"被露光材としての基板を載置する基板ステージと、前記基板ステージの上方に配置されてマスクを保持するマスクステージと、パターン露光用の光を前記マスクを介して前記基板に照射する照射手段と、を備える近接露光装置であって、前記マスクステージは、供給される負圧により前記マスクの縁部を吸着保持する吸着溝が形成されたマスクホルダを有し、前記マスクが前記マスクステージに保持される際、前記マスクホルダと前記マスクとの間には、シール部材が挟持されていることを特徴とする近接露光装置。前記シール部材は、前記吸着溝の周囲の前記マスクホルダと対向するマスクの対向面に貼り付けられていることを特徴とする請求項1に記載の近接露光装置。前記シール部材は、前記マスクの対向面に接着剤によって貼り付けられていることを特徴とする請求項1または2に記載の近接露光装置。前記マスクホルダは、接触する前記シール部材を剥がすシール部材剥離機構を有することを特徴とする請求項1~3のいずれか一項に記載の近接露光装置。前記シール部材剥離機構は、前記負圧を供給している状態で前記シール部材を剥がすことを特徴とする請求項4に記載の近接露光装置。被露光材としての基板を載置する基板ステージと、前記基板ステージの上方に配置されてマスクを保持するマスクステージと、パターン露光用の光を前記マスクを介して前記基板に照射する照射手段と、を備え、前記マスクステージが、供給される負圧により前記マスクの縁部を吸着保持する吸着溝が形成されたマスクホルダを有する近接露光方法であって、前記マスクが前記マスクステージに保持される際、前記マスクホルダと前記マスクとの間には、シール部材が挟持されていることを特徴とする近接露光方法。ところで、マスクがマスクホルダに吸着保持される際、マスクがマスクホルダの下面を傷つけてしまうことがあり、そのたびにマスクホルダをメンテナンスする必要があった。特許文献1に記載のマスクの保持方法は、レクチルをレクチルステージの上に載置する半導体用の露光装置であり、マスクホルダがマスクの上面を吸着保持するものではない。また、特許文献2及び3に記載のマスクの保持方法においても、マスクホルダを傷つけてしまう可能性がある。本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、マスクホルダを傷つけることなく、マスクをマスクホルダに取り付けることができる近接露光装置及び近接露光方法を提供することにある。本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。1被露光材としての基板を載置する基板ステージと、前記基板ステージの上方に配置されてマスクを保持するマスクステージと、パターン露光用の光を前記マスクを介して前記基板に照射する照射手段と、を備える近接露光装置であって、前記マスクステージは、供給される負圧により前記マスクの縁部を吸着保持する吸着溝が形成されたマスクホルダを有し、前記マスクが前記マスクステージに保持される際、前記マスクホルダと前記マスクとの間には、シール部材が挟持されていることを特徴とする近接露光装置。2前記シール部材は、前記吸着溝の周囲の前記マスクホルダと対向するマスクの対向面に貼り付けられていることを特徴とする1に記載の近接露光装置。3前記シール部材は、前記マスクの対向面に接着剤によって貼り付けられていることを特徴とする1または2に記載の近接露光装置。4前記マスクホルダは、接触する前記シール部材を剥がすシール部材剥離機構を有することを特徴とする1~3のいずれかに記載の近接露光装置。5前記シール部材剥離機構は、前記負圧を供給している状態で前記シール部材を剥がすことを特徴とする4に記載の近接露光装置。6被露光材としての基板を載置する基板ステージと、前記基板ステージの上方に配置されてマスクを保持するマスクステージと、パターン露光用の光を前記マスクを介して前記基板に照射する照射手段と、を備え、前記マスクステージが、供給される負圧により前記マスクの縁部を吸着保持する吸着溝が形成されたマスクホルダを有する近接露光方法であって、前記マスクが前記マスクステージに保持される際、前記マスクホルダと前記マスクとの間には、シール部材が挟持されていることを特徴とする近接露光方法。本発明の露光装置によれば、マスクステージは、供給される負圧によりマスクの縁部を吸着保持する吸着溝が形成されたマスクホルダを有する。マスクがマスクステージに保持される際、マスクホルダとマスクとの間には、フィルムが挟持されている。これにより、マスクホルダを傷つけることなく、マスクをマスクホルダに取り付けることができ、マスクステージのメンテナンス回数を減らすことで、スループットの向上に役立つ。第1実施形態以下、本発明の第1実施形態に係る露光装置の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。図1は本発明に係る露光装置の分解斜視図、図2は正面図、図3はマスクステージ近傍の拡大斜視図、図4はマスクステージの縦断面図である。図1に示すように、本実施形態の露光装置1は、マスクMを保持するマスクステージ10と、ガラス基板被露光材Wを保持する基板ステージ20と、パターン露光用の照射手段としての照明光学系30と、基板ステージ20をX軸,Y軸,Z軸方向に移動し、且つ基板ステージ20のチルト調整を行う基板ステージ移動機構40と、マスクステージ10及び基板ステージ移動機構40を支持する装置ベース50と、を備えている。なお、ガラス基板W以下、単に基板Wと称する。は、マスクMに対向配置されており、このマスクMに描かれたマスクパターンを露光転写すべく表面マスクMの対向面側に感光剤が塗布されている。先ず照明光学系30から説明する。照明光学系30は、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ31と、この高圧水銀ランプ31から照射された光を集光する凹面鏡32と、この凹面鏡32の焦点近傍に切替え自在に配置された二種類のオプチカルインテグレータ33と、光路の向きを変えるための平面ミラー35,36及び球面ミラー37と、この平面ミラー35とオプチカルインテグレータ33との間に配置されて照射光路を開閉制御する露光制御用シャッター34と、を備える。そして、照明光学系30では、露光時に露光制御用シャッター34が開制御されると、高圧水銀ランプ31から照射された光が、図1に示す光路Lを経て、マスクステージ10に保持されるマスクM、さらには基板ステージ20に保持される基板Wの表面に対して垂直にパターン露光用の平行光として照射される。これにより、マスクMのマスクパターンが基板W上に露光転写される。マスクステージ10は、図1~図3に示すように、中央部に矩形形状の開口11aが形成されるマスクステージベース11と、マスクステージベース11の開口11aにX軸,Y軸,θ方向に移動可能に装着されるマスク保持枠マスクステージベース側部材12と、を備える。マスクステージベース11は、装置ベース50上に立設される支柱51、及び支柱51の上端部に設けられるZ軸移動装置52によりZ軸方向に移動可能に支持され図2参照、基板ステージ20の上方に配置される。Z軸移動装置52は、例えば、モータ及びボールねじ等からなる電動アクチュエータ、或いは空圧シリンダ等を備え、単純な上下動作を行うことにより、マスクステージ10を所定の位置まで昇降させる。なお、Z軸移動装置52は、マスクMの交換や、Zステージ21の清掃等の際に使用される。図4に示すように、マスクステージベース11の開口11aの周縁部の上面には、平面ベアリング13が複数箇所配置されており、マスク保持枠12は、その上端外周縁部に設けられるフランジ12aを平面ベアリング13に載置している。これにより、マスク保持枠12は、マスクステージベース11の開口11aに所定のすき間を介して挿入されるので、このすき間分だけX軸,Y軸,θ方向に移動可能となる。マスク保持枠12は、中央部にパターン露光光を通過させるための矩形形状の開口12bが形成される。また、マスク保持枠12の下面には、マスクMを保持する一対のマスクホルダ14が間座15を介して固定されている。マスクホルダ14は、マスク保持枠12と共にマスクステージベース11に対してX軸,Y軸,θ方向に移動可能である。なお、マスクホルダ14は、2つに分割されておらず、矩形枠状に両端が接続された一体型マスクホルダであってもよい。図4及び図5に示すように、一対のマスクホルダ14の下面基板W側には、長手方向中央に形成された吸着溝14aが設けられている。マスクホルダ14の吸着溝14aは、マスクMのマスクパターンが描かれていない2辺の縁部を吸着するための溝である。吸着溝14aは、真空式吸着装置に接続されており、吸着溝14aに供給する負圧によってマスクMの2辺をそれぞれ吸着して着脱自在に保持する。なお、マスクホルダ14が矩形枠状に形成されている場合には、4辺に吸着溝を形成して、マスクMの4辺を吸着保持するようにしてもよい。また、マスクステージベース11の上面には、図3及び図4に示すように、マスク保持枠12をX軸,Y軸,θ方向に移動させ、一対のマスクホルダ14を介してマスク保持枠12に保持されるマスクMの位置を調整するマスク位置調整機構16が設けられる。マスク位置調整機構16は、マスク保持枠12のX軸方向に沿う一辺に取り付けられる1台のY軸方向駆動装置16yと、マスク保持枠12のY軸方向に沿う一辺に取り付けられる2台のX軸方向駆動装置16xと、を備える。Y軸方向駆動装置16yは、マスクステージベース11上に設置され、Y軸方向に伸縮するロッド56を有する駆動用アクチュエータ例えば、電動アクチュエータ等55と、ロッド56の先端にピン支持機構57を介して連結されるスライダ58と、マスク保持枠12のX軸方向に沿う辺部に取り付けられ、スライダ58を移動可能に取り付ける案内レール59と、を備える。一方、X軸方向駆動装置16xも、Y軸方向駆動装置16yと同様の構成であって、マスクステージベース11上に設置され、X軸方向に伸縮するロッド56を有する駆動用アクチュエータ55と、ロッド56の先端にピン支持機構57を介して連結されるスライダ58と、マスク保持枠12のY軸方向に沿う辺部に取り付けられ、スライダ58を移動可能に取り付ける案内レール59と、を備える。そして、マスク位置調整機構16では、1台のY軸方向駆動装置16yを駆動させることによりマスク保持枠12をY軸方向に移動させ、2台のX軸方向駆動装置16xを同等に駆動させることによりマスク保持枠12をX軸方向に移動させる。また、2台のX軸方向駆動装置16xのどちらか一方を駆動することによりマスク保持枠12をθ方向に移動Z軸回りの回転させる。さらに、マスクステージベース11の上面には、図3に示すように、マスクMと基板Wとの対向面間のギャップを測定するギャップセンサ17と、マスクMの取り付け位置を確認するためのアライメントカメラ18と、が設けられる。これらギャップセンサ17及びアライメントカメラ18は、移動機構19を介してX軸,Y軸方向に移動可能に保持され、マスク保持枠12内に配置される。移動機構19は、マスク保持枠12のY軸方向に互いに対向する二辺にそれぞれ配置され、ギャップセンサ17及びアライメントカメラ18を保持する保持架台25と、保持架台25をX軸,Y軸方向に移動可能に支持するリニアガイド26,27と、保持架台25をX軸,Y軸方向に移動させる駆動用アクチュエータ28,29と、を備える。そして、移動機構19では、リニアガイド26及び駆動用アクチュエータ28により保持架台25をX軸方向に移動させ、リニアガイド27及び駆動用アクチュエータ29により保持架台25をY軸方向に移動させる。なお、移動機構19は、リニアガイド及び駆動用アクチュエータを使用して保持架台をX軸,Y軸方向に移動させているが、リニアーモータ等を使用してもよい。アライメントカメラ18は、マスクMの表面のマスク側アライメントマーク図示せずをマスク裏面側から光学的に検出するものであり、ピント調整機構によりマスクMに対して接近離間移動してピント調整がなされるようになっている。なお、マスクステージベース11の上面には、図3に示すように、マスクステージベース11の開口11aのX軸方向の両端部に、マスクMの両端部を必要に応じて遮蔽するマスキングアパーチャ38が設けられる。このマスキングアパーチャ38は、モータ、ボールねじ、及びリニアガイド等からなるマスキングアパーチャ駆動機構39によりX軸方向に移動可能とされて、マスクMの両端部の遮蔽面積を調整する。なお、マスキングアパーチャ38は、開口11aのX軸方向の両端部だけでなく、開口11aのY軸方向の両端部に同様に設けてもよい。図1及び図2に示すように、基板ステージ20は、上面にワークチャック22が配置されたZステージ21を備え、基板ステージ移動機構40上に設置されている。なお、ワークチャック22は、真空吸着により基板Wを保持している。基板ステージ移動機構40は、基板ステージ20をY軸方向に移動させるY軸送り機構41と、基板ステージ20をX軸方向に移動させるX軸送り機構42と、基板ステージ20のチルト調整を行うと共に、基板ステージ20をZ軸方向に微動させるZ-チルト調整機構43と、を備える。Y軸送り機構41は、装置ベース50の上面にY軸方向に沿って設置される一対のリニアガイド44と、リニアガイド44によりY軸方向に移動可能に支持されるY軸テーブル45と、Y軸テーブル45をY軸方向に移動させるY軸送り駆動装置46と、を備える。リニアガイド44は、装置ベース50上にY軸方向に沿って設置される案内レール44aと、Y軸テーブル45の下面に固定され、案内レール44aに移動可能に取り付けられる一対のスライダ44bと、案内レール44aとスライダ44bとの間に介設される不図示の転動体と、を備える。Y軸送り駆動装置46は、Y軸テーブル45の下面に固定されるボールねじナット46aと、ボールねじナット46aに螺合されるボールねじ軸46bと、装置ベース50上に設置され、ボールねじ軸46bを回転駆動させるモータ46cと、を備える。そして、Y軸送り機構41では、Y軸送り駆動装置46のモータ46cを駆動させ、ボールねじ軸46bを回転させることにより、ボールねじナット46aとともにY軸テーブル45をリニアガイド44の案内レール44aに沿って移動させて、基板ステージ20をY軸方向に移動させる。X軸送り機構42は、Y軸テーブル45の上面にX軸方向に沿って設置される一対のリニアガイド47と、リニアガイド47によりX軸方向に移動可能に支持されるX軸テーブル48と、X軸テーブル48をX軸方向に移動させるX軸送り駆動装置49と、を備える。リニアガイド47は、Y軸テーブル45上にX軸方向に沿って設置される案内レール47aと、X軸テーブル48の下面に固定され、案内レール47aに移動可能に取り付けられる一対のスライダ47bと、案内レール47aとスライダ47bとの間に介設される不図示の転動体と、を備える。X軸送り駆動装置49は、X軸テーブル48の下面に固定される不図示のボールねじナットと、このボールねじナットに螺合されるボールねじ軸49bと、Y軸テーブル45上に設置され、ボールねじ軸49bを回転駆動させるモータ49cと、を備える。そして、X軸送り機構42では、X軸送り駆動装置49のモータ49cを駆動させ、ボールねじ軸49bを回転させることにより、不図示のボールねじナットとともにX軸テーブル48をリニアガイド47の案内レール47aに沿って移動させて、基板ステージ20をX軸方向に移動させる。Z-チルト調整機構43は、X軸テーブル48上に設置されるモータ43aと、モータ43aによって回転駆動されるボールねじ軸43bと、くさび状に形成され、ボールねじ軸43bに螺合されるくさび状ナット43cと、基板ステージ20の下面にくさび状に突設され、くさび状ナット43cの傾斜面に係合するくさび部43dと、を備える。そして、本実施形態では、Z-チルト調整機構43は、X軸テーブル48のX軸方向の一端側図1の手前側に2台、他端側に1台図1の奥手側、図2参照。の計3台設置され、それぞれが独立して駆動制御されている。なお、Z-チルト調整機構43の設置数は任意である。そして、Z-チルト調整機構43では、モータ43aによりボールねじ軸43bを回転駆動させることによって、くさび状ナット43cがX軸方向に水平移動し、この水平移動運動がくさび状ナット43c及びくさび部43dの斜面作用により高精度の上下微動運動に変換されて、くさび部43dがZ方向に微動する。従って、3台のZ-チルト調整機構43を同じ量だけ駆動させることにより、基板ステージ20をZ軸方向に微動することができ、また、3台のZ-チルト調整機構43を独立して駆動させることにより、基板ステージ20のチルト調整を行うことができる。これにより、基板ステージ20のZ軸,チルト方向の位置を微調整して、マスクMと基板Wとを所定の間隔を存して平行に対向させることができる。また、本実施形態の露光装置1には、図1及び図2に示すように、基板ステージ20の位置を検出する位置測定装置であるレーザ測長装置60が設けられる。このレーザ測長装置60は、基板ステージ移動機構40の駆動に際して発生する基板ステージ20の移動距離を測定するものである。レーザ測長装置60は、基板ステージ20に配設されるX軸用ミラー64およびY軸用ミラー65と、装置ベース50に配設されてレーザ光計測光をX軸用ミラー64に照射し、X軸用ミラー64により反射されたレーザ光を受光して、基板ステージ20の位置を計測するX軸測長器測長器61及びヨーイング測定器測長器62と、レーザ光をY軸用ミラー65に照射し、Y軸用ミラー65により反射されたレーザ光を受光して、基板ステージ20の位置を計測する1台のY軸測長器測長器63とを備える。そして、基板ステージ20のXY方向の位置検出信号を制御装置に入力するようにしている。ここで、図4及び図5に示すように、マスクMのマスクパターンが描かれていない領域で、且つ、吸着溝14aの周囲のマスクホルダ14と対向する対向面には、シール部材としてのフィルム90が接着剤などにより貼り付けられている。従って、フィルム90の中央には、吸着溝14aに対応する長孔91が形成される。これにより、マスクMがマスクステージ10に保持される際、マスクホルダ14とマスクMとの間には、フィルム90が挟持され、マスクMをマスクホルダ14に吸着保持する際に、マスクホルダ14を傷つけることが防止される。また、図4に示すように、マスクホルダ14の吸着溝14aの周囲には、接触するフィルム90を剥がすシール部材剥離機構14bが設けられており、このシール部材剥離機構14bは、吸着溝14aから負圧を供給している状態であってもフィルム90を剥がせるようにしている。従って、本実施形態の近接露光装置1によれば、マスクMがマスクステージ10に保持される際、マスクホルダ14とマスクMとの間には、フィルム90が挟持されるので、マスクMをマスクホルダ14に吸着保持する際に、マスクホルダ14を傷つけることが防止され、マスクステージのメンテナンス回数を減らすことで、スループットの向上に役立つ。なお、フィルムの形状は、本実施形態のものに限らず、図6や図7に示すものであっても良い。例えば、図6に示すフィルム90aのように、マスクホルダ14の吸着溝14aの周囲に設けられたフィルム90aの内周縁を凹凸形状に構成し、長手方向における吸着領域を増加するようにしてもよい。また、図7に示すフィルム90bのように、フィルム90bの内側矩形領域90b1を外側矩形領域90b2より一段低くして、その低くした内側矩形領域90b1に外側矩形領域90b2と同じ高さの複数の丸状突起92を設けるようにしてもよい。なお、突起の形状は、丸形状のほうが角形状に比べて面圧にばらつきがなく好ましい。尚、本発明は、前述した各実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。"