"基板の欠陥を検査する検査装置において、前記基板を搭載する搭載部と、前記基板に光を照射する照射部と、前記基板からの光を集光して結像する検出部と、前記検出部の検出結果を用いて前記欠陥を検出する処理部と、を有し、さらに、前記検出部は、前記結像された像を検出する検出器と、前記検出器よりも前に配置された前記基板からの背景散乱光を除去するための背景散乱光除去部と、を有し、前記背景散乱光除去部は、検出すべき欠陥の種類、および前記基板の表面状態に応じて前記背景散乱光を除去することを特徴とする検査装置。請求項1に記載の検査装置において、前記検出部は、前記背景散乱光除去部より前に、高NAのレンズを備えることを特徴とする検査装置。請求項2に記載の検査装置において、前記レンズは、前記基板に対して仰角方向のNAよりも方位角方向のNAが高い楕円形状のレンズであることを特徴とする検査装置。請求項1に記載の検査装置において、前記背景散乱光除去部は、第1の開口を有する第1の遮光板を有し、さらに前記第1の開口の開口径は可変であることを特徴とする検査装置。請求項4に記載の検査装置において、前記第1の遮光板の位置を変える第1の移動部を備えることを特徴とする検査装置。請求項4に記載の検査装置において、前記背景散乱光除去部は、前記第1の遮光板の後ろに配置された第2の開口を有する第2の遮光板を有し、さらに前記第2の開口の開口径は可変であることを特徴とする検査装置。請求項6に記載の検査装置において、前記第2の遮光板の位置を変える第2の移動部を備えることを特徴とする検査装置。請求項1に記載の検査装置において、前記背景散乱光除去部と前記検出器との間に、前記像を前記検出器へ伝搬するための光ファイバアレイを有することを特徴とする検査装置。上述した表面検査装置では、微小な欠陥を検出すること、つまり高感度化が要求されている。ここで、高感度化のためには背景散乱光の影響を低減することが有効であると本発明では考えた。併せて、本発明では、半導体ウエハ表面からの背景散乱光の空間分布は、例えば表面粗さの間隔によって異なることを本発明では見出した。ここで、特許文献1の構成では、散乱光を検出する範囲方位,仰角の自由度は検出器の数に律束される。従って、今後さらに高感度化を進めるためには、検出器とそれに伴う信号処理の並列数を増加させる必要があり、ハードウエアの大型化と材料費の増加が避けられない。特許文献2では、いわゆる空間フィルタを開示するが、これは回路パターンからの回折光を遮光するために用いられるものである、背景散乱光、及びその空間分布との関連については開示されていない。また、特許文献3乃至8では、背景散乱光の空間分布については開示されていない。本発明は、上記の課題を鑑み、高感度な検査を実現することを目的とする。上記目的を達成するために、被検査物の表面に光ビームを照射し、反射光または散乱光の受光強度より被検査物表面に存在する異物の有無を検査する表面検査装置において、被検査部と検出器の間に光学的フーリエ変換機能を有する開口の大きなレンズを配置し、フーリエ変換面に開口径とその位置が可変なフィルタを設けたものである。これは、他の表現としては、以下のように表現することができる。フーリエ面では、ウエハから発生した散乱光の情報は、フーリエ光学的に回折を用いて表現される。これは、フーリエ面においては、光の強度と位相に関する情報が得られることを示している。このフーリエ面においては、欠陥からの散乱光の情報と背景散乱光の情報とは分離して得られる。つまり、このフーリエ面にて欠陥からの散乱光を通過させ、背景散乱光を遮光すれば、欠陥からの散乱光のみを検出でき、高感度化が図れるというのが本発明の1つの側面である。また、特許文献1のように集光のための光学系を増やすのではなく、集光した後にフーリエ面にて任意の信号を取り出せば、それは特許文献1で検出器を増やしたのと同等以上の効果が得られるというのも本発明のその他の側面である。この構成によれば、フーリエ面に設けたフィルタの開口径と位置を最適化することによって半導体ウエハ表面からの背景散乱光を効果的に遮光することができる。上記のように構成した本発明によれば、半導体ウエハ表面からの背景散乱光の分布が異なる場合でも上記フーリエ面に設けたフィルタの開口径と位置を変えることで効果的に遮光できるため、高感度な検査を実現することができる。以下に、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。図1は本実施例1の検査装置の構成を示す図である。まず、ウエハ100を移動させる搬送系について説明する。ウエハ100はθステージ103によって固定される。ウエハ100はZステージ102によって高さが調節されるオートフォーカス。さらにウエハ100はRステージ101によって一方向に直線的に移動される。ウエハ100は、θステージ103によって高速回転され、さらにRステージ101に直線方向半径方向に移動される。これによって、ウエハ全面が後述する光に対して相対的に全面走査されることになる。次にウエハ100に光を照明する照明光学系について説明する。パルス光源117からの光は、レンズ105によって照明される。本実施例1では、レンズ105はたとえばシリンドリカルレンズでありウエハ100にはスリット状の光がウエハ100に対して斜めに照明される。すなわち本実施例で検出される画像は暗視野像となる。次にウエハ100からの散乱光を検出する検出光学系について説明する。検出光学系はウエハ100に対して異なる仰角,方位角仰角,方位角の組み合わせは自由であるに配置された第1の結像光学系120,第2の結像光学系121,光ファイバ118,複数の画素を有するセンサ113によって構成される。第1,第2の結像光学系について説明する。第1,第2の結像光学系120,121は、ウエハ100から散乱した光を検出するためのフーリエレンズ106,フーリエレンズ106の後ろに配置された背景散乱光除去部107,背景散乱光除去部107の後ろに配置された結像レンズ108,結像レンズ108によって結像された暗視野像を後述する光ファイバ118に集光するマイクロレンズアレイ109によって構成されている。なお、フーリエレンズ106は高NAのレンズである。例えば、ウエハ100に対して仰角方向のNAよりも方位角方向のNAが高い楕円形状のレンズである。例えば、仰角方向のNAは035であり、方位角方向のNAは08方位角にして150°程度のレンズである。これにより、1枚のレンズで広範囲の散乱光を取り込むことができるとともに、結像光学系を仰角方向に積層させることもできる。さらに、結像レンズ108によって結像された像は、結像レンズ108の焦点に配置されたマイクロレンズアレイ109によって、その後ろに配置された光ファイバ118に集光された後、その像の形を保ったまま光ファイバ118によって装置筐体119の外に配置された複数の画素のセンサ113に導光され、センサ113によって暗視野像として検出される。ここで、光ファイバ112における第1の結像光学系120からの第1の暗視野像を導光する第1の部分122と、第2の結像光学系121からの第2の暗視野像を導光する第2の部分123との光路長は異なっており、第1の暗視野像と第2の暗視野像とはセンサ113によって時間的に異なるタイミングで検出されるようになっている。これにより、複数の暗視野像を1つのセンサで検出することが可能となる。もちろん、光ファイバごとにセンサを設けても良い。ここで、センサ113は例えばマルチピクセルフォトンカウンター以降、MPPCである。次に画像処理について説明する。検出された暗視野像は、A/D変換部115によってアナログ信号からデジタル信号に変換される。ここで、フォトダイオード111によってパルス光源による照明光104の波形は発光タイミングとして計測されている。A/D変換部115によって検出される信号は遅延しているため、フォトダイオード111によって計測された発光タイミングにも前述したA/D変換部115の遅延時間に対応した遅延信号が波形調整部124によって付加される。A/D変換部115では、この遅延信号が付加された信号に基づいて前述した暗視野像を取得する。これによっていわゆるゲートサンプリングが可能となる。取得された暗視野像は、画像処理部116によって閾値と比較される。閾値以上の信号は欠陥による信号と認識される。次に、背景散乱光除去部107について図2~図7を用いて詳細に説明する。背景散乱光除去部107は、後述するウエハ100からの背景散乱光を除去するための空間フィルタ201と空間フィルタ201の後ろに配置された検出光量を調整するためのアテネータ701によって構成される。図2は空間フィルタの構成を説明する図である。空間フィルタ201は第1の遮光板202,第2の遮光板203によって構成される。第1の遮光板202,第2の遮光板203はそれぞれ開口を有する。この開口は絞りのようにその開口径を任意に変えることができる。以降、第1の遮光板202の開口を第1の開口204,第2の遮光板203の開口を第2の開口205とする。本実施例では、第1の開口204と第2の開口205を重ねることによって、任意の遮光パターンを作成する。図3は第1の遮光板202,第2の遮光板203について説明する図である。第1の開口204と第2の開口205はそれぞれ、図3に示すように開口301と第1の遮光部302との大きさの比を任意に変えることができる。さらに、第1の遮光板202,第2の遮光板203はフーリエ面に対して平行な面内で例えばモータ,ボールネジ等の移動機構で自由に動くことができる。次に、第1の開口204と第2の開口205の使用方法について説明する。本実施例では、レンズ開口より後ろのフーリエ面において、背景散乱光を除去する部分の位置,形状欠陥を示す散乱光を含んだ散乱光を通過させる部分の位置,形状を自在に変えることを特徴とする。図4は第1のバリエーションであり、第1の遮光板202第2の遮光板203であってもよい、1枚のフィルタを使用した例である。図4では、第1の開口204は、フーリエレンズ106の開口401内でかつ、中心軸をはずれた位置に配置される。さらに、フーリエレンズ106の開口401は第1の遮光部302の中にある。ウエハ100からの散乱光は、フーリエレンズ106の開口401と第1の開口204とが重なった部分のみを通過する。次に図5を用いて第2のバリエーションについて説明する。第2のバリエーションも第1の遮光板202第2の遮光板203であってもよい、1枚のフィルタを使用した例であるが、第1のバリエーションとは異なり、フーリエレンズ106の開口401と第1の開口204とが一部重なっている例である。次に図6を用いて第3のバリエーションについて説明する。第3のバリエーションは、第1の遮光板202、及び第2の遮光板203,2枚の遮光板を用いた例である。図6では、第1の開口204と第2の開口205とが一部重なっており、かつその重なった領域601がフーリエレンズの開口401の開口内にある。ウエハ100からの散乱光は、領域601のみを通過する。図4~図6に説明したように、開口の大きさ,位置,重なり具合,フーリエレンズの開口との位置関係を制御部125で制御することで、フーリエ面において背景散乱光が、偏った位置に発生する場合、ウエハ表面からの背景散乱光の空間分布が、表面粗さの間隔によって異なる場合でも、効果的にその背景散乱光を除去することができる。ここでこれらの開口に凹凸構造、より具体的にはジグザグ構造を設けることで検出する光に含まれる不所望な光例えば回折光の影響を低減することもできる。事前にこの不所望な光の光学的な性質が分かっていれば、これらの構造をこの不所望な光の光学的な性質に対応づけることもできる。この場合はより効果的に回折光の影響を低減することができる。さらに、ある特定の欠陥の種類傷,異物,結晶欠陥等に対応した、遮光パラメータ例えば、表面粗さ、表面粗さに対応した背景散乱光の分布状態、開口の大きさ,位置,重なり具合,フーリエレンズの開口との位置関係を記憶しておいて、検査の際は、既知の表面状態や、任意の欠陥の種類に対応した遮光パラメータを選択するように制御部125で制御することで、ある特定の欠陥のみを高感度に検出することができる。次に図7を用いてアテネータ701について説明する。アテネータ701は前述した空間フィルタの後ろに配置されており、半波長板702,半波長板702の後ろに配置された偏光ビームスプリッタ703,偏光ビームスプリッタ703の反射側に配置された散乱光を減衰吸収させるためのダンパー704によって構成させる。なお、偏光ビームスプリッタ703を透過した光は、結像レンズ108等を通過してセンサ113で暗視野像として検出される。ここで、A/D変換部115はこのセンサ113での暗視野像の輝度を測定しており、暗視野像の一部の領域が閾値を超えた場合は、暗視野像に飽和した領域があると判断する。この判断結果に基づいて、半波長板702は回転する。これによって、暗視野像の輝度の飽和を抑制することができる。なお、本実施例では、第1,第2の結像光学系120,121はそれぞれ上述したアテネータを備えている。これによって、ある特定の方位に散乱光が強く散乱した場合も、効果的に欠陥を検出することができる。さらに、ある特定の欠陥の種類傷,異物,結晶欠陥等に対応した、遮光パラメータ例えば、開口の大きさ,位置,重なり具合,フーリエレンズの開口との位置関係を記憶しておいて、検査の際は任意の欠陥の種類に対応した遮光パラメータを選択するように制御する場合に、アテネータも併せて制御することで、ある特定の欠陥のみを暗視野像の飽和を抑制してさらに高感度に検出することができる。以上、本実施例では高NAのレンズを用いて散乱光を集光し、増加した背景散乱光については、背景散乱光除去部を使用することで効果的に除去する。これによって、従来よりも少ない検出器で高感度な欠陥検出,分類を行うことができる。次に実施例2について図8を用いて説明する。実施例2では、ウエハ100に対して斜方入射角θから線状の照明光801を照明する。そして、実施例1において説明した第1の結像光学系120、及び第2の結像光学系121は、照明光801の光軸とウエハ100に対して垂直な線によって形成される入射面802に垂直な方向803に互いに対向するように仰角αで配置されている。ここで、ウエハ100を上から見た場合、第1の結像光学系120の検出開口806と第2の結像光学系121の検出開口807とは、照明光801の長手方向に対して線対称808であり、かつ照明光801の長手方向に対して垂直な線に対して線対称809である。このような配置にすることにより高感度に欠陥を検出することが可能となる。さらに、第1の結像光学系120、及び第2の結像光学系121より高い仰角βに第3の結像光学系804、及び第4の結像光学系805を設けることで、さらに高感度に欠陥を検出することが可能となる。さらに、欠陥はその形状等の性質によって散乱光の散乱パターンが異なる。この点に着目して、特定の欠陥の散乱パターンに対応した開口パターンを第1~第4の結像光学系で設定して検査を行うことで、ある特定の欠陥のみを高感度に検出することもできる。次に、実施例3について図9~図12を用いて説明する。実施例3では、実施例1,2と異なる部分について、主に説明する。図9は本実施例3の空間フィルタを説明するものである。本実施例3の空間フィルタ300は、遮光板302と、遮光板302に形成された円弧上の開口301とを有する。さらに、空間フィルタ300はフーリエ面に対して平行移動する機構と回転する回転機構によって自在に動くことが可能である。この空間フィルタ300は、例えば欠陥からの散乱光の仰角が既知である場合に有効である。そして、図10に示すように、フーリエレンズの開口401内に開口301を移動させる場合には、既知の仰角で比較広い方位に広がった散乱光を検出する場合に有効である。さらに、本実施例3の空間フィルタは、上述した遮光板302と他の遮光板とを組み合わせて構成することも可能である。例えば、図11のように、フーリエレンズの開口401内に配置された開口301の両端を円弧上の遮光板1102,1103で遮光すれば、開口301よりも短い円弧状の開口1101を得ることができるなお、遮光板1102,1103は前述した第1の遮光板202、第2の遮光板203で代替しても良い。。さらに、図12に示すように。円弧上の開口301のような円弧状の開口を2つ180°回転させて、重ね合わせ。遮光板1201,1202を使用して、重ね合わせた部分以外を遮光することで、実質的に点対称な開口1203,1204を形成することができる。次に、実施例4について図13~図17を用いて説明する。本実施例4は、棒状、例えばL字形の遮光板を使用し、自由度の高い遮光パターンを形成する実施例である。図13は本実施例を説明する図である。本実施例4では、空間フィルタを複数のL字の遮光板1300によって構成する。なお、この遮光板1300はフーリエ面内において平行移動する機構を有するものである。本実施例4では、例えば、図14に示す第1のバリエーションのように、フーリエレンズの開口401内で、遮光板1401、及び1402が交差するように配置する。このような配置では、照明方向に対して前方、後方、及びそれに直行する方向に背景散乱光が強い場合、その背景散乱光を効率的に遮光できる。図15は本実施例4の第2のバリエーションを示す図である。図15では、遮光板1501と遮光板1502とを接触させることで、フーリエレンズの開口401の概略中心のみを実質的に遮光する実質的に四角形の遮光パターン1503を形成するものである。この第2のバリエーションでは、ウエハ法線方向に背景散乱光が強く発生した場合に有効である。さらに、図16に示す第3のバリエーションのように、遮光板1501と遮光板1502とを、フーリエレンズの開口401内の概略中心に実質的に長方形の開口1603を形成するように配置することもできる。この場合は、フーリエ変換面にて開口面をX方向に広く、Y方向に狭くすることによって、Y方向に決まった空間周波数を持つもののみを透過させることができる。図16は第4のバリエーションを示す図である。図16では、遮光板1701~1704を使用することにより、第3のバリエーションとは反対に、フーリエ変換面のX方向に短く、Y方向に長い開口1705を形成するにて開口面をX方向に狭く、Y方向に広くすることによって、X方向に決まった空間周波数を持つもののみを透過させることができる。さらに、上述した第3,第4のバリエーションを使うことによって、背景散乱光の周波数解析を行うことができ、背景散乱光の分布が未知のウエハであっても、効率的な遮光パターンを求めることができる。"