<別添> 平成31(2019)年度 学生研修プログラムリスト
微細構造解析
No.

研修テーマ

機関名

研修先
ホスト氏名

2019/3/29
研修期間

定員

研修概要

対象学年など

特記事項

研修スケジュール

研修場所

1日目 FIBおよびTEMについての基礎講習＋見学

1

FIBおよびTEMを用いた基礎的微細構造解析FIBによる試料作製と2 TEMによる観察・分析
の研修

3

東北大学

今野 豊彦
嶋田 雄介

物質・材料研竹口 雅樹
究機構

走査型ヘリウムイオン
顕微鏡(SHIM)によるナ 物質・材料研
大西 桂子
ノスケール表面観察お 究機構
よびナノ加工の基礎

物質・材料研鷺坂 恵介
4 走査型トンネル顕微鏡
による原子分解能観察 究機構

5 オージェ電子分光法（AES）入門

物質・材料研 安福 秀幸
究機構
岩井 秀夫

7/16～7/26（このうち4日間。期間内で実
施日程を調整）

7/29～8/1（4日間）

7/17～7/19（3日間。変更可。応相談）

学部4年、修士課程、博
2日目 FIB実習
本研修では集束イオンビーム（FIB）装置を用いたTEM試料作 士課程、高専4～5年、 ・試料持込は要相談。ただし3日目 TEM実習
2名 製から透過電子顕微鏡法（TEM）による組織解析までの概略 高専専攻科
データ取得を前提とするもを学び、実際にこれら装置を用いた実習を行う。
※FIBおよびTEMの未 のは基本的に不可。
4日目 解析についての実習＋まとめ経験者、初心者向け
講義担当者の都合により日程が前後する可能性があります
FIBとTEMの基礎講義、オリエンテーション、安全
1日目
ガイダンス
・自身の試料持ち込みは不集束イオンビーム加工装置(FIB)と透過型電子顕微鏡(TEM)の 学部1～4年、修士課
FIBの実習2日目
可としますが、研究テーマに2名 基礎を学び、FIBによる試料作製とTEM操作(HRTEM、STEM- 程、博士課程、高専4～関するTEM利用の相談は歓EDSなど)を研修する。
5年、高専専攻科
3日目 FIBの実習迎します。
4日目 TEMの実習
SHIMについての基礎講義、SHIMによる観察の1日目
実習
走査型ヘリウムイオン顕微鏡(SHIM)の動作原理、SHIMによる 学部1～4年、修士課・観察したい試料があれば2名 観察・加工例等の基礎を学び、基本的な観察および加工の操 程、博士課程、高専4～
2日目 SHIMによる観察の実習
ご相談ください作を習得する。
5年、高専専攻科
3日目 SHIMによる加工の実習とまとめ

宮城県仙台市片平2-1-1
東北大学 金属材料研究所/先端電子顕微鏡センター 2号館6階及び地下1階

茨城県つくば市千現1-2-1
物質・材料研究機構
精密計測実験棟

茨城県つくば市千現1-2-1
物質・材料研究機構
材料信頼性実験棟

STMについての講義・施設見学、超高真空の創
製、STM探針作製
茨城県つくば市千現1-2-1
STM探針の清浄化、金表面のSTM観察、シリコ 物質・材料研究機構
2日目
界面制御実験棟
ン清浄表面の作製
3日目 STMによるシリコン表面の観察実習
1日目

8/28～8/30（3日間）

走査型トンネル顕微鏡(STM)の動作原理と超高真空環境の創 学部1～4年、修士課
3名 製法の学習、STM探針の作製とシリコン表面の観察実習を通 程、博士課程、高専4～
じて、原子分解能表面観察技術を体験する。
5年、高専専攻科

7/29～8/2（5日間）

1日目 安全教育、装置の部屋見学、講義
・最終日はご自分の試料を測定して頂きます。対応でき
実習｛試料アラインメント、SEM像取得、AESスペ
2日目
ないケースもありますので、クトル取得、表面クリーニング｝
AESについて基礎から応用まで習得するため、表面分析概論 学部1～4年、修士課
茨城県つくば市千現1-2-1
試料の種類およびどの様な2名 を含めた講義およびAES装置を使用した測定実習を行い、
程、高専4～5年、高専
物質・材料研究機構
3日目 実習｛registration、元素マップ、データ解析｝
情報が得たいか（分析対象
データ解析を理解する。
専攻科
精密計測実験棟のサイズ、元素マップ観測
実習｛深さ方向分析、（絶縁物分析）、データ解
4日目／深さ方向分析など）を事前
析｝にご連絡下さい。
5日目 実習｛自分の試料等｝
施設紹介、利用ルール説明、安全教育などの簡単なガイダンス
1日目 ・施設見学と走査プローブ顕微鏡（SPM）の基礎
・SPMの原理の説明・走査型トンネル顕微鏡の探針の作成法

走査型プローブ顕微鏡

産業技術総6 （SPM）の原理と実環境 合研究所

井藤 浩志

ナノ物性計測7/29～8/2（5日間）

・高専、学部1～3年の参加
者は、右記と若干異なるプ
超高真空下（UHV）でのシリコン表面の原子像
走査プローブ顕微鏡（SPM）の歴史・発展の過程を理解する。 学部1～4年、修士課 ログラムを用意する。
茨城県つくば市東1-1-1
2日目 (STM)観察（電子回折・STM原子像の観察・比4名 また、SPMの原理を理解して、実環境（真空中、溶液中等）で 程、博士課程、高専4～ ・試料持込可
つくば中央第2事業所 本館
較）のナノ材料の形状、ナノ物性測定の基本技術を習得する。
5年、高専専攻科
・同日程の産総研プログラ
カンチレバーの動作と変位検出方法を理解し、原ム参加者合同で装置見学を
3日目 子間力顕微鏡（AFM）の基本測定技術を習得す予定。
る
ナノ物性計測法の習得（弾性率、または、電気測
4日目
定から選択）
5日目 溶液中でのAFM計測（DNA観察等）の体験

7

最表面原子層の観測、
仕事関数・バンド曲がりの評価、電子のエネル
産業技術総ギー緩和時間の定性
合研究所
的評価を行う極端紫外光光電子分光（EUPS）－原理と測定実習

松林 信行
富江 敏尚

7/29～7/31（3日間。事前相談により変更する場合があります。）

安全教育、施設の見学
EUPSは、3nsパルスの極端紫外光（255.17eV）で励起する産1日目 講義：EUPSの原理
総研考案・開発の光電子分光法。広いエネルギー領域のスペ
実習：:試料準備
クトルを飛行時間法電子分光で一挙に取得する。最表面２－３原子層の内殻光電子スペクトルから元素の表面偏析や超微量汚染物付着が評価できる。価電子帯トップも高感度測定で 学部4年、修士課程、博 ・試料持ち込み可（要事前相きる。仕事関数やバンド曲がりも評価できる。過渡的電子親和 士課程談）
講義：EUPSの測定例
3名
2日目
力の測定から電子のエネルギー緩和時間の定性的議論がで ※物理系もしくは化学 ・同日程の産総研プログラ
実習：試料の測定
き、それにより触媒活性や表面の超清浄度の議論ができる。 系大学院生に限る。
ム参加者合同で装置見学を
帯電による影響が小さく、有機材料、絶縁物ナノ粒子など、予定。
様々な材料の分析に威力を発揮する。
講義：データ処理、解析法
EUPSの特徴と原理の講義の後、各自の試料のEUPS測定、3日目
実習：データの解析 まとめ
そのデータ解析までを実習する。

1/7

茨城県つくば市東1-1-1
つくば中央第2事業所

No.

8

9

研修テーマ

機関名

研修先
ホスト氏名

超伝導検出器による軟X 線分光測定の基礎講習
産業技術総
超伝導X線検出器付き 合研究所
走査型電子顕微鏡での材料分析実習

超伝導検出器による軟産業技術総
X線領域の蛍光X線合研究所
XAFS測定の基礎

10 時間分解分光

産業技術総
合研究所

固体NMR計測・解析技 産業技術総
合研究所

藤井 剛

研修期間

7/29～8/1（4日間。事前相談により変更する場合があります。）

対象学年など

特記事項

シリコンドリフト検出器に匹敵する効率と波長分散型検出器に匹敵するエネルギー分解能を両立している超伝導体を用いたX線検出器（超伝導X線検出器）の動作原理、作成方法、検出 学部4年、修士課程、博特性などについて講義を行う。さらに、超伝導X線検出器付き 士課程、高専専攻科
・測定希望の試料の持ち込
走査型電子顕微鏡で得られた分析結果についても紹介する。 ※SEM-EDX、EPMA、 みは大歓迎です。
2名 実技として、超伝導X線検出器付き走査型電子顕微鏡で標準 XRFなどのX線分光分 ・同日程の産総研プログラ
試料のX線分光分析を行う。測定希望のサンプルがある場合 析の経験を有すること ム参加者合同で装置見学をはそのサンプルの分析を行う。その後、得られたX線分光の結 が望ましいが、未経験 予定。
果について解析を行い、データの解釈に関して議論を行う。 者も歓迎いたします。
その他先端分析装置、超伝導X線検出器の作製現場（クリーンルーム）の見学を行う。

XAFS、蛍光X線分析の基本原理、実験編（装置、検出器の基
本原理と操作）、測定試料作成法について講義のあと、模擬測定として、超伝導Ｘ線検出器を搭載した走査型電子顕微鏡
2名 を利用してX線分光分析を行う。その後、サンプル測定データの整理、解析を通してXAFS法の基本の理解を目指す。その他先端分析装置、超伝導X線検出器の作製現場（クリーンルーム）の見学を行う。

細貝 拓也
松﨑 弘幸

学部3～4年、修士課
程、博士課程、高専4～
7/29～8/1
時間分解分光について基礎から応用まで習得するため、ナノ 5年、高専専攻科
・試料持込可（4日間。事前相秒とピコ秒時間分解蛍光寿命測定の説明、実習、また時間分 ※現在の研究に時間 ・同日程の産総研プログラ談により変更す 2～3名
解過渡吸収測定の説明、実習、データ解析等を行い、時間分 分解分光技術が関係 ム参加者合同で装置見学をる場合がありま
解分光法の基礎的概念と測定技術を習得する。
する者に問わず、未経 予定。
す。）
験者や初心者も歓迎する。
7/29～7/31（3日間。事前相談により変更する場合があります。）

低速陽電子ビームによ
産業技術総12 る欠陥・ナノ空隙評価 合研究所
法7/29～7/31（3日間。事前相
オローク ブラ談により変更すイアン
る場合があります。）

保志 一

7/29～8/2（5日間）

研修スケジュール

研修場所

1日目 安全教育、施設見学

2日目 講義3日目 実技（分析）茨城県つくば市梅園1-1-1
産業技術総合研究所
つくば中央2-12棟

4日目 実技（解析）、まとめ

1日目 安全教育、施設見学
学部4年、修士課程、博 ・放射光を利用した測定で士課程、高専専攻科
はなく、模擬測定での実習と※XAFS, SEM-EDX,なります。
2日目 講義EPMA, XRFなどのX線 ・測定希望の試料の持ち込
分光分析の経験を有す みは大歓迎です。
ることが望ましいが、未 ・同日程の産総研プログラ 3日目 実技（分析）経験者も歓迎いたしま ム参加者合同で装置見学をす。
予定。
4日目 実技（解析）、まとめ

志岐 成友

服部 峰之
林 繁信

東京大学

研修概要

7/29～8/1（4日間。事前相談により変更する場合があります。）

11 術

13 初心者のための
TEM/ATEM基本操作

定員

茨城県つくば市梅園1-1-1
産業技術総合研究所
つくば中央2-12棟

時間分解分光法についてのイントロ・安全教育・
1日目 施設見学、ナノ秒時間分解蛍光測定の説明、実習

茨城県つくば市梅園1-1-1中央
ピコ秒時間分解蛍光測定、ナノ秒過渡吸収測定 第2の説明、実習産業技術総合研究所 つくば中
央第2事業所 2-10棟
3日目 フェムト秒過渡吸収測定の説明、実習
2日目

4日目 データ解析、全体のまとめ等

講義では、固体NMRの基本原理・理論をわかりやすく解説し、安全教育、施設の見学
1日目
固体NMRを用いることにより固体物質や材料についてどのよ 学部4年、修士課程、博講義：NMRの基本原理
うな知見が得られるかを理解する。測定実習では、固体NMR 士課程、高専専攻科
・同日程の産総研プログラ
講義：固体NMRから得られる情報
5名 装置を用いて固体試料から得られるシグナルを観測し、講義 ※化学系、生化学系、 ム参加者合同で装置見学を 2日目
実習：NMR測定の基本をした固体NMRの基本原理・理論をより深く理解する。同時物理系もしくはそれに 予定。
講義：固体高分解能NMRの測定技術に、講義では触れることの無い実際の測定手順とその際に注 関連した専攻に限る。
3日目
実習：固体試料の測定
意すべきことを理解する。

茨城県つくば市東1-1-1
つくば中央第5事業所

学部4年、修士課程、博 ・試料持込歓迎(事前にご相 1日目 低速陽電子ビームについてのイントロ・施設見学
低速陽電子ビームについて基礎から応用まで習得するため、 士課程、高専専攻科
談ください)
茨城つくば市梅園1-1-1
低速陽電子ビームの発生法・計測法・応用につ
産業技術総合研究所
3名 陽電子ビームの発生法・計測法・データ解析法の講義・演習を ※理・工学系所属の学 ・同日程の産総研プログラ 2日目
いての講義
行い、陽電子寿命測定法による欠陥評価技術を習得する。
部4年生、大学院生、高 ム参加者合同で装置見学を
つくば中央第二事業所 2-4棟
専専攻科生に限る。
予定。
3日目 陽電子寿命データの解析法の講義と実習

TEM/ATEMについて基礎から応用まで習得するため、JEM3名 1400/JEM-2100を使用したFTEM/ATEM操作実習を行い、TEM/ATEM操作・観察・分析技術を習得する。

2/7

学部4年、修士課程、博 ・試料持込みは可能です
士課程、高専専攻科
が、試料作製等の制限もあ※初心者（基礎から形 りますので、その際は研修
態観察・分析基本操作 担当者と予めご相談下さを学びたい方）い。

TEM/ATEMの基礎（講義）・TEM/ATEMでどんなデータ（情報・信号）が得られるか？
1日目
・TEM/ATEM操作のための簡単なTEM/ATEMの原理と構造・試料作製法
基本操作実習（試料交換～観察まで）
・電子線の発生2日目
・照射系軸合わせ
東京都文京区弥生二丁目11・結像系軸合わせ
16制限視野電子回折と暗視野法
・結晶方位合わせ
3日目
・制限視野電子回折法
・暗視野法
種々の観察法・高分解能像観察法
4日目
・低倍像観察法・STEM像観察法
STEM-EDS元素分析法
5日目
研修まとめ

東京大学大学院工学系研究科
総合研究機構（工学部9号館）

No.

研修テーマ

機関名

研修先
ホスト氏名

走査透過電子顕微鏡
14 （STEM）の基礎技術の 名古屋大学
習得

15 STEM-EELSによる構造観察と化学分析

透過電子顕微鏡法によ16 る材料微細構造解析

京都大学

大阪大学

山本 剛久

倉田 博基

保田 英洋

研修期間

定員

研修概要

対象学年など

特記事項

研修スケジュール

7月中旬～9月初
電子顕微鏡（TEM）は電子ビームを試料通過後に結像し、走
1日目 電子顕微鏡STEM法の講義、実技デモ
旬査透過電子顕微鏡STEMは極小に絞った電子ビームを試料に修士課程、博士課程、（このうち3日
照射することで、試料内部の原子構造・形態・結晶構造などを
高専専攻科
・試料持ち込み可（材料系の間。※8/26-30
4名 画像化することができる。
2日目 電子顕微鏡STEM法の実技講習※電子顕微鏡操作経 み）応相談。
は院試のため除
またEDS・EELSにより、組成・電子状態などを調べることがで験者く。希望日調きる。今回は、このSTEM法を用いた電子顕微鏡基礎技術の3日目 電子顕微鏡STEM法の実技講習とまとめ整。）
習得を目指す。

7/30～8/2（4日間）

走査型透過電子顕微鏡（STEM）に電子エネルギー損失分光（EELS）やエネルギー分散型X線分光（EDS）を組み合わせた分析電子顕微鏡に関する講義と実習を行い、構造観察と分析
修士課程、博士課程
2名 技法の基礎を習得することを目的としている。特に、分析技法※未経験者歓迎としてはEELSに力点を置き、モノクロメータを搭載した電子顕微鏡を用いた実習を通じて、高エネルギー分解能EELSの特徴や状態分析についても研修を行う予定である。

7月～9月中旬（このうち3日
透過電子顕微鏡法について基礎から応用までを習得するた修士課程、博士課程間。受け入れ決 2名 め、講義と透過電子顕微鏡装置を使用した操作実習を行い、※大学院生に限る
定後に個別に調データの解析法を理解する。
整する。）

1日目

分析電子顕微鏡についての概要に関する講義と
施設見学

2日目

STEMの結像法とEDSによる分析に関する基礎的な講義と実習

・試料持ち込み可

3日目 EELS分析技法に関する基礎的な講義と実習〔13：00～〕透過電子顕微鏡法についてのイントロ・安全教育・施設見学
・透過電子顕微鏡観察試料 1日目 イントロ、施設説明
透過電子顕微鏡法概要を持参し、その試料の観察
高分解能電子顕微鏡法
法の実習を行うことも可能である。
2日目 透過電子顕微鏡法についての実習

光分析実習

量子科学技
術研究開発
18 高温高圧法による新規
物質合成
機構

齋藤 寛之

高温高圧合成についてのイントロダクション・安
1日目
全教育
新規物質合成のための強力な手法の一つである数百度・数万気圧領域での高温高圧合成について基礎から応用まで修・高温高圧処理を希望する 2日目 マルチアンビルプレスを使用した高温高圧合成得するため、キュービックマルチアンビル装置を使用した高温の実習
学部1～4年、修士課 試料の持ち込みは、技術面
高圧合成実習を行い、高温高圧発生と合成された試料の分
7/13～9/13
程、博士課程、高専4～ および安全面で問題の無い
マルチアンビルプレスを使用した高温高圧合成
3名 析技術の習得を目指す。実習では、実験のためのセルパーツ
3日目（このうち5日間）
5年、高専専攻科範囲で可。持ち込みを希望の実習
作製、キュービックマルチアンビル装置を用いた高温高圧実※未経験者歓迎する際は事前に担当者と打
微小部X線回折装置、走査型電子顕微鏡、熱分験、および、常温常圧下に回収された試料について粉末X線
ち合わせを行ってください。 4日目 析装置を使用した合成試料の分析
回折測定、走査電子顕微鏡、熱分析装置を用いた評価などを行う。
データ解析、まとめ。SPring-8ビームラインの見
5日目
学
1日目

分子線エピタキシー法 量子科学技
19 による半導体ナノワイ 術研究開発
ヤの作製と特性評価 機構

茨木市美穂ヶ丘7-1
大阪大学
超高圧電子顕微鏡センター

・放射光を使った実習はマシンタイムスケジュールに従い 1日目 〔午前〕SPring-8手続き〔午後〕大型放射光施設見学、実習の概要説明ます（日時）。従って、スケジュール等の関係上、実験室光源での実習となる場合
学部3～4年、修士課もあります。
程、博士課程、高専4～
放射光および光電子分光に関する講義と光電子
・SPring-8の実験ホール（放2日目
固体表面の光電子分光分析の基礎を習得するために、5年、高専専攻科
分光実験の見学
射線管理区域）内での実習
SPring-8の日本原子力研究開発機構の軟X線専用ビームライ ※経験や研究分野はが主となるため、SPring-8のンに常設・稼働の表面反応分析装置を用いて光電子分光実 問いません。興味があ兵庫県佐用郡佐用町1丁目1-1
4名
所定の手続き（放射線業務）
験（放射光軟X線または実験室X線源）を行う。内殻光電子分 る人を歓迎します。
放射光物性研究棟を行うことが必須となりま
光スペクトル測定を中心に行い、固体表面の化学状態分析な 実習の説明上、物理やす。
どの基礎の習得を目指します。
化学の基礎（原子分・装置不具合など思わぬ場 3日目 光電子分光データ測定の実習
子、量子力学の初歩な合も想定されます。その場ど）が必要となります。
合は実習が実施できないこともありますので、あらかじ
めご了承ください。
・事前の詳細打合せをお願 4日目 まとめと質疑
いします。

吉越 章隆

構

京都府宇治市五ヶ庄
京都大学／化学研究所
超高分解能分光型電子顕微鏡
棟

透過電子顕微鏡法についての実習
データ解析

7/1～9/13（このうち4日間。実施の日程
調整は、担当者との事前の相談が必要となります。）

超高真空実験技術と固 日本原子力

名古屋市千種区不老町
名古屋大学／未来材料・システ
ム研究所 超高圧電子顕微鏡
施設

4日目 個別の研究テーマに関連した応用とまとめ

3日目

17 体表面のX線光電子分 研究開発機

研修場所

安全教育、講義、見学（SPring-8、ビームライン、
実験装置）

実技（分子線エピタキシー法によるサンプル作
半導体の結晶成長方法の一つである分子線エピタキシー法を
学部1～4年、修士課 ・研修の一部は放射線管理 2日目 製）
用いて、一次元微細構造である半導体ナノワイヤを作製する
程、高専4～5年、高専 区域での実習が含まれるた
8/1～9/13
ことで、結晶成長技術を習得する。また、作製したサンプルの実技（分子線エピタキシー法によるサンプル作
佐々木 拓生
2名
専攻科
め、所属先において放射線 3日目（このうち5日間）
特性評価として、走査型電子顕微鏡による構造評価とフォトル製）※未経験者歓迎、初心 作業従事者として登録されミネッセンス測定による光学特性評価を行い、半導体ナノワイ
者向けていることが必要
4日目 実技（サンプルの構造評価、光学特性評価）
ヤの各種評価技術を習得する。
5日目 データ解析、まとめ

3/7

兵庫県佐用郡佐用町光都1-11
量子科学技術研究開発機構
放射光物性研究棟 または
大型放射光施設SPring-8

兵庫県佐用郡佐用町光都1-11
量子科学技術研究開発機構
放射光物性研究棟 または
大型放射光施設SPring-8

No.

研修テーマ

機関名

研修先
ホスト氏名

研修期間

定員

研修概要

対象学年など

特記事項

研修スケジュール

研修場所

施設見学（超顕微解析研究センター）
電子顕微鏡の原理から最新の分析電子顕微鏡
1日目
法まで（講義）、
電子顕微鏡の操作原理（講義）透過電子顕微鏡による20 微細構造解析法

九州大学

松村 晶

9/2～9/6（5日間）

学部2～4年、修士課
初心者を対象に、透過電子顕微鏡を使いこなすために必要な・参加者が観察を希望する
程、博士課程、高専4～装置の基礎知識と操作法、電子回折の基礎と解析法を習得
試料があれば対応します
2～4名
5年、高専専攻科する。
・参加者の研究テーマに関※初心者を対象としま
講義、実習（200kV の透過電子顕微鏡を使用）、演習を行う。
する相談に応じます
す

電顕の簡単な操作、 照射系軸合せ、結像系軸
合せ、非点補正（実習）
電顕の操作： 焦点合せ、像観察（明視野像 制
3日目 限視野回折 暗視野像）（実習）、
電子回折演習問題（演習）2日目

福岡市西区元岡744
九州大学 超顕微解析研究センター CE21棟

電顕像のコントラスト、電子回折の基礎（講義）、
4日目 電顕実習（参加者が観察を希望する試料があれば対応します）
電顕像の解釈、電子回折図形の解析（参加者の5日目 研究テーマに関する相談に応じます）、
まとめ

微細構造解析・微細加工
No.

研修テーマ

機関名

研修先
ホスト氏名

研修期間

定員

研修概要

対象学年など

特記事項

研修スケジュール

研修場所

オリエンテーションおよびEBリソと評価技術に関する講義、微細加工実習準備
2日目
電子ビーム描画 実習
電子ビーム描画装置を用いた金属ナノ構造作製と、作製した電子ビーム描画およびスパッタリング成膜とリフト 北海道札幌市北区北21条西10構造についてのFIB・透過電子顕微鏡（STEM等）を用いたナノ 学部4年、修士課程、博 ・測定したいサンプル、加工
3日目
オフによるナノ構造作製実習
構造評価についての基礎的な実験を行うこと、またそれらを適 士課程
したいデバイスがあれば、実丁目3名用した先端研究内容についての講義学習を併せて行うことに ※未経験者を歓迎しま 習内で対応できるかの相談 4日目 集束イオンビーム加工装置 実習北海道大学創成研究機構 創より、微細加工から透過電子顕微鏡による分析手法までの一 す。
を受け付けます。
成科学研究棟5日目 透過電子顕微鏡観察 実習
連の基礎技術の習得を行う。
6日目 研究テーマに関する実習と研修全体のまとめ
開始時間・終了時間等は参加者の都合に合わせて調整
します。
1日目

微細加工による金属ナ
21 ノ構造作製とFIB・TEM 北海道大学による構造解析

笹木 敬司
柴山 環樹
松尾 保孝
小田島 聡

7/25～8/1
（6日間）

微細加工
No.

研修テーマ

機関名

研修先
ホスト氏名

東北大学
22 MEMSフォースセンサとIoTモジュールの作製

研修期間

定員

研修概要

対象学年などピエゾ抵抗形のMEMSフォースセンサ（force sensor）の試作を通して、微細加工プロセスの基礎を習得します。さらに、IoTの7月～9月初旬
学部1～4年、修士課
入口として、試作したセンサをプリント基板に実装し、無線モ（このうち5日
程、博士課程、高専4～ジュール、インターネットを介してスマートフォン等で測定値を戸津 健太郎 間。日程は参加 5名
5年、高専専攻科
モニタリングできるようにします。微細加工プロセスとしては、者の希望に合わ※どなたでも参加いた
フォトリソグラフィ、イオン注入、CVD、ウェットエッチング、ス
せます。）
だけます
パッタリング、シリコンDeepRIE、ダイシング、ワイヤボンディン
グなどを行います。

特記事項

研修スケジュール

イントロ、安全教育、フォトリソグラフィ、イオン注
入、ランプアニール、施設見学
SiO2 TEOS-PECVD、フォトリソグラフィ、SiO2
2日目
ウェットエッチング、Alスパッタリング
宮城県仙台市青葉区荒巻字青フォトリソグラフィ、Alウェットエッチング、Alシンタ 葉519-1176
3日目東北大学
リング、フォトリソグラフィ
西澤潤一記念研究センター
4日目 Si DeepRIE、ダイシング、ワイヤボンディング
1日目

5日目

プリント基板実装、マイコンプログラミング、評価、まとめ【研修内容】二次元層状物質“グラフェン”を用いたグラフェン
1日目 概要説明・安全教育・施設見学
マイクロデバイスを作製する。フォトリソグラフィや成膜プロセス、エッチングプロセス、電気伝導測定など微細加工プロセス
技術の基礎・装置操作を習得する。
【実験手順】単層・多層グラフェンは機械的剥離法により2日目 機械的剥離法およびグラフェン加工
SiO2/Si基板上に転写する。転写したグラフェンは、リソグラ
学部3～4年、修士課
物質・材料研 渡辺 英一郎 9/2～9/13
・研修期間中はクリーンルー
2名 フィプロセスとエッチングプロセスにより任意の形状に加工す 程、博士課程、高専専
23 グラフェンマイクロデバ
イスの作製
究機構
津谷 大樹
（このうち4日間）
ム内での実験となります
る。その後、リソグラフィプロセス、成膜プロセス、リフトオフプ 攻科
3日目 グラフェンへのコンタクト電極作製
ロセスにより金属電極を形成し、作製したグラフェンデバイスの電気伝導測定を実施する。
【使用装置】高速マスクレス露光装置、12連電子銃型蒸着装置、多目的ドライエッチング装置、ウエハRTA装置、プロー
4日目 電気特性評価およびまとめ
バーシステムなど

24 酸化物トランジスタ製
作・評価

産業技術総
合研究所

多田 哲也

8/5～8/9（5日間）

学部3～4年、修士課
程、博士課程、高専専
成膜(ALD、 真空蒸着)、フォトリソグラフィ、ドライエッチング技
攻科術を利用して薄膜酸化物トランジスタを製作し、電子顕微鏡、※上記対象学年外でも半導体パラメータアナライザ等で微細構造観察や電気的特性
アレンジして実施可能評価を行う。
です。微細加工等の未作成したトランジスタを応用したリングオシレータを動作させ2名
経験者歓迎、 FETの特ます。マスクレス露光装置を用いるため、パターン設計から行性に関する基礎知識をうことが出来ます。実習内容は参加者の関心により微細加工有している事が望まし
技術寄り、成膜技術寄り、 薄膜物性評価寄り、トランジスタ特
いが無くても可能。評
性評等アレンジ可能です。
価内容等参加者のレベ
本実習は研究開発用クリーンルームを使用します。
ルに合わせてアレンジ
します。

4/7

研修場所

1日目

講義、安全教育、CAD操作、実習(フォトリソグラ
フィ他)

2日目 実習(成膜)
3日目 実習(エッチング、フォトリソグラフィ)
4日目 実習(成膜、電子顕微鏡観察、特性評価)
実習(動作確認)、まとめ、発表練習/ディスカッション
参加者の希望により詳細日程は変更になる場合があります。
5日目

茨城県つくば市千現1-2-1
物質・材料研究機構
材料信頼性実験棟1階 クリー
ンルーム

茨城県つくば市梅園１－１－１
産業技術総合研究所
つくば中央第２事業所 ２－１２
棟 ナノプロセシング施設（TIA推進センター 共用施設運営ユニット 共用施設ステーショ
ン ナノプロセシング施設）

No.

研修テーマ

機関名

研修先
ホスト氏名

東京工業大
25 電子ビームリソグラフィ 学

巨大磁気抵抗効果を26 利用した磁気センサの 名古屋大学
試作

宮本 恭幸

加藤 剛志

研修期間

7/31～8/2（3日間）

7/29～8/1
（4日間）

定員

研修概要

対象学年など微細パターン形成の強力なツールである電子ビームリソグラ
フィについてその基礎を修得する。
研修では電子ビームリソグラフィについての講義・露光パター
ン/露光ファイル作成及び露光実習・近接効果（電子線露光で問題となる露光パターンを変形させる効果）について議論を行
い、電子ビームリソグラフィを理解していただく。
電子線露光実習はJeol6300電子線露光装置を使用し、以下 学部4年、修士課程、高の露光項目を行う。
専専攻科
3名（露光結果はSEM（走査型電子顕微鏡）観察により評価す※未経験者・初心者向る。）
け・位置合わせ露光（重ね露光）：装置立ち上げ（装置調整・装置操作）から重ね露光まで行う。
・近接効果評価露光：近接効果は電子線露光では古くから知られている問題であるが、対策となるとなかなか難しい。実習
では、近接効果評価露光及びその計測を通し、近接効果を理解していただき、その補正方法について議論する。

磁性薄膜のスパッタ成膜と磁気特性の評価，微細加工について基本的な技術を学ぶため，多元スパッタ装置を用いて巨大 修士課程、博士課程
3名 磁気抵抗効果を示す磁性多層膜を作成する。さらにレーザ描 ※未経験者歓迎、微細画装置にマスク作成とフォトリソグラフィ，Arイオンエッチング 加工初心者向け
装置を用いて，磁気抵抗型の磁気センサを試作する｡

特記事項

研修スケジュール

1)電子ビーム露光について（講義）
1日目 2)露光装置操作及び露光、レジスト塗布・現像等
プロセス説明1)重ね露光実習（アライメント露光実習）。露光パ
東京都目黒区大岡山2-12-1
ターンのSEM観察。
東京工業大学
2日目
2) 露光パターン（露光ファイル）作成・露光。近接
未来産業技術研究所
効果評価露光。

3日目

1) 露光パターンのSEM観察及び計測
2) まとめ

1日目

磁性薄膜，巨大磁気抵抗効果，金属薄膜の微細加工についての講義・安全教育・施設見学

巨大磁気抵抗薄膜のスパッタリング成膜と，磁力計による磁気特性の評価
愛知県名古屋市千種区不老町
名古屋大学
CADによるセンサ構造の設計とレーザ描画装置 IB電子情報館北棟3階327室
3日目を利用したマスクパターン作製
2日目

4日目

27 半導体プロセス実習・
講習会

豊田工業大
学

佐々木 実

9/12～9/13（2日間。9/14を台風等で休校になった際の予備日とする）

各自がデザインしたマイクロ流路をレーザー直接描画装置等 学部1～4年、修士課
3名 を用いて作成（PDMS／ガラス基板）し、２種類の液体を流して 程、博士課程、高専4～
混合状態を観察・評価する。
5年、高専専攻科

松嶋 朝明
大村 英治

8/21～8/23（3日間）

マスクレスフォトリソグ
29 ラフィによるフォトマスク 大阪大学
作製

柏倉 美紀
前川 芳美
法澤 公寛

学部1～4年、修士課
LED描画システムやマスクアライナーを使い、フォトリソグラ
程、博士課程、高専4～
7月頃
2名 フィについての基礎を習得する。作製したフォトマスクを用いて 5年、l高専専攻科（このうち3日間）
リフトオフプロセスを体験する。
※未経験者歓迎、初心者向け

静電吸着力による触感
価

下川 房男
石塚 裕己

9月上旬
（3日間）

フォトリソグラフィによるセンサ微細加工とセンサ
特性の評価

本講習会では、クリーンルーム内体験実習をとおして、半導体プロセスの理解を深めます。講義は、1日目に「題目未定（○
・一般向けの本実習・講習○関連）」を、2日目に「題目未定（○○関連）」を取り上げま会に合流して参加頂くことに 1日目 プロセス実習、講義１、施設見学
す。また、実習は、熱電対デバイスを製作すると共に、酸化・なります。
名古屋市天白区久方二丁目12
拡散、リソグラフィ（ホト・電子線描画）、PVD (Physical Vapor
・学生（アカデミック）は1万
学部4年、修士課程、博番地12名 Deposition)、薄膜のウェットエッチング、およびRIE (Reactive
円/人の参加費を頂いており士課程
豊田工業大学Ion Etching)、特性評価等の一連のプロセスを実習します。
ますが、もしこの提案が採用
講義室、クリーンルーム
ホール係数の測定実習等も行います。
された場合は、参加費につ講義２（プロセス実習を第2日目に実施することも第1日：プロセス実習、講義１、施設見学
いては別途ご相談させてい 2日目
可能）
第2日：講義２
ただければと存じます。
（プロセス実習を第2日に行うコースもあります。）

京都大学
28 MEMS技術を用いたマ
イクロ流路の作製

30 提デバイスの製作と評 香川大学

研修場所

本研修では、最初に、静電アクチュエータの技術を応用した触感提示デバイスの原理とマイクロファブリケ－ション技術の基礎を座学として学び、その後、実際のデバイス作製と駆動に関する評価の実習を行う．具体的には、スパッタリング装置を用いて、導電体表面への絶縁膜の形成を行う等して、触感提デ 学部4年、修士課程
2名
バイスを製作する．その後、マイコンや回路の仕組みを学習す ※未経験者歓迎ることで、マイコンや回路に関する基礎知識を学び、続いてマイコンに入力するプログラムを変えることで電圧制御を行って、デバイスへの入力電圧の信号波形によってどのように触感が変化するか等を評価する．

5/7

①安全講習
②マイクロ流体デバイスに関する概要説明
1日目 ③実習の説明④マイクロ流路の設計とパターンデータの作成、 京都市左京区吉田本町
工学部物理系校舎378号室
レーザー描画装置を用いたフォトマスク作製
京都大学① レジスト原盤（鋳型）作製
ナノテクノロジーハブ拠点 実験
マスクアライナーを用いSU-8の鋳型作製（フォト 室
2日目
リソグラフィ）② PDMSによるマイクロ流路プレート作製
3日目 マイクロ流路組立・評価／まとめ
フォトマスク作製についての概要説明、Crスパッ
1日目
タ成膜
大阪府茨木市美穂ヶ丘8-1
フォトマスクCAD設計、LED描画、ウェットエッチン
大阪大学ナノテクノロジー設備
2日目グ
供用拠点（産業科学研究所内）
作製したフォトマスクを使って露光・現像後にCr
3日目
成膜、リフトオフ
1日目

研修概要、静電アクチュエータの技術に関する座学、安全指導

2日目

マイクロファブリケ－ション技術に関する座学、デ 香川県高松市林町2217-20
香川大学 創造工学部
バイス作製

3日目 デバイスの評価、研修の纏め

No.

研修テーマ

31 CMOSトランジスタ・IC
作製実習

機関名

研修先
ホスト氏名

研修期間

黒木 伸一郎 8/19～8/24
山田 真司
（6日間）

広島大学

真空技術に関する基礎
山口大学
32 講義と実習

栗巣 普揮
浅田 裕法

9/10～9/13
（4日間）

定員

研修概要

対象学年など

特記事項

研修スケジュール

研修場所

NMOS、PMOSトランジスタを用いたCMOS ICの試作実習を通じて、プロセス基礎技術とトランジスタ・回路の基本技術全体を学ぶ。イオン注入、酸化、リソグラフィー、エッチングなど基本技術を学ぶ。作製する回路は、CMOSインバータを基本とする 修士課程、博士課程、リングオシレータ、SRAMなど。時間短縮のためN-ウェル形成 高専4～5年、高専専攻
5名
までは研修前に準備する。受講生は主にトランジスタ回路設 科
計及びデバイス作製途中のパターン観察と完成後の特性評 ※未経験者歓迎価を行う。半導体製造装置によるデバイス作製は主にスタッフが行う(受講生は簡単な作業と操作を見ながら講義を受ける)。
最小加工寸法はマスクレス露光を用いた3ミクロンとする。

1日目 安全講習およびトランジスタ回路設計
チャネル、チャネルストップインプラ（酸化、リソ、
2日目
エッチング、イオン注入）実習
ソース/ドレイン、コンタクトホール形成（リソ、イオ
東広島市鏡山一丁目四番二号
3日目ン注入）実習広島大学ナノデバイス・バイオ
Alゲート、配線形成（スパッタ、リソ、エッチング、 融合科学研究所
4日目アニール）実習
トランジスタ特性、回路特性測定（Id-Vd、 Id-Vg、
5日目
gm他）
6日目 特性評価（続）およびまとめ

微細加工や薄膜形成装置は真空を利用していることから、真空技術について習得しておくことが重要である。本研修では真 修士課程、博士課程、5名
空技術について基礎から応用まで習得するため、真空科学・ 高専専攻科
技術に関する講義と実習を行う。

1日目 講義:真空工学の基礎
2日目 講義:真空コンポーネント
講義:真空システム、実習:真空排気実習 講義１
山口県宇部市常盤台2-16-1
3日目
コマ
山口大学工学部
4日目 実習:リークテスト実習
ご希望に合わせ内容・日数を調整することも可能です。

公益財団法
CMOS集積回路要素技 人北九州産
33 術実習
業学術推進
機構

上野 孝裕
安藤 秀幸
竹内 修三

8/21～8/23（3日間）

集積回路（IC）の製造は、パーティクル（微小なゴミ）及び、温度、湿度を管理された特殊な環境であるクリーンルームで、成膜、リソグラフィ、エッチング、イオン注入、拡散炉などの製造 学部1～4年、修士課
装置を使用して行われる。本研修では、IC製造プロセスの一 程、博士課程、高専4～5名つであるCMOS集積回路の製造技術を主体に、クリーンルー 5年、高専専攻科
ム内の微細加工装置を使い要素技術（設計、製造、組立、評 ※未経験者歓迎価等）を実習形式で体験することで、CMOS集積回路製造プロ
セスへの理解を深める。

1日目

集積回路製造技術講義、シミュレーション、レイア
ウト設計（FET、CMOSインバータ）

2日目

要素技術実習（安全教育、薄膜形成、リソグラ
フィ等）

3日目

要素技術実習（イオン注入、組立）、電気特性評
価実習

福岡県北九州市若松区ひびきの1番5号
共同研究開発センター

分子・物質合成No.

研修テーマ

自己組織化現象を利34 用した高分子メゾスコ
ピック構造の作製とイ
メージング

機関名

研修先
ホスト氏名

千歳科学技
術大学

オラフ カートハウス

研修期間

7/29～8/1
（4日間）

定員

研修概要

対象学年など

特記事項

自己組織化現象を利用したメゾスコピック構造（サブマイクロ
ンのドット、ライン、多孔質構造）の作成方法について基礎から
学部2～4年、修士課
応用まで習得するため、原料調製から自己組織化構造の作
3名
程、博士課程、高専4～ ・試料持込可製まで行う。また、基板に構築したメゾスコピック構造を様々な
5年、高専専攻科
イメージング法（電顕、蛍光顕微鏡、原子間力顕微鏡など）を用いて多角的解析を行う。

研修スケジュール

研修場所

自己組織化現象についての講義、機能性材料の構造作成実習Introduction to self-organization and sample
preparation (crystallizable low molecular weightcompounds or polymers that are soluble in ethyl
1日目
acetate). If you want to bring your own
compounds、 please feel free; we might be able
to investigate their self-organization properties.
The typical concentration is 3-10 mg/ml、 and 1 北海道千歳市美々758番地65
ml is enough for the experiments.
千歳科学技術大学
電子顕微鏡についての講義、測定ガイダンス、実 研究棟・実験棟・大学院等
2日目 習Electron microscopy / EDX on the samples

原子間力顕微鏡についての講義、測定ガイダン
3日目 ス、実習
AFM imaging of the samples

35 細胞実験基礎講習

36 ナノカーボンと複合材（コンポジット）の合成

物質・材料研 服部 晋也
究機構
箕輪 貴司

信州大学

橋本 佳男

8/26～8/30（5日間）

8/27～8/29
（3日間）

実習まとめ
4日目 Summary、 discussion and preparation of a shortpresentation.
細胞培養・滅菌法・バイオハザードについて・安
1日目
全教育（座学）、細胞への刺激の添加（実技）遺伝子解析について（座学）、培養細胞からの遺学部1～4年、修士課
・No.43「動物細胞の電子顕 2日目 伝子の回収（実技）程、博士課程、高専4～
培養細胞を用いた刺激応答実験を体験し、細胞培養、遺伝子
微鏡観察実習」と同時に開茨城県つくば市千現1-2-1
2名
5年、高専専攻科
3日目 PCR、アガロースゲル電気泳動（実技）
解析、細胞イメージングに関する基礎的な技術を身に着ける。
催し、そちらの参加者とも交
物質・材料研究機構※バイオ系未経験者歓
細胞の染色について（座学）、蛍光色素を用いた流する予定。
4日目
迎します。
染色（実技）
蛍光顕微鏡による観察（実技）、全体についての
5日目
まとめ
炭素源となる炭化水素ガスと化学反応を容易にする触媒源を熱するだけの簡単なプロセスで、最新のナノカーボンを合成します。（化学気相堆積CVDと言います。）さらに、この性質を高学部4年、修士課程、高強度部材などに応用する場合によく用いられる複合材（コンポ
専専攻科ジット）を合成します。混ぜて練り合わせる混練法（ラボプラス
3名※未経験者歓迎。参加
トミル使用）を用います。分析については、光を利用したラマン
者の技術レベルに合わ
散乱や形を電子顕微鏡で見る方法を紹介します。希望があれせて指導します。
ば、3000℃近い高温で熱処理することで炭素が激変する様
子、メタンからダイヤモンド（微小な粒のダイヤモンドが薄く堆積した状態）の合成も紹介いたします。

6/7

1日目 合成、混練法の講義、施設見学
ナノカーボンの化学合成、複合材の混練（混ぜ合長野県長野市若里4－17－1
わせる作業）
信州大学 長野（工学）キャンパス
3日目 分析評価および合成条件の検討
2日目

4日目 希望により追加することもあります。

No.

研修テーマ

37 分子科学研究所
夏の体験入学

機関名

研修先
ホスト氏名

分子科学研
究所

横山 利彦

研修期間

8/6～8/9（4日間予定）定員

研修概要

対象学年など

特記事項

分子科学研究所教授・准教授による様々な分子科学研究のテーマ（２５件程度）のうち１つを選び、実験あるいは理論計算を実習し、その方法等を習得する。詳細は「夏の体験入学」の30名 Webサイト
学部1～4年、修士課程程度

研修スケジュール

1日目 分子研の全体紹介・オリエンテーション
2日目 テーマ別講義・実習

https://www.ims.ac.jp/education/2019.html

3日目 テーマ別実習・まとめを参照して下さい。指定のWeb申込期間中に分子研宛にも必ず参加希望申込みをして下さい。

4日目 全体発表会
1日目

ナノバイオデバイスによる分子・細胞計測の38 基礎技術習得(細胞染 名古屋大学
色〜超解像イメージン
グ)

馬場 嘉信

7/29～8/2
（5日間）

研修場所

愛知県岡崎市明大寺町
字西郷中38 または 字東山11

ナノバイオデバイスについての基礎講義、デバイ
スのデザインと作製技術についての実習

2日目 作製したデバイスの表面改質と表面状態解析

ナノ・マイクロデバイスを使ったバイオ分析の基本技術を習得
学部1～4年、修士課する。デバイスのデザインと作製技術、ナノバイオ材料による
程、高専4～5年、高専
2名
細胞の染色、細胞の超解像イメージング実験などの実習を行
専攻科
い、ナノバイオ研究の基礎知識と実験操作を学ぶ。

名古屋市千種区不老町
ナノバイオ材料による細胞の染色と細胞機能評名古屋大学 大学院工学研究価科
4日目 デバイスを用いた単一細胞イメージング
3日目

デバイスを用いた単一細胞の超解像イメージン
グ＆予備日
気相合成法によるナノ粒子の合成についての講
1日目
義と実習
分子合成用マイクロラボの作製についての講義
2日目
と実習
5日目

名古屋工業
39 分子・物質合成と機能評価
大学

8/8～9/13
日原 岳彦（代 （選択テーマ数表）
により1～5日間）

分子・物質合成と機能評価に関する次の５つのテーマについて、基礎から応用まで習得するため講義と実習を行い技術を習得します。①気相合成法によるナノ粒子の合成と燃料電池
・ご希望の時期によっては全 3日目 ナノカーボン材料の合成についての講義と実習 愛知県名古屋市昭和区御器所
学部4年、修士課程、博3名 触媒性能の評価、②分子合成用マイクロラボの作製、③ナノての研修課題を実施できな
町
士課程
生体分子の合成と構造解析についての講義と実 名古屋工業大学
カーボン材料の合成、④生体分子の合成と構造解析、⑤メス
いことがあります。
4日目
習
バウアー分光法による磁性体または錯体の分析。各テーマは1日で実施し、特定の課題について選択することも可能です。
5日目 メスバウアー分光法についての講義と実習
基本的には10時開始、終了時間は実施テーマに依存し
ます。

奈良先端科
学技術大学
40 ナノ粒子の合成とそのSTEM観察院大学

RFスパッタ装置による
41 透明導電膜(ITO膜)の 大阪大学
成膜とその評価

ナノカーボンの可溶化
42 と分光分析およびナノ 九州大学
構造解析の実習

中嶋 琢也
宮家 和宏

北島 彰(代表)

8/21～8/23（3日間）

1日目 ナノ粒子に関する講義

ナノ粒子について講義を通じて学んだ後、実際に金属・半導体ナノ粒子を合成する。続いて、走査透過電子顕微鏡
学部3～4年、修士課
3名（STEM）について講義を通じて学んだ後、実際にSTEMを用い 程、高専専攻科て合成したナノ粒子の形態を観察する。

2日目 ナノ粒子の合成、STEMに関する講義
3日目 STEMを用いたナノ粒子の観察、まとめ成膜条件を変えて透明導電膜の低温成膜を行い、その評価方法を実習します。
7/23～9/6
1)RFスパッタ装置によりAr+O2雰囲気中でO2流量を変えて成（この期間の中膜を行います。
学部3～4年、修士課
で火曜日～金曜
2)成膜した試料について シート抵抗を４端子測定法で、透過 程、高専4～5年、高専
1～3名
日の連続4日間率を紫外可視分光装置で各々評価します。
専攻科(8/13～8/16は3)同じく走査型プローブ顕微鏡(ｻｲｸﾘｯｸｺﾝﾀｸﾄﾓｰﾄﾞ)により1)で ※未経験者歓迎除く））
成膜したサンプルの表面観察を行います。
4)薄膜X線回折装置により1)で成膜したサンプルの解析(2θｽｷｬﾝ)を行います。

後藤 雅宏
利光 史行

7/1～8/30（8/12〜16日を除く、平日の連
続した3日間、希望者との日程調
整による）

研修先
ホスト氏名

研修期間

1日目

施設見学・研修の概要説明・成膜(条件１)（11:00～17:00）

2日目

成膜(条件２･条件３)ならびにシート抵抗測定(9:30～17:00)

4日目

薄膜X線回折装置による成膜試料の解析 なら
びに まとめ(9:30～13:00)

奈良県生駒市高山町8916-5
奈良先端科学技術大学院大学
先端科学技術研究科
物質創成科学領域

大阪府茨木市美穂ｹ丘8-1
大阪大学産業科学研究所内
紫外可視分光光度計による透過率測定と走査型 N411室／N321室
3日目
プローブ顕微鏡による表面観察(9：30～17:00)

ナノカーボンの構造と分光化学的性質について
カーボンナノチューブとグラフェンの可溶化と構造解析の基礎
1日目
講義と計算化学シミュレーションを習得する。種々の可溶化剤を用いて分散したナノカーボン
溶液について、紫外可視近赤外吸収分光、顕微ラマン分光、 学部4年、修士課程、博 ・九州大学分子物質合成プ
そして近赤外蛍光分光装置などのスペクトル測定法から、ナノ 士課程、高専4～5年、 ラットフォームの登録装置で3名
ナノカーボンの可溶化実験とスペクトル測定
構造とスペクトルの相関を観測する。また、走査型電子顕微 高専専攻科
対応可能なものであれば、 2日目
鏡、走査型プローブ顕微鏡による構造観測と、計算化学によ ※未経験者歓迎
試料持ち込み可能です。
るシミュレーションを併用し、ナノカーボンの構造解析技術を習
3日目 顕微鏡によるナノ構造解析得する。

福岡県福岡市西区元岡744番
地
九州大学伊都キャンパスW3615

微細構造解析・分子・物質合成
No.

研修テーマ

機関名

定員

研修概要

対象学年など

特記事項

研修スケジュール

研修場所〔午前〕オリエンテーション(安全教育含む)、電子
1日目 顕微鏡の基礎（座学）〔午後〕細胞固定（合成PF）
動物細胞の電子顕微
43 鏡観察実習

鴻田 一絵
物質・材料研
森田 浩美
究機構
箕輪 貴司

8/26～8/30（5日間）

学部1～4年、修士課
細胞試料の包埋、施設見学、細胞培養実習1（培培養細胞を透過型電子顕微鏡で観察できる試料に調製する
・No.35「細胞実験基礎講習」 2日目
程、博士課程、高専4～
茨城県つくば市千現1-2-1
養細胞の播種、計数法）（合成PF）と同時に開催し、そちらの参1名 工程を実習形式で学ぶとともに細胞培養の基礎、光学顕微鏡
5年、高専専攻科
細胞培養実習2（培養細胞の光学顕微鏡観察、 物質・材料研究機構
を用いた細胞観察についても実習する。
加者と交流する予定。
3日目※未経験者歓迎
卓上電顕観察）（合成PF）
4日目 TEMの実習1（切片作製）（解析PF）
5日目 TEMの実習2（TEM観察）とまとめ（解析PF）

7/7