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[1] S. Sasaki, “Analyses for a planar variably
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[4] T. Mitsuhashi, “Spatial coherency of the
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TC slit hight
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6.0mm

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Photon energy / keV

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[2] ጟፉᢅᶈ, “ᣂ X ✢೑↪ࡆ࡯ࡓ࡜ࠗࡦ㧔BL11㧕ߩ

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[2] S. Yulina, M. C. Schürmannb, S. Matsunari,
V.Nesterenkoa, M.Schürmanna, T.Feigla, N.Kaisera,“Optics lifetime under pulsed and synchrotron
radiation”, 8th International Symposium on Extreme
Ultraviolet Lithography, Prague,Czech Republic(2009)[3] .K. Murakami, T. Yamaguchi, A. Yamazaki, N.
Kandaka, M. Shiraishi, S. Mastunari, T. Aoki,
S. Kawata,”Contamination study on EUV exposure
tools using SAGA Light Source”, Proceeding of SPIE
Mircolithography (2010).
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