光ファイバ及びガイドピンを整列収容するための複数のV溝を有するV溝基板と、前記V溝基板を保持するステージと、前記光ファイバを押さえつけて前記V溝に固定するための押さえ板と、前記押さえ板を保持するアームと、前記アームを前記ステージに対して開閉させるためのヒンジ機構回転軸と、前記ステージにおいて前記ヒンジ機構回転軸と近接した側に設けられた第1の磁石と、前記ステージにおいて前記ヒンジ機構回転軸から離れた側に設けられた第2の磁石と、前記ヒンジ機構回転軸により前記アームを閉じたときに前記第1の磁石と近接するように前記アームに設けられた第1の磁力調整ねじと、前記ヒンジ機構回転軸により前記アームを閉じたときに前記第2の磁石と近接するように前記アームに設けられた第2の磁力調整ねじとを備え、前記ヒンジ機構回転軸により前記アームを閉じることよって、前記V溝に収容された前記ガイドピンと前記押さえ板とが接触し、前記V溝に収容された前記光ファイバが前記押さえ板の底面と前記光ファイバ上面との間の間隙内に保持され、前記第1の磁力調整ねじの押し込み量を調整することにより前記第1の磁力調整ねじと第1の磁石との間で発生する磁力を調整可能であり、前記第2の磁力調整ねじの押し込み量を調整することにより前記第2の磁力調整ねじと第2の磁石との間で発生する磁力を調整可能であるレーザ融着接続用光ファイバ整列収容治具であって、前記アームは、前記ヒンジ機構回転軸を収容可能に構成された孔を有し、前記孔と前記ヒンジ機構回転軸との間には、前記第1の磁力調整ねじ又は前記第2の磁力調整ねじの押し込み量を調整することにより前記ガイドピンの設置高さの偏差に応じて前記アームを傾斜させるようにすきま公差が設定されていることを特徴とするレーザ融着接続用光ファイバ整列収容治具。前記孔及び前記ヒンジ機構回転軸は、すきまばめとなるように構成されていることを特徴とする請求項1に記載のレーザ融着接続用光ファイバ整列収容治具。従って、CO2レーザ照射による光ファイバのレーザ融着接続治具において、ガイドピンの設置高さの偏差を吸収することができ、それにより良好な光ファイバの融着接続損失分布を安定的に得ることができるレーザ融着接続治具を実現することが課題である。本発明は、光ファイバ及びガイドピンを整列収容するための複数のV溝を有するV溝基板と、前記V溝基板を保持するステージと、前記光ファイバを押さえつけて前記V溝に固定するための押さえ板と、前記押さえ板を保持するアームと、前記アームを前記ステージに対して開閉させるためのヒンジ機構回転軸と、前記ステージにおいて前記ヒンジ機構回転軸と近接した側に設けられた第1の磁石と、前記ステージにおいて前記ヒンジ機構回転軸から離れた側に設けられた第2の磁石と、前記ヒンジ機構回転軸により前記アームを閉じたときに前記第1の磁石と近接するように前記アームに設けられた第1の磁力調整ねじと、前記ヒンジ機構回転軸により前記アームを閉じたときに前記第2の磁石と近接するように前記アームに設けられた第2の磁力調整ねじとを備え、前記ヒンジ機構回転軸により前記アームを閉じることよって、前記V溝に収容された前記ガイドピンと前記押さえ板とが接触し、前記V溝に収容された前記光ファイバが前記押さえ板の底面と前記光ファイバ上面との間の間隙内に保持され、前記第1の磁力調整ねじの押し込み量を調整することにより前記第1の磁力調整ねじと第1の磁石との間で発生する磁力を調整可能であり、前記第2の磁力調整ねじの押し込み量を調整することにより前記第2の磁力調整ねじと第2の磁石との間で発生する磁力を調整可能であるレーザ融着接続用光ファイバ整列収容治具であって、前記アームは、前記ヒンジ機構回転軸を収容可能に構成された孔を有し、前記孔と前記ヒンジ機構回転軸との間には、前記第1の磁力調整ねじ又は前記第2の磁力調整ねじの押し込み量を調整することにより前記ガイドピンの設置高さの偏差に応じて前記アームを傾斜させるようにすきま公差が設定されていることを特徴とするレーザ融着接続用光ファイバ整列収容治具である。請求項2に記載のレーザ融着接続用光ファイバ整列収容治具は、請求項1に記載のレーザ融着接続用光ファイバ整列収容治具において、前記孔及び前記ヒンジ機構回転軸は、すきまばめとなるように構成されていることを特徴とする。本発明に係るレーザ融着治具によれば、ガイドピンの外径差などに起因するガイドピンの設置高さの偏差を吸収することができるため、光ファイバ同士のアライメント誤差を低減させることが可能となり、良好な融着接続損失分布を得ることができる。本発明に係るレーザ融着治具によれば、従来技術に係るレーザ融着治具に比べ、光ファイバ間のアライメント精度の向上を図ることができるため、良好な融着接続損失を有する光ファイバを安定して得ることが期待でき、高品質な融着光ファイバを実現することが可能となる。本発明は、押さえ板を自由に傾斜可能な構成とすることにより、2本のガイドピン間の設置高さの偏差を解消することを実現する。図3は、レーザ融着治具の断面の模式図を示す。図3を用いて本発明の原理を説明する。図3には、V溝基板4と、ガイドピン8-L及びガイドピン8-Rと、光ファイバ5と、押さえ板6とが示されている。図3においては、H2>H1=Hf=Hとし、水平面と押さえ板6の底面とのなす角度をαとした。図3に示されるような、ガイドピン8-Rの設置高さがガイドピン8-Lの設置高さよりも高い場合には、光ファイバの上面と押さえ板とのクリアランスHfplate-Hは、以下の式2で表される。Hfplate-H=Ptanα=H2-H/2式2図3で示される場合とは逆に、ガイドピン8-Lの設置高さがガイドピン8-Rの設置高さよりも高い場合にも、光ファイバの上面と押さえ板とのクリアランスHfplate-Hは、上記の式2を用いて算出される。以下、押さえ板を自由に傾斜可能にするための構成を説明する。図4及び図5は、本発明に係るレーザ融着治具の構成を示す。図4及び図5を用いて、上述のような両端のガイドピンの設置高さの偏差に起因する光ファイバ同士の位置ずれを解消するための本発明に係る調整方法を説明する。図4及び図5には、ステージ1と、ステージ1と、ステージ1に埋設された磁石2-L及び2-Rと、扁平部7-L及び7-Rがそれぞれ端部に設けられた磁力調整ねじ3-L及び3-Rと、V溝基板4と、光ファイバ5と、押さえ板6と、ガイドピン8-L及び8-Rと、アーム10と、回転中心12を有するヒンジ機構回転軸11と、アーム10に設けられた孔13とが示されている。ここで、図4及び図5においては、図1に示される従来のレーザ融着治具と同様な構成要素には同一の参照番号を付して説明し、図1に示される従来のレーザ融着治具と同様の機能についての詳細は省略する。本発明に係る調整方法では、孔13を利用することにより、アーム10にガイドピンの設置高さの偏差に応じた傾斜をかけることを可能である。孔13は、アーム10、すなわちアーム10-a及び10-bにそれぞれ設けられている。孔13は、アーム10においてヒンジ機構回転軸11を収容可能に構成され、ヒンジ機構回転軸11をx軸方向及びz軸方向に移動することを許容するように構成されている。ヒンジ機構回転軸11のx軸方向及びz軸方向への移動を許容するために、ヒンジ機構回転軸11及び孔13は、すきまばめとなるように構成され、ヒンジ機構回転軸11の外径と孔13の孔径との間にはすきま公差Δ1が設定されている。すきま公差Δ1は、ガイドピン8-L及び8-Rの設置高さの偏差以上に設定することが好ましい。図4は、ガイドピンの設置高さがヒンジ機構回転軸11側で高い場合、すなわちガイドピン8-Rの設置高さがガイドピン8-Lの設置高さよりも高い場合の本発明に係るレーザ融着治具を示し、図4aは、ガイドピン偏差を調整する前の本発明に係るレーザ融着治具の状態を示し、図4bは、ガイドピン偏差を調整した後の本発明に係るレーザ融着治具の状態を示す。図4aに示すように、アーム10を閉じこむのみの通常操作では、光ファイバ5と押さえ板6と間のクリアランスは大きいままである。そこで、孔13の中心の位置を回転中心12に対し、概してz軸方向にずらすことによって、ガイドピン8-L及び8-Rの外径差を押さえ板6が吸収する形態となることが図4bから理解されよう。具体的には、ガイドピン8-L側の磁力調整ねじ3-Lの押し込み量を増加させて、扁平部7-Lをステージ1内の磁石2-Lに向けて近接させることにより、磁力による吸引力が増してガイドピン8-R上面を回転軸とした回転モーメントが高まる。これによって、わずかながらヒンジ機構回転軸11の回転中心12から孔13の中心位置を概してz軸方向にずらすことができ、ガイドピン8-L及び8-Rの設置高さの偏差に応じて押さえ板6及びアーム10を傾斜させることができるため、ガイドピン外径差等による光ファイバ5と押さえ板6との間のクリアランスを小さくすることができる。図5は、ガイドピン高さがヒンジ機構回転軸11から離れた側で高い場合、すなわちガイドピン8-Lの設置高さがガイドピン8-Rの設置高さよりも高い場合の本発明に係るレーザ融着治具の状態を示し、図5aは、ガイドピン偏差を調整する前の本発明に係るレーザ融着治具の状態を示し、図5bは、ガイドピン偏差を調整した後の本発明に係るレーザ融着治具の状態を示す。図5では、図4で示される場合とは逆に、外径の大きいガイドピンがヒンジ機構回転軸11から離れた位置にある場合のレーザ融着治具が示されている。図5aでは、光ファイバ5と押さえ板6と間のクリアランスは大きいままであるが、図5bに示されるように、孔13の中心の位置を回転中心12に対し、概して-z軸方向にずらすことで、ガイドピンの外径偏差を押さえ板6が吸収する形態となる。具体的には、ヒンジ機構回転軸11に近い側の磁力調整ねじ3-Rの押し込み量を増加させて、扁平部7-Rをステージ1内の磁石2-Rに近接させることにより、磁力による吸引力が増してガイドピン8-L上面を回転軸とした回転モーメントが高まる。これによって、わずかながらヒンジ機構回転軸11の回転中心12から孔13の中心位置を概して-z軸方向にずらすことができ、ガイドピン8-L及び8-Rの設置高さの偏差に応じて押さえ板6及びアーム10を傾斜させることができるため、ガイドピン外径差等による光ファイバ5と押さえ板6との間のクリアランスを小さくすることができる。図6は、本発明に係るレーザ融着治具及び図2で示される従来のレーザ融着治具に関する、光ファイバ直上のクリアランスと片側ガイドピンの設定高さからの偏差との関係を示す図である。図6において、横軸は設定高さHから寸法ずれが生じたガイドピン8-Rの設置高さの偏差H2-Hを示し、縦軸は光ファイバ上面と押さえ板底面とのクリアランスHfplate-Hを示す。P=3mm、L=13mm、H=3.01mmとして上記の式1及び式2を基に計算を行った。図6に示すように、本発明に係るレーザ融着治具では、ヒンジ機構回転軸11の回転中心12をx軸方向及びz軸方向に自由に移動させることができるため、図2で示される従来のレーザ融着治具に比べて、クリアランスを約半分に低減することができる。そのため、融着する光ファイバ間のアライメント誤差を低減することができ、精度よく光ファイバ間の位置あわせを実現できることが期待できるため、光ファイバ挿入損失分布における損失の均一化が可能となる。以上のように、本構成をとることによって、押さえ板6をガイドピンの外径差等に応じて自由に傾斜をつけることができ、これまで解消できなかった、ガイドピン外径差から生じる光ファイバ5の位置決めクリアランスを低減することができ、光ファイバ同士を高精度に位置合わせすることが可能となる。