"光学ガラスの仮想温度を測定する方法であり、同一の組成をもつ複数の検量線作成用ガラス試料に対し、それぞれ異なる熱処理温度で熱処理を行う工程と、前記工程で得られた試料に対して縦波音速、LSAW速度、横波音速のいずれか1つを音響特性AP1として測定する工程と、前記熱処理温度を仮想温度とし、前記工程で得られた音響特性AP1との関係を近似する次式Tf=a×AP1bで表される近似直線式を決める工程と、Tfは仮想温度、aとbは定数であり、前記検量線作成用ガラス試料と同一の組成をもつ被測定用光学ガラス試料に対して音響特性AP1を測定し、前記近似直線式を用いて仮想温度Tfを計算により求める工程、とを含む光学ガラスの仮想温度の測定方法。光学ガラスの仮想温度を測定する方法であり、同一の組成をもつ複数の検量線作成用ガラス試料に対し、それぞれ異なる熱処理温度で熱処理を行う工程と、前記工程で得られた試料に対して縦波音速、LSAW速度、横波音速のいずれか1つと他の1つをそれぞれ第1音響特性AP1及び第2音響特性AP2として測定する工程と、前記熱処理温度を仮想温度とし、前記第1音響特性AP1との関係を近似する次式Tf=a×AP1bで表される第1近似直線式を決める工程と、Tfは仮想温度、aとbは定数であり、前記工程で得られた仮想温度Tfと前記第2音響特性AP2との関係を表す次式Tf=c×AP2dで表される第2近似直線式を決める工程と、cとdは定数であり、前記検量線作成用ガラス試料と同一の組成をもつ被測定用の光学ガラス試料に対して前記第2音響特性AP2を測定し、その測定した第2音響特性AP2から前記第2近似直線式を用いて仮想温度Tfを求める工程、とを含む光学ガラスの仮想温度の測定方法。請求項1記載の光学ガラスの仮想温度の測定方法において、前記第1音響特性AP1は縦波音速であり、前記工程は縦波速度の測定を前記被測定用試料の表面上の2点以上で測定を行うことにより、仮想温度の面内分布を求める工程を含む。請求項2記載の光学ガラスの仮想温度の測定方法において、前記工程において前記第1音響特性AP1として縦波音速、前記第2音響特性AP2としてLSAW速度を測定し、前記工程は前記被測定ガラス試料の縦波音速の測定により仮想温度の精密な値を、LSAW速度を試料表面上の複数点の測定を行うことにより仮想温度の面内分布を求めることを含む。請求項1乃至4のいずれか記載の測定方法において、光学ガラスは、OH濃度が0から2000wtppm、金属不純物濃度が10wtppb以下の合成石英ガラスである光学ガラスの仮想温度の測定方法。光学ガラスの仮想温度の測定方法であり、光学ガラスからなる被測定試料の縦波音速、LSAW速度、横波音速のいずれか1つを音響特性APとして測定する工程と、測定した前記音響特性APから、被測定試料と同一の組成をもつ検量線作成用ガラス試料に対して予め作成した音響特性APに対する仮想温度の近似直線式を用いて、仮想温度Tfを求める工程とを含む光学ガラスの仮想温度の測定方法。本発明は、光学ガラスの仮想温度測定法に関する従来の問題を解決し、仮想温度測定用の特別の試料を準備する必要がなく、仮想温度を従来よりも高精度で測定することが可能な光学ガラスの仮想温度の測定方法を提供することを課題とする。この発明の第1の観点による光学ガラスの仮想温度を測定する方法は、同一の組成をもつ複数の検量線作成用ガラス試料に対し、それぞれ異なる熱処理温度で熱処理を行う工程と、前記工程で得られた試料に対して縦波音速、漏洩弾性表面波速度、横波音速のいずれか1つを音響特性AP1として測定する工程と、前記熱処理温度を仮想温度とし、前記工程で得られた音響特性AP1との関係を近似する次式Tf=a×AP1bで表される近似直線式を決める工程と、Tfは仮想温度、aとbは定数であり、前記検量線作成用ガラス試料と同一の組成をもつ被測定用光学ガラス試料に対して音響特性AP1を測定し、前記近似直線式を用いて仮想温度Tfを計算により求める工程、とを含む。この発明の第2の観点による光学ガラスの仮想温度を測定する方法は、同一の組成をもつ複数の検量線作成用ガラス試料に対し、それぞれ異なる熱処理温度で熱処理を行う工程と、前記工程で得られた試料に対して縦波音速、LSAW速度、横波音速のいずれか1つと他の1つをそれぞれ第1音響特性AP1及び第2音響特性AP2として測定する工程と、前記熱処理温度を仮想温度とし、前記第1音響特性AP1との関係を近似する次式Tf=a×AP1bで表される第1近似直線式を決める工程と、Tfは仮想温度、aとbは定数であり、前記工程で得られた仮想温度Tfと前記第2音響特性AP2との関係を表す次式Tf=c×AP2dで表される第2近似直線式を決める工程と、cとdは定数であり、前記検量線作成用ガラス試料と同一の組成をもつ被測定用の光学ガラス試料に対して前記第2音響特性AP2を測定し、その測定した第2音響特性AP2から前記第2近似直線式を用いて仮想温度Tfを求める工程、とを含む。本発明によれば、従来の仮想温度測定法と比較して一桁以上高い精度で仮想温度の測定が可能であり、生産ラインの中で、製品となる素材の仮想温度の測定が可能であり、被測定試料の仮想温度の面内分布を測定することが可能な光学ガラスの仮想温度の測定方法を提供することができる。さらに、本発明の仮想温度の測定方法の基本的な考え方は合成石英だけでなく、用途に合わせて添加物フッ素、ゲルマニウム、リン、ホウ素などを添加して特性改善を図っている合成石英ガラスや残留不純物が存在する合成石英ガラス、溶融石英ガラス、超低膨張ガラスであるTiO2SiO2ガラス、および一般的なすべてのガラス材料硼珪酸ガラス、ソーダライムガラスなどの仮想温度の測定にも適用できるということはいうまでもない。[実施例][準備]以下にまず光学ガラスとして合成石英ガラスの仮想温度の測定について説明する。図1に示す表1は、本発明を行うに当たり検討実験に用いた試料の仕様を示している。OH濃度は、参考文献1に示されている方法に基づき求めた。合成石英ガラス試料1および試料2は、製造プロセスが異なるため、含有されるOH濃度が異なっており、異なるガラス特性温度歪点、徐冷点を有している。なお、これら歪点と徐冷点の値は石英ガラスメーカの資料による。検量線を作成するために用意した試料は、1が1つのガラスインゴットから切り出した4枚、2がもう1つのガラスインゴットから切り出した4枚であり、各試料の大きさは60mm×60mm×15mmである。同一のインゴットから切り出された4つの試料は同一の組成であるとみなす。表1に示した試料に対して高温電気炉を用いて大気中で熱処理を行った。はじめに、試料の熱履歴を消去するために、各試料の徐冷点より50°C程度高い温度まで上げたあと、5時間以下、時間をhで表す保持した。その後、510°Chの降温レートで所望の熱処理温度TAにした後、各試料の構造緩和時間を考慮して試料を長時間保持し、ヒーターの電源を切ることにより炉内で放冷した。熱処理時の仮想温度分布が小さくなるように、各試料を2枚の70mm×70mm×10mmの石英ガラス板ではさんで、炉内に設置した。各試料の保持温度は、4枚の試料1に対してはそれぞれ1050110011501200°C、4枚の試料2に対してはそれぞれ900100010501100°Cとした。熱処理後、試料を50mm×35mm×10mmの大きさに整形し、50mm×35mmの面を両面光学研磨した。作製した試料に対して、直線集束ビーム超音波材料解析システムを用いて、超音波周波数を225MHzとしてLSAW速度の測定を行った。LSAW速度の測定原理方法は参考文献2と参考文献3に詳しい。また、バルク平面超音波材料解析システムを用いて、超音波周波数50250MHzにおいて縦波音速と横波音速の測定を行った。縦波音速と横波音速の測定原理方法は参考文献4に詳しい。さらに、アルキメデスの原理に基づき密度ρを測定した。測定は参考文献5に基づき行った。LFBUMCシステムにより測定されるLSAW速度は測定システム特に用いるLFB超音波デバイスや測定周波数によって異なるため、縦波音速、横波音速、密度測定を行った標準試料を用いて、システムの校正を行った参考文献6。図2に、測定の結果得られた、合成石英ガラスの試料1と2に対する各4つの熱処理温度TAと音響特性の関係を示す。各試料に対して、徐冷点図1参照より約50°C低い温度以下では、熱処理温度と各音響特性との間の関係は線形であったが、それ以上の温度では、それらの関係はその線形性から外れた。これは、熱処理温度が高くなると構造緩和時間が短くなり、試料の冷却過程において、その仮想温度が熱処理温度よりも低くなるためである。また、構造緩和時間に比べて十分短い時間で冷却した場合には、仮想温度は熱処理温度に等しくなるということである。図2の結果より、熱処理温度TAに対して、縦波音速の変化が最も大きいことがわかった。非特許文献3で報告されているように、合成石英ガラスの仮想温度と密度の間には、線形の関係がある。熱処理温度に対する変化が最も大きい縦波音速と密度との間の関係を求めた結果を図3に示す。合成石英ガラス1と2のどちらに対しても、縦波音速と密度の間に線形の関係が得られた。これらの結果、仮想温度を反映して縦波音速が変化していることがわかった。そこで、縦波音速に対して、熱処理温度と仮想温度が等しいと見なせる温度範囲のデータにおいて最小二乗法により近似直線を求め、図2Aの各試料の縦波音速に対応するそれぞれの近似直線上に補正された熱処理温度を仮想温度としてそれぞれ近似直線上にプロットした結果を図4Aに示す。すなわち、2つの近似直線は図2Aにおいて熱処理温度1200°Cの試料1と、熱処理温度1050°Cおよび1100°Cの試料2のデータを除いたデータから求めたものであり、この2つの近似直線上に図2Aの4つの試料1の縦波音速と4つの試料2の縦波音速とをプロットすることにより補正された熱処理温度が仮想温度として図4Aのように求まる。さらに、その近似直線を使って補正した各試料の熱処理温度を仮想温度として図2BのLSAW速度、図2Cの横波速度、図2Dの密度をプロットした結果と、それらの近似直線を図4B,4C,4Dにそれぞれ示す。いずれの特性も線形性が良いことがわかる。音響特性の仮想温度に対する感度と分解能を図5の表2に示す。この結果より、仮想温度に対して、縦波音速の分解能が0304°Cと非常に高いことがわかる。仮想温度の測定は、従来、赤外分光法やラマン分光法により行われるが、分解能はそれぞれ±15°C[非特許文献1]、±60°C[非特許文献2]である。このため、縦波音速による仮想温度の測定は、従来法よりも40150倍分解能が高く、仮想温度測定法として極めて有用である。音響特性の仮想温度依存性の傾きは、OH濃度の違いに起因し、図4Aに示したように合成石英ガラス1と合成石英ガラス2で異なる。縦波音速をVLとすると図4Aから仮想温度Tfは次式で表される。Tf=a×VLbここで、a、bは、合成石英ガラスに含まれるOH濃度によって定まる定数であり、図4Aに示す試料1、2のデータに対し近似直線の定数はそれぞれ以下のようになる。試料1:a=7294、b=42295試料2:a=6549、b=37871[第1実施例]前述の説明から、縦波音速、LSAW速度、横波音速のいずれか1つ、例えば縦波音速を音響特性として使用し、図4Aの近似直線を式のように求めておくことにより、試料1又は2と同じ組成の被測定合成石英ガラスに対し、その縦波音速VLを測定すれば、式を使って仮想温度Tfを求めることができる。同様に、図2B,2Cに示すLSAW速度又は横波音速のデータから熱処理温度を仮想温度とみなして直接近似直線を求めることにより、同じ組成の被測定合成石英ガラスのLSAW速度又は横波音速を測定して近似直線から仮想温度を計算することができる。縦波音速は仮想温度に対する感度が高い利点があるが、その測定には試料の厚さを測定する必要があり、そのため試料の両面を研磨する必要がある。しかも厚さの面内分布を測定するのは手間がかかる。これに対し、LSAW速度の測定は厚さを測定する必要がないので試料の片側表面を研磨すれば測定可能であり、しかも面内分布を測定することが容易である便利さがある。ただ、図2Bからわかるように、LSAW速度は熱処理温度に対する感度近似直線の勾配が小さいので、仮想温度の測定精度が悪い欠点がある。横波音速も図2Cからわかるように仮想温度に対する感度が小さい欠点がある。この欠点を改善する測定方法を第2実施例として以下に説明する。[第2実施例]第2実施例では、まず仮想温度に対する感度の高い縦波音速による図4Aに示した仮想温度と縦波音速の関係を示す近似直線式を求める。この近似直線状にプロットされた試料12の仮想温度は図2における試料12の熱処理温度を補正したものであり、前述のようにこの補正された熱処理温度を仮想温度として図2BのLSAW速度をプロットして得られた前述の図4Bから、図4Aと同様に次式で表される近似直線式を得る。Tf=c×VLSAWdここで、c、dも、合成石英ガラスに含まれるOH濃度によって定まる定数であり、試料1、2、それぞれに関して式の定数cおよびdの値は、それぞれ、以下のようになる。試料1:c=144、d=4922×105試料2:c=187、d=6395×105このようにして得られた近似直線式を使えば、被測定試料のLSAW速度VLSAWを測定することにより、その試料の仮想温度Tfを計算することができる。仮想温度の面内分布を測定する場合は、面内各位置でのLSAW速度VLSAWの測定結果を使って図4Bによる近似直線式からそれぞれの位置の仮想温度を求めてもよいが、面内一点、例えば中心位置での縦波音速の測定により式から得られた仮想温度により次のようにして各位置の測定LSAW速度から仮想温度を求めてもよい。測定試料の表面上の点におけるLSAW速度VLSAW、標準試料のLSAW速度VLSAWStdおよび縦波音速VLStdの測定を行い、式より縦波音速VLStdから標準試料の仮想温度の精密値Tfを求める。また、LSAW速度VLSAWStdおよびVLSAWから式により標準試料の仮想温度Tfおよび試料面内の仮想温度分布TfVLSAWを求める。ΔTfTfVLSAWTfとして、測定試料の点における仮想温度Tfは、以下の式を用いて求めることが可能である。TfTfΔTfまた、試料の縦波音速を用いて校正することも可能である。試料の中心において縦波音速VLCとLSAW速度VLSAWC、ならびに試料表面上の点におけるLSAW速度VLSAWの測定を行う。式より縦波音速VLCから試料中心における仮想温度の精密値Tfを求める。また、LSAW速度VLSAWCおよびVLSAWから、式により、試料中心における仮想温度Tf、試料面内の仮想温度分布TfVLSAWを求める。これらの結果から、ΔTfTfVLSAWTfとして次式を用いて、試料表面上の仮想温度の面内分布Tfを求めることができる。TfTfΔTf同様にして求めた図4Cに示した横波音速と仮想温度の関係を表す近似直線式を使って、被測定試料の横波音速から仮想温度を計算してもよい。図4Dにおいて、試料1と試料2の仮想温度Tfに対する密度ρの傾きが異なっている原因はOH濃度の違いによるものである。OH濃度が0wtppmおよび1000wtppmの合成石英ガラスに対しては、縦波音速VLおよびLSAW速度VLSAWを測定することにより、前記の係数を使用した式と式に代入して仮想温度Tfを求めることが可能である。非特許文献5において、密度ρと仮想温度TfのOH濃度依存性が検討されている。OH濃度の違いによる密度の絶対値の変化は捉えられているものの、仮想温度に対する傾きの違いは捉えられていなかった。このため、従来の得られている関係を利用して、密度ρの測定値から仮想温度を求める場合には、測定誤差が大きくなることがわかった。図2において、熱処理温度と音響特性が線形となる範囲は、試料1に対しては1150°C以下、試料2に対しては1000°C以下となった。いずれも徐冷点より約50°C低い温度であり、歪点よりもそれぞれ約40°C、約110°C高い温度となった。熱処理温度が高くなると構造緩和時間が短くなり、試料の冷却過程において、その仮想温度が熱処理温度よりも低くなるためである。また、参考文献7より、試料1、2に対して、それぞれ1150°C、1000°Cにおける構造緩和時間は11分、16分と見積もられる。さらに、これに対応する粘度ηは、それぞれ10135poise、10137poiseと見積もられる。この結果より、ガラスインゴットの製造過程における熱処理において、熱処理温度を下げることにより仮想温度分布が小さいガラスを製造できることを意味している。歪点において、粘度ηは10145poiseとなり、構造緩和時間は、試料1に対しては47分、試料2に対しては14時間となる。このため、熱処理温度を歪点よりも低くすることにより、熱処理冷却時の温度分布に起因するインゴット内の仮想温度分布が小さくなり、均質な大型ガラスインゴットの作製が可能となると考える。図3より、縦波音速と密度は比例している。また、図4Bと図4Dより、LSAW速度と密度も比例する。試料1、2に対して、縦波音速の密度に対する分解能はそれぞれ0003、0002となり、LSAW速度の密度に対する分解能はそれぞれ009、008となる。このことから、縦波音速やLSAW速度を測定することにより、局所的な密度ならびにその分布の計測が可能となる。通常の製造工程で標準的な製造条件で製造された合成石英ガラスにおいては、一般にOHや塩素などの不純物濃度やFやTiなどの添加物濃度の標準値は把握され、その変動は小さいと考えることができる。従って、以上のような、標準的な製造工程で製造された合成石英ガラスに関しては、第1実施例のように被測定試料の縦波音速を測定するだけで、式を用いて仮想温度を求めてもよい。縦波音速は、一般に、被測定試料の厚さ方向に伝搬する縦波の伝搬時間と被測定試料の厚さから求められる。縦波音速は仮想温度に対する分解能は高い。その測定のためには、被測定試料の、表面と裏面の平行研磨工程が必要となるが、測定超音波周波数を低くすること例えば、~10MHz程度により、被測定試料に要求される研磨加工条件が緩和され、量産工程への導入が可能となる。前述のように、LSAW速度は、仮想温度に対する感度が縦波音速よりは低いものの、標準試料を用いて校正を行うことにより被測定試料の表面が平坦であれば測定可能であり、LSAW速度測定に使用する直線集束ビームデバイスLFBデバイスを試料表面に沿って容易に移動できるので、二次元分布、すなわち、試料表面の仮想温度分布を測定できるという特徴がある。特に、製造工程が安定した量産ラインにおける量産工程の早い段階に導入することが可能になる。仮想温度に対する横波音速の感度は、縦波音速よりも低く、その測定のためには被測定試料を測定用超音波デバイスへ接着する必要があるため、研究開発時点では有効であるが、製造ラインへの導入はLSAW速度に比べて困難である。[シリカチタニアガラス]上述では合成石英ガラスを例に仮想温度の測定方法を説明したが、次にこの測定原理をシリカチタニアガラスの仮想温度測定に適用した例を簡単に説明する。TiO2SiO2超低膨張ガラスに対して本発明を適用した。市販のTiO2SiO2超低膨張ガラスに対して均質化処理を行い、900°C~1100°Cの温度でSiO2ガラスの場合と同様に熱処理を行った。用いた試料のTiO2濃度を蛍光X線分析法[参考文献8]により測定した結果、702714wtであった。TiO2SiO2超低膨張ガラスの縦波音速は、TiO2濃度、仮想温度、OH濃度に依存するため、TiO2濃度と縦波音速の間の関係[参考文献9]を利用して、縦波音速を700wtの値に補正した。熱処理温度と700wtにおける縦波音速との間の関係を図6に示す。TiO2SiO2超低膨張ガラスの場合、式の定数a、bは、以下のように求められる。a7388、b41567[仮想温度測定フローチャート]以上のように説明した第1及び第2実施例に基づいて、この発明による合成石英ガラスの仮想温度を評価するための基本的な処理手順を図7に示すフローチャートを参照にして以下に説明する。第1実施例の場合:ステップS1:被測定試料と同じ組成の複数の合成石英ガラス試料に対してそれぞれ異なる温度で試料の熱処理を行い、異なる仮想温度の検量線作成用試料を作成する。ステップS2:ステップS1で得られた複数の検量線作成用試料に対して縦波音速、LSAW音速、横波音速のいずれか1つを音響特性AP1として測定する。ステップS3:ステップS2の測定結果から、熱処理温度TAと音響特性APlとの関係が線形な範囲において熱処理温度を仮想温度Tfとして、仮想温度と音響特性AP1の関係を近似直線式としてを求める。音響特性AP1として縦波音速VLを使用する場合は式を得ることになる。ステップS4:被測定試料の音響特性AP1を測定する。ステップS5:測定した音響特性AP1を近似直線式に代入して仮想温度を計算する。第2実施例の場合:ステップS1、S2,S3は第1実施例の場合と同じであるが、ステップS2において縦波音速、LSAW速度、横波音速のいずれか1つの音響特性AP1に加えてさらに他の1つの音響特性AP2を測定する。ステップS3以降は、ステップS3A:ステップS3で音響特性APlから求めた仮想温度TfとステップS2で測定した音響特性AP2との間の関係を表すもう1つの近似直線式を求める。音響特性AP2としてLSAW速度を使用する場合は、式を得ることになる。ステップS4’:被測定試料の音響特性AP2を測定する。ステップS5’:測定された音響特性AP2からステップS3Aで求めた近似直線式を用いて仮想温度を求める。被測定試料と同一条件で製造された検量線作成用試料に対して、式あるいは式の近似直線式が予め得られている場合には、ステップS4,S5あるいはステップS4’,S5’から仮想温度を求めることが可能である。"