"水酸基含有樹脂及び架橋剤を含有するガスバリアフィルム用中間層形成用組成物。前記水酸基含有樹脂が、ポリビニルアセタール系樹脂であることを特徴とする請求項1に記載のガスバリアフィルム用中間層形成用組成物。前記ポリビニルアセタール系樹脂のアセタール化度が、50mol以上であることを特徴とする請求項2に記載のガスバリアフィルム用中間層形成用組成物。前記ポリビニルアセタール系樹脂が、ポリビニルアルコールと、アセトアルデヒド又はブチルアルデヒドを反応させて得られるものであることを特徴とする請求項2又は3に記載のガスバリアフィルム用中間層形成用組成物。前記架橋剤が、イソシアネート系架橋剤であることを特徴とする請求項1~4のいずれかに記載のガスバリアフィルム用中間層形成用組成物。フィルム基材、請求項1~5のいずれかに記載のガスバリアフィルム用中間層形成用組成物から形成された中間層、及び該中間層上に形成されたガスバリア層を少なくとも有するガスバリアフィルム。前記ガスバリア層が、ケイ素系高分子化合物を含む層に、イオンが注入されて得られる層であることを特徴とする請求項6に記載のガスバリアフィルム。前記ケイ素系高分子化合物が、ポリシラザン化合物であることを特徴とする請求項7に記載のガスバリアフィルム。フィルム基材、該基材上に形成された中間層、及び該中間層上に形成されたガスバリア層を有するガスバリアフィルムの製造方法であって、下記工程を有することを特徴とするガスバリアフィルムの製造方法。工程1フィルム基材上に、水酸基含有樹脂及び架橋剤を含有するガスバリアフィルム用中間層形成用組成物を塗工し、得られた塗膜を乾燥することにより中間層を形成する工程工程2得られた中間層上に、ケイ素系高分子化合物を含む塗布液を塗工し、得られた塗膜を乾燥することによりケイ素系高分子化合物を含有する層を形成する工程工程3得られたケイ素系高分子化合物を含有する層に、イオンを注入することにより、ガスバリア層を形成する工程請求項6~8のいずれかに記載のガスバリアフィルムを備える電子部材又は光学部材。本発明は、上記した従来技術に鑑みてなされたものであり、基材又は他の層とガスバリア層との密着性を向上させる中間層を形成するガスバリアフィルム用中間層形成用組成物、この組成物により形成される中間層とガスバリア層を有するガスバリアフィルム、該ガスバリアフィルムの製造方法、及び、前記ガスバリアフィルムを備える電子部材又は光学部材を提供することを課題とする。本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、水酸基含有樹脂と架橋剤とを含有する、ガスバリアフィルム用中間層形成用組成物を用いて、基材とガスバリア層との層間に中間層を形成すると、基材とガスバリア層との密着性が向上することを見出した。また、前記中間層の上にケイ素系高分子化合物を含む層を形成した後、該ケイ素系高分子化合物を含む層にイオンを注入してガスバリア層を形成することで、ガスバリア性、透明性、及び層間密着性に優れるガスバリアフィルムを簡便かつ効率よく製造することができることを見出し、本発明を完成するに至った。かくして本発明によれば、下記1~5のガスバリアフィルム用中間層形成用組成物、6~8のガスバリアフィルム、9のガスバリアフィルムの製造方法、の電子部材又は光学部材が提供される。1水酸基含有樹脂及び架橋剤を含有するガスバリアフィルム用中間層形成用組成物。2前記水酸基含有樹脂が、ポリビニルアセタール系樹脂であることを特徴とする1請求項1に記載のガスバリアフィルム用中間層形成用組成物。3前記ポリビニルアセタール系樹脂のアセタール化度が、50mol以上であることを特徴とする2に記載のガスバリアフィルム用中間層形成用組成物。4前記ポリビニルアセタール系樹脂が、ポリビニルアルコールと、アセトアルデヒド又はブチルアルデヒドを反応させて得られるものであることを特徴とする2又は3に記載のガスバリアフィルム用中間層形成用組成物。5前記架橋剤が、イソシアネート系架橋剤であることを特徴とする1~4のいずれかに記載のガスバリアフィルム用中間層形成用組成物。6フィルム基材、前記1~5のいずれかに記載のガスバリアフィルム用中間層形成用組成物から形成された中間層、及び該中間層上に形成されたガスバリア層を少なくとも有するガスバリアフィルム。7前記ガスバリア層が、ケイ素系高分子化合物を含む層に、イオンが注入されて得られる層であることを特徴とする6に記載のガスバリアフィルム。8前記ケイ素系高分子化合物が、ポリシラザン化合物であることを特徴とする7に記載のガスバリアフィルム。9フィルム基材、該基材上に形成された中間層、及び該中間層上に形成されたガスバリア層を有するガスバリアフィルムの製造方法であって、下記工程を有することを特徴とするガスバリアフィルムの製造方法。工程1フィルム基材上に、水酸基含有樹脂及び架橋剤を含有するガスバリアフィルム用中間層形成用組成物を塗工し、得られた塗膜を乾燥することにより中間層を形成する工程工程2得られた中間層上に、ケイ素系高分子化合物を含む塗布液を塗工し、得られた塗膜を乾燥することによりケイ素系高分子化合物を含有する層を形成する工程工程3得られたケイ素系高分子化合物を含有する層に、イオンを注入することにより、ガスバリア層を形成する工程10前記6~8のいずれかに記載のガスバリアフィルムを備える電子部材又は光学部材。本発明のガスバリアフィルム用中間層形成用組成物によれば、基材又は他の層とガスバリア層との層間密着性を向上させるガスバリアフィルム用中間層を形成することができる。本発明のガスバリアフィルムは、優れたガスバリア性を有し、透明性が良好で、基材又は他の層とガスバリア層との層間密着性に優れるものである。本発明のガスバリアフィルムの製造方法によれば、優れたガスバリア性、透明性、層間密着性を有する本発明のガスバリアフィルムを簡便かつ効率よく製造することができる。また、無機膜を成膜する方法に比して低コストにて容易に大面積化を図ることができる。本発明の電子部材及び光学部材は、本発明のガスバリアフィルムを備えるものであるため、優れたガスバリア性を有し、層間密着性に優れるものである。以下、本発明を、1ガスバリアフィルム用中間層形成用組成物、2ガスバリアフィルム、3ガスバリアフィルムの製造方法、並びに、4電子デバイス用部材及び電子デバイス、に項分けして詳細に説明する。1ガスバリアフィルム用中間層形成用組成物本発明のガスバリアフィルム用中間層形成用組成物は、水酸基含有樹脂及び架橋剤を含有することを特徴とする。水酸基含有樹脂用いる水酸基含有樹脂としては、水酸基を含有する樹脂であれば特に制限されない。例えば、ポリビニルアルコール樹脂、エチレンビニルアルコール共重合体等のポリビニルアルコール系ポリマー;ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール、エチレンビニルアルコール共重合体のアセタール化物等のポリビニルアセタール系樹脂;アクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ウレタンポリオール等のポリオール系ポリマー;ポリ2-ヒドロキシエチルメタクリレート等の水酸基含有アクリル系ポリマー;ポリエステル;セルロース等のセルロース系ポリマー;等が挙げられる。これらは1種単独で、或いは2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、架橋剤との相溶性に優れる観点から、ポリビニルアセタール系樹脂が好ましい。ポリビニルアセタール系樹脂は、ポリビニルアルコールあるいはそのエステルの部分ケン化物。以下にて同じ。の水酸基と、アルデヒドとのアセタール化反応によって得られるものある。用いるアルデヒドとしては、特に限定されず、要求される性能に応じて適宜選択して用いることができる。一般的に、炭素数が1~10のアルデヒドが用いられる。具体的には、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、n-ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、n-バレルアルデヒド、n-ヘキシルアルデヒド、2-エチルブチルアルデヒド、n-オクチルアルデヒド、n-ノニルアルデヒド、n-デシルアルデヒド等の脂肪族飽和アルデヒド;ベンズアルデヒド、シンナムアルデヒド等の芳香族アルデヒド;等が挙げられる。これらの中でも、アセタール化反応に優れるアセトアルデヒド、n-ブチルアルデヒドが好ましい。これらは1種単独で、或いは2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、ポリビニルアセタール系樹脂としては、ポリビニルアルコールと、アセトアルデヒドを反応させて得られるポリビニルアセタールPVAC、ポリビニルアルコールと、ブチルアルデヒドを反応させて得られるポリビニルブチラールPVBがより好ましい。ポリビニルアセタール系樹脂のアセタール化度は、50モル以上であることが好ましく、50モル以上99モル以下がより好ましく、60モル以上90モル以下がさらに好ましい。アセタール化度を50モル以上にすることにより、後述する架橋剤及び有機溶剤との相溶性に優れた組成物を調製することができ、さらに、後述する架橋剤とポリビニルアセタール系樹脂中の水酸基が反応し、三次元網目構造が形成されることにより、ガスバリア層との密着性が向上する。このような樹脂と架橋剤とを組み合わせて用いることにより、本発明が目的とする層間密着性に優れるガスバリアフィルムを得ることができる。ポリビニルアセタール系樹脂のアセタール化度は、公知の測定方法により求めることが出来る。例えば、13C-NMRにおいて観測されたポリビニルアセタールの主鎖メチン炭素66~75ppm近傍のピーク面積をA、アルデヒド由来メチン炭素94ppm近傍、101ppm近傍のピーク面積をBとし、次式により求めることができる。ポリビニルアセタール系樹脂は、適当な溶媒中、ポリビニルアルコール又はビニルアルコール由来の繰り返し単位とアルデヒドとを酸触媒を用いて反応させることにより合成することができる。用いる溶媒としては、水;メチルアルコール、エチルアルコール等のアルコール系溶媒;水とアルコールからなる混合溶媒;ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒;等が挙げられる。また、ポリビニルアセタール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル溶液に酸触媒とアルデヒドを添加して反応させることによっても合成することができる。用いる酸触媒としては特に限定されず、例えば、酢酸、パラトルエンスルホン酸等の有機酸;硝酸、硫酸、塩酸等の無機酸;が挙げられる。上記反応は、アルカリを添加することによって停止される。用いるアルカリとしては特に限定されず、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の金属水酸化物;アンモニア;硝酸ナトリウム等の金属硝酸塩;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩;等が挙げられる。ポリビニルアセタール系樹脂の分子量は、特に制限されるものではないが、優れた造膜性及び優れた物性の膜が得られる観点等から、重量平均分子量が200から100万であるのが好ましく、1000から10万であるのがより好ましい。重量平均分子量が200未満であると柔軟性が低下し、100万を超えると塗工性が悪くなる。架橋剤架橋剤としては、水酸基含有樹脂の水酸基と反応し、水酸基含有樹脂の分子を化学結合で架橋させ、三次元網目構造を形成することがきできる多官能性化合物を使用することができる。多官能性化合物としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、アジリジン系架橋剤、金属キレート系架橋剤などが挙げられる。イソシアネート系架橋剤としては、分子中にイソシアネート基を少なくとも2個以上含有するものであれば特に限定されず、公知のものを使用することができる。例えば、2,4-トリレンジイソシアネート、2,6-トリレンジイソシアネートTDI、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート、2,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート、2,2’-ジフェニルメタンジイソシアネートMDI、4,4’-ジフェニルエーテルジイソシアネート、1,3-又は1,4-キシリレンジイソシアネートもしくはその混合物XDI、トリメチロールプロパンキシリレンジイソシアネートXDI-TMP、1,3-又は1,4-テトラメチルキシリレンジイソシアネートもしくはその混合物TMXDI等の芳香族ジイソシアネート;ヘキサメチレンジイソシアネートHMDI、テトラメチレンジイソシアネート、2-メチル-ペンタン-1,5-ジイソシアネート、3-メチル-ペンタン-1,5-ジイソシアネート、リジンジイソシアネート、トリオキシエチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート;イソホロンジイソシアネートIPDI、水素添加トリレンジイソシアネート、水素添加キシレンジイソシアネート、水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート、水素添加テトラメチルキシレンジイソシアネート等の脂環族ジイソシアネート;等の各種ポリイソシアネートや、それらのヌレート体、ビウレット体などが挙げられる。これらは1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。エポキシ系架橋剤としては、特に限定されず、例えば、1,3-ビスN,N’-ジグリシジジルアミノメチルシクロヘキサン、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシリレンジアミン、エチレングリコールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、ジグリシジルアニリン、ジグリシジルアミンなどが挙げられる。これらは、1種単独で、或いは2種以上を組み合わせて用いることができる。アジリジン系架橋剤としては、特に限定されず、例えば、ジフェニルメタン-44-ビス1-アジリジンカーボキサミド、トリメチロールプロパントリ-β-アジリジニルプロピオネート、テトラメチロールメタントリ-β-アジリジニルプロピオネート、トルエン-24-ビス1-アジリジンカーボキサミド、トリエチレンメラミン、ビスイソフタロイル-1-2-メチルアジリジン、トリス-1-2-メチルアジリジンフォスフィン、トリメチロールプロパントリ-β-2-メチルアジリジンプロピオネートなどが挙げられる。これらは、1種単独で、或いは2種以上を組み合わせて用いることができる。金属キレート系架橋剤としては、金属原子がアルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、鉄、スズなどのキレート化合物が挙げられるが、性能の点からアルミニウムキレート化合物が好ましい。アルミニウムキレート化合物としては、例えば、ジイソプロポキシアルミニウムモノオレイルアセトアセテート、モノイソプロポキシアルミニウムビスオレイルアセトアセテート、モノイソプロポキシアルミニウムモノオレエートモノエチルアセトアセテート、ジイソプロポキシアルミニウムモノラウリルアセトアセテート、ジイソプロポキシアルミニウムモノステアリルアセトアセテート、ジイソプロポキシアルミニウムモノイソステアリルアセトアセテートなどが挙げられる。これらは、1種単独で、或いは2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、より優れた密着性が得られることからイソシアネート系架橋剤が好ましく、芳香族イソシアネート系架橋剤がより好ましく、キシリレンジイソシアネートが特に好ましい。イソシアネート系架橋剤は、前記水酸基含有樹脂の水酸基と反応してウレタン結合を形成し、三次元網目構造を形成することにより、ガスバリア層との密着性を向上することができる。架橋剤の含有量は、架橋剤の架橋性基が、例えばイソシアネート基である場合を例にとると、イソシアネート基NCOの、水酸基含有樹脂の水酸基OHに対する割合NCO/OHが、10から200未満となる量であることが好ましく、50~150となる量であることがより好ましい。架橋性基の量が10未満では、基材との密着性が得られないおそれがあり、架橋性基の量が200以上であると、後に、中間層が形成された基材をロールに巻き取る際などに、塗工面と基材非塗工面とがブロッキングするおそれがある。ブロッキングとは、過重な圧力が加わること等が原因で、重なった部分がくっついてしまう現象をいう。本発明のガスバリアフィルム用中間層形成用組成物は、前記水酸基含有樹脂を、適当な溶剤に溶解又は分散させた後、所定量の架橋剤を添加、混合することにより調製することができる。用いる溶剤としては、例えば、トルエン、ベンゼン等の芳香族系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒;テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;n-ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪族系溶媒;これらの組み合わせ;等が挙げられる。溶剤の使用量は、特に限定されないが、通常、該組成物の濃度固形分で1~50質量である。2ガスバリアフィルム本発明のガスバリアフィルムは、フィルム基材、本発明のガスバリアフィルム用中間層形成用組成物以下、単に本発明の組成物ということがある。から形成された中間層、及び該中間層上に形成されたガスバリア層を少なくとも有することを特徴とする。本発明のガスバリアフィルムは、ガスバリア層と、フィルム基材との間層間に、本発明の組成物からなる中間層を有するため、ガスバリア層とフィルム基材の層間密着性に優れるものである。中間層においては、水酸基含有樹脂中に含まれる水酸基と、架橋剤とが反応して三次元網目構造が形成され、これにより、ガスバリア層との密着性が向上する。中間層の厚みは、0.1~50μmであり、好ましくは、0.1~10μm、より好ましくは、0.5~1μmである。中間層の軟化温度は、40°C以上が好ましく、60°C以上がより好ましい。軟化温度が上記範囲内であれば、中間層の取り扱いが容易となる。本発明のガスバリアフィルムのガスバリア層は、酸素や水蒸気の透過を抑制する特性以下、ガスバリア性ともいうを有する層である。ガスバリア層は、ガスバリア性を有する限り、材質等は特に制限されない。例えば、無機蒸着膜からなるガスバリア層、ガスバリア性樹脂を含むガスバリア層、高分子化合物を含む層にイオンを注入して得られるガスバリア層等が挙げられる。これらの中でも、薄く、ガスバリア性に優れる層を効率よく形成できることから、無機蒸着膜からなるガスバリア層、及び高分子化合物を含む層にイオンを注入して得られるガスバリア層が好ましく、高分子化合物を含む層にイオンを注入して得られるガスバリア層が特に好ましい。無機蒸着膜としては、無機化合物や金属の蒸着膜が挙げられる。無機蒸着膜を形成する方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のPVD法や、熱CVD法、プラズマCVD法、光CVD法等のCVD法が挙げられる。無機化合物の蒸着膜の原料としては、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ等の無機酸化物;窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化チタン等の無機窒化物;無機炭化物;無機硫化物;酸化窒化ケイ素等の無機酸化窒化物;無機酸化炭化物;無機窒化炭化物;無機酸化窒化炭化物等が挙げられる。金属の蒸着膜の原料としては、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、及びスズ等が挙げられる。これらは1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせであってもよい。また、無機蒸着膜は、単層でもよく、多層でもよい。無機蒸着膜の厚みは、ガスバリア性と取り扱い性の観点から、好ましくは10~2000nm、より好ましくは20~1000nm、より好ましくは30~500nm、さらに好ましくは40~200nmの範囲である。前記ガスバリア性樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール、又はその部分ケン化物、エチレン-ビニルアルコール共重合体、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリクロロトリフルオロエチレン等の酸素等を透過しにくい樹脂が挙げられる。ガスバリア性樹脂を含むガスバリア層を形成する方法としては、ガスバリア性樹脂を含む溶液を、中間層上に塗布し、得られた塗膜を適宜乾燥することでガスバリア層を作製する方法が挙げられる。高分子化合物を含む層にイオン注入して得られるガスバリア層において、用いる高分子化合物としては、例えば、ケイ素系高分子化合物、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、アクリル系樹脂、シクロオレフィン系ポリマー、芳香族系重合体、及びこれらの高分子の2種以上の組合せ等が挙げられる。これらの中でも、優れたガスバリア性を得ることが出来るという点で、ケイ素系高分子化合物が好ましい。ガスバリア層が、ケイ素系高分子化合物を含む層にイオンが注入されて得られる層である場合に、ケイ素系高分子化合物を含む層と中間層の界面において、水酸基含有樹脂の水酸基とケイ素系高分子化合物とが反応して、化学結合を形成することにより、基材へイオンが注入されることが阻止される。これにより、透明性に優れるガスバリアフィルムを得ることが出来る。ケイ素系高分子化合物としては、公知のものを用いることができ、例えば、ポリシラザン化合物、ポリカルボシラン化合物、ポリシラン化合物、及びポリオルガノシロキサン化合物等が挙げられる特開平10-245436号公報、特表2003-514822号公報、特開2005-36089号公報、特開2008-63586号公報、特開2009-235358号公報、特開2009-286891号公報、特開2010-106100号公報、特開2010229445号公報、特開2010-232569号公報、特開2010-238736号公報等参照。なかでも、ポリシラザン化合物がより好ましい。ポリシラザン化合物は、分子内に-Si-N-で表される繰り返し単位を有する高分子化合物であり、有機ポリシラザン、無機ポリシラザン、変性ポリシラザン等の公知のものを使用することができる。これらの中でも、本発明において用いるポリシラザン化合物としては、無機ポリシラザン、有機ポリシラザンが好ましく、入手容易性、及び優れたガスバリア性を有する注入層を形成できる観点から、無機ポリシラザンがより好ましく、ペルヒドロポリシラザンが特に好ましい。なお、ポリシラザン層ケイ素系高分子化合物としてポリシラザン化合物を含む層は、ジメチルジシラザン、テトラメチルジシラザン、ヘキサメチルジシラザンなどの、プラズマ重合性シラザン化合物のガスを、中間層と接触させて、プラズマ重合処理を施すことによって形成することもできる特開平9-143289号公報。また、ポリシラザン化合物は、ガラスコーティング材等として市販されている市販品をそのまま使用することもできる。高分子化合物を含む層には、高分子化合物の他に、本発明の目的を阻害しない範囲で他の成分を含んでいてもよい。他の成分としては、硬化剤、他の高分子、老化防止剤、光安定剤、難燃剤等が挙げられる。高分子化合物を含む層中の、高分子化合物の含有量は、優れたガスバリア性を有するイオン注入層を形成できる観点から、50重量以上であるのが好ましく、70重量以上であるのがより好ましい。本発明において、形成される高分子化合物を含む層の厚みは、特に制限されないが、通常20nmから10μm、好ましくは30~500nm、より好ましくは40~200nmである。本発明においては、高分子化合物を含む層がナノオーダーであっても、充分なガスバリア性を有するガスバリアフィルムを得ることができる。高分子化合物を含む層に注入されるイオンとしては、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノンなどの希ガス、フルオロカーボン、水素、窒素、酸素、二酸化炭素、塩素、フッ素、硫黄等のイオン;金、銀、銅、白金、ニッケル、パラジウム、クロム、チタン、モリブデン、ニオブ、タンタル、タングステン、アルミニウム等の金属のイオン;等が挙げられる。なかでも、より簡便に注入することができ、特に優れたガスバリア性と透明性を有するイオン注入層が得られることから、水素、窒素、酸素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、キセノン及びクリプトンからなる群から選ばれる少なくとも一種のイオンが好ましい。イオンの注入量は、形成するガスバリアフィルムの使用目的必要なガスバリア性、透明性等等に合わせて適宜決定すればよい。イオンを注入する方法としては、電界により加速されたイオンイオンビームを照射する方法、プラズマ中のイオンを注入する方法等が挙げられる。なかでも、本発明においては、簡便にガスバリア層が得られることから、後者のプラズマイオンを注入する方法が好ましい。プラズマイオン注入は、例えば、希ガス等のプラズマ生成ガスを含む雰囲気下でプラズマを発生させ、ポリシラザン層に負の高電圧パルスを印加することにより、該プラズマ中のイオン陽イオンを、ポリシラザン層の表面部に注入して行うことができる。イオン注入により、イオンが注入される領域の厚みは、イオンの種類や印加電圧、処理時間等の注入条件により制御することができ、ポリシラザン層の厚み、ガスバリアフィルムの使用目的等に応じて決定すればよいが、通常、10~1000nmである。イオンが注入されたことは、X線光電子分光分析XPSを用いて表面から10nm付近の元素分析測定を行うことによって確認することができる。ガスバリア層の厚みは、その材質等によっても異なるが、ガスバリア性と取り扱い性の観点から、通常、10~2000nm、好ましくは20~1000nm、より好ましくは30~500nm、さらに好ましくは40~200nmの範囲である。本発明のガスバリアフィルムは、ガスバリア層とフィルム基材との間に、本発明の組成物からなる中間層が形成されていれば、積層数、積層順は特に限定されない。例えば、フィルム基材の片方の面に、ガスバリア層を有するものでもよいし、フィルム基材の両方の面に当該ガスバリア層を有するものであってもよい。また、当該ガスバリアフィルムが複数積層されたものであってもよい。フィルム基材フィルム基材の素材としては、ケイ素系高分子化合物以外であって、本発明のガスバリアフィルムの目的に合致するものであれば特に制限されない。例えば、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、アクリル系樹脂、シクロオレフィン系ポリマー、芳香族系重合体等が挙げられる。これらの中でも、透明性に優れ、汎用性があることから、ポリエステル、ポリアミド、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート又はシクロオレフィン系ポリマーが好ましく、ポリエステル又はシクロオレフィン系ポリマーがより好ましい。ポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート等が挙げられる。ポリアミドとしては、全芳香族ポリアミド、ナイロン6、ナイロン66、ナイロン共重合体等が挙げられる。シクロオレフィン系ポリマーとしては、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素化物が挙げられる。その具体例としては、アペル三井化学社製のエチレン-シクロオレフィン共重合体、アートンJSR社製のノルボルネン系重合体、ゼオノア日本ゼオン社製のノルボルネン系重合体等が挙げられる。フィルム基材の厚みとしては、特に限定されず、ガスバリアフィルムの目的に合わせて決定すればよいが、通常0.5~500μm、好ましくは1~100μmである。また、本発明のガスバリアフィルムは他の層を有していてもよい。他の層としては、例えば、保護層、導電体層、保護シート、粘着剤層等が挙げられる。保護層保護層は、外部から衝撃が加わったときに、ガスバリア層を保護する役割を有する層である。保護層が積層される位置は、特に限定されないが、ガスバリア層に隣接して積層されることが好ましい。保護層としては、透明性がよく、耐擦傷性が良好なものが好ましい。更に保護層が電子デバイスや光学デバイスに組み込まれた際に、最表面に配置される場合には、防汚性、耐指紋付着防止性、帯電防止性、撥水性、親水性などの機能を具備することができる。保護層の厚みは、ガスバリアフィルムの使用目的等を考慮して適宜選択することができる。その厚みは、通常、0.05~10μm未満、好ましくは0.1~8.0μm、より好ましくは0.2~5μmである。0.05μm以上であれば、耐擦傷性が十分なものになる。9μm以下であれば、硬化時の歪みによるカールが生じにくい。保護層の表面粗さRa算術平均粗さは、10.0nm以下が好ましく、8.0nm以下がより好ましい。また、表面粗さRt最大断面高さは、100nm以下が好ましく、50nm以下がより好ましい。表面粗さRa及びRtが、それぞれ、10.0nm、100nmを超えると、ガスバリア層の表面粗さが大きくなり、ガスバリアフィルムのガスバリア性が低下するおそれがある。なお、表面粗さRa及びRtは、100μm□のサンプルを用いて、光干渉法により得られた値である。保護層の材料は特に制限されず、例えば、ケイ素含有化合物;光重合性モノマー及び/又は光重合性プレポリマーからなる光重合性化合物、及び少なくともUVでラジカルを発生する重合開始剤を含む重合性組成物;ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂特にポリアクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール等とイソシアネート化合物との2液硬化型樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール系樹脂、ニトロセルロース系樹脂等の樹脂類;アルキルチタネート;エチレンイミン;等が挙げられる。これらは、一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いてもよい。なかでも、保護層の材料としては、透明性や耐擦傷性に優れるという点から、光重合性モノマー及び/又は光重合性プレポリマーからなる光重合性化合物、及び少なくともUVでラジカルを発生する重合開始剤を含む重合性組成物が好ましい。保護層は、前記材料を適当な溶剤に溶解又は分散させてなる保護層形成用溶液を、公知の方法により、積層される層上に塗布し、得られた塗膜を乾燥させ、所望により加熱することより形成することができる。導電体層導電体層は、導電性を有する層であって、電子部材等において、電極として利用したり、帯電防止性や放熱性を向上させるために設けられる層である。導電体層が積層される位置は、ガスバリアフィルムが使用される目的に応じて選択することができ、特に限定されない。導電体層の表面抵抗率は、1000Ω/□以下が好ましく、より好ましくは200Ω/□である。導電体層の厚みは、ガスバリアフィルムの使用目的等を考慮して適宜選択することができる。その厚みは、通常、10nmから9μm、好ましくは20nmから1.0μmである。導電体層の材料としては、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、これらの混合物等が挙げられる。具体的には、アンチモンをドープした酸化スズATO;フッ素をドープした酸化スズFTO;酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズITO、酸化亜鉛インジウムIZO等の金属酸化物;金、銀、クロム、ニッケル等の金属;これら金属と金属酸化物との混合物;ヨウ化銅、硫化銅等の無機導電性物質;ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール等の有機導電性材料;等が挙げられる。これらの中でも、透明性の点から、金属酸化物が好ましく、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズITO、酸化亜鉛インジウムIZO等の酸化インジウム系や酸化亜鉛系の金属酸化物が特に好ましい。導電体層の形成方法としては、例えば、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、熱CVD法、プラズマCVD法等が挙げられる。これらの中でも、簡便に導電体層が形成できることから、スパッタリング法が好ましい。形成された導電体層には、必要に応じてパターニングを行ってもよい。パターニングする方法としては、フォトリソグラフィー等による化学的エッチング、レーザ等を用いた物理的エッチング等、マスクを用いた真空蒸着法やスパッタリング法、リフトオフ法、印刷法等が挙げられる。保護シート保護シートは、ガスバリアフィルムの最外層に積層され、ガスバリアフィルムを保存、運搬等する際に、ガスバリア層を保護する役割を有し、使用時には剥離される。本発明のガスバリアフィルムは、片面に保護シートを有するものであってもよく、両面に保護シートを有するものであってもよい。保護シートとしては、紙やプラスチックフィルム等の基材に再剥離性の粘着剤層や剥離剤層を設けたものが挙げられる。粘着剤層は、ガスバリアフィルムを複数積層する場合や、被着体に貼付する際に設けることができる。粘着剤層の材料としては、特に限定されず、公知の粘着剤を使用することができる。例えば、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ゴム系粘着剤等が挙げられる。上記その他の層は、上記条件を満たす限り、積層する順序、積層数は特に制限はない。本発明のガスバリアフィルムは、高温高湿下に長時間置かれた後であっても、基材とガスバリア層とが剥離しにくく、層間密着性に優れる。本発明のガスバリアフィルムが、優れた層間密着性を有することは、例えば、高温湿熱条件60°C、湿度90下に150時間載置した後、碁盤目試験JISK-54001990年に従って膜の剥がれを観測し、試験目数中、剥がれていない数が90以上となること等から確認することができる。本発明のガスバリアフィルムが、優れたガスバリア性を有していることは、ガスバリアフィルムの水蒸気透過率が小さいこと等から確認することができる。ガスバリアフィルムの水蒸気透過率は、40°C、相対湿度90雰囲気下で、通常0.1g/m2/day以下であり、好ましくは0.05g/m2/day以下である。水蒸気透過率は、公知の方法で測定することができる。本発明のガスバリアフィルムが、優れた透明性を有していることは、ガスバリアフィルムの可視光線透過率が高いこと等から確認することができる。ガスバリアフィルムの可視光線透過率は、90以上であることが好ましい。可視光線透過率が90以上であれば、透明性が高く、光学特性が優れるため、電子部材用、光学部材用として用いるために好ましい。可視光線透過率は、波長550nmにおける透過率であり、公知の測定装置を使用して測定することができる。本発明のガスバリアフィルムは、ガスバリア性、層間密着性、さらには透明性に優れるため、電子部材用、光学部材用のガスバリアフィルムとして用いることができる。なかでも、電子部材用、光学部材用として、特に、フレキシブルディスプレイ基板等の可撓性が求められる電子部材用、液晶表示素子用プラスチック基板等の耐熱性、耐湿性が求められる電子部材用として好ましく用いられる。3ガスバリアフィルムの製造方法本発明のガスバリアフィルムの製造方法は、フィルム基材、該基材上に形成された中間層、及び該中間層上に形成されたガスバリア層を有するガスバリアフィルムの製造方法であって、下記工程を有することを特徴とする。工程1フィルム基材上に、水酸基含有樹脂及び架橋剤を含有するガスバリアフィルム用中間層形成用組成物を塗工し、得られた塗膜を乾燥することにより中間層を形成する工程。工程2得られた中間層上に、ケイ素系高分子化合物を含む塗工液を塗工し、得られた塗膜を乾燥することによりケイ素系高分子化合物を含有する層を形成する工程。工程3得られたケイ素系高分子化合物を含有する層に、イオンを注入することにより、ガスバリア層を形成する工程。以下、図面を参照しながら、本発明の製造方法を説明する。1工程1先ず、図1aに示すように、フィルム基材1上に、水酸基含有樹脂及び架橋剤を含有するガスバリアフィルム用中間層形成用組成物を塗工し、得られた塗膜を乾燥することにより中間層2を形成する。工程1において用いるフィルム基材としては、前項で例示したのと同様のものが挙げられる。水酸基含有樹脂及び架橋剤を含有するガスバリアフィルム用中間層形成用組成物としては、本発明のガスバリアフィルム用中間層形成用組成物を好ましく用いることができる。フィルム基材上にガスバリアフィルム用中間層形成用組成物を塗工する方法としては、通常の湿式コーティング方法を用いることができる。例えばディッピング法、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、エアナイフコート、ロールナイフコート、ダイコート、スクリーン印刷法、スプレーコート、グラビアオフセット法等が挙げられる。組成物の塗膜を乾燥する方法としては、熱風乾燥、熱ロール乾燥、赤外線照射等、従来公知の乾燥方法が採用できる。加熱温度は、通常60~130°Cの範囲である。工程1において、中間層は、乾燥した後に所望により加熱することにより形成するのが好ましい。工程1において、中間層は、上記のようにして形成される間に、水酸基含有樹脂中に含まれる水酸基と、架橋剤とが反応して三次元網目構造が形成されることにより、ガスバリア層との密着性を向上することができる。2工程2次いで、図1bに示すように、得られた中間層2上に、ケイ素系高分子化合物を含む塗工液を塗工し、得られた塗膜を乾燥することによりケイ素系高分子化合物を含有する層3を形成する。工程2において用いるケイ素系高分子化合物としては、例えば、ポリシラザン化合物、ポリカルボシラン化合物、ポリシラン化合物、及びポリオルガノシロキサン化合物等が挙げられる。ケイ素系高分子化合物は一種単独で、或いは二種以上を組み合わせて用いることができる。なかでも、ポリシラザン化合物が好ましく、具体例としては、上述したものと同様のものが挙げられる。ケイ素系高分子化合物を含む塗工液に用いる溶媒しては、ケイ素系高分子化合物を溶解し得るものであれば特に制限されない。例えば、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒;塩化メチレン、塩化エチレンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、2-ペンタノン、イソホロン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒;エチルセロソルブなどのセロソルブ系溶剤などが挙げられる。ケイ素系高分子化合物を含む塗工液中のケイ素系高分子化合物の濃度は、塗工適性等の観点から、通常1~70質量、好ましくは1~30質量である。前記中間層2上に、ケイ素系高分子化合物を含む塗工液を塗工し、得られた塗膜を乾燥することによりケイ素系高分子化合物を含有する層3を形成する方法は、特に制約はなく、例えば、高分子化合物の少なくとも一種、所望により他の成分、及び溶剤等を含有する層形成用溶液を、中間層の上に塗布し、得られた塗膜を適度に乾燥して形成する方法が挙げられる。塗工装置としては、スピンコーター、ナイフコーター、グラビアコーター等の公知の装置を使用することができる。得られた塗膜は、ガスバリア性向上のため、塗膜を加熱することが好ましい。加熱は80~150°Cで、数十秒から数十分行うことができる。3工程3次に、図1cに示すように、得られたケイ素系高分子化合物を含有する層3に、イオンを注入することにより、ガスバリア層4を形成する。工程3において、ケイ素系高分子化合物を含有する層3に、イオンを注入する方法は、前項で例示したのと同様の方法が挙げられる。ケイ素系高分子化合物を含有する層3にイオンを注入することにより、ケイ素系高分子化合物を含有する層3の表面部に、ガスバリア性を有するイオン注入層3aが形成される。図1cでは、表面部にイオン注入層3aが形成された、ケイ素系高分子化合物を含有する層3全体をガスバリア層4としている。本発明の製造方法によれば、本発明のガスバリアフィルムを効率よく簡便に製造することができる。4電子部材又は光学部材本発明の電子部材及び光学部材は、本発明のガスバリアフィルムを備えることを特徴とする。電子部材としては、例えば、液晶ディスプレイ部材、有機ELディスプレイ部材、無機ELディスプレイ部材、電子ペーパー部材、太陽電池、熱電変換部材等のフレキシブル基板等が挙げられる。光学部材としては、例えば、光学フィルター、波長変換デバイス、調光デバイス、偏光板、位相差板の光学部材等が挙げられる。本発明の電子部材及び光学部材は、本発明のガスバリアフィルムを備えるため、ガスバリア性に優れ、水蒸気等のガスの浸入を防ぐことができる。また、本発明の電子部材及び光学部材は、本発明のガスバリアフィルムを備えるものであるため、高温条件下や高湿条件下で用いる場合においても、層間密着性に優れ、ガスバリア性が低下しにくいものである。以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。但し、本発明は、以下の実施例になんら限定されるものではない。実施例1水酸基含有樹脂として、ポリビニルアルコールと、アセトアルデヒドを反応させて得られるポリビニルアセタール系樹脂エスレックKS-10、積水化学工業社製、水酸基を含む繰り返し単位:25mol、アセタール化度:75mol、重量平均分子量:17,000、下記第1表中PVAC1と表示する。を、トルエン及び酢酸エチルからなる混合溶媒容積比=1/1に溶解させた後、架橋剤として、芳香族イソシアネート系架橋剤であるキシリレンジイソシアネートXDITD―75、綜研化学社製、下記第1表中、架橋剤Aと表示する。を、ポリビニルアセタール樹脂中の水酸基に対する、キシリレンジイソシアネート中のイソシアネート基の比NCO/OHが50となるように配合し、ガスバリアフィルム用中間層形成用組成物1を調製した。次いで、フィルム基材としてのポリエチレンテレフタレートフィルムPET50A-4100、東洋紡社製、厚さ50μm、以下PETという。の易接着面に、ガスバリアフィルム用中間層形成用組成物1を、乾燥後の厚みが1μmとなるようにバーコーターで塗布し、120°Cで2分間乾燥後、40°Cで7日間放置して、基材上にガスバリアフィルム用中間層を形成した工程1。中間層の厚みは、1μmであった。得られた中間層上に、ケイ素系高分子化合物としてペルヒドロポリシラザンを主成分とするコーティング剤アクアミカNL110-20、クラリアントジャパン社製をスピンコートで、乾燥後の厚みが150nmとなるように塗布し、120°Cで2分間加熱してケイ素系高分子化合物を含有する層を形成した工程2。次いで、プラズマイオン注入装置を用いて、ケイ素系高分子化合物を含有する層の表面に、アルゴンArをプラズマイオン注入してガスバリア層を形成し、ガスバリアフィルム1を作製した工程3。形成されたガスバリア層の厚みは、150nmであった。プラズマイオン注入の条件を以下に示す。ガス流量:100sccmDuty比:0.5繰り返し周波数:1000Hz印加電圧:-10kVRF電源:周波数13.56MHz、印加電力1000Wチャンバー内圧:0.2Paパルス幅:5μsec処理時間イオン注入時間:5分間搬送速度:0.2m/min実施例2~6実施例1において、架橋剤Aの添加量を下記第1表に示したものとする以外は、実施例1と同様にしてガスバリアフィルム用中間層形成用組成物2~6を調整し、ガスバリアフィルム2~6を得た。実施例7実施例5において、水酸基含有樹脂として、ポリビニルアルコールと、アセトアルデヒドを反応させて得られるポリビニルアセタール系樹脂エスレックKS-3、積水化学工業社製、水酸基を含む繰り返し単位:25mol、アセタール化度:75mol、重量平均分子量:108000、下記第1表中PVAC2と表示する。に変更した以外は、実施例5と同様にして、ガスバリアフィルム用中間層形成用組成物7を調製し、次いでガスバリアフィルム7を作製した。実施例8実施例5において、水酸基含有樹脂として、ポリビニルアルコールと、アセトアルデヒドを反応させて得られるポリビニルアセタール系樹脂エスレックBX-1、積水化学工業社製、水酸基を含む繰り返し単位:33mol、アセタール化度:67mol、重量平均分子量:100000、下記第1表中PVAC3と表示する。に変更した以外は、実施例5と同様にして、ガスバリアフィルム用中間層形成用組成物8を調整し、次いでガスバリアフィルム8を作製した。実施例9実施例3において、架橋剤を、架橋剤Aからキシリレンジイソシアネート三井化学ポリウレタン社製、下記第1表中、架橋剤Bと表示する。に変更した以外は、実施例3と同様にして、ガスバリアフィルム用中間層形成用組成物9を調製し、次いでガスバリアフィルム9を作製した。実施例10実施例3において、フィルム基材をポリカーボネートフィルムピュアエース、帝人化成社製、下記第1表中PCと表示する。に変更した以外は、実施例3と同様にして、ガスバリアフィルム用中間層形成用組成物10を調製し、次いでガスバリアフィルム10を作製した。比較例1架橋剤を使用せず、水酸基含有樹脂としてポリビニルアルコール樹脂ゴーセノールGL-03、日本合成化学工業社製、水酸基を含む繰り返し単位:86.5~89.0mol、下記第1表中PVAと表示する。をガスバリアフィルム用中間層形成用組成物として用いた以外は、実施例10と同様にして、ガスバリアフィルム1rを作製した。比較例2ガスバリアフィルム用中間層形成用組成物として、ウレタン系樹脂バイロンUR1350、東洋紡社製、固形分重量比8、水酸基を含有しないポリウレタンアクリラート系UV硬化型樹脂化合物を主成分とする樹脂を、メチルエチルケトン/トルエン溶媒重量比:6535に溶解した溶液を使用し、実施例1と同様に、フィルム基材としてのPETの易接着面に、乾燥後の厚みが1μmとなるようにバーコートで塗布し、120°Cで2分間乾燥後、UV照射ラインを用いて、UV照射高圧水銀灯、ライン速度20m分、積算光量100mJ/cm2を行い、中間層を形成した。次いで、実施例1と同様にして、ガスバリアフィルム2rを作製した。比較例3実施例1において、架橋剤を添加しないこと以外は、実施例1と同様にして、ガスバリアフィルム用中間層形成用組成物を調製し、次いでガスバリアフィルム3rを作製した。比較例4実施例1において、基材上に、中間層形成用組成物による中間層を形成せずに、直接、ケイ素系高分子化合物としてペルヒドロポリシラザンを主成分とするコーティング剤を塗布してガスバリア層を形成する他は、実施例1と同様にして、ガスバリアフィルム4rを得た。上記実施例及び比較例で得られたガスバリアフィルム1~10及び1r~4rにつき、下記に示す方法により、水蒸気透過率の測定、層間密着性評価試験、及び可視光線透過率の測定を行った。その結果を下記第1表に示す。水蒸気透過率の測定40°C、相対湿度90の条件下で水蒸気透過率測定装置PERMATRAN-W3/33、mocon社製を用いて水蒸気透過率を測定した。光学特性の評価高温湿熱条件60°C、湿度90下に150時間載置する前後での、ガスバリアフィルムの可視光線透過率をJISK7631-1に準じて、NDH2000日本電色工業社製を用いて測定した。層間密着性評価試験高温湿熱条件60°C、湿度90下に150時間載置した後、碁盤目試験JISK-54001990年に従って膜の剥がれを観測した。なお、100マスを観察し、90マス以上の剥がれが見られなかったものを、良好と評価し、それ以外を不良と評価した。第1表から、実施例1~10の本発明のガスバリアフィルムは、ガスバリア性、層間密着性及び透明性に優れるものであることがわかる。中間層に架橋剤を含まない比較例1,3のガスバリアフィルム、中間層に水酸基含有樹脂を含まない比較例2のガスバリアフィルムは、層間密着性に劣り、さらに、比較例2のガスバリアフィルムは、透明性に劣っていた。中間層を用いない比較例4のガスバリアフィルムは、層間密着性、透明性ともに劣るものであった。"