電解プロセスにおけるガス発生用電極の製造に適切な前駆体であって、30重量より高い濃度の酢酸を含有する非塩化物水溶液中に溶解された硝酸ルテニウムを含む前駆体。前記酢酸の濃度が35~50重量である、請求項1に記載の前駆体。前記硝酸ルテニウムが、60~200g/lの濃度の硝酸ニトロシルルテニウムである、請求項1又は2に記載の前駆体。前記水溶液が、少なくとも一つの希土類元素の硝酸塩を含む、請求項1~3のいずれか1項に記載の前駆体。前記少なくとも一つの希土類元素の硝酸塩が、15~50g/lの濃度のPrNO32である、請求項4に記載の前駆体。前記水溶液が、5~30g/lの濃度の硝酸パラジウムを含む、請求項4又は5に記載の前駆体。請求項1~3のいずれか1項に記載の前駆体の製造法であって、前記ルテニウムを撹拌下、所望により硝酸の添加とともに氷酢酸中に溶解し、次いで5~20重量の濃度の酢酸の水溶液で希釈することによるルテニウム溶液の製造を含む方法。請求項4又は5に記載の前駆体の製造法であって、下記の同時又は順次ステップ:-前記硝酸ルテニウムを撹拌下、所望により硝酸の添加とともに氷酢酸中に溶解することによるルテニウム溶液の製造;-前記少なくとも一つの希土類元素の硝酸塩を撹拌下、所望により硝酸の添加とともに氷酢酸中に溶解することによる希土類元素溶液の製造;-所望により撹拌下での前記ルテニウム溶液と前記希土類元素溶液との混合;-その後、所望により、5~20重量の濃度の酢酸の水溶液による希釈を含む方法。前記混合ステップの前に、5~20重量の濃度の酢酸の水溶液による前記ルテニウム溶液及び/又は前記希土類元素溶液の希釈ステップを含む、請求項8に記載の方法。電解プロセスにおけるガス発生用電極の製造法であって、請求項1~6の1項に記載の前駆体を、金属基材に多重層適用塗布し、各塗層後、400~600°Cで2分間以上の時間熱分解することを含む方法。前記金属基材が、ニッケル製のメッシュ又は打抜きもしくは発泡シートである、請求項10に記載の方法。電解プロセスにおけるカソードでの水素発生用電極であって、請求項9~11のいずれか1項に記載の方法によって得られる、4~40g/m2の金属又は酸化物の形態のルテニウムを含有する触媒層で被覆された金属基材を含む電極。前記触媒層が、1~10g/m2の酸化物の形態の希土類元素及び所望により0.4~4g/m2の酸化物又は金属の形態のパラジウムをさらに含有する、請求項12に記載の電極。前記希土類元素が酸化プラセオジムを含む、請求項13に記載の電極。前記金属基材がニッケル又はニッケル合金製である、請求項12~14の1項に記載の電極。一態様において、電解プロセス用の電極は、例えばニッケル、銅又は炭素鋼で製造された金属基材を含み、4~40g/m2のルテニウムを所望により酸化物の形態で含む触媒層で被覆されている。触媒層は、塩化物を含まない酢酸溶液中にルテニウムの硝酸塩を含む前駆体の多重層を適用塗布し、熱分解することによって製造される。一態様において、触媒層は、1~10g/m2の希土類元素、例えばプラセオジムを酸化物の形態で、及び所望により0.4~4g/m2のパラジウムも含有する。別の側面において、電解プロセスにおけるガス発生用、例えばカソードでの水素発生用電極の製造に適切な前駆体は、30を超える、さらに好ましくは35~50重量の酢酸を含有する非塩化物溶液中に溶解されたルテニウムの硝酸塩を含む。発明者らは、驚くべきことに、ルテニウムで触媒された水素発生用カソードとして使用される電極の活性、持続時間及び反転に対する耐性は、塩酸溶液中RuCl3からなる従来技術の一般的な前駆体の代わりに、実質的に塩化物を含まない酢酸溶液中の硝酸塩ベースの前駆体をその製造に使用すると、著しく優れた結果がもたらされることを観察した。何らかの特定の理論に制限することは望まないが、これは塩化物との配位結合の不在下で、ルテニウム原子が酢酸又はカルボニル基で配位された錯体種が形成されたためであろう。この錯体種は、それらの分解によって得られる電極の改良された性能、特に持続時間及び電流反転耐性に関する性能に反映される形態学的、構造的又は組成的効果をもたらす。一態様において、使用されるルテニウムの硝酸塩は、RuIIIニトロシル硝酸塩で、式RuNONO33によって表される市販化合物である。場合によってはルテニウムの平均酸化状態が3とはわずかに異なりうることを示すためにRuNONO3xと書かれることもある。この種は、一態様において前駆体中に60~200g/lの濃度で存在するが、電極の工業生産に十分な量で容易に入手できるという利点を有する。一態様において、前駆体溶液は希土類元素の硝酸塩も含む。これは同じ前駆体の熱分解によって得られる電極コーティングに更なる安定性を提供するという利点を有する。発明者らは、15~50g/lの濃度のPrNO32を添加すると、前駆体の分解によって得られるコーティングに機能安定性及び電流反転に対する耐性の望ましい特徴が付与されることを見出した。一態様において、前駆体溶液は5~30g/lの硝酸パラジウムも含む。前駆体の熱分解によって得られるコーティング中にパラジウムが存在すると、電流反転に対する増強された耐性が特に長期間付与されるという利点を有しうる。別の側面において、電解プロセスにおけるガス発生用電極の製造に適切なルテニウムベース前駆体の製造法は、硝酸ルテニウムを、撹拌下、所望によりその溶解を促進するために数滴の硝酸を添加して、氷酢酸中に溶解することによるルテニウム溶液の製造と、その後の所要のルテニウム濃度が得られるまで5~20重量の酢酸による希釈とを含む。一態様において、ルテニウムと希土類元素ベース前駆体の製造法は、硝酸ルテニウムを、撹拌下、所望により数滴の硝酸を添加して、氷酢酸中に溶解することによるルテニウム溶液の製造と;希土類元素の硝酸塩、例えばPrNO32を、撹拌下、所望により数滴の硝酸を添加して、氷酢酸中に溶解することによる希土類元素溶液の製造と;所望により撹拌下でルテニウム溶液と希土類元素溶液の混合と;所要のルテニウム及び希土類元素濃度が得られるまで5~20重量の酢酸による希釈とを含む。一態様において、5~20酢酸による希釈は、混合の前に、ルテニウム溶液に対して及び/又は希土類元素溶液に対して実施することもできる。別の側面において、電解プロセスにおけるガス発生用、例えばカソードでの水素発生用電極の製造法は、前述のように、所望により酢酸溶液中希土類元素又はパラジウムの硝酸塩を添加された硝酸ルテニウムベースの前駆体の金属基材上への多重層の適用塗布及びその後の400~600°Cでの熱分解を含む。前駆体は、ニッケルのメッシュ又は発泡もしくは打抜きメッシュに、例えば静電スプレー技術、刷毛塗り、浸漬又はその他の公知技術によって適用塗布できる。前駆体の各層の堆積後、基材は例えば80~100°Cで5~15分の乾燥ステップに付され、次いで2分間以上、通常5~20分を含む時間、400~600°Cで熱分解される。上に示された濃度は、4~10層で10~15g/m2のルテニウムを堆積できることを暗示している。発明者らが得た最も有意義な結果の一部を以下の実施例に記載するが、これらは本発明の範囲を制限することを意図したものではない。実施例1100gのRuに相当する量のRuNONO33を数mlの濃硝酸を添加した300mlの氷酢酸中に溶解した。該溶液を温度を50°Cに維持しながら3時間撹拌した。次に、該溶液を10重量の酢酸で500mlの体積にしたルテニウム溶液。別に、100gのPrに相当する量のPrNO32を数mlの濃硝酸を添加した300mlの氷酢酸中に溶解した。該溶液を温度を50°Cに維持しながら3時間撹拌した。次に、該溶液を10重量の酢酸で500mlの体積にした希土類元素溶液。480mlのルテニウム溶液を120mlの希土類元素溶液と混合し、撹拌下で5分間放置した。このようにして得られた溶液を10重量の酢酸で1リットルにした前駆体。ニッケル200の100mm×100mm×0.89mmサイズのメッシュを、コランダムによるブラスト、20HCl中85°Cで2分間のエッチング、及び500°Cで1時間の熱アニールのプロセスに付した。次に前駆体を刷毛塗りにより6層に順次塗布し、各塗層後、80~90°Cで10分間の乾燥処理及び500°Cで10分間の熱分解を実施して、11.8g/m2のRu及び2.95g/m2のPrの堆積を得た。サンプルを性能試験に付したところ、3kA/m2、33NaOH中での水素発生下、90°Cの温度で、抵抗低下補正された初期カソード電位は-924mV/NHEを示した。これは優れた触媒活性を示している。次に、同じサンプルを、10mV/sの掃引速度で、-1~0.5V/NHEの範囲でサイクリックボルタンメトリーに付した。25サイクル後、カソード電位は-961mV/NHEであった。これは優れた電流反転耐性を示している。実施例2100gのRuに相当する量のRuNONO33を数mlの濃硝酸を添加した300mlの氷酢酸中に溶解した。該溶液を温度を50°Cに維持しながら3時間撹拌した。次に、該溶液を10重量の酢酸で1リットルの体積にした前駆体。ニッケル200の100mm×100mm×0.89mmサイズのメッシュを、コランダムによるブラスト、20HCl中85°Cで2分間のエッチング、及び500°Cで1時間の熱アニールのプロセスに付した。次に、事前に得られた前駆体を刷毛塗りにより7層に順次塗布し、各塗層後、80~90°Cで10分間の乾燥処理及び500°Cで10分間の熱分解を実施して、12g/m2のRuの堆積を得た。サンプルを性能試験に付したところ、3kA/m2、33NaOH中での水素発生下、90°Cの温度で、抵抗低下補正された初期カソード電位は-925mV/NHEを示した。これは優れた触媒活性を示している。次に、同じサンプルを、10mV/sの掃引速度で、-1~0.5V/NHEの範囲でサイクリックボルタンメトリーに付した。25サイクル後、カソード電位は-979mV/NHEであった。これは優れた電流反転耐性を示している。比較例1ニッケル200の100mm×100mm×0.89mmサイズのメッシュを、コランダムによるブラスト、20HCl中85°Cで2分間のエッチング、及び500°Cで1時間の熱アニールのプロセスに付した。次に、メッシュを、硝酸溶液中RuCl3を刷毛塗りにより96g/lの濃度で塗布することによって活性化し、各塗層後、80~90°Cで10分間の乾燥処理及び500°Cで10分間の熱分解を実施して、12.2g/m2のRuの堆積を得た。サンプルを性能試験に付したところ、3kA/m2、33NaOH中での水素発生下、90°Cの温度で、抵抗低下補正された初期カソード電位は-942mV/NHEを示した。これはかなりの触媒活性を示している。次に、同じサンプルを、10mV/sの掃引速度で、-1~0.5V/NHEの範囲でサイクリックボルタンメトリーに付した。25サイクル後、カソード電位は-1100mV/NHEであった。これは低い電流反転耐性を示している。比較例2100gのRuに相当する量のRuCl3を数mlの濃硝酸を添加した300mlの氷酢酸中に溶解した。該溶液を温度を50°Cに維持しながら3時間撹拌した。次に、該溶液を10重量の酢酸で500mlの体積にしたルテニウム溶液。別に、100gのPrに相当する量のPrNO32を数mlの濃硝酸を添加した300mlの氷酢酸中に溶解した。該溶液を温度を50°Cに維持しながら3時間撹拌した。次に、該溶液を10重量の酢酸で500mlの体積にした希土類元素溶液。480mlのルテニウム溶液を120mlの希土類元素溶液と混合し、撹拌下で5分間放置した。このようにして得られた溶液を10重量の酢酸で1リットルにした前駆体。ニッケル200の100mm×100mm×0.89mmサイズのメッシュを、コランダムによるブラスト、20HCl中85°Cで2分間のエッチング、及び500°Cで1時間の熱アニールのプロセスに付した。次に前駆体を刷毛塗りにより7層に順次塗布し、各塗層後、80~90°Cで10分間の乾燥処理及び500°Cで10分間の熱分解を実施して、12.6g/m2のRu及び1.49g/m2のPrの堆積を得た。サンプルを性能試験に付したところ、3kA/m2、33NaOH中での水素発生下、90°Cの温度で、抵抗低下補正された初期カソード電位は-932mV/NHEを示した。これは良好な触媒活性を示している。次に、同じサンプルを、10mV/sの掃引速度で、-1~0.5V/NHEの範囲でサイクリックボルタンメトリーに付した。25サイクル後、カソード電位は-1080mV/NHEであった。これは低い電流反転耐性を示している。比較例3100gのRuに相当する量のRuNONO33を数mlの濃硝酸を添加した500mlの37体積塩酸中に溶解した。該溶液を温度を50°Cに維持しながら3時間撹拌した。次に該溶液を10重量の酢酸で500mlの体積にしたルテニウム溶液。別に、100gのPrに相当する量のPrNO32を数mlの濃硝酸を添加した500mlの37体積塩酸中に溶解した。該溶液を温度を50°Cに維持しながら3時間撹拌した希土類元素溶液。480mlのルテニウム溶液を120mlの希土類元素溶液と混合し、撹拌下で5分間放置した。このようにして得られた溶液を1N塩酸で1リットルにした前駆体。ニッケル200の100mm×100mm×0.89mmサイズのメッシュを、コランダムによるブラスト、20HCl中85°Cで2分間のエッチング、及び500°Cで1時間の熱アニールのプロセスに付した。次に前駆体を刷毛塗りにより7層に順次塗布し、各塗層後、80~90°Cで10分間の乾燥処理及び500°Cで10分間の熱分解を実施して、13.5g/m2のRu及び1.60g/m2のPrの堆積を得た。サンプルを性能試験に付したところ、3kA/m2、33NaOH中での水素発生下、90°Cの温度で、抵抗低下補正された初期カソード電位は-930mV/NHEを示した。これは良好な触媒活性を示している。次に、同じサンプルを、10mV/sの掃引速度で、-1~0.5V/NHEの範囲でサイクリックボルタンメトリーに付した。25サイクル後、カソード電位は-1090mV/NHEであった。これは低い電流反転耐性を示している。前述の記載は本発明の制限として意図されたものではない。本発明はその範囲から逸脱することなく異なる態様に従って使用でき、その範囲は専ら添付の特許請求の範囲によって定義される。本願の記載及び特許請求の範囲全体にわたって、含むという用語並びにcomprising及びcomprisesなどのその変形は、他の要素、成分又は追加のプロセスステップの存在を排除しないものとする。