NGL WorkshopTechnical Program
Oral Presentations 1
Thursday 4 July
Opening
10:15

次世代リソグラフィワークショッププログラム委員長挨拶
Opening Remarks by the Program Chair of the NGL Workshop
宮本恭幸（東工大）
Yasuyuki Miyamoto (Tokyo Institute of Technology)

Plenary Presentation 1
Session Chair: Yasuyuki Miyamoto (Tokyo Institute of Technology)
10:20

EUV lithography - Overview and Outlook- Online presentation Anthony Yen (ASML)

11:00

我が国の半導体政策についてJapan's Semiconductor Policy
齋藤尚史（経済産業省 商務情報政策局 情報産業課）
Hisashi Saito (Ministry of Economy, Trade and Industry)

11:40

―

Lunch Break―Session Chair: Shinji Okazaki (ALITECS)
13:00

熊本大学における半導体分野の人材育成・研究開発への取り組み
Education and Research Programs for Semiconductor Industry at Kumamoto University
青柳昌宏（熊本大学）
Masahiro Aoyagi（Kumamoto Univ.）

13:40

次世代DRAM向けパターニング戦略
Pattering strategy for next generation DRAM
岩城友博（マイクロンメモリジャパン）
Tomohiro Iwaki（Micron Memory Japan）

14:20

―

Break

―

Optical Lithography & Advanced Patterning Technology
Session Chair: Youji Watanabe (Nikon)
次世代DUV光源によるArFi露光装置のスループットと歩留まりの向上
14:30 Improved ArFi scanner throughput and process yield through a next generation DUV light source
featuring high-repetition rate and enhanced speckle contrast
古巻貴光（ギガフォトン）
Takamitsu Komaki（Gigaphoton）

先端パッケージ向けガラスマイクロビア用高出力KrFレーザのM2ビーム品質向上
14:55 Enhancing M2 beam quality factor of in high power KrF laser for glass micro-via fabrication in advanced
packaging
川筋康文（ギガフォトン）
Yasufumi Kawasuji（Gigaphoton）

15:20

露光歪みを低減した先端パッケージ向けi線露光装置の紹介
Study of Patterning for Advanced Packaging
須田広美（キヤノン）
Hiromi Suda（Canon）

分光計測と光学モデルに基づく補正を用いた高精度ウェハトポグラフィセンサ
15:45 High-accuracy wafer topography sensor using optical spectroscopy and correction based on an opticalmodel
庭田涼平, 長山匡, 土橋浩太, 良永健輔, 高橋聡（ニコン）
Ryohei Niwata, Tadashi Nagayama, Kota Dobashi, Kensuke Yoshinaga, Satoshi Takahashi（Nikon）

―

16:10

Break

―

Resist Materials
Session Chairs: Hiroaki Oizumi (Not Affiliated) and Seiichi Tagawa (Osaka Univ.)

16:20

EUV露光における新規有機溶剤現像液導入CAR-NTDプロセスの開発〜ケミカルストカスティック改善に向けて〜
Recent progress of EUV CAR-NTD with new developer for chemical stochastic defect reduction
王惠瑜、丹呉直紘、藤巻錦、丸茂和博、日浦暢大、高橋智美、藤森亨（富士フィルム）
Keiyu Ou, Naohiro Tango, Nishiki Fujimaki, Kazuhiro Marumo, Nobuhiro Hiura, Satomi Takahashi, and Toru
Fujimori（FUJIFILM）

16:45

サステナブルな半導体製造のためのnon-PFASバイオマスEUVレジスト
Non-PFAS Biomass EUV Resist for Sustainable Semiconductor Manufacturing
森田和代（王子ホールディングス）Kazuyo Morita（Oji Holdings）

17:10

ネガ型レジストを対象とした電子線リソグラフィの分子シミュレーション解析
Molecular simulation study of electron beam lithography for negative type resists
安田雅昭, 若松大翔, 田中琉暉, 山田絵斗（大阪公立大）
Masaaki Yasuda, Hiroto Wakamatsu, Ryuki Tanaka, Kaito Yamada（Osaka Metropolitan University）

17:35

Organic dry development rinse material (O-DDR) の開発
Development of Organic dry development rinse material (O-DDR)
柴山亘（日産化学）
Wataru Shibayama（Nissan Chemical）

18:00

DSAリソグラフィを用いたホールパターンのプロセスパフォーマンスとスケーラビリティ
Process performance and scalability of hole patterns using DSA lithography
村松誠1, 西孝典1, 伊藤清仁2, 高橋佳人2, 畑村安則2, 北野高広3, 岩城友博4（1. 東京エレクトロン九州, 2. 東京エレクトロン宮城, 3. 東京エレクトロン, 4. マイクロンメモリジャパン）
Makoto Muramatsu1, Takanori Nishi1, Kiyohito Ito2, Yoshihito Takahashi2, Yasunori Hatamura2, Takahiro
Kitano3, Tomohiro Iwaki4（1. Tokyo Electron Kyushu, 2. Tokyo Electron Miyagi, 3. Tokyo Electron,4. Micron Memory Japan）

―

18:25
18:35

Break

―

Poster Presentations

Oral Presentations 2
Friday 5 July
Nanoimprint Lithography（NIL）
Session Chairs: Keita Sakai (Canon) and Sung-Won Youn (AIST)
9:45

UVナノインプリントを用いた集積フォトニクスプロセスの開発
Development of integrated photonics process using UV-NIL
雨宮智宏1, 西山伸彦1, 渥美裕樹1, 森莉沙2, 藤井恭2, 浅井隆宏2, 塩田大2 (1.東工大, 2.東京応化)
Tomohiro Amemiya1, Nobuhiko Nishiyama1, Yuuki Atsumi1, Risa Mori2, Takashi Fujii2, Takahiro Asai2,
Hiroshi Shiota2 (TOK)10:10量産半導体デバイス製造に向けたナノインプリント装置の性能向上
Nanoimprint Performance Improvements for High Volume Semiconductor Device Manufacturing
西邑直亮 (キヤノン)
Naosuke Nishimura (Canon)

10:35

マルチパターニング技術を利用したナノインプリントテンプレート開発と応用
Development of nanoimprint templates by multiple patterning technology and its application
長井隆治 (大日本印刷)
Takaharu Nagai (DNP）

11:00

デュアルダマシン配線向け3Dナノインプリントプロセスの評価
Preliminary qualification of 3D nanoimprint process for dual damascene wiring
光安将騎, 竹内史和，廣瀬正典, 本田俊輔, 河野拓也 (キオクシア)
Masaki Mitsuyasu, Norikazu Takeuchi, Masanori Hirose, Shunsuke Honda, Takuya Kono (KIOXIA)

11:25

ナノインプリントのDRAM適用の可能性
Advanced nanoimprint technology for DRAM
岩城友博 (マイクロンメモリジャパン)
Tomohiro Iwaki (Micron Memory Japan)

―

11:50

Lunch Break―

E-Beam, Metrology & Mask Technology
Session Chairs:Daisuke Bizen (Hitachi) and Ryugo Hikichi(DNP)
13:10

マルチビームマスク描画装置 MBM-3000の最新の進展
Recent advancements of multi-beam mask writer MBM-3000
大城萌香（株式会社 ニューフレアテクノロジー）
Moeka Oshiro（NuFlare Technology, Inc.)

硬X線用高分解能X線顕微鏡の開発とそれによる3D Flash Memoryにおける金属充填構造の非破壊観測
13:35 Development of High-resolution Hard X-ray Microscope and Non-Destructive Investigation for Metal
Structure in 3D Flash Memories
表和彦1，廣瀬雷太１，芳野公則2，塚田弘2，濱口晶2，吉武康裕3(1. 株式会社リガク X線研究所，2. キオクシア株式会社，3. ウエスタンデジタル合同会社)
K. Omote1，R. Hirose１，K. Yoshino2，H. Tsukada2，A. Hamaguchi2，Y. Yoshitake3(1. Rigaku，2. KIOXIA，3. Western Digital)

14:00

テラヘルツ波放射分光法によるpn接合深さの非接触計測
Non-contact measurement of p-n junction depth with terahertz emission spectroscopy
鈴木健治 (日本サムスン株式会社 Samsungデバイスソリューションズ研究所)
Kenji Suzuki (Samsung Device Solutions R&D Japan, Samsung Japan Corporation)

14:25

弱教師あり深層学習を用いたSEM画像のノイズ除去手法
A flexible deep learning based approach for SEM image denoising
陳軍、姜欣恒、後藤圭亮、堤貴志、豊田康隆 (日立ハイテク)
Jun Chen, Xinheng Jiang, Keisuke Goto, Takashi Tsutsumi, Yasutaka Toyoda（Hitachi High-Tech）

―

14:50

Break

―

Extreme Ultraviolet Lithography（EUVL）
Session Chairs: Tsutomu Shoki (HOYA) and Tetsuo Harada (Univ. Hyogo)
15:00 A development status of beyond 2nm mask technology.
吉川真吾（大日本印刷）
Shingo Yoshikawa（DNP）

15:25

アクティニックEUVマスク検査装置の現状と進捗
Status update of Actinic EUV mask inspection tools
上田明（レーザーテック）
Akira Ueda（Lasertec）

15:50

次世代スキャナー向けCNTペリクルのEUV耐光性評価
EUV durability evaluation of CNT pellicles for the next generation scanner
植田貴洋 （リンテック）
Takahiro Ueda（Lintec）

16:15

High NA EUVに向けたTELの挑戦
TEL's Challenge for High NA EUV
志村悟 (東京エレクトロン九州)
Satoru Shimura (TOKYO ELECTRON KYUSHU)

16:40

EUV technology for HVM and next generation lithography systems- Online presentation Aysegul Cumurcu Gysen (ASML)

Poster Sessions
18:35-20:05, Thursday 4 July

Optical Lithography & Advanced Patterning Technology

P1

レジスト及びSpeckleが与えるLWRへの影響のPSD分析
Analyzing Line Width Roughness (LWR) Sensitivity to Resist and Laser-Induced Speckle for Enhanced
PSD-Based Quantification
熊崎貴仁（ギガフォトン）
Takahito Kumazaki（Gigaphoton）

P2

外部計測器によるプロセス変動検知
A study on detection of wafer process changes using stand-alone wafer metrology tool
太田一毅（キヤノン）
Kazuki Ota（Canon）

P3

ウエハ全面一括撮像光学系を有する高スループット・高密度CD計測技術を用いたEUV露光レジストパター
ン評価
Technology for high density CD measurement of EUV-processed resist patterns across a wafer ensuringhigh throughput and precision
松方妙子1, 深澤和彦1, 蛭川茂1, 向井香織1, 宮崎陽介1, 藤森義彦1, 岩城友博2, 岡田智徳2（1. ニコン, 2. マイクロンメモリジャパン）
Taeko Matsukata1, Kazuhiko Fukazawa1, Shigeru Hirukawa1, Kaori Mukai1,
Yosuke Miyazaki1, Yoshihiko Fujimori1, Tomohiro Iwaki2, Tomonori Okada2（1. Nikon, 2. Micron Memory Japan）

P4

DUV光マスクレス露光機向け位相シフト空間光変調器の結像スタディー
Imaging study of phase shift spatial light modulator for digital scanner

渡邉陽司1, 金谷有歩1, 奥平陽介1, 木林駿介1, 坂本敏昭1, 水野恭志1, 真崎和生1, 大和壮一1,
Thomas Koo2, Bryant Lin2, Michael Tan2, David Tseng2, Conrad Sorensen2, Sujuan Li2,
Stephen Renwick2, 平柳徳行2, Bausan Yuan2（1. ニコン, 2. Nikon Research Corporation of America）
Yoji Watanabe1, Yuho Kanaya1, Yosuke Okudaira1, Shunsuke Kibayashi1, Toshiaki Sakamoto1, Yasushi
Mizuno1,Kazuo Masaki1, Soichi Owa1,
Thomas Koo2, Bryant Lin2, Michael Tan2, David Tseng2, Conrad Sorensen2, Sujuan Li2,
Stephen Renwick2, Noriyuki Hirayanagi2, Bausan Yuan2（1. Nikon, 2. Nikon Research Corporation of America）

Resist Materials
P5

Dissolution dynamics of poly(4-hydroxystyrene) partially protected with t-butoxycarbonyl group in alkyltrimethyl-ammonium hydroxide aqueous developers
Jiahao Wang and Takahiro Kozawa（Osaka Univ.）

vP6

Analysis of Development Kinetics Using the Stratified Polymer Dissolution Model to Reproduce Quartz
Crystal Microbalance Data
Yuqing Jin1, Yuko Tsutsui Ito1, Takahiro Kozawa1, Takashi Hasebe2, Kazuo Sakamoto2, Makoto
Muramatsu2 (1. Osaka Univ., 2. Tokyo Electron Kyushu)

P7

EUV・EBリソグラフィ用無機有機ハイブリッドレジスト材料のレジスト性能に関する研究
Study on Resist Performance of Inorganic-Organic Hybrid Resist Materials for EUV and EB Lithography
山本洋揮1、伊藤裕子2、岡本一将2、古澤孝弘2（1. 量子科学技術研究開発機構, 2. 大阪大学）
Hiroki Yamamoto１, Yuko Tsutsui Ito２, Kazumasa Okamoto２, Takahiro Kozawa２（1. QST, 2. Osaka Univ.）

P8

現像過程における分子ダイナミクスのシミュレーション解析
Molecular dynamics study of development process
田中琉暉, 山田絵斗, 若松大翔, 安田雅昭（大阪公立大）Ryuki Tanaka, Kaito Yamada, Hiroto Wakamatsu, Masaaki Yasuda（Osaka Metropolitan University）

Nanoimprint Lithography (NIL)P15P9NIL用の20nm幅以下のダマシン配線プロセスの開発
Development of sub-20 nm damascene interconnect process for NIL
鈴木健太, 上田哲也, 廣島洋, 林喜宏 (産業技術総合研究所)
Kenta Suzuki, Tetsuya Ueda, Hiroshi Hiroshima, Hayashi Yoshihiro (National Institute of Advanced Industrial
Science and Technology)

P10

UV-NILによりエッジ粗さを調節したシリコンナノディスク配列体の光機能
UV-NIL and optical property of silicon nanodisk arrays with tuned edge roughness
高野修綺, 新家寛正, 中川勝 (東北大)Naoki Takano, Hiromasa Niinomi, Masaru Nakagawa (Tohoku Univ.)

P11

ナノすきまにおけるメタクリレートモノマーからなる光硬化性液体のアクリレート系密着単分子層による延展促進
Promoted liquid advancement of methacrylate-type UV-curable liquid on acrylate-type adhesivemonomolecular layer at nanogaps
稲川亮太, 大沼晶子, 新家寛正, 押切友也, 中川勝 (東北大)Ryota Inagawa, Akiko Onuma, Hiromasa Niinomi, Tomoya Oshikiri, Masaru Nakagawa (Tohoku Univ.)

P12

ナノインプリントによるAR/VRグラス用傾斜型回折格子の離型プロセスに関する考察
Study on mold release process for tilted diffraction gratings for AR/VR Glasses using nanoimprinting
國藤裕成, 安田雅昭, 平井義彦 (大阪公立大)
Yusei Kunito, Masaaki Yasuda, Yoshihiko Hirai (Osaka Metropolitan Univ.)

P13

酸素イオンビームエッチングを用いた感光性ポリイミド上のモスアイ構造の作製
Fabrication of moth-eye structure on photosensitive polyimide by oxygen ion beam etching
檀上義宜, 谷口淳 (東京理科大)
Yoritaka Danjo, Jun Taniguchi (Tokyo Univ. of Science)

E-Beam, Metrology, and Mask Technology
P14

200kV電子ビーム描画装置の開発
Development of 200 kV Electron Beam Lithography System
細谷 和輝，小澤 寛司，會田 征德（日本電子）
Kazuki Hosoya, Hiroshi Ozawa, Yukinori Aida (JEOL)P15

SEM観察に伴うEUVレジスト収縮変形のAFM計測評価
AFM evaluation of EUV photoresist shrinkage due to electron-beam exposure
木津良祐、熊谷和博、三隅伊知子、平井亜紀子、権太聡 (産業技術総合研究所)
Ryosuke Kizu, Kazuhiro Kumagai, Ichiko Misumi, Akiko Hirai, and Satoshi Gonda(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology)

P16

インラインSEMによるウエハハイブリッド接合におけるCuパッドの高さ評価技術
Cu Pad Surface Height Evaluation Technique by In-line SEM for Wafer Hybrid Bonding
笠井啓晃 (日立ハイテク)
Hiroaki Kasai (Hitachi High-Tech Corporation)

P17

セグメンテーション技術を活用したオーバーレイ計測領域の動的な配置手法
A Method Dynamic Placement of Overlay Measurement Area Cursors Using Segmentation Technique
京極真也1、原田実1、大崎真由香1、西畑貴博2、後藤泰範2(1 株式会社日立製作所、2 株式会社日立ハイテク)
Shinya Kyogoku1, Minoru Harada1, Mayuka Osaki1, Takahiro Nishihata2, Yasunori Goto2(1 Hitachi, Ltd., 2 Hitachi High-Tech Corp.)

P18

照射電流密度及び電界による帯電制御技術の検討
Development of Charging Control Technology using Beam Current Density and Electric Field
寺尾奈浦2、横須賀俊之1、小辻秀幸1、白石勝彦1、川野源2 (1日立製作所、2日立ハイテク)
Naho Terao2, Toshiyuki Yokosuka1, Hideyuki Kotsuji1, Katsuhiko Shiraishi1, Hajime Kawano2(1Hitachi Ltd., 2Hitachi High-Tech Corporation.)

P19

フォトカソードを用いた選択的電子線照射による高アスペクト比トレンチ構造のSEM撮像
SEM imaging of high aspect ratio trench by selectively controlling the electron beam irradiation using
photocathode荒川裕太1, 新美浩太郎1, 大塚洋平1, 佐藤大樹1,2, 小泉淳1, 鹿野悠1,2, 飯島北斗1, 西谷智博1,2, 本田善央2,
天野浩2(1. 株式会社 Photo electron Soul、2. 名古屋大学未来材料・システム研究所)
Yuta Arakawa1, Kotaro Niimi1, Yohei Otsuka1, Daiki Sato1,2, Atsushi Koizumi1, Haruka Shikano1,2, Hokuto
Iijima1, Tomohiro Nishitani1,2, Yoshio Honda2, Hiroshi Amano2(1. Photo electron Soul Inc., 2. Institute of Materials and Systems for Sustainability, Nagoya University)

P20

光電子ビーム技術を用いた走査型電子顕微鏡による MOSFET の局所的電位コントラスト変化
Local voltage contrast changes in MOSFET using scanning electron microscopy with photoelectron beamtechnology
佐藤大樹1,2, 荒川裕太1, 新美浩太郎1, 小泉淳1, 飯島北斗1, 西谷智博１,2, 本田善央2, 天野浩2
(1. 株式会社 Photo electron Soul、２名古屋大学未来材料・システム研究所)
Daiki Sato1,2, Yuta Arakawa1, Kotaro Niimi1, Atsushi Koizumi1, Hokuto Iijima1, Tomohiro Nishitani1,2,
Yoshio Honda2, Hiroshi Amano2(1. Photo electron Soul Inc., 2. Institute of Materials and Systems for Sustainability, Nagoya University)

Extreme Ultraviolet Lithography（EUVL）
P21

High NA EUV露光機におけるマスク２枚搭載ステージの提案
Proposal of the two-mask stage for high NA EUV scanners
武久 究（O2 Laser Laboratory）
Kiwamu Takehisa (O2 Laser Laboratory)

P22

Development progress of Gigaphoton’s LPP EUV light source for inspection systems
岩本文男（ギガフォトン）
Fumio Iwamoto（Gigaphoton）

P23

低屈折率吸収体EUVマスクによるMEEF改善の検討
Study of MEEF improvement with low-n absorber EUVL mask
田中雄介、高畑洋介（ウエスタンデジタル合同会社）
Tatiana Kovalevich, Danilo De Simone, Vicky Philipsen（IMEC）
Yusuke Tanaka, Yosuke Takahata (Western Digital GK)
Tatiana Kovalevich, Danilo De Simone, Vicky Philipsen（IMEC）

P24

九州大学におけるEUV光源研究とEUV照射研究センターの現状
Present Status of EUV Research in Kyushu University & EUV Irradiation Research Center
溝口 計, 中村大輔, 山形幸彦, 小川透, 近藤博基, 登島隆, 坂本卓司, 浅野種正, 白谷正治（九州大学）
富田健太郎（北海道大学）
Hakaru Mizoguchi, Daisuke Nakamura, Yukihiko Yamagata, Toru Ogawa, Hiroki Kondo, Takashi Toyoshima,
Takuji Sakamoto, Tanemasa Asano, Masaharu Shiratani (Kyushu Univ.)
Kentaro Tomita (Hokkaido Univ.)

P25

リソグラフィー用EUV-FEL光源の実現に向けたコンパクトERLでの開発
Development at the compact ERL to realize EUV-FEL light source for lithography
谷川貴紀, 中村典雄, 加藤龍好, 阪井寛志, 土屋公央, 谷本育律, 本田洋介, 島田美帆, 山本将博, 田中オリガ, 帯名崇, 道園真一郎, 河田洋 (KEK)
Takanori Tanikawa, Norio Nakamura, Ryukou Kato, Hiroshi Sakai, Kimichika
Tsuchiya, Yasunori Tanimoto, Yosuke Honda, Miho Shimada, Masahiro Yamamoto, Olga Tanaka, Takashi
Obina, Shinichiro Michizono, and Hiroshi Kawata (KEK)P26

反射型軟Ｘ線散乱によるレジスト化学組成の均一性評価
Spatial Distribution Analysis of Functional Groups in Resist Thin Films Using Reflection-mode Resonant Soft
X-ray Scattering
江渕友梨、山川進二、原田哲男 （兵庫県立大学）
Yuri Ebuchi, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada (Univ. of Hyogo)

P27

ニュースバルにおける感度測定装置の現状
Current status of EUV flood exposure tool at NewSUBARU BL03
志賀竜太、山川進二、原田哲男（兵庫県立大学）
Ryuta Shiga, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada (Univ. of Hyogo)

R&D Support Program
P28

文部科学省 マテリアル先端リサーチインフラ事業（ARIM）
Advanced Research Infrastructure for Materials and Nanotechnology, MEXT
富井和志、堀池純夫 (京都大学ナノテクノロジーハブ拠点)
Kazushi Tomii, Sumio Horiike (Kyoto Univ.)