量の濃度の水溶液を想定している。また、過酸化水素ガスを生成するとは純粋に過酸化水素の気体のみを生成するのではなく、過酸化水素及び過酸化水素水のミストが一部混ざったものも含めて使用している。図9は、本発明の一実施形態である滅菌ガス発生装置33Aを適用したアイソレータ10Aの構成を示す図である。アイソレータ10Aは、作業者が滅菌された環境で細胞の調整作業等を行うための装置であり、滅菌ガス発生ユニット20A、供給装置21A、作業室22A、排出装置23A、及び制御装置24Aを含んで構成される。滅菌ガス発生ユニット20Aは、タンク30A、ポンプ31A、パイプ32A、及び滅菌ガス発生装置33Aを含んで構成される。タンク30Aは、過酸化水素水過酸化水素H2O2が溶解した水溶液を貯蔵する。ポンプ31Aは、タンク30Aから過酸化水素水を汲み上げ、パイプ32Aを介して滅菌ガス発生装置33Aに供給する。滅菌ガス発生装置33Aは、供給される過酸化水素水から滅菌ガスである過酸化水素ガスを発生し、キャリアガスである空気とともに供給装置21Aへと供給する。なお、滅菌ガス発生装置33Aの詳細については後述する。供給装置21Aは、供給される過酸化水素ガス、またはアイソレータ10Aの外部の空気を作業室22Aへと供給する装置であり、バルブ40A、及びファン41Aを含んで構成される。バルブ40Aは、制御装置24Aの制御に基づいて、過酸化水素ガス、または外部の空気をファン41Aに供給する電磁バルブである。ファン41Aは、バルブ40Aから供給される過酸化水素ガス、または空気を作業室22Aへと供給する。なお、バルブ40Aは、電磁バルブであることとしたが、例えば手動バルブであっても良い。作業室22Aは、細胞の作業を行う空間であり、作業室22Aには、エアフィルタ50A,51A、扉52A、及び作業用グローブ53Aが設けられている。エアフィルタ50Aは、ファン41Aから供給される過酸化水素ガス、または空気に含まれる塵等を除去するためのフィルタである。エアフィルタ51Aは、作業室22Aから排出されるガス等に含まれる塵等を除去するためのフィルタである。なお、エアフィルタ50A,51Aには、例えば、HEPAHighEfficiencyParticulateAirフィルタが用いられる。扉52Aは、細胞等を作業室10に搬入するために作業室10の前面に開閉可能に設けられている。作業用グローブ53Aは、扉52Aが閉じられた状態で作業者が作業室22A内の細胞等を調整作業できるよう、扉52Aに設けられた開口部不図示に取り付けられている。なお、扉52Aが閉じられた状態では、作業室22Aは密閉される。排出装置23Aは、作業室22Aから過酸化水素ガスや空気等のガスを排出するための装置であり、バルブ60A、及び滅菌ガス処理装置61Aを含んで構成される。バルブ60Aは、制御装置24Aからの制御に基づいて、エアフィルタ51Aから出力されるガスを、滅菌ガス処理装置61A、または滅菌ガス発生装置33Aの何れかに供給する電磁バルブである。なお、バルブ60Aからの出力が滅菌ガス発生装置33Aへと供給される場合、作業室22Aのガスは循環されることになる。なお、バルブ60Aも、電磁バルブであることとしたが、例えば手動バルブであっても良い。滅菌ガス処理装置61Aは触媒を備え、バルブ60Aから出力されるガスを無害化してアイソレータ10Aの外部へと出力する。制御装置24Aは、制御装置24Aに設けられた操作パネル不図示の操作結果に基づいて、アイソレータ10Aの各ブロックを制御する装置である。==滅菌ガス発生装置33A第3の実施形態の詳細==図10は、本発明の第3の実施形態である滅菌ガス発生装置33Aの構成を示す図である。なお、図10において、一部のブロックは側面から見た断面図で描かれている。滅菌ガス発生装置33Aは、過酸化水素水を霧化させる霧化装置100を備えている。霧化装置100霧化部は、伝播水を貯留する貯留容器110、蓋部材111を備えている。貯留容器110の底面には、伝播水に超音波振動を与えるための超音波振動子120が、その放射方向が垂直上向きから所定の角度例えば、7度傾いた状態となるように設けられている。蓋部材111は、貯留容器110を閉塞する部材であり、蓋部材111の上面Z方向の面には、開口部121と、開口部121の周辺に形成され、筒状部材130がはめ込まれる凹み122と、伝播水が注入される注入口123とが設けられている。なお、筒状部材130は、凹み122にはめ込まれた後にナット等不図示により固定される。また、注入口123には、注入口123を開放または閉塞する栓部材124が挿入されている。筒状部材130本体の側面には、供給口140,141、排出口142が設けられている。供給口140には配管150が接続され、キャリアガスが供給される。供給口141には前述したパイプ32Aが接続され、過酸化水素水が供給される。また、排出口142には配管151が接続され、生成された滅菌ガスが排出される。なお、供給口140と、排出口142とは、ほぼ対向する位置に設けられている。筒状部材130には、供給口140及び排出口142よりも下方で、筒状部材130の底面に過酸化水素水が貯留されるよう、つまり、筒状部材130の底面の開口部143を塞ぐよう、振動板131がパッキンを挟んでボルト等で水密的に固定されている。つまり、本実施形態では、筒状部材130と蓋部材111、及び振動板131によって貯留部132が形成されている。そして、超音波振動子120が振動すると、超音波振動が伝播水中を伝播して水面に達し、そこに水柱を形成する。水面に発生した水柱が振動板131に接触すると、超音波振動が振動板131を透過して貯留された過酸化水素水に伝播されるので、過酸化水素水の水面で水柱が発生し、その先端付近で過酸化水素水は霧化される。また、筒状部材130の上部Z方向には、ヒーター200が取り付けられるフランジ155が形成されている。図11は、ヒーター200の構成を示す図であり、図12は、図10の滅菌ガス発生装置33AのA1-A2における平面図であり、図13は、図10の滅菌ガス発生装置33AのA3-A4における平面図である。ヒーター200は、図11~図13に示すように、パイプ210、フランジ蓋211、取り付け板212、発熱部材220、及び放熱板230~235を含んで構成される。パイプ210には、発熱部材220を発熱させるためのケーブル等不図示が挿入される。そして、パイプ210は、フランジ蓋211に設けられた開口部不図示に挿入され、パイプ210の下端は、円盤状の取付け板212の上側の面に固定されている。なお、フランジ蓋211は、筒状部材130の内部のガスが外側に漏れないよう、フランジ155にナット等不図示で取り付けられる。取付け板212の下側の面には、円筒状の発熱部材220が取り付けられている。また、前述したパイプ210の内部に配設されたケーブル等は、取り付け板212を貫通し、発熱部材220を発熱可能に発熱部材220に接続されている。そして、放熱板230~235は、発熱部材220の長手方向に沿って、発熱部材220から放射状に形成されている。ただし、放熱板230~235のうち、放熱板230,233以外の放熱板の長さは放熱板230,233の長さより短く、その上端は供給口140の下端と同じか低くなるように設けられている。また、放射板230~235のそれぞれは、図13に示すように、ヒーター200が筒状部材130内に収納できる範囲で、可能な限り広い幅を有している。このため、図10に示すように、ヒーター200が実際に筒状部材130の内部に取り付けられると、発熱部材220は、筒状部材130の中心軸方向に沿って設けられことになる。そして、放熱板230及び放熱板233一対の第1放熱板は、供給口140からのキャリアガスが直接排出口142から排出されないよう、つまり、キャリアガスが過酸化水素水の水面と発熱部材220の下端との間の空間を経由して排出口142から排出されるように、筒状部材130の内部を供給口140から貯留部132へ到る空間と、貯留部132から排出口142へと至る空間に分ける働きをする。なお、本実施形態では、キャリアガスがフランジ蓋211側に流れないよう、円盤状の取付け板212の直径を、筒状部材130の直径に略等しく実際には、ヒーター200が筒状部材130内に収められるよう、取付け板212の直径を、筒状部材130の直径より若干短くしている。このような構成の滅菌ガス発生装置33Aでは、供給口140からのキャリアガスは、過酸化水素水が貯留された貯留部132に供給される前に、ヒーター200の放熱板230と放熱板231の間、放熱板231と放熱板232の間、放熱板232と放熱板233の間を通過するので効果的にヒーター200によって加熱される。この結果、滅菌ガス発生装置33Aは、貯留された過酸化水素水の濃度が高くなった場合であっても、加熱されたキャリアガスによって過酸化水素水をより確実に霧化させることができる。更に、貯留部132を通過したキャリアガスはヒーター200の放熱板233と放熱板234の間、放熱板234と放熱板235の間、放熱板235と放熱板230の間を通過して加熱されるので、過酸化水素水のガス化が促進される。なお、発熱部材220、及び放熱板230~235の材料としては、例えば、SUS304が使用される。<第4実施形態について>==滅菌ガス発生装置35第4の実施形態の詳細==図14は、本発明の第4の実施形態である滅菌ガス発生装置35Aの構成を示す図である。なお、図14においても、一部のブロックは側面から見た断面図で描かれている。また、図14の滅菌ガス発生装置35Aと図10の滅菌ガス発生装置33Aとを比較すると、ヒーター250以外の構成は同じである。このため、ここではヒーター250以外の構成の説明は省略する。図15は、ヒーター250の構成を示す図であり、図16は、図14の滅菌ガス発生装置35AのB1-B2における平面図である。さらに、図17は、供給口140側から見たヒーター250の構成の一部を示す図である。ヒーター250は、滅菌ガス発生装置35Aに、図14で示した流路A及び流路Bが形成されるような形状を有している。ここで、流路Aは、供給口140からキャリアガスが直接排出口142へと流れる流路であり、流路Bは、キャリアガスがヒーター250の下端から過酸化水素水の表面までの空間を経由して排出口142へと流れる流路である。ヒーター250は、図11に示すヒーター200と同様に、パイプ210、フランジ蓋211、取り付け板212、発熱部材220、及び放熱板231,232,234,235,240,241を含んで構成される。ヒーター250と、前述したヒーター200とを比較すると、放熱板230,231の代わりに放熱板240,241が設けられている以外の構成は同じである。放熱板240,241は、放熱板230,231と同様に、発熱部材220に放射状に形成されている。そして、放熱板240,241の長さは、放熱板230,231と同様に他の放熱板231等の長さよりも長い。ただし、図17に示すように、放熱板240,241には、供給口140からのキャリアガスが通過できる孔300a~300d,300e~300hがそれぞれ設けられている。このため、図16に示すように、供給口140からのキャリアガスの一部は、孔300a~300h開口を介して直接排出口142へと向かって流れ、排出される。そして、本実施形態では、貯留部132筒状部材130の底面に過酸化水素水が貯留されていない状態において、経路Aに流れるキャリアガスの量Qaが、経路Bに流れるキャリアガスの量Qbよりも少なくなり、かつ、量Qa,Qbの比が所定の値となるよう例えば、Qa:Qb=3:7、放熱板240,241以外の放熱板の長さや、孔300a~300hの大きさ、形状等が設計されている。このような流路A,Bが形成される滅菌ガス発生装置35Aの貯留部132に過酸化水素水が貯留されると、過酸化水素水の水面は上昇し、過酸化水素水の水面とヒーター250の下端との間の空間は狭くなる。この結果、この状態では、筒状部材130の底面に過酸化水素水が貯留されていない状態よりも流路Bに流れるキャリアガスの量Qbは減少する例えば、Qa:Qb=4:6。ところで、例えば、過酸化水素水の水面が高い場合に流路Bに流れるキャリアガスの量Qbが多いと、その勢いで過酸化水素水が霧化されずに水滴のままで排出口142から飛散してしまう危険性がある。しかしながら、滅菌ガス発生装置35Aでは、過酸化水素水の水面が高い場合は、キャリアガスの量Qbは少なく、過酸化水素水の水面が低くなるにつれてキャリアガスの量Qbは増加する。したがって、滅菌ガス発生装置35Aは、過酸化水素水が残留することを防ぐことができるだけでなく、安全に過酸化水素水を霧化させることができる。以上、アイソレータ10A及び、本実施形態の滅菌ガス発生装置33A,35について説明した。滅菌ガス発生装置33Aのヒーター200は、供給部140から、過酸化水素水が貯留される貯留部132筒状部材130の底面に向かって流れるキャリアガスを加熱する。このため、例えば、過酸化水素水を霧化した後にのみ加熱する従来の滅菌ガス発生装置例えば、図18と比較して、より確実に過酸化水素水を霧化させることができる。したがって、本実施形態の滅菌ガス発生装置33Aは、濃度の高い過酸化水素水が残留することを防ぐことができる。また、例えば、従来の滅菌ガス発生装置500例えば、図18は、ヒーター530が収められる内側の筒状部材と、キャリアガスが供給される外側の筒状部材とを備えるいわゆる二重管構造である。これに対し、本実施形態の滅菌ガス発生装置33Aは、キャリアガスが供給される筒状部材130の内部に、所望の流路を形成しつつ、キャリアガスを加熱できるようなヒーター200が設けられている。つまり、滅菌ガス発生装置33Aは、いわゆる単管構造である。このため、滅菌ガス発生装置33Aは、例えば部品点数を減らすことができ、製造コストを安くすることができる。また、筒状部材130の内壁と、一対の放熱板230,233とに挟まれた領域のうち、供給口140側の領域には、放熱板231,232第2放熱板が設けられている。このため、供給部140からのキャリアガスがヒーター200の放熱板230と放熱板231の間、放熱板231と放熱板232の間、放熱板232と放熱板233の間を通り、放熱板との接触面積が増すので、効率良く加熱することができる。さらに、排出口142側の領域には、放熱板234,235第3放熱板が設けられているため、同様に放熱板との接触面積が増すので、霧化された過酸化水素水及びキャリアガスをより効率良く加熱することができる。また、過酸化水素水を貯留する容器としては、例えば、図18の従来の滅菌ガス発生装置500に示したように、底面に振動板が取り付けられたカップ状の貯留容器を用いても良い。そして、そのような貯留容器を筒状部材130の底面に取り付けても良い。ただし、本実施形態では、筒状部材130の底面に過酸化水素水が貯留されるよう、筒状部材130の開口部143が振動板131で塞がれている。このような構成とした場合、貯留容器を用いる必要がないため、部品点数をさらに削減することができる。なお、上記実施例は本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定して解釈するためのものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得ると共に、本発明にはその等価物も含まれる。また、流路Aにキャリアガスを流すために、放熱板240,241には孔300a~300hが設けられたがこれに限られるものでは無い。例えば、流路Aにキャリアガスを流すために、放射板240,241に切れ込みの開口が形成されていても良い。"