第 16 回ナノテクノロジー総合シンポジウム（JAPAN NANO 2018）開催報告

文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業

国 連 は，2015 年 9 月 に 持 続 可 能 な 社 会 に 向 け て，（NPJ）の一環として ｢第 16 回ナノテクノロジー総合シ2050 年における課題を抽出し，2030 年までの「持続可ンポジウム｣ が 2018 年 2 月 16 日に東京ビッグサイトで能 な 開 発 目 標：Sustainable Development Goals (SDGs)」開催された．この事業は，微細構造解析，微細加工，及を提示した．一方，2016 年に始まった第 5 期科学技術基

び分子・物質合成の 3 つのプラットフォームで最先端の本計画は，サイバー空間とフィジカル空間が融合した超ナノテクノロジー施設・設備を有する 38 研究機関が，全スマート社会を目指す Soc. 5.0 を目標に掲げた．

国の産学官の研究者に利用機会を提供し，イノベーショ

いずれの目標達成にもナノテクノロジーは重要な役割

ンにつながる研究成果の創出を目指すものである．今回を果たし，産学官の協調が不可欠である．本シンポジウのシンポジウムは，文部科学省ナノテクノロジープラッ

ムがその出会いの場となり，ネットワークが世界に広がトフォームセンターの主催により，｢持続的な社会発展にり，開発の進むことを期待する．

向けたナノテクノロジー｣ を主題とし，ナノテクノロジー・
材料技術の最新の研究開発を展望するとともに，本事業の成果を紹介した．
以下，講演ごとの概要を，聴講メモと講演予稿をもとにまとめた．参考文献は，筆者が追加した．

【開会挨拶／ Opening Remarks】
橋 本 和 仁 物 質・ 材 料 研 究 機 構 理 事 長 ／ Kazuhito
Hashimoto (President, National Institute forMaterials Science, Japan)
本シンポジウムは文部科学省ナノテクノロジープラッ
トフォーム事業の一環として開催する．

NanotechJapan Bulletin Vol. 11, No. 2, 2018

第 16 回ナノテクノロジー総合シンポジウム（JAPAN NANO 2018）開催報告 -1

磯 谷 桂 介 文 部 科 学 省 研 究 振 興 局 局 長 ／ Keisuke
Isogai (Director General, Research Promotion
Bureau，Ministry of Education, Culture, Sports,
Science and Technology)

1999 年の科学技術会議は社会のための科学に舵を切った．その流れの中で，SDGs が 2030 に向けた国連の課題として取り上げられた．
外務大臣科学技術顧問は，2 年半前に設けられ，海外との連携，科学技術活用等の提言を行っている．例えば，第 16 回ナノテクノロジーシンポジウムが関係者の努

各国アカデミーと連携し，二国間協定，国際協力などを力によって開催され，外務省科学技術顧問の岸氏，米国外務省に提案する．文部科学省と外務省との仲立ちとも

NSF の Roco 氏，タイ科学技術相 Maesincee 氏，フラン

なる．2016 年の伊勢志摩サミットでは，科学技術の社会

ス MINATEC の Guibert 氏始め，内外の有識者の話を伺え

実装を提案した．SDGs についても外相に提案し，イノベーるのは大変喜ばしい．

ションによるソリューション，人材育成などの政策に反我が国のナノテクノロジーは第 5 期科学技術基本計画

映されている．

で Soc. 5.0 を実現するためのコア技術と位置付けられてSDGs の 2030 アジェンダは，2015 年 9 月に開催されおり，政府はイノベーション，国際競争力強化，SDGs 達

た国連の持続可能な開発サミットによって採択された．

成に向け，ナノテクノロジーの研究開発を推進している．

このアジェンダでは貧困を撲滅し，持続可能な世界を実

ナノテクノロジープラットフォームでは最先端の設備を現するために，17 の持続可能な開発目標：Sustainable

38 の機関が，これを必要とする研究機関に提供している．

Development Goals（SDGs）を列挙している．その中で，物質・材料研究機構（NIMS）が中心となって最先端設備

次のような項目は，ナノテクノロジーや材料などの先端の供用を推進し，共用文化を養成するとともに，産業現的な科学や技術を必要とする．
「3．良好な健康と福祉」「6．
，

場の課題解決に欠かせない異分野融合を推し進めている．

清潔と衛生」，「7．手頃な価格とクリーンエネルギー」にこうした共用設備の利用，異分野融合を通じて，成果が対し，生命，環境，エネルギーのためのナノテクノロジー

生まれる．本シンポジウムでは利用成果も紹介されるが，が直接貢献し，「8．適切な労働と経済成長」，「9．産業の今後とも活発な利用が進み，さらに顕著な成果が生まれ革新と基盤」，「11．持続可能な社会と地域共同体」，「12．

続けることを期待する．

責任ある消費と生産」には，製造，IT，都市工学，運輸のためのナノテクノロジーと，材料が広く用いられる．
このような目標を達成するため，例えば構造材料に座長【基調講演／ Plenary Lecture】

関して，進行中の 2 つの大きな国家プロジェクトがあ藤田 大介（NIMS）

Structural Materials Association，新構造材料技術研究組

る． 一 つ は， 経 済 産 業 省 が 支 援 す る ISMA（Innovative
合）と，もう一つは内閣府が支援する SIP-SM4I（Structural「持続可能な社会の発展に向けた科学技術の役割」／
Role of Science & Technology for the Sustainable
Development of Society" 岸 輝 雄（ 東 京 大 学 名
誉 教 授 ／ 外 務 大 臣 科 学 技 術 顧 問 ） ／ Teruo Kishi(Prof. Emeritus at e University of Tokyo / Science& Technology Advisor to the Minister for Foreign
Affairs, Japan)

NanotechJapan Bulletin Vol. 11, No. 2, 2018Materials for Innovation of Strategic Innovation
Promotion Program，「革新的構造材料」戦略的イノベー
シ ョ ン 創 造 プ ロ グ ラ ム ) で あ る．ISMA，SIP-SM4I と もに現在は輸送システムのための材料開発を行っている
が，ISMA は主として自動車，SM4I は航空機を指向している．ISMA では，劇的な軽量化のため，スチール，ア
ルミニウム合金，チタン合金，マグネシウム合金，CFRP

第 16 回ナノテクノロジー総合シンポジウム（JAPAN NANO 2018）開催報告 -2

などの軽くて強い材料と，その接合技術を開発していコンピュータのメモリーにはワーキングメモリーとスる．一方，SIP-SM4I は，軽くて強い材料とともに，航空

トレージメモリーの 2 つの階層がある．コンピュータの機エンジンの熱効率を高めるために耐熱材料が求められ，ロジックはワーキングメモリーを使う．ストレージメモ

CFRP，チタン合金，ニッケルベース合金，チタン・アルリーに使われているフラッシュメモリーは日本の大発明

ミニウム金属間化合物，SiC/SiC セラミックス複合マト

だが，ワーキングメモリーにはならない．ワーキングメ

リックスが開発されている．さらに，材料統合（Materials

モリーに使われる DRAM のセルサイズは小さく高密度，

Integration），統合システムの理論，数値シミュレーショ

SRAM はその 60 倍のサイズだが高速である．どちらも揮ン，実験データから導かれる規則性，および材料科学・発性であり，記憶保持のために常時電圧を印加している技術に関する AI を含む情報科学（インフォーマティクス）

から，電流リークによって電力を消費し，その上 DRAM

が材料設計をスピードアップしようと開発が進められてはリフレッシュにエネルギーを使う．消費電力が大きい

いる．

ことはデバイスを IoT に使う上の障害になる．そこでメ

ナノテクテクノロジー事業の支援でオープンイノベー

モリーは不揮発性にしたいが，不揮発性のフラッシュメ

ションの拠点ができ，ナノテクノロジープラットフォー

モリーは動作が遅い．高速・揮発性のワーキングメモリー，

ム利用は 2013 年から件数・金額とも急増している．日

大容量・不揮発性のストレージメモリーと，2 つのメモリー

本の科学技術基本計画は，Soc. 5.0 を目指す．ドイツのの特性は不連続でその間にはギャップがある．これに対Industry 4.0 は工業発展を指向するのに対し，日本は科学

し，スピントロニクスはメモリー階層間にあるギャップ

技術開発による社会の変革を目指している．

をなくし，ロジックとメモリーを一体化して低電力・高速化を図ることが期待される．
従来のエレクトロニクスでは，電子の電荷の動きを制御するのに対し，スピントロニクスでは電子のスピン【特別講演／ Special Lecture】
座長（磁石）の向きを制御し，磁石の平行と反平行の書き換藤田 大介（NIMS）

えを行う．スピンの向きが，データの（0，1）に対応す
る．スピン軌道相互作用により磁気情報と電気信号の変「超微細スピントロニクス素子とその集積回路，AI
応 用 」 ／ Nano Spintronics Devices for VLSI andAI" 大 野 英 男（ 東 北 大 学 ） ／ Hideo Ohno (Tohoku
University, Japan)

換もできる．電流と磁場の向きを組み合わせて動作させ，100ps で動く高速の不揮発性メモリーができる．
不揮発性スピントロニクスデバイスの磁気トンネル接合（Magnetic Tunnel Junction, MTJ）は 2 端子で，垂直磁化容易軸を持った CoFeB-MgO 系で 20nm まで微細化できるため，ワーキングメモリー置き換えの目的に広く用 い ら れ る デ バ イ ス で あ る．MgO と CoFeB を 積 層 し，1nm 程度に膜を薄くすることで界面磁気異方性により膜に垂直方向の磁化容易性を実現していたが，情報の忘れにくさ（熱安定性）と書き換えやすさ（電流誘起磁化反転）の両立のため 20nm 以下への微細化は難しかった．これに対し，CoFeB の代わりに低電流での磁化反転が期待される FeB 合金を用い，膜を厚くすることで形状磁気異方性を活用して，磁石を縦に配置した形にすることで高い
熱安定性を保ちながら 10nm を超えて 8nm の領域まで微細化することに成功した [1]．MTJ を用いた不揮発性集積回路も開発した．また，書き込み電流路と読み出し電流路を分離する 3 端子デバイスは高速動作に適する．スピンの制御には電流誘起磁壁移動が用いられ，重金属や反強磁性体で起こる，スピン軌道トルクを用いるデバイス

SDGs や Soc. 5.0 に必要となるモノのインターネットが注目されるようになった．このデバイスに反強磁性体（IoT），高性能コンピューティング，および人工知能（AI）

を用いると，神経形態学的（neuromorophic）応用に適しのために，低電力消費で，しかも高性能な集積回路の開たアナログメモリとして動作する．このメモリーでは学発は重要な課題である．スピントロニクスはこの課題に習が可能で，東北大では 3 × 3 のパターンで「ICT」とい応える技術として，日本，並びに海外の研究者が東北大

う文字の学習に成功した．

学省エネルギー・スピントロニクス集積化システムセン
ターに集まって，研究開発を進めている．

NanotechJapan Bulletin Vol. 11, No. 2, 2018

東北大では，設計から集積化試作まで全てスピントロ
ニクスデバイスの研究開発ができるようにし，産官学の第 16 回ナノテクノロジー総合シンポジウム（JAPAN NANO 2018）開催報告 -3

多数の人たちが研究開発を進めている．低消費電力・高互に関連しながらスパイラル・パターンで進歩してゆく．

速のスピントロニクスはロジックインメモリ，集積化も一つのものでは解決できないから，多数のものを使い，可能である．ワーキングメモリーとストレージメモリー

収束・統合して解決する．人間の認知，生産能力を高め，の間にあるギャップをなくして両者を融合できる．スピ

一般化できる理論を作り，知識ツールを共通目標で統合

ントロニクスは，IoT，高速演算，AI が求める待機時電力する．違った経路で進み，個別要素を組み合わせて，全不要，低電力消費で，しかも高性能な集積回路を実現す

体像を描く一方，システムは演繹的に作る．ビジョンのる重要な課題である．

もとに，科学，環境，経済などが，同時進行の相互作用により水平方向と垂直方向の展開によるスパイラルが創【質

疑】造を生む．それを一旦収束・統合した上で，次の展開をQ：機械学習の話があったが，アーキテクチャから変わるのか，数値演算で加速しているのか？

図る．
コンバージェンスによって新しいアイデアが生まれる．

A：アーキテクチャが変わらなくても大電力を使わがん細胞の標的破壊はその例である．がん細胞をナノマずに学習できるようになると考えている．さまざま

テリアルに包んで体外の生体内と同じ環境に取り出せれな可能性があり，アーキテクチャにまで踏み込んでば，細胞処理がやりやすくなり，治療法や創薬が進むこ

行けるかもしれない．

とになるだろう．
科学技術のコンバージェンスには 3 つの階層がある．
ナノテクノロジー（Nanotechnology）から，ナノ・バイオ・

座長【Session 1：ナノテクノロジーによるイノ ベ ー シ ョ ン（I） ／ Nanotechnology
for Innovation (I)】AI の統合（NBICA, Nano-Bio-Into-Cognitive-AI Converging

藤田 大介（NIMS）

ション，バイオなどと結びついたプラットフォームを構Technologies）を経て，社会のエコシステム（Convergenceof Knowledge, Technology and Society）構築に進む．これを遂行するため，単一現象，システム統合，インテグレー
成する．この考えに沿った「2019 年に向けた計画」は大1-1 「将来に向けたナノテクノロジー及びその他の
先 端 的 取 り 組 み 」 ／ "Nanotechnology and otherGrand Challenges for Future Society"Mihail C. Roco（National Science Foundation, USA）

統領の承認を経て，Nanotechnology Signature Initiativeとなった．2020-2030 にコンバージェンスの実験を行い，領域を超えることによって新しい発展が生まれることが期待される．
これまでのナノテクノロジーの発展を，科学論文，米国 特 許（USPTO） や 国 際 特 許（WIPO） で 見 て み る と，
2000 年 -2016 年の期間では論文と特許の世界的な平均成長率は 15% を保っている．地域ごとの成長率は一様ではない．科学論文発表の数と質で，中国と韓国の伸びは速い．現在中国はナノテクノロジーの発表数では最大となった．韓国は一人当たりのナノテクノロジー発表が最大である．US，EU，日本は，ナノテクノロジー R&D の上流，引用数，概念の面で指導的立場を保っている．

米 国 は，17 年 間 に NNI（National Nanotechnology

1-2 「 タ イ 4.0 - 21 世 紀 の 繁 栄 」 ／ "Thailand
4.0 - Thriving in the 21st Century in the Time of
Changes"Suvit Maesincee（Minister, Ministry of
Science & Technology, Thailand）

Initiative，米国ナノテクノロジー計画）に 240 億ドル（約タイの人口は 6,900 万人，GDP は ASEAN で第 3 位の25 兆円）を投じた．他の様々な開発計画 Initiative（計画）4,400 億ドル（約 50 兆円）で，3,900 万人の労働人口をも進められており，それらとのコンバージェンス（収束・持ち，GDP 成長率は 2015 年の 2.9% から，2016 年には統合）が今後の技術開発に重要となる．

3.8% となり，2018 年は 4.6% を見込んでいる．R&D（研科学技術開発は外的要因で始まる．宇宙開発はロシア

究開発）費の対 GDP 比率も上がり，2010 年の 0.22% から，が先に有人衛星を打ち上げたことによって始まった．NNI

2016 年には 0.78% となった．2018 年は 1% になると見の科学技術開発は大気環境を含む地球規模の課題へのグている．国の国際競争力も上がったが，これには規制緩

ランドチャレンジである．異なる分野の知識・技術が相和が役立っている．タイは投資先として魅力的になった．

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宇宙，バオ燃料とバイオ化学品，知能システム，医学装
置の 6 産業に焦点を絞り，ARIPOLIS，BIOPOLIs，SPACEKRENOVAPOLIS の 3 つ の Innopolis（ ハ イ テ ク シ テ ィ）
イノベーションクラスタを構築する．法人税の免除，研究開発用材料の関税免除など，政府からのインセンティ
ブが与えられる．日本からも戦略的パートナーがタイに来ることを期待する．
【質疑】Q：研究開発費は GDP の 4% か．
A：実績は 0.8% で今年は 1% の達成を狙う．20 年
で GDP の 4% を目指す．

これからは，Thailand（タイ）4.0 という経済モデルのもとに，新しい経済機会を創出する．
タイ 4.0 は 20 年にわたる国家戦略である．タイには不平等，不均衡が残り，国の将来にビジョンがなかった．

ナノテクノロジープラットフォーム利用
成果ポスター展示／ Poster Presentationon Activities of Nanotechnology
Platform

2017 年から安全，持続性などの戦略を立て，グリーン成

昼食・休憩の時間を利用してポスター展示が行われた．

長，人材開発など行っている．2036 年に 1 兆 4,000 億文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム平成 29 年

ドルの GDP を目指す．一人当たりの GDP は 2 万ドル，

度「秀でた利用成果」6 件，「技術スタッフ表彰」4 件，

R&D 費の GDP 比率は 4% を目論む．人口 1 万人あたりの及びナノテクノロジープラットフォームセンター／微細科学・技術者数は 25 人を目指す．

構造解析プラットフォーム 11 機関／微細加工プラット

タイ 1.0 は農業，2.0 は輸入を代替する国内軽工業，3.0

フォーム 16 機関／分子・物質合成プラットフォーム 11

は投資を呼び込んで輸出する重工業が中心だった．タイ

機関の実施概要及び利用成果概要，これに加えて，文部4.0 ではバランスのとれた繁栄，経済，環境，社会の共創

科学省蓄電池基盤プラットフォーム実施概要のポスターを図る．量中心から価値中心，比較優位から競争力優位，展示が行われ，参会者との活発な意見交換が行われた．

物理的・財的資本から技術的・人的資本へ，製造から製品へとサービスの価値を高める．
タイ 4.0 はイノベーション主導の経済である．繁栄，R&D 人材，革新，起業がこれを支える．資源再生を含めた循環型社会を目指す．人と自然，人と人とのバランスをとる．分配型の経済で，ビッグデータを活用し，貧困を削減して，持続可能，安全な社会を構築する．自動車，
観光，エレクトロニクスなどの 10 の産業を選び，アップ
グレードを図る．世界の台所を目指し，食品技術にフォーカスした研究パートナーのネットワークを作る．ネット
ワークは，23 の大学，12 の政府機関，3 つの地域センターの入居者で構成される．この中には日本の農場が 5 つ入っている．
タイにおける経済機会として，東部経済回廊（EEC,
East Economic Corridor）がある．投資のための特区である．チョンブリ，ナヨン，チョチュンサヨンの 3 県に跨る．ここには港，空港など既存のインフラがあり，物流で国内を結べるよう，5 年間に 430 億ドルかけて，高速鉄道を整備し，鉄道の複線化などを進める．税の特別措置などの優遇策も用意されている．マーケットと生産を統合し，産業と研究を結びつけて，技術移転の中心になる．近代農業と生物技術，高性能電池と近代輸送，航空・NanotechJapan Bulletin Vol. 11, No. 2, 2018

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秀でた利用成果（＊最優秀賞）[2]

技術スタッフ表彰 [3]

昨年の「秀でた利用成果」表彰と「技術スタッフ表彰」は，JAPAN NANO シンポジウムの 1 セッションとして行われたが，今年は 2 月 14 日に，第 17 回国際ナノテクノロジー
総合展・技術会議（nano tech 2018）展示会場内の，物質・材料研究機構のブースで，上記の表彰が行われた．

2-1 「 ナ ノ テ ク ノ ロ ジ ー 研 究 開 発 拠 点 MINATEC」／ "Nanomaterials Based Start-Up, the MINATEC
Experience"Jean-Charles Guibert（MINATEC,France）
フランスのナノテクノロジー研究開発拠点 MINATECのある Grenoble はフランス南東部に位置するハイテク

座長【Session 2：ナノテクノロジーによるイノ ベ ー シ ョ ン（II） ／ Nanotechnology
for Innovation (II)】

産業都市で，アルプス山脈の麓にあり，スキーリゾー

小出 康夫（NIMS）

des technologies de l' information， 電 子 情 報 技 術 研

NanotechJapan Bulletin Vol. 11, No. 2, 2018

ト に 囲 ま れ て い る．CEA（Commissariat à l'énergie
atomique et aux énergies alternatives，フランス原子力・代替エネルギー庁）と LETI（Laboratoire d'électronique

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場建設の資金を獲得している．
＊ ETHERA：ビル内の空気の化学汚染診断を簡便に行う装置を開発．
＊ ISORG：光検知器・大面積イメージセンサをつくるプ
リンテッド有機エレクトロニクスの開発．
＊ ALEDIA：ナノワイヤ LED．低コスト狙いで，300mm
Si ウェーハ上に InGaN のナノワイヤ成長．ディスプ
レ イ の 革 命 に な る と い う．MINATEC の Fab を 利 用，
30M ユーロの資金を調達し，80 人が働く．名古屋大
学 天野教授がアドバイザに就任している．
【質疑】

Q：起業の成功率は？
A：成功と失敗は半々．起業した会社の 1/3 は買い
究 所 ) が 連 携 し て 2006 年 に MINATEC（Micro and

手がつき，1/3 の会社はそのまま存続する．スキー

Nanotechnology Innovation Centre）を設立し，イノベー

ム全体でリターンを考えている．TDK が加速度セン

ションリーダーを目指ことになった．ナノテクノロジー

サなどセンサの会社を買ったから，MINATEC に拠への挑戦に立ち向かうには新しいモデルが必要で，ナノ点を持つ大企業を呼び込むことができたことになっ時代に入るには基礎研究とこれに続く開発が次第に増えた．

ることを，認識した結果である．教育，産業，研究が 1

Q：インキュベーションの期間はどのくらい必要か．

箇所に集まり，この 3 者の 3 重螺旋構造で科学技術の進支援対象はどう選ぶか．

展を図る．学生，産業界を含めて，4,000 人の研究スタッ

A：インキュベーション期間は 6 ～ 18 ヶ月である．

フを擁し，150,000m2 の建物の中にマイクロ・ナノテク
ノロジー専用の（dedicated）12,000m2 のクリーンルー
ムを設けている．

支援するかどうかは，知財のあること，ビジネスの人を入れたチーム作り，技術完成度などで判断する．
5 年での立ち上がりをめどにしている．

LETI はオープンリサーチで，そこから生まれたスター
トアップが数多くある．知識を産業界に移転する好ましい
方法はスタートアップを創設することである．MINATEC
は量子，低温，Si テクノロジーの専門家を集めて，ナノ材料と科学をベースに大手企業とともにスタートアップを支援する．すでに 50 以上のスタートアップを立ち上げ，
MINATEC のビルに多数のスタートアップが入っている．

2-2 「米国ナノテクノロジー共用施設ネットワーク，
NNCI」 ／ "National Nanotechnology CoordinatedInfrastructure : an NSF - funded Nanotechnology
Lab Network in the United States"Oliver Brand（Georgia Institute of Technology, USA）

キャンパス運営費の 30% はスタートアップからの収入が当てられている．
MINATEC は ス タ ー ト ア ッ プ の 株 主 に な っ て，15 ～
20% の出資をする．40M ユーロのファンドが用意されている．スタートアップのアイデアが出てから 6 ～ 24 ヶ月かけてアイデアが成熟するのを見て，"Incubation" に進むことが決まり，プロジェクトが始まる．9 ～ 18 ヶ月の "Incubation" の後，"Creation" に進むことが決まり，
CEA が投資してスタートアップが創業する．"Creation" に入って事業が軌道に乗るまでの "Starting Phase" は 12 ～24 ヶ月である．講演では，10 社以上のスタートアップ・支援例が紹介されたが，その幾つかを記しておく．
＊ Soltech：1991 年 か ら LETI と の 共 同 研 究 を 元 に，
GaAs 多層エピタキシャルウェーハ，III-V 化合物半導体
多接合太陽電池等の半導体材料製造する．IBM，ARM

ナノテクノロジーは先端材料，医療，ロボティクスなのパートナーとなり，2017 年にスタッフは 1200 人

どの基盤（インフラ）である．NNI は 2001 ～ 2016 年

を超え，雇用創出にも貢献している．

に 23B ド ル（230 億 ド ル，2 兆 4,000 億 円 ） の 支 援 を＊ CROCUS Technology：高信頼・高速 MRAM 開発．工NanotechJapan Bulletin Vol. 11, No. 2, 2018

行ったが，ナノテクノロジーから生まれた製品は 2012

第 16 回ナノテクノロジー総合シンポジウム（JAPAN NANO 2018）開催報告 -7

年に 730B ドル（7,300 億ドル，77 兆円）になった．引【質

き続き，新しくより良いナノ材料・ナノ構造・ナノシス

Q：California や Pennsylvania に 5 つのローカルネッ

疑】テムを追求する．しかし，その活動の元になるツール・

トワークがあるが，NNCI との関係は？

技術は高価で，ツール運用には熟練技術者が必要となる．

A：5 つのネットワークは企業のコンソーシアムで，

そこで，これらを備えたオープンアクセス設備を提供す

NNCI とは別物である．DOE の支援で基礎研究を行っる こ と に な っ た．2004 ～ 2015 年 に 組 織 さ れ た NNINているから，お互いに補完することはできる．

（National Nanotechnology Infrastructure Network）の後

Q：外部ユーザー 25% というのは目標値か？

継として，NNCI（National Nanotechnology Coordinatedと企業で料金に差はあるか？

Infrastructure）が NSF の資金で設立された．

A：50% を外部にしたい．しかし，自前で設備を導大学

16 の NNCI のサイト及び 13 の協力機関（大学，国立研入し，NNCI を頼らない大学もあるから，外部比率は究所，非営利法人など）が米国全土の 17 の州に分布し，急には変わらない．料金はサイトによって異なるが，

67 の施設で 2,000 を超えるツールを供用している．ジョー

一般的には企業の利用料金は大学の 2 ～ 3 倍である．

ジア工科大学はそのセンターになっている．2017 年 9 月

Q：財務的なことで，NSF の資金はどのように使わまでの 2 年間に，NNCI サイトは，12,400 人を超えるユー

れるか？

ザーにサービスを提供した．そのうちの 3,200 人は外部

A：人に関することに多く使う．教育には 20% 使っユーザーである．ユーザーの所属する機関は，200 以上のている．どこに使うかは，各サイトの裁量である．

大学関係，800 以上の会社，50 以上の国際的な機関に及ぶ．

Q：ネットワーク内で作った材料はネットワークを

1 年間に，5,000 以上の新ユーザーがネットワークで訓練

通じて融通しているか？

を受け，900,000 時間以上の利用時間が記録された．

A：ネットワークを通じて適宜融通し合っている．

NNCI は，リソグラフィによるトップダウンと合成によるボトムアップのナノ製造・加工，およびナノスケールのイメージングと計測・評価のサービスを提供する．材【Session 3：ナノテクノロジーによるイノ ベ ー シ ョ ン（III） ／ Nanotechnology
for Innovation（III）】

料から，プロセス開発，複雑なデバイス作製，システム構築，それらの応用まで支援する．ユーザーは教育・研修を受けてツールを使うが，遠隔作業も提供し，依頼作業も受け付ける．地方の大学の利用も多く，産業界の座長

野田 哲二（NIMS）

ユーザーの 2/3 は中小企業で，NNCI はスタートアップ
や小企業のサポーターとなっている．適用領域は，材料：
28.11%， 化 学：12.73%， エ レ ク ト ロ ニ ク ス：11.57%，
ライフサイエンス：8.88%，物理：7.61%，MEMS ／機械工学：6.95%，医学：5.80%，光学：4.30%，教育研究：2.77%，
地球科学：2.39%，プロセス：2.06%，その他の研究：6.84%と分布している．ユーザーが増加している分野は，
ライフ，
環境，地球科学で，マイクロ／ナノ製造を使ってこなかった人が多く，より多くの訓練とスタッフの支援が必要と

3-1 「 産 業 が "Individual" に な る ～ 実 用 域 に 達 した超小型デバイス生産システム・ミニマルファブ」／ "Minimal Fab Realized as a One-by-One Device
Production system to individualize the device
industry" 原 史 朗（ 産 業 技 術 総 合 研 究 所 ） ／ Shiro
Hara (National Institute of Advanced Industrial
Science and Technology, Japan)

なっている．
2016 ～ 2017 年に 300 台の新しい設備を入れた．総額約 67M ドル（約 70 億円）．11 台は 1M ドル，16 台は500k ドル～ 1M ドルかかり，クライオ TEM には 5M ドルかかった．NNCI や大学の資金により，直接購入，寄付，ローン，リースなどで導入した．
ネットワークからの成果には，2 層グラフェンの励起子，細胞間神経活動を記録するナノワイヤ，ナノストローを用いた非破壊細胞解析，メモリデバイス用フレキシブル
強誘電体，などの科学的成果があり，成果をもとにスター
トアップが生まれ，スピンオフする事例も多い．
NNCI の使命にはナノテクの教育・普及がある．セミナーを開き，大学生に研究の経験をさせる．ナノテクの情報を発信し，科学教育資料を作り，バスで巡回して啓蒙活動を行っている．

NanotechJapan Bulletin Vol. 11, No. 2, 2018

第 16 回ナノテクノロジー総合シンポジウム（JAPAN NANO 2018）開催報告 -8

LSI は産業が大きくなり，スモールビジネスが成り立

Q：高さ 140cm の筐体寸法の理由は？

つか疑問になった．大量生産は中国や開発途上国に移り，

A：重さを 100kg に収めて移動でき，人が立って使先進国は，高付加価値を狙うが，多品種少量生産になえる高さ，0.5 インチウェーハに適した大きさとしり，産業になりにくい．最近の半導体工場は，1 ライン約

た．

5000 億円を要し，負け組みが増えて，製造中止が激増している．研究成果をすばやく実用化するため，産業として成り立つ最小の製造規模を考えた．
チップ価格は累積生産量の増加とともに低下する．通常，300mm ウェーハだと，設備投資が大きいのでチップ
価格は 1 チップ生産では 106 ドル /cm2 になってしまうが累積生産量とともに低下し，累積 105 チップで下げ止まり，
30 ドル /cm2 程度になる．0.5 インチ（12.7mm）ウェー
ハだと，チップ価格は 1 個生産の 104 ドル /cm2 から始

3-2 「 嗅 覚 IoT セ ン サ シ ス テ ム の 標 準 化 に 向 け た
総合的研究開発と産学官連携」／ "Comprehensive
Development and Industry-Academia-Government
Collaboration toward Standard IoT Olfactory Sensor
Systems" 吉川 元起（物質・材料研究機構）／ Genki
Yoshikawa (National Institute for Materials Science,
Japan)

まり，累積生産 104 個での価格で下げ止まって 30 ドル /cm2 になる．従って累積生産 104 個以下では 0.5 インチ
ウェーハの方がコストで優位となる．
しかし，多品種少量生産は儲かりにくい．設備の共通化・標準化が必要になる．ミニマルファブは，2007 年に提案し [4]，次の 3 要素で定義される：（1）ウェーハの直径は 0.5 インチで，従来の 12 インチに比べウェーハ面積は 1/,1000；（2）装置（tool）の大きさは幅 294 ×奥行
450 ×高さ 1,440mm に標準化され，ほぼ人体と同じ大きさ；（3）局所クリーンシステムを用いることによってクリーンルームを不要にする．ウェーハ輸送車のウェー
ハ空間，プロセス作業の環境空間を，粒子ロック・エア
タイトドッキングシステム（PLAD）により，クリーンにする．この定義にあった装置にはミニマルファブとしての認証を与える．このような装置に関与するファブシス
テム会員は 150 社になった．

2007 年に作られた人型ロボットには鼻がなかった．最近の感情を持つという人型ロボット「ペッパー」には鼻数多くのミニマル装置を開発した．幾つかの例を挙げの形もない．人間の五感（視覚，聴覚，触覚，味覚，嗅覚）

るなら，レジスト塗布機・現像機，マスクレス露光シスのうち，最もデバイス化が遅れているのが「嗅覚」であテム，ウェットエッチャー，ドライエッチング装置，レる．嗅覚センサの実現を難しくしているのは，「ニオイ」

ジストアッシャー，酸化炉，拡散炉，SiN のスパッタープの複雑さである．ニオイの成分は 40 万種以上あり，呼気ラズマ CVD，CMP（化学機械研磨），DRIE（深掘り反応

は 1,000 種のガスから成る．このため，日常的に使える性イオンエッチング）等々．また，次のような後工程装

嗅覚センサがない．しかし，嗅覚はウィルス，血液，呼置も開発した：ダイシング装置，ダイボンダー，銅メッキ，

気の検査に使える．

ウェーハ粒子スキャナー，光学式厚さテスター，3 次元顕

そこで，嗅覚に対応するナノメカニカルセンサとして，

微鏡など．いずれも，AC100V のコンセントに接続して各種基礎科学の融合・最適化により，高感度と極小サイ

稼働，ユーザーインターフェースも統一されている．

ズ を 両 立 す る「 膜 型 表 面 応 力 セ ン サ（Membrane-type2012 年に，0.5 インチウェーハにレジストパターン

Surface stress Sensor, MSS）」を開発した [5]．MSS は，Siを形成した．ミニマルリソグラフィシステムの分解能はなどの薄膜を縁の 4 箇所に設けたピエゾ抵抗素子で支え，10μm であった．現在の分解能は約 0.5μm である．2013
年には，p-MOSFET をミニマル装置だけで作った．2015

この際ピエゾ抵抗素子の方向を，膜から伝わる応力を二年には，CMOS インバーターとリングオシレータを作り，層が標的分子を吸着することにより膜に発生する応力をMEMS のボッシュプロセスにも成功した．2016 年のセミ

ピエゾ抵抗素子で感知し，ピエゾ抵抗素子をホイートス

コンジャパンではイベントホールでトランジスタを作れ

トーンブリッジ回路に組み込むことにより抵抗変化を高た．GaAs LD，SOI CMOS，Ga2O3，SiO2 の処理もできた．

感度に読み取る．ブリッジ回路と組み込まれたピエゾ抵

これからはダイヤモンドウェーハに挑戦する．

抗素子および感応膜は，Si プロセスで 1mm 角の素子に形つの異なる向きで受ける形状とし，膜に塗布した受容体

成され，これで 1 チャネルの検出ができる．
【質疑】NanotechJapan Bulletin Vol. 11, No. 2, 2018

ニオイの検知には感応膜の作り込みが必要になる．材

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質としては，細胞，高分子，金属などがあり，硬さと厚さの制御で感度が上がる．無機系ナノ粒子のシリカを使うと感度が上がることがわかり，感応膜はシリカに官能基を付けてシリカ - 高分子のハイブリッドナノ構造とした．全自動材料評価システムを立ち上げ，測定環境を振って 1 日に数万データをとり，材料をスクリーニングする．
MSS の特徴は次のように纏められ，IoT などの用途にも対応可能である．
・高感度：感応膜や測定条件次第でガス分子に対してppm ～ ppb 感度・小型：1cm2 に 100 チャネル以上集積可能・多様性：有機・無機を問わず様々な感応膜を使用可能
・室温動作／低コスト／低消費電力／高速動作／安定応答
応用例を挙げると，食品では肉をニオイで判別できる，生産地での品質管理に役立つ．ガソリンも識別でき，レギュラー，ハイオク，灯油などが区別できるから，不正nano tech 2017（ 昨 年 度 ） の 展 示 会 に お い て，nano

ガソリンの摘出に使える．その他，各種のスパイスやハー

tech 大賞 2017 は，日本ゼオン（株）／ゼオンナノテク

ブのニオイも識別できる．さらに，機械学習と融合するノロジー（株）に贈られた．その受賞理由は，「電子部品ことによって，複雑な混合ガスから成るお酒のニオイかメーカーのサンアロー（株）と組み，産総研で開発したら，アルコールという特定情報を高い精度で定量推定す

SWCNT 複合材料の本格的な事業活動を開始した．代表的ることに成功した．分子量の違いでたわみが異なるので，なナノテク素材である SWCNT の様々な産業分野への応

窒素と空気も区別できる．果物のラフランスの食べ頃を用展開が期待される点を賞す．
」であった．今回の講演でニオイで推定したら，硬さによる判別と一致した．このは，それ以降の展開も含めて，技術の内容と今後の展望

ほか，癌の呼気診断の可能性も実証されており，今後はが紹介された．

生体ガスによる健康状態の数値化など，様々な分野での日本ゼオン株式会社は 1950 年 4 月 12 日に合成樹脂の製造販売を目的として創立され，塩化ビニールや合成ゴ利用を期待している．
この MSS による嗅覚センサシステムの社会実装に向け

ムの国産化を行った．現在は，エラストマーを主要製品て，2015 年に産学官連携「MSS アライアンス」を発足としている．2017 年 3 月期の売上は 2,876 億円，営業させ，最先端要素技術の垂直統合を行ってきた．さらに利益 317 億円で，3,070 人が働いている．日本ゼオンの2017 年 11 月より「MSS フォーラム」を発足させ，公募

エラストマーは耐熱・耐油性の合成ゴムで，エンジン周型実証実験活動を開始した．ここで実施される様々な分

りや，ゴム手袋に使われる．この他，光学フィルム，レ野での有効性実証実験を通じて，「香りやニオイの基準モ

ンズ用樹脂，香料などを作っている．
日本ゼオンの主要技術は有機合成だが，無機の CNTノサシ」の確立を目指す．

（カーボンナノチューブ）を作る工場を山口県徳山市の【質北に位置する周南市に作った．ここで生産するスーパー

疑】

Q：一度ニオイを検知したセンサは捨てるのか？

グロース CNT（SGCNT）は気相合成で Si ウェーハ上に

A：可逆反応を利用しているので，空気を流して吸SWCNT（単層 CNT）を成長させるもので，10 分で 2.5mm

着ガスを飛ばせば次の検体を測れる．

と成長速度が速いので生産性が高い．有機の日本ゼオン

Q：人が臭わないガスでも検出できるか？

が無機の CNT に着手したきっかけは，産業技術総合研究

A：水のように人は臭わないものも検出できる．有所（産総研，AIST）からの働きかけであった．荒川氏が

毒ガスも含めて，人の臭わないものにも対応する．

前職の日機装時代の 1983 年に，気相で浮遊しながらカー
ボンナノファイバー作る方法を発明していたのに産総研が目をつけた．日機装時代に取得した物質特許を利用し【Session 4：nano tech 大賞 2017 受賞者
講演／ nano tech 2017 award lecture】て，SGCNT をやろうとしたが，無機に馴染みのない会社「 単 層 CNT に 誘 発 さ れ る イ ノ ベ ー シ ョ ン 」 ／"Innovations Induced by Single Walled CNTs" 荒 川公平（ゼオンナノテクノロジー株式会社）／ Kohei
Arakawa (Zeon Nano Technology Co., Ltd., Japan)

量産プロセスを開発し，連続生成，基板大面積化を行った．

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だったので，社長を説得して着手するのに数ヶ月かかっ
た．CNT キャパシタ開発の NEDO プロジェクトで SGCNT
Si ウェーハに鉄粒子を載せていたのを，金属フィルム上に載せるようにし，化学的に作っていた鉄粒子を連続ス
パッタに変えるなどして，キロ数千万円していたものを

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数十万円にした．このプロジェクトでは，普及のためのクノロジープラットフォーム事業 微細構造解析プラット

サンプル配布に生産が必要となり，2009 年に実証プラン

フォームの一つである．透過電子顕微鏡（TEM）を 11 台，トを作った [6]．プロジェクト終了後は，技術研究組合を

走査電子顕微鏡（SEM）を 2 台と，試料作製などの関連作って CNT の分散，複合化などの基盤技術を開発し，サ設備を持ち，エネルギー選択（Energy-filtering）高電圧

ンプル配布を行って普及を図った．2015 年には量産工場

電子顕微鏡，先端収差補正原子分解能 STEM（走査透過電を建設した．現在はキロ 100 万円だが，1 ～ 2 桁下げて，

子顕微鏡）などがある．この中で，原子分解能 STEM を

キロ数万円にしようとしている．

使用し，京都大学 北川教授ら，大分大学 永岡教授らと共応用は，ゴムへの添加である．シーリング材，電極材料，
電磁波シールド，熱伝導材，熱伝導ゴム複合材，などが同で触媒材料の原子スケール構造解析を行い，新触媒開発に貢献した．

作れる．SGCNT を 1% 添加すると熱伝導率が上がる．面

触媒は，大表面積の固体表面に触媒活性を持ったナノ内の熱伝導率は 1 ～ 2W/mK だが，CNT の軸方向に当たメートルサイズの粒子や層が分散した形をとっている．

る垂直方向では 90W/mK になり，鉄を上回る．パワーデこのため，触媒機能の理解には原子レベルで触媒のサイ

バイスのヒートシンクの界面に使うと，従来のグリース

ズ，形状，表面構造の情報を得ることが大切である．電に比べ熱抵抗は半分になった．難燃性もあり，高温強度，

子顕微鏡による原子レベル構造解析により触媒機能を理

機械強度は高い．厚さ 10μm で電磁波の 99% を吸収する．

解し，これを基に新触媒を開発した．以下に，2 つの解析・開発例を紹介する [7][8]．

【質疑】

最初は，自動車排気ガス浄化の触媒として広く使われ

Q：耐久性はどの程度か？

ている Rh ナノ粒子の例である．Rh は希少金属である．

A：耐熱温度は 200℃から 230℃に上がり，引っ張

一 方，Pd と Ru の 固 溶 体 は，Rh な み の 優 れ た CO 酸 化

り強度も上がった．

能力並びに高い NOx 還元能力を持つことが明らかになっている．しかしながら，Pd と Ru は熱平衡状態では混じり合わない．このため，固溶体は高温で不安定となり分座長解する．電子顕微鏡で，Pd-Ru ナノ粒子の HAADF-STEM【Session 5：ナノテクノロジープラット
フォーム利用主要成果講演／ Topics ofNanotechnology Platform】（高角度環状暗視野 -STEM）イメージと局所的なラインプ

横山 利彦（分子科学研究所）がわかった．そこで固溶体を安定化するため，3 元合金

ロファイルをとると，600℃で 3 回の NOx 還元プロセスの間に，Pd リッチと Ru リッチの層に分かれて行くこと
PdRuRh ナノ粒子を作り，熱安定性と触媒性能の向上を確

5-1 「 高 分 解 能 電 子 顕 微 鏡 に よ る ナ ノ 粒 子 の 状 態
解 析 の 進 展 と 新 た な 触 媒 機 能 の 開 発 」 ／ "Atomic
Resolution Electron Microscopy of Nanoparticles forDevelopment of Advanced Catalysts" 松村 晶（九州大学）／ Syo Matsumura (Kyushu University, Japan)

かめることができた．
二番目は，肥料生産のための重要な原料のアンモニアの合成である．アンモニア合成の典型的な手法であるハーバー・ボッシュプロセスは高温・高圧を必要とし，大量のエネルギーを消費する．このため，低温，低圧といった穏やかな条件でアンモニア合成が出来る新しい触媒が求められている．大分大学では，新たに，Ru/PrO2 ア
ンモニア合成触媒の開発に成功した．電子顕微鏡によるSTEM 観察と XEDS（エネルギー分散型 X 線分析）マッピ
ングから，結晶性の低い Ru ナノ層が PrO2 の表面にできていることがわかった．この特異な構造が窒素分子の N≡ N 三重結合の切断と NH3 合成の律速段階を相乗的に加速していると解釈された．この結果をもとに，Pr を Ce や
La に置き換え，Ru/CeO2，RuLa0.5Ce0.5O1.75 の構成の触媒作成にも成功している．

九州大学超顕微解析研究センター（Ultramicroscopy
Research Center Kyushu University）は，11 あるナノテ

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5-2 「トレンチ MOS 構造を設けた Ga2O3 ショット
キーバリアダイオード」／ "Ga2O3 Trench MOS-type
Schottky Barrier Diodes" 佐 々 木 公 平（ 株 式 会 社 ノベルクリスタルテクノロジー／株式会社タムラ製作所）／ Kohei Sasaki (Novel Crystal Technology, Inc. /TAMURA CORPORATION, Japan)

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である．エピ膜の表面にドライエッチングによりメサとトレンチの周期構造を形成した．トレンチ側面および底面には厚さ 50nm の HfO2 膜を設けた．アノード電極には
Mo/Au/Ni を，カソード電極には Ti/Au を用いて，ショッ
トキーバリアダイオード（SBD）を作製した．アノード電極の外周部には厚さ 400nm の SiO2 によるフィールドプ
レート構造を形成した．
試作した Ga2O3 MOS SBD の特性は，立ち上がり電圧が，市販されている 600-650V 耐圧の SiC SBD の 1V に対し，
Ga2O3 では 0.5V に下がり，損失は 40% 低減された．逆方向リーク電流は，SiC SBD と同程度に低い．この技術を転用して MOSFET も作った．また，米国 Cornell 大学はタムラ製作所の結晶を用いて MOSFET を作っている．いずれも数年以内の実用化を狙う．
ユーザーが佐々木氏，実施機関が NIMS の，
「パワーデ

【質

疑】

バイス材料の Ga2O3 の結晶成長と応用」が，「ナノテクノ

Q：絶縁性が高いのはなぜか？

ロジープラットフォーム事業 平成 29 年度秀でた利用成

A：バンドギャップが大きいことによる．

果」の最優秀賞に輝いた [2]．
パワーデバイスは，電力がパワーステーション（発電所）
から，工場，データセンタ，列車，家庭，EV 等に送られる際の，電力の変換部分に使われる．
パワーデバイスには，従来シリコンが使われていたが，物性の優れた，SiC，GaN，Ga2O3 が注目されるよう

5-3 「 光 で 剥 が せ る 液 晶 接 着「 ラ イ ト メ ル ト 接 着
材 料 」 の 開 発 」 ／ "Light-melt Adhesive as a New
Application of Liquid Crystals" 齊藤 尚平（京都大学）／ Shohei Saito (Kyoto University, Japan)になった．Ga2O3 は，バンドギャップが 4.5eV，降伏電界
が 8MV/cm で，融液成長により結晶を作れるので材料が安い．RF 加熱した融液から型を通して結晶を育成・引き
上 げ る EFG（Edge-defined Film-fed Growth） 法 を 用 い，
2012 年に直径 2 インチ，2015 年に 4 インチの Ga2O3 結晶ができた．2018 年には 6 インチができるだろう．SiC が，
1990 年に 1 インチ，2008 年に 4 インチ，2016 年に 6インチになったのに比べ大口径化が速く進んだ．Ga2O3 の性能指数は，Si の 3,000 倍，損失は 1/3,000 で，ダイヤ
モンドに次ぐ高性能が期待される．電界に強いので薄くできるから直列抵抗値が下がる．しかし，Si と同じ構造
では材料物性の効果が出ない．Ga2O3 陽極酸化膜の界面の電界強度が低く，1MV/cm に下がる．界面のリークによるものなのでトレンチ MOS 構造をとった．周期的に溝（トレンチ）を設け，溝を絶縁体で埋める．物質・材料研究機構（NIMS）微細加工プラットフォームに頼んで，微細齊藤氏らは，名古屋大学 分子・物質合成プラットフォー

トレンチを作る技術を開発した．トレンチ幅 1.5μm，深ムを利用し，
その成果が「ナノテクノロジープラットフォー

さ 9μm，間隔 3.8μm で，トレンチは丸底にする．トレン
チには HfO2 をレーザー蒸着したが，これには東京工業大

ム事業 平成 28 年度秀でた利用成果」に選ばれた [9]．

学の協力を得た．デバイス特性測定には早稲田大学の協縁性，導電性，バリア性などの機能接着性が求められ，ユー

力を求め，
SiO2 被着は NIMS で行うなど，それぞれのプラッ

ザーは，用途に合った機能接着性を持つ接着剤を選んでトフォームが持つ技術を利用した．

いる．今回は簡単に剥がせるものが求められた．光で固デバイス試作では，Sn ドープ Ga2O3 (001) 基板上に，
HVPE（ハイドライド気相成長）法で Si ドープ Ga2O3 膜を成長させた．基板およびエピ膜のドナー濃度と厚さはそ れ ぞ れ 6 × 1018cm-3，570μm と 6 × 1016cm-3，5μm

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接着剤は用途によって，歪み耐性，光で剥がせる，絶体から液体になり，光で剥がせる仮固定用の接着材料として，「光をあてると溶ける」物質が求められた．
光で剥がせる接着剤には，次の要件を満たすことが求められる．

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（1）加熱状態でも仮付で十分な強度（1MPa 以上）のあること
（2）光照射で接着強度（bond strength）が十分に低下すること（3）接着した材料を引き離す迅速な光応答．
（1）の耐熱接着性を備えることができれば，すでに普及している加熱してはがす仮固定接着剤に対する実用上の優位性が得られる．
この要請に対し，分子設計で耐熱接着と迅速光剥離を両立する UV 剥離型の接着材料を，独自の光応答骨格を持
つ液晶化合物として開発に成功した．
2 枚のガラス板に挟んで接着性能を評価したところ，室温では 1cm2 の面積当たり 16kg の重りを吊り下げる接着力の 1.6MPa が得られ，100℃の高温でも 1.2MPa の強度が得られた．接着後，紫外光を照射すると，液化して接着力は 85% 低下し，LED 光源で 320mJ/cn2 の紫外光をのトピックスを，ご講演いただいた．事務局によると照射すると 2 ～ 3 秒で剥がせた．

530 名の参加があったという．シンポジウムへの参加にピコ秒レベルの超高速 X 線電子線構造解析等により接感謝する．

着・溶融過程を調べ，次のようなメカニズムがわかった．
接着後，光応答の骨格は，固いアントラセンのウイングと柔軟性のあるシクロオクタテトラセンのジョイント（継ぎ手）で構成され，V 字型の秩序だったカラムナー液晶

参考文献

構造により凝集力を保持している．これに紫外線を照射[1]「磁気トンネル接合素子，未踏の一桁ナノメートル

すると一部の分子が 2 量体となり，2 量体の生成が液化領域で動作実現」，NanotechJapan ナノテク情報を促して接着力が消失する．

2018/02/23：https://www.nanonet.go.jp/ntj/topics_

今回新たに合成したカラムナー液晶材料において接着機能が確認できたことから，従来の高分子接着とは全く

ntj/?mode=article&article_no=4203[2]「ナノテクノロジープラットフォーム事業 秀でた利異なる接着アプローチとして，今後も「液晶接着」に注

用成果（nano tech 2018 展示）」，NanotechJapan：

目した研究が産学の垣根を超えて広まることを期待して

https://www.nanonet.go.jp/seika_selection/2018_

いる．

SeikaSelection.pdf[3]「ナノテクノロジープラットフォーム事業 平成 29 年

【質度技術スタッフ表彰」，NanotechJapan：https://

疑】www.nanonet.go.jp/research_support_award/H29_

Q：研究の動機は何か？
A：液晶を接着に適用した時に凝集力が大きいことAward.pdf[4]「21 世紀型生産システム「ミニマルマニュファクチャに着目した．
Q：実用化の方向にあるか？

リング」の創出」，NanotechJapan Bulletin, グリー

A：メーカに技術移転を始めているが，合成に難し

ンナノ企画特集＜第 7 回＞ , Vol. 2, No. 2, (2009)：
https://www.nanonet.go.jp/ntjb_pdf/GN-07.pdf

さがある．コストは人件費，作業時間が長い．

[5]「新たな分子検出センサー MSS の開発」，
NanotechJapan Bulletin, 10-9 INNOVATION の最先端
企画特集＜第 14 回＞ , Vol. 7, No. 1 (2014)：https://【Closing Remarks / 閉会挨拶】

www.nanonet.go.jp/magazine/content/files/mag_

田 沼 繁 夫（JAPAN NANO 2018 組 織 委 員 長， 物 質・
材料研究機構ナノテクノロジープラットフォーム
セ ン タ ー 長 ） ／ Shigeo Tanuma (Chairperson of
the Organizing Committee of JAPAN NANO 2018
/ Director, Center for Nanotechnology Platform,
National Institute for Materials Science, Japan)
ナノプラットフォームの最新の成果，ナノテクノロジー

NanotechJapan Bulletin Vol. 11, No. 2, 2018

pdf/Nano_Inov_pdf/nanoInnov-14.pdf[6]「単層カーボンナノチューブの量産技術：スーパーグロースの実証プラント～産学連携によるカーボンナノチューブの大量合成と応用展開～」，
NanotechJapan Bulletin, 10-9 INNOVATION の最先端
企画特集＜第 20 回＞，Vol. 7, No. 3 (2014)：https://www.nanonet.go.jp/magazine/content/files/mag_
pdf/Nano_Inov_pdf/nanoInnov-20.pdf

第 16 回ナノテクノロジー総合シンポジウム（JAPAN NANO 2018）開催報告 -13

[7] K, Sato, H. Tomonaga, T. Yamamoto, S. Matsumura,N, D. B. Zulkifli, T. Ishimoto, M. Koyama, K. Kusada,
H. Kobayashi, H. Kitagawa, and K. Nagaoka, "Aon praseodymium oxide as an active catalyst forammonia synthesis", Chemical Sciences, vol. 8, pp.
674-679 (2017)

Synthetic Pseudo-Rh: NOx Reduction Activity and[9]「高温でも使える，光で剥がせる起床接着材料の開Electronic Structure of Pd-Ru Solid-solution Alloy発」，ナノテクノロジープラットフォーム事業 秀でた

Nanoparticles", Scientific Reports volume 6, Article

利用成果（nano tech 2017 展示），NanotechJapan：

number: 28265 (2016), doi: 10.1038/srep28265

https://www.nanonet.go.jp/pages/seika_[8] K. Sato, K. Imamura, Y. Kawano, S.-i. Miyahara, T.

selection/2017_SeikaSelection_5.pdf

Yamamoto, S. Matsumura, and K. Nagaoka, "A
low-crystalline ruthenium nano-layer supported

NanotechJapan Bulletin Vol. 11, No. 2, 2018

（古寺 博）

第 16 回ナノテクノロジー総合シンポジウム（JAPAN NANO 2018）開催報告 -14