プラズマエレクトロニクス分科会会報 No.57
2012 年（平成 24 年）12 月発行
池田、市來、市川、向川
目 次
巻頭言中部学院大学

葛谷 昌之

1

名古屋大学

堀 勝

3

名古屋大学

齋藤 永宏

6

第 10 回プラズマエレクトロニクス賞受賞記念講演報告

名古屋大学

田嶋 聡美

10

海外の研究事情（その 33）

九州大学

古閑 一憲

11

岩手大学

高木 浩一

プラズマ化学の科学技術リテラシーのすすめ
寄稿
プラズマ医療の世界の潮流
研究室紹介（その 52）
名古屋大学グリーンモビリティ連携研究センター
研究紹介（その 5）

学生のためのページ すぐに役立つプラズマエレクトロニクス
ちょっとパルスパワーを作ってみよう！

長岡技術科学江 偉華
大学

15

国際会議報告
静岡大学
九州大学

荻野 明久
林 信哉

30

名古屋大学

堀 勝

31

65th Gaseous Electronics Conference (GEC 65)

名古屋大学

豊田 浩孝

32

59th AVS International Symposium and Exhibition

大阪大学

浜口 智志

33

54th Annual Meeting of the APS Division of Plasma Physics (DPP)

京都大学

酒井 道

34

34th International Symposium on Dry Process (DPS 2012)(株) 富士通小倉 輝
セミコンダクター

35

東京工業大学37

IUMRS International Conference on Electronic Materials 2012
(IUMRS-ICEM 2012)
11th Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology(APCPST)/ The 25th Symposium on plasma Science forMaterials (SPSM)

国内会議報告2012 年秋季第 73 回応用物理学会学術講演会
第 9 回分科内招待講演

i

野崎 智洋

｢エネルギー材料開発におけるプラズマ科学の過去と未来｣｢有機プラズマ化学の発展の轍｣2012 年秋季第 73 回応用物理学会学術講演会
プラズマエレクトロニクス分科会 チュートリアル講演
東京工業大学｢シミュレーションでみる反応性プラズマ～大気圧から低気圧まで～｣

野崎 智洋

38

2012 年秋季第 73 回応用物理学会学術講演会 シンポジウム
京都工芸「プラズマのバイオ・医療への応用 －生体支援のためのプラズ
繊維大学
マ－」

比村 治彦

39

第 6 回プラズマエレクトロニクスインキュベーションホール

大阪大学

唐橋 一浩

40

第 11 回 プラズマ新領域研究会｢光・レーザーによるプラズマ計測の最前線｣

大分大学

市來 龍大

41

第 23 回プラズマエレクトロニクス講習会(株) ソニー

辰巳 哲也

43

静岡大学

永津 雅章

44

名城大学

平松 美根男

46

東京大学

一木 隆範

47

金沢大学

石島 達夫

48

2013 年春季 第 60 回応用物理学関係連合講演会
第 10 回分科内招待講演, 第４回海外研究者招待講演｢プラズマプロセス用大面積プラズマ源の開発｣｢大気圧プラズマの環境改善技術への応用｣

東京工業大学

野崎 智洋

49

2013 年春季 第 60 回応用物理学関係連合講演会
プラズマエレクトロニクス分科会 チュートリアル講演｢プラズマの基礎とその微細加工技術への応用｣

東京工業大学

野崎 智洋

50

2013 年春季 第 60 回応用物理学関係連合講演会 シンポジウム「ナノ界面プラズマの科学と応用展開」

東京工業大学野崎 智洋

51

12th Asia Pacific Physics Conference (APPC12)

九州大学

白谷 正治

52

名古屋大学

豊田 浩孝

54

東京大学
九州大学

寺嶋 和夫
白谷 正治

55

九州大学

白谷 正治

57

行事案内
第 30 回プラズマプロセシング研究会(SPP-30)
5th International Symposium on Advanced Plasma Science and its
Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2013)

シリコンテクノロジー研究会研究集会
6th International Conference on Plasma-Nanotechnology＆Science(IC-PLANTS2013)

第 35 回ドライプロセス国際シンポジウム
35th International Symposium on Dry Process (DPS 2013)2013 MRS-JSAP Symposium
Plasma Processing and Diagnostics for Life Sciences
8thInternational

Conferenceon

Reactive

Plasma/30th

Symposium on Processing Plasmas (ICRP-8/SPP-30)

掲示板

ii

平成 24 年度プラズマエレクトロニクス分科会幹事名簿59

平成 24 年度分科会幹事役割分担61

平成 24 年度分科会関連の各種世話人・委員

62

平成 24 年度中期活動報告63

プラズマエレクトロニクス関連会議日程

65

東日本大震災で被災された方への会費免除のお知らせ

68

編集後記

69

iii

巻頭言

プラズマ化学の科学技術リテラシーのすすめ
中部学院大学葛谷 昌之

筆者は、科学の還元主義者と自負しているが、四の状態である電離気体をいう。すなわち、プラプラズマ自身の求道者（Ab initio-ist）ではなく、

ズマ化学とは、赤外線（熱）から真空紫外線に至プラズマを利用する有機高分子の応用研究 者

る広範囲の電磁波エネルギーに正負イオンや二次（Posteriori-ist／Ad hoc-ist）として、３０年余的高エネルギー粒子までを含む“第四の物質状態

りに亘りプラズマ化学に携わってきた。その間にの化学”と言うことになり、固体化学、液体化学、は、自然科学の刑事役も演じたこともあったと述

気体化学と称することと同等である。例えば、熱懐されるし、時として「真実追究屋は嫌われる」プラズマは、身近な例としてはＩＣＰ検出器や国を甘酸っぱく実体感したこともあった。何分、そ内の約５万トンも保管されている未処理ＰＣＢのの当初のプラズマ化学はまさに黎明期であり、化処理法として高熱利用されているし、低温プラズ

学が不在に近いプラズマ化学であったため、部外

マは、有機化学反応も扱うことが出来るエネルギ

者の中には、その言葉自身を問題視する人もいたーレベルであるので、必然的に複合的或いは選択時代であった。それ故、逆にプラズマ化学に関す的利用の創意工夫によって、上記の様な極めて広る研究は、何か未知の可能性を秘めた新鮮な響き

範な応用展開のみならず、ＩＣＴ、ＢＴ、ＮＴにがあった。事実、1980 年代に、マーケッティング

加え、ECO 世界にも関連した応用研究の拡大が可用語として日産の“プラズマエンジン”（トヨタ

能であるとも言える。

は“レーザーエンジン”）が登場していた。これいずれにしても、近年の有機プラズマにおけるは、プラズマが魅力ある先進的イメージをもつこ

進化発展は目覚ましいものがあり、かつて、放電とから生まれた単なる頭字語である。そんな当時管内壁に生成する不溶不融の非晶質有機薄膜は、に比べると、今日のプラズマ化学の現状は、様々

長年に亘って放電化学実験の厄介物として取り扱な応用技術の浮沈を見ながらも、多くの知見者のわれてきたが、いかなる構造物の上にも均一薄膜

知恵と努力の結集によってめざましく進化発展し、 コーティングが可能であり，完全ドライプロセス
現象論的な先駆的研究から脱して理性ある学問体であるというユニークな特性を生かす用途などが系として確立している。すなわち、有機プラズマ

認識され始め，「プラズマ重合膜」として本格的にを用いる材料加工を取り上げれば、素材産業、高基礎および応用研究が活発化した。その後、１９分子加工産業、エレクトロニクス関連産業などの９０年代に入って本格化した化学気相堆積法によ広範な産業分野における薄膜形成技術や固体表面ってダイヤモンド薄膜が造られた。これは、非晶処理加工の基盤技術として定着している。
加えて、質薄膜生成から結晶性薄膜生成への技術開発であ本加工分野は、理工学から生物・医療分野に至る

ると同時に、有機化合物から無機系化合物の合成

多様な学問体系の集学的知識を基にした融合領域を示したものであり、有機プラズマ化学研究史のとしての新たな応用展開が進行している。

中で、画期的な成果の一つとして位置づけられる。
その後、部分微結晶を含む炭素硬質薄膜が DLC

改めて言うまでもないが、プラズマは物質の第1として登場し、今日では，非晶質の炭素硬化薄膜療法などが、長い歴史と実績をもつ皮膚病治療法

もすべて DLC と位置づけられるようになった。

として厚労省からも認可されているし、最近では、DLC 登場の原点は、ダイヤモンド薄膜生成の副産ＬＥＤ光線治療法も脚光を浴びている。さらに、物であったため、前述のプラズマ重合膜とは無縁

癌治療においても、光線力学法、ハイパーサーミのような印象を与えて来たが、広範なレベルの

ア、マイクロ波凝固療法、マイクロ波焼灼療法等

DLC と称されるものの中には、プラズマ重合膜との様々な物理療法が考案され、利用されているも同等のものがあることを明記しておきたい。いずのもある。したがって、願いたいことは、今後プれにしても、DLC 薄膜は，有機薄膜特性を活用す

ラズマメディスンは新しい有効な物理療法であるる表面コーティング薄膜として特化した実用化開ことだけに留まらず、他の物理療法に対して、何発が進められ，幅広く産業界で利用されるようにがどのように、より優れた技法であるかを比較検なった。これは、まさに、水が氷になるか雪にな

証しながら進められることである。

るかの違いに似た膜生成過程の特異性を巧みに利

かつては、大学での研究は、知的好奇心に駆動用した成果であり、プラズマ化学の存在感を広めされる「知識創造型研究」を旨とすべきであったた観点からも、極めて高く評価されるべきである。

が、多くの関連分野と境を接し、技術とも不可分

一方、プラズマ物理における最も画期的なブレとなった今日、「知識集約型研究」も推進しなけれークスルーの一つは、APG プラズマの発生法の案ばならないというパラダイムシフトが起こり、大出であろう。本技法は、オープンエアープラズマ

学と企業間の研究の垣根は益々低くなりつつある。

を使った表面処理の多様性も証明され幅広い応用

そんな背景の中、平成２３年版科学技術白書（文展開を可能にするなど、その付加価値は計り知れ

部科学省 ）が述べているように、社会と科学技術ないものがあり、魅力ある応用展開も進行中であとの新しい関係構築に向けて、科学技術リテラシる。例えば、APG プラズマ技法は、１９９０年代

ーのさらなる啓蒙が求められている。したがって、には医薬品や医療器具のパッケージングの滅菌消特に中堅若手のプラズマ関連研究者には、真のプ

毒など医療技術界でも高く評価されるようになっ

ラズマエバンジェリストとなるべく、“温故創新”たが、その後２０００年代に入って、皮膚病やそを自主的・自律的に実践しながら、２１世紀の統の他の疾病治療などへの本格的適用が始まった。

合科学としてプラズマ化学が持続性ある発展が遂

２００８年には、「Plasma Medicine」なる学術雑げられていくことを期待して止まない。

誌も発刊された。然るに、例えばアーク放電光線

2

寄稿

プラズマ医療の世界の潮流
名古屋大学
１．はじめにプラズマは、高速電子との衝突に伴う気体分子の電離や解離により生じる反応性に富んだ粒子［イオン、ラジカル、電子、光］から構成され、高い反応性を利用することで材料の超微細加工や機能化が可能であることから、モノづくりに不可欠なツールとして、今日の最先端科学を支える基盤技術となっている。
一方、これまでの 10 年間で、大気圧や液中で低温のプラズマ（気体温度が室温程度であるプラズマ）を生成する技術が開発され、生体や生物組織に照射することにより、癌細胞の死滅や皮膚疾患治療をはじめとする画期的な効果が見いだされ、革新的医療技術としての展開が世界的に期待されている。
プラズマという学術用語は、1928 年に Irving
Langmuir によって、血液の血漿の挙動との類似性から命名されたものであり、語源は、to mold：「～を形作る」という意味のギリシャ文字からつけられている。このような電離気体のプラズマと血液のプラズマとは、全く異なるものであったが、プラズマを血液に照射し、医療技術として進化させるという潮流が発展すると、時として、The plasma
was exposed to the plasma.と言うような記述が飛び出し、一体どっちの plasma なのか紛らわしくなるような事態を迎えようとしている。Langmuirもこの状況を目にしたら、さぞかしビックリし、名前をコピーしたことによって後世へ混乱を招くことになってしまったことを反省されるかもしれ
ない。

堀

勝

議における発表数の推移を示す。2012 年における発表数は 300 件に到達する勢いである。また、世界中でプラズマ医療科学の拠点の設立や大型プロ
ジェクトが遂行されている。特に、この数年間で米国、ドイツ、韓国で大規模な拠点が形成された。
しかしながら、研究のレベルは、まさに玉石混
淆で、この広がりが今後も継続されるか否かは疑問が残る。何故ならば、大方の研究者は、見様見まねで作製した種々の大気圧プラズマ源を細胞等に照射して、その死滅あるいは増殖した変化を示すといった現象論的な発表が多い。また、世界中から多くの重複する結果が発表され、データの体系化を行うという試みには、まだほとんど手が付けられていない。逆に言えば、どうしたらいいのか？分かっていない。

# of pｒｅｓｅｎｔａｔｉｏｎｓ

300
250
200
150
100
50
0
2006

2007

2008

2009

2010

2011

2012

2013

Year

図１プラズマ医療国際会議における発表数の推移
一方、プラズマ研究者と医科学者との共同研究
は、積極的に進められ、医科学者が直接発表する機会も増えたが、医科学者の発表は、医療効果の事例を示すのみであり、現象論的な成果にとどまっている。ドイツでは、3000 人の医者がプラズマソースを手にして医療行為に着手しているとの報告もある。事例の列挙ではあるが、得られた医療成果には驚くべきものが多い。その一例を図２に示す。やけどや潰瘍が急速に治癒される現象や顔のしわが取れると言った成果が報告され、後者の成果は、女性には朗報である。本年８月に開催さ

２．世界の研究の状況
プラズマ医療研究に関する世界の潮流は、プラズマ研究者のフィーバーに留まらず、プラズマ研
究者と医科学者との出会いの場を作りだして、加速的に広がりをみせている。例えば、2007 年に「プラズマ医療国際会議」が開催され、参加者数は、劇的に増加している。図１にプラズマ医療国際会
3

れたタイでのプラズマワークショップでは、実際に研究者が女学生の顔にプラズマを照射するというデモ実験も披露されたという情報があり、日本では許されない医療実験が行われている。

を理解していなければ、プラズマプロセスの研究は遂行できないレベルまで、プラズマ研究者が化学者と知識を共有するところまで進化してきた。
プラズマ科学を中核に据え、医学・生物学と融合した未踏の新領域「プラズマ医療科学」の創成に向けて、世界を先導し国際標準化をもリードしうる永続的な学術基盤を構築するためには、長年にわたって世界を牽引し培ってきた「先進プラズ
マプロセス科学」を基盤とした独創的研究を医療に展開し、医学・生物科学にプラズマ科学を導入した新たな学問領域を構築するためのスキームの確立が必要不可欠である。
３．日本の取り組み
上述してきたようなプラズマ医療を取り巻く状
況を鑑みて、日本では、文部科学省新学術領域研
究に、全日本体制のプロジェクトとして「プラズマ医療科学の創成」が本年度からスタートした。
５年間に亘るこの研究プロジェクトには、工学系
から２４人、医学系から１８人の研究者が参画しており、今後、公募として加わる１５人の計画班を考慮すれば、大規模な医工連携のプロジェクトが遂行されることになる。また、参画する学生までを数えれば、１００人を超える全日本チーム体制となり、プロジェクトから生まれる成果は画期的なものになることが期待される。図３に、新学術領域研究が目指しているスキームの概略を示す。

図２ やけどが 治癒された例（上部）、顔のしわが取れた例（下部）
さて、プラズマを真に医療に応用するためには、プラズマと生体組織との相互作用に関する学術基盤の確立を通じて、新たな学問領域として『プラズマ医療科学』を創成し、新しい医療技術の開拓に資することを目的とした研究を開始することが必要である。プラズマが半導体プロセスに導入されようとしていた黎明期には、プラズマの応用として様々な試行がなされ、現象論的ではあるが、非常に興味深い結果が数多く報告された。
その後、次第に現象が体系化されるとともに、高度なプラズマの生成や制御技術の開発とともに量産に資するプラズマ製造装置が開発され、現在の産業には無くてはならない基幹科学技術に至っている。
また、プラズマ医療研究には、プラズマ研究者と医科学者との間の知識のギャップや言語の壁が立ちはだかる。実際に、プラズマ医療科学国際会議に出席しても、発表者が使う医学用語を前に、
科学用語辞典を頻繁に捲らなければ理解をすることができない。また、医科学分野で定常的に使用されている評価方法やその解析装置、その解析方
法は、プラズマ研究者にとって全く未知の技術である。プラズマの産業応用の黎明期においてもXPS(X 線光電子分光法)装置を用いた分析は、化学の知識が必要であり、大きなギャップを感じた。
しかしながら、現在では XPS の分析の知識や解釈

図３ 新学術領域研究「プラズマ医療科学の創成」における研究スキーム
本プロジェクトでは、「プラズマ医療科学」の創成に向けた学術基盤を以下のように確立することを目指している。
41)医療用の革新的な大気圧･液中プラズマ生成・制
御技術とプラズマ－生体組織表界面計測技術を開発し、相互作用をプラズマ科学に基づき定量的に解明するための方法論を確立する。
2) プラズマと生体との相互作用を原子・分子レベルで解明し、ＤＮＡ損傷、細胞死、再生・蘇生といった生命現象を分子生物科学に基づいて解析し、理論を構築して体系化する。
3) 細胞との相互作用から動物実験に亘る系統的な研究アプローチにより新たな領域を開拓し、同時に、プラズマが生体組織に及ぼす副作用（毒性等）を医学的に評価し、医療としての安全性に密着した学術基盤を構築する。
上記の 1)と 2)の連携により、効果を定量的に解明し、プラズマ医療科学として体系化する。加えて、3)の臨床応用に向けた系統的研究を通じて、
革新的医療用プラズマ装置・診断システムの開発、さらには国際標準化への指針を確立する。
ここに、このプロジェクトを推進するカテゴリ
ー、主要メンバーとそのテーマを示す。
1)プラズマを作る・診る「医療プラズマエレクトロニクス」
・堀 勝（名古屋大）「プラズマ医療のための気相・
表界面反応ダイナミクスの計測と体系化」
・節原 裕一（大阪大） 「高度時空間制御による生体適合放電生成の基盤確立と革新的医療プラズ
マ源の創成」
・金子 俊郎（東北大） 「ナノプラズマ制御技術の創成と局所照射による生体機能制御」
2)プラズマを使う「プラズマ分子生物科学」
・水野 彰（豊橋技術科学大）「プラズマと生体ユ
ニットとの原子・分子動的相互作用の解明」
・池原 譲（産総研） 「医療用マイルドプラズマによる創傷治癒の確立とプラズマ組織細胞交互作用の解明」
・清水 伸幸（東京大） 「分子生物学的解析に基づ
くプラズマ誘起細胞増殖・腫瘍細胞死誘起メカニ
ズムの体系化」
3)プラズマの安全性「プラズマ臨床科学」
・吉川 史隆（名古屋大） 「プラズマ医療科学の臨床応用論的学術基盤の構築と体系化」
・田中 昭代（九州大） 「プラズマ・ナノマテリア
ル動態学の創成と安全安心医療科学の構築」
5

・平田 孝道（東京都市大） 「プラズマによる細胞／組織の活性化・改質及び再生医療への応用展開」
本領域で目指しているプラズマと医学・生物科
学を融合した無類の学際領域の創成は、医療技術の革新に不可欠な礎として、従来に無い第三・第四の治療法の開拓による医療イノベーションと医療進化を通じて、ライフイノベーションと安心・安全イノベーションの推進に資すると共に、我が国の学術水準の向上・強化につながるものと期待される。
また、上記の新学術領域研究の遂行のみならず、
プラズマエレクトロニクス分科会が中心となって、2012 春季 MRS シンポジウム：セッション名「生命科学のためのプラズマプロセスとその診断」(MRSSession WW: Plasma Processing and Diagnostics
for Life Sciences)を企画し、2012 年 4 月 9 日（月）から 13 日（金）までサンフランシスコで開催された。プラズマ医療のみならず、この分野を大局的に捉えることで、農業までも包括した「プラズマ生命科学」を対象としたセッションを材料科学分
野で最も多くの方々が集まる MRS で開催したことは画期である。分科会が、この分野を世界的に先導していくために、継続的に MRS でのセッションを開催することになった。次回は、2013 年９月 16日から 20 日まで開催される秋季応用物理学会講演会（同志社大学）で MRS とのジョイントセッシ
ョンとして開催される（主担当：白谷正治教授（九
州大）
）
。
４．まとめ
我が国が長年に亘って培ってきたプラズマエレ
クトロニクスという科学領域を土台にして、プラズマを医学や生命科学まで展開して、新たな学際領域を創成する時代がやってきている。プラズマ
科学者がそのフロンティを拡大すれば、拡大した分だけ、プラズマ領域が広がるというまさにダイナミックで責任が大きい仕事が待っている。
是非とも分科会がリーダーとなって、そのフロンティを開拓し、数年後には、医学や生物学の用語とプラズマ用語との間の言語や知識の壁の打開や「融合」が進んでいることを楽しみしている。

研究室紹介名古屋大学グリーンモビリティ連携研究センター
齋藤永宏
1. はじめに

2. ソリューションプラズマ

齋藤永宏研究室は、2009 年に名古屋大学

著者らの研究室で、現在最も力を注いでエコトピア科学研究所に設立しました。そいるのが、液中のプラズマであるソリューの後、2011 年 7 月より所属をグリーンモビ

ションプラズマの研究です。従来のプラズ

リティ連携研究センターに移し活動を行っマは、主に気相での研究が主流でした。しております。今回はこのような新しい研究

かし、液中のプラズマはまだまだ未開拓領

室に研究室紹介の機会を与えて下さりあり域として残されており、プラズマの科学とがとうございました。本稿では、現在の研しても大変興味深いものだと思います。ソ究室の姿とこれから目指すものを紹介させリューションプラズマ(SP)は、当研究室で、ていただきたいと思います。グリーンモビ

液中でのグロー放電を実現した液体の中のリティ連携研究センターでは次世代のモビ

冷たいプラズマです。このような液中でのリティ（移動体）の開発を行うための産学プラズマを用いることによって、従来の溶連携の拠点として活動を行っております。

液化学では実現できない、全く新しい合成

当研究室では、次世代移動体の基盤とな反応を実現できるのではないかと期待してる材料の開発を進め、将来のモビリティのいます。ソリューションプラズマの従来プ姿を根底から変える材料技術の開発に挑戦

ラズマとの違いは、従来の液中プラズマがしております。一方で、兼任として、工学

アーク放電等の極めて熱いプラズマであっ研究科マテリアル理工学専攻の極限材料工

たのに対して、ソリューションプラズマは学講座に所属しております。ここでのグル

冷たいプラズマであることです。熱いプラープ名は反応動力学研究グループとなってズマでは、有機系の材料ではばらばらに分おります。著者らは「反応」を制御して、解されてしまうため、合成することは簡単

これまでにない新しい反応やダイナミクス

ではありませんでした。しかし、冷たいプを利用した材料合成プロセスの開発を行いラズマを実現することで、原料の分解を抑たいと考えています。また、得られた材料

え、有機系の化学物質を迅速に合成するこを各種デバイスへと応用するための基礎的とができるようになりました。現在は、こな研究も進めており、次世代モビリティにのようなプラズマをプラズマの状態や活性資する応用技術の確立を企業と共同研究で種を計測するために、発光分光分析や振動推進しております。

分光分析、ラマン分光分析による計測を進めています。

6

このようなクラスターの合成を大量に行う
ことは、一般的な化学還元法では難しく、ソリューションプラズマの一つの利点として、挙げられます。

図 1 ソリューションプラズマ
3. ソリューションプラズマの応用技術
次にソリューションプラズマでは一体どんなことができるのか？について説明しま

図 2 ソリューションプラズマによるクラス

す。著者らはこれまでにソリューションプ

ターの合成

ラズマ反応場を利用することで以下のよう(2) カーボン材料の表面修飾

な材料合成を行うことに成功しています。

ソリューションプラズマを用いることで、(1) ナノクラスターの合成

カーボン系材料の表面修飾が可能となり、1～2nm のクラスターになるとバルクの従来法と比較して、安全かつ迅速な合成プ

時とは異なる電子状態となり全く新しい触ロセスを実現し、カーボン材料の溶液濃度媒性が発現します。これを利用して、白金も 30wt%以上の溶液を実現しました。

等にかわる触媒開発を行っています。著者

カーボンナノチューブはほとんどの溶媒

らはソリューションプラズマによる金属イに不溶で分散性が悪いことが問題でした。

オンの還元を利用したナノ粒子の合成や触これは、カーボンナノチューブ間に働くフ媒となりうる金属を電極としたスパッタリァンデルワールス力によって、凝集するた

ングプロセスによってナノ粒子を合成するめです。そこで、カーボンナノチューブの方法を検討しております。初期の頃は、制表面に官能基を付与することで、分散性を御が難しく粒径が大きくなりがちでしたが、 高める研究が進められています。しかし、反応場を適切に制御することで、2nm 以下

従来の化学反応を利用した官能基付与では、のナノ粒子(クラスター)を精密に制御でき

高濃度の酸を用いる必要がある等、多数のるようになりました。これは、ソリューシ問題がありました。しかし、ソリューショ

ョンプラズマの局所的な反応場が有効に働

ンプラズマを用いて反応を活性化させるこ

いているためと考えられます。また、カーとで中性条件で、短時間に官能基の付与をボン担持クラスターの合成にも成功してお行うことができる等、優れた反応場としてり、電池電極材料等の実用的な材料として働くことが明かとなりました。このような利用していくための開発も進めております。 化学反応を誘起する反応場としての利用は、
7

まだまだ未開拓領域であり、今後の発展が期待されます。また、ソリューションプラ
ズマにより得られた高濃度の CNT ペース
トを高強度コンパウンド樹脂や、透明導電膜、熱伝導性材料のフィラーとして応用を図っています。
図 4 カーボン系材料の合成

従来技術

濃硫酸( 9 8 % ) ： 発煙硝酸
・ 強酸( 発煙硝酸等)
H 2 SO 4 /H N O 3

Fe /CH 3 COOH

・ 最大1 0 w t %CNT分散溶液

6 0 oCH 2 O,
reflu xin g

・ 処理時間 ( 6 h )このようなカーボン材料の合成とクラス

豊田中央研究所等： 特開2 0 1 0 -2 4 1 2 7ターの合成を組み合わせることで、クラス

SPを 用いる こ と によ り 従来にはない迅速な反応を 実現

ター担持カーボン材料の同時合成を実現し

SP技術
SP処理

SP処理 ( 一段階)

分散試薬

処理前

・ 中性

ており、電池電極材料としての応用が期待

・ 最大3 0 w t %CNT分散溶液・ 処理時間( 0 .5 h )されています。

処理後

また、現在では異種元素を含む有機分子
図 3 カーボン材料の分散を原料として、カーボン材料の合成を展開
しております。一般的に、カーボン材料に(3) カーボン材料の合成

異種元素を導入することは難しく、合成しさらに、最近では SP を用いて有機原料

たカーボン材料に後から異種元素を導入しからカーボン材料を合成することに成功しようとしても、十分に導入できない等の問ました。例えば、溶媒としてベンゼン等を題がありました。これらの問題を解決する

用い、ソリューションプラズマを発生させために、ソリューションプラズマを用いた

ると、ソリューションプラズマ反応場から合成方法で、異種元素を導入したカーボン

カーボン系材料が合成されることを明かに材料の合成に挑戦しています。

しました。カーボン系材料が合成されるためには、C-H 結合の切断が起こりますが、このような C-H 結合の切断に対しては、一般に大きなエネルギーが必要となりますが、
ソリューションプラズマ反応場を用いることで、効率的にこれらの反応を活性化することができます。

こ れ以上入ら ない

図 5 異種元素重合カーボン

8

異種元素を導入したカーボン材料を精密に合成することによって、白金等によらない
カーボン系触媒を作製できると考えています。このようなカーボン系触媒を電池電極材料として展開することで、次世代の二次
図 7 グリーンビークル材料研究施設

電池の開発などへの応用展開を図っています。

5. おわりに
4. グリーンモビリティ連携研究センター

本稿では、齋藤研究室で現在進めてい当研究室が所属するグリーンモビリティる研究内容を中心に紹介しましたが、そ連携研究センターでは、次世代移動体の概の他にも表面技術や水の振る舞いに強念構築および要素技術の構築に向けて、経い興味を持って研究を進めております。

済、社会システム、情報、制御、材料等のこれからの社会を構築していく上で水各分野の教員が集結し、知を提供・共有すは欠かせないものではないかと考えてることで研究を推進しています。

います。液中のプラズマ技術もそのような水への興味から生まれた技術の一つ

未来の移動体というテーマの元、様々なであります。

アイディアを様々な角度から提案し、議論を重ねています。当研究室でも、プラズマ

昨今では、大学の研究開発環境も大きを基盤とした要素技術から、CNT 強化樹脂

く変化しようとしております。熾烈な国や、リチウム空気電池、空気浄化触媒技術

際競争や産学連携の必要性が訴えられ、等の応用技術に展開し、産学共同の研究ス大学のあるべき姿の模索が続けられてペースとなっている、グリーンビークル材います。現在を読み解きつつも、将来の料研究施設を拠点として、20 年後～30 年後糧となるような地道なプロセスを今後のモビリティ社会で必要となる要素技術のも継続し、より良い研究室環境を構築し模索を進めています。

たいと考えております。
参考資料[1] 新しい材料合成反応場としてのソリューションプラズマ , シーエムシ
ー出版 , 上野智永, 稗田純子, 是津信
行, 齋藤永宏 , 2011 年[2] 基礎からわかる水の応用工学 ,日刊工業新聞社 , 日本学術振興会「水の先進理工学」に関する先導的研究開発委員会, 2011 年

図 6 電池技術の革新によるモビリティ社
会の変化9

研究紹介(その 5)2012 年秋季第 73 回応用物理学会
第 10 回プラズマエレクトロニクス賞受賞記念講演報告
名古屋大学

田嶋

聡美

した。

2012年秋季第73 回応用物理学会学術講演会
2日目、9月12日愛媛大学にて、永津 雅章 先生（静今回の受賞論文は現象論的なアプローチが大大創造科技院）による第10 回プラズマエレクトロ

多数を占めるプラズマ滅菌の分野において、窒ニクス賞受賞記念講演「低温プラズマプロセスの素・酸素混合ガス比を変化させた場合のマイクロ

バイオ・医療応用」（予稿集12p-E1-1）が行われ波プラズマ滅菌特性を詳細に調べており、紫外線ました。
約150名収容の講義室ほぼ満席の聴衆が集のみならず、励起酸素原子による芽胞菌のエッチ

い、プラズマと生体の反応メカニズム解明にむけ

ング減少が起こっていることを副産物である H2Oての関心の高まりを実感いたしました。

と CO2 の四重極質量分析器による直接観察で明ら

本講演は、受賞対象となった低圧力マイクロ

かにしておられます。
菌が励起酸素元素により「エ

波励起窒素・酸素混合ガスプラズマにおける真空ッチング」されるという現象は半導体加工の研究

紫外線や紫外線などの照射による菌の不活化効果に携わっております私どもにも理解しやすく、菌に関する研究成果[Ying Zhao, Akihisa Ogino, andの各々の層によってエッチング特性が異なること、

Masaaki Nagatsu, “Effects of N2-O2 Gas Mixture

菌の形状がプラズマ照射により変化すること、励

Ratio

in

起酸素原子の芽胞エッチングにより紫外線の透過

Low-Pressure Surface Wave Plasma,” Jpn. J.

性が増し、紫外線による DNA 損傷が促進する等、

Appl. Phys. 50 (2011) 08JF05]、マイクロ波励起

これまで扱っておりますプラズマ内の紫外線、励

onMicroorganism

Inactivation

体積波プラズマを用いた滅菌コンテナの滅菌技術、 起原子・分子と無機材料との反応と共通する部分もあり、興味深く拝聴いたしました。

簡易型マイクロ波プラズマ装置を用いた滅菌実験の結果、および磁気ナノ微粒子を用いたプラズマ

先だって新学術領域「プラズマ医療」が採択

表面修飾と糖鎖固定化技術、それらを用いたウイ

され多くのプラズマエレクトロニクス分科会会員

ルス回収システムへの応用についてご紹介いただの皆様がプラズマの医療応用の研究に従事しつつきました。

あります。実際の医療関係や食品関係の産業応用まず、受賞論文主筆の趙 穎 先生（河南農大、にむけて現象論のみならず、永津先生のグループ

准教授）よりビデオメッセージにてご挨拶がありがお示しになりましたようにプラズマの内部パラました。現在、趙 先生は母国で後進のご指導を行

メータの理解、プラズマと細胞内の分子レベルでわれており、今回の受賞を大変お喜びになられての変化を深く理解することの必要性を改めて痛感

おりました。次に、永津 先生の方から、講演に先いたしました。あらためまして、趙 先生、荻野先

立ち、プラズマエレクトロニクス賞受賞のお礼の生、永津 先生 に受賞のお祝いを申し上げますと言葉と、過去 10 年間に亘るプラズマ医療・バイオ

ともに、ご講演いただきました永津先生に御礼申

応用に関する研究経過について、ご紹介がありまし上げます。
10

海外の研究事情(その３３)

ドイツ連邦共和国ボッフム滞在記
九州大学大学院システム情報科学研究院
古閑 一憲
はじめに
2011 年 10 月から 2012 年 9 月まで、ドイツのボッフム市

ルール大学ボッフム（Ruhr University Bochum）

ボッフム市は、人口約３７万人、ドイツ中西部に Visiting Researcher として留学しました。本に位置するノルトライン＝ヴェストファーレン

稿は、海外留学を考えている皆さんにドイツが良州（Land Nordrhein-Westfalen）を構成する都いところだと知っていただき、留学してみたいな市の１つです。ルール工業地帯を代表する工業都と思っていただくため、また、共同研究などでボ

市で、第２次世界大戦までは炭鉱業で栄えていま

ッフムに行く機会がある先生のためのボッフムした。炭鉱業の衰退とともに、オペルの工場誘致紹介文章として寄稿いたしました。

や大学設立など新たな道を模索しています。大学に外国人が多いせいか、町中の人々は、外国人慣れしていて特に不便したことはありませんでし

日本出国までドイツの場合、滞在 3 ヶ月までは無ビザでの入た。ただ、公共機関（例えば地下鉄）の窓口だけ国が可能ですが、3 ヶ月よりも長い滞在期間の場
合、ビザが必要になります。ビザ取得のためには、保険への加入が必要になります。私は、日本で加入可能な日本語対応の保険に加入してドイツに行きましたが、価格も高いので、保険はドイツに行ってから加入した方がいいかもしれません。入国してから３ヶ月以内にビザ申請資料を揃えて申請することが可能なので、ドイツ国内で保険を選べば良いと思います。私が留学したルール大学
では、ポスドク以上の外国人研究者に対して様々な事務処理を補助するチューター制度があり、保険加入についても手伝ってもらえます。彼らはルール大学の学生で、チューターの経験がボランテ
ィアの単位として認められるらしく、モチベーシ
ョンが高い学生が多く、良いサービスをしてくれます。また大学と市役所の間の連携もしっかりしているようで、いつも混んでいるビザ申請の窓口
図１ ボッフム近郊の炭鉱博物館にて。

業務もストレスフリーでビザ申請できました。
11

は別でした。英語を喋ってくれず対応も杜撰な人

ドイツ人が大好きなカレーソーセージ屋では、がいるかと思えば、優しく丁寧な人もいて、窓口

Die Currywurst (Heidstraße 28, Herne)というに行く時は、くじ引きをする感覚でした。

店がありますが、ここは激辛で有名なので、行く人を選ぶかもしれません。ビールについては言う

食事については、Netto、Aldi、Lidl などの安までもなくおいしいです。

売りスーパーが乱立しており、食料品の物価はヨーロッパでもかなり安くなっているそうです。大住 居 に つ い て は 、 受 け 入 れ 教 授 の Uwe

学近くのショッピングセンター（ウニセンターとCzarnezki（ウーヴェ・ザネツキ）教授のご尽力

呼びます）にも、Netto と Kaufpark という２軒により、大学のゲストハウスに住むことができまのスーパーがあり、生活に不便することはありました。家具完備の２人用の部屋で月 604 ユーロでせん。また小さなアジア食品店もあり、日本米でした。市内を探せばもっと安い賃貸はあると思いないお米であれば簡単に手に入れることができます。住んでいた家近くに森があり、格好の散歩ます。日本の食品がどうしても食べたくなった時

コースになっていました。また森を過ぎるとすぐ

は、ボッフムから電車で４０分程度かかるデュッに田園風景が広がります。空気が綺麗だったのでセルドルフ中央駅近くにある、Shochiku と大洋

しょうか、長年苦しめられていた花粉症もドイツ

食品まで買い出しに行くことになります

滞在中には発症することはありませんでした。

（Shochiku はオンライン販売もありました）。しかし、日本の物価の２－３倍程度の高値で販売されていました。レストランについては、中央駅近くのバーミューダと呼ばれる地帯に、リーズナブ
ルなレストランや飲み屋が集まっており、ここに行けばだいたい間に合います。私が滞在中に行ったレストランで、公共機関と徒歩で行けるレスト
ランのおすすめは、以下の様なものがあります。
郷土料理：
Rietkötter (Große Beckstraße 7, Bochum)
Mutter Wittig (Bongardstraße 35, Bochum)

図２ 住居の近くには、この地域のかつての荘Die Uhle (Huestraße 24, Bochum)

園があり、馬や羊が放し飼いになっていました。遠景にはオペルの工場の煙突が見えます。

イタリア料理：Caruso (Viktoriastraße 71, Bochum)
San Marco (Huestraße 4, Bochum)

ルール大学ボッフム

Pasta (Viktoriastraße 66-70)

私が１年間お世話になったルール大学ボッフ

寿司：

ムは、第２次大戦後ドイツで初めて発足した総合

Takeshi Sushi (Theoderichstraße 27, Bochum)

大学で、教員が約 4900 名、学生が約 33700 名在その他：

籍しています。市内から大学へのアクセスは、かLivingroom (Luisenstraße 9, Bochum)

なり便利で、大学と中央駅を地下鉄１本約１５分

Taj Mahal (Kortumstraße 9, Bochum)

程で結んでいます。周りには自然が豊富で研究を
12

子生成機構の解明です。ザネツキ研のテーマとはかなりかけ離れていましたが、反応性プラズマ中の内部パラメータを計測とプラズマ中の現象の理論構築について勉強したいと思ったこと、また、ナノ粒子に対して Electric Asymmetry Effect を適用できないかと考えて、これらのエッセンスでもつかめればと思い、ザネツキ研究室を選びました。ザネツキ教授をはじめ、スタッフ、学生の皆

図３ 大学内から撮影した朝焼け。

から歓迎して頂き、滞在中は色々と世話を焼いてするには最高に近い環境だったと思います。私がくれました。研究室内のペースはゆったりしたも滞在していた期間中には、ドイツ国内の大学からので、これがヨーロピアンスタイルかと日本の研選ばれる Center of Excellence に２つの部門で選究室との違いを実感しました。学生に何か良いこばれており、学術的にも多くの成果を出しているとがあれば、その学生がケーキを用意して午後の大学です。

コーヒーパーティーが始まったり、秋には、エクルール大学は、ドイツでも有数のプラズマ研究

スカージョンとして、２時間程度遠足して、バー機関であり、大学内に２３の研究グループ、３０

ベキューパーティを開いたり、全員が研究室生活

０名のスタッフがプラズマに関わる研究をしてを楽しもうとしていました。研究に対する学生のいます。対象は、生物から工学、物理学まで幅広

態度は真摯であり、責任感を持って自分の研究をい学術分野で研究が日々行われています。

している雰囲気が、ゼミなどで感じられました。

http://www.rd.rub.de/plasma/profil/index.html.

朝は９時から１０時頃にはだいたい全員が研究en にルール大学でのプラズマ研究の概要が記載

を始めていたように思います。一日の終わりは人されていますので、興味がある方はご覧下さい。

それぞれですが、遅くとも７時頃までには帰宅していたと思います。また、１年で休まなければな

ザネツキ研究室らない日数が決まっており、よく長い休みを取っ私が訪問したザネツキ研究室は、ルール大学のて休んでいました。私は、ウィークデーに休む程

物理・天文学部に所属しています。プラズマ中のレーザー計測では世界的にも著名な研究室で、プ
ロセスプラズマを物理的な側面からアプローチ
しています。またザネツキ研に所属する Julian
Schulze 博士を中心として、Electric Asymmetry
Effect によりプラズマポテンシャル制御し、イオン流束を制御する方法を開発しました。この成果により、ザネツキ教授は、 The 2010 Plasma
Physics Innovation Prize of the European
Physical Society を受賞されています。私の主な図４

研究テーマの１つは、反応性プラズマ中のナノ粒

バーベキューパーティで皆と談話する

ザネツキ教授。
13

の勇気もなく、研究室にいたため、変わったやつ

物理学会に参加させて貰い、自分の研究を口頭発だと思われていたかもしれません。ただ、ザネツ

表する機会に恵まれ、大変良い経験となりました。

キ教授は、学部生などの勉強時間が短くなっていまた、ドイツでは講演が終わったあと、拍手ではる状況を危惧されていました。学部内のシステム

なく、机を拳でたたくのですが、部屋に集まったで印象的だった点は、１つの部屋に何名かの学生

多くの聴衆から、机を拳でたたかれたときはかな

チューターを配置し、授業で分からなかったこと

り怖かったです。無論ドイツらしく、ポスターでを学生が自由に質問しに来ることができるようはビールが無料配布され、ドイツ語のポスター発にしていたことでした。この方法は、教える側、

表そっちのけでへべれけになってしまったこと教えられる側両方の学力アップにつながると思も良い思い出です。

いますし、上級生と下級生がつながりを持ち、研究室に人材を呼び込むためにも良いシステムだと思いました。
ザネツキ研究室には海外からしばしば、有名な研究者が訪問してきました。私が滞在中には、UC
Berkeley の Prof. Graves、慶応大学の真壁先生、
九州大学の河合先生が訪問されて、先生方の研究成果を間近に聞くことができ、様々なインスピレーションを得るよい機会でした。

図６ ドイツ物理学会での講演風景。

最後に以上、とめどないことを書き連ねさせていただ
きました。研究事情というよりも、殆どガイドブ
図５ 真壁先生とツーショット。

ックのような体をなしてしまったことをお詫び

学会については、さほど多くの学会に出席せず、 いたします。この原稿で少しでもドイツに興味を
年１回開催されるドイツ物理学会にはほぼ全員
持ちボッフムに行ってみたいなと思う人がいれが参加し、GEC、AVS、ヨーロッパ物理学会等にば幸いです。

はその会議にあった研究をしている学生が参加

最後に、１年間もの長い期間、研究室を空けるしている感じでした。その他にも私が知らない部ことを快諾いただいた白谷教授、不在の間の諸事分で研究会などに参加していたかもしれません

を代わりに処理していただいた、内田助教と板垣が、今日の日本のような会議の多さではなかった

准教授、研究室スタッフに感謝いたしまして本稿

ように思います。私も、ザネツキ先生の許可をいを締めたいと思います。

ただき、シュトゥットガルトで開催されたドイツ
14

学生のためのページ
すぐに役立つプラズマエレクトロニクス

ちょっとパルスパワーを作ってみよう！
岩手大学

高木浩一，長岡技術科学大学

江偉華

わっている学生さん，すぐにパルスパワーを発生

１．はじめにさせて，とりあえず使って秀でたみたい学生さん

パルスパワーは，もともとは軍事や慣性核融合

は，この章をスキップして構いません．

への利用を目的に発達してきた．このため，扱うパワーも世界中の発電電力規模で，装置も大きく
学校の体育館の規模であった[1-4]．このため，世2.1 パルスパワーとは？

に広く普及とまではいかず，限られた施設や研究

一定のエネルギーを短時間に使うことによって，グループのみで扱われてきた．しかし“ちょっと”比較的大きな瞬間出力を得ることができる．これ

パルスパワー（ちょいパル？）が使えると便利なは昔から機械的エネルギーとして，ハンマーや弓ことも多い．水処理，殺菌，ナノパウダー，オゾ

矢などの形で利用されてきた．

ン生成，きのこ増産，イオンドープ，食品保存，

同じ原理に基づき，電磁エネルギーの時間幅をバイオ応用，医療応用など多くの場面で活用でき

圧縮して得られたものをパルスパワーという．電る[1-8]．また園児・児童・生徒を相手にしたサイ

磁エネルギーは，ほかのエネルギー形態（機械エエンス教室でも，100 円かみなり，脱色やプラズ

ネルギーや化学エネルギーなど）に比べて，比較マのデモなどに使用できる[8-12]．ここでは，簡単的操作しやすい特徴を持っている．パルスパワーに，安価にパルスパワー発生回路を作ることに比では，電磁エネルギーを蓄積し，更にこれを一定重をおく．想定している対象は，理系コースの高の時間幅に圧縮することによって必要な出力パワ

校（物理履修）を卒業した学生さんであり，目標

ーレベルに達して放出させる．

は専門的な知識なしに作ることができるようにな

エネルギーは，パワーと時間の積である．同じることである．取り扱う電源の出力電圧は数 kV

エネルギーでも，時間幅が変われば，パワーも変～数十 kV（数万ボルト）で，製造コストはお菓子化する（図１）．したがって，時間幅を十分短縮での買える価格帯（100 円程度）から高級家電（数きれば，応用対象に要求されるパワーが得られる．

十万）である．

一方，エネルギーを蓄えるときにパワーの制限がある．このため，一定の時間をかけて必要なエネ
ルギーを蓄積しなければならない．例えば，カメ

２．パルスパワー発生の基礎 [13]この章の目的は，パルスパワー発生の基本的な

ラのフラッシュランプを光らせるエネルギー源は考え方を理解してもらうことになる．そのため，小型の電池である．電池から取り出してコンデン

記載内容は教科書的になる．詳細は文献[1-4, 13]サに蓄えたエネルギーを一瞬で使うことによって，などに譲り，ここでは３章以降の説明に関する内

電池の出力を何桁も上回るパワーを得る．

容のみ記述する．また，すでにパルスパワーに携
15

タの蓄積エネルギーは

WL =

1 2
LI [J]2(3)で表され，ここで L と I はそれぞれインダクタン
スと電流である．実際は，インダクタ内部の導体
周囲において磁界が形成し，この磁界がエネルギ

図１ パルスパワーの基本的考え方

ー保持を担う．磁界のエネルギー密度は2.2 エネルギー蓄積ωL =パルスパワーの発生は，エネルギーの蓄積から

1µH 2 [J/m3]
2(4)

始まる．必要なエネルギーをコンデンサやインダで与えられ，ここでµと H はそれぞれ媒質の透磁クタに蓄積し，その後適切なスイッチング制御に率と磁界強度である．これは誘導性エネルギーとよって，必要な時間幅に圧縮およびパルス成形を呼ばれ，エネルギー密度は磁界強度と透磁率に依

行う．

存する．

典型的な電磁エネルギー蓄積素子は，コンデンインダクタの蓄積エネルギーは，主に強磁界にサとインダクタである．コンデンサに電圧をかけよる応力破壊によって制限される．したがって，て電荷を持たせると，エネルギーを与えることに応力強度が高く，抵抗率が低いことはエネルギー

なる．コンデンサの蓄積エネルギーは蓄積に有利である．

WC =

1
CV 2
2

誘導性エネルギー蓄積は，エネルギー密度限界
[J]

(1)

値が容量性エネルギーに比べて２桁程度高いと言で表され，ここで C と V はそれぞれコンデンサのわれているが，導体のオーム損失によって短時間

静電容量と充電電圧である．実際は，コンデンサのエネルギー保持に限定される．また，蓄積エネ

内部において絶縁された電極間に電界が形成し，ルギーの放出に開放スイッチが必要であるため，この電界がエネルギー保持の担い手である．電界

実際の応用は比較的少ない．

のエネルギー密度は1
2

ωC = εE 2[J/m3]

2.3 集中定数回路でのパルス発生(2)コンデンサに蓄積された容量性エネルギーは，で与えられ，ここでεと E はそれぞれ媒質の誘電図２(a)に示すように，スイッチ S を閉じることに率と電界強度である．これは容量性エネルギーとよって負荷 R に放出することができる．コンデン

呼ばれ，エネルギー密度は電界強度と誘電率に依サの初期（t=0）充電電圧が V0 の場合，R への出

存する．

力パワーは
2

コンデンサの蓄積エネルギーは，主に強電界にPR =よる絶縁破壊によって制限される．したがって，

V0 2t 
exp − [W]R
 RC 

(5)

絶縁耐圧が高く，漏れ電流が低いことはエネルギで与えられ，RC に比例する時間定数で減衰する

ー蓄積に有利である．

特性を持つ．したがって，C が一定の場合，R の値が小さいほうが，出力ピークパワーが高く，時一方，インダクタに電流を流して磁束を持たせ間幅が短い．

ると，エネルギーを与えることになる．インダク
16図２ （a）容量性エネルギーと（b）誘導性エネルギーを抵抗負荷へ出力する理想的な回路
また，インダクタに蓄積された誘導性エネルギ
ーは，図２(b)に示すように，スイッチ S を開くことによって負荷 R に放出することができる．インダクタの初期電流が I0 の場合，R への出力パワー
は

 2 Rt 2
PR = RI 0 exp −
 [W]
 L 

図４ （a）パルス成形線路の容量性エネルギーを抵(6)

抗負荷へ出力する回路，およびその（b）出力過程

で与えられ，L/R に比例する時間定数で減衰する特性を持つ．したがって，L が一定の場合，R の

v =1

値が大きいほうが出力ピークパワーが高く，時間LC [m/s](8)で与えられたものは，それぞれ特性インピーダン

幅が短い．

スと伝送速度と呼ばれる．
図４(a)のように，長さ l のパルス成形線路の導2.4 分布定数回路でのパルス発生
分布定数として，静電容量とインダクタンスを体間に電圧 V を印加すれば，容量性エネルギーが両方もつ回路素子がある．図３に示すものはその蓄積される．スイッチ S を急に閉じると，負荷 R

例である．これらはパルスパワーの生成に使用さへの出力が始まる．エネルギーが線路に沿って運れる場合，パルス成形線路と呼ばれる．

ばれる情報は転送速度で上流へ伝わり（図４(b)），
終端において反射する．ここで，Z=R の場合，反パルス成形線路の単位長さあたりの静電容量と射する瞬間までの出力エネルギーはちょうど初期

インダクタンスをそれぞれ C と L とすると，

Z = L C [W]

蓄積エネルギーの半分である．即ち，2l/v の時間(7)

ですべてのエネルギーは出力される．理論的に出力電圧は V0/2 と一定である．
パルス成形線路は誘導性エネルギー蓄積素子として使用することもできる．図５(a)のように，長さ l のパルス成形線路の導体に電流を流せば，誘導性エネルギーが蓄積される．スイッチ S を急に開くと，負荷 R への出力が始まる．エネルギーが

図３ 典型的なパルス成形線路
17

ボルト（AC100 V）である．周波数は，西日本で60Hz，東日本で 50 Hz である．これから数万ボル
トのパルス電圧を作り出す場合，１）電圧の大きさを増やす（昇圧），２）電圧の形をパルスに変える（パルス化）が必要になる［2,4］．
本章では，変圧器（トランス），整流素子（ダイオード），蓄電素子（コンデンサ）などを用いた，
直流高電圧発生法について，具体的に述べる．
3.1 家庭用コンセントから直流高電圧の発生
家庭コンセントの電気は AC100 V である．したがって，例えば 10 kV（１万ボルト）を作る場
合，100 倍に増幅することが必要になる．このように電圧を増幅する（昇圧）する際に用いられる手法に，１）トランスを用いる，２）ダイオードとコンデンサを多段に接続する方法（コッククロ
図５ （a）パルス成形線路の誘導性エネルギーを抵

フト・ウオルトン回路）がある［2］．ここでは，抗負荷へ出力する回路，およびその（b）出力過程

それらの具体例とその動作について述べる．

線路に沿って運ばれる情報は転送速度で上流へ伝(1) ネオントランスを用いた直流高電圧の発生

わり（図５(b)），終端において反射する．ここで，

図６に，トランスを用いてAC100 V から直流電

Z=R の場合，反射する瞬間までの出力エネルギー圧を得る，基本的な回路構成と動作を示す．入力はちょうど初期蓄積エネルギーの半分である．即となるAC100 V は，図に示すように，三角関数の

ち，2l/v の時間ですべてのエネルギーは出力され正弦波の形式，100 2 sin (2πft + φ )；fは周波数[Hz]，る．理論的に出力電流は V0/2 と一定である．

tは時間[秒]，φは初期位相となっており，最大（ピパルス成形線路の特徴は出力の時間幅が短く，ーク）値は141.4（= 100 2 ）[V]，東日本の周波数

出力パワーが比較的安定（式(5)と(6)のような指数

50Hzを用いると，周期は20ms（0.02秒）である[15]．

減衰ではないこと）である．一方，これらの特性

トランスは，図７に示すように，鉄心と呼ばれを得るために，インピーダンス整合（即ち Z=R）る口の形をした鉄板（けい素鋼板）を重ねたコアの条件を満たす必要がある．この観点で見れば，に複数のコイルを巻きつけた結合インダクタで，単純なコンデンサと単純なインダクタをそれぞれ

交流電圧や電流の大きさを変える際に用いられる．

Z≪R と Z≫R のパルス成形線路と考えることがで

コアは，一般に磁束をつくる電流が小さく，またきる．

漏れる磁束がほとんどないものを用いる．２つのコイルをもつ変圧器の場合，１次側と２次側の巻数をn1，n2とし，１次側と２次側の交流電圧V1，３．直流高電圧回路[14]V2，交流電流I1，I2とすると，上記の特徴は次の関

家庭のコンセントに来ている電気は，交流 100
18ダイオードネオン
トランス
AC 100 V

づける平滑回路で構成される．整流回路は，大きくは，図６に示す一方向の電圧を取り出し，逆方v2電圧の向きを変えて出力する全波整流回路になる．

10 MΩ

v1

整流にはダイオードが用いられ，高電圧用のダイ

電圧 [kV]

電圧 [V]

21 kV

144 V
10

20

向をカットする半波整流回路と，逆方向の電圧も，

vO
1 nF

抵抗による放電(時定数
CRによって決まる)

時間 [ms]

10

v1の波形

20

オードは，オリジン電気（http://www.origin.co.jp/）などで販売されている．平滑回路には，コンデン

時間 [ms]

サと抵抗が用いられる．高耐圧のコンデンサは村v2とvOの波形田製作所（http://www.murata.co.jp/index.html）等で

図６ トランスを用いて AC100 V から直流高電圧を入手できる．ただし，数 kV～数十 kV の高耐圧で，得るための基本回路と動作（v1：ネオントランス一次

安価に入手できるものはセラミックスコンデンサ

側電圧，v2：二次側電圧，vo：平滑回路の出力電圧）となり，比較的低容量（2 nF 程度）になる．このため平滑に必要な抵抗は，商用周波数 50 Hz の場

I1

V1

I2

n1

n2

I1

n1 n2

I2

V2

V1

V2

I2

I1

I2

合，10 MΩ 程度（T<RC；T：周期，R：抵抗値，C：容量）と大きな値となる．
図８に，構成の一例として，定格 15 kV の巻線

I1

(a)

型ネオントランス（長野愛知電機(株)，ネオン変(b)

ネオントランス

図７ 変圧器の基本構成と回路図係式で表すことができる[16]．

n2 V2 I1==
n1 V1 I 2

(9)

スライダック

したがって，一次側の入力を 100 V とすると，巻Rを 10 で 1 kV が，100 で 10 kV が，
き数比（= n2 ⁄ n1）(a)

計算上は得られる．現実には，二次側の電流によ20

ランスで巻き数比を大きくしようとすると，電源

10

電圧 [kV]

る影響や絶縁設計上の制限などがある．通常のトが体積・重量ともに大型となる．このため，ネオントランス（磁気漏れ変圧器）などがよく用いら

ダイオード

C

v1
v2

0
-10

れる．これは，磁束の漏れ部の回路を設けること-20で，二次側の出力の負荷変動を回避するもので，-20

入手が容易なものに，入力 100 V に対して出力が0
時間 [ms]20(b)
図７ ネオントランスを用いた直流高電圧発生回路と出力波形（v2：ネオントランス二次側電圧，vo：平滑回路の出力電圧）15 kV のものがある．
交流から直流への変換は，電圧の正負の一方向のみ取り出す整流回路と，脈動を抑えて直流に近19圧器 15）を用いた直流高電圧発生回路の写真と，直流安定化電源

その出力を示す．回路図は，図６に示したものをインバータ型
ネオントランス

用いた．入力を 100 V とした場合，ネオントラン
スの二次側の出力は 15 kV となる．このため，ピーク電圧は約 21 kV（ = 15 2 ）となる．この電圧

ダイオード

C

は，1 nF のコンデンサと，10 MΩ の抵抗で平滑化される．しかしながら，周期が 20 ms と長いこRともあり，時定数 RC で，21 kV から，約 11 kV ま(a)で減衰している．ダイオードには，前述のオリジ

10vO

電圧 [kV]ン電気製（型番：ED-24H1）を用いている．
(2) 100 V 直流電源とインバータネオントランスを用いた高電圧発生

5

v2

0
-5

スイッチング素子を組み込んで交流を作り（インバータ），
さらに共振トランスで昇圧するものを，

-10
-0.1

インバータトランスと呼び，蛍光灯など照明器でよく利用されている．市販もされているため，容易に入手できる．出力電圧は，9 kV が一般的だが，15 kV まで販売されている（http://www.lecip.co.jp-0.05
0
時間 [ms]

0.05

0.1

(b)
図８ インバータネオントランスを用いた直流高電圧
回路と出力波形（v2：トランス二次側電圧，vo：平滑回
路の出力電圧）/lecip/product/product12-01.htm）．このトランスは，
巻線型ネオントランスに比べて小型で，コンパク(3) コッククロフト・ウォルトン回路

トな電源作成に適する．巻線型ネオントランスを，コ ッ ク ク ロ フ ト ‐ ウ ォ ル ト ン （ Cockcroft

インバータネオントランスで置き換えて使うこと–Walton）回路は，コンデンサとダイオードを多段も可能である．しかし，100 V の定電圧電源（例

式に組み合わせたもので，低電圧の交流電源を高えば http://www.matsusada.co.jp/dcps/pl/）を用いる

電圧の直流電源へ変換できる．二段のものは，倍ことで，インバータの周波数の 20 kHz で電圧を整流回路とも呼ばれる[2]．一例として，前述のイ取り出せる．この結果，時定数は通常のネオント

ンバータネオントランスとセラミックコンデンサ

ランスの 1/400 程度になる．一例として，図８に，を４段使用したものを，図９に示す．またその出

100 V 直 流 安 定 化 電 源 （ 型 番 ： TEXIO Co.

力を図 10 に示す．条件として，段数を変えており，

PA120-06B）とインバータネオントランス（型番：段数が増えると出力電圧が上がる様子などが確認

レシップ(株)，Alpha Neon M-5），前述のダイオーできる．インバータネオントランスの出力は 20

ドとコンデンサで構成した直流高電圧発生回路とkHz だが，入力が商用周波数の 50 Hz となってお出力の様子を示す．写真より，巻線型電源に対しり，
このため電圧の上昇に，多少の時間を要する．

て小型になっていることがわかる．加えて，図７

一次側に，直流安定化電源を用いることで，出力の波形に対して出力電圧の変動が小さいこともわ

電圧の調整や出力までに要する時間の低減などがかる．

可能である．
20

４．パルス電圧発生回路
前節では，コンセントの電気 AC100 V から，
例えば 10 kV などの直流高電圧を得る手法について述べた．パルス高電圧は，基本的には直流高電圧を，大電力スイッチを用いてパルス化すれば得られる．このように直流電圧をパルス化するする手法に，1) コンデンサと短絡スイッチで正弦（三角）波を得る，2) 同軸ケーブルなどの分布定数線(a)路で方形波（ナノ秒オーダ）を得る，3) コンデン
サとコイルを多段接続して方形波（マイクロ秒オーダ）を得るなどがある．ここでは，それらの具体例とその動作について述べる．
(1) コンデンサと短絡スイッチによるパルス発生（集中定数）回路
直流高電圧を利用してパルスを発生する方法は，コンデンサ等のエネルギー蓄積素子に蓄えられたOutput Voltage VO [kV](b)図９ ４段で構成したコックコロフト・ウオルトン回路

ものを，短時間かつ高電圧駆動のスイッチで取り出すのが一般的である．スイッチには，半導体な30

Step = 4

20

Step = 3

ど の 電 力 素 子 （ MOS-FET;

Insulated Gate Bipolar Transistor）を使う方法や[17]，簡便なギャップスイッチなどが用いられる．典型

10

0

20
40
Time t [ms]Step = 1的な回路構成を図 11(a)に，また出力電圧の模式図60を示す．短絡スイッチの動作前の充電電圧を VC

80として， R 2 − 4 L C > 0 （負荷のインピーダンス

Output Voltage VO [kV](a)が回路のインピーダンスに対して十分大きい）と30 Step=20

した場合，出力電圧 v0 は，以下の式となる[2]．

1
2
3
4

R
− t 
 −t
v 0 (t ) = VC  e CR − e L 



10

0
0

Oxide

Semiconductor Field Effect Transistor ， IGBT;Step = 2

0

Metal

(10)

一例として，もっとも簡単に，安価にパルスを作り出す方法として，ギャップスイッチを短絡ス
20
40
60
80
Input Voltage VIN [V]10

イッチとして構成したものを，図 12(a)に示す．ギ(b)
図 10 段数を１から４まで変化させたコッククロフ
ト・ウォルトン回路の出力特性ャップスイッチは，気体等のギャップの媒体の絶縁降伏（インピーダンスが非常に大きな状態；数
21

充電抵抗

短絡スイッチ

大気中で動作させた場合，おおよそギャップ長 1

L㎜あたり 3 kV となる．したがって，出力電圧を
直流
高圧電源
VC

出力電圧
vO

R

C

15 kV に設定したい場合，ギャップ長を 5 mm 付
近に設定し，あとは出力電圧をモニターしながら微調整を行う．実用上は，ギャップスイッチだと(a)

動作が安定しないことなどもあり，大電力用の半導体スイッチを用いる．半導体スイッチの耐圧は，

電圧 [kV]R- t
Le

キロボルトオーダと，それほど大きくないことも

t

e- RC

あり，通常は，次節で述べるパルストランスやブルームライン回路を用いて昇圧して用いることが多い．図 12 の回路の出力波形例を図 12(b)に示す．

時間
[ms]

(b)
図 11 短絡スイッチを用いたパルス電圧発生回路(2) 同軸ケーブルを用いたパルス発生（分布定数
線路）

ギャップスイッチ

同軸ケーブルなど分布定数線路（回路寸法が電圧や電流の周期に対して短い回路）を用いること

直流高圧電源で，方形波などのパルス波形を形成できる．基本

L

C

的な考え方は，すでに前に述べた．ここでは，安価に購入できる同軸ケーブルを用いたパルス電源

Rの構成例を紹介する．

充電抵抗

図 13 に代表的な伝送線路である同軸線路を示(a)す．円筒形の内部導体と外部導体からなり，その電圧 [kV]2間には誘電体が存在する．したがって伝送線路は同図に示すように，はしご型等価回路の分布定数1.5回路で表すことができる．無損失の場合，その一1端に進入した電圧パルス波（あるいは電流パルス
0.5
0

0

波）は，減衰することもひずむこともなくその波
246
時間 [µs]8形形状を保ったまま伝搬して，他端に到達する．

10

分布定数線路において，その特性を与える代表(b)
図 12 ギャップスイッチを用いた正弦（三角）波の発生回路とその出力的な要素が特性インピーダンスと，伝搬速度である．特性インピーダンスは，伝送線路の形状と伝送線路に詰められた媒質によって定まり，伝搬百 MΩから短絡へ近い状態；ミリΩオーダへ短時

速度は，媒質の誘電率と透磁率をそれぞれεとµと間に変化する現象）を利用する．写真のギャップするとき，スイッチは，ネジ等で電極間の距離（ギャップ長）

v=

を変えることで動作電圧を変えている．例えば，
22

1

εµ

=

c

ε s µs(11)で与えられる[2]．ここで，c は光速（=3×108 m/s），

同軸ケーブルを利用したパルス発生方式の利点

εs とµ s はそれぞれ媒質の比誘電率と比透磁率であとして，市販されている同軸ケーブルが利用できる．長さを l の同軸ケーブルの一端から取り出さるため，安価に構成できる点以外にも，同軸ケーれるパルス幅 T は，前進波と後退波のパルス幅のブルを複数組み合わせることで，容易に電圧を積

和，

み重ねて大きくとれることになる．この方式はブ

T =2

l
2l
= 2l εµ =ε s µsv
c

ルームライン線路（Blumlein-line）と呼ばれてい(12)

る．一例として，同軸ケーブルを６本用いて構成となる．同軸ケーブルの媒質によるが，おおよそした３段ブルームライン線路の構成と写真を図の値として，ケーブル 1 m あたりパルス幅 10 ns

14 に示す[19]．６本の同軸ケーブルを，それぞれ（RG-58U での計算値）となる[18]．

渦巻状に巻き，各ケーブル端を接続するなどして構成する．
ケーブル長を変えた場合の出力波形を，図 15に示す[19]．各ケーブルのインピーダンスは 50 Ω
であり，これが６段になっているため，おおよそ300 Ω の負荷で整合がとれる．ケーブル長が 12m から 8 m，4 m と減らすことで，パルス幅は 120
ns から 80 ns，40 ns と減少する．しかし回路のイ

図 13 同軸線路とその等価回路

50250
Voltage

40

150

20

100

10

50

0

0

-10

-50

-20

-100

-30

0

50

100

150

200

250

Current [A]Voltage [kV]200

Current

30

-150
300

Time [ns]120 ns50

250
Voltage40

Voltage [kV]

150

20

100

10

50

0

0

-10

-50

-20
-30

Current [A]

(a)

200

Current

30

-100
0

50

100

150

200

250

-150
300

Time [ns]

80 ns
50

250
Voltage

40

150

20

100

10

50

0

0

-10

-50

-20
-30

Current [A]Voltage [kV]200

Current

30

-100
0

50

100

150

200

250

-150
300

Time [ns]

40 ns
(b)
図 14 ３段ブルームライン積み重ね線路図 15 ケーブル長さを変えた際の出力電圧波形（上から，12, 8, 4 m）
23

ンダクタンス成分も影響し，短いケーブルを用いた場合，パルス形状は方形波から正弦波に近づく．
(3) コンデンサとコイルを用いた方形波生成路
前述の同軸ケーブルを用いたパルス電源の場合，必要とするパルス幅がマイクロ秒を超えると，必要となるケーブルの長さは 100 m を超え，電源の寸法も大きなものとなる．これは，ケーブルの単位長さあたりの静電容量やインダクタンスが小さ

図 17

いために生じる．このため，一般的にはマイクロ

PFN の出力波形（点線：計算，実線：測定）

秒を超える，比較的長いパルスを形成する場合，は，コンデンサの静電容量を Cp，コイルのインダ

図 13 に示す等価回路の，キャパシタ部とインダククタンスを Lp とすると，以下の式となる．

タ部に，耐圧の高いコンデンサや，大電流を流す

T = 2 N LP C P

ことのできるコイルを配置する．これは PFN(13)（Pulse Forming Network）と呼ばれている．構成

図 16 では，Cp=2nF，Lp=1.25µH，N=10 であるのを，図 16 に示す．直流高電圧の発生には，前で，パルス幅 T は約 1.0 µs となる．

述のコッククロフト・ウォルトン回路を用いて

図 17 に，充電電圧を 5kV としたときの出力電いる．PFN は，10 段（N=10）で，すなわち 10 個

圧波形を示す．負荷として，回路の特性インピーのコンデンサと，10 個のコイルより構成されていダンス（ Z 0 = LP C P ）と等しい 25Ωの抵抗を接る．PFN の最大出力電圧は，コンデンサの耐圧で続した．パルス幅が約 1 µs，大きさが約 5kV のパ決定され，図 15 の場合，40 kV である．パルス幅

ルスが出力されていることがわかる．また，実線は回路シミュレータ（マイクロネット，Circuit
viewer 3.0）を用いた解析結果になる．解析と計測結果が，おおよそ一致する様子も確認できる．
５．パルス圧縮と昇圧
前章では，直流高電圧の発生と電圧のパルス化について述べた．これでひとまずパルス高電圧を(a)作り出すことはできる．しかし，用途によっては，さらなる短パルス化（パルス圧縮）や高電圧化（昇圧）が必要になる．加えて，電源の小型化や低コスト化，高効率化を図る上でも，パルス圧縮や昇圧過程が必要になる．ここでは，主に半導体スイッチング素子を用いた，パルス圧縮や昇圧過程を含む電源について述べる．

(b)
図 16 PFN 回路
24(1) 半導体マルクス高電圧発生回路

4

マルクス発生回路は，20 世紀初頭に Marx によ3voltage[kv]って考案され，その回路構造の簡易さから幅広く利用されているインパルス発生回路である[1-4]．
図 18 に，短絡スイッチとして接合型トランジスタ（Bipolar Junction Transistor：BJT，2SC2655）を用

2

1

0

いた回路図およびその写真を示す．
段数は 30 段と-1

し，コンデンサの容量は 100 nF とした．充電には

0

200

400
600
Time[ns]

800

1000

図 19 半導体マルクス回路の出力波形

コッククロフト・ウォルトンを利用した．初段を除く全ての BJT のベース抵抗は，0 Ω (ベース－エ
ミッタ間を短絡) としている．これにより，ブレ(2) 磁気パルス圧縮回路

イクダウン現象発生時にスイッチング時間が最小，

磁 気 パ ル ス 圧 縮 （ MPC: Magnetic Pulse

かつ出力電圧が最大となる[20]．

Compression）回路とは磁気スイッチとして機能す

充電電圧 150 V，負荷抵抗 3.3 kΩ の時の出力波

る可飽和インダクタを用いて電流パルスを時間圧形を図 19 に示す．最大電圧 3.9 kV，立ち上がり時縮していく回路である．電流パルスを圧縮するこ間 6.7 ns の電圧出力が確認できる．立ち上がり時とで電流のピーク値が増加する．可飽和インダク

間はナノ秒であるが，立ち下がりは負荷の抵抗とタとは強磁性体の透磁率の非線形現象を用いるこ発生器全体のコンデンサ容量で与えられる時定数とで通電しない状態（非飽和時）と通電する状態

によって決定されるので，マイクロ秒と長くなる．

（飽和時）を作ることができる．図 20 に典型的な充電電圧 150V に対して，出力電圧は 3.9kV より，

2 段磁気パルス圧縮回路と各コンデンサ（C1, C2,

電圧は 26 倍に増幅していることがわかる．

Cp）の電流電圧波形の模式図を示す[21]．SI0～SI2

RG

-Vc

は可飽和インダクタ，PT は昇圧用のパルストラン

Rスである．C0～Cp は充放電用のコンデンサである．

Cファンクション
ジェネレータSW は半導体スイッチである．

BJT

動作としてはまず充電器でコンデンサ C0 を充

30段

(a)

電する．C0 充電後 SW をオンすると C0 に充電されていた電荷は放電し PT を介して昇圧比に対応

コッククロフト-ウォルトン回路

した電圧で C1 を充電する．このとき SW オン後数
マイクロ秒 SI0 が高インダクタンス状態で電流を流さないようにする．そのことで電圧と電流の位相差が生じ，結果的に電圧と電流の積で決まるス
イッチング時の電力損失が低減できる（磁気アシスト）．C1 は C0 の充電電圧より昇圧された電圧で充電される．このとき SI1 はオフ（未飽和）状態

マルクス発生器を維持するように設計すると，高インダクタンス(b)
図 18 半導体マルクス高電圧発生回路

状態で電流を流さないようになり，効率よく C025

から C1 に電荷の転送が行われる．SI1 の未飽和状(3) 誘導性パルス発生回路

態を維持する時間は，次式のように求めることが半導体オープニングスイッチを用いた誘導性エできる．

ネルギー蓄積型パルスパワー電源[2,13]の回路図∫ VC1 (t )dt = nSI 1 ∫ Bds = nSI 1 Am ∆B
T1

0

Am

を図 21 に示す．回路は，充電コンデンサ C1，ギ

(14)ャップスイッチ，パルストランス(2:10)，1 次エネ

ここで，T1 は C1 の充電電圧が最大になるまでの時

ルギー蓄積コンデンサ C2，2 次エネルギー蓄積イ

間，VC1(t)は C1 の充電電圧，nSI1 は SI1 の巻数，Amンダクタ L，半導体オープニングスイッチ(SOS;は SI1 の磁心材断面積，ΔB は磁束密度変化量であSemiconductor Opening Switch)ダイオード(Voltage

る．

multiplier, K100UF)によって構成している．パルス
トランスには過飽和磁性体コア(日立金属株式会

磁気パルス圧縮回路は LC 共振回路であり，パルス幅 τ2 は次式で表すことができる．

τ2 = π

(L2 + LS )C23

社製 FT-3L)に 2:10 の比率で巻き線したものを用
いた．

(15)

コンデンサ C1 が直流電圧 VS によって充電されここで，L2 は電流ループ I2 の漂游インダクタンス，

ギャップスイッチが短絡すると，パルストランス

LS は SI1 の飽和後のインダクタンス，C23 は C1 とを介して，C1 から C2 にエネルギーが転送される．

C2 の直列接続時の合成容量である．この値をいかC2 が充電され，磁性体コアが磁気飽和すると，そに小さくするかが短パルス化につながる．

のインピーダンスが急激に低下し，ほぼ導通状態

C1 充電直後に SI1 がオン（飽和）し C1 が放電しとなる．そのため，SOS ダイオードに順方向に電て C2 に電荷転送が行われる．この時も同様に SI2流が流れ，インダクタ L にエネルギーが転送されがオフ（未飽和）状態を維持するように設計する

る．その後，C2 と L およびパルストランスのインと C2 は効率よく充電される．同様に C2 充電直後

ダクタンス成分による LC 振動によって電流が反に SI2 がオン(飽和)して Cp を高速充電（パルス圧

転する．順方向電流が流れ込む SOS には少数キャ縮）し，負荷にパルスパワーが印加される．

C1 = 2 nF

L

RC = 1 MΩ

VS

C2

iO

Gap Switch
SOS Diodev1
2 : 10
Pulse
Transformer

vO

iSOS

(a)
C1

C2

パルストランス
SOS ダイオード

ギャップスイッチ

図 20 ２段磁気パルス圧縮回路と各部の電流

(b)
図 21

電圧波形
26

SOS ダイオードを用いたパルス電源

成などが実現できる．

30

vO
iSOS
vI

20

vO

50

iSOS

10

0

0

一例として，図 23 に，同軸円筒型放電リアクタ

100に図 21 に示す電源でパルス電圧を印加した際のCurrent [A]Voltage [kV]No load

ストリーマ放電進展の様子をストリーク像で示す．
印加電圧の立ち上がり時間は，電源回路のパラメータで変えており，電極間距離は 10mm である[23]．

vI

-10

-50
400

図より，印加電圧の立ち上がり時間を短く，すな

SOS パルス電源の電流・電圧波形することで，ストリーマの進展速度が増加するこ

200

0

わち短パルス化して，電圧の立ち上がりを急峻にTime [ns]図 22とがわかる．
リアの蓄積が起こり，続く極性反転時には，蓄積

図 24 に，同軸円筒型放電リアクタに酸素ガスをしたキャリアは逆方向電流となって流れる．ある流し，オゾンを生成させたときのエネルギー効率

時間を経て空乏層の蓄積電荷が消滅したときに急を示す[24]．印加した電圧のパルス幅は，図中に激な電流遮断が起こり，SOS ダイオード両端に以下の式に示すパルス電圧 vo が生じる．

v0 = L

diSOS
dt

(16)

図 22 に，出力端を解放とした場合の，ギャップスイッチ両端の電圧 v1，SOS ダイオードへの電流 iSOS，出力電圧 vo の波形をそれぞれ示す．このとき，L，C2 はそれぞれ 9.1 µH，2 nF とした．充電電圧は約 6kV である．図より 230 ns の時点で，電流の急激な遮断が生じ，約 28kV のパルス電圧
図 23 異なる電圧立ち上がり時間におけるストリー
マのストリーク写真 (a) 7.2, (b) 23.4, (c) 40.2 nsが発生していることがわかる．パルス幅は，半値
幅で約 50ns となっている．ギャップスイッチ部を
MOSFET などの半導体スイッチにすることで繰Single: C = 1.3 nF Double: C 1 = C2 = 1.3nF, L 1 = 8 µH
300

Ozone Yield [g/kWh]

り返し周波数も大きくとれる．
６．ちょっと使ってみる
パルスパワーの応用は多岐にわたる[1-5,22]．ここでは，パルス化する意義にも触れながら，応用について，２点ほど紹介する．

200

100
Double Lr=0.6 µH (9.5 ns)
Single L =1.2 µH (20 ns)
Single L =8 µH (60 ns)

00(1) ストリーマ放電によるオゾン生成
パルスパワーを用いることで，エネルギーを電

200
400
600
Ozone Concentration [ppm]

図 24 異なる電圧立ち上がり時間に対するオゾン生成効率

子に選択的に与え，高効率なガス分解やオゾン生27示している．図より，印加電圧のパルス幅を短くすることで，オゾン生成に対するエネルギー効率が上がっている．これらの結果は，短パルス化がオゾンの高効率な生成に有効であることを示唆す
るものとなる．
(2) 水中気泡内放電による浄化・植物成長促進
パルスパワーを用いることで，放電領域の媒体の加熱を低く保ちつつ，高効率なラジカル生成や

図 27 プラズマ印加によるコマツナの成長変化

水の浄化などが実現できる．
図 25 に，液面と高電圧電極との間に気相を設け， ギー効率を示す [26]．実験に用いた染料がオゾン気相から水中へプラズマを進展させた放電の様子と反応する性質を持つため，酸素を流したもののを示す [25]．図中，下部が気相，上部が液相であエネルギー効率が最も良い．また図より，印加電る．パルス電源は，磁気圧縮方式を用いた．図よ

圧のパルス幅を短くすることで，脱色に対するエり，放電は気相で発生したのち，液相へと進展しネルギー効率が上がることがわかる．
水中もしくは水面へ空気放電をさせることで，ている様子がわかる．

これらは，
図 26 に，気相容器に３種類の異なるガスを流し， 水への窒化物の溶け込みが可能になる．
水中の雑菌不活性化に寄与すると同時に，植物の印加電圧のパルス幅を変えた際の，脱色のエネル

成長を促進させる．この様子を図 27 に示す[27]．
栽培は土壌方式で，供試植物として用いているものはコマツナになる．
栽培期間は約３週間である．
放電は，図７に示す，ネオントランス昇圧型のパルス電源や，
磁気圧縮型の電源で発生させている．
図より，プラズマを発生させることで，コマツナの成長が促進されていることがわかる．

Energy efficiency fordecolorization [mg/Wh]

図 25 気液分離型放電リアクタによるプラズマ生成

７．おわりに今回は，誰でも気軽にパルスパワーが利用でき

O2 3 min101

るように，“ちょいパル”（ちょっと，パルスパワ
Air 1 minー）といったコンセプトでパルスパワーの生成方

010法について記載した．
パルスパワーの生成方法は，その規模や用途によって多岐に分かれ，サイズやN2 10 min

10-1

価格帯も幅が大きい．ここで紹介した記事が入り

100

101
Pulse width [µs]図 26 パルス幅と脱色のエネルギー効率との関係口となり，気軽にパルスパワーを使い，パルスパ
ワー人口が増えれば，筆者等の喜びである．

28

[17] 江偉華，高木浩一；プラズマ・核融合学会誌，

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郷冨夫：電学論 A, 130 (2010), 549[8] 秋山秀典，勝木淳，浪平隆男；放電学会誌，[25] K. Takahashi, K. Takaki and N. Satta; J. Adv.

45 (2002), 2[9] 高木浩一，猪原哲，高橋徹，杉山敏樹；プラ

Oxid. Technol., 15 (2012), 365

ズマ・核融合学会誌，80 (2004), 669[26] K. Takahashi, Y. Sasaki, S. Mukaigawa, K.

[10] 高木浩一；応用物理，77(2008), 426

Takaki, T. Fujiwara and N. Satta; IEEE Trans.

[11] 高木浩一；静電気学会誌，32 (2008), 104

Plasma Sci., 38 (2010), 2694
[27] 高木浩一：伝熱， 51 (2012), 64[12] 高木浩一，高城大，井上祥史，加藤正，笠木俊一；エネルギー環境教育研究，5 (2010), 86[13] 江偉華；プラズマ・核融合学会誌，87 (2011),
46[14] 高木浩一，高橋克幸，上野崇寿，秋山雅裕，
佐久川貴志；プラズマ・核融合学会誌，87(2011), 202[15] 高木浩一，佐藤秀則，高橋徹，猪原哲，向川政治；“大学一年生のための電気数学”，（森北
出版，2006 年）[16] 高木浩一，佐藤秀則，高橋徹，猪原哲；“できる！電気回路演習”，（森北出版，2009 年）
29国際会議報告IUMRS-ICEM2012 報告
国際 MRS 連合・電子材料国際会議 2012静岡大学 荻野 明久
九州大学 林 信哉
International Union of Materials Research Societies– International Conference on Electronic Materials(IUMRS-ICEM) 2012 が、パシフィコ横浜で 9 月 23
日(日)から 28 日(金)の 6 日間にわたって開催され、
約 1,800 件 の 発 表 が あ り ま し た(http://iumrs-icem2012.org/)。この会議は、39 に及ぶ多くのシンポジウムと 3 つのフォーラムで構成されています。ここでは、プラズマプロセスを Key
Technology として位置づけ、プロセスにおける問題点とその解決方法や考え方、新しい技術の可能性を議論した 2 つのシンポジウム(C-8: Frontier ofNano- Materials Based on Advanced Plasma
Technologies お よ び D-4: Fluctuation- Induced
Plasma Processing of Materials)について報告いたします。
シンポジウム D-4 では、国内外の著名な研究者
による 2 件の基調講演と 10 件の招待講演に加え、19 件の一般講演および 20 件のポスター発表が行
われ、最前線の興味深い研究内容が示されました。
D-4 初日の基調講演では、東京大学の寺嶋和夫先生より超臨界流体プラズマに注目した新しい材料
創製に関わる結果として、新規カーボンナノマテ
リアルの合成とその解析結果や、発光強度測定か
ら臨界点付近でプラズマと溶媒、溶質との相互作
用が極大化するなど、超臨界流体プラズマで期待される高反応性を示す結果についてご発表いただ
きました。また、2 日目の基調講演では、成均館大学の Jeon G. Han 先生より低温プラズマプロセ
スによるプラスチック基板上への機能性薄膜形成についてご発表いただきました。講演では、RFおよび UHF の 2 基の電源を用いた SiO2 ガスバリ
ア膜および Al:ZnO 透明導電膜形成とその優れた特性が示され、プラズマと基板との相互作用メカ
ニズムやプロセスにおける水素の重要性が議論さ
30

れました。
シンポジウム C-8 では、基調講演 1 件、招待講
演 9 件および 6 件の一般講演、23 件のポスター発表が行われました。基調講演として、東京大学神原先生より高速かつ高効率な Si エピタキシーのためのメゾプラズマ CVD のご講演がありました。
招待講演では、フラウンホーファー研究機構のMarko Eichler 氏のリソグラフィーに代わる局所プ
ラズマ処理の研究、武漢大学の Weimin Guan 先生の液中プロセスによる金属ナノ粒子の生成と観察の結果、チェンマイ大学 Dheerawan Boonyawan 先
生の補綴（ほてつ，口腔内欠損部位を人工的に補うこと）用樹脂のプラズマ処理の研究、オースト
ラリア国立大学の Christine Charles 氏からはカー
ボンナノチューブを用いた燃料電池用電極の新規な作成方法と選択的な生体応答を誘導するポリマ
ーの合成方法に関する研究が発表されました．ポスター発表会場も大変に盛況で、酸化膜やカーボン膜およびナノ粒子の合成から、プラズマのバイ
オ、医療応用まで最新の研究成果が発表されました。また、これらの発表の中から九州大学の桑原
和 成 氏 が シ ン ポ ジ ウ ム 賞 で あ る Award for
Encouragement of Research in Materials Science を受賞されました。

国際会議報告第 11 回 Asia Pacific Conference on Plasma Science andTechnology(APCPST) /第 25 回 Symposium on Plasma Sciencefor Materials(SPSM)～ Plasma Science and Technology towards Innovation andBusiness ～
名古屋大学

堀

勝

平成 24 年 10 月 2 日～5 日、京都大学ローム記

会場は、すべてシングルセッションとしたた

念館において、独立行政法人日本学術振興会プ

めに、全員がプラズマ科学から多様な応用展開、ラズマ材料科学第 153 委員会主催、応用物理学

ビジネス展開まで議論に参加することで、緊張会プラズマエレクトロニクス分科会後援で感と熱気のあるものになりました。これにより、

APCPST/SPSM が開催されました。この合同会議

企業・大学間の情報交換、産業における課題のは、プラズマに関与する物理化学的な現象やプ理解とアカデミアからの提案等のキャッチボー

ラズマプロセスを利用した材料創製に関して発ルがなされたと期待しております。

表・議論・情報交換をする会議であり、1992 年

懇親会では、京都市長の挨拶や舞妓はんの登から、アジア太平洋地域の日・中・韓・豪で隔場、幹事から福嶋産のお酒が提供されて大盛況

年で開催されてきました。

であり、内外の多くの参加者から「大変印象的で

特に、今回の APCPST/SPSM 国際会議は、各社あった」と感想が寄せられました。また、京都のの製品・技術・優位性をはじめとする多様な発企業、市内観光を中心とした国際会議ツアーも表を通じたビジネス指向の議論こそが、イノベ好評でした。今後は、このような科学とビジネーションへの源泉であるとの信念のもと、『企業スに橋をかけるような国際会議がグローバル化

Oriented』を基軸とする初めての国際会議であり、 の時代を迎えて極めて重要になることを実感致しました。最後に、多大な支援をいただいた大

当初から大きな期待が寄せられてきました。
皆様方の多大なご努力のお蔭で、新しいスタ

学、企業の関係者をはじめ、プラズマエレクト

イルの国際会議として、画期的な成果を得て成ロニクス分科会の会員、支援学会に感謝の意を功裡で終了しました。

表します。

下記に論文数と参加者数を示します。論文数は、434 件で、その内訳は、チュートリアル 3 件、オーラル 47 件、ポスター382 件でした。
また、参加者数は、386 名で、その内訳は、①
国内参加者

298 名 ②国外参加者 88 名：韓国

30 名、ロシア 4 名、台湾 22 名 、アメリカ 2 名、中国 15 名、フランス 1 名、ドイツ 5 名、アイル
ランド 1 名、オーストラリア 4 名、フィリピン
4 名でした。

図１ 会議会場の様子
31

国際会議報告65th Gaseous Electronics Conference
名古屋大学

豊田

浩孝

第 65 回 気 体 電 子 会 議 (65th Gaseous

り、電子衝突、重粒子衝突などの基礎研究の報告

ElectronicsConference: GEC)が、2012 年 10 月 22 日も行われている。そして本会議の重要な講演と位~26 日の日程で、アメリカテキサス州オースティ

置付けられている GEC Foundation Talk は、素過程ンにて開催された．GEC は放電現象、素過程、プ分野で本 GEC に永年貢献してきた Klaus Bartschat

ラズマ基礎・応用と幅広い範囲をカバーするアメ

教授が本年の講演をおこなった。

リカでは歴史の長い会議である。また、本プラズ

なお、GEC のバンケットに出席された方はご存知

マエレクトロニクス分科会とも関係が深く、分科と思うが、例年 GEC のバンケットの後半は長時会が開催する国際会議である反応性プラズマ国際間にわたる講演が用意されているのが恒例である。

会議（International Conference on Reactive Plasmas）

場を和ませるようなジョークを交えた面白い講演とはこれまでに、1998 年のハワイ・マウイ島およ（らしい）が、私にはなかなか理解できず笑うこび 2010 年のフランス・パリの 2 回の合同開催もおともできず、時差ボケも相まって眠くなるのが常こなっている。今回の GEC はテキサス大学オーであり、今回もそれを覚悟していた。しかし、当スティンのほぼ中心に位置する AT&T Conference

日昼におこなわれた実行委員会に出席したところ、Center で開催されたが、ホテルに隣接しており、今年はこのような講演がなくなる、との話が聞こまた 4 つの会場も移動が容易であり、非常にコンえてきた。
私が知る限りでも 25 年は続いている伝

パクトにまとまった会議場との印象を持った。

統であったので本当になくなるのか半信半疑あっ

会議は月曜日に Workshop を開催し、火曜日かたが、バンケットの食事に引き続く簡単なあいさ

ら金曜日の午前にかけて本会議が開催されるのがつののちに終了となり、拍子抜けのままあっさり恒例であり、今回も同じ開催形式をとっている。

と散会となった。これまで苦痛？であった講演会

Workshop は Plasma Biomedicine, Plasma Cross Fieldもなくなってみると少々さびしいものである。

Diffusion, Low-Temperature Plasma Simulation のプ

なお、今回の GEC をもって Chiar である Air

ラズマの基礎から応用までの３つの Workshop がForce Research Lab. の Biswa Ganguly 氏は退任し、開催された。
また、本会議のセッションとしては、後任として Wisconsin 大学 Madison 校の Amy

プラズマの基礎・シースといったプラズマの物理

Wendt 教授が Chair となった。また、次回の GECに焦点をあてたセッション、減圧から大気圧まで

は 2013 年 9 月 29 日~10 月 4 日の日程でプリンスのプラズマ源、
プラズマ計測、
モデリングのほか、

トン・ウェスティンホテルにおいて開催される。

プラズマ応用として CVD・エッチングからプラズ

最後に、プラズマエレクトロニクス分科会の国マバイオ応用まで多岐にわたるセッションが用意

際会議 ICRP の次回第 8 回は 2014 年 1 月に福岡でされており、その中の招待講演として、日本から開催されるが、その次となる第 9 回 ICRP は再度は慶応大学真壁利明先生を含め 6 名の招待講演がGEC との合同開催を検討している（まだ先の話であった。また、本会議では電離気体現象の基礎とはあるが）。ICRP と GEC が今後も協調して本分野なる素過程に関する研究も重要な位置を占めておの発展に貢献することを期待している。
32

国際会議報告

AVS 59th International Symposium & Exhibition 報告
大阪大学工学研究科
米国真空学会（American Vacuum Society: AVS）の年会である標記の会議（以下 AVS59 と略記）が２０１２年１０月２８日から１１月２日までの６日間、米国フロリダ州タンパ市内にあるタンパ・
コンベンションセンターで開催された。会議（Symposium）の参加者総数は、発表者や企業参加者も併せて、
約 2200 名の大規模な会議である。
恒例となっている月曜日（１０月２９日）昼食時に開催された基調講演は、ジョージア工科大学のJoel E. Kostka 教授による “The BP Oil Spill in
the Gulf of Mexico”という題目の、タンパという場所柄にふさわしい興味深い講演であった。
AVS は、現在 10 の Division （分科会）と２つの Group が、それぞれ年会（AVS59）の１２件の Technical Program を企画している。年会では、これらとは別に、最新の研究動向に対応するため、14 の Focus Topic という 小グループがあり、それらが Focus Topic Sessions を開催している。
ここでは、我々応用物理学会（応物）プラズマエ
レクトロニクス（PE）分科会会員にもっとも関係の 深 い Plasma Science and Technology Division(PSTD)の話題に絞って、紹介する。
AVS59 において、PSTD は、15 の口頭発表セ

浜口智志

ッションと 1 つポスターセッションを主催した。
日本からの招待講演者は、石川健治（名古屋大学）
金子俊郎（東北大学）、木下啓藏（東北大学）、前
田賢治（日立製作所）、安武 潔（大阪大学）の各氏であった。いずれの講演も、出席者が多く、議論も活発で、極めて好評であった。PSTD の研究の主流は、例年のごとく、半導体プロセスである
が、最近は、プラズマのバイオ・ナノ応用など、
新しいプラズマ技術分野への関心も高まっている。
ところで、本年会が始まる直前に、ハリケーン「サンディ」がフロリダ沖を通過し、初日・日曜
日の夜にはニューヨーク市(NYC)近傍の東海岸に上陸して、大きな被害を出した。タンパ近郊には
悪天候による直接的混乱はなかったものの、米東北部発の航空機の多くがキャンセルされたため、本会議に予定通り到着できなかった参加者も、少なからず、いた。筆者も、その前の週に、たまた
ま NYC を訪問しており、ハリケーン到着直前に、かろうじてながら、運よくフロリダ入りすることができた。
次回の AVS 年会は、２０１３年１０月２７日から１１月１日にかけて、米国カリフォルニア州ロングビーチで開催される。

AVS59 会場周辺のパノラマ写真（撮影：木下啓藏 東北大学教授）

33

国際会議報告“54th Annual Meeting of the Division of Plasma Physics”報告
京都大学大学院工学研究科

酒井 道

本会議は、米国物理学会（American Physical

プラズマ中の波動現象、アクチュエータ等の流体

Society）のプラズマ物理部門が開催している年会

現象、ダストの挙動といった内容については、こである。今年は１０月２９日から１１月２日までの会議が発表の場としてふさわしい。あるいは、

米国プロビデンスで開催された。プロビデンスは

それらの研究者ではなくても、隣接しかつ深みの東海岸のボストン近くに位置しており、今年は運ある物理を備えた本会議の発表から示唆されるこ

悪く大型のハリケーン“サンディ”が会議前半をとは多いはずで、それにより自らの低温プラズマ直撃した。実は本報告者も、最初に予定していたの研究に新味を加えることは容易だろう。

飛行機が欠航となって１日遅れの開催地入りとな

さらに、３年前と比べて、今回は核融合分野もった。実際に被害の大きかったニューヨーク・ワ

含めて日本人の参加者がめっきり減少し、逆に韓シントン付近の参加者の方の中には参加できなか国や中国からの参加者が相対的に目立つ形となっった方も多く、基調講演や招待講演も電子ファイ

た。研究成果のアピールはもちろんであるが、発ルを座長が操作しながら講演者は通信回線を通し

表・参加に見られる研究の勢いは将来への投資のて話す、という形式を取られたものもいくつか見意味も持つので、この状況を改善して日本からのられた。

継続的な貢献が必要と考える。

さて、会議の内容であるが、本報告者は３年振りの参加であった（３年前の報告は、本分科会会
報 No.51 に本報告者が報告している）ので、感じられた変化を中心にお話したい。この会議は米国
国内のプラズマ物理全般にわたる内容をカバーしており、海外からの招待講演も積極的に受け入れ、一般講演においても海外の研究者の参加も多く、国際会議の位置づけにある。もともと同時期に
GEC や AVS といった本分科会の直接の分野の会

写真１．会議会場（発表件数は 1700 件超）。

議が開催されるため、低温プラズマの発表自体の件数は少なく、核融合プラズマや宇宙プラズマの研究が主なトピックスである。残念なのは、今年の基調講演５件の中に低温プラズマの発表が取り上げられなかったことである。もちろん、GEC や
AVS での発表の重要性は尊重されるところであるが、低温プラズマが基づいているプラズマ物理の成果や進展を主張することは重要だろう。特に、
34

写真２．ポスター発表の様子。

国際会議報告34th International Symposium on Dry Process
富士通セミコンダクター(株)小倉輝

第 34 回ドライプロセスシンポジウムが、東京

形状シュミレーション、パルス（ガス導入を含む）

大学武田先端知ビルにて、11 月 15-16 日の２日間プラズマによる１X 世代のばらつき低減といったに渡り開催された。本年は、プラズマエレクトロ

最先端の技術課題に対するソリューションの提案

ニクス分科会の協賛により、前日の 11 月 14 日にをされており、改めて基礎研究の大切さを教えて

同会場で第 23 回プラズマエレクトロニクス講習頂いた。

会が開催され、多くの講習会参加者にもシンポジ

昨年来から続くプラズマ技術の新分野への展開

ウムに足を運んで頂き、参加者は 140 名程度であの潮流を確実なものにするために、本年のアレンった。投稿論文数は、昨年とほぼ同数の 83 件でジセッションは「Plasma Biological Treatment

あったが、企業からの投稿は 1 割程度となった。

and Medicine 」 と 「 Non-Volatile Memory

表 1 は本シンポジウムのトピックスに対する論文

Processes」が企画された。さらに６つのトピック数であるが、近年のプラズマ技術のアプリケーシ

スによるオーラルセッションと 100 分間のポスタ

ョンの拡がりを示すように各トピックにおいてほーセッションの中で、各専門分野をリードする７

ぼ同数の投稿となっている。その状況から類推す

名の研究者を招待講演に迎え、多くの議論が繰りると、現在は様々な分野においてプラズマ技術の1.Etching Technology

10

2.Manufacturing Technology(AEC, APC, EES, FDC)

53.Surface Reaction and Damage

9

4.Plasma Diagnostics and Monitoring System

75.Modeling and Simulation

5

6.Plasma Generation(Equipment/Source)

4

Gottscho 氏（Lam Research Corp.)の両名が受賞

7.CVD/PVD/ALD10された。引き続き行われた受賞記念講演の中で、8.Plasma Processes for
3D Device, FPD, Photovoltaic Devices
9.Plasma Processes for
new material devices (MRAM, Power, Organic)
10.Plasma Processes for
Biological and Medical Application, MEMS
11.Atmospheric Pressure Plasma
and Liquid Plasma

創生期に入っていると思われる。本シンポジウム
は、基礎から応用まで幅広くかつ一貫した技術の追究が特色であり、年代により投稿トピックや企業と官学の比重が変わることを繰り返した歴史的経緯の上に成り立っている。
その確固たる歴史を築いてきた方々に贈られる
Nishizawa Award は 、 H. H. Sawin 先 生（ Massachusetts Inst. of Tech. ） と 、 R. A.

Sawin 先生からはプロセスプラズマの基礎反応から表面反応における理論に基づく反応モデルの包括的な御講演を頂いた。Gottscho 氏からもエッチングの装置技術に関して、ゲート長ラフネスなどのプロセス課題に対する視点で詳細に御説明し

12.New Dry Process Conceptsて頂いた。お二方とも、これまでの歴史的な技術

表１ DPS2012 トピック別講演論文数の流れを説明したのちに、３D デバイスに通じる
35

8
8
8
6
3

は 、 昨 年 に 引 き 続 き Low-Power Electronics

広げられた。
清水先生（Max-Planck）からは、ガン治療やAssociation & Project（LEAP）から高浦氏を御殺菌滅菌から止血や歯の漂白といった実際の医療

招待して数々の不揮発性メモリの用途（サーバや現場におけるプラズマ技術の応用とその効果につストレージなど）に応じた使い分けと、ReRAM

いて紹介頂き、さらに実際に使用する側として反の超格子構造に対する消費電力の効果などデバイ

応過程の解明や分析方法の確立の必要性など率直ス側面から見たプロセス技術に対する要求を含むな意見を述べられた。続いて御講演頂いた榊田先講演を頂いた。続いて、鄒氏（ULVAC）からは不生（産総研）は、大気圧 He プラズマによる止血

揮発性メモリに多く用いられる難エッチング材料技術において好まれないダメージを詳細に研究さの加工および表面処理について、反応性などの物

れ、レーザーなどの他の技術に対して安全性の高性的特徴とプロセス装置の構造によるプラズマ特いことを立証し手術ツールとしての具体的な応用性の両面から、いくつかの事例について具体的な例を提唱された。

紹介があった。

APC や EES を中心にした製造技術のセッショ一般講演では、医療応用から表面改質まで幅広

ンでは、平井氏（Sony）よりエッチング処理したい用途に向けた大気圧プラズマに関する研究成果

時の装置データ（電力や圧力など）とプラズマ発が多く報告された。また、発光素子やパワーデバ

光から、比重をかけた部分的最小二乗法（PLS）

イスとして近年注目を集めている GaN や、Zn をを使ってエッチング後の線幅を予測する技術につ中心としたディスプレイ向けの機能膜など新材料

いて講演をして頂いた。続いて Djurdjanovic 先生

に関する講演でも深い議論がなされた。冒頭にも（Univ. of Texas）からは、隠れマルコフモデルを述べたが、プラズマ技術の拡がりを感じさせる学用いてプラズマ CVD 装置の成膜厚のばらつきを会となった。
次回は、2013 年 8 月 29-30 日に例年より時期予測する講演があった。ともに非常に高い予測精度を得ており実際の量産工場で活用されている高を早くして、韓国・済州島の Ramada Plaza

度な生産技術だったが、両氏からこの技術をさら

Jeju Hotel にて AEPSE2013 と並行開催される予に精練するために、プロセス技術の膨大な知見を定である。

効果的に取り込んでいく必要があるとの訴えがあったのが大変印象的であり、単なる統計ではなく学術的に奥深い分野であると感じた。
２日目には、加藤先生（東北大）からグラフェ
ンのデバイス応用を目指した、成膜からクリーン処理までの幅広いプロセス技術の紹介があった。
グラフェンを所望の場所に長さと幅を自由に制御して成膜し、かつ触媒として用いた Ni を完全に除去できるという画期的な方法であり、今後の半導体デバイスの性能を飛躍的に向上させることが会場全景期待される。
不揮発性メモリに関するアレンジセッションで36

国内会議報告2012 年秋季 第 73 回応用物理学会学術講演会
第９回分科内招待講演 報告
東京工業大学野崎智洋

学会二日目，第９回目となる分科内招待講演でへ移っていきます。そういった時代の中，10 年，

は，鯉沼秀臣先生（NIMS，東京大学）
，および葛20 年先を見据えた研究テーマを設定し，周囲に流谷昌之先生（中部学院大学），よりご講演を頂きされず着実に目的を達成していく鯉沼先生の研ました。本企画は第１回目より大変な好評を得て究に対する取り組みは，多くの若手研究者にとっおり，今回も 100 名超える参加者に恵まれ，講演て刺激を与えたことと思います。
続いて，葛谷先生より，「有機プラズマ化学の時間 30 分／件（質疑応答込）では収まりきらな

発展の轍」と題したご講演を頂きました。鯉沼先い，白熱した議論が展開されました。
はじめに，鯉沼先生より，「エネルギー材料開生に劣らず白熱したご講演を賜り，30 分ではとて発におけるプラズマ科学の過去と未来」と題したも足りず，企画者として反省しています。プラズ

講演を頂きました。近年，環境・エネルギーに関マによる高分子材料の処理や，医療分野（薬剤調するトピックは過熱気味に盛り上がっておりま

整）への応用研究は今でこそ大きな注目を集めてすが，鯉沼先生はその黎明期から CO2 の資源化にいますが，その黎明期から新規な分野を立ち上げ

関する研究，さらにプラズマケミストリー分野でて１つの体系化された学術を確立された葛谷先もシリコン系薄膜の合成と太陽電池への応用に

生の功績には大変な感銘を受けました。類似の研関する研究で数々の素晴らしい業績を上げてお究テーマで長きに渡って研究していると，「発展られます。近年は，燃料電池，太陽電池，二次電性が無い」などと酷評される場合もあります。こ池などの分野が大きな注目を集めており，しかもの違いはどこから来るのでしょうか。そういった学際領域研究であるため，１つのトピックに対しことも考えされる，示唆に富んだ講演を賜りまして様々な分野から研究者が参入することができた。

ます。研究者人口が増すほど，短期間にその分野ご多忙の中，快く講演を引き受けて下しましたが盛り上がり，大きな研究費と人材が流動し，一鯉沼先生，葛谷先生はもちろんのこと，講演会場

通りのブームが過ぎ去ると，新規参入研究者は次にお越し下さった皆様には，この場を借りて深くの金のなる木（研究テーマ）を求めて新しい分野

御礼申し上げます。

鯉沼先生

葛谷先生
37

会場の様子

国内会議報告2012 年秋季 第 73 回応用物理学会学術講演会
チュートリアル講演 報告
東京工業大学

野崎 智洋

学会二日目，プラズマエレクトロニクス分科会

は，これらの諸現象を俯瞰し，統一的にまとめらとしては第２回目となるチュートリアル講演をれるもの，そうでないものをわかり易く講義下さ実施しました。今回の講師は，プラズマのシミュ

り，60 名を超える受講者より好評を頂きました。

レーションに主題を置き，「シミュレーションでまた，一般では入手できない講義資料を入手でき

みる反応性プラズマ～大気圧から低気圧まで～」るのも本チュートリアルの特徴の一つです。
最後になりましたが，ご講演を快くお引き受けと題して，杤久保文嘉先生（首都大学東京）より下さいました杤久保先生，ならびに会場にお越し

ご講演を頂きました。

下さった方々に，この場を借りて深く御礼申し上

応用物理学会では，各大分類から１テーマのチげます。

ュートリアル講演が企画されることを目安としているようですが，現実は毎回４ー５件のチュー
トリアル講演が企画されるのみです。そういった中，プラズマエレクトロニクス分科会では，積極的にチュートリアル講演を実施しています。プラズマ応用技術は，応用物理学会が要する全ての大分類の研究に関与しており，極めて広範囲な材料
およびデバイスに関わる分野横断技術として発展しています。プラズマエレクトロニクス分科会
のみならず，応用物理学会の全ての会員へのサービスを考慮して，常にタイムリーかつ興味深い話

講演中の杤久保先生

題を中心にチュートリアル講演を実施しています。講演を担当される講師の先生は，３時間にわたる講義と，そのための資料作成の大きな負担がかかっており，改めて御礼申し上げる次第です。
杤久保先生は実験からシミュレーション，そして減圧～大気圧～液中まで，プラズマケミストリ
ーにおける幅広い分野で活躍される研究者です。
放電物理とプロセスプラズマは独自に発展した
ため，タウンゼント機構とストリーマ機構などの緒論や，大気圧と減圧下における取り扱いが独立会場の様子した成書としてまとめられています。杤久保先生
38

国内会議報告

２０１２年秋季第７３回応用物理学会学術講演会
分科会企画シンポジウム報告
京都工芸繊維大学

電子システム工学専攻

比村治彦

文科省が製作しているサイエンスマップのような手段や組織で「医療・バイオ」分野へのプラズ（http://stw.mext.go.jp/）の第6弾、「一家に1枚 未来

マ応用研究に取り組むのが効率的かを議論する契機をつくるプラズマ」にも示されているように、プラズマを分科に与えることを第二の目的とした。

は極めて広範な時空間スケールで応用されている。

以下、シンポジウムでの講演内容を簡単に説明し

ところが、そのマップからも分かるように、従来、プラズておく。【1】パナソニック・須田氏からはナノイーと呼マの応用先というと、それは理工系分野というごく限

ばれる静電噴霧が紹介され、大気中でのラジカル寿られた狭い領域内で考えられる傾向が強かった。一命と飛行距離についての議論や、電荷を帯びていな方、ひとたび理工系分野の垣根を飛び越えて、隣接い通常の噴霧器との性能比較にも言及された。【2】する医歯薬系分野を覗いてみると、その異分野にお熊本大・秋山先生は、‘マイルド’なプラズマの長時間いてもプラズマはツールとして用いられていることに

照射ではなく、‘パルス’プラズマの短時間照射により、気がつく。しかも、プラズマのユーザー数は年々増加

プラズマと生体の間で生じる極めて複雑な逐次的複しており、近年では、プラズマを生体に適用する臨床合反応を要素還元できる可能性を示された。【3】九実験まで行われるに至っている。したがって、ここに、

大・林先生からは、収穫後の食物に対する農薬塗布

理工系プラズマ研究者と医歯薬系研究者がチームをが禁止されている中、大気圧プラズマと紫外光を重組む医工連携により、新しい学際領域が切り開かれ畳した照射の擬農薬としての働きを皮切りに、水中やる可能性がある。

牡蠣に含まれる菌への殺菌効果に関する事象例がこのような境界領域への挑戦を可能にしたプラズマ示された。【4】産総研・榊田研究員は、生体の止血や側の学術的ブレークスルーは、中性ガス温度自体は癒着への応用を考える場合、使用するプラズマには低いものの、中性ガス内に含まれるプラズマのプラズ

低侵襲性が求められることを述べられ、実際に低侵マ温度は高いという「非平衡プラズマ」の高気圧下で襲性アルゴンプラズマやヘリウムプラズマを用いた止の安定生成の進展にあると言える。そのため、その応血をマウスに対して行っている様子を紹介された。

用分野の裾野は医歯薬系のみならず、さらなる別の【5】名大・堀先生からは、プラズマ医療に関する内外分野との境界領域にも広がりを見せている。そこで、状況が説明された。そして、このプラズマ医療を学術

本シンポジウムでは、暮らしや農業、そして医療へととして発展させるための研究手法例が説明され、実応用されているプラズマに関した研究開発を幅広い

際にプラズマ照射の効果のみを抽出した系統的実験分野の方々から紹介していただくことで、現在の研究が一例として示された。【6】日立・板橋氏からは、エレ開発の状況から、残されている未解決課題まで、プラ

クトロニクスで用いられていた基盤技術の技術転用にズマ研究者が新たにこの分野へと入って仕事を始めより作成されたバイオ関連デバイスの紹介がなされた。

るのに有益な情報を開示していただくことを第一の目

また、一般講演枠として、阪大・北野先生と愛媛大・的とした。また、欧米においても、プラズマ研究者がそ神野先生からも関連内容での御講演を頂いた。
最後に、講演会場にお集まり頂き、熱心にご聴講

れぞれのオリジナリティーをもって「医療・バイオ」分野頂きました会員各位に感謝申し上げます。

へとアプローチを開始している。このような諸外国の動向も紹介することで、今後日本のプラズマ研究者がど
39

国内会議報告

第 6 回プラズマエレクトロニクスインキュベーションホール
大阪大学

唐橋

平成 24 年 9 月 19 日から 21 日の日程で、国立

一浩して」畠山力三先生 （東北大学名誉教授）

青少年交流の家（静岡県御殿場）において、第 6

例年に比べて多くの参加者があり、ポスターセ回プラズマエレクトロニクスインキュベーション

ッションおよび懇親会を通じて受講者間に加えてホールを開催しました。本会はプラズマエレクト

講師の方々，スタッフと活発な交流が図られまし

ロニクス分野の初学者（学生・若手研究者・社会た。受講者からのアンケートに対して概ね好評の人技術者）対象として、プラズマの理解を深めて回答をいただきました。しかし、講義数を増やす

頂くための講習会です。参加者は 73 名（内受講ことによってスケジュールに余裕が不足したこと

者 57 名）でした。今回はプラズマの基礎およびに対してやや不満の声も聞かれました。今後、多従来エレクトロニクス分野に応用されている低圧様化するプラズマ応用分野への対応を含めたプロプラズマに加えて、新しい応用分野が広がっていグラム編成の検討が必要であると考えられます。

る大気圧プラズマまで網羅した講座を開講しまし今後、本インキュベーションの受講者からプラた。以下は、開講した講座と講師の先生方です。

ズマ研究を切り拓く研究者が輩出されることを期【専門講座】①「プラズマの生成・制御」中村

待致します。また、改めまして本企画の開催にあ圭二先生（中部大学）②「プラズマ診断計測」山

たり、ご協力頂きました講師の先生方，参加者を形幸彦先生（九州大学）③「プラズマ CVD」白藤

派遣頂きました各研究機関および企業の皆様に深立先生（大阪市立大学）④「プラズマエッチング」

くお礼申し上げます。
最後に、優秀ポスター賞を受賞された受講者を伊澤勝先生（日立ハイテクノロジーズ）⑤「大気記載致します。おめでとうございました。

圧プラズマの基礎」酒井道先生（京都大学）

優秀ポスター賞：加藤智嗣さん（東京大学），堤【英語講座】「理科系のための英語力強化法」志隆嘉さん（名古屋大学），加賀真城さん（東京大学），

村史夫先生（静岡理工科大学）

加藤寛人さん（名城大学）望月遥平さん（静岡大【特別講座】「リーディング学際プラズマを目指学），石井千佳子さん（東京大学）[担当幹事]：
校長： 豊田浩孝（名古屋大学）
幹事： 三沢達也（佐賀大学），石川善恵（香川大学），吉木宏之（鶴岡高専）前田賢治（日立製作所），坪井秀夫（坪井技術士事務所），榊田創（産業技術総合研究所），
佐藤孝紀（室蘭工業大学），平松美根夫（名城大学），唐橋一浩（大阪大学）

集合写真（雲中の富士を背に）40

国内会議報告第 11 回プラズマエレクトロニクス新領域研究会（第 28 回九州・山口プラズマ研究会と共催）
大分大学

市來龍大

平成 24 年 11 月 10 日（土），温泉の町大分県湯を「周波数－波数空間」で分類するという画期的

布院の由布院倶楽部にて，第 11 回プラズマエレク

で科学的に明快な分類法が使用され，著者をはじ

トロニクス新領域研究会が開催された．本研究会

め多くの参加者が感銘を受けた．九州大学・富田は，第 28 回目を数える九州・山口プラズマ研究会

健太郎先生のご講演「トムソン散乱法を用いた大（九山）との共催として行われ，27 名の参加者が気圧フィラメント放電の研究」では，核融合研究あった．今回の新領域研究会では，「光・レーザーとともに発展してきたトムソン散乱法を大気中のによるプラズマ計測の最前線」のテーマで４名のフィラメント放電に適用し，放電中の電子温度お講師陣から大変貴重なご講演を賜った．

よび電子密度をこれまでにない精度で明らかにし大分大学・金澤誠司先生のご講演「液体作用プた研究の報告がなされた．厳密なクロスチェック

ラズマにおける放電のダイナミックスとラジカルや放電理論の検証の検討など，大気圧放電を現象の計測」では，レーザーシュリーレン法，LIF 法，論から脱却させる大変価値ある成果に多くの質問

化学プローブ法という光・レーザーを用いた種々が寄せられた．

の計測法により水中・水面放電の特性を明らかに

新領域研究会枠以外では「プラズマのバイオ・する研究をご紹介頂いた．タイトルスライドの度

医療・農業応用」の招待講演枠が設けられ，東京に風光明媚な大分の滝や温泉の写真が紹介され都市大学・平田孝道先生，東北大学・佐藤岳彦先

（水の研究なので），参加者の旅情を深めて下さっ生，熊本大学・矢野憲一先生，岩手大学・高木浩

た．東京工業大学・赤塚洋先生のご講演「低圧放一先生の４名の講師陣から最新の研究成果が紹介

電窒素プラズマ分光計測の新たな展開」では，窒され，講演時間を大幅に超える質疑応答が交わさ

素分子由来の第 1，第 2 正帯のスペクトル特性かれた．その他，九州・山口圏内の研究者による一ら振動回転温度を評価する手法について解説があ

般講演が行われた．
（大阪大学・竹中弘祐先生も九った．また第 1 正帯の研究結果を，独創的かつ有州男児ということで九州枠でご発表された．）
その用性が極めて高い窒素分子解離度の計測法に昇華中で九州大学・松清修一先生の「無衝突プラズマさせたストーリーをご紹介頂いた．京都大学・酒が支配する太陽地球系の物理」のご講演では宇宙

井道先生のご講演「時空間中の機能性構造に着目

や惑星圏内のプラズマ研究の紹介があり，プラズ

したプラズマ計測とその応用」では，電磁波とプ

マ科学の多様性を感じることができた．
講演のあと参加者は温泉を楽しみ，懇親会で語

ラズマの共鳴から結晶物理学のごとくプラズマ密度の空間プロファイルを明らかにする研究および， らい，さらに大部屋での２次会では夜中まで科学
光周波数コムを利用し多くのレーザー周波数に対や教育（やその他）について熱い議論が交わされするプラズマ応答を一挙に取得する独自の計測技

た．次の日は多くの参加者が二日酔いに苦しんで術ついてご紹介頂いた．ご講演の中で，プラズマ

いたが，それに耐えながら講演と討論を全力で行41

うのが九山のならわしである．次回の九山は平成る予定である．ふぐ肝付きの大分ふぐに舌鼓を打25 年 11 月初旬に，再び大分県は臼杵で開催されちたい方は，是非参加のご検討を．

講演の様子．

２次会での熱い議論．

真面目な議論をする参加者．

温泉．（諸事情によりトリミング済み）

雨，由布岳，露天風呂．（撮影：藤山寛）

風呂上がり．

九山の参加者．（最前列が招待講演者：富田，矢野，赤塚，平田，酒井，高木，佐藤，金澤）42

国内会議報告第 23 回プラズマエレクトロニクス講習会
ソニー（株）

辰巳哲也

プラズマエレクトロニクス講習会は、プラズマからは発光分光から最新のプラズマ計測技術まで技術を扱う企業の若手、中堅技術者、大学の学生・のお話し頂き、技術を理解するためのベースとな研究者を対象とした、実用的な研修として例年企る知識をご教授頂きました。また後半には八木澤画運営されております。今年で第 23 回となるこ先生から計算を用いたプラズマ反応の予測技術、の会は 2012 年 11 月 14 日に東京大学「武田ホー野崎先生から大気圧プラズマとその反応制御へのル」にて開催されました。今回は例年とは趣向を応用可能性、土山先生から設備センサーと信号解

変え、最先端プロセスの議論がなされる国際学会

析を通じた設備管理の最前線についてのご講義を

DPS2012 及び設備管理技術に関する学会である

頂き、教科書にはない技術論をそれぞれ展開して

AEC/APC シンポジウムからの協賛を頂き、基礎頂きました。最後に木下先生から昨年度の DPSと合わせて最新技術、量産応用までを参加者が理の概要と技術の方向性についてお話を頂き、翌日解できるようなプログラムを検討致しました。

同会場にて開催される DPS2012 の論文委員長である小倉輝様（富士通）からもご挨拶を頂くこと■ 第１部：プラズマプロセスの基礎 ■で一日の講義を無事終了致しました。参加者は 66

1. 『プラズマの生成と制御・装置』
名古屋大学 堀 勝 先生

名。基礎から先端応用までを一日で効率的に学べる大変有意義な会とすることができました。

2. 『表面反応の制御とドライエッチング技術』
ラムリサーチ（株） 野尻 一男 先生
3. 『プラズマ計測/モニタリング技術』
名古屋大学 豊田 浩孝 先生■ 第２部：プラズマ技術の最前線 ■4. 『シミュレーション技術』
慶應義塾大学 八木澤 卓 先生
5. 『大気圧プラズマとその応用』
東京工業大学 野崎 智洋 先生

最後に、大変有意義なご講義を頂いた講師の皆様、講習会企画・運営にご尽力頂いた寺嶋幹事長

6. 『設備管理（EES/FDC 等）技術』
ルネサスエレクトロニクス（株） 土山 洋史 先生

をはじめとする担当幹事の皆様、会場での運営に

7. 『DPS2011 に見るプラズマ技術の新展開』
東北大学 木下 啓藏 先生

同研究室の皆様、事務をお願いした応物分科会担

ご協力を頂きました東京大学の一木隆範先生及び当の上村さつき様に紙面を借りお礼申し上げます。

前半のセッションでは、堀先生より所望のプロ◎担当幹事：
安部 隆（新潟大）、池田 太郎（TEL）、池田 知弘（三菱）、市川 尚志 （東芝）
、坪井 秀夫 （坪井技術士事務所）、西澤 厚 （ルネサス）、前田 賢治 （日立）
、辰巳 哲
也 （ソニー）

セス特性を実現するために必要な定量的なプラズマの制御技術を、野尻先生からはドライエッチン
グを中心としたプラズマ応用の基礎を、豊田先生
43

行事案内

第 30 回プラズマプロセシング研究会(SPP-30)案内静岡大学

永津雅章 (現地実行委員会

委員長)

第 30 回プラズマプロセシング研究会を下記

ズマの物理的・化学的基礎科学の解明およびその要領にて開催致します。会場は JR 浜松駅のの制御と応用技術の開発をテーマに掲げ、プラすぐ近くにあり、交通の便も良く、気候も温暖

ズマ物理・プラズマ化学の研究者をはじめとしな地域であるため学術会合の開催に適していまて、原子・分子物理、薄膜・表面の物理・化学、す。皆様のご参加を心よりお待ち申しておりま

電子工学など多分野の研究者が一堂に会して、す。懇親会へのご参加も是非よろしくお願い申プラズマを接点とする境界分野の成果発表・討し上げます。

論を行うと共に、新たな問題点の発掘や、新しいプロセシングの可能性を追求することが目的です。

参加申込み、およびプロシーディングス原稿の受付等は全て下記のホームページにて行って

ここで、プラズマ応用技術に関わる基礎的研います。プログラム等の最新情報も随時掲載予究は勿論のこと、次世代の応用技術と目されて定ですので、ご覧いただけますようお願いいたいるナノテクノロジー分野（ナノ粒子、ナノ構

します。

造物質、ナノ加工）、プラズマ医療・バイオ応用【Web】http://www.eng.shizuoka.ac.jp/~spp30/

分野、環境・エネルギー応用分野もスコープに加え、総合的な議論ができるように配慮されて

なお、プロシーディングス原稿提出締切は、います。また、次世代を担う大学院生等の人材

12 月 3 日(月)となっていますのでご留意くださ育成の観点より、第一線で活躍する著名な研究い。

者を招待して、「特別講演」や「指定テーマ講演」
を企画しています。
記[1] 特別講演
・「プラズマ技術の課題と将来展望」【会期】2013 年 1 月 21 日 (月)〜1 月 23 日 (水)藤山 寛 氏（長崎大学）
・「低温プラズマバイオプロセッシングの応用【会場】アクトシティ浜松・研修交流センターと影響評価」〒430-7790 静岡県浜松市中区中央 3-9-1

水野 彰 氏（豊橋技術科学大学）(JR 浜松駅から徒歩約 5 分)

[2] 指定テーマ講演【会議の概要】・「プラズマ医療科学の創成とその展望」

プラズマプロセシング研究会は、（社）応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会主催で、

堀 勝 氏（名古屋大学）

毎年 1 月下旬から 2 月初旬にかけて開催され、・「光技術による未知未踏への挑戦」
原 勉 氏（浜松ホトニクス中央研究所）

今回で第 30 回目を迎えます。
プロセシングプラ
44

[3] 一般講演
1) プロセシングプラズマの発生・制御

8) 液相及び気液界面プラズマの基礎と応用

2) プロセシングプラズマの診断・計測・モニ

9) プラズマ応用技術

タリング9-1）ナノテクノロジー

3) プロセシングプラズマにおける素過程・モ

9-2）プラズマ医療・バイオ応用

デリング9-3）環境・エネルギー応用

4) プラズマによるエッチング9-4）光応用・発光デバイス用プラズマ

5) プラズマによる薄膜形成9-5）上記以外のプラズマ応用

6) プラズマによる表面改質10) 上記以外のプラズマプロセシング

7) 大気圧・マイクロプラズマの基礎と応用【参加費】（事前参加申込み期限：2012 年 11 月 19 日 (月)プロシーディングス代含む）

応物・PE会員

PE会員

応物・協賛学協会会員

その他

一般

12,000 円

15,000 円

15,000 円

18,000 円

学生

3,000 円

5,000 円

5,000 円

8,000 円

※事前参加申込み期限後は、一般 2,000 円増、学生 1,000 円増となります。

【懇親会】

Web: http://www.eng.shizuoka.ac.jp/~spp30/【主催・共催・協賛】 (依頼中含む)

日時：2013 年 1 月 21 日 (月) 18:30 ～ 20:30

主催：応用物理学会プラズマエレクトロニクス

会場：ホテルクラウンパレス浜松

分科会(SPP-30 会場から約 300 m)

共催：静岡大学

会費：一般 5,000 円、学生 2,000 円

協賛：応用物理学会東海支部、日本物理学会、
プラズマ・核融合学会、電気学会、電子【締切】
・講演申込み：2012 年 10 月 15 日 (月)情報通信学会、日本化学会、電気化学会、・事前参加申込み：2012 年 11 月 19 日 (月)高分子学会、日本真空協会、日本セラミ・プロシーディングス原稿 (英文、A4 版 2 ペーックス協会、表面技術協会、静電気学会、

ジ) 提出：2012 年 12 月 3 日 (月）以上【問い合せ先】
第 30 回プラズマプロセシング研究会(SPP-30)
現地実行委員会 委員長 永津雅章
（静岡大学 創造科学技術大学院）
TEL / FAX: 053-478-1081
E-mail: spp30@ipc.shizuoka.ac.jp

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行事案内

5th International Symposium on Advanced Plasma Science andits Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2013)
名城大学 平松美根男
ISPlasma は，文部科学省の支援を受け，東海広域ナノ
テクものづくりクラスター事業の一環として，当地域に国際競争力を有する先進プラズマナノ科学研究拠点を形成するために 2009 年から毎年開催されている国際会議で，今回は 5 回目となる。本会議では，プラズマ分野で長い歴史と研究実績を有する東海地域に世界中から優れた研究者が集い，先進プラズマ科学，窒化物半導体とナノ材料への応
用，産業界への技術移転の仕組み作りについて広く議論するとともに，最新の研究成果を発表および討議する。
＜日程＞ 2013 年 1 月 28 日（月）～2 月 1 日（金）＜場所＞ 名古屋大学（愛知県名古屋市千種区不老町）＜関連分野＞◆プラズマ科学：プラズマ源、先進プラズマ計測技術、モデリングとシミュレーション、エッチングプロセス、薄膜
成膜プロセス、フレキシブルエレクトロニクス、バイオ／
医療用プラズマ、クリーンエネルギー用プラズマ、ナノテ
クノロジープラズマ◆窒化物半導体：GaN および関連材料の結晶成長、窒化物
MBE 成長、評価技術、デバイスプロセス、光デバイス、
電子デバイス◆ナノ材料：ナノカーボン材料、ポーラス材料、表面改質／表面機能化、コンポジット／傾斜機能材料、ナノパーテ
ィクル／ナノワイア／ナノロッド、エネルギー応用向けナノ材料＜特別講演者＞
大野 英男（東北大学）＜基調講演者＞
W. Graham (Queen's University Belfast, イギリス）, R.
Ruoff（The University of Texas at Austin, アメリカ）, Y.
Lee (Sungkyunkwan University, 韓国), N. Grandjean(EPFL, スイス), 野崎 智洋 (東京工業大学), L. Shaw
(Illinois Institute of Technology, アメリカ), 藤村 修三(東京工業大学)＜招待講演者＞
P. Chabert (LPP Ecole Polytechnique, フランス), U.
Czarnetzki (Ruhr University, Bochum, ド イ ツ ), A.
Eppler (Lam Research, アメリカ), A. Fridman (Drexel
University, ア メ リ カ ), J. G. Han (Sungkyunkwan
University, 韓国), M. Van de Sanden (Dutch Institutefor Fundamental Energy Research, オ ラ ン ダ ), R.
46

Dwiliński (Ammono Company, ポーランド), 藤原徹也
(ローム), C. Humphreys (University of Cambridge, イギリス), E. Monroy (CEA Grenoble, フランス), P. Ruterana(CIMAP, UMR 6252, CNRS, ENSICAEN, CEA, フランス ), W. Walukiewicz (Lawrence Berkeley National
Laboratory, ア メ リ カ ), I. Lee (Chonbuk National
University, 韓国), C. Liu (Tianjin University, 中国), 中山
将伸（名古屋工業大学）, T. Wei (Chung-Yuan University,台湾), 山崎 聡 (産業技術総合研究所), K. Chen (HongKong University of Science and Technology, 中国), B.
Daudin (CEA-Grenoble、フランス), 藤岡 洋 (東京大学生
産技術研究所), 吉川俊英 (富士通研究所) , 錦谷禎範 (JX日 鉱 日 石 エ ネ ル ギ ー ), I. Mukhopadhyay (Pandit
Deendayal Petroleum University, インド)
＜チュートリアル講演者＞
L. Overzet (The University of Texas at Dallas, アメリカ),
佐々木浩一 (北海道大学), J. Duboz (CRHEA-CNRS, フ
ラ ン ス ), 名 西憓 之 ( 立 命 館 大 学 /Seoul National
University, 韓国), F. Fracassi (University of Bari, イタリア), 飯島澄男 (名城大学）＜パネルディスカッション＞◆グローバルイノベーション研究拠点形成に向けて〈1月30日（水）〉モデレーター：藤村 修三（東京工業大学）◆窒化物半導体の将来展望～プラズマ科学、ナノテクノロジーの役割～〈1月31日（木）〉モデレーター：小田 修（名古屋工業大学）◆高効率エネルギー利用社会の構築に向けて〈2月1日（金）〉モデレーター：野崎 智洋（東京工業大学）
＜参加費＞
早期登録
事前登録
当日登録
(~2012/12/25) (~2013/1/17 11:00) (2013/1/17 11:00~)
一般： 20,000 円
25,000 円
30,000 円
学生： 3,000 円
5,000 円
7,000 円※1 月 30 日(水)午後のセッションのみ参加は参加費無料※バンケット(1/30) 一般 5,000 円 学生 2,000 円＜問合せ先＞
ISPlasma2013 事務局（公益財団法人科学交流財団内）
TEL: 0561-76-8327／ FAX: 0561-76-8328
E-mail:isplasma@astf.or.jp
Website: http://www.isplasma.jp

行事案内

シリコンテクノロジー研究会研究集会「プラズマプロセスの最新動向（DPS，AVS，GEC 特集）」
東京大学

一木 隆範

2013 年 2 月 15 日に東京大学で行われるシリコ【研究会の概要・趣旨】

ンテクノロジー研究会研究集会を下記の要領にて

ナノ・マイクロファブリケーション研究委員会開催します。プラズマエレクトロニクスにおいて

では、プロセステクノロジーとデバイステクノロ

最も重要なテーマの１つであるデバイステクノロ

ジーの有機的な議論の場を提供することを目的とジー応用の最新の研究・開発動向を掴み、深く討して、（１）ULSI の製造を支える微細加工技術の論できる非常に有用な機会です。ご興味のある方研究・開発の最新動向と（２）MEMS、バイオデ

は、是非ともスケジュールに入れていただきます

バイスなどのエマージングデバイス関連技術とにようお願い致します。

大別される、フェーズの異なるテーマを主軸とし記た研究会を１年に各々1 回ずつ催しております。

【主催】応用物理学会 Si テクノロジー分科会

今回、ご案内差し上げますのは、前者のプラズ

ナノ・マイクロファブリケーション研究委員会

マプロセス技術の研究・開発の最先端の成果を中【協賛】応用物理学会プラズマエレクトロニクス

心に議論する研究会です。例年、秋に開催される
主要なプラズマ及びドライエッチング関連の国際分科会【日時】2013 年 2 月 15 日（金）13 時～学会である AVS（米国真空学会）、GEC（電離気【場所】東京大学浅野キャンパス工学部

体国際会議）、DPS（ドライプロセスシンポジウ

9 号館大会議室ム）等における報告から、各分野を代表する第一（東京都文京区弥生 2-11-16、千代田線根津線の研究者の皆様にあらためて日本語でご講演を

駅或いは南北線東大前駅下車）お願いし、余裕をもった質疑時間を設けて討論をhttp://sogo.t.u-tokyo.ac.jp/access.html

深めます。

【参加費】
Si テクノロジー分科会員 2000 円研究会の後の懇親会も含めて、サロン的な雰囲

非分科会員 4000 円

気で多くの情報を共有し、新しい世代に向けたプ
ラズマプロセス技術の方向性を共有させていただ【問い合わせ先】く場にさせていただきたいと考えております。おシリコンテクノロジー分科会 ナノ・マイクロファ

近くの方にもお声掛けいただき、是非とも奮ってブリケーション研究委員会委員長

ご参加くださいますようお願い申し上げます。

一木隆範（東京大学）
ichiki@sogo.t.u-tokyo.ac.jp
47

行事案内

6th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science(IC-PLANTS 2013)金沢大学 石島 達夫
プラズマプロセス技術はナノ材料の合成･加工，マイクロ･ナノデバイス製造，バイオテクノロジーなど【テーマ】

・Fundamentals of plasma processesを牽引する先端技術としての重要性を増しています。 ・Plasma technology and MEMS
また、複雑かつ学際領域的なプラズマプロセス研究の・Atmospheric pressure plasma and plasma

推進にはリサーチコミュニティの協力が欠かせませbiotechnology

ん．最新のプラズマ科学とナノテクノロジーに関して、・Interactions between plasmas and nano-interfaces
世界のプラズマCoEが参集して議論・情報交換する場
として、名古屋大学プラズマナノ工学研究センター【トピックス】(PLANT)の設立にあわせスタートしたIC-PLANTS

Nano-fabrication /Diagnostics and monitoring ofの第6回を以下の要領にて開催いたします。奮ってごplasmas and Reaction surfaces / Nano-electronics /参加申込をいただけますよう，お待ちしております． Nano-biology / Interdisciplinary or integrated

research with Plasma technologies / Nano-optics /記

MEMS& NEMS technologies / Process technologies【会期】2013年(平成25年) 2月2日(土)～3日(日)for flat panel display / Environmental technologies /【会場】下呂交流会館

Equipment technologies / Emerging new concept〒509-2202 岐阜県下呂市森2270番地【交通】JR高山本線 下呂駅 下車【招待講演】
・D. Boonyawan (Chang Mai University , Thailand),下呂駅から濃飛バス「下呂交流会館」行き約7分
http://www.gero-k.jp/access.php

・P. Chabert (CNRS-Ecole Polytechnique, France),【主催】名古屋大学 プラズマナノ工学研究センター

・U. Czarnetzki (Ruhr-University Bochum, Germany),【共催】インターナショナルトレーニングプログラム、・J. K. Lee (Pohang Univ. of Sci. and Tech., Korea),
科学技術交流財団 東海広域知的クラスター創・I. Murakami (NIFS, Japan),

成事業本部，新学術領域研究「プラズマとナノ・M. ShIratani (Kyushu University , Japan),

界面の相互作用に関する学術基盤の創成」，新・M. Tabib-Azar (University of Utah, United States),

学術領域研究「プラズマ医療科学の創成」

・H. Toyoda (Nagoya University , Japan),・J.-S. Wu (National Chiao Tung University, Taiwan)【協賛】応用物理学会 プラズマエレクトロニクス分
科会，応用物理学会 東海支部，電気学会 東海
支部，名古屋産業振興公社 プラズマ技術産業応

申込受付：
http://www.plasma.engg.nagoya-u.ac.jp/IC-2013/

用センター，金沢大学 サステナブルエネルギー
研究センター【問合せ先】 石島 達夫 (実行委員長)【参加費】

e-mail: ic-plants@plasma.engg.nagoya-u.ac.jp

事前(11/30締切) 一般: 1０,000円，学生:１,000円
12月1日以降

一般: 15,000円，学生: 2,000円

48

行事案内
2013 年春季 第 60 回応用物理学関係連合講演会

第 10 回プラズマエレクトロニクス分科内招待講演
第４回海外研究者招待講演
東京工業大学野崎 智洋
分科内招待講演に引き継続き，海外研究者招待

学会２日目（3 月 28 日（木））は，プラズマエ

講演を行います。この企画は，応用物理学会本部

レクトロニクス分科会企画が目白押しである。
二日目（時間未定）は，第 10 回目を迎えるプが推進する国際化を受けて行われるもので，本分

ラズマエレクトロニクス分科内招待講演を行い

科会として第４回目の企画となります。これまでます。分科内招待講演企画のスコープは会報 55に ， 第 １ 回 ： Prof. Alexander Fridman (Drexel号（2011 年 12 月）で詳しく述べられているため

University) “Plasma medicine”, 第２回：Prof. Wonho

本稿では割愛しますが，プラズマエレクトロニク

Choe (KAIST) “Atmospheric Pressure Plasma and

ス分野の黎明期に活躍された先生方から，研究のHuman Cells”, 第 ３ 回 ： Prof. Jae Koo Lee

着想に至った経緯など様々なエピソードをご提(POSTECH) “Plasma sterilization and aesthetics”よ供いただき，次世代を担う若手研究者，技術者をりご講演を頂きました。３回続けてプラズマ医療

中心に Pioneering spirit を感じて頂くことを趣旨と応用が主題であったため，今回はプラズマナノテ

しています。

クノロジーに焦点を当て，Case Western Reserve2013 年春季講演会では，河合良信先生（九州大）， University より Professor Mohan Sankaran にお越しおよび小田哲治先生（東大）よりご講演を頂くこ

いただくこととなりました。Prof. Sankaran はマイととなりました。本稿で繰り返し述べるまでもな

クロプラズマの黎明期からマイクロプラズマとく，両先生ともにプラズマ基礎，プラズマエレク

ナノテクノロジーに関する研究に携わっており，

トロニクス分野の発展に長年にわたり貢献してナノ粒子・ナノチューブ合成に始まり，近年はプ

こられ，現在でも研究の最前線で活躍しておられ

ラズマ・液体相互作用などの分野で世界的に著名ます。皆様方におかれましては是非ご参集下さりな研究成果を多数発表しておられる，新進気鋭のますようお願い申し上げます。

若手研究者です。皆様には是非ご参加いただき，
活発な討論をお願い申し上げます。

日時

3 月 28 日（木），（時間は未定）

日時 3 月 28 日（木），（時間は未定）

プログラム（敬称略）

・講演者 Prof. Mohan Sankaran「プラズマプロセス用大面積プラズマ源の開発」

・所 属 Case Western Reserve University

河合 良信（九州大）

・講演題目（仮題）Plasma Enabled Nanoscience「大気圧プラズマの環境改善技術への応用」
小田 哲治（東大）
49

行事案内
2013 年春季 第 60 回応用物理学関係連合講演会
チュートリアル講演「プラズマの基礎とその微細加工技術への応用」
東京工業大学野崎 智洋
講義を頂きます。

応用物理学会では，2011 年秋季講演会からチュ

辰巳氏は半導体分野の第一線で活躍されており，

ートリアル講演を実施しています。内容は大学の講義スタイルであり，最近のトピックスに繋がる

半導体デバイスの最新動向はもちろんのこと，こ

基礎的内容をこれから新たに学ぼうとする学生やれを支える最先端プラズマ科学，および微細加工

企業人など初学者を対象に講義を行います。

技術への応用，さらに先進材料科学もカバーした
幅広いトピックについて，初学者を意識した分か

プラズマ応用技術は，応用物理学会が要するプ

ラズマ以外の全ての大分類の研究に関与しており， りやすい講義を頂く予定です。
極めて広範囲な材料およびデバイスに関わる分野

チュートリアル講演は事前予約制となっていま

横断技術として発展しています。このような現状す。貴重な講演のほか，最先端科学の第一線で活を鑑み，プラズマエレクトロニクス分科会会員の躍する講師が執筆したチュートリアル講演ならでみならず，応用物理学会の全ての会員へのサービ

はの講義テキストを入手することもできます。定スを考慮し，プラズマエレクトロニクス分科会で員がございますので，お早めにご予約いただきまは，年２回実施される講演会において毎回チュー

すよう，お願い申し上げます。

トリアル講演を企画・実施しています。
- 記 -第１回目（2012 春）：橘邦英先生（大阪電通大）「マイクロプラズマの基礎と応用」，第２回目（2012 秋）：杤久保文嘉先生（首都大）「シミュレ

日時 2013 年 3 月 27 日（水）9：00～12：10

ーションでみる反応性プラズマ～大気圧から低気講義タイトル プラズマの基礎とその微細加工技

圧まで～」に続き，第３回目となる 2013 年春季講

術への応用

演会では，辰巳哲也氏（ソニー㈱）より，「プラズ

講師 辰巳 哲也（ソニー㈱）以上

マの基礎とその微細加工技術への応用」と題して

50

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2013 年春季 第 60 回応用物理学関係連合講演会
プラズマエレクトロニクス分科会企画シンポジウム「ナノ界面プラズマの科学と応用展開」
東京工業大学

野崎 智洋

2013 年春の企画では，豊富な研究実績ととも

日時 2013 年 3 月 28 日（木），13:30 より（予定）に「ナノ界面プラズマ」に関する最先端プラズマ

テーマ 「ナノ界面プラズマの科学と応用展開」

科学に焦点を絞りつつ，「界面科学」に携わる第プログラム（講演時間 30 分，一般講演 15 分，講一線で活躍する研究を招聘し，プラズマプロセス

演タイトルは全て仮題）

を基盤とするナノテクノロジーの将来展望について広く議論します。

• ナノ界面プラズマとは：国内外における新しい

プラズマプロセスは，ULSI，MEMS デバイス

プラズマ科学の潮流

作製（トップダウン）からカーボンナノチューブ，
ナノ粒子合成（ボトムアップ）まで，ナノテクノ

白谷 正治（九州大学）• プラズマと液相の相互ダイナミクスの解析：微ロジーを支援する基盤技術として幅広く利用さ

粒子合成

れています。この分野のさらなる発展には，新し杤久保 文嘉，白井直機（首都大学東京）

い概念に基づいたプラズマの発生法，制御法を獲• 固体高分子燃料電池における三相界面と FCV

得し，さらに既成概念にとらわれない新規なプラの高性能化

ズマの利用法を基礎学理に基づいて実現するこ眞塩 徹也（日産自動車）とが期待されています。
• 二次元ナノ結晶を用いた光エネルギー変換材

本シンポジウムでは，新学術領域研究「ナノ界料の開発

面プラズマ」で得られた最新の研究成果を導入と伊田 進太郎（九州大学）

して，プラズマと異相界面の相互作用の結果生じ• ナノ流体制御を利用した革新的レアアース分

る諸現象，とりわけナノスケールで顕在化するプ

離に関する研究

ラズマの揺らぎについてその本質を明らかにし塚原 剛彦（東京工業大学）

つつ，様々な分野で異相界面科学を研究する著名な若手研究者を招聘し，基礎学理から応用展開ま• 一般講演（２件程度）

でを網羅して多角的に議論することを目的とし• まとめ：超臨界クラスター流体の材料科学－プています。他分野の専門家とともに，細分化・深ラズマプロセスのナノスケール揺らぎ－

化した「ナノ界面プラズマ」を俯瞰し，討論を活寺嶋 和夫（東京大学）

性化することも期待しています。皆様におかれま以上しては奮ってご参加いただき，活発な議論を賜りますよう，宜しくお願い申し上げます。
51

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APPC12

The 12th Asia Pacific Physics Conference
第 12 回アジア太平洋物理会議
http://www.jps.or.jp/APPC12/index.html
2013 年 7 月 14 日（月）～19 日（金）幕張メッセ

九州大学,APPC12 プログラム委員

白谷 正治

応用物理学会と日本物理学会が共同のホストとして，2013 年 7 月 14 日-19 日に幕張メッセで，プラズマ関係のプレナリー講演者 3 名

第 12 回アジア太平洋物理学会議を開催いたしま

D1(Plasma Physics )Prof. Liu Chen, China

す．この会議は 1983 年以来，AAPPS（Association

D2 (Plasma Processing)

Prof. P.K. Chu, Hong Kongof Asia Pacific Physical Societies）アジア太平洋

D4 (Astro&Space Plasma)Prof. K. Shibata, Japan

物理学会連合が，およそ２年半に一度，各国持ち回りで開催してきました．APPC12 の日本開催は， プラズマ関係のセッション構成（暫定）2010 年 11 月に上海で開催された APPC11 で提案

D-1-1

プラズマ乱流・輸送関係され，了承されました．第 12 回は，ノーベル賞

D-1-2

基礎プラズマ物理関係

受賞者を含む 10 名のプレナリー講演により，物

D-1-3&4

プラズマ計算科学関係

理学全体の潮流を把握できるとともに，プラズマ

D-2-1

半導体デバイスプラズマプロセス

以外の様々な領域に関する進展を一望に出来る会

D-2-2

プラズマグリーンテクノロジー

議となる予定です．プラズマ関係では，応用物理

D-2-3

プラズマライフサイエンス

学会主導で 4 セッション，物理学会主導で 4 セッ

D-2-4

プラズマ材料科学ション，また 2 学会合同で 1 セッションを企画中

D-3

高エネルギー密度科学関係です．現状では，下記のようなセッション構成(セD-4

スペースプラズマ関係

ッション名称は暫定です)となる予定です．なお，

D-5

その他のプラズマ（ポスターのみ）

Proceedings は Journal of Physical Society of

D-2&D-3

応物・物理合同セッション

Japan (JPSJ)の Supplement として発刊するこ

D-1&D-4

天文・物理合同セッションとを検討中です．多くの方に講演・参加していた
APPC12 全体のセッション構成

だきますようにお願い申し上げます．
重要日程は下記の通りです．

A.

Condensed matter / Applied Physics

A-1

Spintronics,

Magnetism,

andTopological

April 10, 2013

Deadline for Abstract Submission

Insulators

May 2, 2013

Notification of AcceptanceA-2

Solid-State Quantum Physics and Devices

June 15, 2013

Deadline for Early Registration

A-3

Graphene and Other Carbon-Based Materials

52

A-4

Oxidesand

C-2

Neutron Scattering

Nanostructured Materials

C-3

Optical Science

A-5

Low-Temperature Physics

C-4

Other Quantum Beam Physics

A-6

Electron Correlation and Superconductivity

D.

Plasma Science

A-7

Quantum Information and Statistical Physics

D-1

Plasma Physics

A-8

OthersD-2

Plasma Processing

D-3

High Intensity Laser Plasma Science

D-4

Astro- & Space Plasma

in

Novel

condensed

Low-dimensional

matterandphysics

andapplications
B.

Particle

Physics/NuclearPhysics/

AtomicPhysics/Astrophysics/

Physics oriented joint session

B-1

Particle Physic

Application oriented joint session

B-2

Nuclear Physics

D-5

Others in plasma science

B-3

Atomic and Molecular Physics

E.

Interdisciplinary

B-4

Astrophysics, Cosmology, and Gravitation

E-1

Computational Physics

Particle Physi/Astrophysics joint session

E-2

Others in interdisciplinary science

Others in elementary particle, nuclear, atomic andF.

Physics Education

F-1

Physics Education

G.

Women in Physics

G-1

Women in Physics

B-5

astro- physics
C.

Synchrotron

Radiation/

Neutron

Scattering/

Optical Physics
C-1

Synchrotron Radiation

53

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35th International Symposium on Dry Process (DPS2013)
第 35 回ドライプロセスシンポジウム案内
名古屋大学

豊田

浩孝

ドライプロセスはマイクロエレクトロ二クス、国で初めて開催された DPS2005 と同じ会場となりマイクロマシンやナノテクノロジー分野を牽引すます。従来と同様、オリジナルで新規な成果に基る基幹技術であり、電気・電子、半導体工学を主づいた一般発表とポスター発表を広く募集して開軸とする先端技術産業の更なる発展への貢献と、催することを計画しています。さらに、この分野

環境やバイオ・医療等の新たなる応用分野への展の発展に大きく貢献した研究者に与えられる西澤開が大きく期待されています。ドライプロセスシ

賞の受賞者の表彰と共に、前回シンポジウムで、ンポジウム(DPS)は、ドライプロセスの基礎から

優れた発表を行った研究者の表彰を行います。ま

応用に携わる世界の研究者・技術者が一堂に会し

た、JJAP 特集号の出版も企画しています。

て、最新の研究成果を基に、深い議論と多角的な

なお、今回の DPS は例年より 3 か月ほど早い開催

意見交換をするユニークな会議であり、35 年の長となりますので、講演申込みも早まり 4 月下旬頃

き亘り、ドライプロセス技術および関連技術分野となります。締切にご注意ください。多くの皆様の発展と若手研究者の育成に貢献してきました。

のご講演・ご参加をお待ちしております。

今 回は、場 所を韓国 に移し、 Asian-European

主催：応用物理学会(予定)International Conference on Plasma Surface

協賛(予定)：電子情報通信学会，電気化学会，

Engineering (AEPSE:2013 年 8 月 25 日-30 日)開催

Electrochemical Society日本支部，韓国表面工学会，
韓国真空協会 等に並行して同じ会場で 2013 年 8 月 29 日,30 日の 2日間の日程で DPS2013 を開催します。
韓国での DPS

日時：平成25年8月29日（木）－8月30日（金）開催は第 1 回目の 2005 年(済州島)、第 2 回目の

場所：韓国 済州島 Ramada Plaza Jeju Hotel2009 年(釜山)に続いて、これで 3 回目となり、開

問合先：実行委員長 名古屋大学 豊田浩孝

催地である済州島 Ramada Plaza Hotel Jeju は韓toyoda@nuee.nagoya-u.ac.jp

54

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2013 MRS-JSAP Symposium
Plasma Processing and Diagnostics for Life Sciences
2013 年 9 月 16 日（月）～20 日（金）のうちの 2 日間
同志社大学 京田辺キャンパス（京都府京田辺市）

東京大学大学院 新領域創成科学研究科 寺嶋 和夫
九州大学大学院 システム情報科学研究院 白谷 正治
2012 年 4 月 9 日-13 日にサンフランシスコで，
応 用 物 理 学 会 と MRS の 共 催 シ ン ポ ジ ウ ム

組織委員長: 浜口先生:大阪大学）の盛会に繋げることが出来れば幸甚です．

Plasma Processing and Diagnostics for Life

この MRS-JSAP Symposium は，招待講演，Sciences を開催いたしました．同様の共催シンポ

一般口頭講演，ポスター講演から構成され，全てジウムを 2013 年の応用物理学会秋季講演会会期

英語での講演となる予定です．御参考までに，ト中に同一会場で開催予定です．ライフサイエンスッピックスとキーワードを最後に掲載しておりまへのプラズマ応用は，学際領域として注目を浴び

す．本セッションに関する質問等は，寺嶋もしくており，研究者数・論文数が急増している新しいは白谷にお願いします．

学術領域です．日本だけでなく，米国，欧州，韓国，中国，オーストラリア等で盛んに研究されてSymposium Scope and Topics of Processing andおり，海外ではライフサイエンスへのプラズマ応

Diagnostics for Life Sciences

用に特化した研究センターも設立されております．

Plasma Chemistry and Life Sciences probably met

また，国内では平成 24 年度から 5 年間の予定で

the first time in the 50’s, when S.L. Miller ignited an

新学術領域『プラズマ医療科学の創成』が推進さ

electrical discharge in a gas mixture of the presumed

れつつあります．このように，極めて早いペース

components (methane, ammonia, hydrogen and waterで研究が進展している中で，本シンポジウムに参vapour) of the primordial atmosphere on Earth.

加いただければ，世界の最先端の研究潮流を一望

Aminoacids were found after the experiment in theすることにより，御自身の今後の研究展開に役立

glass vessel reactor, and a consistent hypothesis on how

つ知見が得られると期待されます．関係されるLife could have started on our planet was confirmed.

方々ともお誘い合わせの上，多くの方に講演・参Nowadays Plasma Science and Technology impacts

加していただきますようにお願い申し上げます．

many different large areas of Medicine, Biology,

本シンポジウムを成功させ，2014 年 2 月 4 日

Pharmacy, Agriculture and so on. In this field, plasma(火)-7 日(金)に福岡国際会議場で開催する ICRP8

can interact with organisms to produce various（http://plasma.ed.kyushu-u. ac.jp/~icrp-8/

functions

組

and

new

phenomenawithpotential

織委員長: 白谷:九州大学）や 2014 年 5 月 19 日

applications in inactivation of bacteria, wound( 月 )-23 日 ( 金 ) に 奈 良 県 新 公 会 堂 で 開 催 す る

disinfection and healing, fighting some types of

Plasma Medicine（http://icpm5.plasmabio.com/

cancers, and activation of cell functions and55• Plasmaproliferation. Additionally, plasmas at low andAgriculture

andFisheries:

atmospheric pressure enable surface modification andinactivation of mold, rapid growth of plants,fabrication of organic and inorganic materials to create

deodorizing, disinfect,advancedfish and cleaning water

biomaterials,

drug

deliverysystems,• Plasma

scaffolds and nanoparticles for Tissue Engineering,

surface

rapid growth ofmodifications

biomedical devices and so on. The clarification of

biomaterials:

mechanisms of gas phase reactions and plasma

treatment,

grafting)

induced surface interactions with organisms is a key

surfaces,

surfaceissue in advanced diagnostics. This emerging field,

embeddingof‘Plasmaresistant surfaces, controlled release of

Life

Sciences,’willestablishnewsynthesisofof(deposition,
biocompatible

immobilization

biomolecules;

novel

bacterial

interdisciplinary areas and open new, huge-scale

drugs;

industries. In order to promote this development,

Engineering scaffolds; stimuli-responsive

innovation in materials, processing and diagnostics

coatings, surface modified prosthesis

over the conventional technologies are strongly• Plasma surface modifications of biomedical
devices:required.

surfacesandunfouling,forTissuenano-textured,This symposium focuses on discussing the broad

nano/micro patterned surfaces; tuning of

range of innovative technologies for Plasma Lifesurface hydrophobicity and lubricity; bio

Science and precedes this field by transmitting new

templates; biosensors• Plasma Reactors and Simulations for Life

concepts toward the rest of the world on the basis of

Sciences : atmospheric pressure plasma,

the viewpoint of material science and technology

liquid• Plasma Medicine: homeostasis, apoptosis
restoration,

inactivation

plasma,simulation

forgas/liquid plasma and their controlling
technologies

of cancer, ulcer treatment wound bleeding,immunityphase• PlasmaofDiagnostics:

spatiotemporalbacteria, virus, prison, wrinkle free face,measurement of radical, ion, photon, andrejuvenation, surgery operation and theshocking wave, real time monitoring inevaluation with DNA and cell level

dense media and gas/liquid interface• Security and standardization for Plasma• Plasma Dentistry: bleaching, killing oral

Life Applications

bacteria, implant• Plasmaman,

Welfare: sterilization for aged
activationoforganismlongeroperation life

56

行事案内
ICRP-8/SPP-31

8th International Conference on Reactive Plasmas/ 31st Symposium on Plasma Processing
Fukuoka International Congress Center, Fukuoka, Japan
2014 年 2 月 4 日（月）～7 日（金）http://plasma.ed.kyushu-u.ac.jp/~icrp-8/index.html

九州大学,ICRP-8 組織委員長

白谷 正治

プラズマエレクトロニクス分科会は毎年「プ議となっており,ISPC は熱プラズマを含めプラズ

ラズマプロセシング研究会」を開催しております

マの応用に軸足を置いたものといえます.ICRP はが,約 3 年に 1 回,プラズマエレクトロニクス分科

プラズマの基礎を軸としつつ,その応用にも視点会の主催する国際会議として反応性プラズマ国際を拡げた会議であり,関係者から非常に高い期待

会 議 (International Conference on Reactiveを集めた会議であると考えています.

Plasmas: ICRP)を開催しており,これまでに名古

さて,次回の ICRP を 2014 年 2 月に福岡で開屋(1991 年)，横浜（1994 年），奈良（1997 年），

催する運びとなりました.本会議は，プラズマエレ

ハワイ(1998 年)，フランス(2002 年)，宮城(2006

クトロニクス分科会の関係する最も重要な国際会

年) ，パリ(2010 年)と,計 7 回の国際会議を成功裏議となっております.まさに,プラズマプロセス分に開催してきました.特に第 4 回, 第 7 回はアメリ

野の世界中の研究者が一同に会する大会議になる

カ の 電 離 気 体 会 議 (Gaseous Electronics

予定です.皆様奮ってご参加いただきますようご

Conference: GEC),第 5 回はヨーロッ パ 電 離案内申し上げます．また，国内外の関係者にも積気 体 原 子 分 子 物 理 会 議 (European

極的に宣伝して頂ければ幸いです．

Conference on Atomic and Molecular Physics of

本国際会議を成功させ，2015 年度に予定してIonized Gases: ESCAMPIG)との合同会議としている GEC と合同開催の ICRP9/GEC の盛会に繋開催されました.このような共同開催を通しげることが出来れば幸甚です．

て,ICRP はアメリカ,ヨーロッパにおいてもよく
重要日程は下記の通りです．

知られた国際的に著名な会議のひとつとなっておAbstract deadline

ります.

April 10, 2013

プラズマに関する著名な国際会議としては,Notification of acceptanceMay 2, 2013

他 に 電 離 気 体 現 象 国 際 会 議 (International

Early registration deadline

June

Conference on Phenomena in Ionized Gases:

2013

15,

ICPIG), プ ラ ズ マ 化 学 国 際 会 議 (International
Symposium on Plasma Chemistry: ISPC),上述

最後に会議のトピックスを示します．

の ESCAMPIG, GEC 等があります.GEC,ICPIG,The ICRP-8/SPP-31 will consist of a series of

ESCAMPIG は,プラズマの基礎に軸足をおいた会

oral sessions (composed of both invited and57

contributed papers), poster sessions including

6.

Plasma-Solid

Interaction

andSurfaceshort oral presentations, and several arranged

Modification

sessions on selected topics. Sessions will be

7. Etchingorganized around coherent subjects in order to

8. Deposition

facilitate useful discussions and focus on

9. Micro/Atmospheric-Pressure Plasmas andappropriate solutions to problems.

Plasmas in Liquids
10. Applications for Nano-Technologies

Sessions

11. Applications for Green Technologies

1. Production and Control of Reactive Plasmas

12. Applications for Life Sciences

2. Plasma Diagnostics and Monitoring

13. New Trends of Reactive Plasmas / Emerging

3. Transport Phenomena and Atomic/MolecularTechnologies

Processes

14. Special Session on Interactions between

4. Modeling and Simulation

Plasmas and Nanointerfaces

5. Particle Production and Behavior

58

2012（平成 24）年度プラズマエレクトロニクス分科会幹事名簿
氏名

所属

住所・電話
〒277-0882
柏市柏の葉5-1-5基盤系研究棟504
TEL: 04-7136-3799
FAX: 04-7136-3799

E-mail寺嶋和夫

東京大学
新領域創成科学研究科
物質系専攻

副幹事長 豊田浩孝

名古屋大学
工学研究科
電子情報システム専攻〒464-8603
名古屋市千種区不老町
TEL: 052-789-4698
FAX: 052-789-3150

toyoda@nuee.nagoya-u.ac.jp

副幹事長 辰巳哲也

ソニー（株）
R&DPF コアデバイス開発本部
セミコンダクタテクノロジー開発部門
プロセス設計部〒253-0014
厚木市旭町4-14-1
TEL: 046-202-4793
FAX: 046-202-6374

Tetsuya.Tatsumi@jp.sony.com

副幹事長 野崎智洋

東京工業大学
大学院理工学研究科
機械制御システム専攻〒152-8550
目黒区大岡山2-12-1(I1-23)
TEL: 03-5734-2681
FAX: 03-5734-2681

tnozaki@mech.titech.ac.jp

幹事
任期
安部隆
2013年3月

新潟大学
大学院自然科学研究科
材料生産システム専攻〒950-2181
新潟市西区五十嵐2の町8050
TEL: 025-262-6795
FAX: 025-262-6795

memsabe@eng.niigata-u.ac.jp

池田知弘

三菱電機(株)
先端技術総合研究所〒661-8661
兵庫県尼崎市塚口本町8-1-1
TEL: 06-6497-7524
FAX: 06-6497-7285

Ikeda.Tomohiro@ab.Mitsubis
hiElectric.co.jp

市來龍大

大分大学
工学部
電気電子工学科〒870-1192
大分市旦野原700
TEL: 097-554-7826
FAX: 097-554-7820

ryu-ichiki@oita-u.ac.jp

〃

唐橋一浩

〒565-0871
大阪大学
大阪府吹田市山田丘2-1A12棟
大学院工学研究科
TEL: 06-6878-6411
原子分子イオン制御理工学センター
FAX: 06-6879-7916〃

榊田創

産業技術総合研究所
エネルギー技術研究部門
先進プラズマ技術グループ

〃

佐藤孝紀

室蘭工業大学
大学院工学研究科
情報電子工学系専攻〃

坪井秀夫

坪井技術士事務所〃

西澤厚

ルネサスエレクトロニクス株式会社
生産本部
プロセス技術統括部
プロセス加工技術部〃

比村治彦

京都工芸繊維大学
工芸科学研究科
電子システム工学専攻〃

名城大学
平松美根男 理工学部
電気電子工学科

幹事長〃〃〒305-8568
茨城県つくば市梅園1-1-1 つくば中央第2TEL: 029-861-5775
FAX: 029-861-5754

kazuo@plasma.k.u-tokyo.ac.jp

karahashi@ppl.eng.osakau.ac.jp

h.sakakita@aist.go.jp〒050-8585
室蘭市水元町27-1
ksatoh@mmm.muroran-it.ac.jp
TEL: 0143-46-5506
FAX: 0143-46-5501〒231-0023
横浜市中区山下町1番地 ｼﾙｸｾﾝﾀｰM209号
h.tsuboi.ce@mopera.net
日本技術士会 神奈川県支部内
TEL: 045-210-0337
FAX: 045-210-0338〒252-5298
atsushi.nishizawa.kc@renesas.
神奈川県相模原市中央区下九沢1120
TEL: 042-779-9925
com
FAX: 042-771-0329〒606-8585
京都市左京区松ヶ崎御所海道町5号館405
TEL: 075-724-7437
FAX: 075-724-7437

himura@kit.ac.jp〒468-8502
名古屋市天白区塩釜口1-501
TEL: 052-838-2298
FAX: 052-832-1298

mnhrmt@meijo-u.ac.jp

59

氏名
幹事
任期
池田太郎
2014年3月

所属
東京エレクトロン山梨株式会社
技術開発センター
MiPSグループ

住所・電話〒407-0192
山梨県韮崎市穂坂町三ﾂ沢650
TEL: 0551-23-2327
FAX: 0551-23-4260

E-mailtaro.ikeda@tel.com〒761-0396
香川県高松市林町2217-20
TEL: 087-864-2400
FAX: 087-864-2438

y05595@eng.kagawa-u.ac.jp〒235-8522
横浜市磯子区新杉田8番地
TEL: 045-776-4673
FAX: 045-776-4104

takashi2.ichikawa@toshiba.c
o.jp

〃

石川善恵

香川大学
工学部
材料創造工学科

〃

市川尚志

（株）東芝
デバイスプロセス開発センター
インテグレーション・キャラクタリゼー
ション技術開発部〃

北野勝久〒565-0871
大阪大学
大阪府吹田市山田丘2-1
大学院工学研究科
TEL: 06-6878-6412
原子分子イオン制御理工学センター
FAX: 06-6879-7916

〃

金 載浩

産業総合技術研究所
エネルギー技術研究部門
先進プラズマ技術グループ〒305-8568
茨城県つくば市梅園1-1-1 中央第2TEL: 029-861-4889
FAX: 029-861-5754

jaeho.kim@aist.go.jp

〃

堤井君元

九州大学
総合理工学研究院
融合創造理工学部門〒816-8580
福岡県春日市春日公園6-1(D棟304号室)
TEL: 092-583-7097
FAX: 092-583-7097

teii@asem.kyushu-u.ac.jp〃

首都大学東京杤久保文嘉 理工学研究科
電気電子工学専攻〒192-0397
八王子市南大沢1-1
TEL: 042-677-2744
FAX: 042-677-2756

tochi@tmu.ac.jp

〃

前田賢治

(株)日立製作所
中央研究所
ナノプロセス研究部〒185-8601
東京都国分寺市東恋ヶ窪 1-280
TEL: 042-323-1111 (ext. 2142)
FAX: 042-327-7708

kenji.maeda.tj@hitachi.com

〃

三重野哲

静岡大学
理学部
物理学科

〒422-8529
静岡市駿河区大谷836
TEL: 054-238-4750
FAX: 054-238-4750

piero@sannet.ne.jp

〃

三沢達也

佐賀大学
大学院工学系研究科
電気電子工学専攻〒840-0027
佐賀県佐賀市本庄町1
TEL: 0952-28-8639
FAX: 0952-28-8651

misawa@ep.ee.saga-u.ac.jp

〃

向川政治

岩手大学
工学部
電気電子・情報システム工学科〒020-8554
岩手県盛岡市上田4-3-5
TEL: 019-621-6877
FAX: 019-621-6877

mukaigaw@iwate-u.ac.jp

〃

吉木宏之

鶴岡工業高等専門学校
電気電子工学科〒997-8511
山形県鶴岡市井岡字沢田104
TEL: 0235-25-9146
FAX: 0235-24-1840

yoshiki@tsuruoka-nct.ac.jp

60

kitano@ppl.eng.osaka-u.ac.jp

2012（平成 24）年度分科会幹事役割分担
役割分担
幹事長
副幹事長
1. 分科会ミーティング
2. シンポジウム総合講演
合同セッション

3. プラズマプロセシング
研究会

4. 光源物性とその応用研究会

5. プラズマ新領域研究会

6. インキュベーションホール

7. プラズマエレクトロニクス
講習会
8. 会誌編集・書記
9. ホームページ
10. 会員名簿
11. 庶務
12. 会計13. プラズマエレクトロニクス賞
14. アカデミックロードマップ(戦略企画室)15. PE 懇親会
秋：愛媛大学16. PE 懇親会
春：神奈川工科大学
GEC 委員

白谷正治

寺嶋 和夫
豊田 浩孝
辰巳 哲也
野崎 智洋
三沢 達也
野崎 智洋
北野 勝久
金 載浩
市川 尚志
豊田 浩孝
三重野 哲
堤井 君元
金 載浩
池田 太郎

新任
東京大学
名古屋大学
(株) ソニー
東京工業大学
佐賀大学
東京工業大学大阪大学(独) 産業技術総合研究所(株) 東芝
名古屋大学
静岡大学
九州大学
(独) 産業技術総合研究所
東京エレクトロン山梨 (株)

向川 政治

留任

平松 美根男
安部 隆
比村 治彦
坪井 秀夫
平松 美根男
榊田 創
池田 知弘
安部 隆
比村 治彦
西澤 厚
市來 龍大
佐藤 孝紀

名城大学
新潟大学
京都工芸繊維大学(株) アルバック
名城大学(独) 産業技術総合研究所
三菱電機(株)新潟大学
京都工芸繊維大学
ルネサスエレクトロニクス
大分大学
室蘭工業大学

岩手大学

佐藤 孝紀

室蘭工業大学豊田 浩孝
栃久保 文嘉
石川 善恵
堤井 君元
吉木 宏之
豊田 浩孝
前田 賢治
三沢 達也
石川 善恵
吉木 宏之
辰巳 哲也
池田 太郎
前田 賢治
市川 尚志
市川 尚志
向川 政治
北野 勝久

名古屋大学
首都大学東京香川大学
九州大学
鶴岡工業高等専門学校
名古屋大学(株) 日立製作所
佐賀大学
香川大学
鶴岡工業高等専門学校(株) ソニー
東京エレクトロン山梨 (株)(株) 日立製作所(株) 東芝(株) 東芝
岩手大学
大阪大学

市來 龍大
西澤 厚
榊田 創

大分大学
ルネサスエレクトロニクス(独) 産業技術総合研究所

三沢 達也
北野 勝久
寺嶋 和夫
野崎 智洋
寺嶋 和夫

佐賀大学
大阪大学
東京大学
東京工業大学
東京大学

佐藤 孝紀
榊田 創
唐橋 一浩
坪井 秀夫
平松 美根男
坪井 秀夫
池田 知弘
西澤 厚
安部 隆
市來 龍大
池田 知弘
唐橋 一浩
佐藤 孝紀
市來 龍大
平松 美根男室蘭工業大学(独) 産業技術総合研究所
大阪大学(株) アルバック
名城大学(株) アルバック
三菱電機 (株)ルネサスエレクトロニクス
新潟大学
大分大学
三菱電機 (株)大阪大学
室蘭工業大学
大分大学
名城大学

榊田 創

(独) 産業技術総合研究所

安部 隆

新潟大学

比村 治彦

京都工芸繊維大学

九州大学

太字：取りまとめ役
61

2012（平成 24）年度分科会関連の各種世話人・委員
１．応用物理学会講演分科の世話人
8.1 プラズマ生成・制御

林 信哉
中村 圭二
山形 幸彦
野崎 智洋
林 久貴
佐藤 孝紀
明石 治朗

（佐賀大）
（中部大）
（九州大）
（東工大）
（東芝）
（室蘭工大）（防衛大）

２．応用物理・編集委員

野崎 智洋

（東工大）

３．応用物理学会代議員

豊田 浩孝
金子 俊郎
林 信哉

（名古屋大）（東北大）（佐賀大）

４．GEC 組織委員会委員

白谷 正治

（九州大）

５．その他：本部理事

斧

高一

（京都大）

６．評議員

河野 明廣
白谷 正治
中山 喜萬
畠山 力三
藤山 寬
堀 勝
真壁 利明
宮崎 誠一

（名古屋大）
（九州大）
（大阪大）
（東北大）
（長崎大）
（名古屋大）（慶應大）（名古屋大）

７．フェロー

岡本 幸雄
河野 明廣
寒川 誠二
菅井 秀郎
高井 治
橘 邦英
中山 喜萬
畠山 力三
藤山 寬
堀 勝
真壁 利明
渡辺 征夫

（東洋大）
（名古屋大）（東北大）（中部大）（名古屋大）
（愛媛大）
（大阪大）
（東北大）
（長崎大）
（名古屋大）（慶應大）（九州電気専門学校）

８．名誉会員

後藤 俊夫

（中部大）

8.2
8.3
8.4
8.5
8.6

プラズマ診断・計測
プラズマ成膜・表面処理
プラズマエッチング
プラズマナノテクノロジー
プラズマ現象・新応用・融合分野

62平成 24 年度中期活動報告
第 64 回プラズマエレクトロニクス分科会ミーテ
ィング／平成 24 年度第 2 回幹事会議事録（応用
物理学会インフォーマルミーティング内）

理学会学術講演会の進捗について説明があった。
(1)シンポジウム企画
北野幹事（大阪大学）より説明があった。現在、「プラズマ医療の反応素過程」と「大気イオンの科学と応用最前線」の２テーマを考えている。
「プ
ラズマ医療・・・」を 2013 年春の分科企画として、「大気・・・」を 2013 年秋の分科企画として行う方向で検討していることが説明された。
「分科企画シンポジウム」「公募シンポジウム」どちらで応募するかについて、議論がなされた。

日時：平成 24 年 9 月 11 日（火）12:00-13:15
場所：愛媛大学 E1 法文学部 101 講義室
０．
「8.プラズマエレクトロニクス」大分類分科意
見交換会
中村先生（中部大）より、大分類の委員選出について説明があった。大分類８からは、講演会企画
委員とプログラム編集委員を出している。講演会
企画委員としては、「分科会」ではなく、「大分類」
から委員を出してほしいという意向とのこと。
プラズマエレクトロニクス分科会の場合、大分類
８に所属する人とほぼイコールであるため、基本分科会の意向で選出している現状は実質ベースでは悪くない。ただし、「大分類８に興味があるが、分科会に入ってない」という人にも配慮する必要がある。
「分科会のみで閉じてない」とするため、アナウンス等を工夫する必要がある。以上、今後の委員選出方法について、意見交換が行われた。

以下、野崎幹事から、現状について説明があった。
(2)分科内招待講演(3)チュートリアル講演(4)その他
海外招待講演もぜひ実施したいとの意向が示された。
２．プラズマ新領域研究会について
豊田幹事（名古屋大）から、下記プラズマ新領域
研究会について紹介があった。
(1) 第１１回 「光・レーザーによるプラズマ計測の最前線」（第 28 回九州・山口プラズマ研究会との共催）2012 年 11 月 10 日(土) 由布院(2)第１２回 電気学会プラズマ/パルスパワー合同研究会との共催 2012 年 12 月 10-12 日のうちの１日あるいは半日 東京大学・山上会館(3) 第１３回 2012 年 12 月 21 日（金） 東京

宮崎講演会企画運営委員（名古屋大）から、大分類の委員の選出方法、小分類の見直し、ポスター
アワード導入等について説明があった。
ポスターアワードは、会場の都合によりオーラルにリミットをかける必要が出てきたため、ポスタ
ーの内容を向上したいという意図とのこと。

３．第３０回プラズマプロセシング研究会について第３０回プラズマプロセシング研究会（来年の 1
月 21 日から 3 日間浜松で開催予定）について三重野幹事（静岡大学）から説明と紹介があった。
順調に準備が進んでいるとのこと。参加申し込みは 10/15 締め切り。
企業広告や展示の広告費についての扱いについて、意見交換がなされた。過去の事例を参考にする方向で検討することになった。

堀先生（名古屋大）から、「（応物全体で）English
セッションがまだ少ないのでは」「もっとエンカレ
ッジできるようなやり方があるとよいのでは」という提案がなされた。
他、中分類についての質問（「特定テーマ」についてなど）がなされた。
１．
平成２５年度春季応用物理学会学術講演会（神奈川大）について
野崎幹事(東工大)から、平成２５年度春季応用物

63

４． 第２３回プラズマエレクトロニクス講習会について
11/14 に行われる第２３回プラズマエレクトロニ
クス講習会について、辰巳幹事（ソニー）から報告があった。今年は、「参加しやすいように、二日でなく、一日にする」「ドライプロセスと同じ会場で連続開催」などの改革を実施。一日にした分、そのままの参加人数では収入減が見込まれるので、ぜひ宣伝をお願いしたい。
５． 第６回プラズマエレクトロニクスインキュ
ベーションホールについて
唐橋幹事（大阪大学）から、第６回プラズマエレ
クトロニクスインキュベーションホールについて説明があった。来週実施予定。参加予定者は 51名で、例年 40 名程度の中、今年は増えている。
企業参加者が少なく、もう少し早くから宣伝できると望ましい。
６． プラズマエレクトロニクス分科会会報（No.56,57）について
プラズマエレクトロニクス分科会会報について、市來幹事の代理として、寺嶋幹事長から説明があった。
７． 分科会会計について
分科会会計について、
北野幹事より説明があった。
昨年の実績をベースに予算案を作成したとのこと。
調整については、各位への協力依頼があった。
８． 平成２５年度事業計画について
平成２５年度事業計画について、市來幹事の代理として、寺嶋幹事長から説明があった。事業計画
は、応物本部の会長の方針に沿う形で検討中。具
体的には、「国際化」と「経費の効率化」という方針に合わせた事業計画を策定中。
９． 第１１回プラズマエレクトロニクス賞候補
者論文募集について
第１１回プラズマエレクトロニクス賞候補者論文について、寺嶋幹事長から説明があった。各位に積極的な応募のお願いがなされた。

１０．科学研究費・ 新細目“プラズマエレクト
ロニクス” について
今年 10 月に申請する科研費から、新細目「プラズマエレクトロニクス」が追加されることについて、寺嶋幹事長から説明があった。
１１．その他
比村幹事（京都工芸繊維大学）から、8 月より 2年間の任期で学術調査官（科研費担当）を併任したことの報告があった。
野崎幹事から、ＭＲＳとの合同セッションについて、講演会座長について、分科会特別展示について、雑誌応用物理の特集の説明がなされた。
講演会座長については、50 歳以上の大御所の先生
や、35 歳以上の博士課程の学生さんなども積極的にお願いしていく予定とのこと。
応物の特集号については、従来より「柔らかい特集」も組まれて行く予定であり、プラズマエレク
トロニクス分科会として、あるいは企業グループとしての記事も投稿していきたい旨が説明された。
今回の特別展示の準備について、各位への感謝の意が示された。
寺嶋幹事長から、以下の報告があった。
理事会情報について報告があった。
APPC12 にて、プラズマの分科会を作る動きについて説明がなされた。物理学会が中心になって進めているが、応物側からも委員を出して実施予定とのこと。
プラズマカンファレンスの次回の相談がはじまっていることについて報告があった。
GEC/ICRP の 2015 年日本開催を目指し尽力中であるという現状報告がなされた。
応物プラ核合同についての連携の一環としてのプラ核年会での合同シンポジウムの開催（11 月 30日）開催について説明がなされた。
堀先生（名古屋大）から、プラズマ医療の新学術領域の立ち上げについての説明がなされた。
「日本ならでは」といえる、骨太のものにしていきたいとのこと。
（記：市川尚志（東芝））

64

プラズマエレクトロニクス関連会議日程
国際会議
January 28 –Feburuary 1, 2013
5th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides andNanomaterials(ISPlasma2012)名古屋大学
http://www.isplasma.jp/
February 2-3, 2013
6th International Conference on Plasma-Nanotechnology＆Science(IC-PLANTS2013)
下呂交流会館
http://www.plasma.engg.nagoya-u.ac.jp/IC-2013/
April 1-5, 20132013 MRS Spring Meeting
San Francisco, California
http://www.mrs.org/spring2012/
July 14-19, 2013
The 12th Asia Pacific Physics Conference (APPC12) / The 3rd Asia-Europe Physics Summit (ASEPS)
幕張メッセ国際会議場
http://www.jps.or.jp/APPC12/index.html
July 15-19, 2013
31st International Conference on the Physics of Ionised Gases(ICPIG)
Granada, Spain
http://www.icpig2013.net/
August 4-8, 2013
International Symposium on Plasma Chemistry(ISPC 21)Cairns, Australia
http://www.ispc-conference.org/
http://ispc20.plasmainstitute.org/home/ISPC-2013-for-Philadelphia.pdf (older info)
August 29-30, 2013
35th International Symposium on Dry Process(DPS 2013)
Jeju, Korea
http://www.dry-process.org/2013/index.html
September 16-20, 20132013 JSAP Autumn Meeting (JSAP-MRS Joint Symposium)同志社大学
http://www.mrs.org/jsap-2013/65

February 4-7, 2014
8th International Conference on Reactive Plasma/30th Symposium on Processing Plasmas(ICRP-8/SPP-30)
福岡国際会議場
http://plasma.ed.kyushu-u.ac.jp/~icrp-8/index.html

国内会議・会合
2013. 1. 21-23
第 30 回プラズマプロセシング研究会(SPP-30)
アクトシティ浜松・研修交流センター
詳細は追って下記分科会 HP に掲載していく予定です。
http://annex.jsap.or.jp/support/division/plasma/2013. 3. 26-29
日本物理学会第 68 回年次大会
広島大学
http://www.jps.or.jp/activities/meetings/future.html
2013. 3. 27-30
応用物理学会 春季講演会
神奈川工科大学
http://www.jsap.or.jp/activities/annualmeetings/regularmeeting.html
2013. 9. 16-20
応用物理学会 秋期講演会
同志社大学 京田辺キャンパス
http://www.jsap.or.jp/activities/annualmeetings/regularmeeting.html
2013. 9. 20-27
日本物理学会 2013 年秋季大会
高知大学 (9. 20-23) [素、核、宇]徳島大学 (9. 24-27) [物性]http://www.jps.or.jp/activities/meetings/future.html
2014. 3. 27-30
日本物理学会第 69 回年次大会
東海大学
http://www.jps.or.jp/activities/meetings/future.html

66

2014. 9. 17-20
応用物理学会 秋期講演会
北海道大学 札幌キャンパス
http://www.jsap.or.jp/activities/annualmeetings/regularmeeting.html
2014. 9. 18-21
日本物理学会 2014 年秋季大会
佐賀大学
http://www.jps.or.jp/activities/meetings/future.html

67東日本大震災で被災された方への会費免除のお知らせ（社）応用物理学会
２０１１年３月１１日の東日本大震災で被害に遭われた会員の方々に心からお見舞い申し上げます。
すでに本会ホームページならびにメールでもお知らせ申し上げておりますが、本会では、被害に遭われた会員の方に対し会費を免除させていただくことになりました。
つきましては、地震で被災されたことを証明する書類（注）を添えて学会事務局までお申し出下さい。お申し出でいただいた会員の方には、直近の会費を１年間免除させていただきます。
●免除対象会費：正会員（社会人）会費、正会員（大学院生）会費、学生会員会費、分科会会費（A 会員会費・B 会員会費）（注）：例えば所属機関ないし上長による被災証明書、指導教官による被災証明書、支部発行の被災証明書など
被災証明郵送先および問合せ先：〒113-0034
東京都文京区湯島 2-31-22 湯島アーバンビル 7 階
公益社団法人 応用物理学会 会員係 宛
電話：03-5802-0862
FAX：03-5802-6250
e-mail：membership@jsap.or.jp

68

編集後記
プラズマエレクトロニクス分科会会報No.57をお届け致します。お忙しい中、本誌原稿をご執筆くださいました皆様に、心よりお礼申し上げます。
本誌の巻頭言では、松山の学会での分科内招待
講演が大変反響が高かったということから、ご年
長の葛谷先生が執筆者候補の第一としてお名前があがりましたのでご執筆のお願いをし、「プラズマ化学の科学技術リテラシーのすすめ」という題目でご寄稿いただきました。プラズマ化学の黎明期から現在までの鳥瞰や、中堅若手研究者への熱いメッセージをいただきました。松山の学会での講演会の白熱ぶりは、野崎先生の国内会議報告記
事から様子が伺えます。寄稿欄には、文科省新学術領域研究に「プラズマ医療科学の創成」が今年
度からスタートしたことを受けて、領域代表者の堀先生に、ご多忙を重々承知の上で「プラズマ医療の世界の潮流」というタイムリーで大局的な解説をご執筆いただきました。学生のためのページ
は今回で８回目となります。今回はパルスパワーとその応用について、高木先生と江先生にご執筆いただきました。目次では、学生のためのページ
から次の国際会議報告の間のページがかなり飛んでおり、かなりの大作を寄稿していただいたことがわかります。どこの研究室にでもあるような部
品で装置を組む方法が、わかりやすく解説されています。この記事が有益なのは学生だけではない
ように思います。
本誌を編集するにあたり、ご執筆くださった上記の先生方と、研究室紹介をご快諾下さいました
齋藤先生、研究紹介としてPE賞受賞記念講演報告をご執筆頂きました田嶋先生、海外の研究事情をご執筆頂きました古閑先生に感謝申し上げます。
また、国際会議報告、国内会議報告、行事案内を多くの方々にご執筆頂きました。行事開催から会誌編集の間が短いにもかかわらず、報告・案内をご執筆下さった皆様のご努力に感謝申し上げます。
最後に、研究会や国際会議などを開催する際や、参加される際には、ぜひ本誌に案内記事や報告記
事をご寄稿いただきますようお願いします。
また、研究室紹介、研究紹介、海外情報、学生のためのレクチャー記事などを、随時募集しております。
ご投稿の際は、会報編集担当までご連絡ください（連絡先は分科会幹事役割分担欄をご覧ください）。
会員の皆様のご協力をお願い申し上げます。
(平成24年度会報編集担当：池田、市來、市川、向川)(文責：向川)プラズマエレクトロニクス分科会会報 No.57
2012年 12 月 14 日 発行
編集：公益社団法人 応用物理学会
プラズマエレクトロニクス分科会
幹事長 寺嶋 和夫
発行：公益社団法人 応用物理学会〒113-0034 東京都文京区湯島2-31-22
湯島アーバンビル7階（©2012 無断転載を禁ず）

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