<別添> 令和2年度 学生研修プログラムリスト
微細構造解析
No.

1

2

研修テーマ

機関名

研修先
ホスト氏名

オージェ電子分光分析装置を用いる微小領域 北海道大学
の表面分析

坂入 正敏
鈴木 啓太

超高真空走査型トンネ
ル顕微鏡による表面原 北海道大学
子構造の観察・解析

柴山 環樹
松尾 保孝
アグス スバギョ

2020/4/9
研修期間

7/1～7/17（うち3日間）

7/6～9/4（うち3日間）定員

研修概要

対象学年などオージェ電子分光分析装置を用いた微細領域における元素
修士課程、博士課程
1～2名 分析、化学状態分析、元素マッピングに関する技術とそのた※未経験者歓迎めの試料作製技術の習得を目指す。

特記事項

研修スケジュール

1日目 実験概要説明、試料作製
・試料持込可2日目 オージェ電子分光装置による測定

研修場所〒060-8628
北海道札幌市北区北13条西8丁目
北海道大学工学部
フロンティア応用科学研究棟1-03

3日目 オージェ電子分光装置による測定、実習まとめ
オリエンテーション、STM評価技術に関する講
1日目
義、STM探針の作製〒060-8628
探針のSEM観察、Si(111)の清浄化およびSTM観 北海道札幌市北区北13条西8丁目
2日目
北海道大学工学研究科棟
察 実習
Au(111)表面やHOPG表面のSTM観察 実習、ま L115実験室
3日目とめ

超高真空走査型トンネル顕微鏡（STM）装置を使用した先端研究内容についての講義学習、STM探針の作製や半導体・学部4年、修士課程
2名
金属表面の清浄化およびSTM観察の実習を行うことにより、表面科学における基礎的学習を行う。

1日目 FIBおよびTEMについての基礎講習＋見学

3

FIBおよびTEMを用いた基礎的微細構造解析FIBによる試料作製と4 TEMによる観察・分析
の研修

東北大学

物質・材料研竹口 雅樹
究機構

8/24～8/27（4日間）

集束イオンビーム加工装置(FIB)と透過型電子顕微鏡(TEM) 学部1～4年、修士課
2名 の基礎を学び、FIBによる試料作製とTEM操作(HRTEM、程、博士課程、高専4STEM-EDSなど)を研修する。
～5年、高専専攻科

鷺坂 恵介

8/26～8/28（3日間）

走査型トンネル顕微鏡(STM)の動作原理と超高真空環境の 学部1～4年、修士課
3名 創製法の学習、STM探針の作製とシリコン表面の観察実習 程、博士課程、高専4を通じて、原子分解能表面観察技術を体験する。
～5年、高専専攻科

走査型ヘリウムイオン
顕微鏡(SHIM)によるナ 物質・材料研
大西 桂子
ノスケール表面観察お 究機構
よびナノ加工の基礎

7/15～7/17（3日間。変更
可、応相談）

走査型ヘリウムイオン顕微鏡(SHIM)の動作原理、SHIMによ 学部1～4年、修士課
2名 る観察・加工例等の基礎を学び、基本的な観察および加工 程、博士課程、高専4の操作を習得する。
～5年、高専専攻科

走査型トンネル顕微鏡 物質・材料研

5 による原子分解能観察 究機構

6

今野 豊彦
嶋田 雄介

学部4年、修士課程、
7/6～7/17
本研修では集束イオンビーム（FIB）装置を用いたTEM試料 博士課程、高専4～5（うち4日間。期
2名 作製から透過電子顕微鏡法（TEM）による組織解析までの概 年、高専専攻科間内で実施日程略を学び、実際にこれら装置を用いた実習を行う。
※FIBおよびTEMの未を調整）経験者、初心者向け

7

最表面原子層の観測、
仕事関数・バンド曲がりの評価、電子のエネ
ルギー緩和時間の定 産業技術総性的評価を行う極端紫 合研究所
外光光電子分光（EUPS）－原理と測定
実習

8

低速陽電子ビームによ
産業技術総る欠陥・ナノ空隙評価
合研究所
法〒980-8577
2日目 FIB実習
・試料持込は要相談。ただし宮城県仙台市片平2-1-1
データ取得を前提とするも 3日目 TEM実習
東北大学 金属材料研究所/先端のは基本的に不可。
電子顕微鏡センター 2号館6階及4日目 解析についての実習＋まとめ
び地下1階
講義担当者の都合により日程が前後する可能性があります
FIBとTEMの基礎講義、オリエンテーション、安全
1日目
ガイダンス
・自身の試料持ち込みは不〒305-0047
可としますが、研究テーマに 2日目 FIBの実習
茨城県つくば市千現1-2-1
関するTEM利用の相談は歓
物質・材料研究機構
3日目 FIBの実習迎します。
精密計測実験棟
4日目 TEMの実習
STMについての講義・施設見学、超高真空の創〒305-0047
製、STM探針作製
STM探針の清浄化、金表面のSTM観察、シリコ 茨城県つくば市千現1-2-1
2日目
物質・材料研究機構
ン清浄表面の作製
界面制御実験棟
3日目 STMによるシリコン表面の観察実習
1日目1日目・観察したい試料があればご相談くださいSHIMについての基礎講義、SHIMによる観察の実習

2日目 SHIMによる観察の実習
3日目 SHIMによる加工の実習とまとめ

松林 信行
富江 敏尚

8/3～8/5（3日間。事前相談により変更する場合があります。）

満汐 孝治

8/26～8/28（3日間）

EUPSは、3nsパルスの極端紫外光（255.17eV）で励起する産安全教育、施設の見学、総研考案・開発の光電子分光法。広いエネルギー領域のス
1日目
講義：EUPSの原理
ペクトルを飛行時間法電子分光で一挙に取得する。最表面２
実習：試料準備－３原子層の内殻光電子スペクトルから元素の表面偏析や超微量汚染物付着が評価できる。価電子帯トップも高感度
学部4年、修士課程、 ・試料持ち込み可（要事前相測定できる。仕事関数やバンド曲がりも評価できる。過渡的
博士課程、高専専攻科 談）
講義：EUPSの測定例
3名 電子親和力の測定から電子のエネルギー緩和時間の定性
2日目※物理系もしくは化学 ・同日程の産総研プログラ
実習：試料の測定的議論ができ、それにより触媒活性や表面の超清浄度の議系専攻に限る。
ム参加者合同で装置見学を論ができる。帯電による影響が小さく、厚板ガラスの室温で予定。
の仕事関数も評価できている。有機材料、絶縁物ナノ粒子な
講義：データ処理、解析法
ど、様々な材料の分析に威力を発揮する。
3日目
実習：データの解析、まとめ
EUPSの特徴と原理の講義の後、各自の試料のEUPS測定、そのデータ解析までを実習する。
修士課程、博士課程、1日目 陽電子分析法についてのイントロ・施設見学
低速陽電子ビームについて基礎から応用まで習得するた
高専専攻科
・試料持込歓迎(事前にご相め、陽電子ビームの発生法・計測法・データ解析法の講義・
低速陽電子ビームの発生法・計測法・応用につ※理・工学系所属の大3名
2日目
談ください)
演習を行い、陽電子寿命測定法による欠陥評価技術を習得
いての講義
学院生、高専専攻科生
する。
3日目 陽電子寿命データの解析法の講義と実習に限る。
施設紹介、利用ルール説明、安全教育などの簡単なガイダンス
1日目 ・施設見学と走査プローブ顕微鏡（SPM）の基礎
・SPMの原理の説明・走査型トンネル顕微鏡の探
針の作成法

9

走査型プローブ顕微鏡
産業技術総（SPM）の原理と実環境合研究所
ナノ物性計測井藤 浩志

8/3～8/7（5日間）

走査プローブ顕微鏡（SPM）の歴史・発展の過程を理解す
学部1～4年、修士課る。また、SPMの原理を理解して、実環境（真空中、溶液中
3名
程、博士課程、高専4等）でのナノ材料の形状、ナノ物性測定の基本技術を習得す～5年、高専専攻科
る。

〒305-8568
茨城県つくば市東1-1-1
つくば中央第2事業所〒305-8568
茨城つくば市梅園1-1-1
産業技術総合研究所
つくば中央第二事業所 2-4棟

・高専、学部1～3年の参加
者は、右記と若干異なるプ
ログラムを用意する。
カンチレバーの動作と変位検出方法を理解し、 〒305-8568
・学部4年以上の参加者は、 2日目 原子間力顕微鏡（AFM）の基本測定技術を習得 茨城県つくば市梅園1-1-1
研究テーマに関連する試料
産業技術総合研究所する。
持込可（その場合は、2日目
つくば中央第２事業所 D棟以降のスケジュールを変更 3日目 ナノ物性計測法の習得（弾性率、または、電気測定から選択）
することがある。）
ナノ物性計測法の習得（弾性率、または、電気測
4日目
定から選択）
5日目 溶液中でのAFM計測（DNA観察等）の体験

1/7〒305-0047
茨城県つくば市千現1-2-1
物質・材料研究機構
材料信頼性実験棟

No.

研修テーマ

機関名

研修先
ホスト氏名

超伝導検出器による軟X 線分光測定の基礎
講習 超伝導X線検出 産業技術総
10 器付き走査型電子顕 合研究所
微鏡での材料分析実
習

超伝導検出器による軟産業技術総11 X 線蛍光収量Ｘ線吸収 合研究所
分光の基礎講習

12 時間分解分光

産業技術総
合研究所

固体NMR計測・解析技 産業技術総
13 術
合研究所

藤井 剛

志岐 成友

細貝 拓也
松﨑 弘幸

服部 峰之
林 繁信

研修期間

定員

研修概要

対象学年など

特記事項

シリコンドリフト検出器に匹敵する効率と波長分散型検出器に匹敵するエネルギー分解能を両立している超伝導体を用いたX線検出器（超伝導X線検出器）の動作原理、作成方
法、検出特性などについて講義を行う。さらに、超伝導X線検 学部4年、修士課程、
8/11～8/14
出器付き走査型電子顕微鏡で得られた分析結果についても 博士課程、高専専攻科※SEM-EDX、EPMA、（4日間。事前相紹介する。
・測定希望の試料の持ち込4名
談により変更す実技として、超伝導X線検出器付き走査型電子顕微鏡で標 XRFなどのX線分光分
みは大歓迎です。
以下
る場合がありま
準試料のX線分光分析を行う。測定希望のサンプルがある 析の経験を有することす。）
場合はそのサンプルの分析を行う。その後、得られたX線分 が望ましいが、未経験
光の結果について解析を行い、データの解釈に関して議論 者も歓迎いたします。
を行う。
その他先端分析装置、超伝導X線検出器の作製現場（クリーンルーム）の見学を行う。

8/11～8/14（4日間。事前相談により変更する場合があります。）

シリコンドリフト検出器に匹敵する効率と波長分散型検出器に匹敵するエネルギー分解能を両立している超伝導体を用いたX線検出器（超伝導X線検出器）の動作原理、作成方
法、検出特性などについて講義を行う。さらに、超伝導X線検 学部4年、修士課程、出器付きＸ線吸収分光装置と、その装置で得られた分析結 博士課程、高専専攻科
果についても紹介する。
※SEM-EDX、EPMA、・SC-SEMと同時開催
2名 実技として、走査型電子顕微鏡を利用して超伝導X線検出器 XRFなどのX線分光分
・試料持ち込み可を用いたX線分光分析を行う。測定希望のサンプルがある場 析の経験を有すること
合はそのサンプルの分析を行う。その後、得られたX線分光 が望ましいが、未経験の結果について解析を行い、データの解釈に関して議論を 者も歓迎いたします。
行う。
その他先端分析装置、超伝導X線検出器の作製現場（クリーンルーム）の見学を行う。

研修スケジュール

研修場所

1日目 午後：安全教育、施設見学

2日目 終日：講義

3日目 終日：実技（分析）〒305-8568
茨城県つくば市梅園1-1-1
産業技術総合研究所
つくば中央2-10棟

4日目 午前：実技（解析）

1日目 午後：安全教育

2日目 午前：講義、午後：講義、見学

3日目 終日：実技（分析）〒305-8568
茨城県つくば市梅園1-1-1
産業技術総合研究所
つくば中央2-12棟

4日目 午前：実技（解析）

時間分解分光法についてのイントロ・安全教育・学部3～4年、修士課・計測したい試料の持込み 1日目 施設見学、ナノ秒時間分解蛍光測定の説明、実時間分解分光法は原子や分子、材料（例えば光触媒や発光程、博士課程、高専4〒305-8568を可能とする。この際に計測
8/3～8/6
材料）の光反応機構を調べる強力な手法である。本研究で習～5年、高専専攻科
茨城県つくば市梅園1-1-1 中央第方法に関する相談も事前に（4日間。事前相
は、時間分解分光について基礎から応用まで習得するた※現在の研究に時間
ピコ秒時間分解蛍光測定、 ナノ秒過渡吸収測定 2受け付ける。
談により変更す 2～3名 め、ナノ秒とピコ秒の時間分解蛍光寿命測定の説明、実習、
2日目
分解分光技術が関係の説明、実習産業技術総合研究所
・同日程の産総研プログラ
る場合がありま
また時間分解過渡吸収測定の説明、実習、データ解析等をする者に問わず、未経
つくば中央第2事業所 2-10棟
ム参加者合同で装置見学を 3日目 フェムト秒過渡吸収測定の説明、実習
す。）
行い、時間分解分光法の基礎的概念と測定技術を習得す
験者や初心者も歓迎す
予定。
る。
る。
4日目 データ解析、全体のまとめ等

8/3～8/5（3日間。事前相談により変更する場合があります。）

固体NMRは、固体物質における局所構造を原子レベルで調
安全教育、施設の見学
1日目
べることのできる有用な手法です。講義では、固体NMRの基
講義：NMRの基本原理
本原理・理論をわかりやすく解説し、固体NMRを用いることに 学部4年、修士課程、より固体物質や材料についてどのような知見が得られるかを 博士課程、高専専攻科 ・同一日程の産総研プログ
講義：固体NMRから得られる情報
5名 理解します。測定実習では、固体NMR装置を用いて固体試 ※化学系、生化学系、 ラム参加者合同で装置見学 2日目
実習：NMR測定の基本料から得られるシグナルを観測し、講義をした固体NMRの基 物理系もしくはそれに を予定。
本原理・理論をより深く理解します。同時に、講義では触れる 関連した専攻に限る。
講義：固体高分解能NMRの測定技術ことの無い実際の測定手順とその際に注意すべきことを理
3日目
実習：固体高分解能NMRの測定解します。

〒305-8565
茨城県つくば市東1-1-1
つくば中央第5事業所

TEMの基礎（講義）・TEMでどんなデータ（情報・信号）が得られる
1日目 か？
・TEM操作のための簡単なTEMの原理と構造・試料作製法東京大学
14 初心者のためのTEM基
本操作

押川 浩之
木村 鮎美

8/17～8/20（4日間）

TEMについて基礎から応用まで習得するため、JEM3名 1400/JEM-2800を使用したTEM操作実習を行い、TEM/STEM操作・観察・分析技術を習得する。

学部4年、修士課程、 ・試料持込みは可能です
基本操作実習（試料交換～観察まで）博士課程、高専専攻科 が、試料作製等の制限もあ 2日目 ・電子線の発生 ・照射系軸合わせ※初心者（基礎から形 りますので、その際は研修・結像系軸合わせ態観察・分析基本操作 担当者と予めご相談下さ
種々の観察法を学びたい方）い。
3日目 ・結晶方位合わせ/高分解能像観察法
・制限視野電子回折法 ・STEM-EDS〒113-8656
東京都文京区弥生二丁目11-16
東京大学大学院工学系研究科総合研究機構（工学部9号館）

種々の観察法
4日目 ・結晶方位合わせ/高分解能像観察法
・制限視野電子回折法 ・STEM-EDS

超高圧電子顕微鏡を15 用いた触媒反応のその 名古屋大学
場観察

山本 剛久
荒井 重勇

7/27～9/4（うち3日間）自動車や化学反応などで多用されている触媒反応の詳細を知ることは、新しい触媒開発にとって不可欠な要素である。
反応科学超高圧電子顕微鏡は、ガス環境実験に特化してお修士課程、博士課程
り原子レベルで触媒反応を直接観察することが出来る装置
3名※電子顕微鏡操作経であり、企業や大学を問わず多数の研究者が毎年利用して験者いる。この触媒反応の基礎的な実験とガイダンスを行い、受講者が将来の触媒研究に役立てられる技術を習得することを目的とする。

2/7

1日目

午前：電子顕微鏡の基礎と原理、
午後：ガス環境実験の基礎実技

2日目 ガス質量分析装置(QMass)を用いた応用実験

3日目 午前：ガス実験の続き、午後：まとめ〒464-8603
名古屋市千種区不老町
名古屋大学
未来材料・システム研究所
超高圧電子顕微鏡施設

No.

研修テーマ

STEM-EELSによる構

16 造観察と化学分析

機関名

研修先
ホスト氏名

京都大学

大阪大学
17 透過電子顕微鏡法による材料微細構造解析

倉田 博基

保田 英洋

研修期間

8/3～8/6
（4日間）

定員

研修概要

対象学年など走査型透過電子顕微鏡（STEM）に電子エネルギー損失分光（EELS）やエネルギー分散型X線分光（EDS）を組み合わせた分析電子顕微鏡に関する講義と実習を行い、構造観察と分修士課程、博士課程
2名 析技法の基礎を習得することを目的としている。特に、分析※未経験者歓迎技法としてはEELSに力点を置き、モノクロメータを搭載した電子顕微鏡を用いた実習を通じて、高エネルギー分解能EELSの特徴や状態分析についても研修を行う予定である。

7月～9月上旬（うち3日間。受透過電子顕微鏡法について基礎から応用までを習得するた修士課程、博士課程
け入れ決定後に 2名 め、講義と透過電子顕微鏡装置を使用した操作実習を行※大学院生に限る
個別に調整すい、データの解析法を理解する。
る。）

特記事項

研修スケジュール

分析電子顕微鏡についての概要に関する講義と施設見学〒611-0011
STEMの結像法とEDSによる分析に関する基礎 京都府宇治市五ヶ庄
2日目
的な講義と実習京都大学
化学研究所
3日目 EELS分析技法に関する基礎的な講義と実習
超高分解能分光型電子顕微鏡棟
4日目 個別の研究テーマに関連した応用とまとめ
1日目

・試料持込可〔13：00～〕透過電子顕微鏡法についてのイントロ・安全教育・施設見学
イントロ、施設説明
1日目
・透過電子顕微鏡観察試料
透過電子顕微鏡法概要を持参し、その試料の観察
高分解能電子顕微鏡法
法の実習を行うことも可能である。
2日目 透過電子顕微鏡法についての実習
3日目

固体表面のX線光電子

18 分光分析の実習

日本原子力
研究開発機
構

吉越 章隆

分子線エピタキシー法 量子科学技
結晶成長と特性評価

高温高圧法による新規

20 物質合成

佐々木 拓生

機構

量子科学技
術研究開発
機構

齋藤 寛之

〒567-0047
茨木市美穂ヶ丘7-1
大阪大学
超高圧電子顕微鏡センター

透過電子顕微鏡法についての実習
データ解析

・放射光を使った実習はマシンタイムスケジュールに従〔午前〕SPring-8手続き
います。従って、スケジュー 1日目 〔午後〕実習の概要説明、大型放射光施設見学、
固体表面のX線光電子分光による分析の基礎を習得する。 学部2～4年、修士課 ル等の関係上、実験室光源
放射光および光電子分光に関する講義
SPring-8の日本原子力研究開発機構の軟X線専用ビームラ 程、博士課程、高専4 での実習となる場合があります。
7/1～9/4イン（BL23SU）に常設・稼働の表面反応分析装置を用いて光 ～5年、高専専攻科（うち3日間。実
電子分光実験（放射光軟X線または実験室X線源）を行う。内 ※経験や研究分野は ・SPring-8の実験ホール内〒679-5148
施日程の決定に
殻光電子分光スペクトルの測定を中心に行い、固体表面の 問いません。興味があ での実習となるため、4名
兵庫県佐用郡佐用町1丁目1-1
2日目
光電子分光データ測定の実習
SPring-8の所定の手続き
は、担当者との化学状態分析などの基礎の習得を目指します。
る人を歓迎します。
放射光物性研究棟
事前相談が必実習の説明上、物理や （放射線業務）を行うことが必須となります。
須となります。）
参考書：
化学の基礎（原子分＊X線光電子分光法、髙桑雄二編著、講談社
子、量子力学の初歩な ・装置不具合などの思わぬ＊X線光電子分光法、日本表面科学会編、丸善株式会社
ど）が必要となります。 場合も想定されます。その場合は実習が実施できない 3日目 まとめと質疑こともありますので、あらかじめご了承ください。
1日目

19 による窒化物半導体の 術研究開発

研修場所

8/3～8/21（うち5日間）

7/27～9/4（うち5日間）

安全教育、講義、見学（SPring-8、ビームライン、
実験装置）

放射光施設SPring-8において、半導体の結晶成長方法の一
実技（分子線エピタキシー法によるサンプル作
つである分子線エピタキシー法を用いて、窒化物半導体薄学部1～4年、修士課 ・研修の一部は放射線管理 2日目 製）
膜またはナノ構造を作製し、結晶成長技術を習得する。ま程、高専4～5年、高専 区域での実習が含まれるた
た、作製したサンプルの特性評価として、走査型電子顕微鏡
実技（分子線エピタキシー法によるサンプル作
1名
専攻科
め、所属先において放射線 3日目による構造評価とフォトルミネッセンス測定による光学特性製）※未経験者歓迎、初心 作業従事者として登録され評価を行い、窒化物半導体の各種評価技術を習得する。た者向けていることが必要
4日目 実技（サンプルの構造評価、光学特性評価）
だし、SPring-8は夏期停止期間中であるため、放射光X線を用いた実習は行わない。
5日目 データまとめ、研修結果報告
新規物質合成のための強力な手法の一つである数百度・数万気圧領域での高温高圧合成について基礎から応用まで修得するため、キュービックマルチアンビル装置を使用した高学部1～4年、修士課
温高圧合成実習を行い、高温高圧発生と合成された試料の程、博士課程、高専43名 分析技術の習得を目指す。実習では、実験のためのセル～5年、高専専攻科
パーツ作製、キュービックマルチアンビル装置を用いた高温※未経験者歓迎
高圧実験、および、常温常圧下に回収された試料について
粉末X線回折測定、走査電子顕微鏡、熱分析装置を用いた評価などを行う。

1日目〒679-5148
兵庫県佐用郡佐用町光都1-1-1
SPring-8

高温高圧合成についてのイントロダクション・安全教育

・高温高圧処理を希望する 2日目 マルチアンビルプレスを使用した高温高圧合成の実習
試料の持ち込みは、技術面〒679-5148
および安全面で問題の無い
マルチアンビルプレスを使用した高温高圧合成
兵庫県佐用郡佐用町光都1-1-1
3日目
範囲で可。持ち込みを希望の実習
SPring-8
する際は事前に担当者と打
微小部X線回折装置、走査型電子顕微鏡、熱分
ち合わせを行ってください。 4日目 析装置を使用した合成試料の分析
5日目

データの解析、レポートの作成と放射光施設の見学

施設見学（超顕微解析研究センター）
1日目 電子顕微鏡の原理から最新の分析電子顕微鏡法まで（講義）、電子顕微鏡の操作原理（講義）2日目
透過電子顕微鏡による
九州大学
21 微細構造解析法

松村 晶

8/24～8/28（5日間）

初心者を対象に、透過電子顕微鏡を使いこなすために必要 学部2～4年、修士課
な装置の基礎知識と操作法、電子回折の基礎と解析法を習 程、博士課程、高専4～5年、高専専攻科
2～4名 得する。
講義、実習（200kV の透過電子顕微鏡を使用）、演習を行※初心者を対象としまう。
す・参加者が観察を希望する
試料があれば対応します
・参加者の研究テーマに関する相談に応じます

電顕の操作： 焦点合せ、像観察（明視野像 制
3日目 限視野回折 暗視野像）（実習）、
電子回折演習問題（演習）
電顕像のコントラスト、電子回折の基礎（講義）、
4日目 電顕実習（参加者が観察を希望する試料があれば対応します）5日目

3/7

電顕の簡単な操作、 照射系軸合せ、結像系軸
合せ、非点補正（実習）

電顕像の解釈、電子回折図形の解析（参加者の研究テーマに関する相談に応じます）、まとめ〒819-0395
福岡市西区元岡744
九州大学
超顕微解析研究センター CE21棟

微細構造解析・微細加工
No.

研修テーマ

機関名

研修先
ホスト氏名

原子層堆積装置等によ22 る薄膜作製とFIB・TEM 北海道大学による構造解析

7/6～9/4（うち4日間）

研修先
ホスト氏名

研修期間

大気中走査型プローブ
定

No.

研修テーマ

機関名

8/25～8/28
（4日間）

柴山 環樹
松尾 保孝
細井 浩貴
アグス スバギョ

23 顕微鏡による多機能測 北海道大学

微細加工

笹木 敬司
柴山 環樹
松尾 保孝

研修期間

電子ビームリソグラフィ
24 を用いた金属/半導体 北海道大学
微細構造の作製

MEMSフォースセンサと25 小型IoTモジュールの 東北大学
作製

小田島 聡
松尾 保孝

7/13～7/17（うち3日間）

7/1～9/4（うち5日間。日戸津 健太郎 程は参加者の希望に合わせます。）

7月中旬～8月
グラフェンマイクロデバ 物質・材料研 渡辺 英一郎
下旬（うち４日
26 イスの作製究機構
津谷 大樹
間。要調整）

酸化物トランジスタ製

27 作・評価

窒化物半導体トランジ

28 スタの作製と評価

産業技術総
合研究所

多田 哲也

8/17～8/21
（5日間）

筑波大学

末益 崇
奥村 宏典

8/19～8/21
（3日間）

定員

研修概要

対象学年など原子層堆積装置（ALD）やスパッタ装置等を用いた薄膜作製技術の研修と、作製した薄膜についての集束イオンビーム加工装置（FIB）・透過電子顕微鏡（STEM）を用いたナノ構造評 学部4年、修士課程、2名 価についての基礎的な実験を行う。合わせて、それらを適用 博士課程
した先端研究内容についての講義学習を併せて行うことによ ※未経験者歓迎
り、薄膜作製加工技術から透過電子顕微鏡による分析手法
までの一連の基礎技術の習得を行う。

特記事項

研修概要

対象学年など電子ビーム(EB)描画・スパッタによる金属薄膜形成・ドライ
エッチングなどを用いた微細構造作製を通じ、微細加工にお 学部4年、修士課程、2名 ける基本的技術を習得する。また作製された金属/半導体微 博士課程
細構造を走査電子顕微鏡(SEM)を用いて観察することで、試 ※未経験者歓迎
料評価(構造解析)の基本的技術を習得する。
ピエゾ抵抗形のMEMSフォースセンサ（force sensor）の試作を通して、微細加工プロセスの基礎を習得します。さらに、IoTの入口として、試作したセンサをプリント基板に実装し、 学部1～4年、修士課
WiFi無線モジュール、インターネットを介してスマートフォン等 程、博士課程、高専43名 で測定値をモニタリングできるようにします。微細加工プロセ ～5年、高専専攻科
スとしては、フォトリソグラフィ、イオン注入、CVD、ウェットエッ ※どなたでも参加いた
チング、スパッタリング、シリコンDeepRIE、ダイシング、ワイ だけます
ヤボンディングなどを行います。昨年度より小さなモジュールを目指します。

研修場所

オリエンテーションおよびALD、スパッタ装置等に
1日目 よる加工技術、FIB、STEMによる評価技術に関する講義、薄膜作製実習
・薄膜作製したいデバイスが 2日目 薄膜作製 実習 および FIB 実習
あれば、実習内で対応でき
3日目 FIB実習、透過電子顕微鏡観察 実習
るかの相談を受け付けます。
4日目 透過電子顕微鏡観察 実習、 まとめ〒001-0021
北海道札幌市北区北21条西10丁目
北海道大学創成研究機構
創成科学研究棟

開始時間・終了時間等は参加者の都合に合わせて調整します。
オリエンテーション、リソグラフィおよび走査プ
1日目
ローブ顕微鏡に関する講義〒060-8628
北海道札幌市北区北13条西8丁目
2日目 リソグラフィ法による試料の作製
北海道大学
作製した試料SEM観察、SPM測定による形状評 工学研究科棟3日目
価およびMFM測定
C118、L157、L110実験室
4日目 KPFM測定、まとめ

微細加工技術を用いた磁性体パターンの作製、ならびに、作製した試料の大気中走査型プローブ顕微鏡（SPM）技術を用いた表面形状や磁気構造（MFM）、電位分布（KPFM）など表学部4年、修士課程
2名
面測定の実験を行う。また、実験に先立ち、SPMに関する講義学習を行うことで、走査プローブ顕微鏡測定の基礎技術の習得を行う。

定員

研修スケジュール

特記事項

研修スケジュール

微細加工プロセスに関する講義、微細加工実習(クリーンルーム講習、EB描画)
微細加工実習(EB描画、スパッタ・リフトオフによ
2日目 る金属微細構造作製、ドライエッチングによる半導体微細構造作製)
微細加工実習(金属微細構造作製・半導体微細3日目
構造作製の続き)、SEM観察
イントロ、安全教育、フォトリソグラフィ、イオン注
1日目
入、ランプアニール、施設見学
SiO2 TEOS-PECVD、フォトリソグラフィ、SiO2
2日目
ウェットエッチング、Alスパッタリング
フォトリソグラフィ、Alウェットエッチング、Alシンタ
3日目
リング、フォトリソグラフィ

研修場所

1日目

4日目 Si DeepRIE、ダイシング、ワイヤボンディング
5日目〒001-0021
北海道札幌市北区北21条西10丁目
北海道大学創成研究機構
創成科学研究棟〒980－0845
宮城県仙台市青葉区荒巻字青葉
519-1176
東北大学
西澤潤一記念研究センター

プリント基板実装、マイコンプログラミング、評価、まとめ【研修内容】二次元層状物質“グラフェン”を用いたグラフェン
1日目 概要説明・安全教育・施設見学
マイクロデバイスを作製する。フォトリソグラフィや成膜プロセス、エッチングプロセス、電気伝導測定など微細加工プロセス技術の基礎・装置操作を習得する。
【実験手順】単層・多層グラフェンは機械的剥離法により2日目 機械的剥離法およびグラフェン加工
SiO2/Si基板上に転写する。転写したグラフェンは、リソグラ
最大
修士課程、博士課程、 ・研修期間中はクリーンルー
フィプロセスとエッチングプロセスにより任意の形状に加工す
2名
高専専攻科
ム内での実験となります
る。その後、リソグラフィプロセス、成膜プロセス、リフトオフプ
3日目 グラフェンへのコンタクト電極作製
ロセスにより金属電極を形成し、作製したグラフェンデバイスの電気伝導測定を実施する。
【使用装置】高速マスクレス露光装置、12連電子銃型蒸着装置、多目的ドライエッチング装置、ウエハRTA装置、プロー
4日目 電気伝導測定およびまとめ
バーシステムなど〒305-0047
茨城県つくば市千現1-2-1
物質・材料研究機構
材料信頼性実験棟1階 クリーンルーム

出来上がった素子の一部は講義、安全教育、CAD操作、実習(フォトリソグラ
成膜(ALD、 真空蒸着)、フォトリソグラフィ、ドライエッチング 学部3～4年、修士課
所内手続きの上持ち帰って 1日目 フィ他)
技術を利用して酸化物を活性層とする薄膜トランジスタ(TFT) 程、高専専攻科
いただくことができます。IC
を製作を体験し、作製途中や出来上がりの電子顕微鏡観※上記対象学年外でも〒305-8568
パッケージに実装して渡す 2日目 実習(成膜)察、半導体パラメータアナライザ電気的特性評価を行う。
アレンジして実施可能
茨城県つくば市梅園１－１－１
ため,持ち帰った試料に配線
参加者は、CADを用いてTFTの形状や配線の設計を行って です。微細加工等の未産業技術総合研究所
するとTFTを動作させること 3日目 実習(エッチング、フォトリソグラフィ)
もらい、設計したTFTの特性向上にチャレンジしてもらいま
経験者歓迎、 FETの特つくば中央第２事業所 ２－１２棟
2名もできます。
す。特性は、TFTの静特性から得られる各種パラメータの算 性に関する基礎知識を
ナノプロセシング施設
体験版パターン設計CADを 4日目 実習(成膜、電子顕微鏡観察、 特性評価)
出や設計したTFTでリングオシレータを動作させて動作速度 有している事が望まし（TIA推進センター 共用施設運営ユ利用してあらかじめTFTのの比較を行います。実習内容は参加者の関心により微細加 いが無くても可能。評
ニット 共用施設ステーション ナノ
形状などを設計してきてもら 5日目 実習(動作確認)、 まとめ、 発表練習/ディスカッ
工技術寄り、成膜技術寄り、 薄膜物性評価寄り、トランジス 価内容等参加者のレベプロセシング施設）
ション
います(出来なくても用意し
タ特性評等アレンジ可能です。
ルに合わせてアレンジてあるパターンで実習は可 参加者の希望により詳細日程は変更になる場合があり
本実習は研究開発用クリーンルームを使用します。
します。
ます。
能)。
安全教育、講義（半導体プロセスの流れ）、CAD
本研修では、窒化ガリウム（GaN）高電子移動度トランジスタ
1日目 操作 実技（フォトリソグラフィ、電子線蒸着、リフ 〒305-8577(HEMT)試料を用いて、微細加工の基本装置であるフォトリソ
学部4年、修士課程、 試料持込可(事前にご相談く
トオフ）
茨城県つくば市天王台1-1-1
グラフィ、電子線金属蒸着、ドライエッチング装置を通じて半
博士課程、高専4～5 ださい)。日程も調整が可能
4名
実技(ドライエッチング、フォトリソグラフィ（アライメ 筑波大学
導体の微細加工を学び、これらの装置を用いた実習を行う。
2日目です。
年、高専専攻科ント）)
第三エリア共同研究棟C 107室
また、半導体パラーメータアナライザを用いて電気的特性評価を行う。
3日目 実技(電気特性評価（TLM、I-V、C-V）)、まとめ

4/7

No.

研修テーマ

機関名

研修先
ホスト氏名

東京工業大
29 電子ビームリソグラフィ 学

巨大磁気抵抗効果を30 利用した磁気センサの 名古屋大学
試作

宮本 恭幸

加藤剛志

研修期間

7/29～7/31（3日間）

8/4～8/7
（4日間）

定員

研修概要

対象学年など特記事項

微細パターン形成の強力なツールである電子ビームリソグラ
フィについてその基礎を修得する。
研修では電子ビームリソグラフィについての講義・露光パ
ターン/露光ファイル作成及び露光実習を行う。その中で電子ビームリソグラフィの特長・強みを理解していただき、研修
後、電子ビームリソグラフィを研究・実験等に組み入れ、積極的に利用していただきたいと考えている。
-電子線露光実習はJeol6300電子線露光装置を使用し、以下の項目を行う。（露光結果はSEM（走査型電子顕微鏡）観察により評価する。）
学部4年、修士課程、
・露光パターンの作成：自作CADパターンの露光fileへの変 高専専攻科
2名
換作業を行う、電子ビームの変換ルールの理解して頂く。
※未経験者・初心者向・パターン露光：装置立ち上げ（装置調整・操作）後、各自作 け成した露光パターンを露光し、パターン現像・パターン確認（SEM観察）を行う。
・位置合わせ露光（重ね露光）：重ね露光準備（露光file作成
等）及び露光を行う。重ね露光作業を通し、位置合わせ等の一連の作業を実習していただく。露光パターンを評価し、重ね露光の問題点を議論する。
・近接効果：電子ビーム露光では古くから知られている重要な問題である。実習では、露光実験にてその影響を見て頂く。

磁性薄膜のスパッタ成膜と磁気特性の評価，微細加工につ
学部4年、修士課程、
いて基本的な技術を学ぶため，多元スパッタ装置を用いて巨博士課程
3名 大磁気抵抗効果を示す磁性多層膜を作成する。さらにマスク※未経験者歓迎、微細レス露光装置，Arイオンエッチング装置を用いて，磁気抵抗
加工初心者向け型の磁気センサを試作する｡

研修スケジュール

1) 電子ビーム露光について（講義）
1日目 2) 露光データの説明。露光装置操作及び露光。
レジスト塗布・現像等のプロセス説明

1) 露光パターン（露光ファイル）作成・露光
2日目 2) 重ね露光実習（位置合わせ露光実習）。
3) 近接効果評価露光。

3日目

1) 露光パターンのSEM観察及び計測
2) まとめ

1日目

磁性薄膜，巨大磁気抵抗効果，金属薄膜の微細加工についての講義・安全教育・施設見学

マスクレスフォトリソグ
32 ラフィによるフォトマスク 大阪大学
作製

松嶋 朝明
大村 英治
高橋 英樹

8/19～8/21
（3日間）

法澤 公寛
津本 弥生

学部1～4年、修士課
LED描画システムやマスクアライナーを使い、フォトリソグラ 程、博士課程、高専4
8月頃
2名 フィについての基礎を習得する。作製したフォトマスクを用い ～5年、高専専攻科（このうち3日間）てリフトオフプロセスを体験する。
※未経験者歓迎、初心者向け

静電吸着力による触感

33 提デバイスの製作と評 香川大学
価

CMOSトランジスタ・IC

34 作製実習

広島大学

下川 房男

7/1～9/4（うち3日間）黒木 伸一郎 7/27～8/1
（6日間）
山田 真司

各自がデザインしたマイクロ流路をレーザー直接描画装置 学部3～4年、修士課
3名 等を用いて作成（PDMS／ガラス基板）し、２種類の液体を流 程、博士課程、高専4して混合状態を観察・評価する。
～5年、高専専攻科

本研修では、最初に、静電アクチュエータの技術を応用した
触感提示デバイスの原理とマイクロファブリケ－ション技術の基礎を座学として学び、その後、実際のデバイス作製と駆動に関する評価の実習を行う。具体的には、スパッタリング
装置を用いて、導電体表面への絶縁膜の形成を行う等して、 学部4年、修士課程
2名
触感提示デバイスを製作する。その後、マイコンや回路の仕 ※未経験者歓迎
組みを学習することで、マイコンや回路に関する基礎知識を学び、続いてマイコンに入力するプログラムを変えることで電圧制御を行って、デバイスへの入力電圧の信号波形によってどのように触感が変化するか等を評価する。
NMOS,PMOSトランジスタを用いたCMOSICの試作実習を通じて、プロセス基礎技術とトランジスタ・回路の基本技術全体を学ぶ。イオン注入、酸化、リソグラフィー、エッチングなど基本技術を学ぶ。作製する回路は、CMOSインバータを基本と修士課程、博士課程、するリングオシレータ、SRAMなど。時間短縮のためN-ウェル半導体実践実習（社会人向高専4～5年、高専専攻
5名 形成までは研修前に準備する。受講生は主にトランジスタ回け）同時開催、ノートパソコ
科
路設計及びデバイス作製途中のパターン観察と完成後の特ン持参をお願い※未経験者歓迎
性評価を行う。半導体製造装置によるデバイス作製は主にスタッフが行う(受講生は簡単な作業と操作を見ながら講義を受ける)。最小加工寸法は、マスクレス露光を用いた3ミクロン
とする。

5/7

〒152-8552
東京都目黒区大岡山2-12-1
東京工業大学
未来産業技術研究所

巨大磁気抵抗薄膜のスパッタリング成膜と，磁力 〒464-8603
計による磁気特性の評価
愛知県名古屋市千種区不老町
CADによるセンサ構造の設計とマスクレス露光 名古屋大学
3日目
IB電子情報館北棟3階327室
装置を利用したパターン作製
2日目

4日目

MEMS技術を用いたマ
京都大学
31 イクロ流路の作製

研修場所

Arイオンエッチングによるセンサ微細加工とセンサ特性の評価① 安全講習② マイクロ流体デバイスに関する概要説明
1日目 ③ 実習の説明④ マイクロ流路の設計とパターンデータの作成 〒606-8501
京都市左京区吉田本町
レーザー描画装置を用いたフォトマスク作製
工学部物理系校舎378号室① レジスト原盤（鋳型）作製
京都大学
マスクアライナーを用いSU-8の鋳型作製（フォト ナノテクノロジーハブ拠点 実験室
2日目
リソグラフィ）② PDMSによるマイクロ流路プレート作製
3日目 マイクロ流路組立・評価／まとめ
フォトマスク作製についての概要説明、Crスパッ
1日目〒567-0047
タ成膜
大阪府茨木市美穂ヶ丘8-1
フォトマスクCAD設計、LED描画、ウェットエッチン
大阪大学
2日目
グ
ナノテクノロジー設備供用拠点（産作製したフォトマスクを使って露光・現像後にCr 業科学研究所内）
3日目
成膜、リフトオフ
1日目

研修概要、静電アクチュエータの技術に関する座学、安全指導〒761-0396
マイクロファブリケ－ション技術に関する座学、デ 香川県高松市林町2217-20
2日目
香川大学 創造工学部
バイス作製
3日目 デバイスの評価、研修の纏め
1日目 安全講習およびトランジスタ回路設計
チャネル、チャネルストップインプラ（酸化、リソ、エッチング、イオン注入）実習
ソース/ドレイン、コンタクトホール形成（リソ、イオ 〒739-8527
3日目
東広島市鏡山一丁目四番二号
ン注入）実習広島大学
Alゲート、配線形成（スパッタ、リソ、エッチング、 ナノデバイス・バイオ融合科学研究4日目アニール）実習所
トランジスタ特性、回路特性測定（Vd-Id, Vg-Id、
5日目
gm他）
6日目 特性評価（続）およびまとめ
2日目

No.

研修テーマ

機関名

研修先
ホスト氏名

栗巣 普揮
浅田 裕法

山口大学
35 真空技術に関する基礎
講義と実習

研修期間

8/26～8/28
（3日間）

定員

研修概要

対象学年など

特記事項

研修スケジュール

研修場所

1日目 講義：真空工学の基礎、真空コンポーネント
講義：真空システム、実習：真空排気実習 講義 〒755-8611
2日目
１コマ
山口県宇部市常盤台2-16-1
山口大学工学部
3日目 実習：リークテスト実習

微細加工や薄膜形成装置は真空を利用していることから、真空技術について習得しておくことが重要である。本研修で 修士課程、博士課程、5名
は真空技術について基礎から応用まで習得するため、真空 高専専攻科
科学・技術に関する講義と実習を行う。

ご希望に合わせ内容・日数を調整することも可能です。

公益財団法
CMOS集積回路要素技 人北九州産
36 術実習
業学術推進機構

分子・物質合成No.

研修テーマ

自己組織化現象を利用した高分子メゾスコ
37 ピック構造の作製とイ
メージング

機関名

上野 孝裕
安藤 秀幸
竹内 修三

研修先
ホスト氏名

公立千歳科
学技術大学

オラフ カートハウス

8/26～8/28
（3日間）

研修期間

8/11～8/14（4日間）

集積回路（IC）の製造は、パーティクル（微小なゴミ）及び、温度、湿度を管理された特殊な環境であるクリーンルームで、成膜、リソグラフィ、エッチング、イオン注入、拡散炉などの製 学部1～4年、修士課
造装置を使用して行われる。本研修では、IC製造プロセスの 程、博士課程、高専45名一つであるCMOS集積回路の製造技術を主体に、クリーン ～5年、高専専攻科
ルーム内の微細加工装置を使い要素技術（設計、製造、組 ※未経験者歓迎
立、評価等）を実習形式で体験することで、CMOS集積回路
製造プロセスへの理解を深める。
定員

研修概要

対象学年など自己組織化現象を利用したメゾスコピック構造（サブマイクロ
ンのドット、ライン、多孔質構造）の作成方法について基礎か
学部2～4年、修士課
ら応用まで習得するため、原料調製から自己組織化構造の3名
程、博士課程、高専4作製まで行う。また、基板に構築したメゾスコピック構造を～5年、高専専攻科
様々なイメージング法（電子顕微鏡、蛍光顕微鏡、原子間力顕微鏡など）を用いて多角的解析を行う。

1日目

集積回路製造技術講義、シミュレーション、レイアウト設計（FET、CMOSインバータ等）

・受入可能人数に満たない
要素技術実習（安全教育、薄膜形成、リソグラ
場合は、一般者を受け入れ 2日目フィ等）
る場合あり。
3日目

特記事項

・試料持込可〒808-0135
福岡県北九州市若松区ひびきの1番5号
共同研究開発センター

要素技術実習（イオン注入、組立）、電気特性評
価実習
研修スケジュール

研修場所

自己組織化現象についての講義、機能性材料の構造作成実習Introduction to self-organization and sample
preparation (crystallizable low molecular weightcompounds or polymers that are soluble in ethyl
1日目
acetate). If you want to bring your own
compounds、 please feel free; we might be able
to investigate their self-organization properties.
The typical concentration is 3-10 mg/ml、 and 1 〒066-8655
ml is enough for the experiments.
北海道千歳市美々758番地65
電子顕微鏡についての講義、測定ガイダンス、 公立千歳科学技術大学
研究棟・実験棟・大学院棟
2日目 実習Electron microscopy / EDX on the samples
原子間力顕微鏡についての講義、測定ガイダン
3日目 ス、実習
AFM imaging of the samples
実習まとめ
4日目 Summary、 discussion and preparation of a shortpresentation.
1日目

38 細胞実験基礎講習

李 香蘭
物質・材料研
箕輪 貴司
究機構
竹村 太郎

8/24～8/28（5日間）

遺伝子解析について（座学）、培養細胞からの遺学部1～4年、修士課
・No.47「動物細胞の電子顕 2日目 伝子の回収（実技）〒305-0047
培養細胞を用いた刺激応答実験を体験し、細胞培養、遺伝 程、博士課程、高専4
微鏡観察実習」と同時に開茨城県つくば市千現1-2-1
2名 子解析、細胞イメージングに関する基礎的な技術を身に着け ～5年、高専専攻科
3日目 PCR、アガロースゲル電気泳動（実技）催し、そちらの参加者とも交※バイオ系未経験者歓る。
細胞の染色について（座学）、蛍光色素を用いた 物質・材料研究機構
流する予定。
4日目
迎します。
染色（実技）
5日目

新しいカーボンをつくる
39 そして混ぜ合わせて強 信州大学
くする

橋本 佳男

8/25～8/27（3日間）

細胞培養・滅菌法・バイオハザードについて・安
全教育（座学）、細胞への刺激の添加（実技）優れた機械的、電気的、化学的特性を示す新しい炭素材料をその場で作ります。さらに、できたものを通常の物性評価で用いるラマン散乱などで分析します。作るのに使う装置
は、つつ状の炉にガスを流すだけのものや、メタンガスを入れて電子レンジのように電磁波を与えるだけの簡単なもので 学部4年、修士課程、す。（これでも、最先端の合成装置です。）さらに、3000℃近 博士課程、高専専攻科
3名 い高温処理も行いますが、カーボンの電熱線でカーボンを温 ※未経験者歓迎。参加
めます。作るカーボン材料は、黒いナノカーボンや粒は微小 者の技術レベルに合わ
でもダイヤモンドなどがあります。また、混ぜる作業はラボプ せて指導します。
ラストミルという機械でねりあわせます。いずれも、スイッチをポンと押して待っているのではなく、反応が見える状態で合成や処理を行い、材料合成の基礎技術を習得していただきます。

蛍光顕微鏡による観察（実技）、全体についてのまとめ、NIMS PF見学

1日目 合成、混練法の講義、施設見学
ナノカーボンの化学合成、複合材の混練（混ぜ合〒380-8553
わせる作業）
長野県長野市若里4-17-1
信州大学
長野（工学）キャンパス W2棟
3日目 分析評価および合成条件の検討
2日目

4日目 希望により追加することもあります。
1日目 安全ガイダンス、講義、装置見学

電界電離ガスイオン源 北陸先端科
40 集束イオンビーム装置 学技術大学
院大学
による微細加工

赤堀 誠志
宇野 宗則

7/6～7/10 (仮)（5日間。＊詳細
は受講希望者と相談のうえ決定）

電界電離ガスイオン源集束イオンビーム(GFIS-FIB)装置について、その基本操作から簡単な微細加工までを実習し、さ 学部3～4年、高専専攻
2名
らに走査型電子顕微鏡(SEM)や原子間力顕微鏡(AFM)で微 科細加工した試料の評価を行う。

2日目 GFIS-FIB装置の基本操作
3日目 GFIS-FIB装置による微細加工
4日目 SEMやAFMによる微細加工した試料の評価
5日目 実習のまとめ

6/7〒923-1292
石川県能美市旭台1-1
北陸先端科学技術大学院大学
ナノマテリアルテクノロジーセンター
およびJAISTイノベーションプラザ

No.

研修テーマ

分子科学研究所

41 夏の体験入学

機関名

研修先
ホスト氏名

分子科学研
究所

横山 利彦

研修期間

8/4～8/7（4日間予定）定員

研修概要

対象学年など

特記事項

研修スケジュール

・指定のWeb申込期間中に 1日目 分子研の全体紹介・オリエンテーション
分子科学研究所教授・准教授による様々な分子科学研究の分子研宛にも必ず参加希望 2日目 テーマ別講義・実習
テーマ（２５件程度）のうち１つを選び、実験あるいは理論計30名
学部1～4年、修士課程 申込みをして下さい。※申算を実習し、その方法等を習得する。詳細は「夏の体験入程度
込フォームの備考欄に「ナノ 3日目 テーマ別実習・まとめ学」のWebサイトhttps://www.ims.ac.jp/education/2020.html
プラ経由」と明記すること。
を参照して下さい。
4日目 全体発表会
1日目

ナノバイオデバイスによる分子・細胞計測の42 基礎技術習得 (細胞染 名古屋大学
色〜超解像イメージン
グ)

馬場 嘉信

7/27～7/31（5日間）

ナノ・マイクロデバイスおよびナノバイオ材料を用いたバイオ分析の基本技術を習得する。デバイスのデザインと作製技 学部1～4年、修士課
2名 術、ナノバイオ材料による細胞の染色、細胞の超解像イメー 程、高専4～5年、高専ジング実験などの実習を行い、ナノバイオ研究の基礎知識と 専攻科
実験操作を学ぶ。

研修場所〒444-8585
愛知県岡崎市明大寺町
字西郷中38 または 字東山1-1

ナノバイオデバイスについての基礎講義、デバイ
スのデザインと作製技術についての実習

2日目 作製したデバイスの表面改質と表面状態解析〒464-8603
ナノバイオ材料による細胞の染色と細胞機能評名古屋市千種区不老町
3日目
価名古屋大学 大学院工学研究科
4日目 デバイスを用いた単一細胞イメージング
デバイスを用いた単一細胞の超解像イメージン
グ＆予備日
気相合成法によるナノ粒子の合成についての講
1日目
義と実習
分子合成用マイクロラボの作製についての講義
2日目
と実習
5日目

分子・物質合成と機能 名古屋工業
43 評価
大学

日原 岳彦
（代表）

8/3～9/4（選択テーマ数
により1～5日間）

分子・物質合成と機能評価に関する次の５つのテーマについて、基礎から応用まで習得するため講義と実習を行い技術を習得します。①気相合成法によるナノ粒子の合成と燃料電池触媒性能の評価、②分子合成用マイクロラボの作製、③ 学部4年、修士課程、3名
ナノカーボン材料の合成、④生体分子の合成と構造解析、 博士課程
⑤メスバウアー分光法による磁性体または錯体の分析。各テーマは1日で実施し、特定の課題について選択することも可能です。

・ご希望の時期によっては
3日目 ナノカーボン材料の合成についての講義と実習 〒466-8555
愛知県名古屋市昭和区御器所町
全ての研修課題を実施でき
生体分子の合成と構造解析についての講義と実 名古屋工業大学
ないことがあります。
4日目
習
5日目 メスバウアー分光法についての講義と実習
基本的には10時開始、終了時間は実施テーマに依存します。

パルスレーザー成膜（PLD）装置によるVO244 薄膜の作成およびその 大阪大学
電気伝導特性の評価

ナノカーボンの可溶化
45 と分光分析およびナノ 九州大学
構造解析の実習

タンパク質ナノカプセル
46 の合成と経皮吸収技術 九州大学の習得

北島 彰(代表)藤ヶ谷 剛彦
利光 史行
荒谷 弘幸

後藤 雅宏
荒谷 弘幸

二酸化バナジウム(VO2)は341K付近で絶縁相(低温相：
monoclinic)から金属相(高温相：tetragonal)に相転移するため、スイッチング素子への応用等が検討されている材料です。本研修プログラムでは、このVO2薄膜を作成し、その評
7/27～9/4
価方法を下記の要領で実習します。
（この期間の中学部3～4年、修士課①成膜：２種の下地基板(Al2O3(0001)面、TiO2(001)面)でで火曜日～金曜
程、高専4～5年、高専
1～2名 PLD装置を使って成膜します。
日の連続4日間専攻科②X線回折：2θ/θスキャンにより、下地基板の違いによる(8/11～8/14は※未経験者歓迎
影響を確認します。(室温)除く））③電気伝導特性：測定温度を変えながら絶縁相から金属相への相転移を確認します。
④表面観察：走査型電子顕微鏡もしくは走査型プローブ顕微
鏡での表面観察を行います。(室温)
カーボンナノチューブとグラフェンの可溶化と構造解析の基礎を習得する。種々の可溶化剤を用いて分散したナノカーボ
7/1～8/30
ン溶液について、紫外可視近赤外吸収分光、顕微ラマン分 学部4年、修士課程、（8/12〜16を除
光、そして近赤外蛍光分光装置などのスペクトル測定法か 博士課程、高専4～5
く、平日の連続
3名
ら、ナノ構造とスペクトルの相関を観測する。また、走査型電 年、高専専攻科
した3日間、希望
子顕微鏡、走査型プローブ顕微鏡による構造観測と、計算 ※未経験者歓迎
者との日程調整
化学によるシミュレーションを併用し、ナノカーボンの構造解による）析技術を習得する。

1日目

施設見学・研修の概要説明・成膜(条件１)の試料セット（14:00～17:00）

2日目 成膜(条件1ならびに条件２)（9:30～17:00）〒567-0047
大阪府茨木市美穂ｹ丘8-1
X線回折ならびに電気伝導特性評価(9:30～
大阪大学
3日目
17:00)
産業科学研究所内N411室／N606
走査型電子顕微鏡もしくは走査型プローブ顕微 室等
4日目
鏡による表面観察(9:30～13:00)
備考：

研修期間内に講義を予定しますが、日程は未確
定です。

1日目

ナノカーボンの構造と分光化学的性質について
講義と計算化学シミュレーション

・九州大学分子物質合成プ
ラットフォームの登録装置で対応可能なものであれば、 2日目 ナノカーボンの可溶化実験とスペクトル測定
試料持ち込み可能です。

〒918-0395
福岡県福岡市西区元岡744番地
九州大学伊都キャンパスW3-615

3日目 顕微鏡によるナノ構造解析
1日目 全体説明とタンパク質ナノカプセルの調製

7/1～8/30
経皮製剤や化粧品の開発においては、様々な有効成分の皮
学部4年、修士課程、（8/12〜16を除膚透過性能が重要となる。本研修では、これまで皮膚の透博士課程、高専4～5
く、平日の連続過が困難であった生体高分子の皮膚透過技術を習得する。
年、高専専攻科2名
した3日間、希望
具体的には、タンパク質の皮膚透過を可能にするためのナノ※化学実験の経験を者との日程調整カプセルを調製し、調製したタンパク質ナノカプセルを、マウ
有すること
による）
スの皮膚を用いて経皮吸収浸透能を評価する。

ナノカプセルを用いた経皮製剤の調製とマウス
2日目
皮膚を用いた透過試験〒918-0395
福岡県福岡市西区元岡744番地
九州大学
伊都キャンパスウエスト3号館 5F

3日目 タンパク質の皮膚透過量の測定と結果の議論

微細構造解析・分子・物質合成
No.

研修テーマ

動物細胞の電子顕微
47 鏡観察実習

機関名

研修先
ホスト氏名

鴻田 一絵
物質・材料研
服部 晋也
究機構
箕輪 貴司

研修期間

8/24～8/28
（5日間）

定員

研修概要

対象学年など

学部1～4年、修士課
培養細胞を透過型電子顕微鏡で観察できる試料に調製する
程、博士課程、高専4
1名 工程を実習形式で学ぶとともに細胞培養の基礎、光学顕微～5年、高専専攻科
鏡を用いた細胞観察についても実習する。
※未経験者歓迎

特記事項

研修スケジュール

〔午前〕オリエンテーション(安全教育含む)、電子
1日目 顕微鏡の基礎（座学）〔午後〕細胞固定（合成PF）
細胞試料の包埋、施設見学、細胞培養実習1（培〒305-0047
・No.38「細胞実験基礎講習」 2日目 養細胞の播種、計数法）（合成PF）
茨城県つくば市千現1-2-1と同時に開催し、そちらの参細胞培養実習2（培養細胞の光学顕微鏡観察、 物質・材料研究機構
加者と交流する予定。
3日目
卓上電顕観察）（合成PF）
4日目 TEMの実習1（切片作製）（解析PF）
TEMの実習2（TEM観察）とまとめ（解析PF）、5日目
NIMS PF見学

7/7

研修場所