基板Bを載置し少なくともx方向に往復移動しうるステージ6と、前記基板Bのx方向位置を検出するためのx方向位置検出手段11と、前記基板Bに照射するためのレーザビームLを出射しうるレーザ光源1と、照射オフ指令信号を受け取った時に前記レーザビームLが前記基板Bに照射されない照射オフ状態にし照射オン指令信号を受け取った時に前記レーザビームLが前記基板Bに照射される照射オン状態にするためのシャッター手段2と、前記シャッター手段2が照射オン指令信号を受け取ってから前記照射オン状態になるまでのオン遷移時間をt1とするとき、前記照射オフ状態で前記ステージ6により前記基板Bをx方向に移動し、前記x方向位置検出手段11で検出した前記基板Bのx方向位置に基づいて、照射エリアの照射開始端にレーザビームLが到達すると推定される時刻よりもt1時間だけ前に照射オン指令信号を出力する制御手段12とを具備したことを特徴とするレーザアニール装置100。請求項1に記載のレーザアニール装置100において、前記制御手段12は、前記シャッター手段2が照射オフ指令信号を受け取ってから前記照射オフ状態になるまでのオフ遷移時間をt2とするとき、前記照射オン状態で前記ステージ6により前記基板Bをx方向に移動し、前記x方向位置検出手段11で検出した前記基板Bのx方向位置に基づいて、照射エリアの照射終了端にレーザビームLが到達すると推定される時刻よりもt2時間だけ前に照射オフ指令信号を出力することを特徴とするレーザアニール装置100。上記従来のレーザアニール装置では、シャッター機構が開指令信号を受け取ってから開動作が完了するまでの開遷移時間が考慮されていなかった。この開遷移時間を考慮しなくても、往路走査のみでレーザ照射を行う例えば右方向へ走査してレーザ照射を行うと共に左方向へは戻るだけでレーザ照射は行わないことを繰り返す場合には、図6に示すように、隣接する照射ラインにおける照射エリアの両端が合致し、問題はなかった。なお、図6において、開指令信号は、例えば基板左エッジを検出した時に出力される。しかし、往復走査でレーザ照射を行う右方向へ走査してレーザ照射を行うと共に左方向へ走査してレーザ照射を行うことを繰り返す場合には、図7に示すように、隣接する照射ラインにおける照射エリアの両端が合致しなくなる問題点がある。なお、図7において、開指令信号は、例えば基板左エッジ又は基板右エッジを検出した時に出力される。そこで、本発明の目的は、シャッター手段によりレーザ照射のオン/オフを行うレーザアニール装置であって往復走査によりレーザ照射を行う場合でも往路の照射エリアと復路の照射エリアとを合致させることが出来るレーザアニール装置を提供することにある。第1の観点では、本発明は、基板Bを載置し少なくともx方向に往復移動しうるステージ6と、前記基板Bのx方向位置を検出するためのx方向位置検出手段11と、前記基板Bに照射するためのレーザビームLを出射しうるレーザ光源1と、照射オフ指令信号を受け取った時に前記レーザビームLが前記基板Bに照射されない照射オフ状態にし照射オン指令信号を受け取った時に前記レーザビームLが前記基板Bに照射される照射オン状態にするためのシャッター手段2と、前記シャッター手段2が照射オン指令信号を受け取ってから前記照射オン状態になるまでのオン遷移時間をt1とするとき、前記照射オフ状態で前記ステージ6により前記基板Bをx方向に移動し、前記x方向位置検出手段11で検出した前記基板Bのx方向位置に基づいて、照射エリアの照射開始端にレーザビームLが到達すると推定される時刻よりもt1時間だけ前に照射オン指令信号を出力する制御手段12とを具備したことを特徴とするレーザアニール装置100を提供する。上記第1の観点によるレーザアニール装置100では、予定した照射エリアの照射開始端にレーザビームLが到達する時刻にちょうど照射オン状態になるため、往復走査でレーザ照射を行う場合に、往路での照射エリアの照射終了端と復路での照射エリアの照射開始端を一致させ且つ復路での照射終了端と往路での照射開始端を一致させておけば、往路の照射エリアと復路の照射エリアとを合致させることが出来る。本発明のレーザアニール装置によれば、シャッター手段によりレーザ照射のオン/オフを行うレーザアニール装置であって、往復走査によりレーザ照射を行う場合でも、往路の照射エリアと復路の照射エリアとを合致させることが出来る。以下、図に示す実施の形態により本発明をさらに詳細に説明する。なお、これにより本発明が限定されるものではない。-実施例1-図1は、実施例1に係るレーザアニール装置100の照射オン状態を示す構成説明図である。また、図2は、レーザアニール装置100の照射オフ状態を示す構成説明図である。このレーザアニール装置100は、レーザビームLを出射するレーザ発振器1と、レーザビームLを遮蔽するように遮蔽板13を回す付勢力を与えるスプリング15と遮蔽板13の孔14からレーザビームLを通すようにスプリング15の付勢力に抗して遮蔽板13を回す照射オン用モータ3とからなるシャッター機構2と、レーザビームLを所定の照射形状Wに整形したりフォーカシングを行うための光学系4と、ミラー5と、基板Bを載置しx方向およびy方向に移動するためのステージ6と、x方向移動モータ7と、y方向移動モータ8と、x方向移動ドライバ9と、y方向移動ドライバ10と、基板Bのx方向位置を検出するためのx方向位置検出器11と、レーザ発振器1や照射オン用モータ3やx方向移動モータ7やy方向移動モータ8やx方向位置検出器11の制御などを行うシステムコントローラ12とを具備している。図3に示すように、シャッター閉状態で、ステージ6により基板Bをx方向右向きに移動しているときに、照射オン指令信号を照射オン用モータ3が受け取ってからシャッター機構2がシャッター開状態になるまでのオン遷移時間をt1とする。また、シャッター開状態で、ステージ6により基板Bをx方向右向きに移動しているときに、照射オン指令信号を照射オン用モータ3が受け取らなくなってからシャッター機構2がシャッター閉状態になるまでのオフ遷移時間をt2とする。システムコントローラ12は、x方向位置検出器11で検出した基板Bのx方向位置に基づいて、照射エリアの照射開始端P2にレーザビームLが到達すると推定される時刻よりもt1時間だけ前に照射オン指令信号を出力すると共に、照射エリアの照射終了端P5にレーザビームLが到達すると推定される時刻よりもt2時間だけ前に照射オン指令信号を出力しなくなる。これにより、位置P2から位置P5までの照射エリアにレーザ照射がなされる。なお、P1は、基板Bの移動速度をVとするとき、位置P2から距離V×t1だけ左側の位置である。また、P4は、位置P5から距離V×t2だけ左側の位置である。右向きの走査において、位置P1を検出した時に照射オン指令信号を出力し、位置P4を検出した時に照射オン指令信号を出力しなくなる制御も可能である。図4に示すように、シャッター閉状態で、ステージ6により基板Bをx方向左向きに移動しているときに、照射オン指令信号を照射オン用モータ3が受け取ってからシャッター機構2がシャッター開状態になるまでのオン遷移時間をt1とする。また、シャッター開状態で、ステージ6により基板Bをx方向左向きに移動しているときに、照射オン指令信号を照射オン用モータ3が受け取らなくなってからシャッター機構2がシャッター閉状態になるまでのオフ遷移時間をt2とする。システムコントローラ12は、x方向位置検出器11で検出した基板Bのx方向位置に基づいて、照射エリアの照射開始端P5にレーザビームLが到達すると推定される時刻よりもt1時間だけ前に照射オン指令信号を出力すると共に、照射エリアの照射終了端P2にレーザビームLが到達すると推定される時刻よりもt2時間だけ前に照射オン指令信号を出力しなくなる。これにより、位置P5から位置P2までの照射エリアにレーザ照射がなされる。なお、P6は、基板Bの移動速度をVとするとき、位置P5から距離V×t1だけ右側の位置である。また、P3は、位置P2から距離V×t2だけ右側の位置である。左向きの走査において、位置P6を検出した時に照射オン指令信号を出力し、位置P3を検出した時に照射オン指令信号を出力しなくなる制御も可能である。図5に示すように、実施例1のレーザアニール装置100によれば、往復走査でレーザ照射する場合でも、隣接する照射ラインにおける照射エリアの両端が合致する。なお、ステージ6のy方向への移動は、通常は、x方向右向き又はx方向左向きの走査が1回終わる毎に所定のピッチPで移動する。シャッター機構2として、特開2010-245319号公報に開示されたシャッター機構を用いてもよい。