プラズマエレクトロニクス分科会会報 No. 63
2015 年（平成 27 年）12 月発行
岡田、赤松、島田、松本
目次

巻頭言「プラズマエレクトロニクス」次の 30 年

応用物理学会フェロー

岡本幸雄

1

愛媛大学

神野雅文

5

長崎大学

藤山 寛

8

京都大学

岩井亮憲

12

ドライプロセスシンポジウム 2014(DPS 2014)報告

（株）東芝

林

久貴

14

第 10 回アジアヨーロッパプラズマ表面工学

大阪大学

節原裕一

17

名古屋大学

豊田浩孝

18

大阪大学

浜口智志

20

大阪大学

浜口智志

21

静岡大学

松井 信

22

首都大学東京杤久保文嘉

23

首都大学東京内田 論

24

東洋大学名誉教授
研究室紹介
国立大学法人愛媛大学大学院
プラズマ・光科学研究プロジェクト
学生のためのページ
失敗しない実験，失敗しないプレゼン
応用物理学会講演奨励賞
プラズマメタマテリアル複合体によるマイクロ波帯での屈折率制御と高強度な二次高調波生成
国際会議報告国際会議(AEPSE 2015)
第 9 回反応性プラズマ国際会議(ICRP-9)/第 68 回
気体電子会議合同会議(68th GEC)/
第 33 回プラズマプロセシング研究会(SPP-33)
米国真空学会第 62 回国際シンポジウム&展示会(AVS 62nd)
第 37 回ドライプロセス国際シンポジウム(DPS 2015)
国内会議報告第 9 回プラズマエレクトロニクス
インキュベーションホール
2015 年第 76 回応用物理学会秋季学術講演会
海外研究者招待講演報告
2015 年第 76 回応用物理学会秋季学術講演会「プラズマ医療科学の最前線」シンポジウム報告i

第 76 回応用物理学会秋季学術講演会 第 15 回

産業技術総合研究所

布村正太

26

愛媛大学

本村英樹

27

九州大学

渡辺隆行

29

首都大学東京

杤久保文嘉

31

九州大学

古閑一憲

33

27th Symposium on Plasma Physics and Technology 九州大学

古閑一憲

34

分科内招待講演報告海外研究者招待講演報告
第 20 回プラズマエレクトロニクス新領域研究会「再生医療とプラズマ医療～プラズマと生体界面の反応～」
第 21 回プラズマエレクトロニクス新領域研究会「プラズマ流の可視化」
行事案内2016 年第 63 回応用物理学会春季学術講演会
プラズマエレクトロニクス分科会企画
プラズマ・核融合学会第 28 回専門講習会「プラズマ医療の現状と展望」(SPPT 2016)
第 18 回プラズマ物理学国際会議(ICPP 2016)

大阪大学

浜口智志

35

第 15 回プラズマ表面工学国際会議(PSE 2016)

大阪大学

節原裕一

36

名古屋大学

豊田浩孝

38

掲示板
第 14 回プラズマエレクトロニクス賞
受賞候補論文の募集
40

平成 27 年度プラズマエレクトロニクス分科会
幹事名簿
平成 27 年度分科会幹事役割分担42

平成 27 年度分科会関連の各種世話人・委員

43

活動報告

44

プラズマエレクトロニクス関連会議日程

46

広告掲載企業一覧

48

編集後記

49

ii

巻頭言

「プラズマエレクトロニクス」次の 30 年
応用物理学会フェロー、東洋大学名誉教授 岡本 幸雄
現在の「プラズマエレクトロニクス分科

究は主に物理系の研究者によって物理学会

会」は、応用物理学会のこれまでの中分類

で、放電(コロナやアークなど)関係などの物「放電・プラズマ・核融合」から、1984 年

性と応用および核融合関係は主に電気系のの「プズマエレクトロニクス談話会」、1985

研究者や技術者によって電気学会で活発に年の「プラズマエレクトロニクス研究会」、行われていた。特に、プラズマの応用に関1990 年の「プラズマエレクトロニクス分科

しては、電気学会の放電技術委員会のもと会」を経て、2008 年からの大分類へと、歴で重要なテーマについて、有志が調査専門

代の幹事長、幹事をはじめとして会員諸氏委員会を設置して調査を行っていた。

の努力によって進化したものである。しか本プラズマエレクトロニクス分科会のベしながら、すでに「談話会」から 30 年が経

ースともなった電気学会の調査専門委員

過し、成熟期が過ぎて 30 年周期説へと向か

会:「放電基礎過程調査分科会: 弱電離プラってはいないだろうか。

ズマの物性と応用」や「プラズマプロセシ

そこで、創設期を振り返り、今後の展望

ングにおけるプラズマ物性」は、各々1980を述べてみたい。
「プラズマエレクトロニク

年(期間 2 年)と 1982 年(3 年)に、土手敏彦

ス」は「半導体集積回路プロセス」の技術

氏(委員長:当時理化学研究所)と筆者(幹事:

開発を中心として発展してきた。1947 年に

当時日立中研)が中心となって設置し、この半導体を用いたトランジスターがベル研究分野を系統的に調査して報告会(勉強会年

所で発明され以来、1958 年に多数のトランに 6 回)や研究会(年に 2 回)を開催し、最終ジスターを半導体(Si)基板上に作成した集

的には「技術報告書」を出版するなど活発

積回路(IC)がテキサスインスツルメントでに活動していた(プラズマエレクトロニク開発されたこともあって、エレクトロニク

ス分科会会報 PE-36(2002 年 6 月)11 参照)。

スが社会に大きな影響を及ぼすようになっ

当時のこの分野の国内外の研究や技術開発た。そして、1980 年頃からの集積回路プロの現状と課題を把握し、将来を展望する上

セス技術の開発は、主にプラズマを用いたで大いに役立つものであった。
この頃すでに、企業の研究者や技術者が微細加工技術の発展によって支えられてき中心となって、半導体集積回路として代表た。
今から 30 年ほど前の 1984 年までのプラ的 な DRAM (Dynamic Random Access

ズマ関係の学会などでの発表は、プラズマ

Memory)は 256 Kb(最小寸法 2μm) が実波動などのプラズマ物理や核融合関係の研用化され、さらに高集積化するために CF41

ガスプラズマなどを用いたドライプラズマの学会活動は、春秋年 2 回の講演会のみで、プロセスが進行していた。半導体集積回路

ガスレーザーを中心とした発表が 10 件程プロセスにおけるエッチング技術としては、度で、活性化が不可欠な状態にあった。そ初期にはフッ酸などの水溶液を用いるウエ

こで、前記の電気学会調査専門委員会の委

ットエッチング技術が用いられていた。し

員の一人であった後藤俊夫氏(名大)が中心

かしながら、このウエットプロセスではフとなって、1984 年 4 月から電気学会の調査

ッ酸などの強酸と洗浄のために多量の純水専門委員会のバックアップを得ながら活性が必要なこと、熱酸化や化学蒸着に 800℃化の検討が開始された。そして、10 月の秋以上の高温を必要とするために不純物の拡の講演会の Informal Meeting で「プラズ散や熱歪、転位、欠陥などの本質的な問題、

マエレクトロニクス談話会」が開催され、さらに、微細パターン(最小寸法 2μm 以下)

1985 年 1 月から分科会の名称を「プラズマのエッチングに対応できない(アンダーカ

エレクトロニクス研究会」と改称し、4 月

ットの制御や反応生成物の除去の問題)なの春季講演会のシンポジウムで「プラズマどの問題があった。これらの本質的な問題

物性とその応用 – プラズマエレクトロニ

点を解決する技術として、プラズマを用いクスの発展を目指して 」をテーマに開催さたドライプロセスが注目されるようになっれ(詳細は PE-36 (2002.6) 11 参照)、
「プラ

た。

ズマエレクトロニクス研究会」の活動はいしかしながら、プラズマを用いると化学

よいよ開始した。

反応がなぜ低温で進行するのか。原子・分

その後は、半導体産業の隆盛とともに半子がイオンに、あるいは励起状態になって導体集積回路プロセスに関する技術(エッいるからというだけでは十分な説明にはな

チング、プラズマの大口径化、計測・診断らない。半導体 IC の超高集積化とともに、などの技術)の重要性が益々増したことを試行錯誤の繰り返しから脱するとともに、はじめとして、また、国の科学技術立国政

製造プロセスにおけるエッチングや絶縁膜策による科学分野の研究開発費の増額など形成のためのデポジションのメカニズムをもあって、さらに、歴代の幹事長や幹事お解明する必要があった。このころ、この分

よび会員諸氏の努力もあって順調に発展し、野の第一人者であった Brian N. Chapman

今日を迎えている。

著 の 「 Glow Discharge Processes :ところで、これまでのこの分野の開発研

Sputtering & Plasma Etching (1980 年,

究は、シーズ(seeds)・ニーズ(needs)とも企

John Wiley & Sons Inc.) : 翻訳

岡本幸雄

業の研究機関がリードしてきた。絶え間なプラズマプロセシングの基礎 (1985 年, 電い微細化・大口径化・均一化・低ダメージ

気書院)」や菅野卓雄編「半導体プラズマ技

化・高アスペクト比化などの製造プロセス術 (1980 年 産業図書)」が出版され、多く技術の革新により、2010 年にはメゾスコピの研究者や技術者にとって、大いに参考にックな領域の 70 nm (64 Gb 対応)は限界でなっていた。

はないかとの意見もあったが、ムーアの法則(Gordon Moore, 1965 年, トランジスー

一方、応用物理学会では、1985 年前まで
2

の集積度が 1 年に 2 倍ないしは 3 年で 4 倍たらない。また、プラズマエレクトロニクに増加)に乗って高集積化が進み、現在 7

ス分野の研究者や技術者にとっては、半導nm (Si + Ga 基板, EUV (13.5 nm)使用)の体 IC プロセスの研究開発初期に問題とな技術が IBM から発表されている。

った化学などの分野の研究者との用語や基ところが、これまで世界をリードしてき

礎知識の相違は、医学分野ではさらに大きた我が国の半導体産業は、研究開発費や設なバリアーとなるであろう。この分野を志備投資が膨大でコスト的に、さらに、技術す者にとっては、プラズマの基礎と技術は的にも限界に近づいたことなどもあって、もとより、医学分野などの基礎知識が必要

人件費の安い韓国などの後進国に追いつか不可欠で、照射時の医学的な効果などを評れ衰退していった。しかしながら、半導体

価できるレベルを有するか否かが鍵となる。

IC は全ての電子機器に搭載され、機器の機

一方、プラズマエレクトロニクス分野の能を実現する時代となった。

研究者や技術者の活動の場としては、科学

このため、半導体集積回路プロセスの研技術重点パッケージの中で、平成 26 年度の究開発とともに展開してきた本分科会の活文科省の戦略的創造研究推進事業としての動は、科学として十分に体系化することな「先端的低炭素化技術の開発」や経済産業

く、対象分野も大きく変化させることとな

省のクリーンで経済的なエネルギーシステってきた。そして次の 30 年に入った今日、ムの実証としての「太陽光発電技術の研究

政府の科学政策重点領域である「グリーン開発」や「二酸化炭素回収技術の高度化」

イノベーション」、「ライフイノベーション」、の事業、さらには、リチウムイオン電池な「安全安心イノベーション」を注視していどの高度情報化社会を支える高性能電池のる。これらの対応として、特に前記 2 者の研究開発や高性能炭素系材料の研究開発なための「大気圧プラズマ」や「液中プラズ

どで、これまでに培った研究や技術的成果

マ」および「気液界面プラズマ」などの新などを大いに生かすことができよう。

規なプラズマソースが開発され、その医療、いずれにしても、基礎研究を端折って目バイオ、環境、食品分野などへの応用に関

先の応用研究に過度に時間とお金を掛けてする基礎的な研究が進行している。すでに、も十分な成果は上がらないだろう。そこで、これらの研究はアメリカをはじめヨーロッ上記分野において、まず「どのような特性

パや韓国などで活発に展開されている。たのプラズマがどのように利用され、どのよ

とえば、生体にこれらのプラズマを照射す

うな課題があるのか、さらには、理想的なるとガン細胞などが死滅するなどの効果がプラズマの特性とはなど」を先に述べた電報告されているために革新的な医療技術と気学会の調査専門委員会のような委員会をして注目されている。しかしながら、現状

プラズマエレクトロニクス分科会の中に設

では現象的な報告が多く、なぜプラズマ技

置して、系統的に調査して報告会や研究会

術が必要不可欠なのかははっきりしてない。

を開催し、報告書を出版するなど会員一丸

半導体 IC プロセスでプラズマが必要不可となって、プラズマでないとできない技術欠であった前記のような明確な理由が見当や物を作り出す課題を見出し解決する努力
3

が必要であろう。Invention と Innovation解)が必要不可欠である。さもなければ、新が必要である。Idea と Glitter は学問の基しい道を開くことはできず、一流の研究開

礎をしっかり理解していないと生まれない。

発はできない。

Richard P. Feynman (1965 年に朝永振一

最後に、「プラズマエレクトロニクス分科郎氏とともに量子電磁力学の発展に貢献し会」の創設期(「談話会」と「研究会」)に尽たことによりノーベル物理学賞を受賞、「ノ

力し、当時、「プラズマ」の半導体 IC など

イマン物理学」の著者としても世界的に有の「エレクトロニクス」分野での応用発展

名 ) は 、「 If I cannot create, I do notを祈念して提唱した名称「プラズマエレク

understand」と述べている。

トロニクス」が、学術用語として世界的にプラズマエレクトロニクス分野の若い研広く用いられるようになったことを誇りに究者や技術者、さらに大学院生は、一層の思うとともに、「プラズマエレクトロニクス

プラズマの基礎力(プラズマの性質、生成お分科会」が益々発展し、今後とも世の中によび制御法と原理、計測法と原理などの理役立つことを願ってやまない。

4

研究室紹介国立大学法人愛媛大学大学院

プラズマ・光科学研究プロジェクト

理工学研究科電子情報工学専攻 神野１．はじめに

雅文

究会「再生医療とプラズマ医療 ～プラズマと生体

愛媛大学では独創的・先進的なプラズマ生成法

界面の反応～」の様子）。

による新規技術開拓およびその応用研究の推進を目的として、2009 年 4 月にプラズマ・光科学研

２．主な研究内容
プラズマ・光科学研究プロジェクトではさまざ

究プロジェクト、通称オレンジプラズマプロジェ
ク ト (Original

Antecedent

Generationof

まな研究が専攻横断的に行われていますが、本稿

Plasmas: Orange Plasma)を立ち上げ、プロジェ

では筆者の研究室が中心となって進めている 2 つクトを統括するプラズマ・光科学研究推進室が設のプロジェクト、(1)「大気開放プラズマ CVD に置されました。初代の室長には当時、定年となっよる DLC 薄膜堆積に関する研究」と、(2)工学部

た京都大学から愛媛大学に着任された京都大学名

を中心に、医学部、プロテオサイエンスセンター、

誉教授の橘邦英先生が務められました。このプロ

理学部、農学部で連携して取り組んでいる「プラジェクトはプラズマや光に関する研究を進めていズマ遺伝子導入の研究」を紹介します。

る研究者の支援と専攻横断型のプロジェクト研究の推進も目的としており、工学部、理学部、農学

２-１．大気開放プラズマ CVD による DLC 薄膜堆部の教員が、学部学科の垣根を超えて研究に取り積組んでいます。また、プロジェクトの成果を発信

機械摺動部品の摩擦低減、耐摩耗性向上を目的

し、社会に技術と知見を還流する目的で毎年公開として、大気開放プラズマ CVD によるダイヤモ研究会を実施しています。
（写真１は 2015 年 5 月

ンドライクカーボン（DLC）薄膜堆積に取り組ん

30 日に同プロジェクト共催で開催された公開研でいます。我々の技術ではダイヤモンド薄膜 CVDの成膜速度向上を目指したものです。一般には減圧下でのプロセスであるところを、本技術により大気圧の 1.5 倍程度までの高気圧下でダイヤモン
ド成膜が可能にし、成膜速度もガス圧に比例して高速化されます[1]。本技術を発展させ、ガス圧上昇だけでなく、全プロセスを大気開放下で行うことにより、真空容器が不要で任意の形状の被膜対
象にピンポイントで DLC 膜を形成できるプロセス技術の開発を目標として研究を行っています。
図 1 に成膜装置の概略図を示します。
2.45 GHz

写真 1: 公開研究会「再生医療とプラズマ医療のマイクロ波を導波管に導き、定在波の腹の位置～プラズマと生体界面の反応～」の様子にタングステン棒内部電極を配置します。
これと、5接地した銅製円筒導体（外部電極）とで同軸構造

２-２．プラズマ遺伝子導入の研究のトーチを形成し、内外導体間に原料ガス

近年プラズマ応用の分野では、プラズマ医療や（CH4/H2 混合ガス）を流して内部電極先端に微プラズマ農業といった生体への応用が盛んに研究

小なプラズマ（直径約 1 mm）を生成します。入されています。プラズマ・光科学研究プロジェク

力電力とガス混合比、電極・基板間距離等のパラトにおいても、プラズマによる遺伝子導入技術のメータの調整により膜質の制御が可能で、多結晶研究に取り組んでいます。

（ダイヤモンド）かアモルファス（DLC）かを選

遺伝子導入は再生医療、遺伝子治療、創薬等の択できます。このアライメントで得られる膜の形

最先端分野で必須の技術です。既存の導入法には

状は直径約 1 mm の円柱状で、成膜速度は 10

化学的手法（リポフェクション法等）、物理的手法µm/h のオーダです。膜の硬度や密着性、均質性（エレクトロポレーション）、生物学的手法（ウイ等の向上が今後の課題となっています。また、マルスベクター法）などがあります。リポフェクシ

イクロ波電源からトーチへの給電部を同軸ケーブ

ョン法やエレクトロポレーション法は in vivo でルとすれば導波管を用いずに済み、トーチを自由は用いることが出来ず、ウイルスベクター法は、に移動させられるようになるので、トーチをロボ

ベクターとして用いるウィルスに無毒化が施されットアームに取り付けて位置制御し、被膜部材のていますが、細胞の癌化などの安全性の問題が残任意の位置に任意の形状で成膜する技術の開発もるなど、既存のいずれの手法にもそれぞれ問題が視野に入れています。

あり、安全で高効率な遺伝子導入法が求められています。
本研究では、高遺伝子導入率でかつ低侵襲な遺(a)

伝子導入を実現する手法として期待できるプラズ

スリースタブチューナ

マ遺伝子導入法の研究を行っています。これは、内部電極培養細胞と導入用遺伝子との懸濁液にプラズマ照

プランジャ
導波管
マイクロ波
電源

射することで、細胞に遺伝子が導入される現象です。我々は図 2 に示すようにφ70 µm の銅製キャ

原料ガス

ピラリー電極と、銅板の接地電極の間に 96Well

外部電極

細胞培養プレートを設置し、誘電体バリア放電に
基板

よるプラズマにより遺伝子導入を行っています。
(b)細胞に導入された遺伝子（GFP 発現プラスミド）によって、細胞内で青色励起によって緑色の蛍光を発するタンパクが生成されることにより、
図 3 のような蛍光観察により遺伝子が導入されたが判断できます。これまでの研究により、GFP 発
現プラスミドをサル腎由来細胞（COS7）に、導入効率 60%以上でかつ、細胞生存率 90%以上と図 1: (a) 大気開放プラズマ CVD 装置の概略図

いう結果を得ています[2]。遺伝子導入の機序につと、(b)トーチ先端に生成されるプラズマの概観

いては、プラズマにより生成されるラジカルなど
6Capillary HVelectrode
Microplasma

Discharge gap=1 mm

図 2: 96 ウェルプレートのうちの 1 ウェルにマイクロキャピラリーを用いた遺伝子導入用プ
ラズマが照射されている様子
図 3: GFP 発現プラスミドが導入された COS7の反応種の影響が大きいという結果を得ています

細胞の暗視野蛍光観察結果

が[3]、反応種がどのように作用して遺伝子が導入されるのか、その導入機序は未だ解明されておら

液中プラズマによる材料合成や水処理、ナノ秒極

ず、導入機序の解明が本研究の重要なテーマの１性反転放電による排ガス処理技術の開発など、つとなっています。

様々な研究が行われています。今後も更なる学際

また、どのような細胞種においても高導入効率

的連携を進めるとともに、医理工農連携の相乗効が達成できるよう、上皮細胞、線維芽細胞、血球果により、新しい独創的な研究が生まれるよう、細胞など多様な細胞による導入効率の確認と、導取り組んでいきます。

入条件の最適化を行っています。
参考文献

従来の組織の枠組みでは、工学部だけでこれらの実験を進めることは困難でしたが、プラズマ・[1] H. Yagi et al.: Trans. Materials Research

光科学研究プロジェクトによる医学部との連携にSociety of Japan, Vol. 25 (2000) 313

より、実験をスムーズに進めることができており、[2] Tadashi Okihiro et al.: Proceeding of 4th

研究の更なる発展が期待されています。

International Conference on Plasma Medicine,(2012), p.72
[3] M.Jinno et al.: Journal of Photopolymer

３．おわりにScience and Technology, Vol.27, No.3 (2014)

愛媛大学のプラズマ・光科学研究プロジェクト

pp.399-404

では、今回紹介した２つの研究テーマ以外にも、

7

学生のためのページ

失敗しない実験，失敗しないプレゼン長崎大学 藤山 寛
１．はじめに
中国の諺に「知る者言わず，言う者は知らず」とある．真理である．が，仕事として科学研究に従事する者は，伝えることが大切である．なぜならば，どんなに素晴らしい研究もダメ発表がダメ研究にするからである．プレゼンテーションとは
まさにプレゼントであり，聴衆に何かを残さなければ意味がない．
セミナーを行う技術は求人面接にも役立つ．某
大手企業の理系学生(大学院生）の不採用理由とし
図 1 知の交信力て，売りの専門技術が不明確，専門性不十分、専門領域狭い，研究職に対する勉強不足，キラリと２．研究計画を立てる[4,5]

光るものなし，と並んで，説明が分かりにくい，アピール力なし，が挙げられる．他にも，深く質仕事として科学研究に従事する者には「特権」

問すると止まってしまう，自分の意思をきちんとがある．この特権を享受する熱意と度量があるか伝えられない，的外れな回答，丸暗記の回答，マが科学者として生きる者にまず突きつけられる．

ニュアル通りの応答，しゃべり過ぎ，
返答が遅い，

研究は，研ぐこと，究めることとある．何かを返答をためらうなど，いわゆるコミュニケーショ

究めるドリームがあり，そのためのビジョンを設

ン力の欠如がもっとも多い不採用理由となってい定し，具体的なロードマップを作って実行する．

る．(図１知の交信力を構成する能力(氷山）[1,2]）

研究を指導する者の役割は，一言で言えば，ゴー

このように，プレゼンテーション力は研究力とルの設定である．プレゼンターがわくわくする研並んで，科学者として成功するための不可欠な技

究ビジョンを持っていれば，聴く者に感動を与え法であり，単なるノウハウや「こつ」ではなく，ることが出来る．また，年数に応じて短期，長期

努力して習得する専門技法である[3]．

のゴールを設定して，達成感を味わうことにより，筆者の研究室では，プレゼンテーション力のア

研究の面白さが実感できる．そのためには先を読ップに力を入れており，30 名を超える学生がほぼ

む力が何より大切である．つまるところ，研究も毎年講演奨励賞を受賞している．大学，研究室，

人生も「どれだけ先を読めるか」競争なので，先指導教員によって好ましい独自のプレゼンテ―シを読んだら即行動を起こすことをお薦めする．

ョンスタイルがあると思うが，ここでは筆者の研研究テーマの設定は，ほとんどの学生は指導教究室で教えている実験やプレゼンの基本的方法を員まかせで自分ではしていないのかもしれないが，紹介する．読者の参考になれば幸いである．

自分の実力を冷徹に分析し，与えられた適切な時
8

期に終わらせられるものを選ぶべきである[1]．筆実験装置への気配り手配りができる．そのうえで，者の研究室では，「世の中に無いからする研究（問うまくいかないことがイメージできる，その原因

題志向型）」を「装置や測定技術が有るからするが予測できる，そしてそれを回避する方法を事前研究（技術志向型）」より重視してきたが，参考に取れると言うことなしである．

文献が少ないため学生は大変苦労したと思う．研

研究では，独創力，学力 記憶力 忍耐力 持

究はタイミングがすべてで，あまり早すぎても遅続力，体力などいろいろ必要とされるが，何と言すぎても注目されない．世の中の動きや研究状況っても「出来ないことをしたがる」赤崎 勇先生

を見極め，短期プロジェクトを繋いで長期問題ののような性格がもっとも優れた研究者の資質，能解決をめざしてもらいたい．ただし，人気分野に力であると言いたい．

飛びつくのはご用心ください．研究は誰かの後を追うのではなく牽引するほうがはるかに楽しいの

４．失敗しないプレゼンの基本技術だから．

4.1 聴衆を味方に科学的プレゼンテーションの標準的な流れを図2 に示す．聴衆のレベル・関心に応じて難易度を３．失敗しない実験のやり方
ここでは，楽しく実験をする方法を紹介する．

変えることができればかなりの上級者と言える．

実験の前に，
１）先を読む「段取り」上手
２）うまくいかない可能性を 1 つ 1 つ潰す
３）結果のイメージ，予想図を作成する
実験中に
１）データを図に写しながら予想図と比較
２）粘り強く不足データを取る 一気に！
３）もう一度繰り返し，再現性を確認
実験の後に
１）結論を引き出す，より良いデータの示し方
２）結論を信じない．あらゆる角度からとにかく疑う
３）もう一度，しつこく繰り返し実験する
４）ついでに発展実験までやってしまう
一連の実験が終わり，再現性が確認されたら，実験結果を考察し結論を引き出す楽しみが待っている．予想と違った結果や結論が得られた場合，大失敗！かもしれないし，あるいは大成功！かもしれない．それが研究の面白さと思っている．
これが科学研究に従事する者の
「特権」
でもある．
優れた研究能力を持つ者は，段取り上手であり，
9

図 2 科学的プレゼンテーションの流れ

4.4 PPF の作り方～Cross の法則～

口頭発表において，もっとも大切なのは研究の動機や目的を語るイントロダクション(導入部）でプレゼンテーションツールとして，Powerpoint

あろう．ここで，聴衆の興味を掻き立てなければ等のソフトを使ってプロジェクタで投影する方法

その先は聴いてもらえない．なぜその分野が重要が普通である．
筆者の若い頃は，
模造紙に始まり，なのか，何が主な課題なのか，これまで何がわか

スライド(青いフィルム），OHP などを使っていっていて何がわかっていないか，研究の必要性をたから，随分と綺麗に，また便利になった．

聴衆にアピールすることが何より大切である．

PPF の作り方での鉄則は，Cross の法則：

このとき，決して原稿を読んではならない！

横7 行 以内縦 11 行 以内

前を向いて，大きな声で話しかけること．講演者
は舞台の上の役者と類似している．原稿を読み始である．1 ページの中でこれ以上行数が増えると，めた時点で幕がストンと落ちてしまう．また，全心理学的に読もうとする気が起こらないらしい．

体を通して起承転結，
ストーリー性が必要である．

また，記憶にも残らない．遠くからでも読めるよ
うに文字サイズは出来るだけ大きくすべきであり，

4.2 聴衆が納得する研究発表とは？

ごちゃごちゃとしたカラフルなものは避け，シン

筆者の研究室では，学会での発表は法廷での裁プルなものが好ましい（個人的意見です）．

判（検察側陳述）と同じと教えている．研究は犯

話すスピードは，ニュースキャスターのように人探しであり，結論は判決に等しい．状況証拠ば

ゆっくりと 1 枚を 1 分かけて説明する．持ち時間

かりの想像では立証できない．反論できない直接が 10 分だったら 10 枚を用意する．時間オーバー証拠が必要なのである．それに加えて裏付け証拠

は発表のすべてを台無しにすることを肝に銘じがあれば完璧である．

てほしい．

もう一つ注意しなければならないのは，序論と4.5 ちょっと気になること

結論が内容的に一致しているかどうかである．序論で地球を救うと大きく言い，結論で自分を救う

話している本人は気がついていないが，聴いてだけという小さな話が結構多いことに気がつく．

いる方は大変気になることがある．「あ～，あの筆者は研究を評価するときに，この序論と結論の～，えーと，エヘン」などが頻発する S/N 比の悪マッチングを重視している．話のズームイン，ズいプレゼンである．同僚に指摘してもらってなるームアウトをうまく使うことである[1,6]．

べく若いうちに治すこと．歳を取ったらもう手遅れで治らない．

4.3 結論で決める

もう一つ気になることがある．レーザーポイン

結局のところ，何が世界で初めてわかったのか， ターの使い方である．けっしてグルグルグルグル
できたのか，これが聴衆の知りたいことである．

振り回さないでほしい．それが気になって何を話

これを最後の結論（着地）でピタッと決めることしているのかわからなくなるし，何より目が回る．

ができれば，得点は飛躍的にアップする．長く記

初心者（ベテランも）は発表リハーサルをしっ

憶に残るお土産メッセージをプレゼントすること

かりすること．量は質に転化するうえ時間を守れが出来る．短い言葉で，簡潔に，本質を突いた着るようになる．もちろん，想定質問に対する回答

地を心がけてほしい．

の周到な準備をしておけば，怖いものはない．
10

4.6 ポスター発表の心得

自分の発表前は準備で忙しく，自分の発表が終わ

ここで，多くの学生が最初に経験するポスター

ると学会も終わりとばかりに会場から消え去る者

形式での発表について述べておこう．口頭発表よは，プレゼン力は上がらず，たいした研究もできりも密度の濃い議論が出来，専門家からの有益なないだろう．

アドバイスがもらえるアイデア交換と対話の好機
５．おわりにである．ポスターでの説明時に注意することは，観客に優しくできるだけ簡潔に説明せよというこ

失敗しない実験のやりかた，失敗しないプレゼとである．通常，ポスター会場には多くのポスタ

ンの基本技術について，筆者の経験をもとに述べーが貼ってあり，観客はできるだけ多くのポスタてきた．理系分野に卓越した意欲，能力を有するーを手早く回りたいと考えている．1 枚のポスタ者は．多岐にわたる幅広い好奇心をもち，他の分ーに掛ける時間を短くすることは観客に優しいと

野においても多才で，幅広く興味・関心・意欲をいうことになる．ポスター会場には，「ライバル」

持っている人が多い．何より，出来ないことをしと「冷やかし」の 2 種類の客が来る．簡潔な説明

たがる反骨精神やしつこくいつまでもできる粘りとまとめで 1 分，長くても 3 分までの説明シナリ

強い性格を有している．仕事は一流，遊びは超一オを用意し，質問があればさらに詳しく答えるよ

流というスーパーマンやスーパーウーマンは，きうに準備すればよい．「冷やかし」の客には 1 分

っと遊んでいるときにアイデアが閃くのであろう

でも十分であり，説明文も「何が新しいか」だけ(例外はあるが）．そんな貴方は，この拙文を読むの最小限にする．「ライバル」はさらに詳しい質必要はなく，実験室に向かって飛んで行ってくだ

問をしてくるが，質疑応答ではできるだけ短くポされば結構です．

イントを述べ，必要なときにのみ詳しい説明を加える．できれば，他大学の研究者と詳しく意見交

参考文献

換ができ助言をもらえれば，学会参加の何よりの[1]Robert R. H. Anholt，鈴木 炎（訳）；”理系のための口頭発表術” ，（講談社，2008）

成果となるだろう．

[2]Daniel Goleman etal ; “ＥＱリーダーシップ”，
4.7 学会発表の前に（日本経済新聞社，2002）Peter J. Feibelman，

発表の成否は，発表前にすでにわかっている．

[3]養老孟司；”バカの壁”，（新潮新書，2003）

これまで何をどのようにやってきたか，研究では[4]Peter J. Feibelman，西尾義人 (訳)；”A PhD

結論を導く直接証拠を示せるかが問われる．これis not Enough!（博士号だけでは不十分）～理系

は，いくら上手いプレゼンでもごまかせない！

研究者として生き残るために～”，（白揚社，

それでも・・・・

2015）[5]Federico Rosef / Tuder Jonston；”Survival

1) 前を向いて大きな声で話しかける
2) 研究の目的と結論のマッチングに気を配る

Skills for Scientists（科学者として生き残る

3) 質疑応答は落ち着いて，よく聞いてから方法）”，（日経 BP 社，2008）[6]斎藤 孝；”1 分で大切なことを伝える技術”，

だけには気を配ってほしい．
なお，聴く力は研究する能力に比例するので，良い発表を出来るだけ多く聴くことをお薦めする．
11（PHP 新書，2009）

応用物理学会講演奨励賞

プラズマメタマテリアル複合体によるマイクロ波帯での屈折率制御と高強度な二次高調波生成
京都大学大学院 工学研究科 滋賀県立大学大学院
博士前期課程 2 年 岩井 亮憲
はじめに

工学研究科

える影響を巨視的・微視的両側面から明らかにしクーロン力や衝突、再結合といった粒子間相互たものです[6,7]。
研究内容

作用によって、プラズマは電磁界に対して非線形応答をします。この現象の一つに入射波周波数の整数倍の成分が出力される高調波生成があり[1]、
周波数上昇、逓倍効果は実用的にも魅力のある現象です。しかし、プラズマの電子密度によって決まるプラズマ周波数 fp と入射波周波数 fin が fin < fpの関係の場合、プラズマの誘電率 εp は εp < 0 とな
り電磁波がプラズマ内に伝搬できません。そのため、高強度電磁波入射による高調波生成は低密度プラズマにおける検討にとどまっていました。

図 1：実験系と DSRRs の全体像及び測定位置

しかし、メタマテリアルを合わせて用いること
により、この状況を打開することが可能になります。メタマテリアルとは、自然界で実現しえないプラズマと DSRRs を複合させる為に図 1 の実

巨視的電磁応答を持つ、現在大きな注目を浴びて験系を用いました[6,7]。プラズマ生成のエネルギいる媒質です[2]。中でも、二重分割リング共振器

ー源と高調波生成の基本波の双方の役割を持つ

アレイ(DSRRs)は向い合せの C 字の入れ子状の共2.45 GHz 波を矩形導波管を通してプラズマ生成

振回路を単位構造としており、共振周波数付近で空間(Ar ガス、100 Pa)へと導入しています。

負の透磁率 μ を実現することが示されています[3]。 DSRRs は導波管内に設置し、各基板間を埋める
電磁波伝搬は屈折率 N = √𝜀𝜀𝜀𝜀 によって決まるた

ようにプラズマが生成されています。DSRRs の μ

め、プラズマの εp (< 0)と DSRRs の μ (< 0)によっ

は 2.45 GHz に対して-2.6-0.3j、4.9 GHz に対して互いの負号を打ち消しプラズマ空間に電磁波をては 1 となっています。
図 2 はプラズマメタマテリアルの屈折率 N の変伝搬させることで、プラズマの高密度化及び高強化を示しています。なお、N はプローブ法によっ度な高調波生成が可能になります。
本研究室はこれまで、プラズマとメタマテリアて測定した電子密度から求めた局所的な εp とルの複合体によるマイクロ波帯での高密度化[4]DSRRs の μ の平方根の積として求めています。

や分岐現象[5]を示してきました。本研究は、以上

DSRRs が無い場合、つまり μ = 1 の場合、N は虚の研究を発展させ、DSRRs 効果が高調波生成に与数成分のみになっています。一方 DSRRs を設置
12

の設置によって飛躍的に高められています。この際、プラズマのみの場合と同程度の電子密度であるにも関わらず二次高調波信号強度が圧倒的に大きいことから、プラズマの高密度化だけでなく、
DSRRsとプラズマの間での相互作用も非線形増強効果を生んでいると考えています。
おわりにこの度、本研究内容を 2015 年第 62 回応用物理
図 2：DSRRs の効果がもたらす 2.45 GHz に対す

学会春季学術講演会にて発表させて頂き、第 38

る屈折率 N の変化

回応用物理学会講演奨励賞を頂きました。本講演がご審査下さった先生方からのご支持を頂けまし
たことを大変有り難く感じております。また、本研究を進めるにあたり、酒井道教授（滋賀県立大学）、竹内繁樹教授（京都大学）にご指導を賜るとともに、各研究室の方々よりご助言を賜りました。
また、伊藤剛仁准教授（大阪大学）の研究室の方々には研究会において貴重なご指摘を賜りました。
この場をお借りして厚くお礼申し上げます。

図 3：各測定位置での電子密度と二次高調波信号

参考文献

強度の関係

[1] E. Takahashi et al, Phys. Rev. E, 65, (2001),
016402.

した場合、μ が負値となっているため N は負の実

[2] A. Lipson et al, "Optical Physics 4th Edition",

数となり、新たな電磁波伝搬領域が出現しました。

(Cambridge University Press, New York, 2011).

さらに、N の絶対値を自然界の媒質よりも大きい[3] J. B. Pendry et al, IEEE Trans. Microwave

領域まで変化させることが可能となっています。

Theory Tech., 47, (1999), 2075.
[4] Y. Nakamura et al, Jpn. J. Appl. Phys. 53,

このようにしてプラズマ空間内での 2.45 GHz
波の伝搬を可能とした結果、プラズマ生成及び二03DB04 (2014).

次高調波生成は図 3 に示すとおりになりました。

[5] O. Sakai et al, Plasma Source Sci. Technol.

DSRRs を設置した場合では、プラズマのみの場

21, 013001 (2012).

合に比べて電子密度が大きくなっており、2.45[6] A. Iwai et al, Phys. Rev. E, 92, (2015),

GHz 波が伝搬可能となったためにプラズマ空間

033105.

により多くのエネルギーが運ばれたことが示され[7] A. Iwai, Y. Nakamura, A. Bambina, and O.

ています。また、二次高調波信号強度は DSRRs

Sakai, Appl. Phys. Express 8, 056201 (2015).

13

国際会議報告ドライプロセスシンポジウム２０１４報告（株）東芝 林久貴

パシフィコ横浜にてド2014 年11 月27～28 日、ポジウムの歴史に名を連ねてきた方々に贈られる

ライプロセスシンポジウム（DPS2014）が開催さ

Nishizawa Awardは、元東京農工大学の垂井康夫氏

れ盛況のうちに終了したので概況を報告する。

が受賞された。

ドライプロセスシンポジウムはプラズマ／ドラ

アレンジセッションを含む7つのトピックスに

イエッチングの分野において36年の長い歴史を持よるオーラルセッションとポスターセッションでち、産学から最先端の研究成果が報告され、積極は10名の研究者を招待講演に迎え、どのセッショ的な意見交換がなされる重要な学会である。近年

ンも活発な議論がなされた。

では、半導体に限らず多くの分野で様々な材料が用いられるようになり、プラズマの応用範囲は大Plasma Process for New Applicationsのセッショきく拡大している。中でも、菌や患部など生体へ

ンでは、日立の柳氏から、DNA sequencerの新規作

直接プラズマを作用させるバイオ医療応用や、気成方法の提案とメカニズムの説明がなされた。

液プラズマによる新機能材料創生等の研究の広がDNA sequencerは、ムーアの法則を超えるスピード

りには目を見張るものがある。本シンポジウムででコストが下がっているが、さらなるコスト削減

もここ数年来、大気圧プラズマを中心としたプラのため、Multilevel pulse-voltage infection(MPVI)とズマ新展開に関連する多くの議論を行ってきた。

いう手法で、SiN薄膜にナノポアを作成する技術

一方で、昨今の省電力モバイル用途を念頭におを提案。MPVI法では絶縁破壊を引き起こすこといた半導体デバイス開発では、ドライプロセスのにより直径1-2nmナノポアを作成することを報告

真価が改めて問われている状況にある。例えば、した。

難エッチング材料の加工や三次元構造の微細パタ

エッチングと表面反応のセッションでは、日立ーニング等の高精度加工は非常に困難で一筋縄にの松井氏よりSiNエッチング時の表面反応層の解は行かない。

析につき報告がなされた。ポリマーのC/F比はマ

本年はDRAMやFlashメモリーなど、微細化が進

スク上よりラインパターン底の方が約2倍高いが展しているデバイス向けドライプロセスの抱えるパルスにすることでほぼ等量まで下がる。パルス

課題に焦点を当てるべく”Dry Etching Technologyにしたことで活性種が変わりパターン底までデポ

for New Generation Lithography”と” Atomic

種が届かなくなったとの説明であった。

Layer Etching / Atomic Layer Deposition”をア

Etching and Surface Reactionのセッションでは、

レンジセッションとして募集することにした。そソニーの久保井氏が、SiNのサイドウォールプロ

の結果、多数の投稿があり、招待講演10件以外でセス時に基板にダメージが入る問題をシミュレー

は、口頭発表22件とポスター発表35件が採択されションで評価。C4F8/Ar/O2プラズマにて実験を行た。

い、Si, SiO2, SiN上のポリマー膜厚のC4F8流量依存を測定。C4F8流量増加に対するSiとSiNへのポリマ

ドライプロセスの発展に大きく貢献され本シン
14パージ）のうち③酸化ステップに注目してH2O／

ー堆積が同じ流量であるのに対し、SiO2はより高いC4F8流量にしないと堆積が生じないことを示唆。 O3／O2プラズマの3つの酸化方法で成膜した膜のシミュレーションによるポリマー膜厚やエッチレ

特性を比較。GaN基板上に20 nmのAl2O3をALDでートが近い値を示していた。

成膜し、その上にTiとAlを成膜して作成したMIS

Advanced Patterningのセッションでは、EIDEC

diodeのI-V特性を評価。リーク電流はH2O > O3 >の佐藤氏による7nm half-pitch L/S(Line & Space)のO2プラズマであり、O2プラズマ処理により残留副ためのDSAリソグラフィの進捗報告があった。ブ

生成物に起因するtrap密度を低くできたことが要

ロックコポリマー(BCP)は、PMMA-b-PMAPOSS。

因。AlCH3+H2O→AlOH↓+CH4↑に対し、

PMAPOSSはSiを含有するポリマーであることか

AlCH3+4O→AlOH↓+CO2↑+H2O↑で副生成物がら、O2プラズマという単純な系に対しても加工選

残留しづらくなったと推察。
Holst Centre/TNOのPoodt氏は主に大面積成膜を択比が取りやすい。しかし、この材料を用いてL/Sを形成すると、
シリンダー形状になりやすいので、

ターゲットとして、ALDの生産性を大幅（数PMMA-r-PMAPOSS-r-PGMA を中性化膜としてnm/min→数nm/sec）に向上させる技術を紹介。常用いることにより、垂直化を達成した。課題は、圧CVDからヒントを得て「時間的」ALDを「空間欠陥の存在。中性化膜の疎水性が高いものほど欠的」ALDに転換したもので、ウエハが往き来する

陥数が少なくなるとの報告。

上方数100umに対向して並ぶ複数のスリットによUC BerkeleyのAzarnouche氏がSi含有タイプのり、それぞれ第1のガスの供給、パージ、第２のガ

BCPにおいて、Si含有量がエッチング特性に与えスの供給、パージが連続的に行われる。産業応用

る影響について報告した。実験に用いたポリマー

としてはsolar cell（実用化）やフレキシブル素子

はPTMSSとPDSSであり、Si含有量が多いほど、エのpassivationがあり、特に後者に対してはッチングレートが下がる。UV/VUVにより、Si-CH3

roll-to-roll対応機でさらなる生産性向上が可能と結合が切断され、そこにOラジカルが反応するこのこと。
Plasma Induced Damageのセッションでは、ソとにより、Si-O結合が形成され、エッチングが進

ニーの重歳氏がSi-SiO2 界面ダメージについて、行するというメカニズム。
STMicroのRos氏は、フォトレジストのHBrプラ

ダメージの種類によるアニールでの回復特性に言ズマキュアに関して報告した。HBrキュアは加工及。VUVによるダメージは、アニールにより回復

時のレジスト変形、エッチング耐性、LWR（Line

しやすいが完全には回復しない。SiN膜などで光Width Roughness）悪化低減に効果があるが、場合をさえぎることがダメージ防止に効果的。一方、によっては寸法変動が起こる。今回Si-ARC Step

イオンによるダメージ（dislocation等TEMで観察さのガスをCF4/CH2F2系からSF6/CH2F2系に変更する

れるもの）
は800℃以上の高温アニールでないと回ことで、HBrキュア無しでもLWRが悪化しないこ復が難しいが深さが浅いので、加工残膜の制御にとを報告。LWR悪化の要因はCF系堆積膜の付着とよる回避が重要との報告であった。
ALE（Atomic layer Etching）のセッションでは、の見解。
CVD/PVD/ALDのセッションでは、奈良先端科Applied MaterialsのRauf氏が”Layer-by-Layer”

学技術大学の石川氏がALDプロセスステップ（①Etchingを実現するためには、例えばSiやSiO2をエ

プリカーサー(TMA)暴露→②パージ→③酸化→④

ッチングする際、まずは被加工膜上に、薄く、均15

一性の高いC-F-Si(-O) layerを形成した後、それを高度情報化社会を担うマイクロエレクトロニク

直下の被加工層はエッチングせずに、選択的に除ス技術の高度化が進むなかで、ドライプロセスの去する必要がある。それを実現するためには、今役割はますます大きくなっている。ドライプロセ

までにない低イオンエネルギー化と、イオン・ラスにおける様々な物理的・化学的現象の解明は、ジカルの独立制御性が求められるとの報告であっ今後のマイクロエレクトロニクス、マイクロマシ

た。

ンやナノテクノロジー分野を中心とした電気・電子、半導体工学のみならず、医療やバイオを含めSungkyunkwan大学のPark氏はガス圧力に対するエッチレートの飽和条件を見出しながらた先端技術産業の発展と新たなる応用の開拓に大layer-by-layer etching を実施。Cl2ガス暴露＋Arプ

きく寄与すると期待される。本シンポジウムはそ

ラズマ反応ステップを用いたエッチングでは照射れらの可能性を十分に感じられるものであった。

イオンエネルギー30V以下でALEを確認。この条

今後もこれらドライプロセス、プラズマプロセス

件では、HfO2に対する無限大の選択比が実現できに関する研究開発が加速され、発展していくこと

るとの報告であった。

を期待したい。

16

国際会議報告第 10 回アジアヨーロッパプラズマ表面工学国際会議
The 10th Asian-European International Conference on
Plasma Surface Engineering (AEPSE 2015)
大阪大学接合科学研究所

節原 裕一

今回で第 10 回目の記念を迎える標記国際会議である韓国から 140 件（前回 234 件）、日本からが、2015 年 9 月 20 日〜24 日の 5 日間にわたっ

120 件（前回 72 件）、中国から 58 件（前回 27 件）、て、韓国・済州島の Ramada Plaza Jeju Hotel でドイツをはじめとするヨーロッパ、ロシアならび開催された。この国際会議は、ドイツのに米国から 55 件を越える発表がなされた。

Garmisch-Partenkirchen で隔年開催されている

今回の会議では、第 10 回の記念すべき国際会

プ ラ ズ マ 表 面 工 学 国 際 会 議 （ Plasma Surface

議 と し て Tutorial Session な ら び に TopicalEngineering : PSE）の中間年に、アジアで開催

Workshop、さらには表彰制度（K-T Rie Award、されており、1997 年にソウルで開催された初回かContribution Award、Young Scientist Award、ら、本邦での 2001 年に名古屋で開催された第 3Student Award）が新設された。Tutorial Session

回 AEPSE（AEPSE 2001：委員長 高井 治 先では、世界的に著名な研究者を招聘して、基礎講生；The 6th Asian Surface Finishing Forum 6th

座 に 加 え て 、 "HiPIMS" さ ら に は 、 "Plasmaとの共同開催）、2007 年に長崎で開催された第 6

Rejuvenation and Dermatology"が取り上げられ

回 AEPSE（AEPSE 2007：委員長 藤山 寛 先

た 。 ま た 、 Topical Workshop で は 、 "Green生）を経て、今回で第 10 回を迎えた。

Technology" 、

"

Life

Scienceandこ の 国 際 会 議 は 、 Asian Joint Committee for

Bio-Technology"、"Energy and Environment"、

Applied Plasma Science and Engineering(AJC-APSE)

そして"Mobility"をテーマに、将来に向けた議論が主催し、European Joint Committee on Plasma andが大いに深められた。さらに、オープニングに続Ion Surface Engineering (EJC / PISE)の協力のもと、

く Plenary session に登壇された吉田豊信先生の名古屋大学の堀勝 先 生 が Conference

御講演は、多くの参加者に感銘を与えた。

Chairman を 務 め ら れ て 開 催 さ れ た 。 ま た 、

次回の第 11 回 AEPSE は、2017 年に今回と同International Program Committee 委員長としてじく韓国・済州島で開催されることが決まってお九州大学の白谷正治先生、Advisory Board 委員とり、多数の皆様の御参加を歓迎いたします。

して藤山 寛先生、General Managing Secretary

また、AEPSE の母体である Plasma Surface

として東京工業大学の野崎智洋先生が実行に深くEngineering (PSE)については、次回、2016 年 9携わられ、下名も一員として関わらせていただい月 12 日 〜 16 日 の 日 程 で 、 ド イ ツ のた。

Garmisch-Partenkirchen で 開 催 予 定 で あ る 。
【PSE2016 講演申込締切：2016 年 1 月 31 日】

今回発表された論文は世界 30 ヶ国から 431 件（前回の AEPSE2013：429 件）であり、開催国

www.pse-conferences.net/pse201617

国際会議報告

第９回反応性プラズマ国際会議/第６８回気体電子会議合同会議/
第 33 回プラズマプロセシング研究会
9th International Conference on Reactive Plasmas(ICRP-9)/
68th Gaseous Electronics Conference(68th GEC)/
33rd Symposium on Plasma Processing(SPP-33)
2015 年 10 月 12 日～16 日開催
名古屋大学

ICRP-9 組織委員長 豊田 浩孝

プラズマエレクトロニクス分科会では分科会国際会議として反応性プラズマ国際会議

Japan

212

(International Conference on Reactive Plasmas: ICRP)

United States of America

212を開催しており、これまでに第１回から第８回まGermany

42

で日本をはじめアメリカ、フランスにて開催してKorea,Republic of

41

きました。

France28

今回、ICRP-9 は GEC と合同にて本年１０月１２

China

15

日～１６日の日程でハワイオアフ島の Hawaii

United Kingdom

12

Convention Center にて開催されました。今回の会

Australia

11

議はアメリカ本土と日本の間に位置するハワイに

Netherlands

9

おける会議開催であり、日本、アメリカをはじめ

Ireland9

世界各国から 600 名を超える参加者を得て盛大なRussia8

会議となりました。

Czech Republic

5＜会議概要＞

Taiwan, Republic of China5

表 1 に今回の会議の国別参加者数を、表２に国別Canada5

講演数を示します。今回の会議は日本から 250 名

Serbia-Montenegro (Yugoslavia)

4を超える参加者を得て、国別でトップの参加者

Others

38

Total

656

Japan

254

USA

155

Germany

35

France

18

UK

13

Korea

13

Others

117

Total

605

表１ 国別参加者数

表２ 国別講演数数となっております。また、講演件数も 212 件
であり、アメリカと並んでトップとなっております。この他にもアジアやヨーロッパからも多数の参加を得ており、今回はまさに日米を中心とした国際会議の名にふさわしい会議となりました。
今回のプログラムは、京都大学斧高一先生のICRP Plenary Talk、J. Gay Timothy 先生の GEC
18

としてそれぞれ実施されました。今回の ICRPAward は Tohoku University, Shota Sasaki 氏、University of Greifswald, Wild Robert 氏に授与されました。
＜ICRP Most-Cited Paper Award＞
今回より ICRP JJAP 特集号に対して Most-Cited
Paper Award を授与しております。今回は 2010 年に開催されました ICRP-7 の JJAP 特集号にて最も参照された論文として、Sasa Dujko 氏, Zoran
Petrovic 氏らの論文が表彰されました。

ICRP Plenary Talk の斧髙一先生＜ICRP 特集号＞
今回の合同会議では ICRP 特集号として JJAP より

Foundation Talk をはじめ、招待講演 61 件、一般特集号が来年５月ごろをめどとして発刊されます。

口頭講演 270 件、ポスター講演 319 件となっており、4 パラレルセッションにて口頭講演セッショ

最後になりましたが、今回の会議開催にあたっ

ン 52 セッション、ポスター2 セッション、ワークて日本からはプラズマエレクトロニクス分科会のショップ 3 セッションにて開催されました。

皆様を中心として多数のご参加をいただけました＜ICRP 主催ワークショップ＞

こと、
主催者として篤くお礼申し上げます。
また、今回の合同会議では、ICRP および GEC それぞれ本会議の開催にあたり、プラズマエレクトロニク

からワークショップ開催提案があり、ICRP 側からス分科会および多くの企業からのご支援をいただは”Challenge of Plasma Science towards Future

きました。篤くお礼申し上げます。

Medicine”が会議初日午後に開催されました。本

なお、次回の ICRP-10 は首都大学東京 杤久保

ワークショップは初日のレセプション前の開催に文嘉先生を委員長として３年後に開催される予定も関わらず当初の予想をはるかに超える 200 名をです。
また、
次回の GEC-69 は Prof. Uwe Czarnetski

超える会場を溢れるほどの多くの参加者があり、非常に密度の高い講演と熱い討論が行われました。
＜ICRP Award＞
今回は GEC との合同会議ということで、口頭講演は GEC Award として、ポスター講演は ICRP Award

教授を現地委員長として、ドイツのボッフム大学において開催されます。来年の GEC も、また３年後の ICRP も多数の方がご参加されますよう、お願い申し上げます。

懇親会エンターテイメントのフラダンス風景。本格的ダンスで参加者を魅了しました。

ICRP Workshop の会場風景
19

国際会議報告

AVS 62nd International Symposium & Exhibition
米国真空学会第 62 回国際シンポジウム＆展示会
大阪大学工学研究科 浜口智志
AVS（米国真空学会）第 62 回国際シンポジウ

は、松井 都 （日立製作所）、関根 誠（名古屋

ム＆展示会（以下、「AVS シンポジウム」と略記）

大学）、斧 高一 （九州大学）、上田博一（東京エが、2015 年 10 月 18 日（日）から 10 月 23 日（金）レクトロン）の各氏（発表順）であった。

までの６日間、米国カリフォルニア州サンノゼの上述した Focus Topic のひとつとして、PSTD

San Jose Convention Center にて開催された。

と 深 く 関 連 し た “Surface Modification of

AVS 本部の速報では、今年の全参加者数は約Materials by Plasmas for Medical Purposes

2,600 名とのことである。ハイテク産業の集中し(SM)”が、昨年に引き続き開催され、大変な盛況

たサンノゼだけあって、昨年の同時期にボルチモであった。同 Focus Topic の日本からの招待講演

アで開催された第 61 回会議より、参加者数が 300

者は、永津雅章氏（静岡大学）であった。来年の名近く増えたようである。

第 63 回の会議では、同 Focus Topic は、名前をAVS シンポジウムは、10 の分科会（division）、

変 え て 、 “Plasma Processing for Biomedical

2 つの Technical Group とよばれる分科会に準ず

Applications (PB)” Focus Topic として生まれ変る組織、および、その時々の話題に合わせて形成わることが決まっている。来年も、PSTD とともされる Focus Topic とよばれる臨時の分科会的組に、この Focus Topic にも多くのご投稿を頂ける

織が、AVS 本部プログラム委員会のマネジメント

ようお願いしたい。

のもと連携して、それぞれの専門分野の会議を運

次回の第 63 回 AVS シンポジウム年会は、2016

営することにより、開催されている。特に、Focus

年 11 月 6 日から 11 日にかけて、米国テネシー州

Topic は、従来の Division や Technical Group のナッシュビルで開催される。

枠組みでは対応しにくい新しい学際的な分野に対し、組織横断的に対応するための組織である。このように、AVS シンポジウムは、学会や産業界のニーズに機動的に対応できるよう、その運営シス
テムにさまざまな工夫が凝らされている。
上述の AVS 分科会のうち、本誌と最も関連の深い分科会は、Plasma Science and Technology
Division（PSTD）である。今年の AVS シンポジ
ウムでは、PSTD は、昨年より招待講演者数とセッション数を増やし、17 の口頭発表セッション（昨年は、14 の口頭セッション）と 1 つのポスタ

図：第 62 回 AVS シンポジウムの会場となったーセッションを主催した。日本からの招待講演者

サンノゼ・コンベンション・センター。
20

国際会議報告37th International Symposium on Dry Process(DPS 2015)
第 37 回ドライプロセス国際シンポジウム
大阪大学 浜口智志
第 37 回ドライプロセス国際シンポジウム（以Sessions）は、原子層エッチング（ALE）や原子

下、「DPS2015」と略記）が、2015 年 11 月 5 日

層 堆 積

（木）
・6 日（金）の両日、兵庫県淡路島の淡路夢

Reactions”、および、深堀エッチングの技術を対舞台国際会議場で開催された。今年で 37 回を迎象とした “High Aspect Ratio Etching”であった。

える DPS は、プラズマエッチングやプラズマＣ

これは、近年、半導体プロセスで、非常に、注目

ＶＤ等、半導体の微細化プロセス技術の分野におを集めているトピックである。前者の特別セッシ

いて、世界をリードする国際会議であり、年に 1

ョンでは、Y. Zhang （Applied Materials), P.

回、主として、国内で開催されている。今回も、Ventzek (Tokyo Electron America), C. Lee (Lam

国内外の大学や企業から、約 200 名の参加者を迎Res.) の各氏が、また、後者では、S. Engelmann

えて、大変な盛況であった。

氏 (IBM) が招待講演を行った。また、New Dry(ALD) に 関 す る “Atomic Layer

今年の DPS は、例年通り、昨年の DPS におけProcess and Equipment のセッションでは、上田る各賞（Young Research Awards, DPS Paper

博一氏（東京エレクトロン）が、plasma doping にAward, Nishizawa Award） 授賞式典から始まっ

関 す る 招 待 講 演 を 行 っ た 。 Plasma Enhanced

た。DPS Paper Award は、昨年新設された賞で、ALD の招待講演を行う予定だった E. Kessels

Japanese Journal of Applied Physics (JJAP)の氏 (Eindhoven U.) が急な体調不良で参加できな

DPS 特集号に掲載された論文で、過去３年においかったのは、大変残念であった。

て、最も優れていると認められる論文の著者に送

来年の DPS は、2016 年 11 月 21（月）・22 日

られる賞である。上記以外に、Best Presentation（火）に、北海道大学（札幌市）で開催予定であAward （2013 年以前の Best Paper Award に対る。今回同様、多くの論文投稿を頂けるようお願応する賞）もあるが、昨年の DPS では、受賞者いしたい。

がいなかった。
式典の後、Nishizawa Award の受賞者である
浅川潔 氏（筑波大学教授）の受賞招待講演が続いた。光デバイス微細加工に関する浅川氏の研究成果の集大成を詳しく丁寧に解説した講演であった。
最近、電子デバイスも、シリコン系以外の様々な材料が使われるように、浅川氏の講演の内容を、新たな視点で受け止めた聴衆も多かったと思われ
DPS2015 の会場となった淡路夢舞台の建物の一部。
（木下啓藏氏撮影）る。
今 年 の DPS の 特 別 セ ッ シ ョ ン （ Arranged
21

国内会議報告

第 9 回プラズマエレクトロニクスインキュベーションホール
静岡大学 松井信
平成 27 年 9 月 1 日から 9 月 3 日の日程で国立
青少年交流の家（静岡県御殿場市）において第 9回プラズマエレクトロニクスインキュベーションを開催いたしました。本会はプラズマエレクトロニクス分野の初学者（学生、若手研究者、社会人
技術者）を対象としてプラズマ応用物理学の理解を深めて頂くための講習会です。参加者は 84 名
（内受講者 70 名）でした。本会は 6 名の先生方によるプラズマの基礎から応用を網羅する各分野

藤山先生による特別講義のプラズマエレクトロニクス研究の最前線につい【特別講座】てのご講義に加え、英語講座を新たに開講し、小「役に立つプラズマ技術をめざして～これまでと川先生より海外での学位取得時の経験をご講義いこれから～」藤山寛先生（長崎大学）

ただきました。

【専門講座】

昨年に引き続き本会も盛況となり、会期中に開①「プラズマ生成－低圧力～大気圧の下、直流～催されたポスターセッション及び懇親会を通じて

マイクロ波による生成－」酒井道先生（滋賀県立受講者同士に加え講師の先生方、スタッフと活発

大学）、②「プラズマ診断」中村圭二先生（中部大な交流ができたように思います。今後、本会の受学）、③「プラズマ CVD/PVD」布村正太先生（産講者からプラズマ研究を切り開く研究者が輩出さ

業総合研究所）、④「プラズマエッチング」関根誠れることを期待いたします。開催中、一時雨天と先生（名古屋大学）、⑤「プラズマの宇宙応用」山なり予定されたウォークラリーは中止となりまし

本直嗣先生（九州大学）

たが、代わりに行った一人一分の自己紹介は個性【英語講座】

溢れるものとなり大いに盛り上がりました。参加「理科系のための英語講座」小川大輔先生（中部者の皆様、講師の先生方に加え本企画の運営、開大学）催にあたりご協力頂きました分科会幹事の先生方【担当幹事（敬称略）】に篤く御礼を申し上げます。最後に、優秀ポスタ

校長：節原裕一（大阪大学）

ー賞を受賞された受講者をご紹介いたします。今年度は 4 名の受賞です。
おめでとうございました。
【優秀ポスター賞】

幹事：赤松浩（神戸市立高専）、石島達夫（金沢大学）、板垣奈穂（九州大学）、井上泰志（千葉工業大学）大島多美子（佐世保高専）、小岩井亮憲さん（京都大学）、田頭博倫さん（岩手大川大輔（中部大学）、
上坂裕之（名古屋大学）、学）、石坂洋輔さん（金沢大学）、長谷川雄一さん

松井信（静岡大学）（中部大学）
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国内会議報告2015 年第 76 回応用物理学会秋季学術講演会
海外研究者招待講演報告
首都大学東京 杤久保文嘉
秋季学術講演会の初日，中国・清華大学の1990 年代半ばに北海道大学で助教授として過Yi-Kang Pu 教授，東京エレクトロンアメリカのごし，現在も慶応大学の博士課程教育リーディ

Peter L. G. Ventzek 博士の２名をお迎えし，プラズ

ングプログラムで特任教授を務められているとマエレクトロニクス English Session 内で海外研のことで，日本に馴染みのある研究者である。

究者招待講演を行いました。

プラズマプロセスのモデリングとシミュレーシ

Pu 先生は非平衡プラズマの分野で中国の中心ョ ン の 専 門 家 で あ り ， 今 回 は ， “Integrated

的な研究者であり，様々な国際会議や団体のボー

Approaches for Surface Chemistry Control inドメンバーを歴任されており，当分科会の反応性

Plasma Processing”という演題で講演されま

プラズマ国際会議（ICRP）の組織委員会，出版した。7 nm プロセス以下の超微細プロセスで委員会にも委員として協力いただいております。

は，形状，選択性，デポレートやエッチレート，

今回，“Electron Behavior in a Low Pressure

均一性，ダメージ，サブサーフェスやフィルム

Argon Afterglow”という演題で講演いただきましの質といったデバイス加工における全ての要求た。アルゴンでは準安定準位や共鳴準位が関与しを満たすよう，基板表面での化学種，フラック

た電子衝突反応が重要となることは周知の通りでスやエネルギーの制御が必要となります。講演

すが，
反応レート等の計測は容易ではありません。

では，サイクリックエッチングプロセス，アト

今回の講演では，アフターグロー中での電子挙動

ミックレイヤーデポジション，プラズマドーピ（電子温度や電子エネルギー）と発光の計測，及ングを例として，表面反応を実現するためのプび，実験に対応したレート方程式による電子挙動

ロセスについて述べられました。また，プロセのモデル解析より，
前述の電子衝突反応が示され，

スシミュレーション技術により，実験では得る

その定量性や妥当性が詳細に議論されました。ア

ことが困難である，プロセス実現に必要な反応

フターグローはプラズマ内部での基礎的現象の研の時間スケール，粒子のフラックスやエネルギ

究に適した放電形態であること（低エネルギー電ーといった本質が明確になり，プロセス開発を子と準安定原子の反応のみを考慮すれば良い条件

支援していることが解説されました。

を作り出せるため），モデルと実験の定量的な比較

お二人は，プラズマエレクトロニクス分科会が重要であること，様々な実験条件下でモデルの主催の懇親会にも出席いただきました。最後に，妥当性を検証してモデルの適用範囲を明示する必ご多忙の中，招待講演を快諾いただきました Pu

要があることなどが結論として指摘された。国内

教授，Ventzek 博士に改めて御礼を申し上げまでは弱体化しつつある放電基礎の重要性を再認識す。

する講演であった。

東京エレクトロンアメリカの Ventzek 氏は，
23

国内会議報告2015 年第 76 回応用物理学会秋季学術講演会「プラズマ医療科学の最前線」報告
首都大学東京 内田
１．はじめに

諭２．各講演の概略と感想

第 76 回応用物理学会秋季学術講演会（2015 年「プラズマ医療科学の現状と課題」

9 月 13 日～16 日、名古屋国際会議場）の 2 日目

堀勝先生（名古屋大学）

午後（13:30 - 18:00 ）、分科会企画シンポジウム

現在進められている新学術領域研究の全体像を「プラズマ医療科学の最前線」が開催されました

示されるとともに、学理形成の重要性を説かれて（1F 会場 レセプションホール）。近年、大気圧いました。プラズマ技術を、がん治療における第非平衡プラズマの安定形成技術が確立し、生体や4 の手法として確立していくには、装置パラメー

液体へのプラズマ照射が可能となっています。さタや粒子パラメータを標準化することが極めて重らに本照射技術を用いて、がん治療、止血、遺伝

要であることがよく理解できました。

子導入といった様々な医療応用が進められています。一方で、これらの医療効果をプラズマ工学と「プラズマ医療装置に求められている要素と世界医学の融合に基づいて解明していく新たな学理の動向」節原裕一先生（大阪大学）

形成も不可欠です。平成 25 年度より文部科学省

プラズマ医療に用いられる様々なプラズマ生成

新学術領域研究「プラズマ医療科学の創成」（領域

装置の制御について、放電形態、電圧振幅、周波代表者：名古屋大学 堀勝先生）が発足しており、数の観点から精査された結果を丁寧にご紹介頂き

多くの研究者によって精力的に学術基盤の整備がました。また、新たに開発した広帯域プラズマ源

行われています。本シンポジウムでは、当該研究のラジカル生成効率についても説明がありました。

グループを中心に 9 件の招待講演、また、2 件の一般講演があり、プラズマ医療科学に関連する最「大気圧プラズマによる活性酸素生成と細胞応先端の研究報告がなされました。

答」近藤隆先生（富山大学）
スピントラップ剤を用いた生成活性種の特定とアポトーシス誘導における遺伝子発現の解析から、細胞応答における酸化メカニズムを詳細に調べられた結果を示されました。
「プラズマと生体との分子生物学的相互作用」
水野彰先生（豊橋技術科学大学）
プラズマによる生体応答を評価するため、出芽酵母を用い、遺伝子発現量の変化から DNA 損傷の証拠を示されました。使用ガスの違いによる損24

傷度の違いも明らかにされていました。

されており、ラジカルの効率的生成法として興味が持てました。

「大気圧プラズマの癌治療への応用」
吉川史隆先生（名古屋大学）「立体形状大気圧プラズマの殺菌特性の位置依存名古屋大学における医工連携として、プラズマ性」三沢達也先生（佐賀大学）

照射およびプラズマ処理養液（PAM）による卵巣

農産物の効果的な処理を目途として、全方位かがんの治療効果について紹介されました。実用面

らの照射が可能な立体形状大気圧プラズマによるでは、浸透性の高い PAM が有望視されており、殺菌特性を示されていました。立体的な照射はプ

臨床応用に向けた動物実験等の成果に期待が持て

ラズマ医療においても必須な技術であるため、更ました。

なる発展が期待されます。

「大気圧プラズマの照射／吸入による疾患治療と「プラズマによる止血メカニズムの解明とその実

救急救命医療」平田孝道先生（東京都市大学）

用化に向けた取り組み」池原譲先生（産総研）

心筋梗塞や虚血性脳症に対するプラズマ吸入効

非平衡大気圧プラズマを用いた止血処理は、熱果を実験的に示され、一酸化窒素による血管拡張傷による術後障害の少ない新たな手法であり、そとの関連を定量的に説明されていました。本手法の有用性を医学的見地からわかりやすく紹介頂きを救急救命治療に適用すべく、努力を続ける先生ました。また、プラズマによる血液凝固メカニズの熱意が伝わりました。

ムについて、観測されたたんぱく凝集との関連か
ら説明されていました。

「非平衡大気圧プラズマ刺激による新作用機序遺伝子導入」金子俊郎先生（東北大学）「酸化ストレスからみたプラズマ医療科学への期

効率的な遺伝子導入技術として、非平衡大気圧待」豊國伸哉先生（名古屋大学）

プラズマを用いた新手法の開発について紹介頂き

酸化ストレスと生体作用における医学的見地にました。活性種による化学的作用と電界等による基づき、プラズマ照射により生成した OH ラジカ

物理的刺激の相乗効果による導入効率の向上を示

ルが、脂質酸化や DNA 変性を引き起こすことをされ、遺伝子輸送システムにおけるプラズマ独自

定量的に示されました。また、プラズマ処理は医の新作用機序が明らかにされつつあることを説明

療技術において重要な酸化ストレスの局所制御が頂きました。

可能であるとの見通しを頂きました。

「水電極を有する Ar ガス DBD 中の OH(A)の挙動～

３．おわりに本分科会において、最も注目されているテーマ

時間分解 OES と計算機シミュレーションによる検のひとつということで、200 名を超える多数の聴

討～」白藤立先生（大阪市立大学）
プラズマ医療にも応用展開が可能なマイクロソ講者が出席しており、活発な質疑応答が見受けら

リューションプラズマにおける OH ラジカルの挙れました。本シンポジウムをきっかけとして、さ動を分光分析と数値計算の結果から検証されていらに多くの研究者がプラズマ医療の学理形成に参ました。OH（A）の発光が Ar の発光よりも持続画して頂けることを祈念しております。
25

国内会議報告2015 年 第 76 回応用物理学会秋季学術講演会
第 15 回分科内招待講演報告
産業技術総合研究所 布村正太
第 76 回応用物理学会秋季学術講演会(2015 年 9発展とプラズマ医療応用への期待を述べ講演を締

月 13 日～16 日、名古屋国際会議場)の二日目、プ

めくくられました。

ラズマエレクトロニクス分科内招待講演が開催さ

辰巳氏には、「プラズマプロセスの定量的な制御れました。第 15 回目を迎える今回は、豊橋技術に向けて」と題し、ご講演いただきました。学生

科学大学教授の水野彰先生と、ソニー（株）デバ時代に取り組まれたマイクロ波ＣＶＤ法による

イス＆マテリアル研究開発本部の辰巳哲也氏にごa-Si:H の成膜から、入社後のエッチングに関する講演いただき、多くの聴講者で会場が埋まりまし研究開発、そして、ＡＳＥＴ時代におけるプロセ

た。

ス診断等に関する研究が紹介されました。特に、

水 野 先 生 に は 、「 低 温 プ ラ ズ マ を 用 い る

ＡＳＥＴ時代には、多くの研究者・技術者との出PM2.5・ガス状汚染物質対策」と題し、ご講演い会いがあり、酸化膜エッチングの素過程の解明にただきました。電気集塵の原理から、課題とその向け共同で取り組まれたことが、その後の研究開

対策、そして最近の応用展開について紹介が行わ

発の進展や人脈形成に繫がったと述べられました。

れました。コロナ放電を用いる電気集塵では、集また、会場の若手研究者へのメッセージとして、塵極での塵の巻き上げが課題であり、その対策にプロセスの理解には電子や原子の気持ちになって

イオン風の活用や表面修飾（ブラシ形状）が有効

考えることが必要であり、プロセス全体の反応をであると解説されました。また、高抵抗ダストの把握した上で、プロセスを適切なポイントに導く集塵の際、集塵極の絶縁破壊（逆放電）が問題とことが望ましいとのプロセス制御の極意を述べらなるが、パルス化やＡＣ放電化、更にはＤＣ重畳れました。

でこの問題を軽減できると述べられました。最近

最後に、ご多忙の中、非常に感銘深いご講演をの研究活動の紹介では、ディーゼルエンジンにお頂きました水野先生、辰巳氏に御礼申し上げます。

ける排ガス処理に精力的に取り組まれ、実用化のまた、多くの聴講者にご参集いただきましたこと

一歩手前まで進展している様子が報告されました。 に感謝いたします。
最後に、環境分野におけるプラズマ技術の更なる26

国内会議報告第 20 回プラズマエレクトロニクス新領域研究会「再生医療とプラズマ医療～プラズマと生体界面の反応～」
愛媛大学 本村英樹
平成 27 年 5 月 30 日（土）、愛媛大学総合情報

医学・農学的観点からのプラズマ応用研究とプラ

メディアセンター1 階メディアホールにおいて、ズマ技術への提言に関する講演があった。
最後に、第 20 回プラズマエレクトロニクス新領域研究会

濱田准教授、手老准教授より人工細胞を用いた界「再生医療とプラズマ医療～プラズマと生体界面面反応の解析、勝木教授よりパルスパワーの生体の反応～」を、科学研究費補助金 新学術領域研作用、小林教授より骨組織再生へのプラズマ作用究「プラズマ医療科学の創成」、および本学寄附講に関する講演があった。

座

当日の参加者は合計 78 名に上り、その内訳はプラズマ・エネルギー応用学講座との共催と学内 48 名（内学生 30 名）、学外 30 名（内学生 6

して開催した。
放電プラズマの医療応用は、プラズマエレクト

名）であった。地元メディアの取材もあり、またロニクスの新しい学問領域を開拓するものとして最後まで活発な議論が白熱し、成功裏の内に本研

全世界的に発展を続けている研究分野であり、日究会を終えることができた。

本でも上記の新学術領域研究を中心としてがん治

本研究会開催にあたり応用物理学会、同プラズ

療や殺菌・滅菌、止血、遺伝子導入などのトピッ

マエレクトロニクス分科会、愛媛大学研究活性化

クスについて精力的に研究が進められている。こ事業「iPS 細胞樹立を中心とした安全性の確保されらの技術の実用化のためには、個々の応用に適れたプラズマ遺伝子／高分子導入技術の開発・応したプラズマ源を設計し、最適な照射条件を見出用」および愛媛大学工学部より資金援助を頂きます必要があり、これにはプラズマ照射に対する生した。厚く御礼申し上げます。

体応答の機序を明らかにすることが必須条件となる。本研究会では特にプラズマと生体界面の反応＜プログラム＞に着目し、プラズマ、医学、農学、材料の各分野

13:00

開会挨拶（本学学長、大橋 裕一）

から講師を招き、1 つのテーマに対してバラエテ

13:05

堀 勝（名古屋大学 工）「プラズマ生命ィに富んだ異なる視点からの講演を企画すること

科学の創成によるグローバルイノベーション」
13:30

で、新しい学術領域の発展と異分野連携を促進す
ることを目的として研究会を開催した。

金子 俊郎（東北大学 工）「非平衡プラズマによる細胞膜輸送駆動機構の解明」
13:50

当日のプログラムは下に記す通りである（敬称水野 彰（豊橋技術科学大学 環境・生命略）初めに堀教授よりプラズマ医療科学分野のレ工）「細胞・ウイルスへのプラズマ照射ならびビューと今後の展望に関する講演があり、続いてに電界の影響」
14:10

金子教授、水野教授、本村により遺伝子導入を主体としたプラズマ・界面反応に関する講演があっ本村 英樹（愛媛大学 工）「プラズマによる遺伝子／分子導入機序の検討」
14:40

た。次に福田講師、白石助教、小林准教授により
27

福田 信治
（愛媛大学 プロテオサイエン

ス）「細胞増殖シグナル研究と医療応用への可で何が起きているか?」
16:30

能性」
15:00

白石 研（愛媛大学 医）「プラズマのメ

生体作用と細胞応答制御の試み」
16:50

ラノーマ治療への応用」
15:20

17:20

への期待」

プラズマ・エネルギー応用学寄附講座の

紹介
17:35

濱田 勉
（北陸科学技術大学院大学 マテ

リアルサイエンス）「人工細胞膜を用いた生体

閉会挨拶（本学理工学研究課長・曽我部雄次）

界面ダイナミクスの解析」
16:10

小林 千悟（愛媛大 工）「再生初期の骨組織と Ti 合金インプラント表面との相関」

小林 括平（愛媛大学 農）「農業バイオ

テクノロジーの現状とプラズマ高分子導入法
15:50

勝木 淳（熊本大 工）「強電界パルスの手老 龍吾（豊橋技術科学大学 環境・生命工）「プラズマ照射によって人工細胞膜界面28

国内会議報告第 21 回プラズマエレクトロニクス新領域研究会『プラズマ流の可視化』
九州大学 渡辺隆行
平成 27 年 10 月 3 日（土）の 13 時より 17 時

るエネルギー損失が大きくなり，アークプラズマに，大阪大学吹田キャンパス岡田メモリアルホー

中心部のプラズマ温度が低下するという研究成果

ルにおいて，第 21 回プラズマエレクトロニクスが報告された。また数値シミュレーションにより新領域研究会が開催された。

熱プラズマの流動場を可視化するための数値計算

今回の新領域研究会はプラズマ流の可視化をテ手法と最近の事例についての紹介がなされた。

ーマとした。テーマとして単に「プラズマ」では次に，九州大学の田中学先生からは「多相交流

なく「プラズマ流」としたのは，プラズマを熱流アークの可視化による熱プラズマ中の変動現象の体として捉え，その移動現象を多次元で計測する解明」として，新規の熱プラズマ発生システムでことに着目したからである。

ある多相交流アークの電極温度やアーク温度を，プラズマ流はその複雑な現象に由来する計測の高速度カメラとバンドフィルターを組み合わせた難しさがあり，可視化には限界があった。最近は

システムを用いて計測する手法（図 1）について

高速度カメラとバンドパスフィルターを組み合わの講演があった。交流アークでは電極消耗が激しせることによって，高輝度のアーク中の移動現象

く，その原因として電極からの液滴飛散と金属蒸を非接触で定量的な計測が可能なシステムが開発

気の蒸発が重要な機構であることを示す研究成果されており，様々な分野で有力な研究・開発手段が報告された。

として活用されるようになっている。この新領域

大阪大学の野村和史先生からは「非軸対称溶接研究会においては，反応性熱流体であるプラズマ

アークの三次元分光計測」として，非軸対称アー流の移動現象やプラズマプロセッシングの反応過クプラズマの三次元的な温度分布の測定に関する程を解明することを目的とした。

講演があった。図 2 に示すように，多方向からア

この分野の最先端の研究を担っている若手の気ークの発光分光の同時計測を行い，そのデータを

鋭の 5 人の研究者による講演が行われた。最初のトモグラフィー技術によって画像再構成して非軸講演者である大阪大学の茂田正哉先生からは，「溶
接アークをはじめとした熱プラズマの可視化による動的挙動観察」と題した講演が行われた。アー
ク溶接における電極の溶融，溶滴形成，溶滴離脱といった一連の溶滴移行現象に影響されるアーク
プラズマの動的挙動に関する内容であった。溶接
アークは複雑な現象であるが，そのうちアークに対する金属蒸気の影響が大きく，ワイヤ端から発

図 1 可視化システム概略図と計測結果例

生した多量の金属蒸気が混入することで放射によ29

対称溶接アークの三次元分光計測を行うものである。また，計測装置を多方向同時多色計測へと発展させ，金属蒸気を含む溶接アークの複雑な三次元挙動を捉えた研究成果が報告された。
金沢大学の田中康規先生からは「熱プラズマによるナノ粒子製造時の原料蒸発および分子生成・輸送の可視化」と題する講演があった。高周波熱プラズマによるチタニアナノ粒子合成において，原料チタンの蒸気，生成物であるチタニアのプレカーサーである TiO 蒸気からの 2 次元スペクトル

図 2 多方向同時多色計測装置の模式図と計強度分布の時分解計測（図 3）を行い，その結果

測結果例をもとに，ナノ粒子の生成機構を考察した研究成果の報告があった。
最後に，大阪大学の内田儀一郎先生からは「非平衡プラズマジェットの動的放電特性」として，
大気圧非平衡プラズマジェット照射による溶液中
活性酸素ラジカル種(ROS)生成に関する講演があった。ガス流と溶液中酸化反応を可視化し，その相関関係を詳細に解析しており，図 4 に示すよう

図 3 Ar-O2 熱プラズマに Ti 原料粉体投入時にプラズマジェットのガス流パターンは，ガス流における Ti 原子および TiO 分子スペクトル放量の増大にともない層流状態から乱流状態に遷移

射強度分布の同時観測結果した。また，図 4 下側に，KI-starch 試薬の酸化反応による色変化を示す。層流状態においては，
プラズマと溶液面の接触部で局所的に酸化反応が促進し（写真の色の濃い領域），一方，乱流状態では広範囲に均一に酸化反応が促進している。ガス流パターンにより ROS の空間分布が制御可能であり，また，大きいガス流速をもつ層流パターン
が，高密度 ROS 生成に極めて有効であることが定量的であることが報告された。
今回の研究会において 5 名の講師の先生方，また会場の準備でお世話になった大阪大学の野村和史先生と研究室の学生の皆様，そして研究会に参加していただきご議論を頂いた皆様に御礼を申し上げます。

図 4 プラズマジェット発光写真と KI-starch
試薬の酸化反応による色変化
30

行事案内
2016 年第 63 回応用物理学会春季学術講演会

プラズマエレクトロニクス分科会企画
首都大学東京 杤久保文嘉 はじめに講演奨励賞受賞記念講演

2016 年 3 月 19〜22 日に東京工業大学大岡山キ

日程・会場：未定

ャンパスにて開催される第 63 回応用物理学会春受賞者：近藤 崇博（大阪大学）

季学術講演会における PE 分科会企画の概要とス

選考対象の発表：振動和周波発生分光による水表

ケジュールを紹介いたします。なお、未定の部分

面 O-H 振動構造へのプラズマ由来ラジカル・イオも含まれるため，詳細は応用物理学会の HP 等でンの効果確認をお願いいたします。
受賞者：簾 智仁（名古屋大学）
 プラズマエレクトロニクス賞受賞式／講演奨

選考対象の発表：水/有機溶媒混合溶液中ソリュー

励賞受賞記念講演

ションプラズマによる金ナノ粒子高速合成

第 14 回プラズマエレクトロニクス賞受賞式が執り行われます。受賞候補者の推薦締切は 2015

 分科内招待講演

年 12 月 22 日ですので，この記事が皆様に届いた

第 16 回目となる今回の分科内招待講演では，時点ではまだ募集中かと思われます。自薦，他薦

三菱電機の大森達夫様よりご講演を賜ります。皆は問いませんので，奮って推薦くださいますよう

様には奮って会場まで足をお運び頂きますよう，

お願いいたします。なお，分科企画シンポジウム

お願い申し上げます。

（学会 2 日目）に先だって授賞式を行います。

日程：3 月 20 日（日）（予定）2015 年秋季の講演奨励賞は，近藤崇博氏（大会場（未定）

阪大学）および簾智仁氏（名古屋大学）の２名が大森 達夫 氏（三菱電機・役員技監）

受賞されました。栄誉ある賞を受賞された皆様に講演タイトル：未定

は，この紙面を借りお祝い申し上げます。日程，
 分科会企画シンポジウム

会場は未定ですが，プログラムをご確認のうえ，学会 2 日目の 20 日（日）に，分科会企画シン授賞式ならびに受賞記念講演会場まで足をお運び

ポジウム「宇宙科学・工学とプラズマプロセッシください。

ング」を開催します。2015 年秋にシンポジウムを
プラズマエレクトロニクス賞受賞式開催したプラズマ医療はプラズマ応用分野として

日 程：3 月 20 日（日）定着してまいりました。宇宙もプラズマ技術が今

会 場：分科企画シンポジウムに先立ち同会場以上に貢献できる分野ではないかと考えられます。

で授賞式を行います（未定）ちょうど JAXA が宇宙探査イノベーションハブを31

立ち上げていることから，宇宙科学あるいは宇宙がりを見せております。TPP が大筋合意された今，探査における工学とプラズマプロセッシングとの

日本の農業を今後どのように展開するかは重要な共通点を議論する機会であると捉え，今回のシンテーマであり，プラズマ技術者にとっては活躍のポジウムを九大の渡辺隆行先生に取りまとめていチャンスと捉えることもできます。今回は，当該

ただきました。なお，シンポジウム内での一般講分野の第一人者である高木先生から，電源製作か演も募りますので，関連する研究発表はこちらへ

ら農業応用の実際まで，幅広くお話をお聞きする、のエントリーもご検討ください。まだプログラム

とても良い機会かと思います。

の一部は調整中のため，最終確定版のプログラム

チュートリアル講演は事前予約制となっていまは，後日に Web でご確認ください。

す。定員がございますので，お早めにご予約いただきますようお願い申し上げます。

日時：2016 年 3 月 20 日（日）
（予定）
会場：未定

日 時：2016 年 3 月 19 日（土）9：00～12：10

プログラム：（案）（タイトルは仮題，敬称略）

タイトル：プラズマ農業の基礎；超格安電源づく・ イントロダクション（調整中）りから農作物生産や鮮度保持への活用まで

・「イオンエンジンによる小惑星探査機」

講 師：高木浩一先生（岩手大学・工学部）

細田聡史（JAXA）
 English Session

・「高密度ヘリコンプラズマ生成とプラズマ推篠原俊二郎（東京農工大）ここ 2 年ほどでプラズマエレクトロニクス「8.0・「電気推進ロケットエンジンの開発と内部プ

プラズマエレクトロニクス English Session」と進」
ラズマ物理現象」

田原弘一（大工大）いう形態が定着してまいりました。今後も上手に・「超小型プラズマ推進機に関する研究内容と利用いただければと考えております。なお，今回実用事例の紹介」

鷹尾祥典（横浜国大）

・「リモートセンシング」

は海外招待講演を予定しておりません。

高島健（JAXA）
 おわりに・太陽電池関連（調整中）・「無重力条件での炭素ナノ材料のアーク合成」

本案内を執筆している時点では，プログラムの

三重野哲
（静岡大）

詳細は未定ですが，チュートリアル講演は学会初日に，シンポジウムと分科内招待講演，インフォーマルミーティングは学会 2 日目に実施される予 チュートリアル講演
学会初日に，PE 分科会企画としては第 6 回目

定です。2 日目の夜には分科会懇親会も企画されのチュートリアル講演を実施いたします。
今回は，るものと思います。最終プログラムを確認の上で岩手大の高木浩一先生より，「プラズマ農業の基

会場までお越しください。

礎；超格安電源づくりから農作物生産や鮮度保持への活用まで」と題して講義を頂きます。実用化

連絡先：杤久保（首都大学東京）：tochi@tmu.ac.jp

を視野に入れたプラズマの農業応用研究は年々広

32

行事案内

プラズマ・核融合学会第 28 回専門講習会『プラズマ医療の現状と展望』
九州大学 古閑一憲
プラズマ技術は、希薄気体から大気圧下での放【会場】

電、さらに気液界面・液中プラズマ放電と、その九州大学病院キャンパス コラボステーションⅠ

活躍する場を広げ、急激に技術革新と新規応用展

１階共同セミナー室 AB

開が進んでいます。特に大気圧放電は、室温で放（〒812-8582 福岡市東区馬出 3-1-1）

射線の 30 倍もの ROS を表面に供給できること、

http://www.kyushu-u.ac.jp/access/map/hospital/

短寿命ラジカルを高濃度に発生・供給できること

hospital.html

から、薬剤に頼らない殺菌・滅菌法としてプラズ（32 番がコラボ・ステーションⅠ）

マ殺菌・滅菌装置へと、低侵襲医療機器としてプラズマ止血装置等へと展開され、実用化・産業化【プログラム】

を目指して急速に研究が進展しています。このよ・大気圧非平衡プラズマの基礎

うなプラズマのバイオ応用展開の一環として、プ

古閑一憲（九大）

ラズマの医療応用が興味を集めています。

・プラズマ殺菌・滅菌の勘所

本専門講習会では、主にプラズマの医療応用に林

興味を持つ企業・大学・研究機関の技術者・研究

信哉（九大）・プラズマによる癌治療、止血などの医療応用者を対象に、プラズマの医療応用の現状と将来を田中宏昌（名大）分り易く講習します。特に、新しいプラズマを用・プラズマ入り用とナノ材料の安全性

いたライフサイエンスの研究法に興味がある方、田中昭代（九大）

外科手術に大きな影響を与える可能性がある低温
プラズマ止血装置に興味がある方、第４の癌治療【申し込み方法】

を目指したプラズマ癌治療研究の最前線に興味が下記アドレスより申し込み用紙をダウンロード、

ある方、プラズマとナノ材料の安全性に興味があ

必要事項を記入の上、メールにてお送りください。

る方、プラズマの新しい応用に興味がある方等に

http://www.jspf.or.jp/28senmon/28senmon.docx

貴重な情報収集の機会を提供します。
医療やバイオテクノロジー分野だけでなくプ【申し込み期限】

ラズマ・核融合分野の研究者・学生にも、放電現2016 年 1 月 16 日

象の理解や最新の応用技術を理解するよい機会となる講習会です。多数のご参加をお待ちしており【申し込み先】

ます。

プラズマ・核融合学会事務局【開催日時】

e-mail: plasma@jspf.or.jp

2016 年 1 月 29 日 13 時から 17 時
33

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27th Symposium on Plasma Physics and Technology (SPPT2016)
SPPT Program Committee Member 古閑一憲
SPPT2016 は、チェコ工科大学の電気工学部物

今年も多くの招待講演者が発表を行うが、日本

理学部門とチェコ科学アカデミー プラズマ物理人招待講演者は 2 回に 1 名程度と比較的少ない状研究所が主催する 2 年に一度の会議である。その況である。これは参加者数が少ないことも要因の歴史は古く、チェコがチェコスロバキアと呼ばれ一つと考えられる。美しいプラハの街並みと欧米ていた 1967 年にまで遡る由緒ある会議である。

研究者との議論（とチェコビール）を楽しむ良い

会議で議論されるトピックスは以下のようにプラ機会です。皆さん SPPT に参加されませんか？

ズマ物理からプラズマ応用まで幅広い。
【トピックス】
1.

【開催期間】

Tokamaks

and

other

2016 年 6 月 20 日から 23 日

magnetic

confinement devices
2.

Short lived
z-pinch,plasmas (plasma

particlebeam–

focus,【会場】

plasmaFacultyofElectricalEngineering,interaction, X-ray sources)

Technical University in Prague,3.

Laser plasma

Technicka 2, Prague 6, Czech Republic

4.

Non-equilibrium

low

Czech

temperatureplasma【アブストラクト投稿法】

5.

Thermal plasmas

１．まず preliminaly registration を行い、ID を

6.

Plasmaintechnology,

biology

and取得

medicine

http://www.plasmaconference.cz/preregistratio

7.

Fundamental plasma physics

n-form.php

8.

Plasma theory and simulation

２．次にアブストラクトを提出

参加者数は、100 から 200 名程度の中規模の会（サイトは近日オープン（11 月 30 日予定））

議である。しかしながら、招待講演者や参加者の中には著名な研究者も多く、大きな会議よりもむ【アブストラクト投稿期限】

しろ、これらの研究者と話す機会を多く作ること2016 年 3 月 20 日ができるのが特長ではないだろうか。前回会議のウェルカムパーティーでは、通常ではチェコ人で【ホームページ】

も許されないプラハ中心を流れるヴルタヴァ（モhttp://www.plasmaconference.cz/

ルダウ）川の中洲でのバーベキューが行われ、チェコビールと共に研究者の談笑の輪が広がってい
た。
34

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18th International Congress on Plasma Physics (ICPP 2016)
第 18 回プラズマ物理学国際会議
大阪大学 浜口智志
第 18 回 プ ラ ズ マ 物 理 学 国 際 会 議 （ 以 下 、携を保って、プログラム間の調整を行っている。

「ICPP2016」と略記）が、2016 年 6 月 27 日（月）(I) Magnetic Confinement Plasmas,

か ら 7 月 1 日 （ 金）の 日 程 で、 台 湾・ 高 雄(II) Beam and Laser Plasma,（Kaohsiung）の 85 スカイタワーホテル (85 Sky(III) Space Plasmas,

Tower Hotel：君鴻國際酒店)で開催される（下記）。

(IV) Astrophysical Plasmas,

今回で 18 回を迎える ICPP は、応用も含むプ(V) Basic Plasma Physics,

ラズマ科学・プラズマ物理学の最新の成果を議論(VI) Plasma Diagnostics & Spaceする場として、1980 年に第 1 回の会議が名古屋

Instrumentation,で開催された。それ以降、ほぼ 2 年おきに世界各(VII) Low Temperature and Dusty Plasmas,

地で開催されている。アジアで開催されるのは、(VIII) Plasma Applications

2008 年に福岡で開催されて以来 8 年ぶりとなる。

このうち、(VI), (VII), (VIII) は、本分科会にも、会議の責任者である実行委員長は、国立成功大とりわけ関連が深い。

学（台湾）の C. Z. (Frank) Cheng 教授である。

開催場所は、台湾南部にある高雄（Kaohsiung）

Cheng 教授は、日本の学界にも、共同研究者や知で、台湾第二の大都市である。明代末期に、日本

己の多い、なじみ深い理論物理学者である。2006

人を母とする鄭成功が、当時台湾を統治していた

年に、
国立成功大学に移籍される以前は、
長らく、

オランダを最後に駆逐した場所としても有名で、米国のプリンストンプラズマ物理学研究所

日本にも、いろいろな意味で、ゆかりの深い場所（PPPL）に在籍されていた。Cheng 教授の数あである。

る業績の中でも、核燃焼トカマクプラズマの閉じ込めに関して、近年、大きな話題となっている記

Toroidicity-induced Alfvén Eigenmodes (TAE

会議名：18th International Congress on Plasmamodes) の発見は、とりわけ、世界的に広く知ら

Physics (ICPP 2016)

れている。筆者も、80 年代後半に、トカマクの乱

日時：2016 年 6 月 27 日（月）∼7 月 1 日（金）流輸送の理論計算を行っていたころに、PPPL に

場所：85 Sky Tower Hotel, Kaohsiung, Taiwanて、Cheng 教授にいろいろとお世話になったのを、 主催：国際純粋・応用物理学連合（International
Union of Pure and Applied Physics: IUPAP）, 国

懐かしく思い出す。
ICPP は、プラズマ物理学の幅広い分野をカバ

立成功大学:宇宙・プラズマ科学研究所（Instituteーしており、運営上、次の 8 つの分野に、それぞof Space and Plasma Sciences, National Cheng

れ、subcommittee を置いて、プログラムを作成

Kung University)

している。もちろん、異なる分野間にも、密な連

情報: http://www.isaps.ncku.edu.tw/ICPP2016/
35

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第 15 回プラズマ表面工学国際会議
The 15th International Conference on
Plasma Surface Engineering (PSE 2016)
大阪大学接合科学研究所
標記の国際会議は、プラズマならびに加速イオ

節原 裕一

ある。

ンとの相互作用、表面改質ならびにコーティング

詳細は下記の web サイトをご参照下さい。

技術の基礎から工業的な応用にわたる幅広い分野

http://www.pse-conferences.net/pse2016.htmlを包含しており、２年に一度、ドイツのGarmisch-Partenkirchen で開催されており、次Important Dates

回で第 15 回目 を迎えます。

Abstract submission deadline: January 31,

前回の 2014 年の参加者は、世界から 800 名を

2016

超える規模（2012 年は〜750 名）となっており、(only via internet)
Confirmation of accepted abstracts: May 2016

世界的にも著名な国際会議となっています。
次回の第 15 回プラズマ表面工学国際会議は、
2016 年 9 月 12 日〜16 日までの 5 日間にわたり、

Conference Topics

ドイツの Garmisch-Partenkirchen の Kongress

1. Plasma and ion surface engineering

haus（国際会議場）にて開催されます。

Advanced plasma and ion source technologies- Pulsed plasmas, HiPIMS

この国際会議は、European Joint Committee
on Plasma and Ion Surface Engineering (EJC /- Atmospheric plasma sources

PISE)が主催し、Coimbra (P)の Albano Cavaleiro- Microplasmas

先生が Conference Chairman を務められること- Ion implantation / Plasma immersion ionになっております。

implantation- New ion and plasma sources

開催要領は以下の通り。
会議名：The 15th International Conference on- Industrial device technology

Plasma Surface Engineering (PSE 2016)

Properties of technological plasmas

会期：2016 年9 月12 日〜16 日- Plasma diagnostics / process control

会場：Kongress haus, Garmisch-Partenkirchen,- Plasma modellingt
Powders and Plasmas（ドイツ）- Nanoparticle synthesis

会場がある Garmisch-Partenkirchen は、オース ト リ ア との 国 境に そび え る ド イツ の 最高 峰

- Particle treatment

Zukspitze の麓に位置し、バイエルンの牧歌的風- Functional nanoparticless

景と共に「たおやかな時の流れ」が魅力的な街で

Atmospheric and in-liquid plasmas
36

- Tribological coatings
2. Surface modification technologies- Carbon-based films

Plasma treatment and cleaning- Corrosion-resistant coatings- Plasma-surface interaction- Barrier coatings- Plasma treatment of surfaces- Chemical functionalization of polymers

Electrical and magnetic coatings- Surface cleaning / plasma etching- Conductive and photocatalytic oxides- Ion and laser treatment- Films for photovoltaics- Plasma electrolyte oxidation- Films with special electrical functions

Physical vapor deposition - PVD- Films with special magnetic functions- Magnetron sputtering

Optical coatings- Vacuum arc deposition

Biomedical applications- Plasma-activated evaporation- Bio-functionalization of material surfaces- Atmospheric plasma deposition- Films and coatings for biomedical applications- Ion beam deposition

Multifunctional coatings

Plasma-enhanced chemical vapor deposition -Energy harvesting

PECVD- Batteries- Low pressure plasma CVD- Supercapacitors- Plasma polymerization- Fuel cells- Atmospheric pressure plasma CVD- New concepts on solar cells- Atomic layer deposition ALD

Smart coatings for sensors and actuators

Hybrid processes- Plasma diffusion treatment-PVD,

atmosphericpressure

4. Characterization and simulation of films andplasmaandprocesses

electroplating

Structure and composition- Plasma nitriding / carburizing

Geometrical- Hybrid and duplex processes

roughness)characterization(thickness,

Mechanical properties
3. Coating applications and properties

Internal stresses

Nano films

Optical properties- Ultrathin films

Electric and magnetic properties- Multilayer films

In-situ diagnostics of coatings- Nanocomposite films

Computer simulation and modelling of growth,- Nanostructures and nanoparticles

structure and properties

Protective and tribological coatings37

第 14 回プラズマエレクトロニクス賞受賞候補論文の募集
名古屋大学 豊田 浩孝

応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科等の会議録等のコピー。2 件以内

会では、毎年、プラズマエレクトロニクスに関す➢ 著者全員について和文で以下を記入した書類。
氏名、会員番号、勤務先（連絡先）

る学術的あるいは工業的に価値のある優秀な論文を対象とし、その著作者に「プラズマエレクト➢ 推薦書（自薦、他薦を問わず、論文の特徴、優ロニクス賞」を贈り表彰を行っています。候補論れた点などを400 字程度わかりやすく記すこ

文は自薦・他薦を問いません。下記の要領により,と。）

奮ってご応募下さい。
http://annex.jsap.or.jp/plasma/

表彰
2016 年応用物理学会春季学術講演会期間中に授賞対象論文行います。受賞者には賞状および記念品を贈呈いプラズマエレクトロニクス分科会が主催する

たします。また 2016 年秋季講演会期間中に記念研究会、国際会議等で発表され、かつ2013、2014,

講演を依頼する予定です。

2015 年の発行の国際的な学術刊行物（JJAP など）に掲載された原著論文。受賞者は、表彰の時

書類提出期限点においてプラズマエレクトロニクス分科会会

2015 年12 月22 日（火）当日消印有効員あるいは応用物理学会会員とする。
書類提出先
提出書類

〒113-0034東京都文京区湯島2-31-22

以下の書類各１部、および、それらの電子ファ

湯島アーバンビル7階

イル（PDF ファイル）一式

公益社団法人応用物理学会
プラズマエレクトロニクス分科会幹事長➢ 候補論文の別刷（原著論文1件、コピーでも可、（封筒表に「プラズマエレクトロニクス賞応募」

第１ページに候補論文と朱書すること。関連論と朱書のこと。）

文があれば２件以内の別刷またはコピーを添

なお下記の賞規定もご参照下さい。

付。）➢ 当該論文の内容が発表されたプラズマエレク
トロニクス分科会が主催する研究会、国際会議

38プラズマエレクトロニクス賞規定

1.

て行う。

この規定はプラズマエレクトロニクスに関する学術的あるいは工業的に価値のある優10. プラズマエレクトロニクス分科会幹事会は、秀な論文を表彰の対象論文とし、その著作者

毎年11 月までに授賞候補者募集要項を「プにたいして公益社団法人応用物理学会プラ

ラズマエレクトロニクス分科会会報」および

ズマエレクトロニクス分科会（以後プラズマ

応用物理学会機関誌「応用物理」誌上に公表

エレクトロニクス分科会と言う）が行う表彰

し、広く募集する。

について定める。
2.
3.

11. 受賞者の選考はプラズマエレクトロニクス

この表彰を「プラズマエレクトロニクス賞」

分科会幹事長が委嘱した「プラズマエレクトという。

ロニクス賞」選考委員会が行う。

表彰の対象論文は、原則として、プラズマエ

12. 受賞者が決定したときは、「プラズマエレク

レクトロニクス分科会が主催する研究会、国トロニクス賞」選考委員会委員長が、プラズ

際会議等で発表され、且つ募集期間から過去

マエレクトロニクス分科会幹事会に選考の３年の間に国際的な学術刊行物に掲載され経過および結果を報告する。

た原著論文とする。
4.

5.
6.

13. プラズマエレクトロニクス分科会幹事長は、受賞者はプラズマエレクトロニクス分科会

選考の経過および結果を応用物理学会理事

会員あるいは応用物理学会会員とする。

会に報告する。

受賞者は公募に応じた自薦および他薦候補

14. この賞の実施に関する必要な事項の審議お者から選考する。

よび決定はプラズマエレクトロニクス分科

すでに公に顕著な賞を受けた論文は、プラズ

会幹事会が行う。

マエレクトロニクス賞の対象論文としない。
7.

表彰は原則として毎年２件以内とする。

8.

表彰は賞状授与および記念品贈呈とする。

9.

表彰は毎年応用物理学会春季講演会におい15. 本規定は、理事会の承認を経て改訂することができる。
付則：この規定は、平成14年4月1日より施行する。

39

平成 27 年度プラズマエレクトロニクス分科会幹事名簿
氏 名

所 属

豊田浩孝

名古屋大学
工学研究科
電子情報システム専攻

節原裕一

大阪大学
接合科学研究所
加工システム研究部門
エネルギー変換機構学分野

副幹事長

杤久保文嘉

首都大学東京理工学研究科
電気電子工学専攻

副幹事長

伊澤 勝

（株）日立ハイテクノロジーズ
笠戸地区プロセス研究開発部

留任幹事
任期2016 年 3 月

赤松 浩

神戸市立工業高等専門学校
電気工学科

井上 泰志

千葉工業大学
工学部
機械サイエンス学科

大島 多美子佐世保工業高等専門学校
電気電子工学科

大村 光広

東芝 S&S 社半導体研究開発センター
ユニットプロセス技術開発部 ＵＰ２

岡田 健

東北大学
流体科学研究所

久保井 信行

ソニー（株）R&D プラットフォーム
STDD デバイス設計部
シミュレーション設計 2 課

小林 浩之（株）日立製作所中央研究所
ナノプロセス研究部

寺本 慶之(独) 産業技術総合研究所
環境管理技術研究部門
環境負荷制御研究グループ

伝宝 一樹

東京エレクトロン山梨（株）
技術開発センター
プラズマ要素技術グループ

松井 信

静岡大学
大学院工学研究科
機械工学専攻本村 英樹

愛媛大学
大学院理工学研究科
電子情報工学専攻

渡辺 隆行

九州大学
大学院工学研究院
化学工学部門石島 達夫

金沢大学
理工研究域電子情報学系
環境電力工学研究室

板垣 奈穂

九州大学
大学院システム情報科学研究院
情報エレクトロニクス部門

幹事長

副幹事長

新任幹事
任期
2017 年 3 月

住所・電話〒464-8603
名古屋市千種区不老町
Tel: 052-789-4698
Fax: 052-789-3150〒567-0047
大阪府茨木市美穂ヶ丘 11 番 1 号
Tel: 06-6879-8641〒192-0397
八王子市南大沢 1-1
Tel: 042-677-2744
Fax: 042-677-2756〒744-0002
山口県下松市大字東豊井 794
Tel: 090-4535-9279〒651-2194
神戸市西区学園東町８－３
Tel: 078-795-3311 内線：235
Fax: 078-795-3235〒275-0016
習志野市津田沼２－１７－１
Tel: 047-478-4308〒857-1193
佐世保市沖新町１－１
Tel: 0956-34-8479〒512-8550
四日市市山之一色町８００（四日市工場）
Tel: 059-390-7327〒980-8577
仙台市青葉区片平 2-1-1
Tel: 022-217-5318〒243-0014
厚木市旭町 4-14-1
Tel: 050-3141-4305〒185-8601
国分寺市東恋ケ窪１－２８０
Tel: 042-323-1111 内線：2403〒305-8569
茨城県つくば市小野川 16-1
Tel: 029-861-3084
Fax: 029-861-8866〒407-0192
山梨県韮崎市穂坂町三ツ沢 650
Tel: 0551-23-2327
Fax: 0551-23-4462〒432-8561
浜松市中区城北３－５－１
総合研究棟 R503
Tel: 053-478-1064
Fax: 053-478-1064〒790-8577
松山市文京町３
Tel: 089-927-8577〒819-0395
福岡市西区元岡 744
Tel: 092-802-2745
Fax: 092-802-2745〒920-1192
金沢市角間町
Tel: 076-264-6336
Fax: 076-264-6336〒819-0395
福岡市西区元岡 744
Tel: 092-642-2111
Fax: 092-802-3723

40

メールアドレス
toyoda@nuee.nagoya-u.ac.jp

setsuhara@jwri.osaka-u.ac.jp

tochi@tmu.ac.jp

masaru.izawa.jj@hitachi-hightech.com

akamatsu@kobe-kosen.ac.jp

inoue.yasushi@it-chiba.ac.jp

ohshima@sasebo.ac.jp

mitsuhiro.omura@toshiba.co.jp

okada@sammy.ifs.tohoku.ac.jp

Nobuyuki.Kuboi@jp.sony.com

hiroyuki.kobayashi.sy@hitachi.com

yoshiyuki-teramoto@aist.go.jp

kazuki.denpoh@tel.com

matsui.makoto@shizuoka.ac.jp

hmoto@mayu.ee.ehime-u.ac.jp

watanabe@chem-eng.kyushu-u.ac.jp

ishijima@ec.t.kanazawa-u.ac.jp

itagaki@ed.kyushu-u.ac.jp

小川 大輔中部大学
電気システム工学科

笠嶋 悠司(独) 産業技術総合研究所
九州センター
生産計測技術研究センター
プラズマ計測チーム

上坂 裕之

名古屋大学
大学院工学研究科
機械理工学専攻

島田 敏宏

北海道大学
大学院工学研究院
物質化学部門須田 善行

豊橋技術科学大学
電気・電子情報工学系

高木 浩一

岩手大学
工学部（電気情報）

竹内 希

中川 雄介

東京工業大学
大学院理工学研究科
電気電子工学専攻
三菱電機(株)
先端技術総合研究所
環境システム技術部
放電応用グループ

布村 正太（独）産業技術総合研究所
太陽光発電工学研究センター

藤野 貴康

筑波大学
システム情報系

松本 宇生

福岡大学
工学部
電気工学科

〒487-850
愛知県春日井市松本町１２００番地
1
Tel: 0568-51-9305〒841-0052
佐賀県鳥栖市宿町 807-1
Tel: 0942-81-4062
Fax: 0942-81-3690〒464-0814
名古屋市千種区不老町
Tel: 052-789-2787
Fax: 052-789-2787〒060-8628
札幌市北区北 13 条西 8 丁目
Tel: 011-706-6576
Fax: 011-706-6576〒441-8580
豊橋市天伯町雲雀ヶ丘 1-1
Tel: 0532-44-6726
Fax: 0532-44-6757〒020-8551
岩手県盛岡市上田 4-3-5
Tel: 019-621-6941
Fax: 019-621-6941〒152-8552
東京都目黒区大岡山 2-12-1-S3-4
Tel: 03-5734-2566〒661-8661
尼崎市塚口本町８－１－１
Tel: 06-6497-7069
Fax: 06-6497-7285〒305-8568
茨城県つくば市梅園１－１－１
Tel: 029-861-5075
Fax: 029-861-3367〒305-8573
茨城県つくば市天王台 1-1-1
Tel: 029-853-4953
Fax: 029-853-4953〒814-0180
福岡市城南区七隈 8-19-1
Tel: 092-871-6631
Fax: 092-865-6031

41

d_ogawa@isc.chubu.ac.jp

kasashima-yuji@aist.go.jp

kousaka@mech.nagoya-u.ac.jp

shimadat@eng.hokudai.ac.jp

suda@eee.tut.ac.jp

takaki@iwate-u.ac.jp

takeuchi@ee.titech.ac.jp

Nakagawa.Yusuke@ak.MitsubishiElectric.co.jps.nunomura@aist.go.jp

tfujino@kz.tsukuba.ac.jp

mtakao@fukuoka-u.ac.jp

平成 27 年度分科会幹事役割分担
役割分担
幹事長
副幹事長

1. 庶務・分科会ミーティング
2. 春秋講演会シンポジウム
シンポジウム・海外招待講演
分科内招待講演
チュートリアル講義
3. プラズマプロセシング研究会
H26 年度：プラズマコンファレンス
H27 年度：ICRP/GEC

4. 光源物性とその応用研究会
5. プラズマ新領域研究会

6. インキュベーションホール

7. プラズマエレクトロニクス講習会

8. 会誌編集・書記
9. ホームページ
10. 会計11. プラズマエレクトロニクス賞
12. アカデミックロードマップ（戦略企画室）13. PE 懇親会
GEC 委員（オブザーバー）

豊田 浩孝
節原 裕一
杤久保 文嘉伊澤 勝
寺本 慶之
杤久保 文嘉
渡辺隆行
井上 泰志
小林 浩之
伝宝 一樹
節原 裕一
岡田 健
松井 信
伝宝 一樹
大村 光広
大島 多美子
本村 英樹
節原 裕一
井上 泰志
渡辺 隆行
本村 英樹
節原 裕一
井上 泰志
松井 信
大島 多美子
赤松 浩
伊澤 勝
大村 光広
久保井 信行
小林 浩之
伝宝 一樹
岡田 健
赤松 浩
本村 英樹
大島 多美子豊田 浩孝
杤久保 文嘉豊田 浩孝
岡田 健
久保井 信行
豊田 浩孝

留任
名古屋大学
大阪大学
首都大学東京（株）日立ハイテクノロジーズ
産業技術総合研究所
首都大学東京九州大学
千葉工業大学（株）日立製作所
東京エレクトロン（株）
大阪大学
東北大学
静岡大学
東京エレクトロン（株）
（株）東芝
佐世保高専
愛媛大学
大阪大学
千葉工業大学
九州大学
愛媛大学
大阪大学
千葉工業大学
静岡大学
佐世保高専
神戸市立高専（株）日立ハイテクノロジーズ（株）東芝
ソニー（株）（株）日立製作所
東京エレクトロン（株）
東北大学
神戸市立高専
愛媛大学
佐世保高専
名古屋大学
首都大学東京
名古屋大学
東北大学
ソニー（株）
名古屋大学

42

新任

竹内 希
高木 浩一
布村 正太
中川 雄介
板垣 奈穂

東京工業大学
岩手大学(独)産業技術総合研究所
三菱電機(株)
九州大学

小川 大輔
石島 達夫
高木 浩一
笠嶋 悠司
須田 善行

中部大学
金沢大学
岩手大学
(独)産業技術総合研究所
豊橋技術科学大学

布村 正太
上坂 裕之
島田 敏宏
藤野 貴康

(独)産業技術総合研究所
名古屋大学
北海道大学
筑波大学

上坂 裕之
石島 達夫
板垣 奈穂
小川 大輔

名古屋大学
金沢大学
九州大学
中部大学

中川 雄介
笠嶋 悠司
竹内 希
布村 正太

三菱電機(株)(独)産業技術総合研究所
東京工業大学(独)産業技術総合研究所

島田 敏宏
松本 宇生
石島 達夫
須田 善行
豊田 浩孝

北海道大学
福岡大学
金沢大学
豊橋技術科学大学
名古屋大学

松本 宇生
藤野 貴康

福岡大学
筑波大学

平成 27 年度分科会関連の各種世話人・委員
1. 応用物理学会講演会プログラム編集委員
8.1 プラズマ生成・制御
柳生 義人 (佐世保高専)
伊藤 剛仁 (大阪大)
8.2 プラズマ診断・計測
8.3 プラズマ成膜・表面処理
太田 貴之 （名城大）
前田 賢治 (日立中研)
8.4 プラズマエッチング
8.5 プラズマナノテクノロジー
酒井 道 （滋賀県立大），8.5 プラズマナノテクノロジー（代表） 金子 俊郎 （東北大）
山田 英明 （産総研）
8.6 プラズマライフサイエンス
8.7 プラズマ現象・新応用・融合分野
小田 昭紀 （千葉工大）
2. 応用物理・編集委員

東 清一郎（広大）近藤博基（名大）3. 応用物理学会代議員

斧 高一 （京都大）
神原 淳（東大）
酒井 道 （京都大）
白谷 正治 （九州大）
豊田 浩孝 (名古屋大)
野崎 智洋 （東工大）
平松 美根男 （名城大）
眞銅 雅子（横国大）4. GEC 組織委員会委員

豊田 浩孝 （名古屋大）

5. その他：本部理事

斧 高一 （京都大）
白谷 正治 （九州大）

6. 諮問委員

寺嶋 和夫 （東京大学）

7. フェロー大森 達夫（三菱電機）
岡本 幸雄 （東洋大）
小田俊理（東工大）
斧 高一 （京都大）
河野 明廣 （名古屋大）
近藤 道雄（産総研）
寒川 誠二 （東北大）
白谷 正治 （九州大）
菅井 秀郎 （中部大）
高井 治 （名古屋大）
橘 邦英 （愛媛大）寺嶋 和夫（東大）
永津 雅章（静岡大）中山 喜萬 （大阪大）
畠山 力三 （東北大）
藤山 寬 （長崎大）
堀 勝（名大）渡辺 征夫（九州電気専門学校）

43

活動報告
2015 年度 第 2 回プラズマエレクトロニは難しい。意見：国際会議と同時期開

クス分科会幹事会 議事録

催も検討してはどうか。

開催日時： 2015 年 9 月 15 日(月)4.

チュートリアルについて

11:45 ~ 12:15

大分類 8 では春のみ開催しており、例

開催場所： 名古屋国際会議場 E1, A1 室

年 40 名程度の参加者。学会としては50 名程度を目指したい。内容が難しい●大分類意見交換会と参加者が減る傾向がある。基礎的な金子先生（東北大学）が司会進行を務めら

内容がいいのかも知れない。毎回テーれた。

マを変える必要はないとの意見もある。

1.

定例議題について

Q：初日に行われると企業からは参加

中分類の再編について、いずれの講演

しにくい日程。A：関連するセッション

件数も 15 件以上あり現時点で再編のに合わせるなど検討。Q：無料にでき必要はない。コードシェアについてはないか？A：現状は資料部数の把握の意

今後メールにて審議とする。編集委員

味もある。検討してもいいと思う。
5.

の交代は無し。
2.

ポストデッドラインについて

従来通りプログラム委員が決定する。

プログラム委員が Urgent Invited とし学会としては 1%を目安にしている。
6.

て依頼する。Q：これまで該当するものがあるのか？A：Nature クラスの論

フォトコンテストについて
今後も継続。イラストも追加する予定。

7.

文となるとこれまではない。今後注視
3.

注目講演の選定についてその他

していき、意見集約の機会を設ける。

ポスターセッションをどうするか。口

他学会との交流・併催について

頭発表と時間帯を重ねる or 重ねない、

比較的小規模な学会を対象に応用物理

ナイトセッションがいいのか？などに学会主導で併催したい意向。

ついて今後も議論を継続。

Q：小さな学会の取り込みを狙うような印象を受ける。メリットがあれば共●インフォーマルミーティング

催は歓迎。A：現実的に大きな学会との1.

春季シンポジウムについて

連携は会場等の問題で難しい。意見：

渡辺幹事（九大）から次回シンポジウ

まずは分科会レベルでの連携が必要

ム内容に関する提案があった。テーマ（Plasma conference のように）。

は「宇宙科学・工学とプラズマプロセ

意見：情報収集としては共催歓迎。どシング」。豊田幹事長：参加者を増やせこと共催するかが重要。豊田幹事長：

るようなキーワードを入れてはどうか。

大分類 8 だけが応物と別日程で行うの

意見：無重力実験に関する内容を入れ
44

2.

てはどうか。

9/1-3 に行われたインキュベーション

チュートリアルについて

ホールについて節原副幹事長から報告

伝宝幹事（TEL）より原案の提案があ

があった。
9.

った。今後スケジュール確認を含め進3.

めていく予定。

ICRP/GEC（2015.10.11-16@ハワイ）

プラズマエレクトロニクス講習会につについて豊田幹事長から連絡がった。
10. その他（豊田幹事長）

いて4.

伊澤幹事（日立ハイテク）より案内が(ア) ICRP10 は 2018 年に国内で開催さあった。補足として豊田幹事長から、れる。杤久保副幹事長が担当。

従来よりも余裕のあるスケジュールに(イ) 次回 SPP は 2017 年 1 月に北海道変更した旨の報告があった。

で開催される。担当は佐々木先生

光源物性とその応用研究会の進捗状況（北大）(ウ) PE 分科会が中心となって開催予

本村幹事（愛媛大）から進捗状況につ5.

いて報告があった。

定の Plasma conference は 201712 月分会報の進捗について

年 11 月に予定。ご担当は平松先生

島田幹事（北大）から報告があった。

（名城大）(エ) DPS のポストデッドライン投稿に未定の部分については今後メールベー
スで決定する意向。
6.

関連会議についてついての連絡(オ) AVS の Executive committee 投票

プラズマ新領域研究会の報告
第 20 回プラズマ新領域研究科（5/30についての連絡(カ) GEC 日 本 側 の 時 期 担 当 予 定 は愛媛大）「再生医療とプラズマ医療～プ
ラズマと生体界面の反応～」について

佐々木先生（北大）。

本村幹事（愛媛大）から報告があった。
7.

8.

第 21 回プラズマ新領域研究会（10/32015 年度 第 3 回目の幹事会は，3 月の応大阪大学）「プラズマ流の可視化」につ

用物理学会（2016 年 3 月 11 日〜14 日,東工

いて渡辺幹事（九大）から報告があっ大）会期中にて実施のインフォーマルミー

た。

ティング内で執り行う。

第 9 回 PE インキュベーションホール

（書記：岡田（東北大学））

45

プラズマエレクトロニクス関連会議日程
国際会議
2016.3.6-3.10
ISPlasma 2016/IC-PLANTS 2016(名古屋大学）
http://www.isplasma.jp/
2016.4.4.-4.8
19th International Conference on Atomic Processes in Plasmas(Paris, France）
2016.5.19-5.22
13th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology (APCPST2016)(Shanghai, China）
http://www.apcpst2016.org/
2016.6.19-6.23
International Conference on Plasma Sciences (ICOPS 2016)(Banff, Alberta Canada）
http://www.ece.engineering.ualberta.ca/icops2016
2016.6.20-6.23
27th Symposium on Plasma Physics and Technology(Prague, Czech Republic）
http://www.plasmaconference.cz/
2016.6.27-7.1
18th International Congress on Plasma Physics (ICPP2016)(Kaohsiung, Taiwan ）http://www.isaps.ncku.edu.tw/ICPP2016/2016.7.4-7.8
43th EPS Conference on Plasma Physics(Leuven,Belgium）
https://kuleuvencongres.be/eps2016/2016.7.12-16
23rd Europhysics Conference on Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases (ESCAMPIG)(Bratislava, Slovakia）
2016.09.1-9.3
Summer School on Plasma Medicine（Slovak Technical University/Comenius University, Bratislava, Slovakia）
http://enviro.fmph.uniba.sk/icpm6/
2016.9.11-9.16
21st Int. Conf. Gas Discharges and Their Applications(GD2016)(名古屋大学）
http://gd2016.engg.nagoya-u.ac.jp/

46

2016.9.12-9.16
15th International Conference on Plasma Surface Engineering (PSE 2016)(Garmisch-Partenkirchen, Germany）
http://gd2016.engg.nagoya-u.ac.jp/
2016.10.10-10.14
69th Annual Gaseous Electronics Conference(Bochum, Germany）
http://www.gec2016.de/
2016.11.6-11.11
AVS 63rd Int. Symposium and Exhibition(Tennessee, USA）
http://www.avs.org/
2016.10.31-11.04
58th Annual Meeting of the APS Division of Plasma Physics(California,USA）国内会議・会合
2015.12.18
第 7 回プラズマ医療・健康産業シンポジウム(産業技術総合研究所・臨海副都心センター）https://staff.aist.go.jp/yuzuru-ikehara/plasma7.htmll
2015.12.18
第 30 回光源物性とその応用研究会(北とぴあ、東京都北区施設)）
http://www.ieij.or.jp/LS/2015/20151218kenkyukai.html
2016.1.29
第 28 回専門講習会「プラズマ医療の現状と展望」(九州大学(病院キャンパス コラボ・ステーション I)）
http://www.jspf.or.jp/28senmon/
2016.3.19-3.22
応用物理学会 春季講演会(東京工業大学 大岡山キャンパス）http://www.jsap.or.jp/activities/annualmeetings/regularmeeting.html
2016.3.19-3.22
日本物理学会第 71 回年次大会(東北学院大学泉キャンパス）2016.9.13-9.16
日本物理学会秋季大会(金沢大学角間キャンパス）2016.9.13-9.16
応用物理学会 秋季講演会(朱鷺メッセ、新潟市）

47

広告掲載企業一覧

3. 入稿

プラズマエレクトロニクス分科会会報 No. 63
への広告掲載を頂いた企業は下記の通りです。幣原 稿 は A4 版 ネ ガ 、 も し く は 電 子 フ ァ イ ル

分科会会員への最新情報ご提供に厚く感謝の意を（pdf ） とします。これ以外の場合、かかる費用表します。

を別途請求させて頂く場合があります。
4. 広告掲載料

１．株式会社 エナック

掲載料は下表の通りとします。なお、年間契約の場合も申し込み時点で一括請求とさせて頂き
当会報への広告掲載についてます。

応用物理学会 プラズマエレクトロニス分科会(A) 年間契約(B) 単号契約

では、分科会会員への情報提供を旨とし、会報へ

コース

コース

5 万円

4 万円

（4 万円）（3 万円）

8 万円

5 万円（6 万円）（4 万円）

2 ページ

12 万円

8 万円

(見開き指定可)（9 万円）（6 万円）

裏表紙

12 万円

8 万円

（9 万円）（6 万円）の広告出展を募集しております。広告の掲載にあ半ページ

たっては下記のような条件としておりますので、是非ご検討の程よろしくお願い申上げます。

1 ページ

1. 契約の種類(A) 年間契約コース
1 年間にわたる掲載。通常は 6 月、12 月に発行される 2 号にわたって掲載されます。 掲載号ごとに新規原稿に差替えでき※カッコ内は賛助会員企業

ます。
(B) 単号契約コース

5. 問い合わせ先

特定の号のみの掲載。

〒113-0034 東京都文区湯島 2-31-2
湯島アーバンビル 7 階

2. 掲載位置公益社団法人 応用物理学会

掲載位置は編集後記の後になります。基本五十TEL: 03-5802-0863

音順の掲載になりますが、レイアウト等の都合でFAX: 03-5802-6250

適宜変更になる可能性があります。何卒ご了承くEmail: divisions@jsap.or.jp

ださい。また裏表紙への依頼がない場合には年間

HP:http://annex.jsap.or.jp/plasma/

契約の中からまわす場合があります。不都合がある場合にはご相談ください。
48

編集後記

プラズマエレクトロニクス分科会会報 No.63
をお届けします。お忙しい中、本誌にご寄稿いた

今号では、「寄稿」「海外の研究事情」のコーナだきました皆様には心より御礼申し上げます。

ーをお休みすることになってしまい、編集担当幹

本誌の「巻頭言」では、応用物理学会フェロー

事としてまことに申し訳なく思います。執筆可能

東洋大学名誉教授 岡本幸雄先生より「『プラズマな方をご存じでしたら、ぜひご紹介よろしくお願エレクトロニクス』次の 30 年」という題目でご寄いします。

稿頂きました。
分科会の前身の時代からの 30 年間の歴史を詳しく解説いただき、本分科会の将来に原稿の執筆を快くお引き受けいただきました著

ついてご提言をいただきました。

者の皆様、幹事長、副幹事長をはじめとする分科「研究室紹介」
では、
愛媛大学 神野先生より、会会員の皆様、応用物理学会事務局分科会担当の

国立大学法人愛媛大学大学院 プラズマ・光科学

小田様にこの場をお借りして感謝の意を表します。

研究プロジェクトのご紹介をいただきました。

分科会会報では、各種報告や行事案内を随時募集「学生のためのページ」では、長崎大学 藤山

しております。今後ともプラズマエレクトロニク

先生から、「失敗しない実験、失敗しないプレゼン」

ス分科会会報をどうぞよろしくお願いいたします。

という題目で、若い世代へのメッセージが寄せられました。
前号から始まった応用物理学会講演奨励賞者の平成 27 年度会報編集担当：赤松、岡田、島田、松本

コーナーでは岩井亮憲様に受賞対象論文の解説を（文責：北海道大学していただきました。

プラズマエレクトロニクス分科会会報No.63
2015 年 12 月 17 日発行
編集：公益社団法人 応用物理学会
プラズマエレクトロニクス分科会
幹事長 豊田浩孝
発行：公益社団法人 応用物理学会〒113-0034 東京都文京区湯島 2-31-22
湯島アーバンビル 7 階（©2015 無断転載を禁ず）

49

島田敏宏）