円筒状基材と、前記円筒状基材の外周面上に設けられた微細構造層と、前記円筒状基材の内周面上及び/又は前記微細構造層上に設けられたUV吸収層と、を具備することを特徴とするロール状モールド。前記円筒状基材は、UV透過性材料を含むことを特徴とする請求項1記載のロール状モールド。前記UV透過性材料が、ガラス材料を含むことを特徴とする請求項2記載のロール状モールド。前記ガラス材料が、石英ガラス、高ケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、アミノケイ酸ガラス、無アルカリガラス、鉛ガラス、バリウムガラス、リン珪酸ガラス、フッ化物ガラス、ランタンガラス、透明結晶化ガラス、熱線吸収ガラス、及びスピンオンガラスからなる群から選択された少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項3記載のロール状モールド。前記微細構造層上に設けられたUV吸収層の厚さが、5nm以上30nm以下であることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載のロール状モールド。前記微細構造層上に設けられたUV吸収層が、W、V、Cr、Co、Mo、Ge、Ir、Ni、Os、Ti、Fe、Nb、Hf、Mn及びTa、並びにこれらの金属のうち少なくとも一種を主成分とする合金からなる群から選択された少なくとも一種を主成分とすることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載のロール状モールド。前記微細構造層上に設けられたUV吸収層が、Mg、Al、Si、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Y、Zr、Nb、Mo、Ru、Rh、In、Sn、Sb、Te、Hf、Ta、W、Ir、Tl、及びBiからなる群から選択された少なくとも一種の酸化物を主成分とすることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載のロール状モールド。前記円筒状基材の内周面上に設けられたUV吸収層が、黒色塗料、染料、顔料、水溶性エマルジョン、アクリルエマルジョン、アクリル樹脂、及びエポキシ樹脂からなる群から選択された少なくとも1種を含む硬化体又は乾燥体であることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載のロール状モールド。ところで、特許文献5及び特許文献6に記載されたロール状モールドにおいては、被転写材に微細構造を連続的に形成するロールtoロールプロセス用として使用することを想定している。しかしながら、これらのロール状モールドにおいては、基材としてガラスを用いることから、UVナノインプリントを連続的に実施すると、ロール状モールドに照射されたUV光が、ガラス中を導波光又は透過光として通過する場合がある。このように、UV光がガラス中を通過した場合には、転写前の未硬化樹脂に到達して未硬化樹脂の一部がゲル化し、転写される微細構造の解像度が低下すると共に、連続的に微細構造を転写することが困難となる問題がある。このため、転写前の導波光及び透過光を抑制できるロール状モールドが望まれている。本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、基材中を通過する導波光又は透過光を抑制でき、被転写材に連続的に微細構造を転写できるロール状モールドを提供することを目的とする。本発明のロール状モールドは、円筒状基材と、前記円筒状基材の外周面上に設けられた微細構造層と、前記円筒状基材の内周面上及び/又は前記微細構造層上に設けられたUV吸収層と、を具備することを特徴とする。この構成によれば、ロール状モールドに照射されたUV光が、円筒状基材の内周面上及び/又は微細構造層上に設けられたUV吸収層によって吸収されるので、円筒状基材を通過する導波光及び透過光を吸収できる。これにより、微細構造層上に塗布した転写前の未硬化樹脂の硬化を抑制できるので、被転写材に連続的に微細構造を転写できる。本発明のロール状モールドにおいては、前記円筒状基材は、UV透過性材料を含むことが好ましい。本発明のロール状モールドにおいては、前記UV透過性材料が、ガラス材料を含むことが好ましい。本発明のロール状モールドにおいては、前記ガラス材料が、石英ガラス、高ケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、アミノケイ酸ガラス、無アルカリガラス、鉛ガラス、バリウムガラス、リン珪酸ガラス、フッ化物ガラス、ランタンガラス、透明結晶化ガラス、熱線吸収ガラス、及びスピンオンガラスからなる群から選択された少なくとも一種を含むことが好ましい。本発明のロール状モールドにおいては、前記微細構造層上に設けられたUV吸収層の厚さが、5nm以上30nm以下であることが好ましい。本発明のロール状モールドにおいては、前記微細構造層上に設けられたUV吸収層が、W、V、Cr、Co、Mo、Ge、Ir、Ni、Os、Ti、Fe、Nb、Hf、Mn及びTa、並びにこれらの金属のうち少なくとも一種を主成分とする合金からなる群から選択された少なくとも一種を主成分とすることが好ましい。本発明のロール状モールドにおいては、前記微細構造層上に設けられたUV吸収層が、Mg、Al、Si、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Y、Zr、Nb、Mo、Ru、Rh、In、Sn、Sb、Te、Hf、Ta、W、Ir、Tl、及びBiからなる群から選択された少なくとも一種の酸化物を主成分とすることが好ましい。本発明のロール状モールドにおいては、前期円筒状基材の内周面上に設けられたUV吸収層が、黒色塗料、染料、顔料、水溶性エマルジョン、アクリルエマルジョン、アクリル樹脂、及びエポキシ樹脂からなる群から選択された少なくとも一種を含む硬化体又は乾燥体であることが好ましい。本発明によれば、基材中を通過する導波光又は透過光を抑制でき、被転写材に連続的に微細構造を転写できるロール状モールドを実現できる。以下、本発明の一実施の形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。図1は、本実施の形態に係るロール状モールド1の平面模式図であり、図2は、図1のII-II線における断面模式図である。なお、図2においては、ロール状モールド1の断面を拡大して示している。図1及び図2に示すように、本実施の形態に係るロール状モールド1は、円筒状基材11と、この円筒状基材11の外周面上に設けられ、一主面に微細構造微細パターンが形成された微細構造層12とを具備する。このロール状モールド1は、円筒状基材11の内周面上及び/又は微細構造層12上に設けられたUV吸収層13を有する。UV吸収層13は、微細構造層12上に設けてもよく図2A参照、円筒状基材11の内周面に沿って設けてもよく図2B参照、微細構造層12上及び円筒状基材11の内周面に設けてもよい図2C参照。このロール状モールド1においては、微細構造層12上に塗布された被転写材としての光硬化性樹脂などを光硬化することにより、微細構造層12の微細構造を転写する。このロール状モールド1においては、円筒状基材11の外周面側又は内周面側から照射されたUV光が、円筒状基材11の内周面上及び/又は微細構造層12上に設けられたUV吸収層13によって吸収されるので、円筒状基材11を通過する導波光及び透過光を吸収できる。これにより、微細構造層12上に塗布された転写前の未硬化樹脂の硬化を抑制できるので、ロールtoロールプロセス用として使用した場合においても、被転写材に連続的に微細構造を転写できる。本実施の形態に係るロール状モールド1においては、円筒状基材11がUV透過性材料を含むことが好ましい。ここで、本明細書において、UV透過性材料とは、波長450nm以下の光に対して反射及び吸収がなく、実質的に透明な材料である。円筒状基材11がUV透過性材料を含むことにより、ロール状モールド1をナノインプリント用モールドとして用い、円筒状基材11の内周面側からUV光を照射した場合においても、円筒状基材11を透過したUV光によって、微細構造層12上の被転写材を硬化することが可能となる。このため、生産プロセス及び使用する材料が制限され、円筒状基材11の内周面側から露光する必要がある場合においても、微細構造を被転写材に転写することができる。なお、被転写材側微細構造層12側からUV光を照射する場合には、円筒状基材11は、UV光に対して必ずしも透明である必要はない。UV透過性材料としては、UV光を透過するものであれば特に限定されず、各種有機材料又は各種無機材料を用いることができる。これらの中でも、UV透過性材料としては、無機材料が好ましく、無機材料の中でも表面平滑性、耐熱性、耐薬品性、エッチング性能及び強度に優れるガラス材料がより好ましい。円筒状基材11がUV透過性材料としてのガラス材料を含むことにより、円筒状基材11上に微細構造層12を形成する工程における加工性が良好となると共に、円筒状基材11上に形成した微細構造層12の微細構造の転写性が向上する。ガラス材料としては、石英ガラス、高ケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、アミノケイ酸ガラス、無アルカリガラス、鉛ガラス、バリウムガラス、リン珪酸ガラス、フッ化物ガラス、ランタンガラス、透明結晶化ガラス、熱線吸収ガラス、及びスピンオンガラスからなる群から選択された少なくとも一種のガラス材料が好ましく、優れた表面平滑性、耐薬品性、及び強度の観点から、石英ガラス、無アルカリガラスが特に好ましい。微細構造層12は、円筒状基材11の外周面上に形成される。微細構造層12の形成方法としては、フォトリソグラフィー法、電子線描画法、干渉露光法、半導体レーザーを用いた直接描画法などが挙げられる。これらのうち、いずれの方法を用いる場合においても、円筒状基材11には、微細構造形成前の優れた表面平滑性が求められる。円筒状基材11の外周面の表面粗さとしては、中心線平均粗さRaが10nm以下であることが好ましく、Raが5nm以下であることがより好ましく、Raが2nm以下であることさらに好ましい。適切な中心線平均粗さRaは、円筒状基材11の表面に形成される微細構造のサイズに概ね依存する。ロール状モールド1の用途にもよるが、一般的にRaが微細構造の形成に与える影響を考えると、Raとしては、微細構造のサイズの1/100程度が好ましい。例えば、微細構造のサイズが1μm以下であれば、円筒状基材11のRaは10nm以下が好ましく、微細構造サイズが500nmであれば、円筒状基材11のRaは5nm以下が好ましい。また、微細構造層12を均一に形成する観点から、円筒状基材11としては、優れた真円度及び円筒度を有するものが望ましい。円筒状基材11としては、全長に関係なく、真円度及び円筒度とも10μm以下が好ましく、5μm以下がより好ましい。また、真円度及び円筒度は、微細構造形成時だけでなく、被転写材への転写時にも、転写性の均一化の観点から重要である。UV吸収層13は、波長300nm~450nmの波長領域のUV光の吸収効率に優れる材料で構成され、UVナノインプリント用モールドでの転写に用いられるUV硬化樹脂に含まれる光吸収材の吸収波長と合致するUV光を吸収する。これにより、ロール状モールド1中をUV光が導光波及び透過光として伝搬して、転写前の未硬化樹脂に到達することを抑制できるので、転写前における未硬化樹脂の硬化、ゲル化を抑制でき、転写不良を抑制できる。微細構造層12上に設けられたUV吸収層13の厚さとしては、5nm以上30nm以下であることが好ましく、5nm以上10nm以下であることがより好ましい。用いる材料にもよるが、UV吸収層13の厚さが5nm以上であれば、UV光を充分に吸収することができ、10nm以下であれば、円筒状基材11上に設けられたナノオーダーの微細構造を損傷することなく保つことができる。また、UV吸収層13の厚さが30nm以下であれば、後述する合金や酸化物のどれを用いてもUV光を充分に吸収することができる。UV吸収層13は、必ずしも微細構造層12又は円筒状基材11の内周面に沿って均一に設ける必要はない。例えば、UV吸収層13は、微細構造層12の微細構造に含まれる凸部近傍を厚く設け、凹部近傍を薄く設けてもよい。円筒状基材11の内周面に形成するUV吸収層13の厚みとしては、用いる材料によって、大きく異なるため、UV光を充分に吸収することができれば、特に限定されない。例えば、無光沢黒色インク黒色塗料を用いる場合においては、5μm以上100μm以下が好ましく、水溶性エマルジョンを用いる場合においては、1μm以上500μm以下が好ましい。内周面に形成するUV吸収層13の厚みは、加工性や均一性を維持すること、異種材料界面における応力の発生を鑑みると、薄いことが好ましい。UV吸収層13としては、W、V、Cr、Co、Mo、Ge、Ir、Ni、Os、Ti、Fe、Nb、Hf、Mn及びTa、並びにこれらの金属のうち少なくとも一種を主成分とする合金からなる群から選択された少なくとも一種を主成分とすることが好ましい。これにより、上記金属膜がUV光に対して不透過となるので、円筒状基材11中を導光透過するUV光を抑制することができる。また、UV吸収層13としては、Mg、Al、Si、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Y、Zr、Nb、Mo、Ru、Rh、In、Sn、Sb、Te、Hf、Ta、W、Ir、Tl、及びBiからなる群から選択された少なくとも一種の金属の酸化物を主成分とすることが好ましい。これにより、上記酸化膜がUV光に対して不透過となるので、円筒状基材11中を導光透過するUV光を抑制することができる。具体的には、酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化ニッケル、酸化銅、酸化バナジウム、酸化クロムなどが好ましい。また、これらの酸化物においては、金属に対する酸素量が完全酸化状態よりも少ない不定比酸化物であるとUV光の吸収効率が高くなり好ましい。消衰係数kが0.2以上4.0未満であると膜厚に依存して、吸収効率が高くなるため好ましい。なお、消衰係数kが1.5以上3.5以下の範囲であると、20nm以下の膜厚で所望の光学特性を得ることができ、特に好ましい。また、UV吸収層13としては、円筒状基材11としてガラス材料を用いる場合におけるガラス材料との密着性や、UVナノインプリント用モールドとして使用する際の離型剤との密着性を考慮すると、Si、Cr、Alを単独で用いることが好ましい。また、UV吸収層13として、Crを用いることにより、10nm以下の膜厚で、UV光を効果的に吸収するため、特に好ましい。また、円筒状基材11の内周面にUV吸収層13を設ける場合においては、UV吸収層13としては、黒色塗料、染料、顔料、水溶性エマルジョン、アクリルエマルジョン、アクリル樹脂、及びエポキシ樹脂からなる群から選択された少なくとも1種を含む硬化体、乾燥体、若しくは焼結体であることが好ましい。これにより、円筒状基材11内周面のUV吸収層13がUV光を吸収するので、円筒状基材11中を導光透過するUV光を抑制することができる。また、微細構造層12を形成する前に、予め、UV吸収層13を設けるため、ナノオーダーの微細構造を損傷することが全くない。硬化体、乾燥体若しくは焼結体としては、黒色のものであれば、UV領域においても光を透過することはないので、UV吸収層13として用いることができる。黒色塗料としては、市販の黒色インク、黒色スプレーなど、円筒状基材11と密着しやすいものを用いることが好ましい。染料、顔料は、有機系のバインダーに所定の波長の光を減衰させる光吸収材料として含有させることによりUV吸収層13として用いることができる。染料、顔料としては、特に限定せず、一般に使用されている染料、顔料などが使用でき、これらを単独で使用しても混合して用いてもよい。例えば、黒色の顔料を単体で用いても、シアン、マゼンタ、イエローの顔料を混合して使用してもよい。有機系バインダーとしては、アクリル樹脂例えば、アクリル樹脂共重合体、多官能アクリルモノマー、メタクリルモノマー、光重合開始剤、増感剤、添加剤を含むアクリル重合感光性樹脂組成物、エポキシ樹脂例えば、エポキシ系のモノマー及び硬化剤などが挙げられる。有機系バインダーを用いる場合、例えば、アクリル樹脂に黒色顔料を分散させることによりUV吸収層13として使用することができる。以下に、市販されている黒、シアン、マゼンタ、イエローの顔料を例示する。黒色の顔料としては、Raven1060、Raven1080、Raven1170、Raven1200、Raven1250、Raven1255、Raven1500、Raven2000、Raven3500、Raven5250、Raven5750、Raven7000、Raven5000ULTRAII、Raven1190ULTRAII以上、コロンビアンカーボン社製、BlackPearlsL、MOGUL-L、Regal400R、Regal660R、Regal330R、Monarch800、Monarch880、Monarch900、Monarch1000、Monarch1300、Monarch1400以上、キャボット社製、ColorBlackFW1、ColorBlackFW2、ColorBlackFW200、ColorBlack18、ColorBlackS160、ColorBlackS170、SpecialBlack4、SpecialBlack4A、SpecialBlack6、Printex35、PrintexU、Printex140U、PrintexV、Printex140V以上、デグッサ社製、No.25、No.33、No.40、No.47、No.52、No.900、No.2300、MCF-88、MA600、MA7、MA8、MA100以上、三菱化学社製などが挙げられるが、これらに限定されることはない。シアン色の顔料としては、C.I.PigmentBlue-1、C.I.PigmentBlue-2、C.I.PigmentBlue-3、C.I.PigmentBlue-15、C.I.PigmentBlue-15:2、C.I.PigmentBlue-15:3、C.I.PigmentBlue-15:4、C.I.PigmentBlue-16、C.I.PigmentBlue-22、C.I.PigmentBlue-60などが挙げられるが、これらに限定されることはない。マゼンタ色の顔料としては、C.I.PigmentRed-5、C.I.PigmentRed-7、C.I.PigmentRed-12、C.I.PigmentRed-48、C.I.PigmentRed-48:1、C.I.PigmentRed-57、C.I.PigmentRed-112、C.I.PigmentRed-122、C.I.PigmentRed-123、C.I.PigmentRed-146、C.I.PigmentRed-168、C.I.PigmentRed-184、C.I.PigmentRed-202、C.I.PigmentRed-207などが挙げられるが、これらに限定されることはない。イエローの顔料としては、C.I.PigmentYellow-12、C.I.PigmentYellow-13、C.I.PigmentYellow-14、C.I.PigmentYellow-16、C.I.PigmentYellow-17、C.I.PigmentYellow-74、C.I.PigmentYellow-83、C.I.PigmentYellow-93、C.I.PigmentYellow-95、C.I.PigmentYellow-97、C.I.PigmentYellow-98、C.I.PigmentYellow-114、C.I.PigmentYellow-128、C.I.PigmentYellow-129、C.I.PigmentYellow-151、C.I.PigmentYellow-154などが挙げられるが、これらに限定されることはない。水溶性エマルジョンとしては、蛍光灯や建築用、車載用に用いられるUVカット用の水溶性エマルジョンを用いることができる。水溶性エマルジョンとしては、例えば、JTS社製のUVcutシリーズなどが挙げられる。アクリルエマルジョンとしては、450nm以下の光を吸収するものであれば、用いる溶剤も含めて特に限定されない。円筒状基材11として有機材料を用いる場合には、その有機材料を浸食しない溶剤を用いたアクリルエマルジョンを用いることが好ましい。次に、UV吸収層13の形成方法について説明する。円筒状基材11上に設けられた微細構造層12の表面へのUV吸収層13の形成方法としては、微細構造層12とUV吸収層13との間で、充分な密着性が得られる形成方法であれば、特に限定されないが、ナノオーダーの厚みで制御する観点から、物理的吸着法が好ましい。物理的吸着法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などを好適に用いることができる。これらの中でも、ナノオーダーの微細構造上に均一に積層できること、金属種の選択の幅が広いこと、酸素の導入により光学定数を変化させることができること、プロセス温度が比較的低温であることから、スパッタリング法が好ましい。円筒状基材11の内周面へのUV吸収層13の形成方法としては、特に限定されないが、円筒状基材11の内周面にコーティングするため、スプレーコート法、ディップコート法が好ましい。また、UV吸収層13と円筒状基材11との密着性向上のために、円筒状基材11の内側の表面を荒らしてもよい。用いるUV吸収層13にもよるが、コーティングの後、乾燥あるいは加熱による焼結、硬化を行うことができる。また、円筒状基材11の内周面及び円筒状基材11上に設けられた微細構造層12の表面へそれぞれUV吸収層13を形成する場合には、円筒状基材11の内周面にUV吸収層13を設け、微細構造層12を形成してから、微細構造層12上にUV吸収層13を形成する。この場合においては、円筒状基材11の厚み、光学定数にもよるが、円筒状基材11内周面へのUV吸収層13だけで不十分である場合は、円筒状基材11上に微細構造層12を形成してから、上述材料及び方法で微細構造層12上にUV吸収層13を設けることができる。以上説明したように、上記実施の形態に係るロール状モールド1によれば、ロール状モールド1に照射されたUV光が、円筒状基材11の内周面上及び又は微細構造層12上に設けられたUV吸収層13によって吸収されるので、円筒状基材11を通過する導波光及び透過光を吸収できる。これにより、微細構造層12上に塗布した転写前の未硬化樹脂の硬化を抑制できるので、解像度の高い微細構造を有する転写材が得られると共に、被転写材に連続的に微細構造を転写できる。以下、本発明の効果を明確にするために行った実施例について説明する。なお、本発明は以下の実施例によって何ら限定されるものではない。[実施例1]ロール状モールドの作製円筒状基材としての石英ガラスロールの内周面に対して、サンドブラスト処理を施して表面を荒らした。次に、石英ガラスロールの内周面にUV吸収層としての無光沢黒色インクを均一に塗布して乾燥した。無光沢黒色インクの膜厚は、10μmであった。次に、石英ガラスロールの外周面に対して、半導体レーザーを用いた直接描画リソグラフィー法により微細凹凸構造微細構造層を形成した。次に、微細構造層上に、OPTOOLHD-1100Zダイキン化学工業社製を塗布し、60°Cで1時間加熱後、室温で24時間静置して固定化した。その後、OPTOOLHD-ZVダイキン化学工業社製で3回洗浄することにより離型処理を施してロール状モールドを作製した。転写フィルムの作製基材透明シートとして、PETフィルム:A4100東洋紡社製:幅300mm、厚さ100μmを用い、光硬化性樹脂として、PAK-02東洋合成社製を用いた。マイクログラビアコーティング康井精機社製により、当該光硬化性樹脂をPETフィルムの易接着面に、膜厚6μmになるように塗布した。次に、上記ロール状モールドの外周面微細構造層に対して、上記光硬化性樹脂が塗布されたPETフィルムをニップロール0.1MPaで押し付け、紫外線を照射して連続的に光硬化させた。光硬化は、大気下、温度20°C、湿度50、ランプ中心下での積算露光量が300mJ/cm2の条件で実施した。また、紫外線の光源としては、UV露光装置フュージョンUVシステムズジャパン社製、Hバルブを用いた。光硬化の後、光硬化性樹脂上に保護フィルムポリエチレンフィルム:厚さ20μmをラミネートし、微細凹凸構造を保護してから連続的に巻き取ることにより、転写フィルムを作製した。転写フィルムの微細凹凸構造の形状を走査型電子顕微鏡観察で確認した結果、隣接する凸部間の距離は250nmであり、凸部高さは250nmであった。結果を下記表1に示す。[実施例2]ロール状モールドの作製円筒状基材としての石英ガラスロールの外周面に対して、半導体レーザーを用いた直接描画リソグラフィー法により微細凹凸構造微細構造層を形成した。次に、石英ガラスロールの微細構造層上に、スパッタリング法によってUV吸収層としてのクロムを10nm成膜した。微細構造層上にクロムを成膜した後、石英ガラスロールに対して、OPTOOLHD-1100Zダイキン化学工業社製を塗布し、60°Cで1時間加熱後、室温で24時間静置して固定化した。その後、OPTOOLHD-ZVダイキン化学工業社製で3回洗浄することにより離型処理を施してロール状モールドを作製した。転写フィルムの作製基材透明シートとして、PETフィルム:A4100東洋紡社製:幅300mm、厚さ100μmを用い、光硬化性樹脂として、PAK-02東洋合成社製を用いた。マイクログラビアコーティング康井精機社製により当該光硬化性樹脂をPETフィルムの易接着面に、膜厚6μmになるように塗布した。次いで、上記円筒状金型の外周面微細構造層に対して、上記光硬化性樹脂が塗布されたPETフィルムをニップロール0.1MPaで押し付け、紫外線を照射して連続的に光硬化させた。光硬化は、大気下、温度20°C、湿度50、ランプ中心下での積算露光量が300mJ/cm2の条件で実施した。また、紫外線の光源としては、UV露光装置フュージョンUVシステムズジャパン社製、Hバルブを用いた。光硬化の後、光硬化性樹脂上に保護フィルムポリエチレンフィルム:厚さ20μmをラミネートし、微細凹凸構造を保護してから連続的に巻き取ることにより、転写フィルムを作製した。転写フィルムの微細凹凸構造の形状を走査型電子顕微鏡観察で確認した結果、隣接する凸部間の距離は250nmであり、凸部高さは250nmであった。結果を下記表1に示す。[比較例1]ロール状モールドの作製円筒状基材としての石英ガラスロールの外周面に対して、半導体レーザーを用いた直接描画リソグラフィー法により微細凹凸構造微細構造層を形成した。次に、石英ガラスロール表面に対して、OPTOOLHD-1100Zダイキン化学工業社製を塗布し、60°Cで1時間加熱後、室温で24時間静置して固定化した。その後、OPTOOLHD-ZVダイキン化学工業社製で3回洗浄することにより離型処理を施してロール状モールドを作製した。転写フィルムの作製基材透明シートとして、PETフィルム:A4100東洋紡社製:幅300mm、厚さ100μmを用い、光硬化性樹脂として、PAK-02東洋合成社製を用いた。マイクログラビアコーティング康井精機社製により、該光硬化性樹脂を基材であるPETフィルムの易接着面に、塗布膜厚6μmになるように塗布した。次いで、上記ロール状モールドの外周面微細構造層に対して、上記光硬化性樹脂が塗布されたPETフィルムをニップロール0.1MPaで押し付け、紫外線を照射して連続的に光硬化させた。光硬化は、大気下、温度20°C、湿度50、ランプ中心下での積算露光量が300mJ/cm2の条件で実施した。また、紫外線の光源としては、UV露光装置フュージョンUVシステムズジャパン社製、Hバルブを用いた。光硬化の後、光硬化性樹脂上に保護フィルムポリエチレンフィルム:厚さ20μmをラミネートし、微細凹凸構造を保護してから連続的に巻き取ることにより、転写フィルムを作製した。得られた転写フィルムの表面には、気泡や塊樹脂が付着し、ミリオーダーの凹凸があった。結果を下記表1に示す。[比較例2]ロール状モールドの作製円筒状基材としてスピンオンガラスSOGを用いた。アルミロール表面に対して、電解研磨、洗浄を施した後、SOGとしてのACCUGLASS512BHoneywell社製を塗布した。塗布後、400°Cで3時間加熱して焼結させた。この塗布と焼結を3回繰り返し、アルミロール上に円筒状基材としてのSOGを形成した。形成したSOGに対し、アルミロールを回転させながら、電子線を照射した。その後、現像液としての2.4フッ酸緩衝液50HF:5cm3/Lと40NH4F:0cm3/Lと混合液を使用し、20°C、1分間の条件でアルミロールを現像液に浸漬した。その後、アルミロールを純水で洗浄して、アルミロールの外周面に微細凹凸構造微細構造層を形成した。次に、微細構造層を形成したSOG表面に対し、OPTOOLHD-1100Zダイキン化学工業社製を塗布して、60°Cで1時間加熱後、室温で24時間静置して固定化した。その後、OPTOOLHD-ZVダイキン化学工業社製で3回洗浄して離型処理を施してロール状モールドを作製した。転写フィルムの作製基材透明シートとして、PETフィルム:A4100東洋紡社製:幅300mm、厚さ100μmを用い、光硬化性樹脂として、PAK-02東洋合成社製を用いた。マイクログラビアコーティング康井精機社製により、該光硬化性樹脂をPETフィルムの易接着面に、塗布膜厚6μmになるように塗布した。次いで、上記ロール状モールドの外周面に対して、上記光硬化性樹脂が塗布されたPETフィルムをニップロール0.1MPaで押し付け、紫外線を照射して連続的に光硬化させた。光硬化は、大気下、温度20°C、湿度50、ランプ中心下での積算露光量が300mJ/cm2の条件で実施した。また、紫外線の光源としては、UV露光装置フュージョンUVシステムズジャパン社製、Hバルブを用いた。光硬化の後、光硬化性樹脂上に保護フィルムポリエチレンフィルム:厚さ20μmをラミネートし、転写した微細凹凸構造を保護してから連続的に巻き取ることにより、転写フィルムを作製した。得られた転写フィルムの表面には、気泡や塊樹脂が付着し、ミリオーダーの凹凸があった。結果を下記表1に示す。表1から分かるように、円筒状基材としての石英ガラスロール上にUV吸収層を設けた場合には、ナノオーダーの微細構造を転写することができた実施例1及び実施例2。この結果は、石英ガラスロール中を通過する導波光がUV吸収層によって吸収され、UV光が転写フィルム上の未硬化樹脂に到達してゲル化することを抑制できたためと考えられる。これに対して、石英ガラスロール上やスピンオンガラス上にUV吸収層を設けない場合には、転写フィルムの表面に気泡や塊樹脂が付着し、ナノオーダーの微細構造は転写できなかった比較例1及び比較例2。この結果は、石英ガラスロール中やスピンオンガラス中を通過する導波光又は透過光が、転写フィルム上の未硬化樹脂に到達してゲル化したためと考えられる。