静電気学会誌，42, 1（2018）21-26

J. Inst. Electrostat. Jpn.

論

文

PETフィルムに成膜した酸化チタン薄膜の光触媒活性矢澤 翔大 ，工藤 祐輔 ，新妻 清純
＊, 1

＊

＊

（2017年9月11日受付；2017年12月14日受理）

Photocatalytic Activity of Titanium Oxide Thin Film Deposited on Transparent PET Film
＊, 1

＊

＊

Shota YAZAWA , Yusuke KUDO and Kiyozumi NIIZUMA（Received September 11, 2017; Accepted December 14, 2017）

Titanium dioxide（ TiO2）is generally known as photocatalyst. TiO2 has emerged as an excellent photocatalyst material forenvironmental purification. The TiO2 works by only light. It is expected that the application range of the TiO2 photocatalyst
extends greatly. Especially, it is expected to be used indoors. Objects of various shapes exist in the interior. Therefore, theflexible substrate form can change easily when necessary. I think that it is necessary to form it on a flexible substrate. It is
possible to prepare strong adhesion and dense thin film by using a sputtering method. In this study, TiO2 thin films deposited on
flexible substrate called PET film by RF magnetron sputtering method. The authors investigated the relationship between thephotocatalytic activity and the film thickness. From the result of X-ray diffraction patterns, diffraction peak intensities became
higher with increasing film thickness. From the result of electrical resistivities, it turned out that the optimal film thickness
existed. The measurement result of the oxidative dissolution reaction also showed that the optimal film thickness existed.

1．はじめに機として盛んに行われるようになった．その後研究は進み，

近年，環境汚染は地球規模，あるいは私たちが生活す

酸化チタンは酸化分解作用と超親水性作用という作用をる中で無視することができない社会問題となっている．

もっているということがわかり ，大気浄化，防汚，殺菌，SOx，NOx などの大気汚染による呼吸器疾患，新建材か

水質浄化，防曇などの効果があることがわかってきた．こら発生する有機化合物による室内空気の汚染，樹脂材料

れらの効果を用いて空気清浄器内のフィルターや家屋・の焼却によるダイオキシンの発生，産業廃棄物や生活廃

高層ビルの外壁，ガードレール，高速道路の防音壁のセ

棄物による水源の水質汚濁等がある．これらの環境を良

ルフクリーニング，建造物の建材などの接着剤に含まれくするための対策として多くのエネルギーを使用していているホルムアルデヒドの分解 によるシックハウス症候る．その際に二酸化炭素が増大し，地球温暖化が進んで群の抑制などいろいろな場所に使用されている．光触媒しまうので，地球環境対策に大量のエネルギーを投入す

は建造物の壁や窓などに施工されることが一般的で，硬ることができない．そこで，自然エネルギーや私たちが度が高いものに塗布されていることが多く，光触媒を塗装

生活するうえで使用しているエネルギーを活用して環境するところが非常に限定的になっていると考えられる．そ

汚染を解決することが大切であると考える．その解決策

れに比べて，フレキシブル基板は透明かつ厚さ 23 µm との一つとして光触媒がある．

非常に薄く，柔軟性の高い基板である．フレキシブル基

2）3）

光触媒として代表的な酸化チタン（ TiO2）は非常に身板を用いることで，非常に薄くそして軽量化を図ることが近な材料であり，化粧品などの顔料，食品添加物として可能となり，使用用途が広がると考えられる．酸化チタン

歯磨き粉などに含まれているので非常に安全，化学的に等の光触媒を成膜する方法としてゾル-ゲル法やスプレー

安定している．光触媒の研究としては本多・藤嶋らによるを用いた方法，スパッタリング法が存在する．スパッタリ

1972 年の酸化チタンを用いた人工光合成（光を照射する

ングで成膜した膜は緻密で基板との密着力が強いことや，ことにより水から水素，酸素が発生する）の発見 を契熱を使用し膜質を改善しなくてよいので低温での成膜に1）適していて，
膜の再現性が良いという特徴 がある．また，
4）

キーワード：酸化チタン，フレキシブル基板，光触媒，
RF マグネトロンスパッタリング方式＊
日本大学生産工学部電気電子工学科（〒275-8575 千葉県習志野市泉町 1-2-1）
Department of Electrical and Electronic Engineering,
College of Industrial Techology, Nihon University, 1-2-1,
Izumi-cho, Narashino-shi, Chiba 275-8575, Japan1
yazawa.syouta@nihon-u.ac.jp

不活性ガス以外に O2 や N2 などの反応性ガスを加えることにより化合物膜を容易に成膜できるので酸化チタン以外の成膜など応用範囲が広いことが挙げられる．
そこで本研究では RF マグネトロンスパッタリングによる酸化チタン薄膜をフレキシブル基板である PET（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上への成膜を試み，膜厚を変化させたときの結晶構造，光触媒活性を評価し，

静電気学会誌 第42巻 第 1 号（2018）22

これらの諸物性の相関と PET フィルム上における酸化チタン薄膜の膜厚依存性の影響についてガラス基板上の薄膜と比較し検討を行った．

2．酸化チタン薄膜の成膜
本研究では，RF マグネトロンスパッタリング法により試料を作製した．装置の概略図を Fig.1 に示す．本装置
はチャンバー内に直径 10 mm，厚さ 300 mm の Nd-Fe-B
円柱磁石（表面の磁場は約 0.6 T ）ならびに内径 30 mm，
外径 33 mm，厚さ 300 mm の Nd-Fe-B 環状磁石（表面の磁場は約 0.3 T ）を内蔵した電極が設置されている．また，スパッタガスの流量を制御するためにマスフローコント
ローラー（電子科学製，
GFC-2 型）が 2 つ設置されており，
スパッタガスの流量を調整できる．さらに，成膜時に基板を回転させながら放電を行うため，膜質は均一にする
ことが可能である．排気系には低真空ポンプとしてロー
タリーポンプ（ DIAVACLIMITED，MODEL：GHP-240B
型，PUMPING SPEED：50 Hz-240 L/min ），高真空ポンプ
としてターボ分子ポンプ（ SHIMADZU CORPORATION，
MODEL：TMP-803LM，EXHAUST SPEED： 1080 L/s ），低真空計にはピラニゲージ，高真空計には電離真空計が

図 1 RF マグネトロン装置の概略図
Fig.1 Schematic diagram of RF magnetron sputtering apparatus.
表 1 RF マグネトロンスパッタ条件
Table 1 Conditions of RF magnetron sputtering method.
TargetBackground pressure
Sputtered atmosphere
Working pressure
Input electric power
Distance from substrate to target
Film thickness
Substrate

99.5％Ti-4≦ 5.0×10 Pa
Ar+40％O2
3.0 Pa150 W
55 mm
400～1000 nm
PET film Sodalime glass

設置されている．ターゲットには厚さ 3 mm，
直径 33 mmφ ，

着力低下やピンホールの原因となるため，成膜前に前処

純度 99.5％の Ti を用いた．

理を行った．まずガラス基板の両面に中性洗剤を用いて，Table 1 に酸化チタンの成膜条件を示す．チャンバー

スポンジにより 6 分間（片面 3 分間）左右および上下方内の最終到達真空度を 5.0 × 10 Pa まで高真空排気した．

向に一定時間洗浄した．その後中性洗剤を取り除くため

スパッタガスの流量比率は Ar ：O2 ＝ 60％：40％にした

流水中で約 500 分間浸しておいた．ガラス基板上の水分場合，アナターゼ型の結晶構造をもつ酸化チタンが成膜を蒸発させるため，イソプロピルアルコール（ IPA ）にできる ことがわかっているので，スパッタガスは Ar +

浸し，5 分程度の時間煮沸洗浄を施し乾燥後基板として40％ O2 混合ガスを使用した．また，成膜ガス圧は製作使用した．PET フィルムの前処理はフィルム表面形状変された酸化チタン膜への紫外線照射によるメチレンブル化の恐れがあったためスポンジでの洗浄は行わず，IPA

ーの分解性能評価，電気抵抗率測定で最も性能が高いこに浸し，5 分程度の煮沸洗浄後に乾燥後基板として使用とが確認されている 3.0 Pa 一定 とした．そして，高周波した．サーモラベルによる基板温度測定を行った結果，（ RF ）
電源により投入電力 150 W 一定として放電を行い，成膜時の温度は約 200℃である ことが確認された．

-4

5）

5）

5）

ターゲットより 55 mm 隔てたフレキシブル基板上に成膜をした．酸化チタン薄膜の膜厚は 400 ～ 1000 nm の範3．物性評価方法

囲で 100 nm ずつ変化させた．基板は，13 × 13 mm，お結 晶 構 造 解 析 に は Cu-Kα を 線 源（ 波 長 λ ＝ 0.15405

よび 26 × 26 mm の PET フィルムを基板として用いた．

nm ）とする X 線回折装置（（株）マックサイエンス製，スパッタリングによる酸化チタン成膜中に PET フィル

MXP3AHF22）を用いた．グラファイトのモノクロメータ

ムが曲がることが考えられるので，動かないようソーダ

を通して連続スキャン（θ -2θ ）法を用い，測定範囲は 20

ライムガラスの上に PET フィルム（東レ製，ルミラー®

～90 度とした．膜厚の測定には繰り返し反射干渉計（（株）S10）を載せ，ホルダーにセットした．また，PET フィ

溝尻光学製），電 気 抵 抗 率 の 測 定 には 直 流 四 端 子 法

ルムに成膜した試料と比較するために，ソーダライムガ（ MMRTec.inc. 製，H-50）電気抵抗測定時の紫外光光源にラスを基板とし用いて同条件のもとで成膜を行い評価しはブラックライト（強度：1 mW/cm ，中心波長：365 nm ），比較検討した . 通常，ガラス基板は表面においてダスト

吸収スペクトル測定は酸化チタンを成膜したフィルムまたや油脂等が付着しており，そのまま成膜すると，膜の付はガラス基板と併せて透過させ，紫外可視分光光度計

2

PETフィルムに成膜した酸化チタン薄膜の光触媒活性（矢澤 翔大ら）

23

UV-Vis （島津製作所（株）製，UV-2550）を用いた．酸化

ム上に成膜したときと同様な傾向にあることがわかった．

分解反応の測定には色素分解法として酸化チタン薄膜に

Fig.3 のガラスの X 線回折図形より 25.3°，55.1°に回

1 mmol/l のメチレンブルー（ C16H18N3SCI ）水溶液を塗布し折線ピークがあるが，Fig.2 にそのピークが見当たらな

紫外線照射時間 120 分として光触媒チェッカー（アルバッい理由は，基板として使用した PET フィルムの独自のク理工（株）製，PCC-2）を用いた．接触角の測定には酸化ピークが大きくかつアナターゼ型の酸化チタンのピーク

チタン薄膜に紫外線（ UVP 製，UVL-28），（紫外線強度：付近であるためピークが埋もれてしまっているのではな

1 mW/cm ，中心波長：365 nm ）を照射し薄膜の表面に滴いかと考えている．つまり，基板をガラス，PET フィル

下した純水をデジタルカメラ（（株）
ニコン製，D5300）でムと変更しても同様なアナターゼ型の結晶構造をもつ酸撮影して評価した．表面形状観察には走査型プローブ顕化チタン膜が成膜されていると考えている．

2

微鏡（Scanning Probe Microscope：SPM ）（島津製作所（株）

4.2 UV-Visによる吸光度測定結果

製，SPM9500-J2）を用いて評価を行った．

Fig.4 に PET フィルムと PET フィルム上に酸化チタンの膜厚を変化させて成膜したときの吸光度測定結果を示

4．実験結果す．PET フィルムは 310 nm 程度で吸光度が上昇してい

4.1 XRDによる解析結果

ることから紫外線領域の光を吸収していると考えられFig.2 に PET フィルムと PET フィルム上に酸化チタン

る．酸化チタンを成膜した場合の PET フィルムは 380の膜厚を 400 ～ 1000 nm 成膜させた場合の XRD による

nm 程度で吸光度が上昇していることが確認できた．こ

測定結果を示す．測定範囲 2θ = 20 ～ 90°で測定した．

れは酸化チタンの吸収波長が 380 nm なので，酸化チタ

図より，膜厚 400 nm の試料では酸化チタンの回折線はンが成膜されたことにより成膜前と比べて長波長側に吸認められなかった．原因として膜厚が薄いためか非晶質

収端が変化したと考えられる．

であることが考えられる．膜厚が 500 nm 以上になるとFig.5 にガラスとガラス基板上に酸化チタンを成膜し

2θ = 70.3°付近にアナターゼ型酸化チタンである（220）たときの吸光度測定結果を示す．成膜前のガラス基板は面からの各回折線が確認できた．なお，膜厚の増加に伴

320 nm 程度で吸光度が上昇していることから紫外線領

いわずかだが X 線回折強度は強くなる傾向が認められた．

域の光を吸収していると考えられる．ガラス基板に酸化ガラス基板とガラス基板上に成膜した酸化チタン薄膜

チタンを成膜した場合は 380 nm 程度で吸光度が上昇しの膜厚を 400～1000 nm まで変化させたときの X 線回折図ていることが確認できた．これは酸化チタンの吸収波長

形 Fig.3 に示す．図より，膜厚 400 nm の試料では回折線

が 380 nm なので，PET フィルムに成膜したときと同様は認められず膜厚が 500 nm 以上になると 2θ = 70.3°付近に酸化チタンが成膜されたことにより成膜前と比べて長にアナターゼ型酸化チタンである（220）面からの各回折

波長側に吸収端が変化したと考えられる．

線が確認できた．また膜厚が 700 nm 以上になると 2θ =25.3°
，55.1°，70.3°
付近にアナターゼ型酸化チタンである
（101）
（
，211）
（
，220）面からの各回折線が確認できた．なお，膜厚の増加に伴い X 線回折強度は強くなる傾向が認められた．このことから，ガラス基板上の薄膜は PET フィル

バンドギャップ Eg は UV-Vis スペクトルから Tauc プ
ロットによって求めることができる．
（ α・hν ） ＝ A（hν -Eg ）

（1）

1/n

ここで
（1）
式より間接遷移型なので n = 2 とし横軸（ hν ），䠖TiO21000 nmIntensity [a.u.]

900 nm
800 nm

700 nm
600 nm
500 nm
400 nmGlass

20

図 2 TiO2 薄膜の膜厚を変化させたときの X 線回折図形（ PET
フィルム基板）
Fig.2 X-ray diffraction patterns of TiO2 thin films under various
thickness（ PET film substrate ）
．

30

40

50
60
2θ [deg]

70

80

90

図 3 TiO2 薄膜の膜厚を変化させたときの X 線回折図形（ガラス基板）
Fig.3 X-ray diffraction patterns of TiO2 thin films under various
thickness（ Glass substrate ）．

静電気学会誌 第42巻 第 1 号（2018）24

図 4 TiO2 薄膜の膜厚を変化させたときの吸光度（ PET フィ
ルム基板）
Fig.4 Absorbance of TiO2 thin films under various thickness（ PET
film substrate ）．

図 6 TiO2 薄膜の膜厚を変化させたときのバンドギャップ（ PET フィルム基板）
Fig.6 Calculation of band gap Eg of TiO2 thin films under various
thickness（ PET film substrate ）．

図 5 TiO2 薄膜の膜厚を変化させたときの吸光度（ガラス基板）
Fig.5 Absorbance of TiO2 thin films under various thickness（ Glass
substrate ）．

図 7 TiO2 薄 膜の膜 厚を変 化させたときのバンドギャップ（ガラス基板）
Fig.7 Calculation of band gap Eg of TiO2 thin films under various
thickness（ Glass substrate ）．

縦軸（α・hν ） のグラフ上にプロットして曲線を描き，変1/2

曲点の位置で接線を引き横軸と接線が交わる点をバンドギ
ャップ Eg とした．Fig.6 と Fig.7 にフィルム上に酸化チタンを成膜した場合とガラス上に酸化チタンを成膜した場合の結果を示す．膜厚増加に伴うバンドギャップの顕著な変化は確認できなかった．一般的なアナターゼ型酸化チタンのバンドギャップの 3.2 eV と同等であることが確認できた．

4.3 電気抵抗率測定結果
Fig.8 に PET フィルム上に酸化チタンの膜厚を変化し成膜したときの紫外線照射前後の電気抵抗率測定の結果を示す．紫外線照射 120 分後に測定した．紫外線照射前

図 8 TiO2 薄膜における電気抵抗率（ PET フィルム基板）
Fig.8 Dependence of resistivity ρ on TiO2 film thickness（ PET
film substrate ）．

の試料は全て 5.0 × 10 Ω・m 程度であることがわかる．
4

紫外線照射後は全て電気抵抗率が下がっていることが確認できた．膜厚が厚いほど電気抵抗率が低くなっていき，
膜厚が 700 nm のとき最も低い電気抵抗率を示した．それ以上厚くなると抵抗率が高くなることも確認できた．
Fig.9 にガラス基板上に酸化チタンの膜厚を変化させ，紫外線照射前後の電気抵抗率の測定結果を示す．PET フ
ィルムを基板にしたときと同様に紫外線照射前の試料は全て 5.0× 10 Ω・m 程度であった．また，紫外線照射後は
4

全て電気抵抗率が下がっていることが確認できた．膜厚が厚いほど電気抵抗率が低くなっていき，膜厚が 700 nm の

図 9 TiO2 薄膜における電気抵抗率（ガラス基板）
Fig.9 Dependence of resistivity ρ on TiO2 film thickness（ Glass
substrate ）．

PETフィルムに成膜した酸化チタン薄膜の光触媒活性（矢澤 翔大ら）

図 10 TiO2 薄膜における酸化分解反応の膜厚依存性
Fig.10 Dependence of oxidative dissolution
reaction on TiO2 film thickness.

図 11 TiO2 薄膜の膜厚を変化させたときの
超親水性効果（ PET フィルム基板）
Fig.11 Characteristic of the super-hydrophiliceffect of TiO2 thin films under various
thickness（ PET film substrate ）．

25

図 12 TiO2 薄膜の膜厚を変化させた
ときの超親水性効果（ガラス基板）
Fig.12 Characteristic of the superhydrophilic effect of TiO2 thinfilms under various thickness（ Glass substrate ）．

とき最も低い電気抵抗率を示した．それ以上厚くなると抵

た．水接触角は，接触角 90°を境にして親水性，疎水性

抗率が高くなることも確認できた．PET フィルム上に成膜が区分されているが，特に接触角 5°以下の状態は超親した場合とガラス基板上に成膜した場合では紫外線照射

水性 と言われているので酸化チタンを成膜した試料は後の電気抵抗率 ρ が一桁ほど異なる結果となった．

全て超親水性を発揮したと考えられる。酸化チタンは結

2）4.4 分解性能評価結果

晶面ごとに親水性の発揮される速度が異なる

Fig.10 に PET フィルムとガラス基板上に酸化チタンのした試料は X 線回折解析結果からわかるように非晶質

膜厚を変化し成膜したときの分解性能評価結果を示す．

であり，アモルファス成分が多いことが考えられるので，酸化チタンの膜厚に対する吸光度を示している．吸光度

紫外線照射後からの水接触角の低下までは時間がかかっの値が低いほど分解性能が高いことを示している．紫外

たのではないかと考えられる．PET フィルム基板とガラ線照射下で全ての試料が分解性能を示していることが確

ス基板での明確な相異は認められなかった．

6）

が，作製

認できた．膜厚が厚いほど分解性能が高くなっており，

4.6 SPMによる表面粗さ測定結果

700 nm のときに最大の分解性能であった．それ以上のFig.13 に PET フィルム基板とガラス基板に酸化チタン

膜厚になると分解性能は下がっていく傾向になった．

の膜厚を変化させたときの表面粗さ Ra の測定結果を示PET フィルム基板とガラス基板上を比較すると膜厚に対す．横軸は酸化チタンの膜厚を示しており，縦軸は表面する変化の傾向は同じものの PET フィルム基板を使用

粗さ Ra を示している．Ra の値が高いほど表面の形状がしたときの方が分解性能が高いことがわかる．

荒く表面積が大きいことを示している．酸化チタンの膜4.5 親水性評価結果

厚に伴い表面粗さが荒くなっていることが確認でき，

親水性作用の評価を行う際には酸化チタン薄膜の光活700 nm のときに最も表面粗さが高くなっていることが性を考慮し，評価前には暗室にて 72 時間の保管を行っわかる．また，800 nm の以上になると表面粗さは低くた．紫外線照射時間は 360 分である．Fig.11 に PET フィ
ルム上に酸化チタンの膜厚を変化させたときの紫外線照射前後の親水性の評価結果を示し，Fig.12 にガラス上に酸化チタンの膜厚を変化させて成膜したときの紫外線照射前後の親水性の評価結果を示す．横軸に酸化チタンの膜厚を示し，縦軸に接触角を示している．接触角が低いほど親水性が高いことを示している．酸化チタンが成膜されていないものは紫外線照射前後でほぼ接触角の減少は見受けられなかった．酸化チタンを成膜した試料は全て接触角の減少が見受けられ，接触角が 5°程度となった．紫外線照射を始めてから 60～90 分程度で水接触角は半減期を迎え，300 分程度で水接触角が 5°程度となっ

図 13 TiO2 薄膜における平均面粗さの膜厚依存性
Fig.13 Dependence of average surface roughness on TiO2 film
thickness.

静電気学会誌 第42巻 第 1 号（2018）26

討した．本実験をまとめると次の通りである．
（1）X 線回折による結晶構造解析より，膜厚が 500 nm以上の試料になるとアナターゼ型酸化チタンである
回折線が認められた．また，膜厚の増加に伴い X（ a ）400nm（ b ）700nm

線回折強度は強くなる傾向が認められた．なお，ガラス基板上でも同じ結果となった．
（2）吸収スペクトルの測定より紫外線領域を吸収していることがわかった．また，バンドギャップ Eg は膜（ c ）1000nm
図 14 TiO2 薄膜の SPM 画像（ PET フィルム基板）
Fig.14 SPM images for TiO2 thin films prepared Under various
thinckness.（ PET film substrate ）厚の増加に伴い，顕著な変化は認められず，一般的に知られているアナターゼ型酸化チタンのバンドギ
ャップ Eg ＝ 3.2 eV と同等であることが確認できた．
なお，基板の相違による顕著な変化はなかった．
（3）電気抵抗率の紫外線照射時間依存性より，全ての試なっていることがわかる．PET フィルム基板とガラス基料において電気抵抗率の減少が確認できた．PET フ

板上を比較すると PET フィルム基板を使用したときのィルム基板上に成膜をしたとき，膜厚 700 nm の試方が平均表面粗さ Ra の値が高いことがわかる．

料が最も結果が良好であった．
（4）酸化分解反応の紫外線照射時間依存性より，全ての

5．考察

試料において吸光度の減少が確認でき，膜厚が 700

Fig.8，Fig.9 の電気抵抗率 ρ の測定結果から紫外線照射

nm の試料が最も結果が良好であった．

後，酸化チタンの膜厚が 700 nm のときに最も電気抵抗率（5）平均面粗さの膜厚依存性より，膜厚の増加に伴い平ρ が低くなった．また，Fig.10 の結果より酸化チタンの 700

均面粗さ Ra が増加することが確認できた．PET フ

nm の膜厚のときに最も高い分解性能を示した．また，

ィルム基板上に成膜をしたとき，膜厚 700 nm の試

Fig.13 より酸化チタンの平均表面粗さ Ra 値が 700 nm のと料が平均表面粗さ Ra が最も高い値を示した．

きに最も高い値を示している．酸化チタンを 700 nm 成膜以上のことから，RF マグネトロンスパッタリング法

した際に最も表面粗さ Ra が大きくなった理由を考察する．

により，フレキシブル基板である PET フィルム上に成スパッタリングでの成膜では柱状構造（ columnar structure ）膜した酸化チタン薄膜の試料の最適な膜厚は，700 nmになり ，成膜膜厚が薄いときは島状になり，厚くなるとそであることがわかった．

7）

れらが柱のように成長していき，基板上に林立している状態になると言われている．その後，成膜が厚くなるにつれて，

参考文献

その柱を埋めるように成膜されているのではないかと考え

1） F. Honda: Electrochemical Photolysis of Water at aている．Fig.14 に PET フィルム基板に成膜した酸化チタン
薄膜の SPM 画像を示す。Fig.14 の 400 nm のときは細い針状になっている部分が見て取れ，1000 nm の際には 700 nmのときと違い表面が滑らかになっているように視覚的に見て取れることから推察した．したがって，酸化チタン光触媒は表面で反応していることが知られているので，平均表
面粗さ Ra 値が高い，つまり光触媒の反応面積が大きいほど光触媒の性能が高くなったと考えられる．

Semiconductor Electrode. Nature（1972）37-38
2） 橋本和仁，坂井伸行，入江 寛，高見和之，砂田香矢乃 :光触媒応用技術，pp18, 19, 29, 60-82，東京図書株式会社（2007）
3） 矢澤翔大，工藤祐輔，中西哲也，竹内智彦，荒木翔太，
片山昇，小越澄雄：水素マイクロ波プラズマ処理による可視光応答化酸素欠損型光触媒の製作．静電気学会誌37［3］（2013）138-143
4） 小 島 啓 安： 現 場 の ス パ ッ タ リ ン グ 薄 膜 Q&A 第 2 版，
pp3-5，日刊工業新聞（2015）5） 早川孝宏 ･ 新妻清純 ･ 移川欣男 : マグネトロンスパッタ

6．まとめ
RF マグネトロンスパッタリング法により，フレキシ
ブル基板である PET フィルム上に成膜した酸化チタン
薄膜の膜厚を 400～1000 nm まで変化させたときの結晶構造，吸収スペクトル，紫外線照射時における電気抵抗率および酸化分解反応を評価し，光触媒活性について検法による TiO2 薄膜の紫外光照射に伴う光触媒効果なら
126
びに電気抵抗率の減少．電気学会論文誌 A，［5］（2006）
385-3906） 橋本和仁，渡部俊也：光照射による酸化チタン表面の超親水性変換．表面化学 20［2］（1999）85-937） 金原

粲：スパッタリング現象，pp177-181，東京大学出版会（1991）