化学機械的研磨のための装置であって、研磨面を支持するプラテンと、渦電流信号を生成する渦電流モニタリングシステムであって、前記プラテン内に少なくとも部分的に位置決めされた細長いコアを備え、前記細長いコアが長さと幅を有し、前記長さが前記幅よりも長い、渦電流モニタリングシステムと、を備える、装置。前記細長いコアが、背後部と、前記背後部から前記研磨面の方へ垂直に伸びる1つ以上の突出部とを備える、請求項1に記載の装置。前記1つ以上の突出部のうちの少なくとも1つと結合したコイルを更に含む、請求項2に記載の装置。前記コイルが編込みワイヤを備える、請求項3に記載の装置。前記1つ以上の突出部が、第1の突出部と第2の突出部とを含み、前記コイルが前記第1の突出部に結合されており、前記第2の突出部が数字の8の字状形態である、請求項3に記載の装置。前記背後部に結合された別のコイルを更に含む、請求項3に記載の装置。前記長さが、前記幅の少なくとも2倍である、請求項1に記載の装置。前記長さが、約5ミリメートル~約10センチメートルである、請求項1に記載の装置。前記幅が、約1センチメートル以下である、請求項1に記載の装置。前記渦電流モニタリングシステムが更に、前記細長いコアの外側面に近接して位置決めされたシールドを含む、請求項1に記載の装置。前記シールドがギャップを含む、請求項10に記載の装置。渦電流感知システムであって、長さと幅を有する細長いコアであって、前記長さが前記幅よりも長い、細長いコアと、前記細長いコアをプラテンの凹部内に位置決めするように形成され、かつ構成された取付け形状構成を有するハウジングと、前記細長いコアの一部に巻回されたコイルと、前記コイルに電流を生成する駆動システムと、導電性領域に生成された渦電流に基づいて、前記導電性領域の特性を得る感知システムと、を備える、システム。前記細長いコアが、背後部と、前記背後部から前記研磨面の方へ垂直に伸びる1つ以上の突出部とを備える、請求項12に記載のシステム。前記1つ以上の突出部のうちの少なくとも1つに結合されたコイルを更に備える、請求項13に記載のシステム。前記細長いコアがフェライト材を含む、請求項12に記載のシステム。前記フェライト材が、MnZnフェライト材及びNiZnフェライト材からなる群から選択される、請求項15に記載のシステム。前記細長いコアが材料物質で被覆されている、請求項12に記載のシステム。前記材料物質がパリレンparyleneを備える、請求項17に記載のシステム。前記ハウジングを受け容れる相補的な取付け形状構成を含むプラテンと、前記ハウジングの前記取付け形状構成が前記特許の相補的な形状構成に係合したときに、前記細長いコアの前記1つ以上の突出部のうちの1つの上面が、研磨パッドの研磨面から約2ミリメートルのところに以下位置決め置されるように、前記プラテンに取付けられた前記研磨面を有する研磨パッドと、を更に備える、請求項17に記載のシステム。前記上面が、前記研磨面から約1ミリメートル~約2ミリメートルのところに物質がパリレンされている、請求項19に記載のシステム。前記細長いコアが概してU字状の断面を有する、請求項19に記載のシステム。前記細長いコアが概してE字状の断面を有する、請求項19に記載のシステム。インシトゥープロファイル制御の方法であって、複数の処理パラメータを用いて、ウェハ上の導電性層を処理するステップと、渦電流を、導電性層の第1の領域内に誘導するステップであって、前記第1の領域が、幅よりも大きい長さを有する、ステップと、前記第1の領域内の前記導電性層の計測した厚さデータを取得するステップであって、前記厚さデータが前記第1の領域に誘導された渦電流に基づいているステップと、を備える、方法。前記導電性層の第2の領域内に渦電流を誘導するステップであって、前記第2の領域が長さと幅を有するステップと、前記第2の領域内の前記導電性層の、計測された厚さデータを取得するステップであって、前記厚さデータが前記第2の領域内に誘導された渦電流に基づいているステップと、を更に含む、請求項23に記載の方法。前記第1の領域及び前記第2の領域内の前記導電性層の計測した厚さデータを所望の厚さプロファイルと比較して、プロファイル誤差を判断するステップを更に備える、請求項24に記載の方法。前記プロファイル誤差に基づいて、前記処理パラメータのうちの少なくとも1つを変えるステップを更に備える、請求項25に記載の方法。前記長さが、前記幅の少なくとも2倍である、請求項23に記載の方法。前記幅が約1ミリメートル以下である、請求項23に記載の方法。前記幅が、約1ミリメートル~約3ミリメートルである、請求項23に記載の方法。前記渦電流が、細長いコアに結合されたコイルによって生成された時間依存性の磁界に応答して生成される、請求項23に記載の方法。前記第1の領域内の前記導電性層の計測した厚さデータを取得するステップが、センスコイルのセンス信号の振幅に基づいて振幅データを取得する工程を備える、請求項23に記載の方法。前記第1の領域内の導電性層の計測した厚さデータを取得するステップが、センスコイルのセンス信号の位相に基づいて位相データを取得する工程を備える、請求項23に記載の方法。前記第1の領域内の導電性層の計測した厚さデータを取得するステップが、コイル及びコンデンサの両端で一定電圧を維持するための駆動電流に基づいて、駆動電流データを取得する工程を備え、前記コイル及びコンデンサが、時間依存性の磁界を生成して、前記第1の領域内に渦電流を誘導する回路に含まれている、請求項23に記載の方法。時間依存性の駆動電流を生成する直流DC結合マージナル発振器と、時間依存性の磁界を生成して、ウェハ上の導電性領域の一部に結合するコイルを備え、前記マージナル発振器が、差動増幅回路を構成する第1のトランジスタ及び第2のトランジスタと、前記第1のトランジスタと結合して、前記第1のトランジスタのベースを介したDC帰還を実行できる第3のトランジスタと、を備える半導体処理装置。前記マージナル発振器が、回路の共振周波数で時間依存性の駆動電流を生成するように動作可能であり、前記回路が、コア及びコンデンサに結合されたコイルを備える、請求項34に記載の装置。前記コアが細長いコアである、請求項35に記載の装置。前記コアが、概して円筒形状で対称的である、請求項35に記載の装置。前記第3のトランジスタが、前記第1のトランジスタのベースへのDC帰還を実行して、前記コイル及びコンデンサの両端の電位差が概して一定の振幅に維持されるように、前記マージナル発振器に時間依存性の駆動電流を生成させる、請求項34に記載の装置。前記コイル及び前記コンデンサの両端の電位差の振幅を感知する帰還回路を更に含む、請求項38に記載の装置。コア及びコンデンサに結合されたコイルを備える回路の共振周波数で時間依存性の電流を生成するステップであって、前記時間依存性の電流が、差動増幅回路を構成する第1のトランジスタと第2のトランジスタとを有するマージナル発振器によって生成される、ステップと、ウェハ上の導電性層の第1の領域内に渦電流を誘導するステップであって、前記渦電流が、前記コイルによって発生する時間依存性の磁界によって誘導される、ステップと、前記コイル及び前記コンデンサの両端の電位差の振幅を決定するステップと、前記第1のトランジスタのベースに結合された第3のトランジスタからのDC帰還に基づいて、前記時間依存性の駆動電流を調整して、前記電位差の所望の振幅を維持するステップと、前記駆動電流に基づいて、前記第1の領域の1つ以上のパラメータを決定するステップと、を備える方法。前記導電性領域の1つ以上のパラメータが前記導電性領域の厚さを含む、請求項40に記載の方法。前記導電性領域の1つ以上のパラメータが、前記導電性領域を研磨するプロセスの終点を含む、請求項40に記載の方法。前記時間依存性の磁界が、前記導電性層の第2の領域内に渦電流を誘導するように、前記コアを前記ウェハに対して移動させるステップを更に備える、請求項40に記載の方法。前記コイル及び前記コンデンサの両端の前記電位差の、後の振幅を決定するステップと、前記第1のトランジスタのベースに結合された第3のトランジスタからのDC帰還に基づいて、前記第1のトランジスタ及び前記第2のトランジスタの時間依存性の電流を調整して、前記電位差の所望の振幅を維持するステップと、前記駆動電流に基づいて、前記第2の領域の1つ以上のパラメータを決定するステップと、を更に備える、請求項43に記載の方法。前記第1の領域の1つ以上のパラメータが、前記第1の領域の厚さを含み、前記第2の領域の1つ以上のパラメータが、前記第2の領域の厚さを含み、また、前記第1の領域の前記厚さ及び前記第2の領域の前記厚さを、所望の厚さプロファイルと比較して、プロファイル誤差を判断するステップを更に備える、請求項44に記載の方法。前記プロファイル誤差に基づいて、1つ以上の処理パラメータを調整するステップを更に備える、請求項45に記載の方法。半導体処理のための装置であって、ウェハキャリヤと、前記ウェハキャリヤに近接して位置決めされた細長いコアであって、前記細長いコアが長さ及び幅を有し、前記長さが前記幅よりも長い、細長いコアと、前記細長いコアの一部に巻回されたコイルと、前記コイルに電流を生成する駆動システムであって、前記電流が時間依存性の磁界を発生する、駆動システムと、ウェハの導電性部分に生成された渦電流に基づいて、前記ウェハキャリヤ内に配置されたウェハの特性を得る感知システムであって、前記渦電流が前記時間依存性の磁界に応答して生成される、感知システムと、を備える、装置。前記細長いコアが、背後部と、前記背後部から前記ウェハキャリヤの方へ垂直に伸びる1つ以上の突出部とを備える、請求項47に記載の装置。前記1つ以上の突出部が、第1の突出部と第2の突出部とを含み、前記コイルが、前記第1の突出部及び前記第2の突出部と数字の8の字状の形態で結合されている、請求項48に記載の装置。前記細長いコアを前記ウェハキャリヤに対して移動させる移動機構を更に含む、請求項47に記載の装置。前記ウェハキャリヤが、プラテンに取付けられた研磨パッドを備える、請求項47に記載の装置。前記駆動システムがマージナル発振器を備える、請求項47に記載の装置。前記感知システムが、前記マージナル発振器の駆動電流を決定する帰還回路を備える、請求項52に記載の装置。