プラズマエレクトロニクス分科会会報 No.49
2008年（平成20年）12月発行
布村、柳生、村山、大竹

目

次

巻頭言
「人生は運と弾み.........その運をつかむには....」

上智大学名誉教授

岡崎 幸子

1

寄稿
衝撃エネルギー工学グローバル先導拠点

熊本大学

秋山 秀典

3

研究室紹介（その４３）
研究室紹介（その４４）

山口大学
和歌山大学

福政 修
伊藤 昌文

6
11

海外の研究事情（その２４）

UC Berkeley

崎山 幸紀

15

学生のためのページ すぐに役立つプラズマエレクトロニクス
プロセス用プラズマのプローブ計測

中部大学

中村 圭二

18

国際会議報告61ｓｔ Gaseous Electronics Conference 2008 (C)50th APS Division of Plasma Physics Meeting
AVS 55th International SymposiumInternational Congress on Plasma Physics (ICPP2008)IUMRS International Conference in Asia 2008
The Eleventh International Conference on
Plasma Surface Engineering (PSE 2008)
XIX Europhysics Conference on Atomic and Molecular Physics
of Ionized Gases (ESCAMPIG)IEEE International Conference on Plasma Science (ICOPS)
9th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology &21st Symposium on Plasma Science for Materials

国内会議報告フロンティアプロセス2008
２００８年秋季 第69回応用物理学関係連合講演会 シンポジウム「パルスプラズマが拓く新しい技術～プロセスから環境・バイオまで」
２００８年秋季 第69回応用物理学関係連合講演会 合同セッションD
２００８年秋季 第69回応用物理学関係連合講演会 合同セッションF
２００８年秋季 第69回応用物理学関係連合講演会 分科内総合講演
第2回プラズマエレクトロニクス インキュベーションホール
第１9回プラズマエレクトロニクス講習会
第1回プラズマ新領域研究会～プラズマを用いた滅菌・殺菌技術～
第２３回光源物性とその応用研究会報告

i

名古屋大学
大阪大学
大阪大学
東北大学
名古屋大学
長崎大学

堀 勝
浜口 智志
浜口 智志
畠山 力三
高井 治
藤山 寛

26
29
30
31
34
36

名古屋大学
熊本大学

佐々木 浩一 37
勝木 淳
38

京都大学

白藤 立

東北大学
京都大学
パナソニック(株)名古屋大学
武蔵工業大学
京都大学
名古屋大学
産総研
和歌山大学
室蘭工業大学
NHK

寒川 誠二
41
江利口 浩二 43
奥村 智洋
豊田 浩孝
45
平田 孝道
46
白藤 立
47
上坂 裕之
48
布村 正太
49
太田 貴之
50
佐藤 孝紀
52
平野 芳邦

39

行事案内
２００9年春季 第56回応用物理学関係連合講演会 シンポジウム
２００9年春季 第56回応用物理学関係連合講演会 スクール
プラズマ科学シンポジウム2009 (PSS-2009)／第26回プラズマプロセシング研究会(SPP-26)
IC-PLANS 2009
掲示板
平成20年度前期プラズマエレクトロニクス分科会活動報告
プラズマエレクトロニクス関連会議日程
平成21年－22年度役員選挙について
編集後記

ii

京都大学
京都大学

白藤 立
白藤 立

53
54

大阪大学
名古屋大学

節原 裕一
関根 誠

55
56

57
61
62
63

巻頭言

人生は運と弾み.........その運をつかむには....
上智大学名誉教授

岡崎幸子

本表題を[何と無責任な話題]とご覧の方も居る。年長者が貴女にという判断は貴女の能力もられようか。真面目に勉強する学生が減りそう考えておりその仕事ができるか出来ないかの判な題であるが、極めて真面目な経験で得た結論

断力は、受ける本人より十分確かと考えてよい。

である。人生を決めるのは、運が 70％位かと長若輩の自分の判断の方が正しいとの相当の思い

年考えていたのを、99.9％に改めたのは、充分上がり回答から遠慮めいた返事になる。余程のに老化後の数年前である。

事がない限り大いに感謝して頂くべきものである。

老人なればこそ、思い返して[あの時が運であった]と人にも言えるが、運は明らかに人が呉れ

今はもう死語になってしまったか[縁の下のるものである。
［何時、何処で、誰が、どんな運

力持ち]、無償の作業をする事は、思いがけず大を呉れるのか]の予測は全く不可能である。現在

きい運をもたらすと思う。此の老人年代の為か

でも[これは全くの運]と思う事に出会っている。

[これ程大勢の日本人が世話になって居たの

上手く紹介の機会を逃した名誉教授の先生をだ！] と海外の大教授の停年時、学術振興会招[僕の卒研で居た実験室の隣の教授室におられ聘教授として、若い研究者を此の大教授のもとたから、旧知です。] と定年をとうに過ぎた企に山と送った日本の教授の名前を借りて推薦書

業人から聞いて、紹介無用で事が進められる機を書いた。院生時代を含め大いに世話になった会に最近出会った。彼の選んだ卒研の種類と大筈の人に話しても［あの先生どんな話が出来ま

きい大学の教授室の数を考えると、隣室の御陰すか？] と酷く素っ気ない。１回推薦じゃ無理で旧知はそう高い確率ではない。

ですよと聞いていた学振からの直ぐの許可は、予測不能の運をつかむには、まず引きこもり

大教授も名を借りた先生も[自分が偉いから成は不都合で、運を搬送する人間に会える機会は

功...] と目出たく、来日後必要もないのに、実出来る限り出席する事である。更に重要なのが作業は男性でない岡崎と聞かされた大教授はび決断力で、何かの機会を頂いた時[私如きに下さっくり仰天。がらり態度も変わったが[日本人がるのですか、精一杯努力します。駄目なら骨をあれ程世話になった感謝]で他意はない。此の後、拾って下さい]と[考えさせて下さい]と時間を掛

当時（25~30 年前）は、出席が自由でない Gordon

けて受け取るのと、呉れる人間（主に年長者）

会議からの招待を貰った時、日本人の中に推薦から見ると当然前者を応援したくなるだろう。

者が居る筈はない、一体誰が？と解るのに数年しばしば、その昔の女性に見られる[私如きに頂費やした。解らぬ筈で前述大教授の教え子で、くのは....]の本人は謙譲の美徳とお考えの遠慮

現地の他大学の熱プラズマ研究の教授が、恩師かも知れないが、大間違いの[思い上がり]であから頼まれて推薦してくれていた。当時は1

[Gordon 会議への出席]がステイタスだった時期

っとあの本が出来上がります。] [おめでとうご

で、我が研究の信用度を大いに上げてくれたのざいます。しかしゲラ刷り一つ見ていません。]

は確かである。大教授逝去後はっきり判明し、[や、や、ご自分でお書きですか？] [はい、頼ま

推薦してくれた教授に会って挨拶が出来た。此れた Y 先生に直ぐに..何年も前ですね]。その場の運は明らかに、利益に関係ない仕事の結果での携帯電話で著者名印刷中をストップさせた教ある。但し、相談されて、精一杯の助力をして授は最高責任者だった。著者名に入っていない

逆に後足で砂を掛けられた経験も相当数あるが、のがおかしいと私の顔を見て声をかけ、御陰で女性風情に借りを作るのは無意味とみる男尊女

消える筈の名前が生き残ったのである。消す力

卑時代の特殊性であろう。今日の作業量増大社が働く等は、男女差別最高時期を働いて来て驚会で、学会を含め無償で努力される諸氏が幸運

かない私でも、数 10m の移動過程で出会う偶然に出会わない筈はないと思う。

は、それも頼まれて生まれて初めて出席した学

科学の実験研究で最重要項は[科学的良心]で会場であった事、その 3 年前に初めて招ばれた

有る事は言うまでもないが、解った振りも体裁

120 人の会合で壇上に上がった御陰で皆様に私もない正直議論が望ましく、しかもその結果がを認識して貰えてあった事が有ってこそ、初め運に繋がる事も有る。小さい国際学会場ホテルて拾った運には驚く。

で、夜半迄同室で議論の若い研究者。最後に私「人に会う」ことの有利さがこの例でも説明の[実験全部やり直し！] にふくれてドアを蹴出来ようか。実は 120 人の会合の個々は全く存って出た彼女の 10 数年後の見事な論文で、[ヘじ上げず、会合の１年後に、その中のアメリカ

リウム大気圧放電が前期グロー、純窒素ではタ

生活の長い教授から突然アメリカのお仲間提案

ウンゼント放電]を世界最初に出してくれた有の本のテーマから、私が参加して書くべきとのり難さり難さは格別である。やってみたら出来ご意見メールに驚いた。
折角の此の御話に従い、てしまったヘリウムの均一放電も大きい顔で更に初めてお目にもかかり、この先生がプログ[大気圧ヘリウムグロープラズマ]と言える訳でラム委員だったので、初めての学会にも出席しある。又退職後の小企業で見つけた任意気体のたものである。これほど、沢山の皆様から運を網電極に寄る摩訶不思議 50Hz でさえグロー発

頂き 99.9%にあげた次第である。

生の現象のみ書いた 15 年前の論文の[何故か？]

最近の急激な社会の変化を考えても、その時研究を此のグループが最近開始した。こんな幸の社会状況によって生まれる様々な運、不運は運有ろうかとメカニズム解析を待つ今である。

容易に想像出来よう。此の時代の変化も含め、「運で決まる率」を 99.9%迄上げた例は、学起こる筈であった恐るべき事が計画者グループ

会の会場からレストラン迄 20m 程の通路でばの解散で消滅したり、全ての真実は通常時間をたり出会ったが、その３年前に開催の 120 人程経て後に判明するから運の到来数は、老人にとの会合で、壇上に上り 20 分の話をした白髪の岡って、今日数えると数えきれない位多い。

崎を認識して[やあ、やあ] のお声かけ。こちら

以上、ふざけた様な表題の生まれた経緯の１には 120 人集団中の個々の認識は全く無くて部である。

[お久しぶり]と調子を合わせたものである。[や2寄稿グローバル COE プログラム「衝撃エネルギー工学グローバル先導拠点」
熊本大学大学院自然科学研究科

秋山秀典

菌、癌治療、遺伝子組換え、極端紫外光源、原拠点の目的
グローバル COE(Centers of Excellence)プロ

子移動・同位体分離、超強度 Mg 合金、衝撃物性

グラムは、生命科学、医学系、化学・材料科学、

データベースなどの研究の成果に基づいて、環情報・電気・電子、機械・土木・建築・その他

境保全、資源循環、食品、医療、ナノテクノロ

工学、数学・物理学・地球科学、人文科学、社

ジー、極限物性などの分野にまで裾野が広がっ

会科学、学際・複合・新領域の 9 分野に関し、ており、衝撃エネルギー工学は、極めて幅広い

それぞれ 12 から 14 のプログラム（学際・複合・産業創生が期待できる領域です。

新領域は今後も採択予定）を採択し、文部科学

衝撃エネルギーは、国際的にはパルスパワー

省が重点的に支援を行って、世界をリードすると言われています。極短時間ではあるが日本や創造的な人材育成を行う事業です。熊本大学大

世界の消費電力に相当するような電力を負荷に

学院自然科学研究科からは、「衝撃エネルギー工

供給するため、高エネルギー密度プラズマ現象

学グローバル先導拠点」（拠点リーダー、秋山秀や放電現象を伴うことが多多あります。しかし

典）が、機械・土木・建築・その他工学分野のながら、百万 G の超重力場を作ることによる固グローバル COE プログラムの一つとして、平成体や液体内原子の移動、パルス高電磁界の細胞

20 年 7 月に 5 年間の予定で採択されました。

への作用と癌治療等への応用、エネルギーの急衝撃エネルギーは、瞬間的な超高エネルギー

激な変化を利用した長周期積層構造制御によるです。これを制御して、狭い領域に作用させる

世界最強 Mg 合金の開発など、放電・プラズマ現ことにより、水の瞬間的プラズマ化や地球中心

象を伴わない研究対象も多く含まれています。

部に相当する高圧力の発生など、通常の方法で熊本大学は、学問分野の多様化に迅速かつ柔は不可能な現象、並びに反応を実現します。21軟に対応するため、異分野の研究者が学問領域

世紀 COE プログラム「衝撃エネルギー科学の深の枠を超えて共同・切磋琢磨する組織「大学院化と応用」で開拓されたこの学問分野は、衝撃先導機構」を平成 15 年度に設置しました。学長

エネルギーと同程度の圧力や加速度での過渡を機構長とする大学院先導機構は、21 世紀 COE

的・非線形・非平衡現象、及び急激なエネルギ

プログラム「衝撃エネルギー科学の深化と応用」

ー変化を伴う現象の解明・応用を包含し、グロを熊本大学に個性を付加する最重要拠点と位置

ーバルに展開されています。衝撃エネルギーにづけ、戦略的に資源を投入して、世界トップレ

よって固体、液体、気体、生体に発生する諸現

ベルの特色ある施設と設備の充実を図ってきま象の解明・応用については、排ガス処理、湖沼した。その結果、これまでに、国際コンソーシ

浄化、非破壊検査、コンクリート骨材分離、殺アム協定の締結、複合新領域科学専攻（衝撃エ3ネルギー科学講座）の新設、衝撃エネルギーのて、国際共同研究を通したキャリアパス形成支

生体への作用と応用を解明するバイオエレクト

援や人材の流動性を高めます。

リクス研究センターの新設等の成果を生み出し研究拠点の概要ています。
すでにグローバルな拠点となっている 21 世

図 2 に示すように、世界最高水準の施設・設紀 COE を発展させる本グローバル COE では、国備からなる衝撃エネルギー基盤技術、21 世紀

際的イニシアティブを発揮することにより、衝COE で多くの成果を生んだ衝撃エネルギー科学、撃エネルギー工学のグローバルな先導拠点を構

及び社会や自然科学の重要な課題に係わる衝撃

築し、先導的人材の育成、新産業創生、及び衝エネルギー応用を有機的に統合するため、すで撃エネルギー工学の体系化に貢献することを目に国際的イニシアティブを発揮している衝撃超的としています。このために、衝撃エネルギー

高圧分野、バイオエレクトリクス分野、及び環工学の衝撃超高圧分野、バイオエレクトリクス

境軽負荷分野の研究を包括的に推進することに分野、及び環境軽負荷分野の国際的イニシアテ

より、グローバルな先導拠点を構築し、衝撃エィブを強化して、衝撃エネルギー工学の発展を

ネルギー工学の体系化、及び環境保全や新医療図り、産学官コンソーシアムを活用した新産業法等、極めて幅広い分野に亘る新産業創生を実創生に繋げます。また、特色ある教育プログラ

現させます。

ム（IMPACT プログラム）を始動し、「衝撃エネ
ルギーの科学と工学を基礎とし、専門の枠を超産業創生を実現するため、衝撃エネルギー産

えた幅広い見方ができ、かつ豊かな創造性とグ

業化コンソーシアムを立ち上げつつあり、多く

ローバルな視野を持つ先導的人材」（次世代を担の企業からの参加を期待しています。ご参加いう国際的なリーダー）を輩出します。

ただける方は、熊本大学グローバル COE 推進室（g-coe1@jimu.kumamoto-u.ac.jp）までご連絡下さい。本グローバル COE プログラムの詳細は、人材育成拠点の概要

HP（http://ppe.coe.kumamoto-u.ac.jp/）に記

異分野融合型の人材育成を強化するため、図載されています。

1 に示すように、専門、言語、経験等、すべての障壁を取り除いた

Lab without Walls 環境を構築し、21 世紀 COE で成功した 10 の既成人
材育成プログラムに加えて、週一回 COE 関係者
全員が参加する英語による若手融合プロジェ
クトゼミナール、及び海外リエゾンラボ・二つ目の学位取得・一週間にわたる英語での国際先導若手研究者阿蘇合宿研修・若手研究者の経験不足を補うシニア知恵袋プログラム等のIMPACT（衝撃）プログラムを始動して、次世代を担う国際的なリーダーを育成します。
さらに、世界の大学・研究機関・企業との連携を活用し4

図 1 人材育成

図 2 研究活動

5

研究室紹介(その４３)

山口大学・大学院理工学研究科（物質工学系学域）
プラズマエネルギー工学研究室

福政

修

２．プラズマエネルギー工学研究室
私の所属ですが、平成１８年４月の部局化に伴い所属が大学院理工学研究科（物質工学系学域）となりました。昭和５７年に工学部電気工学科電力工学講座（当時の教授は佐伯節夫先生）に着任
し、昭和６３年に研究室を引き継ぎました。平成時代に入って前述のごとくめまぐるしいほどの組織改革です。少し細かい話しですが、博士前期課
程は電子デバイス工学専攻（工学系）でエネルギーデバイス工学領域、後期課程は物質工学系専攻（工学系）で材料エネルギー工学領域、教育研究
分野（研究室）が“プラズマエネルギー工学”となります。そして、担当学部学科は工学部電気電子工学科です。
この間、内藤裕志先生（現山口大学教授）、大崎堅先生（現山口短期大学教授）には、研究室のメンバーとして学生教育、研究の立上げ・展開に多大なご協力をいただきました。現在は、福政 修
教授、大原 渡准教授、崎山智司准教授、田内 康
技術専門職員、
藤本 聡技術職員の教職員で教育･研究を含めた研究室の運営を荷っております。

１．はじめに－山口大学の紹介
山口大学は７学部と大学院１０研究科で構成される総合大学ですが、大学本部ならびに人文学部、教育学部、経済学部、理学部、農学部の５学部は山口市の吉田キャンパスに、工学部と医学部の２学部が宇部市にあります。さらに宇部地区の２学部、工学部（常盤キャンパス）と医学部（小串キャンパス）もそれぞれ別々のキャンパスにあるので、工学部地区は一見理工系の単科大学の雰囲気を持っています。工学部に入学した学生諸君は最初の１年間を山口キャンパスで過ごし、基礎･導入
教育を主体とした共通教育を受け総合大学の雰囲
気を味わい、２年から宇部市の常盤キャンパスで専門教育が中心となる学生生活を始めることになります。
ところで、山口大学は平成２７年（２０１５年）に本学の前身である山口講堂の設立（１８１５
年・文化１２年）から２００周年という節目を迎えます。国立大学としては平成１１年に創立５０周年を迎え、２１世紀次の５０年に向けてスター
トを切りました。当時の学長は数学者の廣中平祐先生で、大きく羽ばたく未来に向けて、山口大学
は「発見し・はぐくみ・かたちにする 知の広場」
を基本理念として掲げました。このスピリットが教育・研究・社会連携に充満する『知の広場』の実現が大学の使命であると考えております。
さて、工学部ですが、平成２年の博士後期課程
設置に伴う大幅な学科改組、平成８年の教養部廃止に伴う学科改組、それ以後も独立専攻の設置、医工連携の応用医工学の設置、大学院の部局化と種々の組織改革がありました。そして、現在は学部７学科（学生定員５３０名：機械工学、社会建
設工学、応用化学、電気電子工学、知能情報工学、
感性デザイン工学、循環環境工学）、大学院理工学研究科（工学系：博士前期８専攻、博士後期４専攻）の体制で動いております。

３．研究活動
私共の研究室では、大きく分けて核融合関連および材料プロセス関連の２つの分野に亘るプラズ
マ科学・技術に関する課題を中心に研究を進めています。以下にその内容を簡単にご紹介します。
3.1 負イオン生成の物理と応用
これは核融合関連のプラズマ研究ですが、炉心プラズマを数億度の超高温に維持するため、将来の核融合炉では、負イオンをベースにした中性粒
子入射（NBI）加熱が必須です。そこで、NBI 用の大電流重水素負イオン源（D−）の開発がぜひとも必要となります。
ところで、純粋水素放電プラズマ中での水素負6イオン（H−）の生成機構はi) H2 (v"＝0 )＋ef （30 eV 以上の高速電子）→ 電子励起状態の分子 H2*＋ef '→ 基底状態での振動励起分子 H2 (v")＋hν（真空紫外）
ii) H2 (v"＞5-6 )＋e（1 eV 程度の低速電子）→ H−＋Hの２段階過程であり、電子エネルギ－制御が是非とも必要です。D−生成も同様な過程と考えられています。実際の負イオン源では少量のセシウム（Cs）を導入して表面生成負イオンを同時に利用する方式で動いております。しかし、私共は基礎となる純粋な H2/D2 放電プラズマ中での H−/D−生成の高効率化を実験的に検討しています。
さらに、負イオン源の長寿命化を目指した高周波負イオン源の開発、レート方程式を基礎とする Cs 添加型
負イオン源のモデリングによるプラズマパラメー
タと負イオン生成の関係、イオン源からの負イオ
ン引出しの物理機構の解明等を行っております。

日本原子力研究開発機構、九州大学応用力学研究所と共同研究を行ってきました。
【重水素負イオン生成の高効率化】
DC 放電プラズマに対して、磁気フィルターを用いて負イオン体積生成に適するようにプラズマを制御することは、H2、D2 プラズマともほぼ同様に可能です。図１、図２はイオン源内の負イオン
生成量およびそれに対応する引出し負イオン電流のガス圧依存性を示します。パラメータはフィル
ター磁場強度 BMF で、BMF を弱くすると（150G から 80G）プラズマの変化に対応してイオン源内の負イオン生成は増加し引出し負イオン電流も増えます。最適ガス圧はやや異なりますが、BMF とガス圧をうまく組合せることにより、D−生成は H−
生成と同等あるいはそれ以上も可能なことが分かります。しかし、引出し負イオン電流特性で BMFの効果が H−とは異なります。この点の物理機構はまだ不明であり現在検討中です。

3.2 プラズマの生成・制御
これはイオン源、プロセス用プラズマ源を意識した研究ですが、負イオン源用プラズマの生成・パラメータ制御を重点的に行っています。シート状の横磁場で電子輸送を制御する磁気フィルター法およびメッシュグリッドを用いて静電的に電子輸送を制御するグリッドバイアス法により、２段
階負イオン生成を最適化するための、プラズマ中の電子密度、電子温度、プラズマ電位などのパラメ－タ制御を検討しています。
特に、DC プラズマおよび ECR、VHF、RF プラ
ズマ等のプラズマ生成法との関連で磁気フィルター法とグリッド負バイアス法による電子輸送制御の効果とそれに伴う負イオン生成効率の違いを検討しています。また、VHF プラズマ生成に関しては定在波重畳法による VHF プラズマの均一かつ大面積化の検討も進めています。

(a)

50

D2ガス

(b)

50

H2ガス

40

30

30

ΔI (mA)ΔI (mA)

80Gauss

40

20
80Gauss

10

120Gauss
150Gauss

20
10120Gauss
150Gauss

0

0

2

4
6
P (mTorr)

8

0

10

0

2

4

6

8

10

P (mTorr)

図１ 負イオン生成のガス圧依存性（放電電力
700 W、パラメータは BMF）
(a)

0.5

D2ガス

(b)

0.5

H2ガス
80Gauss

80Gauss

0.4

120Gauss

0.4

120Gauss

150Gauss

0.3

IH- (mA)

ID- (mA)

150Gauss

0.2
0.1
0

ここで、グリッドバイアス法に関しては、東北大学名誉教授の佐藤徳芳先生に議論していただきました。また VHF プラズマ生成に関しては APTの村田正義博士のお世話になりました。
なお、
3.1、
3.2 の一部の課題に関しては、核融合科学研究所、

0.3
0.2
0.1

0

2

4
6
P (mTorr)

8

10

0

0

2

4

6

8

P (mTorr)

図２ 引き出し負イオン電流のガス圧依存性【RF 負イオン源の高効率化】
磁気フィルターを用いた負イオン源プラズマの710

現在 VHF プラズマの負イオン源への応用を意識して大面積化と Te 制御の検討を進めています。

制御は DC プラズマに対しては効果的ですが、RFプラズマに対しては特に Te 制御が思わしくありません。私共は、RF プラズマに対して磁気フィル
ター法と静電的な制御であるグリッドバイアス法との比較を行っています。Te 制御に対してグリッドバイアス法がより効果的であること、Te 低下により引出し負イオン電流（即ちイオン源内の負イ
オン生成）が飛躍的に増大することを示しました。
これは負イオン体積生成を実証した実験でもあります。今後は、大電流負イオン源へのグリッドバ
イアス法の適用可能性に向けた検討が必要です。

3.3 高次制御熱プラズマプロセスの開発
私共の研究室では佐伯教授の時代からプラズマ
ジェット発生器に関する基礎研究を行っており、DC ジェットや多相交流ジェットに関する豊富な蓄積がありました。それらを基礎にして、強制伸長型プラズマジェット発生器を開発しました。新
しく開発したジェット発生器は、陰極とノズル陽極との間にノズル状の中間電極（絶縁集束部）を持つ点が（陰極とノズル陽極とから成る）通常型のジェット発生器と異なります。この発生器の特長は、大気圧から減圧下までの広い動作領域にわ
たって、安定にしかも高熱効率でプラズマジェッ
トを発生させることです。この熱プラズマプロセ
ス装置を用い、高い反応速度を維持したまま、低温プラズマの特長であるプロセスの大容量化・均一化を図ることを視野におきながら熱プラズマプ
ロセスの研究を進めてきました。
この間、通商産業省（現 経済産業省）の施策としてスタートした地域コンソーシアム研究開発
事業に、私共の研究シ－ズを主体としたプロジェ
クトが採択されました（平成１０－１１年度）。福政をプロジェクトリーダーとする産・学・官のグループによる研究開発プロジェクト「多目的・高精度熱プラズマプロセスの開発」がそれです。
この研究開発においては、混合粉末からのフェライト微粒子合成、傾斜構造膜、耐環境皮膜の作製等を課題とし、溶射に関しては現場施工型溶射装置の開発にも取り組みました。また、それまでは DC プラズマジェット主体の研究のみでしたが、RF 熱プラズマ発生装置も加わり、幅広く熱プラズ
マプロセスの検討を進めることとなりました。
ジェット発生器および熱プラズマ計測システムの高性能化を常に意識しつつ、現在も、高品質水酸アパタイト（HAP）膜の作製、カーボンナノ構
造体の合成、MgO 溶射膜の作製、層流プラズマ反応溶射法による TiO2 粉末の合成、イットリア溶射膜の作製、等の課題で研究を進めています。

【定在波重畳法による VHF プラズマの生成・制御】
プロセス用プラズマ源に用いられる VHF プラ
ズマは定在波が発生し大面積かつ均一なプラズマ生成が困難とされています。この解決法の一つとして複数の定在波を発生し、位相変化によりその定在波の腹の位置を制御し、重ね合わせることで均一な VHF プラズマを生成する定在波重畳法の有用性について検討しています。

W1 左寄せW2 右寄せW1 左寄せ+W2 右寄せ

W1 左中寄せ+W2 右中寄せ

図３ VHF プラズマからの発光の空間分布
具体的には、例えば、200MHz の電圧を 1kHz程度の繰返しでパルス変調して２つの定在波（W1と W2）を発生させてプラズマを生成・制御します。図３にプラズマからの発光の軸方向分布の写真を示します（上の２つはそれぞれ W1 と W2 のみ、下の２つが重畳した場合）。位相制御により発光位置が変化しますが、これに対応して電子密度の軸方向分布が種々変化することが分かります。

【熱プラズマ計測システムの開発】
溶射、合成等の熱プラズマプロセス高品質化の8

るため、多孔質 HAP が望まれています。密着強度や配向性を高く維持しつつ、HAP 層の多孔質化を実現する溶射法の確立を目指しています。
また、物性値の評価のみならず擬似体液への浸漬実験も含めて溶射膜の適用可能性の検討を進めています。

観点から、注入粉末材料と熱プラズマ流との相互作用の解明には常に注意深く取り組んでいます。

(a)

図４ 溶射粒子の温度・速度同時計測装置の概略
Wj = 4 kW(b)

その一環として、ビデオカメラと光学干渉フィルタを利用し溶射粒子の温度・速度を同時に計測できるシステムを開発してきました。図４に RF
プラズマ中の溶射粒子を、２波長透過光学干渉フ
ィルターと３CCD カメラからなる装置での粒子計測の概略を示します。これと同様に、その後、入射光を２分する W-VIEW 光学系と高速ゲート
付 ICCD カメラで構成される光計測システムも立上げ、プラズマ流中の注入粒子の基礎特性の把握に活用しています。

Wj = 6 kW
図５ Ti/HAP 複合皮膜の断面 SEM 像【高品質 Ti/HAP 傾斜構造膜の作製】
プラズマ溶射法の生体材料応用展開として、水
酸化アパタイト（HAP）溶射膜の作製を試みています。HAP は人工関節、人工歯根等の人工骨として注目されていますが、機械的強度が弱いため金属材料（例えばチタン Ti）に HAP をコーティン
グした複合材料が用いられています。私共は DC
ジェットを用いて Ti-HAP の傾斜構造膜を作製しその性能評価を行っています。
図５に Ti/HAP 傾斜構造膜の断面 SEM 像を示しております。Ti（100%）、Ti（50%）-HAP（50%）の下の２層はジェット熱出力(Wj)6kW で溶射し、トップの HAP（100%）を Wj = 4kW と 6kW で溶射したものです。HAP 層の気孔率は Wj に依存し、(a)6.5%と(b)1.0%です。多孔質であると骨伝導性が高く、気孔内に新生骨が侵入し実際の骨と同化す【コンパクト溶射システム】
地域コンソーシアムにて現場施工型溶射システ
ムの開発を手掛けましたが、その後、私共が開発したジェット発生器を溶射ガンに用いたシステム
も検討しました。このガンの特長は、熱効率が55~70％と市販の装置の約２倍の値を示すことです。そのため、半分の電源容量で市販品と同等のプラズマジェットを発生できます。また、それに対応して周辺機器の小型化が可能で、安価でコンパクトな溶射システムが構築出来ます。図６に試作したシステムを示しますが、２ｔトラック程度で十分持ち運び可能なサイズとなっています。
今後の展開について
産業界での熱プラズマ応用としては、まず第１にプラズマ溶射があげられます。その応用分野は

9

今後の展開について
水素をベースとした原子状水素ペアイオンを、触媒を利用して生成しています。このようにして生成されたプラズマを用いた基礎及び応用研究を展開する予定にしています。基礎研究として、生成されたペアイオンプラズマは時空間対称性を有する独特の媒体であるため、プラズマ構造・波動
伝搬など静的・動的な集団物性の解明を目指しています。また応用研究として、無電子のイオン性プラズマであることと、気相の正イオンの高いエ
ネルギー準位を利用したエネルギー変換デバイスの創製を目指しています。更に、水素の替わりに重水素を用いてセシウム、電子、フィラメント、
磁気フィルターが無いというコンセプトの負イオ
ン源の開発も視野に入れています。
いずれの課題も前例の無い挑戦的な課題ですので、研究の進展には時間を要するものと思われます。研究成果については、長い目で見ていただけ
れば幸いです。

多岐にわたり、特に最近は、半導体製造装置用の耐プラズマ性溶射膜の需要が急速に伸びてきています。リアルタイムで溶射粒子を計測し、その結果を溶射膜作製データベース（最適溶射膜と溶射粒子の温度・速度等との関係情報データベース）と比較しながら、自動で常に最適溶射を行うことができる「インテリジェント溶射技術」の確立ができればと考えています。

図６ 省エネルギー・コンパクト型溶射システム

４．おわりに
廣中平祐先生が山口大学の学長に就任された時、「山口大学を超一流にする」と発言されたことが話題になりました。私はこれを「ナンバーワンよりオンリーワンを目指す」と理解していますが、教育・研究に独自性を発揮する努力が必要である【原子状水素ペアイオン生成】
ことの教職員への意識改革を意図されたものと思
等質量の正負荷電粒子のみから成るペアプラズっております。私共の研究現場においてこのようマについて、これまで電子系（電子－陽電子）でな方向性がどの程度実現されたかを思うと忸怩た
研究がなされてきました。
粒子寿命の短さゆえに、るものがあります。今後とも、共同研究者諸氏に
室内実験において波動伝搬など、プラズマ物性のは研究のさらなる発展を願っております。
。
能動的測定を行うことが困難でした。等質量正負
また、学生諸君には、西の京と呼ばれ大内文化
イオンのみから成るイオン系ペアイオンプラズマの名残をとどめる山口市で、学問・新しい自分をはこの問題を回避できるので、実験による物性解
発見し、みどりと花と彫刻のまち（工業の町では明が期待されています。
ない？）宇部市で、発見したものを辛抱強く育て
周波数応答特性を向上させるために、最も質量上げて、多くの人が認め・自分自身も納得できるの小さな原子状水素正負イオンから成る、水素ペ
かたちに仕上げる弛まぬ努力に期待しています。
アイオンプラズマの生成を試みています。鍵とな
以上、山口大学も含めて私共の研究室を紹介さるのは負イオンの生成方法であり、金属触媒を用せていただきました。内容がやや回想的になっていて正負イオン生成を試みています。無電子状態
しまいましたが、定年を控えた筆者の戯言としてと高密度負イオン生成を同時に実現させるために、ご容赦願います。
試行錯誤を繰り返しています。
3.4 新しい展開
昨年度より私共のグループに加わった大原准教
授を中心に、新しいプラズマ生成法の開発および応用に関する研究がスタ－トしました。

10

研究室紹介(その４４)

和歌山大学

フォトニクス研究室

和歌山大学システム工学部光メカトロニクス学科

伊藤昌文，太田貴之

2. 研究室のこれまでと現状
学科の名前からしてロボットなどを研究したいという学生が多く，なかなかプラズマをメインに研究ができる環境ではありません．研究室名もフォトニクス研究室となっておりますが，これは先代の教授が光通信関係の研究をされており，その後も名前を引き継いでいます．そのため現在の研究内容と研究室名がそぐわなくなってきており，そろそろ見直しが必要かと考えています．このような研究室に所属していたため伊藤が赴任した
10 年程前は，建物の中で希ガスも使うことができませんでした．そこではじめたのがプラズマ装置
をコントロールするための光センサやモニタリン
グシステムの研究です．これらのセンサは「将来のロボットなどにも役立つ？」又は「プラズマ装
置をロボット化する？」という位置づけで研究をしております．

1. 所属大学・学部・学科について
和歌山大学は長い間文系の大学であったため，工学部があることをまだ認識していただけていな
い方も折られると思いますので，最初に大学，学部，学科の説明をさせていただきます．
和歌山大学は，和歌山師範学校等を前身とし長い間，教育学部と経済学部の 2 学部体制でした．
1995 年にシステム工学部が開設され，2008 年に観光学部を開設し，
現在 4 学部体制となっています．
和歌山大学はシステム工学部設置が決まった
20 年ほどに和歌山市内の和歌山と大阪の県境の山の上に移転しました．皆さんは和歌山大学というと白浜などをイメージされ，かなり大阪より遠いとイメージを持っておられるようですが，和歌
山市は和歌山県の最北端に位置し，新大阪から特急で 1 時間のところにあります．ただし，駅から大学までが 20 分ほどかかります．
なぜこのような
不便なところに大学を移転したのかと思いましたが，当時の教員により便利さより，景色の良いところにしたという噂が流れています．
平成 24 年には大学近くに駅ができる計画もありますが，毎年完成年が伸びており大学のみならず近くの住宅地
住民も完成を心配しております．
このようなところですので学生の 6 割以上が大阪から来ており（２時間程度かけて通っている学生も多くいます），和歌山からは 2 割程度という学生の構成となっております．駅が完成すればさらに大阪色が濃い大学になると思われます．
システム工学部は情報通信システム学科，光メ
カトロニクス学科，精密物質学科，環境システム
学科，デザイン情報学科の 5 学科体制となっており，我々は光メカトロニクス学科という光学，機械工学と電子工学を融合した学問分野を専攻する学科に属しております．

3. 研究室メンバー
研究室は 5 年前に太田助教を迎えてから教員 2
名となりました．現在のメンバーは M2 が 1 名，M1が 5 名，4 年生が 8 名，共同研究員 1 名の全 17 名で下記研究テーマを日夜頑張って遂行しております．
4. 研究テーマ
私たちの研究室では，主に分光などの光学手法を用いた光センシング技術の開発とともに，大気圧・マイクロプラズマを用いた応用研究を進めています．以下に研究例を紹介します．
① 低コヒーレンス干渉計を用いた基板温度セン
サの開発
プラズマ分野は，半導体製造におけるエッチン
グや CVD などの要素技術として，素子の高集積化・高機能化と共に急速な発展を遂げてきました．

11coherence tomography)としてよく知られていま
す．基板に温度が加えられると，熱膨張及び屈折率変化によって，層の光路長が変化します(図 1)．
本手法は，基板の各界面に干渉波形のピークが現れるので，そのピーク間隔(光路長)をモニタすることで各層の温度変化を計測することができます．
これまで，Si や SiO2 層の温度計測に成功しており(図 2)，多層基板への適用や精度の向上を目指して研究を進めています．

例えばエッチングにおいては，基板温度によってエッチング形状やエッチング速度が変わることは良く知られています．基板最表面層と裏面層で温度差が生じますが，被加工面である最表面層の温度は加工の処理結果に大きな影響を与えるため，
微細加工技術の更なる微細化・高精度化を進める
ためには，その温度制御が重要なパラメータとなります．現状ではプラズマ装置の構造から接触型
温度センサで基板裏面の温度を計測する手法が多く用いられ，基板各層の温度計測は困難となっています．
そこで，我々は低コヒーレンス干渉計を用いた
基板裏面から表面までの被加工面層を含む各層の温度変化を同時に計測可能な手法の構築を進めています．低コヒーレンス干渉計はマイケルソン干渉計を基本光学系としており，光のコヒーレンス
度が低い特殊な光源（スーパールミネッセントダ
イオード:SLD が良く使われる）を用いた干渉計測手法です．この手法は，医療分野では主に眼底検査 に 用 い ら れ て い る 光 断 層 計 測 (OCT:optical② マルチマイクロホローカソード光源を用いた多元素密度同時モニタリング装置の開発
PECVD，スパッタリング等のプロセスにおいて，機能性薄膜の膜質やデバイスの再現性などを向上させるためには，その組成を制御することが重要となります．組成は，投入電力・圧力・ガス種な
どの各種パラメータによって制御されますが，気相－表面の反応過程の解明やプロセスを制御するためには，気相中の粒子密度を測定することが非常に重要になります．これらのプロセスでは，気相中に複数の金属原子が同時に存在しており，複数の金属原子の絶対密度を同時に診断する必要があります．
吸収分光法は，気相中の粒子の絶対密度が測定できる分光手法として古くから，また我々もシラ
ンやエッチングプラズマ中のラジカルの挙動を解

計測サンプル

SLD干渉波形

L2

L1

光路長

温度変化

L 2`

L 1`

図 1 温度による光路長変化の様子
図 3 マルチマイクロホローカソード光源の外観

2795
理論値
測定値

光路長(μm)

2794
2793
2792
2791
2790
30

32

34

36

38

40

熱電対温度(oC)

図 4 4 ホロー(4 元素)同時発光の様子

図 2 Si 基板光路長の温度依存性

12明するために用いてきました．多元素の密度を同時に測定できる吸収分光用光源（マルチマイクロ
ホローカソードプラズマ：図 3）として，マイクロホローカソードプラズマに注目しました．マイクロホローカソードプラズマはホロー径が数百μm と小さいので，光源をアレイ化すると比較的小さな光源の形状で，電極からのスパッタリング
効果による金属の固有スペクトルを多元素同時に発光させることができます．
これまで 4 本のアレイ化したカソード電極を同時に発光させ（電源及び安定化抵抗は１つで共通），
Cu，Fe，Zn，Mo の固有スペクトルを同時に得ることに成功しています(図 4)． また，この光源を用いた吸収分光法による透明導電膜作製スパッタリ
ングプラズマ中の In，Zn 原子の絶対密度測定にも成功しています．今後は，マイクロホローカソー
ドプラズマの生成メカニズムなどの基礎特性の解明とともに，光源の高精度化・安定化や，スパッタリングプロセスの気相－表面の反応過程の解明を行っていきたいと考えています．
③ 小型 YAG レーザを用いた簡易生体内金属元素分析法に関する研究
和歌山といえば，みかんや梅といった農作物の生産が有名です．最近深刻な問題となっている食の安全の確保や水質・土壌汚染の防止，また省資源化（肥料の有効利用）を目指し，施肥量などを高度にコントロールした環境調和型の農林業を目指した地域密着型の研究も行っています．本研究では，植物の生育状況，特に金属元素の含有量を現場（圃場等）でその場モニタリングする手法の開発を目指しています．具体的には，レーザ誘起
ブレークダウン分光法を用いて，植物体に含有される生育必須金属元素や有害元素である重金属元素を，その場定量分析を行える可搬型装置の開発を目指しています．17 種類の植物生育必須元素はお互いに影響を与え合い，その含有量の過不足は植物に欠乏障害あるいは過剰障害を引き起こします．
レーザ誘起ブレークダウン分光法は，多元素同時分析が可能，サンプルの溶液化が不要，また小型レーザを用いた場合には可搬化が可能であることなどからオンサイト分光分析法として期待されています．研究室で開発した小型ナノ秒 Q スイッ
チ Nd:YAG レーザを植物に照射し，生成されたプルーム（発光柱）の発光スペクトルから植物に含有される金属元素の定量分析を行います(図 5)．
図6に 4 種類の葉のプルームの発光強度と Ca の含有量の関係を示しています.Ca の含有量は偏光ゼーマ
ン型原子吸光分光装置を用いて測定し,レーザア
ブレーションによる測定波長は Ca [620nm]を用いました.金属含有量と発光強度が線形的となり，
相関があることがわかり，本手法を用いて植物体内の金属元素の含有量を計測するできることを確認しています．現在は，レーザ誘起ブレークダウン
分光法の測定感度や精度を向上させるために，局所表面プラズモン効果による電場増強効果に着目
し，ナノサイズの金属微粒子（銀コロイド）をサ
ンプル表面に塗布する手法の研究を進めています．
この電場増強効果によって，レーザアブレーションが活性化され発光強度が増大することを確認しており，発光増強メカニズムの解明を行っています．

図 5 レーザ誘起ブレークダウン
分光システムの外観

発光強度 [a.u.]

2.0

1.5

1.0

0.5

ベニカナメモチ
みかん
ヤマモモ
ホルトノキ

0.0
0.0 0.5 1.0 1.5 2.0 2.5 3.0 3.5 4.0 4.5

含有量 [%]

図 6 Ca 含有量と発光強度の関係

13

④ 非平衡大気圧プラズマを用いた柑橘ミドリカ
ビ菌の殺菌手法の開発研究
農業現場や輸入作物の検疫所では，病害虫を防除するために，強力な殺菌剤である臭化メチル(CH3Br)を用いて薫蒸処理が行われてきました．臭化メチルはオゾン層破壊係数が高く，「モントリ
オール議定書」により2005年での使用全廃が取り決められていましたが，有効な殺菌代替手法がな
いため暫定的に使用が容認されています．本研究では非平衡大気圧プラズマを用い，環境や人体に影響が少ない殺菌手法の確立を目指しています．
殺菌はカンキツミドリカビ病の病原菌である
Penicillium digitatumを対象にしています．プラズマ照射を行い，3日間培養を行った結果，プラズ
マ照射を行ったサンプルからはカビの成長が確認されず，プラズマを用いて殺菌が可能であることが明らかになりました．また，オゾナイザー（O3:600ppm）と比較したところ，大気圧プラズマ
殺菌の方が殺菌速度が早いことを見出しています．
プラズマによる殺菌要因として，紫外線照射によるDNA損傷や，電界による細胞膜の破壊，O3やO及びOHラジカルによる細胞膜の酸化分解などが知られており，様々な殺菌効果の報告がされています．

今後，詳細な殺菌メカニズムに解明がなされていくと思いますが，例えば大気圧プラズマと低圧プ
ラズマでは紫外光の放射量やラジカル量などプラ
ズマケミストリーが全く異なるところで，大気圧プラズマと低圧プラズマの殺菌効果の比較などの議論がされたりしており，プラズマ殺菌に大きな効果を与える因子を体系的にまとめることが必要であると考えています．
今後は，吸収分光法などを用いたラジカル密度の測定を行うことにより，定量的にプラズマの状態と各殺菌因子の殺菌への寄与率を解明していきたいと考えています．
5. おわりに
これらの研究は，名古屋大学の恩師をはじめ本プラズマエレクトロニクス分科会の諸先生のご指導の下に培ってきた分光技術を基礎にしたものです．またこれらの成果は名古屋大学をはじめ多くの企業との共同研究によるものであり，この場を借りて皆様に感謝の意を表します．
今後とも私ども二人が育ったプラズマエレクト
ロニクス分科会の発展に微力ながら貢献したいと考えておりますので，分科会皆様のご指導・ご鞭撻を心よりお願いいたします．

Nubmer of suvivors [CFU/ml]

図 7 ミドリカビの殺菌（3 日間培養）(a)プラズマ照射，(b)プラズマ照射なし
105
104
103
102

研究室のメンバー

101
100

Plasma(L=10[mm])Ozonizer
0

1

2
3
4
5
Exposure time [min]67

図 8 オゾナイザとの殺菌速度の比較

14

海外の研究事情（その２４）

カリフォルニア大学バークレー校

滞在記

Department of Chemical Engineering, University of California at Berkeley
Yukinori Sakiyama（崎山幸紀）っています．気温は一年を通して温暖です．冬でも昼間は半袖という学生も珍しくなく，夏には水着姿の学生がキャンパスの芝生で日光浴をするというのが日常です．頭の中がプラズマでいっぱいのポスドクがその横を通り過ぎる光景は，まさに哀れとしか言いようがありません（泣）
．
アメリカ西海岸に位置しているため，アジア系の学生の比率が非常に高いのが特徴です．新学期が始まる秋頃にはそれほど目立ちませんが，クリスマス休暇明けともなると，キャンパスを歩いている学生の半数以上がアジア人です．
（理由はご想像におまかせします）．
シリコンバレーに近いこともあり，日本人が生活する上で困ることは皆無と言っても過言ではありません．その気になれば，日系のスーパーで食材を調達し，日本語のテレビを見て，日本人学校に子供を通わせ，日本人の友
UC Berkeley のご紹介
人と日々過ごすことも十分に可能です．
（そのうち1869 年に 10 名の教官と 40 名の学生をもとに開自分がどこに住んでいるかわからなくなりそうで校した Berkeley 校は，現在では教官 2,000 名，学
すが．
．
．
）
生 35,000 人を有し，これまでに 20 人のノーベル
ちなみに，以前に日本の大学で助手をしていた
賞受賞者を輩出している全米屈指の公立大学です．
経験と比べると（今は日本の大学もそうなのかもUC には Berkeley 以外にも UCLA や UC San Diego
しれませんが），UC のシステムは非常に細部までといった日本でもお馴染みの大学名がずらっと並大学運営が分業化・合理化されているように感じんでいますが，Berkeley 校は全 10 校（2008 年 10月現在）から構成される UC の本校にあたります． ます．例えば，研究に必要な物品を購入する際には，注文書に必要事項を記入して事務に提出すれ（余談ですが，T シャツや帽子などのキャンパス
ば，発注から納品まで専属の職員がすべて一括しグッズにプリントされている「Cal」というロゴはて処理をします．教官や学生が事務処理をする必UC 本校である UC Berkeley を意味しています．
）
要は一切ありません．また，化学工学科は機械工
私が所属しているのは Department of Chemical
作室やガラス加工室，電気工作室といった専用のEngineering です．2007 年の化学工学科ランキング
ショップを持っており，それぞれ専門のエンジニでは全米第 3 位にランキングされ，学部生 370 名，
アが対応してくれます．もちろん利用度に応じて大学院生 110 名が在籍しています．
課金されますが，ちょっとした部品の設計・加工
UC Berkeley のキャンパスは，サンフランシスコ
や装置のトラブルにも対応してもらえるので，非対岸のイーストベイと呼ばれる地域にあります．
常に効率の良い仕組みだと思います．
メインキャンパスの端から端まで歩いて 15 分程
度の規模で緑豊かな丘陵地帯にキャンパスが広がはじめに
私が日本学術振興会海外特別研究員としてカリフ ォ ル ニ ア 大 学 バ ー ク レ ー 校 （ University ofCalifornia at Berkeley．以下，UC Berkeley）を初めて訪れたのが 2005 年の春でした．
そのときにキャンパスから見えたゴールデンゲートブリッジの荘
厳な景色は，今でもつい昨日のように覚えています．以来，そんなキャンパスの雰囲気と David
Graves 教授（以下，Dave）の人柄に惹かれ，当初の滞在予定であった 2 年をさらに延長し，現在はGraves 研究室のポスドクとしてプラズマ－表面反応に関する研究に励んでいます．今回は，そんな私の独断と偏見による UC Berkeley 滞在記をお届けしたいと思います．

15

も Graves 研究室の学生には当てはまらないようです．もちろん，学生が Dave と Mike の議論の割って入るには，それなりの知識と勇気が必要なのは言うまでもありませんが．
グループミーティングはどこのラボでもよくある風景だと思いますが，研究熱心な Dave は，さらに全メンバーとプロジェクトごとに毎週 1 時間
ずつ個別に研究の打ち合わせをします．学生やポスドクにとっては非常に良い刺激ですが，講義や雑用のわずかな合間を見つけては，研究談義に花を咲かせる Dave の情熱は並大抵ではありません．
私の場合，最近は定期的なミーティング以外でも研究にまとまった進展があると Dave に電話をして彼のオフィスに押しかけるようにしています．
部屋に入ると決まって「オレは忙しいから 5 分だ
けだぞ」と言われますが，もちろん 5 分で終わることはなく，私が納得するまで議論に付き合ってくれます．そして最後に「Yuki（私の愛称）のおかげでもうこんな時間だよ」とニヤッとする Daveにお礼を言ってオフィスから出てくることになります．
学生・ポスドクの居室スペース及び実験スペー
スは，建物の地下 2 階に位置し，狭い通路を隔てて同じ部屋に向かい合わせになっています．実験
スペースでは大きな真空ポンプがうなり声を上げていますので，慣れるまでにはそれなりの時間が必要ですが，慣れてしまうと，これが以外に快適です．
カリフォルニアの青い空を眺める窓もなく，毎日ひたすら研究に没頭できます（笑）
．
研究室のメンバーは，だいたい朝 9∼10 時ころにやって来て，夕方 5∼6 時ころに帰ります．よほ
どのことがない限りは夜中まで研究室に残って実験をするということはありません．私の経験上，日本の学生は｢研究が終わるまでは帰らない（帰れない？）｣という雰囲気がありますが，こちらの学生は「時間内に研究を仕上げる」というスタンスが多いように感じられます．文化や価値観，シス
テムの違いがありますが，非常に興味深い一面だと思います．もう一つ，こちらの学生と接していて感じるのが，そのプレゼンテーション能力の高さです．実際，大学院生が受講する講義の中に，口答試問やプレゼンテーションを必要とするものが多くあります．学生たちは試験の前になると，

Graves 研究室
さて，それでは私が所属している Graves 研究室に話を移しましょう．2008 年 11 月現在，研究室は大学院生 6 人，ポスドク 3 人，客員研究員 5 人から構成されるアメリカでは標準的な規模の研究室です．日本と比べると研究室の人数が少ないように思われるかもしれませんが，大学院生にも給料を支払わねばならないという点を考慮すると適切な人数でしょう．客員研究員のうち 3 人は IBM
や Intel を退職した研究者で，彼らは週に 1 回，主に実験のアドバイスのために研究室に訪れます．
産業界を経験した経験豊富なエンジニアからの支
援はアメリカでも珍しいですが，このような形でのいわゆる「産」と「学」の連携は日本でも学ぶべきところがあるかもしれません．ちなみに今秋に日立テクノロジーズから森本さんが研究室に加わり，東京大学から訪問中の苫居さん，日本人の母親を持つ Monica を含めると日本語が研究室の第 2 外国語になりつつあります．
研究室では週に 1 回グループミーティングが開かれます．研究室のメンバーに加えて Michael
Lieberman 教授（以下，Mike）をゲストに迎え，担当のメンバー1 人が 1 時間弱の研究発表を行います．グループミーティングでは Dave と Mike が議論を交わし，一歩遅れて日本人ポスドクが初歩的な質問をする（ん？）という構図が見られます．
ここの研究室に来る以前は，アメリカ人学生は積極的に発言する，と思い込んでいましたが，どう

写真 2 Graves 研究室のメンバーと（2008 年 3 月撮影）．

16

究室が 10 年以上前に始めた分子動力学（MD）コードは現在でも改良が重ねられており，研究室独自の解析ツールとして機能しています．私が 3 年半前に渡米した際に始めた大気圧プラズマに関する数値解析も着々と成果が上がり，現在は苫居さんと共同で新たな実験を始めています．まとまった成果があがりましたら，こちらも皆様にご報告できると思います．

友人たちとチームを組んでお互いにプレゼンテー
ションのリハーサルを何度も繰り返しています．
国際会議に参加すると，よく発表の上手なアメリ
カ人を見かけますが，あれは言語だけの問題ではないでしょう．こちらの学生は良く訓練されています．
研究内容
Graves 研究室では「プラズマと表面の相互作用」
を大きな柱として，1∼2 人で 1 つのプロジェクトに取り組んでいます．プロジェクトの多くは半導体製造プロセスにおけるプラズマエッチングに関連する研究で，研究室の予算としてもアメリカ国
内外の関連企業や団体からの受託研究が大きな割合を占めています．研究室には，イオン，電子，
ラジカル，紫外（UV）光といった各種ビーム源を備えた超高真空装置 2 台，ICP チャンバー1 台が常時稼動しています．それぞれの装置には質量分
析計，FTIR (Fourier transform infrared spectroscopy)
測定装置，QCM (quartz crystal microbalance) 測定装置が装備されています．
また数値解析用に Bladeserver を 1 台と workstation を数台保有しています．
全体としては，研究プロジェクトの 80%が実験，20%が数値解析という割合です．
ここ数年で研究室として最も力を入れているのがプラズマによるフォトレジストの劣化機構の解明で，UV 光や電子とイオンとの相互作用による影響に高い関心をもっています．また，Graves 研

写真 2

おわりに
長くなりましたが一言，私のような若手研究者の皆さんにメッセージを．もし機会があれば（なければ無理にでもつくって！），
半年でも 1 年でも，自分の知らない文化の中で研究することを強くお勧めします．
もちろん目先の成果だけを考えれば，慣れた環境でじっくり腰を落ち着けて研究すべきでしょう．環境を変えるには，それなりの時間と労力を必要とします．それが言葉の違う異文化であればなおさらです．ただ，そのような中で得られた経験は必ず将来の自分にとって大きな財産になるはずです．
日本の科学技術が欧米と肩を並べ，世界の第一線を走っている今だからこそ，あえて一歩外に出て自分を試してみる価値があるはずで
す．
（．
．
．
と信じて 4 年が過ぎようとしていますが）「研究の世界では No. 1 でなてくは意味がない
んだよ．No. 2 以降は“その他大勢”だよ．
」私が今までの Dave との会話で最も印象に残っている言葉です．以来，この言葉を胸に，日々ポスドクとして精進しています．
最後に，私に渡米の機会を与えてくださった恩師である東京大学大学院工学系研究科の松本洋一郎教授，金食い虫のポスドクを快く引き受けてくださっている UC Berkeley の David Graves 教授，
そして，本稿執筆の機会を与えてくださった本会
幹事長の白谷正治先生及び本誌編集委員の先生方に厚く御礼申し上げます．
参考
UC Berkeley：
http://www.berkeley.edu/
Graves 研究室：
http://graves-lab.cchem.berkeley.edu/index.html

私が担当している複雑怪奇なビーム実験装置．20

年前から稼動しているベテランです．

17

学生のためのページ
すぐに役立つプラズマエレクトロニクス

プロセス用プラズマのプローブ計測
中部大学

中

村

圭

二

２．プロセスプラズマの環境と備えるべきプロー
ブの特性
まず初めに、測定すべきプロセスプラズマについて整理しておこう（図 １参照）。
プラズマプロセスでは、アルゴンのような希ガ
スだけのプラズマを使用する他に、プロセスの目的に応じて様々なガスを混合したプラズマをしば
しば用い、そのようなプロセスプラズマは、希ガ
スのみのプラズマとは大きく異なる特性を有している。例えば、シリコンのエッチングには塩素 Cl2を主としたプラズマが用いられるが、塩素は負性が強いガスなので、アルゴンプラズマと比較して、プラズマ中に多くの負イオンを含んでいることが多い。またアルゴンプラズマでは真空容器の内壁は常にきれいな状態が維持されるのに対し、シリコン酸化膜のエッチングに用いられるフロロカー

１．はじめにラングミュアがプラズマを分析するために静電プローブを開発して以来、静電プローブ、いわゆ
るラングミュアプローブは、標準的なプラズマ解析ツールとして広く用いられるようになった。それは簡便な構成にもかかわらず、得られる情報量が比較的多く、コストパフォーマンスに優れた実用的な方法であることが大きな要因の一つと考えられ、実際、プラズマの諸現象を理解するのに大いに貢献した。またプラズマが幅広く産業に応用されるようになるにつれ、ラングミュアプローブ
も各々の状況に対応すべく進化し、様々なプラズマに適用できるようになった。
一方、近年、ＬＳＩデバイスや液晶ディスプレ
イをはじめとするエレクトロニクスの分野にプラズマが幅広くかつ急速に応用されるようになり、
プロセス用プラズマの理解と制御のために用いられる計測法に対する要求はきびしくなった。そのような用途にラングミュアプローブをそのまま適用しても問題ない場合もあるが、後述のように、絶縁性の膜堆積が伴うような材料プロセス用プラ
ズマでは、測定の信頼性やシステムの簡便性が損なわれやすいなど、多くの問題点が指摘され、それを克服する新しいタイプの種々のプローブが開発されるようになった。
ここでは、はじめに材料プロセス用プラズマの解析に用いるプローブが備えていなければならない要件を説明した後、標準的手法であるラングミュアプローブの基本的な特性や使い方について述べる。次にプロセスプラズマに適用できるプロー
ブの例として、プラズマ振動プローブと表面波プローブの二つのプローブを取り上げ、その動作原
理や適用例、さらに使用する上での留意点などについて述べたい。

Top Electrode
Si Wafer～ Discharge RF Source

PlasmaPort

Polymer

Bottom Electrode

PolymerPort～ Bias RF Source

図 １ 実プロセスにおける静電結合型プラズ
マの環境例

18

３．代表的なラングミュラプローブ
３-１．シングルプローブ[1]シングルプローブ法は、最も古いプラズマ計
測手段として 1920 年代に Langmuir によって提案され、比較的安価で簡便であるにもかかわらず、電子密度、電子温度の電子状態とともに、イオン密度およびプラズマ電位などの色々なパラメータを同時に計測できる。
図２(a)に示すように、接地された金属容器内にプラズマを生成し、その中にシングルプロー
ブを挿入する。プローブの表面積は容器の表面積に比べて十分小さくなっている。そしてプローブに電圧Vを印加し、そのときに回路に流れる電流Iを測定したとすると、 図２(b)に示すよ
うなV-I特性が得られる。電流変化の様子から
V-I特性は、電子飽和領域（領域A）、イオン飽
和領域（領域C）、その中間の遷移領域（領域B）の３つの領域に分けられ、領域Aと領域Bの変曲点での電位Vsはプラズマ電位を表す。また領域

ボン系のプラズマでは、フロロカーボンの高分子
ポリマーの膜が真空容器の壁全体に付着し、しかもその膜はほとんど導電性がない。
一方、半導体プロセスでは様々なプラズマ源が用いられており、２つの平板電極を対向させた最も 歴 史 が あ る 静 電 結 合 型 プ ラ ズ マ （ CCP:
Capacitively Coupled Plasma）や、低圧力で高密度のプラズマを比較的簡便に生成できる誘導結合 型 プ ラ ズ マ （ ICP: Inductively-Coupled
Plasma）などがある。静電結合型プラズマについて見てみると、最先端のＬＳＩプロセスでは直径１２インチのシリコンウェハを用いるので、それに対応して平板電極の直径も４０ｃｍ程度と大きくなっている。またプラズマ密度と、ウェハ表面に入射するイオンエネルギーを独立に制御するため、上部と下部の２つの電極には異なる周波数の高周波電圧が印加される。そして原料ガスの過剰分解を避けるなどの理由からプラズマ容積をできるだけ小さくするため、電極間隔を数 cm 程度まで狭くするような場合も少なくない。
したがって、
プラズマから接地電位にある真空容器がよく見えるような従来のプラズマ源とは大きく異なり、プラズマ電位の基準となる電極がはっきりとしない
ため、高周波電圧を印加している上部電極及び下部電極によってプラズマ電位は大きく振動していることが多い。さらに真空容器内壁に堆積した膜がはがれ落ちるなどしてパーティクルが発生しないように、ガスのよどみが極力ないような構造を取っているため、よどみを招くようなポート口は
必要最小限しか設けられておらず、数 mm 程度の
アクセスポートが僅かにある程度である。
それらのことから、プロセスプラズマで用いるプローブには、
１）実プロセス環境下（絶縁性の膜堆積など）に適用できる。
２）
電位的に大きく高周波振動しても測定できる。
３）高い時間／空間分解能をもつ。
４）小型でプラズマに及ぼす擾乱が少なく、小さなポートからでも挿入できる。
などの特性を有していることが望ましい。その他にも、簡便に正確な値を導く上で、プローブデー
タからプラズマの情報を得るまでの導出過程があまり複雑でないことも必要であろう。

プラズマ
真空容器

Ip

プローブ

Vp

(a)

(b)
図２ シングルプローブの例

19

BにおいてI=0 となる電位Vfを浮動電位またはフローティング電位と呼んでいる。
領域 A では V>Vs なのでイオンは入射できず電子のみの電流 Ies（電子飽和電流）が、また領域 B では V<<Vs なので電子は入射できずイオンのみの電流 Iis（イオン飽和電流）が流れる。
従って Ies と Iis は、各々電子フラックスΓe とイ
オンフラックスΓi に、プローブ表面積 A をかけたものに比例し、
Ies =
=
Iis

eΓeA = e(1/4)ne<ve>Ae(1/4)ne(8kTe/πme)1/2A= eΓiA = e(0.6)niuBA= e(0.6)ni(κTe/mi)1/2A

は、
Ie=Ies exp[-(Vs-V)/kTe](4)で与えられるので、V 対する電子電流を片対数グラフにプロットして、その傾きから Te を得る
ことができる。
なお使用に当たっての注意点がいくつかある。まず式(1)の電子飽和電流を用いようとする
場合、図２のような明確な飽和電流値が得られにくい、また質量が軽い電子の軌道がわずかな磁場でも大きな影響を受けることから磁化プラズマへの適用が難しい、などに注意する必要がある。一方、式(2)のイオン飽和電流を用いる
ときも、プローブ表面に入射したイオンによる二次電子の影響を考慮したり、２種類以上のイオンを含む場合、または負イオンを含むプラズ
マで負イオンの割合が極めて大きい場合に評価が困難になるときがある。さらにプローブ表
面や容器壁が絶縁膜で汚染されてしまうと、プ
ラズマ→プローブ→容器→プラズマという電流経路が遮断されてしまうため、図２(b)のようなV-I特性は根本的に得られなくなり、シングル
プローブをプロセスプラズマに適用するのが困難となる場合もある。

(1)

(2)

で与えられる。ただし、e：電荷量、ne：電子密度、ni：イオン密度、me：電子の質量、mi：イ
オンの質量、Te：電子温度、A：プローブ表面積、<ve>：電子の平均熱速度、uB：ボーム速度である。IesやIisは測定値なので、もしTeがわかれば式(1)を使ってneを求めることができる。また負イオンを含まずイオンの種類が１つの場
合は、ne=niなので式(2)を使ってもneを求めることもできる。
では、電子温度 Te はどのようにして求めるだろうか。それは領域 B の V-I 特性から導くことができる。電子温度が Te（数 eV 程度）で、電子速度分布 f(ve)がマクスウェル分布のとき、
f(ve)は

３-２．ダブルプローブ法[1, 5]
誘導放電などの無電極放電によりガラス容器の中に作られたプラズマを測定する場合、容器壁を介して電流を流すことができないので、シングルプローブを使うことはできない。この問
f(ve) = ne (me/2πkTe)3/2exp[-mev2/(2kTe)] (3)
題の解決に有効なのがダブルプローブである。
図３(a)のようにダブルプローブはシングルプのように与えられ、電子温度Teと運動エネルギ
ローブを２本ならべた構造となる。シングルプ
2
ーmev /2 の比の指数関数となる[例えば、3、4]。
ローブではプローブに印加する電圧に対する一方、前述のようにイオン飽和領域では、プロ
基準電位を接地（または真空容器）電位としてーブ電圧Vがプラズマ電位Vsより十分低いため、 いるのに対し、ダブルプローブでは２つのプロシースで電子が追い返され、電子電流はほとんーブ間に電位差Vを加え、２つのプローブをとど流れない。しかし遷移領域では、プローブ電もに接地に対して浮遊電位とする。これで得ら
圧をプラズマ電位Vs に近づけるにつれてシー
れるV-I特性は図３(b)のようになり、領域Cと領スでのポテンシャル障壁が減少し、電子が少し
域Bの一部がV=0 で点対称でつながったようなずつプローブに到達できようになるので、電子特性となる。従って式(2)と式(3)に基づいてイオ
ン密度と電子温度を求めることができる。ただ電流が流れる。そのときの電子電流Ieの増え方

20

図４にプローブの一例を示す。金属ワイヤででし、プローブ表面が絶縁膜で汚染された場合は、
きたレシーバアンテナから 1cm程度離して熱フ
シングルプローブと同様、V-I特性は得られない
ィラメントを設置し、フィラメント電流およびフため測定難しくなくなる。
ィラメントに印加する負のバイアス電圧により電子ビームの電流とエネルギーを調整する。電子ビ
４. プロセスプラズマに適用できるプローブ例
ームにより励起した電子プラズマ振動の信号をレ
４.１. プラズマ振動プローブ[6]
シーバで捉え、スペクトルアナライザを用いて振４.１.１. 原理と構成
動周波数を測定する。図５は圧力 0.08 Paの誘導
まず膜堆積を伴うようなプロセスプラズマで結合型アルゴンプラズマで得られたスペクトルのも密度測定が可能なプラズマ振動プローブについ一例である。1~2 GHzにかけて電子プラズマ振動て述べる。
に起因するスペクトルが観測され、放電パワーのプラズマにおける電子プラズマ振動の周波数増加とともに高周波側にシフトしている。この周
fpe [Hz]は波数シフトを詳細に調べると、電子密度は放電パ
21/2
2πfpe = (e ne/ε0me)(5)により、電子密度 ne と関係づけられている。したがって、電子プラズマ振動を励起してその振動周波数を測定できれば、(1)式から得られる次式を用いて直ちに電子密度 ne を求めることができる。
ne [m-3]=1.24 x 1016 (fpe [GHz])2

PlasmaOscillation
Electron Beame

Wire Antenna
Filament(6)
Plasma

DC
Bias

Wall
DC
SourceSpectrum
Analyzer

図４ プラズマ振動法[7]

(a)

(b)

図３ ダブルプローブの例

図５ プラズマ振動プローブでのスペクトル例[8]21ワーに比例して変化しており、典型的な誘導結合型プラズマの挙動となっている。
このようにプラズマ振動プローブでは、電子プ
ラズマ周波数がわかりさえすれば、(6)式から直接密度が求められるので、密度導出過程に曖昧さが少なく正確性と簡便性の両方を備えている。そしてラングミュアプローブのような電子やイオンの伝導電流の測定が不要なので、真空容器やレシー
バアンテナ周りに絶縁膜が堆積しても密度測定を行うことができる。プラズマ振動プローブの時間
分解能はほぼスペクトルアナライザで制約されているが、ゲート測定の時間分解能を十分高くできる場合は、後述のように、負イオンからの光脱離電子による電子密度の変化も測定することができる。空間分解能についてはレシーバアンテナの長さ程度で与えられ、数mm〜1cm程度である。
なお(5)式や(6)式では電子とガス分子との衝突や電子の熱運動の影響を無視しているが、それらが電子プラズマ振動に及ぼす効果については文献
6で詳細に検討されている。それによれば、電子プラズマ周波数に対する衝突周波数の比が 0.1 以
下であれば電子プラズマ周波数の測定値と真値の誤差は小さく、また電子ビーム用のバイアス電圧
を電子温度に対して十分大きく取れば電子プラズ
マ振動を励起できることが示されている。

図６ パルス変調塩素プラズマの電子密度変化[9]オン計測を行うと、負の電荷密度のうち負イオンが占める割合は、アフターグローにおいて最大で90 %近くになることが示されている。
プラズマ振動プローブは、膜堆積を伴うフロンプ
ラズマにおける電子密度測定にも適用されており、プラズマ源から離れるにつれて徐々に電子密度が低下する様子が調べられている[10]。

４.１.３. 使用上の留意点
プラズマ振動プローブにおいて注意しなければならない点についてまとめておく。最も気をつけなければならないのは、プラズマ振動の励起に用いた電子ビームによる余剰電離の影響である。プラズマ振動を励起するには電子ビームのエネルギ
４.１.２. 適用例
ーを電子温度に対して十分大きくする必要があり、プラズマ振動プローブを用いて塩素プラズマの電子温度が 3 eV 程度のプラズマでは電子ビーム
電子密度測定を行った例を示す[8,9]。図６は、8エネルギーを 30 eV 程度以上にすることが多い。
mTorrで動作している誘導結合結合型塩素プラズ
その値は、ガスの電離ポテンシャルよりもしばしマにおいて高周波（RF）電力をデューティー比
ば大きくなるので、電子ビーム電流が大きいとガ50 %でパルス変調をかけたときの電子密度変化を測定したものである（●で示されたデータ参照）。 スが電離してしまい、実際の電子密度よりも高く見積もってしまうことになる。したがって、プラ参考のため、同図にはパルス変調した誘導結合型
ズマ振動を起こすことができる限りにおいては、
アルゴンプラズマでの電子密度変化も□で示して電子ビームの電流、エネルギーともに、できるだある。塩素プラズマおよびアルゴンプラズマとも
け小さくすることが擾乱を最小限に抑える上で重に、RF ONのときに電子密度は約 7x1010 cm-3 で要である。次に、実際のプロセス装置への適用をほぼ同じであるが、RFをOFFにしたアフターグ
ローで電子密度の時間変化に顕著な違いが見られ、 念頭に置くと、フィラメントなどによる重金属汚染の問題がある。通常、タングステンなどの重金
塩素プラズマの電子密度はより速く減衰すること
属ワイヤがフィラメントとしてよく用いられるが、がわかる。これは塩素分子と電子の間で起こる付重金属はウェハ上に作り込む素子の特性に甚大な
着解離過程が主な原因である。実際、プラズマ振影響を及ぼす場合があるため、プロセス装置を運
動プローブとレーザ光脱離法を組み合わせた負イ

22

Γを、

転する際に厳しく管理されている。したがって、
プロセス装置への適用を図るためには、重金属でないフィラメントや全く別の電子ビーム源を用いる、などの方策が必要である。

Γ=Pref/Pinから求めることにより、周波数を関数とした反射係数の変化をネットワークアナライザで観測する。
誘電体管の周囲にプラズマがない場合、ロッド
アンテナを設けた同軸ケーブルの端部は開放端になっているので、同軸ケーブルでの損失が無視できるならば反射係数は周波数にかかわらず常に１となる。それに対して誘電体管がプラズマで覆われた場合、電子密度で決まるある条件を満足する
周波数になったとき、プラズマと誘電体間の境界部を伝搬する表面波の定在波が、プローブ頭部（誘電体管先端から同軸ケーブル端部までの長さdの部分）で共鳴的に立つ。このときにアンテナに送られたパワーの一部がプラズマに吸収されるため、ネットワークアナライザに戻ってくる電力が減少
し、反射係数が小さくなる。従ってネットワーク
アナライザで観測される反射係数の周波数依存性
は、プローブにおけるパワー吸収スペクトルを表すことになる。誘導結合型アルゴンプラズマにおいて得られた吸収スペクトルの一例を図８に示す。
この例では、いずれの放電パワーにおいてもある
特定の周波数で２つの吸収ピークが観測され、異なるモードの表面波が共鳴的に励起されていることを示唆している。このことから、モード別に表面波が励起されるときの電子密度の条件を予め調４.２. 表面波プローブ
次に表面波プローブについて述べる。表面波プ
ローブ（SW Probe: Surface Wave Probe）は、開発当初、プラズマ吸収プローブ（PAP: Plasma
Absorption Probe）と呼ばれていたが[11]、最近になって、その動作原理をより明確に表現するた
め、改めて表面波プローブと命名された。ここでは原理とともに、プロセスプラズマの計測実施例
を中心に紹介したい。また詳細な解説記事もある
ので、そちらも参照してほしい[12]。
４.２.１. 原理と構成 [11, 12]
標準的な表面波プローブのシステaムは、図７に示すように、プローブ本体とネットワークアナ
ライザから構成される。片方の先端を半球状に封じ切った誘電体管の中に、長さ数mm程度のロッドアンテナを設けた同軸ケーブルを挿入し、それをプローブ本体として用いる。
ロッドアンテナは、被覆や同軸ケーブルの芯線をそのまま利用している。同軸ケーブルのもう一方の端子にはネットワ
ークアナライザを接続する。ネットワークアナラ
イザでは、1mW程度の微小電力Pinを送信したときに、プローブ頭部で反射して戻ってくる電力
Prefを、数MHzから数GHzの範囲で周波数掃引しながら測定する。プローブ頭部における反射係数

AntennadDielectric Tube

Coaxial Cable

(7)

Pin

Pref
Network
Analyzer

PlasmaChamberWall

図７ 表面波プローブのシステム構成 [7]図８ 放電パワーをパラメータとした周波数に対する反射係数の変化23べておき、観測した吸収スペクトルから吸収周波数fabsを実験的に求めれば、電子密度neを得ることができる。また表面波の定在波が立っているプローブ頭部の長さdを限りなく 0 に近づけ、表面波の波長が無限小の場合に相当する共振周波数を表面波共鳴周波数fswと呼び、誘電体管の比誘電率がεdとすると、電子密度は
ne [m-3]=1.24 x 1016 (1+εd) (fsw [GHz])2 (8)で与えられる。このように、前述のプラズマ振動
プローブと同様に、表面波プローブでは、吸収周波数や表面波共鳴周波数がわかれば、(8)式などを用いて直ちに電子密度を求めることができ、密度導出過程が簡便である。そしてラングミュアプローブのような電子やイオンの伝導電流の測定が不要なので、絶縁膜が堆積しても密度測定そのものへの影響は小さい。なお表面波プローブの時間分
解能はほぼネットワークアナライザで制約されており、空間分解能は、定在波が立っているプロー
ブ頭部の長さd程度で与えられる。

図９
分布

平行平板型プラズマ源における電子密度ては石英管を用いた。上部電極の高周波電力を
2000 Wで一定にしたまま、下部電極の高周波電力のみを 0 ~ 1200 Wの間で変化させたときの電子密度を調べた。図９に示すように、平均的な電子密度は、いずれの場合もおよそ 1x1017 m-3 程度でほぼ一定であったが、密度の径方向分布が下部電極の高周波電力によって大きく変化した。下部電極の高周波電力が 0 Wのとき、電極周囲で密度が高くて電極中心で密度が低い凹型の密度分布であったが、高周波電力を大きくするにつれて、中心部の密度のくぼみが小さくなり、典型的なプロセス条件の 1200 W のときは、ほぼ電極面内で均一な電子密度分布となることが示された。ウェハに入射するイオンのエネルギーを制御するのに、バ
イアス用の下部電極の高周波電力をしばしば変化させるが、下部電極のバイアス用電力が電子密度の径方向分布に影響を及ぼすようなことはほとん
ど知られておらず、表面波プローブを用いた測定によって、初めてこのような特性が明らかになった。また上部電極に印加する周波数が 60 MHz の場合についても報告されている [14]。

４.２.２. 適用例
前述のように、狭ギャップの平行平板電極を用いた静電結合型プラズマは実プロセスによく用いられているが、１）放電空間が狭い、２）プラズ
マ電位の高周波振動が非常に大きい、などの理由
から、電子密度などのプラズマ計測は極めて困難であった。ここでは、そのようなプラズマ源の電子密度測定に、表面波プローブを適用した例を述べる。
まずシリコン酸化膜エッチングで用いられる狭ギャップ平行平板型プラズマ源の測定例について述べる[13]。直径 20 cmの平板電極を間隔 2 cmで設け、アルゴン希釈したフロン系ガスを圧力 4 Paで放電ガスとして用いている。上部電極には27.12 MHz、下部電極には 800 MHzの異なった周波数の高周波電圧を印加し、典型的な条件として、上部電極には 2000 W、下部電極には 1200 W程度の電力を供給する。電極間隔が 2 cmなので、密度測定の空間分解能を十分に確保するために、
表面波プローブの誘電体管外径を 2 mm、プロー
ブ頭部の長さを 5mmとした。なお誘電体管とし４.２.３. 使用上の留意点
表面波プローブを用いる場合に注意しなければならない点として、適用できる放電条件に範囲があり、特にプラズマ密度が低く、放電圧力が高い
ときに、測定が困難になることが多い。例えば数百Paを超えるような高い放電圧力では、図８に示すような鋭く大きな共振ピークは得られなくなる
ことが観測されており、その原因としては、中性のガスと電子との衝突頻度が増え、共振するとき

24

のＱ値の低下などが考えられる。一方、プローブ
礎」（名古屋大学出版会、1990）
周囲に形成されるシースの影響にも気をつける必[2] H. Amemiya; Jpn. J. Appl. Phys. 57 (1988)
要がある。電子密度が高く、シース幅がプローブ
887.
サイズに比べて十分に小さい場合は、シースの影[3]プラズマ・核融合学会編「プラズマ診断の基
響はほとんど無視できるが、電子密度が低くなり、 礎」（名古屋大学出版会、1990）
プローブのサイズと同程度にまでシース幅が大き[4] M.A.Lieberman et al: “Principles of Plasma
くなると、その影響を無視できなくなり、電子密Discharges and Materials Processing” (John度を算出する際にシースの効果を考慮しなければWiley & Sons, 1994)
ならない。
[5] 堤井信力、「プラズマ基礎工学」（内田老鶴圃、
1986）
最近ではそのような課題に対する方策が考案されてきている。たとえば共振ピークが小さく[6] T. Shirakawa and H. Sugai : J. Appl. Phys.
なる場合は、被覆ガラス管の肉厚を薄くしたり、 32 (1993) 5129.
[7] 雨宮宏他：プラズマ・核融合学会誌 第 81 巻
被覆ガラス管を取り除くことにより、スペクト(平成 17) pp. 482-525
ル強度が改善され、100 Paを超えるような高い圧力のプラズマにも対応できる表面波プロー[8] T. H. Ahn et al: Jpn. J. Appl. Phys. 34 (1995)
ブが開発されている[15]。実際、Low-k材用CVD
L1405.
プラズマ装置の密度測定に表面波プローブを適用[9] T. H. Ahn et al: Plasma Sources Sci. Technol.
した例も報告されている[16]。またシースを無視
5 (1996) 139.
できない低密度プラズマにおいても、シースを真[10] H. Sugai et al: Mater. Res. Soc. Symp. Proc.
空層と近似したモデルで分散式を解き、シース効(August 1996, ) Vol. 406, pp. 15-25
果を考慮して電子密度を算出すると、測定精度を[11] H. Kokura, K. Nakamura, I. P. Ghanashev
向上できることが示されている。さらに表面波のand Hi. Sugai: Jpn. J. Appl. Phys. 38 (1999)
分散特性が異なる２つの表面波プローブを用
5262.
[12] 菅井秀郎：プラズマ・核融合学会誌 第 78
い、プローブ周辺に形成されるシースの効果を
巻 第 10 号（2002） 998.
考慮すると、シース厚がデバイ長の数倍である
ことから、電子温度とともに電子温度も計測で[13] K. Kinoshita et al: 25th International
きることが報告されている[15]。
Conference on Phenomena in Ionized Gases(ICPIG), (July 2001, Nagoya).
５. 終わりに[14] K. Kinoshita et al: Gaseous Electronics
本報告では、よく用いられるラングミュアプロ
Conference (GEC) (Oct.. 2000)
ーブのほかに、プロセス用プラズマに適用できる[15] K. Nakamura et al: J. Vac. Sci. Technol. A
プラズマ振動プローブと表面波プローブについて、 Vol. 21 (2003) No. 1, pp. 325- 331
概説と実際のプロセス、またはそれに近い条件で[16] K. Nakamura et al: 2004 Int. Symp. Dry
Process（2004, Tokyo）P-29.
の密度計測事例を紹介した。いずれも従来の静電プローブでは困難となる膜堆積を伴うプラズマで電子密度の絶対計測が可能であることが示された
が、実際のプロセスへ適用する上で課題も残されており、今後も改良が進められるであろう。本報
告により、できるだけ多くの方々が表面波プロー
ブに関心をもち、試していただければ幸いである。
＜参考文献＞[1] プラズマ・核融合学会編「プラズマ診断の基25

国際会議報告61st Annual Gaseous Electronics Conference 報告
名古屋大学

堀

勝

Electronics

2006 年は 249 人、2007 年は 260 人である。

Conference：GEC）（第 61 回気体エレクトロ

したがって、GEC として初めて 3 パラレルセニクス会議）が 10 月 13～17 日の日程で米国ッションを組み会議が実行された。会議以外

テキサス州ダラスにて開催された。本会議は、

特になにもない、乾燥地帯で開催されたにもプラズマの気体および表面反応の基礎を科学かかわらず、本年度の参加人数が飛びぬけて的に解明しながら、最先端の応用を議論する多くなった理由は、現時点で十二分に把握で場として長い歴史を誇る米国の国際会議であきていないが、Secretary である Prof. L.

る。プラズマエレクトロニクス分科会は、Overzet (テキサス大学）が精力的に参加を呼GEC を手本として設立され、分科会とも密接

びかけたことや 2 つのアレンジセッションをな関係がある。本会議は、米国物理学会(The

設定して、多くの参加者の興味あるテーマをAmerican Physical Society)が 主催団体とな

集中的に議論する場を作ったことが挙げられっており、プラズマの物理的な側面を骨太にる。また、組織委員会では、参加者数を多く議論できる研究者が一同に集まり、しっかりするために、セッション毎に世界を先導してした議論がなされるという特徴がある。プラいる研究者を一人ずつ選出し、これらの研究

ズマエレクトロニクス分科会が 3~4 年を目処

者を Champion と称し、Champion が個々のに 開 催 し て い る 国 際 会 議 （ International

セッションへの参加を呼びかけるという方策

conference on reactive plasma : ICRP）は、を講じた。日本からは、計測のセッションで主として、工学の立場からプラズマ中の物理河野明廣（名古屋大学教授）が選出されてい化学現象を解明しながら、先端応用プロセスる。日本からの参加者数は、47 人を数え、米技術を議論する場を提供している。GEC が、

国 165 人に続いて 2 番目である。ちなみに、理学的なアプローチから先端応用技術を議論

各国の参加者は、ドイツ 39 人、フランス 23

し、ICRP が工学的な基礎からの議論と先端人、オーストラリア 17 人であり、昨年まで参応用技術のパーフォーマンスを提示する場を

加者数で日本を追い上げてきた韓国は、2 人提供している点で両者は共通的な交わりを有と大幅に数を減らした。

61st

AnnualGaseous

しながら、各々理学と工学の先端を議論する

今回、日本から過去最多の 5 人の招待講演という点で相補的であり、世界を先導する国がなされた。酒井氏（京都大学）は、マイク際会議として、非常に良いコンビネーション

ロプラズマの生成とその電磁波との相互作用を保っている。

について講演し、微小プラズマの制御によるさて、今回の参加人数 382 人であり、過去

興味深い電磁現象を示し、多くの注目を集め３年間では最高の参加者となった。ちなみに、た。唐橋氏（阪大）は、ビーム実験によるエ26

ッチング表面反応の基礎を講演し、最先端エにかかわる研究講座があったが、現在の日本

ッチング技術が抱える課題に対して素過程のではほとんど消滅し、基礎的な学術基盤をも解明なくして前進できなくなっている現状をたない研究者がやたらに大気圧や液中プラズ

反映し、多くの関心を集めた。辰巳氏（ソニ

マの応用を模索するという状態が続いている。

ー）は、フルオロカーボンプラズマのアレン

米国や欧州には、先端的技術を支える基礎を

ジセッションにおいて、先端デバイスにおけ

継続して研究を遂行できる知的インフラが大るフロン系ガスプラズマの気相と表面反応に事にされており、どのような技術の潮流にもついて、データーを系統的に整理し、先端技対応できる基礎分野の研究者を有している点

術研究に対する応用的基礎研究の重要性を示

で驚異に感じた。

した。澤田氏（東京エレクトロン）は、二周

高圧プラズマにおいては、明石氏（防衛大）波励起プラズマにおいて、卓越したシ高精度がパルス誘電体バリア放電によるエキシマラ

シミュレーション技術を駆使して、先端装置

ンプの研究において、放電現象の基礎的な解を生産しているトップ企業の高いポテンシャ

析を含めて高いレベルでの講演を行なった。

ルを示した。田氏（東京エレクトロン）は、

また、佐藤氏（室蘭工大）および豊田氏（名表面波励起プラズマの基礎と応用について講大）は、液体とプラズマの相互作用とその中演し、表面波励起プラズマとそのプロセス技の活性種の特定について興味深い研究成果を術の高い完成度を示し、多くの参加者の興味示し、「液中プラズマ」の応用面のみならず基を引き付けた。

礎的な現象にメスを入れるという点で多くのアレンジセッションは、フルオロカーボン

参加者の関心を引き付けた。佐々木氏（名大）プラズマと負イオンプラズマ現象の二つが設

は、ICP プラズマ中の N2 励起種と N 原子の置され、古くて新しい両プラズマの物理化学

絶対密度と寿命を計測し、これらの活性種の的側面に焦点が当てられ、熱い議論がなされ表面反応への寄与について講演した。窒素プ

た。日本以外では、超有名な Prof. F. Chen が、ラズマにおける窒化現象はまだ十二分に理解

永久磁石を用いた実用的なヘリコンプラズマされておらず、今後の進展が期待される。藤に関して、現役の研究者として熱弁を奮った。

山氏(長崎大)は、低圧 ECR でマイクロプラズ

生涯現役で高いレベルで基礎研究を継続できマを構築することを試みており、プラズマとる米国の底力を改めて噛み締めた。Prof. P.

磁場が織成す基礎現象の観点からも興味深い

Maguire と Prof. Z. Petrovic は、招待講演と講演であった。

して DC と RF のブレークダウンに関する放さて、今回の GEC で特筆したいのは、学

電の基礎研究について解析的な研究を行なっ生への Award である。GEC では、Student

た。大気圧や液中プラズマの出現で、放電現Award を設置し、申請者のアブストラクトか

象の基礎的な理解が必要不可欠になっている。

ら数名の候補を選出し、当日は GEC Student

上記の講演は必ずしも最先端の研究ではないAward Excellent Finalist と明記してプレゼが、超高圧プラズマの応用を進める上で役にンテーションを遂行し、最終的な受賞者 1 名

立つ基礎知識を習得する上で重要な講演であを決定する。日本からは、馬場君（東北大学、った。30 年前であれば、各大学に多くの放電畠山研）が Excellent Finalist に選ばれ、プ27

ラズマと液体との相互作用について非常に優ただければ情報を提示したい。最後に、来年れた発表を行なった。惜しくも受賞には至ら

度は、ニューヨーク州アルバニーで開催されなかったが、日本人として堂々とした発表でる。東京エレクトロンが主体的に取り組んであった。今後は、多くの学生がチャレンジすいる大型ナノテクノロジーセンターが設立さることを期待したい。なお、このようなれており、見学する良い機会かと思われる。

Student Award の講演には、大御所の Prof.

さらに、2010 年は、いよいよ日本と米国がとChen が必ず聴講に来ていた姿が印象に残っ

共同主催する GEC-ICRP の合同国際会議がている。

パリの中心で開催される。この前哨戦として
日本からの多くの参加者があることを期待す

さて、講演者の紹介には、枚挙に暇がなくる。

紙面の都合から十二分に報告することが困難
で あ る 。 興 味 あ る 方 は 堀（hori@nuee.nagoya-u.ac.jp）までご連絡い28

国際会議報告第 50 回米国物理学会(APS)プラズマ分科会(DPP)会議報告
大阪大学

浜口智志

標記の会議 [The 50th Annual Meeting of Divisionof Plasma Physics (DPP) of the American PhysicalSociety(APS)] が、米国テキサス州ダラスの HyattRegency Hotel （図１）において、11 月 17 日(月)から 21 日(金)の日程で開催された。米国物理学会
プラズマ分科会（APS・DPP）は、分科会だけで会員数約 2600 を擁する、APS の中でも最大の分科会の一つで、他の分科会とは独立して、毎年年会（annual meeting） を開催している。今年は、APS・DPP が設立され、また、核融合研究が米国で軍事機密から外されてからもちょうど 50 周年にあたる記念すべき年であり、本年会でも、それにちなんだ特別講演などがいろいろと企画された。
APS・DPP の年会は、米国物理学会の「国内」会議であり、その意味では、日本の応用物理学会（JSAP）におけるプラズマエレクトロニクス（PE）
分科会のような位置づけである。ただし、英語という国際語を使った会議である点や、米国が長年主導している研究分野の研究会ということもあり、世界各国から参加者が訪れる。そのため、APS・
DPP のプログラム委員会も、外国人研究者に対して比較的オープンである。ただし、同委員会は、外国の学会からは、現在、日本のプラズマ核融合学会（JSPF）とヨーロッパ物理学会プラズマ分科会（EPS・DPP）のみから代表として正式に受け入れており、筆者は、JSPF の代表として、APS・
DPP プログラム委員会にも出席した。同委員会では、こうした代表からの意見を聞いて、年会の招待講演に質の高い外国人講演者をひろく集めている。そういう意味では、PE 分科会も、同じ専門分野を擁する学会が国外に多々あるので、それらと長期にわたる綿密な連携を構築すれば、得られるメリットも大きいのではないかと思われる。
さて、今回の APS・DPP 年会であるが、約 1600
件の発表があり、そのうち約 100 件が基調および招待講演であった。この学会は、基礎プラズマ・
宇宙プラズマからプラズマ産業応用まで、幅広い
プラズマ物理学を対象とするが、やはり、伝統的に、制御熱核融合に関する発表が圧倒的に多い。
しかしながら、そうした中で、プラズマ応用に関する基礎物理の分野の研究発表も、他の学会に比べて多く、プラズマの基礎を研究する PE 分科会
会員には、よい研究発表の場となると思われる。
そのような分野では、たとえば、（主として、推進の応用の目指した）ヘリコンプラズマに関する基礎研究において、質の高い発表が多かったのは印象深かった。

図１：第 50 回 APS DPP 会議が開催され た テ キ サ ス 州 ダ ラ ス の HyattRegency Hotel29

国際会議報告第 55 回米国真空学会(AVS)国際シンポジウム報告
大阪大学

浜口智志
しく、おそらく初めての試みだと思われる。ソーウィン教授が長年にわたって、プラズマ表面相互作用・ビーム表面相互作用の研究に貢献したことに敬意を表し、この分野の第一線の研究者が招待講演者として招かれた。日本からは、慶応大学の真壁利明教授が招待された。
（ただし、真壁教授は、会議開催直前に渡米する都合がつかなくなり共同
研究者による代理発表となった。この真壁グループの発表も含めて）本特別セッションは大変評判がよく、PSTD の他のセッションはもとより、他の分科会やグループのセッションと比較しても、極めて多くの聴衆があつまったセッションとなった。
PSTD は、半導体をはじめとするマイクロエレ
クトロニクス関連分野のプラズマプロセスに関する研究グループとして発展してきたが、新しい分野の開拓にも積極的に取り組んでいる。
たとえば、
ここ数年、大気圧プラズマ・マイクロプラズマの分野の研究発表を増やすことに取り組んでおり、今年も、同分野のセッションを組み、京都大学の橘邦英教授がこの分野の招待講演を行った。
また、バイオマテリアルインターフェイス分科会等との共同セッションも企画し、プラズマのバイオ応用分野の開拓にも取り組んでいる。
筆者は、2007 年秋から 2 年の任期で PSTD の
Executive Committee Member として、PSTD のマネ
ジメント活動に深く関与する機会を得ているが、新しいことに積極的に取り組む委員会のメンバーとして仕事ができるのは幸運である。
もう一つの新しい試みとして、AVS PSTD が、独自に、来年（2009 年）春にカリフォルニア州
San Jose で、プラズマプロセスに関するシンポジ
ュウムの開催を企画している。このシンポジウムにも、日本から多くの参加者があることを期待する。

標記の会議（AVS 55th International Symposium &Exhibition）が、米国マサチューセッツ州ボストンの Hynes Convention Center において、10 月 19 日(日)から 24 日(金)の日程で開催された。よく知られているように、米国真空学会（AVS）は、会員数約 6000 名を擁する大きな学会で、
本国際シンポジウムは、年に一度の AVS の総会である。今年の国際シンポジウムは、1954 年に開催された第 1 回（国内）シンポジウムから数えて、55 回目にあたる。今年の国際シンポジウムは、10 の分科会
（Divisions） と 2 つのテクニカルグループ、４つのトピカル会議、４つのフォーカストピックをあわせた合計 20 の専門グループによって構成され、111 の口頭セッションと 2 つのポスターセッションが開催された。また、こうした研究発表会と並行して、火曜日から木曜日にかけて、同じ会場で、多数の企業による製品展示会（Exhibition）も開催された。本シンポジウムの中で、本誌の読者に最も関係の深いのは Plasma Sciences and Technology
Division (PSTD) の研究発表会であると思われる
し、筆者もその PSTD の研究会を中心に参加してきたので、ここでは PSTD の研究発表会とその活動について簡単な報告を行う。
PSTD は、AVS の中で最も大きな分科会の一つであり、今年は、PSTD が主催するセッションだ
けで約 170 件の発表があり、PSTD が共催するセッションも含めると、約 250 件の発表があった。
PSTD の主催するセッションの大半は、ほぼ例年通りで、“Plasma Etching for Advanced Interconnect”
や“Advanced Gate Etching” などの 16 のセッションが設けられた。
そのなかで、今年、例年にないセッションとして注目されたのは、マサチューセッツ工科大学（MIT）ソーウィン（H. Sawin）教授の退職記念
セッションであろう。退職する教授を記念する特別セッションの開催は、PSTD では極めてめずら

30

国際会議報告第 14 回プラズマ理工学国際会議（ICPP2008 ）International Congress on Plasma Physics 2008
東北大学

畠山力三（プログラム委員長）
先ず第一に会議構成については下記詳細に示したように, 広領域・分野の現状の系統的把握と将来課題の挑戦的創出を意図して新しく, 「一般分類トピックス」（G-A：基礎プラズマ物理, G-B：磁場閉じ込めプラズマ, G-C：高エネルギー密度プラ
ズマ, G-D：宇宙・天体プラズマ, G-E：プラズマ応用, G-F：新芽期・新動向プラズマ）と, 広い視野から学際的に議論を行うための「焦点化トピックス」（F-A から F-I まで 9 項目）の二本立てとした.
後者の中には例えば, プラズマ物理の究極課題の“Advance in Turbulence and Structure Formation
Physics ” や 未 来 エ ネ ル ギ ー 開 発 に 関 わ る“ ITER-Driven Plasma Physics”, あるいは PE 分
科会活動と関わりが極めて深く先進的な“Plasma
Optics and Photonics”及び“Bio/Nanotechnology
Frontiers ▬ Plasmas with Gas/Liquid Interfaces”等を優先的に取り上げた.
--------------- Generally-Classified Topics ------------G-A Fundamental Problems of Plasma Physics
Atomic and Molecular Processes, Discharge Processes,
Plasma Production and Control, Waves andInstabilities, Formation of Parallel and PerpendicularElectric Field, Nonlinear Phenomena, Collective
Phenomena, Structure Formation, Plasma Flow,
Vortices, Boundary Plasmas, Microparticle and Dust
Plasmas, Non-neutral Plasmas, Diagnostic Methods
G-B Magnetically Confined Plasmas
Magnetic Fusion Science, Confinement and Heating,Plasma Wall Interactions, Turbulence and Transport,
Structure Formation, Structural Phase Transition,
Current Drive and Rotation Drive, Edge and SOL
Plasmas, High Energy Particle Dynamics, MHD
Phenomena, Magnetic Reconnection, High
Temperature Plasma Diagnostics

本国際会議すなわち第 14 回プラズマ理工学国際会議（ICPP2008: International Congress on Plaslma
Physics）は, 平成 20 年 9 月 8 日から 12 日の日程
で福岡の福岡国際会議場にてプラズマ・核融合学会, 核融合科学研究所, 九州大学の主催で開催された（組織委員長：松田慎三郎・本島修, 現地実
行委員長：佐藤浩之助）. ICPP は第 4 回プラズマ中の波動と不安定性国際会議と第 4 回プラズマ理論キエフ国際会議を引き継ぐ形で, わが国のリー
ダーシップの下に 1980 年に名古屋で第 1 回が開催された経緯がある. その後, グーテンブルグ(1982年), ローザンヌ(1984 年), キエフ(1987 年), ニューデリー(1989 年), インスブルック(1992 年), イ
グアス(1994 年), 名古屋(1996 年), プラハ(1998 年),
ケベック(2000 年), シドニー(2002 年), ニース(2004 年), キエフ(2006 年)で開催されて来た, 一方において現代では, 広範に拡大したプラズマ研
究の全体像を正確に把握し, 共通の課題を議論することは難しくなってきており, 分野の枠を超えて討論する意味が益々重要になってきている. このような背景において会議の目的は, 基礎プラズ
マ, 核融合プラズマ, 宇宙・天体プラズマ, プラズ
マ応用等の幅広い分野に関して, 物理的視点からプラズマ理工学, 延いてはプラズマ科学の現状と将来の方向性について議論することである.
本年の平成 20 年(2008 年)は, 1958 年のジュネー
ブ会議, 宇宙観測の幕開けから, 換言すればプラズマ物理や宇宙・核融合プラズマの研究活動が開始されてから 50 年目にあたる記念すべき年である. 従って, 我が国が当該分野において引き続き強い牽引力を持って指導力を発揮すべく, プログ
ラム委員会では色々な工夫や新しい企画を行った（現 PE 分科会でご活躍の九大・白谷正治及び阪大・浜口智の両教授もプログラム委員）.

31

G-C High Energy Density Plasmas
Laser Inertial Fusion, Strongly Coupled Plasmas,
Laser Particle Acceleration, Beam Particle
Acceleration, Warm and Dense Matter, High Density
Condensed Matter, Photonic Crystals, Relativistic
Plasmas, Radiation Hydrodynamics, Laboratory
Astrophysics,
G-D Space and Astrophysical Plasmas
Magnetic Reconnection, Dynamo, Turbulence, Shocks,
Acceleration, Radiation, Accretion Disks and Jets,
Relativistic Plasmas, Cosmic Ray and Non-thermal
Particles,
Terrestrial
andPlanetary
Magnetosphere/Ionosphere, Sun and AstrophysicalObjects, Space Weather
G-E Plasma Applications
Plasma Sources, X Ray Sources, Microplasmas,
Atmospheric Plasmas, Discharge Plasmas in Liquids,
ThermalPlasmas,PlasmaProcesses
for
Semiconductor Applications, Plasma Processes for
Surface Treatment, Material Formation and Synthesis,
Nano/Bio Technologies, Environmental Technologies,
Pulsed Power, Ion/electron/neutral Beams, Free
Electron Laser, Extreme Ultraviolet, Laser/Plasma
Welding, Plasma Propulsion, Lightning Discharge andTriggered Lightning, Plasma Diagnostics
G-F Sprouting Approaches and New Trends
Quark Gluon Plasmas, Antimatter Plasmas, Soft
Matters, Ionic Plasmas, Gas-liquid Interface Plasmas,
Plasmonics, Education and Outreach, Others--------------------- Focused Topics ----------------------F-A Advanced Plasma Physics in Linear Devices
F-B Advance in Turbulence and Structure
Formation Physics
F-C
Laboratory-Space-Astrophysical
PlasmaInterrelation
F-D Frontiers of Dust Plasmas
F-E ITER-Driven Plasma Physics
F-F
Edge Plasma Physics and Materials
Interaction
F-G Plasma Optics and Photonics
F-H Bio/Nanotechnology Frontiers ― Plasmas
with Gas/Liquid Interfaces
F-I Plasma Diagnostics

第二にプログラム構造に関しては一つに, プラズマ物理 50 周年を意識して初日の開会式直後の第一番目に基調講演として, 上記トピックス G-A〜G-F の全てに跨る歴史啓蒙的な R. Sagdeev 氏（米国）の ”Plasma physics: Evolution in 50 years
and the outlook ”, 最終日閉会式直前に招待講演として, プラズマの基礎・応用を含む輝かしい未来をアピールする F. Wagner 氏（ドイツ）”The powerof plasmas”, そして中日に半世紀特別講演として,核 融 合 科 学 研 究 の 発 展 を 概 観 す る 貴 重 な A.
Iiyoshi（日本）の ”Development of fusion sciencestudies in the fifty years” が設定された. また二つには, 課題の概観把握から狭い範囲の議論が, 総合講演−招待講演−口頭発表−ポスター発表の流れ
で各日毎に一連に行えるように, 上述の「焦点化トピックス」を柱にして「一般分類トピックス」
がその相補関係を担うようにしつつ, 参加申し込
み研究テーマをクラスター化した. これにより,非常に広範な分野対象と膨大な講演・発表件数にも拘わらず, 大変見通しの良い会議であったとの評があった.
第三に, 招待講演者の選出に当たっては従来の方針をがらりと変えて, 世界各国に分布しているInternational Advisory Committee (IAC)メンバ
ー約 50 人, 過去二回の ICPP における招待講演経
験者, 及び 組織委員長のみならずプログラム委
員全員は今回の ICPP2008 では招待講演候補者の資格が無いものとしたことである. また, 招待講
演候補者の推薦は, IAC メンバー及び国内外の多くの関連学会協長から募り極めて大掛かりで行い,
世界 30 ヵ国から 310 名が推薦された. これによって, 現在真に優れた研究を行っている若い研究者を含めての質の高い招待講演者の確保が可能となり, これまでのマンネリ的な選出等で過去二回のICPP が参加者総数等において低調であった現状を打破しようとした.
結果的に, 全招待講演者 48 名（内：女性 6 名）を「一般分類トピックス」別に分けると, G-A: 9
名, G-B: 15 名, G-C: 3 名, G-D: 9 名, G-E: 7
名, G-F: 4 名であった（分類に入らない基調講演者 1 名）. この中で, PE 分科会に関連が深い招待
講演者とタイトルを以下に記す.
(1) P. Chabert (Plenary, フランス: Physics of32

さて, 参加総数は日本, 米国, ドイツ, ロシア,
イラン, フランス, オーストラリア, 英国等 40 ヵ
国から 737 名で, 過去二回の ICPP は 200 百名台であったのでこれを遥かに超えてこれまでの最多の参加者数となった. また, 発表講演数は基調
講演 1 件, 総合講演 9 件, 招待講演 38 件（以上を押し並べて招待者として扱っている）, 特別講演
1 件, 口頭発表 72 件, ポスター発表 735 件の合計855 件であり, こちらも過去圧倒的最多の発表件数を記録した. また, 一般分類トピックス毎の発表件数においては G-E (プラズマ応用)が最も多くかつ本会議が大盛会でありましたことは, 偏に PE 分科会皆様のご協力とご支援の賜物でございまして, 心より感謝申し上げます.
さらに, 本 ICPP2008 のサテライト会議として開催され, ナイトセッションを鮮やかに形成したInternational Workshop on Plasma Applications（主催：九大・白谷正治教授, 9 月 9 日, 福岡国際会議場）, 及び 21 世紀新奇研究領域創出を意図したInternational Interdisciplinary-Symposium on Gaseousand Liquid Plasmas（組織委員長：東北大・畠山力三, 9 月 5−6 日, 仙台市）も盛会裡に終えましたこ
とも, 皆様のお蔭様でありますことは申し上げる
までもございません.
最後に, 次回の ICPP2010 は南米のチリで開催予定でありますことを申し添えます.

multiple-frequency capacitive discharges used
for plasma processing applications(2) U. Czametzki (Invited, ド イ ツ ): Wave
heating in helicon and flat coil neutral loop
discharges(3) S. Fujioka (Invited, 日本): Laser-produced
extreme ultraviolet light source plasma for the
next generation lithography application(4) O. Sakai (Invited, 日 本 ): Microplasma
array serving as photonic crystals and plasmon
chains(5) J. F. Kolb (Invited, 米 国 ): Nanosecond
pulsedelectric
fieldsformedicalapplications(6) A. Fridman (Invited, 米 国 ): Plasma
medicine(7) T. Kaneko (Invited, 日 本 ): Liquid-gas
interfacial plasmas for formation of novel
nano-bio materials
上記上から二つの講演では, 充実した物理に基づいたプラズマ応用研究が展開されており好感が持たれた. 次の二つは, 近年の新傾向プラズマ応用研究として興味が持たれた. 下の三つの講演は,近年注目の多いプラズマ応用ナノ・バイオ研究であったので他分野の研究者の聴講もあり, 非常に活発な質疑応答が成されていた.
なお, プラズマ応用以外の講演で特筆すべきものも厳選して以下に示す.
(a) C. Joshi (Plenary, 米国): Surfing plasma waves: A
new paradigm for particle accelerators(b) A. Piel (Plenary, ドイツ): Plasma crystals−
structure and dynamics(c) S. I. Itoh (Plenary, 日本): Structure formation in
turbulent plasmas(d) C. Thompson (Plenary, 米国): Physics of nerutronstars with super-QED magnetic fields(e) A. Sykes (Plenary, 英国): The development of thespherical tokamak(f) R. B. Stephens (Plenary, 米国): Energy injection
for fast ignition(g) B. Eliason (Invited, スウェーデン): Nonlinear
aspects of quantum plasma physic ▬ nanoplasmonics
and nanostructures in dense plasmas

ICPP2008 福岡国際会議場の入り口

33

国際会議報告APCPST-9/SPSM-21 報告
日本学術振興会プラズマ材料科学第 153 委員会・名古屋大学
高井治

APCPST-9（9th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology）／
SPSM-21（21st Symposium on Plasma Science for Materials）は，2008年10月8日（水）－10日（土）に，中国黄山市・黄山国際ホテル・国際会議センターにて開催された．
中国のASIPP (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences)とCATAM（The Chinese Society of Theoretical and Applied Mechanics）の主催により，ASIPPのChengkang Wu教授が組織委員長を務めた（http://210.73.18.17/）．日
本では，日本学術振興会・プラズマ材料科学第153委員会が担当している．
APCPSTは，2年ごとに中国，韓国，日本，オーストラリアで開催され，SPSMは毎年，第153委員会の主催で開催している．最近では，SPSMはAPCPSTとあわせ開催されている．
本会議の対象は広く，熱プラズマから非平衡プラズマまで，材料科学分野への応用
も含め，プラズマ科学技術の全般を対象としている．
今回の主なトピックスは下記の通りである．また，プログラム等は，上記のウエブ
サイトに掲載されている．
＊Thermal plasmas and applications＊Low pressure discharges: theory, diagnostics and mechanisms＊Atmospheric pressure cold plasmas＊Solution plasmas＊Fusion plasmas and electron beams＊Plasmas and materials＊Etching and sheath
参加者は，17か国から251名であった．国別の参加者数は，中国 162，日本 42，
韓国 19，カナダ 5，台湾 3，オーストラリア 3，アメリカ合衆国 3，フランス 2，イギリス 2，ロシア 2，ルーマニア 2，インド 1，チェコ 1，アイル
ランド 1，スペイン 1，ドイツ 1，セルビア 1である．また，発表件数は，プレナリー講演6件，招待講演22件，口頭発表28件，ポスター発表229件（実際は162件発表）である．
中国開催のこともあり，中国からの参加者が増え，その研究成果も過去の会議と比べ向上していた．
1992年7月22日―25日に中国・南京市にて最初のAPCPSTが開催された．この後のエクスカーションが黄山であり，当時，黄山市は屯渓と古い名称で呼ばれていた．現在の黄山市は16年前とは一変し，ビルの多く建つ近代的な町に変身していた．中国のプラズマ研究も，この黄山市と同じような状況にたとえられる．明の時代の町を再建

34

した個所のみは今も同じであり，古い景観が観光客を呼んでいる．黄山自身は，変わることなく水墨画の世界を残していた．
なお，今回の会議のプロシーディングスは，Thin Solid Filmsにて発刊予定である．
次回のAPCPST-10/SPSM-23は，韓国の釜山で2010年に開催される．また，SPSM-22
は，東京大学山上会館にて2009年6月15日（月），16日（火）に開催予定である．両会議への皆様方の御参加をお願いする．

写真１ 会議場風景

写真２

写真３ 会場風景

開会式風景

写真４ 宴会風景

写真５ 西逓村の牌坊（エクスカーション）

写真６ 黄山風景（エクスカーション）

35

国際会議報告第 11 回プラズマ表面工学国際会議(PSE2008)報告
長崎大学

藤山

寛

マ材料処理：低気圧と大気圧プラズマプロセスの比較」．
いずれも興味深いトピックスのテーマが選ばれており，基礎から応用まで幅広く網羅されていると感じた．
セッションテーマは以下の通り．「膜成長と構造」，「太陽電池用コーティング」，「バイオ医療応用のための薄膜Ⅰ・Ⅱ」，「耐磨耗コーティングⅠ・
Ⅱ」，「プラズマ表面相互作用」，「プラズマ源」，「プ
ラズマ支援拡散」，「PVD」，「ポリマーのプラズマ処理」，「カーボンベースコーティング」，「大気圧プラズマ CVD」，「大電力パルスマグネトロンⅠ・Ⅱ」，「耐磨耗ナノコンポジット材料」，「低気圧
CVD」
，
「膜特性」
，
「プラズマ特性」，「保護バリアコーティング」，「光学コーティング」．
「プラズマ
モデリング」，「プラズマ重合」，「電気磁気応用のための薄膜」，「ナノ粒子」，「ナノコンポジットの成長と構造」．
これらのテーマを見るだけでこの会
議の特徴が見て取れるが，なかでも大電力パルス
PVD による保護バリアコーティングなどの機械的応用，太陽電池や燃料電池などのエコエネルギ
ーへの応用，バイオ医療への応用に関する興味深
い発表が増えてきている．
2010 年 に パ リ で 反 応 性 プ ラ ズ マ 国 際 会 議(ICRP)と GEC の合同会議を開催する計画があるが，同年 9 月 13－17 日に第 12 回の PSE2010 も予定されている．もしも将来，３会議がジョイント
されれば，基礎から最新の応用までを網羅したプ
ラズマ科学に関する素晴らしい国際会議となるのだが，参加者はどの講演を聴くべきか迷って必ずやストレスを溜め込むことになるだろう．
PE 分科会の会員諸兄には PSE に一度は参加して，講演と展示，それにバイエルン地方の料理と雪に覆われたツークシュピーツェ山の絶景を味わって欲しい．ただし，残念なことに 2010 年の同じ日程で応用物理学会秋季学術講演会が長崎大学で開催されるので，どうぞ 2012 年の PSE へ！

標記国際会議が 2008 年 9 月 15－19 日に南ドイ
ツのガルミッシュパルテンキルヘンにて開催された．
本会議は 1988 年にガルミッシュパルテンキル
ヘン国際会議場で第 1 回が始まり，以来 2 年おきに同会議場で開催され，今回が 11 回目となる．ドイツの鉄鋼・金属関連学会が母体となって始められたため，主に金属の窒化やハードコーティングを目的としたプラズマやイオンによる表面処理・
コーティングが主なトピックスであったが，20 年を経て，随分と主題が変わった．今回も太陽電池
や有機・バイオ応用などに関する発表が増えている．参加者も 600 名を越える大会議となり，今や本会議の売り物となった感のある大規模な併設展
示会はますます充実してきている．
European Joint Committee on Plasma and Ion
Surface Engineering (EJC/PISE)が組織委員会となり，9 プレーナリー講演，3 パラレルオーラルセッ
ション，4 ポスターセッションが，月曜から金曜
午前までびっしりスケジューリングされているば
かりか，前日の日曜には「プラズマ表面工学の基礎と動向」と「プラズマ表面工学ヨーロッパ特許」の２チュートリアルがフルに 1 日パラレルで開催されている．さらに会期中にも「反応性スパッタの実際」に関する講義が 1 日中開催され，参加者の様々なレベルとニーズに対応した細かいプログ
ラムを提供している．
見事なアレンジと言えよう．
ここで，ヨーロッパのプラズマ応用に関するト
レンドを理解するために，少し細かくなるが，プレーナリー講演とセッションテーマについて紹介
しよう．プレーナリー講演は以下の 9 件である．
「薄膜太陽電池」，「プラズマプロセスのその場分
析」，「ハードコーティング」，「プラズマ表面相互作用：分子動力学とビーム」，「パルスマグネトロ
ンスパッタリング」，「表面工学のためのマイクロプラズマ源（京大橘邦英教授による）
」
，
「大電力パ
ルスマグネトロンによる電離 PVD」，
「低温プラズ36

国際会議報告19th ESCAMPIG 参加報告
名古屋大学プラズマナノ工学研究センター

佐々木浩一

ESCAMPIG では，口頭発表のほとんどが招待講
演（General Lectures, Topical Lectures, Workshop
Lecturess）である。招待講演に選ばれたトピックには，
プラズマ分光，線スペクトル広がりの解釈，
ボルツマン方程式，絶縁破壊などの伝統的テーマが多いが，それらに交じって，
プラズマ支援燃焼，
カーボンナノチューブ，ダイヤモンド CVD，プラ
ズマ推進などの応用サイドのテーマも採択されている。ESCAMPIG の運営方針に関して筆者は確かなことを言える立場にないが，応用サイドの研究
テーマの話を聞いて基礎的観点からの研究課題を見極めようとする姿勢があるように感じられた。
Workshop のテーマの一つはプラズマ薄膜堆積における活性粒子診断であり，ここにも基礎と応用の接点を求める姿勢が見られた。
一方，一般講演のほとんどはポスター形式での発表となり，ごく僅かの一般講演が Hot Topics に選ばれて口頭発表された。投稿された一般講演の査読および Hot Topics の選出審査は厳格に行われているものと推察された。すべてのアブストラク
ト原稿（A4 で 2 ページ）に対して概要評価と修正
必要事項の指摘がなされ，査読プロセスをクリヤーした論文のみがアブストラクト集に収録されるとともに発表を許されたようである。このような厳密な査読プロセスは最近のプラズマ分野の国際会議では比較的珍しく，印象的であった。
冒頭でも述べたように，ESCAMPIG は ICRP と合同開催されたことがあり，かつては本分科会と関係の深い国際会議であった。しかし，最近は我が国（特に本分科会会員）からの参加者が減少傾向にあり，今回の ESCAMPIG では我が国からの招待講演は Workshop における 1 件のみであった
ことは残念であった。次回の ESCAMPIG はセル
ビアのベオグラード市において 2010 年に開催される予定である。多くの会員が再び ESCAMPIGに注目されることを願って筆をおく。

2008 年 7 月 15 日～19 日にスペイン・グラナダ
市で開催された第 19 回 ESCAMPIG に参加したので，会議の印象などについて報告する。
ESCAMPIG の 正 式 名 称 は Europhysics
Conference on the Atomic and Molecular Physics ofIonized Gases であり，2 年に一度の頻度でヨーロッパ内において開催されている。同じく 2 年に一度の開催頻度の ICPIG（International Conference on
Phenomena in Ionized Gases）と ESCAMPIG は互い違いの年に開催されており，相補的な関係にあると言える。ESCAMPIG の参加者のほとんどはロシ
アを含むヨーロッパ圏の研究者であり，日本と米国からも比較的少数の参加者がある。2002 年に本分科会が運営する ICRP（International Conference
on Reactive Plasmas）と ESCAMPIG の合同会議がフランス・グルノーブル市で開催されたことは比較的記憶に新しい。
会議名が示すとおり，低温プラズマ中の基礎過程に関する研究が ESCAMPIG の中心トピックである。ESCAMPIG で発表される研究は，米国の国際 会 議 と し て は 基 礎 的 部 類 に 属 す る GEC（Gaseous Electronics Conference）と比較してもさらに基礎的であり，日本や米国の研究者から見ると「地味な」研究が多いとの印象を受ける。しかし，ひとつの基礎的テーマを長年にわたって徹底的に研究するヨーロッパの研究スタイルは，時として質の高い重要な研究成果を生み出す。今回のESCAMPIG でも見習うべき研究が数多く見受けられた。私的には，1 年以上前の実験で得たプラ
ズマ発光スペクトルに半ば強引な解釈をつけて今回の ESCAMPIG で発表したところ，2 名の参加者から解釈の誤りを指摘され，正しい解釈を教えられたのが極めて印象的であった。国内の学会でも多くの研究者と同じ問題を議論してきたが，どなたからも同様の指摘がなかったことから，ヨーロッパの研究者の底力を改めて感じた次第である。

37

国際会議報告第 35 回プラズマ科学国際会議 ICOPS2008
熊本大学

勝木

報告

淳

（らしい）
のには時差ぼけも相まって少々参った。
バンケットはシュヴェッツィンゲン古城を貸し切って行われた。シュヴェッツィンゲンは古城街道にあるクラシック音楽ファンには知られた街である。クラシック演奏の出向かえと広々としたフランス式の庭園、それに古城の一室でとったディナ
ーに少しだけ貴族気分を味わった。会議は偶然にもサッカーのヨーロッパ選手権大会の決勝トーナ
メントの終盤と重なった。ドイツは国際大会では当たり前のように上位に食い込む。今回も決勝トーナメントを順調に勝ち上がったが、決勝戦でスペインに１－０で敗れた。
他国開催であったため、試合時間が近くなると、老若男女多くのサーカー
ファンがドイツナショナルチームのユニフォームを纏いスポーツバーやカフェに集った。ビアグラ
スを片手にモニターに映った選手のプレーに一喜
一憂して、街中大変な賑わいであった。筆者もその中に紛れ込んで、年甲斐もなくプチドイツファンを演じてきた。とてもいい思い出になった。次回第 36 回 ICOPS は第 23 回核融合工学国際シンポジウム(SOFE)と共同開催で 2009 年 5 月 31 日から米国に戻ってサンディエゴで開催される。

35 回 目 と な る プ ラ ズ マ 科 学 国 際 会 議（ICOPS2008）が、6 月 15 日からの 5 日間ドイツ
中西部に位置するカールスルーエ市のコンベンションセンターで開催された。北米以外で開催されるのは 2003 年の韓国済州島以来 2 回目である。
カールスルーエ中央研究所（FZK）、カールスルーエ
大学およびカールスルーエ技術研究所（KIT）の主催である。KIT は FZK と大学によって共同設立された研究機関でドイツのモデルケースである。
カールスルーエの町並みは、石作りの建物が整然と建ち並び、初夏の緑鮮やかな街路樹と相まって非常に美しい。路面電車が市街地を縦横無尽に走っていてどこへ行くにも便利である。幸い 5 日間
とも天候に恵まれ、筆者は同行した雀氏とともにホテルから会場までの２キロほどの道のりを毎日心地よく往復した。会場は広々として開放感に満
ち溢れ心地よかった。発表件数 619 の内訳は、欧州 287、北米 157、アジア 155、アフリカや南米から 20 件である。トピックは、プラズマ物理、マイクロ波プラズマ、荷電粒子ビーム、高エネルギー
密度プラズマ、プラズマ応用、プラズマ計測、パルスパワーその他である。筆者が主に聴講したプ
ラズマ応用、特にバイオ・医療応用のセッションはいつも満席で時には立ち見が出るほどで、この分野はここ数年発表件数が急速に増加している。
欧米では臨床試験段階の応用もあり、動きの速さと臨床試験までのプロセスの違いを感じた。プレナリーでは、ITER、宇宙物理、X 線自由電子レー
ザー、レーザー核融合、プラズマ応用に加え、熊大秋山教授による衝撃エネルギーのグローバル
COE の紹介があった。会期中に FZK の見学ツアーが行われ、筆者が見学した核燃料処理施設では放射線管理区域内を案内するなど、主催側の意気込みを感じた。ソーシャルイベントも盛り沢山に催された。ただ、市庁舎で行われたレセプション
では、市長が延々とドイツ語で市の宣伝をされた

会場のカールスルーエ市国際会議場

38

国際会議報告

The 9th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology &The 21st Symposium on Plasma Science for Materials 報告京都大学 白藤 立
は東京工業大学の渡辺隆行先生が務めた．
初日の基調講演では，米国 UC Berkeley の M. A.
Lieberman 先生が Recent Progress in the Physics ofCapacitive Discharges と題して，2 つ以上の複数の周波数で同時にドライブされる容量結合型プラズ
マ中における電子密度やイオンのエネルギー制御とそれがエッチングを中心とするプロセス結果に与える影響を review した．引き続き，日本からの基 調 講 演 とし て ， 東 京大 学 の 吉 田豊 信 先 生 がToward A New Era of Plasma Spray Process と題して，
低圧プラズマと熱プラズマの中間圧力領域が持つ特質に注目したメゾプラズマによるシリコンの低温・高速エピタキシーと X 線を用いた粒径のその場診断を報告した．
二日目の基調講演では，韓国 KAIST の W. Choe
先 生 が Atmospheric Pressure Glow Discharge
Plasmas: From Fundamentals to Applications と題して，大気圧グロー放電の基礎と応用を講演した．
続いて，英国 Loughborough 大学の M. Kong 先生
が，Cold Atmospheric Plasmas and Their Applications
to Hospital Decontamination と題して，プラズマ滅菌・殺菌を概観するとともに，そこで使用した低温大気圧プラズマのモデリング＆シミュレーショ
ンの結果から，基底状態の酸素原子が滅菌等の主な担い手であると報告した．
三日目の基調講演では，豪州 ANU の C. Charles
先生が Recent Development of The Helicon Double
Layer Thruster と題して，ヘリコンプラズマのスラスターとしての可能性を論じ，中国科学院の J.
Fan 先生が Vapor Particle Transport in Electron Beam
Physical Vapor Deposition と題して，EB 蒸着のモン
テカルロシミュレーションを紹介した．
以下では，小職が個人的に興味を持った講演に2008 年 10 月 8 日 ～ 11 日 に ， 中 国 黄 山(Huangshan, China) にて，第 9 回アジア・太平洋
プラズマ科学技術国際会議 (APCPST-9) と第 21
回プラズマ材料科学シンポジウム (SPSM-21) が開催された．APCPST は日本，韓国，中国，オーストラリア，ロシア，米国などの環太平洋諸国からの研究者・技術者が参加する隔年開催の国際会議であり，日本学術振興会プラズマ材料科学第153 委員会が毎年開催する SPSM と合同で開催している．本会議は，低温から高温，低圧から高圧に至るプラズマ科学の基礎から応用までを網羅した国際会議となっている．
今回を含めて 3 回目となる中国での開催 (第 1回 1992 年/南京，第 5 回 2000 年/大連) は，組織委員長の Chengkang Wu 先生のもと，中国力学学会,
中国科学院 等離子体物理研究所が中心となって実施された．APCPST の副委員長と SPSM の委員
長は，名古屋大の高井治先生が務めた．プログラ
ム委員長は，清華大学の Yikang Pu 先生が務め，その副委員長と SPSM としてのプログラム委員長

APCPST-9 口頭発表会場の様子

39なお，本会では，前術のポスター発表のキャンセルに加えて，口頭発表のキャンセルが多かったのが残念だった．小職が座長担当となったセッシ
ョンでは，5 件の発表の内，当初のプログラム通りに発表したのは 2 件だけであったのには困った．
高井治先生が急遽バイオミメティックのレクチャーを実施するとともに，ポスター講演者が口頭発表にまわる等の対策が取られた．
会後，2008 年 11 月 5 日に日本側の実施母胎である 153 委員会にて，本会の参加数等が報告された．参加国数 17 ヶ国，参加者総数 251 名（内，日
本から 45 名強）とのことであった．会場の写真を示したが，ほとんどが中国人で占められていた．
また，発表件数としては，招待講演 22 件，口頭発表 28 件，ポスター発表 229 件（キャンセル多数のため実数は 162 件）と報告された．実数を反映していないかもしれないが，参考までに，プログラ
ムから読みとることのできる分野別統計を表に示した．
多少課題を残した会議ではあったが，バンケッ
トの席では，各国代表がアカペラで持ち歌を歌うなどが披露され，研究者・技術者の国際的な親睦が深まったことは確かだと思う．日本からは，名古屋大学の井上泰志先生が，中国語の歌を披露し，驚きとともに，絶賛された．
最後に，本会では，
アブストラクト集に加えて，優秀な論文を，Thin Solid Films の特集号として出版する予定となっている．現在，渡辺隆行先生，
Yikang Pu 先生が委員長を務める編集委員会のもとで，投稿された論文の査読作業が進められており，2009 年の夏頃に出版される予定である．
なお，次回の APCPST-10/SPSM-23 は，2010 年
7 月に韓国の済州島にて開催される予定である．

ついて報告する．これまで半導体プロセスが中心であったプラズマ応用分野が，社会的要請も相まって，環境・エネルギー・医療・バイオにシフトしているが，
本 APCPST/SPSM ではどうだろうか．
熱プラズマのジェットを生業とされている方々
は，従来から除害処理に適用してきているが，今回かなり多いという印象を持ったのが，大気圧の低温プラズマを用いたガスの処理であった．中国からの投稿が多かったが，これは本会議での中国人の割合が多かったためでもある．ただ，実際のポスターの現場では（特に最終日がポスターセッションのみに設定されていたため），貼っていない
ものが目立ったのが残念であった．環境応用の件
数が多かったのに対し，医療応用については，M.
Kong 先生の講演を除くと殆ど無かった．
豪州の Boswell 等は，燃料電池のプロトン透過
メンブレンをプラズマで成膜する取り組みをしている．将来構想としては，燃料電池基本ユニット
を全てプラズマプロセスで創るという夢を紹介していた．極めて安易な発想ではあるが，半導体業界で培われたポーラス膜成膜技術が，こうした環境・エネルギーの分野で活躍できるのではと思われた．
日本での研究活動が活発化している液体が関与するプラズマについても，今回 Solution Plasmas etc.
としてセッションが設けられた．残念ながら，パラレルセッションの座長を仰せつかったため，聴くことができなかったが，日本から名古屋大学の高井先生，石島達夫先生，S. Potocky さん，東北大学の金子俊郎先生が，日本における液体関連プ
ラズマのアクティビティを紹介した．ポスターセッションでも Solution Plasmas のテーマが設けられたが，殆ど日本人ばかりなのが残念であった．
Topics

Oral

Poster

合計

Thermal Plasmas

10

35

45

Solution Plasmas

4

10

14

High Pressure Cold Plasmas

4

48

52

Low Pressure Discharges

15

48

63

Plasma and Materials

5

79

84

Several Important Topics
溶接，断面積，排ガス処理，大気圧放電，プロトン透過膜，生体適合膜

7

0

7

Etching and Sheath, etc.

5

0

5

Fusion Plasmas, Electron Beam, etc.

0

7

7

合計

50

227

277

40

国内会議報告

フロンティアプロセス研究会２００８開催報告
東北大学

寒川誠二
温接合技術や MEMS アレイ、ナノ構造集積技術の発展により今まで不可能であった高機能なデバイスが実現できることが紹介された。

毎年夏に開催されるフロンティアプロセス研究会が今年も 2008/8/22～8/23 の 2 日間、産業技術総合研究所にて開催された。参加者は例年通り 50
名を超え、企業、大学、研究機関から幅広い分野の聴講者が集まった。本研究会では 7 名の講師により、MEMS 技術の新たな展開と LSI との融合および産業化に関する活発な議論がなされた。
また、懇親会も例年通り盛り上がり、新たな連携も生まれたようである。以下に講演内容に関してまとめた。

4) MEMS 流体デバイスにおける非シリコン・非表面プロセス（産業技術総合研究所・松本壮平）
ガスクロマトグラフィチップやインスリン注入用ポンプなどの MEMS 流体デバイスについて紹介された。流路の作成プロセス（シリコン・非シ
リコン材料）や接合・張り合わせ技術など具体的な３次元構造デバイス作製プロセスが紹介された。

1) センサ／MEMS・IC 融合によるスマートマ
イクロチップ（豊橋科学技術大学・石田誠）
豊橋科学技術大学におけるインテリジェントヒューマンセンシングについて紹介された。標準
CMOS-LSI 技術と機能素子材料技術、各種セン
サ・MEMS 技術の有機的な融合により、多種多様な独創的なスマートマイクロチップを提案、実証
していることが紹介された。

5) 有機色素太陽電池（九州工業大学・早瀬修二）
高効率変換が期待できる色素増感太陽電池の原
理、最新の開発状況について紹介された。今後の更なる高効率化、大面積化、高耐久性化に向けて、デバイス作製技術、特に封止技術の重要性が強調された。

2) LSI メーカーから見た MEMS 技術への期待と課題（東芝・柴田英毅）
LSI メーカーである東芝がＭEMS 市場への参入戦略について紹介された。東芝は CMOS-LSI の最先端を切り開いてきたが、微細化・高集積化の限界や投資額の爆発的な増大により、他の素子との融合による新しい付加価値の創出が必要であると判断し MEMS 市場への参入を行っている。MEMS
市場の中でも携帯機器分野、自動車分野、医療分
野へ戦略を持って参集することが紹介された。

6) 繊維状基材連続微細加工・集積化プロセス技術の開発に向けて（産業技術総合研究所・伊藤寿浩）
繊維状の材料上にデバイスを作成することにより、
従来のマイクロデバイス製造の課題を克服し、大面積フレキシブルデバイスへの展開を目的とした繊維状デバイスの最新研究について紹介された。
石英ファイバへのポリシリコン TFT 形成や圧電MEMS などの応用が具体的に紹介された。
7) MEMS/ビジネスとしての生産性の追及（アンカー・ビジネス・システムズ・永田隆一）
半導体市場アナリストの立場から、ビジネスとしての MEMS 技術についての分析が議論された。
市場参入や競合の見極め、特許戦略の重要性などが紹介された。

3) 先端 MEMS・NEMS プロセスの今後の展開（東北大学・小野崇人）
MEMS の機能・構造と LSI の融合により様々なデバイスが形成できることが紹介された。特に低41

現在、LSI・メモリなどの半導体市場の先行き不透明感により、デバイスメーカ各社は新しい付
加価値の創出が必要であることを痛切に感じている。その一つの候補として LSI/MEMS 融合があるが、これまで独自の文化で育ってきた両産業が融合するのはきわめて難しい。本研究会では、これらのデバイスに必要となるプロセスや先端研究に関して整理し、今後の動向に関して議論することを目的に企画したが、タイミングがよい企画であったため、議論が大変活発になった。特に重要なポイントとして明らかになったのは、機械的な動作を行う MEMS デバイスと電気的な動作を行う
LSI デバイスを融合するためには、プロセス損傷
およびデバイス信頼性の基準の共有が必要不可欠であるということである。つまり、「低損傷・高信
頼性プロセス技術および解析技術」という基盤技術（プラットフォーム）を学術的にも産業的にも掘り下げることこそがきわめて重要であることが認識された。そのような点で、まさにその部分に焦点を絞ったフロンティアプロセス研究会の意味
は益々大きなものとなってきている。
最後に、今回も現地実行委員をお引き受けいただきました産業技術総合研究所・ナノテクノロジ
ー研究部門・山崎聡氏、プログラムに関して議論いただいた、大阪大学・浜口智志氏、広島大学・
宮崎誠一氏、九州大学・白谷正治氏に心より感謝いたします。

42

国内会議報告

平成２０年 秋季 第６９回応用物理学会学術講演会「パルスプラズマが拓く新しい技術～プロセスから環境・バイオまで」報告
京都大学 江利口浩二、パナソニック(株)奥村智洋

粗さをどれくらいまで小さくする必要があるか、ステンレスノズルの直径はどこまで太くできるのか、といった質問がなされた。
次いで、首都大学東京の栃久保文嘉先生より、
大気圧パルス放電現象に関する理論、シミュレー
ション及び NO 除去への応用について報告された。
気体が絶縁破壊に至る現象を記述する理論としてストリーマ放電理論（Meek の理論）とグロー放電
理論（Townsend の理論）が解説された。パルス放電においてとくに重要なストリーマにおけるフィ
ラメントの進展が、電子なだれの発生→ストリー
マの生成→放電路の完成というステップで起きること、また、ストリーマには 1 次ストリーマと 2次ストリーマがあり、2 次ストリーマは電子とイオンのドリフト速度の違いから生じる電荷分離に起因する電界の歪みによって生成され陽極へ向か
うこと、2 次ストリーマの方がラジカルは多く発生するものの電力効率は悪いこと、プラズマ界面
でのラジカル発生がパルス放電機構を決定することなどが示された。会場からは、電力効率へのパ
ルス幅の影響や、基材温度上昇への要因ごとの寄与割合などに関する質問がなされた。
熊本大学の勝木淳先生からは、パルス高電界のバイオ応用に関して、とくに細胞へのストレス刺激について報告がなされた。真核細胞を単純化したモデルにおいて電界シミュレーションを実施することにより、印加電界の周波数を高めるに従い細胞内に強い電界を作用させることが可能なこと、逆に、周波数を低くすることで、細胞膜のみに電界を与えて細胞内部を刺激することなく細胞膜を破壊できることなど、細胞を擬似的に”誘電体”として捉えたコンセプトに基づいたユニークな研究内容が示された。高周波の応用例としてタンパ
ク質や DNA の変性、がん細胞のアポトーシス誘導
が、また、低周波の応用例として細胞内部の物質を細胞外部へ取り出す方法など、バイオ・医療分

プラズマを記述する主要な物理量としては、密度や温度があり、“プラズマを応用する視点”に立てば、それら物理量を最適化・安定化・制御することが重要である。パルスプラズマ技術は、プラズマを記述する物理量を空間的・時間的平均（定常状態）として考えるだけではなく、各物理量の時間的変化（非定常的な過渡応答）の違い、つまり“陽”に現れない過渡応答係数の違いも積極的に利用するものである。パルスプラズマの生成・反応メカニズムの理解を深めるとともに、その応用例を幅広く概観すること目的とし、本シンポジ
ウムを企画した。各応用分野で活躍されている先生方に、大気圧パルス放電、パルスプロセスプラ
ズマなどのメカニズムから様々な応用例について講演いただき、その課題を参加者とともに概観・共有した。参加者はおおよそ 130 名程度であった。
東京大学の寺嶋和夫先生によるプラズマエレク
トロニクス賞受賞記念講演”超臨界流体プラズマ”につづき、江利口がイントロダクトリートークを行った。その後、７名の講演者から、基礎から応用について、興味深い話題が示された。
まず、東京工業大学の石井彰三先生から、ステンレスノズルと金属メッシュ間に生じる 3 つの異なる形態のパルス放電（DC グロー放電、矩形パルスによるグロー放電、DC 正コロナ放電）について報告があった。矩形パルスの発生において、ひとつのパルスを非線形伝送回路に入力することで多数のパルス列を発生させる方法を用いたこと、また、絶縁破壊を通したアーク放電では、電極表面の平滑性や、短いパルス幅（＜60ns）が重要であり、それらパラメータがアーク放電安定性を決定していることなどが報告された。さらに、正コロナにおいては電流と発光が同期していることやガス流最適化の重要性などが報告された。参加者からは、アークへの移行を抑制するために電極表面

43る欠陥・界面準位生成を抑制するため、数十μsec
野への応用例が紹介された。高周波電界が DNA 単で投入電力を ON/OFF する技術について紹介され体と細胞内 DNA へ与える影響の違いや、パルス電
た。OFF 期間に電子密度の急速な低下と電子付着
界のエネルギー密度などに関する質問があった。
による負イオン密度の急激な上昇が起きるため、次に、岩手大学の高木浩一先生より、種々のパ基板バイアスに低周波電力を用いることで正負イルス電源を用いた大気圧プラズマの生成と応用にオンによるエッチングが生じ、電荷蓄積の抑制がついての報告があった。LC 回路とスイッチング回図れることが示された。負イオン効果の理解が今路からなるパルス電源を用いて、放電形態を制御
後重要であることが議論された。また、紫外線強する話があった。パルスプラズマの制御を高度化
度は電子エネルギーと同程度の時定数で減衰するするため、5kV 以下の 1 次電源電圧で 100kV 程度
ため、OFF 期間での照射ダメージ抑制が可能なこの 2 次駆動電圧を発生させる技術、グロー転移をとが述べられ、その応用例としての CCD 素子の特抑制できるようファーストリカバリーダイオード
性劣化低減の事例が示された。さらに、パルス時を用いてパルスの立下り波形を急峻にする技術など、種々のパルス電源に関する技術が紹介された。 間変調により、中性粒子ビーム技術において中性粒子ビーム生成の効率が向上することが紹介されまた、環境分野への応用例として、NO 除去に関した。紫外線の進入深さや低周波バイアス電力とのて、グロー放電と比較して、短パルスを用いたコ
ロナ放電の電力効率が優れていることが示された。 同期、中性粒子が本来持っている運動エネルギー
によるダメージ、などに関する質問がなされた。
パルスパワー技術のバイオ分野への応用例として最後に総括として、九州大学の白谷正治先生かは、椎茸、なめこ、霊芝などのきのこ類の生育をら、パルスプラズマを活かすには、反応性プラズ
電圧印加などで促進する実験についての紹介があマにおける種々の時定数の差をうまく利用するこった。参加者からは、きのこ類への電力供給の方とが重要であることが述べられ、基板温度低減、法や、電源に用いるダイオード素子の効率などにダスト発生低減をはじめ、パルスプラズマ活用のついて質問がなされた。
有効性、将来性が強調された。
神戸製鋼の玉垣浩氏からは、ハイパワーパルス
スパッタ（HPPS）によるスパッタ粒子のイオン化
今回のシンポジウムのテーマであるパルス制御を利用した成膜技術について報告があった。実効は、先にも書いたように。これまでも度々議論さピーク電力を 1kW/cm2 にまで高めることで高イオれている内容である。また、製造プロセス、環境、ン化率を実現する方法が紹介され、Ti イオンの発バイオをはじめとするいろいろな場でも実用化さ
光測定の結果が示された。HPPS 法によれば、真空
れている技術である。本シンポジウムにおいて、アーク法におけるドロップレットの発生、ホロー
新しい展開テーマも含め、パルス制御の基礎、原カソードマグネトロン法における材料利用効率の理、応用、長所・短所などを講演者とともに、再低減などの従来方法の欠点を克服できること、ま認識することができた。参加者にはプラズマ応用
た、パルスのデューティー比が 1%程度であれば平技術の気づかなかった生活に密着した活躍の場を
均投入電力は実用的なものであることなどが説明認識してもらえた、と信じている。
された。また、成膜速度が 30%程度低下するといしかしながら一方で、プラズマに携わってきた
う課題についての議論もあった。圧力を高めてイ研究者にとっても、パルス放電、
ストリーマなど、オン全体に占める Ar+イオンの割合が増した場合基礎的な理解はまだまだ不十分であることが再認にどうなるか、ハードコーティングの前処理とし識された場であったと思われる。プラズマを応用ての有効性、などの議論があった。
し使いこなす、という立場だけでなく、プラズマ
次いで、東北大学の寒川誠二先生より、パルス
諸現象の物理を解明する、という立場の参加者に
時間変調プラズマを用いた超低損傷微細加工プロ
とっても本シンポジウムがおのおのの研究の方向
セスについて報告された。半導体製造工程として付けの場となる機会となったのであれば、企画者のプラズマプロセスにおいて問題となっている電として幸いである。
荷蓄積によるゲート絶縁膜破壊と紫外線照射によ44

国内会議報告2008 年 秋季第 69 回応用物理学会学術講演会「合同セッションＤ」報告
名古屋大学
合同セッション D はプラズマエレクトロニクス
分科「１．４プラズマ応用プロセス」、薄膜・表面
分科の「６．２カーボン系薄膜」および非晶質・微結晶分科の「14.2 プロセス技術」の共同企画であり、それぞれの分科の研究成果に関する情報を交換し合い、違った視点から議論を交わすことのできる場となっている。今回の合同セッションは講演会最終日(5 日)午前に開催された。
セッションの前半は、Si 系プラズマ CVD に関連する 8 件の講演があった。名古屋大学から高密度
SiH4 プラズマを用いた Si 製膜におけるガス導入
口-基板間距離に対する膜質の変化と、質量分析器を用いた SiH4 および Si2H6 分子の空間分布測定結果についての報告があり、ガス導入位置から数 cm
で急激に SiH4 密度の減少が起こるとともに、Si2H6の増加が見られるとの報告があった。九州大学からはマルチホロープラズマ CVD 法による a-Si:H膜堆積に関する発表及びホロー内のプラズマ計測
結果について 2 件の報告がなされた。本研究は、高速ガス流により微粒子を下流側に流すとともに、ガス流上流側へのラジカル拡散により、ガス流上
流側での高品質 Si 膜堆積を実証しており、今回は低圧力においてガス流の上流側における製膜速度の変化に関する結果を報告していた。名古屋大学
からは真空紫外レーザー吸収分光法による
H2/SiH4 プラズマ中の H 原子測定結果について報告があった。H 原子はμc-Si 製膜において重要な粒子種であり今後の研究の発展が期待される。大阪大学からは大気圧環境下における Si および SiO2製膜について 3 件の報告があった。ひとつは150MHz VHF と多孔質カーボン電極を用いた大気圧
プラズマ CVD によるμc-Si 膜堆積であり。基板温度 50℃程度でもインキュベーション層なく SiO2
基板界面から結晶性の好い膜が形成されていることについて報告があった。その他にも大気圧プラ
ズマ化学輸送法を用いた Si 製膜時における気相

45

豊田浩孝
粒子種の、回転電極を用いた SiO2 の常温・高速形
成について報告がなされた。産総研からはマイク
ロ波プラズマを用いたファイバー上への Si 高速
堆積について、膜厚方向に対する結晶性変化とプ
ラズマアニール効果について報告があった。
セッションの後半は BN およびカーボン軽薄膜の CVD に関する 7 件の講演があった。まず九州大学からフッ化物を原料とする ICP-CVD 法におけるBN の初期成長について、イオン衝撃エネルギーの及ぼす影響について述べていた。また物材機構のグループからは p 型 BN の形成に成功するとともにこれを用いた p-BN/Si ヘテロ結合による光起電力効果について報告があった。
本研究は BN のワイド
バンドギャップによる新しい太陽電池材料として期待される。また同グループからはレーザー支援
プラズマ CVD 法による nH-BN 形成において製膜条
件を変えることにより、これまで(n=6)にない長周期構造(n=10,12)の nH-BN 膜形成に成功したとの報告もあった。九州大学からは基板前面にメッシュを配置しラジカル-イオンフラックスを制御することによってトレンチ内の膜厚分布を制御する試みについて、カーボン膜を例とした報告があった。産総研からはマイクロ波プラズマ CVD によるダイアモンド合成において、製膜速度面内均一性の向上を目的としたプラズマ密度分布のシミュレーションと分布最適化の指針の検討について報告があった。簡便なモデルで結果がよく説明されており興味深い。最後に横浜国大のグループから熱フィラメント CVD による CNT/CNW 複合材料および
CNT 中にバルーン状の構造が加わった新しい CNT/
球状カーボン複合材料に関する報告があった。
最後に本合同セッション D は長年継続されてきたが、一定の役割を果たしたものと考え今回を持って本合同セッションを一旦休止することとした。
これまで本セッションに御投稿いただいた多数の方々に厚く御礼申し上げます。

国内会議報告2008 年第 69 回応用物理学会学術講演会

合同セッション F「カーボンナノチューブの基礎と応用」報告
武蔵工業大学平田 孝道
や分離条件が示され、さらなる発展が期待された。
CNT 複合材では、金属-炭素混合電極を用いた簡便なアーク放電による、高充填率銅ナノワイヤー内包
CNT の合成（三重大）が注目された。また、短小銅ナ
ノロッド内包 CNT について、直流通電時の銅ナノロッ
ドの動的挙動解析（TEM 動画観察）の報告（名大）もなされ、今後、金属-CNT 複合材に新たな展開 をもたらすものと期待される。
デバイス応用に関しては、ビア配線（早大、富士通研）、センサ（阪大、九大）などの応用展開の他に、FET に関しても SPM による評価（名大、京大）、電極効果（阪大、名大）、量子性（阪大、理研）など基礎的理解が進むと共に、インクジェット塗付（東北大）による簡便な作製法の提案等が興味を引いた。
CNT の MEMS 応用について、気体分子によるCNT 振動エネルギー損失に関する講演があり、超高感度質量計測器への応用につながるものと期待される（大阪府大）。垂直配向高密度 CNT の応用研究に関して、面ファスナー応用（阪大）、放熱応用（JFCC・
名大・住友電工）の講演が目を引いた。
最近、グラフェン関連の講演が多く見受けられ、会場が満杯なるほどの大盛況であった。グラフェン合成
は、SiC の熱分解による方法が主流であり、Si 基板上
SiC 堆積による Si 上グラフェン形成の試みも紹介された（東北大）が、一様性・品質にはまだ改善が必要と感じた。微傾斜 SiC 基板を用いた際、ジャスト基板に比べ、広範囲に高品質グラフェンが形成できることが示された（九大）。また、無電解メッキ成長グラフェ
ンシートの構造と物性（北大、寿産業、SEP）、有機
半導体を用いた高温 CVD によるカーボン系薄膜の生成（東大）や炭素ナノ繊維の構造と成長メカニズムの解明（九大）に関する興味深い発表があった。カー
ボンナノウォールについては、成長基板への水素処
理効果（岐阜大）や電気特性評価（名大・名城大）な
どの電子デバイスに着目した発表が見受けられた。
最後に、この分野に携わる様々な研究者が切磋琢磨しながら活発な研究活動を持続し、カーボンナノチ
ューブを含むナノカーボン分野が更なる発展を遂げることを願っています。本報告を行なうにあたり、秋田成司（大阪府立大）、佐藤信太郎（富士通研）、種村眞幸（名工大）、本多信一（阪大）各氏のご協力に深謝いたします。
以上。

去る平成 20 年 9 月 2 日～5 日に、中部大学 春日
井キャンパス（愛知県春日井市松本町 1200）で開催された第 69 回応用物理学会学術講演会において、合同セッション F「カーボンナノチューブの基礎と応用」が開催された。本合同セッションは５分科の合同企画として 2003 年春季講演会から実施され、毎回１００件前後の講演がある。今回もその諸特性の解明
及び応用に関する研究が盛んに行われている。
今回の発表件数は、87 件（講演取り消しも含む）であり、傍聴者も連日 100 名前後であった。内容の分類は以下の通りである。• 合成・成長・配向 19 件（合成には、プラズマ・熱 CVD 法、レーザーアブレーショ
ン法、アーク放電法等、並びに形成機構解明を含む。）、• ナノカーボン類（ナノコイル・ナノウオール・
アークスート）：10 件、• 複合構造：3 件、• 分離・分
散・修飾：3 件、• 機械的・光学的・磁性的物性評価：
11 件、電界放出特性：6 件、SEM/AFM/TEM 観察：
2 件、CNT-FET：7 件、バイオデバイス（センサ）：4 件、グラフェン関連：10 件、その他：12 件。
CNT の水平配向成長について、サファイア基板（九大）、水晶基板（理研、阪大）を用いた講演があり、サファイア基板上では方向制御（一方向成長）、また水晶基板上では高密度成長、転写などの進展がみられた。貴金属触媒を用いた単層 CNT の低温成長について、熱フィラメントを用いたアルコール CVD で原料ガスの分解を促進することで、低温化（～
600℃）が進んだ（NTT 物性基礎研・東理大）。
CNT 成長メカニズムに関して、FTIR 法による触媒活性のその場直接測定（MIRAI-Selete）が目を引いた。また、環境 TEM によるその場観察（阪大）に関する講演があり、多層 CNT の成長過程（触媒微粒子の形状変化により CNT の折れ曲がりが生じるなど）が明らかにされた。その場測定による知見が、触媒反応の解明、ひいては成長メカニズム解明、成長制御につながるものと期待される。
SWNT の光学応答（ラマン散乱、PL、吸収）に関しては、SWNT に欠陥があると水分子等がチューブに入り込み PL スペクトルがシフトすること（東理大）が示され、欠陥評価に応用できる可能性もあり興味深かった。また、プラズモン由来の吸収スペクトルが、SWNT の直径に依存して変化することが示された（産総研）。半導体・金属分離に関しては、ゲル（産総研）による分離で、公表されていなかったゲルの種類

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国内会議報告2008 年秋季 第 69 回応用物理学会学術講演会

第 1 回分科内招待講演 報告
京都大学 白藤 立
新」という題目でご講演を頂きました．プラズマエレクトロニクス分科会発足当初に，多くの異分野の方との接触を通じて，プロセスプラズマを中心とする流れができた
ことから，現在，新たに医療・バイオ・環境という分野で研究を展開する若手プラ
ズマ屋に対して，プラズマ屋以外との交流を持つこと
後藤俊夫先生を強く勧めておられました．
岡崎先生には，「誘電体を介する放電の不思議」という題目でご講演をいただ
きました．大気圧における安定グロー放電，という当時の放電屋常識ではあり得なかった成果を生みだした
原動力として，恥をかくのを恐れない，何でも聞きまくる，という点を挙げておられました．それによって，「解った岡崎幸子先生つもりになっている」人を越えて来られたのだと思います．
最後に，ご講演頂きました両先生と，会場にお集まり頂きました方々に感謝します．また，本講演会を実施す
るにあたりまして，節原裕一先生（大阪大学）には大変ご尽力を賜りました．この場を借りて御礼申し上げます．
次回の秋の応物でのご講演者は，吉田豊信先生（東京大学）と真壁利明先生（慶応義塾大学）を予定しております．

2008 年度の秋季応用物理学会より，プラズマエレクト
ロニクス分科会にて，分科内招待講演を企画することが，2008 年 4 月 5 日の分科会幹事会にて決定されました．
その趣旨の第一は，今を支える重要な研究成果をその黎明期に残した先生方に，その研究の着想に至った経
緯や，黎明期故に遭遇する困難等について語って頂く
ことにより，その下支えによって活躍している若手の方々に Pioneering Work を生み出すスピリットを感じて頂くことです．第二は，その Pioneering Work の重要性を認識して頂くこと，また，それを通じて，関連分野の日本発の Pioneering Work に関する論文がきちんと引用される環境を整えていこうとするものです．また，第三として，こうした先生方の多くは，プラズマ分野において従来に無かった独自の方向性を打ち出すことによって，現在ホットなトピックとなっている分野を最初に牽引した方でもありますので，新分野創成時の生々しいエピソードをご提供頂くことも趣旨の一つとなっています．
第１回は，9 月 4 日 13:00-14:00 にて，SiH4 プラズマを用いた水素化アモルファスシリコンの成膜前駆体として知られる SiH3 ラジカルの絶対密度を赤外半導体レーザ
ー吸収分光法によって世界で初めて定量化した後藤俊夫先生（当時名古屋大学，現在中部大学）[1]と，現在様々な産業分野での応用例がある大気圧グロー放電を初めて報告した岡崎幸子先生（当時上智大学，現在同大学名誉教授）[2]にご講演をお願いしました．業績については文献を参照して頂き，講演で印象的であった点について簡単に報告します．
後藤先生には，「プラズマエレクトロニクスの温故知

参考文献[1] N. Itabashi, N. Nishiwaki, M. Magane, S. Naito, T.
Goto, A. Matsuda, C. Yamada and E. Hirota, Spatial
distribution of SiH3 radicals in rf silane plasma, Jpn.
J. Appl. Phys., 29, L505-L507 (1990).
[2] S. Kanazawa, M. Kogoma and S. Okazaki, Stable
glow plasma at atmospheric pressure, J. Phys. D:
Appl. Phys., 21, 838-840 (1988).

講演会場の様子47

「第２回プラズマエレクトロニクスインキュベーションホール」報告
名古屋大学 上坂裕之
平成 20 年 9 月 24 日から 26 日まで滋賀県高島市マキノパークホテル＆セミナーハウスにて、本分科会主催の第２回プラズマエレクトロニクスイン
キュベーションホールが開催されました。本企画
では、プラズマプロセス研究を始めたばかりの初学者（学生・若手研究者・社会人技術者）を対象として、一流の講師陣を招きプラズマプロセスへの理解を深めてもらうための４つの専門講座を行いました．さらに，大学・企業の一流研究指導者を招きプラズマ研究の最新動向や指導者に必要とされる資質について学ぶ機会を提供する２つの特別講座を行いました。また、参加者によるポスター
セッションや懇親会をおこない、講師陣や参加者
相互の意見交換を通して、プラズマエレクトロニク
スに関する知識をさらに深めていただきました。尚、盛況により 60 名の参加予定のところ、64 名（講師・幹事１０名を含む）の参加を得ることが出来ました．本稿では、今回のインキュベーションホール
の概要、会計についてご報告いたします。
１．概要【主催】プラズマエレクトロニクス分科会【日時】2008年9月24日(水)～26日(金)【場所】マキノパークホテル＆セミナーハウス（滋賀県高島市）【専門講座】 (各 1 時間 40 分)① 「プラズマ生成の基礎」
小田 昭紀先生 (名工大)② 「プラズマ計測の基礎」
佐々木 浩一先生 (名大)③ 「プラズマエッチングの基礎と研究開発・量産
現場での課題」 江利口 浩二先生 （京大）
④ 「プラズマ CVD の基礎」
白藤 立 先生 （京大）
【特別講座】 （各１時間）① ｢プラズマの魅力，その応用への道｣佐藤 徳芳先生 (東北大学 名誉教授)② ｢企業におけるプラズマ研究･応用の最前線｣
西村 栄一先生 （東京エレクトロンＡＴ㈱技術担当チーフエンジニア)

優秀質問者賞 ：諸戸愼一さん（名古屋大学）：津田博隆さん（京都大学）：中村ウィリアム誠さん（九州大学）
２．会計報告収入の部
参加費
分科会からの支出金活性化支援金
支出の部
旅費・宿泊費
臨時雇賃金
学生旅費補助テキスト印刷費
一般印刷費（チラシ等）
雑費
諸謝金（税込）
損害傷害保険料
通信費
消耗品費

合計 1,573,018
1,136,000
277,018
160,000
合計 1,573,018
932,743
10,000
194,000
94,50047,25052,135201,241
19,2008,740
13,209３．本企画への意見
本企画のアンケートに対して、参加者からはおおむね好評の回答をいただくことができました。しかし、従来の低圧プラズマプロセス以外の分野の聴講に対する要望も多く、今後のプログラム編成に検討が必要と考えております。
４．終わりに今後，プラズマ研究の新展開を切り拓くような研究者が本インキュベーションホールの参加者から輩出されればと願うばかりです。最後に、本企画の開催にあたり、御協力をいただきました講師の先生方、参加者を派遣いただきました各研究機
関、企業の皆様に深く御礼申し上げます。
第2回プラズマエレクトロニクスインキュベーションホール
塾長 白藤 立 （京都大学）
幹事 北嶋 武 （防衛大学校）
村山 貴英 （アルバック）
秋元 健司 （NECエレクトロニクス）
布村 正太 （産業技術総合研究所）
上坂 裕之 （名古屋大学）

また、優秀なポスター発表と質問に対して、幹事、講師、参加者全員による投票をおこない、以下の方が優秀賞を受賞されました。
最優秀ポスター賞 ：津田博隆さん（京都大学）
優秀ポスター賞 ：三國裕之さん（名古屋大学）：森田直祐さん（京都大学）

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国内会議報告第 19 回プラズマエレクトロニクス講習会（於 東京工業大学大岡山キャンパス百年記念館）
産業技術総合研究所 布村 正太
ラズマエレクトロニクス分科会関係各位、ならびに応用物理学会事務局の皆様に御礼申し上げます。
＊
http://www.jsap.or.jp/publication/text.html

第 19 回プラズマエレクトロニクス講習会が平成
20 年 10 月 30 - 31 日にわたり、東京工業大学大岡山
キャンパス百年記念館で開催されました。今回は、「プラズマプロセスの基礎と応用最前線」‐多様化するプラズマ応用プロセスとその制御‐と題して、各分野でご活躍の７名の講師をお招きし、プラズマの生成・制御、計測及びシミュレーションに関する基礎から、最先端の量産現場で必要とされるエッチン
グ・薄膜形成技術についての概論、大気圧及び液相
プラズマを用いた多様化する応用プロセスに関する講義を企画しました。また、10 月 30 日には、ポスターセッションが企画され、企業及び大学での最新の研究成果１２件が発表されました。参加者数は総勢94 名、盛況のうちに講習会を終えることができました。講師の先生方をはじめ、参加者の皆様にはこの場を借りて深く御礼申し上げます。
本講習会では、企業を中心に専門の業務に従事しながらさらに専門知識を深めたい方、プラズマ技術の最新動向に関心のある技術者、研究者、学生の皆様を対象にプログラムを企画しています。講義以外にもポスターセッションなどを設けることで、専門の枠にとらわれず、親睦・情報交換の場としても機能できるよう工夫を重ねております。来年も講習会を企画していますので、分科会会員および関係各位のご参加をお待ちしております。なお、講習会テキストのバックナンバーは、応用物理学会よりお求めになることができます。ご希望の方は、応用物理学会のホームページをご参照下さい＊。最後になりましたが、本講習会の運営にご協力くださいましたプ－ プログラム －【10 月 30 日（木）10:00～17:00】(1) プラズマの生成・制御
菅井 秀郎（中部大学）(2) プラズマ計測
赤塚 洋（東京工業大学）(3) プラズマシミュレーション
田中 正明（ペガサスソフトウェア）
ポスターセッション【10 月 31 日（金）10:00～17:00】(4) プラズマによる薄膜形成技術
佐々木 敏明（カネカ）(5) プラズマによるエッチング技術
林 俊雄（名古屋大学）(6) 大気圧プラズマの応用
湯浅 基和（積水化学工業）(7) 液相プラズマの応用
秋山 秀典（熊本大学）
担当幹事：藤原伸夫（ルネサステクノロジ）、奥村智洋（パナソニック）、秋元健司（NEC エレクトロニクス）、長谷川明
広（富士通）、小林浩之（日立製作所）、林久貴（東芝）、北嶋武（防衛大）、松本直樹（東京エレクトロン）、深沢正永（ソニー）、布村正太（産業技術総合研究所）
以上

講習会風景

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国内会議報告「第１回プラズマ新領域研究会」報告
和歌山大学
第１回プラズマ新領域研究会が平成 20 年 8 月 8日に大阪大学の荒田記念館にて開催されました．
はじめにプラズマ新領域研究会の主旨を説明します．プラズマエレクトロニクス分科会は，年々講演件数が増加しており，今春の応用物理学関係
連合講演会より大分類化（「８:プラズマエレクト
ロニクス」）されました．現在は，プラズマ生成やプラズマ診断技術などの基礎テーマや成膜・表面
処理・エッチングといった従来の応用のテーマから，カーボンナノチューブや微粒子合成，自己組織化といったナノテクノロジーや，環境・バイオ・エネルギー応用，液体・液中プラズマなど非常に多様なテーマのセッションが開催されております．
しかしながら，プラズマセッションに参加する研究者が固定されていることは否めず，異分野の研究者を交えた討論が少なくなりがちであります．
また，プラズマ分野ひいては社会や産業の発展のために分科会等の枠を超えた新学術領域の創成を目指すことが必要であることから，年数回にわたり新しい研究テーマについて深く掘り下げた討論を行う会として，プラズマ新領域研究会を開催す
るに至りました．この研究会では，毎回テーマを定め，大学・研究所・企業の関連分野の研究者が互いの研究成果を深く議論し，また異分野の研究者を講師として招くことによりプラズマの新しい技術，材料，デバイスの開発及びそれに関連する
基礎技術分野の研究を活性化させ，新学術領域の創成を目指します．プラズマ応用技術の研究戦略や将来展望を議論する異分野交流の研究会としてこれまで開催されてきた「プラズマ応用技術の将来ビジョン研究会」の流れを引き継ぐ研究会です．
本研究会では，特に①プラズマに関連する新しい研究領域の創成，②若手研究者の育成，③地方での議論の場の提供を主眼とし，深い議論を行うことに重きを置いています．
第 1 回は，近年活発に研究されているバイオ応
用にスポットを当て，“プラズマを用いた滅菌・殺

50

太田貴之
菌技術”をテーマに開催しました．招待講演として，元国立医薬品食品衛生研究所（現中央大学）の新谷氏をお招きし，医療分野におけるプラズマ
滅菌と既存滅菌との比較について講演していただ
きました．医療現場における滅菌の必要性や滅菌用語の定義，評価の方法など基本的なことからプリオン蛋白質分解といった最新のトピックスまで紹介されました．また，エチレンオキサイドガス
や蒸気滅菌などの既存滅菌とプラズマ滅菌の比較を示されるとともに，対象となる医療器具の素材や機能の適合性まで含めた滅菌処理が重要であり，窒素ガスプラズマは安全性や素材劣化に対して優れているということを述べられました．荻野氏からは低温マイクロ波プラズマを用いた医療材料の処理技術について発表されました．血管内治療のための血液凝固剤の開発や，カテーテルなどの医療器具の生体適合性を向上させるために，窒素系
プラズマを用いたポリマー表面へのアミノ基の修飾について述べられました．柳生氏からは，酸素プラズマを用いた蛋白質の分解について発表されました．BSE やクロイツフェルトヤコブ病などの病気は，病原菌やウイルスでなく蛋白質の関与が強く示唆されており，蛋白質の分解における紫外線，イオン，酸素原子の影響について報告されました．野田氏からは，医療器具の洗浄・消毒・滅菌の各処理方法の解説とともに，動画を用いて実際の病院における手術後の医療器具の回収から洗浄・消毒・処置・滅菌処理の後，手術現場に準備されるまでの実際の行程について紹介され，医療現場の現状を伝える試みがなされました．井川氏
からは低周波マイクロプラズマジェットを用いた液体接触プラズマによる E.Coli の殺菌について発表されました．液中特有の反応プロセスとしてpH や酸素系ラジカルの効果など詳細な殺菌メカ
ニズムについて報告されました．太田からは，農業分野におけるプラズマ殺菌応用として大気圧プ
ラズマを用いたカビの殺菌について発表しました．

吸収分光法を用いたラジカル密度測定と組み合わせて，オゾンや紫外線による殺菌効果について報告を行いました．
医療などの他分野の研究者は，プラズマの状態がどのようになっているか理解できないままツールとしてのプラズマを使用している一方で，プラズマ側の研究者は，滅菌バリデーションや生体メ
カニズムについて深く理解できていないまま滅菌の議論をしていると感じられます．異分野との融合のためには、プラズマ側の研究者として，他分
野のユーザーに対して、例えばこういう場合にはこのようなプラズマを使うと良い（こういう状態になっている）というように、プラズマをわかりやすくかつ魅力的に情報発信することが重要な課題となると考えられます．新谷氏が委員長を務める日本学術振興会「プラズマ照射による医療用品の滅菌，エンドトキシンならびにプリオン不活性化法と応用」に関する研究開発専門委員会が発足され（設立総会：11 月），本研究会の発表者を含めた分科会会員の中から参加が決まっており，この分野における異分野との融合の試みが始まっています．今後の新学術領域の創成と進展が望まれます．

【日時】平成 20 年 8 月 8 日（金）13：00～17：00【場所】大阪大学 荒田記念館【テーマ】プラズマを用いた滅菌・殺菌技術①[招待講演]「医療分野におけるプラズマ滅菌と
既存滅菌との比較」○新谷 英晴（中央大学）②「マイクロ波プラズマを用いた医療材料低温プ
ロセス技術」○荻野 明久，安澤 栄気，小嶋 修
平，野口 卓，永津 雅章（静岡大学）③「高周波酸素プラズマを用いたタンパク質の分解・除去」○柳生 義人１，林 信哉２，関 偉民１，
川崎 仁晴１，大島 多美子１，須田 義昭１（佐世保工業高等専門学校１，佐賀大学２）④「大学病院中央材料部における滅菌の現状について」○野田 稔，酒井 義信，後藤 昌昭，林 信
哉（佐賀大学）⑤「液中プラズマプロセスによる滅菌メカニズム
の検証」
○井川 聡
（大阪府立産業技術総合研究所），
北野 勝久，浜口 智志（大阪大学）⑥「大気圧プラズマを用いた農業分野における殺菌技術」○太田 貴之，井関 紗千子，伊藤 昌文（和歌山大学）
，堀 勝（名古屋大学）
招待講演６０分、発表３０分
参加：３７人（うち学生：９人，企業：６人）

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国内会議報告

第２３回光源物性とその応用研究会報告
室蘭工業大学 佐藤孝紀

ＮＨＫ放送技術研究所 平野芳邦

光源物性とその応用研究会は、これまで、テーマを定めて講演を受け付ける形式をとってきたが、本年度は、「白熱電球代替光源技術とその周辺技術」をテーマとしたシンポジウム形式による開催に変更された。研究会は、平成20年11月7日(金)午前9時に基調講演から始まり、8件の報告が行われた。9名の講演者を含めて、60名を超える参加者があり、会場となった財団法人 機械振興協会
機械振興会館 6-67会議室（東京都港区芝公園
3-5-8）では、開始早々、追加の椅子を搬入しなけ
ればならないほどの大盛況となった。今年は、本研究会が応用物理学会プラズマエレクトロニクス
分科会、照明学会光の発生・関連システム研究専
門部会および光放射の応用・関連計測研究専門部
会、および、電気学会光応用・視覚技術委員会の３学会４組織による共催となってから３年目であるが、今回の参加者数はこれまでの10倍近い数であった。
基調講演では、照明における省エネ提案について説明され、取り組みの概要、照明用光源の消費
エネルギーの推移などが紹介されるとともに、各
国の白熱電球全廃活動例やランプメーカーの白熱電球全廃活動への対応が紹介された。2005年の京都議定書の発行にともない、最初の5年間(2008～2012年)の期間がスタートした状況で、CO2削減に対する照明分野におけるロードマップが示されるなど、たいへん興味深い講演であった。
報告では、白熱電球の代替光源として、電球型
蛍光管および電球型LEDの概要と動向が報告されるとともに、既に普及が進みつつある電球型蛍光管の技術変遷と光源としての特性が示された。
また、ディスプレイデバイスとして注目されている有機ELを、次世代の光源として利用するための研究成果も報告された。
照明デザイナー東海林の講演では、「照明は明るさを得るだけのものではない」、「21世紀の照明は人の心に響く灯り」などのように、工学とは別の52

観点から光源を考える取組みが紹介された。
また、白熱電球の代替光源には、光量、色温度、配光等
における「可変性」が必要であると締め括った。
研究会資料については、電気学会事業サービス課で入手可能である。その際、本研究会の資料名が「光応用・視覚研究会資料（2008年11月7日）」となっていることにご注意下さい。
最後になるが、今回の研究会の準備・実施に当たって多大なるご協力をいただいた、防衛大学校の明石治朗先生に謹んで御礼を申し上げたい。
第23回 光源物性とその応用研究会
研究会講演テーマ「白熱電球代替光源技術とその周辺技術」
基調講演「照明電力削減に向けた日本を含む世界の事情」
鈴木篤（日本電球工業会）
報 告「白熱電球の代替光源について」
安田丈夫（東芝ライテック）「電球形蛍光ランプの技術変遷について」
飯田史朗（パナソニック）「電球形蛍光ランプの分光特性・光源色について」
鈴木 量，梅田三郎 (オスラム・メルコ)，
明道 成（セントラルメルコ）「有機EL照明の開発」
川島康貴（NECライティング）「有機ELの白色化手法と照明応用の可能性」
森 竜雄（名古屋大学）「マルチファセット構造を用いた多波長発光
InGaN系LEDの開発」
川上養一，船戸充（京都大学）「照明デザイナーが電球代替光源に求めること」
東海林弘靖（LIGHTDESIGN）「快適性と省エネの両立をめざす多灯分散照明とその光源」
金谷末子（金沢工業大学）

行事案内2009 年春季 第 56 回応用物理学関係連合講演会 シンポジウム

プラズマが拓く次世代医療・バイオ技術～プロセス・材料・デバイス応用の最先端～

京都大学 白藤 立
近年，社会的にも重要な医療・バイオの分野において，プラズマによって成膜された生体適合膜や，大気圧プラズマ及びそのジェットを用いたプロセスによる滅菌・殺菌，更には生体そのものの処理など，プラズマ関連の研究・開発が展開されています．また，こうした材料と処理技術の融合による生体内機能デバ
イスも提案されています．
特に，「生き物」との相互作用を想定した医療・バイオ応用においては，その理解と適切な応用展開のためには，「何が」「何に」作用しているのかを明確にする必要があります．比較的先行する滅菌・殺菌の分野では，紫外光，ラジカル，イオン，電子，電界，
中性化学種のそれぞれの効果を見極めようとしています．また，「生き物」側についても，表層か，内部か，
内部ならどの部位が影響を受けるのか，に注目した研究が始まっています．更に，こうした空間的な区分
けによる最重要因子の探索に加えて，前回のシンポジウムで紹介されたように，どのようなスピードのプロセスが効くのかという時間軸に注目した検討も，特に電界の効果に関して開始されています．プラズマで作成した薄膜やデバイスを生体内で利用する場合にも，膜のいかなる物性が生体適合性を向上させるための要因なのか，化学的不活性な表面という曖昧な表現のままではだめだろう，など明確にしなければな
らない点は数多く残されています．
こうした課題に対して取り組む際には，プラズマ屋
だけでは誤った道を進む危険性があります．今回のシンポジウムでは，医学・生物学の分野においてプラズマを利用されている先生からもご講演頂き，プラズ
マ屋・プラズマ材料屋と医学・生物学の先生との議論を通して，医療・バイオの分野におけるプラズマ研究の明確で適切な方向付けができればと考えています．

53

皆様方におかれましては，奮ってご参加頂き，プラズマ応用分野の更なる活性化をはかる場にして頂
きたく，御願い申し上げます．
なお，本シンポジウムに先立ちプラズマエレクトロニクス賞の表彰式（13:15～13:30）が行われます．
日時 2009 年 3 月 30 日(月) 13:30～17:05（予定）プログラム（予定，一部仮題目，1 件 30 分）
13:30 「イントロダクトリートーク」 （10 分）
永津 雅章 （静岡大）13:40 「プラズマアクティベーション法を用いた生体埋め込み型バイオセンサの生体適合性向上」
平田 孝道 （武蔵工大）
14:10 「生体適合 DLC のプラズマ成膜」
中谷 達行 （トーヨーエーテック（株））
14:40 「生体適合膜の医療応用～医師の観点から～」
長谷部 光泉 （東邦大医療セ佐倉病院）
15:10 －休憩（15 分）－
15:25 「プラズマ技術の分子生物学応用～細胞・組織への分子導入研究と装置開発～」佐藤 晋 （BBK バイオ（株））
15:55 「包装内部における医療器具のプラズマ低温滅菌技術」
永津 雅章 （静岡大）16:25 「プラズマ滅菌に於いて注意すべき諸事項について～生物系研究者の観点から～」
新谷 英晴 （日本防菌防徽学会理事）
16:55 「まとめ」 （10 分）
白藤 立 （京都大）

行事案内
2009 年春季 第 56 回応用物理学関係連合講演会 スクール
安価，簡単，便利

大気圧プラズマの基礎と応用
京都大学 白藤 立「大気圧プラズマ」は，その簡便さ，低導入コストという特徴故に，近年，産業分野において表面処理，
環境応用，バイオ応用，材料合成等，様々な応用に展開され，その可能性を広げています．しかし，簡単・低コストという特徴故に，大気圧プラズマを余り理解することなく利用されている場合もあります．
本企画では，既に大気圧プラズマを利用している方々に対しては，その勘所となる基礎を，プラズマの第一人者に講演して頂き，より適切な利用のための糸口をつかんで頂ければと考えています．
また，大気圧プラズマを利用してみようと考えている異分野の方に対しては，上記の基礎に加えて，大気圧プラズマ応用分野の第一線で活躍されている方々の講演を通じてその可能性を知って頂き，新たな挑戦の糸口をつかんで頂きたいと考えています．
当日は，講義に加えて，ハンディさをその特長とする大気圧プラズマ装置のデモンストレーションもございますので，皆様におかれましては，大気圧プラズ
マに興味を持たれている方々をお誘いあわせの上，奮ってご参加下さりますよう御願い致します．
なお，本稿執筆時点では，応用物理学会による最終確定がなされておりませんので，開催日程，会場部屋，申込方法等の詳細については，応物誌２月号（予定），ならびに応物ホームページでの案内にて，ご確認下さい．
期

日： 2009 年 4 月 1 日（水）または 2 日（木）にて応物に申請中時
間： 9:00～16:45 を予定
会
場： 筑波大学（茨城県つくば市天王台 1-1-1）
参加定員： 150 名（予定）
受 講 料： 無料
テ キ ス ト： 当日会場にて頒布．昨年は一冊 1,000 円．
詳
細： 応物２００９年２月号に掲載予定．

プログラム （予定）
9:00

「大気圧プラズマの可能性」
白谷 正治 （九州大学）

9:05「大気圧プラズマを利用した材料科学」
小駒 益弘 （上智大学）

9:50「大気圧プラズマの生成とその物理」
杤久保 文嘉 （首都大学東京）

10:35 －休憩－
10:50 「大気圧プラズマ処理機の事例紹介と今後の発展」
鶴本 康彦 （日本プラズマトリート（株））
11:35 －昼食－
12:35 「大気圧プラズマＣＶＤ法による高品質Ｓｉ系薄膜の低温形成」
安武 潔 （大阪大学）
13:20 「大気圧プラズマによるダメージフリーCVD：
カーボンナノ材料の合成と成長制御」
野崎 智洋 （東京工業大学）
14:05 －休憩－
14:20 「熱プラズマジェットによるミリ秒急速熱処理とその半導体プロセス応用」
東 清一郎 （広島大学）
15:05 「大気圧プラズマジェット源の小型化が拓く
新応用技術～局所高速プロセス」
一木 隆範 （東京大学）
15:50 「大気圧ＬＦプラズマジェット：その理解と多様な産業応用展開」
北野 勝久 （大阪大学）
16:35 「大気圧プラズマの現在と未来」
白藤 立 （京都大学）

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55

行事案内
2nd International Conference on Plasma Nanotechnology and Science(IC-PLANTS 2009)名古屋大学 プラズマナノ工学研究センター（PLANT) 関根

誠

プラズマプロセス技術はナノ材料の合成･加工， 【参加費】
マイクロ･ナノデバイス製造，フラットパネル製造 事前登録(1月12日締切) 一般: 15,000円，学生: 無料
一般:20,000円，学生:無料などを牽引する先端技術としてますます重要とな 1月13日以降ってきています．これらの複雑かつ学際領域的なプ【トピックス】
ラズマプロセス研究の推進には各地域のリサーチ Theme : Approach to “useful” plasma science
コミュニティの協力が欠かせません．
(Plasma nanotechnologies, processes and related
IC-PLANTSは，最新のプラズマ科学とナノテク technologies from fundamentals to applications)
ノロジーを世界のプラズマCOEが参集して議論，情 Topics: Nano-fabrication / Diagnostics and
報交換する場として，名古屋大学 PLANTの設立に monitoring of plasmas and Reaction surfaces //Nano-biology/
あわせスタートしました．第２回IC-PLANTSを以 Nano-electronics
Interdisciplinary or integrated research with
下の要領にて開催いたしますので、奮ってご参加申 Plasma technologies / Nano-optics / NEMS込をいただけますよう，心よりお待ちしております．technologies / Process technologies for flat panel
display/
Environmental
technologies/
Equipment
technologies/
Emerging
newconcept
記【会期】2009年(平成21年) 1月22日(木)~23日(金)【招待講演】
P. Awakowicz (Ruhr-Univ. Bochum, Germany)
P. Chabert (Ecole Polytechnique, France)
B. Graham (Queen's Univ. Belfast)
J. G. Han (SungKyunKwan Univ., Korea)
T. Hayashi (Nagoya Univ., Japan)
M. Kong (Loughborough Univ., UK)
K. K. Ostrikov (CSIRO, Australia)
Y. Setsuhara (Osaka Univ., Japan)
N. Umehara (Nagoya Univ., Japan)
S. Zaima (Nagoya Univ., Japan)【会場】名古屋大学 IB電子情報館 大講義室
〒464-8603 名古屋市千種区不老町【交通】名古屋地下鉄 名城線 名古屋大学駅
3番出口すぐ（下記URL地図の64）
http://www.nagoya-u.ac.jp/camp/map_higashiyama/【主催･共催･協賛】
主催：名古屋大学 プラズマナノ工学研究センター
名古屋産業科学研究所
共催：日本学術振興会，科学技術交流財団
協賛：応用物理学会 東海支部，名古屋都市産業振興公社プラズマ技術産業応用センター
応用物理学会 プラズマエレクトロニクス
分科会【問合せ先】 豊田 浩孝 (実行委員長)
e-mail: ic-plants@plasma.engg.nagoya-u.ac.jp【参加申込】下記URLからお願いいたします．
http://www.plasma.engg.nagoya-u.ac.jp/IC-2009/56

平成 20 年度前期活動報告
こと、参加者を増やしたい意図でシンポジウム形式にした事など（明石先生（防大）ご提案）が紹介された。プログラムが完成次第佐藤幹事から白谷幹事長（九大）に連絡、分科会員に周知する。
費用は照明学会との折半となる旨報告された。明石先生から、メーカだけでなく照明デザイナーにも講演いただくなど、興味深い内容なので是非参加して欲しい旨呼びかけがあった。

第４８回プラズマエレクトロニクス分科会ミーティング／
平成２０年度第２回幹事会
日時：平成２０年９月３日（水）１２：００－１
３：００
場所：中部大学 ２５号館３F ２５３２
会議に先立ち、白谷幹事長から自己紹介と議題紙面の修正の案内（第６回プラズマエレクトロニク
ス賞→第７回プラズマエレクトロニクス賞）があった。
１．第２回プラズマエレクトロニクスインキュベ
ーションホール
布村幹事（産総研）から第２回プラズマエレク
トロニクスインキュベーションホールの準備状況が報告された。開催日時２００８年９月２４日～
２６日、マキノパークホテル＆セミナーハウスで開催すること、現在チラシの作成・配布が済んでいることが周知された。現在は既に５０名が登録、目標とする６０名にあと一息であり、９月１０日
を締め切りにしているので是非参加登録をして欲しい旨のお願いがあった。白谷幹事長（九大）から、積極的に参加させて欲しいこと、大気圧などの新しい基礎分野もあってもよいこと、他に新しい観点の講座もあれば是非声をかけて欲しい旨のコメントがあった。

４．２００８年秋季応用物理学会学術講演会のシンポジウム／総合講演／分科内招待講演、および合同セッション
江利口幹事（京大）からプラズマエレクトロニ
クス賞受賞講演（寺島先生（東大））があること、
パルスプラズマのシンポジウムとして石井先生（東工大）、栃久保先生（首都大）、勝木先生（熊本大）、高木先生（岩手大）、玉垣氏（神戸製鋼）、
寒川先生（東北大）の各講演があること、分科内
招待講演は白藤副幹事長（京大）が担当であること、合同セッションは豊田先生（名古屋大）が担当であることが報告された。

５．２００９年春季応用物理学会学術講演会のシンポジウム／総合講演／分科内招待講演（案）および合同セッション（案）白藤副幹事長（兄弟）から次回シンポジウムの案として、前回のアンケートを元に医療・バイオに関するシンポジウム２件の提案があった。案１
は「プラズマ・生体相互作用～プラズマ援用先進
医療・バイオ技術に向けて～」として、医療・バ
２．第１９回プラズマエレクトロニクス講習会
イオに加え、環境もかなり進んでいると思われる
布村幹事（産総研）から第１９回プラズマエレ
ので、プラズマで何が出来るのかを討論する。案
クトロニクス講習会の準備状況が報告された。開２は「プラズマによる先進医療・バイオ技術」と催日時２００８年１０月３０日～３１日、東京工
して、プラズマで作ったもの（人工関節、血管）業大学百年記念館で開催すること、現在チラシ・や分析・薄膜などについて討論する。白谷幹事長
シラバス・ポスターの作成が済み、数名の参加登（九大）から、1. いくつかの案がある中で決めた録があったことが周知された。今後目標７０名をクリアできるように企業の方の参加を呼びかけた。 方がよい、2. プラエレ分科会単独ではなく太陽
光・材料・プロセスとの共催の可能性を探っては
白谷幹事長（九大）から財政状況として講習会でどうか、3. シリコンから有機材料への応用が移っは黒字を出して欲しいのでよろしくとのコメントているのでそのあたりを含めてはどうか、4. CNTがあった。
の合同セッション F との共催はどうか、5. 将来的なデバイス・材料と一緒にやるのがよいとのコメ
３．第２３回光源物性とその応用研究会
ントが出された。総合講演は現状案なし。白藤副佐藤幹事（室蘭大）から第２３回光源物性とそ
幹事長は、分科内招待講演は歴史的経緯もお話いの応用研究会の準備状況が報告された。開催日時
ただける吉田豊信先生（東大）、松田先生（阪大）、
２００８年１１月７日、機械振興協会で開催する

57

谷幹事長（九大）から指示があった。

真壁先生（慶大）を候補に考えているとのこと。
白谷幹事長からは２人お願いするのであれば、雰囲気が異なる方がよいとのコメントがあり、もっと候補者を上げた中でお願いしてはどうかとの提案があった。

９．会員名簿の作成
北嶋幹事（防大）から会員名簿の発行について、応物学会から名簿発行の中止検討を依頼された旨報告があった。現在名簿発行している分科会はプラエレだけであり、苦情の電話も多いとのこと。
前回幹事会では２２名のうち、１４名の幹事が名簿の発行に賛意を示しているが、最終的には２００９年４月の幹事会で決定する必要があると報告された。前幹事長からは残した方がよいのではとのコメントが出されている旨紹介された。

６．応物スクール白谷幹事長（九大）から、各分科会に対し応物
スクールの再募集がかかり、そろそろプラエレ分
科会の順番でもあり、白藤副幹事長（京大）にス
クール提案をお願いした旨案内があった。
白藤副幹事長から、大気圧プラズマを主軸にした２案が提案された。案１は白谷幹事長案で生成・診断・シミュレーション・応用まで系統的なもの、案２は白藤副幹事長案で、応用に重点を置
き、最初は基礎で、分析・光源・環境・バイオなど基礎から応用まで包括的に扱うものが提案された。白谷幹事長からは、応物として参加人数を気にしていること、講演会と同時開催なのでかなり魅力がないと集客できないこと、申請のときほとんど記載しておく必要があるため、本日(9/3)に内容を決めたいこと、講演者の内諾は 10/末でよい
こと、大気圧はとっつきやすいため良いテーマであること、阪大・北野先生のように実験をやって見せるなどの工夫が有効であること、プラエレ分科会としてやる方向で議論したいことなどがコメントされた。白藤副幹事長はスクールは勉強する会なのか、アドバルーン的に見識を広めるものなのかをはっきりしたほうがよいこと、タイトルは
案１が魅力的であるが、内容は応用でとっつきやすいので案２がよいことなどの意見が出された。
白谷幹事長が案２の内容で白藤副幹事長にまとめていただく方向性にまとめた。

１０．プラズマ新領域研究会
太田幹事（和歌山大）より、プラズマ新領域研究会について報告があった。応物学会の活性化支援金と分科会支出により新領域の研究会を立ち上げ、既に１回目を大阪で行い、本年度内に２回地方で行う予定である旨紹介された。第一回の研究会では招待講演の先生から先方学会のシンポジウ
ムへの参加を依頼され、成功裏に終わったことが報告された。
１１．第７回プラズマエレクトロニクス賞候補論
文募集
白谷幹事長（九大）から第７回プラズマエレク
トロニクス賞候補論文募集について紹介があった。
１２．ICRP の準備状況について
白谷幹事長から２０１０年１０月４－８日パリ
で GEC との共催で行われる旨紹介があった。堀先生（名古屋大学）、白谷幹事長が４月に現地下見を既に終えているとのこと。
１３．プラズマ科学シンポジウム／第２６回プラズマプロセシング研究会
節原先生（大阪大学）より、プラズマ科学シン
ポジウム／第２６回プラズマプロセシング研究会について紹介があった。開催日時２００９年２月
２日～４日、名古屋大学 豊田講堂で開催すること、一般講演はポスターで有る旨紹介された。

７．分科会ホームページ
柳生幹事（佐世保高専）から分科会ホームペー
ジの更新について案内があった。白谷幹事長（九大）からそれぞれの学会等のプログラムをダウンロードできるようにして欲しいこと、講習会等も入っているかの確認、グーグルなどで検索した場
合に上位に検索されるようになっているかの確認
を柳生幹事に依頼した。
８．プラズマエレクトロニクス分科会会報（No.
４９、１２月発行予定）について
大竹幹事（東北大）からプラズマエレクトロニ
クス分科会会報案について紹介があった。国際会
議報告・国内学会報告をどの先生に依頼するか白58

クロードマップは経産省の技術戦略マップとの繋がりが大きく、経産省の予算とリンクする可能性が高い。PE 分科会としての取り纏めを①白谷幹事長、②大竹幹事（東北大）、③白藤副幹事長（京大）とアサインし、２００９年１月２４日の会議、２００９年の合宿に備える。

第４９回プラズマエレクトロニクス分科会ミーティング／
平成２０年度第３回幹事会
日時：平成２０年１１月１日（土）１０：００－
１５：００
場所：東京大学田町キャンパス 812 号室
１．諸報告
白谷幹事長（九大）から理事会の議論が報告された。
① 研究支援金について
新たな活動については１００％、２，３年目には８０％、何年にも渡って活動しており支援金の効果が薄いものは５０％にする旨、白木先生（武蔵工大）から提案がなされた。PE 分科会関連では
インキュベーションホールの支援の今後が課題。
② APEXAPEX は査読 1 回で合否を決めるシステムで早い掲載を目指しているが、英語のレベルの低下が顕著。ネイティブチェックを入れる方向で検討中。
③ 応物スクールPE 分科会で来春のスクールを行うことが決定。
④ 国際会議支部で行う国際会議の責任は応物で請け負うが、その他の国際会議については、組織委員長が全責任を負うことがアナウンスされた。次回のドライ
プロセスシンポジウムは韓国・釜山での開催が決定しているが、応用物理学会主催の海外開催国際シンポジウムは例が無く、周到な準備が必要である。
２．今年度経理状況・来年度予算案について
太田幹事（和歌山大）から今年度の経理状況および来年度の予算案が報告された。例年通りの使用計画では来年度は１００万円程度の赤字であり、計画した来年度予算を達成するには収入増が絶対に必要。
３．アカデミックロードマップ作成について
白谷幹事長（九大）からアカデミックロードマ
ップの２００９年改定について 10/7 の会議報告も含めて紹介がなされた。２００９年アカデミッ
クロードマップでは、①各分野のアカデミックロ
ードマップの見直し、②統合・融合的マップの作
成、③応用物理発展史マップの作成の３つを大きな改定項目としてあげている。応物のアカデミッ

59

４．セミコンジャパン展示と講演
白谷幹事長（九大）からセミコンジャパンでの展示と講演について報告があった。ＳＥＭＩジャパンからの要請で、シーズ探しの目的で応用物理学会に展示および講演の打診があったことが報告された。パネルはアカデミックロードマップを使用する。講演は１２／３の１２時から１７時までの時間にそれぞれ３０分づつ各分野から発表を行う。ＰＥ分科からは白谷幹事長もしくは前回取り纏めの関根教授（名古屋大）が行う予定。
５．第２３回光源物性とその応用研究会
佐藤幹事（室蘭工大）から第２３回光源物性とその研究会について、報告があった。平成２０年
１１月７日に機械振興会館で行う本研究会では照明デザイナーの方を招待して光源についての議論を幅広く行う旨紹介がなされた。
６．第１９回ＰＥ講習会報告
布村幹事（産総研）から第１９回プラズマエレ
クトロニクス講習会について報告があった。開催
日時２００８年１０月３０、３１日、東京工業大学・大岡山キャンパス百年記念館３Ｆフェライト
会議室で開催され、講師・担当幹事を含めて９４名の参加があったことが報告された。
７．第２回インキュベーションホール
上坂幹事（名古屋大）から第２回プラズマエレ
クトロニクスインキュベーションホールの開催報
告がなされた。開催日時２００８年９月２４日～
２６日、マキノパークホテル＆セミナーハウスで開催され、講師・担当幹事を含めて６４名の参加があったことが報告された。分科会からの支出金は３０万円弱であり、次回以降さらなる集客向上が望まれる。参加者からは概ね好評の回答を頂いたが、低圧プラズマ以外の講演に対する要望も多く寄せられた。白谷幹事長（九大）からは大気圧などもあってもよいとのコメントがあった。北嶋幹事（防衛大）から次回インキュベーションホー
ル地として韮崎研修センター等が紹介された。次回開催地は今後も検討の予定。また、インキュベ

ーションホール担当幹事として荻野幹事（静岡大）が追加され、静岡開催の可能性についても担当幹事で検討することとなった。
８．新領域研究会について
太田幹事（和歌山大）より、第一回プラズマ新領域研究会の開催報告があった。平成２０年８月８日、大阪大学荒田記念館にて開催された。参加者
３７名、招待講演の先生から先方学会のシンポジ
ウムへの参加を依頼され、成功裏に終わったことが報告された。

プラズマ理工学のさらなる展開」での講演について説明があった。物理学会としてはプラズマ関連の諸学会が連携することで、プラズマをキーワー
ドに官庁にアピールすること、Asian PhysicalSociety でイニシアティブを取りたいことなどを目的として、講演依頼があった旨報告された。
１４．第７回プラズマエレクトロニクス賞候補論
文募集
白谷幹事長（九大）から第７回プラズマエレク
トロニクス賞候補論文募集について紹介があった。
１５．その他プラズマ科学シンポジウム２００９／第２６回
プラズマプロセシング研究会の紹介があった。開催日時２００９年２月２日～４日、名古屋大学
豊田講堂で開催すること、一般講演はポスターで有る旨紹介された。
以上

９．ＰＥ分科会会報Ｎｏ４９（案）について
大竹幹事（東北大）からプラズマエレクトロニ
クス分科会報Ｎｏ４９についての原稿収集状況について報告があった。１２月中に会員に届くように原稿収集、出版できる日程で進んでいる旨報告された。
１０．２００９年春季応物学会のシンポジウム／
分科内総合講演（案）について
白藤副幹事長（京大）から２００９年春季応物学会のシンポジウム／分科内総合講演について案が出された。シンポジウムについては前回の幹事会を受けて、案１医療バイオ、案２プラズマが作ったマテリアルが生体と相互作用する場合、案３
透明導電膜関係の３つの案が出された。議論の末、案１の医療・バイオでシンポジウムを企画することに決定した。分科内総合講演は前回の幹事会でお名前の挙がった東京大学の吉田先生、慶應義塾大学の真壁先生に平成２０年３月３１日午前中にご講演いただくことで企画を進めることになった。
１１．２００９年春季応物学会のスクールについて
白藤副幹事長（京大）から２００９年春季応物
学会のスクール開催について説明があった。テーマは「安価、簡単、便利－大気圧プラズマの基礎と応用－」とし、依頼する講師について議論がなされた。
１２．ＩＣＲＰ－７パリ
白谷幹事長（九大）からＩＣＲＰ－７について報告があった。２０１０年分科会主催で行う。
１３．物理学会シンポジウム
白谷幹事長（九大）より物理学会のシンポジウ
ム「現代プラズマ科学の最前線～学際連携による60

プラズマエレクトロニクス関連会議日程
国際会議
開催期間

名称

開催場所

2009.05.18-20

International Conference on IC
Design and Technology(ICICDT)Freescale
Semiconductor(米国・オースチン)IEEE Central Texas Section

要約締め切りhttp://www.icicdt.org

2009.02.16

金沢国際ホテル

日本真空学会

要約締め切りhttp://issp2009.org/

2009.01.09

プラズマ応用科学会

原稿締め切り2009.07.08-10

2009.08.31-09.
04

The 10th International
Symposium on Sputtering andPlasma Processes

18thThe 7th International
Symposium on Applied Plasma
Science (ISAPS ’09)

ハンブルク大学（ドイツ、ハンブルク）

主催・問い合わせ先

締切等

2009.05.15

国内会議・会合
開催期間

名称

開催場所

主催・問い合わせ先

2009.01.22-23

2nd International Conferenceon Plasma Nanotechnology and
Science (IC-PLANTS 2009)名古屋大学 IB 電
子情報館 大講義室

名古屋大学 プラズマナノ工学研究センター・名古屋産業科学研究所
http://www.plasma.engg.nagoya-u.ac.jp/IC-2009/

事前登録

プラズマ科学シンポジウム
2009/ 第 26 回プラズマプロ
セ シ ン グ 研 究会 (PSS-2009/
SPP-26)

名古屋大学豊田講堂, シンポジオン

日本学術振興会プラズマ材料科
学 153 委員会、応用物理学会、プラ ズ マ ・ 核 融 合 学 会
http://plasma.esi.nagoya-u.ac.jp/jsps
153/PSS2009/index.html

申込〆切

第 36 回フラーレン・ナノチ
ューブ総合シンポジウム

名城大学共通講
義棟北館

フラーレン・ナノチューブ学会
http://fullerene-jp.org

講演申込2009 年度(平成 21 年)春季第56 回応用物理学関係連合講
演会

筑波大学

応用物理学会2009.02.02-04

2009.03.02-04

2009.03.30-04.
02

http://www.jsap.or.jp

61

締切等

2009.01.12

2009.01.09

2009.0.1.09

平成 20 年 12 月
応 用 物 理 学 会
プラズマエレクトロニクス分科会
個 人 会 員 各位
PE 分 科 会
幹事長 白谷 正治

平成 21―22 年度役員選挙について

本分科会の規則第 6 条第 5 項に定める役員の任期に従い，幹事（10 名）が交代することになります。同条第 3 項の規定に基づき幹事の選挙を下記要領で行います。よろしくお願いします。
1．
選挙は無記名投票です。
2．
投票用紙（返信はがき）の候補者は幹事会の推薦候補です。候補者全員を信任の場合は，Ａに○をお付け下さい。そうでない場合は，Ｂに○を付け，各候補者のマーク欄に個別に○をお付け下さい。それ以外の候補者に投票される場合は，氏名と所属を記入してください。
3．
投票期限は平成 21 年 1 月 20 日(火)です（当日消印有効）。
4．
御参考までに，任期が平成 22 年 3 月までの役員は次の通りです。
幹 事:白谷正治（九州大学）,白藤立（京都大学），藤原伸夫（ルネサステクノロジ），小林浩之（日立製作所），神好人（NTT），松本直樹（東京エレクトロン），東清一郎（広島大学），荻野明久（静岡大学），川田博昭（大阪府立大学），深沢正永（ソニー），林久貴（東芝セミコンダクター），村山
貴英（アルバック），平野芳邦（NHK），大竹浩人（東北大学），北嶋武（防
衛大学）

62

編集後記
の方は必読と思います。今後も連載を続けて行きますので、何卒ご愛読いただきますようお願い申し上げます。
最後に研究会や国際会議などを開催、参加される際には是非本誌に案内、報告記事をご寄稿いただきますようお願い致します。会報編集委員の連絡先は前号の分科会
幹事役割分担欄をご参照いただけますと幸いです。本分
科会会報はプラズマエレクトロニクス分科会会員に配布されておりますが，一部インターネット（http://annex.jsap.or.jp/plasma/）
を通して閲覧することが可能です。分科会会員のみならず，より多くの皆様に本分
科会の活動を知っていただくとともに，有益な情報発信源として機能できるよう、分科会幹事一同、創意工夫してまいります。皆様のご協力も賜りますよう、重ねてお願い申し上げます。

プラズマエレクトロニクス分科会会報No.49をお届けいたします。本誌にご寄稿いただきました皆様に心よりお礼申し上げます。
本会誌の巻頭言では、岡崎幸子先生に「人生は運と弾
み.........その運をつかむには....」という斬新な題目でご寄稿いただきました。確かに我々の人生は運に囲まれており、その運の中で知り合った方々との出会いにより人生が成り立っております。本分科会で活動できるのもこれまでご指導いただいた諸先生方のおかげであります。感謝の念を新たにするとともに、今後も良い運を掴んで行きたいと感じました。
また、分科会会報No.48に引き続き学生の為のページ「すぐに役立つプラズマエレクトロニクス」の第二回目を掲載いたしました。前回の発光分光に続いて、中村圭
二先生にプロセス用プラズマのプローブ技術についてわ
かりやすくご解説いただきました。学生の読者の方々のみならずこれから計測技術を行ってみようという研究者（平成20年度会報編集担当：布村、柳生、村山、大竹）（文責：大竹）プラズマエレクトロニクス分科会会報

No.49

2008年 12 月 25 日 発行
編集・発行：社団法人

応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会
幹事長

白谷

正治

〒102-0073 東京都千代田区九段北 1-12-3
井門九段北ビル

5 階（©2008 無断転載を禁ず）

63