科），大阪府内に 6 キャンパスも有することから（森之宮キャンパスは 2025 年から供用開始），今後，近畿地方の学びの拠点として大きな存在感を示していくであろう．
辻先生には，後述する研究室内に加えて，杉本キャンパス内も案内していただいた．本校は創立 140 年以上の伝統があり，昭和 9 年に建てられて国の登録有形文化財にも指定されている 1 号館が大変有名である．また最近では，この大学の源流の大阪商業講習所の創設者●●

大阪公立（市立）大学大学院
工学研究科
辻研究室を訪ねて●●〈は じ め に〉の一人である五代友厚の銅像（写真 1）も設置されているので，杉本キャンパスを訪れる機会があれば是非ご覧いただきたい．

〈研究室について〉
辻先生は 1992 年に東北大学大学院工学研究科博士課程を修了された後，東北大学金属材料研究所に助手として着任され，2002 年に大阪市立大学大学院工学研究科に助教授として転任後，2008 年に教授に昇任されてい2021 年 11 月 29 日，筆者は矢嶋摂子先生（和歌山る．この間，1998〜1999 年に日本学術振興会特定国大学システム工学部）と JR 阪和線の杉本町の駅で待ち派遣研究者として，ベルギーのアントワープ大学のけんさん

合わせて，杉本キャンパス内の辻幸一（つじこういち）

R. Van Grieken 教授のところで研鑽を積まれている．こ先生の研究室を訪れた．新型コロナウイルスの蔓延が危れまでに数々の賞を受賞されているが，記憶に新しいと惧される状況ではあったが，幸いなことにこの時期は感ころでは 2019 年度日本分析化学会学会賞がある．日本

染状況が比較的落ち着いており，無事に訪問することが分析化学会の近畿支部では，2017〜2018 年度の支部できた．

長を務められ，筆者も辻支部長の下で庶務幹事として働

さて，前段において訪問先の大学名を敢えて記載しなかせていただく機会があった．辻先生はとにかく仕事がかった．というのも，筆者が訪問したときは大阪市立大早く，筆者のところが律速段階となってご迷惑をおかけ学であったが，読者がこの原稿を読む頃には大阪公立大したことが多々あったと思うが，辻先生の的確かつ迅速学となっているからである．ここで，2022 年 4 月に開な支部運営を間近で見ることができたことは筆者の財産学した大阪公立大学について簡単に紹介したい．大阪公となっている．

立大学は，大阪市立大学と大阪府立大学を母体にして設

辻研究室は，工学研究科物質化学生命系専攻に属し，立された新しい公立大学である．単独でも規模の大きい

物理分析化学を専門分野としている．スタッフとして大学であったが，二大学が合わさることで学生数約 1は，教授の辻先生と，特任助教として松山嗣史先生がお万 6 千人の全国最大規模の公立総合大学となった（学られ，大学院生 8 名（うち博士課程 3 名）と学部生 3

部学生の入学定員数：国公立大学で 3 位）．英語表記に名が在籍している（2021 年度）．また，関田良香さん

ついては，途中で色々と案が示されていたが，最終的に（写真 2），岩橋元子さん（写真 6）は，大学の研究推進は Osaka Metropolitan University に落ち着いたようであ課の共用事業担当として，研究を支援されている．今回

る．12 の多彩な学部・学域を擁し（大学院は 15 研究は，コロナ禍であったために学生への取材は控えたが，

写真 1 杉本キャンパス内の五代友厚の銅像

写真 2 X 線光電子分光装置と関田さん

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ぶんせき 2022 6熱心に研究に励んでいる姿が印象的であった．なお，掲載した写真では登場する人物がマスクを外しているが，これは写真撮影時に瞬間的に外しただけで，それ以外は新型コロナウイルスの感染予防のためにマスクを着用していたことはあらかじめお断りしておく．

〈研究テーマについて〉
材料の物性はその材料を構成する元素（種類と存在量）や構造に起因するところが大きく，極微量の元素であってもデバイスの機能発現を大きく左右することがある．そこで，辻研究室では特に微量元素分析と微小部元

写真 4 CM-XRF 分析装置と松山先生（手前），辻先生（奥）素分析を２大目標として，機器分析法の改良，各試料へ小部の分析を可能にしている．単一のキャピラリーはモの適用方法の開発などの研究を進められている．多くのノキャピラリーと呼ばれるが，これが数万から数十万の研 究 テ ー マ の 中 か ら， 本 稿 で は， 全 反 射 蛍 光 X 線束として成るのがポリキャピラリーである．モノキャピ(TXRF) 微量分析と共焦点型微小部蛍光Ｘ線 (CM-XRF)

ラリーに比べて，ポリキャピラリーでは約 10 倍強い X分析について紹介する．

線ビームを得ることができる．辻先生は，このポリキャTXRF 微量分析では，一般に 10 μL 程度の水溶液試

ピラリー X 線集光素子を励起側と検出側に利用した国料を平坦ガラス基板上に滴下し，その乾燥痕を測定す

内初の CM-XRF 分析装置の試作に成功している．現在

る．溶液試料が高濃度マトリックスである場合，乾燥痕までに市販の装置はなく，日本では唯一辻研究室に設置は山状に盛り上がり X 線全反射が阻害されるとともに，されている（写真 4）．CM-XRF 法では，深さ方向の非XRF 測定においては自己吸収などのマトリックス効果破壊元素プロファイリング（1 次元線分析）が可能とが顕著になることが課題であった．そこで辻先生は薄膜なっている．この特徴を生かして兵庫県科捜研と共同実様の乾燥痕を再現性良く作製することを目指し，試料保験を実施され，自動車事故現場に残された自動車塗膜片持基板に加工を施すことを考案された．光リソグラについて，複数の元素の特徴的な深さ分布が非破壊的にフィーを利用して井桁構造を有するレジスト加工膜を作得られた．また CM-XRF 法では，特定の深さで元素分製し，このレジスト膜を用いることで液滴は凝縮せず，布（2〜3 次元分析）を得ることもできる．携帯電話な

約 4 mm 角で厚さ 1 μm 以下の乾燥薄膜を作製できるこどに利用される SD メモリーカードについて，表面からとを初めて示された．これにより，マトリックス効果が35 μm と 90 μm の深さで捉えた Cu の元素分布像が示軽減でき，乾燥痕形状も安定し，TXRF 定量分析精度がされ，プリント配線部が多層構造になっている様子が可向上した．実験室では，ちょうど松山先生と修士学生視化された．このように CM-XRF 法は，非破壊分析に（山口浩輝君）が TXRF 測定をするところであったので，写真を撮らせていただいた（写真 3）．辻先生は，国内外の TXRF 微量分析講習会や書籍を通じて，この手法の普及と適用拡大に努められている．松山先生は TXRFよる鑑識捜査や工業製品の不良解析のための強力なツールとなることが期待されている．
筆者は装置の試作や改良についてあまり経験がなく，このように多くの装置を開発されている辻先生が大変眩

分析や CM-XRF 分析の取り扱いに詳しく，学生にわかしく見えたが，インタビューの後半で興味深い発言をさりやすく指導されている．

れていた．即ち，X 線装置において，X 線源と検出器をCM-XRF 分析装置は，一般的な装置とは異なり，湾触ることができないが，試料の動かし方や測り方だけで曲成形されたガラスキャピラリーでＸ線を集光させ，微も変更できれば装置性能が大きく変わってくるので，工夫次第で新しい有益な情報を取得できるということである．市販の装置をそのまま使っているだけの分析化学者（筆者を含む）にとっては金言であると思うので，読者の皆さんにも紹介しておく．

〈お わ り に〉
取材の途中でお昼になったので，辻先生に杉本キャンパス内の食堂に連れて行っていただいた．店内は和をモチーフにした落ち着いた空間となっており，筆者が世間知らずなだけなのかもしれないが，大学構内にこのよう
写真 3 TXRF 測定を行う松山先生（奥）と学生（手前）ぶんせき 2022 6

な場所があることに大変驚いた．また，提供された食事
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食堂で歓談する辻先生（左奥），松山先生（左手前），筆者（右奥），矢嶋先生（右手前）

写真 6が本格的な和食だったことも驚きであった．短い時間できた．

写真 5研究室メンバーの集合写真（後列の右から辻先生，岩橋さん，松山先生）はあったが，辻先生や松山先生と楽しく会談させていた

最後に，大変お忙しい中取材を引き受けていただき，だくことができた（写真 5）．また，お昼休みの間に研研究室を案内していただいた辻先生，松山先生ならびに究室メンバーに集合していただき，全体写真を撮らせて研究室メンバーの皆様，また取材に同行して多数の質問いただいた（写真 6）．写真からも良くわかると思うが，をし，多くの情報を引き出してくださった矢嶋先生にこ

辻先生のソフトなお人柄がそのまま研究室全体を包み込の場を借りて厚く御礼を申し上げる．

んでいるようである．本取材を通して，辻研究室が多くうかが〔和歌山大学システム工学部中原佳夫〕の業績を挙げられている理由の一端を窺い知ることがで

原稿

募集「技術紹介」の原稿を募集しています
対象：以下のような分析機器，分析手法に関する紹介・解説記事
1）分析機器の特徴や性能および機器開発に関わる技術，2）分析手法の特徴および手法開発に関わる技術，3）分析機器および分析手法の応用例，
4）分析に必要となる試薬や水および雰囲気などに関する情報・解説，5）前処理や試料の取扱い等に関する情報・解説・注意事項，6）その他，分析機器の性能を十分に引き出すために有用な情

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報など
新規性：本記事の内容に関しては，新規性は一切問いません．新規の装置や技術である必要はなく，既存の装置や技術に関わるもので構いません．また，社会的要求が高いテーマや関連技術については，データや知見の追加などにより繰り返し紹介していただいても構いません．
お問い合わせ先：
日本分析化学会『ぶんせき』編集委員会〔E ─ mail : bunseki@jsac.or.jp〕

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