耐プラズマ表面処理
プラズマ表面処理／CVDイットリアコート製品“High-Purity CVD Yttria(Y2O3) Coated Parts”
CVDイットリアは耐プラズマ性に優れた高純度保護膜です。
CVD Yttria is high-purity film which exhibits excellent resistanceto F-based plasma.
■実装評価 Implementation Evaluation
700時間使用後時間使用後(コート品コート品）

350時間使用後時間使用後（未コート品コート品）

用途 Application : View Port

プロセス Process: SiO2 Etching

ガ: CF4+O2

ス Gas

初期膜厚 Initial thickness of Yttria film : 400nm
Yttria coated window after
700 hours of use

NOTE: Used view port without Yttria film isclouded by suffering damage from F gas.

Quartz window after
350 hours of use■製品特長Product Features■断面SEM写真

耐プラズマ性に優れたイットリア膜で基材表面をカバー

SEM Pictures of Cross-section

CVD Yttria has excellent resistance property to plasma andcauses the longer life of chamber parts.

Yttria film

CVD法で密着性が高い緻密イットリア膜を形成
1μμm

CVD method enables to cover substrates with high adherent
and dense Yttria film.

Quartz
石英ガラスへのイットリアコート
Yttria film/Quartz(Polished surface)

イットリア膜中の不純物含有量 : Na, Cu, Fe, Al < 0.2 wt ppm
CVD Yttria is high-purity material with low-impurity
concentration.

Yttria film

300mmパーツ対応

1μμm
Alumina

Applicable to chamber parts for 12”wafer process.

セラミックスへのイットリアコート
Yttria film/Alumina■耐プラズマ性
プラズマ性

Resistance Property To Plasma

CVDイットリアはF系プラズマ耐性に優れた保護膜保護膜です。
です。
CVDイットリアはF
プラズマ耐性に優れた
CVDイットリア膜のE.Rは、石英ガラスの約は、石英ガラスの約1/1001/100です。
です。
VDイットリア膜のE.R
SF6に対しては更に耐性あります。
に対しては更に耐性あります。
CVD Yttria provides high resistance to F-based plasma.
When compared with Quartz, the Etch Rate of CVD
Yttria to CF plasma is 1/100. Even higher resistance

10.000Relative E.R(Quartz=1)

エッチング条件にも系プラズマに対するエッチング条件にもよりますが、CFよりますが、CF系プラズマに対するFig. Etch rate mesurments for C4F8-Plasma
Low
1.158
1.000

1.000

HighEquipment : ICP Type RIE
Gas : C4F8 (20sccm) + O2 (10sccm)
Bias : Coil RF 1500W, Platen HF 100W
0.134

0.100

0.110

0.101

0.010
0.010
0.001
Si

property is expected to SF6 plasma.

Resistance to Plasmal

シリ ico n
コンQ

石英 u art
ガラ zスA

窒 化 lN
アルミAluアル m in
ミ aナ

Sa

サフ pphァ ir eイア

CVDS1Yttria

In this figure, E.R of each material is represented as relative value
which is normalized by “Quartz=1”.

図は、石英ガラスのE.Rを1として相対表示。縦軸は対数スケール。

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■コーティング事例
コーティング事例

Coating Application

湾曲した石英ガラス管の内壁にコーティングした事例
Coating sample to inner wall of curved tubes.

配管内面を腐食(侵食)から守る

Film thickness: 100nm

Protecting inner wall of tubes from corrosion

優れた耐ハロゲン性
Excellent resistance to halogen gas

コンタミ防止Prevention of contamination

CVD膜特有の高い密着性
High adhesion specific to CVD film
Tube Size: OD6.35××ID4 mm

CVD method enables to cover inner wall of a quartz tube
with high adherent and dense Yttria film.

■典型特性

Typical Property of CVD Yttria film

Density
Thermal Expansion Coeff.
40-400℃
Dielectic Constantat 1MH

Yttria film

Yttria(Bulk)

Alumina(Bulk)

Fused Quartz

g/cm3

5.0

4.9

3.9

2.2

10-6 /℃℃

5-6

7.2

7.2

Dielectric StrengthkV/mm

Electrical Resistivity
at RTΩ0.55(20‐ 320℃)

11119.9

3.75>24111550

1.6×1012>1013>1014>1018

Typical Transmission
10090Transmission (%)

8070

Y2O3 0.2µm /Quartz T=5mm6050
403020100250350

450550650750850950

Wavelength (nm)注記)注記) 上記物性値は典型値であり、保証値ではありません。
NOTE: Properties are typical and should not be considered as specifications.

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