秋期資格試験受験状況
非破壊検査技術者のみなさま明けましておめでとうございます。新しい年を迎え益々ご清栄のこととお慶び申し上げます。
ＮＤＴフラッシュも開設以来 6 ヶ月が経過し，ほぼ順調に記事を提供することができ，読者各位ならびに認証広報委員のおかげと感謝しております。本年もみなさまのお役に立てる記事を目指して鋭意努力して参りたいと存じます。今後ともよろしくお願い致します。
さて，本年の最初の記事は，JIS Z 2305 による 2003 年秋期の資格認証試験に対する申請状況についてお知らせ致します。
秋期一次試験は 9 月 27,28 日の両日に実施され，11 月から 12 月に掛けて二次試験が実施されました。2003 年秋期の資格試
験は新規試験,再試験,再認証試験,通常移行試験を合わせ計 11,309 名が申請しました。これは JIS Z 2305 による資格試験を開始した春期の合計受験者数 10,742 名に比べ 567 名(5.3%)の増加となっています。表 1 に各部門別の申請者数の一覧を示します。また，表の右側には春期の受験申請者数を参考に示します。春期との比較において，一部の部門で減少しているものもありますが，ほぼ全般的に増加していると言えます。
2004 年春期試験は一次試験が 3 月 27,28 日の両日に予定されており，申し込み期間は 2 月 2 日〜13 日となっています。申込みまでに教育訓練の規定時間を満たしておく必要があるため，計画的な教育訓練を実施し，春期の試験に備えてください。
表１

2003 年秋期及び春期受験申請者数

2003年秋期受験申請者数

2003年春期

新規試験
31407
109
541082520110
209
1817161,124

一次試験
再試験 再認証試験
3021180803502000301010040180112
2

二次試験
新規
再試験
―
1―
29―
6―
3―
10―
1―0―
3―17―
0―
2―
1―
73

通常移行試験
23452
99
1861656194
318894

新規試験
15260842474817
207
80
432,405

一次試験
再試験 再認証試験
5532299178
5170137
11360134160681
32

二次試験
新規
再試験
―
8―
121―
66―
9―
89―
33―
10―
7―
343

通常移行試験
670
1,218
952
01,327
0292
125
4,584

ＲＴ3ＵＴ3ＭＴ3ＰＴ3ＥＴ3ＳＭ3レベル計

新規試験
3197
2833186213

一次試験
再試験 再認証試験
60
390501012010631

二次試験
新規
再試験
011125421221001030

通常移行
試験
2333246352
3535742

総 合 計

3,742

106,220NDT方法
ＲＴ1ＵＴ1ＵＭ1ＭＴ1ＭＹ1ＭＥ1ＭＣ1ＰＴ1ＰＤ1ＰＷ1ＥＴ1ＳＭ1レベル計
NDT方法
ＲＴ2ＵＴ2ＭＴ2ＭＹ2ＰＴ2ＰＤ2ＥＴ2ＳＭ2レベル計
NDT方法

856

35446

合計

合計

58910
222
66
239
4425122
431
21
24
43
2,205

52776
240
27219
24
1949461
1910
97
1,993

合計

合計

888
2,185
1,625
100
2,381
276
399
191
8,045

835
2,314
1,518
83
2,246
230
325
195
7,746

合計

合計

271473
105
110
58
42
1,059

244472
106
113
40
28
1,003

11,30910,742非破壊検査総合管理技術者の認証審査実施要領について
非破壊検査総合管理技術者の認証については NDIS 0602:1998「非破壊検査総合管理技術者技量認定規程」により実施されていましたが，2003 年春期より JIS Z 2305「非破壊試験―技術者の資格及び認証」規定による認証がスタートし，従来申請要件となっていた NDIS 0601 の３種資格が順次 JIS Z 2305 のレベル３資格に移行することにより，NDIS 0602の規定内容の見直しが必要となっていました。
本機関誌平成 15 年 11 月号に非破壊検査総合管理技術者の認証審査実施要領が掲載され，NDIS 0602:2003「非破壊検査総合管理技術者の認証」に改正された旨が公表されました。表１に従来との比較を含め非破壊検査総合管理技術者の認証審査実施要領について示します。
従来に比べ，受験及び再認証の申請要件がレベル３（３種）資格の保有数が２資格から４資格へと厳しくなり，また新規申請時には品質管理等に関する講習会の受講が義務付けられてはいるものの，従来実施されてきた新規及び資格継続時の試験が廃止され，申請者の負担が緩和されることになりました。
また，従来の総合管理技術者資格を現在保有している方には申請のみで，新たに平成 16 年４月１日付けで５年間有効な新資格が与えられます。この申請期間は１月 15 日から 3 月 15 日までとなる予定です。
なお，NDIS 0602 は JIS Z 2305 の上位資格ではなく，『非破壊検査技術全般について，管理者として広範囲な知識及び十分な能力を有する者』として，（社）日本非破壊検査協会が認証する資格です。
表1項

非破壊検査総合管理技術者新旧審査要領の比較

従来（NDIS 0602:1998）目

改正後（NDIS 0602:2003）

1. 規格名称

非破壊検査総合管理技術者技量認定規程

非破壊検査総合管理技術者の認証

2. 資格名称

非破壊検査総合管理技術者

非破壊検査総合管理技術者

3. 有効期間①②

５年間，再認証申請で下記要件を満足していれば更に５年間有効資格取得① RT 又は UT を含む４NDT 方法以上でレベル３資格を有していること。
② 既得者に対する措置：上記①を満足しない場合，JSNDI が行う講習会を受講し，修了試験に合格していること。ただし，この措置は１回限りとする。

4. 受験申請要件①

３年間，申請により更に３年間継続
２回目の有効期限時更新試験合格により新たに３年間の有効資格取得

全部門の２種又は３種の資格を有し，②③④項を満足すること。
② RT３種又は UT３種のいずれか一つ若しくは両者の資格を有すること。
③ MT３種，PT３種又は ET３種の一つ以上の資格を有すること。
④ 全ての資格について登録後２年以上の経験のあること。

①②③④⑤６NDT 方法でレベル２以上の資格を有していること。（PD,MY は対象外）
４NDT 方法以上でレベル３を有していること。
RT レベル３又は UT レベル３のいずれか一つ若しくは両者の資格を有していること。
①②③の各号を満たした後２年以上の経験のあること。
品質管理等に関する講習を受講し，修了試験に合格していること。

5. 新規試験①②

筆記試験（管理技術）
筆記及び口述試験①

４項受験申請要件を満足していれば新たな試験はない。

6. 更新試験①

筆記試験又は筆記・面接試験のいずれか①

４項②，③の条件を満足すれば試験はなく，申請のみにより再認証可

7. その他①２種，３種資格はレベル２，レベル３と読み替えることができる。
② NDIS 0602:1998 の資格保有者は申請により申請登録料無しで平成 16 年 4 月 1 日登録の５年間の資格を有することができる。

ＲＴレベル１二次試験の概要とポイント
2003 年春期より JIS Z 2305 による資格試験が開始さドリルによりブローホールを模擬した貫通孔がきずとして設けられた人工欠陥板が挿入され，ネジで固定されて受験者は 3 種類の厚さの試験体のれている。本誌では 7 月号より各技術部門のレベル 2 のいる。（図 1 参照）

実技試験のポイントについて順次掲載して，受験者の参

うちの 1 枚と，その試験体用の「平板試験体撮影考に供して来たが，引き続いてレベル 1 の実技試験のポ指示書」を試験委員から受取り，その内容を確認して，イントについて掲載する予定である。今回は RT のレベ

図 2 の例のように透過度計，階調計，フィルムマークを

ル 1 の実技のポイントについて紹介する。

試験体に取付ける。

NDT

なお，フィルムマークとしては試験体番号，母材の厚1.

さ及び試験部の有効長さの両端を示す矢印マーク，試験RT レベル 1 の二次試験の概要
RT レベル 1 の二次試験は，アルミニウム平板試験体委員から指示された受験番号と受験年月日を取り付ける。の撮影及び写真処理，得られた透過写真についての必要

このとき，マークはフィルムから外れないように，溶接条件の確認等の試験結果の記録ときずの像の分類である。

部から 10mm 程度離れた位置に付けることが必要であきずの像の分類については，自分で撮影した透過写真１る。

枚を JIS Z 3105 によって行う他に，配布された透過写真使用するⅩ線フィルムはフジ工業用 IX80 であるが，について，JIS Z 3104 及び JIS G 0581 によるきずの像エンベロパックという包装されたフィルムを使用する。の分類を各 2 枚づつ合計で 5 枚の透過写真について行う。

各自に 1 枚ずつ配布され，試験委員から各自に４桁の受試験時間の配分は表 1 に示すとおりである。

験番号が指示されるので，受領したフィルムに氏名と共

表１
試験項目
（１）
（２）（３）（４）にサインペンで確実に記入しておくこと。

試験項目と時間時

平板試験体の撮影
写真処理
試験結果の記録
きずの像の分類JIS Z 3105 1 枚
JIS Z 3104 2 枚
JIS G 0581 2 枚

間４５分

択を誤らないように注意する。Ⅹ線装置の照射ボックスの扉を開き，マークされた位置にフィルムを置き，一箇４５分

所をずれないようにセロファンテープでとめる。試験体をフィルムの上に正しく置き，溶接部のセンターと下のセンターを示すラインが一致していることを確認して扉を閉じる。Ⅹ線装置の制御器の管電圧のつまみを操作し

2．試験実施方法の確認
実技試験に先立ち，試験実施方法及び暗室の使用方法等について 15 分間の説明がある。
3.

実技試験

3.1

アルミニウム平板試験体の撮影

試験体は母材の厚さが，9mm，11mmて，母材の厚さに対応した指示された値に合わせる。次にタイマーを操作して，その地域の電源周波数（東日本：50Hｚ，西日本：60Hz）に対応する目盛で，露出時間をセットする。この際，管電圧が指定の値に到達するタイ及び 13mm の3 種類あり，いずれも余盛に相当する高さ 3mm の凸部が加工されている。母材に相当する板のうちの 1mm のアルミニウム板の溶接部にあたる部分に，各種の直径の図１右側の透過度計を細線が外側になるように取付けることと，階調計の D3 形と E3 形を母材の厚さによって選ムラグを考慮して，5 秒程長く時間をセットすること。
Ⅹ線照射ボタンを押して撮影を行い，露出時間が終了したら，扉を開けて試験体とフィルムを回収する。試験体から各自が取り付けた透過度計，階調計，年月日と受験

レベル１用アルミニウム平板試験体（板厚：9.0mm、11.0mm、13.0mm）

図２

透過度計、階調計、フィルムマークの配置（母材の厚さ 9mm の例）

番号のフィルムマークを取外して，試験体を試験委員にこの濃度計の取扱いに習熟しておくこと。特にゼロ点調返却する。また，撮影は 1 枚限りであるので，透過度計整に注意が必要である。さらに，階調計の部分の濃度測等の取付け，フィルム及び試験体のセット，管電圧，露定値から，濃度差及び濃度差／濃度の値を計算して記入

出時間のセットには十分注意をすることが必要である。

する。時間が限られているので，透過写真の必要な測定

3.2

箇所をしっかり把握して，迅速に且つ確実に測定し，正写真処理

撮影を終了した 2 名が一緒に暗室に入り写真処理を行うが，暗室の照明を消す前に，最初に説明された処理時しく計算できるようにしておくことが大切である。
3.4きずの像の分類

間，処理液の位置等をもう一度確認してから，セーフラ受験者自身が撮影した平板試験体の透過写真についてイトに切り変える。しばらく眼をセーフライトの明るさ行ったきずの像の分類結果を「JIS Z 3105：1993 によるに慣れさせてから，包装を指示されたとおりに破り，フきずの像の分類記録票」に記録する。

ィルムを取り出してフィルムハンガーに確実に取付ける。

鋼溶接継手については，配布された透過写真 2 枚につ白い挟み紙は，後で暗室を退室する時に忘れずに持出すいて行い，「JIS Z 3104：1995 によるきずの像の分類記こと。

録票」2 枚にそれぞれ記録する。記録票には分類の対象

各自 1 本ずつのハンガーは 2 名協力して，一緒に現像としたきずの位置を図中に書込むように指示されているタンクに入れ，タイマーを起動させる。所定の時間で現が，右端から何 mm 等の位置の記載は必要なく，どのき像，停止，定着，予備水洗，水洗促進処理，本水洗を順ずを対象としたかが分かるように記載すればよい。

次行い，水切剤処理をした後，暗室から持出して，フィさらに，今回から鋳鋼品の透過写真の 2 枚についてのルム乾燥機に入れて乾燥を行う。

きずの像の分類が課せられている。分類結果は「JIS G

3.30581：1999 によるきずの像の分類記録票」に記録する。

試験結果の記録

受験者はフィルムを乾燥機に入れたら，乾燥を待たず

JIS G 0581 は 1999 年に改正され，従来の「等級分類」に，きずの像の分類を行うための試験室に移動する。次が，「きずの像の分類」と用語が変わっているが，用語はのきずの像の分類を行っている間に，乾燥したフィルム変わっても，きずの像の分類の方法は改正前と同じと考が本人に届けられる。

えてよい。

撮影した透過写真を，濃度計と観察器を用いて，JIS Z
3105：1993

なお，これまでの二次試験では，資料の持込みが許さに規定する透過写真の必要条件の確認を行れていたが，２００３年春期から筆記用具，計算器及びう。配布された「アルミニウム平板試験体の撮影記録及「きずの像の分類用ゲージ」以外は持込み禁止となった。

び観察記録票」に試験結果を記入するが，前半の撮影記

分類作業に必要な各規格の表は，各自のテーブルにケー

録は，撮影の際に渡された指示書を見て記入するので，スに入れて配布されている。5 枚の透過写真のきずの像撮影を行った場所で忘れずに記入しておくこと。必要条の分類と必要条件の確認を 45 分の試験時間で行うので，件の規定値も記入しておくとよい。 後半の観察記録は，各規格についての分類方法について十分に習熟しておく届けられた透過写真を観察して，透過度計の識別結果，ことが必要である。

濃度測定の結果得られた試験部の写真濃度の最高値と最本記事は２００３年春期の二次試験についての解説で低値及び階調計の各部分の濃度を記入する。濃度測定にある。試験時間及び内容等については今後多少変更するはコニカ

PDA−85 形デジタル濃度計を使用するので，場合もあるので留意されたい。