大見研究室 和文 論文リスト

大見研究室 和文 論文リスト
2006 年
1137(W)

大見忠弘、「半導体製造技術開発における産学官連携」、国際特許流通セミナー2006（独立行政法
人 工業所有権情報・研修館）、2006 年 1 月。

1138(W)

有馬健太、加藤潤、遠藤勝義、赤堀浩史、須川成利、寺本章伸、大見忠弘、「湿式洗浄プロセスを経た Si(110)表面の原子構造観察」。ゲートスタック研究会－材料・プロセス・評価の物理－第 11 回研究会、（（社）応用物理学会 薄膜・表面物理分科会／シリコンテクノロジー分科会共催）、
pp.19-24、2006 年 1 月。

1139(W)

樋口正顕、品川誠治、池永英司、小林啓介、野平博司、寺本章伸、服部健雄、須川成利、大見忠
弘、「NH*による直接窒化膜特性のシリコン結晶面密度依存性」。ゲートスタック研究会－材料・プロ
セス・評価の物理－第 11 回研究会、（（社）応用物理学会 薄膜・表面物理分科会／シリコンテクノ
ロジー分科会共催）、pp.97-102、2006 年 1 月。

1140(W)

渡辺一史、寺本章伸、黒田理人、須川 成利、大見忠弘、「Hole 注入法による NBTI 寿命予測」。ゲートスタック研究会－材料・プロセス・評価の物理－第 11 回研究会、（（社）応用物理学会 薄膜・表面物理分科会／シリコンテクノロジー分科会共催）、pp.367-372、2006 年 1 月。

1141(F)

大見忠弘、平山昌樹、白井泰雪、寺本章伸、「サブ 100nm 半導体技術の課題と展望」。電子情報通信学会誌、Vol.89、No.2、（（社）電子情報通信学会）、2006 年 2 月。

1142(M)

大見忠弘、平山昌樹、白井泰雪、寺本章伸、程イトウ、井ノ口敦智、「大学研究室紹介－東北大学
未来科学技術共同研究センター－シリコン産業に革命を起す半導体製造装置」。SEAJ Journal、（（社）日本半導体製造装置協会）、pp.32-37、No.101、2006 年 3 月。

1143(W)

大見忠弘、森本明大、白方恭、「消費電力 1/10 を目指す回路基板」。第 53 回応用物理学関係連合
講演会講演予稿集 No.0、（(社)応用物理学会）、24p-C-3、pp.50、2006 年 3 月。

1144(W)

大見忠弘、「基調講演－次世代エレクトロニクスにおける研究開発指針」。情報とエネルギーシンポ
ジウム、（独立行政法人 産業技術総合研究所）、pp.59-94、2006 年 3 月。

1145(W)

大見忠弘、小谷光司、「VDEC、その設立前夜から今日まで、そして将来－新しいシリコン技術の創出－」。東京大学大規模集積システム設計教育研究センター設立 10 周年記念シンポジウム、（東京大学大規模集積システム設計教育研究センター）、pp.4-10、2006 年 5 月。

1146(C)森永 均、島岡健治、大見忠弘、「シリコン表面マイクロラフネスの発生メカニズムと低減技術」。電子情報通信学会技術研究報告、Vol.106、No.108、（（社）電子情報通信学会）、SDM2006-50、pp.49-54、2006 年 6 月。

1147(C)

樋口正顕、品川誠治、寺本章伸、野平博司、服部健雄、池永英司、須川成利、大見忠弘、「直接窒化膜特性のシリコン結晶面密度依存性」。電子情報通信学会技術研究報告、Vol.106、No.108、（（社）電子情報通信学会）、SDM2006-54、pp.71-76、2006 年 6 月。

1148(F)

森本明大、杉村正彦、河田敦、川崎雅史、脇坂康尋、大見忠弘、「表面平滑低損失樹脂を用いた高速信号配線」。エレクトロニクス実装学会誌、Vol.9、No.4、（（社）エレクトロニクス実装学会）、
pp.262-268、2006 年 7 月。

1149(M)舘 知恭、須川 成利、小谷 光司、大見 忠弘、「高機能高画質 CMOS イメージセンサ」。VDEC
平成 18 年東京大学大規模集積システム設計教育研究センター年報、(東京大学)、pp.183、2006 年9 月。

1150(M)

浄法寺 佑、大見 忠弘、「イメージセンサ設計用 TEG」。VDEC 平成 18 年東京大学大規模集積システム設計教育研究センター年報、(東京大学)、pp.183、2006 年 9 月。

1151(M)渡部 俊一、大見 忠弘、「MOS トランジスタ特性測定回路」。平成 18 年東京大学大規模集積シス
テム設計教育研究センター年報、(東京大学)、pp.183、2006 年 9 月。
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1152(M) 舘 知恭、須川 成利、小谷 光司、大見 忠弘、「高機能高画質 CMOS イメージセンサ用 AD 変換器」。平成 18 年東京大学大規模集積システム設計教育研究センター年報、(東京大学)、pp.184、2006 年 9 月。
1153(M)

KHAN ASHFAQZZAMAN、宮本 直人、大見忠弘、「動的再構成 FPGA（フレキシブルプロセッサ3）」。平成 18 年東京大学大規模集積システム設計教育研究センター年報、(東京大学)、pp.233、
2006 年 9 月。

1154(M)

Warih Kurniawan、宮本 直人、大見忠弘、「動的再構成 FPGA（フレキシブルプロセッサ 3）」。平成
18 年東京大学大規模集積システム設計教育研究センター年報、(東京大学)、pp.233、2006 年 9月。

1155(W)

諏訪智之、熊谷勇喜、寺本章伸、須川成利、大見忠弘、「大規模アレイＴＥＧにより評価した低ビットエラーの Kr/O2/NO トンネル酸窒化膜の形成」。電子情報通信学会技術研究報告、Vol.106、No.277、（（社）電子情報通信学会）、SDM2006-173、pp.7-11、2006 年 10 月。

1156(W)

荒谷崇、樋口正顕、濱田龍文、寺本章伸、服部健雄、須川成利、大見忠弘、品川誠治、野平博司、
池永英司、「Si(100)、(110)面上の極薄 Si3N4 界面構造とその電気的特性」。電子情報通信学会技術研究報告、Vol.106、No.277、（（社）電子情報通信学会）、SDM2006-175、pp.15-19、2006 年 10月。

1157(W)

阿部健一、渡部俊一、須川成利、寺本章伸、大見忠弘、「微細 MOS トランジスタ特性の統計的ばらつき評価手法に関する研究」。電子情報通信学会技術研究報告、Vol.106、No.277、（（社）電子情報通信学会）、SDM2006-189、pp.63-66、2006 年 10 月。

1158(W)

池永和幸、後藤哲也、寺本章伸、平山昌樹、野沢俊久、大見忠弘、「2 段シャワープレート型マイク
ロ波プラズマエッチャーを用いた多層膜の連続エッチング」。電子情報通信学会技術研究報告、Vol.106、No.277、（（社）電子情報通信学会）、SDM2006-191、pp.71-74、2006 年 10 月。

1159(W)

河瀬康弘、北野真史、佐伯雅之、水谷文一、白井泰雪、大見忠弘、「陽極酸化によるアルミニウム表面への不動態膜形成技術」。電子情報通信学会技術研究報告、Vol.106、No.277、（（社）電子情報通信学会）、SDM2006-193、pp.81-86、2006 年 10 月。

1160(W)

中山貴裕、譽田正宏、大見忠弘、「ベクトル量子化コードブックヒストグラム法による画像コンテンツ認識技術」。第 21 回信号処理シンポジウム、Ｂ6-4、2006 年 11 月。

1161(W)

河瀬康弘、北野真史、佐伯雅之、水谷文一、白井泰雪、大見忠弘、「陽極酸化による LSI/FPD 用アルミニウム合金チャンバー表面への不動態膜形成技術」、第 18 回マイクロエレクトロニクス研究会プ
ロシーディング、pp.31-37、2006 年 11 月。

1162(W)

諏訪智之、熊谷勇喜、寺本章伸、須川成利、大見忠弘、「大規模アレイ TEG により評価した低ビットエラーの Kr/O2/NO トンネル酸窒化膜の形成」、第 18 回マイクロエレクトロニクス研究会プロシーディ
ング、pp.39-44、2006 年 11 月。

1163(W)

渡部俊一、阿部健一、須川成利、寺本章伸、大見忠弘、「微細 MOS トランジスタ特性の統計的ばらつき評価手法に関する研究」、第 18 回マイクロエレクトロニクス研究会プロシーディング、pp.45-48、2006 年 11 月。

1164(W)

大見忠弘、「"新事業創出に不可欠な新技術開発”‐リニア型モデルからターゲットドリブン型モデルへの転換‐」、第 18 回マイクロエレクトロニクス研究会プロシーディング、pp.61-73、2006 年 11 月。

1165(W)

田中康太郎、寺本章伸、須川成利、大見忠弘、「SiC 基板上高品質ゲート絶縁膜の低温形成」。電子情報通信学会技術研究報告、Vol.106、No.417、（（社）電子情報通信学会）、SDM2006-209、
pp.43-47、2006 年 12 月。

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