評価対象である被評価パターンの輪郭を検出する手順と、前記被評価パターンの評価基準となる基準パターンであって前記被評価パターンの許容度を表わすパラメータが予め与えられた基準パターンの輪郭を検出する手順と、前記被評価パターンと前記基準パターンとの位置合せを行なう手順と、前記基準パターンのパラメータと輪郭のデータとに基づいて前記被評価パターンの許容範囲を生成する手順と、前記位置合せの結果に基づいて、前記被評価パターンの前記輪郭と前記許容範囲とを重ね合わせることにより前記輪郭と前記許容範囲との包含関係を判定する手順と、得られた判定結果に基づいて前記被評価パターンの良否を判定する手順と、を備え、前記パラメータは、前記基準パターンの構成要素の少なくとも一つについて前記基準パターンの輪郭点から内側および外側のうち少なくともいずれかで共通する任意の値の距離であり、前記許容範囲は、前記基準パターンの輪郭点から前記基準パターンの内側および外側へ前記任意の距離だけ離隔する範囲を設定することにより生成されることを特徴とするパターン評価方法。請求項1に記載のパターン評価方法をコンピュータに実行させるプログラム。本発明の目的は、簡易な構成で高精度かつ迅速な評価を可能にするパターン評価方法、およびこの評価方法をコンピュータに実行させるプログラムを提供することにある。本発明は、以下の手段により上記課題の解決を図る。即ち、本発明によれば、評価対象である被評価パターンの輪郭を検出する手順と、前記被評価パターンの評価基準となる基準パターンであって前記被評価パターンの許容度を表わすパラメータが予め与えられた基準パターンの輪郭を検出する手順と、前記前記基準パターンのパラメータと輪郭のデータとに基づいて前記被評価パターンの許容範囲を生成する手順と、前記被評価パターンの前記輪郭と前記許容範囲との相対位置関係を求めることにより前記被評価パターンの前記輪郭と前記許容範囲との包含関係を判定する手順と、得られた判定結果に基づいて前記被評価パターンの良否を判定する手順と、を備えるパターン評価方法が提供される。また、本発明によれば、評価対象である被評価パターンの輪郭を検出する手順と、前記被評価パターンの評価基準となる基準パターンであって前記被評価パターンの許容度を表わすパラメータが予め与えられた基準パターンの輪郭を検出する手順と、前記被評価パターンと前記基準パターンとの位置合せを行なう手順と、前記基準パターンのパラメータと輪郭のデータとに基づいて前記被評価パターンの許容範囲を生成する手順と、前記位置合せの結果に基づいて、前記被評価パターンの前記輪郭と前記許容範囲とを重ね合わせることにより前記輪郭と前記許容範囲との包含関係を判定する手順と、得られた判定結果に基づいて前記被評価パターンの良否を判定する手順と、を備えるパターン評価方法が提供される。また、本発明によれば、上述したパターン評価方法をコンピュータに実行させるプログラムが提供される。本発明によれば、簡易な構成で高い精度でかつ迅速にパターンを評価することができる。本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。以下では、フォトリソグラフィ工程やエッチング工程等の半導体装置の製造工程で形成される微細パターンの形状検査を取り挙げて説明する。しかしながら、本発明は半導体装置の微細パターンに限ることなく、他の様々な産業分野における製品に用いられるパターン一般の形状検査に適用可能であることに留意されたい。1第1の実施の形態図1乃至図6を参照しながら本発明の第1の実施の形態について説明する。本実施形態の特徴は、被評価パターンの評価基準を与えるパターンとしての基準パターンと許容値というパラメータとを予め準備し、これらを用いて被評価パターンの許容範囲評価パターン形状の許容範囲と呼ぶこともできるを生成し、得られた許容範囲と被評価パターンとの包含関係により被評価パターンの良否を判定する点にある。図1は、被評価パターンの一例であるパターンP2の部分的輪郭を示す図であり、図2は、図1に示すパターンP2の基準パターンRP2の部分的輪郭を示す図である。本実施形態では、基準パターンRP2は、被評価パターンP2の設計データに基づく設計パターンである。基準パターンとしては被評価パターンの評価基準を与えるものであれば設計パターンに限ることなく任意のパターンで良く、例えばシミュレーション結果のデータを用いることもできる。本実施形態では、基準パターンRP2の輪郭からの距離Lをパラメータとしての許容値として設定する。従って、評価パターンP2の許容範囲は、図2に示す基準パターンRP2の輪郭から距離Lだけ離隔した全ての点の集合として生成される。これらの点集合を許容範囲と特定する方法の他、図2に示すパターンRP2に距離変換処理を実行し、その結果から距離Lの等高線をパターンRP2の内側と外側に求め、これら2つの等高線に挟まれた領域を許容範囲と規定する方法など、いかなる方法を用いても良い。本実施形態におおいて着目されるべき点は、評価パターンP2の許容範囲が基準パターンRP2の輪郭からの距離Lで規定されることであり、この距離LはパターンP2の評価に際し、許容値として予め与えられている値である。即ち、この距離Lは、形状判定のスペックとして被評価パターンに応じて決められている値である。このようにして生成された許容範囲の一例を図3に示す。許容値がパターンの内側と外側に共通して距離Lであるため、図3に示す許容範囲AS2は、幅が2Lの帯をなすように生成される。許容値はパターンの内側と外側とで共通である必要はなく、例えば図4に示す許容範囲AS4のように、パターンの内側で2Lの許容値、パターンの外側でLの許容値を有することにより全体として幅3Lの帯状領域として生成されるように、パターンの内側と外側とで異なる許容値を設定することができる。さらに、パターンの内側と外側に限ることなく、パターンの要求仕様に応じてパターンの各構成要素毎に異なる許容値を設定することもできる。次に、例えば上述した方法により生成された、被評価パターンの許容範囲に対して、評価パターンの輪郭が包含されているかどうかを調べることにより、被評価パターンの形状の良否を判定する。より具体的には、例えば許容範囲AS2に対して、被評価パターンP2の輪郭の相対的位置を走査し、被評価パターンP2の輪郭が許容範囲AS2内に全て収まるための相対的位置を算出する。図5に示すように、ある相対的位置で被評価パターンP2が許容範囲AS2内に収まっている場合には、被評価パターンP2は合格となり良品と判定される。この一方、図6に示すように、この相対的位置が求まらなかった場合は被評価パターンP2は不合格となり、不良と判定される。2第2の実施の形態図7乃至図11を参照しながら本発明の第2の実施の形態について説明する。本実施形態の特徴は、予め定義した単位パターンを基準パターンの輪郭に畳み込むことにより許容範囲を生成する点にある。図7に単位パターンの一例を示す。同図に示す単位パターンUP2は、一辺の長さがaの正方形である。単位パターンUP2については、一辺の長さaの他、正方形の内側にある任意の点であって基準パターンの輪郭と交差させる点Pの座標も与えられ、長さaの値と点Pの座標位置とが許容値となる。次に、図8に示すように、点Pが基準パターンRP2の輪郭に重なるように単位パターンUP2を点Pで基準パターンRP2に合わせた上で、点Pが基準パターンRP2の輪郭を辿るように単位パターンUP2を基準パターンRP2の輪郭に沿って移動させる。このときの単位パターンUP2の輪郭が描く軌跡を記録することにより、図9に示すように、幅aの帯状領域を含む許容範囲AS6が生成される。図9に示す許容範囲AS6は、そのコーナ部の形状が角張っており、この点で図3の許容範囲AS2と明らかに異なる。その後は、このように生成された許容範囲AS6に対して、第1の実施の形態で前述した方法により被評価パターンの形状の良否を判定することができる。上記説明では、単位パターンとして正方形のものを例示したが、その形状は勿論正方形に限ることなく、長方形の他、円、楕円形をも利用することができる。図10に長方形の単位パターンの一例を示し、図10の単位パターンUP4を用いて生成された許容範囲を図11に示す。なお、円形や楕円形状の単位パターンを採用すれば、図3の許容範囲AS2と同様に、コーナ部に丸みを有する許容範囲を生成することができる。3第3の実施の形態上述した実施形態では、被評価パターンと基準パターンとの位置合せを予め行なうことなく、基準パターンから生成された許容範囲と被評価パターンとの相対的位置を走査することにより、あらゆる位置関係における両者の包含関係を検証した。これとは対照的に、本実施形態の特徴は、許容範囲の生成に先立って、被評価パターンと基準パターンとの間で予め位置合せを行なう点にある。これにより、予め位置合せを行なった位置における包含関係のみを調べるだけで被評価パターンの良否を判定することが可能になる。この場合、基準パターンとしては、例えば評価パターンの設計データを用いることができる。4プログラム上述した第1乃至第3の実施の形態で説明したパターン評価方法の各一連の手順は、プログラムに組み込み、コンピュータに読込ませて実行させても良い。これにより、本発明にかかるパターン評価方法における各一連の手順を汎用コンピュータを用いて実現することができる。また、上述したパターン評価方法の各一連の手順をコンピュータに実行させるプログラムとしてフレキシブルディスクやCD-ROM等の記録媒体に収納し、コンピュータに読込ませて実行させても良い。記録媒体は、磁気ディスクや光ディスク等の携帯可能なものに限定されず、ハードディスク装置やメモリなどの固定型の記録媒体でも良い。また、上述したパターン評価方法のそれぞれの一連の手順を組込んだプログラムをインターネット等の通信回線無線通信を含むを介して頒布しても良い。さらに、上述したパターン評価方法の各一連の手順を組込んだプログラムを暗号化したり、変調をかけたり、圧縮した状態で、インターネット等の有線回線や無線回線を介して、または記録媒体に収納して頒布しても良い。5半導体装置の製造方法上述した第1乃至第3の実施の形態で説明したパターン評価方法を半導体装置の製造における検査工程に組み込むことにより、高いスループットおよび歩留まりで半導体装置を製造することが可能になる。以上、本発明の実施の形態のいくつかについて説明したが、本発明は上記形態に限ることなく、その技術的範囲内で種々変形して適用できることは勿論である。