据え置き型ガスタービン用の排気ディフューザーアセンブリであって、長手方向軸線と、タービン主流ガスを受け入れるためのディフューザーインレットと、ディフューザーアウトレットと、可変ジオメトリーを有し、かつ、前記ディフューザーインレットから前記ディフューザーアウトレットへのそれを通過する前記ガスの流れのための管路を形成する開拡ディフューザー壁であって、前記ディフューザー壁は、前記長手方向軸線に対して開き角αを有する開拡ディフューザー壁と、前記ディフューザー壁に対して付着する前記ガスの合成流れ場を発生させるために、前記ディフューザー壁の前記開き角αを調整することによって、前記ディフューザーインレットと前記ディフューザーアウトレットとの間で前記ガスからの圧力の回復を制御するためのディフューザージオメトリー制御手段と、を具備してなることを特徴とする排気ディフューザーアセンブリ。前記ディフューザージオメトリー制御手段は、前記ディフューザー壁の表面上に配置された一つ以上のアクチュエータを備え、前記一つ以上のアクチュエータは、前記ディフューザー壁の前記開き角αを結果として調整するために前記ディフューザー壁に調整可能な圧力を加えるよう構成されていることを特徴とする請求項1に記載のディフューザーアセンブリ。前記一つ以上のアクチュエータは、前記ディフューザー壁からの前記ガスの流れ剥離のポイントを越えて合成流れ場を引き起こすために前記開き角αを増大させ、かつ、前記流れ剥離のポイントの実質的に近位でかつその前方にある前記ディフューザー壁を通過する前記ガスの合成流れを発生させるために前記ディフューザー壁に対して前記ガスの流れを再付着させるために前記開き角αを続いて減少させるよう構成されていることを特徴とする請求項2に記載のディフューザーアセンブリ。前記ディフューザー壁内で前記ガスの流動経路内に配置された圧力プローブをさらに具備してなり、前記流れ剥離のポイントは、前記開き角αの二つの漸進的に増大する設定値間の検出された圧力の減少に基づいて検出されることを特徴とする請求項3に記載のディフューザーアセンブリ。前記流れ剥離のポイントを検出するために、前記ディフューザー壁内の前記ガスの流動経路内に配置された音波プローブをさらに具備してなることを特徴とする請求項3に記載のディフューザーアセンブリ。前記流れ剥離のポイントは、流れの局所的方向を検出するよう構成された流れ可視化手段によって特定されることを特徴とする請求項3に記載のディフューザーアセンブリ。前記ディフューザー壁は、螺旋形態へと巻かれた一片のシートメタルからなることを特徴とする請求項1ないし請求項6のいずれか1項に記載のディフューザーアセンブリ。前記ディフューザー壁は、円錐形状へと巻かれた一片のシートメタルからなり、前記一片のシートメタルのエッジは互いにスライド可能であることを特徴とする請求項1ないし請求項6のいずれか1項に記載のディフューザーアセンブリ。前記ディフューザー壁は長方形断面を有する可変部分を具備してなり、前記ディフューザー壁は、前記可変部分において、ヒンジによって、固定部分に対して屈曲可能に取り付けられていることを特徴とする請求項1ないし請求項6のいずれか1項に記載のディフューザーアセンブリ。前記ディフューザー壁は、長方形のコーナーを形成するL字形プレートによって形成された長方形断面ジオメトリーを有し、前記L字形プレート間にはフラットなプレートが配置されており、このフラットなプレートの上で、前記長方形断面形状が対角線方向に沿って調整可能であるように、前記L字形プレートがスライド可能であることを特徴とする請求項1ないし請求項6のいずれか1項に記載のディフューザーアセンブリ。据え置き型ガスタービン用の排気ディフューザーを作動させるための方法であって、ディフューザーインレットにおいてタービン主流ガスを受け入れるステップと、前記ガスを、前記ディフューザーインレットとディフューザーアウトレットとの間で前記ガスの流れのための管路を形成する可変ジオメトリーを有する開拡ディフューザー壁を通過させるステップであって、前記ディフューザー壁はディフューザー長手方向軸線に対して開き角αを有するものであるステップと、前記ディフューザー壁のジオメトリーを制御することによって、前記ディフューザーインレットと前記ディフューザーアウトレットとの間での前記ガスからの圧力の回復を制御するステップと、を備え、前記ジオメトリーの前記制御は、前記ディフューザー壁に対して付着した前記ガスの合成流れ場を発生させるために前記ディフューザー壁の開き角αを調整することを含むことを特徴とする方法。前記ディフューザー壁のジオメトリーを制御することは、前記ディフューザー壁の表面上に一つ以上のアクチュエータを配置することと、前記ディフューザー壁の前記開き角αを結果的に調整するために前記ディフューザー壁に調整可能な圧力を加えるために前記一つ以上のアクチュエータを制御することと、を具備することを特徴とする請求項11に記載の方法。前記ディフューザー壁からの前記ガスの流れ剥離のポイントを越えて合成流れ場を発生させるために前記開き角αを増大させるために前記一つ以上のアクチュエータを制御し、続いて、前記流れ剥離のポイントの実質的に近位でかつその前方にある前記ディフューザー壁を通過する前記ガスの合成流れを発生させるために、前記ディフューザー壁に対して前記ガスの流れを再付着させるために、前記開き角αを減少させることを備えることを特徴とする請求項12に記載の方法。前記ディフューザー壁内で前記ガスの流動経路内に圧力プローブを配置することと、前記流れ剥離のポイントを、前記開き角αの二つの漸進的に増大する設定値間の検出された圧力の減少に基づいて検出することとを、さらに具備することを特徴とする請求項13に記載の方法。前記ディフューザー壁内の前記ガスの流動経路内に配置された音波プローブによって、前記流れ剥離のポイントを検出することを、さらに具備することを特徴とする請求項13に記載の方法。本発明の目的は、過度の流れ剥離を低減するかあるいは排除することによって、さまざまな運転負荷において、より高い圧力回復を実現するための据え置き型ガスタービン用の排気ディフューザーアセンブリおよびその方法を提供することである。上記目的は、請求項1に記載の排気ディフューザーアセンブリ、ならびに請求項11に記載の方法によって達成される。本発明の根底にあるアイディアは、ディフューザーのジオメトリーを制御することによって排気ディフューザーの圧力回復を制御する機構を提供することである。このために、提案される排気ディフューザーアセンブリは、可変ジオメトリーディフューザー壁を有し、これは、ディフューザー壁に対して付着するガスの合成流れ場を発生させるために、長手方向ディフューザー軸線に対するディフューザー壁の開き角を調整することを可能とする。ディフューザー壁ジオメトリーの可変性は、マスフローすなわち運転負荷における調整のための提案されるディフューザーアセンブリの適応性をもたらす。ある実施形態では、上記ディフューザージオメトリー制御手段は、ディフューザー壁の表面上に配置された一つ以上のアクチュエータを備え、当該一つ以上のアクチュエータは、ディフューザー壁の開き角αを結果として調整するためにディフューザー壁に調整可能な圧力を加えるよう構成される。好ましい実施形態では、一つ以上のアクチュエータは、ディフューザー壁からのガスの流れ剥離のポイントを越えて合成流れ場を引き起こすために開き角αを増大させ、そして、流れ剥離のポイントの実質的に近位でかつその前方にあるディフューザー壁を通過するガスの合成流れを発生させるためにディフューザー壁に対してガスの流れを再付着させるために開き角αを続いて減少させるよう制御可能である。付着流れに関する膨張のレートの増大に伴って圧力回復が増大するので、所与のマスフローレートに関する剥離ポイントの直前で流れ場を維持することは、当該マスフローレートにおいて圧力回復を最大化するであろう。ある実施形態では、提案されるディフューザーアセンブリは、さらに、ディフューザー壁を経て流動するガスの流動経路内に配置された圧力プローブを具備してなり、流れ剥離のポイントは、開き角αの二つの漸進的に増大する設定値間の検出された圧力の減少に基づいて検出される。上記実施形態は、流れ剥離を検出するための簡単な手段を提供する。なぜなら、ガス流動経路内の圧力は、流れ剥離が生じた後に急激に減少するからである。代替実施形態では、提案されるディフューザーアセンブリは、さらに、流れ剥離のポイントを検出するために、ディフューザー壁内のガスの流動経路内に配置された音波プローブを具備する。その上さらなる実施形態では、上記流れ剥離のポイントは、流れの局所的方向を検出するよう構成された流れ可視化手段によって特定される。代表的実施形態では、上記ディフューザー壁は、螺旋形態へと巻かれた一片のシートメタルからなる。そうしたディフューザー壁は、開き角の調整に関する融通性を向上させる。別な代表的実施形態では、上記ディフューザー壁は、円錐形状へと巻かれた一片のシートメタルからなり、ここで、当該一片のシートメタルのエッジは互いにスライド可能である。上記実施形態は製造の簡素化を実現する。さらに別な代表的実施形態では、上記ディフューザー壁は、長方形断面を有する可変部分を具備し、ディフューザー壁は、可変部分において、ヒンジによって、固定部分に対して屈曲可能に取り付けられる。上記実施形態は、より高い精度および拡張されたジオメトリー制御を実現する。さらに別な実施形態では、上記ディフューザー壁は、長方形のコーナーを形成するL字形プレートによって形成された長方形断面ジオメトリーを有し、当該L字形プレート間にはフラットなプレートが配置されており、このフラットなプレートの上で、長方形断面形状が対角線方向に沿って調整可能であるように、L字形プレートはスライド可能である。これによって、長方形のコーナーにアクチュエータを配置することによって長方形の対角線の方向に沿って、ディフューザー壁の長方形ジオメトリーを均一に変形させることが可能となる。以下、図示する実施形態を参照して、本発明について、さらに詳しく説明する。図1を参照すると、たとえば地上配備用途の発電機および駆動機械において使用される据え置き型ガスタービン用の排気ディフューザーアセンブリ1が示されている。ディフューザー1は、タービンセクション60の最終段からの主流ガスを受け入れるための第1の断面積A1を有するインレット3を有する。ガス5は、ディフューザーインレット3から、第2の断面積A2を有するディフューザーアウトレット4へと延在する開拡ディフューザー壁7によって形成される管路を経て長手方向軸線2に沿って流動する。ディフューザーアウトレット4はガス5を排気ダクト80へと誘導する。ディフューザー壁7は、インレット3とアウトレット4との間でガスを膨張させることでガスからの圧力を回復させる役割を果たす。これは、ガスの全ヘッド損失を低減し、これによってガス5から取り出される仕事を増大させる。ディフューザー壁7は、長手方向軸線2に対して、開き角αをなす。既存のディフューザーにおいては、この開き角は、通常、約5~6°で固定される。本発明によれば、ガス5からの圧力回復はディフューザー壁7のジオメトリーを制御することによって、すなわち、開き角αを、そして結果的に、アウトレット面積A2対インレット面積A1の比Rを調整することによって制御される。固定された長さのディフューザーに関して、面積比Rは開き角αの増大に伴って増加することは明らかである。概して、圧力回復は、ガス5の流れがディフューザー壁7から分離させられるまで、開き角αあるいは面積比Rの増大に伴って増加する。流れの剥離はガス5からの圧力回復を低下させる。より高い圧力回復を実現するために、開き角αは、ディフューザー壁7に付着するガス5の合成流れを発生させるよう調整される。このために、ディフューザー壁7は調整可能なジオメトリーを有し、ここで、角度αは変更可能である。可変ジオメトリーディフューザー壁の代表的な実施形態について、以下、図3ないし図7を参照して説明する。再び図1を参照すると、アウトレット5の断面積A2の結果的に生じる変化に対応するために、可変シール12が、排気ダクト80に対するディフューザー壁7の接続部に設けられている。図示する実施形態では、一つ以上のアクチュエータ9がディフューザー壁7の表面上に配置される。図示する実施形態では、アクチュエータ9はディフューザー壁7の外面上に配置される。アクチュエータ9は、たとえば、油圧あるいは空気圧で作動するアクチュエータからなっていてもよく、これは、ディフューザー壁7の開き角αを結果的に調整するために、ディフューザー壁7に調整可能な圧力を加えるために、コントローラー10によって制御される。上述したように、付着流れに関して、圧力回復は開き角αあるいは面積比Rの増大に伴って増加する。好ましい実施形態では、圧力回復は、流れ剥離のポイントの直前にあるディフューザー壁7内のガス5の流れ場を維持することで最大化される。このために、アクチュエータ9は、流れ剥離のポイントを越えて合成流れ場を発生させるように開き角αあるいは面積比Rを先ず増大させるように制御される。続いて、アクチュエータ9は、ディフューザー壁7に対して流れを再付着させるために、そして流れ剥離のポイント前方でかつその近位にある合成流れ場を発生させるために、開き角αあるいは面積比Rを減少させるように制御される。流れ剥離のポイントは、ディフューザー壁7内のガス5の流動経路内に配置されたフローセンサー11によって検出される。フローセンサー7は、たとえば、圧力プローブを含んでいてもよい。付着流れに関して、開き角αの増大に伴って、圧力プローブによって検出された圧力値は増大する。これは、図2に曲線13で示されているが、ここで、軸線14は開き角αを表し、そして軸線15は、ガス5の流動経路内に配置された圧力プローブ11による、対応する検出圧力Pを表す。図から明らかであるように、αの増大に伴って、検出された圧力は、検出圧力が最大値を得るポイント16に達するまで増大する。αがこの閾値αSを超えて増大する場合、流れはディフューザー壁から剥離し始め、その結果、検出される圧力は低下するが、これは正から負への曲線13のスロープの変化によって検出される。流れ剥離のポイント16は、したがって、開き角αの二つの漸進的に増加する設定値間の検出された圧力Pの減少に基づいて検出される。この実施形態において提案する技術は、閾値角αSを特定するために、流れ剥離のポイント16を超えて流れ場を発生させるためにαを増大させることを、そして、ディフューザー壁に対して流れを再付着させると共に、合成流れ場を流れ剥離のポイント16の直前にあるポイント17に到達させるために、続いてαをαSよりも小さい値αDまで低減させることを伴う。通常、剥離ポイント16の領域における曲線13の一部分はフラットであり、ゼロに等しいかあるいはほとんど等しいスロープを有する。この部分に対応する流れ場は、好ましくは、回避される。なぜなら、これは、剥離および付着流れが交互に生じる不安定流れ場であることを示すからである。流れ剥離のポイント16の実質的に近位でかつその前方にある所望のポイント17は、この場合には、正のスロープを有する曲線13上の、ポイント16に最も近接したポイントとして特定される。再び図1を参照すると、代替実施形態においては、流れ剥離のポイントを検出するための流れセンサー11は音波プローブからなっていてもよい。これに代えて、流れ剥離のポイントは、流れの局所的方向を検出する流れ可視化あるいはイメージング技術を用いて検出できる。全ての場合において、流れ剥離ポイントのポイントを越えて流れの集束を可能とする可変ジオメトリーは、流れ剥離のポイントの識別を可能とする。いったん、流れ剥離のポイントが識別されると、ディフューザーのジオメトリーは、ディフューザー壁に対して流れを再付着させるために調整可能である。ここで提案する可変ジオメトリーは、圧力回復がガスタービンが部分負荷で動作しているときでさえ最大化され得るように、マスフロー内で上記技術の適応性を変化させることを可能とする。図3を参照すると、可変ジオメトリーディフューザー壁7の第1実施形態が示されている。ここで、ディフューザー壁7は、円錐形状を形成するために螺旋状に複数回巻かれたメタルシート18からなる。螺旋形状は、ジオメトリー調整のために必要な弾力性を提供する。アクチュエータ9は、作動時に、ディフューザー壁7の開き角を増大あるいは減少させるために必要な圧力を加えるために、これらターンの一つ以上の外面上に配置可能である。図4に示す第2実施形態では、ディフューザー壁7は、円錐形状に巻かれたメタルシート20から形成されるが、端部21および22は互いに溶接されず、開き角あるいは面積比が変化するように、ディフューザー壁7の外面上に配置された一つ以上のアクチュエータ9によって圧力を加えた際に互いにスライドする。図5に示す第3実施形態では、ディフューザー壁7はシートメタルからなり、かつ、長方形断面を有する可変部分23および固定部分24を含む。長方形部分23はフラットなプレート25262728からなり、その一つ以上はヒンジ29によって固定部分24に屈曲可能に連結されているが、このヒンジ29は、それによって開き角/面積比を調整するために、その上に配置されたアクチュエータ9から圧力を加えた際に、固定部分24に対して個々の面25262728が回動することを可能とする。図示する実施形態では、プレート25および27は、角運動の方向が矢印30で示すようなものとなるようにヒンジ結合されている。面26および28は面25および27の動作の間、曲げにさらされるが、この実施形態は、角運動のより優れた精度および制御を実現する。図6に示す類似の実施形態において、ディフューザー壁7は、矢印37で示すような対向プレート31および33の角運動を可能とするために、フレキシブルジョイント36によって円形タービンマニホールド35に直接連結されたフラットプレート31323334によって形成された長方形断面を有する。図7に示す長方形ディフューザー壁のさらに別な実施形態では、ディフューザー壁7は長方形のコーナーを形成するL字形プレート38394041からなる。L字形プレート38394041の間にはフラットプレート42434445が配置されており、これは、L字形プレート38394041と共に、長方形ディフューザー壁7の側面を形成する。図示するように、L字形プレートは、ディフューザー壁7の長方形断面ジオメトリーが、長方形ディフューザー壁7のコーナー48495051の上に配置されたアクチュエータによって対角線方向46および47に沿って調整可能であるように、フラットプレート42434445に対してスライド可能である。本発明について、ある好ましい実施形態を参照して説明してきたが、本発明はこの具体的な実施形態に限定されない。むしろ、本発明を実施するために目下最良のモードを記述する本明細書に鑑みると、本発明の範囲および趣旨から逸脱しない数多くの変更および変形は当業者にとって自明である。したがって、本発明の範囲は、本明細書によってではなく、特許請求の範囲によって規定される。特許請求の範囲の等価記載の趣旨および範囲内にある全ての変化、変更、変形は、その範囲内のものであると見なされる。