大見研究室 和文 論文リスト

大見研究室 和文 論文リスト
1998 年
812(F)

大見忠弘、白井泰雪、池田信一、｢特集①：ガス供給系の集積化 特殊ガス供給用小型集積化ガスパネル｣、クリーンテクノロジー、Vol.8、No.1、(日本工業出版㈱)、pp.1-5、1998 年 1 月。

813(M) 大見忠弘、｢－巻頭言－２１世紀の超ＬＳＩ生産方式｣、ウルトラクリーンテクノロジー、Vol.10、No.1、(半導体基盤技術研究会)、pp.2-6、1998 年 2 月。
814(P)

河合邦浩、牛木健雄、余謨群、篠原壽邦、森田瑞穂、大見忠弘、｢ゲート電極材料のスパッタリング成膜時におけるゲート酸化膜へのダメージの評価｣、電子情報通信学会技術研究報告、Vol.97、No.557、シリコン材料デバイス、((社)電子情報通信学会)、論文番号 SDM97-198、pp.87-92、1998 年2 月。

815(P)

大見忠弘、柴田直、小谷光司、中井努、中田明良、余寧梅、譽田正宏、森本達郎、山下雄一郎、｢連想するハードウェアをベースとした“しなやかな”知的電子システム｣、電子情報通信学会論文誌、Vol.J81-D-I、No.2、((社)電子情報通信学会)、pp.51-61、1998 年 2 月。

816(M) 大見忠弘、｢特集 ＬＳＩ・ＬＣＤ工場の環境対策 Part2●テクノロジ(削減策 1) 代替フロン・ガスのリサイ
クル技術，環境対策とコスト削減を両立 排ガス中のラジカル処理が決め手，東北大で試用へ｣、日経
マイクロデバイス、1998 年 3 月号、No.153､(日経 BP 社)、pp.50-55、1998 年 3 月。
817(P)

大見忠弘、｢ウルトラクリーン半導体技術と次世代加工プロセス技術｣、(社)砥粒加工学会研究会資料
平成 10 年度第 1 回研究会 ｢日本における産学官共同研究による最先端技術｣、((社)砥粒加工学会)、pp.8-19、1998 年 3 月。

818(P)

大見忠弘、白井泰雪、橋本泰司、吉田政司、｢金属表面不働態処理が可能にする理想的なガス供給システム｣、第 9 回超高純度ガス供給系技術懇談会技術資料、(住友金属工業㈱、住金ステンレス鋼管㈱)、1998 年 3 月｡

819(P)

白井泰雪、中村修、永瀬正明、大見忠弘、｢高純度ガス配管高信頼性溶接技術｣、第 9 回超高純度ガス供給系技術懇談会技術資料、(住友金属工業㈱、住金ステンレス鋼管㈱)、1998 年 3 月｡

820(P)

橋本泰司、白井泰雪、青山博一、大見忠弘、｢エッチング反応性ガス使用後の回収リサイクル｣、第 48
回 VLSI FORUM｢次世代エッチング技術｣－新材料・地球温暖化対策への対応－、(㈱プレスジャーナル)、pp.27-35、1998 年 3 月。

821(P)

大見忠弘、「大学からベンチャーは生まれるか？―大学における産官学連携―」、｢日本ベンチャー学会｣設立シンポジウム、(日本ベンチャー学会)、p.2、1998 年 3 月。

822(P)

柴田直、中田明良、譽田正宏、森本達郎、大見忠弘、「連想アーキテクチャに基づく知能電子システムの研究」、平成 9 年度重点領域研究 極限集積化シリコン知能エレクトロニクス（269）、pp.306-316、
1998 年 3 月。

823(P)

大見忠弘、小谷光司、中田明良、今井誠、森本達郎、平山昌樹、伊野和英、牛木健雄、「プロセス･回路･システム一体化による知能エレクトロニクスの創出」、平成 9 年度重点領域研究 極限集積化シリコ
ン知能エレクトロニクス（269）、pp.354-380、1998 年 3 月。

824(F)

小谷光司、今井誠、Ho-Yup Kwon、野沢俊之、藤林正典、大見忠弘、「ビットスライス･フレックスウェア
方式データフローパスミニマムプロセッサ」、平成 9 年度重点領域研究極限集積化シリコン知能エレク
トロニクス（269）、pp.390-399、1998 年 3 月。

825(F)

大見忠弘、今井誠、小谷光司、｢知能集積回路－瞬時応答を可能にするビットフロー型データフローパスミニマムプロセッサ｣、電子情報通信学会論文誌、C-Ⅰ、Vol.J81-C-Ⅰ、No.4、pp.179-186、1998
年 4 月。
電子情報通信学会論文誌、C-Ⅱ、Vol.J81-C-Ⅱ、No.4、pp.377-384、1998 年 4 月。

―1―

大見研究室 和文 論文リスト
826(M) 大見忠弘、「製造装置大口径化ＣＶＤ装置エッチャ｢セミコン関西 98｣200mm 対応の半分と画期的に小さくなる 300mm 対応 LSI 製造装置」、日経マイクロデバイス、1998 年 6 月号、No.156、(日経ＢＰ社)、
pp.177-179、1998 年 6 月。
827(P)

大見忠弘、「半導体製造用トータルガス供給システム」、第 16 回大阪酸素/BOC EDWARDS 半導体セミナー講演集、(大阪酸素工業㈱)、pp.79-89、1998 年 6 月。

828(M) 大見忠弘、平山昌樹、海原竜、伊野和英、｢極薄シリコン酸化膜研究の課題｣、シリコンテクノロジー、No.2、ラジカル酸化の最近の展開特集号、(応用物理学会)、pp.2-5、1998 年 6 月。
829(P)

大見忠弘、｢次世代ＡＭ－ＬＣＤ製造プロセスの展望｣、第 8 回ファインプロセス テクノロジー･ジャパン’98 セミナー要録、(リード エグジビション ジャパン㈱)、pp.3-13、1998 年 7 月。

830(P)

大見忠弘、新田雄久、「序文 新時代を迎える半導体生産技術」、第 32 回超ＬＳＩウルトラクリーンテクノ
ロジーシンポジウム、プロシーディング、(半導体基盤技術研究会)、1998 年 7 月。

831(P)

平山昌樹、海原竜、関根克行、斉藤祐司、大見忠弘、｢マイクロ波励起高密度プラズマを用いた薄膜形成技術｣、第 32 回超ＬＳＩウルトラクリーンテクノロジーシンポジウム、プロシーディング、(半導体基盤技術研究会)、pp.20-25、1998 年 7 月。

832(P)

大木厚志、木本雅裕、橋本泰司、大見忠弘、「Ｓｉ系特殊ガスの高感度不純物計測技術」、第 32 回超ＬＳＩウルトラクリーンテクノロジーシンポジウム、プロシーディング、(半導体基盤技術研究会)、
pp.46-53、1998 年 7 月。

833(P)

白井泰雪、岸田好晴、大見忠弘、「プロセスガス回収･再利用技術」、第 32 回超ＬＳＩウルトラクリーンテ
クノロジーシンポジウム、プロシーディング、(半導体基盤技術研究会)、pp.100-105、1998 年 7 月。

834(P)

中島太司、石原良夫、大見忠弘、｢次世代半導体工場のための高清浄乾燥空気製造供給装置｣、第32 回超ＬＳＩウルトラクリーンテクノロジーシンポジウム、プロシーディング、(半導体基盤技術研究会)、pp.116-123、1998 年 7 月。

835(P)

白井泰雪、中村修、大見忠弘、｢酸化アルミ不働態膜によるオゾン供給｣、第 32 回超ＬＳＩウルトラクリーンテクノロジーシンポジウム、プロシーディング、(半導体基盤技術研究会)、pp.145-150、199 年 7 月。

836(P)

三好伸二、麻秀吉、福田幸生、中川佳紀、菊山裕久、大見忠弘、｢ウルトラクリーンエキシマレーザガス｣、第 32 回超ＬＳＩウルトラクリーンテクノロジーシンポジウム、プロシーディング、(半導体基盤技術研究会)、pp.159-164、1998 年 7 月。

837(M) 大見忠弘、｢転換期を迎える半導体技術｣、カイジョー技報、Vol.4、No.8、(㈱カイジョー)、pp.2-8、1998 年 7 月。
838(M) 大見忠弘、｢新技術創出とその実用化に伴う課題－ウルトラクリーンテクノロジーを例として－｣、応用物理、Vol.67、No.8、((社)応用物理学会)、pp.924-925、1998 年 8 月。
839(M) 大見忠弘、｢－巻頭言－エキシマリソグラフィにおける環境｣、ウルトラクリーンテクノロジー、Vol.10、No.4、(半導体基盤技術研究会)、pp.286-291、1998 年 8 月。
840(P)

海原竜、平山昌樹、大見忠弘、「高密度プラズマによる高品質シリコン直接酸化技術」、電子情報通信学会技術研究報告、Vol.98、No.242、シリコン材料・デバイス、（（社）電子情報通信学会）、論文番
号 SDM98-114、pp.1-5、1998 年 8 月。

841(P)

関根克行、斉藤祐司、平山昌樹、大見忠弘、「高密度プラズマを用いたシリコン直接窒化膜の低温形成」、電子情報通信学会技術研究報告、Vol.98、No.242、シリコン材料・デバイス、（（社）電子情報通信学会）、論文番号 98-115、pp.7-11、1998 年 8 月。

842(P)三浦隆治、小野津崇之、久保百司、寺石和夫、宮本明、斉藤祐司、海原竜、関根克行、平山昌樹、大見忠弘、「シリカ表面への希ガス照射過程に関する分子動力学的検討」、電子情報通信学会技術研究報告、Vol.98、No.242、シリコン材料・デバイス、（（社）電子情報通信学会）、論文番号 98-116、pp.13-19、1998 年 8 月。

843(P)

大川猛、中村修、大見忠弘、「極薄ゲート酸化膜の有機物汚染が与える影響」、電子情報通信学会技術研究報告、Vol.98、No.243、シリコン材料・デバイス、（（社）電子情報通信学会）、論文番号98-124、pp.9-14、1998 年 8 月。
―2―

大見研究室 和文 論文リスト
844(P) 進藤亘、酒井重史、大見忠弘、「マイクロ波励起高密度プラズマによる低温（300℃）ポリシリコンの成膜」、電子情報通信学会技術研究報告、Vol.98、No.243、シリコン材料・デバイス、（（社）電子情報通信学会）、論文番号 98-125、pp.15-19、1998 年 8 月。
845(P)

金本啓、中田明良、岡マウリシオ正純、玉井幸夫、大見忠弘、「ＢＦ２＋イオン注入後の低温アニールによる極浅・低リークｐ＋ｎ接合形成」、電子情報通信学会技術研究報告、Vol.98、No.243、シリコン材料・デバイス、（（社）電子情報通信学会）、論文番号 98-126、pp.21-28、1998 年 8 月。

846(P)

大嶋一郎、伊野和英、牛木健雄、河合邦浩、大見忠弘、「低抵抗 bcc-Ｔａゲート完全空乏型ＳＯＩ ＭＯＳデバイス作製技術」、電子情報通信学会技術研究報告、Vol.98、No.243、シリコン材料・デバイス、（（社）電子情報通信学会）、論文番号 98-129、pp.41-47、1998 年 8 月。

847(P)

都賀智仁、新田雄久、三木正博、原田康之、大見忠弘、「ＵＬＳＩ製造対応高性能ウエットクリーンプロ
セス～パーティクルフリー枚葉式ウエハ洗浄システム～」、電子情報通信学会技術研究報告、Vol.98、No.243、シリコン材料・デバイス、（（社）電子情報通信学会）、論文番号 98-133、pp.69-75、1998 年 8 月。

848(M) 大見忠弘、｢インテルの復活｣、ＡＮＴＥＮＮＡ 東北大学電気情報系の歴史 75th Anniversary、(東北大学電気情報系)、pp.234-239、1998 年 8 月。
849(M) 大見忠弘、白井泰雪、「半導体プロセスにおける超高純度ガスの安定供給技術」、高圧ガス、Vol.35、No.9、（高圧ガス保安協会）、pp.20-28、1998 年 9 月。
850(P)

平山昌樹、海原竜、関根克行、斉藤祐司、大見忠弘、「高密度マイクロ波プラズマを用いたゲート絶縁膜形成技術」、プラズマ材料科学第 153 委員会、第 40 回研究会資料、(日本学術振興会)、pp.9-14、1999 年 9 月。

851(B)

大見忠弘、小島泉里、「第 18 章 電子工業 18･1 概論」、水処理管理便覧、(丸善㈱)、pp.607-609、1998 年 9 月。

852(F)

白井泰雪、岸田好晴、大見忠弘、「ＰＦＣの動向と回収装置」、ウルトラクリーンテクノロジー、Vol.10、No.5/6、(半導体基盤技術研究会)、pp.364-368、1998 年 10 月。

853(F)

三木正博、大見忠弘、「半導体産業における化学資源回生への挑戦」、ウルトラクリーンテクノロジー、
Vol.10、No.5/6、(半導体基盤技術研究会)、pp.377-384、1998 年 10 月

854(M) 大見忠弘、「－未来科学技術共同研究センター－未来情報社会創製」、青葉工業会報第 42 号、(東北大学工学部青葉工業会)、pp.13-15、1998 年 10 月。
855(M) 平山昌樹、大見忠弘、｢新しい半導体製造装置の構成法＝低コスト・高生産性半導体製造ライン実現を目指して＝｣、クリーンテクノロジー、（日本工業出版）、pp.21-30､1998 年 11 月。
856(M) 大見忠弘、白井泰雪、｢新ウェーハ時代の超高純度ガス供給システム｣、セミコンダクターアニュアル／ガス供給編、ガスメディア臨時創刊、((有)ガスメディア)、pp.14-20、1998 年 11 月。
857(P)

大見忠弘、｢知能の極限集積化｣、第 2 回システム LSI 琵琶湖ワークショップ講演資料集およびポスター資料集、((社)電子情報通信学会)、pp.119-135、1998 年 11 月。

858(W) 丸尾和幸、柴田直、大見忠弘、「νMOS を応用した直線 Hough 変換回路の設計」、第 9 回マイクロエ
レクトロニクス研究会プロシーディング、pp.17-23、1998 年 11 月。
859(W) 篠原壽邦、大見忠弘、「コジェネレーションと潜熱蓄熱を用いたエネルギ供給システム」、第 9 回マイクロエレクトロニクス研究会プロシーディング、pp.27-29、1998 年 11 月。
860(W) 都賀智仁、原田康之、新田雄久、三木正博、大見忠弘、「ULSI 製造対応高性能ウエットクリーンプロ
セス～パーティクルフリー枚葉式ウエハ洗浄システムの研究開発～」、第 9 回マイクロエレクトロニクス研究会プロシーディング、pp.33-42、1998 年 11 月。
861(W)

山口隆弘、Mani Soma、石田雅裕、大見忠弘、「VCO テスト：プロセス変動が発振特性にあたえる影響について」、第 9 回マイクロエレクトロニクス研究会プロシーディング、pp.63-69、1998 年 11 月。

862(W) 大見 忠弘、「新産業創出に向けて」、第 9 回マイクロエレクトロニクス研究会プロシーディング、pp.81-85、1998 年 11 月。
―3―

大見研究室 和文 論文リスト
863(M) 大見忠弘、「製造コスト削減を実現する最新半導体製造技術」、Ｍ＆Ｅ、Vol.25、No.1、(工業調査会)、pp.102-111、1998 年 12 月。
864(M) 大見忠弘、「半導体・液晶ディスプレイ製造における静電気対策」、静電気学会誌、Vol.22、No.6、(静電気学会)、pp.275-276、1998 年 12 月。
865(M) 大見忠弘、大川猛、中村修、「有機物汚染がシリコン素子に与える影響」、真空、Vol.41、No.12、（日本真空協会）、pp.1011-1015､1998 年 12 月。

―4―