相互作用領域30内の電子標的を作り出すように動作可能な電子衝突X線源10内の出射電子ビームI2を供給するように適合された電子光学における方法であって、前記システムは、入射電子ビームI1の方向を調節するための整列手段26と、前記出射電子ビームI2を偏向させるように動作可能なデフレクタ28と、前記相互作用領域30内で前記出射電子ビームの焦点を合わせるための合焦手段22とを備え、前記デフレクタおよび前記合焦手段は、前記電子光学システムの光学軸を規定し、前記方法は、複数の合焦手段設定および整列手段設定に対して、前記相互作用領域の一定距離D下流に配置され、かつ前記システムの前記光学軸に対して既知の位置を有するセンサエリア52の中および/または外に前記出射電子ビームを偏向させることにより、前記出射電子ビームの相対的位置を決定することと、このように決定された前記複数の相対的位置に基づき、前記相対的位置が合焦手段設定の変化に対して最小感度を有する適切な整列手段設定を決定することと、前記適切な整列手段設定に基づき整列手段設定を適用することと、前記電子標的が使用可能であり、かつ前記センサエリアを前記電子ビームの偏向範囲から部分的に覆い隠すことを保証することにより、およびさらに、前記電子標的と前記センサエリアの覆い隠されていない部分との間で前記電子ビームを偏向させることにより、前記出射電子ビームの向きを決定することと、少なくとも1つの合焦手段設定に対して、前記電子標的が使用可能であり、かつ前記センサエリアを前記電子ビームから部分的に覆い隠すことを保証することにより、およびさらに、前記電子標的の通常の方向において、前記電子標的と前記センサエリアの覆い隠されていない部分との間で前記電子ビームを偏向させることにより、前記相互作用領域内の前記出射電子ビームの幅を決定することと、の各ステップを備える方法。前記適切な整列手段設定は、前記光学軸に対する前記電子ビームの前記オフセットに対する条件に従って決定される、請求項1に記載の方法。前記複数の合焦手段設定および整列手段設定に対して前記相対的位置を決定する前記ステップは、1つの合焦手段設定に対して、前記センサエリア52の中および/または外に前記出射電子ビームを偏向させることにより、前記出射電子ビームの相対的位置を決定することと、少なくとも1つの他の合焦手段設定および前記同一整列手段設定に対して相対的ビーム位置を決定する前記ステップを繰り返すことと、の前記複数の整列手段設定の各々に対して実現される各サブステップを供える、請求項1~2のいずれか一項に記載の方法。前記相互作用領域内の所望の電子ビーム幅を受け取ることと、前記所望の電子ビーム幅を達成することを目的に、前記相互作用領域内の前記出射電子ビームの前記幅を決定する前記ステップ、およびこれに応答して、前記合焦手段設定を調節するステップを交互に繰り返すことと、の各ステップをさらに備える、請求項1~3のいずれか一項に記載の方法。前記幅を低減することを目的に、前記相互作用領域内の前記出射電子ビームの前記幅を決定する前記ステップ、およびこれに応答して、前記合焦手段設定を調節する前記ステップを交互に繰り返すことにより、前記相互作用領域内の前記出射電子ビームの前記幅を最小にするステップをさらに供える、請求項1~4のいずれか一項に記載の方法。前記相互作用領域内の前記出射電子ビームの前記幅を決定する前記ステップ、および前記合焦手段設定を調節する前記ステップを交互に繰り返す前記ステップは、前記合焦手段設定および/または前記偏向手段設定を非単調に調節することを含む、請求項4または5に記載の方法。交互に行う前記ステップは、前記合焦手段設定または前記偏向手段設定である量の、複数の値のシーケンスに従って前記電子光学システムを動作させることを含み、前記量の増分の符号と前記シーケンスでの前記量の前記値との間に低いまたはゼロの統計的相関関係が存在する、請求項6に記載の方法。前記出射電子ビームの前記相対的位置を決定する前記ステップは、境界を定められたセンサエリアを使用することを含む、請求項1~7のいずれか一項に記載の方法。前記センサエリア52は、一定電位に維持された導電性スクリーン54により境界を定められる、請求項8に記載の方法。前記スクリーンは前記センサエリアの近傍にある、請求項9に記載の方法。前記センサエリアは、前記センサから絶縁された壁12から外に突き出る本体上に提供される、請求項8に記載の方法。前記センサエリアは、電荷に敏感な表面64内の凹所66として提供される、請求項8に記載の方法。前記電子標的は液体ジェットJである、請求項1~12のいずれか一項に記載の方法。請求項1~13のいずれか一項に記載の方法を実行するための複数のコンピュータ実行可能命令を格納するデータ記憶媒体。入射電子ビームI1を受け取り、かつ出射電子ビームI2を供給するように適合された、相互作用領域30内で電子標的を作り出すように動作可能な電子衝突X線源10内の電子光学システムであって、前記入射電子ビームの方向を調節するための整列手段26と、前記出射電子ビームを偏向させるように動作可能なデフレクタ28と、前記相互作用領域内で前記出射電子ビームの焦点を合わせるための合焦手段22であって、前記デフレクタおよび前記合焦手段は、前記電子光学システムの光学軸を規定する合焦手段22と、前記相互作用領域の一定距離D下流に配置され、かつ前記システムの前記光学軸に対して既知の位置を有するセンサエリア52と、前記整列手段、前記合焦手段、および前記センサエリアに通信可能に結合され、かつ前記X線源内で前記電子標的を制御するように動作可能なコントローラ40と、を備え、前記電子標的は、使用可能であるとき、前記センサエリアを前記電子ビームの偏向範囲から部分的に覆い隠し、前記コントローラは、複数の合焦手段設定および整列手段設定に対して、前記相互作用領域の一定距離D下流に配置され、かつ前記システムの前記光学軸に対して既知の位置を有するセンサエリア52の中および/または外に前記出射電子ビームを偏向させることにより、前記出射電子ビームの相対的位置を決定することと、このように決定された前記複数の相対的位置に基づき、前記相対的位置が合焦手段設定の変化に対して最小感度を有する適切な整列手段設定を決定することと、前記適切な整列手段設定に基づき整列手段設定を適用することと、前記電子標的が使用可能であることを保証することにより、および前記電子標的と前記センサエリアの覆い隠されていない部分との間で前記電子ビームを偏向させることにより、前記出射電子ビームの向きを決定することと、少なくとも1つの合焦手段設定に対して、前記電子標的が使用可能であることを保証することにより、および前記電子標的の通常の方向において、前記電子標的と前記センサエリアの覆い隠されていない部分との間で前記電子ビームを偏向させることにより、前記相互作用領域内の前記出射電子ビームの幅を決定することと、の各ステップのシーケンスを実現するように動作可能な電子光学システム。前記コントローラは、複数のステップの前記シーケンスの実行中に、前記合焦手段設定および/または前記偏向手段設定を非単調に調節するように適合される、請求項15に記載の電子光学システム。前記コントローラは、前記合焦手段設定または前記偏向手段設定である量の、複数の値のシーケンスに従って前記電子光学システムを動作させるように適合され、前記量の増分の符号と前記シーケンスでの前記量の前記値との間に低いまたはゼロの統計的相関関係が存在する、請求項16に記載の方法。前記センサエリアは境界を定められる、請求項17に記載の電子光学システム。前記センサエリアの境界を定める導電性スクリーン54をさらに備える、請求項18に記載の電子光学システム。前記スクリーンは一定電位に維持される、請求項19に記載の電子光学システム。前記スクリーンは前記センサエリアの近傍にある、請求項19または20に記載の電子光学システム。前記センサエリアが提供される突出部を有する壁12をさらに備え、前記センサエリアは、前記壁から電気的に絶縁される、請求項18に記載の電子光学システム。電荷に敏感な表面64内に提供され、かつ前記センサエリアを形成する凹所66をさらに備える、請求項18に記載の電子光学システム。X線源であって、請求項15~23のいずれか一項に記載の電子光学システムと、前記相互作用領域を通過し、かつ電子標的の役割を果たす液体ジェットを作り出すためのノズル32であって、前記コントローラにより制御可能なノズル32と、を備えるX線源。複数の図面上の同様の複数の要素に対して類似する複数の参照番号が使用される。特に指定がない限り、複数の図面は概略的であり、縮尺通りではない。図1aは、一般に、電子銃14~28、電子標的の役割を果たす液体ジェットJを発生させるための手段32、および電子銃により提供される出射電子ビームI2の相対的位置を決定するためのセンサ配置52~58を備えるX線源10を示す。この設備は、図面に示されるように、ハウジング12の外側に配置されてもよい電源13およびコントローラ40を除くことが可能な、ガス漏れのないハウジング12の内側に配置される。ハウジング12が電磁場をかなりの程度まで遮断しない場合、電磁相互作用により機能するさまざまな電子光学構成要素が、同じくハウジング12の外側に配置されてもよい。したがって、ハウジング12が低い透磁率の材料、たとえばオーステナイト系ステンレス鋼から作られている場合、このような電子光学構成要素は、真空領域の外部に配置されてもよい。電子銃は、一般に、電源13により電力を供給され、かつ電子源16、たとえば熱電子の熱電界または冷電界荷電粒子源を含むカソード14を備える。典型的には、電子エネルギーが、約5keVから約500keVの範囲であってもよい。電子源16からの電子ビームが、加速開口17に向かって加速され、加速開口のポイントで、電子ビームは、複数の整列プレート26、複数のレンズ22、および複数の偏向プレート28の配置を備える電子光学システムに入る。複数の整列手段、複数の偏向手段、および複数のレンズのさまざまな特性が、コントローラ40により提供される複数の信号により制御可能である。この実施形態では、偏向手段および整列手段は、電子ビームを少なくとも2つの横方向に加速するように動作可能である。最初の較正後、整列手段26は、典型的にはX線源の作業サイクル全体を通して一定の設定で維持されるが、偏向手段28は、X線源10の使用中に電子スポット位置を動的にスキャンまたは調節するために使用される。複数のレンズ22の制御可能な複数の特性は、これらのレンズの個々の合焦能力焦点距離を含む。図面は、整列手段、合焦手段、および偏向手段を、これらが静電タイプであることを示唆する方法で象徴的に描いているが、本発明は、電磁設備、または静電電子光学構成要素と電磁電子光学構成要素の混在を使用することにより、同様にうまく具体化されてもよい。電子光学システムの下流では、出射電子ビームI2が、相互作用領域30で高圧ノズル32を使用可能にすることにより作り出されてもよい液体ジェットJと交差する。これはX線発生が行われる場所である。X線は、電子ビームと一致しない方向にハウジング12から外へ導かれてもよい。相互作用領域30を通り越して続く電子ビームI2の部分は、導電性スクリーン54により覆い隠されない場合、センサ52に到達する。この実施形態では、スクリーン54は、円形開口56を有する接地された導電性プレートである。これにより、センサ52への開口56の軸方向の投影にほぼ対応する、境界を定められたセンサエリアが明確に規定される。この実施形態では、センサ52は、単に、スクリーン54の下流で電子ビームI2により運ばれる全電流の近似尺度を提供する電流計58を介して接地に接続された導電性プレートである。図が示すように、センサ配置は、相互作用領域30から距離D離して配置されるので、X線源10の通常動作と干渉しない。スクリーン54およびセンサ52は、軸方向に間隔を置いて離れて配置されてよいが、同じく、互いの近傍にあってもよい。ハウジング12の下部、ハウジング12から空気分子を抜くための真空ポンプまたは類似の手段、液体ジェットを収集し再循環させるための複数のレセプタクルおよび複数のポンプ、ビームの非点収差を制御するための複数の四重極および他の手段がこの図面では示されていない。また、コントローラ40は、電流計58からの実際の信号にアクセスすることができることが理解される。図1bは他の実施形態を示し、大体は図1aに示される実施形態に類似するが、この実施形態では、センサ52およびスクリーン54は異なって実現されている。この実施形態では、別個のスクリーン54が存在しない。むしろ、センサ52がハウジングの内壁から外に突き出る構成でハウジング12を用いて、センサエリア52の境界の決定が達成される。センサ52とハウジング12の間に電気絶縁が存在し、この結果、センサとハウジングの間の電位差を許容することができる。したがって、図1aに示される実施形態の、接地されたスクリーン54は、図1bに示される実施形態では存在せず、センサ52の範囲の決定は、代わりに、接地されたハウジング12により達成される。図1aに示される実施形態と同様に、センサの電位を決定するために電流計58が使用される。センサ52がハウジング12の内壁から外に突き出るとして示されているが、センサはまた、ハウジングの壁と同一平面に搭載することができることを理解されたい。図1cは、本発明の他の一実施形態によれば、図1aに説明される一般的なタイプのX線源の詳細を示す。センサ52は、これまでの複数の実施形態と比較して異なる幾何形状を有し、これにより、センサ52は、衝突する電子ビームの位置の関数として、異なる複数の信号を作り出す。これはまた、スクリーン54の必要性をまったくなくする。より正確には、本実施形態は、好ましくは熱および真空に耐性がある導電性材料からなる、たとえば大部分の金属、詳細にはCuもしくはWまたはこれらのいずれかを含む合金からなる本体62を備えるスクリーンを含む。本体62は、電子衝突が期待される主要な方向を向くすなわち、X線源10内のカソード14に向かう主要なセンサ面64を有する。主要なセンサ面には、電子衝突の方向に伸びる孔66が提供される。孔66は、本体62内の非貫通穴または凹所を形成する。孔66内で衝突する電子は、主要なセンサ面上で衝突する電子より実質的に低い後方散乱率を体験するすなわち、孔66内で衝突する電子はより高い確率でセンサにより吸収される。したがって、孔内で衝突する電子は同様の程度まで後方散乱の効果により減衰されることはなく、このことは、所与の量の照射電荷に対する信号レベルに関して比較的より高い応答として現れ、これにより増幅効果が達成される。したがって、孔66の口が、本発明の意味で境界を定められたセンサエリアを形成する。孔66の深さ/直径比に応じて、それぞれの意図された使用事例に適していると考えられるように、入射角に幾分応じて増幅が行われてもよい。移動可能ではないカソード14を備えるX線源10の場合、カソード14以外の複数の方向から衝突する電子はノイズであると期待することができ、かつ好ましくは、できるだけ可能な限り除去されるので、孔66はこの直径より深いことが好ましい。孔66の幾何形状は、広い範囲の間で変わってもよく、たとえば、孔66の底面の形状はほとんど重要でない。図2aは、複数の整列手段設定を評価し、かつ適切な設定を見つけ出すためにX線源10を動作させるアルゴリズムを流れ図の形で示す。ポイントA201から開始し、ステップ202で、整列手段を第1の設定a1に設定する。ステップ203で、第1の合焦手段設定f1に対して、スクリーン54に対する電子ビームの位置を決定し、結果を位置メモリ251に格納する。少なくとも第2の合焦手段f2に対して、相対的位置を決定するステップ203を繰り返す。ステップ204で確立される、使用すべき合焦手段が存在しない場合、ステップ205で、アルゴリズムは続けて、一般式S=Δp/Δfを使用して、この整列手段設定に対する感度を計算し、結果を感度メモリ252に格納する。ステップ206で、他の複数の整列手段設定に対して、このポイントまでの複数のステップを繰り返すべきかどうかチェックする。繰り返すべきではない場合、アルゴリズムはステップ207に進み、ステップ207で、アルゴリズムは、感度データを整列手段設定の関数として処理する。この実施形態では、値の関心のある範囲に対して、感度メモリ252に格納された複数のデータポイントを、電子光学システムの挙動をモデル化すると期待される関数にあてはめる。たとえば、最小値を確立しやすい2次多項式253にデータをあてはめてもよい。ステップ208で、最小値が決定され、アルゴリズムの出力を形成する。最小値は、ステップ203で実験的に試行された複数の整列設定のいずれかと一致しても、いずれとも一致しなくてもよいことが留意される。図4および図5は、制限されたセンサエリアにわたる電子ビームI2の偏向を使用して、相対的電子ビーム位置を決定するための2つの可能な測定方式を示す。図4aは、センサエリア上を電子ビームスポットが従う偏向曲線点線の矢印と一緒にピクセルパターン401を示す。センサエリアは、スクリーン54内の開口56の投影と一致する、センサ52の部分として規定される。ピクセルパターン401は純粋に仮想的であるが、偏向曲線は、スクリーン54の平面内の現実的な向きで示されている。図4bは、図4aに示されるスキャンによる複数の測定結果403の表示と共にピクセルパターン401を示す。ピクセルパターンの向きは、見やすいように約45°の時計回りの回転により調節されており、このとき、2つの変数、すなわちXおよびYのデフレクタ設定の2値関数として可視化される各信号内の非ゼロセンサ信号の存在のプロットに対応する。この例では、電子ビームの相対的位置は、複数の非ゼロピクセルの質量中心CM402により測定される。質量中心の位置は、ピクセルの複数の断片として表現されてもよい。他の展開として、質量中心の計算は、センサ信号が2値量ではなく連続量とみなされる場合、より正確になる場合がある。この他の展開では、開口56と部分的にしか重ならないピクセルが質量中心の位置に寄与する程度はより少ない。図4と類似して、図5は、1次元だけで出射電子ビームを検出することができる電子光学システムにおけるピクセルパターン501を示す。スクリーン54内の開口56は円形であり、電子光学システムの光学軸上に中心点を決定される。異なる複数の合焦設定が使用されるときに、結果として起こる場合がある画像の相対的回転を補正する必要がないので、円形は開口形状として有利である。図5aに示されるように、図5aは、仮想的ピクセルパターン501を除いてスクリーン54またはセンサ52の平面内の幾何形状の真の図である。明らかに、それぞれの合焦設定F1およびF2が、電子ビームを異なる量だけ回転させる。それにもかかわらず、開口中心からピクセルパターンの各々までの距離d1、d2の各々を、開口の半径R、および開口と重なるパターンの長さLに基づき、すなわちにより推定することができる。重なる長さは、非ゼロセンサ信号が得られたピクセルの数をカウントすることにより推定することができる。したがって、合焦設定F1に対して、L1=11ピクセル幅であり、合焦設定F2に対して、L2=9ピクセル幅である。距離d1およびd2は相対的ビーム位置の完全な情報を提供するわけではないが、2つの整列手段設定のうちどちらが合焦設定の変化を最も受けないかを、したがって、どちらが最良のビーム平行性を提供するかを決定するための相対的尺度として使用されてもよい。図2bは、合焦手段設定を、相互作用領域のレベルでのビーム幅と関連づけるアルゴリズムを示す。本アルゴリズムは、文字Bが示唆するように、図2aを参照して上記で説明されたアルゴリズムの継続であってもよい、または独立して行われてもよい。第1のステップ210で、整列プレート26の配置を適切な設定に調節し、この結果、電子ビームI1が電子光学システムの光学軸に実質的に平行に移動し、出射ビームI2の位置が、偏向手段28の設定に依存するが、複数の合焦レンズ22の設定に実質的に依存しない。次いで、ステップ211で、液体ジェットを使用可能にし、ステップ212で、偏向手段28の偏向能力の向きを決定する。通常の状況では、電子ビームが合焦フィールドを通過する間、複数のレンズ22がレンズの中心の周りに電子ビームを回転させ、この結果、出射電子ビームI2の向きが、合焦フィールドの強度および軸の広がりに関連する角度だけ入射ビームI1の角度と異なる。測定の際に、液体ジェットビームが、満たされていないピクセルすなわち、減少したまたは非ゼロのセンサ信号Eを有するピクセルの細長い領域として出現する場合がある。細長い領域が伸びる方向は、値を処理することにより、たとえば、値を直線にあてはめることにより、容易に決定することができ、それにより、液体ジェットの方向が、偏向手段の座標系に関連づけられてもよい。これは詳細には、ジェットに垂直な、後のステップ214での好ましいスキャン方向が既知であることを意味する。この後、ステップ213で、合焦手段22を第1の値F1に設定する。ステップ214で、ジェットの中および/または外で、電子ビームI1をスキャンする偏向させる。図3aは、液体ジェットJと垂直な偏向平面内で描かれている。図は、偏向手段28の設定にそれぞれ対応する、3つの異なる偏向位置I1、I1’、およびI1にあるビームを示す。ビームの角度がスケール通りに描かれているのではなく、ビームの上方のビームI1、内部のビームI1’、および下方のビームI1のビーム位置が小さな角度範囲を表すので、ビームはさらに下流に配置されたセンサ52図3aでは図示せずにより捕獲することができることが強調される。ステップ214で測定される量は、相互作用領域での電子ビームの幅W1である。デフレクタ設定単位で表現され、幅W1は、複数のデフレクタ設定dたとえば、図3aに示される偏向電圧U28に対してプロットされたとき、センサ信号値Eの曲線の各端に関連づけられる。寸法が既知の相互作用領域内に配置された複数の対象物をスキャンすることにより、デフレクタ設定角度の間、または相互作用領域のレベルでの実際の長さの間の関係を確立することができる。ステップ215で、ビーム幅を決定し、デフレクタ設定単位で、または角度もしくは長さの単位で、ビーム幅メモリ255に格納する。ステップ216で、他の合焦設定F2、F3、...に対してビーム幅スキャンを繰り返すべきかどうかを決定する。調べられるべき合焦設定の収集が、あらかじめ規定されたデータセットであってもよい、またはたとえば液体ジェットまでの距離より短い複数の焦点距離と、この距離より長い複数の焦点距離の両方を調べる条件を満たすことにより、動的に決定されてもよい。このような条件は、ビームの中央部のくびれの位置を決定するのに十分なデータが収集されたことを保証する。所望のビーム幅が入力された場合、アルゴリズムは、最終ステップ217で、所望のビーム幅を作り出す少なくとも1つの合焦手段設定を決定する。ポイントC218が、アルゴリズムの終了である。あるいは、上記のステップ213、214、および215は、複数のポイントU28、U22の各々に対してセンサ信号値Eを記録することにより一緒に実現され、ここで、U28は偏向手段設定であり、U22は合焦手段設定である。このようなデータセットが、図3bにプロットされている。液体ジェットJがセンサエリアと重なる場合、図3bの網掛けされた中央領域などの、センサ信号Eが減少した、またはゼロに近いエリアとして現れる。線Bのレベルで、領域は比較的はっきり識別できる中央部のくびれを有し、このくびれは、液体ジェット自体でビームの焦点が合わせられたときに、液体ジェットJを通過する電子ビームI1に対応する。図3bは、量子化されたセンサ信号値を示し、これらの値は、理解しやすいようにゼロまたは単一の非ゼロ値に丸められた。図3bの詳細が図3cに、より現実的に示され、図3cは、2つの代表的な合焦手段設定に対する、偏向手段設定U28に対する最初の量子化されていないセンサ信号値Eのプロットである。第1の曲線Aが、図3bにおいて線A-A上に位置するデータに対応し、第2の曲線Bが線B-B上に位置するデータに対応する。図3cから、最適に焦点が合わせられたときの電子ビームの比較的狭い幅が、曲線の覆い隠されていない部分と覆い隠された部分の間のより急激な遷移につながることが明らかである。換言すれば、偏向手段設定の範囲のより広い部分が、液体ジェットJに対する電子ビームI1の完全に覆い隠されていない部分または完全に覆い隠された部分に対応する。センサ信号値Eの記録は、線A-AまたはB-Bに類似する任意の線に沿って、または任意の特定の順序で進められる必要がないことが強調される。実際、非連続的な形で値を記録することが好ましく、この結果、偏向手段または合焦手段における任意のヒステリシスの影響が回避される。電子光学設備では、強磁性材料を含む複数の要素が、残留磁化または残留磁気によるこのようなヒステリシスを生み出す場合がある。たとえば、測定期間中に合焦手段設定または偏向手段設定を非単調に調節することが有利な場合がある。より詳細には、増分によって、関心のある合焦手段設定に到達する測定ポイントの割合が、減分によってこの設定に到達する測定ポイントの割合とほぼ等しい測定方式が考案されてもよい。少なくとも、偏向手段が無視できないヒステリシスを有することが知られている場合、類似の条件が複数の偏向手段設定に対する測定方式に統合されてもよい。有利には、関心のある量の複数の増分によって到達した複数の測定ポイントが、複数の減分によって到達した複数の測定ポイントと実質的に同一エリア内に配置され、複数の減分によって到達した複数の測定ポイントと類似の方法で分散させられる。別の言い方をすれば、関心のある量偏向手段設定または合焦手段設定の増分の符号と量の値との間に、低いまたはゼロの統計的相関関係が存在する。あるいは、関心のある量偏向手段設定または合焦手段設定の増分の符号と、複数の偏向手段設定および複数の合焦手段設定の組み合わせられた複数の値との間に、低いまたはゼロの統計的相関関係が存在する。図2bを参照して説明された方法の他の展開では、実際の液体ジェット幅も同じく決定される。これは、類似の形で、すなわち、デフレクタ設定dに対するセンサ信号値Eの曲線254において低下した信号の部分の幅を推定することにより達成されてもよい。以下の項目が、他の有利な複数の実施形態を規定する。1.電子衝突X線源10に出射電子ビームI2を供給するように適合された電子光学システム内の入射電子ビームI1の方向を調節するための整列手段26の設定を評価する方法であって、システムは、出射電子ビームを偏向させるように動作可能なデフレクタ28と、X線源の相互作用領域30内で出射電子ビームの焦点を合わせるための合焦手段22と、をさらに備え、方法は、1つの合焦手段設定に対して、相互作用領域の一定距離D下流に配置されセンサエリア52の中および/または外に出射電子ビームを偏向させることにより、出射電子ビームの相対的位置を決定することと、少なくとも1つの他の合焦手段設定および同一整列手段設定に対して相対的ビーム位置を決定するステップを繰り返すことと、合焦手段設定の変化に対する相対的ビーム位置の感度を決定することにより、整列手段設定を評価することと、の各ステップを備える方法。2.相対的ビーム位置を決定するステップは、導電性スクリーン54により境界を定められたセンサエリア52を使用することと、一定電位に導電性スクリーンを維持することとを含む、項目1の方法。3.相対的ビーム位置を決定するステップは、近傍のスクリーンにより境界を定められたセンサエリアを使用することを含む、項目1または2の方法。4.相対的ビーム位置を決定するステップは、センサエリアを完全に取り囲むスクリーンにより境界を定められたセンサエリアを使用することを含む、項目1から3のいずれか一項の方法。5.相対的ビーム位置を決定するステップは、円形開口56を規定するスクリーンにより境界を定められたセンサエリアを使用することを含む、項目4の方法。6.デフレクタおよび合焦手段は電子光学システムの光学軸を規定し、相対的ビーム位置を決定するステップは、光学軸上に中心点を決定された開口56を有するスクリーンにより境界を定められたセンサエリアを使用することを含む、項目1~5のいずれか一項の方法。7.電子衝突X線源を供給するための電子光学システムを較正する方法であって、複数の整列手段設定を規定することと、項目1~6のいずれか一項の方法により、複数の整列手段設定の各々を評価することと、前記複数の整列手段設定の複数の感度に基づき、最小感度をもたらす適切な整列手段設定を決定することと、の各ステップを備える方法。8.相互作用領域内の電子標的を作り出すように動作可能な電子衝突X線源を供給するための電子光学システムを較正する方法であって、項目7の方法を実現させ、前記適切な整列手段設定を適用することと、電子標的がセンサエリアを電子ビームから部分的に覆い隠すように、電子標的を使用可能にすることにより、少なくとも1つの合焦手段設定に対して、相互作用領域内の出射電子ビームの幅を決定し、電子標的とセンサエリアの覆い隠されていない部分との間で電子ビームを偏向させることと、を備え、好ましくは、電子標的は液体ジェットである方法。9.電子標的がセンサエリアを電子ビームから部分的に覆い隠すように、電子標的を使用可能にすることにより、出射電子ビームの向きを決定し、電子標的とセンサエリアの覆い隠されていない部分との間で電子ビームを偏向させることのステップをさらに備え、電子ビームの幅を決定するステップは、電子標的の通常の方向にある電子ビームを偏向させることを含む、項目8の方法。10.項目1~9のいずれか一項の方法を実行するための複数のコンピュータ実行可能命令を格納するデータ記憶媒体。11.入射電子ビームI1を受け取り、かつ出射電子ビームI2を供給するように適合された、電子衝突X線源10内の電子光学システムであって、入射電子ビームの方向を調節するための整列手段26と、出射電子ビームを偏向させるように動作可能なデフレクタ28と、X線源の相互作用領域30内で出射電子ビームの焦点を合わせるための合焦手段22と、相互作用領域の一定距離D下流に配置されたセンサエリア52と、整列手段、合焦手段、およびセンサエリアに通信可能に結合されたコントローラ40とを備え、前記コントローラは、1つの合焦手段設定に対して、デフレクタにセンサエリアの中および/または外に出射電子ビームを偏向させることにより、出射電子ビームの相対的位置を決定し、少なくとも1つの他の合焦手段設定および同一整列手段設定に対して相対的ビーム位置を前記決定することを繰り返し、合焦手段設定の変化に対する相対的ビーム位置の感度を決定することにより整列手段設定を評価するように動作可能な電子光学システム。12.センサエリアの境界を定める導電性スクリーン54をさらに備える、項目11の電子光学システム。13.スクリーンは一定電位に維持される、項目12の電子光学システム。14.スクリーンはセンサエリアの近傍にある、項目12または13の電子光学システム。15.スクリーンはセンサエリアを完全に取り囲む、項目12または14のいずれか一項の電子光学システム。16.スクリーンは円形開口56を規定する、項目15の電子光学システム。17.デフレクタおよび合焦手段は、電子光学システムの光学軸を規定し、スクリーンは光学軸上に中心点を決定された開口56を有する、項目12~16のいずれか一項の電子光学システム。18.X線源であって、項目11~16のいずれか一項の電子光学システムと、相互作用領域を通過する液体ジェットを作り出すためのノズル32と、を備え、コントローラは、ジェットがセンサエリアを電子ビームから部分的に覆い隠すように前記ジェットをノズルに作り出させるように、および液体ジェットとセンサエリアの覆い隠されていない部分との間でデフレクタに電子ビームを偏向させるようにさらに動作可能なX線源。本発明が複数の図面および前述の記載で詳細に図示され、説明されたが、このような図および記載は、説明のためまたは例示のためと考えられるべきであり、制限的であると考えられるべきではなく、本発明は開示された複数の実施形態に限定されるものではない。複数の図面、開示、および添付の特許請求の範囲の研究から、特許請求される本発明を実施する際に当業者により、開示される複数の実施形態に対する複数の変形形態を理解し達成することができる。特許請求の範囲の中の任意の複数の参照符号が本範囲を限定すると解釈されるべきではない。