"電気光学結晶と、パルス状の検出用電磁波を被測定物に照射し、透過、又は反射した前記検出用電磁波を前記電気光学結晶に入射する第1の光学系と、前記検出用電磁波のパルス面に対して、イメージング用のパルス状プローブ波のパルス面を傾斜させて、前記プローブ波を前記電気光学結晶に照射する第2の光学系と、前記電気光学結晶を透過した前記プローブ波を検出するカメラとを有し、前記第1の光学系又は前記第2の光学系は、前記検出用電磁波のパルス面と前記プローブ波のパルス面とに直交する仮想平面内において、前記検出用電磁波または前記プローブ波のビーム断面を複数の単位領域に区分し、前記単位領域を通過するビームの光路長を、前記単位領域ごとに異ならせる光学部材であって、前記電気光学結晶の表面と、前記仮想平面との交線方向の複数個所で、前記検出用電磁波のパルス面と前記プローブ波のパルス面との位相ずれを補償する補償光学部材を含む電磁波イメージング装置。前記第1の光学系及び前記第2の光学系は、前記検出用電磁波と前記プローブ波とを非共軸配置で前記電気光学結晶に入射することにより、前記検出用電磁波のパルス面に対して、イメージング用のプローブ波のパルス面を傾斜させる請求項1に記載の電磁波イメージング装置。前記第2の光学系は、前記プローブ波のパルス面を、進行方向に直交する平面に対して傾斜させるパルス面傾斜光学素子を含み、前記第1の光学系及び前記第2の光学系は、前記検出用電磁波と前記プローブ波とを共軸配置で前記電気光学結晶に入射する請求項1に記載の電磁波イメージング装置。前記補償光学部材が、前記ビーム幅方向に関して、前記検出用電磁波又は前記プローブ波の進行方向の寸法が変化する階段状の透明ブロックである請求項1乃至3のいずれか1項に記載の電磁波イメージング装置。前記補償光学部材が、前記ビーム幅方向に関して、ビーム進行方向の位置が異なる複数の反射面を有する階段状のミラーである請求項1乃至3のいずれか1項に記載の電磁波イメージング装置。前記仮想平面と直交する方向に複数の光路長差を形成する光学部材であって、前記第1又は第2の光学系に配置された移相光学部材をさらに有する請求項1乃至5のいずれか1項に記載の電磁波イメージング装置。前記第1の光学系に配置され、前記検出用電磁波を複数の線状領域に集光し、前記被測定物に入射するシリンドリカルレンズ列をさらに有する請求項1乃至6のいずれか1項に記載の電磁波イメージング装置。前記第1の光学系または前記第2の光学系は、前記検出用電磁波のパルス面及び前記プローブ波のパルス面の一方に対する他方の遅延時間を変化させる時間遅延装置をさらに有する請求項1乃至7のいずれか1項に記載の電磁波イメージング装置。前記第1の光学系または前記第2の光学系は、前記検出用電磁波または前記プローブ波のビーム断面に画定された複数の領域ごとに、光路長を変化させる空間光変調器をさらに有する請求項1乃至8のいずれか1項に記載の電磁波イメージング装置。フェムト秒レーザと、前記フェムト秒レーザの出力を分岐して、一方を前記プローブ波とするビームスプリッタと、前記フェムト秒レーザの分岐した出力の他方を、他の電気光学結晶に照射し、テラヘルツ波を発生して、前記検出用電磁波とするテラヘルツ波発生部と、をさらに有する請求項1乃至9のいずれか1項に記載の電磁波イメージング装置。非共軸光学系を用い、検出用電磁波を線状に集光して被測定物に当て、イメージング用電磁波を非共軸で用いて測定する方法では、線状領域に直交する方向の情報を得るのに、走査が必要である。線状領域に直交する方向において、複数個所のイメージングを同時に行えれば、効率的となる。本発明の一観点によると、電気光学結晶と、パルス状の検出用電磁波を被測定物に照射し、透過、又は反射した前記検出用電磁波を前記電気光学結晶に入射する第1の光学系と、前記検出用電磁波のパルス面に対して、イメージング用のパルス状プローブ波のパルス面を傾斜させて、前記プローブ波を前記電気光学結晶に照射する第2の光学系と、前記電気光学結晶を透過した前記プローブ波を検出するカメラとを有し、前記第1の光学系又は前記第2の光学系は、前記検出用電磁波のパルス面と前記プローブ波のパルス面とに直交する仮想平面内において、前記検出用電磁波または前記プローブ波のビーム断面を複数の単位領域に区分し、前記単位領域を通過するビームの光路長を、前記単位領域ごとに異ならせる光学部材であって、前記電気光学結晶の表面と、前記仮想平面との交線方向の複数個所で、前記検出用電磁波のパルス面と前記プローブ波のパルス面との位相ずれを補償する補償光学部材を含む電磁波イメージング装置が提供される。補償光学部材により、複数個所で位相ずれが補償されるので、複数個所のイメージングを同時に行うことができる。実施例について説明する前に、テラヘルツ波とプローブ波とを非共軸で電気光学結晶に入射させるテラヘルツ波イメージング装置の動作原理について説明する。図25は、テラヘルツ波とプローブ波とを非共軸で電気光学結晶に入射させるテラヘルツイメージング装置の原理ダイアグラムである。z方向に進行するパルス状のテラヘルツ波101をシリンドリカルレンズ108によりx軸と平行な線状に集光し、被測定物110に入射させる。パルス状テラヘルツ波101が被測定物110のx軸方向に沿う線状領域の情報を担う。なお、パルス状テラヘルツ波を、被測定物中を透過させる代わりに、被測定物で反射させてもよい。深さのある被測定物110の線状領域を透過したテラヘルツ波をシリンドリカルレンズ109でxy面内で広がりを有する平行光束に戻す。x軸方向の線状領域の情報がy方向に拡げられる。被測定物110を透過したパルス状テラヘルツ波を電気光学結晶103に入射させる。電気光学結晶103は、対象物体を透過したパルス状テラヘルツ波101の電場による電気光学効果により複屈折変化を生じる。実線で示した波面等位相面は破線で示した波面等位相面より時間的に先行している。プローブパルス光102を、yz面内方向で、パルス状テラヘルツ波101とは非共軸の配置で、電気光学結晶103に入射させる。プローブパルス光102は、電気光学結晶103中で、パルス状テラヘルツ波101起因の複屈折変化の影響を受ける。非共軸であるため、パルス状テラヘルツ波101とパルス状プローブ波102の波面が重なるタイミングに時間差が生じ、時間変化がy軸方向に表れる。つまり、x軸方向の線状領域の経時変化情報がy軸方向に展開される。プローブパルス光102の光軸上に、電気光学結晶103を挟んで、偏光子104と検光子105とがクロスニコルの関係で配置される。パルス状テラヘルツ波によって誘起された複屈折変化の影響を受けたパルス状プローブ波102を取り出し、結像レンズを含むCCDカメラ106で測定する。パルス状プローブ波102の波面とパルス状テラヘルツ波101の波面は、交差角θで交差している。パルス状プローブ波102の波面から見ると、図25において、上側でパルス状テラヘルツ波の実線の波面と合致している時、下側ではパルス状テラヘルツ波の破線の波面と合致している。つまり、上側から下側に時間が経過していることになる。パルス状テラヘルツ波1の進行方向z軸方向に展開していた経時変化情報が、電気光学結晶103における時間-空間変換により、x軸方向の1次元像と直交する方向パルス状プローブ波102のビーム幅方向に展開される。これを、2次元イメージングデバイスで検出することによって、時間軸奥行き方向の情報を得ることができる。干渉分光法同様、経時変化情報をフーリエ変換することによりスペクトルを得ることができる。2次元イメージングデバイスで得られた2次元イメージング画像の1軸が、テラヘルツパルスの時系列波形の計測用として用られる。他方の1軸が、線集光ラインビームの状態で透過したテラヘルツパルスの1次元イメージング2次元平面内の一次元イメージング用として用いている。実空間におけるy軸方向に関しては、1ポイントのみの計測となってしまう。y方向に関する情報を得るには、線状集光領域をy方向に走査する必要がある。本発明者は、波面を分解することにより、面内情報を同時に計測することを考えた。[実施例1]図1は、実施例1によるテラヘルツ波イメージング装置の具体例1の概略図を示す。被測定物検出用のテラヘルツ波1とイメージング用のプローブ波2が電気光学結晶3に非共軸で照射される。電気光学結晶3を透過したプローブ波2をデジタルカメラ6で検出される。テラヘルツ波1の光路となる外気は必要に応じて窒素雰囲気、ないし真空とする。コリメートされたテラヘルツ波1の光路上に被測定物8を配置して透過光を電気光学結晶3に垂直入射させる。テラヘルツ波1の波面は、電気光学結晶3の表面と平行になる。コリメートされたプローブ波2は、光路長差位相差を形成する階段状の透明ブロック10を介して電気光学結晶3に入射角θで斜め入射する。階段状の透明ブロック10の階段面踏み面の各々は、プローブ波2の進行方向に垂直波面に平行である。プローブ波2の進行方向は、電気光学結晶3の表面の法線と角度θを形成し、プローブ波2の波面とテラヘルツ波1の波面は、電気光学結晶3の外で角度θで交差する。プローブ波2の光路上、電気光学結晶3の前後にクロスニコル配置の偏光子4、検光子5が配置されている。被測定物8を透過して、被測定物8の影響を受けたテラヘルツ波1の電場により、電気光学結晶3が電気光学効果による複屈折変化を生じる。直線偏光のプローブ波2は、電気光学結晶3の複屈折変化により、偏光状態を変化させる一般的には、楕円偏光になる。プローブ波2の偏光状態の変化成分のみが検光子5を透過し、結像レンズを含むデジタルカメラ6に入射する。例えば、共通の光源として、スペクトラフィジックス製、パルスエネルギ1mJ、パルス幅100fs、中心波長800nm、繰り返し周波数1kHzのフェムト秒レーザ20を用いる。フェムト秒レーザ20の出力をビームスプリッタ21で分岐し、一方を必要に応じてミラー22等で光路調整して、プローブ波2とする。他方をZnTe電気光学結晶23を用いたテラゲルツ発生部に照射し、パルス状のテラヘルツ波1を発生させることができる。テラヘルツ波1は、広い波長範囲のテラヘルツ波を含む。パルス状のテラヘルツ波1の時間幅は、1~2psecである。電気光学結晶3は、例えば30mm×30mm×2mmのZnTe結晶で形成される。階段状の透明ブロック10は、例えば波長800nmで屈折率1.51のガラスBK7で形成される。他の種類のガラス、波長800nmで透明な有機樹脂等、他の透明材料を用いてもよい。デジタルカメラ6には、例えば、結像レンズを含み、波長800nmに感度を有し、画素数512×512、画素ピッチ20μmのCCDカメラが用いられる。結像レンズの倍率は、この場合0.3倍である。なお、プローブ波2の進行方向逆向きをz軸の正方向、幅方向をy軸方向、紙面垂直高さ方向をx軸方向とするxyz直交座標系を定義する。テラヘルツ波1の進行方向とプローブ波2の進行方向は、yz面に平行である。すなわち、テラヘルツ波1の波面及びプローブ波2の波面に垂直な平面が、yz面となる。テラヘルツ波の波面とプローブ波の波面とは、yz面内において角度θを形成する。コリメートされたテラヘルツ波1がyz面内で、電気光学結晶3に被測定物8を介して垂直入射する。コリメートされたプローブ波2が-z方向に進行し、偏光子4を介して電気光学結晶3に入射角θで斜め入射する。本実施例においては、プローブ波2の光路上、電気光学結晶3より上流側に、階段状の透明ブロック10が配置されている。透明ブロック10は、屈折率1.0の外気より高い屈折率を有する。図1において、階段状の透明ブロック10は、下側で光路に沿うz方向の寸法高さが高く、y軸方向に沿って、階段的に低くなり、xy面に平行な階段面踏み面がx軸方向に延在する。プローブ波2のビーム断面が、ビーム幅方向y方向に関して、光路長が相互に異なる複数の領域単位領域に区分される。1つの単位領域内では、光路長は均一である。具体的には、-y方向に向かって光路長が階段状に長くなるように、複数の単位領域が形成される。図2Aは、階段状の透明ブロック10の構成と機能を示す拡大断面図である。透明ブロック10は、xz面に平行な表面10Aと、xy面に平行な表面底面10Bを有し、底面10Bとは反対側にxy面と平行な階段面踏み面10Cを有する。踏み面10Cの段数は、例えば5段である。踏み面10Cの間を、xz面と平行な段差面蹴上げ面10Dが接続する。従って、プローブ波2のビーム断面内に、ビーム幅方向y軸方向関して光路長が相互に異なる5個の単位領域が形成される。階段状の透明ブロック10の高い踏み面10C-y側を通るほど、光路長が長くなり、波面は遅れる。これにより、y側上側程波面が進んだ5段の波面WF1~WF5が形成される。電気光学結晶3の表面は、プローブ波2の進行方向に垂直な面から角度θ傾いている。階段状の透明ブロックの各段のz方向の段差蹴上げ面10Dの高さは、波面WF1~WF5が、同時に電気光学結晶3に到達するように設計される。これにより、電気光学結晶3の表面とyz面との交線方向の複数個所5個所で、テラヘルツ波1の波面とプローブ波2の波面とが一致する位相ずれが補償される。図2Aは、各波面WF1~WF5の下端が同時に電気光学結晶3に達した状態を示している。波面が進行すると、次第に各波面WF1~WF5の上側部分が電気光学結晶3に到達するようになる。即ち、各単位領域内においては、図25を参照して説明したように、y軸方向に時間情報が展開されることになる。階段の段数分、ここでは5段、実空間のy軸方向に関する位置の情報を測定することができる。図2Bは、デジタルカメラ6の撮像面を概略的に示す。撮像面が、階段状の透明ブロック10で区分された単位領域に対応するx方向に長い5つの矩形領域に分割される。各矩形領域を、セルCL1~CL5と呼ぶことがある。各セルの幅方向に90画素が配置される。各セルの幅方向に並ぶ90画素がテラヘルツ波1の時間波形を測定する。図3は、テラヘルツ波1、プローブ波2、電気光学結晶3、デジタルカメラ6、及び階段状の透明ブロック10の位置関係を示す斜視図である。波長800nmのプローブ波2に対して、光路長差を形成する透明ブロック10を、ガラスBK7で形成する。分光イメージングを行う上で、分解能が0.15psec、時間幅が13.5psecの時間波形と、分解能が0.07THz、帯域が3.33THzのスペクトルを得るため、電気光学結晶3に対するプローブ波2の入射角θは、42.45°とする。ガラスの透明ブロック10は、屈折率1.51、横幅22.13mm、高さ30mm、底面から最も高い踏み面までの高さ39.71mmであり、各段の波面と平行な踏み面の幅は4.43mm、光路方向の段差蹴上げ面の高さは7.94mmである。波長800nmのプローブ波2の光路に、このような階段状の透明ブロック10を配置することにより、被測定物8の幅方向の5点において、同時に、テラヘルツ波1の時間波形を測定することができる。図4は、実施例1の具体例2を示す。具体例2においては、プローブ波2を電気光学結晶3に垂直入射させ、テラヘルツ波1を電気光学結晶に斜め入射させる。階段状の透明ブロック10をテラヘルツ波1の光路上であって、電気光学結晶3より上流側、図4では被測定物8と電気光学結晶3との間に配置している。透明ブロック10は、光路長に差を与えるとい機能の点で、具体例1の透明ブロック10と同じである。ただし、対象波長がテラヘルツ波であるので、テラヘルツ波における透明材料、例えばポリエチレンで形成する。タイプIIのダイヤモンド、Si、Ge等の他の透明材料を用いることも可能である。テラヘルツ波1は、電気光学結晶3に入射角度θで斜め入射し、透明ブロック10を配置しない状態では、電気光学結晶3の表面までの光路長は、図4の下側で長く、上側で短くなっている。階段状の透明ブロック10は、上側で底面から踏み面までの高さが高く、下側で低くなっている。複数の単位領域において、テラヘルツ波1の波面が、電気光学結晶3に同時に到達するように、蹴上げ面の高さが設計されている。各単位領域を透過したテラヘルツ波1の波面は、各単位領域内では上側ほど早く電気光学結晶3に達し、時間経過と共に下側部分の波面が電気光学結晶3に到達する。デジタルカメラ6の撮像面の各セル内の幅方向y方向に、時間情報が展開されることは、具体例1と同様である。[実施例2]図5A及び図5Bは、実施例2の具体例1及び具体例2によるテラヘルツ波イメージング装置を示す断面図である。実施例1においては、テラヘルツ波またはプローブ波の光路内に階段状の透明ブロックを配置することにより光路長差位相差を生じさせた。実施例2においては、階段状ミラーにより電磁波を反射させることにより、光路長差位相差を生じさせる。電磁波が透明ブロックを透過すると、パルス幅が広がったり、強度が減衰するような何らかの問題が生じることがある。ミラーによる反射を用いることにより、透明材料を透過することに起因する問題を回避することが可能である。図5Aは、実施例2の具体例1を示す。実施例1の具体例1を示す図1と比較して、異なる点を主に説明する。実施例2の具体例1においては、プローブ波2の光路にビームスプリッタ11、階段状ミラー12を配置する。階段状ミラー12は、プローブ波2の進行方向に関する位置が異なる複数の反射面を有する。複数の反射面が、プローブ波2のビーム断面を、相互に光路長の異なる複数の単位領域に区分する。テラヘルツ波1の光学系は、図1と同様である。図1と比較すると、プローブ波2の入射光路が90°変更されている。プローブ波2は、偏光子4を透過した後、ビームスプリッタ11で反射され、電気光学結晶3から遠ざかる方向に向かう。その後、階段状ミラー12によって反射されて、同一光路を逆方向に進み、ビームスプリッタ11を透過し、電気光学結晶3に向かう。階段状ミラー12の各反射面で反射されることにより、相互に隣り合う反射面で反射したプローブ波2に、階段状ミラー12の段差の2倍の光路長差が生じる。電気光学結晶3、検光子5、結像レンズを含むデジタルカメラ6は、図1と同様である。ビームスプリッタ11は、例えばハーフミラーで形成できる。波長800nmのプローブ波に対するハーフミラーは、例えば、ガラス等の透明材料の板材の上に形成した、Al、Ag、Au等の反射性金属の薄膜、又は一部反射鏡ストライプ等で構成できる。階段状ミラー12は、階段状の表面を形成する構造材の表面に反射性金属ミラーを形成して作成できる。構造材の材質は物理的支持を与えられ、鏡面を形成できるものであれば、特に制限を受けない。図5Bは、実施例2の具体例2を示す。図4に示す実施例1の具体例2と比較し、異なる点を主に説明する。実施例2の具体例2においては、テラヘルツ波1の光路にビームスプリッタ11、階段状ミラー12を配置する。図4と比較して、テラヘルツ波1の入射光路が90°変更されている。ビームスプリッタ11で反射されたテラヘルツ波が、階段状ミラー12に向かい、階段状ミラー12で反射されることにより、テラヘルツ波1のビーム断面が、相互に光路長が異なる複数の単位領域に区分される。その構成、機能は図5Aのビームスプリッタ11、階段状ミラー12と、対象波長の差を除けば、同様である。ビームスプリッタ11は、例えばポリエチレンなどの透明材料のシート上に反射性金属の部分反射鏡を形成して作成できる。階段状ミラー12は、階段表面を有する構造材の表面に反射性金属ミラーを形成して作成できる。他の点は、図4と同様である。実施例2の具体例1及び2においては、透明ブロックを透過することによるロスはないが、ビームスプリッタ11で反射、透過することによるロスがある。ビームスプリッタを省略することも可能である。図5Cは、実施例2の具体例3を示す。ビームスプリッタは用いず、階段状ミラー12A、12Bを斜め入射で用いる。段差の蹴上げ面がビームを蹴らないように、蹴上げ面は入射波、又は反射波に平行にする。反射面への入射角が45°で、電磁波の進行方向の変化が90°である場合を例にとって説明する。図5Cに示した構成の場合、階段状ミラー12Aは、入射波に平行な蹴上げ面を有し、階段状ミラー12Bは反射波に平行な蹴上げ面を有する。階段状ミラー12Aの複数の反射面で反射された複数の反射光束の間には、蹴上げ面の奥行き高さに対応して、ギャップが生じている。階段状ミラー12Bの各反射面で反射された複数の反射光束ではギャップが消滅している。階段状ミラー12A、12Bの複数の反射面で反射された複数の光束間には、所望の光路長差位相差が形成される。実施例1で用いた階段状の透明ブロック、実施例2で用いた階段状ミラーは、共に、電気光学結晶表面におけるテラヘルツ波検出用電磁波とプローブ波イメージング用電磁波のタイミング位相ずれを補償するものと考えられ、補償光学部材と呼ぶことができる。[実施例3]図6は、実施例3によるテラヘルツ波イメージング装置を示す。実施例1においては、セルCL1~CL5図2Bの各々に、被測定物8内で空間的広がりを有する領域を透過した電磁波が入射する。このため、1つのセルにおいて、y軸時間軸方向の異なる位置に、被測定物8内の異なる位置の情報がイメージングされる。実施例3においては、被測定物8の前後にシリンドリカルレンズ列13、14を配置する。コリメートされたテラヘルツ波1をシリンドリカルレンズ列13によって複数の並列線状の領域に集光して被測定物8を照射し、透過光をシリンドリカルレンズ列14によって複数のコリメート光束に戻す。コリメート光束の各々は、幅方向の広がりを有するが、被測定物8の線状領域を透過したテラヘルツ波であり、幅方向のどの位置の光線も、被測定物8の同一の線状領域の情報を担っている。階段状の透明ブロック10は、プローブ波2を光路長差を有する複数の単位光束に分ける。プローブ波2の各単位光束が、電気光学結晶3上で、テラヘルツ波1の対応するコリメート光束と位置を合わせる。従って、シリンドリカルレンズ列13、14のレンズ数、透明ブロック10の段数、デジタルカメラ上のセル数が同一となる。セル幅方向で、同一情報を担うテラヘルツ波を用いることにより、ノイズが減少する。他の構成は、図1に示す実施例1の具体例1と同様である。なお、実施例1の具体例2と同様に、プローブ波2を電気光学結晶3に垂直に入射し、テラヘルツ波1を電気光学結晶10に斜め入射し、階段状の透明ブロック10をテラヘルツ波1の光路上に配置してもよい。[実施例4]図7A、図7Bは、実施例4の具体例1によるテラヘルツ波イメージング装置を示す。図6に示す実施例3と比較して、異なる点を主に説明する。図6の階段状の透明ブロック10においては、プローブ波2またはテラヘルツ波1のビーム進行方向の寸法底面から踏み面までの高さが、単位領域セルごとに異なり、x方向に延在する複数の踏み面がy方向幅方向に配列されていた。図7Aにおいては、図6に示す構成要素は全て同様に配置され、さらに階段状の透明ブロック10と共に、他の透明ブロック15をプローブ波2の光路上に配置している。階段状の透明ブロック10は、デジタルカメラ6の撮像面xy面を、y方向に配列した複数のセルCL1~CL5図2Bに区分する。実施例4においては、これらのセルを、y分割セルということとする。図7Bに、透明ブロック15の、y軸に垂直な断面図を示す。透明ブロック15は、x方向に配列した同一形状の複数のブロック要素15sを含む。ブロック要素15sによって、撮像面が、x方向に配列した複数のx分割セルに区分される。ブロック要素15sの各々は、z軸に垂直な平坦な底面と、x軸に垂直な蹴上げ面及びz軸に垂直な踏み面で構成された階段状の表面とを有する。踏み面の各々は、y方向に延在する。階段状の表面は、z軸に垂直な底面を基準として、x軸の正の向きに向かって低くなっている。すなわち、踏み面に対応する領域x分割セルごとに、プローブ波の進行方向z方向の寸法が異なり、x軸の正の向きに向かって光路長が短くなる。y方向の位置によって、z方向の寸法が異なる透明ブロック10をy方向段透明ブロックと呼び、x方向の位置によって、z方向の寸法が異なる透明ブロック15をx方向段透明ブロックと呼ぶことがある。透明ブロック要素15sの個数をnxとし、各透明ブロック要素15s内の段数をmxとする。また、階段状のy方向段透明ブロック10の段数をnyとする。図8A、図8Bは、デジタルカメラ6の撮像面にイメージングされる画像情報を概略的に示す。図8Aに示すように、y方向段透明ブロック10のny段の段差により、y方向にny個のストライプ領域y分割セルが形成される。各y分割セルでは、プローブ波2の波面が電気光学結晶3に達する時期が、右側図7Aにおいては下側から左側に向かって遅くなる。x方向段透明ブロック15は、nx個の透明ブロック要素15sがx方向に積層された構成であり、x方向に関して撮像面をnx個のx分割セルに分割する。y方向に延在するx分割セルと、x方向に延在するy分割セルとの交差する領域が、1つのセルを画定する。撮像面内にnx×ny個のセルCLが形成される。n番目の行のm番目のセルをCLnmと表記する。左上端のセルがCL11、右下端のセルがCLnxnyとなる。各透明ブロック要素15sは、x方向に配列したmx個の踏み面を有する。図8Bに示すように、透明ブロック要素15Sの踏み面に対応して、各セルCLがx方向に関してmx個の領域に分割される。mx個の領域に入射するプローブ波2は、各領域ごとに、相互に光路長差を有する。図7Bに示す構成では、x軸の正の方向に位置する踏み面を透過するプローブ光ほど光路長が短い。このため、x軸の正の方向に位置する踏み面を透過したプローブ光の波面が、電気光学結晶3に、より早く達する。光路長差によるタイミングを合わせることにより、セルCLの各々において、第1段のy方向走査に続いて、第2段の走査が始まり、第2段の走査に続いて第3段の走査が続く、というように各段の走査タイミングを調整することができる。このため、テラヘルツ波の波形情報が、時間軸上でmx倍に延長される。以下、各パラメータの一例を説明する。電気光学結晶3の寸法を、30mm×30mm×2mmとする。デジタルカメラ6の結像レンズの倍率を0.3、画素数を512×512、画素ピッチを20μmとする。分解能Tdが0.1psec、時間幅Twが25.6psecの時間波形と、分解能が0.04THz、帯域が5THzのスペクトルを得るとする。y方向段透明ブロック10の段数nyを14とする。x方向段透明ブロック15を構成する透明ブロック要素15Sの個数nxを14、各透明ブロック要素15Sの段数mxを8とする。各セルCL内の画素数は32×32とする。透明ブロック要素15sの1つの踏み面は、4画素分の幅となる。電気光学結晶3へのプローブ波2の入射角θは26.62°となる。透明ブロック10、15を屈折率1.51のガラスで作製するとする。y方向段透明ブロック10の幅y方向の寸法、z方向の寸法、x方向の寸法が、それぞれ26.82mm、26.35mm、30mmとなる。踏み面の各々の幅y方向の寸法は1.92mm、蹴上げ面の各々の高さz方向の寸法は1.88mmとなる。透明ブロック要素15sの幅y方向の寸法、z方向の寸法、x方向の寸法は、26.82mm、15.06mm、30mmとなる。透明ブロック要素15sの踏み面の各々の幅x方向の寸法は0.27mm、蹴上げ面の各々の高さz方向の寸法は1.88mmとなる。なお、x方向に関しては、プローブ波2の波面が電気光学結晶3に同時に到達する。x方向段透明ブロック15は、元々時間差が生じていなかったx方向に関して、時間差を生じさせるものである。このため、x方向に関する光路長の増減方向を逆にしてもよい。テラヘルツ波1が電気光学結晶3に垂直入射する実施例4においては、プローブ波2の光路に、x方向で光路長差を生じさせるx方向段透明ブロック15を配置した。図4に示した実施例1の具体例2のように、プローブ波2が電気光学結晶3に垂直入射する場合には、テラヘルツ波1の光路に、同様のx方向段透明ブロックを配置することもできる。また、y方向段透明ブロック10とx方向段透明ブロック15とを異なるの光路に配置することも可能である。図9は、実施例4の具体例2によるテラヘルツ波イメージング装置を示す。図7Aの構成において、y方向段透明ブロック10とx方向段透明ブロック15とが合体して、y方向段-x方向段透明ブロック16とされている。透明ブロックがプローブ波2の光路に配置された例を示したが、透明ブロックをテラヘルツ波1の光路に配置した具体例でも、同様の変形が可能である。[実施例5]図10は、実施例5によるテラヘルツ波イメージング装置を示す。テラヘルツ波1の光路全体、電気光学結晶3から下流の構成は図6に示す実施例3と同様である。実施例5においては、偏光子4を透過したプローブ波2が、ビームスプリッタ11を透過して幅方向階段状y方向段ミラー12に入射する。幅方向階段状ミラー12からの反射光がビームスプリッタ11で反射して高さ方向階段状x方向段ミラーアレー17に入射する。x方向段ミラーアレー17からの反射光が、ビームスプリッタ11を透過して、電気光学結晶3に斜め入射する。高さ方向階段状x方向段ミラーアレー17は、図7Bに示した透明ブロック要素15sを積層したx方向段透明ブロック15と同様の形状を有する下地構造の階段状表面にミラーを形成したものである。図10において、幅方向階段状ミラー12が配置された位置におけるプローブ波2の進行方向は、電気光学結晶3が配置された位置におけるプローブ波2の軸方向とずれているが、電気光学結晶3が配置された位置におけるxyz座標に合わせて、幅方向階段状ミラー12をy方向段ミラーと呼ぶこととする。高さ方向階段状ミラーアレー17は、x方向段ミラーアレーと呼ぶこととする。プローブ波2を、y方向段ミラー12で、y方向に配列し、相互に光路長の異なる複数の単位ビームに分割し、x方向段ミラーアレー17で、x方向に配列し、相互に光路長の異なる複数の単位ビームに分割している。プローブ波2が通過する領域の媒体の屈折率が1となるが、プローブ波2が、光路長差を発生させる領域を往復するため段差の効果は2倍になる。図8A、図8Bの構成例で例示した特性と同等の特性を出そうとすると、y方向段ミラー12の底面から最も高い踏み面までの高さは6.72mm、段差蹴上げ面の各々の高さは0.48mmになる。x方向段ミラーアレー17の底面から最も高い踏み面までの高さは3.84mm、段差蹴上げ面の各々の高さは0.48mmとなる。その他の諸元は変わらない。図10では、階段状ミラーをプローブ波の光路に配置する具体例を説明したが、階段状ミラ-をテラヘルツ波の光路に配置することも可能である。また、y方向段ミラーとx方向段ミラーアレーとを異なる光路に配置することも可能である。図11A、図11Bは、実施例5の変形例によるテラヘルツ波イメージング装置を示す。図11Aは、図10の構成において、y方向段ミラー12とx方向段ミラーアレー17とを合体して、y方向段-x方向段ミラーアレー18とした構成である。図11Bは、y方向段-x方向段ミラーアレー18の構成を概略的に示す斜視図である。反射面がy方向、x方向に段差を有する形状である。2つのミラーを合体したことにより、光路は簡略化できる。偏光子4を透過したプローブ波2をビームスプリッタ11で反射して、y方向段-x方向段ミラーアレー18に入射させる。y方向段-x方向段ミラーアレー18からの反射光が、ビームスプリッタ11を透過し電気光学結晶3に入射する。その他の構成は、図10に示す実施例5と同様である。図12は、実施例5の更なる変形例によるテラヘルツ波イメージング装置を示す。図10の構成と比較すると、ビームスプリッタ11が省略されている。プローブ波2が、x方向段ミラーアレー17に入射角45°で入射する。x方向段ミラーアレー17で反射したプローブ波2が、y方向段ミラー12に入射角45°で斜め入射する。図13A、図13Bは、それぞれx方向段ミラーアレー17の1単位17s、y方向段ミラー12の形状の一例を示す。x方向段ミラー17sの段差蹴上げ面はyz面に平行であり、入射光にも平行である。x方向段ミラー17sにおいては、蹴上げ面と踏み面とのなす角度が90°である。反射面踏み面は、図13Aの紙面に垂直な方向に長いストライプ形状であり、長さ方向に斜め入射しても、光は蹴られない。図13Bに示すy方向段ミラー12は、入射光に対して、法線が45°の角度を形成する複数の反射面踏み面を、入射光に平行な段差蹴上げ面が接続している。入射光は、各反射面に分割されて反射する。例えば、30mm×30mm×2mmの電気光学結晶と、結像レンズの倍率0.3、画素数512×512、画素ピッチ20μmのデジタルカメラを用いて、被測定物のテラヘルツ波2次元イメージングを行うとする。x方向段ミラーアレー17は、14個のx方向段ミラー17sで構成される。x方向段ミラー17sの各々は、8個の反射面踏み面を有する。y方向段ミラー12は14個の反射面踏み面を有する。各セル内に16×16個の画素が含まれるとする。分解能Tdが0.1psec、時間幅Twが12.8psecの時間波形と、分解能が0.08THz、帯域が5THzのスペクトルを得るとする。電気光学結晶3へのプローブ波2の入射角θは26.62°となる。y方向段ミラー12の、入射光に直交する面の幅、出射光に直交する面の幅、高さが、それぞれ13.38mm、26.82mm、30mmになる。反射面踏み面の各々に入射する光の幅、反射面踏み面の各々から出射する光の幅が、共に0.956mmとなる。x方向段ミラー17sの各々の、背面の寸法高さは2.14mmとなる。反射面踏み面の幅は0.27mm、段差蹴上げ面の高さは0.34mmとなる。14個のx方向段ミラー17sが配列したx方向段ミラーアレー17の寸法は、22.76mm×2.71mm×30mmとなる。なお、図13Bに示すy方向段ミラー12においては、相互に素なりあう反射面で反射した反射光の間にギャップが生じる。図5Cに示したように、2つのミラーを組み合わせて光路長差を形成するようにすれば、ギャップの発生を防止できる。実施例4、実施例5において用いたx方向段透明ブロック及びx方向段ミラーアレーは、位相の揃っていたビームを、位相が相互に異なる複数の単位ビームに分割する光学素子と考えることができる。このため、x方向段透明ブロック及びx方向段ミラーアレーは、移相光学部材と呼ぶことができる。[実施例6]図14~図16を参照して、実施例6について説明する。実施例1においては、測定可能な時間幅は、図2Aにおいて、プローブ波2の波面WF1~WF5の各々の下端が電気光学結晶3に到達してから、上端が電気光学結晶3に到達するまでの時間で制限される。実施例6においては、観測可能な時間幅を引き伸ばすことができる。図14に、実施例6による電磁波イメージング装置の概略図を示す。実施例1の具体例1を示す図1と比較して、異なる点を主に説明する。実施例6においては、プローブ波2の光路に時間遅延装置30が配置されている。時間遅延装置30は、ミラー31、33、可動ミラー32、及び直動ステージ34を含む。可動ミラー32は、相互に直交する2枚の反射面第1及び第2の反射面を有する。ミラー22で反射されたプローブ波2が、ミラー31で反射され、可動ミラー32の第1の反射面に、入射角45°で入射する。第1の反射面で反射したプローブ波2が、第2の反射面に入射角45°で入射する。第2の反射面で反射したプローブ波2が、ミラー33で反射され、偏光子4に向かう。直動ステージ34が、可動ミラー32を、第1の反射面に入射するプローブ波2の進行方向第2の反射面で反射したプローブ波2の進行方向と平行な方向に移動させる。ミラー31から、可動ミラー32の第1の反射面までの光路長を調節することにより、テラヘルツ波1に対するプローブ波2の遅延時間を変化させることができる。テラヘルツ波1の光路、及び時間遅延装置30を経由した後のプローブ波2の光路は、実施例1の場合と同一である。以下、実施例6による電磁波イメージング装置によるイメージング方法について説明する。可動ミラー32の位置を固定した状態で、図1に示した実施例1と同様に、テラヘルツ波1の時間波形を測定することができる。図15に、被測定物8を透過したテラヘルツ波1の時間波形TH1~TH6を示す。図15には、フェムト秒レーザ20から出射された6パルスに対応するテラヘルツ波1の波形を示す。フェムト秒レーザ20から出射された6個のレーザパルスに対して、それぞれテラヘルツ波1の時間波形TH1~TH6が現れている。テラヘルツ波1の時間波形TH1が電気光学結晶3に入射するときには、時間波形TH1の位相ph0~ph1までの波形が観測されるように、テラヘルツ波1に対してプローブ波2の遅延時間が調節されている。このため、図2Bに示したセルCL1~CL5の各々に、時間波形TH1のうち先頭近傍の位相ph0~ph1の間の波形が展開される。例えば、セルCL1に、時間波形TH1のうち位相ph0~ph1の間の部分波形THp1が展開される。部分波形THp1が観測された後、可動ミラー32を移動させることにより、テラヘルツ波1に対するプローブは2の遅延時間を長くする。この遅延時間は、テラヘルツ波1の時間波形TH2のうち位相ph1~ph2までの波形が観測されるように調節される。これにより、例えば、セルCL1に、時間波形TH2のうち位相ph1~ph2の間の部分波形THp2が展開される。可動ミラー32の移動と、テラヘルツ波1の波形観測とを繰り返すことにより、時間波形THiのうち位相phi-1~phiまでの部分波形を、時間をずらして観測することができる。ここで、iは、正の整数である。図15においては、i=1、2、6の時間波形THi及び部分波形THpiを示している。得られた部分波形THp1~THp6を時間軸上で繋ぎ合わせることにより、テラヘルツ波1の1つの波形THを得ることができる。図16に、デジタルカメラ6の撮像面に写し出される画像情報を概略的に示す。撮像面が、図2Bに示したように、5個のセルCL1~CL5に区分されている。図15に示した時間波形TH1のうち位相ph0~ph1に対応する波形情報が、2次元画像情報IA1として得られる。画像情報IA1においては、セルCL1~CL5の各々のy方向に、位相ph0からph1までの波形情報が展開される。同様に、位相phi-1~phiに対応する波形情報が、2次元画像情報IAiとして得られる。2次元画像情報IA1~IA6のセルCL1内の画像情報CL11~CL16をy軸方向に繋ぎ合わせると、位相ph0からph6までの時間幅の2次元画像情報IACL1が得られる。同様に、セルCL2~CL5の、位相ph0からph6までの時間幅の2次元画像情報IACL2~IACL5が得られる。プローブ波2の1パルスでは、テラヘルツ波1の時間波形THの一部分しか測定できない場合でも、実施例6による方法では、時間波形THの全時間幅の波形情報を得ることができる。テラヘルツ波1の測定可能な時間幅が長くなることにより、スペクトル分解能を向上させることができる。例えば、時間幅が13.5psecの波形を観測する場合のスペクトル分解能が0.07THzであるのに対し、測定時間幅を7倍にすると、スペクトル分解能を、7倍の0.01THzまで向上させることができる。実施例6では、電気光学結晶23を透過した後のテラヘルツ波1、及び時間遅延装置30を通過した後のプローブ波2が通過する光学系に、図1に示した実施例1の具体例1の光学系を適用したが、図4に示した実施例1の具体例2、図5A~図5Cに示した実施例2の具体例1~具体例3、図6に示した実施例3、図7Aに示した実施例4の具体例1、図9に示した実施例4の具体例2、図10に示した実施例5、図11A、図12に示した実施例5の変形例等の光学系を適用してもよい。図17Aに、実施例6の変形例1による電磁波イメージング装置の電磁波発生部の概略図を示す。実施例6の図14と比較して、異なる点を主に説明する。変形例1では、時間遅延装置30が、テラヘルツ波1の光路上に配置されている。図17Bに、実施例6の変形例2による電磁波イメージング装置の電磁波発生部の概略図を示す。実施例6の図14と比較して、異なる点を主に説明する。変形例2では、時間遅延装置30が、ミラー21と電気光学結晶23との間のフェムト秒レーザの光路上に配置されている。変形例1及び変形例2においては、プローブ波2に対するテラヘルツ波1の遅延時間を調整することができる。言い換えれば、テラヘルツ波1とプローブ波2との相対的な位相関係を調節することができる。このため、実施例6と同様に、テラヘルツ波1の波形の観測可能な時間幅を長くすることが可能である。[実施例7]図18Aに、実施例7による電磁波イメージング装置の電磁波発生部の概略図を示す。実施例6の図14と比較して、異なる点を主に説明する。実施例7においては、実施例6と同様に、プローブ波2の光路上に、時間遅延装置30が配置されている。実施例7においては、時間遅延装置30が、ミラー36、37、回転ステージ38、複数の可動ミラー39、及びモータ40を含む。図18Bに、時間遅延装置30の主要部分の斜視図を示す。モータ40が回転ステージ38を自転させる。複数の可動ミラー39は、回転ステージ38の上に、回転ステージ38の回転中心を中心とする1つの円周に沿って配置されている。可動ミラー39の各々の反射面は、回転ステージ38の回転軸に対して垂直である。可動ミラー39の反射面の高さは、相互に異なる。図18Aに示すように、ミラー22で反射したプローブ波2が、ミラー36で反射する。ミラー36で反射したプローブ波2が、可動ミラー39で反射され、ミラー37に向かう。ミラー37で反射された後のプローブ波2の光路は、図14に示した実施例6と同一である。回転ステージ38を回転させて、いずれかの可動ミラー39を、プローブ波2の光路上で静止させることにより、プローブ波2の光路長を変化させることができる。これにより、テラヘルツ波1に対するプローブ波2の遅延時間を調節することができる。実施例7においても、実施例6と同様に、テラヘルツ波1の波形の観測可能な時間幅を長くすることが可能である。回転ステージ38を用いると、直動ステージ34を用いた実施例6に比べて、遅延時間の調整を短時間で行うことが可能である。なお、実施例7で用いた時間遅延装置30を、図17Aに示したようにテラヘルツ波1の光路上に配置してもよい。また、図17Bに示したように、ミラー21と電気光学結晶23との間のフェムト秒レーザの光路上に配置してもよい。また、実施例6と同様に、電気光学結晶23を透過した後のテラヘルツ波1、及び時間遅延装置30を通過した後のプローブ波2が通過する光学系に、図1に示した実施例1の具体例1の光学系以外に、図4に示した実施例1の具体例2、図5A~図5Cに示した実施例2の具体例1~具体例3、図6に示した実施例3、図7Aに示した実施例4の具体例1、図9に示した実施例4の具体例2、図10に示した実施例5、図11A、図12に示した実施例5の変形例等の光学系を適用してもよい。[実施例8]図19Aに、実施例8による電磁波イメージング装置の電磁波発生部の概略図を示す。実施例6の図14と比較して、異なる点を主に説明する。実施例8においては、実施例6と同様に、プローブ波2の光路上に、時間遅延装置30が配置されている。実施例8においては、時間遅延装置30が、複数の開口44が形成された回転板43、透明板45、モータ46を含む。モータ46は、回転板43を自転させ、所望の位置で静止させる。図19Bに示すように、開口44は、回転板43の回転中心を中心とする1つの円周に沿って配置されている。開口44の各々が、透明板45で塞がれている。複数の透明板45の厚さは、相互に異なる。透明板45には、ガラス板例えばBK7が用いられる。モータ46を回転させることにより、複数の透明板45のうち所望の1つの透明板45をプローブ波2の光路上に配置することができる。プローブ波2の光路上に配置される透明板45の厚さが変わることにより、プローブ波2の光路長が変化する。これにより、テラヘルツ光1に対するプローブ波2の遅延時間を調節することができる。電気光学結晶23を透過したテラヘルツ波1、及び透明板45を透過したプローブ波2が通過する光学系の構成は、図5Aに示した実施例2の具体例1の光学系と同一である。実施例8においても、実施例6と同様に、テラヘルツ波1の波形の観測可能な時間幅を長くすることが可能である。回転板43を用いると、直動ステージ34を用いた実施例6に比べて、遅延時間の調整を短時間で行うことが可能である。テラヘルツ波1に対するプローブ波2の遅延時間が固定されている条件の下で、被測定物8の幅方向の14箇所において、時間幅1.6psecの時間波形を同時に取得できるように、光学系が構成されている場合について検討する。一例として、厚さが2mmの透明板45をプローブ波2の光路上に配置して、時間幅1.6psecの時間波形を取得する。その後、回転板43を回転させて、厚さが2.941mmの透明板45をプローブ波2の光路上に配置することにより、先に測定した時間波形に続く時間幅1.6psecの時間波形を測定することができる。厚さが0.941mmずつ異なる8枚の透明板45を切り替えて、順次テラヘルツ波1の時間波形を取得することにより、時間幅12.8psecの時間波形を取得することができる。なお、実施例8で用いた時間遅延装置30を、図17Bに示したように、ミラー21と電気光学結晶23との間のフェムト秒レーザの光路上に配置してもよい。また、電気光学結晶23を透過した後のテラヘルツ波1、及び時間遅延装置30を通過した後のプローブ波2が通過する光学系に、図5Aに示した実施例2の具体例1の光学系以外に、図1に示した実施例1の具体例1、図4に示した実施例1の具体例2、図5B~図5Cに示した実施例2の具体例2~具体例3、図6に示した実施例3、図7Aに示した実施例4の具体例1、図9に示した実施例4の具体例2、図10に示した実施例5、図11A、図12に示した実施例5の変形例等の光学系を適用してもよい。[実施例9]図20Aに、実施例9による電磁波イメージング装置の電磁波発生部の概略図を示す。実施例8の図19A及び図19Bと比較して、異なる点を主に説明する。図20Aに示すように、実施例9で用いられる時間遅延装置30は、回転透明ブロック48及びモータ49を含む。回転透明ブロック48は、円盤状の底面、及びその外周に沿って設けられた円筒状の側壁を含む。図20Bに示すように、側壁の内周面は、直径が一定の円筒状の形状を有する。側壁の外周面は、周方向に関して半径が階段状に変化する円筒状の形状を有する。このため、側壁の肉厚が、円周方向に階段状に変化する。モータ49は、回転透明ブロック48の側壁の内周面の中心軸を回転中心として、回転透明ブロック48を回転させ、所望の位置で静止させる。プローブ波2の光路が、回転透明ブロック48の側壁の内周面の中心軸Aと直角に交差する。すなわち、プローブ波2は、回転透明ブロック48の側壁を、半径方向に通過する。側壁の肉厚が階段状に変化しているため、回転透明ブロック48を回転させることにより、プローブ波2が通過する部分の側壁の厚さを変化させることができる。これにより、プローブ波2の光路長が変化し、テラヘルツ波1に対する遅延時間を調節することができる。回転透明ブロック48の側壁の内周面が円筒状であり、外周面が部分円筒状であるため、回転透明ブロック48の、回転方向に関する位置決めに若干の誤差が生じても、プローブ波2の進行方向及び光路長は影響を受けない。なお、側壁の内周面の平断面を多角形状にし、外周面を、内周面を構成する各平面からの高さが異なる複数の平面で構成してもよい。この場合には、回転透明ブロック48の側壁が、プローブ波2を集光及び発散させない。ただし、各表面にプローブ波2を垂直入射させる必要があるため、回転透明ブロック48の回転方向の位置精度を高めることが望まれる。[実施例10]図21に、実施例10による電磁波イメージング装置の電磁波発生部の概略図を示す。実施例8の図19A、図19Bと比較して、異なる点を主に説明する。実施例8では、時間遅延装置30がプローブ波2の光路上に配置されていたが、実施例10では、テラヘルツ波1の光路上に配置されている。時間遅延装置30の構造は、実施例8のものと同一である。ただし、透明板45として、テラヘルツ波1の波長域で透明な材料、例えばポリエチレン等が用いられる。テラヘルツ波1の波長域におけるポリエチレンの屈折率は1.37である。厚さが1.297mm刻みで異なる8枚のポリエチレン製透明板45が、それぞれ回転板43の開口44を塞いでいる。これにより、実施例8と同様の時間波形を得ることが可能である。[実施例11]図22に、実施例11による電磁波イメージング装置の概略図を示す。実施例5の図10と比較して、異なる点を主に説明する。実施例11においては、ビームスプリッタ11と電気光学結晶3との間のプローブ波2の光路上に、デフォーマブルミラーデバイスDMD50が配置されている。ビームスプリッタ11を経由したプローブ波2が、DMD50で反射して、電気光学結晶3に入射する。実施例11においては、実施例5と同様に、デジタルカメラ6の撮像面が、行列状に配列した複数のセルCL図8Aに区分される。DMD50は、行列状に配置された複数の可動ミラーを有する。各可動ミラーを、反射面に垂直な方向に移動させることにより、プローブ波2の光路長を、可動ミラーに対応する領域ごとに変化させることができる。可動ミラーは、少なくとも、撮像面に画定されたセルごとに準備されている。例えば、セルが、14行14列の行列状に配列している場合には、可動ミラーは、少なくとも14行14列の行列状に配置される。なお、1つのセルに複数の可動ミラーが対応するように、可動ミラーを配置してもよい。例えば、可動ミラーを28行28列の行列状、または42行42列の行列状に配置してもよい。y方向段階段状ミラー12及びx方向段ミラーアレー17の実際の形状は、製造上の誤差等により、設計上の形状とは完全に一致しない。この形状の誤差により、プローブ波2の光路長が、所望の値からずれてしまう。DMD50の可動ミラーの位置を調節することにより、この光路長のずれを補償することができる。ビーム断面内で光路長のずれを補償するDMD50は、空間光変調器と呼ぶことができる。プローブ波2の遅延時間を、設計上の値に近づけることができるため、テラヘルツ波1の時間波形の測定誤差を低減させることができる。なお、DMD50は、図1にしめした実施例1の具体例1において、プローブ波2の光路内に配置してもよい。また、図4に示した実施例1の具体例2においては、テラヘルツ波1の光路内にDMD50を配置してもよい。[実施例12]図23に、実施例12による電磁波イメージング装置の概略図を示す。実施例1~実施例11においては、テラヘルツ波1とプローブ波2とが、非共軸で電気光学結晶3に入射したが、実施例23においては、両者が共軸で電気光学結晶3に入射する。テラヘルツ波1及びプローブ波2を発生する電磁波発生部の構成は、図1に示した実施例1の電磁波発生部の構成と同一、または図14に示した実施例6の電磁波発生部の構成と同一である。なお、電磁は発生部を、図17A、図17B、図18A,図19A、図20A、または図21に示した構成のとしてもよい。テラヘルツ波1は、被測定物8を透過した後、ペリクルビームスプリッタ60を透過して、電気光学結晶3に垂直入射する。テラヘルツ波1は、ビーム断面内において位相が揃っており、パルス面1pは進行方向に対して直交する。ここで、パルス面は、パルス光の強度のピーク位置をつないだ面を意味する。光ビームが回折格子を透過した場合、パルス面は、波面等位相面と平行にならない。波面は、常に光ビームの進行方向に対して垂直である。プローブ波2は、偏光子4を透過した後、透過型回折格子61で回折される。回折されたプローブ波2は、階段状透明ブロック10を透過した後、ペリクルビームスプリッタ60で反射され、電気光学結晶3に垂直入射する。ペリクルビームスプリッタ60の反射面は、x軸に平行である。ペリクルビームスプリッタ60を透過したテラヘルツ波1と、ペリクルビームスプリッタ60で反射したプローブ波2とは、共軸配置の光線束となり、電気光学結晶3に垂直入射する。プローブ波2は、電気光学結晶3を透過した後、検光子5を透過してデジタルカメラ6に入射する。ペリクルビームスプリッタ60で反射する前のプローブ波2が伝搬する領域においても、進行方向逆向きをz軸の正の方向とするxyz直交座標を定義する。ペリクルビームスプリッタ60で反射する前後のxyz直交座標系のx軸は、相互に平行である。図24を参照して、透過型回折格子61を通過する入射ビームと回折ビームとの関係について説明する。透過型回折格子61の単位長さ当りの溝本数をN本、回折次数をk、入射ビームの波長をλとする。入射角θiと、回折角θoとの間には、以下の関係が成立する。sinθisinθo=Nkλ透過型回折格子61の溝本数Nを1000本/mm、入射角θiを10°とし、1次の回折光k=1を利用する場合、回折角θoは38.78°となる。入射ビーム幅Diと出射ビーム幅Doとの間には、以下の関係が成立する。Di/cosθi=Do/cosθo入射ビーム幅Diが38mmのとき、出射ビーム幅Doは30mmになる。入射ビームのパルス面は、入射ビームの進行方向に対して垂直である。回折ビームのパルス面は、進行方向に対して傾斜する。回折ビームのパルス面の両端が、進行方向に垂直な仮想平面に到達する時間差は、dido/cと表される。ここで、cは光速であり、di=Di×tanθi、do=Do×tanθoである。上述の例では、時間差dido/cは102.89psecとなる。プローブ波2のパルス面が、進行方向に対して傾斜した状態で、図23に示した階段状透明ブロック10に入射する。このため、階段状透明ブロック10の踏み面単位領域を透過したプローブ波2の各々のパルス面も、進行方向に対して傾斜する。図23に示すように、電気光学結晶3の直前において、テラヘルツ波1のパルス面1pは進行方向z方向に対して垂直であり、各踏み面単位領域に対応するプローブ波2の各々のパルス面2pは、進行方向に対して傾斜する。全ての単位領域のパルス面の先端が電気光学結晶3に同時に到達するように、階段状透明ブロック10の段差蹴上げ面の高さが設定されている。このため、図2Aに示した実施例1の場合と同様の作用及び効果が得られる。階段状透明ブロック10の屈折率を1.51とし、各段踏み面の幅y方向の寸法を6.00mmとし、段差蹴上げ面の高さ、z方向の寸法を12.05mmとする。この場合、被測定物8の幅方向y方向の5点において、分解能0.20psec、時間幅20.58psecのテラヘルツ波1の時間波形を測定することができる。これは、分解能が0.049THz、帯域が2.5THzの分光性能に相当する。実施例12では、プローブ波2のパルス面を進行方向に対して傾斜させるために、透過型回折格子61を用いたが、透過型回折格子61に代えて、プリズムを用いることも可能である。プリズムを用いる場合には、所望のパルス面の傾斜が得られるように、光学材料の屈折率や波長分散、プリズム角、入射角等を設計すればよい。また、テラヘルツ波1とプローブ波2とを合波させる光学素子としてペリクルビームスプリッタを用いたが、テラヘルツ波1を透過させ、プローブ波2を反射する他の光学素子を用いてもよい。例えば、シリコン基板を用いることも可能である。さらに、テラヘルツ波1を反射し、プローブ波2を透過させることによって、両者を合波してもよい。例えば、ガラス板に、インジウム錫酸化物ITOや酸化インジウム亜鉛IZO等の透明材料を成膜した光学素子を用いることができる。以上、実施例に沿って説明したが、本発明はこれら実施例に限られるものではない。例えば、被測定物を検出する電磁波としてテラヘルツ波を用いる場合を説明したが、被測定物を検出できる電磁波であれば、テラヘルツ波に限らない。透明材料は、対象とする波長領域で透明であればよく、可視領域で透明か否かは問わない。その他、種々の変更、置換、追加、改良、組み合わせ等が可能であることは、当業者に自明であろう。"