電解銅箔
ED Copper

CF-T4X- SV
超低粗度微細粗化処理 電解銅箔Ultra Very Low Proﬁle ED Copper Foil with Very Minute Particles

サブミクロンの微細粗化処理が両立させる超低粗度と高い密着強度

Sub micron treatment brings both very low proﬁle & high peel strength

粗化処理イメージ Roughness image
粗化処理面

超微細粗化処理「T4X」の特長

Shiny side

高い密着強度H IGH P EEL S TRENGTH

高い基材透明性H IGH T RANSPARENCY OF THE F ILM

高い回路視認性H IGH V ISIBILITY OF THE C IRCUIT

超微細な表面形状により、フレキシブル基材ではエッチング後に高い透明性を得ることができます。
Submicron ultra low proﬁle brings high transparency ofbase ﬁlm after etching.
T4Xの黒色粗化処理は基材との色調コントラストが高く、回路裏面に対するフィルム基材越しの視認性が非常に高くなります。
Black-colored T4X treatment has high contrast against a baseﬁlm and brings good visibility of patterns through a base ﬁlm.

粗化処理面 SEM Matte Side SEM

SEM image x2000

V ERY L OW P ROFILE M ATTE S IDE

当社独自の微細粗化処理は高い投錨効果を発揮し、低粗度でありながら高い密着強度を得ることができます。
Submicron ultra low proﬁle enables high anchoring eﬀect
and acquires good peel strength in spite of low proﬁle.

超低粗度の両面光沢を特長とする原箔「SV」に独自の微細粗化処理形状を持つ「T4X」処理を施す
ことで、低粗度でありながら高い投錨効果を発現します。
Combination of SV which is very low proﬁle raw
foil with double shiny side and T4X treatment
with unique and submicron size roughing
treatment shapes enables high anchoring effectin spite of low proﬁle.

10μm

超・低粗度粗面

サブミクロンの超微細粗化処理が粗度に殆ど影響を及ぼすことなく表面積を増すことで密着強度を上昇させます。
Submicron ultra low proﬁle helps increase of surface area onlywith slight eﬀect on roughness thus increases peel strength.

Treated sideSV（原箔）Raw Foil
光沢面

Advantages of「T4X」

従来の球状粗化と比べ格段に小さな粗化粒子を緻 密 に施した 表 面 処理です。
T4X has much smaller
particles which is minutely
treated compared withconventional
sphereroughing particles.

粉落ち無し N O P ARTICLE F ALLING

超微細な処理にも関わらず高い固着性を有していることから、粉落ちが発生せずライン汚染の心配もありません。
Submicron particles with high bond strength do not drop oﬀ
and do not contaminate the production line.

基本特性 Typical Properties

製品名Product Name

公称厚さ 質量厚さ

Nominal Thickness
thickness weight

密着強度（FR-4）
Peel Strength
常態Aμmkg/m 2

kN/m

CF-T4X-SV-9

90.083

CF-T4X-SV-12

12

CF-T4X-SV-18

18抗張力Tensile Strength

塩酸処理後
常態
After HCl As received

熱時
at 180℃%

N/mm 2

N/mm 20.55<23600.1000.65<20.1450.80<2伸び率Elongation

加熱後常態
After heated As received

粗面粗さmatte sideroughness

熱時at 180℃

加熱後
After heated

%%

μmRz

N/mm 2%210

330

81181.6360

210

330

1115

121.1

360

210

330

1519161.0

記載は全て代表値であり、保証値ではありません。
また、事前の予告なく変更されることがあります。
All ﬁgures shown above are typical ones, not guaranteed ones. Properties may be changed without advanced notice.

加熱条件 Heating condition 200℃-30min.

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