"導電性支持体上に少なくとも感光層と保護層とを順次積層してなる電子写真感光体において、該保護層が、p型半導体粒子を含有することを特徴とする電子写真感光体。前記p型半導体粒子が、下記一般式1で表される化合物であることを特徴とする請求項1に記載の電子写真感光体。一般式1:CuMO2但し、式中Mは周期律表第13属の元素を表す。前記保護層が、前記p型半導体粒子と、硬化性化合物を硬化させて得られる成分を含有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の電子写真感光体。前記p型半導体粒子が、反応性有機基を有する表面処理剤で処理されたものであることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の電子写真感光体。前記硬化性化合物が、分子中にアクリロイル基、又はメタクリロイル基の少なくともいずれかを有する重合性単量体であることを特徴とする請求項3又は請求項4に記載の電子写真感光体。本発明は上記問題状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、耐摩耗性に優れ、感光体周期による画像濃度差画像メモリーが発生せず、耐摩耗性と画像特性の安定性に優れた電子写真感光体を提供することである。本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、電子写真感光体の保護層にp型半導体粒子を含有させることによって、耐摩耗性と画像特性が解決できることを見出し、本発明に至った。即ち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。1.導電性支持体上に少なくとも感光層と保護層とを順次積層してなる電子写真感光体において、該保護層が、p型半導体粒子を含有することを特徴とする電子写真感光体。2.前記p型半導体粒子が、下記一般式1で表される化合物であることを特徴とする第1項に記載の電子写真感光体。一般式1:CuMO2但し、式中Mは周期律表第13族の元素を表す。3.前記保護層が、前記p型半導体粒子と、硬化性化合物を硬化させて得られる成分を含有することを特徴とする第1項又は第2項に記載の電子写真感光体。4.前記p型半導体粒子が、反応性有機基を有する表面処理剤で処理されたものであることを特徴とする第1項から第3項のいずれか一項に記載の電子写真感光体。5.前記硬化性化合物が、分子中にアクリロイル基、又はメタクリロイル基の少なくともいずれかを有する重合性単量体であることを特徴とする第3項又は第4項に記載の電子写真感光体。本発明の上記手段により、耐摩耗性に優れ、感光体周期による画像濃度差画像メモリーが発生せず、耐摩耗性と画像特性の安定性に優れた電子写真感光体を提供することができる。本発明の効果の発現機構ないし、作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。一般的に電子写真感光体に使用されている電荷輸送物質は有機化合物であり、正孔輸送性に優れているが、可塑化効果も有しているため、一般に有機化合物を用いた電子写真感光体の耐摩耗性が十分ではなかった。一方、耐摩耗性向上を目的に感光層の上に保護層を設け、その保護層中に酸化ケイ素、酸化アルミナ、酸化チタンなどの金属酸化物粒子を添加し、金属酸化物粒子のフィラー効果による耐摩耗性の向上も試みられているが、これらの金属酸化物粒子は十分な正孔輸送能が得られず、また、保護層中で電荷キャリアがトラップされるため画像メモリーが発生するものと考えられる。このため、耐摩耗性と画像特性を両立できる感光体とするためにp型半導体粒子を感光体の保護層に添加することによって、p型半導体粒子の硬度が高いことの効果で、耐摩耗性を向上させ、かつp型半導体粒子が正孔輸送能を有するため、保護層においても十分な正孔輸送能が確保でき、また、電荷がトラップされることが無いため、画像メモリーも改善でき、耐摩耗性と画像特性の両立が可能になったものと推察される。本発明の電子写真感光体は、導電性支持体上に少なくとも感光層と保護層とを順次積層して成る電子写真感光体において、該保護層が、p型半導体粒子を含有することを特徴とする。この特徴は請求項1から請求項5までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。更に本発明においては、前記p型半導体粒子が、下記一般式1で表される化合物であることが高い正孔輸送能が得られ画像メモリー改善効果が優れるので好ましい。一般式1:CuMO2但し、式中Mは周期律表第13族の元素を表す。また、本発明においては、前記保護層が、前記p型半導体粒子と、硬化性化合物を硬化させて得られる成分を含有することが、耐摩耗性が向上し、高耐久性の電子写真感光体が得られることから好ましい。また、本発明においては、前記p型半導体粒子が、反応性有機基を有する表面処理剤で処理されたものであることが、耐摩耗性が向上し、高耐久性の電子写真感光体が得られることから好ましい。また本発明においては、前記硬化性化合物が、分子中にアクリロイル基、又はメタクリロイル基の少なくともいずれかを有する重合性単量体であることが、更に耐摩耗性が向上し、高耐久性の電子写真感光体が得られることから好ましい。以下本発明の構成要素、及び本発明を実施するための形態態様について詳細な説明をする。なお、本願において、~は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で用いる。本発明の電子写真感光体の概要本発明の電子写真感光体は、導電性支持体上に少なくとも感光層と保護層とを順次積層して成る電子写真感光体において、該保護層が、p型半導体粒子を含有することを特徴とする。p型半導体本発明の電子写真感光体の保護層に用いられるp型半導体粒子について説明する。p型半導体粒子とは、電荷を輸送するキャリアとして正孔ホールが使われる半導体粒子である。すなわち、正孔が多数キャリアとなる半導体である。本発明に用いられるp型半導体粒子としては、下記一般式1で表される化合物が好ましい。一般式1:CuMO2但し、式中Mは周期律表第13族の元素を表す。第13族の元素としては、具体的には、ホウ素B、アルミニウムAl、ガリウムGa、インジウムIn、タリウムTlが挙げられる。本発明において好ましく用いられる第13族元素としては、アルミニウム、ガリウム、インジウムであり、一般式1で表される好ましいp型半導体粒子としては、例えば、CuAlO2、CuGaO2、CuInO2が挙げられる。これらのp型半導体粒子を電子写真感光体の保護層に添加することにより、耐摩耗性に優れ、画像メモリーの発生しない高画質の電子写真感光体とすることができる。上記p型半導体粒子の数平均一次粒径は1~300nmの範囲が好ましい。特に好ましくは3~100nmである。本発明に係るp型半導体粒子は、例えばプラズマ法により生成することができる。プラズマ法としては、直流プラズマアーク法、高周波プラズマ法、プラズマジェット法などの方法が挙げられる。直流プラズマアーク法では、金属合金を消費アノード電極とする。そして、カソード電極からプラズマフレームを発生させる。そして、アノード側の金属合金を加熱、蒸発させ、金属合金の蒸気を酸化、冷却することにより、p型半導体粒子を得ることができる。高周波プラズマ法では、大気圧力のもとでガスを高周波誘導放電によって加熱したときに発生する熱プラズマを利用する。このうちプラズマ蒸発法では、不活性ガスプラズマ中心に固体粒子を注入し、プラズマ中を通過する間に蒸発させ、この高温蒸気を急冷凝縮することにより超微粒子を生成することができる。プラズマ法は、不活性ガスのアルゴン、及び2原子分子ガスである水素や窒素、酸素雰囲気中でアーク放電すると、アルゴンプラズマ、水素プラズマなどが得られるが、特に2原子分子ガスが熱解離して生じた水素窒素、酸素プラズマは分子状ガスに比べて極めて反応性に富んでいるので、不活性ガスのプラズマと区別して反応性アークプラズマとも呼ばれている。このうち酸素プラズマ法はp型半導体粒子を生成する方法として効果的である。上記p型半導体粒子の数平均一次粒径は、走査型電子顕微鏡例えば日本電子製:JSM-7500Fにより100000倍の拡大写真を撮影し、ランダムに300個の粒子をスキャナーにより取り込んだ写真画像凝集粒子は除いたを自動画像処理解析装置例えば株ニレコ製LUZEXAPソフトウエアVer.1.32を使用して数平均一次粒径を算出することができる。≪保護層の構成≫本発明の電子写真感光体は耐摩耗性の向上と画像メモリーの改善を課題とし、導電性支持体上に少なくとも感光層と保護層を順次積層した構成のものである。この保護層には、p型半導体粒子を含有する。また保護層には、バインダー樹脂を含有することが好ましい。バインダー樹脂としては、硬化性化合物を硬化させて得られる成分を含有することが好ましい。本発明に係る保護層に使用可能なバインダー樹脂としては、硬化性化合物を硬化させて得られる成分が好ましいが、硬化性化合物以外では、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂等の公知の樹脂を挙げることができる。また、硬化性化合物と硬化性化合物以外の樹脂を併用して用いることもできる。硬化性化合物本発明に係る保護層に使用可能な硬化性化合物としては、ラジカル重合性の化合物が挙げられ、ラジカル重合性化合物としては、ラジカル重合性反応基として、アクリロイル基、メタクリロイル基の少なくともいずれかを有する重合性単量体が好ましい。これらの重合性単量体としては、例えば以下の化合物を例示することができるが、本発明に使用可能な重合性単量体はこれらに限定されるものではない。上記のラジカル重合性化合物は公知であり、また市販品として入手できる。ここで、Rは下記アクリロイル基、R′は下記メタクリロイル基を表す。表面処理p型半導体粒子本発明に係る保護層に用いられるp型半導体粒子は、表面処理剤で処理されたものであることが好ましく、更に反応性有機基を有する表面処理剤で表面処理されたものがより好ましい。表面処理剤本発明に係る表面処理剤としては、p型半導体粒子の表面に存在するヒドロキシ基等と反応する表面処理剤が好ましく、これらの表面処理剤としては、シランカップリング剤、チタンカップリング剤等が挙げられる。また、本発明においては、保護層の硬度を更に高くする目的で、反応性有機基を有する表面処理剤が好ましく、反応性有機基を有する表面処理剤としては、ラジカル重合性反応基を有する表面処理剤が好ましい。これらのラジカル重合性反応基は、本発明に係る硬化性化合物とも反応して強固な保護膜を形成することができる。ラジカル重合性反応基を有する表面処理剤としては、ビニル基、アクリロイル基などのラジカル重合性反応基を有するシランカップリング剤が好ましく、このようなラジカル重合性反応基を有する表面処理剤としては、下記に記すような公知の化合物が例示される。S-1:CH2=CHSiCH3OCH32S-2:CH2=CHSiOCH33S-3:CH2=CHSiCl3S-4:CH2=CHCOOCH22SiCH3OCH32S-5:CH2=CHCOOCH22SiOCH33S-6:CH2=CHCOOCH22SiOC2H5OCH32S-7:CH2=CHCOOCH23SiOCH33S-8:CH2=CHCOOCH22SiCH3Cl2S-9:CH2=CHCOOCH22SiCl3S-10:CH2=CHCOOCH23SiCH3Cl2S-11:CH2=CHCOOCH23SiCl3S-12:CH2=CCH3COOCH22SiCH3OCH32S-13:CH2=CCH3COOCH22SiOCH33S-14:CH2=CCH3COOCH23SiCH3OCH32S-15:CH2=CCH3COOCH23SiOCH33S-16:CH2=CCH3COOCH22SiCH3Cl2S-17:CH2=CCH3COOCH22SiCl3S-18:CH2=CCH3COOCH23SiCH3Cl2S-19:CH2=CCH3COOCH23SiCl3S-20:CH2=CHSiC2H5OCH32S-21:CH2=CCH3SiOCH33S-22:CH2=CCH3SiOC2H53S-23:CH2=CHSiOCH33S-24:CH2=CCH3SiCH3OCH32S-25:CH2=CHSiCH3Cl2S-26:CH2=CHCOOSiOCH33S-27:CH2=CHCOOSiOC2H53S-28:CH2=CCH3COOSiOCH33S-29:CH2=CCH3COOSiOC2H53S-30:CH2=CCH3COOCH23SiOC2H53S-31:CH2=CHCOOCH22SiCH32OCH3S-32:CH2=CHCOOCH22SiCH3OCOCH32S-33:CH2=CHCOOCH22SiCH3ONHCH32S-34:CH2=CHCOOCH22SiCH3OC6H52S-35:CH2=CHCOOCH22SiC10H21OCH32S-36:CH2=CHCOOCH22SiCH2C6H5OCH32また、表面処理剤としては、前記S-1からS-36以外でも、ラジカル重合可能な反応性有機基を有するシラン化合物を用いてもよい。これらの表面処理剤は単独で又は二種以上を混合して使用することができる。表面処理p型半導体粒子の作製方法表面処理するに際して、粒子100質量部に対し、表面処理剤0.1~100質量部、溶媒50~5000質量部を用いて湿式メディア分散型装置を使用して処理することが好ましい。また、乾式でも処理することができる。以下に、均一に表面処理剤で表面処理された金属酸化物粒子を製造する表面処理方法について説明する。すなわち、p型半導体粒子と表面処理剤とを含むスラリー固体粒子の懸濁液を湿式粉砕することにより、p型半導体粒子を微細化すると同時に粒子の表面処理が進行する。その後、溶媒を除去して粉体化することで均一に表面処理剤により表面処理されたp型半導体粒子を得ることができる。本発明において用いられる表面処理装置である湿式メディア分散型装置とは、容器内にメディアとしてビーズを充填し、更に回転軸と垂直に取り付けられた撹拌ディスクを高速回転させることにより、p型半導体の凝集粒子を砕いて粉砕分散する工程を有する装置であり、その構成としては、p型半導体粒子に表面処理を行う際にp型半導体粒子を十分に分散させ、かつ表面処理できる形式であれば問題なく、例えば、縦型横型、連続式回分式など、種々の様式が採用できる。具体的にはサンドミル、ウルトラビスコミル、パールミル、グレンミル、ダイノミル、アジテータミル、ダイナミックミル等が使用できる。これらの分散型装置は、ボール、ビーズ等の粉砕媒体メディアを使用して衝撃圧壊、摩擦、剪断、ズリ応力等により微粉砕、分散が行われる。上記湿式メディア分散型装置で用いるビーズとしては、ガラス、アルミナ、ジルコン、ジルコニア、スチール、フリント石などを原材料としたボールが使用可能であるが、特にジルコニア製やジルコン製のものが好ましい。また、ビーズの大きさとしては、通常、直径1~2mm程度のものを使用するが、本発明では0.1~1.0mm程度のものを用いるのが好ましい。湿式メディア分散型装置に使用するディスクや容器内壁には、ステンレス製、ナイロン製、セラミック製など種々の素材のものが使用できるが、本発明では特にジルコニア又はシリコンカーバイドといったセラミック製のディスクや容器内壁が好ましい。以上のような湿式処理により、表面処理剤によって表面処理されたp型半導体粒子を得ることができる。本発明に係る保護層には、これらの他に必要に応じて重合開始剤、滑剤粒子等を含有させて形成してもよい。重合開始剤本発明に係る保護層に使用可能な硬化性化合物を硬化反応させる方法としては、電子線開裂反応を利用する方法やラジカル重合開始剤の存在下で光や熱を利用する方法等により硬化反応を行うことができる。ラジカル重合開始剤を用いて硬化反応を行う場合、重合開始剤として光重合開始剤、熱重合開始剤のいずれも使用することができる。また、光、熱の両方の開始剤を併用することもできる。本発明で使用できる重合開始剤としては、2,2′-アゾビスイソブチロニトリル、2,2′-アゾビス2,4-ジメチルアゾビスバレロニリル、2,2′-アゾビス2-メチルブチロニトリルなどのアゾ化合物、過酸化ベンゾイルBPO、ジ-tert-ブチルヒドロペルオキシド、tert-ブチルヒドロペルオキシド、過酸化クロロベンゾイル、過酸化ジクロロベンゾイル、過酸化ブロモメチルベンゾイル、過酸化ラウロイルなどの過酸化物等の熱重合開始剤が挙げられる。また、光重合開始剤としては、ジエトキシアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、4-2-ヒドロキシエトキシフェニル-2-ヒドロキシ-2-プロピルケトン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニルブタノン-1イルガキュアー369:BASFジャパン社製、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、2-メチル-2-モルフォリノ4-メチルチオフェニルプロパン-1-オン、1-フェニル-1,2-プロパンジオン-2-o-エトキシカルボニルオキシム等のアセトフェノン系又はケタール系光重合開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインエーテル系光重合開始剤、ベンゾフェノン、4-ヒドロキシベンゾフェノン、o-ベンゾイル安息香酸メチル、2-ベンゾイルナフタレン、4-ベンゾイルビフェニル、4-ベンゾイルフェニールエーテル、アクリル化ベンゾフェノン、1,4-ベンゾイルベンゼン等のベンゾフェノン系光重合開始剤、2-イソプロピルチオキサントン、2-クロロチオキサントン、2,4-ジメチルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2,4-ジクロロチオキサントン等のチオキサントン系光重合開始剤が挙げられる。その他の光重合開始剤としては、エチルアントラキノン、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキサイド、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキサイドイルガキュアー819:BASFジャパン社製、ビス2,4-ジメトキシベンゾイル-2,4,4-トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシエステル、9,10-フェナントレン、アクリジン系化合物、トリアジン系化合物、イミダゾール系化合物が挙げられる。また、光重合促進効果を有するものを単独又は上記光重合開始剤と併用して用いることもできる。例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、4-ジメチルアミノ安息香酸エチル、4-ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸2-ジメチルアミノエチル、4,4′-ジメチルアミノベンゾフェノン等が挙げられる。本発明に用いられる重合開始剤としては光重合開始剤が好ましく、アルキルフェノン系化合物、フォスフィンオキサイド系化合物が好ましく、更に好ましくはα-ヒドロキシアセトフェノン構造、あるいはアシルフォスフィンオキサイド構造を有する開始剤が好ましい。これらの重合開始剤は一種又は二種以上を混合して用いてもよい。重合開始剤の含有量は、重合性化合物100質量部に対し0.1~40質量部、好ましくは0.5~20質量部である。滑剤粒子また、保護層に各種の滑剤粒子を含有させることも可能である。例えば、フッ素原子含有樹脂粒子を加えることができる。フッ素原子含有樹脂粒子としては、四フッ化エチレン樹脂、三フッ化塩化エチレン樹脂、六フッ化塩化エチレンプロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、二フッ化二塩化エチレン樹脂、及びこれらの共重合体の中から一種あるいは二種以上を適宜選択するのが好ましいが、特に四フッ化エチレン樹脂及びフッ化ビニリデン樹脂が好ましい。溶媒保護層の形成に使用される溶媒としては、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール、2-メチル-2-プロパノール、ベンジルアルコール、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、メチレンクロライド、酢酸エチル、酢酸ブチル、2-メトキシエタノール、2-エトキシエタノール、テトラヒドロフラン、1-ジオキサン、1,3-ジオキソラン、ピリジン及びジエチルアミン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。保護層の形成保護層は、ラジカル重合性の硬化性化合物、表面処理したp型半導体粒子、必要に応じて公知の樹脂、重合開始剤、滑剤粒子、酸化防止剤等を添加して調製した塗布液を、公知の方法により感光層表面に塗布し、自然乾燥又は熱乾燥を行い、その後硬化処理して作製することができる。保護層の膜厚は、0.2~10μmが好ましく、0.5~6μmがより好ましい。本発明では、保護層の硬化は、塗布膜に活性線を照射してラジカルを発生して重合し、かつ分子間及び分子内で架橋反応による架橋結合を形成して硬化し、硬化樹脂を生成することが好ましい。活性線としては、紫外線、可視光などの光や電子線が好ましく、使い易さ等の見地から紫外線が特に好ましい。紫外線光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、フラッシュパルスキセノン、紫外線LED等を用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常1~20mJ/cm2、好ましくは5~15mJ/cm2である。光源の出力電圧は、好ましくは0.1~5kWであり、特に好ましくは、0.5~3kWである。電子線源としては、電子線照射装置に格別の制限はなく、一般にはこのような電子線照射用の電子線加速機として、比較的安価で大出力が得られるカーテンビーム方式のものが有効に用いられる。電子線照射の際の加速電圧は、100~300kVであることが好ましい。吸収線量としては0.005Gy~100kGy0.5~10Mradであることが好ましい。活性線の照射時間は、活性線の必要照射量が得られる時間であり、具体的には0.1秒~10分が好ましく、硬化効率又は作業効率の観点から1秒~5分がより好ましいとされる。本発明では、活性線の照射前後、及び、活性線を照射中に保護層を乾燥処理することができ、乾燥を行うタイミングは活性線の照射条件と組み合わせて適宜選択することができる。保護層の乾燥条件は、塗布液に使用する溶媒の種類や保護層の膜厚などにより適宜選択することが可能である。また、乾燥温度は、室温~180°Cが好ましく、80~140°Cが特に好ましい。また、乾燥時間は、1~200分が好ましく、5~100分が特に好ましい。本発明においては、上記乾燥条件で保護層を乾燥することにより、保護層に含有される溶媒量を20ppmから75ppmの範囲に制御することができる。≪感光体の構成≫感光体の層構成本発明の感光体は、導電性支持体の上に、感光層、保護層を形成してなるものである。感光層は、その層構成を特に制限するものではなく、保護層を含めた具体的な層構成として、例えば以下に示すものがある。1導電性支持体上に、電荷発生層と電荷輸送層、及び、保護層を順次積層した層構成2導電性支持体上に、電荷輸送物質と電荷発生材料とを含有する単層、及び、保護層を順次積層した層構成3導電性支持体上に、中間層、電荷発生層、電荷輸送層、及び、保護層を順次積層した層構成4導電性支持体上に、中間層、電荷輸送物質と電荷発生材料とを含有する単層、及び、保護層を順次積層した層構成本発明の感光体は、上記1~4いずれの層構成のものでもよく、これらの中でも、導電性支持体上に、中間層、電荷発生層、電荷輸送層、保護層を順次設けて作製された層構成のものが特に好ましい。図1は、本発明の感光体の層構成の一例を示す模式図である。図1において、1は導電性支持体、2は感光層、3は中間層、4は電荷発生層、5は電荷輸送層、6は保護層、7は表面処理p型半導体粒子を示す。次に、本発明の感光体を構成する導電性支持体、中間層、感光層電荷発生層、電荷輸送層、及び感光層を構成する部材について説明する。導電性支持体本発明で用いられる支持体は、導電性を有するものであればいずれのものでもよく、例えば、アルミニウム、銅、クロム、ニッケル、亜鉛及びステンレスなどの金属をドラム又はシート状に成形したもの、アルミニウムや銅などの金属箔をプラスチックフィルムにラミネートしたもの、アルミニウム、酸化インジウム及び酸化スズなどをプラスチックフィルムに蒸着したもの、導電性物質を単独又はバインダー樹脂と共に塗布して導電層を設けた金属、プラスチックフィルム及び紙などが挙げられる。中間層本発明では、導電性支持体と感光層の中間にバリア機能と接着機能を有する中間層を設けることができる。中間層は、カゼイン、ポリビニルアルコール、ニトロセルロース、エチレン-アクリル酸共重合体、ポリアミド、ポリウレタン及びゼラチン等のバインダー樹脂を公知の溶媒に溶解させて浸漬塗布等により形成させることができる。前記バインダー樹脂の中でもアルコール可溶性のポリアミド樹脂が好ましい。また、中間層には抵抗調整の目的で各種導電性微粒子や金属酸化物粒子を含有させることができる。例えば、アルミナ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス等の各種金属酸化物粒子。スズをドープした酸化インジウム、アンチモンをドープした酸化スズ及び酸化ジルコニウムなどの超微粒子を用いることができる。これら金属酸化物粒子を1種類若しくは2種類以上混合して用いることができる。2種類以上混合して用いる場合には、固溶体又は融着の形態をとってもよい。このような金属酸化物粒子は、数平均一次粒径が0.3μm以下のものが好ましく、0.1μm以下のものがより好ましい。中間層の形成に使用可能な溶媒としては、前述した導電性微粒子や金属酸化物粒子等の無機微粒子を良好に分散させ、ポリアミド樹脂をはじめとするバインダー樹脂を溶解するものが好ましい。具体的には、エタノール、n-プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n-ブタノール、t-ブタノール、sec-ブタノール等の炭素数2~4のアルコール類が、バインダー樹脂として好ましいとされるポリアミド樹脂に対して良好な溶解性と塗布性能を発現させることから好ましい。また、保存性や無機微粒子の分散性を向上させるために、前記溶媒に対して以下の様な助溶剤を併用することができる。好ましい効果が得られる助溶媒としては、例えば、メタノール、ベンジルアルコール、トルエン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。塗布液形成時のバインダー樹脂濃度は、中間層の膜厚や塗布方式に合わせて適宜選択することができる。また、無機微粒子等を分散させたとき、バインダー樹脂に対する無機微粒子の混合割合は、バインダー樹脂100質量部に対して無機微粒子を20~400質量部とすることが好ましく、50~200質量部とすることがより好ましい。無機微粒子の分散手段は、超音波分散機、ボールミル、サンドグラインダー、及び、ホモミキサー等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。また、中間層の乾燥方法は、溶媒の種類や形成する膜厚に応じて公知の乾燥方法を適宜選択することができ、特に熱乾燥が好ましい。中間層の膜厚は、0.1~15μmが好ましく、0.3~10μmがより好ましい。感光層前述した様に、本発明の感光体を構成する感光層は、電荷発生機能と電荷輸送機能を1つの層に付与した単層構造の他に、電荷発生層CGLと電荷輸送層CTLに感光層の機能を分離させた層構成のものがより好ましい。このように、機能分離型の層構成とすることにより、繰り返し使用に伴う残留電位の上昇を小さく制御できる他、各種の電子写真特性を目的に合わせて制御し易いメリットがある。負帯電性感光体は中間層の上に電荷発生層CGL、その上に電荷輸送層CTLを設ける構成をとり、正帯電性感光体は中間層の上に電荷輸送層CTL、その上に電荷発生層CGLを設ける構成をとる。好ましい感光層の層構成は前記機能分離構造を有する負帯電感光体である。以下に、感光層の具体例として機能分離型の負帯電感光体の感光層の各層について説明する。電荷発生層本発明で形成される電荷発生層は、電荷発生物質とバインダー樹脂を含有するもので、電荷発生物質をバインダー樹脂溶液中に分散させてなる塗布液を塗布して形成されたものが好ましい。電荷発生物質は、スーダンレッドやダイアンブルー等のアゾ原料、ピレンキノンやアントアントロン等のキノン顔料、キノシアニン顔料、ペリレン顔料、インジゴ及びチオインジゴ等のインジゴ顔料、フタロシアニン顔料等があり、これらに限定されるものではない。これらの電荷発生物質は単独若しくは公知のバインダー樹脂中に分散させる形態で使用することができる。電荷発生層を形成するバインダー樹脂としては、公知の樹脂を用いることができ、例えば、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、メラミン樹脂、並びにこれらの樹脂の内2つ以上を含む共重合体樹脂例えば、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸共重合体樹脂及びポリ-ビニルカルバゾール樹脂等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。電荷発生層の形成は、バインダー樹脂を溶媒で溶解した溶液中に分散機を用いて電荷発生物質を分散して塗布液を調製し、塗布液を塗布機で一定の膜厚に塗布し、塗布膜を乾燥して作製することが好ましい。電荷発生層に使用するバインダー樹脂を溶解し塗布するための溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、1-ジオキサン、1,3-ジオキソラン、ピリジン及びジエチルアミン等を挙げられるが、これらに限定されるものではない。電荷発生物質の分散手段としては、超音波分散機、ボールミル、サンドグラインダー及びホモミキサー等が使用できるが、これらに限定されるものではない。バインダー樹脂に対する電荷発生物質の混合割合は、バインダー樹脂100質量部に対して電荷発生物質1~600質量部が好ましく、50~500質量部がより好ましい。電荷発生層の膜厚は、電荷発生物質の特性、バインダー樹脂の特性及び混合割合等により異なるが0.01~5μmが好ましく、0.05~3μmがより好ましい。なお、電荷発生層用の塗布液は塗布前に異物や凝集物を濾過することで画像欠陥の発生を防ぐことができる。前記顔料を真空蒸着することによって形成すこともできる。電荷輸送層本発明で形成される電荷輸送層は、少なくとも層内に電荷輸送物質とバインダー樹脂を含有するものであり、電荷輸送物質をバインダー樹脂溶液中に溶解、塗布して形成される。電荷輸送物質は、公知の化合物を用いることが可能で、例えば、以下のものが挙げられる。すなわち、カルバゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾロン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、トリアリールアミン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、スチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ポリ-N-ビニルカルバゾール、ポリ-1-ビニルピレン及びポリ-9-ビニルアントラセン等。これらの化合物を単独あるいは二種類以上混合して使用することができる。また、電荷輸送層用のバインダー樹脂は公知の樹脂を用いることが可能で、例えば、以下のものが挙げられる。すなわち、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン-アクリルニトリル共重合体樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、スチレン-メタクリル酸エステル共重合体樹脂等が挙げられる。これらの中でもポリカーボネート樹脂が好ましく、更に、ビスフェノールABPA、ビスフェノールZBPZ、ジメチルBPA、BPA-ジメチルBPA共重合体等のタイプのポリカーボネート樹脂が耐クラック性、耐磨耗性、帯電特性の観点から好ましいものである。電荷輸送層は塗布法に代表される公知の方法で形成することが可能であり、例えば、塗布法では、バインダー樹脂と電荷輸送物質を溶解して塗布液を調製し、塗布液を一定の膜厚で塗布後、乾燥処理することにより所望の電荷輸送層を形成することができる。上記バインダー樹脂と電荷輸送物質を溶解する溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキソラン等が挙げられる。なお、電荷輸送層形成用の塗布液を作製する際に使用する溶媒は上記のものに限定されるものではない。バインダー樹脂と電荷輸送物質の混合比率は、バインダー樹脂100質量部に対して電荷輸送物質を10~500質量部とすることが好ましく、20~100質量部とすることがより好ましい。電荷輸送層の厚さは、電荷輸送物質やバインダー樹脂の特性、及び、これらの混合比等により異なるが、5~40μmが好ましく、10~30μmがより好ましい。電荷輸送層中には、公知の酸化防止剤を添加することが可能で、例えば特開2000-305291号公報記載の酸化防止剤が使用できる。感光体の塗布方法本発明の感光体を構成する中間層、電荷発生層、電荷輸送層、保護層等の各層は公知の塗布方法により形成することができる。具体的には、浸漬コーティング法、スプレーコーティング法、スピンナーコーティング法、ビードコーティング法、ブレードコーティング法、ビームコーティング法、円形量規制型塗布法等が挙げられる。なお、円形量規制型塗布方法については、例えば、特開昭58-189061号公報、特開2005-275373号公報に記載されている。≪画像形成装置≫本発明に係る画像形成装置について説明する。本発明の効果を実現する画像形成装置は、1少なくとも本発明の保護層を有する電子写真感光体、2前述した電子写真感光体表面を帯電する帯電手段、3帯電手段により帯電された電子写真感光体表面に像露光を行い潜像形成を行う露光手段、4露光手段により形成された潜像を顕像化してトナー画像を形成する現像手段、5現像手段により電子写真感光体表面に形成されたトナー画像を用紙等の転写媒体あるいは転写ベルト上に転写する転写手段、を有するものである。なお、電子写真感光体を帯電させる帯電手段では非接触帯電装置を用いることが好ましい。非接触帯電装置としては、コロナ帯電装置、コロトロン帯電装置、スコロトロン帯電装置を挙げることができる。図2は、本発明の実施形態のひとつを示すカラー画像形成装置の一例を説明する断面構成図である。このカラー画像形成装置は、タンデム型カラー画像形成装置と称せられるもので、4組の画像形成部画像形成ユニット10Y、10M、10C、10Bkと、無端ベルト状中間転写体ユニット7と、給紙搬送手段21及び定着手段24とから成る。画像形成装置の本体Aの上部には、原稿画像読み取り装置SCが配置されている。イエロー色の画像を形成する画像形成部10Yは、第1の像担持体としてのドラム状の感光体1Yの周囲に配置された帯電手段帯電工程2Y、露光手段露光工程3Y、現像手段現像工程4Y、一次転写手段一次転写工程としての一次転写ローラ5Y、クリーニング手段6Yを有する。マゼンタ色の画像を形成する画像形成部10Mは、第1の像担持体としてのドラム状の感光体1M、帯電手段2M、露光手段3M、現像手段4M、一次転写手段としての一次転写ローラ5M、クリーニング手段6Mを有する。シアン色の画像を形成する画像形成部10Cは、第1の像担持体としてのドラム状の感光体1C、帯電手段2C、露光手段3C、現像手段4C、一次転写手段としての一次転写ローラ5C、クリーニング手段6Cを有する。黒色画像を形成する画像形成部10Bkは、第1の像担持体としてのドラム状の感光体1Bk、帯電手段2Bk、露光手段3Bk、現像手段4Bk、一次転写手段としての一次転写ローラ5Bk、クリーニング手段6Bkを有する。前記4組の画像形成ユニット10Y、10M、10C、10Bkは、感光体ドラム1Y、1M、1C、1Bkを中心に、帯電手段2Y、2M、2C、2Bkと、像露光手段3Y、3M、3C、3Bkと、現像手段4Y、4M、4C、4Bk、及び、感光体ドラム1Y、1M、1C、1Bkをクリーニングするクリーニング手段6Y、6M、6C、6Bkより構成されている。前記画像形成ユニット10Y、10M、10C、10Bkは、感光体1Y、1M、1C、1Bkに、それぞれ形成するトナー画像の色が異なるだけで、同じ構成であり、画像形成ユニット10Yを例にして詳細に説明する。画像形成ユニット10Yは、像形成体である感光体ドラム1Yの周囲に、帯電手段2Y以下、単に帯電手段2Y、あるいは、帯電器2Yという、露光手段3Y、現像手段4Y、クリーニング手段6Y以下、単にクリーニング手段6Y、あるいは、クリーニングブレード6Yというを配置し、感光体ドラム1Y上にイエローYのトナー画像を形成するものである。また、本実施の形態においては、この画像形成ユニット10Yのうち、少なくとも感光体ドラム1Y、帯電手段2Y、現像手段4Y、クリーニング手段6Yを一体化するように設けている。帯電手段2Yは、感光体ドラム1Yに対して一様な電位を与える手段であって、本実施の形態においては、感光体ドラム1Yにコロナ放電型の帯電器2Yが用いられている。像露光手段3Yは、帯電器2Yによって一様な電位を与えられた感光体ドラム1Y上に、画像信号イエローに基づいて露光を行い、イエローの画像に対応する静電潜像を形成する手段であって、この露光手段3Yとしては、感光体ドラム1Yの軸方向にアレイ状に発光素子を配列したLEDと結像素子商品名;セルフォック登録商標レンズとから構成されるもの、あるいは、レーザ光学系などが用いられる。本発明の画像形成装置としては、上述の感光体と、現像器、クリーニング器等の構成要素をプロセスカートリッジ画像形成ユニットとして一体に結合して構成し、この画像形成ユニットを装置本体に対して着脱自在に構成しても良い。また、帯電器、像露光器、現像器、転写又は分離器、及びクリーニング器の少なくとも1つを感光体とともに一体に支持してプロセスカートリッジ画像形成ユニットを形成し、装置本体に着脱自在の単一画像形成ユニットとし、装置本体のレールなどの案内手段を用いて着脱自在の構成としても良い。無端ベルト状中間転写体ユニット7は、複数のローラにより巻回され、回動可能に支持された半導電性エンドレスベルト状の第2の像担持体としての無端ベルト状中間転写体70を有する。画像形成ユニット10Y、10M、10C、10Bkより形成された各色の画像は、一次転写手段としての一次転写ローラ5Y、5M、5C、5Bkにより、回動する無端ベルト状中間転写体70上に逐次転写されて、合成されたカラー画像が形成される。給紙カセット20内に収容された転写材定着された最終画像を担持する支持体:例えば普通紙、透明シート等としての転写材Pは、給紙手段21により給紙され、複数の中間ローラ22A、22B、22C、22D、レジストローラ23を経て、二次転写手段としての二次転写ローラ5bに搬送され、転写材P上に二次転写してカラー画像が一括転写される。カラー画像が転写された転写材Pは、定着手段24により定着処理され、排紙ローラ25に挟持されて機外の排紙トレイ26上に載置される。ここで、中間転写体や転写材等の感光体上に形成されたトナー画像の転写支持体を総称して転写媒体という。一方、二次転写手段としての二次転写ローラ5bにより転写材Pにカラー画像を転写した後、転写材Pを曲率分離した無端ベルト状中間転写体70は、クリーニング手段6bにより残留トナーが除去される。画像形成処理中、一次転写ローラ5Bkは常時、感光体1Bkに当接している。他の一次転写ローラ5Y、5M、5Cはカラー画像形成時にのみ、それぞれ対応する感光体1Y、1M、1Cに当接する。二次転写ローラ5bは、ここを転写材Pが通過して二次転写が行われる時にのみ、無端ベルト状中間転写体70に当接する。また、装置本体Aから筐体8を支持レール82L、82Rを介して引き出し可能にしてある。筐体8は、画像形成部10Y、10M、10C、10Bkと、無端ベルト状中間転写体ユニット7とから成る。画像形成部10Y、10M、10C、10Bkは、垂直方向に縦列配置されている。感光体1Y、1M、1C、1Bkの図示左側方には無端ベルト状中間転写体ユニット7が配置されている。無端ベルト状中間転写体ユニット7は、ローラ71、72、73、74を巻回して回動可能な無端ベルト状中間転写体70、一次転写ローラ5Y、5M、5C、5Bk、及びクリーニング手段6bとから成る。以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。<表面処理粒子の作製>表面処理粒子1の作製p型半導体粒子として数平均一次粒径20nmのCuAlO2100質量部、表面処理剤としてメチルハイドロジェンポリシロキサンKF-99:信越化学株製10質量部、メチルエチルケトン1000質量部を湿式サンドミル径0.5mmのアルミナビーズに入れ、30°Cにて6時間混合、その後、メチルエチルケトンとアルミナビーズを濾別し、60°Cにて乾燥し表面処理粒子1を調製した。表面処理粒子2の作製表面処理粒子1の作製において、表面処理剤として、ヘキサメチルジシラザンを用いた他は、表面処理粒子1と同様にして表面処理粒子2を作製した。表面処理粒子3の作製表面処理粒子1の作製において、p型半導体粒子として数平均一次粒径30nmのCuAlO2を用い、表面処理剤として、例示化合物S-15を用いた他は表面処理粒子1と同様にして表面処理粒子3を作製した。表面処理粒子4の作製表面処理粒子1の作製において、p型半導体粒子として数平均粒子径30nmのCuInO2を用い、表面処理剤として例示化合物S-15を用いた他は、表面処理粒子1同様にして表面処理粒子4を作製した。表面処理粒子5の作製表面処理粒子1の作製において、p型半導体粒子として数平均粒子径50nmのCuInO2を用い、表面処理剤として例示化合物S-15を用いた他は、表面処理粒子1同様にして表面処理粒子5を作製した。表面処理粒子6の作製表面処理粒子1の作製において、p型半導体粒子として数平均粒子径100nmのCuGaO2を用い、表面処理剤として例示化合物S-30を用いた他は、表面処理粒子1同様にして表面処理粒子6を作製した。表面処理粒子7の作製表面処理粒子1の作製において、p型半導体粒子として数平均粒子径100nmのCuGaO2を用い、表面処理剤として例示化合物S-35を用いた他は、表面処理粒子1同様にして表面処理粒子7を作製した。比較用表面処理粒子8の作製表面処理p型半導体粒子1の作製において、金属酸化物粒子として数平均粒子径20nmのSnO2を用い、表面処理剤として例示化合物S-15を用いた他は、表面処理粒子1同様にして表面処理粒子8を作製した。比較用表面処理粒子9の作製表面処理粒子1の作製において、金属酸化物粒子として数平均粒子径50nmのSiO2100質量部を用い、表面処理剤としてジメチルポリシロキサンKF-96-10cs:信越化学株製100質量部を用いた他は、表面処理粒子1同様にして表面処理粒子9を作製した。以上のようにして作製した表面処理粒子の構成を表1に示した。<感光体1の作製>下記のようにして感光体1を作製した。直径60mmの円筒形アルミニウム支持体の表面を切削加工し、表面粗さRz=1.5μmの導電性支持体を用意した。中間層下記組成の分散液を同じ混合溶媒にて二倍に希釈し、一夜静置後に濾過フィルター;日本ポール社製リジメッシュ5μmフィルター使用し、中間層塗布液を作製した。ポリアミド樹脂CM8000東レ社製1質量部酸化チタンSMT500SASテイカ社製3質量部メタノール10質量部分散機としてサンドミルを用いて、バッチ式で10時間の分散を行った。上記塗布液を用いて前記支持体上に、乾燥膜厚2μmとなるようにして浸漬塗布法で塗布した。電荷発生層電荷発生物質:チタニルフタロシアニン顔料Cu-Kα特性X線回折スペクトル測定で、少なくとも27.3°の位置に最大回折ピークを有するチタニルフタロシアニン顔料20質量部ポリビニルブチラール樹脂6000-C:電気化学工業社製10質量部酢酸t-ブチル700質量部4-メトキシ-4-メチル-2-ペンタノン300質量部を混合し、サンドミルを用いて10時間分散し、電荷発生層塗布液を調製した。この塗布液を前記中間層の上に浸漬塗布法で塗布し、乾燥膜厚0.3μmの電荷発生層を形成した。電荷輸送層電荷輸送物質4,4′-ジメチル-4′′-β-フェニルスチリルトリフェニルアミン225質量部バインダー:ポリカーボネートZ300:三菱ガス化学社製300質量部酸化防止剤Irganox1010:BASFジャパン社製6質量部THF1600質量部トルエン400質量部シリコーンオイルKF-54:信越化学社製1質量部を混合し、溶解して電荷輸送層塗布液を調製した。この塗布液を前記電荷発生層の上に浸漬塗布法で塗布し、乾燥膜厚20μmの電荷輸送層を形成した。保護層表面処理粒子1100質量部バインダー硬化性化合物:例示化合物M1100質量部重合開始剤イルガキュアー819:BASFジャパン社製15質量部2-ブタノール500質量部上記成分を混合撹拌し、十分に溶解分散し、保護層塗布液を作製した。該塗布液を先に電荷輸送層まで作製した感光体上に円形スライドホッパー塗布機を用いて、保護層を塗布した。塗布後、キセノンランプを用いて紫外線を1分間照射して、乾燥膜厚2.0μmの保護層を得た。このようにして感光体1を作製した。<感光体2と10の作製>感光体1の保護層を表2のように変更し、同様に塗布した。塗布後、120°C70分間乾燥を行い、乾燥膜厚2.0μmの保護層を得た。このようにして感光体2と感光体10を作製した。ここでは、保護層に硬化性化合物を使用せず、バインダーとしてポリカーボネートZ300三菱ガス化学社製を用いた。また、感光体10の保護層には、電荷輸送物質として、下記構造式のCTM-1を50質量部添加した。<感光体3~9の作製>感光体1の保護層を表2のように変更した以外は同様にして感光体3~9を作製した。また、感光体8の保護層には、表面処理粒子を添加せず、電荷輸送物質として下記構造式のRCTMを100質量部添加した。ここで、感光体1~7は本発明の感光体であり、感光体8~10は比較用の感光体である。<感光体の評価>評価機として、基本的に図1の構成を有するコニカミノルタビジネステクノロジーズ社製bizhubPROC6501を用い、該評価機に各感光体を搭載して、評価を行った。23°C50RH環境で、画像比率6の文字画像をA4横送りで各300,000枚両面連続でプリントを行う耐久試験を実施し、耐久試験中あるいは耐久試験後に、感光体の耐摩耗特性、残留電位及び画像メモリーの評価を行った。なお、評価は、以下に示した指標に従い実施した。耐摩耗特性の評価前記耐久試験前後における感光層の膜厚を測定し、膜厚減耗量を算出し評価した。感光層の膜厚は均一膜厚部分塗布の先端部及び後端部の膜厚変動部分を膜厚プロフィールを作製して除くをランダムに10か所測定し、その平均値を感光層の膜厚とする。膜厚測定器は渦電流方式の膜厚測定器EDDY560CHELMUTFISCHERGMBTECO社製を用いて行い、実写試験前後の感光層膜厚の差を膜厚減耗量とする。100krot10万回転あたりの減耗量μmをα値μm/10万回転として表3に記載した。画像メモリーの評価前記耐久試験後に、べた黒とべた白の混在した画像を10枚連続して印刷し、続いて均一なハーフトーン画像を印刷し、該ハーフトーン画像中に前記べた黒とべた白の履歴が現れているメモリー発生か否メモリー発生なしかで判定した。○;メモリー発生なし×;メモリー発生あり露光後電位の評価感光体の電位特性の指標として露光後の電位を測定した。評価はジェンテック社製CYNTHIA59を用いて、20°C、65RHの条件下、暗所でスコロトロン帯電器により感光体を表面電位が-500Vになるように帯電させ、33msec後に強度148μW/cm2の白色露光を行い、感光体表面上の露光後の電位残留電位を測定した。以上の評価結果を表3に示した。以上の結果から明らかなように、本発明の感光体1~7は、比較用の感光体8~10に比べて耐摩耗性、画像メモリー、残留電位の獲得性において、いずれも優れた特性を有する感光体であることが分かる。"