1ジアルキルスルホン、2アルミニウムハロゲン化物、および、3ハロゲン化アンモニウム、第一アミンのハロゲン化水素塩、第二アミンのハロゲン化水素塩、第三アミンのハロゲン化水素塩、一般式:R1R2R3R4NXR1~R4は同一または異なってアルキル基、Xは第四アンモニウムカチオンに対するカウンターアニオンを示すで表される第四アンモニウム塩からなる群から選択される少なくとも1つの含窒素化合物を少なくとも含むめっき液を用いた電解法によって基材の表面にアルミニウム被膜を形成した後、当該被膜を基材から剥離してアルミニウム箔を得、得られたアルミニウム箔に対して熱処理を行うことを特徴とするアルミニウム箔の製造方法。熱処理を80~550°Cで行うことを特徴とする請求項1記載の製造方法。ジアルキルスルホンがジメチルスルホンであることを特徴とする請求項1または2記載の製造方法。請求項1乃至3のいずれかに記載の方法で製造されてなることを特徴とするアルミニウム箔。アルミニウムの含量が97.00~99.95mass、SとClの含量がともに1.50mass以下であり、厚みが1~15μmであることを特徴とする請求項4記載のアルミニウム箔。箔の表面に対して111面のX線回折強度のその他の結晶面のX線回折強度に対する比率が2.5以上である結晶配向性を有することを特徴とする請求項4または5記載のアルミニウム箔。請求項4記載のアルミニウム箔からなることを特徴とする蓄電デバイス用正極集電体。請求項4記載のアルミニウム箔に電極活物質を担持させてなることを特徴とする蓄電デバイス用電極。請求項8記載の蓄電デバイス用電極を用いて構成されてなることを特徴とする蓄電デバイス。そこで本発明は、蓄電デバイスの小型化や高エネルギー密度化のための正極集電体の薄膜化が可能であり、かつ、高温に晒された後も安定に保持される、張力に対する優れた強度を有する高純度なアルミニウム箔を製造する方法を提供することを目的とする。本発明者らは、これまでアルミニウムの電気めっき技術について精力的に研究を行ってきているが、その研究成果として、ジアルキルスルホンにアルミニウムハロゲン化物を溶解して調製しためっき液を用いる方法を開発している特開2008-31551号公報。そこで本発明者らは、このめっき液を用いた電解法によるアルミニウム箔の製造を試みたところ、このめっき液は、特許文献1に記載の方法で用いられるめっき液よりも塩素濃度が格段に低いため、めっき処理中に塩化水素ガスが発生しにくいといった利点や、8A/dm2以上の電流密度を印加しても安定なめっき処理が可能なため、成膜速度が速いといった利点があるものの、基材の表面に形成されるアルミニウム被膜は硬く延性に乏しいため、当該被膜を基材から剥離する際に破れてしまうといった現象が起こることがわかった。そこでこの問題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、めっき液に所定の含窒素化合物を添加することで、より速い成膜速度で延性に富む高純度のアルミニウム箔が得られることを見出した。さらに、こうして得たアルミニウム箔に対して熱処理を行うと、全く意外にも、張力に対する強度が向上すること、向上した強度は高温に晒された後も安定に保持されることが判明した。上記の知見に基づいてなされた本発明のアルミニウム箔の製造方法は、請求項1記載の通り、1ジアルキルスルホン、2アルミニウムハロゲン化物、および、3ハロゲン化アンモニウム、第一アミンのハロゲン化水素塩、第二アミンのハロゲン化水素塩、第三アミンのハロゲン化水素塩、一般式:R1R2R3R4NXR1~R4は同一または異なってアルキル基、Xは第四アンモニウムカチオンに対するカウンターアニオンを示すで表される第四アンモニウム塩からなる群から選択される少なくとも1つの含窒素化合物を少なくとも含むめっき液を用いた電解法によって基材の表面にアルミニウム被膜を形成した後、当該被膜を基材から剥離してアルミニウム箔を得、得られたアルミニウム箔に対して熱処理を行うことを特徴とする。また、請求項2記載の製造方法は、請求項1記載の製造方法において、熱処理を80~550°Cで行うことを特徴とする。また、請求項3記載の製造方法は、請求項1または2記載の製造方法において、ジアルキルスルホンがジメチルスルホンであることを特徴とする。また、本発明のアルミニウム箔は、請求項4記載の通り、請求項1乃至3のいずれかに記載の方法で製造されてなることを特徴とする。また、請求項5記載のアルミニウム箔は、請求項4記載のアルミニウム箔において、アルミニウムの含量が97.00~99.95mass、SとClの含量がともに1.50mass以下であり、厚みが1~15μmであることを特徴とする。また、請求項6記載のアルミニウム箔は、請求項4または5記載のアルミニウム箔において、箔の表面に対して111面のX線回折強度のその他の結晶面のX線回折強度に対する比率が2.5以上である結晶配向性を有することを特徴とする。また、本発明の蓄電デバイス用正極集電体は、請求項7記載の通り、請求項4記載のアルミニウム箔からなることを特徴とする。また、本発明の蓄電デバイス用電極は、請求項8記載の通り、請求項4記載のアルミニウム箔に電極活物質を担持させてなることを特徴とする。また、本発明の蓄電デバイスは、請求項9記載の通り、請求項8記載の蓄電デバイス用電極を用いて構成されてなることを特徴とする。本発明によれば、蓄電デバイスの小型化や高エネルギー密度化のための正極集電体の薄膜化が可能であり、かつ、高温に晒された後も安定に保持される、張力に対する優れた強度を有する高純度なアルミニウム箔を製造する方法を提供することができる。本発明のアルミニウム箔の製造方法は、1ジアルキルスルホン、2アルミニウムハロゲン化物、および、3ハロゲン化アンモニウム、第一アミンのハロゲン化水素塩、第二アミンのハロゲン化水素塩、第三アミンのハロゲン化水素塩、一般式:R1R2R3R4NXR1~R4は同一または異なってアルキル基、Xは第四アンモニウムカチオンに対するカウンターアニオンを示すで表される第四アンモニウム塩からなる群から選択される少なくとも1つの含窒素化合物を少なくとも含むめっき液を用いた電解法によって基材の表面にアルミニウム被膜を形成した後、当該被膜を基材から剥離してアルミニウム箔を得、得られたアルミニウム箔に対して熱処理を行うことを特徴とするものである。本発明のアルミニウム箔の製造方法において用いるめっき液に含ませるジアルキルスルホンとしては、ジメチルスルホン、ジエチルスルホン、ジプロピルスルホン、ジヘキシルスルホン、メチルエチルスルホンなどのアルキル基の炭素数が1~6のもの直鎖状でも分岐状でもよいを例示することができるが、良好な電気伝導性や入手の容易性などの観点からはジメチルスルホンを好適に採用することができる。アルミニウムハロゲン化物としては、塩化アルミニウムや臭化アルミニウムなどを例示することができるが、アルミニウムの析出を阻害する要因となるめっき液に含まれる水分の量を可能な限り少なくするという観点から、用いるアルミニウムハロゲン化物は無水物であることが望ましい。含窒素化合物として採用することができるハロゲン化アンモニウムとしては、塩化アンモニウムや臭化アンモニウムなどを例示することができる。また、第一アミン~第三アミンとしては、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、ジプロピルアミン、トリプロピルアミン、ヘキシルアミン、メチルエチルアミンなどのアルキル基の炭素数が1~6のもの直鎖状でも分岐状でもよいを例示することができる。ハロゲン化水素としては、塩化水素や臭化水素などを例示することができる。一般式:R1R2R3R4NXR1~R4は同一または異なってアルキル基、Xは第四アンモニウムカチオンに対するカウンターアニオンを示すで表される第四アンモニウム塩におけるR1~R4で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基などの炭素数が1~6のもの直鎖状でも分岐状でもよいを例示することができる。Xとしては塩素イオンや臭素イオンやヨウ素イオンなどのハロゲン化物イオンの他、BF4-やPF6-などを例示することができる。具体的な化合物としては、塩化テトラメチルアンモニウム、臭化テトラメチルアンモニウム、ヨウ化テトラメチルアンモニウム、四フッ化ホウ素テトラエチルアンモニウムなどを例示することができる。好適な含窒素化合物としては、速い成膜速度で延性に富む高純度のアルミニウム被膜の形成を容易にする点において第三アミンの塩酸塩、例えばトリメチルアミン塩酸塩を挙げることができる。ジアルキルスルホン、アルミニウムハロゲン化物、含窒素化合物の配合割合は、例えば、ジアルキルスルホン10モルに対し、アルミニウムハロゲン化物は1.5~4.0モルが望ましく、2.0~3.5モルがより望ましい。含窒素化合物は0.01~2.0モルが望ましく、0.05~1.5モルがより望ましい。アルミニウムハロゲン化物の配合量がジアルキルスルホン10モルに対し1.5モル未満であると形成されるアルミニウム被膜が黒ずんでしまう現象焼けと呼ばれる現象が発生する恐れや成膜効率が低下する恐れがある一方、4.0モルを超えるとめっき液の液抵抗が高くなりすぎることでめっき液が発熱して分解する恐れがある。また、含窒素化合物の配合量がジアルキルスルホン10モルに対し0.01モル未満であると配合することの効果、即ち、めっき液の電気伝導性の改善に基づく高電流密度印加でのめっき処理の実現による成膜速度の向上、アルミニウム被膜の高純度化や延性の向上などの効果が得られにくくなる恐れがある一方、2.0モルを超えるとめっき液の組成が本質的に変わってしまうことでアルミニウムが析出しなくなってしまう恐れがある。なお、本発明のアルミニウム箔の製造方法において用いるめっき液には、その他の成分として炭素性粒子などの導電性粒子を添加してもよい。めっき液に導電性粒子を添加することによってアルミニウム箔に導電性粒子を分散担持させれば、アルミニウム箔に分散担持された導電性粒子はアルミニウム箔の表面抵抗の低減に寄与する。導電性粒子として炭素性粒子をめっき液に添加する場合、炭素性粒子としては、炭素含量が90mass以上の導電性に優れた粒子が望ましく、ファーネスブラック粒子、アセチレンブラック粒子、カーボンブラック粒子、黒鉛粒子、グラファイト粒子の他、カーボンナノチューブやカーボンナノファイバーなどを例示することができる。炭素性粒子の大きさ形状によって粒径や直径や繊維径や長さなどを意味し、凝集して存在する場合にはその大きさを意味してもよいは1nm~100μmが望ましく、1nm~15μmがより望ましく、3nm~5μmがさらに望ましい。炭素性粒子の大きさが1nm未満であるとアルミニウム箔の表面抵抗の低減に寄与しにくくなる恐れがある一方、100μmを超えるとアルミニウム箔中やめっき液中への均一分散が困難になる恐れに加え、正極集電体の薄膜化を図ることができなくなる恐れがある。炭素性粒子を分散担持したアルミニウム箔が高い強度を有するためには、炭素性粒子の大きさはアルミニウム箔の厚みの50以下であることが望ましい。アルミニウム箔に分散担持された炭素性粒子の存在形態は特段制限されるものではないが、炭素性粒子がアルミニウム箔の表面抵抗の低減に効果的に寄与するためには、少なくとも一部の炭素性粒子は箔の表面から突出するなどして外部に対して露出していることが望ましい。この点に鑑みれば、炭素性粒子の大きさはアルミニウム箔の厚みよりも大きくてもかまわないが、この場合、炭素性粒子がアルミニウム箔に強固に担持されるためにはその大きさはアルミニウム箔の厚みの150以下であることが望ましい。めっき液中の炭素性粒子の分散量は、めっき液100mLあたり1×10-4~1gが望ましい。分散量がめっき液100mLあたり1×10-4g未満であるとアルミニウム箔の表面抵抗の低減に寄与するに足る十分量例えば炭素性粒子が分散担持されてなるアルミニウム箔の0.01~3.0massの炭素性粒子を分散担持させることができなくなる恐れがある一方、めっき液100mLあたり1gを超えるとめっき液の粘度が高くなりすぎて電気めっきが困難になる恐れがある。めっき液中への炭素性粒子の分散は、炭素性粒子が液中に均一に分散されることで、炭素性粒子がアルミニウム箔に均一に分散担持されるように、めっき液を十分に攪拌して行うことが望ましく、必要に応じて超音波を与えてもよい。なお、本発明のアルミニウム箔の製造方法において用いるめっき液は、めっき液中での炭素性粒子の分散性を高めるために、めっき液に分散剤を添加したり炭素性粒子の表面処理を行ったりしなくても、炭素性粒子の分散性が極めて良好であるという利点を有する。電気めっき条件としては、例えば、めっき液の温度が80~110°C、印加電流密度が2~15A/dm2を挙げることができる。めっき液の温度の下限はめっき液の融点を考慮して決定されるべきものであり、望ましくは85°C、より望ましくは95°Cであるめっき液の融点を下回るとめっき液が固化するのでめっき処理がもはや行えなくなる。一方、めっき液の温度が110°Cを超えると基材の表面に形成されたアルミニウム被膜とめっき液の間での反応が活発化し、アルミニウム被膜中に不純物が多く取り込まれることでその純度が低下する恐れがある。また、印加電流密度が2A/dm2未満であると成膜効率が低下する恐れがある一方、15A/dm2を超えると含窒素化合物の分解などが原因で安定なめっき処理が行えなくなったり延性に富む高純度のアルミニウム箔が得られなくなったりする恐れがある。印加電流密度は3~12A/dm2が望ましい。本発明のアルミニウム箔の製造方法において用いるめっき液の特筆すべき利点は、10A/dm2以上の電流密度を印加しても安定なめっき処理が可能なため、成膜速度の向上を図ることができる点にある。なお、めっき処理の時間は、アルミニウム箔の所望する厚み、めっき液の温度や印加電流密度などにも依存するが、通常、1~90分間である生産効率を考慮すると1~30分間が望ましい。めっき処理の環境は、めっき液の劣化を防いでその寿命の延長を図る観点から、乾燥雰囲気にすることが望ましい。アルミニウム被膜を形成するための基材陰極としては、ステンレス板、チタン板、アルミニウム板、ニッケル板などを例示することができる。通常、基材からのアルミニウム被膜の剥離を容易ならしめるためには、基材の表面は鏡面加工などが施されることによって可能な限り平滑であることが望ましいが、本発明において基材の表面に形成されたアルミニウム被膜は、基材に対してこのような加工を施さなくても剥離が容易であるという特徴を有するその理由は必ずしも明らかではないが基材の表面にアルミニウム被膜が形成される際に基材に接する側のアルミニウム被膜の表面付近にめっき液に由来するSとClが濃化することが関係しているものと推察される。なお、陽極の材質としては、例えばアルミニウムを例示することができる。基材からのアルミニウム被膜の剥離はバッチ的に行うことができる他、陰極ドラムを用いてアルミニウム被膜の形成と剥離を連続的に行うこともできる例えば特開平6-93490号公報。なお、アルミニウム被膜を基材から剥離するに先立って、表面にアルミニウム被膜が形成された基材の表面に付着しているめっき液を除去するための水洗を行った後、乾燥することが望ましい。本発明のアルミニウム箔の製造方法においては、上記のようにして得たアルミニウム箔に対して熱処理を行う。その目的については、本発明者らは、当初、表面にアルミニウム被膜が形成された基材の表面に付着しているめっき液を除去するための水洗を行った場合、その後の乾燥によって水分を除去するが、水分が十分に除去されずに残存すると、蓄電デバイスの正極集電体として使用した場合に蓄電デバイスの特性に悪影響電気化学的挙動の不安定化などを及ぼす恐れがあることから、このような問題の発生を防ぐことや、箔に内在する歪みを除去することを意図していたが、本発明のアルミニウム箔の製造方法において用いるめっき液を用いた電解法によって得られるアルミニウム箔に対して熱処理を行うと、全く意外にも、張力に対する強度が向上し、箔の厚みにも依存するが170~270N/mm2程度の強度を有するものになること、向上した強度は高温に晒された後も安定に保持され、例えば300°Cで60分間加熱しても実質的に変化しないことが判明した。アルミニウム箔に対する熱処理は、例えば、大気雰囲気下、減圧雰囲気下、アルゴンガスや窒素ガスを利用した不活性ガス雰囲気下などの雰囲気下で、80~550°Cで2~120分間行えばよい。熱処理を行う温度が80°C未満であると熱処理を行う効果が十分に発揮されない恐れがある一方、550°Cを超えるとアルミニウム箔がアルミニウムの融点660°Cに近づくことで箔の軟化が起こる恐れがある。また、熱処理を行う時間が2分間未満であると熱処理を行う効果が十分に発揮されない恐れがある一方、120分間を超えると生産性に悪影響を及ぼす恐れがある。以上の点に鑑みれば、熱処理を行う温度は100~450°Cが望ましく、200~350°Cがより望ましい。熱処理を行う時間は20~90分間が望ましい。本発明のアルミニウム箔の製造方法によれば、現在のところ、圧延法では製造が非常に困難である厚みが15μm以下のアルミニウム箔、さらには、圧延法では製造が不可能といっても過言ではない厚みが10μm以下のアルミニウム箔を、電解法によって速い成膜速度で製造することができる。しかも、得られるアルミニウム箔は延性に富むことに加え、高純度であり、さらに、張力に対する強度に優れ、その強度は高温に晒された後も安定に保持される。具体的には、例えば、アルミニウムの含量が97.00~99.95mass、SとClの含量がともに1.50mass以下であり標準的には0.01~0.50mass、厚みが1~15μmである、100°C以上の高温に晒された後も安定に保持される、張力に対する優れた強度を有するアルミニウム箔大気中からの混入不可避のCやOを微量含むこともあるを、基材の表面粗さに似通った表面粗さ例えば基材の表面粗さRaが0.1~10μmであればアルミニウム箔の表面粗さRaも概ねその程度であるで容易に製造することができる。本発明において用いるめっき液から得られるアルミニウム箔は、圧延法によって製造されたアルミニウム箔や特許文献1に記載のめっき液から得られるアルミニウム箔とは異なる結晶配向性を有し、箔の表面に対して111面が優先配向しており、この結晶配向性は熱処理を行った後も実質的な変化がない111面のX線回折強度の、200面、220面、311面、222面などのその他の結晶面のX線回折強度に対する比率は2.5以上である。本発明によって製造されたアルミニウム箔は、蓄電デバイスの小型化や高エネルギー密度化のための薄膜化された正極集電体などとして用いることができる。基材の表面粗さRaに対応して表面粗さRaが0.1~10μm程度のアルミニウム箔が得られることは、この程度の表面粗さを有することが求められる正極集電体を得るためには非常に好都合である。なお、本発明によって製造されたアルミニウム箔を正極集電体として用いる場合、正極集電体として好適な、張力に対して優れた強度を有するアルミニウム箔であるためには、その厚みは5μm以上が望ましい。また、本発明において用いるめっき液は、成膜速度を速めるためにベンゼンやトルエンなどの有機溶媒を添加するといった必要がないので、その水洗が可能であり廃液処理を容易に行うことができるという利点を有する。以下、本発明を実施例によって詳細に説明するが、本発明は以下の記載に限定して解釈されるものではない。実施例1:熱処理を行ったアルミニウム箔の製造ジメチルスルホン、無水塩化アルミニウム、トリメチルアミン塩酸塩をモル比で10:3:0.1の割合で混合し、110°Cで溶解させて電気アルミニウムめっき液を調製した。陽極に純度99.99massのアルミニウム板、陰極アルミニウム被膜を形成するための基材にステンレス板を用い、3A/dm2の印加電流密度で、めっき液を95°Cに保って300rpmの攪拌速度で攪拌しながら電気めっき処理を17分間行った。17分後、表面にアルミニウム被膜が形成されたステンレス板をめっき液から取り出し、水洗を行ってから乾燥した後、その端部からアルミニウム被膜とステンレス板の間に介入させたピンセットをステンレス板に沿って滑らせるように移動させると、アルミニウム被膜はステンレス板から容易に剥離し、アルミニウム箔が得られた。得られたアルミニウム箔の表面に対し、X線回折装置D8ADVANCE:ブルカーAXS社製、X線としてCuKα線を使用したθ-2θ法による、以下同じを用いてX線回折ピークを測定した結果を図1に示すaはオモテ面基材に対向する面と反対側の面、以下同じの測定結果であってbはウラ面基材に対向する面、以下同じの測定結果である。また、圧延法によって製造された厚みが20μmの市販のアルミニウム箔日本製箔社製、以下市販の圧延箔と略称すると、特許文献1に記載のめっき液から得られたアルミニウム箔のそれぞれの表面に対し、X線回折装置を用いてX線回折ピークを測定した結果をそれぞれ図2のaとbに示す。図1と図2から明らかなように、本発明において用いるめっき液から得られたアルミニウム箔は、市販の圧延箔や特許文献1に記載のめっき液から得られたアルミニウム箔とは異なる結晶配向性を有し、箔の表面に対して111面が優先配向しており、オモテ面の111面のX線回折強度の200面のX線回折強度に対する比率111面のX線回折強度/200面のX線回折強度は12.9という高い数値であったウラ面もほぼ同様。このアルミニウム箔に対し、大気雰囲気下において300°Cで60分間熱処理を行った。こうして得られたアルミニウム箔の断面構造を走査型電子顕微鏡で観察したところ、ウラ面からオモテ面に向かって結晶組織が幅広末広がりに成長したものであった後述の実験例1を参照のこと。得られたアルミニウム箔は、厚みが10μmであり、純度が高くアルミニウムの含量:99.91mass、Sの含量:0.03mass、Clの含量:0.06mass、市販の圧延箔と同様、延性に富むものであった。なお、アルミニウム箔の厚みは断面を走査型電子顕微鏡S-800:日立製作所社製で観察することによって測定した以下同じ。アルミニウム箔の純度はその両面を水洗した後に硫黄分析装置EMIA-820W:堀場製作所社製を用いてSの含量を測定するとともに波長分散蛍光X線分析装置RIX-2100:リガク社製を用いてClの含量を測定し、その残りをアルミニウムの含量とした以下同じ。この熱処理を行ったアルミニウム箔のオモテ面に対し、X線回折装置を用いてX線回折ピークを測定した結果を図3に示す。また、大気雰囲気下において300°Cで60分間熱処理を行った市販の圧延箔と、同様の熱処理を行った特許文献1に記載のめっき液から得られたアルミニウム箔のそれぞれの表面に対し、X線回折装置を用いてX線回折ピークを測定した結果をそれぞれ図4のaとbに示す。図2と図4から明らかなように、市販の圧延箔や特許文献1に記載のめっき液から得られたアルミニウム箔は、熱処理を行うことによってピークパターンの実質的な変化が認められたが、図1と図3から明らかなように、本発明において用いるめっき液から得られたアルミニウム箔は、熱処理を行った後もピークパターンの実質的な変化はなかった111面のX線回折強度の200面のX線回折強度に対する比率は7.8。なお、熱処理を行ったアルミニウム箔のウラ面に対するX線回折装置を用いたX線回折ピークの測定結果もほぼ同様であった。アルミニウム箔に対する熱処理の効果熱処理前の箔と熱処理後の箔の含水量を、昇温脱離ガス分析装置EMD-WA1000S:電子科学社製、以下同じを用いて測定した。結果を図5に示す図中、電解Al箔熱処理前/熱処理後。なお、市販の圧延箔の含水量の測定結果を図5にあわせて示す図中、圧延Al箔。図5から明らかなように、熱処理前の箔の含水量は市販の圧延箔の含水量に比較して多かったが47.3ppm、熱処理を行うことによって箔の表面に付着していた水分が除去されたことで、熱処理後の箔の含水量は市販の圧延箔の含水量よりも少なくなった23.3ppm。また、熱処理前の箔と熱処理後の箔の示差走査熱量測定を、リガク社製のDSC8236を用いて行った。結果を図6に示す図中、電解Al箔熱処理前/熱処理後。なお、市販の圧延箔について行った示差走査熱量測定の結果を図6にあわせて示す図中、圧延Al箔。図6から明らかなように、熱処理前の箔には200°C付近に箔に内在する歪みに起因する発熱ピークが観察されたが、熱処理を行うことによって歪みが除去されたことで、熱処理後の箔には該当する発熱ピークがほとんど観察されなかった。さらに、熱処理前の箔と熱処理後の箔の張力に対する強度を評価するため、それぞれの引っ張り強度を、サンプルとする箔の大きさを15×80mmとしたこと以外はJISZ2241に準じ、精密万能試験機EZTest:島津製作所社製、以下同じを用いて測定したところ、熱処理前の箔の引っ張り強度は165N/mm2であったが、熱処理後の箔の引っ張り強度は240N/mm2であり、熱処理を行うことで箔の強度が向上した。通常、金属箔に対して300°C前後で熱処理を行うと、焼鈍効果によって箔の強度は低下するという事実からすれば、この結果は意外であった。熱処理によって箔の強度が向上する理由は必ずしも明らかではないが、前述した箔の特徴、即ち、箔の表面に対して111面が優先配向している結晶配向性を有することが関与していることが推察された。熱処理を行ったアルミニウム箔の蓄電デバイス用正極集電体としての利用可能性熱処理前の箔と熱処理後の箔のそれぞれを試験極、リチウム箔を対極及び参照極とし、電解液に1MLiPF6/ECDMCを用いて擬似電池セルを作製した。電気化学測定装置HZ-5000:北斗電工社製を用いてこの擬似電池セルでサイクリックボルタンメトリーを5サイクル行い、その特性を電気化学的に評価した。結果を図7に示す図中において4サイクル目と5サイクル目の挙動は省略。図7から明らかなように、熱処理前の箔を試験極とした場合には箔の表面に付着していた水分に起因する不安定な挙動が観察されたが、熱処理を行うことによって箔の表面に付着していた水分が除去されたことで、熱処理後の箔を試験極とした場合には該当する不安定な挙動は観察されなかった。以上の結果から、熱処理を行ったアルミニウム箔は、蓄電デバイス用正極集電体として好適に利用できることがわかった。実施例2:熱処理を大気雰囲気下において80°Cで120分間行うこと以外は実施例1と同様にして熱処理を行ったアルミニウム箔を得た。この熱処理を行ったアルミニウム箔は純度が高くアルミニウムの含量:99.90mass、Sの含量:0.04mass、Clの含量:0.06mass、含水量は市販の圧延箔の含水量よりも少なく21.4ppm、結晶配向性は箔の表面に対して111面が優先配向しており、オモテ面の111面のX線回折強度の200面のX線回折強度に対する比率は10.8という高い数値でありウラ面もほぼ同様、引っ張り強度は210N/mm2であって熱処理前と比較して向上していた。実施例3:熱処理を大気雰囲気下において500°Cで5分間行うこと以外は実施例1と同様にして熱処理を行ったアルミニウム箔を得た。この熱処理を行ったアルミニウム箔は純度が高くアルミニウムの含量:99.93mass、Sの含量:0.03mass、Clの含量:0.04mass、含水量は市販の圧延箔の含水量よりも少なく21.4ppm、結晶配向性は箔の表面に対して111面が優先配向しており、オモテ面の111面のX線回折強度の200面のX線回折強度に対する比率は6.4という高い数値であり図8、ウラ面もほぼ同様、引っ張り強度は210N/mm2であって熱処理前と比較して向上していた。実施例4:電気めっき処理を9分間行うことで厚みが5μmのアルミニウム箔を得たこと以外は実施例1と同様にして熱処理を行ったアルミニウム箔を得た。この熱処理を行ったアルミニウム箔の純度と含水量は実施例1で得た熱処理を行ったアルミニウム箔とほぼ同じであり、結晶配向性は箔の表面に対して111面が優先配向しており、オモテ面の111面のX線回折強度の200面のX線回折強度に対する比率は2.9という高い数値でありウラ面もほぼ同様、引っ張り強度は190N/mm2であって熱処理前と比較して向上していた。実施例5:ジメチルスルホン、無水塩化アルミニウム、トリメチルアミン塩酸塩をモル比で10:3:2の割合で混合し、110°Cで溶解させて電気アルミニウムめっき液を調製すること以外は実施例1と同様にして熱処理を行ったアルミニウム箔を得た。この熱処理を行ったアルミニウム箔の純度と含水量は実施例1で得た熱処理を行ったアルミニウム箔とほぼ同じであり、結晶配向性は箔の表面に対して111面が優先配向しており、引っ張り強度は235N/mm2であって熱処理前と比較して向上していた。実施例6:ジメチルスルホン、無水塩化アルミニウム、トリメチルアミン塩酸塩をモル比で10:4:1の割合で混合し、110°Cで溶解させて電気アルミニウムめっき液を調製すること以外は実施例1と同様にして熱処理を行ったアルミニウム箔を得た。この熱処理を行ったアルミニウム箔の純度と含水量は実施例1で得た熱処理を行ったアルミニウム箔とほぼ同じであり、結晶配向性は箔の表面に対して111面が優先配向しており、引っ張り強度は238N/mm2であって熱処理前と比較して向上していた。実施例7:ジメチルスルホン、無水塩化アルミニウム、トリメチルアミン塩酸塩をモル比で10:1.5:0.01の割合で混合し、110°Cで溶解させて電気アルミニウムめっき液を調製すること以外は実施例1と同様にして熱処理を行ったアルミニウム箔を得た。この熱処理を行ったアルミニウム箔の純度と含水量は実施例1で得た熱処理を行ったアルミニウム箔とほぼ同じであり、結晶配向性は箔の表面に対して111面が優先配向しており、引っ張り強度は233N/mm2であって熱処理前と比較して向上していた。実施例8:ジメチルスルホン、無水塩化アルミニウム、ジメチルアミン塩酸塩をモル比で10:3:0.05の割合で混合し、110°Cで溶解させて電気アルミニウムめっき液を調製することと、熱処理の温度を200°Cとすること以外は実施例1と同様にして熱処理を行ったアルミニウム箔を得た。この熱処理を行ったアルミニウム箔の純度と含水量は実施例1で得た熱処理を行ったアルミニウム箔とほぼ同じであり、結晶配向性は箔の表面に対して111面が優先配向しており、引っ張り強度は225N/mm2であって熱処理前と比較して向上していた。実施例9:熱処理を行ったアセチレンブラック粒子が分散担持されてなるアルミニウム箔の製造ジメチルスルホン、無水塩化アルミニウム、トリメチルアミン塩酸塩をモル比で10:3:0.1の割合で混合し、110°Cで溶解させて電気アルミニウムめっき液を調製した。このめっき液200mLに対し、市販の大きさが約1μmのアセチレンブラック粒子凝集体炭素含量:98mass以上を0.1g加え、十分に攪拌することで、液中にアセチレンブラック粒子が均一に分散されてなるめっき液を得た。陽極に純度99.99massのアルミニウム板、陰極アルミニウム被膜を形成するための基材にチタン板を用い、5A/dm2の印加電流密度で、めっき液を100°Cに保って300rpmの攪拌速度で攪拌しながら電気めっき処理を15分間行った。15分後、表面にアルミニウム被膜が形成されたチタン板をめっき液から取り出し、水洗を行ってから乾燥した後、その端部からアルミニウム被膜とチタン板の間に介入させたピンセットをチタン板に沿って滑らせるように移動させると、アルミニウム被膜はチタン板から容易に剥離し、アルミニウム箔が得られた。得られたアルミニウム箔の表面に対し、X線回折装置を用いてX線回折ピークを測定した結果を図9に示すオモテ面の測定結果。図9から明らかなように、本発明において用いるめっき液にアセチレンブラック粒子を分散させた場合でも、得られるアルミニウム箔の結晶配向性は箔の表面に対して111面が優先配向しており、111面のX線回折強度の200面のX線回折強度に対する比率は13.0という高い数値であったウラ面もほぼ同様。このアルミニウム箔に対し、大気雰囲気下において300°Cで60分間熱処理を行った。こうして得られたアルミニウム箔を走査型電子顕微鏡で観察したところ、箔の表面には無数のアセチレンブラック粒子が点在し、その一部は箔の表面から突出するなどして外部に対して露出した形態で保持されていた。また、その断面構造は、ウラ面からオモテ面に向かって結晶組織が幅広末広がりに成長したものであり、アセチレンブラック粒子は結晶粒内や粒界にランダムに分散された形態で担持されていた。この熱処理を行ったアセチレンブラック粒子が分散担持されてなるアルミニウム箔の表面に対し、X線回折装置を用いてX線回折ピークを測定し、熱処理前のピークパターンとの比較を行ったところ、ピークパターンの実質的な変化はなく、熱処理後も箔の表面に対して111面が優先配向している結晶配向性が維持されていた。得られたアルミニウム箔は、厚みアルミニウム箔自体の厚みが15μmであり、純度アルミニウム箔自体の純度が高くアルミニウムの含量:99.91mass、Sの含量:0.03mass、Clの含量:0.06mass、市販の圧延箔と同様、延性に富むものであった。アセチレンブラック粒子の分散担持量は、アセチレンブラック粒子が分散担持されてなるアルミニウム箔の0.15massであった。なお、アセチレンブラック粒子の分散担持量は炭素硫黄分析装置EMIA-820W:堀場製作所社製を用いて測定した。アセチレンブラック粒子が分散担持されてなるアルミニウム箔に対する熱処理の効果熱処理前の箔と熱処理後の箔の含水量を、昇温脱離ガス分析装置を用いて測定した。結果を図10に示す図中、複合Al箔熱処理前/熱処理後。なお、市販の圧延箔の含水量の測定結果を図10にあわせて示す図中、圧延Al箔。図10から明らかなように、熱処理前の箔の含水量は市販の圧延箔の含水量に比較してはるかに多かったが81.5ppm、熱処理を行うことによって箔の表面に付着していた水分が除去されたことで、熱処理後の箔の含水量は市販の圧延箔の含水量よりも少なくなった25.5ppm。また、熱処理前の箔と熱処理後の箔の示差走査熱量測定を実施例1と同様にして行ったところ、実施例1における測定結果と同様の測定結果であった。さらに、熱処理前の箔と熱処理後の箔の張力に対する強度を評価するため、それぞれの引っ張り強度を実施例1と同様にして測定したところ、熱処理前の箔の引っ張り強度は200N/mm2であったが、熱処理後の箔の引っ張り強度は250N/mm2であり、熱処理を行うことで箔の強度が向上した。熱処理を行ったアセチレンブラック粒子が分散担持されてなるアルミニウム箔の蓄電デバイス用正極集電体としての利用可能性実施例1と同様にして、熱処理前の箔と熱処理後の箔の特性を電気化学的に評価した。結果を図11に示す図中において4サイクル目と5サイクル目の挙動は省略。図11から明らかなように、熱処理前の箔を試験極とした場合には箔の表面に付着していた水分に起因する不安定な挙動が観察されたが、熱処理を行うことによって箔の表面に付着していた水分が除去されたことで、熱処理後の箔を試験極とした場合には該当する不安定な挙動は観察されなかった。以上の結果から、熱処理を行ったアセチレンブラック粒子が分散担持されてなるアルミニウム箔は、蓄電デバイス用正極集電体として好適に利用できることがわかった。応用例1:熱処理を行ったアルミニウム箔を蓄電デバイス用正極集電体として利用した蓄電デバイスの作製とその評価その1実施例1で得た熱処理を行ったアルミニウム箔を正極集電体として利用し、その表面に、マンガン酸リチウム:アセチレンブラック:ポリフッ化ビニリデンを重量比で8:1:1の割合で混合してN-メチルピロリドンに分散させて調製したスラリーをドクターブレードで塗布した後、80°Cで24時間真空乾燥することで、箔の表面に正極活物質層を形成して全体の厚みが約50μmのリチウムイオン二次電池用電極を作製した。こうして作製した電極の断面の走査型電子顕微鏡写真を図12に示す装置:キーエンス社製のVE-8800。この電極を試験極、リチウム金属箔を対極、1Mの6フッ化リン酸リチウム/エチレンカーボネートジメチルカーボネート溶液1MLiPF6/ECDMC1:1byvol.を電解液、ポリプロピレンフィルムをセパレーターとして、φ15mmのコイン型セルを用いて充放電試験セルを作製し、定電流で充放電試験を行って充放電挙動を調べた充放電レート:1C、カットオフ電位:3.0~4.5V。結果を図13に示す。図13から明らかなように、充放電曲線は典型的なマンガン酸リチウムの充放電挙動を示し、その充放電効率は99以上であったことから、実施例1で得た熱処理を行ったアルミニウム箔は、蓄電デバイス用正極集電体として好適に利用できることがわかった。応用例2:熱処理を行ったアルミニウム箔を蓄電デバイス用正極集電体として利用した蓄電デバイスの作製とその評価その2実施例8で得た熱処理を行ったアルミニウム箔オモテ面の表面粗さRaは0.35μmウラ面もほぼ同様:キーエンス社製の超深度形状測定顕微鏡VK-8510を用いて測定、以下同じを正極集電体として利用すること以外は応用例1と同様にして充放電試験セルを作製した。また、市販の圧延箔Ra=0.08μmを正極集電体として利用すること以外は応用例1と同様にして充放電試験セルを作製した。それぞれ作製した充放電試験セルについて、実験例1と同様にして充放電試験を行い、充放電サイクルにおける放電容量維持率を調べた。結果を図14に示す。図14から明らかなように、市販の圧延箔を利用して作製した充放電試験セルBに比較して、実施例8で得た熱処理を行ったアルミニウム箔を利用して作製した充放電試験セルAは、高サイクル後においても優れた放電容量維持率を示したことから、実施例8で得た熱処理を行ったアルミニウム箔は、蓄電デバイス用正極集電体として好適に利用できることがわかった。この結果は、実施例8で得た熱処理を行ったアルミニウム箔の方が、市販の圧延箔に比較して表面が粗いことから、正極活物質との密着性に優れるため、充放電の繰り返しによって一般的に生じる正極集電体と正極活物質の間の剥離が低減されたことに起因すると推察された。実験例1:熱処理を行ったアルミニウム箔の張力に対する強度の熱安定性の評価実施例1で得た熱処理を行ったアルミニウム箔に対し、大気雰囲気下で種々の温度での60分間の加熱試験を行い、加熱試験後の張力に対する強度を評価するため、引っ張り強度を実施例1と同様にして測定した。結果を表1に示す。なお、市販の圧延箔に対して同様の加熱試験を行った後、引っ張り強度を実施例1と同様にして測定した結果を表1にあわせて示す。表1から明らかなように、実施例1で得た熱処理を行ったアルミニウム箔は、熱処理が行われていることで熱処理前に比較して引っ張り強度が優れていたが実施例1に記載の通り、この引っ張り強度はその後の加熱に対する安定性が優れており、500°Cで加熱試験を行った後も引っ張り強度の低下はわずかであった。一方、市販の圧延箔は、200°Cで加熱試験を行った時点で引っ張り強度の顕著な低下が認められ、その後の加熱に対する安定性に劣っていた。実施例1で得た熱処理を行ったアルミニウム箔と市販の圧延箔のそれぞれについて、加熱試験を行う前と300°Cでの加熱試験を行った後の箔の断面組織構造を走査型電子顕微鏡S-4300:日立製作所社製で観察した結果を図15に示す。図15から明らかなように、市販の圧延箔は、加熱試験を行うことで結晶粒が成長し、加熱試験の前後において組織構造が大きく異なった図中のMnは添加金属成分。これに対し、実施例1で得た熱処理を行ったアルミニウム箔は、ウラ面からオモテ面に向かって結晶組織が幅広末広がりに成長した特異な組織構造を有するものであり、この組織構造は加熱試験を行った後も実質的に変化しなかった。実施例1で得た熱処理を行ったアルミニウム箔は、熱処理を行うことで箔の強度が向上し、その後の加熱に対する安定性が優れているが、これらの要因として、前述の箔の表面に対して111面が優先配向している結晶配向性に加え、この組織構造も関与していることが推察された。