"メタアクリルアミドとリン酸との反応物の重合体又はメタアクリルアミドと無水リン酸との反応物の加水分解物の重合体に、リチウム、カルシウム、バナジウム、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛及びインジウムからなる群から選ばれた少なくとも一種の金属の化合物を添加してなる赤外線遮断性樹脂であって、前記金属の化合物の添加量が、前記重合体1gあたり1×104~3×103モルであることを特徴とする赤外線遮断性樹脂。メタアクリルアミドとリン酸との反応物又はメタアクリルアミドと無水リン酸との反応物の加水分解物と、エチレン性不飽和結合を有する化合物との共重合体に、リチウム、カルシウム、バナジウム、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛及びインジウムからなる群から選ばれた少なくとも一種の金属の化合物を添加してなる赤外線遮断性樹脂であって、前記金属の化合物の添加量が、前記共重合体1gあたり1×104~3×103モルであることを特徴とする赤外線遮断性樹脂。請求項1又は2に記載の赤外線遮断性樹脂において、前記金属化合物が、前記金属の有機酸塩、無機酸塩、ハロゲン化物、アルコキシド又はアセチルアセトネートであることを特徴とする赤外線遮断性樹脂。請求項3に記載の赤外線遮断性樹脂において、前記金属が、一価又は二価の銅であることを特徴とする赤外線遮断性樹脂。請求項1~4のいずれかに記載の赤外線遮断性樹脂において、前記重合体又は共重合体がポリホスホン酸基を有することを特徴とする赤外線遮断性樹脂。請求項2~5のいずれかに記載の赤外線遮断性樹脂において、前記エチレン性不飽和結合を有する化合物がスルホン酸基を有する不飽和化合物であることを特徴とする赤外線遮断性樹脂。請求項1~6のいずれかに記載の赤外線遮断性樹脂において、前記重合体又は共重合体に前記金属化合物が分散した構造を有することを特徴とする赤外線遮断性樹脂。請求項5~7のいずれかに記載の赤外線遮断性樹脂において、前記金属のイオンが前記重合体又は共重合体のポリホスホン酸基と塩を形成した構造を有することを特徴とする赤外線遮断性樹脂。請求項6~8のいずれかに記載の赤外線遮断性樹脂において、前記金属のイオンが前記共重合体のスルホン酸基と塩を形成した構造を有することを特徴とする赤外線遮断性樹脂。請求項1~9のいずれかに記載の赤外線遮断性樹脂において、前記加水分解物が、式:ただしR1は水素基又はメチル基であるにより表されるNNジホスホン酸メタアクリルアミド、及び式:ただしR1は水素基又はメチル基であり、nは0~2の整数であるにより表されるポリホスホン酸基含有メタアクリルアミドのいずれか又はこれらの両方を含むことを特徴とする赤外線遮断性樹脂。請求項2~10のいずれかに記載の赤外線遮断性樹脂において、前記エチレン性不飽和結合を有する化合物が、式:ただしR2は水素基又はメチル基であり、R3及びR4は水素基又は炭素数1~3のアルキル基であり、R5は炭素数1~3のアルキレン基であるにより表されるアクリルアミドアルカンスルホン酸及び/又はビニルスルホン酸であることを特徴とする赤外線遮断性樹脂。従って、本発明の目的は、赤外線遮断性及び可視光線透過性に優れた樹脂を提供することである。上記目的に鑑み鋭意研究の結果、本発明者は、メタアクリルアミドとリン酸との反応物又はその加水分解物を必須成分とする重合体に、金属化合物を添加した樹脂が、赤外線遮断性及び可視光線透過性に優れていることを見出し、本発明に想到した。すなわち、本発明の第一の赤外線遮断性樹脂は、メタアクリルアミドとリン酸との反応物の重合体又はメタアクリルアミドと無水リン酸との反応物の加水分解物の重合体に、リチウム、カルシウム、バナジウム、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛及びインジウムからなる群から選ばれた少なくとも一種の金属の化合物を添加してなり、前記金属の化合物の添加量が、前記重合体1gあたり1×104~3×103モルであることを特徴とする。本発明の第二の赤外線遮断性樹脂は、メタアクリルアミドとリン酸との反応物又はメタアクリルアミドと無水リン酸との反応物の加水分解物と、エチレン性不飽和結合を有する化合物との共重合体に、リチウム、カルシウム、バナジウム、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛及びインジウムからなる群から選ばれた少なくとも一種の金属の化合物を添加してなり、前記金属の化合物の添加量が、前記共重合体1gあたり1×104~3×103モルであることを特徴とする。前記金属化合物は、前記金属の有機酸塩、無機酸塩、ハロゲン化物、アルコキシド又はアセチルアセトネートであるのが好ましい。前記金属は、一価又は二価の銅であるのが好ましい。前記重合体又は共重合体はポリホスホン酸基を有するのが好ましい。前記エチレン性不飽和結合を有する化合物はスルホン酸基を有する不飽和化合物であるのが好ましい。本発明の赤外線遮断性樹脂は、前記重合体又は共重合体に前記金属化合物が分散した構造を有するのが好ましい。本発明の赤外線遮断性樹脂は、前記金属のイオンが前記重合体又は共重合体のポリホスホン酸基と塩を形成した構造を有するのが好ましい。本発明の赤外線遮断性樹脂は、前記金属のイオンが前記共重合体のスルホン酸基と塩を形成した構造を有するのが好ましい。前記加水分解物が、式:ただしR1は水素基又はメチル基であるにより表されるNNジホスホン酸メタアクリルアミド、及び式:ただしR1は水素基又はメチル基であり、nは0~2の整数であるにより表されるポリホスホン酸基含有メタアクリルアミドのいずれか又はこれらの両方を含むのが好ましい。前記エチレン性不飽和結合を有する化合物は、式:ただしR2は水素基又はメチル基であり、R3及びR4は水素基又は炭素数1~3のアルキル基であり、R5は炭素数1~3のアルキレン基であるにより表されるアクリルアミドアルカンスルホン酸及び/又はビニルスルホン酸であるのが好ましい。本発明の赤外線遮断性樹脂は、金属化合物及び/又はその金属イオンが高分散しているので、この赤外線遮断性樹脂からなる積層フィルムは、厚さが500μm程度であっても、少なくとも中遠赤外線に対して優れた遮断性を有する。しかも可視光線に対する透過性が高く、軽量である。このような赤外線遮断性積層フィルムは、熱線遮断用フィルム等として有用である。特に銅化合物を用いた赤外線遮断性樹脂からなる積層フィルムは、近赤外線に対する遮断性にも優れているので、カメラの測光用フィルタや視感度補正用フィルタ、プラズマディスプレイ用近赤線カットフィルタ等としても有用である。1第一の赤外線遮断性樹脂第一の赤外線遮断性樹脂は、メタアクリルアミドとリン酸との反応物の重合体又はメタアクリルアミドと無水リン酸との反応物の加水分解物の重合体に、リチウム、カルシウム、バナジウム、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛及びインジウムからなる群から選ばれた少なくとも一種の金属の化合物を、前記重合体1gあたり1×104~3×103モル添加してなる。メタアクリルアミドとリン酸との反応物及びその加水分解物第一の赤外線遮断性樹脂のマトリックスは、メタアクリルアミドとリン酸との反応物の重合体又はメタアクリルアミドと無水リン酸との反応物の加水分解物の重合体からなる。メタアクリルアミドはアクリルアミド、メタクリルアミド又はこれらの混合物でよい。以下無水リン酸を用いる場合について説明する。重合体は、メタアクリルアミドと無水リン酸との反応物の加水分解物を重合してなるのが好ましい。ただし加水分解は反応物を重合する前に行ってもよいし、反応物を重合しながら行ってもよいし、反応物を重合した後に行ってもよいし、これらを組合せて行ってもよいが、好ましくは重合前に行う。反応及び加水分解の手順及び条件については、例えばWO2005080454に記載されているので詳細な説明を省略するが、メタアクリルアミドに対して無水リン酸を反応させ、加水分解すると、メタアクリルアミドと無水リン酸とが1:1のモル比で反応する場合、メタアクリルアミドは、例えば式:ただしR1は水素基又はメチル基であるに示すように、中間生成物としてピロリン酸がメタアクリルアミドにNN結合した化合物、及び/又はジピロリン酸を介して2つのメタアクリルアミドが結合した化合物が生成する工程、及び中間生成物が加水分解される工程を経て、NNジホスホン酸メタアクリルアミドになる。またメタアクリルアミドと無水リン酸とが2:1のモル比で反応する場合、メタアクリルアミドは、例えば式:ただしR1は水素基又はメチル基であり、x及びyは0~2の整数であるに示すように、Nポリホスホン酸メタアクリルアミドになる。従って、NNジホスホン酸メタアクリルアミドを主に製造する場合、メタアクリルアミドに対する無水リン酸のモル比は09~12の範囲とするのが好ましい。Nポリホスホン酸メタアクリルアミドを主に製造する場合、メタアクリルアミドに対する無水リン酸のモル比は05~08の範囲とするのが好ましい。NNジホスホン酸メタアクリルアミドとNポリホスホン酸メタアクリルアミドとのモル比は、50/50以上が好ましく、60/40以上がより好ましく、70/30以上が最も好ましい。金属化合物金属化合物は、リチウム、カルシウム、バナジウム、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛及びインジウムからなる群から選ばれた少なくとも一種の金属の有機酸塩、無機酸塩、ハロゲン化物、アルコキシド又はアセチルアセトネートである。中でも銅の化合物は、中遠赤外線に対してのみならず、近赤外線に対しても優れた遮断性を有するフィルムが得られるので好ましい。銅は一価及び二価のいずれでもよいが、二価が好ましい。有機酸としては、蟻酸、シュウ酸、酢酸、乳酸、プロピオン酸、酪酸、酒石酸、ソルビン酸、グルコン酸等を挙げることができる。無機酸としては、硫酸、アミド硫酸、リン酸、硝酸等を挙げることができる。金属化合物の具体例として、酢酸リチウム、酢酸カルシウム、バナジウムアセチルアセトネート、酢酸コバルト、酢酸ニッケル、酢酸第一銅、硫酸第一銅、リン酸第一銅、硝酸第一銅、塩化第一銅、臭化第一銅、ギ酸第二銅、酢酸第二銅、グルコン酸第二銅、硫酸第二銅、リン酸第二銅、硝酸第二銅、塩化第二銅、臭化第二銅、酢酸亜鉛及び塩化インジウムが挙げられる。金属化合物の含有量は、メタアクリルアミドとリン酸との反応物又はその加水分解物の重合体1gに対して、1×104~3×103モルであり、3×104~2×103モルがより好ましい。この含有量が1×104モル/g未満だと、赤外線遮断性が不十分である。一方3×103モル/g超とすると、可視光線の透過率が低下することがある。調製方法第一の赤外線遮断性樹脂は、メタアクリルアミドとリン酸との反応物又はメタアクリルアミドと無水リン酸との反応物の加水分解物を重合するか、上記メタアクリルアミドと無水リン酸との反応物を重合しながら加水分解するか、上記メタアクリルアミドと無水リン酸との反応物を重合した後加水分解するか、これらを組合せることにより重合体を調製し、重合体に金属化合物を添加することにより調製する。以下上記反応物又はメタアクリルアミドと無水リン酸との反応物の加水分解物を重合する場合について説明する。重合反応は、上記メタアクリルアミドとリン酸との反応物又はメタアクリルアミドと無水リン酸との反応物の加水分解物及び生成する重合体が溶解する共通溶媒中で、アンモニウムパーサルフェート、カリウムパーサルフェート、アセチルパーオキサイド、イソプロピルハイドロパーオキサイド等の無機又は有機の過酸化物系開始剤、22’アゾビスイソブチロニトリル、22’アゾビス24ジメチルバレロニトリル、ジメチル22’アゾビス2メチルプロピオネート、ジメチル22’アゾビスイソブチレート等のアゾ系開始剤、あるいはラウリルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド、tertブチルパーオキシピバレート等の過酸化物系開始剤、過酸化水素等の重合開始剤を用いて、ラジカル重合により行う。溶媒としては水、アルコール及び有機極性溶媒が好ましい。アルコールとしては、脂肪族低級アルコールが好ましい。脂肪族低級アルコールとしてはメタノール、エタノール及びイソプロピルアルコールが好ましい。これらは2種以上を併用してもよい。また溶解性を損なわない範囲でエステル、ジオキサン、エーテル等を共存させてもよい。有機極性溶媒としては、ジメチルアセトアミド及びジメチルスルホキシドが好ましい。水を使用する場合、脂肪族低級アルコールを併用するのが好ましい。重合手順について述べる。攪拌器、還流冷却器付き反応器に上記メタアクリルアミドとリン酸との反応物又はメタアクリルアミドと無水リン酸との反応物の加水分解物溶媒からなる溶液を入れ、反応器内を窒素ガス雰囲気とした後、添加する重合開始剤の分解温度である40°C~90°Cに昇温する。好ましい重合温度は50°C~90°Cである。所定温度到達直後に重合開始剤を添加する。このとき若干の発熱があり、重合開始を確認することができる。所定温度に到達してから約1時間間隔で重合開始剤を2~3回添加した後、1~8時間程度重合反応を継続する。反応温度は最初から最後まで一定である必要はなく、重合末期に温度を上げて未反応単量体を極力少なくする方法をとってもよい。重合溶液は初期固形分濃度が10~80質量であるのが好ましく、10~70質量であるのがより好ましい。重合開始剤のトータル使用量は、上記反応物又はその加水分解物を100とした場合に質量比で01~5であるのが好ましく、01~2であるのがより好ましい。重合体に金属化合物を添加する方法としては、上記方法により得られた重合体の溶液に、金属化合物を添加し、攪拌する方法が好ましい。この操作は室温で行えばよいが、必要に応じて加熱してもよい。金属化合物の溶解性を良好にするために、硫酸、塩酸、硝酸等の無機酸を添加してもよい。無機酸の添加量は、金属化合物1モル当たり1~15モルが好ましい。金属化合物が分散又は溶解した後、30分程度攪拌するのが好ましい。得られた溶液から溶媒を蒸発させることにより、第一の赤外線遮断性樹脂が得られる。重合体と金属化合物との反応により生成する酸成分有機酸成分及び無機酸成分が酢酸等のように揮発性の場合、溶媒とともに蒸発させればよい。構造第一の赤外線遮断性樹脂は、メタアクリルアミドとリン酸との反応物の重合体又はメタアクリルアミドと無水リン酸との反応物の加水分解物の重合体に金属化合物が分散した構造、金属のイオンが重合体のポリホスホン酸基と塩を形成した構造、及びこれらの両構造のいずれを有してもよい。2第二の赤外線遮断性樹脂第二の赤外線遮断性樹脂は、メタアクリルアミドとリン酸との反応物又はメタアクリルアミドと無水リン酸との反応物の加水分解物と、エチレン性不飽和結合を有する化合物との共重合体に、上記金属化合物を、前記共重合体1gあたり1×104~3×103モル添加してなる。エチレン性不飽和結合を有する化合物は、分子内にエチレン性不飽和結合及び酸性基を有する不飽和化合物、及び/又は分子内にエチレン性不飽和結合を有するが酸性基を有しない不飽和化合物でよい。酸性基を含有する不飽和化合物酸性基を含有する不飽和化合物は、分子内にスルホン酸基及び/又はカルボン酸基とエチレン性不飽和結合とを有するのが好ましい。エチレン性不飽和結合を有する骨格としては、メタアクリレート骨格、メタアリルエステル骨格等を挙げることができる。スルホン酸基を含有する不飽和単量体スルホン酸基を含有する不飽和単量体として、式:ただしR2は水素基又はメチル基であり、R3及びR4は水素基又は炭素数1~3のアルキル基であり、R5は炭素数1~3のアルキレン基であるにより表されるアクリルアミドアルカンスルホン酸、アリルスルホン酸、メタアリルスルホン酸、ビニルスルホン酸、pスチレンスルホン酸、メタアクリル酸ブチル4スルホン酸、メタアクリロオキシベンゼンスルホン酸等が挙げられる。アクリルアミドアルカンスルホン酸としては、式:により表されるターシャリーブチルアクリルアミドスルホン酸が好ましい。カルボン酸基を含有する不飽和単量体カルボン酸基を含有する不飽和単量体としては、メタアクリル酸、クロトン酸、マレイン酸及びその無水物、フマル酸、イタコン酸等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を併用しても良い。酸性基を含有しない不飽和化合物第二の赤外線遮断性樹脂は、造膜性、耐水性等の向上を目的として、酸性基を含有しない不飽和化合物を共重合成分として含んでもよい。酸性基非含有不飽和化合物としてはメタアクリルアミドが好ましい。配合割合メタアクリルアミドとリン酸との反応物又はメタアクリルアミドと無水リン酸との反応物の加水分解物と酸性基含有不飽和化合物とからなる共重合体の場合、これらの質量比/は10/90以上が好ましく、20/80以上がより好ましく、20/80~70/30が特に好ましい。この比を20/80~70/30とすると、一層優れた赤外線遮断性及び造膜性が得られる。上記メタアクリルアミドとリン酸との反応物又はメタアクリルアミドと無水リン酸との反応物の加水分解物と酸性基非含有不飽和化合物とからなる共重合体の場合、これらの質量比/は50/50以上が好ましく、60/40以上がより好ましい。上記メタアクリルアミドとリン酸との反応物又はメタアクリルアミドと無水リン酸との反応物の加水分解物と酸性基含有不飽和化合物と酸性基非含有不飽和化合物とからなる共重合体の場合、及びの合計ととの質量比[]/が50/50以上であるのが好ましく、60/40以上であるのがより好ましい。この共重合体における質量比/は上記と同じでよい。金属化合物の含有量金属化合物の含有量は、メタアクリルアミドとリン酸との反応物又はメタアクリルアミドと無水リン酸との反応物の加水分解物と、酸性基含有不飽和化合物及び/又は酸性基非含有不飽和化合物とからなる共重合体1gに対して、1×104~3×103モルであり、3×104~2×103モルがより好ましい。調製方法第二の赤外線遮断性樹脂は、メタアクリルアミドとリン酸との反応物又はメタアクリルアミドと無水リン酸との反応物の加水分解物と、酸性基含有不飽和化合物及び/又は酸性基非含有不飽和化合物とを共重合し、共重合体に金属化合物を添加することにより調製するのが好ましい。共重合方法、及び共重合体に金属化合物を添加する方法は、第一の赤外線遮断性樹脂の場合と本質的に同じでよいので、説明を省略する。構造第二の赤外線遮断性樹脂は、上記共重合体に金属化合物が分散した構造、金属のイオンが共重合体のポリホスホン酸基及び/又は酸性基と塩を形成した構造、及びこれらの両構造のいずれを有してもよい。3第三の赤外線遮断性樹脂第三の赤外線遮断性樹脂は、第一及び第二の赤外線遮断性樹脂の混合物である。これらの配合割合は限定的ではない。4赤外線遮断性フィルムの組成赤外線遮断性フィルムは、上記第一~第三の赤外線遮断性樹脂のいずれか以下まとめて単に赤外線遮断性樹脂とよぶことがあるを主成分とする。赤外線遮断性フィルムは、本発明の効果を阻害しない範囲で、金属酸化物半導体微粉末、赤外線吸収性色素、透明化剤、架橋剤、紫外線吸収剤、可塑剤、酸化肪止剤、帯電防止剤、界面活性剤、無機充填剤等のその他の添加物を含有してもよい。金属酸化物半導体微粉末金属酸化物半導体微粉末は赤外線吸収性を有する。金属酸化物半導体微粉末としては、酸化インジウム及び酸化スズの複合酸化物ITO、酸化アンチモン及び酸化スズの複合酸化物ATO等からなる微粉末が挙げられる。赤外線吸収性色素赤外線吸収性色素として、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、アントラキノン系化合物、特開平9188689号に記載の式:で示される化合物及びそのブチルアンモニウム塩、特開2005325292号に記載の式:R6~R13のうち少なくとも一つは1以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたハロゲン化アルキル基を示し、他は同一又は異なっていてもよいアルキル基、アルキレン基、シアノアルキル基、水酸基、スルホン酸基、アルキルスルホン酸基、ニトロ基、アミノ基、アルコキシ基、アリール基、ハロゲン原子及びフェニルアルキル基からなる群から選ばれる基を示し、Aは同一又は異なっていてもよいアニオンを示すで表されるジイモニウム塩、特開平83870号に記載の式:Rは水素原子又は炭素数が1~12のアルキル基を表し、XはSbF6、ClO4、PF6、BF4、NO3、CF3COO、CF3SO3、F、Cl、Br又はIを示し、nは1又は2を示す等が挙げられる。透明化剤透明化剤として、グリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリグリセリン等のポリオールや、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のイオン溶解溶剤が挙げられる。透明化剤の添加量は限定的ではないが、赤外線遮断性樹脂を100質量として50質量以下が好ましく、40質量以下がより好ましく、30質量以下が最も好ましい。架橋剤架橋剤としてはメラミン樹脂例えばトリメトキシメチルメラミン樹脂等が好ましい。メラミン樹脂を添加すると、赤外線遮断性樹脂が有するポリホスホン酸基が触媒となり、メラミン樹脂の架橋反応が促進され、赤外線遮断性フィルムの機械的強度が一層向上する。架橋剤の添加量は、赤外線遮断性樹脂を100質量として20質量以下が好ましく、10質量以下がより好ましく、5質量以下が最も好ましい。5赤外線遮断性積層フィルムの構成赤外線遮断性積層フィルムは、上記第一~第三の赤外線遮断性樹脂のいずれかを主成分とする赤外線遮断性層と、透明性樹脂フィルムとを有する。赤外線遮断性層は、上記の金属酸化物半導体微粉末、赤外線吸収性色素、透明化剤、架橋剤、紫外線吸収剤、可塑剤、酸化肪止剤、帯電防止剤、界面活性剤、無機充填剤等のその他の添加物を含有してもよい。透明性樹脂フィルムを用いることにより、赤外線遮断性層を保護したり、フィルム強度を向上させたりすることができる。このフィルムを構成する透明性樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリビニルアルコール、エチレン-ビニルアルコール共重合体、ポリビニルピロリドン、セルロース系重合体等が挙げられる。中でもポリエチレンテレフタレート又はポリエチレンが好ましい。透明性樹脂フィルムは、可塑剤、酸化肪止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、界面活性剤、無機充填剤等の添加剤を適宜含有しても良い。透明性樹脂フィルム上に金属酸化物半導体薄膜が設けられていてもよい。金属酸化物半導体薄膜としてはITO膜及びATO膜が好ましい。積層構成例として、赤外線遮断性層/透明性樹脂フィルム、赤外線遮断性層/透明性樹脂フィルム/金属酸化物半導体薄膜、透明性樹脂フィルム/赤外線遮断性層/透明性樹脂フィルム、透明性樹脂フィルム/赤外線遮断性層/透明性樹脂フィルム/金属酸化物半導体薄膜等が挙げられる。必要に応じて、赤外線遮断性層と透明性樹脂フィルムとの間に透明接着剤層を設けてもよい。6赤外線遮断性フィルムの製造方法赤外線遮断性フィルムは、例えば赤外線遮断性樹脂の溶液を水平なガラス板やトレイ上に流延し、溶媒を蒸発させるキャスト法により製造することができる。赤外線遮断性樹脂の溶液は、赤外線遮断性樹脂を水、アルコール、これらの混合物等の極性溶媒に溶解したものでよい。アルコールは上記と同じでよい。上記のその他の添加物を使用する場合、流延する溶液に添加物を混合すればよい。溶媒を蒸発させた後の製膜したフィルム皮膜に対してさらに常圧又は減圧下40~150°Cで3~30分程度加熱してもよい。7赤外線遮断性積層フィルムの製造方法赤外線遮断性積層フィルムは、例えば金属酸化物半導体薄膜が設けられた又は設けられていない透明性樹脂フィルムに、赤外線遮断性樹脂の溶液を流延又は塗布し、乾燥することにより製造することができる。必要に応じて、赤外線遮断性層上に、金属酸化物半導体薄膜が設けられた又は設けられていない透明性樹脂フィルムをさらに積層する。8赤外線遮断性積層フィルムの特性赤外線遮断性フィルム、及び赤外線遮断性積層フィルムの赤外線遮断性層は、金属化合物又はその金属イオンが高分散した赤外線遮断性樹脂を主成分とするので、厚さが500μm程度であっても、少なくとも中遠赤外線に対して優れた遮断性を有する。しかも可視光線に対する透過性が高く、軽量である。特に銅化合物を用いた赤外線遮断性積層フィルムは、近赤外線に対する遮断性にも優れている。赤外線遮断性フィルム、及び赤外線遮断性積層フィルムの赤外線遮断性層の厚さは限定的ではないが、通常100~2000μm、好ましくは100~1200μm程度とする。以上のような赤外線遮断性積層フィルムは、熱線遮断用フィルム等として有用である。特に銅化合物を用いた赤外線遮断性積層フィルムは、カメラの測光用フィルタや視感度補正用フィルタ、プラズマディスプレイ用近赤線カットフィルタ等としても有用である。本発明を以下の実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。実施例1ホスホン酸基含有加水分解物の調製WO2005080454の実施例4と同様にして、アクリルアミド及び無水リン酸を用いてホスホン酸基を有する加水分解物を調製した。このホスホン酸基含有加水分解物を含む反応溶液に貧溶媒を添加し、濾別したホスホン酸基含有加水分解物を100°Cで1時間加熱乾燥した。ホスホン酸基含有加水分解物の酸価を測定した結果、925mggであったNNジホスホン酸アクリルアミドの理論酸価:9697mgg、Nモノホスホン酸アクリルアミドの理論酸価:7417mgg。元素分析ホスホン酸基含有加水分解物の窒素含有量をCHNコーダ法により測定し、リン含有量をICP発光分光分析法により測定し、窒素とリンの質量比を求めた結果、1:44であり、NNジホスホン酸アクリルアミドにおける理論比と同じであった。赤外スペクトル測定アクリルアミド及びホスホン酸基含有加水分解物について、フーリエ変換赤外分光装置形式:Nexus670、ニコレー社製を用いて、赤外スペクトル測定を行った。結果を図1及び図2に示す。アクリルアミドでは、3170cm1付近にNH結合によるピークが検出された図1が、ホスホン酸基含有加水分解物では、このピークが検出されなかった図2。またホスホン酸基含有加水分解物では、700~1300cm1の範囲に、ホスホン酸基による幅広いピークが検出された図2。これらのことから、大部分のアクリルアミドの窒素原子に、2つのホスホン酸基が導入されたことが確認された。液体クロマトグラフィー分析ホスホン酸基含有加水分解物を液体クロマトグラフィーにより分析した結果、NNジホスホン酸アクリルアミドのピークと、Nモノホスホン酸アクリルアミドのピークの面積比は80/20であった[液体クロマトグラフィーの分析条件は以下の通りである。測定機器:株式会社島津製作所製SPD10AUV検出器使用、カラム温度:室温、溶媒:メタノール/水=7/3質量比、濃度:001質量インジェクション量:25μl、カラム:HAMILTON社製PRP1、溶媒流速:03ml/分。]。元素分析、赤外スペクトル測定及び液体クロマトグラフィー分析の結果から、ホスホン酸基含有加水分解物は、NNジホスホン酸アクリルアミド及びNモノホスホン酸アクリルアミドを含み、NNジホスホン酸アクリルアミドを主成分とする混合物であることが確認された。共重合体の調製還流冷却管、触媒投入口等を有する自動合成反応装置に、161gのホスホン酸基含有加水分解物、320g0154モルのターシャリーブチルアクリルアミドスルホン酸分子量20725、及び700gの30質量メタノール水溶液を入れ、窒素ガスを導入しながら攪拌し、80°Cまで昇温した後、25gの10質量アンモニウムパーサルフェートAPS水溶液を入れた。その1時間後及び2時間後に、25gの10質量APS水溶液をさらに入れた。その後3時間80°Cに保持し、固形分濃度が493質量のホスホン酸基含有加水分解物及びターシャリーブチルアクリルアミドスルホン酸の共重合体溶液を得た。共重合体溶液の粘度18°Cを測定した結果、16940cpsであった。共重合体溶液を水で希釈して10質量溶液とした。赤外線遮断性樹脂の調製共重合体溶液10質量に、共重合体100g当たり327g00180モルの酢酸第二銅を室温で溶解し、30分間攪拌した。赤外線遮断性フィルムの作製得られた赤外線遮断性樹脂の溶液をガラス板に流延し、50°Cで3日間乾燥し、厚さ500μmの赤外線遮断性フィルムを作製した。実施例2赤外線遮断性樹脂の溶液に、赤外線遮断性樹脂を100質量として4質量のトリメトキシメチルメラミン樹脂を添加した以外実施例1と同様にして、赤外線遮断性フィルムを作製した。実施例3348gの60質量メタノール水溶液を溶媒として、1650gのホスホン酸基含有加水分解物のみを重合した以外実施例1と同様にして、固形分濃度が370質量のホスホン酸基含有加水分解物の重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の粘度28°Cを測定した結果、2640cpsであった。70質量硫酸水溶液3000gに、309g00170モルの酢酸第二銅を溶解させた。得られた酢酸第二銅の溶液3309gを、上記のホスホン酸基含有加水分解物の重合体溶液400gに、室温で除々に添加し、30分間攪拌した。得られた赤外線遮断性樹脂の溶液を、ポリエチレンテレフタレートPETフィルム厚さ100μm製容器底面;10cm×10cmに流延し、50°Cで3日間乾燥し、厚さ1mmの赤外線遮断性層を形成した。この容器から、赤外線遮断性層を設けた底部のみを切り出し、赤外線遮断性層上に厚さ45μmのポリエチレンフィルムを積層し、赤外線遮断性積層フィルムを作製した。実施例4赤外線遮断性層の厚さを500μmとした以外実施例3と同様にして、赤外線遮断性積層フィルムを作製した。実施例5実施例1と同様にして調製した750gのホスホン酸基含有加水分解物、及び2250gのターシャリーブチルアクリルアミドスルホン酸を、700gの30質量メタノール水溶液に溶解した。得られた混合液を、窒素ガスを導入しながら攪拌し、80°Cまで昇温した後、25gの10質量APS水溶液を入れた。その1時間後及び2時間後に、25gの10質量APS水溶液をさらに入れた。その後3時間80°Cに保持し、ホスホン酸基含有加水分解物及びターシャリーブチルアクリルアミドスルホン酸の共重合体を含む溶液を得た。共重合体溶液に599g00330モルの酢酸第二銅を室温で溶解し、30分間攪拌した。得られた赤外線遮断性樹脂の溶液を用いて、厚さ500μmの赤外線遮断性層を形成した以外、実施例3と同様にして赤外線遮断性積層フィルムを作製した。実施例6ホスホン酸基含有加水分解物及びターシャリーブチルアクリルアミドスルホン酸をそれぞれ100g及び200g用いた以外実施例5と同様にして、赤外線遮断性積層フィルムを作製した。実施例7ホスホン酸基含有加水分解物及びターシャリーブチルアクリルアミドスルホン酸をそれぞれ150g及び150g用いた以外実施例5と同様にして、赤外線遮断性積層フィルムを作製した。実施例8ホスホン酸基含有加水分解物及びターシャリーブチルアクリルアミドスルホン酸をそれぞれ200g及び100g用いた以外実施例5と同様にして、赤外線遮断性積層フィルムを作製した。実施例9溶媒としてイオン交換水を用い、かつ固形分濃度を100質量とした以外実施例1と同様にして、100:200の質量比のホスホン酸基含有加水分解物及びターシャリーブチルアクリルアミドスルホン酸の共重合体を含む溶液を調製した。共重合体溶液に、共重合体100g当たり309g00170モルの酢酸第二銅を室温で溶解し、30分間攪拌した。得られた赤外線遮断性樹脂の溶液を、上記PETフィルム容器に流延し、50°Cで3日間乾燥し、厚さ500μmの赤外線遮断性層を形成した。この容器から、赤外線遮断性層を設けた底部のみを切り出し、赤外線遮断性層上に厚さ100μmのPETフィルムを積層し、赤外線遮断性積層フィルムを作製した。実施例10一方のPETフィルムを、厚さ10μmのITO膜を有するPETフィルム厚さ100μmに代え、積層構成をPETフィルム/赤外線遮断性層/PETフィルム/ITO膜とした以外実施例9と同様にして、赤外線遮断性積層フィルムを作製した。実施例11共重合体100g当たり327g00180モルの酢酸第二銅を添加した以外実施例9と同様にして、赤外線遮断性積層フィルムを作製した。実施例12共重合体100g当たり817g00180モルのグルコン酸第二銅を添加した以外実施例9と同様にして、赤外線遮断性積層フィルムを作製した。実施例13共重合体100g当たり287g00180モルのリン酸第二銅を添加した以外実施例9と同様にして、赤外線遮断性積層フィルムを作製した。実施例14共重合体100g当たり406g00180モルの蟻酸第二銅を添加した以外実施例9と同様にして、赤外線遮断性積層フィルムを作製した。実施例15共重合体100g当たり266g00110モルの硝酸第二銅3水和物を添加した以外実施例9と同様にして、赤外線遮断性積層フィルムを作製した。実施例16共重合体100g当たり0545g00055モルの塩化第一銅を添加した以外実施例9と同様にして、赤外線遮断性積層フィルムを作製した。実施例17共重合体100g当たり0297g00030モルの塩化第一銅を添加した以外実施例9と同様にして、赤外線遮断性積層フィルムを作製した。実施例18共重合体100g当たり148g00110モルの塩化第二銅を添加した以外実施例9と同様にして、赤外線遮断性積層フィルムを作製した。実施例19共重合体100g当たり175g00110モルの硫酸第二銅を添加した以外実施例9と同様にして、赤外線遮断性積層フィルムを作製した。実施例20共重合体100g当たり202g00110モルの酢酸亜鉛を添加した以外実施例9と同様にして、赤外線遮断性積層フィルムを作製した。実施例21共重合体100g当たり0726g00110モルの酢酸リチウムを添加した以外実施例9と同様にして、赤外線遮断性積層フィルムを作製した。実施例22共重合体100g当たり274g00110モルの酢酸ニッケルを添加した以外実施例9と同様にして、赤外線遮断性積層フィルムを作製した。実施例23共重合体100g当たり194g00110モルの酢酸カルシウムを添加した以外実施例9と同様にして、赤外線遮断性積層フィルムを作製した。実施例24共重合体100g当たり195g00110モルの酢酸コバルトを添加した以外実施例9と同様にして、赤外線遮断性積層フィルムを作製した。実施例25共重合体100g当たり323g00110モルの塩化インジウムを添加した以外実施例9と同様にして、赤外線遮断性積層フィルムを作製した。実施例26共重合体100g当たり383g00110モルのバナジウムアセチルアセトネートを添加した以外実施例9と同様にして、赤外線遮断性積層フィルムを作製した。実施例27WO2005080454の実施例1と同様にして、アクリルアミド及び無水リン酸を用いてホスホン酸基を有する加水分解物を調製した。このホスホン酸基含有加水分解物を含む反応溶液に貧溶媒を添加し、分液ロートにより分離したホスホン酸基含有加水分解物を100°Cで1時間加熱乾燥した。ホスホン酸基含有加水分解物の酸価を測定した結果、635mggであり、生成物の主成分はNモノアクリルアミドホスホン酸理論酸価:7417mggであることが確認された。還流冷却管、触媒投入口等を有する自動合成反応装置に、233質量部の上記ホスホン酸基含有加水分解物、467質量部のビニルスルホン酸分子量10812、及び30質量部のジメチルアセトアミドを入れ、窒素ガスを導入しながら攪拌し、80°Cまで昇温した後、ホスホン酸基含有加水分解物及びビニルスルホン酸の合計を100として質量比で15のアンモニウムパーサルフェートを添加した。その後6時間80°Cに保持し、固形分濃度が667質量のホスホン酸基含有加水分解物及びビニルスルホン酸の共重合体溶液を得た。共重合体溶液の粘度25°Cを測定した結果、1470cpsであった。共重合体溶液を水で希釈して20質量溶液とした。希釈後の共重合体溶液20質量に、共重合体100g当たり1g00055モルの酢酸第二銅を溶解し、攪拌した。得られた赤外線遮断性樹脂の溶液固形分230質量に、赤外線遮断性樹脂を100質量として30質量のグリセリンを添加した。得られた溶液を、PETフィルム厚さ100μm製容器底面;10cm×10cmに流延し、50°Cで24時間乾燥し、厚さ134μmの赤外線遮断性層を形成した。この容器から、赤外線遮断性層を設けた底部のみを切り出し、赤外線遮断性層上に厚さ50μmのポリエチレンフィルムを積層し、赤外線遮断性積層フィルムを作製した。実施例28還流冷却管、触媒投入口等を有する自動合成反応装置に、233質量部の実施例1と同じNNジホスホン酸アクリルアミドを主成分とするホスホン酸基含有加水分解物、467質量部のビニルスルホン酸、及び30質量部のジメチルアセトアミドを入れ、窒素ガスを導入しながら攪拌し、80°Cまで昇温した後、ホスホン酸基含有加水分解物及びビニルスルホン酸の合計を100として質量比で15のアンモニウムパーサルフェートを添加した。その後6時間80°Cに保持し、固形分濃度が70質量のホスホン酸基含有加水分解物及びビニルスルホン酸の共重合体溶液を得た。共重合体溶液の粘度25°Cを測定した結果、230cpsであった。共重合体溶液を水で希釈して20質量溶液とした。希釈後の共重合体溶液20質量に、共重合体100g当たり1g00055モルの酢酸第二銅を溶解し、攪拌した。得られた赤外線遮断性樹脂の溶液固形分213質量に、赤外線遮断性樹脂を100質量として30質量のグリセリンを添加した。得られた溶液を、上記PETフィルム製容器に流延し、50°Cで24時間乾燥し、厚さ100μmの赤外線遮断性層を形成した。この容器から、赤外線遮断性層を設けた底部のみを切り出し、赤外線遮断性層上に厚さ50μmのポリエチレンフィルムを積層し、赤外線遮断性積層フィルムを作製した。比較例1赤外線遮断性層に代えてホスホン酸基含有加水分解物の重合体層を設けた以外実施例3と同様にして、ポリエチレンフィルム45μm/ホスホン酸基含有加水分解物の重合体層1mm/PETフィルム100μmからなる積層構成のフィルムを作製した。比較例2ポリエチレンフィルム45μm/PETフィルム100μmからなる積層構成のフィルムを作製した。実施例1~28の赤外線遮断性積層フィルム及び比較例1,2の積層フィルムについて、分光光度計形式:U2900、株式会社日立ハイテクノロジーズ製及び上記フーリエ変換赤外分光装置を用いて、300~1100nmの波長範囲実施例1~9,11~28,比較例1及び2及び2500~20000nmの波長範囲実施例9,10,20~26の分光透過率を測定した。結果を図3~図19に示す。図3~7,10~13,18から、実施例1~9,11~19,27及び28の銅化合物を含む赤外線遮断性積層フィルムは、780~1100nmの波長範囲の近赤外線に対して40以下の優れた遮断性を有し、かつ380~600nmの波長範囲実施例16~18ではほぼ480nm~ほぼ620nmの波長範囲、実施例27ではほぼ410nm~ほぼ600nmの波長範囲の可視光線に対して60以上の優れた透過性を有することが分かった。特に実施例3,9,13,14,18,27及び28では、上記波長範囲の近赤外線に対して10以下の一層優れた遮断性を有することが分かった。図8及び9から、酢酸第二銅を含む赤外線遮断性積層フィルムは、2500~20000nmの波長範囲の中遠赤外線に対して1以下の優れた遮断性を有することが分かった。図14~17から、実施例20~26の順に亜鉛、リチウム、ニッケル、カルシウム、コバルト、インジウム及びバナジウムの各化合物を含む赤外線遮断性積層フィルムは、近赤外線に対する遮断性は良好ではないが、上記波長範囲の中遠赤外線に対して2以下の優れた遮断性を有し、380~780nmの波長範囲実施例24ではほぼ480nm~ほぼ560nmの波長範囲の可視光線に対して60以上の優れた透過性を有することが分かった。図19から、比較例1の積層フィルムでは、金属化合物を有さないホスホン酸基含有加水分解物の重合体を用いており、比較例2の積層フィルムでは、赤外線遮断性層を設けていないので、いずれも近赤外線に対する遮断性を有さなかった。"