構造材表面に電子ビームを所定の照射ピッチで連続的に照射することにより構造材表面に親水性の微細凹凸面を形成する構造材の表面改質方法において、前記電子ビームの照射電流/照射周波数比を0.015~0.08とすることを特徴とする構造材の表面改質方法。前記照射ピッチを0.03mm~0.1mmとすることを特徴とする請求項1記載の構造材の表面改質方法。構造材表面に電子ビームをランダムに連続的に照射することにより構造材表面に親水性の微細凹凸面を形成する構造材の表面改質方法において、前記電子ビームの照射電流/照射周波数比を0.015~0.08とすることを特徴とする構造材の表面改質方法。前記電子ビームの前記構造材表面に対する走査回数が複数回であることを特徴とする請求項1乃至3いずれかに記載の構造材の表面改質方法。前記構造材表面に対し異なる照射条件で走査することを特徴とする請求項4記載の構造材の表面改質方法。電子ビームを円筒形状の構造材の長手方向に順次照射し、その後当該構造体を回転させ再度長手方向に順次照射することを特徴とする請求項1又は2記載の構造材の表面改質方法。上述した従来のコーティング又は塗布による改質方法は、構造材の表面を流れる流体により撥水層等が経年的に磨耗したり、剥離する等の問題があり、定期的な点検および再コーティングが必要であるが、そのために当該構造材を備えるプラント等を停止する必要があり、プラントの稼働性が低下したり、メンテナンスコストの増大及びメンテナンス期間が長期化するという課題があった。また、上述したように構造材表面に親水性を付与するには材料表面の凹凸面上の液滴の接触角θrを40度以下にする必要があり、そのために表面積倍増因子rを大きくすることが必要となる。したがって、構造材表面に凹凸をつけることが必要となるが、一方で、図8に示すように、微細凹凸面3の凹凸の間隔が細かく、ある程度の深さがある場合は凹部に空気がトラップされることにより撥水機能が生じ親水性が失われる恐れがある。このため、図9に示すように、空気のトラップ層がないなだらかな微細凹凸面4を構造材表面に形成する必要がある。本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、電子ビームを用いることにより短時間で耐久性に優れた親水性の微細凹凸構造を形成することができる構造材の表面改質方法を提供することを目的とする。上記課題を解決するために、本発明に係る構造材の表面改質方法は、構造材の表面に電子ビームを照射することにより構造材表面に微細凹凸面を形成し親水性を付与する構造材の表面改質方法において、前記電子ビームの照射電流/照射周波数比を0.015~0.08とすることを特徴とする。また、本発明に係る構造材の表面改質方法は、構造材表面に電子ビームをランダムに連続的に照射することにより構造材表面に親水性の微細凹凸面を形成する構造材の表面改質方法において、前記電子ビームの照射電流/照射周波数比を0.015~0.08とすることを特徴とする。本発明によれば、構造材表面に短時間で耐久性に優れた親水性の微細凹凸面を形成することができる。以下、本発明に係る構造材の表面改質方法の実施形態を、図面を参照して説明する。第1の実施形態第1の実施形態に係る構造材の表面改質方法を図1及び図2を用いて説明する。本第1の実施形態において、微細な凹凸が形成されている構造材表面に電子ビームを照射すると、電子ビームの特性により凹凸面の凸部先端に電子ビームが集中する。凸部は電子ビーム照射による熱により溶融し、凸部の高さが低くなる。この電子ビーム照射を構造材表面全体に対して連続的に実施することで、構造材表面の凹凸面の全体の高さが低くなり、これにより構造材の表面粗さが小さくなり、構造材表面に親水性を付与することができる。本実施形態において、本発明者等は実験により、接触角θrを40度以下にするために、図2に示すように、構造材の表面粗さを1~10μmにすることが望ましいことを知見した。次に、微細な凹凸が形成されている構造材表面の表面粗さを1~10μmにするための電子ビームの照射条件について説明する。図1は縦軸を表面粗さμm、横軸を電子ビームの照射電流/照射周波数比とした曲線図であり、電子ビームは所定の照射ピッチで構造材表面上を相対的に移動し、前記照射周波数の周期でスポット的に構造材表面に照射される。本実施形態では、照射ピッチは0.03~1.0mmに設定され、また、構造材としてSUS材が用いられている。図1に示す実験結果から、1~10μmの表面粗さを得るために、照射電流/照射周波数比を0.015~0.08とすればよいことがわかる。なお、図4に示す実験では、照射ピッチは0.8mmで実施されたが、照射ピッチが0.03~1.0mmであれば図4と同様な曲線が得られること実験により確認されている。図3は、本実施形態による照射例であり、平板状の構造材7の表面に対し、電子ビームを順次照射している。このように、照射電流/照射周波数比が0.015~0.08の電子ビームを構造材表面に照射することにより、表面粗さ1~10μmの構造材が得られる。その結果、構造材表面の接触角θrが40度以下となり、構造材に親水性を付与することができる。以上説明したように、本第1の実施形態によれば、上記数値範囲の照射電流/照射周波数比を有する電子ビームを構造材表面に連続的に照射することにより、短時間で耐久性に優れた親水性の微細凹凸面を構造材表面に形成することができる。第2の実施形態上記第1の実施形態では、構造材表面に対する電子ビームの走査回数は1回であるが、走査回数を複数回にすることにより、1回目で凹凸差が少なくなった材料表面に対して2回以上の照射を実施し更なる平滑化を実施してもよい。また、走査回数を複数回にする場合、初回と2回目以降の照射条件を変化させてもよい。材料によっては、初回の照射で材料表面に熱量が多く入ることがあり、変形の原因になったり、材料表面例えば銅材が変色したりする場合がある。その際、初回の照射条件と比較して、2回目以降の電流値を1/2とする等照射条件を変更する。また、照射方法として、図4に示すように、電子ビームをランダムに照射することによって、電子ビームの熱量を拡散させて照射してもよく、特に、構造材が薄板1mm以下の場合は、照射熱量による変形等を防止することが可能となる。本実施形態によれば、構造材の材料によって走査回数、照射条件を適宜調整することにより、構造材にダメージを与えることなく親水性向上をはかることができる。第3の実施形態第3の実施形態に係る構造材の表面改質方法を図5及び図6を用いて説明する。本実施形態は円筒状の構造材の改質方法に関する。円筒状の構造材8は、図5に示すように、円筒面に電子ビームを照射すると円筒の曲面部位中央と端部によっては電子ビームの焦点がずれることがあり、材料表面に照射される熱量が変化してしまう問題がある。このため本実施形態では、図6に示すように、電子ビームの焦点と材料の照射面との照射面を一定にするために、照射速度にあわせて円筒材料を回転させる。照射方向として円筒形状の長手方向とすることにより、1回の長手方向の照射が終了した時点で円筒材料が回転して新たな照射面となるよう構造材の回転をコントロールすることにより、効率的かつ安定的に電子ビームを照射することが可能とする。以上、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、組み合わせ、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。