"艶消し層、基材層、帯電防止層をこの順で積層した3層を含むポリエステルフィルムにおいて、該艶消し層の艶消し面側の光沢度G60が5以上25以下であり、該艶消し層は平均粒径2.5μm以上5.5μm以下、かつ最大粒子径が16μm以下の粒子を該層の重量を基準として5重量以上25重量以下の範囲で含有し、帯電防止層側の表面抵抗が1×1011Ω/□以下であることを特徴とするインモールド転写用ポリエステルフィルム。基材層は粒子を含有しないか、または粒子の含有量が基材層の重量を基準として0重量を超えて3.0重量以下である請求項1に記載のインモールド転写用ポリエステルフィルム。ポリエステルフィルムの固有粘度ηが0.50dl/g以上0.70dl/g以下の範囲である請求項1または2に記載のインモールド転写用ポリエステルフィルム。艶消し層に含まれる粒子は、TG-DTA法による300°Cでの重量変化が0以上3.0以下である請求項1~3のいずれかに記載のインモールド転写用ポリエステルフィルム。艶消し層中に含まれる粒子が不定形シリカもしくは合成ゼオライトのいずれかである請求項1~4のいずれかに記載のインモールド転写用ポリエステルフィルム。帯電防止層中の離型成分の含有量が帯電防止層の重量を基準として1重量以上50重量以下である請求項1~5のいずれかに記載のインモールド転写用ポリエステルフィルム。艶消し面側にさらに易接着層を有してなる請求項1~6のいずれかに記載のインモールド転写用ポリエステルフィルム。工程材用途に用いられる請求項1~7のいずれかに記載のインモールド転写用ポリエステルフィルム。本発明の目的は、従来よりもさらに優れた艶消し外観を成形品表面に付与できると共に印刷適性に優れ、かつインモールド転写箔用として十分な成形性を有しており、インモールド用転写箔作成過程から成形加工に至る間で帯電防止性能にも優れたインモールド転写用ポリエステルフィルムを提供することにある。本発明者らは上記課題を解決するため鋭意検討した結果、インモールド転写法を用いて艶消し外観性を成形品に付与する場合、インモールド転写により従来よりもさらにマットな艶消し外観を成形品表面に付与するべく転写箔フィルム中の粒子径を大きくしたり粒子含有量を増やすと、今度は印刷層を形成する際に印刷抜けが生じること、さらに艶消し層の表面粗化の影響により帯電防止層の帯電防止性能が影響を受けることを見出し、艶消し層に用いる粒子の最大粒子径や、帯電防止層と接する層の表面形状に着目して本発明を完成するに至ったものである。すなわち本発明の目的は、艶消し層、基材層、帯電防止層をこの順で積層した3層を含むポリエステルフィルムにおいて、該艶消し層の艶消し面側の光沢度G60が5以上25以下であり、該艶消し層は平均粒径2.5μm以上5.5μm以下、かつ最大粒子径が16μm以下の粒子を該層の重量を基準として5重量以上25重量以下の範囲で含有し、帯電防止層側の表面抵抗が1×1011Ω/□以下であるインモールド転写用ポリエステルフィルムによって達成される。また本発明のインモールド転写用ポリエステルフィルムは、好ましい態様として、基材層は粒子を含有しないか、または粒子の含有量が基材層の重量を基準として0重量を超えて3.0重量以下であること、ポリエステルフィルムの固有粘度ηが0.50dl/g以上0.70dl/g以下の範囲であること、艶消し層に含まれる粒子は、TG-DTA法による300°Cでの重量変化が0以上3.0以下であること、艶消し層中に含まれる粒子が不定形シリカもしくは合成ゼオライトのいずれかであること、帯電防止層中の離型成分の含有量が帯電防止層の重量を基準として1重量以上50重量以下であること、艶消し面側にさらに易接着層を有してなること、工程材用途に用いられること、の少なくともいずれか1つを具備するものも包含する。本発明のインモールド転写用ポリエステルフィルムは、艶消し層の表面形状および積層構成により、転写箔として用いた場合に従来よりもさらに優れた艶消し外観を成形品表面に付与でき、印刷適性にも優れ、インモールド転写箔用として十分な成形性を有し、インモールド用転写箔作成過程から成形加工に至る間での帯電防止性能にも優れていることから、艶消し転写に適したインモールド転写箔を提供することができる。以下、本発明を詳しく説明する。<ポリエステルフィルム>本発明のインモールド転写用ポリエステルフィルムは、艶消し層、基材層、帯電防止層をこの順で積層した3層を含むポリエステルフィルムである。以下、基材層及び艶消し層を構成するポリエステルおよび各層について説明する。ポリエステル本発明において、基材層及び艶消し層はポリエステルで構成されており、かかるポリエステルは、芳香族二塩基酸またはそのエステル形成性誘導体とジオールまたはそのエステル形成性誘導体とから合成される結晶性の線状飽和ポリエステルである。該ポリエステルの具体例として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ1,4-シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン-2,6-ナフタレンジカルボキシレートが例示される。ポリエステルはこれらポリエステルのうちの1つを主たる成分とする共重合体であってもよく、またはブレンドしたものであってもよい。ここで主たる成分とは、ポリエステルの繰り返し単位のモル数を基準として80モル以上である。主たる成分の割合は、好ましくは85モル以上、さらに好ましくは90モル以上である。また、従たる成分はポリエステルの繰り返し単位のモル数を基準として20モル以下であり、好ましくは15モル以下、さらに好ましくは10モル以下である。かかるポリエステルの中でもポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン-2,6-ナフタレンジカルボキシレートが好ましく、さらにポリエチレンテレフタレートが力学的物性と成形性のバランスがよいので特に好ましい。艶消し層本発明のインモールド転写用ポリエステルフィルムは、基材層の一方に艶消し層を有しており、該艶消し層の基材層とは反対側の艶消し面以下、艶消し層の艶消し面、艶消し層表面などと称することがあるの光沢度G60が5以上25以下であることが必要である。ここで本発明の光沢度はJIS規格Z8741に準拠し、入射角、受光角ともに60°で測定した値で定義される。本発明のポリエステルフィルムが該光沢度の艶消し層を有することにより、インモールド転写法により光沢度の低い艶消し表面外観を成形品表面に付与することができる。光沢度の下限値は好ましくは7であり、より好ましくは9である。また光沢度の上限値は好ましくは23であり、さらに好ましくは22である。光沢度を下限値より下げようとすると、過剰に粒子を含むことにより、フィルム製膜性やインモールド成形性が十分でなく、またかかる範囲まで光沢度を低くすることは技術的な困難を伴う。また光沢度が上限値を超える場合、光沢度30以下の表面外観を成形品表面に形成することが困難である。艶消し層は上述のポリエステルで構成されており、また本発明の光沢度を得るために艶消し層中に平均粒径が2.5μm以上5.5μm以下の粒子を艶消し層の重量を基準として5重量以上25重量以下の範囲で含有することが必要である。同時に、艶消し層に含有する粒子の最大粒子径を16μm以下にする必要がある。粒子の含有量が下限値に満たない場合は成形品表面に十分な艶消し外観を付与することができない。他方、粒子の含有量が上限値を超えると著しく製膜性が低下し破れが発生しやすくなり、フィルムの製膜自体が困難となる。粒子の含有量は好ましくは5重量以上20重量以下であり、さらに好ましくは10重量以上20重量以下である。粒子の平均粒径は、好ましくは3.0μm以上5.5μm以下、さらに好ましくは3.0μm以上5.3μm以下である。粒子の平均粒径が下限に満たない場合、光沢度を下げる効果が低下し、光沢度を下げるためにさらに粒子の添加量を増やすと十分な成形性を得ることができない。また粒子の平均粒径が上限値を超える場合、成形品表面に印刷抜けが生じる。また、粒子の最大粒子径は、好ましくは15μm以下、さらに好ましくは12μm以下である。本発明における最大粒子径は累積粒径分布曲線の98における粒径d98で表わされる。粒子の最大粒子径が上限を超える場合は成形品表面に印刷抜けが生じ、印刷適性が低下する。粒子の最大粒子径はかかる範囲にするためには、粒子の平均粒径が本発明の上限を超えないようにする必要がある。本発明の艶消し層表面の10点平均粗さRzは5000nm以上8000nm以下であることが好ましく、より好ましくは5000nm以上7800nm以下、さらに好ましくは5200nm以上7800nm以下である。艶消し層表面の10点平均粗さRzがかかる範囲であることにより、転写後の成形品の艶消し外観性を高めつつ印刷抜けをなくすことができる。艶消し層表面の10点平均粗さRzが下限値に満たない場合、成形品表面に十分な艶消し外観を付与することができないことがある。また、艶消し層表面の10点平均粗さRzが上限値を超える場合、艶消し外観性は良好であるものの表面の凹凸が激し過ぎるために、印刷抜けのような不具合が生じることがある。艶消し層表面の10点平均粗さRzは、上述の平均粒径および最大粒子径を有する粒子を上述の範囲内で用いることにより得られる。また、艶消し層の厚みは3~10μmであることが好ましい。艶消し層に用いられる粒子は、TG-DTA法による300°Cでの重量変化が0以上3.0以下であることが好ましく、さらには1.5以上3.0以下であることが好ましい。粒子の高温重量変化は、具体的にはTG-DTA装置により30°C~500°Cまで昇温速度10°C/分で昇温した際の300°Cにおける重量変化を測定したものである。該重量変化が上限値を超えると、ポリエステルフィルムの製造工程や成形加工工程で発泡を引き起こしたり分子量を低下させ、フィルムの製膜性や成形加工性を低下させる場合があり、特に粒子を多量に含有させた場合にフィルムの製膜性や成形加工性を著しく低下させることがある。粒子の種類としては、無機粒子、有機粒子のどちらでもよく、不定形シリカコロイドシリカ、シリカ、タルク、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、リン酸リチウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、アルミナ、カーボンブラック、二酸化チタン、カオリン、合成ゼオライト、架橋ポリスチレン粒子、架橋アクリレート粒子などが例示される。これらの粒子の中で、さらに好ましくは不定形シリカもしくは合成ゼオライトのうちの少なくとも1種であり、いずれか1種を用いても併用してもよい。また同じ種類で粒径が異なる粒子の混合物を用いてもよい。また、不定形シリカの場合は水分吸着性を低下させるために、シランカップリング剤で表面処理をしたものが好ましい。特に好ましい粒子は合成ゼオライトであり、合成ゼオライトの吸着性、特に水分吸着性を低下させるために、pHが5以上の酸で粒子形状を崩さない程度の酸処理をしたものが好ましく、さらに300°C以上の温度で熱処理したものが好ましい。粒子の形状は特に規定するものではないが、不定形であると粒度分布が広くなり、凝集による粗大突起を引き起こしやすく、印刷抜けが生じることがある。したがって粒子の形状は球状もしくは多面状であることが好ましい。好ましい粒子として、球状もしくは多面状の合成ゼオライトが例示される。また多面形状の粒子の場合は艶消し効果が得られやすい。多面形状の粒子の中でも、特に立方体形状の粒子が好ましい。これらの粒子の添加方法は特に制限されないが、例えばポリエステルの重縮合中のグリコール分散系に添加する方法、または押出中マスターバッチを介して艶消し層に添加する方法が挙げられる。基材層本発明のインモールド転写用ポリエステルフィルムは、艶消し層と帯電防止層との間に基材層を有する。基材層を有することにより、十分なインモールド成形性が得られ、また基材層上に設けられた帯電防止層の表面抵抗特性を高めることができる。基材層を有していない場合、粒子を多量に含む艶消し層と帯電防止層だけでは十分なインモールド成形性が得られず、また艶消し層の粗い表面上に直接帯電防止層を設けると、帯電防止層も平坦でないために十分な帯電防止性を得ることが困難となる。基材層はポリエステルで構成されており、また基材層は粒子を含有しないか、または粒子の含有量が基材層の重量を基準として0重量を超えて3.0重量以下である。粒子を含む場合、基材層中の粒子の濃度は、より好ましくは2.5重量以下、さらに好ましくは2.0重量以下の範囲である。基材層中の粒子の含有量が上限値を超える場合、インモールド成形性や帯電防止層の表面抵抗特性が低下することがある。基材層に用いられる粒子の種類は、通常フィルムに添加される粒子であれば特に限定されず、無機粒子、有機粒子のいずれでもよい。具体的には不定形シリカコロイドシリカ、シリカ、タルク、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、リン酸リチウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、アルミナ、カーボンブラック、二酸化チタン、カオリン、合成ゼオライト、架橋ポリスチレン粒子、架橋アクリレート粒子などが挙げられる。これらの粒子のうちの1種、または2種以上の異なる粒子を含有させてもよく、また同じ種類で粒径が異なる粒子の混合物を用いてもよい。基材層には、本発明の目的を損なわない範囲であればポリエステル以外の他の樹脂、着色剤、帯電防止剤、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、蛍光増白剤等を必要に応じて含有することもできる。基材層の厚みは40μm~50μmであることが好ましい。帯電防止層本発明のインモールド転写用ポリエステルフィルムは、基材層の一方に帯電防止層を有し、帯電防止層の表面抵抗が1×1011Ω/□以下であることが必要であり、1×1010Ω/□以下であることが好ましい。かかる帯電防止層を有することにより、インモールド用転写箔の取り扱いの際に帯電による転写箔同士の貼付きや転写箔表面へのゴミや埃付着が抑制される。ここで表面抵抗とは、固有抵抗測定器を用いて測定温度23°C、測定湿度60の条件で印加電圧100Vで1分後の表面固有抵抗値Ω/□を意味する。かかる帯電防止性能を得るためには、帯電防止層中に帯電防止剤を所定量用いることに加え、帯電防止層を設ける基材層の表面に一定の平坦性が求められ、基材層が粒子を含有しないか、粒子を含有する場合は3.0重量以下の範囲の含有量であることにより得られる。帯電防止層には帯電防止成分および離型成分が含有されていることが好ましい。帯電防止成分を含むことで優れた表面抵抗特性が得られ、インモールド用転写箔の取り扱いの際に帯電による転写箔同士の貼付きや転写箔表面へのゴミや埃付着が抑制される。また離型成分を含むことにより、フィルム同士の貼付きなどのブロッキングを防止することができる。離型成分帯電防止層に含まれる離型成分は、フィルム背面への転写が発生しない種類のものが好ましく、反応基を有するシリコーンや炭素数6以上の炭化水素基を有するシリコーンが例示される。このようなシリコーンを離型成分として用いることにより、フィルム背面への転写が発生せず、印刷層の成型物への転写不具合が生じにくくなる。反応基を有するシリコーンは、好ましくはケイ素原子に直接結合した反応基を有し、アミノ基を含む有機基、エポキシ基を含む有機基、カルボン酸基を含む有機基、シラノール基もしくは加水分解によりシラノール基を生成する有機基から選ばれる反応基を1種以上含有する。この反応基を有するシリコーンは、種類の異なる反応基を有するシリコーンの混合体でもよい。かかる反応基を有するシリコーンは分子量が1000~500000であることが好ましい。1000未満であると背面へ転写しやすくなることがあり、500000を超えると粘性が高くなりハンドリングしにくくなることがある。炭素数6以上の炭化水素基を有するシリコーンとして、炭素数6以上のアルキル変性シリコーン、炭素数6以上のアラルキル変性シリコーン、炭素数6以上のアルキルアラルキル共変性シリコーン、アリール変性シリコーンが例示される。離型成分には、かかるシリコーン成分以外にワックスなどの通常離型剤として用いられる剤を従たる成分として使用してもよいが、シリコーン以外の離型剤はシリコーン成分より少ない範囲で本発明の目的を損なわない範囲内で用いられる。かかる離型成分は、帯電防止層の重量を基準として1重量以上50重量以下の範囲で含有されることが好ましい。また離型成の含有量の下限値は、より好ましくは5重量、さらに好ましくは7重量であり、離型成の含有量の上限値は、より好ましくは40重量、さらに好ましくは30重量、特に好ましくは20重量、最も好ましくは15重量である。離型成分の含有量が下限値に満たないと印刷層との貼付きが発生することがあり、一方、上限値を超える場合は塗膜均一性が低下することがある。帯電防止成分帯電防止層は、帯電防止成分としてカチオンポリマーを含むことが好ましい。カチオンポリマーとして、以下のモノマー成分a、非反応モノマー成分b、反応性モノマー成分cを含むカチオンポリマーが例示される。カチオンポリマーを構成するモノマー成分aとして、下記式1で表されるモノマー成分aが挙げられる。式1中、R1、R2はそれぞれHまたはCH3、R3は炭素数が2~10のアルキレン基、R4、R5はそれぞれ炭素数が1~5の飽和炭化水素基、R6はHまたは炭素数が2~10のヒドロキシアルキレン基、Y-はハロゲンイオン、ナイトレートイオン、サルフェートイオン、アルキルサルフェートイオン、スルホネートイオン又はアルキルスルホネートイオンである。モノマー成分aは、カチオンポリマーあたり30~90モルの範囲で用いることが好ましい。モノマー成分aの割合が下限値に満たないと十分な表面抵抗値が得られないことがある。一方、モノマー成分aの割合が上限値を超えると塗膜の耐水性が低下し、水洗浄後の帯電防止性が低下することがある。カチオンポリマーを構成する非反応モノマー成分bとしては、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレートアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、2ーエチルヘキシル基、シクロヘキシル基等、スチレン、αーメチルスチレンを例示することができる。非反応性モノマー成分bは、カチオンポリマーあたり10~69モルの範囲で用いることが好ましい。非反応性モノマー成分bの割合が下限値に満たないと基材層との密着性や塗膜の凝集性が低くなることがある。一方、非反応性モノマー成分bの割合が上限値を超えると帯電防止性が低くなることがある。カチオンポリマーを構成する反応性モノマー成分cとしては、2ーヒドロキシエチルアクリレート、2ーヒドロキシエチルメタクリレート、2ーヒドロキシプロピルアクリレート、2ーヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒドロキシ含有モノマー;グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等のエポキシ基含有モノマー;アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、スチレンスルホン酸及びその塩ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、第三級アミン塩等等のカルボキシ基またはその塩を含有するモノマー;アクリルアミド、メタクリルアミド、N-アルキルアクリルアミド、N-アルキルメタクリルアミド、N、N-ジアルキルアクリルアミド、N、N-ジアルキルメタクリレートアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、2-エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等、Nーアルコキシアクリルアミド、N-アルコキシメタクリルアミド、N、N-ジアルコキシアクリルアミド、N、N-ジアルコキシメタクリルアミドアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基等、アクリロイルモルホリン、N-メチロールアクリルアミド、N-メチロールメタクリルアミド、N-フェニルアクリルアミド、N-フェニルメタクリルアミド等のアミド基を含有するモノマー;無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物のモノマー;ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート等のイソシアネート含有モノマーを例示することができる。かかる反応性モノマー成分cは、カチオンポリマーあたり1~40モルの範囲で用いることが好ましい。反応性モノマー成分cの割合が下限値に満たないと耐水帯電防止性が低下し、水洗浄後の帯電防止性が低下することがある。一方、反応性モノマー成分cの割合が上限値を越えると架橋点が多くなり塗膜の造膜性が低下することがある。帯電防止成分は、帯電防止層の重量を基準として50重量以上99重量以下の範囲で含有されることが好ましい。架橋剤帯電防止層には、塗膜の凝集力向上や加熱時の析出オリゴマー抑制させるためにさらに架橋剤を添加させることが好ましい。架橋剤としては、エポキシ化合物、オキサゾリン化合物、メラミン化合物、イソシアネート化合物を例示することができ、その他カップリング剤を用いることもできる。取り扱い易さや塗液のポットライフが長いことからエポキシ化合物、オキサゾリン化合物を用いることが好ましく、カップリング剤を用いることも好ましい。架橋剤として、さらに具体的には、以下のものが例示される。エポキシ化合物は、ポリエポキシ化合物、ジエポキシ化合物、モノエポキシ化合物、グリシジルアミン化合物等が挙げられる。オキサゾリン化合物としては、オキサゾリン基を含有する重合体が好ましい。付加重合性オキサゾリン基含有モノマー単独もしくは他のモノマーとの重合によって作成できる。付加重合性オキサゾリン基含有モノマーは、2-ビニル-2-オキサゾリン、2-ビニル-4-メチル-2-オキサゾリン、2-ビニル-5-メチル-2-オキサゾリン、2-イソプロペニル-2-オキサゾリン、2-イソプロペニル-4-メチル-2-オキサゾリン、2-イソプロペニル-5-エチル-2-オキサゾリン等を挙げることができ、これらの1種または2種以上の混合物を使用することができる。これらの中でも2-イソプロペニル-2-オキサゾリンが工業的にも入手しやすく好適である。他のモノマーは、付加重合性オキサゾリン基含有モノマーと共重合可能なモノマーであれば特に制限されない。メラミン化合物は、メラミンとホルムアルデヒドを縮合して得られるメチロールメラミン誘導体に低級アルコールとしてメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール等を反応させてエーテル化した化合物及びそれらの混合物が好ましい。メチロールメラミン誘導体としては、例えば、モノメチロールメラミン、ジメチロールメラミン、トリメチロールメラミン、テトラメチロールメラミン、ペンタメチロールメラミン、ヘキサメチロールメラミン等が挙げられる。イソシアネート化合物は、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン-4,4 ́-ジイソシアネート、メタキシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレン-1,6-ジイソシアネート、1,6-ジイソシアネートヘキサン、トリレンジイソシアネートとヘキサントリオールの付加物、トリレンジイソシアネートとトリメチロールプロパンの付加物、ポリオール変性ジフェニルメタン-4、4 ́-ジイソシアネート、カルボジイミド変性ジフェニルメタン-4,4 ́-ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、1,5-ナフタレンジイソシアネート、3,3 ́-ビトリレン-4,4 ́ジイソシアネート、3,3 ́ジメチルジフェニルメタン-4,4 ́-ジイソシアネート、メタフェニレンジイソシアネート等が挙げられる。カップリング剤は、例えばシランカップリング剤が挙げられ、一般式YRSiX3で示される化合物である。ここで、Yはビニル基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基といった有機官能基、Rはメチレン、エチレン、プロピレン基といったアルキレン基、Xはメトキシ基、エトキシ基といった加水分解基及びアルキル基である。Y部分がエポキシ基であることが特に好ましい。好ましいシランカップリング剤は、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランである。またシランカップリング剤以外のカップリング剤としては、ジルコニウム、チタン、アルミニウムといった金属を含む有機金属化合物を用いることができる。架橋剤を用いる場合、架橋剤の添加量は帯電防止層の重量を基準として5~30重量であることが好ましい。架橋剤の添加量が下限値に満たないと塗布層の凝集力が低くなり耐久性が低下することがある。一方、架橋剤の添加量が上限値を超えると塗布層の造膜性が悪くなり塗布外観が低下することがある。帯電防止層は、塗布により基材層の一方の面で艶消し層と反対側の面上に設けられることが好ましい。帯電防止層の厚みは、乾燥後の厚みとして、好ましくは0.01~0.1μm、さらに好ましくは0.01~0.06μmである。帯電防止層の厚みが下限値に満たないと帯電防止性が不十分となることがあり、また上限を超えると転写箔同士のブロッキングを起こし易くなることがある。易接着層本発明のインモールド転写用ポリエステルフィルムは、離型層メジューム層との接着性を高める目的でさらに艶消し面側に易接着層を有することが好ましい。易接着層は塗布により設けられた易接着性の塗布層であることが好ましい。易接着層には、インモールド用転写箔として用いるときに設けられる離型層との高い接着性を得るために共重合ポリエステルを使用することが好ましい。共重合ポリエステル易接着層を構成する共重合ポリエステルは、二次転移点Tgが40°C以上85°C以下であることが好ましく、さらに好ましくは45°C以上80°C以下である。共重合ポリエステルのTgが下限値に満たない場合、易接着層の耐熱性が十分でないことがあり、また耐ブロッキング性が十分でないことがある。他方、共重合ポリエステルのTgが上限値を超えるとポリエステルフィルムと離型層との接着性が十分でないことがある。さらに、この共重合ポリエステルはジカルボン酸成分とポリオール成分からなり、共重合ポリエステルの全酸成分を基準として金属塩基を有するジカルボン酸成分を9mol以上15mol以下の範囲で共重合した線状ポリエステルであることが好ましい。金属塩基を有するジカルボン酸成分の共重合割合が下限値に満たない場合、易接着層の耐溶剤性が十分に向上しないことがあり、他方、上限値を超えると離型層と易接着層との接着性が低下することがある。前記金属塩基を有するジカルボン酸は、酸化合物中にSO3M基やCOOM基MはNa、K、Li、NH4等等の官能基を有するものであることが好ましく、中でもスルホン酸の金属塩基を有するものが好ましい。本発明の共重合ポリエステルを形成する金属塩基を有するジカルボン酸成分以外のジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、フェニルインダンジカルボン酸、ダイマー酸を例示することができる。これらの成分は2種以上を用いることができる。更にこれらの成分とともに、不飽和多塩基酸やヒドロキシカルボン酸を少割合用いることができ、共重合ポリエステルを構成する全酸成分を基準として10モル以下の範囲で用いることが好ましく、5モル以下で用いることがさらに好ましい。また、共重合ポリエステルを形成するポリオール成分として、エチレングリコール、ビスフェノールAのアルキレンオキサイド付加物、1,4-ブタンジオールが好ましく、二次転移点をかかる範囲にするために2種以上を用いることが好ましい。また共重合ポリエステル樹脂として、変性ポリエステル共重合体、例えば前記ポリエステル共重合体をアクリル、ポリウレタン、シリコーン、エポキシ、フェノール樹脂等で変性したブロック重合体、あるいはグラフト重合体を用いることもできる。共重合ポリエステルの含有量は、易接着層の重量を基準として65重量以上98重量以下であることが好ましく、さらに70重量以上95重量以下であることが好ましい。共重合ポリエステルの含有量が65重量未満の場合、離型層と易接着層との密着性が低下することがある。また共重合ポリエステルの含有量が98重量を超える場合、金属塩基を有するジカルボン酸成分が相対的に増えることで耐溶剤性は向上するものの接着性が低下することがある。架橋剤易接着層には前述した帯電防止層と同様の架橋剤を加えることが好ましい。中でもオキサゾリン基を有するアクリル共重合体が特に好ましい。他添加剤易接着層には、その他の添加剤として粒子や界面活性剤を添加してもよい。粒子は公知の粒子を用いることができ、酸化珪素、酸化アルミニウム、架橋ポリスチレン樹脂粒子、架橋アクリル樹脂粒子が特に好ましい。また、本易接着層にはバインダー成分として前記共重合ポリエステルとともにアクリル共重合体を本発明の課題を損なわない範囲で少量用いてもよい。フィルム特性<固有粘度>ポリエステルフィルムの固有粘度ηは0.50dl/g以上0.70dl/g以下の範囲であることが好ましい。かかる固有粘度は35°Cのo-クロロフェノール溶液での測定値で表わされる。フィルムの固有粘度の下限値は、好ましくは0.52dl/gである。またフィルムの固有粘度の上限値は、好ましくは0.65dl/gであり、さらに好ましくは0.60dl/gである。フィルムの固有粘度が下限値に満たない場合、インモールド成形の際に著しく破れが発生し易くなる。他方、フィルムの固有粘度が上限値を超えるようになると粘度が高くなりすぎ、フィルムの製造工程での負荷が増大し、生産性が低下する。<フィルム厚み>本発明のポリエステルフィルムはインモールド転写箔用フィルムとして使用される厚さを有していれば良く、好ましくは10~150μm、さらに好ましくは20~100μm、特に好ましくは45~70μmである。本発明のポリエステルフィルムは、dF10/dSが0.10Kg/mm2/伸度以上、0.30Kg/mm2/伸度以下であることが好ましく、0.15Kg/mm2/伸度以上、0.25Kg/mm2/伸度以下であることがさらに好ましい。ここで、dF10/dSとは、フィルムの荷伸曲線における10伸長時の曲線勾配のことである。このdF10/dSが上限値を超えると成形時の応力が高くなり、破れなどのトラブルの原因となることがある。他方、このdF10/dSが下限値に満たないとフィルムの表面性や耐熱性、寸法安定性が低下することがある。かかるdF10/dS特性を有するポリエステルフィルムは、製造方法に記載の延伸温度、延伸倍率および熱固定処理により製造することができる。フィルム製造方法本発明のポリエステルフィルムは、例えば次の方法で製造することができる。すなわち艶消し層および基材層を共押出法により積層押出し、キャスティングドラムで冷却固化させて非晶未延伸フィルムとし、次いで縦方向以下、機械軸方向、連続製膜方向、長手方向またはMD方向と称することがあるおよび横方向以下、幅方向、TD方向と称することがあるに延伸する。縦方向の延伸は、例えば温度60~130°C、好ましくは90~125°Cで縦方向に2.0~4.0倍、好ましくは2.5~3.5倍延伸する。横方向の延伸は、例えば温度60~130°C、好ましくは90~125°Cで2.0~4.0倍、好ましくは3.0~4.0倍延伸する。なお、二軸延伸後の面積倍率は13以下であることが好ましい。また、一方向の延伸は2段以上の多段で行う方法を用いることもできるが、最終的な延伸倍率は前述の範囲内にあることが好ましい。なお、フィルムの延伸後には熱固定処理を行なうことが好ましい。熱固定処理は、最終延伸温度より高く融点以下の温度範囲で1~30秒間行なうことが好ましい。例えばポリエチレンテレフタレートフィルムでは150~250°Cの温度、2~30秒の時間の範囲で選択して熱固定することが好ましい。その際、20以内の制限収縮もしくは伸長、または定長下で行ない、また2段以上で行なってもよい。帯電防止層は、基材層の艶消し層と反対側の面に、帯電防止層の形成成分を含む塗剤を塗布することにより設けられる。塗布時のフィルムとして結晶配向が完了する前のポリエステルフィルムが好ましい。この場合、塗布後はフィルムに結晶配向を完了させる延伸処理、更には熱固定処理を施すことが好ましい。また、易接着層を設ける場合、易接着層の形成成分を含む塗剤をポリエステルフィルムの艶消し層上に塗布することが好ましく、帯電防止層を設ける時に易接着層も設けることが好ましい。この結晶配向が完了する前のポリエステルフィルムとしては、ポリエステルを熱溶融してそのままフィルム状となした未延伸フィルム、未延伸フィルムを縦方向または横方向の何れか一方に延伸せしめた一軸延伸フィルム、縦方向及び横方向の二方向に低倍率で延伸せしめたもの最終的に縦方向または横方向に再延伸せしめて配向結晶化を完了せしめる前の二軸延伸フィルムを例示することができる。ポリエステルフィルムへの塗剤の塗布方法としては、任意の塗工法が適用できる。例えばロールコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、リバースコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、含浸法及びカーテンコート法を単独または組合せて適用すると良い。本発明における塗剤は、帯電防止層および易接着層を形成させるために、水溶性液、あるいは水分散液、乳化液等の形態、すなわち水性塗剤であることが好ましいが、有機溶剤を溶媒とすることも可能である。水性塗剤には、塗剤の安定性または塗剤の塗工性を助ける目的で若干量の有機溶剤を含ませてもよい。有機溶剤としては、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、シクロヘキサノン、n-ヘキサン、トルエン、キシレン、メタノール、エタノール、n-プロパンノール、イソプロパノールを例示することができる。これらは単独で、もしくは2種以上を組合せて用いることができる。本発明における塗剤、特に水性液には、本発明の目的を損なわない範囲において、ポリエステルフィルムへの濡れ性を向上させるために界面活性剤を組み合せることができる。かかる界面活性剤は、公知の界面活性剤、例えばアルキレンオキサイド系重合体などノニオン系界面活性剤、4級アンモニウム塩を有する化合物、アルキルピリジニウム塩を有する化合物、スルホン酸塩を有する化合物などのカチオン系またはアニオン系界面活性剤を用いることができる。界面活性剤を添加する場合、該塗剤の表面張力を50dynecm以下、好ましくは40dynecm以下にすることが好ましい。塗剤の固形分濃度は、通常、塗剤の重量を基準として0.5~30重量であることが好ましい。かかる固形分組成は、ポリエステルフィルムに形成される帯電防止層、易接着層のそれぞれの組成と一致する。塗剤の塗布量は走行しているフィルム1m2当たり3~50g、さらには5~40gが好ましい。最終的に乾燥して得られる塗膜易接着層の厚さは、0.01~0.3μmであることが好ましく、さらに好ましくは0.02~0.2μmである。塗膜の厚さが0.01μm未満であると接着性が不十分となることがあり、他方0.3μmを超えるとブロッキングを起こし易くなることがある。塗布後、乾燥することにより、均一な塗膜となる。本発明においては、ポリエステルフィルムに塗剤を塗布した後、乾燥、好ましくは延伸処理を行なうが、この乾燥は90~130°Cで2~20秒間行なうのが好ましい。この乾燥は延伸処理の予熱処理ないし延伸時の加熱処理を兼ねることができる。インモールド転写箔本発明の艶消し層、基材層、帯電防止層をこの順で積層した3層を含むポリエステルフィルムはインモールド転写用途に用いられ、従来よりもさらに優れた艶消し外観を成形品表面に付与できると共に印刷適性に優れ、かつインモールド転写箔用として十分な成形性を有しており、インモールド用転写箔作成過程から成形加工に至る間で帯電防止性能、さらには耐ブロッキング性能にも優れるものである。具体的には本発明のポリエステルフィルムを転写箔として用い、インモールド転写を行うことにより、成形品表面に30以下の光沢度の艶消し外観を付与することができる。本発明のインモールド転写用ポリエステルフィルムは、艶消し面側にさらに易接着層を有することが好ましく、易接着層上にさらに離型層メジューム層および印刷層を形成した態様で用いることができ、これらの積層フィルムがインモールド転写箔として用いられる。インモールド成形を行う際は、印刷層が成形品の表面と接するよう金型に配置し、通常用いられる方法によってインモールド成形を行い、印刷層を成形転写した後に印刷層は成形品表面に接着して製品として取り出され、その他の部分は製品から取り除かれる形で使用され、インモールド転写による成形品製造の工程材用途として好適に使用される。以下、実施例をあげて本発明をさらに説明する。なお、例中の特性は、次の方法で求めた。1.光沢度G60JIS規格Z8741に準拠し、日本電色工業株製のグロスメーターVGS-SENSORを用いて測定した。入射角、受光角ともに60°にてN=5づつ測定し、その平均値を用いた。さらに以下の基準で艶消し性を判断した。◎:5以上18以下艶消し性極めて良好○:18を超え25以下艶消し性良好×:25を超える艶消し性不良2.粒子の平均粒径、最大粒子径粒子をエチレングリコール中に3の濃度になるようにミキサーで攪拌し、島津製作所製レーザー散乱式粒度分布測定装置SALD-7000を用いて測定を行った。粒度分布測定結果から50体積粒径D50を求め、これを平均粒径とした。また、最大粒子径はメジアン粒径d98とした。なおd98の値は累積粒径分布曲線の98における粒径である。3.粒子の含有量ポリエステル樹脂は溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択し、フィルムサンプルを溶解処理した後、粒子をポリエステル樹脂から遠心分離し、粒子の全体重量に対する比率重量をもって粒子の含有量とする。4.帯電防止性サンプルフィルムの帯電防止層表面の表面固有抵抗を、タケダ理研社製固有抵抗測定器を使用し、測定温度23°C、測定湿度60の条件で、印加電圧100Vで1分後の表面固有抵抗値Ω/□を測定し、以下の基準にて判断した。○:1×1011Ω/□以下帯電防止性良好×:1×1011Ω/□を超える帯電防止性不良5.フィルムの各層厚みサンプルを三角形に切り出し、包埋カプセルに固定後、エポキシ樹脂にて包埋した。そして、包埋されたサンプルをミクロトームULTRACUT-Sで縦方向に平行な断面を50nm厚の薄膜切片にした後、透過型電子顕微鏡を用いて、加速電圧100kvにて観察撮影し、写真から各層の厚みを10点ずつ測定し、それぞれの層について平均厚みを求めた。艶消し層については、粒子の存在しない部分について測定した。6.10点平均粗さRzJIS-B0601、B0651に従い、3次元表面粗さ計株小坂研究所製、商品名:SURFCORDERSE-3CKを使用して、触針先端R2μm、走査ピッチ2μm、走査長1mm、走査本数100本、カットオフ0.25mm、倍率5000倍の条件にて、10点平均粗さRzを測定した。7.艶消し層に含まれる粒子の加熱後の重量変化TG-DTA装置SII社製、SSC5200TG/DTA220を用い、30°C~500°Cまで昇温速度10°C/分で昇温した際の300°Cにおける粒子の重量減少率より求めた。8.固有粘度固有粘度[η]単位:dl/gは、35°Cのo-クロロフェノール溶液で測定した。表2に記載の値はフィルムについての測定値である。9.成形性金型にインモールド転写箔を絵柄層インク側が射出側となるように設置し、10cm角の大きさで、立ち上がり15mm、コーナー部のRが2mmのトレー状成形品を射出成形した。この時、成形用の樹脂には、ポリカーボネート/ABS樹脂アロイを用い、樹脂温度260°C、金型温度50°C、樹脂圧力約350MPaとした。トレー状成形品から、離型層と絵柄層の界面で転写箔を剥離し、加飾された成形部品を得た。本工程における状況を、以下の指標により評価した。○:フィルムが破れず、シワも無い×:フィルムが破れた、もしくは大量のシワが発生10.成形品の艶消し性成型性評価と同様の方法にて成型部品を得て、成型部品の光沢度G60の結果を以下のような指標により評価をおこなった。○:30以下成型部品の艶消し性良好×:30を超える成型部品の艶消し性不良11.印刷適性フィルムの艶消し層上にメラミン樹脂のメチルエチルケトン/トルエン溶液を塗布し、1μm厚さの離型層の膜を形成した。ここで、1μm厚さの調整は、粒子を含まない平滑なポリエチレンテレフタレートフィルム上で厚み1μmになるように溶液濃度を調整し、厚みを確認した上で、同条件で艶消し層側に塗布する方法で行った。その上にウレタンアクリレートを主成分とする紫外線硬化型ハードコート層厚さ5μmを全面にグラビア印刷法により印刷し、さらにそのうえにアクリル樹脂系インキにて図柄層をグラビア印刷法により印刷した。結果を以下のような基準にて評価した。なお、艶消し層上にさらに易接着層を有する場合は、易接着層上に上記離型層の膜を形成して印刷適性を評価した。○:印刷外観良好×:図柄層が不鮮明抜け等が発生12.接着力評価フィルムの艶消し層上にメラミン樹脂のメチルエチルケトン/トルエン溶液を塗布し、1μm厚さの離型層の膜を形成させ、縦100mm×横20mmの短冊状としたサンプルを、引張試験機を用いて160°Cの加熱雰囲気下で長手方向に50伸長させた後、室温に1分放置した後に、離型層上にセロハンテープニチバン社製登録商標を貼り付けて親指で10回擦り、その後セロハンテープを90°の剥離角度で急激にはがすセロテープ剥離試験を行い、表面状態を観察した。○の状態が実用性能を満足する。なお、易接着層を有する場合は易接着層上にメラミン樹脂離型層を形成した。○:変化無し△:一部分が剥離13.耐ブロッキング性サンプルフィルムの帯電防止層面とインモールド用転写箔の印刷面との耐ブロッキング性を評価するためスタンピングホイルの顔料箔COLORITPタイプクルツ社製を使用して、帯電防止面と印刷面を合わせ、温度60°C、圧力1kg/cm2を加えて、24時間その環境に保持した後、帯電防止層面とラベルのシール面のブロッキング状態を観察し、下記の基準で評価した。○:変化無し△:一部分が剥離[実施例1~9、比較例1~8]ポリエチレンテレフタレート固有粘度0.63dl/gに表1に示す通りの粒子を艶消し層A、基材層Bにそれぞれ添加し、280°Cに加熱された押出機から供給し、A層ポリマー、B層ポリマーをA/Bとなるような2層フィードブロック装置を用いただし、比較例1ではA/B/Aの3層になるようなフィードブロックを用いた合流させ、その積層状態を維持したままダイスよりシートを20°Cに維持した回転冷却ドラム上に溶融押出して未延伸フィルムとし、次いで該未延伸フィルムを縦方向に3.4倍延伸し、その後、表1に記載の塗布層成分易接着層:4重量、帯電防止層3重量をそれぞれロールコーターで均一に塗布した。この塗布フィルムを引き続いて105°Cで乾燥し、140°Cで横方向に3.5倍に延伸し、更に230°Cで熱固定して表に示す塗布膜を有する2軸延伸ポリエステルフィルム厚さ50μmを得た。各々のフィルムの評価結果を表2に示す。表1で用いた成分は以下の通りである共重合ポリエステル:酸成分がテレフタル酸50モル/イソフタル酸45モル/5-ナトリウムスルホイソフタル酸5モル、グリコール成分がエチレングリコール90モル/ジエチレングリコール10モルで構成されているTg=40°C。ポリエステルは、下記の通り製造した。すなわち、テレフタル酸ジメチル30部、イソフタル酸ジメチル27部、5-ナトリウムスルホイソフタル酸ジメチル5部、エチレングリコール36部、ジエチレングリコール3部を反応器に仕込み、これにテトラブトキシチタン0.05部を添加して窒素雰囲気下で温度を230°Cにコントロールして加熱し、生成するメタノールを留去させてエステル交換反応を行った。次いで反応系の温度を徐々に255°Cまで上昇させ系内を1mmHgの減圧にして重縮合反応を行い、共重合ポリエステルを得た。なおかかる共重合ポリエステルの製造方法は、特開平06-116487号公報の実施例1に記載の方法に準じたものである。カチオンポリマー:下記式1に示す構造が80モル/メチルアクリレート15モル/N-メチロールアクリルアミド5モルからなる共重合体である。上式1中、R1、R2はそれぞれHであり、R3は炭素数が3のアルキレン基であり、R4、R5はそれぞれ炭素数が1の飽和炭化水素基であり、R6は炭素数が3のヒドロキシアルキレン基であり、Y-はメチルスルホネートイオンである。離型剤1:アミノ基含有シリコーンGE東芝シリコーン株式会社製商品名TSF4700離型剤2:ポリエチレンワックス中京油脂株式会社製商品名ポロリンL-618架橋剤:オキサゾリン化合物株式会社日本触媒製商品名エポクロスWS-700界面活性剤:ポリオキシエチレンn=7ラウリルエーテル三洋化成株式会社製商品名ナロアクティーN-70実施例のフィルムは、従来よりもさらに優れた艶消し外観を成形品に付与することができ、かつ成形品の印刷適性および極めて優れた帯電防止性能を有し、耐ブロッキング性能、インモールド成形性にも優れた艶消しインモールド転写箔用ベースフィルムが得られた。一方、比較例1のフィルムは、艶消し性に優れていたものの、表面の粗い艶消し層上に帯電防止層が設けられており、帯電防止性が十分ではなかった。また、比較例2、6のフィルムは艶消し性が十分ではなく、得られた成形品の艶消し性も十分ではなかった。比較例6は帯電防止層を有していないために、帯電防止性、耐ブロッキング性も十分ではなかった。比較例3のフィルムは艶消し層の粒子濃度が高すぎたため、フィルム製膜時に破れなどが生じフィルムを製膜することが困難であった。比較例4は、フィルムでの艶消し性は良好であったものの、離型層を介して転写された成形品は、フィルムの艶消し表面が十分に転写されておらず、得られた成形品の艶消し性は十分ではなかった。比較例5のフィルムは艶消し性、成型性は良好であったが、艶消し層の最大粒子径が大きすぎるため、印刷適性が不十分であった。比較例7、8のフィルムは、艶消し性は良好であったが、基材層中に粒子を多く含み、その表面粗さに起因して帯電防止性、成形性が十分ではなかった。"