半導体製造装置から排出されるハロゲンおよびオゾンを含む排気を処理する排気処理装置であって、前記半導体製造装置から排気が流入する流入口および前記排気が流出する流出口を有するカラムと、前記カラムに充填され、排気に含まれるオゾンを分解する粒子状のオゾン分解触媒と、前記カラムに充填されている前記オゾン分解触媒を撹拌する撹拌手段と、を備える排気処理装置。前記撹拌手段は、前記カラムの軸と平行な回転軸と、前記回転軸を中心に回転し、回転にともなって前記流出口側から前記流入口側へ上昇し、前記カラムに充填されている前記オゾン分解触媒を前記流出口側から前記流入口側へ運搬する螺旋状の回転翼と、を有する請求項1記載の排気処理装置。前記撹拌手段は、前記回転翼に前記オゾン分解触媒を保持する保持部を有する請求項2記載の排気処理装置。前記撹拌手段は、前記回転翼の外周側に、上昇する前記回転翼側への前記オゾン分解触媒の進入を制限する進入制限筒を有する請求項2または3記載の排気処理装置。前記撹拌手段は、前記回転翼の前記流出口側に、排気が通過可能な開口を有し、前記オゾン分解触媒の前記流出口側への移動を制限しつつ前記オゾン分解触媒を保持する触媒保持部材を有し、前記触媒保持部材は、前記カラムの径方向外側から内側へかけて重力方向の下方へ傾斜している請求項2、3または4記載の排気処理装置。通電によって前記回転軸を回転駆動するモータと、排気の流れ方向において前記流出口の下流側に設けられ、前記カラムを通過する排気の流量を検出する排気流量検出手段と、前記排気流量検出手段で検出した前記カラムを通過する排気の流量と予め設定された設定流量とを比較して、前記排気流量検出手段で検出した排気の流量が前記設定流量以下になると、前記モータへの通電を停止する制御手段と、をさらに備える請求項1から5のいずれか一項記載の排気処理装置。排気の流れ方向において前記流出口の下流側に設けられ、前記カラムを通過する排気に含まれるオゾンの濃度を検出するオゾン濃度検出手段をさらに備え、前記制御手段は、前記オゾン濃度検出手段で検出した前記カラムを通過する排気に含まれるオゾンの濃度と予め設定されたオゾンの上限濃度とを比較して、前記オゾン濃度検出手段で検出したオゾンの濃度が前記上限濃度を上回ると、前記モータへ通電して前記撹拌手段を駆動する請求項6記載の排気処理装置。本発明が解決しようとする課題は、カラムの形状に関わらずオゾンとオゾン分解触媒との接触を均一化し、オゾン分解触媒の寿命を延長する排気処理装置を提供することにある。上記の課題を解決するための本実施形態の排気処理装置は、半導体製造装置から排出されるハロゲンおよびオゾンを含む排気を処理する。排気処理装置は、カラム、オゾン分解触媒および撹拌手段を備える。カラムは、半導体製造装置から排気が流入する流入口および排気が流出する流出口を有し、半導体製造装置からの排気が流れる。オゾン分解触媒は、粒子状であり、カラムの流入口と流出口との間に充填され、排気に含まれるオゾンを分解する。撹拌手段は、カラムに充填されているオゾン分解触媒を撹拌する。以下、複数の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、複数の実施形態において実質的に同一の構成部位には同一の符号を付し、説明を省略する。第1実施形態まず、第1実施形態による排気処理装置を適用した半導体製造設備の概略について説明する。図2に示すように半導体製造設備10は、オゾン発生器11および半導体製造装置12を備える。オゾン発生器11は、半導体製造装置12に供給するオゾンを発生する。半導体製造装置12は、一つまたは複数のロードロック13および一つまたは複数のプロセスチャンバ14を有する。処理の対象となる半導体ウェーハは、ロードロック13に収容され、必要に応じてプロセスチャンバ14へ運搬される。本実施形態の場合、プロセスチャンバ14は、ほぼ真空に保たれており、反応性イオンエッチングやアッシングなどの処理が実行される。オゾン発生器11と半導体製造装置12との間は、供給通路15によって接続されている。これにより、オゾン発生器11で発生したオゾンは、供給通路15を経由して半導体製造装置12に供給される。具体的には、オゾン発生器11で発生したオゾンは、図2に示すようにロードロック13に供給される。また、例えばプロセスチャンバ14でアッシングを実行する場合、オゾン発生器11で発生したオゾンは図3に示すようにプロセスチャンバ14に供給される。このように、オゾン発生器11で発生したオゾンは、必要に応じて半導体製造装置12のロードロック13またはプロセスチャンバ14の一方または両方に供給される。なお、ロードロック13およびプロセスチャンバ14は半導体製造装置12の構成の一例である。したがって、オゾン発生器11で発生したオゾンは、これらに限らず、半導体製造装置12の構成の所望の部位へ供給する構成としてもよい。半導体製造設備10は、この半導体製造装置12の出口側に排気処理装置20を備える。排気処理装置20は、半導体製造装置12から排出されたオゾンを酸素に分解する。半導体製造装置12と排気処理装置20との間は、排気通路21によって接続している。これにより、半導体製造装置12から排出された排気は、排気通路21を経由して排気処理装置20へ導かれる。半導体製造装置12を経由するオゾン発生器11と排気処理装置20との間には、図示しない複数のポンプが設けられている。ポンプは、いわゆるドライポンプなどの真空ポンプである。次に、排気処理装置20について詳細に説明する。排気処理装置20は、図1に示すようにカラム22、オゾン分解触媒23および撹拌手段として撹拌部24を備える。カラム22は、図1および図4に示すように筒状に形成されており、流入口25および流出口26を有する。流入口25は、図1に示すように排気通路21に接続している。これにより、半導体製造装置12を通過したオゾンを含む排気は、流入口25からカラム22へ流入する。また、排気処理装置20は、拡散部材27を有する。拡散部材27は、流入口25から流入したオゾンを含む排気をカラム22の径方向へ拡散させる。流出口26は、図2および図3に示すように処理済通路28に接続している。処理済通路28は、排気処理装置20と反対側の端部が大気へ開放している。これにより、排気処理装置20で処理された排気は、処理済通路28を経由して大気中へ排出される。流出口26には、図1に示すように保持部材29が設けられている。保持部材29は、オゾン分解触媒23のカラム22からの漏れを防止する。オゾン分解触媒23は、カラム22の流入口25と流出口26との間に充填されている。オゾン分解触媒23は、粒子状またはペレット状に形成されており、排気に含まれるオゾンを分解する。具体的には、オゾン分解触媒23は、例えば二酸化マンガンの粒子、あるいはゼオライトやセラミックスなどの担体に二酸化マンガンを担持した粒子として形成されている。カラム22の流入口25から流入したオゾンは、オゾン分解触媒23と接することにより分解され分子状の酸素となる。半導体製造装置12から排気処理装置20のカラム22に流入する排気は、大部分がオゾンであり、微量のハロゲンを含んでいる。また、排気処理装置20のカラム22から排出される排気の成分は、大部分がオゾンの分解によって生じた酸素であり、微量のハロゲンおよび未分解の微量のオゾンも含まれる。撹拌部24は、カラム22に充填されているオゾン分解触媒23を撹拌する。撹拌部24は、回転軸31および回転翼32を有する。回転軸31は、カラム22の中心軸とほぼ平行に設けられている。回転翼32は、回転軸31と一体に設けられており、回転軸31を中心に回転する。回転軸31は、動力部のモータ33によって回転駆動される。モータ33は、通電によって回転力を発生する。これにより、モータ33に通電すると、回転軸31と一体の回転翼32は回転する。なお、動力部は、モータ33に限らず、作業者が手動で動力を加える構成としてもよい。本実施形態の場合、回転翼32は、図5に示すように回転軸31に対し螺旋状に設けられている。そのため、回転軸31が回転すると、回転翼32は、螺旋状に流出口26側から流入口25側へ上昇する。これにより、回転翼32は、回転軸31と一体の回転によって、カラム22に充填されているオゾン分解触媒23を流出口26側から流入口25側へ運搬する。撹拌部24は、図6に示すように回転翼32の上側すなわち流入口25側に保持部34を有する。カラム22に充填されているオゾン分解触媒23は、この保持部34にはまり込み、回転翼32に保持される。そのため、回転翼32が回転することにより、保持部34に保持されたオゾン分解触媒23は、回転翼32から脱落することなく流出口26側から流入口25側へ運搬される。なお、撹拌部24の保持部34は、図6に示すようにオゾン分解触媒23が入り込むように形成した保持部34に限らず、例えば図7に示すように回転翼32から突出する仕切35を設け、この仕切35の相互間を保持部34として用いる構成としてもよい。撹拌部24は、図1に示すように進入制限筒36を有する。この進入制限筒36は、回転翼32の外周側すなわち回転軸31の径方向において回転翼32の外側に設けられている。この進入制限筒36は、回転翼32の外側を覆っている。これにより、オゾン分解触媒23は、進入制限筒36の内側と外側とで隔離される。そのため、進入制限筒36の外側に存在するオゾン分解触媒23は、進入制限筒36によって回転翼32側への進入が制限される。その結果、螺旋状の回転翼32の回転によるオゾン分解触媒23の運搬は、周囲から進入するオゾン分解触媒23によって妨げられることがない。撹拌部24は、回転翼32の流出口26側の端部に触媒保持部材37を有する。この触媒保持部材37は、排気が通過可能な図示しない開口を有する。この開口の内径は、粒子状のオゾン分解触媒23の外径よりも小さい。そのため、触媒保持部材37は、排気の通過を許容しつつ、オゾン分解触媒23の流出口26側への移動を制限する。その結果、触媒保持部材37は、排気の通過を許容するとともに、オゾン分解触媒23を保持している。また、触媒保持部材37は、カラム22の径方向において外側から内側へかけて重力方向の下方へ傾斜している。そのため、重力方向において流入口25を上方とし、流出口26を下方としてカラム22を設置するとき、カラム22の進入制限筒36よりも外周側に位置するオゾン分解触媒23はカラム22の内周すなわち中心側へ重力によって移動する。これにより、回転翼32の回転によってオゾン分解触媒23を上方すなわち流入口25側へ運搬するとき、カラム22に充填されているオゾン分解触媒23は回転翼32が設けられている中央付近へ重力によって収集される。進入制限筒36は、流出口26側の端部において径方向へ貫く開口361を有する。そのため、触媒保持部材37によって収集されたオゾン分解触媒23は、進入制限筒36の開口361を通して回転翼32側へ移動する。触媒保持部材37は、例えば網、あるいはパンチなどによって開口を形成した薄板で形成されている。排気処理装置20は、上記の構成に加えて、図8に示すように制御手段としての制御部40、排気流量検出手段としての排気流量センサ41、およびオゾン濃度検出手段としてオゾン濃度センサ42をさらに備える。制御部40は、例えばCPU、ROM、RAMおよび外部記憶装置43などを備えるコンピュータで構成されている。制御部40は、ROMまたは外部記憶装置43に記憶されているコンピュータプログラムにしたがって排気処理装置20を制御する。制御部40は、モータドライバ44、排気流量センサ41およびオゾン濃度センサ42とそれぞれ電気的に接続している。動力部のモータ33は、モータドライバ44を経由して制御部40から出力される制御信号に基づいて回転が制御される。排気流量センサ41は、図2および図3に示すように排気の流れ方向において流出口26の下流側に設けられている。すなわち、排気流量センサ41は、処理済通路28に設けられている。排気流量センサ41は、カラム22を通過して処理済通路28を流れる排気の流量を検出する。排気流量センサ41は、検出した排気の流量を電気信号として制御部40へ出力する。オゾン濃度センサ42も、排気流量センサ41と同様に排気の流れ方向において流出口26の下流側の処理済通路28に設けられている。すなわち、オゾン濃度センサ42は、カラム22を通過して処理済通路28を流れる排気に含まれるオゾンの濃度を検出する。オゾン濃度センサ42は、検出したオゾンの濃度を電気信号として制御部40へ出力する。制御部40は、コンピュータプログラムを実行することにより、判断部45およびモータドライバ44をソフトウェア的に実現している。なお、モータドライバ44は、専用の回路によりハードウェア的に実現してもよい。判断部45は、排気流量センサ41から取得した排気の流量と、予め設定されている設定流量とを比較する。半導体製造設備10の半導体製造装置12には、常に一定量のオゾンが供給されている。そのため、排気処理装置20からは、この半導体製造装置12に供給するオゾンの流量に相関する流量の排気が排出される。そこで、制御部40は、この一定量のオゾンの流量に相関する排気の流量を予め設定された設定流量として外部記憶装置43などに記憶している。判断部45は、この予め設定された設定流量と排気流量センサ41から取得した排気の流量とを比較し、処理済通路28において設定流量が確保されているか否かを判断する。また、判断部45は、オゾン濃度センサ42から取得したオゾンの濃度と、予め設定されている上限濃度とを比較する。ここで、上限濃度は、排気処理装置20におけるオゾン分解触媒23の破過を判定するための基準値である。上限濃度は、例えば処理済通路28から大気へ放出される排気に含まれるオゾンの濃度として許容される値に基づいて任意に設定され、外部記憶装置43などに記憶されている。判断部45は、この予め設定された上限濃度とオゾン濃度センサ42から取得したオゾンの濃度とを比較して、処理済通路28においてオゾンの濃度が上限濃度未満に保たれているか否かを判断する。判断部45は、排気流量センサ41で検出した排気の流量と設定流量とを比較した結果、検出した排気の流量が設定流量以下になると、モータドライバ44へ撹拌停止の指示を出力する。これにより、モータドライバ44で制御されるモータ33は、回転翼32によるオゾン分解触媒23の撹拌を停止する。また、判断部45は、オゾン濃度センサ42で検出したオゾンの濃度と上限濃度とを比較した結果、検出したオゾンの濃度が上限濃度より大きくなると、モータ33へ通電し、撹拌部24を駆動する。これにより、モータ33の回転によって回転翼32が駆動され、カラム22に充填されているオゾン分解触媒23は回転翼32によって撹拌される。次に、上記の構成による排気処理装置20の具体的な作動の流れの一例について図9に基づいて説明する。排気処理装置20の運転が開始されると、制御部40は、モータドライバ44を経由してモータ33を駆動するS101。これにより、モータ33は回転翼32を駆動し、カラム22に充填されているオゾン分解触媒23は回転翼32によって撹拌される。モータ33が駆動されると、制御部40は、排気流量センサ41から処理済通路28を流れる排気の流量を取得するS102。判断部45は、S102で取得した排気の流量と予め設定されている設定流量とを比較し、取得した排気の流量が設定流量より大きいか否かを判断するS103。判断部45は、S103における判断の結果、取得した排気の流量が設定流量より大きいときS103:Yes、そのまま排気処理装置20の運転を継続、すなわちモータドライバ44を経由してモータ33の駆動を継続するS104。判断部45は、S104においてモータ33の駆動を継続すると、S102にリターンしてS102以降の処理を繰り返す。一方、判断部45は、S103における判断の結果、取得した排気の流量が設定流量以下のときS103:No、排気処理装置20の運転すなわちモータドライバ44を経由したモータ33の駆動を停止するS105。これにより、回転翼32の回転は停止し、カラム22に充填されているオゾン分解触媒23の撹拌は停止される。S105において回転翼32によるオゾン分解触媒23の撹拌が停止されると、カラム22を通過するオゾンの流れは偏りが生じる。そのため、カラム22に流入するオゾンとオゾン分解触媒23とは特定の位置で接する。その結果、オゾン分解触媒23は、オゾンに含まれている微量のハロゲンによってオゾンと接する特定の位置において局所的な劣化を招き、オゾンの分解能力が低下する。これにより、カラム22を通過して処理済通路28へ流出する排気に含まれるオゾンの濃度は上昇する。そこで、判断部45は、S105においてモータ33の駆動が停止されると、オゾン濃度センサ42から処理済通路28を流れる排気に含まれるオゾンの濃度を取得するS106。判断部45は、S106で取得したオゾンの濃度と予め設定されている上限濃度とを比較し、取得したオゾンの濃度が上限濃度より大きいか否かを判断するS107。判断部45は、S107における判断の結果、取得したオゾンの濃度が上限濃度よりも大きいときS107:Yes、再びモータドライバ44を経由してモータ33を駆動するS108。これにより、カラム22に充填されているオゾン分解触媒23は回転翼32によって撹拌される。そのため、カラム22におけるオゾン分解触媒23の劣化度合いが均一化され、カラム22を通過する排気に含まれるオゾンの濃度は低下する。判断部45は、S108においてモータ33を駆動した後、一定期間が経過するまで待機するS109。すなわち、判断部45は、モータ33を駆動することによって、カラム22に充填されているオゾン分解触媒23を撹拌するのに十分な時間が経過したか否かを判断する。そして、一定期間が経過したと判断するとS109:Yes、再びオゾン濃度センサ42から排気に含まれるオゾンの濃度を取得するS110。判断部45は、S110で取得したオゾンの濃度と予め設定されている上限濃度とを再び比較し、取得したオゾンの濃度が上限濃度より大きいか否かを判断するS111。判断部45は、S111における判断の結果、取得したオゾンの濃度が上限濃度よりも大きいときS111:Yes、図示しない警報部からオゾン分解触媒23の交換を促す警報を発するS112。すなわち、S111においてオゾンの濃度が上限濃度よりも大きいとき、S108においてモータ33を駆動してカラム22に充填されているオゾン分解触媒23を一定期間撹拌してもオゾン分解触媒23によるオゾンの分解性能が回復しないことを意味している。そのため、カラム22に充填されているオゾン分解触媒23は、ほぼ全体的に劣化していることになる。そこで、判断部45は、図示しない警報部を通して、カラム22に充填したオゾン分解触媒23が寿命に到達し、交換時期にあることを報知する。警報部は、例えばランプなどを用いて視覚的に、あるいはブザーなどを用いて聴覚的に報知する。一方、判断部45は、S107における判断の結果、取得したオゾンの濃度が上限濃度以下であるときS107:No、S102にリターンし、S105以降の処理を繰り返す。すなわち、判断部45は、モータ33の停止を継続しつつ、処理済通路28を流れる排気の流量および排気に含まれるオゾンの濃度を監視する。そして、排気の流量が回復すると、モータはS104において再び駆動される。また、判断部45は、S111における判断の結果、取得したオゾンの濃度が上限濃度以下であるときS111:No、S102へリターンし、S102以降の処理を繰り返す。以上説明した第1実施形態では、カラム22に充填されているオゾン分解触媒23は、撹拌部24の回転翼32によって撹拌される。そのため、カラム22におけるオゾンの流れに偏りがある場合でも、オゾンと接触するオゾン分解触媒23は撹拌によって変化する。これにより、オゾンに含まれている微量のハロゲンによるオゾン分解触媒23の劣化は均一化され、カラム22に充填されたオゾン分解触媒23の全体的な寿命が延長される。すなわち、従来のようにオゾンの流れに偏りがあるカラム22では、充填されているオゾン分解触媒23のうち一部がオゾンと接しやすく、この一部のオゾン分解触媒23でハロゲンによる劣化が進行する。そのため、カラム22に充填されたオゾン分解触媒23の大部分に活性が残っている場合でも、一部の劣化したオゾン分解触媒23によって排気処理装置20全体の処理能力が低下し、カラム22に充填されているオゾン分解触媒23のすべてを交換する必要がある。これに対し、第1実施形態では、撹拌部24によるオゾン分解触媒23の撹拌によって、オゾンとオゾン分解触媒23との接触状態は変化する。そのため、オゾン分解触媒23の劣化はカラム22の全体で比較的均一化される。したがって、カラム22に充填されたオゾン分解触媒23の寿命を延長することができ、交換頻度を低減することができる。また、第1実施形態では、撹拌部24は回転軸31によって駆動される螺旋状の回転翼32によりカラム22に充填されたオゾン分解触媒23を撹拌する。そのため、カラム22に充填されたオゾン分解触媒23は、オゾンの流出口26側から流入口25側へ向けて移動しながら撹拌される。カラム22に充填されたオゾン分解触媒23は、流入口25に近いほど劣化が進行しやすい。そのため、螺旋状の回転翼32によって流出口26側から流入口25側へオゾン分解触媒23を運搬しつつ撹拌することにより、劣化の度合いが小さいオゾン分解触媒23が流入口25側へ移動する。その結果、オゾン分解触媒23は、カラム22の内部における劣化が比較的均一化される。したがって、カラム22に充填されたオゾン分解触媒23の全体的な寿命を延長することができる。さらに、第1実施形態では、撹拌部24の回転翼32はオゾン分解触媒23を保持する保持部34を有する。そのため、流出口26側から流入口25側へ移動するオゾン分解触媒23は、保持部34に保持されつつ、回転翼32から落下することなく移動する。したがって、カラム22に充填されたオゾン分解触媒23の撹拌を促進することができる。さらに、第1実施形態では、撹拌部24は進入制限筒36を有する。これにより、カラム22に充填されているオゾン分解触媒23は、移動するオゾン分解触媒23を保持する回転翼32側への進入が制限される。そのため、回転翼32の回転にともなって流出口26側から流入口25側へ移動するオゾン分解触媒23と、カラム22に充填されているオゾン分解触媒23との混合は制限される。したがって、劣化の度合いの小さいオゾン分解触媒23を確実に流入口25側へ移動させることができる。さらに、第1実施形態では、撹拌部24は触媒保持部材37を有する。触媒保持部材37は、カラム22に充填されているオゾン分解触媒23が流出口26側へ落下するのを低減しつつ、処理された排気の通過を許容している。また、触媒保持部材37は、カラム22の径方向外側から内側へかけて重力方向の下方へ傾斜している。そのため、触媒保持部材37に保持されたオゾン分解触媒23は、傾斜する触媒保持部材37に案内されて径方向の中心付近に設けられている回転翼32側へ移動する。したがって、オゾン分解触媒23を保持しつつ排気の通過を確保するとともに、回転翼32の回転によるオゾン分解触媒23の移動を確実に行うことができる。第1実施形態では、制御部40は、処理済通路28を通過する排気の流量が設定流量以下になると、モータ33による回転翼32の駆動を停止する。排気処理装置20は、半導体製造装置12から常に一定の流量の排気が流入している。そのため、排気処理装置20の処理済通路28を通して排出される排気の流量が設定流量以下になると、半導体製造設備10の機能の停止を招くおそれがある。モータ33を駆動してカラム22に充填されているオゾン分解触媒23を撹拌することによって、カラム22を通過する排気の流量は低下するおそれがある。そこで、制御部40は、処理済通路28を通過する排気の流量を監視し、この排気の流量が設定流量以下になると、モータ33による回転翼32の駆動を停止、すなわちカラム22におけるオゾン分解触媒23の撹拌を停止する。したがって、オゾン分解触媒23を撹拌する場合でも排気の流量を常に維持することができる。第1実施形態では、制御部40は、処理済通路28を通過する排気に含まれるオゾンの濃度が上限濃度を上回ると、モータ33により回転翼32を駆動する。モータ33による回転翼32の駆動を停止すると、カラム22に流入するオゾンとオゾン分解触媒23との接触に偏りが生じ、オゾン分解触媒23の局所的な劣化を招くとともに、オゾンを分解する能力が低下する。一方、オゾン分解触媒23が局所的に劣化しても、カラム22に充填されている他のオゾン分解触媒23は十分な活性を有する。場合がある。そこで、制御部40は、処理済通路28を通過する排気に含まれるオゾンの濃度を監視し、このオゾンの濃度が上限濃度を上回ると、モータ33により回転翼32を駆動して、カラム22に充填されているオゾン分解触媒23を撹拌する。したがって、カラム22に充填されているオゾン分解触媒23の劣化を均一化し、オゾン分解触媒23の全体的な寿命を延長することができる。第2、第3実施形態第2実施形態および第3実施形態による排気処理装置を図10および図11にそれぞれ示す。第2実施形態の排気処理装置20は、図10に示すように撹拌部50を備える。撹拌部50は、回転軸51および回転翼52を有する。第2実施形態では、回転翼52は、回転軸51から径方向の外側へ突出する単純な形状に形成されている。この回転翼52は、回転軸51に固定されている。そのため、回転軸51が回転すると、回転翼52も回転軸51の周方向へ回転する。第2実施形態の場合、回転軸51は、カラム22の軸に対してほぼ平行に設けられている。これにより、回転軸51が回転すると、カラム22に充填されているオゾン分解触媒23は、回転軸51とともに回転する回転翼52によってカラム22の周方向へ撹拌される。第3実施形態の排気処理装置は、図11に示すように撹拌部を備える。撹拌部50は、第2実施形態と同様に回転軸51および回転翼52を有する。第3実施形態の場合、回転軸51は、カラム22の軸に対して傾斜している。特に第3実施形態の場合、回転軸51は、カラム22の軸に対してほぼ垂直に設けられている。これにより、回転軸51が回転すると、カラム22に充填されているオゾン分解触媒23は、回転軸51とともに回転する回転翼52によってカラム22の軸方向の上下に撹拌される。第2実施形態および第3実施形態では、撹拌部50の形状が第1実施形態に比較して簡略化されている。撹拌部50をこのように簡略化した形状でも、カラム22に充填されているオゾン分解触媒23は撹拌される。これにより、カラム22に流入するオゾンとカラム22に充填されているオゾン分解触媒23との接触の偏りが低減され、オゾン分解触媒23の劣化は均一化される。したがって、オゾン分解触媒23の全体的な寿命を延長することができる。このように、撹拌部50の形状は、適用するカラム22に応じて任意に変更することができる。また、撹拌部50の回転翼52は、図12に示すように回転軸51の軸方向に複数設けてもよい。この場合、複数の回転翼52は、回転軸51の周方向へずらしてもよい。さらに、回転翼52の枚数や間隔などは、任意に設定することができる。その他の実施形態以上の複数の実施形態では、断面が矩形状の四角筒状のカラム22を例に説明した。しかし、カラム22は、四角筒状に限らず、例えば断面が円形の円筒状など、排気処理装置20に要求される性能などに応じて任意に設定することができる。以上、本発明の複数の実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。