軟 X 線干渉法による EUV 投影光学系の波面計測
新部正人
要

旨

兵庫県立大学高度産業科学技術研究所〒6781205 兵庫県赤穂郡上郡町光都 312

次世代の半導体パタン露光技術の候補である極端紫外線リソグラフィー（EUVL）法の開発においては，投影

光学系の波面収差を0.1 nm の精度で計測する必要がある。この目的を達成するため，我々は簡単な部品交換で多種類の
軟 X 線干渉計測ができる実験干渉計を開発し，ニュースバル放射光施設に設置した。行った計測は点回折干渉（PDI ）法とシアリング干渉（LSI ）法に大別され，波長13.5 nm の実露光波長を用いて，Schwarzschild 型テスト光学系の波面または120°
回転した測定を繰り返して行い，収差を評価した。測定精度を検証するため，光学系鏡筒を光軸まわりに90°
本計測における計測誤差を見積もった。その結果，PDI 法では測定再現性 0.048 nmRMS ，システム誤差 0.066 nmRMSという高精度の計測技術を実現できた。

1. はじめに術の開発が始まったのは2000年頃からとなった5)。
我々はこれらの先行技術の欠点をカバーするいくつかの次世代半導体パタン露光技術の候補として極端紫外線リ

新しい干渉方式を提案した6)。そして先行技術を検証する

ソグラフィー（EUVL）法が注目され，これに用いられるとともに，これらの新しい干渉法の実用性を検討するた

光源，光学系，マスク，レジストなどの技術開発が活発にめ，簡単な部品交換で多種類の干渉計測を行える実験干渉行われている1) 。この技術は波長 l ＝ 13.5 nm で高い直入計（EEI）を開発した。これらの干渉計実験を行うには，

射反射率をもつ Mo /Si 多層膜ミラーを複数枚用いた光学

高輝度で，干渉性が高く，安定に動作する EUV 光源が必系で，反射型マスクのパタンをシリコンウエハ上に縮小転要である。このため兵庫県立大学のニュースバル放射光実

写し，半導体回路の微細加工を行うものである。 EUVL

験施設において，長尺アンジュレータ光源ビームライン

装置に用いられる縮小投影光学系は，非常に高精度に加工

BL97)に EEI を設置した。本研究では，上記の各種干渉方

および組み立てする必要があり，例えば32 nm 線幅のパタ式を先行技術と比較しながら，最適な波面測定方式を開発

ンを転写するための光学系としては， 0.45 nmRMS 以下することを目的とした。

の波面収差が要求される2)。しかし，従来の可視光を用い本稿では，はじめに EEI 装置で行った各種の干渉計測

た干渉計測法（例えば，フィゾー干渉計）は，参照面の加法についてその概要を紹介し，次に特に良好な結果が得ら

工精度が l/100（l＝633 nm）程度しかなく，EUVL 用ミ

れた PDI 法と直交回折格子シアリング干渉（ CGLSI ）法

ラーの評価や光学鏡筒のアライメントにそのまま用いるこについて少し詳しく述べ，最後に測定精度を検証するためとはできない。また，用いられるミラーには多層膜反射にの鏡筒回転計測についてその結果を紹介し，種々の EUV起因する，入射角に依存した反射波面の位相変化が生じる

投影光学系を評価するための手法について考察する。

ので，可視光と極端紫外線（ EUV ）で測定した波面は，なお，本研究は経済産業省の基盤技術研究促進事業の一

厳密には一致しない。したがって，実際の露光波長を用いテーマとして，新エネルギー産業技術開発機構（NEDO）て波面を計測評価することが必須であり，その測定精度の委託を受け，技術研究組合極端紫外線露光システム開発

は0.1 nmRMS が必要である。

機構（ EUVA ）の 20 名近いメンバーと兵庫県立大学，電この高精度計測を実現するため，実際の露光に使う波長

気通信大学などが関わって進められたものであるが，今回の光を用いて，また精密加工された参照面を使わないで行

はこれらの研究に基づいて筆者が技術開発の概要をまとう干渉計測法が提案され， 1996 年頃から米国ローレンス

め，「放射光」の読者に紹介する。

バークレイ研究所を中心に，技術開発が進められてきた。
この参照面を使わない実波長（ at-wavelength ）干渉計測

2. 実験用干渉計システム（EEI）

法として，点回折干渉（PDI, Point DiŠraction Interfero-

meter）法やシアリング干渉（LSI, Lateral Shearing Inter-EUV 光の干渉計では，用いる光のコヒーレント長が長ferometer ）法が知られている3,4)。残念ながら，日本ではくないため，通常，コモンパス型の干渉計配置を用いなけ

露光法の選択に関する戦略的な理由から，この種の計測技

ればならない。また，参照面を用いない干渉計としては，

20 ● 放射光 Jan. 2006 Vol.19 No.1
(C) 2006 The Japanese Society for Synchrotron Radiation Research

トピックス ■ 軟 X 線干渉法による EUV 投影光学系の波面計測

Fig. 1

Schematic diagram of the phase-shift point-diŠraction interferometer (PSPDI) for the EUV region.

Fig. 2

Schematic diagram of the phase-shift lateral-shearing interferometer (PSLSI) for the EUV region.

2.2

LSI 法

シアリング干渉法では Fig. 2 に示すように，まず入射ピンホールで入射光の波面を球面波に整形し，テスト光学系に入射する。テスト光学系の下流に透過型回折格子を置

ピンホールを用いて参照球面波を生成する PDI 方式の干き，テスト光学系を通った光を複数の回折光に分離する。

渉計と，テスト光学系の波面同士をわずかにずらせて干渉

さらに光学系の像側焦点に 2 つの窓を持つ回折次数選択

させ，微分波面を得るシアリング（LSI）方式の干渉計の，マスクを配置し，回折光のうち，±1 次光のみを選択透過

主に 2 種類しか解がない。ここでは，まず本干渉計測法

させて，これらの光を CCD 面上で干渉させる。干渉縞かの基本形である PDI 法と LSI 法を中心に，装置，実験法

ら得られる波面は，自分自身の波面をずらせて干渉させた等について述べる。

微分波面である。
この基本型に対して，本研究ではピンホールの代わりに

2.1

PDI 法

スリットを用いるスリット型 LSI 法（ SLSI ）を提案しPDI 法の 原 理 は ， 微 小 ピ ン ホ ー ル に 光 を 透過 さ せ る

た6)。また， 2 枚の回折格子をテスト光学系の共役像位置と，ピンホールが空間周波数フィルターとして働き，ピンに配置し，単色干渉縞の得られるダブル回折格子型 LSI

ホール射出光が高次の空間周波数成分を含まない理想的な法（DLSI）を提案した6,8)。さらに従来ローレンスバーク

球面波となる性質を利用するものである。光の波長を l，レイ研究所で開発されたシアリング法が直交回折格子を用

テスト光学系の開口数を NA としたとき，ピンホール径

いた LSI 法であったのに対し，この方法にさらに次数選

は l / NA 程度以下の大きさのものを用いる。ピンホール

択窓を配置して測定精度を高めた，独自の直交回折格子

からの球面波を参照波面に用いることにより，精密加工しLSI 法（CGLSI）を提案した9)。

た参照面を 用いないで ，高精度の 干渉測定が できる。

本干渉計では軟 X 線のビームスプリッタとして透過型

Fig. 1 に PDI 装置の概念図を示す。はじめに入射側ピンの回折格子を利用したが，光路長に関する理論的解析の結ホールで整形した球面波を透過型回折格子（G）を通して，

果，この回折格子が干渉計測に必要な光源の波長バンド幅

テスト光学系に導く。G はビームスプリッタとしての役割に関する制限を大幅に緩和することに寄与していることがを持ち，各回折光はテスト光学系を通ったのち，光学系のわかった。詳細は文献10,11)を参照して頂きたいが，例えば像側焦点面上のわずかに離れた別々の点に集光する。焦点PDI 法においては，回折格子と CCD 面までの 0 次光と 1

面上には第 2 のピンホール（～ 50 nmq ）と 1 次光選択窓

次光の光路長差（OPD ）を DL ，波長を l とすると，DL/（ 1.5 mm ）を開けたピンホールマスクが置かれている。

l＝const. という関係が成立する。このため CCD 面上の 1

回折光のうち，0 次光は第 2 ピンホールを透過すると，再点では広い波長範囲にわたって同一位相の関係が実現し，

び理想的な球面波となる。一方 1 次光はテスト光学系に干渉縞のコントラストは40波長分離れた OPD の回折光同よる波面収差を保ったまま窓を透過する。これらの透過光士の干渉に至るまで，ほぼ一定となり，劣化が起こらな

は CCD カメラ面上で干渉縞を形成し，これを解析するこい。このことより，使用する光源のバンド幅は著しく狭帯とにより，テスト光学系の波面収差を知ることができる。

域化する必要はなく，アンジュレータの 1 次光を照明用

また，G を微小に動かすことにより， 0 次光―1 次光間のの Mo /Si 多層膜ミラーで粗く分光する程度で，瞳の周辺位相を変化させる位相シフト（ PS ）法により，データをまで十分なコントラストが得られた。さらに，狭帯域化す取得している。

る必要がなかったため，長尺アンジュレータの光を有効に本研究ではこれらのピンホールをスリットに代えること
により，光量不足や暗い光学系にも対処できる線回折干渉利用でき，1 枚の干渉縞像を 1 秒以下の露光時間で撮影できた。

法（LDI, Line DiŠraction Interferometer）を提案した6)。

放射光 Jan. 2006 Vol.19 No.1 ● 21

Fig. 4

Fig. 3

Interference fringes and wavefront map of the Schwarzschildtest optics obtained by the PDI method. (a) PDI interferogram, (b) Wavefront map.

Schematic diagram of the experimental EUV interferometer(EEI).

径 1 mm の円形窓のものを用いた。

EUV 光を用いた干渉実験に当たっては，コンタミネー

2.3

EUV 実験干渉計（EEI）

ションによるピンホール閉塞が問題になった。ピンホール

ニュースバルに設置された EEI 装置の模式図を Fig. 3に付着した成分を分析し，ピンホールが炭素を主成分とすに示す。 EEI は上記の各種方式の干渉実験が簡単な部品

る薄膜の堆積により閉塞していることがわかった。干渉計の交換で実現できる構成となっている。光源はニュースバ

内への酸素ガスの導入や，ピンホール材質についても検討

ル放射光施設の長尺アンジュレータ（全長 10.8 m, 200 周

し，遮光性に優れる Ni が Au や Ta と比べて，低い閉塞期， 1 次光中心波長 13.5 nm ＠ 35 mm gap, 1.0 GeV ）でレートを持つことを見出した15)。

ある。ビームラインの照明は全ての方式に対応できるように最適化した。波面測定用のテスト光学系は NA ＝ 0.2 ，

3. PDI 実験の結果と解析

倍率 1 / 20 の Schwarzschild 光学系で， 2 枚のミラーは Mo/Si 多層反射膜がコートされている。このテスト光学系はPDI 法で 100 nmq のピンホールを用いて取得した干渉別に開発された可視光の PDI 装置により12)，本測定に見縞の一例を Fig. 4(a)に示す。この場合，干渉縞のコントラ合う波面精度（1.06 nmRMS）まで組立調整し，EEI 装置

ストは十分であり，波面を計算することができる。実際のに搭載した。テスト光学系の物体側および像側焦点近傍にずつ位相変化させた 9 個の干渉縞画像から，計算には 90°は，ピンホールマスクや回折格子を挿入するためのステー

各点の位相を求める 9 バケット法のアルゴリズムを用いジ類があり，干渉計の種類に応じて種々のセットアップがた。Fig. 4(b)は解析した波面マップである。テスト光学系

できる。

の組立調整時に取得した可視光（l＝633 nm）PDI による本研究では光学部品の製作も大きな課題であった。ま

計測波面と EEI による計測波面を比較すると，可視光でず，ピンホール形状を最適化する必要がある。このため種は 1.06 nmRMS ， EUV 光では 1.12 nmRMS の 2 乗平均偏々の膜厚とピンホールサイズについて，基板を透過して迷差が得られ，形状も良く類似していることが分かっ光となってしまう成分も含めた電磁場解析を行い，厚さた14) 。ただし，この測定ではピンホール径が大きすぎる

200 nm の Ta マスクのピンホール径として 50 nmq，厚さため，おもに低次の非点収差成分がピンホールを透過し，150 nm の Ni マスクのピンホール径として 30 45 nmq 付

計測に誤差を与えていると判断された。

近が最適値であることがわかった13)。

ピンホール径を50 nm 程度まで小さくすると，干渉縞の次に PDI ， LDI では厚さ 200 nm 程度の自立薄膜（ Ni,

コントラストが劣化して，波面解析が困難となってくる。

Ta ）に数 10 nm 径の超微細なピンホールあるいはスリッ

これはピンホールを通る 0 次光の光量が減少するとともトを加工する必要がある。本研究では EB 描画のリフトオに，0 次光のフレア成分が 1 次光選択窓を透過して，テスフ法，収束イオンビーム（FIB）装置による直接加工法等

ト光学系の 1 次光あるいは 0 次光同士で干渉する割合がを検討し，最終的に厚さ 150 nm の Ni 自立膜に直径 30 

相対的に増えるためである。ここでフレアとは，研磨加工

100 nm までのピンホールを開けたマスクを入手して実験したミラー表面に残っている波長 1 mm ～ 1 mm 程度の中に用いた14)。
マスクの窓の形状は当初，先行技術で使われた正方形の間周波数粗さにより，EUV 光が散乱し，焦点のまわりに広がった成分である。

窓のものを用いたが， PDI 法などで 0 次光のフレアが窓

この問題を解決するため，得られた干渉縞に対して 2を透過して誤差が発生することを防ぐため，最終的には直次元のフーリエ変換（FT ）を行う方法16)を用いた。Fig. 5

22 ● 放射光 Jan. 2006 Vol.19 No.1

トピックス ■ 軟 X 線干渉法による EUV 投影光学系の波面計測

Fig. 5Interferogram, spatial frequency map, and fringes after the ˆltering of the Schwarzschild test optics obtained by
2D FFT method. (a) PDI interferogram, (b) Spatial frequency map (FFT), (c) fringes after ˆltering (iFFT).

( a )に示すような干渉縞に対して FT を行うと， Fig. 5 ( b )に示すような空間周波数領域でのマップが得られる。このうち中心のスポットは窓を通った 1 次光と 0 次光のフレ
ア同士が干渉したもので，ノイズ（ DC ）成分となる。一方その左右のスポットは，窓とピンホールを通った光同士の干渉で，この中にはテスト光と参照光の干渉のほか，参照光と自分自身のフレア光の干渉が含まれる。しかし，後者はさらに位相シフト法を用いて除去できる。空間周波数
領域の右側にあるスポットの領域のみを選択し，これをさらに逆 FT すると，Fig. 5(c)に示すようなノイズが除去された，コントラストの高い干渉縞が得られる。
この方法を用いて波面解析が困難であったコントラストの低い干渉縞から波面回復ができるようになった。解析した波面に対しては，Zernike 多項式17)による最小 2 乗フィッティングを行い，第36項までの Zernike 係数を得た。ここでは通常用いられる Fringe Zernike 多項式を用いると，Fig. 6

Z9, Z16, Z25, Z36 などの球面項係数の再現性が悪いことがSchematic diagram of the two types of cross-grating lateralshearing interferometer (CGLSI), window-less type andfour-window type.

わかった。これは，テスト光学系の瞳形状が円形ではなく輪体状であるため，球面項のフィッティングに誤差を生じやすいためと考えられた。そこで本光学系の解析では，輪法 ， SLSI 法 ， DLSI 法 な ど ， 各 種 の 方 法 を 試 み て き た

体形状を解析するのに適した Annular Zernike 多項式16)を

が，これらの方法はいずれも光軸に垂直な面内の X また用いて解析し，上記各項の再現性を顕著に改善することがは Y の一方向に波面をずらせた計測法であるため，回折できた。

格子やスリットの入れ替えによる位置ずれによって，特に非点収差の計測に誤差を生じやすいことが分かった。各方

4. CGLSI 法

法の比較は紙面の都合で省略するので，別の報告文献21)を参照されたい。ここでは特に，2 次元の直交回折格子を

2000年以降，我々は EUV 光学系の波面を計測する干渉計測法として PDI 法を中心に研究してきた19,20) ，そこで用い，X，Y 両方のシア波面を同一の回折格子で取得できる CGLSI 法による干渉計測について述べる。

明らかになったこととして， PDI 法は補足可能収差の範囲が狭く，評価に供するテスト光学系は，もともとかなり高い精度で加工およびアライメントをしておく必要があ

4.1

CGLSI 法の実験

Fig. 6 に GCLSI 干 渉 計 の 模 式 図 を 示 す 。 物 点 側 ピ ンる，ということが分かった。従って， PDI 法は測定精度

ホールを通って歪みのない球面波に整形された EUV 光はは高いが，収差やフレアの大きな光学系の計測修正に，

テスト光学系を通って集光しながら直交回折格子に入る。

はじめから使うのは適当でない場合がある。そこで，もっまずローレンスバークレイ研究所で行われていたようなシと補足収差の大きいシアリング干渉による計測法を検討しアリング干渉法4) の場合，直交回折格子は CCD カメラ面

た。

との間で Talbot 条件22) を満たす位置に置かれ，回折格子

我々はこれまでシアリング干渉法として，前記した LSIを射出した複数の回折光はいったん回折次数ごとに複数の放射光 Jan. 2006 Vol.19 No.1 ● 23

Fig. 7

Wavefront retrieval process of CGLSI interferogram by diŠerential Zernike polynomial ˆtting method.

Fig. 8Comparison of the Zernike coe‹cients of the test optics obtained by PDI, LSI and CGLSI.

スポット状に集まるが，さらに進んで CCD カメラ面上で1 次光干渉のみによるシア波面が得られる。この操作で，干渉し，網目状の干渉縞をつくる。

PDI 法の場合と同様に干渉縞の DC 成分や高次干渉によ

従来型の「窓なしタイプ」の干渉計に対して，今回は新るノイズが除去され，コントラストの高いシア波面とな

たに 1 次光のみの選択マスクを用いた「 4 窓タイプ」のる。一方で Zernike 多項式より微分 Zernike 多項式を生成

CGLSI 干渉計を構成して，同一のテスト光学系の波面をし（ここでは Annular Zernike 多項式を用いた），これら

実波長測定した9)。窓を設けることにより，高次回折光のが X ， Y 両シア波面に最適にフィットするよう最小 2 乗

混入の影響をなくし，1 次光のみによる SN 比の高い測定法を用いて第 36 項までの Zernike 係数を決定した。 Fig. 7ができる。シア比は直交回折格子のピッチによって調整でのいちばん右側の図は，上記操作で決定した Zernike 係数

き，テスト光学系の瞳に対して約0.02～0.04とした。

をもとに再構成したテスト光学系の波面である。

CGLSI 測定から上記のプロセスで再構成したテスト光

4.2

CGLSI 法の縞解析と結果

学系の波面は， 60 nmq のピンホールを用いて測定した得られた干渉縞からの波面再構成は，微分波面の積分に

PDI 法による波面測定結果と形状等がよく一致した。 Fig.

よる回復法など，各種の方法で試みた。その結果，今回の8 に，同一のテスト光学系に対して PDI 法，LSI 法および光学系のような輪体瞳の場合，積分法は，積分開始位置を今回の CGLSI 法で測定された 36 項の Zernike 係数値の比

瞳中心に取れないことから，大きな計算誤差を生じること較を示す。これまで PDI 法と LSI 法で求めた低次の非点が分かった。そこで今回は，微分 Zernike 多項式をつく

収差（ Z5 ， Z6 ）の間には大きな差があったが， PDI 法とり，これと計測したシア波面とを最小 2 乗法によりフィCGLSI 法による Zernike 係数は低次の非点収差も含めてッティングすることにより23) ，第 36 項までの Zernike 係

各項がほぼ一致した。 Z5 項から Z36 項までの Zernike 係数を求め，波面を再構成した。
まず，得られた干渉縞に対して 2 次元のフーリエ変換

数 で 計 算 し た 波 面 収 差 は ， PDI 法 で 1.28 nmRMS ，

CGLSI 法 で 1.30 nmRMS と な り ， 両 者 の 誤 差 は 0.28

（ FT ）を行うと， Fig. 7 の左から 2 番目に示すようなスポ

nmRMSであった。もっとも大きな不一致を示したのは低ットが得られる。これは空間周波数マップに相当し，これ次のコマ収差（Z8）であった。

らのスポットの中から X および Y 方向のそれぞれ 1 次光

以上のことから， CGLSI 法は捕獲収差が大きく， PDI

干渉の部分のみを選択する。これをさらに逆 FT すると，

法に近い測定精度があり，粗アライメントをした光学系の

24 ● 放射光 Jan. 2006 Vol.19 No.1

トピックス ■ 軟 X 線干渉法による EUV 投影光学系の波面計測した）。この結果より， 3 つの測定波面がよく似た形状を示しており，また， Zernike 係数( d )もほぼ一致していることが分かる。
こ れ より ， 本 測定 の シ ステ ム 誤 差 は Z5 ～ Z36 の Zer-

nike 係数に対して0.066 nmRMS という値を得た。さらに各測定におけるピンホールアライメント精度を向上させる
ことにより，測定再現性が0.048 nmRMS まで向上させることができた。また，このシステム誤差を測定値から差し引くことにより，より高精度の波面計測を行うことができると考えている。

6. まとめと課題
以上の研究より，本研究プロジェクトの目標としていた
測定誤差0.1 nmRMS 以下を達成することができた。また

EUV 領域で用いられる投影光学系などを評価するために
Fig. 9Comparison of the wavefront maps and the Zernikecoe‹cients of the test optics obtained before and after the, (b) 90°
, (c) 180°
, (d) Zernike
rotation of the optics. (a) 0°
coe‹cients (unit＝l: 13.5 nm ).

は，まず捕獲収差の大きな CGLSI 法で計測し，再アライ
メントをしながら光学系の収差を低減し，最後に PDI 法
で精密測定するのが適当と思われる。
今後の課題として，例えばフルフィールドの EUV 投影
光学系（非球面 6 枚系）などでは NA が 0.26 ～ 0.3 程度と実波長計測に適した方法であることが分かった。

なり，用いるピンホールの加工やアライメントもさらに厳しくなる。また多層膜ミラーの反射回数も増えるため，光5. 本干渉計測法の測定精度と誤差見積もり

量減少に対応するための対策も必要になってくる。本稿では詳しく触れなかったが，本プロジェクト独自の方法であ本測定で得られる収差の値には，テスト光学系の収差のほかに，測定系に付随したシステム誤差が含まれる。シスる線回折干渉（LDI）法が有効になってくることも考えられる。

テム誤差としては，照明光学系の収差，回折格子の形状から発生する収差，ピンホールで作られる球面波の収差，

謝辞

CCD カメラの傾きによる収差などがある。これらのシス本研究は，基盤技術研究促進事業の一環として，新エネ

テム誤差は，鏡筒を光軸まわりに回転して測定した波面をルギー産業技術開発機構（NEDO）からの委託により行わ

比較することにより，見積もることができる。ここではれた。電気通信大学の武田光男教授には，波面解析に関し

PDI 法でのシステム誤差の評価について述べる。

て多数の貴重なアドバイスを頂いた。また，兵庫県立大学

まず，システム誤差のうち回折格子で発生する誤差および CCD カメラの傾きにより発生する誤差を低減するたの角谷幸信氏には放射光ビームの安定化に関して，種々の協力を頂いた。以上の皆様に深く感謝致します。

め， PDI 用マスクのピンホールを窓に代えた窓―窓型の

参考文献

マスクを用いて干渉縞を計測し，上記のシステム誤差を見積もり， PDI の計測値から差し引く操作を行った。これ

1)を我々は「アブソリュート PDI 法｣24)と呼び，PDI の解析には常用している。
鏡筒の回転は 2 ～3 週間の期間をおき，真空槽を大気圧2)3)にもどして，手動で鏡筒を持ち上げて回転する方法で行っの 4 方位で計測た。回転角としては， 0 °, 90 °, 180 °, 120 °
した。解析においては，各回転角における干渉縞の中心座標のずれを小さくする方法として，輪体の遮蔽部の中心を解析中心とすることで，精度が向上することが分かった。
，
Fig. 9 にテスト光学系の鏡筒を光軸まわりに( a ) 0 °および(c)180°
回転させた光学系について波面(b )90°
計測した結果を示す（像は比較のため回転をもどして表示

4)
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放射光 Jan. 2006 Vol.19 No.1 ● 25

7)

8)

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● 著者紹介 ●新部正人
兵庫県立大学高度産業科学技術研究所
助教授
E-mail: niibe＠lasti.u-hyogo.ac.jp
専門X 線光学［略歴］
1984 年 3 月，北海道大学大学院理学研
究科化学第 2 専攻博士課程修了。 1984
株 勤務。研究開発
年 4 月よりキヤノン
本部中央研究主任研究員を経て， 1994
年 10 月より姫路工業大学高度産業科学
技術研究所，助教授。 2004 年 4 月兵庫株
県立大学の統合により現職。キヤノン
在職中より，軟 X 線多層膜の作製とその応用について研究してきた。

Wavefront metrology of EUV projection optics
by soft x-ray interferometry
Masahito NIIBE

Laboratory of Advanced Science and Techology for Industry, University of Hyogo
312, Kouto, Kamigori-cho, Ako-gun, Hyogo 6781205 Japan

Abstract An experimental EUV interferometer, using which various interferometry methods can be tested
by simply changing the optical parts, was developed and installed at the NewSUBARU SR facility. The
methods of measurement were classiˆed into two groups, point diŠraction interferometry (PDI) and lateralshearing interferometry (LSI). The wavefront of Schwarzschild test optics was evaluated at a wavelength of
13.5 nm, which has been used in the EUVL tool. To verify the measurement accuracy, the measurements
were repeatedly carried out by rotating the optics from 0°to 90°or 120°around the optical axis, and the systematic error of the measurements was estimated. In the PDI measurement, ultra-high-accuracy metrology
can be realized with a repeatability of 0.048 nmRMS and a systematic error of 0.066 nmRMS.

26 ● 放射光 Jan. 2006 Vol.19 No.1