平成25年6月3日（一部更新）<別表>平成２５年度 学生研修プログラム リスト
プログラ
ム番号

技術領域

ホスト

テーマ
機関名
微細加工による金属ナノ構
造作製とFIB利用による構 北海道大学
造解析

1

微細構造解析・微細加工
2

研修受入希望期間
研究者氏名

笹木 敬司
大塚 俊明

平成25年7月29日～8月9日(このうち7日間)

竹口 雅樹（物質・材料研
物質・材料研究機構、透過型電子顕微鏡試料作究機構）、
平成25年8月19日～8月23日
産業技術総合研究所
製と操作の研修秋永 広幸(5日間)（共同開催）（産業技術総合研究所）

3

透過電子顕微鏡による微細構造解析法

九州大学
友清 芳二
超高圧電子顕微鏡室

平成25年8月 5日～8月 9日
(5日間)

4

固体ＮＭＲ

産業技術総合研究所 林 繁信

平成25年 7月22日～ 7月24日
(3日間)

受入可
能人数

Ｘ線光電子分光分析測定
法の研修

東京大学
工学系研究科総合研究機構沖津 康平

平成25年7月中(このうち3日間)

研修概要
第１日目
第２日目
第３日目
第４日目
第５日目
第６日目
第７日目

透過型電子顕微鏡の基礎を学び、試料の作製と透過型電子顕微鏡操作を研修する。

第１日目

4名

2～4名 初心者を対象とする。

3名

3名

初心者を対象に、透過電子顕微鏡を使いこなすために必要な装置の基礎知識と操作法、電子回折の基礎と解析法を習得する。
講義、実習（200kV の透過電子顕微鏡を使用）、演習を行う。

固体ＮＭＲの基本原理・理論を解説、どのような知見が得られるか理解する。測定実習では、実物理系もしくは化学系の 際の試料測定を通して、測定方法について理解する。
大学院生に限る。
アルバックファイ社PHI5000 VersaProbeを用いて、試料表面の分析手法である光電子分光（XPS,ESCA）の基礎と応用について実習を行う。電子分光のほか、スパッタリング測定、マッピング、ライン測定など、本装置のほぼすべての機能を体験する。

78910111213

微細加工

第２日目オリエンテーションおよびEBリソと評価技術に関する講義
電子ビーム描画 実習
スパッタリング成膜 実習
リフトオフによるナノ構造作製 実習
集束イオンビーム加工装置 実習
走査電子顕微鏡 実習
構造評価に関する実習と研修全体のまとめ
オリエンテーション(安全教育含む)、施設見学、透過型電子顕微鏡の基礎講
義
試料作製の実習1

第３日目

試料作製の実習2

第４日目

試料作製の実習3

第５日目

透過型電子顕微鏡による観察実習

第２日目
第３日目
第４日目
第５日目
第１日目

電子顕微鏡の原理から最新の分析電子顕微鏡法まで（講義）、施設見学（九州大学超高圧電子顕微鏡室）
電子顕微鏡の操作原理（講義）、電顕の簡単な操作（実習）
電顕の操作と像観察（実習）、電顕像のコントラスト（講義）
電顕の操作と電子回折（実習）、電子回折の基礎（講義）
電顕像の解釈、電子回折図形の解析（演習を含む）、まとめ
講義と見学（ＮＭＲの基本原理と装置の概要）

第２日目

講義（固体ＮＭＲから得られる情報と測定技術）

第３日目

実習（固体ＮＭＲ測定）

第１日目

光電子分光分析法の概要第２日目

光電子分光分析法の技術研修（通常測定とデータ解析）

第１日目

第３日目

研修場所

〒001-0021
北海道札幌市北区北21条西10丁目
北海道大学
創成科学研究機構〒305-0047
茨城県つくば市千現1-2-1
物質・材料研究機構
電子顕微鏡ステーション〒305-8568
茨城県つくば市梅園1-1-1 中央第2-12
産業技術総合研究所
ナノエレクトロニクス研究部門
ナノプロセシング施設〒819-0395
福岡市西区元岡744
九州大学 超高圧電子顕微鏡室
CE21棟〒305-8565
茨城県つくば市東1-1-1
産業技術総合研究所
つくば中央第5事業所〒113-8656
東京都文京区弥生2-11-16東京大学
工学部9号館134会議室

光電子分光分析法の技術研修（マクロ機能を使った自動測定）
オリエンテーション(安全教育含む)、施設見学、走査透過型電子顕微鏡（透過 〒464-0814
第１日目型電子顕微鏡）の講義
高分解能走査透過型電子
愛知県名古屋市千種区不老町
平成25年8月5日～8月7日
顕微鏡を用いた電子状態 名古屋大学
荒井 重勇5名程度
名古屋大学
第２日目 電子状態計測の基礎から応用まで（講義）(3日間)計測
エコトピア科学研究所
第３日目 走査透過型電子顕微鏡を用いた電子状態計測（実習）
超高圧電子顕微鏡施設〒980-0845
第１日目
Si基板上にパターニングした熱酸化膜をマスクとして、KOH溶液によりSi結晶異方性エッチングをガイダンス、安全教育、マスク設計
平成25年7月1日～8月11宮城県仙台市青葉区荒巻字青葉
第２日目 熱酸化、酸化膜エッチング、ボロン拡散、マスク作製行う。あらかじめボロン拡散により高濃度のP+層を形成しておき、エッチストップによって厚さ3μ日、戸津 健太郎
5名
Siメンブレン構造体の製作 東北大学
519-1176
第３日目 酸化膜パターニング、Si結晶異方性エッチング
m程度のメンブレン構造体を形成する。真空中でガラス基板と陽極接合し、大気中におけるメンブ
8月17日～8月23日
東北大学
第４日目 Si結晶異方性エッチング、酸化膜エッチング
レンの変形を確認する。
（このうち 5日間）
西澤潤一記念研究センター
第５日目 陽極接合
第１日目 抵抗変化メモリについてのイントロ
現在研究開発が盛んに行われている抵抗変化メモリ動作状況の原理を理解するために、Pt-Ag対向電極の作製を行い、液中でAg樹フィラメント成長消滅過程の走査型プローブ顕微鏡（SPM） 第２～４日目 CAD図面設計及び電極作製についての実習〒305-8568
抵抗変化メモリ動作の電気
第５日目 フィラメント形成の確認
観察を行う。この研修を通して、抵抗変化メモリの原理の理解を深めるとともに、フォトリソグラ
秦 信宏
平成25年7月22日～8月2日
茨城県県つくば市梅園1-1-1
4名
特性評価と金属フィラメント 産業技術総合研究所
第６日目
フィーとリフトオフによる電極作製及び（液中）SPM観察の基礎についての技術を習得する。
SPM観察についての講義と実習
秋永 広幸(10日間)
産業技術総合研究所
形成過程の液中SPM観察
第７～８日目 フィラメント形成過程の液中SPM観察についての実習
ナノプロセシング施設
第９日目 フィラメントの電子顕微鏡（SEM）観察についての実習
第１０日目 作製結果についてのまとめ
抵抗変化メモリについて基礎から応用まで習得するため、微細加工(リソグラフィ、エッチング、成第１日目 抵抗変化メモリについてのイントロ、安全講習
膜)を用いて抵抗変化メモリの単一セルを作製する。作製したデイバスを走査型電子顕微鏡
第２日目 プロセスのシミュレーション(エッチング部分)、CADの作製(SEM）による形状観察とデイバスパラメータで電気特性を測定する。この研修を通して、抵抗変化〒305-5862
第３～５日目 抵抗変化メモリの作製1(リソグラフィ、エッチング、成膜)メモリの作製と特性の測定技術を習得する。
抵抗変化メモリの作製と電秋永 広幸
平成24年7月22日～8月2日
茨城県つくば市梅園1-1-1
産業技術総合研究所
4名
第６～７日目
抵抗変化メモリの作製2(リフトオフによる電極形成)
気特性の評価秦 信宏（10日間)
産業技術総合研究所
第８日目 抵抗変化メモリの電気特性の測定
ナノプロセシング施設
第９日目 走査型電子顕微鏡(SEM)で断面形状の観察
第１０日目 作製結果についてのまとめ
微細パターン形成の協力なツールである電子線リソグラフィについてその基礎を修得するため、（午前）座学
座学、パターンファイル形成、レジスト塗布、位置合わせを含んだ露光、走査型電子顕微鏡(SEM) 第１日目 （午後）レジスト塗布、アライメントマーク描画〒152-8552
による観察・評価等を行う。
平成25年8月20日～8月22日
目黒区大岡山2-12-1（午前）露光用パターンのファイル作製実習
4名
電子線ビームリソグラフィ 東京工業大学
宮本 恭幸
第２日目
(3日間)
東京工業大学（午後）午前のパターン描画、SEMによる観察・計測
量子ナノエレクトロニクス研究センター（午前）アライメントマークのリフトオフ アライメント露光1
第３日目（午後）アライメント露光2 SEMによる観察・計測
光リソグラフィ技術の基礎を修得するため，レーザ描画装置を用いたマイクロ流路などのパターン 第１日目 光リソグラフィ技術及び評価技術に関する講義〒464-8603
光リソグラフィによるデバイ
平成25年7月30日～8月1日
学部4年生、大学院生に の試作を行うとともに，SEM，AFMなどを利用した評価技術に関する実習を行う｡
名古屋大学
岩田 聡
5名
名古屋市千種区不老町
第２日目 レーザ描画装置を用いたマイクロパターンの作製
ス作製の基礎(3日間)限る。
名古屋大学 工学研究科
第３日目 マイクロパターンの作製とSEMなどを利用した構造評価
京都大学ナノテクノロジーハブ拠点保有の装置を用い微細加工技術を応用したマイクロ流路を作
１）安全講習製しその特性評価を行う。
２）マイクロ流体の特徴に関する講義
京都大学ナノテクノロ
第１日目
３）実習の説明松嶋 朝明〒606-8501
ジーハブ拠点、
４）マイクロ流路の設計とパターンデータの作成、レーザー描画装置を用いた 京都市左京区吉田本町
MEMS技術を用いたマイク（京都大学）、 平成25年7月9日～7月11日
学部4年生、大学院生に5名
香川大学ナノテクノロ
フォトマスク作製
ロ流路の作製
鈴木 孝明
(3日間)
限る。
京都大学
ジー支援室
（香川大学）
レジスト原盤（鋳型）作製／PDMSプレート作製、マスクアライナーを用いSU-8 ナノテクノロジーハブ実験室（共同開催）
第２日目の鋳型作製（フォトリソグラフィ）、PDMSによるマイクロ流路プレート作製第３日目 マイクロ流路組立・評価／まとめ
第１日目 安全講習およびトランジスタ回路設計
NMOSトランジスタをベースとしたICの試作実習を通じて、プロセス基礎技術とトランジスタ・回路
第２日目 多結晶Siゲート、分離領域形成およびソードレイン形成（リソ＆エッチング）の基本技術全体を学ぶ。イオン注入、酸化、リソ、エッチなど基本技術を学ぶ。作製する回路は、〒739-8527
第３日目 ゲートリソ及びコンタクトリソ
時間短縮のためCMOSではなく、E(エンハスメント型)－NMOSインバータを基本とするリングオシ
東広島市鏡山1-4-2
第４日目 Al配線形成（スパッタ、リソ、エッチング、アニール）
レータ、SRAMなど。最小加工寸法も、時間短縮のためマスクレス露光を用いた3ミクロンとする。
SiMOSトランジスタ・IC作製
平成25年8月5日～8月10日
3名
広島大学
横山 新
第2日目から4日目の実習中のプロセス待ち時間に作製プロセスに関する講義 広島大学
実習（6日間）ナノデバイス・バイオ融合科学研究所を実施する。
トランジスタ特性および回路特性測定（ID-VD, Ig-ID,gm, 論理回路動作、リン クリーンルーム
第５日目
グオシレータ発信波形観測など）
第６日目 特性評価（続）およびまとめ走査透過型電子顕微鏡（透過型電子顕微鏡）の構造・操作法、ならびに、電子線エネルギー損失分光機を用いた電子状態計測について理解する。

6

研修スケジュール

電子ビーム描画装置を用いた金属ナノ構造作製とFIBや電子顕微鏡を用いたナノ構造評価についての基礎的な実験を行うこと、またそれらを適用した先端研究内容についての講義学習を併せて行うことにより、加工技術と各種電子顕微鏡観察手法についての基礎技術の習得を行う。
3名

微細構造解析
5

対象要件

FIB-SEMダブルビーム装置の仕組みや特徴を理解し、各種調整方法や実際の加工方法につい参加人数および技術習て学んだ後、TEM試料作製の技術を習得する。
平成25年8月19日～8月23日
得状況に応じて、研修期1～2名(このうち4日間～5日間)間を変更する可能性がある。

FIB-SEMダブルビーム装置を用いたTEM試料作製実 物質・材料研究機構
習

津谷 大樹

15

自己組織化現象を利用したナノ構造の作成とイメージ 千歳科学技術大学
ング

オラフ カート 平成25年7月22日～7月26日
ハウス
(5日間)

16

ナノバイオ材料評価の基礎 物質・材料研究機構

箕輪 貴司

14

微細加工

平成25年8月5日～8月9日(5日間)

自己組織化現象を利用したメゾスコピック構造（サブマイクロンのドット、ライン、多孔質構造）の作成方法について基礎から応用まで習得するため、原料調整から自己組織化構造の作成まで行う。また、基板に構築したメゾスコピック構造を様々なイメージング法（電顕、蛍光顕微鏡、顕微IR、原子間力顕微鏡、近接場顕微鏡など）を用いた総合的解析を行う。

6名

ナノバイオ関連材料評価について基礎から習得するため、ナノ粒子と培養細胞を用いて粒径評価、セルアッセイ、遺伝子解析などを行い、技術を習得しあわせて基礎知識を学ぶ。さらにLMDなどの顕微鏡を体験する。

1名

ナノカーボンの代表例であるカーボンナノチューブ合成の基本操作を実習する過程においてガスの取り扱い、合成物の観察評価等の基本を習得する。
17

ナノカーボンの合成（ＣＶＤ）

信州大学
カーボン科学研究所

橋本 佳男

平成25年8月20日～8月23日
(4日間)

4名

第１日目
第２日目
第３日目
第４日目
第５日目
第１日目
第２日目
第３日目
第４日目
第５日目
第１日目
第２日目
第３日目
第４日目
第５日目
第１日目
第２日目

CNTの応用実験をされている学生等、合成未経験者に限る。

第３日目
第４日目

分子・物質合成1819

ナノバイオデバイスによる分子・細胞計測の基礎

分子・物質合成と評価

名古屋大学

馬場 嘉信

名古屋工業大学

増田 秀樹
種村 眞幸
江龍 修
壬生 攻
小澤 智宏
日原 岳彦

20

パルスレーザーMBEおよび 大阪大学
RFスパッタ法による薄膜形 ナノテクノロジー設備
成および評価供用拠点

21

カーボンナノチューブの可溶化と構造解析

九州大学
大学院工学研究院

平成25年8月7日～8月9日(3日間)

平成25年8月5日～8月23日(このうち3日間～5日間)

田中 秀和

平成25年7月1日～8月2日(このうち3日間～5日間)

中嶋 直敏平成25年7月29～7月31日
（3日間）

2名

5名

1回につき3名

3名

ナノ・マイクロデバイスを使ったバイオ分析の基本技術を習得する。デバイスのデザインと作製技術、DNAの分離分析、細胞のイメージング実験などの実習を行い、ナノバイオ研究の基礎知識と実験操作を学ぶ。
気相合成法によるナノ粒子の合成、分子合成用マイクロラボの作製、カーボンナノファイバーの室温合成、生体分子の合成と構造解析、メスバウアー分光法、について基礎から応用まで習得するため、講義と実習を行い、技術を習得する。

本研修では、パルスレーザーMBE装置/RFスパッタ装置による薄膜形成とその膜の評価とを行う。

カーボンナノチューブ（CNT）の可溶化と構造解析について、基礎から応用まで習得するため、実際に数種のCNTに対して、種々の可溶化剤を用いて可溶化行い、得られたCNT溶液の解析技術を習得する。

第１日目
第２日目
第３日目
第１日目
第２日目
第３日目
第４日目
第５日目
第１日目
第２日目
第３日目
第４日目
第５日目第１日目
第２日目
第５日目

成果発表会

物質・材料研究機構

野田 哲二

平成25年8月30日

参加者全員

参加者全員が研修成果をプレゼンテーションで報告する(15分～20分程度(※ 参加人数により調整))。
研修修了者に修了証を交付する。学生、研究者、技術者との交流会を実施する。

〒305-0047
オリエンテーションおよび試料の前準備
茨城県つくば市千現1-2-1
FIB-SEMの操作原理および簡単な加工方法
物質・材料研究機構
TEM試料作製の実演と技術習得（１）
微細加工プラットフォーム クリーン
TEM試料作製の実演と技術習得（２）ルーム
TEM試料作製の実演と技術習得（３）、まとめ
自己組織化現象についての講義。機能性材料の構造作成実習〒066-8655
電子顕微鏡についての講義、測定ガイダンス、実習
北海道千歳市美々758番地65
近接場顕微鏡についての講義、測定ガイダンス、実習
千歳科学技術大学
顕微IRについての講義、測定ガイダンス、実習
実習まとめ
ナノバイオについてのイントロと培養細胞の準備〒305-0047
ナノ材料の準備と培養細胞の取扱い
茨城県つくば市千現1-2-1ナノ材料の細胞を用いた評価
物質・材料研究機構
遺伝子解析、顕微鏡実習
ナノテクノロジー融合ステーション
遺伝子解析および全体についてのまとめ
オリエンテーション、研究室見学、ＣＶＤ技術紹介
合成実験1回目〒380-8553（午前）基材処理、装置立ち上げ
長野県長野市若里4-17-1（午後）合成実験、冷却
信州大学
合成実験2回目、合成物の評価
工学部 総合研究棟（午前）装置立ち上げ、ＳＥＭ観察、ラマン分析他（午後）合成実験、冷却、高温熱処理
合成物評価、熱処理物評価
ナノバイオデバイスについての基礎講義、デバイスのデザインと作製技術につ 〒464-8603
いての実習
名古屋市千種区不老町
DNAの分離分析についての実習名古屋大学大学院工学研究科
細胞のイメージング実験についての実習、ナノバイオデバイスについてのまと気相合成法によるナノ粒子の合成についての講義と実習
分子合成用マイクロラボの作製についての講義と実習〒466-8555
愛知県名古屋市昭和区御器所町
カーボンナノファイバーの室温合成についての講義と実習
名古屋工業大学
生体分子の合成と構造解析についての講義と実習
メスバウアー分光法についての講義と実習
パルスレーザーMBE装置/RFスパッタ装置・成膜技術についての講義・施設見 〒567-0047
パルスレーザーMBE装置/RFスパッタ装置の実習
大阪府茨木市美穂ヶ丘8－1
パルスレーザーMBE装置/RFスパッタ装置の実習
大阪大学
パルスレーザーMBE /RFスパッタ装置で作成した膜の評価
産業科学研究所まとめ〒819-0395
CNTについての基礎学習
福岡市西区元岡744番地
CNT可溶化についての実習
九州大学
伊都キャンパス ウエスト3号館
可溶化CNTの構造解析（分光測定など）についての実習とまとめ
成果発表会〒305-0047
茨城県つくば市千現1-2-1
物質・材料研究機構