未来情報産業研究館 和論文リスト

2020 年
2020-J1(W)【招待講演】
軟Ｘ線検出 CMOS イメージセンサ
第 33 回日本放射光学会年会 放射光科学合同シンポジウム（日本放射光学会主催）, 2020 年
1 月 12 日, 名古屋
須川 成利

2020-J2(W)レーザーアニール法による低温多結晶 Si 薄膜の特性改善と電気特性評価
一般社団法人レーザー学会学術講演会第 40 回年次大会, (2020), D02-20P-V-08, 2020 年 1
月 20 日, 仙台
濱野 史暢, 妹川 要, 中村 大輔, 後藤 哲也, 池上 浩

2020-J3(W)【招待講演】
イメージング・デバイスの技術動向
第 115 回研究会「イメージング・エレクトロニクス」(独立行政法人日本学術振興会 半導体界面制御技術第 154 委員会), (2020), pp.1-9, 2020 年 1 月 21 日, 東京
黒田 理人

2020-J4(W)【招待講演】
IEDM2019 を振り返って
先端 CMOS デバイス・プロセス技術（IEDM 特集）(電子情報通信学会シリコン材料・デバイス研
究会／応用物理学会シリコンテクノロジー分科会), (2020), 2020 年 1 月 28 日, 東京
黒田 理人

2020-J5(W)

注入ゲート導入型ノーマリオフ Floating Gate GaN HEMT の動作原理と構造
電子デバイス研究会（ED）(一般社団法人 電子情報通信学会), (2020), Vol.119, No.408
ED2019-104, pp.55-58, 2020 年 1 月 31 日, 東京
南雲 謙志，木本 大幾，諏訪 智之，寺本 章伸，白田 理一郎，高谷 信一郎， 須川 成利

2020-J6(W)【招待講演】
YOF コーティングのプラズマ耐性
応用物理学会シリコンテクノロジー分科会第 223 回研究集会, (2020), 2020 年 2 月 14 日
後藤 哲也, 志波 良信, 寺本 章伸, 岸 幸男, 須川 成利

2020-J7(W)

高精度電流計測アレイテスト回路を用いた MIM 素子の大規模測定
第 67 回応用物理学会春季学術講演会, （公益社団法人応用物理学会）, p.11-086, 2020 年 3
月 12 日, 東京（新型コロナウイルス感染症対策のため中止）。
鈴木 勇人，朴 賢雨，寺本 章伸，黒田 理人，諏訪 智之， 須川 成利

2020-J8(M)

高感度・高精細・リアルタイム近接容量イメージセンサ
応用物理, 第 89 巻, 第 6 号（2020）, p.328-332, 2020 年 6 月 10 日
黒田 理人，山本 将大， 須川 成利
https://doi.org/10.11470/oubutsu.89.6_328

2020-J9(M)

超小型紫外線センシング Si フォトダイオード・イメージセンサー技術
Optronics : 光技術コーディネートジャーナル(特集 紫外線光デバイス開発と実用化の期待)
第 39 巻, 6 号（2020）, pp.77-82, 2020 年 6 月
黒田 理人，Yhang Ricardo Sipauba Carvalho da Silva，須川 成利

2020-J10(M)映像情報メディア年報 2020 シリーズ(第 10 回)情報センシングの研究開発動向
映像情報メディア学会誌, 第 74 巻, 5 号, 2020 年 9 月 1 日
秋田純一, 井口義則, 池辺将之, 丸山基之, 関根寛, 黒田理人, 香川景一郎, 小室孝, 徳田崇, 船津良平, 西山円, 廣瀬裕, 藤澤大介, 杉山行信

未来情報産業研究館 和論文 20152020-J11(W)【招待講演】CMOS イメージセンサの広ダイナミックレンジ・高速・広分光感度性能の追究
第 84 回半導体・集積回路技術シンポジウム（電気化学会電子材料委員会）, 2020 年 9 月 15日, オンライン須川成利

2020-J12(C)Si(551)表面の表面構造解析
日本物理学会講演概要集(CD-ROM), 第 75 巻, p.2, No.11aJ1-2, 2020 年 9 月 23 日
内藤完, 中塚聡平, 小川修一, 虻川匡司, 江口豊明, 服部賢, 服部梓, 黒田理人

2020-J13(W)

トレンチ型 2 段 LOFIC を有する単一露光・線形応答・ 120dB 超広ダイナミックレンジ
映像情報メディア学会技術報告・情報センシング研究会（一般社団法人 映像情報メディア学会）, （2020）, Vol. 44, No.11, p.81-84, 2020 年 9 月 24 日, オンライン
藤原 康行, 村田 真麻, 中山 翔太, 黒田 理人, 須川 成利

2020-J14(W)【展望講演（招待講演）】
プラズマ成膜技術の将来展望
化学工学会第 51 回秋季大会（公益社団法人 化学工学会）, (2020), 2020 年 9 月 25 日,オンライン後藤 哲也

2020-J15(W)【招待講演】
半導体デバイスにおける欠陥評価 ～イメージセンサ・欠陥・プロセス～
第 34 回プラズマ新領域研究会「プラズマプロセスにおける欠陥生成に関する新生面」研究会(応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会), (2020), 2020 年 10 月 21 日, オンライン黒田 理人

2020-J16(W)

3 次元積層に向けた高容量密度・高耐圧 SiN 絶縁膜粗面トレンチキャパシタの開発
電子情報通信学会技術研究報告, シリコン材料・デバイス研究会(一般社団法人電子情報通信学会), （2020）, Vol. 120, No.205, SDM2020-15, pp.7-11, 2020 年 10 月 22 日, オンライン
齊藤 宏河, 吉田 彩乃, 黒田 理人, 柴田 寛, 柴口 拓, 栗山 尚也, 須川 成利

2020-J17(W)

IPA を用いた銅・酸化銅上の表面改質
電子情報通信学会技術研究報告, シリコン材料・デバイス研究会(一般社団法人電子情報通信学会), Vol. 120, No.205, SDM2020-19, pp.25-29, 2020 年 10 月 22 日, オンライン
間脇 武蔵, 寺本 章伸, 石井 勝利, 志波 良信, 諏訪 智之, 東雲 秀司, 清水 亮, 梅澤好太, 黒田 理人, 白井 泰雪, 須川 成利

2020-J18(W)

統計的計測によるドレイン-ソース間電圧がランダムテレグラフノイズに与える影響の解析
電子情報通信学会技術研究報告, シリコン材料・デバイス研究会(一般社団法人電子情報通信学会), Vol. 120, No.205, SDM2020-21, pp.34-39, 2020 年 10 月 22 日, オンライン
秋元 瞭, 黒田 理人, 寺本 章伸, 間脇 武蔵, 市野 真也, 諏訪 智之, 須川 成利

2020-J19(W)

超高速イメージセンサ, 紫外域イメージセンサ技術
第 4 回「新機能イメージングデバイスおよび周辺技術分科会」(一般社団法人 電子情報技術産業協会), (2020), 2020 年 10 月 23 日, オンライン黒田 理人

2020-J20(W)MRAM 用 MgO 薄膜の信頼性に関する研究
第 32 回マイクロエレクトロニクス研究会プロシーディング, （2020）, pp.45-53, 2020 年 11 月 14日, オンライン
諏訪 智之, 土本 淳一, 寺本 章伸, 後藤 哲也, 朴 賢雨, 須川 成利
1

未来情報産業研究館 和論文 20152020-J21(W)【特別講演】
半導体製造用成膜プロセスの高性能化に向けた取り組み
第 32 回マイクロエレクトロニクス研究会プロシーディング, （2020）, pp.55-58, 2020 年 11 月 14日, オンライン後藤 哲也

2020-J22(W)Si(551)表面の W-RHEED と STM による構造解析
日本表面真空学会学術講演会要旨集, 2020 年 11 月 19 日, オンライン
内藤完, 中塚聡平, 小川修一, 虻川匡司, 江口豊明, 服部賢, 服部梓, 黒田理人

2020-J23(W)

CMOS イメージセンサの感度・飽和・撮影速度・分光感度帯域性能の追究
映像情報メディア学会 創立 70 周年記念大会 (映像情報メディア学会主催）, 【企画セッション 3】映像情報メディアの発展を支えるイメージセンサ, 2020 年 12 月 22 日, オンライン
須川 成利

2