T3® Implant
Preservation By Design®

T3® Implant
Targeted Topography Technology™

T3インプラントはティッシュ・プリザベーション(組織温存)による審美性の獲得を目的にデザインされています

T3ハイブリッド・サーフェイス
複合的に微細加工された表面性状

インプラント／アバットメント間の高い密閉性
耐久性・密閉性に優れたコネクションシステム

プラットフォーム・スイッチング
インプラント／アバットメント接合部をインプラント径よりも内側に移動

審美性の阻害要因

オッセオインテグレーション獲得までの長期化
複雑さを欠くサーフェスやプライマ
リースタビリティを得られないインプラントは、オッセオインテグレーション獲得までにより多くの時間を要する。1,2

インプラント周囲炎

歯槽骨頂部の吸収

インプラント周囲炎の有病率は3,412％を超えるとの報告がある。

術 後 1 年 経 過 時のインプラント
周囲の平均的な骨吸収は1.5mmを超えることがあり、審美性を損なう要因となる。5

T3 ハイブリッド・サーフェイス
インプラントのスレッド部はマクロ、ミクロレベルで加工された複雑な表面性状(1.4μm：SA値)を実現。14
SA値：インプラント表面全体の粗さを示した3D解析平均値

インプラントカラー部
ミクロ・トポグラフィ

インプラント・スレッド部：
マクロ＋ミクロ・トポグラフィ

ミクロレベル：1-3μm
長期臨床実績のあるオッセオタイト表面性状と同様のダブル酸処理されたカラー部

マクロレベル：10+μm
リン酸カルシウム顆粒でブラスト処理されたラフサーフェイス

SA値：0.5μm

ミクロレベル：1-3μm
ブラスト処理された表面上をダブル酸処理することで、より複雑な表面へ

SA値：1.4μm

T3® DCD® サーフェイス
インプラント全長に施されたDCD®(Discrete Crystalline Deposition)
処理によるナノレベルの表面性状

DCD®(Discrete Crystalline Deposition)
ブラスト処理 ＋ ダブル酸処理された表面上にナノレベルのHA結晶を溶着させることで、更に微細で複雑な表面を実現

10-100nmのHA結晶 30,000x

Tissue Preservation By DesignT3® ハイブリッド・サーフェイス・インプラント
プライマリー・スタビリティ 6,7,8
インプラント埋入直後に骨-インプラント間（Bone-to-Implant Contact）の接触率を高めることは、初期安定性を得るための重要な要素である。9 専用外科器具で形成されたインプラント窩はT3インプラント形状と相似し、骨-インプラント間の接触率を高めることで初期安定性が期待できる。

オッセオインテグレーション 10,11
前臨床試験において*、T3 DCDインプラントサーフェイスは、従来型の表面性状に比べ治癒段階を通じて高い骨結合力を示した。11

インプラント周囲炎リスクの軽減 12,13
T3インプラントのカラー部には長期臨床実績のあるオッセオタイト表面性状を採用。5年追跡の臨床研究**によれば、全長にダブル酸処理を施したオッセオタイトインプラントはカラー部を機械研磨したハイブリッドインプラントと比較して、インプラント周囲炎、軟組織の合併症発生リスクの上昇を示すことはなかった。12

オッセオタイト・インプラント（全体をダブル酸処理）とハイブリッド・インプラント（カラー部：機械研磨、ボディ部：ダブル酸処理）のインプラント周囲炎に関する多施設間、5年追跡ランダム化比較試験**160

歯肉溝出血指数（SBI）

7060

機械研磨表面50

オッセオタイト表面% 40
302010プロービング深度*

140# of Sites Probed

80120

機械研磨表面100

オッセオタイト表面

8060
40
200012

SBI スコア

SBIスコア”0”（出血無し）
は84%、スコア”1”は13%（稀に出血がみられる）であった

300≤11.5 ≤ 3

3.5 ≤ 5>5

Probing Depths: Change from baseline (mm)どちらのインプラントにおいても、ベースラインから3.0mm以上のプロービング深度の変化はなかった

112人の患者に、139本の対照インプラント、165本の試験インプラントを埋入した（計304本）。

* 前臨床試験は必ずしも臨床成績を示すものではない** Zetterqvist et al. A Prospective, Multicenter, Randomized Controlled 5-Year Study Of Hybrid And Fully Etched Implants For The Incidence Of Periimplantitis. J Periodontol April 2010.

インプラント／アバットメント間の高い密閉性
インプラント／アバットメント間の高い密閉性によりマイクロムーブメントを最小化し、潜在的な微小漏洩を軽減。
1000

ニュートン

800600

インプラント／アバットメント
密閉強度試験

400

動的流体漏洩試験（割れ目からの漏洩）

・2011年7月から2012年6月にかけて、
バイオメット3i 社はインプラント／アバットメントコネクションシステムの評価を目的とする動的疲労漏洩試験を実施。
試験の設定条件は、
ISO14801の歯科用骨内インプラントの動的疲労試験を適用

2000T3 DCDプラットフォームスイッチング・インプラント
5本の試験結果

・ベンチ試験の結果は、必ずしも臨床成績を示す物ではない
・弊社試験データ

インプラント／アバットメント間の密閉強度精緻に設計、加工されたコネクション部と最大化された締結力により微小漏洩を軽減。

インプラント／アバットメント間の締結力
ゴールドタイト・スクリューを用いることで、非ゴールドコーティングスクリューと比較して113%まで締結力が向上。
（サーテン・インターナルコネクション）15

Screw
Implant

ゴールドタイト・スクリューのゴールドコーティングがシーリング材となり締結力を増大させることで、アバットメントの安定性を最大化。16

プラットフォーム・スイッチング
プラットフォーム・スイッチングによるリモデリング
インプラント／アバットメント接合部をインプラントのプラットフォーム径の内側に移動させることで、生物学的幅径を確立し歯槽骨頂部の温存が期待できる。17

歯槽骨頂部の温存

ノンプラットフォーム・スイッチングとの比較19研究では、プラットフォーム・スイッチングされたインプラントの使用により歯槽骨頂の喪 失は僅か0 . 3 7 m mであった。
* 18* 必ずしも全ての被験者に対しての典型的、特徴的あるいは代表的な結果ではない。

インプラントプラットフォーム径の内側に移動されたインプラン
ト／アバットメント接合様式により周囲組織を支え、組織退縮を50%軽減.*

Dr. Xavier Vela† (スペイン) 提供

3.4 mm4 mm

サーテン・インターナル・インプラント
テーパード

T3 プラットフォームスイッチング・インプラント
4.0 mmD × 3.4 mmP

長さ

5.0 mmD × 4.1 mmP

6.0 mmD × 5.0 mmP

T3

T3 DCD

T3

T3 DCD

T3

T3 DCD

8.5 mm

BOPT4385

BNPT4385

BOPT5485

BNPT5485

BOPT6585

BNPT6585

10 mm

BOPT4310

BNPT4310

BOPT5410

BNPT5410

BOPT6510

BNPT6510

11.5 mm

BOPT4311

BNPT4311

BOPT5411

BNPT5411

BOPT6511

BNPT6511

13 mm

BOPT4313

BNPT4313

BOPT5413

BNPT5413

BOPT6513

BNPT6513

15 mm

BOPT4315

BNPT4315

BOPT5415

BNPT5415BOPT6515

BNPT6515

T3 インプラント
長さ3.25 mmD × 3.4 mmP

4.0 mmD × 4.1 mmP

5.0 mmD × 5.0 mmP

6.0 mmD × 6.0 mmP

T3

T3 DCD

T3

T3 DCD

T3

T3 DCD

T3

T3 DCD

8.5 mm

BOST3285

BNST3285

BOST485

BNST485

BOST585

BNST585

BOST685

BNST685

10 mm

BOST3210

BNST3210

BOST410

BNST410

BOST510

BNST510

BOST610

BNST610

11.5 mm

BOST3211

BNST3211

BOST411

BNST411

BOST511

BNST511

BOST611

BNST61113 mm

BOST3213

BNST3213

BOST413

BNST413

BOST513

BNST513

BOST613

BNST61315 mm

BOST3215

BNST3215

BOST415

BNST415

BOST515

BNST515

BOST615

BNST615

パラレルウォールド

T3 プラットフォームスイッチング・インプラント
4.0 mmD × 3.4 mmP

長さ5.0 mmD × 4.1 mmP

6.0 mmD × 5.0 mmP

T3

T3 DCD

T3

T3 DCD

T3

T3 DCD

8.5 mm

BOPS4385

BNPS4385

BOPS5485

BNPS5485

BOPS6585

BNPS6585

10 mm

BOPS4310

BNPS4310

BOPS5410

BNPS5410

BOPS6510

BNPS6510

11.5 mm

BOPS4311

BNPS4311

BOPS5411

BNPS5411

BOPS6511

BNPS6511

13 mm

BOPS4313

BNPS4313

BOPS5413

BNPS5413

BOPS6513

BNPS6513

15 mm

BOPS4315

BNPS4315

BOPS5415

BNPS5415

BOPS6515

BNPS6515

T3 インプラント
長さ3.25 mmD × 3.4 mmP

4.0 mmD × 4.1 mmP

5.0 mmD × 5.0 mmP

6.0 mmD × 6.0 mmP

T3T3 DCD

T3T3 DCD

T3T3 DCD

T3T3 DCD

8.5 mm

BOSS385

BNSS385

BOSS485

BNSS485

BOSS585

BNSS585

BOSS685

BNSS685

10 mm

BOSS310

BNSS310

BOSS410

BNSS410

BOSS510

BNSS510

BOSS610

BNSS610

11.5 mm

BOSS311

BNSS311

BOSS411

BNSS411

BOSS511

BNSS511

BOSS611

BNSS61113 mm

BOSS313

BNSS313

BOSS413

BNSS413

BOSS513

BNSS513

BOSS613

BNSS61315 mm

BOSS315

BNSS315

BOSS415

BNSS415

BOSS515

BNSS515

BOSS615

BNSS615

エクスターナル・へクス・インプラント
テーパードT3 テーパード・インプラント
長さ3.25 mmD × 3.4 mmP

4.0 mmD × 4.1 mmP

5.0 mmD × 5.0 mmP

6.0 mmD × 6.0 mmP

T3

T3 DCD

T3

T3 DCD

T3

T3 DCD

T3

T3 DCD

8.5 mmBOET3285

BNET3285

BOET485

BNET485

BOET585

BNET585

BOET685

BNET685

10 mm

BOET3210

BNET3210

BOET410

BNET410

BOET510

BNET510

BOET610

BNET610

11.5 mm

BOET3211

BNET3211

BOET411

BNET411

BOET511

BNET511

BOET611

BNET61113 mm

BOET3213

BNET3213

BOET413

BNET413

BOET513

BNET513

BOET613

BNET61315 mm

BOET3215

BNET3215

BOET415

BNET415

BOET515

BNET515

BOET615

BNET615

パラレルウォールド

T3 パラレルウォールド・インプラント
長さ3.25mmD × 3.4mmP

3.75mmD × 4.1mmP

4.0mmD × 4.1mmP

5.0mmD × 5.0mmP

6.0mmD × 6.0mmP

T3

T3 DCD

T3

T3 DCD

T3

T3DCD

T3

T3 DCD

T3

T3 DCD

6.5 mm

BOES365

BNES365

BOES3765-

BOES465

BNES465

BOES565

BNES565

BOES665

BNES665

8.5 mm

BOES385

BNES385

BOES3785-

BOES485

BNES485

BOES585

BNES585

BOES685

BNES685

10 mm

BOES310

BNES310

BOES3710

BNES3710

BOES410

BNES410

BOES510

BNES510

BOES610

BNES610

11.5 mm

BOES311

BNES311

BOES3711

BNES3711

BOES411

BNES411

BOES511

BNES511

BOES611

BNES61113 mm

BOES313

BNES313

BOES3713

BNES3713

BOES413

BNES413

BOES513

BNES513-

BNES61315 mm

BOES315

BNES315

BOES3715-

BOES415

BNES415

BOES515

BNES515-

BNES615= 受注発注品
D = 直径 ／ P = プラットフォーム径※価格はすべて税別となります。

販 売 名 ：T3 インプラント
承認番号：22500BZX00234000
販 売 名 ：T3DCD インプラント
承認番号：22600BZX00290000

販 売 名 ：T3 エクスターナル インプラント
承認番号：22600BZX00131000
販 売 名 ：T3DCD エクスターナル インプラント
承認番号：22600BZX00470000

販 売 名 ：オッセオタイト サーテン インプラント システム
承認番号：21900BZG00001000
販 売 名 ：3i アバットメント スクリュー
承認番号：22200BZI00005000

References01.	Sullivan DY, Sherwood RL, Porter SS. Long-term performance of Osseotite® Implants: A 6-year follow-up Compendium. 2001 Apr;Vol.22, No.4.
02.	Javed F, Romanos GE. The role of primary stability for successful immediate loading of dental implants. A literature review. J Dent. 2010 Aug;38(8):612-20. Epub 2010 Jun 11. Review.
03.	Fransson C, Lekholm U, Jemt T, Berglundh T. Prevalence of subjects with progressive bone loss at implants. Clinical Oral Implants Research. 2005;16:440–446.
04.	Zitzmann NU, Berglundh T. Definition and prevalence of peri-implant diseases. J Clin Perio. 2008;35:286–291.
05.	Lazzara RJ,† Porter SS. Platform Switching: A new concept in implant dentistry for controlling post restorative crestal bone levels. Int J Periodontics Restorative Dent. 2006;26:9-17.
06.	Östman PO†, Wennerberg A, Ekestubbe A, et al. Immediate occlusal loading of NanoTite™ tapered implants: A prospective 1-year clinical and radiographic study. Clin Implant Dent Relat Res. 2012 Jan 17.
07.	Block MS†. Placement of implants into fresh molar sites: Results of 35 cases. J Oral Maxillofac Surg. 2011 Jan;69(1):170-174.
08.	Meltzer AM†. Immediate implant placement and restoration in infected sites. Int J Periodontics Restorative Dent. 2012 Oct;32(5):e169-173.
09.	Meredith N. Assessment of implant stability as a prognostic determinant. Int J Prosthodont. 1998 Sep-Oct;11(5):491-501.
10.	Nevins M†, Nevins ML, Schupbach P, Fiorellini J, Lin Z, Kim DM. The impact of bone compression on bone-to-implant contact of an osseointegrated implant: A canine study. Int J Periodontics Restorative Dent. 2012 Dec;32(6):637-645.
11.	Mendes V, Davies JE. Early Implant healing at implant surfaces of varying topographical complexity. Poster Presentation: Academy of Osseointegration, 26th Annual Meeting; March 2011; Washington, DC. http://biomet3i.com/pdf/
Posters/Poster_Early_Periimplant_Healing.pdf.
12.	Zetterqvist L, Feldman S, Rotter B, et al. A prospective, multicenter, randomized-controlled 5-year study of hybrid and fully etched implants for the incidence of peri-implantitis. J Periodontol. 2010 April;81:493-501.
13.	Lang NP, Berglundh T. Periimplant diseases: Where are we now?-Consensus of the Seventh European Workshop on Periodontology; Working Group 4 of Seventh European Workshop on Periodontology. J Clin Perio. 2011 Mar;38 Suppl
11:178-181.
14.	Gubbi P††, Towse R††, Quantitative and qualitative characterization of various dental implant surfaces. Poster Presentation P421: European Association For Osseointegration, 20th Meeting; October 2012; Copenhagen, Denmark. (http://www.biomet3i.com/Pdf/Posters/Poster_421_EAO_Final.pdf).
15.	Suttin Z††, Towse R††. Effect of abutment screw design on implant system seal performance. Presented at the European Association for Osseointegration, 20th Annual Scientific Meeting; October 2012; Copenhagen, Denmark. http://biomet3i.com/Pdf/Posters/P-450_Effect_of_Screw_Design_on_Implant_Seal.pdf
16.	Byrne D, Jacobs S, O’Connell B, Houston F, Claffey N. Preloads generated with repeated tightening in three types of screws used in dental implant assemblies. J. Prosthodont. 2006 May–Jun;15(3):164-171.
17.	Lazzara RJ, Porter SS. Platform switching: A new concept in implant dentistry for controlling postrestorative crestal bone levels. Int J Perio Rest Dent. 2006;26:9-17.
18.	Östman PO,† Wennerberg A, Albrektsson T. Immediate occlusal loading of NanoTite prevail implants: A prospective 1-year clinical and radiographic study. Clin Implant Dent Relat Res. 2010 Mar;12(1):39-47.
19.	Boitel N, Andreoni C, Grunder U†, Naef R, Meyenberg K†. A three year prospective, multicenter, randomized-controlled study evaluating platform-switching for the preservation of peri-implant bone levels. Poster Presentation P83: Academyof Osseointegration, 26th Annual Meeting: 2011 March 3-5; Washington DC. http://biomet3i.com/Resource%20Center/Publications%20of%20Interest/Platform_Switching_for_the_Preservation_of%20Peri_Implant%20Bone%20
Levels.pdf† r. Block, Dr. Goené, Dr. Grunder, Dr. Lazzara, Dr. Makigusa, Dr. Meltzer, Dr. Méndez, Dr. Meyenberg, Dr. Nevins, Dr. Östman, Dr. Rodríguez, Dr. Segalá, Dr. Scutellá, Dr. Tarnow, Dr. Testori and Dr. Vela have financial relationships with Biomet 3i,D
LLC resulting from speaking engagements, consulting engagements and other retained services.
Dr. Gubbi, Mr. Suttin and Mr. Towse contributed to the above research while employed by Biomet 3i.

†† References 6–10 discuss the Tapered Implant macrodesign, which is incorporated into the T3 Implant. References 10–13 discuss the Osseotite and/or NanoTite Implants’ dual acid-etched or DCD technology, which is incorporated into the T3Implant. References 20–22 discuss PREVAIL® Implants with an integrated platform switching design, which is also incorporated into the T3 Implant.

T3®DCD®インプラントを用いた臨床症例
Clinical Treatment by Dr. Tiziano Testori† & Dr. Fabio Scutellá†

図1
ホープレスの中切歯

図2
抜歯後即時に埋入された2本のT3 DCD テーパード・インプラント
5 mm(D) × 4.1 mm(P) × 13 mm(L)

図4
アクリルレジンで連結された
プロビジョナル・レストレーションをプレフォーマンス・ポストに装着

図6
インプラント埋入後6か月経過
最終補綴物を装着した状態
唇側-口蓋側間の骨幅が維持されていることに注目●製造販売元図3
口腔内で調整された2本のプレフォーマンス・ポスト

図5
1か月経過時図76か月経過時のX線像
近心・遠心ともに骨が温存されている

図86か月経過時のコーンビームCT像
唇側の骨幅が2.7mm維持されている

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