平成22年の新春を迎え、謹んで新年のご挨拶を申し上げます。年頭にあたり平素より、財団法人マイクロマシンセンター及び技術研究組合BEANS研究所の活動にお寄せ頂いております皆様のご支援とご協力に心より御礼申し上げます。
私は昨年９月17日に開催された両組織の理事会におきまして理事長に選任され、同18日から職務に就いたわけですが、大任を仰せつかりましたことを光栄に存じますとともにその責務の重大さを痛感している次第です。今後とも本理事長職を通じまして、
マイクロマシン・MEMS等マイクロナノ分野のより一層の発展に努めてまいる所存でございますので、何とぞよろしくお願い申し上げます。
さて、新年早々、厳しい話になってしまいますが、ご案内の通り、一昨年のリーマンショック及び昨年秋のドバイショックなどに起因しまして足下の経済情勢は大変難

財団法人マイクロマシンセンター
技術研究組合BEANS研究所

理事長

作田 久男

しい状況が続いています。このような状況を打開していくためには、我が国産業の競争力の源泉である技術開発の一層の推進が不可欠と考えます。そのためにもいまや産業のキーテクノロジーといわれるMEMS等のマイクロナノ分野に係る技術開発の一層の進展が求められているところです。
このため、革新的次世代デバイス創出に必要な基盤的プロセス技術群を開発しかつそのプラットフォームを構築するBEANS（異分野融合型次世代デバイス製造技術開発）プロジェクトには、従来の応用分野に加えて環境・エネルギー、安心・安全、健康・医療など幅広い分野での応用を目指すものとして、我が国の多分野にわたる産業を支える新たなデバイス創出による市場の底上げと拡大が期待されております。
そのため、中間評価の年でもある３年目に入りますBEANSプロジェクトでは、よりその成果を顕在化し、革新的次世代デバイス開発の基盤技術開発の道筋を示す一年として参りますので、技術研究組合BEANS研究所の活動につきまして、引き続き、皆様のご支援ご協力をよろしくお願い申し上げます。
この他、この１月で18年目を迎えた財団法人マイクロマシンセンターとしましては、平成20年12月に公益法人
制度改革関連三法が施行されたことを受け、めまぐるしく変動する社会環境の中で、それに対応できる自由度を持ち引き続き安定的に事業を遂行していくため、これまでの公益法人から一般財団法人への移行を指向して、そのための移行申請を内閣府に提出しております。認可が下りました暁には、一般財団法人として自らの役割と責任を改めて認識し、事業の着実な遂行を通じて、我が国産業の国際競争力強化や豊かな未来社会の創造に貢献して参る所存でございます。
また財団法人マイクロマシンセンターMEMS協議会の活動として、本年も引き続き、将来のナノテク研究開発
拠点づくりの基盤固めのための検討を関係各位のご協力を得ながら進めて参ることにしておりますので、これに関しましてもご支援・ご協力を賜りますようよろしくお願い申し上げます。
最後となりましたが、両法人を代表しまして、本年が皆様方にとって実り多い一年になりますよう心からお祈り申し上げて、新年のご挨拶とさせていただきます。
平成22年１月吉日

1財団法人マイクロマシンセンター事業の動き

調査研究・標準化事業の動き
１．産業動向調査

２．標準化事業の動き

MEMS技術は、既存部品の小型化の進展としてのMEMSの国際標準化

単機能デバイスから、MEMS／ナノテク機能の複合

はIECのTC47（半導体技術、MEMS／半導体の一体成形技術、MEMS／

デバイス専門委員会）

MEMSの高集積化技術にいる多機能デバイス、さらの中のSC47F（MEMS分にはナノ・バイオ融合による革新的デバイスへの進科 委 員 会 ）で 審 議 さ れ展が見込まれています。

ていますが、今回、10月18日（日）から22日（木）までイスラエルのテルア

このような背景をもとに、産業動向調査委員会（委員長：東京大学大学院情報理工系研究科長

テルアビブ海岸風景

下山

ビブで開催されたIEC総会に招待される形でTC47関勲教授）で、MEMS技術による高付加価値デバイス、係の各委員会、WG会議

応用される産業分野、アプリケーション機器が開催されました。オ

（MEMS-Inside）がどのように展開していくかを把握

ープニングセレモニーにし、MEMS産業の市場拡大に向けての道筋を探るた

は、約1,000人の参加者

めに、（１）MEMS技術が使われるデバイス（MEMSがあり、IEC会長挨拶他、

アプリケーション）とその応用機器（MEMS-Inside）

音と映像と光及び歌との動向、（２）MEMS関連産業のプレーヤーとその事

ダンスのアトラクション

業内容（企業動向）について、調査研究を進めていがありました。

ます。

オープニングセレモニー

SC47Fの国別出席者は、日本（10）、韓国（12）、

MEMS-Insideの調査については、単機能MEMSから中国（1）、ドイツ（1）、アメリカ（1）、ブラジル（1）高集積・複合MEMSの流れの視点と特許出願の傾向の26名でした。今回のメインの議題は、10/9に投票からの２つの視点から、現在から将来に向けてのが締め切られ、承認された以下の三つのNP（新規業

MEMSアプリケーションの拡がり（MEMS-Inside）を、

務項目提案）に対する各国コメントの審議でした。

情報通信機器分野、自動車分野、民生用電子・電気審議の結果、各国コメントはほとんど受け入れられ機器分野、医療福祉分野などの産業別13分野にまとることで合意が得られ、審議結果に基づいたCD（委めることとしています。

員会原案）を作成することになりました。

さらに、現在、MEMSアプリケーションの広がり①接着強度試験法（日本提案）が期待されるセンサーネットワーク、サービスロボ②マイクロピラー圧縮試験法（韓国提案）ット分野についても、注目分野として調査を進めて③熱膨張係数試験法（韓国提案）

います。

その後、韓国から新たに「金属薄膜成形限界測定

また、MEMS関連産業の企業動向は、MEMS関連法」、「PDMS／

事業を営む国内企業をMEMS関連事業ごとに分類し、ガラス接合強度

MEMSに関してどのような事業または取り組みを行

試 験 法 」、「 残なっているか、また、将来どのような取組みを行な

留応力測定法」

いたいと考えているかを、「マイクロマシン／MEMSの３つのNPが展」出展企業、マイクロマシンセンター文献データ

提案され、現在

ベース、MEMS関連特許出願企業の３つのデータか

日本の投票態ら、我が国のMEMSプレーヤーの構成、MEMSデバ

度を国内委員イスメーカが取り組んでいるMEMSデバイスとその会議風景

アプリケーション、我が国のMEMSファンドリーの会 で 審 議 しています。日本か状況などを調査しています。

らは「MEMS材料の曲げ試験法」と「材料特性評価

産業動向調査委員会では、MEMS関連産業の現状

用標準資料」の２件をNPとして半年以内に提出する及び将来展望を、平成22年３月に「平成21年度産業予定です。

動向調査報告書」としてまとめ、MEMS産業関係者にフィードバックすることとしています。

2

MEMS協議会（MEMS Industry Forum）の動き
討も進めています。これらの諸活動が、いずれ会員

１．総合イベント「マイクロナノ2010」計画概要

企業のビジネスにつながり、つくばナノテク拠点形成に資すると期待しています。

総合イベント「マイクロナノ2010」を2010年７月
28〜30日、東京ビッグサイトで開催いたします。
主催者であるマイクロマシンセンターおよびオーガナイザーのメサゴメッセフランクフルトとでマイクロナノ2010の基本コンセプト、目標等について合意をし、連携して準備を進めています。
マイクロナノ2009は、景気の影響を強く受けて、

LETIワークショップ

ここ数年で初めて出展社数および来場者数の減少を経験しました。2010年は、不透明な先行きではあり

ITRI調印

３．人材育成プログラムの検討

ますが、何とか挽回して、元の成長基調に戻したい

不況による足踏みはあるものの、長期的にMEMSと考えています。
出展社、参加者を増やすために、マイクロマシ

産業が発展していくことは確実です。予想される２ン／MEMS展に加え、新規にMEMSセンサーなどを兆円の市場規模を支える人材育成は急務と考えられ中心とするサービスロボットの製造技術に焦点を当ています。

てた「ROBOTECH」を同時開催する予定です（さら関東経済産業局の助成を得て、産総研、北九州やに、表面技術に関する「SURTECH」も併催）。また、関西地域の公的機関で実施されてきた人材育成事業

ナノインプリントや海外アフィリエートとのワークを、来年度から、マイクロマシンセンターを中心とショップなど、同時開催のセミナーを充実させるこ

して全国展開すべく、新たなプログラムを検討してとも検討しています。

います。「マイクロナノイノベータ人材育成プログラ

国際ロボット展への出展、MEMS講習会でロボッム（仮称）」として、これまでのカリキュラムを改

トMEMSを扱う、など事前プロモーション活動や、展

良・再編、また新規科目も開発して、製造プロセス

示会におけるコンシェルジュの充実なども合わせて、やデバイス設計の専門家に加え、技術シーズと顧客

出展社、来場者にとって最も価値のある技術情報、ニーズをつなげて商品化を推進できる人材の育成もビジネス情報、ビジネス機会をワンストップで提供

目指して検討を進めています。

できるように企画を進めて参ります。ぜひご期待い４．つくばナノテク拠点N-MEMSの形成

ただき、ご出展、ご来場の検討をお願い致します。

つくばナノテク拠点N-MEMSは、個別企業では

２．海外アフィリエートとの交流を活発に推進

困 難 な 大 規 模 設 備 投 資 に よ る 最 先 端 研 究 の 推 進、

海外アフィリエートとの交流は、日本からの情報

MEMSアプリケーション開拓のための設計・試作機

発信、世界の最先端情報の収集に加え、つくばナノ能の強化などを目指して、拠点形成しようというも

テク拠点形成におけるオープンイノベーションにつのです。６月の最高運営会議の発足や、経産省によながるという意味があり、積極的に推進しています。

る継続的なワークショップ開催など、気運は盛り上が昨年10月には２回目となる、フランスCEA-LETIとっています。当センターは、拠点形成を中心的に推進の共同ワークショップを産総研つくばで開催し、ロすべく、戦略や組織などの原案を検討しています。

ボットMEMSやセンサーネットワーク、集積化に関BEANSプロジェクトや、補正予算および来年度予して相互理解を深めました。LETIとは継続して協業算に向けて提案しているGMEMS（高機能センサーネの可能性を探っています。

ットワーク、低環境負荷製造プロセス）の研究組織

11月25日、台湾工業技術研究院（ITRI）が19番目

は、ナノテク拠点N-MEMSのベースとなると位置付の海外アフィリエートとなりました。同時に東大駒

けています。今後、日本の強みや特長を生かして、場において共同ワークショップを開催し、相互に理激化する国際競争に打ち勝つ戦略を提案し、拠点形解を深めて今後の協業の可能性を探りました。

成を現実化すべく、会員企業の協力も得ながら、検討を進めます。

これらのほか、米国BSACやMIG、ベルギーIMECとの情報交換、カナダやオランダとの交流などの検3

MEMSシステム開発センターの動き
産総研前田上席研究員からは、グリーンMEMSにおけるファシリテイマネージメントについて、その全体の取り組みのスキーム及びMEMSネットワーキ
ングのアプリケーションへの波及及びその重要性を報告、CO2ガスの具体的な削減についての質問や議論がなされました。中国の北京大学Zhang教授からは、中国におけるMEMS市場と企業活動の説明およびその活動に伴うセンサネットワークの重要な位置続け、コンセプトの報告がありました。またその有効性実証のために、北京大学のクリーンルームのグリーン化計画があり、そのネットワークセンサの構成として、グリーン面のみならず安全面も考慮して、モーションセンサ、オプティカルセンサ（人のモニタ）、
RF、SICの圧力センサ（ケミカル、高温に強い）をも含めているとの報告がありました。質問には、粒子センサを含めているのか等、具体的なデスカッシ
ョンがあり、センサネットワークに関する関心度の深さが認識されました。
伊藤氏（産総研）から、MEMSチップ及びセンサ
ネットワークの応用例として、鶏の健康モニターシ
ステムの報告がされました。中国では10億羽以上飼育されていて、市場的に非常に興味があるとの意見がありました。
中国側からは、MEMS技術の取り巻く環境について の 発 表 が な さ れ ま し た 。 Dr, Li Gang（ Suzhou
Microsensing Company）からMEMSのベンチャービジネス環境を報告、未だMEMS市場は未熟であり、MEMSファンダリーのサポートがない、スキルズを持ったエンジニアが少ない、MEMS産業が育っていない、との報告がありました。日本側からファンダ
リーサービスの機会があるということではないかと感じました。
Wang Hong（China Micro-Nano ＆ Sensor Network
Global Innovation Perk）からは、無錫市でのMEMS及びセンサーネットワークの活動の報告がありました。
無錫市はMEMS企業に対しての誘致活動を行っており、その為の敷地及びインフラづくりを積極的に展開しているとの報告がありました。
最後に、澤田教授（九州大学）から第４回のセミ
ナーを来年８月に北海道にて開催する予定の報告がありました。
このセミナーでは、産官学が一体となった取り組
み、MEMS研究の技術的コア部分の報告、MEMSを取り巻く環境、MEMSセンサ応用への取り組み等幅広い報告がなされ、参加者にとって非常に興味あるセミナーといえるものでありました。

１．
「高集積・複合MEMS製造技術開発プロジェクト」（事後評価）分科会を開催
ファインMEMSプロジェクトの締めくくりとして、事業を実施した３年間の研究開発の評価を行う
NEDO研究評価委員会第１回「高集積・複合MEMS製造技術開発プロジェクト」（事後評価）分科会が、10月５日（月）WTCコンファレンスセンターで開催されました。
評価分科会は帝京大学理工学部情報科学科大和田邦樹教授を会長とする７名の委員の方々で構成、当日は位置づけ・必要性及び研究開発マネジメントについて担当部である機械システム技術開発部の犬塚主査が説明し、さらに研究開発の成果・実用化見通
し概要をプロジェクトリーダーの東京大学下山勲教
授から説明が行われました。
引き続いて、非公開セッションで助成事業の全８
テーマの研究開発成果について各企業の開発担当者が発表し、公開セッションでは委託事業（ファイン
MEMS知識データベースとシステム化設計プラット
フォームを除く）全７テーマの研究開発成果について、サブプロジェクトリーダーの立命館大学杉山進教授より報告が行われました。またファイン知識データベースの整備とシステム化設計プラットフォー
ムの開発成果については、公開セッションの最後に、マイクロマシンセンターMEMSシステム開発センタ
ーから報告を行いました。
分科会では、評価委員、関係者などの間で活発に質疑応答が行われました。評価委員から、本プロジ
ェクトによって世界をリードできる独創的・先端的な研究成果が生み出されていることをご理解頂き、総じて優れた成果が得られた研究開発であったと総評がありました。
今回の評価は、NEDO研究評価委員会の審議を経て平成22年１月末に確定する予定です。

２．The Third China ＆ Japan Joint
Seminar on Green MEMS and Sensor
Network報告（2009年11月24日〜25日）
低環境負荷、安心、安全、快適性などのニーズに対応して、これからの研究開発課題として注目されているMEMSセンサネットワーク平成21年11月24日〜25日に日本と中国の合同セミナーが無錫市Millenium
Hotelにて開催されました。このセミナーは産総研（前田上席研究員）と北京大（Haixia（Alice）Zhang教授）の主催で開催されました。講演は、日本から７件、中国から６件報告計13件でした。

4

普及広報事業の動き
講演内容は以下のとおりです。
特別講演Ⅰ：「再生医療への応用を目指したマイクロ
デバイスの研究開発」
京都大学 小寺秀俊教授
特別講演Ⅱ：「MEMS等価回路ジェネレータの紹介」
静岡大学 橋口原教授
事例紹介Ⅰ：「MemsONE回路解析のロータリーステッ
パーモーター設計への適用」
東京工芸大学 曽根順治准教授
事例紹介Ⅱ：「MemsONEの高度なメッシュ分割テクニック」
日本ユニシス・エクセリューションズ㈱前田幸久 様１．2009国際ロボット展への出展報告
11月25日（水）から28日（土）の４日間にわたって、東京ビッグサイトにて、社団法人日本ロボット
工業会と日刊工業新聞社の主催による2009国際ロボット展が開催され、マイクロマシンセンターはMEMS技術とセンター活動の紹介をテーマに出展しました。
MEMS技術をロボット関係者と一般の方々にご紹介するため、センサMEMSの代表実用化例である加速度センサとジャイロ（角速度）センサによるモーションセンシングの動作を体験していただくコーナ
ーを設けました。ゲーム機のコントローラの模型に両センサを仕込んだ展示品をご用意し、子供さんか

V3.0機能紹介・デモ：MemsONEサポートセンター

らお父さんまで多くの方々に遊んでもらいました。
MEMSデバイスはもうすでに身近で役立っていて、MEMS in your pocket になっていることを知っていただくことができました。
そのほか、MEMS製品をWEB上で紹介いただくサ

京都大学小寺教授ご講演

ービス「MEMSモール」と1990年代に日本のマイク
ロマシン／MEMS技術の基礎を開拓した経産省マイクロマシンプロジェクト成果の実用化例の紹介が好評でした。さらに、2010年７月28日から30日にマイクロマシンセンターの主催で開催する総合イベント

静岡大学橋口教授ご講演

３．MemsONEが各地で紹介されるマイクロマシンセンターではMemsONEのPRをイ
ベント出展、講演会・セミナー、実習講座などを通じて、大都市圏を中心に実施しておりますが、最近は各地で実施される人材育成事業を利用させていた「マイクロナノ2010」の次世代ロボット製造技術展（ROBOTECH、マイクロマシン／MEMS展同時開催）の予告を致しました。

だいて、地方へのPRも活発に行っています。
10月16日（金）に岩手県宮古市で開催された第13回
東北CAE懇話会で、展示を行いました。また同時開
催のCAE技術者を対象とする解析塾では、教材としてMemsONEが活用されています。CAE懇話会のご活動については、http://www.cae21.org/ をご覧ください。

展示ブース風景

10月26日（月）には、長野県岡谷市の「テクノプラ
ザおかや」にて、平成21年度産学連携人材育成事業「マイクロナノ量産技術と応用デバイス製造に関する新事業開拓イノベーション人材育成」の一環として、人材育成実証講義「MEMSの設計・シミュレーション技

MEMS体験コーナー

２．第２回東京MemsONE技術交流会の開催

術」が（独）産業技術総合研究所の主催で実施され、ここでもMemsONEが教材として使用されました。

11月27日（金）に、マイクロマシンセンターテク
ノサロンで、第２回東京MemsONE 技術交流会を開催致しました。

告知!! MemsONE Version 3.0 リリース!!

本年度は、MemsONEをより広くPRするために、★より使いやすく（境界要素法、形状定義機能）★解析機能強化（メッシュ分割・規模、マスクCAD）★材料・知識データベース強化
詳細はhttp://www.mmc.or.jp/mems-one/でユーザのみならずMems ONEに興味を持つ方々も対象とすることとし、MemsONEユーザ会をMemsONE
技術交流会に改名して実施しました。本会への参加は無料で、一般・講演者・関係者を併せて20名の参加があり、熱心な討論が行われました。

5

技術研究組合BEANS研究所事業の動き「BEANSプロジェクト」成果・トピックス
5.4%と５％を超える発表を行ったことになります。
具体的には、Macro BEANSセンター、Life BEANS
センター、3D BEANSセンター、Life BEANSセンター九州からそれぞれ以下の６件、３件、２件、１件の発表を行い、BEASNプロジェクトの成果を広くアピール致しました。さらに、Life BEANSセンターの三澤研究員の発表は五十嵐賞も受賞し、その研究の内容の高さもアピールできました。
（１）Macro BEANSセンターの発表内容
・インクジェットを用いた繊維状基材への薄膜塗布技術（三村主任研究員、センサシンポ）
・ダイコーティング法による繊維状基材への高速ナ
ノ薄膜形成技術（柴山研究員、センサシンポ）
・大気圧プラズマ化学輸送法を用いたシリコン成膜技術開発（村上主任研究員、センサシンポ）
・ミストジェット技術によるSi微粒子吐出（横山主任研究員、センサシンポ）
・機能性繊維の製織によるフレキシブルシートデバ
イスの開発（小林研究員、マイクロ・ナノシンポ）・中空繊維状基材内微細セル状構造作成プロセス（松本壮平主任研究員、マイクロ・ナノシンポ）（２）Life BEANSセンターの発表内容
・Flow Focusingデバイスにおける液滴形成メカニズ
ムの検討（鈴木研究員、センサシンポ）
・膜タンパク質を選択的に発現させた細胞による多チャンネル化学量センサ（三澤研究員、センサシンポ）
・グルコース応答性蛍光ゲルビーズによる皮下埋め込み血糖値センサー（柴田研究員、センサシンポ）（３）3D BEANSセンターの発表内容
・InAlGaN四元混晶半導体を用いた深紫外発光量子ドットの作製及び制御（高野研究員、センサシンポ）
・半導体への電界の浸みこみを考慮した櫛歯アクチ
ュエータの特性解析（植木研究員、センサシンポ）（４）Life BEANSセンター九州の発表内容
・ナノ構造の熱物性とMEMSを利用した熱測定（宮崎主任研究員、マイクロ・ナノシンポ）

BEANSプロジェクトでは５つのセンター（Life
BEANSセンター、Life BEANSセンター九州、3D
BEANSセンター、3D BEANSセンター滋賀、Macro
BEANSセンター）およびBEANS研究所本部において、それぞれバイオ融合プロセス技術、有機材料融合プ
ロセス技術、３次元ナノ構造形成プロセス技術、宇宙適用３次元ナノ構造形成プロセス技術、マイクロ・ナノ構造大面積・連続製造プロセス技術の研究開発および異分野融合型次世代デバイス製造技術知識データベースの整備を進めています。今年度はこれまでに、第26回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム（以下センサシンポという）をはじめとして国内外の学会に研究成果を44件発表、論文8件投稿するとともに、16件の特許出願を完了しています。また、その成果を広報普及するため、BEANS拠点セミナー（10 / 2産総研、11/25東大）を開催し、フランスのLETIや台湾のITRIとの技術交流を実施したり、MEMS Executive Congress（11/4〜6開催、米国MEMS Industry Group主催）のパネルセッシ
ョンでのパネラーとしてBEANSプロジェクトの紹介をしたりしました。
ここでは、「BEANSプロジェクト」成果・トピッ
クスとして、成果を多数発表した第26回センサシン
ポの内容に関して報告します。

１．第26回センサシンポ
センサシンポは電気学会センサ・マイクロマシン部門が主催する国内ではセンサ、MEMS、マイクロマシン関連の最大のシンポジウムです。一昨年沖縄で開催されました第25回センサシンポでは、日本機
械学会マイクロ・ナノ工学専門会議と共催して初めてBEANSのセッションが設けられました。平成21年
10月15日（木）〜16日（金）にタワーホール船堀で開催されました第26回センサシンポではBEANSのセッションは設けられませんでしたが、日本機械学会
マイクロ・ナノ工学専門会議主催の第１回マイクロ・ナノ工学シンポジウム（以下マイクロ・ナノシ
ンポという）と応用物理学会集積化MEMS技術研究会主催の「集積化MEMSシンポジウム」が併催され、名実ともにセンサ、MEMS、マイクロマシン関連の最大のシンポジウムとなりました。
BEANSプロジェクトではプロジェクト成果の主要発表場所として位置づけ、第26回センサシンポに９件、第１回マイクロ・ナノシンポに３件の計12件の発表を行いました。第26回センサシンポの招待講演も含む総発表件数が153件、第１回マイクロ・ナノシ
ンポの総発表件数が56件でしたので、それぞれ5.2%、

三澤研究員の五十嵐賞受賞風景

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BEANSプロジェクトのセンター紹介（後篇）
１．Life BEANSセンター九州（九州大学）

３．Macro BEANSセンター（産業技術総合研究所）

Life BEANSセンター九州では、バイオ・有機材料
融合プロセス技術の開発に取り組んでいます。
近年、次世代エレクトロニクスの開拓を目指して
有機半導体材料に大きな注目が集まっており、従来の無機半導体では実現が困難であったフレキシブル
化、大面積化などの付加価値の高い光電子デバイスの実現が期待されています。本研究チームでは、安価なプロセスで大面積ナノ構造制御を可能とする有機半導体製造プロセス開発を進め、将来の光電・熱電変換デバイスへの展開を目指しています。
Life BEANSセンター九州では、九工大、リンテッ
ク、パナソニック電工と連携を図り、また、東大、産総研の研究チームとも密な連携を図り、エレクト
ロニクス・ケミストリー・メカニクス等の異分野融合を進め、新しいバイオ・有機材料融合プロセス技術の開発に取り組んでいます。また、本センターは、他のセンターとの共同研究テーマが多いことも特徴
であり、中性粒子ビームによる低損傷ドライエッチ
ング技術や超臨界製膜技術に関しては、既に3D
BEANSとの共同研究テーマが生まれています。中性
粒子ビーム技術に関しては、有機膜をエッチングするための専用装置がLife BEANSセンター九州に設置され、加速して研究を行っています。また、超臨界製膜技術に関しても、Life BEANSセンター九州で作製した有機ナノ構造体への充填技術として研究を進めています。Life BEANSセンター九州ではBEANSの目指すべき姿である異分野融合が着実に進んでおり、今後も異分野融合による革新的デバイスの実現に努力したいと考えています。

Macro BEANSセンターでは、（独）産業技術総合研究所（産総研）つくば東事業所を拠点として、産総研Macro BEANS連携研究体の研究者と東芝機械、古河電工、三菱電機からの出向研究者およびBEANS研
究所雇用の研究者が連携して、マイクロ・ナノ構造
大面積・連続製造プロセス技術の開発に取り組んでいます。
環境・エネルギー、健康・医療分野では、メータ
ー級大面積エネルギーハーベスティングデバイスの大幅な低コスト化とともにマイクロ・ナノ構造搭載による高機能化が期待されています。また、ウェア
ラブル発電、安全安心ジャケット、シート型健康管
理デバイス等の３次元自由曲面に装着可能な新形態のフレキシブルシートデバイスの実現も望まれています。これらの製造に際し、従来の半導体製造装置をベースとした製造技術の延長では、真空プロセス
装置の大型化の限界、基板の大面積化の限界などの問題が顕在化してきています。将来のメーター級大面積デバイスの高機能化、低コスト化のためには、
マイクロ・ナノ構造を有する高品位機能膜をメーター級の基板に真空プロセス装置を用いずに形成する製造技術の創出が必要となります。また、基板の大面積化を伴うことなく、メーター級のフレキシブル
シートデバイスを実現する、製織技術などを活用した新たな製造技術の創出が重要です。
Macro BEANSセンターでは、これら要求に応える
ため、ナノ粒子など機能材料の塗布プロセスをベースに、雰囲気ガスや温度などの局所環境制御によりナノ機能材料を活性化する技術およびナノ機能材料の密度や配列を制御する技術などを融合した革新的
次世代非真空プロセスにより、メーター級の大面積
基板にマイクロ・ナノ構造を有する高品位機能膜を
高速直接形成する技術と、繊維状基材に非真空プロセスによる高品位機能膜を高速に連続形成する技術、
ならびにこの繊維状基材を新たな製織集積化プロセスにより機能化・大面積化する技術の研究開発を実施しています。

２．３D BEANSセンター滋賀（立命館大学）
3D BEANSセンター滋賀では宇宙適用３次元ナノ構造形成技術の研究開発に取り組んでいます。
3D BEANSセンター滋賀は他のセンターと異なり、
マイクロ・ナノ加工技術を宇宙へ適用するという出口を意識した研究開発を立命館大学および（財）無人宇宙実験システム研究開発機構（USEF）、（財）資源探査用観測システム・宇宙環境利用研究開発機構（JAROS）、三菱電機からの出向研究者が立命館大学
びわこ・くさつキャンパスを拠点として行っています。具体的には、サブ波長構造光学シミュレーショ
ン技術の開発、陽極酸化プロセスを中心としたマイクロ・ナノ加工技術の開発、宇宙適用3次元ナノ構造を有するフィルタの光学及び構造評価技術の開発な
らびに宇宙適用３次元ナノ構造の適用性評価指標の検討を実施しています。

Macro BEANSセンターメンバー（産総研玄関前）

7

その他
賛助会員・組合員等の活動紹介

東芝機械株式会社
プレス

１．東芝機械株式会社の事業概要

透明型

弊社は工作機械メーカーとして 1938 年に設立
以降、時代に即した様々な商品群を開発・製造
してまいりました。現在は東芝機械グループとして、射出成形機、ダイカストマシン、押出成形機、産業ロボット、ナノインプリント装置、精密加工機、工作機械、油圧機器等、数多くの装置を製造・販売しています。

離型

UV光照射、硬化UV硬化樹脂基板

UVナノインプリントプロセス例

２．弊社のナノインプリント装置事業
2004 年にナノインプリント装置事業を開始し、プレス方式およびRoll to Roll方式のナノインプリ
ント装置の開発・製造を行ってまいりました。
2009年には、ナノインプリントと超精密加工のシ
ナジー効果を狙い、精密加工機の事業と統合したナノ加工システム事業部を発足、現在に至っています。
（１）MEMSへのナノインプリントプロセス適用
MEMSの製造方法としては一般的に半導体集積回路作製技術やLIGAプロセスが使用されます
が、パターンサイズの縮小化に伴い、装置価
格・ランニングコストの高価格化が問題となります。ナノインプリントプロセスは型のパターンを基板上に転写させる単純なプロセスであり、本方式によりMEMS製造コストを下げることが可能になると考えられています。
（２）プレス方式のナノインプリント装置
弊社では、UVインプリント、熱インプリント、
室温インプリントおよびマイクロコンタクトプ
リント（ソフトインプリント）に対応可能な最大
プレス力50 kNのプレス方式のナノインプリント装置（型式ST50）を製作しています。
ナノインプリントには、多種多様の型・被成形素材形状・パターン形成方式に柔軟に対応することが要求されるため、弊社ではインプリント方式・型構造等をお客様毎にカスタマイズし、装置をご提供しています。
ST 50 は研究開発用ナノインプリント装置として、光学素子、ストレージメディア、バイオ・メディ
カル、半導体・MEMS、ディスプレイ等の研究、開発用途として数多くご使用頂いており、最近では、LEDの輝度向上、DTM-HDD用等、量産市場に向けたナノインプリント装置を開発しています。

平 マ
成 イ
二 ク
十 ロ
二 ナ
年 ノ
一 第
月 七
二 十
十 号
二
日
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平
成
二
十
二
年
一
月
十
九
日
印
刷
印
刷
所

ナノインプリント装置で転写したパターン（３）Roll to Roll方式のナノインプリント装置
ナノインプリント実用化への課題の一つとして「大面積化への対応」が挙げられます。
弊社では、主に光学フィルム部材への適用を目的としたRoll to Roll UVナノインプリント装置の開発・製作を行っています。
本装置は押出成形法や印刷法のロール技術を応用しており、フィルム上に塗工したUV樹脂を、
グラビアロールにて成形するもので、対象アプ
リケーションはFPD用光学シート、バイオ応用、
太陽電池、電子ペーパ、偏光用ワイヤーグリッ
ドなど多岐にわたります。

Roll to Roll UVナノインプリント装置と転写フィルム

３．
「ナノデバイス量産」に向けて
最近ではナノインプリントに対するお客様の考
えが、「精度の良いものが出来れば良い」という観点から、「デバイス量産時におけるコストや型・離型膜等の耐久性についても考慮しながら試作試験を行なう」という観点へ変化しており、本方式、装置を各種デバイスの量産ラインに用いる日が遠くないことが伺えます。
「デバイス量産」を実現するためには、ナノイ
ンプリント装置の性能向上のみならず、一連の製造工程に必要となる型・樹脂材料・プロセス設
計・検査などの技術完成度も同様に向上させることが重要となります。
弊社では、これらの技術をトータルソリューシ
ョンとしてお客様へご提供できるよう取り組んでおります。

プレス方式
ナノインプリント装置「ST50」

発 行
財団法人 マイクロマシンセンター

技術研究組合BEANS研究所

発行人 青柳 桂一〒１０１-００２６ 東京都千代田区神田佐久間河岸６７ MBR９９ビル６階
TEL.０３-５８３５-１８７０ FAX.０３-５８３５-１８７３
wwwホームページ：http://www.mmc.or.jp/

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wwwホームページ：http://www.beanspj.org/lab/
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カ
ラ
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