表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板において、該ガラス基板の少なくとも一つの表面に、支圧応力層パターンを具え、該支圧応力層パターンは、該表面にあって、複数の、異なる支圧応力を具えた局部領域を画定し、該局部領域は、高圧応力領域と低圧応力領域を包含し、該低圧応力領域により該高圧応力領域相互間が隔離設置され、ならびに該高圧応力領域と該低圧応力領域の間の支圧応力値差異値はは100MPa以上とされることを特徴とする、表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板。請求項1記載の表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板において、該低圧応力領域の支圧応力値が400MPa以下とされることを特徴とする、表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板。請求項1記載の表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板において、該高圧応力領域の支圧応力値が100~800MPaとされることを特徴とする、表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板。表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板において、該ガラス基板の少なくとも一つの表面に、支圧応力層パターンを具え、該支圧応力層パターンは、該表面にあって、複数の、異なる支圧応力を具えた局部領域を画定し、該局部領域は、高圧応力領域と低圧応力領域を包含し、該低圧応力領域により該高圧応力領域相互間が隔離設置され、該高圧応力領域と該低圧応力領域は異なる支圧応力層深さを具え、且つ該高圧応力領域と該低圧応力領域の間の支圧応力層深さの差異値は5μm以上であることを特徴とする、表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板。請求項4記載の表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板において、該低圧応力領域の支圧応力層深さ範囲は0~20μmであることを特徴とする、表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板。請求項4記載の表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板において、該高圧応力領域の支圧応力層深さ範囲は5~90μmであることを特徴とする、表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板。請求項1又は4いずれか記載の表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板において、該ガラス基板の表面の上表面と下表面の少なくとも一方が平坦面とされ、該平坦面に背向する表面が平坦面或いは非平坦面とされることを特徴とする、表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板。請求項7記載の表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板において、該ガラス基板の上下の表面がいずれも平坦面とされ、且つ該ガラス基板の板体厚さが5mmより小さいことを特徴とする、表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板。請求項1又は4記載の表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板において、該ガラス基板の材料は、ナトリウムカルシウムケイ酸塩ガラス、アルミニウムケイ酸塩ガラスのいずれかとされることを特徴とする、表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板。請求項1又は4記載の表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板において、均一な支圧応力層が、該ガラス基板の支圧応力層パターンが設置された表面に背向する表面上に設置されたことを特徴とする、表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板。請求項10記載の表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板において、該均一な支圧応力層の支圧応力値は400MPa以下とされることを特徴とする、表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板。請求項10記載の表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板において、該均一な支圧応力層の深さ範囲は0~20μmとされることを特徴とする、表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板。請求項1又は4記載の表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板において、該ガラス基板の上下の表面それぞれに支圧応力層パターンが設けられたことを特徴とする、表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板。請求項13記載の表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板において、該ガラス基板の上下の表面の支圧応力層パターンは相互に対応するように設置されることを特徴とする、表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板。本発明は一種の表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板を提供することを目的とし、それは、ガラス基板表面に強化面と非強化面の局部領域を形成し、これにより、該ガラス基板表面の強化面の局部領域によりガラスの抵抗性を増し、破砕とスクラッチ防止の性能を向上し、非強化面の局部領域により、加工性を保持させ、切削、分割或いは研磨等の加工に便利としたガラス基板であるものとする。上述の発明の目的を達成するため、本発明の提供する表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板は、該ガラス基板上に少なくとも一つの支圧応力層パターンを具えたガラス基板は、該ガラス基板の少なくとも一つの表面に支圧応力層パターンを具え、該パターンは該表面において、異なる支圧応力を具えた複数の局部領域を画定する。実行可能な実施例において、該支圧応力層は低圧応力領域により隔離された若干の高圧応力領域を包含し、該高圧応力領域と低圧応力領域の間の支圧応力の差異値は100MPa以上とされるか、或いは支圧応力層深さの差異値が5μm以上とされる。そのうち、該低圧応力領域の支圧応力値は400MPa以下、最も好ましくは0MPaに等しいか接近する。該高圧応力領域の支圧応力範囲は100から800MPaとされるか、或いは該低圧応力領域の支圧応力層の深さ範囲が約0~20μmで、高圧応力領域の支圧応力層の深さ範囲が約5~90μmとされる。これにより、本発明のガラス基板は高圧応力領域において高強度の局部領域を形成し、各種パネルの透明基板或いはカバー板を製造するのに供され得て、これら低圧応力領域は優良な加工性を保持し、ガラス基板を強化処理した後に、ガラス基板の低圧応力領域に対して切削、分割或いは研磨等の加工を行え、これにより、周知の強化ガラスのパネル工程への応用面での制限を克服して生産効率と品質歩留りのアップの目的を達成する。前述のガラス基板の上表面、下表面の少なくとも一方は平坦面とされ、該平坦面に背向する面は平坦面或いは非平坦面、たとえば凸面、凹面或いは凹凸面とされ、理想のガラス基板は平板ガラスが選択され、且つその板体厚さは5mmより小さい。該ガラス基板の材料は、ナトリウムカルシウムケイ酸塩ガラス、アルミニウムケイ酸塩ガラス等であるが、実施の材料はこれらに制限されるわけではない。通常の実施態様中、該ガラス基板は支圧応力層パターンが設けられた表面に背向する表面に、均一な支圧応力層が設けられ、これにより、ガラス基板の2表面の間の支圧応力の差異が過大となることによる反り変形が防止され、この均一な支圧応力層はほぼ前述の低圧応力領域と同じく、その支圧応力層深さ範囲は約0~20μm、支圧応力値は400MPa以下とされる。本発明の別の実施可能な実施例中、該ガラス基板の上下表面には、支圧応力層パターンが設けられ、そのうち、該上下の表面の支圧応力層パターンは、相互に対応するように或いは不対応に設置される。本発明は一種の表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板を提供し、それは、ガラス基板表面に強化面と非強化面の局部領域を形成し、これにより、該ガラス基板表面の強化面の局部領域によりガラスの抵抗性を増し、破砕とスクラッチ防止の性能を向上し、非強化面の局部領域により、加工性を保持させ、切削、分割或いは研磨等の加工に便利としたガラス基板である。本発明の技術内容、構造特徴、達成する目的を詳細に説明するため、以下に実施例を挙げ並びに図面を組み合わせて説明する。図1、2に示されるように、本発明のガラス基板は、その表面に、化学強化ガラス手段により、支圧応力層パターンFが形成され、該支圧応力層パターン中に、若干の高圧応力領域12と低圧応力領域13が包含され、該低圧応力領域13によりこれら高圧応力領域12相互間が隔離設置され、これにより、該ガラス基板の表面上に、破砕と引っかき防止の高圧応力領域12すなわち強化領域と、切削、分割及び研磨の加工性を具えた低圧応力領域13すなわち非強化領域或いは低強化領域とが画定される。好ましい実施例において、該ガラス基板には板体厚さが約1mmの平板型ナトリウムガラスが選択され、化学強化ガラス手段を利用し、該ガラス基板が溶融したカリウム塩浴池中に浸漬され、これにより該ガラス基板表面に、支圧応力層パターンが形成され、該支圧応力層パターンが設けられた局部領域の表面のガラス抵抗性が増加され、その他の局部領域の表面は、優良な切削加工性を保持する。そのうち、該ガラス基板の表面の低圧応力領域13は、その支圧応力層深さ範囲が約0~20μmとされ、支圧応力値は400MPa以下とされる。該高圧応力領域12の支圧応力層深さ範囲は約5~90μmとされ、支圧応力層深さ範囲は約100~800μmとされる。上述の実施例中、該ガラス基板の表面は、高圧応力領域12と低圧応力領域13に区分されるが、表面上の任意の二つの隣り合う領域の間の支圧応力値差異値は100MPa以上であるか、或いは支圧応力層深さの差異値が5μm以上とされる。周知の強化ガラスの応用方式とは異なり、本発明のガラス基板は、予めガラス強化工程を実行しても、その切削、分割及び研磨等の加工性を損なうことがない。たとえば、本発明のガラス基板は各種パネルの製造に応用され、パネル構造の関係回路及びデバイスをこれら高圧応力領域12内の表面に製造し、その後、低圧応力領域13に対して切削、分割及び研磨等の加工を行なうことができ、周知の強化ガラスのパネル応用工程方面での制限を克服し、生産効率と品質歩留りをアップする目的を達成する。理解できることは、前述の実施例中、該ガラス基板の上表面は支圧応力層パターンFを具え、それに背向する下表面には均一な支圧応力層14が形成され詳しくは図3のとおり、これにより、ガラス基板の板体表面の支圧応力の差異が過大となることによる反りや変形を防止できる。通常は、該均一な支圧応力層14は前述の低圧応力領域13と同じく、その支圧応力層深さ範囲が約0~20μm以下とされ、支圧応力値は400MPa以下とされる。図4、5中には本発明の別の実施例が表示される。該ガラス基板は上下の表面それぞれに支圧応力層パターンF、F’が形成され、且つこれら上下表面の支圧応力層パターンは相互に対応するよう設置され、すなわち、ガラス基板の上表面の高圧応力領域12は下表面の高圧応力領域12’の位置と対応し、ガラス基板上表面の低圧応力領域13は、下表面の低圧応力領域13’の位置に対応する。これにより、ガラス基板板体の上下表面の支圧応力の平衡が保持されて、反り変形が防止されるほか、該ガラス基板の高圧応力領域表面のガラス抵抗性が倍増され、その他の低圧応力領域は良好な切削加工性を保持できる。以上述べたことは、本発明の実施例にすぎず、本発明の実施の範囲を限定するものではなく、本発明の特許請求の範囲に基づきなし得る同等の変化と修飾は、いずれも本発明の権利のカバーする範囲内に属するものとする。