"グラフェン系導電材料を調製する方法であって、酸化グラフェンゾルと金属塩溶液および/または金属コロイド溶液とを用いることによって、基材層上に固体膜を調製することと、固体膜を基材層から分離した状態、または分離しない状態で、水素からなる雰囲気中、または水素を含有する雰囲気中、-50°C~200°Cの温度、0.01~100MPaの水素圧で30秒~10000時間放置することと、グラフェン系導電材料を得ることとを含む方法。放置時間が5分~300時間である、請求項1に記載のグラフェン系導電材料を調製する方法。放置時間が2時間~5日間である、請求項2に記載のグラフェン系導電材料を調製する方法。水素圧が0.2~100MPaである、請求項1に記載のグラフェン系導電材料を調製する方法。グラフェン系導電材料中の金属原子とグラフェン中の炭素原子の比が0.0001~0.13であり、金属コロイド溶液中のコロイド粒子の直径が0.7~10nmであり、酸化グラフェンゾルの濃度が0.5~2g/Lであり、金属塩溶液の濃度が1~3g/Lであり、金属コロイドの濃度が3~7g/Lである、請求項1に記載のグラフェン系導電材料を調製する方法。金属塩溶液および/または金属コロイド溶液中の金属は、パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム、オスミウム、イリジウム、およびニッケルからなる群から選択される1種以上であり、金属塩は、硝酸塩、塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩、シュウ酸塩、酢酸塩、ギ酸塩、プロパン酸塩、酪酸塩、および吉草酸塩からなる群から選択される1種以上であり、金属塩溶液の溶媒は、水、C1~C4低級アルコール、アセトン、およびジメチルホルムアミドからなる群から選択される1種以上であり、酸化グラフェンゾルの溶媒は、水、C1~C4低級アルコール、およびアセトンからなる群から選択される1種以上である、請求項1または5に記載のグラフェン系導電材料を調製する方法。酸化グラフェンゾルおよび金属塩溶液および/または金属コロイド溶液を用いることによって基材層上に固体膜を調製することは、スピンコーティングプロセス、液滴コーティングプロセス、スプレーコーティングプロセス、インクジェット印刷プロセス、および液体膜を加熱して固体膜にするプロセスからなる群から選択される1つ以上のプロセスを含む、請求項1に記載のグラフェン系導電材料を調製する方法。基材層の材料が、ガラスシート、石英シート、シリコンスライス、シリコンカーバイドシート、繊維状可とう性材料、天然可とう性鉱石材料、およびポリマー膜のいずれかである、請求項1または7に記載のグラフェン系導電材料を調製する方法。ポリマー膜が、ポリエチレンテレフタラート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンまたはポリ塩化ビニルから作製される透明膜であり、繊維状可とう性材料が印刷紙であり、天然可とう性鉱石材料がマイカシートである、請求項8に記載のグラフェン系導電材料を調製する方法。請求項1~9のいずれか1項に記載の方法によって調製される、グラフェン系導電材料。グラフェン系導電材料が導電層を含み、導電層が金属およびグラフェンを含有し、導電層の抵抗率が0.01Ω/sq~50kΩ/sqであり、光透過率が0~96であり、厚さが1nm~1mmである、請求項10に記載のグラフェン系導電材料。光透過率が0~90であり、厚さが5nm~1mmである、請求項11に記載のグラフェン系導電材料。導電層の抵抗率が100Ω/sq~50kΩ/sqであり、光透過率が50~90であり、厚さが1~100nmであるか、または導電層の抵抗率が0.01~100Ω/sqであり、厚さが100nm~1mmである、請求項11に記載のグラフェン系導電材料。導電層の合計量に基づいて、導電層中のグラフェン含有量が60~99.999重量であり、金属含有量が0.001~40重量である、請求項11または13に記載のグラフェン系導電材料。導電層が、水および不純物も含有し、導電層の合計量に基づいて、導電層中のグラフェン含有量が64~98重量であり、金属含有量が1~15重量であり、水および不純物の合計含有量が0~35重量である、請求項11に記載のグラフェン系導電材料。グラフェン系導電材料が、導電層が付着した基材層も含む、請求項11に記載のグラフェン系導電材料。基材層の材料が、ガラスシート、石英シート、シリコンスライス、シリコンカーバイドシート、繊維状可とう性材料、天然可とう性鉱石材料、およびポリマー膜のいずれかである、請求項16に記載のグラフェン系導電材料。ポリマー膜が、ポリエチレンテレフタラート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンまたはポリ塩化ビニルから作製される透明膜であり、繊維状可とう性材料が印刷紙であり、天然可とう性鉱石材料がマイカシートである、請求項17に記載のグラフェン系導電材料。グラフェン材料の調製中に、高温または毒性のあるヒドラジンを用いることが必要な従来技術の欠陥を克服するために、本発明は、低温で調製することができ、環境に優しく、公害のないグラフェン系導電材料、およびその調製方法を提供する。本願発明者は、導入された金属が、比較的低い反応温度でGO還元プロセスを触媒するという役割を果たすことができることを発見した。この発見に基づいて、本願発明者は、低温で固体グラフェン系導電材料を直接的に調製する方法、およびこの方法によって調製された固体グラフェン系導電材料を提供する。本発明は、グラフェン系導電材料を調製する方法を提供する。この方法は、酸化グラフェンゾルと金属塩溶液および/または金属コロイド溶液とを用いることによって、基材層上に固体膜を調製することと、固体膜を基材層から分離した状態、または分離しない状態で、水素からなる雰囲気中、または水素を含有する雰囲気中、-50°C~200°Cの温度、0.01~100MPaの水素圧で30秒~10000時間放置することと、グラフェン系導電材料を得ることとを含む。また、本発明は、上記方法によって調製されたグラフェン系導電材料も提供する。従来技術と比較すると、本発明によって提供される方法は、以下の有利な効果を有する。1本発明は、初めて、固体GOの接触水素化還元法によって、グラフェン系導電材料を調製する。この方法は、GOの水素化還元反応の温度を下げるために触媒を使用する。GOを還元するために低温で水素を使用するため、GOの骨格構造は破壊されず、そのため、多くの欠陥を有する、高温で処理されたGOとは異なる。さらに、ヘテロ原子が導入されておらず、組成の観点で、ヒドラジンまたは水素化ホウ素ナトリウムの還元によって得られるグラフェンとは異なる。さらに、水素化還元反応の温度が低いため、グラフェン系導電材料は、高温での処理には耐えることができないある種のポリマー基材上に室温で調製されてもよい。2溶液中のGOの水素還元によって得られたグラフェンは固体ではなく、導電材料を形成しない。本発明によって提供される方法は、グラフェンの沈殿または粒子が溶液中で調製され、次いで、成型された導電材料になるように処理されるという複雑なプロセスに勝ることができる。その操作は単純である。したがって、この方法を、グラフェン系導電材料の大量生産に使用してもよい。3本発明は、GOの接触水素化還元法によって、グラフェン系導電材料を調製する。毒性のあるヒドラジンを用いる還元経路と比較して、本発明は、環境に優しい還元経路を提供する。高価な水素化ホウ素ナトリウムおよびベンゾキノンを用いる還元経路と比較して、本発明で使用される水素は安価であり、容易に入手可能な原材料である。4本発明で調製される導電性グラフェン材料は、化学薬品安定性および熱安定性が高く、可とう性基材上に載置することができるため、可とう性デバイス、例えば、可とう性回路、可とう性透明窓電極および可とう性タッチスクリーン電極に広く適用されてもよい。本発明は、グラフェン系導電材料を調製する方法を提供する。この方法は、酸化グラフェンGOゾルと金属塩溶液および/または金属コロイド溶液とを用いることによって、基材層上に固体膜を調製することと、固体膜を基材層から分離した状態、または分離しない状態で、水素からなる雰囲気中、または水素を含有する雰囲気中、-50°C~200°Cの温度、0.01~100MPaの水素圧で30秒~10000時間放置することと、グラフェン系導電材料を得ることとを含む。本発明によれば、好ましくは、放置時間は5分~300時間であり、さらに好ましくは、放置時間は2時間~5日間である。本発明によれば、好ましくは、水素圧は、0.2~100MPaである。本発明によれば、特に好ましい条件下で、温度は20~120°Cであり、水素圧は1~15Mpaであり、反応時間は、2時間~5日間であってもよい。本発明において、水素雰囲気すなわち、水素からなる還元性雰囲気である場合、水素圧は、ゲージ圧であり、水素を含有する還元性雰囲気すなわち、水素を含有する還元性雰囲気である場合、例えば、水素と窒素および/または不活性気体との混合物雰囲気である場合、水素圧は、水素分圧である。明らかに、本発明の調製方法は、従来の様式で、室温などの低温でグラフェン系導電材料を調製することができる。グラフェン系導電材料を調製する本発明によって提供される方法において、GOならびに金属塩溶液および/または金属コロイド溶液の用量を制御することによって、グラフェン系導電材料中の金属原子とグラフェン中の炭素原子の比を、0.0001~0.13に制御することができる。金属コロイド溶液中のコロイド粒子の直径は0.7~10nmであり、GOゾルの濃度は0.5~2g/Lであり、金属塩溶液の濃度は1~3g/Lであり、金属コロイドの濃度は3~7g/Lである。一方、少量の金属塩溶液および/または金属コロイド溶液を導入することによって、接触水素化の目的を実現してもよく、そのため、貴金属または貴金属塩を触媒または触媒前駆体として用いることによって、貴金属の消費量を減らすことができる。それ以外に、この調製プロセスで金属塩を触媒として用いる場合、金属塩は、還元反応中にまず金属粒子に還元され、次いで、この金属粒子が、水素によるGOの還元を触媒する。金属塩溶液および/または金属コロイド溶液中の金属は、パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム、オスミウム、イリジウム、およびニッケルからなる群から選択される1種以上である。金属塩は、硝酸塩、塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩、シュウ酸塩、酢酸塩、ギ酸塩、プロピオン酸塩、酪酸塩、および吉草酸塩からなる群から選択される1種以上である。金属塩溶液の溶媒は、水、C1~C4低級アルコール、アセトン、およびジメチルホルムアミドDMFからなる群から選択される1種以上である。GOゾルの溶媒は、水、C1~C4低級アルコール、およびアセトンからなる群から選択される1種以上である。本発明において、酸化グラフェンゾルと金属塩溶液および/または金属コロイド溶液とを用いることによって基材層上に固体膜を調製する方法は、スピンコーティングプロセス、液滴コーティングプロセス、スプレーコーティングプロセス、インクジェット印刷プロセス、および液体膜を加熱して固体膜にするプロセスからなる群から選択される1つ以上のプロセスを含む。本発明において、基材層の材料は、ガラスシート、石英シート、シリコンスライス、シリコンカーバイドシート、繊維状可とう性材料、天然可とう性鉱石材料、およびポリマー膜のいずれかである。ポリマー膜は、ポリエチレンテレフタラートPET、ポリエチレンPE、ポリプロピレンPP、ポリスチレンPSまたはポリ塩化ビニルPVCから作製される透明膜である。繊維状可とう性材料は、印刷紙である。天然可とう性鉱石材料は、マイカシートである。グラフェン系導電材料を調製する本発明によって提供される方法において、反応時間、ならびに固体基材の厚さおよび大きさといったGOの接触水素化還元反応の発生条件を制御することによって、異なるグラフェン系導電材料を得てもよい。例えば、GOヒドロゾルと金属塩溶液および/または金属コロイド溶液との混合物の膜厚を制御することによって還元後に得られた導電性グラフェン材料の厚さが1~100nmである場合、この得られたグラフェン系導電材料は、優れた光透過率を有し;GOヒドロゾルと金属塩溶液および/または金属コロイド溶液との混合物の膜厚を制御することによって還元後に得られた導電性グラフェン材料の厚さが100nm~1mmである場合、得られたグラフェン系導電材料は、優れた導電性を有する。GOは、Staudenmaier法、Brodie法、およびHummers法を含む当該技術分野で既知のさまざまな方法によって調製されてもよい。Staudenmaier法は、濃硫酸と発煙硝酸との混合物を溶媒および酸化剤として、塩素酸カリウムを酸化剤として採用し、原材料としてグラファイトを用い、酸化グラファイトを調製する。Brodie法は、発煙硝酸を溶媒および酸化剤として、塩素酸カリウムを酸化剤として採用し、原材料としてグラファイトを用い、酸化グラファイトを調製する。Hummer法は、濃硫酸を溶媒および酸化剤として、硝酸ナトリウムおよび過マンガン酸カリウムを酸化剤として採用する。または、これらの方法に基づいて改変した他の方法を採用してもよい。好ましくは、本発明でのGOは、以下の工程によって調製されてもよいが、その調製は、以下の方法に限定されない。1フレーク状のグラファイトを、濃硫酸と過マンガン酸カリウムとの混合酸化剤で酸化し、過酸化水素で処理する。2酸化後に得られた混合物を洗浄し、濾過し、遠心分離してGOを得る。本発明の一実施形態では、GOの調製方法は、以下のとおりである。約1gの天然フレーク状グラファイトを20~100gの濃硫酸に加える。0°Cの氷浴中、これを撹拌し、一晩保持する。次いで、得られた混合物に、0.05~0.5gの過マンガン酸カリウムを加える。温度上昇を防ぐために、10~100分撹拌した後、1~10gの過マンガン酸カリウムを加え、温度を20°C未満に制御する。次いで、温度を20~50°Cまで上げ、10~100分間保持する。このプロセスにおいて、得られた混合物は、粘着性になる。次いで、この混合物に20~100mlの水を加え、温度を90~95°Cまで上げ、15~60分間保持する。次いで、30~60mlの20~50重量過酸化水素を加える。10~100分間撹拌した後、10~100mlの水を加える。混合物を熱いままで濾過する。残渣を20~100mlの1~10重量HClで洗浄する。得られた濾過ケーキを400~1000mlの水に入れ、超音波で0.5~2時間処理する。十分にストリッピングされていないGO粒子を、得られた分散液から遠心分離によって除去する十分にストリッピングされていない粒子は、遠心分離機の内壁に付着している。少量の球状のGO微粒子を、遠心分離から得られた分散液から遠心分離によって除去し、ゼリー状物を得る。約500~2000mlの水または、エタノールと水との混合溶液、またはメタノールと水との混合溶液メタノールまたはエタノールと水の容積比の範囲は0.1~10またはDMFを加え、このゼリー状物を分散させ、GOのコロイド溶液を得る。また、本発明は、上述の方法によって調製されたグラフェン系導電材料も提供する。本発明によれば、グラフェン系導電材料は、導電層を含む。導電層は、金属およびグラフェンを含有する。導電層の抵抗率は0.01Ω/sq~50kΩ/sqであり、光透過率は0~96であり、厚さは1nm~1mmである。本発明によれば、好ましくは、光透過率は0~90であり、厚さは5nm~1mmである。本発明によれば、導電層の抵抗率が100Ω/sq~50kΩ/sqであり、光透過率が50~90であり、厚さが1~100nmである場合、導電材料は、良好な導電性および良好な光透過率の両方を有することができる。導電層の抵抗率が0.01~100Ω/sqであり、厚さが100nm~1mmである場合、導電材料は、優れた導電性を有し、回路における導電材料として完全に金属の代替となることができる。本発明において、Ω/sqは、オーム/平方センチメートルを意味する。言い換えると、本発明における抵抗率は、平方抵抗率である。本発明において、導電層の合計量に基づいて、導電層中のグラフェン含有量は60~99.999重量であり、金属含有量は0.001~40重量である。本発明の導電材料は、水および不純物を含有していてもよい。好ましくは、導電層の合計量に基づいて、導電層中のグラフェン含有量は64~98重量であり、金属含有量は1~15重量であり、水および不純物の合計含有量は0~35重量である。本発明の導電材料において、金属は、パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム、オスミウム、イリジウム、およびニッケルからなる群から選択される1種以上である。本発明のグラフェン系導電材料は、導電層が付着した基材層も含む。基材層の材料は、ガラスシート、石英シート、シリコンスライス、シリコンカーバイドシート、繊維状可とう性材料、天然可とう性鉱石材料、およびポリマー膜のいずれかである。好ましくは、ポリマー膜は、PET、PE、PP、PSまたはPVCから作製される透明膜であり、繊維状可とう性材料は印刷紙であり、天然可とう性鉱石材料はマイカシートである。ここで、実施例と関連させて、本発明をさらに記載する。本実施例は、本発明のグラフェン系導電材料の調製方法を記載することを目的としている。1GOコロイド溶液の調製:約1gの天然フレーク状グラファイトを、20gの95重量濃硫酸に加える。0°Cの氷浴中、これを撹拌し、一晩保持する。次いで、得られた混合物に、0.15gの過マンガン酸カリウムを加える。30分間撹拌した後、3gの過マンガン酸カリウムを加え、温度を20°C未満に制御する。次いで、温度を35°Cまで上げ、30分間保持する。次いで、この混合物に45mlの水を加え、温度を90~95°Cまで上げ、15分間保持する。次いで、30mlの30重量過酸化水素を加える。30分間撹拌した後、26mlの水を加える。混合物を熱いままで濾過する。残渣を50mlの3重量塩酸HClで3回洗浄する。得られた濾過ケーキを400mlの水に入れ、超音波で1時間処理する。十分にストリッピングされていないGO粒子を、得られた分散液から遠心分離によって3000回転/分で除去する十分にストリッピングされていない粒子は、遠心分離機の内壁に付着している。黒色のGO分散液が得られる。少量の球状のGO微粒子を、得られた分散液から遠心分離によって10000回転/分で除去し、ゼリー状物を得る。約1000mlの水を加えてゼリー状物を分散させることによって、GOのコロイド溶液を得る。2導電性グラフェン材料の調製:3mlの塩化パラジウムPdCl2水溶液Pdに関して2g/l、BeijingChemicalReagentCo.,Ltd.を、60mlの上述のGOコロイド溶液約60mgのGOを含有するに加える。得られた混合溶液2mlをきれいなガラスシート2cm×2cm上に滴加し、均一に分布させるすなわち、液滴コーティング法。この溶液を含むシートを乾燥オーブン中、80°Cで乾燥させ、ガラスシート上にGOおよびPdCl2の固体物質を得る。この固体物質を、水素雰囲気を有するオートクレーブに入れ、水素圧1MPa、25°Cで12時間反応させ、厚さ2μmの導電層を有するグラフェン系導電材料を得る。添加する材料に基づいた計算によれば、グラフェン系導電材料において、導電層中の金属原子とグラフェン中の炭素原子の比は0.020であり、グラフェンの含有量は83.1重量であり、金属パラジウムの含有量は15重量であり、水および不純物の含有量は1.9重量である。4点プローブ抵抗試験機GuangzhouFour-ProbeInstrumentsCo.,Ltd.、RTS-9型二重電気測定4点プローブ試験機によって測定された、得られたグラフェン系導電材料の導電層の抵抗率は、10Ω/sqであり、そのため、この材料は、回路材料として使用することができる。本実施例は、本発明のグラフェン系導電材料の調製方法を記述することを目的としている。1GOコロイド溶液の調製:実施例1の工程1と同じ。2グラフェン系導電材料の調製:0.5mlのPdCl2水溶液Pdに関して2g/l、BeijingChemicalReagentCo.,Ltd.を、上記工程1によって得られた60mlのGOコロイド溶液約60mgのGOを含有するに加える。得られた混合溶液0.5mlをきれいなPETシート2cm×2cm上に滴加し、スピンコータInstituteofElectronics,ChineseAcademyofSciences、kW-4Aを用い、2000回転/分で60秒間、室温でスピンコーティングし、PETシート上にGOおよびPdCl2の固体物質を得る。この固体物質を、水素雰囲気を有するオートクレーブに入れ、水素圧5MPa、25°Cで12時間反応させ、厚さ約25nmの導電層を有するグラフェン系導電材料を得る図1を参照。白い紙片上に黒い文字で、得られたグラフェン系導電材料を示す。グラフェン系導電材料が、優れた光透過率を有することを示す。添加する材料に基づいた計算によれば、グラフェン系導電材料において、導電層中の金属原子とGO中の炭素原子の比は0.002であり、グラフェンの含有量は95.5重量であり、金属パラジウムの含有量は3.0重量であり、水および不純物の含有量は1.5重量である。4点プローブ抵抗試験機GuangzhouFour-ProbeInstrumentsCo.,Ltd.、RTS-9型二重電気測定4点プローブ試験機によって測定された、得られたグラフェン系導電材料の導電層の抵抗率は、1.2Ω/sqである。550nmでの光透過率は72である。グラフェン系導電材料は、光透過率および導電性の両方を有し、そのため、窓電極の材料として使用されてもよい。本実施例は、本発明のグラフェン系導電材料の調製方法を記述することを目的としている。1GOコロイド溶液の調製:実施例1の工程1と同じ。2グラフェン系導電材料の調製:0.03mlのPdCl2水溶液Pdに関して2g/l、BeijingChemicalReagentCo.,Ltd.を、ピペッターを用いてピペッティングし、上記工程1によって得られた600mlのGOコロイド溶液約600mgのGOを含有するに加える。得られた混合溶液0.024mlをきれいなPETシート10cm×10cm上に噴霧機ドイツ製、LeicaEMSCD005を用いて噴霧する。この溶液を含むシートを乾燥オーブン中、80°Cで乾燥させ、PETシート上にGOおよびPdCl2の固体物質を得る。この固体物質を、水素雰囲気を有するオートクレーブに入れ、水素圧0.01MPa、120°Cで2時間反応させ、厚さ1nmの導電層を有するグラフェン系導電材料を得る。添加する材料に基づいた計算によれば、グラフェン系導電材料において、導電層中の金属原子とGO中の炭素原子の比は0.0001であり、グラフェンの含有量は99.999重量であり、金属パラジウムの含有量は0.001重量である。4点プローブ抵抗試験機GuangzhouFour-ProbeInstrumentsCo.,Ltd.、RTS-9型二重電気測定4点プローブ試験機によって測定された、得られたグラフェン系導電材料の導電層の抵抗率は、50Ω/sqである。550nmでの光透過率は96である。グラフェン系導電材料は、光透過率および導電性の両方を有し、そのため、窓電極の材料として使用することができる。本実施例は、本発明のグラフェン系導電材料の調製方法を記述することを目的としている。1GOコロイド溶液の調製:実施例1の工程1と同じ。2グラフェン系導電材料の調製:上記工程1で得られた60mlのGOコロイド溶液約60mgのGOを含有するを測定し、10000回転/分で遠心分離処理し、沈殿を得る。この沈殿を60mlのブタノールに分散させる。得られた混合溶液に、107mlのPdCl2ブタノール溶液Pdに関して2g/l、BeijingChemicalReagentCo.,Ltd.を加える。得られた混合溶液7mlを、培養皿直径3.5cmに滴加する。溶液を含む培養皿を120°Cで加熱乾燥し、乾燥膜を得る。3重量のHFを加え、培養皿から乾燥膜を離す。単独の膜を取り出し、120°Cで再び乾燥させる。この乾燥膜を、水素雰囲気を有するオートクレーブに入れ、水素圧100MPa、-50°Cで300時間反応させ、厚さ1μmの導電層を有するグラフェン系導電材料を得る図2を参照。添加する材料に基づいた計算によれば、グラフェン系導電材料において、導電層中の金属原子とGO中の炭素原子の比は0.05であり、グラフェンの含有量は60重量であり、金属パラジウムの含有量は40重量である。4点プローブ抵抗試験機GuangzhouFour-ProbeInstrumentsCo.,Ltd.、RTS-9型二重電気測定4点プローブ試験機によって測定された、得られたグラフェン系導電材料の導電層の抵抗率は、40Ω/sqであり、そのため、この材料は、導電材料として使用することができる。本実施例は、本発明のグラフェン系導電材料の調製方法を記述することを目的としている。1GOコロイド溶液の調製:実施例1の工程1と同じ。2グラフェンの調製:1070mlの硫酸ニッケルNiSO4水溶液Niに関して2g/l、BeijingChemicalReagentCo.,Ltd.,ARを、上記工程1によって得られた600mlのGOコロイド溶液約60mgのGOを含有するに加える。得られた混合溶液2mlを石英シート2cm×2cm上に滴加し、均一に分布させる。この溶液を含むシートを200°Cで加熱乾燥させる。再び、混合溶液2mlをこのサンプル上に滴加して均一に分布させる。このプロセスを500回繰り返し、石英シート上にGOおよびNiSO4の固体物質を得る。この固体物質を、水素雰囲気を有するオートクレーブに入れ、水素圧15MPa、120°Cで120時間5日間反応させ、次いで乾燥させ、厚さ1nmの導電層を有するグラフェン系導電材料を得る。HFを用い、膜を離して単独のグラフェン膜を得る。添加する材料に基づいた計算によれば、グラフェン系導電材料において、導電層中の金属原子とGO中の炭素原子の比は0.13であり、グラフェンの含有量は60重量であり、金属ニッケルの含有量は40重量である。4点プローブ抵抗試験機GuangzhouFour-ProbeInstrumentsCo.,Ltd.、RTS-9型二重電気測定4点プローブ試験機によって測定された、得られたグラフェン系導電材料の導電層の抵抗率は、0.01Ω/sqである。本実施例は、本発明のグラフェン系導電材料の調製方法を記述することを目的としている。1GOコロイド溶液の調製:実施例1の工程1と同じ。2グラフェン系導電材料の調製:1mlの塩化白金酸水溶液Ptに関して2g/l、BeijingChemicalReagentCo.,Ltd.を、60mlの上述のGOコロイド溶液約60mgのGOを含有するに加える。得られた混合溶液2.5mlをきれいなPETシート2cm×2cm上に滴加し、スピンコータInstituteofElectronics,ChineseAcademyofSciences、kW-4Aを用い、2000回転/分、室温で60秒間コーティングし、PETシート上にGOおよび塩化白金酸の固体物質を得る。この固体物質を、水素雰囲気を有するオートクレーブに入れ、水素圧5MPa、25°Cで12時間反応させ、厚さ100nmの導電層を有するグラフェン系導電材料を得る。添加する材料に基づいた計算によれば、グラフェン系導電材料において、導電層中の金属原子とGO中の炭素原子の比は0.002であり、グラフェンの含有量は98重量であり、金属パラジウムの含有量は1重量であり、水および不純物の含有量は1重量である。4点プローブ抵抗試験機GuangzhouFour-ProbeInstrumentsCo.,Ltd.、RTS-9型二重電気測定4点プローブ試験機によって測定された、得られたグラフェン系導電材料の導電層の抵抗率は、100Ω/sqである。550nmでの光透過率は50である。したがって、グラフェン系導電材料は、光透過率および導電性の両方を有し、そのため、窓電極の材料として使用することができる。本実施例は、本発明のグラフェン系導電材料の調製方法を記述することを目的としている。1GOコロイド溶液の調製:実施例1の工程1と同じ。2導電性グラフェン材料の調製:10mlの硝酸ルテニウム水溶液ルテニウムに関して2g/l、BeijingChemicalReagentCo.,Ltd.を、上記工程1によって得られた60mlのGOコロイド溶液約60mgのGOを含有するに加える。得られた混合溶液0.5mlをきれいなPVC膜2cm×2cm上に滴加し、スピンコータInstituteofElectronics,ChineseAcademyofSciences、kW-4Aを用い、2000回転/分、室温で60秒間コーティングし、PETシート上にGOおよび硝酸ルテニウムの固体物質を得る。この固体物質を、水素雰囲気を有するオートクレーブに入れ、水素圧5MPa、25°Cで12時間反応させ、厚さ20nmの導電層を有するグラフェン系導電材料を得る。添加する材料に基づいた計算によれば、グラフェン系導電材料において、導電層中の金属原子とGO中の炭素原子の比は0.04であり、グラフェンの含有量は64重量であり、金属ルテニウムの含有量は15重量であり、水および不純物の含有量は21重量である。4点プローブ抵抗試験機GuangzhouFour-ProbeInstrumentsCo.,Ltd.、RTS-9型二重電気測定4点プローブ試験機によって測定された、得られたグラフェン系導電材料の導電層の抵抗率は、2Ω/sqである。550nmでの光透過率は76である。グラフェン系導電材料は、光透過率および導電性の両方を有し、そのため、窓電極の材料として使用することができる。本実施例は、本発明のグラフェン系導電材料の調製方法を記述することを目的としている。1GOコロイド溶液の調製:実施例1の工程1と同じ。2グラフェン系導電材料調製:1mlの硝酸イリジウム水溶液イリジウムに関して2g/l、BeijingChemicalReagentCo.,Ltd.を、上記工程1によって得られた60mlのGOコロイド溶液約60mgのGOを含有するに加える。得られた混合溶液0.4mlをきれいなPET膜2cm×2cm上に滴加し、スピンコータInstituteofElectronics,ChineseAcademyofSciences、kW-4Aを用い、2000回転/分、室温で60秒間コーティングし、PETシート上にGOおよび硝酸イリジウムの固体物質を得る。この固体物質を、水素雰囲気を有するオートクレーブに入れ、水素圧5MPa、25°Cで5日間反応させ、厚さ16nmの導電層を有するグラフェン系導電材料を得る。添加する材料に基づいた計算によれば、グラフェン系導電材料において、導電層中の金属原子とGO中の炭素原子の比は0.002であり、グラフェンの含有量は93.2重量であり、金属イリジウムの含有量は2.5重量であり、水および不純物の含有量は4.3重量である。4点プローブ抵抗試験機GuangzhouFour-ProbeInstrumentsCo.,Ltd.、RTS-9型二重電気測定4点プローブ試験機によって測定された、得られたグラフェン系導電材料の導電層の抵抗率は、2.5Ω/sqである。550nmでの光透過率は82である。このグラフェン系導電材料は、光透過率および導電性の両方を有し、そのため、窓電極の材料として使用することができる。本実施例は、本発明のグラフェン系導電材料の調製方法を記述することを目的としている。1GOコロイド溶液の調製:実施例1の工程1と同じ。2グラフェン系導電材料の調製:0.3mlの塩化ロジウムRhCl3水溶液Rhに関して2g/l、BeijingChemicalReagentCo.,Ltd.を、上記工程1によって得られた60mlのGOコロイド溶液約60mgのGOを含有するに加える。得られた混合溶液2.5mlをきれいなPET膜2cm×2cm上に滴加する。この溶液を含むシートを乾燥オーブン中、80°Cで乾燥させ、PETシート上にGOおよびRhCl3の固体物質を得る。この固体物質を、水素雰囲気を伴うオートクレーブに入れ、水素圧5MPa、25°Cで12時間反応させる。HF処理によって、厚さ2.5μmの導電層を有する単独のグラフェン系導電材料を得る。添加する材料に基づいた計算によれば、グラフェン系導電材料において、導電層中の金属原子とGO中の炭素原子の比は0.004であり、グラフェンの含有量は92.2重量であり、金属パラジウムの含有量は2.7重量であり、水および不純物の含有量は5.1重量である。4点プローブ抵抗試験機GuangzhouFour-ProbeInstrumentsCo.,Ltd.、RTS-9型二重電気測定4点プローブ試験機によって測定された、得られたグラフェン系導電材料の導電層の抵抗率は、80Ω/sqである。本実施例は、本発明のグラフェン系導電材料の調製方法を記述することを目的としている。1GOコロイド溶液の調製:実施例1の工程1と同じ。2グラフェン系導電材料の調製:3.5mlの塩化オスミウムOsCl4水溶液Osに関して2g/l、BeijingChemicalReagentCo.,Ltd.を、上記工程1によって得られた60mlのGOコロイド溶液約60mgのGOを含有するに加える。得られた混合溶液2mlをきれいなPETシート2cm×2cm上に滴加する。この溶液を含むシートを乾燥オーブン中、80°Cで乾燥させ、PETシート上にGOおよびOsCl2の固体物質を得る。この固体物質を、水素雰囲気を有するオートクレーブに入れ、水素圧5MPa、25°Cで12時間反応させ、厚さ2μmの導電層を有するグラフェン系導電材料を得る。添加する材料に基づいた計算によれば、グラフェン系導電材料において、導電層中の金属原子とGO中の炭素原子の比は0.014であり、グラフェンの含有量は87.3重量であり、金属オスミウムの含有量は9重量であり、水および不純物の含有量は3.7重量である。4点プローブ抵抗試験機GuangzhouFour-ProbeInstrumentsCo.,Ltd.、RTS-9型二重電気測定4点プローブ試験機によって測定された、得られたグラフェン系導電材料の導電層の抵抗率は、10Ω/sqである。本実施例は、本発明のグラフェン系導電材料の調製方法を記述することを目的としている。1GOコロイド溶液の調製:実施例1の工程1と同じ。2白金コロイドナノ粒子溶液の調製:50mlの7.4g/l塩化白金酸グリコール溶液を、1.04gのNaOHを含有するグリコール溶液50mlに加える。30分撹拌した後、混合物を窒素の保護下に180°Cで3時間反応させる。冷却した後、白金コロイドナノ粒子溶液Ptに関して3.7g/l、BeijingChemicalReagentCo.,Ltd.を得る。白金コロイドの大きさの範囲は、0.7~3.5nmである。3グラフェン系導電材料の調製:上記工程2で得られた1mlの白金コロイドナノ粒子溶液Ptに関して3.7g/l、BeijingChemicalReagentCo.,Ltd.を、上記工程1によって得られた60mlのGOコロイド溶液約60mgのGOを含有するに加える。得られた混合溶液2mlをきれいなマイカシート2cm×2cm上に滴加する。この溶液を含むシートを乾燥オーブン中、80°Cで乾燥させ、PETシート上にGOおよび白金コロイドの固体物質を得る。この固体物質を、水素雰囲気を有するオートクレーブに入れ、水素圧5MPa、25°Cで12時間反応させ、厚さ2μmの導電層を有するグラフェン系導電材料を得る。添加する材料に基づいた計算によれば、グラフェン系導電材料において、導電層中の金属原子とGO中の炭素原子の比は0.007であり、グラフェンの含有量は91重量であり、金属白金の含有量は5.6重量tであり、水および不純物の含有量は3.4重量である。4点プローブ抵抗試験機GuangzhouFour-ProbeInstrumentsCo.,Ltd.、RTS-9型二重電気測定4点プローブ試験機によって測定された、得られたグラフェン系導電材料の導電層の抵抗率は、35Ω/sqである。本実施例は、本発明のグラフェン系導電材料の調製方法を記述することを目的としている。1GOコロイド溶液の調製:実施例1の工程1と同じ。2ルテニウムコロイドの調製:1gのRhCl36H2OBeijingChemicalReagentCo.,Ltd.を50mlの水に溶解する。3gのポリビニルピロリドン平均分子量40000、BeijingChemicalPlantを加える。この溶液を加熱し、6時間逆流させ、ルテニウムのコロイド溶液を得る。この溶液の濃度は6.4g/lルテニウムに関してであり、ルテニウムコロイド粒子の大きさの範囲は2.5~10nmである。3工程2で得られた0.54mlのルテニウムコロイドルテニウムに関して6.4g/l、BeijingChemicalReagentCo.,Ltd.を、上記工程1によって得られた60mlのGOコロイド溶液約60mgのGOを含有するに加える。得られた混合溶液に、0.5mlのイソプロパノールを加える。均一に混合した後、得られた混合溶液を、インクジェットプリンタのインクボックスHP816に注入する。HPプリンタHP2468を用い、紙に20回印刷し、予想されたパターンを得る。印刷紙上に得られた物質を、水素雰囲気を有するオートクレーブに入れ、水素圧5MPa、25°Cで12時間反応させ、パターンを有するグラフェン系導電材料を得る。導電層は、厚さが20μmである図3を参照。この導電材料の導電層中のグラフェン含有量は60重量であり、ルテニウム含有量は5重量であり、他の不純物の含有量は35重量である。4点プローブ抵抗試験機GuangzhouFour-ProbeInstrumentsCo.,Ltd.、RTS-9型二重電気測定4点プローブ試験機によって測定された、得られたグラフェン系導電材料の導電層の抵抗率は、8Ω/sqである。"