【成果占有型】課題申請書

理研 RIBF 施設共用促進事業(空気中照射 E5A コース専用)

提出：202 年
月日
2022.04 版：「緑字」が前版から書式を変更した主な箇所です。提出時は黒字に変更して下さい
申請書の記入に際しては、本様式最後にある「記入要領」もご覧ください。この文書は有償課題の審査目的にのみ使用します。但し【公】公開項目 は、施設利用の手続書類に記載される項目です。 この他の項目は守秘対象です。
※「赤字、ピンク字」の部分は、記入例です。適宜削除 or 引用して「黒字」に変更 して下さい。

１．申請課題の基本情報
１.１ 実験代表者、経理責任者、連絡責任者
社名

詳細→「記入要領」参照
社名略称(任意記入)

住所

〒

-

〇〇県

参照 Home Page

https://

実験代表者

氏名

特に新規申請の場合必要。審査委員が貴社の概要を確認させて頂きます。
Email

Tel

所属部署

職名

経理責任者

Email

Tel

所属部署

職名

連絡責任者

Email

所属部署

Tel

各責任を果たせるならば、上記３名共に同一人物でも構いません。

職名※上記載情報は、5.3 項 の書類に記載され送付先となりますので 正確に記入して下さい。

１.２ 実験課題名(審査用)
申請内容がわかる様に書いて下さい。
例）～～に使用する～～部品の～～の試験・評価・検査 －(X02)

末尾の小番（X02）等は、同社からの継続利用回数を区別する為に事務局側で指定させて頂きます。
実験課題名(書類用)【公】
施設利用の手続書類に使用します。一般的な課題名称を使って下さい。
例）～～の～～試験・評価・検査 –(X02) （審査用と同じでもかまいません）

１．３

利用ビーム、利用時間 【公】
ビーム核種はメニュー選択。詳細→「記入要領」参照

半導体照射用ビームを利用の場合

ビーム核種, エネルギー[MeV/u], 加速器構成
40Ar, 95, AVF+RRC

利用希望 スロット数 (スロット内の予定照射時間 hr)
１回目
２回目
３回目
４回目
合計 slt1slt(10)2slt(20)
3slt

84Kr, 70, AVF+RRC
136Xe,10.75, RILAC2+RRC

1slt(10)1slt(10)2slt(21)
利用方法に制限あり。詳細→「記入要領」参照

生物照射用ビームを利用の場合

12C,135, AVF+RRC
20Ne,135, AVF+RRC

2slt
2slt

短 slt(4)長 slt(12)短 slt(4)

短 1,長 1
短1

※この他、3.2 項 に 詳しくビーム条件 を、3.4 項 に 上記利用時間の積算根拠 を記入して下さい。

１.４

実験参加予定者(上記 1.1 以外)

現時点での参加予定者。利用実施の約１か月前まで修正・追加が可能。

氏名

事務局記入欄所属

受付日：202*.**/**

採択課題番号：IC-**-** (*00) 利用 **回目

-1-

職名

２．申請課題の内容
２.１

施設利用の目的・経緯（１）申請課題の目的,産業上の意義・重要性について、専門外の人にもわかるようにご記入ください。
（２）本施設を用いる必要性、選択された経緯について、他の施設と比べて記述下さい。
以上２項目は、産業課題採択委員会が精査しますので、詳しく記述してください。

（１）目的・意義・重要性

ご作文下さい。特に、産業上の意義・重要性について、専門外の人にもわかるようにご記入ください。
毎回ご利用される場合、意義・重要性については前回の申請書と同じでもかまいませんが、今回の照射目的については前回との違いが分かるように記述してください。
例）前回は○○素子を試験した。今回は、2.2 項に述べる○○素子の○○特性について試験する。

（２）本施設の必要性・選択の経緯

ご作文下さい。特に、本施設を用いる必要性、本施設を選択された経緯について、
例えば、今までに利用された他の照射施設と比べ、本施設に期待している点などを記述下さい。
以上２項目は、産業課題採択委員会が精査しますので、詳しく記述してください。

２.２

成果の利用目的

本課題の実施・成果の利用目的が、軍事目的でなく平和目的である事を確認するための質問です。
本施設共用促進事業は、科学技術基本法や社会通念等に照らして、その利用を平和目的に限定しております。

Q. 本課題の実施・成果の利用目的は、☐ 軍事目的で無い ☐ 軍事目的を含む  どちらかを宣言して下さい。

-2-２.３ 実施計画（１）照射物
照射物が産業利用目的であることを審査できるよう、なるべく詳しく記述下さい。秘匿情報として、課題審査の目的にのみ使用します。試料通番を振り、4.1 項 と対応付けて記入して下さい。
・デバイス名称は、正式型番でなく社内の略式名称でも結構です。
・自社開発部品 or 民生品 かについて参考のため教えてください。
・今回の申請は、新規試験 or 前回からの継続試験 かどうかを確認させてください。
・そのデバイスの一般的な用途を、参考のため教えてください。

例) 試料 1: デバイス名称(開発品 or 民生品,その他： )、(新規試験 or 継続試験)、
主な用途
試料 2: デバイス名称(開発品 or 民生品,その他： )、(新規試験 or 継続試験)、
主な用途

照射物については、産業利用目的であることを審査できるよう、なるべく詳しく記述下さい。
例）試料 1: ASIC-1 (開発品)、(X01 課題の継続試験)
データ処理用 ASIC
例）試料 2: XY-123 (民生品)、(新規試験) 光学センサー（２）測定方法
どの様な照射条件を変えながら何をどのように測定するかを、分野外の人にも分かるように記述して下さい。

例）試料にビームを照射しながら○○エラー発生の頻度をリアルタイムで計測する。
例）ビームフラックス強度や、LET 値を○～○の範囲で変化させ、その頻度変化を計測する。
例）ビームエネルギーの測定には、自社で用意する○○検出器を用いる。

（３）利用時間の算出根拠、利用希望時期、準備状況
1.3 項「利用ビーム、利用時間」の算出根拠、及びその利用希望時期、準備状況を 例)に従って記述して下さい。
準備状況には、利用希望時期に間に合わない事が予想される場合、その理由、及び対処について記述下さい。

例）● 照射１回目： Kr ビーム 24 時間 ： 2022 年 11 月頃を希望
試料 1： サンプル数 １個 ＝ 6 時間 (予備サンプル１個も用意しておきます)
試料 2： サンプル数 ２個 ＝ 18 時間
準備状況： 照射サンプルは用意済みだが、照射用基板を検討中。利用希望時期までに間に合う予定。
→ 試験途中で試料が完全に故障する可能性もありますので、必ず予備サンプルもご用意下さい。

利用者の都合で、予定時間より早く終了しても、ビームタイム日程表の予定時間で課金されます。
利用時間の算出は、過不足無く余裕を考慮して正確に策定して下さい。
例）● 照射２回目： Ar ビーム 12 時間
2023 年 1 月頃を希望
試料 2： サンプル数 ２個 ＝ 12 時間※ 但し、照射１回目の Kr ビーム試験の結果によっては、Ar を Kr に変更する可能性有り。
※→ ビーム核種やエネルギーの変更は、その期(上期、下期)のビームタイム日程が決定する前まで

なら変更可能です。予め当チームにご相談ください。ビームタイム日程が決定後には変更不可です。
例）● 照射３回目： Kr ビーム 12 時間
2023 年 4 月 以降を希望(23.10 頃を想定)
試料 1： サンプル数 １個 ＝ 12 時間 (試料 1 の別品種について試験する)
準備状況： 2021 年度末までに試験を完了させる必要がある。
先ず Kr ビームで高 LET の試験を行い、その結果を見て Ar ビーム照射も必要かを判断したい。
但し、素子開発計画が困難となった場合は、2021 年夏頃までに判断し、キャンセル、若しくは利用目的が同じ別の素子に変更する可能性あり。
その場合は、課題採択委員会へ事情と変更照射物について詳しく報告し判断を仰ぐ。
-3-

→ キャンセルには、別途手続きが必要です。当チームへご相談ください。
例）・その他、相談事項 ☒ あり( なるべく昼間スタートにして欲しい )→ う～む、このご希望には必ずしも対応できませんのでご了承下さい。

昼 / 夜 どちらのスロットになるかは、ビームタイム日程策定上の都合で決まりますので予めご了承ください。初めての利用者は、なるべく昼スロットになるように配慮します。
《重要》●【サンプル交換】課金時間には、サンプル交換などでビームを停止している時間も含まれます。
・1F 控室(測定室)から地下管理区域内の E5 照射室まで入退出するだけで、約 10 分必要です。
・頻繁に照射室へ入退出する場合は、J7 準備室の利用も可能です(3.1(6)項 参照)。
・入退室せずに遠隔操作で行える事柄は、 ビーム ON/OFF、LET(Edeg 厚さ)変更、フラックス量の変更、照射角度の変更(回転ステージ使用時)、照射位置の変更(XY スライダー使用時) などです。
●【ビーム核種の変更】
・ビーム核種の変更には、加速器調整に１～２日程必要なので、２回に分けた照射となります。
・同時期に同じビーム核種で複数の利用希望がある場合は、複数グループ連続利用をお願いする事があります。

３．照射計画
３.１ 照射セットアップ （半導体照射試験 E5A コース専用）（１）照射物・測定器のレイアウト→ 当チーム HP：照射環境 に、写真・図面付きで詳しく説明してあります。

https://ribf.riken.jp/sisetu-kyoyo/HIbeam/beam_line.html
標準的なレイアウトを以下に示します。これと異なる場合は、適宜ポンチ絵等を用いて詳しく記述してください。
ここでの記述がそのまま安全審査の対象となります。特にビームが照射物される可能性がある物品は全て必ず記述
してください。記述以外の物品にビームが照射されることは許されません。記入漏れや追加物品があった場合、変更申請・再審査が必要です。安全審査が完了しないと照射実施が許可されませんので注意してください。

☒ 自前のビーム検出器にも照射したい（検出器 1: 何ですか？
） 4.1 項 と対応付けて記入して下さい。
例）（検出器 1: エネルギー測定用の半導体検出器(Si 5mm 厚) 別途エネルギー較正済み ）例）（検出器 2: 照射線量計；感光フィルム ）☒ その他ビームが照射される追加物品あり
（他１：
何ですか？
) 4.1 項 と対応付けて記入して下さい。
例）（他１： 試料の昇温用ヒーター；試料裏面に貼る） 当チームで飛程を検討してみます。
例）（他 2： 穴あき鉛板；試料表面に貼る） Pb など重金属は放射化するので使わないで下さい！
常設の Al 製ビームコリメータを利用して下さい。
【目的】 試料に１次ビームを照射し、オンラインで耐性試験を行う。
【手段】 大面積で一様分布なビームを作り、空気中で減速し LET(dE/dX)を調整後、ビームの質を分析してから、照射試験を行う。
照射試験中のビーム量は最大 数 M cps 程度。
1 次ビームの Al 中での飛程は、C ビームで約 20mm、Ar で約 3.2mm、Kr で約 0.9mm。

【詳細】
・ビーム通し時：ビームサイズを ZnS で確認する。ビームストッパーでビームを停止させる。
・ビーム調整(1)：Al 減衰板を組合せビームエネルギーを調整する。SSD 検出器と電離箱 2 で、ビームエネルギーと飛程を測定する。

-4-

・ビーム調整(2)：必要に応じて次の測定も行う。
線量分布測定用フィルム(Gaf フィルム)測定：1 分間程照射して感光させビームスポットの一様性を確認する。
積層板(厚さは飛程以上)測定：10 分間程照射した後、Ge 検出器でγ線を測定しビーム混入核種を同定する。
この時、半減期が 1day 以上の核種は数 10 Bq 程度である。
・照射試験中：電離箱 1 と Plastic(PL)シンチで、ビーム個数を常時計測する。Al 減衰板を組合せ、
ビームエネルギーを調整する。照射試料直前にビームコリメータを置き、無駄な放射化を低減させる。
試験中の Beam ON/OFF には、厚い Aｌ減衰板を用いる。

→ 上述と同じ条件で利用する場合は、この欄に「照射物の説明図」と「説明文」を残して下さい。
これと異なる場合は、説明図を適宜修正加筆の上、説明文に変更点を記述 して下さい。
（２）照射架台と周辺のレイアウト
標準的なレイアウトを左図に示します。
これと大きく異なる場合は、適宜ポンチ絵等を用いて詳しく記述してください。

☒ 要相談例）(ビーム通過物を極力減らしたい。省略可能な検出器は何か？空気中の距離を短くできるか？)→ 当チームと相談しましょう。

（３）共通備品の利用→ 当チーム HP：技術情報(1)：照射室インフラ 等 に、詳しく説明してあります。

https://ribf.riken.jp/sisetu-kyoyo/HIbeam/tech_info1.html
以下の共通備品があります。利用希望があれば☒にしてください。

【 照射架台周辺 】☒ 補助架台上記 User 用架台では計測機器を置く場所が足らなそうな場合→ □60x60cm x User 用架台とほぼ同じ高さ の架台があります。
☐ 作業テーブル パソコン用テーブルなど☐ 必要スペース（サイズ 〇 x 〇 x H〇 cm）特に大型の装置を持ち込む場合→ User 用架台周囲の余裕スペースは、1m 程度です。予め見学して確認して下さい。
☒ TV カメラ (２台) max.4 台 所内 LAN 経由ブラウザー表示→ 常設 CCD カメラが４台あり、見る位置は自由に変えて下さって結構です。
☐ その他（希望：）【 1F 控室までの通信 】専用線経由☐ Closed LAN→ 所内 LAN とは別に照射室～測定室間に Cat6 ケーブルを張ってあります。

その両端は 1 Giga-Hub のみで、ルーターが無いので、自由に IP_address を決めてください。
予め自社で同じ環境を作り、接続テストをしておいてください。照射中は、利用者が占有できます
が、他グループが照射準備中の場合は、そのグループが優先になります。
☒ BNC 信号線 max.6 本→ 50Ω BNC です。距離が 150m 程と長いので、高周波成分を含む信号はナマります。

なるべく照射室で信号処理をして、Closed LAN 経由でリモート制御する事をオススメします。
☐ その他（希望：）-5-【 リモート制御 】所内 LAN 経由☐ LED ライト ON/OFF max.2ch☐ AC 100V ON/OFF max.2ch☐ オシロスコープ
入力 4ch☐ RS232c,485/EtherNet 変換 max.4ch→ 以上の常設機材は、所内 LAN 接続です。その為の note-PC は、当チームからお貸しします。

注）所内 LAN に、利用者の PC 当を接続する場合には、当チーム宛てに誓約書の提出が必要です。
尚、1F 控室(計測室)では、所内 LAN とは別に、ゲスト用 WiFi が使えます。
☐ その他（希望：）【 電源 】☒ AC 100V 安定化電源（ 10 A 程度 ） 10A 以上は要相談☒ AC 200V 分電盤より（ ３相交流で 5A 程度 ） 2 相 15A 以外は要相談→ 特殊な場合、分電盤からの接続は当チームが行いますのでご相談ください。
☐ その他（希望：）（４）照射試料基板の取付け等→ 当チーム HP：技術情報(1)：照射物の取付け 等 に、詳しく説明してあります。

https://ribf.riken.jp/sisetu-kyoyo/HIbeam/tech_info1.html【 照射試料・照射基板について 】
レイアウトやビームサイズに問題が無いかを確認する為に「おおよそのサイズ」を記述して下さい。
4.1 項 と対応付けて記入して下さい。

試料 1: ☐ サイズは調査中 → 次へ
・照射試料(デバイスチップ部等)のサイズ 約〇x〇mm 厚さ〇mm
・試料基板のサイズ
約〇x〇cm 厚さ〇cm
例）・ダイサイズ 約 20x20mm 厚さ 5mm
例）・試料基板のサイズ 約 20x30cm 一番厚い所で 1cm
試料 2:☒ サイズは調査中 （分かり次第連絡して相談します）

照射試料デバイスを配置した照射基板は、十字架形状の専用架台に縦置きに固定します。
A4 サイズ程度の基板ならば、容易にネジで固定できます。

例）
・必要な十字架架台の数： ２個 (試料基板ごとに用意しておきたいので)⚫ 取付け上の相談事項 ☐ あり( 重量、形状、絶縁、振動など？ )【 照射ビームサイズ 】
最大直径は C～Kr でΦ5cm、Xe でΦ4cm です。ビームコリメータを使用して無駄な放射化を低減してください⚫ 必要最大ビームサイズ
約 〇 x 〇 mm
 Edeg 出口コリメータで絞ります⚫ 照射試料上のビームサイズ
約 〇 x 〇 mm
 試料直前コリメータで絞れます⚫ 照射試料の周囲に、特に放射線に弱い部品がありますか？ ☐ 有り
☐ その他要相談 ()
【 照射基板の取付： 移動・回転・温調 】
以下の共通備品で利用希望があれば ☒ にしてください。

☐ X 方向(水平)スライダー（X 範囲：±○cm） max X±15cm
例）☒ XY 方向(水平・垂直)スライダー （X±5cm、Y±2cm:試料 1 の基板用） max X±15,Y±10cm
例）☒ 回転ステージ（照射角度範囲： 0:垂直～60 度：試料 2 の基板用）
max ±90 度※回転の場合、X,Y スライドとは同時利用できません。

☐ 検出器等の Z 方向(ビーム方向)スライダー（目的は？ ）(Z±〇cm) max Z±15cm
例）☒ 温度調整を行う
温度範囲（室温～100℃）を試料 1 で予定☒ 温調器を借りたい
ヒーターは持参してください。
☒ 空冷ファンを借りたい-6-

→ 試料動作中の発熱に対しても温度制御可能か？ 温度が安定するまでの時間は？

等については、現場で予めテストしておいてください。
（５）ビームモニター関連
照射中のビームモニター情報は、オンライン又はデータファイルで提供します( 3.2(4)項 参照)。
その他に、貴社の測定装置側で必要な信号などがありますか？

例）☒ ビームフラックス・パルス信号 PL シンチレーターのパルス信号→ NIM or TTL レベルのパルス信号が照射室で提供可能。

MHz 程度まで計測可能な高速カウンターを用意して下さい。
例）☒ ビームシャッター開閉信号
Edeg シャッターの open/close 信号→ ON/OFF =０/24V レベル信号が照射室で提供可能。
☐ その他要相談 ()（６）その他 セットアップ上の要望など
上述の他に、要望や注意点があれば ☒ にしてください。

☒ 照射室の照明を暗くする必要あり→ 照射室退出時に暗くしておき、(3)の LED ライトを遠隔操作で ON/OFF 可能。
☒ 照射室以外の場所に、作業スペースが必要（オフラインで照射デバイスの動作試験用。
作業机 70x120cm 程度ｘ１脚が必要）→ J8 準備室(管理区域内)が使えます。尚、照射物を照射室以外に運ぶ際には、飛散汚染しない様にトレーなどに入れてください。
☒ 頻繁に試料交換するので、照射室近傍に計測室が必要 J7 準備室が利用可能です→ E5 照射室入口付近の J7 準備室(管理区域内)が使えます。Closed-LAN も使えます。
例) ☒ その他要相談 ( 放射線に弱い測定機器がある。設置場所を検討したい。 )→ ビームライン近傍から離して設置できるか、実際の物を見て検討しましょう。
例) ☒ その他要相談 ( 電気配線工具などを借用したい )→ 管理区域内の J8 準備室に、工具、ネジ、簡単な電気部品などがあります。

また、照射室にも作業机や工具、文房具がありますのでお使いください。

３.２ 必要なビーム条件 （半導体照射試験 E5A コース専用）(1) LET 値設定について
LET 範囲、Si 材相当 Range については、下記 HP を参照ください。
https://ribf.riken.jp/sisetu-kyoyo/HIbeam/beam_line.html
但しその正確な範囲は、照射デバイスの厚さや照射セットアップ(空気などビーム通過物の厚さ)で決まるので、
SRIM コードなどで計算しておく必要があります。

☐ LET 値及びビームエネルギーの決定は、利用者側で行う。
→ (2)へ。当チームは、照射試料表面位置で指定エネルギー値に近傍になる Edeg 厚さ設定値を提供します。

☒ LET 値の設定、計算について相談したい。
→ 当チームでも SRIM 計算を行ってみますので、以下の質問にもご回答ください。

1.1 デバイス感応層位置で希望する LET 値範囲は？
例）☒ Ar ビーム：LET = 5 ～max 値 18 まで [MeV/(mg/cm2)]、
Kr ビーム：LET = なるべく小さく～max 値 40 まで
例）☒ 設定可能な範囲を教えて欲しい→ LET 値相談希望の場合は、下記の厚さ情報も教えてください。
1.2 デバイスの厚さ方向の情報を記述してください。
☐ 厚さ情報が不明(調査中)-7-

例）☒ デバイス表面にモールド材等がある。
・エポキシ材：100 µm, アルミパッケージ層：50 µm
・ 感応層の材質は？ (Si 材)
感応層の厚さは？ (Si 層 100 µm の不感層の後に、感応層 5 µm がある)
・ その他、特別な構造など（感応層の次に基板部〇材が〇µm あり、この部分での LET も検討したい。
）→ 上記情報を元に当チームで計算して結果をご報告します。

→ ご自分で MS-Excel を用いて、詳細な LET 計算は可能です。

当チーム HP：Tips 集：SRIMfit：応用例：E5 用実践編 に、詳しく説明してあります。
https://ribf.riken.jp/sisetu-kyoyo/Tips/SRIMfit/example.html(２) フラックス強度について
当施設のビームの場合(max. 1 particle-nano-A)、最大ビームフラックス量は 約 10^7 [個/cm2/秒] から
最小量は 10^1 程度までの範囲を、約 1/2, 1/3, 1/4, … 1/10 ステップで微調整可能です。

例) ☒ このフラックス範囲で問題無い（ Ar,Kr 共に 10^2 ～ 10^5 [個/cm2/秒] ）→ (3)へ
☐ より大強度のフラックス量が必要 ( max. 〇 [個/cm2/秒] )→ 放射化に対する安全審査上の検討が必要です。当チームと相談させてください。
☐ より低強度のフラックス量が必要 ( min. 〇 [個/cm2/秒] )→ 加速器側の制御が困難な事が予想されます。当チームと相談させてください。
また、それほど弱いデバイスならば、より LET 値が低い軽粒子ビームを用いた照射試験から試して頂いた方が有用な情報が得られるかもしれません。ご一考ください。

（３） フラックスの一様性・安定性について
当施設の場合、最大ビーム直径 5cm の範囲でのフラックス一様性は、約 ± 5 % 以内です。
また、フラックスには時間構造があります。ビームコース上流にある交流電磁石(X,Y-Wobbler 約 60Hz) でビームを回転して広げている為、時間平均としては一様ですが、約 60Hz 毎にフラックス強度が変化します。

☐ このフラックス一様性・安定性で問題無い → (4)へ
☐ より大きな直径のビームサイズが必要( 直径☐ より一様性の良いフラックス分布が必要 ( 直径
☐ フラックスの時間構造が気になる〇 cm )〇 cm 以内で ± 〇 % 以内 )→ これらのご要望には、すぐに対応できませんが、一応当チームで検討してみます。

☐ その他フラックスについての要望 ( )（４） 照射中データの提供について
照射中のビーム情報は、1F 控室(計測室)にグラフ表示し、その時系列ログファイル(約 5 秒間隔)を後日提供します。
そのログ内容は、フラックス量、Edeg 厚さ設定値、スライダー位置、照射角度、設定温度などです。
また、利用終了後の技術報告書では、照射位置における以下の内容を提供します。
フラックス分布一様性(Gaf フィルム測定)、エネルギー/LET 分布スペクトル(過去の測定値から内挿値)
これらのデータについては、当チーム HP にも 測定例 を掲載してありますので、ご参照ください。

→ 当チーム HP：照射装置：報告書 に、技術報告書の例があります。

https://ribf.riken.jp/sisetu-kyoyo/HIbeam/beam_monitor.html☐ これらの情報提供で十分→ (5)へ例) ☒ 他にも提供して欲しい情報あり（ Gaf フィルムを Scan した生データ）→ 提供可能です。当チーム HP：技術情報(2)：Gaf フィルム に、例があります。

https://ribf.riken.jp/sisetu-kyoyo/HIbeam/tech_info2.html☐ 別途、新たに測定して欲しい情報あり（）-8-（５） その他、特殊なビーム条件など
例）☒ 利用者の制御信号と同期させて、ビームを ON/OFF したい。
( 理由： デバイスにエラー発生の信号を送るので、瞬時にビームを止めたい )→ 対応可能です。信号の遅延時間～数 10 msec 程度で加速器のビームを OFF できます。
☒ その他 （）

３．３ 利用前準備（１） 事前打合せ、照射室見学
初めての利用の場合には、必ず一度ご来所頂き、当チームと打合せ及び現場見学をしてください。
なるべく早い時点で現場打合せを予定して下さい。

例）☒ 事前打合せ・見学が必要 （希望時期： 照射日の約１か月前 ）→ この課題審査が始まる前でも見学可能です。当チームにお気軽にお問い合わせ下さい。
（２）事前準備
照射利用当日は照射室に入室不可です。遅くても利用日の前日までに、照射室と計測室のセットアップを行い、動作確認まで済ませてください。搬入物品の照射室への移動は各自でお願いします。管理区域内用台車が使えます。
また照射室の階段昇降にクレーン操作が必要な場合は当チームが補助します。

例）・事前準備日程は？
２日前までに済ませる予定。
例）
・照射機材の搬入は？
☐自家用車で搬入 ☒運送業者に依頼 (元払いで当チームが受取り可)⚫ 特に重量物の機材は？ ☐あり→ 4.2 項 にも記述下さい
例）・事前準備で確認事項は？☒あり（照射当日直前まで事前準備が始められない可能性有り）→ E5 照射室の隣の E6 照射室を予約すれば、他の利用者が E5 室で照射中でも事前準備が可能です。照射日程が決まってから、当チームに相談して下さい。
（３） 一時退避
事前準備完了後、照射室のセットアップは一旦照射用架台ごと室内に退避して頂きます。利用当日に当チームが同ビームラインでビーム調整を行うためです。また複数利用者が連続使用の場合は、別日程で事前準備しておき、それぞれ一時退避をして頂きます。

例）
・一時退避中に要望は？
☒あり（他の利用グループに保管物を見られたくない ）→ 小物であれば、照射室内の鍵付きロッカーに保管できます。

また User 用照射架台には、必要に応じて目隠しカバーを取り付けて保管して下さい。
1F 控室(測定室)で通信確認をしたノート PC 等は、控室の鍵付きロッカーに保管可能です。
（４） 最終照射準備
利用当日に照射の順番が回ってきたら、照射架台を再びビームラインに戻し、また計測室も再準備して、動作確認が完了してから、課金時間がスタートします。この最終照射準備に必要な時間は、通常１～２時間としてあります。これで問題があるようでしたら記述してください。

例）・最終照射準備に時間がかかる？ ☒はい（測定装置の電源が安定するまで１時間程必要）→ 一時退避の間、電源巻きリールで電源供給も可能。Close-LAN での通信テストも可能です。

複数グループが連続利用の日程の場合、最終照射準備が遅れると、他の利用者にも迷惑となります。
必ず事前準備をしっかり完了しておいてください。

３．４ 利用後の片付け（１）照射室から搬出 or 一時保管
利用時間終了後は、速やかにビームラインから照射架台を退避して頂きます。近日中に次回の照射が予定されている場合は、照射室内に架台ごと一時保管しておくことも可能です。
終了後すぐに物品搬出を希望の場合は、先ず照射室の入口まで物品を搬出して下さい。その後、地下廊下レベルでゆっくりと梱包作業が行えます。この搬出に必要な時間は、通常１時間としてあります。これで問題があるようでしたら記述してください。

-9-

例）
・物品搬出に時間がかかる？ ☒はい（照射終了直後から３時間程、照射物の○○動作について測定を続行したい。）
例）もし一時保管をする場合の注意点は？ ☒あり（照射架台を退避して電源 ON のまま保管。後日改めてセットアップの撤収と搬出をしたい。）→ 可能です。但し、複数グループが連続利用の場合には、貴社の照射順番は最後になります。
（２）放射化物の保管持ち込んだ全ての物品は、βγサーベーメータで測定し、残留線量が 100 cpm 以下になるまで管理区域外へ持ち出せません。残留放射化物は、当チームが管理区域内に保管します(その日に持ち帰れません)。
冷めてから全て持ち帰って下さい。放射性廃棄物の引き取りはしていません。また、2.3(4)のビームコリメータを用いて、無駄な放射化を低減するよう注意して下さい。

☒ 了解しました  ☒にしてください。
→ フラックス量の多い照射の後は、冷めるまでに数ヶ月保管する場合もあります。

なるべく重金属部分( Cu, Fe, Au 等 )にはビームが照射されない様、ビームコリメータで必要部分のみに照射するようにしてください。
（３）所外へ搬出
物品の所外搬出は、終了当日もしくは数日後まで管理区域外で保管可能です。

・照射機材の搬出は？ ☐自家用車で搬出 ☐運送業者に依頼 (着払いで当チームが立ち会えます)

３．５ その他 申請課題内容上の特記事項・要望☐ 要相談ありなど- 10 -

４．安全審査上の情報
４.１

持込み試料・照射物等について（ビームが照射される可能性のある物）
【公】
照射物
一般名称
構成物質 ※2
厚さ ※3状態※1(元素記号or材料名)[mm or cm]※4
試料１
データ処理用ASIC
試料部：Si
試料部：3 mm板

試料２

光学センサー

基板部：C,H,O,N,Cu

基板部：最大5mm

試料部：Si, In, Ga, As, Cu
基板部：C,H,O,N,Au,Sn,Ni

試料部：2 mm
基板部：約5mm

取扱い注意点※5
特に無し
試料表面モールド
材を削って照射センサーは基板にハンダ付け
1 kV 印加板

検出器1エネルギー検出器 Si, Au
5 mm
板(Si半導体)他1
ヒーター
Ni, Cr1 mm シート状板
特に無し(試料昇温用)利用者が持ち込む物で、ビームが照射される可能性のある《全ての物品》について表中に記入して下さい。
ここでの記述がそのまま安全審査の対象となります。記述以外の物品にビームが照射されることは許されません。
※1 秘匿名称は不要です。安全審査上でどの様な物であるか判断できるような一般名称で結構です。
※2 照射による放射化を検討する為に構成元素記号もしくは材料名を記載します。照射試料以外に、基板(試料ソケット等)にもビームが照射される可能性がある場合は、基板部の構成物質を期して下さい。
※3 3.1(4)項に記述した内容のうち、厚さを記載。照射ビームの停止 or 通過を検討する為の情報です。
※4 状態は、「板・薄膜・粉末」や「固体・封入液体・気体」など。飛散の恐れを検討するための情報です。
※5「毒物・劇物・有機溶剤・特定化学物質・危険物」などの場合は記載。その場合、予め当チームにご相談ください。
《注意》生物試料、核燃料物質は、本利用では扱えません。

４.２

持ち込み装置、機材等について（ビームが照射されない物）

装置名 ※1
電源装置

サイズ、重量、必要インフラ ※2□50x60x 高 15cm, 約 20kg, ノイズカット電源 100V 5A が必要

安全対策 ※3
階段はクレーン必要

オシロスコープ

20x40cm 程度の一般的なサイズ 100V

特に無し

制御 PC

ノート PC ５台程度

特に無し

レーザー発振器□100x50x 高 30cm, 約 40kg, 3 相 200V 10A+冷却水 1L/min

精密機器なので、運搬に注意

利用者が持ち込み、ビームが照射される可能性の無い物品で、設置スペースやインフラが必要な物について記入下さい。
※1 秘匿名称は不要です。安全審査上でどの様な物であるか判断できるような一般名称で結構です。
※2 装置の概略寸法・重量は、搬入経路を検討する為の情報です。装置を運転する為に必要なインフラ（電圧、電流、圧縮
空気、冷却水等）も記入して下さい。搬入に際して、クレーン・台車等が必要でしたら、ご相談ください。
※3 高電圧、高圧ガス、高出力レーザー、毒物・劇物、危険物等の安全対策が必要な場合ご記入ください。

４.３

その他の持ち込み物品、利用物品

Q1. 照射直後の試料等を頻繁に取外し、移動する場合
放射化の恐れがあるので、取り扱いに注意して下さい。ゴム手袋などをして作業し、取外した物はトレーなどに入れて移動し、放射化物の飛散防止を心がけてください。

☒ 了解しました ☒にしてください。

☒ 使う (レーザー発振器用の冷却水 )→ 照射室内で、冷却水、圧縮空気の供給は可能です。

例）Q2. ガスや液体を使いますか？

☒ 使う (トルエン：照射物表面洗浄用 )→ アセトン、エタノール等は、照射室の常備品をお使いください。

例）Q3. 毒物、劇物などを使いますか？

例）Q4. クラス 4,クラス 3B,クラス 3R(400nm~700nm の波長域外の機器に限る)のレーザー機器を使いますか？
☒ 使う (クラス３B: 光学素子のオフライン試験用 )→ 予め、別途安全審査が必要な場合があります。

- 11 -

例）Q5. 法で規制されている密封、非密封放射線源を使いますか？
☒ 使う (Am-241 α線源：エネルギー検出器の較正用 )→ 当施設の管理区域内にある標準線源も使えますので、予め当チームまでご相談ください。
Q6. 上記以外で特記事項や危険な点はありますか？

４.４☒

その他 安全上の特記事項・要望☐ ある (何ですか？ )など

要相談 照射物を触る時の注意点は？ ゴミの処分方法は？
→ 照射物を手で触る時は、念のためゴム手袋当を用意しておいてください。

また、準備中、照射中のゴミは、照射室内のゴミ箱に入れてください。
自分で持ち込んだ物品が放射化した場合は、冷めてから全て持ち帰って下さい。

- 12 -

５．事務手続き関連
５.１

本施設、若しくは他の加速器施設の利用経験等

特に本施設の利用が初めての場合、参考として伺います。

Q1. 実験参加者の中に本施設を既に利用した経験者がいますか？
☐ 今回は継続利用申請である→ 5.2 項 へ例）☒ いる ( 当課題の参加者にはいないが、当社で既に利用した者あり 氏名：** )→ 了解です。当チームとしても安心です。
Q2. 他の加速器施設を利用した経験者いますか？
例）☒ いる ( 当社の多くの者は、他施設も利用している )その施設はどこですか？（ 高崎 TIARA、放医研、米国 TAM 等）→ 海外の照射施設の利用例でも OK です。

誰も重イオン or 陽子ビーム照射施設の利用経験が無い場合は、不安です。
貴社以外に、宇宙利用半導体の照射試験を行っている試験会社と一緒に参加して頂きたいです。

５.２

放射線作業従事者登録

照射期間中に放射線管理区域に立ち入る参加予定者(「実験参加者」)は全員、理研の放射線作業従事者としても登録する必要があります。先ず、利用者の本務所属機関で放射線作業従事者登録が必要です。そして、所属機関の放射線取扱主任者(または管理責任者)から、理研の取扱主任者宛てに「放射線業務従事等承認申請書」を提出して頂きます。

Q1. 今回の「実験参加者」は、理研の放射線作業従事者登録が済んでいますか？
☐ 全員登録済み → Q2 へ
例）☒ 作業従事者になっているが、理研での新規登録が必要な参加者あり。
→ 利用実施の１か月以上前までに、登録を完了してください。

☒ 了解。連絡責任者が責任を持って登録させます。
例）☒ 作業従事者になっていない人がいる ☒にしてください。

→ 先ず、貴社管理で作業従事者の登録を完了して下さい。

☒ 了解。連絡責任者が責任を持って登録させます。
☒ 要相談 (他社の参加者が数名いる。何処で講習を受けたら良いかアドバイス欲しい )→ 公的な講習機関をご紹介します。

講習日は年数回に限られている場合がありますので、２～３ヶ月前から準備が必要です。
Q2. 照射期間中(利用実施中)に、作業従事者以外の見学者が来ますか？
☐ 見学者無し → 5.3 項 へ☒ 見学予定者あり→ 従事者登録が無い人は、ビームタイム中は管理区域に立入不可です。「見学者扱い」となり、管理区域外の実験者控室までの参加となります。見学者扱いの者は、ビーム照射前までは、一時立入申請をして管理区域に入室可能です。しかし、ビームタイム直後の片付けは、照射室が放射化しているので入れません。
片付けは、従事者登録済のメンバーのみで作業して下さい。尚、見学者扱い者の外部利用者登録は不要です。

☒了解。連絡責任者が見学者扱い者の責任を持ちます。

５.３

 ☒にしてください。

外部利用者登録「実験参加者」は全員、仁科センターの外部利用者登録が必須です。 利用者登録には 5.2 項作業従事者登録が必須です。
利用者にはフィルムバッジと入構許可証が発行され、所内宿泊施設等を利用できるようになります。利用登録は、仁科センターの Users Office に申請します。

Q1. 今回の「実験参加者」は、外部利用者登録が済んでいますか？
☐ 全員登録済み → Q2 へ
☒ 新規登録が必要な参加者あり。
→ 利用実施の１か月以上前までに、登録を完了してください。

☒ 了解。連絡責任者が責任を持って登録させます。
- 13 -

 ☒にしてください。

Q2. 照射期間中(利用実施中)に、所内宿舎を使いますか？
☐ 利用しない → 5.4 項 へ☒ 利用予定あり→ 照射実施期間中の参加者シフト表を作り、宿泊予定者を Users Office へ申請してください。

☒了解。連絡責任者が参加者のシフト管理、宿泊予約の責任を持ちます。 ☒にしてください。
→ 宿舎の仮予約は、実施の３か月前頃から可能です。早い者勝ちです。

おおよその人数だけでも早めに Users Office へ連絡して下さい。
宿舎のキャンセルは数日前まで可能です。

５.３

事務手続き上の確認事項

課題が採択された後、実施に向けて取り交わす事務手続き上の文書についての質問です。

Q1. 課題採択通知
採択通知の宛名は、実験代表者になります。
例) 送り先は 1.1 項 の ☐ 実験代表者 ☐ 経理責任者 ☒ 連絡責任者 宛てで良い☐ その他を希望（宛先 担当者氏名 TEL: Email: ）☐ 送付前に連絡責任者へ再確認して欲しいQ2. 覚書利用実施に関する「覚書」を必ず取り交わして頂きます。課題採択後に雛形をお送りし、文面を協議の上で締結となります。その書面に特に明記しておきたい事項等がありますか？

☐ 明記点あり（例えば？
）送り先：☐ 実験代表者 ☐ 経理責任者 ☒ 連絡責任者 宛て☐ その他を希望（宛先 担当者氏名 TEL: Email:☒ 送付前に連絡責任者へ再確認して欲しい
Q3. 見積書）必要な場合発行します。但し、利用料金は年度ごとに替わるので、なるべく実施直前頃が正確です。
見積時間は、1.3 項 の記載に従い、各ビーム核種ごとの予定照射時間の合計値です。

☐ 利用実施前に見積書が必要
例) 送り先：☐ 実験代表者 ☐ 経理責任者 ☒ 連絡責任者 宛て☐ その他を希望（宛先 担当者氏名 TEL: Email:☐ 送付前に連絡責任者へ再確認して欲しい
Q4. 請求書）

請求書の宛名は、実験代表者の所属機関宛てです。発行は通常、半期ごとの最終利用回が完了してからになります。複数回で利用の場合、分割発行する事も可能です。但し、その分割最小単位は、毎回の利用回数ごと(ビームタイム単位)までです.（例：Kr 1 回目実施を分割請求はできません）支払いは、請求書に記載された当研究所が指定する銀行口座へ振り込みです。特に、年度末に実施完了の場合は、支払い期限が厳しくなるのでご留意ください。

請求書の宛名は、☒ 社名のみ☐ 指定あり( ○○会社 ○○部門 宛て)
請求書の発行は、☐ 半期ごとにまとめて☐ 毎月の利用ごと ☐ 毎回の利用ごと(ビーム核種別)☒ その他 ( 例：ビーム核種毎にまとめて欲しい )送り先：☐ 実験代表者 ☒ 経理責任者 ☐ 連絡責任者 宛て☐ その他を希望（宛先 担当者氏名 TEL: Email: ）☐ 送付前に連絡責任者へ再確認して欲しい例) ☒ その他要望（ 年度末に請求の場合、3/20 必着で 請求書が必要 ）Q5. その他必要な書類 について
上記以外に必要な書類・手続き等がございましたら、ご記入下さい。

☐ あり（例えば？

）

５.３ その他：全般的な特記事項、要望など☐ 要相談- 14 -

ご記入頂き、ありがとうございました。
産業利用開発チーム( sisetu-kyoyo@ribf.riken.jp 又は チームの担当者) までお送りください。

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