ナフタレン又はo-キシレン/ナフタレン混合物を無水フタル酸に酸化させるための多層触媒であって、少なくとも3個の触媒層を含み、各層が、酸化バナジウム及び二酸化チタンを含み、且つa一の触媒層Aのアルカリ金属含量が最も高く、b流れ方向で触媒層Aに後から続く触媒層Zが、触媒層Aのアルカリ金属含量の0~10のアルカリ金属含量を有し、且つc触媒層AとZの間に位置する触媒層が触媒層Aのアルカリ金属含量の30~90のアルカリ金属含量を有し、各触媒層のアルカリ金属含量が流れ方向の次の触媒層のアルカリ金属含量よりも高くなるように選択されたアルカリ金属含量を有することを特徴とする多層触媒。4個の層を有する請求項1に記載の多層触媒であって、前記触媒層のアルカリ金属含量が、a一の触媒層Aのアルカリ金属含量が最も高く、b流れ方向で触媒層Aに続く触媒層Bが、触媒層Aのアルカリ金属含量の60~90のアルカリ金属含量を有し、c流れ方向で触媒層Bに続く触媒層Cが、触媒層Aのアルカリ金属含量の30~59のアルカリ金属含量を有し、d流れ方向で触媒層Cに続く触媒層Zが、触媒層Aのアルカリ金属含量の0~10のアルカリ金属含量を有するように選択された多層触媒。触媒層Aの床長が反応器内全触媒充填高さの10~50の範囲である請求項1又は2に記載の多層触媒。少なくとも3個の触媒層を含む多層触媒を用いてナフタレン又はo-キシレン/ナフタレン混合物を無水フタル酸に酸化させる方法であって、各層が、酸化バナジウム及び二酸化チタンを含み、且つa一の触媒層Aのアルカリ金属含量が最も高く、b流れ方向で触媒層Aに後から続く触媒層Zが、触媒層Aのアルカリ金属含量の0~10のアルカリ金属含量を有し、c触媒層AとZとの間に位置する触媒層が触媒層Aのアルカリ金属含量の30~90のアルカリ金属含量を有し、各触媒層のアルカリ金属含量が流れ方向の次の触媒層のアルカリ金属含量よりも高くなるように選択されたアルカリ金属含量を有することを特徴とする方法。4層触媒を用いた請求項4に記載の方法であって、前記触媒層のアルカリ金属含量が、a一の触媒層Aのアルカリ金属含量が最も高く、b流れ方向で触媒層Aに続く触媒層Bが、触媒層Aのアルカリ金属含量の60~90のアルカリ金属含量を有し、c流れ方向で触媒層Bに続く触媒層Cが、触媒層Aのアルカリ金属含量の30~59のアルカリ金属含量を有し、d流れ方向で触媒層Cに続く触媒層Zが、触媒層Aのアルカリ金属含量の0~10のアルカリ金属含量を有するように選択された方法。ナフタレン又はo-キシレン/ナフタレン混合物を無水フタル酸に酸化させるための、少なくとも3個の触媒層を含む多層触媒の使用方法であって、各層が、酸化バナジウム及び二酸化チタンを含み、且つa一の触媒層Aのアルカリ金属含量が最も高く、b流れ方向で触媒層Aに後から続く触媒層Zが、触媒層Aのアルカリ金属含量の0~10のアルカリ金属含量を有し、且つc触媒層AとZと間に位置する触媒層が触媒層Aのアルカリ金属含量の30~90のアルカリ金属含量を有し、各触媒層のアルカリ金属含量が流れ方向の次の触媒層のアルカリ金属含量より高くなるように選択されたアルカリ金属含量を有することを特徴とする使用方法。ナフタレン又はo-キシレン/ナフタレン混合物を無水フタル酸に酸化させるための、4層触媒の使用方法であって、各触媒層が酸化バナジウム及び二酸化チタンを含み、且つ前記各触媒層のアルカリ金属含量が、a一の触媒層Aのアルカリ金属含量が最も高く、b流れ方向で触媒層Aに続く触媒層Bが、触媒層Aのアルカリ金属含量の60~90のアルカリ金属含量を有し、c流れ方向で触媒層Bに続く触媒層Cが、触媒層Aのアルカリ金属含量の30~59のアルカリ金属含量を有し、d流れ方向で触媒層Cに続く触媒層Zが、触媒層Aのアルカリ金属含量の0~10のアルカリ金属含量を有するように選択されたことを特徴とする使用方法。本発明の目的は、毎時約4標準立方メートルの空気で、標準立方メートル当たり少なくとも80gの総負荷でナフタレン又はo-キシレン/ナフタレン混合物を酸化させるための触媒であって、高いPAn収率及び良好な生成物品質でo-キシレン/ナフタレン比が広範囲で変動可能である触媒を開発することである。この目的は、ナフタレン又はo-キシレン/ナフタレン混合物を無水フタル酸に酸化させるための多層触媒であって、各触媒層が酸化バナジウム及び二酸化チタンを含み、且つその触媒層のアルカリ金属含量が流れ方向に層から層へと減少する多層触媒によって達成される。したがって、本発明は、ナフタレン又はo-キシレン/ナフタレン混合物を無水フタル酸に酸化させるための多層触媒であって、少なくとも3個の触媒層を含み、各層が、酸化バナジウム及び二酸化チタンを含み、且つa一の触媒層Aのアルカリ金属含量が最も高く、b流れ方向で触媒層Aに後から続く触媒層Zが、触媒層Aのアルカリ金属含量の0~10のアルカリ金属含量を有し、且つc触媒層AとZの間に位置する触媒層が触媒層Aのアルカリ金属含量の30~90のアルカリ金属含量を有し、各層のアルカリ金属含量が流れ方向の次の層のアルカリ金属含量よりも高くなるように選択されたアルカリ金属含量を有する多層触媒を提供する。本発明の好ましい実施の形態では、多層触媒層は3個、4個又は5個の層を有する。3個及び4個の層の触媒であることが特に好ましい。本発明に係る多層触媒は、例えば、高いホットスポット温度を回避するために、適宜に、好適な上流及び/又は下流床並びに中間層との組み合わせで用いることができ、その上流及び/又は下流床並びに中間層には、一般に触媒的に不活性な、或いは低活性の材料を含み得る。本発明のさらに好ましい実施の形態は、ナフタレン又はo-キシレン/ナフタレン混合物を無水フタル酸に酸化させるための4層触媒であって、各触媒層が酸化バナジウム及び二酸化チタンを含み、且つその触媒層のアルカリ金属含量がa一の触媒層Aのアルカリ金属含量が最も高く、b流れ方向で触媒層Aに続く触媒層Bが、触媒層Aのアルカリ金属含量の60~90のアルカリ金属含量を有し、c流れ方向で触媒層Bに続く触媒層Cが、触媒層Aのアルカリ金属含量の30~59のアルカリ金属含量を有し、d流れ方向で触媒層Cに続く触媒層Zが、触媒層Aのアルカリ金属含量の0~10のアルカリ金属含量を有するように選択された4層触媒である。本発明に係る触媒は、一般に、触媒活性組成物が不活性担体材料にシェル形態で施された被覆触媒である。不活性担体材料としては、芳香族炭化水素をアルデヒド、カルボン酸及び/又はカルボン酸無水物に酸化させるための被覆触媒の製造の際に有利に用いられ得るような、石英SiO2、磁器、酸化マグネシウム、二酸化スズ、炭化ケイ素、ルチル、アルミナAl2O3、ケイ酸アルミニウム、ステアタイトケイ酸マグネシウム、ケイ酸ジルコニウム、ケイ酸セリウム又はこれらの担体材料の混合物等の実質的に先行技術の全ての担体材料を用いることができる。触媒担体は、例えば、球状、リング状、ペレット状、らせん状、管状、押出物状又は粉砕物状の材料の形態で用いられ得る。これらの触媒担体の寸法は、芳香族炭化水素の気相反応のための被覆触媒の製造のために慣習的に用いられる触媒担体に対応する。直径3~6mmの球状、又は5~9mmの外径と3~8mmの長さと1~2mmの壁厚とを有するリング状の形態のステアタイトを用いることが好ましい。本発明に係る触媒は、少なくとも酸化バナジウムと二酸化チタンとを含む触媒活性組成物を含み、担体材料に1個以上の層で施され得る。種々の層は、それらの組成物の点で異なり得る。触媒活性組成物は、好ましくは、触媒活性組成物の合計量に対してV2O5として計算して1~40質量の酸化バナジウム及びTiO2として計算して60~99質量の二酸化チタンを含む。好ましい実施の形態では、その触媒活性組成物は、Csとして計算して最大1質量のセシウム化合物、Pとして計算して最大1質量のリン化合物、及びSb2O3として計算して最大10質量の酸化アンチモンをさらに含む。触媒活性組成物の化学組成の全ての数値は、後者の焼成状態、例えば、450°Cで1時間の触媒の焼成後の状態に基づいている。二酸化チタンは、通常、触媒活性組成物のためのアナターゼ型で用いられる。二酸化チタンは、好ましくは15~60m2/gの、特に15~45m2/gの、特に好ましくは13~28m2/gのBET表面積を有する。使用される二酸化チタンは、単一の二酸化チタン又は二酸化チタンの混合物を含み得る。後者の場合、BET表面積の値は、個々の二酸化チタンの寄与の加重平均である。用いられる二酸化チタンは、例えば、5~15m2/gのBET表面積を有するTiO2及び15~50m2/gのBET表面積を有するTiO2の混合物を有利に含む。好適なバナジウム源は、特に、五酸化バナジウムとメタバナジン酸アンモニウムである。好適なアンチモン源は、様々なアンチモン源であり、特に、三酸化アンチモンである。バナジウム及びアンチモンはまた、アンチモン酸バナジウム化合物vanadiumantimonatecompoundの形態で用いられ得る。少なくとも1個の層の活性組成物に導入されたアンチモン酸バナジウムは、任意のバナジウムとアンチモン酸化合物の反応により製造され得る。混合酸又はアンチモン酸バナジウムを形成するための酸化物の直接反応が好ましい。アンチモン酸バナジウムは、アンチモンに対するバナジウムの様々なモル比を有することができ、また任意にさらなるバナジウム又はアンチモン化合物を含み、さらにバナジウム又はアンチモン化合物と混合して用いられ得る。可能なリン源は、特に、リン酸、亜リン酸、次亜リン酸、リン酸アンモニウム又はリン酸エステルであり、特に、リン酸二水素アンモニウムである。可能なセシウム源は、その酸化物若しくは水素化物、又は、酸化物へと熱的に転化され得るカルボン酸塩、特に、酢酸塩、マロン酸塩若しくはシュウ酸塩、炭酸塩、炭酸水素塩、硫酸塩又は硝酸塩等の塩である。任意の添加物であるセシウム及びリンとは別に、触媒の活性及び選択性にその活性を低下させ、或いは増大させること等により影響を与えるプロモーターとして作用する多くの他の酸化物化合物の少量を、触媒活性組成物に含ませることができる。そのようなプロモーターの例は、アルカリ金属であり、特に、上述のセシウム並びに酸化物又は水素化物の形態で通常用いられるリチウム、カリウム及びルビジウムであり、タリウムI酸化物、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化鉄、酸化ニッケル、酸化コバルト、酸化マンガン、酸化スズ、酸化銀、酸化銅、酸化クロム、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化イリジウム、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化ヒ素、酸化アンチモン、酸化セリウムである。上述のプロモーターの中で、触媒活性組成物に基づいて0.01~0.50質量の量の添加物としてのニオブ及びタングステンの酸化物が好ましい。被覆触媒の層は、任意に上述のプロモーター成分源を含むTiO2及びV2O5の懸濁液を流動化担体上に噴霧することにより有利に施される。被覆作業の前に、懸濁物質の凝集物の分散のために及び均質な懸濁液を得るために、懸濁液は好ましくは十分に長時間、例えば、2~30時間、特に、12~25時間攪拌される。懸濁液は、典型的に20~50質量の固形分を有する。懸濁媒体は、一般に水性であり、例えば、水自体又はメタノール、エタノール、イソプロパノール、ホルムアミド等の水混和性有機溶媒との水性混合物である。一般に、有機バインダー、好ましくはコポリマー、有利にアクリル酸-マレイン酸、酢酸ビニル-ビニルラウレート、酢酸ビニル-アクリレート、スチレン-アクリレート又は酢酸ビニル-エチレンの水性分散液の形態で懸濁液に添加される。バインダーは、例えば、35~65質量の固形分を有する水性分散液として市販されている。そのような使用されるバインダー分散液の量は、懸濁液の質量に対して一般に2~45質量、好ましくは5~35質量、特に好ましくは7~20質量である。担体は、上昇ガス流、特に、大気中で、例えば、流動床又は移動床装置中で流動化される。装置は、通常、流動化ガスが浸漬管を介して底部又は上部から導入される円錐形又は球形の容器を含む。懸濁液は、流動床へとノズルを介して上部から、側部から、又は下部から噴霧される。浸漬管の中央に又は同心円状に配置された上昇管の使用が有利である。担体粒子を上方へ運搬する比較的高いガス速度は上昇管の範囲内で優勢である。外側のリングでは、そのガス速度は緩められた速度を少しだけ上回っている。粒子はこうして循環方式で垂直に移動する。好適な流動床装置は、例えば、DE-A4006935に記載されている。触媒活性組成物での触媒担体の被覆の際、20~500°Cの被覆温度が一般に採用され、被覆は大気圧下又は減圧下で実施され得る。一般に、被覆は0~200°Cで実施され、好ましくは20~150°C、特に60~120°Cで実施される。触媒活性組成物の層厚は、一般に0.02~0.2mmであり、好ましくは0.05~0.15mmである。触媒における活性組成物の割合は、通常5~25質量、主に7~15質量である。こうして得られたプレ触媒の200°C超~500°Cの温度での熱処理の結果として、バインダーは熱分解及び/又は燃焼の結果として施された層から放出される。熱処理は、好ましくは気相酸化反応器中でその場で実施される。種々の触媒の区切られた層の代わりに、複数の層の間で偽連続的な遷移を得ることもまた可能であり、そうして、一の層から次の層への変わり目に連続触媒の混合物を含む区域を挿入することによりアルカリ金属含量の効果的な均一な減少を得ることができる。触媒層Aの床長は、好ましくは反応器内全触媒充填高さの10~50の範囲であり、特に好ましくは15~30の範囲である。触媒層A及びB、又は、A、B及びCの床高さは、有利に全触媒充填高さの60~95の範囲である。典型的な反応器は250cm~350cmの充填高さを有する。触媒層はまた、所望であれば、複数の反応器に亘って分配することができる。本発明に係る触媒は、標準立方メートル当たり80~100gの範囲の総負荷及び毎時約4標準立方メートルの空気流で、ナフタレン又はo-キシレン/ナフタレン混合物を無水フタル酸に酸化させるために特に好適である。本発明は、さらに少なくとも3個の層触媒を含む多層触媒を用いてナフタレン又はo-キシレン/ナフタレン混合物を無水フタル酸に酸化させる方法であって、各層が、酸化バナジウム及び二酸化チタンを含み、且つa一の触媒層Aのアルカリ金属含量が最も高く、b流れ方向で触媒層Aに後から続く触媒層Zが、触媒層Aのアルカリ金属含量の0~10のアルカリ金属含量を有し、c触媒層AとZとの間に位置する触媒層が触媒層Aのアルカリ金属含量の30~90のアルカリ金属含量を有し、各触媒層のアルカリ金属含量が流れ方向の次の層のアルカリ金属含量より高くなるように選択されたアルカリ金属含量を有する方法を提供する。本発明の好ましい実施の形態は、4層触媒を用いてナフタレン又はo-キシレン/ナフタレン混合物を無水フタル酸に酸化させる方法であって、各触媒層が酸化バナジウム及び二酸化チタンを含み、且つその触媒層のアルカリ金属含量が、a一の触媒層Aのアルカリ金属含量が最も高く、b流れ方向で触媒層Aに続く触媒層Bが、触媒層Aのアルカリ金属含量の60~90のアルカリ金属含量を有し、c流れ方向で触媒層Bに続く触媒層Cが、触媒層Aのアルカリ金属含量の30~59のアルカリ金属含量を有し、d流れ方向で触媒層Cに続く触媒層Zが、触媒層Aのアルカリ金属含量の0~10のアルカリ金属含量を有するように選択された方法である。さらに本発明は、ナフタレン又はo-キシレン/ナフタレン混合物を無水フタル酸に酸化させるための、少なくとも3個の触媒層を含む多層触媒の使用方法であって、各層が、酸化バナジウム及び二酸化チタンを含み、且つa一の触媒層Aのアルカリ金属含量が最も高く、b流れ方向で触媒層Aに後から続く触媒層Zが、触媒層Aのアルカリ金属含量の0~10のアルカリ金属含量を有し、c触媒層AとZの間に位置する触媒層が触媒層Aのアルカリ金属含量の30~90のアルカリ金属含量を有し、各触媒層のアルカリ金属含量が流れ方向の次の触媒層のアルカリ金属含量よりも高くなるように選択されたアルカリ金属含量を有する多層触媒の使用方法を提供する。本発明の好ましい実施の形態は、ナフタレン又はo-キシレン/ナフタレン混合物を無水フタル酸に酸化させるための4層触媒の使用方法であって、各触媒層が酸化バナジウム及び二酸化チタンを含み、且つその触媒層のアルカリ金属含量がa一の触媒層Aのアルカリ金属含量が最も高く、b流れ方向で触媒層Aに続く触媒層Bが、触媒層Aのアルカリ金属含量の60~90のアルカリ金属含量を有し、c流れ方向で触媒層Bに続く触媒層Cが、触媒層Aのアルカリ金属含量の30~59のアルカリ金属含量を有し、d流れ方向で触媒層Cに続く触媒層Zが、触媒層Aのアルカリ金属含量の0~10のアルカリ金属含量を有するように選択された4層触媒の使用方法である。第1触媒層CL1の製造:流動床塗布装置内で、外径8mm、長さ6mm及び壁厚1.5mmのステアタイトケイ酸マグネシウムリング2000gに、662.8gのアナターゼFujiTA100°C、BET表面積20m2/g、29.52gの五酸化バナジウム、78.48gのシュウ酸、0.62gの硫酸カリウム、8.31gの硫酸セシウム、1.39gの五酸化ニオブ、0.79gのリン酸二水素アンモニウム、212.9gのホルムアミド、1000gの水及び67.5gのバインダー49.4質量の固形分を有する水性ポリマー溶液としての75/25の質量比のアクリル酸-マレイン酸コポリマー;このバインダーの製造はEP1091806に記載されているの懸濁液900gを90°Cで噴霧した。このように施された触媒活性組成物は、0.03質量のリンPとして計算、4.22質量のバナジウムV2O5として計算、0.87質量のセシウムCsとして計算、0.2質量のNbNb2O5として計算、0.04質量のKKとして計算及び94.68質量の二酸化チタンを含んでいた。450°Cで1時間焼成後の活性組成物含量は8.9であった。第2触媒層CL2の製造:触媒を、CL1と比較して懸濁液の組成を変更することにより製造した。こうして施された触媒活性組成物は、0.03質量のリンPとして計算、4.22質量のバナジウムV2O5として計算、0.67質量のセシウムCsとして計算、0.2質量のNbNb2O5として計算、0.03質量のKKとして計算及び94.85質量の二酸化チタンを含んでいた。450°Cで1時間焼成後の活性組成物含量は8.8であった。第3触媒層CL3の製造:触媒を、CL1と比較して懸濁液の組成を変更することにより製造した。こうして施された触媒活性組成物は、0.03質量のリンPとして計算、4.22質量のバナジウムV2O5として計算、0.45質量のセシウムCsとして計算、0.2質量のNbNb2O5として計算、0.02質量のKKとして計算及び95.1質量の二酸化チタンを含んでいた。450°Cで1時間焼成後の活性組成物の含量は9.0質量であった。第4触媒層CL4の製造:触媒を、CL1と比較して懸濁液の組成を変更することにより製造した。こうして施された触媒活性物質は、0.02質量のリンPとして計算、4.22質量のバナジウムV2O5として計算、0.00質量のセシウムCsとして計算、0.2質量のNbNb2O5として計算、0.00質量のKKとして計算及び95.56質量の二酸化チタンを含んでいた。450°Cで1時間焼成後の活性組成物の含量は9.6質量であった。o-キシレンの無水フタル酸への酸化の説明o-キシレンの無水フタル酸への接触酸化は、25mmの管の内径を有し、且つ塩浴を用いて冷却される管型反応器中で実施した。温度プロファイルを記録するために、その反応管は熱電対を備えていた。標準立方メートル当たり0~85gのo-キシレン純度約99質量負荷又はナフタレン純度約97.5質量負荷を有する毎時4.0標準立方メートルの空気をその管に通した。PAn収率を反応器の出口ガスで測定し、100の純粋なo-キシレン又は100の純粋なナフタレンに対する質量で記録した反応したo-キシレン又はナフタレンkg当たりのPAnkg。結果及び例例1本発明による:床長分布:ステアタイト予備床/CL1/CL2/CL3/CL45cm/80cm/80cm/90cm/90cm標準立方メートル当たり80gのナフタレン負荷、毎時4標準立方メートルの空気及び360°Cの塩浴温度で、105.6質量のPAn収率及びそれぞれ0.00質量と0.53質量のフタリドとナフトキノン含量が達成された。標準立方メートル当たり80gの総負荷でo-キシレンとナフタレンの50:50の混合物、毎時4標準立方メートル及び362°Cの塩浴温度で、110.1質量のPAn収率及びそれぞれ0.06質量と0.41質量のフタリドとナフトキノン含量が達成された。標準立方メートル当たり30gのナフタレン負荷及び標準立方メートル当たり55gのo-キシレン負荷総負荷:標準立方メートル当たり85g、毎時4標準立方メートルの空気及び362°Cの塩浴温度で、111.0質量のPAn収率及びそれぞれ0.11質量と0.34質量のフタリドとナフトキノン含量が達成された。したがって、毎時4標準立方メートルの空気で、標準立方メートル当たり少なくとも80gの総負荷で、高PAn収率及び良好な製品範囲フタリド及びナフトキノンの低い収率を維持する一方で、o-キシレン/ナフタレン比を0:100~65:35の範囲で変更することができた。ホットスポット温度は、全ての供給組成物で450°C未満であった。例2本発明によらない:床長分布:ステアタイト予備床/CL1/CL2/CL3/CL420cm/100cm/0cm/90cm/100cm標準立方メートル当たり80gのナフタレン負荷、毎時4標準立方メートルの空気及び358°Cの塩浴温度で、104.7質量のPAn収率及びそれぞれ0.00質量と0.55質量のフタリドとナフトキノン含量を達成した。標準立方メートル当たり80gの総負荷でo-キシレン及びナフタレンの50:50混合物、毎時4標準立方メートルの空気及び364°Cの塩浴温度では、109.6質量のPAn収率及びそれぞれ0.03質量と0.31質量のフタリドとナフタレン含量を達成した。ホットスポット温度は全ての供給組成物で450°C未満であった。供給組成物を標準立方メートル当たり30gのナフタレン負荷及び標準立方メートル当たり55gのo-キシレン負荷総負荷:標準立方メートル当たり85gにさらに変更した場合、ホットスポット温度は465°C超に上昇した。触媒は、この供給組成物で安定的に機能することができなかった。したがって、高PAn収率及び良好な製品範囲フタリド及びナフトキノンの低収率を得る必要がある場合は、標準立方メートル当たり少なくとも80gの総負荷で、毎時4標準立方メートルの空気で、o-キシレン/ナフタレン比は0:100~50:50の範囲内でしか変更することができなかった。