プラズマエレクトロニクス分科会会報

No. 40目 次
幹事長退任挨拶

幹事長退任のご挨拶

京都大学

斧 高一

1

幹事長就任挨拶

幹事長就任にあたって

名古屋大学

河野 明廣

3

寄稿

応用物理学会会長を退任して

名古屋大学

後藤 俊夫

5

受賞者の紹介

京都大学

斧 高一

7

第 2 回プラズマエレクトロニクス賞を受賞して

東洋大学

岡本 幸雄

8

プラズマエレクトロニクス賞を受賞して

物質・材料研究機構

小松 正二郎

10

名古屋大学

堀 勝

12

北海道大学

須田 善行

15

堀 勝

18

第 2 回プラズマエレクトロニクス賞

研究室紹介 （その 30）

NU エコ・エンジニアリング（株）

海外の研究事情 （その 15）

ボストンカレッジ滞在記

国際会議報告プラズマナノテクノロジーとその将来ビジョンに関する国際ワークショップ
京都大学

斧 高一

九州大学

白谷 正治

名古屋大学

5th International Workshop on Fluorocarbon Plasmas

和歌山大学

伊藤 昌文

21

プラズマの国際 COE フォーラム

名古屋大学

菅井 秀郎

23

2004 MRS Spring Meeting

佐世保工業高等専門学校

川崎 仁晴

25

第 4 回ダストプラズマ研究会

京都工芸繊維大学

林 康明

27

第 18 回光源物性とその応用研究会

東芝ライテック （株）

安田 丈夫

30

第 21 回プラズマプロセシング研究会

北海道大学酒井 洋輔 須田善行 31

第 34 回応用物理学会スクール B

九州大学

白谷 正治

33

2004 年春季応物講演会シンポジウム

ソニー （株）辰巳 哲也

36

国内会議報告i2004 年春季応物講演会合同セッション D

北陸先端科学技術大学院大学 増田 淳

372004 年春季応物講演会合同セッション F

大阪府立大学秋田 成司

392004 年春季応物講演会合同セッション H(株) 東芝関根 誠

40

平成 16 年度幹事・世話人
平成 16 年度プラズマエレクトロニクス分科会幹事名簿41

平成 16 年度プラズマエレクトロニクス分科会幹事役割分担43

平成 16 年度プラズマエレクトロニクス分科会関連の各種世話人・委員

44

平成 15 年度後期及び平成 16 年度前期活動報告

45

行事予定案内第 11 回プラズマエレクトロニクスサマースクール

東北大学

畠山 力三

50

2004 年秋季第 65 回応物講演会シンポジウム
高知工科大学第 19 回光源物性とその応用研究会

八田 章光

北海道大学

第 15 回プラズマエレクトロニクス講習会

物質・材料研究機構

須田 善行

高知工科大学

三菱電機

岡田 勝行

52

八田 章光 53

大森 達夫

54

中野 俊樹

55

河野 明廣

56

第 5 回プラズマ応用技術の将来ビジョン研究会
物質・材料研究機構

岡田 勝行

防衛大学校

プラズマ科学シンポジウム 2005／第 22 回プラズマプロセシング研究会
名古屋大学
掲示板
第 3 回プラズマエレクトロニクス賞公募

57

プラズマエレクトロニクス関連会議日程

58

プラズマエレクトロニクス分科会会員名簿変更届

59

編集後記

60

ii

《幹事長退任挨拶》
幹事長退任のご挨拶
京都大学 工学研究科

斧 高一

平成 14 年 4 月からこの平成 16 年 3 月までの 2 年間、いただきましたとおり、「プラズマプロセスを中心としたプ

プラズマエレクトロニクス分科会幹事長の大役を何とか

ラズマ応用にかかわるこれまでの活発な分科会活動を務めさせていただき無事退任にいたりました。これもひと

今後も維持してさらに発展させるとともに、新しい活動のえに、白谷・関根両副幹事長をはじめ幹事の皆様方、場を探索し、プラズマエレクトロニクス研究の次の発展

ならびに分科会会員の皆様方、学会事務局の伊丹様のステージを見出していく」ための活動に終始した、いうの献身的なご協力とご尽力の賜物と、厚く御礼申し上げことができます。プラズマプロセシング研究会、講習会、ます。

サマースクール では、従来のプラズマプロセス技術に

この 2 年間で、日本の産業界はようやく失われた 10

かかわる研究の一層の発展と深堀り、およびそれらの分の暗雲から抜け出しそうな様相を見せ、業種によっ

科会の外に向かってのアピールに注力しました。これにては今春、以前の IT バブル期を越える決算となったとこ

対し、応用物理学会講演会でのシンポジウムや応物ス

ろも出てきました。半導体業界も再編が一段落し、薄型

クール B、プラズマビジョン研究会、プラズマナノワーク

テレビ (PDP, LCD)、DVD レコーダ、デジタルカメラ、携ショップ では、 ナノ 、 バイオ 、 環境

帯電話などデジタル家電の好調な波に乗って、国内のなどをテーマに、プラズマエレクトロニクス以外の分科会

量産工場もほぼフル稼動状態で、次のステップに向けや他学会・研究組織の方々も多く招いて、トピックス的なた研究開発や設備投資への道を歩みはじめたようです。

種々の新しいテーマに関して集中的な議論を行う中で、一方、国立大学等はこの４月から一斉に独立行政法人

プラズマエレクトロニクスの今後の研究分野／応用分野となり、産業界の変革のスピードとはまだ比較すべくもあについて考えることに務めました。

りませんが、ともかく新しい時代ヘのスタートを切りました。

これらの活動の下、やはり 2 年前の会報に書かせていこれまでの産学連携、外部資金、外部評価などに加え、ただきました「産業界との連携を軸にしての先進的プラ

中期目標・計画、知財管理、組織改革、会計基準、財ズマプロセス技術の研究の推進、プラズマプロセス技術

務諸表、労働安全衛生法、雇用保険などなど、(筆者にの LSI 以外の分野での研究の推進、およびプラズマのとりましては) 以前よく耳にした懐かしい言葉が飛び交

新しい応用分野の創成と展開」に関して、分科会の皆っています。このような世の中の動きと歩調をあわせるか様のネットワークの中でいくつかの具体的取り組みが始のように、プラズマエレクトロニクス分科会も、ひところのまっています。新しい分野に関しましても、大気圧プラズ

暗雲がやや取り払われ、次の発展のステージに向けて、

マ、マイクロプラズマ、自己組織化、ナノ微結晶、バイオ

模索の段階から、次の一歩を踏み出し始めたように感じ

ナノなどなど、種々のテーマへの取り組みが行われています。

ます。これらがこれまでのプラズマプロセスに匹敵する分科会のこの 2 年間の活動を一言でまとめますと、2大きな応用分野となるかどうかの見極めにはまだもう少年前の幹事長就任に際して分科会会報にも書かせてし時間がかかりそうです。何れにしましても、応用物理

年

1(新しい) IT

学会のプラズマエレクトロニクス講演分科での発表件数

め担当幹事の皆様に大変ご尽力をいただき、大きな利は着実に増え、新しい若い分科会会員の方々も増えて益を出すことができました。さらにその他の研究会等にいますので、今後の展開／発展に大いに期待できま関しましても、2 年目後半には全て黒字を得るに至り、す。

次回の ICRP-6 に向け国際会議引当金の計上もできま

実はこの 2 年間もう一つ注力しましたことは、財布の底した。またこの 2 月に開催のプラズマナノワークショップが見えかけていた分科会の財政を、最盛期までとはい

では、分科会として大きな外部資金 (研究集会助成金)

かないまでも、ある程度の段階まで (7〜8 割方) 回復さの申請・獲得を行いましたことも特筆すべき活動の一つせることでした。(このことはあまり認識いただけていないでしょう。

かも知れませんが一目瞭然の成果です。) 本分科会を

以上のように、ともかく 2 年間の任期を終えホッと一息

はじめとした学会のような団体は、会社のように銀行からつきました。(現実にはまた別の仕事がきて暇にはなっの借り入れはできませんので、財政が底をついたら解散ていませんが。)

か幹事が私財を投じて維持する、のどちらかしか取るべが下がってきたのでは 、 プラズマはツールで主役になき道はありません。分科会の維持・発展、新しい企画のれないのでは 、というようなプラズマエレクトロニクス研

実行には、やはりある程度の分科会財政のゆとりが不可究の将来を危惧する声を耳にして久しいですが、実際欠です。これまでの分科会会報に分科会財政に関しまには、(プラズマを理解して使っている分野が増えている

す記事は見当たりませんので、以下に概要をご説明いとは思えませんが)、プラズマを使う工業分野や先端研たします。

究開発分野は確実に増えています。プラズマ応用技術分科会の定期的な収入は、基本的に、分科会会員のには、今日、産業界に不可欠な基盤技術として一層の皆様からの会費のみです。しかし、会費収入だけで分発展・進化が求められる一方、プラズマの中味はよくわ

科会の種々の経費 (収入を伴わない事業等の経費：会からないが何か新しい・有用なことができるのではない

報出版、学会／本部事務費、幹事会、分科会諸行事のかと期待を抱いてプラズマを使うユーザ／分野への対案内作成・送付、分科会賞、名簿出版 (3 年毎)、ICRP

応も不可欠と考えます。何れにせよ、プラズマエレクトロ

開催負担 (3〜4 年毎)、など) を全て賄うことはできず、

ニクス分科会は、 プラズマの中味を知っている／理解

何らかの方策で毎年別途一定の収入を得る必要がありできる 、 プラズマを解析し制御できる／使いこなせます。(別途収入なしでは、分科会の資金は 3〜4 年でる 、 最適のプラズマ・新しいプラズマを設計できる

底をつきます。) この２年間、基本的には、講習会ではとを武器に、新たなプラズマ応用分野を取り込むあるい

利益を得る、その他の研究会・スクール・ワークショップ

は自ら開拓して発展し、今後の日本の科学技術や産業の収支では赤字を出さない、幹事会の回数を削減し必の発展、新産業の創出などに寄与していくものと信じま

要時には少人数で打合わせる (常任幹事会)、という方す。

半導体プロセスでのプラズマの地位

こ

針で運営しました。と申しましても、特に分科会活動を最後になりましたが、プラズマエレクトロニクス分科会

萎縮したわけではなく、活発な活動の維持・発展の基調

が、河野新幹事長のもと今後さらなる発展をされることを／方針は変わらないものの、事業運営の財政面にメリハ祈念しまして、幹事長退任のご挨拶とさせていただきまリを付けたわけです。特に講習会については、参加者をす。

呼べるテーマ設定と参加者勧誘に関し、副幹事長はじ2

《幹事長就任挨拶》
幹事長就任にあたって
名古屋大学 工学研究科

河野 明廣

この４月から２年間，プラズマエレクトロニクス分科会

英文化されています。技術の動向を的確にとらえた活の幹事長を務めることになりました。非力ではありますが，動と，1998 年から始まった科研費重点領域研究「反応重責を果たすべく精一杯努める所存ですので，分科会性プラズマの制御」の求心力があいまって，プラズマエ

幹事の皆様ならびに会員の皆様には，よろしくご協力・

レクトロニクス研究会の会員数は設立以来急速に増加し，ご援助，またご指導を賜りますようお願い申し上げます。

1990 年には研究会から分科会への昇格がはかられ，プ

当分科会の前身であるプラズマエレクトロニクス研究

ラズマエレクトロニクス分科会が設立されました。

会が発足したのは 1985 年で，今年はそれから 20 年目分科会設立以後，活動の国際化は着実に進められ，になります。また，幹事長としての初仕事が応用物理学

1991 年には反応性プラズマ国際セミナーが開催され，会の英文広報誌 JSAP International に当分科会の紹介

これが 1994 年以降およそ３年ごとに開催されている反文を書くことでしたので，あらためて分科会の歴史を振り

応性プラズマ国際会議（ICRP）へとつなげられました。

返る機会を得ました。プラズマエレクトロニクス研究会の分科会メンバーの研究のアクティビティの高さを反映し立ち上げとその後の発展に尽力された諸先輩方の活動て ICRP は国際的な認知度を上げ，1998 年には米国のを，私自身は脇から眺め，またいくらかのお手伝いをしGaseous Electronics Conference (GEC)，2002 年にはヨていたわけですが，あらためて振り返ってみると，その活ーロッパの ESCAMPIG とのジョイントミーティングが開催

動力と方向性の確かさに感じ入り，身が引き締まる思いされました。これらの会議は，この分野の研究者の国際です。そこでまず分科会の発展の足跡を少したどってみ的な連携の強化に大きく貢献しました。

たいと思います。

研究会／国際会議の開催に加え，分科会の設立のプラズマエレクトロニクス研究会は，非平衡プラズマの1990 年からはプラズマエレクトロニクス講習会が毎年開

基礎分野の研究者とプラズマプロセスを中心とする応用

催され，また，1994 年からはこの分野への新入大学院

分野の研究者の有機的なつながりを促進し，この分野

生・企業人のためのプラズマエレクトロニクスサマースクの研究の促進をはかることを目的として設立されました。

ールが毎年開催されています。このようにして，プラズマ

当時講演件数の少なかった応用物理学会講演会「放エレクトロニクス研究会の設立以後約 10 年で現在の分

電・プラズマ・核融合」中分科を「プラズマエレクトロニク

科会活動の枠組みが確立され，分科会はその高い活動

ス」に改組して活性化を推進し，科研費総合研究の一レベルを保って現在に至っているといえます。

環として始められたプラズマプロセシング研究会の開催

20 年というのはフォーカスされた学問分野ではライフを引き継いで（1987 年第４回より主催）中心的な事業に

サイクルにもなる長さです。プラズマエレクトロニクスは，

据え，活発な活動が始められました。特筆すべきは国際

この 20 年間，半導体プロセスを中心とする応用分野が化を強く意識して研究会活動が進められたことで，プラ駆動力となって，基礎・応用の両面で大きく進展しましズマプロセシング研究会(SPP)の予稿集は 1988 年からた。半導体プラズマプロセス分野は成熟期に入ったとい3

う声も聞きます。しかし，反応性プラズマは十分に複雑プラズマの学術的な基盤の一層の強化が必要です。私で扱いにくく，多くの課題が残されています。また，大気たちはプラズマの内部過程を十分に把握した上で望む

圧グローやマイクロプラズマなどの新プラズマ源とそのパラメータが得られるようプラズマを制御できるとういう段

応用，ナノテクノロジーやバイオ関連分野へのプラズマ階には至っていないわけです。プラズマエレクトロニクスの新応用が広がりつつあります。現在の課題にしっかり研究会の設立趣意書が述べる，基礎と応用の研究者の取組みつつ，これまでの枠組みを越えて他分野との交

有機的な連携により新分野の研究を一層促進するとい流をすすめ，プラズマ応用の広がり見出だしてゆくことう考え方の有効性に変わりはないといえます。このようなが，今後分科会の活力をいっそう高めてゆくために必要方向に向けて分科会として何ができるか模索して行きたであると考えられます。また，他分野との交流により新しいと考えています。ご意見，ご支援をよろしくお願いいたいものを生み出してゆくためには，私たちの寄って立つ

します。

4

《寄稿》
応用物理学会会長を退任して−再度、分科会への期待−

名古屋大学 工学研究科

後藤 俊夫

過去２年間、上記の運営方針に従って各種の活動を展開してきましたが、役員や多くの会員の方々の協力によって、いずれの活動も大きな進展が得られました。
そのなかで、特に本会の将来構想の検討（報告書作成）によって、本会の現状と今後の課題について把握できたことは大きな意味があったと思います。それによれば、応用物理学会全体の状況としては、会員数は極めて緩やかであるが増加傾向にあり、講演会の発表件数もまた増加してきています。財政も一応収支均衡が保たれ、この厳しい社会状況のなかで、量的にもまだ緩やかな発展傾向を示しています。これは大変喜ばしいことですが、５年から１０年先を見通すと、決して楽観できない状況にあるようです。本会全体として今後継続的に健全財政を保持しつつ、諸活動を発展させる努力を重ねていくことが必要です。
研究分野の動向について言えば、半導体分野等がやや縮小傾向にあるのに対して、近年は有機分子・バイオエレクトロニクス分野や量子・光エレクトロニクス分
野がかなり大きな広がりを見せ、これらの分野の講演発表件数も急速に増加しています。
本会は、これまで新しい科学技術の発展に柔軟に対応し、新分野を積極的に取り入れてきました。半導体分野がその代表であり、長年本会の発展をリードしてきました。しかし、近年日本の半導体産業は大きな転期を迎え、全体として縮小傾向にあります。これは本会にも深刻な影響を与えており、学会全体として、半導体分野の発展を図りつつ、他の分野を掘り起こしていかなくてはならないとの認識が強くなっています。
有機分子・バイオエレクトロニクスや量子・光エレクトロニクス分野の広がりはそれに対応するものであり、好ましい動きであると考えています。もちろん他の分野についても次の更なる発展の可能性を有しており、そのなかで特に分科会の果たす役割は大きいと思います。
関係者の方々の健闘に期待する次第です。

本年３月、２年間にわたる応用物理学会会長の責務を無事終了し、退任いたしました。これまでいろいろご支援・ご協力いただきましたプラズマエレクトロニクス分科会会員を初めとする応用物理学会会員および関係者の方々に、この場を借りて厚くお礼申しあげます。
この度、プラズマエレクトロニクス分科会の幹事長の先生から、私が会長を退任したのを機に、広い立場か
ら学会全体および分科会に対する提言や激励の言葉をいただきたいとの依頼があり、筆をとることにしました。
私は２年前会長就任にあたって、概略以下のような学会運営の考え方を述べさせていただきました。
「応用物理学会は、過去数十年間日本の産業の発展とともに急速な成長を遂げてきたが、近年は組織的にも内容的にもある種の成熟期に入ってきたと考えられる。従って、今後は単なる事業規模や組織の拡大ではなく、事業内容の充実や組織の強化を図っていくことが重要であり、量的発展から質的発展に重点を移すべきである。
このような基本認識のもとに、学会の次の発展を目指して中・長期的な将来計画を検討するとともに、以前から本会の最も重要な事業であった機関誌、講演会、支部・分科会の一層の発展と、近年本会の事業として取り入れられた英文論文誌出版事業（ＪＪＡＰ）および教育・公益事業の確立を図り、あわせて国際交流活動、男女共同参画活動、産学官連携等を推進していきたい。
応用物理学会の更なる発展を図るためには、事業面だけでなく、組織運営面の強化にも力を注いでいく必要がある。そのため、次期会員サービスシステムの導入、事務局体制の確立・強化、運営体制の強化等を図っていきたい。」

5

我々が半導体プロセス、気体レーザー、光源等の分野の研究者に研究会への参加や講演会分科での発表などを呼びかけ、異分野の研究者との交流を積極的に行ってきました。その努力の積み重ねにより、年々研究会や講演会の参加者数および発表件数も増え、プラズマプロセス等の基礎分野が確立されて、現在に至っています。
当時と状況は異なりますが、新しい応用分野の探索には異分野の研究者との連携協力や交流が不可欠であることは変わりがないと思います。これは、多くの時間とエネルギーを必要とする事ですが、次世代を担うプラ
ズマエレクトロニクス分科会会員の方々が中心となって推進し、新しい方向を見いだしていっていただきたいと思います。

これまでは応用物理学会全体のことについて述べてきましたが、ここで話をプラズマエレクトロニクス分科会に絞りたいと思います。
２年前に述べたことと重なる点が多いかもしれません
が、この間の状況の変化も勘案しつつ、現在の考えを述べさせていただきます。
最初に本分科会に関する経緯の概略を振り返ってみ
ますと、ＬＳＩや機能材料の発展にともない、プラズマを用いた薄膜材料プロセス分野が急速に広まる様相を示していたことを受けて、昭和６０年プラズマエレクトロニク
ス研究会が設立されました。本研究会は、プラズマプロ
セスを中心的な柱に掲げ、プラズマの基礎から応用までを包含する会として活動を開始しました。その後、本研究会は、半導体プロセスにおけるプラズマ技術の広がりと共に急速に発展し、平成２年にはプラズマエレクト
ロニクス分科会に発展的に改組されました。活動もプラ
ズマプロセシング研究会から光源物性研究会、反応性
プラズマ国際会議、講習会等にまで広がって、応用物理学会内でも最も活発な分科会の一つとなりました。学会内でプラズマプロセス分野の基礎を支えるプラズマエ
レクトロニクス分科会が果たしてきた役割、貢献は極めて大きかったと考えています。
しかし、先にも述べたように日本の半導体産業は縮小傾向にあるなかで、プラズマプロセス分野の今後の大きな発展は難しい状況にあります。従ってプラズマエレ
クトロニクス分科会としても、プラズマプロセス分野の発展を図りつつも、新しいプラズマ応用分野を取り入れていく必要性が以前よりさらに強まっていると感じています。
プラズマはいろいろな分野の基盤技術として有用なので、応用物理学会内でのその存在意義や重要性は今後も変わりませんが、本分科会の更なる発展を目指す
ためには、新しい応用分野の開拓が強く望まれます。しかし、これはプラズマ分野の研究者だけでできることではなく、他分野の研究者との連携協力が不可欠です。
プラズマエレクトロニクス研究会を発足させた当初は、ここで話が少し飛ぶようですが、学会や分科会にも関係が深い日本学術会議の動きに一言だけ触れておきます。
日本学術会議は、現在７部制になっていますが、平成１７年１０月から大幅に改組されて、人文科学、生命科学、理学および工学の３部制に変わります。それにあわせて、現在の研究連絡委員会は廃止されます。我々が直接関係するのは「理学および工学」ですが、そのなかで今後は理学系と工学系分野の統合された委員会等が新たに設置される可能性があります。また、今まで行ってきた科学研究費審査委員の推薦も日本学術会
議の手を放れて、日本学術振興会に移ります。これらの動きは、学会はもちろんですが、分科会にも大きな影響を与えていくと予想されます。分科会会員の方々には是非これらの日本全体の大きな動きにも関心を持ち、今後の方向を考えていっていただきたいと思います。
最後に、プラズマエレクトロニクス分科会の今後の一層の発展と会員の方々の一層の活躍を祈念しています。

6

《第 2 回プラズマエレクトロニクス賞》
受賞者の紹介京都大学 工学研究科

斧 高一

第 2 回プラズマエレクトロニクス賞に関しまして、4 件の応エレクトロニクスの多くの分野の発展に貢献するものと期待募をいただきました。同賞選考委員会にて、プラズマエレク

される。

トロニクス分野における研究の独創性、学術的あるいは工業受賞対象論文 [Ⅱ]論文名： Highly crystalline 5H-polytype of sp3-bonded
boron nitride prepared by plasma-packets-assisted pulsed-laser deposition: An ultraviolet lightemitter at 225 nm
雑誌名：Applied Physics Letters, Vol. 81,
No. 24, pp. 4547-4549 (2002).
著者名：Shojiro Komatsu, Keiji Kurashima, Hisao Kanda,
Katsuyuki Okada, and Mamoru Mitomo (National Institute forMaterials Science); Yusuke Moriyoshi and Yoshiki Shimuzu(Hosei University); Masaharu Shiratani (Kyushu University);Toshiki Nakano (National Defense Academy); Seiji Samukawa(Tohoku University)

的価値、およびその発展性につきまして慎重に審議をいたしました。その結果、下記のとおり、2 編の研究論文を対象に 2 件の表彰を行うことが決まり、2004 年春季応用物理学会
講演会期間中の3月30日に表彰式が行われました。なお第2回プラズマエレクトロニクス賞選考委員会は、次の委員をもって構成されました。
委員長
藤山 寛 (長崎大学)
副委員長 斧 高一 (京都大学)
委員
河野明廣 (名古屋大学)
委員
関根 誠 (東芝)記
受賞対象論文 [Ⅰ]論 文 名 ： Characteristics of a High-Power
Microwave-Induced Helium Plasma at At-mospheric Pressure
for the Determination of Nonmetals in Aqueous Solution
雑誌名：Applied Spectroscopy, Vol. 55, No. 2, pp. 114-119( 2001).
著者名： Hirofumi Yamada and Yukio Okamoto (ToyoUniversity)

受賞者 (受賞対象論文の著者)
小松正二郎 (物質研究所)、倉嶋敬次 (物質研究所)、岡田
勝行 (物質研究所)、三友護 (物質研究所)、守吉佑介 (法政大学)、清水禎樹 (産業技術総合研究所)、白谷正治 (九州大学)、中野俊樹 (防衛大学校)、寒川誠二 (東北大学)
受賞理由
受賞者らは、レーザアブレーションと熱プラズマを組み合受賞者 (受賞対象論文の著者)
山田浩文 (東洋大学)、岡本幸雄 (東洋大学)

わせた新しい複合プロセス法を考案し、10 ミクロン程度の大きさではあるが、初めて sp3 結合性 BN の気相成長を実証し受賞理由
受賞者らは、大気圧で動作するコンパクトな表面波モーた。さらに、高度な結晶性は新しい物性をもたらし、225nm とド・マイクロ波プラズマを創成して、微量元素質量分析用プ

いう真空を要しないぎりぎりの遠紫外で鋭い発光バンドが見ラズマ源に適用し、これまで不可能であった溶液中の極微いだされ、今回、受賞対象となった論文にまとめている。こ量のハロゲン元素など非金属元素を直接高感度で検出でき

れらの研究成果は、学術的にも高く評価され、プラズマプロ

るようにするとともに、関連するプラズマ物性の機構解明もセスの新側面を開拓し、プラズマエレクトロニクスの分野の進め、今回、受賞対象となった論文にまとめている。これら発展に貢献するものと期待される。

の研究成果は、学術的・工業的にも高く評価され、プラズマ

7

第２回プラズマエレクトロニクス賞を受賞して
岡 本 幸 雄 (東洋大学 工学部 電気電子工学科、バイオ・ナノエレクトロニクス研究センター)
E-mail:okamoto@eng.toyo.ac.jp
この度、第２回プラズマエレクトロニクス賞を賜り感無ArC(52),ArO(56)，ArArH(75)，Ar２(80)などの多数量です。 と申しますのも、本プラズマエレクトロニクス分の妨害イオンを発生し、上記分野で重要な Ca(40)，

科会の前身であるプラズマエレクトロニクス研究会の発Cr(52)，Fe(56)，As(75)，Se(80)などとスペクトル

足に尽力した一人として[1]、そして「プラズマエレクトロ

干渉を引き起こすため、これら元素の極微量は直接ニクス」という名称の発案者として[1]、さらにこの分科会

高感度で検出することができません[4]。さらに、上が賞を授与するまでに大きくこ発展したことに感激し感記分野で重要なハロゲン元素(Ｆ，Cl など)など、イ謝するものです。

オン化電圧の高い非金属元素も直接分析できないな

今回の受賞の対象となりました「Characteristics of a

どこの Ar プラズマには多くの問題がありました[4]。

High-Power Microwave-Induced Helium Plasma at

そこで筆者は、これらの問題点を解決するために、

AtmosphericPressureforthe

Determinationof

これまで不可能であった極微量元素分析に最適な大Nonmetals in Aqueous Solution, Applied Spectroscopy,

気圧ドーナツ状ヘリウム(He)プラズマを、コンパク

55 (2001) 114」 [2]は、速報 Jpn. J. Appl. Phys. 38

トな構成の表面波モードのマイクロ波電力を用いて(1999) L338 [3] を詳述したものですが、 次に、その内生成し(現在 Okamoto cavity [7]とこの分野では呼容などについて簡単にご説明しましょう。

ばれています。Fig.1 参照)、この He プラズマの物

現在、環境はじめ生体や半導体などの最先端技術

理的な特性を明らかにするとともに(Table 1 参照)、

分野では、物質の中などに含まれている極微量（10この He プラズマを用いてこれまで不可能であった–12g/g−10 –15g/g：partper trion；ppt−part per

溶液中のハロゲン元素などの非金属元素を直接高感

quodrion；ppq）の元素を分析する質量分析(ＭＳ)

度で検出することに成功しました(Table 2 参照)。本

や原子発光分析(ＡＥＳ)が不可欠になっています[4]。
たとえば、半導体分野では素子の超集積化にともなって、素材（基板、溶剤、ガスなど）などの中にふくまれている極微量の鉄(Fe)、カリウム(Ｋ)、クローム(Cr)、トリウム(Th)、ウラン(Ｕ)などの不純物が耐圧不良やソフトエラーなどを引き起こします[5]。一方、生体や環境分野では、血清や飲料水などの中に含まれているセレン(Se)やクロム(Cr)などの重金属と疾病(ガン、糖尿病など)との関係が注目されてきています[6]。このため、アメリカで研究・開発された高周波（27 MHz）電力を用いて生成した大気圧
アルゴン(Ar)プラズマを分析試料の励起・イオン化源とする原子発光分光装置(Ar ICP-AES)や質量分
析装置(Ar ICP-ＭＳ)が主に用いられています[3]。
これは、高感度で多元素同時分析ができることによります。しかしながら、最も高感度の Ar ICP-MS

Fig.1. (1) cross-section of the Okamoto cavity and(2) radial electric field distribution.

で は 、 Ar に 起 因 し Ar(m/e = 40) は じ め

8[3]. Y. Okamoto: Jpn. J. Appl. Phys. 38 (1999) L338.
[4]. Ed.A.Montaser: Inductively Coupled Plasma Mass
Spectrometry （Wiley−VLH，New York, 1998）.
[5]. 岡田:第 40 回機器分析講習会テキスト(分析化学会関東支部)(1999) 2-1.
[6]. 篠原、千葉: 応用物理、70 (2001) 823.
[7]. Y. Okamoto: Anal. Sci. 7(1991) 283.
[8]. Y. Okamoto: J. Anal. At. Spectrom. 9 (1994) 745.
[9]. K. Ogura, H. Yamada, Y. Sato and Y. Okamoto: Appl.
Spectrosc. 51 (1997) 1496.
[10]. Y. Okamoto, H. Murohashi and S. Wake: Anal. Sci. (2001)
i967.

論文はこれらの結果をまとめたものです。ご関心のあ る 方は 、さ ら なる 参考 文 献も ご参 照 願い ます[8-10]。
最後になりましたが、プラズマエレクトロニクス
分科会の益々の発展を祈念申し上げます。
参考文献[1]. 岡本、プラズマエレクトロニクス分科会会報, 36(2002) 11.
[2]. H. Yamada and Y. Okamoto: Appl. Spectrosc. 55 (2001)
114.

Table 1. Comparison of electron density and excitation temperature (Fe).
He-MIP[a]＊ Ar-MIP[b]＊ N2-MIP[c]＊He-ICP[d]Ar-ICP[e]2.1x1014

5x10143x1013

1.2x1014

1x1015

Excitation Temperature (K)

6500

5500

5500

4300

7500

Power (W)

600

250

1000

800

1100

Plasma Gas

9

1.2

10.5

7

20

Carrier Gas

0.2

0.4

0.6

1

1

Electron Density (cm-3)

Gas Flow Rate (l/min)Viewing
end-onend-onend-onside-onside-on＊ used Okamoto cavity[a]. Y. Okamoto: present, cf. H. Yamada and Y. Okamoto, Appl. Spectrosc. 55(2001) 114.
[b]. Y. Okamoto and H. Musa, ESCAMPIG 16th – ICRP 5th (Grenoble, France) (2002) 355.
[c]. K. Ogura, H. Yamada, Y. Sato and Y. Okamoto, Appl. Spectrosc. 51 (1997) 1496.
[d]. L. A. Iacone, W. R. L. Masamba, A. Montaser et al, J. Anal. At. Spectrom. 15 (2000) 491.
[e]. M. Ohta and N. Furuta, J. Anal. At. Spectrom. 13 (1997) 447.

Table 2. Comparison of detection limits for elements (ppb)
Element

Wavelength(nm)

Upper Level
He-MIP
He-ICP [d]Energy (eV) present[a] Beenakker [b] Kip-MIP [c]

F (I)
685.6
14.5
100
4,000
Cl (II)
479.5
10.6
100
400
2,200
Cl(I)
725.7
6
Br (II)
470.5
14.2
200
3,000
Br (I)
734.9
9.7
C (I)
247.9
7.7
1
P (I)
213.6
7.2
2
Mg (II)
279.6
4.4
0.02
[a]. Y. Okamoto, H. Murohashi and S. Wake, Analy. Sci. 17 (2001) i967 etc.
[b]. K. G. Michlewicz and J. W. Carnahan: Anal. Chem. 58 (1986) 3122.
[c]. M. Wu and J. w. Carnahan: Appl. Spectrosc. 46 (1992) 163.

13,00018,000[d]. L. A. Iacone, W. R. L. Masamba, A. Nam, H. Zhang, M. G. Minnich, A. Okino and
A. Montaser: J. Anal. At. Spectrom. 15 (2000) 491.

9

プラズマエレクトロニクス賞を受賞して
物質・材料研究機構 物質研究所

小松 正二郎この度は、第二回プラズマエレクトロニクス賞という大変名

戸川乱歩ばりの（？）自己イメージが大いに気に入っていま

誉な賞をいただく運びになり、大いに励まされ、喜ぶと同時した。今思えば、無邪気でもあり、欲がなかったとも言えるかに、未だ色々な意味で不徹底な本研究を何とか完成したもも知れません。

のに持ってゆけるよう、いっそうの奮闘努力を惜しまない覚

今回の受賞の対象になった研究の端緒も当時に遡ります。

悟を新たにしております。

当時の上司（現守吉佑介法政大学教授）が産総研（当時の又、非常に地味で、工業的有用性も学問的価値もにわか

電総研）のレーザーグループ（笠松氏、山田氏）との共同プには認めがたいような時期が長く続いた本研究に連なる一ロジェクトを提案し、何かレーザーを使った実験をやってほ連の研究を早くから認識し、支え励まして下さった皆様方にしいと言われたのです。ホウ素のプラズマＣＶＤの速度論なこの場をお借りしてお礼申しあげます。世界的に膨大な数どという遠大な計画の初めの一歩にいた私は、それなら表の論文が出ているような「確立されたトピックス」からは多少面反応を紫外レーザー照射で励起してみようと思ったようではずれたところに位置すると思われる本研究を何とか進めるす（これは今になっての推測で、当時本当のところどう考えことが可能になっているのも、プラズマエレクトロニクス分科ていたのか思い出せません）。電総研から重たくて巨大なエ会の皆様を初めとする皆様に負う所、すこぶる大きいものがキシマレーザー一式が運び込まれ、私の手作りのプラズマあります。

ＣＶＤ装置の石英窓から 193nm の紫外光パルスが基板表面

私が大学で明石和夫先生、吉田豊信先生のご指導の下、に打ち込まれました。同時にジボランソースのプラズマＣＶ

ホウ素及び窒化ホウ素のプラズマ合成の研究を開始してかＤが進行しています。ちなみに、当時はジボランの除害装ら二十年近く経っております。

置も大きなガラス細工に水を張り、金魚の「ぶくぶく」を組みその昔、博士課程終了後、旧科学技術庁・無機材質研究

合わせて窒素ガスと一緒に流すという手製のもので、牧歌所に職を得て数年経った頃、応物の会場で出会った知り合的な時代でした。できた試料を SEM で見ると、驚いたことにいの大学の先生に「今は何を研究していますか」と問われて、レーザー光照射方向に無数の芋虫が隊列を組んでいます。

「ホウ素をやっております」と答えたときの、先生の哀れなも

この愉快なモルフォロジーは大いに気に入りました。これでのを見てしまったような表情を時折思い出します。「まだそん論文を幾つか書き、味をしめて、自らエキシマレーザーを入なことを続けているのか」という気分と、「この人の将来はどう

手し、レーザーとプラズマを組み合わせたプロセスで仕事をなのか」という懸念を読みとらざるを得ませんでした。しかし、するようになりました。

立場が逆だったら、私もそう感じたことでしょう。マラソンで言しかし、私の研究の大本の出発点は、おそらく、学生時代

えば、独走態勢に入っているのか、既に競技が終了していに知ったダイヤモンドのＣＶＤ(Chemical vapor deposition)のるのに未だひとり走り続けているのか分からないような状態

衝撃にあります。本来、高温・超高圧における平衡相であるに突入していました（おそらく後者に近かったでしょう）。当

ダイヤモンドが、原子状水素の存在下で、メタンガス等のソ時の遠大な計画では、「ホウ素を極めて後、ＢＮの世界が初ースから発生したラジカルからの表面化学反応を伴う結晶

めて理解できる」と思っていたわけで、成果が早急に求めら成長により、一気圧以下、千℃以下の条件で成長してしまう

れる「評価」ばやりの昨今では早々に研究を打ち切られていということは、相変態だの、熱力学的平衡だのが基礎である

たかも知れません。又、「ホウ素の世界」だけでも一生かか

金属系学科の学生にとっては、はなはだエキゾチックな現っても分からない問題が山積みでしょう。しかし、当時ホウ素象であり、知的好奇心をそそるに十分なものでした。特にそを例に独学した結晶学的なアプローチは今でも自分の中での親戚であるｃＢＮ(cubic BN)のＣＶＤを実現し、生成機構を生きていて、基礎の一つとなっていると思います。

解明することが与えられたテーマで、これが、いわばアルフ

又、その当時、ポスドクで研究に来ていたアメリカ人の青ァでありオメガでした。しかし、この大きな謎に対して、未だ年 Jeff Cross 氏（現富士通研究所）に、アイボリータワー（象に満足な解を得ておりません。その意味では、学生時代に牙の塔）のリサーチアニマル（研究獣）呼ばわりされ、その江直面した巨大な問題をこれから解くという、大きな課題が残10

されているようです。

ッセンスの測定依頼をしたところ、225nm の紫外で室温発光

レーザープラズマ複合化ＣＶＤプロセスを開拓しながらＢすることがすぐに分かりました。この結果を論文化したもの

Ｎの合成を進める内に、電子線回折で明らかに単位胞が長が、今回の受賞研究で、プラズマ関連の測定、実験に関しいものが見つかるようになります。初めの頃は、単相で合成ては、特にプラズマエレクトロニクス分科会の皆様の多大のすることができなかったために、構造が決められませんでしご助力を仰ぐことができました。

たが、多形現象が起きているらしいと言うことには気がつきそういうわけで、未だにＢＮの研究をしており、宴会の席始めていました。しかしこれではもちろん論文にはなりませでは「ＢＮバカ一代」などとある世代にしか通用しない自己ん。薄膜を作ってはｘ線回折を取り、昼休みは水泳という生紹介をして顰蹙を買ってたりしていますが、今になってみる

活が続きました。100 枚近くの薄膜を作った頃でしょうか、幾と、最初の遠大な計画はあながち間違っていなかったようで、

つかのものは単相の薄膜試料であることが分かってきて、構

今まで個々では意味の薄かった研究群が、だんだん噛み造が決まり、論文を Journal of Physical Chemistry B の letters

合わさってきて、いわば、ジグソーパズルの一片一片が組として発表しました（1999 年）。ここで多形というカギが無け

み合わさって絵柄が表れてくる時のような快感を覚えること

れば、自分の力では構造の謎は解けなかったと思います。

があります。個々の人間は非力なものですが、人間が科学

しかし、この新型ＢＮの薄膜に関して、世間的な反響もなとして体系化してきた知の力に触れることは大いなる喜びでく、研究所内でも特に評価されることもない日々が数年続き、あり、何か個を超えた宇宙とか、自然とかの偉大なものに自自分でもどうしたものかと思っておりました。この頃、世間で分が触れ得たような気持ちにさせられます。研究の意味には、ナノテクブームが起きて、カーボンナノチューブがブレついても、最近はある意味で考える必要が無くなり、「研究ークしていました。ＢＮナノチューブを作らないかという研究に研究させられているだけで十分ではないか」と感じるよう所の板東氏の示唆で、レーザーアブレーションを始めましになりました。例えば、小説家が、登場人物たちに書かされたが、勿論ふつうにやってもつまらないので、レーザープラているという感じになるとか、「物語」が私に小説を書かせてズマ複合化ＣＶＤ装置を流用して、ＲＦプラズマを組み合わいる、とか言うことがありますが、それと同じことだと思いませたレーザーアブレーション、それも、プラズマを変調して、す。

プラズマ変調とパルスレーザーを同期するという楽しい実験

天然の理と人間の生活という、いわば天と地を結びつけに行き着きました。この結果得られたＢＮ粉体が、非常に結たところに存在するのが工学であり、そこにこそ、工学的研

3晶性の向上した新型ＢＮ(sp -結合性 5H-BN)であることをい究における美も見いだせるのではないかと思います。宇宙

ささか苦労して決定することができました。

で物質が成仏した姿が美しいプラズマなのかも知れません。

その頃、たまたま、確か浜松町の駅につながった本屋で内容がだんだん怪しくなってきましたので、この辺で筆を擱

中村修二氏の「怒りのブレークスルー」という物騒なタイトル

きたいと思います。プラズマエレクトロニクス分科会のますまの本を見つけ、出張の移動中に読了しました。青色で発光すの発展と、皆様のご研究の進展を心から望んでおります。

してそんなに面白いのなら、紫外発光ではどうなのかと言う

今後とも今まで同様に、御指導、御協力、御鞭撻を賜ります

軽い気持ちで所内の専門家である神田氏にカソード・ルミネ

ようお願い致します。

11

《研究室紹介》（その 30）
名古屋大学発・プラズマベースのベンチャー企業

NU エコ・エンジニアリング株式会社の設立
Nano-Unit Sci & Tech for Ecology（NUE2）− ナノ単位サイエンスを基礎としたプラズマプロセス装置の革新 −名古屋大学大学院工学研究科電子情報システム専攻電子工学分野
集積プロセス講座ナノプロセス研究グループ

堀勝

NU エコ・エンジニアリング株式会社は、文部科学省愛知・

NU エコ・エンジニアリングという名前の由来は、NU（ナノ名古屋地域知的クラスター創成事業発第１号ベンチャー企

単位テクノロジー）を基礎に据えた技術により、エコ；すなわ

業（名古屋大学発ベンチャー企業、ナノテクでは初）として、

ち、自然環境と調和のとれた製造技術とその装置の創成を

２００３年６月６日に発足しました。代表取締役である加納浩

目指すということです。これには、プラズマ技術、真空技術、之氏は、名古屋大学大学院工学研究科の当時服部研究室

原子・分子計測技術等その潜在能力を有している科学技術にて後藤俊夫教授（当時は、助教授）の指導のもとに博士号を駆使して量産ナノテクノロジーを開発することが必要となりを取得されております。私は、㈱片桐エンジニアリング田昭ます。同社の設立は、知的クラスター創成事業の一環と位置

治氏（後藤研究室で博士号取得）とともに、NU エコ・エンジ

付けて非常に恵まれた環境の下で実現させていただきましニアリング㈱の取締役を兼務しており、大学での研究・教育た。

者であるとともに、一企業の経営者でもあります。現在、同社

また、日経マイクロビジネスはじめ多くの新聞や雑誌で紹は役員４人、非常勤社員１人という体制ですが、来年度に正介していただき、ナノテクのベンチャー企業として認知され社員２名ほどの増員を計画しています。

るようになっています。
最適プロセス条件
制御技術の確定自律化・ソフト制御

原子・分子センシングシステム

電極

ラジカル
マルチチャンネル
センサーアレイ

超小型ラジカル
診断センサー

反応空間

基板温度センサー
膜厚、構造、組成
モニタリングセンサー
10nm

超微細加工

ナノ回路

微粒子・

プリント

クラスター

カーボン
ナノチューブ

図１ 現在開発中の自律型ナノアセンブリングシステム

12しかしながら会社の今後の発展は、自由市場経済の原則

・

コンパクト C2F4 ガス発生装置に則り展開されて行きます。このため、独自の存在意義と経・

環境調和型ゼロエミッション技術とナノプロセス装置

済基盤を作ってゆく必要があります。この会社の存在意義と・DNA 検出センサー

しては、社名が示すように将来的技術課題をモチベーショ

・

環境有害物検出センサー

ンとして、ナノ単位における物理化学現象を理解して、独自

４．新規装置の設計、アイデアの装置への具現化と実験・量性の高い要素技術を開発して製造装置へと結びつけること

産対応装置の作製等ができるようにすることです。このために、後藤俊夫教授のもまた、同社の当面の目標は、知的クラスター創成事業のとで私が行なってきました研究成果をさらに発展させ、産業中核を担う「自律型ナノアセンブリングシステム」を名古屋界で革新をもたらす製品を作り出し、人類の幸に貢献して行大学とともに開発、事業化することです（図１）。このシステム

きたいと思います。

は、プラズマプロセスを担う各種粒子の絶対密度や基板温

特に、プラズマプロセス技術には、未だに明確な理論式

度、膜厚・構造・組成をリアルタイムで計測し、その計測結果がないため、独自の経験と勘を頼りに研究が進められていをプラズマ装置へフィードバックし、最適プロセス条件のもとます。言い換えれば、本能のままに研究に没頭すればする

超微細加工、高機能性ナノ材料薄膜を形成するものでありほど興味深い発見、発明が生み出されます。このような研究ます。すなわち、知能、「考える」能力を持ったプラズマ装置

成果を基に、新しい概念を提案し、学問として体系化するのです。これは、自律型ナノ製造装置と命名されました。このが大学のミッションですが、これらの発明・発見を迅速に具システムの「目」の役割を担う１つの技術がマイクロプラズマ

現化し、装置として事業化するシステムがこれまで身近にあによる超小型瞬時多種ラジカルセンサーによるラジカル計

りませんでした。同社は、まさにこのようなシステムを実現する機能を備えるべく設立いたしました。
私は、新しい物理化学現象は、独創的発想や新しい概念に基づいて手作りで作製された装置から発現し、プロセス技術の大きな出口は装置であるという強い信念を抱いています。同社は、研究者のアイデアをオーダーメイドの装置に具現化するとともに、実験装置から量産対応の装置の試作と開発までを視野に入れています。このようなコンセプトに基づいて、現在取り組んでいる製品開発は、下記のようになっています。
１．超小型ラジカル密度モニタリングシステム。本年度中に

写真１ 径9mmφのH,N,Oラジカルモニタリング
センサー

径 1mmφの超小型ラジカルセンサーを開発し、オンタイム
で多種ラジカルの瞬時モニタリングセンサーを MEMS 技術
によって製品化します。
（写真１：径9mmφの H,N,O ラジカルモニタリングセンサー）
２．スマートラジカルソース
ラジカル制御（種類とエネルギー）可能な超高密度ラジカル
ソースを開発。
（写真２：種々のラジカルソース）
３．各種センサーと自律型ナノ製造装置
・

スマートラジカル源付き MBE 装置

・

大気圧プラズマ技術と装置

・

スマートレーザアブレーション装置

・

高精度スマートエッチング・CVD 装置

・

マルチカーボン製造装置

写真２ 種々のラジカルソース
13測です。このマイクロプラズマも、開発当初 70mm 角であっ唱、研究してまいりましたラジカル科学に基づいたスマート

たものを 9mmφへ改良し、現在 1mmφにすることに成功しナノプロセスの研究開発です。この研究の一部は、名古屋ております（図２）。これにより、計測対象プラズマを乱さずプ

大学後藤俊夫教授、名城大学平松美根男助教授や名古屋

ロセス状態を厳密に計測することが可能となります。

大学 COE プログラム（先端プラズマ科学が拓くナノ情報デ

また、その科学基盤となるのが、私どもが長年に渡って提バイス：代表：菅井秀郎教授、18 人の教官と５人の研究員が参加 http://www.plasma.coe.nagoya-u.ac.jp）と連携して進めています。ナノプロセス基盤技術は、知的クラスター創成事
業における他のプロジェクト代表である名古屋大学高井治
教授、プラズマ中の基板温度やナノメータースケールでの基板上の膜厚、構造の瞬時モニタリング用センサーは和歌
山大学伊藤昌文教授および名古屋大学西澤典彦助手と共同開発中です。
センサーからの情報処理と制御については、名古屋大学

１９９９年 70mm角光源

で知能ロボットの研究に取り組んでいる鈴木達也助教授とともに人工知能を搭載した自律型制御システム(自動最適化
制御システム)によるプラズマ制御技術を開発しています。
これら装置の設計、製造、販売を行なうためには、前述のような研究開発機能のみでなく、営業、販売等の商社機能および装置納入後の保守整備を行なうメンテナンス機能も要求されます。このため、これらの専門分野を得意とする既存の会社とも連携をとり、信頼される製造装置供給体制を確立すべく、ワールドワイドでの枠組み作りも進めております。

9mmφ

現在、私は大学という教育の場で技術シーズのための新物理化学現象の探索、その学術的な体系化、その成果をス
ピーディーに具現化し世に送り出すことのできる環境におり

２００２年 9mmφ光源ます。
学生には、この恵まれた環境を最大限に活用し、先ずは素直に勉強に励んで欲しいと思います。そして、自らの高い目標に向かってロマンを持って死に物狂いで挑戦し、研究に向かって思いっきり青春をぶつけて欲しいと思っています。また、私自身は、大学、企業、学会において人間として実に立派であった諸先生や先輩から薫陶を受けた強い精
神力、責任感と使命感、奉仕の心を忘れないで、日々新た

２００３年 1mmφ光源に正々堂々たる人生を歩みたいと思っています。

図２ マイクロプラズマ光源の進化

14

《海外の研究事情》（その 15）
ボストンカレッジ滞在記
Department of Physics, Boston College, MA, USA

北海道大学 情報科学研究科 情報エレクトロニクス専攻 集積プロセス学研究室

須田 善行

はじめに

らされ、ローガン国際空港からダウンタウンまでは 30 分

北海道大学 21 世紀 COE プログラムの支援により、ほどで行くことができます。中心部にチャールズ川が流2004 年 2 月 10 日から 3 月 25 日まで Boston College

れ、その北隣の Cambridge には MIT や Harvard などがの Zhifeng Ren 教授の研究室に滞在し、カーボンナノチあります。ボストン美術館（MFA：Museum of Fine Arts）

ューブを始めとするナノ材料プロセスを研究する機会をは全米屈指の美術館として高品質かつ膨大な所蔵量を得ました。1 ヵ月半という短い期間ではありますが、ボスト

誇り、ジャズ・ロックなどの有名ミュージシャンを多数輩

ンでの生活（失敗談？）も含めて滞在の様子を書きたい

出するバークリー音楽大学があるなど、ボストンはまさにと思います。

教育研究・芸術・文化の中心都市といえます。他にもボストンは貿易・金融において有名で、アメリカで最も富裕北海道大学 21 世紀 COE プログラムな都市の一つとして知られています。私の滞在した最初に本学電気系の COE プログラムについて紹介しBoston College は ダ ウ ン タ ウ ン か ら 西 に 約 8km のます。2002 年度より「知識メディアを基盤とする次世代

Chestnut Hill にあり、巨大な貯水池や森が広がる自然

IT の研究（拠点リーダー：田中譲教授）」というプログラム

豊かなところで、周辺は閑静な住宅街となっています。

を情報科学研究科（2004 年 4 月より開設）の研究室を中

真冬の札幌から出てきた私にとっても、ボストン（札幌と心に推進しております。本プログラムは、知識メディア技

緯度はほぼ同じ）はかなり寒く感じました。雪はあまり降術、量子ナノ技術、知的通信技術を融合し、新アーキテ

らないものの２月中はほとんど毎朝０℃以下まで冷え込

クチャ量子集積回路とそれを用いた通信機能つき微細

みました。こちらの方に聞くと、ボストンの秋の紅葉はと知識担体（IQ チップ）技術、および、それらを利用し稠ても素晴らしいそうです。なお、ボストンには Boston

密に遍在する知識の連携・探索や高度な再利用を可能

College（以下 BC）と Boston University とがあり、日本語とする知識メデイア技術を研究開発することを目的としではどちらも「ボストン大学」となるので間違えないよう注ております。私の所属する研究室は「量子ナノ」サブグ意が必要です。

ループにおいて、カーボンナノチューブを用いたナノ配線技術の研究開発に従事しております。そういった経緯
で、カーボンナノチューブ研究で著名な Ren 教授との連携を図るべく、Boston College において研究ならびに研究動向の調査などを行ないました。
ボストン
アメリカ発祥の地として 1630 年に開かれ、400 年近い歴史を持つボストンはアメリカ東海岸に位置し、マサチューセッツ州の州都となっています。市内には T（ティー）と呼ばれる地下鉄（中心部以外は地上鉄）が張り巡

Boston College 全景、奥がボストン中心部

15

BC・Ren 教授研究室

温度、圧力などです。結果として、小さな触媒微粒子

BC は 1863 年に創立され、カトリック系の大学としては（MgO などの基材の表面微細孔径が触媒サイズを決定

アメリカで最も歴史ある大学の一つで、大学院学生も含するようです）と CH4/H2 混合ガスを用いた場合に単層め総学生数は約 14,000 人となっています。35 課程の学

CNT が高純度に合成されました。合成した CNT はすぐ

士号プログラム、また 16 の博士号プログラムが用意されに FE-SEM や TEM で分析します。この研究室に滞在しており、いわゆる「College」ではない総合大学です。Renて驚いたことですが、SEM は１時間毎に予約を入れられ教授は Department of Physics に所属し、Condensed

るようになっており、代わる代わる誰かが常に使用してMatter Physics を専門としています。1998 年に Science

います。実験−分析−実験条件の再検討をその日のう誌に発表したプラズマ CVD による多層カーボンナノチ

ちに終えて、Ren 教授も頻繁に様子を見に来ていつでューブ（以下 CNT）の垂直配向成長（Science, 282,

もどこでもディスカッションをするため、実験条件の最適

1105-1107 (1998)）は大きなインパクトを与え、この論文化が見る見るうちに進みます。一つの目標を定めてそはこれまでに 600 回以上引用されています。また、Ren

れを達成するために選択・集中するという、研究を進捗

教授は CNT 販売会社 NanoLab の Director でもあり、させる上では当たり前のことでしょうが、この Ren 教授の企業との共同研究に非常に熱心です。私の滞在中にも、姿勢には大いに学ぶものがありました。また日本の大学

CNT 製造装置メーカ FirstNano のメンバーになった卒と比較してよく言われることですが、BC では研究室の運業生が訪れ、新たな共同研究のテーマを検討していま

営 を サ ポ ー ト す る 人 員 （ Technology Consultant やした。

Department Secretary など）が支援をしっかりしてくれま

Ren 研究室は３人の博士研究員、11 人の大学院生す。実際に私が滞在中にも電源が故障したのですが、（全員が留学生）で構成されています。６年間で博士号

故障部品や修理の手配までやってくれ、時間的なロスを取得するプログラムを大学院生全員が選択しており、はほとんどありませんでした。

学位取得のため高いモチベーションを維持し研究に励

Ren 研究室全体の研究打ち合わせは、毎月１回の進んでいる姿が印象的でした。また、大学 1 年生ながら研捗状況レポート提出と２週間に１回のセミナーとによって究に参加している学生がいたり、他学科・他大学の学生行われます。このセミナーは夕方 5 時から 9 時まで続くが頻繁に研究室に来て実験やディスカッションに加わっため、途中の休憩時間に食事が出るというありがたいもたりするなど、日本の研究室との違いを大いに感じましのでした（私もご相伴にあずかりました）。毎回２名ずつた。

が進捗状況をパワーポイントにまとめて発表するのですRen 研究室の研究テーマは、(1)垂直配向多層 CNT

が、発表の途中から質問がどんどん出て、４時間という合成とそのフォトニック結晶への応用、(2)CNT の電界放時間もあっという間に過ぎていきます。学生は全員留学

出、(3)単層・二層 CNT の成長制御、などの CNT 合成・生のため英語レベルには差がありますが、私よりずっと評価の他に、(4)ZnO・In2O3 ナノ構造、(5)Si ナノワイヤ、若い学生が堂々と発表している姿には、自分もがんばら(6)Ge ナノワイヤ、(7)TiO2 ナノチューブ、(8)ホウ化炭素

ねばと思ったところです。滞在中に偶然にも博士論文のナノ微粒子、などなどナノ材料についてありとあらゆるも審査会をのぞくことがあったのですが、ここでも発表ののに取り組んでいます。これらのテーマの中で、私は最途中から質問が飛び交い、指導教官も加わってのディも興味のある単層・二層 CNT の合成について研究する

スカッション大会のようになっていました。なお余談です

ことになりました。電気炉に石英管を通した簡便な CNTが、BC で参加したセミナーなどには必ずといっていい

合成装置を用いて、含浸法により作成した触媒（MgO もほどピザなどの refreshment が提供され、それ目当て

しくは Al2O3 微粒子に Fe や Co を吸着させたもの）を入（？）に学生も自然と集まってきます。日本ではまさか研

れ、C2H2/NH3 または CH4/H2 混合ガスを用いた熱 CVD

究予算からこのような出費をするわけにはいかないでし

にて CNT を合成しました。実験パラメータは触媒、ガス、ょうが、真似したいと思いました。

16

いことだと初めて感じました。

ボストンでの生活
短い滞在ではあったのですが、いろいろな経験がで同時多発テロ以降、アメリカはすっかり変わってしまっきました。まず宿泊ですが、今回の滞在は１ヶ月半というたと言われますが、普段の生活でも、酒類を購入するに短期間のため、アパートを借りることはやめて、BC そばは ID が必要で、日本では平然と販売されている雑誌ものホテルに連泊することにしました。部屋にはキッチン

袋がかかっているなど、ある面においては厳しい国です。

がついており、近くにはスーパーやコインランドリーがあ

今回の入国の際には「1 ヵ月半もどうして滞在するのか」り、BC までは T で 10 分、徒歩でも 30 分と近く、宿泊料としつこく聞かれ、一生懸命の説明で何とか通ることがは相当かかったものの、結果的には快適でした。実際できましたが、帰国する時には抽出検査に選ばれてしまに学生と話すと、ホームステイさせてくれる家が何件か

い、靴はもちろん、身体の隅々まで金属探知機を当てらあるようで家賃（一部屋）は月 500 ドルも出せば十分のよ

れ、手荷物もすべて中身を調べられるという厳しさでしうです。アパートはかなり高く、月 1000 ドルは下らないよ

た。留学生に話を聞いても、ビザを取るのはかなり厳しくうです。多くの留学生は共同でアパートを借りていましなっており、永住許可を得るのは容易ではないようでた。次に食事についてですが、朝はホテルで食べ（焼いす。

たベーグルにクリームチーズの組み合わせは気に入りました）、夜はホテルの部屋で自炊しました。食堂

おわりに（Dining Hall）は大学内にあるのですが、いわゆる日本

１ヵ月半の米国滞在も終わってみればあっという間で、の「学食」とは違って毎日食事をするにはかなり高額で出かける前に不安だった気持ちを今では懐かしく思いす。幸いボストンのスーパーでは日本で買えるような食出します。BC で学んだことを今後の自分の研究に活か材はある程度手に入り、外食はほとんどせずに済ますこすべく、現在はプラズマ CVD による CNT 合成に学生ととができました。何件か日本のスーパーもあり、日本のももども取り組んでいるところです。

のはほとんど手に入ります。場所が変わってもできるだ

最後になりましたが、本稿を執筆する機会を頂きましけ普段と同じような生活をするのが滞在を長続きさせるた京都大学・高橋先生にお礼を申し上げます。この滞

コツかもしれません。

在は卒業論文発表会から卒業式までの、大学において

週末はボストン観光を楽しみました。ボストン出身であ最も忙しい時期と重なりましたが、滞在をご快諾頂き、かるケネディ元大統領生誕の家（ちなみに現大統領候補

つ留守中に多大なご支援を頂いた酒井洋輔教授、菅者のケリー氏は BC 出身）やボストン美術館、MIT や

原広剛助教授、マリア＝アントアネッタ・ブラテスク助手、Harvard、ボストン発祥の歴史的建造物、などを T や徒沖田篤士君、他研究室の皆様に深く感謝いたします。

歩で周りました。困ったことに、どこを歩いていてもよく道
リンクを聞かれました（ボストンが観光地としても有名なためで

Ren 研究室（BC）

しょうか）。文章にしたら何でもない英語ですが、まさか

http://ph99.bc.edu/faculty/Ren.html

道を聞かれるとは思っていないためうまく聞き取れず、
気まずい思いを何度もしました。大学の中では何とかコ

Nano Lab

http://www.nano-lab.com

ミュニケーションが取れるものの、一歩外に出ると、スーFirst Nano

http://www.firstnano.com

パーでもどこでも会話がうまくできず苦労の連続でした。
日本では英会話学校に行ったことがないのですが、アメリカに行ってから行きたいと強く思いました。また、今回の滞在では BC でもホテルでも日本人にはほとんど会うことがなく、日本語を日常的に話せないことがすごくつら

17《国際会議報告》
International Workshop on Plasma Nano-Technology and Its Future Vision（プラズマナノテクノロジーとその将来ビジョンに関する国際ワークショップ） 報告
斧 高一 （京都大学， 組織委員長）
白谷 正治 （九州大学， 副組織委員長， 第一部実行委員長）
堀 勝 （名古屋大学， 副組織委員長， 第二部実行委員長）

プラズマエレクトロニクス分科会は，文部科学省ナノテ

ジーに関する技術の詳細を議論する第二部と上手くつ

クノロジー総合支援プロジェクトセンターの援助を受けながるように，前半に社会，経済とナノテクノロジーの観て，愛知科学技術振興財団と共催で，標記ワークショッ

点について講演いただき，後半には実際のナノテクノロ

プを開催しました．第一部は，「プラズマナノテクノロジ

ジーの技術開発動向について講演いただいた．

ーの将来技術動向と産業化」をテーマに，2004年2月4

斧幹事長の開会挨拶に続いて，野中郁次郎氏（一橋日，東京工業大学大岡山キャンパスにて開かれました．

大学）が「知的創造経営」という講演を行った．講演では，5名の講師による経営，科学・技術，研究・開発戦略，産日本の文化・価値を大切にし，それをベースにしながら，業化・事業化など異なる視点での基調講演があり，さら世界からの文化・価値を受け入れ昇華し，新しい知を作に3名のパネリストを加え90名の参加者全員によるパネ

り出す日本型独創経営を目指すべきであるとの指摘がル討論が行われ，熱のこもった議論が続きました．

なされた．この日本型独創経営を実現するためには，日

引き続き第二部は，「先端プラズマナノテクノロジーの本型の暗黙知から価値（技術，商品，ソフト，サービス）

科学と技術−自己組織化を利用したプラズマナノプロを生み出すと共に，その価値を用いて新しい暗黙知にセスの可能性と挑戦−」をテーマに，2月5，6日の2日間，つなげるサイクルを，高速回転することが重要であると

ホテルアソシア高山にて開かれました．13件の招待講の指摘がなされた．

演 (海外5件、国内8件) と39件の一般講講 (ポスター)

次に，渡辺久恒氏（NEC）が「オンデマンド時代に向けとで構成され，72名の参加者が，プラズマナノテクノロジ

た半導体産業競争力の源泉」という講演を行った．半導ーの科学的・技術的な視点から，最新の研究成果と今

体産業競争力は，従来のハードウエア（ロードマップ）主後の課題・展望について活発な議論を繰り広げました．

導型からソフトウエア主導型への転換が前世紀末に行以下に詳細をご報告します．

われたとの認識が示された．その上で，今後の競争力の源泉として次の６項目を指摘した．それらは，①SOC＜第一部＞

化による上流設計の自動化とシステムソフトの内製化，第一部は，これまでに３回開催した「プラズマ応用技②+α技術の独自開拓とその生産プロセスのブラックボ

術の将来ビジョン研究会」の内容を引き継ぎ，ナノテクノ

ックス化，③特許許諾拒否，④イノベーションジレンマのロジーに関する研究開発の将来ビジョンを議論する場

克服（新技術導入にともなう欠点の克服），⑤産学連携を提供することを目的とした．プログラムは，ナノテクノロ

ジレンマの解消（研究成果の非公開），⑥死の谷・ダー

18

ウインの海の克服（技術シーズの実用化）である．

初日は，斧幹事長の開会挨拶に続いて，基調講演と３番目の講演は，市川惇信氏（科学技術振興機構）にして西義雄氏（スタンフォード大学）が「Super Scaled

よる「ブレークスルーを実現する研究戦略」であった．研CMOS and Some Aspects of Nanowires/Nanotubes」に究組織，人材育成，研究評価等の様々な視点から，ブついて講演した．トップダウン技術を段階的進化技術，

レークスルーを実現するための要件が指摘された．

ボトムアップ技術を革命的技術として定義し，両技術の４番目の講演は，福田敏夫氏（名古屋大学）による「ナ限界と今後の可能性について明快に解説され，非常にノテクノロジーとロボット産業」であった．急進展しつつあ

印象深い講 演であっ た． 次に，招待講演者として ，る超小型ロボットに関する研究開発の現状と今後の動

Meyyappan 氏（NASA）がプラズマを用いたカーボンナノ向予想が報告された．

チューブ形成の先端プロセス技術とナノデバイスへの応

最後の講演は，伊賀健一氏（日本学術振興会）による用について最近の成果を紹介した．カーボンナノチュ「光エレクトロニクスとナノテクノロジー」であった．伊賀氏

ーブは，プラズマによるボトムアップ技術として最も早いが発明した，面発光レーザを中心に光エレクトロニクス

実用化が期待されており，今後のプラズマ研究の方向におけるナノテクノロジーについての紹介がなされた．

を示すものであった．これについで，Louchev 氏（物質以上の講演の後，「ナノテクノロジーとプラズマが拓く２材料機構）がカーボンナノチューブの形成機構につい

１世紀の産業と社会」と題したパネルディスカッションをてその動力学を解析した成果を紹介した．カーボンナノ

行った．今後の研究開発には，学長等の執行部の見識

チューブの形成機構として卓越した成果であった．

によるトップダウン戦略と，研究開発現場に直接携わる

２日目は，近藤道雄氏（産総研）がナノサイズで制御

人の研究魂にもとづく技術開発（ボトムアップ）の両者がしたナノ結晶シリコンの形成とデバイスへの応用につい共に重要であることが指摘された．

て講演した．プラズマの気相反応を精密に制御してナノ参加者のアンケートによると，いずれの内容も非常にサイズの結晶を合成した成果であり，多くの参加者の目高い評価を受けて好評であった．なお，今年度も第４回を引いた．これに次いで，Lippmaa 氏(東京大学)がパル「プラズマ応用技術の将来ビジョン研究会」を実施予定

スレーザーアブレーションによる酸化物のナノ構造体のであり，会員諸氏の積極的な参加をお願いしたい．

成長，Kortshagen 氏(ミネソタ大学)がプラズマによるキュービックナノシリコン構造体の成長と電子デバイスへの＜第二部＞

応用について講演した．Kortshagen 氏は，米国の若手

第二部は、第一部の翌日に場所を古都飛騨高山に研究者のリーダー的存在であり，堂々たるプレゼンテー

移し，雪景色の中で開催された．第二部は国際ワークションで，最先端のナノシリコンプラズマ CVD 技術を紹ショップとし，プラズマナノテクノロジーという各論を議論介された．特にキュービック形状のナノシリコン結晶の形する場とした．本ワークショップでは，リソグラフィー技術

成機構について議論が集中した．その後，バイオとナノによるパターン精度に忠実なモノ作り（トップダウン技

テクノロジーとの接点を探るために，田畑仁氏（大阪大術）をブレークスルーする「ボトムアッププラズマ技術」，

学）が DNA を利用したナノデバイス形成，寺嶋和夫氏

すなわちプラズマと物質との相互反応が生み出す自己(東京大学)がマイクロプラズマを用いたナノプロセス技

組織的な３次元構造のナノファブリケーション技術の可術について各々講演を行った．独自の技術を基にして，能性とその応用を展望するために，国内外の一線で活

ナノテクノロジーに向けて研究を披露していただき，多く躍している研究者を一同に集めて徹底的に議論するこの参加者の注目を集めた．

とを目的とした．

その後，昼食をはさみ３９件の一般講演者によるポス

19ター発表があり，多くの研究者による情報交換が行われプとなった．

た．後半は，１５時３０分から夕食をはさんで深夜２３時まで招待講演者による発表が行われた．バイオテクノロジ

以上、プラズマナノテクノロジーは，材料，環境，バイーのパイオニアとして名声を得ている Short 氏（シェフィオ，化学，IT などの全ての分野にかかわる量産ナノ加ールド大学）がバイオデバイスのためのプラズマ技術，

工技術として今 21 世紀の産業基盤となることが期待さ

Gustaaf 氏（IMEC）がバイオセンサーのためのナノテクノ

れます．この分野の今後の研究展開は，これまでの科

ロジー，一木隆範氏（東京大学）がナノバイオ解析デバ

学的及び技術的視点に加え，国際競争力を高める産イスのためのマイクロ・ナノ加工技術について講演した．

業化の視点も強く意識する必要があると考えます．本ワ

プラズマ研究者にとって，バイオナノテクノロジーへの展

ークショップが，プラズマナノテクノロジー技術の新しい開を強く印象つける内容であった．夕食をはさみ，ナイ

展開と，プラズマエレクトロ二クス分野のさらなる発展に

トセッションとして，粟野祐二氏（富士通）がカーボンナノ

つながることを祈念いたします．なお本ワークショップのチューブの ULSI への応用について講演し，最後は，高詳細資料が必要な方は，残部がございますので，応用

井治氏（名古屋大学）がバイオミメティックスによるナノテ

物理学会 (分科会担当) までお問い合せ下さい．

クノロジーを講演し，プラズマとナノテクノロジーおよび最後になりましたが，本ワークショップへの多大なご支

バイオとの関係を総括された．

援をいただきましたナノテクノロジー総合支援プロジェク

プラズマによるボトムアップ技術への展開はまだ

トセンター，ならびに愛知科学技術振興財団に対し厚く明確になっていないが，参加した研究者がワークシ御礼申し上げます．さらに，ご講演いただきました講師

ョップを通してプラズマナノテクノロジーとは？，の先生方およびご参加いただきました皆様，また数カ月

プラズマとボトムアップ技術とは？，プラズマとバ

にわたる準備と当日の運営にご尽力いただきました組

イオナノテクノロジーとの接点は？という次世代技

織委員および第一部・第二部の実行委員の皆様に，こ術に関する命題を強く意識し，各々が様々な答えをの場をお借りして深謝させていただき，ご報告とさせて胸に抱くことができた素晴らしい国際ワークショッ

いただきます．

20

5th International Workshop on Fluorocarbon Plasmas 報告
和歌山大学 システム工学部 光メカトロニクス学科

上記国際ワークショップが3月8日〜12日までの予定

伊藤 昌文

UKから2件、アイルランドから2件、ベルギー、セルビア、

でフランスのグルノーブ郊外のCol de Porte村にあるス

イスラエルから各1件であった。

キー場のロッジで開催された。本会議は2年に1回開催

スケジュール順に主な発表内容について報告する。

さ れ 、 今 回 で 5 回 目 と な った 。 Ecole Polytechniqueの

MIRAI-ASET の唐橋氏からマス分離したフロロカーボ

Booth 氏 が 主 催 で 、 今 回 は 名 古 屋 大 学 の 堀 勝 氏 がンイオンによるSiO2とHfO2エッチングにおける表面反応

Co-chair として開催をサポートされた。参加者は30名

に関する発表があった。CFX+ イオンによるEtch yeildを程度でヨーロッパが中心であるがアメリカや日本からも300-2000 eVの範囲のイオンエネルギーの関数として詳参加者があった。会議は、フロロカーボンに関する研究

細なデータとして示し、脱離物をQマスにより特定し、イを少人数で徹底討論する形式となっている。発表時間

オン種のエネルギーによるエッチング反応の違いにつはPlenary, Oralで1時間、Short Oralは30分であった。

いて報告した。

質問は、人数が少ないこともあり、発表の途中でも形式

日立の伊沢氏からはSiO2のコンタクトホールの高アス

ばらずに、活発に行われ、大きな国際会議などでは得

ペクトエッチングにおけるエッチングメカニズムが示され、られにくい突っ込んだ議論が可能であった。今回は、参実験と計算によりコンタクトホール内でのラジカルの付加者が例年に比べ減少したため、最後の1 2日がキャン

着係数などが報告された。

セ ル と な り 実 質 11 日 ま で の 会 議 と な っ た 。 そ の た め

Booth氏からはICP中のCFとCF2ラジカルの空間、時Plenary以外の発表でも1時間の講演が可能となり、十分

間的な振る舞いをLIFとUVASにより求め、CFとCF2の生な議論が可能であった。この会議は非常にユニークで、成と消滅について考察が行われ、メタステーブルの寄

1日のスケジュールとしては朝9時から12時半までコーヒ

与の可能性について報告がなされた。

ーブレイクを挟んで講演が行われ、14時までフルコース

Air Force Research Laboratory USA の DeJosephのランチに時間がとられているため、ゆっくり議論や情Charles氏からは、C2F4, C3F6, C4F6, c-C5F8のイオン化

報交換を行うことができる。14時から17時まではエクスカ

断面積の詳細な計測結果が紹介された。これらのデーーションで、今年は例年より開催時期が少し早かったせ

タは非常に基礎的でこの分野の多くの方が必要なデー

いか、雪が豊富でスキーを満喫することができた。17時

タであると思う。すでに所属期間の技術報告としてまとから19時30分まで講演が行われ、2 日目はポスターセ

められているようで、ッションが開催された。ポスターセッションは発表件数がhttp://www.lptp.polytechnique.fr/News/2/workshop/te

8件と少ないが、時間が2時間半取られていることもあり、

chnical̲program.htmlのテクニカルプログラムからも発表

一つ一つ詳しく説明をしてもらい、議論だけでなく詳細のデータはダウンロードが可能である。
京都大学の白藤氏からは、CF系のLow-k膜についてな情報交換も可能であった。

報告がありC5F8/C6F6 によるPE-CVDでK<2の熱耐性も発表件数は総数が27件で、Plenaryが10件、Oralが2

比 較 的 よ い 膜 の 形 成 に つ い て 報 告 が あ り 、 IRLAS 、

件、Short Oralが7件、ポスター講演が8件であった。国FT-IR、XPS などの計測結果から膜形成メカニズムに

別にはフランスから8件、USAから6件、日本から6件、ついて議論がなされた。

21

和歌山大の伊藤からは、パルス変調EBEPによるファ
イバ端面レンズの高速エッチング加工で、パルス変調により熱ダメージ、エッチング不均一性が大幅に改善されることが示され、発光計測、プローブ計測による結果か
ら、パルス変調による不均一改善メカニズムについて報告がなされた。
Wisconsin-Madison大のWendt氏からは、イオンエネ
ルギー分布を狭くできるテーラメイドバイアスにより高いエネルギーと低いエネルギーの2つの幅の狭いエネル
ギーのイオンでエッチングすることで、通常の正弦波バ
イアスによるエッチングより、選択比、エッチング形状な

日本からの参加者、撮影：白藤先生に感謝、ロッジ前でどが改善されることが示された。また、XPSの結果から低スキーのできる山をバックにしてエネルギーバイアスのイオン衝撃によるCF膜の質が変化が選択比改善に大きく寄与しているのではないかということが報告された。
今回の会議ではポスターでもベルギーのDils Bart氏
からCF2のメタステーブルのラジカルの反応定数の報告があり、メタステーブルの計測が今後注目されるのではないかと感じた。
以上が会議の主な報告であるが、Web上でも公表が
問 題 な い も の は http://www.lptp.polytechnique.fr/News/2/workshop/technical̲program.html でダウンロ
ード可能となっている。
また、今回は少し参加者が少なく、実質1日短縮となってしまったが、深い議論とスキーが楽しめる。その上、格発表会場の山小屋、司会のBooth氏と発表準備中の唐安の値段設定でフランス料理のフルコースと飲み放題

橋氏のワインを毎日味わえるので、まだ参加したことが無い
人は是非2 年後の参加をお勧めします。

22

プラズマの国際 COE フォーラムを終えてInternational COE Forum on Plasma Science and Technology
名古屋大学 工学研究科

菅井 秀郎

名古屋大学において、標記の国際フォーラムが本年４

ここで「COE とは何か？」という疑問が生じるでしょう。

月５日から３日間にわたって開催されました。この会議にあまりはっきりと定義できませんが、個人ではなくグルーつきまして 2003 年１２月号の本分科会報にご案内させてプとして研究しており、そのグループが国などの公的機

いただきましたが、お陰さまで成功裏に終了しましたので、 関からサポートを得ている場合に、そのグループを COE
その概要を報告を申し上げます。

（研究拠点）とみなしています。そうは言っても曖昧さは残るため、プラズマ COE が他にも存在するとの指摘が、会

本フォーラムの特色

議中にフランス、オランダ、ポルトガル等の研究者から寄このフォーラムは、研究発表および討論を主眼とするせられました。十分な下調べをせずに７つの COE を選ん

通常の国際会議とは少し趣を異にしております。すなわ

でフォーラムを開催したことは反省材料の一つです。しかち、よく行われる研究に関する情報交換ばかりではなく、し、このフォーラムは継続して開かれることで合意をみま

次の２つの目的をもって開催されました。その第一は、世したので、次回はより多くの COE を取り込んで開催できる界に散在するプラズマ科学技術の研究拠点（略称 COE:と思っています。

Center of Excellence）が集まる機会を名古屋でもち、互さて本会議では、冒頭に COE セッションと名づけた特いの情報交換をとおして国際的なプラズマ COE ネットワ

別枠を設け、各国のプラズマ COE のリーダーが拠点のークを築くことにあります。第２の目的は、海外から最先

組織や研究活動の概要を紹介し、さらに最近のトピックス

端の研究者を招いて講習会（Plasma Mini-Course）を開を発表するセッションとしました。プラズマの基礎から応用

き、大学院生などの若手研究者の育成をはかることにあまで、各 COE が夫々に特色ある多彩な研究活動を行っります。

ていることが浮き彫りになりました。例えば、ドイツ

第一の目的である「プラズマ COE の国際ネットワーク

Greifswald の拠点 INP ではプラズマによる光源の研究がの構築」をめざして、今回、欧米、韓国の次の拠点に呼盛んであり、各国の電力消費の 10%も照明に使われる中、びかけました。

その光量の９０％がプラズマランプでまかなわれているの・で発光効率を上げる研究が省エネルギーの観点から重

・
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・

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・
・

Center for Advanced Plasma Surface Technology(CAPST), SungKyunKwan Univresity, Suwon, 韓国
Center for Plasma-Aided Manufacturing (CPAM)
University of Wisconsin, Madison, アメリカ
Institut fur Niedertemperatur-Plasmaphysik (INP)
Greifswald, ドイツ
Laboratoire des Plasmas et des Couches
Minces(LPCM) Institut des Materiaux de Nantes,
CNRS,フランス
Center for Plasma Formation, Measurement and Control(PlasMAC), Dublin City University, アイルランド
Univeral Properties of Non-Equilibrium Plasmas(SFB591), Ruhr University, Bochum, ドイツ
日本の拠点は、名大２１世紀 COE の Plasma-Nano

要である、とリーダーの Weltmann 所長が強調していたのが印象的でした。一方、韓国の拠点 CAPST はプラズマによる表面改質に力点をおいており、メートル級の大面積薄膜をマグネトロンスパッタリングで作製する仕事が目立ちました。このような技術が韓国三星電子の液晶技術を支えているのでしょうか。最近設立されたアイルランドの拠点 PlasMACやドイツの Bochum の拠点 SFB 591 などからも興味深い発表が続きました。

23

第２の目的である「若手研究者の育成」は、名大のプロセスです。

ラズマ COE に課せられているミッションですが、本フォおわりにーラムの初日をミニコース（講習会）にあてました。まず、

名大の COE である Plasma-Nano が呼びかけて、世界

放電プラズマ物理（M.A. Lieberman）から始まり、モデリのプラズマ COE が連携して初めてのフォーラムを開催

ング（M. Turner）、粒子的診断（H. Sugai）、光学的診断しました。第２回目のフォーラムは２年後に、ドイツの２つ（N. Sadeghi, A. Kono）と続いて、プラズマ物理トピックスの COE がホストとなって同国内で開催することが決まり（U. Czarnetzki）、応用トピックス（A. Wendt）の話と続きました。さらにこの会議中に、ドイツ、フランス、オランダ、ました。このミニコースには、国内から９３名海外から８名

アイルランド、韓国、日本にある７つの COE が交流を深の学生の参加があり、これに一般の参加者（国内２９名、め、連携協力していく旨の学術交流協定を締結しました。

海外２３名）を加えると１５３名という予想以上の多くの参この COE ネットワークはオープンであり、より多くの COE

加がありました。「プラズマ放電の原理」という教科書のメンバーが今後参入してくることを歓迎しています。

著者で有名な Lieberman 教授の講義は、わかりやすい

今回の国際フォーラムの経費は名大 COE プログラムと大変評判でした。３００ページを超えるミニコースの講補助金でまかなわれましたが、一部、ASET（超先端電義ノートは、未だ残部がありますのでご希望の方には有子技術開発機構）と（財）中部電力基礎技術研究所から料でお分けできると思います。

の助成がありましたことを申しそえ、謝意を表します。また、陰に陽にご支援いただきました本プラズマエレクトロニクス分科会の皆様に心から御礼申し上げます。

一般セッションの発表
上では COE セッション７件の発表とミニコース７件の講義というスペシャルメニューについて紹介しましたが、通常の研究発表を行う一般セッションでは１３７件の論文発表が行われました。参加総数は２４０名で、その内の３１名が海外からの参加者でした。発表論文の内訳をみると、海外および国内からの招待講演が各々５件と４件であり、一般投稿発表は国内１０２件、海外２６件となっています。一般投稿の中から、１０件が口頭発表で、残りの１１８件がポスター発表でした。
招待講演者と内容のキーワードは、次の通りです。
D. Graves (USA)の分子動力学シミュレーション、H.
Kersten （ドイツ）のプラズマ中のパウダー形成と応用、
N. Sadeghi （ フ ラ ン ス ） の ブ ロ ー ド バ ン ド 吸 収 分 光 、
M.C.M. van de Sanden（オランダ）の CVD における膜成長とプラズマのその場観察、J. Schmitt（スイス）の大面
積容量結合プラズマ、畠山（東北大）のカーボンナノチ
ューブ、白谷（九大）の Cu の非等方堆積、橘（京大）のマイクロプラズマ、堀（名大）の大気圧非平衡プラズマプ

24

2004 MRS Spring Meeting 報告
佐世保工業高等専門学校

川崎 仁晴

2004 年米 MRS 春季大会が、2004 年 4 月 12 日から

電池用水素化アモルファスシリコン(a-Si:H)の作製に関

16 日までサンフランシスコ市で行われ、3 年ぶりに参加

しては、・c-Si や nc-Si を用いて作製した太陽電池の高する機会を得ましたので報告致します。メイン会場は効率化やその成長過程の解明に関する研究報告が多「Marriott Hotel」から、Macworld Conference & Expo のい様に思いました。ペンシルバニア州立大学のグルー会場としても用いられた「Moscone Center」へと変更され

プは分光エリプソメトリーを用いて、a-Si:H から・c-Si:Hていました。昨年落成したばかりだそうで、ガラス張りのへの相転移に関するその場観測の結果を議論しており、外観が美しいコンベンションホールでした。今回の会議

放電電力や基板温度、放電周波数との相関関係を報も 5 日間の会期中に 29 のシンポジウムが開催され 2700

告していました。また、アイントフォーフェン大学等のグ件以上の研究発表がなされ、私が見たところ非常に盛ループからは、ATR 法等を用いたその場測定法によっ況でした。ただ、参加していた米国の友人によると年々て作製する薄膜の表面構造を解析し、膜成長時の表面講演数は減少傾向にあるそうです。スタッフの中に日本

水素の脱離過程を論じていました。また、これらの方法

語が堪能な米国人や、日系人の方がおられて、日本人を用いて、Si 表面の酸化処理や炭化処理を観察しておには心強いかぎりだったのですが、日本からの参加者

り、特に炭化処理を行うことで、成長初期から表面近傍

は、SARS や直前におきたイラク人質問題（帰国当日にの欠陥密度を大きく低減できる事を報告していました。

解放された）などの影響からか、以前参加した時に比べ、・c-Si や nc-Si の成長過程や表面反応は非常に複雑な

非常に少ない印象を受けました。反面、中国や韓国等

ようで、明確な機構は結論づけされませんでしたが、その、他のアジア諸国からの発表件数の多さが、特にポスの場観察を用いた評価法は確実に進歩しており、今後

ターセッションなどで非常に目に付きました。これは、近の研究により反応機構はさらに解明されていくと予想さ

年の

れます。

国の勢い をそのまま反映している様な印象で、少し寂しい様な悲しい様な感じがしました。

またこの分野では、Hot-Wire CVD(Cat-CVD)法を用

朝 8 時 30 分から夜の 11 時（夜 8〜11 時はポスターセいた薄膜作製とその成長メカニズムの解析に関する研ッション）までというハードスケジュールであるということと、究報告が急速に増加している様でした。アイオワ州立大

いわゆる 時差ぼけ による自分自身の体調のせいもあ

学やペンシルバニア大、ユトレヒト大学等の報告では、り、正直言って、目がさめるような画期的な講演や活発

Cat-CVD 法により作られた TFT はしきい値電圧の変動な議論はそれほど多くない様に思いました。しかし、そが非常に少ないこと、膜堆積速度を上げても欠陥の増の中でも、着実に前進している研究成果も見られ、ヒント加が抑えられること等が報告されていました。なお、このになる発表も少なくありませんでした。以下、私が個人

Cat-CVD 法に関しては、2004 年 8 月 23 日〜27 日にオ的に印象に残った研究発表を、今回聴講したシンポジ

ランダ（ユトレヒト市）で、国際会議が開かれる様です。こウム A,E,M,W を中心に御紹介いたします。

のほか、バイオ応用やセンサーなどの環境応用に関す

シンポジウム A はアモルファスシリコン(a-Si)を中心とる講演も見受けられ、このシンポジウム A においても従するアモルファス材料の物理とその応用に関する議論

来とは異なる新しい試みがされているように見受けられを行うものでした。この分野の主流である、高効率太陽

ました。

25

シンポジウム E は、いわゆる酸化物エレクトロニクスの

これ以外に目を向けますと、MRS では昼休みに会場

セッションで、絶縁物やフィールドエミッター用など様々

で食事を取りながら行われる非専門家向けのチュートリ

な酸化物の作製過程や物性関連の発表が行われていアルセッションが毎回行われます。毎回、専門外ではあました。特に In2O3 や ZnO のようなオプトエレクトロニクス

るがユニークな講演が聞け、（質素ではありますが）昼食

関連の分野では、東北大学や東工大など、日本からのが ただ になるのでいつも利用しています。今回もトピ講演者が多く、この分野での日本の研究の質の高さがックスの一つとして、ローザンヌ連邦工科大学の Manson

伺えました。ITO は、コストの面から In から Zn 系への移教授が Science in Sport と題して、スポーツの発展と材行が必要不可欠であるので、今後のこの分野へかかる料やナノテクノロジーとの関連について講演されました。

期待、特に日本人技術者への期待は向上すると思われそこではナノテクノロジーは自転車やモータスポーツ、ます。この酸化物エレクロトロニクス材に関しては、2004

スキーなどといった主に器具を用いるスポーツを大きく年 10 月 3 日〜5 日に日本の箱根で国際会議が開かれ変えつつあることが講演されました。また、水泳や陸上る様です。

などでもウェアやシューズに応用されているそうで、ナノシンポジウム M では、ナノ構造物質、結晶性を中心にテクの発展によって、競技そのものからトレーニング法ま多くの講演が行われ、非常に活発な討論が行われていで大きく変貌する可能性があるそうです。

た様です。酸化物ナノ結晶の相変化による光透過率履

参加した感想ですが、MRS は、材料開発が主の会議

歴や応答金属ナノ結晶の高速共鳴応答や局所場によであるため、プラズマは使用されているがプラズマそのる非線形増強効果というようなナノ粒子に特徴的な光学ものに関する議論はほとんどありません。そのため、プラ特性がポスターセッションを中心に数多く報告されていズマプロセス分科会員には無関係の様に思われがちでました。製造法としてはイオンビームによる自発的ナノ結

すが、ほぼすべての講演において材料作製過程で何ら晶成長法、電子ビーム加工による配列化、レーザーア

かのプラズマが使用されています。そのプラズマの性質

シストによるナノ結晶の構成等が検討され、光デバイス

は多岐にわたり（サイズだけでもμプラズマからメートル

応用展開、機能性ガラスの融合技術等による光集積回

サイズまで）、応用分野もますます広がりつつあります。

路への展望などが示されました。

それとともにプロセスからプラズマへ新しい要求があるこ

シンポジウム W では、バイオ関連の発表が多く、プラとも明らかでした。このことを都合良く考えると、これまでズマによる表面改質により生体材料の表面への付着特プラズマを専門に研究者の活躍の場はますます広がる

性を変化させるといったプラズマのバイオ応用の報告がと思います。但し、そこには、これまでの常識では推し量数件あり興味深いものでした。また、日本の産総研グル

れない新しいプラズマが存在し、また、新しい性質を持ープやミシガン大学等多くの研究期間でハイドロキシア

つプラズマが要求されるに違いありません。今後は、日パタイトなどのリン酸カルシウム結晶や有機高分子複合

本においても、このような新しい要求に対応できる柔軟材料による、医用材料、特に人工骨や人工軟骨としてな考えをもつ研究者が求められ、特に若い研究者の育高い機能をもつ新物質の創製に関する研究がすすめ成が必要不可欠だと思われます。今回は少なかったでてられており、新しいプラズマ応用の可能性も感じられ

すが、若手の MRS のような会議への積極的参加と、そうました。これに関しては Spring Meeting よりも MRS Fall

いった環境作り（渡航費や滞在費の補助など）が我々の

Meeting で活発に議論されている様なので、2004 年 11

今後の大きな課題の１つだと考えさせられました。

月 29 日〜12 月 2 日にボストンで行われる会議に是非出席してみたいと思いました。

26

《国内会議報告》
第 4 回ダストプラズマ研究会 報告
京都工芸繊維大学 工芸学部 電子情報工学科

林 康明

第４回ダストプラズマ研究会が、２００３年１２月１、２日

すため、炉内で蓄積されるまでの過程に関する解析のの２日間、核融合科学研究所において行われた。本研

重要性と予備実験の結果が述べられた。向井氏からは、究会は、第２回より、核融合科学研究所共同研究による宇宙や大気中でのダスト挙動に関する研究を行ってい研究会「微粒子プラズマの基礎と応用」（研究代表者：

る ICAPS (Interaction in Cosmic and Atmospheric

渡辺征夫九州大学教授）として行われている。参加者

Particle Systems) の紹介、研究計画、予備実験の結果は４６名で、第２回３１名、第３回４０名と比べると、回を追についての話があった。ICAPS は、欧州での国際宇宙

うごとに増え、ダストプラズマに関する研究の広がりがう

ステーションでの実験を、ダストプラズマ関係の IMPF

かがえる。参加者のうち４名が外国人であったが、米国(International Microgravity Plasma Facility) と連携してや欧州のダストプラズマの研究者とも連携を持って広げ進めていくことになっているが、氏は ICAPS 側の共同研ていくことを予定しており、アブストラクト集は全て英文で究者となっている。Prof. Alexeff は、横浜国大の石原先作成されている。研究会の英語版ホームページ

生の恩師に当たる方であるが、講演の内容は３０年ほど（http://www.phys.sci.ehime-u.ac.jp/yokota/）も今回よ前に行われたレーザー散乱で微粒子の挙動を観測したり作成され、国際的な会議として展開していくことが考慮話で、これほど前にこのような実験が行われていたことされている。

に驚きを感じた。

今回の研究会では、招待講演５件、一般講演１５件、一般講演では、核融合プラズマ中でのダスト生成のポスター発表２４件が行われた。ポスター発表では一般基礎実験に関する発表が２件（九大、名大）、ダストプラ

講演者も発表することになっており、講演時間中には行ズマ結晶についての発表が実験で３件、シミュレーショ

えなかった突っ込んだ議論が展開された。招待講演者

ンで３件（京大、岡山大、東京学芸大）あった。実験のうには、名古屋大学の山本哲生氏、JAXA（宇宙航空研

ち２件はドイツ・マックスプランク研で行われた実験の報究開発機構）の足立聡氏、核融合科学研究所の冨田告であり、ダストプラズマ研究の国際的連携が今後も進

幸博氏、神戸大学の向井正氏、テネシー大学の Prof.

められていくものと期待される。また、微小重力環境と関Alexeff を迎えた。山本氏からは、宇宙におけるダストの連した実験の報告が、静岡大と京都工繊大からあった。

材料組成と元素分布との関係やダスト発生の機構に関プラズマ中での微粒子の挙動や凝集についての実験する話があった。足立氏からは、国際宇宙ステーション的研究（東北大、大同工大）、惑星のリング形成についの日本の実験棟「きぼう」を利用した微小重力実験の計てのシミュレーション（愛媛大）、プロセスプラズマ中での画、それを目指した地上での研究公募や研究コミュニテ

ダスト制御（広島大）の発表や、さらに SiC・ダイヤモンド、

ィ育成などの話がなされた。国際宇宙ステーションでの

BN、カーボンナノチューブのナノ材料創製についての微小重力環境下ダストプラズマ実験計画はすでにドイ発表もあり（立命館大、物質工研、静岡大）、今後ナノテツを中心とした欧州で始まっており、わが国でも特徴のクノロジーとの関連でもダストプラズマの研究が展開してある研究計画を今後推進していく必要があろう。冨田氏

いくことが予想される。２日間では不十分なほど、ダスト

は 、 核 融 合 科 学 研 究 所 に あ る LHD (Large Helical

プラズマに関連した多岐に渡る内容の研究発表と討論

Device) において発生するダストの問題について話をさが熱心に行われた。

れた。ダストプラズマというよりもダストインプラズマと呼なお，第 5 回ダストプラズマ研究会は、第 4 回と同じく

ぶような密度ではあるが、トリチウム含有の放射性ダスト

核融合科学研究所において、12 月 6，7 日に開催されが炉心プラズマ冷却や炉外放出などの問題を引き起こる。

27

招待講演（太字）、一般]講演、ポスター発表の題目と発表者［発表順］
December 1“Formation of dust and planets in space”
Tetsuo Yamamoto（Nagoya University）“Behaviors of Fine Particles in Plasmas under Microgravity Conditions and its Analysis”
Tetsu Mieno, Akira Yamori1（Shizuoka University, 1: JAXA）“Simulation of Planetary Rings using Fine Particle Plasmas”
Toshiaki Yokota and Ayumi Ando（Ehime University）“Interaction between Dust Particles and Plasma Studied with Laser Scattering and Electron Micrograph”
Junji Fujita, Hirokazu Katsuyama, Hiroshi Kito and Maki Iseki（Daido Institute of Technology）“Behaviors of fine-particles with positive charges levitated between magnetized double plasmas”
Satoru Iizuka, Mayumi Ozaki, and Takuma Gohda（Tohoku University）“The Present Status of Microgravity Sciences”
Satoshi Adachi（JAXA）“Ordering of Fine Particles in Plasmas under 1G and μG Conditions”
Yasuaki Hayashi（Kyoto Institute of Technology）“Formation of nano-paricles due to interaction between hydrogen plasma and carbon wall”
Masaharu Shiratani, Ryuji Uehara, Yasushi Kitaura, Kazunori Koga, Yukio Watanabe, and Akio Komori1 (Kyushu
University, 1: National Institute for Fusion Science）“Production of carbonic radicals and particulates in a compact divertor simulator excited by helicon-wave discharge”
K. Sasaki, T. Maeda, M. Aramaki, M. Goto1, S. Muto1, and S. Morita1 (Nagoya University, 1: National Institutefor Fusion Science）“Dust particles in Fusion Device
Y. Tomita, A. Sagara, R. Smirnov 1, S.I. Krasheninnikov 2 （National Institute for Fusion Science, 1 theGraduate Univ. for Advanced Studies, 2 Univ. California San Diego）“Influence of Energetic Electron Components on Unstable Oscillation of Dust Particles Trapped in Plasma-Sheath
Boundary”
Atsuhiro Kobayashi, Kae Imasato, Noriyasu Ohno , Shuichi Takamura （Nagoya University）“Parametric Excitation and Nonlinear Amplitude Oscillation of a Dust Particle Levitated in the Ion Sheath”
Kae Imasato, Atuhiro Kobayashi, Noriyasu Ohno, Shuichi Takamura（Nagoya University）“Simulation studies on wake effects included ion drag force”

Syuichi Murase , Hiroharu Fujita, and Tetsuo

1

Kamimura （Saga University, 1: National Institute for Fusion Science）“The effect of plasma shielding on the structure of dust particles in electrostatic confinement”
Takashi Yamanouchi, Masako Shindo, and Osamu Ishihara（Yokohama National University）“Fine Particle Charges Irradiated by UV Light”
Ayumi Ando and Toshiaki Yokota (Ehime University)“Interaction between hot O stars and molecular/dusty clouds from our astronomical observations in28

infrared/milli-waves”

Syuji Sato and Tetsuo Yamamoto（Nagoya University）“Formation of crystalline enstatite grain by using RF plasma field” Takeshi Sato, Katsuya Kamitsuji, Yuki Kimura,
Hitoshi Suzuki and Chihiro Kaito（Ritsumeikan University University）“Deposition of nano-particles-dispersed a-Si:H films by using twin silane discharges”
Kazunori Koga, Tomohide Kakeya, Masaharu Shiratani, and Yukio Watanabe（Kyushu University）“Fabrication of Fluorinated Carbon Particles Using Atmospheric Micro-Gap Plasma with Microwave Excitation”
Mikio Nagai, Masaru Hori, and Toshio Goto（Nagoya University）
December 2“Introduction of ICAPS and its related project in Kobe”
Tadashi Mukai（Kobe University）“A Dust Plasma”
Igor Alexeff（University of Tennessee）“Estimate of Relaxation Time for Strongly Coupled Dusty Plasmas”
Satoshi Hamaguchi（Kyoto University）“Thermally excited phonons in a two-dimensional Coulomb crystal”
Shota Nunomura, S. Zhdanov, 1 D. Samsonov,1 and G. Morfill1（Kyushu University, 1:Max-Planck-Institut）“Wave dispersion relation of plasma crystal under magnetic field”
Giichiro Uchida, U. Konopka, G. Morfill（Max-Planck-Institut）“Dynamical Properties of Two-Dimensional Yukawa Fluids: A Molecular Dynamics Simulation”
M. S. Liman, C. Totsuji, K. Tsuruta and H. Totsuji（Okayama University）“Formation of wake and "ripple" potentials at the surface of a dust solid”
Hideo Nitta（Tokyo Gakugei University）“Production of nanodiamnds using carbon-silicon system”
Y. Kimura, T. Sato, and C. Kaito（Ritsumeikan University University）“Condensation of sp3-bonded BN through highly-nonequilibrium fluid state”
S Komatsu1, K. Kurashima1, Y Shimizu2, Y. Moriyoshi3, M. Shiratani4, and K. Okada 1 （National Institute forMaterials Science1, National Institute for Advanced Industrial Science and Technology2, Hosei University3, Kyushu
University4）“Control of Generation and Behavior of Dust Particles in a PECVD Reactor for SiO2 Film Deposition”
Manabu Shimada1, Kikuo Okuyama1, Nobuki Kashihara1,2, and Heru Setyawan2（Hiroshima University1, JST2）29

第 18 回光源物性とその応用研究会 報告
東芝ライテック （株） 管球技術部

安田 丈夫

平成 15 年 12 月 1 日，雨降り模様の天気の中，神奈川

御子柴茂生（電気通信大学），L. C. Pitchford, J. P.

大学横浜キャンパスにて掲題の研究会を開催した．参Boeuf（Universite Paul Sabatier）

加者は発表者の 10 名を加え延べ 42 名であり大盛況とは言えないまでも，朝の 10 時から夕方の 17 時頃まで，⑨「 Spectroscopic and electrical characteristics of a

光源に関する計測，開発，実験，分析，計算とバラエテ

dielectric barrier discharge in Ar/CH4 gas mixture」，

ィーに富んだ発表に恵まれ，質疑応答も活発に行われM. A. Bratescu, Y. Yoshizaki, Y. Sakai, Y. Suda（北た．以下に全 10 件の発表者，所属と題目を記す．

海道大学）①「配光測定に基づく高精度全光束絶対校正装置⑩「二次元流体モデルによるエキシマランプの解析の開発」，蔀洋司，齊籐一朗（産業技術総合研究所）−矩形波立上がり速度による放電の違い− 」，
明石 治朗（防衛大学校），小田 昭紀（名古屋工業大学），酒井 洋輔（北海道大学）②「低周波駆動電球形無電極蛍光ランプの封入ガス依存性」，荒川剛，橋本谷磨志，保知昌，片瀬幸一，

本研究会は応用物理学会プラズマエレクトロニクス

関 勝志（松下電器産業），J. Maya, O. Popov, R.

(PE)分科会，照明学会光の発生・関連システム研究

Chandler（松下電工米国研究所）

専門部会，同光放射の応用・関連計測研究専門部③「蛍光ランプ調光時の陰極降下電圧の変化に関す会の三つの機関による共同主催で運営されている．

る研究」，植月 唯夫（津山工業高等専門学校）

今回は幹事の嗜好にて低圧プラズマ光源に関する発表が多くなったが，本研究会のカバーする範囲は④「クラスター発光の特性評価−発光管封入物質と照明用光源のみならずプラズマディスプレイ，レーザ，

その封入量による発光特性の比較−」，

LED，電子線源，蛍光体など幅広くに及ぶものと思わ

保坂 和幸，佐藤 歩，久保 弘樹，関根 征士，大河れる．運営に関して，近年必ずしも照明学会側との連正志（新潟大学）

携がスムーズに行われていたとは言い難く，研究会終了後に各機関の幹事他若干名にて慰労を兼ねた⑤「蛍光ランプ用 ZnHg(亜鉛水銀)ペレットの水銀蒸反省会を実施した．本年度(2004 年度)は，5 月早々

発特性」，八木 裕司，安宅 とも子（松下電器産業）

から照明学会側担当幹事と打ち合わせを行い，研究会のあり方を見直しさらには応用物理学会員，特に⑥「FTIR による蛍光ランプ材料のガス吸着特性の分

本 PE 分科会員にとって有意義なものに変革を遂げ析」，西村 潔（東芝ライテック）

るよう進める旨を伺っている．小生のような非力な「中継ぎ投手」がゲームを壊さず，次の方に引継ぐことが⑦「極微量元素分析のための大気圧マイクロ波プラ出来たのであれば幸いに思う．最後に照明学会側のズマ」，岡本 幸雄（東洋大学）

幹事の先生方に感謝の意を表し締めの言葉とする．

⑧「モデリングによる水銀レス平面放電型蛍光ランプ
内陽光柱のエネルギーバランス解析」，志賀 智一，

30

第 21 回プラズマプロセシング研究会 報告北海道大学 工学研究科

酒井 洋輔

須田 善行

第 21 回プラズマプロセシング研究会(SPP-21)は、
北海道大学学術交流会館において 2004 年 1 月 28日(水)から 30 日(金)の 3 日間にわたり開催されました。
全国各地から 230 名の研究者が参加し、活発な研究発表・議論が繰り広げられました。発表件数は、特別・指定テーマ講演が 3 件、一般講演が 157 件（口頭73 件、ポスター84 件）でした。研究会期間中は北海
道の冬本番の冷え込みで、最低気温が−10℃近くまで下がる日もありましたが、降雪は少なく、心配されていた交通機関のトラブルがなかったのは幸いでした。
特別講演ならびに指定テーマ講演としては、下記（写真）特別講演での質疑応答の 3 件の発表が行なわれました。

これらの講演はプラズマ技術を先端デバイスや薄膜プロセスに応用した成果とプラズマ技術に期待す

特別講演

るところ、ならびに電子と分子衝突に関する最新のト「III−Ⅴ半導体量子ナノエレクトロニクスと関連するプラズ

ピックスが中心であったため、聴衆の関心も高く、ホットな質疑応答が交わされました。

マプロセシング」

また、一般講演のトピックス別発表件数は以下の

長谷川 英機氏（北海道大学量子集積エレクトロ通りです。

ニクス研究センター長）
指定テーマ講演

一般講演トピックス「低エネルギー電子と分子の衝突ダイナミックス」

発表件数
口頭／ポスター

田中 大氏（上智大学理工学部教授）

1

プラズマの基礎・素過程

１／３

2

プラズマの発生・制御

６／１４

薄膜：創製、物性と応用」

3

プラズマの診断・計測

１２／１４

仁田 昌二氏（岐阜大学名誉教授）

4

モデリング

１０／５

5

プラズマ中の微粒子

４／０6

材料応用一般１３／１１

7

エッチング・表面改質

１７／７

8

光応用・発光デバイス

０／５

9

炭素同素体

４／１２

「ナノメートル制御で作られたアモルファス窒化炭素

10 酸化物

３／２

11 半導体２／２

12 プラズマの環境応用

１／９

合 計

31

７３／８４

懇親会は 1 月 28 日 18:30 より、研究会会場に近く(PSS-2005/SPP-22)として、菅井秀郎先生（名古屋大の札幌アスペンホテルにて開催され、70 名の参加が学）が実行委員長となり、2005 年 1 月 26 日（水）〜28

ありました。懇親会の終盤までお酒・食事が振る舞わ日(金)に愛知県女性総合センター（名古屋市）にてれ、皆様にご満足頂いたようです。また、懇親会以外開催されます。前回の合同シンポジウムにも多くの方が、薄野方面や小樽などで北海道の海(PSS-2001/SPP-18 京都)にも増して、多くの方々のの幸、また雪祭りの大雪像（製作途中でしたが）など

ご参加を期待しております。

をお楽しみになられたようで、実行委員会としましても最後に、本研究会の趣旨に賛同して、招待講演を皆様に北海道を知っていただくよい機会となり嬉しく

お引き受けいただいた先生方、運営にご尽力いただ

思います。

いた関係各位、一般講演ならびに参加をいただいた

なお、次回の第 22 回プラズマプロセシング研究会

各位、および助成・広告などでご支援をいただいたは、プラズマ科学シンポジウム 2005 との合同研究会

団体・企業各位に深く感謝いたします。

32

第 34 回応用物理学会スクール B （2004 年春季）
「最先端技術を支えるプラズマ科学−ナノからバイオテクノロジーまで−」 報告
九州大学 大学院システム情報科学研究院

白谷 正治

春季応用物理学関係連合講演会期中の３月２８日にプラのプラズマ関連技術の進展が上手くまとめられています．購

ズマエレクトロニクス分科会企画で第３４回応用物理学会ス

入希望の方は，応用物理学会スクール係にお問い合わせ

クールBとして標記会合を開催した．その概要を報告する．

下さい．

はじめに，分科会幹事長の斧（京都大学）が企画趣旨にまた，今後の参考のためにアンケートの集計結果を以下ついて説明した．その後，菅井（名古屋大学）が，非平衡プに示します．

ラズマ生成の基礎について，教科書レベルから高気圧非平衡プラズマを含めた最近の研究成果まで，簡潔にしかも分

日時： 2004 年 3 月 28 日（日）

かり易く解説した．

場所：東京工科大学（東京都八王子市）

次に，近藤（産総研）が，大口径プラズマの生成と応用について，Si系薄膜堆積プロセスを例に取り上げ，高品質膜の（参加者内訳）

高速堆積を中心に解説した．さらに，堀（名古屋大学）が，エ

会員

89 名

ッチングを例にとり現在のトップダウンプロセスの限界を明

学生

36 名

非会員

22 名

合計

147 名

示した後，現在研究が急速に進みつつあるボトムアッププロ
セスのトピックスについて説明した．
午後は，白井（埼玉大学）が大気圧非平衡プラズマを用いたデスクトップで安価なプロセス技術開発例を示した．さらに，寺嶋（東京大学）が，プラズマが切り拓くナノマテリアル
フロンティアと題して，ミクロからナノ領域の空間にプラズマ

アンケート集計結果

総数 61 件を生成し材料開発に応用する例，および超臨界状態におけるプラズマ生成例を解説した．また，一木（東京大学）が，プ

1．スクールに参加した感想

ラズマ技術によるバイオチップの開発と応用について説明

ａ．良かった35 名した．最後の話題として，寒川（東北大学）が，プラズマの長ｂ．良かったけれど難しかった20 名所を生かし，短所を克服する一つの方法として中性粒子ビ

ｃ．期待はずれであった

4名

ームを用いたプロセスを紹介し，この技術が大きなポテンシ

白紙

2名

ャルを有していることを解説した．

ご意見（講師，講演時間・件数･内容･会場などについて）まとめとして，白谷（九州大学）が各講師の解説には，将棋における規則，戦法，局面がそれぞれ含まれており，これ・ 良かった点

らのどのレベルに対応した内容であるかを考えることが，理ナノからバイオまで多方面の領域でのプラズマの領域が解の助けになると指摘した．

つかめた

もっと詳しい説明が聞きたかったとの聴講者の声が示す

15 名

基礎からの話が聞け，応用の話が理解しやすかった

ように，各講師とも講演内容が豊富で講演時間が足りないと10 名の印象であった．

講師の選択が良かった

5名

講演の時間がちょうど良かった

3名にスクールを終了することができました．講師の先生方を始

プレゼンテーションが分かりやすかった

2名

め，関係者の方々に深く感謝いたします．なお，本スクール

最近の状況や将来の重要性などが分かった

2名のテキストには，教科書等にはまだ記述されていない最新

power point がテキストに載っていて見やすかった 1 名最後になりましたが，１４7 名の聴講者があり、成功のうち

33

新しいトピックに触れられた1名

件数が適当だった

1名

ｂ． 一般講演も聴講したかったがスクールを優先
37 名

講師の熱意が伝わり、限界を突破する勇気が出た 1 名

ｃ． 一時的に一般講演にも参加

8名

白紙

2名

・ 良くなかった点
話が広範囲すぎるのでもっと詳細な内容が良かった

3．スクールの周知方法にについて

1名

ａ．学会誌

31 名

講演時間が短い14 名ｂ．ポスター

0名

重点を強調してほしい講演があった

1名

ｃ．上司

8名

タイトルと内容の不一致の講演があった

1名

ｄ．ホームページ

16 名

ｅ．その他

7名

主旨と合わせると詳細に立ち入りすぎた講演があった
2名
専門的なデーターが難しかった

3名

4．スクールで今後取り上げてほしいテーマ

大学からだけではなく企業からの講演も聞きたかった

大気圧プラズマ

3名

1名

プラズマ･放射線の影響評価（結晶欠陥）

3名

1名

MEMS 技術の最前線

2名

講演時間の超過で一般講演とのスケジュールが合わなく有機物の表面改質

2名なってしまった

1名

プラズマプロセスシミュレーション

2名

プロジェクタの後ろに座ってしまい見えなかった

1名

6nm 世代半導体製造技術の動向

1名

会場準備ができてなかった

1名

有機と無機の接点（錯体の応用）

1名

会場が寒かった

1名

アーク放電（アーク溶接分野）

1名

公演数を減らし 1 テーマを長くしたほうが良い

3名

化学反応から見たプラズマ（プラズマケミストリー） 1 名

休憩が短い

1名

計測･分析シミュレーションから見たプラズマ

1名

色々な要素技術からの基礎から応用まで

1名

2名

光学薄膜

1名

テキストと違う内容で話している講演があった

1名

プラズマのバイオ応用

1名

最新の情報を当日配布してほしい

1名

学際的なテーマ

1名

テキストの図が見づらい

1名

ナノスケールの LSI 配線に関するテーマ

1名

質問の時間がない

1名

LED の劣化特性原理と対策（電流劣化、応力劣化、樹脂開始時間が早い

1名

劣化）

一般講演と重なった

話すスピードや内容が速すぎてついていけなかった

2．講演会附随のスクールの日程について
2-1 下記のいずれの日が参加しやすいですか

1名

光 MEMS プロセスと将来

1名

プラズマのエッチングプロセス

1名

ナノウェットコーティング

1名

ａ． 講演会前日

28 名

高効率の発光素子･光源

1名

ｂ． 講演会会期中（１日）

26 名

宇宙関連の技術と今後の展開

1名

ｃ． 講演会会期中（半日を２日に）5名記憶メディアや素子の今後の発展と応用物理

1名

ｄ． 講演会翌日

5名

フラットディスプレイ

1名

ｅ． その他

1名

有機太陽電池1名

プローブ顕微鏡

1名

2-2 今回は会期中に行いましたが，一般講演（シンポジ

炭素薄膜

1名

ウムを含む）参加との関連はいかがでしたか．

プラズマでの医療応用

1名

食品関連応用1名

ａ． 特に問題なし

14 名

34

表面波プラズマ電磁会シミュレーション

1名

企画が良い

2名

大口径化プラズマ源

1名

テキストの他に OHP の資料も必要

2名

中性粒子ビームの基礎とその応用

1名

参加費もちょうどいい

2名

中電圧･中電流の電子線を用いた応用技術

1名

講師のポイントのまとめ方を統一してほしい

2名

燃料電池

1名

スクールとしてもっと教科書的な講演が良い

1名

毎回大変勉強になるので今後も続けてほしい

1名

会期中に関わらず行ってほしい

1名

5．その他スクールに対するご意見（開催形態など）
これ以上参加費を上げないでほしい

4名

発表当日の内容をテキストで送ってほしい

1名

発表のプレゼン資料とテキストの資料を対応させてほし講演後にはお礼を意味を込めて拍手するべき

1名

い

3名

1 日という日程が適当で良い

1名

日程が一般講演と重ならないでほしい

3名

35

2004 春季応物シンポジウム「飛躍する磁性体デバイスの作製プロセスの現状と課題」 報告
ソニー（株） 辰巳哲也
MRAM(Magnetic Random Access Memory)はその名

オン衝撃による膜質の変化等は不明であるが、成膜プの通り、磁気によってデータを記憶するメモリで、電源をロセスのメカニズムを知る上でも貴重な知見である。また

切ってもデータが失われない不揮発性、読み書きの速薄膜の結晶構造窒を決定する上で化プラズマの制御等

度が速い、集積度が高いといった特徴を兼ね備えておが非常に重要となる（４）。

り、次世代のメモリデバイスの一つとして注目を集めて次に加工に関してであるが、磁性材料はそもそもハいる。本シンポジウムでは、この MRAM を含む磁性体デロゲン化合物の蒸気圧が低く、いわゆる難エッチング材

バイスに用いられる材料の基礎特性から成膜・プラズマ加工技術等の製造プロセスに至る基礎的な理解を進め、高精度なデバイスを実現するために何が必要かを議論料として加工の困難さが指摘されていた。これに対して
昨今話題となっている CO/NH3 あるいは CH3OH 系プラズマによる加工の可能性が提案された（６）。これらはハするため、材料から加工、デバイスに至るまでの各研究

ロゲンレスによる腐食の防止を実現すると共に、カルボ者を集めての開催となった。

ニル系の化合物による揮発性の向上も当初は想定していたが、解析の結果としてはスパッタ反応に近く RIE 的==============================================
日時：3 月 30 日（火）13：30-17：00

な反応の可能性は低いとのコメントであった。ただ脱離場所：東京工科大学 （2004 春季応物会場）

物の詳細な評価等を行い CO 系でのエッチレート増速を確認している研究例もあるので、今後のメカニズムの1. Introductory Talk（ソニー 辰巳哲也）
2. 半導体スピンエレクトロニクスの現状と将来展望（東大院工 田中雅明）
3. 磁性フォトニック結晶の現状と課題 豊橋技科大（井上光輝）
4. 高性能スピンエレクトロニクスデバイスのための薄膜ナノ構造制御（東北大院工 高橋研）
5. マグネトロンスパッタリングによる磁性薄膜作成プロセスの診断（名大院工 豊田浩孝）
6. MRAM 向けドライエッチング技術の現状と課題（アネルバ 小平吉三）
7. MRAM 量産化プロセスの課題（東芝セミコン浅尾吉昭）==============================================

明確化を期待したい。一方で塩素系プラズマでも条件次第では高選択比加工が可能であり、下地 AlOx 層の酸化、あるいは腐食防止のための後処理（O2、H2O 系
プラズマ処理）等さえ厳密に制御できれば、良好な磁気デバイス特性を実現できる加工プロセスを実現できることも示された（１）。特に変質しやすい材料であるため成膜後、あるいは加工後の酸化性プラズマの高精度な制御が求められる。
実際に国内でのデバイス開発で先行する東芝/NECからは量産現場からのプラズマ技術に対する研究ニーズを期待する声が会場からは非常に強かった。しかし残念ながら詳細なプラズマプロセスに関する議論は（守秘

磁性体はメモリデバイスやフォトニック結晶などへのの関係から？）公にはされなかった（７）。こうした閉鎖的応用が進められており、いずれも如何にして３次元的に、な開発は、ノウハウの流出を懸念する企業側の論理としそれも従来の半導体デバイスに近いサイズでの加工をては理解できるが、一方で純粋な研究サイドへのフィー実現するかが課題となっているため（２、３）、この実現をドバックがかからないことも大きな問題であり、本当の目指し、各ユニットプロセスでも鋭意検討が進められて「飛躍」のためには、いかにしてこの研究、開発のバランいる。薄膜形成のためのスパッタプラズマ中の粒子解析

スを取って行くかが業界全体としての課題となるであろを質量分析、LIF 等を用いた解析した結果として、高エう。

ネルギーの反跳 Ar イオンの存在が確認された（５）。イ36

2004 年春季第 51 回応用物理学関係連合講演会
合同セッション D「プラズマ CVD の基礎と応用」 報告
北陸先端科学技術大学院大学 増田 淳

合同セッション D「プラズマ CVD の基礎と応用」は、放報告した。これらの膜は樹脂フイルム基材上にロールツ

射線・プラズマエレクトロニクス分科のプラズマ応用プロ

ーロール方式の装置で積層され、反射防止膜の役割をセス、薄膜・表面分科のカーボン系薄膜、非晶質分科担う。表面硬度や耐摩耗性などの機械的特性、耐湿性のプロセス技術の各中分類分科の合同企画であり、そなどの環境特性はいずれも真空プロセスで得られる膜との目的は、主としてシリコン系ならびにカーボン系薄膜

比較して遜色ないことが報告された。引き続き、清村等のプラズマ CVD 過程の解析を通じて、膜特性やデバイが透明導電膜の作製について、有田等が撥水・撥油膜

ス特性の向上に資する話題を集中的に討議することでの作製に関して報告した。いずれの膜特性も従来の真ある。講演件数は 2002 年秋が 14 件、2003 年春が 17

空プロセスに匹敵するものであるという。大気圧プラズマ

件、2003 年秋が 18 件と徐々に増加してきたが、今回はプロセスは高橋等（積水化学）からも報告された。積水さらに増加して 22 件となり、本合同セッションが益々重

化学では、以前より大気圧パルス電界プラズマを用い要なものと認識されていることが見て取れる。以下に、

た a-Si:H 膜、poly-Si 膜の作製に関して報告してきたが、本合同セッションで発表された講演内容についていくつ

SiNx 膜の作製にも適用することにより、全層を大気圧プか紹介する。

ロセスで形成した薄膜トランジスタを作製することを目的

大越等（東京電機大）は、3 次元構造物への均一製膜としている。屈折率が 1.85 程度で 109 dyn/cm2 台の圧縮を目的に 13.56 MHz のプラズマ CVD 法においてプラズ応力を有する SiNx 膜が得られることが確認された。大気マ診断を行い、電子温度や電子密度の分布が薄膜の圧プラズマに関しては、これまでにも高速回転電極を用

均一性に与える影響は小さいことを明らかにした。血液いる方法などいくつかの方法が提案されているが、真空循環用ポンプのダイアフラムなどの複雑形状物質に、を用いないことによる装置コスト低減の効果は大きく、今低温で高いバリア性を有する膜を均一に形成する手法

後の研究開発の進捗に期待したい。

の開発が求められており、本解析結果の重要性が示唆

若井等（京大）は、次世代 ULSI 用層間絶縁膜への適される。

用を目的に、BCB ポリマーのプラズマ重合での製膜を小松等（物材機構他）は、新しい結晶構造である sp3

検討している。前回に引き続き、FT-IR による気相診断

結合性 5H-BN 薄膜の開発に成功した。この材料は自を用いてプラズマ重合過程を解析しており、現在用いら己組織的に紡錘形電子エミッタを形成する。ArF エキシ

れている熱重合過程との差異の明確化を試みている。

マレーザによる紫外光誘起表面反応を利用するため、比誘電率が 1.5 程度の低誘電率多孔質材料の開発はレーザ照射方向にエミッタが揃う点に特徴がある。

急務であり、今後の展開が期待される。

コニカミノルタテクノロジーセンターからは、大気圧プラ

午後のセッションでは薄膜 Si 材料の作製とプラズマ診

ズマによる高機能薄膜の形成に関して、連続して 5 件の断に関する話題が数多く提供された。新倉等（産総研）

講演があった。まず、末富等が大気圧プラズマのシミュ

は太陽電池への応用を目的に高品質 µc-Si:H 膜の高レーションに関して報告した後、福田等が TiO2 ならびに速堆積を試みている。新型カソード板を用いて発生させ

SiO2 といった酸化物薄膜の形成に関して 2 件に分けてた高密度プラズマにより、8 nm/s の高速で欠陥密度が375×1015 cm-3 程度の µc-Si:H 膜の作製に成功した。本講

佐藤等（山梨大他）は 10 K 程度の極低温での H 原子

演者は 1 年前の講演会で講演奨励賞を受賞しており、と SiH4 のトンネル反応により a-Si:H 膜の作製が可能でその後も継続した研究で着実に成果が積み重ねられてあることをこれまでも報告してきたが、今回は 40 K 程度いることが窺われる。µc-Si:H 膜は薄膜 Si 太陽電池の効と若干基板温度を高めて、µc-Si:H 膜、a-SiGex 膜、SiNx

率向上に必須のタンデム化に欠かせない材料ながらも、膜の作製が可能であることを示した。

発電層に用いる場合は 1.5〜2.5 µm 程度の厚さが必要

本合同セッションでは、従来から継続して投稿していとなり、µc-Si:H 発電層を 3 min で形成するためには、10るグループからの講演も多く、研究の進展を知ることがnm/s 前後の堆積速度が要求されており、本研究成果ができるのも楽しみのひとつである。その一方で、今回のもたらすインパクトは大きい。

コニカミノルタテクノロジーセンターからの発表のように、古閑等（九大）は a-Si:H 膜の光劣化の指標とされてい新たに本合同セッションへ投稿するグループの増加もる膜中 Si-H2 濃度と、膜に取込まれた高次シランや 1 nm

望みたい。プラズマプロセスは、ULSI、薄膜トランジスタ、

以上の Si 微粒子（クラスタ）との相関について報告した。

太陽電池などの作製に欠かすことのできない要素技術

従来は膜中 Si-H2 結合と高次シランとの関連が指摘されであり、その重要性は増すばかりである。本合同セッショてきたが、今回の講演ではクラスタの膜中への取込みンを通じて、プラズマ診断の結果と膜特性、デバイス特が膜中 Si-H2 結合の増加に寄与していることが示唆され、性の相関が明確化され、プラズマの制御によるデバイス

今後の議論の整理と、実際の太陽電池構造での評価の性能向上が図られることが真に期待される。

が待ち望まれる。

38

第 51 回応用物理学関係連合講演会・合同セッション F「カーボンナノチューブの基礎と応用」 報告
大阪府立大学 工学研究科

秋田 成司

第５１回応用物理関係連合講演会は２００４年３月２８

が，ナノチューブの物性を支配する「カイラリティ制御」

日から３１日東京工科大学で開催された．このなかの，が未だ暗中模索の状態であるからである．

合同セッション F「カーボンナノチューブの基礎と応用」

各種電子デバイスや配線への応用にはカイラリティ以は放射線・プラズマエレクトロニクスの「プラズマプロセス

外にも成長位置，成長方向，直径，低温化等，クリアー

によるナノテクノロジー」，薄膜・表面の「カーボン系薄すべき様々な課題がある．成長温度の低下については，

膜」，「プローブ顕微鏡」，ビーム応用の「微小電子源」，

プラズマプロセスや熱 CVD における触媒や成長条件，

応用物性の「ナノエレクトロニクス」，半導体 B の「探索ガス導入の方法等の改善で６００°C 以下の，いわゆる的 材料物性」との合同セッションである．

「ガラス基板の使用可能な温度」で高品質な多層ナノチ

今回は昨年の春から数えて３回目の合同セッションでューブが成長できるようになってきた．成長位置やそのある．前回，前々回ともに会期の４日間フルにセッション

方向制御についても外部電界を加える等目処がついてが設けられ，非常に多くの講演と参加者が集まっていた．

きたような印象を受けた．また，単層ナノチューブにおい

今回はとうとう，初日と２日目の午前中がパラレルセッシても熱 CVD における触媒の最適化やプラズマシース電ョンとなり，全公演件数が 126 件となった．会場は常に界の利用によって基板に垂直に配向した成長が可能で満席で，立ち見の参加を余儀なくされている参加者も多あることが示され，新たな成長制御法の開発への期待

く，この分野への関心の高さが良くわかった．

を感じた．

分科内特別講演として日頃は物理学会で活躍されてナノチューブの基礎物性評価に関しては，複数のグいる東京都立大学の石井広義氏に「カーボンナノチュ

ループから電子顕微鏡下その場観察による測定結果がーブの１次元伝導について」と題したお話しをいただい報告された．電界放出しているナノチューブ一本が透た．講演の内容は，高品質化された単層ナノチューブ

過型電子顕微鏡で観察され，その構造変化等が詳細の光電子スペクトルから電子状態を解析され，ナノチュに議論された．また，電気伝導特性についても歪みのーブ中で朝永−ラッティンジャー液体状態が 40K の低状態と伝導，コンタクトとの関連が議論された．電子デバ温まで実現していることを実験的に証明された研究成

イスへの展開でも電極とのコンタクトが問題で多くの議果についてであった．ここでもまたナノチューブが理想論がなされた．応用面では，ナノチューブを集積化して的な１次元導体であるということが示され，ナノチューブ

大規模な回路を構築するのではなく，従来の半導体デという材料の素性の良さを改めて認識した．

バイスでは構築に手間のかかる各種センシングデバイ

一般講演では，約６０％がナノチューブの成長に関するもので，残り４０％が基礎物性やデバイス応用に関す

スが少数のナノチューブで容易に実現できることが発表．．．．．．．．．．．．．
された．今後の，ナノチューブにしか出来ないデバイス

るものである．ただし，この４０％の中にもナノチューブのへの応用展開を期待したい．

成長に関する項目を含んだ講演もある．このように，ナノ

最後に，このような非常に有意義な議論の場をチューブの成長・制御に大きな関心が寄せられているこお作りいただいた世話人の皆様にこの場を借りとを示している．これは，ここで改めて述べるまでも無いて感謝申し上げます．

39

第 51 回応用物理学関係連合講演会・合同セッション H「プラズマエッチングのデバイス応用とその基礎」 報告
（株）東芝

関根 誠

放射線・プラズマエレクトロニクスの中分類１．４プラズ

京大、慶大のグループから、Si や絶縁膜エッチングのマ応用プロセスと、ビーム応用の７．６プラズマ・イオン・表面素反応や帯電を考慮した実用を志向するモデリン

光プロセスで企画した掲記の合同セッションを３月２９日

グ・シミュレーション技術が報告され、着実に進展していに開催しました。

ることが伺えました。名大や ASET のビームによる反応

各種デバイスへの応用を念頭においたエッチング技機構研究との連携により近い将来にプロセス技術者の術に関する発表は、従来上記の中分類セッションでそ扱えるツールが提供されることが期待されます。

れぞれ講演が行われ、７．６では、半導体材料の Si、金東北大を中心に高収率の中性ビーム源を使用した応属から絶縁膜、新材料の加工プロセス、評価や装置技用研究が継続して報告されており、ダメージ低減や術などが企業を中心に議論されています。また、１．４でLow-k 膜のプロセスに中性ビーム特有の具体的な成果

は、大学のプラズマプロセス、計測の研究室を中心に反が出てきました。

応性プラズマプロセスの基礎・応用の議論が展開されて

low-k 膜は、エッチングにおける H、N の役割の解明います。そこでは、デバイス、プロセス、基礎過程などそ（名大、東北大、ソニー、ASET）が進み、それを踏まえ

れぞれの視点からエッチング技術を議論してきました。

たプロセスモジュール（富士通）や装置（日立、東芝）のこれらの研究者が個々の立場（分科）を超えて議論し、検討が進んでいます。

プラズマエッチング技術と応用、デバイス技術を一層発シンポジウムでも取上げられ最近注目されている

展させることを意図して合同セッションを企画しました。

MRAM の強磁性トンネル接合(MTJ)素子加工時の特性プログラム編集では、７．６中分類のエッチング関連は劣化原因解明と生産技術への展開（ソニー）の他、すべて本合同セッションへ移し、他は大分類７の該当す

High-k、Ni、石英板の加工など新規材料へのアプロー

る中分類へ移し、７．６での講演は行いませんでした。まチもたいへん盛んです。

た、１．４からも数件の講演を移してプログラム編集を行

上記のように、プラズマエッチングの最先端研究がここいました。

に集約されています。会場が狭かったこともあり立ち見

講演件数は、３０件（午前１１件、午後１９件）であり、が出る状況で、常時百名を越える聴講者と活発な質疑

大学からの報告が２２件（内５件は企業と合同）、企業が応答がありました。今後、このセッションを継続する中で、８件です。分野では、レジスト関係３、モデリング・シミュ

MEMS やバイオデバイスを含め、当該技術を深く議論でレーション６、金属エッチング２、ゲート材料２、シリコンきる場としての発展を期待します。さらに、将来は新たなエッチング３、ダメージ・異状放電２、モニター１、絶縁膜

中分類として定着させたいと考えています。皆様のご意

エッチング１５（内 low-k ７）の内容でした。大学からはシ見をいただければ幸いです。

ミュレーションや表面反応の機構検討、企業からは実際

なお当セッションでは講演奨励賞への応募が１０件あにデバイスに適用するためのパターニングを行って、微り、内１件が選考委員会において推薦を得て、秋季講

細化、選択比等の課題を検討した内容が報告されまし

演会で表彰の見通しです。今後さらに若手の活躍に期た。

待したいと思います。
(２００４年６月 8 日)

次に全体的な動向をまとめます。

40

《平成 16 年度幹事・世話人》
平成 16 年度プラズマエレクトロニクス分科会幹事名簿

氏名

住所・電話

所属

幹事長

〒464-8603
名古屋市千種区不老町
河野 明廣
TEL: 052-789-3315 FAX: 052-789-3315
kono@nuee.nagoya-u.ac.jp

名古屋大学
工学研究科
電子情報システム専攻

副幹事長〒980-8579
仙台市青葉区荒巻字若葉
畠山 力三
TEL: 022-217-7045 FAX: 022-263-9373
hatake@ecei.tohoku.ac.jp

東北大学大学院
工学研究科
電子工学専攻副幹事長〒661-0001
尼崎市塚口本町 8-1-1
大森 達夫
TEL: 06-6497-7201 FAX: 06-6497-7295
Oomori.Tatsuo@wrc.melco.co.jp

三菱電機㈱先端技術総合研究所
先進デバイス部〒464-8603
幹事
名古屋市千種区不老町
任期井上 泰志
TEL: 052-789-4639 FAX: 052-789-3260
2005 年 3 月
inoue@numse.nagoya-u.ac.jp

名古屋大学
エコトピア科学研究機構
環境システム・リサイクル研究部門（兼担：工学研究科 材料工学専攻）〃〒305-0044
つくば市並木 1-1
岡田 勝行
TEL: 029-860-4322 FAX: 029-852-7449
okada.katsuyuki@nims.go.jp

物質・材料研究機構
物質研究所〃〒852-8521
長崎市文教町 1-14
篠原 正典
TEL: 095-819-2542 FAX: 095-819-2542
sinohara@net.nagasaki-u.ac.jp

長崎大学
工学部
電気電子工学科

〃

〃

〃

〃

〃

〒060-0814
北海道大学大学院
札幌市北区北 14 条西 9 丁目
須田 善行
情報科学研究科
TEL: 011-706-6482 FAX: 011-706-7890
情報エレクトロニクス専攻
suda@ist.hokudai.ac.jp〒113-8656
東京大学大学院
東京都文京区本郷 7-3-1
高井 まどか
工学系研究科TEL: 03-5841-7125 FAX: 03-5841-8647
マテリアル工学専攻
takai@bmw.t.u-tokyo.ac.jp〒606-8501
京都大学大学院
京都市左京区吉田本町
工学研究科
高橋 和生
TEL: 075-753-5798 FAX: 075-753-5980
航空宇宙工学専攻
takahashi@kuaero.kyoto-u.ac.jp(兼担：工学部物理工学科）〒661-8661
三菱電機㈱尼崎市塚口本町 8-1-1
津田 睦
先端技術総合研究所
TEL: 06-6497-7209 FAX: 06-6497-7295
先進デバイス技術部
Tuda.Mutumi@wrc.melco.co.jp〒468-8502
名城大学
名古屋市天白区塩釜口 1-501
理工学部
平松 美根男
TEL:052-832-1151(ext.5075) FAX:052-832-1298
電気電子工学科
mnhrmt@ccmfs.meijo-u.ac.jp

41

〒192-0906
積水化学工業㈱八王子市北野町 593-8〃
湯浅 基和
P２事業推進部
TEL: 0426-56-8302 FAX: 0426-48-0076
yuasa002@smile2.sekisui.co.jp〒980-8577
東北大学
新任幹事
仙台市青葉区片平 2-1-1
遠藤 明
流体科学研究所
任期
TEL: 022-217-5318 FAX: 022-217-5318
流体融合研究センター
2006 年 3 月
endo@fmail.ifs.tohoku.ac.jp〒565-0871
大阪大学大学院
吹田市山田丘 2-1
工学研究科
〃
押鐘 寧
TEL: 06-6879-7924 FAX: 06-6879-7924
精密科学専攻oshikane@prec.eng.osaka-u.ac.jp〒235-8522
横浜市磯子区新杉田町 8㈱東芝 セミコンダクター社〃
酒井伊都子
TEL: 045-770-3511 FAX: 045-770-3568
プロセス技術推進センター
itsuko.sakai@toshiba.co.jp〒305-8565
独立行政法人 産業技術総合研究所
つくば市東 1-1-1 中央第５界面ナノアークテクトニクス研究センタ〃
清水 禎樹
TEL: 029-861-6333 FAX: 029-861-6355
ーshimizu.yoshiki@aist.go.jp〒243-0124
NTT-AT ナノファブリケーション㈱厚木市森の里若宮 3-1〃
高橋 千春
TEL: 046-247-0795 FAX: 046-247-8431
第１製造部
takahasi@nanofab.ntt-at.co.jp〒441-8580
豊橋技術科学大学
豊橋市天伯町雲雀ケ丘 1-1
技術開発センター〃
滝川 浩史
TEL: 0532-44-6727 FAX: 0532-44-6727（電気電子工学系）
takikawa@eee.tut.ac.jp〒390-0821
富士電機デバイステクノロジー㈱長野県松本市筑摩 4-18-1
半導体事業本部 半導体工場〃
田中 裕之
TEL:0263-28-5574(ext.3184) FAX:0263-25-8075
デバイス・プロセス開発部
tanaka-hiroyuki01@fujielectric.co.jp〒239-8686
防衛大学校
横須賀市走水 1-10-20
電気情報学群〃中野 俊樹
TEL: 0468-41-3810-2225 FAX: 0468-44-5903
電気電子工学科tn@nda.ac.jp〒782-8502
高知県香美郡土佐山田町宮の口 185
高知工科大学〃
八田 章光
TEL: 0887-57-2113 FAX: 0887-57-2120
電子・光システム工学科
hatta.akimitsu@kochi-tech.ac.jp〒185-8601(株)日立製作所
国分寺市東恋ケ窪 1-280
中央研究所
〃
前田 賢治
TEL:042-323-1111(ext.2144) FAX:042-327-7708
先端技術研究部
k-mae@crl.hitachi.co.jp〒183-8508
アネルバ㈱府中市四谷 5-8-1〃
真下 公子
TEL: 042-334-0240 FAX: 042-334-2112
次世代技術開発本部
mashimok@mhb.anelva.jp〒816-8580
九州大学大学院
福岡県春日市春日公園 6-1
総合理工学研究院〃
山形 幸彦
TEL: 092-583-7605 FAX: 092-571-8013
融合創造理工学部門
yamagata@ence.kyushu-u.ac.jp42平成 16 年度プラズマエレクトロニクス分科会幹事役割分担
役割分担

留 任

幹事長
副幹事長
分科会ミーティング
シンポジウム総合講演
合同セッション
プラズマプロセシング研究会
SPP-22／プラズマ科学シンポジウム
PSS-2005
光源物性とその応用研究会
プラズマ応用技術の将来ビジョン
研究会等の研究会

サマースクール

プラズマエレクトロニクス講習会

会誌編集・書記

高橋和生
○岡田勝行
井上康志
湯浅基和
高井まどか
須田善行
＊井上康志
＊平松美根男

京大
物質研
名大
積水化学
東大
北大
名大
名城大

須田善行
○岡田勝行
津田 睦

北大
物質研
三菱電機

平松美根男
○篠原正典

名城大
長崎大

津田 睦
○井上康志
湯浅基和

三菱電機
名大
積水化学

高井まどか
○高橋和生
高橋和生
篠原正典

東大
京大
京大
長崎大

ホームページ
会員名簿
庶務
会計
平松美根男 名城大プラズマエレクトロニクス賞○：取りまとめ役， ＊：PSS2005/SPP21 現地実行委員

43

新 任
河野明廣
名大
畠山力三
東北大
大森達夫
三菱電機
酒井伊都子 東芝
東北大
畠山力三
高知工科大
○八田章光
日立
前田賢治
東北大
遠藤 明
名大
＊河野明廣
豊技大
＊滝川浩史
阪大
＊押鐘 寧
富士電機
田中裕之
産総研
清水禎樹
東北大
遠藤 明
八田章光
高知工科大
○大森達夫
三菱電機
高橋千春
NTT-AT
中野俊樹
防衛大
前田賢治
日立
東北大
畠山力三
九大
○山形幸彦
産総研
清水禎樹
三菱電機
○大森達夫
酒井伊都子 東芝
富士電機
田中裕之
防衛大
中野俊樹
真下公子
アネルバ
○押鐘 寧
阪大
押鐘 寧
阪大
山形幸彦
九大
中野俊樹
防衛大
河野明廣

名大

平成 16 年度プラズマエレクトロニクス分科会世話人・委員
1. 応用物理学会講演分科の世話人 （任期：1 期 2 年）
1.2 プラズマ生成技術およびプラズマ源津田 睦（三菱電機）

1.3 反応性プラズマの診断と計測

中野俊樹

（防衛大）

1.4 プラズマ応用プロセス
合同セッション H 兼務
講演企画委員オブザーバ
1.5 プラズマプロセスによるナノテクノロジー
合同セッション F 兼務

関根 誠

（東芝）

林 康明
白谷正治

（京都工繊大）（九大）

1.5 プラズマ現象一般

栃久保文嘉

（都立大）

2. 「応用物理」編集委員 （2004.4〜2006.3）

節原裕一

（京大）

3. 応用物理学会代議委員 （1 期 2 年）

堀 勝
寒川誠二

（名大）
（東北大）

4. GEC 組織委員 （2003.10〜2005.10）

酒井洋輔

（北大）

44

《平成 15 年度後期及び平成 16 年度前期活動報告》
Ⅰ．平成 15 年度プラズマエレクトロニクス分科会第 4
回幹事会

ワークショップの開催について、下記の通り案内がなされ

日時：2004 年 1 月 29 日（木）12:00〜13:00

た。

場所：北海道大学学術交流会館（SPP-21 会場）第 2 会議室

第一部は 2/4 に開催される（会場、東工大）。一般申し込（斧幹事長）

み・講演者含め 100 名余の参加者が見込まれる。第一部に議題及び報告事項：

ついては、引き続き参加の勧誘を進めることが望ましい。

１．理事会報告、分科会新年度予算案

第二部は 2/5−６に開催される（会場、ホテルアソシア高（斧幹事長）山）。第二部の詳細スケジュールが紹介された。定員 72 名

資料にもとづき，応物理事会(12 月)と平成16 年度（2004 年

に対し既に 72 名の参加が確定している。黒字になることが1 月1 日〜2005年12 月31 日）予算案の概略が説明された。

予想される．

新年度への繰越金は 620 万円余りの見込み。

また、文部科学省の支援を受けており第一部は特に格安で参加できるので、東京方面の方は是非参加をして頂くよう

２．平成 16-17 年度幹事長、幹事選挙報告

依頼がなされた。
（斧幹事長）

次期幹事長を河野先生に依頼する件、及び 12 名の幹事

７．2004 年春季応物講演会における応物スクールＢについ候補は、投票の結果全員信任であったことが報告された。

て（白谷副幹事長、関根副幹事長、斧幹事長）

３．第 18 回光源物性とその応用研究会報告

応物スクールＢ「最先端技術を支えるプラズマ科学 -ナノ（安田幹事）からバイオテクノロジーまで-」（第1日目、3/28開催）が企画

12/１神奈川大にて開催されたことが以下の通り報告されされたことが報告され、参加者勧誘をお願いしたい旨案内た。参加人数は 42 名であった。小さな会場でじっくり議論でがあった。専門家だけではなく幅広い分野の人に聞いていきる有意義な会合であった。会計的には若干ではあるが黒ただけるように、内容の設定が行われている。学生の方にも字になった。

積極的に参加をして頂けることが望ましい。なお学会からメール案内がある予定である。

４．会報 No.39 (2003 年 12 月発行) 報告（高橋幹事）

８．2004 年春季応物講演会シンポジウム・総合講演につい

会報について以下の報告がなされた。高井先生ご尽力にてより 12 月末に無事発行された。今後、会議報告については（白谷副幹事長）

会合後直ぐに依頼するようにする。また、幹事会議事録につ

3/30日13:40−17:10にシンポジウム「飛躍する磁性体デバ

いては、報告者の方より別途メールにて内容を確認頂くよう

イスの作製プロセスの現状と課題」を企画したことが報告さにする。

れた。参加者勧誘をお願いしたい旨案内があった。なおシンポジウムに先立ち13:30分から第2回プラズマエレクトロニ

５．第 21 回プラズマプロセシング研究会の進行状況報告

クス賞授賞式が行われることも報告された。

（須田幹事）
開催中の研究会について次のように報告がされた。参加

９．2004 年春季応物講演会における合同セッションについ者については、一般130 名、学生100 名と例年並である。幸てい天候にも恵まれ順調に運営がおこなわれている。

（白谷副幹事長）
合同セッションの現状について下記の通り報告がなされ

６．プラズマナノテクノロジーとその将来ビジョンに関する国た。

際ワークショップについて

応物では一般講演が 4277 件と過去最高となったこと、シン45

ポジウムは 30 件あることが報告された。

１２．プラズマ科学シンポジウム 2005／第 22 回プラズマプロ

また下記の３つの合同セッションが開催されることが報告さ

セシング研究会について (PSS-2005/SPP-22)

れ、全ての合同セッションを継続申請することも了承された。

（斧幹事長）

・

セッション D プラズマ CVD の基礎と応用 22 件

来年度 1 月末に名古屋にて開催の予定であることが報告

・

セッション E カーボンナノチューブの基礎と応用 116された。詳細は未定である。今後組織委員会（3 月開催）に件て大枠が決められる。

・

セッション H プラズマエッチングのデバイス応用とその基礎 19 件１３．第２回プラズマエレクトロニクス賞について（斧幹事長）

１０．応物講演会、講演分科について

応募件数は４件であった。現在、選考委員会で選考中で（白谷副幹事長）

あり、決定し次第、幹事会での承認および応物理事会への講演世話人の交代に関する提案がなされた。

報告手続きを進める予定である。なお、表彰式は、3 月30 日

1.2 プラズマ生成技術およびプラズマ源 津田氏の応物講演会シンポジウム会場にて行う予定である。

1.3 反応性プラズマの診断と計測 中野先生
1.4 プラズマ応用プロセス 関根氏

１４．今後のスケジュールなど

1.5 プラズマプロセスによるナノテクノロジー（斧幹事長）

林先生、白谷先生

・今後のスケジュールについて

1.5 プラズマ現象一般 栃久保先生

応物スクール 3/28

講演会について下記の案内があった。

次回分科会ミーティング 3/29。幹事交代。

春の講演会から一部会場でプロジェクターでの使用が試

シンポジウム 3/30

行される（但し OHP の準備は必須）。
また、2/5 開催の第5 回講演会企画運営委員会で、来年度・SPP-23 (January 2006), ICRP-6 についてと再来年度（放射線・プラズマエレクトロニクス分科の代表世ICRP-6 開催時期について、ISPC が 2007 年夏に京都で予話人が放射線分科から出る期間）、プラズマエレクトロニクス

定されているで、その前後に開催するのが望ましい（2006

分科会からオブザーバを参加させることを提案する予定で

年 1 月〜7 月）。新年度（今年度）、分科会会計の中からあり、認められた場合には新講演会世話人となる予定の関ICRP-6 開催のための国際会議割当金として 200 万円を計

根氏にオブザーバをお願いすることが報告された。

上した。

さらに，秋の講演会では下記の二つのセッションがポスタ
ー講演となる見込みであることが報告された。

・会員増対策

1.2 プラズマ生成技術およびプラズマ源

会員数については、現在 480 名くらいで増減はトータルで

1.3 反応性プラズマの診断と計測はあまり無い（毎年 10 名―20 名の新規加入があるが、ほぼ同数が退会するため）。今後も加入については、関係者で１１．2004 年度第 11 回 PE サマースクールについて勧誘をしていくことが確認された。

（篠原幹事）
サマースクールの開催について、以下の報告があった。
催案内を掲載する。また、応物期間中にビラを配布する。参Ⅱ．第 39 回プラズマエレクトロニクス分科会ミーティン
グ（兼第 5 回幹事会）

加費については現在検討中である。日程が大学によっては

日時：平成 16 年 3 月 29 日（月） 12:00〜13:00

試験期間と重なる場合もあるが、積極的な参加が得られるよ

場所：東京工科大学、講義棟 C、1F−102

8/1−3 に開催予定である。2/15 発刊予定の応用物理に開う協力の依頼があった。次世代を担う若手育成のためという主旨であることから、応物活性化支援金の申し込み（20 万議題及び報告事項：円）が行われた。

１．平成 15 年度活動報告、収支決算報告46

（斧幹事長、平松幹事）

７．プラズマナノテクノロジーとその将来ビジョンに関する国2003 年度の分科会活動と収支決算に関して、資料にもと際ワークショップ報告

づき全般的な報告がなされた（1 月の SPP-21 と 2 月のプラ

(斧幹事長)

ズマナノワークショップについては 2004 年度に決算報告がワークショップについて下記の通り報告がなされた。2/4〜

行われる予定である）。この 2 年間、幹事および分科会の皆6 に東京および高山で開催された。東京会場では（2/4）、広様のご協力により無事かつ活発に活動ができたことについい視野で研究戦略やビジネスの展開等について議論が行て感謝の意が述べられた。

われ、参加者はパネリストを含めると 90 名であった。高山会
場では（2/5，6）、プラズマの先端技術についての討論が中

２．平成 16−17 年度幹事長、幹事選挙結果報告

心に行われた。海外 12 名を含む 70 余名の参加があり、雪（斧幹事長）の中ではあったがプラズマ関係者が今後どのようにナノテク

12 月〜1 月の分科会会員による選挙により全員信任されに関わってゆくかを考えていく上で有意義な会となった。

た．幹事長については河野先生（名大）に就任の承諾を頂いたこと、また平成 16 年度新たに任命される幹事 12 名の８．第 2 回プラズマエレクトロニクス賞報告

方々の承諾も頂いたことが伝えられた。

（斧幹事長）
資料にもとづき、東洋大 山田氏ほか、物質研 小松氏ほ

３．第 14 回プラズマエレクトロニクス講習会報告かの 2 件の論文が受賞対象論文となり、それぞれ 2 名、およ（関根副幹事長）

び 9 名の受賞者が決定したことが報告された。なお授賞式

講習会について以下の報告がなされた。9/11−12 に東洋は、3/30 のシンポジウム会場にてとり行われる。

大スカイホールにて開催された。大気圧プラズマやバイオ関連を含めた「実践的」な議論が行われた。ショートプレゼ

９．2004 年春季応物関連連合講演会応物スクール B、シンンテーション、パネル、ポスター展示等も効率的に進められポジウム合同セッションについてた。収支としては 152 万円の黒字となった。

（白谷副幹事長）
応物スクール B 及び合同セッションについて以下の報告

４．第 18 回光源物性とその応用研究会報告がなされた。スクールが 3/28 日に実施され、130 名程度の（安田幹事、須田幹事）

参加者が得られた。シンポジウムは 30 日に開催される。合研究会について以下の報告がなされた。12/1 に神奈川大

同セッションは講演会会期中数日に渡って開催されており、にて開催された。32 名の聴講者で、少人数でじっくり時間を全体として講演件数が多くパラレルに進める形となった。会かけて議論できる場となり有意義な会合であった。収支は若員皆様の協力に対するお礼が述べられた。

干の黒字となった。
１０．会報 No. 40 (2004 年 6 月発行) について
５．会報 No. 39 (2003 年 12 月発行) 報告（高橋幹事）（高橋幹事）

会報の発行について、4 月末の幹事会に向けて目次が作皆様のご協力により今年度無事に発行を行うことができた成中であることが報告され、記事執筆の協力要請がされた。

旨伝えられた。今後の発行についても、会議報告等に対する会員の協力が要請された。

１１，第 11 回プラズマエレクトロニクスサマースクール (2004
年 8 月開催)について

６．第 21 回プラズマプロセシング研究会 (SPP-21) 報告（篠原幹事）(須田幹事)

サマースクールについて以下の案内がされた。学会から研究会について以下の報告がなされた。1/28〜30 に北大

20 万円の活性化支援金が支給されることが決まったこと、そで開催された。参加者は 213 名であった。現地実行委員をれに伴い分科会からも同額 20 万円の出費が必要となること

はじめ関係者の皆様へのお礼が述べられた。

が説明され、出費に対する了承が得られた。
8/1〜3 名古屋市民休暇村にて開催され、講師はすでに47

確定しており今後は時間割等が決定される予定である。また

200 万円が拠出できるように分科会の諸行事の収支を考え

ポスターセッションで優秀発表者には賞が送られる予定でてゆく必要があることが報告された。

ある。一部の大学では試験期間と重なると予想されるため、できる限りの対応がなされるよう協力の要請があった。また、

３．年間スケジュール

企業の研修として利用してもらえるよう検討の要請があっ（河野幹事長）た。

資料に基づき年間スケジュールの確認を行った。

１２．2004 年秋季講演会 (東北学院大学) のシンポジウム，

４．分科会幹事長会議（3/30）報告

総合講演，合同セッション (2004 年 9 月) について

（河野幹事長）（白谷副幹事長）

会員諸費用として 5000 円/人 の経費がかかるため、分科2004 年度のシンポジウム案については、新年度幹事会で会から応物本部に納める A 会員事務経費負担金が来年度議論される予定。

から 1000 円値上げされて 2000 円となることが報告された。

講演会世話人の交代（進藤先生⇒津田氏、林先生は留任、大森氏⇒関根氏）について報告がなされた。

５．プラズマ科学シンポジウム 2005/第 22 回プラズマプロセ
シング研究会

１３．プラズマ科学シンポジウム 2005/第 22 回プラズマプロ（河野幹事長）セシング研究会 (PSS-2005/SPP-22) (2005 年 1 月に名古資料に基づき、プラズマ・核融合学会が幹事学会となり，屋にて開催) について2005 年 1 月 26 日〜28 日に、合同シンポジウムを開催する（河野副組織委員長）

こと。分科会幹事より現地実行委員を選出することが承認さ

3/16 に第 1 回の組織委員会が開催され、大枠が決められれた。（主催予定：プラズマ・核融合学会，応用物理学会，学たことが報告された。

振 153 委員会他）

１４．平成 16-17 年度副幹事長、新幹事紹介

６．第６回反応性プラズマ国際会議 ICRP（第 23 回プラズマ（河野次期幹事長）

プロセッシング研究会 SPP）

斧幹事長より幹事長退任の挨拶と退任の副幹事長および（河野幹事長）幹事の紹介があった後、河野新幹事長より新副幹事長 2 名2006 年に ICRP-6/SPP-23 合同会議を、 東北地区で行うと新幹事 12 名の方々の紹介が行われた。

ことが承認され、組織委員長を、畠山副幹事長（東北大学）に依頼することが承認された。

Ⅲ．平成 16 年度 第 1 回幹事会

７．幹事役割分担（案）

日時：2004 年 4 月 17 日（土） 13：00〜16：30（河野幹事長）名古屋大学 工学研究科

光源物性とその応用研究会の幹事（高橋千春、NTT-AT）と、プラズマ応用技術の将来ビジョン研究会等の研究会 の議題および報告事項

幹事（八田章光、高知工科大）を入れ替えることで承認され

１．幹事自己紹介ならびに、分科会会員現状の説明

た。 SPP-22/PSS2005 の現地実行員に、滝川幹事（豊技大）、（河野幹事長）

押鐘幹事（阪大）が選出された。その他、各役割に対して取幹事自己紹介の後、資料に基づき分科会会員現状の説りまとめ責任者を決定した。（資料：平成 16 年度分科会幹事

明が行われた。また、幹事名簿に対して一部修正を行った。

役割分担（案））

２．分科会収支予算書説明

８．プラズマエレクトロニクスサマースクール（河野幹事長）（平松幹事）

３年に１回開催予定の反応性プラズマ国際会議（ICRP）へ

第11回のプラズマエレクトロニクスサマースクールの準備48

状況報告が資料に基づき報告された。サマースクールの校た。広告および参加費は昨年度と同様にする。

長に、畠山副幹事長が就任することが承認された。
１３．第 19 回光源物性と応用研究会について
９．PE 分科会報 No.40（案）について（須田幹事）（高橋幹事）

平成16 年度の第19 回研究会の運営方針について、資料

６月発行予定の会報 No.40 の目次案について資料に基に基づき説明された。照明学会との役割分担が不明確のたづき説明がなされた。今回から、プラズマエレクトロニクス賞

め、照明学会と今後の運営方針について議論する必要があの受賞者からのことばを、会報の前半部分で紹介することがることを、応物側から提案することにした。

承認された。また奨励賞については、受賞があったつど掲載することになった。

１４．ビジョンに研究会について（岡田幹事）

１０．応用物理学会合同セッション・シンポジウムについて

ナノテク支援センター（文科省）や、JST に補助金申請の（岡田幹事）

応募をするべきとの意見から、募集プロセスを岡田幹事がシンポジウムの前に受賞記念講演を行うこと（２名、各 30

調べ早急に対処することになった。

分）。３つの合同セッション D：「プラズマ CVD の基礎と応用」、

目標人数 100 名、東京地区で、適切な会場を探すことに

F：「カーボンナノチューブの基礎と応用」、H：「プラズマエッ

なった。一ツ橋大学、藤村先生などの文科系の先生を含めチングのデバイス応用とその基礎」を行うこと、マイクロプラた講演会とすることが承認された。

ズマの基礎と応用に関するシンポジウムを開催することが決定された。申し込みは、4 月30 日なので早めにプログラムを

１５．ホームページについて検討する必要があるため、八田幹事にメールで講師案を提（高橋幹事）

出することになった。シンポジウムは、講演会２日目の午後更新して欲しい内容を高橋幹事に電子ファイルで送ることに開催することが承認された。

になった。

１１．2004 年秋季応用物理学会の分科会 Meeting について

１６．第３回プラズマエレクトロニクス賞について（高橋幹事）（河野幹事長）講演会期間中に行われている分科会のミーティングの名

募集要項をプラズマエレクトロニクス会報と学会誌に載せ称は、当面，「プラズマエレクトロニクス分科会ミーティング」

ることが承認された。応募の母数を増やしたいので、積極的とすることとした。

に応募してもらえるように、幹事側（例えば歴代幹事長）から自薦を勧める。

１２．第１５回プラズマエレクトロニクス講習会について（津田幹事）

１７．その他

開催時期を 10 月、会場は東京地区で行うことが決定した。

・分科会名簿（3 年に１度の割合で出版）について

5 月中旬までにテーマおよび講師を決めて会報等に掲載す分科会名簿を作成することが決定された。応用物理学会

る。ポスター展示は、企業と大学の交流を深めるメリットがあ

名簿用電子ファイルの入手可否について河野幹事長が調るので、今年度も引き続きポスター展示を行う方針を承認しべることとした。

49

《行事予定案内》
第 11 回プラズマエレクトロニクスサマースクール 案内東北大学 工学研究科
既に，「応用物理」5 月号等で御案内しておりますが，
今年も長野県木曽御岳でプラズマエレクトロニクスサマ
ースクールを開催いたします。本サマースクールでは，大学院生，企業に入ってプラズマ技術が必要になった技術者，この分野に興味のある方などを対象として，プ
ラズマエレクトロニクスの基礎に最新の話題を加味した講義を行ないます。また，分科会担当幹事のショート講
演により，最新の研究トピックスを紹介します。さらに，懇親会や参加者によるポスターセッションを企画しており，
プラズマエレクトロニクスの知識に加え，大学や職場を超えた仲間作りにもきっと役立つことでしょう。このように，プラズマ応用，プラズマプロセッシングに関する入門的セミナーとしては他に無い有益な内容であると自負しております。会員の皆様方には，ご自身の参加はもとより，周りの方々，お心当たりの方々にも参加をお奨めいた
だきたく，この場を借りて，再度御案内させていただきます。
開催日時
平成 16 年 8 月 1 日（日）〜8 月 3 日（火）開催場所
名古屋市民御岳休暇村〒397-0201 長野県木曽郡王滝村 3159 番 25
TEL：0264-48-2111，FAX：0264-48-2874
講義内容（担当講師），及びスケジュール
8/1 (日)13:30−15:00 入校受付
15:10−15:25 入校式（東北大：畠山 力三）
15:30−17:10 「プラズマ生成の原理と実際」（静大：永津 雅章）
17:10−17:30 ショート講演 1：「有機系低誘電率材料のプラズマエッチング」（名城大：平松 美
根男）
17:30−19:00 入浴
19:00−21:00 懇親会
8/2 (月)07:00−08:30 朝食

畠山 力三

09:00−09:20 ショート講演 2：「Si 表面水素とプラズマ相互作用に関する赤外分光解析」(長崎大：篠原 正典)
09:20−11:00 「電離気体の基礎過程とプラズマモデリング」（慶大：中野 誠彦）
11:10−11:30 ショート講演 3：「プラズマ応用新機能性
ナノカーボン創製を目指して」(東北大：畠山 力三)
11:40−11:50 集合写真撮影
11:50−13:00 昼食
13:30−15:10 「プラズマ計測の基礎と応用」（防大：中野 俊樹）
15:10−15:30 ショート講演 4：「レーザートムソン散乱法
によるプラズマ諸量の計測」（九大：山形 幸彦）
15:40−17:20「プラズマエッチングの基礎と最新動向」（東芝：栗原 一彰）
17:20−17:40 ショート講演 5：「大気圧マイクロプラズマによるナノ材料プロセシング」（産総研：清水 禎樹）
18:00−19:30 食事，入浴
19:30−21:30 談話会（ポスターセッション）
8/3(火)
07:00−08:30 朝食
08:50−09:00 アナウンス
09:00−10:40 「プラズマ CVD の基礎と最新動向」（産総研：松田 彰久）
10:40−11:00 閉校式
参加費

43,000 円

学生（大学院
生を含む）
17,000 円

48,000 円

22,000 円

53,000 円

27,000 円

一般
応用物理学会会員「協賛学協会会員」あるいは「プラズマエレ
クトロ分科会会員で応用物理学会非会
員」
非会員

50

・社会人の場合：企業の仕事にまつわるもの企業，自社製品の PR
入社前の大学での卒業研究などであれば，内容は一切問いません。発表時間は 30〜40
分程度，お一人につき 1m×1m 程度のボードを用意します。

参加費には，宿泊費，食費，テキスト代，懇親会費，消費税等，全てが含まれます。なお，後述のように，遠方から参加の応用物理学会学生会員（含大学院生）には交通費の補助をいたします。
申込方法
以下の①〜③の事項を記入の上，E-mail，FAX，郵送の何れかの方法で，後述の申込先（長崎大：篠原）まで
お申し込み下さい。申し込みを受け取り次第，参加登録の確認を通知しますので，その後に参加費を振り込んで下さい。なお，不参加となられた場合，参加費の返却は出来かねます。
① 参加者氏名（フリガナ），性別，宿泊室での喫煙又は非喫煙の別② 所属（学生の場合は学年と研究室名も），連絡先（郵便番号，住所，電話番号，FAX 番号，E-mailアドレス）③ 会員または非会員の別，会員の場合は所属学協会と会員番号（申請中の場合は申請書のコピー）

問い合せ及び申込先
篠原 正典（長崎大学・工学部）〒852‑8521 長崎県長崎市文教町 1‑14
TEL＆FAX：095‑819‑2542
E-mail：sinohara@net.nagasaki-u.ac.jp
担当幹事
校長：
畠山 力三 （東北大）
幹事：
平松 美根男（名城大）
篠原 正典 （長崎大）
山形 幸彦 （九大）
清水 禎樹 （産総研）
その他の情報(1) 第１1 回プラズマエレクトロニクスサマースクール・ホームページ
http://annex.jsap.or.jp/plasma/sum-schl-04/index.ht
ml

定員：６０名
参加締切：７月 12 日（月）ただし、定員になり次第、締め
切ります。
振込先
三井住友銀行 本店営業部 口座（普通）3339808
社団法人応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会＊ 振込者確認の簡便性のため，振込は参加者の個人名でお願いいたします。

(2)名古屋市民御岳休暇村（宿舎）のホームページ
休暇村の施設，現地周辺の地図，行き方等の情報が得られます。
http://www.kyukamura.city.nagoya.jp/

学生会員への交通費補助について
下記の条件を満たす場合，交通費を補助します。
＜交通費補助の条件＞
学生会員若しくは今回学生会員(大学院生を含む)になられた方で，大学所在地が関西（京阪神を含む）以遠又は関東（神奈川、東京は除く）以遠の方を対象とします。また，大学院生についてはポスターセッションでの発表を必須条件とします。

(3)名古屋市民御岳休暇村までの交通案内[JR を御利用の方]☆ 新宿 ―（JR 中央本線，特急 2 時間 40 分）― 塩尻―（JR 中央本線，特急 30 分）― 木曽福島駅 ―（バス，
1 時間）― 休暇村☆ 名古屋 ―（JR 中央本線，特急 1 時間 20 分）― 木
曽福島駅 ―（バス，1 時間）― 休暇村[自動車を御利用の方]☆ 東京 ―（中央自動車道，約 3 時間）― 塩尻 IC ―（国道 19 号線，約 1 時間）― 木曽福島（元橋）―（約 1時間）― 休暇村☆ 名古屋 ―（中央自動車道，約 1 時間）― 中津川
IC ―（国道 19 号線，約 1 時間 20 分）― 木曽福島（元橋）―（約 1 時間）― 休暇村

ポスターセッションについて
参加者間の交流が深まるよう，本サマースクールでは，例年，非常に好評であるポスターセッションを中心とする談話会を企画しております。参加者自身のバックグラ
ンドに関連したもの，例えば・学生の場合：現在の研究テーマにまつわるもの学部での卒業研究 など

51

2004 年秋季第 65 回応用物理学会学術講演会シンポジウム 案内（1.2 プラズマ生成技術・プラズマ源、1.4 プラズマ応用プロセス）「マイクロプラズマの基礎と応用の新展開」
高知工科大学八田 章光

物質・材料研究機構

プラズマを用いた材料プロセスは、これまで大容積・岡田 勝行

物材機構 小松正二郎 （３０分）

大面積で均一に処理を行うことを追求してきましたが、発想を変えて『必要な場所に必要な大きさのプラズマを

３．Introductory talk 特定領域研究のめざすもの生成』し、ミクロなスポット領域でプロセスを行う『マイクロ−マイクロプラズマの時空間分光診断−

プラズマ』が注目されています。そこでマイクロプラズマ

京都大 橘邦英 (２５分)の生成や計測などの基礎技術と、今後期待される様々な応用展開について議論を深めるべく本シンポジウム

４．ハーモニック ECR による低気圧マイクロプラズマのを企画しました。皆様には奮ってご参加いただき、今後

生成

長崎大 藤山寛 (２０分)のマイクロプラズマプロセシングの新展開を探る有意義なシンポジウウムにしていただきたくお願い申し上げま

５．ホローカソードマイクロプラズマの電子温度計測

す。なおシンポジウムに先立ち、第２回プラズマエレクト

防衛大 中野俊樹 (２０分)

ロニクス賞受賞記念講演（２件）が行われます。
＊ ＊＊休憩（１５分）＊＊＊世話人：八田章光（高知工科大）岡田勝行（物質・材料研究機構）

６．大気圧プラズマによる Si の微細線エッチングと鉛フリー対応コイル端子処理技術

開催日時：９月２日（木）13：30-17：05

松下電器 奥村智洋 (２５分)

プログラム

７．大気圧マイクロプラズマによるカーボンナノチュー

１．第２回プラズマエレクトロニクス賞受賞記念講演

ブの合成

産総研 清水禎樹 (２０分)「大気圧マイクロ波プラズマの生成とその極微量元素分析への応用」東洋大 岡本幸雄 （３０分）

８．レーザープラズマを用いた THz 電磁波発生
宇都宮大 湯上登 (２５分)

２．第２回プラズマエレクトロニクス賞受賞記念講演「レーザー・プラズマ複合化プロセスによる新規機能性

９．まとめ

ＢＮ微粒子・薄膜の合成と評価」

52

高知工科大 八田章光 （５分）

第 19 回光源物性とその応用研究会 案内
北海道大学

須田 善行

高知工科大学八田章光

開催日： ２００４（平成１６）年１０月４日（月）参加・講演の申込・問合せ、および予稿送付先：

場 所： 北海道大学 百年記念会館 （札幌市）〒060-0814 札幌市北区北 14 条西 9 丁目

講演トピックス： 高輝度放電（HID）ランプとその応用に北海道大学大学院情報科学研究科 情報エレクトロニ

関する最新トレンド、他

クス専攻

講演募集：

須田 善行

照明用、ディスプレイ用、産業用、計測用の光源、マイTEL：011-706-6482

クロプラズマ、レーザ等の研究開発およびその応用にかE-mail：suda@ist.hokudai.ac.jp

FAX：011-706-7890

かわる講演を、上記予定テーマに限らず広く募集
発表形式： 口頭発表のみ、講演時間は 35 分（質疑応

会場案内： 北海道大学 百年記念館 大会議室

答含む）を予定〒060-0808 札幌市北区北 8 条西 6 丁目、参加費： 2,000 円（予稿集代を含みます）

TEL：011-706-3211（管理人室）■札幌駅北口より徒歩７分

締 切： 講演申込 8 月 16 日（月）新千歳空港駅より札幌駅は JR 快速にて約 36 分（15 分

予稿提出（A4 ６ページ以内） 9 月 6 日（月）間隔で運行）

参加申込 当日受け付け可（予約申込歓迎）■詳細は以下の URL をご参照下さい（キャンパスマップ※プログラムは下記ホームページにて、8 月 20 日に公

内の５番）

開予定

http://www.hokudai.ac.jp/bureau/map/mapindx1.htm

http://mars-ei.eng.hokudai.ac.jp/˜kougen19/

共 催： （社）照明学会 光の発生・関連システム研究
専門部会， （社）照明学会 光放射の応用・関連計測研究専門部会， （社）応用物理学会 プラズマエレクト
ロニクス分科会53

第 15 回プラズマエレクトロニクス講習会 案内「プラズマの基礎と応用最前線」−ULSI から MEMS，フォトニック，ナノチューブ，イオン注入，環境まで−
三菱電機（株）主催： 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会

大森 達夫⑤「プラズマ技術と MEMS 製造」

日時： 2004 年 10 月 14 日（木）〜15 日（金）小野 崇人（東北大）

場所： 慶應義塾大学 日吉キャンパス〒223-8521 神奈川県横浜市港北区日吉 4-1-1⑥「プラズマ CVD によるカーボンナノチューブ成長」

TEL: 045-563-1111 (代表)

林 康明（京都工繊大）

内容／プログラム：⑦「プラズマイオンプロセスとその応用」

プラズマの基礎から幅広い応用までの講義を行います。

行村 建（同志社大）

また、最先端 ULSI デバイスの製造技術に関し、装置メーカ
ー，デバイスメーカー，ソフトベンダーの技術者によるポスタ⑧「プラズマ技術の環境応用」

ー発表も行い、受講者の皆様と一緒になって議論していた

葛本 昌樹（三菱電機）

だきます。プラズマの基礎を勉強したい学生からプラズマ技
術の最新の応用に関心のある技術者や研究者を対象として、

参加費： テキスト代を含む、括弧内は学生
応物&PE 分科会個人会員：

30,000 円（ 8,000 円）

応物個人会員：33,000 円（11,000 円）【10 月 14 日（木） 10:00〜18:30】

分科会のみの個人会員：

42,000 円（15,000 円）①「プラズマの生成と制御法」

協賛学協会個人会員：

42,000 円（15,000 円）

その他：

45,000 円（18,000 円）

本講習会を企画いたしました。

進藤 春雄（東海大）

なお、非会員の方でも参加申込時に PE 分科会（年会費3,000 円）に入会いただければ、会員扱いとさせて頂きま②「反応性プラズマ中の気相・表面反応」

す。

堀 勝（名大）定員： 100 名（定員になり次第締切り）③「プラズマの計測手法」
豊田 浩孝（名大）申込締切： 10月8日（金） （但し、余裕のある場合には期日後も受付けます）「Sub-100 nm デバイスの製造最前線」 （ポスター）
・プラズマ装置技術
・ｴｯﾁﾝｸﾞ/CVD プロセス技術

申込方法： 詳細はプラズマエレクトニクス分科会のホーム

・APC（Advanced Process Control）量産技術

ページに後日掲載します。

・装置＆ﾌﾟﾛｾｽ設計を支援するｼﾐｭﾚｰｼｮﾝ技術

http://annex.jsap.or.jp/support/division/plasma
問合せ先： 〒464-8603 名古屋市千種区不老町【10 月 15 日（金） 10:00〜17:00】

名古屋大学エコトピア科学研究機構 井上 泰志④「プラズマ技術とフォトニックデバイス製造」

TEL: 052-789-4639、FAX: 052-789-4699

高橋 千春（NTT-AT）

E-mail: inoue@numse.nagoya-u.ac.jp54

第 5 回プラズマ応用技術の将来ビジョン研究会 案内「プラズマプロセスの研究戦略−環境・エコマテリアルへの応用と将来展望」
物質・材料研究機構

岡田 勝行

防衛大学校

中野 俊樹

２．「大気圧・非平衡プラズマの魅力と環境材料へ

プラズマ応用技術の将来ビジョン研究会（通称 ビジョン研究会 ）は 2000 年 11 月に第 1 回目を開催して以来、の応用・将来展望」

これまで「半導体プロセス・デバイス」「産学連携」「グロ上智大 小駒益弘 （45 分）

ーバル化」「ナノテクノロジー」をキーワードに従来の講演会、研究会での Scientific な議論ばかりでなく、プラズ

３．「大気圧プラズマ触媒除外技術（Plasma

マ応用技術の研究戦略、将来展望を議論する異分野

Assisted Catalytic Technology for

交流のユニークな研究会として好評を博してきました。

Abatement:PACT）と環境ビジネス」

今回は「環境・エコロジー」をキーワードに「プラズマプロ

I'm PACT Ltd. 林佑二 （45 分）

セスの研究戦略---環境・エコマテリアルへの応用と将休憩 15 分来展望」と題して研究会を企画しました。今更言うまでもなく「環境・エコロジー」は 21 世紀の我々人類が直面す４．「環境・エコ材料の現状と課題および将来展望」

るもっとも大きな課題であり、それらの問題を解決する新物質・材料研究機構 原田幸明（45 分）

たな Science & Technology が求められています。本研究会を通して、プラズマプロセスが「環境・エコロジー」にいかに貢献できるのか、そのとるべき研究戦略につい

５．パネルディスカッションて議論を深めたいと思いますので、皆様の積極的なご「プラズマプロセスは環境問題の救世主となりうる参加をお願いいたします。

か？」（45 分）

テーマ：「プラズマプロセスの研究戦略--問い合わせ先：

環境・エコマテリアルへの応用と将来展望」

岡田勝行
物質・材料研究機構 物質研究所

開催日時：１１月第３週または第４週の内の半日

E-mail: okada.katsuyuki@nims.go.jp（13：00-17：00）

Tel.029(860)4322, Fax.029(852)7449
会場：東洋大学白山キャンパス（予定）
最新情報：
参加費： 応物非会員

５,０００円

応物会員

４,０００円分科会会員

２,０００円

URL: http://annex.jsap.or.jp/plasma/担当幹事：大森達夫（三菱電機）

プログラム

津田睦（三菱電機）

１．「環境・エコ材料のビジネスモデルとプラズマ

中野俊樹（防衛大）プロセスの研究戦略」

前田賢治（日立）

東芝・ASET 伊藤仁（45 分）

高橋千春（NTT）
岡田勝行（物質研究所

55

プラズマ科学シンポジウム 2005／第 22 回プラズマプロセシング研究会 案内（PSS-2005/SPP-22）
副組織委員長 名古屋大学
第 22 回プラズマプロセシング研究会はプラズマ科学
シンポジウム 2005 との合同会議として開催されます。
プラズマ科学シンポジウムは，基礎から応用にわたる
プラズマ関連の国内諸学協会のメンバーが一堂に会して，相互の研究活動を総合的に把握し，広範な情報交換を通して研究の一層の活性化を促すことを目的として，2001 年に第１回の会議が京都で開催されました。この時の主催団体は応用物理学会，プラズマ・核融合学会，
学振プラズマ材料科学第 153 委員会であり，応用物理学会（本分科会）が幹事学会となり，第 18 回プラズマプ
ロセシング研究会との合同会議として開催されました。
今回は菅井秀郎・名古屋大学教授を組織委員長として，プラズマ・核融合学会が幹事学会となり準備が進められています。下記の要領で広範な内容の魅力ある企画が練られています。本分科会の主要行事として，多数の皆様の参加をお待ちしております。
記
日時：2005 年 1 月 26 日（水）〜28 日（金）会場：ウィル愛知（愛知県女性総合センター）〒461-0016 名古屋市東区上竪杉町１番地
TEL 052-962-2511(http://www.will.pref.aichi.jp/)
会議内容の概要（計画中，以下のテーマ名は暫定です）
１） 総合講演（60 分）１件
２） 指定テーマ講演（〜45 分）６件
・ LSI プロセスの現状
・ 環境応用・ 新規プラズマ応用
・ 超高強度レーザーによるプラズマ物理と応
用・ 宇宙における高エネルギープラズマ・ 燃焼プラズマの切り開く物理３） シンポジウム（12 件，各テーマ 3〜４件の講演）
マイクロプラズマ，炭素系プラズマ，新光源，マイクロ波放電プラズマ，負イオンと応用，プラズマのモニタリング，レーザー計測の新展開，プラズ
マ中の構造形成，相対論プラズマの新領域，宇
宙環境と宇宙天気，プラズマ・表面相互作用，プラズマが関与する爆発・突発現象，プラズマシミ

河野 明廣ュレーションの切り開く世界
４） 一般講演（すべてポスター講演です）
1)プラズマの基礎・素過程
2)プラズマの発生・制御
3)プラズマの診断・計測
4)プラズマ・表面相互作用
5)プラズマのモデリング6 プラズマ材料プロセス
7)電子デバイスプロセス
8)プラズマの環境・生体医療技術応用
9)磁気閉じ込め核融合
10)慣性核融合
11)宇宙プラズマ（スペース，天体）
12）その他
５） 参加費
主催・共催・協賛・関その他
連学協会会員一般

12,000 円

18,000 円

学生

3,000 円

7,000 円

（事前申し込み期限以降一般 3,000 円，学生 1,000円増）
６） 締め切り
参加申し込み（事前申し込み），講演申し込み：
2004 年 10 月 25 日（月）論文提出（A4，2 ページ，英文）2004 年 12 月 13 日（月）７）詳細問合せ先：
プラズマ・核融合学会事務局 石山千晶
〒464-0075 名古屋市千種区内山 3-1-1-4F
Email: jspf@nifs.ac.jp
シンポジウムホームページ
http://jspf.nifs.ac.jp/PSS2005/
主催：（手続き中を含む）
プラズマ・核融合学会，応用物理学会，学振プ
ラズマ材料科学第 153 委員会，核融合科学研究所，名大 21 世紀プラズマ COE Plasma-Nano
共催：日本物理学会、電気学会、放電学会、電子情報通信学会、他

56

《掲示板》
第３回プラズマエレクトロニクス賞公募
プラズマエレクトロニクス賞の受賞候補論文募集要項●

プラズマエレクトロニクス分科会では，毎年，プラズマエレ

当該論文の内容が発表されたプラズマエレクト

クトロニクスに関する学術的あるいは工業的に価値のある優

ロニクス分科会が主催する研究会，国際会議等

秀な論文を対象とし，その著作者に「プラズマエレクトロニクの会議録等の２件以内のコピー●

ス賞」を贈り表彰を行っています。候補論文は自薦・他薦を著者全員について和文で以下を記入した書
類氏名，会員番号，勤務先（連絡先）

問いません。下記により多数の方々が応募されるようご案内●

いたします。

推薦書（自薦，他薦を問わず，論文の特徴，優れた点などを 400 字程度わかりやすく記すこ記
授賞対象論文 プラズマエレクトロニクス分科会が主催すると。
）

研究会，国際会議等で発表され，且つ 2002 年，2003 年，

表彰 2005 年春季応用物理学会期間中に行います。受賞2004 年の発行の国際的な学術刊行物（JJAP 等）に掲載さ者には賞状および記念品を贈呈いたします。また 2005 年

れた原著論文。受賞者は，表彰の時点においてプラズマ

秋季講演会期間中に記念講演を依頼する予定です。

エレクトロニクス分科会会員あるいは応用物理学会会員と書類提出期限 2004 年 12 月 13 日（月）必着する。

書類提出先 〒102-0073 東京都千代田区九段北 1-12-3

提出書類 以下の書類各１部，及びそれらの電子ファイル

井門九段北ビル５階社団法人応用物理学会 プラズマエ(PDF ファイル)一式●

レクトロニクス分科会幹事長（封筒表に「プラズマエレ

候補論文別刷（コピーでも可，第１ページに候補

クトロニクス賞応募」と朱書のこと。
）

論文と朱書すること。関連論文があれば２件以内の別刷またはコピーを添付。）

なお下記の賞規定もご参照下さい。

プラズマエレクトロニクス賞規定
9． 表彰は毎年応用物理学会春季講演会において行う。
10． プラズマエレクトロニクス分科会幹事会は，毎年 11 月までに授賞候補者募集要項を「プラズマエレクトロニクス
分科会会報」および応用物理学会機関誌「応用物理」
誌上に公表し，広く募集する。
11． 受賞者の選考はプラズマエレクトロニクス分科会幹事長が委嘱した「プラズマエレクトロニクス賞」選考委員会が行う。
12． 受賞者が決定したときは，「プラズマエレクトロニクス賞」
選考委員会委員長が，プラズマエレクトロニクス分科会
幹事会に選考の経過および結果を報告する。
13． プラズマエレクトロニクス分科会幹事長は，選考の経過
および結果を応用物理学会理事会に報告する。
14． この賞の実施に関する必要な事項の審議および決定はプラズマエレクトロニクス分科会幹事会がお行う。
15． 本規定は，理事会の承認を経て改訂することができる。
付則： この規定は，平成 14 年 4 月 1 日より施行する。

1． この規定はプラズマエレクトロニクスに関する学術的あ
るいは工業的に価値のある優秀な論文を表彰の対象論文とし，その著作者にたいして社団法人応用物理学
会プラズマエレクトロニクス分科会（以後プラズマエレク
トロニクス分科会と言う）が行う表彰について定める。
2． この表彰を「プラズマエレクトロニクス賞」という。
3． 表彰の対象論文は，原則として，プラズマエレクトロニク
ス分科会が主催する研究会，国際会議等で発表され，且つ募集期間から過去３年の間に国際的な学術刊行物に掲載された原著論文とする。
4． 受賞者はプラズマエレクトロニクス分科会会員あるいは応用物理学会会員とする。
5． 受賞者は公募に応じた自薦および他薦候補者から選考する。
6． すでに公に顕著な賞を受けた論文は，プラズマエレク
トロニクス賞の対象論文としない。
7． 表彰は原則として毎年２件以内とする。
8． 表彰は賞状授与および記念品贈呈とする。

57

プラズマエレクトロニクス関連会議日程
国際会議
開催期間

2004年
6月29日〜
7月2日

2004年
7月2日〜
7月3日
2004年
9月26日〜
9月29日

名称
7th Asia PacificConference on Plasma
Science andTechnology & 17 th
Symposium on Plasma
Science for Materials(7th APCPST &SPSM-17)
Nagasaki Workshop on
Next Generation
Semiconductor andProcessing
57th Annual Gaseous
Electronic Conference

2004年
9月27日〜
10月1日

The 2nd International
School of Advanced
Plasma Technology

2004年
11月15日〜
11月19日American Vacuum
Society 51stInternational
Symposium

2004年
11月30日〜
12月1日

26th International
Symposium on Dry
Process

開催場所

主催・問い合わせ先〆切り

福岡国際会議場

日本学術振興会プラズマ材料科学
第153委員会
アブスト
実行委員長 河合良信
2004/3/
TEL: 092-583-7650
E-mail: apxpst@aees.kyushu-u.ac.jp 26
http://apcpst.aees.kyushu-u.ac.jp

GeneralLaboratory,
http://annex.jsap.or.jp/plasma
Nagasaki
University
Shannon,The Republic of http://www.gec.org/
IrelandJapanese Association for Plasma アブスト
Villa Monastero, Technology
2004/7/
Vrenna, Italy
事務局 藤山寛
30
E-mail: plasma@net.nagasaki-u.ac.jp
Anaheim, CA,USA

http://www.avs.org/

The University ofTokyo, VLSI
Design and
Education Center

電気学会
http://dps-org.com

アブスト
2004/7/20

国内会議・会合
開催期間
2004年
8月1日〜
8月3日
2004年
8月27日〜
8月28日
2004年
9月1日〜
9月4日
2004年
10月14日〜
10月15日
2004年
12月6日〜
12月7日
2005年
1月26日〜
1月28日

名称

開催場所

主催・問い合わせ先〆切り
応用物理学会プラズマエレクトロニク
ス分科会
第11回プラズマエレク 名古屋市民休暇 長崎大学 工学部 篠原正典
トロニクスサマースクー 村
TEL&FAX 095-819-2542
ル
E-mail:sinohara@net.nagasaki-u.ac.jp
フ ロ ン テ ィ ア プ ロ セ ス 産業技術総合研 プラズマプロセスパナシアの会
7月末日
東北大流体科学研究所 寒川誠二
2004
究所
E-mail: samukawa@ifs.tohoku.ac.jp
秋季第65回応用物理 東北学院大学
学会学術講演会

応用物理学会
http://www.jsap.or.jp/

応用物理学会プラズマエレクトロニク
ス分科会
http://annex.jsap.or.jp/plasma
第5回ダストプラズマ研 核融合科学研究 京都工芸繊維大学 工芸学部 電子情報工学科 林康明
究会
所
E-mail: hayashi@dj.kit.ac.jp
プラズマ科学シンポジ ウィル愛知（愛知 プラズマ・核融合学会，応用物理学
ウム2005／第22回プラ 県 女 性 総 合 セ ン 会，日本学術振興会プラズマ材料科
ズマプロセシング研究 ター）
学第153委員会
会
http://jspf.nifs.ac.jp/PSS2005

第15回プラズマエレク 慶應義塾大学
トロニクス講習会

58

参加申し
込み
2004/10
/25

59

編集後記
この４月、幹事長が斧先生から河野先生へ引き継がれ、成には、現在の新しい流れの一つを逃すまいとする姿勢が副幹事長及び幹事の半数以上が入れ替ってプラズマエレク表れているものと解釈できます。

トロニクス分科会の新たなスタートとなりました。今回、このス

昨今のめまぐるしく様相を変化させる流れが、美しい渓流

タートに相応しく、後藤先生より分科会へ激励のお言葉をおが汚水の集合へと短時間に姿を変える川の様ではなく、清寄せいただきました。

浄な水をたたえる大河となることに期待し、また、本質を欠か

昨年度を振り返りますと、世の中の新しい流れに決して乗さずその流れをつくるのはこの分科会であることを確信しつり遅れまいとする分科会の皆様の活動が、精力的に繰り広つ、本号をお届けいたします。

げられたことが思い起こされます。そして、プラズマの工業

本号を発刊するにあたりまして、お忙しい中原稿をお寄せ的応用が広がり続ける中、その技術の躍進を支えたこの分下さいました皆様に心より感謝申し上げます。また、会員の科会にとって、今後のあり方を皆さんで考えるこれまでにな

皆様には、皆様のご意向が反映されるものとして会報と web

い機会が設けられたように思います。大学での新しい動き

ページがあることをご理解いただき、双方に活発にご意見をであるCOEプログラムや大学発ベンチャー企業に関する話お寄せいただきますようお願い申し上げます。

題、プラズマナノテクノロジーとその将来ビジョンに関する国
際ワークショップの報告などからは、その様子がうかがえる（高井，高橋和，押鐘，真下）のではないでしょうか。さらには、今回の幹事のメンバー構（文責：高橋和）

プラズマエレクトロニクス分科会会報 No.40
発行日 2004 年 6 月 25 日
編集・発行：社団法人 応用物理学会
プラズマエレクトロニクス分科会
幹事長 河野 明廣〒102-0073 東京都千代田区九段北 1-12-3 井門九段北ビル 5 階（c2004 無断転載を禁ず）

60