"光学素子を有する光学素子保持装置であって、光が入射する前記光学素子の光学面の裏面に設けられて、前記光学面よりも断面形状が小さい凸状の接続部と、前記接続部に連結されて、前記接続部よりも断面形状が大きい被保持部と、前記被保持部のうち、前記接続部から離れた部分を支持する支持部と、を備えることを特徴とする光学素子保持装置。前記光学素子、前記接続部、及び前記被保持部は一体的に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の光学素子保持装置。前記接続部は、前記光学面の裏面に沿った方向の最大長さが、前記裏面の最大長さの1/3以下であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の光学素子保持装置。前記光学素子は反射光学素子であり、前記接続部は、前記反射光学素子の反射面の裏面に設けられることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の光学素子保持装置。前記被保持部は、前記接続部から離れた部分に凸部を有し、前記支持部は、前記被保持部の前記凸部を保持することを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の光学素子保持装置。前記支持部は前記被保持部の3箇所を保持し、前記支持部と前記被保持部の3箇所のそれぞれとの間に設けられて、前記光学素子を全体で6自由度で駆動する第1のアクチュエータを備えることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の光学素子保持装置。前記光学面の裏面の複数箇所に可変の荷重を付与する複数の第2のアクチュエータを備えることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の光学素子保持装置。前記被保持部は、前記接続部から前記光学面の裏面に沿って外側に伸びる複数のアーム部を有し、前記支持部は、前記アーム部の先端部を保持することを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の光学素子保持装置。複数の光学素子を含む光学装置において、請求項1から請求項8のいずれか一項に記載の光学素子保持装置を備え、前記光学素子保持装置は、前記複数の光学素子のうちの一つの光学素子を保持することを特徴とする光学装置。露光光でパターンを照明し、前記露光光で前記パターン及び投影光学系を介して基板を露光する露光装置において、請求項9に記載の光学装置を備えることを特徴とする露光装置。前記光学装置は前記投影光学系を含むことを特徴とする請求項10に記載の露光装置。請求項10又は請求項11に記載の露光装置を用いて基板上に感光層のパターンを形成することと、前記パターンが形成された前記基板を処理することと、を含むデバイス製造方法。従来の光学素子は、ホルダによって保持される側面の部分と、その光学素子の光が入射又は透過する面とが近接しているため、例えばそのホルダの保持力によってその面が変形する恐れがあった。このようにその光が入射又は透過する面が変形すると、投影光学系の結像特性が劣化する恐れがある。本発明の態様は、このような事情に鑑み、光学素子の光が入射又は透過する面の変形を抑制した状態でその光学素子を保持することを目的とする。本発明の第1の態様によれば、光学素子を有する光学素子保持装置が提供される。この光学素子保持装置は、光が入射又は透過するその光学素子の光学面の裏面に設けられて、その光学面よりも断面形状が小さい凸状の接続部と、その接続部に連結されて、その接続部よりも断面形状が大きい被保持部と、その被保持部のうち、その接続部から離れた部分を支持する支持部と、を備えるものである。また、第2の態様によれば、複数の光学素子を含む光学装置が提供される。この光学装置は、本発明の光学素子保持装置を備え、この光学素子保持装置によってその複数の光学素子のうちの一つの光学素子を保持するものである。また、第3の態様によれば、露光光でパターンを照明し、その露光光でそのパターン及び投影光学系を介して基板を露光する露光装置において、本発明の光学装置を備える露光装置が提供される。また、第4の態様によれば、本発明の露光装置を用いて基板上に感光層のパターンを形成することと、そのパターンが形成されたその基板を処理することと、を含むデバイス製造方法が提供される。本発明の態様によれば、光学素子に断面形状の小さい接続部を介して接続されている被保持部を保持するため、その光学素子の光学面の変形を抑制した状態でその光学素子を保持できる。[第1の実施形態]本発明の第1の実施形態につき図1~図2Bを参照して説明する。図1は、本実施形態に係る露光装置EXの露光本体部を示す。露光装置EXは、一例としてスキャニングステッパーよりなる走査露光型の投影露光装置である。図1において、露光装置EXは、露光用の照明光IL露光光を発生する露光光源不図示と、照明光ILでレチクルRマスクを照明する照明光学系ILS図1ではこの一部のみが表れていると、レチクルRのパターンの像をウエハW基板の表面に形成する投影光学系PLとを備えている。さらに、露光装置EXは、レチクルRを保持して移動するレチクルステージ15と、ウエハWを保持して移動するウエハステージ32と、装置全体の動作を統括的に制御するコンピュータよりなる主制御系不図示とを備えている。以下、投影光学系PLのレチクルR側の部分光学系後述の第1結像光学系G1の光軸AX1に平行にZ軸を取り、Z軸に垂直な平面本実施形態ではほぼ水平面内で図1の紙面に平行にY軸を、図1の紙面に垂直にX軸を取って説明する。走査露光時のレチクルR及びウエハWの走査方向はY軸に平行な方向Y方向であり、レチクルRのパターン面及びウエハWの表面はXY面にほぼ平行である。また、X軸、Y軸、及びZ軸に平行な軸の回りの回転方向傾斜方向をθx方向、θy方向、及びθz方向とも呼ぶ。まず、投影光学系PL、レチクルステージ15、及びウエハステージ32を含む露光本体部は、フレーム機構によって支持されている。そのフレーム機構は、床面に設置されたフレームキャスタよりなるベース部材1と、ベース部材1の上面に設置された例えば3本の第1コラム2と、第1コラム2の上面に例えば能動型の防振装置3A,3B実際には例えば3個配置されているを介して設置された第2コラム4とを備えている。第2コラム4の底部に設けられた平板状の支持板部4aの中央のU字型の開口部に投影光学系PLが搭載されている。そのフレーム機構の近傍に設置された露光光源不図示は、ArFエキシマレーザ光源発振波長193nmであるが、その他にKrFエキシマレーザ光源波長248nm、又は固体レーザYAGレーザ若しくは半導体レーザ等の高調波発生装置等も使用できる。その露光光源から射出された照明光ILは、照明光学系ILSに入射する。照明光学系ILSは、レチクルRのパターン面下面のX方向非走査方向に細長いスリット状の照明領域を照明光ILによりほぼ均一な照度分布で照明する。サブチャンバ14内に配置された照明光学系ILSは、例えば米国特許出願公開第2003/025890号明細書などに開示されるように、空間光変調器又は回折光学素子等を含む光量分布設定機構不図示、オプティカルインテグレータフライアイレンズ又はロッドインテグレータなど等を含む照度均一化光学系不図示、レチクルブラインド等の可変視野絞り不図示、並びにレンズ11,13及びミラー12を含むコンデンサ光学系等を含んでいる。また、照明条件に応じて、その光量分布設定機構が、照明光学系ILS内の瞳面不図示における照明光ILの光量分布を、光軸を中心とする円形領域、光軸を挟む2つの領域2極照明、光軸を挟む4つの領域4極照明、又は輪帯状の領域輪帯照明等でそれぞれ大きい光量となる分布に切り換える。レチクルRを通過した照明光ILは、投影光学系PLを介して、フォトレジスト感光剤が塗布された円板状の基板であるウエハ半導体ウエハWの表面の一つのショット領域のX方向に細長い露光領域に、レチクルRの照明領域内のパターンを投影倍率β例えば1/4,1/5等で縮小した像を形成する。本実施形態の投影光学系PLは反射屈折光学系である。投影光学系PLは、フランジ部44aによって支持板部4aに載置されている。照明光学系ILS及び投影光学系PLの照明光ILの光路はほぼ気密化され、これらの光路には、ほぼ真空紫外域の光に対して高透過率の気体以下、パージガスと呼ぶであるドライエアー、窒素、又は希ガスヘリウム等等が、供給用の配管20A等及び排気用の配管21A,21D等を介して供給されている。また、レチクルRは、レチクルホルダ不図示を介してレチクルステージ15の上面に保持され、レチクルステージ15はレチクルベース16のXY面に平行な上面に、Y方向に一定速度で移動可能に、かつX方向、Y方向、θz方向に変位可能な状態で載置されている。レチクルベース16は、第2コラム4の上端に固定されている。レチクルステージ15の少なくともX方向、Y方向の位置、及びθz方向の回転角はレーザ干渉計17によって計測され、この計測値及び主制御系からの制御情報に基いて、リニアモータ等を含む駆動装置不図示がレチクルステージ15を駆動する。一方、ウエハWは、ウエハホルダ不図示を介してウエハテーブル31の上面に保持され、ウエハテーブル31はウエハステージ32の上面に固定されている。ウエハステージ32は、ウエハベース33のXY面に平行な上面にY方向に一定速度で移動可能に、かつX方向、Y方向に移動可能に載置されている。ウエハベース33は、能動型の防振装置38A,38B等を介してベース部材1上に載置されている。ウエハステージ32の少なくともX方向、Y方向の位置、及びθz方向の回転角はレーザ干渉計34によって計測され、この計測値及び主制御系からの制御情報に基いて、リニアモータ等を含む駆動装置不図示がウエハステージ32を駆動する。また、ウエハステージ32の内部には、ウエハテーブル31ウエハWのZ方向の位置フォーカス位置と、θx方向及びθy方向の傾斜角とを調整するためのフォーカスレベリング機構が組み込まれている。投影光学系PLの下部側面に配置された投射光学系35Aと受光光学系35Bとから構成される斜入射方式の多点の焦点位置検出系オートフォーカスセンサによって計測されるウエハWの複数の計測点でのフォーカス位置の情報に基いて、そのフォーカスレベリング機構は、露光中に継続してウエハWの表面を投影光学系PLの像面に合焦させる。投射光学系35A及び受光光学系35Bは、投影光学系PLのフランジ部44aの底面に取り付けられたセンサーコラム36に取り付けられている。また、ウエハテーブル31の上部に、例えば米国特許第6,573,997号明細書等で開示されているシアリング干渉方式又はポイントディフラクション干渉方式PDI方式の波面収差計測装置39が設けられている。波面収差計測装置39によって計測される投影光学系PLの波面収差の情報は例えば後述の結像特性制御系56図5参照に供給される。結像特性制御系56は、通常の露光時には、例えば照明光ILの積算エネルギー等に基づいて、投影光学系PLの波面収差の変動量を逐次予測している。露光時には、不図示のアライメント系を用いてレチクルR及びウエハWのアライメントを行った後、ウエハステージ32をX方向、Y方向にステップ移動することで、ウエハWの露光対象のショット領域が露光領域の手前に移動する。その後、レチクルRの照明領域内のパターンの投影光学系PLによる像でウエハWの当該ショット領域を露光しつつ、レチクルステージ15及びウエハステージ32を介してレチクルRとウエハWとをY方向に投影光学系PLの投影倍率を速度比として同期移動する走査露光が行われる。そのステップ移動と走査露光とを繰り返すステップアンドスキャン方式で、ウエハWの全部のショット領域にレチクルRのパターンの像が露光される。次に、本実施形態の投影光学系PLの構成等につき詳細に説明する。図1において、反射屈折光学系からなる投影光学系PLは、レチクルRのパターンの第1中間像を形成する屈折型の第1結像光学系G1と、凹面鏡よりなるミラー22と2つの負屈折力のレンズL8,L9とから構成されて第1中間像とほぼ等倍の第2中間像を形成する第2結像光学系G2と、第2中間像からの光を用いてウエハW上にレチクルRのパターンの最終像を形成する屈折型の第3結像光学系G3と、ミラー22を保持するミラー保持装置50と、を備えている。さらに、投影光学系PLは、第1結像光学系G1からの光を第2結像光学系G2に向かって偏向する反射面Aと、第2結像光学系G2からの光を第3結像光学系G3に向かって偏向する反射面Bとが形成された光路折り曲げ鏡FMを備えている。第1中間像及び第2中間像は、それぞれ反射面Aと第2結像光学系G2との間、及び第2結像光学系G2と反射面Bとの間に形成される。また、第1結像光学系G1及び第3結像光学系G3はZ軸に平行な光軸AX1を有し、第2結像光学系G2の光軸AX2は、光軸AX1と直交するように、かつY軸に平行に設定されている。更に、光路折り曲げ鏡FMの2つの反射面A,Bの交線厳密にはその仮想延長面の交線Cで光軸AX1と光軸AX2とが交差している。第1結像光学系G1は、レチクルR側から順に、平行平面板L1、レンズL2,L3,L4,L5,L6,L7を配置して構成されている。第2結像光学系G2は、光の進行往路に沿ってレチクル側即ち入射側から順に、負のレンズL8及びL9と、ミラー22とを配置して構成されている。第3結像光学系G3は、光の進行方向に沿ってレチクル側から順に、レンズL10,L11と、開口絞りASと、レンズL12,L13とを配置して構成されている。開口絞りASの配置面は投影光学系PLの瞳面又はその近傍の面であり、ミラー22の反射面22aは、ほぼ第2結像光学系G2の瞳面の近傍に配置されている。すなわち、ミラー22の反射面22aは、投影光学系PLの瞳面とほぼ共役である。また、第1結像光学系G1及び第2結像光学系G2の瞳面投影光学系PLの瞳面と共役な面の近傍に、結像特性補正用の平行平面板を配置してもよい。なお、投影光学系PLの構成は任意である。本実施形態において、投影光学系PLを構成する全ての屈折光学素子レンズ成分の光学材料には合成石英又は蛍石CaF2結晶を使用している。また、光路折り曲げ鏡FM及びミラー22は、一例として炭化ケイ素SiC或いはSiCとケイ素Siとのコンポジット材の反射面にアルミニウム等の金属膜、又は誘電体多層膜を被着することにより形成される。このとき、脱ガス防止のためにミラー22全体を炭化ケイ素等でコーティングすることが好ましい。また、ミラー22の材料としては、コーニング社のULEUltraLowExpansion商品名などの低膨張材料、又はベリリウムBe等の金属を用いても良い。ベリリウム等の金属を用いる場合には、ミラー22全体を炭化ケイ素等でコーティングすることが好ましい。また、第1結像光学系G1の平行平面板L1、レンズL2~L7は、それぞれ輪帯状のレンズ枠42A,42B,42C,42D,42E,42F,42Gを介して円筒状の分割鏡筒41A,41B,41C,41D,41E,41F,41G内に保持され、分割鏡筒41A~41Gは光軸AX1に沿って気密性を保持する状態で例えば対向するフランジ部不図示をボルト不図示で固定して連結されている。レンズ枠42B~42G等には上記のパージガスを流通させるための複数の開口が形成されている以下同様。同様に、第3結像光学系G3のレンズL10,L11,L12,L13は、それぞれ輪帯状のレンズ枠42H,42K,42I,42Jを介して円筒状の分割鏡筒41H,44,41I,41J内に保持されている。開口絞りASは、分割鏡筒44,41Iに挟まれた分割鏡筒41K内に保持され、分割鏡筒41H,44,41K,41I,41Jは気密性を保持する状態で連結されている。そして、分割鏡筒44にフランジ部44aが設けられている。分割鏡筒41G,41H間にY方向に開口が設けられた円筒状の分割鏡筒43が連結され、分割鏡筒43内の突部に保持枠43aを介して光路折り曲げ鏡FMが固定されている。分割鏡筒41A~41K,43,44より第1の部分鏡筒7が構成されている。また、不図示の結像特性制御系の制御のもとで、例えばレンズ枠42A~42Eを駆動して、平行平面板L1、レンズL2~L5をZ方向、θx方向、θy方向に微動することによって、投影光学系PLのディストーション及びコマ収差等の回転対称で比較的低次の収差を補正する回転対称な結像特性補正機構不図示が設けられている。このような回転対称な結像特性補正機構としては、例えば米国特許出願公開第2006/244940号明細書に開示されている機構を使用可能である。また、第2結像光学系G2のレンズL8,L9は、それぞれ保持枠46A,46Bを介して、円筒型の分割鏡筒45,41L内に保持され、ミラー22を含むミラー保持装置50の分割鏡筒47は、分割鏡筒41Lに連結されている。図2Aは、図1中のミラー保持装置50を示す。図2Aにおいて、設置面PF図1の分割鏡筒41LのY方向の端面に、円筒状の分割鏡筒47が複数のボルト26Aを用いて固定され、分割鏡筒47のY方向の端面を気密化して覆うように、円形の平板状の剛性の高いカバー部材55が複数のボルト不図示を用いて固定されている。カバー部材55の内面に、先端部がL字型の位置決め部材25aが固定され、位置決め部材25aに対してボルト26Bを用いてZ方向及びX方向の間隔が調整可能に押さえ部材25b及び25c図2B参照が備えられている。位置決め部材25a及び押さえ部材25b,25cからクランプ部25が構成されている。分割鏡筒47の気密化された内部にミラー22が配置されている。照明光ILが入射するミラー22の反射面光学面22aの裏面22bの中央光軸上に、反射面22aの円形の輪郭よりも断面形状が小さい断面積が小さい凸の円柱状の連結部23が形成され、連結部23のミラー22と対向する面に、連結部23よりも断面形状が大きい断面積が大きい例えば四角柱状の被保持部24が形成されている。なお、本実施形態では、反射面22aの円形の輪郭の大きさは、ミラー22の裏面22bとほぼ同じ大きさである。なお、被保持部24は、円柱状又は四角柱以外の角柱状でもよい。本実施形態では、ミラー22、連結部23、及び被保持部24は、上述のミラー22用の材料から一体的に形成されている。一例として、連結部23及び被保持部24は、ミラー22の裏面に一体的に形成された凸部をエッチング又は研磨することによって形成可能である。また連結部23及び被保持部24は、ミラー22と一体的に形成せずに、被保持部と一体に形成された連結部の端部をミラー22の裏面に螺合させたり、接着剤等で固定してもよい。また、被保持部24は位置決め部材25aに載置され、ボルト26Bを用いて押さえ部材25b,25cと位置決め部材25aとで被保持部24を挟み込むことによって、被保持部24は安定に支持されている。即ち、被保持部24はクランプ部25を介してカバー部材55支持部に安定に支持され、カバー部材55は分割鏡筒47に固定されている。この際に、カバー部材55は、投影光学系PLの鏡筒部の一部とみなすことができる。ミラー22、連結部23、被保持部24、クランプ部25、カバー部材55、及び分割鏡筒47を含んでミラー保持装置50が構成されている。なお、被保持部24を位置決め部材25a等に接着等で固定してもよい。本実施形態では、クランプ部25で被保持部24の連結部23から離れた部分外面を支持することによって、被保持部24に連結部23を介して接続されたミラー22が間接的に保持支持されている。このようにミラー22を直接保持する代わりに、被保持部24及び連結部23を介して間接的にミラー22を保持することによって、クランプ部25から被保持部24に作用する応力がミラー22の反射面22aに直接的に作用しない。従って、反射面22aの変形を抑制できる。本実施形態では、被保持部24の断面形状は連結部23の断面形状より大きく、さらに図2Bに示すように、被保持部24のほぼ正方形の断面の一辺の長さaは、連結部23の半径r2よりも大きく設定されている。本実施形態では、長さaは半径r2の例えば5倍程度である。これによって、ミラー22の反射面22aに対する影響を小さくした状態で、被保持部24を安定に保持できる。なお、長さaは半径r2よりも大きいことが好ましい。また、連結部23の断面形状が円形でなく、及び/又は被保持部24の断面形状が正方形でない場合には、被保持部24のXZ面内の断面積が連結部23のXZ面内の断面積よりも大きいことが好ましい。これによって、被保持部24に作用する応力の反射面22aに対する影響を小さくできる。さらに、本実施形態では、ミラー22の反射面22aの輪郭は、ミラー22の裏面22b及び外形と同じ大きさ半径をr1とするの円形である。そして、図2Bに示すように、連結部23の半径r2は、ミラー22の反射面22aの輪郭の半径r1の例えば1/10程度である。本実施形態において、連結部23の半径r2は、次のように反射面22aの輪郭の半径r1の1/3以下であることが好ましい。r2≦r1/3...1この条件が成立すると、上述のように被保持部24を介してミラー22を保持するときに、被保持部24に作用する応力のミラー22の反射面22aへの影響が小さくなり、反射面22aの変形が良好に抑制される。なお、連結部23の断面形状は円形以外の任意の形状でよく、反射面22aの輪郭の形状は円形以外の任意の形状でよい。このように連結部23の断面形状及び/又は反射面22aの輪郭の形状が円形でない場合には、式1の条件の代わりに、連結部23の反射面22aの裏面22bに沿った方向の最大の長さが、この裏面22bの最大長さの1/3以下であるという条件を使用できる。本実施形態の効果等は以下の通りである。1本実施形態のミラー保持装置50は、照明光ILを反射する凹面鏡よりなるミラー22と、照明光ILが入射するミラー22の反射面22a光学面の裏面22bに設けられて、反射面22aよりも断面形状が小さい凸状の連結部23と、連結部23に設けられて、連結部23よりも断面形状が大きい被保持部24と、被保持部24のうち連結部23から離れた外面を支持するクランプ部25が固定されたカバー部材55と、カバー部材55が固定された分割鏡筒47と、を備えている。本実施形態によれば、ミラー22に連結部23を介して接続されている被保持部24を保持するため、ミラー22の反射面22aの変形を抑制した状態でミラー22を保持支持できる。従って、投影光学系PLの結像特性が良好に維持される。2また、ミラー22、連結部23、及び被保持部24が一体的に形成されているため、ミラー22と被保持部24との位置関係が一定の状態に正確に維持される。従って、被保持部24を介してミラー22を所望の状態に正確に支持できる。なお、例えばミラー22と連結部23とを一体的に形成し、被保持部24は別の部材から形成した後、その連結部23に接着又は溶着等によって被保持部24を固定してもよい。3また、本実施形態の投影光学系PLは、レンズL8,L9及びミラー22複数の光学素子を含む反射屈折光学系において、それらの光学素子のうちのミラー22を保持するためのミラー保持装置50を備えている。従って、ミラー22の反射面の変形が抑制され、投影光学系PLの結像特性の変動が抑制される。4また、本実施形態の露光装置EXは、照明光ILでレチクルRのパターンを照明し、照明光ILでそのパターン及び投影光学系PLを介してウエハW基板を露光する露光装置において、投影光学系PLはミラー保持装置50を備えている。従って、投影光学系PLの結像特性の変動が抑制されているため、レチクルRのパターンの像を高精度にウエハWの各ショット領域に露光できる。なお、上述の実施形態では、以下のような変形が可能である。まず、上述の実施形態では、ミラー保持装置50の被保持部24の断面形状はミラー22の反射面22aに比べるとかなり小さい。これに対して、図3Aの第1変形例のミラー保持装置50Aで示すように、ミラー22の裏面22bに設けられた連結部23に、ミラー22の反射面22aの輪郭とほぼ同じ大きさの断面形状を持つ被保持部24Aを設けてもよい。図3Aにおいて、図2Aに対応する部分には同一符号を付してその詳細な説明を省略する。被保持部24Aはほぼ円形の平板状であるが、被保持部24Aは例えば正三角形又は正方形等の正多角形の平板状でもよい。この変形例において、被保持部24Aのミラー22と反対側の面の外周部にほぼ等角度間隔で3個の四角柱状の凸部27A,27B,27Cが一体的に形成されており図3B参照、これらの凸部27A~27Cがそれぞれカバー部材55の内面に固定されたクランプ部25A~25Cによって安定に支持されている。クランプ部25A~25Cは互いに同一構成であり、クランプ部25Aは、凸部27Aが載置される位置決め部材25Aaと、ボルト不図示によって凸部27Aを位置決め部材25Aaに固定する押さえ部材25Ab,25Acとを有する。この変形例のミラー保持装置50Aにおいては、被保持部24Aに設けた凸部27A~27Cを保持することによって、被保持部24A及び連結部23を介してミラー22を保持しているため、上記の実施形態よりもさらにミラー22の反射面22aの変形を抑制した状態でミラー22を保持できる。さらに、仮に外乱等によるカバー部材55の微小な変形によって一つのクランプ部25BがY方向にδy1だけ変位した場合、クランプ部25A~25Cの間隔をD1とすると、反射面22aは点線で示すようにほぼ角度δy1/D1radだけ回転した位置P2に変位する。しかしながら、この変形例において、その間隔D1は反射面22aの輪郭の半径r1のほぼ1.7倍と大きい値であるため、反射面22aの回転角は微小であり、投影光学系PLの結像特性は殆ど変動しない。また、例えばミラー保持装置50Aの組立時の応力等によって、図4Aの点線の状態P3で示すように、被保持部24Aが変形しても、その応力等はミラー22には実質的に伝わらないため、反射面22aの変形が良好に抑制される。なお、この変形例では、被保持部24Aの形状は反射面22aの輪郭とほぼ同じであるが、被保持部24Aに複数又は多数の開口を例えば光軸又は連結部23に関して半径方向に対称に設けてもよい。これによって、被保持部24Aの剛性を殆ど低下させることなく、被保持部24Aを軽量化できる。さらに、図4Bの第2変形例で示すように、被保持部24Bの代わりに例えば連結部23を中心としてほぼ等角度間隔で配置された3本のアーム24Ba,24Bb,24Bcを含む被保持部24Bを用いてもよい。被保持部24Bは、一例としてアーム24Ba~24Bcの先端部に形成された凸部27A~27Cをそれぞれクランプ部25A~25Cで保持することで保持されている。しかしながら、アーム24Ba~24Bcの先端部を直接保持するようにしてもよい。[第2の実施形態]本発明の第2の実施形態につき図5を参照して説明する。本実施形態のミラー保持装置は、図1の投影光学系PLにおいて、ミラー保持装置50の代わりに使用可能である。以下、図5において、図3Aに対応する部分には同一符号を付してその詳細な説明を省略する。図5は、本実施形態のミラー保持装置50Bを示す断面図である。図5において、分割鏡筒47のY方向の端面を気密化して覆うように、短い円筒状でY方向の端面が平板状に形成された剛性の高いカバー部材55Aが複数のボルト26Cを用いて固定されている。ミラー22に連結部23を介して接続された被保持部24Aは、外周部の3箇所の凸部27A等が、カバー部材55Aの内面に対向するように固定されたクランプ部25A等で安定に保持されている。また、ミラー22の裏面22bにX方向及びZ方向にほぼ一定の間隔で、螺合、接着等によって複数の例えば金属製のロッド部材64が固定されている。複数のロッド部材64は、それぞれ被保持部24Aに設けられた開口24Aaを通してカバー部材55A側に突き出ている。複数のロッド部材64に対応して、カバー部材55Aの内面にY方向の長さが可変のピエゾ素子又は超音波モータ等を含むY軸の駆動部60が固定され、各駆動部60と対応するロッド部材64との間にそれぞれ圧縮コイルばね62が介装されている。駆動部60、圧縮コイルばね62、及びロッド部材64から、ミラー22の裏面22bのロッド部材64が設けられた位置に対して-Y方向への可変の荷重を付与して、対応する位置の反射面22aを変形させるY軸のアクチュエータ58が構成されている。例えば-X方向及び-Z方向の端部のロッド部材64の位置を位置Q1,1として、X方向にi番目でZ方向にj番目のロッド部材64を含むアクチュエータ58を位置Qi,ji,jは1以上の整数のアクチュエータと呼ぶこととする。本実施形態のミラー保持装置50Bは、ミラー22、連結部23、及び被保持部24Aとともに、複数のアクチュエータ58と、各アクチュエータ58の駆動部60のY方向の変位、ひいては裏面22bに作用するY方向の荷重を個別に制御する結像特性制御系56とを備えている。結像特性制御系56内の記憶部には、一例として、各アクチュエータ58の駆動部60の先端部のY方向の変位と、対応する裏面22bに対する荷重との関係が一次関数又は高次関数等として記憶されており、各駆動部60の変位から対応する荷重を高精度に求めることができる。また、結像特性制御系56には、図1の露光装置EXの波面収差計測装置39で計測される投影光学系PLの波面収差の情報が供給されている。例えばウエハWに対する露光の前に、波面収差計測装置39の受光部を投影光学系PLの露光領域に移動し、位置Qi,jのアクチュエータ58でミラー22の裏面22bに順次、単位荷重を与えて反射面22aを変形させて、それぞれ投影光学系PLの波面収差の変動量例えばツェルニケ係数で表すことができるを計測することによって、各アクチュエータ系58からミラー22に付与する荷重と波面収差の変動量との関係を求めることができる。この関係も結像特性制御系56内の記憶部に記憶されている。複数のアクチュエータ58でミラー22に荷重を付与して、反射面22aを変形させることで、投影光学系PLの結像特性としてのセンターアス等の非回転対称な収差及び高次の収差を含む波面収差を容易に補正することができる。また、連結部23を囲む複数のアクチュエータ58から一律にミラー22に-Y方向への荷重を付与することで、図5に点線の変形後の反射面P4で示すように、相対的に反射面22aの光軸近傍の部分をY方向に引き込むような変形も付与できる。例えば複数ロットのウエハWの露光時には、結像特性制御系56は照明光ILの積算エネルギー等に基づいて投影光学系PLの結像特性の変動量を算出する。結像特性制御系56は、その結像特性の変動量を補正するためにミラー22の裏面に各アクチュエータ系58から付与する荷重を算出し、算出結果に応じて各アクチュエータ系58の駆動部60を駆動する。これによって、多数のウエハWの露光中に、積算エネルギー等によって投影光学系PLの回転非対称及び/又は高次の波面収差収差が変動しても、その変動を抑制して投影光学系PLの結像特性を所望の状態に高精度に維持できる。従って、レチクルRのパターンの像を常に高精度にウエハWに露光できる。次に、この第2の実施形態の変形例のミラー保持装置50Cにつき図6A及びBを参照して説明する。なお、図6Aにおいて、図5Aに対応する部分には同一符号を付してその詳細な説明を省略する。図6Aは、この変形例のミラー保持装置50Cを示す断面図、図6Bは図6AのBB線に沿う断面図である。図6Aにおいて、図5Aのミラー22、連結部23、及び被保持部24Aの代わりに、例えばベリリウム等の金属製のミラー22A反射面22Aaにアルミニウム膜又は誘電体多層膜が被着されている、連結部23A、及び被保持部24Bが使用されている。例えば被保持部24Aと被保持部24Bとは一体的に形成され、ミラー22Aと連結部23Aとは溶接等で固定されている。円形の平板状の被保持部24Bのミラー22A側の外周部にほぼ等角度間隔で、低いV字型のY方向及び円周方向の可撓性を持つヒンジ部材66A,66B,66Cがボルト26Dで固定されている図6B参照。図6Bにおいて、ヒンジ部材66Aの両端部は、ピエゾ素子又は超音波モータ等の伸縮量が調整可能な駆動素子68A,68B及び連結部70を介して分割鏡筒47の内面の切り欠き部47c,47eに連結されている。他のヒンジ部材66B及び66Cの両端部もそれぞれ駆動素子68Aと同じ駆動素子68C,68D及び68E,68F及び連結部70を介して分割鏡筒47の切り欠き部47d,47c及び47e,47dに連結されている。図6Aの結像特性制御系56Aが6個の駆動素子68A~68Fの伸縮量を制御することで、被保持部24B、ひいてはミラー22Aの6自由度の姿勢X方向、Y方向、Z方向の位置、及びθx、θy、θz方向の角度を制御して、例えば比較的低次の波面収差を補正可能である。この際に、被保持部24Bが変形しても、その変形がミラー22Aの反射面22Aaには殆ど伝わらないため、反射面22Aaは変形しない。また、カバー部材55Aの内面に複数のアクチュエータ58が固定され、各アクチュエータ58の先端のロッド部材64が、被保持部24Bに設けられた開口24Baを通してミラー22Aの裏面22Abの平坦な切り欠き部22Acに接着、溶接、又は螺合等で固定されている。結像特性制御系56Aが各アクチュエータ58からミラー22Aに付与する荷重を制御することで、投影光学系PLの回転非対称及び/又は高次の波面収差も補正できる。なお、上記の第1及び第2の実施形態では、ミラー22,22Aを支持するためにミラー保持装置50,50Bを使用している。その他に、例えば投影光学系PL中のレンズ又は光路折り曲げ鏡FM等を保持するために、ミラー保持装置50,50B等と同様の光学素子の保持装置を使用してもよい。レンズを保持する場合には、光が透過するレンズの第1の透過面光学面の裏面である第2の透過面の一部光が通過しない領域に凸状の連結部を設け、この連結部により断面形状の大きい被保持部を設け、この被保持部を支持すればよい。この保持装置で保持するのに好適なレンズとしては、例えばレーザビームを被検面で走査するスキャナー装置等に使用されて、光軸に対して半面側のみを光が通過するようなレンズもある。次に、上記の実施形態の露光装置EX又は露光方法を用いて半導体デバイス電子デバイスを製造する場合、この半導体デバイスは、図7に示すように、デバイスの機能性能設計を行うステップ221、この設計ステップに基づいてマスクレチクルを製作するステップ222、デバイスの基材である基板ウエハを製造するステップ223、露光装置EXによりレチクルのパターンをレジストが塗布された基板感光基板に露光する工程、露光した基板を現像してレジストパターンを形成する工程、現像した基板の加熱キュア及びエッチング工程などを含む基板処理ステップ224、デバイス組み立てステップダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む225、並びに検査ステップ226等を経て製造される。言い換えると、このデバイスの製造方法は、上記の実施形態の露光装置EXを用いて基板ウエハ上に感光層のパターンを形成することと、そのパターンが形成された基板を処理することステップ224とを含んでいる。この製造方法によれば、露光装置EXでは投影光学系PLの結像特性が高精度に位置されているため、微細パターンを有するデバイスを高精度に製造できる。なお、本発明は、例えば米国特許出願公開第2007/242247号明細書、又は欧州特許出願公開第1420298号明細書等に開示されている液浸型露光装置の投影光学系の光学素子を保持する場合にも適用することができる。また、本発明は、走査型の露光装置のみならず、一括露光型の露光装置ステッパー等等にも適用することができる。また、本発明は、波長数nm~100nm程度の極端紫外光EUV光を露光光として用いる投影露光装置の投影光学系のミラーを保持する場合にも適用できる。露光光としてEUV光を用いる場合には、投影光学系は特定のフィルタ等を除いて複数のミラー凹面鏡、凸面鏡、平面鏡等から構成されるため、本発明の光学素子の保持装置は、その複数のミラーのうちの少なくとも1枚のミラーを保持するために使用可能である。また、本発明は、半導体デバイス製造用の露光装置への適用に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに形成される液晶表示素子、若しくはプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置用の露光装置や、撮像素子CCD等、マイクロマシーン、薄膜磁気ヘッド、及びDNAチップ等の各種デバイスを製造するための露光装置にも広く適用できる。更に、本発明は、各種デバイスのマスクパターンが形成されたマスクフォトマスク、レチクル等をフォトリソグフィ工程を用いて製造する際の、露光装置にも適用することができる。さらに、本発明の保持装置は、露光装置以外の例えば光学顕微鏡又はレーザビームで被検面を走査するスキャナー装置等の光学装置が有する光学素子を保持するために使用することも可能である。なお、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得ることは勿論である。"