1つ以上の平坦な感光層を含む平坦な基板1上へのレーザー直接書き込みシステム10であって、前記システムが少なくとも:書き込みレーザー20であって、光学ビームFが、半径方向の対称性を有する書き込みレーザーから来る前記書き込みレーザー20と、前記光学ビームを前記平坦な感光層の平面上へと集束させる光学的部分23と、前記平坦な基板の移動における、変位用の手段30を備え、前記システムが、前記感光層内で逆傾斜を有する外形を作り出すために、前記光学ビームの有用な部分が前記感光層の平面上で傾斜するようなやり方で構成された光学的又は機械的手段50を含み、前記光学ビームの前記有用な部分が、前記外形を作り出すために効果的に寄与する前記光学ビームの部分であり、前記集束用光学的部分の光軸が前記感光層の平面に対して直角であることを特徴とする、レーザー直接書き込みシステム。前記システムが、前記集束用光学的部分の近傍に位置する前記光学ビームを部分的に閉鎖するための手段を備えることを特徴とする、請求項1に記載のレーザー直接書き込みシステム。前記閉鎖手段が、直線の縁を有する不透明な薄い平らな板50であることを特徴とする、請求項2に記載のレーザー直接書き込みシステム。前記閉鎖手段が、前記光学ビームの有用な部分が回折縞無しで前記感光層の平面上において傾いているように、光学ビームが前記平坦な感光層の平面上に生成されることを可能にする除去用薄板であることを特徴とする、請求項2に記載のレーザー直接書き込みシステム。前記閉鎖手段が、移動及び/又は回転において調整可能な、少なくとも1つのテーブル上に取り付けられることを特徴とする、請求項2~4の何れか1項に記載のレーザー直接書き込みシステム。前記光学ビームが、前記平坦な感光層の平面のレベルに至るまで、半径方向の対称性を有し、前記集束用光学的部分の前記光軸が、前記感光層の平面に対して直角であり、前記光学ビームは前記平坦な感光層の平面上で焦点が外れていることを特徴とする、請求項1に記載のレーザー直接書き込みシステム。前記集束用光学的部分が、前記平坦な感光層の平面上における球面収差の火線がその中心よりもその周辺においてより多くのエネルギーを含むようなやり方で、前記光学ビームへ球面収差を導入することを特徴とする、請求項6に記載のレーザー直接書き込みシステム。フォトリソグラフィー法のステップの実行に対する、請求項1~7の何れか1項に記載の前記レーザー直接書き込みシステムの使用。―請求項1~7の何れか1項に記載の前記レーザー直接書き込みシステムの提供と、―前記システムから来る前記レーザーによる、前記レジストの加工を行う、前記レジストによって覆われた基板上へのレーザー直接書き込みの方法。本光学部分の目的は、大きな被写界深度と組み合わされた均一な照明を生成するために、出来る限り平坦な強度プロフィールを有する、集束したレーザー光線を提供することである。レーザー源20は組立品の中で最も遠い上流にある光学要素である。その特性は書き込みの品質を決定し、必要とされる光学加工チェーンに影響を与える。このレーザー源はとりわけ次の特性:―大きなコヒーレンス長と、―狭い線幅と、―小さい発散と、―回折パターンが基板上で極力小さくなるような短い波長とを持たなければならない。光線を調整するための装置は、集束レンズ23の焦点において小さな円形の点を得る必要がある。1つの可能な配置は、光を回折する円形の開口22を用いて、空間フィルタリングを行うことにある。この円形開口は入射光線の切除を行ない、一定の強度プロフィールが焦点において得られることを可能にする。従って、そのエネルギー分布が実質的に一定の光線が得られる。さらに、焦点における光点の大きさは、集束レンズを変えることなく、較正された開口22の寸法を単に変えることにより変更され得る。しかしながら、回折穴を通過する際の光の強度の損失は相当であり、その穴は入射エネルギーの1しか通ることを可能にしない。これらの損失を最小限にするため、光線が回折穴22を通過する際に集中させるように、定焦点レンズ21が置かれ得る。レーザー直接書き込みによるフォトリソグラフィーの欠点の1つは、リフトオフプロセスの成功を保証する庇の形において所望の外形を得ること、及びその形に所望の外形を動的に制御するのが困難なことである。本発明による装置は、現行のシステムを根本的に変えることなく、庇の形における層の外形を簡単に得ることを可能にする。より正確には、本発明の1つの主題は、基板上で逆傾斜を有するメサタイプの構造を形成するために設計された、レーザー直接書き込みシステムである。本発明はまた、1つ以上の平坦な感光層を含む平坦な基板上で、リフトオフの用語によって知られている技術による電子部品の製作のための、そのようなシステムの使用に関する。従って、本発明の1つの主題は、メサタイプの構造を形成するために設計された、レーザー直接書き込みシステムであり、前記システムは少なくとも:その光学ビームが、半径方向の対称性を有する書き込みレーザーから来る書き込みレーザーと、光学ビームを平坦な感光層の平面上へと集束させる光学的部分と、平坦な基板の移動における、変位用の手段を備え、本システムが、感光層内で逆傾斜を有する外形を作り出すために、光学ビームの有用な部分が前記感光層の平面上で傾斜するように構成された光学的又は機械的手段を含み、光学ビームの有用な部分が、前記外形を作り出すために効果的に寄与する光学ビームの部分であることを特徴とする。書き込みレーザー光線は、ミクロン範囲の寸法を有するパターンの形成を可能にする集束した光線を得るために、UVにおいて放射する短い波長のレーザー源から出ていることが望ましい。想定されるレーザーの中では、特にレーザーダイオード、ガスレーザー、及び固体レーザーが挙げられる。集束用光学的部分の選定は限定されない。それは例えば、顕微鏡の集束用光学的部分であってもよい。それは可変の焦点距離を持ち得る。レジスト内に形成される側壁の傾斜は従って調整されることが可能である。光学的又は機械的閉鎖手段は、直線の縁を有する不透明な薄い平らな板、又は除去用薄板、吸収フィルター、反射フィルター、干渉フィルター、ニュートラルデンシティフィルター、及び偏光フィルターの中から選定され得る。本発明はまた、レジスト内の斜め勾配の形成に対する、上記で定義されたようなシステムの使用に関する。とりわけ、本発明はフォトリソグラフィー法のステップ、特にリフトオフステップの実行に対する、上記で定義されているようなシステムの使用に関する。本発明は次に:―上記で定義されているようなレーザー書き込みシステムの提供し、―本システムから来るレーザー光線によって、前記レジストを加工する、レジストによって覆われる基板上のレーザー直接書き込み用の方法を含む。幾つかの実施形態が可能である。第一の変形において、集束用光学的部分の光軸は感光層の平面に対して直角であり、システムは集束用光学的部分の近傍にある、光学ビームの部分的閉鎖用の手段を備える。閉鎖手段は、直線の縁を有する不透明な薄い平らな板、又は光学ビームの有用な部分が回折縞無しで感光層の平面上で傾くように、光学ビームが平坦な感光層の平面上に生成されることを可能にする除去用薄板である。有利なことに、閉鎖手段は移動及び/又は回転において調整可能な、少なくとも1つのテーブル上へと取り付けられる。第二の変形において、光学ビームは平坦な感光層の平面のレベルに至るまで、半径方向の対称性を有し、集束用光学的部分の光軸は、感光層の平面に対して直角であり、光学ビームは平坦な感光層の平面上で焦点が外れている。有利なことに、集束用光学的部分は、平坦な感光層の平面上における球面収差の火線が、その中心よりもその周辺においてより多くのエネルギーを含むようなやり方で、光学ビームへ球面収差を導入する。本発明はまた、フォトリソグラフィー法のステップの実行に対して先に述べたように、レーザー直接書き込みシステムの使用にも関する。最後に、それは:―先に述べたようなレーザー直接書き込みシステムの提供と、―このレーザー書き込みシステムから来るレーザー光線による、前記レジストの加工を行う、レジストによって覆われた基板上におけるレーザー直接書き込みの方法に関する。本発明は、制限されない例を通じて与えられる、以下に続く記述を読むことにより、そして添付図のおかげでより良く理解され、その他の利点が明らかになるであろう。本発明による装置の一般的原理は、感光層内で逆傾斜を有する外形を作り出すために、光学ビームの有用な部分が前記感光層の平面上で傾くように構成された光学的又は機械的手段を、書き込みシステム内へ導入することであり、光学ビームの有用な部分は、前記外形を作り出すために効果的に寄与する光学ビームの部分である。幾つかの実施形態が可能である。それらは図4~6に示されている。各図は一連の光線による光源20から来るビームF、集束用光学的部分23、及び基板1を示す。図4及び5に例証されている第一の変形において、集束用光学的部分の光軸は感光層の平面に対して直角であり、本システムは集束用光学的部分の近傍に位置する光学ビームの部分的閉鎖用の手段50を備える。図4において、閉鎖手段は集束用光学的部分の手前に位置し、図5において、閉鎖手段は集束用光学的部分の後方に位置する。閉鎖手段は、図4及び5に例証されるような、直線の縁を有する不透明な薄い平らな板、又は光学ビームの有用な部分が回折縞無しで感光層の平面上で傾いているように、光学ビームが平坦な感光層の平面において生成されることを可能にする、除去用薄板である。従って光線は、その上に基板が載っている平面に対する法線に対して、或る角度で基板に到達する。閉鎖手段は、集束している光線の入射角を調整するように、移動及び/又は回転において調整可能な、少なくとも1つのテーブル上に取り付けられ得る。この技術の主要な利点は、システムの適合を僅かしか必要としない、その実施の簡単さ、及び閉鎖手段の動的調整に関する能力を提供する、その調整の可能性である。従って、除去用薄板がより多く光線内へ入り込めば、感光層に対するその効果はより強められ、外形の傾斜はより大きくなることが示されている。代わりに、閉鎖手段は吸収フィルター、反射フィルター、干渉フィルター、ニュートラルデンシティフィルター、又は偏光フィルターの中から選定され得る。図6に例証される第二の変形において、光学ビームは平坦な感光層の平面のレベルに至るまで半径方向の対称性を有し、集束用光学的部分の光軸は感光層の平面に対して直角であり、光学ビームは平坦な感光層の平面において、距離dだけ焦点が外れている。レジストの縁における傾斜効果を得るため、光線は被写界深度を超えて焦点を外される必要がある。これは解像度の喪失と、光線束が広がることと、照射出力の損失をもたらし得る。この欠点を克服するため、定焦点用又は集束用光学的部分は、平坦な感光層の平面上の球面収差の火線が、その中心よりもその周辺においてより多くのエネルギーを含み、従って光増感を促進するようなやり方で、光学ビームへ球面収差を導入することができる。