別添４20100310 特 許 010

知的財産権制度活用優良企業等に対する経済産業大臣表彰要領（２２特第５９号）及び知的財産権制度活用優良企業等に対する特許庁長官表彰要領(20100310特許008)（以下、「表彰要領」という。）に基づく被表彰企業等の内部選考基準を次のように定める。
平成２２年４月１日

特許庁長官

細野哲

弘

改正 20110425特許9（平成２３年８月１２日）
改正 20140227特許2（平成２６年４月７日）
改正 20160815特許6（平成２８年８月２６日）
改正 20170928特許3（平成２９年１０月３日）
改正 20180910特許6（平成３０年９月１３日）
知的財産権制度活用優良企業等表彰の被表彰企業選考基準（被表彰企業の選考方法）
第１条

被表彰企業の選考は、原則として、別添の「活動状況評価方法について」（以下、「評価方法」という。）を考慮して選考委員会で審査するものとする。
（選考区分）
第２条

表彰要領第３条に基づき、次のような区分により被表彰企業又はそのグループの選考を行う。

なお、それを構成する企業が異なる区分に該当するグループについては、主としてその中で最も寄与度の高い企業が属する区分において評価する。
（１）表彰要領第３条（１）、（２）及び（３）を満たすもののうち大企業（グループを含む。）（２）表彰要領第３条（１）、（２）及び（３）を満たすもののうち中小企業（グループを含む。）、事業協同組合その他の特別の法律により設立された組合、商工会、商工会議所、特定非営利活動法人、技術移転機関及び教育機関（以下、中小企業等という。）（選定基準）
第３条

被表彰企業は、別添「評価方法」に基づき、知財等の活動状況の評価において、次の要件を満たすものとする。
（１）大企業においては、①

経済産業大臣表彰にあっては、原則として、評価点の合計が４０点以上であること。

②

特許庁長官表彰にあっては、原則として、評価点の合計が３０点以上であること。

（２）中小企業等においては、①

経済産業大臣表彰にあっては、原則として、評価点の合計が３０点以上であること。

②

特許庁長官表彰にあっては、原則として、評価点の合計が２５点以上であること。

また、選考委員会は、経済産業大臣表彰及び特許庁長官表彰の被表彰企業の数の配分を調整する必要がある場合、（１）及び（２）の要件によらずに被表彰企業の調整をすることができる。

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（表彰区分）第４条

表彰区分は、次の（１）、（２）、（３）及び（４）とする。

（１）「知財活用企業」

第３条に規定する被表彰企業（ただし、（２）を除く。）（２）「知財活用ベンチャー」 第３条に規定する被表彰企業であって、新しい技術やビジネスモデルを中核とする事業により成長を目指す設立後概ね１５年以下の新興企業（３）「オープンイノベーション推進企業」 第３条に規定する被表彰企業であって、知的創造サイクルの実践に寄与し、オープンイノベーションに取り組み成果を上げている企業（４）「デザイン経営企業」 第３条に規定する被表彰企業であって、知的創造サイクルの実践に寄与し、世界に通じる優れたデザインを生み出し、デザイン経営を確立した企業（被表彰企業の決定の際の留意点）
第５条

以下のいずれかを満たす場合に限り、本制度で以前に表彰された企業を被表彰企業とすることができる。
（１）本制度の以前の受賞から１０年以上経過しており、以前と別の表彰区分での被表彰企業である
こと（２）本制度の特許庁長官表彰の以前の受賞から１０年以上経過しており、同じ表彰区分の経済産業大臣表彰の被表彰企業であること（行刑罰等を理由とする除外）
第６条

知的財産権制度活用優良企業等に対する経済産業大臣表彰(２２特第５９号)及び知的財産権制度活用優良企業等に対する特許庁長官表彰(20100310特許008)の候補となるべき企業又は当該企業の役員が、行政処分や刑事罰等により企業倫理に反する行為を受け又はその疑いにより公的機関による調査を受けている場合には、表彰の対象から除外するものとする。
（被表彰企業配分数）
第７条
附

表彰企業の数の配分は、選考委員会がこれを定める。
則第１条

この基準は、平成２２年４月１日から施行する。

第２条 産業財産権制度活用優良企業等表彰の被表彰企業選考基準（20041214特許005）は、廃止する。
附則

この基準は、平成２３年８月１２日から施行する。
附則

この基準は、平成２６年４月７日から施行する。
附則

この基準は、平成２８年８月２６日から施行する。
附則

この基準は、平成２９年１０月３日から施行する。
附則

この基準は、平成３０年９月１３日から施行する。

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《活動状況の評価方法について》
Ⅰ．被表彰者選考基準における「知財活用企業」及び「知財活用ベンチャー」の活動状況評価は、次の方法による。
１．評価方法
知的財産権制度（特許制度、意匠制度、商標制度）の運営への貢献又は活用状況について定性的な評価を行うこととする。具体的には、以下の（１）及び（２）について評価を行い、評価指標に基づき合計点を算出する。
（１）知的財産権の取得及び管理等に関する取組（評価の観点）①知的財産権の取得及び管理のための組織体制の整備②事業戦略や研究開発戦略と連携した知財戦略の策定及び知財権の取得・管理③知的財産権の取得及び管理等に関する知的財産人材の育成④その他特記すべき取組＜評価指標＞
Ａ：優れている（１５～２０点）（権利の取得・管理に関する網羅的な取組がされている場合を含む）
Ｂ：普通である（１０点）
Ｃ：評価外（０点）（２）知的財産権の活用等に関する取組（評価の観点）①知的財産権を活用したビジネスの創出・拡大（生産性向上等）②知的財産権を活用したグローバル展開③知的財産権を活用した地域との連携④その他特記すべき取組（知財活用支援の組織体制の整備や人材育成を含む）＜評価指標＞
Ａ：非常に優れている（２５～３０点）
Ｂ：優れている（１５～２０点）
Ｃ：普通である（１０点）
Ｄ：評価外（０点）
２．評価時における参考情報
１．の評価を実施する際における参考情報として、特許制度、意匠制度、商標制度のいずれか一つの制度に関する以下の事項について評価資料に含めること。
（評価資料に含める事項）①過去３年間の出願件数及び登録件数（ただし商標は商標登録区分件数）②過去３年間の外国出願件数（出願国１カ国につき１件で計算）

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Ⅱ．被表彰者選考基準における「オープンイノベーション推進企業」の活動状況評価は、次の方法による。
１．評価方法知的創造サイクルの実践に寄与し、オープンイノベーションの取組について定性的な評価を行うこととする。具体的には、以下の（１）及び（２）について評価を行い、評価指標に基づき合計点を算出する。
（１）オープンイノベーションの取組（評価の観点）①全社戦略におけるオープンイノベーション戦略の位置づけの明確化②オープンイノベーションの推進体制の確立と、社内の各部門との連携体制の構築③協業先と連携したイノベーションの育成・創出④生み出されたイノベーションによる企業の収益への貢献⑤その他特記すべき取組＜評価指標＞
Ａ：非常に優れている（２５～３０点）
Ｂ：優れている（１５～２０点）
Ｃ：普通である（１０点）
Ｄ：評価外（０点）（２）知財に関する取組（評価の観点）①オープンイノベーションと連携した知財戦略の策定及び知的財産権の取得・管理②知的財産権を活用したオープンイノベーションの推進とビジネスの創出・拡大③その他特記すべき取組＜評価指標＞
Ａ：優れている（１５～２０点）
Ｂ：普通である（１０点）
Ｃ：評価外（０点）
２．評価時における参考情報
１．の評価を実施する際における参考情報として、特許制度、意匠制度、商標制度のいずれか一つの制度に関する以下の事項について評価資料に含めること。
（評価資料に含める事項）①過去３年間の出願件数及び登録件数（ただし商標は商標登録区分件数）②過去３年間の外国出願件数（出願国１カ国につき１件で計算）

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Ⅲ．被表彰者選考基準における「デザイン経営企業」の活動状況評価は、次の方法による。
１．評価方法知的創造サイクルの実践に寄与し、世界に通じる優れたデザインを生み出し、デザイン経営を確立した取組について定性的な評価を行うこととする。具体的には、以下の（１）及び（２）について評価を行い、評価指標に基づき合計点を算出する。
（１）デザイン経営の取組（評価の観点）①［必須項目］経営チームへのデザイン責任者の配置と、事業戦略構築の最上流からのデザインの関与②デザインへの金銭的・人的投資による企業のデザイン力の強化③デザイン力によるイノベーションの創出やブランド力の向上④生み出されたイノベーションやブランド力による企業の収益への貢献⑤その他特記すべき取組＜評価指標＞
Ａ：非常に優れている（２５～３０点）
Ｂ：優れている（１５～２０点）
Ｃ：普通である（１０点）
Ｄ：評価外（０点）（２）知財に関する取組（評価の観点）①デザイン経営と連携した知財戦略の策定及び知財権の取得・管理②知的財産権を活用したデザイン経営の推進とビジネスの創出・拡大③その他特記すべき取組＜評価指標＞
Ａ：優れている（１５～２０点）
Ｂ：普通である（１０点）
Ｃ：評価外（０点）
２．評価時における参考情報
１．の評価を実施する際における参考情報として、特許制度、意匠制度、商標制度のいずれか一つの制度に関する以下の事項について評価資料に含めること。
（評価資料に含める事項）①過去３年間の出願件数及び登録件数（ただし商標は商標登録区分件数）②過去３年間の外国出願件数（出願国１カ国につき１件で計算）

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