プラズマエレクトロニクス分科会会報 No. 46
2007年(平成19年)6月発行
目次

巻頭言

第５回プラズマエレクトロニクス賞
受賞者の紹介「プラズマエレクトロニクス賞を受賞して」

研究室紹介（その３８）
研究室紹介（その３９）
研究室紹介（その４０）

中部大学

後藤俊夫

1

名古屋大学
中部大学

河野明廣
菅井秀郎

2
3

東京大学
東京大学
株式会社半導体先端テクノロジーズ

吉田善章
一木隆範
木下啓藏

5
10
15

浜口智志
節原祐一
中村圭二
豊田浩孝
平田孝道

20
21
23
25
27
28
31
32
33

中村圭二
古閑一憲
平田孝道
明石治朗
福政 修
関根 誠

42
44
46
48
49
51

国内会議報告第一回 光・プラズマプロセスのバイオ応用ワークショップ(BAPP-1) 大阪大学
第24回プラズマプロセシング研究会(SPP-24)
大阪大学
2007年春季第54回応用物理学関係連合講演会シンポジウム報告
中部大学2007 年春季第 54 回応用物理学関係連合講演会合同セッションＤ
名古屋大学
2007 年春季第 54 回応用物理学関係連合講演会合同セッションＦ
武蔵工大学
2007年度（平成19年度）プラズマエレクトロニクス分科会幹事名簿
2007年度（平成19年度）プラズマエレクトロニクス分科会幹事役割分担
2007年度（平成19年度）プラズマエレクトロニクス分科会関連の各種世話人
平成18年度後期および平成19年度前期活動報告

行事内容
2007年秋季第68回応用物理学会学術講演会シンポジウム案内
中部大学
第 1 回プラズマエレクトロニクスインキュベーションホール
九州大学
第18回プラズマエレクトロニクス講習会
武蔵工業大学
第22回光源物性とその応用研究会
防衛大学校
第 25 回プラズマプロセシング研究会(SPP-25)
山口大学
第 29 回ドライプロセス国際シンポジウム(DPS 2007)案内
名古屋大学

掲示板
プラズマエレクトロニクス関連会議日程
編集後記

52
55

巻頭言

応用物理学へのプラズマエレクトロニクスの貢献
中部大学 後藤俊夫
応用物理学会に「プラズマエレクトロニクス

して思うと、20 年余り前に応用物理学会のなか研究会」が設置されてから約 20 年になるので、に「プラズマエレクトロニクス」という分野を発足

本稿では、その発展の歴史を振り返りつつ、応させ、活動を広げてきたことは、応用物理学会

用物理学へのプラズマエレクトロニクス分野の全体の発展にも大きく貢献したと思います。

貢献について考えてみたいと思います。

私自身、応用物理学会における活動の原点

1985 年以前、応用物理学会講演会のなかにはこのプラズマエレクトロニクス分科・研究会には中分類分科として「放電・プラズマ・核融合」

あり、それがきっかけで、その後、常務理事、が置かれていました。しかし、当時の発表件数

副会長、会長として応用物理学会全体の運営、は僅か数件で、消滅寸前の状態でした。その活動に関わることになりました。

ようななかで、我々は、プラズマの将来は半導

やや私事になって恐縮ですが、本年 3 月、体プロセスへの応用にあるとの見通しを持って、私は応用物理学会の名誉会員に推戴されまし半導体分野を包含する応用物理学会内に「プた。学会の 60 年の歴史の中で名誉会員に選

ラズマエレクトロニクス研究会」を設置し、併せばれたのは僅か 40 数名であり、大変名誉なこて講演会の中分類分科名称を「プラズマエレとであると感じています。しかし、この名誉は、クトロニクス」に変更しました。さらに、1990 年 2

私個人だけでなく、プラズマエレクトロニクス分

月には本研究会を「プラズマエレクトロニクス分

野の応用物理学会への貢献に対して与えられ科会」に発展的に改組しました。

たものでもあると考えています。これによって、

その後、プラズマを用いた半導体プロセス

プラズマエレクトロニクス分野の知名度や評価分野の発展は著しく、現在、講演会の「プラズがさらに高まることになれば幸いです。

マエレクトロニクス」分科における発表件数はこのように、プラズマエレクトロニクス分野の合同セッションを含めると 200 件に達していま

過去の活動・実績を自己評価しつつ、将来のす。また、「プラズマエレクトロニクス分科会」の方向を考えていくことは大変有意義であると思

規模も拡大し、活動も活発化してきました。

います。今後は環境と生命分野をどのように取半導体が応用物理学会の最も中心的な分野

り入れていくかがプラズマエレクトロニクスの次であり、そのなかでプラズマプロセスが不可欠の発展の鍵になる可能性がありますが、将来な基盤技術となっている現在、応用物理学会

方向に関しては若手を中心とする分科会会員

が、その基礎となるプラズマエレクトロニクス分の方々の知恵と発想に期待しています。

野を持たず、他学会に頼らざるを得ない状況にあるとしたら極めて由々しい問題です。今に1

第５回プラズマエレクトロニクス賞

受賞者の紹介名古屋大学 河野 明廣
第５回プラズマエレクトロニクス賞には３編の応グス (2004) 22-23

募論文をいただきました。同賞選考委員会におい

2. Y. Hotta, T. Okayasu, H. Toyoda, H. Sugai:て，プラズマエレクトロニクス分野における研究のHigh quality and high speed deposition of μc-Si

独創性，学術的・工業的価値，およびその発展性

and poly-Si films by surface wave plasma，第 22について慎重に審議を行い，その結果，下記のと回プラズマプロセシング研究会/プラズマ科学シン

おり１編の研究論文を受賞論文と決定いたしましポジウム 2005 プロシーディングス (2005) 165-166

た。表彰式は２００７年春期応用物理学会講演期
間中の３月２８日に行われました。なお第 5 回プラ受賞者（受賞対象論文の著者）

ズマエレクトロニクス賞選考委員会は，次の委員

宗宮暁(名古屋大学)、豊田浩孝(名古屋大学)

をもって構成されました。

堀田芳彦(名古屋大学)、菅井秀郎(名古屋大学:委員長

河野明廣（名古屋大学）

副委員長

畠山力三（東北大学）

委員

大岩徳久（東芝）

受賞理由

委員

節原裕一（大阪大学）

受賞者らは，プラズマ損傷低減や膜堆積速度向

現 中部大学)上等に有効な，高密度・低電子温度・低プラズマ
受賞対象論文論文名：電位という特長を有する表面波プラズマ源を開発
Suppression of oxygen impurity

しこの基礎特性を明らかにした上で，それを用いincorporation into silicon films prepared fromたプラズマ化学気相堆積法によってシリコン系多surface-wave excited H2/SiH4 plasma

結晶薄膜形成を行い，プラズマ励起用マイクロ波

雑誌名： Japanese Journal of Applied Physics,

入射窓の誘電体材質の選択が膜特性に大きな影

43 (2004) 7696-7700

響を及ぼすことを初めて定量的に示し，アルミナ

B

B

B

B

著 者 名 ： Satoru Somiya, Hirotaka Toyoda,

材の導入により酸素不純物放出を抑制した結果，粒径サイズ増大等の著しい膜質改善を実現して

Yoshihiko Hotta and Hideo Sugai

いる。これらは，基礎学術的に高く評価されると共プラズマエレクトロニクス分科会が主催する研究に，工業技術的応用にも有用な成果であり，プラ会・国際会議での発表

ズマエレクトロニクス分野の発展に貢献するところが大きいと期待される。

1. H. Toyoda, S. Somiya, Y. Hotta, H. Sugai:
Suppression of oxygen impurity in silicon film
deposited by a surface-wave excited plasma， 第21 回プラズマプロセシング研究会プロシーディン2

第５回プラズマエレクトロニクス賞

プラズマエレクトロニクス賞を受賞して
中部大学工学部
この度、JJAPのVol. 43 に掲載された私共 4 名の共著（宋宮菅 井 秀 郎ロ波をあてると表面波が励起され、プラズ

暁、豊田浩孝、堀田

マが生成できることがフランス、東欧、ロ芳彦、菅井秀郎）による論文、”Suppression

シア等の研究者によって示され、表面波プ

of Oxygen Impurity Incorporation into

ラズマが広くが認識されるようになりましSilicon Films Prepared from Surface-Wave

た。その先駆者である Moisan は、フランス

Excited H2/SiH4 Plasma” が、第 5 回プラズからカナダのモントリオール大学に移ってマエレクトロニク賞に選ばれましたことは、からもライフワークとして表面波プラズマ

共同研究者一同、大変光栄に存じます。応

源の開発と応用に携わり、今もなお光源や募の労をとっていただいた方々や、ご推薦

バイオ技術への応用に精力的に取り組んでいただい選考委員の皆様に深く感謝申し上

います。

B

B

B

B

げます。

長い間、表面波プラズマといえば、直径

この仕事は、私共が長年注力してきまし１～２ｃｍの細長い円柱状のものをさしまた表面波プラズマ源の開発とその応用研究した。一方、半導体のプラズマプロセスでの一連の流れにおいて一里塚となるものではフラットで広い面積をもつプラズマが必あり、その経緯や最近の展開などを記させ要とされたことから、無磁場のマイクロ波ていただきます。

照射によるプラズマつくりが日本で発展しプラズマの表面を伝わる“表面波”の存ました。プラズマアッシングへの応用とし在が明らかになったのは 1959 年の A.W.

て東芝では、導波管の底を大きく開けてマ

Trivelpieace と R. Gould の論文（JAP,

イクロ波を石英窓から入射する方式を採用

vol.30,p.1754）が最初です。Gould はプラ

していましたが、どうもプラズマが不安定

ズマ中のエコーを予言した高名な理論家でで制御できない、との相談を受けました。

あり、その指導のもとに実験を行ったのが私は、大きな窓ではプラズマとのカップリ

DC の学生であった Trivelpiece です。当時ングが強すぎると直感し、スロットアンテ

は、この波を発振・増幅させて通信に応用

ナを使うことを提案しました。

できるかもしれないと話題になったものでその結果、かなり安定になったという報す。Trivelpiece はその後、研究行政の仕告を学生から受け、ある日、装置下部のガ事に転身しましたが、何十年にもわたり表ラス窓からプラズマをのぞいたところ、ミ

面波に関するその後のあらゆる情報を収集

カンを輪切りにしたようなきれいな発光模し続けていると聞いております。

様が目に入りました。すなわち、円周方向

1970 年代になって強力な高周波やマイクに 12 個、半径方向に３つの局所的に光る発

3光パターンが見えたのには驚きました。こるSiH4を大量の水素で希釈する必要があり

れが何を意味するか、即座には理解できまます。このとき、プラズマ中で生成されたせんでしたが、波と関係あるような気がし

大量の原子状水素によって、表面波伝搬にて、漠然と表面波を想起しました。波がプ

不可欠な石英板（SiO2）がエッチングされラズマ表面を伝わって壁で反射され定在波て水（H2O）ができ、それがプラズマで分解が立てば発光パターンが説明できると予想されて酸素不純物としてシリコン膜に混入し、表面波の分散式を解いたところ、波のしてしまいます。そこで水素に対する耐性

モード数は大変良く一致しました。

が強いアルミナ（Al2O4）を石英に代えて使

B

B

B

B

B

B

B

B

B

B

マイクロ波で直径 30cmくらいのプラズマ用したところ、水の発生がなくなってシリをつくる研究は住友金属工業で早くからな

コン膜中の酸素不純物が激減しました。こされ、「表面波励起」をうたっていました。

の基礎研究をまとめて報告したものが、今このためか、表面波プラズマといえば、こ回の受賞対象となった論文です。

の研究がよく引用されます。しかし、住金

現在、NEDO の支援を受けて産業技術総合

は、マイクロ波が誘電体板(テフロン)の表

研究所の太陽光発電センター内に、長さ 2.5面を伝わることを利用して導波管代わりにm、幅 1.5 m の大型マイクロ波プラズマ CVD用いたのであって、プラズマの表面を伝わ装置が建設され、同センターとの共同研究

る波でプラズマを作ろうと意図したのではが進行中です(下図ない。実際、誘電体板の下にはガス冷却用

受賞対象論文の成果をふまえて、石英板のの間隙があり、さらにその下の石英板直下使用を避け、アルミナ板を採用しています。

にプラズマができる構造になっている。

薄膜シリコン太陽電池の開発は、この材料

U

U

U

U

参照)。この装置では、

以上、表面波プラズマの裏話について少選択だけで済むような簡単なものでは毛頭し紹介しましたが、この無磁場マイクロ波

ありません。行く手には高く厳しい山がい

放電の大きな特色は、高密度の大面積プラ

くつもそびえている予感がしています。そズマを容易につくれることにあります。そのバリアがきつければきついほど、やりがの特色を生かす好例として、我々は薄膜シいのある仕事でもあり、研究者魂を奮いた

リコン太陽電池を取り上げて基礎研究を進たせながら、夢に向かって進んでいるとこ

めてきました。光劣化が少ない微結晶シリろです。

コンを高速に形成する場合、原料ガスであ末筆ながら、プラズマエレクトロニクス
分科会および皆様のご研究がますます発展
することを心から祈っております。

4研究室紹介東京大学・大学院新領域創成科学研究科
プラズマ理工学講座（吉田・古川研究室）
Iqbal 博士研究員および大学院生６人，米１．はじめに
東京大学は，本郷，駒場，柏の３キャン

国からの留学生１人です．加えて，Vazha

パスにおいて，それぞれ特徴ある教育・研Berezhiani 教授，Vinod Krishan 教授，Nana究を展開するという構想に基づいて改革をShatashvili 教授などが準周期的に客員教進めています．最も新しいキャンパスであ授として研究に参加しています．いろいろる柏は「知の冒険」の場として位置づけらな専門性，国籍，出身大学の人たちからなれ，学問の新領域に挑戦しようという研究

るヘテロな集団を形成し，この「るつぼ」者が集まっています．柏キャンパスの中核

から新しい学問を生み出そうとしています．

を担うのが，平成 11 年度に設立された大学

私たちは，自然現象の解明と新しい技術

院 ・ 新 領 域 創 成 科 学 研 究 科 (Graduateの開発を結びつける基礎研究を自らの使命

School of Frontier Sciences)です．教員と定義しています．そのためには，理論研

数約 180 人，大学院生は約 900 人の規模を究と実験研究を分離しないでプラズマ物理

もちます．工学系，理学系をはじめとした，を総合的に捉えることが重要だと考えていほとんど全ての部局から教員が集められ，ます．現在，核融合プラズマの研究は，ト

科学の様々な最前線を俯瞰することができカマク型の実験炉ITERを国際協力で建設

ますが，むしろ網羅的になるのではなく，し，エネルギー実用までの具体的なシナリ

特定のフロンティアに集中的した教育・研

オを提示する段階に近づいてきました．私究を目指しています．その重要な領域の一たちの関心は，その先にあるプラズマ科学

つがプラズマ理工学であり，東京大学の核技術の可能性です．たとえば，トカマクな融合プラズマ関係の人たち全員が，これにどで到達できる温度（１億度程度）より，投入されています（一部の教員は高温プラ

さらに 10 倍以上の超高温をもつプラズマ

ズマ研究センターに所属し，大学院と両輪を生成することが可能になると，D-T燃料を構成しています）．

以外の燃料（D-3HeやD-Dなど）を燃焼させPP

私たちの研究室（先端エネルギー工学専

る advanced-fuel fusionが可能になります．

攻・プラズマ理工学講座）は，平成 16 年度

次節で述べるように，そのヒントは宇宙のに本郷キャンパスから柏キャンパスへ移転

プラズマにあります．

を終え，平成 17 年度には新しい実験設備
RT-1 を完成して，新たな研究プロジェクト

２．RT-1 プロジェクト――宇宙とラボを繋をスターとしています．現在のメンバーは，ぐプラズマ物理吉田善章教授，古川勝准教授，齋藤晴彦助

人工衛星や種々の望遠鏡など観測技術の教，森川惇二助手（高温プラズマ研究セン

目覚しい進歩によって，宇宙を見る私たちタ ー ）， 白 石 淳 也 博 士 研 究 員 ， Muhammadの視力は，広がりにおいても精度において
5

図３：RT-1 実験装置で生成された磁気圏
図 1：RT-1 実験装置の外観

型プラズマ．

も，飛躍的に強化されてきました．それに東京大学の RT-1 実験装置は天体の磁気伴って，極めて多様な存在形態をもつプラ

圏に似た構造を実験室で再現する装置です．

ズマが発見されるようになり，新たな自然

多くの天体はダイポール磁場をもち（例え

科学の関心を喚起しています．銀河，降着ば地磁気），その磁場にトラップされたプラ

円盤，ジェット，太陽の光球表面やコロナ，

ズマが磁気圏を形成します．RT-1 は，真空

太陽風，惑星磁気圏などの諸環境において，容器（宇宙空間に相当する）の中に超伝導プラズマは多様な構造と運動様式を示しま

マグネットを磁気浮上させ，それが作るダ

す．その形態学から基礎過程の物理，さらイポール磁場（天体の磁場に相当する）でに先端技術（核融合や反物質科学）への応

プラズマを閉じ込める装置です（図１）．こ用までを包摂する〈プラズマ宇宙物理〉は，の構造は，木星磁気圏にヒントを得たもの

宇宙とラボをつなぐ科学として発展していです．木星の磁気圏は高い圧力のプラズマ

ます．

を閉じ込めていることが知られています．
しかし，それがなぜ可能なのかが十分理解されていません．私たちは，これが木星磁
気圏の回転流の効果であると理論的に予想しています．実際，高速のプラズマ流があると，その動圧の効果で大きな圧力勾配を生むことができます（図２）．RT-1 はこの原理によって高βプラズマの発生・閉じ込めを実現しようとしているのです．この構造 が 地上で 再 現でき れ ば，将 来advanced-fuel fusion が可能になると期待されます．

図２：木星磁気圏高βプラズマ平衡の理論
モデル．

6

性が，どのような構造的秩序を意味するのか，これがプラズマ物理の中心的な問題だといえます．全く無秩序な混沌こそ自然な姿だという考え方もあるでしょう．しかし，宇宙には様々な構造があり進化があります．
プラズマの構造，すなわち物体の運動（流れ）と電磁場の結合は〈渦〉という形態に象徴されます．渦は，様々なスケールの運図 4：RT-1 における非中性プラズマ閉じ動が凝縮した「特異性」であり，その構造

込め．加速電圧 500Vで電子ビームを入射や振る舞いを理解することは，古くて新しして生成した電子プラズマを，10 －2 Pa

い物理の根本的な問題です．

PP

私たちは，渦の基本構造として〈Beltramiの水素ガスを封入して可視化．

場〉に注目して研究を進めています．
Beltrami 場とは，渦度と流れが平行になる
RT-1 実験装置には，高温超伝導材を用い渦場であり，この場合，場のエネルギー密た永久電流コイルなど，様々な先端技術が度が空間的に一様になる〈強い Bernoulli

用いられています．これらは，本学の高温条件〉が成立します．エネルギー密度の一プラズマ研究センターと協力して独自に開様化は，「緩和した状態」を表わすと考えら発した技術を基礎としたものであり，RT-1

れます．実際，Beltrami 場は，いろいろなに先行する Proto-RT, Mini-RT 実験プロジ

渦ダイナミックスで自発的に形成されます．

ェクトから数えると，ほぼ 10 年の基礎実験，

これを〈自己組織化〉といいます．例えば，技術開発を経ています．

逆転磁場ピンチ（RFP）や極低 q（ULQ）な

RT-1 は，平成 18 年 1 月に最初のプラズどでできる常磁性磁場平衡は Taylor 緩和

マ実験に成功しました（図 3）．その後装置状 態 と 呼 ば れ ま す が ， こ れ は MHD 系 の精度の改善など技術的改良を行いつつ，プ「Beltrami 磁場」にほかなりません．

ラズマ特性（β値）の向上を目指した実験，

私たちは，積極的に流れを駆動したプラ

非中性プラズマ閉じ込めなどの新たなテー

ズマ中に形成される Beltrami 場に注目しマの研究，プラズマの揺動・乱流に関するています．MHD 系に２流体効果を加えると，基礎研究など，多様なテーマの実験が進行

電子流体とイオン流体それぞれに Beltrami

中です．以下の節では，これらの研究テー場が形成されることが示されます．この渦マの物理的な意味について説明します．

構造は，Taylor 緩和状態の常磁性から完全反磁性（Meissner 効果）までの極めて広範な状態を含むことがわかってきました．反３．プラズマの渦構造
プラズマは，運動と場（力を現す関数）

磁性は高いβ値を与えるので魅力的です．

が不可分に結合した複雑系です．運動が場

前節で述べた RT-1 実験装置の基本的な閉をつくり，場が運動を変える．その無撞着

じ込め原理が，この反磁性効果です．しかし，２流体効果は通常の状態では小さな項
7で表わされる〈特異摂動〉です．これを発

フロンティアの一つとして期待されます．

現させるためには，プラズマの流れを駆動応用としては，反物質を閉じ込めて作る
反物質プラズマが注目されています．

する必要があります．
磁化したプラズマに流れを駆動すること

Proto-RTでは，トーラス型磁気面配位で非は，プラズマ中に電場を形成することと等

中性プラズマ（純電子プラズマ）を安定に価です（いわゆる E×B ドリフト）．このこ閉じ込めることに世界で初めて成功し，新とから，研究テーマは「非中性化されたプ

しいタイプの反物質プラズマ生成法の原理

ラズマ」の物理へ展開します．

を実証しました．RT-1でも，この研究の発展を狙った実験を進めています（図4）．

４．非中性プラズマの物理と応用
５．シヤー流の物理

通常「プラズマ」というと，電離した気――非エルミート・

ハミルトニアン系の数理体を意味し，したがって，平均すると電気的に中性の荷電粒子多体系を指します．核

渦に代表される非一様流（シヤー流）の融合研究に関連して進歩してきた高温プラ中で起こる揺動は，極めて興味深い振る舞

ズマの物理も，主として中性プラズマを対いを示し，波動現象の数理物理の未開拓な象としたものです．しかし，プラズマ物理

領域に属します．流れのない場合には，揺の学理は，電磁力によって相互作用する多動を記述する線形方程式は自己共役性（エ粒子系の「集団現象」に係る非線形科学とルミート性）をもっており，いわゆる Von

して深化し，一般的な基礎学術へと発展し

Neumann の定理（量子論の基礎）によってています．

スペクトル解析が可能です．しかし，シヤ

なかでも，中性条件を取り除いた「非中ー流が加わると非エルミート系になり，ス性プラズマ」の研究は，プラズマ物理の視ペクトル解析の常識は完全に覆されます．

界を格段に広げるとともに，さまざまな分

たとえば，分散関係式を解いて波の性質が野が関連する新領域の創成に道を開くもの

わかるといった教科書的な処方箋は役に立と期待されます．非中性プラズマでは，中ちません．全ての周波数固有値が実数でも性条件下で縮退していた物理的効果が発現「不安定」ということすら起こります．

し，新たな特性が見出されます．とくに，

非エルミート系の理論は，数学的にも未自己電場によって起こるプラズマ流に係る解決の深遠な問題であり，学問的な興味の物理は難しく，また魅力に富みます．前節

尽きないところです．私たちは，非モードで述べた，プラズマの渦構造も，プラズマ的手法とスペクトル理論の両面から数学的中の自己電場の効果という意味では，非中な構造を調べています．また，磁気シヤー性効果の表れだということができます．さと流れのシヤーの関係について，前記の実らに，単一種の粒子のみからなるプラズマ験とも対応を取りながら体系的に研究を進（たとえば電子プラズマや陽電子プラズマ

めています．

など）は，非中性の極限といえます．中性
６．研究室のこれからから単一種粒子プラズマまでを総合的に理流れと電磁場の結合から豊かな構造がプ解するプラズマ物理の開拓は，この分野の8ラズマの中に生まれます．その多様性の起いう数理科学の概念を用いて高効率のプラ

源と維持のメカニズムを理解することが，ズマ生成技術を開発してきましたが，これ

現代のプラズマ物理の中心的なテーマだとは太陽でフレアーが起こる物理プロセスの考えています．物質の第 4 状態といわれる解明とも関連して進めている研究テーマでプラズマには，固態，液態，気態の物性かす．今後も，基礎科学と先端技術を両輪とらは想像もつかない様々な非線形現象が起する研究を行いたいと考えています．

こります．それらを丹念に研究して行くこ（文責：吉田善章）とで，新しい技術も生み出されると期待さ

http://www.ppl.k.u-tokyo.ac.jp/

れます．私たちは，たとえば〈カオス〉と

9

研究室紹介東京大学 ナノバイオデバイス研究室
東京大学大学院工学系研究科バイオエンジニアリング専攻 一木 隆範
http://bionano.t.u-tokyo.ac.jp/

ながら、メカノバイオエンジニアリング／バイオ

1. 研究室の所属と学内動向
筆者が 2004 年に東大に移動してナノバイオデ

エレクトロニクス／バイオデバイス／ケミカル

バイス研究室を構えてから、4 年目になる。現在、バイオエンジニアリング／バイオマテリアル／

本郷地区・浅野キャンパスにある武田先端知ビル

バイオイメージングの 6 分野を、9 名の専任教員にオフィスを、工学部 9 号館に実験室を有していと 17 名の兼担・協力教員がカバーする構成になる。このキャンパスは東大の中枢である本郷キャっており、筆者は専任教員としてバイオデバイス

ンパスから数 100m ほど離れた小さな飛地で、弥分野を担当している。

生時代の名称の由来になった土器が明治 17 年にまた、東大では文科省の研究拠点形成型プロジ

当時の東大生により発掘された地でもある。適度ェクトとして 2005 年 9 月に「ナノバイオ･インテに静かで居心地は良い。

グレーション研究拠点」が 5 年間の時限で採択さ当研究室は、当初、工学系研究科・総合研究機

れている。こちらは、工学系、理学系、医学系、

構と称される部局内組織の時限つき研究室とし薬学系など全学から 29 名の課題研究代表者が集て発足した。この組織は、既存の学部、専攻と独まる大規模な研究拠点で、(1)バイオインスパイヤ

立して存在し、従来の縦割り的な学部、専攻の枠

ード・ナノマシン、 (2)ダイナミック・ナノバイを超えて工学と社会の変化に柔軟に、工学系の将オセンシング、 (3)ナノスケール細胞治療（セル来を見据えた研究活動や若手研究者の育成を行セラピー）の研究を推進している。筆者もナノバう目的で設置されている、少数精鋭の工学系研究イオセンシング班の一員として活動している。

科の直轄組織である。しかし、昨年度（2006 年）、
2. これまでの研究の経緯

工学研究科に新たにバイオエンジニアリング専攻の設置が認可されたことを機に、バイオエンジ

さて、ナノバイオデバイス研究室設立までの経ニアリング専攻所属の研究室へと移動し、総合研

緯を少し遡って、紹介させていただく。前職の東究機構戦略研究部門を兼務する形で現在に至っ

洋大学には、学位を取得して間もない 1995 年にている。また、これらの組織はいずれも学部をも堀池靖浩先生（現物質材料研究機構フェロー）にたないため、マテリアル工学科を兼担して卒論生

電気電子工学科プラズマ科学研究室で助手としの研究指導を行っている。

て採用していただいて以来、9 年近く在職した。

バイオエンジニアリング専攻は医学やライフ

低圧 ICP-CVD の研究で学位を取得していたもの

サイエンスと工学の融合を目指す専攻で、意外なの、金属工学（現在のマテリアル工学）専攻の出がらこのような趣旨、名称の専攻は国立大学法人

身で、電子工学については常識が殆どないお寒いでは初である。機械，電気，物理，化学，マテリ

状況からスタートした。堀池先生のご指導のもと、アルなどの様々な既存のディシプリンに立脚し高密度プラズマを応用した高アスペクト比加工
10や表面反応など ULSI 微細加工プロセスの研究などに精を出す日々が続いた。着任の翌年の 1996

3. 研究室のメンバーと現状

年、私立大学ハイテクリサーチセンター事業に第2007 年 4 月現在の研究室のメンバー構成は准1 期採択され、バイオナノエレクトロニクス研究

教授の筆者の他に、薬学の学位をもち、製薬会社センターが設立された。当初はナノエレクトロニ

で研究員をしていた赤木貴則助教、事務経理一切

クスを志向し、極低損傷エッチングや電子ビームを取り仕切ってくれている秘書の日暮さん、バイ

露光機を駆使した 10nm 級の極微細エッチングな

オエンジニアリング選考の修士学生が 6 名、マテどが主な研究課題であった。しかし、プロジェク

リアル工学科から卒論研究で配属される学部 4 年

トの中間評価を迎えた 98 年頃から LSI の酸化膜

生 3 名である。さらに研究員やポスドクが研究プ

エッチング技術をガラスのマイクロマシン加工

ロジェクト等に応じて適宜加わる予定である。な技術へ水平展開し、マイクロ電気泳動チップなど

お、現在、マイクロプラズマ応用で実用化に向けのバイオデバイスの研究に乗り出した。そんな矢た研究開発を加速するために、ポスドク研究員を先の 1999 年に突然、堀池先生が東大に移動され募集しています。

ることになり、後に残った筆者が 2000 年から研現状、総勢十数名のこじんまりとした研究室で究室を引き継ぐ形になった。当時 32 歳の若輩者あるが、モノ作りを実践するため、必要に迫られには私大での研究室運営は正直容易ではなかって多くの装置設備を抱えている。デバイス試作やたが、背水の陣である。ようやく立ち上がりつつプロセス研究用設備として、小規模なクリーンル

あったバイオナノ研究の芽を自分たちで育てるーム(クラス 1000, 40 m2)内に超純水を使用するという気概を持った少数の大学院生と一念発起

洗浄ステーション、リソグラフィーのためのレー

して昼夜の別なく研究に邁進した。微細配線技術

ザー露光機、有機ドラフト、スピンコーター、金などを積極的に導入して実現される高機能な細属薄膜や電極作製のためのスパッタリング装置、胞計測デバイスや、マイクロプラズマなど、現在

めっき装置がある。さらにプロセス研究と試作デの研究室にも続くテーマに着手したのもこの頃

バイス加工のためのICPエッチャー（4 台）、走査である。その後、科学技術振興機構のプロジェク型マイクロプラズマジェット装置（2 台）、表面処

トに採択されるなどの周囲のご理解とご支援を理のためのプラズマアッシャー、真空紫外光照射受けて、微細デバイスとバイオテクノロジーの融装置。これらは全て自作である。その他、機械加合研究に注力して、現在に至っている。研究対象

工のための精密研磨装置、超音波加工機や、プロには縛られず、材料、LSI プロセス、バイオへとセス計測のための分光器、赤外分光器など。さらそれぞれで積んだ経験を活かしながら、大胆に分に、バイオ実験用設備として、クリーンベンチ、野を横断してきたと自負しているが、振り返ると純水製造装置、フリーザー、オートクレーブ、CO2

プラズマ技術が軸にあり、特に ICP とともに 17

インキュベーター、低温遠心分離機、PCR増幅装年である。学生の頃に寝食を共にした ICP-CVD

置、電気泳動ゲル撮影装置、複数の生物実験用蛍装置に始まり、大小の ICP エッチャー、イオン化

光顕微鏡、高感度CCDカメラ、電気生理計測用マ

スパッタ、マイクロプラズマまで、作った ICP 装

ニピュレーターと微小電流増幅器、環境制御型電

置はおそらく 20 を超える。このような訳で、ナ子顕微鏡、原子間力顕微鏡などがある。バイオ実

ノバイオデバイス研究室の看板を掲げる際にも、験は遺伝子組み換え実験から、細胞培養実験まで

実はナノバイオプラズマ研究室という物騒な名実施できる。

PP

B

前もちらりと頭に浮かんだ。だが、これでは流石に学生が理解できまいと思いとどまった。

4. 現在の研究テーマ
11

B

上述の多岐に亘る実験設備を稼働させながら、する核酸に人為的にエラーを導入し、100 万種の

現在、一木研で進めている研究テーマは以下の３ミュータント分子を人工合成し、微小な反応容器

つに大別される。

をチップ上に大規模に集積した並列高感度分子（１）ナノ・マイクロ加工技術をバイオ分野に展計測装置により淘汰を繰り返す）の研究開発など開したバイオデバイスの研究開発も手掛けている。中には先鋭的な（SF 的に見えU

モダンバイオテクノロジーとナノテクノロジ

る）テーマもあり、たいていはいたく感心されるーの融合による新たな工学知として、個々の細胞かあきれられるかであるが、もちろん科学・技術の精密計測を可能にするナノバイオ分析デバイ的な根拠と構想に基づく研究である。先端バイオスの開発研究を進めている。精密微細加工技術をテクノロジーの研究領域は生命の根源など或る駆使して作製されたバイオチップ（イオンチャネ

種の哲学的な問いにも密接に繋がっており、しばル計測チップ、細胞電気泳動チップ、セルソータ

しば自然界への敬虔の念とともに知的冒険心をーチップ、マイクロリアクターアレイチップな

かきたてられる。

ど）のテクノロジーに加え、光学顕微鏡、走査型顕微鏡、顕微画像処理システムなどの計測プラッ（２）新材料、新構造を対象とする微細加工プロ

トフォームの総合的な開発を行い、従来にない革

セスの研究

U

新的なバイオ分析システムの実現を目指していトップダウン型ナノテクノロジーの要であるる（図 1 参照）。また、最近では、医学や生物物

微細エッチング技術を半導体以外の異分野理学の研究者とも共同研究を行い、脳機能を in（MEMS やバイオデバイスなど）に積極的に応

vivo 分子イメージングで解明する研究に用いる用展開するべく、新材料、難加工材料に対応する

ための埋め込みインターフェイスデバイス（マウための新規プロセス技術の研究開発を行っていス脳と外部との間で、薬物や光、電気信号を仲介る。バイオデバイスの製造に必要なガラスやポリする）や、タンパク質を人工的に高速進化させる

マー材料の MEMS 加工や表面修飾技術が最近のための自動化システム（野生タンパク質をコード

主な課題である。先の（１）と（２）とは相互にチップ技術を基盤とする複合型細胞観察・計測プラットフォームの開発
ゼータ電位に基づく１細胞評価システム

１細胞光学・電気生理同時計測システム

T. Akagi, et al., Jpn. J. Appl. Phys. 45, L1106 (2006).
F. Omasu, et al., Electrophoresis 26, 1163 (2005).

T. Akagi, et al., IEEJ Trans. EIS 126-C, 730 (2006).
直径2
直径2μmの微細孔

バイオデバイス
界面・表面制御
工学系・石原研究室(マテリアル工学）との共同研究作製チップSEM
作製チップSEM写真
高純度溶融
石英ガラス

マイクロブレインインターフェイス
ガラスベース微小電極チップ

３次元積層
微小電極アレイ

ナノバイオデバイス技術
ナノ・マイクロファブリケーション

in vivo 光化学計測用
試薬導入インターフェイス

ナノ空間バイオ計測システム

Pt電極
100nm

100nm

医学系・河西研究室(疾患生命工学センター）との共同研究50nm
石英ガラス

図 1 現在進行中のバイオデバイス研究開発.
12連携しており、新プロセスの開発が、新デバイスに繋がることを期待しながら研究するケースが多い。プロセスの研究開発は、デバイス開発と密接に情報（形式知にとどまらず暗黙知まで）が共有されていることが本来望ましいというのが持論である。しかし、LSI のように技術が高度に発10mm

展し、専門化、細分化されると、これはもはや困難である。幸か不幸か MEMS やバイオデバイス
は、デバイス毎に材料や構造が大きく異なることが多いために、プロセス技術とデバイス開発は依然密接な関係にある。学生にとっては、プロセス
からデバイスまでを通じて研究することで、得られるものが大きいと考えている。
（３）マイクロプラズマ応用技術の研究開発
U

2000 年に銅の細線でアンテナをこしらえて直径 3～4cm の真空容器中で ICP を発生させて以来、現在に至るまでマイクロプラズマの研究が続いている。大気圧で動作する直径 100μm 程度のマ
イクロ ICP ジェット源を試作し、超高速微細加工

図 2 プラズマジェット源（上）と走査型プラや高感度マイクロ化学分析システム等への応用

ズマジェットエッチャー初号試作機（下）．

を検討している。これまでにマイクロプラズマの特徴を活かして、世界最速(4mm/min)のシリコン
ウエファのドライエッチングを達成し、さらに、セラミックスチップ上に微小アンテナを形成することでロボットなどに組み込み可能な小型プ
ラズマジェット源を実現し（図 2）、新たな応用の5. おわりに探索と実用化に向けた研究を進めている。我々の現在の筆者の研究室の最大の特徴は、デバイス

小型プラズマジェットは大気圧下で高密度プラ

やプラズマプロセスの研究環境に加えて、バイオズマ特有の高反応性を利用可能で、安価な製造コの研究環境を本格的に整備して 1 つの研究室の中

スト、様々な場所、装置に組み込み可能など、いに一体化した点にある。本当の融合研究をできる

くつもの優れた特徴をもつ。これまでプラズマ応

将来の人材を育てるならば、「るつぼ」のような用の対象と考えなかった分野にも裾野を広げる

環境を作って、バイオとデバイスの研究の垣根をことができることを期待しつつ、研究開発を進め完全に取り払ってしまう必要があると考えた末ている。

の、一大実験である。これから 10 年、20 年、さらにその後も続くべきデバイステクノロジーの
発 展 の た め に

M o r et h a nMoore 路線が提唱されるように、CMOS デバイ
スとバイオデバイスなどの異種技術の融合が重13

要であることにはもはや疑いがない。本研究室の活動が、将来の日本のバイオデバイス技術、産業の発展に少しでも貢献できることを願いながら、日々の研究・教育活動に努めている。プラズマエ
レクトロニクス分科会にはこれまでに様々な融合研究を実践し、成功に導いてこられた諸先輩方、先生方が多数関わっておられます。薫陶をいただ
き、有形無形で大いに支え、励ましていただいている PE 分科会の皆様にあらためて御礼を申し上げますとともに、是非とも、今後とも皆様方のご指導、ご鞭撻のほど宜しくお願い申し上げる次第です。

14

研究室紹介株式会社 半導体先端テクノロジーズにおけるプラズマ技術関連研究
木下 啓藏
生産技術研究所の一部を借用、ここを拠点と
1. 会社の概要

して事業を行い、300 mm ウエハー対応技術

株式会社半導体先端テクノロジーズの開発と標準化、先端リソグラフィ技術の研究、（ Selete 、 Semiconductor Leading Edge

TCAD、ライン生産効率向上（CIM）プログラム

Technologies, Inc.）は、半導体先端技術の共等を主たるプロジェクトとして活動しました。当

同開発を目的として半導体デバイスメーカー

時隣接するクリーンルームでは、プラズマ関

10 社の出資により 1996 年 2 月に設立された連の研究コンソーシアムとして、NEDO 委託

民間のコンソーシアムです。当初の約 5 年間事業による技術研究組合超先端電子技術開は横浜市戸塚区にある株式会社日立製作所

発 機 構 （ ASET ） の プ ラ ズ マ 技 術 研 究 室 や(a)Selete本社

スーパー
クリーンルーム
産学官
連携研究棟

(b)

図１ (a) 産業技術総合研究所つくば西事業所内にあるSelete本社とスーパークリーン
ルーム、(b) 職場から見る関東平野の夕景

15

PFC 代替プロセス技術を開発する環境技術

第 3 期を独立行政法人産業技術総合研究所

研究部が活動していました。そして 2001 年か（AIST）/技術研究組合超先端電子技術開発

らは先端 SoC を実現するために必要となる技機構（ASET）と共同で受託し、次世代基盤技術の研究開発を共同で進めることを目的とし術の開発を行う NEDO 委託事業です。これら

た「あすかプロジェクト」がスタートしました。

二つの事業には現在、株主 11 社、サプライヤ

Selete はこのプロジェクトの下で 2002 年 4 月

15 社、デバイスメーカー2 社が参画しています。

より現在の、茨城県つくば市の産業技術総合2006 年度以降の体制でそれ以前と大きく変研究所つくば西事業所内にある「スーパークリ

わった第一の点は、株主 11 社の出資比率とーンルーム産学官連携研究棟（図１）」に拠点

研究プログラムの体制です。2005 年度までは、を移し、先端デバイス・プロセス技術の研究開

11 社均等出資と 11 社共通プログラムが基本

発を行っています。

でした。2006 年度以降は最先端を志向する 42006 年 4 月から Selete は新たな 5 ヵ年計社（富士通、NEC エレクトロニクス、ルネサス

画をスタートさせています。図２の 2007 年 6

テクノロジ、東芝）による過半出資と、多様なク

月の最新の Selete 組織図に示すように、活動

ライアントニーズに合わせた研究プログラム体の第一の柱は、「あすか II プロジェクト」に参画

制、および多くの装置・マスクメーカーの参加

し、先端コア技術、共通コア技術の開発を行うへと変わりました。第二の点は、国から多くの自主事業、第二の柱は、「MIRAI プロジェクト」

資金を得て開発を進めている点で、MIRAI プ

自主事業
先端コアプログラム

フロントエンドプロセス （hp45nm/32nmメタルゲート/High-k）
バックエンドプロセス （hp45nm/32nm Cu/Low-k）
EUVリソグラフィ （hp45nm/32nm リソグラフィデザイン・インテグレーション）

先端コアプログラム

TCADフレームワーク （ENEXSS実用化）
生産システム技術 （ベンチマーク/EESの実装推進）先端リソグラフィ技術 （あすかⅡラインリソグラフィツール高度化）
300mmウエハ加工受託

NEDO委託事業
次世代マスク基盤技術開発

EUVマスク （hp45nm/32nmマスク/欠陥検査・修正）

新探究配線技術開発

カーボンナノチューブ配線技術 （ローカル配線の高信頼性化、高性能化）
オンチップ光配線技術 （グローバル配線の高信頼性化、高性能化）

特性ばらつきに対し耐性の高いデバイス・
プロセス技術開発
先端的SoC製造システム
高度制御技術開発

ロバストトランジスタ技術 （トランジスタの特性ばらつき解析、制御）
物理モデル基盤 （外部擾乱依存特性ばらつきの解析、制御）
システム基盤技術 （製造システムのプラットフォーム化技術開発）

16

ロジェクトの受託だけではなく、生産システム

スクの採用によって、図３に示すような 30 nm

関連の開発テーマについても受託していま

以下の微細ハードマスク加工を実現しました。

す。

今後は、本技術をメタルゲート材料の微細加工に展開する予定です。

2. プラズマエレクトロニクス技術分野に関連

2.2. バックエンドプロセスプログラム： ビーム

した技術研究開発

応用プロセスによる Low-k 材料開発

次に、hp 45 nm および hp 32 nm の技術世本プログラムでは、プラズマ CVD 法、塗布代に対応したフロントエンド、バックエンドの技

焼成法によるポーラス Low-k 材料（k<2.4）の術開発と NEDO 委託事業による新探求配線開発を進めています。ポーラス Low-k 膜の機技術開発の中から、プラズマエレクトロニクス

械的強度を向上と低誘電率特性の実現のたに関連した研究テーマについて、2006 年度のめに、膜堆積後に UV 光や電子ビーム(EB)を研究成果トピックスを紹介します。

照射するプロセスが用いられるようになってきています。図４に示すように照射により膜強度

2.1. フロントエンドプロセスプログラム：（ヤング率）の向上と同時に膜収縮が生じます。

High-k/メタルゲート微細加工

また、図５に示すように ESR 法を用いると照本プログラムでは High-k/メタルゲートスタッ

射によって膜中の欠陥生成状態が変化する

クの実用化基本技術を開発しています。特に様子を観察することができます。ビーム照射プ

ゲート寸法のさらなる微細化に対応するため、ロセスで生成した欠陥はポーラス材料の骨格

先端リソグラフィー技術の適用とドライエッチン

強化反応に関係しています。このようにポーラ

グ技術の高精度化に注力しており、デバイス

ス Low-k 膜の開発においては、照射前すなわ

メーカーとエッチング装置メーカーの出向者がち膜堆積プロセスでの材料・プロセス設計と、連携して開発を推進しています。2006 年度に照射後に実現される材料特性を含めたトータ

は、レベンソンマスクの利用やレジスト薄膜化

ルのプロセスを科学的に明らかにすることがによる微細露光技術の最適化と新規ハードマ

求められています。またこれらのポーラス
Low-k 膜は、配線形成プロセスにおいて曝されるドライエッチングやアッシング等のプラズ(b)Young's Modulus (GPa)(a)
Photoresist

BARC
BARL
Hardmask
Metal / High-k stack

26.5nm

Si Substrate

20

UV-A
UV-B
UV-C
UV-D
EB-A

16
12

PECVD k=2.6

8
SOD k=2.3

4
0

0

5

10

15

20

Film Shrinkage (%)

図３ ゲートスタックの微細リソグラフィーおよび加工 (a) 微細化に向けたスタック構造、(b)

図４．各種 Low-k 材料の UV, EB キュアに

30nm 以下でのハードマスク加工例

よる縮み量とヤング率の関係

17

無選択 CNT成長後

Pb0 Center

Mn 2+

E’ Center

層間絶縁膜

M n2+

CNT
ビア

w/o UV Cure (0% Shrink)

300 nmUV Cure (4% Shrink)

Cu配線

CMP後

UV Cure (10% Shrink)
MOSFETUV Cure (13% Shrink)

300 nm

図６ LSI 断面模式図、及び、無選択 CNT
成長、CMP 後の断面 SEM 写真

SiCOH Defectg value

3. 最後に

図５．SiCOH Low-k 膜の成膜直後、UV キ

Selete の使命は、個別技術を統合して信頼

ュア後（4～13%シュリンク）の ESR スペクトル

できる生産技術としてクライアントへ提供することにあります。そして現在の微細化の進展
マにより変質しやすく、低ダメージのプロセス

状況は、この使命の達成に科学的理解に裏技術開発、ダメージの回復技術開発も重要な付けられたデバイス・プロセス開発やブレーク

テーマです。

スルー技術を必要としています。Selete は日本の半導体産業競争力強化に資する国内連

2.3. 新探求配線技術開発： カーボン配線技

携の観点から、クライアント企業経営層との連術

携はもちろんのこと、産学独連携活動、若手

LSI 配線の将来基盤技術として、従来の Cu

研究者の育成活動に関しても、一社ではでき

ローカル配線微細化の課題である高電流密ない従来にない活動を展開しています。今後

度での配線信頼性、ビア抵抗・信頼性の解決

とも各方面のご支援をお願い申し上げます。

に向けて、カーボンナノチューブ(CNT)を使っ

末筆ながら、コンソーシアム歴の長い著者

た配線技術の開発を行っています。CNT のシ

K から一言。コンソーシアムは、多種多様な経

リコン LSI 適用で必須となる低温 CNT 成長技

験や様々な価値観を持った人々が集い、目標

術開発では、Co ナノ微粒子を触媒金属に用を一つにして新しい技術開発を進める場です。

いることで、400℃の熱 CVD プロセスで良質

そこでは研究において刺激的な出会いがあり、な多層ナノチューブ（MWNT）の成長に成功し一つの組織から見る技術開発の方向だけでました(図６)。また、表面波プラズマを用いたプ

はない新しい視点に気付く機会があります。

ラズマＣＶＤプロセスの開発では 430℃での人脈も確実に太く広くなります。これまでのや

CNT 成長に成功し、プラズマ CVD としては初り方を少し変えてみたいと思う方がもしおられ

めて 400℃台の低温プロセスによる CNT ビア

ましたらコンソーシアムは良い場所だと思いまの形成を確認しました。そして先端放電型ラジすので、機会があればチャレンジしてみて下さカル方式では、放射温度計測定ではありますい。いが 370℃での CNT 低温成長を確認しました。

18

図７ バックエンドプロセスプログラム関係のメンバー

19

国内会議報告「第一回 光・プラズマプロセスのバイオ応用ワークショップ（BAPP-1）） 報告
大阪大学工学研究科 原子分子イオン制御理工学センター 浜口智志
「第一回 光・プラズマプロセスのバイオ応用ワの開発等を行っている研究者は、プラズマエ

ークショップ（The 1st Workshop on Biological

レクトロニクス分科会以外にも、様々な研究コミ

Applications of Plasma/Photon Processing ：ュニティーにおられます。こうした研究者の間

BAPP1）」が、２００７年３月１９日(月) 午後、大の横の連携を育てるのが、本研究会の大きな

阪大学吹田キャンパス・レーザーエネルギー目的です。

学研究センター研究棟 4 階大ホールで開催さ会議の主催者側は、筆者をはじめ、プラズマれました。第一回の研究会である今回は、原エレクトロニクス分科会に縁が深い者が多かっ則として、すべて招待講演のみで構成し、講たため、今回の招待講演者は、あえて、プラズ

師をふくめて約４０名の出席者がありました。主マエレクトロニクス分科会とは異なるコミュニテ

催は、大阪大学工学研究科原子分子イオン制

ィーで主として活躍されている方々を中心にお御理工学センター（CAMT)、共催は、筑波大願いしました。具体的には、Pietro Favia (バリ

学学際物質科学研究センター(TIMS) および大学：伊）、宇理須恒雄(分子研）、丹羽修(産東京理科大学総合研究機構ポリスケールテク総研）、井上康志(阪大）、田中基彦(核融合ノロジー研究センター (PTRC)、また、会議の研）、長崎幸夫(筑波大）、北野勝久（阪大）の７

財政的支援は、後援の「アトミックテクノロジー

名の先生方です。各講師の発表内容の要旨

創出事業」（文部科学省）および大阪大学レー

は、http://www.camt.eng.osaka-u.ac.jp/bapp-1/

ザーエネルギー学研究センターから得ていまで公開していますが、こうした構成もあって、通す。

常のプラズマの会議ではあまり聞く機会のない

近年、生物学や医学への応用を念頭におい講演を多く聞くことが出来たと思います。

た、プラズマやレーザーによる低温プロセスが本会議は、これからも年に一度の割合で開急速に発展してきていますが、本研究会は、催していく予定です。

そのような分野の研究者が集まって、広い意
味での相互理解を深めることを第一の目的としています。最近は、本プラズマエレクトロニク
ス分科会でも、大気圧プラズマやマイクロプラ
ズマに関連して、バイオ応用に関心を持つプ
ラズマ研究者の方々が増えてきていますが、光やプラズマをツールとして用いて、バイオ応用に必要な薄膜材料や各種バイオセンサー

会議の風景

20

国内会議報告第 24 回プラズマプロセシング研究会(SPP-24)報告
大阪大学接合科学研究所 節原 裕一

第 24 回プラズマプロセシング研究会（24th

総合的な議論が展開されるよう企画しました。

Symposium on Plasma Processing）を、2007 年

今回の招待講演では、特別講演として、初日

1 月 29 日〜31 日の 3 日間にわたり千里ライフに「プラズマエレクトロニクスの新しい展開に向サイエンスセンター（大阪府豊中市）にて開催

けて」と題した名古屋大学の菅井秀郎先生のしました。今回のシンポジウムでは、講演総数

御講演に加えて、２日目には「有機発光デバイ

201 件、参加者数も 330 名に規模となり、今回スの現状と展望」と題して山形大学の城戸淳で第 24 回目を迎える本シンポジウムの歴史の二先生による御講演を戴きました。さらに、指中でも、最も盛会にて幕を下ろすことができま

定テーマ講演では、「酸化物の原子制御エピ

した。（これまでの講演件数ならびに参加者数

タキシーと機能開発」と題して東北大学の川崎は、概ね 150 件ならびに 250 名程度であり、今雅司先生ならびに「プラズマ分光−現状と展望

回は何れにおいても記録を塗り替える規模と−」と題して京都大学名誉教授の藤本 孝先生なりました。）に御講演を戴きました。加えて、セッション内

本シンポジウムの目的は、プラズマ物理・プ

招待講演として、ホソカワ粉体技術研究所のラズマ化学の研究者をはじめ、原子・分子物

福井武久先生による「プラズマを利用したナノ

理、薄膜・表面の物理・化学、電子工学等、プ粒子の合成とその適用」と題した御講演と共に、ラズマプロセシングに関わる多分野の研究者

名古屋大学の堀 勝先生より「カーボンナノウが一堂に会して、プラズマを接点とする境界分

ォールの創製と応用」と題して御講演を戴きま野における問題点とその解決方法を議論し、した。これらの招待講演では、今後の有機デ新たな問題点の発掘や新しい技術の可能性

バイスや酸化物エレクトロニクスさらにはナノ構を追求することにあり、我が国で開催されてい造材への応用を視野に入れ、プラズマプロセ

るプラズマプロセシングに関するシンポジウム

スとの関わりや診断計測技術の今後の発展とでは最も伝統ある会議の一つとなっておりま

新たな研究開発テーマの発掘を見据えて、盛す。

んな議論が展開されました。

今回のシンポジウムでは、ナノテクノロジー分

一般講演では、以下のテーマを設定して、口野（ナノ粒子、ナノ構造物質、超微細加工）、

頭講演ならびにポスター講演を合わせて 195

バイオテクノロジー分野、さらには環境応用分

件の御講演を戴き、何れのセッションにおいて野と共に、実用的なプロセスへの期待の高いも最新のデータに基づく白熱した議論が交わ

大気圧プラズマプロセス等もスコープに加え、されました。１）プロセシングプラズマの発生・

21

制御、２）プロセシングプラズマの診断・計測・
モニタリング、３）プロセシングプラズマにおける素過程・モデリング、４）プラズマによるエッチ
ング、５）プラズマによる薄膜形成、６）プラズマによる表面改質、７）大気圧・マイクロプラズマの基礎と応用、８）プラズマ応用技術［8-1）ナノテクノロジー；8-2）バイオテクノロジー；8-3）環
境応用；8-4）光応用・発光デバイス用プラズ
マ；8-5）フラットパネルディスプレー・ジャイアン
トエレクトロニクス］、９）上記以外のプラズマプ
ロセシング。
また、今回のシンポジウムでは、外部資金として、財団法人関西エネルギー・リサイクル科
学研究振興財団、財団法人中部電力基礎技術研究所、財団法人電子回路基板技術振興
財団ならびに財団法人ホソカワ粉体工学振興財団より開催助成金を賜り、さらに予稿集への企業広告として計 19 社にご協力を戴きました。
特に、今回のシンポジウムの成否においては、
上記の財団ならびに広告掲載企業各社の御厚意に依るところ甚大であり、厚く御礼申し上げる次第です。
最後に、今回のシンポジウムを滞りなく開催
できましたのは、就中、企画立案から広報、講演・参加募集、プログラム作成、出版、さらには当日の運営に携わって戴いた現地実行委員の先生方、分科会担当幹事の先生方ならびに学生アルバイター諸氏の献身的な御尽力の賜であり、此所に深甚なる感謝の意を申し述べさせて戴き、筆を置きます。

22

国内会議報告平成１９年春季

第５４回応用物理学関係連合講演会シンポジウム「有機系原材料におけるプラズマプロセス－低解離・低ダメージプロセスを目指して－」報告

中部大学工学部中

近年、材料プロセスにおいては、構造が微細でダメージを受けやすい材料を扱わなければならないことが多いことから、本シンポジウムでは、壊れやすい有機系原材料を扱うプラズマプロセスの問題点を整理す
るとともに、プロセスにおけるプラズマの影響を最小限に抑制するための総合的な討論が１２０名程度の参加者を得て行われた。
シンポジウムにおいては、本シンポジウ
ムの企画趣旨について、中部大学・中村よりイントロダクトリートークを行った後、名古屋大学・森氏より、有機材料を主に扱っている研究者の立場から見た有機系材料
でプラズマを用いることの問題点や対処の考え方などが紹介された。有機膜表面の特定の領域にエネルギーを与えること、プラズマからの紫外線によって生じた励起状態
をエネルギー吸収触媒により失活させること、バックグランドの酸素や水素などの不純物の除去が重要であることを示した。
次にナノテクノロジー分野におけるプラ
ズマ効果についての講演が行われた。まず東北大学・畠山氏からは、イオンのエネル
ギーとフラックスを精密に制御しながら、
ナノカーボン系材料を形成したときの結果について報告され、シングルウォールカー
ボンナノチューブを形成する上でのイオンエネルギー、イオンフラックスなどの精密制御の重要性が示された。また東北大学・
寒川氏からは、イオンやラジカルなどの反応種の表面反応を促進するプラスの側面と、表面から数十 nm レベルの深さにおける欠陥層の形成といった負の側面の両方の効果

村

圭

二

が紫外線照射にはあり、有機・ナノ材料におけるプラズマプロセスでの放射紫外線の影響を制御するいくつかの方法が説明された。
さらに超ＬＳＩデバイスで用いられる低誘電率膜のプラズマプロセスについて講演が行われた。京都大学・白藤氏からは、有機材料薄膜をプラズマプロセスで堆積させる場合のケミストリーについての概説とともに、原料由来の特定の構造を壊すことなく効率よく膜に取り込む方策として、電子温度の制御、二次反応によるプリカーサの選択、過剰解離の抑制などが示された。続いて Selete・木下氏より、表面波プローブを用いた低誘電率材用製膜装置における電子密度・電子温度の解析事例が報告され、過剰解離が起こらない低電子密度、低電子
温度のプラズマにおいて、重合、多段階解
離、官能基の脱離・付着など、気相におけるプリカーサの挙動について示された。名古屋大学・堀氏からは、レジスト有機膜を有する低誘電率有機膜での低ダメージプロ
セスの報告があった。低誘電率有機膜の微細エッチングプロセス、およびパターニン
グした低誘電率有機膜へのダメージを抑制したレジスト有機膜の除去プロセスに関する諸条件が示され、光・ラジカル・イオンの相互効果を考慮したメカニズム解明が進められていることが説明された。最後に東芝・大岩氏により本シンポジウムのまとめが行われた。
ダメージについては未解明な点や課題などが多く残されているものの、今後も微細23

化が進む状況においては、ダメージに関す
る知見とその抑制技術がますます重要性を増し、この分野での今後のさらなる発展が期待される。

24

国内会議報告2007 年春季第 54 回応用物理学関係連合講演会
合同セッションＤ報告
名古屋大学 豊 田 浩 孝

合同セッション D はプラズマエレクトロニ期の詳細な評価をおこなっており、膜結晶

クス分科「１．４プラズマ応用プロセス」、性を議論する際の基礎的研究として今後の薄膜・表面分科の「６．２カーボン系薄膜」

発展が期待される。九州大学のグループかおよび非晶質・微結晶分科の「14.2 プロセ

らは、プラズマ領域からの位置に対する膜ス技術」の共同企画によるものであり、そ特性の空間的な分布を利用するコンビナト

れぞれの分科の研究成果に関する情報を交

リアルな手法によりクラスターの体積分率

換し合い、違った視点から議論を交わすこと膜特性の相関を調べる新たな手法が提案とのできる場として機能している。今回のされた。さらに、前半のセッションでは大合同セッションは講演会初日午後に 18 件

気圧プラズマを用いたSi膜形成について 3の講演にて開催された。

件の報告があった。大阪大学のグループかセッションの前半はSiおよびGe系薄膜

らは、H2/He混合大気圧プラズマ化学輸送法

CVDに関するものであった。まず、埼玉大学

を用いることによる面方向 4.5 ミクロンのの グ ル ー プ か ら マ イ ク ロ 波 CVD に よ る

大粒径Siエピ膜成長、および 21nm/sの高堆SiH2Cl2

SiHCl3からのSi形成について報告

積速度での微結晶Si製膜についての報告ががあり、SiH2Cl2を用いることによる欠陥密あった。また、産業技術総合研究所のグル度の減少、ボイド分率減少の結果が示されープからは、大気圧マイクロ波プラズマCVDた。名古屋大学からは、大面積プラズマCVD

によるファイバ上へ 1000nm/sの多結晶Si膜に向けて、並列導波管による 2 次元大面積

高速成長について報告がなされた。これら化についての報告がなされた。広島大学のの報告は、大気圧プラズマCVDが従来のプラグループはGeH4 VHF-ICPにおける二段階成

ズマCVDプロセスにない優れた特徴をもっ長法を採用した高結晶性Ge薄膜の低温高速ていることを示しており、本研究分野が今

堆積および基板材料依存性に関する報告、後大きく展開する可能性を持っていると感

またH2プラズマ前処理による微結晶Si膜のじられる。また、大阪大学のグループから

成長初期過程の核発生制御の報告があった。

は、物理吸着したSiの表面拡散について分

同グループは石英基板背面からのRaman散子動力学シミュレーションによる解析結果

乱測定およびUV反射率測定による膜成長初が報告された。

B

B

B

B

B

B

B

B

B

B

B

B

B

B

B

25

B

セッション後半ではBN、SiNおよびa-C膜が報告された。

成長に関連する報告があった。東京大学の今回の合同セッション D はこれまでに比グループからは、容量結合型RFプラズマ中

べてやや講演件数が少なかったものの、大にバイアス印加したZn棒を挿入することで気圧プラズマ CVD プロセスなど、今後のプBN膜中にZnを導入するスパッタドーピング

ラズマ CVD の新たな展開を予感させるよう法が紹介され、Zn添加２％で 6 桁の導電度

な興味深い講演が多くみられている。なお、の増加が見られること、この効果がBリッチ

秋の応用物理学会でも合同セッション D のの膜において現れることが報告された。物

開催が決定されており、多数の講演が期待

質材料機構のグループからは、レーザー支

される。

3

援プラズマCVD法を用いたsp -5H-BN薄膜成
PP長におけるミクロコーンエミッターの分布制御およびミクロコーンの自己組織的規則
分布化成長について報告があった。基板に意図的に溝を掘りフラクタル構造の分離を図ったものの溝を越えるようなフラクタル構造の広がりも見出だされており、今後の解釈が待たれる。SiNのPCVDに関しては 2 件の報告があり、まず名古屋大学からは有機
EL保護膜としてのSiN膜成長について報告があった。SiH4/N2/NH3混合ガスで製膜をお
B

B

B

B

B

B

こなったところ、条件の最適化により膜酸化が進まない膜が得られることが示されるとともに、FT-IR測定においてSiN結合が増加、NH結合が小さいほど良好な膜であるとの報告がなされた。また、東京工芸大学のグループはλ/4 線路を用いた整合装置を持つユニークなVHFプラズマ装置によるSiN膜形成について報告があり、光学バンド端お
よびPL測定結果が示されていた。a-C膜PCVDに関しては、長崎大学のグループは、a-C
膜中の水素吸着状態の変化について、ATR－FT-IRによる測定結果を報告した。また、大阪大学のグループからは、高絶縁性のSiOCH膜の吸湿を防ぐ保護膜として高絶縁性を有するa-C膜の低温成長が示されるとともに、その膜をSiOCH膜上に堆積させることにより、良好な対吸湿性が得られること26

国内会議報告タイトル第 54 回応用物理学関係連合講演会 合同セッション F「カーボンナノチューブの基礎と応用」学会報告
武蔵工業大学 工学部 平田 孝道
去る平成 19 年 3 月 27 日～30 日に、青山学院大学相模原キャンパス（神奈川県相模原市
淵野辺 5-10-1）で開催された第 54 回応用物理学関係連合講演会において、合同セッション F「カーボンナノチューブの基礎と応用」が 4 日間（会期中全日）開催された。カーボンナノチ
ューブの発見以来、その特異性かつ新規性に注目した研究発表が急増し、現在でもその諸特性の解明及び応用に関する研究が盛んに行なわれている。
今回の発表件数は、111 件（講演取り消しも含む）であり、傍聴者も連日 100 名前後であった。内容の分類は以下の通りである。• 合成・
成長・配向 30 件（合成には、プラズマ CVD 法、
熱 CVD 法、レーザーアブレーション法、アーク放電法等、並びに形成機構解明を含む。）、•
ナノカーボン類（ナノコイル・ナノウオール・アークスート）：11 件、• 複合構造：4 件、• 内包
ナノチューブ：2 件、• 分離・分散・修飾：3 件、• 機械的・光学的・磁性的物性評価：17 件、•電界放出特性：15 件、• SEM/TEM 観察：3 件、• CNT-FET：12 件、• バイオデバイス（センサ）：8 件、• その他：6 件。
各種ナノカーボン材料の合成では、ナノコイ
ルの触媒寿命に関する検討（阪府大）やナノウ
オールに関する広範な報告（名大）があり、成長機構の理解が進んでいる印象を受けた。分
科内招待講演として東北大・小野氏から、マイクロ・ナノ電気機械に関して従来材料のみならずCNTを利用したデバイスが紹介され、ナノ機械として有望な材料であることが示された。センサに関しては、アトミックレイヤーダイアモンド（ALD）による表面保護膜の形成や絶縁膜の形成による液相とCNTにおける相互作用の軽減化（名大）や、プラズマイオン照射法による化学修飾というアプローチに関する報告（武蔵工大）があり、バイオセンサの特性向上並びに実用化に向けた試行錯誤が着実に行なわれているという実感が得られた。
単層や２層のカーボンナノチューブ(CNT)
成長に関しては、触媒作製を工夫して成長を制御する講演が従来通り多く見受けられたが、その中でも特に注目を引いたのが、金、銀、銅27などの貴金属触媒からのCNT成長（東理大）である。殆ど炭素を取り込まない金属からCNT成長が可能である、ということは非常に興味深
いといえる。また、サファイア基板上でのCNT
配向成長(明大、九大)に関しては、配向メカニ
ズムはかなり明確になりつつあり、今後の応用への展開が期待される。更に、電子放出に関しては、実際の応用に特化した研究が多く、その中でもカーボンナノファイバー／エラストマ
ー複合体を利用したフレキシブル電子源（神戸大）、CNT電解放射陰極の高空間分解能Ｘ
線源への応用（三重大）等が目を引いた。
成長の“その場”観察としては、ラマン分光解
析からCNTのカイラリティに依存して成長遅延
時間が異なる可能性があること（NTT）、SEM
観察からサファイア基板上における配向成長
が先端成長であること（東理大）が指摘された。
電子物性としては、超電導体電極をもつCNT
素子において多重アンドレーエフ反射を観測したことが報告され興味を引いた（理研）。また、奨励賞受賞記念講演として、色素内包CNTの光物性について発表があり、時間分解吸収分
光測定の結果と併せて光励起エネルギー移動について議論がなされた（産総研）。光物性に関しては、環境制御チャンバーを用いて環境の効果を調べた例（東理大）や、環境による誘電遮蔽の効果を周囲の誘電率を変化させることで調べた結果（名大）などが報告され、光物性解析において課題であった環境の効果が明らかにされつつある。
CNT-FET に関しては、塗布型 CNT 膜 FET（NEC）の試作及び特性評価の報告において、金属 CNT を含んでいても 99%以上の歩留まりで高い on/off 比が得られており、実用化への一つの指針が示された。また、CNT チャネル
へ各種欠陥を積極的に導入することにより、欠陥の特性への影響が明らかにされつつある（NTT、阪大）。
最後に、この分野に携わる様々な研究者が切磋琢磨しながら活発な研究活動を持続し、カーボンナノチューブを含むナノカーボン分野
が更なる発展を遂げることを願ってならない。
以上。

2007（平成 19）年度プラズマエレクトロニクス分科会幹事名簿
住所・電話〒980-8579
仙台市青葉区荒巻字青葉 6-6--05
TEL: 022-795-7045
FAX: 022-263-9373
hatake@ecei.tohoku.ac.jp〒567-0047
大阪府茨木市美穂ヶ丘 11-1
TEL: 06-6879-8641
FAX: 06-6879-8641
setsuhara@jwri.osaka-u.ac.jp〒235-8522
横浜市磯子区新杉田町 8
TEL: 045-770-3510
FAX: 045-770-3568
oiwa@amc.toshiba.co.jp〒239-8686
横須賀市走水 1 丁目 10 番 20 号
TEL: 046-841-3810(代表)
FAX: 046-843-6236（代表）akashi@nda.ac.jp

氏名
幹事長

畠山 力三

副幹事長

節原 裕一

副幹事長

大岩 徳久

幹事任期
2008 年 3 月

明石 治朗
H

〃

〃

〃

古閑 一憲

〒819－0395
福岡市西区元岡 774
TEL: 092-802-3716
FAX: 092-802-3717
koga@ed.kyushu-u.ac.jp㈱東芝セミコンダクター社
プロセス技術推進センター

防衛大学校
応用物理学科
シミュレーション科学
九州大学大学院
システム情報科学研究院
電子デバイス工学部門

H

佐野 紀彰

兵庫県立大学
工学研究科
機械システム工学専攻

辰巳 哲也〒243-0014
厚木市旭町 4-14-1
TEL: 046-230-6568
FAX: 046-230-5400
Tetsuya.Tatsumi@jp.sony.com

ソニー（株）SBU
セミコンダクタテクノロジー
開発本部

土澤 泰

〒243-0198
神奈川県厚木市森の里若宮 3-1
TEL: 046-240-2448
Fax: 046-270-2372
ttai@aecl.ntt.co.jp

ＮＴＴマイクロシステムインテグレーション研究所，ネットワーク装置
インテグレーション研究部
微小光回路技術研究グループ〒487-8501
愛知県春日井市松本町 1200
TEL: 0568-51-9301
FAX: 0568-51-1219（事務室）
nakamura@solan.chubu.ac.jp

中部大学
工学部
電気システム工学科〒185-8601
国分寺市東恋ヶ窪一丁目 280 番地
TEL: 042-323-1111
FAX: 042-327-7708
negi@crl.hitachi.co.jp(株)日立製作所
中央研究所
先端技術研究部

中村 圭二

H

H

〃

大阪大学大学院
接合科学研究所
エネルギー変換機構学分野〒671-2201
姫路市書写 2167
TEL: 0792-67-4845
FAX: 0792-67-4830
sano@eng.u-hyogo.ac.jp

H〃

東北大学大学院
工学研究科
電子工学専攻

H

H

〃

所属

根岸 伸幸

H

H

H

28

〃

東京エレクトロンＡＴ（株）
開発部門ＥＳＤ要素開発部
開発第一グループ〒158-8557
東京都世田谷区玉堤 1-28-1
TEL : 03-3703-3111 ext.2952
TEL/FAX : 03-5707-2183（ﾀﾞｲｱﾙｲﾝ）
hirata@dev.ec.musashi-tech.ac.jp

武蔵工業大学(大学院工学研究科・工学部）
電子通信工学科
電子デバイス研究室〒410-1231
静岡県裾野市須山 1220-1
TEL: 0559-98-1564
FAX: 0559-98-1767
yasuhiro_morikawa@ulvac.com

株式会社アルバック
半導体技術研究所
第 2 研究部，第 5 研究室

檜森 慎司〒407-8511
山梨県韮崎市藤井町北下条 2381-1
TEL : 0551-23-2316
FAX: 0551-23-2413
shinji.himori@tel.com
H

〃

平田 孝道

H

H

〃

森川 泰宏

H

H

〃

H

〒664-0005
兵庫県伊丹市瑞原 4-1
TEL: 072-784-7354 (Ext. 724-5920)
FAX: 072-780-2675
yonekura.kazumasa@renesas.com㈱ルネサステクノロジ
プロセス開発部
ドライエッチング開発グループ

吉村 智〒565-0871
大阪府吹田市山田丘 2-1
TEL: 06-6879-7914
FAX: 06-6879-7916
ysmr_aou1@ppl.eng.osaka-u.ac.jp

大阪大学工学研究科
原子分子イオン制御
理工学センター

秋元 健司〒229-1198
相模原市下九沢 1120
TEL: 042-779-9925
FAX: 042-771-0896
takeshi.akimoto@necel.com

NEC エレクトロニクス
プロセス技術事業部
ドライエッチ技術グループ

江利口 浩二〒606-8501
京都市左京区吉田本町
TEL: 075-753-5983/0774-38-3966
FAX: 075-753-5980/0774-31-8811
eriguchi@kuaero.kyoto-u.ac.jp

京都大学
大学院工学研究科
航空宇宙工学専攻

太田 貴之〒640-8510
和歌山市栄谷 930
TEL/FAX: 073-457-8184
ohta@sys.wakayama-u.ac.jp

和歌山大学
システム工学部
光メカトロニクス学科

奥村 智洋〒571-8502
大阪府門真市松葉町 2-7
TEL: 06-6905-4772
FAX: 06-6905-4518
okumura.tomohiro@jp.panasonic.com

松下電器産業株式会社
生産革新本部
生産技術研究所

上坂 裕之〒464-8603
名古屋市千種区不老町
TEL/FAX: 052-789-2787
kousaka@mech.nagoya-u.ac.jp

名古屋大学大学院
工学研究科
機械理工学専攻佐藤 孝紀〒050-8585
室蘭市水元町 27-1
TEL/FAX: 0143-46-5506
ksatoh@mmm.muroran-it.ac.jp

室蘭工業大学
工学部
電気電子工学科

米倉 和賢
H

〃

幹事
任期
2009 年 3 月

〃

〃

〃

〃

〃

H

29

〃

布村 正太

〃

長谷川 明広〃柳生 義人〒305-8568
つくば市梅園 1-1-1 中央第 2
TEL: 029-861-5075
FAX: 029-861-3367
s.nunomura@aist.go.jp〒197-0833
あきる野市渕上 50
あきる野テクノロジーセンター
TEL: 042-532-1250
FAX: 042-532-2513
hasegawa.akihir@jp.fujitsu.com〒857-1193
佐世保市沖新町 1-1
TEL: 0956-34-8528
FAX: 0956-34-8476
yyagyu@post.cc.sasebo.ac.jp

30

産業技術総合研究所
太陽光発電研究センター

富士通株式会社
デバイス開発統括部
第一プロセス開発部

佐世保工業高等専門学校
電気電子工学科

平成 1９年度分科会幹事役割分担
役割分担
幹事長
副幹事長
分科会ミーティング
シンポジウム総合講演
合同セッション

プラズマプロセシング研究会
SPP-25

光源物性とその応用研究会
プラズマ応用技術の将来ビ
ジョン研究会 → アカデミッ
クロードマップ公開講演会

留任

新任

畠山力三

東北大

節原裕一

阪大

大岩徳久

東芝

根岸信幸

日立

太田貴之

和歌山大

節原裕一

阪大

上坂裕之

名大

○ 中村圭二

中部大

奥村智洋

松下電器

檜森慎司

東京ｴﾚｸﾄﾛﾝ AT

明石治朗

防衛大

柳生義人

佐世保高専

＊ 畠山力三

東北大

長谷川明広

富士通

＊ 佐野紀彰

兵庫県立大

奥村智洋

松下電器

＊ 吉村 智

阪大

江利口浩二

京大

辰巳哲也

ソニー

* 米倉和賢○ 江利口浩二

京大

ﾙﾈｻｽﾃｸﾉﾛｼﾞ

中村圭二

中部大

明石治朗

防衛大

佐藤孝紀

室蘭工大

○ 大岩徳久東芝

秋元健司

NEC ｴﾚｸﾄﾛﾆｸｽ

土澤 泰

NTT

長谷川明広

富士通

平田孝道

武蔵工大

檜森慎司

東京ｴﾚｸﾄﾛﾝ AT○ 太田貴之和歌山大○ 節原裕一

阪大

上坂裕之

名大

古閑一憲

九大

秋元健司

NEC ｴﾚｸﾄﾛﾆｸｽ

米倉和賢

ﾙﾈｻｽﾃｸﾉﾛｼﾞ

布村正太

産総研

○ 大岩徳久東芝

秋元健司

NEC ｴﾚｸﾄﾛﾆｸｽ

プラズマエレクトロニクス講

根岸信幸

日立

長谷川明広

富士通

習会

辰巳哲也

ソニー

奥村智洋

松下電器

平田孝道

武蔵工大

布村正太

産総研

○ 森川泰宏アルバック○ 布村正太産総研

インキュベーションホール

会誌編集・書記

吉村 智

阪大

柳生義人

佐世保高専

ホームページ

吉村 智

阪大

柳生義人

佐世保高専

会員名簿

古閑一憲

九大

佐藤孝紀

室蘭工大

庶務

平田孝道

武蔵工大

会計

佐野紀彰

兵庫県立大

太田貴之

和歌山大

プラズマエレクトロニクス賞

畠山力三

東北大

31

*：SPP25 現地実行委員○：取りまとめ役，

平成 19 年度分科会関連の各種世話人・委員
１．応用物理学会講演分科の世話人（任期：1 期２年）
1.2 プラズマ生成技術およびプラズマ源八田章光（高知工科大）1.3 反応性プラズマの診断と計測

松田良信（長崎大工）

1.4 プラズマプロセス応用

豊田浩孝（名大）合同セッション D 兼務
講演会企画運営委員兼務
1.4 プラズマプロセス応用

一木隆範（東大）

1.5 プラズマプロセスによるナノテクノロジー

平田孝道（武蔵工大）

合同セッション F 兼務
1.5 プラズマプロセスによるナノテクノロジー

栃久保文嘉（首都大東京）

1.6 プラズマ現象一般兼務
1.7 エッチング

板橋直志（日立中研）

２．「応用物理」編集委員（2006.4～2008.3）

寺嶋和夫（東大）

３．応用物理学会代議員（１期２年）

節原裕一（阪大）
永津雅章（静大）関根誠（名大）八田章光（高知工科大）４．GEC 組織委員会委員（2005.10～2007.10）

斧

５．その他：本部理事

藤山

高一（京大）
寛（長崎大）

河野明廣（名大）32

平成 18 年度後期＆19 年度前期プラズマエレクトロニクス分科会活動報告
は、ICRP を 10 月に開催した。ただし、翌 1999 年
1 月には SPP を実施していない。ICRP-5（SPP-19）
・
ESCANPIG-16（2002 年）のジョイントの際は、学会開催日は 7 月であった。この時は翌 2003 年 1
月の SPP-20 を実施した。本件は、4 月の幹事会にて継続審議することになった。

プラズマエレクトロニクス分科会 平成 18 年度
第 4 回幹事会
日時：2007 年 1 月 30 日（火）11:30—14:00
場所：千里ライフサイエンスセンター503 号室
１． プ ラ ズ マ 化 学 サ マ ー ス ク ー ル お よ び
AEPSE2007 開催の案内
白藤先生（京大）より、8 月に京都で、プラズ
マ化学サマースクール（IUPAC Summer School on
Plasma Chemistry）を開催する旨、報告があった。
また、藤山先生（長崎大）より、6th Asian-European
International Conference on Plasma Surface
Engineering (AEPSE2007) 開催の案内があった。
PP

２． JJAP STAP （ Selected Topics in Applied
Physics）について
斧先生（京大）より、JJAP STAP についての説明があった。STAP は 2006 年から始まった企画であり、特集号とは異なり、Regular で出版される号にトピックとして組まれるものである。通常、20-60 報程度の論文が掲載される。
現在、プラズマ関連の STAP を企画している。
Plasma Processing for New Era（仮）と題して論文を募集する予定である。今後のスケジュール
は、(1)今春に投稿論文の募集案内を告知し、(2)
論文投稿の締めきりは夏頃に設定し、(3)年内（または 2008 年はじめ）に論文を出版、となっている。本企画の特別編集委員を本分科会会員からも選出する予定である。
なお、本企画に直接は関連しないが、JJAP の論
文分類と学術講演会の中分類のカテゴリーの一致をはかるべきではないかとのコメントがあった。
３． ICRP-7 の開催時期について
ICRP-7 は 2009 年 1 月に開催を予定しているが、そのわずか 4 ヶ月前の 2008 年 9 月に、ICPP が福岡で開催されることになった（なお、畠山幹事長（東北大）がプログラム委員長を勤めることが報告された）ため、ICRP-7 の開催時期を遅らせるか否かについて議論を行った。これまで、ICRP は
3-4 年サイクルで実施している。ICRP の時期をず
ら す こ と も 可 能 。 過 去 の 例 で は 、 ICRP-4（SPP-16）・GEC-51（1998 年）のジョイントの際

33

４． SPP-25 について
福政先生（山口大）より、SPP-25 の準備状況について報告があった。開催時期は 2008 年 1 月 23日（水）-25 日（金）で、開催場所として、山口
県教育会館と福祉会館を抑えている。会場が分かれる可能性があるが、両施設は隣接している。現
在、実行委員の人選を行っている。2 月に開催予定の実行委員会にて詳細を決定する予定である。
なお、節原副幹事長（阪大）より、本年の SPP-24を開催した経験を踏まえて、応物学会誌 7 月号に
SPP-25 開催の告知を出すためには、少なくとも 5
月中旬には開催素案を決定できるよう準備を進めたほうがよい旨、助言があった。また、中国地
区開催とするか、中四国地区開催とするかについても議論があった。
５． 新任幹事選挙結果報告
畠山幹事長（東北大）より、幹事選挙の結果が報告された（候補者全員の当選）。
６． インキュベーションホール開催案
古閑幹事（九大）より、プラズマエレクトロニ
クスインキュベーションホール開催案が報告された。開催日時は 2007 年 9 月 12 日（水）-14 日（金）で、場所は滋賀県高島郡マキノ町のマキノ
パークホテル＆セミナーハウス（仮予約済み）である。
まず、企画内容および講師の人選（案）について報告された。本インキュベーションホールは、
4 つの専門講座と 2 つの特別講座、ポスターセッションで構成する旨、報告された。なお、昨年のサマースクールでのアンケートで、「講議の数が多く、スケジュールがタイトである」との意見があったことから、本インキュベーションホールでは、講座の数をひとつ減らしたとの報告があった。
レクリエーション企画（バス釣り、マウンテンバイクなど）も取り入れたとの報告があった。また、活性化支援金を申請する予定であること、仮に支援金が減額されても本分科会からの助成金は例
年通りの額を供出することが確認された。
また、１）講師陣が名古屋から多いのではないか、２）企業の方を招いた特別講座を専門講座とリンクすればどうか（エッチングの企業の方を招いた場合、エッチングの専門講座の後に特別講座を開く）、といった意見が出された。１）については、講師陣の人事異動の結果にもよるので今年は問題ないとの意見が出された。２）については、
特別講座の講師案作成の参考にしたいとの案が出された。なお、本年8月に開催されるプラズマ
化学サマースクールとの違い（使用言語（英語と日本語）の違い、講議のみでなくディベートも行う、など）を明確にするべきでは、とのコメントがあった。
７． SPP-24 中間報告
節原副幹事長（阪大）より、現在開催中の SPP-24の中間報告が行われた。1/30 現在、参加者は 310
人程度、収支は確定していないが、赤字は避けられそうであるとの見通しが報告された。
８． オプトロニクス誌への紹介記事
節原副幹事長（阪大）より、オプトロニクス誌の「光の研究コミュニティー」欄に、本分科会の活動内容を紹介する記事の執筆を依頼されたとの報告があった。特に異論が出なかったため、節原副幹事長が、記事の原案を作成することになった。

ーマ共通の指標として、例えば「1 分子、１原子の制御」をロードマップの 2035 年あたりに置き、それに向けてのロードマップを組んで行くという進め方で今後検討を行っていくことになった。
各テーマのリーダーは、これまでに検討した内容
を、関根委員長宛に早急に提出することになった。
なお、3 月で退任予定の幹事も、可能であれば、4月以降もロードマップ委員は継続することを確認した。
１１．平成 19 年度 第 1 回幹事会について
平成 19 年度の第 1 回幹事会は、4 月 7 日（土）11 時より武蔵工業大学にて開催する予定である。
１２.その他・応物春の講演会でアカデミックロードマップのシンポジウムを行うので、PE 分科会が独自にロードマップ作成にかかわる報告をビジョン研究会として企画する必要性はあるのかとの案が出された。これを受け、応物のシンポジウムは全体報
告なので、PE 分科会が担当のテーマで詳細報告を別途企画することは別に問題ではないとの意見が出された。
・節原副幹事長（阪大）より、今後 SPP において学生を対象としたアワードを設けることに意義があるかどうかを意識して、本幹事会の終了以後に行われる講演のうち、学生による発表に特に注意を傾けて貰いたい旨、アナウンスがあった。
以上

９． 応物 75 周年理科教室について
平田幹事（武蔵工大）より、2/15 に理科教室の打ち合わせ会議に出席し、催し物のデモを行う予定である旨、報告があった。また、企画案について簡潔な紹介があった（1000 円程度の予算でできるもので、オゾンで水の色を変えるエコの実験やガス種によってプラズマの色が変化することを見せるなど）。
１０．アカデミックロードマップについて
アカデミックロードマップ作成について議論を行った。まず、関根委員長（名大）より、アカデミックロードマップ取りまとめについて、今後のスケジュールなどの説明があった。次に、具体的に検討を行ったが、あまりに多くの研究課題や研究目標が記入されていることから、このままでは、本アカデミックロードマップの究極的な目標がわかりにくいとの意見があった。そこで、各テ

34

６． 第 24 回プラズマプロセシング研究会報告（節原）
節原副幹事長（阪大）より、2007 年 1 月に千里中央で開催された「第 24 回プラズマプロセシン
グ研究会」について報告があった。特に、収支決算については詳細な報告がなされた。収入は主に参加費と獲得した外部資金であり、支出は主に会場設営費であった。なお、参加費の学生料金が、結果的に、PE 分科会に入会してもメリットを得られないような金額に設定されていたことが報告された。この金額設定が今後検討すべき課題として挙げられた。

第 45 回 プラズマエレクトロニクス分科会ミー
ティング（兼・平成 18 年度第 5 回幹事会）
日時：2007 年 3 月 28 日（水）12:00-13:10
場所：青山学院大学 相模原キャンパス D 棟
1F-D115
１． 平成 18 年度収支決算報告（小田）小田幹事（名工大）より、2006 年 1-12 月の収支決算が報告された。また、2007 年 1-12 月の収支予算書も示された。2006 年の収支決算に関して
小田幹事より、「プラズマエレクトロニクス講習
会とサマースクールの参加費収入が減少傾向にあることから、今期以降は、これらの収入を増加させていくべきではないか」、とのコメントがあった。

７． 第 25 回プラズマプロセシング研究会（八田）八田現地実行委員（高知工大）より、「第 25 回プラズマプロセシング研究会」の実施要綱の説明があった。日程は 2008 年 1 月 23-25 日、会場は「山口県教育会館」と「ゆーあいプラザ山口県社会福祉会館」の２つを併用する。実施形態（講演
形態や募集分野など）は従来の通りとする。現地実行委員としては、中国地区および四国地区のプ
ラズマエレクトロニクス関係研究者のほぼ全員に参加していただいている。また、今後の日程（講演申し込みの締めきりなど）や予算案についても報告があった。

２． 新任幹事の紹介（畠山）畠山幹事長（東北大）より、幹事選挙結果の報告が行われた。また、新任幹事（任期 2007 年 4月〜）の紹介が行われた。
３． 第 21 回光源物性とその応用研究会報告（明石）
明石幹事（防衛大）より、2006 年 10 月に神奈川大学で開催された「第 21 回光源物性とその応用研究会」の概略、および次回の同研究会の開催
予定について、報告があった。
４． 第 17 回プラズマエレクトロニクス講習会報
告（野崎）野崎幹事（東工大）より、2006 年 10 月に開催された「第 17 回プラズマエレクトロニクス講習会」の収支決算についての報告があった。テキス
ト印刷費および通信費を節約することにより、支出額を減らすことができたとの報告があった。また、次回の同講習会は 2007 年 11 月 1-2 日に、東工大百年記念館で開催する予定である。詳細は、
平成 19 年度第 1 回幹事会（4 月 7 日）にて報告される。
５．会報 No.45（2006 年 12 月発行）報告（吉村）吉村幹事（阪大）より、会報 No.45 の発行について報告があった。反省点として、会報の郵送が2007 年 1 月までずれこんだこと、記事毎に体裁が異なり冊子の仕上がりの見栄えが悪くなったことの２点が挙げられた。

35

８． 第 5 回プラズマエレクトロニクス賞報告（畠山）
畠山幹事長（東北大）より、「第 5 回プラズマエレクトロニクス賞」の選考結果（選考委員会の構成、受賞者、受賞論文タイトル、受賞理由など）について報告があった。なお、応募論文数が３件のみにとどまったことについて、「同賞への推薦を積極的に募ることにより、応募論文件数を増やすよう努力すべきである」、との意見があった。
９． 2007 年春季応物関係連合講演会シンポジウ
ム、合同セッションについて（中村（圭））
中村（圭）幹事（中部大）より、2007 年春季応
物関係連合講演会シンポジウムが本日開催されること、および合同セッションの開催状況について、報告があった。
１０．会報 No.46（2007 年 6 月発行）について（森川）
森川幹事（ULVAC）より、会報 No.46 の編集準
備状況について、簡潔な説明があった。

１１．第 1 回プラズマエレクトロニクスインキュ
ベーションホールについて（古閑）古閑幹事（九大）より、「第 1 回プラズマエレ
クトロニクスインキュベーションホール」の開催案について報告があった。日程は 9 月 12-14 日で、場所は琵琶湖湖畔のマキノパークホテルである。
専門講座の講師は決定済みであり、また、後藤俊夫先生には特別講座をお願いすることも決まっている。加えて、企業の方にも特別講座をお願いする予定であり、これは打診中であると報告があった。ポスターセッションにおいては、発表優秀賞の表彰を行う予定である。レクリエーションおよび懇親会も企画している。また、本ホールの広報活動として、ホームページを開設した（PE 分科
会のホームページにおいてもリンクを張っている）。また、「応用物理」誌と PE 分科会会報にも広告を掲載する予定である。
なお、本件に関連して、節原副幹事長（阪大）
より、2007 年 8 月には ISPC のサマースクールが開催されること、本ホールの開催に伴い従来行ってきたサマースクールは発展的に解消したこと、活性化資金については ISPC サマースクールと本
ホールともに採択されていること、が報告された。
１２．2007 年秋季応用物理学会学術講演会のシンポジウム、合同セッションについて（中村（圭））
中村（圭）幹事（中部大）より、2007 年秋季講
演会のシンポジウム、合同セッションの開催案について、報告があった。合同セッション（D「プラズマ CVD の基礎と応用（委員：豊田浩孝先生（名大））」、F「カーボンナノチューブの基礎と応用」（委員：平田孝道先生（武蔵工大）））は継続して実施の予定である。分科内総合講演は、プラズマエレクトロニクス賞の受賞講演を行うこともあり、行わない予定である。シンポジウムの開催日については、第一希望は 9 月 5 日、第二希望は 9
月 6 日であり、時間は 13:30-17:30 頃を予定している。シンポジウムのテーマとして、11 個の候補が列挙された。平成 19 年度第１回幹事会（4 月 7日）までに案をまとめる予定である。
なお、畠山幹事長（東北大）より、分科会幹事
長会議にて、「シンポジウムの内容と学会参加者
数との間には相関があるようだ」という話題が挙がったとのコメントがあった。
１３．アカデミックロードマップ作成について（関根）
関根委員長（名大）より、ロードマップ作成の36

進捗状況について報告があった。2 月にテーマリーダーが集まり会議を行ったが、4 月 7 日の幹事会においても、議論を行う予定である。新任の PE分科会幹事には新たに委員として参加してもらう。3 月で退任する幹事にも、可能であれば、ロードマップ作成委員については継続していただ
く予定である。
現行の応用物理学会の大分類分科「放射線・プ
ラズマエレクトロニクス」から「プラズマエレク
トロニクス」を分離し、単独大分類とする件が応物の理事会にて承認された旨、報告があった。応物学術講演会は，2008 年春から単独運営される。
なお，大分類の順番については未定である。また、企画委員は豊田先生（名大）に引き継いでいただ
くことになったとの報告があった。
１４．プラズマ分野の学会連携活動の依頼（畠山）畠山幹事長（東北大）より、日本物理学会領域
２の小野靖代表（東大）から、「プラズマ分野の学会で連携して活動を行おう」との働きかけがあったとの報告があった。これは、応物学会、電気学会、物理学会、放電学会、静電気学会などのプ
ラズマ関連学会で、輪番制でホストを勤める等により、年に１回程度これらの学会関係者が一同に会する機会を設けようという提案である。
この提案に対し、藤山先生より、「プラズマ基礎分野と応用分野を統合したプラズマ横断型分
科 会 と し て既 に 『 プ ラズ マ 科 学 シン ポ ジ ウ ム（PSS）』が存在しており、まずは、これを充実させることを検討するのが先決ではないか」との意見があったことが報告された。この意見に対する小野代表らの返答は、「PSS はプラズマ応用よりのシンポジウムであるという印象を持っており、我々の企画しているものはむしろ物理よりの側面に焦点をあてた会合である」というものであった。4 月 7 日までに PE 分科会内の意見をまとめて、小野代表に返答することになっている。
これに対し、本ミーティングにおいて、多数の意見が挙がった。その一部を以下に列挙する。
○ 中国や韓国なども引き入れて、いわば、
APS-DPP のアジア版のような会合にできればよいのでは。
○ レーザー学会や天文学会も取り込むべき。
○ 現行の PSS においてすら、分野の異なる研究者同士のコミュニケーションを計ることは難しい状況であり、そこにさらにプラズマ基礎などの分野と統合してもテーマが発散す
るのではないか。

○

プラズマエレクトロニクス分科会 平成 19 年度
第１回幹事会
日時：2007 年 4 月 7 日（土） 11:00-17:10
場所：東京工業大学大岡山キャンパス 石川台 6号館 3 階 325 号室

PSS では、応用に特化して基礎を排除するよ
うなことはしていないはずである。また、PSSを設立する際には物理学会にも参加を呼び掛けていた。

１５．応物 75 周年理科教室について（平田）平田幹事（武蔵工大）より、8 月 3-4 日開催の理科教室の進捗状況について簡潔な説明があった。

１．自己紹介
新任幹事、留任幹事、アカデミックロードマッ
プ作成等の関連諸委員の自己紹介が行われた。
２．アカデミックロードマップ（関根）アカデミックロードマップ作成について、関根
委員長（名大）より、2 月末に中間報告を経産省に提出したとの報告があった。本技術クラスターの名称を、将来的にプラズマ以外のプロセスへと拡大していくことも念頭におき、「プラズマ・プ
ロセス技術」とすることが提案され、承認された。
また、役割分担に関して、制御技術のテーマリー
ダを永津委員から中村（圭）委員に変更すること、分科会の退任幹事も本委員は継続すること、が報告された。分科会の新任幹事のテーマ分担案も示され、いずれも承認された。
本ロードマップの活用方法であるが、（１）予算獲得の手段とする、（２）企業・官とのコミュ
ニケーションツールとする、（３）自己の研究の位置付け（ポジションの確認）に用いる、（４）
研究計画の作成の参考にする、などが考えられる。
分科会会員に広く活用していただくため、（１）
会報への掲載、（２）研究会の開催、（３）ポスターの配付、（４）プラズマエレクトロニクス講習会（11/1-2 の予定）での特別講演、などを予定している。
ロードマップのとりまとめ方針であるが、今後の約 30 年間を「ナノ加工」、「分子原子レベル操
作」、「自己組織化」の３時代に分け、各時代においてそれぞれ数値目標を掲示することにしている。また、現在のテーマ分類ではカバーできないもの、例えば、環境、医療応用、表面改質などのテーマは、2008 年以降に取り組むように準備をす
すめることにしている。
今後の予定は、（１）本分科会でアカデミック
ロードマップの研究会またはワークショップを開催する、（２）テーマリーダ会議を開く、（３）8 月の応物誌 75 周年記念事業でポスターを展示する、となっており、2007 年度末には最終バージョンができる予定である。その後は、２年毎に改訂作業（バージョンアップ）を行う。
なお、75 周年記念事業で展示するポスターにつ１６．退任幹事の挨拶
3 月で退任する幹事の挨拶が行われた。
以上

37

いてであるが、参加者に一般人や高校生なども含まれることが想定されるため、これらの人々にも理解できるようなものを作る必要がある。また、分科会会員に対しては、会報を用いることにより本活動を知らせる予定である。
以上の関根委員長による説明の後、昼食をともにしながら、テーマ毎に１時間程度の話し合いを行った。各テーマリーダは、今後も各担当委員とともに検討作業を継続してゆくことを確認した。
３．GEC 組織委員会次期候補者の推薦（斧）斧委員（京大）より、GEC（Gaseous Electronics
Conference）についての説明があった。GEC は、
APS の原子分子分光物理分科と関連して毎年開催される会議であり、そのトピックスは気体放電現
象およびその応用に関わる基礎研究に主眼がおかれている。最近は、高気圧非平衡プラズマやナノテク、バイオテクノロジーに関わる基礎・応用研究も含まれている。近年は、日本からの参加者が減少しつつあるが、1998 年には ICRP と合同開催したこともあり、当分科会とはゆかりの深い会
議である。
本年度の GEC（第 60 回）は、10/2-5 にワシン
トン DC で開催される。組織委員会は 13 人で構成されており、その多くは米国人であるが、アジア
オセアニアから 2 名、欧州 2 名が選出されている。
任期は 2 年である。斧委員は今年で退任であり、本年の本会議において、当分科会からの次期委員を推薦する予定である。斧委員からは、次期委員として堀先生（名大）を推薦したいとの意見があり、承認された。
４．分科会運営の概要（畠山）畠山幹事長（東北大）より、現在の会員数が 453
名であることが報告された。今後、会員数を増やしていく努力が必要であることが確認された。また、今年度の予定年間スケジュールが報告された。
５．2006 年度収支決算および 2007 年度収支予算（佐野）
佐野幹事（兵庫県立大）より、2006 年度収支決算および 2007 年度収支予算の報告があった（配付文書の内容は、3 月の分科会ミーティングで小田前幹事（名工大）が報告したものと同一である）。
なお、「SPP-24 が決算書に含まれていないのはな
ぜか」、との質問があり、「SPP は分科会とは別会計にしているためである」との回答であった。

38

６．幹事役割分担（畠山）畠山幹事長（東北大）より、新任幹事および留任幹事の役割分担案が示され、承認された。なお、
この素案では、分科会幹事内での SPP-25 の取りまとめ役をだれにするか明示されていなかったが、これについては畠山幹事長がその窓口を務めることが承認された。適宜、SPP-24 を担当した節
原副幹事長（阪大）の助言を頂くことも確認された。また、「この素案では、インキュベーション
ホールおよびプラズマエレクトロニクス講習会について、新任幹事の取りまとめ役が明示されていないのは何故か」との質問があった。これには、「慣例として、インキュベーションホールの取りまとめ役は大学側から選ばれた副幹事長が、講習会では企業側副幹事長が務めることになっているためである」、との回答があった。
７．分科会幹事長会議の報告（畠山）畠山幹事長（東北大）より、3/28 に開催された分科会幹事長会議の報告があった。まず、JJAP 誌に つ い て 、 レ タ ー を 別 雑 誌 （ Applied Physics
Express, APEX）とすることが報告された。次に、学会参加者が増加しつつあり、7000 人弱に達していることが報告された。参加者数は、シンポジウ
ムの内容との相関が見られることから、「シンポジウムを最終日に開催すると良いのでは」、との意見があったことが報告された。それ以外に、奨励賞の数を増やす事と大分類分科を見直す事が決定したと報告された。後者については、具体例
として、来春より、プラズマエレクトロニクスと放射線が分離されること、これまで合同セッションとして開催されていたスピントロニクスが大分類になったことが挙げられた。また、これと同時に中分類も見直しされることが報告された。
８．会報 No.46 について（森川）森川幹事（ULVAC）より、会報 No.46（2007 年 6月発行予定）の目次案が提示された。巻頭言については、後藤俊夫先生を第一候補に依頼を進めていくことになった。また、記事に取り入れるべき会議報告や行事案内についてもいくつかの報告
および意見があった。
９．第１回インキュベーションホール（米倉）古閑幹事（九大）に代わって米倉幹事（ルネサ
ステクノロジ）より、第１回インキュベーション
ホールの開催案について報告された。開催日時は2007 年 9 月 12-14 日、場所は滋賀県のマキノパーか調査することになった（追記：上記の件について応物に問い合わせたところ、分科会ホームペー
ジで WEB 参加登録を行うことは可能であることが分かった。ただし、登録画面の作成は（当分科会のホームページ係の人間などが）外部からログイ
ンして行うことはできず、応物の方でやっていただくことになる）。

クホテルである。まず、当ホールの趣旨が簡潔に説明された。次に、講座内容と講師について説明があった。タイムテーブル案について、旧サマースクールにおいて「２日目のスケジュールが大変タイトである」とのアンケート結果が得られていたことから、この日に特別講座とレクリエーショ
ンを組み入れることにしたとの報告があった。最後に、本ホールは第１回目ということもあり知名
度がやや足りないので、（学生などに）積極的に参加するよう勧めていただきたい、との依頼があった。
１０．SPP-24 の改善点について（畠山）
第 24 回プラズマプロセシング研究会（SPP-24）
開催の改善点について、節原副幹事長（阪大）に代わり、畠山幹事長（東北大）より報告があった。
改善すべき点は以下の２つである。（１）参加費の学生料金が、結果的に、PE 分科会に入会してもメリットを得られないような金額に設定されていた。（２）参加登録用の WEB ページを現地実行委員会で構築・運用するのは負担が大きいので、分科会のホームページに、SPP 参加登録用の WEB
ページを構築することにより現地実行委員会の負担を減らすべきであった。
（１）について、具体的に例を挙げると、分科会会員（で応物学会非会員の）学生会員の SPP 参
加費は事前登録では 5000 円、当日受け付けでは6000 円に設定されていたが、分科会非会員（同時に応物や協賛学会についても非会員）の場合の参加費はそれぞれ、7000 円と 8000 円であった（なお、当分科会の会費は 3000 円である）。従って、
この金額設定では、SPP 参加を機に本分科会への入会を募ることが困難であった。この件について、
まず、参加費の金額設定自体は、本幹事会ではな
く現地実行委員会が決定すべき問題であることを確認した。次に、（「参加者のうちどのくらいの割合が分科会の会員であったのか」などの情報がないと判断はできないが、）本幹事会としては、非会員の参加費を（SPP-24 を例にとると）事前登録で 7000→8000 円に、当日受け付けで 8000→9000円程度に設定することを提案することになった。
（２）SPP-25 については、既に現地実行委員会
にて WEB ページ立ち上げ準備を始めているとのことであるので、今回は、参加登録 WEB ページ作成
は現地実行委員会に一任することを確認した。今後のため、当分科会ホームページ係の吉村幹事（阪大）が、分科会ホームページ上に SPP の参加
申し込みページを開くことに問題がないかどう39

１１．SPP-25 について（内藤）SPP-25 の準備状況について内藤委員（山口大）
より簡潔な説明があった。基本的には、現地実行委員会の判断で準備を進めているが、PE 分科会で決めるべきことと現地実行委員会で決定すべきことの境界に当るような案件の場合には、畠山幹事長（東北大）と相談した上で決定するという方
針でことを進めていると報告があった。
１２．プラズマ分野の学会連携活動の依頼（畠山）
日本物理学会領域２の小野靖代表（東大）から提案されたプラズマ分野の学会連携活動について、3 月の分科会ミーティングに引き続いて、議論を行った。当分科会としては、「この種の連携活動としてプラズマ科学シンポジウム（PSS）を
既に開催している」との回答をしたが、それに対する物理学会領域２の石原副代表の返答は、「PSS
は応用よりの会議であり、我々の考えている連携
活動とは異なる」というものであった。これに対して、本幹事会においては、「PSS 設立時に物理学会は積極的に参加しなかった」、「PSS は決して応用よりではなく基礎も平等に取り入れている」、などの反論があった。畠山幹事長（東北大）より、当面の対応として、「SPP-25 において連携活動を念頭においた合同セッションを１つ設けてはどうか」、という提案があった。これに対しては、「合同セッションを設けても（物理学会等からの）参加者は無い（少ない）のではないか」、との意見もあった。本幹事会の結論としては、この連携活動の場として、2009 年 1 月に開催される PSS を用いることを提案することになった。
１３．2008 年およびそれ以降の SPP、ICRP（畠山）2008 年の SPP は山口で開催されることが決まっており、またその次の SPP は PSS との合同開催となることが決まっていることから、今回は特に議論は行わなかった。また、ICRP-7 は 2010 年の開催を予定している。通常は 3 年毎の開催だが、これでは ICRP-6 から 4 年間隔が空くことになるが、これは承認された。

１４．2007 年秋季講演会の分科会ミーティング（根岸）
根岸幹事（日立）より、2007 年秋季講演会の分
科会ミーティングについて、シンポジウムと同日の 9/5 に開催するように準備を行っていると報告があった。参加人数は、40 人を想定している。
１５．2007 年秋季講演会シンポジウム（中村）中村幹事（中部大）より、応用物理学会秋季講
演会のシンポジウム案とその趣旨について報告があった。題目は、「プラズマとその応用プロセスのシミュレータ〜現状とさらなる飛躍に向けて〜」であり、開始時間は 13:30、18:00 または
18:30 の終了を予定している。講演者候補および講演内容についても簡潔な説明があった。シミュ
レーションに関する「プラズマ・プロセス技術」
アカデミックロードマップも講演に取り入れてはどうか、という意見があったが、シンポジウムの趣旨と合致しないだろうという結論で取り入れないことになった。
１６．第 22 回光源物性とその応用研究会（明石）光源物性とその応用研究会について、明石幹事（防大）より報告があった。昨年度より電気学会
が共催に加わったことが報告された。昨年度の研究会では、発表 7 件のうち 4 件が幹事自身によるものであったことから、今後は一般参加者数を増やしていくことが課題である。今年度の開催地は名古屋圏を予定している。開催時期は、照明学会の意向で 11〜12 月を予定しているが、プラズマエレクトロニクス講習会と日程が重ならないよう注意する。
１７．大分類化に伴う中分類内容の見直し（豊田）豊田企画運営委員（名大）より、「プラズマエ
レクトロニクス」の大分類化に伴う中分類分科名の見直しについて報告があった。来春の講演会に間に合わせるためには、本年 10 月までには決定する必要がある。現在の中分類分科名と今回の改定案について説明が行われた。マイクロプラズマに関する講演申し込み件数が多いことから、「マイクロプラズマ」というセッションを新たに設けてはどうか、などの意見があった。
１８．第 18 回プラズマエレクトロニクス講習会（根岸）
本年度のプラズマエレクトロニクス講習会に40ついて、根岸幹事（日立）より報告があった。開催日は 11/1-2 で、場所は東工大の百年記念館である。参加費は前年の額を踏襲する予定である。
プログラムの詳細はまだ議論中であるが、昨年のアンケートや担当幹事の話で、ポスターセッショ
ンが 8 件と数が少なく、また、企業の宣伝の場となっているという意見があったことから、これは取り止めることになった。新しい試みとして、過去１年間の発表からユニークなものを選び、これをショートプレゼンテーションという形で発表することになった。また、アカデミックロードマップの特別講演を行うことになった。アカデミッ
クロードマップに関しては、別にポスター展示も行うことになっている。
講演内容に関して、「計測に偏り過ぎではないか」との意見があったが、本講習会はアドバンス的な趣旨で行っている（一方、インキュベーショ
ンホールでは基礎を偏りなく教えることにしている）ので、問題にはならないという結論になった。ショートプレゼンテーションの内容をテキス
トに組み入れるか否かについて議論になったが、１ページアブストラクトまたはパワーポイント
ファイルを掲載するということになった。
１９．ホームページ（吉村）当分科会のホームページの管理について、吉村
幹事（阪大）から、現在の記事項目および今後の管理方針に関して報告があった。
２０．会員名簿作成（畠山）古閑幹事（九大）に代わり、畠山幹事長（東北大）から、名簿作成について報告があった。まず、名簿作成は３年毎に行われており、本年は名簿を作成する年であることが確認された。古閑幹事より、名簿作成作業を簡略化するために３つの提案があった。それは、（１）会員情報は、従来は、往復葉書で返信に書いてもらっていたが、会員が応用物理学会に登録しているデータを用いることにする、（２）応物会員ページへの入力を促す
ために往復葉書の投函は継続するが、個人情報保護のため会員情報のどの項目を名簿に掲載する
かのみを回答してもらうことにする、（３）これまでは名簿に研究のキーワードを３つまで掲載していたが、応物学会のデータベースにはこれは無いので、事務処理の簡略化の意味でも、キーワードの掲載を取り止める、の３件である。このう
ち、（１）と（２）は承認されたが、（３）のキー
ワードの掲載は継続するという結論になった。事務処理の詳細は、担当の古閑幹事と佐藤幹事（室蘭工大）に決めて頂く。
２１．第 6 回プラズマエレクトロニクス賞（畠山）
畠山幹事長（東北大）より、プラズマエレクト
ロニクス賞への応募件数が増加するよう、幹事各
自で活動していただきたいとの依頼があった。
２２．分科会会員数の増加に向けて（畠山）畠山幹事長（東北大）より、会員数を増やす為、チラシ（分科会ホームページにも掲載されている）も活用して宣伝していただきたい、との依頼があった。また、地域で行う研究会等も PE 分科会と共催する、全会員に電子メールで情報を流す（これは、幹事長宛にメールで依頼し、幹事諸氏の承認を得ることができれば、可能である）などの提案もあった。
以上。

41

行事案内
平成１９年秋季

第６８回応用物理学会学術講演会シンポジウム

プラズマとその応用プロセスのシミュレーション−

現状とさらなる飛躍に向けて

はじめに
近年の電子デバイスの進展に伴い、プラズマを用いたプロセスはより高度なものとなる一方で、さまざまな要因が複合的に混在した複雑なものとなっており、今後もますますその傾向は強くなるものと予想されます。そのような状況においては、数多くの実験テストでの確認を繰り返しながら、プロセスを構築していくものの、経験に強く頼った手法のみでは、実際にそれを作り上げるまでに、多大な労力と時間を要するのが一般的です。
一方、プラズマおよびプラズマプロセスのシミュレータは、実際の実験をコンピュータ上で模擬するために、装置ハードウェ
アの構築に要する経費とともに、複数の模擬プロセスを同時に並列に処理できること
から、実際の結果を得るまでの時間を大幅に節減できます。したがって、シミュレー
タに対して、最適なプロセスを少ない労力で設計するための省力化ツールとしての期待が非常に高まっています。しかし、必ずしも生産現場において有効に利用されるまでには至っていないのが現状と考えられます。
本シンポジウムでは、実験結果との比較
を含めながらプラズマとその応用プロセスのシミュレータの現状と課題を整理するとともに、その課題を克服するための試みを紹介し、シミュレータのさらなる飛躍に資する総合討論の場を設けるべく企画されました。皆様方の多くの参加をいただきたく、
ここにご案内申し上げます。

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シンポジウム開催日時
２００７年９月７日（金） １３：４５〜（場所は学会プログラムなどをご参照くだ
さい）

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プログラム（予定）（１）イントロダクトリートーク
明石 治朗 （防衛大）（２）プラズマおよびその応用プロセスのシミュレーションの現状
斧 高一（京大院）（３）大気圧プラズマシミュレーション
末富 英一 （コニカミノルタ）（ ４ ） Modeling and simulation of plasma
sourcesforsemiconductor
devicemanufacturing: applications and opportunities
Peter L. G. Ventzek （東京エレクトロン）（５）ポリシリコンゲートのプラズマエッ
チングシミュレーション
森 政士 （日立中研）（６）汎用プロセスプラズマシミュレータ
田中 正明 （ペガサスソフトウェア）（７）ナノチューブ作製用プラズマのシミュレーションとガス流れの効果
小田 昭紀 （名工大院）（８）分子運動論に基づくエッチング／デポジション表面のシミュレーション
浜口 智志（阪大院工）（９）全体のまとめ：プラズマプロセスデ
ザイン, 現状と展望
真壁 利明（慶應大理工）U※シンポジウムに先立ち、プラズマエレク

42トロニクス賞受賞記念講演 (13:15~13:45)
があります。
（文責：中部大学 中村圭二）（文責：中部大学 中

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行事案内
第 18 回プラズマエレクトロニクス講習会「プラズマプロセスの最前線と展望」‐プラズマ解析技術～2035 年のプラズマ技術まで‐
日時：2007 年 11 月 1 日(木)－2 日(金)場所：東京工業大学（大岡山キャンパス）百年記念館 3F フェライト会議室〒152-8552 東京都目黒区大岡山 2-12-1
TEL：03-5734-2098 (代表)田中 正明（ペガサスソフトウェア）⑤プラズマ技術の最新応用
１．MEMS 応用プラズマ技術
森川 泰宏（ULVAC）
２．バイオチップ開発のためのプラズマアクティベーション
齋藤 永宏（名古屋大学）

内容／プログラム：プラズマの基礎から応用までの幅広い講義を行います。具体的には，最先端の量産現場で必要とされる管理・モニタリング技術についての概論とその基礎となる測定手法，プラズマプロセスモデリングと将来技術の最前線，
プラズマ技術の最新応用を企画しました。さらに，微細化の極限を迎えつつある現在から今後 30 年を見据えたプラズマ技術に関する特別講演を行い，学会の枠にとらわれず受講者の皆様と一緒になって議論していただきます。
プラズマの基礎を勉強したい学生からプラズ
マ技術の最新応用に関心のある技術者や研究者を対象として，本講習会を企画しました。

参加費：テキスト代を含む。括弧内は学生。
応物・PE 分科会個人会員
30,000 円（8,000 円）
応物個人会員33,000 円（11,000 円）
分科会のみの個人会員
42,000 円（15,000 円）
協賛学協会・応物法人賛助会員
42,000 円（15,000 円）
その他
45,000 円（18,000 円）
なお、非会員の方でも参加申込時に PE 分科
会（年会費 3,000 円）に入会頂ければ、会員扱いとさせて頂きます。

１１月１日（木） 10：00－18：00①量産応用のためのプラズマ生成とモニタリ
ング技術
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定員：100 名（定員になり次第締切り）

１．量産 FDC 技術とプラズマ解析技術の相互利用への提案美舩 章人（Spansion Japan）
２．プラズマ生成と電子状態の In-situ 計測
中村 圭二（中部大学）
３．光学手法を用いたプラズマ計測
中野 俊樹（防衛大学）
４．In-situ パーティクル計測
島田 学（広島大学）

申込締切：10 月 26 日（金）（但し、余裕のある場合には期日後も受付けます）
申込方法：詳細はプラズマエレクトロニクス分
科会ホームページに後日掲載します。
http://annex.jsap.or.jp/support/division/plasma
/
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問合せ先：
〒158-8557 東京都世田谷区玉堤 1-28-1
武蔵工業大学 大学院工学研究科・工学部
生体医工学科 知覚システム工学研究室
平田 孝道
TEL: 03-5707-2183，FAX: 03-5707-2183
hirata@dev.ec.musashi-tech.ac.jp②プラズマエレクトロニクス分科会特別講演「２０３５年のプラズマ技術」
関根 誠（名古屋大学）③ショートプレゼンテーション
１１月２日（金） 10：00－16：45④プラズマプロセスモデリングと将来技術の最前線
１．シリコンエッチングシミュレーションの現状と今後の展開江利口 浩二（京都大学）
２．絶縁膜加工モデリング八木澤 卓（慶應義塾大学）
３．実用シミュレーション技術

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担当幹事：
大岩徳久（東芝セミコンダクター），辰巳哲也（ソニー），根岸伸幸（日立製作所），平田孝道（武蔵工大），秋元健司（ＮＥＣエレクトロニクス），長谷川明広（富士通），奥村智洋（松下電器産業），布村正太（産総研）

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行事案内

第２２回
防衛大学校

光源物性とその応用研究会
明石治朗、室蘭工業大学

開催日 平成 19 年 12 月 6 日(木)、7 日(金）
場 所 名古屋工業大学 共通 23 号館 4 階
共 10 教室

佐藤孝紀

術委員会

テーマ 「新光源、一般光源および放電プ
ラズマ光源の基礎・応用」
上記予定テーマに限らず広く光源に関する講演、例えば照明用、ディスプレイ用、産業用、計測用の光源、マイクロプラズマ、レーザ、その他光源一般に関連する研究、開発、およびその応用に関する講演を募集します。
発表形式 口頭発表
講演時間 質疑応答を含め１件 30 分の予定です。
参 加 費 講演者 無料（予稿集１部進
呈）聴講者 2,000円（含・予稿集代）
講演申込締切等
講演申込 平成 19 年 10 月 19 日(金)予稿提出 平成 19 年 11 月２日(金) 必着、
Ａ４判４ページ以上、６ページ以下

講演申込および予稿の準備
講演申込は、講演題目、著者、著者の所属、講演者連絡先を、下記連絡先まで電子
メールでお知らせ下さい。予稿は見本（MSワードファイル、PDF ファイル）に合わせてア
ブストラクト付き２段組で作成し、電子ファイ
ル（MS ワードが望ましい）でご投稿願います。
また、当研究会の発表資料集は科学技術振興機構（JST）の文献データベースに登録されることとなっており、題目、著者名、所属と和文、英文のアブストラクトが必要となります。予稿と共にこのファイル（予稿の英文ア
ブストラクトとその和訳）の送付もお願い致します。文字化けなどが生じないよう、標準的なフォントの使用をお勧めいたします。技術的な問題がある場合はお問い合わせ下さい。
テンプレート等は以下の URL をご参照ください。
URL:http://mars-ei.eng.hokudai.ac.jp/~kougen
講演参加申込、問合せ、予稿送付先〒239-8686 横須賀市走水 1-10-20
防衛大学校応用科学群応用物理学科
明石治朗
TEL: 046-841-3810, FAX: 046-844-5912
E-MAIL: akashi@nda.ac.jp

共催(社)照明学会 光の発生・関連システム研
究専門部会(社)照明学会 光放射の応用・関連計測研
究専門部会(社)応用物理学会 プラズマエレクトロニク
ス分科会(社)電気学会 電気学会 光応用・視覚技

会場および交通案内
名古屋工業大学（名古屋市昭和区御器所町）
共通 23 号館 4 階 共 10 教室（会場には駐車場がありませんので、自家

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用車の利用はご遠慮願います。）
ＪＲ中央本線「鶴舞」下車（名大病院口)
徒歩約７分
地下鉄鶴舞線「鶴舞」下車（４番出口） 徒
歩約 10 分詳細は以下の URL をご覧ください。
所在地
http://www.nitech.ac.jp/campus/location.html
交通
http://www.nitech.ac.jp/campus/t_guidanc
e.html
建物配置（PDF）
http://www.nitech.ac.jp/campus/b_placeme
nt.pdf48

第 25 回プラズマプロセシング研究会(SPP-25)案内
山口大学

福政 修 (現地実行委員長)

第 25 回プラズマプロセシング研究会を下記の要領にて開催致します．皆様のご参加を心よりお待ち申しております．なお，日程，会場案内，プログラム等は，ホームページにて随時掲載致しますので，ご参照下さい．
記【会 期】2008 年 1 月 23 日（水）〜 1 月 25 日（金）【会 場】山口県教育会館
山口市大手町２番１８号 TEL: 083-922-5766
ゆ～あいプラザ山口県社会福祉会館
山口市大手町９番６号
TEL: 083-924-1025(ＪＲ山口駅より徒歩１５分。隣接する２会場での開催になります。)【会議の概要】（計画中，以下のテーマは暫定）【１】特別講演（２件）【２】指定テーマ講演（２件）【３】一般講演
１）プロセシングプラズマの発生・制御
２）プロセシングプラズマの診断・計測・モニタリング
３）プロセシングプラズマにおける素過程・モデリング４）プラズマによるエッチング（ゲートスタック，ダマシン，MEMSなど）
５）プラズマによる薄膜形成（絶縁体，導電体，半導体，金属，Low-k, High-k，配線材料，透明導電膜 など）
６）プラズマによる表面改質（酸化，窒化，イオン注入，クリーニングなど）
７）大気圧・マイクロプラズマの基礎と応用
８）プラズマ応用技術
8-1）ナノテクノロジー（ナノ構造物質［炭素系，窒化物］，ナノ粒子など）
8-2）バイオテクノロジー（バイオチップ，殺菌・滅菌など）
8-3）環境応用
8-4）光応用・発光デバイス用プラズマ8-5）フラットパネルディスプレー・ジャイアントエレクトロニクス
９）上記以外のプラズマプロセシング【参加費】（事前申込み期限：2007 年 11 月 26 日（月））一般

応物・PE 会員

PE 会員

応物・協賛学協会

その他

12,000 円

15,000 円

15,000 円

18,000 円

学生
3,000 円
5,000 円
5,000 円
8,000 円
※事前申込み期限以降は，一般 2,000 円増，学生 1,000 円増となります．
※2008 年 1 月 23 日（水）夕刻に懇親会を開催（場所，会費等は，後日，Web サイトに掲載）

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【締切り】
・講演申込み：2007 年 10 月 15 日（月）・プロシーディングス原稿（英文，A4 版 2 ページ）提出：2007 年 12 月 10 日（月）【問い合せ先】
現地実行委員長 福政 修（山口大学 大学院理工学研究科）
TEL: 0836-85-9445 ／ FAX: 0836-85-9401
E-mail: spp25@yamaguchi-u.ac.jp
Web：http://annex.jsap.or.jp/plasma/, http://www.eee.yamaguchi-u.ac.jp/spp25/に学会情報を掲載予定（2007 年 7 月頃）
HTU

UTH

HTU

UTH

【主催・共催・協賛】（依頼予定含む）
主催：応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会
共催：応用物理学会中国四国支部、山口大学教育研究後援財団、山口大学工学部
協賛：日本物理学会、プラズマ・核融合学会、電気学会、電子情報通信学会、日本化学会、電気化学会、高分子学会、日本真空協会、日本セラミックス協会、表面技術協会
以上

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行事案内

第 29 回ドライプロセス国際シンポジウム(DPS 2007) 案内
名古屋大学 関根 誠（実行委員長）
開催日： 2007 年 11 月 13 日（火）、14 日（水）D. B. Graves (UC Berkeley) "Energetic

会場： 東京国際交流館 プラザ平成

ion and radical beam interaction with

http://www.tiec.jasso.go.jp/info/map.html

photoresist polymers" 城戸淳二 (山形大趣旨：機能性材料を基盤とする電気・電子・情学 ) "Fabrication of High Performance

報・システム分野、機械・バイオ分野及びナノ

Organic Light-Emitting Devices"

テクノロジー分野の発展にドライプロセスの役

E. Sardella (U. of Bari） "Plasma aided

割は益々大きくなっています．反応機構を始

micro- and nano-patterning" 山 口 敦 子

めとする現象の解明は、先端技術産業の発( 日 立 中 研 ） "Metrology of LER/LWR:

展と新たな応用の開拓に大きく寄与します。

Impact on Device Performance"

ドライプロセスシンポジウムは 28 年間に亘

Y. Zhang (IBM) "Plasma etching ofり、先端成果の発表・討論と相互理解を深め

sub-10nm

る場を提供してきました。今年は JJAP 特集号

self-assembled nano masks"の出版、先端エッチング技術の特別セッション、

講演申込み締切： 2007 年 7 月 22 日

世界的研究者による招待講演を企画していま

講演申込み方法： 所定の書式に従った pdf フ

す。奮ってご投稿ください。

ァイル（アブストラクト A4 版 2 ページ）を Web

詳細は http://www.dps2007.org/ をご覧

features

by

using

（http://www.dps2007.org/）から投稿ください。

ください。

論文委員会で審査の上、投稿者には 9/7 まで

主要テーマ：プラズマ,ビーム誘起表面反応,に受諾を連絡します。

プラズマ及び表面の計測・モニタリング技術,

JJAP 特集号：投稿を希望される場合は、原CVD・エッチング・表面処理などのプロセス,

稿を 11/13 にレジストレーションデスクへ提出

光・電子・イオンによる照射損傷,低誘電率材

してください。審査を経て掲載を判断します。

料,高誘電率材料および新材料,フラットパネ

通常の JJAP 投稿料が必要です。

ルディスプレイのプロセス技術,MEMS,センサ

参加費：事前登録（9/28 以前）：関係学会会員

ー技術,バイオ応用,新しいプロセス・装置技術

30,000 円，非会員 33,000 円，学生 8,000 円

特 別 セ ッ シ ョ ン ： ‘Etching mechanism in

9/29 以降～当日：関係学会会員 35,000 円，

relation to the condition of film and mask

非会員 38,000 円，学生 8,000 円
連絡先：事務局 オフィスソフィエル 土信田
TEL03-5821-7120, Fax 03-5821-7439

deposition’
招待講演：N. Boutroy (Sidel Group) "DLC

coating in inner wall of PET bottle using
microwave discharges"
J. G. Eden (U. of Illinois) "Arrays of

microcavity plasma devices"51

プラズマエレクトロニクス関連会議日程
国内会議
2007 年 8/17-18
フロンティアプロセス2007
独立行政法人 産業技術総合研究所 つくばセンター ナノ材料棟
http://annex.jsap.or.jp/plasma/2007 年 9/4-9/7
2007 年秋季 第 68 回 応用物理学会学術講演会
北海道工業大学
http://annex.jsap.or.jp/plasma/2007 年 9/21-24
日本物理学会 第62 回年次大会
北海道大学
http://wwwsoc.nii.ac.jp/jps/
2007 年 9/12-9/14
プラズマエレクトロニクス インキュベーションホール
マキノパークホテル＆セミナーハウス
http://annex.jsap.or.jp/plasma/PE_files/PE_SS_2007/index.htm
2007 年 11/27-30
プラズマ・核融合学会 第 24 回年会
姫路市イーグレひめじ
http://www.jspf.or.jp/
2008 年 3/27-3/30
2008 年春季 第55 回応用物理学関係連合講演会
日本大学理工学部 船橋校舎
http://annex.jsap.or.jp/plasma/

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国際会議
2007 年 7/15-7/20
XXVIII International Conference on Phenomena in Ionized Gases (ICPIG)
Prague, Czech Republic
http://icpig2007.ipp.cas.cz/
2007 年 7/29-8/3
International Conference on Semiconductor Technology for Ultra Large Integrated
Circuits and Thin Film Transistors
Barga (Tuscany), Italy
http://www.engconfintl.org/7av.html
2007 年 8/23-8/25
IUPAC Summer School on Plasma Chemistry for Materials Processing
コープイン京都
http://plasma.kuee.kyoto-u.ac.jp/ispc18/
http://plasma.kuee.kyoto-u.ac.jp/ispc18/summer-school.php
2007 年 8/26-8/31
18th International Symposium on Plasma Chemistry
京都大学吉田キャンパス（8/29以外）・桂キャンパス（8/29のみ）
http://plasma.kuee.kyoto-u.ac.jp/ispc18/
2007 年 9/24-9/29
6th Asian-European International Conf. Plasma Surface Engineering (AEPSE2007)
長崎市やすらぎ伊王島
http://www.eee.nagasaki-u.ac.jp/%7Eplasma/AEPSE2007/
2007 年 11/12-11/16
49th APS Division of Plasma Physics Meeting
Orlando, Florida USA
http://annex.jsap.or.jp/plasma/2007 年 11/13-11/14
2007 International Symposium on Dry Process
東京国際交流センター
http://www.dps2007.org/

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2007 年 11/15-11/19
AVS 54th International Symposium
Washington, USA
http://www.avs.org/

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編集後記
プラズマエレクトロニクス分科会会報 No.46

く機会になれば、と願っております。研究会や国をお届けいたします。巻頭言を執筆して戴いた後際会議などを開催する際には、ぜひ本誌に案内記

藤先生をはじめ、本誌にご寄稿いただいた皆様に事をご寄稿いただきますようお願いします。会議

深く感謝申し上げます。

報告、研究室紹介、海外情報などの記事も随時募

また、前号に引き続き、今号でも分科会会員以集しております。会報編集委員の連絡先は、12月

外の方々にも寄稿をご依頼させていただきまし発行の会誌の「分科会幹事役割分担」欄をご覧くた。結果、今号はプラズマ生成の基礎研究からださい。

次々世代半導体研究、そしてバイオ・MEMS分野

今後とも、プラズマエレクトロニクス分科会会と、広い分野にわたる研究室紹介を頂くことが実報の発行にご協力いただけますようお願いいた

現できました。半導体分野以外の異分野と融合しします。

た内容を紹介することができるのはプラズマエ
レクトロニクス分科会ならではだと思います。ま

応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会

た、本分科会及び会報をきっかけにプラズマエレ

URL: http://annex.jsap.or.jp/plasma/

クトロニクスの範疇には含まれないと思われる（平成19年度会報編集担当:布村,柳生,吉村,森川）ような研究分野に属する方々にも本誌および本(文責：森川：yasuhiro_morikawa@ulvac.com)

分科会の活動内容について興味を持っていただ

応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会会報 No. 46
2007 年 6 月 29 日 発行
編集・発行：社団法人 応用物理学会
プラズマエレクトロニクス分科会
幹事長

畠山 力三

〒102-0073 東京都千代田区九段下 1-12-3
井門九段北ビル 5 階( © 無断転載を禁ず )55

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