大見研究室 和文 論文リスト

大見研究室 和文 論文リスト
2000 年
919(M) 大見忠弘、｢東北大学未来科学技術共同研究センター｣、学術月報、(日本学術振興会)、Vol.53、No.1、通巻 662 号、pp.39-40、2000 年 1 月。
920(M) 大見忠弘、｢超高速、低コストのシステムＬＳＩを作る｣、日経ＮＥ2000 年 1 月 31 日号、 (日経ＢＰ社)、Ｎｏ.762、pp.163－170、2000 年 1 月。
921(M) 大見忠弘、｢産官学連携 ベンチャービジネスの創出｣、通産情報、(通商産業省 東北通商産業局)、
Vol.42、No.11、pp.4-10、2000 年 2 月。
922(P)

大見忠弘、「0.1μm 以降のプロセス技術課題」、ＩＳＳ Ｊａｐａｎ２０００（ＳＥＭＩジャパン）、2000 年 2 月。

923(M) 大見忠弘、「巻頭言 革命期を迎える半導体産業」、半導体シニア協会ニューズレター、（ＳＳＩＳ半導体シニア協会）、No.12、pp.1-3、2000 年 3 月。
924(P)

大見忠弘、須川成利、平山昌樹、「低エネルギーイオン照射低温シリコン成膜技術」、第 47 回応用物
理学関係連合講演会講演予稿集Ｎｏ.０、((社)応用物理学会)、28p－YM－５、pp.17、2000 年 3 月。

925(P)

大見忠弘、「新たなミレニアムに向けて」、第 34 回ウルトラクリーンテクノロジーシンポジウムプロシーテ
ィング、（半導体基盤技術研究会）、pp.別刷（New Paradigm in Semiconductor Industry）、2000 年 3月。

926(B)

大見忠弘、「第１章 序論 システムＬＳＩ時代の主役：ＳＯＩ ＬＳＩ」、ＳＯＩの科学、半導体基盤技術研究会編、(リアライズ社)、pp.3-4、2000 年 4 月。

927(B)

大見忠弘、「第 3 章 デバイス・プロセス技術 第 11 章 気体分離配線構造・金属基板ＳＯＩデバイス技術」、ＳＯＩの科学、半導体基盤技術研究会編、(リアライズ社)、pp.194-205、2000 年 4 月。

928(C)

東北大：篠原壽邦、平間淳司、高橋一郎、平山昌樹、白井泰雪、大見忠弘、コマツ：武久究、伊藤貴志、西坂敏博、藤本准一、溝口計、「連続発光エキシマレーザの検討（A research of realizing CWexcimer laser）」、第 47 回応用物理学関係連合講演会、講演予稿集 29-p-F-3、第 700 頁、2000 年春
季

929-1(M) 大見忠弘、須川成利、「家庭内ネットワークの鍵を握るＬＳＩ高性能化」、実践技術ジャーナル、（ミマツコーポレーション）、No.1、pp.45-58、2000 年 5 月。
930(B)

大見忠弘、「第１章 序論 半導体固有の製造技術創出：半導体技術はまさにこれから」、新しい半導体製造プロセスと材料、（㈱シーエムシー）、pp.1-16、2000 年 5 月。

931(B)

大見忠弘、横井生憲、グン・ミン・チョイ、「第６章 洗浄 １低環境負荷シリコン基板洗浄技術」、新しい半導体製造プロセスと材料、（㈱シーエムシー）、pp.142-151、2000 年 5 月。

932(M) 大見忠弘、須川成利、平山昌樹、白井泰雪、「製造技術に学問の導入を提言 ２１世紀を見すえた新デバイス・新生産方式を提案」、日経マイクロデバイス６月１日号、Ｎｏ.180、（日経ＢＰ）、ｐｐ.177-182、2000 年 ６月。
933(F)

大見忠弘、横井生憲、森田博志、伊井稔博、グン・ミン・チョイ、白井泰雪、「オゾンの半導体製造分野への適用」、静電気学会誌、Vol.24、No.3、（静電気学会）、pp.16-20、2000 年 6 月。

934(P)

大見忠弘、「第 3 部 半導体技術の研究開発課題 1.半導体技術開発の戦略的取り組み」、21 世紀を開く半導体技術ワークショップ～ＩＴ社会を支えるキーテクノロジー・シリコンＬＳＩ技術の課題と将来展
望～、（通商産業省、ＮＥＤＯ）、pp.3-3－3-10、2000 年 6 月。

935(P)

大見忠弘、「第 3 部 半導体技術の研究開発課題 4.主要半導体技術領域におけるディスカッション（Part2）(2)生産技術パネルディスカッション」、21 世紀を開く半導体技術ワークショップ～ＩＴ社会を支えるキーテクノロジー・シリコンＬＳＩ技術の課題と将来展望～、（通商産業省、ＮＥＤＯ）、pp.3-81－3-93、2000 年 6 月。
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929-2(P) 大見忠弘、須川成利、「半導体産業復活のシナリオ」、第 18 回大阪酸素 半導体セミナー－グローバ
ルネットワーク時代の半導体産業－、（大阪酸素工業㈱）、pp.69-80、2000 年 6 月。
936(M) 大見忠弘、誉田正宏、中山貴裕、家村広継、「新ベクトル量子化による画像圧縮技術の開発」、コンピュータサイエンス誌 Ｂｉｔ、（共立出版）、7 月号、pp.29-36、2000 年 6 月。
937(P)

大見忠弘、須川成利、平山昌樹、斉藤祐司、田中宏明、「金属汚染･表面損傷を伴わない高密度プラズマを用いた低温高品質成膜技術」、第 17 回薄膜スクール資料、（日本学術振興会）、pp.105-111、
2000 年 ７月。

938(P)

大見忠弘、「UCS1２年を語る／未来への飛躍に向けて」、第 29 回超ＬＳＩウルトラクリーンテクノロジー
ワークショップ－半導体産業復活のシナリオ：高収益型小規模生産ラインの実現プロシーディング、（ＵＣＳ半導体基盤技術研究会）、pp.1-30、2000 年 7 月。

939(M) 大見忠弘、須川成利、平山昌樹、「連載[マニュファクチャリング] 製造技術に学問の導入を提言(1)システムＬＳＩ、ディスプレイ、太陽電池デバイス技術を塗り替える」、日経マイクロデバイス 8 月 1 日号、Ｎｏ.182、（日経ＢＰ社）、ｐｐ.213-220、2000 年 8 月。
940(F)

末永修、松尾剛伸、森直樹、小林貞雄、大見忠弘、「半導体工場における省エネルギー技術の提案」、クリーンテクノロジー、Vol.10、No.8、（日本工業出版）、ｐｐ5-9、2000 年 8 月。

941(F)

大見忠弘、横井生憲、阿部俊和、「半導体産業における超純水製造技術とその特性」、防錆管理、Vol.44、No.9、（(社)日本防錆技術協会）、pp.13-20、2000 年 9 月。

942(M) 大見忠弘､須川成利、平山昌樹、「連載[マニュファクチャリング] 製造技術に学問の導入を提言（2）小規模生産ラインを可能にする装置技術､8 項目を提案」、日経マイクロデバイス 9 月 1 日号、No.183、（日経ＢＰ社）、ｐｐ.186-189、2000 年 9 月。
943(P)

大見忠弘、須川成利、斉藤祐司、田中宏明、「高性能ポリシリコントランジスタの低温製造技術」、第 61回応用物理学会学術講演会予稿集、No.O、（（社）応用物理学会）、ｐｐ.53、2000 年 9 月。

944(P)

大見忠弘、「情報通信と半導体の融合化を推進するグローバルネットワーク時代」、平成 12 年電気･情報関連学会連合大会講演予稿集、ｐｐ.42-51、2000 年 9 月。

945(F)

大見忠弘、須川成利、「マイクロ波励起低温高密度プラズマプロセス」、真空、Vol.43、No.9、（日本真空協会）、pp.31-38、2000 年 9 月。

946(P)

大見忠弘、「ウルトラクリーンテクノロジーのフィロソフィー、その展望と課題」、ＵＣＳクロージングシンポ
ジウム「半導体が拓く新世紀に向けて」プロシーディング、(半導体基盤技術研究会)、pp.16-54、2000
年 9 月。

947(P)

鈴木宏和、大見忠弘、白井泰雪、花岡秀夫、「クリーンルームを有する施設の省エネルギー化に関する研究 その１ シミュレーションプログラム開発と適用」、平成１２年度学術講演会講演論文集、((社)空気調和・衛生工学会)、pp.1481-1484、2000 年 9 月。

948(M) 大見忠弘、須川成利、平山昌樹、白井泰雪、「連載[マニュファクチャリング] 製造技術に学問の導入を提言（3） 強誘電体、高誘電率膜を徹底利用へ ＬＳＩの付加価値高める基盤技術」、日経マイクロデバイス１０月１日号、Ｎｏ.184、(日経ＢＰ社)、pp.170-173、2000 年 10 月。
949(F)

大見忠弘、須川成利、平山昌樹、斉藤祐司、「マイクロ波励起Ｋｒ/Ｏ ２によるシリコン酸化膜の低温形成」、応用物理、Vol.69、Ｎｏ.10、(応用物理学会)、1200-1204、2000 年 10 月。

950(M) 大見忠弘、「ＬＣＤ生産工程におけるクリーン化技術」、月刊ディスプレイ、11 月号、(㈱テクノタイムズ(社))、pp1-6、2000 年 11 月。
951(M) 大見忠弘、大見忠弘教授が提唱する「日本半導体の新たな挑戦」／未来への飛躍に向けて―半導体生産技術に学問を―「今、半導体王国の復活に求められる技術はこれだ！」、（半導体産業新聞
フォーラム 21）、2000 年 11 月。
952-1(M) 島田浩行、大嶋一郎、中尾慎一、中川宗克、須川成利、大見忠弘、「低温プロセスを特徴とする低抵抗 TaNx/Ta/TaNx メタルゲートＦＤＳＯＩ-ＣＭＯＳ技術」、電子情報通信学会技術研究報告、Vol.99、No.340、シリコン材料･デバイス、(電子情報通信学会)、論文番号 SDM2000－158～186、pp.23-30、2000 年 11 月。
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大見研究室 和文 論文リスト
952-2(P) Zhibin Pan 、 Koji Kotani ､ Tadahiro Ohmi, 「 A VQ-based speaker identification system forlargepopulation using exponential average and pre-learning of test utterance」、第４回システムＬＳＩ琵琶湖ワークショップ｢システムＬＳＩ及びその要素技術の研究開発事例｣ポスターセッション発表リスト、
pp.239-242、2000 年 1１月 27 日～29 日。
953(W) 川添豪哉、青木英治、藤井克正、大見忠弘、「0.18μmCMOS プロセスに適合した LSI の静電気保護技術」、第 11 回マイクロエレクトロニクス研究会プロシーディング、pp.35-41、2000 年 11 月。
954(W) 三森健一、芳賀宣明、高橋典久、今岡孝之、大見忠弘、「大型・高精密 TFT・LCD デバイスの洗浄技術」、第 11 回マイクロエレクトロニクス研究会プロシーディング、pp.43-46、2000 年 11 月。
955(W) 泉浩人、菊永芳弘、川脇理謁、菊山裕久、櫻井稔久、大見忠弘、「フッ素ガスを用いた金属表面処理技術とその応用」、第 11 回マイクロエレクトロニクス研究会プロシーディング、pp.47-52、2000 年 11 月。
956(W) 高野順、斉藤祐司、櫻井稔久、大見忠弘、「低温酸化、低温アニールプロセスを実現する Kr/O2 プラズマ技術」、第 11 回マイクロエレクトロニクス研究会プロシーディング、pp.53-61、2000 年 11 月。
957(W) 阿久津功、平山昌樹、大見忠弘、「高効率半導体生産ラインを実現する高性能ブースターポンプの開発」、第 11 回マイクロエレクトロニクス研究会プロシーディング、pp.81-88、2000 年 11 月。
958(W) 大見 忠弘、「顧客ニーズ瞬時製品化技術」、第 11 回マイクロエレクトロニクス研究会プロシーディン
グ、pp.89-110、2000 年 11 月。
959(M) 大見忠弘、白井泰雪、「21 世紀における半導体産業の展望」、セミコンダクターアニュアル／ガス供給
編 2000、（ガスメディア）pp.14-19、2000 年。

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