除振対象物と、駆動指示情報に基づいて移動する移動体と、前記除振対象物に伝わる振動を抑制するための振動抑制力を発生させる除振手段と、を含み、同一の固定台に設置される少なくとも2台のリソグラフィー装置と、該リソグラフィー装置を管理する制御手段と、を備えるリソグラフィーシステムであって、前記制御手段は、前記リソグラフィー装置のうち、第1の前記除振対象物を含む第1のリソグラフィー装置を除く、少なくとも1台の第2のリソグラフィー装置が有する第2の前記移動体への前記駆動指示情報と、前記第2の移動体の移動動作に起因して前記第1の除振対象物に生じる振動に関する制御指標に基づいて、前記第1のリソグラフィー装置に含まれる第1の前記除振手段を制御することを特徴とするリソグラフィーシステム。前記除振手段は、弾性を有する支持機構と、駆動機構とを含み、前記制御指標は、前記駆動指示情報を参照し、前記振動抑制力となる前記駆動機構への駆動力を演算するための伝達関数であることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィーシステム。前記除振対象物に設置され、該除振対象物に生じる振動に関する値を計測する計測手段を有し、前記伝達関数は、前記駆動指示情報と、前記計測手段による出力値とに基づいて導出されることを特徴とする請求項2に記載のリソグラフィーシステム。前記除振対象物に設置され、該除振対象物に生じる振動に関する値を計測する計測手段を有し、前記伝達関数は、予め、前記駆動指示情報と、前記計測手段による出力値とに基づいてシミュレーションにより導出されることを特徴とする請求項2に記載のリソグラフィーシステム。前記制御手段は、更に、前記リソグラフィー装置の配置に係る装置情報に基づいて前記除振手段を制御することを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載のリソグラフィーシステム。前記制御手段は、前記計測手段による出力値が、予め設定した許容値を超えるかどうかを判断し、前記判断の結果に基づいて、前記駆動指示情報を参照する前記第2の移動体を抽出し、前記第1の除振手段を制御することを特徴とする請求項5に記載のリソグラフィーシステム。前記制御手段は、前記第1のリソグラフィー装置に隣接する少なくとも1台のリソグラフィー装置が有する前記移動体を、前記駆動指示情報を参照する前記第2の移動体と設定し、前記第1の除振手段を制御することを特徴とする請求項5に記載のリソグラフィーシステム。前記制御手段は、前記第1のリソグラフィー装置が配置される前記固定台の梁と同一の梁上に配置され、かつ前記梁の長手方向に平行な直線と前記移動体の最大加振の方向に平行な直線がなす鋭角が60度以内であるリソグラフィー装置が有する前記移動体を、前記駆動指示情報を参照する前記第2の移動体と設定し、前記第1の除振手段を制御することを特徴とする請求項5に記載のリソグラフィーシステム。前記固定台に配置される、少なくとも1つの計測手段を有し、前記制御手段は、前記固定台に配置された前記計測手段による出力値を、前記第2の移動体の移動開始時間のトリガとして使用して前記駆動指示情報を推定し、予め保存された前記制御指標に適用することで前記第1の除振手段を制御することを特徴とする請求項1又は2に記載のリソグラフィーシステム。前記計測手段は、加速度計、速度計、又は変位計のいずれかであることを特徴とする請求項4、5又は9のいずれか1項に記載のリソグラフィーシステム。前記振動抑制力は、低周波振動であることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィーシステム。前記リソグラフィー装置は、基板上の未硬化樹脂と、型とを互いに押し付けて、前記基板上に樹脂のパターンを形成するインプリント装置であることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィーシステム。前記リソグラフィー装置は、原版に形成されたパターンを基板に露光する荷電粒子線露光装置であることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィーシステム。リソグラフィーシステムを用いた物品の製造方法であって、前記リソグラフィーシステムは、請求項11に記載のリソグラフィーシステムであり、インプリント装置を用いて基板上に樹脂のパターンを形成する工程と、前記工程で前記パターンを形成された基板を加工する工程と、を有することを特徴とする物品の製造方法。しかしながら、特許文献1に示す除振装置では、設置床の振動を計測して、その計測値に基づいてフィードフォワード制御を実行するので、制御の結果が計測器の能力に左右されやすい。即ち、この除振装置は、計測値に基づいてアクチュエータの駆動力を発生させるので、計測値に誤差があると、逆に振動を増幅させる。また、通常の計測器では、低周波域の振動の計測の際にノイズが乗りやすいので、このノイズの影響を除去するために、ハイパスフィルター等を用いる。更に、この除振装置では、除振性能を確保するために低固有値部材が使用されるが、除振装置自身は、低周波域で共振するので、低周波成分の振動を好適に抑制することが必要となる。そのために、この防振装置では、低周波域の計測値成分を除去しているので、有効な除振効果が得られない場合がある。また、特許文献2に示すアクティブ除振装置では、移動体の制御情報に基づいて移動体の位置や加速度を推定し、更にその値に基づいてアクチュエータに制御力を発生させる。この場合、移動体は、除振対象物上に存在するので、移動体が除振対象物に与える力の推定が容易であるものの、設置床からの振動に対しては効果がない。本発明は、このような状況を鑑みてなされたものであり、リソグラフィー装置を含むクラスタ構成において、あるリソグラフィー装置に対するその周囲の装置からの振動の伝達を抑えることが可能なリソグラフィーシステムを提供することを目的とする。上記課題を解決するために、本発明は、除振対象物と、駆動指示情報に基づいて移動する移動体と、除振対象物に伝わる振動を抑制するための振動抑制力を発生させる除振手段と、を含み、同一の固定台に設置される少なくとも2台のリソグラフィー装置と、該リソグラフィー装置を管理する制御手段と、を備えるリソグラフィーシステムであって、制御手段は、リソグラフィー装置のうち、第1の除振対象物を含む第1のリソグラフィー装置を除く、少なくとも1台の第2のリソグラフィー装置が有する第2の移動体への駆動指示情報と、第2の移動体の移動動作に起因して第1の除振対象物に生じる振動に関する制御指標に基づいて、第1のリソグラフィー装置に含まれる第1の除振手段を制御することを特徴とする。本発明によれば、リソグラフィー装置を含むクラスタ構成において、あるリソグラフィー装置に対するその周囲の装置からの振動の伝達を抑えることが可能なリソグラフィーシステムを提供することができる。以下、本発明を実施するための形態について図面等を参照して説明する。インプリント装置まず、以下で説明する本発明の実施形態に係るリソグラフィーシステムに適用するインプリント装置について説明する。図1は、インプリント装置の構成を示す概略図である。本実施形態におけるインプリント装置は、半導体デバイスの製造工程に使用される被処理基板であるウエハ上基板上に対してモールドのパターンを転写する加工装置であり、インプリント技術の中でも光硬化法を採用した装置である。なお、図1において、モールドに対する光紫外線の照射軸に平行にZ軸を取り、該Z軸に垂直な平面内で後述のモールドベースに対してウエハが移動する方向にX軸を取り、該X軸に直交する方向にY軸を取って説明する。このインプリント装置1は、照明系ユニット2と、モールド3と、モールド保持装置4と、ウエハ5と、ウエハステージ6と、塗布装置7と、モールド搬送装置8とを備える。照明系ユニット2は、インプリント処理の際に、モールド3に対して紫外線10を照射する照明手段である。照明系ユニット2は、光源と、該光源から射出された紫外線をインプリントに適切な光に調整するための複数の光学素子から構成される。モールド保持装置4は、モールド3を保持、及び固定するための保持装置である。このモールド保持装置4は、モールド3に圧縮力を加えることにより、モールド3に形成されたパターンを所望の形状に補正する形状補正機構11と、吸着力や静電力によりモールド3を引きつけて保持するモールドベース12とを備える。また、モールド保持装置4は、ウエハ5上に形成された紫外線硬化樹脂にモールド3を押し付けるために、モールドベース12をZ軸方向に駆動する不図示のベース駆動機構を備える。なお、このインプリント装置1では、上記のように、一方のモールド3をZ方向に駆動する構成とするが、例えば、他方のウエハステージ6ウエハ5をZ方向に駆動する構成としてもよい。ウエハ5は、例えば、単結晶シリコンからなる被処理基板であり、被処理面には、成形部となる紫外線硬化樹脂以下、単に樹脂と表記するが塗布される。また、ウエハステージ6は、ウエハ5を真空吸着により保持し、かつ、XY平面内を自由に移動可能な基板保持手段移動体である。また、塗布装置ディスペンサー7は、ウエハ5上に未硬化の樹脂を塗布する塗布手段である。樹脂は、紫外線を受光することにより硬化する性質を有する光硬化樹脂であって、製造する半導体デバイスの種類等により適宜選択される。更に、モールド搬送装置8は、モールド3を搬送し、モールドベース12に対してモールド3を設置する搬送手段である。更に、インプリント装置1は、定盤13、フレーム14、ベース部材15、及び除振装置16を含む。定盤13は、インプリント装置1全体を支持する平板部材であり、ウエハステージ6の移動の基準平面を形成する。フレーム14は、定盤13上に設置され、ウエハ5よりも上方に位置するモールド保持装置4等の各種構成要素を保持するベース部材15を、除振装置16を介して支持する支持体である。ここで、除振装置16は、床面からの振動の伝達を低減する機能を有する除振手段である。次に、インプリント装置1によるインプリント処理について説明する。まず、後述する制御部は、ウエハステージ6にウエハ5を載置及び固定させた後、ウエハステージ6を塗布装置7の塗布位置へ移動させる。その後、塗布装置7は、塗布工程として、ウエハ5の所定のショット被処理領域に樹脂未硬化樹脂を塗布する。次に、制御部は、ウエハ5上の塗布面がモールド3の直下に位置するように、ウエハステージ6を移動させる。次に、制御部は、モールド3の押印面とウエハ5上の塗布面との位置合わせ、及び形状補正機構11によるモールド3の形状補正を実施した後、ベース駆動機構を駆動させ、ウエハ5上の樹脂にモールド3を押印する押印工程。このとき、樹脂は、モールド3の押印によりモールド3に形成されたパターンに沿って流動する。この状態で、照明系ユニット2は、硬化工程として、モールド3の背面上面から紫外線10を照射し、モールド3を透過した紫外線10により樹脂が硬化する。そして、樹脂が硬化した後、制御部は、ベース駆動機構を再駆動させ、モールド3をウエハ5から離型させる離型工程。これにより、ウエハ5上のショットの表面には、モールド3のパターンに倣った3次元形状の樹脂の層が形成される。荷電粒子線露光装置なお、本実施形態のリソグラフィーシステムとしてクラスタを構成するリソグラフィー装置は、上記インプリント装置1に限らず、荷電粒子線露光装置であってもよい。この荷電粒子線露光装置は、電子ビームやイオンビームを光源として用いた露光装置である。この場合、露光方法としては、電子ビーム自体をウエハに対して走査させることでパターンを描写する方法と、原版レチクル又はマスクにより電子ビームを所望の形状に整形して、原版パターンをウエハ上に転写する方法とがある。特に、スループットが要求される場合には、複数の電子ビームを使用するマルチビーム方式が採用される。第1実施形態次に、本発明の第1実施形態に係る、リソグラフィー装置を複数台配置したクラスタ構成によるリソグラフィーシステムについて説明する。なお、本実施形態におけるクラスタ構成とは、同様のリソグラフィー装置を複数台同一固定台床面内に集合させて、搬送ロボット等の外部装置を共有することでフットプリントや生産性を確保するための構成を示す。以下、このリソグラフィーシステムのクラスタを構成するリソグラフィー装置として、上記インプリント装置を適用するものとする。図2は、本実施形態に係るリソグラフィーシステム20を示す構成図であり、特に、図2aは、各インプリント装置22の構成を含む概略図である。このリソグラフィーシステム20は、同一の固定台床面21上に配置される3台のインプリント装置2222A~22Cと、各インプリント装置22A~22Cを集中管理する制御部23とを備える。なお、リソグラフィーシステム20におけるインプリント装置22の設置台数は、少なくとも2台以上であれば、特に限定しない。インプリント装置2222A~22Cは、図2aに示すように、固定台21に載置されるフレーム24と、該フレーム24に対して除振装置25を介して接続される除振対象物26と、移動体27とを備える。この場合、フレーム24、除振装置25、除振対象物26、及び移動体27は、それぞれ、上記インプリント装置1におけるフレーム14、除振装置16、ベース部材15、及びウエハステージ6に対応する。特に、除振装置25は、バネ及びダンパ特性弾性を有する支持機構28と、振動抑制力を発生させるアクチュエータで構成される駆動機構29とを備える。制御部23は、各インプリント装置22A~22Bの各構成要素の動作、及び調整等を集中管理する制御手段である。図2bは、固定台21上に設置される3台のインプリント装置22A~22Cそれぞれの各構成要素に回線情報伝達手段30により接続される制御部23の構成を示す概略図である。この制御部23は、磁気記憶媒体等の記憶手段を有するコンピュータ、又はシーケンサ等で構成され、プログラム又はシーケンスにより各構成要素の制御を実行する。特に、本実施形態では、制御部23は、各インプリント装置22A~22Cの各種装置情報31を取得、及び管理すると共に、後述する伝達関数32を導出、及び管理し、更に、除振装置25内の駆動機構29への駆動力振動抑制力を演算する演算器33を含む。なお、制御部23は、リソグラフィーシステム20として一体で構成してもよいし、又は、リソグラフィーシステム20とは別の場所に設置し、遠隔で制御する構成としてもよい。更には、制御部23は、あるインプリント装置22内の制御系に構成するものでもよいし、全てのインプリント装置22内に含まれる各制御系それぞれを回線にて接続し、全体として構成するものでもよい。次に、リソグラフィーシステム20の作用について説明する。このリソグラフィーシステム20において、固定台21は、インプリント装置22A~22C内の各移動体27A~27Cによる移動動作に起因して振動する。そこで、制御部23は、まず、固定台21の振動によりインプリント装置22A~22C内のいずれかの除振対象物26に伝わる振動を、制御指標である伝達関数32を用いて予測する。そして、制御部23は、その除振対象物26に伝達が予想される振動を予め抑えるように、駆動機構29の駆動力を調整する。このとき、制御部23が参照するものは、図2aに示すように、例えば、インプリント装置22Aに含まれる除振対象物26Aの振動を抑える場合には、他のインプリント装置22B、22Cに含まれる移動体27B、27Cによる振動である。ここで、第1のリソグラフィー装置であるインプリント装置22Aにおける第1の除振対象物26Aに対する除振作用について考える。図3は、除振対象物26Aに対する伝達関数32を説明するブロック図であり、特に、図3aは、伝達関数32の位置づけを示すブロック図である。この場合、制御部23は、第2のリソグラフィー装置である他のインプリント装置22B、22Cにおける第2の移動体27B、27Cの駆動信号駆動指示情報34a、34bと、除振対象物26Aとの入出力関係から2つの伝達関数32a、32bを導出する。このとき、伝達関数32a、32bは、入力と出力とが1対1の関係にある。即ち、一方の移動体27Bの駆動信号34aと、除振対象物26Aとの間の伝達関数32aを計測している間は、後述の図3bに示すように、他方の移動体27Cは、静止状態にある。そして、制御部23は、導出した伝達関数32a、32bを演算器33に送信し、演算器33にて算出された値を第1の除振装置第1の除振手段25Aを構成する駆動機構29Aに送信することで、駆動機構29Aの駆動力を調整する。制御部23は、このようなインプリント装置22A~22C間の伝達関数32の導出を、生産工程に移行する前に実行する。図3bは、移動体27Bの駆動信号34aに対する除振対象物26Aの伝達関数32aを導出する流れを示すブロック図である。本実施形態では、制御部23は、伝達関数32aを導出するために、除振対象物26A26B、26C上に出力として設置された計測器35A35B、35Cによる計測データを参照する。この計測器35Aは、加速度計、速度計、又は変位計のいずれかによる計測手段である。一般に、これらの計測器は、低周波域の信号に多くのノイズを含むが、本実施形態では、制御部23は、この計測器35Aによる計測データを、伝達関数32aを導出するときのみに使用し、リソグラフィーシステム20が生産工程に移行した後には使用しない。なお、この伝達関数32aを導出するための計測は、時間が許す限り複数回実行してもよく、これらの計測データを平均化することでノイズの影響を更に低減させることができる。また、移動体27Bの計測時の加速度を生産工程時よりも大きくすることで除振対象物26Aの振動を故意に大きくすれば、計測器35Aの出力がノイズに埋もれることを防ぐことができるので、これによってもノイズの影響を低減させることができる。一方、本実施形態の入力としては、制御部23は、上記の通り、移動体27Bに送られる駆動信号34aを使用する。ここで採用する入力は、制御部23が、伝達関数32aの導出だけでなく、フィードフォワード制御の信号としても使用するため、精度が重要となる。なぜなら、フィードフォワード制御は、先行的であり、外乱が除振対象物26Aに伝わる前に、この外乱を制御信号に基づいて相殺するように作用するからである。ここで、固定台21の振動の起因となるものは、移動体27Bの運動移動である。即ち、制御部23は、移動体27Bの運動を正確に把握することができれば、固定台21に生じる振動も正確に把握できることになる。そこで、制御部23は、移動体27Bの駆動信号が、移動体27Bの運動を命令する信号そのものであることから、移動体27Bの運動を正確に把握する情報として利用する。これらを踏まえ、制御部23は、移動体27Bの駆動信号34aと、計測器35Aによる計測データとを、内部に含むFFT高速フーリエ変換アナライザ36で処理することで、伝達関数32aを導出する。導出された伝達関数32aは、制御部23内の記憶装置に保存される。以上の方法により、制御部23は、移動体27Cの駆動信号に対する除振対象物26Aの伝達関数32bも導出し、更には、インプリント装置22B、22Cに係る全ての組み合わせに関する伝達関数32を導出する。ここで、伝達関数32が全て既知となるので、制御部23は、各駆動信号34に対する除振対象物26の運動が予測可能となる。そして、制御部23は、ある1つの除振対象物26の運動を抑制するような駆動力を適宜除振装置25内の駆動機構29により印加することで、その周辺のインプリント装置22に含まれる移動体27に起因する振動を抑えることが可能となる。なお、FFTアナライザ36は、図3bに示すように、制御部23の内部に組み込まれるものであるが、例えば、伝達関数32aを、予めシミュレーションにより求めてもよい。更に、制御部23は、図3cに示すように、駆動機構29に印加する駆動力のゲインを調整するゲイン調整手段K21、K31を有する構成としてもよい。この構成によれば、制御部23は、事前に除振対象物26上の計測データを参照しながら駆動機構29の駆動力を調整することができるので、除振性能を更に高めることができる。以上のように、本実施形態のリソグラフィーシステム20によれば、複数のインプリント装置22を含むクラスタ構成において、あるインプリント装置22に対するその周囲のインプリント装置22からの振動の伝達を好適に抑えることが可能となる。第2実施形態次に、本発明の第2実施形態に係るリソグラフィーシステムについて説明する。第1実施形態では、制御部23は、クラスタを構成するインプリント装置22の全てに関して伝達関数32を導出し、駆動機構29の駆動力を全ての伝達関数32を用いて算出する。これに対して、本実施形態のリソグラフィーシステムの特徴は、制御部が、駆動機構29の駆動力の算出の際に、インプリント装置の配置に係る装置情報に基づいて、伝達関数32を適宜選択して用いる点にある。図4は、本実施形態に係るリソグラフィーシステムに関し、固定台の上面Z方向から見た概略図である。なお、各インプリント装置の構成要素において、図2及び図3に示す第1実施形態に係るインプリント装置22と同様のものには同一の符号を付し、説明を省略する。この図4の各図に示す各リソグラフィーシステム40、50、60、80は、それぞれ同一の固定台41上に配置される12台のインプリント装置42装置A~Lと、各インプリント装置42を集中管理する制御部43とを備える。以下、この場合の伝達関数の選択方法について、4つの方法を上げる。まず、伝達関数の第1の選択方法として、図4aに示すリソグラフィーシステム40では、制御部43は、事前の計測又はシミュレーションにより、計測器35の計測データが許容値以上となる移動体27の駆動信号34のみを使用する。ここでの許容値は、例えば、マイクロメートルオーダーの値とする。次に、制御部43は、あるインプリント装置42例えば、図中の装置E内の除振対象物26に対する周辺のインプリント装置42の計測データの最大値が、その許容値を超えるかどうかを判断する。次に、制御部43は、その判断の結果に基づいて、参照する移動体27例えば、図中の装置D、F内の移動体を抽出する。そして、制御部43は、その抽出した移動体27の駆動信号34のみを参照して伝達関数を導出し、駆動機構29の駆動力を算出する。次に、伝達関数の第2の選択方法として、図4bに示すリソグラフィーシステム50では、制御部43は、予め、あるインプリント装置42例えば、図中の装置E内の除振対象物26に隣接した移動体27のみを抽出設定する。この場合、抽出される移動体27は、例えば、図中の装置B、D、F、H内の移動体27となる。そして、制御部43は、その抽出した移動体27の駆動信号34のみを参照して伝達関数を導出し、駆動機構29の駆動力を算出する。この方法は、除振対象物26を有するインプリント装置42からの距離が比較的離れた他のインプリント装置42による振動の影響が小さいことが自明である場合、例えば、固定台21が高剛性である場合等に有効である。次に、伝達関数の第3の選択方法として、図4cに示すリソグラフィーシステム60では、制御部43は、まず、予め固定台41の主支柱44の設置位置に基づいて固定台41自身の変形を予測する。そして、制御部43は、固定台41の変形の腹上に位置するインプリント装置42に含まれる移動体27に関する伝達関数のみを使用する。ここで、主支柱とは、固定台41を支える主要な柱であり、例えば、工場等の建造物を立設する地表面から天井部までを貫き、その建造物を安定して支持するための支柱を示す。この主支柱44は、地表面に対して強固に設置されているため、固定台41の主支柱44付近は、高剛性となり、変形、及び振動が小さい。即ち、主支柱44から遠い距離に設置されたインプリント装置42に含まれる移動体27が、固定台41の振動源となりやすい。そこで、制御部23は、あるインプリント装置42例えば、図中の装置E内の除振対象物26に対して、主支柱44の近傍に位置するインプリント装置42装置A、C、J、Lを除く、その他のインプリント装置42の移動体27を抽出する。そして、制御部43は、その抽出した移動体27の駆動信号34のみを参照して伝達関数を導出し、駆動機構29Aの駆動力を算出する。更に、伝達関数の第4の選択方法として、図4dに示すリソグラフィーシステム80では、制御部43は、固定台41の梁の構成とインプリント装置42の最大加振力の方向との関係から影響の大きいものを抽出設定する。以下、その抽出方法を説明する。一般に図4dのように固定台41の梁は、直交して構成され、インプリント装置42は、その上に格子状に配置される場合が多い。例として、リソグラフィーシステム80内のインプリント装置42図中の装置A~Eは、物品製造工程においてX方向に最大加振力を発生するような場合を考え、装置Eに注目する。この時、装置Eの加振力の影響を大きく受けるのは、最大加振力方向と同方向の梁81a上に配置されている装置B、H、Kとなる。装置Eの最大加振力方向と直交方向の梁81b上に配置される装置D、Fは、装置Eの加振力に対し不感である。また、装置Eと異なる梁、つまり梁81a、81b以外の梁上に配置される装置A、C、G、I、J、Lも装置Eの最大加振力に対し不感である。理由は、一般的に梁の曲げ剛性は、幅方向と高さ方向と比較して長手方向に低く、長手方向には振動を伝達しやすいからである。つまり、図4dのように構成される固定台41の場合も、振動は、長手方向と一致する方向へ伝達しやすく、長手方向と直交する方向へ伝達しにくい。上記より、装置Eの制御を行う場合は、装置B、H、Kの伝達関数を使用すればよい。もちろん、この場合でも隣接する装置B、Hの伝達関数を使用してもよい。固定台41の梁の配置は建屋の図面から把握することが望ましいが、事前に固定台41上に計測器を配置し、加振試験の結果から推定してもよい。上記の例では、装置加振力と梁の長手方向が完全に一致しているが、装置加振力の方向に平行な直線と梁の長手方向に平行な直線がなす角鋭角θ0°≦θ<90°が60度以内である装置を考慮する。これは、装置加振力の50以上が梁の長手方向に伝達するものを考慮する必要があるからである。制御部43は、上記の関係に該当するインプリント装置42の移動体27の駆動信号34のみを参照して伝達関数を導出し、駆動機構29の駆動力を算出する。このように、本実施形態のリソグラフィーシステム40、50、60、80によれば、第1実施形態と同様の効果を奏すると共に、特に、クラスタを構成するインプリント装置42の設置台数が多い場合には、制御部43による制御を簡略化させることができる。第3実施形態次に、本発明の第3実施形態に係るリソグラフィーシステムについて説明する。第1実施形態では、制御部23は、移動体27B、27Cの駆動信号34a、34bを適宜参照し、伝達関数32a、32bに反映させる。これに対して、本実施形態のリソグラフィーシステムの特徴は、制御部は、各移動体27の駆動信号駆動情報を予め保存しておく点にある。図5は、本実施形態のリソグラフィーシステム70に関する図であり、特に、図5aは、リソグラフィーシステム70の構成を含む制御部71の制御の流れを示すブロック図である。なお、各インプリント装置の構成要素において、図2及び図3に示す第1実施形態に係るインプリント装置22と同様のものには同一の符号を付し、説明を省略する。このリソグラフィーシステム70は、固定台72上に設置される3台のインプリント装置73装置A~Cと、それぞれのインプリント装置73に回線74により接続される制御部71とを備える。更に、リソグラフィーシステム70は、固定台72上に設置される少なくとも1台本実施形態では、8台の計測器75を備える。ここで、あるインプリント装置73例えば、図中の装置Aに含まれる除振対象物26aに伝わる振動を予測すると仮定する。この場合、制御部71は、各計測器75の計測データを、他のインプリント装置装置B、Cに含まれる移動体27B、27Cの移動開始時間のトリガとして使用する。即ち、制御部71は、この計測データに基づいて、移動体27B、27Cの移動開始時間駆動指示情報を推定する。そして、制御部71は、推定した移動開始時間を、予め保存された各移動体27の駆動信号76a、76bに適用することにより、伝達関数77a、77bを導出し、演算器78にてインプリント装置73装置Aに含まれる駆動機構29Aの駆動力を算出する。具体的には、図5aに示す各位置に配置される計測器75a、75b、75cの各計測データ出力データが、図5bに示す時間に対する出力値で表されるグラフのような傾向を示すと仮定する。例えば、時刻t1において、計測器75a、75bの出力値が、急激に大きくなり、一方、計測器75cの出力値に変化がないような場合には、制御部71は、装置Bに含まれる移動体27Bが移動を開始したと予測する。同様の理由で、制御部71は、時刻t2においては、装置Cに含まれる移動体27Cが移動を開始したと予測する。このように、本実施形態のリソグラフィーシステム70によれば、第1実施形態と同様の効果を奏する。特に、本実施形態では、制御部71と、クラスタを構成する各インプリント装置73に含まれる移動体27の全てとで回線接続を行う必要がないので、リソグラフィーシステム70の配線に係る構成を簡略化させることができる。物品の製造方法物品としてのデバイス半導体集積回路素子、液晶表示素子等の製造方法は、前述のリソグラフィーシステムを構成するインプリント装置を用いて基板ウエハ、ガラスプレート、フィルム状基板にパターンを形成する工程を含む。更に、該製造方法は、パターンが形成された基板をエッチングする工程を含みうる。なお、パターンドメディア記録媒体や光学素子等の他の物品を製造する場合には、該製造方法は、エッチングの代わりに、パターンが形成された基板を加工する他の処理を含みうる。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能品質生産性生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、これらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。例えば、上記実施形態における駆動機構29の駆動力の演算において、制御部は、低周波振動のみに限定して演算を実行してもよい。上述のように、計測器には、一般的に低周波振動の検出の際にノイズが乗るので、このような演算によりノイズの影響を低減させることができる。例えば、図6に示すように、計測器の測定限界が5Hzである場合には、制御部は、5Hz以下の低周波振動に対してのみ演算を実行する。これに対して、ノイズの少ない高周波振動では、制御部は、従来の床振動フィードフォワード制御を実行する。即ち、この場合、制御部は、上記実施形態の制御と従来の制御とを併用させればよい。