〈日本知財学会誌〉Vol. 17 No. 1― 2020 : 23 30-

政府統計調査の回答精度の比較分析と問題点の整理
─ 知的財産ライセンス収支項目を中心に─

大西宏一郎（早稲田大学 教育・総合科学学術院 准教授）
西村陽一郎（中央大学 商学部 准教授）
Accuracy of Government Surveys : Evidence from Patent Licensing Data
Koichiro Onishi

Associate Professor, Faculty of Education and Integrated Arts and Sciences, Waseda University

Yoichiro Nishimura

Associate Professor, Faculty of Commerce, Chuo University【要旨】 本稿では，政府統計である『知的財産活動調査』と『企業活動基本調査』の個票データを用いて，知的財産権のライセンス収入について同一企業での回答結果を比較することでアンケート調査の精度の分析を試みた．
『企業活動基本調査』は基幹統計であり，調査票回収率は非常に高いにもかかわらず，両調査で接続できたサンプルにてライセンス項目についての回答状況を比較した場合，『知的財産活動調査』の方がむしろ回答率は高いことが明らかとなった．この結果は，後者の回答が知的財産部など知的財産権の関連業務を行っている部署であるのに対して，前者は，知的財産部など知的財産権の関連業務に通じていない部署であることに起因する可能性がある．この結果は，企業の特定項目に特化した統計調査を実施することのメリットを示していると言えるであろう．
【キーワード】 知的財産活動調査

企業活動基本調査

ライセンス【Abstract】 We compare the results of the “Intellectual Property Activities Survey” and those of the “Basic Survey ofJapanese Business Structure and Activities,” which are government surveys. While the “Basic Survey of JapaneseBusiness Structure and Activities” is a main statistic, and the response rate is always very high in general, the“Intellectual Property Activities Survey” has higher response rate for the questionnaire for licensing of intellectual
property rights. This result shows that while the latter is often answered by people in IP departments the former is not.
This result also can be said to show the merit of conducting a statistical survey that specializes in specific business area.
Further, we find that the amount of licensing is small in the “Intellectual Property Activities Survey” compared with thesame licensing answered by respondents in “Basic Survey of Japanese Business Structure and Activities.”【Keywords】 Intellectual Property SurveyLicensing Patent1.

Basic Survey of Japanese Business Structure and Activities

府の統計調査の信頼性向上に向けた施策が順次実施はじめにされる．統計調査の調査手順の適切性は当然担保されるべきものである．しかしながら，手続きが適切厚生労働省での毎月勤労統計調査において，不適であれば，調査によって得られた結果が常に正しく切な調査方法が採られていたことなどから，今後政全体を反映しているとは言えないのが，アンケート

ISSN 1349-421X© 2020

IPAJ

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〈日本知財学会誌〉 Vol.17 No.1― 2020

調査の難しいところである．特に，調査全体と比較とはむしろまれであり，ある程度一致するかどうかしてごくまれにしか行われないような活動や，回答が問題となる．さらに言えば，個々の企業で差異が者側が回答しにくいような調査項目は，回答する側あっても，全体として両調査の結果で差異がなけれの回答拒否や不正確な回答などによって集計結果がば，拡大推計や政府の施策に用いる点で問題は少な

大きく歪んでしまう可能性がある．このような問題いといえる．

から，近年の経済学の実証分野では，データの精度

以下の節では，まず知的財産のラインセンス収支に問題が生じうるアンケート調査に依存するのでは項目を質問調査することの難しさと，『知的財産活なく，政府等が日々の業務で使用している行政デー動調査』での，現在までのそれに対する改善策を簡タをダイレクトに用いる分析が増加傾向にある．し単に説明する．その後に『知的財産活動調査』と『企かしながら，行政データでわかることには限界があ

業活動基本調査』でのライセンス収入金額の調査結ることを踏まえると，アンケート調査を基にした分果の比較を行い，最後に若干の結論を述べる．

析もまだその重要性は失っていない．とはいえ，アンケート調査の結果がどの程度精確なのかは検討の余地があると思われる．そこで，本稿では，政府統2. 『知的財産活動調査』でのライセンス収支の質問項目計の一般統計『知的財産活動調査』と基幹統計『企業活動基本調査』の個票データを用いて，同一企業『知的財産活動調査』では，平成 14 年度の調査開での回答結果を比較することでアンケート調査の精始以来，企業に対してライセンス収支状況に対する度の分析を試みる．比較する項目は特に回答精度が回答を求めている．特に，『知的財産活動調査』で問題となりやすい知的財産権のライセンスに関するは国内外・相手先・グループ企業内外・地域を区別回答である．

し，それぞれ四法（特許，実用新案，意匠，商標）両調査では，回答企業に対し知的財産権に関するだけではなく，著作権やノウハウのみのライセンスライセンス件数や金額を質問調査している．同じ企などを調査するなど非常に細かく質問調査している業に同じ調査項目を聞くことは重複しているので無ことが特徴である．このような試みは，企業のライ駄と言えるが，このような重複は，今回のような，センス実態を把握する上で大変貴重なデータを得る

データの回答精度をはかる上では非常に有用なもの

機会となりうるが，一方で回答する側にとってはそである．次節でも述べるが，特に知的財産権のライの分煩雑さが増し，回答率の低下を招く可能性があ

センスはもともと実施している企業が多くなく，契る．

約の実施形態も多様であることから，回答側にとっ調査側でもこの問題を把握し，現在まで細かな対ては回答しづらいため，その精度が問題となりやす処を行ってきている．回答項目の縮小・簡素化，調い調査項目であり，回答状況の現状を把握すること査票の見やすさの調整，例えば，権利別，地域別等は，精度の改善を図る上で重要と思われる．の調査項目の省略やライセンスの有・無項目をつけ

なお，精度の比較ではあるが，両者の回答が異なることで，ライセンス無し企業へのゼロ記載の負担るからと言って，どちらか，あるいは両方の回答が軽減などである．このような負担軽減策は回答結果でたらめに回答しているということに，直ちにはなの精度向上にいくらか貢献していると思われる．後らないことに注意する必要がある．なぜなら，両調に述べるように，実際ライセンス項目の回答率は査では調査項目の定義が微妙に異なるからである．

年々上昇傾向にある．

例えば『知的財産活動調査』では特許権と実用新案

しかしながら，ライセンス収支の回答には，依然権をまとめて扱っているが，『企業活動基本調査』として難しい問題が残る．第 1 に，ライセンスではでは特許権のみのライセンス金額を調査している．

契約上の守秘義務を課す場合があり，金額を答える

また調査時期が異なるために，件数や金額が異なることが難しい．本来，同じ守秘義務が課された行政可能性もありうる．したがって，完全に一致するこ上の調査であるので，企業側が本調査に回答したか

24

政府統計調査の回答精度の比較分析と問題点の整理

表 1 『知的財産活動調査』回答企業による『企業活動基本調査』の回答状況（A） 年度（B） 知的財産活動調査の回答企業数（マッチング対象企業）（C） 知的財産活動調査と企業活動基本調査（マッチした企業）

マッチ率（C/B＊100）

H155,686（社）

1,789（社）

31.5（%）

H164,269

1,721

40.3

H172,908

1,579

54.3

H183,226

1,691

52.4

H194,810

1,95740.7

H202,557

1,52559.6

H212,909

1,54353.0

H224,2141,730

41.1

H232,394

1,42459.5

H242,484

1,45558.6

H254,360

1,696

38.9

H262,482

1,48159.7

らと言ってライセンス契約上の守秘義務違反となるデータを集めることになりかねず，それを基にしたとは考えられない．しかしながら，数値を答えるの施策もまた歪んでしまう可能性がある．

は躊躇するケースが多いと考えられる．
第 2 に，標準必須特許としてパテントプールなどに一括でのライセンスを許諾している場合に，企業

3. 『知的財産活動調査』と『企業活動基本調査』の回答結果の比較

側はどの地域にどれだけライセンスされているのかを把握するのは難しい．第 3 に，ソフトウェアでのここでは特許庁実施の一般統計『知的財産活動調ライセンスでは，製品の販売・ダウンロードと一体査』と経済産業省実施の基幹統計『企業活動基本調となった許諾が通常である．このようなソフトウェ査』のライセンス項目を比較することで『知的財産ア本体と一体となったライセンスでは，ライセンス活動調査』回答精度を確認する．両方の調査を回答

インおよびアウトの面で，それぞれどのように回答している企業（アンケート全体の回収率）は表 1 のするべきなのかは，はっきりしない．そのほかにも，とおりである．表では標本の範囲が少ないと考えら『知的財産活動調査』に主要な回答部署である企業

れる『知的財産活動調査』回答企業のうちマッチン内の知的財産部が把握していない事業部ベースでのグに使った企業のうち，どの程度『企業活動基本調ライセンスもありうる．

査』に回答している企業があるかを示している．な以上のような問題があり，そもそも企業側がライ

お両者の接続方法は機械マッチング後，目視によるセンス収支全体を把握していない，あるいは調査と確認を行っている1．表ではおおむね各年の『知的してそもそもどこまで「ライセンス」というものを財産活動調査』回答企業のうち 30〜60% 弱で『企行政側が把握すべきなのか，という問題に直面する．

業活動基本調査』も回答しているようである．平成

第 1 の問題は，どのように回答を求めても，企業側

15 年，16 年，19 年，22 年，25 年は大規模調査年（特が回答できないということであり，対処のやりよう許，実用新案，意匠，商標の四法の出願合計が 5 件がないというのが現状と言えよう．このことを踏ま未満の出願人についてサンプリング調査を実施する

え，第 2，3 の問題は，そもそも政府は，ライセンス年）であり，出願件数が少ない企業でのランダムサの実態をどの程度の内容をどこまで知りたいのかとンプリングによる調査を含むため，調査回答率およいうことを再度考える必要があることを意味する．

び『企業活動基本調査』とのマッチング率が低くなっ

たとえ行政上必要なデータだとしても，企業側が把ている．本稿では，これらの両方の調査に回答した

握していない情報をアンケート調査で調べるのは限企業を用いて，その企業の国内外のライセンス収入界がある．無理に調査をすればバイアスのかかった（金額ベース）を比較する．ライセンス件数での比25

〈日本知財学会誌〉 Vol.17 No.1― 2020

図1

特許庁『知的財産活動調査』における国内ライセンス状況の回答状況

（件）
8,000

7,000

6,000回答件数

5,000

4,000

3,000

2,000

1,000

0H15H16

回収件数

図2

H17H18H19H20H21

国内ライセンスアウト件数を回答した企業数

H22H23H24H25H26 （年度）

国内ライセンスアウト金額を回答した企業数

特許庁『知的財産活動調査』における海外ライセンス状況の回答状況

（件）
8,000

7,000

6,000

5,000

回答件数

4,000

3,000

2,000

1,000

0H15H16

回収件数

H17H18H19H20H21

海外ライセンスアウト件数を回答した企業数

H22

H23H24

H25

H26 （年度）

海外ライセンスアウト金額を回答した企業数

較も考えられるが『知的財産活動調査』では特許権財産活動調査』の全回答企業が対象だからである．などの権利ベースでの調査に対し，『企業活動基本

平成 15 年度から平成 17 年度については，国内ライ調査』
は契約ベースで行っているので平仄が合わず，センスの調査項目について回答していない企業が多分析を断念した2．

かったが，平成 18 年，平成 19 年度とその状況が改比較する前に，両調査におけるライセンス項目の善され，平成 20 年度以降は，回収件数と回答件数回答企業数を見る．図 1 は『知的財産活動調査』にがほぼ同数となっている3．時間を経てライセンスおける国内ライセンス状況回答状況である．なお，項目の回答が増える傾向にあることがわかる．この回答件数が表 1 の回答件数を超えているのは『知的ような結果は前節で述べたような調査方法や調査項

26

政府統計調査の回答精度の比較分析と問題点の整理目の改善および回答側の調査に対する経験の蓄積にある．
図 4 は，『企業活動基本調査』における海 外ライよるものと思われる．
続いて『知的財産活動調査』における海外ライセ

センス状況回答状況である．海外ライセンス金額にンス状況回答状況を見たのが図 2 である．海外ライ

ついては全体の回答率と比較して回答率は 1% から

センスの調査項目についても平成 15 年度から平成7% 程度の開きがある．平成 22 年度より大幅な回

19 年度にかけて回答状況は改善している．平成 20

答数の改善が見られるが，平成 26 年度には低下し年度以降は件数も金額も調査票回収企業のほぼすべている．てが海外ライセンス調査項目に回答していることを

表 2 は『知的財産活動調査』と『企業活動基本調査』の両調査においてマッチできた企業における国示している．
次に図 3 は『企業活動基本調査』における国内ラ内ライセンス状況回答状況を示したものである．B

イセンス状況回答状況を示したものである．左軸が列には，2 つの調査でマッチできた件数（両調査に調査票の回収件数，右軸がライセンス・アウトの件回答した企業）が示されており，右列の比率は特許数と金額を回答した企業数である．グラフ上はそれ庁『知的財産活動調査』に回答した出願人のうち，ほどギャップがないように見えるが，国内ライセン何 % が経済産業省『企業活動基本調査』にも回答

スに関する回答率は 1% から 8% 程度の差はある．

したのかの比率を示している（例えば，平成 15 年

ライセンス件数については，契約件数ベースであり，度の場合，6,735 出願人から特許庁『知的財産活動

平成 15 年度から平成 18 年度まで調査していたが，調査』は回収をしているが，そのうち，企業活動基平成 19 年度より調査項目は廃止され，その後は取本調査からも回収している企業数は 1,789 企業なの引金額のみしか調査されなくなった．毎年 30,000

で，1789/6735=26.6% となっている）．これを見て社程度の企業が経済産業省『企業活動基本調査』にもわかるように，だいたい 25〜47% の調査対象者回答しているが，ライセンス取引の金額については，が経済産業省『企業活動基本調査』と重複し，その平成 21 年度まで，回答状況が思わしくなかったが，意味で両統計は半分同じ対象者をターゲットにし，平成 22 年度よりかなり改善された．しかし，平成残り半分を異なる対象者をターゲットにした調査で26 年度において低下している．この原因は不明であると言える．

図3

・・

経済産業省『企業活動基本調査』における国内ライセンス状況の回答状況（件）
31,000（社）
3000

30,000250029,000
2000

1500
27,000

回答企業数

回答件数

28,0001000
26,000500

25,00024,000

H15H16回収件数
（左軸）

H17

H18H19H20H21

国内ライセンスアウト件数を回答した企業数
（右軸）

H22

H23H24H250
H26 （年度）

国内ライセンスアウト金額を回答した企業数
（右軸）

27

〈日本知財学会誌〉 Vol.17 No.1― 2020

図4

経済産業省『企業活動基本調査』における海外ライセンス状況の回答状況（件）
35,000（社）
2500

30,0002000
25,00015,000

回答企業数

回答件数

1500

20,0001000

10,000
500
5,000

0H15

H16

回収件数
（左軸）

表2

H17H18H19

H20

H21

H22

海外ライセンスアウト件数を回答した企業数（右軸）

H23H24H250H26 （年度）

海外ライセンスアウト金額を回答した企業数（右軸）両調査においてマッチできた企業における国内ライセンス金額の回答状況（A）年度（B）2 つの調査でマッチできた件数 （C）知的財産活動調査の回答企業状況 （D）企業活動基本調査の回答企業状況（両調査回答企業）（国内ライセンス金額回答企業数）（国内ライセンス金額回答企業数）

H15

1,789（社）

26.6（%）

119（社）

184（社）

H16

1,721

32.8

285

180

H171,579

42.9

1,218

179

H18

1,691

42.0

1,350

197

H19

1,957

33.6

1,710

269

H20

1,525

46.7

1,460

263

H21

1,543

42.1

1,451

225

H22

1,730

34.3

1,591

306

H23

1,424

47.0

1,373

269

H24

1,455

46.6

1,391

271

H251,696

32.7

1,612

278

H261,481

47.0

1,336

170

総計

19,591

37.7

14,8962,791

C 列と B 列を比較した場合と，D 列と B 列を比

しくは部署は，知的財産部など知的財産権の関連業較した場合，『知的財産活動調査』に回答した企業務の詳細に通じていない担当者や部署である可能性のうち，国内ライセンス項目に回答した企業の割合を示唆する．

は非常に高い．他方，経済産業省『企業活動基本調

表 3 は両調査において名寄せできた企業における査』に回答した企業のうち，国内ライセンス項目に海外ライセンス状況回答状況である．国内ライセン回答した企業は比率としてそれほど高くない．これスと同様に，C 列と B 列を比較した場合と，D 列とは，特許庁『知的財産活動調査』に回答した担当者

B 列を比較した場合，『知的財産活動調査』に回答しもしくは部署が知的財産部など知的財産権の関連業た出願人のうち，海外ライセンス項目に回答した企務を行っている担当者や部署であるのに対して，経業は比率として多い．他方，両調査に回答している

済産業省『企業活動基本調査』に回答した担当者も企業にもかかわらず，『企業活動基本調査』での海外

28

政府統計調査の回答精度の比較分析と問題点の整理

表3

両調査において名寄せできた企業における海外ライセンス状況の回答状況（A） 年度（B） 2 つの調査で名寄せできた企業数（C） 知的財産活動調査の回答企業状況 （D） 企業活動基本調査の回答企業状況（海外ライセンス金額回答企業数）（海外ライセンス金額回答企業数）

H151,789（社）

NA

122（社）

H16

1,721

NA

126

H171,579

1,213（社）

114

H181,691

1,461

120

H191,957

NA

190

H201,525NA

190

H211,543

1,521

156

H221,730

NA

226

H231,424

1,384

199

H241,455

1,404

205

H251,696

1,656

206

H261,481

1,362

95

総計

19,591

10,0011,949

表4

両調査における国内ライセンス金額の比較（A） 年度（B）『知的財産活動調査』（C）『企業活動基本調査』（D）（B）－（C）の差分（国内ライセンス収入平均金額）（国内ライセンス収入平均金額）

H15854.9（百万円）

490.2（百万円）

364.6（百万円）

H16

582.4

623.9

－41.4

H17441.9

344.6

97.4

H18430.8

388.5

42.3

H19284.8

266.0

18.8

H20140.1

325.6－185.5

H21340.5

405.8

－65.2

H22223.5

249.3

－25.8

H23198.2

352.2－154.1*

H24131.2

204.3－73.0*

H25

133.6

200.5

－66.9*

H26293.2

364.6

－71.4

注 : * は 10% 水準で，** は 5% 水準で，*** は 1% 水準で差がある．

ライセンス項目に回答した企業は非常に少ない．

である．

2 つの統計調査に同一企業がどのように回答して最後に，海外ライセンス・アウトの金額についているのかを検証するため，両調査について国内ライ同様に対応関係のある平均値の差の検定をした結果

センス収入の金額について対応関係のある平均値のが表 5 である．結果は，国内ライセンス収入金額の差の検定をした結果が表 4 である．結果を見ると，比較とほぼ同様であり，統計的な有意に差がある年

多くの年度では，同一企業について，『知的財産活数もほぼ同様である．ただ，全体的に差が大きくな

動調査』における国内ライセンス収入の金額と『企る傾向がある．

業活動基本調査』における国内ライセンス・アウトの金額が一致している．統計的には平成 23 年〜25

4.

おわりに年のみ 10% で有意に差があるとなっているが，それ以外の年では差がないことを示している．ただし，本稿では，『知的財産活動調査』および『企業活近年では『知的財産活動調査』の回答金額が『企業動基本調査』の両調査での回答企業でのライセンス活動基本調査』より金額が低くなる傾向があるよう収入の回答結果を比較することにより，統計調査の29

〈日本知財学会誌〉 Vol.17 No.1― 2020

表5

両調査における海外ライセンス収入の比較（A） 年度（B）『知的財産活動調査』（海外ライセンス収入平均金額）（C）『企業活動基本調査』（海外ライセンス収入平均金額）（D）（B）－（C）の差分

H17469.9（百万円）

404.4（百万円）

65.5（百万円）

H18364.8

339.1

25.7

H21342.9

1,289.8－946.9*

H23470.3915.0－444.7

H24495.5

652.6－157.1**

H25670.2

854.7－184.5**H26

3,012.3

3,163.7－151.4

注：* は 10％水準で，** は 5% 水準で，*** は 1% 水準で差がある．

調査結果の回答精度を分析した．分析結果は以下のとおりである．

以上の結果を踏まえると，（1）回答拒否は『企業活動基本調査』の方が多いこと，（2）回答した企業

まず，もともと基幹統計であり，『企業活動基本で両調査を比較した場合，金額については，差は有調査』での調査票回収率は非常に高いにもかかわら意ではないケースが多いものの『知的財産活動調査』

ず，両調査で接続できたサンプルにて，ライセンスで金額は小さくなる傾向にある，という 2 点が示さ

項目についての回答状況比較した場合，『知的財産れた．以上の結果は，『知的財産活動調査』ライセ活動調査』の方が回答率は高いことが明らかとなっンス項目は，少なくとも『企業活動基本調査』よりた．この結果は，『知的財産活動調査』に回答したは精確な回答を得ている可能性を示唆していると言担当者もしくは部署が知的財産部など知的財産権のえよう．

関連業務を行っている担当者や部署であるのに対して，『企業活動基本調査』に回答した担当者もしくは部署は，知的財産部など知的財産権の関連業務の詳細に通じていない担当者や部署であることに起因する可能性がある．この結果は，企業の特定項目に特化した統計調査を実施することのメリットを示していると言えるであろう．
ライセンス収入について，平成 15 年度調査から平成 26 年度調査各年の 1 社当たり国内ライセンスについて比較を行った結果では，多くの年で統計的に有意な差は観察されず，両調査でほぼ同一の回答【謝辞】本論文は，主に平成 27 年度『我が国の知的財産制度が経済に果たす役割に関する調査報告書』第 3 部「知的財産活動調査の調査項目についての整理」（大西宏一郎・西村陽一郎）に加筆・修正したものである．本分析を行うにあたって，特許庁から有用かつ様々なデータを提供していただいた．記して感謝したい．なお，
本研究の執筆にあたり，学術研究助成基金助成金基盤研究（C）（ 課題番号 : 18K01636，研究代表者 : 大西宏一郎），科学研究費補助金基盤研究（B）（課題番号 : 19H01526，研究分担者 : 大西宏一郎，課題番号 : 20H01539
研究代表者 : 西村陽一郎，課題番号 : 17H02558，研究分担者 : 西村陽一郎）の助成を受けた．
注を得られた．国内ライセンス収入の平均値の値自体1を見ると，『知的財産活動調査』の方が 1 社当たり2のライセンス金額が小さくなる傾向があった．同一

3

年度の調査であっても回答時期が異なるので回答結果に違いがあるのはおかしなことではないが，このような持続的な差異が存在する原因について今後分析する必要があろう．
海外ライセンス金額については，国内と比べて同一企業内での回答金額の平均的な差異が大きいものの，こちらも統計的に極端に差があるとは言えないという結果を得た．
30

名寄せの問題があるので，比較にあたり『知的財産活動調査』の全回答企業データを使うことはできなかった．
特数ベースと契約ベースとの違いを含め，参考のために件数での比較を大西・西村（2016）では行っている．
平成 15 年度および平成 16 年度について国内海外金額について回答件数が非常に少ないのは，具体的な調査項目に回答する最初の段階で有無に関する質問項目が無かったためである．したがって，空欄がライセンス件数や金額がゼロを表しているのか，そうでないのか識別できていない．そこで空欄は回答拒否と扱わざるをえないため，結果として回答件数が低くなっている．

参考文献
大西宏一郎（2012）「調査精度・回答率向上のための検討」『我が国経済の新たな成長に向けた産業財産権の出願行動等に関する分析調査報告書』pp. 254-264.
大西宏一郎・西村陽一郎（2016）「知的財産活動調査の調査項目についての整理」『我が国の知的財産制度が経済に果たす役割に関する調査報告書』特許庁，pp. 199-231.