"照明組立体と、前記照明組立体は、複数の放射源と投影光学系を有し、前記放射源から視覚野の異なるそれぞれの領域の上へ放射を投影するように構成され、画像形成組立体と、前記画像形成組立体は、画像センサ上に前記視覚野の光学的画像を形成するように構成された、画像センサと対物光学系を有し、前記画像センサは、多重のグループ内に配置されたセンサ要素の1配列を有し、前記画像センサは、前記視覚野の電子画像を形成するため、回転シャッタによりトリガーされて、連続するそれぞれの露出期間において、前記視覚野の異なるそれぞれの区域からの放射を獲得し、制御装置と、前記制御装置は、前記照明組立体が前記視覚野の異なるそれぞれの前記区域を前記回転シャッタと同期して照明するために、前記放射源をパルスモードで順次活性化するように接続され、を有することを特徴とする、画像形成装置。それぞれの前記グループは、前記センサ要素の1つ以上の行を有し、前記領域は、前記視覚野を横切って前記行に平行な方向に伸長するストライプを画定する、ことを特徴とする請求項1に記載の装置。それぞれの前記ストライプは、前記視覚野の前記区域を含むそれぞれの領域を照明し、前記領域から多重の行のそれぞれ1組の中の前記センサ要素が、前記放射を獲得する、ことを特徴とする請求項2に記載の装置。前記制御装置は、前記投影された放射が、前記視覚野を前記行に垂直な方向で走査するため、前記放射源を活性化するように構成される、ことを特徴とする請求項2に記載の装置。前記回転シャッタは、前記電子画像全体を獲得するためのフレーム時間を画定し、前記制御装置は、それぞれの前記放射源を、前記フレーム期間の半分より短いそれぞれの活性期間の間、活性化するように構成される、ことを特徴とする請求項1に記載の装置。前記制御装置は、前記照明組立体が、前記区域から前記放射を獲得する、対応する前記センサ要素のグループのそれぞれの露出期間の間だけ、前記視覚野のそれぞれの区域を照明するため、それぞれの前記放射源を活性化するように構成される、ことを特徴とする請求項5に記載の装置。前記投影光学系は、パターン化要素を有し、前記パターン化要素は、前記放射が前記視覚野上に事前に定義されたパターンで投影されるように構成され、前記パターンは、前記画像形成組立体により形成される前記電子画像の中で検知可能である、ことを特徴とする請求項1に記載の装置。前記制御装置は、前記視覚野の深さマップを生成するため、前記電子画像の中の前記パターンを分析するように構成される、ことを特徴とする請求項7に記載の装置。前記放射源は、光放出要素の行列からなり、前記光放出要素は、基板上に配置され、そして前記放射を前記基板に垂直な方向に放出する、ことを特徴とする請求項7に記載の装置。前記放射源は1列の端部放出要素を有し、前記端部放出要素は、基板上に配置され、そして前記放射を前記基板に平行な方向に放出する、ことを特徴とする請求項7に記載の装置。前記照明組立体は、前記端部放出要素から放出された前記放射を、前記基板から離れ、前記パターン化要素に向いた方向に向けるため、前記基板上に配置された反射子を有する、ことを特徴とする請求項10に記載の装置。放射を視覚野の異なるそれぞれの領域上に投影する複数の放射源を配置するステップと、前記視覚野の光学的画像を受け取る画像センサを構成するステップと、前記画像センサは、多重のグループ内に配置された1列のセンサ要素を有し、前記センサ要素の前記グループは、前記視覚野の異なるそれぞれの区域から前記放射を受け取り、前記センサ要素の前記グループを回転シャッタでトリガーし、前記視覚野の電子画像を形成するため、前記放射を前記視覚野から、連続するそれぞれの露出期間において獲得するステップと、そして、前記視覚野の異なるそれぞれの前記区域を前記回転シャッタと同期して照明するために、前記放射源をパルスモードで順次活性化するステップと、を有することを特徴とする、画像化の方法。それぞれの前記グループは、前記センサ要素の1つ以上の行を有し、前記領域は、前記視覚野を横切って前記列に平行な方向に伸長するストライプを画定する、ことを特徴とする請求項12に記載の方法。それぞれの前記ストライプは、前記視覚野の前記区域を含むそれぞれの領域を照明し、前記領域から多重の行のそれぞれ1組の中の前記センサ要素が、前記放射を獲得する、ことを特徴とする請求項13に記載の方法。前記放射源を活性化するステップは、前記投影された放射が、前記視覚野を前記行に垂直な方向で走査するようにさせる、ことを特徴とする請求項13に記載の方法。前記回転シャッタは、前記電子画像全体を獲得するためのフレーム時間を画定し、前記放射源を活性化するステップは、それぞれの前記放射源を、前記フレーム期間の半分より短いそれぞれの活性期間の間、活性化するステップを有する、ことを特徴とする請求項12に記載の方法。それぞれの前記放射源を活性化するステップは、前記区域から前記放射を獲得する、対応する前記センサ要素のグループのそれぞれの露出期間の間だけ、前記視覚野のそれぞれの区域を照明するステップを有する、ことを特徴とする請求項16に記載の方法。前記複数の放射源を配置するステップは、前記放射を前記視覚野上に事前に定義されたパターンで投影するステップを有し、前記パターンは、前記電子画像の中で検知可能である、ことを特徴とする請求項12に記載の方法。前記制御装置は、前記視覚野の深さマップを生成するため、前記電子画像の中の前記パターンを分析するステップを更に有する、ことを特徴とする請求項18に記載の方法。前記放射源は、光放出要素の行列からなり、前記光放出要素は、基板上に配置され、そして前記放射を前記基板に垂直な方向に放出する、ことを特徴とする請求項18に記載の方法。前記放射源は1列の端部放出要素を有し、前記端部放出要素は、基板上に配置され、そして前記放射を前記基板に平行な方向に放出する、ことを特徴とする請求項18に記載の方法。前記複数の放射源を配置するステップは、前記端部放出要素から放出された前記放射を、前記基板から離れ、前記パターン化要素に向いた方向に向けるため、前記基板上に配置された反射子を提供するステップを有する、ことを特徴とする請求項21に記載の方法。前記画像センサを構成するステップは、視覚野の異なるそれぞれの重複する部分のそれぞれの電子画像を形成するため、多重のそれぞれの複数の放射源と共に、それぞれの回転シャッタを有する多重の画像センサを配置するステップを有し、そして、前記放射源を活性化するステップは、ある所与の時間において、前記放射源により照明される前記視覚野の前記それぞれの区域の重複を制御するため、それぞれの複数の放射源を前記多重の画像センサに亘って同期するステップを有する、ことを特徴とする請求項12に記載の方法。前記視覚野の深さマップを生成するため、前記パターンを前記多重の画像センサにより形成された前記電子画像に亘って分析するステップを更に有する、ことを特徴とする請求項23に記載の方法。多重の画像形成ユニットを有し、前記多重の画像形成ユニットは、前記放射源からの放射を、視覚野の異なるそれぞれの領域の上へ投影するように構成された、それぞれ複数の放射源と投影光学系と、それぞれの画像形成組立体と、を有し、前記画像形成組立体は、それぞれの画像センサ上に前記視覚野の異なるそれぞれの重複部分の光学的画像を形成するように構成された、画像センサと対物光学系を有し、それぞれの前記画像センサは、多重のグループ内に配置されたセンサ要素の1配列を有し、前記画像センサは、前記視覚野のそれぞれの電子画像を形成するため、回転シャッタによりトリガーされて、連続するそれぞれの露出期間において、前記視覚野の異なるそれぞれの区域からの放射を獲得し、ここにおいて前記放射源は、前記照明組立体が前記視覚野の異なるそれぞれの前記区域を前記回転シャッタと同期して照明するため、パルスモードで順次活性化され、一方で、前記放射源により照明された前記視覚野の異なるそれぞれの区域の重複を、ある所与の時間において制御するため、前記それぞれ複数の放射源を多重の画像センサに亘って同期する、ことを特徴とする画像形成装置。制御装置を有し、前記制御装置は、前記視覚野の深さマップを生成するため、前記画像センサにより前記多重の画像形成ユニット内に形成された前記電子画像に亘ってパターンを分析するように構成される、ことを特徴とする請求項25に記載の装置。前記重複は、前記放射源により照明された前記視覚野の異なるそれぞれの区域が、ある所与の時間において、重複しないように制御される、ことを特徴とする請求項25に記載の装置。種々のタイプの画像形成システムは、対象となる視覚野を照明するための光学プロジェクタを有している。例えば、プロジェクタは、3次元3D深さマッピングを目的として、コード化された又は構成された光のパターンを対象物上に投影する。この点に関して特許文献2は照明組立体を記載しており、その組立体の中でレーザダイオード又はLEDのような光源が透明シートを光学放射で透過照明し、あるパターンをその対象物の上に投影する。ここに使用される光学的、光及び照明とは、可視光、赤外線、紫外線のいずれかを意味する。画像センサは対象物に投影されたパターンの画像を獲得し、そして演算処理機が画像を処理して対象物の3次元マップを再構築する。パターン付の光の投影に基づくシステムは、プロジェクタのパワーの限界に起因して、特に周囲の光が強い条件において、信号/バックグラウンド比が低いという課題が有る。本発明の実施形態では、対象となる視覚野に対して、同期した空間的走査で放射を投影することにより、この問題を処理する。この空間的走査は、システムの信号/バックグラウンド比を向上させるため、画像センサの回転シャッタを利用して時間を定められている。本発明の実施形態において、回転シャッタは画像センサ内の異なるグループ典型的には連続する行に対し、異なる連続する露出期間において放射を獲得する。その露出期間はフレーム期間全体よりはるかに短い典型的には、半分より短く、場合によって10より小さい。このようなグループのそれぞれは、対物光学系により画像センサ上に焦点を結ぶ、視覚野の異なるそれぞれの領域、からの放射を獲得する。照明組立体は、投影された放射が、回転シャッタと同期して、視覚野のこれら領域に亘って走査するように制御され、それにより視覚野のそれぞれの領域は、対応するセンサ要素のグループが活性である特定の時間の間照明される。結果として、照明組立体の出力パワーは、対応するセンサ要素がその領域からの放射を獲得可能な特定の露出期間、視覚野のそれぞれの領域に集中する。回転シャッタによる露出期間の制限は、投影された放射を無駄にすることなく、集められた周辺放射の全体量を減少させる。従ってシステムの信号/バックグラウンド比は、照明の平均パワーを増加させることなく、有意に向上する。以下に開示される実施形態では、照明組立体は、放射を放射源から、視覚野の異なるそれぞれの領域上に投影する投影光学系を有する、1配列の放射源からなる。投影された放射の空間的走査は、放射源に順次パルスを発生させることにより達成される。それぞれの放射源により照明される視覚野のそれぞれの領域は、1つ以上のセンサ要素のグループにより検知される、視覚野の領域が重複する。このようにそれぞれの放射源は、対応するセンサ要素のグループが活性である時間の間だけパルスを発生させられる。この放射源配列の順次のパルス動作は、放射の空間的走査にとって最適なタイミングを選択するのに十分な自由度を提供するとともに、走査を実行するための可動部品又は動的光学要素が必要ない放射源自身を除いてという、高い信頼性を提供する。以下に記載する実施形態は、3D検知システムにおけるパターン付光の投影に特に関しているが、本発明の原理は、投影に基づく他の画像形成システムの性能向上にも同様に適用可能である。これら実施形態の回転シャッタは、画像センサ内のセンサ要素を、従来技術のCMOSセンサのように、行ごとに活性化すると仮定されているが、本発明の原理は、センサ要素のグループの他の種類の順次活性化、例えばブロックごとの活性化、を使用する、画像センサに関しても同様に適用可能である。システムの記述図1は本発明の実施形態による、画像形成システムの概略側面図である。この図以降の記述では図の方向性の理解を補助するため、1組のX-Y-Z軸が使用される。ここでX-Y平面はシステム20の正面であり、Z軸はこのX-Y面から垂直に視覚野に向かって伸長する。しかしながら、軸の選択は任意であり、本発明の実施形態の説明の容易さのために選択されたものである。照明組立体22はパターン付放射野24を視覚野内の対象物26上に投影するこの場合はシステムの使用者の手。画像形成組立体28は視覚野の1つの画像を1つの視野30内に獲得する。制御装置31又は他の電子演算処理装置は、対象物26の3D深さマップを生成するため画像を処理する。この種のマッピング工程は上記の特許文献2及び特許文献3に記載されており、それらはここに参照され、採り入れられる。使用者の手及び/又は使用者の他の身体部分の3Dマップは、動作に基づくコンピュータインタフェースとして使用することは可能であるが、この種の機能は本願発明の対象外である。画像形成組立体28は、対物光学系36を有し、それは、対象物26を含む視覚野の光学画像をCMOSIC画像センサのような、画像センサ38上に形成する。画像センサは多重の行に配列されたセンサ要素40の1つの配列を有する。センサ要素は、対物光学系36によりセンサ要素上に焦点を結ぶ放射に反応して、それぞれの信号を生成する。ここで画像センサ38から出力される電子画像の各ピクセルのピクセル値は、それぞれのセンサ要素40からの信号に対応する。センサ要素は回転シャッタにより行ごとに活性化され、不活性化され、そのタイミングは制御装置31により設定される。この種の回転シャッタの動作は、多くのCMOS画像センサの標準的特性である。照明組立体22はパターン付光ビームを生成する投影モジュール32と、ビームを放射野24に投影する投影光学系34を有する。投影モジュール32は典型的にパターン生成用の光学系に沿って多重の放射源を有する。制御装置31は、画像センサ38の回転シャッタに同期して、放射源をパルスモードで順次活性化する。投影モジュール32の設計およびその動作の回転シャッタとの同期について以下に詳述する。図2は本発明の実施形態による、システム20により獲得された画像フレーム42の一部の概略図である。画像フレーム42はピクセル44の行列からなり、各ピクセルは対応するセンサ要素40により生成された信号に対応する。このようにピクセル44の各行は、そこからの放射が対応するセンサ要素の行により獲得される、視覚野内の領域に対応する。照明組立体22は多重のストライプ46,48,50,52,...を生成する。このようなストライプのそれぞれは、それぞれの放射源又は放射源グループにより生成される。この種の多重ストライプ照明を生成するのに使用可能な放射の例示的配置が以下の図で示される。各ストライプで画定される領域はピクセル44の多くの行の領域をカバーする。言い換えれば、各ストライプは視覚野内のある所定の領域を照明し、その領域から、対応する行の画像センサが放射を獲得する。ストライプ46,48,50,52は図2において簡略化のため、互いに隣接し重複していないように示されるが、実際のシステムでは、視覚野内の全ての領域が照明されることを確実にするため、一般的にある所定の量の重複がある。図3は、本発明の実施形態による、図2に示された種類のストライプ照明の、画像センサ38の回転シャッタ動作との同期を示すタイミング図である。軌跡56は、連続する行のセンサ要素上の回転シャッタの動作に対応する。ここでセンサ要素は、対応する軌跡が高い時には活性である即ち、受け取った光子を、画像センサからの出力信号内の電子に変換する。所定の行が活性な期間を、ここでは以降、その列の露出期間と呼ぶ。連続する行の露出期間は、ずれているため、前の行のすぐ後に活性化される。行はグループ58,60...内に配置され、各グループはストライプ46,48,...の1つによりカバーされる領域に対応する。軌跡62,64...はストライプ46,48,...を生成するそれぞれの放射源の活性化に対応する。言い換えれば、軌跡62が高い場合、ストライプ46を生成する放射源は活性であり、後続の軌跡、ストライプも同様である。行の各グループ58,60...に対し、対応する放射源の活性期間は、グループ内の全ての列の露出期間内に完全に収まるように設定される。このように、照明組立体は、その領域から放射を獲得するセンサ要素の露出期間の間だけ、視覚野のそれぞれの領域を照明し、照明は無駄にされない。軌跡64は軌跡62が低くなる時に高くなり、後続の軌跡も照明組立体22の全ての放射源に亘って同様である。このように、照明組立体のストライプ出力は、画像センサ38の回転シャッタの走査と同期して、ピクセル44の行及びセンサ要素40に垂直な走査方向にある視覚野に亘って走査し、それぞれの画像フレーム内の1つの走査を完了する。それぞれの放射源のデューティ比は、およそ1:Nであり、ここにNはストライプの数であるそれぞれはそれぞれの放射源または放射源のグループにより照明される。図3のタイミング構造において、それぞれの照明ストライプの活性化期間はおよそ1/NFRであり、一方それぞれの列の露出期間は約2/NFRである。ここにFRは30フレーム/秒のようなフレーム率である。これらのタイミング関係は典型的に、使用可能な照明パワーを最適に使用し、信号/バックグラウンド比の可能な最大の改善をもたらす。あるいは、他のフレーム率、活性化期間及び露出期間の間のタイミング関係も使用可能である。このような他のタイミング関係は、照明ストライプとセンサ行との幾何学的関係が図2のようには正確に維持されない場合、特に連続するストライプが重複する場合には有利である。端部放出子を有する照明モジュール図4Aは本発明の実施形態による、照明モジュール32の概略側面図であり、一方図4Bは本発明の実施形態による、照明モジュール32に使用される光電子サブ組立体の平面図である。照明モジュール32はレーザダイオードのような1行の端部放出型光電子要素70を有し、それはシリコンウェハのような基板72上に形成される。図4ではその光電要素の1つしか見えていない。光電子要素70は基盤と平行な方向に放射を放出する。基板上の反射子74は光電子要素70から放出された放射をX-Y面に向いた基板から離れた方向、Z方向に、反射する。反射子は図4Aのように基板72と一体的に形成されてもよく、或いは、基板上に位置し光電子要素70と並んだ、離れた要素を有してもよい。反射子74は、放射を拡散又は集束させるため、図4Bと5Cに示すように、単に平らな反射面からなってもよく、或いは1つ以上の曲面、又は多数の平面からなってもよい。集光レンズ76は光電子要素70からの放射を平行にし、1つ以上のパターン要素78を通過するように方向付けする。パターン要素は、光電子要素70からの放射が事前に設定されたパターンで視覚野に投影されるようにし、そのパターンは画像形成組立体28により形成される電子画像において検知可能である。画像内のこのパターンは、視覚野の深さマップをコンピュータ計算するため処理される。パターン要素78は、パターン付透明シートを有してもよく、その透明シートは、例えば特許文献2又は特許文献3に記載のように、マイクロレンズアレイMLAからなってもよく、及び/又はここに参照され採り入れられる特許文献4に記載のように、1つ以上の回折光学素子ODEからなってもよい。さらに或いは、光電子要素70がコヒーレントな放射を放出する場合、パターン要素78は、レーザスペックルのパターンを視覚野に投影するディフューザからなってもよい。それぞれの光電子要素70は、図4Bに示すように、それぞれのストライプ80,82,84,...を形成する放射を放出する。図はこのような6つの光電子要素とそれぞれのストライプを示すが、用途の必要性によりもっと大きな数または小さな数の光電子要素とストライプも使用可能である。反射子74は、図に示すように、ストライプがより広い領域に拡がり、隣接するストライプに端部で重複するように、僅かに曲面を有してもよい。上述のように、制御装置31図1は、光電子要素70を活性化して、画像センサ38の回転シャッタと同期して、画像形成組立体28により獲得されるそれぞれの画像フレームの間、順次放射を放出させる。このように視覚野の各領域は、センサ要素40の対応する行の露出期間の間照明される。パターン要素78がMLA又は他の透明シートからなる実施形態では、それぞれのストライプ80,82,84,...は、透明シートの異なるそれぞれの領域を通過し、それにより、透明シートに埋め込まれたパターンに一致する全体の照明パターンの其々の部分を形成する。投影光学系34はこのパターンを対象物の上に投影する。他方でパターン要素78がODEからなる実施形態では、レンズ76又はパターン要素78の1つ又は光電子要素70の幾何学的構成が、光電子要素のそれぞれにより放出されたビームに対し、適切な‘キャリア’角を形成するように典型的に構成される。このような実施形態では、異なる光電子要素から放出されたビームは集光レンズ76の異なる部分を使用する。そのためレンズ76は、平行ビームが、所望の垂直方向扇形広がりに一致するそれぞれの角度で出力されるように設計可能である。或いは、照明モジュールは、光電子要素の数だけの異なる領域を有するブレーズド回折格子のような、他の種類の光学系を有してもよい。照明モジュール32および類似の他のモジュールの組立のさらなる詳細は、上記の特許文献1に記載されている。図5Aと5Bは本発明の他の実施形態による、光電子サブ組立体90のそれぞれ側面図及び平面図であり、図5Cは、光電子サブ組立体90に使用されたプリズム92の鳥瞰図である。光電子サブ組立体90は照明モジュール32の対応する部品の代わりに使用可能である。光電子サブ組立体90は、レーザダイオードのような端部放出型光電子要素70を有し、それは従前の実施形態のように、適切な基板上に組み立てられる。しかし光電子サブ組立体90では、光電子要素70から放出された放射はプリズム92の内部表面94典型的に適切な反射被膜を有するから内部に反射される。光電子要素70からの放射は曲面の入射面96を経由してプリズム92に入射する。その結果光電子要素70に生成されたそれぞれのビーム98は広がり、隣接するビームと部分的に重なり合う。制御装置31は、光電子要素70を活性化して、画像センサ38の回転シャッタと同期して、それぞれの画像フレームの間、順次放射を放出させる。表面放出子を有する照明モジュール図6は本発明の他の実施形態による、照明組立体100の概略側面図である。照明組立体100は、照明組立体22の代わりにシステム20で使用可能である。照明組立体100は、光電子要素110の2次元行列の形状の放射源を有し、それは基板102の上に配置され、そして放射を基板に垂直な方向に放射する。図6は、X軸に沿って配列された光電子要素の単一の列114のみを示すが、照明組立体100は実際には、多重のこの種の平行な列を有し、X-Y面に1つの格子を形成する。図6は8x8の格子を示すが、より大きな又は小さな数の格子や、正方形や長方形に限定されない行列も使用可能である。従前の実施形態とは対照的に、光電子要素110は、光放出ダイオードLED又は垂直キャビティ面放出レーザVCSELのような、表面放出素子を有し、それはZ方向に直接放射を放出する。微小レンズの列112又は、全体内部反射に基づく微小構造のような、他の適切な微小光学系は、それぞれの微小レンズがそれぞれの光電子要素からの放射を集め、そしてその放射を光学モジュール104の中へ向けるため、光電子要素110と整列させられる。光学モジュール104は、特に上記の適合するパターン要素106と、結果として生ずるパターンを視覚野の上に投影する投影レンズ108と、を有する。図7は、本発明の実施形態による、照明組立体100に照明された画像フレームの一部の図である。それぞれの微小レンズ112は、対応する光電子要素110からの放射を、ピクセル44の1つのグループに一致する視覚野の領域に亘って広げる。典型的に、前出の実施形態のように、隣接する領域との間で重複がある。光電子要素110は多重の行114,116,...に配置される。典型的な動作では、制御装置31は、画像センサ38の回転シャッタと同期して、例えば図3の構成に従って、それぞれの行の全ての光電子要素を順次活性化する。このように、上述のように、各ピクセル44の領域は、対応するセンサ要素40の露出期間の間、照明される。上述の実施形態は明確化のため、システム20と照明及び検知の特定の幾何学的構成に沿って記載されているが、本発明の原理は、他の種類のシステムと構成においても同様に適用可能である。図8は、本発明の他の実施形態による、画像形成システム120の概略側面図である。このシステムでは、同期制御装置121が多重のセンサユニット122,124,126,128の動作を同期する。これらセンサユニットのそれぞれは、典型的に1つの照明組立体と1つの画像形成組立体を有し、それらは、システム20のように、協調して動作する。それぞれのセンサユニット122,124,126,128はそれぞれのパターンビーム132,134,136,138を視覚野130の上に投影し、そして、それぞれのパターンにより照明された視覚野の一部分のそれぞれの画像を形成する。視覚野130を完全にカバーするために、投影されたパターンビームは典型的に、重複領域140において重複する。従来技術の動作では、パターンの重複は、センサユニット122,124,126,128がそれら自体のパターンを、重複領域140において、信頼度高く検知することを不可能にし、それによりこれら領域の3D情報を失わせた。この問題を解決する1つの方法は、センサユニットを異なる波長で動作させ、それぞれのセンサユニットが自分のパターンのみを検知することである。しかしこの方法は、厄介で、また高価な光電子回路や光学フィルタを必要とする。従ってシステム120では、制御装置121は、ある所与の1時点において照明される領域間の重複を制御するため、センサユニット122,124,126,128内の照明組立体と画像形成組立体の回転シャッタのタイミングを制御する。センサユニットは典型的に、照明し、そして重複していないそれぞれのストライプ142,144,146,148からの放射を獲得するように制御される。各センサユニットの内部で、照明ストライプと、回転シャッタにより放射を受け取るようにトリガーされた検知領域は、前述のように、内部的に同期される。さらに、全てのセンサユニットのタイミングは、干渉を避けるため調整される。このように、例えば、全てのセンサユニットが同時にそれぞれのストライプ142を活性化し、次にストライプ144を活性化し、以下後続のストライプで同じ操作をすることにより、ある一定の時刻においてそれぞれの重複領域内では、1つより多い数のセンサユニットは活性化されない。各センサユニットは、視覚野130のそれ自身の部分に関する3Dマッピングデータを提供し、処理装置制御装置121又は他のコンピュータのようなはそのデータを、統合深さマップに組み上げる。図8に示された構成は、可能な同期化パターンの1つの例に過ぎず、他の幾何学的及びタイミングパターンも、同様の目的の達成のために実施可能である。例えば、同期したセンサユニットは、視覚野130のより広い領域をカバーするため、2次元の列に配置可能である。センサユニットの幾何学的配置やタイミングに依存して、多重の同期したセンサユニットのシステムは、実質的にいかなる所望の寸法及び形状のより大きな領域に亘る、更に或いは、より速く、深さ情報を獲得するために使用可能である。あるいは、センサユニット122,124,126,128は、同期を整える中央コンピュータなしに一緒に動作してもよい。例えば、それぞれのセンサユニットは、深さの読み出しを最大化するため、自分自身のタイミングを調整してもよい。これによりシステム全体は最適な同期に収斂する。さらにあるいはセンサユニットは、トークンリング型のプロトコルを使用して、中央コンピュータなしに互いに通信してもよい。図9は、本発明のさらに別の実施形態による、画像形成システム150の鳥瞰図である。この実施形態は動作原理において図8の実施形態に類似している:多重のセンサユニット152,154,...は、それぞれのパターン付ビーム156,158...を視覚野の上に投影し、一方で、照明し、そしてそれぞれのストライプ160の連続からの放射を獲得するため、それぞれの照明組立体と回転シャッタのタイミングを制御する。ビーム156と158は重複領域162内で重複する。簡略化のため図9には2つだけのセンサユニットが示されるが、いかなる適合する数のセンサユニットも配置可能である。しかし、システム150において、センサユニット152,154及びパターンビーム156,158は、図8で示される平行偏移とは異なり、照明と回転シャッタの走査方向に垂直な方向において互いに偏移している図9で示される視点において、垂直走査に対して水平偏移。従って殆ど又は全てのストライプ160は、隣接するセンサユニットのあるストライプと重複する。センサユニット152,154,...の走査は従って、それぞれのストライプが重複する隣接するストライプと異なる時間期間において照明されるように、同期する。図9に示されるように、異なるセンサユニットのストライプ160の間の正確な重複は必要なく、また、ストライプは正確に平行である必要はない。一般的に、同期スケジュールが、重複するストライプを所要時間内に切り離すことが可能である限り、センサユニットはいかなる所望の配置にも配置可能である。上記の実施形態は例示として引用され、本発明は上記で特に記載され示されたものに限定されない。むしろ本発明の範囲は、上述の種々の特徴と組合せ及びサブ組合せの両方を含み、また、上記の記載を読んだ当業者が想起する従来技術で開示されていない変形及び修正を含む。"