第 11 回環境化学討論会講演要旨集 P154-155
2002 年 6 月 3〜5 日（箱根プリンスホテル）

GC 誘導体化注入法を用いたペンタクロロフェノール分析の基礎的検討（財）雑賀技術研究所○佐々野僚一、佐藤元昭、中西豊【目的】ペンタクロロフェノールは外因性内分泌撹乱物質のリストに挙げられており、免疫系、内分泌系、脳神経系への影響が懸念されている物質である。そのペンタクロロフェノールの分析法には誘導体化して定量する方法が報告されているがその分析操作は複雑であり、技術を要する。そこで、本研究では、ペンタクロロフェノールの簡易で迅速な高感度分析法の開発を目的とし、演者らが開発したキャピ
ラリーGC 試料注入口装置を用いて、GC 注入口（ライナー）中での誘導体化および大量注入の基礎的検討を行った。
【装置】開発した注入口装置の概略図を Fig.1 に示す。本注入口のライナーは非直線型の形状で胃袋状の滞留室を有し、ライナー内で試料が一旦滞留するようになっている。ライナーは、直接、加熱空気によって低温から高温まで迅速に温度制御した。そのため、ライナーの上部と下部の両方を O-リングでシールする構造とした。今回製作したライナーの容積は約 0.5mL であった。注入には 50 µL のシリンジを備えたオートサンプラーを用いて、サンドイッチ注入法を応用して注入した。
【誘導体化注入法】注入口および GC 条件の概念を Fig.2 に示す。1st stage;シリンジ中に誘導体化試薬、試料の順に吸入して、これらを一度にライナーへ注入した。注入口温度は予め溶媒沸点より低めに設定し、試料および試薬を混液状態でライナー中に保持させた。2nd stage;スプリットモードで揮発してくる溶媒蒸気を排出し、ライナー中で濃縮させながら誘導体化を行った。3rd stage；スプリットレスモードにして、注入口温度を上げながら、生成された誘導体を気化させて、分離カラムへ導入し、分析した。
【実験】試料には、ペンタクロロフェノールを 20%ｱｾﾄﾝ/ﾍｷｻﾝで希釈したものを用いた。誘導体化試薬には、1%濃度の BSTFA(N,O-Bis(trimethylsilyl)trifluoroacetamide) 20%ｱｾﾄﾝ/ﾍｷｻﾝ溶液を用いた。注入量は、試料を 20µL、誘導体化試薬を 5µL とした。本法の GC 条件を Table 1 に示す。
【結果と考察】誘導体化注入法を用いて得られた SCAN クロマトグラムとスペクトルを Fig.3 に示した。
この結果から、ライナー中で確実に誘導体化が行われていることがわかった。次に、注入量(5,10,15,20µL)とピーク面積の関係を調べた(Fig.4)。注入量とピーク面積は直線関係が得られ、注入量に比例して感度が向上することがわかった。濃度 0.01ng/µl の混合標準溶液の分析を 7 回繰り返し、その誘導体化注入法における再現性を調べたところ、その相対標準偏差は 1.53%であり、再現性も高いことがわかった。この誘導体化注入法を用いて作成した検量線を Fig.5 に示す。濃度範囲 0.001~0.1ng/µL で良好な直線性が得られ、どの試料濃度においても安定した誘導体化がなされていると推測できた。本注入口はライナー中に複数の試料を液体状態で滞留させておくことができるため、ライナー中での誘導体化および大量注入が容易に可能となった。
この誘導体化注入法を用いれば、予め誘導体化させるための前処理操作を省くことができ、また、人体に悪影響を与える誘導体化試薬に触れることなく誘導体化させることができた。
更に、大量注入により、多量の試料を必要とする分析での試料量の少量化が可能となるだろう。
Fundamental Studies on the Analysis of Pentachlorophenol Using Derivatizating Injection System
Ryoichi SASANO, Motoaki SATOH, Yutaka NAKANISHI: Saika Technological Institute Foundation,
75-2 Kuroda, Wakayama 640-8341, Tel 073-474-0860 Fax 073-474-0862, E-mail: sasano@saika.or.jp

第 11 回環境化学討論会講演要旨集 P154-155
2002 年 6 月 3〜5 日（箱根プリンスホテル）
温度
注入口温度
高
試料溶媒の沸点

SeptumSeptum Purge Line

Carrier Gas Line

カラムオーブン温度
低O-Ring

HotAir

TubeHeater

ｽﾌﾟﾘｯﾄｽﾌﾟﾘｯﾄﾚｽ

ｽﾌﾟﾘｯﾄ

1st stage 2nd stage
注入濃縮&誘導体化

3rd stage
導入

4th stage
分析時間

Fig. 2 注入口および GC 条件の概念

Liner
O-RingSplit Purge LineGC OvenCapillary Column

Fig. 1 注入口装置の概略図

14000
12000

Table 1 GC/MS 条件
GC/MS

QP5050A (Shimadzu)

Pre-column
ColumnInjector Oven Temp.
Column Oven Temp.
Detector Temp
MS Method

Deactivated silica capillary tube 0.53mm×0.3m
DB-5MS 0.25mm×30m, 0.25µm
60℃-80℃/min-240℃(4min)-80℃/min-260℃(2min)
60℃(5min )-15℃/min-280℃(2min)
280℃
SIM; 323, 338、SCAN;50-500

Carrier Gas Press
Splitpurge Flow
Splitless Time

25kPa-150kPa(5min)-70kPa-7kPa/min-170kPa
50 ml/min
5 min

2R = 0.995
Peak Area

10000
8000

30.0e66000

25.0e6

4000

TIC

3-A

4.0e6
7393

3.0e6

20.0e6

1.0e6

00

510
1520
Injection Volume (µl)

2510.0e6

323

ClCl

95

15.0e6

O TMS

Cl

2.0e6

2000

ClCl

65

0.0e6 51

113

167

100

229

288

200

338
3463005.0e6

Fig. 4 注入量とピーク面積の関係（0.01ng/µl PCP; 5, 10, 15, 20µl 注入）
1.0E+06

1225.0e615750e3

20.0e6500e315.0e6

1.0E+04

1.0E+03

OHClCl95
250e3 60 83

10.0e60e3
50

163-B266Cl

Cl

1000e3

1.0E+05

Cl

165

130
115 143

100150202 230
200

250

300

5.0e6

12

1.0E+020.0001

1430.0e6 TIC

R2 = 0.9985

Peak Area

130.001

0.01

0.1

1Concentration (ng/µl)

Fig. 5 検量線(0.001-0.1 ng/µl)

131415Fig. 3 SCAN クロマトグラムとスペクトル
A; 誘導体化注入法を用いた場合（PCP+BSTFA）
B; 誘導体試薬を注入しなかった場合（PCP のみ）

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