"光源からの照明光を、所定の被照射平面に照射するための照明光学装置であって、前記被照射平面の任意の一点上に照射される前記照明光の主成分を、前記被照射平面内の特定方向を含みかつ前記一点を含む少なくとも1つの特定平面内に進行方向を有し、かつ、前記進行方向が互いに平行ではない複数の照明光とすることを特徴とする照明光学装置。前記被照射平面内における前記照明光の強度分布を概均一化する照明光均一化手段を有することを特徴とする請求項1に記載の照明光学装置。前記照明光均一化手段は、前記特定方向に沿ってレンズエレメントが配列される少なくとも一つのフライアイレンズを含むことを特徴とする請求項2に記載の照明光学装置。前記照明光均一化手段は、前記少なくとも一つのフライアイレンズの中の任意の1つのレンズエレメントに入射する照明光を、前記照明光均一化手段中の所定の面内に分布する照明光のうち、前記特定方向と直交する方向の所定の範囲に分布する照明光に実質的に制限する集光光学系を有することを特徴とする請求項3に記載の照明光学装置。前記照明光均一化手段は、前記少なくとも一つのフライアイレンズの射出側面に形成される複数の2次光源を、実質的に前記特定方向に平行な線上に配列せしめる2次光源位置補正手段を有することを特徴とする請求項4に記載の照明光学装置。前記特定平面は、前記被照射面に対して概直交する1つの面であることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の照明光学装置。前記特定平面は、前記被照射面の法線方向に対して所定角度傾いた1つの平面であることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の照明光学装置。前記特定平面は、前記被照射面の法線方向に対して概対称に所定角度傾いた2つの平面であることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の照明光学装置。前記特定平面の前記被照射面に対する角度関係を、前記一点の、前記特定方向に直交する方向に関する位置に応じて変化させることを特徴とする請求項6に記載の照明光学装置。前記被照射面に照射する前記照明光の、前記特定方向の電場成分と前記特定方向と直交する方向の電場成分との大小関係を規定する偏光制御部材を有することを特徴とする請求項1から請求項9のいずれか一項に記載の照明光学装置。前記照明光の時間的可干渉距離は、100μm以下であるであることを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか一項に記載の照明光学装置。光源からの照明光により感光性の基板上にパターンを露光するための露光装置であって、請求項1から請求項11のいずれか一項に記載の照明光学装置と、前記基板を前記照明光学装置に対して位置合わせ可能に保持する基板保持機構とを備えることを特徴とする露光装置。電子デバイスを構成する回路パターンの形成工程の少なくとも一部において、請求項12に記載の露光装置を用いることを特徴とする電子デバイスの製造方法。上述の従来の露光方法のうち投影露光方法においては、より高解像度を得るには、より短波長の光源と、より高NAの投影光学系が必要になる。しかしながら、現在最先端の露光装置では、露光光の波長は193nmに短波長化されており、今後の一層の短波長化は使用可能なレンズ材料の観点から困難な状況にある。また、現在最先端の投影光学系のNAは0.92程度に達しており、これ以上の高NA化は困難な状況にあるとともに、露光装置の製造コストを大幅に上昇させる原因となる。一方、コンタクト露光方法は、マスクと基板を接触させつつ露光を行なうことから、露光に伴うマスクの損傷や汚染を避けることが難しい。従って、マスクの消耗に伴うランニングコストが高額化するため、量産に適用することは困難である。プロキシミティ露光方法では、ウエハとマスクとを10から20μm以上の間隔をもって対向して近接配置するためマスクの損傷の防止には効果がある。しかし、上記間隔に起因して転写パターンにはボケが生じるため、露光光の波長程度あるいはそれ以下の微細パターンの転写には適用困難である。本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、微細なパターン、具体的には露光光の波長程度以下の微細パターンを、安価に形成可能な照明技術および露光技術の提供を目的とする。また、本発明は、上記露光技術を用いた電子デバイスの製造方法を提供することをも目的とする。本発明の実施形態には以下の第1および第2の露光方法の発明、第1および第2の電子デバイス製造方法の発明、ならびに第1および第2の露光装置の発明が記載されている。すなわち、本発明に関する第1の露光方法の発明は、光源からの照明光により感光性の基板上にパターンを露光する露光方法であって、その光源からのその照明光を、第1の回折格子に照射する工程と、その第1の回折格子により生じた回折光を、その第1の回折格子に対向して配置した第2の回折格子に照射する工程と、その第2の回折格子により生じた回折光を、その第2の回折格子に対向して近接して配置したその感光性の基板上に照射する工程とを含むとともに、その第1の回折格子の任意の一点上に照射されるその照明光の主成分は、その第2の回折格子の周期方向に直交する長手方向を含みかつその一点を含む少なくとも1つの特定平面内に進行方向を有し、かつ、その進行方向が互いに平行ではない複数の照明光であることを特徴とするものである。本第1の露光方法の発明においては、その第1の回折格子に照射するその照明光の強度分布を、その第1の回折格子の中心部を含む所定の領域において、概均一であるとすることもできる。また、本第1の露光方法の発明においては、その第1の回折格子またはその第2の回折格子の少なくとも一方に、その照明光の実効波長の3倍以下の周期を有する回折格子を用いることもできる。また、その第1の回折格子またはその第2の回折格子の少なくとも一方に、透過光の位相を変調する位相変調型の回折格子を用いることもできる。あるいはさらに、その第1の回折格子またはその第2の回折格子の少なくとも一方に、透過光の強度を変調する強度変調型の回折格子を用いることもできる。これらの本第1の露光方法の発明において、その第1の回折格子の第1の所定方向の周期が、その第2の回折格子のその第1の所定方向の周期の概2倍であるとすることもできる。また、本第1の露光方法の発明においては、その特定平面は、その基板に対して概直交する1つの面であるとすることもできる。あるいは、その特定平面は、その基板の法線方向に対して所定角度傾いた1つの平面であるとすることもできる。あるいは、その特定平面は、その基板の法線方向に対して概対称に所定角度傾いた2つの平面であるとすることもできる。さらに、本第1の露光方法の発明では、その第2の回折格子とその基板との、その基板の面内方向における相対位置関係を、その第2の回折格子のその周期の方向と直交する方向にずらしつつ、または、その第2の回折格子のその周期の整数倍の長さだけその周期の方向にずらしつつ、その各工程を複数回繰り返して行なうものとすることもできる。また、本第1の露光方法の発明では、その第2の回折格子とその基板の間を、その露光波長における屈折率が1.2以上の誘電体で満たすこともできる。なお、本第1の露光方法の発明では、その第1の回折格子とその第2の回折格子の間を、その露光波長における屈折率が1.2以上の誘電体で満たすこともできる。本発明に関する第2の露光方法の発明は、光源からの照明光により感光性の基板上にパターンを露光する露光方法であって、その光源からのその照明光を回折格子に照射する工程と、その回折格子により生じた回折光を、その回折格子に対向して近接して配置したその感光性の基板上に照射する工程とを含むとともに、その回折格子の任意の一点上に照射されるその照明光の主成分は、その回折格子の周期方向に直交する長手方向を含みかつその一点を含む少なくとも1つの特定平面内に進行方向を有し、かつ、その進行方向が互いに平行ではない複数の照明光であることを特徴とするものである。本第2の露光方法の発明においては、その回折格子に照射するその照明光の強度分布を、その回折格子の中心部を含む所定の領域において、概均一であるとすることもできる。また、本第2の露光方法の発明においては、その回折格子として、その照明光の実効波長の3倍以下の周期を有する回折格子を用いることもできる。また、その回折格子として、透過光の位相を変調する位相変調型の回折格子を用いることもできる。あるいはさらに、その回折格子として、透過光の強度を変調する強度変調型の回折格子を用いることもできる。また、本第2の露光方法の発明においては、その特定平面は、その基板に対して概直交する1つの面であるとすることもできる。あるいは、その特定平面は、その基板の法線方向に対して所定角度傾いた1つの平面であるとすることもできる。あるいは、その特定平面は、その基板の法線方向に対して概対称に所定角度傾いた2つの平面であるとすることもできる。さらに、本第2の露光方法の発明では、その回折格子とその基板との、その基板の面内方向における相対位置関係を、その回折格子のその周期の方向と直交する方向にずらしつつ、または、その回折格子のその周期の整数倍の長さだけその周期の方向にずらしつつ、その各工程を複数回繰り返して行なうものとすることもできる。また、本第2の露光方法の発明では、その回折格子とその基板の間を、その露光波長における屈折率が1.2以上の誘電体で満たすこともできる。本発明に関する第1の電子デバイス製造方法の発明は、電子デバイスを構成する回路パターンの形成工程の少なくとも一部において、本発明の露光方法を用いるものである。また、本発明に関する第2の電子デバイス製造方法の発明は、電子デバイスを構成する回路パターンの形成工程の少なくとも一部において、投影露光装置を用いた投影露光方法と本発明の露光方法との合成露光を用いるものである。本発明に関する第1の露光装置の発明は、光源からの照明光と第1の透光性平板に形成された第1の回折格子と第2の透光性平板に形成された第2の回折格子とによって生成される干渉パターンを感光性の基板上に露光するための露光装置であって、その第1の透光性平板に形成されたその第1の回折格子を所定の位置に保持する第1保持機構と、その第2の透光性平板に形成されたその第2の回折格子をその第1の回折格子に対して対向する位置に整合して保持する第2保持機構と、その基板をその第2の回折格子に対して近接して対向する位置に、整合して保持する基板保持機構と、その光源からのその照明光をその第1の回折格子に照射するための照明光学系であってその第1の回折格子の任意の一点上に照射されるその照明光の主成分を、その基板の配置される面内の特定の一方向であるY方向を含みかつその一点を含む少なくとも1つの特定平面内に進行方向を有しかつその進行方向が互いに平行ではない複数の照明光とする照明光学系とを有することを特徴とするものである。本第1の露光装置の発明においては、その照明光学系が、その第1の回折格子の配置される面内におけるその照明光の強度分布を概均一化する照明光均一化手段を有するものとすることもできる。なお、その照明光均一化手段は、そのY方向に沿ってレンズエレメントが配列される少なくとも一つのフライアイレンズを含むものとすることができる。さらに、本第1の露光装置の発明においては、その照明光均一化手段は、その少なくとも一つのフライアイレンズの中の任意の1つのレンズエレメントに入射する照明光を、その照明光均一化手段中のそのフライアイレンズよりもその光源側の所定の面内に分布する照明光のうち、そのY方向と直交するX方向の所定の範囲に分布する照明光に実質的に制限する集光光学系を有するものとすることができる。また、本第1の露光装置の発明においては、その特定平面は、その基板が配置される面に対して概直交する1つの面であるとすることもできる。あるいは、その特定平面は、その基板が配置される面の法線方向に対して所定角度傾いた1つの平面であるとすることもできる。あるいは、その特定平面は、その基板が配置される面の法線方向に対して概対称に所定角度傾いた2つの平面であるとすることもできる。また、本第1の露光装置の発明は、その第2の回折格子とその基板の間の少なくとも一部分をその露光波長における屈折率が1.2以上の誘電性液体で満たす液体供給機構を有するものとすることもできる。なお、その第1の回折格子とその第2の回折格子の間の少なくとも一部をその露光波長における屈折率が1.2以上の誘電性液体で満たす液体供給機構を有するものとすることもできる。本発明に関する第2の露光装置の発明は、光源からの照明光と透光性平板に形成された回折格子とによって生成される干渉パターンを感光性の基板上に露光するための露光装置であって、その透光性平板に形成されたその回折格子を所定の位置に保持する保持機構と、その基板をその回折格子に対して近接して対向する位置に、整合して保持する基板保持機構と、その光源からのその照明光をその回折格子に照射するための照明光学系であって、その回折格子の任意の一点上に照射されるその照明光の主成分を、その基板の配置される面内の特定の一方向であるY方向を含みかつその一点を含む少なくとも1つの特定平面内に進行方向を有し、かつ、その進行方向が互いに平行ではない複数の照明光とする照明光学系とを有することを特徴とするものである。本第2の露光装置の発明においては、その照明光学系が、その回折格子の配置される面内におけるその照明光の強度分布を概均一化する照明光均一化手段を有するものとすることもできる。なお、その照明光均一化手段は、そのY方向に沿ってレンズエレメントが配列される少なくとも一つのフライアイレンズを含むものとすることができる。さらに、本第2の露光装置の発明においては、その照明光均一化手段は、その少なくとも一つのフライアイレンズの中の任意の1つのレンズエレメントに入射する照明光を、その照明光均一化手段中のそのフライアイレンズよりも前記光源側の所定の面内に分布する照明光のうち、そのY方向と直交するX方向の所定の範囲に分布する照明光に実質的に制限する集光光学系を有するものとすることができる。また、本第2の露光装置の発明においては、その特定平面は、その基板が配置される面に対して概直交する1つの面であるとすることもできる。あるいは、その特定平面は、その基板が配置される面の法線方向に対して所定角度傾いた1つの平面であるとすることもできる。あるいは、その特定平面は、その基板が配置される面の法線方向に対して概対称に所定角度傾いた2つの平面であるとすることもできる。また、本第2の露光装置の発明は、その回折格子とその基板の間の少なくとも一部分をその露光波長における屈折率が1.2以上の誘電性液体で満たす液体供給機構を有するものとすることもできる。次に、本発明の第1の態様によれば、光源からの照明光を所定の被照射平面に照射するための照明光学装置が提供される。この照明光学装置は、その被照射平面の任意の一点上に照射されるその照明光の主成分を、その被照射平面内の特定方向を含みかつ前記一点を含む少なくとも1つの特定平面内に進行方向を有し、かつ、前記進行方向が互いに平行ではない複数の照明光とすることを特徴とするものである。なお、本照明光学装置の発明においては、その被照射平面内におけるその照明光の強度分布を概均一化する照明光均一化手段を有するものとすることもできる。なお、その照明光均一化手段は、その特定方向に沿ってレンズエレメントが配列される少なくとも一つのフライアイレンズを含むものとすることができる。さらに、本照明光学装置の発明においては、その照明光均一化手段は、その少なくとも一つのフライアイレンズの中の任意の1つのレンズエレメントに入射する照明光を、その照明光均一化手段中の所定の面内に分布する照明光のうち、その特定方向と直交する方向の所定の範囲に分布する照明光に実質的に制限する集光光学系を有するものとすることができる。また、本照明光学装置の発明においては、その特定平面は、その基板が配置される面に対して概直交する1つの面であるとすることもできる。あるいは、その特定平面は、その基板が配置される面の法線方向に対して所定角度傾いた1つの平面であるとすることもできる。あるいは、その特定平面は、その基板が配置される面の法線方向に対して概対称に所定角度傾いた2つの平面であるとすることもできる。また、本発明の第2の態様によれば、光源からの照明光により感光性の基板上にパターンを露光するための露光装置であって、本発明の照明光学装置と、その基板をその照明光学装置に対して位置合わせ可能に保持する基板保持機構とを備えることを特徴とする露光装置が提供される。また、本発明の第3の態様によれば、電子デバイスを構成する回路パターンの形成工程の少なくとも一部において、本発明の露光装置を用いることを特徴とする電子デバイスの製造方法が提供される。以下、本発明の実施形態について説明する。図1は、本発明の露光装置の第1の実施例を表わす全体図である。なお、図1中に示したXYZ座標系と、以降の各図で示す座標系とは同一であり、各図中の所定の方向X方向,Y方向,Z方向は、全て同一の方向を示すものである。ArFアルゴンフッ素エキシマーレーザ,KrFクリプトンフッ素エキシマーレーザ,F2フッ素ダイマーレーザ、または波長変換素子を使用する高調波レーザー等の光源1を発した照明光IL1は、第1の光軸AX1に沿って配置されるコリメーターレンズ群2,3,5,7により、所定のビームサイズを有する平行光線束平行ビームである照明光IL2に変換される。照明光IL2は、偏光制御素子10により所定の偏光状態に設定され照明光IL3となり、照明光均一化手段の一部を構成する集光光学系11に入射する。そして、集光光学系11を射出した照明光IL5は、照明光均一化手段の一部を構成するフライアイレンズ20等のオプチカルインテグレータに入射する。フライアイレンズ20の射出側面には、必要に応じて開口絞り27が配置される。なお、集光光学系11、フライアイレンズ20、開口絞り27等からなる照明光均一化手段の詳細については後述する。フライアイレンズ20を射出した照明光IL7は、第1の光軸AX2に沿って配置される照明系後群レンズ29,30,32,35に入射し、これらのレンズで屈折され照明光IL8となって第1の透光性平板P1に入射する。なお、以上のコリメーターレンズ群2,3,5,7から照明系後群レンズ29,30,32,35に至るまでの照明光IL1~IL8の光路上の光学部材を、以下、照明光学系ISという。この照明光学系ISは、第1の透光性平板P1が配置される面を所定の照射平面とする、照明光学装置とみることもできる。第1の透光性平板P1の下方-Z方向には、第2の透光性平板P2が設けられる。第2の透光性平板P2は、パターンを形成すべき加工対象である半導体ウエハ等の基板W以降適宜、ウエハともいうに、近接して対向して配置される。第1の透光性平板P1には後述する第1の回折格子が形成されており、その第1の回折格子に照明光IL8が照射されることにより発生する回折光は、第2の透光性平板P2に照射される。第2の透光性平板P2には後述する第2の回折格子が形成されており、上記回折光はその第2の回折格子に照射されることになる。そして、第2の回折格子で発生した回折光はウエハWに照射され、ウエハW上に複数の回折光からなる干渉縞による明暗パターンが形成される。ウエハWの表面には、上記明暗パターンを感光し記録するためのフォトレジストを形成しておく。すなわち、ウエハWは、感光性の基板とみることができる。ウエハWは、ウエハ定盤50上をXY方向に可動な基板保持機構であるウエハステージ38上に保持され、これによりXY方向に可動となっている。また、ウエハWのX方向の位置はウエハステージ38上に設けられた移動鏡39の位置を介してレーザ干渉計40により計測され、Y方向の位置もウエハステージ38上に設けられた不図示の移動鏡位置を介して不図示のレーザ干渉計により計測される。第2の透光性平板P2は、ウエハWと後述する所定の間隔をもって近接して対向して配置するように、第2保持機構37a,37bによって保持される。また、第1の透光性平板P1は、第2の透光性平板P2と後述する所定の間隔をもって対向して配置するように、第1保持機構36a,36bによって保持される。ウエハWの直径は一例として300mmであり、第2の透光性平板P2は一例としてウエハWの表面の全面を覆う直径とする。同様に第1の透光性平板P1も一例として第2の透光性平板P2の表面の全面を覆う直径とする。ただし、後述する様に、第1の透光性平板P1の直径は、ウエハWの直径よりも30mm程度以上大きいことが望ましい。次に、本発明によってウエハW上に形成される干渉縞の明暗パターンについて、図2、図3、図4及び図5を用いて説明する。第1の透光性平板P1のZ側すなわち光源側の表面には、X方向に周期性を有する1次元の位相変調型の回折格子G11,G12が形成されている。一方、第2の透光性平板P2の-Z側すなわちウエハW側の表面には、X方向に周期性を有する1次元の強度変調型の回折格子G21が形成されている。まず、これらの回折格子G11,G12,G21について図2を用いて説明する。図2Aは、第1の透光性平板P1をZ側から見た図であり、その表面にはY方向に長手方向を有し、それと直交するX方向に1次元的な周期T1を有する、位相変調型の第1の回折格子G11,G12が形成されている。第1の回折格子G11,G12は、いわゆるクロムレス位相シフトレチクルの様に第1の透光性平板P1の表面部分G12と、当該平板表面をエッチング等により掘り込んだ掘り込み部分G11からなる。掘り込み部分G11の深さは、その表面部G12を透過する照明光と掘り込み部G12を透過する照明光との間に180度の位相差が形成されるように設定される。その掘り込み深さは、露光光の波長λ0,第1の透光性平板P1の屈折率n,任意の自然数mに対し、2m-1λ0/2n-1である。また、表面部分G12と掘り込み部分G11の幅の比率デューティ比は、1:1とすることが好ましい。図2Bは、第2の透光性平板P2をZ側から見た図であり、その裏面ウエハW側の面には、Y方向に長手方向を有し、X方向に1次元的な周期T2を有する第2の回折格子G21が形成されている。第2の回折格子G21は、クロム,モリブデン,タングステン,タンタル等の金属あるいはそれらの酸化物、フッ化物または珪素化物や他の遮光性減光性の材料の膜からなるものである。第1の透光性平板P1、第2の透光性平板P2は合成石英等の、紫外線に対する透過性が高く、熱膨張係数線膨張係数が小さく、従って露光光の吸収に伴う熱変形の小さな材料で形成する。特に光源1としてF2レーザを使用する場合には、フッ素の添加された合成石英を使用することが好ましい。なお、図2A,B中では、説明の便宜上周期T1を第1の透光性平板P1の直径一例として300mm以上の1割程度と表わしているが、実際には周期T1は例えば240nm程度、周期T2は例えば120nm程度であり、第1の透光性平板P1の直径に比して圧倒的に小さい。これは、図2A,B以外の各図においても同様である。以下、図3を用いて、照明光IL8の第1の回折格子G11,G12及び第2の回折格子G21への照射により、ウエハW上に干渉縞の明暗パターンが形成される原理について説明する。図3は、相互に対向して配置された第1の透光性平板P1、第2の透光性平板P2及びウエハWの断面を表わす図である。照明光IL8が照射されると、第1の回折格子G11,G12からはその周期T1に応じた回折光が発生する。第1の回折格子G11,G12が、デューティ比1:1で位相差180度の位相変調型格子であれば、0次回折光は消失し発生しない。この場合、主に±1次光の2本の回折光が発生するが、±2次光等の高次回折光も発生する可能性もある。しかしながら、周期T1が照明光の実効波長λの3倍より短い場合には、3次以上の高次回折光は発生し得ない。また、上記の如くデューティ比1:1で位相差180度の位相変調型格子であれば2次回折光も発生し得ない。従って、この場合には、第1の回折格子G11,G12からは、1次回折光LPと-1次回折光LMの2本のみが発生し、第1の透光性平板P1を透過して第2の透光性平板P2に入射する。ここで照明光の実効波長λとは、第1の回折格子G11,G12からウエハWに至る照明光路上に存在する透光性媒質のうち、最低屈折率を有する媒質中における照明光の波長をいう。本例では、透光性平板P1と透光性平板P2とウエハWの各間に空気または窒素希ガスでも良いが存在するため、実効波長λ0は照明光の波長λ0を空気の屈折率=1で除した値となる。続いて、1次回折光LPと-1次回折光LMは、第2の透光性平板P2のウエハW側の表面に設けられた第2の回折格子G21に照射される。両回折光は対称であるため、以下1次回折光LPについてのみ説明する。1次回折光LPは、第1の回折格子G11,G12の周期T1により、第2の回折格子G21に対して鉛直な方向法線方向から所定の角度だけ傾いて第2の回折格子G21への入射する。その傾き角θ0は、第2の回折格子G21が空気中に配置されていると仮定すると、式1sinθ0=λ/T1により表わされる角である。1次回折光LPが第2の回折格子G21に照射されると、第2の回折格子G21からも回折光が発生する。第2の回折格子G21が強度変調型の回折格子であることから、当該回折光は0次光を含む回折光となる。ここで、当該各回折光の発生する角度方向は、照射される照明光1次回折光LPの入射角の傾斜に応じて傾いたものとなる。すなわち、第2の回折格子G21からは、照射された1次回折光LPに平行な方向に進行する0次回折光LP0と、第2の回折格子G21のX方向の周期T2に応じて回折される-1次回折光LP1が発生する。なお、第2の回折格子G21の周期T2が、上記周期T1及び実効波長との関係で決まる所定の値より大きい場合には、不図示の1次回折光も発生する可能性がある。しかし、周期T2を、照明光の実効波長以下とすることで、実質的に不図示の1次回折光の発生を防止することができる。ここで、照明光の実効波長λとは上記と同様である。この結果、ウエハW上には、0次回折光LP0と-1次回折光LP1の2本の回折光が照射されることとなり、これらの回折光の干渉により干渉縞の明暗パターンが形成される。以下、図4を用いて、この干渉縞の明暗パターンについて説明する。図4は、0次回折光LP0と-1次回折光LP1の2本の回折光がウエハW上に形成する干渉縞の明暗分布を表わす断面図である。上述の通り、0次回折光LP0は第2の回折格子G21へ照射される1次回折光LPと平行な方向に発生するから、0次回折光LP0はウエハWの鉛直方向法線方向ZWに対して上述のθ0だけ傾いた入射角で照射される。一方、-1次回折光LP1は、X方向の周期T2によりX方向に回折し、入射角θ1でウエハWに照射される。このとき、ウエハW上に形成される干渉縞IFの明暗パターンの周期強度分布の周期T3は、式2T3=λ/sinθ0sinθ1となる。これは干渉縞IFの振幅分布の周期の半分に対応している。従って、ウエハW上には、その全面にX方向に周期T3を有するY方向に平行な明暗パターンが形成される。そして、ウエハW上に形成されたフォトレジストPRには、この明暗パターンが照射され露光される。一般に、干渉縞IFの如く2本の光線束により形成される干渉縞は、ウエハWがZ方向に位置変動しても、そのコントラストの低下が極めて少なく、すなわちいわゆる焦点深度の大きな明暗パターンとなる。しかしながら、0次回折光LP0の入射角θ0と、-1次回折光LP1の入射角θ1が等しく無い場合法線方向VWに対して対称でない場合には、ウエハWのZ方向位置ずれに応じて、干渉縞IFのX方向位置が変動してしまう。そこで、干渉縞IFのX方向位置を正確に制御したい場合には、ウエハWに照射する0次回折光LP0の入射角θ0と、-1次回折光LP1の入射角θ1が等しくなるようにするとよい。このような条件は、第1の回折格子G11,G12に対して照明光IL8が垂直に入射することを前提として、第1の回折格子G11,G12の周期T1が第2の回折格子G21の周期T2の概2倍であるときに実現される。そして、このときには、式3T2=T3の関係を満たす。なお、第1の回折格子G11,G12に及び第2の回折格子G21の双方には製造誤差等が含まれるのものであるから、両格子の周期が厳密に2倍であることは実際には期待できない。従って、上記の概2倍とは、式4T2×2×0.999≦T1≦T2×2×1.001の条件を満たせば、概ね良いという意味である。上記条件を満たすことにより、ウエハWのZ方向の位置ずれが生じた場合であっても、ウエハWの所定の位置に、干渉縞IFの明暗パターンを照射することが可能となる。ここで、ウエハWのZ方向位置を所定の位置に厳格に制御可能であるなら、必ずしも、上記式4に示される条件を満たさなくても良い。なお、上述の通り、照明光IL8は、第1の回折格子G11,G12に対して、例えば垂直に入射することが必要である。以下この理由、および入射角度に関するより正確な条件について、図5を用いて説明する。図5は、図3及び図4と同様に、第1の透光性平板P1、第2の透光性平板P2及びウエハWと、ウエハW上に形成された干渉縞IFa,IFbの断面を表わす図である。ここで第1の回折格子G11,G12の周期T1は、第2の回折格子G21の周期T2の2倍であるとする。図5中の左側に示した干渉縞IFaは、第1の回折格子G11,G12に対して垂直に入射する照明光IL8aに起因して形成される干渉縞を表わす。このときには、図3及び図4に示した場合と同様に、第1の回折格子G11,G12からは1次回折光LPa及び-1次回折光LMaが対称に発生し、それが第2の回折格子G21に入射する。このうち1次回折光LPaに着目すると、第2の回折格子G21により発生する0次回折光LPa0と-1次回折光LPa1は等しい入射角で対称に傾斜してウエハWに入射する。従って、ウエハW上には、X方向に明暗の強度の周期T2を持つ干渉縞IFaが、所定の位置に形成される。そしてその明部のピークのX方向位置は、第2の回折格子G21の透過部の位置と正確に対応している。一方、図5中の右側に示した干渉縞IFbは、第1の回折格子G11,G12に対してX方向に角度φだけ傾いて入射する照明光IL8bに起因して形成される干渉縞を表わす。このときにも、第1の回折格子G11,G12からは1次回折光LPb及び-1次回折光LMbが発生するが、その角度的な対称性は、照明光IL8bの入射角の傾斜に応じて崩れている。その結果、このうち1次回折光LPbの照射により、第2の回折格子G21から発生する0次回折光LPb0と-1次回折光LPb1のウエハWへの入射角度の対称性も崩れる。この場合でも、ウエハW上には、X方向に明暗の強度の周期T2を持つ干渉縞IFbが形成されるが、その明部のピークのX方向位置は、第2の回折格子G21の透過部の位置とは、ずれたものとなる。そのずれ量をδとすると、式5δ=D2×tanφの関係となる。ここで、D2は第2の回折格子G21とウエハWの表面との間隔である。第1の回折格子G11,G12に入射する照明光が、上述のX方向に傾いたIL8bだけであるなら、ウエハW上に形成される干渉縞はその位置はX方向にずれるものの、そのコントラストが低下することは無い。しかし、第1の回折格子G11,G12に入射する照明光が、それぞれX方向への傾斜角入射角が異なる複数の進行方向を有する照明光である場合には、それらの照明光により形成される干渉縞の位置も、式5よりそれぞれ異なるものとなり、それらの強度的な重ね合わせにより最終的に形成される干渉縞のコントラストは低下する。従って、上記コントラストの低下を避けるために、第1の回折格子G11,G12上の少なくとも一点に入射する照明光IL8は、そのX方向の入射角が所定の一定値である必要がある。例えば、ウエハW上に露光する干渉縞パターンの周期T3=T2が120nmである場合、すなわち一般に60nmラインアンドスペースと呼ばれるパターンである場合には、照明光IL8のX方向の傾斜角のばらつきにより生じるX方向位置のばらつきが、±15nm程度以内であれば、干渉縞パターン全体としてのコントラスト低下の影響を十分に小さく抑えられる。従って、第2の回折格子G21とウエハWの表面との間隔D2を50[μm]として、式5より、照明光IL8のX方向の傾斜角のばらつきの角度範囲φ0は一例として、式6φ0=arctan15/50000=0.3[mrad]以内であれば良いこととなる。もっとも、この条件は露光すべきパターンの周期T3及び上記間隔D2により変動するものであることは言うまでもない。一方、照明光IL8の入射角のY方向へ傾斜によって、ウエハW上における干渉縞IFのY方向位置は変化するものの、第1の回折格子G11,G12及び第2の回折格子G21のXY面内の形状に応じて、干渉縞IFはY方向に概一様な干渉縞であるから、そのY方向位置変化は、全く問題となるものではない。すなわち、照明光IL8の入射角のY方向へ傾斜によって、干渉縞IFの実質的な位置ずれが生じることも無く、照明光IL8がそれぞれY方向への傾斜角が異なる複数の進行方向を有する照明光である場合であっても干渉縞IFのコントラストの低下は生じない。従って、第1の回折格子G11,G12上の任意の一点に照射される照明光IL8は、Y方向については複数の入射角を有してよいが、X方向については所定の単一の入射角を有する照明光であることが必要である。これは、換言すれば、第1の回折格子の任意の一点上に照射される照明光IL8は、Y方向を含み、かつその一点を含む平面以降、特定平面という内に進行方向を有する照明光であることが必要であるといえる。なお、照明光IL8は、その進行方向が特定平面内にあれば、互いに平行でない異なる進行方向を有する複数の照明光からなる照明光であって良い。また、X方向の入射角度範囲すなわち進行方向の角度範囲も、上述の通り±0.3[mrad]程度以内であれば、上記特定平面からずれていても良い。以下、図6及び図7を用いて、このような条件を満たす照明光IL8を実現する照明光均一化手段の実施例を説明する。図6Cは当該照明光均一化手段をX方向から見た側面図を示し、図6Dは当該照明光均一化手段を-Y方向から見た側面図を示す。本例の照明光均一化手段は、インプットフライアイレンズ12とコンデンサーレンズ13からなる集光光学系11と、遮光性の部材21上にレンズエレメントF1,F2,F3,F4,F5,F6,F7,F8がY方向に沿って一列に配列されるフライアイレンズ20よりなるものである。図6Aはインプットフライアイレンズ12をZ方向から見た図であり、図6Bはフライアイレンズ20をZ方向から見た図である。インプットフライアイレンズ12は、一例として、X方向に8列のレンズエレメントJ1、J2、J3、J4、J5、J6、J7、J8J4からJ7は符号の図示を省略を有し、Y方向にも8列のレンズエレメントK1、K2、K3、K4、K5、K6、K7、K8K5からK7は符号の図示を省略を有する、64個のレンズエレメントからなるものとする。インプットフライアイレンズ12に照明光IL2が照射されると、その照明光は後述す如くフライアイレンズ20上の各レンズアレイに照射される。そして、フライアイレンズ20を射出した照明光IL7は、図7A及び図7Bに示す如く、照明系後群レンズ35aに入射し、これらのレンズで屈折され照明光IL8となって第1の透光性平板P1に入射する。ただし、フライアイレンズ20がY方向に沿って一列に配置された複数のレンズエレメントF1~F8からなるものであるため、照明光IL8の第1の透光性平板P1への入射角度特性は、X方向とY方向とで異なったものとなる。図7Aは、フライアイレンズ20、照明系後群レンズ35a、第1の透光性平板P1、第2の透光性平板P2をX方向から見た図であり、図7Bはこれを-Y方向から見た図である。なお、簡略化のために照明系後群レンズを1枚のレンズ35aで表わしているが、その実態は図1中の照明系後群レンズ29,30,32,35と等価であることは言うまでも無い。照明系後群レンズ35aは、その入射側焦点面がフライアイレンズ20の射出面と一致し、その射出側焦点面が第1の透光性平板P1の上面Zと一致する様に配置される。従って、照明系後群レンズ35aも、いわゆるフーリエ変換レンズを構成する。フライアイレンズ20の各レンズエレメントを射出した照明光IL7は、照明系後群レンズ35aにより屈折され、照明光IL8となって第1の透光性平板P1上に重畳して照射される。従って、第1の透光性平板P1上の照明光の強度分布は、当該重畳による平均化効果により一層均一化される。第1の透光性平板P1上に任意の一点IPへの照明光IL8のY方向についての入射角度範囲φは、フライアイレンズ20のY方向への配列に応じて図7Aに示す如き所定の値となる。一方、フライアイレンズ20がX方向については1列しかないことから、X方向についての入射角度範囲をほぼ0とできる。すなわち、一点IPへの照明光IL8を、Y方向を含み、かつ一点IPを含む平面すなわち上述の特定平面IPPの面内に進行方向を有し、かつ、その進行方向が互いに平行ではない複数の照明光とすることができる。このうち、照明光IL8の進行方向を特定平面IPPの面内に限ることによって、上述の通り、ウエハW上の干渉縞のコントラストの低下を防止し、より高コントラストの干渉縞パターンを得ることが可能となる。また、照明光IL8を互いに平行ではない複数の照明光とすることによって、上述の平均化効果により、第1の透光性平板P1上の照明光の強度分布の均一化が図れる。なお、照明光IL8の照射される範囲は、第1の透光性平板P1の全面を包含しなくても良いことはいうまでもない。すなわち、第1の透光性平板P1上に形成された第1の回折格子G11,G12の中心部を含み、それを透過する照明光がウエハWに達する所定の領域において、照明光IL8の強度分布が均一になるように照明されていれば良い。また、必要に応じて、フライアイレンズ20の射出面に、図7Cに示す如くY方向に長くX方向に狭いスリット状の開口部28を有する開口絞り27を設け、照明光IL8のX方向への進行方向を、特定平面IPPと平行な面内に、より一層限定することもできる。ここで、インプットフライアイレンズ12の構成について詳述する。インプットフライアイレンズ12を構成する各レンズエレメントに入射した照明光IL3は、各レンズエレメントのレンズ作用により集光される。また、各レンズエレメントの射出面には、照明光をY方向に偏向させる、好ましくはブレーズド型のあるいは多段型の回折格子DGが形成されている。ここで、インプットフライアイレンズ12中で同一のX方向配列位置に並ぶレンズエレメント上に形成される回折格子DGは、全て同一の回折角度特性を有するものとしている。従って、Y方向の配列位置K1~K8の各レンズエレメントを射出する照明光は、各レンズエレメントの集光作用及び回折格子DGによるY方向への回折偏向作用を受ける。図6C及び図6D中には、一例としてX方向の配列位置J3で、Y方向の配列位置K3及びK4を射出する照明光IL4a,IL4bこれらを総合してIL4cを示してある。図示した如く照明光IL4a,IL4b,IL4cは、レンズエレメントを射出した後、一旦集光点14a,14b,14cに集光する。そして、その入射側焦点面が当該集光点14a,14b,14cと一致する様に、また、その射出側焦点面がフライアイレンズ20の入射面と一致する様に配置されたコンデンサーレンズ13に入射する。すなわちコンデンサーレンズ13は、いわゆるフーリエ変換レンズを構成する。そして、インプットフライアイレンズ12の各レンズエレメントの入射面と、それに対応するフライアイレンズ20の各レンズエレメントの入射面とは、共役関係結像関係となっている。従って、各レンズエレメントK1~K8を射出した各照明光IL4a,IL4bこれらを総称してIL4cの、フライアイレンズ20への入射位置は、以下の通りとなる。そのX方向位置は、レンズエレメントK1~K8射出時に各照明光IL4cがX方向の偏向角を有しないことから、図6Dに示す如く光軸AX1の近傍に照射される。一方、そのY方向位置は、レンズエレメントK1~K8射出時に各照明光IL4a,IL4bには回折格子DGによりY方向に所定の偏向角が生じていることから、図6Cに示す如くその偏向角に比例した量だけ光軸AX1からY方向に偏心し、従って、レンズエレメントF3に照射されることとなる。上述の通り、X方向の配列位置J3上に配列された各レンズエレメントK1~K8を射出する各照明光のY方向への偏向角は同一であるので、各レンズエレメントK1~K8を射出した照明光は、すべてレンズエレメントF3に重畳して照射されることとなる。そして、レンズエレメントF3の入射面の照明光量分布は、上記重畳効果により平均化され概均一化されたものとなる。なお、インプットフライアイレンズ12の各レンズエレメントの射出面に形成された回折格子DGの偏向特性は、X方向の配列位置が同一であれば同一であり、X方向の配列位置が異なれば異なる。従って、インプットフライアイレンズ12上のX方向の配列位置が同一であるレンズエレメントから射出した照明光は、全てフライアイレンズ20上の同一のレンズエレメントに重畳して入射することとなり、その入射面上の照明光量分布は、上記重畳効果により平均化され概均一化されたものとなる。なお、インプットフライアイレンズ12及びコンデンサーレンズ13は、フライアイレンズ20上の一つのレンズエレメントに入射する照明光を、インプットフライアイレンズ12が配置される所定の面内に分布する照明光のうち、X方向の所定の範囲に分布する照明光に制限する光学系であるとみることもできる。ここで、インプットフライアイレンズ12上でX方向の所定の範囲に分布する照明光は、X方向に所定の角度傾いて、フライアイレンズ20上の所定のレンズエレメント例えばF3に入射する。ここでレンズエレメントF3もフーリエ変換レンズであるから、フライアイレンズ20の射出面に形成されるこれらの照明光の集光点2次光源は、X方向への所定の入射角に応じてX方向にシフトすることとなる。また、各レンズエレメントF1~F8に入射する照明光のX方向への入射角は、上述の如くそれぞれ異なるから、フライアイレンズ20の射出面に形成される2次光源の位置は、各レンズエレメントF1~F8毎に、それぞれX方向に微少量シフトし、同一のX座標上には形成されないこととなる。この各2次光源位置のX方向へのばらつきは、照明光IL8を構成する各照明光のX方向への進行方向のばらつきを生じさせるが、この値が例えば上記許容値一例として±0.3[mrad]を超えるような場合には、ウエハW上に形成される干渉縞のコントラストを低下させる要因ともなりうる。そこで、この微小シフトを解消するために、図8A及び図8Bに示すように、各レンズエレメントF1~F8の入射面近傍に、照明光IL5aをX方向に偏向させ、その進行方向をYZ面内に一致させるための楔プリズム221,222,223,228を設けることもできる。勿論、楔プリズムの楔角は、それぞれ異なる角度とする。これにより、照明光IL6aは各レンズエレメントF1~F8に対し、X方向については垂直入射することとなり、各レンズエレメントF1~F8の射出部に形成される2次光源群を同一のX座標上に配列させることが可能となる。あるいは、図9Aに示す如く、フライアイレンズ20を構成する各レンズエレメントF1a~F8a自体の配列を、それぞれX方向に微少量シフトすることで、その射出面の形成される2次光源群を同一のX座標上に形成すること、すなわち、図中の破線CL上に形成することも可能である。また、図9Bに示す如く、フライアイレンズ20を構成する各レンズエレメントF1b~F8bを、その外形に対してレンズ中心図中に示した円の中心を偏心させたレンズで構成し、これによって、その射出面の形成される2次光源群を同一のX座標上に形成すること、すなわち、図中の破線CL上に形成することも可能である。以上の手段によって、各2次光源位置のX方向へのばらつきを低減し、照明光IL8を構成する各照明光のX方向への進行方向のばらつきを所定の許容値以下に低減することが可能である。なお、このような2次光源群のX方向位置の補正は、フライアイレンズ20を構成する各レンズエレメントF1~F8の一つに入射する照明光が、インプットフライアイレンズ12が配置される所定の面内に分布する照明光のうちX方向の所定の範囲に分布する照明光に制限されているために、すなわち一定のX方向の入射角度を有する照明光に制限されているために容易に行なえるものである。ただし、上記の制限は必ずしも完全である必要は無い。すなわち、各レンズエレメントF1~F8の一つに入射する照明光のうちの大部分の照明光が、インプットフライアイレンズ12が配置される所定の面内に分布する照明光のうちX方向の所定の範囲に分布する照明光であるならば、実質的に同様の効果が得られるからである。また、インプットフライアイレンズ12の射出面に配置する回折格子DGからは、ある程度の所望でない回折光等の迷光も発生するため、これらの迷光がレンズエレメントF1~F8のうちの所望の一つ以外に入射することを完全に防止することは困難でもある。なお、集光光学系11の実施例はこれに限られるものではなく、例えば図10に開示する如く、XY面内の所定の領域で、そのテーパー角度が異なっているプリズムアレイ14を採用することもできる。プリズムアレイ14のXY面内の構造は、例えば正方形のプリズムが、図6Aに示したインプットフライアイレンズ12と同様にXY方向に2次元的に配列されるものであるが、その断面は図10A及び図10Bに示す如く、各プリズムのテーパー角度がX方向の配列の位置J1~J8及びY方向の配列の位置K1~K8に応じて変化する。プリズムアレイ14に入射した照明光IL3は、このテーパー角度に応じた屈折作用、すなわち偏向作用を受け、フライアイレンズ20上の所定のレンズエレメントF1~F8上に照射されることとなる。なお、本例においてもレンズエレメントF1~F8の一つに入射する照明光は、プリズムアレイ14上で同一のX方向配列位置に並ぶプリズム群からの照明光に限定されることが好ましいことは言うまでも無い。これにより、フライアイレンズ20射出面の2次光源群を同一のX座標上に形成するための、図8及び図9に示した手法を容易に採用することが可能となるからである。以下、上記特定平面と第1の回折格子G11,G12の配置される面の法線方向との角度関係について考察する。上記角度関係が、第1の回折格子G11,G12の面内の各点の位置により変化する場合、すなわち照明光IL8のX方向への傾斜角が上記各点の位置により変化する場合、ウエハW上に形成される干渉縞のX方向への位置ずれも上記各点の位置により、すなわちウエハW上の各点の位置により変化してしまう。これは、投影露光装置におけるディストーションと同様の問題であり、ウエハW上の既存のパターンのと位置整合ずれの原因となる。従って、第1の回折格子G11,G12に、すなわち第1の透光性平板P1に照射する照明光IL8は、第1の透光性平板P1内の場所によらず、X方向への入射角度が一定の値を保って入射すること、すなわち、第1の回折格子G11,G12の配置される面の法線方向に対する上記特定平面のX方向への傾斜角が、第1の回折格子G11,G12の面内の各点の位置によらず一定であることが望ましい。しかしながら、実際の露光装置においては、上記傾斜角を上記各点の位置によらず完全に一定にすることは難しい。そこで実際には、上記傾斜角が上記各点の位置によらず以下の許容値以内に収まっていれば、実用上十分な位置整合性を得ることができる。ここでも、ウエハW上に露光する干渉縞パターンが60nmラインアンドスペースパターンである場合には、その位置ずれ許容値は一般に線幅の1/4の15nm程度である。従って、第2の回折格子G21とウエハWの表面の間隔D2を50μmとして、各点の位置によって変化する上記特定平面の上記傾斜角のばらつきの許容値φ1は、一例として、式7φ1=arctan15/50000=0.3[mrad]となる。もっとも、この条件は露光すべきパターンの周期T3及び第2の回折格子G21とウエハWの表面のD2により変動するものであることは言うまでもない。また、上記のX方向も、上述の第1の回折格子G11,G12及び第2の回折格子G21の周期の方向との関係に応じて決定されるべきものであることも言うまでもない。なお、以上の説明においては、第1の透光性平板P1とウエハWが、平行に配置されることを前提として、第1の透光性平板P1の法線方向に対する上記特定平面のX方向への傾斜角、すなわち照明光IL8の第1の透光性平板P1へのX方向への入射角度が、第1の透光性平板P1内の場所によらず一定であることが好ましいとしたが、実際には、上記特定平面のX方向への傾斜角等はウエハWの法線方向に対して一定であること、すなわち平行が好ましい。また、ウエハWの設定位置がZ方向に多少変動しても、ウエハW上に形成される干渉縞パターンの位置が変動しないためには、上記特定平面はウエハWの法線方向に対して平行であること、すなわち上記特定平面がウエハWに対して垂直であることが望ましい。ところで、照明光IL8がこのように厳しい平行度を達成するためには、その平行度を調整可能とする平行度微調整機構が必要である。そこで、本発明の露光装置においては、図1に示す通り、コリメーターレンズ2,3,5,7及び照明系後群レンズ29,30,32,35のうちの一部のレンズを照明光IL1,IL2,IL7,IL8の進行方向に可動として、上記微調整を行なうものとしている。以下、図1中の照明系後群レンズ29,30,32,35に設けられた平行度微調整機構について説明する。照明系後群レンズのうち負レンズ30にはレンズ駆動機構31a,31bが取り付けられ、正レンズ32にはレンズ駆動機構33a,33bが取り付けられている。そして、これらのレンズ駆動機構31a,b、33a,bは、固定軸34a,34b上をZ方向に可動であり、これによりレンズ30及びレンズ32もそれぞれ独立してZ方向に可動である。これにより照明系後群レンズ29,30,32,35は、全体としていわゆるインナーフォーカスレンズを構成することとなり、その焦点距離または焦点位置が可変となる。従って、製造誤差等によりフライアイレンズ20射出面に形成される2次光源が所定の設計位置に無い場合等にも、フライアイレンズ20からの照明光IL7を正確に平行な照明光IL8に変換することが可能となる。図11は、レンズ30及びレンズ32の駆動による照明系後群レンズ29,30,32,35の全体としての焦点距離の変動により、照明光IL8の平行度が変動し、照明光IL8の第1の透光性平板P1への入射角が第1の透光性平板P1内位置に応じて変化することを表わす図である。図11Aは、レンズ30及びレンズ32が適切なZ方向位置に設定されている場合を表わし、照明光IL8のX方向の外縁LEa,LEbは第1の透光性平板P1に対して垂直であり、照明光IL8c,照明光IL8d,照明光IL8eは、第1の透光性平板P1内の場所によらず第1の透光性平板P1に垂直に入射する。一方、図11Bは、レンズ30及びレンズ32を適切なZ方向位置からずらして配置した場合を表わし、外縁LEa1,LEb1で規定される照明光IL8は全体として発散光路となる。このとき外縁LEa1,LEb1は、鉛直方向LEa,LEbからそれぞれψe傾いて発散している。従って、照明光IL8の第1の透光性平板P1への入射角は、その位置に応じて変化することとなる。すなわち外縁LEa1に近い光路部分を通って照射される照明光IL8fは、やや外向きに傾斜して第1の透光性平板P1に入射することになる。そして傾斜角をψmとすると、照明光IL8fによってウエハW上に形成される干渉縞の明暗パターンの位置は、第2の透光性平板P2上の第2の回折格子G21の明暗の位置から、左に、ψmに概比例する量だけずれた位置に形成されることとなり位置誤差が生じる。その原理は図5に示したものと同じである。一方、外縁LEb1に近い光路部分を通って照射される照明光IL8hがウエハW上に形成する干渉縞の明暗パターンの位置は、照明光IL8hの外向きの傾斜角ψmに概比例して、右にずれた位置に形成される。また、中心に近い光路部分を通って照射される照明光IL8gがウエハW上に形成する干渉縞の明暗パターンの位置は、照明光IL8hがほぼ垂直入射することから位置ずれは生じない。従って、ウエハWに露光される干渉縞パターンの、第2の回折格子G21の明暗パターンに対する大きさの関係は、外縁LEa1,LEb1で規定される光路が発散光路となっている場合には拡大されたものとなり、収束光路となっている場合には縮小されたものとなり、いずれの場合にも倍率誤差が生じることとなる。本発明の露光装置においては、レンズ30及びレンズ32を適切なZ方向位置に設定することにより、外縁LEa,LEbで規定される照明光IL8を常に平行光路とすることができるため、このような倍率誤差の発生を防止することができる。なお、本発明の露光装置では、以前の製造工程における熱変形等により露光すべきウエハWに想定外の伸縮が発生していた場合に、レンズ30及びレンズ32の位置を調整して上記外縁LEa1,LEb1で規定される照明光路を、発散光路または収束光路とすることにより、ウエハW上に形成される干渉縞の周期T3を拡大または収束して、上記ウエハWの伸縮を補正して露光することもできる。次に、図1中のコリメーターレンズ2,3,5,7に設けられた平行度微調整機構について説明する。コリメーターレンズ中の負レンズ5にはレンズ駆動機構6が取り付けられ、正レンズ7にはレンズ駆動機構8が取り付けられている。そして、これらのレンズ駆動機構7,8は、固定軸9上をX方向に可動であり、これによりレンズ5及びレンズ7もそれぞれ独立してX方向に可動である。従って、これによっても、第1の透光性平板P1に照射される照明光IL8の平行度、収束度、発散度を調整することが可能である。ここで、本発明における上記の第2の回折格子G21とウエハWの表面の間隔D2の最適値について説明する。上述の通り、照明光IL8の傾斜に際してのウエハW上での干渉縞パターンの位置ずれは、間隔D2に比例して発生するから、単純に検討するなら間隔D2は短ければ短いほど良い。それにより、照明光の傾斜に関する規格を緩めることができるためである。しかしながら、間隔D2をあまりに短くすると、第2の回折格子G21とウエハWの接触が発生し、それらの損傷を生じることとなる。そこで、接触回避のためには間隔D2はこの数値は、ウエハWの平面度や第2の回折格子G21を形成する第2の透光性平板P2の平面度を考慮して、最低限1μm以上は確保すべきである。また、上記接触を確実に防止するために、間隔D2は5μm以上であることが望ましい。一方、間隔D2をあまりに長距離化すると、照明光の傾斜等に関する規格が厳しくなるのも勿論だが、ウエハW1上の1点に集光する複数の回折光が第2の回折格子G21を発する位置の間隔も増大し、これらの複数の回折光間の空間的コヒーレンスに起因する可干渉性が低下してしまうという問題も生じるため、間隔D2は500μm以下に設定することが望ましい。また、間隔D2が短ければ照明光の傾斜等に関する規格を緩和でき、その分だけ製造装置を安価に提供できるため、間隔D2は100μm以下に設定することが、さらに望ましい。なお、本発明においては、第2の回折格子G21とウエハWを近接して対向して配置するので、両構成部材の表面間での照明光の多重干渉が生じ得る。そして、これはウエハW上に形成する干渉縞の明暗分布に悪影響を与えることになる。そこで、本発明においては、光源1からの照明光IL1~IL8として、その時間的な可干渉距離光の進行方向についての可干渉距離が、間隔D2の2倍程度以上である光を使用することが好ましい。光の時間的な可干渉距離は、その光の波長をλ、その光の波長分布における波長半値幅をΔλとしたとき、概ねλ2/Δλで表わされる距離である。従って、露光波長λがArFレーザからの193nmの場合には、その波長半値幅Δλを370pm以上程度である照明光IL1~IL8を使用することが望ましい。なお、上述の如く1次元的な周期を有する干渉縞IFを形成する場合、その形成に用いる照明光IL8は、その偏光方向電場方向が干渉縞IFの長手方向周期方向に直交する方向に平行、すなわち周期方向に直交する方向に直線偏光光であることが好ましい。この場合に、干渉縞IFのコントラストを最高にすることができるからである。なお、照明光IL8は、上記の如く完全な直線偏光光でなくとも、干渉縞IFの長手方向Y方向の電場成分が、周期方向X方向のの電場成分よりも大きな照明光であれば、上述のコントラスト向上効果を得ることができる。また、干渉縞IFの周期方向とは、すなわち第2の回折格子G21の周期T2の方向と一致するものであるから、照明光IL8の好ましい偏光状態とは、要するに第2の回折格子G21の周期T2の方向に直交する方向Y方向の電場成分が、周期T2の方向X方向の電場成分よりも大きな照明光であれば良い。照明光IL8のこのような偏光特性は、照明光学系中に設けた光制御素子10により実現される。光制御素子10は、例えば光軸AX1を回転軸方向として回転可能に設けられた偏光フィルターポラロイド板や偏光ビームスプリッターであり、その回転により照明光IL3の偏光方向を所定の直線偏光とすることができる。光源1がレーザ等の概ね直線偏光に偏光した照明光IL1を放射する光源である場合には、光制御素子10として、同じく回転可能に設けられた1/2波長板を用いることもできる。また、それぞれ独自に回転可能に直列に設けられた2枚の1/4波長板を採用することもできる。この場合には、照明光IL2~8の偏光状態を、概ね直線偏光光とするのみでなく、円偏光及び楕円偏光の偏光光とすることもできる。ところで、第1の回折格子G11,G12と第2の回折格子G21との間隔D1は、ウエハW上に形成される干渉縞IFの位置ずれ等に影響を与えるものではないので、上記間隔D2のように近接して配置する必要は無い。ただし、間隔D1があまり長いと、第1の回折格子G11,G12から発生する±1次回折光LP,LMを、第2の回折格子G21上の必要な箇所の全部に照射するために、より大きな第1の回折格子G11,G12が必要となる。従って、間隔D1は、例えば100mm程度以下に設定することが、第1の回折格子G11,G12に必要な大きさが縮小可能となる点で好ましい。一方、間隔D1があまりに狭いと、第1の回折格子G11,G12から発生する±1次回折光LP,LMが、第2の回折格子G21上で相互に干渉して不要な干渉縞を形成し、最終的にはウエハW上においても、不要な干渉縞明暗ムラを形成する恐れが生じる。このような不要な明暗ムラの発生は、第1の回折格子G11,G12の任意の1点から生じた±1次回折光LP,LMを、第2の回折格子G21上で、照明光IL8の空間的な可干渉距離よりも十分に離れた位置、一例として上記可干渉距離の4倍程度離れた位置に照射することで防止することができる。ここで、照明光IL8の空間的な可干渉距離は、照明光IL8の開口数NAと波長λにより、一般的にλ/NAで表わされる距離である。照明光IL8の波長を193nm,開口数NAとして、照明光IL8の特定平面に対する角度ばらつきの許容値である上述の0.3[mrad]=0.0003とすると、可干渉距離距離は643μmであり、その4倍は2536μmとなる。従って、この場合、上記±1次回折光LP,LMの、第2の回折格子G21への照射位置を、2536μm程度以上離すことにより、上記不要な明暗ムラの発生を防止できる。ここで、第1の回折格子G11,G12の周期T1を240nmとすると、±1次回折光LP,LMの回折角θ0は、式1から53度と求まる。この回折角で対称に発生する2本の光線束が、第2の回折格子G21上で2536μm以上離れた位置に照射されるには、間隔D1は948μm以上であることが必要である。従って、間隔D1は1mm程度以上であることが好ましい。なお、第1の回折格子G11,G12は、±1次回折光LP,LMを所定の方向に発生させ、それを第2の回折格子G21上に照射するためのものであり、第2の回折格子G21上の所定の位置に±1次回折光LP,LMによる干渉縞を形成することを目的とするものではない。従って、第1の回折格子G11,G12と第2の回折格子G21との、XY方向の位置関係は、周期T1及びT2のオーダで数10nmのオーダで厳密に位置整合される必要は無い。ただし、第2の回折格子G21のうちウエハWに対向する所定の領域には、第1の回折格子G11,G12から発した±1次回折光LP,LMが照射される必要があるので、第1の回折格子G11,G12と第2の回折格子G21とは、XY方向に例えば数mm程度の位置関係をもって整合して配置される必要がある。また、第1の回折格子G11,G12の周期T1の方向も、第2の回折格子G21の周期T2の方向X方向と一致していなくても良い。ただし、この場合には、ウエハWのZ方向位置の変動に伴う干渉縞IFの明暗パターンの移動等を防止するために、周期T1に代わり、第1の回折格子G11,G12の周期T1をZX面内に投影した長さが、式4の条件を満たすことが望ましい。ところで、本発明の露光装置は、上述の通り、X方向については極小照明NAの照明光を使用するものではあるが、ウエハW上の1点に到達する照明光回折光は複数であるから、第2の回折格子G21及び第1の回折格子G11,G12の上の複数の領域から照射されることになる。また、ウエハW上で干渉縞を形成する光線束は、あくまでも第2の回折格子等からの回折光であるから、第2の回折格子G21等の上に異物等が存在した場合でも、その異物がそのままの形状を保って、ウエハW上に露光転写されることはない。ここで、第2の回折格子G21,G22の上の異物及び欠陥が、ウエハW上に形成される干渉縞に与える悪影響をいっそう低減するには、第2の回折格子G21,G22との間隔D2を所定の値以上に設定することが望ましい。これにより、ウエハW上の1点に照射される光を、第2の回折格子G21,G22上のより多くの場所から回折された光とすることができ、上記異物及び欠陥の悪影響を緩和することができるからである。ここで、第2の回折格子G21からウエハWに照射される回折光は、上述の通り角度θ0及びθ1だけ傾いてウエハWに照射される。より好ましい条件においてはθ0=θ1である。このとき、式2及び式3より、照明光の実効波長をλ、第2の回折格子G21の周期をT2として、式8sinθ0=λ/2×T2であるから、sinθ0≒tanθ0の近似がある程度成り立つことを前提とすると、ウエハWの1点に照射される回折光は、第2の回折格子G21上において、式9D5=2×D2×λ/2×T2で表わされる相互間隔D5だけ離れた2点を中心とする部分から照射されることとなる。上記異物及び欠陥の悪影響を緩和するためには、ウエハW上の1点に集光する光が、例えば第2の回折格子G21の周期T2の30倍程度以上に広がる部分からの光で構成されその悪影響が平滑化されたものであることが好ましい。これを式で表現すると、式10D5≧30×T2の如くなる。上記式9及び式10から、間隔D2は、式11D2≧30×T22/λの条件を満たすことが好ましい。また、上記悪影響を、よりいっそう緩和するためには、ウエハW上の1点に集光する光が、例えば第2の回折格子G21の周期T2の100倍程度以上に広がる部分からの光で構成されその悪影響が平滑化されたものであることが好ましい。このときに間隔D2が満たすべき条件は、同様の考察から、式12D2≧100×T22/λとなる。また、第2の回折格子G21上の異物欠陥のウエハWに露光されるパターンへの悪影響をさらに低減するために、本発明においては、ウエハWへの露光を以下に示す複数回露光による多重露光とすることもできる。すなわち、第2の回折格子G21とウエハWとのXY方向の位置関係を所定の関係として最初の露光を行なったのち、その相対関係を第2の回折格子G21の周期の整数倍だけ移動して、あるいは第2の回折格子G21の周期方向とは直交する方向に任意の距離だけ移動して2回目の露光を行ない、さらに同様の移動をしつつ複数回の多重露光を行なうこともできる。これにより、ウエハW上の一点には、第2の回折格子G21上のより多くの部分から発生した回折光による干渉縞の明暗パターンが重畳して露光されることとなり、第2の回折格子G21上に存在する異物や欠陥の悪影響が、平均化効果により、いっそう低減されることとなる。ところで、第2の回折格子G21の上に付着した異物等による悪影響を一層低減するために、図12に示す通り、第2の回折格子G21とウエハWの間に、第2の回折格子G21への異物付着防止用の薄膜ペリクルPE2を設けることもできる。そして、ペリクルPE2を、例えば所定枚数を枚数のウエハWを露光する毎に交換することで、異物の除去を行なうこともできる。ペリクルPE2としては、例えば投影露光装置で使用されるレチクルへの異物付着防止に使用される有機樹脂製のペリクルを使用することができる。あるいは、ペリクルPE2として、合成石英等の無機材料からなる透光性の平板を使用することもできる。なお、第1の回折格子G11,G12の光源側にペリクルPE1を設け、第1の回折格子G11,G12への異物の付着を防止することもできる。あるいは、第2の回折格子G21上への異物の付着の防止のために、図13に示す通り、第2の透光性基板P2上の第2の回折格子G21の上に、保護層PE3を設けることもできる。この保護層PE3は、例えばCVDChemicalVaporDeposition法により形成する二酸化珪素等の透光性の膜からなるものであり、必要に応じて、その表面をCMPChemicalMechanicalPolishingにより平坦化したものである。異物保護層PE3の厚さは、例えば1μm程度とする。なお、保護層PE3上に付着した異物も、保護層PE3を設けずに第2の回折格子G21上に付着した異物も、異物がウエハ上に形成すべき干渉縞へ与える悪影響の点では同等である。しかしながら、保護層PE3を設けることにより、第2の回折格子G21の表面を、実質的に平坦化することが可能であり、従って、その表面に付着した異物,汚染等の洗浄及び検査がきわめて容易になるという点で、保護層PE3の設置は効果的である。なお、以上の例においては、第1の回折格子G11,G12は位相変調型回折格子であり、第2の回折格子G21は強度変調型回折格子であるとしたが、両回折格子の構成は、これに限るものではない。例えば、いずれの回折格子も、ハーフトーン位相シフトレチクルAttenuatedPhaseShiftMaskの如く、透過光の位相及び強度の双方を変調する回折格子を用いることもできる。また、ウエハW上に形成する干渉縞にそれ程の高コントラストラスト性が要求されない場合には、第1の回折格子からの不要な回折光の発生も許容されるため、第1の回折格子として強度変調型の回折格子を使用することもできる。なお、以上の例においては、第1の回折格子G11,G12と第2の回折格子G21はそれぞれ別の透光性平板上に形成されるものとしたが、両回折格子を同一の透光性平板上に形成することもできる。図14は、第1の回折格子G15,G16と第2の回折格子G23を、それぞれ一つの透光性平板P3の光源側及びウエハW側に形成した例を示す図である。なお、本例においても、各回折格子の構造や製法は上述の例と同様である。また、レンズ35およびその上流の照明光学系も、上述の例と同様である。また、本発明の一つの形態に於いては、単一の回折格子のみを、ウエハWに近接して対向配置することにより、ウエハW上に干渉縞の明暗パターンを露光することも可能である。図15は、ウエハW側の近傍に、透光性平板P4のウエハW側に形成された回折格子G17,G18を、間隔D3で近接して対向配置させた例である。本例に於いても、回折格子G17,G18の構造や製法は上述の例と同様である。また、レンズ35およびその上流の照明光学系も、上述の例と同様である。さらに間隔D3の値についても上述の例における間隔D2と同様の条件を満たすことが好ましい。なお、本例に於いては、実効波長λは回折格子G17,G18からウエハWに至る照明光路上に存在する透光性媒質のうち、最低屈折率を有する媒質中における照明光の波長をいう。本例に於いては、回折格子G17,G18で発生した回折光1次回折光が、ウエハW上に照射されウエハW上で干渉することにより、ウエハW上に干渉縞の明暗パターンが形成されることになる。ところで、図3に示す構成における第1の回折格子G11,G12、及び図14に示す構成における第1の回折格子G15,G16、あるいは図15に示す構成における回折格子G17,G18を、強度変調型の回折格子、あるいはハーフトーン型の回折格子で形成する場合には、それらの回折格子からは0次光直進光も発生することとなる。そして、この0次光は基本的には不要な照明光として、第2の回折格子G21,G23を通して、あるいは直接ウエハW上に照射され、所望の本来の干渉縞のコントラストを低下させることとなる。しかしながら、これらの強度変調型あるいはハーフトーン型の回折格子に対しても、照明光IL8を所定角度傾斜させて入射させると、そこから発生する回折光の角度分布を、上述の周期T1の位相変調型回折格子に対して垂直入射させた場合の回折光の角度分布と、実質的に等価にすることができる。すなわち、X方向の周期T5が、式13T5=T1/2である強度変調型あるいはハーフトーン型の回折格子を使用し、照明光IL8をX方向に対して、式1より求まるθ0だけ傾斜して入射すると、その0次光は入射角に対応してX方向にθ0だけ傾斜して発生し、片方の1次光がX方向の反対側にθ0だけ傾斜して発生することとなる。これらの0次光と1次光のX方向についての回折角度は、図3に示した位相変調型回折格子G11,G12に対して垂直入射させた場合の±1次光回折光LP,LMの回折角度分布と、実質的に等価である。このような照明光は、図7Bに示したフライアイレンズ20をX方向に所定量シフトして配置することによって実現できる。なお、この場合、フライアイレンズ20より上流側の光学系の全てをX方向に同一の所定量だけシフトすることが望ましいことは言うまでも無い。また、図16Bに示したように、光軸AX1に対してX方向に-方向及び方向にシフトして配置した2個のフライアイレンズ23L,23Rを使用することもできる。この場合、各フライアイレンズ23L,23Rは、図7Bに示したフライアイレンズと同様に、遮光部材24上にレンズエレメントL1,L2,L3,L4,L5,L6,L7,L8及びR1,R2,R3,R4,R5,R6,R7,R8がY方向に沿って並ぶものである。そして、これらのフライアイレンズ23L,23Rに照明光を集光させるために、図16Aに示す如き、インプットフライアイレンズ12aを使用するとよい。これは図7Aに示したフライアイレンズ12とほぼ同様な構成であるが、各エレメントの射出面に形成された回折格子DG2は、その周期がX方向について一定の値を有し、Y方向についてはX方向の配列位置J1~J8に応じて変化するものであることを特徴している。すなわち、そのX方向及びY方向の周期の合成で定まる周期の方向が、X方向の配列位置J1~J8によって変化するものである。また、回折格子DG2から発生する回折光は、±1次回折光からなる実質的に2本の回折光であることを特徴としている。なお、これは簡単な構造の位相方回折格子で実現できることは言うまでも無い。そして、例えば、X方向の配列位置J2上に配置される各レンズエレメントからの回折光は、その1次回折光はフライアイレンズ23LのレンズエレメントL3上に重畳して照射され、その-1次回折光はレンズエレメントL3と光軸AX1に対して対称な位置に配置されるフライアイレンズ23RのレンズエレメントR6上に重畳して照射される。また、X方向の他の配列位置上に配置される各レンズエレメントからの回折光も、その±1次回折光は、光軸AX1に対して対称に配置されるレンズエレメントに、それぞれ重畳して照射される。このような、フライアイレンズ23L及び23Rから射出された照明光IL7L,IL7Rは、図17A及び図17Bに示した如く第1の透光性平行板P1に照射される。すなわち、第1の透光性平行板P1上の任意の一点IP2上に照射される照明光IL8は、そのY方向の入射角度範囲については図7Aに示した角度範囲φと同様であるが、そのX方向の入射角度は、第1の特定平面IPLの面内に進行方向を有する照明光とIL8Lと、第2の特定平面IPRの面内に進行方向を有する照明光とIL8Rとになって第1の透光性平行板P1に照射されることとなる。なお、上記いずれの例に於いても、第1の回折格子G11,G12と及び第2の回折格子G21は、ウエハW上に露光すべき干渉縞の明暗パターンの周期T3に応じて、交換する必要がある。図19は、その交換機構の一例を示す図であり、図19Aはそれを-Z方向から見た図、図19Bは、図19A中のA-B部分近傍の断面図を表わす。第2の回折格子が設けられた第2の透光性平行板P2の周縁部P2Eを真空吸着等の手段により保持するチャック部43a,43b,43c,43dが設けられた平板ローダー42は、X方向にスライド可能であるともに、Z方向に上下動可能である。交換前において、第2の透光性平行板P2は、第2の保持機構37a,37b,37cにより保持される。この状態に対し、平板ローダー42がX方向からに第2の透光性平行板P2の下部に侵入し、上方に上昇する。そして、チャック部43a,43b,43c,43dが、第2の透光性平行板P2の周縁部P2Eを吸着する。その後、第2の保持機構37a,37b,37cは、図中白抜き矢印で示す如き放射方向に退避し、その状態で平板ローダー42がX方向に退避して第2の透光性平行板P2を持ち去る。そして、新たに装填すべき別の第2の透光性平行板は、上記と逆の動作を経て第2の保持機構37a,37b,37c上に設置され、第2の透光性平行板の交換が完了する。第1の透光性平行板P1の交換機構も上記と同様の構成とする。なお、第1の透光性平行板P1と第2の透光性平行板P2の間隔が短いことから、その間隔内に上記平板ローダーを挿入することは難しい。そこで、図18に示す如く、第1の保持機構36a等及び第2の保持機構37a等も、支持部材41によりXY面内方向にある上記放射方向及びZ方向に可動としておくことが好ましい。これにより上記平板ローダーの装填のためのクリアランスを確保することができる。なお、第1の保持機構36a等及び第2の保持機構37a等の上記Z駆動機構は、第2の回折格子G21とウエハWとの間隔D2、及び第1の回折格子G11,G12と第2の回折格子G21との間隔D1を所定値に設定する際にも使用することができる。なお、図18に示した通り、第1の透光性平行板P1の周縁部P1E及び第2の透光性平行板P2の周縁部P2Eは、それらの中心部に対して薄くなるように段付け加工されている。そして、第1の保持機構36a等に設けられた真空吸着部P1V及び第2の保持機構37a等に設けられた真空吸着部P2Vは、これらの段付け加工された周縁部P1E及びPE2を介して第1の透光性平行板P1及び第2の透光性平行板P2を保持するものとしている。ところで、以上の例においては、第2の回折格子G21とウエハWの間には、空気窒素または希ガスでも良いが存在するものとしていたが、これに代わり、所定の誘電体を満たすこととしても良い。これにより、ウエハWに照射される照明光回折光の実質的な波長を、上記誘電体の屈折率分だけ縮小することができ、ウエハW上に形成される干渉縞の明暗パターンの周期T3を一層縮小することが可能となる。なお、そのためには、第2の回折格子G21の周期T2及び第1の回折格子G11,G12の周期T1も、それに比例して縮小する必要があることは言うまでも無い。図20Aは、これに適したウエハステージ38a等の例を示す図である。ウエハステージ38aの周囲には、連続的な側壁38b,38cが設けられ、側壁38b,cで囲まれた部分には水等の液体46を保持可能となっている。これにより、ウエハWと第2の透光性平板P2の間は水に満たされ、すなわちウエハWと第2の回折格子G21の間の空間は誘電体である水に満たされ、照明光の波長は、水の屈折率波長193nmの光に対して1.46だけ縮小される。なお、給水機構44及び排水機構45も併設され、これにより側壁38b,cで囲まれた部分には汚染の無い新鮮な水が供給されかつ排水される。また、図20Bに示す如く、ウエハステージ38aの側壁38d,38eの最上面を第1の透光性平板P1の下面より高くし、第1の透光性平板P1と第2の透光性平板P2の間の空間にも水を満たすこともできる。給水機構44a及び排水機構45bの機能はは上述と同様である。これにより、第1の回折格子G11,G12からウエハWに至る全光路を、空気または窒素あるいは希ガス以外の誘電体水で覆うことが可能となり、上述の照明光の実効波長λを、水の屈折分だけ縮小することが可能となる。そしてこれにより、一層微細な周期を有するパターンの露光が可能となる。なお、第1の透光性平板P1と第2の透光性平板P2の間にのみ水等の誘電体を満たすことが効果的である場合には、図21に示す如き構成を採用することもできる。これは、第1の透光性平板P1の周囲に連続的な側壁47を設け、これによって第1の透光性平板P1と第2の透光性平板P2の間に水を貯めるものである。給水機構44c及び排水機構45cの機能は上述と同様である。なお、第1の回折格子G11,G12からウエハWまでの光路、または第1の透光性平板P1と第2の透光性平板P2の間に満たすべき誘電体の屈折率は、1.2以上であることが望ましい。この屈折率が1.2以下であると、露光可能なパターンの微細度の向上を十分に達成することができないからである。上記の如くして干渉縞による明暗パターンの露光されたウエハWは、不図示のウエハローダーにより露光装置外に搬送され、現像装置に搬送させる。現像により、ウエハW上のフォトレジストには、露光された明暗パターンに応じたレジストパターンが形成される。そして、エッチング装置において、このレジストパターンをエッチングマスクとして、ウエハWまたはウエハW上に形成された所定の膜をエッチングすることにより、ウエハWに所定のパターンが形成される。半導体集積回路、フラットパネルディスプレイ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等の電子デバイスの製造工程は、上記の如き微細パターンを多数層に亘って形成する工程を含む。本発明の露光装置による上記露光方法を、そのような多数回のパターン形成工程の中の少なくとも1つの工程に使用して、電子デバイスを製造することができる。また、上記少なくとも1つの工程において、本発明の露光装置による上記露光方法を用いて干渉縞による明暗パターンを露光したウエハW上のフォトレジストPRに対し、一般的な投影露光装置により所定形状のパターンを合成露光して、合成露光されたフォトレジストPRを現像し、上記パターン形成を行なうこともできる。あるいはその逆に、一般的な投影露光装置により所定形状のパターンを露光したウエハW上のフォトレジストPRに対し、本発明の露光装置による上記露光方法を用いて干渉縞による明暗パターンを合成露光して、合成露光されたフォトレジストPRを現像し、上記パターン形成を行なうこともできる。なお、本発明は上述の実施の形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得る。また、明細書、特許請求の範囲、図面、及び要約を含む2005年1月14日付け提出の日本国特許出願第2005-007125の全ての開示内容は、そっくりそのまま引用して本願に組み込まれている。"