第 133 回講演大会
3 月 22 日（火） 午前
時間

登録受付
A

会

場

B

S3 エレクトロニクス分野におけるマイクロ・ナノ表面技術の新展開【座長 八重 真治】

会

場

講演次第

○印講演者
（注：講演番号下（技）は技術講演を示す。）

午前 9 時 00 分開始
C

会

場

D

会

場

一般講演：イオン液体 / 電気めっき【座長 松原浩】

9：30 22A-01 金属ナノ粒子の電解生成反応過程および添加 22B-01 撹拌したイオン液体における光沢アルミニウ
ムめっきの検討剤 PVP の挙動の検討（北大工 1，北大院工 2）高橋久智美 1，松島永（早大ナノ・ライフ 1，古河電工 2，早大先進理工 3）○齋藤美紀子 1，石井智紘 2，藤原英佳 2，○上田幹人 2
道 2，本間敬之 1,3

一般講演：エッチング ほか【座長 阿相 英孝】

一般講演：鋼板表面処理【座長 佐伯功】

9：45 22A-02 高速 AFM による HOPG 上への銅めっきのそ 22B-02 2 価のタングステンイオン源を添加したイオ 22C-02 硫酸−過酸化水素エッチング液における過酸 22D-02 シランカップリング剤で処理した錫めっき鋼
化水素安定剤の作用機構
ン液体からのアルミニウム−タングステン合の場観察（技） 板の耐硫化黒変性（三菱マテリアル）○久保田賢治，樽谷圭栄，（JFE スチール）○中村紀彦，鈴木 威，小島
金電析
（北大工 1，北大院工 2）○吉岡大騎 1，松島永
2
2
中矢清隆
克己
（京大院エネ科）○東野昭太，高橋 歩，藤佳 ，上田幹人
井久史，池之上卓己，三宅正男，平藤哲司
10：00 22A-03 シリカチューブアレイ構造を用いた透過型プ 22B-03 多結晶基板におけるめっき初期析出に及ぼす 22C-03 銅のエッチング挙動に及ぼす結晶方位と結晶 22D-03 オーステナイト系ステンレス鋼の拡張オーステ
ラズモンセンサ作製の試み
粒径の影響（技） 基板結晶方位の影響 第二報（技） ナイト相形成に及ぼすアクティブスクリーンプ（早大先進理工 1，早大ナノ・ライフ 2）○佐
（八戸高専 1，メルテックス 2）○中田優希 1，
ラズマ浸炭処理条件の影響（新日鐵住金）○二葉敬士，小林亜暢，後藤
藤祐太 1，中村雅俊 1，柳沢雅広 2，本間敬之 1,2
渡口 繁 2，新井宏忠 1，松本克才 1，田嶋和靖人（関東学院大院工 1，サンティエ技研 2，パーカー
貴 2，川島 敏 2
熱処理 3）○里見宣彦 1,3，金山信幸 2，渡邊陽一 3，
高井 治 1
10：15 22A-04 電子・電気部品用の Sn/Ag3Sn/Ag ナノ積層めっ 22B-04 3 次 元 構 造 を 有 す る Cu め っ き 皮 膜 の 作 製 22C-04 微細回路用フラッシュエッチングにおける添 22D-04 ポリエステル / メラミン塗膜の硬化反応に与（JCU）○堀 真雄，松島勇介
加剤の効果
きの作製および耐摩耗性評価（技） えるポリエステル樹脂の影響（八戸高専 1，三菱マテリアル 2）○高谷夏実 1，（岩手大工）呉 松竹，○小笠原徹，中川莉絵，（新日鐵住金）○東新邦彦，植田浩平
八代 仁，佐々木邦明
Chanthongsy SOUKSAVANH1，青木友哉 1，新井宏忠 1，松本克才 1，久保田賢治 2
10：30 （休憩）22C-05 網目状微細溝を有した PVD 硬質厚膜の形成 （休憩）（技） とその特性評価（大阪府産技研 1，オテック 2）○小畠淳平 1，
三浦健一 1，四宮徳章 1，森河 務 1，原野知己 2，森本泰行 2

（休憩）

【座長

上田

幹人】

10：45 22A-06 プリント回路基板における低アスペクト比ス （休憩）
ルーホールへのフィリングめっき（関東学院大材表研 1，大徳電子 2，関東学院
大院工 3）○ Young-Jae KIM2,1,3，Jae Hee Chon2,1，
渡邊充広1，
Joo-Hyong NOH1，本間英夫 1，高井治 1,3

一般講演：電気めっき【座長 松島 永佳】

一般講演：接着・接合【座長 鷹野 一朗】

22C-06 MEMS プロセスを用いた微細棚構造の形成と 22D-06 真空紫外光照射によるシリコンと高分子材料の常温接合（技） 構造転写の検討（京大院工）○藤原吉宏，宇都宮徹，一井 崇，（山形工技セ）○矢作 徹，岩松新之輔，阿杉村博之
部 泰，加藤睦人

11：00 22A-07 ガラス基板上への高密着無電解銅めっき
22B-07 ジェット噴流を用いた高速硫酸銅銅めっき技 22C-07 熱アシストプラズマ処理によるポリテトラフ 22D-07 アルミニウム−樹脂異材接合の接着安定性と（関東学院大院工 1，関東学院大材表研 2）○
術ルオロエチレンシート上への無粗化高密着性
アルミニウムへの表面処理
銅ペースト膜の作製（広島工大工 1，サーテック永田 2，富山県立
岡部恭平 1,2，Christopher E.J. Cordonier 2，盧（関東学院大 1，関東学院大材表研 2）○佐藤（阪大院工 1，阪大工 2，日油 3）○大久保雄司 1，
柱亨 2，本間英夫 2，高井 治 1,2
佳汰 1，梅田 泰 2，田代雄彦 1,2，本間英夫 2
大 3，岡山理科大 4）○日野 実 1，桑野亮一 1，
2
3
3
小玉欣典 ，久保田和宏 ，澤田公平 ，石原永田教人 2，井端千恵 2，永田員也 3，金谷輝
健人 1，青木智紀 2，遠藤勝義 1，山村和也 1
人4
11：15 22A-08 ビア内部における添加剤相互作用の in situ 顕 22B-08 銀電析における水素共析と微細構造に及ぼす （休憩）
微ラマンによる解析
添加剤の影響（早大先進理工 1，早大ナノ・ライフ 2）○山
（兵庫県立大院工 1，東大生産研 2）○福室直口楓太 1，中村雅俊 1，國本雅宏 2，柳沢雅広 2，
樹 1，岩倉圭之朗 1，草別 孝 1，深井 有 2，
1,2
本間敬之
八重真治 1

22D-08 レーザ溶射に適用した溶射加工テンプレート
による品質管理の試み（産総研）○廣瀬伸吾，江塚幸敏
【座長

小野

幸子】

11：30 22A-09 高速伝送向け半導体パッケージ基板の導体層 22B-09 銅対極を用いた固相電析法による銅皮膜の形
11:30 〜 12:00
形成プロセスの検討成平成 28 年度技術賞受賞記念講演会（凸版印刷 1，関東学院大材表研 2）○石井智（東理大院理工 1，東理大理工 2，東理大総研
電着による陽極酸化皮膜上への薄膜樹脂潤滑皮膜の形成
之 1,2，中村清智 1，渡邊充広 2，盧 柱亨 2，
院 3， ト ヨ タ 自 動 車 4） ○ 小 嶋 健 汰 1， 岩 渕
本間英夫 2
徹 1，星 芳直 2，四反田功 1,2,3，板垣昌幸 1,2,3， （カネコ技術事 1，前嶋技術事 2，ECO-KS 技術事 3，
柳本 博 4，平岡基記 4，飯坂浩文 4
アルミ表面技研 4，田島製作所 5）金子秀昭 1，前嶋正受 2，鈴木清隆 3，菊池 哲 4，土屋正一 4，遠藤
哲 4，田島 薫 5，○市川 宏 5
11：45 22A-10 オールウェットプロセスによる塗布型ポリイ 22B-10 銅の固相電析法に対する電気化学インピーダ
ミド上高速伝送用銅配線の作製
ンスによる評価（早大理工学術院 1，早大院先進理工 2，早大
（東理大院理工 1，東理大理工 2，東理大総研
ナノ・ライフ 3，メルテックス 4）○横島時彦 1，
院 3， ト ヨ タ 自 動 車 4） ○ 小 嶋 健 汰 1， 岩 渕
香川浩輝 2，蜂巣琢磨 3，杉山敦史 3，逢坂哲
徹 1，星 芳直 2，四反田功 1,2,3，板垣昌幸 1,2,3，
1,2,3
4
4
4
彌 ，徐
柳本 博 4，平岡基記 4，飯坂浩文 4
磊 ，渡口 繁 ，田嶋和貴
12：00〜13：00

休憩

11:30 〜 12:00
平成 28 年度論文賞受賞記念講演会
プラズマプロセスを援用した高接着性 PTFE ／エポキシ／ SUS304 界面形成技術（信大 1，阪大 2）○是津信行 1，我田 元 1，大石修
治 1，手嶋勝弥 1，山村和也 2，井筒祐志 2

E

会

場

3 月 22 日（火） 午後
時間

A

会

場

13：00 会長あいさつ
13：05 〜 14：05

B（司会：実行委員長

会
本間

場

C

場

D

会

場

E

会

場

敬之）

特別講演：第 83 回武井記念講演会「一企業から見た表協の歩み−最近の独自技術を交えて」（日本化学工業）棚橋休
憩
S3 エレクトロニクス分野におけるマイクロ・ナノ表面技術の新展開【座長 北本 仁孝】
14：30 22A- 依頼講演（1）
燃料電池電極反応の in situ 解析（日本自動車研）清水貴弘

会

純一

於：F 会場

14：05 〜 14：30

一般講演：電気めっき【座長 片山 順一】
22B-21 光沢ニッケルめっき浴からのパルス電解（技） （名古屋市工研）三宅猛司

14：45

22B-22 EDTA 錯体浴からの Bi-Sn 合金めっき（室蘭工大院 1，室蘭工大 2）○佐伯 功 1，橋
本成史 2

15：00

22B-23 ニッケル代替めっき用酸性光沢スズ−鉄合金（技） めっき（兵庫工技セ 1，ムラタ 2）○園田 司 1，大谷祐介 2

15：15 22A-24 超音波を利用した樹脂基材上へのパラジウム 22B-24 冷間鍛造用金型の耐摩耗性向上を目指した電気めっきによる Ni-Co 合金被膜の作製
ナノコーティング
（大阪府大院工）○松浦翔悟，岡本尚樹，齋（信大工）○酒井俊郎，中井雄也
藤丈靖，近藤和夫
15：30 （休憩）（休憩）

エネルギーデバイスにおける表面技術【座長 吉原佐知雄】
15：45 22A- 依頼講演（2）エネルギーストレージ研究の現状と将来（早大先進理工）逢坂哲彌
S1

16：00

16：15

16：30

16：45
17：00

17：15

環境および機能性に関する塗料・塗装技術の一般講演：表面分析 / 測定 / 表面機能応用
最新動向【座長 矢嶋 龍彦】【座長 中野敦】
22E-21 実験室で加速的に形成されたバイオフィルム
22D- 依頼講演（5）22C-21 ピロリン酸アノード酸化皮膜の超親水性の FIB-SEM による表面分析
塗料・塗装分野と社会資本への貢献 −最近（北大院工）○中島大希，菊地竜也，夏井俊悟，（ディ・アンド・ディ 1，鈴鹿高専 2，阪大 3）の技術の現状と環境および機能への配慮−
鈴木亮輔（大日本塗料）田邉弘往○佐野勝彦 1,3，兼松秀行 2，平井信充 2，幸後
健 2，田中敏宏 3
22E-22 表面皮膜の欠陥の電気化学的測定
22C-22 ポリマースルーホールメンブレンにもとづく（技） （カンメタ 1，元・琉球大 2）植野修一 1，政野
Al アノードエッチングピット配列制御（首都大都市環境）○田村東子，近藤敏彰，
誠治 1，○福島敏郎 1，長嶺 学 2
柳下 崇，益田秀樹
22E-23 フラックスコーティング法による Ta3N5 結晶
22C-23 溶液フロー型液滴セルによる多孔質型陽極酸
化皮膜の形成−溶液組成の影響−層の作製とその結晶形状への Na2CO3 の影響（北大院工 1，北大工 2）○坂入正敏 1，松本敏
調査（信大工 1，信大環エネ研 2）○我田 元 1，栁
幸 2，西野史香 1【座長 筒井 宏明】
井みのり 1，大石修治 2，手嶋勝弥 1,2
22C-24 チタン基アモルファス合金上に生成したア 22D-24 対建材製品の化成処理技術をもつ最前線の工 （休憩）
ノード酸化皮膜の構造と誘電特性場の現状と環境配慮への活動について（工学院大工 1，東北大 2）○町田健太 1，橋本
（マルシン）近藤 旭
英樹 1，阿相英孝 1，福原幹夫 2，小野幸子 1
一般講演：表面機能応用【座長 我田元】
22C-25 ステンレス鋼への多孔質アノード酸化皮膜生 22D-25 無機材料によるアスベスト飛散防止及び無害 22E-25 非晶質ポリマー表面における有機シリカ系薄
膜成長過程
成挙動
（技） 化とその応用（京大院工 1，京大工 2）○神澤大基 1，米田
（北大院総化 1，北大院工 2）平賀拓也 1，辻（AGUA JAPAN）遠山元樹
悦司 2，青木芳尚 2，○幅崎浩樹 2
真 2，宇都宮徹 1，一井 崇 1，杉村博之 1
S5

金属のアノダイジングの基礎と新しい応用【座長 海老原 健】【座長 田代 雄彦】
22B-26 パルス電析法による CoFeNi 磁性膜の電析条 （休憩）件が及ぼす保磁力への影響（芝浦工大院 1，芝浦工大工 2）○小林竜馬 1，
湯本敦史 2S6（休憩）

22E-26 アンモニア水プラズマ処理によるポリプロピ
レン表面の超親水化（埼玉工大院 1，埼玉工大工 2）程
飛 1，片
2
1,2
山友貴 ，○矢嶋龍彦【座長 幅崎 浩樹】
【座長 森
和彦】
22D-27 水性重防食塗料の市場展開
22E-27 水素終端化シリコンへの酸化グラフェンの固22C- 依頼講演（4）22B-27 Sn-Ni 合金めっきを用いた高耐食性プロセス
定化による高潤滑表面の作製
二層陽極酸化にもとづく高規則性ポーラスア （技） （大日本塗料）○松本剛司，宮下 剛（技） （奥野製薬）○辻本貴光，長尾敏光，片山順（京大院工 1，IIP 2）國府 翔 1，H a r s h a l P.
ルミナスルーホールメンブレンの高スルー
一
プット形成
Mungse2， 宇 都 宮 徹 1， 一 井 崇 1，Om P.
（首都大院都市環境）柳下 崇
Khatri2，○杉村博之 122B-28 rf-GD-OES による亜鉛ダイカスト上の三価ク
22D-28 カーボンナノチューブ複合の高機能高分子塗（技） ロム化成処理皮膜の生成条件の検討（技） 料による防錆技術（笠原技術事 1，堀場製作所 2）○笠原暢順 1，（竹中製作所）黒山昭治
藤本明良 2，中村龍人 2，半田慶一 2
22B-29 分散粒子を含まない溶液からの Zn−Zr 酸化
22D-29 希釈溶剤の代替として高圧 CO2 を用いた低環
22A- 依頼講演（3）物複合電析とその構造
境負荷型噴霧塗装技術の開発
溶液化学法による酸化物半導体層の形成と太（九大工 1，九産大工 2）○原 洋輔 1，大上
（日立建機 1，産総研 2）○中川勇樹 1，山本
陽電池への応用（豊橋技科大）伊﨑昌伸
悟 1，中野博昭 1，小林繁夫 2
光 1，川﨑慎一朗 2【座長 芹田敦】
22D-30 高日射反射率塗料の最新動向について
22B-30 電気化学熱力学の限界と二つの弊害
22C-30 アルミニウムのホスホン酸アノード酸化（ナノプレーティング研）渡辺 徹（北大院工）○菊地竜也，秋谷俊太，夏井俊悟，（技） （大日本塗料）櫻田将至
坂口紀史，鈴木亮輔
22C-31 ポーラスアルミナを用いたナノインプリント 22D-31 窓用遮熱塗料の現状と開発動向（日本ペイント HD）○鎌谷和行，藤田 健
法によるナノ・マイクロ階層構造の形成と撥
水表面への応用（首都大都市環境）○柳下 崇，村越海斗，
益田秀樹
22A-32 Effects of post-annealing on the performance of
22C-32 アノード酸化ポーラスアルミナの多層構造がthe electrodeposited Cu 2 O/ZnO photovoltaic
孔の枝分かれに及ぼす影響（工学院大工）○栗原綾香，橋本英樹，阿相device（豊橋技科大 1，大阪市工研 2）○ Khoo
英孝，小野幸子
Pei Loon1，Mohd Zamzuri1，品川 勉 2，伊﨑
昌伸 1

18：00 〜 20：00

懇親会

於：56 号館 地下 生協

3 月 23 日（水） 午前
時間

登録受付
A

S1

会

場

B

エネルギーデバイスにおける表面技術【座長 川喜多 仁】

会

場

S4 新しいめっき技術【座長 井上 泰志】

C
S5

○印講演者
（注：講演番号下（技）は技術講演を示す。）

午前 9 時 00 分開始
会場

D

金属のアノダイジングの基礎と新しい応用【座長 柳下崇】

会場

一般講演：炭素系薄膜 /DLC
【座長 伴
雅人】

E
S2

会

場

吸着性材料の表面処理と水処理―金属回収【座長 藤間 卓也】

23D-01 アンバランスドマグネトロンスパッタリング 23E-01 プラスチックビーズによる水中溶存貴金属イ
23C- 依頼講演（9）9：30 23A-01 熱反射壁を用いたスパッタリング法による 23B- 依頼講演（7）法による窒素を添加した硬質炭素膜の作製と非水溶媒を用いるアルミニウム電気めっきと5nm 世代に向けての半導体進化とシステムデ
オンの回収
CZTS 薄膜太陽電池光吸収層の堆積におけるその応用
ザインの可能性（信大工）○酒井俊郎，渡邉崇久
放電ガスへの水素添加の影響（技） 摺動特性評価（京大院エネ科）平藤哲司（日本ピストンリング 1，関東学院大材表研 2）（阪大）○岡本和也，佐藤了平（金沢工大高度材料）○草野英二，近藤 優，
保屋勇太○上山秀明 1,2，小崎琢也 1，杉浦宏幸 1，関将太 1，小野田元伸 1，本間英夫 2，高井 治 2
9：45 23A- 依頼講演（6）
固体高分子形燃料電池の発電性能と耐久性向上のための表面研究（山梨大燃料電池セ）犬飼潤治

23D-02 異なる圧力における窒化炭素の電界電子放出 23E-02 シリコン粉末上への無電解置換析出を利用し特性た貴金属回収（千葉工大工 1，千葉工大院 2，千葉工大 3）○（兵庫県立大院工 1，兵庫県立大工 2）○八重鎗田滉大 1，田中一平 2，坂本幸弘 3
真治 1，小神優里奈 2，福田健二 1

10：00

23D-03 熱フィラメント CVD による窒素ドープダイ 23E- 依頼講演（11）
ヤモンドの作製におけるガス組成の影響
イオン交換樹脂・キレート樹脂による水処理（千葉工大院 1，千葉工大 2）○中田朋貴 1，藤および金属回収
（オルガノ開発セ）横田治雄
井健人 1，田中一平 1，坂本幸弘 2

10：15

23B-04 レーザープレーティングによるニッケルめっ 23C-04 GaAs の金属触媒エッチングに対する電圧印 23D-04 熱フィラメント CVD による超硬合金基板へのダイヤモンド合成におけるラジカル窒化前
加の効果
き形成における波長依存性
処理の影響（工学院大工）○伊藤大喜，橋本英樹，阿相（山形工技セ）○鈴木庸久，村岡潤一，三井俊（千葉工大工 1，千葉工大院 2，千葉工大 3）○
英孝，小野幸子
明
千葉俊之 1，服部貴大 2，坂本幸弘 3

10：30 （休憩）

（休憩）

【座長

四反田

功】

（休憩）

【座長

片山

靖】

（休憩）

【座長

菊地

竜也】

【座長

石原

正統】

23C-06 多孔質シリコン層を利用した光反射防止によ 23D-06 モード変換型マイクロ波プラズマ CVD によ （休憩）10：45 23A-06 湿式法により作製したビスマステルライド系 23B- 依頼講演（8）る太陽電池の高効率化
三次元規則配列多孔構造の電気化学エネル
る B ドープダイヤモンド合成に及ぼす B 源濃
（技） 薄層の結晶構造と熱電変換特性の関係（兵庫県立大院工 1，日本オイコス 2）○八重ギーデバイスへの応用
度の影響（神奈川大工学研 1，神奈川大工 2）○金子信（首都大院都市環境）金村聖志（千葉工大工 1，千葉工大院 2，千葉工大 3）○
悟 1，守屋世界 2，田邉豊和 2，松本 太 2
真治 1，山川加能 1，阪本 進 1,2
鈴木飛鳥 1，服部貴大 2，坂本幸弘 3

【座長

湯本

敦史】

11：00 23A-07 環境中の水分を利用するマイクロ発電デバイ
ス（物材研）○川喜多仁，知京豊裕

23C-07 溶存イオンサイズに依存したポーラスシリコ 23D-07 RF スパッタリングによる B-C-N 系二層膜の 23E-07 亜臨界水溶液処理による金属吸着性ガラス材
作製
ン層内の pH 変化料の創成（千葉工大院 1，千葉工大工 2，千葉工大 3）○（京大院工）○小山 輝，今岡勇仁，深見一弘，（東京都市大工）○藤間卓也，太田壮彦
北田 敦，安部武志，邑瀬邦明
花井 亮 1，海宝勇哉 2，城谷友保 1，坂本幸
弘3

11：15 23A-08 FFT インピーダンス法を用いた Li 電析過程のoperando 解析（早大院先進理工 1，早大理工 2）○前田 傑 1，
横島時彦 2，向山大吉 2，奈良洋希 2，門間聰
之 1,2，逢坂哲彌 1,2

23D-08 Deposition of Ternary BCN Thin Films with 23E- 依頼講演（12）23C- 依頼講演（10）different Ar/CH4/N2 Flow Ratio
水処理材への表面技術の活用
陽極酸化ナノシリコンの電子・音響機能と応（アステック）○出雲貴已，宮西賢一，高田
用（日工大）○ Chavin Jongwannasiri，渡部修一
史朗（東京農工大院工）越田信義

11：30 23A-09 FAS 系単分子膜修飾による NCM 正極の高電 23B-09 アルミニウム基板への先進型 Fe 系合金めっ
位耐久性の向上きの機能性（信大工 1，信大環エネ研 2）○内田修平 1，喜（宇都宮大院工 1，日本プレーテック 2）○松田 聡 1，是津信行 1,2，手嶋勝弥 1,2
澤篤央 1，吉原佐知雄 1，石川祥久 1,2，及川渉2

23D-09 樹脂基板への PECVD ロールコータを用いた（技） SiNx 膜（神戸製鋼）○沖本忠雄，磯村良幸，慈幸範洋，
川上信之

11：45 23A-10 水熱合成法による全固体型リチウムイオン二 23B-10 S 量低減と成長モード制御による高強度・高次電池材料の積層化
延性電析バルクナノ結晶 Fe-Ni 合金の創製（名大院工 1，名大未来研 2）○鷲見 英 1，梁（大阪府大工 1，産総研中部 2）○瀧川順庸 1，
彦杰 2，黒田健介 2，興戸正純 2
森 宏樹 1，松井 功 2，上杉徳照 1，東 健
司1

23D-10 ミスト CVD 法による準安定 hcp-Ni 薄膜の作
製とその諸特性（京大院エネ科 1，京大院工 2）○池之上卓己 1，
上野仁希 1，小森祥央 2，掛谷一弘 2，三宅正男 1，平藤哲司 1

12：00〜13：00

休憩

3 月 23 日（水） 午後
時間

A

会

場

B

会

場

C

会

場

D

会

場

E

会

場

13：00−13：20 「第 17 回優秀講演賞 / 第 4 回学生優秀講演賞」および「第 22 回学術奨励講演賞」授与式
平成 28 年度協会賞受賞記念講演会「環境調和めっき技術の開発と応用に関する研究」

13：20−14：05（大阪市工研）藤原 裕
休憩
一般講演：無電解めっき ほか
S4 新しいめっき技術
一般講演：腐食・防食 / 化成処理
一般講演：炭素系薄膜【座長 藤波 知之】
【座長 呉
松竹】
【座長 馬渕 勝美】【座長 坂本 幸弘】
14：30 23A-21 浴安定性に優れた新規自己触媒型無電解白金 23B-21 Cu-Mo 非晶質合金薄膜の再結晶化
23C-21 Al 箔の陽極酸化により作製したメンブレン 23D-21 CVA 法を用いた ta-C:H 成膜に及ぼすパルスバ（関東学院大工 1，関東学院大院工 2，関東学
フィルタの気体透過特性
イアスの影響（技） めっき（千葉工大工 1，千葉工大院 2，千葉工大 3）○（岡山理大技科研 1，岡山工技セ 2）若江倫生 1，（関東学院大院工 1，小島化学薬品 2，関東学院理工 3）○赤堀巧汰 1，川村 渉 2，渡辺宣院大材表研 3）○加藤友人 1,2，寺島 肇 2，渡朗 3，小岩一郎 1,2,3
藤田涼平 1，田中一平 2，坂本幸弘 3○國次真輔 2，中谷達行 1
2
3
1,3
邊秀人 ，本間英夫 ，高井 治
14：45 23A-22 触媒種および還元剤種が無電解白金めっきの 23B-22 ポリスチレン粒子複合ニッケル / 銅めっきに 23C-22 電解エッチング／ CeO2 コーティングによる 23D-22 CVA 法を用いて作製した ta-C:H 膜のナノイン
初期析出性に与える影響
おける微粒子共析メカニズムの検討
高撥水性ステンレス鋼の作製
デンテーション
（関東学院大学院工 1，関東学院大材表研 2，（東理大理工 1，東理大総研 2）○川戸大輝 1，（北大院総化 1，北大院工 2）○中山勝利 1，青（岡山工技セ 1，岡山理大技科研 2）○國次真
松田産業 3）○水橋正英 1,2,3，Christopher E. J.
渡邊 智 1，星 芳直 1，四反田功 1,2，板垣昌
木芳尚 1,2，幅崎浩樹 1,2
輔 2，若江倫生 1，中谷達行 1
2
3
2
1,2
Cordonier ，松井宏典 ，本間英夫 ，高井 治
幸
14：05〜14：30

1,2

15：00 23A-23 アルミニウム上ジンケート膜の微細化メカニ 23B-23 ナノダイヤモンド複合めっきにおける粒径と 23C-23 PCM 建材用クロメートフリープライマーの高 23D-23 血管治療用ガイドワイヤの DLC 膜による機械的性質の向上
流れの影響（技） 耐食性付与に関する新しい取り組みについて（技） ズムの検討（岡山理大技科研 1，ティーアールエス 2）嶋（関西ペイント）○林 眞弘，本田啓道，児（長岡技科大）○松本莞爾，程内和範，松原（三菱電機）○川下竜太，増田暁雄，竹本洋
島 敬，畑中太一，大島孝夫
浩
岡貴広 1，○中谷達行 1，安原亜貴子 2，平井平
広治 2
【座長 福室 直樹】
23B-24 1 −ブチル− 1 −メチルピロリジニウム・ビ 23C-24 Pd コア -Pt シェルモデル電極の作製とその電 （休憩）
15：15 23A-24 平滑基材への無電解めっき技術
気化学特性
ス（トリフルオロメチルスルホニル）アミド（技） （日立化成）○赤井邦彦，江尻芳則，中川昌之，（東北大院工）○菅原 優，今泉陽登，武藤
イオン液体からのカドミウム電析
山村泰三
泉，原 信義（慶大理工）○片山 靖，サハ シームル，立川直樹，吉井一記
一般講演：前処理，無電解めっき ほか【座長 小野田元伸】【座長 渡邊 秀人】
15：30 23A-25 ファインバブル低濃度オゾン水による ABS 23B-25 電気めっき法によるコバルト磁性薄膜の基礎
23D-25 DC ス パ ッ タ リ ン グ を 用 い た 人 工 血 管 用
樹脂のエッチング
的検討
ePTFE への DLC 薄膜の作製（石川金属工業 1，関東学院大材表研 2，関東
（関東学院大院工 1，関東学院大工総研 2，関（岡山理大技科研 1，岡山工技セ 2，岡山大院
学院大院工 3）○森 直樹 1,2，梅田 泰 2，田東学院大理工 3）○廣濱 翼 1，高梨 博 2，ウー・
医 3）藤井雅貴 1，國次真輔 2，○中谷達行 1，
代雄彦 2，本間英夫 2，高井 治 2,3
ホク・ホア 2，小岩一郎 3藤井泰宏 3，大澤 晋 3
15：45 23A-26 感光性錯体膜をパターンニングした PI フィ 23B-26 ジメチルスルホン浴からの定電位電析 Al に
23D-26 生体吸収性マグネシウム合金ステントの DLC
ルム上への無電解めっき
おける結晶配向性の添加剤効果（1）
膜による分解速度制御（関東学院大院工 1，関東学院大材表研 2）○（関東学院大工 1，関東学院大院工 2，関東学（岡山理科大工 1，岡山理科大技科研 2，日本
鈴 木 陽 平 1,2， 堀 内 義 夫 1,2，Christopher E.J.
院理工 3）○松原喬平 1，伊藤雄哉 2，下地一
医療機器技研 3）秀高桂丞 1，○中谷達行 2，
2
2
2
2
2
2
1
Cordonier ， 盧 柱 亨 ， 本 間 英 夫 ， 高 井
平 ，田杉直也 ，佐野克仁 ，本郷 翔 ，藤清水一郎 1，佐々木誠 3，金 貞玉 3
治 1,2
田大輝 1，住吉理愛 3，渡辺宣朗 3，小岩一郎 1,2,3
16：00 23A-27 導電性皮膜形成を目的としたポリフェニレン 23B-27 硝酸銅めっきの表面特性
23D-27 RF スパッタリングによる炭素系薄膜の作製
サルファイド樹脂の表面改質（堺高 1，大阪産業大工 2，大阪産業大短 3）○におけるカソード磁場分布の影響（関東学院大院工 1，関東学院大材表研 2，真（千葉工大・学 1，千葉工大院 2，千葉工大 3）
筒井良樹 1，馬込正勝 2，橋本健二 2，井上吉
工 社 3） ○ 野 村 太 郎 1,2,3， 田 代 雄 彦 2， 梅 田
昭3○佐藤 怜 1，田中一平 2，坂本幸弘 3
泰 2，本間英夫 2，高井 治 1,2

於：F 会場ポスター発表【掲示期間】 平成 28 年 3 月 22 日（火）11：00 〜 23 日（水）12：30【発表期日】 平成 28 年 3 月 22 日（火）コアタイム（発表者がポスター前に待機していただく時間）を，下記のように 2 回設定しております。
1 回目 11：00 〜 12：00 「学術奨励講演賞」応募者
2 回目 14：15（武井記念講演終了後）〜 16：30
発表者全員
14：15 〜 14：45
発表番号 奇数の方
15：00 〜 15：45
発表番号 偶数の方
15：45 〜 16：30
P − 01 AlCl3-EMIC イオン液体からのアルミニウム電気めっきにおける添 P − 19 亜鉛めっき用クロムフリー耐食性化成皮膜の開発
加剤の効果（3）−添加剤の分子構造と光沢性の関係−（都産技研）○浦崎香織里，桑原聡士，竹村昌太，寺西義一，土井正（神奈川大工 1，神奈川大工学研 2）○郡司貴雄 1，上原一真 1，金子信悟 2，田邉豊和 1，松本 太 1
P − 20 レーザー照射と可溶性 Ni ジチオール錯体を用いた高耐久性近赤外P − 02 Bi 含有銅合金からの Bi 溶出防止に対する Bi 選択エッチング処理の効果（岩手大院工 1，メック 2）○秋山大作 1,2，會澤純雄 1，桑平原英俊 1
P − 03 超格子構造 DLC 膜の熱電性能評価（芝浦工大院理工）○宇野 輝，大石知司
静 1， P − 21 有機無機ハイブリッド膜の光パターニング性と無電解銅メッキを用いた簡便な銅微細配線形成法の開発（芝浦工大院理工）○鷲江育生，大石知司（茨城大院 1，茨城大工 2）○橋本拓也 1，中村雅史 2

P − 22 NaPSS ブラシの水中における摩擦と吸着挙動

P − 04 延性発現に向けた Ni-Mo 合金電析浴の開発（産総研）○松井二

功，尾村直紀，李P − 05 チタン干渉色とアートとしての白色

吸収機能膜の開発（東京都市大工）○島崎雅弘，財津駿平，藤間卓也
明軍，村上雄一朗，多田周 P − 23 超薄板ガラスを用いた有機無機ハイブリッド基板の開発と三次元実装用ガラスインターポーザーへの展開（芝浦工大院理工 1，三星ダイヤモンド 2）○下山 巧 1，大石知司 1，
清水政二 2（黒田総合技研 1，ヒキフネ 2）○黒田孝一 1，吉野智江 2，小林道雄2
P − 24 金電析プロセスにおけるシアン錯体解離反応の理論的解析
P − 06 大気圧プラズマ法を応用した金属表面の親水化に関する基礎研究（早大先進理工 1，早大ナノ・ライフ 2）○定岡佑典 1，國本雅宏 2，
本間敬之 1,2（あいち産科技セ）○小林弘明，片岡泰弘

P − 07 AMP −銅錯体を出発原料とするレーザー照射とマイクロコンタク P − 25 パルス電析法を用いた Cu-Mo 非晶質合金薄膜の作製と評価
トプリンティング
（μCP）を用いた大気中銅微細配線形成技術の開発
関東学院大工2，
関東学院理工3）○川村 渉1，赤堀（関東学院大院工1，
巧汰2，
渡辺宣朗3，
小岩一郎1,3（芝浦工大院理工）○神 崇志，大石知司
P − 08 光照射を用いたゾルゲル法による WO3 膜の低温作製と Pd 添加混 P − 26 超音速フリージェット PVD による Al2O3 膜の絶縁破壊強度
合膜の水素感応性（芝浦工大工）○菅野智広，湯本敦史（芝浦大院理工 1，芝浦工大工 2）○久保慧輔 1，大石知司 1，斉藤 P − 27 反 応 性 ス パ ッ タ リ ン グ 法 に よ り 作 製 さ れ た TiO /Cu O 薄 膜 の2
2
敦史 2
NiO，TaON 挿入効果
P − 09 光照射とポリシラザン塗布法を利用した高ガスバリア膜低温形成技術の開発とフレキシブルエレクトロニクスへの展開（芝浦工大院理工）○柳田和也，大石知司
P − 10 大気環境での炭素鋼の腐食挙動におよぼす腐食生成物層の影響（東理大 1，物材研 2）○篠田ほなみ 1，片山英樹 2，星反田功 1，板垣昌幸 1（工学院大院 1，工学院大 2）○相馬俊也 1，鷹野一朗 2
P − 28 He ＋ イオンアシストにより低温形成した炭素薄膜の基板冷却温度・導入ガス比依存性（工学院大院 1，工学院大 2）○井上剛志 1，鷹野一朗 2
芳直 1，四 P − 29 低温冷却した PTFE への Ar ＋イオンビーム照射（工学院大）○山下裕貴，林 知樹，鷹野一朗
P − 11 Er および CO2 レーザーを用いたケト酸銅錯体を銅源とする大気中
P−
30
反応性スパッタリング法による TiO2 をベースとした温湿度センサ
銅微細配線形成技術の検討
1
2
1（芝浦工大院理工 ，三星ダイヤモンド ）○木村龍太郎 ，大石知（工学院大）○川口天文，鷹野一朗
司1
P − 12 コンクリートを模擬した環境での SD345 鋼材の腐食モニタリング P − 31 塗装鋼板の腐食劣化挙動への表面電位測定の適用（法政大 1，物材研 2）○伊藤清佳 1，明石孝也 1，片山英樹 2（物材研 1，東理大 2）○山田茉耶 2，片山英樹 1，星 芳直 2，四反
田功 2，板垣昌幸 2

P − 13 銅三次元ナノ構造への無電解スズめっきに与える下地ニッケル層の影響（信大工）○伊藤達哉，新井進

P − 14 EDTA 浴からの銅 / 多層カーボンナノチューブ複合めっき（信大工）○小林政貴，新井進

P − 15 電気めっき法による銅三次元構造内部への選択的銅析出

P − 32 フィルタードアーク蒸着法を用いた他元素添加による機能化 DLC
膜の形成（豊橋技科大 1，伊藤光学 2，オンワード技研 3）○針谷 達 1，今井貴大 1，飯島佑史 1，磯野 凌 1，藤井裕真 1，須田善行 1，滝川浩史 1，神谷雅男 2，瀧真 3，長谷川祐史 3，辻 信広 3

P − 33 磁気ディスク用各種潤滑膜の温度依存性における耐久性（日工大）○鈴木翔太，三宅正二郎
P − 34 積層型 Cu2O/NiO/TiO2 固体色素増感太陽電池の効率改善（信大工）○小林雪真，新井 進（工学院大院 1，工学院大工 2）○土屋友一 1，鷹野一朗 2
P − 16 電気めっき法による銅 / カーボンナノチューブ複合三次元構造のP − 35 電析 CoPt ナノドットアレイの微細構造制御に向けた初期析出解析
創製（早大先進理工）○阿部純也，ヴォダルツ ジギー，本間敬之（信大工）○小澤雅也，新井 進
P − 36 亜臨界水溶液処理ガラス材料の重金属吸着特性評価

P − 17 Ni/CNT 複合めっき膜の各種表面処理1

2

1（信大工 ，EEJA ）○平出勇太 ，新井

1

2

進 ，藤波知之 ，P − 18 アーク放電によるナノダイヤモンド合成（八戸高専）○小笠原大介，蒲田祥希，河村駿輔，福松嵩博，齊藤
貴之（東京都市大工）○太田壮彦，藤間卓也
P − 37 固液界面の in situ ラマン解析を目的とした poly（dimethylsiloxane）
製プラズモンセンサの開発（早大先進理工）○中村雅俊，佐藤祐太，柳沢雅広，本間敬之

P − 38 スルファミン酸 Ni めっき液中の添加剤が皮膜物性に及ぼす影響

P − 58 火花放電アノード酸化による BaTiO3/SrTiO3 傾斜機能厚膜の作製（オジックテクノロジーズ 1，関東学院大 2，関東学院大材表研 3）（近畿大理工）○中島竜成，岩崎光伸○金森元気 1,2，安田敬一郎 1，松田元秋 1，本間英夫 3，高井 治 2,3 P − 59 火花放電アノード酸化による BaTiO 皮膜の高機能化
3
P − 39 非懸濁溶液からの Zn-AlOx（OH）y 複合電析による第 4 級アンモニ（近畿大理工）○徳永和磨，岩崎光伸
ウム塩添加の膜質変化
P − 60 ステンレス / ガラス接合界面の密着評価の検討（関東学院大）○一寸木健太，山本悠也，奥山健志，村田直輝，吉（千葉工大）○味八木萌音，矢沢勇樹，小浦節子
田 渓，渡辺宣朗，小岩一郎
P−
61
有機溶媒中での Si 電析に浴因子が与える影響の検討
P − 40 階層性ナノ多孔層ガラスにおける基板材組成が構造形成に及ぼす影響（早大先進理工 1，JST-CREST2，早大ナノ・ライフ 3）○続木
露木康博 1，高井秀典 1，福中康博 2,3，本間敬之 1,2（東京都市大工）○中田瑛大，横溝一哉，野田香織，藤間卓也

南 1，

P − 41 ジメチルスルホンからの定電位電析 Al における結晶配向性の添加 P − 62 PBII 法を用いた窒化炭素膜の形成剤効果（2）（日工大）○長南誠宏，渡部修一（関東学院大院 1，関東学院大 2）○伊藤雄弥 1，松原喬平 2，下地 P − 63 反応性スパッタにおけるモード遷移現象のユニバーサリティ
一平 1，田杉直也 1，佐野克仁 1，本郷 翔 2，藤田大輝 2，住吉理（成蹊大 1，産総研 2）○木村光佑 1，竹内将人 1，飯嶋佑斗 1，大家愛 2，渡辺宣朗 2，小岩一郎 2
渓 1，中野武雄 1，長尾昌善 2，大崎 壽 2
P − 42 ZnO 形成過程に着目した Zn アノード反応の解析
P − 64 Octopus-like なマリモカーボンのラマン分光法による構造評価（早大先進理工 1，早大ナノ・ライフ 2）○永田雅人 1，大谷智博 1，
福中康博 2，本間敬之 1,2

P − 43 エチドロン酸アノード酸化皮膜のナノ構造と高規則化（東洋大院理工 1，東洋大理工 2，物材研 3）○白石美佳 1，安藤圭
祐 2，田鎖広弥 2，安藤寿浩 3，蒲生西谷美香 2
P − 65 Co2MnSn ホイスラー合金の電析法による薄膜の作製（北大院工）○竹永章正，菊地竜也，夏井俊悟，鈴木亮輔（関東学院大工 1，関東学院大理工 2，関東学院大院工 3）○住吉理
愛 1，岩崎春輝 2，大村昂司 2，開 宥登 2，村田和輝 2，下地一平 3，
渡辺宣朗 3，小岩一郎 3

P − 44 酢酸浴からの ZnO 薄膜の電析および熱電材料への応用の試み（早大先進理工 1，早大ナノ・ライフ 2）○松尾日向子 1，古山大貴 1，
森 裕人 1，齋藤美紀子 2，本間敬之 1,2
P − 66 大面積かつフレキシブルなモルフォ蝶型光輝フィルムの簡易作製
プロセス開発P − 45 酸性めっき浴からのナノダイヤモンドの共析（阪大院工 1，阪府大院工 2，理研 SPring-83）○大賀順平 1，石橋幸（長岡技科大）○郭 鵬毅，程内和範，松原 浩
成 1，平井義彦 2，桑原裕司 1,3，齋藤 彰 1,3
P − 46 超音速フリージェット PVD による Si 膜の体積抵抗率
P − 67 イオン液体中で電析した Si 薄膜に対する熱処理効果（芝浦工大工 1，信大工 2）○軽部翔太郎 1，湯本敦史 1，榊 和彦 2
（早大先進理工 1，JST-CREST2，早大ナノ・ライフ 3）○高井秀典 1，
P − 47 誘導結合型リモートプラズマ CVD 法による SiO:CH 薄膜堆積に対露木康博 1，続木 南 1，福中康博 2,3，本間敬之 1,2するガス分圧の影響
P − 68 非蒸発ゲッタポンプ用合金膜のスパッタ製膜（千葉工大工 1，千葉工大院工 2，関東学院大材表研 3）河野真弥 1，（成蹊大 1，高エネ研 2）○三嶋 東 1，早坂直之 1，大家 渓 1，中小池 遼 2，吾妻聡一郎 1，○井上泰志 1,2，高井 治 3
野武雄 1，菊地貴司 2，間瀬一彦 2
P − 48 プラズマ重合 SiO:CH 微粒子の粒径および堆積分布に対するパルP − 69 p 型 Bi-Sb-Te 電析膜の形態制御およびマイクロ熱電変換素子へのス放電条件の影響
応用
1
2
3
1（千葉工大院工 ，千葉工大工 ，関東学院大材表研 ）○小池 遼 ，（早大先進理工 1，早大ナノ・ライフ 2，サムスン日本研 3，東大柿澤翔太郎 2，田中裕之 2，井上泰志 1,2，高井 治 3
工 4，名大理 5）○古山大貴 1，森裕人 1，松尾日向子 1，齋藤美紀子 2，
P − 49 斜め堆積酸化スズ薄膜の近紫外波長領域におけるエレクトロクロ
園部義明 3，高橋英史 4，寺崎一郎 5，本間敬之 1
ミック現象
P − 70 高純度シリカ精製のための酸洗浄プロセスにおける不純物除去機（千葉工大工 1，千葉工大院工 2，関東学院大材表研 3）和田健一 1，
構の解析
2
1,2
3
仲尾昌浩 ，○井上泰志 ，高井 治（早大先進理工 1，早大ナノ・ライフ 2，JST-CREST3）○三村仁起 1，
P − 50 傾斜温度制御蒸着源を用いた斜め堆積法における微細構造制御性
中嶋一輝 1，國本雅宏 2,3，福中康博 2,3，本間敬之 1,2,3（千葉工大工 1，千葉工大院工 2，関東学院大材表研 3）○椎名祐斗 1，P − 71 2 種類の有機シラン分子を化学吸着させた Si 表面の濡れ性挙動枡川尊重 2，井上泰志 1,2，高井 治 3（芝浦工大）○笹川圭祐，石﨑貴裕
P − 51 Sn-Pd-Ag めっきの耐食性および耐硫化性の評価
P − 72 パルス電析法による FePt ナノドットアレイの低温 L10 規則化及び高（大阪市工研）○野呂美智雄，藤原 裕
保磁力化の検討P − 52 CVD グラフェン転写 PET 基板による C2C12 細胞培養評価（早大先進理工 1，バージニア大 2）○橋本尚吾 1，ヴォダルツ ジギー 1，
西家大貴 1，齋藤 学 1，Giovanni Zangari2，本間敬之 1（日工大創造 1，日工大環境 2，産総研 3）○菅原知樹 1，武内健悟 1，
石原正統 3，長谷川雅考 3，伴 雅人 1,2
P − 73 BaNbO2N 結晶層の塩化物フラックスコーティング形成と光電気化
学特性評価
P − 53 インクジェット法によるコラーゲンのパターニング成膜（日工大創造 1，日工大環境 2）○堀真由香 1，池田
人 1,2

渉 1，伴

雅

（信大工 1，東大院工 2，信大環エネ研 3）○鈴木清香 1，我田
嶺岸 耕 2，堂免一成 2，大石修治 1，手嶋勝弥 1,3

元 1，

P − 54 フォトレジストを用いた DLC 薄膜のパターニング成膜手法の開発 P − 74 ソリューションプラズマの C-H 活性化反応を利用したクラウン
エーテル構造を含むカーボン材料の合成（日工大創造 1，日工大環境 2）○荒山隆貴 1，田村和暉 1，伴 雅
人 1,2（名大院工 1，名大未来 2，名大グリモ 3，JST-CREST4）○金 慧玟 1,4，
Anyarat Watthanaphanit1,2，齋藤永宏 1,3,4

P − 55 マグネトロンスパッタにおけるエロージョン形成へのバランス・
アンバランス磁場の効果
P − 75 ソリューションプラズマによる BNC ヘテロカーボン材料の合成（成蹊大院理工）○齋藤悠大，鎌田隆平，大家渓，中野武雄P − 56 LaPO4 ナノ粒子埋入 Al アノード酸化皮膜材の作製条件依存性（近畿大院）○中ノ坊豊，岩崎光伸
P − 57 火花放電アノード酸化による ZrTiO4/TiO2 パターニング膜の作製（近畿大院）○藤原祐一郎，岩崎光伸○李 承效 1，
（名大院工 1，名大未来 2，名大グリモ 3，JST-CREST4）
上野智永 1,3，齋藤永宏 1,2,3
P − 76 ソリューションプラズマによる芳香族系炭化水素からのカーボン合成反応機構の解析（名大院工 1，名大グリモ 2，名大未来 3，JST-CREST4）○森下哲典 1，
吉田彰仁 1，上野智永 1,2,4，齋藤永宏 1,2,3,4