"リアルタイムでのレーザビームウェスト位置ドリフトの自動補正のための装置であって、ウェハチャック上に保持されたウェハの表面上のスポットを照射するためのDUVレーザ照射源であって、ビーム形成光学部品を横切る照射レーザビームを提供し、少なくとも1つのビームウェストZ位置を有し、前記ウェハ上の前記スポットはあるスポットサイズを有する、DUVレーザ照射源と、前記ウェハチャック上で前記ウェハをZ方向に並進させるためのzステージと、前記照射レーザビームの非点収差を補正する少なくとも1つの非点収差補正器と、XおよびYビーム方向におけるスポット合焦ズレを測定するための手段と、前記zステージおよび前記ビーム形成光学部品を制御するためのコントローラを含む画像/データ処理コンピュータIDCと、を備える装置。前記DUVレーザ照射源は、非線形結晶周波数2倍器を含む請求項1に記載の装置。ウェハスキャニングシステムにおいて、XおよびYビーム方向におけるスポット合焦ズレを測定するための前記手段は、通常のウェハスキャンツール運転中に取得されるウェハスキャンデータを利用する請求項1に記載の装置。前記非点収差補正器は、前記レーザ照射源の外に配置され、かつ、システム照射経路内にある請求項1に記載の装置。前記非点収差補正器は、レーザ組立体の一体部分として前記レーザ照射源の内部に配置される請求項1に記載の装置。前記少なくとも1つの非点収差補正器は、高品質透明材料で作られ、システム照射経路内に搭載された、小さなウェッジ角度の2つのウェッジ付きプレートを備え、前記ウェッジは反対方向を指し、前記ウェッジは調整可能な傾斜角度を有し、前記ウェッジは、前記照射レーザビームの非点収差を補償するために調整可能な構成で搭載される請求項1に記載の装置。前記少なくとも1つの非点収差補正器は、直交面において前記ビームウェストZ位置を補正するように構成された2つの非点収差補正器を備える請求項1に記載の装置。照射レーザビームの非点収差を補正するための非点収差補正器であって、高品質透明材料で作られ、システム照射経路内に搭載された、小さなウェッジ角度の2つのウェッジ付きプレートを備え、前記ウェッジは、反対方向を指し、前記ウェッジは、調整可能な傾斜角度を有し、前記ウェッジは、前記照射レーザビームの非点収差を補償するために調整可能な構成で搭載される非点収差補正器。レーザ結晶を使用して照射レーザビームの非点収差を補正し、z調整ステージ上に搭載されているウェハを照射するための方法であって、x方向にビームウェストにおけるxスポットサイズを測定し、y方向にビームウェストにおけるyスポットサイズを測定するステップと、ビームスキャンデータを使用し、前記xスポットサイズを基準xスポットサイズと比較し、前記yスポットサイズを基準yスポットサイズと比較するステップと、x方向における測定されたスポットサイズが、対応する基準スポットサイズより大きい場合、前記測定されたスポットサイズが前記基準スポットサイズに減少するまで、前記z調整ステージを移動させるステップと、前記測定されたxスポットサイズが、z調整後に、前記対応する基準スポットサイズより大きい場合、前記レーザ結晶を調整または置換するステップと、前記測定されたxスポットサイズが、その対応する基準スポットサイズと同程度の大きさであり、かつ、前記測定されたyスポットサイズが、その対応する基準スポットサイズより大きい場合、非点収差補正器によって前記測定されたスポットサイズをy方向に調整するステップと、を含む方法。前記基準xおよびyスポットサイズは、目下較正済みレーザから得られる請求項9に記載の方法。前記非点収差補正器は、電動化され、フィードバック制御システムによって自動化される請求項9に記載の方法。前記非点収差補正器は、高品質透明材料で作られ、システム照射経路内に搭載された、小さなウェッジ角度の2つのウェッジ付きプレートを備え、前記ウェッジは反対方向を指し、前記ウェッジは調整可能な傾斜角度を有し、前記ウェッジは、前記照射レーザビームの非点収差を補償するために調整可能な構成で搭載される請求項11に記載の方法。レーザ結晶が経年変化し劣化するにつれて、ビームウェスト位置がドリフトする可能性があり、また、xおよびyのビームウェスト位置が異なるレートでドリフトする可能性があり、非点収差のドリフトをもたらし、同様にウェハ上の照射スポットサイズを増加させる。これは、測定精度および感度に悪い影響を及ぼすことになる。応答、すなわち、関心の欠陥からの散乱信号は、変化することになり不安定性、また、減少することになる感度の喪失。合焦ズレが一定の限界に達するときのこの不安定性の補正は、頻繁でかつ費用がかかる、ツールの整備、較正、再アライメント、スポットサイズ変更、レーザ光が結晶結晶は、一般に、レーザ結晶より著しく大きいに衝突する周波数2倍器レーザスポットの切換え、すなわち結晶の回転またはその他の方法での移動、あるいはレーザの早期交換を必要とする。本明細書で開示されるのは、通常のツール運転中に取得されるウェハ検査データを使用した、リアルタイムでのレーザビームウェスト位置ドリフトの自動補正のための方法および装置である。同様に本明細書で開示されるのは、レーザに対して内部または外部で使用するための改良型レーザ非点収差補正器である。ビームウェスト位置ドリフトおよび非点収差ドリフトの補正のための現行の慣行は、ビームウェスト位置がXとYにおいて同じ量だけ変化する場合にすなわち、非点収差なしの状態でツールを再較正することである。非点収差は、一般に、周波数2倍器結晶上の各スポットについての一定寿命であって、特定のスポットの実際の寿命より一般に短い、一定寿命を仮定することによって取り扱われる。新しいスポットを露光するために周波数2倍器結晶を移動させる定期的な保守が、通常処方される。この方法は問題がある。スポットが変更されるたびに、ツール性能の検証およびツールの再較正が必要とされる。同様に、定期的保守が、実際のスポット寿命より短い間隔でスケジュールされなければならないため、また、結晶上の利用可能なスポットの数が制限されるため、この方法は、非常に高価なレーザ結晶の早期変更をもたらす。顧客ツールのダウンタイムは、高いコストを付加する。上述したビームウェスト位置ドリフトおよび非点収差ドリフトの補正のための標準的な方法は、時間がかかり高価であり、ウェハ検査ツールの所有のコストを著しく増加させる。本明細書で開示されるのは、通常のツール運転中に取得される測定値を利用する、すなわちウェハ検査データを利用する自動の非点収差およびウェスト位置補正のための装置および方法である。この情報は、非点収差およびビームウェストドリフトの補正用のフィードバックとして使用される。緩徐サーボ制御ループを用いて測定されたドリフトを補償するメカニズムが使用される。ビームウェストドリフトおよび非点収差ドリフトが比較的緩徐なプロセスであるため、サーボ制御ループは速くある必要はない。したがって、ビームウェストおよび非点収差補正は、ウェハスキャン間で小さなインクリメントで起こりうる。したがって、補正は、ツールのスループットを減少させず、また、測定のさらなる不安定性を全く導入しない。本発明の装置の実施形態は、ウェハチャック122にZステージを付加し、またさらに、レーザ源105の内部かまたはレーザ源105に近いが外部の非点収差補償デバイスまたは非点収差補正器、および、XおよびYのビーム方向におけるスポット合焦ズレを測定するための手段を含む。合焦ズレは、以降で述べるように、スポットサイズを基準スポットサイズと比較することによって判定される。図2は、ビームウェストおよび非点収差ドリフト補正方法の実施形態を述べる高レベルフロー図を示す。この補正アルゴリズムは、例示的であり制限的でないことに留意されたい。ステップ200にて、ビームスキャンデータを使用して、xおよびy方向のスポットサイズを、目下較正済みのレーザから得られ、かつ、ツールの適切な運転について許容可能なスポットサイズ範囲に従って規定されることができる基準スポットサイズと比較する。ステップ205にて、測定されたスポットサイズが基準スポットサイズより大きい場合、ステージ上のz調整を使用して、測定されたスポットサイズが、以下で規定されるx方向の基準スポットサイズに減少するまで、ステージを上下に移動させる。この例証のために、x方向が、より安定したビームウェスト位置を有する軸に位置合わせされ、したがって、zステージによって調整されると、本発明者等は定義することになる。上と下の両方のz調整後に、スポットサイズが基準スポットサイズより大きいままである場合、レーザ結晶の再アライメント、再較正、または置換が必要とされる。ステップ210にて、基準スポットサイズが先に規定されたようにx方向において達成されるが、測定されたスポットサイズがy方向の基準より大きい、すなわち焦点ズレである場合、これは、非点収差のせいであると思われる。ステップ215にて、y方向のウェスト位置を、基準値に対する最も近い近似に達するまで、移動させるように非点収差補正器を関与させる。ここでステップ200を参照して:ウェハスキャン中に、散乱光が、ウェハ表面上の欠陥から検出される。一般に、これらの欠陥は、レーザビームの直径に比べて直径が著しく小さく、サンプリング距離がスポットサイズより小さい。スパイラルまたはラスタースキャンタイプのスキャニングスキームは、光検出器または他のセンサ信号によって提供されるx次元とy次元の両方のレーザビーム強度の測定値をもたらす。これらの入って来る強度信号は、コンピュータ140によって解析され、コンピュータ140は、xおよびyのガウス強度分布を計算し、x方向およびy方向のスポットサイズを計算する。コンピュータには、システム較正中に得られ、記憶されたであろうx方向およびy方向の基準スポットサイズが記憶される。図3aは、先のステップ205~215で概説されるアルゴリズム実施形態における、コンピュータコントローラの決定をより詳細に述べるフローチャートの始まり部分である。このアルゴリズムは、例示的であり制限的でないことに留意されたい。フローチャートは、図3bに続く。ステップ300、305、310、315、320は、ウェハスキャンデータを使用して、xおよびyのスポット直径を測定することを含む。ビームウェストは、最小スポット直径位置で起こるため、スポット直径の測定はビームウェスト位置に結び付けられることに留意されたい。ステップ325~334は、目下のスポット直径と前のまたは基準のスポット直径との間のデルタを確定することを含む。ステップ340、345は、x方向への粗い補正のためにビームウェスト位置を移動させるために、ステージを上または下に移動させるそれに続いて、z移動が、スポットサイズを基準サイズに向かって移動させることであるか、合焦されたサイズに向かって移動させることであるかを判定するために、スポット直径の再測定が行われることを含む。ステップ350は、y方向への微小補正のためにビームウェスト位置を移動させるために、非点収差補正器を関与させることを含む。ステップ355は、zステージ移動が、x方向へのより微妙なビームウェストドリフトを補正できない場合、結晶を変更する、ツールを再位置決めする、またはツールを再較正することを含む。図4aは、上述したプロセスフローで使用されうるレーザ非点収差補正器レイアウトの第1の例示的な実施形態を示す。この実施形態は、例示的であり制限的でないことに留意されたい。この実施形態では、非点収差補正器400は、システム照射経路410内でレーザ405の外部に配置される。あるいは、図4bに示すように、非点収差補正器は、レーザ組立体の一体部分としてレーザの内部に実装されうる。多くのタイプの非点収差補正器が、このレイアウトで使用されうることが同様に留意されるべきである。レーザ非点収差補正の既知の方法は、円筒ミラーを使用する。この方法は、UseoflaserdiodeinjointtransformcorrelatorOpt.Eng.43,17512004;doi:10.1117/1.1763590に記載される。既知のレーザ非点収差補正器に加えて、本発明の非点収差補正器が、本明細書で開示される。レーザ非点収差補正器400は、レーザ伝播方向を横切る直交方向に異なる屈折率を有する複屈折結晶内に光子束を合焦させる高調波生成レーザに関連する軸方向非点収差を減少させるように設計される。このタイプのレーザは、静的と動的の両方の非点収差を有する可能性があり、後者は、レーザ予防保守サイクルの頻度に比較してドリフトレートが速いときに、特に扱うのが難しい。したがって、調整可能非点収差補正器が提案され、その補正器は、従来の円筒レンズの補正方法に対していくつかの利点を有する。図5は、調整可能非点収差補正器の実施形態を示す。調整可能非点収差補正器は、0.5°、1°、または2°などの小さなウェッジ角度を有する2つのウェッジ付きプレート500、505からなる。ウェッジは、調整可能傾斜角度を有する。ウェッジは、xz平面またはyz平面内に配向されたレーザ507からのビーム506の経路内に搭載されて、2つの平面間の非対称性を補正する。ウェッジプレートを平面の一方に対して傾斜させることによって、その平面内でのビーム発散が、非点収差を補償するように調整されうる。プレートは、元のビーム品質を劣化させないように、ガラスなどの非常に高品質の透明材料で作られることができる。両方のウェッジは、同一とすることができ、また、一方を他方に対して傾斜調節する必要を回避するために同じ大きさのガラスシートから製造されうる。2つのウェッジは、反対方向を指して設置される、すなわち、いずれか一方は上を指し、他方は下を指す、または、一方はビームの左側を指し、他方はビームの右側に向く。ウェッジ方向のこの反対配置は、一旦ウェッジが位置合わせされるときの任意のビーム指示誤差をなくす。各ウェッジは、同じ平面内で、かつ、その肉厚の端部から同じ方向に傾斜し、2つのウェッジは、互いに対して光学軸520の周りに180°だけ回転し、したがって、両方の平面によって個々に生成されることになるビームオフセットをなくす。ウェッジプレート500、505は、非点収差補正器部分組立体525になるように構成されることができる。円筒レンズ補正器に対する本発明の非点収差補正器の利点は、以下を含む。1.十分に高品質の円筒レンズは、製造するのが難しく、また、それらのレンズは、ほんの軽微な非点収差補正を適用するために、非常に長い焦点距離を必要とする。対照的に、本明細書で開示される反対傾斜式/反対回転式ウェッジは、大幅に調整可能であり、また、他の波面品質問題をレーザビームにもたらさない非常に平坦な表面によって作られうる。2.この傾斜式波長板設計は、従来のビームエキスパンダ、たとえばケプラー式望遠鏡部分組立体525として図に示すの内部に配置されうる。これは、非常に薄いウェッジおよび小さな傾斜角度一般に/-0~2°を可能にすることになり、組立体をコンパクトでかつ安定性と精度の改善のために所定の屈曲を使用して設計されることを可能にする。ウェッジ中心厚は、1~5mmの範囲にあるとすることができ、また、ウェッジ直径および狭角に応じて、上部から下部への厚さ変動は、50μm~1mmの範囲にあるとすることができる。3.球形態と円筒形態の両方の合焦要素を通常含む多要素ウェストリレータイプ非点収差補正器は、各合焦要素、すなわちレンズの間隔および場所を確定するために、固定基準平面に対する正確なxおよびyのウェスト場所の知識を必要とする。本発明の傾斜式波長板非点収差補正器は、迅速なフィードバックを可能にするxウェストとyウェストとの間の相対的距離の知識を必要とするだけである。表1は、等しくかつ反対の非点収差補正を提供するために、異なるウェッジ角度についての非点収差および必要な傾斜角度の数値を示す。ISF改善スケールファクタは、所与の範囲のウェッジ傾斜角度について補正可能である最大非点収差の一部である。各プレートの公称ウェッジにより、また、この実施形態が、ビームがコリメートされないビームエキスパンダの内部にウェッジを設置することによって、レーザが、たとえゼロ非点収差で開始しても、ウェッジは、非ゼロ傾斜を必要とすることに留意されたい。RRレイリー範囲は、レーザスポットサイズを√2だけ増加させるか、または、ビームエリアを2倍だけ増加させるためのz距離レーザ焦点深度または共焦点として知られるものの半分であるである。P-Vは、ピーク-谷であり、波またはOPD光学経路差で測定される、振幅の2倍である。値は、7μmスポットサイズについて例示的であることに留意されたい。この値は例示的であり、スポットサイズはこの値に限定されない。本明細書で述べる実施形態またはその所定部分は、コンピュータ実装式とすることができる。コンピュータシステムは、バスを介して互いに通信する、プロセッサたとえば、プロセッサコア、マイクロプロセッサ、コンピューティングデバイスなど、主メモリ、およびスタティックメモリを含むことができる。機械は、さらに。ディスプレイユニットを含むことができ、ディスプレイユニットは、タッチスクリーンか、液晶ディスプレイLCDか、発光ダイオードLEDか、または陰極線管CRTを備えることができる。コンピュータシステムはまた、人入力/出力I/Oデバイスたとえば、キーボード、英数字キーパッドなど、指示デバイスたとえば、マウス、タッチスクリーンなど、ドライブユニットたとえば、ディスクドライブユニット、CD/DVDドライブ、有形コンピュータ可読取外し可能媒体ドライブ、SSDストレージデバイスなど、信号生成デバイスたとえば、スピーカ、オーディオ出力など、およびネットワークインタフェースデバイスたとえば、イーサネットインタフェース、有線ネットワークインタフェース、無線ネットワークインタフェース、伝播信号インタフェースなどを含むことができる。ドライブユニットは、上述した方法の任意の1つまたは全てを具現化する命令のセットたとえば、ソフトウェア、ファームウェア、ミドルウェアなどがそこに記憶される機械可読媒体を含むことができる。命令のセットはまた、主メモリ内および/またはプロセッサ内に完全にまたは少なくとも部分的に存在することを示される。命令のセットは、さらに、ネットワークバスを通じてネットワークインタフェースデバイスを介して送受信されることができる。本発明の実施形態は、ある形態の処理コアコンピュータのCPUなど上で実行される、あるいはそうでなければ、機械またはコンピュータ可読媒体上でまたはその中で実装または実現される命令のセットとして、または、命令のセットをサポートするために使用されることができることが理解される。機械可読媒体は、機械たとえば、コンピュータによって可読である形態で情報を記憶または送信するための任意のメカニズムを含む。たとえば、機械可読媒体は、読出し専用メモリROM、ランダムアクセスメモリRAM、磁気ディスク記憶媒体、光記憶媒体、フラッシュメモリデバイス、電気、光、音響、または他の形態の伝播信号たとえば、搬送波、赤外線信号、デジタル信号など、あるいは、情報を記憶または送信するのに適した任意の他のタイプの媒体を含む。本明細書の装置および方法の実施形態は、レーザビームウェスト位置ドリフト粗い補正および非点収差微小補正の自動補正を可能にする。図3のフローチャートは、非点収差補正器の考えられる使用を含む、決定プロセスを述べる。本発明の非点収差補正器が開示される。可変非点収差補正システムについての非常に柔軟性のある設計が提供され、システムは、非常に高い品質の容易に入手可能な干渉計伝送フラットから作られうる。本発明の設計は、xおよびyの非点収差ウェストを位置特定するために固定基準を有することを必要とせず、本発明の設計は、両方のウェスト間の相対的距離測定を有することを必要とするだけであり、ウェハ検査システムの自身の組込み式測定能力を使用してライブで調整されうる。本明細書で開示される装置および方法の実施形態は、結晶が経年変化しても、レーザビーム非点収差が、ビーム品質を維持するために補正されうる閉ループフィードバック配置構成を提供する。開示される本発明の補正器の場合と同様とすることができる、または、入手可能な補正器とすることができる非点収差補正器は、電動化され、フィードバックおよび制御システムによって自動化される。システムは、ウェハ表面における非点収差の測定を可能にし、次に、非点収差を補正するためにその測定値をフィードバックループで使用する。結果として、レーザビームスポットが、長期期間にわたってその特性を変えず、したがって、レーザ寿命のかなりの延長を可能にする。本明細書で開示される装置および方法の実施形態は、頻繁でかつ費用がかかる、ツールの整備、較正、再アライメント、スポットサイズ変更、レーザ光が結晶結晶は、一般に、レーザ結晶より著しく大きいに衝突するスポットの切換え、すなわち結晶の回転またはその他の方法での移動、あるいはレーザの早期交換を最小にするために利用されうる。本発明は、ここで開示された実施形態に限定されると解釈されてはならない。当業者であれば、本発明の技術思想の範囲内で変更あるいは改変が可能であると認識するであろう。実施形態でいえば、システムは2つの非点収差補正器を含むことができ、1つはxz平面用に、もう一つはyz平面用である。この場合、zステージはビームウェスト位置補正に必要ではない。添付特許請求の範囲を考慮して解釈されることができる。"