Symposium C-4
先端プラズマ技術が拓くナノマテリアルズフロンティア
Frontier of Nano-Materials Based on Advanced Plasma
Technologies

オーガナイザー :代表委員
林信哉（‌九州大学）

白谷正治（‌九州大学）

石川
井上
金子
金
白谷
節原
寺嶋
林
荻野
古閑

健治（‌名古屋大学）
泰志（‌千葉工業大学）
俊郎（‌東北大学）
載浩（‌産総研）
正治（‌九州大学）
裕一（‌大阪大学）
和夫（‌東京大学）
信哉（‌九州大学）
明久（‌静岡大学）
一憲（‌九州大学）

連絡委員

オーガナイザー

Organizers:
Representative

Nobuya HAYASHI（‌Kyushu University）

Correspondence

Masaharu SHIRATANI（‌Kyushu University）

Organizer

Kenji ISHIKAWA（‌Nagoya University）
Yasushi INOUE（‌Chiba Institute of Technology）
Toshiro KANEKO（‌Tohoku University）
Jaeho KIM（‌National Institute of Advanced Industrial Science andTechnology）

Masaharu SHIRATANI（‌Kyushu University）
Yuichi SETSUHARA（‌Osaka University）
Kazuo TERASHIMA（‌The University of Tokyo）
Nobuya HAYASHI（‌Kyushu University）
Akihisa OGINO（‌Shizuoka University）
Kazunori KOGA（‌Kyushu University）

12 月 19 日（月）December 19（Mon.）
横浜市開港記念会館 Hall

Yokohama Port Opening Plaza Hall

午後の部
Afternoon Oral Session
座長：‌金子 俊郎（東北大学）
Chair：‌Toshiro KANEKO（Tohoku Univ.）
13:00-13:30
Keynote
C4-K19-001
Thermionic Emission and Thermionic Energy
Conversion using Doped Diamond Surfaces

Franz A. KOECK, Robert J. NEMANICH（Departmentof Physics, Arizona State University）
13:30-13:45
C4-O19-002
A computational study of photon-enhanced
thermionic energy conversion

伊藤 剛仁1）、鷹尾 治樹1）、小林 和伸2）、宮垣 徹也1）、（1）大阪大学大学院工学研究科、2）大Mark CAPPELLI3）
3）
阪ガス、 スタンフォード大学機械工学科）

Tsuyohito ITO1）, Haruki TAKAO1）,
Kazunobu KOBAYASHI2）, Tetsuya MIYAGAKI1）,
Mark CAPPELLI3）（1）Graduate School of Engineering,Osaka University, 2）Osaka Gas Co., Ltd., 3）MechanicalEngineering Department, Stanford University）
13:45-14:00
C4-O19-003
セシウム蒸気中での熱電子放出における大気圧プラズ
マジェット処理した酸素終端ダイヤモンド表面の最適化に関する研究 / Investigation of Optimum
Oxygen-Terminated Diamond Surface Preparedby Atmospheric-Pressure Plasma Jet for
Thermionic Emission in Cs Vapor

村田 健二朗1）、荻野 明久1）、森岡 直也2）、（1）静岡大学、2）株式会社デンソー）
木村 裕治2）
Kenjiro MURATA1）, Akihisa OGINO1）,
Naoya MORIOKA2）, Yuji KIMURA2）（1）Shizuoka
University, 2）DENSO CORPORATION）
14:00-14:30
Keynote
C4-K19-004
Large area synthesis of 2-dimensional materials
by chemical vapor deposition methods

Changgu LEE1,2）, Jinhwan LEE1）, Youngchan KIM2）,
Chisung AHN2）, Taesung KIM1,2）（1）School of
Mechanical Engineering, Sungkyunkwan University,
2）
SKKU Advanced Institute of Nanotechnology,
Sungkyunkwan University）
14:30-14:45
C4-O19-005
WS2アレーの構造制御合成 / Structural-Controlled
Synthesis of WS2 Array

李 超、金子研究科）

俊郎、加藤

俊顕（東北大学大学院工学

Chao LI, Toshiro KANEKO, Toshiaki KATO
（Department of Electronic Engineering, Tohoku
University）
14:45-15:00
C4-O19-006
プラズマ化学輸送によるh-BN原子層の形成 / h-BN
atomic layer growth with plasma chemicaltransport

北嶋

武、中野

俊樹（防衛大学校）

Takeshi KITAJIMA, Toshiki NAKANO（National
Defense Academy）
15:00-15:15
C4-O19-007
先進プラズマCVDによるグラフェンナノリボンの構造
制御合成 / Structural-Controlled Growth ofGraphene Nanoribbon by Advanced Plasma CVD

和藤 勇太、鈴木 弘朗、金子 俊郎、加藤
北大学 大学院工学研究科 電子工学専攻）

俊顕（東Yuta WATO, Hiroo SUZUKI, Toshiro KANEKO,
Toshiaki KATO（Department of Electronic
Engineering, Tohoku University）

15:15 〜 15:30 Break午後の部
Afternoon Oral Session
座長：‌白藤 立（大阪市立大学）
Chair：‌Tatsuru SHIRAFUJI（Osaka City Univ.）
15:30-16:00
Invited
C4-I19-008
ダイヤモンドウェハ作製技術開発 / Research andDevelopment for fabrication of diamond wafers

山田

英明（産業技術総合研究所）

Hideaki YAMADA（National Institute of Advanced
Industrial Science and Technology（AIST））
16:00-16:15
C4-O19-009
液体プラズマを用いた高活性酸素還元活性グラファイ
ト-Nの導入及び電気化学的評価 / Towards EfficientElectrocatalysts for Oxygen Reduction by
Enriched Graphitic-N Composition in N-doped
Carbon via Liquid Plasma Process（1）芝リ オイルン ヘレナ1）、千葉 聡2）、石崎 貴裕2,3）
浦工業大学 理工学研究科 機能制御システム専攻、2）芝浦工業大学 工学部 材料工学科、3）JST CREST）
Oi lun LI1）, Satoshi CHIBA2）, Takahiro ISHIZAKI2,3）（1）Control and Functional System Engineering,
Shibaura Institute of Technology, 2）Department ofMaterial Science and Engineering, Shibaura Instituteof Technology, 3）JST CREST）
16:15-16:45
Invited
C4-I19-010
斜め堆積反応性成膜法により作製した窒化物および酸化物薄膜の吸着誘起型エレクトロクロミズム /Adsorption-induced Electrochromism of Nitride
and Oxide Films Prepared by Glancing- angle
Reactive Deposition Processes（1）千葉工業大学工学部、2）関東
井上 泰志1）、高井 治2）
学院大学材料・表面工学研究所）
1）

2） 1）

Yasushi INOUE , Osamu TAKAI （ Faculty ofEngineering, Chiba Institute of Technology, 2）Materials& Surface Engineering Research Institute, Kanto
Gakuin University）
16:45-17:00
C4-O19-011
マイクロ波励起大気圧空気プラズマの放電特性 /Discharge properties of a microwave-excited
atmospheric-pressure air plasma

金 載浩、榊田 創（産業技術総合研究所 先進プラズマ
プロセスグループ）
Jaeho KIM, Hajime SAKAKITA（Innovative Plasma
Processing Group, National Institute of Advanced
Industrial Science and Technology）
17:00-17:15
C4-O19-012
先端表面酸化プロセスを向けた高純度オゾンの開発 /Development of High Quality Ozone for Advanced
Surface Oxidization Process

呉 準席1,2,3）、矢島 英樹4）、芹澤 和泉4）、太田 貴之1）、
平松 美根男1）、八田 章光2,3）、伊藤 昌文1）
（1）名城大学、
2）3）
高知工科大学、 高知工科大学ナノテクノロジーセン
ター、4）オーク製作所）

Jun-seok OH1,2,3）, Hideki YAJIMA4）,
Izumi SERIZAWA4）, Takayuki OHTA1）,
Mineo HIRAMATSU1）, Akimitsu HATTA2,3）,
Masafumi ITO1）（1）Meijo University, 2）Kochi
University of Technology, 3）Center for
Nanotechnology, Research Institute of KUT, 4）ORC
Manufacturing Co., Ltd.）
17:15-17:30
C4-O19-013
新規手法を用いた非ハロゲンガスプラズマによるGaNの高精度エッチング / A new concept and highperformances of GaN etching employing the
halogen gas-free plasma chemistry

加古 隆、石川 健治、小田 治、関根
古屋大学大学院工学研究科）

誠、堀

勝
（名

Takashi KAKO, Kenji ISHIKAWA, Osamu ODA,
Makoto SEKINE, Masaru HORI（Graduate School ofEngineering, Nagoya University）
17:30-17:45
C4-O19-014
原子スケール有機デバイス製造のための基板温度
フィードバック制御による先進プラズマプロセス /Advanced Plasma Etching Processing with
Feedback Control of Wafer Temperature forFabrication of Atomic-Scale Organic Devices

堤 隆嘉、福永 裕介、竹田 圭吾、石川 健治、
近藤 博基、関根 誠、堀 勝（名古屋大学）
Takayoshi TSUTSUMI, Yusuke FUKUNAGA,
Keigo TAKEDA, Kenji ISHIKAWA, Hiroki KONDO,
Makoto SEKINE, Masaru HORI（Nagoya University）
17:45-18:00
C4-O19-015
反応性環境における高指向性坩堝を用いた斜め堆積のシミュレーション / Simulation of Glancing-angle
Deposition in Reactive Environments with highDirectional Crucibles

高原 聖人1）、泉澤 宏樹1）、仲尾 昌浩2）、井上 泰志1,2）、（1）千葉工業大学工学部、2）千葉工業大学大学
高井 治3）
院工学研究科、3）関東学院大学材料・表面工学研究所）
Masato TAKAHARA1）, Hiroki IZUMISAWA1）,
Masahiro NAKAO2）, Yasushi INOUE1,2）,
Osamu TAKAI3）（1）Faculty of Engineering, Chiba
Institute of Technology, 2）Graduate School ofEngineering, Chiba Institute of Technology, 3）Materials& Surface Engineering Research Institute, Kanto
Gakuin University）
12 月 20 日（火）December 20（Tue.）
横浜市開港記念会館 Hall

Yokohama Port Opening Plaza Hall

午前の部
Morning Oral Session
座長：‌山田 英明（産業技術総合研究所）
Chair：‌Hideaki YAMADA（AIST）
9:30-10:00
Invited
C4-I20-001
多相交流アークを用いた酸化物ナノ粒子生成過程における酸化物蒸気の動的挙動 / Dynamic Behavior of
Metal Oxide Vapors in Multiphase AC Arc during
Oxide Nanoparticles Fabrication Process田中 学、縄田 祐志、今辻 智幸、渡辺
大学大学院工学研究院化学工学部門）

隆行（九州Manabu TANAKA, Yushi NAWATA,
Tomoyuki IMATSUJI, Takayuki WATANABE（Department of Chemical Engineering, Faculty ofEngneering, Kyushu University）
10:00-10:30
Invited
C4-I20-002
PS-PVDによるNi担持Siナノ粒子負極を利用したリチ
ウムイオン電池サイクル特性の向上 / Enhanced
cycle capacity of lithium ion batteries with Niepitaxially-attached Si nanoparticles as anodeproduced by plasma spray physical vapor
deposition

深田 航平、太田 遼至、ナレン ゲルン、神原 淳（東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻）
Kohei FUKADA, Ryoshi OHTA, Gerile NAREN,
Makoto KAMBARA（Department of Materials
Engineering, The University of Tokyo）
10:30-10:45
C4-O20-003
Ar-N2 アークにおける陰極の消耗促進機構 /Investigation of Enhanced Cathode Erosion
Mechanism in Ar-N2 DC Arc

佐倉渡辺

直喜、近藤 大紀、吉田 匠希、田中 学、隆行（九州大学大学院工学研究院化学工学部門）

Naoki SAKURA, Taiki KONDO, Masaki YOSHIDA,
Manabu TANAKA, Takayuki WATANABE（Department of Chemical Engineering, Faculty ofEngneering, Kyushu University）
10:45-11:00
C4-O20-004
Efficient synthesis of amino group-modified
graphite encapsulated magnetic nanoparticles by
one-step arc discharge approach

Rui HU1,2）, Xiangke WANG2）, Masaaki NAGATSU1,3）（1）Graduate School of Science and Technology,
Shizuoka University, 2）Institute of Plasma Physics,
Chinese Academy of Sciences, 3）Research Institute ofElectronics, Shizuoka University）
11:00-11:15
C4-O20-005
水溶液と接するプラズマによる金ナノ粒子含有ポリマー薄膜の合成 / Synthesis of Polymer Thin Films
Containing Au Nanoparticles by Plasma in
Contact with Aqueous Solution

白藤

立、中村

宥亮（大阪市立大学工学部）

Tatsuru SHIRAFUJI, Yusuke NAKAMURA（Facultyof Engineering, Osaka City University）
11:15-11:30
C4-O20-006
シリコンナノ粒子/高分子ナノハイブリッド薄膜の熱伝導率 / Thermal conductivity of SiNCs/Polymer
Nanohybrid Thin films

室屋 好希1）、ジャンサ フィルマン1）、松本 英俊2）、（1）東京工業大学
芦沢 実2）、森川 淳子2）、野崎 智洋1）2）
工学院機械系、 東京工業大学物質理工学院材料系）
Yoshiki MUROYA1）, Firman JUANGSA1）,
Hidetoshi MATSUMOTO2）, Minoru ASHIZAWA2）,
Junko MORIKAWA2）, Tomohiro NOZAKI1）（1）Department of Mechanical Engineering, Tokyo
Institute of Technology, 2）Department of Materials
Science and Engineering, Tokyo Institute ofTechnology）

11:30-12:00
Invited
C4-I20-007
アモルファスシリコン成長時のキャリア輸送とトラッ
ピング －太陽電池の高効率化に向けて－ / Carriertransport and trapping during a-Si:H growth – formore efficient solar cells-

布村 正太、坂田 功、松原 浩司（産業技術総合研究
所 太陽光発電研究センター）
Shota NUNOMURA, Isao SAKATA,
Koji MATSUBARA（National Institute of Advanced
Industrial Science and Technology（AIST））

午後の部
Afternoon Oral Session
座長：‌布村 正太（産業技術総合研究所）
Chair：‌Shota NUNOMURA（AIST）
13:30-14:00
KeynoteC4-K20-008
可視領域でバンドギャップチューニング可能な新半導体材料（ZnO）x（InN）1-xの開発 / Sputtering growthof（ZnO）x（InN）1-x semiconductor: a ZnO-based
compound with bandgap tunability over the entire
visible spectrum

板垣
古閑

奈穂、松島
一憲、白谷

宏一、山下 大輔、徐正治（九州大学）

鉉雄、

Naho ITAGAKI, Koichi MATSUSHIMA,
Daisuke YAMASHITA, Hyunwoong SEO,
Kazunori KOGA, Masaharu SHIRATANI（Kyushu
University）
14:00-14:30
Invited
C4-I20-009
The Study of Titanium Nitride Films Deposited
Using a Dual Deposition System Combining
Cathodic Arc and High Power Impulse Magnetron
Sputtering

Wan-yu WU1）, Chi-lung CHANG2）, Chun-ta HO3）,
Pin-hung CHEN1）, Wei-chih CHEN3）, Da-yung WANG3）（1）Da-Yeh University, 2）Ming-Chi University, 3）MingDao University）
14:30-14:45
C4-O20-010
0.1 - 5.0 MPa での高密度マイクロ波Arプラズマの生成 / Generation of high density microwave Ar
plasmas at pressures from 0.1 to 5.0 MPa

井上 健一1）、シュタウス スベン1）、金 載浩2）、（1）東京大学大学院 新領域
榊原 教貴1）、寺嶋 和夫1）
2）
創成科学研究科、 産業技術総合研究所）
Ken-ichi INOUE1）, Sven STAUSS1）, Jaeho KIM2）,
Noritaka SAKAKIBARA1）, Kazuo TERASHIMA1）（1）Graduate School of Frontier Science, The Universityof Tokyo, 2）National Institute of Advanced Industrial
Science and Technology）
14:45-15:00
C4-O20-011
低圧におけるCO2のメタン化の放電電力依存性 /Discharge power dependence of methanation of
CO2 under low pressure

都甲白谷将、片山 龍、谷田
正治（九州大学）

知史、古閑

一憲、

Susumu TOKO, Ryu KATAYAMA, Satoshi TANIDA,
Kazunori KOGA, Masaharu SHIRATANI（Kyushu
University）

15:00-15:15
C4-O20-012
プラズマハイブリッドCH4/CO2改質における励起H2Oによる反応促進メカニズム / Plasma-activated-H2O
induced reaction enhancement mechanism in
hybrid dry methane reforming

亀島
坂田

晟吾、水上
謙太、野崎

諒、山﨑 匠、幸田 尚彬、智洋（東京工業大学工学院機械系）

Seigo KAMESHIMA, Ryo MIZUKAMI,
Takumi YAMAZAKI, Naoaki KODA,
Kenta SAKATA, Tomohiro NOZAKI（Department of
Mechanical Engineering, Tokyo Institute ofTechnology）
15:15-15:30
C4-O20-013
プラズマCH4/CO2改質におけるNi/Al2O3触媒上の炭素析出挙動 / Coke formation behavior over Ni/Al2O3
pellets during nonthermal plasma hybrid CH4/CO2
reforming

水上 諒1）、亀島 晟吾1）、山﨑 匠1）、幸田 尚彬1）、坂田 謙太1）、Tinnapop MOONMUANG2）、野崎 智洋1）（1）東京工業大学院理工学研究科、2）チェンマイ大学機械
工学部）
Ryo MIZUKAMI1）, Seigo KAMESHIMA1）,
Takumi YAMAZAKI1）, Naoaki KODA1）,
Kenta SAKATA1）, Tinnapop MOONMUANG2）,
Tomohiro NOZAKI1）（1）Graduate School of Tokyo
Institute of Technology, 2）Department of MechanicalEngineering, Chiang Mai University）
12 月 21 日（水）December 21（Wed.）
横浜市開港記念会館 Hall座長：‌白谷 正治（九州大学）
Chair：‌Masaharu SHIRATANI（Kyushu Univ.）
9:30-10:00
KeynoteC4-K21-001
プラズマ遺伝子導入：細胞膜透過性向上に対するプラ
ズマ刺激の効果 / Plasma Gene Transfection:
Effects of Plasma Stimuli on Cell Membrane
Permeabilization
1）

金子 俊郎 、佐々木 渉太 、高島 圭介 、
佐藤 岳彦2）、金高 弘恭3,5）、立川 正憲4）、神崎 展5）（1）東北大学大学院工学研究科電子工学専攻、2）東北大学
流体科学研究所、3）東北大学大学院歯学研究科、4）東北大学大学院薬学研究科、5）東北大学大学院医工学研究科）
1）

1）

Kenji ISHIKAWA1）, Naoyuki KURAKE1）,
Hiroshi HASHIZUME1）, Hiromasa TANAKA1）,
Keigo TAKEDA1）, Hiroki KONDO1）,
Makoto SEKINE1）, Takashi KONDO2）,
Shoko OHNUMA1）, Masashi KATO1）,
Kae NAKAMURA1）, Hiroaki KAJIYAMA1）,
Fumitaka KIKKAWA1）（1）Nagoya University,
2）
Toyama University）
10:30-11:00
Invited
C4-I21-003
プラズマによる癌の免疫治療およびプラズマ医療に効
果的な活性種の計測 / Immunotherapy of cancer
using plasma and measurement of reactive
species effective for plasma medicine

小野亮（東京大学）Ryo ONO（The University of Tokyo）
11:00-11:30
Invited
C4-I21-004
遺伝子改変マウスを用いた酸化による突然変異・発がん解析 / Analyses of Oxidative Mutagenesis andCarcinogenesis Using Genetically Modified Mice:
Application to Plasma Medicine

可道（九州大学大学院医学研究院）

Yoshimichi NAKATSU（Faculty of Medical Sciences,
Graduate School, Kyushu University）

午前の部
Morning Oral Session

1）

石川 健冶1）、倉家 尚之1）、橋爪 博司1）、田中 宏昌1）、
竹田 圭吾1）、近藤 博基1）、関根 誠1）、近藤 隆2）、
大沼 章子1）、加藤 昌志1）、中村 香江1）、梶山 広明1）、（1）名古屋大学、2）富山大学）
吉川 史隆1）中津

Yokohama Port Opening Plaza Hall1）

10:00-10:30
Invited
C4-I21-002
プラズマ活性培養液（PAM）での脳腫瘍細胞の代謝プロ
ファイル解析 / Plasma-activated Medium（PAM）
and Metabolic Analysis of Glioblastoma（U251SP）

Toshiro KANEKO , Shota SASAKI ,Keisuke TAKASHIMA1）, Takehiko SATO2）,
Hiroyasu KANETAKA3,5）, Masanori TACHIKAWA4）,
Makoto KANZAKI5）（1）Department of Electronic
Engineering, Tohoku University, 2）Institute of Fluid
Science, Tohoku University, 3）Graduate School of
Dentistry, Tohoku University, 4）Graduate School of
Pharmaceutical Sciences, Tohoku University,
5）
Graduate School of Biomedical Engineering, Tohoku
University）

11:30-12:00
Invited
C4-I21-005
電解プラズマ酸化による医療用金属材料の生体機能化 /Biofunctinaolization of metallic biomaterials byplasma electrolytic oxidation technique

堤祐介（東京医科歯科大学生体材料工学研究所）

Yusuke TSUTSUMI（Institute of Biomaterials andBioengineering, Tokyo Medical and Dental University）

午後の部
Afternoon Oral Session
座長：‌石川 健治（名古屋大学）
Chair：‌Kenji ISHIKAWA（Nagoya Univ.）
13:30-13:45
C4-O21-006
電気刺激を用いたカーボンナノウォール足場上での革新的細胞培養法 / A Novel Controlling Method of
Proliferation of Cultured Cells on Carbon
Nanowalls Scaffold with an Electric Stimulation

田中 彗貴、市川 知範、近藤
橋爪 博司、田中 宏昌、関根学大学院工学研究科）

博基、石川 健治、
誠、堀 勝（名古屋大Suiki TANAKA, Tomonori ICHIKAWA,
Hiroki KONDO, Kenji ISHIKAWA,
Hiroshi HASHIZUME, Hiromasa TANAKA,
Makoto SEKINE, Masaru HORI（Graduate School ofEngineering, Nagoya University）

13:45-14:00
C4-O21-007
プラズマ生成活性種による細胞膜透過性向上の作用発現時間 / Onset Time of Cell-membrane
Permeabilization by Plasma-Produced Reactive
Species

鄭 悦星1）、佐々木 渉太1）、神崎（1）東北大院工、2）東北大院医工）

展2）、金子俊郎1）

Yuexing ZHENG1）, Shota SASAKI1）,
Makoto KANZAKI2）, Toshiro KANEKO1）（1）Department of Electronic Engineering, Tohoku
University, 2）Department of Biomedical Engineering,Tohoku University）
14:00-14:15
C4-O21-008
プラズマとガンマ線の生体照射効果の比較 /Comparison of biological effects between plasmaand gamma-ray radiation

白谷 正治1）、Thapanut SARINONT1）、（1）九州大学、Pankaj ATTRI2）、古閑 一憲1）
2）
Kwangwoon University）
Masaharu SHIRATANI1）, Thapanut SARINONT1）,
Pankaj ATTRI2）, Kazunori KOGA1）（1）Kyushu
University, 2）Kwangwoon University）
14:15-14:45
Invited
C4-I21-009
水溶液中放電プラズマの時間分解分光計測 / Timeresolved Optical Diagnosis of Discharge Plasma
Formed in Aqueous Solution

伴野 元洋、由井学科）

宏治（東京理科大学理学部第一部化

Motohiro BANNO, Hiroharu YUI（Department ofChemistry, Faculty of Science, Tokyo University of
Science）
14:45-15:15
Invited
C4-I21-010
液体表面へのプラズマジェット照射とその溶液中ROS，
RNS生成への効果 / Effects of plasma-jet irradiationon the surface of liquid and its effects on ROS
and RNS generations in bulk solution

内田 儀一郎1）、伊藤 泰喜1）、竹中 弘祐1）、（1）大阪大学接合科学研究池田 純一郎2）、節原 裕一1）
2）
所、 大阪大学大学院医学研究科）
Giichiro UCHIDA1）, Taiki ITO1）,
Kosuke TAKENAKA1）, Junichiro IKEDA2）,
Yuichi SETSUHARA1）（1）JWRI, Osaka University,
2）
Grad. Sch. Med., Osaka University）
15:15-15:30
C4-O21-011
高圧キセノン中の表面誘電体バリア放電における各放電形態の電気的特性と発光特性 / Electrical andoptical emission characteristics of the different
discharge regimes of surface dielectric barrierdischarges in high-pressure Xe

田中 遼1）、シュタウス スヴェン1）、パイ デイビッド2）、（1）東京大学、2）Institut PPRIME（CNRS,
寺嶋 和夫1）
Université de Poitiers, ISAE-ENSMA））
Ryo TANAKA1）, Sven STAUSS1）, David PAI2）,
Kazuo TERASHIMA1）（1）University of Tokyo,
2）
Institut PPRIME（CNRS, Université de Poitiers,
ISAE-ENSMA））

12 月 20 日（火）December 20（Tue.）
産業貿易センタービル Hall（1F）Industry & Trade Center Hall（1F）

ポスターセッション
Poster Session
座長：‌荻野 明久（静岡大学）
Chair：‌Akehisa OGINO（Shizuoka Univ.）
16:00-18:00
C4-P20-001
プラズマ支援RFスパッタリング法によるGaNエピタキ
シャル成長 / GaN epitaxial growth by Plasmaassisted RF Sputter deposition

谷出 敦1）、中村 昭平1）、堀越 章1,3）、高辻 茂1）、
河野 元宏1,3）、木瀬 一夫1）、灘原 壮一1）、西川 正純2）、（1）株
江部 明憲2）、加古 隆3）、石川 健治3）、堀 勝3）
式会社SCREENホールディングス、2）株式会社イー・エ
ム・ディー、3）名古屋大学）
Atsushi TANIDE1）, Shohei NAKAMURA1）,
Akira HORIKOSHI1,3）, Shigeru TAKATSUJI1）,
Motohiro KOHNO1,3）, Kazuo KINOSE1）,
Soichi NADAHARA1）, Masazumi NISHIKAWA2）,
Akinori EBE2）, Takashi KAKO3）, Kenji ISHIKAWA3）,
Masaru HORI3）（1）SCREEN Holdings Co., LTD., 2）EMD
Corp., 3）Nagoya University）
16:00-18:00
C4-P20-002
不純物添加法を用いた高移動度透明アモルファス
In2O3:Ge膜の作製 / High-mobility transparent
amorphous In2O3:Ge films fabricated by impurity
mediated amorphization method

高崎
山下
板垣

俊行、王 寒、宮原 奈乃華、松島
大輔、徐 鉉雄、古閑 一憲、白谷奈穂（九州大学）宏一、正治、

Toshiyuki TAKASAKI, Han WANG,
Nanoka MIYAHARA, Koichi MATSUSHIMA,
Daisuke YAMASHITA, Hyunwoong SEO,
Kazunori KOGA, Masaharu SHIRATANI,
Naho ITAGAKI（Kyushu University）
16:00-18:00
C4-P20-003
窒素添加結晶化法により作製されたZnO特性にスパッ
タガス組成が与える影響 / Effects of Sputtering Gas
Composition on Properties of ZnO Prepared by
Nitrogen Mediated Crystallization Method

宮原 奈乃華、井手 智章、岩崎 和也、山下 大輔、
徐 鉉雄、古閑 一憲、白谷 正治、板垣 奈穂（九州大学）
Nanoka MIYAHARA, Tomoaki IDE,
Kazuya IWASAKI, Daisuke YAMASHITA,
Hyung eun SEO, Kazunori KOGA,
Masaharu SHIRATANI, Naho ITAGAKI（Kyushu
University）
16:00-18:00
C4-P20-004
DCおよびRFマグネトロンスパッタ法による窒化亜鉛
薄膜の合成 / Synthesis of Zn3N2 films by DC andRF magnetron sputtering

上所

寛典（青山学院大学大学院理工学研究科）

Hironori KAMIJO（Graduate‌School‌of Science andEngineering, Aoyama Gakuin University）

16:00-18:00
C4-P20-005
ITO導電層上に堆積したInN薄膜のエレクトロクロミッ
ク応答特性 / Electrochromic Response of InN Thin
Films on ITO Conductive Layer

坂槇 恭輔1）、椎名 祐斗2）、井上 泰志1,2）、（1）千葉工業大学工学部、2）千葉工業大学大学
高井 治3）
院工学研究科、3）関東学院大学材料・表面工学研究所）
1）

2）

Kyosuke SAKAMAKI , Yuto SHIINA ,Yasushi INOUE1,2）, Osamu TAKAI3）（1）Faculty ofEngineering, Chiba Institute of Technology, 2）Graduate
School of Engineering, Chiba Institute of Technology,
3）
Materials & Surface Engineering Research Institute,
Kanto Gakuin University）
16:00-18:00
C4-P20-006
プラズマ支援反応性DCパルススパッタリングで製膜したAlN薄膜の特性 / Properties of AlN thin films
deposited with plasma-enhanced reactive DCpulsed sputtering

佐竹 義旦、竹中 弘祐、内田
阪大学接合科学研究所）

儀一郎、節原裕一（大Yoshikatsu SATAKE, Kosuke TAKENAKA,
Giichiro UCHIDA, Yuichi SETSUHARA（Joining and
Welding Research Institute, Osaka University）
16:00-18:00
C4-P20-007
誘導結合プラズマ支援反応性スパッタリングを用いて堆積したIGZO薄膜のコンビナトリアル解析 /Combinatorial analysis of a-IGZO film properties
deposited with ICP-enhanced reactive sputtering

竹中 弘祐1）、遠藤 雅1）、内田 儀一郎1）、節原 裕一1）、（1）大阪大学接合科学研究所、2）株式会社
江部 明憲2）
イー・エム・ディー）
Kosuke TAKENAKA1）, Masashi ENDO1）,
Giichiro UCHIDA1）, Yuichi SETSUHARA1）,
Akinori EBE2）（1）Joining and Welding ResearchInstitute, Osaka University, 2）EMD Corporation）
16:00-18:00
C4-P20-008
ハイパワーインパルスマグネトロンスパッタリングにおける基板加熱の考察 / Investigation of substrateheating on high power impulse magnetron
sputtering

服部 克宏1）、太田 貴之1）、小田 昭紀2）、上坂（1）名城大学、2）千葉工業大学、3）岐阜大学）

裕之3）

Katsuhiro HATTORI1）, Takayuki OHTA1）,
Akinori ODA2）, Hiroyuki KOUSAKA3）（1）Meijo
University, 2）Chiba Institute of Technology, 3）Gifu
University）
16:00-18:00
C4-P20-009
炭素ターゲットを用いたハイパワーインパルスマグネ
トロンスパッタリングのプラズマ診断 / Plasma
diagnostics of high power impulse magnetron
sputtering using carbon target

石川 敦士1）、太田 貴之1）、小田 昭紀2）、上坂（1）名城大学、2）千葉工業大学、3）岐阜大学）
1）

1）

裕之3）

Atsushi ISHIKAWA , Takayuki OHTA ,Akinori ODA2）, Hiroyuki KOUSAKA3）（1）Meijo
University, 2）Chiba Institute of Technology, 3）Gifu
University）

16:00-18:00
C4-P20-010
様々な回転型磁石配置を用いたRF磁化スパッタプラズ
マによる銅薄膜合成 / Preparation of Copper Thin
Film by Radio Frequency Magnetized Plasma
Sputtering Source with Gyratory Various Magnet
Arrangements大津中村康徳、ホサイン エムディ、井手優太朗（佐賀大学）

翼、

Yasunori OHTSU, Md. HOSSAIN, Tsubasa IDE,
Yutaro NAKAMURA（Saga University）
16:00-18:00
C4-P20-011
粉体ターゲットを用いたプラズマプロセスによる薄膜作製I / Thin Film Preparation by Plasma Processes
Using Several Metal Powder Targets I

川崎 仁晴、大島 多美子、柳生
世保工業高等専門学校）

義人、猪原

武士
（佐

Hiroharu KAWASAKI, Tamiko OHSHIMA,
Yoshihito YAGYU, Takeshi IHARA（National Instituteof Technology, Sasebo College）
16:00-18:00
C4-P20-012
大気圧直流グロー放電電解を用いた磁性ナノ粒子合成
における反応機構の検討 / Study on reaction
mechanism on magnetic-nanoparticles synthesis
by atmospheric-pressure DC glow discharge
electrolysis

山崎 裕也1）、白井 直機1,2）、内田（1）首都大学東京、2）北海道大学）

諭1）、杤久保文嘉1）

Yuya YAMAZAKI1）, Naoki SHIRAI1,2）,
Satoshi UCHIDA1）, Fumiyoshi TOCHIKUBO1）（1）Tokyo Metropolitan University, 2）Hokkaido
University）
16:00-18:00
C4-P20-013
水中での放電プラズマによるPdナノ粒子担持グラフェ
ンのトップダウン合成 / "Top down" deposition of
Pd nanoparticles on graphene by discharge
plasma in aqueous solution

東海 旭宏1）、興津 健二1）、堀 史説1）、水越 克彰2）、（1）大阪府立大学大学院工学西村 芳実3）、岩瀬 彰宏1）
研究科、2）東北大学金属材料研究所、3）栗田製作所）
Akihiro TOKAI1）, Kenji OKITSU1）, Fuminobu HORI1）,
Yoshiteru MIZUKOSHI2）, Yoshimi NISHIMURA3）,
Akihiro IWASE1）（1）Graduate School of Engineering,Osaka Prefecture University, 2）Institute for Materials
Research, Tohoku University, 3）Kurita Seisakusho Co.,Ltd.）
16:00-18:00
C4-P20-014
プラズマ堆積プロセスによる一室型燃料電池の作製 /The Single Chamber Solid Oxide Fuel Cell
Prepared Using Plasma Deposition Process

大島 多美子1）、野尻 能弘1）、川下 翔1）、岩屋 匡紀1）、
川崎 仁晴1）、柳生 義人1）、猪原 武士1）、須田 義昭2）
（1）佐世保工業高等専門学校、2）石川工業高等専門学校）
Tamiko OHSHIMA1）, Yoshihiro NOJIRI1）,
Kakeru KAWASHITA1）, Masaki IWAYA1）,
Hiroharu KAWASAKI1）, Yoshihito YAGYU1）,
Takeshi IHARA1）, Yoshiaki SUDA2）（1）National
Institute of Technology, Sasebo College, 2）National
Institute of Technology, Ishikawa College）

16:00-18:00
C4-P20-015
気液界面プラズマを用いた銅ナノ微粒子の合成 /Synthesis of copper nanoparticles using gasliquid interface plasma

伊藤 滉1）、太田
屋大学）

貴之1）、堀勝2）（1）名城大学、2）名古Akira ITO1）, Takayuki OHTA1）, Masaru HORI2）（1）Meijo University, 2）Nagoya University）
16:00-18:00
C4-P20-016
プラズマ重合膜被覆水晶振動子を用いたガスセンシン
グ / Gas Sensing using Plasma Polymerized Films
Coated with Quartz Crystal Microbalance

愛澤 秀信1）、草刈 眞一1,2）、野田 和俊1）、山田 和典2）
（1）産業技術総合研究所、2）日本大学 生産工学部）
Hidenobu AIZAWA1）, Shinichi KUSAKARI1,2）,
Kazutoshi NODA1）, Kazunori YAMADA2）（1）National
Institute of Advanced Industrial Science andTechnology（AIST）, 2）College of Industrial
Technology, Nihon University）
16:00-18:00
C4-P20-017
プラズマ放電を用いた感温性高分子の新規重合法 /New Route for the Thermo-Sensitive Polymer
Production with Plasma Discharge

森 加菜江1）、平野 佑典1）、佐々木 満1,2）、木田 徹也1）、（1）熊本大学大学
王 斗艶2）、浪平 隆男2）、奥林 里子3）2）
院自然科学研究科、 熊本大学パルスパワー科学研究所、
3）
京都工芸繊維大学）
Kanae MORI1）, Yusuke HIRANO1）,
Mitsuru SASAKI1,2）, Tetsuya KIDA1）,Douyan WANG2）, Takao NAMIHIRA2）,
Satoko OKUBAYASHI3）（1）Graduate School of Scienceand Technology, Kumamoto University, 2）Institute ofPulsed Power Science, Kumamoto University,
3）
Department of Advanced Fibro-Science, Kyoto
Insitute of Technology）
16:00-18:00
C4-P20-018
Ar + H2+ C7H8プラズマ CVD 法におけるアモルファ
ス水素化炭素膜密度に対するバイアス電圧の影響 /Effects of bias voltage on mass density of a-C:H
films deposited using Ar + H2+ C7H8 Plasma
CVD

方 韜鈞、山木 健司、山下 大輔、徐 鉉雄、
板垣 奈穂、古閑 一憲、白谷 正治（九州大学）
Taojun FANG, Kenji YAMAKI,
Daisuke YAMASHITA, Hyunwoong SEO,
Naho ITAGAKI, Kazunori KOGA,
Masaharu SHIRATANI（Kyushu University）
16:00-18:00
C4-P20-019
プラズマ装置内ミラーへのダスト堆積に対する静電場
方向の影響 / Effects of electrostatic field direction
on dust accumulation to mirror in a plasma
reactor片山 龍1）、方 韜鈞1）、古閑 一憲1）、山下 大輔1）、徐 鉉雄1）、板垣 奈穂1）、白谷 正治1）、増崎 貴2）、芦川 直子2）、時谷 政行2）、西村 清彦2）、相良 明男2）
（1）九州大学、2）核融合科学研究所）

Ryu KATAYAMA1）, Taojun FANG1）,
Kazunori KOGA1）, Daisuke YAMASHITA1）,
Hyunwoong SEO1）, Naho ITAGAKI1）,
Masaharu SHIRATANI1）, Suguru MASUZAKI2）,
Naoko ASHIKAWA2）, Masayuki TOKITANI2）,
Kiyohiko NISHIMURA2）, Akio SAGARA2）（1）Kyushu
University, 2）National Institute for Fusion Science）
16:00-18:00
C4-P20-020
プラズマとナノ粒子間の相互作用ゆらぎに対する変調
周波数の影響 / Effects of modulation frequency oninteraction fluctuation between plasma andnanoparticles

森 研人、添島 雅大、山下 大輔、徐 鉉雄、
板垣 奈穂、古閑 一憲、白谷 正治（九州大学）
Kento MORI, Masahiro SOEJIMA,
Daisuke YAMASHITA, Hyunwoong SEO,
Naho ITAGAKI, Kazunori KOGA,
Masaharu SHIRATANI（Kyushu University）
16:00-18:00
C4-P20-021
プラズマ中衝突微粒子の相互作用ポテンシャル揺らぎ /Interaction potential fluctuation between binary
collisions of fine particles suspended in low
pressure Ar rf plasmas

添島板垣

雅大、大友 洋、森 研人、山下 大輔、徐 鉉雄、奈穂、古閑 一憲、白谷 正治（九州大学）

Masahiro SOEJIMA, Hiroshi OHTOMO, Kento MORI,
Daisuke YAMASHITA, Hyunwoong SEO,
Naho ITAGAKI, Kazunori KOGA,
Masaharu SHIRATANI（Kyushu University）
16:00-18:00
C4-P20-022
プラズマを用いた低温高速層交換結晶成長の特性 /Properties of Au-induced layer-exchange
crystalline Ge formed by sputtering deposition

田浪 荘汰、大井手 芳徳、坂本 大輔、徐山下 大輔、板垣 奈穂、古閑 一憲、白谷
州大学）

鉉雄、
正治
（九

Sota TANAMI, Yoshinori OIDE,
Daisuke SAKAMOTO, Hyunwoog SEO,
Daisuke YAMASHITA, Naho ITAGAKI,
Kazunari KOGA, Masaharu SHIRATANI（Kyushu
University）
16:00-18:00
C4-P20-023
プラズマ中で光捕捉された単一微粒子の位置揺らぎ特性長 / Characteristic length of position fluctuationof a single fine particle optically trapped in Ar
plasma大友板垣洋、添島 雅大、森 研人、山下 大輔、徐 鉉雄、奈穂、古閑 一憲、白谷 正治（九州大学）

Hiroshi OHTOMO, Masahiro SOEJIMA, Kento MORI,
Daisuke YAMASHITA, Hyunwoong SEO,
Naho ITAGAKI, Kazunori KOGA,
Masaharu SHIRATANI（Kyushu University）
16:00-18:00
C4-P20-024
色素増感太陽電池におけるポリマー電極内のSiナノ粒
子の量による内部抵抗依存性 / Dependence ofinternal resistance by the quantity of Si
nanoparticles on polymer counter electrode in
dye-sensitized solar cells坂本 大輔、張徐 鉉雄、板垣大学）

博辰、大井手 芳徳、田浪 荘汰、奈穂、古閑 一憲、白谷 正治（九州Daisuke SAKAMOTO, Hakushin CHOU,
Yoshinori OIDE, Sota TANAMI, Hyunwoong SEO,
Naho ITAGAKI, Kazunori KOGA,
Masaharu SHIRATANI（Kyushu University）
16:00-18:00
C4-P20-025
PIN水素化アモルファスシリコン太陽電池のP層がP/I
界面のSi-H2結合形成に及ぼす影響 / Effects of
P-layer of PIN a-Si:H solar cells on Si-H2 bondformation at P/I interface

濱崎 浩1）、林 信哉2）、米須 章3）、板良敷 朝将1）、（1）サラヤ株式会社、2）九州大学大学院総合
安楽 大輝1）
理工学研究院、3）琉球大学工学部電気電子工学科）
Hiroshi HAMASAKI1）, Nobuya HAYASHI2）,
Akira YONESU3）, Tomomasa ITARASHIKI1）,
Daiki ANRAKU1）（1）SARAYA CO., Ltd.,
2）Interdisciplinary Graduate School of Engineering
Sciences, Kyushu University, 3）Department ofElectrical and Electronics Engineering, Faculty ofEngineering, University of The Ryukyus）
12 月 21 日（水）December 21（Wed.）
産業貿易センタービル Hall（1F）

毛屋 公孝、田中 和真、小島 尚、都甲 将、徐 鉉雄、
板垣 奈穂、古閑 一憲、白谷 正治（九州大学大学院
システム情報科学府）
Kimitaka KEYA, Kazuma TANAKA,
Takashi KOJIMA, Susumu TOKO, Hyunwoong SEO,
Naho ITAGAKI, Kazunori KOGA,
Masaharu SHIRATANI（Graduate School ofInformation Science, University of Kyushu）
16:00-18:00
C4-P20-026
顕微FTIRを用いたa-Si:H薄膜中Si-H2結合密度の空間分布評価 / Spatial distribution of Si-H2 bonddensity in a-Si:H film evaluated by microscopic
FTIR田中 和真、小島 尚、毛屋 公孝、都甲 将、徐 鉉雄、
板垣 奈穂、古閑 一憲、白谷 正治（九州大学大学院
システム情報科学府）
Kazuma TANAKA, Takashi KOJIMA,
Kimitaka KEYA, Susumu TOKO, Hyunwoong SEO,
Naho ITAGAKI, Kazunori KOGA,
Masaharu SHIRATANI（Graduate School ofInformation Science, University of Kyushu）
16:00-18:00
C4-P20-027
シランマルチホロープラズマCVDにおける電子温度と膜へのクラスター混入量の時間変化 / Time evolutionof electron temperature and amount of cluster
incorporation into films in SiH4 multi-hollow
plasma CVD

小島古閑尚、都甲 将、毛屋 公孝、徐 鉉雄、板垣
一憲、白谷 正治（九州大学）

奈穂、

Takashi KOJIMA, Susumu TOKO, Kimitaka KEYA,
Hyunwoohg SEO, Naho ITAGAKI, Kazunori KOGA,
Masaharu SHIRATANI（Kyushu University）
16:00-18:00
C4-P20-028
リチウムイオン二次電池高容量化に向けた変調プラズ
マスプレー PVDによるSiOxナノ複合負極材料創製 /Development of SiOx nanocomposites by pulsemodulated plasma spray PVD for anode of lithium
ion batteries with increased capacity

浜崎 祥世1）、児玉 直人2）、北 健太郎2）、石坂 洋輔2）、（1）東京大学、2）金沢大学）
田中 康規2）、神原 淳1）Sachiyo HAMAZAKI1）, Naoto KODAMA2）,
Kentaro KITA2）, Yosuke ISHISAKA2）,
Yasunori TANAKA2）, Makoto KAMBARA1）（1）The
University of Tokyo, 2）Kanazawa University）
16:00-18:00
C4-P20-029
過酢酸ガスが材質に与える影響 / Effect of Peracetic
Acid Gas on the Material

Industry & Trade Center Hall（1F）

ポスターセッション
Poster Session
座長：‌内田 儀一郎（大阪大学）
Chair：‌Giichiro UCHIDA（Osaka Univ.）
16:00-18:00
C4-P21-001
カイワレダイコンの成長促進に対するプラズマ処理水
投与量依存性 / Dependence of amount of plasma
activated water on growth enhancement of radish
sprout

古閑 一憲、サリノント タパナット、片山 龍、
和田 陽介、徐 鉉雄、板垣 奈穂、白谷 正治（九州大学）
Kazunori KOGA, Thapanut SARINONT,Ryu KATAYAMA, Yosuke WADA, Hyunwoong SEO,
Naho ITAGAKI, Masaharu SHIRATANI（Kyushu
University）
16:00-18:00
C4-P21-002
大気圧プラズマ処理水による植物の成長促進 /Stimulation of germinability of seeds undervarious gas plasma activated water

和田
古閑陽介、サリノント タパナット、片山
一憲、白谷 正治（九州大学）

龍、

Yosuke WADA, Thapanut SARINONT,Ryu KATAYAMA, Kazunori KOGA,
Masaharu SHIRATANI（Kyushu University）
16:00-18:00
C4-P21-003
大気圧プラズマ照射による小麦とメロンの成長促進の効果 / Effects of plasma irradiation on growth ofwheat and melon

サリノント タパナット、和田 陽介、片山古閑 一憲、白谷 正治（九州大学）

龍、

Thapanut SARINONT, Yosuke WADA,
Ryu KATAYAMA, Kazunori KOGA,
Masaharu SHIRATANI（Kyushu University）
16:00-18:00
C4-P21-004
大気圧空気プラズマ照射によって生じる果物の抗酸化活性の変化 / Variation of Antioxidative Activity ofFruits Irradiated by Atmospheric Air Plasma

山本

強太、福原

義剛、林

信哉（九州大学）

Kyota YAMAMOTO, Yoshitake FUKUHARA,
Nobuya HYASHI（Kyushu University）

16:00-18:00
C4-P21-005
空気プラズマ活性ガス中活性種組成の液中分生子発芽への効果 / Effect of Reactive Species Compositionin Air Plasma Effluent on Conidia Germination in
Liquid Phase

嶋田 啓亮、木村 豊、高島 圭介、金子
大学大学院工学研究科電子工学専攻）

俊郎（東北Keisuke SHIMADA, Yutaka KIMURA,
Keisuke TAKASHIMA, Toshiro KANEKO（Department of Electronic Engineering, Tohoku
University）
16:00-18:00
C4-P21-006
水プラズマ照射による植物の成長制御 / Plant Growth
Regulation using Active Species in Water Plasma

松本 光司、小野 大帝、中野 陸、渡辺林 信哉
（九州大学総合理工学府）

哲史、

Koji MATSUMOTO, Reoto ONO, Riku NAKANO,
Satoshi WATANABE, Nobuya HAYASHI（Interdisciplinary Graduate School of Engineering
Sciences, Kyushu University）
16:00-18:00
C4-P21-007
植物DNAの低圧高周波酸素プラズマを用いたエピジェ
ネティック修飾 / Epigenetic Modification of Plant
DNA Induced by Oxygen RF Plasma

中野 陸1）、小野 大帝1）、田代 康介2）、合島 怜央奈3）、（1）九州大学先端エネルギー理
萩原 央子4）、林 信哉1）
2）
工学専攻、 九州大学農学部大学院生物資源環境科学府、
3）
佐賀大学医学部、4）セルイノベーター株式会社）
Riku NAKANO1）, Reoto ONO1）, Kosuke TASHIRO2）,
Reona AIJIMA3）, Hiroko HAGIWARA4）,
Nobuya HAYASHI1）（1）Interdisciplinary Graduate
School of Engineering Sciences, Kyushu University,
2）
Graduate School of Bioresource andBioenvironmental Sciences, Kyushu University,
3）
Fuculty of Medicine, Saga University, 4）Cell
Innovator Co. Ltd.）
16:00-18:00
C4-P21-008
大気圧空気プラズマによる農作物の鮮度保持および抗酸化活性の向上 / Freshness Retaining and
Enhancement of Antioxidative Activity ofAgricultural Products Irradiated by Atmospheric
Air Plasma

福原

義剛、山本

強太、林

信哉（九州大学）

Yoshitake FUKUHARA, Kyota YAMAMOTO,
Nobuya HAYASHI（Kyushu University）
16:00-18:00
C4-P21-009
活性酸素を使用した医療用プラズマ滅菌の素材適合性 /Material Compatibility of Medical Plasma Sterilizer
Using Active Oxygen Species（1）九州大学大学院総合理工学府、
田中 大1,2）、林 信哉1）
2）
株式会社エルクエスト）
Hiroshi TANAKA1,2）, Nobuya HAYASHI1）（1）Interdisciplinary Graduate School of Engineering
Sciences, Kyushu University, 2）ELQUESTCORPORATION）

16:00-18:00
C4-P21-010
誘電体バリア放電により誘起されたシロイヌナズナのカルスの成長促進の最適ガス種の調査 / Investigationof Suitable Gas Species for Growth Enhancementof Arabidopsis Thaliana Callus Induced by DBD
Plasma Irradiation

渡辺 哲史、松本 光司、小野大学大学院総合理工学府）

大帝、林

信哉（九州

Satoshi WATANABE, Koji MATSUMOTO,
Reoto ONO, Nobuya HAYASHI（Interdisciplinary
Graduate school of Engineering Sciences, Kyushu
University）
16:00-18:00
C4-P21-011
アミロイドベータタンパクとプラズマの反応の赤外分
光解析 / Infrared spectroscopic study oninteraction of plasma with Amyloid beta protein

篠原 正典、今田
崎大学）

速也、中野

大和、松田

良信
（長

Masanori SHINOHARA, Tatsuya IMADA,
Yamato NAKANO, Yoshinobu MATSUDA（Nagasaki
University）
16:00-18:00
C4-P21-012
水熱反応とパルス放電を組み合わせたハイブリッドシ
ステムによるアラニンペプチドの合成 / Synthesis of
Alanine Peptide with The Hydrothermal Reaction
and Pulsed Discharge Hybrid System

宮之前 諒太1）、坂井 夕華1）、キタイン アルマンド1）、
木田 徹也1）、佐々木 満1,2）、川村 邦男3）、本間 哲雄4）（1）熊本大学大学院自然科学研究科、2）熊本大学パルスパ
ワー研究所、3）広島修道大学、4）八戸高等専門学校）
Ryota MIYANOMAE1）, Yuka SAKAI1）,
Armando QUITAIN1）, Tetsuya KIDA1）,
Mitsuru SASAKI1,2）, Kunio KAWAMURA3）,
Tetsuo HONMA4）（1）Graduate School of Science andTechnology, Kumamoto University, 2）Institute ofPulsed Power Science, Kumamoto University,
3）
Hiroshima Shudo University, 4）Hachinohe NCT）
16:00-18:00
C4-P21-013
低圧高周波酸素とアルゴンプラズマを用いた難分解有機化合物への照射 / Treatment of hard-degradable
protein using low-pressure RF oxygen and argon
plasma

リャオ ユーシャン1）、山田 拓也1）、野田 稔2）、
（1）九州大学大学院総合理工学府、2）佐賀大学
林 信哉1）
医学部）
Liao YU SHIAN1）, Yamada TAKUYA1）,
Minoru NODA2）, Hayashi NOBUYA1）（1）Interdisciplinary Graduate School of Engineering
Sciences, Kyushu University, 2）Faculty of Medicine,
Saga University）
16:00-18:00
C4-P21-014
気液二相スラグ流における放電プラズマを用いた酸化反応 / Oxidation Reaction by Using Discharge
Plasma in Gas-liquid Slug Flow

間野 翔、高田 昇治、神田屋大学大学院工学研究科）

英輝、後藤

元信（名古

Kakeru MANO, Noriharu TAKADA, Hideki KANDA,
Motonobu GOTO（Graduate School of Engineering,
University of Nagoya）

16:00-18:00
C4-P21-015
低圧高周波酸素プラズマを用いた難分解有機化合物への照射 / Treatment of hard-degradable organic
compounds using low-pressure RF oxygen
plasma山田 拓也1）、リャオ ユーシャン1）、野田 稔2）、
（1）九州大学大学院総合理工学府、2）佐賀大学
林 信哉1）
医学部）
1）

1）

Takuya YAMADA , Liao YU SHIAN ,Minoru NODA2）, Nobuya HAYASHI1）（1）Interdisciplinary Graduate School of Engineering
Sciences, Kyushu University, 2）Faculty of Medicine,
Saga University）
16:00-18:00
C4-P21-016
水冷システムを用いた酸素プラズマ滅菌器の滅菌特性
および素材適合性 / Sterilization Characteristics andMaterial Compatibility of Oxygen Plasma Sterilizer
Using Water-Cooled System

16:00-18:00
C4-P21-020
大気圧プラズマによる破骨前駆細胞の分化抑制 /Suppression of Differentiation of Osteoclast
Precursor Cells by Atmospheric Torch-type Air
Plasma堀 重彌1）、林 信哉1）、久本 由香里2）、久木田（1）九州大学、2）九州大学 歯学研究院）

敏夫2）

Shigeya HORI1）, Nobuya HAYASHI1）,
Yukari KYUMOTO2）, Toshio KUKITA2）（1）Kyushu
University, 2）Faculty of Dental Science, Kyushu
University）
16:00-18:00
C4-P21-021
プラズマ照射培養液中の蓚酸合成と蓚酸カルシウム二水和結晶化 / Synthesis of Oxalic Acids andCrystallization of Calcium Oxalate Dihydrates in
Culture Medium Irradiated with Non-equilibrium
Atmospheric-pressure Plasma

坂井 靖広1）、三浦 翔悟1）、林 信哉1）、後藤 昌昭2）
（1）九州大学大学院総合理工学府、2）佐賀大学医学部）

石川 健治、倉家 尚之、田中梶山 広明、吉川 史隆、水野堀 勝（名古屋大学）

Yasuhiro SAKAI1）, Shogo MIURA1）,
Nobuya HAYASHI1）, Masaaki GOTO2）（1）Interdisciplinary Graduate School of Engineering
Sciences, Kyushu University, 2）Faculty of Medicine,
Saga University）

Kenji ISHIKAWA, Naoyuki KURAKE,
Hiromasa TANAKA, Kae NAKAMURA,
Hiroaki KAJIYAMA, Fumitaka KIKKAWA,
Masaaki MIZUNO, Yoko YAMANISHI, Masaru HORI
（Nagoya University）

16:00-18:00
C4-P21-017
電解質水溶液を電極とする大気圧ヘリウム直流グロー
放電における液面の挙動 / Behavior of liquid surface
in atmospheric-pressure DC helium glow
discharge with aqueous electrolyte solution as anelectrode

16:00-18:00
C4-P21-022
二光子レーザー誘起蛍光法による誘電体バリア放電の空間アフターグローガス中での原子上酸素密度の空間分布計測 / Measurement of density distribution of
O atoms in spatial afterglow of dielectric barrierdischarge by two-photon absorption laser
induced fluorescenc

鈴木 崇久、白井 直機、西山
海道大学工学院）

修輔、佐々木浩一（北Takahisa SUZUKI, Naoki SHIRAI,
Shusuke NISHIYAMA, Koichi SASAKI（Graduate
School of Engineering, Hokkaido University）
16:00-18:00
C4-P21-018
酸素プラズマ照射による口腔がん細胞の不活化メカニ
ズム / Inactivation Mechanism of Oral Cancer Cell
Irradiated by Oxygen DBD Plasma

三根 圭介1）、宮丸 由紀恵1）、林 信哉1）、（1）九州大学、合島 怜央奈2）、山下 佳雄2）、後藤 昌昭2）2）佐賀大学）
Keisuke MINE1）, Yukie MIYAMARU1）,
Nobuya HAYASHI1）, Reona AIJIMA2）,
Yoshio YAMASHITA2）, Masaaki GOTO2）（1）Kyushu
University, 2）Saga University）
16:00-18:00
C4-P21-019
トーチ型誘電体バリア放電プラズマ中の活性酸素種による口腔癌細胞の選択的不活化 / Selective Treatmentof Oral Cancer Cell Using Active Oxygen Speciesin Torch DBD Plasma

宮丸 由紀恵1）、三根 圭介1）、小野 大帝1）、林 信哉1）、（1）九州大学、合島 怜央奈2）、山下 佳雄2）、後藤 昌昭2）2）佐賀大学）
Yukie MIYAMARU1）, Keisuke MINE1）, Reoto ONO1）,
Nobuya HAYASHI1）, Reona AIJIMA2）,
Yoshio YAMASHITA2）, Masaaki GOTO2）（1）Kyushu
University, 2）Saga University）

出口祐世、佐々木

宏昌、中村
正明、山西

香江、
陽子、

浩一（北海道大学工学院）

Yusei DEGUCHI, Koichi SASAKI（Hokkaido
University）
16:00-18:00
C4-P21-023
液体中における電界放出型表面誘電体バリア放電の生
成 / Generation of surface dielectric barrierdischarges exhibiting field emission in liquids

川村知久（東京大学大学院新領域創成科学研究科）

Tomohisa KAWAMURA（Graduate School of Frontier
Sciences, The University of Tokyo）
16:00-18:00
C4-P21-024
様々なプラズマジェット条件で作製したプラズマ活性
溶液中のH2O2 ,NO2-濃度評価 / Evaluation of H2O2
and NO2- concentrations in plasma-activatedliquid produced under various plasma-jet
conditions

伊藤 泰喜1）、内田 儀一郎1）、竹中 弘祐1）、（1）大阪大学接合科学研究池田 純一郎2）、節原 裕一1）
2）
所、 大阪大学大学院医学系研究科）
Taiki ITO1）, Giichiro UCHIDA1）,
Kosuke TAKENAKA1）, Junichiro IKEDA2）,
Yuichi SETSUHARA1）（1）JWRI, Osaka University,
2）
Grad. sch. Med., Osaka University）

16:00-18:00
C4-P21-025
カーボンナノウォールを用いた固体高分子形燃料電池における発電効率の向上 / Improvement of power
generation efficiency on polymer electrolyte fuelcell using carbon nanowalls

岩田 紘明1）、太田 貴之1）、伊藤 昌文1）、（1）名城大学、2）名平松 美根男1）、近藤 博基2）、堀 勝2）
古屋大学）
Hiroaki IWATA1）, Takayuki OHTA1）, Masafumi ITO1）,
Mineo HIRAMATSU1）, Hiroki KONDO2）,
Masaru HORI2）（1）Meijo University, 2）Nagoya
University）