（財）武田計測先端知財団
SEMATECH

2008/08/19
第 2 章 SEMATECH* ―メンバー主導で、先端量産技術開発実用化に挑戦
SEMATECH は米国半導体産業の復権とその後の世界半導体産業の技術開発に貢献し、米国にとっては大成功と言えるコンソーシアムである。ここではその SEMATECH の活動
経緯と成果を整理した。先ず SEMATECH 設立当時の時代背景を振り返り、次いで設立から現在に至るまでの SEMATECH の主な歴史を記述し、SEMATECH でどのような成果が生まれ、産業育成に貢献したかを述べ、成功要因を分析する。SEMATECH の特徴として
は、20 年も続いていること、実践的な実用化研究を重んじていること、SEMI と協業して世界標準を決めていこうという戦略に裏付けられていること、1998 年以降はチップメーカ
ーのみでなく材料、装置、ソフトなど世界のあらゆる関連企業に対して次世代技術開発の場を提供する努力を継続していること、会員企業への貢献度評価（ROI）を定期的に行って事業に反映していることなどが上げられる。その活動は学界の支援、国立研究所の支援を幅広く手厚く受けている。また SEMATECH は技術開発のみでなく産業界を支える人材育成の助成も行い、更に企業誘致などで地域貢献もしている。本報告では SEMATECH ポ
ルカリ社長とのインタビューも織り込んでいる。

１．はじめにInternational SEMATECH のホームページ１）に掲載されている年次報告書（Annual
Report）を読むと、参加企業の知的財産権は尊重しながらも、出来るだけ透明性を保とうとしているのに気が付く。日本の超エルエスアイ技術研究組合２）が大成功を収めたように、
この SEMATECH も米国にとっては大成功であった。米国半導体産業の復権に貢献し、その後 International SEMATECH と名を変え、再び SEMATECH と名称変更＊＊しているものも、その間次第にオープン化し、当初の国策コンソーシアムから脱皮を図り、グローバ
ルな観点から世界の半導体メーカー会員企業に成果を提供し続けて、現在に至っている。
*

SEMATECH は SEmiconductor MAnufacturing TECHnology の略であり、本文内で使用している SEMATECH、International SEMATECH、
ISMI、
ATDF、
SEMI/SEMATECH
及びそれらのロゴはすべて登録商標である。そのため本文では敢えて日本語訳にせずそのまま使用する。本書ではその他 Selete など日本の登録商標も多数使用させて頂いた。
＊＊

リ エ ゾ ン の 谷 奈 穂 子 氏 に よ る と 、 SEMATECH の 正 式 名 称 は 当 初 か ら 一 貫 し てSEMATECH であり、その後、国際化に伴い International SEMATECH のブランドを採用したが、2004 年にコーポレートアイデンティティを見直すに当り、業界で通常使われている SEMATECH という短いブランドに変更した。International が無くても国際化路線には変更は無いとのことである。

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一方日本でも超エルエスアイ共同研究組合後、10 年ほど前から再び民間企業出資の株式
会社半導体先端テクノロジーズ(Selete)と、国の出資による技術研究組合超先端電子技術開発機構が発足し、他の共同研究組織も誕生、変遷を重ねながら現在に至っている。是非日
本もこのような共同研究を有効に活用し、産業の活性化に役立ててもらいたい。３）
ここでその SEMATECH の経緯と成果を再度整理しておくことも、日本の産業活性化の参考にする上で有意義と考える。本章ではまず SEMATECH 設立当時の時代背景を振り返り、次いで設立から現在に至るまでの SEMATECH の主な経緯を記述し、その結果、
SEMATECH でどのような成果が生まれ、その技術がどのように産業育成に貢献したかを述べ、その上で成功要因を分析する。

２．SEMATECH 設立時の時代背景
図１のグラフは小宮啓義氏著「日本半導体産業の課題」４）に引用されているもので、米
ガートナー・データクエスト（Gartner Dataquest）社の調査による半導体メーカーの国籍
別市場占有率の推移を示したものである。グラフの下に SEMATECH に関係する主要年表を示した。1970 年後半まで圧倒的市場占有率を占めていたのは米国企業であった。それが超エルエスアイ共同研究組合の効果もあって 1980 年代は日本企業が進出し、1985 年には両者が拮抗し、やがて日本企業が抜き去る時代が来る。しかし 1988 年―1989 年を底にして米国企業が巻き返し、1992 年―1995 年の両者拮抗時代を経て、以降、再び米国企業の再逆転となった。一方日本企業は韓国、台湾企業の追い上げもあり凋落している。ここで米国企業の市場占有率が落ち始めた 1980 年から 1989 年に底を打つまで、米国ではどのような対策が検討、実施され、そしてそれがその後どのように引き継がれて行ったのかを概観して見よう。そのためには単に半導体業界のみでなく、もっと広く米国の産業競争力を見なければならない。
1980 年代の米国は膨大な貿易赤字と財政赤字を抱えていた時代であった。建て直しを図るロナルド・レーガン大統領の下に 1983 年 6 月、
「産業競争力に関する大統領諮問委員会」が設置され、ヤングレポート「国際競争力の新たな現実」の報告、バイ・ドール法の施行と続く。５）1986 年にはマサチュセッツ工科大学（Massachusetts Institute of Technology
以下 MIT と記す）が「産業生産性調査委員会」を発足させている。これはコンピュータサ
イエンス研究所所長の M. L. ダートウゾス教授を委員長とし、副委員長に経済学科の R. M.
ソロー教授、主査に原子力工学科 R. K. レスター教授を配して、14 名の委員で構成する委員会であり、1989 年に「Made in America」をまとめている。６）これは半導体業界に限定するものではなく、広く米国産業界向けのものではあるが、図１の米国企業の半導体市場占有率が底を打つ時点で提言書がまとまっており、半導体業界の分野にとっても時宜を得た形になった。

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図１

半導体メーカーの国籍別市場占有率推移と関連する米国の主なエポック
グラフは小宮啓義;「日本半導体産業の課題」p.8 より 4)

▲

▲ ▲▲

▲

1980 年

超 LSI 研究所終了（日本）
、

▲

▲▲

バイドール法制定

1985 年ヤングレポート、“国際競争力と新たな現実”
1986 年 MIT 産業生産性調査委員会発足
1987 年SEMATECH 発足
SEMI/SEMATECH 発足

1989 年 M. L. ダートウゾス, 他, “Made in America” MIT Press 刊
1997 年 SEMATECH が International SEMATECH を下部組織に編成
2000 年

SEMI/SEMATECH が Semiconductor Industry Suppliers
Association (SISA)と改称
SEMATECH が International SEMATECH と改称

2001 年 SISA が SEMI North America と合併し、SEMI の組織下に入る

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2003 年 ISMI 設立
2004 年 International SEMATECH を SEMATECH に改称
ATDF 設立2007 年 ATDF が SVTC Technologies と合併

米国ではこのような産官学の動きがあって、アンチトラスト法（米国における独占禁止法）の下でも、政府の補助金が出て、日本の超エルエスアイ技術研究組合共同研究所(以下第１章 2)と同じく超 LSI 共同研究所と記す)のような共同研究体制が推奨されるようになり、
1987 年に SEMATECH（SEmiconductor MAnufacturing TECHnology）が発足した。 尚、当時の時代背景を映す書も数多い 7)−11)ので、詳細に興味をお持ちの読者は多くの著書から総合的に検証されるとよい。

３．SEMATECH 及びその関連組織の歴史

12)― 14)1980 年以来、米国製半導体の世界市場での占有率が減衰していることを踏まえて、米国
半導体工業会（Semiconductor Industry Association 以下 SIA）と米国半導体研究コーポレーション（Semiconductor Research Corporation 以下 SRC）が 1986 年 5 月に共同体設立
計画を策定する委員会を設定し、上記 SEMATECH が結成された。半導体製造における共通的な技術課題を解決する目的で、1987 年に会員企業から計 1 億ドル／年、国防省から 1
億ドル／年の、合計 2 億ドル／年を投じ発足している。16)
当初の会員企業はアドバンスド・マイクロ・デバイシズ（Advanced Micro Devices Inc.、
以下 AMD）、アメリカン・テレフォン・アンド・テレグラフ(American Telephone andTelegraph Co. 以下 AT&T)、ディジタル・イクイプメント・コーポレーション （Digital
Equipment Corp.

以下 DEC）、 ハリス（Harris Corp.）、ヒューレット・パッカード(Hewlett-Packard Co.以下 HP）、インターナショナル・ビジネス・マシーンズ(International
Business Machines 以下 IBM）
、インテル（Intel）、ＬＳＩロジック( LSI Logic）、マイク
ロ ン (Micron

Technology ）、 モ ト ロ ー ラ (Motorola ）、 ナ シ ョ ナ ル セ ミ コ ン ダ ク タ ー(National Semiconductor）、 ロックウェル（Rockwell）、テキサス・インスツルメンツ(Texas
Instruments 以下 TI）である。
因みに 2007 年 12 月末時点の SEMATECH と ISMI(後述)の主な会員は、AMD、HP、
IBM 、 Intel 、 イ ン フ ィ ニ オ ン (Infineon Technologies 、 独 ) 、 マ イ ク ロ ン 、 National
Semiconductor、NEC エレクトロニクス（NEC EL、日）、パナソニック（Panasonic、日）、キマンダ（Qimonda、 上記 Infineon Technologies 社のメモリ製品部門、独）、ルネサス（Renesas、日）、サムソン(Samsung、韓)、スパンシオン（Spansion

Inc.）、TI、東芝(Toshiba、日)、TSMC （Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Limited、台灣積體電路

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製造股份有限公司、台湾）と国際色豊かに大幅に入れ替わっている。これについては５．
４で後述する。尚、国名を記述していない企業は総て米国企業である。
話を元に戻して、当初の SEMATECH の運営には、会員半導体メーカーの他、国防省高等研究計画局(ARPA)、SEMI/SEMATECH(後述)、およびＳＲＣも参加していた。その拠点はテキサス州の州都であるオースチン市であり、1988 年から製造関連技術基盤を強化するための研究開発活動が開始されている。1991 年米国の国家半導体諮問委員会〔National
Advisory Committee on Semiconductors (NACS)〕は、後の半導体技術ロードマップの先駆けとなる予測を発表し、それを受けて SEMATECH はそれまでの直径 6 インチから直径
8 インチ（200 mm）ウエーハ対応ラインに改変する作業を開始した。SEMATECH は当初
デバイス、プロセスの開発に重点を置いていたが、その後日本の超 LSI 共同研究所２）の方
針と同様、主として半導体生産設備開発に重点を置くように軸足を移している。17)

これが効を奏し、図 1 に見られるように、1994 年までには、米国籍の半導体メーカーは市場競争力を回復し、市場占有率も日本企業と拮抗するに至り、1996 年には半導体製造装置メーカ
ー共々、その復権が明確になった。
そして 1995 年政府資金援助が終了し、SEMATECH に非米国籍企業の参加が認められるようになると、米国籍企業 6 社と非米国籍企業 7 社とで、SEMATECH の下部組織として、直径 300ｍｍのシリコン基板を用いるＬＳＩ生産工場のための装置及びその関連の標準規格や仕様を決めるための組織 I300I（International 300 mm Initiative）を設けた。そして1997 年、I300I は同じく 300ｍｍウエーハ技術を検討していた日本の 300mm 半導体技術連絡会 J300 と共に、グローバルな共通ガイドの設定に関する「300mm 半導体工場のためのグローバル・ジョイント・ガイダンスの同意書」（Global Joint Guidance Agreement）に署名して標準化のリーダーシップを握った。
更に 1998 年 SEMATECH は、
国際化を進めるための新しい下部組織として International
SEMATECH を発足させた。これはその後、アジア、ヨーロッパおよび、米国のメンバー
が、共同で半導体製造技術の研究開発を推進する世界規模のコンソーシアムに順調に成長した。そこで 2000 年 1 月、SEMATECH は自らの名称も International SEMATECH に改称した。2002 年には東京エレクトロン㈱が International SEMATECH の装置供給業者用施設を利用する参加企業になっている。
2003 年までに、International SEMATECH は、ニューヨーク州やテキサス州などの地
方政府とも研究開発業務で連携できるような制度を整えた。そして同年ニューヨーク州立大学オルバニー校 (第４章参照)での、極端紫外線（ＥＵＶ）プログラムを公式にスタートさせた。このオルバニーナノテク研究所の SEMATECH 管轄部門は現在 International
SEMATECH North と呼ばれている。
そして同年 11 月には International SEMATECH は新たに、半導体製造における生産性
向 上 と コ ス ト 低 減 を 推 進 す る た め 、 自 前 の コ ン ソ ー シ ア ム で あ る International
SEMATECH Manufacturing Initiative（ISMI と略されている。正式名称、略称いずれも

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登録商標なので、以後原文のまま使用する）を発足させた。SEMATECH に参加していな
い企業でも ISMI に参加できるようにして門戸を広げている。14)2004 年にはリソグラフ

ィに関する会議を開催、同年 4 月テキサス州およびテキサス大学と共に先端材料研究セン
ター〔Advanced Material Research Center(AMRC)〕の設立を発表、そして同年の半ばには生産性（Manufacturability）や収益性を含めた研究をするため、1988 年より試作ラインとして使っていた施設を Advanced Technology Development Facility (ATDF と略されている。これも登録商標なので以下原文のまま使用する)として子会社化し、SEMATECH に参加していない企業でも ATDF を活用できるようにして、一層開放の度を進めている。14)
図２は ATDF の写真として公表されたものであるが、18) これは SEMATECH 全景写真でもある。広大な敷地面積内に、62000sqft(5600m2)のクリーンルームを持ち、その内42000sqft(3800m2)がクラス 1（１ft3 内に 0.5μｍ以上のごみが 1 個以下という清浄な空間）である。
そして、2004 年 9 月、International SEMATECH はオースチンの本体部門を再びSEMATECH という名称に戻した。International SEMATECH の名称は下部組織として残し、オルバニーにその下部組織としての本社機能を移している(第４章参照)。
SEMATECH の本社は依然としてオースチンにあり、2005 年にはプログラム主体の会員制にして、現在、完全グローバルにし、企業が参画しやすいように門戸を広げている。14)そして ATDF は 2007 年 12 月、SVTC Technologies と合併し 20)-23)その基盤を更に強固なものにした。この合併は、「幅広いテクノロジー関連企業に、先端半導体プロセス装置や機能を、より確実に且つコスト効果を高めて提供するためのもので、今後の半導体やナノテクノロ
ジ技術開発の強力な試作ファンドリーの誕生である」として発表されている。20)

ATDF

も SVTC も共に名称に変更は無い。
もう一つの流れとして SEMI/SEMATECH の活動がある。20)−26)

もともと半導体の製造

装 置 や 材 料 の 標 準 を 作 っ て き た SEMI(Semiconductor Equipment and Materials
Institute)は、その性格上、広く国際標準を決めねばならない立場から、米国内のみを向いてスタートした SEMATECH より一歩先んじて国際化を目指し、SEMATECH 発足の年、1987 年に名称の最後の単語を変え、SEMI（Semiconductor Equipment and Materials
International）に改称している。
一方、米国内を向いて設立された SEMATECH 参加企業に対応すべく部品、材料、装置メーカーをまとめ、SEMI/SEMATECH という国内向けの組織を、SEMATECH 敷地内に作った。24)25) 一時はこの SEMI/SEMATECH に 185 を越す企業が参画し、26)他のコンソー
シアムや国立研究所 27)等との提携も盛んに進めてきたが、逆に他との重複も多く次第に参加企業も減少するようになった。そこで組織活性化をめざし 2000 年には Semiconductor
Industry Suppliers Association（SISA）と改称する 24）28)も、翌 2001 年には SEMI 北アメリカ支部（SEMI North America）と合併し、SEMI の組織下に戻っている。29)30) ともあれ、このように装置や部材の標準を作成する機構と直接タイアップして活動を進めて来6

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SEMATECH（写真の使用を許諾された SEMATECH 広報部と、斡旋されたセミコンダクタポータル社長谷奈穂子氏に感謝する）
たことは、SEMATECH の一つの特徴と言える。
以上“歴史的な観点から”、SEMATECH に見られる特徴は１．20 年も続いていること、
２．最初はデバイス、プロセス技術主体だったが、すぐ日本の超 LSI 共同研究所同様、設備開発、米国系企業の設備産業育成に主力を置きなおしていること、
３．SEMI と協業して、仕様を定めて世界標準を決めていこうという戦略に裏付けられていること、そして４．1998 年以降門戸を広く開けておき、チップメーカーのみでなく材料、装置、ソフトなどあらゆる企業が次世代技術開発に参加しやすい環境を作る努力を継続していることにある。

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４．SEMATECH の主な成果と技術移転
４．１

特許から見た技術波及効果

通常、ある組織の技術成果あるいは移転実績を計るモニターとしては、特許状況（出願数、権利保有数、分野など）を調べるのが手っ取り早い。開発された技術の内、特許として認められるレベルの技術はどのくらいあるのか、その技術はどのように産業界に波及したのかなどを調べれば、成果の客観的な評価が出来るからである。それには、特許マップを作るのが常套手段である。31）32)
2007 年 8 月 15 日時点で、米国特許庁〔United States Patent and Trademark Office(USPTO )〕のホームページ 33)にアクセスし、Quick Search（以後、実際に試みる読者のためクリックし易いようにホームページで使われている用語をそのまま記載する）を試みた。
入力する term として SEMATECH と International SEMATECH を記入して検索すると、
SEMATECH または International SEMATECH が出願人になっている登録特許が 58 件、公開特許が 12 件ヒットした。SEMATECH または International SEMATECH という言葉が明細書や表紙のどこかに記入されている All Field で検索すると、登録特許が 619 件、公開特許が 302 件ヒットする。米国では公開制度の発足が遅かったので、登録件数より公開特許件数の方が少ない。
図３は登録特許の出願年次別の推移を表すグラフである。これより SEMATECH、または International SEMATECH は 1988 年から 1997 年までは出願しているが、1998 年以降は殆ど出願していないことが判る。先に見た通り International SEMATECH が発足したのが 1989 年なので International SEMATECH 発足後は、ずっと特許出願して来なかったことになる。一方、公開特許を調べてみると、2004 年から SEMATECH、又は International
SEMATECH 出願特許が掲載されているので、再び戦略転換し特許を出願するようになったものと思われる。
ここで All Field の場合は、出願人として記載されている場合と、明細書の中で発明者が引用している場合、及び審査の過程で審査官が引例として参照した場合のすべてが含まれる。従って図３の All Field から、SEMATECH 出願分を差し引けば、その差は SEMATECHまたは International SEMATECH の技術が、大なり小なり程度の差はあれ、何らかの形で影響を及ぼしたと考えられる特許の数になる。
「大なり小なり」という意味は、「SEMATECHの技術を受けて発展させた場合は無論のこと、単に対比資料として引用したもの、あるいは審査官が審査上引用したものも含まれるが、少なくても何らかの関連があるというものまで含めて」ということである。
米国の場合、登録特許（PatFT）は 1976 年以降が掲載されており、公開特許（AppFT）
は 2001 年からである。従って All Field の登録 619 件と公開特許 302 件とが重複している部分があるので、厳密な傾向を把握するため先ず登録特許 619 件分について注目すると、

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登録特許件数から見た SEMATECH 出願特許件数の推移と、SEMATECH または

図３International SEMATECH という語が明細書あるいは表紙に含まれる特許出願件数の推移（2007 年 8 月 15 日アップデート分まで）

SEMATECH技術の影響度
120
100

件数

80

SEMATECH影響登録特許件数
SEMATECH出願登録特許

60

SEMATECH出願公開特許
40
20

06

04

02

00

98

96

94

92

90

88

0
出願年

SEMATECH と International SEMATECH 出願特許 58 件が、All Field でヒットした登録
特許 619 件からそれを引いた 561 件に、何らかの影響を与えたと考えて良い。即ち登録特許件数で判断した場合、SEMATECH と International SEMATECH が開発した技術力は
約 10 倍の影響を貢献度として産業界に与えたことになる。そしてそれは図 3 のように
SEMATECH 出願から約 3-4 年後より顕著になってきている。これは出願から登録までの過程を考えれば肯けることである。以上は厳密性を考えて登録された特許の推移のみ見た結果であるが、公開特許を含めて考えたとしても大勢は変わらない。詳細は紙面の都合で省略するが、公開分を加味した検討結果でも、SEMATECH と International SEMATECHの技術が約 10 倍となって産業界に貢献した計算になる。
４．２

技術移転の主な具体例

具体的にどのような技術分野においてその成果が移転されたのであろうか。技術移転に関しては既に井上弘基氏の研究論文“米国の半導体製造技術 R&D コンソーシアム＝セマテ
ックについて” 34) の 3 表に 1994 年までの分がまとめられているので、それに最近の
SEMATECH の年次報告書 1)や各メーカーのホームページから拾い集めたものを付け加え

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SEMATECHて整理してみたい。尚ここでは、技術者にとっては馴染み深いので、企業名、装置名など
は敢えて日本語に翻訳せず、一般に使われている英文のままにしてある。また企業の中には、その後、社名変更、吸収合併、あるいは事業解散したものも含まれているが、ここでは SEMATECH の貢献度を歴史的に見ているので、文献中の名称をそのまま使っている。
少々専門的になるので、理解の一助とするため半導体デバイスを生産する工程を説明しておく。半導体デバイスの生産工程では、マスク上の回路パターンをウエーハに転写する工程を繰り返す。その回路パターンをマスク上に描画する装置と、ウエーハに転写する露光装置が重要な微細加工技術の要となる装置である。この工程に使われる技術をリソグラ
フィ技術と言う。そこで、先ずこのリソグラフィ設備関連を＜リソグラフィ＞として以下にまとめた。また半導体 LSI を生産する工程としては、半導体ウエーハにトランジスタを形成したり、そこに金属配線を張り巡らしたり、またそれを絶縁するため絶縁膜を付着する。そしてそれを微細加工するのがエッチングと呼ばれる工程である。更に多層配線を可能 に す る た め 表 面 を 平 坦 化 す る 化 学 的 で 機 械 的 な 研 磨 (Chemical Mechanical
Planarization、または Chemical-Mechanical Polishing とも言う。以後 CMP と略記)をす
る工程、洗浄工程、電子やホールになる不純物にエネルギーを与え高速にしてウエーハに添加するイオン注入工程などを経る。それらの技術をまとめて＜ウエーハ工程＞として以下に記載した。またデバイスを作る上で、さらに計測、自動化などが見逃せない。ここでは＜測定・計測・制御＞とその次の＜製造自動化＞にまとめて、順次整理している。
＜リソグラフィ＞
SVGL(Silicon Valley Group Lithography Systems, Inc.)による、ウエーハ露光装置
Micrascan II（i 線、ステップ走査式縮小ミラー投影露光装置）の開発や、Etec Systems Inc.
による電子ビーム露光装置 MEBES IV(マスク描画ないし将来のウエーハ露光装置)の開発などが当初の例として挙げられる。SEMATECH は当初一括してウエーハに転写する装置の開発を行ったが、その後ステッパの開発に転じ、GCA 社を支援して成果を上げた。34)そして現在は ASML 社の液浸露光装置と、次世代用として有望視されている EUV 露光技術に注力している。1) 特に EUV 露光技術としてはオルバニーナノテク（本書第４章参照）に納入されている ASML 社のアルファー機を用い、そのインフラとして Angstrom
Measurements, Inc や日本の Lasertec 社製品などを評価し 1)、マスク検査装置などの育成を行って周辺インフラの整備に傾注している。産業の振興という意味でこのような総合的配慮の意味は大きい。
＜ウエーハ工程＞
ウエーハ工程としては①絶縁膜や金属膜を成膜技術（Chemical Vapor Deposition: CVD）、
そして最近ではそれを原子層ごとに積層する技術(Atomic Layer Deposition: ALD)、②
CMP 技術、③エッチング・洗浄技術、④イオン注入技術などが基幹技術である。
SEMATECH10

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はそのすべての分野で企業育成に努めており、Applied Materials Inc、Novellus System
Inc.、Lam Research Corp.、などと共同開発を行って企業を育成している。1)34)
例えば、多層配線関連を見ると、②のために Westech Systems Inc.による、CMP 装置の開発がある。また①のため Genus Inc.によるタングステンシリサイドＣＶＤ装置の改良･改善（稼働率および処理能力の向上）や、③の技術として Lam Research Corp.による、枚葉式アルミエッチャー装置 Lam 4600（ECR：Electron Cyclotron Resonance 方式採用）の改良･改善（稼働率クリーン度の向上）などが主な成果である。1)34)＜測定・計測・制御＞
微細加工を行う上で製造装置以外にも重要なのは、加工されたものの計測と形状観察技術である。加工条件のモニターや加工したものの観察技術はデバイスメーカーにとっては非競合分野（pre-competitive な分野）であり、しかも必須の技術である。SEMATECH は、この分野で上記米国企業のみでなく、日、独をはじめ世界中の測定機器メーカーに参入を促し、共同開発を行っている。1)＜製造自動化＞
近年の微細加工技術の進展は著しく、生産に当たってはコンピュータの助け無しでは不可能になってきている。生産途中の機器のパラメータ抽出や、装置間のインタフェースとなるソフト、あるいは工程管理モデルなどが重要になってくる。一貫生産自動化システム〔APC(Advanced Process Control)又は AEC（Advanced Equipment Control）〕の開発実用化には、別々の企業が作る装置間のインタフェースの規格化が欠かせない。SEMATECHの戦略もここで世界標準を作り出し、装置産業の振興に貢献しようとしている。1)以上から言えることは、SEMATECH は＜リソグラフィ＞から＜製造自動化＞まで、ウ
エーハ工程のほぼ全ての分野で、広範囲に実用化研究をしているという事実である。つまり、生産に関連するほぼ総ての分野を対象にしていることが特徴である。個別の開発レベ
ルに関して、現在どの水準まで到達しているかは、年次報告書１）やシンポジウム 14)18)など
で明らかにされており、いずれの分野でも最高水準である。
SEMATECH の成果はこれだけではない。産業を支える人材が居なければ工場を動かすことすらできない。SEMATECH は博士コースの育成からワーカーレベルの育成まで幅広く人材育成に力を入れていることは年次報告に記載の通りである。１）またテキサス州に対しては SEMATECH が存在するだけで企業誘致に成功するので、「SEMATECH 効果」があるとされている。１）

５．成功の要因分析

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SEMATECH の構造と、他の組織との提携

５．１

発足初期の SEMATECH の組織は日本の超 LSI 共同研究所とほぼ同じ組織だった。その辺の事情は小宮啓義氏著「日本半導体産業の課題」35)に明らかにされている。その後、米国の業界でも AT&T などの半導体分野からの撤退があり、変遷を重ねたが、SEMATECH 自体は継続し、2007 年に発行された 2006 年度年次報告書で、20 周年特集号が組まれている。
この SEMATECH がなぜ 20 年間も続いたのか、成果の評価はどのようなプロセスで行われるのかという点に、読者は当然興味が湧くと思う。それに対して SEMATECH 社長のM. ポルカリ博士は次のように答えてくれた。17)
質問「SEMATECH が継続的に成果を生み出せた成功の鍵は何か？」

回答「いくつかの要因があるが、主なものとしては（１）企業との共同体制にある。技術者研究者の 20%が企業からの契約出向社員で構成されている。
（２） 量産に耐えるソリューションを追求するという点に焦点を絞っている。
（３） 多くの代替技術の中から本流を識別し、R&D の重複と無駄を省いてきた。
（４） 参加企業が主体的に決める意志決定システムも挙げられる。
（５） 適切な時点で技術を創出してきた。実に 90%以上の技術テーマが納期通り提供できている。
（６） プログラムは参加企業のニーズに従って柔軟に対応、変化できる。
ことなどである。」
つまり 20%の契約出向社員を中心として参加企業が主体的に決める意思決定に基づき、参加企業のニーズに柔軟に対応しつつ、参加企業の満足度を第一優先に配慮し量産現場にすぐ適用できる技術を納期通り提供し、無駄を省いているからだということになる。
SEMATECH の組織と他の組織との連携も見応えがある。既に小宮氏 36)がその著書においても説明しているが、2001 年時点の全米の半導体産業分野の産官学協力体制を見ると、
縦割り、横割りなどの区別無く、いかに関係部門が総力を挙げて協力体制を組んでいるかが判る。即ち国防総省、商務省、エネルギー省、その他環境庁〔Environmental Protection
Agency（EPA）〕や国立科学財団〔National Science Foundation (NSF)〕などの政府機関と共に、産業界、大学、国公立研究所が緊密に連携を取り合っている。その全体構図の中で SEMATECH は米国内外の半導体メーカーをパートナー企業にして支えられ、一方
SEMATECH も半導体メーカーや材料、装置、ソフトサービス企業などの産業界に貢献するというネットワークが構成されている。紙面の都合で図の掲載は省略したが、2007 年のシンポジウムで発表されたウエーハ工程（Front End Process FEP）におけるネットワー
クでは台湾、韓国の大学も含めて 39 名の著名な大学教授陣 37)が参画している。また同じく
2007 年のシンポジウムで発表されたウエーハ工程の中で、電極や誘電体材料技術に協力し12

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SEMATECHている国立研究所との連携 38)からも、例えば微細構造解析に関して問題が生じたときには、
すぐ国立研究所の大掛かりな施設を使って解析できるような体制が整っている。
５．２ メンバー企業重視の意思決定
このように強固に組み上げられた組織で、意思決定はどのようになされるのだろうか。
また得られた成果を客観的に評価する仕組みはどうなっているのであろうか。メンバー企
業の満足をどのようにして維持しているのだろうか。それに対して、ポルカリ社長は次のように答えてくれた。17)
質問「柔軟に対応、変化できる意思決定のメカニズムはどのようになっているのか。また成果はどのように計測する仕組みになっているのか？」
回答 「R&D プロジェクトの方針決定は各技術ワーキンググループとその上のステアリン
グコミティで練られ、SEMATECH のボードメンバーで審議決定される。すべてメンバー
企業の代表が参画できるようになっている。またアドバイザリ・グループも要所要所にあり、プロジェクトのレビューや成果の評価(ROI 計算)をしている。
」
ROI とは Return on Investment の略で、通常は投資効率のことである。この場合は
SEMATECH 運営のための財務諸表上の ROI ではなく、参加企業が SEMATECH に投じた資金に対して、どのくらいの価値が参加企業に還元されたかという意味で ROI が使われている。
ポルカリ社長の講演 14)でも、「参加企業が SEMATECH に＄１投じて、SEMATECH
から何ドルの価値を引き出すかというのが ROI の意味である」と述べている。
質問「意思決定組織はどうなっているのか？

回答「下記のようになっている。」
チェアマン
ボードメンバー

1 議席 / メンバー企業
戦略決定
年間予算審議決定

エグゼクティブステアリングコミティ

リソ
グラフィー

フロントエンド

1 票/メンバー企業

金属配線

プロセス

13

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SEMATECH

質問 「アドバイザリ・グループ（Advisory group）という言葉が年次報告書には出てくるが、それはどこに属するのか？」
回答 「これ全体がアドバイザリ・グループである。
」
組織自体に新しいところは無い。強いて言えば各ワーキンググループとステアリングコ
ミティとが直結しフラットな組織になっていることだろうか。因みに既述の発足 2 年後の方針転換に関しては次のように答えてくれた。17)
質問「1987 年スタート時点では最新プロセス技術の開発にフォーカスを絞ったが、2 年後には最新製造設備開発にフォーカスをシフトさせたと聞く。それは事実か？そしてそれが事実なら誰がどのような理由でそのような決定を下したのか？」
回答「プロセス開発から装置開発に主軸を移動したというのは、その通りである。当時

我々のメンバー企業は、SEMATECH が最も効果的にインパクトを与えられる分野は、生産装置の開発とその改善の分野だと判断したためである。しかし 1990 年代中ほどからは、
SEMATECH メンバーはコンソーシアムのフォーカスを拡大し生産装置の生産性やその改善だけではなく、リソグラフィ、配線、などウエーハ前工程の最先端技術開発にも注力するようにしている。」
質問「超 LSI 共同研究所の所長であった垂井先生は、超 LSI 共同研究所の成功の鍵は生産設備開発に方向性を合わせたことだと主張されているが、SEMATECH もその思想だったと考えてよいか？」回答「我々もその通りだと思う。生産とサプライチェーン（supply chain）(筆者註：インフラ)は今でも SEMATECH の主要フォーカス分野である。」
以上の問答からも明らかなように、当初の成果の原因は製造設備開発に主軸をおいたからと述べている。現在は製造技術全般に力点を広げて来ているのは個々の設備開発だけでは生産ラインの効率向上という観点からは不十分と判断したためであろう。特に前章で見た装置間を繋ぐコンピュータ制御ラインを考えても、製造技術全般を視野に入れて装置開発を行わなければならない時代になってきている。

５．３

参加企業による成果の評価方法

それでは得られた成果の評価はどのようにして行うのだろうか。10 億ドルの桁で成果を金額換算し、メンバー企業に還元したと表明しているが 1)、誰がどうやって金額を算出しているのだろう。それに対しては下記の問答がなされた。17)

質問 「先のご回答のように SEMATECH では参加企業の ROI を重要視しているが、研究14

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SEMATECHの ROI はみなし金額が含まれる。どうやって評価するのか？」回答「SEMATECH が参加企業に数式を示して、それに基づき、各企業が計算して申告する。SEMATECH はそれを集計して発表する。
」
質問「その場合、企業ごとに仮定や定義が異なることは無いのか？」

回答 「財務諸表に載るような現実の値（Realized Value）と「みなし」が入った戦略的な値（Strategic Value）がある。後者には、評価する企業により仮定や定義の差が考えられる。しかしその場合も毎年の変動が重要で、絶対値は問題ではない。相対値で評価している。」
この問答から判るように評価はある意味では内部評価であるが、しかし参加企業に ROIを計算させて、SEMATECH に参加していることの満足度を参加企業自身に確認している点
では、外部評価と言っても良いだろう。SEMATECH 運営の基本にこの参加企業への ROI を置いていることが特徴と言える。それ以上に、成果を ROI という金額換算で、定期的に、はっきり把握するという仕組みは、大いに参考にして良い。

５．４

メンバー企業満足度第一の運営

意思決定メカニズムと成果の評価方法が判ったので、次に具体的な運営に関して尋ねてみた。17）メンバー変更も著しいがそこに何か問題が潜んでいないか、あるいはメンバー変
更は運営上支障となることはないのだろうかと考えたからである。
質問「大変失礼な質問であるが、当初のメンバーと現在のメンバーとは大幅に入れ替っている。このような多くの企業が入れ替わる理由は何か。このようなメンバー企業変更はSEMATECH の運営に問題ではないのか？」
回答 「産業界に影響力のあるメンバー企業を保持することは、SEMATECH のビジネス戦
略にとって大変重要である。現在 16 社（筆者注： 2007 年 9 月のインタビュー時点は 14 社
で、2007 年 12 月時点の数と異なるが、3 章記述に合わせ 2007 年 12 月時点の数に修正した）の企業が SEMATECH と ISMI に加入しているが、このメンバー企業の総売上高は世界の半導体総売上高の半分以上を占めている。つまり半導体業界を代表していると言える。
しかし我々は過去 20 年間で著しく変化した、非常に流動的な、移ろいやすい（筆者註：対談では volatile という単語が使われた）業界に居る。
例えば当初のメンバー企業だった DECと AT&T はこの半導体業界から撤退したし、他の企業も半導体の“製造”を前ほど重視しない方向に、つまり他の力と併せ持つような方向にビジネスの舵を切っている。そのような時代にメンバー変更が生じるのは至極当然である。」
質問「つまり｢20 年も経てばすっかり変わる。DEC や AT&T も撤退した。SEMATECH

は状況に応じて体制を整え、半導体業界に貢献するようにしてきた。むしろ変化に柔軟に対応して、その時点その時点で、最も効率よく業界に貢献することを考えてきた｣というこ

15

（財）武田計測先端知財団
SEMATECHとで、むしろ柔軟な変化は長所という意味か？」
回答「その通り。」

換言すれば、「組織運営としては、SEMATECH を必要とする企業が SEMATECH を活用しその成果を持ち帰ることで、SEMATECH の組織そのものが常に最先端企業に活用され、最先端技術の実用化に貢献すればよい。会員企業が入れ替わり立ち代り変わろうが、組織として生き生きとしていればよい」という考え方である。
ここで既述の図３の特許出願推移について確認した。設備産業を育成し、特許権で権利を保護する戦略とすれば、それが特許出願動向に現れるはずである。ところが 1997 年以降
2003 年まで出願記録が無い。あるいはあっても極めて少ない。これはどのような戦略を意味するのだろうかと気になったからである。
質問 「我々の調査によると SEMATECH は 1997 年まで 54 件の登録特許を保持されておられる。しかしその後は特許出願をずっとしていない。2003 年になってやっと公開公報に載るようになったが、これは何を意味するのか？ 戦略上の変化があったのか？」
回答 「SEMATECH は 1997 年以降特許出願を中断した。それは我々のメンバー企業が知的財産権の創造より、インフラストラクチャの形成に注力するよう要請したからである。
その後 2003 年までに非常に多くの知的財産が貯まったので、2003 年以降は再び特許出願を始めている。
」
質問「特許出願数以外に客観的に成果を評価する方法はあるのか？どのように

SEMATECH では成果の評価を行っているのか？」回答「もちろん特許出願も一つの指標ではある。しかし我々にとって、あるいは我々のメンバー企業にとってもっと重要なものも他にある。つまり評価対象の中には、ROI 計算
結果や、また時宜を得た開発納期達成度、また有効な結果、更には新しいメンバーやパー
トナーや協力者を引き入れることなども含まれる」。
即ち SEMATECH 自身の知的財産より、現実のメンバー企業からの要請と評価を重んじたということである。知的財産収入で SEMATECH の経営をまかなおうという戦略意識は薄く、あくまでも参加企業満足度第一ということであろう。

６

将来動向に備えて標準策定
SEMATECH の 2006 年度年次報告書によると、SEMATECH は「米国にとって技術戦略と方向を、関連する全産業に示し得る唯一のコンソーシアムである。450mm ウエーハ、
3 次元配線、193nm 液浸、EUV リソグラフィ、チャンネル部の新材料、ゲートスタックな
どの世界的、かつ先端的プログラムを動かしている。
また SEMI 標準やロードマップ（ITRS）を リ ー ド し て い る 。」 と い う 組 織 と し て 位 置 付 け ら れ て い る 。 1)

SEMI や ITRS

16

（財）武田計測先端知財団
SEMATECH（International Technology Roadmap for Semiconductor

半導体技術の国際ロードマッ

プ）との連携も大きな貢献であるが、本書では SEMATECH に絞って議論を進めてきたた
めあまり触れていない。しかし貢献度が大きいことはあらためて記述するまでも無い。
また 2006 年度年次報告書では「SEMATECH 活動初期からみると多くのことが変化した
が、資源を掘り起こしリスクを共有して、共通の課題を解決するべく協力し合うことで、顧客に価値を生み出し最高の地位を保ち続けることを至上課題とするということ自体は何ら変わっていない。」と述べられている。そして 2006 年には「新加入メンバー3 企業〔マイクロン(Micron)、NEC、ルネサス（Renesas）〕で会員数 15 社となった。
」とあり、上記のような内部評価では「＄７M−$14M／会員に相当する知的財産、生産性向上、コスト低減の価値を還元した。
」とその成果を ROI に換算して明記している。
では将来に関しては、SEMATECH はどう見ているのであろうか。
質問 「微細加工技術探求後の次のパラダイム、つまり More than Moore、Beyond Moore
に関してはどう考えるか。例えば IMEC などでは新しい研究のパラダイムとしてポリマー
エレクトロニクス、次世代の記憶装置、そして自動車用ハイパワーデバイスなど、先を睨んだ検討がなされているように見える。39)この点についてはいかがか？」回答「SEMATECH としては半導体デバイスをより機能的に、そして高速にするため、やらねばならないことがまだまだ多数あると考えている。そのため我々は我々のメンバー
企業の為に最も役立つ生産性向上の解を見つける努力を継続し、チャレンジも続ける。しかし我々はまた代替技術として例えばナノインプリントリソグラフィ技術なども見据えて行く。ATDF でもナノテクノロジ材料や製造技術の開発を行っていく。
（筆者註：インタビ
ュー時はまだ ATDF と SVTC の合併前であった。
） また SEMATECH もバイオ、薬品、食料、自動車安全対策、次世代通信などの分野も視野に入れている。その他にもテキサスはオイル産業が盛んなのでそれに関するセンサーや MEMS も考えている。しかし今はその前にもっとやることがまだまだあると考えているということである。
」
つまりまだまだやることはたくさんある。特に個々の技術開発だけでなく業界方向付けにも意を配り、ガイドライン、標準作成を行って、産業界が効率の良い開発実用化研究を行えるように持って行こうということである。例えばその良い例は、次世代工場（NextGeneration Factory、NGF と略されている）のあり方として「NGF ビジョンガイドライン 19 項目」を提唱していることにも示されている。40)41)

7．まとめ
以上 SEMATECH の歴史から見る特徴は、20 年も続いていること、米国系企業の設備産
業育成に主力を置き、実学・実用化研究を重んじていること、SEMI を介して世界標準を決17

（財）武田計測先端知財団
SEMATECH

めて行こうという戦略に裏付けられていること、
そして 1998 年以降門戸を広く開けておき、
チップメーカーのみでなく材料、装置、ソフトなどあらゆる企業が次世代技術開発に参加
しやすい環境を作る努力を継続していることなどが上げられる。
運営は参加企業の満足度第一主義で、参加企業への還元を第一とし、成果は参加企業の
SEMATECH への投資に対する価値の還元を金額換算し ROI（Return on Investment）として参加企業に計算してもらい、評価をきちんとしている。その参加企業も、半導体の売上高で過半数を越える企業を集める努力をしており、常に業界主流となることを心掛けている。SEMATECH は会員が牽引するところに特徴があり、それが長続きする秘訣であると思う。つまり SEMATECH のプログラムは会員によって始められ、運営されて、評価を受ける。
そしてその成果である技術の移転に関しても、例えば特許面から見ると SEMATECH 保
有特許数の 10 倍以上の貢献を産業界に及ぼしている。具体的に年次報告書の中では 100 件以上の技術移転、100 件以上の技術者、技能者トレーニング、200 件以上の技術レポート、
プレゼンテーション、デモストレーション、会議などがなされたとある。１）

将来に繋げるため SEMI と連携し規格面での優位性を維持し、主導権を確保しようとしている具体例
として、450mm ウエーハ時代の規格標準作成も既に提唱されている。更に学界の支援、国立研究所の支援を幅広く手厚く受けている。そして産業界を支える人材育成の助成も行い、ひいては SEMATECH 効果を生み出し企業誘致などで地域貢献もなされており、総合的な産業直結型の仕組みを構築している。

謝辞
セミコンダクタポータル社編集長津田建二氏には semiconportal サイトに１の拙文を掲載して頂いた。又、セミコンダクタポータル社代表取締役社長であり SEMATECH の日本リエゾンである谷 奈穂子氏には、図らずもその拙文を原稿段階で英訳し、SEMATECH に送られて、後日 SEMATECH 社長マイケル・ポルカリ氏（Dr. M. Polcari）との会見が出来るようご尽力頂いた。SEMATECH シンポジウムの折に快くインタビューに応じて下さったポルカリ社長に感謝すると共に、当方からの質問を予め回送して下さった谷社長と、それに対して回答を纏めて下さった SEMATECH 広報部ディレクターのアン・イングランダー（Ms Anne Englander）氏、及びダン・マクゴワン(Mr． Dan McGowan)氏に御礼を申し上げたい。また図の使用に関し SEMATECH の承認を得るに当たり、谷社長には大変お世話になった。そして多方面から色々ご助言を賜った SELETE 取締役 河村誠一郎氏、また NGF ガイドラインに関してご助言を頂いた SEMATECH/ISMI 日本リエゾンの中村守孝
氏に、心より御礼を申し上げる。
（三浦義男、鴨志田元孝）

18

（財）武田計測先端知財団
SEMATECH

参考文献
１）SEMATECH ホームページ http://www.sematech.org/の About SEMATECH の所に年次報告書が掲載されている。
２）垂井康夫：本書第１章。
３）鴨志田元孝：“SEMATECH

Annual Report を読んで”、SemiconPortal Site(2007.9)。
４）小宮啓義；「日本半導体産業の課題」、電子ジャーナル刊(2004)の p.8、図 1-1５）例えば上山明博；「プロパテント・ウオーズ」、文春新書(2000)の p.124-127
６）M. L. Dertouzos, et al., 「MADE IN AMERICA」, MIT Press(1989); 依田直也訳 MIT
産業生産性調査委員会マイケル・L・ダートウゾス、リチャード・K・レスター、ロバート・M・ソロー；「Made in America」草思社（1990）の p.28、および委員会構成は
p.456-p.465
７）エズラ・ヴォーゲル（E. F. Vogel）広中和歌子、木本彰子訳；「ジャパンアズナンバー
ワン」TBS ブリタニカ刊(1979)、尚その後同著者、上田惇生訳；「ジャパンアズナンバ
ーワン再考」TBS ブリタニカ刊(1984)、および同著者、福島範昌訳；「ジャパンアズナ
ンバーワンそれからどうなった」たちばな出版（2000）が出ている
８）A. S. Grove；「HIGH OUTPUT MANAGEMENT」William Morris Agency Inc (1983)；
A.S.グローヴ著、小林 薫、上田敏晶訳；「ハイ・アウトプット・マネジメント」早川書房刊（1984）９）A. S. Grove；「ONE-ON-ONE

WITH ANDY GROVE」、William Morris Agency

Inc(1987)；A. S. グローヴ著、小林 薫監訳；
「ワン・オン・ワン」、パーソナルメディ
ア刊(1990)
10) T. J. Peters and R. H. Waterman, Jr.: 「IN SEARCH OF EXCELLENCE」,Harper &Row, Publishers, Inc. (1982);T. J. ピーターズ、R. H. ウオーターマン著

大前研一訳「エクセレントカンパニー」講談社刊(1983)
11) 竹内弘高、石倉洋子；「異質のマネジメント」[日本的同質経営を超えて]マネージャー
431 人現場からの提言、ダイヤモンド社(1994)
12)

例えば SEMATECH のホームページ
http://www.sematech.org/corporate/20years.htm に SEMATECH の Time Lineが詳細に記述されている
また“THE WALL STREET JOURNAL”：JUNE 23, 1989 も参考にした

13)

例えば半導体コンソーシアム一覧を掲げているセミコンダクタポータルサイトの web
http://www.semiconductorportal.com/GSC/shodescr.cfm?nm=International%20
SEMATECH14)

M. R. Polcari; ”New Models for R&D Partnerships”, SEMATECH Symposium
Japan 2007 予稿集 p.3-p.15(2007.9)

19

（財）武田計測先端知財団
SEMATECH

15)

例えば The Wall Street Journal の June 23, 1989 の記事に More Competitors turnto Cooperation と題した記事が掲載されており、SEMATECH 黎明期の経緯が記述さ
れている

16)

M. R. Polcari; SEMATECH Press Conference17)

M. R. Polcari; 2007 年 9 月 13 日筆者とのインタビューにて

18)

D. Anderson; "A New Model for Research & Development”, SEMATECH
Symposium Japan 2007 予稿集 p.115-p. 122(2007.9)の p.117 下図、
池田修二；“ATDF のご紹介”、http//www.sematech. org//meetings/ archives/other/7917/7_APDF.pdf (2006. 3. 15)

19) Giang Dao;”SEMATECH Overview”, SEMATECH Symposium Japan (2006)
Httm//ismi.sematech.or/meetings/archives/other/7917/1_SEMATECH_overview.pdf
20) SEMATECH News:” SVTC Joins Forces with SEMATECH Foundry ATDF”,
http://www.sematech.org./corporate/news/releases/20071204.htm (2007)、日本語訳
は C. Martell, D. McGowan, 谷 奈穂子；
“SVTC と SEMATECH の試作ファンドリ
ー ATDF 合 併 ― ― 半 導 体 プ ロ セ ス 開 発 に お け る 協 力 試 作 フ ァ ン ド リ ー 誕 生 ”(2007.12.5)
21)

ATDF の発表 http://www.atdf.com/; “Breaking News” (2007)22) SVTC の発 表

http://www.svtc.com/breakingnews/index.php;” SVTC and ATDF

Merge” (2007)23)

http://www.svtc.com/breakingnews/faq.php ;” SVTC and ATDF Merge – FAQ”
(2007)に、合併の理由、ベンチャーキャピタルの投資理由、合併契約の発効時期、トッ
プマネジメント、従業員数、従業員の職の確保、ビジネスモデル、合併が顧客に及ぼす効果、双方のパートナー企業への影響、SVTC の歴史、ATDF の歴史などがまとめられている。

24) K. Framm and Q. Wang; "SEMATECH Revisited: Assessing Consortium Impacts on
Semiconductor Industry R&D”, Securing the Future: Regional and National
Programs to Support the Semiconductor Industry (2003)

Board on Science,

Technology and Economic Policy (STEP), National Academies Press p.254
http://books.nap.edu/openbook.php?record_id=10677&page=254 の p.255
25）LTW Automation, Inc.のホームページ
http://www.ltwautomation.com/homepage.shtml の Links to Related Sites にロゴマークと内容が説明されている。SEMI の I の意味は SEMI Japan のホームページのSEMI at a Glance 掲載の年表も参照
26）Silicon Integration Initiative, Inc（1995 年 6 月 2 日）
http://si2.org/Inthenews/pr1995/index.htm
27）Sandia National Laboratories News Release （1998 年 2 月 18 日）

20（財）武田計測先端知財団
SEMATECH

http://www.sandia.gov/media/semisema.htm
尚、当時の米国半導体産業における政府―大学―産業界の協力体制は JEITA ホームページ http://strj-jeita.elisasp.net/pdf_ws_2002nendo/STRJ.pdf
28）Electronics Weekly（ 1999 年 12 月 7 日）
http://www.electronicsweekly.com/ARTICLES/1999/12/07/13908/SEMISematech+ex
pands+scope+changes+name.HTM
29）
SEMI Japan のホームページ http://wps2a.semi.org/wps/portal/_pagr/136/_pa.136/699
記載の SEMI AT-A-Glance の年表より
30) PR Newswire Associate, Inc.
http://www.prnewswire.com/cgi-bin/stories.pl?ACCT=104&STORY=/www/story/0531-2001/0001504811&EDATE=#linktopagetop
31)特許マップ、パテントマップに関しては例えば中村茂弘、「攻めの特許とパテントマップ」、
発明協会刊(1993)
32) 鴨志田元孝；「これからの知的財産実務」3.4 章、税務研究会刊(2007)33)

http://www.uspto.gov/patft/index.html

34) 井上弘基；“米国の半導体製造技術 R&D コンソーシアム＝セマテックについて”
機械経済研究 No.24、p.47 (1994)35) 小宮啓義；「日本半導体産業の課題」、電子ジャーナル刊(2004)の p.121
36) 小宮啓義；「日本半導体産業の課題」、電子ジャーナル刊(2004)の p.93 図５-１
37) R. Jammy；”Front End Process Division Overview of Logic and Memory Programs”,
SEMATECH 20th Anniversary Symposium Japan 2007 講演予稿集 p.81-p.94 の
p.93 の上図
38)

同上、p.93 の下図

39)

例えば http://www.arrm.be/mainprogram.aspxに IMEC の第 17 回年次研究レビュ

ー報告会プログラムが掲載されており、最後の日のセッションが More than Moore
について計画されている。
40)

S. Kramer,”450mm Implementation—First Steps”, SEMATECH 20th Anniversary
Symposium Japan 2007 講演予稿集 p.39—p.49 p.44—p46

41)

J.

Draina;”300mm

Prime

Productivity

Improvement”,

SEMATECH

20th

Anniversary Symposium Japan 2007 講演予稿集 p19—p.35

21