特許庁審査官の知識・ノウハウを民間へ提供する研修
─検索エキスパート研修［上級］・検索エキスパート研修［意匠］─

Trainings to provide private sectors with knowledge and know-how possessed by JPO’sexaminers
独立行政法人工業所有権情報・研修館

人材育成部長中野裕二

PROFILE: 平成６年特許庁入庁。情報処理分野の審査官・審判官、米国イリノイ大学客員研究員、調整課審査基準室、制度改正審議室、国際課、ＪＥＴＲＯデュッセルドルフ知的財産部などを経て、平成２５年７月より現職。

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はじめに層向上することにより、出願及び審査請求の適正化に資する人材の育成を目的としている。具体的な対象者は、(1) 企業において先行技術調査の業務に従事する者、(2)ある発明又はデザインについて特許権又は意匠権が付企業等に対し先行技術調査のサービスを提供する企業・与されるに値するものであるか否かを調査することは、団体の従業員等である。年３回又は４回開催し、各回の民間企業等において、出願時・審査請求時の要否判断や開催期間は４日間である。

今後の研究テーマ・方向性を決定する場合等に行われてこの研修では、講師として、特許審査官経験者等を招いる。そして、上記調査を的確に行うことにより、無駄き、審査判断に必要な引用候補文献を正確かつ迅速に探な出願・審査請求に関する費用及び研究投資等を抑えるし出すための検索論理式の組み立て方法や新規性や進歩ことができる。そのため、民間企業等において、上記調性などの特許要件の判断手法について学べる研修として査を的確に行うことができる人材を育成することが強くいる。技術分野ごとに先行技術調査及び審査判断の手法求められている。

が異なることから、機械、化学（高分子）、情報通信と一方、特許庁審査官は、特許権又は意匠権を付与すべいう３つの技術分野別に研修コースを用意している。まきか否かの審査を日々行ってきており、上記調査を的確た、審査官が使用する端末と同等な機能を有する高度なに行うための様々な知識・ノウハウを蓄積している。

検索が可能な検索端末を使用し、先行技術調査ノウハウ

そこで、独立行政法人工業所有権情報・研修館（以下を提供している。

「ＩＮＰＩＴ」という。）においては、民間企業等の従業員

この研修の最大のポイントは、実践的な先行技術調査等に対して、特許庁審査官が蓄積してきた知識・ノウハ能力の向上にある。すなわち、先行技術調査ノウハウだウを提供する研修として、検索エキスパート研修［上級］

けでなく、新規性・進歩性の審査判断手法の知識をも学及び検索エキスパート研修［意匠］を実施している。

習することにより、本願発明に最も近い引用文献を発見

本稿では、この２つの研修について紹介する。

できるようになるだけでなく、新規性・進歩性を否定することができる引用文献を迅速・的確に発見できるよう

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検索エキスパート研修［上級］になる先行技術調査能力の向上に特徴がある。
具体的な講義内容は、表１のとおりである。
昨年度の参加総数は１１１人であった。研修は４段階

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特許庁の特許審査官の持つ審査判断手法の知識と先行で評価していただいているが、昨年度のすべての回及び技術調査ノウハウを提供する研修である。先行技術調査

今年度の第１回の評価アンケート結果は、非常に知識やの業務に従事すること等により、特許法についての十分能力が向上した（非常に有意義であった）、知識や能力な知識を有する者を対象として、先行技術調査能力を一が向上した（有意義であった）という上位２段階の回答

YEAR BOOK 2013

寄稿集【表１】検索エキスパート研修［上級］の講義内容

時間

内

容

形式

検索インデックス

３

国際特許分類（ＩＰＣ）、Ｆ
Ｉ及びＦタームに代表される検索インデック
スについて解説

座学

調査実務１６

新規性・進歩性の判断手法や、進歩性等の特許要件を考慮しつつ先行技術調査を行う手法について解説

座学

引例選択演習4.5

進歩性等の特許要件の判断に必要な文献を、複数の引例候補文献の中から選択する演習

班別討論形式

検索端末操作実習

2.5

本研修において利用する検索端末の操作方法等を学習

端末実習

調査実習

６

与えられた課題に対して研修生自らが先行技術調査

端末実習

調査結果討論（演習）２

先行技術調査の結果について、研修生どうしで討論し、調査報告書を作成

班別討論形式調査実務２（フォローアップ）

２

作成した調査報告書を基礎として、先行技術調査を行う手法について講師から補充説明

座学を合わせると１００％という高評価であった。また、審化後の権利範囲を適切に捉えることができる人材の育成

査官が使用する検索端末と同等の検索端末での検索を体を目的としている。具体的な対象者は、(1) 企業におい験し、審査官の検索時の考え方が勉強になった等のコメて先行意匠調査、意匠権調査の業務に従事する者、(2)ントもいただいている。

弁理士事務所等で先行意匠調査に従事する者、(3) 企業

今年度の研修日程は、以下のとおりである（今年度は、検索端末のリプレースがあるため、開催回数は３回。）

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特許情報施策および事業科目名等で製品デザイン開発に従事する者である。年１回開催
し、開催期間は３日間である。

第１回は６月に既に開催。参加人数は４３名（機械１１名、この研修では、講師として、現役の意匠審査官・意匠化学（高分子）１３名、情報通信１９名）であった。第２

審査官経験者等を招き、特許庁の意匠審査に基づいた先回は１２月、第３回は３月に開催予定である。研修場所

行意匠調査に関する講義と、ＩＰＤＬを利用した検索実習はいずれも東京となっている。受講料は、37,000 円

等を行うことにより、先行意匠調査のノウハウを提供しであるが、以前に本研修の受講証書の交付を受けておている。

り、且つ前回とは異なる技術分野で「引例選択演習」以

この研修の最大のポイントは、実践的な意匠権調査及降の科目を受講される場合は、21,000 円である。なお、び先行意匠調査の能力向上にある。すなわち、意匠権調日程・場所等の詳細については、ＩＮＰＩＴのＨＰ（http://査及び先行意匠調査のノウハウだけでなく、類否・創作www.inpit.go.jp）をご参照いただきたい。

非容易性判断等の審査判断手法の知識をも学習することにより、本願意匠に最も近い意匠を発見できるようにな

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検索エキスパート研修［意匠］るだけでなく、類似・創作容易と判断することができる意匠を迅速・的確に発見できるようになる意匠権調査及び先行意匠調査の能力向上に特徴がある。

特許庁の意匠審査官の持つ審査判断手法の知識と意

具体的な講義内容は、表２のとおりである。

匠権調査や先行意匠調査のノウハウを提供する研修であ

昨年度は９月に東京で開催し、参加人数は１８名であっる。意匠法についての十分な知識を有する者を対象とした。本研修も同様に４段階で評価していただいているが、て、意匠権調査や先行意匠調査能力を一層向上すること昨年度の評価アンケート結果は、非常に知識や能力が向により、製品デザインの意匠権による有効な保護、権利上した（非常に有意義であった）、知識や能力が向上し

YEAR BOOK 2O13109

【表２】検索エキスパート研修［意匠］の講義内容

科目名

時間

内

意匠法概論
（意匠審査基準：新規性・創作性）

４

意匠権調査や先行意匠調査を行うにあたっての基礎となる意匠法及び意匠審査基準の概要について解説

座学

意匠の類否・創作非容易性判断（事例研究）

２

意匠の類否・創作非容易性判断について、審、判決等の事例を基に解説

座学

先行意匠調査の検索キーの活用（日本意匠分類・Ｄターム）

２

先行意匠調査に用いる検索キーの活用方法について解説

座学

ＩＰＤＬを利用した先行意匠調査検索演習

６与えられた課題に対して研修生自らが、特許電子図書館（ＩＰＤＬ） 端末実習を利用して先行意匠調査

グループディスカッション（検索結果を用いた類比判断討論）

３

先行意匠調査検索演習の結果について、研修生どうしで討論し、調査報告書を作成する

講師からの解説

１

講師からグループディスカッションでの結果について解説

講義形式

班別討論

座学た（有意義であった）という上位２段階の回答を合わせは、これらの研修への参加をご検討いただければ幸いでると１００％という高評価であった。また、的を絞ったある。

内容で意義のあるものだ、効率のよい検索の仕方を学ぶことができた、レベルと内容に比して、安い費用で学べることができた等のコメントをいただいている。
今年度の研修はすでに 9 月に開催され、参加人数は、昨年度同様１８名であった。研修場所は東京であり、受講料は、29,000 円であった。来年度も同様の研修が開催される予定である。なお、日程・場所等の詳細については、ＩＮＰＩＴのＨＰをご参照いただきたい。

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おわりに以上のとおり、特許庁審査官が蓄積してきた知識・ノウハウを提供する研修として、検索エキスパート研修［上級］及び検索エキスパート研修［意匠］を紹介した。
これらの研修によって調査能力を向上させた研修受講者が民間企業等で活躍され、日本の産業発展、知的財産立国の一助になることを願っている。
また、今後もＩＮＰＩ
Ｔでは、特許庁審査官が蓄積してきた知識・ノウハウを提供する研修を実施していく所存である。特許権又は意匠権が付与されるに値するものであるか否かを調査する能力の向上についてご関心のある方

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容YEAR BOOK 2013

寄稿集
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特許情報施策および事業YEAR BOOK 2O13111