404放射光(2000年)

第 13巻第 5 号<1研究会報告じ>

SRI2000 印象記 (X 線分野)
飯田厚夫

第 7 回放射光装置技術国際会議は，(高エネルギー加速器研究機構@物質構造科学研究所)

ドイツのベルリンにおいて 8 月 21 日から 25 日まで開催された。会場は市内
議・悌ロ相秘の交通の便の良いベルリン工科大学であった。今回はBESSY lIが運転を開始してから 2 年経ち，研究成果も出始めてきたタイミングに一致しており，実際 BESSY lI関係者の参加@発表も多く，また 2nd Circular のブ口グラ

ム編成の説明を見ても，その意気込みが感じられるもので。。。向日口出向。∞トαα4[。点。凶関年∞地内回kSM向。h。m忍虫懐gs

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日本からの参加者は約 180人(!)であった。日本の放射光フィーバーは依然として高い∞∞∞」[

よると事前登録者は 683 人，

ω内山口説ロ由トがとれていた。最終的な統計は聞いていないが，リストにgω 出向日G∞
Hの発表に関しでも，講演@ポスターを含めて十分バランス

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J[あった。とは言え，私の主たる興味分野である X 線領域

放射光装置技術国際会議参加者数の推移。データは各会議の Proceedings などから引用。

水準に有るようだ。図 1 に示すように参加者は年々増加しており，この国際会議も第 3 世代リングの稼動に伴って，(LIGA など) .品質管理· R&D に分類して紹介したが，第 2 の拡大期に到達していることが見て取れる。

全体としてはネガティブな印象を与えるものであった。日

プ口グラムは， 3 つのパラレルセッションによる講演(含む plenary， invitedtalk)と 2 日間(火，木)のポスタ

本では産業利用がもう少し広く捉えられているように思わーセッションにより行われた。講演会場の 1 つが比較的れるので，状況が異なるような気がする。 B. Sonntag(木)狭くて立ち見が多く出たこと，約440 のポスターが 2 日間は注目を集めている DESY での SASE 原理に基づくで行われたため，時間的に余裕がなかったことなどが不満

VUV-FEL 実験の結果を報告した。 100nm 領域での特性といえるが，全体としてはスペース的にも余裕があり，同評価の結果と将来展望が述べられた。次世代光源のセッシ

一のピルデ、ィングで行われたことから大きな問題は無かっョンやポスターにも関連する仕事がいくつか見られたがたと思われる。また全般的運営も，ホームページでの登録(Stanford の LCLS を含む) ，必ずしも FEL 関連の発表がから始まって発表日も事前に連絡されており，日本的細か多かった印象はなかった。しかし光学系や応用研究の発表さは無いものの，うまく運営されていた。会議の主題とはの中に XFEL に言及するものもしばしば見られ，放射光無関係であるが市内で開催されたので食事が自由にできるの将来方向のーっとして FEL は確実にインプットされつなどのメリットもあった。もっとも一部のポスターはかなつあると感じた。まだ非常に漠然としており，またある意り暗いところに配置されていたり，事前のアナウンスとは味では半信半疑の面もあるが，これまでの放射光科学の進異なった時間帯に実際は割り当てられていたなどという話

展から見ても流れを作る時期にきているようである。

も開いたのでまた別の印象を持った参加者もいたと忠われFEL のポスターを聞いて次に第 3 世代の話を開くと一瞬る。

時間が逆転したような感じがしたのは奇妙なことであっ

さて会議は 22 のセッション，約 115 の講演， 440 のポスた。最終日の J. L.Laclare (金)は主に第 3 世代りングのターで行われた。 Plenary lecture は 5 件行われた。他の各種の問題点を整理して提示した。こちらは現在進行形の方のレポートとも重援すると思われるが Plenary lecture

リングの話なので，ある意味ではわかりやすかった。 Ple­(1 日 l 件)の感想、から述べる。 J. Stohr (月)は偏光を使

naryLecture に X 線領域の話が無かったと言う声もあるった LD. MCD などの研究を紹介し，また H. Ade (火)が， X 線関係はパラレルセッションの講演にも有り，今は NEXAFS Microscopy による高分子材料の研究を紹介

回の会議の特徴が出ていたということであろう。

した。両者とも Microscopy の重要性を強調したものであ

口頭発表，ポスター発表は数が多いので印象に残ったもり，今回の会議の全体の印象を決めたとも言える Oののみを記す。第 3 世代リングの本格稼動に伴って，マCAMD の J. Hormes (水)は放射光の産業利用を製造

イクロスコピーやマイクロビームあるいはイメージングの48‑(C) 2000 The Japanese Society for Synchrotron Radiation Research

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話題が多かったのは，PlenaryLecture にも示されているとおりである。筆者の興味のある X 線マイクロビームでは ESRF ，APS , SPring8 から屈折レンズ，ゾーンプレー

その他)一部のグループは吸収補正も部分的に取り入れているので，実用化までもう一患というところである。

検出器は私の専門ではないが，第 2 世代でも第 3 i:!t代ト，集光ミラー，多層膜ミラーによる光学系についての口でも検出器の開発は，利用者にとって，今や光源以上に重頭発表があり，ポスターではこれ以外にキャピラリー，非要な面もある。いろいろの研究グループで魅力的な新しい対称反射集光，ピンホール， Bragg酬Fresnel レンズなどほ検出器が開発されている。すぐにでも試してみたいものもぼすべての集光光学系の発表があった。今回はこれまでの多くあった。商品化されているものは，誰にでもアクセスキャピラリーに変わって屈折レンズの発表が多く，この光できるメリットはあるが，一方でこれらの商品(例えば学系の開発が各国で盛んなことが見て取れた。実用的なレX 線 CCD) は高価であり，研究を進めるためには戦略もベルのものが開発されているが，熱負荷対策や集光ピーム重要な要素になってきている。の特性向上のための材料や形状の改善が検討されている。

ポスター発表の中で興味をヲ l いた他の発表も紹介するつ特に Aristov らによる Si にリソグラフィ技術で形成されもりであったが，スペースが足りなくなるので割愛する。

た kinoform 型の窟折レンズ(回折レンズ? )の写真は精

さて，印象記を書いているとやはり第 3 世代リングで密工学の実感がわくものであった。評価はこれからであろの装置開発の話題が中心であったことに改めて気づく。

う。ビームライン技術の報告の中でも集光技術は中心的なPlenary や invited talk では特にその額向が強いことはも話題のひとつであった。非球面を曲げ機構で実現する方法

ちろん，ポスター発表でもいくつかの分野で見たところ，が実績を積みつつあるのが印一象に残った。非球面ミラーそ60-80% が第 3 世代リング関係者からの発表であった。第のものを作製する(まだ難しい)より適応性が高いという3 世代リングが立ち上げからユーザー利用に移行しようとことであろうか。 A. Snigirev はコヒーレンスの観点からする時期であり，この部分が最近のこの会議の拡大傾向をマイクロビーム光学系を整理しており，彼の昔の分類法支えているものであることは明らかである。また装置技術(classical と novel) よりは納得できるものであった。という会議のタイトルからこの傾向は自然の流れであろFreund の invited talk ではマイクロビーム光学系を含う。しかし第 3 世代リングの中でも稼動から時間が経つ

む X 線光学系について広い立場での review を行った。第につれ，発表の重点は装置そのものから方法論に移行して3 世代リングの熱負荷に対する第 1 光学素子の冷却に関しくる傾向が見られるのも興味深い(例えば ESRF からのcryogeniccooling (JSR に回顧的レピューが出る発表)。一方第 2 世代リングでの装置技術の開発も第 3t世ては，ほど既に古典的? )や他の方法でほぼ対応しているが，熱代ほど華々しくは無いが着実に進んでいる。集光の re五ne­

特性の良いダイアモンド結品の開発とその評価についてのment や測定装置の改良などにその特徴が見て取れた。筆報告があった。 XFEL を視野に入れた開発のように聞こ者が PF のスタップであるためかもしれないが，ある種のえた。ポスターセッションでも各施設でのダイアモンド結パフォーマンスでは第 3 世代に引けを取らないかあるい品の評価，支持法，実際にインストールした結果などに関はシステムとしては第 3 世代を超えているものも少なくして報告があった。これも実用レベルに達している。ポスないと感じた。

ターではこの他にサジタル集光，水冷方式，傾斜型，熱負今回は利用研究の発表が非常に少なかった印象で，その荷の X 線光学的解析などの発表もありエンジニアリング

意味では装置技備に特化した会議の特徴が出ていた。放射の努力が続けられている。ミラー性能も確実に進歩してお光の本格的利用が始まった初期には利用研究と装寵技術とslopeerror で 1μrad ，ラフネススで O.lnm が得られは不可分であったが，多くの利用技術が日常的な解析手法り，ているようだ(条件は聞き漏らした)。最近開発されてイのーっとなりつつある現在では，両者は分離しつつある。

オンビームによるポリッシング技術が基板特性の向上に役私の直接関与している分野以外でどのような成果が実際に立つことが報告された。

上がっているのかは今回の会議からはよくわからなかっイメージングも一つのキーワードで，一部はマイク口ビた。 2 回前の会議では，利用研究を強調した会議になってA.Momose らの位相コントラスト
W.Leitenberger らの X 線領域いたが，そのため逆に一部に混乱が見られた。どちらの方の FT ホログ:;7フィ(まだテスト段階)がコヒーレンス利動のタイミングに依存するものである。その意味でも今回用の観点から取り上げられていた。の会議は放射光科学・技術を取り巻く状況を反映した会議

ーム技術と重なるが，法の視野の拡大の試み，トモグラフィ関係の開発も進んでおり発表も多かったが，個人的に興味の有る蛍光 X 線トモグラブィでは (N.

向に進むのかはわからないし，またこれは施設の建設@稼であったことは確かである。

Watanabe , A.Simionovici‑49‑