全学共同利用施設

光電子分光分析研究室

固体材料の表面観察・表面分析・化学状態分析を主とした装置がご利用頂けます
最表面分析
化学状態分析
深さ方向分析
絶縁物分析
モノクロX線

低真空モード
EDS分析
反射電子像観察簡易操作

最表面分析
化学状態分析
深さ方向分析
元素マッピング
EBSD分析

X線光電子分光装置 XPS
JPS-9200

オージェ電子分光装置 AES
JAMP-9500F

走査電子顕微鏡 SEM
JSM-6510LA

原子間力顕微鏡 AFM
SPA-400
nmオーダー
形状評価
表面粗さ解析
摩擦像・位相像
液中観察

共焦点レーザー走査型顕微鏡 LSCM
1LM21Dμmオーダー
形状評価
表面粗さ解析
光顕観察(x50~x1000)

クロスセクションポリッシャ CP
SM-09010
断面作成(AES分析・EBSD分析・SEM観察用)

Access:Contact:

フロンティア応用科学研究棟1F 1-03 先端共通機器室
技術専門職員 鈴木啓太
Tel/Fax 011-706-6882 E-mail suzuki-k@eng.hokudai.ac.jp
Website address:
http://labs.eng.hokudai.ac.jp/labo/HUXPSLab/

装置利用料
光電子分光分析研究室利用細則

及び国立大学法人北海道大学ナノテクノロジープラットフォーム事業による設備利用規程

学内利用者
設備

型式

初回講習料

学外利用者※2

ナノテクノロジー
プラットフォーム
事業支援申請有※1

一般利用装置利用料(1時間当り)装置利用料(1時間当り)初回講習料

大学・公的機関

一般装置利用料(1時間当り)装置利用料(1時間当り)X線光電子分光装置(XPS)

JPS-9200¥1,100¥1,500￥32,000¥1,700￥5,500

オージェ電子分光装置(AES)

JAMP9500F¥1,400¥1,800￥32,000￥2,300￥8,100走査型電子顕微鏡(SEM)

JSM6510LA

¥500

¥700

￥16,000￥800￥2,000

クロスセクション
ポリッシャ(CP)SM09010

¥300

¥500

￥16,000￥600￥1,100原子間力顕微鏡(AFM)

SPA-400

¥300

¥300

￥8,000￥400￥1,600

共焦点レーザー走査型顕微鏡(LSCM)

1LM21D¥200¥200￥8,000￥300￥1,500無料※1 本年度、微細構造解析プラットフォーム支援課題申請書を提出し、当事業の支援を受けられる利用者についてはナノテクノロジープ
ラットフォーム料金が適用されます。SEM・CPの料金は申請書を提出し、且つ本施設ナノテク支援装置であるXPSまたはAESを併用されている方にのみ適用されます。
※2 学外利用者が本施設ナノテク支援装置であるXPS・AESを利用する場合には微細構造解析プラットフォーム支援課題申請書の提出が必要です。
➢XPS・AESについて、代行内容によって装置利用料に4,000円または8,000円追加(1時間当り)で技術代行を請け負います。
➢
支援内容に応じて4,000円または8,000円(1時間当り)で、各種分析装置に関する技術支援(研磨、加工、予備観察等)を請け負います。
➢AFMについて、各種マイクロカンチレバーやゲルパックを消耗品として1個単位で用意しています。

Joint-use facilities

Laboratory of XPS analysis

The facility manages various analysis equipment and preprocessing
equipment. You can use the equipment that mainly for surface observation,
element analysis and chemical state analysis on solid materials.
Depth profile
Insulation
analysis
Monochrome
X-ray

Low vacuum mode
EDS analysis
Backscattering
electron image

SEM observation
Depth profile
Element mapping
EBSD

X-ray Photoelectron Spectrometer Auger Electron Spectrometer Scanning Electron Microscope
JPS-9200
JAMP-9500F
JSM-6510LA
Atomic Force Microscope
SPA-400
Nano order shapemeasurement
Surface roughnessFriction image
Phase image

Laser Scanning Confocal Microscope
1LM21D
Micro order shapemeasurement
Surface roughness
Light microscopy

Cross-section Polisher
SM-09010
Fabrication ofcross section
using Ar+ ion
beam

Access:Contact:

1F 1-03 Frontier Research in Applied Sciences Building
Keita Suzuki, technical specialist
Tel/Fax 011-706-6882 E-mail suzuki-k@eng.hokudai.ac.jp
Website address:
http://labs.eng.hokudai.ac.jp/labo/HUXPSLab/

Equipment usage fee
Intramural user
Equipment➢➢➢➢➢Model

initialtraining fee

Extramural user

Nanotechnology
Normal fee
platform fee
Usage fee perhour

Usage feeper hour

initial training
feeCollegePublicinstitution

Company

Usage fee perhour

Usage feeper hour

X-ray Photoelectron
Spectrometer

JPS9200¥1,100¥1,500￥32,000¥1,700￥5,500Auger Electron
Spectrometer

JAMP9500F¥1,400¥1,800￥32,000￥2,300￥8,100

Scanning Electron
Microscope

JSM6510LA

¥500

¥700

￥16,000￥800￥2,000

Cross-section
Polisher

SM09010

¥300

¥500

￥16,000￥600￥1,100

Atomic ForceMicroscope

SPA-400

¥300

¥300

￥8,000￥400￥1,600Laser Scanning
Confocal Microscope

1LM21D¥200¥200￥8,000￥300￥1,500nocharge

The nanotechnology platform fee applies to the users who submitted a support application for nanotechnology platform.
SEM / CP fees only apply to the users who have submitted the support application and have also used XPS or AES in this fiscal year.
In order for extramural users to use XPS and AES, submission of a nanotechnology platform support application is required.
As for XPS and AES, depending on the support content, we can undertake technical agency for 4,000 yen or 8,000 yen additional (per hour) to the usage fee.
Depending on the support content, we can undertake technical support (polishing, processing, preliminary observation, etc.) for various analyzers for 4,000
yen or 8,000 yen (per hour).
➢ We sell various micro cantilevers and gel packs as consumables for AFM.