Products

Solutions

TDLASおよびQFアナライザ
アプリケーションガイド
H2O、H2S、CO2、C2H2、NH3、O2の
正確で信頼性の高い測定

Services

2

TDLAS/QFプロセスガスアナライザおよび天然ガス処理

TDLASおよびQFプロセスガスアナライザ
厳しいアプリケーションに対応する高度な分光ソリューション

波長可変半導体レーザー吸光分光法（TDLAS）および蛍光消光（QF）アナライザは、独自の設計と性能特性を備えており、他のガス分析技術に比べて大きなメリットがあります。
• 高分解能レーザーにより、複雑な炭化水素ガスストリームにおいて測定対象物を正確に選別して測定• 測定セルを継続的に流れるサンプルガスにより、測定対象物濃度の変化に対して優れた高速応答を実現• レーザーと検出器のコンポーネントは、プロセスガスや汚染物質から隔離・保護されているため、付着物や腐食、損傷を防止し、信頼性の高い長期運転を保証• 特許取得済みの差分分光技術により、複雑な炭化水素ガスストリーム中のH2O、NH3、H2Sの低ppm/サブppmレベルの濃度の検出と定量が可能• レーザー分光法は消耗品をほぼ使用しないため、他のアナライザ技術に比べ、運転コストを抑え、必要なメンテナンスやサービスも低減• 蛍光消光（QF）アナライザは、天然ガスストリーム中の酸素（O2）をppmレベルからパーセントレベルまで測定でき、さらに、電気化学式O2アナライザの場合に測定誤差や電解液の大量消費の原因となっていたH2Sの影響を排除

TDLASおよびQFアナライザ

このガイドには、Endress+HauserのTDLAS/QFアナライザに関する、各種産業の現場で実証済みのアプリケーションの一覧が記載されています。
特定のアプリケーションの詳細については、www.endress.comをご覧ください。

天然ガスおよびエネルギー転換

天然ガス製造拠点や収集拠点、取引計量拠点、圧縮ステーション、貯蔵施設、流通システムにおいて、天然ガスパイプライン内のH 2O、H 2S、CO 2、O 2を測定することは、パイプラインを腐食から保護し、ガス品質仕様を満たすために非常に重要です。Endress+HauserのTDLASおよび蛍光消光（QF）酸素
アナライザは、世界各国の数千ものインストールベースにおいて、高い信頼性が実証されています。

天然ガス
測定対象物

アプリケーションノートのタイトル

標準測定範囲*CO2

天然ガスの生産、貯蔵、輸送、供給におけるCO2測定

H 2S

天然ガスの生産、貯蔵、輸送、供給におけるH2S測定

0～5%
0～20%

O2

天然ガスの生産、貯蔵、輸送、供給におけるO2測定

H 2O

天然ガスの生産、貯蔵、輸送、供給におけるH2O測定

0～100 ppmv
0～2500 ppmv

0～10 ppmv
0～5000 ppmv
0～100 ppmv
0～20%

%は、mol%を表します。

*

エネルギー転換
世界中でエネルギー源や混合ガスの移行が進む中、水素と二酸化炭素のガスストリームに含まれる汚染物質の迅速かつ正確な分析は、安全性、プロセス制御、ガス品質を確保する上で不可欠です。Endress+HauserのTDLAS/QFアナラ
イザは、速度、精度、安定性に優れたプロセス測定を実現し、汚染物質による干渉がなく、メンテナンス作業もほぼ不要なため、このような新興市場のニーズに対応できます。

エネルギー転換
測定対象物

アプリケーションノートのタイトル

標準測定範囲*

H2O、
H2S、
O2

二酸化炭素回収・有効利用・貯留（CCUS）
アプリケーション用のH2O、H2S、O2測定

H 2O

⼆酸化炭素回収・有効利⽤・貯留（CCUS）
CO2 のグリコール脱水

H2O：0～50 ppmv
（最小）；0～6000 ppmv
（最大）
H2S：0～10 ppmv
（最小）；0～5 vol%
（最大）
O：
（最小）
；0～20 vol%（最大）
2 0～100 ppmv

H2OおよびO2

CO2

グリーン水素生成のための
H2OおよびO2測定

⼆酸化炭素回収・有効利⽤・貯留（CCUS）
アミン処理後のCO2純度

H2O、H2S、O2、 バイオガスとバイオメタンのCO2
リアルタイム品質測定%は、mol%を表します。

*

H2O：0～10 ppmv
（H2用のビルド）；0～50 ppmv
（最小）；0～6000 ppmv
（最大）O：（最小）；0～1000 ppmv
（最大）
2 0～10 ppmv

H2O：0～100 ppmv
（最小）；0～2000 ppmv
（最大）
CO：（最小）；0～100%（最大）
2 0～90%
H2O：0～50 ppmv
（最小）；0～6000 ppmv
（最大）
H2S：0～10 ppmv
（最小）；0～5 vol%（最大）
O：（最小）；0～5%（最大）
2 0～100 ppmv
CO：
（最小）；0～20%（最大）
2 0～5%

3

4

液化天然ガス（LNG）
および天然ガス処理

液化天然ガス（LNG）
液化天然ガスプラントへの供給ガスは、H2OとCO2のレベルがそれぞれ100 ppbと50 ppmに低減されるように処理する必要があります。これは、これらの汚染物質がコールドボック
ス内の熱交換器で凍結し、ガスの液化を阻害して、LNGの積み込みや出荷が中断してしまうことのないようにするためです。Endress+HauserのTDLASアナライザにより、ベースロー
ドLNGプラントへの供給ガス中のH2O、CO2、H2Sを監視して、液化トレインの中断のない連続運転を確保することで、LNGを予定通りに積み込んで出荷できます。
液化天然ガス
測定対象物

アプリケーションノートのタイトル

標準測定範囲*H 2O

LNG：LNG製品ターミナルにおけるH2O

0～10 ppmv

H 2O
CO2
H 2S

LNG：ドライLNG供給ガス中のH2O
LNG：LNGアミン処理装置のCO2
LNG：LNGアミン処理装置のH2S

0～10 ppmv

0～100 ppmv
0～10 ppmv
0～20 ppmv

その他の測定範囲については、当社にお問い合わせください。

*

天然ガス処理天然ガス処理では、メタン（CH4）を、他の炭化水素、水、坑口の生ガスに混入しているその他の汚染物質（H2S、CO2、水銀、窒素）から分離し、パイプライン品質のドライ天然ガスを生産します。Endress+HauserのTDLASアナライザは、ガス処理プロセスの重要な拠点で、H2O、H2S、CO2のオンライン測定を行うことができます。

天然ガス処理測定対象物

アプリケーションノートのタイトル

標準測定範囲*H 2O

天然ガス処理：天然ガス製品中のH2O（製品純度/残留ガス）

0～10 ppmv

H 2O
CO2
CO2
H 2S
H 2S
H 2S
H 2S

天然ガス処理：モレキュラーシーブ乾燥容器出口のH2O

天然ガス処理：アミン処理装置出口のCO（スイートガス）
2
天然ガス処理：生の天然ガス供給におけるCO2

天然ガス処理：生ガス供給におけるH2（S 生産ガス）
天然ガス処理：天然ガス製品中のH2S（純度/残留ガス）

天然ガス処理：アミンスクラバー出口のH2S

天然ガス処理：固体スカベンジャー出口のH2S

その他の測定範囲については、当社にお問い合わせください。

*

0～10 ppmv

0～100 ppmv
0～100 ppmv

0～500 ppmv
0～5000 ppmv
0～20 ppmv
0～20 ppmv
0～20 ppmv

NGL分留製品

NGL分留製品
一部の地層の坑口の天然ガスには、エタン（C2H6）、プロパン（C3H8）、ブタン（C4H10）、C5と炭化水素の混合物など、商業価値が高く、回収可能な量の天然ガス液（NGL）が含まれています。極低温処理は、メタンからNGLを分離し、NGL混合物を別の分留製品に分留するために使用されます。
Endress+HauserのTDLASアナライザにより、NGL分留製品
中のH2O、H2S、CO2をオンラインで測定して、純度仕様を満たすことができ、また、目的の用途に合わせて下流側処理を実行できます。

NGL分留製品
測定対象物

アプリケーションノートのタイトル

標準測定範囲*H 2O

天然ガス処理：エタンのNGL分留におけるH2O

0～10 ppmv

H 2O
H 2O
H 2O
CO2
CO2
CO2
H 2S
H 2S
H 2S
H 2S

天然ガス処理：YグレードのNGL分留におけるH2O
天然ガス処理：エタン/プロパン混合物のNGL分留におけるH2O
天然ガス処理：プロパンのNGL分留におけるH2O

天然ガス処理：YグレードのNGL分留におけるCO2
天然ガス処理：エタンのNGL分留におけるCO2

天然ガス処理：エタン/プロパン混合物のNGL分留におけるCO2
天然ガス処理：YグレードのNGL分留におけるH2S
天然ガス処理：エタンのNGL分留におけるH2S

天然ガス処理：エタン/プロパン混合物のNGL分留におけるH2S
天然ガス処理：プロパンのNGL分留におけるH2S

その他の測定範囲については、当社にお問い合わせください。

*0～50 ppmv
0～10 ppmv
0～10 ppmv

0～500 ppmv
0～100 ppmv
0～100 ppmv
0～20 ppmv
0～20 ppmv
0～20 ppmv
0～20 ppmv

5

6

石油化学製品

石油化学製品
高純度のオレフィン、エチレン（C2H4）、プロピレン（C3H6）を生産するには、ナフサやエタンなどの炭化水素原料の水蒸気分解と、その後の一連の単位操作により、分解ガス中の汚染物質を除去または変換する必要があります。
Endress+HauserのTDLASアナライザは、オレフィンプラントやポリマー製造における重要な拠点で、汚染物質（C2H2、NH3、H2O、H2S、CO2）のオンライン測定を行うことができます。

オレフィンオレフィン
測定対象物

アプリケーションノートのタイトル

標準測定範囲*H 2O

石油化学：UNIPOL™ PEプロセスのエチレン供給ガス中のH2O0～10 ppmv

H 2O
H 2O
H 2O

C2H2
C2H2
C2H2
NH3
NH3
H 2S
H 2S

CO2

石油化学：純エチレン中のH2O

石油化学：分解ガス乾燥容器出口のH2O

石油化学：純プロピレン中のH2O（蒸気分解装置）

石油化学：バックエンドのアセチレン変換器中間部のC2H2
石油化学：バックエンドのアセチレン変換器出口のC2H2
石油化学：純エチレン中のC2H2
石油化学：純エチレン中のNH3

石油化学：純プロピレン中のNH3

石油化学：苛性ソーダ塔入口のH2S

石油化学：UOP C3 Oleflexプロセスのリアクタ排水中のH2S
石油化学：苛性ソーダ塔入口のCO20～10 ppmv
0～10 ppmv
0～10 ppmv

0～3000 ppmv
0～5 ppmv
0～5 ppmv
0～5 ppmv
0～5 ppmv

0～500 ppmv
0～150 ppmv
0～500 ppmv

その他の測定範囲については、当社にお問い合わせください。

*

合成ガス
合成ガス
測定対象物
CO2

アプリケーションノートのタイトル

合成ガス：GTL合成ガス（シントールプロセス）
および石炭液化（CTL/Benfield出口）におけるCO2

その他の測定範囲については、当社にお問い合わせください。

*

標準測定範囲*0～100 ppmv

精製

精製
製油所のガスストリームには、運転効率、プロセス歩留まり、製油所の営業利益に悪影響を与える可能性のある汚染物質が含まれています。Endress+HauserのTDLASアナライザ
は、プロセスガスストリーム中のH2SとH2Oのオンライン測定を実行できるため、製油所がこれらの汚染物質を管理し、単位操作を最適化して、環境規制を遵守するのに役立ちます。

精製
測定対象物

アプリケーションノートのタイトル

標準測定範囲*H 2O

精製：連続接触改質装置のH2リサイクルガスストリーム中のH2O

0～50 ppmv

H 2O

H 2O
H 2O
H 2O
H 2O
H 2S
H 2S

精製：製油所の接触改質装置のH2リサイクルガスストリーム用の水素リサイクルにおけるH2O
精製：プロパン/プロピレン混合物中のH2O
精製：アルキル化原料中のH2O

精製：UOP Butamerプロセスに送られるn-ブタン供給ガス中のH 2O

0～10 ppmv
0～50 ppmv
0～5 ppmv

石油化学および精製：機器用空気中のH2O

0～100 ppmv

精製：フレアガス中のH2S

0～10 ppmv
0～300 ppmv

精製：プロパン/プロピレン混合物中のH2S

H 2S

精製：燃料ガス中のH2S

H 2S

精製：アミン処理装置出口の水素リサイクルガス中のH2S

H 2S

0～50 ppmv（制御）
50～500 ppmv
（トレンド）

精製：接触改質装置の水素リサイクルにおけるH2S

0～10 ppmv

0～320 ppmv0～50 ppmv
0～300 ppmv
0～50 ppmv
0～100 ppmv
0～300 ppmv

その他の測定範囲については、当社にお問い合わせください。

*

個別の測定の詳細については、アプリケーションノートをダウンロードしてご覧ください。

www.jp.endress.comにアクセスし、「製品の検索、ダウンロードなど...」と表示されている検索フィールドに資料名を入力するだけです。

7

PU01459C/33/JA/03.23

www.addresses.endress.com