ナノ世界への招待〜技術の高度化と新産業の創造

NANOBIC
装置紹介

ナノ世界への招待〜技術の高度化と新産業の創造

NANOBIC
装置紹介

NANOBICと４大学
ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
技術開発に新たな視点を
NANOBIC装置紹介♯01 成膜：４元マグネトロンサイドスパッタ装置♯02 成膜：ＥＣＲイオンビームスパッタ成膜装置♯03 成膜：クラスタ型コータ・デベロッパ♯04 パターニング：レーザー直接描画装置♯05 パターニング：超高精度電子ビーム描画装置

NANOBIC と ４ 大学

ナノ・マイクロファブリケーション
コンソーシアム
新川崎・創造のもりに2012年４月にオープンしたナノ・マイクロ産学
官共同研究施設「 NANOBIC ～ Global Nano Micro Technology
Incubation

Business

Center」

川崎市は、慶應義塾大学、早稲田大学、東京工業大学、東京大学からなる「４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム」との連携により、ナノ・マイクロ分野の最先端の研究機器の共同利用や研究・教育などの支援に取り組み、川崎市内のものづくり企業の技術力と研究
開発力の向上、産学連携による新産業の創出を目指しています。
NANOBICは、ナノ・マイクロ技術にかかわる基礎研究から試作、計測・評価まで一気通貫で取り組むことができるナノ・マイクロ技術の産♯06 パターニング：ナノインプリント装置

学官共同研究開発拠点です。

♯07 エッチング：高密度プラズマドライエッチング装置♯08 エッチング：シリコンドライエッチング装置♯09 エッチング：誘導結合プラズマドライエッチング装置♯10 評価・計測：超低真空走査電子顕微鏡♯11 評価・計測：自動比表面積 ／ 細孔分布装置
複数機器の活用事例
NANOBICユーザーの声を聞く
NANOBICの研究機器でできること･装置利用の手順■表紙写真提供（五十音順）

共用装置一覧

株式会社キーエンス
株式会社島津製作所
ブルカー・エイエックスエス株式会社「新川崎・創造のもり」とは

FEI company,Eberhardt Josue Friedrich Kernahan

2

3

Å

新川崎・創造のもり NANOBIC

nm

拡張ナノ空間での極限のものづくりに挑む
川 崎 市 で は、「 新 川 崎・創 造 の も り 」地 区 で、 研 究 開 発 の 拠 点 づ く り を 進 め て い ま す。2012 年 ４ 月、
この「新川崎・創造のもり」にナノ・マイクロ領域の超微細加工・計測技術を核にしたナノ・マイクロ産
学官共同研究施設「NANOBIC」がオープンしました。

ものづくり企業の技術力向上をめざし、４大学ナノ・マイクロファブリケーション
コンソーシアムと連携

1

10

μm
100

対象

原子 分子 ナノ粒子

拡張ナノ空間分野

ナノテク

新デバイス 新機能原理

  量子力学 量子サイズ効果

手法

  化学合成 自己組織化

1

新効果・現象「極限ものづくり」

mm

10

100

連続流体
マイクロ化学バルク固体
   MEMS

1

m

10

100

構造物

建造物…

  マイクロマシン

古典力学
トップダウン加工

ラフィ、エッチング、分析、計測などの装置類です。

学連携の中心的役割を担うのが、慶應義塾大学・早稲田大学・加工とは、特殊な特徴を持った部品を作ることですが、これ

東京工業大学・東京大学からなる４大学ナノ・マイクロファブ

だけではまだ役には立ちません。加工した部品を使い、私たち

リケーションコンソーシアム（以下「４大学コンソーシアム」）でが使えるような機能を備えたものにスケールアップ（デバイス

リコンやガラスを原材料に、膜をつくる成膜工程、回路図を焼す。４大学コンソーシアムと川崎市は、ナノ・マイクロ技術によ化）すればシステム化が可能になり、ここで初めて実用化や産き付けるフォトリソグラフィ工程、回路を削るエッチング工程を次世代のものづくりでは、製品の小型化や精密化の流れり、我が国のものづくりを牽引する新技術開発や新製品・新産

業化への糸口が生まれます。その上で、デバイスが狙い通りに経て分析や評価を行いますが、NANOBICでは、これらの作がさらに進展し、マイクロ（１００万分の１）メートルからナノ業を創出することを目指し、2009年１月に連携協力に関する基できているのかを観察し、計測できなくてはなりません。

業が一貫してできる装置が揃えられています。

（１０億分の１）メートルサイズの超微小、超精密な領域での高本合意を締結しました。

例えばCMOS（相補型金属酸化膜半導体）をつくる場合、シ

例えば、ナノ・マイクロ「加工」技術を用いることで、水を弾

リソグラフィ工程に用いる装置として、成膜と乾燥、焼き付

い精度の加工、計測技術が求められています。こうした、いこの合意に基づき、現在、「NANOBIC」を拠点とし、４大学

く蓮の葉の微細な表面構造を再現することが可能です。このけの一連のプロセスを自動化できるクラスタ型コータデベロッ

わゆるナノ・マイクロ技術は、電子機器からナノフォトニクス、

コンソーシアムが保有する最先端の研究機器・装置の企業への技術を、血液がスムーズに流れる身の丈サイズの「デバイス」

パ装置、直径２nm（ナノメートル）の電子ビームで線を引く超MEMS/NEMS、マイクロ・ナノ化学、ナノバイオまで幅広い

開放などを通じて、企業や地元産業界との連携、既存の技術のに応用し、さらにこのデバイスを組み合わせることで人工血管

高精密電子ビーム描画装置などが装備されています。また

技術分野への展開可能性を持ち、次世代の産業の発展や人々

高度化や新産業の創造に向けた取組を進めています。

まで作り上げることができます。そして、人工血管での血液のエッチング関連では、プラズマで高速エッチングができる誘導

流れを詳細に「計測、評価」することで、より最適な表面構造

結合プラズマドライエッチング装置や、シリコン深掘りエッチ

基礎研究から製品開発まで一気通貫の研究施設を見つけだし、これをまたナノ・マイクロ「加工」技術により実ング装置などがあります。そして、各工程で分析装置や電子の生活の向上に貢献するものとして近年、大きな期待を集めています。
川崎市では、「新川崎・創造のもり」地区において、このナノ・
マイクロ技術を基盤とし、基礎研究から実用化開発までの一貫した研究開発を同じ施設内で進めるナノ・マイクロファブリ

どの分野においても、技術シーズを産業につなぐためには高ケーション施設「NANOBIC」を整備し、企業と大学の連携（産いハードルがあります。肉眼では見えない微細世界に挑むナ

学連携）による研究開発を支援しています。

ノ・マイクロ分野では、その傾向は顕著となります。そのために

そして、「NANOBIC」でのナノ・マイクロ技術を核とした産必要なのが「加工・デバイス化・計測」という一貫した流れです。

現します。このような「加工・デバイス化・計測」の工程を繰り

顕微鏡、光学形状測定装置などを用いて計測、評価すること返すことで、ナノ・マイクロ技術が実用化へと近づき、我々のが可能です。

生活を豊かにする産業化へと発展していくのです。
NANOBICは、こうした「加工・デバイス化・計測」の一連の工程を一気通貫でできるところに最大の特徴があります。
NANOBICは、研究棟とクリーンルーム棟の２棟からなり、4 大学コンソーシアムの名前が「ナノ・マイクロ」となっているように、ナノサイズからマイクロサイズまでの幅広い領域をカバーする機器・装置類を備えていることもNANOBICの大きな特徴です。

（約175㎡）とクラス10000
クリーンルーム棟には、クラス100 ※（約575㎡）の２つのクリーンルームが設けられています。
ＮＡＮＯＢＩＣを拠点としたナノ・マイクロ技術支援事業

企業等を対象としたナノ・マイクロ技術支援
講座、実習会等の実施コーディネート機能

インキュベーションマ
ネージャー等による企業の育成並びに成長を支援

機器共同利用機能
加工・試作、計測・評価まで可能な最先端機器の共同利用
共同研究機能クリーンルーム内先端研究機器【主な研究領域】○ナノフォトニクス○ＮＥＭＳ／ＭＥＭＳ○マイクロ・ナノ化学○ナノ計測 等
共同研究

機器利用

新産業の創出に向けた
産学共同研究の推進

４大学コンソーシアム

技術供与

各主体間の連 携推進や技術支援等に向けたコーディネーターの配置

インキュベーション
機能

入居企業等

ライフサイエンス・環境分野の研究開発、産業化＜ライフサイエンス分野＞
がん細胞を狙って投薬連携・相乗効果の発揮

教育・人材育成機能

京浜臨海部ライフイノベーション
国際戦略総合特区

そしてこのクリーンルームに、４大学コンソーシアムの約35
種類以上の機器・装置が設置されています。これらは、まさに基礎研究から製品開発までの一貫した作業「加工・デバイス
化・計測」を可能にしています。具体的には成膜、フォトリソグ

流体科学、バイオMEMSが特徴の
４大学コンソーシアム
４大学コンソーシアムは、研究面では①デバイス技術、②材料プロセス・化学プロセス、③加工技術、④計測技術の４つのテーマで協力体制を敷いています。その上で主に、環境・エ

国際戦略拠点キングスカイフロント

ネルギー、先端デバイス、バイオMEMS（微小電気機械システム）分野を研究しています。
具体的な研究をいくつか紹介すると、環境・エネルギー分○（公財）実験動物中央研究所
再生医療・新薬開発センター○LiSE（川崎生命科学・環境研究センター）○ナノ医療イノベーションセンター（iCONM）○国立医薬品食品衛生研究所＜環境分野＞
太陽電池のエネルギー効率を２倍に野の研究では流体電池があります。自然エネルギーを利用して発電された電力を大量に貯蔵できる高性能電池の開発をめざしています。
バイオMEMS分野では、ナノ流体システム技術を中心に、絆創膏に組み込んだチップを使って血液や汗などを分析して健康状態をセンシングするデバイスの開発や、ほんのわずかな
血液やサンプルで医療診断を可能にする診断デバイスなどの研究が行われています。

4※クラス100は、１立方フィートの中に直径0.5㎛以上の微粒子が100個以下、クラス10000は１万個以下のクリーン度を示す

5地元企業の装置利用に期待
技の深層に迫る
NANOBICの重要な役割は、川崎市内の企業を中心とする

そこで判明した課題の解消や技術の向上のために４大学の研究者のアドバイスを受けることも可能です。例えば同じように作っている製品でも品質に違いが出るのはなぜなのか、その分析のためのポイントはどこにあるのか等が可能です。

地元企業の技術力の向上と新産業の創造です。具体的には、

NANOBICでは、川崎市と４大学コンソーシアムが協力し、ナノ・マイクロ技術の教育講座の開催や研究機器の開放利用、最新の技術動向に関するセミナー、少人数制のサイエンスカ

４大学コンソーシアムの専門研究者によるアドバイス、共同研

フェ、４大学の研究機器の利用方法について４大学の研究者

究に取り組んでいます。

がインストラクションする実習会も開講しています。４大学のなかでもNANOBICで利用できる４大学コンソーシアムの機

講師陣が各分野を融合した新しいカリキュラムをつくり、企業

器や装置には、一企業が自前で備えるには高価であるものの、の技術者等を対象にした教育活動を通して先端技術の習得やその機器や装置を利用することで既存の技術を大幅に高度化共同研究を支援しています。

できるものが少なくありません。物質表面の状況を３次元のカ

NANOBICの開設により大学と大企業、中小企業が一つ屋

ラー写真で確認できる超深度カラー３D形状測定顕微鏡や、根の下で研究開発を進める環境が整いました。開かれた環境

空間分解能が 80nmの超解像蛍光顕微鏡、さらには精度の高に多様な人々が集い、イノベーションの実現に向けて力を合わい流体観察ができるマイクロPIV装置など、基礎的なものからせていく。NANOBICは、まさにオープンな研究施設として、も最先端までの機器・装置があります。これらを利用することでのづくり企業を支援していきます。

技術開発に新たな視点を

NANOBIC 装 置 紹 介
ナノ・マイクロサイズのデバイスは、成膜→パターニング（露光・フォトリソグラフィ）→エッ
チング→評価・計測という流れで作製されます。NANOBICには、それぞれの作業に必要な約 35 台以上の各種装置が導入されています。同じ作業分野でも装置によって機能が異なり、
NANOBICでは、さまざまな技術開発に対応できる研究機器を整備しています。

成 膜 工 程これまでのものづくりでは確認できなかった“技”の深層に迫ることができるでしょう。

フォトレジスト・コーティングや
ナノ薄膜スパッタリング● ４元マグネトロン

サイドスパッタ装置● ECRイオンビームスパッタ

成膜装置● クラスタ型コータ・

デベロッパ

評 価・計 測 工 程
活用が期待される各種のナノ・マイクロ機器・装置

ナノ・マイクロ技術を学ぶ各種の研修講座も開催されている

パターニング工程（露光・フォトリソグラフィ）

仕上がり品の分析・評価

デザインを基板に転写● 超低真空走査電子顕微鏡● 自動比表面積 / 細孔分布装置● レーザー直接描画装置● 超高精度電子ビーム描画装置〈４大学コンソーシアムの研究プロジェクト〉● ナノインプリント装置

1. 拡張ナノ空間を利用した基盤・応用技術の研究開発
・拡張ナノ流体、化学物性研究
・ナノ構造形成原理探求・拡張ナノ光学物性研究
・化学、材料、バイオシステムへの応用研究

フロー電池のプロトタイプ

2. ラ イ フ イ ノ ベ ー シ ョ ン（ 高 度 医 療 診 断 分 析 装 置 の パ ー ソ ナ ル 化 ）研究開発

ドライorウェットによる表面加工

・ナノ表面修飾による生体試料分析の高効率、高性能化
・無線通信の集積化、高機能化によるリアルタイム診断

3. エネルギーイノベーション（環境負荷低減デバイス材料、システム化技術）研究開発

エッチング工程● 高密度プラズマドライ

エッチング

絆創膏チップ・ナノ構造、界面制御による発電、蓄電デバイスの高効率、高性能化● シリコン深掘り

ドライエッチング装置● 誘導結合プラズマドライ

・ナノ流体、反応制御による高効率有害物質処理、浄化

エッチング装置

4. 拡張ナノ空間を利用した高速、高感度センシング技術の研究開発
・ナノ界面流動制御による有害物質の分離、計測・超時空間分解能計測技術

6

医療診断チップ

7装 置 紹 介 ♯ 01

NANOBIC 研 究 の 現 場 から

成 膜

〈こんな人におススメ !!〉● 広範囲に均一な膜が欲しい・・

４元マグネトロンサイドスパッタ装置● コンタミが少なく成膜したい・・・

田口 良広● 真空を破ることなく複数種の成膜・・・

慶應義塾大学

理工学部

システムデザイン工学科 教授

幅広い分野で応用できるスパッタリング装置

源を用いてアルゴンガスをイオン化し、ターゲットと呼ぶ材料

広範囲に分布が良いスパッタ源を搭載し（SiO2 では170mmφを原子レベルで基板に付着させる事により薄膜を形成する事以内の均一性が±5%以内）、また、300℃加熱や逆スパッタリができます。マグネトロンの高周波を印加することにより、アルングなどに対応可能です。タッチパネルで操作・成膜条件管

スパッタリングとは、真空技術を基礎としている技術で、電ゴンガスが電離、プラスの電荷を持ったアルゴンがターゲット

理が容易に行え、装置コンセプトで、条件、レシピなどの成膜

気・機械・情報・自動車・光産業など応用分野が広く、有機にぶつかることで、材料の原子がイオン化して飛び出し、基板

データを蓄積できますので、このデータを応用し、様々な材料

EL、LED、太陽電池、光学部品、バイオ、半導体・電子部品なに付着することで薄膜を作製するというプロセスとなっていま

開発が行えるようになっています。

ど様々な分野で活用されています。

す。

今後は、バイオチップやカーボンナノチューブ等の研究開発

近年では、めっきに代替する技術として、樹脂基板ポリカー

NANOBICの４元マグネトロンサイドスパッタ装置は、サイにも、スパッタリングを応用することが期待されています。例

ボネートに金属の風合いを持たせる塗装にも使われてきている

ドスパッタ方式でロードロック室を有していることからスパッタ

えば、バイオチップではAu電極を成膜することにより、血液やほか、半導体やMEMS（センサ、マイクロマシン等）の開発等、室の真空を破らずにスパッタリングを行えるため、再現性に優DNAの分析などに用いられライフサイエンスやヘルスケア等、用途に応じて金属、絶縁体など、様々な特性を持つ材質の膜

れ高密度かつ高密着、均一（SiO2を付け（機能性膜）、電気的な性能をコントロールすることによな膜付けが実現できます。真空状態（10-4Pa）でプラズマをたり、その効果を実現することができます。

て、イオン化し飛び出した材料原子について、磁場により、原

実際にスパッタリングを用いた例として、自動車のヘッドアップ車載ディスプレイやスマートフォンのディスプレイは、表170mmφ以内±5%以内）

要な情報のみを映し出すなど、光の制御等にも活用されています。また、自動車ではエンブレムにスパッタリングを用いて特殊な膜を付け、ミリ波レーダーをエンブレムから照射する事で前方の障害物を認識する事が可能です。
マグネトロンスパッタリングの基本原理は、真空中において、不活性で安定的なアルゴンガスを導入し、交流もしくは直流電

スパッタリングは今後もナノ・マイクロ領域における研究開
発・試作から量産化への展開が期待されています。

子の向きをコントロールし、高密度かつ高密着、さらには均一な膜付けが実現できます。

面をスパッタリング加工し、特殊な機能をもたせることで、光の反射などをコントロールする用途に活用されているほか、必医療分野でも用途が拓けることでしょう。

様々なターゲットでの成膜・多層膜形成と広範囲に分布のよい成膜を実現
この装置では、４種 類のターゲットが 搭載でき、金 属膜（Au、Ag、Cu、Si、Ti、Sn、Cr、Al、Ni等）や 透 明 導 電 膜（ITO、ZnO）、誘電体膜（SiN、SiO2、ZrO、TiO2 等）などの単層成膜や多層膜の形成が可能です。

■基本仕様（芝浦メカトロニクス（株）
CFS-4EP-LL）
スパッタ方式：φ220：サイドスパッタ
ホルダーサイズ
加熱温度：最大.300℃
ターゲット（Sn, Ti, Si, Ag, SiO2, NiCr,
TiO2, Cr, Cu, AZO, ITO, Pt, Al, Ni, Auの4種の成膜が可能）

低電 圧駆動が可能な
熱駆動アクチュエータの開発
４元マグネトロンサイドスパッタ装置では、金属、誘電体、絶縁体など様々な薄膜を成膜可能であり、しかも真空を破ることなく4種類までの異なる材料を連続して成膜可能です。装置紹介♯08で紹介しているシリコン深掘装
置のマスク材料はフォトレジストの他に金属膜も利用可能であるため、フォトリソグラフィ前のウエハに金属膜を本装置で成膜し、リフトオフプロセスによって金属マスクを作製することもできます。また、シリコン基板で作製したマイクロミラーの表面に高反射膜としてアルミなどを成膜することもあります。本装置はプロセス上流から下流までのあらゆる場面において利用することができます。

解説は­­­…

吉田 信哉さん
芝浦メカトロニクス
株式会社

メカトロニクスシステ
ム事業部

我々は本装置を用いて熱駆動アクチュエータを開発しています。熱膨張率の異なる2種類の物質（SU-8とNiCr）を積層し、NiCrに通電 加熱することでアクチュ
エータを駆動します。熱駆動アクチュエータの特徴は低電圧で駆動できるため、櫛歯型静電アクチュエータと比較して1/10の電圧で動かすことができます。図1は4インチのシ
リコンウエハに本装置を用いてNiCrを成膜した後、フォトリソグラフィとリフトオフプロセスによってアクチュエー
タのパターンを作製した例です。4インチウエハ上に40個以上のデバイスが形成されています。図2は熱駆動ア
クチュエータのNiCr電極の拡大図です。NANOBICにある一連の装置によって精細な電極パターンを作製できることがわかります。

■図1 シリコンウエハ上の成膜・ パターニング例■図２ NiCr電極の拡大図（線幅は30μm）

89装 置 紹 介 ♯ 02

NANOBIC 研 究 の 現 場 から

成 膜

〈この装置の特徴〉

ECR イオンビームスパッタ成膜装置
緻密で良質な薄膜形成とエッチングが可能な複合機
着して膜となります。

電子サイクロトロン共鳴プラズマ方式のイオンビームスパッタリング成膜

熱ダメージが少なく、極めて薄い良質の膜を安定的に作れる点「 ECRイオンビームスパッタ成膜」とは、電子サイクロトロン共にあり、成膜スピードは毎分数nmレベルで制御できます。

ECRイオンビームスパッタリング方式の特徴は、高真空中で、● プラズマイオンで対象物に薄膜形成● 高 真 空 中 で 極 薄・ 良 質 な 安 定 成 膜

多層膜や混合膜形成も可能

茂木 克雄● 素 材 の 基 礎 研 究 や、 サ ブ ミ ク ロ ン 単 位 の電子システム工学科 教授

れ、新たな半導体材料として期待されているCNx（カーボンナ
イトライド）の開発にも活用されています。
また、走査電子顕微鏡や電子マイクロアナライザなどで計を用いてプラズマを発生させ、プラズマ中のイオンを利用してステージは自動連続回転機構や首振り機構を備えています。

表面加工では、サブミクロン単位でのエッチング、タングス

対象物をエッチングしたり対象物に薄膜を形成する方法です。

またビーム量を自動制御しながら、各々のターゲットに交互にテンやニオブなどの表面加工などがあります。走査電子顕微装置のイオン銃室内（真空状態）に磁場をかけ、その磁場のビームを照射できるので、「シリコン／窒化クロム／シリコン／鏡と組み合わせて、削られていく経過をリアルタイムで観察す強さに対応する共鳴周波数のマイクロ波を入射すると、マイク

アルミニウム」などといった多層膜や混合膜を形成できます。

ることもできます。

ロ波と磁場の相互作用により、充填してある不活性化ガス（イにしていイオン銃室内を高真空（5.0×10－3 ～ 3.0×10－4Pa）

成膜では、白金やタングステンなどをターゲット材にした重オン化ガス、主にアルゴン）の電子が電子サイクロン共鳴といるため、ゴミとなる粒子が少なく、不純物の混入が少ない良質金属の膜を作ることができます。また、四角い試料の各面に異う回転振動を始めて移動します。さらに、電子が多数の中性分な膜が生成できます。また本装置は、２本のイオン銃の他にもなる金属の膜を生成したり、多層膜を形成できますので、マイ子と激突を繰り返すことによって、原子が「イオン」と「電子」にう１本、膜品質を向上させるための専用のイオン銃を備えていクロスイッチやマイクロセンサーなどの開発にも応用可能です。

分離する現象（電離）が起きます。この電離した原子を含む状

るのも大きな特徴で、成膜表面のクリーニングや、反応性イオ態が、物質の３体（固体、液体、気体）の次に来る第４の状態

ンビームを用いることで膜の改質を行うことができます。

CNxなどの新素材開発にも活用可能を設けて電位勾配をつければイオンのみを引き出すことができ成膜技術は、ベアリングやシャフトなどの摩擦係数を下げたます。引き出されたイオンをエッチングしたい材料や成膜に使り、センサーや電極、金型の最終段階の保護膜などとして広くう材料（ターゲット材）に衝突させることで、材料の粒子を削り活用されている技術です。

取ります。これが「スパッタリング」と呼ばれる現象です。削り

本装置は、エッチングやコーティング時の試料温度の設定取られる材料の反対側に成膜したい材料（対象物）を置くと、や真空中に投入する雰囲気ガス、イオンの種類など、条件をさスパッタリングによって削り取られたターゲット材の粒子が付まざまに変えて、素材開発の基礎研究に活用されています。例

我々は、創薬や医療に用いるマイクロ流体デバイスの測する試料の作製にも活用されています。

開発に取り組んでいます。マイクロ流体デバイスとは、髪の毛ほどの細いマイクロ流路を内蔵した装置で、そのマイクロ流路に液体（マイクロ流体）を流し込んでマイクロ流体特有の作用を利用した液中成分の分析などに使用します。皆さんは「借りぐらしのアリエッティ」という映画をご存じですか？小人である主人公の母親がおもちゃのコッ
プにお茶を注ぎ入れるシーンがあるのですが、何とそのお茶はべっとりとしています。この「べっとり」というのがマイクロ流体の大きな特徴で、マイクロ流路の中では水も粘った流体として扱えます。一方で、マイクロ流路には電■基本仕様（株式会社エリオニクス EIS-230W）

解説は­­­…

気との相性が良いという特徴もあります。通常、電極を介して液体内で起こる電気化学の主な反応は、電極近傍の

イオン銃：電子サイクロトロン共鳴ECR型

微小空間で急速に進みます。そのため、マイクロ流路に電／加速電圧：100V ～ 3000V連続可変

極を組み込んで小規模な反応系を構築すれば、その反応／成膜速度：４nm/min ／成膜寸法：φによる作用を効果的に利用できます。

50mm ／膜厚均一度：φ40mm±５％以
内／イオン化ガス：Ar、Xe、O₂、N₂など／

我々は、NANOBICのECRイオンビームスパッタ成膜

イオン流モニター：モニター用検出端子付／ガス流量制御：マスフロコントローラ／

装置を利用してマイクロ流路の底面のガラスに電極用薄膜

イオン中和機構：ニュートライザ機構付／

杉山 嘉也さんを成膜しています。電極材料の金はガラスとの密着性が悪

イオン流密度：Ar1.5mA ／ c㎡以上
（2kV

株式会社エリオニクス

く、液中ですぐに剥がれてしまうため、ガラスと金の間に接

加速時）／ターゲット制御方式：スケジュー■装置によるクロムCr成膜例（Siウェハ上にCrを約1μm成膜）

創薬/医療に用いるマイクロ流体デバイスを実現する均質な薄膜電極

えば、ダイヤモンドよりも高硬度を有することが理論的に示さターゲットステージには最大３種類のターゲットを搭載でき、プラズマの中のイオンはプラスの電気を帯びており、電極板

工学部

エッチング、表面加工にも活用

鳴（Electron Cyclotron Resonance＝ECR）と呼ばれる原理「プラズマ」です。

東京電機大学応用技術課

ルファイル用PC ／試料ステージ：基板サ

着層となるクロムを挟み込みます。このクロムと金の二層薄膜をマイクロ流体デバイスの電極として用いる場合、マイズφ50mm、加熱温度350℃、電動回

イクロ流体からのせん断応力や酸化還元反応の影響を直転機構付に受けるため、用途や流路の形状などに応じて膜厚を調整する必要があります。例えば、クロム層は厚すぎると側面からの浸食が進むため、接着層としての役割を損なわない
程度の薄さが求められます。また、金も厚ければよいとい■MEMS分野での成膜応用例

うものではありません。熱や、残留応力、流体のせん断応■光通信用世界最小半導体
レーザー素子力によって接着層から剥がれてしまいます。これに対して
NANOBICの当該装置は、高真空容器内で高い付着強度■二酸化シリコンSiO₂のエッチング例を備えた多種材料の積層膜の成膜が行える上、材料や成膜条件に応じて細かく制御パラメータを調整できるため、
0.2㎛

我々の用途に適した良質な電極用薄膜の成膜が可能です。

5㎛

資料提供：横浜国立大学・馬場俊彦教
授ガラスに電極を組み込む

10

流路底面の封止11

装 置 紹 介 ♯ 03

NANOBIC 研 究 の 現 場 から

成 膜

〈この装置の特徴〉● レジスト塗布・ベイク・現像の一体ユニット

クラスタ型コータ・デベロッパ● 膜 厚 の 均 一 性 を 確 保 し、 角 形 基 板 の フ リ

先端研究の期待に応える高精度なレジスト塗布・現像

ンジ発生領域も減少を

高速で試料構造を分 析する
マイクロ熱物性センサー
半導体微細加工プロセスにおいてフォトリソグラフィは● 多様な条件のレシピ化で高い再現性を確保

プロセス上流に位置付けられ、開発するマイクロデバイスの性能を左右する重要なプロセスになります。
クラスタ型コータ・デベロッパはフォトリソグラフィの中でもフォトレジストと呼ばれる有機薄膜をウエハに高精の乱気流の発生を低減させるフタ回転機構を搭載しており、塗布＆ベイク＆現像の3ユニットを一体化

膜厚均一性の向上、フォトレジスト使用量の削減、角形状基板

この装置は、フォトリソグラフィ工程における「レジスト塗
布」「ベイク」「現像」の３つの工程に使用される装置です。
「レジスト塗布」とは、ウエハ上にサブミクロンから数百ミクロンの厚みのフォトレジスト（感光性樹脂）を形成する工程です。
次に「ベイク」とはウエハ上に塗布したフォトレジストを固化・定着させる工程です。最後に「現像」とは露光（回路パターンの転写）後にウエハを現像液に浸し、余分なフォトレジストを取り除く工程です。
「クラスタ型」とはこれらの工程ユニットをに対するフリンジ発生領域を減少させる効果があります。

均一性はターゲット膜厚1μmに±1.0%以内
フォトレジストの膜厚は、フォトレジストの特性（粘度）とウエ
ハを回転させる速度により決定します。またフォトレジストを滴下する位置や滴下する量のばらつきも膜厚均一性に影響を及ぼす場合があります。

設けてベイクするギャップベイクが可能です。
現像部では、露光したウエハの現像を行います。現像は有機アルカリ現像に対応しており、パドル現像とスプレー現像の２方式が選択可能で、現像液の滴下・保持・乾燥の工程を自動で行います。塗布部と同様に現像条件のレシピ化と登録が可能なため、高い再現性を備えています。
なおこの装置では、こうした一連の工程について、25 枚から50 枚のウエハを連続して処理することが可能です。

この装置のレジスト塗布部には、スピンコートとスプレーされており、フォトレジストの滴下条件やウエハの回転条件をコートの２つの塗布ユニットが搭載されており、ターゲット膜

レシピ化して登録し、高い再現性を実現する機能が搭載され対応基板サイズ：2、3、4インチΦウエハ（6、厚、膜厚均一性、またはウエハ表面の形状に応じた塗布手法ています。例えばターゲット膜厚１ミクロンの塗布を行う場合、が選べます。
スピンコートとは、ウエハの中心部にフォトレジストを滴下しウエハを高速回転させることでウエハ上にサブミクロンから数百ミクロン厚のフォトレジストを塗布する手法です。
一方、スプレーコートとは、微粒子化したフォトレジストをウエハに噴きつけてフォトレジストを塗布する手法です。スプMEMSやバイオデバイス分野においては数十から数百ミクロ

フタ蓋回転式塗布機構GYRSET®【スプ
レー塗布部】X-Y移動式スプレーヘッド及ます。下図に示したように、マイクロ拡散センサーはシリ
コンウエハに作製されたマイクロフレネルミラーと呼ばれ

兼松 PWS株式会社

露光後のPEB（加熱による感光部分の拡散）、現像後のポスト現像およびリンス（純水）機能／パドルおよびスプレー現像に対応（温度調整機能付）【ベイクプレート部】温度範囲：60 ～250℃／プロキシミティベイク：高さ調整
範囲0.2-10mm（0.1mm単位で調整可能）

れる微小流路によって構成されており、腕時計に内蔵可
能なくらい小さな光学式センサーです。

可能です。タンパク質などのバイオサンプルやナノ・マイプレーノズル：2ライン【現像部】
アルカリ

する均一性は±１%程度です。またウエハと熱源の間に隙間を我々が開発したマイクロ熱物性センサーの１つを紹介し子を観察すれば試料の拡散係数をセンシングすることが高杉 公計さん250℃の範囲において１℃単位で設定可能で、設定温度に対開発が飛躍的に進みました。

の濃度分布が形成されます。この濃度分布が減衰する様

びベイク機能付ウエハ回転ステージ／スを塗布するのに有効です。

に向上し、定量的な評価を要するマイクロセンサーなどの

光誘起誘電泳動セルに封入された試料にマイクロフレベイク部では、ウエハ上のフォトレジストの固化と定着、また
ベイク（レジストの密着性向上）を行います。温度は60℃から

コータ・デベロッパを用いることで再現性や均一性が格段

ネルミラーを介してレーザーを照射すると、セル内に縞状

8インチΦウエハはオプション）／ウエハのハ【スピン塗布部】
レジスト自動塗布機能／

レーコートは表面に凸凹形状を有するウエハにフォトレジスト
スピンコートユニットには、ウエハ高速回転時にウエハ周辺

解説は­­­…

ンドリング：完全自動（カセット対応）

その膜厚バラツキを±１%以内に抑えることが可能です。また
ンの厚膜塗布に使用されています。

研究所では従来この工程はマニュアルで行われてきたため、再現性や均一性などに問題がありました。クラスタ型

る微小光学コンポーネントと、光誘起誘電泳動セルと呼ば■基本仕様（ズース・マイクロテック株式会社
Gamma）

この装置には完全に自動化されたレジスト塗布機構が搭載統合した装置であることを意味しています。

度に成膜可能な装置です。プロトタイプの開発や小規模な営業部

SUSS MicroTec 担当

クロ粒子の拡散係数は試料の構造に依存するため、拡散係数をセンシングすることで試料の構造を分析できます。
我々が開発したマイクロ拡散センサーでは1秒以内で分析することができ、時々刻々と構造が変化するような試料の様子を高速にモニタリングすることができます。
こうした定量的な拡散係数測定においては、測定の不確かさが小さい測定条件を見つけなければなりません。ミラーの大きさや角度などデバイスパラメータを繰り返し検■スプレーコータの塗布作業■デベロッパモジュール部分■段差構造のスプレーコーティングデータ

討する必要があり、クラスタ型コータ・デベロッパを用いることでデバイス開発の歩留りが向上し、センサー開発のスピードをアップさせることに成功しました。
（慶應義塾大学 田口教授）■角基板のフリンジ発生状況

マイクロ拡散センサーの
イメージ図

12

13

装 置 紹 介 ♯ 04

NANOBIC 研 究 の 現 場 から

パターニング〈この装置の特徴〉● 基 本 的 な 形 状 か ら 3D 形 状 ま で レ ン ジ にレーザー直接描画装置

富んだパターンを描画

汎用性と柔軟性に優れた最小 1um サイズを描画できるマスクレスレーザーリソグラフィ装置
研究開発用途に適した描画装置
この装置は、フォトレジストを塗布したウエハ等の材料に、レーザーを用いて微細なパターンを直接描画できるマスクレス
レーザーリソグラフィ装置です。センサ等のMEMSや、スマー
トフォンのレンズ等の光学部品を作製する過程において、マス
クレスで対象物に直接描画ができることから、様々なパターン・
形状でプロトタイプを製作するような試作・研究開発に適しています。
本装置は、ミクロンレベルの加工での高い描画精度を確保するため、描画対象物を設置するステージには温度や湿度の変化による影響を受けにくいグラナイトを用い、重量のあるス
テージ自体を移動し描画するシステムを採用しています。描画
ヘッドを移動する場合と比べて、より安定した描画環境を実現しています。原理的には、XYの位置を干渉計で定め、描画用
データに従って、レーザービームをAOM（音響光学変調器）で強度調整、AOD（音響光学偏向器）で高速走査することで、光学描画ヘッドを動かさずに高精度で高速な露光を可能にしています。描画ヘッドには、センシングした空気圧を電圧に変換するピエゾトランスデューサを用いたオートフォーカス機能がついています。対象物と描画ヘッドの距離は約90μmで常に一定に維持され、幅広い描画用基板と表面状態に対応可能です。
CADデータを作成すれば、ガラス基板上にクロム薄膜を成膜したフォトマスクブランクスにフォトレジストを塗布し、本装置でマスクを作製できるため、マスクを用いる量産向きのフォ
トリソグラフィへの開発コストを低減することが可能です。

また、試作・研究開発においては、様々な加工条件を検討している利用者の方が簡易に操作できることも重要なポイントです。この装置では、データ変換用PCにより、DXF、CIF、GDS
Ⅱ、Gerber、BMP、ASCII、STLの画像データフォーマットを直接取り込むことができます。データ変換の際に、レイヤーの拡縮、デザインのサイズや位置などの他、連続パターンのアッセンブリも、プレビュー画面で大小を確認しながらの調整が可能です。さらに、NANOBICの装置では、描画物のサイズによってレーザーのヘッドを選択できます。小さいデザインの描
画には最小1μm描画の4㎜レンズ、大きいデザインの描画には最小10μm描画の40㎜レンズの2 種類のレンズを使い分け、
29 〜 416㎟ /分の速度で描画することができます。ヘッドはその場で簡単に交換ができるようになっています。

３つの描画方式とNANOBICでの応用
この装置が可能な描画手法は、バイナリー（2D）描画、グレイスケール描画、ベクター描画の3 種類があります。
まず、バイナリー描画ですが、平面上でデザインを一定幅のストライプに区切り、ストライプごとに下から上方向に描画していくもので、一定の深さで平面加工を行いたい場合に適した手法です。バイナリー描画が平面加工であるのに対して、3次元加工を行いたい場合に用いるのがグレイスケール描画です。
レーザーの出力を調整しながら描画することで、自由に描画物に高さを出すことができる手法で、最近では、マイクロアレイやレンズ等の研究開発における需要が高まっています。ベクター
描画は、バイナリー描画と同じく平面での描画ですが、上下方向のみに描画するバイナリー描画と異なり、上下左右方向それ
ぞれに曲線的な描画ができます。短時間で線だけのパターンを描画したいときに最適な描画モードです。
実際に加工する際には、この3つの描画方法を使い分けることに加え、条件設定がキーとなります。加工後、設計通りの加■装置の基本構成● 最適な描画を実現するための多様な条件

山本 貴富喜設定機能搭載東京工業大学工学院● 高い操作性を備えたユーザーインター

機械系 准教授

フェース

工ができているかを評価し、どのような条件が最適な条件か、検証していくことが重要ですが、NANOBICでは、本装置以
外にも、高精度の薄膜を作製できる成膜装置や走査型電子顕微鏡を備えており、システム化された研究環境が整備されています。また、本装置とナノサイズのパターン描画ができる電子ビーム描画装置との重ね合わせ描画も可能であることから、バラエティに富む形状が実現できるとともに様々な用途への応用が期待できるでしょう。

AI駆動ACナノポア法による微生物センサの開発
我々のグループでは、新開発したAI駆動ACナノポア法という測定法に基づくフェノタイプセンサの開発，および医療・ヘルスケア，
サニタリー・ハイジーンビジネスへの実装を展開しています。センサの主要部はマイクロ流路やナノ流路で構成されており，このような流路構造の物理的な特徴を合目的的に利用してセンサが機能します。例えばウ■基本仕様（ H e i d e lb e r g In s t r u m e n t s
Mikrotechnik DWL66fs）
光源：Arイオンレーザ 波長：363nm、
出力：180mW
最大基板サイズ：9インチ×9インチ
最大描画サイズ：200×200㎜
最小描画サイズ：1.0㎜
最小アドレス・グリッド:10nm
描画スピード：29 〜 416㎟ /分
3D（グレイスケール）
露光モード
アライメント用カメラシステム
バックサイド・アライメント・システム
データフォーマット：DXF、CIF、GDSll、
Gerber、BMP、Ascii、STL■応用例①

解説は­­­…

山下 賢哉さん
ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

営業部

三方 聡さんハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

技術部

イルスや細菌などの微生物検出の場合，ウイルスの計測ではナノ流路，
バクテリアの計測はマイクロ流路と，測定対象に応じて様々な大きさの流路形状を高精度に作製する必要があります。また，生産性を考えるとある程度の大面積
で一度に無数のデバイスを作製する必要も求められます。
そこで我々は，最大8インチ角サイズに加工精度1µmで感光性樹脂のパターニングを実現するレーザー直接描画装置を利用して，5インチ角の石英ガラス基板にフォトマスクを作製しています。その作製したフォトマスク上に直接フォトレジスト構造を作製する背面露光プロセスを用いてマイクロ流路の鋳型を作製の上，マイクロモールディ
ングにより鋳型のパターンをシリコーンゴムに転写してセンサのマイクロ流路構造を実現しています。一例として，■応用例②

3µm×3µmの断面積を持つマイクロ流路をセンシング部に用いたセンサを図に示します。
例えば，本デバイスを用いてAI駆動ACナノポア法によるフェノタイプセンシングをすると，1つのセンサで20種類近くのバクテリアを測定時間が数秒程度で85%以上の精度で検出・同定することが可能になります。ウイルス

バイナリー描画によるマイクロ流路の加工例。
レジスト厚100μm、最小描画サイズ1μm。
使用レジスト材料：SU-8■応用例③グレイスケール描画によるピラミッド
アレイの加工例。底辺25μm、高さ50μm、ピクセルサイズ200nm。使用レジスト材料：AZ4562
滑らかな斜面構造の描画には、最適な条件設定が必要やバクテリアセンシングによる感染症・パンデミック対応，
細胞外小胞を検出することによるがんや様々な疾病の早期発見など，同定可能なバイオナノ粒子の種類は日々増大しており，必要なデザインを本装置で実現しています。その他，用途に応じて様々なマイクロ・ナノ流体デバイスを作製しており，ほぼその全てにレーザー描画装置を活用しています。

マイクロアレイレンズの加工例。
最大深さ3.19μm、ピクセルサイズ200nm。
使用レジスト材料：AZ4562

1415

装 置 紹 介 ♯ 05

NANOBIC 研 究 の 現 場 から

パターニング〈この装置の特徴〉● 熱 電 解 放 射 型 電 子 ビ ー ム で、 マ ス ク レ ス

超高精度電子ビーム描画装置

で電子線レジストに直接描画

最小回路線幅８ nm サイズでの直接描画を実現

最大加速電圧80kV、重ね合わせ精度 40nm

● 大容量伝送用光デバイスの製造で活躍

システムデザイン工学科 准教授

描画できる最大フィールドサイズは2.4㎜×2.4㎜で、不定形

実際、最先端のものでは、光多重波長デバイスモジュール

サイズのものにも描画できることを大きな特徴としています。最で光信号を受けいれる入口と出口で異なる波長に圧縮したり大では直径が６インチのウエハ試料か、６インチ四方のマスク

波長を戻したりする機能に、この微細加工による部品が使わの試料が装着でき、大面積での描画も可能になっています。

れています。

電子ビームの加速電圧を高めれば高めるほどビームを細くでき、超精細なパターンを描けるようになります。この装置のまた、レーザー干渉計搭載のステージは、すでに加工済み

その上で、マイクロマシンへの応用では、曲面加工や研磨にの部品に対するつなぎ、重ね合わせの描画精度（位置合わせ

使われ、２つの流路を作ってガスを流すといった構造構築に精度）が共に40nmという高精度を実現しています。

も活用されています。先にも紹介したように、加工済みの部品

加速電圧は最高80kVで、電子ビームの最小径は２nmを実現

バイオチップやマイクロマシン開発の基礎ツール

しています。前方散乱電子による描画線幅の広がりを抑え、回超精細なパターンの描画ができることで、さまざまなアイデ

路線幅は最小８nmまでの描画が可能です。
これはつまり、市販されている電子線レジストを使って10nm以下での微細パターンの描画ができることを意味しています。
回路の描画作業は、半導体の製造プロセスでは川上に位置

超微細構造の作製に必 須のナノパターン描画
電子ビーム描画装置は、微細加工の基本プロセスである1)成膜（材料を盛る）、2)パターニング、3)エッチング（材料を削る）の３工程のうち、2)のパターニングを担当する装置です。本装置は、電子ビームを利用することで、最に対する重ね合わせ精度は40nmですから、例えばハードディ

小寸法で10nm以下のパターニングを可能としています。

スクの磁気ヘッドの先端部分だけを電子描画で描き加えるとこのようなハイスペックを実現するための維持・管理は研いった活用もなされています。

究室レベルでは困難であり、専用の耐震・電磁シールド設

アの実現をサポートし、多くの活用実績があります。

備を持ったNANOBICの高度なクリーンルームだからこ

この装置を使い、CADで設計したデータを基に、マスクレス
で電子線レジストに直接描画するケースもあります。
最近の活用法で注目されているのはバイオチップやマイクロマシンへの応用です。ヒトのDNAの二重螺旋分子の直径は２しています。従って描画段階で精度を確保できれば、後工程nmであり、タンパク質にDNAの糸が巻き付いた「ヌクレオソー

においても精度を維持でき、結果的に優れた製品や研究結果

ム」の直径は11nmあります。つまり最小の８nmの超精細パを創出できます。また、回路線幅が細ければ細いほど、半導体ターンで作られたバイオチップ（網）であれば、DNAをつかまの省エネルギー化、小型化、高性能化を実現することにつながえられるのです。

ります。

理工学部

も活用

この装置は、微細な電子源（点電子源）が得られやすく、高装置です。

慶應義塾大学● 曲 面 加 工 や 研 磨 で MEMS の 構 造 構 築 にい電流密度も得られる「熱電解放射型」の電子ビームを用い、超微細なパターンを長時間にわたって描ける電子ビーム描画

嘉副 裕

そもそも超精細な回路形成は、大容量伝送用光デバイスとビームの位置決め性能は最高±0.3nmの補正分解能を達成して広く普及してきました。精細でエッジが立った回路では、しており、ステージの位置読み取りには分解能が 0.6nmのレー光が混ざり合わないで直進できるだけでなく、分光器の分光

ザー測長計（干渉計）を装備しています。

素子として使えば光が混ざらない分光を実現できます。

■超細線描画の例。溝幅は８nm■基本仕様（株式会社エリオニクス ELS-7800K）

そ初めて装置本来の性能を発揮させることができます。

解説は­­­…

NANOBICには、特にマイクロ・ナノ流体デバイス作
製やナノインプリントなどの版作製に最適な設備群がシ（１）
電子光学系本体

ステム化されています。そのため、本装置で作製したナノ電子銃：熱電解放射型電子銃（ZrO ／ W）
／最小電子ビーム系：φ2nm以下／最小パターンをそのまますぐにガラス専用のドライエッチング

描画線幅：８nm以下／ 最大加速電圧：装置でエッチングすることにより、図に示すようなナノ流

80kV路等の超微細構造をその場でシームレスに作製すること（２）
試料室
移動範囲：Ｘ、Ｙ方向＝155mm、Ｚ方向＝５mm ／最大試料サイズ：φ150mmま渡邊 雅彦さん

たは150mm ／最小試料サイズ：５mm

株式会社エリオニクス

角～／フィールド間つなぎ合わせ精度：
40nm ／重ね合わせ描画精度：40nm■応用例①ができます。ここで示したナノ流路は、体積が僅かfL（1015 L）と超微小であるため、検体中に含まれるたった１個の目的分子であっても確実に検出する性能をもった超高応用技術課リーダー

性能医療診断デバイスへの応用が期待されています。

■応用例②

1.5㎛

ガラス基板上に作製したナノ流路の電子顕微鏡写真
1.5㎛

レジストマスクのエッチングで高アス「ブレーズドグレイティング」。光学平

16ペクト比で描画した。0.3㎛ライン＆ス

面レンズに膜厚0.32㎛、ピッチ1.0㎛

ペースのポジ型レジスト
（上）
と同じく

で描画

ネガ型レジスト（下）

17

装 置 紹 介 ♯ 06

NANOBIC 研 究 の 現 場 から

パターニング〈この装置の特徴〉● 金型の型押し技術を活用して微細構造をナノインプリント装置

樹脂に転写

ナノサイズの金型転写による自在なデバイス加工などについて精密な機械コントロールを実現しています。押しナノパターンの一括転写で高精度加工

込み量の保証値は「 50nmピッチ」ですが、操作の再現性ではこの装置は、金型の型押し技術を使い、金型に作られたナノサイズの微細な構造を樹脂に転写するための装置です。

理論的には「10nmピッチ」まで可能です。
加工精度は、写真にもあるようにナノパターンが正確に加工

大学院工学系研究科

バイオエンジニアリング専攻● 活用分野は無制限

特任准教授

います。
このパターンを底面とするプレートを利用して、さまざまな細胞を、より生体内に近い形で再現できる３次元細胞培養法も実用化されています。

されており、そのために金型によりフィルムへ成型した場合で「ライン＆スペースパターン」は電子材料や偏光板などの用の再現）技術のように誤解されますが、「インプリント」は刻印、は、ナノパターン特有の構造色（干渉色）をきれいに確認する

途で、「メタル配線パターン」は各種の電子材料での活用が検刷り込み、転写といった意味を持つ「プリント」とは別の単語ことができます。

討されています。その他には、自在な形に作られた「マイクロという意味です。

R&Dからパイロットまで自在の生産能力

まず電子線ビーム描画装置やEUV（Extreme Ultraviolet

樹脂の表面に微細加工を施すので、活用分野に制限はあり

lithography＝極端紫外線露光）などにより金型を作製します。

ません。ありとあらゆる分野の微細加工が必要なデバイスで利転写される樹脂には熱可塑性樹脂、紫外線硬化（UV）樹脂な用が検討されています。
自動車部品などを作る射出成型や押出成型では対応できな

どさまざまな種類の樹脂を利用できます。
ナノインプリントの方法は大きく分けて２つ。１つが、金型をフィルム状の樹脂に直接加熱しながら押しつけ、冷却後に離す「フィルムナノインプリント」で、主に熱可塑性樹脂表面加工

い、薄膜への微細なパターンにも対応しています。つまりさまざまな用途のデバイスの大量生産が可能なのです。
パターン別の主な適用用途の事例を見ると、「ピラー・ホールパターン」はLEDやOLED（有機発光ダイオード）、太陽電池（熱ナノインプリントプロセス）で使用します。
もう１つが、シリコンや石英などの基板の上にレジストとなるも含めた光デバイス、いくつかのバイオデバイスなどの用途が樹脂を塗布し、そこに金型を押しつけてレジストにパターンをあります。
「レンズアレイパターン」は導光板をはじめとした光

転写する「レジストナノインプリント」で、UV硬化樹脂加工＝

学デバイスなどの用途で、「無反射パターン」はレンズ曲面やＵＶナノインプリントプロセスで使用します。

LED、液晶、ソーラーパネルなどの用途で、「ハニカム・格子

この装置では位置制御で加圧力、押し込み深さ、温度設定

敏博

東京大学

膜への微細パターンに対応「プリント」と名前が付いているので印刷（インクによる画像

で、「インクを使用しない金型の型押しによるパターンの転写」

笠間● 射出成型や押出成型では対応できない薄流路」などのバイオデバイスが挙げられます。

体内状態をモニタリングする
on-body型マイクロデ バイスの開発
ナノインプリントは、ナノメートルオーダーのパターンを有するモールドを様々な材料に押し付けることで、対象物に微細なパターンを転写する加工技術です。微細なパターンを形成する他の方法としてはフォトリソグラフィや電子線リソグラ
フィなどがありますが、これらの方法とは異なり化学薬品を使用しないドライプロセスであることが特徴です。また、大面積
な転写に対応したナノインプリント装置も開発されているので、NANOBICの装置で条件だしができれば、比較的スムー■基本仕様（SCIVAX株式会社

解説は­­­…

X-300）

形式：熱式＆UV式ナノインプリント装置

ズに量産のステージに進むことができます。ここではナノイン
プリントを利用した研究例の１つとして、体内状態をモニタリングするon-body型マイクロデバイスに関する研究を紹介し／転写方式：一括転写／被転写材料：

ます。

UV硬化樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化性

この研究では、体液を継続的に分析し、健康状態や精神状

樹脂／最高使用温度：650℃／最大荷重態を反映して濃度が変化するバイオマーカーと呼ばれる生力：50KN ／最大ワークサイズ：φ150㎜／ UV機能：波長365nm、有効照射面積

体分子を測定するセンサーを開発しています。従来のバイオ

100㎜φ、最大加圧力２MPa、最大操作温奥田 徳路さん度100℃

サイヴァクスSCIVAX 株式会社
取締役副社長パターン」では各種の電子材料、バイオデバイスで活用されてマーカーの測定は、血液や唾液、尿などの検体を体外に採取してin vitroで分析する方法が主でしたが、このセンサーは体表面に留置されて継続測定できることが大きな特徴です。これを用いることで、これまでの分析では調べることができなかった極めて短い時間でおきるバイオマーカーの濃度変化を■ナノインプリントの基本パターン■成型事例（熱式）
金型

金型

（b）

加熱・押し付けでの基盤的な技術となるでしょう。

（a） （Si.石英.サファイア.樹脂etc.）

しかし、このようなデバイスを作製するのは非常に高度な加加熱or常温工技術が必要となります。なぜなら、人体に無害な素材で、被験者が痛みを感じず、かつ使用中に折れないようなニードル

冷却・離型

（b）

成形パターン

加圧and/orUV照射

フィルムナノインプリント

A4サイズ金型によるフィルムへの成型

形状（裾野の太さと、先端に向かって鋭くなる斜面の角度）と、（φ230nmピラー）で、ナノパターン特体液までアクセスできるだけの長さ（数百ミクロン）を作る必

有の干渉色が確認できる

（c）
（c）

（熱可塑性樹脂表面加工）

離型■３次元の細胞培養の様子

SF6,CF4 etc.

（d）

要があるからです。我々はニードルの最適な太さ・鋭さ・長さ■メタル配線パターンを調べるために、ナノインプリント装置を利用しました。フォト
リソグラフィで数百ミクロンの高さの構造物を作製するためには、せいぜい数十ミクロンの層を積み重ねて作るしかなく、技術的に非常に困難ですし、長時間を要します。我々はナノイン
プリント装置を使って様々な太さ・鋭さ・長さのニードルを多エッチング

レジストナノインプリント（熱可塑性樹脂orUV硬化樹脂）

18追うことができるようになり、被験者が感じている喜びや悲し
みなどの感情を客観的な数値として知ることができるようになります。これは、あらゆる工業製品をパーソナライズする上

レジスト
基板

成形フィルム（a）■φ230nmのホールパターン

底面がナノインプリントでつくられたハニカムパ
ターン（左）の上で細胞を培養する（右）数作製し、最適な形状を調べることに成功しています。
ナノインプリント装置は、サイズおよび材料に対して幅広い適応性を有しており、様々な応用が期待されます。

19

装 置 紹 介 ♯ 07

NANOBIC 研 究 の 現 場 から

エッチング

〈この装置の特徴〉

高密度プラズマドライエッチング装置
ガラスなどに高速かつ精密な深掘り（孔・溝）加工

独自の磁気中性線放電プラズマ方式
この装置は、磁気中性線放電プラズマ（magnetic Neutral
Loop Discharge=NLD）
を使い、ガラスなどをディープエッチ
ング（深掘り）する装置です。
石英やガラス材料、水晶、誘電体、シリコンなどに対する深● 低圧、高密度、低電子温度プラズマによる加工が可能

科学技術創成研究院

真っすぐに深掘りできているので、さまざまなマイクロマシンの開発につなげられます。さらにこの装置ではナノサイズのシャロウエッチングから最深100μm以上の深掘りまで幅広く溝を 掘ったりすることで、MEMSからNEMS（Nano-Micro

対応できます。

Mechanical System）
まで幅広い加工技術を備えています。

MEMSから「NEMS」へと高精細化
この装置で用いられている技術は、光デバイス向け石英深掘りがベースですが、ソーダガラスへの深掘り、マイクロ流路

つくる磁気中性線放電プラズマ方式は、低圧、高密度、低電の形成加工も可能な技術であることから、現在では、MEMS

子温度プラズマによる加工が可能な世界で唯一のエッチング

作製プロセスでの活用も進んでいます。
バイオ関連向けでは、基板に直径 40nm、深さ800nm程度装置です。
石英の加工速度や加工精度の制御方法には、プラズマの密のナノレベルのエッチング技術を応用し、少量の血液で健康度や圧力などの調整に加えて、フロロカーボンガス（プラズマ）

状況を分析できるようにしたり、DNAのナノソーター技術などの化学反応と、プラズマによる物理的な反応をマッチングさせ多くの研究開発に利用されています。
その他光関連MEMSでは、ナノレベルで表面をつるつるに加て効率を上げます。
この装置では、加工されるガラスやシリコンなどにマイナス工したマイクロレンズの作成に使われているほか、光学機能をの電界をかけて、プラスになっている反応粒子を呼び込んで有する高誘電体材料の光デバイス製造にも活用されています。

エッチング反応を加速させます。削られた穴の中に次々と入っ

光学素子製作ではチタンやシリコンを多層化した素材をこてくるプラスの反応粒子は、加工材料表面で反応して物理化の装置で深掘りして多層膜デバイスの製造を行っているケー

学的に削っていきます。

スもあります。

この装置では、反応粒子を引き込むという物理的な技術と、いずれにしても微小な幅のフェンスの列を作ったり、１点反応性という化学のバランスを取ることで、低圧力なのに毎分の深い溝を掘ったりし、そのフェンスや溝の表面が滑らかでゼロカーボンエネルギー研究所● 光・MEMS/NEMSデバイスの製造に活用

0.5μm以上という速い加工速度を実現しています。また加工不可欠です。この装置が採用している磁場環境でプラズマを

東京工業大学実現の線幅は最小で0.1μm以下、最大で100μm以上。加工深さも掘りや精密加工には、高真空域(低圧)での高密度プラズマが塚原 剛彦● 低 圧 力 下 で 毎 分 0.5μm 以 上 の 加 工 速 度 を教授

拡張ナノ空間の特性を利用した
次世代 分離・分 析デ バイス研究
NANOBICで 行われる研究開発の１つに、拡張ナノ
化学デバイスがあります。溶液の混合や反応などのさま
ざまな化学操作を、ガラス基板などに彫り込んだ10〜
100nmスケールの空間（拡張ナノ空間）に集積化させ、高度な分離・分析システムを構築するものです。この拡張ナ■基本仕様（株式会社アルバック NLD-570）

ノ空間では、マイクロ空間とは全く異なるユニークな溶液・

解説は­­­…

析が可能になります。

プラズマ源：磁気中性線プラズマ／基板

拡張ナノ化学デバイスを実現するには、複雑な幅と深サイズ：φ50 ～ 200㎜／基板ステージ：さを持つ拡張ナノサイズのパターンを、ガラスやシリコン

ESC or メカチャック／アンテナ及びバイ

基板上に高精度に彫り込む必要があります。通常のドライ

アス：RF高周波電源搭載／排気系：エッ
チング 室TMP＋DRP ／ 制 御系：PLC＋エッチングでは、フッ素系ガスをプラズマ化し、プラズマ

TFTタッチパネル／ガス導入系：最大8系
統／アプリケーション：石英、パイレック
ス、低膨張ガラス、水晶、誘電体等／装置
コンセプト：開発試作

流体特性を発現するため、単一分子レベルでの分離・分中に生成するフッ素イオンとラジカルによってガラスやシ

森川 泰宏さん

リコン基板が彫られます。一方、NANOBICに設置されて株式会社アルバック

く、イオン性の強いエッチングが可能で、高速でアスペクト（工学博士）

半導体電子技術研究所
研究開発部

いる高密度プラズマエッチング装置はイオンの直進性が高比（幅に対する深さの割合）の大きな溝を形成できます。
例えば、石英基板に塗布したレジスト上に、Y字形状のナノパターンを描画・現像した後、この基板をエッチング
容器内にてCHF3 とC3F8 の混合ガスを用いてエッチング■深掘りの１例

すると、数分で幅・深さ共に100nmスケールのY字型拡■石英深掘り（左）とレジストマスク除去後（右）張ナノ流路を作製することができます（図）。この時のエッチングレート（単位時間当たりのエッチングされる深さ）は

40um

100nm/分程度。この加工基板と上板を貼り合わせた後、
Etch depth
100um

Y字型ナノ流路の2方向からそれぞれ異なる溶液を導入し、ナノ流路内で高速・高効率な化学反応が実現され、その有用性が実証されます。
このエッチング装置は、ガスの種類、エッチング時間、■マイクロレンズ加工の例

電 流 値 など の 条
件 を 変 え るだ け
で、簡単にマイク

極薄幅の深掘りができている

ロから拡張ナノス
ケールまで幅広い
サイズを加工できるという点で、非常に魅力的なツー
高さは10μm（左）、底部の溝幅は３μm
（右）

20

ルです。

Y字型拡張ナノ流路の原子間力顕微鏡像21

装 置 紹 介 ♯ 08

NANOBIC 研 究 の 現 場 から

エッチング

〈この装置の特徴〉● ボッシュ・プロセスにより、高選択比かつシリコンドライエッチング装置

高アスペクト比の垂直深掘りを実現● SOIノッチフリー対応や、高速かつ高精度

高速かつ高精細、多様な形状の深掘り加工

なエッチングが可能（プロセスライブラリ）を共有しており、通常の直線形状や穴形

この装置、ASEシリーズは、高密度プラズマ（誘導結合プラ

さらに、この装置では、基本的なボッシュ・プロセスに加え、

ズマ；ICP（Inductivety Coupled Plasma））を利用してシリプラズマを発生させる圧力条件などを処理時間の経過ととも

コンウエハを高速かつ高精細に深掘りできるドライエッチングに変化させ、常に最適な条件でのエッチングができるようなプ装置です。シリコンウエハのエッチング手法には、ウエットエッ

ログラム（パラメータランピング機能）を備え、高アスペクト比

チングとドライエッチングがあります。KOH水溶液などを用い（極細幅での深掘り）の加工時に、深掘り部分の先端が先細りてシリコンを腐食溶解させるウエットエッチングは、シリコンの形状になることを防止しています。

結晶面に沿った結晶方位に制限された加工となります。一方、

さらに、この装置では、高マスク選択比（厚膜レジストやメ

フッ素や塩素などのガスを用いて、プラズマにより生成されたタルマスクによらず、現存のマスク厚で高アスペクト比を実現

イオンやラジカルとシリコンを反応させるドライエッチングは、する）のエッチングが可能で、エッチングステップと保護膜形

高速で、より微細で高いアスペクト比（深さ／幅の比）の深い

成ステップとの切り替えを高速かつ自動で制御することにより、＊加工が可能です。半導体デバイスでは数μmのエッチングで加工精度を維持しながら深掘りすることができます 。また、

すが、10μm以上のエッチングをDRIE（Deep Reactive Ion

ボッシュ・プロセス特有の加工側壁における凹凸形状（スキャ

Etching）と呼び、MEMSや光デバイスなど、加工精度や深いロップ形状）
をプロセス条件により低減できます。さらに、SOI加工形状がキーとなるデバイス開発に広く活用されています。

ウエハを用いたMEMSセンサ等の製造において、酸化膜上にこの装置では、ドイツのRobert Bosch社により開発・特許あるシリコンの貫通エッチング時に課題となるノッチング（底部化されたドライエッチングの手法「ボッシュ・プロセス」を用いに＋イオンが滞留することでできる異常形状）発生も防止できています。ボッシュ・プロセスは、C 4F 8 プラズマによる保護膜

るSOIノッチフリー機能を有しています。

形成で側壁のエッチングを抑え、SF 6 プラズマにより深掘りす

また、このASE装置は、μ-TAS用流路アプリケーションにもる工程を交互に繰り返すことで、垂直方向へのシリコンの深掘対応しており、エッチング側面の粗さが少なく、テーパー角をりを行う手法です。

60°
〜 85°
まで角度制御ができることも魅力の一つです。さら状の深掘りに加え、注射針構造や逆円錐構造など多種多様なエッチングが可能となっていることも見逃せません。

Phase 1(保護膜形成：C4F8)設置・固定することもできます。また、SOI（Silicon-onンによってサンドイッチされた特殊な3層ウエハを用いる
ことによって、より複雑な構造も作製可能です。例えば、
SOI上に作製されたデバイス直下のシリコン酸化膜をフッ酸等により除去することで可動部が固定部に懸架された梁状の構造物を形成することができます。可動部には図引力により可動部を引き付け、デバイスを駆動することが可 能 で す。図4は我々が開発したマ■基本仕様（住友精密工業株式会社 MUC-21 ASE装置）

イクロフレネ ルミ

解説は­­­…

と櫛歯型アクチュ

基板サイズ：φ100mm ／基板ステージ：

エータ直下のシリ

メカチャック／基板の搬送：全自動／ア

コン酸化膜は除去

ンテナ及びバイアス：RF高周波電源搭載／排気系：エッチング室TMP+DP、ローされており、ミラードロック室SP ／制御系：PLC+PC制御／
ガス導入系：最大8系統（内、SF6、C4F8、
O2、Arの4系統使用）／アプリケーション：

シリコン深掘り加工によるMEMSデバイス
等（装置コンセプト：製品）

ラーのSEM画像です。中 央 のミラ ー

プラズマ源：誘導結合プラズマ（ICP）／

金尾 寛人さん
SPP テクノロジーズ
株式会社

マーケティング部

マーケティングコミュニ
ケーショングループ長

Phase 3(等方エッチング：SF6)

図１ シリコン深掘装置による微細な溝構造

デ バイスは空中に浮いています。アクチュエータに電 圧
印 加することでミラー角度を自在に変更することができます。
SOIウエハのエッ■多様なエッチング形状①注射針構造
Phase 2(底部エッチング：SF6)2に示すような光ファイバーを高いアライメント精度で3に示す櫛歯状のアクチュエータを接続することで、静電＊シリコン深掘り加工の一例：エッチングレート〜 6μｍ/分、対レジスト選
択比50 〜 180：1、アスペクト比〜 50。

■ボッシュ・プロセス

基板を非常に高いアスペクト比でエッチングすることが可能なドライエッチング装置の一つです。高アスペクト

Insulator）と呼ばれる、シリコン酸化膜が単結晶シリコに、イギリスSPTS Technologies社と様々な加工事例データ

高精度と高速処理を両立させる各種機能

シリコン深掘装置は、ボッシュプロセスによりシリコン

比の溝をサブミクロンの精度で作製することができ、図● 多種多様な形状での加工ができるプロセスラ

イブラリが充実

ボッシュ・プロセスを用いたシリコンの深掘り

光MEMSデ バイスの開発

図２ 光ファイバーはバネ構造により
溝の中に固定されています

チングには注意が必要です。ノッチン
グ現象と呼ばれる
底部のダメージや、
マイクロローディン
グ効果と呼ばれる

Back to Phase 1

エッチングレート開■高アスペクト比のディープエッチング例（1µm幅、35µm深さ）

口比 依 存性があり■多様なエッチング形状②テーパーエッチング

ま す。NANOBIC

図３ 櫛歯型静電アクチュエータ

ではこれら問題を解決するレシピやノウハウが蓄積・共■微細パターンエッチング例（50nm幅、0.7µm深さ）

有されており、円滑なデバイス開発ができます。
図４ マイクロフレネルミラー（慶應義塾大学 田口教授）

2223

装 置 紹 介 ♯ 09

NANOBIC 研 究 の 現 場 から

エッチング

〈この装置の特徴〉

誘導結合プラズマドライエッチング装置
高速、クリーン、垂直プロファイル、低ダメージ薄膜加工

理想的なエッチング技術および豊富なライブラリ● ICP と RIE（ 下 部 電 極 ） を 個 別 に 出 力 制

御することによりイオンエネルギーとイオン密度を制御● 広範な電極温度制御

東京工業大学工学院● 豊富なプロセスライブラリ

電気電子系 教授

O2) をチャンバー内に導入し、ICP ソース (最大 3,000W) ととにより-150ºCから+400ºCまで、その使用範囲を広げることが基板電極 (最大 500W) の両側に RF (13.56 MHz) が印加さできます。基板温度は、エッチング反応種の揮発性を制御す

ドライエッチングは、現 在、SiCパワーデ バイスやGaN/れ、プラズマが生成されます。ICPチューブ周囲の静電シール

ることによるプロセスの化学成分、エッチング速度、選択性、

AlGaNのRFデバイス、InPやInGaAsなどの化合物族半導体

ドにより、ICPパワーが確実に純粋な誘導結合 「真のICP」(）

プロファイルのみならず、基板表面の粗さにも、大きな影響を材料を含むオプトエレクトロニクスや電子デバイス製造においとなるため、チューブ材料のスパッタリングがなく、デバイスへ与えます。本装置は、1 mTorrから100 mTorrの圧力範囲内て、精密な加工を行うために幅広く利用されています。一般的の不必要な高エネルギーイオンによるダメージを最小限に抑えで動作させ、チャンバー内圧力を正確に制御することが可能にエッチングプロセスにおいて期待されていることとして、高ることができます。基板上のイオンエネルギーは、下部電極にです。

速エッチングレートやクリーンケミストリ―、垂直プロファイル、発生する DC バイアスの測定によりモニターされ、主に下部電

また、最新機種の PlasmaPro 100 Cobra ICP では、300

低ダメージが挙げられます。ICP (誘導結合プラズマ) エッチン

極に供給される RF パワーにより制御されます。ICP パワーをmmの大型ICPソースが採用されたことにより、多くの分野でグは、高イオン密度による高速エッチングが実現する一方、イオフに設定し、RIE (リアクティブイオンエッチング) モードによ使用されている 200 mm のウェハサイズに対応した均一性のオン密度とイオンエネルギーの個別制御により低ダメージエッ

り低エッチングレートのプロセスを行うことも可能です。

高いプロセスを行うことができます。さらに最大 5プロセスモ

チングが実現し、前述の課題を解決する理想的な技術です。

チャンバー真空度の安定性とエッチング結果の再現性を確

本装置では、当社が開発してきた様々な化合物半導体エッチ

保するため、ウェハはロードロックを用いてチャンバーにセッングプロセスの知見が活用されています。当社の30年以上にトされます。エッチングするウェハは、温度制御された下部電わたる研究開発経験から得られた、累積 6,000 以上の豊富な極に機械的にクランプされます。チャックとウェハ間の熱伝導

レシピ (エッチング、ALDなど) を含むプロセスライブラリを利性を高くするため、ウェハの裏面にヘリウムガスを供給します。

用することができます。

必要に応じて、サイズの小さな基板の場合には、熱伝導性接真のICPを実現するRF、ロードロック、電極温度制御ます。

着剤を使用して4インチシリコンウェハに貼り付けることもあり

本 装置 Plasmalab 100 ICP180 および 搭 載される ICP

このPlasmalab 100 ICPは、熱電素子とチラーにより、20℃

エッチング装置の概略図を、それぞれ図1および図2に示しま～ +400℃の範囲において±1℃の精度で基板温度を制御するす。8 系 統 からガ ス (Cl2、BCl3、ＣＨ4、H2、N2、Ar、SF6、ことが可能です。また、オプションとして液体窒素を用いるこ■ICPエッチングチャンバー概略図

ジュールを使用したクラスター化が可能となり基礎研究から量産プロセスまで対応します。

チングの繰り返しで形成され、特にエッチング技術は、デバイスの寸法などを決める非常に大事なプロセスであると同時に、側壁のダメージ有無により、大きくデバイスの最終特性に影響を与えることになります。そのため、常に高い再現性、安定性など求められることになります。特に半導体レーザなどで利用される化合物半導体では、複数の元素が組み合わさり、さらに異なる組成層が積み重なっているため、高い垂直性、アスペクト比を安定的に得るこ

シピが異なることになります。
しかしながら、NANOBICにあるICP-RIEは、化合物

石井 孝治さん博士（工学）

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

マーケティングコミュニケーションズ
マーケットデベロップメント■基本仕様（Oxford Instruments, Plasma Technology Plasmalab 100 ICP180）
プラズマ源：ICP(誘導結合プラズマ) ／基板サイズ：小片～φ200㎜／

制御系：PLC＋PCキーボード／ガス導入系：最大8系統／アプリケーショ
ン： SiCやGaNパワー半導体、InPやGaAsなど化合物半導体、Si、ポリイ
ミド、金など／装置コンセプト：開発試作

24

半導体デバイスは、基本的に成膜、リソグラフィ、エッなどそれぞれによって、大きくプロセスガスやプロセスレ

解説は­­­…

基板ステージ：メカニカルクランプ／アンテナ及びバイアス：RF高周波■VCSELエッチング 用SiCl4/Ar
プロセス

幅広い化 合 物半導体の垂直エッチング技 術とは比較的むつかしくなります。また、GaAs, InP, GaN

電源搭載／排気系：エッチング室TMP＋DRPまたはロータリーポンプ／■Cl2/N2エッチング導波路

西山 伸彦

半導体では特に広いプロセスウィンドウを持っていることが知られている装置であり、多くの学術論文誌でも、同型の装置を利用したエッチングが利用されています。そのため、ベースとなるプロセスレシピは、比較的容易に手に入れることもできますので、新たに利用するユーザも比較的短期間で、プロセス開発ができるはずです。
我々の研究室では、この装置を利用し、InP系の端面出射型レーザや、GaAs系VCSELを作製し、世界唯一や世界最高性能のデバイスを実際に実現することに成功しています。また、隣の研究室では、GaN電子デバイスを作製する事にも成功しています。
みなさんも、NANOBICの本装置を利用することで、円滑なデバイス研究ができるのではないでしょうか？

■MESFET/HEMT 0.2µmリセスゲート用GaAs/
AlGaAs選択性エッチングプロセス25

装 置 紹 介 ♯ 10

NANOBIC 研 究 の 現 場 から

評価・計測

〈この装置の特徴〉● 低真空下で含水状態の試料の観察が可能

超低真空走査電子顕微鏡

固体から液体、液体から気 体 への相変化の直接観察も● 加熱・冷却しながら表面構造変化を観察

低真空モードで、前処理なしの効率的観察● 幅広い用途での観察ニーズに活用できる

研究開発の成功には、製作した微細加工物の詳細な評価が不可欠です。
通常の走査電子顕微鏡（SEM）による観察は高真空下前処理なしで含水試料の観察が可能を変化させながら試料が変化する様子を観察することができのアイスキャンディーを開発するといったアイデアも広がるでますので、例えばゲルが湿気を吸収して体積を増す膨潤の過しょう。

本装置は、細く絞った電子線を試料上で2次元的に走査し、程を観察したり、水溶液に溶け込んでいる薬剤結晶が乾燥過さらに取得した静止画をつなげて動画ファイル（.avi）
として試料から得られる2次電子や反射電子などを用いて拡大像を程において新たな結晶表面を見せる様子を観察することも可

保存、再生できますので、変化の過程をよりリアルに確認する得ることができる走査電子顕微鏡（SEM=Scanning Electron

能です。

ことができます。

Microscope）
です。
試料表面の凹凸情報や組成情報を得るだけでなく、X線検出器を用いることで元素の定性・定量分析も行えるため、異物分析など品質管理用途で用いることも可能であり、幅広い分野で行われるため、ポリマや生体材料など水分を含むもの
は特殊な処理をしなければ観察できず、またその処理による影響も無視できません。
しかしNANOBICにある雰囲気制御型のSEMでは、サンプルに合わせて雰囲気圧力を設定して使用することができ、上述したようなサンプルを直接観察することが可能です。

高温加熱観察や動的観察も

また観察中に基板温度や雰囲気圧力を変化させること

本装置のもう1つの大きな特徴として、試料を加熱したり冷が可能なので、材料の固体から液体、液体から気体への却しながら表面構造の変化を観察できる機能があります。

相変化を直接観察することも可能です。

通常、試料を加熱していくとアウトガスが発生し、これによっに応用可能な顕微鏡です。
本装置の大きな特徴の１つが、含水試料を観察できることて電子銃部分の真空度が下がってしまい、装置の故障を招くこです。通常、走査電子顕微鏡で試料を観察する際には、試料とがあります。しかし、この装置は、発生したガスを外部に逃す

室内を真空環境にする必要があり、通常は、試料室内を大気

特殊な排気構造を備えており、アウトガスの影響を極力抑えて圧の1,000,000,000分の１（10 Pa）にまで高い真空度にして観察できます。NANOBICに導入されている装置仕様では、最観察します。そのため水分や油分が付着している場合は蒸発

大1,000℃までの加熱観察が可能です。

－4

してしまいます。しかし本装置では、大気圧の約100分の1（最この機能を活用することで、例えば結晶Si系太陽電池の電大で2600Pa）まで真空度を落として観察ができる真空モード

極部の焼結の過程が観察できます。焼結時の結晶のでき方や（ESEM）があり、水分や油分を保持できる環境（液相領域）
を

大きさの違いは電極としての性能を左右するパラメータの1つ

試料室内につくりだすことができます。

であり、性能評価手法の1つとして用いることも可能と考えら

これにより、微生物や細菌、植物といった含水試料でも前処理する必要がなく、そのままの状態で観察が可能です。

れます。
逆に-20℃まで冷却しながらの観察も可能であり、氷点下

また、温度と真空度を調節することで、試料付近の湿度を制御できます。これにより加湿（湿潤）、除湿（乾燥）といった湿度■基本仕様（FEI社製 Quanta250）

X線分光透過電子顕微鏡）観察も可能であり、汎用性の高

解説は­­­…

い装置なので、ぜひ活用していただきたいと思います。

電子銃：タングステン方式
分 解 能： 高 真 空（高 加 速 電 圧）3.0nm（30kV）／ 高 真 空（低 加 速 電 圧）8.0nm（３kV) ／ 低 真 空（高 加 速 電 圧）3.0nm（30kV）／低真空（低加速電圧）
10.0nm（３kV）／ ESEM3.0nm（30kV）
試料室真空度：高真空6×10 -4 ／低真空10 ～ 130Pa ／ ESEM10 ～ 2600Pa

宮本 丈司さん加速電圧：0.2 ～ 30kV

株式会社島津製作所

照射電流：２μA
倍率：×６～×1,000,000以下での低温環境で材料が劣化しないかを評価したり、糖液

試料ステージ：Ｘー Y50㎜／傾斜-15 ～を凍らせて表面構造の変化を観察することで従来にない食感

75°／Ｚ50㎜／回転360°
連続■オイル中の金属■金属粒子の加熱観察
700℃

もちろん、通常のSEM観察やEDS（エネルギー分散型

三木 則尚
慶應義塾大学

理工学部

分析計測事業部

機械工学科 教授

グローバルマーケティング部
電子線応用機器担当 主任■ミクロスフェアの膨張過程観察■NaClの加湿観察

1,000℃

加湿

加湿■加熱ステージ■チーズのカビ■藻類■水滴に吸着した花粉■はんだの溶融過程観察

加熱

26

加熱

27

装 置 紹 介 ♯ 11

評価・計測

ASAP TM2020 によるゼオライトのマイクロ細孔解析例

自動比表面積 / 細孔分布装置
ゼオライトや MOF など様々な材料の表面積、細孔径、細孔容積を測定
粉末および多孔質材料の高性能吸着分析装置
NANOBICに設置されているASAPTM2020はコンパクトな設置面積での、粉末および多孔質材料の表面積、細孔径、細孔容積を測定するための、高性能吸着分析装置です。
標準的な方法またはユーザーがカスタマイズ可能なプロトコルを使用して、吸着剤、触媒、ゼオライト、MOF、API、賦形剤など、さまざまな多孔質および非多孔質材料の特性評価が可能です。ASAPTM2020は、マイクロ細孔（0.35 ～ 2nm）および
メソ細孔（2 ～ 50nm）材料のガス吸着分析に最適な、優れた精度、分解能、データ取得を実現しています。

■ Introduction■Figure 2

マイクロポアオプションを備えた ASAPTM2020 を使用して具体的にどの様な解析・測定が可能かお伝えするために、実際に下表の6つのゼオライトサンプルを分析した結果をご紹介します。

〈この装置の特徴〉● 高精度なマイクロ細孔の分析への対応

が可能

H-Y の3サンプルはすべて細孔径分布が近似した傾向を示しています。それに対してその他の3サンプルは細孔径分布が● 大容量デュワーの採用により最大連続

72 時間の測定が可能● 測定と前処理を同時に可能かつコンタ

ミフリーに可能大きく違う傾向を示しました。
これらの分析は、87Kで吸着質にアルゴンを使用して測定されサンプルごとの特性を更に明確化するために、Horvath-

ました。窒素を使用したゼオライトのマイクロ細孔分析は3-4 日

Kawazoe法を用いて分析を行った結果が（Figure 3：Horvath-もかかる場合がありますがアルゴンを使用すると分析を最短 2

Kawazoe 微分解析プロット）です。細孔分布の違いや類似性が日以内に短縮でき、且つウルトラマイクロ細孔（0.8nm以下）の顕著に表れているのが、ご覧いただけると思います。

分解能が向上するといったメリットがあります。

■Figure 3■ Preparation
前処理として本体の専用脱気ポートでマントルヒーターを用■基本仕様・特徴●HighVac™ターボポンプ及びロータリー
ポンプによる高真空からの測定により高精度なマイクロ細孔の分析への対応が可能●細孔径測定範囲: 0.35 ～ 500nm以上●10mmHg、1mmHg トランスデューサー
によるマイクロ細孔までの測定●大容量デュワーの採用により最大連続
72時間の測定が可能●Krガスによる低比表面積測定にも対応●配 管にSUS316を使用することによる高い耐薬品性●専用の前処理２ポートが独立してあるた
め、測定と前処理を同時に可能かつコン
タミフリーに可能●インタラクティブなレポートと解析が可能なソフトウエア●定容積法化学吸着への対応●製造：㈱島津製作所

いて行いました。10℃/minの昇温速度で400℃まで加熱し、脱気しながら3時間保持しました。

■ Analysis
マイクロ細孔の解析は低相対圧からの測定で行いました。
各サンプルの詳細な吸着等温線の結果について、リニア吸着等
温線プロット（Figure 1）と、その対数グラフの（Figure 2）
をご参照ください。
■Figure 1

このように、NANOBICに設置された装置を有効活用すること
で、細孔分布や吸着性能に着目した、効率的な材料探索や開発が可能になります。
また、NANOBICには経験豊富なサポートスタッフが常駐していますので、装置の使い方レクチャーや、活用方法の相談も可能です。実際に、未経験の装置を活用して、自社製品の高度化に成功した方もいらっしゃいます。興味を持った方は、是非一度見学にいらしてください。

見学相談はコチラから（オープンラボ HP）

28

29

複数機器の活用事例

マイクロ流体デバイスの製作◆NANOBICの装置を使えば、シリコーン樹
脂やガラスに、液体を流す髪の毛程度の細い管（マイクロ流路）を作ることもできます。

マイクロ流路のメリット

マイクロ流体デバイスの可能性◆流路内は温度ムラがなく、混合◆異種細胞の整列配置による人工臓器モデルの製作も容易◆危険試薬の自動操作による安全かつ簡便なマイクロドーズ臨床試験◆省エネルギーで精密な化学反応制御が可能◆実 際に物質合成や成分分析に利用できる、流体を扱う様々なデバイスも製作で◆環境汚染物質やウイルスの迅速・安全かつ高精度な分離分析◆超微量な検体と試薬で正確な分析も可能◆使用済製品からの精緻なレアメタルリサイクル

きます。

流路パターンの設計
CADで流路の平面図を描く

流路鋳型の製作

流路の型取りガラスに電極を組み込む

流路底面の封止完成

1．
感 光性レジストに流路平面図

鋳型からシリコーン樹脂へ流路

ガラスに金属薄膜をつけて、電シリコーン樹脂を電極付きガラス

施設内でパターン設計からデバイを転写する。

極パターンを描画し、未描画部と張り合わせることで、流路の底ス完成まで進められるので、試作を分の除去を行う。

面を封止する。

繰り返して、精度を高めることもでを描画する。
2．
化
 学処理で未描画の余剰レジきます。

ストを除去洗浄する。

CADが使えるPCがあります。

レーザー直接描画装置などのスパッタ装置で金属薄膜をつパ タ ー ニ ン グ 装 置（P14 ～くれます。（P8 〜11）19）が利用できます。

材料に適した条件のプラズマ処理で強固な張り合わせができます

電極描画にはレーザー描画装置（P14 〜17）が利用できます。

シリコーン樹脂や感光性樹脂などの様々な材料が用意され
ています。

検査

PR510

酸、アルカリ、有機を扱える

加工表面の形ドラフトチャンバーが利用で状や段差の測ソフトプラズマ定を行い、精エッチング装置

きます。

度を確認。

30

プラズマアッシャー

SEDE-P

31

NANOBIC ユーザーの声を聞く
株式会社協同インターナショナル「フレキシブル MEMS センサーの加工技術開発に挑んでいます」

NANOBICの装置を活用して新世代技術の開発に挑むユーザーの声を聞いた。

NANOBICの装置を活用（株）協同インターナショナル（本 社・川崎 市 宮 前区、池三田 正弘さんれるフレキシブルMEMS事業の技術展開をサポートする。その株式会社協同インターナショナル

電子部

ための加工技術開発をセンサーのテスト試作を含めた形で進技術次長（兼）企画開発室

め、受託加工事業の拡大を目的としている。

田 謙 伸 社 長）は、電 子MEMS（Micro-Electro-Mechanical

MEMSセンサー開発を支援しているのが、NANOBICに用Systems＝微小電気機械素子）やバイオ、食品関連の事業を展意されている各種の装置だ。センサーは、マイクロレンズなどの開しているが、電子MEMSのテクノイノベーションセンターを光学素子や熱膨張性を活かした薄膜熱電対・メンブレン及び

NANOBICに隣接するかわさき新産業創造センター AIRBIC

医療用デバイスなどが代表的だ。それらセンサーは、微細であに置いている。現在、テクノイノベーションセンターが取り組ん

り且つ精度を求められる。従って、加工装置の性能だけでなくでいるのが、「フレキシブルMEMSセンサーの加工技術開発」

測定機器の精度が必要だ。NANOBICでは「マスクアライナ」

である。

や「レーザー直接描画装置」「シリコン深堀りエッチング装置」

フレキシブルMEMSセンサーは、シリコンMEMSの微細加などの高性能な加工装置があるが加えて「超高解像度表面形工技術やナノインプリント・薄膜技術と伸縮変形可能なポリ状計測装置」や「 3Dリアルサーフェスビュー顕微鏡」などの精

マーフィルムを組み合わせ、高性能且つ曲面にも装着可能な量

密測定機器も充実している。

産性に優れるMEMSデバイスでIoT/トリリオンセンサー時代に「これだけ最新鋭で多様な装置を揃え、産学官協力の上でおける有力なデバイスとして注目されている。特にポリマーフィ

運用・利用されている施設はまれであり、それをリーズナブル

Q

NANOBICを活用しようと考えた
理由は？

原理と基 礎理論が 加工実践と組み合えばものづくりは変わり、大学や異業種との学際交流が、事業に幅をもたらしますQ

大学の持つ基礎研究の知見は、中小企業にも有用なものでしょうか？

三田 我々のような従業員１００人規模の中小企業では、

三田 その通りだと思います。2000年前後の大企業を

これだけの装置・計測器を自前で持つことは不可能だし、中心とした基礎研究ブームが消え去って以後、基礎研持ったとしても維持費や人件費の増大で費用対効果は悪究を支えているのは大学であり、中小企業ではできないい。中小企業におけるR&Dの効率化とリスク削減には、

基礎研究の英知を大学から学ぶ場が必要です。なぜな

NANOBICのような施設の利用が極めて合理的なのです。

のかが分かれば、それはものづくりに必ず展開できます。

Q

Q

４大学との交流の場などもできているのですか？

NANOBICの機器や4大学の知見をどのように活用されていますか？

ルムは薄くて軽く、曲がって伸びる、更に大面積化が容易で簡な料金で使用できるメリットは計り知れない」と三田次長は言三田 かわさき新産業創造センター内では各建屋を歩い

三田 私が、NANOBICの利用や４大学コンソーシアムと単に切れるなどの特徴がある。

う。その上で、「加工技術開発には、理論と実践の両輪バランていると突然に先生と出くわす場面があります。ちょっとの関係で最も実感し、訴えたいのが「匠の技」「職人芸」をスが重要で4 大学コンソーシアムとの産学連携スキームでは、した時間で私たちは技術シーズ・ニーズを知り、先生たち

超える道筋が、ここにはあるということです。 匠の技、それを叶えてくれる」と語る。

は「そんな加工もできるのですか」などと驚いている。先生

職人芸と言っても、原理や基本的な理論を理解していなたちと意見を交換できる場がシンポジウムなどの技術交

いと本当の技術にはならない。
「なぜ上手くいったのか」「な

流会だけでなく日常にあるだけでも嬉しいが、SKNC（新

ぜ仕上がりが安定しないのか」といった課題は、匠の技だ

川崎地区ネットワーク協議会）が主催する情報交換会でけでは解消できない。

当社では、「微細加工技術」をポリマーフィルムへ応用展開
することに早くから取り組んでおり、今後様々な分野へ転用さは参加した企業会員同士のコラボレーションも多く生まれ

やはり原理や基本的な理論を学び、それが分かってて来ていて、産学・産産・産官交流は盛んだと思います。

いればテストの仕方が変わります。それを学べることが、どんなに優れた技術を持っていても、特定の分野にとNANOBICと４大学コンソーシアムを活用する大きなメ

どまっていては限界があります。異業種、異分野、学問とリットです。

交流することで、思わぬ応用展開が開けてくる。そこにこそ最終的なメリットがあるのではないかと考えています。

32

33

NANOBIC の研究機器でできること

装置利用の手順〜加工・評価の一例〜〈技術支援〉
4 大 学 ナ ノ・マ イ ク ロ フ ァ ブ リ ケ ー シ ョン コ ン ソ ー シ ア ム で は、ナ ノ・マ イ ク ロ 産 学 官 共 同 施 設

加工

NANOBIC内に最先端の微細加工装置および評価装置を有し、大学や企業からの技術相談～試作・評ECR 成膜・エッチング■白金Ptの成膜例

超高精度電子ビーム描画装置■超細線描画例 溝幅8nm■二酸化シリコン（SiO2）のエッチング例

ナノインプリント■ナノインプリントの基本パターン■成型事例（熱式）

価まで一貫した支援を提供します。

技術相談

微細加工・評価に関してお気軽にご相談ください。
技術スタッフが実現方法をご一緒に検討します。
（無償）

利用申請

利用申請書を提出してください。
承認が下り次第、安全講習のご連絡を差し上げます。

安全講習

ご利用される方全員に安全講習を受講していただきます。
安全講習が終了すると、ＩＤが発行され、装置の予約が可能に
なります。

装置予約

予約システムＷｅｂサイトから、ご利用される装置を予約します。

装置利用

初めてご利用になる装置については、技術スタッフが丁寧に説明いたします。その後、ご利用される方が自由に操作できます。
受託加工、技術スタッフによる作業は行っておりません。

利用料支払

月末締めで、翌月請求となります。

ナノパターン（φ230nmピラー）特有の干渉縞■φ230nmホールパターン

フィルムナノインプリント（熱可塑性樹脂の表面加工）

レジストナノインプリント（熱可塑性樹脂orUV硬化樹脂）■３次元の細胞培養の様子■メタル配線パターン

機器ラインナップ、問合せ、申込等、詳細は Web をご覧ください。
ハニカムパターン

培養中の細胞雰囲気制御型熱電子放出型走査電子顕微鏡■はんだの溶融過程観察

加湿検索

レーザー顕微鏡■パターン自動幅測定例■白黒超深度画像（×2000）■マイクロレンズ
自動幅測定例■自動車用塗料粉末
カラー超深度画像（×2000）

４大学保有の機器設備を活用した機器利用・産学連携への支援体制

加湿■NaClの加湿観察

加熱

34

NANOBICオープンラボ

NANOBIC オープンラボの連携スキーム

評価■チーズのかびhttps://open-labo.skr.jp

加熱

■藻類

35

NANOBIC

共用装置一覧
成膜 スパッタ成膜装置

パターニング 露光装置

４元マグネトロンサイドスパッタ装置
CFS-4EP-LL

ECR イオンビームスパッタ成膜装置
EIS-230W

手動両面マスクアライナ SUSS MA6BSA

製造：芝浦メカトロニクス㈱製造：㈱エリオニクス【主な用途・特徴】●コンパクトで操作が簡単、豊富なオプションを揃えたロードロック式タイプのスパッタリング装置●広範囲に分布が良いスパッタ源を搭載）（± 5% 以内（SiO2 でφ 170mm 以内）【主な用途・特徴】●イオン銃：スパッタ用 2 本、アシスト
用 1 本、計 3 本搭載●多層膜の形成や異種ターゲット構成原子の混ざり合った混合膜の形成が可能●薄膜形成時にイオンビ－ムミキシングや薄膜形成原子の表面での攪拌、結晶化の促進等が可能

成膜

ＮＡＮＯＢＩＣでは、最先端の微細加工装置や計測・評価装置等を利用することができます。
※各装置は、貸し出し状況やメンテナンス状況等により、利用できない場合がございますので、機器利用を希望される場合は、事前にお問い合わせください。

成膜

成膜装置

パリレン蒸着装置 PDS-2010

スパッタ成膜装置

成膜 クラスタ型コータディベロッパ

成膜

スピンコータ

クラスタ型コータディベロッパ
GAMMA

スピンコータ MS-A100

パターニング ナノインプリント装置

エッチング ドライエッチング装置

エッチング

ナノインプリント装置 X-300

高密度プラズマドライエッチング装置 NLD-570

誘導結合プラズマドライエッチング装置
PlasmaPro100ICP-180【主な用途・特徴】

製造：SCIVAX ㈱●両面紫外線露光●回折効果を補正するよう最適化された光学系に
よりサブミクロンのパターンが転写・形成可能●ソフトコンタクト、ハードコンタクト、
バキュームコンタクトなどが可能●表面二重露光アライメント精度、表面・
裏面アライメント精度ともに、サブミク
ロンの精度を有する【主な用途・特徴】●微細構造成形【主な用途・特徴】●石英・ガラス・金属酸化物などのドライ
エッチング●磁気中性線プラズマ（NLD）による低圧・
低電子温度・高密度プラズマを搭載したドライエッチング装置●パイレックスやホウケイ酸ガラスなど
不純物の多いガラス加工も形状や表面平滑性に優れたエッチングが可能

成膜 スピンコータ

エッチング 集束イオンビーム加工装置

エッチング

スピンコータ MS-A200

集束イオンビーム加工観察装置
FB-2200

シリコン深掘り DRIE 装置
MUC-21 ASE-SRE

製造：ズース・マイクロテック㈱シリコン深掘りドライエッチング装置

製造：㈱アルバック

ドライエッチング装置

製造：オックスフォード・インストゥルメンツ㈱【主な用途・特徴】● InP,InGaAs,InAlAs 等の III-V 化合物のドライエッチング

エッチング ドライエッチング装置

評価・計測

環境制御型電子顕微鏡

ソフトプラズマエッチング装置
SEDE-P

雰囲気制御型熱電子放出型走査電子顕微鏡 Quanta250/EDS

製造：日本パリレン合同会社

製造：ズース・マイクロテック㈱製造：ミカサ㈱製造：ミカサ㈱製造：㈱日立ハイテクノロジ－ズ

製造：住友精密工業㈱製造：メイワフォーシス株式会社

製造：日本 FEI ㈱【主な用途・特徴】●パリレンコーティング【主な用途・特徴】●フォトレジストのスピンコート、
スプレー
コート、現像、ベーク、ベーパープラ
イムを全自動でプロセス可能●高い均一性、再現性● 25 ～ 50 枚までのウエハーを連続処理可能【主な用途・特徴】●レジスト塗布【主な用途・特徴】●レジスト塗布【主な用途・特徴】● TEM 試料作製、大面積加工●低加速電圧による低ダメージ試料作製●マイクロサンプリングによるピンポイン
ト薄膜試料作製【主な用途・特徴】●ボッシュプロセスを用いた高アスペクト比シリコンエッチング【主な用途・特徴】● PDMS、ガラスなど接合前の表面改質●低出力で、材料表面のダメージが小さい【主な用途・特徴】●水分量コントロール（ウェット観察）、
高温加熱観察、高真空 SEM 観察

成膜

洗浄装置

スピンドライヤー SPD-160RN

成膜 アッシャーパターニング レーザー描画装置

パターニング 電子線描画装置

評価・計測 電子顕微鏡

評価・計測

プラズマ装置 PR510

レーザー直接描画装置 DWL66fs

超高精度電子ビーム描画装置
ELS-7800K

3D リアルサーフェスビュー顕微鏡
VE-8800

超解像度顕微鏡 STED-CW

超解像度顕微鏡

評価・計測 比表面積 / 細孔分布装置

評価・計測

自動比表面積 / 細孔分布装置
アサップ 2020

超高解像度表面形状計測装置
WYKO NT9100A

表面形状計測装置

製造：㈱コクサン

製造：ヤマト科学㈱製造：Heiderberg Instruments Mikrotechnik

製造：㈱エリオニクス

製造：㈱キーエンス

製造：ライカマイクロシステムズ㈱製造：㈱島津製作所

製造：ブルカー・エイエックスエス㈱【主な用途・特徴】●基板の洗浄・乾燥●純水での槽内洗浄、N2 による仕上げ乾燥が可能【主な用途・特徴】●フォトレジストの除去，部品の洗浄，界面活性処理●コンパクトタイプのバレル型プラズマ処
理装置【主な用途・特徴】●フォトマスク作製、直描【主な用途・特徴】●高精度・高安定。加速電圧 80kV により、10nm 以下超ファインパターンを実現【主な用途・特徴】● SEM 観察
●低加速電圧観察対応で、非導電性試料でも非蒸着で観察可能● 2 枚の視差画像から高精度に 3D 像を構築【主な用途・特徴】●蛍光観察●共焦点レーザー顕微鏡【主な用途・特徴】●ナノ～サブナノ領域の細孔分布測定【主な用途・特徴】● 3 次元表面形状計測●サンプル表面の形状や粗さを非接触
で . 三次元的に測定することが可能●測定面内において、輝度差が大きいものや、低反射率材料、透明材料でも問題なく計測が可能

3637

産学公民の連携による創造的研究開発拠点「新川崎・創造のもり」とは評価・計測 表面張力接触角計

評価・計測 ガス透過率度測定装置

評価・計測 膜厚測定装置

表面張力接触角計
Drop Master DM500

ガス透過率度測定装置
GTR-21 AXKU

光干渉式膜厚測定装置 VM-1200

製造：協和界面科学㈱製造：GTR テック㈱製造：大日本スクリーン製造㈱【主な用途・特徴】●接触角、表面張力測定【主な用途・特徴】●単一ガス、混合ガスの透過率の測定【主な用途・特徴】●膜厚計測●最大 4 層膜までの積層膜同時測定が可能「新川崎・創造のもり」は、産業界、大学、行政及び市民の連携により、2 1 世紀を支える新しい科学・
技術や産業を創造する研究開発拠点の形成と、次代を担う子どもたちが科学・技術への夢を育む場づ
くりをめざしています。
第3期事業
第１期事業

ナノ・マイクロ
産学官共同研究施設
NANOBIC （H24.4開設）

K²（ケイスクエア）タウンキャンパス（H12.7開設）●４棟の研究棟に約15の研究プロ【研究棟】新事業研究室約50m²×20室

ジェクトが入居し、未来社会を拓		

く先端的な研究を展開

一時利用研究室約25m²×2室ほか【クリーンルーム棟】
クリーンルーム約750m²（約400名の登録研究者が活動）● 市民や地域企業等を対象としたオープンキャンパスやセミナーを		（クラス100：約175m²、クラス10000：約575m²）

		

新事業研究室合計約780m²

開催し、先端的研究の成果を社会に還元NANOBICAIRBIC

K棟
E棟

I棟

研究棟

O棟

厚生棟

本館

クリーン
ルーム棟

K²タウンキャンパス

さいわいふるさと公園

KBIC
第2期事業

かわさき新産業創造センター
ＫＢＩＣ本館 （H15.1開設）

産学交流・研究開発施設
ＡＩＲＢＩＣ （Ｈ31.1開設）●ものづくり企業・研究開発型● 41室、約3,500㎡のインキュ企業を支援するインキュベーション施設● 市内ものづくり企業の基盤技術高度化を支援38

第3期第２段階事業

ベーションラボを新たに整備● 研究活動を支える飲食スペー
スや、会議室等のカンファレ
ンス機能を充実39新川崎・創造のもり NANOBIC

アクセスのご案内
至 府中街道・
下平間
田駅
鹿島
JR

線

南武

至武

ノ口

・溝

杉
蔵小

至 川崎
新川崎
三井ビル

富士通
（株）

浜

至横

新川崎
スクエア

KBIC
新川崎駅

入口

AIRBIC

K2

崎駅

新川
至

NANOBICNEC
ネッツエスアイ（株）品川

杉山神社入口バス停

・賀線
横須 ライン
R
J
新宿
湘南

新川崎交通広場
鹿島田跨線
橋西側

至 慶應義塾大学
矢上キャンパス■ＪＲ横須賀線・新川崎駅より …………………… 徒歩 10 分
■ＪＲ南武線・鹿島田駅より ……………………… 徒歩 15 分

□ＪＲ東京駅より新川崎駅まで………………………

約 20 分

□ＪＲ横浜駅より新川崎駅まで………………………

約 10 分

□ＪＲ川崎駅より鹿島田駅まで……………………

約7分

川崎駅西口より市営バスにて杉山神社入口下車徒歩 2 分〒212-0032 川崎市幸区新川崎7-7 TEL：044-587-1105 FAX：044-587-1106

お問い合わせ先

川崎市経済労働局イノベーション推進部〒 210-8577 川崎市川崎区宮本町 1 番地
TEL：044-200-2973 FAX：044-200-3920
28sozo@city.kawasaki.jp
2024年3月発行