NDT フラッシュ Vol.68,No.10 1/4

ＵＴ実技試験 R タイプ探傷器のソフトウェア変更概要
現在 UT の実技試験には，R タイプ探傷器と G タイプ探傷器の 2 種類が使用されている。このうち R タイプ探傷器の旧ソフトウェアでは，DAC を作成するとき，対比きずからのエコー高さの頂点にポイントマークを矢印キーを使い手動で移動して作成していたが，この方式であると必ずしも最大エコーを表示しなくとも DAC が作成できる。新ソフトウェアでは，必ず対比きずからの最大エコー高さを表示して DAC が作成できるよう，ゲート中の最大エコー高さの点に自動的にプロットするようにソフトウェアを変更した。これに伴い関連する部分や，改善のためにその他の部分についても一部ソフトウェアの変更を行ったので，概要について紹介する。なお，このソフトウェア変更については
JSNDI ホームページの資格試験欄の 2019 年 3 月 25 日公表，
「JSNDI 仕様デジタル超音波探傷器について－R タイプのソフトウェア改修に関する公表」で発表されているので合わせて参考にしていただきたい。
表1

R タイプ探傷器のソフトウェア変更内容（従来ソフトウェアとの対比）

No.
1

項目

修正後

立上げ時の修正前
（新）

ゲインキー

ゲ イ ンを押した状

キ ー を態での画面押 し た表示状 態 での画面

・ファンクションの構成が F1: 0.1dB,

・従来の構成は F1: 0.1dB,

F2: 0.5dB, F3: 2.0dB, F4: 6.0dB,

F2: 2.0dB, F3: 6.0dB, F4: 0.5dB,

F5: ゲイン表示

F5: AGC 80%

ゲイン／相対・ゲイン値の初期値が 0.5dB となった。

・ゲイン値の初期値は 2.0dB であった。

・F5 の機能を AGC80%からゲイン値の表
示を絶対値か基準値に対する相対表示かの選択キーとした。
2ゼロ点調整（新）キー押し時

ゼ ロ 点の校正値の調 整 キ

初期値を変ー を 押

更し た 状態 で の画面・ゼロ点調整における 2 点調整の3斜角条件の入力要領

・従来のゼロ点調整における 2 点調整の校校正値の初期値を校正値 1: 25mm，正値の初期値は校正値 1: 100mm，校正値 2: 50mm に変更した。

校正値 2: 100mm であった。

・斜角条件キーを押すと F1: DAC 線オン／オ・斜角条件キーを押すと F1: DAC 線オン／フ，F2: DAC 線条件，F3: 屈折角，F4: 板オフ，F2: DAC 線条件，F3:斜角条件，厚，F5: 基準感度が表示されここで F3 を押F4: 基準感度が表示され，更に F3 キーをすと屈折角の入力，F4 を押すと板厚の入力

押して屈折角，板厚，入射点を入力してができる。

いた。

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4項目

修正後

修正前

DAC（エコー（新）

高さ区分線）

DAC

作成機能のキーを変更

押した状態での画面・DAC キーを押すと DAC 作成の画面が表示さ（（旧）DAC キーを押した状態での画面）

れ F1: 作成キーを押すと DAC 作成機能が作・従来は DAC 作成キーを押すと×マークが現れるので探傷画面に表示した最大動する。
（新）RB41A,
DAC

エコーのピーク位置へ矢印キーを用いて×マークを移動し，ピーク位置に設定できたら確定キーを押すことでエコー高さ区分線が作成できた。

作成中の画面・エコー高さが 100%を超えた場合，画面左上に「＞100」が表示されエコーが確定できな
い。
・DAC 作成画面のとき左右の矢印キーでゲートの起点位置を変更できる。

（（旧）RB-41A,DAC 作成中の画面）

・DAC 作成画面のときゲート 1 内のエコーの・従来あった F3: カーソル 高速／標準

ピーク位置に自動的に×マークが表示されるキーは変更され新しいソフトでは F3:ので「確定」キーを押してエコー高さ区分線ゲート条件／起点キーに変更となってを作成する。（エコー高さがゲート 1 の高さいる。

を超え 100%未満のとき）・ゲート条件／起点の F3 キーを押すと更にF1: ゲート起点，F2: ゲート幅，F3: ゲート
高さキーが表示されそれぞれ矢印キーを用いて変更することができる。
・DAC 作成画面で，「終了」キーを押すと完了し，基準感度のゲインの値になる。
5

DAC 修正＊・DAC 修正の必要が生じた場合 DAC キーを押・従来の DAC キーでは F1: 作成，F2: 補した後前記 No.3 の初期画面から F2: 修正キ正，F3: 削除 であったが，新しいソフーを押して修正画面に入る。修正は作成時とトでは「補正」は「修正」と表現を改同様修正箇所にゲートを移動し，必要なエコめた。

ーの最大エコー高さを求め「確定」キーを押すと自動的に修正される。
注：＊）ゲートの掛け方に慣れが必要であり，うまく行かないときは，削除後，再作成した方が早い場合もある。

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ＥＴレベル 13/4

一次一般・専門試験のポイント

導体の抵抗は，導体の形状と物質固有の性質によって決まり，次式で示される。

JIS Z 2305：2013 非破壊試験－技術者の資格及び認証

𝑅=𝜌－に基づく ET レベル 1 の新規一次試験は主に参考書でｌＳある『渦電流探傷試験Ⅰ』から出題される。試験の結果

ここで，ρ は抵抗率（Ωm）であって，これが物質固有を見ると受験者の理解不足や誤解によると思われる正答の値を有している。l は長さ（m），S は断面積（m2）で率の低い問題が見受けられる。本稿では，最近行われたあり，抵抗は導体の断面積に反比例し，長さに比例する。

試験のうち正答率の低かった問題に類似した例題によりこの問題では，長さが等しく断面積が 1/4 となり，抵解答のポイントを解説する。

抗は 4 倍となり，3 Ωとなる。したがって，正答は（ｃ）となる。

一般試験
問 1

次の文は，非磁性導体の電磁誘導現象について述問 3

つぎの文は，対比試験片への人工きずの加工に放べたものである。正しいものを一つ選び記号で答えよ。

電加工が用いられる理由を述べたものである。正しいも（ａ）コイルに時間的に変化する磁束を作用させると，のを一つ選び記号で答えよ。

その磁束の変化を大きくする向きの磁束が発生す（ａ）設計通りのきず深さの加工ができる。

るように，コイルに起電力が発生する。

（ｂ）加工時に残留応力が残らない。

（ｂ）導体に時間的に変化する磁束を作用させると，そ（ｃ）内部きずの加工が可能である。の磁束の変化を大きくする向きの磁束が発生する（ｄ）電極の消耗が生じない。

ように，導体に渦電流が発生する。
（ｃ）導体に永久磁石を近づけると，導体には磁石を押し戻す方向の力が働くように渦電流が流れる。

正答（ｂ）
人工きずの加工には，機械加工，放電加工，腐食によ（ｄ）導体表面に平行に永久磁石を移動させると，導体る方法などがあるが，いずれにせよ，表面きずのみであには渦電流が誘導され，永久磁石の動きと逆方向り内部きずの加工はできないので，（ｃ）は不正解である。の力が働く。

対比試験片の材料によっては，加工による材質変化，残留応力，加工ひずみなどを起こし，電磁気的な性質が変

正答（ｃ）
コイルに交流電流を流すと，交流磁力線が発生する。

化して渦電流探傷試験の信号が変化するものもあるので，注意する必要がある。

そのコイルに非磁性導体を挿入すると，その磁束の変化

放電加工は，加工によるバリが出ず，材質変化や残留を妨げる向きの磁束が発生するように，導体に渦電流が応力等の原因にもならないので最も望ましい方法である。

発生する。（ａ）と（ｂ）は不正解である。

放電加工を採用する場合は，試験片の材質に対して電極非磁性導体も表面に平行に永久磁石を移動させると，導体には渦電流が誘導され磁石と同方向の力が働き，（ｄ）の材質を選択し，電極消耗の少ないものを選ぶ必要があり，（ｄ）は不正解である。

は不正解である。非磁性導体に永久磁石を近づけると，いかなる加工方法によっても，設計通りにはならない

導体には磁石を押し戻す方向の力が働くように渦電流がので，加工後にきずの形状を計測する必要があり，（ａ）流れる。したがって，正答は（ｃ）となる。

は不正解である。正答は（ｂ）である。

問2

線径φ0.2 mm で長さが 1 m のコイル巻線の銅線の問 4次の文は，渦電流探傷試験においてフィルタの設直流抵抗が 0.75 Ω であった。長さはそのままで線径が定値を変更する必要がある場合について述べたものであ

φ0.1 mm となると，抵抗はいくらとなるか。次の中からる。正しいものを一つ選び記号で答えよ。

正しいものを一つ選び記号で答えよ。

（ａ）試験周波数を変更したとき。

（ａ）0.75 Ω （ｂ）1.5 Ω （ｃ）3 Ω （ｄ）6 Ω（ｂ）感度を変更したとき。
（ｃ）位相を変更したとき。

正答（ｃ）（ｄ）探傷速度を変更したとき。

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4/4

正答（ｄ）

専門試験

例えば，鋼管の製造工程において貫通プローブによる

問 6

次の文は，航空機機体構造物のリベット周囲の渦渦電流探傷試験を行う場合には，試験体の搬送に伴うガ電流探傷試験について述べたものである。正しいものを

タ雑音は同期検波の機能によって軽減することが可能で一つ選び記号で答えよ。

ある。しかし，渦電流探傷試験ではガタ以外の雑音の原（ａ）一般に自己誘導形差動方式の上置プローブを用いる。

因がいくつも存在する。設置場所の電源の環境が悪い場合，電気ノイズが混入することがある。電気ノイズはき（ｂ）磁気シールド付き上置プローブを用いることで，表面粗さの影響を軽減する。

ず信号に比べて周波数が高い。一方，温度変化や試験体の曲がりなどの緩やかな変化も信号の変動を起こす。こ（ｃ）リベット頭周囲の走査が安定して行えるようにテンプレートを使用する。の場合は，きず信号よりも雑音周波数は低い。これらの雑音を取り除くために，探傷器にはフィルタが組み込ま（ｄ）対比試験片にはリベット周囲に発生するきずを模擬した腐食きずを加工する。

れている。
きず信号の周波数は，検出コイルをきずが通過する時間によって決まり，探傷速度が上がれば，通過時間は短正答（ｃ）くなり周波数は高くなる。逆に，探傷速度が下がれば，航空機機体構造物のリベット周囲の渦電流探傷試験通過時間は長くなり周波数は下がる。探傷速度を変更しは，航空機が離発着を繰り返すことに起因して発生したたときは，フィルタの遮断周波数（設定値）を変える必

疲労きずを検査するもので，対比試験片に加工されるき要がある。したがって，正答は（ｄ）となる。

ずは放電加工（EDM）によるノッチきずであり,（ｄ）は不正解である。検査の方法として，そのほとんどは，

問5

図の 4 つの正弦波交流のうち原点から位相が最も上置プローブを手動走査して行われるため，探傷速度や遅れているのはどれか。正しいものを一つ選び記号で答

プローブの向きが定まらず，差動方式のコイルではなえよ。

く，単一方式のコイルが用いられ（ａ）は不正解である。

E2V

検査には，磁気シールド付き上置プローブが用いられE3ている。磁気シールドは検出コイルの回りに高透磁率のE4材料を施し，検査部位と検出コイルの距離の変化や，プ0ローブの傾きから生じるリフトオフ信号と端末効果を抑T/2T

時間 t制したり，きず検出感度を高める効果がある。しかしながら，試験体の表面粗さの影響は軽減することはできな

E1いので，（ｂ）は不正解である。
リベット頭周囲の走査が安定して行えるように，位置（ａ）E1（ｂ）E2（ｃ）E3（ｄ）E4決めのためにテンプレートによるプローブガイドが用いられている。正答は（ｃ）である。

正答（ｄ）
周期的に極性が変化する信号を交流というが，図は正レベル 1 の一次試験には，重要と思われる問題は繰り

弦波交流電圧を時間軸（フェーザ）で表示したものであ返し出題される傾向があり，受験者は本稿に限らず過去

り，四つの信号は周期が等しいために同一周波数であり，の NDT フラッシュを必ず精読しておく必要がある。

振幅が異なることから電圧が異なっている。信号の位相は，時間軸の原点 0 を基準に信号の極性が反転する点が左側になるほど位相が進み，逆に，信号の極性が反転する点が右側になるほど位相が遅れていることを示している。したがって，正答は（ｄ）となる。