InとSnを含む混合物を溶解炉において還元ガスにより750~1000°Cにおいて還元する工程と、還元により得られる溶湯からスラグを除去する工程と、スラグ除去後の溶湯を鋳造し、InとSnを含む合金を製造する工程とを含むInとSnを含む合金の回収方法。前記スラグを溶湯全容量の1~3mass除去する請求項1に記載のInとSnを含む合金の回収方法。前記還元ガスが、RXガスである請求項1又は2に記載のInとSnを含む合金の回収方法。ITOリサイクル材を溶解炉において還元ガスにより750~1000°Cにおいて還元する工程と、還元により得られる溶湯からスラグを除去する工程と、スラグ除去後の溶湯を鋳造し、InとSnを含む合金を製造する工程とを含むITOリサイクル材の処理方法。上記課題を鑑み、本発明は、原料からのIn又はSnの損失を抑制でき、且つInとSnの合金を高純度で回収可能なInとSnとを含む合金の回収方法及びITOリサイクル材の処理方法を提供することを課題とする。上記課題を解決するために本発明者が鋭意検討した結果、ITOスクラップ等に含まれるInとSnの混合物を適正な温度で還元処理し、得られた溶湯中のスラグを適量抜き取って鋳造することにより、原料からのIn、Snの損失を抑制しつつ、高純度のInとSnを含む合金が得られることを見出した。かかる知見を基礎として完成した本発明は一側面において、InとSnを含む混合物を溶解炉において還元ガスにより750~1000°Cにおいて還元する工程と、還元により得られる溶湯からスラグを除去する工程と、スラグ除去後の溶湯を鋳造し、InとSnを含む合金を製造する工程とを含むInとSnを含む合金の回収方法である。本発明のInとSnを含む合金の回収方法は一実施態様において、スラグを溶湯全容量の1~3mass除去する。本発明のInとSnを含む合金の回収方法は一実施態様において、還元ガスが、RXガスである。本発明は別の一側面において、ITOリサイクル材を溶解炉において還元ガスにより750~1000°Cにおいて還元する工程と、還元により得られる溶湯からスラグを除去する工程と、除去後の溶湯を鋳造し、InとSnを含む合金を製造する工程とを含むITOリサイクル材の処理方法である。本発明によれば、原料からのIn又はSnの損失を抑制でき、InとSnの合金を高純度で回収可能なInとSnとを含む合金の回収方法及びITOリサイクル材の処理方法が提供できる。本発明の実施の形態に係るInとSnとを含む合金の回収方法は、1InとSnを含む混合物を溶解炉において還元ガスにより750~1000°Cにおいて還元する工程と、2還元により得られる溶湯からスラグを除去する工程と、3スラグ除去後の溶湯を鋳造し、InとSnを含む合金を製造する工程とを含むInとSnを含む。本処理方法による還元雰囲気下での還元によって、不純物が除去可能であることが分かった。理由は明確ではないが、InとSnを含む混合物中に含まれるジルコニウム、鉄等の高融点金属化合物は、本発明の還元処理条件では還元されにくいか、もしくは還元されたとしても鋳造時に溶解しないため、スラグとして除去することにより容易に取り除くことができるものと考えられる。一方で、Pbなどの低融点金属化合物は、この還元処理温度で還元揮発され系外に除去されると推定される。以下、処理方法の具体例について説明する。本発明の実施の形態に係る処理方法が処理対象とする原料は、使用済ITOターゲット、ITOターゲット作製時の端材等のITOリサイクル材であり、InとSnを含む混合物である。以下に制限されるものではないが、InとSnを含む混合物中には、例えば80~66massのInと、2~14massのSnとを含んでいる。InとSnを含む混合物はInとSnの他にも0.005~0.05massのPb、0.01~0.1massのFe、0.005~0.05massのAl、0.005~0.05massのNa、0.01~0.1massのZr、0.005~0.05massのCl等を含んでいる。InとSnとを含む混合物ITOリサイクル材は、成型体を粉砕することなくそのまま使用処理できるため、粉砕処理の為の粉塵除去対策などを行う必要がなく、より簡便に処理することができ、且つ環境にも優しい。反応装置としては一般的には溶融炉が用いられるが、還元ガスに対して耐食性を有する材質で形成された反応容器であれば特に制限されない。溶融炉中に吹き込む還元ガスとしては、水素、一酸化炭素、RXガスなどが好適に用いられ、中でもRXガスを用いることが好ましい。RXガスとは、吸熱型変性ガスを意味し、具体的には天然ガスや都市ガス、プロパンガスなどの炭化水素化合物と空気とを混合加熱分解して発生させるガスを指す。RXガスの組成は、使用する炭化水素化合物にも関係するが、例えば、水素30~50vol、一酸化炭素20~30vol、窒素20~50vol含み、製造コスト的に非常に有利なガスである。還元反応は、熱分析測定の発熱ピークである500°Cから開始している。但し実用的な反応速度と処理時間を考慮すると、実質的な還元温度は750°Cから1000°Cとするのが好ましく、より好ましくは750°Cから950°C、更に好ましくは、800°Cから920°Cである。還元温度を750°C以下とすると、反応が遅く、長時間を要するため生産性が悪くなる場合がある。反応温度が1000°Cを超えると、In化合物が揮発する副反応が多くなって回収等の設備に負荷がかかる場合がある。また、反応温度が1000°Cを超えると、還元雰囲気での炉材にも負荷がかかり交換頻度が高くなる。上記の還元処理によりInとSnを含む溶湯が生成される。この溶湯中には、ジルコニウム、鉄、銅等の不純物高融点金属化合物がスラグとして含まれているため、溶湯温度を160~250°C程度に冷却して溶湯中からスラグを除去する。スラグ除去量は、溶湯全容量の1~3mass除去することが好ましい。1未満では、不純物除去が不十分で鋳造合金の純度が低くなる場合がある。3以上では、鋳造合金の純度は高くなるが、歩留まりが悪くなる場合がある。そして、スラグ除去後の溶湯を鋳型に入れてInとSnとを含む合金In-Sn合金を製造する。得られた鋳造合金中の不純物は、各成分10ppm以下、合計100ppm以下である。本方法によれば、In-Sn品位99.99mass4N以上のIn-Sn合金が得られる。上記のように本発明の実施の形態を記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態及び運用技術が明らかとなろう。本発明では、原料として、ITO戻りターゲット、ターゲット作製時の端材などのITOリサイクル材の成型体の処理を例に説明したが、適当量のInとSnを含む混合物であれば、上記と同様な処理により処理可能であることは勿論である。また、原料としては、成型体以外にも、必要に応じて粉砕処理したものを使用してもよいし、平研粉などの微粉状になった材料を使用しても構わない。以下、本発明の実施例を示すが、これらは本発明をより良く理解するために提供するものであり、本発明が限定されることを意図するものではない。実施例1900°Cでの溶解還元処理ITOのスクラップ端材1kgを黒鉛るつぼに入れて、マッフル炉でガス還元処理を行った。還元ガスは、LNGと空気から発生させたRXガスを理論量の5倍程度で流し、900°Cで10時間還元処理した。ITOが還元されてInとSnの合金が得られ、InとSnの回収率はほぼ100となった。得られた溶湯中の不溶解物等のスラグを冷却して溶湯全容量の2mass除去し、180°CでIn-Sn合金を鋳造した。鋳造合金中の不純物は、Pbが5massppm以下、Feが2massppm、Alが1massppm、Naが10massppm以下、Zrが1massppm以下、塩素が1massppm以下となり、合金としての品位が99.99mass4N以上であった。実施例21000°Cでの溶解還元処理ITOのスクラップ端材1kgを黒鉛るつぼに入れて、マッフル炉でガス還元処理を行った。還元ガスは、LNGと空気から発生させたRXガスを流し、1000°Cで10時間処理した。ITOが還元されてInとSnの合金が得られ、その回収率はほぼ100となった。得られた溶湯中の不溶解物等のスラグを冷却して溶湯全容量の2mass除去し、180°CでIn-Sn合金を鋳造した。鋳造合金中の不純物は、Pbが1massppm以下、Feが2massppm、Alが1massppm、Naが10massppm以下、Zrが1ppm以下、塩素が1massppm以下となり、合金としての品位が99.99mass4N以上であった。実施例3900°C還元溶解であり、還元ガスが水素である場合ITOのスクラップ端材1kgを黒鉛るつぼに入れて、マッフル炉でガス還元処理を行った。還元ガスには水素を使用し、900°Cで5時間処理した。ITOが還元されてInとSnの合金が得られ、その回収率はほぼ100となった。得られた溶湯中の不溶解物等のスラグを溶湯全容量の2mass除去し、180°CでIn-Sn合金を鋳造した。鋳造合金中の不純物は、Pbが1massppm以下、Feが2massppm、Alが1massppm、Naが10massppm以下、Zrが1massppm以下、塩素が1massppm以下となり、合金としての品位が99.99mass4N以上であった。比較例1還元溶解が1100°Cの場合還元処理の温度を1100°Cとした以外、実施例1と同様に処理した。ITOが還元されてInとSnの合金が得られ、その回収率は90とIn成分が揮発飛散してしまった。得られた溶湯中の不溶解物等のスラグを溶湯全容量の2mass除去し、180°CでIn-Sn合金を鋳造した。鋳造合金中の不純物は、Pbが5massppm以下、Feが2massppm、Alが1massppm、Naが10massppm以下、Zrが1massppm以下、塩素が1massppm以下となった。比較例1において、合金としての品位は99.99mass4N以上であったが、還元処理工程においてIn成分の損失が生じた。比較例2スラグ除去を行わない場合ITOのスクラップ端材1kgを黒鉛るつぼに入れて、マッフル炉でガス還元処理を行った。還元ガスは、LNGと空気から発生させたRXガスを流し、900°Cで10時間還元処理した。ITOが還元されてInとSnの合金が得られ、その回収率はほぼ100となった。その後、スラグは除去せずに鋳造を行った。鋳造合金中の不純物は、Pbが5massppm以下、Feが2massppm、Alが1ppm、Naが10massppm以下、Zrが1massppm以下、塩素が1massppm以下となり、合金としての品位が99mass程度だった。