光を放出する光源と、前記光源から放出された光を第一の光と第二の光に分割する光分割部材と、前記第一の光の光路を変化させる光路可変部材と、前記第一の光と前記第二の光を結合させる光結合部材と、前記結合部材により結合した光の振幅を測定する振幅測定部材と、を有し、前記光路可変部材は、支持板と、前記支持板を支持し、かつ回転させる回転支持部材と、前記支持板上に配置される支持反射部材と、前記支持反射部材から反射された光を再度前記支持反射部材に入射させる第一の固定反射部材と、前記支持反射部材から再度反射された光を前記支持反射部材に反射して戻す第二の固定反射部材と、を有する断層測定装置。光を放出する光源と、前記光源から放出された光を第一の光と第二の光に分割する光分割部材と、前記第一の光の光路を変化させる光路可変部材と、前記第一の光と前記第二の光を結合させる光結合部材と、前記結合部材により結合した光の振幅を測定する振幅測定部材と、を有し、前記光路可変部材は、支持板と、前記支持板を支持し、かつ回転させる回転支持部材と、前記支持板上に配置され、第一の反射面と第二の反射面とを有する支持反射部材と、第一の反射面と第二の反射面とを有する第一の固定反射部材と、第二の固定反射部材と、を有し、前記支持反射部材の第一の反射面に反射された光が前記支持反射部材の第二の反射面に入射及び反射され、前記支持反射部材の第二の反射面に反射された光が前記第一の固定反射部材の第一の反射面に入射及び反射され、前記第一の固定反射部材の第一の反射面に反射された光が前記第一の固定反射部材の第二の反射面に入射及び反射され、前記第一の固定反射部材の第二の反射面に反射された光が前記支持反射部材の第二の反射面に再度入射及び反射され、前記支持反射部材の第二の反射面に反射された光が前記支持反射部材の第一の反射面に再度入射及び反射され、前記第二の固定反射部材は、前記支持反射部材の第一の反射面に再度反射された光が入射されるものである断層測定装置。前記第一の固定反射部材の第一の反射面及び第二の反射面は、前記支持反射部材の第一の反射面及び第二の反射面と異なる方向に傾斜されている請求項2に記載の断層測定装置。前記光結合部材は、前記光路長可変部材により光路長が変化した第一の光と、被測定物に対して照射され反射した第二の光を結合する請求項1乃至3のいずれかに記載の断層測定装置。上記特許文献1に記載の技術では、光路の差を大きくするためには支持板に配置する支持反射部材の個数を増やす必要があり、支持反射部材を配置する支持板の大きさを大きくせざるを得なくなり、断層測定装置が大型化してしまうという課題がある。そこで、本発明は、上記課題を解決し、同じ支持板の径面積であっても、より光路長の変化を大きくすることのできる断層測定装置を提供することを目的とする。上記課題を解決する本発明の一観点に係る断層測定装置は、光を放出する光源と、光源から放出された光を第一の光と第二の光に分割する光分割部材と、第一の光の光路を変化させる光路可変部材と、第一の光と第二の光を結合させる光結合部材と、結合部材により結合した光の振幅を測定する振幅測定部材と、を有し、光路可変部材は、支持板と、支持板を支持し、かつ回転させる回転支持部材と、支持板上に配置される支持反射部材と、支持反射部材から反射された光を再度前記支持反射部材に入射させる第一の固定反射部材と、支持反射部材から再度反射された光を前記支持反射部材に反射して戻す第二の固定反射部材と、を有する。また、上記課題を解決する本発明のほかの一観点に係る断層測定装置は、光を放出する光源と、光源から放出された光を第一の光と第二の光に分割する光分割部材と、第一の光の光路を変化させる光路可変部材と、第一の光と第二の光を結合させる光結合部材と、結合部材により結合した光の振幅を測定する振幅測定部材と、を有し、光路可変部材は、支持板と、支持板を支持し、かつ回転させる回転支持部材と、支持板上に配置され、第一の反射面と第二の反射面を有する支持反射部材と、第一の反射面と第二の反射面とを有する第一の固定反射部材と、第二の固定反射部材と、を有し、支持反射部材の第一の反射面に反射された光が支持反射部材の第二の反射面に入射及び反射され、支持反射部材の第二の反射面に反射された光が第一の固定反射部材の第一の反射面に入射及び反射され、第一の固定反射部材の第一の反射面に反射された光が第一の固定反射部材の第二の反射面に入射及び反射され、第一の固定反射部材の第二の反射面に反射された光が支持反射部材の第二の反射面に再度入射及び反射され、支持反射部材の第二の反射面に反射された光が支持反射部材の第一の反射面に入射及び反射され、第二の固定反射部材は、支持反射部材の第一の反射面に再度反射された光が入射されるものである。以上により本発明によれば、同じ支持板の径面積であっても、より光路長の変化を大きくすることのできる断層測定装置となる。以下、本発明の実施形態について図面を参照しつつ説明する。ただし、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、以下に示す実施形態に限定されるものではない。また、明細書及び請求の範囲において第一の第二の等の記載は、一つの実施形態、請求項において存在する同種の構成要件を区別し説明するためにのみ用いる語句にすぎず、この語句によって機能が限定されるわけではない。実施形態1図1は、本実施形態に係る断層測定装置の概略を示す機能ブロック図であり、図2は、本実施形態に係る光路可変部材の概略を示す図である。本実施形態に係る断層測定装置1は、光を放出する光源2と、光源2から放出された光を第一の光21と第二の光22に分割する光分割部材3と、第一の光21の光路を変化させる光路可変部材4と、第一の光21と第二の光22を結合させる光結合部材5と、光結合部材5により結合した光の振幅を測定する振幅測定部材6とを有して構成されている。本実施形態において、光源2は、被測定物を観察するために用いられる光を放出するための部材であって、この限りにおいて限定されるわけではないが低コヒーレンス光を放出することができるものであることが好ましい。ここで、低コヒーレンス光とは、発光する光が互いに干渉しにくい光をいい、断層測定以外における影響を受けにくいため、この光を用いることで必要な情報だけをより精度よく抽出することができる。光源2の例としては、上記機能を有する限りにおいて特に限定されるわけではないが、例えばSLDSuperLuminescentDiodeを用いることが好ましい。本実施形態において、光分割部材3は、少なくとも光源2を二以上に分割することができる部材である。光分割部材3としては、上記機能を有する限りにおいて限定されるわけではないが、例えばハーフミラーや光カプラを好適に用いることができる。また、本実施形態において、光路可変部材4は、光路を変化させることのできる部材であって、この機能を有する限りにおいて限定されるわけではないが、図2の一例で示すように、支持板41と、支持板41を支持し、かつ回転させる回転支持部材42と、支持板41の回転中心411を通る直線412に沿って支持板41上に配置される支持反射部材43と、支持反射部材43から反射された光を反射して再度支持反射部材43に入射させる第一の固定反射部材45と、再度支持反射部材43から反射された光が入射され、反射する第二の固定反射部材46を有する。本実施形態において支持板41は、支持反射部材43を保持し、回転可能である程度に硬いものであれば特に制限されないが、材料としては例えば金属を好適に用いることができる。また、支持板41の形状は、特に制限されないが、回転を均一に行えるよう円形状であることが好ましい。なお、支持板41の大きさは、測定対象となる被測定物の深さに応じて適宜調節が可能である。また本実施形態において回転支持部材42は、支持板41を支持かつ回転することができるものであって、この限りにおいて限定されるわけではないが、例えば軸421と、この軸を回転させる回転機構422とを有する装置であることは好ましい一例である。また、本実施形態に係る支持反射部材43は、入射された光と反射される光とが平行となるよう配置されていることが好ましい。具体的には、図3の例で示すように、二つの反射部材431、432を、その反射面433、434の中間面435と回転中心411を通る直線412とがほぼ直角になるように配置されていることがより好ましい。このように組み合わせることで、支持反射部材に入射された光と支持反射部材によって反射された光の進行方向を平行にすることができ、更に、第一の光21の入射方向を中間面435と平行な方向とすることで、第一の光を反射できる領域を広く確保することができる。図2において、第一の固定反射部材45は、支持板外において固定して配置される反射部材であって、支持反射部材43から入射された光を反射して支持反射部材43に再度入射させることができるものである。材料としては、この機能を有する限りにおいて限定されるわけではないが、プリズム又はミラーであることは好ましい一例である。なお、この構成としては、上記機能を有する限りにおいて限定されるわけではないが、第一の固定反射部材45が、反射面が直角で向き合うように組み合わせた反射部材451、452を配置したものであることが好ましい。このようにすることで、支持反射部材43から反射された光を支持反射部材43に再度入射させることができ、かつその方向を平行にすることができる。図2及び図4により、本実施形態における第一の光21の通過経路光路を説明する。図2において、方向軸414は支持板41に垂直な方向軸であり、方向軸413は支持板の回転中心411を通り、支持反射部材43の反射面433、434の中間面435に垂直な直線412に平行な方向軸である。図4は、本実施形態における第一の光21の光路を示す図である。第一の光21は、第二の固定反射部材46の上部方向軸414の正の方向を通過し、支持反射部材43の第一の反射面433により方向軸413の正の方向に反射され、第二の反射面434に入射される。第二の反射面434に入射された光は、第二の反射面434により第一の固定反射部材45に入射される。第一の固定反射部材45の第一の反射面453及び第二の反射面454は、支持反射部材43の第一の反射面433及び第二の434とは異なる方向に傾斜回転されている。すなわち、支持反射部材43の第一の反射面433及び第二の反射面434は、直線413と直線414を含む面を基準とすると方向軸414を軸として傾斜回転されているが、第一の固定反射部材の第一の反射面453と第二の反射面454は、直線413と直線414を含む面を基準とすると、方向軸413を軸として傾斜回転されている。第一の固定反射部材45に入射された光は、固定反射部材の反射面453により方向軸414の負の方向、すなわち方向軸413に垂直な方向に反射され、第二の反射面454に反射されて、再度支持反射部材43に入射される。再度支持反射部材43に入射された光は、第二の反射面434及び第一の反射面433により再度反射され、第二の固定反射部材46に入射される。第二の固定反射部材46に入射された光は、第二の固定反射部材46の反射面461により反射されて支持反射部材43に戻され、第二の固定反射部材46に入射された経路とほぼ同一の経路を逆向きに通過する。図4において、ファイバ出力端7から第二の固定反射部材46までの光路は、第一の固定反射部材45及び第二の固定反射部材46と支持反射部材43との間を2往復している。光21は、支持反射部材43により2回反射されており、第二の固定反射部材46には、支持反射部材43の第一の反射面433に再度反射された光が入射されている。図2において、支持板41の中心411と支持反射部材の中心を通る直線412が、直線51と直線52の範囲内にある場合に限り、光路可変部材4から反射された第一の光21が検出可能であるとすると、本実施形態によれば、第一の光21の光路長を最大8l1変化させることが可能である。本実施形態において、光結合部材5図1参照は、上記光分割部材3により分割される第一の光21と第二の光22を結合させることのできるものである。この機能を有する限りにおいて限定されないが、例えばハーフミラーや光カプラを好適に用いることができる。なお、本実施形態において、光結合部材5において結合される光は、上記光路可変部材4により光路が変化した第一の光21と、被測定物に対して照射され反射された第二の光22である。また、本実施形態において、振幅測定部材6は、光結合部材5が結合した光の振幅を測定することのできるものである。振幅測定部材6は、上記の限りにおいて限定されるわけではないが、例えば図5の例で示すように、検出器61と、この検出器61に接続され所定の処理を行う情報処理装置62を有して構成されていることが好ましい。本実施形態における検出器61としては、入射される光63を定量化、例えば電気信号化して出力することのできるものであり、例えばフォトダイオード、CCD等を好適に用いることができる。図5は、本実施形態に係る振幅測定部材6の機能ブロックを示す図である。本実施形態に係る情報処理装置62は、検出器61が検出した光63の量に対し処理を行い、その結果を表示することのできるものである。いわゆるパーソナルコンピュータ及びそれに組み込まれる各種計算プログラムが該当する。なお、検出器61に入射される光が微弱である場合、光量を増幅するために、情報処理装置62と検出器61との間に、例えばロックインアンプ等の増幅部材を配置してこの光量を増幅させることは好ましい一例である。なお、本実施形態においては、固定反射部材が二つ配置された例で示しているが、三つ以上であっても対応可能である。固定反射部材が三つの例については、実施形態2で後述する。以上、本実施形態に係る断層測定装置は、第一の固定反射部材の二つの反射面を支持反射部材の二つの反射面とは異なる方向に傾斜させることによって、光を支持反射部材に2回入射させ、第一、第二の固定反射部材と支持反射部材との間を2往復させ、光路を長くすることができる。このように、本実施形態の断層測定装置は、特許文献1に記載された公知技術のように支持反射部材を複数配置することなく光路を長くすることができるため、支持板41の径面積を大きくする必要がなく、光路長の長い断層測定装置を大幅に小型化することが可能である。すなわち、支持反射部材に2回光を反射させ、効率的に利用することによって支持板の無駄なスペースを少なくして光路差を効率的に確保することができる。また、本実施形態によれば、支持反射部材の部品点数を少なくすることができ、断層測定装置の製造コストを低減することができる。実施形態2図6は、本発明の実施形態2の光路長可変部材4の概略を説明する図であり、図7は、本実施形態の光路を示す図である。本実施形態が実施形態1と異なるのは、第三の固定反射部材47を配置している点である。実施形態1と同じ構成については説明を省略する。図7により、本実施形態の光路を説明する。ファイバ出力端7から出力された第一の光21は、第三の固定反射部材47の上部方向軸414の正の方向を通過し、支持反射部材43に入射される。支持反射部材43に入射された光21は、支持反射部材43の第一の反射面433及び第二の反射面434により反射され、第一の固定反射部材45に入射される。第一の固定反射部材45に入射された光は、第一の固定反射部材45の第一の反射面453及び第二の反射面454に反射され、支持反射部材43に再度入射される。支持反射部材43に再度入射された光は、支持反射部材43の第二の反射面434及び第一の反射面433により再度反射され、第二の固定反射部材46の側方方向軸413の正の方向を通過し、第三の固定反射部材47に入射される。第三の固定反射部材47に入射された光は、第三の固定反射部材47により反射され、第二の固定反射部材46の下方方向軸414の負の方向を通過して、支持反射部材43に再度入射される。その後、光は、支持反射部材43、第一の固定反射部材45に入射及び反射された後に支持反射部材43に再度入射及び反射され、第二の固定反射部材46に入射される。第二の固定反射部材46に反射された光は、第二の固定反射部材46に入射されるまでの経路とほぼ同じ経路を逆向きに通過して光結合部材5に入射される。本実施形態では、支持反射部材43に4回光が入射され、反射されており、支持反射部材43に再度反射された光が第二の固定反射部材46に入射されている。本実施形態によれば、支持反射部材43に4回光が入射、反射されているため、実施形態1よりも更に光路長変化を効率的に大きくすることができる。本実施形態と実施形態1に共通する効果は、支持反射部材に2回以上光を入射、反射させているため、支持反射部材が一つしか配置されていなくても光路差を効率的に確保でき、光路可変部材及び断層測定装置を小型化することができる点である。