内容紹介
本書は 2000 年刊行の『走査電子顕微鏡』の改訂版である。
『走査電子顕微鏡』は走査電子顕微鏡に関する最新の知識と技術を網羅した本格的な書物として、この顕微鏡を使用する多様な分野の学生・研究者・技術者に愛されてきた。しかし、刊行から 11 年の歳月がたち、この間に走査電子顕微鏡を取り巻く環境も大きく変化したため、初版の内容に追加すべき点が多く生じてきた。まず、社団法人日本電子顕微鏡学会が 2003 年に社団法人日本顕微鏡学会に名称を変更したことからはじまり、コンピュータ導入による画像のデジタル記録や装置の構成の変化があり、電子光学系や検出器、高分解能観察、低真空観察、極低加速観察などの分野においても著しい進歩がみられてきている。
そこで、今回の改訂ではこれらの変化をふまえ、時代に即した書物とするべく全面的な見直しをし、大幅な改訂を行った。また、編集委員会で通読を重ね、統一的でより平易な内容になるように努めた。走査電子顕微鏡を活用したいと思う研究者や学生の方々に本書が引き続き愛されることを祈る次第である。

日本顕微鏡学会 関東支部 編6 23

B5 版・上製・576 頁・定価 14,700 円（税込）

目

次91
表示・保存

取得・
子顕微鏡像の3.2 走査電規のした金属製定■ 第１章

走査電子顕微鏡の原理と構成■ 第４章

走査電子顕微鏡の多様な機能と周辺装置■ 第２章

像のコントラストの形成■ 第５章

生物科学への応用■ 第３章

走査電子顕微鏡の調整と像取得・表示・保存■ 第６章

材料科学への応用

図 3.19機械走査と電60
像取得時間の２

第サムネ

トラスト

2.1 像のコントラ

成

成の原理
Ａ．二次電子像のコントラスト
二次電子は反射電子と比較して保有する
次電子は試料エネルギーが表面 10 nm225程度の領域か数 10 eV以下と非常にしかし，実際ら放出される小さい。またには反射電子ため，高い空が試料外に放，二は必ずしも期間分解能が期出する際にも待した分解能待される。
二次電子が励が得ら置から放出されない場合が起されるためれる二次電子ある。なお，，試料によっを SE 1，反射
図 2.1 に示すて電子が試料以電子が飛び出ように電子ビ外の部位に衝ーム照射位す過程で放出突して放出さ経路付近で散された二次電れた二次電子乱により生じ子ををSE 2，反射SE 3 と区別た二次電子の呼んでいる。
する。このほ一部が試料室
かに電子ビーまではみ出す
ム
試料からの二可能性があり
次電子放出量，これをSE 4 とは，試料の材質や構造，入射電子エネル
方法
ギー（加速電1．有機溶剤圧），入射による洗浄
電子

本処理法

料の基
5.1 生物試

西山彌生（帝京大学）、吉田明（東京都市大学）
トの気管内腔の観察（ラッコーティ
生の動物組織・乾燥・金属
図 5.2
定・導電染色10 μm面）通常の固 察したもの．バーはングを施し観ト形成）察（E ロゼットのリンパ遊離細胞の観の赤血球とヒたガ
図 5.3細胞（ヒツジジン処理をし ィン固定した遊離 形成）をポリ-L-リ・金属コーテ
球のロゼット せ，導電染色・乾燥5 μm
ラスに付着さ したもの．バーはグを施し観察二次電子（SE2）4）

二次電子（SE1）

約 10 nm

入射電子散乱領域

図 2.1 試料表面からの二次電子放出領域

小倉一道，小澤英浩，小澤幸重，小野昭成，加藤征治，北上 修，木村利昭，黒澤文夫，小池和幸，（納豆菌）の固定・導微生物の観察
けた後，通常 観察したも図 5.4
スになすりつを施し納豆菌をガラ ・金属コーティング
電染色・乾燥 μm
1の．バーは（縮小画像）
サムネイル
な画像検索
表示による簡単

図 3.20

走査電子顕微髪）鏡02章
トの毛.mcd Pageの．
織の観察（ヒしたも 1
図 5.5 乾燥組ングのみを施し観察
金属コーティ
μm
バーは 50場合があるので注

PC 制御

検索機能

SEM の画像

6.2 金属材料への応用

表 6.1

2．化学的溶解法
3．陰極電解法
19mcd Page
微鏡03章
4．機械的剥
離法

入射電子線

二次電子
（SE 3）
反射電子

二次電子（SE

稲里幸子，井上貴央，今市涼子，岩田 太，宇野文夫，梅田昭子，江尻貞一，大隅正子，大谷 修，
小柏 剛，小竹 航，小林 寛，近藤俊三，笹田勝弘，佐藤 馨，佐藤 貢，島田達生，嶋田 裕，白木尚示
画像を拡大表観察条件、SEM
名、ともに試料
SEM 画像と括して保存
コメントなどを一の形成

ストの形

2.1.1 二次電子像形

編 集 委 員：朝山匡一郎（ルネサスエレクトロニクス株式会社）、於保英作（工学院大学）、
執筆者：相川正道，青島利裕，赤堀 宏 ，足立達哉，天児和暢，石川春律，石谷 亨 ，伊東祐博，

SEM 像ている。

野を観察でき95 mm の広視

わも大きく様変画像記録方法されったことで，旦そこに格納画像の保存れるようになした画像は一3.2.3 SEMる。この時して取り扱わるので，取得して用意されジタル画像と能を有していな画トファイルとSEM 像がデ像メモリの機として，必要標）がテキス-SEM では画存の最終作業を入むステージ座画像保ワードりした。PC件（含ない。のキー
影した観察条保存されていーザー名などる。同時に撮録メディアにァイル名，ユ画像情報は記。この際，フ8 bit
点では，まだアに保存する980 画素でとなる。
，1280 ×し記録メディ
像検索も容易，一般 的には像だけを選択る。勿論，に示す通り画利用されてい可能で あるが，図 3.20
像サイズ
ドの観点から調数の 変更は力することでじて画スピー数・階要に応る画素，画質，処理ユーザーは必画像を 構成す，像取得時間であるから，程度の画像がSEM の特徴（256 階調）ることが在に設定でき数を自た択され走査線
イルで選

章

像のコン

編集委員長：牛木辰男 （新潟大学）て取得を組み合わせ
子ビーム走査秒だけで横幅かったので，意を要する。

破面の錆除去方法

26
11/04/
387

付着した油脂内容等を溶解除去
酸またはアルカリ水中に浸漬して錆を溶
酸またはアル解
カリ水中で試
錆を剥離料を陰極にして通電し，発酢酸メチルを生した水素の塗布したアセ
圧力で剥離
チルローズ膜を試料に付着させ，錆を機械的にＢ．肉眼や低倍率観察によまずは，るフラク
金属の破トグラフ
断面を肉ィおよその眼や低倍破壊起点率観察をや特徴お行うこと裂が進展よび破壊で，図している様式を把6.19 に示ことを示握できる
す模式図は実線でしている。図は破のような示した模。特徴と壊起点か破面の様で，破して，大ら最終破んど変形壊起点かきく分け
断部に向を伴わなら放射状ると 2 つのかって亀い破壊（に広がっ模様が観シェブロ脆性破壊ている。
察されるンパター）の場合これは硬。1 つンと呼ばに，亀裂い材料でれるものが急速によく観らである。
進展してれ，ほと一方，点破壊した
線で示し破面に観た模様は察される
ビーチマ
11/04/26
15:24
シェブロンパークと呼破壊起点
ばれるもターン

ビーチマーク人，村主節雄，鈴木清一，関口隆史，高須久幸，高田邦昭，高橋 元，田中敬一，多持隆一郎，中川清一，中前幸治，二川 清，西山英利，西村雅子，幡場良明，福田芳生，藤井智之，藤川清三，

丸棒試験体

ョウの鱗粉）察（アゲハチの．バーは乾燥組織の観し観察したも図 5.6
ングのみを施金属コーティ
20 μm

本間芳和，間所祐一，武藤宏史，村上宅郎，村田薫，森田博文，森谷久雄，山下美香

図 6.19)ンの葉の気孔観察(シクラメ 観察したもSEM によるSEMせずに，直接マクロ破面における

低真空
図 5.7
ングを
金属コーティ 像．バーは 50 μmの．反射電子

表 6.2
破面・破壊の特徴
破面の巨視的粗さ
破面の色彩

26 15:25

破面の角度

11/04/

主な破壊様式

延性破壊
くびれ・塑性変形

比較的平坦
金属光沢または灰色
45 度

微鏡05章

最終破断部

き裂の進展経路と破面の特破壊様式

平坦
金属光沢90 度

5mcd Page

徴と破面の特徴

脆性破壊
塑性変形を生じない

疲労破壊
ビーチマーク
平滑
白または黒褐

色

90 度
走査電子顕微鏡06章.mcd
Page 17

11/04/26

15:25

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