《巻頭言》

アテネの学園長崎大学工学部

藤山 寛

12 月というのに秋たけなわの九州路を，出張帰りの高速と諭す先生が居た．今や学生は，試験に合格するために勉道路から楽しんだ．真紅の櫨の木や黄色いイチョウ，長崎道

強しなければならないのである．己を知ることが人生の目的に入れば県木の椿が彩りを加えていた．「久しぶりに」というであるなどという発想はどこにもない（たぶん）．
では，“アテネの学園”を取り戻すためにどうすればよいの気がした．「ゆとりがないのだなー」とも思った．
最近，大学の先生方の顔色がよくない．独法化やら COE
やら JABEE やら，評価やら競争的資金やら地域貢献やら，だろうか？私見を述べさせていただくならば，それは“評価の仕方”である．

TLO やら定員割れやら校費の効率化係数やら．．．．これら筆者の所属する大学では，「教育」，「学術・研究」，「組織学内のあれこれに加えて，さらに国内外の学会や研究会が，運営」，「社会貢献」の４領域の個人評価を全国に先駆けて

まるでハードルが向こうから押し寄せるように痛んだ身体に実施した．前回は，各領域の５段階評価を足し合わせた 20

鞭を入れてくる．便利な電子メールでさえ恨めしくなるときが点満点の総合評価を行った．これは明らかに失敗だった．教ある．水風船が頭上で膨らんでくるようで，これでは確かに紅官個々の能力によらず各領域すべての仕事を満遍なくこな葉を楽しむ余裕などどこにもない．

すように奨励されるからである．つまり，この評価法は，チー「女性は笑顔が一番美しい」と古来言われているが，溌剌

ム全員がオールラウンドプレイヤーたるべし，と強制するからとした笑顔で登壇する先生も学生達にはとてもまぶしく見えである．チームスポーツを見ればわかるように，組織はスペるだろう．私など，青白くしかめ面のこんな姿を学生達には見シャリストの集団であるべきだろう．これは本当に強いチーム

せられない，と教室に入る前に無理やり笑顔を作るのが精一となる．研究に秀でた人，教育に向いた人，組織運営がうま杯の日々である．大学の PR パンフレットに登場するような，いコーディネータ，社会貢献が得意な人がそこそこ大学にい美しいキャンパスを学生達と談笑しながら歩いているにこやて全体が機能する強い組織となる．このような柔軟な評価法

かな教授など本当にいるのだろうか．

が，各自の得意領域を伸ばし，さらに強いチームを作るに違のっけから暗い文章で大変申し訳ないことだが，有能で若いない．

い大学人が疲弊しているのを見るのは辛い．大学はいつか現在行われている種々の大学評価，個人評価は，大学やらこんなに忙しくなったのだろう．小泉改革か構造改革か知教官個人の得意な分野を自分自身で認識するために行ってらないが，これでは大学の活性化や社会貢献はおぼつかないると考えればよいだろう．教育型の大学か研究型でいくか，

いのではないだろうか．

自分に向いているのは研究者なのか教育者なのか，あるい一方の企業はといえば，不況が底を打ち V 字だか U 字だはマネージャーなのか．今の大学では，４領域すべてを要求

かの回復を見せてきても，何だか元気が無い．研究開発費されるから無理がくる．その結果，青白い顔をした大学人がなど国費で賄う以外増えようがないのだから，研究を楽しむ

疲れた顔でキャンパスを走り回ることになる．
「一世は夢よ，皆狂え」とは誰が言ったのだろうか．今は多などという雰囲気も生まれようがない．
本来，研究というものは楽しんでやるものである．「研究が少狂いすぎている気配があるが，修復機能をもつのが自然趣味」と言って憚らない堂々たる研究者がかっては多く大学（人間という存在も含めて）のたくましさである．ただし，に居た．昇進や賞などには眼もくれずひたすら研究を楽しむ“修復のスイッチは貴方自身が押すのですぞ”

大学人が確かにたくさん居た．なぜ勉強しなければならないのか，という素朴な質問に，「学問をすればより高いところから己を知ることができる，これは素晴らしいいことではないか」1

《研究室紹介》（その 29）
東京大学 新領域創成科学研究科 物質系専攻
University of Tokyo, Graduate School of Frontier Science, Department of Advanced Materials Science

マテリアル機能設計大講座・寺嶋研究室― 微細（マイクロ/メゾ/ナノ）空間でのプラズマ材料科学の創生を目指して ―寺嶋 和夫
１．寺嶋研究室とは？
私たち寺嶋研究室は、プラズマ科学のニューフ
ロンティア−微細空間（マイクロ/メゾ/ナノスペース）における新しいプラズマ材料科学の創生を
究極のミッションとして研究を進めています。
ヘッドクオーターである東京大学・柏キャンパ
スブラボ、学部（工学部・マテリアル工学科）教育研究を担当する本郷ラボを中心にして、ナノテ
ク研究機関との窓口となる、つくば連携ラボ（界面ナノアーキテクトニクスセンター）、そして、
この秋より駐在の学生をおいた、スイス連携ラボ（スイス連邦共和国・材料研究所）から構成されています。将来的にはこれらに加えカリフォルニ
アラボも・・と夢みています（と夢想していた矢先に、私が所属する物質系専攻が、文部科学省
COE プログラム（物理学分野）に採択され、Stanford 大学の応用物理学科と連携することになり、コラボレーションベースラボの設置も進行中です。また来春、博士取得予定の学生さんのPD 先が Stanford 大学に決まり、ひょっとしたら来年のクリスマスは・・・とっても楽しみです。
）。
さて、その“本拠地”となる東京大学・大学院・

新領域創成科学研究科は、本郷キャンパス、駒場キャンパスと並ぶ東京大学における第３のキャンパスである柏キャンパスに位置し、東京大学・三極構造（図１参照）の重要な役割を担っています。
西暦 2000 年、新しい世紀―21 世紀を目前にして、物性科学の世界的な拠点である物性研究所、
そして、小柴先生のノーベル物理学賞受賞で一躍有名になった宇宙線研究所の移転からスタートしたこの柏キャンパスでは、未来社会の明日を切り拓く教育研究の新たな拠点として、成熟度の異なるデイシプリンの統合（21 世紀“知”の統合）による教育/研究を進めるとともに、“知の冒険”を通じて、新しい学問領域の創成、そして、新しい学問領域の創成を可能ならしめる若き知的冒険者の育成に、特に、日夜励んでいます。
私たちが挑戦する“微細（マイクロ/メゾ/ナノ）
空間プラズマ科学技術”も、東京大学における新しい学問の創成を目指す柏キャンパスに相応しい、
21 世紀におけるプラズマ科学技術分野における未開拓の知的桃源郷―ニューフロンテイア−と確信しております。

２． プラズマ科学技術のニューフロンテイア−マイクロプラズマ／ナノプラズマの世界 −固体、液体、気体、に続く第４の物質状態 ―プ
ラズマ。20 世紀初頭、界面化学の祖 ―ラングミ
ュア― により命名されたプラズマは、今や、先端科学技術の多くの分野 ―半導体デバイス創製、
汚染大気クリーン環境化処理、宇宙ロケットエンジ
ンなど― において、21 世紀の産業・社会を支える基盤科学技術として全世界で広範囲にわたる研究が進められています。我が国においても、応用物理学会・プラズマエレクトロニクス分科会メンバーの皆さまを中心にした精力的な研究が進められていることは言を待ちません。

図１ 東大アカデミックプラン（３極構造）

2オンなどが混在する新しい複雑系での"励起現象"を扱う、新たな学問分野の創生への第一歩となったこの発見の今後の展開が期待されています。
一方、後者に関しても、マクロスケール空間のプラズマからナノ空間のプラズマに移る境界領域、
即ち、メゾ空間には µm スケールのプラズマ（マイクロプラズマ）が存在します。ここでは、従来の物理化学の枠組内のプラズマが主役であり、新しい科学の誕生の可能性は低いものの、特異物性などの工学的応用が期待されています。実際、近年、産業的に大成功を収めたプラズマテレビ（PDP）
への応用は広く知られています。今後、多方面への応用展開が大いに期待されています（図３参照）。

３．マイクロ／ナノプラズマテクノロジーから広がる多彩な研究テーマ
寺嶋研究室では、ナノプラズマのパイオニア
的研究の一つとされている、寺嶋のスイスでのサバテイカル中にバーゼル大学で行った、“STM技術を用いたナノプラズマ実験”をスタートとして、
約 10 年の間、一貫して、マイクロ/ナノプラズマ
に関する材料科学の創成、材料工学への応用を中心に研究を進めて来ました。
マイクロ/ナノプラズ
マのもつ、(1)超高密度性（従来の 103倍以上）、
3(2)超非平衡性（従来の 10 倍以上）、(3)超局在性-3（寸法比 10 以下）、(4)マルチアレイ化による大規模化の容易性、(5)プラズマ媒質環境の超エキゾ
ティズムなど、通常のプラズマを凌駕する特長を

図２ 微細空間での新規プラズマの探索
さて、現在までに、プラズマは、sub mm から mの大きさの実験室プラマ（マクロ空間プラズマ）
や、自然界プラズマや宇宙プラズマのような km から何光年にも至る巨大な大きさのプラズマ（スーパーマクロ空間プラズマ）のように、主に肉眼で確認できる領域で認知されていました。一方、sub
mm 以下の微細空間 ―メゾ/マイクロ空間―、特に、数 μｍ以下の超微細空間 ―ナノ空間― でのプラズマについての知見は、最近まで皆無に近い状態でした（図２参照）。 このような状況の下、(1) 微細プラズマが有する特異的物性は？
(2)その現実のマクロ世界への応用は？
という興味の下、"微細プラズマ科学"の確立を最終目標として研究を進めています。
前者に関しては、少しずつですが、その秘めた魅力を我々の前に姿を現してきました。例えば、超臨界流体CO2中でのナノ空間プラズマの発生時に臨界点付近でプラズマ発生電圧が従来の相似則から大きく外れ激減（20％以下）する特異現象が我々の研究室で数年前に発見されました。臨界点近傍では、原子・分子間で量子論的クラスタリン
グ反応が進行し、そのクラスタ揺らぎとの関連で論じています。原子、分子、クラスタ、電子、イ

図３3マイクロプラズマ応用展開樹木図

プロセスプラズマパネル）、（B）走査型マイクロプ
ラズマを用いた極微小プラズマ励起ナノ顕微元素分析装置、（C）プラズマファイバー、（D）マイクロプラズマＣＶＤ装置、(E)熱電子援用型マイクロプラズマ装置、(F)熱プラズマ・ナノクラスター成膜装置、などの開発基礎研究も行ってきました。

活かさんと、現在、①半導体微細加工技術、②ピ
エゾアクチュエーター技術などを駆使した微小ス
ケール（数十 μｍ〜数 μｍ〜数百ｎｍ）の"プラズマ"の創製法の確立を進め、その構造、及び、特異物性の解明を目指し、各種の分光法、
電磁気法、
計算機シミュレーション法による研究を進めています。さらにまた、その新規ナノ物質創製や、オンデマンドプラズマナノプロセス開発を中心にプ
ラズマ材料工学への応用展開を進めています。
現在行っています主要テーマは以下の通りです。
(1)ピエゾ技術および超微細加工技術を用いた、
超微細プラズマの発生、物性、材料プロセス応用、(2)プラズマ環境 SPM、エバネッセントプラズマ分光法の開発とプラズマ・固体ナノ界面研究応用、(3)マルチマイクロプラズマアレイの創製とその大面積・コンビナトリアル材料プロセス応用、(4)超臨界（クラスタ流体）プラズマの生成・構造・物性・材料プロセス応用（新物質開発、デバイス
微細加工プロセス）、(5)オンデマンドプラズマナノプロセシング開発（プラズマチップ、プラズマパネル、プラズマフ
ァイバー（図４参照）など）、などであります。
微小スケールのプラズマという新しい物質状態の誕生は、量子プラズマ、低次元プラズマなどといった物質科学の新たな概念も産み出し、"液晶"や"微粒子・クラスタ"など新しい物質相が新たな産業を創出したように、21 世紀の新しい産業・社
会・文化・地球環境の創製へと導きます。
その小さな第一歩として、現在までに先見性に富む"産業界"の方々との連携により、（A）高集積マルマチプラズマプロセス装置（プラズマチップ、

４．おわりに−寺嶋研究室のミッション−
地球規模での環境問題・エネルギー問題、ＩＴ時代の新しい社会システムの構築、高齢化問題など、21 世紀に我国が直面する緊急課題の解決にとって、ナノスケールサイエンス＆テクノロジー、などを通じて“物質・材料科学（マテリアルサイ
エンス）”
はその基盤科学技術としての重要な役割を果たしていきます。さらにまた、これら複雑多岐な課題の解決に対しては、“暖かいハートを持った知的野蛮人”として新たなフロンテイアを切り拓くことが可能な若い力が必要とされています。
寺嶋研究室は、まさに、そのような気概と能力に溢れた学生さん達の力で成り立っており、
また、そのフィロソフィーに賛同して下さる多くの先生の皆様、企業の方々に支えられてまいりました。
“プラズマ材料科学”のニューフロンテイア微細空間プラズマ材料科学-の創生を通じて、
このような“暖かなハートを持った知的野蛮人”の教育研究を進めることが、現在の日本において本当に望まれている寺嶋研究室のミッションのような気がする師走の日々です。
今後とも、皆様のご支援、ご指導をお願いいたします。また、ご興味のある方は、HPを覗きに来て下さいませ（http://terra.k.u-tokyo.ac.jp/）。

図４ プラズマファイバー4

《寄稿》特定領域研究「プラズマを用いたミクロ反応場の創成とその応用」の発足にあたって
領域代表 橘 邦英 （京都大学工学研究科）
文部科学省科学研究費 特定領域研究「プラズマを用いたミ

ロセスに応用できますが、そこでの反応過程の基礎研究も必

クロ反応場の創成とその応用」が、平成１５年度から５年間の要になります。

予定で発足しました。サブミリからサブミクロンの大きさである

今回発足した特定領域研究では、次ページの図に示すよ微小なプラズマは、従来のプラズマとは異なる世界を創造す

うに、マイクロプラズマを「つくる（生成）」 、「みる（診断）」 、る可能性があります。本研究は、「必要な場所に必要な特性「つかう（応用）」 の 3 つの立場から、共通の基礎となる学術で必要な大きさのプラズマを」という観点から、マイクロプラズ

研究の課題を中心に据えて、相互にシーズとニーズを交換

マの学術的体系ならびにその応用を構築することを目的とししながら、研究を進めることになっています。
まず、マイクロプラズマを高効率で、安定して「つくる」には、ています。
プラズマエレクトロニクス分科会は、これまでの幾つかの重幾つかのキーポイントを押さえる必要があります。特に、高効点領域研究等が重要な牽引力となってきました。今回の特率の電源（小型化）や給電の方法（微小空間への対応）、放定領域研究も、プラズマエレクトロニクス分科会の更なる発展

電空間（構造や壁面の積極活用）に対する新規な工夫などの一助になればと思います。当初から計画研究に参加してにブレークスルーを見出す必要があります。

頂いている方々はもとより、今年及び平成 17 年に公募する「みる」方においては、微小な空間におけるプラズマパラメ

各15〜20 件程度の公募研究を通して、プラズマエレクトロニ

ータや励起種などの時空間分解測定に加えて、壁面での帯

クス分科会の方々にも広く参加して頂き、ともに新たらしい学

電電荷量などの新しい測定法の開発が望まれます。それと術分野を開拓していくことができればと願っています。

同時に、高密度媒質中での放電プラズマ現象に関する基礎

マイクロプラズマの特徴は、まず空間的に微小であること、それに伴って、プラズマ中での粒子の滞在時間などの特性パラメータの実測による集積や高速の 3 次元シミュレーション技法の開発も望まれます。

時間が短いことや、温度などの空間的な変化が急激であるこ「つかう」方においては、プラズマが有している①光を発生とが挙げられます。また、動作ガス圧を必然的に高くすることする性質、②導電または誘電的な性質、③化学反応を促進になり、大気圧かそれ以上での圧力（あるいは媒質密度）をする性質などと、微小であることの特徴をうまく組み合わせた扱うことになります。電離度が程々であっても電子やイオンの新規なアイデアで応用を開拓していく必要があります。

13

密度が 10-3

18

cm 以上、場合によっては 10-3cm オーダー

図にも示したように、空間的サイズや動作圧力の範囲のみにもなり、従来のプラズマ物理で扱ってきたものとは大きく異ならず、電子密度などのプラズマパラメータにおいても、従なったパラメータ領域で放電プラズマ現象の科学を考える必来のプラズマの範疇とは違った領域でのメゾエキゾティック

要があります。もちろん、高密度媒質中では荷電粒子間の長な研究に、多くの方が興味をもって頂ければ幸いです。なお、

距離クーロン相互作用より、中性粒子との短距離での衝突が詳細な情報については下記 URL をご参照ください。

支配的となり、その極限では超臨界流体のようなクラスター

http://plasma1.kuee.kyoto-u.ac.jp/~tokutei429/

媒質中での荷電粒子の振る舞いを考える必要がでてきます。
さらに、制限された空間領域に局在する高い運動エネルギ
ーや高い内部エネルギーをもった非熱平衡の粒子の反応を利用して、MEMS加工や超微粒子合成などの局所非平衡プ5マイクロプラズマをつくる(生成・制御技術の確立)
ｴﾈﾙｷﾞｰ注入の高速化
高効率な電力結合

マイクロプラズマの形態
・ﾏｲｸﾛｾﾙ、 ・液滴、微粒子
ｷｬﾋﾟﾗﾘｰ中 の放電
・ﾏｲｸﾛ電極の放電・超高周波電源・超高速パルス電源

壁面損失の制限→界面と放電物性
伝送損失の低減→伝送回路技術

10〜100µm

ｴﾈﾙｷﾞｰ
空間制限型 媒質制限型
集中型

マイクロプラズマをみる

ラジカル密度
表面蓄積電荷量動的挙動

ne (cm-3)

λD (mm)102

10-3

103 10-4

量子統計的効果
量子力学的効果
高温・高密度性1017(超短波長光源）101 10-2

高導電・誘電性(電磁波との相互作用)

1016

(THz)

局所・非平衡反応性（超微量分析
マイクロプロセス)

1014
1013

ｴﾊﾞﾈｾﾝﾄ分光法

Exotic Area

1018

1015

レーザー計測法
CIP 法

Meso-Exotic Area
実用的領域

1019

電子密度

ガス温度

1020

104 10-5
デバイ長

電子温度

ωp (GHz)プラズマ密度

105 10-6

プラズマ振動数

診断の対象（診断・シミュレーション）

(µm)

従来の範疇

1012
102

101

100

10-1

10-2

10-3

10-4

10-5

サイズ (mm)

マイクロプラズマをつかう（応用技術の展開(例)）マイクロプラズマアレイ

走査型マイクロプラズマペンシル

電磁波制御
プラズマデバイス
変調
遮断〜

モバイル・ヘルスケア分析装置

治療用プラズマファイバ

光路制御
入射電磁波

Plasma fiber

単一波長
入射電磁波

EUV 光源Mirror magnetic field

マイクロトーチEUVµ wave6e
ip lins tr
Basic concept of micro ECR plasma

多波長成分《海外の研究事情》（その 14）
ミネソタ大学滞在報告
High Temperature and Plasma Lab, Mechanical Engineering Department, University of Minnesota,

東京工業大学 大学院理工学研究科 機械制御システム専攻 野崎智洋
界各国から多くの短期留学者が訪れるため，１年を通して活気のあるキャンパスです。

はじめに
文部科学省在外研究員として，平成 15 年 3 月 20 日
から平成 16 年 1 月 21 日まで，ミネソタ大学機械工学科，High Temperature & Plasma Lab（以下 HTPL）に滞在する機会を頂きました。個人の意見を交えながら，ミネソ
タ州，ミネアポリス，ミネソタ大学を始め，HTPL での研究
生活を紹介させて頂きます。

High Temperature & Plasma Lab（HTPL）*
機械工学科・High Temperature & Plasma Lab（通称 HTPL）は，Emil Pfender 教授，Joachim Heberlein
教授, Steven Girshick 教授, Uwe Kortshagen 教授を始め， 25 名の大学院生・ポスドクを含む陣容です（20003 年 9 月現在）。Pfender 教授，Heberlein 教授，
Girshick 教授を中心に，主として熱プラズマを対象にしたモデリング，熱物質移動現象の解明とプラズマ CVD
に関する研究が行われています。一方，Kortshagen 教
授を中心に，大気圧グロー放電，RF プラズマ（低圧）をミネソタ州・Twin cities *ミネソタ州・ミネアポリスはアメリカ中西部に位置しており，州中央東部に位置するミネアポリスとセントポールはツインシティーズと呼ばれています。セントポールは主に行政の地として，ミネアポリスは経済・文化の地として開発されました。冬は寒さが厳しく，零下 20℃を下回る
寒さに見舞われますが（Wind Chill と呼ばれ，体感温度は-40℃に達する日もある），夏の美しさは格別です。自動車のライセンスプレートには 10,000 Lakes と書かれているように大小さまざまな湖が点在し（実際には15,000 湖），カヌーなどアウトドアスポーツのメッカとしても知られています。治安は良く，社会福祉，教育，文化のレベルが高いことから，5 年連続でアメリカ人が住みたい町ナンバー１にランクされています。ダウンタウンや全
米一の大きさを誇る Mole of America でのショッピング，
４大プロスポーツ観戦が観光としてはポピュラーですが，時間があればレンタカーを借り，スペリオール湖（写真２）やミシシッピ川源流（写真８）まで足を伸ばし，ミネソタの大自然を満喫するのもいいかもしれません。

写真１ キャンパスから撮影した Downtown
Minneapolis

ミネソタ大学・Twin cities キャンパス*ミネソタ大学は州内に４つのキャンパスを有しており，
約 60,000 人の学生を抱える全米でも有数の総合大学です。治安，物価のバランスのよさから留学先として高い評価を受けています。様々な分野で 150 の学士号，200 の修士号，100 の博士号を提供しており，全米でもトップ３に入る研究型公立大学として定評があります。工学部では化学工学科と機械工学科*のプログラムが有名で，機械工学科は全米８位にランクインされています。
語学教育（ESL: English as a Second Language）も定評があり，夏季休業中は特別講座が多数開講され，世

写真２
7

スペリオール湖（Duluth）と跳ね橋

るセミナーが隔週で開催されており，これに出席することが研究室全体としての主要なアクティビティーとなっています。
ここ HTPL で，私は Heberlein 教授とともにトリプルトー
チ・アークプラズマ CVD によるスーパーハード・コーティ
ングに関する研究，および Kortshagen 教授とともに大気圧グロー放電を用いたカーボンナノチューブの合成に関する研究を行っています。

写真３

トリプルトーチ・プラズマ CVD によるスーパーハード・コーティング
写真５は，Heberlein教授率いる熱プラズマグループです。数名を除き全員が博士課程後期の学生で，プラズマスプレイ，熱プラズマCVD，ワイヤアークに関する研究に従事しています。私は博士課程後期１年のNicole（前列最左）と共に，トリプルトーチ・プラズマによるスーパーハード・コーティングに関する研究を行っています。
トリプルトーチ・プラズマは，３つの直流アルゴンプラズマ
ジェットを軸対称に配置したもので，軸線上上流から
様々な原料ガスを供給することで，下流よどみ点（Converging point）に置かれた基板上に炭化物，窒化物，及びこれらの複合薄膜を堆積することができます。ト
リプルトーチ・プラズマは対象性がよく，多種多様なプリカーサを均一に供給できる特徴があります。一般に，ダイヤモンドやc-BNはそれ自体が高硬度の材料として知られていますが，例えばアモルファスSi3N4にTiNなどのナノ粒子を混在させたナノコンポジット材は，ダイヤモンドに匹敵する高硬度を持った人工材料として脚光を浴びています。現在は，Si3N4にカーボン（またはカーバイド）のナノ粒子を分散させた薄膜の開発を目指して研究を行っています。合成した薄膜の物性評価も大きな研
究課題の一つとなっています。ナノ粒子の同定とそれに由来した物性変化を調べることが最も難しく，そのためにnano-indenterという特殊な装置を使います。いわゆるナノスケールの硬さ試験機です。nano-indenterの開発 や 物 性 評 価 に 関 す る 研 究 は ， Department ofChemical Engineering & Material Science と共同で行っています。

Walter library

写真４ 2001 年 4 月 25 日にオープンした機械工学科新校舎とシンボルの Platonic Figure
はじめとする非平衡プラズマに関する基礎と，ナノ粒子生成など応用研究が行われています。ミネソタ大学は微粒子の研究においても屈指の研究機関を有しており，
当研究室も Nanoparticle Science and Engineering *（Director：Uwe Kortshagen 教授）のプロジェクトに参加して共同研究を行っています。学生は，指導教授が率いるグループミーティングに出席することに加え，週一回の HTPL セミナーで自身が担当するプロジェクトのプレゼンテーションが義務付けられています。また，他
大学・企業から講演者を招いたナノテクノロジーに関す

8

を受けてしまいます。現在は，Kortshagen 教授らによって開発されたプラズマ診断技術や解析コードを駆使して，プラズマの安定性を確保しながら真空プロセスに匹敵する配向カーボンナノチューブ合成の可能性を探求しています。また様々なデバイスへの応用を考えて，触媒微粒子のナノ・アレイをテンプレートとして用いた，より高度な CNT 合成プロセスへの展開も検討しています。
ミネソタ大学の研究事情
研究テーマから離れ，雑感を述べます。最も驚いたことは，博士過程後期の学生が非常に多いことです。研究室にとっては，多くの学生を有するほど人件費がほぼ比例して必要になるわけですから，研究及び研究費に対する考え方は非常にシビアで，共有できる物，使える
物はとことん使う，無駄な買い物はしない，という節約振りは徹底したものがあります。20 年前の計測機器を使うことも珍しくありません。それぞれのプロジェクトは毎年更新作業が義務付けられており，計画を達成できそうになければ簡単に研究費を打ち切られてしまいます。このような背景から，テーマを担当する大学院生は独立した
一人前の研究者として認識されていますし，彼らもそれを自負しています。また，安全管理に対する意識は高く，実験中はゴーグルを着用，ガスボンベ等は可燃性のものから壁（スタンド）に立てかける，床にケーブルを這わせないなど，個人の責任のもと厳しく管理されています。
次に印象に残ったことは，物品購入です。各学科にはshop が常駐しており，配管部品の調達や機械加工は
機 械 工 学 科 の Machine shop ， 化 学 薬 品 な ら

中央：Joachim Heberlein 教授，右：著者
写真５ 熱プラズマグループ
大気圧グロープラズマとカーボンナノチューブ合成
写真６は，Kortshagen 教授を中心とする非平衡プラ
ズマグループです。大気圧グロープラズマの数値解析
や，低圧 ICP（13.56 MHz）のプローブ計測を始めとする基礎研究と，ナノ粒子合成に関する研究が主なテー
マです。私は，博士課程後期１年の Lorenzo（前列最左）とともに大気圧グロー放電の安定性とカーボンナノ
チューブ合成に関する研究を行っています。大気圧グ
ロー放電は，比較的簡便な装置で容易に反応性プラズ
マを形成できることが特徴で，既存の真空プロセスを取って代ることができる新しいプラズマプロセシングとして大きな期待が寄せられています。反面，均一かつ安定なプラズマを得ることは容易でなく，そのためにガス組成や電極配置など外部パラメータの設定に大きな制約

写真７ Twin cities キャンパスの目抜き通り

後列右：Uwe Kortshagen 教授，前右：著者（Washington Ave）

写真６ 非平衡プラズマグループ

9Chemistry shop，真空部品や光学部品は Physics，Electrical shop でほぼ入手可能であり，合理的且つ便利です。一方，規格品でない消耗品を購入する場合には厄介で，直接企業と交渉をしてなるべく安いものを購入しなければなりません。会計事務を通じて発注するため，極端に高額な消耗品やカタログにない特注品を購入する際には相当時間を有する場合があります。企業の中には小額部品を販売するのにはあまり前向きではない場合もあり，取引中でも担当者は平気で１ヶ月のバケーションに行ったりします。雑な対応をされるとつい弱腰になってしまいますが，Email，電話，FAX を駆使して根気よく担当者と連絡を取りあわなければなりません。
アメリカ人でも引っ込み思案な人は同じような被害に会っていました。

理はとても素晴らしいと思いましたが，日常生活で外国人が家庭料理に遭遇する機会は少なく，結局，ハンバーガやピザに代表されるファーストフードが主食になってしまうのが現状です。幸い私は妻が作ってくれる日本
食のおかげで健康的な生活を送ることができました。ア
メリカ文化に親しむという点では落第だったかも知れません。
おわりに
3 月 20 日午前 11 時 40 分，アメリカ軍によるイラク軍
事攻撃の開始を報じるニュースを成田空港の大型スクリーンで見つめながら，複雑な気持ちで日本を発ったことが昨日のことの様に思い出されます。それから早 9 ヶ月が経ち，希望に満ちた在外研究もそろそろ終わりに近づいています。最後になりましたが，本稿を記する機会を頂きました，九州大学システム情報科学研究院，白谷正治 先生にお礼申し上げます。ミネソタ大学に滞在する貴重な機会を頂いたうえ，多岐にわたりサポートして
下 さ い ま し た Joachim Heberlein 教 授 ， Uwe
Kortshagen 教授，HTPL の皆様には心よりお礼申し上げます。10 ヶ月間本務を離れることを快諾頂きました，
東京工業大学機械制御システムの先生方を始め，エネ
ルギー事象学講座，岡崎 健 教授，伏信 一慶 助教
授，角 茂 博士，修士課程・木村 義人 氏，後藤 友哉
氏，そして研究室一同に深くお礼申し上げます。最後に，滞在費を支給して下さいました文部科学省に感謝致します。

写真８ ミシシッピ川源流（Itasca 州立公園）
LINK
ミネソタ州政府観光局：
http://www.minnesota.gr.jp/
ミネソタ大学：
http://www1.umn.edu/twincities/index.php
機械工学科：
http://www.me.umn.edu/
Mailing list：
http://www.tc.umn.edu/~sakam005/mnjapan/
HTPL：
http://www.me.umn.edu/divisions/tht/highT/index.ht
mlNanoparticle Sci. & Eng.：
http://www.nanoigert.umn.edu/

アメリカ −Pros and Cons−
私見ですが，アメリカ人は面倒くさがりやで，できるだけシンプルに Yes or No で物事を片付けようとする傾向があります。アバウトに感じることがしばしばありますが，
これが合理的な考え方の原動力になっているのかもしれません。また，アメリカ人の寛大さも時にはルーズに見えることがありますし，街ですごく親切な人に出会ったかと思えば，日本ではありえないような無礼者に遭遇することもあります。何十万円もする洋服が並べられている
デパートの中で，全て１ドル以下で購入できる古着屋を見つけることもできます（主に Refugee を対象）。ことの良し悪しは別として，重大な事件に巻き込まれることがなかった私にとって，全て笑い飛ばすことができるいい経験だったと言えます。強いて言うならば，アメリカの食事には慣れることができませんでした。アメリカの家庭料

10《国際会議報告》
16th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC-16) 参加報告
京都大学 国際融合創造センター 白藤 立

16th International Symposium on Plasma Chemistry

Table I. ISPC-16 セッション別発表件数
Session
1 Fundamentals of plasma-surface interactions
2 Gas phase plasma diagnostics
3 Modeling in plasma chemistry
4 Non equilibrium effects and atmospheric pressure plasma processes
5 Plasma sources
6 Plasma processing for microelectronics
7 PECVD/treatment of semiconductors and related materials
8 Plasma deposition of inorganic and hard coatings
9 Plasma deposition and treatment of polymers
10 Clusters, particles and powders
11 Plasma chemical synthesis
12 Plasma spray and thermal plasma materials processing
13 Hybrid plasma/radiation processes
A Biomedical applications of plasma processes
B Plasma treatment of wastes
C Atmospheric pressure plasma processes(ISPC-16)が 6 月 22 日〜27 日の間、Tarmina, Italia のCongress Centre で開催された。今回の開催組織委員
長は、小職もお世話になった Universita di Bari, Italia のR. dʼAgostino 先生である。開催地の Taormina は Sicilia
島の東部に位置し、活火山で有名な Etona 山の麓に位置する。
参加者数は 641 名(44 ヶ国)、日本からは 103 名であった（JP103, IT103, FR92, DE67, CZ41, US36, CA28,
RU23, NL14, UK14, CH12, PO11, KO11, …）。日本勢が海の向こうから大挙して押し寄せたという感じである。

All
38
86
71
33
59
51
14
58
87
45
41
70
10
39
40
66
808

中国については、SARS の影響で参加者が無かったのが残念である。Table I に示すように、発表件数は 808 件、【初日】

日本からは 95 件であった。講演は口頭発表（15 分、3

基調講演は、近年の医工連携を反映して、日本から部屋パラレル）とポスター（広間および別棟）で構成され岐阜薬科大学の葛谷先生による講演”RecentAdvances

た。基調講演が 5 件、招待講演が 15 件、特別セッション

onの招待講演が 20 件、一般口頭発表が 116 件、ポスター

Drug-Engineering”であった。午前のセッションにて個人発表が 652 件である。各セッションの口頭発表の最初に的に興味を持ったのは、fluorocarbonプラズマの大御所は 25 分の招待講演が設定されていた。ポスターの件数であるdʼAgostino先生の研究室のF. PalumboおよびA.

は例年通り大変多く、ポスターセッションの場所がかなりMilella に よ る ス パ ゲ ッ テ ィ 風 表 面 構 造 を 持 っ た

狭苦しい状況になっていた。同時に、別棟の冷房が効

fluorocarbon膜の成膜に関する発表 2 件である。午後にいていないのと各人の熱気のこもった議論で、かなりホは、半導体関係でASETの中村さんによる招待講演があットな状況であった。

り、エッチング過程をちゃんと理解するためにマス分別

PlasmaTechniques

for

Bio-Medical

and

したCFxイオンを表面に照射し、デポ・エッチの様子を調【受付日】

べた結果が紹介された。特定のイオン種を表面に降ら

Taormina の町は山の上にあり、麓の海岸沿いに宿をせても、基板の状況によって挙動が異なるということが明とった人は、シャトルバス等を利用しなければならず、若らかにされており、fluorocarbonプラズマをSiH4プラズマ

干不便な場所ではあった。受付場所と Welcome party

並に理解するのは、当分先の話になりそうだと感じた。

の会場はかなり狭かったが、それなりに皆と顔をつきあわせることができた。また、会場の外でも再会を楽しんでいる方々が多かった。
【2 日目】

11

Jpn
3
6
3
4
11
10
3
7
4
7
8
9
3
1
5
11
95

基調講演は、Canada から Ecole Polytechnique のミュレーションと使い分け、N2のメタがグロー風放電を形

Wertheimer 先 生に よ る講演 ”Plasmas and Polymers:

成するのに重要な役割を担っていることを主張していた。

From APGD to PECVD”であった。dʼAgostino 先生ととが、これを本当に示すためには、２次元のシミュレーショ

もに、”Plasmas and Polymers”という Journal を刊行してンで証明する必要があると思われる。実験的にうまくやいることから、ポリマー堆積・エッチング・改質という観点れば可能かもしれないが、一つのパラメータだけ（メタのから大気圧プラズマを概観され今後の展望を述べられ有無だけ）を実験で操作するということは私の非力な頭た。特に、欧州を中心にして、日本でも使用されているではとうてい思いつかないので、シミュレーションによるガスバリア膜（食品レトルトパックの内壁、ビール瓶の内検証が是が非でも必要と思われる。

壁など）の事業展開が進んでいるようである。有機 EL で

3 日目の午後には、Social trip として Etna Volcano へも同様のガスバリア膜が必要であるが、要求されるバリのツアーが催された。

ア性は、ガス透過率が６桁も下のレベルであるため、現状のバリア膜は使い物にならないが、最近低温【4 日目】

PE-CVD 窒化膜で有機 EL に使える膜が開発されたと4 日目の基調講演は、Fridman 先生の”Non Thermalの話を聞いており、興味が持たれるところである。

Atmospheric

午 後 か ら は Table I の A, B, C で 示 さ れ た Special

Pressure

Discharges:

Physics

andApplications”であった。電力ダウンなどのハプニングがSessionのポスター版が開催された。件数から分かるようあったが、楽しい雰囲気の中で講演がなされた。

に、その多くが大気圧プラズマに関するものである。日

一般講演で小職の個人的な興味を引いたのは本でも応物で大気圧プラズマのシンポジウムが開催され

HMDSOを用いたCVDに関する発表が 2 件である。SiH4たが、欧州でも大気圧プラズマが邁進していることを示を使わずにSiO2系膜が得られるモノマーであり、古くかしている。主に誘電体バリア放電に興味を持ったが、そらWertheimer等によって報告されている。発表はVan deの放電機構はいまだ想像の域を出ていないといえる。こSanden 先 生 (TU/Eindhoven) の 所 と dʼAgostino 先 生

れは、簡単な装置でバリア放電ができ、かつ、あまり中(Univ. Bari)の所からであり、Low-k膜やバリア膜としての身を知らなくても簡単にプロセスができてしまうこと、ラン応用が検討されていた。

ダムなストリーマが発生するプラズマでも別にかまわな

午後は、Sadeghi 先生(J.Fourier/Grenoble)による基いアプリケーションしか考えていなかったこと、が原因で調 講 演 ”High Sensitivity Laser-Based Techniquesある。アプリケーション開拓が進むと、従来のランダムス

Applied for Plasma Diagnostics”がなされたが、日本勢トリーマでは「駄目」ということになり、均一なグロー風のの活躍の紹介があまり表に出ていなかったのが気にな放電が要求されるようになった。He等を使えばグロー風った。たまたま、Sadeghi先生が忘れてしまったのだろうになることは知られていたが、N2などでもできることが発か。一般講演では、M. Simek先生による大気圧プラズマ

見されてから、大気圧均一放電を一般的に得るためののストリーマ中のN2(A3Σu+)計測の講演に興味を持った。

方策を探る研究が活発化した。まだ、始まったばかりでNOをトレーサとして発光スペクトルから算出するものであるが、これまで培った分光法、モデリング&シミュレー

あるが、我々の系でも適用したい方法である。

ションに加えて、表面チャージ計測などのツール整備＆

夜 に は 、 Workshop の 会場 で も あっ た Hotel Villa

活用を通して、これまで知った風なことを言い続けていDiodoro の屋上にて Social Dinner が催された。IPCS 委

たバリア放電に深いメスが入ることを期待する。

員の選挙の結果が発表され、次期 President of IPCS として橘先生（京大）が選出された。Vice president は J.-M.

【3 日目】

Pouvesle (Univ. Orleans)である。

Special sessionの口頭発表がなされた。個人的に興次回の ISPC-17 は Toronto, Canada で組織委員長

味を持ったのは、小職も始めてまもないバリア放電の解

Mostaghimi 先生のもと，2005 年 8 月 7 日〜12 日に開催説を行ったKogelschatzの講演である。また、Massinesにされる予定である。

よるバリア放電の機構解析では、分光＆モデリング＆シ【5 日目】

12

してあげられる。来年以降改善すべきである。

この日の基調講演は、P. Fauchais 先生による”Plasma
Spraying from Thick to Thin Coatings and Micro to Nano

【School と Workshop】

Structured Coatings”であった。
本会では、プラズマ化学の分野で著名な成果をあげ

例年通り、本会の前後に School および Workshop がた方に The Plasma Chemistry Award が贈られる。今回催されており、それぞれ 6 月 18 日〜20 日、と 21 日であは、C. H. Kruger 先生(Stanford Univ.)であった。Theった。Workshop は、Congress Centre から歩いて数分の

Best Paper Award は 、 G. A. Saevarsdottir (Univ.

Villa Diodoro Hotel.にて開催された。主題は、industrial

Iceland) “A Novel Approach to Cathode/Anodeapplications of cold and thermal plasmas であり、日本かModeling for High Current AC-Arcs”, S. Mori (Tokyoらは、葛谷先生、寒川先生、小駒先生が講演された。外Inst. Technol.) “Numerical Analysis of Carbon Isotope

国勢は欧州からの講演が主であったが、その多くは大Separation by Plasma Chemical Reactions in CO Glow

気圧プラズマに関するものであった（コーティング、排気Discharge”, P. Messerer (Munich Univ. Technol.)

ガス処理など）。日本からは、その中でも先駆的な立場“Characterization of a Double Inductively Coupled

である小駒先生が講演された。

Plasma Reactor”に贈られた。
【作田先生】
最 後 に な り ま す が 、 ISPC の 組 織 団 体 で あ る Int.

【改善すべき点】

Plasma Chem. Soc.の委員として、さらには日本のプラズ

参加費が 450 ユーロというのはかなり高めであり、今マ業界の推進のために活躍してこられた金沢大学の作後の改善を希望するところである。

田先生が ISPC-16 開催前に亡くなられ、参加者一同に

例年、プロシーディングスが厚さ 3cm ほどの A5 サイズて先生のご冥福をお祈りした。

本数冊になっていた点が改善され、CD-ROM で供給されるようになった。印刷物は投稿時のアブストラクト集のみである（それでも分厚い）。しかし、プロシーディングス
内に記載された論文を引用する際に、ページ番号等の論文を特定するためのパラメータがないことが問題点と

13

ICPIG-2003 報告
名古屋大学工学研究科

豊田 浩孝

26th ICPIG (International Conference on Phenomena

よる大面積大気圧グロー放電の研究、フランスの L.

in Ionized Gases) は 2003 年 7 月 15 日(火)から 20 日

Boufendi によるナノダスト粒子の核形成と応用に関(日)の 6 日間、ドイツ連邦共和国Greifswald市においする研究、日本の O. Fukumasa による低圧水素プラて開催された。本会議は電離気体現象に関する会議

ズマを用いた水素負イオン生成における同位体効果

としてヨーロッパを中心として隔年で開催されておに関する研究などが報告された。また、”Plasma Light

り、今年で 50 年目を迎える歴史の古い会議である。

Source” お よ び ”Reactive Plasmas and Surface

ちなみに、ご記憶の方も多いと思われるが、前回Interactions”の２つの Workshop があり、”Reactive

ICPIGはヨーロッパを離れ名古屋大学後藤俊夫教授

Plasmas and Surface Interactions”のセッションではフを実行委員長として名古屋で開催されている。今回ランスの F. Arefi-Khonsari によるバイオ応用のためは再びヨーロッパに戻り、Institute of Physics of theの高分子プラズマプロセスの研究、日本の A. Mizuno

Ernst Moritz Arndt University, Institute for Low

による大気圧プラズマによる空気浄化の研究、H.

Temperature Plasma PhysicsおよびMax Planck InstituteToyoda によるフロロカーボンイオンおよび分子のfor Plasma Physics, Greifswaldが中心となって現地実

表面反応に関するビーム研究などが報告された。ま

行委員会を組織し、Ernst Moritz Arndt UniversityのJ.

た、1998 年から始まった”Von Engel Prize”は、今回Meichsner教授を実行委員長として開催された。会議はイギリスの J. Allen 教授に授与された。

参加者は 495 名であり、日本からは 65 名と非常に多本会議が開催された Greifswald はヨーロッパにおくの参加者があった、(会議ホームページによる)。

ける核融合プラズマ研究の拠点のひとつとして大型

本会議は会議名の通り電離気体現象に関する幅広ステラレータ装置が現在建設中である Max Planck

い範囲の研究を包含しており、素過程、プラズマ輸

Institute for Plasma Physics, Greifswald がある。その一送、プラズマ計測、プラズマ応用、大気圧プラズマ、方でプラズマの産業応用研究を主眼とした低温プラ

光源、宇宙プラズマなどさまざまである。講演は、ズマ物理研究所(Insitute for Low-Temperature Plasma

General Lecture, Topical Lecture, Poster Session,

Physics ：INP)が 1992 年に設立されている。今回のConference Workshop からなり、一般講演はすべて

会議開催期間中にはこの研究所の見学会も開催されPoster 講演となる。General Lecture ではフランスの筆者も参加したが、所長の K. Weltmann 氏の説明に

N. Sadeghi によるシリコンゲートエッチングにおけよれば約 90 名の研究スタッフと年間 700 万ユーロのるプラズマ容器壁と側壁保護膜との相互作用に関す研究予算があり、ドイツにおける本分野の研究拠点

る研究、チェコの J. Vlcek によるパルスマグネトロとなっているとのことである。研究内容も、プラズ

ン放電とプラズマ診断に関する研究、日本からは、

マ計測、高気圧プラズマ、光源、プラズマ表面相互

M. Kando による平面型表面波プラズマにおける高作用など多岐にわたっており、ドイツ国内の企業とエネルギー電子の生成と放電維持機構に関する研究の共同研究も進められているとのことであった。

などについて報告があった。Topical Lecture は 2 セ

なお、次回 ICPIG は G. Musa 教授を実行委員長とッ シ ョ ン パ ラ レ ル で 開 催 さ れ 、 ア メ リ カ の M.

して 2005 年にルーマニアの Constanta で開催される

Laroussi によるプラズマ滅菌、ベルギーの C. Leys に予定である。

14

14th European Conference on Diamond, Diamond-Like Materials,
Carbon Nanotubes, Nitrides & Silicon Carbide (Diamond 2003)に参加して名城大学理工学部 平松 美根男

第 14 回ダイヤモンド、ダイヤモンドライク材料、参加者の減少を何とか抑え、400 件を越える発表件数を維持している。

カーボンナノチューブ、ナイトライド、シリコンカ
ーバイドに関するヨーロッパ会議（14th European

学会の初日には、学界の動向をサーベイするため

Conference on Diamond, Diamond-Like Materials,に、分野を代表する諸氏によって基調講演が行われCarbon Nanotubes, Nitrides & Silicon Carbide：

るが、今回のトピックスは、ナノクリスタルダイヤ

通称Diamond 2003）が 2003 年 9 月 8 日（月）から 9

モンドの成長と応用、ハイパワー電子デバイス応用

月 12 日（金）の 5 日間にわたって、モーツァルト生のための CVD ダイヤモンド、カーボンナノチューブ

誕地であり、映画「サウンドオブミュージック」のを用いた次世代電子デバイス、ダイヤモンドを用い舞台となったことでも有名なザルツブルグ（オースたバイオセンサであった。

トリア）で開催された。ダイヤモンドに関するこのダイヤモンド薄膜に関する研究では、ダイヤモン

会議は、毎年この時期にヨーロッパの観光地を巡っ

ドの製造プロセスや形成メカニズムに関する発表はて開催され、最近は、プラハ（チェコ）、ポルト（ポ

今でも少なくないが、多くはポスター発表に回され、

ルトガル）、ブタペスト（ハンガリー）、グラナダ（スむしろダイヤモンドを利用したセンサや電子デバイペイン）とまわってきた。Elsevierが主催しているスを目指した応用研究に関する発表が伸びてきてい

ため、参加費が日本円で約 8 万円と高いのは困るが、る。一方、カーボンナノチューブに関する研究発表

コーヒーブレイクにはケーキや果物が付き、ポスタ

も大きなウェイトを占めるようになってきており、ーセッションの間はワインやビールが飲み放題、ス

カーボンナノチューブ・ナノファイバに関する発表

ナックが食べ放題であるほか、学会終了後半年位しは 70 件を数えた。マイクロ波プラズマ等の一般的なてから分厚いプロシーディングスが送られてくる。

ダイヤモンド薄膜の製造装置を用いて、触媒等の条

ヨーロッパの会議でありながら、アジア、アメリカ

件さえ整えば比較的容易にカーボンナノチューブもからの参加者も多いのが特徴で、国別参加者数で比形成できることが分かってきたため、両者あわせて較すると、ここ数年は、日本からの参加が最多とな

カーボン系材料として扱われることもしばしばで、っている。今回も、４００件を越す発表件数のうち、両方の研究に携わる研究者の人口が増えてきている

日本からのものが２割弱を占めていた。組織委員４

ようである。
ダイヤモンドのバイオ応用は人気が高く、発表会

名のうちの一人は、早稲田大学川原田教授がつとめ場はいつも満員であった。発表件数はまだ多くはなている。
ダイヤモンドや DLC に関することなら、製造プロ

いものの、初日の午後と最終日という具合に、唯一セスや成長メカニズム、表面、ドーピング、エピタ

２つのオーラルセッションが組まれていた。ダイヤ

キシャル成長等の基礎分野から、ナノクリスタルダ

モンド表面への DNA 固定等の発表は特に大きな注目

イヤモンドの応用、電子放出、センサ、電子デバイを集めていた。

ス、バイオ等の応用研究に関することまで全てカバ

Diamond 2004 は、2004 年 9 月 12 日から 9 月 17

ーしているが、ダイヤモンドも以前のような盛り上

日の日程で、北イタリアのトレントで開催される予がりはなく、５年ほど前から、カーボンナノチュー定である。

ブや窒化物、BN、CN、SiC 等を積極的に取り込んで、

15

37th IUVSTA Workshop on Plasma Deposition of Advanced Materials
報告
九州大学大学院システム情報科学研究院 白谷正治

2003 年 9 月 14-18 日 に オ ラ ン ダ の Rolduc

た．D. Mataras は，a-Si:H 膜形成において，シラ

Conference Center で 開 催 さ れ た ， 37th IUVSTA

ンに 1%程度のジシランを混ぜることにより成膜速Workshop

Advanced

度が 5 倍以上向上することを紹介した．ただし，膜Materials に参加いたしましたので，簡単に報告い質の評価が今後の課題であるとの印象を受けた．M.

た し ま す ． 会 議 の 立 案 は ， Oak Ridge National

Meyyappan は，Carbon Nanotube Deposition におけLaboratory( 米 国 ) の Dr. Caughman と Einthoven

る課題をまとめたが，その解決法の提示はなかった．

Univeristy of Technology( オ ラ ン ダ ) の Prof.

K.B.K. Teo は，ケンブリッジ大学を中心に EC プロ

Sanden が行い，IUVSTA が資金援助しました．IUVSTA

ジェクト（Takeoff, Nanolitho 等）として行われての Workshop としては，37 回目ではありますが，いる Carbon Nanotube 応用デバイスの開発研究の成Plasma Science & Technology Division が開催する果について紹介した．また，J. Caughman，平松，金のは，今回が初めてです．参加者総数は，50 名程度

原は異なる装置構成，ガス，放電パラメータでカー

で，日本からの参加者は，金原先生（金沢工科大），

ボンナノ構造形成について紹介していたが，いずれ平松先生（名城大）と私の 3 名でした．1 時間の招の方法でもカーボンナノ壁が形成されるパラメータ

待講演 11 件，30 分の一般口頭講演 9 件，ポスター

領域があった．これらに，共通する成膜機構は未解

講演 16 件が，Gordon Conference と同様に，講演は明のままである．E. Fisher は，ビーム実験とレー

午前と夜に行い，昼食から夕食までは自由討論といザ誘起蛍光法を組み合わせ CF 系ラジカルの表面反う時間配分で行われました．また，ドイツとの国境応係数を計測した結果を報告した．A. Grill は，に接したオランダの小さな町 Kerkrade の 12 世紀初

Low-K Material PECVD の IBM における現状を紹介す

頭に建てられた修道院の一部を流用した会場を使用

ると共に，まだまだ産学もしくは基礎研究と応用研し，簡素な部屋と食事が提供されました．

究の連携が不十分であると主張した．白谷は，ナノonPlasmaDepositionof

いくつかの，講演内容を以下に簡単に紹介します．

スケールの溝内の側壁への堆積無しに穴底からのみ

A. von Keudell が a-C:H 膜形成においては，成膜実堆積する新しい Copper PECVD について紹介した．

験とビーム実験の結果を紹介しながらイオンと CH

J.Vleck は，パルスマグネトロン放電を用いた超高系ラジカルの同時照射による Synergy 効果が重要で速のスパッタ技術について報告した．

あると指摘した．W.M.M. Kessels は，Expanding

なお，プログラムは，

thermal plasma を用いた a-Si:H 膜形成機構についhttp://www.ornl.gov/sci/fed/pdam/ か ら 手 に 入れることが出来ます．

て，ラジカル計測と表面反応計測の結果をもとに議論したが，内容的には産総研の松田等により既に提案されているモデルの再確認にとどまるものであっ16

第７回レーザーアブレーションに関する国際会議 報告(7th International Conference on Laser Ablation)
九州大学 岡田龍雄
略称 COLA とよばれる標記国際会議が 2003 年 10がいくつかあったが，アイデアが技術として実用に

月 5 日から 10 日までギリシャクレタ島において開供されるまでに 30 年以上はかかると言う事であろ催された．本会議は 1991 年に第１回目がオークリ

う．さて，この会議の伝統として，招待講演や口頭ッジで開催されて以来，２年おきに開催されている．

講演

今回は前々回のゲッチンゲン，前回の筑波のあと，はパラレルセッションではなく，全て同一の会場でクレタにある Institute of Electronic Structure and全員参加して行うことになっている．この会議に参Laser の Prof. C. Fotakis のお世話で再びヨーロッ

加すれば，アブレーションにからむ，ほぼ全領域のパで開催された．

最新の成果を直接聞くことができる．この点は，クレタ島は，日本からは最低 4 回は航空機を乗り換

COLA の重要な特徴の一つになっている．

える必要があり，時間としてはまる１日以上かかる

会議内容の全体的な傾向としては，フェムト秒レ

場所ではあるが，日本人にはもっとも人気のある観ーザーアブレーションの関係，あるいはスーパーラ

光エリアの一つであることが幸いしてか，日本から

ティス構造，ナノ微粒子，ナノチューブ，ナノ領域

も 50 名を超えるこれまでにない多数の参加者があレーザー加工など，ナノに関係するものが盛んであった．会場は，大変風光明媚なリゾートホテルであり，それぞれ口頭発表の 1/4 程度を占めている．フり，ややシーズンオフに入っていたとは言え，まだェムト秒レーザー加工ではレーザーパルス内での熱エーゲ海を肌で感じることができた．松脂臭がする

拡散の影響は無視できるので，面内加工精度はレー

ギリシャの伝統的なワインはいただけないが，それ

ザービームの強度分布で直接制御できるようになる．

以外は安くて美味しワインも堪能できた．一方，ス

通常の集光系を用いた場合でも，閾値効果を利用す

トライキが頻発しているのには少々驚いた．それも，ればサブミクロンオーダーの加工精度は容易に実現

パルテノンやクノッソスなどの遺跡の受付等の職員できる (たとえば，J. ‒H. Klein-Wiele et al. (講演番が適当にストをしており，エクスカーションで予定

号 MO-I6), F. Korte et al. (MO-O7))．さらに，フェされていたクノッソスの見学はたまたまその日がス

ムト秒レーザーの高強度を利用した多光子吸収や近トと重なってキャンセルになった．しかし，地元の接場を利用すれば回折限界を超える加工が可能にな

人は特に問題にしているふうでもないので，さすがり，実施例が多数報告されている．たとえば，SNOMに懐が深いと言うべきか．

カンチレバーチップをアンテナにしたニアフィール
ド効果を利用して，10 nm 台の加工が報告されていレーザーアブレーションという，特定の” 現象”
名を冠した会議ではあるが，今回の講演件数は 384

る (C. P. Grigoropoulos et al. We-I7)．

件に達し，なかなか盛況であった．このうち招待講

ナノ物質の合成については，サイズ選別した Si

演が 20 件，口頭発表が 61 件，残りの 303 件はポス

ナノ微粒子のダブルシェル構造の Si ナノ微粒子のターである．日本からの発表は，全てまとめて 73

合成 (Seto et al. MO-O4)，高温雰囲気中でのアブレ件であった．また，プレナリー講演は江崎玲於奈先ーションによる B ナノワイヤーの合成 (Th-O10)，

生によるスーパーラティス構造の着想の背景からそカーボンナノチューブの合成と合成プロセスのレーの後の発展までを話された．今回の講演でもレーザ

ザーモニターリング (D. B. Geohegan et al. Fr-I12)

ーMBE を使ったスーパーラティス構造薄膜の報告などの報告があった．ナノ構造の創製に関しては，

17

液中などの特殊雰囲気とアブレーションを組み合わ

結果的には質の低下を招き，参加者にとって必ずしせることで，今後もユニークな構造を作れるのではも良いことではない．また，今回ポスターが 300 件

ないかと期待される．その他としてはサブミクロ微以上あり，この中から面白いものを見逃さずに議論

粒子のレーザークリーニング (N. Arnold Tu-I1)，ア

するには，かなりの努力が必要であり，パラレルセンティークのレーザークリーニング (T. Burmesterッションを設けない本会議としては，論文数はすでet al. Tu-O3), ニアフィールドアブレーションを利に上限に達している．

用した微小領域の元素分析 (We-I1)，透明体の表面

さて，今回のプロシーディングスは， Applied(Y. Kawaguchi et al. Fr-O5) および内部加工 (K.

Physics A 誌の一般号に特集として，同誌の通常のSugioka et al. Mo-O17, S. Juodkazis et al. We-O9 な

査読プロセスを経て掲載される予定である．次回のど)，極端紫外光源への応用 (H. Tanaka et al. Fr-O4)

会議は，2005 年秋頃にカナダのバンフビジターセンなどの報告が目に付いた．PLD による薄膜作製も多ターで開催される予定である．

数報告されたが，材料ごとの各論にわたるので省略する．
このように各課題については確実に進歩が見られるものの，全体としては新しい話題に乏しくなっているという印象は否めない．さらに，口頭発表の中でもすでに古びたような話もあり，必ずしもセレク
トが適切に行われていないようなものも多々見受けられた．短いアブストラクトでセレクトすること，また参加者の増加を期待して地域・国の分布に配慮してセレクトした結果ではないか思われる．しかし，

18

GEC56 (56th Annual Gaseous Electronics Conference)参加報告
名古屋大学大学院 工学研究科 電子工学専攻

佐々木 浩一2003 年 10 月 21 日〜24 日にアメリカ合衆国サン属 を 移 し て い る Dr. John Coburn に よ る The

フ ラ ン シ ス コ 市 で 開 催 さ れ た 56th Gaseous

Evolution of Plasma Etching in Integrated Circuit

Electronics Conference (GEC)に出席する機会を得

Manufacturing であった。プラズマを用いたドライたのでその概要について報告する。周知のように，エッチングの先駆者であり，企業における技術開発

GEC は本分科会に最も関係の深い国際会議のひとのみでなく基礎的にも極めて重要な研究成果を提供

つであり，低温プラズマの基礎と応用に関する最新した Coburn ならではの印象的な講演であった。

の研究成果が世界各国から発表される。最近では，

今回の GEC では，昼食時間に弁当つきで二つの熱プラズマの分野も取り込まれつつあり，今回も熱特別セッション（Trends in Plasma Etching およびプラズマに関するワークショップが開催されていた。

Thermal Plasma Workshop）が開催された。会議はプラズマの新しい応用分野を取り入れることも積極

午前 8 時からスタートし，ポスターセッションが終的であり，最近は特にプラズマのバイオ応用が重点了するのは午後 9 時を超えているためか，昼食時間的に取り上げられているようである。

にまでセッションを組まざるを得ない状況のようで

GEC は長い間任意団体的な組織で運営されてきある。GEC は長い間火曜日スタートで金曜日終了

たが，今回から APS（米国物理学会）の原子分子光（４日間）というスケジュールをとっているが，そ物理分科のひとつの会議と正式に位置づけられるころそろ会期を 5 日間に延長する必要が生じているよとになった。しかし，会議の運営は従来どおりの選うに思われる。

挙で選ばれる Executive Committee によって行わ

GEC のセッションは Arranged Session とその他

れており，今後も実質的に従来どおりの運営が続けのセッションに大別されており，Arranged Session

られるものと思われる。

のテーマは Executive Committee によって選定され，今回は 22 カ国から 349 名の参加者があり，337

各 テ ー マ 毎 に 招 待 講 演 者 が 選 ば れ る 。 Arranged

件の論文が発表された。これらは昨年を大幅に上回

Session は GEC がどのような分野を取り上げるこっており，GEC が久しぶりに巨大観光都市に戻ってとに重点的であるかの現れであり，それは米国におきた効果が現れたものと思われる。我が国からの参ける低温プラズマ分野の研究動向を知るためのよい

加者は約 50 名であり，GEC のコミュニティにおい資料となる。今回の Arranged Session のテーマは，て我が国からの参加者はなくてはならない地位を占1) Material Processing in Low-Pressure Plasmas, 2)

めている（50 名という参加者数は米国を除けばダンPlasma Application for nanotechnology, 3) High

トツで最大である）。一方，今回は特に韓国からの参Pressure Glow Discharges, 4) Biological and加者が目立った（参加者数 15 名）。AVS などのプラ

Emerging Applications of Plasmas, 5) Ionization and

ズマ応用（特に半導体プロセッシング）に重点が置

Charge Transfer Collisions, 6) Rydberg Plasmas

かれた国際会議では従来から韓国の躍進が目立って

and Highly Excited Atoms, 7) Lighting の 7 テーマでいたが，比較的基礎に重点が置かれている GEC にあった。これらを見る限り，米国における低温プラ

おいても韓国の台頭が始まっているとの印象を強く

ズマ分野の研究動向は我が国における研究動向と大した。

差がないように思われる。我が国からの招待講演は，今回の GEC Foundation Talk は，現在 UCB に所

橘 先 生 （ 京大 ） の Spatiotemporal diagnostics of19excited and reactive species in high pressure

できる傾向でないと感じた次第である。

discharge (High Pressure Glow Discharges)および

なお，GEC の Executive Committee には我が国か

白谷先生（九大）の Silicon nano-structure formation

ら例年 1 名の委員が選出されている。これまで委員

using plasma under micro-G and one G Conditions

をつとめられた名古屋大学の河野先生は今回の会議(Plasma Application for nanotechnology)の 2 件であをもって任期を終了され，Executive Committee はった（カッコ内は Arranged Session 名）。

北海道大学の酒井先生に引き継がれた。河野先生の最後に，本会議に参加しての印象を私見として若これまでのご苦労に御礼を申し上げる次第である。

干述べたい。Arranged Session として取り上げられ

次回の GEC は，米国を離れ，2004 年 9 月 26 日〜ているテーマを見る限り，（衝突の分野を別とすれ

29 日にアイルランドで開催される予定である（現地ば）GEC の Executive Committee は低温プラズマの世話人は Bill Graham）。分科会会員各位の参加を期

応用を重点的に取り上げ，カバーする領域を広げて待するものである。

多くの参加者を得ることに熱心であるものと思われる。筆者が GEC に参加し始めた 8 年ほど前からこのような方向性は明らかに見られていた。当時は半導体プロセッシングにおけるプラズマ利用の研究が日米ともに現在以上に活発であり，GEC もその時流に乗って発展をとげ現在に至っている。GEC でも，本分科会と同様，半導体プロセッシングの次の発展
的プラズマ応用として，バイオテクノロジーやナノ
テクノロジーへのプラズマ応用を指向している。しか し，一般参 加者の態度 を見る限り ， Executive
Committee の狙いは必ずしも功を奏しているとは言い切れず，むしろ，参加者の一部はより基礎的な課題に回帰しつつあるのではないかとの印象を受けた。
筆者は，Plasma Sheath という典型的に基礎に属す
るセッションで一般講演を行ったが，同時間帯にPlasma Chemistry というセッションが並列に開催されていたため，参加者の多くは Plasma Chemistryのセッションに出席して Plasma Sheath のセッショ
ンは閑散とした状況になるものと予想していた。ところが，実際には Plasma Sheath のセッションは参加者が多く質疑も活発であり，驚いた次第である。
そういわれてみると，米国において同時期に開催されている AVS の参加者と GEC の参加者の間の乖離も進んでいるような気がする（かつては両方に出席する人が多かった）。基礎研究の重要性は改めて指摘するまでも無いが，低温プラズマの基礎研究は応用あっての基礎研究という側面が他分野以上に強いので，基礎回帰とも受け取られる現象は必ずしも歓迎

20

2003 AVS 50th International Symposium 報告
ソニー（株） 辰巳哲也
2003 年 11 月 2 日〜7 日まで米国ボルチモアコンベン

周波 RIE 方式までの流れの中でどのような技術が作ら

ションセンターにて開催された AVS 50th International

れていったかを振り返る試みとして非常にわかり易い報

Symposium（主催：American Vacuum Society） に参告であった。アプリケーションの観点からは最近では加し聴講を行った。本会は米国最大のプラズマ応用関

Low-k の加工ニーズに伴いその精度や制御の方向性連の学会であり、1 週間にわたるパラレルセッションでの大きな転換点を迎えている。その他、加工側壁のラフ140 件を超える報告が集まった。また、今年は 50 周年とネス制御についての検討（IBM）、Bi-layer のマスク加工

いう節目の開催となり、半世紀にわたるプラズマ技術をでの NH 系プラズマの役割（IBM）、同低エネルギープロ

振り返る企画も行われ、各セッションとも多数の参加者

セスの優位性（東芝）等の報告は、被エッチング材料のが訪れた。以下テーマごとにトピックスおよび所感をまと多様性や求められる精度に対するプロセス性能の向上める。

を狙ったものである。SiO2 の加工メカニズム自体においては、既に基礎検討の時期は過ぎ、応用についての

a) Conductor etch

報告が中心となっている印象を持った。

初日 LAM リサーチの Gottscho 氏の招待講演でプラズマ関連のセッションがスタート。これまでのエッチングc) Low-k etch

装置の進化やビジネス形態の変化までを紹介。近年で絶縁膜の中でも Low-k は特に聴講者も多く、特に別は装置メーカ、デバイスメーカ、ファウンドリーが分離しにセッションが設けられている。招待講演では名大掘氏

それぞれの領域の中で各々細かい最適化を進めていより有機膜加工におけるビーム実験、吸収分光分析をるので、これら相互を繋ぐインターフェースの部分をどう用いた解析を通じたプロセス開発方法が示され注目をうまくつなげてゆくかが半導体ビジネス成功のための最集めた。これからは粒子をより定量的に取り扱いきちん

大の課題となっている。また最先端デバイスでゲート長と表面反応を議論しつつ最先端デバイスの開発を行う

30nm を狙うゲート加工では、側壁の堆積物の詳細な評ことが重要である。また、アッシング時のダメージ制御と価 CNRS/LTM）、ノッチゲートの作製（Chartered）、スリ

配線信頼性への影響（ソニー）等、実際の量産展開時

ミングプロセスの解析（LAM）等、技術の高精度化を目に始めて明らかになる問題についての報告もあり、もは指す報告が目立った。また中性粒子ビームによる加工や加工だけを単体で取り扱っていてはその優劣の判断（東北大、MIT）についても報告があり、低ダメージプロ

すらつかない時代に突入したことが明らかとなった。反セスに関する要求とこれに対する一つの答えが提示さ面、これら新しい材料の登場とともに各社、各大学ともれた。ばらつきを数 nm に抑えるための基礎技術はこれ

研究テーマの設定には苦労しており、プロセスのインテからも発展が必要であるが、ポリマー厚さやイオンの侵

グレーションを行って初めて課題が明らかになるこれら

入深さがこのバラツキに対して無視できない値になって材料の加工検討の難しさが垣間見られた。

きているため、今後のブレークスルーが必要である。
d) Etching difficult materialb) Dielectric etch

過去の技術の延長線上にない材料の加工についてIBM の Daltons 氏が絶縁膜加工の歴史を装置、プロの議論の場として今年より新たに組まれたセッション。

セスの観点より整理した。バッチ式の装置から近年の２

High-k（HfO2）の加工について４件の報告が集まった

21

（京大、他）。F 系、Cl 系とその加工方法でも意見が分かれていたが、近い将来の High-k 材料の実デバイスへの応用を前に今後の解析が待たれる。その他 SiC の高速
エッチング（三菱）、MRAM 用の磁性体加工（AuburnUniv.）等。いずれも加工メカニズムに対する理解がこれからの材料である。
e) Plasma diagnostics
Donnely 氏（Univ. of Houston）の Review は分光の
最初はニュートンのプリズム、プローブの最初はフランク
リンの雷の実験、等々ユニークな内容。最近の進展の実例としてトムソン散乱（九大）、PAP（名大）等の日本の技術が紹介されていた。プラズマの解析技術について
はより現実的なプロセスプラズマへの適用を念頭においた開発へと移行しつつあり、名大菅井氏より既に日本国
内では市民権を得ている Surface Wave Probe（PAP）
についての最新のデータも紹介された。
f) Plasma surface interaction
イオンビーム装置を用いた表面反応の詳細な議論（ASET）はかなりまとまってきておりシミュレーション技術
等への応用が期待される。入射種の種類、角度、エネ
ルギーの影響を分離し、表面でのポリマー形成、反応
生成物の脱離を詳細に議論することで、実際の基板表面での反応についての理解は確実に深まっている。
全体として企業（特にデバイスメーカ）からの報告の比率が少なく、応用部分と基礎解析の乖離が進んでいることがやや気になったが、一方で新しい分野への拡大も進み、プラズマ技術としては相変わらずの活気を見せていた。今後は加工精度を上げるために、如何にしてプラズマを理解し安定して利用してゆくかが課題とな
り、45nm 世代のデバイス開発を加速する企業と、定量的な計測技術や反応モデルの取り扱い精度向上を進める大学・共同研究機関の知見の、より緊密な融合が期待される。来年度は米国アナハイムにて開催の予
定。
（以上）

22

3rd International Symposium on Dry Process 報告（株）東芝 研究開発センター LSI 基盤技術ラボラトリー

栗原一彰

ドライプロセスシンポジウムが早稲田大学の国際会議なる本会議において、今年から投稿分野を広げる事を場で１１月１３日と１４日に渡り開催された。本会議は国目的とした試みの一環として行われた。しかしながら結際会議に改変されて今回が３回目、通算で２５回目とな

果的には今年度の発表論文内容はほとんど従来の分

り日本においてはドライプロセス、特にプラズマエッチン

野からの投稿に限られてしまった。この会議の存続性やグに関してはもっとも歴史のある会議である。今年の発伸展性を考えた時に新規分野を取り込む為には広報活

表論分数は５１件で内４件の招待講演を含んでいる。今動のあり方などを考えていく必要がある。

回の会議の大きな特徴としては海外からの論文が１７件

セ ッ シ ョ ン は Low-k etching, Plasma, CVD/Thinと非常に多かったことが挙げられる。これは全体の３３％

films, Gate/Si etching, Micro&nano devices, SiO2 とを占め国際会議としての存在を着実に示しているように

Poster session からなった。ポスターセッションでは初感じられる一方で、そのほとんどは米国の装置メーカー

めての試みとしてポスターの開始直前に 1 件 1 分間のからの発表となっており、日本市場を狙った戦略の一環

紹介時間が設けられた。時間は短いが発表のポイントをとも思われる。一方で、日本の大学やコンソーシアムか知るための良い試みであるが２分くらいが適当かと思わらの報告が２１件と４１%を占めた。そして日本の企業かれる。

らの報告が１３件と２５%に留まりドライプロセスに関連すLow-k etching のセッションにおいてはエッチングやる研究場所がかつてとは変わってきていることを示してアッシングやクリーニングによる low-k 材料へのダメージいる。参加者数は 202 名でここ数年は 200 名前後とかの問題が話題だが SEMATEC の Wolf 氏からはガスケミ

つてに比べると少ないが落ち着いた動向を示している。

ストリの調整や中性ビームアッシングなどの新規試みに

今回の海外からの参加者は 20 名程度で発表論分数のよる解決策が示された。２周波プラズマにおけるフロロカ

割には低調であった。発表テーマとしてはエッチングやーボンプラズマへの窒素添加による SiOCH 膜と SiN ス

CVD 技術やプラズマ制御やプラズマ診断に関するもの

トッパ膜の選択比向上の検討結果が東芝の小島氏からであるが中心は低誘電率材料などの絶縁膜やゲート電示された。また、ルネッサンステクノロジーの米倉氏から

極材料のエッチング技術である。

は酸素プラズマとアルゴンプラズマによるポーラス MSQ

初日の初めに昨年度の表彰が行われ Best Paper 賞

へのダメージの違いが紹介され、ポスターセッションでもを日立の桃井氏と東洋大の一木氏が受賞され、Young

アルバックの森川氏から窒素添加のフロロカーボンプラ

Research 賞を東京大学の谷口氏が受賞された。オーズマにより側壁保護膜が形成されて CD シフトを抑制しプニングセッションでは招待講演として物質材料機構のているなどの報告があった。プラズマのセッションでは堀池氏からバイオチップに関してヘルスケアチップや日立の Yasui 氏と Sumiya 氏からは高周波のバイアス

Hepatic function chip や DNA 分離チップなどと用途ごや位相を制御することによるイオンエネルギーの制御手とにおける研究進展状況の紹介が行われた。また大阪

法がそれぞれ報告された。CVD セッションでは Low-k

大学の田中氏の招待講演では DNA ナノテクノロジーにや High-k 材料の成膜に関する報告が MIRAI や富士通

関する研究状況の報告がなされ現状では基礎的な検からあった。ゲートエッチングに関連しては IBM の討の段階に位置し様々なことに挑戦している状況が報

Mahorowala 氏から招待講演が行われた。その他ラムリ告された。これらの招待講演は本来プラズマエッチング

サーチやルネッサンステクノロジーやアプライドマテリアを中心としたドライプロセスに関する研究報告が中心とルなどから報告が行われたが、やはり CD 制御が一番23の問題として挙げられていてプロセスの再現性などの向上だけでは間に合わず in-situ 計測の必要性が報告されていた。SiO2 セッションではゲートのエッチングでも問題になっている ArF 用レジストのエッチング耐性劣化によるパターンの形状異常をプラズマ条件の工夫で回避する報告がラムリサーチや日立から行われた。
MEMS 加工関連では名古屋大学の山川氏よりマイクロ
プラズマによる SiO2 の高速エッチングが紹介された。
NF3 と H2O の混合ガスでは反応がウエットエッチングの様相を示すものの CF4 ガスの添加により異方性を示す
ようになり興味深い挙動を示していた。今後の進展が期待される。
その他に基礎的な研究に関する報告ではプラズマ表
面相互作用において ASET の江上氏からプラズマビー
ムによるポリマー材料のエッチング機構の検討や梁井氏から質量分離ビームによるシリコン酸化膜、窒化膜のイオン入射角度依存性に関して報告がなされ、名古屋大学の豊田氏からはアルゴンイオン照射下における生のフロロカーボンガスの酸化膜エッチングへの影響に関して報告が行われた。京都大学の山田氏からは分子動力学シミュレーションにより有機膜のエッチングへの適用が報告された。欧米に比べて日本はプラズマ表面反応に関するシミュレーション技術が遅れており更なる進展が望まれる。また、ポスターセッションにおいて島根大学の山田氏からはイオン照射下におけるシリコン結晶
構造の変化をエリプソを使って測定した研究が報告されていた。
最後に気になった点として本会議は昔から英語による発表、質疑応答を行うことになっているが登壇者の中には英語に不慣れなものが散見され質疑応答が成立しない場面が見られたことが残念であった。国際会議となった以上登壇者の意識改革に加え、何らかの対策が必要かと思われる。

24

《国内会議報告》
第１０回プラズマエレクトロニクス・サマースクール報告
東京工業大学 原子炉工学研究所 赤塚 洋
（４）「プラズマエッチングの基礎と最新動向」

本分科会の重要行事である第１０回プラズマエレ
クトロニクス・サマースクールを、2003 年８月６日

中村 守孝（ＡＳＥＴ）〜８日に、名古屋市民休暇村で開催しました。この（５）「プラズマ CVD の基礎と最新動向」

サマースクールでは、修士１年生レベルの大学院生、

白藤

立（京大）

および企業に入ってプラズマ工学が必要となった技
ショート講演（サマースクール担当幹事による研術者など、初学者を対象に、プラズマエレクトロニ

究トピックス紹介、各２０分×５件）

クスに関して入門的な講義を行うのを１つの目的としています。また、参加者によるポスターセッショ（１）「LSI 内配線と銅の異方性製膜」

ン、また懇親会を通じて、大学や職場の枠を超えた

白谷 正治（九大）

参加者相互の親睦を深める場を提供することも重要（２）「放電プラズマ中の同位体効果」

な目的の１つです。本稿で、今回のサマースクール

赤塚 洋（東工大）の概要、会計、及びアンケート結果についてご報告（３）「新しい半導体デバイスと対応するエッチン
グ技術」 枝村 学（日立）

致します。

（４）
「マイクロ波プラズマを用いたカーボン系薄１．サマースクールの概要

膜の形成 −ダイヤモンドからカー ボンナノチュー

主催：応用物理学会プラズマエレクトロニクス分

ブまで−」平松 美根男（名城大）（５）「プラズマ誘起表面反応の赤外分光解析〜基科会板表面からプラズマをみる〜」篠原 正典（長崎大）

日時：2003 年８月６日（水）〜８日（金）場所：名古屋市民休暇村

その他：ポスターセッション（参加者による研究

長野県木曽郡王滝村 3159-25

発表と討論）および懇親会を実施

参加費:
会員（協賛学一般

学生

43,000 円

17,000 円

48,000 円

22,000 円

会員を含む）
非会員

参加者数：６４名（社会人１４人、学生５０人）
講義（各２時間）：（１）「プラズマ生成の原理と実際」
藤山寛（長崎大）（２）「電離気体の基礎過程とプラズマモデリン
グ」

杤久保 文嘉（都立大）（３）「プラズマ計測の基礎と応用」
豊田 浩孝（名大）25

料、講師旅費
雑費

振り込み手数

16,800料、宅配料、文房具
学生交通費補250,750

助支出合計

1,905,667

昨年度、大きく黒字を出したために、応用物理学会からの援助に当たる「活性化支援金」を半額に減
大きな黒字を出した前回にならい、参加費は前額されたため、赤字幅が予想を大幅に上回ってしま回と同一に据え置きました。しかしながら、昨年度いました。参加者の社会人：学生の比率は、本年度とことなり、社会人の参加割合が例年並みに戻って並みが通常であるため、来年度からは従来通りの活しまいました。収入として多くを期待できない状況

性化支援金の援助を頂けますことを切に願う所です。

となり、不本意ながら遠方から参加の学生への旅費援助を昨年度に比べて１５％カットせざるを得ませ３．アンケート結果んでした。しかし例年、このサマースクールが開催

Ｑ１講義内容は？

されることで応用物理学会会員の新規加入者を増や非 常しているように、本年もサマースクールを契機に、によい３３名の新入学生会員を獲得することができました。

32.8%

良い

普通

悪い

58.6%

6.9%

1.7%

非 常
に悪い
0%

これは応用物理学会としても大きい収穫であったこ
Ｑ２ポスターセッションは？

とと思います。

非 常２．会計報告

によい

収入の部

24.1%

良い

普通

悪い

53.4%

20.7%

1.7%

良い

普通

悪い

39.7%

29.3%

6.9%

費目

金額

参加費

1,552,000

Ｑ３講演会場は？

活性化支援金

100,000

非 常

収入合計

1,652,000

によい
22.4%

非 常
に悪い
0%

非 常
に悪い
1.7%

支出の部
費目

細目

金額

Ｑ４宿泊施設・食事は？

印刷代

テキスト

111,300

非 常

旅費・交通費担当幹事旅858,620

宿泊費、食費

費，宿泊費、参

によい
20.7%

良い

普通

悪い

46.6%

27.6%

3.4%

非 常
に悪い
1.7%

加者宿泊費、食費

Ｑ５開催時期・期間は？

賃借料

会場費

12,000

会議費

飲食代

384,000によい

諸謝金

講演料、原稿272,197

25.9%

非 常

26

良い

普通

悪い

37.9%

25.9%

3.4%

非 常
に悪い
6.9%

を変えることなく、現在おおむね好評なこのスタイ

Ｑ６スクールに参加して有意義でしたか？
非 常
によい
39.7%

良い

普通

悪い

51.7%

6.9%

1.7%

ルで、しばらくは継続し、機が熟した後に新たな改

非 常
に悪い

善点があれば改善したいと考えるところです。その0%ような大きな変革の基礎についても検討を加え始めているところです。

Ｑ７サマースクールをどこで知りましたか？
４．おわりに・応用物理会告０％・分科会会報０％

最後に、ご多忙の所、かなり無理を申し上げて・分科会ホームページ

3.3％

講師をお引き受け頂いた先生方に、この場を借りて・ダイレクトメール

1.7%

あらためて御礼申し上げます。また次年度以降、講・上司・教官の紹介

93.3%

師をお勤めになる先生方、本分科会の発展とプラズ

・その他

1.7%

マエレクトロニクス分野の進展のため、何卒お力を賜れますよう、よろしくお願い申し上げます。

Ｑ８費用の負担は？
第１０回プラズマエレクトロニクスサマースクール

・所属機関の負担

61.4%

・一部個人負担

24.6%

担当幹事

・全額個人負担14.0%

校長：白谷正治（九大）
幹事：赤塚洋（東工大）、枝村学（日立）、
平松美根男（名城大）、篠原正典（長崎大）

Ｑ９あなたの所属は？
・学部生

3.4%

・大学院修士課程

63.8%

・大学院博士課程

8.6%

・企業

24.1%

総じて、昨年度と同様、講義内容・宿泊施設、食事、その他についておおむね好評とのアンケート
結果を本年も得ることができました。このほかの自由記述意見として目立ったものとしては、「講師の方のパワーポインタファイルが欲しい」「幹事のショー
ト講演についても資料が欲しい」というものがありました。これら講義に関連する事項は、次年度の幹事の方々に改善を引き継ぎたいと考えております。
また、時期的にも、多くの大学でセメスター制が採用されつつある現状を考え、８月にずらしたことで、多くの学生の参加が可能になったという感があります。少数意見ですが、一昨年以前のように、半日程
度のエクスカーションを希望する、というものや、
２時間の講義は長い、というものもありました。ただ、幹事としては、あまりこまごまと毎年スタイル27

フロンティプロセス２００３報告
組織副委員長 寒川誠二（東北大学・流体科学研究所）
紹介します。

応用物理学会のプラズマエレクトロニクス分科会及びプラズマ・イオン・光プロセスにおいて活動している大学

第一日目は、まず産総研ダイヤモンド研究センターや企業の中堅・若手研究者が中心となり、最新のデバイの藤森先生にダイヤモンド半導体などダイヤモンドを応ス・プロセス技術を議論する“フロンティアプロセス”とい用した新しいデバイスについて講演を頂きました。ダイう研究会を１９９８年から開催しております。この研究会

ヤモンド合成の歴史、応用の歴史から先端のデバイス

は、プラズマ CVD、プラズマエッチングに代表されるプ

用、バイオテクノロジーなどとの融合など幅広いお話をラズマプロセスと最新デバイスとの接点を探り、デバイス頂きました。現在の大きな課題はダイヤモンド薄膜堆積

材料とプロセス技術の最新動向や次世代デバイス・プロ

技術であるプラズマ CVD を如何に理解し制御するか、セスについてデバイス動向を踏まえて議論し、今後のプ

ダイヤモンドを如何に精密に加工するかであることがわ

ラズマ研究の展開方向を考えていくことを目的としていかり、プラズマプロセス研究者にとって大変有意義な項ます。

でありました。次に、大阪大学の松本先生よりカーボン

現在、プラズマプロセスはあらゆるデバイスに用いら

ナノチューブのナノデバイスへの応用に関する講演をれておりますが、あくまでもツールに過ぎず、プラズマの頂きました。カーボンナノチューブ成長における位置・

特徴を踏まえてその有効性を議論できていません。私

方向制御の試み、カーボンナノチューブチャネルデバ

どもとしては各デバイス応用研究者あるいはプラズマ以

イスへの応用、伝道特性制御の試みなど、カーボンナノ

外のプロセス研究者と交流を深め、プラズマプロセスのチューブに関する新しいデバイス応用に関して詳しく紹有効性を認識してもらい、新しいプラズマプロセスの展介があった。三番目は、㈱半導体先端テクノロジーズ・

開を模索する議論を行っております。既にこの研究会を笠井先生から LSI の現状と今後の課題に関して講演をベースにいくつかの共同研究も産まれており、益々この頂いた。これまでの LSI 集積化の動向、現状の LSI、今研究会の重要性が認識されつつあります。この会の特後の技術課題について紹介いただいた。特に High-k

徴は、従来の学会では発表時間の制限もあり、お互い

ゲート、メタルゲート電極に関する材料・プロセスの重要に理解しあって次の展開まで議論するまでなかなかで性に議論が集中した。初日の最後に産総研内レストラン

きないもどかしさを解消するために、質問自由・ディスカにて懇親会が開催された。ほとんどの参加者が懇親会

ッション中心で、お互いに納得するまで議論することをに参加され、議論を戦わしていた。大いに異分野融合

原則として、各分野の第一線で活躍されている研究者が促進されたと考えられる。
二日目は産総研の石田先生に、自己組織化膜（単を招待して数十名規模で合宿形式で議論するところで一分子）に関して講演を頂いた。自己組織化膜の歴史、す。
今年度は第６回として、ダイヤモンドデバイス、カーボ作成法からトライポロジー研究への応用、ナノテクノロジ

ンナノチューブ、最新 LSI、自己組織化膜（有機分子素

ーへの応用など多岐にわたってご紹介いただいた。有子）、SOI デバイスなどのテーマが設定され、初めて茨機分子素子を目指し、大いにプラズマプロセスが役に

城県つくば市の産業技術総合研究所会議室にて８月２立つことが分かった。最後に東芝の水島先生より、シリ２日〜２３日の２日間にわたって開催しました。本年度もコンの表面流動を利用した Silicon on Nothing 構造の３１名（大学関係１５名、企業関係：１２名、国研関係：４

形成とその構造を利用した SOI デバイスに関する講演名）の参加者があり、講演者及び参加者の間による活を頂いた。極めてユニークな方法により MOSFET の特発な議論が行われた。以下、公演内容の簡単な概要を性改善を実現した例を紹介していただいた。

28

以上なような講演内容に関して活発な議論が展開され、今後のプラズマプロセスに関する前向きな議論が展開された。
来年も産総研にて同様の時期（まだ日程は未定）に開催される予定である。詳細は決定しだいご案内申し上げますので、プラズマプロセスの新しいデバイスへの展
開に興味ある方は奮ってご参加頂ければ幸いです。
フロンティアプロセス 2003 プログラム
8/22（金）
12:15- 12:55

受付

12:55- 13:00

開会の辞

13:00- 14:30

CVD ダイヤモンド薄膜研究の最新動

向：産総研 藤森直治 先生
14:30-14:45

休息

14:45- 16:15 カーボンナノチューブのナノデバイス応用：大阪大学 松本和彦 先生 16:15-16:30 休息
16:30-18:00 現状の LSI 動向と今後の課題：半導体先端テクノロジーズ 笠井直記先生
18:10- 20:00 懇親会（産総研内レストラン）
8/23（土）
9:00-10:30 自己組織化膜のナノテクノロジー：産総研
石田敬雄 先生 （司会：寒川）
10:30-10:45

休息

10:45- 12:15 Silicon on Nothing (SON) 技術：東芝
水島一郎 先生
12:15- 12:20 閉会の辞

29

2003 年秋季第 64 回応用物理学会学術講演会シンポジウム
名古屋大学 環境量子リサイクル研究センター 井上泰志

本シンポジウムは，プラズマのバイオ応用に関すを必要とする一方，生体に直接接しない生体関連材る研究に，一人でも多くの研究者に参入していただ

料については，化審法のみの規制であり，比較的容く契機となるよう，世界におけるプラズマ応用バイ

易に実用化が可能である，ということである．バイオ研究の潮流と日本の進むべき道について議論する

オ系における研究，特に単なる基礎研究でなく，実ことを目的として企画した．

用化を狙う研究には，これら法規制に関する事柄も十分に認識する必要がある．

イントロダクトリートークとして，一木（東洋大工）より，「プラズマバイオ応用が拓く技術革新の世「マイクロチップを用いた化学分析」と題して渡界潮流と展望」と題して，バイオチップ等のバイオ

慶次（KAST）よりなされた発表では，環境やバイ分野で用いられるデバイスについて，プラズマの役

オ関連で必要とされる化学分析を，シリコンやガラ

割・重要性が示されるとともに，このようなデバイ

ス基板上に作製されたマイクロパターンを利用してスに対するニーズ，今後の市場動向なども併せて示

極微量・高感度・高速度で行う研究成果が報告されされ，実用研究の必要性・緊急性が明らかにされた．

た．プラズマを用いた微細加工技術によって作製さプラズマをバイオ系材料の作製に用いた研究の例

れたマイクロチップが，どのような用途に用いられとして，「グロー放電プラズマ処理チタン板は骨芽細るか，という，いわゆる出口側の状況が紹介された．

胞の分化を促進する」と題して柴田（昭和大歯）よ最後に，「バイオナノプロセス＝微細化への新たなり，「高周波熱プラズマ法による生体適合性材料の創アプローチ＝」と題した発表が，寒川（東北大流体製」と題して亀山（産総研）より，また「大気圧グ科学研）よりなされた．寒川らの提案するバイオナ

ロー放電による新しいバイオマテリアルの創製」とノプロセスとは，例えば生体内で無機物質の単結晶

題して児玉（九工大院生命体）より，生体に直接接が析出する能力，すなわちバイオミネラリゼーショ

触して利用される「生体材料」の開発において，プンのような現象を，半導体系ナノ微細加工技術の分ラズマを利用する最先端の研究成果が発表された．

野に応用したプロセスである．バイオナノプロセス

人工歯根，人工股関節，医用高分子チューブなどさにより作製された無機材料ナノ構造とプラズマを用

まざまな生体材料において，生体適合性の向上など

いた堆積・エッチング加工技術を融合した新しいナのために，母材に何らかの表面処理が必要不可欠でノ加工技術の可能性が示された．
バイオ分野におけるプラズマの利用という観点にあり，そのためのツールとして，プラズマが極めて立った場合，以下の４つの応用グループを考えるこ

重要な役割を担うことが示された．
一方で，「バイオ系材料のプラズマ加工」と題したとができる．(1) 生体関連 (Bio-related) 材料形成，

葛谷（岐阜薬大）の発表では，植物の種子にプラズ(2) 生体適合 (Bio-compatible) 材料形成，(3) 生体

マを照射し，発芽時期をコントロールできるという模倣 (Bio-mimetic) 材料形成，(4) 生物・生体組織

発表がなされ，生体材料の作製だけでなく，プラズの改変．今回のシンポジウムでは，上記の(1)，(2)，マを生体そのものへ応用できる可能性が示唆された．

(4)に関連する講演が行われ，(3)の生体模倣に関する

また葛谷は，化審法と薬事法の差異について，極め

報告はなかったが，例えば蓮の葉構造を模倣して超て重要な指摘を行った．すなわち，バイオ系材料のはっ水材料を創製する研究など，世界的にさかんに開発において，生体に直接接する生体材料は薬事法

研究が行われている．一方で，(4)に該当するプラズによる規制があり，実用化には莫大なコストと年月

マを生体に直接応用する研究例は極めて少ないが，

30

これは，生物が生活する環境である大気圧下または水中でのプラズマ発生・維持が困難であること，プ
ラズマ中に生成する化学活性種の中には，生体に対して致命的であるものも含まれることなどの理由があり，この分野におけるプラズマ応用を進めるためには，低温大気圧プラズマ，水中（液中）プラズマ，
ラジカルの制御，また微小プラズマに関して，さらなる技術的発展が必要となろう．
「プラズマ」の名付け親である Irving Langmuirは，プラズマ中で電子やイオンが運ばれる様子と，
血液中で血球や微小細菌などが運ばれる様子の相似性から，電離気体を「プラズマ」と名付けたと伝えられている．我々が認識しているより遙かに高いバ
イオとプラズマの親和性を，彼は直感していたのかもしれない．そういう意味では，現時点ではプラズ
マ技術をバイオ分野へ利用することをメインテーマにしているが，逆に今後，バイオ分野の知見をプラズマ技術へ応用できる可能性もあると言える．
シンポジウムは会場がほぼ満席になるほど大変盛況で，各講演の後の質疑応答では，時間いっぱいまで質問や討論が相次ぎ，多くの方が「プラズマ」と「バイオ」の今後の融合発展に深く関心を持っていることを如実に物語っていた．冒頭に述べたように，
このシンポジウムを機に，プラズマ・バイオテクノ
ロジーの分野が飛躍的に発展することを期待したい．

31

第１４回プラズマエレクトロニクス講習会報告（株）東芝 セミコンダクター社

関根 誠

紹介され、個々の処理に適した処理装置の開発についても判りやすく解説していただいた。

今年の講習会は９月１１日(木)･１２日(金)に東洋大学 白山キャンパスのスカイホールにおいて開催した。昨年に引き続き実践的に役立つ講習会を指向して、「プラズマプロセス装置・実験の実践的設計手
法 - 低気圧・大口径から大気圧・μプラズマまで- 」と題し、半導体や液晶プロセスから最近研究が盛んな大気圧プラズマ、バイオ応用までをカバーする講義を企画した。企業の中堅研究開発者や大学院生以上を対称としたアドバンスな専門的な講義を最前線で活躍する６人の講師のお願いした。
また、研究開発のシーズと最新の装置技術を展示とショートプレゼンテーションで紹介し、産学連携のインキュベーションの場として具体的な情報提供を試行した。さらに、プラズマプロセス装置や電源機器メーカのエキスパートによるパネルディスカッ
ションを行い、質疑の中から技術の核心を捉えるような議論の場を設定した。
最終的な参加者総数は、６７名(企業４８名、大学
官公庁関係１９名)であった。以下にプログラムと講義概要などを報告する。

３．ウェハーエッチングプラズマシステムの設計とプロセス構築寒川 誠二 (東北大学)
50nm 世代の超高精度微細加工プロセスを実現するためには、生成活性種制御や基板表面での電荷蓄積、紫外光放射制御などが必要となってきており、プラズマ物理化学の基礎に立ち戻ったアプローチが必要である。寒川先生には、生成活性種を制御する手法として、１）パルス変調プラズマ、２）UHF プ
ラズマ、３）中性粒子ビーム技術を講義していただ
いた。さらに、経験的なプラズマプロセスをインテ
リジェント化するオンウエハーモニタリングが紹介された。
４．ショートプレゼンテーション・ポスター展示
下記の内容で各機関の研究、開発業務/製品について、プレゼンテーションとポスターで紹介された。
・先進的プラズマ・イオン源と先端材料プラズマプ
ロセシング技術の開発
高橋和夫（京都大）
・LSI 内微細配線用の銅のプラズマ CVD 竹中弘祐（九大）
・衝突輻射モデルを用いたプラズマの分光計測結果の解釈法について赤塚 洋(東工大)・High-Rate Deposition of Microcrystalline SiliconFilms Using High-Density Plasma 新 倉 ち さ と(AIST)
・大気圧プラズマの大面積化とその応用 湯浅基和
（積水化学）
・AET Japan のマイクロ波大気圧プラズマ共振器
大舘康彦（株式会社エー・イー・ティー・ジャパン）
・ＮＵエコ・エンジニアリング会社紹介（名古屋大発ベンチャー）加納浩之
・Plasma Simulation with CFD-ACE+ 池田圭（ウェーブフロント）・ ペガサスソフトウェア社の紹介 田中正明

○９月１１日(木)１．大気圧プラズマプロセスの可能性
岡崎 幸子(上智大学)
本分野を開拓された岡崎先生からイントロダクシ
ョンの位置付けで、大気圧グロー(APG)放電開発の研究開始(1986〜)以来の経過と基礎概念を簡単に紹介いただいた。広範な応用の可能性から本分野の研究が急激に増加しており、最近の APG 放電の構造解明が今後の研究の足がかりとして更に発展を加速する状況をお話いただいた。先駆的な研究を推進す
る上での研究のあり方、心構えに至るまで、聴講者を鼓舞する講演であった。
２．大気圧プラズマ生成と応用技術
小駒 益弘 (上智大学)
続いて、岡崎先生と APG プラズマ研究を推進された小駒先生から、APG の具体的な応用技術とその背景の基礎概念を講義いただいた。特に大気圧下で行うメリットの高い事例として表面処理と膜堆積が32

ロセス変動や異常を検知できることが示され、モニター技術を含めた電源系への問題提起がなされた。
また TEL・輿石氏からはチャンバー側からみた RFの伝送系を中心とした開発の取り組みについて報告された。
これらを受け、電源メーカ各社の最新の開発内容が紹介された。日本高周波からは高効率小型の電源として 5kW までの新たな電源開発の報告がされた。
新電元からは RF アンプの変換効率を向上する試み
が回路ブロック、スイッチング波形などを示して紹介された。MKS は新開発素子による小型高効率電源とマッチング手法について紹介し、最後にアドバン
スド・エナジー・ジャパンからは、高信頼化へのシ
ステマチックな取り組みと RF 系プローブによるエ
ンドポイント計測例などが紹介された。
従来の講習会などではあまり取り上げられなかった電源自体とマッチングおよびそのモニター技術について、開発の最前線からの具体的報告と議論がなされ、会場からの質疑も活発であった。専門的すぎるとの意見もあったが、講習会の位置付けとして、かなり詳細な内容を適宜トピック的に取り上げていくこともおもしろく、今回の試行は狙いどおりであった。各講師には、シラバス作成、テキスト執筆、講義資料の準備、そして講義にと、多大な時間を割いていただいた。また、ポスター展示、パネルディ
スカッションの講師には、急なお願いにも拘わらず
快くお引き受けいただき、改めてお礼申し上げる。
特に、講師に加え、会場に関してもたいへんお世話になった東洋大学・一木隆範先生にはお礼の言葉もない。
また、開催にあたり多大なご協力をいただいた主催のプラズマエレクトロニクス分科会諸兄、応物事務局担当の伊丹氏、さらに協賛いただいた学協会の皆様に感謝する。
最後に、以上の方々に支えられ、議論のメールを飛び交わせながら熱心に準備を進めた分科会担当幹事〔近藤道雄(産総研)、輿石 公(東京エレクトロン)、
井上泰志(名大)、津田睦(三菱電機)、湯浅基和(積水化学)、霜垣幸浩(東大)〕の各氏にお礼申し上げる。
(２００３年１２月７日)○９月１２日(金)５．高気圧プラズマ装置とプロセス構築
寺嶋 和夫 (東京大学)
近年進められている高圧ガス中、液体や超臨界流体などの高媒質密度環境における放電プラズマについて寺嶋先生に講義いただいた。従来の低圧プラズ
マとは異なるこれらエキゾチックプラズマのプロセ
ス物性、装置設計、さらには、各種プロセス構築の実例について紹介され、今後の研究の方向性と展望が示された。
６．シミュレーションによるプロセス・システム構築
浜口 智志 (京都大学)
TCAD (Technical Computer Aided Design) によるプロセス開発の低コスト化がいよいよ現実となってきた状況で、浜口先生には、モデリングに必要な物理・化学的現象の整理、モデリングに基づく数値
計算コードをプロセス開発設計支援ツールとして用いる手法について概説していただいた。特に、プラズマ発生装置内のバルクプラズマおよびミクロン・
サブミクロンスケールの物質表面構造とプラズマ表
面相互作用に注目し、そのモデリングとシミュレー
ション技術に関して、最近の進展と将来展望について詳細な講義をいただいた。
７．バイオ MEMS,μTAS 応用プラズマの装置とプロセス設計
一木 隆範 (東洋大学)
一木先生からは最新のバイオ MEMS、μTAS におけるドライエッチングのプロセス設計について論じていただいた。これらの分野では従来の半導体技術が応用されているが、単なる転用では対応できず、大幅な改良や新技術開発が要求される。具体例をビジュアルな資料を豊富に使い講義いただいた。
８．パネルディスカッション
最後に、産総研・近藤氏の司会により、「プラズマ装置システムと電源系の設計の実際」と題し、高信
頼高効率な電源系を如何に構築するかの議論を行った。
デバイスメーカ、装置メーカ、および各電源メー
カ 4 社のご担当に短い報告と議論をお願いした。まず三菱電機・津田氏からは、プラズマ装置の微妙なインピーダンス変化をモニターすることにより、プ33

《行事予定案内》
第 21 回プラズマプロセシング研究会(SPP-21)の開催ご案内
現地実行委員 北海道大学 酒井 洋輔、須田 善行
ホームページhttp://mars-ei.eng.hokudai.ac.jp/~spp21/
下記までオリジナル原稿を２部送付願います。なお、
投稿要領(PDF ファイル)はホームページからダウンロードできます。ホームページには原稿準備の際の注意事項も記載しておりますので、どうぞご参照下さい。

第 21 回プラズマプロセシング研究会(SPP-21)の開催がせまって参りました。本稿では研究会の準備状
況をご説明いたします。
＜SPP-21 開催日時・会場＞
日時：2004 年(平成 16 年)1 月 28 日(水)−30 日(金)会場：北海道大学学術交流会館
札幌市北区北 8 条西 5 丁目
TEL: 011-706-2141（会館事務室）（北大正門隣り、札幌駅北口から徒歩約 5 分）

［論文送付先］〒060-8628 札幌市北区北 13 条西 8 丁目
北海道大学大学院工学研究科 電子情報工学専攻
第 21 回プラズマプロセシング研究会
実行委員長 酒井 洋輔 宛

＜特別講演＞
III−Ⅴ半導体量子ナノエレクトロニクスと関連する
プラズマプロセシング
長谷川 英機氏（北海道大学量子集積エレクトロニクス研究センター長）＜指定テーマ講演＞
低エネルギー電子と分子の衝突ダイナミックス
田中 大氏（上智大学理工学部教授）
ナノメートル制御で作られたアモルファス窒化
炭素薄膜：創製、物性と応用
仁田 昌二氏（岐阜大学名誉教授）＜懇親会＞

プロシーディングス論文締め切り
2003 年 12 月 15 日 (月) 17:00 (必着)日時：1 月 28 日(水) 18:30−20:30
会場：札幌アスペンホテル
札幌市北区北 8 条西４丁目（札幌駅北口・研究会会場より徒歩３分）
会 費：5000 円＜参加・発表件数＞
Early registration を 10 月 31 日にて締め切りまして、
12 月 4 日現在で、参加 165 名、口頭発表 78 件、ポスター発表 73 件のお申込みを頂いております。11
月 1 日以降は Late registration として研究会当日まで参加を受け付けております。まだ参加登録されていない方はお早めにホームページよりお申込み下さい。
＜プロシーディングス論文原稿＞
SPP-21 プロシーディングス論文原稿要領に従い、
会員
種別

一般
学生

Late Registration 料金
応 用 物 理 学 プラズマ 応 用 物 その他
会 お よ び プ エレクト 理 学 会
ラ ズ マ エ レ ロニクス 会員・協
ク ト ロ ニ ク 分科会会 賛 学 協
ス分科会会 員会会員
員
14,000 円 17,000 円 17,000円 20,000 円
4,000 円 6,000 円 6,000 円 8,000 円

34＜冬の北海道に初めていらっしゃる方に＞○「ようこそさっぽろ」
http://www.welcome.city.sapporo.jp/
札幌市内のイベント情報○「札幌管区気象台」
http://www.sapporo-jma.go.jp/
長期予報による１月の札幌(平年並み)
気温：-4.1℃ 降雪量：158 cm○「雪道で転ばない歩き方講座」
http://www.snowfes.com/motto/walk/
靴裏の滑り止めは新千歳空港でも入手可能
その他ご不明な点・ご要望等は下記まで
SPP-21 実行委員長 酒井 洋輔
幹 事 須田 善行
TEL: 011-706-6482 Fax: 011-706-6482
E-mail: spp21@mars-ei.eng.hokudai.ac.jp

「プラズマナノテクノロジーとその将来ビジョンに関する国際ワークショップ」の御案内International Workshop on Plasma Nano-Technology and Its Future Vision
名古屋大学

堀 勝
と産業化」

プラズマナノテクノロジーは、材料、バイオ、情報通信など全ての分野に関わる量産微細化技術とし

日時：2004 年 2 月 4 日(水)て今世紀の産業基盤となることが期待されておりま

会場：東京工業大学大岡山キャンパス

す。したがって、この分野の今後の研究展開は、基デジタル多目的ホール

礎的な部分とともに産業化の視点も強く意識する必（東京都目黒区大岡山）

要があります。

参加費：1,000 円

本ワークショップでは、科学・技術に加えて将来の産業化と技術動向までを議論することを目的とし

定員：200 名ており、二部に分かれています。第一部では、東京

言語：日本語工業大学にて、「プラズマナノテクノロジーの将来技
術動向と産業化」について、講師陣による講演とパネルディスカッションを通して議論を進めます。第

第二部「先端プラズマナノテクノロジーの科学と技二部では、会場を古都飛騨高山に移し、雪景色の中術」―自己組織化を利用したプラズマナノプロセスに徹底した議論の場を作り、国内外の招待講演者との可能性と挑戦―

会場とが一体化し、プラズマナノテクノロジーの科

日時：2004 年 2 月 5 日(木)〜6 日(金)学的・技術的側面に焦点を絞ってボトムアップ技術

会場：ホテルアソシア高山リゾートの可能性について議論を進めます。また、プラズマの基礎と応用に関して広い分野から一般講演（口頭、岐阜県高山市越後町 1134

ポスター発表）も募集いたします。

JR 高山駅からタクシーで 8 分

なお、第一部に引き続いて第二部にも参加いただ

参加費：

けるよう、交通の接続を考慮してプログラムを編成

分科会会員

15,000 円

しております。皆様のお手元には本国際ワークショ

応用物理学会会員

18,000 円

ップの案内が届いていることと思います。分科会会

非会員

20,000 円

員各位の両会場への積極的なご参加（聴講、議論お宿泊費：

よび論文発表）をお願い申し上げます。

参加者は、基本的にホテルアソシア高山リゾートに宿泊していただきます（シングル:12,075 円：一

主催：応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科

泊、夕食、朝食、税込）。

会

定員：50 名共催：科学技術交流財団

言語：英語

後援：ナノテクノロジー総合支援プロジェクトセン
ター

参加申し込みおよび宿泊申し込みは、下記を参照し

第一部「プラズマナノテクノロジーの将来技術動向てください。

35

国際ワークショップホームページ
http://annex.jsap.or.jp/plasma/
招待講演者：
第一部「日本的経営とナノテクノロジー」
野中郁次郎（一橋大学）「ブレークスルーを実現する経営戦略」
市川惇信（東京工業大学）「ナノテクノロジーとロボット産業」
福田敏男（名古屋大学）「光エレクトロニクスとナノテクノロジー」
伊賀健一（東京工業大学）
第二部
Plenary Talk：“Super-scaled CMOS and Some Aspects ofNanowire/Nanotube”
Y. Nishi (Stanford University)
Invited Speaker：
U. Kortshagen ( University of Minessota, USA)
M. Myyappan (NASA, USA)
M. Lippma (University of Tokyo, Japan)
A. Louchev (NIMS, Japan)
T. Ichiki (Toyo University)
R. Short (University of Sheffield, UK)
G. Borghs (IMEC, Belgium)
M. Kondo (AIST, Japan)
K. Terashima (University of Tokyo, Japan)
H. Tabata (Osaka University, Japan)
O. Takai (Nagoya University, Japan)36

２００４年春季第５１回応用物理学関係連合講演会 応物スクール B 案内
斧高一 ・ 白谷正治 ・ 関根誠て，この 20 数年で飛躍的な発展を見せ，今日，薄膜材
料･マイクロエレクトロニクス・MEMS 分野における最も重要で不可欠な基盤技術の一つとなっています．プラズマ科学は，これまで，基礎研究と応用研究が表裏一体で発展してきた，といって過言でありません．
このようなプラズマ科学の研究と発展は今日も不断に続き，最近では，大気圧あるいはそれ以上の高い圧力の非平衡プラズマ技術が開発され，ナノテクノロジー・バ
イオテクノロジーの最先端技術分野でも基礎・応用研究を展開しています．本スクールでは，学生，あるいはプラズマに興味がありこれから使いたい，プラズマを現在使っているが本質がよくわからないという研究者・技術者を対象として，最新のプラズマ技術・プラズマプロセス
技術について基礎から最近の話題までを解説します．
さらに，ナノテクノロジー・バイオテクノロジー分野における最新のプラズマ応用技術の研究開発を紹介・解説することにより，応用物理学とプラズマ科学・技術の一層の発展に供します．

プラズマエレクトロニクス分科会では，応物スクール B「最先端技術を支えるプラズマ科学−ナノからバイオテ
クノロジーまで−」を企画いたしました．皆様には奮って御参加いただくとともにお知り合いの方も御勧誘いただ
き，盛会にしていただきたくお願い申し上げます．
応物スクール B「最先端技術を支えるプラズマ科学−ナノからバイオテ
クノロジーまで−」
２００４年３月２８日（日）９時〜１６時５分
応物スクール B の目的
プラズマ科学はこれまで，光源・レーザ・粒子ビームなどの放電応用，核融合開発，宇宙開発，さらに半導体プ
ロセシングやプラズマディスプレーパネルなど先端技術の多岐にわたる分野で研究が展開され発展してきました．特に，プラズマを用いた薄膜形成・表面改質や微細加工技術，いわゆるプラズマプロセス技術は，種々の薄膜材料加工を効率よく行える実用的なプロセス技術とし

講演題目
はじめに (9:00〜9:05)
非平衡プラズマ生成の基礎 −低気圧から高気圧まで−(9:05〜9:50)
大口径プラズマ生成と先端プロセス応用技術 (9:50〜
10:35)

勤務先（略称）
京大院工

講演者
斧 高一

名大院工

菅井 秀郎

産総研

近藤 道雄

名大院工

堀

埼玉大工

白井 肇

東大院工

寺嶋 和夫

東洋大工

一木 隆範

東北大流体研

寒川 誠二

休憩 10:35〜10:50 (15 分)
プラズマナノプロセスの展開 −トップダウンからボトムアップへ− (10:50〜11:35)
昼食 11:35〜12:35 (60 分)
大気圧非平衡プラズマの発展と応用 −5 分で出来る
Desktop Laboratory−(12:35〜13:20)
プラズマが切り拓くナノマテリアルフロンテイア(13:20〜14:05)
休憩 14:05〜14:20 (15 分)
プラズマバイオ応用が拓く技術革新の世界潮流と展望(14:20〜15:05)
新しいビームを用いたインテリジェントナノプロス(15:05〜15:50)

勝九大院システム
白谷 正治
情報まとめ (15:50〜16:05)

37

2004 年春季第 51 回応用物理学関係連合講演会シンポジウム案内（1. 4 プラズマ応用プロセス）「飛躍する磁性体デバイスの作製プロセスの現状と課題」
物質・材料研究機構 物質研究所 岡田勝行
5.マグネトロンスパッタリングによる磁性薄膜作成

MRAM(Magnetic Random Access Memory)はその名の通り、磁気によってデータを記憶するメモリで、電源プロセスの診断（30 分）

を切ってもデータが失われない不揮発性、読み書きの名大院工 豊田浩孝

速度が速い、集積度が高いといった特徴を兼ね備えて

6.MRAM 向けドライエッチング技術の現状と課題

おり、次世代のメモリデバイスの一つとして注目を集め（30 分）ています。そこで今回、この MRAM を含む磁性体デバ

アネルバ 塚田勉

イスに用いられる材料の基礎特性から成膜・プラズマ加

7. MRAM 量産化プロセスの課題（30 分）

工技術等の製造プロセスに至る基礎的な理解を進め、

東芝セミコン 浅尾吉昭

高精度なデバイスを実現するために何が必要かを議論すべく本シンポジウムを企画しました。皆様には奮ってご参加いただき、今後の磁性体デバイス作製におけるプラズマプロセスの貢献の可能性を探る有意義なシン
ポジウウムにしていただきたくお願い申し上げます。
世話人：岡田勝行（物質・材料研究機構 物質研究所）
プログラム
3 月 30 日（火）13：30-17：00
1.Introductory Talk（5 分）
ソニー 辰巳哲也
2.半導体スピンエレクトロニクスの現状と将来展望（30分）
東大院工 田中雅明
3.磁性フォトニック結晶の現状と課題（30 分）
豊橋技科大 井上光輝
4.高性能スピンエレクトロニクスデバイスため薄膜ナノ構造制御（30 分）
東北大院工 高橋研
休憩 15:05-15:20

38

第 24 回宇宙技術および科学の国際シンポジウムのご案内(The International Symposium on Space Technology and Science, 24th ISTS)
京都大学 大学院工学研究科 航空宇宙工学専攻 斧 高一
Organized Sessions (invited)

第 24 回 ISTS が 2004 年 5 月 30 日(日)−6 月 6 日(日)の日程で、宮崎県フェニックス・シーガイア・リゾ

1) Micro, Nano-Engineering for Space Systemsートで開催されます。

2) On-Orbit Servicing and Assembly

ISTS は、国内外の宇宙工学、宇宙科学、宇宙医学、

3) Novel Space Systems Concept

宇宙法の各分野の専門家が研究発表を通じて交流を

4) New players in Space Development Technical

深め、宇宙活動を一層活発化することを目的として、

Sessions

最近では 2 年に 1 度開催されています。分野の中に(a) Chemical Propulsion and Air-breathing Engines

はプラズマ科学・技術も内包され、宇宙関係の国際(b) Electric and Advanced Propulsion

会議としては我が国最大のものです。

(c) Materials and Structures

この会議の歴史は 1959 年の第 1 回シンポジウムに(d)まで遡り、以来、2002 年の第 23 回に至るまで、年Control

を追って諸外国からの評価も一段と高まってきてい(e) Fluid Dynamics and Aero-thermodynamics

ま す 。 前 回 は 「 Innovating Space into Exciting(f) On-Orbit and Ground Support Systems

Century」をメインテーマに島根県で開催され、15(g) Space Transportation

ヶ国、759 名が参加者し、519 件の発表がなされま(h) Space Environment Utilization

した。

(j) Satellite Communications and Broadcasting

Astrodynamics,

Navigation

Guidanceand(k) Lunar and Planetary Missions and Utilization

また、このシンポジウムでは、Spacecraft Control
System Design Contest という独特な催しが行われ、(m) Space Science and Balloons

今回で第 2 回を迎えます。このコンテストでは、人(n) Earth Observation

工衛星等の宇宙機の制御に関わる様々な問題点がク(p) Life Sciences and Human Presence

ローズアップされ、その一部がコンテスト課題とな(r)International Cooperation and Space Environment

り、参加者が課題に取り組むというものです。この(t)Systems Engineering and Information Technology

コンテストの主旨は、実際の問題を解決する困難さ(u) Education and Outreach Programs

を参加者が認識する機会を提供するということ、そStudent Session

して、その問題を解決する喜びを参加者が共有するということです。優れた提案には部門ごとに賞が授

Panel Discussions

与されます。
今年のセッションの構成は以下の通りです。また、

1) Vision and Plan of the Japanese New Spaceさらに詳しい内容については、http://www.ists.or.jp

Organization

をご参照下さい。

2) Future of Manned Space Flight3) Space Commercialization.

National Space Program Session (invited)
Overview of the highlight activities of space-faring
nations39

第 7 回 APCPST & 第 17 回 SPSM のご案内
九大・総理工 河合 良信
11. Plasma Chemistry

第 7 回 APCPST (7th Asia Pacific Conference on
Plasma Science and Technology) 及 び 第 17 回

12. Atmospheric Plasmas

SPSM (17th Symposium on Plasma Science for

13. Plasma Sources

Materials) が福岡国際会議場において、平成 16 年 6

14. Light Sources

月 29 日（火）〜7 月 2 日（金）の 4 日間、開催される。会15. Others

議の詳細は近々配布される 2nd Announcement に述
日程：
6 月 28 日

べられるので、ここではその概要を紹介する。
APCPST は、プラズマ科学技術に焦点を絞り、隔年ごと

17 時〜21 時：レジストレーション、ウエルカムパーティに開催されてきた国際会議であり、日本、韓国、中国、
オーストラリア、ロシア、米国等アジア・太平洋から 400

6 月 29 日

名前後の研究者の参加を得て、プラズマ科学技術に関

9 時〜21 時：開会式、会議（総合講演、トピカル招待する多くの発表がこれまで行われてきた。日本からも毎講演、一般講演、ポスター発表）

回当該分野の研究者が多数参加し、優れた成果を公表してきた。第６回 APCPST は平成 14 年 7 月に韓国・

6 月 30 日

チェジュで開催された(15th SPSM, OS 2002, 11th

9 時〜17 時 30 分：会議（トピカル招待講演、一般講

KAPRA と合同)。APCPST は、日本学術振興会第 153

演、ポスター発表）

委員会主催で毎年国内において開催されている
SPSM と合同で開催することになっている。なお、プロ

7月1日

シーディングスは Thin Solid Films の特集号として出版

9 時〜12 時：会議（トピカル招待講演、一般講演、ポされるので、多くのプラズマエレクトロニクス分科会会員

スター発表）の方の論文投稿を期待している。

12 時〜18 時：コンファレンスツアー

主なトピックスは材料プロセス、ナノテクノロジー、環境

18 時 30 分〜21 時 30 分：バンケット技術とそれらに関するプラズマ物理・化学である。アブストラクトの分類は以下の通りである：

7月2日
9 時〜15 時：会議（トピカル招待講演、一般講演）、

1. Surface Modification of Materials by Plasmas

閉会式

2. Plasma Deposition
3. Plasma Etching

参加費：

4. Plasma Nanotechnology

正規 37,000 円（5 月 21 日以前）

5. Microplasmas

43,000 円（5 月 21 日以降）

6. Plasmas for Biochips

学生 17,000 円

7. Plasma Diagnostics

なお、参加費にはバンケット及び４食分の昼食代が含

8. Environmental Plasmas

まれている。

9. Dusty Plasmas
10. Simulation and Modeling40

Abstract 締め切り日：平成 16 年 3 月 26 日
Late News も受け付ける予定である。
プ ロ シ ー デ ィ ン グ ス ： 投 稿 論 文 は 査 読 を 経 て 、 Thin
Solid Films の特集号として出版する。
招待講演：4 件の総合講演（日本、韓国、中国、米国）と45 件のトピカル講演が予定されている。
一般講演：ポスター発表の他に口頭発表も一部予定しているので応募して欲しい。
論文賞：若手（35 歳以下）に対して授与される。プログラ
ム委員会で選定する。
滞在費補助：大学院学生や希望者（外国人）に対して滞在費の補助を予定している。実行委員会の下に小委員会を設けて、Abstract から判断する。
ホテルの予約：室料金を３段階に分けて、受け付ける（東急観光が一括して取り扱う予定である）。
組織：会議委員長：堀池 靖浩（独立行政法人物質・材料研
究機構・生体材料研究センター）
実行委員長：河合 良信（九州大学）
副実行委員長（Thin Solid Films 編集委員長）：渡辺征夫（九州大学）
プログラム委員長：藤山 寛（長崎大学）
秘書：牟田 浩司（九州大学）
主催：日本学術振興会
後援：九州大学、福岡コンベンションビューロ
協賛：応用物理学会、プラズマ・核融合学会
連絡先：牟田 浩司
Tel: 092-583-7650 Fax: 092-571-8894
E-Mail: apcpst@aees.kyushu-u.ac.jp
ホームページ：http://apcpst.aees.kyushu-u.ac.jp41第１１回プラズマエレクトロニクス・サマースクール案内
長崎大学 工学部 篠原正典、名城大学 理工学部 平松 美根男

問い合わせ先：篠原 正典
長崎大学 工学部
E-mail: sinohara@net.nagasaki-u.ac.jp
Tel & Fax: 095-819-2542

主催：応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会
日時：2004 年 8 月 1 日（日）〜 8 月 3 日（火）場所：名古屋市民休暇村〒397-0201 長野県木曽郡王滝村 3159-25
Tel: 0264-48-2111
Fax: 0264-48-2874
内容：大学院生、企業に入ってプラズマ技術が必要になった技術者、この分野に興味のある方等を対象として、
プラズマエレクトロニクス・サマースクールを開催します。
豪華講師陣を招聘し、プラズマエレクトロニクスの基礎に最近の話題を加味した講義を行います。また、担当
幹事のショート講演により最新の研究トピックを紹介します。
１）
講義（仮題）（１）プラズマ生成の原理と実際
永津 雅章（静岡大）（２）電離気体の基礎過程とプラズマモデリング中野 誠彦（慶応大）（３）プラズマ計測の基礎と応用
中野 俊樹（防衛大）（４）プラズマエッチングの基礎と最新動向
栗原一彰（ASET）（５）プラズマ CVD の基礎と最新動向
松田 彰久（産総研）
２）ショート講演（サマースクール担当幹事による研究ト
ピックス紹介）３）ポスターセッション（参加者による研究発表と討論
４）懇親会
その他：参加費および参加申し込み方法等の詳細は、プラズマエレクトロニクス分科会会報 No.40, 応用物理
学会誌、および、プラズマエレクトロニクス分科会のホームページ( http://www.jsap.or.jp/~plasma/ ) に後日掲
載します。

42

平松 美根男
名城大学 理工学部
e-mail: mnhrmt@ccmfs.meijo-u.ac.jp
電話: 052-838-2298
Fax: 052-832-1298

「プラズマ科学技術に関する国際 COE フォーラム」の御案内International COE Forum on Plasma Science and Technology
April 5-7, 2004, Nagoya Japan
名古屋大学 佐々木 浩一
名古屋大学において，「プラズマ」を全面に押し出した 21 世紀 COE プログラム「先端プラズマ科学が拓くナノ情報デバイス」が発足したことは2003 年 6 月号の本分科会報でもご報告いたしました。本 21 世紀 COE プログラムにおいて標記の国
際フォーラムを企画しておりますのでご案内いたします。本国際フォーラムは，COE セッション，
ジ ェ ネ ラ ル セ ッ シ ョ ン ， 講 習 会 （ Plasma
Mini-Course）の３部から構成されます。COE セッ
ションではプラズマ関連の各国 COE 活動の紹介が行われ，ジェネラルセッションではプラズマ科
学技術に関する招待講演および一般講演（口頭発
表およびポスター発表）が行われます。また，講習会では世界中から著名な講師を迎え，主に初学者を対称としたチュートリアルが開講されます（学生は無料）。皆様のお手元には本フォーラムの Second Announcement が届いていることと思います。分科会会員各位の積極的なご参加（聴講および論文発表）をお願い申し上げます。

参加費：
一般

Technical
SessionPlasmaMini-Course
Banquet学生2004 年 2月 29 日
以前

2004 年 3
月 1 日以降2004 年2 月 29日以前

2004 年
3月1日
以降¥5,000¥7,000¥1,000¥2,000¥10,000¥15,000

無料

無料¥5,000¥5,000¥2,000¥2,000

重要日程：
アブストラクト投稿締切： 2004 年 2 月 1 日
アブストラクト受理通知： 2004 年 2 月 15 日
参加登録（割引）締切： 2004 年 2 月 29 日

COE 国際フォーラムホームページ
http://www.plasma.coe.nagoya-u.ac.jp/coe_forum/

主催：21 世紀 COE プログラム「先端プラズマ科学が拓くナノ情報デバイス」（名古屋大学）
日時：2004 年 4 月 5 日(月)〜7 日(水)プラズマミニコース：4 月 5 日
テクニカルセッション：4 月 6 日〜7 日
懇親会：4 月 6 日
会場：名古屋大学 IB 電子情報館
名古屋駅より地下鉄東山線藤が丘行きに乗車，本山駅乗換え，名古屋大学駅下車
趣旨：
・ プラズマ科学技術に関する最新の研究成果の発表および討論・ 世界各国プラズマ関連 COE 間の相互交流，共同研究，研究教育協力の促進
・ 初学者のためのプラズマ講習会の開催

参加登録の方法およびアブストラクト投稿方法などに関する詳しい情報は上のホームページから入手することができます。
General Topics：
1. Production and control of reactive plasmas(dc, rf, VHF and microwave plasmas, microandlarge-scale
plasmas,atomospheric-pressure,nonthermal
plasmas)
2. Plasma diagnostics and process monitoring(plasmadensity,electronandgas
temperatures, radical density, ion energy andflux, energy distribution functions of electron
and ion, surface charging)
3. Atomic and molecular processes in plasmas
and on surfaces (particle transport, gas phasereactions, plasma surface interactions, beam
experiments)

43

Pressure Discharges,
Inductive Discharge Fundamentals andEquilibrium,

4. Modeling and simulation
5. Etching, deposition, surface treatment, newmaterials synthesis (low-k and high-k
dielectrics,
compoundsemiconductors,
superconducting
films,
nano-structured
materials)
6. Micro- and nano-device fabrication
7. Plasma applications to environmental,
biological and other emerging technologies

M. A. Lieberman, UC-Berkeley, USA・Modeling and simulation
M. Turner, Dublin City University, Ireland・Diagnostics I (probes, mass spectrometry)
Plasma Diagnostics by Probe and Mass
Spectrometry,
H. Sugai, Nagoya University, Japan・Diagnostics II (OAS, LIF)

COE Session（世界のプラズマ関連COE活動の紹介）の講演者：・LPCM (France)
C. Cardinand, J. P. Landesman,
・INP (Germany)
K. Weltmann,
・SFB591 (Germany)
U. Czarnetzki,
・PlasMAC (Ireland)
M. Turner,
・Plasma-Nano (Japan) H. Sugai,
・CAPST (Korea)
J. G. Han,
・CPAM (USA)A. Went, N. Hershkowitz,

Optical Absorption Spectroscopy andLaser-Induced
Fluorescence
Techniques
Applied to Plasma Diagnostics,

N. Sadeghi, University J. Fourier, France
・Diagnostics III (OES, Thomson scattering)

Optical diagnostics of Plasmas
Emission Spectroscopy and Laser
Scattering,

using
Light

A. Kono, Nagoya University, Japan・Basic Plasma Physics Topics
Radio Frequency Discharges,
U. Czarnetzki, Ruhr-University, Bochum,
Germany
・Plasma Applications Topics

General Sessionの招待講演：
・ D. Graves, University of California at Berkeley,
USA, "Molecular Dynamics Simulations of Silicon
Etching in Argon and Fluorocarbon Plasmas"
・ R. Hatakeyama, Tohoku University, Japan,"Creation of Novel Structured Carbon Nanotubes
Using Plasma Technology"
・ M. Hori, Nagoya University, Japan, "Ultrahigh
Speed Processing Employing Microwave Excited
Non-equilibrium Atmospheric Pressure Plasma"・ H. Kersten, INP, Greifswald, Germany,"Plasma-Powder Interaction: Application andDiagnostics"
・ N. Sadeghi, University J. Fourier, Grenoble, France,"High Sensitivity Multipass Broad-Band Absorption
Spectroscopy with Mode- Locked Femtosecond
Lasers"・ M.C.M. van de Sanden, Eindhoven University ofTechnology, Netherlands, "In Situ Plasma and Film
Growth Studies During PECVD"・ J. Schmitt, UNAXIS, Switzerland, "Large Area
Capacitive Plasma"・ M. Shiratani, Kyushu University, Japan,"Anisotropic Deposition of Cu Using Plasma CVD"
・ K. Tachibana, Kyoto University, Japan, "Generation
and Control of Microplasmas Based on 3D
Diagnostics"

High Definition Patterning through Plasma
Etching: The Role of Ion Bombardment,

A. Wendt, University of Wisconsin-Madison,
USA

Plasma Mini-Course：
・Plasma discharges

Introduction and Discharge Fundamentals,
Particle and Energy Balance in Low

44

《平成 15 年度後期活動報告》
４．第 18 回光源物性とその応用研究会について（安田幹事）
光源物性とその応用研究会の開催について、下記の案内があった。
・12 月 1 日に神奈川大学にて開催予定。
・ 照明、ディスプレー、光源、マイクロプラズマ等の研究開発に関する発表が見込まれている。
・ 講演締め切りは 9 月 10 日。

Ⅰ．第 38 回プラズマエレクトロニクス分科会ミーテ
ィング（兼 平成 15 年度第 2 回幹事会） 議事録
日時：平成 15 年 8 月 31 日(日)，12:00〜13:00
場所：福岡大学七隈キャンパス A 棟 6F-A601
議題及び報告事項：
１．第 10 回サマースクール報告（赤塚幹事）
8 月 6 日〜8 日に名古屋市民御岳休暇村において開催された第 10 回プラズマエレクトロニクスサマースクールの実施状況について、下記の報告がなされた。
・ 参加者については、昨年より社会人が 14 名減少し、学生は 15 名増加した。
・ 今回のスクールを機会として分科会入会者が増加した。
・ 初学者向けの視覚に訴えた判りやすい講義が好評であった。
・ 来年度の開催については、応用物理学会の活性化支援金を申請する予定である。

５．第 21 回プラズマプロセシング研究会 (SPP-21)
について（酒井実行委員長，須田幹事）
プラズマプロセシング研究会の開催について、下記の案内があった。
・ 2004 年 1 月 28 日〜30 日、北海道大学学術交流会館にて開催。
・ 参加申し込み締め切りは 10 月 30 日。
・ 1st Announcement を発行済み。
寒い時期ではあるが、札幌へのアクセスは良いので是非参加して下さるよう、また、関係者にはポスターを配布するので掲示・宣伝お願するとの協力要請が行われた。

２．第 11 回サマースクール（案）について（篠原幹事）
来年度のサマースクール開催について、下記の提案があった。
・ 8 月 1 日〜3 日に開催予定。
・ 校長は次期副幹事長（大学所属）。
・ 講師案：
プラズマ生成 大阪大学 三宅先生
モデリング
慶応大学 中野先生
計測
防衛大学 中野先生
エッチング
ASET
栗原先生
CVD
産総研
松田先生

６．第 2 回プラズマ科学シンポジウム (PSS-2) と第 22回プラズマプロセシング研究会 (SPP-22) の合同開催（案）について（菅井組織委員長）
PSS と SPP の合同開催について、下記の通り提案され、本ミーティングにおいて承認された。
・ プラズマ・核融合学会（＋応物、学振 153 委員会）主催・ 2005 年 1 月に名古屋地区での開催を予定。
・ 合同開催のメリットを引き出すために組織委員会内での討議は十分行う。
・ SPP との合同開催になれば 500 人を超える参加者が期待される。また、異分野との接触の機会も増えるといった相乗効果もある。
・ 今回の合同開催の財務責任はプラズマ核融合学会。
・ プロシーディングスは SPP のものを踏襲したい。

３．第 14 回プラズマエレクトロニクス講習会について（関根副幹事長）
講習会の開催につき、下記の内容の案内があった。
・ 9 月 11 日，12 日に、東洋大白山キャンパススカイホールにて、開催予定。
・ 大気圧、マイクロプラズマまでを含めた装置・実験の実践的設計手法についての情報を提供する。
・ 電源メーカー、装置メーカーの方がパネルディスカッ
ションへ参加予定。

７．プラズマナノテクノロジーとその将来ビジョンに関する国際ワークショップについて（斧組織委員長，白谷・堀実行委員長）
ワークショップ開催について、その準備状況の報告と案内がされた。

45

講演分科の編成について、下記の通り報告があっ・ 2004 年 2 月 4 日に東京工業大学、2 月 5 日〜6 日に岐阜県高山市にて開催予定。
・ ワークショップでは、プラズマナノテクノロジーとはどのようなものか？今後どのように発展するか？という内容に焦点を当てる。
1st Announcement を作成中であるという案内、及び作成後の広報に関する協力要請がされた。

た。
・ ナノ関係の講演をまとめて大分類分科（ナノテクノロ
ジーセッション）にする議論が進行中。
・ プラズマエレクトロニクス関連では中分類分科 1.5 プ
ラズマプロセスによるナノテクノロジーと合同セッショ
ン F をまとめて移す形を案として提案。
・ 放射線とプラズマエレクトロニクスの関係を、この大分類の変更の機会に見直しを検討したい。半年ほどかけてよい案を練ってゆくつもりである。

８．2003 年秋季応用物理学会講演会のシンポジウム／総合講演について
2003 年秋季応用物理学会講演会の合同セッションについて（白谷副幹事長）
シンポジウム及び合同セッションで扱うプログラムについて、下記の通り報告があった。
・シンポジウム「プラズマエレクトロニクス賞受賞講演」「プラズマバイオ応用の新展開」
・合同セッション「プラズマＣＶＤの基礎と応用」「カーボンナノチューブ」

１２．分科会ホームページについて（赤塚幹事，高橋幹事）
Web 上で公開されているページについて、下記の通り提案がされた。
・ ページを改良する必要性の有無。特に意見が無なけ
れば、視認性を重視し完全入れ替えの作業を実施したい。
・ 案件のレイアウト等の責任範囲、免責事項、ロゴマー
ク等、担当者としてはどのように扱えばよいか・・・分科会として今後統一した見解が必要。
１３．プラズマエレクトロニクス分科会会報（No.39，12月発行予定）について（辰巳幹事、安井幹事，高井幹事）
No. 39 の編集について下記の通り提案がされた。
・ 次号は 10 月に目次作成、11 月に執筆依頼、12 月に発行の予定
・ 次年度への引継ぎを開始（留任幹事が高井幹事だけでは作業が大変なので増員を予定。）

９．2004 年春季応用物理学会講演会のシンポジウム／総合講演 (案) について
2004 年春季応用物理学会講演会の合同セッション(案) について（白谷副幹事長）
シンポジウム及び合同セッションについて、下記の通り提案があった。
・シンポジウム
シンポジウムについての提案は随時受付
バーチャルセッション：合同セッションＦ（カーボンナノチューブ）はナノテクノロジーセッションに発展的解消？
（１１を参照）

１４．第 2 回プラズマエレクトロニクス賞候補論文募集について（斧幹事長）
第 2 回プラズマエレクトロニクス賞の募集について、
下記の通り案内がされた。
・ 募集要項は基本的に第 1 回と同様。応募締め切りは
12 月 15 日。今回は、申請に際し、電子ファイルとハードコピーの提出を要求。

１０．2004 年春季応用物理学会講演会の応物スクー
ルＢ (案) について
（斧幹事長，白谷副幹事長）
スクールの企画について、下記の通り提案があった。
・ テーマ例「最先端技術を支えるプラズマ科学」
・ ここ２年ほどの間に取り上げられるようになった、ナノ、
大気圧、バイオなどをキーワードに、学生啓蒙の意味も含め基礎的な講演を企画。
・ 10 月 24 日までに幹事会にて詳細を議論する。

１５．分科会行事などの今後のスケジュールについて（斧幹事長、白谷、関根副幹事長）
分科会行事及び学会に対して Web 上等で公表する予定表を適宜更新する旨の報告があった。
１６．その他
・ International COE Forum on Plasma Science andTechnology（名古屋、2004 年 4 月 5 日〜7 日）について、協賛及び参加の要請があった。（協賛について

1１．応物講演会、講演分科について（進藤代表世話人）

46度)の予算案は本ミーティングで承認された。）（河野先生）
・ 7th APCPST（2004 年 6 月 29 日〜7 月 2 日）について、参加及び協力の要請があった。論文締め切りは来年 3 月。河合先生（九州大学）が現地実行委員長。
（藤山先生）
・ 科研費特定領域研究発足公開シンポジウム「プラズマを用いたミクロ反応場の創成とその応用」に関して、
9 月 19 日のシンポジウム開催及び全体計画について案内がされた。
（寺嶋幹事）
・ 日本真空協会セミナーについて、12 月の開催及びそのテーマ（排ガス処理のプラズマ、電子線応用）の案
内がされた。
（安井幹事）（平松幹事）
決算及び予算案について、下記の通り報告があった。
・ プラズマエレクトロニクス分科会中間決算について。8月 31 日現在で収入合計 6,842,008 円に対し支出
6,634,853 円。
・ 平成 16 年度予算について、前年度からの繰越金
5,200 千円を見込む。収入は会費 1,422 千円＋各事
業（講習会等）による＋αの見込み。収入を伴わない
事業支出は会誌 660 千円、学会事務費 272 千円、諸経費（旅費交通費、印刷製本費、通信費等）1,400
千円の見込み。また、次回第 6 回反応性プラズマ国際会議（ICRP-6）準備金として 2,000 千円を引き当てる。
３．2004 年春季応物講演会 応物スクール B（斧幹事長，白谷副幹事長，関根副幹事長）
スクールの開催について、下記の通り報告があった。
・ テーマは、「最先端技術を支えるプラズマ科学 −ナノからバイオテクノロジーまで−」
・ プログラム（講師と講演題名）は今夏にメール幹事会
で審議の通り。
・ 春季講演会の第 1 日目 3 月 28 日(日)、東京工科大学にて開催。

・ 会合名変更について、良いネーミングあれば“インフォーマル”でなく他の適当な会合名にすべきではな
いかとの提案をもとに、検討を行った。
現状、PE 分科会インフォーマルミーティング→ PE 分科会ミーティング？
→ PE 分科会＊＊＊ミーティング？
→ etc.

Ⅱ．平成 15 年度 第 3 回 プラズマエレクトロニク
ス分科会幹事会
日時：平成 15 年 11 月 22 日(土)，13:00〜16:00
場所：京都商工会議所 2 階，第 4 教室
議題および報告事項：
１．理事会及び幹事長会議の報告（斧幹事長）
幹事長会議の報告が下記の通りあった。
・ 分科会事務経費の見直しについて、A 会員 1,000 円、B 会員 500 円として分科会から本部に毎年 25 万円ほど支払ってきたが、この値上げについて議論が始まっている。各分科会は、議論の中で、使途の明確化を求めている。
・ 「ナノ」に関する大分類分科の設定についての議論が進んでいる。
理事会の報告が下記の通りあった。
・ 次期会員管理システムの仕様見直しとシステム製作にかなりの費用がかかる見込み。情報の取り扱いや利用等に関する要望を分科会として出していく。

４．2004 年春季応物講演会シンポジウム・総合講演の案（白谷副幹事長）
シンポジウム及び総合講演について、下記の通り提案があり審議が行われた。
（A 案）バイオナノテクノロジーに関連するプラズマ科
学研究の課題と戦略：スクールとリンクしてより深い議論を。
（B 案）飛躍する磁性デバイスの作成プロセスの現状と課題：MRAM とその材料、加工等の基礎について。
（C 案）マイクロプラズマの基礎と応用における新展
開：科研費特定領域研究の内容についての紹介
・ 審議の結果、B 案はこれからのニーズを先取りしていて非常に興味深く、B 案を選択することにした。
・ デバイスからプロセス技術までの概要を理解できるようなシンポジウムとして、講師と講演題目を設定し企画運営する。
５．2004 年春季応物講演会における合同セッションの案（白谷副幹事長）

２．今年度(2003 年度)の経理状況と来年度(2004 年

47

・ プロシーディングス締め切りは 12 月 15 日。
・ 懇親会を札幌アスペンホテル（札幌駅北口）にて開催。会費 5,000 円。
・ ポスター会場にはまだ余裕があり 12 月 15 日までなら受け入れ可能であるので希望者は連絡のこと。
・ プロシーディングスは英語目次、索引をつける方向。
・ 投稿分類については次年度以降、より投稿しやすい形に再考をしてゆく。

合同セッションについて、下記の通り報告及び提案があり、審議の結果承認された。
・ 合同セッション D：非晶質、薄膜、プラズマエレクトロニ
クスの合同
・ 合同セッション F：カーボンナノチューブ
・ 合同セッション H：1.4 のプラズマエレクトロニクス（プラズマ応用プロセス）と 7.6 のプラズマ・光・イオンプロセスの合同。エッチング関連中心。
・ 次回以降の運営については、結果報告に基づいて改めて議論。
・ 合同セッションの運営は今後、実績と継続期間を明確化する方向。

１０. プラズマナノテクノロジーとその将来ビジョンに関する国際ワークショップの準備状況（白谷実行委員長，斧組織委員長）
ワークショップの開催について、下記の通り報告及び案内があった。
・ 第一部（東京工業大学にて）については、ほぼプログ
ラムが確定。各講演は 40 分＋質疑 10 分。
・ 第二部（岐阜県高山にて）については、講演の一部が依頼中。
参加者ができるだけ集まるよう、幹事を中心に宣伝活動をお願いするとの要請がされた。

６．2004 年度 第 11 回 PE サマースクールの案（篠原幹事）
サマースクールの開催について、下記の提案があり、審議の結果承認された。
・各講師に内諾を頂き内容を確定した。
・ 企業からの参加を今年度以上に募りたい。
・ 食事等の経費については収支に影響するので、現実的な運用を次期幹事に引き継ぐ。
・ 活性化支援金については、元通り 200 千円の支給を申請する。

１１. 会報 No.39 (2003 年 12 月発行) の準備状況（高井幹事）
会報の発行について、下記の通り報告がされた。
・ 目次を確定、現在執筆依頼中。
・ 原稿の締め切りは 12 月 5 日。原稿作成への協力要請。
・ 応物講演奨励賞受賞者の紹介を新たに入れる（進藤先生へ照会の予定）。
・ 分科会担当伊丹さんに最終原稿納入日の期日を確認する。

７．第１４回 PE 講習会報告（関根副幹事長）
講習会について、下記の通り報告があった。
・ 9 月 11 日、12 日に東洋大学にて開催。
・ プロセス構築、大気圧、バイオをテーマに開催された。
・ 参加者は約 50 名、100 万円程度の収益。詳細は次回報告。

１２. 応物講演会、講演分科について（白谷副幹事長／進藤代表世話人代理）
講演分科について、下記の通り報告があった。
・ 放射線・プラズマエレクトロニクスという大分類分科を分離するかどうかについて議論、交渉を進めているが、放射線側は拒否。
・ 代表世話人は放射線、プラズマが 2 年交代であり、企画委員会等に出席している。来年度から 2 年間は放射線から代表世話人が出るが、プラズマ側から副代表のような形で委員会等に出席できるよう交渉していく。

８．第 18 回光源物性とその応用研究会の準備状況（安田幹事）
研究会について、下記の通り報告と案内がされた。
・ 12 月１日に神奈川大学にて開催予定。
・ 10 件の講演を予定。
・ 予稿原稿はほぼ入手済みで、印刷作業にとりかかる。
・ 応物と照明学会の共催になるので、両学会関係者の交流を深め次期へのつながりを強化してゆく。
９，第 21 回プラズマプロセシング研究会の準備状況（須田幹事／酒井現地実行委員長代理）
研究会について、下記の通り報告及び案内があった。
・ Early registration を集計。現時点で参加 165 名。口
頭発表 78 件。ポスター71 件。

１３. 次期幹事長，幹事候補の推薦（斧幹事長）
次期幹事長及び幹事の選出について、下記の通り提案があり審議が行われた。
・ 幹事長より各候補の案が提示されるとともに、候補の48

追加推薦が行われた。
・ 幹事長候補については、審議の結果、河野先生（名古屋大学）に決定、幹事長が打診を行う。なお次期副幹事長は次期幹事長が指名。
・ 次期幹事として 14 名の候補を推薦（最終的には 12名程度に）。その他、追加推薦がある場合にはメールにて幹事長まで連絡のこと。今後 12 月初旬までにメール幹事会にて、次期幹事候補を決める。
１４. SPP-22/PSS-2005 (2005 年 1 月，名古屋) 現地
実行委員会委員（斧幹事長）SPP/PSS の実行委員会の組織立て（ゼロ次案）について、下記の通り報告があった。
・ 委員長は菅井先生（名古屋大学）。
・ その他組織委員、現地実行委員等をこれから打診・確定する。
１５. 今後のスケジュール，種々の議論，その他（斧幹事長）
・ 分科会への協賛について、下記の通り依頼があり、審議の結果承認された。
環境を守る電子線プラズマによるガス浄化技術最前線（日本真空協会関西支部）
2004 年有機・無機電子材料とナノテクノロジーに関する国際シンポジウム（応物、応物北陸・信越支部）
2nd International School of Advanced Plasma
Technology（プラズマ技術協議会）（主催という形で参画する。ただしその形態については別途議論。）
・ 次回第 6 回反応性プラズマ国際会議（ICRP-6）の企
画・開催について、分科会幹事会で検討を始めることにした。
・ 第 2 回プラズマエレクトロニクス賞の公募について、締め切り日のアナウンスと応募要請がなされた。
・ 今後のスケジュールについて確認が行われた。
・ 11 月 25 日に学会本部開催の次期会員管理システム
ヒアリングには、分科会から副幹事長あるいは Web 担
当幹事が出席する。

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《掲示板》
プラズマエレクトロニクス分科における講演奨励賞
東海大学 電子情報学部

進藤 春雄

応用物理学会講演会では、若い研究者を対象に優第12回（2002年春季）

れた講演発表論文に対して講演奨励賞を贈呈している。
応物全体の活性化を目的としたものであり、年 2 回開催されている講演会毎に申請された論文に対して審査を溝上 要（京大 工）
30a-D-4 AC型PDP放電セルにおけるXe励起原子の３次元
講演題目
的挙動の診断橘 邦英（京大 工） 坂井 徹男（ディスプレイ研究所）
共同研究者
受賞者

行い、全講演発表論文件数の 1%を目処に奨励賞論文を選定している。審査は分科会ごとに行われており、プ

受賞理由

ラズマエレクトロニクス分科でのこれまでの実績としては、全講演論文数が 150-200 件程度であり、奨励賞への申AC型PDPの放電セルにおいて、光学的測定法によりXe原子の3次元的な挙動を明らかにしている。工夫を重ねた光学測定系を用いることにより、微細な放電セル内のマイクロ放電を
異なる2つの方向からレーザー吸収分光法で測定した。このことにより、初めてXe励起原子密度の3次元的マッピングに成功した。技術的、学術的価値が大きく講演奨励賞に値する。

請件数が 30-35 件程度であることから、毎回 1-2 論文が第14回（2003年春季）奨励賞として選定されてきている。過去 2 年間における竹中 弘祐（九大システム情報）
29p-D-10 銅のプラズマ異方性CVDに対するAr+H 2混合ガスの効果
大西将夫 竹下学 古閑一憲 白谷正治 渡部征夫（九大シ共同研究者
ステム情報）
受賞者

プラズマエレクトロニクス分科内で講演奨励賞受賞論文

講演題目を受賞者ならびに受賞理由と合わせて下表に紹介した。
内容的にはいずれも最先端のプラズマエレクトロニクス
技術を扱ったものであり、特に新分野開拓につながるよ
うな成果として評価されたものである。この期間内にお受賞理由

ける受賞者はすべて大学からの若手研究者であるが、本講演論文は新しいCuソースであるCu(EDMDD) 2を採用したプラズマCVDにおいて、H 2添加により強い異方性成膜を実現し、トレンチの完全な埋め込みに成功している。技術として新領域に踏み込んだ成功と物理科学的現象の解明にも成功しており、今後のLSI技術の発展を左右する重要な研究と高く評価できる。

これは奨励賞への申請が圧倒的に大学からのものが多いことによるものであり、今後企業からも多くの申請がな

第15回（2003年秋季）されるよう分科として対策することも考慮してもよい。講松井 洋樹（名大工）1a-N-5 マグネトロンスパッタ製膜における基板入射粒子の
講演題目
エネルギー測定豊田浩孝 柴垣 寛治 佐々木 浩一 加藤 剛志 岩田 聡
共同研究者
綱島 滋 菅井 秀郎（名大工）受賞者

演奨励賞への申請件数は分科での若手研究者の参入度を表すものであり、講演全件数と合わせて分科の活性度を示す大きな指標である。今後ともプラズマエレクト
ロニクス分科での講演奨励賞がより多くの若手研究者

受賞理由に授与されるようご期待申し上げます。最後に、講演奨励賞審査にあたっては、分科世話人各位を中心に分科
会員各位より審査にご協力を頂いたことをここに記して謝意を表します。

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本研究はマグネトロンスパッタリングにおけるスパッタ粒子のエネルギー分布を測定したものである。通常は困難なス
パッタ粒子のエネルギー測定にチャレンジし、貴重なデータを提供し得る実験手法を示した意義は大きい。今後各種の製膜特性を解明できるような新展開につながる実験研究である。

プラズマエレクトロニクス関連会議日程
国際会議
開催期間

名称

開催場所

主催・問い合わせ先

2004年
2月4日〜
2月6日

プラズマナノテクノテクノ
ロジーとその将来ビジョン
に関する国際ワークショップ
第一部（総論と将来ビジョン）
第二部（各論）プラズマ科学技術に関する国際COEフォーラム

第一部（２/４）
東京工業大学大岡山
キャンパス
第二部（2/5，6）アソ
シアホテル高山応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会
http://annex.jsap.or.jp/plasma/

名古屋大学IB電子情報館

COE国際フォーラムホームページ
http://www.plasma.coe.nagoya-u.ac.jp/coe_forum/
高温学会、日本容射協会
http://wwwsoc.nii.ac.jp/jtss/itsc2004/

2004年
4月5日〜
4月7日
2004年
5月10日〜
5月12日
2004年
5月30日〜
6月6日

2004年
6月29日〜
7月2日

2004年国際溶射会議

大阪国際交流センター

24th International Symposiumon Space Technology and
Science (24th ISTS)

宮崎研フェニックス・シーガイア・リ
ゾート

7th Asia Pacific Conferenceon Plasma Science andTechnology& 17 thSymposiumon
PlasmaScience for Materials (7thAPCPST & SPSM-17)

福岡国際会議場

日本航空宇宙学会
宇宙技術および科学の国際シンポジウム事
務局
TEL: 03-3519-4808
E-mail: inquiry@ists.or.jp
http://www.jsap.or.jp/
日本学術振興会プラズマ材料科学
第153委員会
実行委員長 河合良信
TEL: 092-583-7650
E-mail: apxpst@aees.kyushu-u.ac.jp
http://apcpst.aees.kyushu-u.ac.jp

〆切り

アブスト
〆切り
2004/2/1

アブスト〆切り
2004/3/26

国内会議・会合
開催期間

名称

開催場所

主催・問い合わせ先

2004年
1月28日〜
1月30日
2004年
3月28日〜
3月31日
2004年
3月28日

第21回プラズマプロセッシ
ング研究会(SPP-21)

北海道大学学術交流会館

2004年春季第51回応用物理学関係連合講演会

東京工科大学SPP-21 実行委員長 酒井洋輔
TEL:011-706-6482
http://mars-ei.eng.hokudai.ac.jp/~spp21/
応用物理学会
http://www.jsap.or.jp/

春季第51回応用物理学関係
連合講演会 応物スクール
B
春季第51回応用物理学関係
連合講演会 シンポジウム(1. 4 プ ラ ズマ応 用プロ セス)
第11回プラズマエレクトロニクス・サマースクール

東京工科大学

応用物理学会
http://www.jsap.or.jp/

東京工科大学

応用物理学会
http://www.jsap.or.jp/

名古屋市民休暇村

応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会
長崎大学 工学部
TEL&FAX 095-819-2542
E-mail:sinohara@net.nagasaki-u.ac.jp

2004年
3月30日

2004年
8月1日〜
8月3日

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〆切り

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編集後記
4 月から新任幹事として、今年度２回目の発行となります分科会会報の編集作業を担当致しました。編集作業を通して、分科会の活動内容をようやく把握できるようになりました。そして、改めて企画の難しさを感じています。
プラズマの応用は幅が広く、さらに最近では異分野との融合研究が活発に行われています。このような現状をふまえ、今年度の応用物理学会の分科会企画シンポジウムは、「プラズマのバイオ応用の新展開」のテーマをとりあげました。来春の分科会企画シンポジウムにおいては、「飛躍する磁性体デバイスの作製プロセスの現状と課題」を企画しております。また、本会報の寄稿、および研究室紹介では、マイクロスケールのプラズマテク
ノロジーの研究について紹介させて頂きました。専門を異にする多くの皆様にも、興味をもって参加して頂けるような分科会企画、および新しい刺激を与えられる会報編集にしたいと思っております。本会報に対するご意
見等ありましたら、随時幹事会に一報頂けると幸いです。
最後に、お忙しい中、原稿を執筆頂きました皆様に心より感謝申し上げます。

（高井、高橋、辰巳、安井）（文責：高井）プラズマエレクトロニクス分科会会報 No.39
発行日 2003 年 12 月 19 日
編集・発行：社団法人 応用物理学会
プラズマエレクトロニクス分科会
幹事長 斧 高一〒102-0073 東京都千代田区九段北 1-12-3 井門九段北ビル 5 階（©2003 無断転載を禁ず）

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