"下記一般式1で表される遷移金属錯体。一般式1式中、Mは元素の周期律表の第4族の遷移金属原子を表し、X1、X2、X3、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18及びR19は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1~20のアルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1~20のアルコキシ基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6~20のアリール基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6~20のアリールオキシ基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7~20のアラルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7~20のアラルキルオキシ基、-SiR2033つのR20はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、3つのR20にある炭素原子数の合計が1~20である。で示される置換シリル基、または-NR2122つのR21はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、2つのR21にある炭素原子数の合計が2~20である。で示される2置換アミノ基を表し、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18及びR19のうち少なくとも一つは、ハロゲン原子、該アルキル基、該アルコキシ基、該アリール基、該アリールオキシ基、該アラルキル基、該アラルキルオキシ基、該置換シリル基または該2置換アミノ基であり、R1、R2、R3及びR4のうち、隣接した2つの炭素原子に結合する2つの基は結合して、該2つの基が結合している2つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、R5、R6、R7、R8及びR9のうち、隣接した2つの炭素原子に結合する2つの基は結合して、該2つの基が結合している2つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、R10、R11、R12、R13及びR14のうち、隣接した2つの炭素原子に結合する2つの基は結合して、該2つの基が結合している2つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、R15、R16、R17、R18及びR19のうち、隣接した2つの炭素原子に結合する2つの基は結合して、該2つの基が結合している2つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい。一般式1におけるMがチタン原子である請求項1に記載の遷移金属錯体。一般式1におけるR2がトリメチルシリル基である請求項1または2に記載の遷移金属錯体。請求項1~3のいずれかに記載の遷移金属錯体からなる三量化用触媒成分。請求項1~3のいずれかに記載の遷移金属錯体と活性化助触媒成分とを接触させて得られる三量化用触媒。活性化助触媒成分が次の化合物Aを含む請求項5に記載の三量化用触媒。化合物A:下記化合物A1、A2およびA3からなる化合物群から選ばれる1種以上のアルミニウム化合物A1:一般式E1aAlG3-aで表される有機アルミニウム化合物A2:一般式{-AlE2-O-}bで表される構造を有する環状のアルミノキサンA3:一般式E3{-AlE3-O-}cAlE32で表される構造を有する線状のアルミノキサン式中、E1、E2およびE3は、炭素原子数1~8のハイドロカルビル基を表し、Gは、水素原子またはハロゲン原子を表し、aは1~3の整数を表し、bは2以上の整数を表し、cは1以上の整数を表す。E1が複数ある場合、複数のE1は互いに同じであっても異なっていてもよい。Gが複数ある場合、複数のGは互いに同じであっても異なっていてもよい。複数のE2は互いに同じであっても異なっていてもよい。複数のE3は互いに同じであっても異なっていてもよい。活性化助触媒成分が次の化合物Bを含む請求項5または6に記載の三量化用触媒。化合物B:下記化合物B1、B2およびB3からなる化合物群から選ばれる1種以上のホウ素化合物B1:一般式BQ1Q2Q3で表されるホウ素化合物B2:一般式TBQ1Q2Q3Q4-で表されるボレート化合物B3:一般式L-HBQ1Q2Q3Q4-で表されるボレート化合物式中、Bは3価の原子価状態のホウ素原子を表し、Q1、Q2、Q3およびQ4は、それぞれ同一または相異なり、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数1~20のハイドロカルビル基、炭素原子数1~20のハイドロカルビルシリル基、炭素原子数1~20のアルコキシ基または炭素原子数2~20のジハイドロカルビルアミノ基を表し、Tは無機または有機のカチオンを表し、L-Hはブレンステッド酸を表す。請求項5~7のいずれかに記載の三量化用触媒の存在下、エチレンを三量化させる1-ヘキセンの製造方法。一般式2[式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18及びR19は前記と同義でありはを表す。]で示される置換シクロペンタジエン化合物と、塩基とを反応させる工程;および前記置換シクロペンタジエン化合物2と塩基との反応物に、以下の一般式3式中、M、X1、X2及びX3は前記と同義であり、X4は、水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1~20のアルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1~20のアルコキシ基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6~20のアリール基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6~20のアリールオキシ基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7~20のアラルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7~20のアラルキルオキシ基、-SiR2033つのR20はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、3つのR20にある炭素原子数の合計が1~20である。で示される置換シリル基、または-NR2122つのR21はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、2つのR21にある炭素原子数の合計が2~20である。で示される2置換アミノ基を表し、mは0または1を表す。で示される遷移金属化合物を反応させる工程を有する、請求項1に記載の一般式1で表される遷移金属錯体の製造方法。一般式4[式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18及びR19は前記と同義であり、Dは、ケイ素原子またはスズ原子であり、R22、R23及びR24は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1~20のアルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1~20のアルコキシ基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6~20のアリール基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6~20のアリールオキシ基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7~20のアラルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7~20のアラルキルオキシ基、-SiR2033つのR20はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、3つのR20にある炭素原子数の合計が1~20である。で示される置換シリル基、または-NR2122つのR21はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、2つのR21にある炭素原子数の合計が2~20であり、はを表す。]で示される置換シクロペンタジエン化合物と以下の一般式3式中、M、X1、X2及びX3は前記と同義であり、X4は、水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1~20のアルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1~20のアルコキシ基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6~20のアリール基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6~20のアリールオキシ基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7~20のアラルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7~20のアラルキルオキシ基、-SiR2033つのR20はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、3つのR20にある炭素原子数の合計が1~20である。で示される置換シリル基、または-NR2122つのR21はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、2つのR21にある炭素原子数の合計が2~20である。で示される2置換アミノ基を表し、mは0または1を表す。で示される遷移金属化合物とを反応させる工程を有する、請求項1に記載の一般式1で表される遷移金属錯体の製造方法。かかる状況のもと、本発明が解決しようとする課題は、エチレンの三量化反応により1-ヘキセンを製造することが可能な触媒成分となる新規な遷移金属錯体を提供することにある。すなわち、本発明の第1は、一般式1で表される遷移金属錯体にかかるものである。式中、Mは元素の周期律表の第4族の遷移金属原子を表し、X1、X2、X3、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18及びR19は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1~20のアルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1~20のアルコキシ基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6~20のアリール基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6~20のアリールオキシ基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7~20のアラルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7~20のアラルキルオキシ基、-SiR2033つのR20はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、3つのR20にある炭素原子数の合計が1~20である。で示される置換シリル基、または-NR2122つのR21はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、2つのR21にある炭素原子数の合計が2~20である。で示される2置換アミノ基を表し、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18及びR19のうち少なくとも一つは、ハロゲン原子、該アルキル基、該アルコキシ基、該アリール基、該アリールオキシ基、該アラルキル基、該アラルキルオキシ基、該置換シリル基または該2置換アミノ基であり、R1、R2、R3及びR4のうち、隣接した2つの炭素原子に結合する2つの基は結合して、該2つの基が結合している2つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、R5、R6、R7、R8及びR9のうち、隣接した2つの炭素原子に結合する2つの基は結合して、該2つの基が結合している2つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、R10、R11、R12、R13及びR14のうち、隣接した2つの炭素原子に結合する2つの基は結合して、該2つの基が結合している2つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、R15、R16、R17、R18及びR19のうち、隣接した2つの炭素原子に結合する2つの基は結合して、該2つの基が結合している2つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい。また、本発明の第2は、前記遷移金属錯体と活性化助触媒成分とを接触させて得られる三量化用触媒にかかるものである。さらに、本発明の第3は、三量化用触媒の存在下、エチレンを三量化させる1-ヘキセンの製造方法にかかるものである。また、本発明の第4は、前記一般式1で表される遷移金属錯体の製造方法にかかるものである。本発明により、エチレンの三量化反応により1-ヘキセンを製造することが可能な触媒成分に好適な遷移金属錯体を提供することができる。本発明において置換基という語は、化合物や基を構成するハロゲン原子を包含したものである。さらに、本発明において、一般式2及び4で表される置換シクロペンタジエン化合物には、各シクロペンタジエニル環の二重結合位置がそれぞれ異なる異性体が存在するが、本発明においては、該置換シクロペンタジエニル化合物は、それらのうちのいずれか、またはそれらの混合物を表わす。<遷移金属錯体1三量化用触媒成分>以下、一般式1で表される遷移金属錯体について詳述する。遷移金属錯体1において、Mは元素周期律表の第4族元素を示し、例えばチタン原子、ジルコニウム原子及びハフニウム原子等が挙げられる。これらの中でも、チタン原子が好ましい。前記遷移金属錯体1において、置換基X1、X2、X3、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18及びR19は上述のとおりの定義であり、その具体例を以下に示す。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子であり、好ましくは塩素原子である。ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1~20のアルキル基の炭素原子数1~20のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、n-ヘキシル基、ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基、n-ドデシル基、n-トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基及びn-エイコシル基などが挙げられる。これらのうち好ましいアルキル基としては、炭素原子数1~10のアルキル基であり、さらに好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、tert-ブチル基及びアミル基等を挙げることができる。また、ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルキル基のハロゲン原子を置換基として有していてもよいとは、アルキル基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数1~20の範囲であると好ましく、炭素原子数1~10の範囲がさらに好ましい。好適なハロゲン原子を置換基として有するアルキル基としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、フルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基等を挙げることができる。ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6~20のアリール基の炭素原子数6~20のアリール基の具体例としては、フェニル基、2-トリル基、3-トリル基、4-トリル基、2,3-キシリル基、2,4-キシリル基、2,5-キシリル基、2,6-キシリル基、3,4-キシリル基、3,5-キシリル基、2,3,4-トリメチルフェニル基、2,3,5-トリメチルフェニル基、2,3,6-トリメチルフェニル基、2,4,6-トリメチルフェニル基、3,4,5-トリメチルフェニル基、2,3,4,5-テトラメチルフェニル基、2,3,4,6-テトラメチルフェニル基、2,3,5,6-テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、n-プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、n-ブチルフェニル基、sec-ブチルフェニル基、tert-ブチルフェニル基、n-ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、n-ヘキシルフェニル基、n-オクチルフェニル基、n-デシルフェニル基、n-ドデシルフェニル基、n-テトラデシルフェニル基、ナフチル基及びアントラセニル基などが挙げられる。これらのうち好ましいアリール基としては、炭素原子数6~10のアリール基であり、さらに好ましはフェニル基を挙げることができる。また、ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリール基のハロゲン原子を置換基として有していてもよいとは、アリール基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数は6~20の範囲であると好ましく、6~10の範囲がさらに好ましい。具体的に好適な、ハロゲン原子を置換基として有するアリール基は、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基等を挙げることができる。ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7~20のアラルキル基の炭素原子数7~20のアラルキル基の具体例としては、ベンジル基、2-メチルフェニルメチル基、3-メチルフェニルメチル基、4-メチルフェニルメチル基、2,3-ジメチルフェニルメチル基、メチル基、メチル基、メチル基、メチル基、メチル基、メチル基、メチル基、メチル基、メチル基、メチル基、メチル基、メチル基、メチル基、メチル基、メチル基、メチル基、メチル基、メチル基、メチル基、メチル基、メチル基、メチル基、メチル基、メチル基、メチル基、メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などが挙げられる。これらのうち好ましいアラルキル基としては、炭素原子数7~10のアラルキル基であり、さらに好ましくはベンジル基を挙げることができる。また、ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアラルキル基のハロゲン原子を置換基として有していてもよいとは、アラルキル基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数は7~20の範囲であると好ましく、7~10の範囲がさらに好ましい。ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1~20のアルコキシ基の炭素原子数1~20のアルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、n-ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、n-ヘキシルオキシ基、n-オクチルオキシ基、n-ノニルオキシ基、n-デシルオキシ基、n-ウンデシルオキシ基、n-ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、n-ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、ノナデシルオキシ基、n-エイコシルオキシ基などが挙げられる。これらのうち好ましいアルコキシ基としては、炭素原子数1~10のアルコキシ基であり、さらに好ましくはメトキシ基、エトキシ基及びtert-ブトキシ基を挙げることができる。また、ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルコキシ基のハロゲン原子を置換基として有していてもよいとは、アルコキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数1~20の範囲であると好ましく、1~10の範囲がさらに好ましい。ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数2~20のアルコキシ基の炭素原子数2~20のアルコキシ基の具体例としては、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、n-ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、n-ヘキシルオキシ基、n-オクチルオキシ基、n-ノニルオキシ基、n-デシルオキシ基、n-ウンデシルオキシ基、n-ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、n-ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、ノナデシルオキシ基、n-エイコシルオキシ基などが挙げられる。これらのうち好ましいアルコキシ基としては、炭素原子数2~10のアルコキシ基であり、さらに好ましくはエトキシ基及びtert-ブトキシ基を挙げることができる。また、ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルコキシ基のハロゲン原子を置換基として有していてもよいとは、アルコキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数2~20の範囲であると好ましく、2~10の範囲がさらに好ましい。ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6~20のアリールオキシ基の炭素原子数6~20のアリールオキシ基の具体例としては、フェノキシ基、2-メチルフェノキシ基、3-メチルフェノキシ基、4-メチルフェノキシ基、2,3-ジメチルフェノキシ基、2,4-ジメチルフェノキシ基、2,5-ジメチルフェノキシ基、2,6-ジメチルフェノキシ基、3,4-ジメチルフェノキシ基、3,5-ジメチルフェノキシ基、2,3,4-トリメチルフェノキシ基、2,3,5-トリメチルフェノキシ基、2,3,6-トリメチルフェノキシ基、2,4,5-トリメチルフェノキシ基、2,4,6-トリメチルフェノキシ基、3,4,5-トリメチルフェノキシ基、2,3,4,5-テトラメチルフェノキシ基、2,3,4,6-テトラメチルフェノキシ基、2,3,5,6-テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、n-プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、n-ブチルフェノキシ基、sec-ブチルフェノキシ基、tert-ブチルフェノキシ基、n-ヘキシルフェノキシ基、n-オクチルフェノキシ基、n-デシルフェノキシ基、n-テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基及びアントラセノキシ基などが挙げられる。これらのうち好ましいアリールオキシ基としては、炭素原子数6~10のアリールオキシ基であり、さらに好ましくはフェノキシ基、2-メチルフェノキシ基、3-メチルフェノキシ基、4-メチルフェノキシ基を挙げることができる。また、ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリールオキシ基のハロゲン原子を置換基として有していてもよいとは、アリールオキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数は6~20の範囲であると好ましく、6~10の範囲がさらに好ましい。ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7~20のアラルキルオキシ基の炭素原子数7~20のアラルキルオキシ基の具体例としては、ベンジルオキシ基、メトキシ基、メトキシ基、メトキシ基、メトキシ基、メトキシ基、メトキシ基、メトキシ基、メトキシ基、メトキシ基、メトキシ基、メトキシ基、メトキシ基、メトキシ基、メトキシ基、メトキシ基、メトキシ基、メトキシ基、メトキシ基、メトキシ基、メトキシ基、メトキシ基、メトキシ基、メトキシ基、メトキシ基、メトキシ基、メトキシ基、メトキシ基、メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基などが挙げられる。これらのうち好ましいアラルキルオキシ基としては、炭素原子数7~10のアラルキルオキシ基であり、さらに好ましくはベンジルオキシ基を挙げることができる。また、ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアラルキルオキシ基のハロゲン原子を置換基として有していてもよいとは、アラルキルオキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数は7~20の範囲であると好ましく、7~10の範囲がさらに好ましい。-SiR2033つのR20はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、3つのR20にある炭素原子数の合計が1~20である。で示される置換シリル基において、R20はそれぞれ独立に、水素原子;炭素原子数1~10のアルキル基メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、イソブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、シクロヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基など、アリール基フェニル基などなどのハイドロカルビル基;ハイドロカルビル基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わったハロゲン化ハイドロカルビル基であり、3つのR20の炭素原子数の合計が1~20の範囲である。この3つのR20の炭素原子数の合計は3~18の範囲が好ましい。該置換シリル基の具体例としては、メチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を1つ有する1置換シリル基;ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基及び/又はハロゲン化ハイドロカルビル基を2つ有する2置換シリル基;トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ-n-プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ-n-ブチルシリル基、トリ-sec-ブチルシリル基、トリ-tert-ブチルシリル基、トリ-イソブチルシリル基、tert-ブチル-ジメチルシリル基、トリ-n-ペンチルシリル基、トリ-n-ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基及び/又はハロゲン化ハイドロカルビル基を3つ有する3置換シリル基などが挙げられる。これらのうち好ましくは3置換シリル基であり、さらに好ましくはトリメチルシリル基、tert-ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基である。-NR2122つのR21はそれぞれ独立にハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、2つのR21にある炭素原子数の合計が2~20である。で示される2置換アミノ基において、R21はそれぞれ独立に、ハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、2つのR21の炭素原子数の合計が2~20の範囲であり、2~10の範囲がさらに好ましい。かかるハイドロカルビル基およびハロゲン化ハイドロカルビル基は、前記置換シリル基のハイドロカルビル基およびハロゲン化ハイドロカルビル基として説明したものと同じである。また、この2つのR21は互いに結合して、これらが結合している窒素原子と一緒になって環を形成していてもよい。かかる2置換アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ-n-プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ-n-ブチルアミノ基、ジ-sec-ブチルアミノ基、ジ-tert-ブチルアミノ基、ジ-イソブチルアミノ基、tert-ブチルイソプロピルアミノ基、ジ-n-ヘキシルアミノ基、ジ-n-オクチルアミノ基、ジ-n-デシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビストリメチルシリルアミノ基、ビス-tert-ブチルジメチルシリルアミノ基、ピロリル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、カルバゾリル基、ジヒドロインドリル基、ジヒドロイソインドリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などが挙げられる。これらのうち、好ましくはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基である。R1、R2、R3及びR4のうち、隣接した2つの炭素原子に結合する基同士は結合して、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、R5、R6、R7、R8及びR9のうち、隣接した2つの炭素原子に結合する基同士は結合して、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、R10、R11、R12、R13及びR14のうち、隣接した2つの炭素原子に結合する基同士は結合して、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、R15、R16、R17、R18及びR19のうち、隣接した2つの炭素原子に結合する基同士は結合して、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい。ここでいう環とは、炭素原子数1~20のハイドロカルビル基で置換された、飽和もしくは不飽和のハイドロカルビル環などである。その具体例としては、シクロプロパン環、シクロプロペン環、シクロブタン環、シクロブテン環、シクロペンタン環、シクロペンテン環、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環、シクロヘプタン環、シクロヘプテン環、シクロオクタン環、シクロオクテン環、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環である。R1、R2、R3及びR4の具体例としては、その部分構造式5式中、R1、R2、R3及びR4は前記と同じ意味を表す。において、例えば、次のような部分構造を挙げることができる。シクロペンタジエニル、メチルシクロペンタジエニル、エチルシクロペンタジエニル、n-プロピルシクロペンタジエニル、イソプロピルシクロペンタジエニル、n-ブチルシクロペンタジエニル、sec-ブチルシクロペンタジエニル、tert-ブチルシクロペンタジエニル、ジメチルシクロペンタジエニル、トリメチルシクロペンタジエニル、テトラメチルシクロペンタジエニル、フェニルシクロペンタジエニル、ベンジルシクロペンタジエニル、インデニル、フルオレニル、テトラヒドロインデニル、メチルテトラヒドロインデニル、ジメチルテトラヒドロインデニル、オクタヒドロフルオレニル、ここに例示したシクロペンタジエニル部分構造のうち、好ましいシクロペンタジエニル部分構造はテトラメチルシクロペンタジエニルなどである。R5、R6、R7、R8及びR9の好ましい組み合わせとしては、その部分構造式6式中、R5、R6、R7、R8及びR9は前記と同じ意味を表す。、R10、R11、R12、R13及びR14の好ましい組み合わせとしては、その部分構造式7式中、R10、R11、R12、R13及びR14は前記と同じ意味を表す。、およびR15、R16、R17、R18及びR19の好ましい組み合わせとしては、その部分構造式8式中、R17、R18、R19、R20及びR21は前記と同じ意味を表す。において、それぞれ独立に、例えば、次のような部分構造を挙げることができる。フェニル、メチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、テトラメチルフェニル、ペンタメチルフェニル、エチルフェニル、ジエチルフェニル、イソプロピルフェニル、ジイソプロピルフェニル、tert-ブチルフェニル、ジ-tert-ブチルフェニル、tert-ブチルメチルフェニル、ジtert-ブチルメチルフェニル、ナフチル、アントラセニル、クロロフェニル、ジクロロフェニル、フルオロフェニル、ペンタフルオロフェニル、ビストリフルオロメチルフェニル、ビフェニル、ベンジルフェニル、メトキシフェニル、フェノキシフェニル、ベンジルオキシフェニル、トリメチルシリルフェニル、ジメチルアミノフェニルここに例示した部分構造のうち、より好ましい部分構造はフェニル、メチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、ジエチルフェニル、トリメチルシリルフェニルなどである。遷移金属錯体1を具体的に例示すると、次のような錯体を挙げることができる。[1-トリフェニルメチル-2-メチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリフェニルメチル-3-メチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリフェニルメチル-2,3-ジメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリフェニルメチル-2,4-ジメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリフェニルメチル-3,4-ジメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリフェニルメチル-2,3,4-トリメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリフェニルメチル-2,3,5-トリメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリフェニルメチル-2,3,4,5-テトラメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリフェニルメチル-2-エチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリフェニルメチル-3-エチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリフェニルメチル-2-n-プロピル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリフェニルメチル-3-n-プロピル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリフェニルメチル-2-イソプロピル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリフェニルメチル-3-イソプロピル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリフェニルメチル-2-n-ブチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリフェニルメチル-3-n-ブチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリフェニルメチル-2-sec-ブチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリフェニルメチル-3-sec-ブチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリフェニルメチル-2-tert-ブチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリフェニルメチル-3-tert-ブチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリフェニルメチル-2-フェニル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリフェニルメチル-3-フェニル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリフェニルメチル-2-ベンジル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリフェニルメチル-3-ベンジル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリフェニルメチル-インデニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリフェニルメチル-2-メチルインデニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリフェニルメチル-テトラヒドロインデニル]チタニウムトリクロライド、[9-トリフェニルメチル-フルオレニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリフェニルメチル-2-メチルテトラヒドロインデニル]チタニウムトリクロライド、[9-トリフェニルメチル-オクタヒドロフルオレニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリメチルシリル-3-トリフェニルメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリエチルシリル-3-トリフェニルメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリイソプロピルシリル-3-トリフェニルメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-tert-ブチルジメチルシリル-3-トリフェニルメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-メチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-メチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-2,3-ジメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-2,4-ジメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-3,4-ジメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-2,3,4-トリメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-2,3,5-トリメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-2,3,4,5-テトラメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-エチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-エチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-n-プロピル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-n-プロピル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-イソプロピル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-イソプロピル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-n-ブチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-n-ブチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-sec-ブチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-sec-ブチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-tert-ブチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-tert-ブチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-フェニル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-フェニル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-ベンジル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-ベンジル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-インデニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-メチルインデニル]チタニウムトリクロライド、[9-トリ3-メチルフェニルメチル-フルオレニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-テトラヒドロインデニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-メチルテトラヒドロインデニル]チタニウムトリクロライド、[9-トリ3-メチルフェニルメチル-オクタヒドロフルオレニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリメチルシリル-3-トリ3-メチルフェニルメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリエチルシリル-3-トリ3-メチルフェニルメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリイソプロピルシリル-3-トリ3-メチルフェニルメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-tert-ブチルジメチルシリル-3-トリ3-メチルフェニルメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-メチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-メチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2,3-ジメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2,4-ジメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3,4-ジメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2,3,4-トリメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2,3,5-トリメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2,3,4,5-テトラメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-エチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-エチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-n-プロピル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-n-プロピル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-イソプロピル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-イソプロピル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-n-ブチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-n-ブチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-sec-ブチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-sec-ブチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-tert-ブチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-tert-ブチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-フェニル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-フェニル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-ベンジル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-ベンジル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-インデニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-メチルインデニル]チタニウムトリクロライド、[9-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-フルオレニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-テトラヒドロインデニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-メチルテトラヒドロインデニル]チタニウムトリクロライド、[9-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-オクタヒドロフルオレニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリメチルシリル-3-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリエチルシリル-3-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリイソプロピルシリル-3-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-tert-ブチルジメチルシリル-3-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、などの塩素化チタン錯体が挙げられる。また、ここに例示する錯体において、チタニウムをジルコニウムに置き換えた塩素化ジルコニウム錯体、又はハフニウムに置き換えた塩素化ハフニウム錯体などの塩素化遷移金属錯体、クロライドをフルオリドに置き換えたフッ素化チタン錯体、ブロマイドに置き換えた臭素化チタン錯体、アイオダイドに置き換えたヨウ素化チタン錯体などのハロゲン化チタン錯体、ハイドライドに置き換えた水素化チタン錯体、メチルに置き換えたメチル化チタン錯体などのアルキル化チタン錯体、フェニルに置き換えたフェニル化チタン錯体などのアリール化チタン錯体、ベンジルに置き換えたベンジル化チタン錯体などのアラルキル化チタン錯体、メトキシドに置き換えたメトキシ化チタン錯体、n-ブトキシドに置き換えたn-ブトキシ化チタン錯体、イソプロポキシドに置き換えたイソプロポキシ化チタン錯体などのアルコキシ化チタン錯体、フェノキシドに置き換えたフェノキシ化チタン錯体などのアリールオキシ化チタン錯体、ベンジロキシドに置き換えたベンジロキシ化チタン錯体などのアラルキルオキシ化チタン錯体、ジメチルアミドに置き換えたジメチルアミド化チタン錯体、ジエチルアミドに置き換えたジエチルアミド化チタン錯体などのアミド化チタン錯体も同様に例示される。式1の遷移金属錯体として、好ましくは、[1-トリメチルシリル-3-トリフェニルメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリメチルシリル-3-トリ3-メチルフェニルメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1-トリメチルシリル-3-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、などが挙げられる。<遷移金属錯体1の製造方法>遷移金属錯体1は例えば、式2[式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18及びR19は前記と同義でありはを表す。]で示される置換シクロペンタジエン化合物以下、置換シクロペンタジエン化合物2と略すと、塩基とを反応させる工程;および前記置換シクロペンタジエン化合物2と塩基との反応物に、以下の一般式3式中、M、X1、X2及びX3は前記と同義であり、X4は、水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1~20のアルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1~20のアルコキシ基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6~20のアリール基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6~20のアリールオキシ基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7~20のアラルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7~20のアラルキルオキシ基、-SiR2033つのR20はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、3つのR20にある炭素原子数の合計が1~20である。で示される置換シリル基、または-NR2122つのR21はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、2つのR21にある炭素原子数の合計が2~20である。で示される2置換アミノ基を表し、mは0または1を表す。で示される遷移金属化合物を反応させる工程を有する製造方法により製造することができる。以下、前記置換シクロペンタジエン化合物2と塩基とを反応させる工程を第1反応工程、前記置換シクロペンタジエン化合物2と塩基との反応物に、遷移金属化合物3を反応させる工程を第2反応工程ということがある。前記置換シクロペンタジエン化合物2において、そのシクロペンタジエン環の二重結合の位置が異なる異性体は以下の構造異性体のことである。置換シクロペンタジエニル化合物2には、各シクロペンタジエニル環の二重結合位置がそれぞれ異なる異性体が存在するが、本発明においてはそれらのうちのいずれか、またはそれらの混合物を表わす。置換シクロペンタジエン化合物2としては、例えば、次のような化合物を挙げることができる。1-トリフェニルメチル-2-メチル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-3-メチル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-2,3-ジメチル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-2,4-ジメチル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-3,4-ジメチル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-2,3,4-トリメチル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-2,3,5-トリメチル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-2,3,4,5-テトラメチル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-2-エチル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-3-エチル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-2-n-プロピル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-3-n-プロピル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-2-イソプロピル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-3-イソプロピル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-2-n-ブチル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-3-n-ブチル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-2-sec-ブチル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-3-sec-ブチル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-2-tert-ブチル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-3-tert-ブチル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-2-フェニル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-3-フェニル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-2-ベンジル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-3-ベンジル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-インデン、1-トリフェニルメチル-2-メチルインデン、9-トリフェニルメチル-フルオレン、1-トリフェニルメチル-テトラヒドロインデン、1-トリフェニルメチル-2-メチルテトラヒドロインデン、9-トリフェニルメチル-オクタヒドロフルオレン1-トリ3-メチルフェニルメチル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-メチル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-メチル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2,3-ジメチル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2,4-ジメチル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-3,4-ジメチル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2,3,4-トリメチル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2,3,5-トリメチル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2,3,4,5-テトラメチル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-エチル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-エチル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-n-プロピル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-n-プロピル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-イソプロピル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-イソプロピル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-n-ブチル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-n-ブチル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-sec-ブチル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-sec-ブチル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-tert-ブチル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-tert-ブチル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-フェニル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-フェニル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-ベンジル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-ベンジル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-インデン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-メチルインデン、9-トリ3-メチルフェニルメチル-フルオレン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-テトラヒドロインデン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-メチルテトラヒドロインデン、9-トリ3-メチルフェニルメチル-オクタヒドロフルオレン1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-メチル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-メチル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2,3-ジメチル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2,4-ジメチル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3,4-ジメチル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2,3,4-トリメチル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2,3,5-トリメチル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2,3,4,5-テトラメチル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-エチル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-エチル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-n-プロピル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-n-プロピル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-イソプロピル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-イソプロピル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-n-ブチル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-n-ブチル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-sec-ブチル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-sec-ブチル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-tert-ブチル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-tert-ブチル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-フェニル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-フェニル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-ベンジル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-ベンジル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-インデン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-メチルインデン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-テトラヒドロインデン、9-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-フルオレン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-メチルテトラヒドロインデン、9-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-オクタヒドロフルオレン前記遷移金属化合物3において、置換基X4は上述のとおりの定義であり、その具体例としてはX1、X2及びX3で挙げたものと同様のものを挙げることができる。前記遷移金属化合物3としては、例えば、四塩化チタン、三塩化チタン、四臭化チタン、四ヨウ化チタンなどのハロゲン化チタン;テトラキスジメチルアミノチタン、ジクロロビスジメチルアミノチタン、トリクロロジメチルアミノチタン、テトラキスジエチルアミノチタンなどのアミドチタン;テトライソプロポキシチタン、テトラ-n-ブトキシチタン、ジクロロジイソプロポキシチタン、トリクロロイソプロポキシチタンなどのアルコキシチタンなどが挙げられる。また、これらの各化合物のチタンをジルコニウム又はハフニウムに置き換えた化合物などが挙げられる。これらのうち、好ましい遷移金属化合物3は四塩化チタンである。前記第1反応工程において、置換シクロペンタジエン化合物2と反応させる塩基としては、例えば、メチルリチウム、エチルリチウム、n-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、tert-ブチルリチウム、リチウムトリメチルシリルアセチリド、リチウムアセチリド、トリメチルシリルメチルリチウム、ビニルリチウム、フェニルリチウム及びアリルリチウムなどの有機リチウム化合物に代表される有機アルカリ金属化合物などが挙げられる。塩基の使用量は、置換シクロペンタジエニル化合物21モルあたり、0.5~5モルの範囲であればよい。前記第1反応工程における置換シクロペンタジエン化合物2と塩基との反応においては、前記有機アルカリ金属化合物と共にアミン化合物を用いていもよい。かかるアミン化合物としては、例えば、メチルアミン、エチルアミン、n-プロピルアミン、イソプロピルアミン、n-ブチルアミン、tert-ブチルアミン、n-オクチルアミン、n-デシルアミン、アニリン、エチレンジアミンなどの第1級アミン化合物;ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ-n-プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジ-n-ブチルアミン、ジ-tert-ブチルアミン、ジ-n-オクチルアミン、ジ-n-デシルアミン、ピロリジン、ヘキサメチルジシラザン、ジフェニルアミンなどの第2級アミン化合物;トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ-n-プロピルアミン、トリ-n-ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ-n-オクチルアミン、トリ-n-デシルアミン、トリフェニルアミン、N,N-ジメチルアニリン、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン、N-メチルピロリジン、4-ジメチルアミノピリジンなどの第3級アミン化合物;が挙げられる。かかるアミン化合物の使用量は、有機アルカリ金属化合物1モルあたりに、10モル以下であると好ましく、0.5~10モルの範囲であるとより好ましく、1~5モルの範囲であるとさらに好ましい。前記第1反応工程において、置換シクロペンタジエン化合物2と塩基とを反応させる際には溶媒の存在下で反応させることが好ましい。また、溶媒を用いるときには、該溶媒中で置換シクロペンタジエン化合物2及び塩基を反応させた後、この反応混合物中に遷移金属化合物3を加えることにより、置換シクロペンタジエン化合物2及び塩基の反応物に、遷移金属化合物3をさらに反応させることができる。なお、置換シクロペンタジエン化合物2及び塩基を反応させた反応混合物には固体が析出することがあるが、この場合には、析出した固体が溶解するまで溶媒を追加したり、析出した固体をろ過等により、一旦分離してもよく、分離した固体に溶媒を加えて溶解させたり、懸濁させた後で、遷移金属化合物3を加えてもよい。また、溶媒を用いる場合、該溶媒に置換シクロペンタジエン化合物2、塩基及び遷移金属化合物3を同時に加えることにより、第1反応工程と第2反応工程とを略同時に実施することもできる。第1反応工程又は、第1反応工程及び第2反応工程に用いる溶媒は、これらの工程に係る反応の進行を著しく妨げない不活性な溶媒が用いられる。かかる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエンなどの芳香族ハイドロカルビル系溶媒;ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族ハイドロカルビル系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサンなどのエーテル系溶媒;ヘキサメチルホスホリックアミド、ジメチルホルムアミドなどのアミド系溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリル、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどの極性溶媒;ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒といった非プロトン性溶媒などが例示される。かかる溶媒は単独もしくは2種以上を混合して用いることができ、その使用量は、置換シクロペンタジエン化合物21重量部にあたり、1~200重量部が好ましく、3~50重量部がさらに好ましい。遷移金属化合物3の使用量は、置換シクロペンタジエン化合物21モルあたり、0.5~3モルの範囲が好ましく、0.7~1.5モルの範囲がさらに好ましい。第1反応工程及び第2反応工程における反応温度は、-100°C以上、溶媒の沸点以下であればよく、好ましくは-80~100°Cの範囲である。かくして第1反応工程及び第2反応工程を経て得られた反応混合物からは各種公知の精製方法により、生成した遷移金属錯体1を取り出すことができる。例えば、第1反応工程及び第2反応工程の後に、生成した沈殿を濾別後、濾液を濃縮して遷移金属錯体を析出させた後、これを濾取する方法などによって目的の遷移金属錯体1を得ることができる。<遷移金属錯体1の製造方法>遷移金属錯体1は例えば、式4[式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18及びR19は前記と同義であり、Dは、ケイ素原子またはスズ原子であり、R22、R23及びR24は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1~20のアルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1~20のアルコキシ基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6~20のアリール基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6~20のアリールオキシ基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7~20のアラルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7~20のアラルキルオキシ基、-SiR2033つのR20はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、3つのR20にある炭素原子数の合計が1~20である。で示される置換シリル基、または-NR2122つのR21はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、2つのR21にある炭素原子数の合計が2~20であり、はを表す。]で示される置換シクロペンタジエン化合物以下、置換シクロペンタジエン化合物4と略す以下の一般式3式中、M、X1、X2及びX3は前記と同義であり、X4は、水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1~20のアルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1~20のアルコキシ基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6~20のアリール基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6~20のアリールオキシ基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7~20のアラルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7~20のアラルキルオキシ基、-SiR2033つのR20はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、3つのR20にある炭素原子数の合計が1~20である。で示される置換シリル基、または-NR2122つのR21はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、2つのR21にある炭素原子数の合計が2~20である。で示される2置換アミノ基を表し、mは0または1を表す。で示される遷移金属化合物を反応させる工程を有する製造方法により製造することができる。前記置換シクロペンタジエン化合物4において、そのシクロペンタジエン環の二重結合の位置が異なる異性体は以下の構造異性体のことである。置換シクロペンタジエン化合物4には、各シクロペンタジエニル環の二重結合位置がそぞれ異なる異性体が存在するが、本発明においてはそれらのうちのいずれか、またはそれらの混合物を表わす。置換シクロペンタジエン化合物4において、Dはケイ素原子またはスズ原子である。これらの中でも、ケイ素原子が好ましい。置換シクロペンタジエン化合物4としては、例えば、次のような化合物を挙げることができる。1-トリフェニルメチル-2-メチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-3-メチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-2,3-ジメチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-2,4-ジメチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-3,4-ジメチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-2,3,4-トリメチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-2,3,5-トリメチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-2,3,4,5-テトラメチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-2-エチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-3-エチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-2-n-プロピル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-3-n-プロピル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-2-イソプロピル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-3-イソプロピル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-2-n-ブチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-3-n-ブチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-2-sec-ブチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-3-sec-ブチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-2-tert-ブチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-3-tert-ブチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-2-フェニル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-3-フェニル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-2-ベンジル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-3-ベンジル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリフェニルメチル-3-トリメチルシリル-インデン、1-トリフェニルメチル-2-メチル-3-トリメチルシリル-インデン、9-トリフェニルメチル-9-トリメチルシリル-フルオレン、1-トリフェニルメチル-3-トリメチルシリル-テトラヒドロインデン、1-トリフェニルメチル-2-メチル-3-トリメチルシリル-テトラヒドロインデン、9-トリフェニルメチル-9-トリメチルシリル-オクタヒドロフルオレン1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-メチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-メチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2,3-ジメチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2,4-ジメチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-3,4-ジメチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2,3,4-トリメチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2,3,5-トリメチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2,3,4,5-テトラメチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-エチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-エチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-n-プロピル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-n-プロピル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-イソプロピル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-イソプロピル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-n-ブチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-n-ブチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-sec-ブチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-sec-ブチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-tert-ブチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-tert-ブチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-フェニル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-フェニル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-ベンジル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-ベンジル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-トリメチルシリル-インデン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-メチル-3-トリメチルシリル-インデン、9-トリ3-メチルフェニルメチル-9-トリメチルシリル-フルオレン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-3-トリメチルシリル-テトラヒドロインデン、1-トリ3-メチルフェニルメチル-2-メチル-3-トリメチルシリル-テトラヒドロインデン、9-トリ3-メチルフェニルメチル-9-トリメチルシリル-オクタヒドロフルオレン1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-メチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-メチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2,3-ジメチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2,4-ジメチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3,4-ジメチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2,3,4-トリメチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2,3,5-トリメチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2,3,4,5-テトラメチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-エチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-エチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-n-プロピル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-n-プロピル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-イソプロピル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-イソプロピル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-n-ブチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-n-ブチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-sec-ブチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-sec-ブチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-tert-ブチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-tert-ブチル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-フェニル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-フェニル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-ベンジル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-ベンジル-3-トリメチルシリル-シクロペンタジエン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-トリメチルシリル-インデン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-メチル-3-トリメチルシリル-インデン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-3-トリメチルシリル-テトラヒドロインデン、9-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-9-トリメチルシリル-フルオレン、1-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-2-メチル-3-トリメチルシリル-テトラヒドロインデン、9-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-9-トリメチルシリル-オクタヒドロフルオレンなどのトリメチルシリル置換シクロペンタジエン化合物が挙げられる。また、ここに例示する錯体において、トリメチルシリルをトリエチルシリルに置き換えたトリエチルシリル置換シクロペンタジエン化合物、又はtert-ブチルジメチルシリルに置き換えたtert-ブチルジメチルシリル置換シクロペンタジエン化合物、トリイソプロピルシリルに置き換えたトリイソプロピルシリル置換シクロペンタジエン化合物、クロロジメチルシリルに置き換えたクロロジメチルシリル置換シクロペンタジエン化合物、ジクロロメチルシリルに置き換えたジクロロメチルシリル置換シクロペンタジエン化合物、トリクロロシリルに置き換えたトリクロロシリル置換シクロペンタジエン化合物、トリメチルスズに置き換えたトリメチルスズ置換シクロペンタジエン化合物、トリ-n-ブチルスズに置き換えたトリ-n-ブチルスズ置換シクロペンタジエン化合物も同様に例示される。置換シクロペンタジエン化合物4と遷移金属錯体3とを反応させる際には溶媒の存在下で反応させることが好ましい。また、溶媒を用いるときには、該溶媒中で置換シクロペンタジエン化合物4に遷移金属化合物3を加えることにより反応させることができる。また、溶媒を用いる場合、該溶媒に置換シクロペンタジエン化合物4及び遷移金属化合物3を同時に加えることもできる。用いる溶媒は、これらの工程に係る反応の進行を著しく妨げない不活性な溶媒が用いられる。かかる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエンなどの芳香族ハイドロカルビル系溶媒;ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族ハイドロカルビル系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサンなどのエーテル系溶媒;ヘキサメチルホスホリックアミド、ジメチルホルムアミドなどのアミド系溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリル、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどの極性溶媒;ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒といった非プロトン性溶媒などが例示される。かかる溶媒は単独もしくは2種以上を混合して用いることができ、その使用量は、置換シクロペンタジエン化合物41重量部にあたり、1~200重量部が好ましく、3~50重量部がさらに好ましい。遷移金属化合物3の使用量は、置換シクロペンタジエン化合物41モルあたり、0.5~3モルの範囲が好ましく、0.7~1.5モルの範囲がさらに好ましい。反応温度は、-100°C以上、溶媒の沸点以下であればよく、好ましくは-80~100°Cの範囲である。かくして得られた反応混合物からは各種公知の精製方法により、生成した遷移金属錯体1を取り出すことができる。例えば、生成した沈殿を濾別後、濾液を濃縮して遷移金属錯体を析出させた後、これを濾取する方法などによって目的の遷移金属錯体1を得ることができる。<活性化助触媒成分>活性化助触媒成分としては、次の化合物A及び化合物Bを挙げることができる。化合物Aと化合物Bを併用してもよい。化合物A:下記化合物A1、A2およびA3からなる化合物群から選ばれる1種以上のアルミニウム化合物A1:一般式E1aAlG3-aで表される有機アルミニウム化合物A2:一般式{-AlE2-O-}bで表される構造を有する環状のアルミノキサンA3:一般式E3{-AlE3-O-}cAlE32で表される構造を有する線状のアルミノキサン式中、E1、E2およびE3は、炭素原子数1~8のハイドロカルビル基を表し、Gは、水素原子またはハロゲン原子を表し、aは1~3の整数を表し、bは2以上の整数を表し、cは1以上の整数を表す。E1が複数ある場合、複数のE1は互いに同じであっても異なっていてもよい。Gが複数ある場合、複数のGは互いに同じであっても異なっていてもよい。複数のE2は互いに同じであっても異なっていてもよい。複数のE3は互いに同じであっても異なっていてもよい。化合物B:下記化合物B1、B2およびB3からなる化合物群から選ばれる1種以上のホウ素化合物B1:一般式BQ1Q2Q3で表されるホウ素化合物B2:一般式TBQ1Q2Q3Q4-で表されるボレート化合物B3:一般式L-HBQ1Q2Q3Q4-で表されるボレート化合物式中、Bは3価の原子価状態のホウ素原子を表し、Q1、Q2、Q3およびQ4は、それぞれ同一または相異なり、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数1~20のハイドロカルビル基、炭素原子数1~20のハイドロカルビルシリル基、炭素原子数1~20のアルコキシ基または炭素原子数2~20のジハイドロカルビルアミノ基を表し、Tは無機または有機のカチオンを表し、L-Hはブレンステッド酸を表す。化合物A1~A3において、E1、E2およびE3における炭素原子数1~8のハイドロカルビル基としては、例えば、炭素原子数1~8のアルキルなどが挙げられ、炭素原子数1~8のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基、ネオペンチル基などが挙げられる。一般式E1aAlG3-aで表される有機アルミニウム化合物A1としては、例えば、トリアルキルアルミニウム、ジアルキルアルミニウムクロライド、アルキルアルミニウムジクロライド、ジアルキルアルミニウムハイドライドなどが挙げられ、トリアルキルアルミニウムとしては、例えば、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウムなどが挙げられ、ジアルキルアルミニウムクロライドとしては、例えば、ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジプロピルアルミニウムクロライド、ジイソブチルアルミニウムクロライド、ジヘキシルアルミニウムクロライドなどが挙げられ、アルキルアルミニウムジクロライドとしては、例えば、メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、プロピルアルミニウムジクロライド、イソブチルアルミニウムジクロライド、ヘキシルアルミニウムジクロライドなどが挙げられ、ジアルキルアルミニウムハイドライドとしては、例えば、ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジプロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジヘキシルアルミニウムハイドライドなどが挙げられる。A2:式{-AlE2-O-}bで表される構造を有する環状のアルミノキサン又はA3式E3{-AlE3-O-}cAlE32で表される構造を有する線状のアルミノキサンにおけるE2及びE3としては、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基及びネオペンチル基等のアルキル基があげられる。bは2以上の整数であり、cは1以上の整数である。好ましくは、E2及びE3はそれぞれ独立にメチル基又はイソブチル基であり、bは2~40であり、cは1~40である。上記のアルミノキサンは各種の方法で作られる。その方法については特に制限はなく、公知の方法に準じて作ればよい。例えば、トリアルキルアルミニウム例えば、トリメチルアルミニウムなどを適当な有機溶剤ベンゼン、脂肪族ハイドロカルビルなどに溶かした溶液を水と接触させて作る。また、トリアルキルアルミニウム例えば、トリメチルアルミニウムなどを結晶水を含んでいる金属塩例えば、硫酸銅水和物などに接触させて作る方法が例示できる。化合物B1~B3において、Q1、Q2、Q3およびQ4は、好ましくは、ハロゲン原子またはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数1~20のハイドロカルビル基である。Tにおける無機のカチオンとしては、例えば、フェロセニウムカチオン、アルキル置換フェロセニウムカチオン、銀陽イオンなどが挙げられ、有機のカチオンとしては、例えば、トリフェニルメチルカチオンなどが挙げられる。BQ1Q2Q3Q4-としては、例えば、テトラキスペンタフルオロフェニルボレート、テトラキス2,3,5,6-テトラフルオロフェニルボレート、テトラキス2,3,4,5-テトラフルオロフェニルボレート、テトラキス3,4,5-トリフルオロフェニルボレート、テトラキス2,3,4-トリフルオロフェニルボレート、フェニルトリスペンタフルオロフェニルボレ-ト、テトラキス3,5-ビストリフルオロメチルフェニルボレートなどが挙げられる。ブレンステッド酸であるL-Hとしては、例えば、トリアルキル置換アンモニウム、N,N-ジアルキルアニリニウム、ジアルキルアンモニウム、トリアリールホスホニウムなどが挙げられる。一般式BQ1Q2Q3で表されるホウ素化合物B1としては、例えば、トリスペンタフルオロフェニルボラン、トリス2,3,5,6-テトラフルオロフェニルボラン、トリス2,3,4,5-テトラフルオロフェニルボラン、トリス3,4,5-トリフルオロフェニルボラン、トリス2,3,4-トリフルオロフェニルボラン、フェニルビスペンタフルオロフェニルボランなどが挙げられる。一般式TBQ1Q2Q3Q4-で表されるボレート化合物B2としては、例えば、フェロセニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、1,1’-ビス-トリメチルシリルフェロセニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、銀テトラキスペンタフルオロフェニルボレート、トリフェニルメチルテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、トリフェニルメチルテトラキス3,5-ビストリフルオロメチルフェニルボレートなどを挙げられる。一般式L-HBQ1Q2Q3Q4-で表されるボレート化合物B3としては、例えば、トリエチルアンモニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、トリノルマルブチルアンモニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、トリノルマルブチルアンモニウムテトラキス3,5-ビストリフルオロメチルフェニルボレート、N,N-ジメチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、N,N-ビス-トリメチルシリルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、N,N-ジエチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、N,N-2,4,6-ペンタメチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、N,N-ビス-トリメチルシリルアニリニウムテトラキス3,5-ビストリフルオロメチルフェニルボレート、ジイソプロピルアンモニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、トリフェニルホスホニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、トリメチルフェニルホスホニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、トリビス-トリメチルシリルフェニルホスホニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、トリジメチルフェニルホスホニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレートなどが挙げられる。<三量化用触媒>本発明の三量化用触媒とは、上記の遷移金属錯体1と活性化助触媒成分とを接触させて得られ三量化用触媒であり、エチレンを三量化させて1-ヘキセンを製造することができる触媒である。かかる活性化助触媒成分としては上記の化合物A及び化合物Bを挙げることができる。また化合物Aと化合物Bを併用してもよい。各触媒成分の使用量としては、化合物Aアルミニウム原子換算と触媒成分として使用する遷移金属錯体1のモル比化合物Aアルミニウム原子換算/遷移金属錯体1は、通常0.01~10000であり、好ましくは5~5000である。また、化合物Bと触媒成分として使用する遷移金属錯体1のモル比化合物B/遷移金属錯体1は、通常0.01~100、好ましくは0.5~10である。各触媒成分を溶液状態で使用する場合、触媒成分として使用する遷移金属錯体1の濃度は、通常0.0001~5ミリモル/リットルであり、好ましくは、0.001~1ミリモル/リットルである。化合物Aの濃度は、アルミニウム原子換算で、通常0.01~500ミリモル/リットルで、好ましくは、0.1~100ミリモル/リットルである。化合物Bの濃度は、通常0.0001~5ミリモル/リットルであり、好ましくは、0.001~1ミリモル/リットルである。各触媒成分を接触させる方法は、特に限定されるものではない。遷移金属錯体1と活性化助触媒成分とを予め接触させて三量化用触媒を調製し、該三量化用触媒を反応器に供給してもよい。また、各触媒成分を任意の順序で反応器に供給し、反応器内で接触処理を行ってもよい。<1-ヘキセンの製造方法>本発明の1-ヘキセンの製造方法は、三量化用触媒の存在下、エチレンを三量化させて1-ヘキセンを製造する方法である。三量化反応は、特に限定されるものではないが、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族ハイドロカルビル、ベンゼン、トルエン等の芳香族ハイドロカルビル、又はメチレンジクロライド、クロロベンゼン等のハロゲン化ハイドロカルビルを溶媒として用いる三量化反応、又はスラリー状態での三量化反応、ガス状のエチレン中での三量化反応等が可能である。三量化反応は、回分式、半連続式、連続式のいずれかの方法において行うことができる。エチレンの圧力は、通常、常圧~10MPaであるが、好ましくは常圧~5MPaの範囲である。三量化反応の温度は、通常-50°C~220°Cの範囲を取り得る。好ましくは0°C~170°Cの範囲である。三量化反応の時間は、一般的に、目的とする反応装置により適宜決定されるが、1分間~20時間の範囲を取ることができる。以下、実施例および比較例により本発明を説明する。<遷移金属錯体の製造>物性測定は次の方法で行った。1プロトン核磁気共鳴スペクトル1H-NMR装置:BRUKER社製DPX300試料セル:5mmφチューブ測定溶媒:CDCl3試料濃度:約10mg/0.5mL測定温度:室温約25°C測定パラメータ:5mmφプローブ、EXMODNON、OBNUC1H、積算回数16回以上繰り返し時間:ACQTM6秒、PD1秒内部標準:CDCl37.26ppm2カーボン核磁気共鳴スペクトル13C-NMR装置:BRUKER社製DPX300試料セル:5mmφチューブ測定溶媒:CDCl3試料濃度:約10mg/0.5mL測定温度:室温約25°C測定パラメータ:5mmφプローブ、EXMODzgpg30、OBNUC13C、積算回数256回以上繰り返し時間:ACQTM1.4秒、PD2秒内部標準:CDCl377.0ppm3電子イオン化質量分析EI-MS装置:日本電子社製JMS-T100GCイオン化電圧:70eVイオン源温度:230°C加速電圧:7kVMASSRANGE:m/z35-12004電界脱離質量分析FD-MS装置:日本電子社製JMS-700加速電圧:8kVカソード:0kVカーボンエミッターMASSRANGE:m/z10-2000[実施例1][1-トリメチルシリル-3-トリフェニルメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド以下、錯体1という。の合成1-トリメチルシリル-3-トリフェニルメチル-シクロペンタジエンの合成1-トリメチルシリル-3-トリフェニルメチル-シクロペンタジエンは公知の方法J.Organomet.Chem.1995,485,173-178.に従って合成した。錯体1の合成窒素雰囲気下、1-トリメチルシリル-3-トリフェニルメチル-シクロペンタジエン0.97g、2.15mmol、トリエチルアミン1.09g、10.76mmolのトルエン溶液39mLに、-78°Cでn-ブチルリチウムの1.65Mヘキサン溶液1.56mL、2.58mmolを滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、35°Cで3時間攪拌した。得られた混合物を-78°Cになるまで冷却し、同温度で四塩化チタン0.45g、2.37mmolをトルエン5mLに溶解させた溶液を滴下した。再び、昇温し、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加えて得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体10.25g、収率21.7を黄土色固体として得た。1H-NMRCDCl3、δppm:0.35s、9H、6.75t、J=2.1Hz、1H、7.02-7.34m、17H13C-NMRCDCl3、δppm:-0.60、62.92、126.32、127.24、127.65、127.83、129.69、130.78、144.79、145.03、157.51質量スペクトルEI-MS、m/z:532M-[実施例2][トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド以下、錯体2という。の合成1-トリメチルシリル-3-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-シクロペンタジエンの合成窒素雰囲気下、トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-シクロペンタジエン1.45g、3.69mmol、テトラヒドロフラン29mLを加えた。この混合物を-78°Cに冷却し、n-ブチルリチウムの1.65Mヘキサン溶液2.69mL、4.43mmolを滴下し、35°Cまで昇温させた後、その温度で1.5時間攪拌した。得られた混合物に0°Cで、クロロトリメチルシラン0.64g、5.91mmolを滴下した後、室温まで昇温させた。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にトルエンと飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて分液した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮した。ジエチルエーテル/メタノールから再結晶を行い、1-トリメチルシリル-3-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-シクロペンタジエン0.55g、収率32.0を淡黄色固体として得た。1H-NMRCDCl3、δppm:-0.01s、9H、2.22s、18H、3.22s、1H、6.13brs、1H、6.25-6.28m、1H、6.36-6.40m、1H、6.81s、3H、6.84s、6H13C-NMRCDCl3、δppm:-1.65、21.57、49.72、60.85、127.22、128.53、130.62、132.06、134.91、136.27、146.78、151.10質量スペクトルEI-MS、m/z:464M錯体2の合成窒素雰囲気下、1-トリメチルシリル-3-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-シクロペンタジエン0.70g、1.50mmolのトルエン溶液15mLに、-30°Cで四塩化チタン0.30g、1.57mmolをトルエン4mLに溶解させた溶液を滴下した。昇温し、室温で13日間攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘキサンを加えて得られた固体を濾過して少量のヘキサンで洗浄した。トルエンとペンタンを加えた後、固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体20.20g、収率24.4を黄色固体として得た。1H-NMRCDCl3、δppm:2.23s、18H、6.65s、6H、6.89-6.93m、5H、7.00t、J=2.6Hz、2H13C-NMRCDCl3、δppm:21.58、62.44、123.86、124.75、128.68、128.68、136.98、145.06、155.07質量スペクトルEI-MS、m/z:544M-[実施例3][1-トリメチルシリル-3-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド以下、錯体3という。の合成錯体3の合成窒素雰囲気下、1-トリメチルシリル-3-トリス3,5-ジメチルフェニルメチル-シクロペンタジエン1.74g、3.74mmol、トリエチルアミン1.89g、18.70mmolのトルエン溶液70mLに、-78°Cでn-ブチルリチウムの1.63Mヘキサン溶液2.75mL、4.49mmolを滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、50°Cで6時間攪拌した。得られた混合物を-78°Cになるまで冷却し、同温度で四塩化チタン0.78g、4.11mmolをトルエン9mLに溶解させた溶液を滴下した。再び、昇温し、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加えて-20°Cに冷却することにより得られた不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮する操作を4回繰り返すことにより錯体3を含む混合物を黄土色固体として得た。フェロセンを内部標準物質として用いて1H-NMRにより決定した錯体3の含量は60wtであった0.48g、収率21質量スペクトルEI-MS、m/z:616M-<1-ヘキセンの製造>11-ヘキセン活性ガスクロマトグラフィー島津GC-2010、DB-1カラムを用いて分析した。2公知な遷移金属錯体の合成[1-トリフェニルメチル-シクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド以下、錯体4という。は公知の手法J.Organomet.Chem.1995,485,173-178.に従って合成した。[実施例4]減圧乾燥後、アルゴンで置換した0.4リットルの攪拌機付きオートクレーブに、トルエン60mL、Al濃度が9.0wt3.5mmol/mLであるメチルアルミノキサンのトルエン溶液東ソーファインケム社製TMAO-s0.88mLを仕込み、系内の温度を40°Cまで昇温した後、エチレンを0.5MPaまで導入し、系内を安定させた。これに、錯体1のトルエン溶液1μmol/mL0.60mLを投入した。反応中は全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給しながら、40°Cで30分反応し、エタノールを1.0mL投入して反応を停止した。その後、エチレンをパージして、オートクレーブ内の内容物をエタノール-塩酸で脱灰し、ろ過した。1-ヘキセンが1.5×105g/mol錯体/hの活性で得られ、重合体が24mg得られた。[比較例1]減圧乾燥後、アルゴンで置換した0.4リットルの攪拌機付きオートクレーブに、トルエン60mL、Al濃度が9.0wt3.5mmol/mLであるメチルアルミノキサンのトルエン溶液東ソーファインケム社製TMAO-s0.88mLを仕込み、系内の温度を40°Cまで昇温した後、エチレンを0.5MPaまで導入し、系内を安定させた。これに、錯体4のトルエン溶液1μmol/mL0.60mLを投入した。反応中は全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給しながら、40°Cで30分反応し、エタノールを1.0mL投入して反応を停止した。その後、エチレンをパージして、オートクレーブ内の内容物をエタノール-塩酸で脱灰し、ろ過した。1-ヘキセンが0.6×105g/mol錯体/hの活性で得られ、重合体が12mg得られた。"