TK201 レジン
TK201 レジンは第三級アミンをベースにしており、放予想通り、Re（VII）に対する保持率はやや高濃度の塩酸でも非常に高いことがわかります。Zn、Ga 、Cu は保持され、特に後者は放射性医薬品用途での使用が可能です。

射線分解の安定性を高めるために少量の長鎖アルコール（ ラ ジ カ ル 捕 捉 剤 ） を 含 ん で い ま す。TK201 レ ジ ン はTEVA レジンと比較すると弱いイオン対結合剤として作用するので、一般的により穏やかな条件下での溶出が可能です。
主なアプリケーションは、Tc（VII）や Re（VII）等の陰イオン種の分離です。次の図は、硝酸および塩酸における Tc の Dw 値を示しています。

塩酸において TK201 レジンに選択された元素の Dw 値
（データ提供：Russell 氏ら（NPL））

高濃度の塩酸においても U と Pu をしっかりと保持します。どちらも後に希酸で溶出する可能性があります。

硝酸および塩酸において TK201 レジンに選択されたTc の Dw 値、液体シンチレーションカウンターで測定（データ提供：N.Vajda 氏（RadAnal））

Tc（VII）は低酸濃度でとてもよく保持されています。
その保持率は一般的に硝酸よりも塩酸で非常に高く、2Mのような高濃度の塩酸で非常に強く保持されます。一方、硝酸の場合は 2M を超えると保持率はやや低くなります。
次の図は、塩酸および硝酸における様々な元素に対する選択性を示しています。Dw 値はすべて ICP-MS による測定で得られたものです。

塩酸において TK201 レジンに選択された元素の Dw 値
（データ提供：Russell 氏ら（NPL））

TK201 レジンは、高濃度の塩酸で Bi と Mo をしっかりと保持しますが、試験した他の元素については保持しないか、保持率は非常に低くなります（Ru、Nb）。

塩酸において TK201 レジンに選択された元素の Dw 値
硝酸において TK201 レジンに選択された元素の Dw 値
（データ提供：Russell 氏ら（NPL））

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TK201 レジンは一般的に、硝酸における選択性がかな

Vajda 氏らは、Re と同様に Tc が 0.7 Ｍ硝酸中に溶出り限定されており、Tc（VII）と同様に Re は低濃度の硝酸してないことを確認し、Re が Tc の代用となることを検証（0.01 ～ 0.1M 硝酸）でよく保持されます。高濃度の硝酸した上で、Mo/Tc の効率的な分離を可能にしました。Tc

では Pu は十分に保持され、Th もかなりよく保持されます。

溶出に最も適した条件は、0.2M 以上の水酸化アンモニウ

他のアクチニドはこれらの条件下で保持されません。

ムであることがわかりました。

溶出試験：2mL TK201 カートリッジによる Tc 分離（データ提供：N.Vajda 氏（RadAnal））

固体 Ni ターゲットからの Cu 同位体（例：Cu-64）の分離も、TK201 レジンの主なアプリケーションの 1 つです。CU レジン以外では、TK201 レジンが高濃度の塩酸硝酸において TK201 レジンに選択された元素の Dw 値
（データ提供：Russell 氏ら（NPL））（例：6 Ｍ）で Cu を保持し、その後の再利用のため Ni を試験した他の元素のうち、Bi（約 0.5M 硝酸）および～ 5M の塩酸による洗浄で除去できる可能性があります。

Mo（低濃度硝酸）のみが保持されます。Mo は 0.5M を

その後、Cu は希塩酸中に溶出し、Zn はカラム内に残りま超える濃度の硝酸で保持されませんが、Tc と Re はよく保す。

通過させます。その他の潜在的な不純物（例：Co）は 4持されるため（上の図を参照）、きれいに分離することがで

Separa�on on 1 mL TK201 Resin
100%

きます。

60%
50%
40%

20%

0.1M 以上の水酸化アンモニウムで容易に溶出できます。

0%

希薄な水酸化アンモニウムで溶出することで、Re から Moの効率的な分離が可能であることについて示しています。

CoGa
NiZnCu30%はわずか 2 までであることを明らかにしました。つまり、追加の溶出試験は、Mo を 0.7M 硝酸で除去し、Re を

Rinse 1: 3 BV 6M HCl

Recovery (%)

70%

モニウムでは非常に低く、0.1M の水酸化アンモニウムでRinse 2: 5 BV 4M HCl

Load: 6M HCl

80%

Vajda 氏らは、Tc（VII）の Dw 値が希薄な水酸化アン

Rinse 4: 5 BV water

Rinse 3: 5 BV 0.5M HCl

90%

10%

01234567891011Volume (BV)

121314151617181920

溶出試験：1mL TK201 カートリッジによる Cu 分離

存在し得る Fe と Ga 不純物の除去のため、溶解した Ni
ターゲット（6M 塩酸）を小さな TBP（または TK400）カートリッジに充填します。そこで両元素は保持され、Ni、Cu、Zn は通過して TK201 レジンで追加精製されます。
Cu は例えば 0.05M 塩酸で TK201 レジンから溶出する可能性があります。これは Svedjehed 氏らにより実証されています。5M 塩化ナトリウム /0.05M 塩酸での洗浄は注目すべきで、規定濃度の希塩酸溶液内で最終生成物を得溶出試験：元素からの Re 分離（Mo および W 含む）ることができます。

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Cu separation
using TBP and TK201 Resins according to Svedjehed et al.
TBP および TK201 レジンによる Cu 分離（Svedjehed 氏ら）

TK201
maybe usedconvert
fraction
TK201
レ ジalsoン は、Cuレ ジtoン（例：Zntheタ ーCuゲッ
トかeluted
fromtheCUResin(e.g.
fortheseparation
ら Cu 同位体の分離用）から溶出した Cu フラクションを、ofCu
isotopes from Zn targets) from a highly acidic
6~8M 塩酸等の高濃度の酸性溶液から、標識により適した
solution (e.g. 6 - 8M HCl) to conditions more suitable
希塩酸等の条件へと置き換えができます。Kawabata 氏ら
for labeling (e.g. dilute HCl). TK201 will retain Cu e.g.
が示しているように、6M 塩酸から Cu を保持して希塩酸
from
6M HCl and can then be eluted with dilute HCl
で溶出することも可能です。これによりをさらに除去
asshown e.g. by Kawabata et al. ThisZnwill
also ensure
することができます。
furtherZn removal.

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18

Main
applications:
主なアプリケーション●●●• テクネチウムの分離に…
Separation of technetium• CuSeparationof Cu isotopes
同位体の分離に…
(incl.
with CU Resin)（Cucombined
レジンと組み合わせて）• レニウムの分離に…
Separation of rhenium