リソグラフィ装置であって、パターン付き放射ビームを形成可能なパターニングデバイスと、基板を保持する基板テーブルと、前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、前記リソグラフィ装置の可動部分からの音波を検出するセンサアレイと、センサアレイ出力信号を受信するように前記センサアレイに接続されたコントローラ入力と、前記可動部分に作用するアクチュエータに接続されたコントローラ出力とを含むコントローラと、を備え、前記コントローラは、前記センサアレイ出力信号から前記可動部分の移動を計算し、前記計算された移動に応じて前記アクチュエータを、前記コントローラ出力を介して駆動する、リソグラフィ装置。前記可動部分は、チャックを備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。前記チャックは、前記基板テーブルおよび放射ビームの断面にパターンを与えて前記パターン付き放射ビームを形成可能な前記パターニングデバイスを保持するサポートのうちの少なくとも1つを備える、請求項2に記載のリソグラフィ装置。前記センサアレイは、前記リソグラフィ装置のメトロロジフレーム上に配置され、該メトロロジフレームは、前記投影システムの少なくとも一部を保持するように構成され、該センサアレイは、前記投影システムの周りに配置される、請求項1乃至3のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。前記センサアレイは、前記基板テーブルの下方に少なくとも部分的に配置される、請求項1乃至4のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。前記センサアレイは、前記基板テーブルを駆動するロングストロークアクチュエータ上に配置される、請求項5に記載のリソグラフィ装置。前記可動部分の前記移動を計算することは、前記センサ出力信号の周波数領域への変換を決定することと、前記周波数領域でのフィルタリングを行うことと、を含む、請求項1乃至6のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。前記可動部分の前記移動を計算することは、前記センサ出力信号から波周波数表現を決定することと、前記波周波数表現をフィルタリングすることと、前記フィルタリングされた波周波数表現から前記可動部分の音圧像を決定することと、前記音圧像から前記可動部分の前記移動を決定することと、を含む、請求項1乃至7のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。前記波周波数表現をフィルタリングすることは、前記リソグラフィ装置の少なくとも1つの部分の既知の動的挙動を空間周波数領域において考慮することによって環境外乱を補償すること、および/または前記センサアレイの既知の動的挙動を空間周波数領域において考慮することによって、前記センサアレイの振動と前記可動部分によって誘起された振動とを区別すること、を含む、請求項8に記載のリソグラフィ装置。前記可動部分の前記移動を計算することは、前記センサ出力信号を速度情報に変換することと、該速度情報を変位情報に変換することと、を含む、請求項1乃至9のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。第2センサアレイをさらに備え、前記センサアレイおよび該第2センサアレイは前記音波の進行方向に相互距離をおいて位置決めされる、請求項1乃至10のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。前記計算することは、前記センサアレイ出力信号のうちの1つを他のセンサアレイ出力信号に対して遅延させることと、前記センサ出力信号および前記遅延したセンサ出力信号を加えることと、を含む、請求項11に記載のリソグラフィ装置。前記センサアレイは、微小電子機械システムマイクロホンアレイを備える、請求項1乃至12のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。前記可動部分の表面にわたって振り分けられた複数のアクチュエータが設けられる、請求項1乃至13のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。前記センサアレイは、前記可動部分と接触して配置される、請求項1乃至14のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。前記既知の動的挙動は、有限要素解析および/またはモード解析によって決定される、請求項9に記載のリソグラフィ装置。デバイス製造方法であって、パターニングデバイスを用いてパターン付き放射ビームを形成することと、前記パターン付き放射ビームを、基板サポートによって保持された基板上に投影することと、センサアレイを用いて、前記基板サポートおよび前記パターニングデバイスを保持するパターニングデバイスサポートのうちの1つから音波を検出することと、前記1つのサポートに作用するアクチュエータを制御することと、を含み、前記制御することは、前記センサアレイから前記1つのサポートの移動を計算することと、前記計算された移動に応じて前記アクチュエータを駆動することと、を含む、デバイス製造方法。前記1つのサポートの前記移動を計算することは、センサ出力信号の周波数領域への変換を決定することと、前記周波数領域でのフィルタリングを行うことと、を含む、請求項17に記載の方法。前記1つのサポートの前記移動を計算することは、センサ出力信号から波周波数表現を決定することと、前記波周波数表現をフィルタリングすることと、前記フィルタリングされた波周波数表現から前記1つのサポートの音圧像を決定することと、前記音圧像から前記1つのサポートの前記移動を決定することと、を含む、請求項17に記載の方法。前記波周波数表現をフィルタリングすることは、リソグラフィ装置の少なくとも1つの部分の既知の動的挙動を空間周波数領域において考慮することによって環境外乱を補償することと、前記センサアレイの既知の動的挙動を空間周波数領域において考慮することによって、前記センサアレイの振動と前記1つのサポートによって誘起された振動とを区別することと、を含む、請求項19に記載の方法。0012図1は、本発明の一実施形態に係るリソグラフィ装置を概略的に示している。このリソグラフィ装置は、放射ビームB例えば、紫外線または他の適切な放射を調整するように構成された照明システムイルミネータILと、パターニングデバイス例えば、マスクMAを支持するように構築され、かつ特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1位置決めデバイスPMに連結されたパターニングデバイスサポートまたはサポート構造例えば、マスクテーブルMTと、を含む。また、このリソグラフィ装置は、基板例えば、レジストコートウェーハWを保持するように構築され、かつ特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2位置決めデバイスPWに連結された基板テーブル例えば、ウェーハテーブルWTまたは基板サポートを含む。さらに、リソグラフィ装置は、パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付けられたパターンを基板Wのターゲット部分C例えば、1つ以上のダイを含む上に投影するように構成されて投影システム例えば、屈折投影レンズシステムPSを含む。0013照明システムとしては、放射を誘導し、整形し、または制御するために、屈折型、反射型、磁気型、電磁型、静電型、またはその他のタイプの光コンポーネント、あるいはそれらのあらゆる組合せなどのさまざまなタイプの光コンポーネントを含むことができる。0014パターニングデバイスサポートは、パターニングデバイスの向き、リソグラフィ装置の設計、および、パターニングデバイスが真空環境内で保持されているか否かなどの他の条件に応じた態様で、パターニングデバイスを保持する。パターニングデバイスサポートは、機械式、真空式、静電式またはその他のクランプ技術を使って、パターニングデバイスを保持することができる。パターニングデバイスサポートは、例えば、必要に応じて固定または可動式にすることができるフレームまたはテーブルであってもよい。パターニングデバイスサポートは、パターニングデバイスを、例えば、投影システムに対して所望の位置に確実に置くことができる。本明細書において使用されるレチクルまたはマスクという用語はすべて、より一般的なパターニングデバイスという用語と同義であると考えるとよい。0015本明細書において使用されるパターニングデバイスという用語は、基板のターゲット部分内にパターンを作り出すように、放射ビームの断面にパターンを与えるために使用できるあらゆるデバイスを指していると、広く解釈されるべきである。なお、留意すべき点として、放射ビームに付与されたパターンは、例えば、そのパターンが位相シフトフィーチャまたはいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分内の所望のパターンに正確に一致しない場合もある。通常、放射ビームに付けたパターンは、集積回路などのターゲット部分内に作り出されるデバイス内の特定機能層に対応することになる。0016パターニングデバイスは、透過型であっても、反射型であってもよい。パターニングデバイスの例としては、マスク、プログラマブルミラーアレイ、およびプログラマブルLCDパネルが含まれる。マスクは、リソグラフィでは公知であり、バイナリ、レベンソン型位相シフト、およびハーフトーン型位相シフトなどのマスク型、ならびに種々のハイブリッドマスク型を含む。プログラマブルミラーアレイの一例では、小型ミラーのマトリックス配列が用いられており、各小型ミラーは、入射する放射ビームを様々な方向に反射させるように、個別に傾斜させることができる。傾斜されたミラーは、ミラーマトリックスによって反射される放射ビームにパターンを付ける。0017本明細書において使用される投影システムという用語は、使われている露光放射にとって、あるいは液浸液の使用または真空の使用といった他の要因にとって適切な、屈折型、反射型、反射屈折型、磁気型、電磁型、および静電型光学系、またはそれらのあらゆる組合せを含むあらゆる型の投影システムを包含していると広く解釈されるべきである。本明細書において使用される投影レンズという用語はすべて、より一般的な投影システムという用語と同義であると考えるとよい。0018本明細書に示されているとおり、リソグラフィ装置は、透過型のもの例えば、透過型マスクを採用しているものである。また、リソグラフィ装置は、反射型のもの例えば、上述のプログラマブルミラーアレイを採用しているもの、または反射型マスクを採用しているものであってもよい。0019リソグラフィ装置は、2つデュアルステージ以上の基板テーブルまたは基板サポートおよび/または2つ以上のマスクテーブルまたはマスクサポートを有する型のものであってもよい。そのようなマルチステージ機械においては、追加のテーブルまたはサポートは並行して使うことができ、または予備工程を1つ以上のテーブルまたはサポート上で実行しつつ、別の1つ以上のテーブルまたはサポートを露光用に使うこともできる。0020また、リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を満たすように、比較的高屈折率を有する液体例えば水によって基板の少なくとも一部を覆うことができるタイプのものであってもよい。また、リソグラフィ装置内の別の空間例えば、パターニングデバイス例えば、マスクと投影システムとの間に液浸液を加えてもよい。浸漬技術を用いて投影システムの開口数を増加させることができる。本明細書において使用される液浸という用語は、基板のような構造物を液体内に沈めなければならないという意味ではなく、単に、露光中、投影システムと基板との間に液体があるということを意味するものである。0021図1を参照すると、イルミネータILは、放射源SOから放射ビームを受ける。例えば、放射源がエキシマレーザである場合、放射源とリソグラフィ装置は、別個の構成要素であってもよい。そのような場合には、放射源は、リソグラフィ装置の一部を形成しているとはみなされず、また放射ビームは、放射源SOからイルミネータILへ、例えば、適切な誘導ミラーおよび/またはビームエキスパンダを含むビームデリバリシステムBDを使って送られる。その他の場合においては、例えば、放射源が水銀ランプである場合、放射源は、リソグラフィ装置の一体部分とすることもできる。放射源SOおよびイルミネータILは、必要ならばビームデリバリシステムBDとともに、放射システムと呼んでもよい。0022イルミネータILは、放射ビームの角強度分布を調節するように構成されたアジャスタADを含むことができる。一般に、イルミネータの瞳面内の強度分布の少なくとも外側および/または内側半径範囲通常、それぞれσouterおよびσinnerと呼ばれるを調節することができる。さらに、イルミネータILは、インテグレータINおよびコンデンサCOといったさまざまな他のコンポーネントを含むことができる。イルミネータを使って放射ビームを調整すれば、放射ビームの断面に所望の均一性および強度分布をもたせることができる。0023放射ビームBは、パターニングデバイスサポート例えば、マスクテーブルMT上に保持されているパターニングデバイス例えば、マスクMA上に入射して、パターニングデバイスによってパターン形成される。パターニングデバイス例えば、マスクMAを通り抜けた後、放射ビームBは投影システムPSを通過し、投影システムPSは、基板Wのターゲット部分C上にビームの焦点をあわせる。第2位置決めデバイスPWおよび位置センサIF例えば、干渉計デバイス、リニアエンコーダ、または静電容量センサを使って、例えば、さまざまなターゲット部分Cを放射ビームBの経路内に位置付けるように、基板テーブルWTを正確に動かすことができる。同様に、第1位置決めデバイスPMおよび別の位置センサ図1には明示的に示されていないを使い、例えば、マスクライブラリから機械的に取り出した後またはスキャン中に、パターニングデバイス例えば、マスクMAを放射ビームBの経路に対して正確に位置付けることもできる。通常、パターニングデバイス例えば、マスクテーブルMTの移動は、第1位置決めデバイスPMの一部を形成するロングストロークモジュール粗動位置決めおよびショートストロークモジュール微動位置決めを使って達成することができる。同様に、基板テーブルWTまたは基板サポートの移動も、第2ポジショナPWの一部を形成するロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを使って達成することができる。ステッパの場合はスキャナとは対照的に、パターニングデバイス例えば、マスクテーブルMTは、ショートストロークアクチュエータのみに連結されてもよく、または固定されてもよい。パターニングデバイス例えば、マスクMAおよび基板Wは、パターニングデバイスアライメントマークM1およびM2と、基板アライメントマークP1およびP2とを使って、位置合わせされてもよい。例示では基板アライメントマークが専用ターゲット部分を占めているが、基板アライメントマークをターゲット部分とターゲット部分との間の空間内に置くこともできるこれらは、スクライブラインアライメントマークとして公知である。同様に、複数のダイがパターニングデバイス例えば、マスクMA上に設けられている場合、パターニングデバイスアライメントマークは、ダイとダイの間に置かれてもよい。0024例示の装置は、以下に説明するモードのうち少なくとも1つのモードで使用できる。1.ステップモードにおいては、パターニングデバイス例えば、マスクテーブルMTまたはマスクサポートおよび基板テーブルWTまたは基板サポートを基本的に静止状態に保ちつつ、放射ビームに付けられたパターン全体を一度にターゲット部分C上に投影するすなわち、単一静的露光。その後、基板テーブルWTまたは基板サポートは、Xおよび/またはY方向に移動され、それによって別のターゲット部分Cを露光することができる。ステップモードにおいては、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光時に結像されるターゲット部分Cのサイズが限定される。2.スキャンモードにおいては、パターニングデバイスサポート例えば、マスクテーブルMTまたはマスクサポートおよび基板テーブルWTまたは基板サポートを同期的にスキャンする一方で、放射ビームに付けられたパターンをターゲット部分C上に投影するすなわち、単一動的露光。パターニングデバイスサポート例えば、マスクテーブルMTまたはマスクサポートに対する基板テーブルWTまたは基板サポートの速度および方向は、投影システムPSの縮小拡大率および像反転特性によって決めることができる。スキャンモードにおいては、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光時のターゲット部分の幅非スキャン方向が限定される一方、スキャン動作の長さによって、ターゲット部分の高さスキャン方向が決まる。3.別のモードにおいては、プログラマブルパターニングデバイスを保持した状態で、パターニングデバイスサポート例えば、マスクテーブルMTまたはマスクサポートを基本的に静止状態に保ち、また基板テーブルWTまたは基板サポートを動かす、またはスキャンする一方で、放射ビームに付けられているパターンをターゲット部分C上に投影する。このモードにおいては、通常、パルス放射源が採用されており、さらにプログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTまたは基板サポートの移動後ごとに、またはスキャン中の連続する放射パルスと放射パルスとの間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、前述の型のプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。0025上述の使用モードの組合せおよび/またはバリエーション、あるいは完全に異なる使用モードもまた採用可能である。0026上述の通り、これまで以上に厳しい要件を満たすために、一方では、帯域幅を制限する場合があるステージでの共振モードの発生を防ぐようにチャックまたはリソグラフィ装置の他の可動部分の堅牢な構造が望ましく、それによって位置決めの高精度を達成することが可能になり、他方では、ステージの高速加速を可能にするためにチャックの軽量構造が望ましく、それによって高スキャン速度、高スループットなどを達成することが可能になるが、同等の信号対雑音比でのより強力な作動などにより、位置決め精度を犠牲にしないことが好ましい。0027そのような少なくとも部分的に相反する要件に対処するために、過剰決定された数の干渉計および/またはエンコーダを設けてステージの位置を測定することと、測定結果から変形および/または共振モード情報を導出することと、そのような変形を少なくとも部分的に打ち消すために1つ以上のアクチュエータを設けることとが述べられてきた。しかし、この解決策は、潜在的にいくつかの欠点を被りやすいように見受けられた。第一に、過剰決定された数のセンサを用いて十分に高い測定精度を達成することを可能にするために、比較的多数の高価なエンコーダおよび/またはセンサが必要とされた。第二に、そのようなエンコーダおよび/または干渉計は、通常、該当ステージの外側部分縁、境界などの位置測定を実行することしか許されず、そのため、生じ得る共振モードなどに関して限定された情報をもたらす。さらに、チャックは、例えば、リソグラフィ装置のスキャン移動中に移動され得る。基板またはパターニングデバイスは、チャック上に設けられ得る。スキャン移動中、ウェーハまたはパターニングデバイスの一部は、照明ビームによって照射される。ただし、スキャン特性によって、照射されたウェーハまたはパターニングデバイスの一部が変化することがあり、それが正確な位置決めを目的とする変化部分の原因となる場合があり、それがエンコーダおよび/または干渉計による測定と、正確に位置決めされるべき照射部分との位置依存関係をもたらす場合がある。0028発明者らは、図2に関して以下に説明される、本発明の一実施形態に係るリソグラフィ装置によって上記項目のうちの1つ以上が少なくとも部分的に取り除かれることを考案した。0029図2は、基板W、本例ではウェーハを保持する基板テーブルWTの概略側面図である。メトロロジフレームMFが、投影システムPSその一部、特に、下流部分が図2に示されているを保持する。メトロロジフレームは、図2でGPによって概略的に表された2次元エンコーダグリッドプレートGPなどの基準プレートを備える。グリッドプレートGPに関する、従って、メトロロジフレームMFに関する基板テーブルWTの位置は、エンコーダENCによって測定される。当然のことながら、他の適用可能なタイプの位置測定デバイス、例えば、図1に示すような干渉計IFを代わりに用いてよい。基板テーブルWTは、本例でのショートストロークステージSSTとロングストロークステージLSTの組合せなどの位置決めデバイスPWによって移動する。チャック、本例では基板テーブルからの音波を検出するように音響センサエレメント例えば、マイクロホンを含むセンサアレイが設けられる。センサアレイは、基板テーブルの片側または両側に設けられ得る。本実施形態において、第1センサアレイSA1がメトロロジフレーム上に設けられ、またはメトロロジフレームに関連付けられ、それによって基板テーブルの上基板側からの音波を検出することができる。第2センサアレイSA2が、基板テーブルの下方、本例ではロングストロークステージLST上に設けられ、それによって基板テーブルの底部側からの音波を検出することができる。図3に関してさらに説明されるように、制御システムまたはコントローラが設けられ、この制御システムまたはコントローラは、センサアレイのセンサアレイ出力信号からステージの移動を計算するように配置される。それによって、使用は、音響ホログラフィと呼ばれる技術から構成され得る。ステージの移動は、剛体並進または剛体回転を含み得る。移動は、曲げ、屈曲、ねじれ、膨張、または収縮によって引き起こされたステージの変形を含み得る。移動は、これらのタイプの移動の組合せであり得る。チャック、本例では基板テーブルの共振および/または他の振動は、チャック基板テーブルによって放出された音波をもたらし得る。音波は、センサアレイによって受信される。音波のパターンおよび周波数は、チャックの周波数、空間周波数、共振、または他の振動パターンとの相関関係を示す。従って、共振を含む振動挙動は、受信した音波から、コントローラによって決定され得る。そしてコントローラの出力信号を与えて1つ以上のアクチュエータを駆動し得る。それに加えて、本例では、基板テーブルに作用するように複数のアクチュエータを設ける。図2では、アクチュエータは、矢印ACTを用いて非常に概略的に示されている。一例において、10または20個のアクチュエータを設け、基板テーブルの表面に分布させる。各アクチュエータは、例えば、ローレンツアクチュエータ、ピエゾアクチュエータ、または他の適切なタイプのアクチュエータを含み得る。本発明の一実施形態において、アクチュエータは、コントローラによって計算されるような移動に応じて駆動される。従って、エンコーダ例えば、基板テーブルの6自由度位置測定を達成するように、各々が2次元位置測定を提供する3つのエンコーダを用いる基板テーブルの移動の測定は、実質的な変化を要さないであろう。その一方、比較的低コストでありながら高分解能および高周波数範囲の、チャックの共振および振動の測定が、センサアレイによる追加の測定によって提供される。0030図3は、コントローラCSの一実施形態の概略ブロック図である。第1センサアレイSA1からのセンサ信号はコントローラCSの入力に供給される。同様に、第2センサアレイSA2からのセンサ信号がコントローラCSの第2入力に供給される。以下により詳細に説明するように、センサアレイSA1、SA2からの信号が処理され、図3でACTにより概略的に示し、図2に関していくらかより詳細に上述したアクチュエータは、それに応じて駆動される。アクチュエータは、基板テーブルWTに作用し、それによって、センサアレイSA1、SA2によって測定されるような振動、共振などの影響をコントローラCSが少なくとも部分的に補償することができる。本実施形態において、2つのセンサアレイが設けられ、音波の進行方向に相互距離をおいて位置決めされる。従って、基板テーブルからの音波は、最初にセンサアレイSA1によって受信され、音波の進行時間によって決定された遅延後に、当該音波はセンサアレイSA2によって受信される。それによって、センサアレイは、同一の音波を実質的に受信する。センサアレイのうちの第1センサアレイの出力信号は、遅延ユニットDLYによって遅延する。そして、第2センサアレイの出力信号およびセンサアレイの遅延した出力信号が合成され、例えば、加算器ADDによって互いに加算される相関関係を用いることなど、他の合成手段も想定できる。それによって、検出される音波を、他のノイズ、ステージ動作などの外乱からよりよく区別することができる。他の実施形態において、第1または第2センサアレイ、遅延、および加算器は、省略されてよい。そして、得られた信号は、高速フーリエ変換などの周波数領域への変換を受けることができる。再び、音波を外乱から区別することができる。というのは、基板テーブルの固有周波数および共振モードに起因する音波は、特定の周波数帯にあることが推測される一方、ステージスキャン移動などの他の音響効果は、他の、例えば低周波数帯域に見られ得るからである。従って、フィルタFILTによってフィルタリングを実施することができる。非共振の堅牢なチャックであり得る基準REFを用いて比較を行うことができる。比較の結果を用いてアクチュエータを駆動することができる。音響データの速度情報への変換および速度情報の位置情報への変換などさらなるデータ処理を行なうことができる図3に示されていない。0031フィルタリングの一実施形態を以下に説明する。国際特許出願WO2009/130243号について言及する。この出願において、FFT、フィルタリング、および逆FFTを含む処理技術が説明されている。フーリエ変換は、測定された音圧に対して行われ、空間アパーチャにおける周波数関数としての音圧になる。打ち切りされた開口は、漏れおよび空間打ち切り誤差を低減させるように例えば、線境界パディングによって拡張され得る。そして、空間周波数領域すなわち波数領域における波周波数または波数としての音圧を投影するように、外挿された空間音圧に対して2次元フーリエ変換を実施する。そして、波数領域の音圧は、マイクロホンアレイ平面から基板テーブル平面または、概して、放射源平面に外挿される。そして、逆マッピング中のノイズに起因するエラーを低減させるように波数領域の正則化を実施する。次に、逆2次元フーリエ変換を実施し、空間打切りを実施する。0032発明者らは、基板ステージおよび、ことによるとマイクロホンアレイの動的挙動が既知であるという事実を利用することによって、上記処理に対するさらなる改良が達成され得ると考案した。動的挙動は、有限要素解析またはモード解析を用いて決定され得る。これによって、ステージから発生する測定された音響振動を、マイクロホンアレイなどの他の源または他の部分から発生する測定された音響振動から区別することが可能になる。上記に関して、本実施形態に係る処理は、上述したものと同一または同等のステップで開始する。すなわち、フーリエ変換は、測定された音圧に対して行われ、空間アパーチャにおける周波数関数としての音圧になる。打ち切りされた開口は、漏れおよび空間打ち切り誤差を低減させるように例えば、線境界パディングによって拡張され得る。そして、空間周波数領域、すなわち波数領域の波周波数または波数としての音圧を投影するように、外挿された空間音圧に対して2次元フーリエ変換を実施する。そして、波数領域すなわち、空間周波数領域の音圧は、マイクロホンアレイ平面から基板テーブル平面または、概して、放射源平面に外挿される。空間周波数変換器を用いて、空間周波数領域表現から、対象としているモードのうちの1つに含まれるエネルギーなどの情報を抽出し得る。さらに、基板ステージ、マイクロホンなどの既知の動的挙動は、-リソグラフィ装置の少なくとも1つの部分の既知の動的挙動を空間周波数領域において考慮することによって、環境外乱を補償すること、および/または-測定面すなわち、本例ではマイクロホンアレイの振動と対象としているオブジェクト、すなわち、本例では基板ステージ、によって誘起された振動とを区別すること、が可能になる。0033一実施形態において、測定面すなわち、マイクロホンアレイは、例えば、対象としているオブジェクト例えば、図2のショートストロークステージSSTまたは図3の基板テーブルWTの上部および/または底部に、対象としているオブジェクトに接触して、配置され得る。これにより、距離および音速の組合せに起因する遅延が除外され得るということになり得る。例として、図2において、さらなるセンサアレイがショートストロークステージSSTの上部および/または底部に設けられ得る。0034空間周波数領域での計算は比較的容易に行うことができ、それによって比較的速くそのような計算を行うことが可能になる。例えば、リソグラフィ装置の一部の既知の動的挙動は、空間周波数領域において、そのような一部の振動の波数が期待される領域に移動する。また、2つのマイクロホンアレイの層構造を利用する際、空間周波数領域表現は、2つのマイクロホンアレイからの情報を比較的容易に合成することを可能にする。例えば、空間周波数領域における上述の動作のうちの1つ以上の結果として得られる空間周波数領域における表現を適用して対象としているオブジェクト、すなわち、本例では基板ステージの音圧像を再構築することができる。空間周波数領域での上記処理によって、基板ステージなどのオブジェクトの振動または移動に関する情報を、比較的容易な計算ステップで得ることができ、それによって計算をリアルタイムの用途において用いることができるように、比較的速く計算を行うことが可能になる。0035上述したチャックの振動/曲げ/移動の決定は、-センサ出力信号から波周波数表現を決定することと、-波周波数表現をフィルタリングすることと、-フィルタリングされた波周波数表現からチャックの音圧像および/または粒子速度像を決定することと、-音圧像および/または粒子速度像からチャックの移動を決定することと、によって要約され得る。0036波周波数表現のフィルタリングは、-リソグラフィ装置の少なくとも1つの部分の既知の動的挙動を空間周波数領域において考慮することによって環境外乱を補償すること、および/または-センサアレイの既知の動的挙動を空間周波数領域において考慮することによって、センサアレイの振動とチャックによって誘起された振動とを区別すること、を含み得る。0037音響ホログラフィは、音波放射の音響測定を用いて、音波方程式の逆解を介して放射源すなわち、放射点の位置を決定する方法として理解することができる。サウンドカメラまたはマイクロホンアレイからの測定データの高速フーリエ変換を経て、周波数内容ならびに速度および強度情報の空間像ホログラムを決定することができる。0038これまで、音響ホログラフィは、とりわけ、発生している振動を再構築する非接触モード解析技術、すなわち、発生曲げモードのモード寄与として用いられている。0039ここで、フィードバック制御ループ内で近距離場音響ホログラフィを用いて、リソグラフィシステムの構造コンポーネントの発生曲げモードの潜在的な共振モード寄与を積極的に制御することが提案されている。達成され得る関連した性能特性は、以下を含みうる。0040分解能:近距離場音響ホログラフィは、音圧または粒子速度測定に基づき、最新技術の装置は、約1μ/sの分解能で速度を測定することが可能であり得る。これは、測定の振動振幅の分解能が、によって周波数に依存し得ることを意味し、10Hzでの16nmから1kHzでの0.16nmまでであり得る。これらの振動振幅数は、リソグラフィの用途における要件、特に、面外メトロロジに適合し得る。近距離場音響ホログラフィによって、粒子速度は、測定された音圧ホログラムを入力として用いて計算され得る。粒子速度が例えば、マイクロフロウンセンサによって測定される場合、音圧は、近距離場音響ホログラフィによっても計算され得る。0041遅延:マイクロホンアレイと測定されるステージとの通常の距離は、数100μm程度であり得る。これは、測定遅延が1μs未満であることを意味する。この遅延は、制御ループ性能を制限することとは別であり得るI/Oの現在のターゲットおよび計算遅延は、50μs程度である。。さらに、最新技術のアルゴリズムは、計算コストが低く、時間とともに安価になり得る。これによって非常にコスト効率の良いリアルタイムプロセス、従ってリアルタイム振動制御がおそらく可能になる。0042センサインターフェイスおよび外乱の感度:マイクロホンアレイは、光エンコーダ、干渉計、および静電容量センサなどの従来の距離測定システムとは対照的に、防振マウントインターフェイスを必要としなくてよい。従って、従来のセンサと比較した利点は、近距離場音響ホログラフィNearfieldAcousticHolographyNAHセンサをロングストロークステージに単に設けて正確にショートストローク振動を測定できることであり得る図2を参照。また、機械的、電気的、磁気的、電磁的、静電的、または光学的特性に関して、ターゲット面に対して厳しい要件を適用しなくてよい。最後に、スマートアルゴリズムを用いることによって、NAHは、他の機械コンポーネントからの音響放射の影響を受けないことになり得る。0043以下の効果の1つ以上が達成され得る。近距離場音響ホログラフィは、多数の従来の位置または距離測定センサ光エンコーダ、干渉計、および静電容量プローブの非常に低コストの代替物を潜在的に可能にして、発生曲げモードのすべての関連するモード寄与を、非剛体制御のフィードバックループに比較的容易に組み込む。0044速度測定の物理的測定原理に起因して、センサインターフェイスは、光エンコーダ、干渉計、および静電容量センサなどの従来の距離測定システムとは対照的に防振マウントを必要としなくてよく、ロングストロークステージ上へのセンサ搭載が可能になる。表面特性段差、ギャップ、反射/屈折遷移の変化であっても問題としなくてよく、従って、今後の段階の設計制約条件が緩和される。0045MEMS技術における複数センサのアレイおよびFPGAで実施される強力なアルゴリズムを介して、この技術を、非常に低コストで、ナノメートルレベルおよびマイクロ秒の遅延まで拡張することができる。0046マイクロホンアレイの2層スタックを適用することによって、近い将来、複雑な曲面も測定されるであろう3Dメトロロジ。0047本発明を基板テーブルに関して説明してきたが、本発明は、パターニングデバイスを支持するサポート、マスクテーブル、またはリソグラフィ装置内の他の可動部分などの他のチャックに適用されてよいことが理解されるであろう。従って、チャックという用語は、基板テーブル、マスクテーブルなどのリソグラフィ装置のあらゆる可動部分を包含すると解釈されるべきである。0048上記は使用が音響情報からなる例を説明しているが、上述のような空間周波数領域で行われる処理は光センサ例えば、エンコーダおよび/または干渉計などの他のセンサから得られたデータにも適用されてよいことが理解されるであろう。0049さらに、上記の例で適用されたフーリエ変換の代わりに、短時間フーリエ変換やウェーブレット変換などの他の変換を適用してよいことが留意され、それによって、周波数情報に加えて時間情報が提供される。0050制御システムは、プロセッシングデバイスまたはプロセッサマイクロコントローラ、マイクロプロセッサ、分散型計算機システムなどのメモリにロードされたソフトウェア命令の形態で実現されてよい。プロセッシングデバイスにロードされた際、ソフトウェア命令は、プロセッシングデバイスが規定された機能を果たすことを可能にする。あるいは、制御システム、またはその一部は、適切なハードウェアにおいて実施されてもよい。0051センサアレイは、静電容量型、ピエゾ型、誘導型、または抵抗型マイクロホンアレイなどのあらゆる適切な音響センサアレイであってよい。検出される共振モードの数によって、分解能画素数を選択することができる。高空間周波数での共振モードの検出はセンサアレイの高空間分解能、従って多数のセンサピクセルを必要とし得ることが、当業者によって理解されるであろう。0052チャックの曲げという用語は、振動、共振モードなどによるあらゆる種類の曲げを包含すると解釈されるべきであり、あらゆる種類の周期反復曲げおよびあらゆる種類の過渡曲げ現象を包含すると解釈されるべきである。0053フィルタリングは、事前に行われたソフトウェアベースの有限要素解析および/またはモード解析にも基づき得ることに留意すべきである。周波数帯域解析の結果は、機械の定数値になり得る。0054別の可能性は、故障検出デバイスとしての音響測定から導出された測定情報を使用することである。摩耗している、綻びている、および/または緩んでいるコンポーネントは、おそらく、放射された波動場の特定の変化を介して検出され得る。0055センサアレイは、可動部分の波形を検出するように位置決めおよび配置され得る。上述の通り、センサアレイは、音波を検出することによって波形を検出するように配置され得る。0056別の実施形態において、センサアレイは、光センサを備える。放射源は、放射ビームを提供する。放射ビームの第1部分は可動オブジェクトの領域に入射する。放射ビームの第2部分は、基準ミラーなどの基準構造に入射する。2つの部分の相互干渉によって、領域の形状を特徴づけるフリンジを形成することができる。フリンジは、光センサ上に誘導される。上述のものと同様に、フーリエ変換を用いてフリンジを処理して空間周波数領域の波周波数としてのフリンジを投影することができる。波周波数は、上述の通り、さらに処理され得る。0057フリンジを形成するために、一実施形態においてザイゴ干渉計などの干渉計が用いられ得る。フリンジは可動部分上の領域の持続波形を表現する。これには、光センサに入射する放射ビームがすべての表面情報を含むという利点がある。比較すると、公知のエンコーダシステムは、領域上の個別の位置における位置測定値を用いて可動部分の波形を測定する。波形は、測定位置値を介してパターンを適合させることによって構築される。これは、位置を慎重に選ぶことを必要とし、それによって最も重要な波を測定することができる。0058可動オブジェクトの移動または変形は、フリンジの変化をもたらす。コントローラは、光センサからの信号を用いて可動オブジェクトの位置依存パラメータを制御し得る。0059一実施形態において、パターニングデバイスと、基板テーブルと、投影システムとを備えるリソグラフィ装置が提供される。パターニングデバイスは、パターン付き放射ビームを形成可能である。基板テーブルは、基板を保持するように構築される。投影システムは、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分上に投影するように構成される。リソグラフィ装置は、センサアレイとコントローラとをさらに備える。前述の実施形態に開示されているように、センサアレイは、リソグラフィ装置の可動部分からの音波を検出するように位置決めおよび構成される。コントローラは、センサアレイ出力信号を受信するようにセンサアレイに接続されたコントローラ入力を含む。コントローラ出力は、可動部分に作用するように構成されたアクチュエータに接続される。コントローラは、センサアレイ出力信号から可動部分の移動を計算し、計算された移動に応じてアクチュエータを、コントローラ出力を介して駆動する。0060パターニングデバイスは、表面などにパターンを有するマスクとすることができる。パターニングデバイスは、パターンが付けられていない放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成可能であり得る。あるいは、パターニングデバイスは、マスクを含まず、いわゆるマスクレスパターニングデバイスである。パターン付きビームは、放射ビームをミラーアレイ上に供給することによって形成され得る。所望のパターンに応じて、ミラーは、放射ビームの一部のみが基板に向けて誘導されるように傾けられ得る。あるいは、放射ビームを供給する放射源は、パターニングデバイスである。放射源は、LEDなどの小型放射放出源のアレイを備え得る。小型放射源の各々を制御することによって、パターン付き放射ビームを形成することができる。0061本明細書において、IC製造におけるリソグラフィ装置の使用について具体的な言及がなされているが、本明細書記載のリソグラフィ装置が、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用のガイダンスパターンおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイLCD、薄膜磁気ヘッド等の製造といった他の用途を有し得ることが理解されるべきである。当業者にとっては当然のことであるが、そのような別の用途においては、本明細書で使用されるウェーハまたはダイという用語はすべて、それぞれより一般的な基板またはターゲット部分という用語と同義であるとみなしてよい。本明細書に記載した基板は、露光の前後を問わず、例えば、トラック通常、基板にレジスト層を塗布し、かつ露光されたレジストを現像するツール、メトロロジーツール、および/またはインスペクションツールで処理されてもよい。適用可能な場合には、本明細書中の開示内容を上記のような基板プロセシングツールおよびその他の基板プロセシングツールに適用してもよい。さらに基板は、例えば、多層ICを作るために複数回処理されてもよいので、本明細書で使用される基板という用語は、すでに多重処理層を包含している基板を表すものとしてもよい。0062光リソグラフィの関連での本発明の実施形態の使用について上述のとおり具体的な言及がなされたが、当然のことながら、本発明は、他の用途、例えば、インプリントリソグラフィに使われてもよく、さらに状況が許すのであれば、光リソグラフィに限定されることはない。インプリントリソグラフィにおいては、パターニングデバイス内のトポグラフィによって、基板上に創出されるパターンが定義される。パターニングデバイスのトポグラフィは、基板に供給されたレジスト層の中にプレス加工され、基板上では、電磁放射、熱、圧力、またはそれらの組合せによってレジストは硬化される。パターニングデバイスは、レジストが硬化した後、レジスト内にパターンを残してレジストの外へ移動される。0063本明細書で使用される放射およびビームという用語は、紫外線UV例えば、365nm、248nm、193nm、157nm、または126nmの波長、またはおよそこれらの値の波長を有する、および極端紫外線EUV例えば、5~20nmの範囲の波長を有する、ならびにイオンビームや電子ビームなどの微粒子ビームを含むあらゆる種類の電磁放射を包含している。0064レンズという用語は、文脈によっては、屈折、反射、磁気、電磁気、および静電型光コンポーネントを含む様々な種類の光コンポーネントのいずれか1つまたはこれらの組合せを指すことができる。0065以上、本発明の具体的な実施形態を説明してきたが、本発明は、上述以外の態様で実施できることが明らかである。例えば、本発明は、上記に開示した方法を表す1つ以上の機械読取可能命令のシーケンスを含むコンピュータプログラムの形態、またはこのようなコンピュータプログラムが記憶されたデータ記憶媒体例えば、半導体メモリ、磁気ディスクまたは光ディスクの形態であってもよい。0066上記の説明は、制限ではなく例示を意図したものである。従って、当業者には明らかなように、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本記載の発明に変更を加えてもよい。