画像が表示される面と並行に配置される透明基板と、光を遮断するために、前記透明基板上に部分的に形成される遮光膜と、を備え、前記遮光膜は、遮光部と、前記透明基板の少なくとも一辺の端部に沿った部分に形成され、遮光性能が前記遮光部より低い低遮光部と、を有する、ことを特徴とする表示装置用基板。前記低遮光部の膜厚は、前記遮光部の膜厚より薄い、ことを特徴とする請求項1に記載の表示装置用基板。前記低遮光部を形成する膜は、前記遮光部が形成される材料とは異なる材料により形成されている、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の表示装置用基板。前記低遮光部は、青色のカラーフィルタにより形成されている、ことを特徴とする請求項3に記載の表示装置用基板。前記低遮光部は、前記少なくとも一辺の前記端部に沿って断続的に形成されている、ことを特徴とする請求項1~4に記載の表示装置用基板。請求項1~5のいずれか一項に記載の表示装置用基板と、前記表示装置用基板に光を照射するバックライトと、を備える表示装置。透明基板上に、光を遮断する遮光部と、前記遮光部より遮光性能が低い低遮光部とを有する遮光膜を形成する遮光膜形成工程と、前記低遮光部上を切断する切断工程と、を有する表示装置用基板の製造方法。液晶組成物を封止しつつ、少なくとも一方の面に薄膜トランジスタが形成された薄膜トランジスタ基板を前記透明基板と貼り合わせる基板貼合せ工程を更に有し、前記切断工程は、前記透明基板の前記低遮光部上で、前記透明基板と前記薄膜トランジスタ基板の両方を同時に切断する、ことを特徴とする請求項7に記載の表示装置用基板の製造方法。前記低遮光部の膜厚は、前記遮光部の膜厚より薄い、ことを特徴とする請求項7又は8に記載の表示装置用基板の製造方法。前記低遮光部を形成する膜は、前記遮光部が形成される材料とは異なる材料により形成されている、ことを特徴とする請求項7~9のいずれか一項に記載の表示装置用基板の製造方法。前記低遮光部は、青色のカラーフィルタにより形成されている、ことを特徴とする請求項10に記載の表示装置用基板の製造方法。前記低遮光部は、予め定められた線に沿って断続的に形成され、前記切断工程では、前記予め定められた線に沿って切断される、ことを特徴とする請求項7~11のいずれか一項に記載の表示装置用基板の製造方法。液晶表示装置の液晶パネルを例にとると、液晶パネルは、液晶パネルが複数配置された多面配置液晶パネルを一体的に製造し、スクライブラインで切断することにより単体の液晶パネルとして製造されることが多い。しかしながら、上述のように、ブラックマトリクスが各液晶パネルのカラーフィルタ基板の端部にまで延びている場合には、隣り合う液晶パネルのブラックマトリクスは連続し、切断線であるスクライブラインが視認しづらくなる。これにより、製造工程において、スクライブラインの位置の確認に時間を要するなど歩留まりの低下等が懸念される。本発明は上述の事情に鑑みてされたものであり、液晶パネル等の表示装置用基板が複数配置された多面配置表示装置用基板において、隣合う表示装置用基板のブラックマトリクス等の遮光膜が連続して形成されている場合であっても、より簡易に切断すべき位置を切断することができる表示装置用基板、表示装置及び表示装置用基板の製造方法を提供することを目的とする。本発明の表示装置用基板は、画像が表示される面と並行に配置される透明基板と、光を遮断するために、前記透明基板上に部分的に形成される遮光膜と、を備え、前記遮光膜は、遮光部と、前記透明基板の少なくとも一辺の端部に沿った部分に形成され、遮光性能が前記遮光部より低い低遮光部と、を有する、ことを特徴とする表示装置用基板である。また、本発明の表示装置用基板において、前記低遮光部の膜厚は、前記遮光部の膜厚より薄くすることにより、低遮光部とすることができる。また、本発明の表示装置用基板において、前記低遮光部を形成する膜は、前記遮光部が形成される材料とは異なる材料により形成されていてもよく、青色のカラーフィルタにより形成されていてもよい。また、本発明の表示装置用基板において、前記低遮光部は、前記少なくとも一辺の前記端部に沿って断続的に形成されていてもよい。本発明の表示装置は、上述の表示装置用基板のうちのいずれかの表示装置用基板と、前記表示装置用基板に光を照射するバックライトと、を備える表示装置である。本発明の表示装置用基板の製造方法は、透明基板上に、光を遮断する遮光部と、前記遮光部より遮光性能が低い低遮光部とを有する遮光膜を形成する遮光膜形成工程と、前記低遮光部上を切断する切断工程と、を有する表示装置用基板の製造方法である。また、本発明の表示装置用基板の製造方法は、液晶組成物を封止しつつ、少なくとも一方の面に薄膜トランジスタが形成された薄膜トランジスタ基板を前記透明基板と貼り合わせる基板貼合せ工程を更に有し、前記切断工程は、前記透明基板の前記低遮光部上で、前記透明基板と前記薄膜トランジスタ基板の両方を同時に切断する、とすることができる。また、本発明の表示装置用基板の製造方法において、前記低遮光部の膜厚は、前記遮光部の膜厚より薄くすることにより、低遮光部とすることができる。また、本発明の表示装置用基板の製造方法において、前記低遮光部を形成する膜は、前記遮光部が形成される材料とは異なる材料により形成されていてもよく、青色のカラーフィルタにより形成されていてもよい。また、本発明の表示装置用基板の製造方法において、前記低遮光部は、予め定められた線に沿って断続的に形成され、前記切断工程では、前記予め定められた線に沿って切断される、とすることができる。以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、図面において、同一又は同等の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。[第1実施形態]図1は、後述する液晶表示装置100の製造方法の一部の工程である液晶パネル製造工程について示すフローチャートである。このフローチャートに示されるように、液晶パネル製造工程は、順に、液晶表示装置複数個分の表示面が配置される多面配置液晶パネル300を製造するためのガラス基板に、半導体回路や配向膜等を形成し、多面配置TFTThinFilmTransistor:薄膜トランジスタ基板350を製造する多面配置TFT基板製造工程S100と、同じく液晶表示装置複数個分の多面配置用のガラス基板に、R赤G緑B青のカラーレジスト膜等を形成し、多面配置カラーフィルタ基板200を製造する多面配置カラーフィルタ基板製造工程S200と、多面配置TFT基板350と多面配置カラーフィルタ基板200とを貼り合わせ、その間に液晶材328を注入し、多面配置液晶パネル300を組立てる基板貼合せ工程S300と、多面配置液晶パネル300を切断する切断工程S400と、から構成されている。図2は、図1の多面配置カラーフィルタ基板製造工程S200の詳細を示すフローチャートである。なお、図3には、この多面配置カラーフィルタ基板製造工程S200により製造された多面配置カラーフィルタ基板200の遮光膜であるブラックマトリクス210の配置の様子が概略的に示されている。図2のフローチャートに示されるように、カラーフィルタ基板製造工程S200は、まず、ステップS210において、各画素の周り及び画素領域の周りに光漏れを防止するための遮光膜であるブラックマトリクス210を形成し、次に、ステップS220において、画素領域内のブラックマトリクスである画素領域ブラックマトリクス部212により形成された画素の枠内にRGBのカラーレジストを塗布しカラーフィルタを形成する。最後にステップS230において、液晶を一方向に配向させるための配向膜を形成する。図3には、図2のカラーフィルタ基板製造工程S200により製造された多面配置カラーフィルタ基板200のブラックマトリクス210の配置の様子が示されている。多面配置カラーフィルタ基板200のブラックマトリクス210は、各画素が配置された表示領域において、画素の部分に開口部を有する画素領域ブラックマトリクス部212と、画素領域の周りの額縁領域ブラックマトリクス部214と、後述する低遮光ブラックマトリクス部215と、を有している。なお、この図に示されるように、本実施形態において、多面配置カラーフィルタ基板200は、6つの液晶パネル面を含んでいる。図4には、図3のIVで示された部分の拡大図が示されている。この図4に示されるように、低遮光ブラックマトリクス部215は、後の切断工程S400により切断されるスクライブライン切断線318上に断続的に、額縁領域ブラックマトリクス部214に取り囲まれて形成されており、膜厚は、額縁領域ブラックマトリクス部214よりも遮光性が低くなるように薄くなっている。図5には、図4のV-V線における断面が示されている。図5に示されるように多面配置カラーフィルタ基板200の額縁領域部分では、ガラス基板222にブラックマトリクス210が形成されているが、額縁領域ブラックマトリクス部214よりもブラックマトリクスが薄く形成された低遮光ブラックマトリクス部215を有している。薄くすることにより、周囲の額縁領域ブラックマトリクス部214よりも低い遮光性を実現している。このように一部を薄くする形成方法としては、例えば、ブラックマトリクスを2回に分けて既知のフォトリソグラフィ工程を行い、2回目のリソグラフィ工程において、低遮光ブラックマトリクス部215には、マスクをかけてブラックマトリクスを形成しない形成方法を用いることができる。図6は、図1の基板貼合せ工程S300後の多面配置液晶パネル300について示す図である。多面配置液晶パネル300は、後の切断工程S400において、スクライブライン切断線318で切断されることにより、単体の液晶表示装置100に使用される液晶パネル310を6つ得ることができる。なお、多面配置TFT基板350では、駆動回路等が配置される駆動回路領域320を残すように切断されるが、多面配置カラーフィルタ基板200では、4辺が額縁領域ブラックマトリクス部214の外縁が4辺となるように、駆動回路領域320を切り落として切断される。図7には、図6のVII-VII線における断面が示されている。この図に示されるように、多面配置液晶パネル300は、多面配置カラーフィルタ基板200に多面配置TFT基板350を画素領域の外側に配置されたシール材330を介して貼り合わせ、シール材330の画素領域側には液晶材328が注入されて形成されている。また、多面配置TFT基板350のガラス基板324上には、TFTアレイ326が形成されている。図5と同様に、スクライブライン318は、ブラックマトリクス210の低遮光ブラックマトリクス部215を通っている。切断工程S400では、不図示のスクライブホイールがスクライブライン318上を通過することにより、ガラス基板222又は324にV字溝を形成し、折曲げ切断を行うが、低遮光ブラックマトリクス部215があることにより、多面配置液晶パネル300のスクライブホイールが当てられる反対側の面からの光により、スクライブライン318の確認がしやすくなっており、スクライブホイールはこの低遮光ブラックマトリクス部215上を通過するように当てられ、多面配置液晶パネル300を切断する。したがって、切断工程における確認作業等を効率化することができ、歩留りの改善を図ることができる。なお、本実施形態では、低遮光ブラックマトリクス部215上のスクライブラインを切断する場合には、一度に、多面配置TFT基板350と多面配置カラーフィルタ基板200とを両方とを切断する。図8は、スクライブライン318で切断された液晶パネル310について概略的に示す図である。この図に示されるように、多面配置カラーフィルタ基板200及び多面配置TFT基板350は、それぞれ切断後のカラーフィルタ基板205及びTFT基板355となる。なお、この図8における低遮光ブラックマトリクス部215は、説明を分かりやすくするために、切断後のカラーフィルタ基板205の辺に沿って、低遮光ブラックマトリクス部215のハッチングを連続的に施しているが、実際には、図4に示されるように断続的に形成されている。また、TFT基板355上には、駆動回路等が配置される駆動回路領域320を有している。図9には、図8のIX-IX線における断面が示されている。この図に示されるように、液晶パネル310は、低遮光ブラックマトリクス部215上を切断されているため、端部には断続的に低遮光ブラックマトリクス部215が形成されている。図10には、図8及び9に示された液晶パネル310を備える液晶表示装置100が概略的に示されている。液晶表示装置100は、液晶パネル310と、液晶パネル310を挟むように固定する上フレーム101及び下フレーム102と、液晶パネル310を介して表示面側に光を照射する不図示のバックライトと、表示する情報を生成する回路素子を備える不図示の回路基板等と、により構成される。以上説明したように、本実施形態における液晶表示装置100及び液晶パネル310では、隣合う液晶パネル310のブラックマトリクス210が連続して形成されている場合であっても、より簡易に切断すべき位置を切断することができる。[第2実施形態]本発明の液晶パネル610に係る第2実施形態について説明する。なお、製造工程の説明には、第1実施形態と同様に、図1及び図2のフローチャートを用いる。図11は、図1の基板貼合せ工程S300後の多面配置液晶パネル500について、多面配置カラーフィルタ基板550に形成されたブラックマトリクス510の配置を含めて示す図である。ブラックマトリクス510は、第1実施形態と同様に、各画素が配置された表示領域において、画素の部分に開口部を有する画素領域ブラックマトリクス部212と、画素領域の周りの額縁領域ブラックマトリクス部214と、後述する低遮光レジスト部515と、を有している。多面配置液晶パネル500は、切断工程S400において、スクライブライン切断線518で切断されることにより、単体の液晶表示装置に使用される液晶パネル610図14参照を6つ得ることができる。なお、第1実施形態と同様に、駆動回路等が配置される駆動回路領域320について、多面配置TFT基板350では、駆動回路領域320を残すように切断されるが、多面配置カラーフィルタ基板550では、4辺が額縁領域ブラックマトリクス部214の外縁が4辺となるように、駆動回路領域320を切り落として切断される。図12は、図11のXIIで示された部分の拡大図である。この図12に示されるように、低遮光レジスト部515は、後の切断工程S400における切断のスクライブライン切断線518上に断続的に、額縁領域ブラックマトリクス部214に取り囲まれるように形成されている。低遮光レジスト部515は、カラーフィルタの青フィルタを形成する青色のレジストで成膜されている。ここで、青色のレジストとしたのは、光漏れがあったとしても青色であれば人に視認されにくいためである。図13には、図12のXIII-XIII線における断面が示されている。この図に示されるように、多面配置液晶パネル500は、第1実施形態と同様に、多面配置カラーフィルタ基板550に多面配置TFT基板350を画素領域の外側に配置されたシール材330を介して貼り合わせ、シール材330の画素領域側には液晶材328が注入されて形成されている。また、多面配置TFT基板350のガラス基板324上には、TFTアレイ326が形成されている。図14は、スクライブライン518で切断された液晶パネル610について概略的に示す図である。この図に示されるように、多面配置カラーフィルタ基板550及び多面配置TFT基板350は、それぞれ切断後のカラーフィルタ基板555及びTFT基板355となり、低遮光レジスト部515は、額縁部分の隣り合う液晶パネル610のブラックマトリクス510と連続している部分のみに形成されている。なお、この図14における、低遮光レジスト部515は、説明を分かりやすくするために、低遮光レジスト部515のハッチングを連続的に施しているが、実際には、図12のように断続的に形成されている。また、TFT基板355上には、駆動回路等が配置される駆動回路領域320を有している。図15には、図14のXV-XV線における断面が示されている。この図に示されるように、液晶パネル610は、低遮光レジスト部515上を切断されているため、端部は断続的に低遮光レジスト部515となる。なお、本実施形態に係る液晶パネル610の製造工程は、図1と図2のフローチャートの流れと同じであるが、図2のステップS210のブラックマトリクスを形成する工程においては、低遮光ブラックマトリクス部215はないためブラックマトリクスを薄く形成するための処理はなく、低遮光レジスト部515が形成される部分にブラックマトリクスは形成されない。また、ステップS220のカラーフィルタを形成する工程においては、画素領域の青画素に青レジストを形成する際に低遮光レジスト部515にも青レジストを形成する。また、本実施形態の液晶パネル610は、第1実施形態と同様に、図10に示されるように液晶表示装置に用いることができる。したがって、本実施形態の液晶パネル610は、隣合う液晶パネル610のブラックマトリクス510が連続して形成されている場合であっても、より簡易に切断すべき位置を切断することができる。なお、第1実施形態及び第2実施形態では、低遮光部として低遮光ブラックマトリクス部215又は低遮光レジスト部515を設けることとしたが、図16に示されるように、これらの両方についてスクライブライン718上に交互に形成されることとしてもよい。また、第1実施形態及び第2実施形態では、低遮光部である低遮光ブラックマトリクス部215又は低遮光レジスト部515は、スクライブライン上に断続的に形成されることとしたが、連続的に形成されることとしてもよい。また、第1実施形態及び第2実施形態では、液晶表示装置を例に説明したが、いわゆるパララックスバリア方式により3次元表示を行うためのスリットを形成する液晶パネル等の表示装置用基板や、タッチパネルに使用される表示装置用基板にも用いることができる。