プラズマエレクトロニクス分科会会報 No.61
2014 年(平成 26 年)12 月発行
松隈、川崎、岡田、赤松
目

次

巻頭言

産業技術総合研

プラズマエレクトロニクス究所福島再生可近藤 道雄

1

能ネルギー研究所
寄稿
研究職に就くために

九州大学

白谷 正治

3

研究室紹介（その 56）

兵庫県立大学藤原 閲夫

4古賀 麻由子
東 欣吾

研究紹介（その 10）

東京大学

加賀 真城

10

神原 淳

海外の研究事情（その 38）

東京エレクトロン

岩下 伸也

12

中部大学

菅井 秀郎

18

The 14th international Conference on Plasma Surface Engineering

大阪大学

節原 裕一

25

(PSE2014)

長崎大学

藤山 寛

67th Gaseous Electronics Conference

名古屋大学

豊田 浩孝

28

American Vacuum Society 61st International Symposium &

大阪大学

浜口 智志

29

山梨

学生のためのページすぐに役立つプラズマエレクトロニクス
プラズマの振舞い －思考実験と Q＆A－

国際会議報告Exhibitioni国内会議報告第 8 回 プラズマエレクトロニクスインキュベーションホール

産業総合研究所

本村 大成

30

名城大学

伊藤 昌文

31

金沢大学

田中 康規

33

日立ハイ

伊澤 勝

35

三菱電機

和田 昇

36

2014 年第 75 回応用物理学会秋季学術講演会

東京エレクトロン

伝宝 一樹

38

第 13 回分科内招待講演

山梨2014 年第 75 回応用物理学会秋季学術講演会

首都大学東京栃久保 文嘉39

2014 年第 75 回応用物理学会秋季学術講演会

京都工芸繊維高橋 和生

41

分科会シンポジウム

大学

名古屋大学

齋藤 永宏

42

首都大学東京杤久保 文嘉44

九州

第 18 回プラズマ新領域研究会「プラズマが拓く新学術領域と今後の展開」

第 19 回プラズマ新領域研究会「重相構造プラズマの基礎と応用技術の展開」

第 25 回プラズマエレクトロニクス講習会

テクノロジーズ

PLASMA CONFERENCE 2014/
第 32 回プラズマプロセシング研究会

海外研究者招待講演および English Session「コンピュータによるプラズマシミュレーションの実際」

行事案内
7th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its
Applications for Nitrides and Nanomaterials / 8th International
Conference on Plasma-Nano Technology and Science(ISPlasma2015/IC-PLANTS2015)

2015 年第 62 回応用物理学会春季学術講演会

ii

プラズマエレクトロニクス分科会企画

第 9 回反応性プラズマ国際会議/第 68 回気体電子会議合同会議

名古屋大学

豊田 浩孝

47

/第 33 回プラズマプロセシング研究会
9th International Conference on Reactive Plasmas (ICRP-9) / 68th
Gaseous Electronics Conference (68th GEC) / 33rd Symposium on
Plasma Processing (SPP-33)

掲示板
平成 26 年度プラズマエレクトロニクス分科会幹事名簿48

平成 26 年度分科会幹事役割分担50

平成 26 年度分科会関連の各種世話人・委員51

平成 26 年度中期活動報告
平成 26 年度第 2 回幹事会議事録53

プラズマエレクトロニクス関連会議日程55

広告掲載企業一覧

58

編集後記

59

iii

巻頭言

プラズマエレクトロニクス
産総研

福島再生可能エネルギー研究所

近藤道雄

あろうか？筆者が思うに、日本は今その岐路に立

東日本大震災以降、再生可能エネルギーに対すたされているのではないか。

る追い風が強まったが、最近では逆風が同時に吹いているような混乱した状況が目に付くようにな

プラズマを用いた製造装置、加工装置は半導体、った。これは固定価格買取制度（ＦＩＴ）というバイオテクノロジー、太陽電池、液晶ディスプレ

劇薬がもたらした太陽光発電の急速な普及の副作

イと多様な産業に用いられている。これらの産業用である。大きな流れとして再生可能エネルギー

では製品だけでなく装置も日本の企業が大きなシが世界的に普及拡大していくことに変わりはない

ェアを占めてきたが、今や日本では例えば中小液だろうが、再生可能エネルギーの多くは広い意味晶パネルなど付加価値の高い製品へ主軸を移しつの補助金（ＦＩＴや導入補助など様々な形態はあつある。

るが）に依存しているので、政策によって大きな

このような状況の中でアカデミアの果たす役割

影響を受ける。その典型例はヨーロッパであり、は悩ましい。どんなに素晴らしい技術があっても補助金がほぼゼロになった今では市場は急速に冷

日本ではそれを使ってくれる企業がどんどん減っ

え込んだ。日本では今太陽電池市場は活況を呈しているのである。たとえどこの国であろうとそのているが先行きはやや不透明である。

技術が使われて世の中の役に立てばそれでよいとこのような不確実性の大きい市場は産業界からいう考え方もある。むしろそちらの方が正しいの

見るときわめてリスキーであり、それによって日かもしれない。グローバリゼーションは技術の価

本企業のニーズもまた変わっていくと予想される。 値観を変えてしまったかもしれない。
特に初期投資の大きい装置依存型産業は敬遠されしかし、ＧａＮのノーベル賞は言うに及ばず、るようになり、
むしろ、
汎用部品は購買で調達し、ハイブリッド自動車、ＩＧＺＯ、ＣＭＯＳ撮像セシステムで差別化し利益を追求するというビジネ

ンサー、最近ではペロプスカイト太陽電池など日

スモデルが主流になりつつある。経済的にはそれ本オリジナルな技術はまだまだ健在である。

が自然な流れだろうし、産業の成熟度と共にシス

材料やデバイスの多くの技術をプラズマ技術がテム技術に重心移動するというのも理解可能であ支えている。プラズマ技術には核融合プラズマのる。これには製造業における中国をはじめとする基礎研究から派生してきた技術も多くある。技術

アジア諸国の台頭がそれを後押ししている。

の裾野の広さと、それを多様な応用に活かす技術

しかしながら、
かつて製造産業、
プロセス産業、は日本の強みである。プラズマ技術ですべてはカ装置産業で日本の企業が世界を席巻した時代を振バーできない。一つの重要なツールとして統合化

り返ってみると今の状況はややさびしいと言わざされた技術を作り上げることがこれからの産業でるを得ない。逆に、いま中国に目を転じるとその必要とされると考えられる。そういう意味でプラ

活況度は昔の日本を髣髴とさせるものがある。日ズマという一つの技術を広く横展開し、さまざま本は衰退したのだろうか、それとも成熟したのでな異業種と融合していくことがこれからの発展の1

カギとなるであろうし、それが成熟した日本の技術力の目指すべき姿ではないだろうか。

2

寄稿
研究職に就くために
九州大学

白谷 正治

本稿では研究者のキャリア形成に関する最近時に論文を多産することも求められている．論文の動向について紹介する．大学や国立研究所で研数と優れた論文数には正の相関がある．共同研究

究職を得るためには，採用の現状について知るこで共著の論文を書くと，研究に広がりも出て，論と重要です．ここでは，その概略を紹介する．

文数も増える．H-index が 20 を超えると教授レ

研究職の公募情報は web で簡単に入手できる． ベルである．研究資金の獲得実績は，准教授，教国 内 で は JREC-IN Portal ， 海 外 で は授で重視される．業績が優れていても応募書類でAcademicJobsOnline がある．すぐに応募しないのアピールが不十分な応募者も見かける．事情に場合でも，早めに見ておくと良い．若い人は海外詳しい先生に応募書類を見てもらうことを強く勧でも活躍して欲しい．日本人の Post Doc はどのめる．

国でも採用され易い．日本人の准教授，教授等へ面接に呼ばれた場合，ヒアリングと質疑に対の採用は，ヨーロッパでは難しく，これに比べてする準備を十分行うべきである．事情に詳しい先

米国，カナダでは易しい．

生に面接の練習につきあってもらうと良い．面接

国内の場合での採用の概要を以下に述べる．

では非専門家に分かりやすく，これまでの研究成

もちろん詳細は公募毎に異なる．公募では 20-100

果と今後の研究計画を伝える必要がある．世界の人程度の応募があり，書類選考で 3-6 人が面接に中での自分の研究の位置づけとオリジナリティを進むことになるが，職を得ることが出来るのは 1

明確に述べる．つぎに，今後の研究計画で研究の名のみである．海外や国内在住の外国人からの応重要性と社会への波及効果を示す．面接では，人募も見かける．公募の内容にもよるが，かなり多柄と研究の将来性を主として見ている．誠実で真様な分野の研究者が同じ公募に応募することが多面目なことが評価される場合もあれば，元気で態いため，異分野間での競争となる．すなわち，プ

度が大きいことが選ばれる場合もある．

ラズマで１番の業績でも採用されるとは限らない．

以上，些末なことを述べてきたが，本当に大異分野も含めた全ての応募者と比較して優れてい

切なのは重要な課題を研究することです．重要なる必要がある．採用年齢の目安は，助教・准教授・

課題は簡単には解決しない．解決のためには根気教授で 27-33・30-40・40-50 才程度である．これが重要である．フラクタルで有名なマンデルブロ

らより高齢の場合は，採用がかなり厳しくなる．

は，論文も書かずにポストドクとして研究室を大学への就職・昇任には論文数が多いことが必要

転々とし，その間にフラクタルの研究を行った．

条件となっている．論文数(Proc.は含まない)は助プラズマに何かを足すことにより新展開が実教・准教授・教授で 20， 50 編， 100 編が目安

現する．足すものとしては，材料，イメージング，

であり，第一著者の論文数も多いことが望ましい．

ビッグデータなどが考えられる．あなたはプラズ

良い論文をじっくり書くことは重要であるが，同マに何を足しますか？

3

研究室紹介兵庫県立大学大学院工学研究科 電気系工学専攻
電力・エネルギー工学部門 電力応用研究グループ
藤原 閲夫、古賀 麻由子、東 欣吾
１．はじめにこのようなときに藤原は助教授として研究グル

現在の兵庫県立大学は県立の姫路工業大学、神ープに加わった。八束先生の希望は、新しい分野

戸商科大学、看護大学の 3 大学が 2004 年に一つを切り開いてさらに相乗効果を期待する、ものでに統合されて兵庫県立大学が設立されました。認

あったかと思う。新しい分野を切り開くことは小知度を上げるのは想像以上に大変で、地元姫路で生にとっては想像以上に難しく、八束先生の期待も年配の人には姫路工業大学の方が現在でも通じに応えられそうにないことは不徳の致すところでます。さて、電力応用研究グループは電子情報電ある。

気工学科の電力・エネルギー工学部門に属する４研究グループは藤原閲夫、古賀麻由子、東 欣吾研究グループの一つです。余談ながら、現在の電の 3 名である。現在の学生は４年生６名、大学院

子情報電気工学科は平成 27 年度から名前が電気

生５名（前期課程）が在籍している。古賀先生は

電子情報工学科に改名されます。大震災後の電力工学部でたった２人の女性教員の１人にて、研究不足を経験して電気の基幹産業としての重要性が以外でも多忙である。さて、電力応用というグル

広く認知された結果、「電気」が最初に冠せられた

ープ名そのものが融通無碍にて、電気に関係があと内心思っています。

れば研究は何でも良い、と広義に解釈している。

さて、電力応用研究グループは信原貞男教授、そのため、先生方の研究テーマの方向はなかなか

八束充保教授、と続く研究グループである。八束統一されていない。グループの研究活動を以下に

名誉教授は兵庫県立大学産学連携・研究推進機構

述べる。

のシニアコーディネーターとして現在も活躍しておられるが、八束先生の時代に最も大きく発展し、多くのドクター（橋本好幸、赤松浩、西村芳実、
尾ノ井正裕、岡好浩）を育てられた。
核融合等の研究から派生したパルスパワー技術
である数 100kV、数 10kA のジャイアントパルス発生装置(HARIMA 1,2)では数名の博士が誕生した。また、高繰り返し高電圧パルスを利用したパ
ルスプラズマベースのイオン注入堆積による成膜(PBIID)の方向にも新天地を見いだされ、DLC の研究開発にも貢献され、博士も誕生した。人との繋がりを大切にされ、研究成果に伴って JOC など多くの研究資金も獲得された。

4

２．最近の主な研究内容（１）PBII&D 法に関する研究
プラズマイオン注入（PBII）法はプラズマに浸漬させた基材に負極性の高電圧パルスを印加し、プラズマに含有されるイオンを基材に注入する方法です。この手法は 1980 年代に提案されたもので従来のイオン注入法に比べて複雑な形状物にイオン注入できるという特徴があります。
当研究室ではまず熱陰極放電により窒素プラズ
マをもちいて、PBII の物理的機構の掌握するための研究を行いつつ、アルミ合金やステンレス
合金などに窒素注入する研究を行いました。そ
の結果、耐高温酸化性をもつ窒化アルミ層の形成[1]やステンレス鋼の低温窒化[2]が実現できることを示しました。
PBII では基材周辺にプラズマを均一に生成できれば理論的には均一なイオン注入ができます。
そこで、栗田製作所と産業技術総合研究所によって提案された RF-HV 重畳型 PBI 装置[3]を開図 1 RF-HV 重畳型プラズマイオン注入成膜装置の発に参加し、その諸特性を解明に乗り出しまし基本構成[3]た。RF-HV 重畳型 PBII 装置では図１のように

DLC 薄膜は内部応力が高いため通常の成膜法でパルス RF 電源と負極性高電圧（HV）パルス電源

は µm 級の厚みまで成膜することは困難です。しを整合回路で結合し、基材に電力を供給します。

かし、PBII&D 法では、負極性高電圧パルスの印

ＲＦパルスと HV パルスを同時に印加することも加電圧を制御することにより内部応力を低減する

可能ですが実際には交互に印加するよう調整してことが可能[5]です。また、カーボンイオンが表面います。

酸化層を超えて注入されるため DLC 成膜が難し

重畳型 PBII の基本特性が明らかになってきた頃

いアルミ合金に対してもコーティングすることがから、動作ガスとしてアセチレンやトルエンを使可能です。このような特徴を勘案して成膜条件を用しはじめました。これらのガスは基材表面にカ吟味した結果、アルミ合金に膜厚 400 µm の DLC

ーボン膜を析出させるため、PBII 装置に導入する膜を作製することができました[6]。今後は後述のと基材表面にダイアモンドライクカーボン

HPPS 放電と組み合わせてマシナブルセラミック（DLC）薄膜を形成することができます。このよス上への金属薄膜形成や金属含有 DLC 薄膜に関うに析出を伴った PBII 法は PBII&D 法と呼ばれする研究を計画しています。（東）ています。PBII&D 法は PBII の特徴がそのまま引き継がれるため、立体形状物に対してほぼ均一（２）慣性核融合実験用先進ターゲットの開発

な厚さの DLC 薄膜を形成できます[4]。

エネルギー問題を解決する新エネルギーの１つ

5として核融合が挙げられます。慣性核融合方式のったパラメータが変わると、当然ターゲットとし１つである高速点火方式では，球状燃料容器に円ての性質も変わってくると考えられます。本研究

錐状部品（コーン）を取り付けたターゲットを用では DLC の組成制御技術を開発し、レーザー照います。燃料容器にナノ秒パルスレーザーを照射

射実験の要求を満たす高精度 DLC ターゲットをして圧縮し（爆縮）、最大圧縮に至った瞬間にコー製作することを目指しています。図 2 は前述のンを介してピコ秒パルスレーザーを照射すること

PBIID 装置を使用して製作された DLC コーンので核融合反応を起こすというものです。古賀は平写真です。

成 23 年まで大阪大学レーザーエネルギー学研究

・アルミニウムコーンチップの開発センターでこの高速点火実験の研究に従事してい最近の研究において、爆縮により生じたプラズ

ました[7-9]。現在は効率の良い加熱を実現するた

マがコーンに向かって動く現象が見出されました。

めの先進ターゲットの開発を行っています。

このコアの動きによりコーンの先端が破壊される・DLC コーンの開発という問題が危惧されています。コーンの先端が高速点火核融合では加熱を担う高速電子の振る破壊されると，レーザーのエネルギーを効果的に舞いが極めて重要です。近年、実験で計測された燃料へ伝達することができず，核融合反応効率が高速電子の伝搬方向がシミュレーションでの予想減少することになるためです。また、シミュレー

以上に広がっていることが明らかとなり、加熱効ション研究において、コーンの先端を延長し先鋭率低下の原因として問題となっています。これは化することで抵抗性自発磁場により高速電子ビー

追加熱レーザーをガイドするための金コーンがプムをガイドできるとの予測もあります。これらをラズマ化し、高速電子を散乱させるためだと考え踏まえて、本研究ではコーンの先鋭化、低 Z 化のられています。そこで、金より原子番号が低く、有用性を確認するため、レーザーCVD 法により従電子の少ない低 Z 材料をコーン材料に用いて高速来型金コーンの先端に取り付けるアルミコーンチ

電子の散乱を低減するアイデアが提案されました。 ップの開発を行っています。図 3 に目標とするコーンチップの形状を示します。レーザーを用いた予備実験において図 4 に示すようにアルミニウムの塊を析出させることに成功しました。現在析出
条件の検討を行っています。（古賀）図 2 ダイヤモンドライクカーボンコーン
DLC は低 Z でありながら強度も有しており、コーン材料として最適と考えられますが、コーンを形成するほどの厚膜の生成はほとんど行われておりません。また、ひとくちに DLC といっても水図 3 アルミニウムコーンチップの目標形状

素の含有量、結晶度（SP3/SP2 結合の比率）とい6

では HPPS マグネトロン放電[11]と HPPS ペニン
グ放電[12-13]を用いた金属プラズマの生成技術とそれを成膜技術の開発に取り組んでいます。こ
こでは HPPS ペニング放電プラズマについて紹介します。
HPPS ペニング放電装置[12]は図 5 のような構造をしています。HPPS ペニング放電プラズマは
約 10 mm の距離をおいて対向したスパッタター
ゲット陰極の間で発生させます。ターゲットの背図 4 析出物の EDX

面にあるヒートシンクにはネオジム磁石が埋め込（エネルギー分散型 X 線分光法）画像

まれ、
磁束はターゲットをほぼ垂直に横切ります。

アルミニウムの成分が白く表示されているプラズマとターゲットの間にあるシース領域ではイオンがターゲットに向かって加速され、ターゲット物質をスパッタするとともに二次電子を放出（３）大電力パルススパッタ(HPPS)成膜させます。二次電子は磁束に捕捉され、かつ、陰大電力パルススパッタ法はスパッタ源に負極性

極間を往復運動するため、陰極ギャップにある中の高電圧パルスを印加して電離度の高い金属プラ性粒子の電離が促進され、時間とともにプラズマズマを生成するものです。一般的なＤＣ放電に比密度が増大し、拡散によって、プラズマは陰極ギ

べて負の方向に大きな電圧を加えるため放電電流ャップから流れ出します。陰極ギャップにあるプが大きくなります。このとき放電電流は直流放電

ラズマの発光を分光するとチタンイオンからの発から推定される電流電圧特性を大きく上回ります

光スペクトルが強く観測されます[13]。この傾向[10]。このことから HPPS 放電は直流放電をスケ

は陰極ギャップから外の空間でも同じで金蔵イオールアップしたものではないことがわかります。

ンリッチなプラズマがスパッタ源から放出される

HPPS 放電では kW/cm2 級の電力がプラズマをことがわかっています。

通過するためＨＰプラズマは高密度化し、かつ、
プラズマ自身が広範囲に広がります。プラズマとスパッタ粒子の接触の頻度が高くなり、その結果、プラズマは金属イオンが非常に多く含まれた状態になります。このような特徴から HPPS 放電を用いた成膜は緻密で密着性の高い薄膜が形成されるものと期待されています。
大電力パルススパッタ法は 1999 年に報告された大電力パルスマグネトロンスパッタ成膜に関する論文を起源としていますが、その後、ペニング
スパッタ放電、ホローカソードスパッタ放電、誘導結合プラズマ支援スパッタ放電などに拡張され

図 5 HPPS ペニング放電装置の概略[19]現在に至っています[11]。これらのうち当研究室

7

研究開始当初は薄膜形成も比較的簡単に行えるた。研究費の少ない地方大学の寂しいところであと予想していましたが実際には低ガス圧力下ではる。５年かかった。日本で初めて金属液滴の発生放電が困難になってしまうことがわかりました。

に成功し、阪大に持ち込んで極端紫外線発生にも試行錯誤の末、磁気回路の中央にある空間に接地成功した[14-16]。国内初めて、世界でも２番目（米電極を挿入すると低圧力動作が可能になることを社が最初）であった。成功裏に終わったプロジェ

見いだしました。
チタンターゲットを用いた場合、クト終宴と共に研究費も続かなくなった。

約 10 nm/min の成膜速度が得られています[12]。

そこで、開発したオリジナル技術の活路を探し

現在ハーフインチウェハ向けの HPPS ペニング

始めた。研究開発の前に立ちはだかるといわれる放電装置（図 6）の開発を進めています。今後は

「魔の川」
「死の谷」
「ダーウィンの海」の最初のSiC-MOSFET による高速スイッチング電源開発

関門「魔の川：アイデア・基礎研究から実用化をを含めた反応性スパッタリングのための研究開発

目指した研究までの間の壁」である。用途探しがを行う予定です。（東）難問であり、現在も継続している。研究目標を絞り、定めることが如何に大変か、身をもって知ることになる。他分野の研究者と話していると、時々ヒントになることもあり、現在の表面加工の研究につながっている。さて、研究内容である。
ガラス等の研磨では、砥石と研磨材の組み合わせによって表面研磨が行われている。平面や単純な形状の研磨に特に優れているが、他方、薄板ガ
ラスの切断面の研磨、ドリル穴の内面研磨など、従来では容易でない形状の研磨に対して、流体による研磨が適用できる可能性がある。流体使った加工では、ウォータージェットが切断等に使われ

図 6 ハーフインチウェハ向けの HPPS ペニングている。これを表面研磨加工に使う研究過程で、放電装置[12] ターゲット電極を覆う静電シール

ウォータージェットの問題も明らかになってきた。

ドを取り外した状態での放電写真

すなわち、ウォータージェットで（切断ではなく）表面加工をする場合の課題として；（４）パルスウォータージェット(1) ジェット直下の加工ができない。

この研究を始めるきっかけは、プラズマに関係(2) 加工表面の凹凸の影響を受け、結果として凸していた。次世代半導体露光用の極端紫外線発生

凹した加工面（切断面も含めて）になる。

研究に端を発する。真空下で高速落下中の溶融金

具体的に述べると、(2)に関しては、「加工面で発属スズ液滴にパルスレーザーを照射し、スズプラ

生する音波がジェットの上流に伝わり、流れを乱ズマからの 13.5nm の極端紫外線発光を利用するす」ために、流れは加工面の影響を強く受けると研究である。プロジェクト研究の中で、だれも手されている。

を上げなかった溶融金属スズ液滴発生を、ニンジ本研究では、ジェットをパルス化したパルスジン（研究費）をぶら下げられて食いついてしまっェットによる微細研磨の研究を実施している。上8

記課題に対して、(1) 空気を巻き込んだ加工であ

３．おわりにるためにジェット直下の表面加工ができる可能性

電力応用研究グループは多彩な研究を行ってい大、(2) パルス化によって音波伝播が途切れるたる。将来、３人の相乗効果で新たな分野で独創的めに加工面の凹凸形状の影響を受けることなく加な研究を、が夢である。

工できる可能性大。
問題は、パルスジェット加工装置ばかりでなく、

参考文献[1] Y. Hara, T. Yamanishi, K. Azuma, H. Uchida, E.
Fujiwara and M. Yatsuzuka: Surf. Coat. Technol.
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[13] K. Azuma, R. Mieda, K. Yukimura, H. Tamagaki,
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Jpn.J.Appl. Phys. 47 (2008) 1800-1802.
[15] 藤原閲夫, 電気学会誌 128(2008) 676-677.
[16] 藤原閲夫, レーザー研究 36(2008) 731-735

高速ウォータージェットのパルス化技術そのものが国内外を通して市販されていないことでした。
本研究室では、姫路方式と名付けたオリジナルな発生方式を独自開発した。ノズル直径100m（液滴直径約200m）、外部圧力3MPa、流速75m/s
一定の条件で液滴発生周波数を89kHz～250kHzの広い範囲で設定でき、制御性の高さと有用性が示された。パルスジェットのバックライトストロ
ボ写真、および加工実施例を図7，8に示します。
（藤原）

1mm

89kHz
図7

140kHz250kHz

パルスジェットのストロボ写真例

幅 200m

深さ
2.3m

1mm

図8

1mmx2mm のガラス研磨加工例

9

研究紹介

PS-PVD 法による次世代 Li 二次電池用
Si-Cu 系ナノ複合負極材料創製
東京大学 加賀真城、神原淳
はじめにも高価或いは長時間プロセスであることから，実Li 二次電池はその電池容量の高さから様々な用に資するナノプロセスが求められてきた。そのデバイスに応用されているが，電気自動車始め移

背景の下，我々はプラズマスプレー物理蒸着法

動体車載電源やスマートグリッド応用に向けては(PS-PVD)を利用して数ドル/kg 程度の冶金級粉末

更なる電池密度の向上が求められる。負極材料に原料から数 100g/h の処理速度でナノ粒子を製造注目すれば，現行材料であるグラファイトに対しし，負極材料としての特性改善にも十分期待できて（理論容量 372 mAh/g）10 倍近い高密度化がることを見出した[5]。更に，当該プロセスの急速期待できる Si（同 4200 mAh/g）の利用が検討さ

凝縮過程を利用すれば，高い処理速度を維持しつれているが，
当該材料の高容量の起源である Si-Liつ，導電性粒子を Si ナノ粒子に直接担持したナノ合金化の過程で 400%近い体積変化を伴うために， 粒子の高次構造化も可能であると考えた。そこで複数回の充放電反応で材料自体が破壊，導電性パ

本稿では，Cu を第 2 元素として選択した Si-Cu

スを失い，電池として機能しなくなる問題が指摘

系複合負極材料創製に関して紹介する。

されてきた。この対策として，Si 材料の組織構造化が有効であることが判明してきており，
例えば，

プラズマスプレー法

Si 粒子の 150nm 以下のナノサイズ化による耐破

図 1 に本実験で用いた PS-PVD 法の概念図を示

壊強化 [1]，ポーラス構造化による Si 膨張緩衝効す（装置並びに条件の詳細は文献[5]を参照された

果[2]，導電性第 2 元素の Si コーティング[3]などい）。基本原理は，熱プラズマによる高速ナノ粒子が効果的であると報告されている。但し，Nature

製造であり，原料粉末の瞬間的な蒸発と急速凝縮での指摘される通り[4]，何れのナノ構造化の手法

による核生成･ナノ粒子成長である。但し，本プロセスの特長は，DC-RF ハイブリッドプラズマの利用により効果的にプラズマ内の最高温度部に直接Si 原料粉末が投入できることから高スループッ
トでのナノ粒子製造が期待できる点と，第 2 元素
を Si ナノ粒子の核生成・成長後の粒子表面に直接
不均質核生成を促す条件に設定することでナノ粒子複合化を進める点とできる。特に後者では，導電性はあるものの電池不活性な元素の場合には，Si の高容量維持のために Si-M 合金化を抑制する
条件への設定に注意を要するが，元素 M と Si 融
体間の界面エネルギー並びに合金相の結晶構造次
第でエピタキシャル担持などナノ粒子を高次に複合構造変調しうる点は大きな特徴といえる[6]。

図 1 プラズマスプレー物理蒸着法の概念図

10

複合ナノ粒子構造及び電池特性

ナノ粒子 Si 間に導電性 Cu のネットワークが付与

本 PS-PVD 実験条件において，ナノ粒子の形状された構造であることから，特に電池サイクル特の影響を加味した Si 及び Cu の均質･不均質核生性の改善効果が期待される。図 3 には，PS-PVD

成並びに粒子成長過程を計算した結果[6]，始めにによる Si-Cu 複合構造粒子を負極材として利用しプラズマフレーム下部に設置する水冷式粒子捕集

た 電 池 容 量の サ イク ル回 数 依 存 性を ， 無添 加

管内の 2180K 程度で Si が均質核生成し，ガス流

PS-PVD 処理 Si ナノ粒子の容量と比較し示した。

に乗りながら 25nm 程度まで成長した時点に相当

実際，Si-Cu 複合粒子は電池反応不活性な Cu 添加

する 1500K 近傍で Cu が Si 粒子上に不均質核生成による重量損がありながらも全負極重量比電池容する共凝縮過程が予測された。実際，PS-PVD に

量で Si と同程度の容量を示し，特にサイクル回数

より作製した Si-Cu 系負極複合材料粒子の電子顕が増えるほど，Si のみの粒子より高い容量を維持

微鏡写真を図 2 に示す通り，全体として数ミクロする特性を呈示しており，上述の複合構造より期ン径まで凝集した粒子であるが(a)，30nm 程度の待される特性改善の効果が明確に確認された。

Si 粒子が 1 次粒子として構成する複合粒子である
終わりにこと(b)，特に HAADF 像で明るいコントラストで顕れる Cu を含む粒子が Si のナノ粒子表面に直接

産業基盤技術と言えるプラズマスプレー法の共担持して，粉末全体に分散する様子が確認された。

凝縮過程に注目すれば，リチウムイオン電池の特性向上に効果的な複合構造ナノ粒子を，高スルー
プット且つ一貫プロセスで創製しうる，当該技術の高いポテンシャルを紹介した。本プロセスの特徴となる非平衡性に注目すれば Si ナノ粒子自体の構造変調も期待され，更なる特性向上にも繋がる可能性も秘めており，本プラズマが電池産業を牽引する技術となることを期待したい。
謝辞

図 2 PS-PVD による Si-Cu 粒子の(a)SEM，(b)STEM-HAADF 像

本研究は最先端･次世代研究開発プログラムの支援を受けました。また本稿で紹介した成果の一部を応用物理学会にて発表し講演奨励賞を頂きました。この場をお借りして，関係の先生方，諸先輩方に感謝を申し上げます。
参考文献[1] X.H. Liu, et al., ACS Nano 6 (2012) 1522.
[2] A. Magasinski et al., Nature Mater., 9 (2010) 353.
[3] H. Chen, et al., J. Power Sources 196 (2011) 6657.
[4] C. Martin, Nature Nanotechnol. 9 (2014) 327.
[5] M. Kambara et al. J. Appl. Phys. 115 (2014) 143302.
[6] Narengerile et al., JPS Conf. Proc. 1 (2014) 015057.

図 3 PS-PVD による Si 及び Si-Cu 複合粒子を負極材とした電池容量サイクル特性[7] M. Kambara et al., Earozoku Kenkyu, 29 (2014) 93

11

海外の研究事情(その 38)

ドイツ・Ruhr University Bochum滞在記
微粒子プラズマの研究
東京エレクトロン山梨 岩下 伸也
による CCP 中の微粒子輸送制御の研究を行いた

はじめに
筆者は 2010 年 4 月～2013 年 10 月の期間、ポス

いと Prof. Czarnetzki に打診したところ、快く受けドクとしてドイツの Ruhr University Bochum にて入れて頂いた．Prof. Czarnetzki はプラズマ計測技

微粒子プラズマの研究を行った．本稿ではその時術の分野を中心に数多くの業績を上げられているの経験と研究内容を少し紹介したい．

教授で、プラズマ物理の国際会議で毎年招待講演をされている．また、EAE に関する研究でもその功 績 が 認 め ら れ 、2010 年 に European Physical

ドイツ渡航の経緯
筆者は博士後期課程時に九州大学・白谷正治教

Society より Plasma Physics Innovation Prize を受賞

授 の 研 究 室 で 、 容 量 結合 プ ラ ズ マ (Capacitively

されている．ちなみに Ruhr University Bochum に

Coupled Plasma, 以下 CCP)中での微粒子(サイズ数は、Prof. Czarnetzki の研究グループ以外にも数多

nm～数m の粒子)の輸送制御法の開発に取り組

くのプラズマ物理の研究グループが在籍しており、んでいた．微粒子の輸送制御とは、言い換えるとド イ ツ 国 内 では University of Greifswald 、 Max

微粒子に働く力の制御である．プラズマ中の微粒

Planck Institute と並んでプラズマ物理分野の一大子には、静電気力、イオン抗力、ガス粘性力、熱研究拠点である．そのため大学内でのワークショ

泳動力、重力等の様々な力が働き、これらの力をップが定期的に開催され、共同研究も活発に行わ制御することで微粒子の輸送制御を実現する．筆れている．このような経緯で Prof. Czarnetzki の研者が取り組んでいた微粒子輸送制御では静電気力究室でポスドクとして研究することが決まり、とイオン抗力が支配的であり、この 2 つの力を精2010 年 4 月よりドイツへと渡航した．

度良く制御することが大きな課題であった．学位取得を間近に控え、微粒子に働く静電気力とイオ

研究内容

ン抗力を制御するための良い手法はないか情報収

Prof. Czanetzki の研究グループに参加して取り集していた頃、Ruhr University Bochum・Prof. Uwe

組んだ主な研究項目は、下記の 2 点である．

Czarnetzki の研究グループが、2 周波の RF 信号を用いて CCP のシース電圧を高精度に制御できる

1. 負イオンプラズマ中での EAE の有効性の検証

電気的非対称効果 (Electrical Asymmetry Effect,
以下 EAE)という手法を報告していた(Heil B G et

2. EAE を用いたプラズマ中でのダスト輸送制御

al J. Phys D: Appl. Phys. 41 (2008) 165202, Schulze J法の開発

et al J. Phys. D: Appl. Phys. 42 (2009) 092005) ．筆者
は微粒子に働く静電気力・イオン抗力の制御にこProf. Czanetzki の研究グループに参加した直後はの EAE が有効であると考え、ポスドクとして EAE

微粒子プラズマに使用できる実験装置が無かった

12

ため、文献の調査や学内外の他の研究グループの訪問等、装置構成を決めるための情報収集から開始した．また、微粒子を用いた研究に取り組む前の準備段階として、1 の負イオンプラズマを用いた実験を行った．プラズマ中に微粒子が存在する
場合、サイズにより電荷量は異なるが、微粒子は通常負に帯電する．そこで負イオンを微粒子と見立てることで、微粒子プラズマへの EAE の有効性
検証の予備実験を行う、というのが 1 の実験の背景である．
EAE では次に示すような 2 周波を合成した RF
信号を CCP の電極に印加する: (t) = 0 {cos(2ft+) + cos(4ft)} ．ここで、(t)、0、f、は、それ
ぞれ 2 周波の RF 信号を合成した印加電圧、各周波数の印加電圧、周波数、2 周波間の位相を示す．
CCP で 2 周波を用いる場合、通常は 2 つの電極の両方に信号を印加するが、EAE では片方の電極に2 周波を合成した電圧を印加する．EAE でシース電圧を制御する上で最も重要なパラメータは 2 周
波間の位相である．このを調整することで、電極間の面積比に依らずに CCP の自己バイアス電図 1. 上図: Particle-in-cell(PIC)シミュレーション

圧 を ほ ぼ 線形 的 に制 御 す る こ と が可 能 であ るで得られた酸素プラズマ中の時間平均ポテンシャ(Heil B G et al J. Phys D: Appl. Phys. 41 (2008)

ル空間分布の依存性．下図: 実験と PIC シミュレ

165202, Schulze J et al J. Phys. D: Appl. Phys. 42

ーションで得られた酸素プラズマ中の自己バイア(2009) 092005) ．EAE を負イオンプラズマに適用

ス電圧の依存性 Schüngel E et al J. Phys. D: Appl.

した結果を図 1 に示す(Schüngel E et al J. Phys. D:

Phys. 44 (2011) 285205)．

Appl. Phys. 44 (2011) 285205) ．実験で用いたガス
種、圧力、および周波数はそれぞれ酸素、10-100Pa
および 13.56 + 27.12 MHz である．負イオンが存在

上記で得られた結果を踏まえ、微粒子プラズマするので、電子密度分布は Ar のような正イオンに EAE を適用した．図 2 に実験装置図を示す．直プラズマと大きく異なる(Schüngel E et al J. Phys.

径 1.5m の SiO2 粒子を用いて Ar プラズマ中でのD: Appl. Phys. 44 (2011) 285205)が、2 周波間の位相

微粒子輸送制御を試みた．微粒子はディスペンサ

を調整することでポテンシャル空間分布およびーを用いて上部電極の中央部からプラズマ中に導自己バイアス電圧を制御できており、EAE を用い入した．また、微粒子を観察領域に滞在させるた

た CCP 中の微粒子輸送制御が期待できる、というめに下部電極上に Al リングを設置している．
微粒結果が得られた．

子のモニタリングには 2 次元レーザー散乱光測定

13

法を用いた．

によって、微粒子が滞在するプラズマ-シース領域のイオン密度を見積もる、いわゆる“微粒子プローブ”が実現できる(Iwashita S et al J. Phys. D: Appl.
Phys. 46 (2013) 245202)．

図 2. EAE による CCP 中微粒子輸送制御に用いた実験装置図(Iwashita S et al J. Phys. D: Appl. Phys.
図 3. 位相を=0°→90°と連続的に変化させた場合

46 (2013) 245202)．

の微粒子によるレーザー散乱光分布と分析モデル
から見積もった電界分布(Iwashita S et al J. Phys.
プラズマ中に導入された微粒子は、電極方向に

D: Appl. Phys. 46 (2013) 245202) ．

働くイオン抗力とプラズマ方向に働く静電気力が釣り合う下部電極付近のプラズマ-シース領域に留まる．EAE を用いた微粒子輸送制御を試みるに一方、位相を 1s 以内で=90°→0°と瞬間的に変あたって、位相を連続的にかつ低速で =0°→90°

化させた場合、位相変化直後に微粒子はプラズマと変化させる方法(Adiabatic phase change)と 1s 以方向へと押し出され、数百 ms 後に大部分の微粒

内で =90°→0°と瞬間的に変化させる方法(Abrupt

子は下部電極付近のプラズマ-シース領域へと戻

phase change)の 2 種類の方法を用いた．位相をされるが、一部は上部電極付近のプラズマ-シース

=0°→90°と連続的に変化させた場合、下部電極付領域へと輸送される(図 4) ．このシース間の微粒

近での時間平均のシース幅は狭くなり、シース電

子輸送のモデルを図 5 に示す．図中の曲線は微粒

圧は小さくなる(Schulze J et al Plasma Sources Sci.

子に働く力から見積もったポテンシャル分布であTechnol. 19 (2010) 045028) ．微粒子はこの位相変る．上下のポテンシャル井戸は上部/下部電極付近

化中に下部電極付近のプラズマ-シース領域に留のプラズマ-シース領域に対応し、ポテンシャル分

まり、シース幅の縮小に伴い下部電極方向に移動

布の非対称性は重力に起因している．位相を変化する．また、ここで得られた微粒子分布は電界分させる前(=90°)は、微粒子は下部電極付近のポテ布によるフィッティングで示すことが可能である

ン シ ャ ル 井 戸 に 留 ま っ て い る ． 1s で 位 相 を(図 3) ．この微粒子分布と電界分布の組み合わせ

=90°→0°と変化させた直後、ポテンシャル分布は14

図 5 で示すように上部電極方向にシフトするが、微粒子は慣性力が大きいために同じ位置に留まり、位相変化直後はポテンシャル壁付近に存在することになる．そのため、大きなエネルギーを得た微粒子は数 m/s の初速度で運動を開始し、ガス粘性力で速度を低下させながら上下のポテンシャル壁の内側(つまりプラズマバルク中)を移動する(t=0-150ms) ．やがて微粒子は上下のポテンシャ
ル井戸のどちらかに捕捉される(t≤150ms)が、図 5に示すように下部のポテンシャル井戸の方が大き

図 5. 微粒子に働く力から見積もったポテンシャ

な領域のため、一部の微粒子が上部側のポテンシ

ル空間分布(Iwashita S et al Plasma Sources Sci.

ャル井戸に移動する一方、大部分の微粒子は下部Technol. 21 (2012) 032001) ．

側のポテンシャル井戸に戻る．以上がシース間の微粒子輸送のメカニズムである．ちなみに上部側ポテンシャル井戸の領域を大きくすれば、上部側

上記の結果を基に、中央に隆起部を有する加工

プラズマ-シース領域に輸送される微粒子数を増を施した上部電極を用いて上部側シース構造を変やすことが可能である．これを実現するには、微化させて、そのときのシース間の微粒子輸送を観粒子に上部電極方向の力(例えば下部電極の加熱察した(Iwashita S et al IEEE Trans. Plasma Sci. 42による熱泳動力)を与える必要がある．

(2014) 2672)．位相を 1s 以内で=90°→0°と変化させることで、上記で示した通り一部の微粒子は上部側プラズマ-シース領域に輸送される．その後これらの微粒子は重力によって自発的に中央部に集まり、さらにはプラズマバルク中を通過して下部側プラズマ-シース領域に戻っていく．このような下部方向への自発的なシース間微粒子輸送の要因として、局所的に微粒子密度が高くなることで、(微粒子を上部側プラズマ-シース領域に留まらせるため上方向に働く)イオン抗力が小さくなる(Yaroshenko V V et al Phys. Plasmas 20 (2013)
043703)、または微粒子間のクーロン力が静電気力やイオン抗力と比べて無視できなくなる等が考えられるが、この現象を議論するためにはさらなる

図 4. 位相を 1s 以内で=90°→0°と変化させた場研究が必要である．

合の微粒子によるレーザー散乱光分布の経時変化
ドイツでの生活(Iwashita S et al Plasma Sources Sci. Technol. 21

この項では Bochum 滞在中の生活を少し紹介し(2012) 032001)．

15

たい．ドイツ渡航直後から約 1 年間は、Prof.

なパレードが開催される一方、Bochum では平日

Czarnetzki の計らいで Ruhr University Bochum のゲで大学も通常通り、という具合である．カレンダ

ストハウスに滞在させて頂いた．ここは外国人研ー上の祝日が Bochum でも同様に祝日なのかは受究者向けの寮で、最大で 1 年間滞在することが可

入先の教授や同僚に確認した方が良い．Bochum

能である．部屋は家具付きで大学に隣接するショの交通手段については、鉄道・バスが 24 時間で運ッピングセンターのすぐ近くにあるため、とても行しているため大変便利で、車が無くても問題無

快適に滞在できた．このゲストハウスには単身者

く 生 活 で き る ． Ruhr University Bochum か ら用に加えて家族連れ用の部屋も有り、家賃は単身

Bochum 中央駅まで地下鉄(もしくはバス)で約 15者用で月額約 400 ユーロである．上述のショッピ

分で、そこから ICE や快速電車を利用すれば、日ングセンターにはスーパー、本屋、レストラン、帰りの小旅行も可能である．

郵便局、さらには市役所の出張所まで揃っている
ため、大抵の用事はここで済ますことができる．

おわりにこのゲストハウス以外に住む場合、自らインター

ここまで 2010 年 4 月～2013 年 10 月の期間のネット等で賃貸物件を調べ、不動産業者を通じて

Ruhr University Bochum でのポスドク時代の経験

部屋を借りることになる．この場合は手続きが煩と研究内容を紹介した．Ruhr University Bochum は、雑になる上、ドイツ語のみで手続きを進める必要

プラズマ物理の研究に取り組むには最適な場所でがある．日本の物件と異なり、ドイツの物件は基ある．ここでは割愛した失敗や苦労も多々あった

本的に家具が一切無い．そのため初期投資もゲスが、今ではその全ての経験が筆者にとって財産とトハウスの場合と比べて大幅に高くなる．このよなっている．本稿が今後海外の大学・研究所で研

うに、Ruhr University Bochum で研究を行う場合は究を行う方々の参考になれば幸いである．私事でゲストハウスに滞在するのが一番経済的かと思うあるが、筆者は 2013 年 10 月にドイツより帰国後、が、滞在期間が 1 年以上の長期になる場合は上記

同年 11 月に東京エレクトロン株式会社 PVE 開発の出費を想定してドイツ語を習得しておくことが部(PVE: Thin-film Photovoltaic Equipment の略)に必要かと思う．

入社し、2014 年 7 月より現在に至るまで東京エレ

ドイツと日本の生活で大きく異なる点の 1 つと

クトロン山梨株式会社 SD 部門(SD: Single Wafer

して、(これはドイツに限った話ではないが)日曜

Deposition の略)に所属している．これまでの貴重と祝日は基本的に全ての店が閉まっているというな経験を生かして、半導体製造装置の開発に取り点が挙げられる．ただし例外もあり、各都市の鉄組んでいく所存である．

道(Deutche Bahn)駅構内は上記期間中でも店が開いているため、簡単な食料や日用品は購入可能で謝辞ある．Bochum 周辺だと Essen や Dortmund の駅構

白谷正治教授(九州大学)、古閑一憲准教授(九州内は店が多くお勧めである．また、ドイツの祝日

大学)、内田儀一郎准教授(大阪大学)、Prof. Uwe

に関して注意すべき点は、地域によって祝日が異Czarnetzki (Ruhr University Bochum) 、 Dr. Julian

なる場合がある、という点である．例えば毎年 2

Schulze (West Virginia University) 、 Dr. Edmund

月に Rosenmontag という祝日があるが、電車で数

Schüngel (West Virginia University) 、 Dr. Zoltán

十分の距離の Duesseldorf や Koeln では祝日で盛大

Donkó (Hungarian Academy of Sciences)、Dr. Peter16

Hertmann (Hungarian Academy of Sciences)には研究

博士後期課程・ポスドク時代に研究助成して頂いを進める上で多大なサポートをして頂き大変有難

た 日 本 学 術 振 興 会 、 Alexer von Humboldt

かった．特に白谷教授と Prof. Czarnetzki には研究

Foundation 、 German Federal Ministry for the以外でも大変お世話になった．上記の先生方をは

Environment、RUB Research Department Plasma にじめ、プラズマエレクトロニクス分科会でお世話も謝意を表する．

になった皆様に心より御礼を申し上げる．また、

17

学生のためのページ
すぐに役立つプラズマエレクトロニクス

プラズマの振舞い―思考実験と Q＆A－
中部大学 菅
はじめに

井 秀

郎

思考実験：超高性能カメラでプラズマを撮る

現象を本当によく解っているかどうかをテスト

図１に示すように、容器の中にあるプラズマのするには、「それを絵に描いてみなさい」と言うの瞬間の映像を超高性能カメラで撮影する。

が最も近道です。絵のうまい・へたではなく、しカメラ

っかりとしたイメージをもっているかどうかがポイントになります。あやふやな理解では的確に容器説明するイラストを描くことができません。例えば「プラズマのイメージを描いてみなさい」と言プラズマ

われたら、皆さんの頭の中にはどんなイメージがx浮かびますか。
電極

プラズマを応用して何かをしようとするとき、前もって「プラズマがどのように振舞うか」を鮮明にイメージできれば、課題のかなりの部分をク

図 1 プラズマの写真を撮る。

リアしたことになります。その意味で、絵に描けてイメージが浮かぶまで深く理解するようつねづ

Q1

ね心がけることが大切です。

成された密度 1010 cm-3 の均一プラズマの場合、そのイメージの構築に役立つのは思考実験です。

圧力 10 Pa (75 mTorr)のアルゴン放電で生空間を動き回る電子、Ar+イオン、Ar 原子の瞬

アインシュタインは子供の頃から様々な思考実験

時の姿を映し撮った静止画をイメージしよう。

を続けていたそうで、例えば「光と一緒に走れたQ1.1 イオンとイオンの間の平均距離はいくらでら、外はどう見えるか」等を考え続けて相対性理

すか。同様に電子同士および Ar 原子同士の平論に辿り着いたとか・・ 物理の世界に限らず、

均距離はいくらですか。

もの創りの技術開発においても、イメージの積みQ1.2 イオンの直径はいくらか。また、電子の直重ねで新しいアイデアが生まれてくると思います。
そこで本稿では、プラズマの基本的な振舞いの径はいくらですか。
Q1.3 容器の壁近傍を撮影したら、イオン、電子、

イメージを作り上げるため、思考実験を試み、そAr 原子の分布はどのように映りますか。

れにまつわる疑問と解答（Q＆A）を展開してみたい。ここで示すのは一つの例であって、結局、皆A1さんが自分自身で同様な作業を繰り返さないと身子も映るという前提で解答します。

につかないことを初めに記しておきます。

18

超高性能カメラなので電子もイオンも原

A1.1 一般に粒子の密度を n とすれば、粒子間の荷電粒子

間隔 l は l ~ n-1/3 と与えられる（ヒント：一個

中性粒子
圧力 10 Pane  ni=1010 cm-3の粒子が占める体積は l ）。プラズマ中では正3

nn=2×1015 cm-3

Ar+イオン

イオンの密度 ni と電子の密度 ne は等しい（プ＋ラズマの電気的中性；ni~ ne）ので、イオン同

500 mm士の間隔と電子同士の間隔は同じであり、l ~

電子

＋

-

密度はなぜ等しくなるのだろうか。放電によっ

8 mm

-

-

＋

n-1/3~500 mm である。ところでイオンと電子の

Ar原子

＋

500 mmて電離生成されるとき、イオンと電子はペアで発生するから確かに同数ずつ発生している。し8 mm

図２．粒子間の距離 l~n-1/3

かしその後、例えば水と油のように分かれて存します[文献 1, p.20]。

在することはないのだろうか。もしそうなったらという思考実験をしてみて欲しい。プラスとA1.3 プラズマは容器の壁に接触しています。こマイナスの電荷は引き合うので、すぐさま混じのとき、プラズマ中の電子と Ar+イオンは壁にり合うことは容易に想像できる。一様に混じり

向かって流れてきて壁に衝突して消滅します。

合って中和したときに各電荷に作用するクー

すなわち、負電荷をもつ電子と正電荷のイオン

ロン力がキャンセルして安定になり、この系のが壁表面で再結合（電離の逆過程）して電荷は持つエネルギーが最少になると考えられる。

消滅し、Ar 原子となってプラズマ中に戻ってきAr 原子の密度 nn は、圧力 p[Pa]のときます。このことは、プラズマから壁に向かって

ガス温度を T=400 K と仮定して理想気体の状態

単位時間に流出する電子とイオンの数は同じで方程式 p=nnkBT からあることを意味しています（その結果、プラズ

nn=1.81×1014p [cm-3]（１）マの電気的中性が保たれます）。

これに p=10 Pa を代入して nn~2×1015 cm-3 を得

壁表面に同じ数の電子とイオンが到達するる。すなわち、電子やイオンに比べて Ar 原子には、電子を追い返してイオンを引き込むようの密度は５桁も高い。このように電離度の小さな電位分布（シース；sheath さや）が壁の前面

いプラズマは弱電離プラズマと呼ばれる。密度に形成される必要があります。その理由は、Ar+が解ったので Ar 原子同士の距離を計算すると、イオンは電子に比べて７万倍も重く、温度も１l ~ 8 mm となり、かなり込み合っていることが桁低いので、速度は 1/1000 と遅い。ここで、解ります。図２ 参照。

密度に速度を乗じた量すなわちフラックス（単Ar 原子を剛体球とみなしたとき、その直位時間に単位面積を通過する粒子数）を考える

径は 1.82 Å (1Å=10-10 m)であることが知られてと、密度は同じである（ni~ ne）からプラズマか

います。Ar+イオンの大きさは原子とほぼ同じ

ら壁に向かうイオンのフラックスは、電子のそと考えられます。一方、電子は小さすぎて、古れの 1/1000 しかない。そのまま両者が壁に到典的な剛体球モデルで扱うのは不適当で、量子達すると、プラズマ中では電子がどんどん減っ

力学により電子の波動性を考慮して
“雲”
（波束）

てイオンが余り、電気的中性が破れて正の空間として捉えます。その波長は電子の速度に依存

電荷が発生する。この空間電荷はプラズマの電

A1.2

19

位を押し上げる作用をして、壁よりもプラズマ前と同じ Ar 圧力中の密度 1010 cm-3 のプ

空間の電位を電子温度の数倍ほど高くし、逃げQ2ようとする電子を引き戻すと同時にイオンを壁

ラズマであって、電子・イオン・原子の温度が方向に加速する領域、すなわちシース領域と呼それぞれ Te=1 eV, Ti=0.1 eV, Tn=0.04 eV とする。

ばれる境界層を形成する（詳細は文献[1]の p.55

このプラズマを超高速ビデオカメラで撮影した~57）。

ら、プラズマ内の粒子の運動はどのように見え

このシースの中では電子が非常に少なく、ますか（動画）。

正イオンが過剰な状態（ni >> ne）になる。カメ

Q2.1 10 ms の短時間に電子・イオン・原子はそれ

ラはそのような不均一な分布を映すはずである。

ぞれ何 cm 動きますか。ただし、粒子同士は衝

このシースの厚さは、後述のデバイ長の約５倍突しないとします。

程度である（Debye sheath とも呼ばれる）。たQ2.2 平均して電子は Ar 原子と毎秒何回衝突しま

だし、直流グロー放電の陰極近傍や、容量結合

すか（衝突周波数）。また、衝突から次の衝突型 RF 放電の電極の周りに形成されるシースは、まで何 cm 走りますか（平均自由行程）。

電 位 差 が 大 き く 、 か な り 厚 く な る （ Child-Q2.3 前問の電子をイオンに置き換え、衝突周波とLangmuir sheath）。
（文献[1]、p. 60 参照）

平均自由行程を調べ、電子の場合と比較してみ一方、Ar 原子はプラズマから壁に至るまでよう。

一様な分布を保てるであろうか。一般的には壁Q2.4 電子が Ar 原子と衝突する瞬間のビデオ映像に原子が衝突したときの壁への付着確率に依存と、Ar+イオンが Ar 原子と衝突する瞬間のビデ

して不均一になる（Milne の境界条件：詳細はオ映像を比較したとき、何が最も違いますか。

文献[1]の p.54 ~55 を参照されたい）Ar 原子がQ2.5 電子が Ar 原子と衝突した直後、原子が光り壁に付着することはないので一様と考えられるました。原子の中で何が起こったか、また、こが、プラズマによる CVD やエッチングで生成の発光の波長はどのように決まるか等を考察される中性ラジカルは壁と反応するので、ラジしよう。

カル分布は壁近傍で不均一になる。
シース- (ni>>ne)- ++ +- + +容 -- + +器+ +壁 -- ++ +- ++ + +
-

A2

プラズマ

過程に関連するものです。文献[1]の p.22 と電荷中性

p.151 をもとに、主な数値計算の式を以下(a),x(ni ~ ne)(b)にまとめたので、自分のプラズマの場合についても計算してイメージを持って下さい。

イオン加速
電

(a) 質量 m、温度 T の粒子種の平均熱速度は

電子減速
~5kTe

位

<v>=(8kT/m)1/2 であり、電子、イオン、分子x

密度

Q2 の質問は、いわゆる粒子間の衝突素の温度 Te, Ti, Tn を eV 単位で与え、分子の質量数を M とすれば、それぞれの平均熱速度は次ni式から計算できる。

ne

x

電

壁からの距離 ve  6.69 10子：

 vi  1.56  10イオン：

図３ 壁と接するプラズマ

20

5

Te

[m/s]

4

Ti / M[m/s]

 vn  1.56  10 4 Tn / M
分 子：

Ar

[m/s]

(b) 粒子種１が粒子種２に衝突するときの衝突断

直径 ~4 Å面 積 を 12 と す れ ば 、 平 均 自 由 行 程 は

l12=1/(n212)、衝突周波数は12=<v1>/l12 と与えられる。

 ~107 Hz
V ~105 cm/s

 ~108 Hz
V ~108 cm/s

例えば Ar プラズマの圧力 p [Pa]、分子半径が電子

2×10-10 [m]、Tn=0.04 eV のとき、電子・分子衝

Ar+

Ar

突についてはlen=

4.4 mm

0.78 mm

イオン・分子衝突と分子・分子衝突では
平均自由行程：lin=lnn=0.778/p

lin=

平均自由行程：len=4.40/p [cm] e n  1.52  10 7 p Te
衝突周波数：[Hz] 

図４ 平均自由行程と衝突周波数[cm]

ス温度 Tn よりも桁違いに高くなる。ただし、大＊荷電粒子間の衝突（クーロン衝突は、弱電離

気圧アークのように衝突が非常に多い高密度ププラズマでは無視できる。

ラズマでは熱平衡状態になり、Te~Ti~Tn となる。

上記の数値式を用いれば、各問に対する略解は次A2.5

Ar 原子に衝突する電子の運動エネルギー

のようになります。

が低いときは、運動量保存則とエネルギー保存

A2.1 10 ms の時間に電子は 67 cm、イオンは 0.08則を満たすように電子は弾き返され、Ar 原子はcm、原子は 5×10-4 cm 動く。
A2.2

ほんのわずかその並進運動エネルギーが増加す

電子の衝突周波数はen=1.52×108 Hz、平均る（これを弾性衝突という）。しかし、衝突エネ

自由行程はlen=4.4 mm である。
A2.3

ルギーが高くなって> 11.61 eV になると、Ar

イオンの衝突周波数はin=107 [Hz]、平原子の内部で原子核の周りを周回している軌道

均自由行程はlin=0.78 mm である。

電子にもエネルギーが移り、より大きな軌道をA2.4 一般に質量 m1 の粒子が質量 m2 の粒子に衝描くようになる。このように原子の内部エネル

突したとき、前者が衝突の前後で失う運動エネ

ギーの変化をもたらす衝突を非弾性衝突という。

ルギーの割合（エネルギー損失係数は）乱暴な言い方をすれば、軌道電子に直接電子が

k

2m1m2
(m1  m2 ) 2

ぶつかってその軌道を大きくしたと見ることも（２）

できる（励起衝突）。このように励起された軌道と与えられる（文献[1]、p.24）。軽い電子（me）が電子は不安定ですぐ元の軌道に戻るが、その際約１万倍思い Ar 原子（mn）と衝突するときはに余ったエネルギーを光として放出する。これ

k~2 me/mn~10-4 であるから、電子はほとんどエネ

がプラズマからの発光であり、原子毎に決まっルギーを失わず、はじき返されるだけである。

た特定の波長の光を放出するので、逆にこの波これに対し、Ar+イオンが同じ重さの Ar 原子と長を測定して発光種を同定するプラズマ診断に衝突するときはk~0.5 となり、衝突するたびに利用されている（発光分光法）。衝突エネルギー

半分のエネギーを失う。このように電子のエネが高くなるほど軌道電子は大きな円を描くよう

ルギー損失係数が非常に小さいために、弱電離になり、ついにはクーロン力を断ち切って原子プラズマでは電子温度 Te がイオン温度 Ti やガを離れ、自由電子と正イオンに分かれる（電離21のしきい値エネルギー=15.75 eV）。これが電離電流とイオン電流が等しくなるような電位を浮である。多原子分子の場合は、電子衝突によっ

遊電位（floating potential）と呼ぶ。この例でて原子間の結合を切って解離を起こし、化学的は電極は金属であるが、結局電流が流れないのに活性なラジカルを生成する。まさにこの解離で絶縁物を挿入したのと同じことになる。それ

過程がプラズマの化学反応性の起源である（詳では浮遊電位の値は具体的にどう決まるであろ

細は文献[1] p.31~37 を参照）。

うか。これは前出のシース形成と同じ議論であり、ほとんどの電子を追い返すような電位障壁をつくる必要があるので、プラズマ電位と電極

Q3

図１において、接地しプラズマ容器の中電位（浮遊電位）の差は電子温度（電圧換算値）

心に小さな電極を挿入し、電圧 Va をかけるの数倍程度になる。

実験を想定する。プラズマ電位を Vp として

A3.2

プラズマのサイズに比べて電極は小さいと仮定しているので、これにかける電圧 Va を

次の問いに答えなさい。
Q3.1 電極をただ挿入しただけで外部回路につな上げ下げしても外部回路に流れる電流は小さく、がない場合（外部に流れる電流＝０）、電極表プラズマ電位 Vp は変化せず一定と考えられる面の電荷と電位はどのようになりますか。

（その値がどう決まるかは後述）。電極をプラズ

電極を外部回路につないで、プラズマ電位

マ電位より高い正バイアスの状態（Va > Vp）により高い電圧をかけたり、低い電圧をかけたりおくとき、電極表面には正の電荷が現れる。逆した場合、電極周辺のプラズマはどう応答しまに電極電位が低い状態（Va < Vp）では電極表面すか。

は負の電荷で覆われる。プラズマは外から加わQ3.2

電極の面積を A とするとき、これに流れるる電界を打ち消してシールドする性質があるの

電流 I は印加電圧 Va によってどのように変化しで、正バイアス時のときは電極表面の正電荷にますか。

よって電子が電極近傍に引き寄せられて負の空Q3.3電極の面積 A が容器の面積 S に比べて無間電荷をもつシースが形成される。逆に、負バ視できないほど大きいとき、印加電圧 Va を変イアス時のときは電極表面の負電荷によって正えるとプラズマ電位 Vp はどのように変化しま

イオンが電極に引き寄せられて正の空間電荷層

すか。プラズマの密度分布は均一とします。

からなるシースが形成される。

Q3.4

このようなシールド層の厚みを初めて明らかにしたのは P. Debye である（プラズマではな
A3

く、電解液に関する理論）。詳細は文献[1]の p.45

A3.1 A1.3 で述べたように、電子のフラックスはにゆずるが、デバイ長（Debye length）と呼ばイオンのそれの約１万倍もあるので、プラズマれるシールドの特性長lD は次式で与えられる。

内にモノを入れると瞬時にその表面に大量の電lD [m]  7.43 103子が入り、負に帯電する。外部回路から絶縁されているので、電子とイオンの流入量がバラン

Te [eV]n[m 3 ](3)

スして外部に流れる電流がゼロになるように、

例えばプラズマ密度 n=1010 cm-3 で Te=1 eV のプ

電極の電位が自動的に決まる。このように電子ラズマのときlD=74 mm であり、これより離れた22

ところでは電気的中性をもつプラズマ状態である。デバイ長はプラズマ密度が薄くなるほど長

plasma

くなるが、宇宙空間では n~10 cm 程度のプラズ-3Potential

6

マは珍しくない。そのときlD は 7 m にもなる。
そこで「プラズマの定義」を単純に ne~ni である

sheathPlasma potential Vp

Celectrode

B

I=Ie+Ii

A

Va

ような電離状態とするだけでは不十分であることに気づく。厳密にはプラズマの寸法 L がデバ

Position

イ長lD より大きく、さらにlD が荷電粒子間の平A

集団的にふるまって電気的中性を保つと言える。

(transition)(ion saturation)

C((electron saturation)

Electron current

このプラズマであるための条件を式で書けば

L  lD  n  3/1

BI

均距離（~n-1/3）より大きいときに、プラズマが

(4)

I es

Probe current
I

上式の右の不等式は nlD3>>1 と同じであり、lD

Floating potential

を半径とする球（デバイ球という）の中に含まVfOれる電子（イオン）の数が１よりはるかに大きVpVaい、という条件と同じである。さらにこの条件

Ion current

は、イオンが作るクーロンポテンシャルエネル

I isギーより、電子の平均熱運動エネルギーがずっ

図５ 微小電極に流れる電流 vs 電圧と大きいことと等価である。すなわち、ほとん
ど静止しているイオンの群れの中を、電子がク

領域 A においては、電子はほとんど流入できーロン障壁を乗り越えつつ高速で飛び回り、電ないがイオンは全て入るのでイオン飽和領域

荷を中和している姿が浮かんでくる（参考文献と呼ばれ、電極サイズがデバイ長より大きいと[1]、p.46）。

き、その電流密度は次式で与えられる。

J is  0.605 en0CS(5)

プラズマのサイズに比べて電極は小さい

ここに n0 はシース端のプラズマ密度であり、ので、電流が外部回路に流れてもプラズマ電位

CS  kTe / me はボーム速度と呼ばれるもので、や密度は変わらないとする。このとき電極はラシースに入る時のイオンの速度である。

A3.3

ングミュアプローブの探針と全く同等である

一方、高い正バイアスをかけた領域 C におので、例えば文献[1]の p.58 に沿って要点のみ

いてはイオンは入れず、電子電流密度は飽和説明しよう。電極に流れる電流 I は、イオンが値 Jes=(n0e<ve>/4)となる。A と C の中間の領運ぶ電流 Ii と電子が運ぶ電流 Ie の和となる。図

域 B における電子電流密度は5 に示すように、印加電圧 Va がプラズマ電位Je 

Vp より十分低い領域 A と、Va が Vp に 3kTe 以

en0  ve  e (Va Vp ) / kTe
e
4

(6)

内に入るほど近い領域 B と、Va が Vp にほぼ等と得られる。したがって全電流 I=A(Je+Ji)はしい領域 C の３つの領域に分けられる。

図 5 の太い実線のようになる。

23

A3.4 容器壁は接地しているので、電極は負電圧をかけたときカソードになり、正電圧をかけた
ときアノードになる。低圧力プラズマは抵抗が(a)小さいので、プラズマ内は等電位とみなせる。

Iw

Ia

Vp1

Va1

電極と容器壁の間の電位分布を一次元モデルで電表すと図 6(a)のように描ける。図には電極が正

Vp2

位 0

の高い電圧 Va1 にある場合と、負の低い電圧 Va2xfにある場合のプラズマ電位 Vp1 と Vp2 を適当にVa2

描いている。

電極 fVa

壁 f0

電子電流とイオン電流の和として次のように表

(b)

せる。

Ia = A(Je + Jis)

(7)

Iw = S(Je* + Jis)

(8)

プラズマ電位
Vp/Te

電極に入る電流 Ia と容器壁に入る電流 Iw は、
16

面積比

14

A/S=0.4
0.2

12
10
8

0.01

6

ここで式(7)右辺の電流密度 Jis と Je は、すでに4式(5)と式(6)で与えられている。式(8)右辺の Je*

0.05

2
0

は壁に入る電子電流の密度であり、次のように

-10

-8

-6

-4

-2

0

2

4

6

8

10

電極電圧 Va/Te

書ける。

Je 
*

en0  ve  eVp/kTee4

図６ (a)電位分布、(b)プラズマ電位の変化(9)

一方、電流は電極からプラズマを通って容器壁へと連続に流れるので、Ia と Iw は大きさが等しこの図から、電極電圧が負であるときは、プラ

く向きが反対である。すなわち、ズマ電位はいわゆる浮遊電位に近い一定値であIw = -Ia(10)

ることが分かる。この電位はいわゆる浮遊電位以上の式(5)～式(10)を連立させ、電極電圧 Vaに近い一定値であることが分かる。しかし、電とプラズマ電位 Vp の関係を解くことができる。

極電圧が容器の電位を超えるあたりから、大量

Va、Vp を電子温度（eV 単位）で」規格化しての電子電流の流入を食い止めるためにプラズマ

その解を表記すると電位が上昇を始めて、十分に高い電圧を加える

Vp / Te  4.72  ln(1 とプラズマ電位は電極電位より若干高い値をキAA)  ln(1  eVa / Te )SS

ープしながら Va に正比例して上昇することが

(11)

分かる。

この式をグラフにしたのが図 6(b)であり、面積
比 A/S をパラメータとしてプラズマ電位が電極

参考文献

電圧によってどのように変化するかを示してい[1] 菅井秀郎 ;“プラズマエレクトロニクス”（、オる（電圧、電位は Te で規格化している）。

ーム社、200024

国際会議報告第 14 回プラズマ表面工学国際会議
The 14th International Conference on
Plasma Surface Engineering (PSE 2014)
大阪大学接合科学研究所 節原 裕一
長崎大学大学院工学研究科 藤山 寛
標記の国際会議が 2014 年 9 月 15 日〜19 日まことが本国際会議の特筆すべき特長であり、上記での 5 日間、ドイツの Garmisch-Partenkirchen ののように、開催回を重ねる毎に参加者の増加を辿

Kongress Haus（国際会議場）で開催されました。

っている本会議の成長要因の一つと言えるでしょ

当該国際会議は、プラズマ−材料相互作用ならびにう。この特長は企業展示が盛況であることにもみ

薄膜工学ならびにモデリングをはじめとする基礎られ、2006 年の 51 社から、2008 年 56 社、2010

からプラズマプロセスならびにイオンプロセス技

年 64 社、2012 年 71 社、そして今回の 2014 年は術の工業的な応用にわたる幅広い分野を包含し、79 社が出展する規模に成長しています。

２年に一度、上記の会場で開催されてきており、会議のトピックスは、以下の通りであり、プラ

今回で第 14 回目を迎えました。
これまでと同様に、 ズマ−材料相互作用ならびに薄膜工学ならびにモ
European Joint Committee on Plasma and Ion Surface

デリングをはじめとする基礎からプラズマプロセ

Engineering (EJC / PISE)が主催し、Christian Oehr,

スならびにイオンプロセス技術の工業的な応用に

Stuttgart (GER)が Conference Chairman を勤められ、わたる幅広い分野を包含しています。さらに、今

当分科会からは、Advisory Board 委員として堀回の会議では８件の Plenary Lecture が行われまし勝 先生、International Scientific Committee 委員とたが、それらの内、日本からは名古屋大学の堀勝

して節原が関わっています。また、会場がある先生が“Advanced Plasma Diagnostics in Plasma

Garmisch-Partenkirchen は、オーストリアとの国境

Processingにそびえるドイツの最高峰 Zukspitze の麓に位置~Comprehensively understanding of plasma processes

し、バイエルンの牧歌的風景と共に「たおやかなfrom gas phase to surface reactions~”と題して登壇時の流れ」が魅力的な街です。

されました。堀先生の Plenary Lecture は、プラズ

参加者は開催を重ねる毎に増加の一途をたどっ

ScienceandTechnology

マ科学に立脚した豊富なデータに基づく迫力あるており、世界から前回 2012 年の 750 名からさらに御講演であり、聴衆の好評を博しました。

増えて、今回は 800 名近くになりました。国別のConference Topics

内訳では、最多のドイツが 260 名程度、続いてチ1. Plasma and ion surface engineering

ェコ、
そして日本からは 20 名程度が参加しました。

Advanced plasma and ion source technologies

さらに、機関別の内訳では、大学が 41％、研究機(Pulsed plasmas, HiPIMS, Atmospheric plasma

関が 23％、企業が 34％でした。特に、他の国際会

sources, Ion implantation / Plasma immersion ion

議と比較して、企業からの参加者が際だって多い

implantation, New ion and plasma sources, Industrial

25

device technology)

and growth)(Plasma

次回の PSE 国際会議は、2 年後の 2016 年 9 月

diagnostics / process control, Plasma modeling,

12 日〜16 日の間、会場は今回と同じく定番となっPlasma-surface interaction, Plasma treatment ofているドイツ・Garmisch-Partenkirchen の国際会議

polymers, Surface cleaning / plasma etching, Ion and場で開催される予定です。

Properties

oftechnologicalplasmasま た 、 PSE の 中 間 年 に は 、 Asian-European

laser treatment)
Powders and Plasmas (Nanoparticle synthesis, Particle

International

ConferenceonPlasmaSurfacetreatment, Functional nanoparticles)

Engineering (AEPSE)が開催されており、次回、第Atmospheric and in-liquid plasmas

10 回目の記念を迎える AEPSE は、名古屋大学の2. Deposition technologies

堀Physical vapor deposition – PVD (Magnetron

月 20 日〜24 日の間、韓国・済州島で開催される

sputtering, Vacuum arc deposition, Plasma-activated

予定です。

勝 先生が組織委員長をつとめられ、2015 年 9evaporation, Atmospheric plasma deposition)
Plasma-enhanced

chemical

PECVD

pressure

(Low

vapor
plasmadeposition
CVD,–[藤山追記] PSE の歴史と思い出1988 年に第 1 回 PSE が 300 名，26 カ国，180

Plasmapolymerization, Atmospheric pressure plasma CVD)

講演の規模で Garmisch-Partenkirchen の Kongress

Plasma diffusion treatment (Plasma nitriding /Haus で開催された．ドイツのプラズマ表面工学関carburizing, Hybrid and duplex processes

連合同委員会にヨーロッパ関連学会が加わり，プ

Ion beam deposition, Ion beam deposition, Ion beam

ラズマおよび粒子ビームを用いた表面改質，薄膜

sputtering,

プロセスを中心テーマとし，主な応用が金属のハ

Corrosion-resistantcoatings,

Barriercoatings)

ードコーティングであった．私は 1990 年の第 2Electrical and magnetic coatings (Conductive and

回から出席し，そのときは 300 名，21 カ国，180

photocatalytic oxides, Films for photovoltaics, Films

講演（12 プレーナリー講演）の規模であった．

with special electrical functions, Films with special

Organaizng Committee

magnetic functions)(Braunschweig) ，Prof. G. K. Wolf (Heidelberg), Prof.

Optical coatings

Jindrich Musil (Plzen, Czech Republic )，Prof. Ricardo

Biomedical applications

d’Agostino (Bari)らとの出会いがあり，その後もおBio-functionalization of material surfaces (Plasma

互いに訪問し会い親交を重ねる幸運に恵まれた．

sterilization and disinfection, Plasma interaction withPSE のお陰で目標となる優れた研究者と直接議論

living tissue/cells, plasma medicine)

することができ，永年にわたり親交を持つことが

4. Characterization of films and modified surfaces

出来たのは，私の研究者人生の大きな財産となっ(Structure

た．日本の吉田豊信先生（東大），高井 治先生

andcomposition,

Geometricalの Prof.. K.

–T. Rie

Internal（名古屋大），三宅正司先生（阪大），節原裕一

stresses, Optical properties, Electric and magnetic

先生(阪大）らと親しくお付き合いさせていただいproperties, In-situ diagnostics of coatings, Computer

たのも，国内よりは Garmisch の PSE であった．

simulation and modelling of structure, stoichiometry

特に Banquet の Barvarian Evening がいかにもドイcharacterization,

Mechanicalproperties,

26ツらしく（激しく）， Barvarian Alps のふもとのの不思議な物語で，世界中で読まれている．大人

フレンドリーで楽しい雰囲気のなか，ビールとワだけでなく子供までが時間に追われる現代人，おインのグラスが次々と空になったものである．未金を追いかけ回して大切なことを忘れてしまっ

だに激しい鞭と革靴を踏み鳴らす音が耳に残ってた現代人に警鐘を鳴らしている．いかに寄り合い，いる．

語り合い，助け合いが大切かを教え，時間とは何

節原先生の記事にもあるが，PSE は近年参加者

か，人間の心のうちの時間を考えさせられる本でが増え続け，とりわけ企業人の参加が多いのが特あり，私も本会報の巻頭言「他人の話」で紹介さ徴である．企業展示がついにはメイン会場を占領せていただいたことがある．実は，モモを助けるする規模にまで膨れあがっている．当初，Elsevier

有名な「亀」が PSE 会場の傍の公園内に土を盛の Materials Science and Engineering,に 後に Thinって作られており，その近くにエンデの記念館がSolid Films に論文が掲載され，ハードカバーの建っている．実は，エンデが産まれ幼児期を過ご

Conference Proceeding が重々しく発刊されたのも，したのが Garmisch である．20 年以上も前から出席者にとって大きな魅力であった．それに加えGarmisch を訪れていながら，うかつにも，ついて，大企業からベンチャーのプラズマ関連会社が最近のテレビ番組で彼の記念館が毎回訪れていこぞって参加しているのは，日本の学会も見習わる会議場の横にあることを知った次第である．な

なければならないだろう．

んとも不思議な縁を感じた今回の，おそらくは私

ところで，ミヒャエル・エンデの名著「モモ」の最後の出席となるであろう PSE であった．まをご存じだろうか？時間どろぼうと盗まれた時だ出席したことがない方は，ぜひ訪れるべき国際間を人間にとりかえしてくれた浮浪児の女の子会議である．素晴らしい PSE に乾杯！

27

会議報告

67th Gaseous Electronics Conference 報告
名古屋大学 豊田 浩孝

２０１４年１１月２日から７日まで67th Gaseousュレーション計算を行い、比較的長寿命の粒子でElectronics Conference (GEC)がアメリカ Northあり実験的に測定が可能な O2-や H2O2 の結果とのCarolina 州 Raleigh City Center にて開催された。

比較から、シミュレーションの妥当性の確認をお

本会議は今回で 67 回を迎える放電・プラズマ基礎

こなっていた。近年のプラズマと液体の相互作用に関する歴史ある会議であり、粒子衝突素過程、についての研究は、気相・液相の活性種の評価がプラズマ物理基礎、プラズマ源、プラズマ診断、

かなり進んでいる印象を受けた。

プラズマ表面相互作用からプラズマ応用に至るま

なお、本会議はアメリカ国内だけでなく海外でで幅広い分野の講演がなされている。前回のの開催や他の会議との合同開催も積極的におこな

Princeton での会議に続き、今回はノースカロラっている。特に GEC とは非常に近い関係にあり日イナ州立大学メンバーが中心となりノースカロラ

本におけるプラズマ応用研究分野の中心的会議と

イナ州 Raleigh での開催となった。

なっている反応性プラズマ国際会議

本会議のプログラムは例年、本会議前のワーク（ INTERNATIONALCONFERENCE

ON

REACTIVE

ショップから始まり、口頭講演 3 セッション並列

PLASMAS：ICRP）とはこれまでにも 2 回ハワイとパ開催をポスター講演を中心に行われており、本会リにおいて合同開催をおこなっているが、来年の議 2 日目には Allis Prize 講演が行われ D.Graves

GEC は ICRP との合同にて開催されることが決定さ教授が受賞講演をおこなった。

れており、2015 年 10 月 12 日よりハワイオアフ島

講演については、例年に比べてさらにプラズマにて開催される。日本からの多数の参加をいただのバイオ応用の講演が非常に増えた印象をもった。 きたく、お願い申し上げます。
招待講演として、日本からは東北大学の金子俊郎教授がプラズマを用いた細胞への DNA 移植いついて、プラズマの化学的作用、物理的作用、すなわ
ちプラズマにより生成される活性種とプラズマ生
成時における電界の効果について、これらの効果を切り分ける実験結果について報告を行っており、
蛍光マーカーを用いて細胞核への YOYO-1 の取り込み効率を定量的に評価した結果について述べていた。また、最近アメリカの OLD DOMINION 大学に移られた MICHAEL KONG 教授は細胞へのプラズマ照
射時における BIO-FILM の厚さが細胞死滅の効果に及ぼす影響を調べるとともに、気相のみならず気相で発生した活性酸素種 (REACTIVE OXYGEN

図 Allis Prize 講演の様子

SPECIES：ROS)の液中への浸透深さについてのシミ-

28

国際会議報告

AVS 61st International Symposium & Exhibition
米国真空学会第 61 回国際シンポジウム＆展示会
大阪大学工学研究科 浜口智志
「AVS（米国真空学会）第 61 回国際シンポジ

招待講演者は、本田昌伸 （東京エレクトロン）、

ウム＆展示会」（以下、「AVS シンポジウム」と略

林 久貴（東芝）、板垣奈穂 （九州大学）、佐々木記）が、2014 年 11 月 9 日（日）から 14 日（金）浩一（北海道大学）の各氏（発表順）であった。

までの６日間、米国メリーランド州ボルチモアのところで、上述したように、今年、プラズマのBaltimore Convention Center にて開催された。 バ イ オ 応 用 に 関 係 す る 新 し い Focus Topic
AVS 本部の速報では、今年の全参加者は 2,330 名“Surface Modification of Materials by Plasmasとのことである。

for Medical Purposes Focus Topic（略称：SM）

AVS シンポジウムは、10 の分科会（division）、

が立ち上がった。来年度以降も、この SM は、

2 つの Technical Group とよばれる分科会に準ず

PSTD と協力して、プラズマによるバイオ材料改る組織、および、その時々の話題に合わせて形成

質、および、プラズマ照射の（細菌やがん細胞、される Focus Topic とよばれる臨時の分科会的組

皮膚などを含む）生体への影響に関する数多くの織が、AVS 本部プログラム委員会のマネジメント

講演を計画している。AVS では、その名にかかわのもと連携して、個別の専門分野の会議の運営す

らず、
大気圧プラズマに関するセッションも多く、ることにより、開催されている。特に、Focus Topic

学会全体として、新しいプラズマ科学の発展を取は、従来の Division や Technical Group の枠組み

り込む努力を重ねている。

では対応しにくい新しい学際的な分野に対し、組

次回の第 6２回 AVS シンポジウム年会は、２０

織横断的に対応するための組織である。毎年、新１５年１０月１８日から２３日にかけて、米国カ

しい Focus Topic がいくつかうまれ、また、役割

リフォルニア州サンノゼで開催される。

の終わった Focus Topic は、現存する分科会等に吸収されるなどして解散する。後に簡単に述べる
が、今年は、プラズマのバイオ応用に関する新しい Focus Topic も立ち上がった。このように、AVS
シンポジウムは、国際会議が、学会や産業界のニーズに機動的に対応できるよう、その運営システ
ムにさまざまな工夫が凝らされている。
上述の AVS 分科会のうち、本誌と最も関連の深い分科会は、Plasma Science and Technology
Division（PSTD）である。今年の AVS シンポジ

図：第 61 回 AVS シンポジウムの会場となった

ウムでは、PSTD は、14 の口頭発表セッションとボルチモア・コンベンション・センター。

1 つポスターセッションを主催した。日本からの29

国内会議報告

第８回プラズマエレクトロニクスインキュベーションホール
（独）産業技術総合研究所

本村大成

平成 26 年 8 月 31 日から 9 月 2 日の日程で、国立青少年交流の家（静岡県御殿場）において、第8 回プラズマエレクトロニクス インキュベーションホールを、開催いたしました。本会はプラズ
マエレクトロニクス分野の初学者（学生・若手研
究者・社会人技術者）を対象として、プラズマ応
用物理学の理解を深めて頂くための講習会です。
参加者は 68 名（内受講者 53 名）でした。6 名の講師の先生各位に、プラズマの基礎から応用を網（最終日、晴れた時に撮った集合写真です。ピース！）

羅する各分野のプラズマエレクトロニクス研究の【特別講座】

最前線について、ご講義を賜りました。

「プラズマ技術開発のストラテジー」 菅井 秀郎

昨年に引き続き、本インキュベーションホール
も盛会となりました。会期中に開催されましたポ

先生 （中部大学、名古屋大学名誉教授）

スターセッションおよび懇親会を通じて、受講者同士に加えて講師の先生各位，スタッフと活発な【専門講座】

交流ができたように思います。今後、本インキュ①「プラズマ生成・制御」 佐藤 孝紀 先生（室蘭ベーションホールの受講者からプラズマ研究を切工業大学），②「プラズマ診断・計測」 伊藤 剛

り拓く研究者が輩出されることを期待致します。

仁 先生（大阪大学），③「プラズマCVDを用い

開催中、一時雨天となり天候には恵まれませんでた薄膜・構造体の作製」 平松 美根男 先生（名城

したが、富士山麓の涼しい気候の中、参加者の皆大学），④「プラズマのバイオ応用の基礎」 伊藤様におかれましては、良い経験を積むことができ

昌文 先生（名城大学），⑤「プラズマエッチング

たのではと思います。参加者の皆様、講師の先生

技術の基礎と最新動向」 栗原 一彰 先生（東芝）

各位に加え、本企画の運営、開催にあたり、ご協
力頂きました分科会幹事の先生各位に篤く御礼申【担当幹事（敬称略）】

し上げます。

校長：節原裕一（大阪大学）

最後に、優秀ポスター賞を受賞された受講者を幹事：明石治朗（防衛大学校）、石川健冶（名古屋

紹介いたします。今年度は３名の受賞です。おめ大学）、鷹尾祥典（横浜国立大学）、本村大成

でとうございました。

（産業技術総合研究所）、赤松浩（神戸市立【優秀ポスター賞】高専）、井上泰志（千葉工業大学）、大島多美

赤間俊紀さん（東北大学）、倉家尚之さん（名古屋子（佐世保高専）、松井信（静岡大学）

大学）、安井涼馬（東京大学）

30

国内会議報告第 18 回プラズマエレクトロニクス新領域研究会『プラズマが拓く新学術領域と今後の展開』（第 4 回 新学術領域研究「プラズマとナノ界面の相互作用に関する学術基盤の創成」公開シンポジウムとの共催）
名城大学 伊藤昌文
平成 26 年 6 月 14 日（土）の 13 時より、名古議論が白熱したため当初のプログラムの休憩時間

屋大学東山キャンパスＩＢ電子情報館東棟 2 階大がなくなり下記のような時間配分となったが，パ

講義室及び中棟１階において第 18 回プラズマエ

ネルディスカッションにおいて、今後の新領域研

レクトニクス新領域研究会が第 4 回新学術領域研究の展開に有意義な討論がなされた。

究「プラズマとナノ界面の相互作用に関する学術基盤の創成」公開シンポジウムとの共催、新学術プログラム：（敬称略）

領域研究「プラズマ医療科学の創成」と協賛とい場所：ＩＢ電子情報館東棟 2 階大講義室

う形で開催された。

13:00-13:45 白谷正治（九州大学）（写真 1 参照）

平成 20 年度から 25 年度まで究極のナノプロセ「プラズマナノテクノロジーの現状と展望」

スの実現に必要不可欠な、プラズマとナノ界面の13:45-14:30 堀 勝（名古屋大学）（写真 2 参照）

相互作用に関する学術基盤の確立を目指した新学「プラズマ医療科学の潮流」

術領域（新学術領域：プラズマナノ界面）が実施

14:30-15:15 寺嶋和夫（東京大学）（写真 3 参照）

された。これにより多くのプラズマとナノ界面の「プラズマ材料科学の飛躍を目指して」

相互作用に関する新たな知見が得られた。また，

15:15-16:30 パネルディスカッション

平成 24 年度から 29 年度までの計画でプラズマと（写真 4 参照）

生体組織との相互作用に関する学術基盤の確立を「今後のプラズマが拓く新研究領域について」通じて、新たな学問領域として『プラズマ医療科

パネリスト：

学』を創成し、新しい医療技術の開拓に資するこ

白谷正治（九州大），堀勝（名古屋大），とを目的とした新学術領域研究（新学術領域：プ

寺嶋和夫（東京大），豊田浩孝（名古屋大），

ラズマ医療）がスタートした。これを受けて、本金載浩（産総研）,木下啓蔵(PETRA)

研究会においては，主にプラズマナノ界面の新学
術領域研究の成果を公開し，これらの成果を現在

その後、ＩＢ電子情報館中棟１階プレゼンテー

遂行中のプラズマ医療の新学術領域研究，今後のションスペースにおいて、16 時 30 分から 18 時

さらなる発展につなげるための展開について討論

まで、2 つの新学術領域の研究成果のポスター発を目的に開催した。

表が行われ参加者の間で、今後のさらなる発展に

新学術領域研究の公開シンポジウムと合同開繋げるための展開についても活発な意見交換が行催とできたため，総数 112 名の参加者となった。

31

われた。（写真 5 参照）

写真 1 白谷教授の講演風景

写真 4 パネルディスカッションの風景

写真 2 堀教授の講演風景

写真 5 ポスター発表の風景

写真 3 寺嶋教授の講演風景

写真 6 企業の展示風景

32

国内会議報告第 19 回プラズマエレクトロニクス分科会プラズマ新領域研究会／
電気学会プラズマ研究会「重相構造プラズマの基礎と応用技術の展開」
金沢大学

田中康規

平成 26 年 9 月 9 日 13 時から，大阪府立大学

高速複合化」

なかもずキャンパスにて、第 19 回プラズマ新領

2.

域研究会「重相構造プラズマの基礎と応用技術の「アーク溶接における溶融池流動の粒子法シミ展開」を，電気学会プラズマ研究会と共催で開催

13:45-14:20 大阪大学 茂田正哉 氏ュレーション」

した。電気学会プラズマ研究会は，9 月 8～10 日

3.

の三日間開催されており，本新領域研究会には，9「マイクロ波励起水中気泡プラズマによる高速

日当日で 38 名の参加者があった。

14:20-14:55 金沢大学 石島達夫 氏

アッシングプロセスの開発」

産業で応用されるプラズマプロセスにおいては，
固相・液相・気相・プラズマの複数の相が同時に

4.

15:15-15:50 日 本 原 子 力 研 究 開 発 機 構

村松壽晴 氏狭い範囲に存在することがある。例えば，熱プラ「レーザー切断時過渡伝熱流動挙動の高精度測ズマによる固体溶融(アーク溶接)・固体切断（プ定と数値解析」

ラズマ切断）
・ナノ粒子生成においてはこれら４つ5.

の相が存在する。レーザアブレーションもその一「熱プラズマ接触によるポリマーアブレーショつである。最近では大気圧非平衡プラズマにおい

15:50-16:25 金沢大学 田中 康規

ンとその工学応用」ても固液界面とプラズマとの相互作用を利用する

6.

ものがある。この場合，それぞれの相の物理だけ

まず，コーディネータから研究会の主旨を示しでなく，これら複合した相を総括的に把握するこた。その後，東大・神原先生から次世代リチウムとが必要となる。重相構造プラズマを「気相，液イオン電池(LIB)負極材料に向けたナノ Si 粒子の相，或いは固相状態の物質を狭い領域に同時に含メゾプラズマを用いた画期的な生成法と電気的特む複雑構造なプラズマ」とみなせば，重相構造プ性についてご報告があった。グリーン社会実現に

ラズマは，学術の側面からも関連分野は格段に拡向けた次世代基盤技術として LiB には高電池密度

がり，新規技術と呼ばれるに相応しい展開も期待化とサイクル効率の向上が求められ，現行負極材される。そこで，この重相構造プラズマとその基グラファイトに対して 10 倍以上の理論容量を有

礎・応用技術の進展」に関連した最近の研究の講する Si の応用が期待される。しかし，Si の大幅な演を通じて，将来の進展の方向性・可能性を探る

電池容量増加は 400¥%近い体積変化を伴うため，事を目的に本研究会を企画した。そのプログラム

材料自体が粉砕し電気的接触を失うと共に数回の以下である[1]：充放電サイクルで電池機能を失ってしまう。この

0.13:00-13:10 イントロダクトリー（重相構造プ

16:25-16:35

全体についての討論

課題に対して，Si のナノサイズ化やポーラス構造

ラズマ）(田中＠金沢大)化などが効果があることが知られているが，これ13:10-13:45 東京大学 神原淳 氏

らの構造化技術は多段・低速という問題がある。

「次世代リチウム電池負極向けナノ Si 粒子のそこで原理的にナノ粒子の高速製造を可能とする

1.

33

メゾプラズマスプレーPVD 法を適用して，安価冶

的特性などに応じてレーザー光による切断・破砕

金級原料粉末からも LiB 級の機能性を有する Siが常に適切に行えるよう，外界情報に基づいてレ

ナノ複合粒子を製造するプロセスをご紹介された。 ーザー光照射条件などの可制御パラメータを調整
阪大・茂田先生からアーク溶接における溶融池

可能な適応制御システムの開発が急速に進められの流動解析を粒子法によるシミュレーション研究ている。本講演ではレーザー切断時の金属表面過のご報告があった。流動数値解析には大きく分け

渡温度挙動と切断性能との関係を，固相・液相・て，流体法と粒子法がある。粒子法は，原理的に気相を同時に扱える高精度数値解析コード

計算メッシュを使用せず，流体を有限の粒子で模SPLICE の紹介と，レーザー光照射位置近傍の溶擬する。このため，質量保存式は自動的に満たさ

融金属温度変化を二色温度計で高精度に計測した

れるメリットがある。粒子法には MPC 法などの結果を検討した結果を紹介された。

非圧縮流体を解く手法もあるが，ここでは圧縮性

最後に金大・田中から，耐アーク性を有する防流体を対象にできる SPH 法を，非圧縮域まで拡

護服開発として，ポリマーアブレーション現象を張させた手法について紹介があり，それを用いて有効利用するものを紹介した。米国では 1 日に 5

溶融池流動を計算した結果のご紹介があった。こ-10 件のアークフラッシュ事故が発生している。

れにより溶融・固体を同時に解くことができ，溶

この事故では，温度 5000 K 以上の高温アークが融部の溶け込みなども計算できる点が示された。

突発的に生じ，作業員は一瞬で高温の熱に包まれ

金大・石島先生からは，液中に気泡を生成しそるため，アークによる熱的ダメージから作業員をこにマイクロ波プラズマを生成する手法とそれに守る耐アーク防護服の開発が求められている。本

よって極めて高速にレジスト膜を除去する研究に

講演では，耐アーク性能を高める技術としてポリついてご紹介があった。半導体の製造工程で用いマー布材の溶発現象に注目し，溶発時に噴出するられるレジスト膜は，通常，硫酸と過酸化水素水

蒸気の高速ガス流および熱伝導率による熱遮蔽効を混合した反応場を用いるウェットプロセス，ま果を計算できる数値解析モデルの構築と，ポリマ

たは酸素プラズマを用いたアッシングによるドラ

ー布材への熱プラズマ照射時の)照射試験を行い，イプロセスによって除去されるが，例えば薬液をポリマーアブレーションによる熱シールド効果を用いる方法は混合直後を使用せねばならない，薬検討した結果を紹介した。

液の分離再生はコスト面から難しい，などの問題

以上の報告においては，固体・液体・気体・プがある。酸素プラズマアッシング法は除去速度向ラズマが同時に大きく関わっており，詳細な数値上のために基板温度を上げる必要があり，熱ダメ

解析・高精度計測の両面による検討が必要である。

ージが懸念される。本講演では，環境負荷の小さ

最後に，ご講演頂いた講師の諸先生，会場等おいレジスト除去法として，マイクロ波励起の水中世話頂いた大阪府立大学の大久保先生，黒田先生

気泡プラズマを用いたレジスト除去法の開発し，他，ご参加頂き，熱心にご議論頂いた方々に厚くそのレジスト除去プロセスとしての実用性を様々御礼申し上げます。

なレジスト膜に対して検討された結果の報告があ
った。

参考文献
[1] 神原，茂田，石島，村松），田中,“

原研・村松先生からは，レーザ切断についての高精度数値流動解析と高精度測定についての紹介

重相構造プラズマの基礎と応用技術の展開”，電があった。原子力分野では，福島原発事故以降，

気学会プラズマ研究会 PST-14-048 (2014.9)

燃料デブリなどの取出し対象物の幾何形状，機械34

国内会議報告第 25 回プラズマエレクトロニクス講習会～プラズマプロセスの基礎とその応用・制御技術～（株）日立ハイテクノロジーズ 伊澤 勝
プラズマエレクトロニクス講習会は、プラズマて、水野先生からは、コロナ放電を用いたダスト技術を扱う企業の若手、中堅技術者、大学の学生・集塵技術や、排ガス中の NOx 処理技術について、研究者を対象とした実用的な研修で、毎年開催し最新の内容も入れたご講義を頂きました。第 2 部

今年で第 25 回目になります。本年は 2014 年 11

後半では、関根先生からは、エッチングプロセス

月 26 日に東京工業大学「国際会議室」にて開催とそのメカニズム・先端技術の動向について、田いたしました。今回は、基礎と合わせてプラズマ中先生からは、シミュレーション技術を活用したプロセスの様々な応用技術について参加者が幅広

精度の高いプロセス制御技術について、実践的なく理解できるようなプログラムを検討致しました。 課題を合わせてお話を頂きました。参加者は 65
名で、活発な議論と、講習会後に懇親会により、■ 第１部：プラズマプロセスの基礎 ■相互の交流も深めました。基礎から応用までを効

1. 『プラズマプロセスの基礎と素過程』
大阪大学 浜口 智志 先生

率的に学べる大変有意義な講習会となりました。

2. 『プラズマ計測と診断』
北海道大学 佐々木 浩一 先生■ 第２部：プラズマ技術の最前線 ■3. 『大気圧プラズマ技術と成膜応用』
大阪大学 垣内 弘章 先生
4. 『プラズマを用いた環境クリーン化技術』
豊橋技科大 水野 彰 先生
5. 『半導体ドライエッチング技術』
名古屋大学 関根 誠 先生
6. 『プラズマエッチングプロセスの開発における数値解析の実問題への適用』（株）日立製作所 田中 潤一 先生

様、講習会 企画・運営にご尽力頂いた豊田幹事

午前のセッションでは、浜口先生よりプラズマ

協力を頂きました東京工業大学の野崎智洋先生、生成、荷電粒子の運動および表面との相互作用に

事務手続き全般をサポート頂いた応物分科会担当

ついてその現象と理論を、佐々木先生からはプラの小田康代様に紙面を借りお礼申し上げます。

最後に、大変有意義なご講義を頂いた講師の皆長をはじめとする担当幹事の皆様、会場運営にごズマのプローブや発光スペクトルによる計測技術◎担当幹事：
大村 光広（東芝）、久保井 信行（ソニー）、
小林 浩之（日立）、伝宝 一樹（TE 山梨）、
松隈 正明（TEL）、和田 昇（三菱）
伊澤 勝（日立ハイテク）についてご教授頂きました。また第 2 部で、垣内先生から大気圧プラズマの生成技術とその応用としてフィルム基板への低温 a-Si 成膜技術につい35

国内会議報告

Plasma Conference 2014
(第 32 回プラズマプロセシング研究会)
三菱電機(株)

和田 昇

去る 2014 年 11 月 18 日～11 月 21 日に、日本

ポジウム 16 件(講演 110 件)、レクチャ 3 件、一般一の大河である信濃川が日本海に注ぐウォーター講演 670 件超と大盛況であった。講演内容は 3 学

フロントに位置する複合コンベンション施設「朱会を網羅するため、プラズマ物理、プラズマ応用

鷺メッセ」(新潟市)にて Plasma Conference2014

科学・工学から核融合に至る広範囲なものであり、が開催された。本 conference は日本物理学会、ププラズマ密度・温度をパラメータとすると、密度ラズマ・核融合学会および応用物理学会プラズマで 20 桁、温度では 6 桁に至るパラメータ範囲のエレクトロニクス分科会のプラズマ関連 3 学会にプラズマが対象として盛んに議論された。
本 conference では Dr.. David CAMPBELL

より主催され、各学協会にて展開されているプラ
ズマ科学と工学の研究活動を総合的に把握し、プ(ITER

Organization)

ラズマ科学の新たな発展を図るものである。今回

Bhattacharjee (Princeton Univ.) 、 Dr. Johnは、成功裡に開催された第 1 回(2011 年、金沢市)

EDWARDSを受けて開催された第 2 回となる。また、本Laboratory)および堀 勝先生(名古屋大)から極め

conference はプラズマエレクトロニクス分科会て有意義な基調講演がなされた。堀先生におかれにおける第 32 回プラズマプロセシング研究会にては、「プラズマ医療科学イノベーションと今後のも該当する。

展望」と題され、壮大なスケールでプラズマ医療

、

Prof.

(Lawrence Livermore

Amitava
National

本 conference の母体となるプラズマ科学連合の今後を論じられた。先生の御講演の中で筆者がは、前記 3 学会を主な幹事学会とし、電気学会、

最も印象的であったのが「プラズマにより誕生し

静電気学会、放電学会、日本真空協会などのプラた人類が、再び、プラズマを生体に適用する」でズマ関連学協会を協賛学会とする連合組織である。 あり、また、医療分野のみならず、農業分野(食糧
プラズマ科学連合においては、基礎から産業応用不足対策)へのプラズマの進展も含め、「人類はプに至る広範囲に展開されるプラズマ科学・工学のラズマにより 150 歳まで生きることができるかも

研究活動を推進するため、2001 年から 10 年間でしれない」とのご見解は極めてインパクトがあり、3 回のプラズマ科学シンポジウムを開催しており、 プラズマ科学・工学の今後の発展を大いに期待さ
その実績から更なるプラズマ科学と工学の融合なせるものであった。また、参加者総数のうち 400

らびにその飛躍的な発展、若手研究者の育成を求名以上が出席した conference 会期中に開催されめて Plasma Conference の開催を企画した。

た懇親会において、祝辞を頂戴した高橋先生(新潟本 conference の運営委員長である田中和夫先大学学長)も医療分野に対するプラズマ工学の適生(大阪大)曰く、「プラズマ研究のルネッサンスを用に大きな期待を寄せられていた。

目指す」とのお言葉にふさわしく、参加者は 900

本 conference の特色は、16 件に及ぶ豊富なシ

名を超え、基調講演 4 件、招待講演 39 件、シンンポジウムの開催にあったと考える。前記 3 学会

36

から提案されたホットなテーマに関する熱い議論① 混相プラズマ

4件が重ねられた。
以下に開催されたテーマ名を示す。

② 医療・バイオプラズマ

18 件① 原子層炭素物質のプラズマプロセス制御③ 大気圧・液中プラズマ

7件④ プラズマ成膜

7件⑤ プラズマプロセス

14 件⑥ プラズマ化学

5件

合成とその応用② 先進的プラズマスラスタ実現へ向けての基礎開発研究の動向③ 物質間境界層に於ける環境適用機能の実
現④ 凝縮層を含む多相空間でのマルチフェー
ズプラズマ反応場⑤ 非平衡極限プラズマ研究の展開と普遍性⑥ W ダイバータの材料課題⑦ トーラスプラズマにおける質量比の閉じ込めへの効果⑧ キロテスラ級磁場で拓く新しいプラズマ科学

柳都大橋から望む朱鷺メッセ⑨ 定常プラズマ運転進展に向けた物理工学
課題の国際連携研究⑩ 先端プラズマプロセス技術の課題と展望

最後に、本 conference の開催にあたり、ご尽力⑪ 原型炉制御に向けたディスラプション研

いただいた運営委員会およびプログラム委員会の先生方、新潟大学をはじめとする現地実行委員の究の展開

先生方、さらに、4 日間に渡り、プラズマ科学の⑫ スーパーコンピュータ「京」が切り拓くプ

発展に貢献いただいた参加者各位に紙面を借りて

ラズマ科学⑬ プラズマ医療：その素過程の物理・化学

謝意を表す。
(Plasma Conference2014 組織委員 和田 昇)⑭ 核融合原型炉運転のための計測⑮ 多価電離イオンの原子過程と輻射の物理と応用の展開⑯ プラズマによる環境保全技術の現状と実用化に向けた課題
また、シンポジウムと同様に白熱した議論がなされた一般セッションにおいては、プラズマエレ
クトロニクス分科会に特に関連が深いテーマとしては以下が開催され、招待講演を含め、多数の講演がなされた。特に、医療・バイオプラズマに関する講演が多く、研究進展への期待を肌で感じることができた。

37

国内会議報告2014 年 第 75 回応用物理学会秋季学術講演会
第 13 回分科内招待講演報告
東京エレクトロン山梨(株) 伝宝 一樹
第 75 回応用物理学会秋季学術講演会(2014 年 9オ応用に関する研究に携わって」と題し、ご講演

月 17 日～20 日、北海道大学札幌キャンパス)の二

いただきました。
「様々な研究者との出合いがあっ

日目、プラズマエレクトロニクス分科内招待講演た」と話し始めた先生は、核融合プラズマ電磁波が開催されました。第 13 回目を迎える今回は、計測に関する研究の後、菅井秀郎先生に声を掛け

京都工芸繊維大学教授の林康明先生と、静岡大学

られ、名古屋大学ではマイクロ波大口径表面波プ

教授の永津雅章先生にご講演いただき、100 名をラズマ生成を研究。その後、現職の静岡大学で医超える聴講者で会場が埋まりました。

療やバイオ分野へのプラズマ応用に向け、何も無林先生には「ナノ・微粒子材料のプラズマプロ

いところからの挑戦。同大の神藤正士先生やバイ

セスとその場観測」と題し、ご講演いただきましオ系研究者との連携を図り、現在では、ナノ材料

た。偏光解析モニタリング装置の研究開発を始めの創製、10-7～10-1m サイズの各種プラズマ源のられたアルバック時代の話から、大学に戻り、開発、医療器具を包装用紙に包んだ状態での低温

PECVD シリコン窒化膜の成長過程や、多層有効滅菌技術や、ウイルスを活性のまま濃縮・回収す媒質近似計算に基づくダイヤモンド結晶核成長過る技術等、様々な先進的研究をご紹介いただきま

程のその場観測の研究へ。その後、橘邦英先生にした。
その多大な研究業績が認められ、前日には、誘われ、現職の京都工芸繊維大学に移られた後は、

第 8 回(2014 年度)応用物理学会フェロー表彰を受

a-Si:H 成長過程のモニタリングや、プラズマ内微賞しておられます。冒頭でご自身の経験を振り返

粒子の成長過程を観測するミー散乱偏光解析法のられたように、教職員には「国内外の研究者との開発を行い、最近の配向カーボンナノチューブやコミュニケーションと信頼関係を大切に」、大学院

グラフェン成長過程のモニタリングに至るまでの生やポスドクには「研究の基本は先ず学ぶことか

数々の研究をご紹介いただきました。講演の最後ら」等の研究姿勢もご教授いただきました。

には、「Do Challenge! プラズマプロセスに役立

最後に、ご多忙の中、非常に感銘深いご講演をつ研究をしていただきたい」と、若い研究者に向頂きました林先生、
永津先生に御礼申し上げます。

けた激励の言葉を頂戴しました。

また、雨で足元が悪い中、多くの聴講者にご参集

永津先生には「プラズマ科学技術の医療・バイ

林

いただきましたことに感謝いたします。

康明 先生

永津 雅章 先生38

国内会議報告2014 年第 75 回応用物理学会秋季学術講演会
海外研究者招待講演および English Session 報告
首都大学東京 杤久保文嘉
海外研究者招待講演
秋季学術講演会の初日，韓国 National Fusion
Research Institute（NFRI）の Suk Jae Yoo 先生，
英国ヨーク大学の Deborah O'Connell 先生の２名をお迎えして海外研究者招待講演が行われました。今回は，・海外研究者招待講演を後述する
English Session と連動する，
・春秋に各１名をお招きする形から秋に２名をお招きする形に変更する，ということを試行しました。これは，海外研究者招待講演と English Session の親和性が良く，双方に利点があると判断したこと，更に春秋の分

Suk Jae Yoo 先生の講演風景

科会企画のバランスを考慮したことに依ります。
このあたりについて，ご意見を賜れれば幸いです。

O’Connel 先生は，
“The role of reactive oxygen

Yoo 先生は，“Plasma applications to agricul-

and nitrogen species in plasma cancer treat-ture : Plasma Farming”の演題でご講演くださ

ment”の演題でご講演くださいました。活性酸素いました。講演では，プラズマの応用分野として種や活性窒素種のガン細胞との相互作用を理解す

農業はマーケット規模が大きいのでとても有望でるために，コアプラズマ内部での電子のダイナミあることを述べたのち，Plasma Cultivation，

クスやラジカル生成，プラズマプルームでのラジPlasma Healing，Plasma Safety という観点から

カルや中性粒子のダイナミクス，生体表面に存在

いくつかの具体例を紹介されました。Plasma

する液体中のケミストリー，生体でのバイオアッ

Cultivation では唐辛子やキュウリの種子に対す

セイといった階層に分類し，それぞれの階層に対る He-DBD 処理の効果，プラズマで作った NOするヨーク大学グループのアプローチが紹介されによるコリアンダーの発芽促進，菌に感染したイました。特に，活性酸素種や活性窒素種の評価とネ種子の殺菌などについて示されました。Plasma

して，シンクロトロン放射光を利用した VUV 吸

Healing ではプラズマによる有害バクテリアから収によるコアプラズマ内の O ラジカルや N ラジの土壌回復に関する紹介がありました。また，

カルの密度計測，TALIF によるプラズマプルーム

Plasma Safety では，水中の大腸菌などの殺菌，

内の N ラジカル密度計測について紹介されまし野菜の葉についた残留農薬の除去，包装された内た。TALIF では，クエンチングが速いのでピコ秒部でのプラズマ生成によるリンゴや卵の洗浄の話

レーザによる計測が重要であることも示されまし

題が紹介されました。

た。このようなデータ蓄積がガン細胞に対するプ39

ラズマの効果をより鮮明にしてくれるものと思いEnglish Session
これまで English Session は指定した中分類でます。

行われ，エントリー数に大きなばらつきがありました。そこで，今回は全ての中分類から English
Session へのエントリーを募り，プラズマエレク
トロニクス English Session として実施しました。
また，プログラム担当の室蘭工業大学の佐藤孝紀
先生にお願いして，English Session 内に海外研究者招待講演を組み込む，English Session と並列にセッションをなるべく置かない，という工夫をいたしました。皆様のご協力もあり，講演会初日 の 午 前 ， 午 後 に そ れ ぞ れ 11 件 の English
Session として実施することができました（当日Deborah O’Connel 先生の講演風景

キャンセルの 2 件を含む）。並列セッションをな
お二人の招待講演は大変に盛況でしたが，割りるべく置かないようにしたこともあり，多くの参当てられた会場が少々狭かったことは残念でした。 加者に来場いただきました。講演自体もとてもク
講演会当日の夜，湯葉料理のお店へ夕食にお招オリティーの高い発表が多かった印象を持ちます。

きしました。寿司や天婦羅とは異なる日本料理を全体の６割強が留学生等による発表で，残りが日堪能し，また，その場で湯葉を作って食べるとい本人による発表でした。東北大学の金子俊郎先生

う体験を楽しんでいただけたのではないかと思いが自ら発表を行い，盛り上げて下さいました。留ます。最後に，今回の海外研究者招待講演をアレ

学生を中心に English Session の需要が一定数あンジくださいました九州大学の古閑一憲先生に厚ることはわかりますが，留学生のセッションにしく御礼を申し上げます。

ては駄目で，十分な数の日本人の発表があること，多くの聴講者がいることが重要に思います。深いレベルでのディスカッションをするには母語である日本語のセッションが有利でしょうが，一方で，国際会議で発表する学生さんも数多く，英語での口頭発表を鍛錬する場としての English Sessionの役割もあると思います。今回も何人かの大学院生が English Session にチャレンジし，やってみてわかったことがきっとあったと思います。
また，我々研究者も日本の研究レベルが適切に評価されるよう，プレゼンテーションを磨かなければなりません。来年秋にはハワイで GEC-ICRP があり

湯葉処 北の麩庵にてます。English Session をうまく利用していただ
ければと思っております。

40

分科企画シンポジウム報告2014 年第 75 回応用物理学会秋季学術講演会「コンピュータによるプラズマシミュレーションの実際」報告
京都工芸繊維大学 高橋和生
秋季学術講演会の２日目に分科会企画のシンポした。林俊雄先生（名古屋大学）は、市販シミジウムが行われました。現在、プロセスにかかわュレータを用いた量子化学計算について具体的るプラズマ源開発の高効率化やプラズマにおけな操作も含めてご紹介下さいました。斧高一先る現象の深い理解のために、プラズマとその照生（京都大学）は、微小セルモデルを使った結射対象とする表面のコンピュータシミュレーシ

果を報告され、エッチングにおける微細形状のョン（モデリング）に大きな期待がかかってい詳細を示されました。大嶽敦氏（日立製作所）

ます。コンピュータの計算能力に限界が有り、は、吸着水分子の電子状態と円面放電との関連

シミュレーションのための精緻なモデルが要求を報告されました。白藤立先生（大阪市立大学）される中で、プラズマを理解するための様々なは、市販シミュレータの利用者の立場として、努力が行われています。一方で、シミュレーシ

その有用性を伝えられました。伝宝一樹氏（東ョンを専門とすることなく手軽に扱えるシミュ

京エレクトロン山梨）は、シミュレータを用いレータを求め、プラズマに対するある程度の理た半導体製造装置におけるプラズマ源の開発に解を得たいとする希望が多くあります。シンポついて紹介されました。久保井信行氏（ソニー）

ジウムでは、モデリングの専門家のみならず、は、加工形状を制御するために、シミュレーシ

シミュレータを利用する研究者をお迎えし、プョンを活用するその具体的手法を述べられましラズマの素過程や、気相および表面における反た。聴講者数は 120 名を超え、それぞれの話題

応をシミュレーションにより求める方法やそのに対して活発に質問が寄せられました。普段は背景にある基礎知識に関する丁寧な解説を、「い容易に触れることが難しいシミュレーションに

ま、何をどこまで計算できるか」を問いつつおついて、数多くの情報が得られる非常に有意義願いしました。8 名の先生方による 9 件の講演な時間を過ごしました。

と 1 件の一般講演があり、幅広い議論が進められました。杤久保文嘉先生（首都大学東京）は、現象に関する理論の体系化の必要性に加え、計算のためにより適切な衝突断面積を得ることの重要性を強調されました。佐藤孝紀先生（室蘭工科大学）は、実験で得られる電子輸送係数から衝突断面積が推定される過程に対し、その評価に再考を求めるお話をされました。電子輸送係数を測定する実験や衝突断面積を得るシミュ
レータに関する非常に貴重な情報が伝えられま

41

行事案内

7th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its
Applications for Nitrides and Nanomaterials / 8th International
Conference on Plasma-Nano Technology
and Science (ISPlasma2015/IC-PLANTS2015)
名古屋大学 齋藤永宏
ISPlasma は、文部科学省の支援を受け、東海＜特別講演＞

広域ナノテクものづくりクラスター事業の一環と天野 浩 （名古屋大学）

して、当地域に国際競争力を有する先進プラズマ
ナノ科学研究拠点を形成するために 2009 年か＜基調講演＞

ら毎年開催されている国際会議で、今回は 7 回目

荒川 泰彦（東京大学）となる。一方、IC-PLANTS は、本邦唯一の産業

堂免 一成（東京大学）

応用プラズマセンターである名古屋大学工学研究

Vincent M. DONNELLY

科附属プラズマナノ工学研究センターの主催の国(University of Houston, USA)

際会議として 2008 年から毎年開催されており、Ulf HELMERSSON

2014 年より、この２つの国際会議を合同で開催(Linköping University, Sweden)

しており、合同会議として 2 回目となる今回は、

松波 弘之（京都大学）

先進プラズマナノ科学、およびナノ材料、窒化物

白谷 正治（九州大学）

半導体研究に加え、表面機能化研究までも包括的Ravi SILVAに対象分野として開催する。本会議では、プラズ(University of Surrey, United Kingdom)

マ分野で長い歴史と研究実績を有する東海地域に

住友 弘二（NTT 物性科学基礎研究所）

世界中から優れた研究者が集い、先進プラズマ科
学、窒化物半導体とナノ材料への応用について広＜セッションおよびトピックス＞

く議論するとともに、最新の研究成果を発表およ･Plasma Engineering−Plasma Generation

び討議する。

−Plasma Nanotechnology･Plasma Deposition＜日程＞
2015 年 3 月 26 日(木)−Plasma CVD～2015 年 3 月 31 日(火)−Plasma Control･Plasma Medicine＜場所＞−Plasma Medicine

名古屋大学東山キャンパス(愛知県名古屋市千種区不老町)−Biotechnology

42

･Plasma Applications･Hardcoating−Plasma Etching−Diamond-Like Carbon and other hard

−Surface Treatment

coatings･Atmospheric Pressure Plasma

for tribology−Modelling and measurement of surface･Solution Plasmaand plasma process of hardcoating･Wet Coating−The Fundamental and Characteristics
of Solution Plasma−Plating−Nano Material Synthesis by Solution−Recycle･Functional Thin Films

Plasma･Nitride Process−Intelligent Functional Films / Surfaces−Growth, Processing and−Optical Functional Films / Surfaces

Characterization of Nitride･Biosurface−Biosurface engineering and

Semiconductors･Application of Nitride Semiconductors

applications−High-voltage operation−Diagnostics of biosurface/biointerface−Current collapse suppression･SiC･Diamond･Other Related Materials＜バンケット＞･Nanoparticle Synthesis

2015 年 3 月 29 日 (日)−Nanocomposite Synthesis

名古屋港水族館−Nanomaterials Processing･Catalyst / Battery＜参加費＞
2015 年 2 月 16 日まで−Automotive Catalyst

一般 : 45,000 円、学生 : 15,000 円−Fuel Cell
･Solar Cell

2015 年 2 月 17 日以降
一般 : 50,000 円、学生 : 20,000 円−Nanocrystalline Semiconductor−Transparent Conductive Oxide･Environmental and Energy Materials＜問合せ先＞−Renewable Energy

ISPlasma2015 / IC-PLANTS2015 事務局−Resource Recovery

Y's Secretary Fields･Microfluidics, Nanofluidics, and MicroTAS

TEL&FAX : 052-332-8789−Microfabrication

E-mail : isplasma@yssf.jp−Nanotechnology

Website : http://www.isplasma.jp

43

行事案内
2015 年第 62 回応用物理学会春季学術講演会

プラズマエレクトロニクス分科会企画
首都大学東京 杤久保文嘉 はじめに講演奨励賞受賞記念講演

2015 年 3 月 11〜14 日に東海大学湘南キャンパ

日程・会場：未定

ス北海道大学にて開催される第 62 回応用物理学

受賞者：Ding Yi（東京工業大学）

会春季学術講演会における PE 分科会企画の概要

選考対象の発表：Effect of crystallinity on optical,とスケジュールを紹介いたします。大学によってelectrical and photovoltaic properties of silicon

は後期日程試験と重なりましょうが，是非，なお，

nanoparticles synthesized by non-thermal plasma

詳細は未定の部分も含まれるため，詳細について
は応用物理学会の HP 等で確認をお願いいたしま

受賞者：佐々木渉太（東北大学大学院）

す。

選考対象の発表：遺伝子細胞膜透過性に対するプラズマ照射起因電気的ストレスと酸化ストレスの プラズマエレクトロニクス賞受賞式／講演奨効果

励賞授業記念講演
第 13 回プラズマエレクトロニクス賞受賞式が

 分科内招待講演

執 り 行 わ れま す 。受 賞候 補 者 の 推薦 締 切り が恒例となる分科内招待講演が以下の要領で実施

2014 年 12 月下旬のため，本稿執筆の時点では受されます。第 14 回目となる今回は，東京工業大

賞者未定ですが，分科企画シンポジウム（学会 2

学名誉教授の石井彰三先生よりご講演を賜ります。

日目）に先だって授賞式を行います。また，2014

皆様には奮って会場まで足をお運び頂きますよう，

年秋季の講演奨励賞は，Ding Yi 氏（東工大）おお願い申し上げます。

よび佐々木渉太氏（東北大院）の２名が受賞され

日程：3 月 12 日（木）（予定）ました。栄誉ある賞を受賞された皆様には，紙面

会場（未定）を借りお祝い申し上げます。日程，会場は未定で

石井 彰三 先生（東京工業大学・名誉教授）

すが，プログラムをご確認のうえ，授賞式ならび講演タイトル「プラズマを学び科学・技術の最先に受賞記念講演会場まで足をお運びください。

端に挑戦する」プラズマエレクトロニクス賞受賞式

 分科会企画シンポジウム

日 程：3 月 12 日（木）学会 2 日目の 12 日（木）に，分科会企画シン

会 場：分科企画シンポジウムに先立ち同会場

ポジウム「微粒子合成法とその応用最前線」を開で授賞式を行います（未定）

催します。様々な応用展開がなされる微粒子の合成法として化学的な合成法，プラズマを用いた合44

成法など多種多様な合成法がありますが，このシ発光分光はプラズマの診断やモニターの方法としンポジウムでは，これらの合成法のメリットデメて広く使われますが，単に計測したのみで終わっリットを明らかとし，相互の知見を利用することている場合も見受けられます。本講演では，発光で現状の課題の解決法や今後の可能性について議

計測の原理を今一度学び，発光からプラズマに関論する予定です。なお，最終確定版のプログラムするより高度な情報を引き出すことを目的としまは，後日に Web でご確認ください。

す。また，これをプロセスプラズマに適用してプ
ロセスの改善に役立てた事例について示します。

日時：2015 年 3 月 12 日（木）（予定）

今回のチュートリアルは，プロセスのモニター

会場：未定に発光計測を利用している企業の研究者・技術者

プログラム：（案）（タイトルは仮題，敬称略）の皆様，研究で発光計測を利用している学生の皆

1．
「プラズマによる微粒子合成法の現状と課題」

様に特にお薦めします。

渡辺隆行
（九大）

チュートリアル講演は事前予約制となっていま

2.「熱プラズマによるナノ粒子の生成法とその応す。定員がございますので，お早めにご予約いた

用例」

だきますようお願い申し上げます。

中村圭太郎（日清製粉グループ本社）

3．
「プラズマによる微粒子の合成・凝集・輸送制
御」白谷正治（九大）

4.「配位子保護金クラスターの精密合成法」

日 時：2015 年 3 月 11 日（水）9：00～12：10
タイトル：発光分光計測法によるプロセスプラズ

佃 達哉（東大）
5.「低圧プラズマによる微粒子表面修飾法」

マの実践的計測の基礎と応用
講 師：

永津雅章
（静大）
6.「コロイド化学によるナノ微粒子合成法」

赤塚洋先生（東京工業大学・原子炉工学研究所）
第１部 基礎～「電子温度・密度，ガス温度，

前之園信也（北陸先端大）ラジカル密度」

7. 「超臨界プラズマによるダイヤモンドモイド合布村正太先生（産業技術総合研究所・太陽光発電

成法」

工学研究センター）

寺嶋和夫（東大）

8．
「液中プラズマを用いるナノ粒子のグリーンな

第２部 応用～「プロセスモニタリングへの適合成と改質」用」

米澤 徹（北大）

9. 「微粒子プロセスの高度化による多機能材料の創製」

目 義夫（物材研）

10.「まとめと展望」

金子俊郎（東北大）

 English Session
2014 年の秋季講演会に続き，プラズマエレクト
ロニクス「８．プラズマエレクトロニクス English
Session」として実施いたします。English Session

 チュートリアル講演
学会初日に，PE 分科会企画としては第 5 回目

は学会初日の 11 日（水）午後に実施の予定です。

のチュートリアル講演を実施いたします。
今回は，2015 年は 10 月にハワイで GEC と合同の ICRP

東工大の赤塚洋先生，
産総研の布村正太先生より，もありますので，ハワイで発表してやろうという「発光分光計測法によるプロセスプラズマの実践

意欲のある学生さんには，是非，English Session

的計測の基礎と応用」と題して講義を頂きます。

にも応募いただきたいと思います。なお，今回は45

学会 2 日目には，PE 分科会のインフォーマル

海外招待講演を予定しておりません。

ミーティングが予定されております。また，同日夕刻には，恒例の PE 分科会懇親会が企画されま おわりに本案内を執筆している時点では，プログラムのす。詳細は担当幹事より改めて案内しますので，詳細は未定ですが，チュートリアル講演と参加希望者は事前にご予約をお願いいたします。

English Session は学会初日に，シンポジウムを

その他，不明な点がございましたら，お気軽に始めとする他の分科会企画のほとんどは学会 2 日

お問合せください。

目に実施される予定です。最終プログラムを確認の上で会場までお越しください。

連絡先：杤久保（首都大学東京）：tochi@tmu.ac.jp

46

行事案内

第９回反応性プラズマ国際会議/第６８回気体電子会議合同会議/
第 33 回プラズマプロセシング研究会
9th International Conference on Reactive Plasmas(ICRP-9)/
68th Gaseous Electronics Conference(68th GEC)/
33rd Symposium on Plasma Processing(SPP-33)
2015 年 10 月 12 日～16 日開催
名古屋大学

ICRP-9 組織委員長

プラズマエレクトロニクス分科会では分科会主催

豊田 浩孝

1801 Kalakaua Avenue, Honolulu,
HP: http://jp.hawaiiconvention.com/の国際会議として反応性プラズマ国際会議【会議トピックス(Tentative)】(International Conference on Reactive Plasmas: ICRP)を開催しており、これまでに第１回から第８回ま(i) 反応性プラズマの発生・制御, (ii) 反応性プラズマで名古屋（１９９１年）、横浜（１９９４年）、の診断・計測, (iii) 反応性プラズマ内の輸送現象と原奈良（１９９７年）、ハワイ（１９９８年）、フ子分子素過程, (iv) モデリングとシミュレーション,

ランスグルノーブル（２００２年）、宮城（２０(v) パーティクル・ダストの発生と挙動, (vi) プラズ

０６年）、フランスパリ（２０１０年）、福岡（２マ-固体相互作用と表面改質等への応用, (vii)エッチ

０１４年）にて開催してきました。本年２月福岡

ング, (viii) デポジション, (ix) マイクロ，大気圧プラで開催された ICRP-8 は皆様のご記憶に新しいこズマの応用, (x) ナノテクノロジー,バイオテクノロとと思います。

ジーへの応用, (xi) プラズマの医療応用, (xii)反応性

これまでの開催履歴を見てもわかりますようにプラズマの新展開

ICRP はしばしば海外にて合同会議として開催さ【論文投稿】（2015 年 6 月上旬締切）：

れており、次回の ICRP-9 は GEC と合同にて来年

GEC アブストラクト(1300 文字程度) および

２０１５年１０月１２日～１６日の日程でハワイ

ICRP アブストラクト(カメラレディ 2 ページ)

オアフ島の Hawaii Convention Center にて開催され【旅費補助】プラズマエレクトロニクス分科会会

る運びとなりました。アメリカ本土と日本の間に員である学生等に対して旅費補助を行う予定です。

位置するハワイにおける会議開催であり、また大【会議論文集等】発表論文の一部をJapanese Journal of

変魅力的な開催場所と思います。講演投稿締切はApplied Physics Special Issueとして刊行予定です。

６月上旬となります。ぜひとも多くの方にご参加をいただきますようお願い申し上げます。

【ICRP-9組織委員長】豊田 浩孝 (名古屋大学)【問合せ先】 ICRP-9 事務局 中村圭二(中部大学)【主催】：応用物理学会/アメリカ物理学会

E-mail: icrp9_office@plasma.engg.nagoya-u.ac.jp【会期】：2015 年 10 月 12 日~16 日

会議 HP：【会場】：Hawaii Convention Center

http://www.plasma.engg.nagoya-u.ac.jp/icrp-9/-

47

2014(平成 26)年度プラズマエレクトロニクス分科会幹事名簿
氏名

所属

住所・電話

メールアドレス

幹事長

豊田浩孝

名古屋大学
工学研究科
電子情報システム専攻

toyoda@nuee.nagoya-u.ac.jp

副幹事長

節原裕一

副幹事長

杤久保文嘉

大阪大学接合科学研究所
加工システム研究部門
エネルギー変換機構学分野
首都大学東京理工学研究科
電気電子工学専攻

副幹事長

伊澤

幹事
任期
2015 年 3 月

明石 治朗

防衛大学校
応用科学群応用物理学科

石川 健治

名古屋大学大学院工学研究科
附属プラズマナノ工学研究センター

伊藤昌文

名城大学理工学部
電気電子工学科

川崎 敏之

日本文理大学
工学部機械電気工学科

古閑一憲

九州大学
大学院システム情報科学研究院
情報エレクトロニクス部門

鷹尾 祥典

横浜国立大学大学院 工学研究院
システムの創生部門
京都工芸繊維大学
大学院工芸科学研究科
電子システム工学部門
電子物性工学講座
金沢大学理工研究域
電子情報学系〒464-8603
名古屋市千種区不老町
Tel: 052-789-4698
Fax: 052-789-3150〒567-0047
大阪府茨木市美穂ヶ丘 11 番 1 号
Tel: 06-6879-8641〒192-0397
八王子市南大沢 1-1
Tel: 042-677-2744
Fax: 042-677-2756〒744-0002
山口県下松市大字東豊井 794
Tel: 090-4535-9279〒239-8686
横須賀市走水 1-10-20
Tel: 046-841-3810
Fax: 046-844-5912〒464-8603
愛知県名古屋市千種区不老町
Tel/Fax: 052-788-6077〒468-8502
愛知県名古屋市天白区塩釜口 1-501
Tel/Fax: 052-838-2306〒870-0397
大分県大分市一木 1727
Tel: 097-524-2612
Fax: 097-593-2071〒819-0395
福岡市西区元岡７４４
Tel: 092-802-3716
Fax: 092-802-3717〒240-8501
横浜市保土ヶ谷区常盤台 79-5
Tel/Fax: 045-339-3889〒606-8585
京都市左京区松ヶ崎御所海道町
Tel: 075-724-7418
Fax: 075-724-7400〒920-1192
石川県金沢市角間町
Tel: 076-234-4846
Fax: 076-234-4870〒252-5298
神奈川県相模原市中央区下九沢 1120
Tel: 042-779-9925
Fax: 042-771-0329〒060-8628
札幌市北区北 13 条西 8 丁目
Tel: 011-706-6658
Fax: 011-706-6657〒305-0841
茨城県つくば市御幸が丘 17
Tel: 029-860-3632
Fax: 029-860-3607〒841-0052
佐賀県鳥栖市宿町 807-1
Tel: 0942-81-4058
Fax: 0942-81-3690〒661-8661
尼崎市塚口本町８－１－１
Tel: 06-6497-7069
Fax: 06-6497-7285〒651-2194
神戸市西区学園東町８－３
Tel: 078-795-3311 内線：235
Fax: 078-795-3235〒275-0016
習志野市津田沼２－１７－１
Tel: 047-478-4308〒857-1193
佐世保市沖新町１－１
Tel: 0956-34-8479〒512-8550
四日市市山之一色町８００（四日市工場）
Tel: 059-390-7327

勝

〃

〃

〃

〃

〃
高橋和生
〃
田中 康規
〃
南部英高

ルネサスエレクトロニクス（株）
生産本部 プロセス技術統括部
プロセス加工技術部

西山修輔

北海道大学大学院
工学研究院
量子理工学部門
プラズマ理工学分野
東京エレクトロン（株）
技術開発センター
シミュレーショングループ

〃

〃
松隈正明
〃
本村大成
〃
昇

赤松

浩

井上

泰志

千葉工業大学
工学部機械サイエンス学科

大島

多美子

佐世保工業高等専門学校
電気電子工学科大村光広

東芝 S&S 社
半導体研究開発センター
ユニットプロセス技術開発部 ＵＰ
２

〃

〃

〃

(独) 産業技術総合研究所
九州センター
生産計測技術研究センター
プラズマ計測チーム
三菱電機(株)
先端技術総合研究所
環境システム技術部
放電応用グループ神戸市立工業高等専門学校
電気工学科

和田
〃
幹事
任期
2016 年 3 月（株）日立ハイテクノロジーズ
笠戸地区プロセス研究開発部

48

setsuhara@jwri.osaka-u.ac.jp

tochi@tmu.ac.jp

izawa-masaru@sme.hitachi-hitec.com

akashi@nda.ac.jp

ishikawa@plasma.engg.nagoya-u.ac.jp

ito@meijo-u.ac.jp

kawasaki@nbu.ac.jp

koga@ed.kyushu-u.ac.jp

takao.yoshinori.7a@kyoto-u.ac.jp

takahash@kit.jp

tanaka@ec.t.kanazawa-u.ac.jp

hidetaka.nambu.hx@renesas.com

shu@eng.hokudai.ac.jp

masaaki.matsukuma@tel.com

t.motomura@aist.go.jp

Wada.Noboru@bx.MitsubishiElectric.co.jp

akamatsu@kobe-kosen.ac.jp

inoue.yasushi@it-chiba.ac.jp

ohshima@sasebo.ac.jp

mitsuhiro.omura@toshiba.co.jp

幹事
任期2016 年 3 月

岡田

健

久保井

東北大学流体科学研究所

信行

〃
小林

浩之

斉藤

和美

寺本

慶之

伝宝

一樹

東京エレクトロン山梨（株）
技術開発センター
プラズマ要素技術グループ

松井

信

静岡大学
大学院工学研究科
機械工学専攻

本村

英樹

渡辺

隆行

愛媛大学
大学院理工学研究科
電子情報工学専攻
九州大学
大学院工学研究院
化学工学部門

〃

〃

〃

〃

〃

〃

〃

ソニー（株）R&D プラットフォーム
STDD デバイス設計部
シミュレーション設計 2 課（株）日立製作所中央研究所
ナノプロセス研究部
ルネサスエレクトロニクス（株）
生産本部
プロセス技術統括部
プロセス加工技術部(独) 産業技術総合研究所
環境管理技術研究部門
環境負荷制御研究グループ〒980-8577
仙台市青葉区片平 2-1-1
流体科学研究所 2 号館 510 号室
Tel: 022-217-5318〒243-0014
厚木市旭町 4-14-1
Tel: 050-3141-4305〒185-8601
国分寺市東恋ケ窪１－２８０
Tel: 042-323-1111 内線：2403〒252-5298
神奈川県相模原市中央区下九沢 1120
Tel: 042-779-9925
Fax: 042-771-0329〒305-8569
茨城県つくば市小野川 16-1
Tel: 029-861-3084
Fax: 029-861-8866〒407-0192
山梨県韮崎市穂坂町三ツ沢 650
Tel: 0551-23-2327
Fax: 0551-23-4462〒432-8561
浜松市中区城北３－５－１総合研究棟 R503Tel/Fax: 053-478-1064〒790-8577
松山市文京町３
Tel: 089-927-8577〒819-0395
福岡市西区元岡 744
Tel/Fax: 092-802-2745

49

okada@sammy.ifs.tohoku.ac.jp

Nobuyuki.Kuboi@jp.sony.com

hiroyuki.kobayashi.sy@hitachi.com

kazumi.saitou.ub@renesas.com

yoshiyuki-teramoto@aist.go.jp

kazuki.denpoh@tel.com

tmmatui@ipc.shizuoka.ac.jp

hmoto@mayu.ee.ehime-u.ac.jp

watanabe@chem-eng.kyushu-u.ac.jp

2014(平成 26)年度分科会幹事役割分担
役割分担

9. ホームページ
10. 会計11. プラズマエレクトロニクス賞
12. アカデミックロードマップ（戦略企画室）13. PE 懇親会
秋：北海道大学、春：東海大(平塚)

豊田浩孝
節原裕一
杤久保文嘉
伊澤勝
寺本慶之
杤久保文嘉
渡辺隆行
井上泰志
小林浩之
伝宝一樹
節原裕一
岡田健
松井信
伝宝一樹
大村光広
斉藤和美
大島多美子
本村英樹
節原裕一
井上泰志
渡辺隆行
本村英樹
節原裕一
井上泰志
松井信
大島多美子
赤松浩
伊澤勝
大村光広
久保井信行
小林浩之
伝宝一樹
斉藤和美
赤松浩
岡田健
本村英樹
大島多美子
豊田浩孝
杤久保文嘉
豊田浩孝
岡田健
久保井信行

新任
名古屋大学
大阪大学
首都大学東京（株）日立ハイテクノロジーズ
産業技術総合研究所
首都大学東京九州大学
千葉工業大学（株）日立製作所
東京エレクトロン（株）
大阪大学
東北大学
静岡大学
東京エレクトロン（株）（株）東芝
ルネサスエレクトロニクス（株）
佐世保高専
愛媛大学
大阪大学
千葉工業大学
九州大学
愛媛大学
大阪大学
千葉工業大学
静岡大学
佐世保高専
神戸市立高専（株）日立ハイテクノロジーズ（株）東芝
ソニー（株）（株）日立製作所
東京エレクトロン（株）
ルネサスエレクトロニクス（株）
神戸市立高専
東北大学
愛媛大学
佐世保高専
名古屋大学
首都大学東京
名古屋大学
東北大学
ソニー（株）GEC 委員（オブザーバー）

豊田浩孝

名古屋大学

幹事長
副幹事長

1. 庶務・分科会ミーティング
2. 春秋講演会シンポジウム
シンポジウム・海外招待講演
分科内招待講演
チュートリアル講義
3. プラズマプロセシング研究会
H26 年度：プラズマコンファレンス
H27 年度：ICRP/GEC

4. 光源物性とその応用研究会
5. プラズマ新領域研究会

6. インキュベーションホール

7. プラズマエレクトロニクス講習会

8. 会誌編集・書記

50

留任

本村大成
古閑一憲
高橋和生
松隈正明
伊藤昌文

(独)産業技術総合研究所
九州大学
京都工芸繊維大学
東京エレクトロン（株）
名城大学

古閑一憲
和田昇
石川健治
高橋和生
川崎敏之
田中康則

九州大学
三菱電機(株)名古屋大学
京都工芸繊維大学
大分大学
金沢大学

明石治朗
田中康則
鷹尾祥典
伊藤昌文

防衛大学
金沢大学
京都大学
名城大学

石川健治
本村大成
鷹尾祥典
明石 治朗

名古屋大学
(独)産業技術総合研究所
横浜国立大学
防衛大学

松隈正明
和田昇

東京エレクトロン（株）
三菱電機(株)

川崎敏之
松隈正明

日本文理大
東京エレクトロン（株）

西山修輔
高橋和生

北海道大学
京都工芸繊維大学

鷹尾祥典
西山修輔

横浜国立大学
北海道大学

2014(平成 26)年度分科会関連の各種世話人・委員
１．応用物理学会講演会プログラム編集委員
8.1

プラズマ生成・制御

柳生義人(佐世保高専)8.2

プラズマ診断・計測

伊藤

剛仁

(大阪大)

8.3

プラズマ成膜・表面処理

太田 貴之

(名城大）

8.4

プラズマエッチング前田賢治(日立中研)

8.5

プラズマナノテクノロジー（代表） 佐藤 孝紀(室蘭工大）

金子

俊郎

(東北大）

小田

昭紀

(千葉工大）

山田

英明

(産総研）

２．応用物理・編集委員

野崎

智洋

(東工大）

３．応用物理学会代議員

斧

高一

(京都大）

酒井

道

(京都大）

白谷

正治

(九州大）

豊田

浩孝

(名古屋大)

野崎

智洋

(東工大）

平松

美根男

(名城大）

４．GEC 組織委員会委員

豊田浩孝（名古屋大）

５．その他：本部理事

斧8.6

プラズマ現象・新応用・融合分野

高一

（京都大）

白谷

正治

（九州大）

平松

美根男

（名城大）

６．諮問委員

寺嶋和夫（東京大学）

７．フェロー

岡本

幸雄

（東洋大）

斧

高一

（京都大）

河野

明廣

（名古屋大）

寒川

誠二

（東北大）

白谷

正治

（九州大）

菅井

秀郎

（中部大）

高井

治

（名古屋大）

51

橘

（愛媛大）

中山

喜萬

（大阪大）

畠山

力三

（東北大）

藤山

寬

（長崎大）

堀

８．名誉会員邦英

勝 （名古屋大）

真壁

利明

（慶應大）

渡辺

征夫

（九州電気専門学校）

後藤

俊夫

（中部大）

52

平成 26 年度中期活動報告

コードシェアセッションの実施の可能性について第 72 回プラズマエレクトロニクス分科会

Q.合同セッションとの違いは?(栃ミーティング/平成 26 年度第 2 回幹事会(応久保副幹事長 東工大) A.合同セ用物理学会インフォーマルミーティング

ッションは理事会を通す等大事に内)議事録

なるが、コードシェアの場合はもっと手軽に実施できる。Q. コード

開催日時：

2014 年 9 月 18 日 ( 木 )シェアの場合は分類はどうなるの

12：15 ～ 13：15

か? (石川幹事 名大) A. 両方の番号がふられる。

開 催場 所： 北海道 大学 札 幌キ ャン パス
高等教育推進機構 S 棟 2 階



S10

その他
奨励賞審査のコメントは講演者へ



「8.プラズマエレクトロニクス」大分

フィードバックしているので記入

類分科意見交換会が佐藤先生(室蘭工して欲しい。

大)の進行で開かれた。


大分類再編について

ング

再編の必要なしとなった。


平成 26 年度プラエレ分科会ミーティ
豊田幹事長が司会進行を務められた。

中分類再編について
8.2 プラズマ診断・計測は今回の1. 応用物理学会（東海大・2015.3）シン

講演は 13 件であったが、これまでポジウムなどについての推移等を鑑みて再編対称とはしない。8.6 プラズマ現象・新応用伊藤幹事(名城大)より 2015 年春季

分野・融合分野からはプラズマ医学術講演会分科会シンポジウム案につ療応用・プラズマ農業応用・プラ

いて報告がなされた。微粒子を第一案

ズマバイオ応用を切り離して新たとして検討を進めていくこととなった。

に 8.6 プラズマライフサイエンス

杤久保副幹事長(首都大学東京)よりとする。現 8.6 は新たに 8.7 とす

分科会内招待講演・海外研究者招待講

るが講演件数が 15 件を下回って

演&English Session・チュートリアル

もただちに再編対象とはしない。

に関して報告がなされ、今後はメール

Q. い つ か ら ?( 古 閑 幹 事 九 大 )審議によって進められることとなった。

A.2015 年春の応物から。Q.講演募

Q. チュートリアルのターゲット

集の前にメーリングリスト等でアは?(小川先生 中部大) A. 企業の方やナウンスをして下さい。新 8.6 の若手研究者、分科会に入ってくれそう

プログラム委員は?(豊田幹事長

な方。C. 今の企業の新人にとっては装名大) A.現 8.6 に 2 人居らっしゃ

置・プラズマプロセス・計測を整合さるのでその中で考えている。

せてやってくれると良い (辰巳氏 ソ53ニー)。C. 他の大分類では同じ内容を

島先生(金沢大)より報告があっ

繰り返しやっているところもある(佐た。今回は9/8-10 電気学会プラ

藤先生 室蘭工大)。A.その方法も検討

ズマ研究会との合同開催であっ

している。

た。
5-2. 第8回 PEインキュベーションホ

2. プラズマエレクトロニクス講習会の進ール（8/31-9/2）について鷹尾幹事(横捗状況について国大）より報告があった。参加者は53

伊澤副幹事長(日立ハイテク)より第名でうち企業から4名参加されたとの25 回プラズマエレクトロニクス講習会こと。

の実施案について報告があった。開催
日時は 2014 年 11 月 26 日(水)、場所は

6. 関連会議について

東工大田町キャンパスで行う予定。

①

SPP-32/プラズマコンファレンス
2014 について豊田幹事長より案

3. 光源物性とその応用研究会の進捗状況

内がなされた。開催日時は 2014年 11 月 18 日-11 月 21 日、会場はについて明石幹事(防大)より報告された。開朱鷺メッセ。

催日時は12月12日、場所は都内で交通②

豊田幹事長より ICRP9・GEC のアの便の良い所を検討されているとのこ

ナウンスがなされた。開催日時はと。

2015 年 10 月 11 日-10 月 16 日まで。

4. 12月分科会報の編集状況について（豊田）

赤松幹事(神戸高専)より分科会会報第61号の編集状況について報告された。

7. その他
2014 年度 第 3 回目の幹事会は，3 月の応用

5. 研究会などの報告について

物理学会（2015.3.11-14 東海大）会期中の

5-1. プラズマ新領域研究会

インフォーマルミーティング内で執り行う①

第18回応物PE分科会プラズマ新（SPP-32/PLASMA2014 会期中の幹事会は実領域研究会（6/14, 名古屋大学）

施しないこととする）．

第4回 新学術領域研究「プラズマとナノ界面の相互作用に関する(記:松隈正明 (東京エレクトロン))

学術基盤の創成」公開シンポジウ
ムとの合同開催について伊藤幹事(名城大)より報告があった。
②

第19回応物PE分科会新領域研究会（9/9, 大阪府立大学）について田中幹事(金沢大)の代理で石54

プラズマエレクトロニクス関連会議日程
国際会議
2015. 3. 26-3. 31
7th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides andNanomaterials / 8th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science(ISPlasma2015/IC-PLANTS2015)
名古屋大学
http://www.isplasma.jp/
2015. 4. 6-4. 10
2015 MRS Spring Meeting
San Francisco, California
http://www.mrs.org/spring2015/
2015. 4. 13-4. 17
7th Iint. Conf. the Frontiers of Plasma Physics and Technology (FPPT-7)
Kochi, India
http://www.fppt-series.com/
2015. 5. 11-5. 15
8th Int.Workshop on Microplasmas (IWM 2015)
NJ, USA
http://iwm2015nj.wix.com/home
2015. 5. 24-5. 28
Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics XIPorquerolles Island, Hy`eres, Var, France
http://fltpd-xi.sciencesconf.org/
2015. 5. 24-5. 28
Int. Conf. Plasma Science (ICOPS2015)
Antalya, Turkey
http://www.ece.unm.edu/icops2015/
2015. 6. 5-6. 10
22nd International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC22)
Antwerp, Belgium

55https://www.uantwerpen.be/en/conferences/ispc22/
2015. 6. 22-6. 26
42th EPS Conference on Plasma Physics
Lisbon, Portugal
http://www.ipfn.ist.utl.pt/EPS2015/
2015. 7. 5-7. 10
22nd International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 22)
Antwerp, Belgium
https://www.uantwerpen.be/en/conferences-and-summerschools/ispc22/
2015. 10. 12-10. 16
9th International Conference on Reactive Plasmas / 68th Gaseous Electronics Conference(ICRP-9/68th GEC)
ハワイ
http://www.plasma.engg.nagoya-u.ac.jp/icrp-9/

国内会議・会合
2015. 3. 11-3. 14
第 62 回応用物理学会春季学術講演会
東海大学湘南キャンパス
http://www.jsap.or.jp/activities/annualmeetings/regularmeeting.html
2015. 3. 21-3. 24
日本物理学会第 70 回年次大会
早稲田大学早稲田キャンパス
http://www.jps.or.jp/activities/meetings/future.html
2015. 9. 13-9. 16
第 76 回応用物理学会秋季学術講演会
名古屋国際会議場
http://www.jsap.or.jp/activities/annualmeetings/regularmeeting.html
2015. 9. 16-9. 19
日本物理学会秋季大会（主として物性）
関西大学千里山キャンパス
http://www.jps.or.jp/activities/meetings/future.html

56

2015. 9. 17-9. 18
平成 27 年度電気学会 基礎・材料・共通部門大会
金沢大学
http://www.iee.jp/fms/?post_type=custom_event&p=621
2015. 9. 25-9. 28
日本物理学会秋季大会（素粒子，核物理，宇宙線，宇宙物理）
大阪市立大学杉本キャンパス
http://www.jps.or.jp/activities/meetings/future.html
2016. 3. 19-3. 22
日本物理学会第 71 回年次大会
東北学院大学泉キャンパス
http://www.jps.or.jp/activities/meetings/future.html
2016. 9. 13-9. 16
日本物理学会秋季大会（主として物性）
金沢大学角間キャンパス
http://www.jps.or.jp/activities/meetings/future.html
2016. 9. 21-9. 24
日本物理学会秋季大会（素粒子，核物理，宇宙線，宇宙物理）宮崎大学木花キャンパス
http://www.jps.or.jp/activities/meetings/future.html
2017. 3. 17-3. 20
日本物理学会第 72 回年次大会
大阪大学豊中キャンパス
http://www.jps.or.jp/activities/meetings/future.html

57広告掲載企業一覧
プラズマエレクトロニクス分科会会報 61 号へ広告掲載を頂いた企業は下記の通りです。弊分科会会
員への最新情報のご提供に厚く感謝の意を表します。
１．株式会社 エナック

当会報への広告掲載について
4. 広告掲載料
掲載料は下表の通りとします。なお、年間契約の場合も、申込時点での一括請求とさせて頂きます。

応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会
では，分科会会員への情報提供を旨とし、会報への広告出展を募集しております。広告の掲載にあたっては下記のような条件としておりますので、是非ご検討の程宜しくお願い申し上げます。
1. 契約の種類(A) 年間契約コース
1 年間にわたる掲載。通常は 6 月、12 月に発行される 2 号にわたって掲載されます。掲載
号ごとに新規原稿に差替え出来ます。
(B) 単号契約コース
特定の号のみの掲載。
2. 掲載位置
掲載位置は後書きの後となります。基本五十音順の掲載となりますが、レイアウト等の都合で適宜変更になる可能性があります。何卒ご了承ください。
また裏表紙への依頼が無いときには年間契約の中から回す場合もあります。不都合がある場合はご相談ください。
3. 入稿
原稿は A4 版ネガの版下、もしくは電子ファイル（pdf）とします。これ以外の場合、かかる費用を別途請求させて頂く場合があります。

半ページ
1 ページ
2 ページ
(見開き指定可)裏表紙(A) 年間契約(B) 単号契約
コース
コース
5 万円
4 万円
（4 万円）（3 万円）
8 万円
5 万円（6 万円）（4 万円）
12 万円
8 万円（9 万円）（6 万円）
12 万円
8 万円（9 万円）（6 万円）※カッコ内は協賛企業

5. 問い合わせ先〒113-0034 東京都文京区湯島 2-31-22
湯島アーバンビル 7 階
公益社団法人 応用物理学会 分科会係
TEL：03-5802-0862
FAX：03-5802-6250
e-mail：divisions@jsap.or.jp
HP：http://annex.jsap.or.jp/plasma/

58

編集後記
「海外の研究事情」は、東京エレクトロン山梨
プラズマエレクトロニクス分科会会報No.61をお届けいたします。お忙しい中、本誌にご寄稿い の岩下様が、ポスドク時代の 2010 年から 2013年 ま で 滞 在 さ れ た ド イ ツ の Ruhr University
ただきました皆様に心より御礼申し上げます。
本報の「巻頭言」では、産業技術総合研究所 福 Bochum での微粒子プラズマの研究紹介、渡航に島再生可能エネルギー研究所の近藤様より「プラ 至った経緯、ドイツでの生活についてご紹介いた
ズマエレクトロニクス」という題目でご寄稿いた だきました。
「学生のためのページ・すぐに役立つプラズマ
だきました。プラズマエレクトロニクスの今後の発展のカギは、さまざまな異業種と融合していく エレクトロニクス」では、中部大学の菅井先生よことであり、それが成熟した日本の技術力の目指 り「プラズマの振舞い－思考実験と Q&A－」をすべき姿ではないか、という提言をいただきまし ご寄稿いただきました。現象を理解するには、それを絵にかくとよい、ということをポイントに、た。
「寄稿」は、九州大学白谷先生から「研究職に プラズマの振舞いをイメージできるか？について就くために」とう題目で研究者のキャリア形成に 思考実験や Q&A を展開していただきました。
関する最近の動向に関してお寄せいただきました。
原稿の執筆を快く引き受けていただきました著「研究紹介」では、2014 年春季応用物理学会講演奨励賞を受賞された講演として、東京大学の神 者の皆様、幹事長、副幹事長をはじめ分科会幹事の皆様、小田様にこの場をお借りしまして感謝の原先生からも原稿をお寄せいただきました。
「研究室紹介」は、兵庫県立大学大学院 工学研 意を表します。今後も各種報告や案内等の記事を
究科 電気系工学専攻 電力・エネルギー工学部門 随時募集しております。今後もプラズマエレクト
電力応用研究グループの藤原先生のご研究室を紹 ロニクス分科会会報をどうぞよろしくお願いいた
介して頂きました。プラズマイオン注入堆積法
します。
（PBII&D）、慣性核融合実験用先進ターゲットの開発、大電力パルススパッタ(HPPS)成膜、パルス(平成 26 年度会報編集担当：
ウォータージェットなど多彩な研究活動をご紹介
松隈、川崎、岡田、赤松)
していただきました。
(文責：赤松浩・神戸市立高専)

プラズマエレクトロニクス分科会会報 No.61
2014年 12 月 27 日 発行
編集：公益社団法人 応用物理学会
プラズマエレクトロニクス分科会
幹事長 豊田 浩孝
発行：公益社団法人 応用物理学会〒113-0034 東京都文京区湯島2-31-22
湯島アーバンビル7階（©2014 無断転載を禁ず）

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