平成27年5月27日一部更新<別表>平成２７年度 学生研修プログラム リスト
技術領域

プログ
ラム
番号1

ホスト

テーマ
機関名
微細加工による金属ナノ構
造作製とFIB・TEMによる構 北海道大学
造解析

研修期間
研究者氏名
笹木 敬司
大塚 俊明
松尾 保孝

平成27年8月3日～9月4日(このうち7日間を予定※)

受入可
能人数

対象要件

研修概要
電子ビーム描画装置を用いた金属ナノ構造作製とFIBや電子顕微鏡（STEM等）を用いたナノ構造評価についての基礎的な実験を行うこと、またそれらを適用した先端研究内容についての講義学習を併せて行うことにより、微細加工から各種電子顕微鏡による分析手法までの一連の基礎技術の習得を行う。

3名※参加者の要請に応じて6日間程度のプログラムへ変更も可能。
微細構造解析
・
微細加工

集束イオンビーム加工装置(FIB)と透過型電子顕微鏡(TEM)の基礎を学び、FIBによる試料作製とTEM操作を研修する。

2

微細構造解析

3

FIBによる試料作製とTEMによる観察・分析の研修

竹口 雅樹
1) 平成27年8月17日～21日（物質・材料研 2) 平成27年9月7日～11日
物質・材料研究機構、 究機構）
3) 平成27年9月14日～18日
産業技術総合研究所(このうち5日間)
2名程度（共同開催）
多田 哲也（産業技術総 ※日程は応募者と調整する合研究所）
予定

走査型ヘリウムイオン顕微鏡(SHIM)および原子間力顕微鏡(AFM)によるナノス 物質・材料研究機構
ケール表面観察およびナノ加工の基礎

走査型ヘリウムイオン顕微鏡（SHIM）と原子間力顕微鏡（AFM）の基礎を学び、操作を習得する。
大西 桂子

平成27年7月27日～7月31日
(5日間)

2名
走査型トンネル顕微鏡(STM)の動作原理の学習と観察実習を行い、原子分解能表面観察技術を習得する。

4

走査型トンネル顕微鏡によ物質・材料研究機構
る原子分解能観察鷺坂 恵介

平成27年8月26日～8月28日
(3日間)

3名

研修スケジュール
第１日目
第２日目
第３日目
第４日目
第５日目
第６日目
第７日目

オリエンテーションおよびEBリソと評価技術に関する講義
電子ビーム描画 実習
スパッタリング成膜 実習
リフトオフによるナノ構造作製 実習
集束イオンビーム加工装置 実習
電子顕微鏡観察 実習
研究テーマに関する実習と研修全体のまとめ

第１日目

オリエンテーション(安全教育含む)、施設見学、FIBとTEMの基礎講義

第２日目

FIBの実習1

第３日目

FIBの実習2

第４日目

TEMの実習1

第５日目

TEMの実習2とまとめ

第１日目
第２日目
第３日目
第４日目
第５日目
第１日目

SHIMおよびAFMの基礎講義、SHIMによる観察の実習
SHIMによる観察の実習
SHIMによる加工の実習
SHIMにより加工したAFM探針を用いたAFM観察の実習
AFM像の解析の実習
STMについての講義・安全教育・施設見学

第２日目

STM探針およびシリコン清浄表面の作製、超高真空の創製

第３日目

STMによるシリコン表面の観察実習
シリコン表面以外に観察したい試料があれば応相談。

5678

固体NMR計測・解析技術

時間分解分光

産業技術総合研究所 林 繁信

産業技術総合研究所 松﨑 弘幸

最表面原子層の電子状態を見るEUPSの原理と分析
松林 信行
産業技術総合研究所
例の講義と測定と解析の実
富江 敏尚
習
超伝導検出器による軟X線
志岐 成友
産業技術総合研究所
松林 信行
分光測定の基礎講習

平成27年7月13日～7月15日(3日間)

平成27年8月4日～8月6日(3日間)

平成27年7月13日～7月15日(3日間)

平成27年8月3日～8月5日
(3日間)

9

超伝導検出器を用いた質量分析

10

低速陽電子ビームによる欠オローク ブラ 平成27年9月1日～9月3日
産業技術総合研究所
陥評価法
イアン
(3日間)

11

結晶構造解析および表面分析

産業技術総合研究所 全 伸幸

東京大学

沖津 康平
府川 和弘

平成27年7月6日～7月10日(5日間)

平成27年8月5日～8月7日
(3日間)

5名

1名

2名

2名

12

保志 一

平成27年8月3日～8月7日
(5日間)

名古屋大学

山本 剛久

平成27年8月10日～8月12日
(3日間)

第３日目

講義：固体高分解能NMRの測定技術、実習：固体試料の測定

時間分解分光について基礎から応用まで習得するため、ナノ秒時間分解蛍光寿命の測定およびナノ秒およびフェムト秒の過渡吸収測定の説明を行い、時間分解分光技術の基礎的概念と蛍光寿命測定の技術を習得する。

第１日目

時間分解分光法についてのイントロ、安全教育

第２日目

ナノ秒時間分解蛍光測定についての実習

第３日目

ナノ秒およびフェムト秒の過渡吸収測定の説明、全体のまとめ

第１日目

最表面原子層の電子状態を見るEUPSの原理

第２日目

EUPSの測定例の紹介

第３日目

第２日目

データ処理法の説明と実習
安全教育、講義 XAFS、蛍光X線分析の基本原理装置、検出器の基本原理、測定試料作成法
施設の見学（PF）、実習： 超伝導検出器による蛍光X線測定（基本操作）

第３日目
第１日目
第２日目
第３日目
第４日目
第５日目
第１日目

講義：測定データの整理、解析法、測定例
質量分析装置についてのイントロ・安全教育・施設見学
検出器についての講義
測定試料の準備
超伝導検出器が搭載された質量分析装置についての実習
実習についてのまとめ
低速陽電子ビームについてのイントロ・施設見学

第２日目

低速陽電子ビームの発生法・計測法・応用についての講義

第３日目

陽電子寿命データの解析法の講義と実習

第１日目

粉末結晶構造解析の実習

第２日目

単結晶構造解析ついての実習

第３日目

第２日目

Ｘ線光電子分光分析についての実習
10：00～17：00 TEMの基礎（講義）TEM でどんなデータ（情報）が得られるか、TEM操作のための簡単なTEM の原理と構造、試料作製法
10：00～17：00 基本操作実習（試料交換から観察まで）
電子線の発生、照射系軸合わせ、結像系軸合わせ
10：00～17：00 制限視野電子回折と暗視野法
結晶方位合わせ、制限視野電子回折法、暗視野法
10：00～17：00 種々の観察法
高分解能像法、低倍像観察法
10：00～15：00 操作実習（復習）とまとめ
9：30～11：30、13：00～17：00 電子顕微鏡講習会（午前）電子顕微鏡概論、反応科学超高圧電子顕微鏡（午後）TEM結像理論、S/TEM による分析、超高圧電子顕微鏡施設見学
電子顕微鏡実技講習

第３日目

参加者の研究テーマ等とのディスカッション

第１日目

透過電子顕微鏡についての講義・施設見学

第２日目

走査型透過電子顕微鏡についての講義と実習

第３日目

電子エネルギー損失分光法についての講義と実習

第４日目

参加者の研究テーマに関連付けた応用とまとめ
13：00～ 透過電子顕微鏡法について〒567-0047
イントロ・安全教育・施設見学、透過電子顕微鏡法概要、高分解能電子顕微鏡
茨木市美穂ヶ丘7-1
法大阪大学 超高圧電子顕微鏡セン
透過電子顕微鏡法についての実習
ター
透過電子顕微鏡法についての実習、データ解析

大学院生に限る。

極端紫外光光電子分光（EUPS）について原理から測定、分析まで習得するため、EUPS装置を使物理系もしくは化学系を 用した測定実習を行い、データ処理法の技術を習得する。
専攻している大学院生に限る。
軟X線領域の蛍光X線測定とX線吸収分光法について基礎から応用まで習得するため、超伝導検大学院生で放射線業務 出器を使用した蛍光X線測定実習を行い、軟X線分光測定の技術を習得する。
従事者登録をされている方に限る。

大学院生に限る。

低速陽電子ビームについて基礎から応用まで習得するため、陽電子ビームの発生法・計測法・データ解析法の講義・演習を行い、陽電子寿命測定法による欠陥評価技術を習得する。

粉末結晶および単結晶を用いた結晶構造解析と光電子分光分析について基礎から応用まで習得するため、リガクSmartLab（粉末結晶構造解析装置）、リガクVariMax Dual（単結晶構造解析装置）、アルバックファイPHI5000 VersaProbe（光電子分光分析装置）を用いた実習を行う。

5名

第１日目

第１日目
第２日目

3名
第３日目

電子顕微鏡について基礎から応用まで習得する。電子顕微鏡講習会にて講義を受け、2日目に電子顕微鏡（TEM）初心 は高分解能電子顕微鏡（TEM）による実技を行い、初歩的な操作技術を習得する。
者、初級者を対象とする。観察試料持込可。 ※名古屋大学内の学生と一緒に講義を受けるので、本プログラム参加者の都合による日程の変更はできません。
透過電子顕微鏡と電子エネルギー損失分光に関する初等的な講義と実習を通じて分析電子顕微鏡法の基礎を取得する。

1415

分析電子顕微鏡による構造解析と化学分析

透過電子顕微鏡法による材料微細構造解析

京都大学

倉田 博基

大阪大学
超高圧電子顕微鏡セ 保田 英洋
ンター

平成27年8月4日～8月7日(4日間)

平成27年7月13日～7月15日
（3日間）

2名

2名

〒305-0047
茨城県つくば市千現1-2-1
物質・材料研究機構 界面制御実験棟

講義：固体NMRから得られる情報、実習：NMR測定の基本

3名

2名〒305-0047
茨城県つくば市千現1-2-1
物質・材料研究機構
材料信頼性実験棟ほか

第２日目

第５日目
電子顕微鏡の基礎と応用（初心者向け）〒305-8568
茨城県つくば市梅園1-1-1
産業技術総合研究所 つくば中央第２事
業所２－１２棟 ナノプロセシング施設（TIA推進センター 共用施設運営ユニット 共用施設ステーション ナノプロセシン
グ施設）

安全教育、講義：ＮＭＲの基本原理、施設の見学

第４日目

13

〒305-0047
茨城県つくば市千現1-2-1
物質・材料研究機構
精密計測実験棟

第１日目

TEM について基礎から応用まで習得するため、JEM-1400・JEM-2100F を使用したTEM 操作実習を行い、TEM 操作・観察の技術を習得する。
初心者のためのTEM 基本
東京大学
操作〒001-0021
北海道札幌市北区北２１条西１０丁目
北海道大学 創成科学研究機構

固体NMRの基本原理・理論を解説、どのような知見が得られるか理解する。測定実習では、実際物理系もしくは化学系を の試料測定を通して、測定手順とその際に注意すべきことを理解する。
専攻している大学院生に限る。

超伝導検出器を用いた質量分析について基礎から応用まで習得するため、超伝導検出器が搭載された飛行時間型質量分析装置を用いて実習を行い、質量分析技術を習得する。

3名

研修場所

大学院生に限る。

透過電子顕微鏡法について基礎から応用まで習得するため、講義と透過電子顕微鏡装置を使用大学院生に限る。
観察試料を持参し、その した操作実習を行い、データの解析法を習得する。
試料の観察法の実習を行うことも可能。

第１日目

第１日目
第２日目
第３日目

1 / 3 ページ〒305-8565
茨城県つくば市東1-1-1
産業技術総合研究所
つくば中央第5事業所〒305-8568
茨城県つくば市梅園1-1-1
産業技術総合研究所
つくば中央第2事業所〒305-8568
茨城県つくば市梅園1-1-1
産業技術総合研究所
つくば中央第2事業所〒305-8568
茨城県つくば市梅園1-1-1
産業技術総合研究所
つくば中央第2事業所〒305-8568
茨城県つくば市梅園1-1-1
産業技術総合研究所
つくば中央第2事業所 第10棟013実験室〒305-8568
茨城県つくば市梅園1-1-1
産業技術総合研究所
つくば中央第2事業所 2-4棟
〒113-8656
東京都文京区弥生2-11-16
東京大学大学院 工学系研究科
総合研究機構〒113-8656
東京都文京区弥生二丁目11-16
東京大学大学院 工学系研究科
総合研究機構〒464-8603
愛知県名古屋市千種区不老町
名古屋大学エコトピア科学研究所
超高圧電子顕微鏡施設（実技）、名大ＶＢＬ（講義）〒611-0011
京都府宇治市五ヶ庄
京都大学 化学研究所

技術領 プログラム
域
番号微細構造解析

16171819微細加工

202122232425

ホスト

テーマ
機関名

研修期間
研究者氏名

受入可
能人数

対象要件

研修概要

電子ビームリソグラフィ

MEMSプロセスを用いたマイクロ温度センサの試作

東京工業大学名古屋大学

マスクレス露光装置を用い豊田工業大学
たフォトリソグラフィ

宮本 恭幸

分子線エピタキシー（MBE）法による半導体ナノ構造の成長から構造・物性評価まで習得するた受入はSPring-8運転停 め、MBE装置を使用した製膜・光励起発光分光による物性評価を実習する。
止期間中。

平成27年7月27日～8月28日(このうち5日間)

平成27年7月29日～7月31日
(3日間)

秦 誠一
櫻井 淳平
溝尻 瑞枝

平成27年8月19日～8月21日
(3日間)

佐々木 実

平成27年7月9日～7月10日(2日間)

微細パターン形成の強力なツールである電子線リソグラフィについてその基礎を修得する。電子線露光についての講義、パターンファイル形成、レジスト塗布、位置合わせを含んだ露光、走査型電子顕微鏡(SEM)による観察・評価等を行う。
3名

3名

2名

大学院生に限る。

一般向けの実習・講習会との同時開催。

リソグラフィや薄膜成膜プロセス等、MEMSプロセスの基礎を学ぶとともに、マイクロ温度センサの作製を行う。更に、作製したセンサの特性評価を行う。

フォトリソグラフィの基本から応用に関する講義と合わせて、デジタルデータの設計から実際のパターン形成までを、マスクレス露光装置を用いて実習する。

MEMS技術を用いたマイクロ流路の作製

京都大学ナノテクノロ
松嶋 朝明
ジーハブ拠点

平成27年7月1日～7月3日
(3日間)

3名

学部4年生および大学院生に限る。

28

マスクレスフォトリソグラフィ
大阪大学
によるフォトマスク作製

SiMOSトランジスタ・IC作製
広島大学
実習

谷口 正輝
柏倉 美紀

横山 新

平成27年7月頃(このうち3日間)

平成27年8月3日～8月8日
(6日間)

2名

5名

今までに高専生・学部生・大学院生の受講経験有り。

評価とまとめ

第１日目

１）電子ビーム露光について（講義）２）レジスト塗布・アライメントマーク描画（露光動作実習）、リフトオフ実習

第２日目

１）重ね露光実習（アライメント露光実習）、露光パターンのSEM観察
２）露光パターン（露光ファイル）作成

第３日目

１）作成ファイルによる露光、SEM観察
２）まとめ

第１日目

微細加工プロセスについてのイントロ・安全教育・施設見学

第２日目

マイクロ温度センサの作製

第３日目

マイクロ温度センサの特性評価

第１日目

フォトリソグラフィ技術と利用装置についての講義、CADによるパターン設計設計（続き）、データ変換、安全講習、マスクレス露光装置によるパターン形成、メタルエッチング、パターン評価
１）安全講習、２）マイクロ流体作製の概要説明、３）実習の説明
４）マイクロ流路の設計とCADデータの作成、レーザー描画装置を用いたフォト 〒606-8501
京都市左京区吉田本町
マスク作製１）レジスト原盤（鋳型）作製／PDMSプレート作製、２）マスクアライナーを用い 京都大学
SU-8の鋳型作製（フォトリソグラフィ）、３）PDMSによるマイクロ流路プレート作 工学研究科物理系校舎327号
およびナノハブ実験室
製
マイクロ流路組立・評価／まとめ〒567-0047
フォトマスク作製についての概要説明、Crスパッタ
大阪府茨木市美穂ヶ丘8-1
フォトマスクCAD設計、LED描画、ウェットエッチング
大阪大学ナノテクノロジー設備供用拠点（産業科学研究所内）
作製したフォトマスクを使ったフォトリソグラフィ実習
安全講習およびトランジスタ回路設計
多結晶Siゲート、分離形成およびソードレイン形成、（リソ＆エッチング）実習〒739-8527
ゲートリソ及びコンタクトリソ
東広島市鏡山一丁目四番二号
Al配線形成（スパッタ、リソ、エッチング、アニール）実習
広島大学
第２～４日目の実習中のプロセス待ち時間に作製プロセスに関する講義を実
ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
トランジスタ特性、回路特性測定（ID-VD, Ig-ID, gm他）、特性評価
特性評価（続）およびまとめ〒808-0135
シミュレーション、レイアウト設計（FET、CMOSインバータ）
北九州市若松区ひびきの1番5号
公益財団法人北九州産業学術推進要素技術実習（薄膜形成、リソグラフィ等）
機構
要素技術実習（イオン注入）、電気特性評価実習
共同研究開発センター
自己組織化現象についての講義、機能性材料の構造作成実習〒066-8655
電子顕微鏡についての講義、測定ガイダンス、実習
北海道千歳市美々758番地65
原子間力顕微鏡についての講義、測定ガイダンス、実習
千歳科学技術大学
実習まとめ（午前）化学機器分析についての講義・安全教育・施設見学〒980-8578（午後）質量分析法についての実習
宮城県仙台市青葉区荒巻字青葉6-3
核磁気共鳴（NMR）分光分析法についての実習
東北大学大学院理学研究科（午前）X線結晶構造解析についての実習
巨大分子解析研究センター（午後）実習についてのまとめ
組換えタンパク質合成技術講習、細胞培養実習〒305-0047
細胞への遺伝子導入実習、DNA分子増幅実習
茨城県つくば市千現1-2-1合成されたタンパク質の検出①
物質・材料研究機構
合成されたタンパク質の検出②
ナノテクノロジー融合ステーション
全体についてのまとめ

第１日目
第２日目

学部4年生および大学院生に限る。

第３日目
第１日目
第２日目

NMOSトランジスタをベースとしたICの試作実習を通じて、プロセス基礎技術とトランジスタ・回路の基本技術全体を学ぶ。イオン注入、酸化、リソ、エッチなど基本技術を学ぶ。作製する回路は、時間短縮のためCMOSではなく、E(エンハスメント型)－NMOSインバータを基本とするリングオシ
レータ、SRAMなど。最小加工寸法も、時間短縮のためマスクレス露光を用いた3ミクロンとする。

第３日目
第１日目
第２日目
第３日目
第４日目
第５日目
第６日目

29

分子・物質
合成

CMOS集積回路要素技術
実習

上野 孝裕
北九州産業学術推進安藤 秀幸
機構
竹内 修三

30

自己組織化現象を利用したナノ構造の作製とイメージ 千歳科学技術大学
ング

31

機器分析による有機化合物の構造解析

32

生体高分子合成の基礎

東北大学

物質・材料研究機構

平成27年9月14日～9月16日
(3日間)

箕輪 貴司

5名

第１日目
第２日目
第３日目

オラフ カート 平成27年9月8日～9月11日
ハウス
(4日間)

權 垠相

CMOS集積回路の製造技術を主体に、前後の工程（シミュレーション～設計、電気特性評価等）を体験することでCMOS集積回路製造プロセスへの理解を深めることを目的とする。

平成27年9月1日～9月3日(3日間)

平成27年8月24日～8月28日
(5日間)

6名

4名

2名

化学機器分析による有機化合物の構造解析について未経験者が望ましい。

自己組織化現象を利用したメゾスコピック構造（サブマイクロンのドット、ライン、多孔質構造）の作成方法について基礎から応用まで習得するため、原料調製から自己組織化構造の作製まで行う。また、基板に構築したメゾスコピック構造を様々なイメージング法（電顕、蛍光顕微鏡、原子間力顕微鏡など）を用いて多角的解析を行う。
機器分析を用いた有機化合物の構造解析について基礎的な知識を習得するため、各種大型分析装置を使用した構造解析の実習を行う。

第１日目
第２日目
第３日目
第４日目
第１日目
第２日目
第３日目

生体高分子の合成として①組換えタンパク質の細胞内での合成、②DNA分子の酵素的増幅と、それらの検出を行うことで基礎的技術・知識を習得する。さらに共焦点レーザー走査型蛍光顕微
バイオ系実験未経験者
鏡などの使用体験も行う。
を想定した研修。

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（TIA推進センター 共用施設運営ユニット 共用施設ステーション ナノプロセシン
グ施設）

第４日目

第２日目

LED描画システムやマスクアライナーを使い、フォトリソグラフィについての基礎を習得する。
27

研修場所

第１日目 分子線エピタキシーについてのイントロ・安全教育〒679-5148
第２～３日目 分子線エピタキシーによる製膜法の実習
2名
兵庫県佐用郡佐用町光都1-1-1
第４日目 製膜試料の構造および光物性の評価
SPring-8 BL11XU
第５日目 実習内容についてのまとめ
受入はSPring-8運転停 新規物質合成のための強力な手法の一つである高温高圧合成について、実習を通じて基礎的な 第１日目 高温高圧合成についてのイントロ・安全教育〒679-5148
高温高圧を利用した新規物 日本原子力研究開発
平成27年7月21日～9月18日
止期間中のため、実習 技術を習得する。
第２～３日目 マルチアンビルプレスを使用した高温高圧合成の実習
兵庫県佐用郡佐用町1-1-1
齋藤 寛之
2名程度
質合成
機構
(このうち5日間)は実験室X線源を用いて第４日目 微小部X線回折装置と走査型電子顕微鏡を使用した合成試料の分析
SPring-8 放射光物性研究棟行う。
第５日目 放射光その場観察についての講義・施設見学、実習のまとめ
受入はSPring-8運転停 Ni単結晶の酸素分子による酸化について吸着反応から極薄膜形成まで観察するため、SPring-8
第１日目 放射光についてのイントロ・安全教育・施設見学〒679-5148
Ni酸化反応の光電子分光 日本原子力研究開発
平成27年7月27日～9月18日 1回に 止期間中のため、実習 の機構専用ビームラインBL23SUの表面化学実験ステーションを使用した実習を行い、超高真空第２日目 光電子分光などについての講義
兵庫県佐用郡佐用町光都1丁目１‐１
寺岡 有殿
観察機構
(このうち4～5日間)
つき3名 は実験室X線源を用いて 技術・表面分析技術（光電子分光、低エネルギー電子回折）などを習得する。
第３～４日目 Ni酸化についての実習
SPring-8 BL23SU行う。
第５日目 データ解析方法の講義
電子顕微鏡の原理から最新の分析電子顕微鏡法まで（講義）、施設見学（九初心者を対象に、透過電子顕微鏡を使いこなすために必要な装置の基礎知識と操作法、電子回第１日目
州大学超顕微解析研究センター）
折の基礎と解析法を習得する。
〒819-0395
第２日目 電子顕微鏡の操作原理（講義）、電顕の簡単な操作（実習）
講義、実習（200kV の透過電子顕微鏡を使用）、演習を行う。
初心者を対象とする(大九州大学
透過電子顕微鏡による微平成27年8月31日～ 9月4日
福岡市西区元岡744
第３日目 電顕の操作と像観察（実習）、電顕像のコントラスト（講義）
超顕微解析研究セン 松村 晶
2～4名 学院進学予定の学部生
細構造解析法
(5日間)
電顕の操作と電子回折（実習）、電顕実習（参加者が観察を希望する試料があ 九州大学を歓迎)。
ター
第４日目
超顕微解析研究センター CE21棟れば対応します）、電子回折（講義）
電顕像の解釈、電子回折図形の解析（参加者の研究テーマに関する相談に第５日目応じます）、まとめ
容量検出型のMEMSフォースセンサの試作を通して、フォトリソグラフィ、シリコンDeepRIE、メタル
第１日目 イントロ、安全教育、フォトリソグラフィ、シリコンDeepRIE〒980-0845
1回に第２日目 フォトリソグラフィ、シリコンDeepRIE
スパッタリング、陽極接合、ダイシングなどの微細加工技術を習得する。
宮城県仙台市青葉区荒巻字青葉
平成27年7月1日～9月18日
MEMSフォースセンサの試つき3名
東北大学
戸津 健太郎
第３日目 メタルスパッタリング、フォトリソグラフィ、メタルエッチング
519-1176(このうち5日間)
作
程度
第４日目 陽極接合、ダイシング
東北大学西澤潤一記念研究センター
第５日目 ワイヤボンディング、センサ動作確認、まとめ機械的剥離法による単層・多層グラフェンを用いた素子作製を行い、リソグラフィプロセスや成膜
第１日目 概要説明・安全教育・施設見学〒305-0047
プロセス、エッチングプロセスなど微細加工技術の基礎・装置操作等を習得する。
第２日目 アドレス基板の作製
茨城県つくば市千現1-2-1
グラフェンを用いたナノマイ
平成27年7月1日～8月31日
物質・材料研究機構 津谷 大樹
1名
第３日目 機会的剥離法およびグラフェン加工
なお、研修期間中はクリーンルーム内での実験となる。
物質・材料研究機構
クロデバイスの作製技術(このうち5日間)
第４日目 グラフェンへのコンタクト電極作製
千現地区 材料信頼性実験棟
第５日目 電気特性評価およびまとめ〒305-8568
マイクロ流路作製に必要な微細加工要素技術を習得するため、マスクレス露光装置を使用したリ
第１日目 オリエンテーション（安全教育含む）、施設見学、CADを使った流路の設計
茨城県つくば市梅園1-1-1
ソグラフィ技術の実習を行う。
産業技術総合研究所 つくば中央第２
平成27年8月3日～8月6日
事業所２－１２棟 ナノプロセシング施
産業技術総合研究所 多田 哲也
マイクロ流路作製
2名程度
第２～３日目 リソグラフィ技術の実習と流路作製(4日間)
設分子線エピタキシー法によ 日本原子力研究開発
高橋 正光
る試料作製とその評価機構

京都大学ナノテクノロジーハブ拠点保有の装置を用いて微細加工技術を応用したマイクロ流路の作製およびその特性評価を行う。
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研修スケジュール

第１日目
第２日目
第３日目
第４日目
第５日目

〒152-8552
目黒区大岡山2-12-1
東京工業大学
量子ナノエレクトロニクス研究センター〒464-8603
愛知県名古屋市千種区不老町
名古屋大学
工学部2号館、3号館（IB西棟5F）〒468-8511
愛知県名古屋市天白区久方2-12-1
豊田工業大学 1号棟3F本館ホール
他

技術領 プログ
ラム
域
番号

分子・物質
合成

33

34

35

36

37

38

ホスト

テーマ
機関名

研修期間
研究者氏名

受入可
能人数

対象要件

研修概要
ナノ・マイクロデバイスを使ったバイオ分析の基本技術を習得する。デバイスのデザインと作製技術、DNAの分離分析、細胞のイメージング実験などの実習を行い、ナノバイオ研究の基礎知識と実験操作を学ぶ。

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成果発表会

研修場所

ナノバイオデバイスについての基礎講義、デバイスのデザインと作製技術についての実習〒464-8603
平成27年8月3日～8月5日
ナノバイオデバイスによる第２日目 DNAの分離分析についての実習
名古屋市千種区不老町
1名
名古屋大学
馬場 嘉信
(3日間)
分子・細胞計測の基礎
細胞のイメージング実験についての実習、ナノバイオデバイスについてのまと 名古屋大学 大学院工学研究科
第３日目
め
気相合成法によるナノ粒子の合成、分子合成用マイクロラボの作製、カーボンナノファイバーの室 第１日目 気相合成法によるナノ粒子の合成についての講義と実習
増田 秀樹
温合成、生体分子の合成と構造解析、メスバウアー分光法、について基礎から応用まで習得する 第２日目 分子合成用マイクロラボの作製についての講義と実習
種村 眞幸〒466-8555
ため、講義と実習を行い、技術を習得する。（各研修課題は1日で実施、特定の課題について実施
平成27年8月8日～9月18日
江龍 修
愛知県名古屋市昭和区御器所町
3名
分子・物質合成と評価
名古屋工業大学
第３日目
カーボンナノファイバーの室温合成についての講義と実習することも可能）(このうち1日～5日間)
壬生 攻
名古屋工業大学
第４日目 生体分子の合成と構造解析についての講義と実習
小澤 智宏
日原 岳彦
第５日目 メスバウアー分光法についての講義と実習
分子科学研究所全教授・准教授が様々な分子科学研究のテーマに基づいて実験あるいは理論〒444-8585
第１日目 分子研の全体紹介・オリエンテーション
計算を実習し、実験方法・解析方法等を習得する。詳細は「夏の体験入学」のWebサイト
愛知県岡崎市明大寺町字西郷中3820名～ 分子科学研究所のWeb （http://www.ims.ac.jp/education/taiken.html）を参照。
分子研実験棟
第２日目
講義・実習
分子科学研究所
自然科学研究機構
平成27年8月4日～8月7日
横山 利彦 他
30名 サイトから「夏の体験入 Web申込期間：5月18日（月）～6月14日（日）又は夏の体験入学
分子科学研究所(4日間)
第３日目 実習・まとめ
程度 学」の申込みも行うこと。
〒444-8787愛知県岡崎市明大寺町字東山5-1
第４日目 発表会
山手3,4,5号館
第１日目 パルスレーザーMBE装置/RFスパッタ装置・成膜技術についての講義・施設見 〒567-0047
本研修では、パルスレーザーMBE装置/RFスパッタ装置による薄膜形成とその膜の評価を行う。
平成27年6月29日～7月10
パルスレーザーMBE法およ 大阪大学
田中 秀和
1回に
大阪府茨木市美穂ヶ丘8－1
第２～３日目 パルスレーザーMBE装置/RFスパッタ装置の実習
日、8月31日～9月4日
大学院生に限る。
びRFスパッタ法による薄膜 ナノテクノロジー設備 北島 彰
つき2名
大阪大学
第４日目 パルスレーザーMBE /RFスパッタ装置で作成した膜の評価(このうち5日間)形成および評価
供用拠点
樋口 宏二
産業科学研究所
第５日目 まとめ
リポソームの作成、光学法による粒径分布観察、クライオTEMによる観察について講義と実習を〒630-0192
第１日目 リポソームの作成とクライオTEMについての講義、リポソームの作成実習
奈良先端科学技術大行い、リポソームの作成技術およびクライオTEM観察技術を習得する。
リポソームの作成とクライオ
平成27年8月25日～8月27日
奈良県生駒市高山町8916-5
学院大学
安原 主馬
3名 大学院生に限る。
第２日目 光学法による粒径分布観察、クライオTEMによる観察
TEMによる観察(3日間)
奈良先端科学技術大学院大学
物質創成科学研究科
物質創成科学研究科E,F棟第３日目 クライオTEMによる観察、まとめ
カーボンナノチューブ（CNT）の可溶化と構造解析について、基礎から応用まで習得するため、実平成27年7月20日～7月22日
第１日目 CNTについての基礎学習〒819-0395
際に数種のCNTに対して、数種の可溶化剤を用いて可溶化を行い、得られたCNT溶液の解析技
九州大学
平成27年7月22日～7月24日
カーボンナノチューブの可福岡市西区元岡744番地
術を習得する。
分子・物質合成プラッ 中嶋 直敏
平成27年7月27日～7月29日
2名
第２日目 CNT可溶化についての実習溶化とナノ構造解析
九州大学伊都キャンパス
トフォーム
平成27年7月29日～7月31日
ウエスト3号館
第３日目 可溶化CNTの構造解(分光測定)などについての実習とまとめ（このうち3日間）
走査プローブ顕微鏡（SPM）の歴史・発展の過程を理解する。また、SPMの原理を理解して、実環境（真空中、溶液中等）でのナノ材料の形状、ナノ物性測定の基本技術を習得する。

微細構造解析
（5/27追加）

研修スケジュール

走査型プローブ顕微鏡（SPM）の原理と実環境ナノ 産業技術総合研究所 井藤 浩志
物性計測

物質・材料研究機構

野田 哲二

平成27年8月3日～8月7日(5日間)

平成27年9月30日

第１日目

第４日目

施設紹介、利用ルール説明、安全教育などの簡単なガイダンス
・施設見学と走査プローブ顕微鏡（SPM）の基礎
・SPMの原理の説明・走査型トンネル顕微鏡の探針の作成法
超高真空下（UHV）でのシリコン表面の原子像(STM)観察（電子回折・STM原子 〒305-8568
像の観察・比較）茨城県つくば市梅園1-1-1
カンチレバーの動作と変位検出方法を理解し、原子間力顕微鏡（AFM）の基本 産業技術総合研究所
測定技術を習得する
つくば中央第2事業所
ナノ物性計測法の習得（弾性率、または、電気測定）

第５日目

溶液中でのAFM計測（DNA観察等）の体験

第１日目
第２日目

4名

参加者
全員

第３日目

参加者全員が研修成果の口頭発表(1人につき5～10分程度。※参加人数により調整)およびポス
ター発表を行う。研修修了者に修了証を交付する。学生、研究者、技術者との交流会を実施する。

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成果発表会

〒102-8666
東京都千代田区四番町5-3
サイエンスプラザ